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JP2023083073A - Exhaust gas treatment device - Google Patents

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JP2023083073A
JP2023083073A JP2021197192A JP2021197192A JP2023083073A JP 2023083073 A JP2023083073 A JP 2023083073A JP 2021197192 A JP2021197192 A JP 2021197192A JP 2021197192 A JP2021197192 A JP 2021197192A JP 2023083073 A JP2023083073 A JP 2023083073A
Authority
JP
Japan
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exhaust gas
catalyst carrier
treatment device
gas treatment
sensor
Prior art date
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Pending
Application number
JP2021197192A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
隆治 山本
Takaharu Yamamoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Marelli Corp
Original Assignee
Marelli Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Marelli Corp filed Critical Marelli Corp
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  • Exhaust Gas After Treatment (AREA)

Abstract

【課題】複数の触媒を実装しつつ小型の排気ガス処理装置を提案する。【解決手段】排気ガス処理装置100は、第1方向Pに沿って流れる排気ガスGを浄化するTWC1Bと、TWC1Bを通過した排気ガスGであって第1方向Pと交差する第2方向Qに沿って流れる排気ガスGを浄化し、TWC1Bの中心軸O1に対して中心軸O2がオフセットするように配置されるGPF2と、TWC1BとGPF2とを収容するケース10と、TWC1Bを通過した排気ガスGの空燃比を測定するための空燃比センサ3と、TWC1Bを通過した排気ガスGの温度を測定するための温度センサ4と、を備える。排気ガス処理装置100では、空燃比センサ3と温度センサ4は、第1方向Pから見て中心軸が互いに傾いた状態でケース10に取り付けられる。【選択図】図4A small-sized exhaust gas treatment device equipped with a plurality of catalysts is proposed. An exhaust gas treatment device (100) includes a TWC (1B) for purifying exhaust gas (G) flowing along a first direction (P), and a TWC (1B) for purifying exhaust gas (G) that has passed through the TWC (1B) in a second direction (Q) crossing the first direction (P). A case 10 that purifies the exhaust gas G flowing along and is arranged such that the central axis O2 is offset with respect to the central axis O1 of the TWC1B, a case 10 that houses the TWC1B and the GPF2, and the exhaust gas G that has passed through the TWC1B. and a temperature sensor 4 for measuring the temperature of the exhaust gas G that has passed through the TWC 1B. In the exhaust gas treatment device 100, the air-fuel ratio sensor 3 and the temperature sensor 4 are attached to the case 10 with their central axes tilted with respect to each other when viewed from the first direction P. As shown in FIG. [Selection drawing] Fig. 4

Description

本発明は、排気ガス処理装置に関するものである。 The present invention relates to an exhaust gas treatment device.

特許文献1には、触媒コンバータとDPF(ディーゼル・パティキュレート・フィルタ)とが直線状に並べて設けられる排気通路内にて、触媒コンバータを通過した排気ガス中の酸素濃度を検出する空燃比センサを備える構成が開示されている。 Patent Document 1 discloses an air-fuel ratio sensor that detects the concentration of oxygen in the exhaust gas that has passed through the catalytic converter in an exhaust passage in which a catalytic converter and a DPF (diesel particulate filter) are arranged in a straight line. A configuration is disclosed comprising:

特開2008-075458号公報JP 2008-075458 A

ところで、内燃機関付近に配置される従来の排気ガス処理装置は、排気ガス規制に対応すべく複数の触媒を実装しつつ、搭載スペースの制約から小型であることが求められている。 By the way, a conventional exhaust gas treatment device installed near an internal combustion engine is required to be compact due to restrictions on mounting space while mounting a plurality of catalysts in order to comply with exhaust gas regulations.

本発明は、複数の触媒を実装しつつ小型の排気ガス処理装置を提案するものである。 The present invention proposes a small-sized exhaust gas treatment device while mounting a plurality of catalysts.

本発明のある態様によれば、排気ガス処理装置は、第1方向に沿って流れる排気ガスを浄化する第1触媒担体と、前記第1触媒担体を通過した排気ガスであって前記第1方向と交差する第2方向に沿って流れる排気ガスを浄化し、前記第1触媒担体の中心軸に対して中心軸がオフセットするように配置される第2触媒担体と、前記第1触媒担体と前記第2触媒担体とを収容するケースと、前記第1触媒担体の外周面と前記ケースの内周面との間に設けられ、前記第1触媒担体の外周を覆う外周流路と、前記第1触媒担体を通過した排気ガスの第1の特性を測定するための第1センサと、前記第1触媒担体を通過した排気ガスの前記第1の特性とは異なる第2の特性を測定するための第2センサと、を備え、前記第1センサと前記第2センサは、前記第1方向から見て中心軸が互いに傾いた状態で前記ケースに取り付けられる。 According to one aspect of the present invention, an exhaust gas treatment device includes a first catalyst carrier that purifies exhaust gas flowing along a first direction, and exhaust gas that has passed through the first catalyst carrier and a second catalyst carrier that purifies exhaust gas flowing along a second direction that intersects with the a case that houses a second catalyst carrier; an outer peripheral flow path that is provided between the outer peripheral surface of the first catalyst carrier and the inner peripheral surface of the case and covers the outer periphery of the first catalyst carrier; a first sensor for measuring a first characteristic of the exhaust gas that has passed through the catalyst carrier; and a second sensor for measuring a second characteristic that is different from the first characteristic of the exhaust gas that has passed through the first catalyst carrier. and a second sensor, wherein the first sensor and the second sensor are attached to the case in a state in which central axes thereof are inclined with respect to each other when viewed from the first direction.

上記態様では、第1センサと第2センサとの近傍に排気ガス処理装置以外の別の装置が配置される場合に、排気ガス処理装置と別の装置との距離を近づけることができる。つまり、このような構成とすることにより、排気ガス処理装置の搭載スペースを小さくする、言い換えると、排気ガス処理装置を小型化することができる。 In the above aspect, when another device other than the exhaust gas treatment device is arranged in the vicinity of the first sensor and the second sensor, the distance between the exhaust gas treatment device and the other device can be shortened. That is, by adopting such a configuration, it is possible to reduce the mounting space of the exhaust gas treatment device, in other words, to reduce the size of the exhaust gas treatment device.

