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JP2022048046A - カバー部材 - Google Patents

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JP2022048046A
JP2022048046A JP2020154186A JP2020154186A JP2022048046A JP 2022048046 A JP2022048046 A JP 2022048046A JP 2020154186 A JP2020154186 A JP 2020154186A JP 2020154186 A JP2020154186 A JP 2020154186A JP 2022048046 A JP2022048046 A JP 2022048046A
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JP2020154186A
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瑞穂 小用
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Abstract

【課題】抗菌性能の低下を抑制することができる、カバー部材を提供する。【解決手段】本発明に係るカバー部材は、第１面及び第２面を有する板状の基材と、前記第１面に形成された抗菌膜と、を備え、前記抗菌膜は、前記第１面に形成される保持層と、前記保持層に保持され、銅微粒子を含有する抗菌性微粒子と、を備えている。【選択図】図２

Description

本発明は、ディスプレイ等の被保護部材に設けられるカバー部材に関する。
特許文献１には、モバイル機器などの表面を覆うカバー部材が開示されている。このカバー部材は、衛生上の観点から抗菌性を付与するため、ガラス板と、その表面に形成された抗菌性物質含有層とを備えている。抗菌性物質含有層は、銀イオンが拡散したものであり、この銀イオンによって抗菌性能を発揮している。
特許第５６８９０７５号公報
ところで、上記のような抗菌性物質含有層は、銀イオンが拡散した層であるため、例えば、水等の液体が付着すると、銀イオンが液体に溶出することがあり、これによって抗菌性能が低下するおそれがある。本発明は、この問題を解決するためになされたものであり、抗菌性能の低下を抑制することができる、カバー部材を提供することを目的とする。
項１．第１面及び第２面を有する板状の基材と、
前記第１面に形成された抗菌膜と、
を備え、
前記抗菌膜は、
前記第１面に形成される保持層と、
前記保持層に保持され、銅微粒子を含有する抗菌性微粒子と、を備えている、カバー部材。
項２.前記抗菌性微粒子の平均粒径は、０．１～１０μｍである、項１に記載のカバー部材。
項３.前記抗菌膜における、前記抗菌性微粒子の含有量は、０．１～５０重量％である、項１または２に記載のカバー部材。
項４.可視光透過率が、９０％以上である、項１から３のいずれかに記載のカバー部材。
項５.ヘイズ率が、３％以下である、項１から４のいずれかに記載のカバー部材。
項６.前記基材の第１面は、所定の表面粗さを有しており、
前記抗菌膜は、前記第１面に形成されており、
前記抗菌性微粒子は、前記保持層の膜厚以上の平均粒径を有する、項１から５のいずれかに記載のカバー部材。
項７.前記保持層の表面粗さは、前記基材の第１面の表面粗さより小さく、且つ１２０ｎｍより小さい、項６に記載のカバー部材。
項８.前記保持層の最大膜厚は、前記基材の表面粗さより小さい、項６または７に記載のカバー部材。
項９.前記抗菌膜の保持層は、酸化シリコンを主成分として含有し、項６から８のいずれかに記載のカバー部材。
項１０.前記基材は、前記第１面及び前記第２面を有するガラス板により形成されている、項６から９のいずれかに記載のカバー部材。
項１１.前記ガラス板はフロートガラスによって形成され、当該フロートガラスのボトム面が前記第１面を構成している、項１０に記載のカバー部材。
