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JP2022083294A - Polymer film and laminate - Google Patents

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JP2022083294A
JP2022083294A JP2020194653A JP2020194653A JP2022083294A JP 2022083294 A JP2022083294 A JP 2022083294A JP 2020194653 A JP2020194653 A JP 2020194653A JP 2020194653 A JP2020194653 A JP 2020194653A JP 2022083294 A JP2022083294 A JP 2022083294A
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polymer film
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polymer
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泰行 佐々田
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Fujifilm Corp
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Abstract

【課題】他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性に優れるポリマーフィルム、及び、上記ポリマーフィルムを用いた積層体の提供。【解決手段】層Aと、上記層Aの少なくとも一方の面に層Bとを有し、上記層A及び上記層Bの少なくとも一方が、外部刺激により体積膨張可能な層であり、誘電正接が0.005以下であるポリマーフィルム、及び、上記ポリマーフィルムを用いた積層体。【選択図】なしA polymer film having excellent adhesion to other polymer films and metal foils, and a laminate using the polymer film are provided. A layer A and a layer B on at least one surface of the layer A, wherein at least one of the layer A and the layer B is a layer capable of being volume-expanded by an external stimulus, and the dielectric loss tangent is A polymer film of 0.005 or less, and a laminate using the polymer film. [Selection figure] None

Description

本開示は、ポリマーフィルム、及び、積層体に関する。 The present disclosure relates to polymer films and laminates.

近年、通信機器に使用される周波数は非常に高くなる傾向にある。高周波帯域における伝送損失を抑えるため、回路基板に用いられる絶縁材料の比誘電率と誘電正接とを低くすることが要求されている。
従来、回路基板に用いられる絶縁材料として、ポリイミドが多く用いられてきたが、高耐熱性及び低吸水性であり、かつ、高周波帯域での損失が小さい液晶ポリマーが注目されている。
In recent years, the frequencies used in communication equipment have tended to be very high. In order to suppress transmission loss in the high frequency band, it is required to reduce the relative permittivity and the dielectric loss tangent of the insulating material used for the circuit board.
Conventionally, polyimide has been widely used as an insulating material used for a circuit board, but a liquid crystal polymer having high heat resistance and low water absorption and having a small loss in a high frequency band has been attracting attention.

従来のポリマーフィルムとしては、例えば、特許文献1には、少なくとも液晶ポリエステルを含む液晶ポリエステルフィルムであって、第1の配向度を、上記液晶ポリエステルフィルムの主面に平行な第1の方向に対する配向度とし、第2の配向度を、上記主面に平行であり、かつ上記第1の方向と直交する第2の方向に対する配向度としたとき、上記第1の配向度と上記第2の配向度との比である第1の配向度/第2の配向度が0.95以上1.04以下であり、上記主面に平行な方向において広角X線散乱法により測定される上記液晶ポリエステルの第3の配向度が60.0%以上である、液晶ポリエステルフィルムが記載されている。 As a conventional polymer film, for example, in Patent Document 1, a liquid crystal polyester film containing at least liquid crystal polyester is oriented with a first degree of orientation in a first direction parallel to the main surface of the liquid crystal polyester film. When the degree is defined as the degree of orientation with respect to the second direction parallel to the main surface and orthogonal to the first direction, the first degree of orientation and the second orientation are defined as the degree. The liquid polyester having a first degree of orientation / second degree of orientation, which is a ratio to the degree, is 0.95 or more and 1.04 or less, and is measured by a wide-angle X-ray scattering method in a direction parallel to the main surface. A liquid crystal polyester film having a third degree of orientation of 60.0% or more is described.

また、従来の剥離性積層フィルムとしては、特許文献2に記載のものが知られている。
特許文献2には、セルロースエステルを含むA層と上記セルロースエステルとは異なる溶液成膜可能な樹脂を含むB層を含む積層体を有し、A層とB層の密着力が5N/cm以下であることを特徴とする剥離性積層フィルムが記載されている。
Further, as a conventional releaseable laminated film, the one described in Patent Document 2 is known.
Patent Document 2 has a laminate containing an A layer containing a cellulose ester and a B layer containing a resin capable of forming a solution different from the above cellulose ester, and the adhesion between the A layer and the B layer is 5 N / cm or less. A peelable laminated film characterized by the above is described.

特開2020-26474号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2020-264474 特開2013-46992号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-46992

本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性に優れるポリマーフィルムを提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記ポリマーフィルムを用いた層間密着性に優れる積層体を提供することである。
An object to be solved by one embodiment of the present invention is to provide a polymer film having excellent adhesion to other polymer films and metal foils.
Further, an object to be solved by another embodiment of the present invention is to provide a laminate having excellent interlayer adhesion using the polymer film.

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 層Aと、上記層Aの少なくとも一方の面に層Bとを有し、上記層A及び上記層Bの少なくとも一方が、外部刺激により体積膨張可能な層であり、誘電正接が0.005以下であるポリマーフィルム。
<2> 上記層Bが、上記外部刺激により体積膨張可能な層である<1>に記載のポリマーフィルム。
<3> 上記層Bの160℃での膨張率が、0.1%以上である<2>に記載のポリマーフィルム。
<4> 上記層Bの300℃での膨張率が、0.1%以上である<2>又は<3>に記載のポリマーフィルム。
<5> 上記層Bの300℃での膨張率が、上記層Aの300℃での膨張率より大きい<2>~<4>のいずれか1つに記載のポリマーフィルム。
<6> 上記層Bの熱膨張係数αsが、上記層Aの熱膨張係数αcより大きい<1>~<5>のいずれか1つに記載のポリマーフィルム。
<7> 上記層Bが、発泡剤を含む<1>~<6>のいずれか1つに記載のポリマーフィルム。
<8> 上記ポリマーフィルムが、いずれかの層にフィラーを含む<1>~<7>のいずれか1つに記載のポリマーフィルム。
<9> 上記フィラーの数密度が、上記ポリマーフィルムの表面より内部の方が大きい<8>に記載のポリマーフィルム。
<10> 上記層Bが、フィラーを含む<8>又は<9>に記載のポリマーフィルム。
<11> 上記層Bが、針状フィラー又は突起を有するフィラーを含む<10>に記載のポリマーフィルム。
<12> 上記ポリマーフィルムの線膨張係数が、-20ppm/K~50ppm/Kである<1>~<11>のいずれか1つに記載のポリマーフィルム。
<13> 上記ポリマーフィルムの誘電正接が、0.004以下である<1>~<12>のいずれか1つに記載のポリマーフィルム。
<14> 上記ポリマーフィルムが、いずれかの層に液晶ポリマーを含む<1>~<13>のいずれか1つに記載のポリマーフィルム。
<15> 上記液晶ポリマーが、式(1)~式(3)のいずれかで表される構成繰り返し単位を有する液晶ポリマーである<14>に記載のポリマーフィルム。
式(1) -O-Ar-CO-
式(2) -CO-Ar-CO-
式(3) -X-Ar-Y-
式(1)~式(3)中、Arは、フェニレン基、ナフチレン基又はビフェニリレン基を表し、Ar及びArはそれぞれ独立に、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニリレン基又は下記式(4)で表される基を表し、X及びYはそれぞれ独立に、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar~Arで表される上記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。
式(4) -Ar-Z-Ar
式(4)中、Ar及びArはそれぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表し、Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキレン基を表す。
<16> 層Cを更に有し、上記層Bと、上記層Aと、上記層Cとをこの順で有する<1>~<15>のいずれか1つに記載のポリマーフィルム。
<17> <1>~<16>のいずれか1つに記載のポリマーフィルムと、上記ポリマーフィルムの上記層B側の面に配置された銅層を有する積層体。
<18> 上記層Bの平均厚みが、上記銅層の平均厚みよりも大きい<17>に記載の積層体。
<19> 上記層Bと上記銅層との剥離強度が、0.5kN/m以上である<17>又は<18>に記載の積層体。
<20> <16>に記載のポリマーフィルムと、上記ポリマーフィルムの上記層B側の面に配置された銅層と、上記ポリマーフィルムの上記層C側の面に配置された銅層とを有する積層体。
<21> 上記層Cと上記層C側の面に配置された上記銅層との剥離強度が、0.5kN/m以上である<20>に記載の積層体。
The means for solving the above problems include the following aspects.
<1> A layer A and a layer B on at least one surface of the layer A, and at least one of the layer A and the layer B is a layer capable of volume expansion by an external stimulus and has a dielectric loss tangent of 0. Polymer film of .005 or less.
<2> The polymer film according to <1>, wherein the layer B is a layer that can expand in volume by the external stimulus.
<3> The polymer film according to <2>, wherein the expansion rate of the layer B at 160 ° C. is 0.1% or more.
<4> The polymer film according to <2> or <3>, wherein the expansion coefficient of the layer B at 300 ° C. is 0.1% or more.
<5> The polymer film according to any one of <2> to <4>, wherein the expansion coefficient of the layer B at 300 ° C. is larger than the expansion coefficient of the layer A at 300 ° C.
<6> The polymer film according to any one of <1> to <5>, wherein the coefficient of thermal expansion αs of the layer B is larger than the coefficient of thermal expansion αc of the layer A.
<7> The polymer film according to any one of <1> to <6>, wherein the layer B contains a foaming agent.
<8> The polymer film according to any one of <1> to <7>, wherein the polymer film contains a filler in any of the layers.
<9> The polymer film according to <8>, wherein the number density of the filler is larger inside than on the surface of the polymer film.
<10> The polymer film according to <8> or <9>, wherein the layer B contains a filler.
<11> The polymer film according to <10>, wherein the layer B contains a needle-shaped filler or a filler having protrusions.
<12> The polymer film according to any one of <1> to <11>, wherein the coefficient of linear expansion of the polymer film is −20 ppm / K to 50 ppm / K.
<13> The polymer film according to any one of <1> to <12>, wherein the polymer film has a dielectric loss tangent of 0.004 or less.
<14> The polymer film according to any one of <1> to <13>, wherein the polymer film contains a liquid crystal polymer in any of the layers.
<15> The polymer film according to <14>, wherein the liquid crystal polymer is a liquid crystal polymer having a structural repeating unit represented by any of the formulas (1) to (3).
Equation (1) -O-Ar 1 -CO-
Equation (2) -CO-Ar 2 -CO-
Equation (3) -X-Ar 3 -Y-
In the formulas (1) to (3), Ar 1 represents a phenylene group, a naphthylene group or a biphenylylene group, and Ar 2 and Ar 3 independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylylene group or the following formula (4). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group, and the hydrogen atoms in the above groups represented by Ar 1 to Ar 3 independently represent a halogen atom and an alkyl group, respectively. Alternatively, it may be substituted with an aryl group.
Equation (4) -Ar 4 -Z-Ar 5-
In formula (4), Ar 4 and Ar 5 independently represent a phenylene group or a naphthylene group, and Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylene group.
<16> The polymer film according to any one of <1> to <15>, which further has a layer C, and has the layer B, the layer A, and the layer C in this order.
<17> A laminate having the polymer film according to any one of <1> to <16> and a copper layer arranged on the surface of the polymer film on the layer B side.
<18> The laminate according to <17>, wherein the average thickness of the layer B is larger than the average thickness of the copper layer.
<19> The laminate according to <17> or <18>, wherein the peel strength between the layer B and the copper layer is 0.5 kN / m or more.
<20> The polymer film according to <16>, a copper layer arranged on the surface of the polymer film on the layer B side, and a copper layer arranged on the surface of the polymer film on the layer C side. Laminated body.
<21> The laminate according to <20>, wherein the peel strength between the layer C and the copper layer arranged on the surface on the layer C side is 0.5 kN / m or more.

本発明の一実施形態によれば、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性に優れるポリマーフィルムを提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、上記ポリマーフィルムを用いた層間密着性に優れる積層体を提供することができる。
According to one embodiment of the present invention, it is possible to provide a polymer film having excellent adhesion to other polymer films and metal foils.
Further, according to another embodiment of the present invention, it is possible to provide a laminate having excellent interlayer adhesion using the above polymer film.

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、数値範囲を示す「~」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
また、本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。 また、本開示において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、特に断りのない限り、TSKgel SuperHM-H(東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析装置により、溶剤PFP(ペンタフルオロフェノール)/クロロホルム=1/2(質量比)、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
The contents of the present disclosure will be described in detail below. The description of the constituents described below may be based on the representative embodiments of the present disclosure, but the present disclosure is not limited to such embodiments.
In addition, in this specification, "-" indicating a numerical range is used in the sense that the numerical values described before and after the numerical range are included as the lower limit value and the upper limit value.
In the numerical range described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of the numerical range described in another stepwise description. .. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
Further, in the notation of a group (atomic group) in the present specification, the notation that does not describe substitution or non-substitution includes those having no substituent as well as those having a substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
As used herein, "(meth) acrylic" is a term used in a concept that includes both acrylic and methacrylic, and "(meth) acryloyl" is a term that is used as a concept that includes both acryloyl and methacrylic. Is.
In addition, the term "process" in the present specification is not limited to an independent process, and even if it cannot be clearly distinguished from other processes, the term "process" will be used as long as the intended purpose of the process is achieved. included. Further, in the present disclosure, "% by mass" and "% by weight" are synonymous, and "parts by mass" and "parts by weight" are synonymous.
Further, in the present disclosure, a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.
Further, unless otherwise specified, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) in the present disclosure are gel permeation chromatography using a column of TSKgel SuperHM-H (trade name manufactured by Toso Co., Ltd.). The molecular weight is detected by a solvent PFP (pentafluorophenol) / chloroform = 1/2 (mass ratio) by a GPC) analyzer and converted using polystyrene as a standard substance.

(ポリマーフィルム)
本開示に係るポリマーフィルムは、層Aと、上記層Aの少なくとも一方の面に層Bとを有し、上記層A及び上記層Bの少なくとも一方が、外部刺激により体積膨張可能な層であり、誘電正接が0.005以下である。
(Polymer film)
The polymer film according to the present disclosure has a layer A and a layer B on at least one surface of the layer A, and at least one of the layer A and the layer B is a layer capable of volume expansion by an external stimulus. , The dielectric loss tangent is 0.005 or less.

従来のポリマーフィルムは極性基の含有率が低いため、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性が十分でなく、ポリマーフィルムと金属箔とを積層及びパターニングし、更に積層して作製したフレキシブル配線基板において、層間密着性に劣る部分が生じることを本発明者は見出した。
本発明者が鋭意検討した結果、上記構成をとることにより、金属箔との密着性に優れるポリマーフィルムを提供できることを見出した。
上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
層Aと、上記層Aの少なくとも一方の面に層Bとを有し、上記層A及び上記層Bの少なくとも一方が、外部刺激により体積膨張可能な層であることにより、パターニングされた金属箔積層板(金属箔部分と他のポリマーフィルム部分が表面に存在する。)と貼り合わせた時に生じる局所的な圧力低下(密着不良)部分において、上記外部刺激により体積膨張可能な層を体積膨張させ、体積膨張により密着させる圧力を更に増加させることができ、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性に優れると推定している。
Since the conventional polymer film has a low content of polar groups, the adhesion to other polymer films and metal foils is not sufficient, and flexible wiring produced by laminating and patterning the polymer film and the metal foil and further laminating them. The present inventor has found that a portion of the substrate having poor interlayer adhesion is generated.
As a result of diligent studies by the present inventor, it has been found that a polymer film having excellent adhesion to a metal foil can be provided by adopting the above configuration.
The detailed mechanism by which the above effect is obtained is unknown, but it is presumed as follows.
A patterned metal leaf having a layer A and a layer B on at least one surface of the layer A, and at least one of the layer A and the layer B is a layer that can be expanded by volume by an external stimulus. In the local pressure drop (poor adhesion) portion that occurs when the laminated plate (a metal foil portion and another polymer film portion are present on the surface) is bonded, the volume-expandable layer is volume-expanded by the above-mentioned external stimulus. It is presumed that the pressure for adhesion can be further increased by volume expansion, and the adhesion to other polymer films and metal foils is excellent.