図1は、本発明の実施形態に係る排気ガス処理装置の側面図である。FIG. 1 is a side view of an exhaust gas treatment device according to an embodiment of the invention. 図2は、本発明の実施形態に係る排気ガス処理装置の第1触媒担体近傍を部分的に断面で示した上面図である。FIG. 2 is a top view showing a partial cross section of the vicinity of the first catalyst carrier of the exhaust gas treatment device according to the embodiment of the present invention. 図3は、図1におけるIII-III線に沿う断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view along line III-III in FIG. 図4は、本発明の実施形態に係る排気ガス処理装置の空燃比センサ及び温度センサ近傍の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the vicinity of an air-fuel ratio sensor and a temperature sensor of the exhaust gas treatment device according to the embodiment of the present invention. 図5は、本発明の実施形態に係る排気ガス処理装置の拡径部近傍の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the vicinity of the enlarged diameter portion of the exhaust gas treatment device according to the embodiment of the present invention.

以下、添付した図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the attached drawings.

まず、図1から図5を参照して、本発明の実施形態に係る排気ガス処理装置100について説明する。図1は、本実施形態に係る排気ガス処理装置100を示す側面図である。図2は、本実施形態に係る排気ガス処理装置100のTWC1B近傍を部分的に断面で示した上面図である。図3は、本実施形態に係る排気ガス処理装置100の図1におけるIII-III線に沿う断面図である。図4は、排気ガス処理装置100の空燃比センサ3及び温度センサ4近傍の断面図である。図5は、排気ガス処理装置100の拡径部15c近傍の断面図である。 First, an exhaust gas treatment device 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5. FIG. FIG. 1 is a side view showing an exhaust gas treatment device 100 according to this embodiment. FIG. 2 is a top view partially showing a cross section of the vicinity of TWC 1B of the exhaust gas treatment device 100 according to the present embodiment. FIG. 3 is a cross-sectional view of the exhaust gas treatment device 100 according to the present embodiment taken along line III-III in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of the vicinity of the air-fuel ratio sensor 3 and the temperature sensor 4 of the exhaust gas treatment device 100. As shown in FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view of the exhaust gas treatment device 100 near the enlarged diameter portion 15c.

排気ガス処理装置100は、例えば、車両に搭載され、エンジン(図示せず)から排出される排気ガスGを処理するものであり、下記実施形態では、小型で優れた排気ガス浄化性能を有する触媒コンバータとしての構造例を示す。具体的には、排気ガス処理装置100は、排気ガスGに含まれる炭化水素や一酸化炭素を酸化して、二酸化炭素と水分にするとともに、窒素酸化物の還元、微小粒子状物質の除去を行い、排気ガスGを浄化する。 The exhaust gas treatment device 100 is mounted on a vehicle, for example, and treats exhaust gas G discharged from an engine (not shown). A structural example as a converter is shown. Specifically, the exhaust gas treatment device 100 oxidizes hydrocarbons and carbon monoxide contained in the exhaust gas G into carbon dioxide and water, reduces nitrogen oxides, and removes fine particulate matter. to purify the exhaust gas G.

図1から図5に示すように、排気ガス処理装置100は、排気タービン(図示せず)の排気出口部に接続される入口側フランジ11と排気ガスGを外部へ導く排気管(図示せず)に接続される出口側フランジ12とを有するケース10と、ケース10内に設けられ排気ガスGを浄化する一対のTWC(三元触媒)1A,1Bと、ケース10内のTWC1A,1Bの下流側に設けられ、TWC1A,1Aを通過した排気ガスGを浄化する第2触媒担体としてのGPF(ガソリン・パティキュレート・フィルタ)2と、TWC1A,1Bを通過した排気ガスGの酸素濃度を測定するための第1センサとしての空燃比センサ3(図4参照)と、排気ガスGの温度を検出するための第2センサとしての温度センサ4(図4参照)と、を備える。なお、本実施形態のTWC1Bは、第1触媒担体に相当する。 As shown in FIGS. 1 to 5, the exhaust gas treatment device 100 includes an inlet-side flange 11 connected to an exhaust outlet of an exhaust turbine (not shown) and an exhaust pipe (not shown) leading exhaust gas G to the outside. ), a pair of TWCs (three-way catalysts) 1A and 1B provided in the case 10 for purifying the exhaust gas G, and downstream of the TWCs 1A and 1B in the case 10 GPF (gasoline particulate filter) 2 as a second catalyst carrier for purifying the exhaust gas G that has passed through the TWCs 1A and 1A, and the oxygen concentration of the exhaust gas G that has passed through the TWCs 1A and 1B is measured. An air-fuel ratio sensor 3 (see FIG. 4) as a first sensor for detecting the temperature of the exhaust gas G and a temperature sensor 4 (see FIG. 4) as a second sensor for detecting the temperature of the exhaust gas G are provided. Note that the TWC 1B of this embodiment corresponds to the first catalyst carrier.

図3などに示すように、ケース10は、入口側フランジ11が取り付けられる入口側筒部13と、内部にTWC1A,1Bを収容する第1収容筒部14と、第1収容筒部14に接合され内部に第1収容筒部14を部分的に収容する中間筒部15と、一端が中間筒部15に接合され、内部にGPF2を収容する第2収容筒部16と、一端が第2収容筒部16に接合され、他端に排気側管路(図示せず)に接続するための出口側フランジ12が設けられた出口側筒部17と、を有する。ケース10は、例えば、アルミ合金などの金属材料によって形成される。 As shown in FIG. 3 and the like, the case 10 includes an inlet-side tubular portion 13 to which an inlet-side flange 11 is attached, a first accommodating tubular portion 14 that accommodates the TWCs 1A and 1B inside, and the first accommodating tubular portion 14. An intermediate tubular portion 15 partially accommodating the first accommodating tubular portion 14 inside, a second accommodating tubular portion 16 having one end joined to the intermediate tubular portion 15 and accommodating the GPF 2 therein, and a second accommodating tubular portion 16 having one end and an outlet-side tubular portion 17 joined to the tubular portion 16 and provided with an outlet-side flange 12 at the other end for connection to an exhaust-side pipe (not shown). Case 10 is made of, for example, a metal material such as an aluminum alloy.