項１２.前記基材は、ガラス板と、前記ガラス板の一方の面に形成され、前記所定の表面粗さを有する下地層と、を備えている、項６から９のいずれかに記載のカバー部材。
項１３.前記下地層は、酸化シリコンを主成分として含有する基層と、前記基層に保持される微粒子と、を備えている、項１２に記載のカバー部材。
項１４.前記ガラス板はフロートガラスにより形成され、当該フロートガラスのトップ面に前記下地層が形成されている、項１２または１３に記載のカバー部材。
項１５.前記ガラス板の厚みは、３ｍｍ以下である、項１０から１４のいずれかに記載のカバー部材。
項１６.前記微粒子の平均粒径は、前記抗菌性微粒子の平均粒径よりも小さい、項１５に記載のカバー部材。
項１７.前記保持層上における前記抗菌性微粒子間の間隔は、１～２００μｍである、項６から１６のいずれかに記載のカバー部材。
項１８.前記抗菌性微粒子の平均粒径は、０．１～１０μｍである、項６から１７のいずれかに記載のカバー部材。
項１９.前記抗菌膜上の少なくとも一部に形成された耐指紋層が形成されている、項６から１８のいずれかに記載のカバー部材。
項２０.前記耐指紋層の膜厚は、前記抗菌膜より薄い、項１９に記載のカバー部材。
項２１.前記耐指紋層は、前記抗菌膜上の一部に形成されている、項１９または２０に記載のカバー部材。
項２２.前記基材と前記抗菌膜との間に配置された、反射防止膜をさらに備えている、項６から２１のいずれかに記載のカバー部材。
項２３.ディスプレイ、キーボード、電子黒板、または電子機器の表面を覆うように配置される、項１から２２のいずれかに記載のカバー部材。
上述した項１の発明における保持層に代わって、耐指紋層で抗菌性微粒子を保持することもできる。以下の項２４に係る発明は、抗菌膜を、耐指紋層と、この耐指紋層に保持される抗菌性微粒子で構成している。
項２４．第１面及び第２面を有する板状の基材と、
前記第１面に形成された抗菌膜と、
を備え、
前記抗菌膜は、
前記第１面に形成される耐指紋層と、
前記耐指紋層に保持され、銅微粒子を含有する抗菌性微粒子と、を備えている、カバー部材。
なお、上述した項２～２３に係る発明は、項１に係る発明に代わって、項２４に係る発明を適宜引用することができる。
本発明によれば、抗菌性能の低下を抑制することができる。
本発明に係るカバー部材の一実施形態を示す断面図である。 図１の拡大断面図である。 耐指紋層とガラス板との結合を説明する模式図である。 実施例８と比較例における所定時間毎の銅イオンの溶出量を測定したグラフである。 実施例に係る抗菌膜の表面性状を示す写真である。 実施例に係る抗菌膜の抗菌性微粒子の拡大写真である。
以下、本発明に係るカバー部材の一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。本実施形態に係るカバー部材は、ディスプレイ、キーボード、電子黒板等の被保護部材を保護し、且つこれらの部材を外部から視認可能に構成されている。なお、ディスプレイとは、一般的なデスクトップ用のディスプレイのほか、モバイルＰＣ、タブレットＰＣ、カーナビゲーションなどの車載機器等の種々の機器に用いられるディスプレイが対象となる。その他、このカバー部材は、複写機やスキャナーの原稿ガラスとして用いることもできる。この場合の被保護部材は、カバー部材によって覆われる複写機やスキャナー等の電子機器の部品となる。
図１はカバー部材の断面図である。図１に示すように、本実施形態に係るカバー部材１０は、第１面及び第２面を有するガラス板１と、このガラス板１の第１面に積層される抗菌膜２と、を備えている。そして、このカバー部材１０は、上述した被保護部材１００を覆うように配置される。このとき、ガラス板１の第２面が被保護部材１００と向き合うように配置され、抗菌膜２が外部を向くように配置される。以下、詳細に説明する。
＜１．ガラス板＞