<<誘電正接>>
本開示に係るポリマーフィルムは、誘電正接が0.005以下であり、作製された基板の伝送損失低減の観点から、0.004以下であることが好ましく、0.0035以下であることがより好ましく、0を超え0.003以下であることが特に好ましい。
<< Dissipation factor >>
The polymer film according to the present disclosure has a dielectric loss tangent of 0.005 or less, preferably 0.004 or less, and more preferably 0.0035 or less, from the viewpoint of reducing transmission loss of the produced substrate. , 0 and 0.003 or less are particularly preferable.

本開示に係るポリマーフィルムにおける層Aの誘電正接は、作製された基板の伝送損失低減の観点から、0.005以下であることが好ましく、0.004以下であることがより好ましく、0.0035以下であることが更に好ましく、0を超え0.003以下であることが特に好ましい。 The dielectric loss tangent of layer A in the polymer film according to the present disclosure is preferably 0.005 or less, more preferably 0.004 or less, and more preferably 0.0035, from the viewpoint of reducing the transmission loss of the produced substrate. It is more preferably less than or equal to, and particularly preferably more than 0 and 0.003 or less.

本開示に係るポリマーフィルムにおける層Bの誘電正接は、作製された基板の伝送損失低減、及び、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性の観点から、0.01以下であることが好ましく、0.005以下であることがより好ましく、0.004以下であることが更に好ましく、0を超え0.003以下であることが特に好ましい。 The dielectric positive contact of layer B in the polymer film according to the present disclosure is preferably 0.01 or less from the viewpoint of reducing transmission loss of the produced substrate and adhesion to other polymer films and metal foils. It is more preferably 0.005 or less, further preferably 0.004 or less, and particularly preferably more than 0 and 0.003 or less.

本開示における誘電正接は、以下の方法により測定するものとする。
誘電率測定は、周波数10GHzで共振摂動法により実施する。ネットワークアナライザ(Agilent Technology社製「E8363B」)に10GHzの空洞共振器((株)関東電子応用開発製CP531)を接続し、空洞共振器にポリマーフィルム又は各層のサンプル(幅:2.0mm×長さ:80mm)を挿入し、温度25℃、湿度60%RH環境下、96時間の挿入前後の共振周波数の変化からポリマーフィルム又は各層の誘電率及び誘電正接を測定する。
The dielectric loss tangent in the present disclosure shall be measured by the following method.
The permittivity measurement is carried out by the resonance perturbation method at a frequency of 10 GHz. A 10 GHz hollow resonator (CP531 manufactured by Kanto Denshi Applied Development Co., Ltd.) is connected to a network analyzer (“E8633B” manufactured by Agent Technology), and a polymer film or a sample of each layer (width: 2.0 mm × length) is connected to the cavity resonator. (S: 80 mm) is inserted, and the dielectric constant and dielectric adjacency of the polymer film or each layer are measured from the change in the resonance frequency before and after the insertion for 96 hours under a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH.

<<膨張率>>
本開示に係るポリマーフィルムは、上記層A及び上記層Bの少なくとも一方が、外部刺激により体積膨張可能な層であればよいが、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性の観点から、上記層Bが、外部刺激により体積膨張可能な層であることが好ましい。
<< Expansion rate >>
The polymer film according to the present disclosure may be a layer in which at least one of the layer A and the layer B can be expanded in volume by an external stimulus, but from the viewpoint of adhesion to other polymer films and metal foils, the above-mentioned It is preferable that the layer B is a layer that can be expanded in volume by an external stimulus.

層Bの160℃での膨張率は、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性、及び、低温貼り付け性の観点から、0.1%以上であることが好ましく、1%以上であることがより好ましく、3%以上100%以下であることが更に好ましく、5%以上70%以下であることが特に好ましい。
層Bの300℃での膨張率は、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性の観点から、0.1%以上であることが好ましく、3%以上であることがより好ましく、5%以上100%以下であることが更に好ましく、10%以上70%以下であることが特に好ましい。
また、層Bの160℃での膨張率は、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性の観点から、層Aの160℃での膨張率より大きいことが好ましく、層Aと層Bとの膨張率差は、0.1%以上であることが好ましく、1%以上であることがより好ましく、3%以上100%以下であることが更に好ましく、5%以上70%以下であることが特に好ましい。
更に、層Bの300℃での膨張率は、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性の観点から、層Aの300℃での膨張率より大きいことが好ましく、層Aと層Bとの膨張率差は、0.1%以上であることが好ましく、3%以上であることがより好ましく、5%以上100%以下であることが更に好ましく、10%以上70%以下であることが特に好ましい。
The expansion coefficient of the layer B at 160 ° C. is preferably 0.1% or more, preferably 1% or more, from the viewpoint of adhesion to other polymer films and metal foils and low-temperature adhesiveness. Is more preferable, 3% or more and 100% or less is more preferable, and 5% or more and 70% or less is particularly preferable.
The expansion coefficient of the layer B at 300 ° C. is preferably 0.1% or more, more preferably 3% or more, and 5% or more, from the viewpoint of adhesion to other polymer films and metal foils. It is more preferably 100% or less, and particularly preferably 10% or more and 70% or less.
Further, the expansion coefficient of the layer B at 160 ° C. is preferably larger than the expansion coefficient of the layer A at 160 ° C. from the viewpoint of adhesion to other polymer films and metal foils, and the expansion rate of the layer A and the layer B is preferably larger. The difference in expansion coefficient is preferably 0.1% or more, more preferably 1% or more, further preferably 3% or more and 100% or less, and particularly preferably 5% or more and 70% or less. preferable.
Further, the expansion coefficient of the layer B at 300 ° C. is preferably larger than the expansion coefficient of the layer A at 300 ° C. from the viewpoint of adhesion to other polymer films and metal foils, and the expansion rate of the layer A and the layer B is preferably larger. The difference in expansion coefficient is preferably 0.1% or more, more preferably 3% or more, further preferably 5% or more and 100% or less, and particularly preferably 10% or more and 70% or less. preferable.

本開示における膨張率は、以下の方法により測定するものとする。
ポリマーフィルムをミクロトームで切削して切片サンプルを作製し、加熱ステージシステム(HS82、メトラー・トレド社製)を備えた光学顕微鏡を用いて、層A、及び、層Bの厚み変化をそれぞれ求める。25℃での初期厚み(t25)、及び、10℃/分の速度で160℃まで昇温したときの厚み(t160)を評価し、初期厚みで除した値(t160/t25)を算出し、160℃での膨張率(単位:%)とする。300℃の場合も同様に求める。
The coefficient of expansion in the present disclosure shall be measured by the following method.
A section sample is prepared by cutting a polymer film with a microtome, and the thickness changes of layers A and B are determined using an optical microscope equipped with a heating stage system (HS82, manufactured by METTLER TOLEDO). The initial thickness (t25) at 25 ° C. and the thickness (t160) when the temperature was raised to 160 ° C. at a rate of 10 ° C./min were evaluated, and the value divided by the initial thickness (t160 / t25) was calculated. The coefficient of expansion at 160 ° C. (unit:%). The same applies to the case of 300 ° C.

<<熱膨張係数>>
本開示に係るポリマーフィルムは、外部刺激により体積膨張可能な層の熱膨張係数が、外部刺激により体積膨張可能な層でない層の熱膨張係数よりも大きいことが好ましい。
また、層Bが外部刺激により体積膨張可能な層である場合、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性の観点から、層Bの熱膨張係数αsが、層Aの熱膨張係数αcより大きいことが好ましい。
<< Thermal expansion coefficient >>
In the polymer film according to the present disclosure, it is preferable that the coefficient of thermal expansion of the layer that can be volume-expanded by an external stimulus is larger than the coefficient of thermal expansion of a layer that is not a layer that can be volume-expanded by an external stimulus.
When the layer B is a layer that can be expanded by volume due to an external stimulus, the coefficient of thermal expansion αs of the layer B is larger than the coefficient of thermal expansion αc of the layer A from the viewpoint of adhesion to other polymer films and metal foils. Is preferable.

外部刺激により体積膨張可能な層の熱膨張係数は、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性の観点から、50ppm/K以上であることが好ましく、60ppm/K~300ppm/Kであることがより好ましく、70ppm/K~250ppm/Kであることが特に好ましい。
また、層Bが外部刺激により体積膨張可能な層である場合、層Bの熱膨張係数αsは、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性の観点から、50ppm/K以上であることが好ましく、60ppm/K~300ppm/Kであることがより好ましく、70ppm/K~250ppm/Kであることが特に好ましい。
層Aが外部刺激により体積膨張可能な層でない場合、層Aの熱膨張係数αcは、特に限定されないが、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性の観点から、-20ppm/K以上であることが好ましく、0ppm/K以上であることがより好ましく、30ppm/K以上であることが更に好ましく、50ppm/K~100ppm/Kであることが特に好ましい。
The coefficient of thermal expansion of the layer that can be expanded by volume by an external stimulus is preferably 50 ppm / K or more, and preferably 60 ppm / K to 300 ppm / K, from the viewpoint of adhesion to other polymer films and metal foils. More preferably, it is particularly preferably 70 ppm / K to 250 ppm / K.
When the layer B is a layer that can be expanded by volume due to an external stimulus, the coefficient of thermal expansion αs of the layer B is preferably 50 ppm / K or more from the viewpoint of adhesion to other polymer films and metal foils. , 60 ppm / K to 300 ppm / K, more preferably 70 ppm / K to 250 ppm / K.
When the layer A is not a layer that can be expanded by volume due to an external stimulus, the coefficient of thermal expansion αc of the layer A is not particularly limited, but is -20 ppm / K or more from the viewpoint of adhesion to other polymer films and metal foils. It is preferably 0 ppm / K or more, more preferably 30 ppm / K or more, and particularly preferably 50 ppm / K to 100 ppm / K.

本開示における各層の熱膨張係数は、以下の方法により測定するものとする。
ポリマーフィルムをミクロトームで切削して切片サンプルを作製し、加熱ステージシステム(HS82、メトラー・トレド社製)を備えた光学顕微鏡にセットする。続いて、5℃/分の速度で25℃~200℃まで昇温した後、20℃/分の速度で30℃まで冷却し、再び5℃/分の速度で昇温したときの、30℃での層Bの厚み(ts30)、及び、150℃での層Bの厚み(ts150)を評価し、寸法変化を温度変化で除した値((ts150-ts30)/(150-30))を算出し、層Bの熱膨張係数(αs)とする。層Aの熱膨張係数(αc)についても同様に求める。
The coefficient of thermal expansion of each layer in the present disclosure shall be measured by the following method.
A section sample is prepared by cutting a polymer film with a microtome and set in an optical microscope equipped with a heating stage system (HS82, manufactured by METTLER TOLEDO). Subsequently, the temperature was raised from 25 ° C. to 200 ° C. at a rate of 5 ° C./min, cooled to 30 ° C. at a rate of 20 ° C./min, and then heated again at a rate of 5 ° C./min to 30 ° C. The thickness of the layer B (ts30) and the thickness of the layer B at 150 ° C. (ts150) were evaluated, and the value obtained by dividing the dimensional change by the temperature change ((ts150-ts30) / (150-30)) was obtained. Calculated and used as the coefficient of thermal expansion (αs) of layer B. The coefficient of thermal expansion (αc) of the layer A is also obtained in the same manner.

<<外部刺激により体積膨張可能な層>>
本開示に係るポリマーフィルムは、層A及び層Bの少なくとも一方が、外部刺激により体積膨張可能な層である。
上記外部刺激としては、特に制限はなく、公知の体積膨張方法に応じて、適宜外部刺激を選択することができる。
上記外部刺激として、具体的には例えば、熱、圧力、電場、音波、電磁波(光を含む。)、磁場等が挙げられる。
中でも、積層体作製の簡便性、低誘電正接、及び、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性の観点から、熱、圧力及び電磁波よりなる群から選ばれた少なくとも1種の外部刺激がより好ましく、熱及び圧力よりなる群から選ばれた少なくとも1種の外部刺激がより好ましく、熱が特に好ましい。
<< Layer that can expand in volume by external stimulus >>
In the polymer film according to the present disclosure, at least one of layer A and layer B is a layer capable of volume expansion by an external stimulus.
The external stimulus is not particularly limited, and an external stimulus can be appropriately selected according to a known volume expansion method.
Specific examples of the external stimulus include heat, pressure, electric field, sound wave, electromagnetic wave (including light), and magnetic field.
Among them, at least one external stimulus selected from the group consisting of heat, pressure and electromagnetic waves is more suitable from the viewpoints of ease of laminating the fabrication, low dielectric loss tangent, and adhesion to other polymer films and metal foils. Preferably, at least one external stimulus selected from the group consisting of heat and pressure is more preferred, and heat is particularly preferred.

上記外部刺激により体積膨張可能な層は、ポリマーフィルムの取り扱い性及び保存性の観点から、発泡剤を含むことが好ましい。
例えば、層Bが、外部刺激により体積膨張可能な層である場合は、層Bが、発泡剤を含むことが好ましい。
発泡剤としては、特に制限はなく、公知の発泡剤を用いることができ、物理発泡剤であっても、化学発泡剤であってもよいが、ポリマーフィルムの取り扱い性及び保存性の観点から、化学発泡剤であることが好ましい。
また、発泡剤は、低誘電正接、及び、金属箔との密着性の観点から、熱により分解する発泡剤であることが好ましく、その分解温度は、貼り付け時のラミネート温度等に応じ適宜選択することができるが、100℃~300℃であることが好ましく、100℃~160℃であることがより好ましい。また、保存安定性の観点からは、上記分解温度は、200℃~300℃であることが好ましい。
化学発泡剤としては、無機化合物であっても、有機化合物であってもよく、2種以上を併用してもよい。
有機化学発泡剤としては、例えば、ジニトロソペンタメチレンテトラミン(DPT)などのニトロソアミン化合物、アゾジカルボンアミド(ADCA)などのアゾ化合物、4,4’-オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド(OBSH)やヒドラゾジカルボンアミド(HDCA)などのヒドラジン化合物等が挙げられる。
無機化学発泡剤としては、例えば、炭酸水素ナトリウム等の炭酸水素塩、炭酸塩、炭酸水素塩とクエン酸ナトリウム等の有機酸塩との組み合わせ等が挙げられる。
中でも、低誘電正接、金属箔との密着性、並びに、ポリマーフィルムの取り扱い性及び保存性の観点から、無機化学発泡剤が好ましく、炭酸水素塩と有機酸塩との組み合わせがより好ましく、炭酸水素ナトリウムとクエン酸ナトリウムとの組み合わせが特に好ましい。
The layer that can be expanded by volume due to the external stimulus preferably contains a foaming agent from the viewpoint of handleability and storage stability of the polymer film.
For example, when the layer B is a layer that can be expanded by volume due to an external stimulus, it is preferable that the layer B contains a foaming agent.
The foaming agent is not particularly limited, and a known foaming agent can be used. It may be a physical foaming agent or a chemical foaming agent, but from the viewpoint of handleability and storage stability of the polymer film, it may be used. It is preferably a chemical foaming agent.
Further, the foaming agent is preferably a foaming agent that decomposes by heat from the viewpoint of low dielectric loss tangent and adhesion to the metal foil, and the decomposition temperature is appropriately selected according to the laminating temperature at the time of pasting and the like. However, the temperature is preferably 100 ° C to 300 ° C, more preferably 100 ° C to 160 ° C. Further, from the viewpoint of storage stability, the decomposition temperature is preferably 200 ° C to 300 ° C.
The chemical foaming agent may be an inorganic compound or an organic compound, and two or more kinds thereof may be used in combination.
Examples of the organic chemical foaming agent include nitrosamine compounds such as dinitrosopentamethylenetetramine (DPT), azo compounds such as azodicarbonamide (ADCA), 4,4'-oxybisbenzenesulfonyl hydrazide (OBSH) and hydrazodicarbonates. Examples thereof include hydrazine compounds such as amide (HDCA).
Examples of the inorganic chemical foaming agent include hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate, carbonates, and combinations of hydrogen carbonates and organic acid salts such as sodium citrate.
Among them, an inorganic chemical foaming agent is preferable, a combination of a hydrogen carbonate and an organic acid salt is more preferable, and hydrogen carbonate is preferable from the viewpoints of low dielectric adaptivity, adhesion to a metal foil, and handleability and storage stability of a polymer film. A combination of sodium and sodium citrate is particularly preferred.