図3に示すように、入口側筒部13は、金属製板状部材によって、下流に向かって徐々に径が拡大する形状に形成される。入口側筒部13の上流側開口部13aの外周面には、溶接等によって入口側フランジ11が取り付けられる。入口側筒部13の下流側開口部13bは、溶接などによって第1収容筒部14の外周面に取り付けられる。 As shown in FIG. 3, the inlet-side tubular portion 13 is formed in a shape whose diameter gradually increases toward the downstream side by a metal plate-like member. The inlet flange 11 is attached to the outer peripheral surface of the upstream opening 13a of the inlet cylindrical portion 13 by welding or the like. The downstream opening 13b of the inlet-side tubular portion 13 is attached to the outer peripheral surface of the first housing tubular portion 14 by welding or the like.

第1収容筒部14は、例えば、金属製板状部材によって円筒形状に形成される。第1収容筒部14は、内部に、緩衝材20A,20Bを介してTWC1A,1Bを保持する。 The first housing cylinder part 14 is formed in a cylindrical shape by, for example, a metallic plate member. The first housing cylinder portion 14 internally holds the TWCs 1A and 1B via cushioning materials 20A and 20B.

中間筒部15は、中間筒部15を通過する排気ガスGの流れを所定角度(例えば、90°)屈曲させるように、つまり、略L字型の流路を形成するように構成される。中間筒部15は、例えば、2つの金属製板状部材を溶接などによって接合することで形成される(図2参照)。 The intermediate tubular portion 15 is configured to bend the flow of the exhaust gas G passing through the intermediate tubular portion 15 by a predetermined angle (for example, 90°), that is, to form a substantially L-shaped flow path. The intermediate tubular portion 15 is formed, for example, by joining two metal plate-shaped members by welding or the like (see FIG. 2).

図3に示すように、第2収容筒部16は、例えば、金属製板状部材によって円筒形状に形成される。第2収容筒部16の入口側開口部16aの外周面は、中間筒部15の出口側開口部15dの内周面に溶接などによって接合される。また、第2収容筒部16の出口側開口部16bの外周面は、出口側筒部17の入口側開口部17aの内周面に溶接などによって接合される。 As shown in FIG. 3, the second housing cylinder portion 16 is formed in a cylindrical shape, for example, by a metal plate member. The outer peripheral surface of the inlet-side opening 16a of the second housing cylinder portion 16 is joined to the inner peripheral surface of the outlet-side opening 15d of the intermediate tubular portion 15 by welding or the like. Further, the outer peripheral surface of the outlet-side opening 16b of the second housing cylinder 16 is joined to the inner peripheral surface of the inlet-side opening 17a of the outlet-side cylinder 17 by welding or the like.

出口側筒部17は、例えば、金属製板状部材によって形成される。出口側筒部17は、GPF2を通過した排気ガスGを、排気ガスGを外部へ排出する排気管(図示せず)に導くものである。出口側筒部17の下流側開口部17bの外周面には、溶接等によって出口側フランジ12が取り付けられる。 The outlet-side tubular portion 17 is formed of, for example, a metallic plate member. The outlet-side cylindrical portion 17 guides the exhaust gas G that has passed through the GPF 2 to an exhaust pipe (not shown) that discharges the exhaust gas G to the outside. The outlet-side flange 12 is attached to the outer peripheral surface of the downstream-side opening 17b of the outlet-side cylindrical portion 17 by welding or the like.

TWC1A,1Bは、例えば、円柱状のハニカム構造体によって構成される。TWC1A,1Bは、その外周面が緩衝材20A,20Bを介して第1収容筒部14に嵌合される。TWC1A,1Bは、第1収容筒部14内に軸方向の全体にわたって収容される。 The TWCs 1A and 1B are configured by, for example, columnar honeycomb structures. The outer peripheral surfaces of the TWCs 1A and 1B are fitted to the first housing cylinder portion 14 via cushioning materials 20A and 20B. The TWCs 1A and 1B are accommodated in the first tubular accommodating portion 14 over the entire axial direction.

第1収容筒部14は、上流側開口部14aが入口側筒部13における下流側開口部13bの内周に挿入される。第1収容筒部14は、入口側筒部13の内周面に溶接などによって接合されることにより、入口側筒部13に対して固定される。また、第1収容筒部14は、その大部分が中間筒部15内に挿入される。上流側開口部14aから離間した位置において、中間筒部15の内周面に溶接などによって接合される。第1収容筒部14は、中間筒部15との間に所定の間隔Wの隙間が設けられるようにして、中間筒部15内に挿入される。この隙間は、排気ガスGが流れる外周流路Fを形成する(図5参照)。本実施形態では、第1収容筒部14の中間筒部15内に挿入された部位が、インナケース部14cに相当する。 The upstream opening 14a of the first housing cylinder 14 is inserted into the inner circumference of the downstream opening 13b of the inlet cylinder 13 . The first housing tubular portion 14 is fixed to the inlet-side tubular portion 13 by being joined to the inner peripheral surface of the inlet-side tubular portion 13 by welding or the like. Also, most of the first housing cylinder portion 14 is inserted into the intermediate cylinder portion 15 . It is joined to the inner peripheral surface of the intermediate cylindrical portion 15 by welding or the like at a position spaced apart from the upstream opening portion 14a. The first housing cylinder portion 14 is inserted into the intermediate cylinder portion 15 so that a gap of a predetermined interval W is provided between the first housing cylinder portion 14 and the intermediate cylinder portion 15 . This gap forms an outer peripheral flow path F through which the exhaust gas G flows (see FIG. 5). In this embodiment, the portion of the first housing cylinder portion 14 inserted into the intermediate cylinder portion 15 corresponds to the inner case portion 14c.

GPF2は、例えば、微小粒子状物質を除去する円柱状のセラミックフィルタによって構成される。GPF2は、その外周面が緩衝材20Cを介して第2収容筒部16の内周面に嵌合されることによって、第2収容筒部16内に固定される。このようにTWC1A,1BとGPF2とを配置することにより、TWC1A,1BとGPF2とは、側面視(図3参照)で所謂L字型に配置されることとなる。また、図3及び図5に示すように、本実施形態の排気ガス処理装置100では、GPF2は、その中心軸O2がTWC1A,1Bの中心軸O1に対してオフセットして配置される。 GPF2 is composed of, for example, a cylindrical ceramic filter that removes fine particulate matter. GPF2 is fixed in the 2nd accommodation cylinder part 16 by the outer peripheral surface being fitted by the internal peripheral surface of the 2nd accommodation cylinder part 16 through the buffer material 20C. By arranging the TWCs 1A, 1B and the GPF 2 in this way, the TWCs 1A, 1B and the GPF 2 are arranged in a so-called L shape when viewed from the side (see FIG. 3). Further, as shown in FIGS. 3 and 5, in the exhaust gas treatment device 100 of the present embodiment, the GPF 2 is arranged with its central axis O2 offset with respect to the central axis O1 of the TWCs 1A and 1B.

