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JP2023009147A - Heat-curable composition for forming flexible resin, flexible resin, and semiconductor device - Google Patents

Heat-curable composition for forming flexible resin, flexible resin, and semiconductor device Download PDF

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JP2023009147A
JP2023009147A JP2022178246A JP2022178246A JP2023009147A JP 2023009147 A JP2023009147 A JP 2023009147A JP 2022178246 A JP2022178246 A JP 2022178246A JP 2022178246 A JP2022178246 A JP 2022178246A JP 2023009147 A JP2023009147 A JP 2023009147A
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epoxy resin
resin
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thermosetting composition
stretchable
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Tomoaki Shibata
一良 天童
Kazuyoshi Tendo
裕貴 今津
Hiroki Imazu
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To much further improve breaking elongation and flexibility with regard to a flexible resin formed by curing a heat-curable composition containing an epoxy resin.
SOLUTION: There is disclosed a heat-curable composition for forming a flexible resin containing an epoxy resin (A), and a thiol compound (B) having 2 or more thiol groups. The epoxy resin (A) includes a copolymerized epoxy resin which is a copolymer containing a constitutional unit having an aromatic group (A1) or an alicyclic group, and a constitutional unit having an oxyalkylene group or four or more C alkylene group.
SELECTED DRAWING: None
COPYRIGHT: (C)2023,JPO&INPIT

Description

本発明は、主として、伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物、及びこれを用いて形成された伸縮性樹脂層を有する半導体装置に関する。 The present invention mainly relates to a thermosetting composition for forming a stretchable resin and a semiconductor device having a stretchable resin layer formed using the same.

ウェアラブル機器、生体センサ、及び接続コネクタ部材等を構成する樹脂部材に関して、従来よりも高いフレキシブル性及び伸縮性を有することが求められる場合がある。例えば、ウェアラブル機器を構成する樹脂部材は、身体の曲面への装着のし易さ、及び脱着にともなう接続不良の抑制のために、高いフレキシブル性及び伸縮性を有することが求められる。高いフレキシブル性及び伸縮性を有する従来の伸縮性樹脂は、一般に、液状シリコーン又は液状ポリウレタンによって形成される。 Resin members constituting wearable devices, biosensors, connector members, and the like are sometimes required to have higher flexibility and stretchability than ever before. For example, a resin member that constitutes a wearable device is required to have high flexibility and stretchability so as to be easily attached to a curved surface of the body and to prevent poor connection due to attachment and detachment. Conventional elastic resins with high flexibility and stretchability are generally formed by liquid silicone or liquid polyurethane.

しかしながら、液状シリコーンから形成された伸縮性樹脂は、他材料との密着性が不足することがある。液状ポリウレタンから形成される伸縮性樹脂は、耐熱性が不足する傾向がある。 However, stretchable resins made from liquid silicone may lack adhesion to other materials. Elastic resins formed from liquid polyurethane tend to lack heat resistance.

一方、特許文献1は、共重合体ゴムを含む防湿絶縁塗料を開示している。 On the other hand, Patent Literature 1 discloses a moisture-proof insulating paint containing copolymer rubber.

特開2005-162986号公報JP-A-2005-162986

エポキシ樹脂を含む熱硬化性組成物から形成される伸縮性樹脂は、他材料に対する高い密着性を有し、しかも高い耐熱性を有する傾向がある。しかし、伸縮性樹脂の破断伸び率及び伸縮性の点で、改善の余地がある。 A stretchable resin formed from a thermosetting composition containing an epoxy resin tends to have high adhesion to other materials and high heat resistance. However, there is room for improvement in terms of elongation at break and stretchability of the stretchable resin.

そこで、本発明の一側面の目的は、エポキシ樹脂を含む熱硬化性組成物の硬化によって形成される伸縮性樹脂に関して、破断伸び率及び伸縮性の更なる向上を図ることにある。 Accordingly, an object of one aspect of the present invention is to further improve the elongation at break and the stretchability of a stretchable resin formed by curing a thermosetting composition containing an epoxy resin.

本発明の一側面は、(A)エポキシ樹脂と、(B)2以上のチオール基を有するチオール化合物と、を含有する、伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物に関する。(A)エポキシ樹脂が、(A1)共重合エポキシ樹脂を含む。(A1)共重合エポキシ樹脂は、芳香族基又は脂環基を有する構成単位と、オキシアルキレン基又は炭素数4~8のアルキレン基を有する構成単位とを含む共重合体である。 One aspect of the present invention relates to a thermosetting composition for forming a stretchable resin, containing (A) an epoxy resin and (B) a thiol compound having two or more thiol groups. (A) The epoxy resin contains (A1) a copolymerized epoxy resin. (A1) Copolymer epoxy resin is a copolymer containing a structural unit having an aromatic group or an alicyclic group and a structural unit having an oxyalkylene group or an alkylene group having 4 to 8 carbon atoms.

本発明の別の一側面は、上記伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物の硬化物からなる、伸縮性樹脂に関する。本発明の更に別の一側面は、上記伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物の硬化物からなる伸縮性樹脂層を備える、半導体装置に関する。 Another aspect of the present invention relates to a stretchable resin comprising a cured product of the thermosetting composition for forming a stretchable resin. Yet another aspect of the present invention relates to a semiconductor device comprising a stretchable resin layer made of a cured product of the stretchable resin-forming thermosetting composition.

本発明によれば、十分な破断伸び率及び伸縮性を有する伸縮性樹脂を形成できる熱硬化性組成物が提供される。形成される伸縮性樹脂は、耐熱性及び多材料との密着性の点でも良好な特性を有する。本発明の一側面に係る熱硬化性組成物は、保存時の安定性の点でも優れる。本発明の熱硬化性組成物は、無溶剤であることができる。無溶剤の熱硬化性組成物は、溶剤を含む熱硬化性組成物と比較して、取り扱い性及び生産性の点で有利である。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the thermosetting composition which can form elastic resin which has sufficient elongation at break and elasticity is provided. The stretchable resin formed has good properties in terms of heat resistance and adhesion to many materials. The thermosetting composition according to one aspect of the present invention is also excellent in terms of storage stability. The thermosetting compositions of the present invention can be solventless. Solvent-free thermosetting compositions are advantageous in terms of handling and productivity compared to solvent-containing thermosetting compositions.

伸縮回復率の測定例を示す応力-ひずみ曲線である。It is a stress-strain curve showing a measurement example of the stretch recovery rate. 半導体装置の一実施形態を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a semiconductor device; FIG. フレキシブル基板および回路部品の一実施形態を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating one embodiment of a flexible substrate and circuit components; FIG. 複数の半導体装置を得る工程の一実施形態を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing one embodiment of a process of obtaining a plurality of semiconductor devices;

以下、本発明の一実施形態について具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。以下の実施の形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。このことは、数値および範囲についても同様であり、本発明を不当に制限するものではないと解釈すべきである。 An embodiment of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited to this. In the following embodiments, it goes without saying that the constituent elements (including element steps, etc.) are not necessarily essential, unless otherwise specified or clearly considered essential in principle. . This also applies to numerical values and ranges, which should not be construed as unduly limiting the present invention.