発泡剤は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
上記外部刺激により体積膨張可能な層における発泡剤の含有量は、低誘電正接、金属箔との密着性、並びに、ポリマーフィルムの取り扱い性及び保存性の観点から、上記外部刺激により体積膨張可能な層の全質量に対し、0.01質量%~30質量%であることが好ましく、0.05質量%~20質量%であることがより好ましく、0.5質量%~15質量%であることが特に好ましい。
The foaming agent may be used alone or in combination of two or more.
The content of the foaming agent in the layer that can be expanded by volume due to the external stimulus can be expanded by the external stimulus from the viewpoints of low dielectric normal contact, adhesion to the metal foil, and handleability and storage stability of the polymer film. It is preferably 0.01% by mass to 30% by mass, more preferably 0.05% by mass to 20% by mass, and 0.5% by mass to 15% by mass with respect to the total mass of the layer. Is particularly preferable.

上記外部刺激により体積膨張可能な層は、液晶ポリマーを含むことが好ましい。
また、上記外部刺激により体積膨張可能な層は、他の成分を含んでいてもよい。
上記外部刺激により体積膨張可能な層における液晶ポリマー及び他の成分としては、後述する層A及び層Bに記載の液晶ポリマー及び他の成分を好適に用いることができる。
上記外部刺激により体積膨張可能な層の平均厚みの好ましい態様も、後述する層A又は層Bと同様である。
The layer that can be expanded by volume due to the external stimulus preferably contains a liquid crystal polymer.
Further, the layer that can be expanded in volume by the above-mentioned external stimulus may contain other components.
As the liquid crystal polymer and other components in the layer that can expand in volume by the external stimulus, the liquid crystal polymers and other components described in layers A and B described later can be preferably used.
The preferred embodiment of the average thickness of the layer that can be expanded by volume by the external stimulus is the same as that of the layer A or the layer B described later.

また、上記外部刺激により体積膨張可能な層は、ポリマーフィルムの取り扱い性及び保存性の観点から、層Aに含まれる液晶ポリマーよりも線膨張係数の大きいポリマーを含むことも好ましい。上記線膨張係数の大きいポリマーを含むことにより、熱により体積膨張可能な層とすることができる。
上記線膨張係数の大きいポリマーとしては、シリコーンゴム、シリコーン樹脂、ポリエチレン、シクロオレフィン系ポリマー、非晶性ポリエステル等が好ましく挙げられる。
Further, the layer that can be expanded by volume due to the external stimulus preferably contains a polymer having a coefficient of linear expansion larger than that of the liquid crystal polymer contained in the layer A, from the viewpoint of handleability and storage stability of the polymer film. By containing the polymer having a large coefficient of linear expansion, it is possible to form a layer that can be expanded by volume due to heat.
Preferred examples of the polymer having a large linear expansion coefficient include silicone rubber, silicone resin, polyethylene, cycloolefin-based polymers, and amorphous polyesters.

上記線膨張係数の大きいポリマーは、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
上記外部刺激により体積膨張可能な層における上記線膨張係数の大きいポリマーの含有量は、低誘電正接、金属箔との密着性、並びに、ポリマーフィルムの取り扱い性及び保存性の観点から、上記外部刺激により体積膨張可能な層の全質量に対し、1質量%~90質量%であることが好ましく、5質量%~80質量%であることがより好ましく、10質量%~70質量%であることが更に好ましく、20質量%~60質量%であることが特に好ましい。
The polymer having a large coefficient of linear expansion may be used alone or in combination of two or more.
The content of the polymer having a large linear expansion coefficient in the layer that can be expanded by the external stimulus is the external stimulus from the viewpoints of low dielectric adjunct, adhesion to the metal foil, and handleability and storage stability of the polymer film. It is preferably 1% by mass to 90% by mass, more preferably 5% by mass to 80% by mass, and 10% by mass to 70% by mass with respect to the total mass of the layer that can be expanded by volume. It is more preferably 20% by mass to 60% by mass, and particularly preferably 20% by mass.

<層A>
本開示に係るポリマーフィルムは、層Aと、上記層Aの少なくとも一方の面に層Bとを有し、低誘電正接の観点から、いずれかの層に液晶ポリマーを含むことが好ましく、層Aが、液晶ポリマーを含むことがより好ましく、層A及び層Bがそれぞれ、液晶ポリマーを含むことが特に好ましく、層A及び層Bに同一の種類の液晶ポリマーを含むことが最も好ましい。
層Aは、外部刺激により体積膨張可能な層であってもよいが、熱膨張係数、及び、低誘電正接の観点から、外部刺激により体積膨張可能な層でないことが好ましい。
<Layer A>
The polymer film according to the present disclosure has a layer A and a layer B on at least one surface of the layer A, and from the viewpoint of low dielectric loss tangent, it is preferable that one of the layers contains a liquid crystal polymer, and the layer A is preferable. However, it is more preferable to contain a liquid crystal polymer, it is particularly preferable that the layer A and the layer B each contain a liquid crystal polymer, and it is most preferable that the layer A and the layer B contain the same type of liquid crystal polymer.
The layer A may be a layer that can be expanded in volume by an external stimulus, but is preferably not a layer that can be expanded in volume by an external stimulus from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and low dielectric loss tangent.

-液晶ポリマー-
本開示において、液晶ポリマーの種類は特に限定されず、公知の液晶ポリマーを用いることができる。
また、液晶ポリマーは、溶融状態で液晶性を示すサーモトロピック液晶ポリマーでもよく、溶液状態で液晶性を示すリオトロピック液晶ポリマーでもよい。また、サーモトロピック液晶の場合は、450℃以下の温度で溶融するものであることが好ましい。
液晶ポリマーとしては、例えば、液晶ポリエステル、液晶ポリエステルにアミド結合が導入された液晶ポリエステルアミド、液晶ポリエステルにエーテル結合が導入された液晶ポリエステルエーテル、液晶ポリエステルにカーボネート結合が導入された液晶ポリエ
ステルカーボネートなどを挙げることができる。
また、液晶ポリマーは、液晶性、及び、熱膨張係数の観点から、芳香環を有するポリマーであることが好ましく、芳香族ポリエステル又は芳香族ポリエステルアミドであることがより好ましい。
更に、液晶ポリマーは、芳香族ポリエステル又は芳香族ポリエステルアミドに、更にイミド結合、カルボジイミド結合やイソシアヌレート結合などのイソシアネート由来の結合等が導入されたポリマーであってもよい。
また、液晶ポリマーは、原料モノマーとして芳香族化合物のみを用いてなる全芳香族液晶ポリマーであることが好ましい。
-Liquid crystal polymer-
In the present disclosure, the type of liquid crystal polymer is not particularly limited, and known liquid crystal polymers can be used.
Further, the liquid crystal polymer may be a thermotropic liquid crystal polymer that exhibits liquid crystal properties in a molten state, or may be a riotropic liquid crystal polymer that exhibits liquid crystal properties in a solution state. Further, in the case of a thermotropic liquid crystal, it is preferable that the liquid crystal is melted at a temperature of 450 ° C. or lower.
Examples of the liquid crystal polymer include liquid crystal polyester, liquid crystal polyester amide having an amide bond introduced into the liquid crystal polyester, liquid crystal polyester ether having an ether bond introduced into the liquid crystal polyester, and liquid crystal polyester carbonate having a carbonate bond introduced into the liquid crystal polyester. Can be mentioned.
Further, the liquid crystal polymer is preferably a polymer having an aromatic ring, and more preferably an aromatic polyester or an aromatic polyester amide, from the viewpoint of liquid crystal property and coefficient of thermal expansion.
Further, the liquid crystal polymer may be a polymer in which an imide bond, a carbodiimide bond, an isocyanate-derived bond such as an isocyanurate bond, or the like is further introduced into an aromatic polyester or an aromatic polyester amide.
Further, the liquid crystal polymer is preferably a total aromatic liquid crystal polymer using only an aromatic compound as a raw material monomer.

液晶ポリマーの例としては、例えば、以下が挙げられる。
1)(i)芳香族ヒドロキシカルボン酸と、(ii)芳香族ジカルボン酸と、(iii)芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物と、を重縮合させてなるもの。
2)複数種の芳香族ヒドロキシカルボン酸を重縮合させてなるもの。
3)(i)芳香族ジカルボン酸と、(ii)芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物と、を重縮合させてなるもの。
4)(i)ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルと、(ii)芳香族ヒドロキシカルボン酸と、を重縮合させてなるもの。
ここで、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンはそれぞれ独立に、その一部又は全部に代えて、その重縮合可能な誘導体が用いられてもよい。
Examples of liquid crystal polymers include, for example:
1) (i) Aromatic hydroxycarboxylic acid, (ii) Aromatic dicarboxylic acid, and (iii) At least one compound selected from the group consisting of aromatic diols, aromatic hydroxyamines and aromatic diamines. It is made by polycondensing.
2) Polycondensation of multiple types of aromatic hydroxycarboxylic acids.
3) A compound obtained by polycondensing (i) an aromatic dicarboxylic acid and (ii) at least one compound selected from the group consisting of aromatic diols, aromatic hydroxyamines and aromatic diamines.
4) (i) Polyester such as polyethylene terephthalate and (ii) aromatic hydroxycarboxylic acid are polycondensed.
Here, the aromatic hydroxycarboxylic acid, the aromatic dicarboxylic acid, the aromatic diol, the aromatic hydroxyamine and the aromatic diamine are independently used in place of a part or all of them, and a polycondensable derivative thereof is used. May be good.

芳香族ヒドロキシカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸のようなカルボキシ基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、カルボキシ基をアルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基に変換してなるもの(エステル)、カルボキシ基をハロホルミル基に変換してなるもの(酸ハロゲン化物)、及びカルボキシ基をアシルオキシカルボニル基に変換してなるもの(酸無水物)が挙げられる。
芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジオール及び芳香族ヒドロキシアミンのようなヒドロキシ基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、ヒドロキシ基をアシル化してアシルオキシ基に変換してなるもの(アシル化物)が挙げられる。
芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンのようなアミノ基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、アミノ基をアシル化してアシルアミノ基に変換してなるもの(アシル化物)が挙げられる。
Examples of polymerizable derivatives of compounds having a carboxy group, such as aromatic hydroxycarboxylic acid and aromatic dicarboxylic acid, are those obtained by converting a carboxy group into an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group (ester), carboxy. Examples thereof include those obtained by converting a group into a haloformyl group (acid halide) and those obtained by converting a carboxy group into an acyloxycarbonyl group (acid anhydride).
Examples of polymerizable derivatives of compounds having a hydroxy group, such as aromatic hydroxycarboxylic acids, aromatic diols and aromatic hydroxyamines, are those obtained by acylating a hydroxy group and converting it into an acyloxy group (acylated product). Can be mentioned.
Examples of polymerizable derivatives of compounds having an amino group, such as aromatic hydroxyamines and aromatic diamines, include those obtained by acylating an amino group and converting it into an acylamino group (acylated product).

液晶ポリマーは、液晶性、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、下記式(1)~式(3)のいずれかで表される構成繰り返し単位(以下、式(1)で表される構成繰り返し単位等を、繰り返し単位(1)等ということがある。)を有することが好ましく、下記式(1)で表される構成繰り返し単位を有することがより好ましく、下記式(1)で表される構成繰り返し単位と、下記式(2)で表される構成繰り返し単位と、下記式(2)で表される構成繰り返し単位とを有することが特に好ましい。
式(1) -O-Ar-CO-
式(2) -CO-Ar-CO-
式(3) -X-Ar-Y-
式(1)~式(3)中、Arは、フェニレン基、ナフチレン基又はビフェニリレン基を表し、Ar及びArはそれぞれ独立に、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニリレン基又は下記式(4)で表される基を表し、X及びYはそれぞれ独立に、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar~Arで表される上記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。
式(4) -Ar-Z-Ar
式(4)中、Ar及びArはそれぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表し、Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキレン基を表す。
The liquid crystal polymer is a structural repeating unit represented by any of the following formulas (1) to (3) from the viewpoint of liquid crystal property, coefficient of thermal expansion, and adhesion to metal foil (hereinafter, formula (1)). It is preferable to have a repeating unit (1) or the like, and it is more preferable to have a structural repeating unit represented by the following formula (1). It is particularly preferable to have a structural repeating unit represented by 1), a structural repeating unit represented by the following formula (2), and a structural repeating unit represented by the following formula (2).
Equation (1) -O-Ar 1 -CO-
Equation (2) -CO-Ar 2 -CO-
Equation (3) -X-Ar 3 -Y-
In the formulas (1) to (3), Ar 1 represents a phenylene group, a naphthylene group or a biphenylylene group, and Ar 2 and Ar 3 independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylylene group or the following formula (4). X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group, and the hydrogen atoms in the above groups represented by Ar 1 to Ar 3 independently represent a halogen atom and an alkyl group, respectively. Alternatively, it may be substituted with an aryl group.
Equation (4) -Ar 4 -Z-Ar 5-
In formula (4), Ar 4 and Ar 5 independently represent a phenylene group or a naphthylene group, and Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylene group.

上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
上記アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基、2-エチルヘキシル基、n-オクチル基及びn-デシル基が挙げられ、その炭素数は、好ましくは1~10である。
上記アリール基の例としては、フェニル基、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、1-ナフチル基及び2-ナフチル基が挙げられ、その炭素数は、好ましくは6~20である。
上記水素原子がこれらの基で置換されている場合、その数は、Ar、Ar又はArで表される上記基毎にそれぞれ独立に、好ましくは2個以下であり、より好ましくは1個である。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the above alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group and 2-ethylhexyl group. Examples thereof include an n-octyl group and an n-decyl group, the number of carbon atoms thereof is preferably 1 to 10.
Examples of the aryl group include a phenyl group, an o-tolyl group, an m-tolyl group, a p-tolyl group, a 1-naphthyl group and a 2-naphthyl group, and the number of carbon atoms thereof is preferably 6 to 20. be.
When the hydrogen atom is substituted with these groups, the number thereof is independently for each of the groups represented by Ar 1 , Ar 2 or Ar 3 , preferably 2 or less, and more preferably 1. It is an individual.