空燃比センサ3は、棒状部材を有しており、その先端には、排気ガスGを計測する計測部3aが設けられる。空燃比センサ3の本体部分は、TWC1BとGPF2との間の流路上に計測部3aが位置するようにして、中間筒部15の外部から取り付けられる。 The air-fuel ratio sensor 3 has a rod-shaped member, and a measurement section 3a for measuring the exhaust gas G is provided at the tip of the rod-shaped member. The body portion of the air-fuel ratio sensor 3 is attached from the outside of the intermediate tubular portion 15 so that the measuring portion 3a is positioned on the flow path between the TWC 1B and the GPF 2. As shown in FIG.

温度センサ4は、TWC1BとGPF2との間の流路上に位置するようにして、中間筒部15の外部から取り付けられる。温度センサ4は、TWC1Bを通過した排気ガスGの温度を検出する。中間筒部15の空燃比センサ3が取り付けられる取付面(位置B)は、温度センサ4の取り付けられる取付面(位置A)に対して傾斜するように形成される(図4参照)。 The temperature sensor 4 is attached from the outside of the intermediate tubular portion 15 so as to be positioned on the flow path between the TWC 1B and the GPF 2. As shown in FIG. A temperature sensor 4 detects the temperature of the exhaust gas G that has passed through the TWC 1B. The mounting surface (position B) of the intermediate tubular portion 15 to which the air-fuel ratio sensor 3 is mounted is formed so as to be inclined with respect to the mounting surface (position A) to which the temperature sensor 4 is mounted (see FIG. 4).

本実施形態の排気ガス処理装置100では、空燃比センサ3が、温度センサ4が取り付けられる取付面(位置A)に対して傾斜した取付面(位置B)に中間筒部15の外部から取り付けられることより、空燃比センサ3と温度センサ4は、TWC1A,1Bの軸方向から見て中心軸が互いに角度θだけ傾いた状態で中間筒部15に取り付けられる。つまり、空燃比センサ3と温度センサ4は、中間筒部15の内部に向かうにつれ、先端同士が互いに近づくようにして、中間筒部15に取り付けられる。 In the exhaust gas treatment device 100 of the present embodiment, the air-fuel ratio sensor 3 is attached from the outside of the intermediate tubular portion 15 to the mounting surface (position B) inclined with respect to the mounting surface (position A) on which the temperature sensor 4 is mounted. Thus, the air-fuel ratio sensor 3 and the temperature sensor 4 are attached to the intermediate tubular portion 15 with their central axes tilted at an angle θ from each other when viewed from the axial direction of the TWCs 1A and 1B. In other words, the air-fuel ratio sensor 3 and the temperature sensor 4 are attached to the intermediate tubular portion 15 so that their leading ends approach each other toward the inside of the intermediate tubular portion 15 .

続いて、中間筒部15の具体的な構成について説明する。なお、以下では、排気ガスGがTWC1A,1Bを通過する方向、即ち、TWC1A,1Bの軸方向を「第1方向P」といい、排気ガスGがGPF2を通過する方向、即ち、GPF2の軸方向を「第2方向Q」という(図3参照)。なお、本実施形態では、第1方向Pと第2方向Qとが直交する場合を例にしているが、必ずしも直交している必要はなく、第1方向Pと第2方向Qとが交差していればよい。 Next, a specific configuration of the intermediate tubular portion 15 will be described. In the following description, the direction in which the exhaust gas G passes through the TWCs 1A and 1B, that is, the axial direction of the TWCs 1A and 1B is referred to as the "first direction P." The direction is called "second direction Q" (see FIG. 3). In this embodiment, the case where the first direction P and the second direction Q are orthogonal to each other is taken as an example. It is good if there is

図3に示すように、中間筒部15は、TWC1Bの外周を覆い、第1方向Pに筒状に延びる収容部15aと、TWC1Bを通過した排気ガスGをGPF2に導くガイド部15bと、を有する。ガイド部15bは、GPF2に向かって(排気ガスGの流れ方向下流側に向かって)拡径するような形状に形成される。 As shown in FIG. 3, the intermediate cylindrical portion 15 covers the outer periphery of the TWC 1B and includes a housing portion 15a that extends cylindrically in the first direction P and a guide portion 15b that guides the exhaust gas G that has passed through the TWC 1B to the GPF 2. have. The guide portion 15b is formed in a shape that expands in diameter toward the GPF 2 (toward the downstream side in the flow direction of the exhaust gas G).

中間筒部15は、上述のように、TWC1A,1BとGPF2とがそれぞれの中心軸O1,O2が互いにオフセットして配置されるため(図4及び図5など参照)、ガイド部15bは、収容部15aに対してオフセットするように形成される。 As described above, the intermediate cylindrical portion 15 is arranged such that the central axes O1 and O2 of the TWCs 1A and 1B and the GPF 2 are offset from each other (see FIGS. 4 and 5). It is formed so as to be offset with respect to the portion 15a.

図5などに示すように、ガイド部15bは、GPF2の上流側端面2aにおけるTWC1A,1Bに対するGPF2のオフセット方向の領域に排気ガスGを導くように拡径する拡径部15cを有する。 As shown in FIG. 5 and the like, the guide portion 15b has an enlarged diameter portion 15c that is enlarged so as to guide the exhaust gas G to an area in the offset direction of the GPF 2 with respect to the TWCs 1A and 1B on the upstream end surface 2a of the GPF 2.