ガラス板１は、例えば、汎用のソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、無アルカリガラス等その他のガラスにより形成することができる。また、ガラス板１は、フロート法により成形することができる。この製法によると平滑な表面を有するガラス板１を得ることができる。但し、ガラス板１０は、主面に凹凸を有していてもよく、例えば型板ガラスであってもよい。型板ガラスは、ロールアウト法と呼ばれる製法により成形することができる。この製法による型板ガラスは、通常、ガラス板の主面に沿った一方向について周期的な凹凸を有する。
フロート法は、溶融スズなどの溶融金属の上に溶融ガラスを連続的に供給し、供給した溶融ガラスを溶融金属の上で流動させることにより帯板状に成形する。このように成形されたガラスをガラスリボンと称する。
ガラスリボンは、下流側に向かうにつれて冷却され、冷却固化された上で溶融金属からローラにより引き上げられる。そして、ローラによって徐冷炉へと搬送され、徐冷された後、切断される。こうして、フロートガラス板が得られる。ここで、フロートガラス板において、溶融金属と接触していた面をボトム面と称し、それとは反対の面をトップ面と称することとする。ボトム面及びトップ面は、未研磨であってよい。なお、ボトム面は、溶融金属と接していたため、溶融金属がスズである場合には、ボトム面に含有される酸化スズの濃度が、トップ面に含有される酸化スズの濃度よりも大きくなる。そして、本実施形態においては、ガラス板１の第１面がボトム面であり、第２面がトップ面となる。
また、ボトム面、つまり第２面は、溶融金属から引き上げられた後、ローラによって搬送されるため、ローラによって、いわゆるマイクロクラックと呼ばれる傷が生じることが知られている。したがって、一般的に、フロートガラス板のボトム面にはトップ面よりも傷が多く生じる。
そして、このガラス板１のボトム面には、エッチングが施されており、これによって、酸化スズの濃度が高い層を除去している。酸化スズは屈折率が大きいため、これを除去することで、透過率を向上することができる。さらに、エッチングによって、ボトム面には、所定の表面粗さを有する微少な凹凸が形成されている。ボトム面の表面粗さＲａは、例えば、１０～５００ｎｍであることが好ましく、４０～２００ｎｍであることがさらに好ましい、５０～１５０ｎｍであることが特に好ましい。なお、Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１により定められた粗さ曲線の算術平均粗さである。この点は、後述する抗菌膜２の保持層２１においても同じである。
その他、ガラス板に所定の表面粗さを形成する方法としては、例えば、フロスト処理、サンドブラスト処理、ウェットブラスト処理等の表面処理を挙げることができる。フロスト処理は、例えば、フッ化水素とフッ化アンモニウムの混合溶液に、ガラス板を浸漬し、浸漬面を化学的に表面処理することにより、ガラス板の表面に凹凸を形成する処理である。サンドブラスト処理は、例えば、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を加圧空気でガラス板の表面に吹きつけることにより、ガラス板の表面に凹凸を形成する処理である。また、このようにして凹凸を作成した後に、表面形状を整えるために、ガラス板の表面を化学的にエッチングすることが一般的に行われている。こうすることで、サンドブラスト処理等で生じたクラックを除去できる。エッチングとしては、フッ化水素を主成分とする溶液に、被処理体であるガラス板を浸漬する方法が好ましく用いられる。
ウェットブラスト処理は、アルミナなどの個体粒子にて構成される砥粒と、水などの液体とを均一に攪拌してスラリーとしたものを、圧縮エアーを用いて噴射ノズルからガラス板の表面に高速で噴射することにより、ガラス板の表面に凹凸を形成する処理である。
ガラス板１の厚さは、特に制限されないが、軽量化のためには薄いほうがよい。例えば、０．３～３ｍｍであることが好ましく、０．６～２．５ｍｍである事がさらに好ましい。これは、ガラス板１０が薄すぎると、強度が低下するからであり、厚すぎると、カバー部材１０を介して視認される被保護部材１００に歪みが生じるおそれがある。