上記アルキレン基の例としては、メチレン基、1,1-エタンジイル基、1-メチル-1,1-エタンジイル基、1,1-ブタンジイル基及び2-エチル-1,1-ヘキサンジイル基が挙げられ、その炭素数は、好ましくは1~10である。 Examples of the alkylene group include a methylene group, a 1,1-ethanediyl group, a 1-methyl-1,1-ethanediyl group, a 1,1-butandyl group and a 2-ethyl-1,1-hexanediyl group. , The number of carbon atoms is preferably 1 to 10.

繰り返し単位(1)は、所定の芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する構成繰り返し単位である。
繰り返し単位(1)としては、Arがp-フェニレン基であるもの(p-ヒドロキシ安香酸に由来する構成繰り返し単位)、及びArが2,6-ナフチレン基であるもの(6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成繰り返し単位)、又は、4,4’-ビフェニリレン基であるもの(4’-ヒドロキシ-4-ビフェニルカルボン酸に由来する構成繰り返し単位)が好ましい。
The repeating unit (1) is a constituent repeating unit derived from a predetermined aromatic hydroxycarboxylic acid.
As the repeating unit (1), Ar 1 is a p-phenylene group (constituent repeating unit derived from p-hydroxyacousic acid) and Ar 1 is a 2,6-naphthylene group (6-hydroxy). A structural repeating unit derived from -2-naphthoic acid) or a 4,4'-biphenylylene group (constituent repeating unit derived from 4'-hydroxy-4-biphenylcarboxylic acid) is preferable.

繰り返し単位(2)は、所定の芳香族ジカルボン酸に由来する構成繰り返し単位である。
繰り返し単位(2)としては、Arがp-フェニレン基であるもの(テレフタル酸に由来する構成繰り返し単位)、Arがm-フェニレン基であるもの(イソフタル酸に由来する構成繰り返し単位)、Arが2,6-ナフチレン基であるもの(2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する構成繰り返し単位)、又は、Arがジフェニルエーテル-4,4’-ジイル基であるもの(ジフェニルエーテル-4,4’-ジカルボン酸に由来する構成繰り返し単位)が好ましい。
The repeating unit (2) is a constituent repeating unit derived from a predetermined aromatic dicarboxylic acid.
As the repeating unit (2), Ar 2 is a p-phenylene group (a constituent repeating unit derived from terephthalic acid), Ar 2 is an m-phenylene group (a constituent repeating unit derived from isophthalic acid), and the like. Ar 2 is a 2,6-naphthylene group (a structural repeating unit derived from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid), or Ar 2 is a diphenyl ether-4,4'-diyl group (diphenyl ether-4, A structural repeating unit derived from 4'-dicarboxylic acid) is preferred.

繰り返し単位(3)は、所定の芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシルアミン又は芳香族ジアミンに由来する構成繰り返し単位である。
繰り返し単位(3)としては、Arがp-フェニレン基であるもの(ヒドロキノン、p-アミノフェノール又はp-フェニレンジアミンに由来する構成繰り返し単位)、Arがm-フェニレン基であるもの(イソフタル酸に由来する構成繰り返し単位)、又は、Arが4,4’-ビフェニリレン基であるもの(4,4’-ジヒドロキシビフェニル、4-アミノ-4’-ヒドロキシビフェニル又は4,4’-ジアミノビフェニルに由来する構成繰り返し単位)が好ましい。
The repeating unit (3) is a constituent repeating unit derived from a predetermined aromatic diol, aromatic hydroxylamine or aromatic diamine.
As the repeating unit (3), Ar 3 is a p-phenylene group (a constituent repeating unit derived from hydroquinone, p-aminophenol or p-phenylenediamine), and Ar 3 is an m-phenylene group (isophthale). Acid-derived structural repeating unit) or Ar 3 having a 4,4'-biphenylylene group (4,4'-dihydroxybiphenyl, 4-amino-4'-hydroxybiphenyl or 4,4'-diaminobiphenyl (Constituent repeating unit derived from) is preferable.

繰り返し単位(1)の含有量は、全構成繰り返し単位の合計量(液晶ポリマーを構成する各構成繰り返し単位の質量をその各繰り返し単位の式量で割ることにより、各繰り返し単位の物質量相当量(モル)を求め、それらを合計した値)に対して、好ましくは30モル%以上、より好ましくは30モル%~80モル%、更に好ましくは30モル%~60モル%、特に好ましくは30モル%~40モル%である。
繰り返し単位(2)の含有量は、全構成繰り返し単位の合計量に対して、好ましくは35モル%以下、より好ましくは10モル%~35モル%、更に好ましくは20モル%~35モル%、特に好ましくは30モル%~35モル%である。
繰り返し単位(3)の含有量は、全構成繰り返し単位の合計量に対して、好ましくは35モル%以下、より好ましくは10モル%~35モル%、更に好ましくは20モル%~35モル%、特に好ましくは30モル%~35モル%である。
繰り返し単位(1)の含有量が多いほど、耐熱性、強度及び剛性が向上し易いが、あまり多いと、溶媒に対する溶解性が低くなり易い。
The content of the repeating unit (1) is the total amount of all the constituent repeating units (the amount equivalent to the amount of substance of each repeating unit by dividing the mass of each constituent repeating unit constituting the liquid crystal polymer by the formula amount of each repeating unit. (Mole) was determined, and the total value thereof) was preferably 30 mol% or more, more preferably 30 mol% to 80 mol%, further preferably 30 mol% to 60 mol%, and particularly preferably 30 mol. % -40 mol%.
The content of the repeating unit (2) is preferably 35 mol% or less, more preferably 10 mol% to 35 mol%, still more preferably 20 mol% to 35 mol%, based on the total amount of all the constituent repeating units. Particularly preferably, it is 30 mol% to 35 mol%.
The content of the repeating unit (3) is preferably 35 mol% or less, more preferably 10 mol% to 35 mol%, still more preferably 20 mol% to 35 mol%, based on the total amount of all the constituent repeating units. Particularly preferably, it is 30 mol% to 35 mol%.
The larger the content of the repeating unit (1), the easier it is to improve the heat resistance, strength and rigidity, but if it is too large, the solubility in the solvent tends to be low.

繰り返し単位(2)の含有量と繰り返し単位(3)の含有量との割合は、[繰り返し単位(2)の含有量]/[繰り返し単位(3)の含有量](モル/モル)で表して、好ましくは0.9/1~1/0.9、より好ましくは0.95/1~1/0.95、更に好ましくは0.98/1~1/0.98である。 The ratio between the content of the repeating unit (2) and the content of the repeating unit (3) is expressed as [content of repeating unit (2)] / [content of repeating unit (3)] (mol / mol). It is preferably 0.9 / 1 to 1 / 0.9, more preferably 0.95 / 1 to 1 / 0.95, and further preferably 0.98 / 1 to 1 / 0.98.

なお、液晶ポリマーは、繰り返し単位(1)~(3)をそれぞれ独立に、2種以上有してもよい。また、液晶ポリマーは、繰り返し単位(1)~(3)以外の構成繰り返し単位を有してもよいが、その含有量は、全繰り返し単位の合計量に対して、好ましくは10モル%以下、より好ましくは5モル%以下である。 The liquid crystal polymer may have two or more types of repeating units (1) to (3) independently. Further, the liquid crystal polymer may have a constituent repeating unit other than the repeating units (1) to (3), but the content thereof is preferably 10 mol% or less with respect to the total amount of all the repeating units. More preferably, it is 5 mol% or less.

液晶ポリマーは、繰り返し単位(3)として、X及びYの少なくとも一方がイミノ基であるものを有すること、すなわち、所定の芳香族ヒドロキシルアミンに由来する構成繰り返し単位及び芳香族ジアミンに由来する構成繰り返し単位の少なくとも一方を有することが、溶媒に対する溶解性が優れるので、好ましく、繰り返し単位(3)として、X及びYの少なくとも一方がイミノ基であるもののみを有することが、より好ましい。 The liquid crystal polymer has a repeating unit (3) in which at least one of X and Y is an imino group, that is, a structural repeating unit derived from a predetermined aromatic hydroxylamine and a structural repeating unit derived from an aromatic diamine. Having at least one of the units is preferable because the solubility in a solvent is excellent, and it is more preferable to have only one having at least one of X and Y as an imino group as the repeating unit (3).

液晶ポリマーは、それを構成する構成繰り返し単位に対応する原料モノマーを溶融重合させることにより製造することが好ましい。溶融重合は、触媒の存在下に行ってもよく、この触媒の例としては、酢酸マグネシウム、酢酸第一錫、テトラブチルチタネート、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、三酸化アンチモン等の金属化合物、4-(ジメチルアミノ)ピリジン、1-メチルイミダゾール等の含窒素複素環式化合物などが挙げられ、含窒素複素環式化合物が好ましく用いられる。なお、溶融重合は、必要に応じて、更に固相重合させてもよい。 The liquid crystal polymer is preferably produced by melt-polymerizing the raw material monomer corresponding to the constituent repeating unit constituting the liquid crystal polymer. The melt polymerization may be carried out in the presence of a catalyst, and examples of this catalyst include metal compounds such as magnesium acetate, stannous acetate, tetrabutyl titanate, lead acetate, sodium acetate, potassium acetate and antimony trioxide. Examples thereof include nitrogen-containing heterocyclic compounds such as 4- (dimethylamino) pyridine and 1-methylimidazole, and nitrogen-containing heterocyclic compounds are preferably used. The melt polymerization may be further solid-phase polymerized, if necessary.

液晶ポリマーは、その流動開始温度が、好ましくは250℃以上、より好ましくは250℃以上350℃以下、更に好ましくは260℃以上330℃以下である。液晶ポリマーの流動開始温度が上記範囲であると、溶解性、耐熱性、強度及び剛性に優れ、また、溶液の粘度が適度である。 The flow start temperature of the liquid crystal polymer is preferably 250 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. or higher and 350 ° C. or lower, and further preferably 260 ° C. or higher and 330 ° C. or lower. When the flow start temperature of the liquid crystal polymer is within the above range, the solubility, heat resistance, strength and rigidity are excellent, and the viscosity of the solution is appropriate.

流動開始温度は、フロー温度又は流動温度とも呼ばれ、毛細管レオメーターを用いて、9.8MPa(100kg/cm)の荷重下、4℃/分の速度で昇温しながら、液晶ポリマーを溶融させ、内径1mm及び長さ10mmのノズルから押し出すときに、4,800Pa・s(48,000ポイズ)の粘度を示す温度であり、液晶ポリマーの分子量の目安となるものである(小出直之編、「液晶ポリマー-合成・成形・応用-」、株式会社シーエムシー、1987年6月5日、p.95参照)。 The flow start temperature, also called the flow temperature or the flow temperature, melts the liquid crystal polymer using a capillary leometer while raising the temperature at a rate of 4 ° C./min under a load of 9.8 MPa (100 kg / cm 2 ). It is a temperature that shows a viscosity of 4,800 Pa · s (48,000 poise) when extruded from a nozzle with an inner diameter of 1 mm and a length of 10 mm, and is a guideline for the molecular weight of the liquid crystal polymer (edited by Naoyuki Koide). , "Liquid Liquid Polymer-Synthesis / Molding / Application-", CMC Co., Ltd., June 5, 1987, p.95).

また、液晶ポリマーは、その重量平均分子量が1,000,000以下であることが好ましく、3,000~300,000であることがより好ましく、5,000~100,000であることが更に好ましく、5,000~30,000であることが特に好ましい。この液晶ポリマーの重量平均分子量が上記範囲であると、熱処理後のフィルムにおいて、厚さ方向の熱伝導性、耐熱性、強度及び剛性に優れる。 The weight average molecular weight of the liquid crystal polymer is preferably 1,000,000 or less, more preferably 3,000 to 300,000, still more preferably 5,000 to 100,000. , 5,000 to 30,000 are particularly preferable. When the weight average molecular weight of this liquid crystal polymer is in the above range, the film after heat treatment is excellent in thermal conductivity, heat resistance, strength and rigidity in the thickness direction.

液晶ポリマーは、特定の有機溶媒に可溶性の液晶ポリマー(以下、「可溶性液晶ポリマー」ともいう。)であることが好ましい。
具体的には、本開示における可溶性液晶ポリマーは、25℃において、N-メチルピロリドン、N-エチルピロリドン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、N,N-ジメチルアセトアミド、γ-ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、エチレングリコールモノブチルエーテル及びエチレングリコールモノエチルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも1種の溶媒100gに、0.1g以上溶解する液晶ポリマーである。
The liquid crystal polymer is preferably a liquid crystal polymer that is soluble in a specific organic solvent (hereinafter, also referred to as "soluble liquid crystal polymer").
Specifically, the soluble liquid crystal polymer in the present disclosure is N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, N, N-dimethylacetamide, γ-butyrolactone, dimethylformamide, ethylene glycol mono at 25 ° C. It is a liquid crystal polymer that dissolves 0.1 g or more in 100 g of at least one solvent selected from the group consisting of butyl ether and ethylene glycol monoethyl ether.

層Aは、液晶ポリマーを1種のみ含んでいても、2種以上含んでいてもよい。
層Aにおける液晶ポリマーの含有量は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、層Aの全体積に対し、20体積%~100体積%であることが好ましく、20体積%~100体積%であることがより好ましく、30体積%~100体積%であることが更に好ましく、40体積%~100体積%であることが特に好ましい。
The layer A may contain only one type of liquid crystal polymer, or may contain two or more types of liquid crystal polymer.
The content of the liquid crystal polymer in the layer A is preferably 20% by volume to 100% by volume, preferably 20% by volume, based on the total volume of the layer A from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil. It is more preferably ~ 100% by volume, further preferably 30% by volume to 100% by volume, and particularly preferably 40% by volume to 100% by volume.

-フィラー-
ポリマーフィルムは、熱膨張係数、及び、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性の観点から、少なくともいずれかの層にフィラーを含むことが好ましく、層Aが、フィラーを含むことがより好ましい。
フィラーとしては、粒子状であっても、繊維状であってもよく、また、無機フィラーであっても、有機フィラーであってもよい。
本開示に係るポリマーフィルムにおいて、上記フィラーの数密度は、金属配線と接着した際に、金属配線の歪みを抑制する観点から、表面より内部の方が大きいことが好ましい。
-Filler-
From the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to other polymer films and metal foils, the polymer film preferably contains a filler in at least one of the layers, and more preferably the layer A contains the filler.
The filler may be in the form of particles or fibers, and may be an inorganic filler or an organic filler.
In the polymer film according to the present disclosure, it is preferable that the number density of the filler is larger inside than on the surface from the viewpoint of suppressing distortion of the metal wiring when it is adhered to the metal wiring.