GPF2の中心軸O2を通りTWC1Bの下流側の端面1bと平行な第1平面S(図5に示す断面、及び図2、図3参照)上において、GPF2の上流側の端面(上流側端面2a)と平行でTWC1Bの中心線を通過する線を第1仮想線L1とし、拡径部15cの内壁に接する接線であって、TWC1Bの中心軸O1を通過する線を第2仮想線L2としたとき、拡径部15cは、第1仮想線L1と第2仮想線L2とがなす角度αが45°以下となるように形成される。角度αが45度より大きいと、TWC1BとGPF2との間の流路の距離が長くなり、排気ガス処理装置100が大型化する。このため、角度αを45度以下とすることにより、排気ガス処理装置100が大型化することを抑制することができる。また、角度αを大きくすることにより、外周流路Fから拡径部15cの内壁に沿う排気ガスGの流れの角度変化を小さくすることができるので、圧損を小さくすることができる。 On the first plane S (see the cross section shown in FIG. 5 and FIGS. 2 and 3) passing through the central axis O2 of the GPF 2 and parallel to the downstream end surface 1b of the TWC 1B, the upstream end surface of the GPF 2 (upstream end surface 2a ) and passing through the center line of the TWC 1B is defined as a first virtual line L1, and a line tangential to the inner wall of the enlarged diameter portion 15c and passing through the central axis O1 of the TWC 1B is defined as a second virtual line L2. At this time, the enlarged diameter portion 15c is formed so that the angle α formed by the first virtual line L1 and the second virtual line L2 is 45° or less. If the angle α is greater than 45 degrees, the distance of the flow path between the TWC 1B and the GPF 2 will be long, and the exhaust gas treatment device 100 will be large. Therefore, by setting the angle α to 45 degrees or less, it is possible to prevent the exhaust gas treatment device 100 from increasing in size. Further, by increasing the angle α, it is possible to reduce the angle change of the flow of the exhaust gas G along the inner wall of the enlarged diameter portion 15c from the outer peripheral flow path F, so that the pressure loss can be reduced.

次に、排気ガス処理装置100における排気ガスGの流れについて説明する。 Next, the flow of the exhaust gas G in the exhaust gas treatment device 100 will be described.

図3に示すように、入口側フランジ11から流入した排気ガスGは、入口側筒部13を通ってTWC1A,1Bに導かれる。TWC1A,1Bにおいて、排気ガスGに含まれる炭化水素や一酸化炭素が酸化され二酸化炭素と水分に分解されるとともに、窒素酸化物が還元される。 As shown in FIG. 3, the exhaust gas G flowing from the inlet-side flange 11 passes through the inlet-side tubular portion 13 and is guided to the TWCs 1A and 1B. In the TWCs 1A and 1B, hydrocarbons and carbon monoxide contained in the exhaust gas G are oxidized and decomposed into carbon dioxide and moisture, and nitrogen oxides are reduced.

TWC1A,1Bを通過した排気ガスGは、中間筒部15のTWC1Bの下流側端面と対向する内壁にぶつかり、ガイド部15bを通ってGPF2の上流側端面2aに直接向かう流れと、折り返すようにして外周流路Fに向かう流れと、に分けられる。 The exhaust gas G that has passed through the TWCs 1A and 1B collides with the inner wall facing the downstream side end surface of the TWC 1B of the intermediate cylinder portion 15, passes through the guide portion 15b, and flows directly toward the upstream side end surface 2a of the GPF 2. and a flow toward the outer peripheral flow path F.

GPF2の上流側端面2aに直接向かう流れは、排気ガスGの主流を形成する。一方、外周流路Fに流入した排気ガスGは、第1収容筒部14(インナケース部14c)の外周面に沿ってGPF2の上流側端面2aに向かって流れる(図5参照)。このとき、外周流路Fを流れる排気ガスGは、インナケース部14cを介してTWC1A,1Bを外周から加熱する。このように外周流路Fに排気ガスGを導くことにより、エンジン始動直後に、TWC1A,1Bの温度を短時間で上昇させることができるので、TWC1A,1Bの活性化を早期に図ることができる。特に、温度が上昇しくい第1方向P下流側部分に位置するTWC1Bを外周から加熱できるので、TWC1Bの活性化のための時間を短くすることができる。 The flow directly toward the upstream end face 2a of the GPF 2 forms the main stream of the exhaust gas G. On the other hand, the exhaust gas G that has flowed into the outer peripheral flow path F flows toward the upstream end surface 2a of the GPF 2 along the outer peripheral surface of the first housing cylinder portion 14 (inner case portion 14c) (see FIG. 5). At this time, the exhaust gas G flowing through the outer peripheral passage F heats the TWCs 1A and 1B from the outer periphery via the inner case portion 14c. By guiding the exhaust gas G to the outer peripheral passage F in this way, the temperature of the TWCs 1A and 1B can be raised in a short period of time immediately after the engine is started, so that the activation of the TWCs 1A and 1B can be achieved early. . In particular, since the TWC 1B positioned downstream in the first direction P, where the temperature does not rise, can be heated from the outer circumference, the time for activation of the TWC 1B can be shortened.

TWC1A,1Bは、第1収容筒部14(インナケース部14c)内に第1方向Pの全体にわたって収容される。このように、TWC1A,1Bが全体にわたって第1収容筒部14(インナケース部14c)内に設けられることで、排気ガスGがTWC1A,1Bの外周面から漏れ出ることを抑制できるので、TWC1A,1Bに流入した排気ガスGがTWC1A,1Bの全域を通過することになる。これにより、TWC1A,1Bの浄化性能を最大限発揮させることができる。また、このような構成とすることで、外周流路Fを流れる排気ガスGは、TWC1A,1B内に入って行かずにTWC1A,1Bを外周から加熱する。これにより、TWC1A,1Bの保温効果が得られ、浄化性能を高めることができる。さらに、第1収容筒部14(インナケース部14c)によってTWC1A,1Bを覆うことで外周流路Fを流れる排気ガスGがTWC1A,1B内へ入っていかないため、外周流路FからGPF2へ向かう排気ガスGの流路抵抗を小さくできる。 The TWCs 1A and 1B are accommodated over the entirety in the first direction P within the first accommodation cylinder portion 14 (inner case portion 14c). Since the entire TWCs 1A and 1B are provided inside the first housing cylinder portion 14 (the inner case portion 14c) in this way, it is possible to suppress the leakage of the exhaust gas G from the outer peripheral surfaces of the TWCs 1A and 1B. The exhaust gas G that has flowed into 1B passes through the entire area of TWCs 1A and 1B. As a result, the purification performance of the TWCs 1A and 1B can be maximized. Further, with such a configuration, the exhaust gas G flowing through the outer peripheral passage F heats the TWCs 1A and 1B from the outer periphery without entering the TWCs 1A and 1B. As a result, the TWC 1A, 1B can be kept warm, and the purification performance can be improved. Furthermore, since the TWCs 1A and 1B are covered with the first housing cylinder portion 14 (inner case portion 14c), the exhaust gas G flowing through the outer peripheral passage F does not enter the TWCs 1A and 1B, so that the exhaust gas G flows from the outer peripheral passage F to the GPF 2. The flow resistance of the exhaust gas G can be reduced.