本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において「~」を用いて示された数値範囲は、「~」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値および最大値として含む範囲を示す。
本明細書において組成物中の各成分の量について言及する場合、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
As used herein, the term "process" includes not only an independent process, but also when the intended action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. .
In this specification, the numerical range indicated using "to" indicates the range including the numerical values before and after "to" as the minimum and maximum values, respectively.
When referring to the amount of each component in the composition herein, when there are multiple substances corresponding to each component in the composition, unless otherwise specified, the multiple substances present in the composition means the total amount of

[伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物]
一実施形態に係る熱硬化性組成物は、(A)エポキシ樹脂と、(B)2以上のチオール基を有するチオール化合物とを含有する。(A)エポキシ樹脂が、(A1)芳香族基又は脂環基を有する構成単位と、オキシアルキレン基又は炭素数4~8のアルキレン基を有する構成単位とを含む共重合体である共重合エポキシ樹脂を含む。この熱硬化性組成物が、エポキシ基とチオール基との反応等によって硬化すると、十分な伸縮性を有する伸縮性樹脂が形成される。一実施形態に係る熱硬化性組成物は、一液型の熱硬化性組成物であってもよいし、(A)エポキシ樹脂を含む主剤液と(B)チオール化合物を含む硬化剤液とから構成される二液型の熱硬化性組成物であってもよい。
[Thermosetting composition for forming elastic resin]
A thermosetting composition according to one embodiment contains (A) an epoxy resin and (B) a thiol compound having two or more thiol groups. (A) The epoxy resin is a copolymer epoxy copolymer containing (A1) a structural unit having an aromatic group or an alicyclic group and a structural unit having an oxyalkylene group or an alkylene group having 4 to 8 carbon atoms. Contains resin. When this thermosetting composition is cured by, for example, reaction between epoxy groups and thiol groups, a stretchable resin having sufficient stretchability is formed. The thermosetting composition according to one embodiment may be a one-component thermosetting composition, and may be composed of (A) a main liquid containing an epoxy resin and (B) a curing agent liquid containing a thiol compound. It may be a two-part thermosetting composition composed of:

本明細書において、「伸縮性」は、引張荷重によってひずみを生じた後、荷重からの解放により元の形状またはそれに近い形状に回復できる性質を意味する。例えば、引張荷重によって50%のひずみを生じた後、元の形状またはそれに近い形状に回復できる材料は、伸縮性を有するということができる。より具体的には、後述の伸縮回復率が80%以上である樹脂は、伸縮性樹脂であるといえる。 As used herein, "elasticity" means the property of being able to recover to its original shape or a shape close to it upon release from the load after being distorted by a tensile load. For example, a material that can recover to or near its original shape after being subjected to a strain of 50% by a tensile load can be said to be stretchable. More specifically, it can be said that a resin having a stretch recovery rate of 80% or more, which will be described later, is a stretchable resin.

<(A1)共重合エポキシ樹脂>
(A1)成分の共重合エポキシ樹脂は、芳香族基又は脂環基を有する構成単位を剛直成分として有し、炭素数4以上のアルキレン基を有する構成単位を柔軟成分として有する。共重合エポキシ樹脂は、通常、共重合体鎖の両末端に位置する2つのエポキシ基を有する。この共重合エポキシ樹脂を用いることで、耐熱信頼性と柔軟性を兼ね備えた硬化物を得ることができる。
<(A1) Copolymerized epoxy resin>
The copolymerized epoxy resin of component (A1) has a structural unit having an aromatic group or an alicyclic group as a rigid component and a structural unit having an alkylene group having 4 or more carbon atoms as a flexible component. Copolymerized epoxy resins usually have two epoxy groups located at both ends of the copolymer chain. By using this copolymerized epoxy resin, a cured product having both heat resistance reliability and flexibility can be obtained.

共重合エポキシ樹脂は、例えば、芳香族基又は脂環基を有するジオールと炭素数4~8のアルキレン基を有するグリシジルエーテルとの共重合体、炭素数4~8のアルキレン基を有するジオールと芳香族基又は脂環基を有するジグリシジルエーテルとの共重合体、又はこれらの組み合わせであってもよい。芳香族基又は脂環基を有するジオールは、下記式(21)で表される化合物であってもよい。炭素数4以上のアルキレン基を有するグリシジルエーテルは、下記式(31)で表される化合物であってもよい。炭素数4~8のアルキレン基を有するジオールは、下記式(22)で表される化合物であってもよい。芳香族基又は脂環基を有するジオールは、下記式(32)で表される化合物であってもよい。これら式中、Rは芳香族基又は脂環基を示し、Rは炭素数4以上のアルキレン基を示す。Rは炭素数4~8のアルキレン基であってもよい。

Figure 2023009147000001
The copolymer epoxy resin is, for example, a copolymer of a diol having an aromatic group or an alicyclic group and a glycidyl ether having an alkylene group having 4 to 8 carbon atoms, or a diol having an alkylene group having 4 to 8 carbon atoms and an aromatic It may be a copolymer with a diglycidyl ether having a group or alicyclic group, or a combination thereof. A diol having an aromatic group or an alicyclic group may be a compound represented by the following formula (21). The glycidyl ether having an alkylene group with 4 or more carbon atoms may be a compound represented by the following formula (31). The diol having an alkylene group with 4 to 8 carbon atoms may be a compound represented by the following formula (22). A diol having an aromatic group or an alicyclic group may be a compound represented by the following formula (32). In these formulas, R a represents an aromatic group or an alicyclic group, and R b represents an alkylene group having 4 or more carbon atoms. R b may be an alkylene group having 4 to 8 carbon atoms.
Figure 2023009147000001

芳香族基は、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びピレン環等の芳香族炭化水素基、又は、ピロール環及びチオフェン環等の芳香族複素環基であってもよい。芳香族基は、2以上の芳香環を有しそれらが直接結合、メタンジイル基、2,2-プロパンジイル基、4級スピロ炭素原子又はこれらの組み合わせによって結合されている基であってもよく、その例としては、ビフェニレン基、テトラメチルビフェニレン基、カルド構造を有する基、及びフルオレン環が挙げられる。脂環基は、例えば、シクロヘキサン環、又はジシクロペンタジエン基であってもよい。 The aromatic group may be, for example, an aromatic hydrocarbon group such as benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring and pyrene ring, or an aromatic heterocyclic group such as pyrrole ring and thiophene ring. Aromatic groups may be groups having two or more aromatic rings that are attached by direct bonds, methanediyl groups, 2,2-propanediyl groups, quaternary spiro carbon atoms or combinations thereof, Examples thereof include a biphenylene group, a tetramethylbiphenylene group, a group having a cardo structure, and a fluorene ring. The alicyclic group may be, for example, a cyclohexane ring or a dicyclopentadiene group.

炭素数4以上のアルキレン基としては、公知のものを用いることができる。例えば、炭素数4以上のアルキレン基は、1,4-ブタンジイル基、又は1,6-ヘキサンジイル基であってもよい。オキシアルキレン基は、例えば、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、又はオキシブチレン基であってもよい。 A known alkylene group having 4 or more carbon atoms can be used. For example, an alkylene group having 4 or more carbon atoms may be a 1,4-butanediyl group or a 1,6-hexanediyl group. An oxyalkylene group can be, for example, an oxyethylene group, an oxypropylene group, or an oxybutylene group.

共重合エポキシ樹脂の例としては、ビスフェノールFと1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,6-ヘキサンジオールとビスフェノールFジグリシジルエーテルの共重合体、ビスフェノールFと1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,4-ブタンジオールとビスフェノールFジグリシジルエーテルとの共重合体、ビスフェノールAと1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,6-ヘキサンジオールとビスフェノールAジグリシジルエーテルとの共重合体、ビスフェノールAと1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテルの共重合体、1,4-ブタンジオールとビスフェノールAジグリシジルエーテルとの共重合体、テトラメチルビフェノールと1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,6-ヘキサンジオールとテトラメチルビフェノールジグリシジルエーテルとの共重合体、テトラメチルビフェノールと1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,4-ブタンジオールとテトラメチルビフェノールジグリシジルエーテルとの共重合体、ビフェノールと1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,6-ヘキサンジオールとビフェノールジグリシジルエーテルの共重合体、ビフェノールと1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,4-ブタンジオールとビフェノールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,4-ナフタレンジオールと1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,6-ヘキサンジオールと1,4-ナフタレンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,4-ナフタレンジオールと1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,4-ブタンジオールと1,4-ナフタレンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,6-ナフタレンジオールと1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,6-ヘキサンジオールと1,6-ナフタレンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、1,6-ナフタレンジオールと1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、及び、1,4-ブタンジオールと1,6-ナフタレンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせで用いてもよい。 Examples of copolymerized epoxy resins include copolymers of bisphenol F and 1,6-hexanediol diglycidyl ether, copolymers of 1,6-hexanediol and bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol F and 1,4 - butanediol diglycidyl ether copolymer, 1,4-butanediol and bisphenol F diglycidyl ether copolymer, bisphenol A and 1,6-hexanediol diglycidyl ether copolymer, 1, Copolymers of 6-hexanediol and bisphenol A diglycidyl ether, copolymers of bisphenol A and 1,4-butanediol diglycidyl ether, copolymers of 1,4-butanediol and bisphenol A diglycidyl ether , a copolymer of tetramethylbiphenol and 1,6-hexanediol diglycidyl ether, a copolymer of 1,6-hexanediol and tetramethylbiphenol diglycidyl ether, tetramethylbiphenol and 1,4-butanediol diol Copolymer with glycidyl ether, copolymer of 1,4-butanediol and tetramethylbiphenol diglycidyl ether, copolymer of biphenol and 1,6-hexanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol and biphenol diglycidyl ether, copolymer of biphenol and 1,4-butanediol diglycidyl ether, copolymer of 1,4-butanediol and biphenol diglycidyl ether, 1,4-naphthalenediol and 1,6-hexanediol diglycidyl ether, copolymers of 1,6-hexanediol and 1,4-naphthalenediol diglycidyl ether, 1,4-naphthalenediol and 1,4-butane Copolymer with diol diglycidyl ether, copolymer of 1,4-butanediol and 1,4-naphthalenediol diglycidyl ether, copolymer of 1,6-naphthalenediol and 1,6-hexanediol diglycidyl ether a copolymer, a copolymer of 1,6-hexanediol and 1,6-naphthalenediol diglycidyl ether, a copolymer of 1,6-naphthalenediol and 1,4-butanediol diglycidyl ether, and A copolymer of 1,4-butanediol and 1,6-naphthalenediol diglycidyl ether can be mentioned. These may be used individually by 1 type, and may be used in arbitrary combinations of 2 or more types.