無機フィラーとしては、公知の無機フィラーを用いることができる。
無機フィラーの材質としては、例えば、BN、Al、AlN、TiO、SiO、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、及び、これらを2種以上含む材質が挙げられる。
中でも、無機フィラーとしては、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、金属酸化物粒子、又は、繊維が好ましく、シリカ粒子、チタニア粒子、又は、ガラス繊維がより好ましく、シリカ粒子、又は、ガラス繊維が特に好ましい。
無機フィラーの平均粒径は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、5nm~20μmであることが好ましく、10nm~10μmであることがより好ましく、20nm~1μmであることが更に好ましく、25nm~500nmであることが特に好ましい。粒子、又は、繊維が扁平状の場合には、短辺方向の長さを示す。
As the inorganic filler, a known inorganic filler can be used.
Examples of the material of the inorganic filler include BN, Al 2 O 3 , Al N, TiO 2 , SiO 2 , barium titanate, strontium titanate, aluminum hydroxide, calcium carbonate, and a material containing two or more of these. Be done.
Among them, as the inorganic filler, metal oxide particles or fibers are preferable, silica particles, titania particles, or glass fibers are more preferable, and silica particles are preferable from the viewpoint of thermal expansion coefficient and adhesion to a metal foil. , Or glass fiber is particularly preferred.
The average particle size of the inorganic filler is preferably 5 nm to 20 μm, more preferably 10 nm to 10 μm, and more preferably 20 nm to 1 μm from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil. It is more preferably 25 nm to 500 nm, and particularly preferably 25 nm to 500 nm. When the particle or fiber is flat, it indicates the length in the short side direction.

有機フィラーとしては、公知の有機フィラーを用いることができる。
有機フィラーの材質としては、例えば、ポリエチレン、ポリスチレン、尿素-ホルマリンフィラー、ポリエステル、セルロース、アクリル樹脂、フッ素樹脂、硬化エポキシ樹脂、架橋ベンゾグアナミン樹脂、架橋アクリル樹脂、及び、これらを2種以上含む材質が挙げられる。
また、有機フィラーは、ナノファイバーのような繊維状であってもよく、中空樹脂粒子であってもよい。
中でも、有機フィラーとしては、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、フッ素樹脂粒子、若しくは、ポリエステル系樹脂粒子、又はセルロース系樹脂のナノファイバーであることが好ましく、ポリテトラフルオロエチレン粒子であることがより好ましい。
有機フィラーの平均粒径は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、5nm~20μmであることが好ましく、10nm~1μmであることがより好ましく、20nm~500nmであることが更に好ましく、25nm~90nmであることが特に好ましい。
As the organic filler, a known organic filler can be used.
Examples of the material of the organic filler include polyethylene, polystyrene, urea-formalin filler, polyester, cellulose, acrylic resin, fluororesin, cured epoxy resin, crosslinked benzoguanamine resin, crosslinked acrylic resin, and a material containing two or more of these. Can be mentioned.
Further, the organic filler may be in the form of fibers such as nanofibers, or may be hollow resin particles.
Among them, the organic filler is preferably fluororesin particles, polyester-based resin particles, or cellulose-based resin nanofibers from the viewpoint of thermal expansion coefficient and adhesion to the metal foil, and is preferably polytetrafluoro. More preferably, it is an ethylene particle.
The average particle size of the organic filler is preferably 5 nm to 20 μm, more preferably 10 nm to 1 μm, and more preferably 20 nm to 500 nm from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil. It is more preferably 25 nm to 90 nm, and particularly preferably 25 nm to 90 nm.

層Aは、フィラーを1種のみ含んでいても、2種以上含んでいてもよい。
層Aにおけるフィラーの含有量は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、層Aの全体積に対し、5体積%~80体積%であることが好ましく、10体積%~70体積%であることがより好ましく、20体積%~70体積%であることが更に好ましく、30体積%~60体積%であることが特に好ましい。
The layer A may contain only one type of filler or may contain two or more types of filler.
The content of the filler in the layer A is preferably 5% by volume to 80% by volume, preferably 10% by volume or more, based on the total volume of the layer A, from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil. It is more preferably 70% by volume, further preferably 20% by volume to 70% by volume, and particularly preferably 30% by volume to 60% by volume.

-その他の添加剤-
層Aは、液晶ポリマー及びフィラー以外のその他の添加剤を含んでいてもよい。
その他の添加剤としては、公知の添加剤を用いることができる。具体的には、例えば、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤等が挙げられる。
-Other additives-
Layer A may contain other additives other than the liquid crystal polymer and the filler.
As other additives, known additives can be used. Specific examples thereof include leveling agents, antifoaming agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, flame retardants, colorants and the like.

また、層Aは、その他の添加剤として、上述した成分以外の樹脂を含んでいてもよい。
液晶ポリマー以外の樹脂の例としては、ポリオレフィン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル及びその変性物、ポリエーテルイミド、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂等の熱可塑性樹脂;グリシジルメタクリレートとポリエチレンとの共重合体等のエラストマー;フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シアネート樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。
Further, the layer A may contain a resin other than the above-mentioned components as another additive.
Examples of resins other than liquid crystal polymers include polyolefins, cycloolefin polymers, polyamides, polyesters, polyphenylene sulfides, polyether ketones, polycarbonates, polyether sulfones, polyphenylene ethers and their modifications, polyetherimides, silicone resins, and fluororesins. Thermoplastic resins such as; elastomers such as copolymers of glycidyl methacrylate and polyethylene; thermosetting resins such as phenolic resins, epoxy resins, polyimide resins, cyanate resins and the like.

層Aにおけるその他の添加剤の総含有量は、液晶ポリマーの含有量100質量部に対して、好ましくは25質量部以下であり、より好ましくは10質量部以下であり、更に好ましくは5質量部以下である。 The total content of the other additives in the layer A is preferably 25 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less, still more preferably 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the liquid crystal polymer. It is as follows.

層Aの平均厚みは、特に制限はないが、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、5μm~90μmであることが好ましく、10μm~70μmであることがより好ましく、15μm~50μmであることが特に好ましい。 The average thickness of the layer A is not particularly limited, but is preferably 5 μm to 90 μm, more preferably 10 μm to 70 μm, and more preferably 15 μm to 15 μm from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil. It is particularly preferably 50 μm.

本開示に係るポリマーフィルムにおける各層の平均厚みの測定方法は、以下の通りである。
ポリマーフィルムをミクロトームで切削し、断面を光学顕微鏡で観察して、各層の厚みを評価する。断面サンプルは3ヶ所以上切り出し、各断面において、3点以上厚みを測定し、それらの平均値を平均厚みとする。
ポリマーフィルムを、ポリマーフィルムの面方向に垂直な面で切断し、その断面において、5点以上厚みを測定し、それらの平均値を平均厚みとする。
The method for measuring the average thickness of each layer in the polymer film according to the present disclosure is as follows.
The polymer film is cut with a microtome and the cross section is observed with an optical microscope to evaluate the thickness of each layer. The cross-section sample is cut out at three or more places, the thickness is measured at three or more points in each cross-section, and the average value thereof is taken as the average thickness.
The polymer film is cut at a plane perpendicular to the plane direction of the polymer film, and the thickness is measured at 5 points or more in the cross section, and the average value thereof is taken as the average thickness.

<層B>
本開示に係るポリマーフィルムは、層Aと、上記層Aの少なくとも一方の面に層Bとを有する。
また、層Bは、表面層(最外層)であることが好ましい。
更に、層Bは、金属箔との密着性の観点から、外部刺激により体積膨張可能な層であることが好ましい。
<Layer B>
The polymer film according to the present disclosure has a layer A and a layer B on at least one surface of the layer A.
Further, the layer B is preferably a surface layer (outermost layer).
Further, the layer B is preferably a layer that can be expanded in volume by an external stimulus from the viewpoint of adhesion to the metal foil.

層Bは、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、液晶ポリマーを含むことが好ましい。
層Bに用いられる液晶ポリマーの好ましい態様は、後述する以外、層Aに用いられる液晶ポリマーの好ましい態様と同様である。
層Bに含まれる液晶ポリマーは、層Aに含まれる液晶ポリマーと同じものであっても、異なるものであってもよいが、層Aに含まれる液晶ポリマーと同じものであることが好ましい。
The layer B preferably contains a liquid crystal polymer from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil.
The preferred embodiment of the liquid crystal polymer used for the layer B is the same as the preferred embodiment of the liquid crystal polymer used for the layer A, except as described later.
The liquid crystal polymer contained in the layer B may be the same as or different from the liquid crystal polymer contained in the layer A, but is preferably the same as the liquid crystal polymer contained in the layer A.

層Bにおける液晶ポリマーの含有量は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、層Aにおける液晶ポリマーの含有量よりも少ないことが好ましい。
また、層Bにおける液晶ポリマーの含有量は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、層Bの全質量に対し、10質量%~99.99質量%であることが好ましく、20質量%~99.9質量%であることがより好ましく、30質量%~95質量%であることが更に好ましく、30質量%~90質量%であることが特に好ましい。
The content of the liquid crystal polymer in the layer B is preferably smaller than the content of the liquid crystal polymer in the layer A from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil.
Further, the content of the liquid crystal polymer in the layer B is preferably 10% by mass to 99.99% by mass with respect to the total mass of the layer B from the viewpoint of the thermal expansion coefficient and the adhesion to the metal foil. , 20% by mass to 99.9% by mass, more preferably 30% by mass to 95% by mass, and particularly preferably 30% by mass to 90% by mass.

層Bは、金属箔との密着性の観点から、フィラーを含むことが好ましく、針状フィラー又は突起を有するフィラーを含むことがより好ましい。
層Bに用いられるフィラーの好ましい態様は、後述する以外、層Aに用いられるフィラーの好ましい態様と同様である。
針状フィラーとしては、無機針状フィラーが好ましく、無機酸化物の針状フィラーであることがより好ましい。
また、針状フィラーのアスペクト比としては、3以上であることが好ましく、5以上であることがより好ましく、5以上100以下であることが特に好ましい。
突起を有するフィラーとしては、突起を有する無機フィラーが好ましく、突起を有する無機酸化物フィラーがより好ましい。
また、突起を有するフィラーとしては、金平糖(star-shaped rock candy、Japanese confection having horned protrusions on the surface of a spherical shape)状フィラーがより好ましい。金平糖状フィラーとしては、例えば、特開2008-169102号公報に記載の金平糖状シリカゾルが好適に挙げられる。
針状フィラー及び突起を有するフィラーの平均粒径は、金属箔との密着性の観点から、5nm~20μmであることが好ましく、10nm~1μmであることがより好ましく、20nm~500nmであることが更に好ましく、25nm~90nmであることが特に好ましい。
The layer B preferably contains a filler, and more preferably contains a needle-shaped filler or a filler having protrusions, from the viewpoint of adhesion to the metal foil.
The preferred embodiment of the filler used for the layer B is the same as the preferred embodiment of the filler used for the layer A, except as described later.
As the needle-shaped filler, an inorganic needle-shaped filler is preferable, and an inorganic oxide needle-shaped filler is more preferable.
The aspect ratio of the needle-shaped filler is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, and particularly preferably 5 or more and 100 or less.
As the filler having protrusions, an inorganic filler having protrusions is preferable, and an inorganic oxide filler having protrusions is more preferable.
Further, as the filler having protrusions, a star-shaped rock candy (Japanese confection having horned protrusions on the surface of a spherical shape) -like filler is more preferable. As the konpeito-like filler, for example, the konpeito-like silica sol described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-169102 is preferably used.
The average particle size of the needle-shaped filler and the filler having protrusions is preferably 5 nm to 20 μm, more preferably 10 nm to 1 μm, and more preferably 20 nm to 500 nm from the viewpoint of adhesion to the metal foil. It is more preferably 25 nm to 90 nm, and particularly preferably 25 nm to 90 nm.

層Aがフィラーを含有する場合、層Bにおけるフィラーの含有量は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、層Aにおけるフィラーの含有量よりも少ないことが好ましい。
層Bがフィラーを含む場合、層Bにおけるフィラーの含有量は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、層Bの全質量に対し、1質量%~70質量%であることが好ましく、5質量%~60質量%であることがより好ましく、10質量%~55質量%であることが特に好ましい。
When the layer A contains a filler, the content of the filler in the layer B is preferably smaller than the content of the filler in the layer A from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil.
When the layer B contains a filler, the content of the filler in the layer B is 1% by mass to 70% by mass with respect to the total mass of the layer B from the viewpoint of the thermal expansion coefficient and the adhesion to the metal foil. It is preferably 5% by mass to 60% by mass, more preferably 10% by mass to 55% by mass, and particularly preferably 10% by mass to 55% by mass.

層Bは、液晶ポリマー、発泡剤及びフィラー以外のその他の添加剤を含んでいてもよい。
層Bに用いられるその他の添加剤の好ましい態様は、後述する以外、層Aに用いられるその他の添加剤の好ましい態様と同様である。
Layer B may contain other additives other than liquid crystal polymers, foaming agents and fillers.
Preferred embodiments of the other additives used in the layer B are the same as in the preferred embodiments of the other additives used in the layer A, except as described later.

層Bの平均厚みは、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、層Aの平均厚みよりも薄いことが好ましい。
層Aの平均厚みTと層Bの平均厚みTとの比であるT/Tの値は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、1より大きいことが好ましく、1.5~100であることがより好ましく、2~10であることが更に好ましく、2~5であることが特に好ましい。
また、層Bの平均厚みは、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、3μm~40μmであることが好ましく、5μm~30μmであることがより好ましく、8μm~20μmであることが更に好ましく、10μm~15μmであることが特に好ましい。
また、層Bが外部刺激により体積膨張可能な層である場合、層Bの平均厚みは、後述する積層体における銅層(銅配線)の平均厚さよりも厚いことが好ましい。
The average thickness of the layer B is preferably thinner than the average thickness of the layer A from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil.
The value of TA / TB , which is the ratio of the average thickness TA of the layer A to the average thickness TB of the layer B , may be larger than 1 from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil. It is preferably 1.5 to 100, more preferably 2 to 10, and particularly preferably 2 to 5.
The average thickness of the layer B is preferably 3 μm to 40 μm, more preferably 5 μm to 30 μm, and 8 μm to 20 μm from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil. Is more preferable, and 10 μm to 15 μm is particularly preferable.
When the layer B is a layer that can be expanded in volume by an external stimulus, the average thickness of the layer B is preferably thicker than the average thickness of the copper layer (copper wiring) in the laminate described later.

<層C>
本開示に係るポリマーフィルムは、層Cを更に有することが好ましく、上記層Bと、上記層Aと、上記層Cとをこの順で有することがより好ましい。
また、層Cは、表面層(最外層)であることが好ましい。
更に、層Cは、外部刺激により体積膨張可能な層であってもよい。
層Cは、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、液晶ポリマーを含むことが好ましい。
層Cに用いられる液晶ポリマーの好ましい態様は、後述する以外、層Aに用いられる液晶ポリマーの好ましい態様と同様である。
層Cに含まれる液晶ポリマーは、層A又は層Bに含まれる液晶ポリマーと同じものであっても、異なるものであってもよいが、層A及び層Bに含まれる液晶ポリマーと同じものであることが好ましい。
<Layer C>
The polymer film according to the present disclosure preferably further has a layer C, and more preferably has the layer B, the layer A, and the layer C in this order.
Further, the layer C is preferably a surface layer (outermost layer).
Further, the layer C may be a layer that can be expanded in volume by an external stimulus.
The layer C preferably contains a liquid crystal polymer from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil.
The preferred embodiment of the liquid crystal polymer used for the layer C is the same as the preferred embodiment of the liquid crystal polymer used for the layer A, except as described later.
The liquid crystal polymer contained in the layer C may be the same as or different from the liquid crystal polymer contained in the layer A or the layer B, but may be the same as the liquid crystal polymer contained in the layer A and the layer B. It is preferable to have.