外周流路Fを通過した排気ガスGは、中間筒部15のガイド部15b内の空間Vにおいて、GPF2に直接向かう流れと合流し、GPF2内に流入する。 The exhaust gas G that has passed through the outer peripheral flow path F joins the flow directly directed toward the GPF 2 in the space V inside the guide portion 15 b of the intermediate cylinder portion 15 and flows into the GPF 2 .

GPF2内に流入した排気ガスGは、GPF2によって微小粒子状物質が除去され、出口側筒部17を通じて排気管に排出される。 The exhaust gas G that has flowed into the GPF 2 has fine particulate matter removed by the GPF 2 and is discharged to the exhaust pipe through the outlet-side cylindrical portion 17 .

次に、空燃比センサ3及び温度センサ4の配置について説明する。 Next, the arrangement of the air-fuel ratio sensor 3 and the temperature sensor 4 will be described.

上述のように、本実施形態の排気ガス処理装置100では、空燃比センサ3と温度センサ4は、TWC1A,1Bの軸方向から見て中心軸が互いに角度θだけ傾いた状態、より具体的には、中間筒部15の内部に向かうにつれ先端同士が互いに近づくようにして、中間筒部15に取り付けられる(図4参照)。このように空燃比センサ3と温度センサ4をTWC1A,1Bの軸方向から見て中心軸が互いに傾いた状態で配置することで、例えば、空燃比センサ3と温度センサ4の近傍に排気ガス処理装置100以外の別の装置が配置される場合に、排気ガス処理装置100と別の装置との距離を近づけることができる。つまり、このような構成とすることにより、排気ガス処理装置100の搭載スペースを小さくする、言い換えると、排気ガス処理装置100を小型化することができる。また、別の装置より、空燃比センサ3と温度センサ4が取り付けられる位置近くにレイアウト制限がある場合には、例えば、中間筒部15の中心軸方向から見た投影面において(図4)、位置Bに取り付けられるセンサ(図4では、空燃比センサ3)が、径方向において、中間筒部15から飛び出してしまうような場合には、2つセンサのうちの高さ方向に大きなセンサを位置Aに配置することより、中間筒部15から飛び出してしまうことを防止できる。これにより、排気ガス処理装置100を更に小型化できる。 As described above, in the exhaust gas treatment device 100 of the present embodiment, the air-fuel ratio sensor 3 and the temperature sensor 4 are in a state in which the central axes are inclined by an angle θ when viewed from the axial direction of the TWCs 1A and 1B. are attached to the intermediate tubular portion 15 so that their tips approach each other toward the inside of the intermediate tubular portion 15 (see FIG. 4). By arranging the air-fuel ratio sensor 3 and the temperature sensor 4 in such a manner that the central axes thereof are inclined to each other when viewed from the axial direction of the TWCs 1A and 1B, for example, exhaust gas processing is performed in the vicinity of the air-fuel ratio sensor 3 and the temperature sensor 4. When another device other than the device 100 is arranged, the distance between the exhaust gas treatment device 100 and the other device can be shortened. That is, by adopting such a configuration, the mounting space of the exhaust gas treatment device 100 can be reduced, in other words, the exhaust gas treatment device 100 can be miniaturized. Also, if there is a layout restriction near the position where the air-fuel ratio sensor 3 and the temperature sensor 4 are attached from another device, for example, on the projection plane viewed from the central axis direction of the intermediate cylindrical portion 15 (FIG. 4), If the sensor (the air-fuel ratio sensor 3 in FIG. 4) attached to position B protrudes radially from the intermediate cylindrical portion 15, the sensor that is larger in the height direction out of the two sensors should be positioned. By arranging it at A, it is possible to prevent it from jumping out of the intermediate cylindrical portion 15 . Thereby, the exhaust gas treatment device 100 can be further miniaturized.

なお、空燃比センサ3と温度センサ4とは、排気ガスGの流れ方向において、前後するような配置であってもよい。 It should be noted that the air-fuel ratio sensor 3 and the temperature sensor 4 may be arranged such that they are arranged one behind the other in the direction in which the exhaust gas G flows.

以上のように構成された本発明の実施形態の構成、作用、及び効果をまとめて説明する。 The configuration, action, and effect of the embodiment of the present invention configured as described above will be collectively described.

排気ガス処理装置100は、第1方向Pに沿って流れる排気ガスGを浄化する第1触媒担体(TWC1B)と、第1触媒担体(TWC1B)を通過した排気ガスGであって第1方向Pと交差する第2方向Qに沿って流れる排気ガスGを浄化し、第1触媒担体(TWC1B)の中心軸O1に対して中心軸O2がオフセットするように配置される第2触媒担体(GPF2)と、第1触媒担体(TWC1B)と第2触媒担体(GPF2)とを収容するケース10と、第1触媒担体(TWC1B)の外周面とケース10(中間筒部15)の内周面との間に設けられ、第1触媒担体(TWC1B)の外周を覆う外周流路Fと、第1触媒担体(TWC1B)を通過した排気ガスGの第1の特性を測定するための第1センサ(空燃比センサ3)と、第1触媒担体(TWC1B)を通過した排気ガスGの第1の特性とは異なる第2の特性を測定するための第2センサ(温度センサ4)と、を備える。排気ガス処理装置100では、第1センサ(空燃比センサ3)と第2センサ(温度センサ4)は、第1方向Pから見て中心軸が互いに傾いた状態でケース10に取り付けられる。 The exhaust gas treatment device 100 includes a first catalyst carrier (TWC1B) that cleans the exhaust gas G flowing along the first direction P, and the exhaust gas G that has passed through the first catalyst carrier (TWC1B) in the first direction P. A second catalyst carrier (GPF2) arranged such that the central axis O2 is offset from the central axis O1 of the first catalyst carrier (TWC1B) by purifying the exhaust gas G flowing along the second direction Q that intersects with and the case 10 that houses the first catalyst carrier (TWC1B) and the second catalyst carrier (GPF2), and the outer peripheral surface of the first catalyst carrier (TWC1B) and the inner peripheral surface of the case 10 (intermediate cylindrical portion 15). An outer peripheral flow path F provided between and covering the outer periphery of the first catalyst carrier (TWC1B); A fuel ratio sensor 3) and a second sensor (temperature sensor 4) for measuring a second characteristic different from the first characteristic of the exhaust gas G that has passed through the first catalyst carrier (TWC1B). In the exhaust gas treatment device 100 , the first sensor (air-fuel ratio sensor 3 ) and the second sensor (temperature sensor 4 ) are attached to the case 10 with their central axes tilted from each other when viewed from the first direction P.