ガラス板１は、通常、平板であってよいが、曲板であってもよい。特に、保護すべき被保護部材の表面形状が曲面等の非平面である場合、ガラス板１はそれに適合する非平面形状の主面を有することが好ましい。この場合、ガラス板１は、その全体が一定の曲率を有するように曲げられていてもよく、局部的に曲げられていてもよい。ガラス板１の主面は、例えば複数の平面が曲面で互いに接続されて構成されていてもよい。ガラス板１の曲率半径は、例えば５０００ｍｍ以下とすることができる。この曲率半径の下限値は、例えば、１０ｍｍ以上とすることができるが、特に局部的に曲げられている部位ではさらに小さくてもよく、例えば１ｍｍ以上とすることができる。
次のような組成のガラス板を用いることもできる。以下では、ガラス板１の成分を示す％表示は特に断らない限り、すべてｍｏｌ％を意味する。また、本明細書において、「実質的に構成される」とは、列挙された成分の含有率の合計が９９．５質量％以上、好ましくは９９．９質量％以上、より好ましくは９９．９５質量％以上を占めることを意味する。「実質的に含有しない」とは、当該成分の含有質が０．１質量％以下、好ましくは０．０５質量％以下であることを意味する。
本発明者は、フロート法によるガラス板の製造に適したガラス組成として広く用いられているフロート板ガラスの組成（以下、「狭義のＳＬ」、または単に「ＳＬ」と呼ぶことがある）を元に、当業者がフロート法に適したソーダライムシリケートガラス（以下、「広義のＳＬ」と呼ぶことがある）と見做している組成範囲、具体的には、以下のような質量％の範囲内で、Ｔ2、Ｔ4等の特性をできるだけ狭義のＳＬに近似させながら、狭義のＳＬの化学強化特性を向上させることのできる組成物を検討した。
ＳｉＯ2 ６５～８０％
Ａｌ2Ｏ3 ０～１６％
ＭｇＯ ０～２０％
ＣａＯ ０～２０％
Ｎａ2Ｏ １０～２０％
Ｋ2Ｏ ０～５％
以下、ガラス板１のガラス組成を構成する各成分について説明する。
（ＳｉＯ2）
ＳｉＯ2は、ガラス板１を構成する主要成分であり、その含有率が低すぎるとガラスの耐水性などの化学的耐久性および耐熱性が低下する。他方、ＳｉＯ2の含有率が高すぎると、高温でのガラス板１の粘性が高くなり、溶解および成形が困難になる。したがって、ＳｉＯ2の含有率は、６６～７２ｍｏｌ％の範囲が適切であり、６７～７０ｍｏｌ％が好ましい。
（Ａｌ2Ｏ3）
Ａｌ2Ｏ3はガラス板１の耐水性などの化学的耐久性を向上させ、さらにガラス中のアルカリ金属イオンの移動を容易にすることにより化学強化後の表面圧縮応力を高め、かつ、応力層深さを深くするための成分である。他方、Ａｌ2Ｏ3の含有率が高すぎると、ガラス融液の粘度を増加させ、Ｔ2、Ｔ4を増加させると共にガラス融液の清澄性が悪化し高品質なガラス板を製造することが難しくなる。
したがって、Ａｌ2Ｏ3の含有率は、１～１２ｍｏｌ％の範囲が適切である。Ａｌ2Ｏ3の含有率は１０ｍｏｌ％以下が好ましく、２ｍｏｌ％以上が好ましい。
（ＭｇＯ）
ＭｇＯはガラスの溶解性を向上させる必須の成分である。この効果を十分に得る観点から、このガラス板１ではＭｇＯが添加されていることが好ましい。また、ＭｇＯの含有率が８ｍｏｌ％を下回ると、化学強化後の表面圧縮応力が低下し、応力層深さが浅くなる傾向にある。一方、適量を越えて含有率を増やすと、化学強化により得られる強化性能が低下し、特に表面圧縮応力層の深さが急激に浅くなる。この悪影響は、アルカリ土類金属酸化物の中でＭｇＯが最も少ないが、このガラス板１においては、ＭｇＯの含有率は１５ｍｏｌ％以下である。また、ＭｇＯの含有率が高いと、Ｔ2、Ｔ4を増加させると共にガラス融液の清澄性が悪化し高品質なガラス板を製造することが難しくなる。
したがって、このガラス板１においては、ＭｇＯの含有率は１～１５ｍｏｌ％の範囲であり、８ｍｏｌ％以上、１２ｍｏｌ％以下が好ましい。
（ＣａＯ）
ＣａＯは、高温での粘性を低下させる効果を有するが、適度な範囲を超えて含有率が高すぎると、ガラス板１が失透しやすくなるとともに、ガラス板１におけるナトリウムイオンの移動が阻害されてしまう。ＣａＯを含有しない場合に化学強化後の表面圧縮応力が低下する傾向にある。一方、８ｍｏｌ％を超えてＣａＯを含有すると、化学強化後の表面圧縮応力が顕著に低下し、圧縮応力層深さが顕著に浅くなるとともに、ガラス板１が失透しやすくなる。