層Cにおける液晶ポリマーの含有量は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、層Aにおける液晶ポリマーの含有量よりも少ないことが好ましい。
また、層Cにおける液晶ポリマーの含有量は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、層Cの全質量に対し、10質量%~99.99質量%であることが好ましく、20質量%~99.9質量%であることがより好ましく、30質量%~95質量%であることが更に好ましく、30質量%~90質量%であることが特に好ましい。
The content of the liquid crystal polymer in the layer C is preferably smaller than the content of the liquid crystal polymer in the layer A from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil.
Further, the content of the liquid crystal polymer in the layer C is preferably 10% by mass to 99.99% by mass with respect to the total mass of the layer C from the viewpoint of the thermal expansion coefficient and the adhesion to the metal foil. , 20% by mass to 99.9% by mass, more preferably 30% by mass to 95% by mass, and particularly preferably 30% by mass to 90% by mass.

層Cは、フィラーを含んでいてもよい。
層Cに用いられるフィラーの好ましい態様は、後述する以外、層Bに用いられるフィラーの好ましい態様と同様である。
The layer C may contain a filler.
The preferred embodiment of the filler used for the layer C is the same as the preferred embodiment of the filler used for the layer B, except as described later.

層Cは、液晶ポリマー及びフィラー以外のその他の添加剤を含んでいてもよい。
層Cに用いられるその他の添加剤の好ましい態様は、層Aに用いられるその他の添加剤の好ましい態様と同様である。
Layer C may contain other additives other than the liquid crystal polymer and the filler.
Preferred embodiments of the other additives used in layer C are similar to preferred embodiments of the other additives used in layer A.

層Cの平均厚みは、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、層Aの平均厚みよりも薄いことが好ましい。
層Aの平均厚みTと層Cの平均厚みTとの比であるT/Tの値は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、1より大きいことが好ましく、1.5~100であることがより好ましく、2~10であることが更に好ましく、2~5であることが特に好ましい。
また、層Cの平均厚みTと層Bの平均厚みTとの比であるT/Tの値は、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、0.2~5であることが好ましく、0.5~2であることがより好ましく、0.8~1.2であることが特に好ましい。
更に、層Cの平均厚みは、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、3μm~40μmであることが好ましく、5μm~30μmであることがより好ましく、8μm~20μmであることが更に好ましく、10μm~15μmであることが特に好ましい。
また、層Cが外部刺激により体積膨張可能な層である場合、層Cの平均厚みは、後述する積層体においてC層側に配置される銅層(銅配線)の平均厚さよりも厚いことが好ましい。
The average thickness of the layer C is preferably thinner than the average thickness of the layer A from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil.
The value of TA / TC , which is the ratio of the average thickness TA of the layer A to the average thickness TC of the layer C , may be larger than 1 from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil. It is preferably 1.5 to 100, more preferably 2 to 10, and particularly preferably 2 to 5.
The value of TC / TB , which is the ratio of the average thickness TC of the layer C to the average thickness TB of the layer B , is 0.2 from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil. It is preferably from 5 to 5, more preferably 0.5 to 2, and particularly preferably 0.8 to 1.2.
Further, the average thickness of the layer C is preferably 3 μm to 40 μm, more preferably 5 μm to 30 μm, and 8 μm to 20 μm from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and the adhesion to the metal foil. Is more preferable, and 10 μm to 15 μm is particularly preferable.
Further, when the layer C is a layer that can be expanded in volume by an external stimulus, the average thickness of the layer C may be thicker than the average thickness of the copper layer (copper wiring) arranged on the C layer side in the laminate described later. preferable.

本開示に係るポリマーフィルムの平均厚みは、強度、熱膨張係数、及び、金属箔との密着性の観点から、6μm~200μmであることが好ましく、12μm~100μmであることがより好ましく、20μm~60μmであることが特に好ましい。 The average thickness of the polymer film according to the present disclosure is preferably 6 μm to 200 μm, more preferably 12 μm to 100 μm, and more preferably 20 μm to 20 μm from the viewpoint of strength, coefficient of thermal expansion, and adhesion to the metal foil. It is particularly preferably 60 μm.

ポリマーフィルムの平均厚みは、任意の5箇所について、接着式の膜厚計、例えば、電子マイクロメータ(製品名「KG3001A]、アンリツ社製)を用いて測定し、それらの平均値とする。 The average thickness of the polymer film is measured at any five points using an adhesive film thickness meter, for example, an electronic micrometer (product name "KG3001A", manufactured by Anritsu Co., Ltd.), and is used as the average value thereof.

本開示に係るポリマーフィルムの線膨張係数は、熱膨張係数の観点から、-20ppm/K~50ppm/Kであることが好ましく、-10ppm/K~40ppm/Kであることがより好ましく、0ppm/K~35ppm/Kであることが更に好ましく、10ppm/K~30ppm/Kであることが特に好ましい。 The coefficient of linear expansion of the polymer film according to the present disclosure is preferably -20 ppm / K to 50 ppm / K, more preferably -10 ppm / K to 40 ppm / K, and 0 ppm / K from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion. It is more preferably K to 35 ppm / K, and particularly preferably 10 ppm / K to 30 ppm / K.

本開示における線膨張係数の測定方法は、以下の方法により測定するものとする。
熱機械分析装置(TMA)を用いて、幅5mm、長さ20mmのポリマーフィルム又は各層の両端に1gの引張荷重をかけ、5℃/分の速度で25℃~200℃まで昇温した後、20℃/分の速度で30℃まで冷却し、再び5℃/分の速度で昇温したときの、30℃~150℃の間のTMA曲線の傾きから線膨張係数を算出する。
The method for measuring the coefficient of linear expansion in the present disclosure shall be as follows.
Using a thermomechanical analyzer (TMA), a polymer film with a width of 5 mm and a length of 20 mm or a tensile load of 1 g is applied to both ends of each layer, and the temperature is raised to 25 ° C to 200 ° C at a rate of 5 ° C / min. The linear expansion coefficient is calculated from the slope of the TMA curve between 30 ° C. and 150 ° C. when the temperature is cooled to 30 ° C. at a rate of 20 ° C./min and then raised again at a rate of 5 ° C./min.

<ポリマーフィルムの製造方法>
〔製膜〕
本開示に係るポリマーフィルムの製造方法は、特に制限はなく、公知の方法を参照することができる。
本開示に係るポリマーフィルムの製造方法としては、例えば、共流延法、重層塗布法、共押出法等が好適に挙げられる。中でも、比較的薄手の製膜には共流延法が特に好ましく、厚手の製膜には共押出法が特に好ましい。
共流延法及び重層塗布法により製造する場合、液晶ポリマー等の各層の成分をそれぞれ溶媒に溶解又は分散した層A形成用組成物、層B形成用組成物、層C形成用組成物等として、共流延法又は重層塗布法を行うことが好ましい。
<Manufacturing method of polymer film>
[Film formation]
The method for producing the polymer film according to the present disclosure is not particularly limited, and known methods can be referred to.
As a method for producing a polymer film according to the present disclosure, for example, a co-flow spreading method, a multi-layer coating method, a co-extrusion method and the like are preferably mentioned. Of these, the coextrusion method is particularly preferable for relatively thin film formation, and the coextrusion method is particularly preferable for thick film formation.
When manufactured by the co-flow spreading method and the multi-layer coating method, as a layer A forming composition, a layer B forming composition, a layer C forming composition, etc. in which the components of each layer such as a liquid crystal polymer are dissolved or dispersed in a solvent, respectively. , It is preferable to carry out a co-flow spreading method or a multi-layer coating method.

溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、1,1-ジクロロエタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、1-クロロブタン、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;p-クロロフェノール、ペンタクロロフェノール、ペンタフルオロフェノール等のハロゲン化フェノール;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル;アセトン、シクロヘキサノン等のケトン;酢酸エチル、γ-ブチロラクトン等のエステル;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート;トリエチルアミン等のアミン;ピリジン等の含窒素複素環芳香族化合物;アセトニトリル、スクシノニトリル等のニトリル;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド、テトラメチル尿素等の尿素化合物;ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物;ヘキサメチルリン酸アミド、トリn-ブチルリン酸等のリン化合物等が挙げられ、それらを2種以上用いてもよい。 Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, 1-chlorobutane, chlorobenzene and o-dichlorobenzene; Halogenized phenols such as p-chlorophenol, pentachlorophenol and pentafluorophenol; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; ketones such as acetone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and γ-butyrolactone; ethylene Phenols such as carbonates and propylene carbonates; amines such as triethylamine; nitrogen-containing heterocyclic aromatic compounds such as pyridine; nitriles such as acetonitrile and succinonitrile; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl Examples include amides such as pyrrolidone, urea compounds such as tetramethylurea; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; and phosphorus compounds such as hexamethylphosphate amide and tri-n-butylphosphate. Two or more of them may be used.

溶媒としては、腐食性が低く、取り扱い易いことから、非プロトン性化合物、特にハロゲン原子を有しない非プロトン性化合物を主成分とする溶媒が好ましく、溶媒全体に占める非プロトン性化合物の割合は、好ましくは50質量%~100質量%、より好ましくは70質量%~100質量%、特に好ましくは90質量%~100質量%である。また、上記非プロトン性化合物としては、液晶ポリマーを溶解し易いことから、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、テトラメチル尿素、N-メチルピロリドン等のアミド又はγ-ブチロラクトン等のエステルを用いることが好ましく、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、及びN-メチルピロリドンがより好ましい。 As the solvent, an aprotonic compound, particularly a solvent containing an aprotonic compound having no halogen atom as a main component is preferable because it is low in corrosiveness and easy to handle, and the ratio of the aprotonic compound to the whole solvent is It is preferably 50% by mass to 100% by mass, more preferably 70% by mass to 100% by mass, and particularly preferably 90% by mass to 100% by mass. Further, as the aprotonic compound, since it is easy to dissolve a liquid crystal polymer, an amide such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone or γ-butyrolactone may be used. Esters are preferred, with N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone being more preferred.

また、溶媒としては、液晶ポリマーを溶解し易いことから、双極子モーメントが3~5である化合物を主成分とする溶媒が好ましく、溶媒全体に占める双極子モーメントが3~5である化合物の割合は、好ましくは50質量%~100質量%、より好ましくは70質量%~100質量%、特に好ましくは90質量%~100質量%である。
上記非プロトン性化合物として、双極子モーメントが3~5である化合物を用いることが好ましい。
Further, as the solvent, a solvent containing a compound having a dipole moment of 3 to 5 as a main component is preferable because the liquid crystal polymer is easily dissolved, and the ratio of the compound having a dipole moment of 3 to 5 in the whole solvent is preferable. Is preferably 50% by mass to 100% by mass, more preferably 70% by mass to 100% by mass, and particularly preferably 90% by mass to 100% by mass.
As the aprotic compound, it is preferable to use a compound having a dipole moment of 3 to 5.

また、溶媒としては、除去し易いことから、1気圧における沸点が220℃以下である化合物を主成分とするとする溶媒が好ましく、溶媒全体に占める1気圧における沸点が220℃以下である化合物の割合は、好ましくは50質量%~100質量%、より好ましくは70質量%~100質量%、特に好ましくは90質量%~100質量%である。
上記非プロトン性化合物として、1気圧における沸点が220℃以下である化合物を用いることが好ましい。
Further, as the solvent, since it is easy to remove, a solvent containing a compound having a boiling point of 220 ° C. or lower at 1 atm as a main component is preferable, and the ratio of the compound having a boiling point of 220 ° C. or less at 1 atm to the whole solvent is preferable. Is preferably 50% by mass to 100% by mass, more preferably 70% by mass to 100% by mass, and particularly preferably 90% by mass to 100% by mass.
As the aprotic compound, it is preferable to use a compound having a boiling point of 220 ° C. or lower at 1 atm.

また、本開示に係るポリマーフィルムの製造方法は、上記共流延法、重層塗布法及び共押出法等により製造する場合、支持体を使用してもよい。また、後述する積層体に用いる金属層(金属箔)等を支持体として使用する場合、剥離せずそのまま使用してもよい。
支持体としては、例えば、金属ドラム、金属バンド、ガラス板、樹脂フィルム又は金属箔が挙げられる。中でも、金属ドラム、金属バンド、樹脂フィルムが好ましい。
樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド(PI)フィルムを挙げることができ、市販品の例としては、宇部興産(株)製U-ピレックスS及びU-ピレックスR、東レデュポン(株)製カプトン、並びに、SKCコーロンPI社製IF30、IF70及びLV300等が挙げられる。
また、支持体は、容易に剥離できるように、表面に表面処理層が形成されていてもよい。表面処理層は、ハードクロムメッキ、フッ素樹脂等を用いることができる。
樹脂フィルム支持体の平均厚みは、特に制限はないが、好ましくは25μm以上75μm以下であり、より好ましくは50μm以上75μmである。
Further, as the method for producing a polymer film according to the present disclosure, a support may be used when the polymer film is produced by the above-mentioned co-flow spreading method, multi-layer coating method, co-extrusion method or the like. Further, when the metal layer (metal foil) or the like used for the laminate described later is used as a support, it may be used as it is without peeling.
Examples of the support include a metal drum, a metal band, a glass plate, a resin film or a metal foil. Of these, metal drums, metal bands, and resin films are preferable.
Examples of the resin film include a polyimide (PI) film, and examples of commercially available products include U-Pylex S and U-Pylex R manufactured by Ube Kosan Co., Ltd., Kapton manufactured by Toray DuPont Co., Ltd., and Examples thereof include IF30, IF70 and LV300 manufactured by SKC Koron PI.
Further, the support may have a surface treatment layer formed on the surface thereof so that the support can be easily peeled off. For the surface treatment layer, hard chrome plating, fluororesin or the like can be used.
The average thickness of the resin film support is not particularly limited, but is preferably 25 μm or more and 75 μm or less, and more preferably 50 μm or more and 75 μm or less.

また、流延、又は、塗布された膜状の組成物(流延膜又は塗膜)から溶媒の少なくとも一部を除去する方法としては、特に制限はなく、公知の乾燥方法を用いることができる。 Further, the method for removing at least a part of the solvent from the cast or coated film-like composition (cast film or coating film) is not particularly limited, and a known drying method can be used. ..

〔延伸〕
本開示に係る液晶ポリマーフィルムは、分子配向を制御し、線膨張係数や力学物性を調整する観点で、適宜、延伸を組み合わせることができる。延伸の方法は、特に制限はなく、公知の方法を参照することができ、溶媒を含んだ状態で実施してもよく、乾膜の状態で実施してもよい。溶媒を含んだ状態での延伸は、フィルムを把持して伸長してもよく、伸長せずに乾燥によるウェブの自己収縮力を利用して実施してもよく、それらの組み合わせでもよい。延伸は、無機フィラー等の添加によってフィルム脆性が低下した場合に、破断伸度や破断強度を改善する目的で特に有効である。
[Stretching]
The liquid crystal polymer film according to the present disclosure can be appropriately combined with stretching from the viewpoint of controlling the molecular orientation and adjusting the coefficient of linear expansion and the mechanical characteristics. The stretching method is not particularly limited, and a known method can be referred to, and the stretching method may be carried out in a solvent-containing state or in a dry film state. Stretching in a solvent-containing state may be carried out by gripping the film and stretching it, or by utilizing the self-shrinking force of the web due to drying without stretching, or a combination thereof. Stretching is particularly effective for the purpose of improving the elongation at break and the strength at break when the brittleness of the film is reduced by the addition of an inorganic filler or the like.