この構成では、第1センサ(空燃比センサ3)と第2センサ(温度センサ4)の近傍に排気ガス処理装置100以外の別の装置が配置される場合に、排気ガス処理装置100と別の装置との距離を近づけることができる。つまり、このような構成とすることにより、排気ガス処理装置100の搭載スペースを小さくする、言い換えると、排気ガス処理装置100を小型化することができる。 With this configuration, when another device other than the exhaust gas treatment device 100 is arranged in the vicinity of the first sensor (air-fuel ratio sensor 3) and the second sensor (temperature sensor 4), the exhaust gas treatment device 100 and another device You can get closer to the device. That is, by adopting such a configuration, the mounting space of the exhaust gas treatment device 100 can be reduced, in other words, the exhaust gas treatment device 100 can be miniaturized.

排気ガス処理装置100では、ケース10は、第2触媒担体(GPF2)の上流側端面2aにおける第2触媒担体(GPF2)のオフセット方向の領域に排気ガスGを導くように拡径する拡径部15cを有する。第2触媒担体(GPF2)の中心軸O2を通り第1触媒担体(TWC1B)の下流側の端面と平行な第1平面上において、第2触媒担体(GPF2)の上流側端面2aと平行で第1触媒担体(TWC1B)の中心軸O1を通過する線を第1仮想線L1とし、拡径部15cの内壁の接線であって、第1触媒担体(TWC1B)の中心軸O1を通過する線を第2仮想線L2としたとき、第1仮想線L1と第2仮想線L2とがなす角度αは、45°以下である。 In the exhaust gas treatment device 100, the case 10 has an enlarged diameter portion that is enlarged in diameter so as to guide the exhaust gas G to a region in the offset direction of the second catalyst carrier (GPF2) on the upstream end face 2a of the second catalyst carrier (GPF2). 15c. On a first plane passing through the central axis O2 of the second catalyst carrier (GPF2) and parallel to the downstream end face of the first catalyst carrier (TWC1B), parallel to the upstream end face 2a of the second catalyst carrier (GPF2) and the first A line passing through the central axis O1 of the first catalyst carrier (TWC1B) is defined as a first imaginary line L1, and a line tangential to the inner wall of the enlarged diameter portion 15c and passing through the central axis O1 of the first catalyst carrier (TWC1B) is defined as a first imaginary line L1. Assuming the second virtual line L2, the angle α formed by the first virtual line L1 and the second virtual line L2 is 45° or less.

この構成では、角度αが45度以下としているので、TWC1BとGPF2との間の流路の距離が長くなることを抑制し、排気ガス処理装置100が大型化することを抑制することをできる。また、角度αを45度以下とすることで、外周流路Fをより長く第1触媒担体(TWC1B)の外周面に沿わせて形成することができる。 In this configuration, since the angle α is set to 45 degrees or less, it is possible to suppress an increase in the distance of the flow path between the TWC 1B and the GPF 2, thereby suppressing an increase in the size of the exhaust gas treatment device 100. Further, by setting the angle α to 45 degrees or less, the outer peripheral flow path F can be formed along the outer peripheral surface of the first catalyst carrier (TWC1B) longer.

排気ガス処理装置100では、外周流路Fを流れる排気ガスGは、拡径部15cによって第2触媒担体(GPF2)に導かれる。 In the exhaust gas treatment device 100, the exhaust gas G flowing through the outer peripheral passage F is guided to the second catalyst carrier (GPF2) by the enlarged diameter portion 15c.

この構成では、第2触媒担体(GPF2)が第1触媒担体(TWC1B)の中心軸O1に対してオフセットするように配置されていても、第1触媒担体(TWC1B)を通過した排気ガスGを拡径部15cによって、第2触媒担体(GPF2)のオフセット方向の領域に導くことができる。 In this configuration, even if the second catalyst carrier (GPF2) is arranged to be offset with respect to the central axis O1 of the first catalyst carrier (TWC1B), the exhaust gas G that has passed through the first catalyst carrier (TWC1B) is The expanded diameter portion 15c can lead to a region in the offset direction of the second catalyst carrier (GPF2).

排気ガス処理装置100では、ケース10は、第1触媒担体(TWC1B)と外周流路Fとの間に設けられるインナケース部14cを有する。第1触媒担体(TWC1B)は、インナケース部14c内に第1方向Pの全体にわたって収容される。 In the exhaust gas treatment device 100, the case 10 has an inner case portion 14c provided between the first catalyst carrier (TWC1B) and the outer peripheral flow path F. As shown in FIG. The first catalyst carrier (TWC1B) is accommodated over the entire first direction P in the inner case portion 14c.

この構成では、TWC1A,1Bを通過する排気ガスGが、TWC1A,1Bの外周面から漏れ出ることを抑制できる。これにより、TWC1A,1Bに流入した排気ガスGがTWC1A,1Bの全域を通過することになるので、TWC1A,1Bの浄化性能を最大限発揮させることができる。また、この構成では、外周流路Fを流れる排気ガスGが、TWC1A,1B内に入って行かずにTWC1A,1Bを外周から加熱するので、TWC1A,1Bの保温効果が得られ、浄化性能を高めることができる。 In this configuration, the exhaust gas G passing through the TWCs 1A, 1B can be prevented from leaking from the outer peripheral surfaces of the TWCs 1A, 1B. As a result, the exhaust gas G that has flowed into the TWCs 1A and 1B passes through the entire TWCs 1A and 1B, so that the purification performance of the TWCs 1A and 1B can be maximized. In addition, in this configuration, the exhaust gas G flowing through the outer peripheral passage F heats the TWCs 1A and 1B from the outer periphery without entering the TWCs 1A and 1B. can be enhanced.