(A1)共重合エポキシ樹脂の市販品の例としては、三菱ケミカル(株)製「YX7105」及び「YX7110」(ビスフェノールFと1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体)が挙げられる。 (A1) Examples of commercially available copolymer epoxy resins include "YX7105" and "YX7110" (copolymers of bisphenol F and 1,6-hexanediol diglycidyl ether) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. .

(A1)共重合エポキシ樹脂の含有量は、(A)エポキシ樹脂の総量100質量部に対して、30質量部以上、又は50質量部以上であってもよい。(A1)成分の含有量が30質量部以上であると、特に高い柔軟性を有する硬化物を容易に得ることができる。 (A1) The content of copolymerized epoxy resin may be 30 parts by mass or more, or 50 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the total amount of (A) epoxy resin. When the content of component (A1) is 30 parts by mass or more, a cured product having particularly high flexibility can be easily obtained.

<(B)2以上のチオール基を有するチオール化合物>
(B)成分のチオール化合物は、2以上のチオール基(-SH)を有する。(B)チオール化合物は、チオール基を2~5個、3~5個、又は3~4個有していてもよい。(B)チオール化合物が有するチオール基は、2級チオール基であってもよい。2級チオール基を有するチオール化合物を含有する熱硬化性組成物は、特に優れた保存安定性を有することができる。2級チオール基は、2個の炭素原子及び1個の水素原子に結合した炭素原子に結合したチオール基である。
<(B) a thiol compound having two or more thiol groups>
The thiol compound of component (B) has two or more thiol groups (--SH). (B) The thiol compound may have 2 to 5, 3 to 5, or 3 to 4 thiol groups. (B) The thiol group possessed by the thiol compound may be a secondary thiol group. A thermosetting composition containing a thiol compound having a secondary thiol group can have particularly excellent storage stability. A secondary thiol group is a thiol group attached to a carbon atom that is attached to two carbon atoms and one hydrogen atom.

(B)チオール化合物は、下記式(1)、(2)又は(3)で表される化合物であってもよい。

Figure 2023009147000002

Figure 2023009147000003

Figure 2023009147000004
(B) The thiol compound may be a compound represented by the following formula (1), (2) or (3).
Figure 2023009147000002

Figure 2023009147000003

Figure 2023009147000004

式(1)中、X、X、X及びXは、それぞれ独立にチオール基を有する1価の基、又は水素原子を示し、X、X、X及びXのうち2個以上はチオール基を有する1価の基である。式(2)中、X、X及びXは、それぞれ独立にチオール基を有する1価の基、又は水素原子を示し、X、X及びXのうち2個以上はチオール基を有する1価の基である。式(3)中、X及びXは、それぞれ独立にチオール基を有する1価の基を示し、Rはアルキレン基を示す。Rは、炭素数2~10のアルキレン基であってもよい。チオール基を有する基は、2級チオール基を有する下記式(11)で表される基であってもよいし、1級チオール基を有する下記式(12)又は(13)で表される基であってもよい。式(11)中、Rはアルキレン基を示す。式(12)中、Rはアルキレン基を示す。式(13)中、Rはアルキレン基を示す。Rは、炭素数1~8のアルキレン基であってもよい。R及びRは、炭素数2~10のアルキレン基であってもよい。

Figure 2023009147000005
In formula (1), X 1 , X 2 , X 3 and X 4 each independently represent a monovalent group having a thiol group or a hydrogen atom, and among X 1 , X 2 , X 3 and X 4 Two or more are monovalent groups having a thiol group. In formula (2), X 5 , X 6 and X 7 each independently represent a monovalent group having a thiol group or a hydrogen atom, and two or more of X 5 , X 6 and X 7 are thiol groups is a monovalent group having In formula ( 3 ), X8 and X9 each independently represent a monovalent group having a thiol group, and R1 represents an alkylene group. R 1 may be an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms. The group having a thiol group may be a group represented by the following formula (11) having a secondary thiol group, or a group represented by the following formula (12) or (13) having a primary thiol group may be In formula (11), R 2 represents an alkylene group. In formula (12), R3 represents an alkylene group. In formula (13), R4 represents an alkylene group. R 2 may be an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms. R 3 and R 4 may be an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms.
Figure 2023009147000005

2級チオール基を有するチオール化合物としては、例えば、下記式(1a)で表されるペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)(例えば、昭和電工(株)製「カレンズMT PE-1」)、下記式(2a)で表される1,3,5-トリス(2-(3-メルカプトブチリルオキシ)エチル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン(例えば、昭和電工(株)製「カレンズMT NR-1」)、及び、下記式(3a)で表される1,4-ビス(3-メルカプトブチリルオキシ)ブタン(例えば、昭和電工(株)製「カレンズMT BD-1」)が挙げられる。

Figure 2023009147000006

Figure 2023009147000007

Figure 2023009147000008
Examples of the thiol compound having a secondary thiol group include pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate) represented by the following formula (1a) (for example, Showa Denko Co., Ltd. "Karenzu MT PE-1"), 1,3,5-tris(2-(3-mercaptobutyryloxy)ethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H) represented by the following formula (2a) - Trione (e.g., "Karenzu MT NR-1" manufactured by Showa Denko Co., Ltd.), and 1,4-bis(3-mercaptobutyryloxy)butane represented by the following formula (3a) (e.g., Showa Denko "Karenzu MT BD-1" manufactured by Co., Ltd.).
Figure 2023009147000006

Figure 2023009147000007

Figure 2023009147000008

2級チオール基を有するチオール化合物のその他の例としては、エチレングリコールビス(3-メルカプトブチレート)、トリメチロールエタントリス(3-メルカプトブチレート)、ブタンジオールビス(3-メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールトリ(3-メルカプトブチレート)、トリメチロールエタン(3-メルカプトブチレート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトブチレート)、及びジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトブチレート)が挙げられる。 Other examples of thiol compounds having a secondary thiol group include ethylene glycol bis (3-mercaptobutyrate), trimethylolethane tris (3-mercaptobutyrate), butanediol bis (3-mercaptobutyrate), penta erythritol tri(3-mercaptobutyrate), trimethylolethane (3-mercaptobutyrate), trimethylolpropane tris(3-mercaptobutyrate), and dipentaerythritol hexakis(3-mercaptobutyrate).