<用途>
本開示に係るポリマーフィルムは、種々の用途に用いることができる、中でも、プリント配線板などの電子部品用フィルムに好適に用いることができ、フレキシブルプリント回路基板により好適に用いることができる。
また、本開示に係るポリマーフィルムは、金属接着用ポリマーフィルムとして好適に用いることができる。
<Use>
The polymer film according to the present disclosure can be used for various purposes, and above all, it can be suitably used for a film for electronic parts such as a printed wiring board, and can be preferably used for a flexible printed circuit board.
Further, the polymer film according to the present disclosure can be suitably used as a polymer film for metal adhesion.

(積層体)
本開示に係る積層体は、本開示に係るポリマーフィルムが積層したものであればよいが、本開示に係るポリマーフィルムと、上記ポリマーフィルムにおける上記層B側の面に配置された金属層とを有することが好ましく、上記金属層が、銅層であることがより好ましい。
また、本開示に係る積層体は、層Bと、層Aと、層Cとをこの順で有する本開示に係るポリマーフィルムと、上記ポリマーフィルムの上記層B側の面に配置された金属層と、上記ポリマーフィルムの上記層C側の面に配置された金属層とを有することが好ましく、上記金属層がいずれも、銅層であることがより好ましい。
更に、上記層Bの平均厚みは、金属箔との密着性の観点から、上記金属層(好ましくは銅層)の平均厚みよりも大きいことが好ましい。
また、上記層Cの平均厚みは、金属箔との密着性の観点から、上記層C側の面に配置された上記金属層(好ましくは銅層)の平均厚みよりも大きいことが好ましい。
また、上記層B側の面に配置された金属層と上記層C側の面に配置された金属層とは、同じ材質、厚さ及び形状の金属層であっても、異なる材質、厚さ及び形状の金属層であってもよい。特性インピーダンス調整の観点からは、上記記層B側の面に配置された金属層と上記層C側の面に配置された金属層とは、異なる材質や厚みの金属層であってもよく、層B又は層Cのうち、片側だけに金属層が積層されていてもよい。
更に、特性インピーダンス調整の観点から、層B又は層Cのうち、一方の側に金属層が積層され、他方の側に他のポリマーフィルム(好ましくは他の液晶ポリマーフィルム)が積層される態様も好ましく挙げられる。
(Laminated body)
The laminate according to the present disclosure may be a laminate of the polymer films according to the present disclosure, but the polymer film according to the present disclosure and the metal layer arranged on the surface on the layer B side of the polymer film are used. It is preferable to have the metal layer, and it is more preferable that the metal layer is a copper layer.
Further, the laminate according to the present disclosure includes a polymer film according to the present disclosure having a layer B, a layer A, and a layer C in this order, and a metal layer arranged on the surface of the polymer film on the layer B side. It is preferable to have a metal layer arranged on the surface of the polymer film on the layer C side, and it is more preferable that all of the metal layers are copper layers.
Further, the average thickness of the layer B is preferably larger than the average thickness of the metal layer (preferably a copper layer) from the viewpoint of adhesion to the metal foil.
Further, the average thickness of the layer C is preferably larger than the average thickness of the metal layer (preferably a copper layer) arranged on the surface on the layer C side from the viewpoint of adhesion to the metal foil.
Further, the metal layer arranged on the surface on the layer B side and the metal layer arranged on the surface on the layer C side are different materials and thicknesses even if they are metal layers having the same material, thickness and shape. And may be a metal layer of shape. From the viewpoint of adjusting the characteristic impedance, the metal layer arranged on the surface on the layer B side and the metal layer arranged on the surface on the layer C side may be metal layers having different materials and thicknesses. A metal layer may be laminated on only one side of the layer B or the layer C.
Further, from the viewpoint of adjusting the characteristic impedance, there is also an embodiment in which a metal layer is laminated on one side of the layer B or C, and another polymer film (preferably another liquid crystal polymer film) is laminated on the other side. Preferred.

上記層Bと上記銅層との剥離強度は、0.5kN/m以上であることが好ましく、0.7kN/m以上であることがより好ましく、0.7kN/m~2.0kN/mであることが更に好ましく、0.9kN/m~1.5kN/mであることが特に好ましい。
また、上記層Cと上記銅層との剥離強度は、0.5kN/m以上であることが好ましく、0.7kN/m以上であることがより好ましく、0.7kN/m~2.0kN/mであることが更に好ましく、0.9kN/m~1.5kN/mであることが特に好ましい。
The peel strength between the layer B and the copper layer is preferably 0.5 kN / m or more, more preferably 0.7 kN / m or more, and 0.7 kN / m to 2.0 kN / m. It is more preferably 0.9 kN / m to 1.5 kN / m, and particularly preferably 0.9 kN / m to 1.5 kN / m.
The peel strength between the layer C and the copper layer is preferably 0.5 kN / m or more, more preferably 0.7 kN / m or more, and 0.7 kN / m to 2.0 kN /. It is more preferably m, and particularly preferably 0.9 kN / m to 1.5 kN / m.

本開示において、ポリマーフィルムの層B又は層Cと金属層(例えば、銅層)との剥離強度は、以下の方法により測定するものとする。
ポリマーフィルムと金属層との積層体から1.0cm幅の剥離用試験片を作製し、ポリマーフィルムを両面接着テープで平板に固定し、JIS C 5016(1994)に準じて180°法により、50mm/分の速度でポリマーフィルムから金属層を剥離したときの強度(kN/m)を測定する。
In the present disclosure, the peel strength between the layer B or C of the polymer film and the metal layer (for example, the copper layer) shall be measured by the following method.
A 1.0 cm wide peeling test piece was prepared from the laminate of the polymer film and the metal layer, the polymer film was fixed to a flat plate with double-sided adhesive tape, and 50 mm by the 180 ° method according to JIS C 5016 (1994). The strength (kN / m) when the metal layer is peeled from the polymer film at a rate of / minute is measured.

金属層は、銅層であることが好ましい。銅層としては、圧延法により形成された圧延銅箔、又は、電解法により形成された電解銅箔が好ましく、耐屈曲性の観点から、圧延銅箔であることがより好ましい。 The metal layer is preferably a copper layer. As the copper layer, a rolled copper foil formed by a rolling method or an electrolytic copper foil formed by an electrolytic method is preferable, and a rolled copper foil is more preferable from the viewpoint of bending resistance.

金属層、好ましくは銅層の平均厚みは、特に限定されないが、2μm~20μmであることが好ましく、3μm~18μmであることがより好ましく、5μm~12μmであることが更に好ましい。銅箔は、支持体(キャリア)上に剥離可能に形成されているキャリア付き銅箔であってもよい。キャリアとしては、公知のものを用いることができる。キャリアの平均厚みは、特に限定されないが、10μm~100μmであることが好ましく、18μm~50μmであることがより好ましい。 The average thickness of the metal layer, preferably the copper layer, is not particularly limited, but is preferably 2 μm to 20 μm, more preferably 3 μm to 18 μm, and even more preferably 5 μm to 12 μm. The copper foil may be a copper foil with a carrier formed on a support (carrier) so as to be peelable. As the carrier, a known carrier can be used. The average thickness of the carrier is not particularly limited, but is preferably 10 μm to 100 μm, and more preferably 18 μm to 50 μm.

本開示に係る積層体における金属層は、回路パターンを有する金属層であってもよい。
また、本開示に係る積層体における金属層を、例えば、エッチングにより所望の回路パターンに加工し、フレキシブルプリント回路基板とすることも好ましい。エッチング方法としては、特に制限はなく、公知のエッチング方法を用いることができる。
The metal layer in the laminate according to the present disclosure may be a metal layer having a circuit pattern.
Further, it is also preferable that the metal layer in the laminate according to the present disclosure is processed into a desired circuit pattern by etching, for example, to obtain a flexible printed circuit board. The etching method is not particularly limited, and a known etching method can be used.

以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。 The present disclosure will be described in more detail with reference to examples below. The materials, amounts used, ratios, treatment contents, treatment procedures, etc. shown in the following examples may be appropriately changed as long as they do not deviate from the gist of the present disclosure. Therefore, the scope of the present disclosure is not limited to the specific examples shown below.

<<測定法>>
〔膨張率〕
ポリマーフィルムをミクロトームで切削して切片サンプルを作製し、加熱ステージシステム(HS82、メトラー・トレド社製)を備えた光学顕微鏡を用いて、層A、及び、層Bの厚み変化をそれぞれ求めた。25℃での初期厚み(t25)、及び、10℃/分の速度で160℃まで昇温したときの厚み(t160)を評価し、初期厚みで除した値(t160/t25)を算出し、160℃での膨張率(単位:%)とした。300℃の場合も同様に求めた。
<< Measurement method >>
[Expansion rate]
A section sample was prepared by cutting a polymer film with a microtome, and the thickness changes of layers A and B were determined using an optical microscope equipped with a heating stage system (HS82, manufactured by METTLER TOLEDO). The initial thickness (t25) at 25 ° C. and the thickness (t160) when the temperature was raised to 160 ° C. at a rate of 10 ° C./min were evaluated, and the value divided by the initial thickness (t160 / t25) was calculated. The expansion rate at 160 ° C. (unit:%) was used. It was obtained in the same manner in the case of 300 ° C.

〔熱膨張係数〕
フィルムをミクロトームで切削して切片サンプルを作製し、加熱ステージシステム(HS82、メトラー・トレド社製)を備えた光学顕微鏡にセットした。続いて、5℃/分の速度で25℃~200℃まで昇温した後、20℃/分の速度で30℃まで冷却し、再び5℃/分の速度で昇温したときの、30℃での層Bの厚み(ts30)、及び、150℃での層Bの厚み(ts150)を評価し、寸法変化を温度変化で除した値((ts150-ts30)/(150-30))を算出し、層Bの熱膨張係数(αs)とした。層Aについても同様に求めた。
[Coefficient of thermal expansion]
The film was cut with a microtome to prepare a section sample and set in an optical microscope equipped with a heating stage system (HS82, METTLER TOLEDO). Subsequently, the temperature was raised from 25 ° C. to 200 ° C. at a rate of 5 ° C./min, cooled to 30 ° C. at a rate of 20 ° C./min, and then heated again at a rate of 5 ° C./min to 30 ° C. The thickness of the layer B (ts30) and the thickness of the layer B at 150 ° C. (ts150) were evaluated, and the value obtained by dividing the dimensional change by the temperature change ((ts150-ts30) / (150-30)) was obtained. It was calculated and used as the coefficient of thermal expansion (αs) of layer B. The same applies to layer A.

〔誘電正接〕
誘電率の測定は、周波数10GHzで共振摂動法により実施した。ネットワークアナライザ(Agilent Technology社製「E8363B」)に10GHzの空洞共振器((株)関東電子応用開発製CP531)を接続し、空洞共振器にポリマーフィルムのサンプル(幅:2.0mm×長さ:80mm)を挿入し、温度25℃、湿度60%RH環境下、96時間の挿入前後の共振周波数の変化からポリマーフィルムのサンプルの誘電率及び誘電正接を測定した。
[Dissipation factor]
The measurement of the dielectric constant was carried out by the resonance perturbation method at a frequency of 10 GHz. A 10 GHz hollow resonator (CP531 manufactured by Kanto Denshi Applied Development Co., Ltd.) is connected to a network analyzer (“E8363B” manufactured by Agent Technology), and a polymer film sample (width: 2.0 mm × length:: 80 mm) was inserted, and the dielectric constant and the dielectric tangent of the polymer film sample were measured from the change in the resonance frequency before and after the insertion for 96 hours under the environment of temperature 25 ° C. and humidity 60% RH.

〔剥離強度〕
後述のフレキシブル配線基板から1.0cm幅の剥離用試験片を作製し、両面銅張積層板側を両面接着テープで平板に固定し、JIS C 5016(1994)に準じて180°法により、片面銅張積層板側を50mm/分の速度で剥離したときの強度(kN/m)を測定した。
[Peeling strength]
A 1.0 cm wide peeling test piece was prepared from the flexible wiring board described later, the double-sided copper-clad laminate side was fixed to a flat plate with double-sided adhesive tape, and one side was measured by the 180 ° method according to JIS C 5016 (1994). The strength (kN / m) when the copper-clad laminate side was peeled off at a rate of 50 mm / min was measured.

<<製造例>>
<液晶ポリマー>
LC-A:国際公開第2020/166644号の液晶ポリエステル(B)の製造例を参考に、熱処理条件を調整して得られた融点315℃の液晶ポリマー
<< Manufacturing example >>
<Liquid crystal polymer>
LC-A: A liquid crystal polymer having a melting point of 315 ° C. obtained by adjusting heat treatment conditions with reference to the production example of the liquid crystal polyester (B) of International Publication No. 2020/166644.

<添加剤>
A-1:下記の混合物からなる発泡剤。A-1は、表1に記載の質量比率になるように添加した。
・炭酸水素ナトリウム:5質量部
・クエン酸ナトリウム:5質量部
・タルク:1質量部
<Additives>
A-1: A foaming agent consisting of the following mixture. A-1 was added so as to have the mass ratio shown in Table 1.
-Sodium hydrogen carbonate: 5 parts by mass-Sodium citrate: 5 parts by mass-Tark: 1 part by mass

A-2:下記の混合物からなる発泡剤。A-2は、表1に記載の質量比率になるように添加した。
・炭酸水素ナトリウム:5質量部
・クエン酸ナトリウム:5質量部
・タルク:1質量部
・下記作製方法に従って作製した金平糖状シリカゾル(平均粒径35.8nm):989質量部
A-2: A foaming agent consisting of the following mixture. A-2 was added so as to have the mass ratio shown in Table 1.
-Sodium hydrogen carbonate: 5 parts by mass-Sodium citrate: 5 parts by mass-Tark: 1 part by mass-Kinpira sugar-like silica sol prepared according to the following production method (average particle size 35.8 nm): 989 parts by mass

B-1:市販の平均粒径5μmのシリコーンゴムパウダー(KMP-597、信越化学工業(株)製) B-1: Commercially available silicone rubber powder with an average particle size of 5 μm (KMP-597, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

B-2:下記の混合物からなる添加剤。B-2は、表1に記載の質量比率になるように添加した。
・市販の平均粒径5μmのシリコーンゴムパウダー(KMP-597、信越化学工業(株)製):40質量部
・下記作製方法に従って作製した金平糖状シリカゾル(平均粒径35.8nm):10質量部
B-2: Additive consisting of the following mixture. B-2 was added so as to have the mass ratio shown in Table 1.
-Commercially available silicone rubber powder with an average particle size of 5 μm (KMP-597, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 40 parts by mass.

-金平糖状シリカゾルの作製方法-
シリカゾル(触媒化成工業(株)製:カタロイドSI-40、平均粒子径21.2nm、SiO濃度40.7質量%)102.4gに水を加えて、4,170g(SiO濃度1質量%)とし、更にシリカゾルのpHが11となるように濃度5質量%の水酸化ナトリウム水溶液を添加した。次いで、シリカゾルの温度を80℃に昇温し、30分間80℃に維持して核粒子分散液(A液)とした。
-How to make konpeito-like silica sol-
Silica sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: Cataloid SI-40, average particle diameter 21.2 nm, SiO 2 concentration 40.7% by mass) Add water to 102.4 g, and add 4,170 g (SiO 2 concentration 1% by mass). ), Further, a sodium hydroxide aqueous solution having a concentration of 5% by mass was added so that the pH of the silica sol became 11. Next, the temperature of the silica sol was raised to 80 ° C. and maintained at 80 ° C. for 30 minutes to prepare a nuclear particle dispersion liquid (solution A).