したがって、ＣａＯの含有率は１～８ｍｏｌ％の範囲が適切である。ＣａＯの含有率は、７ｍｏｌ％以下が好ましく、３ｍｏｌ％以上が好ましい。
（ＳｒＯ、ＢａＯ）
ＳｒＯ、ＢａＯは、ガラス板１の粘性を大きく低下させ、少量の含有では液相温度ＴLを低下させる効果がＣａＯより顕著である。しかし、ＳｒＯ、ＢａＯは、ごく少量の添加であっても、ガラス板１におけるナトリウムイオンの移動を顕著に妨げ、表面圧縮応力を大きく低下させ、かつ、圧縮応力層の深さがかなり浅くなる。
したがって、このガラス板１においては、ＳｒＯ、ＢａＯを実質的に含有しないことが好ましい。
（Ｎａ2Ｏ）
Ｎａ2Ｏは、ナトリウムイオンがカリウムイオンと置換されることにより、表面圧縮応力を大きくし、表面圧縮応力層の深さを深くするための成分である。しかし、適量を超えて含有率を増やすと、化学強化処理でのイオン交換による表面圧縮応力の発生を、化学強化処理中の応力緩和が上回るようになり、結果として表面圧縮応力が低下する傾向にある。
また、Ｎａ2Ｏは溶解性を向上させ、Ｔ4、Ｔ2を低下させるための成分である一方、Ｎａ2Ｏの含有率が高すぎると、ガラスの耐水性が著しく低下する。ガラス板１においては、Ｎａ2Ｏの含有率が１０ｍｏｌ％以上であればＴ4、Ｔ2を低下させる効果が充分に得られ、１６ｍｏｌ％を超えると応力緩和による表面圧縮応力の低下が顕著になる。
したがって、本実施形態のガラス板１におけるＮａ2Ｏの含有率は、１０～１６ｍｏｌ％の範囲が適切である。Ｎａ2Ｏの含有率は、１２ｍｏｌ％以上が好ましく、１５ｍｏｌ％以下がより好ましい。
（Ｋ2Ｏ）
Ｋ2Ｏは、Ｎａ2Ｏと同様、ガラスの溶解性を向上させる成分である。また、Ｋ2Ｏの含有率が低い範囲では、化学強化におけるイオン交換速度が増加し、表面圧縮応力層の深さが深くなる一方で、ガラス板１の液相温度ＴLを低下させる。したがってＫ2Ｏは低い含有率で含有させることが好ましい。
一方、Ｋ2Ｏは、Ｎａ2Ｏと比較して、Ｔ4、Ｔ2を低下させる効果が小さいが、Ｋ2Ｏの多量の含有はガラス融液の清澄を阻害する。また、Ｋ2Ｏの含有率が高くなるほど化学強化後の表面圧縮応力が低下する。したがって、Ｋ2Ｏの含有率は０～１ｍｏｌ％の範囲が適切である。
（Ｌｉ2Ｏ）
Ｌｉ2Ｏは、少量含有されるだけであっても圧縮応力層の深さを著しく低下させる。また、Ｌｉ2Ｏを含むガラス物品を硝酸カリウム単独の溶融塩で化学強化処理する場合、Ｌｉ2Ｏを含まないガラス物品の場合と比較して、その溶融塩が劣化する速度が著しく速い。具体的には、同じ溶融塩で繰り返し化学強化処理を行なう場合に、より少ない回数でガラス表面に形成される表面圧縮応力が低下する。したがって、本実施形態のガラス板１においては、１ｍｏｌ％以下のＬｉ2Ｏを含有してもよいが、実質的にＬｉ2Ｏを含有しない方が好ましい。
（Ｂ2Ｏ3）
Ｂ2Ｏ3は、ガラス板１の粘性を下げ、溶解性を改善する成分である。しかし、Ｂ2Ｏ3の含有率が高すぎると、ガラス板１が分相しやすくなり、ガラス板１の耐水性が低下する。また、Ｂ2Ｏ3とアルカリ金属酸化物とが形成する化合物が揮発してガラス溶解室の耐火物を損傷するおそれが生じる。さらに、Ｂ2Ｏ3の含有は化学強化における圧縮応力層の深さを浅くしてしまう。したがって、Ｂ2Ｏ3の含有率は０．５ｍｏｌ％以下が適切である。本発明では、Ｂ2Ｏ3を実質的に含有しないガラス板１であることがより好ましい。
（Ｆｅ2Ｏ3）
通常Ｆｅは、Ｆｅ2+又はＦｅ3+の状態でガラス中に存在し、着色剤として作用する。Ｆｅ3+はガラスの紫外線吸収性能を高める成分であり、Ｆｅ2+は熱線吸収性能を高める成分である。ガラス板１をディスプレイのカバーガラスとして用いる場合、着色が目立たないことが求められるため、Ｆｅの含有率は少ない方が好ましい。しかし、Ｆｅは工業原料により不可避的に混入することが多い。したがって、Ｆｅ2Ｏ3に換算した酸化鉄の含有率は、ガラス板１全体を１００質量％として示して０．１５質量％以下とすることがよく、０．１質量％以下であることがより好ましく、更に好ましくは０．０２質量％以下である。