1級チオール基を有するチオール化合物のその他の例としては、ペンタエリスリトールトリプロパンチオール、1,2-エタンジチオール、1,3-プロパンジチオール、1,4-ブタンジチオール、2,3-ブタンジチオール、1,5-ペンタンジチオール、1,6-ヘキサンジチオール、1,8-オクタンジチオール、1,10-デカンジチオール、1,3-ベンゼンジチオール、1,4-ベンゼンジチオール、4,4’-チオビスベンゼンチオール、4,4’-ビフェニルジチオール、1,5-ジメルカプトナフタレン、4,5-ビス(メルカプトメチル)-オルト-キシレン、1,3,5-ベンゼントリチオール、1,4-ブタンジオールビス(チオグリコレート)、ジチオエチスリトール、3,6-ジオキサ-1,8-オクタンジチオール、3,7-ジチア-1,9-ノナンジチオール、ビス(2-メルカプトエチル)スルフィド、エチレングリコールビス(メルカプトアセテート)、エチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、エチレングリコールビス(3-メルカプトイソブチレート)、ブタンジオールビス(メルカプトアセテート)、ブタンジオールビス(3-メルカプトプロピオネート)、ブタンジオールビス(3-メルカプトイソブチレート)、ペンタエリトリトールトリ(メルカプトアセテート)、ペンタエリトリトールトリ(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリトリトールトリ(3-メルカプトイソブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトイソブチレート)、トリメチロールエタン(メルカプトアセテート)、トリメチロールエタン(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールエタン(3-メルカプトイソブチレート)、トリメチロールプロパントリス(メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトイソブチレート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(メルカプトアセテート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトイソブチレート)、1,4-ビス(3-メルカプトプロピルオキシ)ブタン、トリス[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)エチル]イソシアヌレート、及びテトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)が挙げられる。 Other examples of thiol compounds having a primary thiol group include pentaerythritol trippropanethiol, 1,2-ethanedithiol, 1,3-propanedithiol, 1,4-butanedithiol, 2,3-butanedithiol, 1 ,5-pentanedithiol, 1,6-hexanedithiol, 1,8-octanedithiol, 1,10-decanedithiol, 1,3-benzenedithiol, 1,4-benzenedithiol, 4,4′-thiobisbenzenethiol , 4,4′-biphenyldithiol, 1,5-dimercaptonaphthalene, 4,5-bis(mercaptomethyl)-ortho-xylene, 1,3,5-benzenetrithiol, 1,4-butanediol bis(thio glycolate), dithioethritol, 3,6-dioxa-1,8-octanedithiol, 3,7-dithia-1,9-nonanedithiol, bis(2-mercaptoethyl) sulfide, ethylene glycol bis(mercaptoacetate) ), ethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), ethylene glycol bis (3-mercaptoisobutyrate), butanediol bis (mercaptoacetate), butanediol bis (3-mercaptopropionate), butanediol bis ( 3-mercaptoisobutyrate), pentaerythritol tri (mercaptoacetate), pentaerythritol tri (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tri (3-mercaptoisobutyrate), pentaerythritol tetrakis (mercaptoacetate), pentaerythritol Tetrakis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptoisobutyrate), trimethylolethane (mercaptoacetate), trimethylolethane (3-mercaptopropionate), trimethylolethane (3-mercaptoisobutyrate) butyrate), trimethylolpropane tris (mercaptoacetate), trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), trimethylolpropane tris (3-mercaptoisobutyrate), dipentaerythritol hexakis (mercaptoacetate), di Pentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptoisobutyrate), 1,4-bis (3-mercaptopropyloxy) butane, tris [( 3-mercaptopropionyloxy)ethyl]isocyanurate, and tetraethylene glycol bis(3-mercaptopropionate).

以上例示したチオール化合物は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 The thiol compounds exemplified above can be used alone or in combination of two or more.

(B)チオール化合物のチオール当量(チオール基の当量)が、(A)エポキシ樹脂の総量のエポキシ当量に対して、0.5~1.5、又は0.8~1.2であってもよい。チオール化合物のチオール当量がこの範囲であると、未反応の(A)エポキシ樹脂及び(B)チオール化合物が硬化物中に残存し難い。 (B) The thiol equivalent (thiol group equivalent) of the thiol compound is 0.5 to 1.5, or 0.8 to 1.2 with respect to the total epoxy equivalent of the (A) epoxy resin. good. When the thiol equivalent of the thiol compound is within this range, unreacted (A) epoxy resin and (B) thiol compound are less likely to remain in the cured product.

<(A2)炭素数6以上のアルキル基を有する単官能エポキシ樹脂>
一実施形態に係る熱硬化性組成物は、(A)エポキシ樹脂として、(A2)炭素数6以上のアルキル基を有する単官能エポキシ樹脂を更に含有してもよい。(A2)成分の単官能エポキシ樹脂は、炭素数6以上のアルキル基及び1個のエポキシ基を有するエポキシ化合物を1種又は2種以上含む。アルキル基の炭素数は8以上であってもよく、20以下、又は17以下であってもよい。アルキル基の炭素数がこれら数値範囲内であると、硬化物が白濁し難い傾向がある。(A2)単官能エポキシ樹脂が有する炭素数6以上のアルキル基は、直鎖アルキル基であってもよい。
<(A2) Monofunctional epoxy resin having an alkyl group having 6 or more carbon atoms>
The thermosetting composition according to one embodiment may further contain (A2) a monofunctional epoxy resin having an alkyl group with 6 or more carbon atoms as the (A) epoxy resin. The (A2) component monofunctional epoxy resin contains one or more epoxy compounds having an alkyl group having 6 or more carbon atoms and one epoxy group. The number of carbon atoms in the alkyl group may be 8 or more, 20 or less, or 17 or less. When the number of carbon atoms in the alkyl group is within these numerical ranges, the cured product tends to be less cloudy. (A2) The alkyl group having 6 or more carbon atoms contained in the monofunctional epoxy resin may be a linear alkyl group.

(A2)単官能エポキシ樹脂は、下記式(5)で表されるグリシジルエーテル化合物、下記式(6)で表されるグリシジルエステル化合物、又はこれらの組み合わせを含んでいてもよい。式(5)及び(6)中のR及びRが、炭素数6以上のアルキル基である。

Figure 2023009147000009
(A2) The monofunctional epoxy resin may contain a glycidyl ether compound represented by the following formula (5), a glycidyl ester compound represented by the following formula (6), or a combination thereof. R 5 and R 6 in formulas (5) and (6) are alkyl groups having 6 or more carbon atoms.
Figure 2023009147000009

(A2)単官能エポキシ樹脂の例としては、炭素数12~13のアルキル基を有するグリシジルエーテル化合物(例えば、(株)ADEKA製「アデカグリシロールED-502」)、及び炭素数17のアルキル基を有するグリシジルエステル化合物(例えば、ナガセケムテックス(株)製「デナコールEX-1113」)が挙げられる。これらの化合物は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 (A2) Examples of monofunctional epoxy resins include a glycidyl ether compound having an alkyl group having 12 to 13 carbon atoms (eg, "ADEKA GLYCIROL ED-502" manufactured by ADEKA Corporation), and an alkyl group having 17 carbon atoms. (eg, "Denacol EX-1113" manufactured by Nagase ChemteX Co., Ltd.). These compounds can be used individually or in combination of 2 or more types.

(A2)単官能エポキシ樹脂の含有量は、(A)エポキシ樹脂の総量100質量部に対して、60質量部以下、又は50質量部以下であってもよく、10質量部以上であってもよい。(A2)成分の含有量がこれら数値範囲内であると、伸縮性樹脂としての硬化物が特に容易に形成される傾向がある。 (A2) The content of the monofunctional epoxy resin may be 60 parts by mass or less, or 50 parts by mass or less, or 10 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the total amount of (A) the epoxy resin. good. When the content of component (A2) is within these numerical ranges, there is a tendency that a cured product as a stretchable resin is formed particularly easily.

<(A3)脂環基含有多官能エポキシ樹脂>
一実施形態に係る熱硬化性組成物は、(A)エポキシ樹脂として、(A3)脂環基含有多官能エポキシ樹脂を含有してもよい。(A3)成分の脂環基含有多官能エポキシ樹脂は、脂環基と2個以上のエポキシ基とを有するエポキシ樹脂であり、(A1)成分の共重合エポキシ樹脂とは異なるものである。脂環基は、例えば、シクロヘキサン環、又はジシクロペンタジエン基であってもよい。
<(A3) Alicyclic group-containing polyfunctional epoxy resin>
The thermosetting composition according to one embodiment may contain (A3) an alicyclic group-containing polyfunctional epoxy resin as (A) the epoxy resin. The alicyclic group-containing polyfunctional epoxy resin of component (A3) is an epoxy resin having an alicyclic group and two or more epoxy groups, and is different from the copolymerized epoxy resin of component (A1). The alicyclic group may be, for example, a cyclohexane ring or a dicyclopentadiene group.