水硝子(AGCエスアイテック(株)製:JIS3号水硝子、SiO濃度24質量%)575gを水2,185gで希釈して、珪酸アルカリ水溶液(B液)2,760gを調製した。また、電解質としての硫酸アンモニウム(三菱化学(株)製)98.0gに水2352gを加えて、電解質水溶液2,450gを調製した。そして、温度を80℃に維持した上記核粒子分散液(A液)全量に対して、上記珪酸アルカリ水溶液(B液)及び上記電解質水溶液を、それぞれ80℃にて1時間かけて全量添加することにより粒子成長を行った。
次いで、80℃で1時間熟成を行った後、粒子成長した核粒子分散液のpHが10.8になるまで限外濾過膜により洗浄を行った。次いで、濃縮してSiO濃度20質量%の金平糖状シリカゾルを得た。
575 g of water glass (manufactured by AGC SI Tech Co., Ltd .: JIS No. 3 water glass, SiO 2 concentration 24% by mass) was diluted with 2,185 g of water to prepare 2,760 g of an alkaline silicate aqueous solution (solution B). Further, 2352 g of water was added to 98.0 g of ammonium sulfate (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) as an electrolyte to prepare 2,450 g of an aqueous electrolyte solution. Then, the alkaline aqueous solution of silicate (solution B) and the aqueous electrolyte solution are added to the total amount of the nuclear particle dispersion liquid (solution A) at 80 ° C. over 1 hour at 80 ° C., respectively. Particle growth was carried out by.
Then, after aging at 80 ° C. for 1 hour, the particles were washed with an ultrafiltration membrane until the pH of the grown nuclear particle dispersion became 10.8. Then, it was concentrated to obtain a konpeito-like silica sol having a SiO 2 concentration of 20% by mass.

<製膜>
下記の共流延に準じて製膜を行った。
<Film formation>
Film formation was performed according to the following co-flow spread.

〔共流延(溶液製膜)〕
-ポリマー溶液の調製-
表1に記載の液晶ポリマーをN-メチルピロリドンに加え、窒素雰囲気下、140℃4時間撹拌して溶液化した後、最初に、公称孔径10μmの焼結繊維金属フィルターを通過させ、次いで同じく公称孔径10μmの焼結繊維フィルターを通過させた。続けて、表1に記載の添加剤を加え、25℃30分撹拌して、ポリマー溶液を得た。固形分濃度は、層A用の溶液は23質量%、層B用の溶液は20質量%とした。
[Hypersalivation (solution film formation)]
-Preparation of polymer solution-
The liquid crystal polymers shown in Table 1 are added to N-methylpyrrolidone, stirred at 140 ° C. for 4 hours to form a solution, and then first passed through a sintered fiber metal filter having a nominal pore size of 10 μm, and then also nominally. It was passed through a sintered fiber filter having a pore size of 10 μm. Subsequently, the additives shown in Table 1 were added, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 30 minutes to obtain a polymer solution. The solid content concentration was 23% by mass for the solution for layer A and 20% by mass for the solution for layer B.

-ポリマーフィルム、及び、片面銅張積層板の作製-
得られた層A用ポリマー溶液及び層B用ポリマー溶液を、2層構成(層A/層B)の共流延用に調整したフィードブロックを装備した流延ダイに送液し、低粗度銅箔(福田金属箔粉工業(株)製、CF-T4X-SV-12、厚み12μm)の処理面上に層Aが接するようにして流延した。40℃にて4時間乾燥することにより、流延膜から溶媒を除去し、ポリマーフィルム付きの片面銅張積層板を得た。
-Manufacturing of polymer film and single-sided copper-clad laminate-
The obtained polymer solution for layer A and the polymer solution for layer B were sent to a casting die equipped with a feed block adjusted for co-casting of a two-layer structure (layer A / layer B), and the roughness was low. The layer A was cast so as to be in contact with the treated surface of the copper foil (CF-T4X-SV-12, thickness 12 μm, manufactured by Fukuda Metal Leaf Powder Industry Co., Ltd.). The solvent was removed from the cast film by drying at 40 ° C. for 4 hours to obtain a single-sided copper-clad laminate with a polymer film.

<両面銅張積層板の作製>
-銅張積層板前駆体工程-
比較例1の片面銅張積層板に対し、低粗度銅箔(福田金属箔粉工業(株)製、CF-T4X-SV-12、厚み12μm)の処理面側がポリマーフィルムに接するように載せ、ラミネータ(ニッコー・マテリアルズ社製「真空ラミネータV-130」)を使用して、140℃及びラミネート圧0.4MPaの条件で1分間のラミネート処理を行い、両面銅箔積層板の前駆体を得た。
<Manufacturing of double-sided copper-clad laminate>
-Copper-clad laminate precursor process-
Place the low-roughness copper foil (CF-T4X-SV-12, thickness 12 μm, manufactured by Fukuda Metal Leaf Powder Industry Co., Ltd.) on the single-sided copper-clad laminate of Comparative Example 1 so that the treated surface side is in contact with the polymer film. , Laminated for 1 minute at 140 ° C. and a laminating pressure of 0.4 MPa using a laminator (“Vacuum Laminator V-130” manufactured by Nikko Materials Co., Ltd.) to obtain a precursor of a double-sided copper foil laminated plate. Obtained.

-本熱圧着工程-
熱圧着機((株)東洋精機製作所製「MP-SNL」)を用いて、得られた銅張積層板前駆体を300℃4.5MPaの条件で10分間熱圧着することにより、両面銅張積層板を作製した。
-This thermocompression bonding process-
Using a thermocompression bonding machine (“MP-SNL” manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.), the obtained copper-clad laminate precursor was thermocompression-bonded at 300 ° C. and 4.5 MPa for 10 minutes, thereby copper-clad on both sides. A laminated board was produced.

<フレキシブル配線基板の作製>
得られた片面銅張積層板、及び、両面銅張積層板を用い、外層プレーン(グランド層)の4層ストリップライン構造を有するフレキシブル配線基板を作製した。
<Manufacturing of flexible wiring board>
Using the obtained single-sided copper-clad laminate and double-sided copper-clad laminate, a flexible wiring board having a four-layer stripline structure of an outer layer plane (ground layer) was produced.

-配線基材の形成工程-
公知のフォトファブリケーション手法により、上記両面銅張積層板の片面について、金属箔をパターニングし、ライン・アンド・スペース(L/S)が300μm/300μmの縞状模様である信号線を含む配線基材(金属箔部分とポリマーフィルム部分とを表面に有する。)を作製した。
-Process of forming wiring base material-
A wiring group including a signal line in which a metal foil is patterned on one side of the double-sided copper-clad laminate by a known photofabrication method and the line and space (L / S) is a striped pattern of 300 μm / 300 μm. A material (having a metal foil portion and a polymer film portion on the surface) was prepared.

-積層工程-
上記配線基材、及び、上記片面銅張積層板を用い、片面銅張積層板のポリマーフィルム側が配線基材の信号線側に接するように、片面銅張積層板/配線基材の層構成で載せ、真空プレス装置を使用して300℃で積層し、フレキシブル配線基板を作製した。
-Laminating process-
Using the wiring substrate and the single-sided copper-clad laminate, the layer configuration of the single-sided copper-clad laminate / wiring substrate is such that the polymer film side of the single-sided copper-clad laminate is in contact with the signal line side of the wiring substrate. It was placed and laminated at 300 ° C. using a vacuum press device to prepare a flexible wiring board.

<<評価>>
作製したポリマーフィルムについて、上述の方法で評価を行い、結果を表1に記載した。なお、誘電正接及び熱膨張係数の測定については、片面銅張積層板をそのまま使用して測定した。
また、作製したフレキシブル配線基板の剥離強度は、上記配線基材から、縞模様と直交する方向に1.0cm幅のサンプルを切出し、評価した。剥離強度の下限値は、配線基材のポリマーフィルム部分に起因すると推定している。
<< Evaluation >>
The produced polymer film was evaluated by the above-mentioned method, and the results are shown in Table 1. The dielectric loss tangent and the coefficient of thermal expansion were measured using the single-sided copper-clad laminate as it was.
Further, the peel strength of the produced flexible wiring board was evaluated by cutting out a sample having a width of 1.0 cm in the direction orthogonal to the striped pattern from the wiring substrate. It is estimated that the lower limit of the peel strength is due to the polymer film portion of the wiring substrate.

Figure 2022083294000001
Figure 2022083294000001

表1に記載の結果から、本開示に係るポリマーフィルムである実施例1~4のポリマーフィルムは、比較例1のポリマーフィルムよりも、他のポリマーフィルム及び金属箔との密着性に優れる。なお、比較例1のポリマーフィルムでは、剥離強度に分布ができ、フィルム同士が接触した部分の剥離強度が低い結果であった。
また、表1に記載の結果から、本開示に係るポリマーフィルムである実施例1~4のポリマーフィルムは、誘電正接も低い。
From the results shown in Table 1, the polymer films of Examples 1 to 4, which are the polymer films according to the present disclosure, have better adhesion to other polymer films and metal foils than the polymer films of Comparative Example 1. In the polymer film of Comparative Example 1, the peel strength was distributed, and the peel strength of the portion where the films were in contact with each other was low.
Further, from the results shown in Table 1, the polymer films of Examples 1 to 4, which are the polymer films according to the present disclosure, have a low dielectric loss tangent.

Claims (21)

層Aと、前記層Aの少なくとも一方の面に層Bとを有し、
前記層A及び前記層Bの少なくとも一方が、外部刺激により体積膨張可能な層であり、
誘電正接が0.005以下である
ポリマーフィルム。
It has a layer A and a layer B on at least one surface of the layer A.
At least one of the layer A and the layer B is a layer that can be expanded in volume by an external stimulus.
A polymer film having a dielectric loss tangent of 0.005 or less.
前記層Bが、前記外部刺激により体積膨張可能な層である請求項1に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to claim 1, wherein the layer B is a layer that can be expanded in volume by the external stimulus. 前記外部刺激による層Aと層Bとの膨張率差が、0.1%以上である請求項2に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to claim 2, wherein the difference in expansion coefficient between the layer A and the layer B due to the external stimulus is 0.1% or more. 前記層Bの300℃での膨張率が、0.1%以上である請求項2又は請求項3に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to claim 2 or 3, wherein the expansion rate of the layer B at 300 ° C. is 0.1% or more. 前記層Bの300℃での膨張率が、前記層Aの300℃での膨張率より大きい請求項2~請求項4のいずれか1項に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to any one of claims 2 to 4, wherein the expansion rate of the layer B at 300 ° C. is larger than the expansion rate of the layer A at 300 ° C. 前記層Bの熱膨張係数αsが、前記層Aの熱膨張係数αcより大きい請求項1~請求項5のいずれか1項に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to any one of claims 1 to 5, wherein the coefficient of thermal expansion αs of the layer B is larger than the coefficient of thermal expansion αc of the layer A. 前記層Bが、発泡剤を含む請求項1~請求項6のいずれか1項に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to any one of claims 1 to 6, wherein the layer B contains a foaming agent. 前記ポリマーフィルムが、いずれかの層にフィラーを含む請求項1~請求項7のいずれか1項に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to any one of claims 1 to 7, wherein the polymer film contains a filler in any of the layers. 前記フィラーの数密度が、前記ポリマーフィルムの表面より内部の方が大きい請求項8に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to claim 8, wherein the number density of the filler is larger inside than on the surface of the polymer film. 前記層Bが、フィラーを含む請求項8又は請求項9に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to claim 8 or 9, wherein the layer B contains a filler. 前記層Bが、針状フィラー又は突起を有するフィラーを含む請求項10に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to claim 10, wherein the layer B contains a needle-like filler or a filler having protrusions. 前記ポリマーフィルムの線膨張係数が、-20ppm/K~50ppm/Kである請求項1~請求項11のいずれか1項に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to any one of claims 1 to 11, wherein the polymer film has a coefficient of linear expansion of −20 ppm / K to 50 ppm / K. 前記ポリマーフィルムの誘電正接が、0.004以下である請求項1~請求項12のいずれか1項に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to any one of claims 1 to 12, wherein the polymer film has a dielectric loss tangent of 0.004 or less. 前記ポリマーフィルムが、いずれかの層に液晶ポリマーを含む請求項1~請求項13のいずれか1項に記載のポリマーフィルム。 The polymer film according to any one of claims 1 to 13, wherein the polymer film contains a liquid crystal polymer in any layer. 前記液晶ポリマーが、式(1)~式(3)のいずれかで表される構成繰り返し単位を有する液晶ポリマーである請求項14に記載のポリマーフィルム。
式(1) -O-Ar-CO-
式(2) -CO-Ar-CO-
式(3) -X-Ar-Y-
式(1)~式(3)中、Arは、フェニレン基、ナフチレン基又はビフェニリレン基を表し、Ar及びArはそれぞれ独立に、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニリレン基又は下記式(4)で表される基を表し、X及びYはそれぞれ独立に、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar~Arで表される前記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。
式(4) -Ar-Z-Ar
式(4)中、Ar及びArはそれぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表し、Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキレン基を表す。
The polymer film according to claim 14, wherein the liquid crystal polymer is a liquid crystal polymer having a structural repeating unit represented by any of the formulas (1) to (3).
Equation (1) -O-Ar 1 -CO-
Equation (2) -CO-Ar 2 -CO-
Equation (3) -X-Ar 3 -Y-
In the formulas (1) to (3), Ar 1 represents a phenylene group, a naphthylene group or a biphenylylene group, and Ar 2 and Ar 3 independently represent a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylylene group or the following formula (4). Represents a group represented by, X and Y each independently represent an oxygen atom or an imino group, and the hydrogen atom in the group represented by Ar 1 to Ar 3 independently represents a halogen atom and an alkyl group, respectively. Alternatively, it may be substituted with an aryl group.
Equation (4) -Ar 4 -Z-Ar 5-
In formula (4), Ar 4 and Ar 5 independently represent a phenylene group or a naphthylene group, and Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group or an alkylene group.
層Cを更に有し、
前記層Bと、前記層Aと、前記層Cとをこの順で有する請求項1~請求項15のいずれか1項に記載のポリマーフィルム。
Further having layer C
The polymer film according to any one of claims 1 to 15, which has the layer B, the layer A, and the layer C in this order.
請求項1~請求項16のいずれか1項に記載のポリマーフィルムと、前記ポリマーフィルムの前記層B側の面に配置された銅層を有する積層体。 A laminate having the polymer film according to any one of claims 1 to 16 and a copper layer arranged on the surface of the polymer film on the layer B side. 前記層Bの平均厚みが、前記銅層の平均厚みよりも大きい請求項17に記載の積層体。 The laminate according to claim 17, wherein the average thickness of the layer B is larger than the average thickness of the copper layer. 前記層Bと前記銅層との剥離強度が、0.5kN/m以上である請求項17又は請求項18に記載の積層体。 The laminate according to claim 17 or 18, wherein the peel strength between the layer B and the copper layer is 0.5 kN / m or more. 請求項16に記載のポリマーフィルムと、前記ポリマーフィルムの前記層B側の面に配置された銅層と、前記ポリマーフィルムの前記層C側の面に配置された銅層とを有する積層体。 A laminate having the polymer film according to claim 16, a copper layer arranged on the surface of the polymer film on the layer B side, and a copper layer arranged on the surface of the polymer film on the layer C side. 前記層Cと前記層C側の面に配置された前記銅層との剥離強度が、0.5kN/m以上である請求項20に記載の積層体。 The laminate according to claim 20, wherein the peel strength between the layer C and the copper layer arranged on the surface on the layer C side is 0.5 kN / m or more.
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