（ＴｉＯ2）
ＴｉＯ2は、ガラス板１の粘性を下げると同時に、化学強化による表面圧縮応力を高める成分であるが、ガラス板１に黄色の着色を与えることがある。したがって、ＴｉＯ2の含有率は０～０．２質量％が適切である。また、通常用いられる工業原料により不可避的に混入し、ガラス板１において０．０５質量％程度含有されることがある。この程度の含有率であれば、ガラスに着色を与えることはないので、本実施形態のガラス板１に含まれてもよい。
（ＺｒＯ2）
ＺｒＯ2は、とくにフロート法でガラス板を製造する際に、ガラスの溶融窯を構成する耐火レンガからガラス板１に混入することがあり、その含有率は０．０１質量％程度であることが知られている。一方、ＺｒＯ2はガラスの耐水性を向上させ、また、化学強化による表面圧縮応力を高める成分である。しかし、ＺｒＯ2の高い含有率は、作業温度Ｔ4の上昇や液相温度ＴLの急激な上昇を引き起こすことがあり、またフロート法によるガラス板の製造においては、析出したＺｒを含む結晶が製造されたガラス中に異物として残留しやすい。したがって、ＺｒＯ2の含有率は０～０．１質量％が適切である。
（ＳＯ3）
フロート法においては、ボウ硝（Ｎａ2ＳＯ4）など硫酸塩が清澄剤として汎用される。硫酸塩は溶融ガラス中で分解してガス成分を生じ、これによりガラス融液の脱泡が促進されるが、ガス成分の一部はＳＯ3としてガラス板１中に溶解し残留する。本発明のガラス板１においては、ＳＯ3は０～０．３質量％であることが好ましい。
（ＣｅＯ2）
ＣｅＯ2は清澄剤として使用される。ＣｅＯ2により溶融ガラス中でＯ2ガスが生じるので、ＣｅＯ2は脱泡に寄与する。一方、ＣｅＯ2が多すぎると、ガラスが黄色に着色してしまう。そのため、ＣｅＯ2の含有量は、０～０．５質量％が好ましく、０～０．３質量％がより好ましく、０～０．１質量％がさらに好ましい。
（ＳｎＯ2）
フロート法により成形されたガラス板において、成型時にスズ浴に触れた面はスズ浴からスズが拡散し、そのスズがＳｎＯ2として存在することが知られている。また、ガラス原料に混合させたＳｎＯ2は、脱泡に寄与する。本発明のガラス板１においては、ＳｎＯ2は０～０．３質量％であることが好ましい。
（その他の成分）
本実施形態によるガラス板１は、上記に列挙した各成分から実質的に構成されていることが好ましい。ただし、本実施形態によるガラス板１は、上記に列記した成分以外の成分を、好ましくは各成分の含有率が０．１質量％未満となる範囲で含有していてもよい。
含有が許容される成分としては、上述のＳＯ3とＳｎＯ2以外に溶融ガラスの脱泡を目的として添加される、Ａｓ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ5、Ｃｌ、Ｆを例示できる。ただし、Ａｓ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ5、Ｃｌ、Ｆは、環境に対する悪影響が大きいなどの理由から添加しないことが好ましい。また、含有が許容されるまた別の例は、ＺｎＯ、Ｐ2Ｏ5、ＧｅＯ2、Ｇａ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3である。工業的に使用される原料に由来する上記以外の成分であっても０．１質量％を超えない範囲であれば許容される。これらの成分は、必要に応じて適宜添加したり、不可避的に混入したりするものであるから、本実施形態のガラス板１は、これらの成分を実質的に含有しないものであっても構わない。
（密度（比重）：ｄ）
上記組成より、本実施形態では、ガラス板１の密度を２．５３ｇ・ｃｍ-3以下、さらには２．５１ｇ・ｃｍ-3以下、場合によっては２．５０ｇ・ｃｍ-3以下にまで減少させることができる。
フロート法などでは、ガラス品種間の密度の相違が大きいと、製造するガラス品種を切り換える際に溶融窯の底部に密度が高い方の溶融ガラスが滞留し、品種の切り換えに支障が生じる場合がある。現在、フロート法で量産されているソーダライムガラスの密度は約２．５０ｇ・ｃｍ-3である。したがって、フロート法による量産を考慮すると、ガラス板１の密度は、上記の値に近いこと、具体的には、２．４５～２．５５ｇ・ｃｍ-3、特に２．４７～２．５３ｇ・ｃｍ-3が好ましく、２．４７～２．５０ｇ・ｃｍ-3がさらに好ましい。