脂環基含有多官能エポキシ樹脂の例としては、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(例えば、DIC(株)製「EPICLON HP-7200シリーズ」)、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(例えば、(株)ダイセル製「セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド8000」)、水素添加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(例えば、三菱ケミカル(株)製「エピコートYX8000、エピコートYX8034、エピコートYL8040」)、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラニル)シクロヘキサン付加物(例えば、(株)ダイセル製「EHPE3150」)、ブタンテトラカルボン酸 テトラ(3、4-エポキシシクロヘキシルメチル)修飾ε-カプロラクトン(例えば、(株)ダイセル製「エポリードGT-401」)、脂環基及びエポキシ基を有するシリコーンオリゴマー(例えば、信越化学工業(株)製「X-40-2670」)が挙げられる。耐熱信頼性の観点から、(A3)脂環式含有多官能エポキシ樹脂がジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を含んでいてもよい。これらのエポキシ樹脂は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 Examples of polyfunctional epoxy resins containing alicyclic groups include dicyclopentadiene type epoxy resins (eg, "EPICLON HP-7200 series" manufactured by DIC Corporation), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3',4'- Epoxy cyclohexane carboxylate (e.g., "Celoxide 2021P, Celoxide 2081, Celoxide 8000" manufactured by Daicel Corporation), hydrogenated bisphenol A type epoxy resin (e.g., "Epikote YX8000, Epicote YX8034, Epicote YL8040" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) ), 1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adduct of 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol (for example, "EHPE3150" manufactured by Daicel Corporation), butanetetracarboxylic acid tetra (3,4-epoxycyclohexylmethyl)-modified ε-caprolactone (e.g., “Epolead GT-401” manufactured by Daicel Corporation), silicone oligomer having an alicyclic group and an epoxy group (e.g., “Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.” X-40-2670"). From the viewpoint of heat resistance reliability, (A3) the alicyclic-containing polyfunctional epoxy resin may contain a dicyclopentadiene type epoxy resin. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

(A3)脂環基含有多官能エポキシ樹脂の含有量は、(A)エポキシ樹脂の総量100質量部に対して、5質量部以上、又は10質量部以上であってもよく、50質量部以下、又は40質量部以下であってもよい。(A3)成分の含有量が5質量部以上であると、強度及び耐熱性が特に高い硬化物が形成される傾向がある。(A3)成分の含有量が50質量部以下であると、硬化物がより一層高い伸縮性を示す傾向がある。 The content of (A3) alicyclic group-containing polyfunctional epoxy resin may be 5 parts by mass or more, or may be 10 parts by mass or more, and 50 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of (A) epoxy resin. , or 40 parts by mass or less. When the content of component (A3) is 5 parts by mass or more, there is a tendency that a cured product having particularly high strength and heat resistance is formed. When the content of component (A3) is 50 parts by mass or less, the cured product tends to exhibit even higher stretchability.

<その他の成分>
一実施形態に係る熱硬化性組成物は、以上説明した(A)エポキシ樹脂及び(B)チオール化合物に加えて、必要に応じて、その他の成分を含有していてもよい。(A)エポキシ樹脂が、(A1)成分、(A2)成分及び(A3)成分以外のエポキシ樹脂を含んでいてもよい。ただし、(A)エポキシ樹脂の総量に対する(A1)成分、(A2)成分及び(A3)成分の合計量の割合は、通常、80~100質量%、又は90~100質量%である。(A)エポキシ樹脂及び(B)チオール化合物の合計量は、熱硬化性組成物のうち溶剤を除く部分の質量に対して50~100質量%、60~100質量%、70~100質量%、80~100質量%、又は90~100質量%であってもよい。
<Other ingredients>
The thermosetting composition according to one embodiment may contain other components, if necessary, in addition to (A) the epoxy resin and (B) the thiol compound described above. (A) Epoxy resin may contain epoxy resins other than components (A1), (A2) and (A3). However, the ratio of the total amount of components (A1), (A2) and (A3) to the total amount of (A) epoxy resin is usually 80 to 100% by mass, or 90 to 100% by mass. The total amount of (A) the epoxy resin and (B) the thiol compound is 50 to 100% by mass, 60 to 100% by mass, 70 to 100% by mass with respect to the mass of the portion of the thermosetting composition excluding the solvent, It may be 80 to 100% by mass, or 90 to 100% by mass.

一実施形態に係る熱硬化性組成物は、無機微粒子、硬化触媒、消泡在、レベリング剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、及び難燃剤から選ばれるその他の成分を含有してもよい。無機微粒子の例としては、シリカ(SiO)、アルミナ(Al)、ジルコニア(ZrO)、炭酸バリウム(BaCO)、タルク(3MgO・4SiO・HO)、酸化亜鉛(ZnO)、硫酸バリウム(BaSO)、有機ベントナイト、及びハイドロタルサイトが挙げられる。硬化触媒の例としては、3級アミン、イミダゾール、リン化合物、4級アンモニウム塩、及び有機金属塩が挙げられる。消泡剤及びレベリング剤は、例えば、シリコーン系、フッ素系、又は高分子系であることできる。シランカップリング剤は、例えば、チアゾール系、又はトリアゾール系であることができる。熱硬化性組成物が、溶剤を含有する樹脂ワニスであってもよい。 The thermosetting composition according to one embodiment includes inorganic fine particles, a curing catalyst, an antifoaming agent, a leveling agent, a silane coupling agent, an antioxidant, an anti-yellowing agent, an ultraviolet absorber, a visible light absorber, and a colorant. , plasticizers, and flame retardants. Examples of inorganic fine particles include silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), zirconia (ZrO 2 ), barium carbonate (BaCO 3 ), talc (3MgO.4SiO 2 .H 2 O), zinc oxide (ZnO ), barium sulfate (BaSO 4 ), organic bentonites, and hydrotalcites. Examples of curing catalysts include tertiary amines, imidazoles, phosphorus compounds, quaternary ammonium salts, and organometallic salts. Defoamers and leveling agents can be, for example, silicone-based, fluorine-based, or polymeric. Silane coupling agents can be, for example, thiazole-based or triazole-based. The thermosetting composition may be a solvent-containing resin varnish.

[伸縮性樹脂/伸縮性樹脂層]
一実施形態に係る伸縮性樹脂は、以上説明した実施形態に係る熱硬化性組成物の熱硬化によって形成される硬化物からなる。伸縮性樹脂は、任意の形状を有することが可能であり、例えば伸縮性樹脂層を形成してもよい。
[Stretchable Resin/Stretchable Resin Layer]
The stretchable resin according to one embodiment consists of a cured product formed by thermal curing of the thermosetting composition according to the embodiment described above. The stretchable resin can have any shape, and may form, for example, a stretchable resin layer.

一実施形態に係る伸縮性樹脂又は伸縮性樹脂層は、例えば、ウェアラブル機器、生体センサ、接続コネクタ部材の封止層若しくは保護膜として、又は、フレキシブル基板の配線の保護膜として用いることができる。 The stretchable resin or stretchable resin layer according to one embodiment can be used, for example, as a sealing layer or protective film for wearable devices, biosensors, and connector members, or as a protective film for the wiring of a flexible substrate.

伸縮性樹脂の引張試験による破断伸び率は、100%以上であってもよい。破断伸び率が100%以上であれば十分な引張り強度を得ることができる。 The elastic resin may have an elongation at break of 100% or more in a tensile test. If the elongation at break is 100% or more, sufficient tensile strength can be obtained.