以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態は本発明の適用例の一部を示したに過ぎず、本発明の技術的範囲を上記実施形態の具体的構成に限定する趣旨ではない。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the above embodiments merely show a part of application examples of the present invention, and the technical scope of the present invention is not limited to the specific configurations of the above embodiments. do not have.

上記実施形態では、第1センサとして空燃比センサ3を、第2センサとして温度センサ4を例に説明したが、第1センサ及び第2センサは、排気ガスGについての特性を測定するためのセンサであれば、どのようなセンサであってもよい。 In the above embodiment, the air-fuel ratio sensor 3 is used as the first sensor, and the temperature sensor 4 is used as the second sensor. Any sensor may be used.

また、上記実施形態では、2つのTWC1A,1Bを設けた場合を例に説明したが、これらを1つの三元触媒として構成してもよい。 Moreover, in the above embodiment, the case where two TWCs 1A and 1B are provided has been described as an example, but these may be configured as one three-way catalyst.

100 排気ガス処理装置
1A TWC
1B TWC(第1触媒担体)
2 GPF(第2触媒担体)
3 空燃比センサ(第1のセンサ)
4 温度センサ(第2のセンサ)
10 ケース
11 入口側フランジ
12 出口側フランジ
13 入口側筒部
14 第1収容筒部
15 中間筒部
15a 収容部
15b ガイド部
15c 拡径部
16 第2収容筒部
17 出口側筒部
100 Exhaust gas treatment device 1A TWC
1B TWC (first catalyst carrier)
2 GPF (second catalyst carrier)
3 air-fuel ratio sensor (first sensor)
4 temperature sensor (second sensor)
REFERENCE SIGNS LIST 10 case 11 inlet side flange 12 outlet side flange 13 inlet side tubular portion 14 first accommodating tubular portion 15 intermediate tubular portion 15a accommodating portion 15b guide portion 15c enlarged diameter portion 16 second accommodating tubular portion 17 outlet side tubular portion

Claims (4)

排気ガス処理装置であって、
第1方向に沿って流れる排気ガスを浄化する第1触媒担体と、
前記第1触媒担体を通過した排気ガスであって前記第1方向と交差する第2方向に沿って流れる排気ガスを浄化し、前記第1触媒担体の中心軸に対して中心軸がオフセットするように配置される第2触媒担体と、
前記第1触媒担体と前記第2触媒担体とを収容するケースと、
前記第1触媒担体の外周面と前記ケースの内周面との間に設けられ、前記第1触媒担体の外周を覆う外周流路と、
前記第1触媒担体を通過した排気ガスの第1の特性を測定するための第1センサと、
前記第1触媒担体を通過した排気ガスの前記第1の特性とは異なる第2の特性を測定するための第2センサと、を備え、
前記第1センサと前記第2センサは、前記第1方向から見て中心軸が互いに傾いた状態で前記ケースに取り付けられる、
排気ガス処理装置。
An exhaust gas treatment device,
a first catalyst carrier that purifies exhaust gas flowing along a first direction;
Exhaust gas that has passed through the first catalyst carrier and that flows in a second direction that intersects with the first direction is purified such that the central axis is offset with respect to the central axis of the first catalyst carrier. a second catalyst carrier disposed in
a case accommodating the first catalyst carrier and the second catalyst carrier;
an outer peripheral flow path provided between the outer peripheral surface of the first catalyst carrier and the inner peripheral surface of the case and covering the outer periphery of the first catalyst carrier;
a first sensor for measuring a first characteristic of exhaust gas that has passed through the first catalyst carrier;
a second sensor for measuring a second characteristic different from the first characteristic of the exhaust gas that has passed through the first catalyst carrier;
The first sensor and the second sensor are attached to the case in a state in which central axes are tilted with respect to each other when viewed from the first direction.
Exhaust gas treatment device.
請求項1に記載された排気ガス処理装置であって、
前記ケースは、前記第2触媒担体の上流側の端面における前記第2触媒担体の前記オフセット方向の領域に排気ガスを導くように拡径する拡径部を有し、
前記第2触媒担体の中心軸を通り前記第1触媒担体の下流側の端面と平行な第1平面上において、
前記第2触媒担体の上流側の前記端面と平行で前記第1触媒担体の中心線を通過する線を第1仮想線とし、
前記拡径部の内壁の接線であって、前記第1触媒担体の中心線を通過する線を第2仮想線としたとき、
前記第1仮想線と前記第2仮想線とがなす角度は、45°以下である、
排気ガス処理装置。
An exhaust gas treatment device according to claim 1,
The case has an enlarged diameter portion that expands in diameter so as to guide the exhaust gas to the region of the second catalyst carrier in the offset direction on the upstream end surface of the second catalyst carrier,
On a first plane passing through the central axis of the second catalyst carrier and parallel to the downstream end face of the first catalyst carrier,
A line parallel to the upstream end surface of the second catalyst carrier and passing through the center line of the first catalyst carrier is defined as a first virtual line,
When a line that is tangential to the inner wall of the enlarged diameter portion and passes through the center line of the first catalyst carrier is defined as a second virtual line,
The angle formed by the first virtual line and the second virtual line is 45° or less,
Exhaust gas treatment device.
請求項2に記載された排気ガス処理装置であって、
前記外周流路を流れる排気ガスは、前記拡径部によって前記第2触媒担体に導かれる、
排気ガス処理装置。
An exhaust gas treatment device according to claim 2,
Exhaust gas flowing through the outer peripheral channel is guided to the second catalyst carrier by the enlarged diameter portion.
Exhaust gas treatment device.
請求項1から3のいずれか1つに記載された排気ガス処理装置であって、
前記ケースは、前記第1触媒担体と前記外周流路との間に設けられるインナケース部を有し、
前記第1触媒担体は、前記インナケース部内に前記第1方向の全体にわたって収容される、
排気ガス処理装置。
An exhaust gas treatment device according to any one of claims 1 to 3,
The case has an inner case portion provided between the first catalyst carrier and the outer peripheral flow path,
The first catalyst carrier is housed in the inner case portion over the entire first direction,
Exhaust gas treatment device.
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