伸縮性樹脂の伸縮性は、2回の引張試験を含む以下の手順で測定される伸縮回復率を指標として評価することができる。
1)長さ40mm、幅5mmの短冊状の伸縮性樹脂を試験片として準備する。
2)試験片を、チャック間距離20mmのチャックで保持した状態で、1回目の引張試験で変位量(ひずみ)Xまで試験片を引張る。
3)チャックを初期位置に戻す。
4)2回目の引張試験を行い、荷重がかかっている区間の変位量(ひずみ)Yを記録する。
5)式:伸縮回復率R(%)=(Y/X)×100によって伸縮回復率を算出する。
引張試験は、25℃の環境下で行われる。Xは変位量10mm(ひずみ50%)に設定することができる。試験機としては、例えばマイクロフォース試験機(Illinois Tool Works Inc、「Instron 5948」)を用いることができる。図1は、伸縮回復率を求めるための引張試験から得られた応力-ひずみ曲線の例である。
The stretchability of the stretchable resin can be evaluated using the stretch recovery rate measured by the following procedure including two tensile tests as an index.
1) A strip-shaped elastic resin having a length of 40 mm and a width of 5 mm is prepared as a test piece.
2) The test piece is held by chucks with a chuck-to-chuck distance of 20 mm, and the test piece is pulled to a displacement amount (strain) X in the first tensile test.
3) Return the chuck to its initial position.
4) Perform a second tensile test and record the amount of displacement (strain) Y in the section where the load is applied.
5) The stretch recovery rate is calculated by the formula: stretch recovery rate R (%) = (Y/X) x 100.
A tensile test is performed in a 25 degreeC environment. X can be set to a displacement amount of 10 mm (50% strain). As the testing machine, for example, a microforce testing machine (Illinois Tool Works Inc, "Instron 5948") can be used. FIG. 1 is an example of a stress-strain curve obtained from a tensile test to determine stretch recovery.

上記伸縮回復率は、繰り返し使用への耐性の観点から、80%以上、85%以上、又は90%以上であってもよい。伸縮回復率の上限は、100%である。上述の実施形態に係る熱硬化性組成物は、通常、80%の伸縮回復率を示す硬化物を容易に形成することができる。 The stretch recovery rate may be 80% or more, 85% or more, or 90% or more from the viewpoint of resistance to repeated use. The upper limit of the stretch recovery rate is 100%. The thermosetting composition according to the above embodiment can usually easily form a cured product exhibiting a stretch recovery rate of 80%.

伸縮性樹脂の引張弾性率は、0.1MPa以上50MPa以下であってもよい。引張弾性率が0.1MPa以上50MPa以下であると、より容易に伸縮性樹脂を伸縮させることができる。同様の観点から、伸縮性樹脂の引張弾性率が0.1MPa以上30MPa以下、又は0.1MPa以上10MPa以下であってもよい。 The stretchable resin may have a tensile modulus of 0.1 MPa or more and 50 MPa or less. When the tensile modulus is 0.1 MPa or more and 50 MPa or less, the stretchable resin can be stretched more easily. From the same point of view, the elastic modulus in tension of the elastic resin may be 0.1 MPa or more and 30 MPa or less, or 0.1 MPa or more and 10 MPa or less.

伸縮性樹脂又は伸縮性樹脂層は、熱硬化性組成物を、ディスペンス、ディッピング、各種コーティング又は注型等の方法により所望の形態で配置することと、その後、熱硬化性組成物を熱硬化させることとを含む方法により、形成することができる。熱硬化のための加熱の条件は、十分に熱硬化が進行する範囲で設定すればよいが、例えば100℃~200℃の温度であってもよい。 The elastic resin or elastic resin layer is formed by disposing a thermosetting composition in a desired form by a method such as dispensing, dipping, various coatings or casting, and then thermosetting the thermosetting composition. It can be formed by a method comprising: The heating conditions for heat curing may be set within a range in which heat curing proceeds sufficiently, and may be, for example, a temperature of 100.degree. C. to 200.degree.

[半導体装置]
図2は、半導体装置の一実施形態を示す断面図である。図2に示す半導体装置100は、伸縮性を有するフレキシブル基板1と、回路部品2と、封止樹脂層3とを有する。回路部品2は、フレキシブル基板1上に実装されている。封止樹脂層3は、上述の実施形態に係る熱硬化性組成物から形成された伸縮性樹脂であることができる。封止樹脂層3は、フレキシブル基板1及び回路部品2を封止し、それによりこれらを保護している。
[Semiconductor device]
FIG. 2 is a cross-sectional view showing one embodiment of a semiconductor device. A semiconductor device 100 shown in FIG. 2 includes a flexible substrate 1 having elasticity, a circuit component 2 , and a sealing resin layer 3 . A circuit component 2 is mounted on the flexible substrate 1 . The encapsulating resin layer 3 can be a stretchable resin formed from the thermosetting composition according to the embodiment described above. The sealing resin layer 3 seals the flexible substrate 1 and the circuit component 2, thereby protecting them.

フレキシブル基板1は、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、ビスマレイミド樹脂、エポキシ樹脂及びポリエチレングリコール樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂を含む樹脂フィルムであってもよい。伸縮性に優れる観点から、フレキシブル基板1が、シロキサン基、脂肪族エーテル基又はジエン構造を有するポリイミド樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、長鎖アルキル鎖(例えば、炭素数1~20のアルキル鎖)を有するビスマレイミド樹脂、エポキシ樹脂、及び、ロタキサン構造を有するポリエチレングリコール樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂を含む樹脂フィルムであってもよい。同様の観点から、フレキシブル基板1が、シロキサン基、脂肪族エーテル基又はジエン構造を有するポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、及び、長鎖アルキル鎖を有するビスマレイミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂を含む樹脂フィルムであってもよい。 Flexible substrate 1 may be a resin film containing at least one resin selected from the group consisting of polyimide resin, acrylic resin, silicone resin, urethane resin, bismaleimide resin, epoxy resin, and polyethylene glycol resin. From the viewpoint of excellent stretchability, the flexible substrate 1 is made of polyimide resin, acrylic resin, silicone resin, urethane resin, long-chain alkyl chain (for example, alkyl having 1 to 20 carbon atoms) having a siloxane group, an aliphatic ether group, or a diene structure. chain), an epoxy resin, and a resin film containing at least one resin selected from the group consisting of a polyethylene glycol resin having a rotaxane structure. From the same point of view, the flexible substrate 1 is at least one selected from the group consisting of polyimide resins, silicone resins, urethane resins having a siloxane group, an aliphatic ether group or a diene structure, and bismaleimide resins having a long alkyl chain. It may be a resin film containing a seed resin.

回路部品2は、1種類又は2種類以上の部品であることができる。回路部品2は、例えば、制御回路、メモリーチップ、発光ダイオード(LED)、RFタグ(RFID)、温度センサ、加速度センサ、又はこれらの組み合わせであってもよい。 The circuit component 2 can be one type or two or more types of components. Circuit component 2 may be, for example, a control circuit, a memory chip, a light emitting diode (LED), an RF tag (RFID), a temperature sensor, an acceleration sensor, or a combination thereof.

半導体装置100は、例えば、図3に示すようにフレキシブル基板1上に回路部品2を実装する工程と、フレキシブル基板1及び回路部品2を封止する封止樹脂層3を形成する工程とを含む方法によって製造することができる。封止樹脂層3は、フレキシブル基板1上に形成された熱硬化性組成物の膜を硬化させることにより形成される。熱硬化性組成物の膜は、例えば、フレキシブル基板1及び回路部品2に熱硬化性組成物を塗布又は印刷すること、又は、熱硬化性組成物にフレキシブル基板1及び回路部品2を浸漬することによって形成することができる。 The semiconductor device 100 includes, for example, a step of mounting a circuit component 2 on a flexible substrate 1 and a step of forming a sealing resin layer 3 for sealing the flexible substrate 1 and the circuit component 2, as shown in FIG. It can be manufactured by a method. The sealing resin layer 3 is formed by curing a thermosetting composition film formed on the flexible substrate 1 . The film of the thermosetting composition is formed, for example, by coating or printing the thermosetting composition on the flexible substrate 1 and the circuit component 2, or by immersing the flexible substrate 1 and the circuit component 2 in the thermosetting composition. can be formed by

必要に応じて、図4に示すように、半導体装置となる複数の部分を含む封止構造体を形成し、これを切断し分離することにより、複数の半導体装置を得てもよい。これにより、複数の半導体装置を一括して製造することができる。 If necessary, as shown in FIG. 4, a plurality of semiconductor devices may be obtained by forming a sealing structure including a plurality of portions to be semiconductor devices, and cutting and separating this structure. Thereby, a plurality of semiconductor devices can be collectively manufactured.

以下、実施例を挙げて本発明についてさらに具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

1.原材料
(A1)共重合エポキシ樹脂
・YX7105:三菱ケミカル(株)製、ビスフェノールFと1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体、エポキシ当量487
(B)チオール化合物
・PEPT:SC有機化学(株)製、ペンタエリスリトールトリプロパンチオール、3官能1級チオール、分子量358.6
・PE-1:カレンズMT PE-1、昭和電工(株)製、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート、4官能2級チオール、分子量544
(A2)炭素数6以上のアルキル鎖を有する単官能エポキシ樹脂
・ED-502:アデカグリシロールED-502、(株)ADEKA製、炭素数12又は13のアルキルアルコールのグリシジルエーテル、エポキシ当量320
(A3)脂環基含有多官能エポキシ樹脂
・HP-7200L:EPICLON HP-7200L、DIC(株)製、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、エポキシ当量248
(酸無水物)
・HN-5500:日立化成(株)製、3又は4-メチル-ヘキサヒドロ無水フタル酸、分子量168
(硬化触媒)
・2E4MZ:キュアゾール2E4MZ、四国化成(株)製、2-エチル-4-メチルイミダゾール
(その他のエポキシ樹脂)
・セロキサイド2081:(株)ダイセル製、ε-カプロラクトン変性3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、エポキシ当量200
・デナコールEX-991L:ナガセケムテックス(株)製、ポリエーテルグリコールジグリシジルエーテル、エポキシ当量450
・デナレックスR15-EPT:ナガセケムテックス(株)製、ポリブタジエン/水添ボリブタジエン骨格含有2官能エポキシ樹脂、エポキシ当量910
・デナレックスR45-EPT:ナガセケムテックス(株)製、ポリブタジエン/水添ボリブタジエン骨格含有2官能エポキシ樹脂、エポキシ当量1570
1. Raw material (A1) Copolymerized epoxy resin YX7105: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, copolymer of bisphenol F and 1,6-hexanediol diglycidyl ether, epoxy equivalent 487
(B) Thiol compound PEPT: Pentaerythritol trippropanethiol, trifunctional primary thiol, molecular weight 358.6, manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.
・ PE-1: Karenz MT PE-1, manufactured by Showa Denko Co., Ltd., pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate, tetrafunctional secondary thiol, molecular weight 544
(A2) Monofunctional epoxy resin having an alkyl chain of 6 or more carbon atoms ED-502: Adeka glycyrrol ED-502, manufactured by ADEKA Corporation, glycidyl ether of alkyl alcohol having 12 or 13 carbon atoms, epoxy equivalent 320
(A3) Alicyclic group-containing polyfunctional epoxy resin HP-7200L: EPICLON HP-7200L, manufactured by DIC Corporation, dicyclopentadiene type epoxy resin, epoxy equivalent 248
(acid anhydride)
・ HN-5500: manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., 3 or 4-methyl-hexahydrophthalic anhydride, molecular weight 168
(Curing catalyst)
・ 2E4MZ: Curesol 2E4MZ, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., 2-ethyl-4-methylimidazole (other epoxy resins)
・Celoxide 2081: manufactured by Daicel Corporation, ε-caprolactone-modified 3′,4′-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexane carboxylate, epoxy equivalent 200
・ Denacol EX-991L: manufactured by Nagase ChemteX Co., Ltd., polyether glycol diglycidyl ether, epoxy equivalent 450
・ Denalex R15-EPT: manufactured by Nagase ChemteX Co., Ltd., polybutadiene / hydrogenated polybutadiene skeleton-containing bifunctional epoxy resin, epoxy equivalent 910
・ Denalex R45-EPT: manufactured by Nagase ChemteX Co., Ltd., bifunctional epoxy resin containing polybutadiene/hydrogenated polybutadiene skeleton, epoxy equivalent 1570

2.樹脂ワニス(伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物)の調製
実施例1
ふた付きポリ容器に、YX7105を60.0質量部、PEPTを14.7質量部、及びキュアゾール2E4MZを0.1質量部入れ、これらの混合物を自転・公転ミキサー((株)シンキー製「ARE-250」)にて撹拌して、伸縮性樹脂を形成するための樹脂ワニスを作製した。
2. Preparation Example 1 of resin varnish (thermosetting composition for forming elastic resin)
Put 60.0 parts by mass of YX7105, 14.7 parts by mass of PEPT, and 0.1 part by mass of CURESOL 2E4MZ in a plastic container with a lid, and put the mixture in a rotation/revolution mixer (manufactured by Thinky Co., Ltd. "ARE- 250") to prepare a resin varnish for forming a stretchable resin.

実施例2~7、比較例1~5
表1に示す配合比(質量部)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、実施例2~7及び比較例1~5の樹脂ワニスを調製した。比較例1の樹脂ワニスは、(B)チオール化合物の代わりに酸無水物を含む。比較例2~5の樹脂ワニスは、(A1)共重合エポキシ樹脂の代わりに柔軟構造を有するその他のエポキシ樹脂を含む。
Examples 2-7, Comparative Examples 1-5
Resin varnishes of Examples 2 to 7 and Comparative Examples 1 to 5 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the compounding ratio (parts by mass) shown in Table 1 was changed. The resin varnish of Comparative Example 1 contains an acid anhydride instead of (B) the thiol compound. The resin varnishes of Comparative Examples 2 to 5 contain (A1) other epoxy resins having a flexible structure in place of the copolymerized epoxy resin.

3.評価用フィルムの作製
アルミ製容器(L102mm×W45mm×H23mm)の底部に離型剤(ダイキン工業(株)製「ダイフリーGA-7500」)を塗布し、塗膜を、熱風式加熱炉を用いて120℃で3分間加熱することによって、容器の底部を離型処理した。次いで、アルミ製容器に各実施例及び比較例の樹脂ワニスを流し入れた。アルミ製容器内の樹脂ワニスを120℃で1時間加熱することにより硬化して、熱硬化性組成物の硬化物からなる評価用フィルム(厚さ1mm)を得た。
3. Preparation of film for evaluation A release agent ("Daifree GA-7500" manufactured by Daikin Industries, Ltd.) is applied to the bottom of an aluminum container (L102 mm × W45 mm × H23 mm), and the coating is applied using a hot air heating furnace. The bottom of the container was demolded by heating at 120° C. for 3 minutes. Then, the resin varnish of each example and comparative example was poured into an aluminum container. The resin varnish in the aluminum container was cured by heating at 120° C. for 1 hour to obtain an evaluation film (thickness 1 mm) composed of a cured product of the thermosetting composition.

4.評価
[弾性率、伸び率]
評価用フィルムから、長さ40mm、幅5mmの試験片を切り出した。この試験片の引張試験を、オートグラフ((株)島津製作所「EZ-S」)を用いて行い、応力-ひずみ曲線を得た。得られた応力-ひずみ曲線から、硬化物の弾性率及び破断伸び率を求めた。引張試験は、チャック間距離20mm、引張速度50mm/minの条件で行った。弾性率は、加重0.1~0.5Nにおける値であり、伸び率は試験片が破断した時点の伸び(破断伸び率)である。比較例2の樹脂ワニスからは硬化物が形成されなかったため、硬化物の弾性率及び伸び率を測定できなかった。
4. Evaluation [modulus of elasticity, elongation]
A test piece having a length of 40 mm and a width of 5 mm was cut from the film for evaluation. A tensile test of this test piece was performed using an autograph ("EZ-S" manufactured by Shimadzu Corporation) to obtain a stress-strain curve. The obtained stress-strain curve was used to determine the elastic modulus and breaking elongation of the cured product. The tensile test was performed under the conditions of a chuck-to-chuck distance of 20 mm and a tensile speed of 50 mm/min. The modulus of elasticity is the value at a load of 0.1 to 0.5 N, and the elongation is the elongation (elongation at break) when the test piece breaks. Since no cured product was formed from the resin varnish of Comparative Example 2, the elastic modulus and elongation of the cured product could not be measured.

[伸縮回復率]
評価用フィルムから、長さ40mm、幅5mmの試験片を切り出した。この試験片の引張試験をマイクロフォース試験機(Illinois Tool Works Inc製「Instron 5948」)を用いて2回行った。試験片を一対のチャックで挟み、1回目の引張試験で変位量(ひずみ)をXまで試験片に引張応力を加えた。次いでチャックを初期位置に戻し、再度、変位量(ひずみ)Xまで引張試験を行ったときに荷重がかかっている区間の変位量(ひずみ)Yを測定した。伸縮回復率Rを、式:R=(Y/X)×100により求めた。本測定では初期長さ(チャック間の距離)を20mm、Xを10mm(ひずみ50%)とした。比較例4の樹脂ワニスから形成されたフィルムは、1回目の引張試験でひずみ50%に達する前に破断した。
[Stretch recovery rate]
A test piece having a length of 40 mm and a width of 5 mm was cut from the film for evaluation. This test piece was subjected to a tensile test twice using a microforce tester ("Instron 5948" manufactured by Illinois Tool Works Inc.). A test piece was sandwiched between a pair of chucks, and a tensile stress was applied to the test piece up to a displacement amount (strain) of X in the first tensile test. Next, the chuck was returned to the initial position, and when the tensile test was performed to the displacement (strain) X again, the displacement (strain) Y in the section where the load was applied was measured. The stretch recovery rate R was determined by the formula: R=(Y/X)×100. In this measurement, the initial length (distance between chucks) was 20 mm, and X was 10 mm (strain 50%). The film formed from the resin varnish of Comparative Example 4 broke before reaching 50% strain in the first tensile test.

[ポリイミドとの密着性]
各実施例の樹脂ワニスを、厚さ50μmのポリイミドフィルム(東レ・デュポン(株)製「カプトン200EN」上にフィルムアプリケーター(テスター産業(株))を用いて塗布した。塗膜を表1又は表2に示す硬化条件で硬化した。形成された硬化膜に、1mm間隔の碁盤目の切れ目を入れ、硬化膜を100個の正方形部分に分割した。碁盤目の切れ目が形成された部分の全体に粘着テープを強く圧着させ、粘着テープの端を45°の角度で一気に引き剥がした。その後、100個の正方形部分のうち、ポリイミドフィルムから剥離しなかったものの個数に基づいて、密着性を以下の3段階で評価した。
A:100(剥離なし)
B:95~99
C:95未満
[Adhesion to polyimide]
The resin varnish of each example was applied to a polyimide film having a thickness of 50 μm (“Kapton 200EN” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) using a film applicator (Tester Sangyo Co., Ltd.). The cured film was cured under the curing conditions shown in 2. The cured film thus formed was cut with grids at intervals of 1 mm, and the cured film was divided into 100 square portions. The adhesive tape was strongly pressed, and the edge of the adhesive tape was peeled off at once at an angle of 45. Then, based on the number of squares that did not peel off from the polyimide film among the 100 squares, the adhesion was evaluated as follows. It was evaluated in 3 stages.
A: 100 (no peeling)
B: 95-99
C: less than 95

[粘度(保管安定性)]
各実施例の樹脂ワニスの初期、及び室温(25℃)で24時間保管後の25℃における粘度を、E型粘度計(東機産業(株)製「TVE25H」)で測定した。粘度の変化に基づいて、樹脂ワニスの保存安定性を評価した。
[Viscosity (storage stability)]
The initial viscosity of the resin varnish of each example and the viscosity at 25°C after storage at room temperature (25°C) for 24 hours were measured with an E-type viscometer ("TVE25H" manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.). The storage stability of the resin varnish was evaluated based on the change in viscosity.

Figure 2023009147000010
Figure 2023009147000010

Figure 2023009147000011
Figure 2023009147000011

実施例の樹脂ワニスから形成された硬化物(伸縮性樹脂)は、130%以上の高い破断伸び率を示し、且つ、90%以上の高い伸縮回復率を示した。特に、実施例3~7の樹脂ワニスから形成された硬化物(伸縮性樹脂)は、200%を超える非常に高い破断伸び率を示した。2級チオール基を有するチオール化合物を用いた実施例6及び7の樹脂ワニスは、室温24時間保管後の粘度上昇が小さく、保管安定性に優れている。 Cured products (elastic resins) formed from the resin varnishes of Examples exhibited a high elongation at break of 130% or more and a high recovery from stretching of 90% or more. In particular, the cured products (elastic resins) formed from the resin varnishes of Examples 3 to 7 exhibited very high elongation at break exceeding 200%. The resin varnishes of Examples 6 and 7 using a thiol compound having a secondary thiol group show little increase in viscosity after storage for 24 hours at room temperature and are excellent in storage stability.

1…フレキシブル基板、2…回路部品、3…封止樹脂層(伸縮性樹脂)、100…半導体装置。

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Flexible board, 2... Circuit component, 3... Sealing resin layer (elastic resin), 100... Semiconductor device.

Claims (10)

(A)エポキシ樹脂と、
(B)2以上のチオール基を有するチオール化合物と、
を含有し、
(A)エポキシ樹脂が、(A1)芳香族基又は脂環基を有する構成単位と、オキシアルキレン基又は炭素数4以上のアルキレン基を有する構成単位とを含む共重合体である共重合エポキシ樹脂を含む、
伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物。
(A) an epoxy resin;
(B) a thiol compound having two or more thiol groups;
contains
(A) The epoxy resin is a copolymer epoxy resin containing (A1) a structural unit having an aromatic group or an alicyclic group and a structural unit having an oxyalkylene group or an alkylene group having 4 or more carbon atoms. including,
A thermosetting composition for forming an elastic resin.
(A)エポキシ樹脂が、(A2)炭素数6以上のアルキル基を有する単官能エポキシ樹脂を更に含む、請求項1に記載の伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物。 2. The thermosetting composition for forming a stretchable resin according to claim 1, wherein (A) the epoxy resin further comprises (A2) a monofunctional epoxy resin having an alkyl group having 6 or more carbon atoms. (A)エポキシ樹脂が、(A3)脂環基を有する脂環基含有多官能エポキシ樹脂を更に含み、(A3)脂環基含有多官能エポキシ樹脂が、(A1)共重合エポキシ樹脂とは異なる化合物である、請求項1又は2に記載の伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物。 (A) the epoxy resin further includes (A3) an alicyclic group-containing polyfunctional epoxy resin having an alicyclic group, and (A3) the alicyclic group-containing polyfunctional epoxy resin is different from (A1) the copolymerized epoxy resin 3. The thermosetting composition for forming a stretchable resin according to claim 1, which is a compound. (A1)共重合エポキシ樹脂が、ビスフェノールFと1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルとの共重合体を含む、請求項1~3いずれか一項に記載の伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物。 (A1) The thermosetting composition for forming a stretchable resin according to any one of claims 1 to 3, wherein the copolymerized epoxy resin comprises a copolymer of bisphenol F and 1,6-hexanediol diglycidyl ether. thing. (A2)単官能エポキシ樹脂が、炭素数6以上17以下のアルキル基を有する単官能エポキシ樹脂である、請求項1~4いずれか一項に記載の伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物。 (A2) The thermosetting composition for forming a stretchable resin according to any one of claims 1 to 4, wherein the monofunctional epoxy resin is a monofunctional epoxy resin having an alkyl group having 6 to 17 carbon atoms. (A3)脂環基含有多官能エポキシ樹脂が、ジシクロペンタジエン基を有する多官能エポキシ樹脂を含む、請求項1~5いずれか一項に記載の伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物。 (A3) The thermosetting composition for forming a stretchable resin according to any one of claims 1 to 5, wherein the alicyclic group-containing polyfunctional epoxy resin comprises a polyfunctional epoxy resin having a dicyclopentadiene group. (B)チオール化合物が、2級チオール基を有するチオール化合物を含む、請求項1~6いずれか一項に記載の伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物。 (B) The thermosetting composition for forming a stretchable resin according to any one of claims 1 to 6, wherein the thiol compound contains a thiol compound having a secondary thiol group. (A1)共重合エポキシ樹脂の含有量が、(A)エポキシ樹脂100質量部に対して50質量部以上である、請求項1~7いずれか一項に記載の伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物。 (A1) The content of the copolymerized epoxy resin (A) is 50 parts by mass or more based on 100 parts by mass of the epoxy resin (A). Composition. 請求項1~8いずれか一項に記載の伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物の硬化物からなる、伸縮性樹脂。 A stretchable resin comprising a cured product of the thermosetting composition for forming a stretchable resin according to any one of claims 1 to 8. 請求項1~8いずれか一項に記載の伸縮性樹脂形成用熱硬化性組成物の硬化物からなる伸縮性樹脂層を備える、半導体装置。 A semiconductor device comprising a stretchable resin layer comprising a cured product of the thermosetting composition for forming a stretchable resin according to any one of claims 1 to 8.
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