（弾性率：Ｅ）
イオン交換を伴う化学強化を行うと、ガラス基板に反りが生じることがある。この反りを抑制するためには、ガラス板１の弾性率は高いことが好ましい。本発明によれば、ガラス板１の弾性率（ヤング率：Ｅ）を７０ＧＰａ以上、さらには７２ＧＰａ以上にまで増加させることができる。
以下、ガラス板１の化学強化について説明する。
（化学強化の条件と圧縮応力層）
ナトリウムを含むガラス板１を、ナトリウムイオンよりもイオン半径の大きい一価の陽イオン、好ましくはカリウムイオン、を含む溶融塩に接触させ、ガラス板１中のナトリウムイオンを上記の一価の陽イオンによって置換するイオン交換処理を行うことにより、本発明によるガラス板１の化学強化を実施することができる。これによって、表面に圧縮応力が付与された圧縮応力層が形成される。
溶融塩としては、典型的には硝酸カリウムを挙げることができる。硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとの混合溶融塩を用いることもできるが、混合溶融塩は濃度管理が難しいため、硝酸カリウム単独の溶融塩が好ましい。
強化ガラス物品における表面圧縮応力と圧縮応力層深さとは、該物品のガラス組成だけではなく、イオン交換処理における溶融塩の温度と処理時間によって制御することができる。
以上のガラス板１は、硝酸カリウム溶融塩と接触させることによって、表面圧縮応力が非常に高く、かつ、圧縮応力層の深さが非常に深い強化ガラス物品を得ることができる。具体的には、表面圧縮応力が７００ＭＰａ以上かつ圧縮応力層の深さが２０μｍ以上である強化ガラス物品を得ることができ、さらに圧縮応力層の深さが２０μｍ以上かつ表面圧縮応力が７５０ＭＰａ以上である強化ガラス物品を得ることもできる。
＜２．抗菌膜＞
次に、抗菌膜２について、図２を参照しつつ説明する。図２は抗菌膜の概略を示す拡大断面図である。図２に示すように、抗菌膜２は、ガラス板１の第１面に積層される保持層２１と、この保持層２１によって保持される抗菌性微粒子２２と、を備えている。以下、これらについて説明する。
＜２－１．保持層＞
保持層２１は、ガラス板１の第１面に積層されているため、保持層２１の表面にも、第１面の凹凸に沿うように凹凸が形成される。保持層２１の表面粗さＲａは、ガラス板１の第１面の表面粗さよりは小さくなるため、例えば、１２０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。一方、保持層２１の表面粗さＲａは、例えば、２０ｎｍ以上であることが好ましく、４０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。このように、保持層２１の表面粗さＲａが、２０ｎｍ以上で、且つ１２０ｎｍより小さければ、防眩機能が発揮される。また、保持層の表面のＲｓｍは、０μｍを超え３５μｍ以下が好ましく、１μｍ～３０μｍがさらに好ましく、２μｍ～２０μｍが特に好ましい。Ｒｓｍは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１により定められた粗さ曲線要素の平均長さである。大きすぎないＲｓｍは、いわゆるスパークルの抑制に好適である。
保持層２１の最大厚みＤは、例えば、１０～５００ｎｍであることが好ましく、２０～２００ｎｍであることがさらに好ましく、３０～８０ｎｍであることが特に好ましい。最大厚みＤが厚すぎると、後述する抗菌性微粒子２２が保持層２１に埋没してしまうおそれがあり、抗菌機能が抑制される可能性がある。また、ガラス板１からの保持層２１の剥離や膜割れのおそれがある。一方、最大厚みＤが薄すぎると、抗菌性微粒子２２を保持できず、保持層２１から抗菌性微粒子が離脱するおそれがあるため、好ましくない。ここで、最大厚みＤとは、図２に示すように、ガラス板１の第１面の最も深い凹部から、保持層２１の最も高い凸部までの厚みを意味する。
保持層２１は、抗菌性微粒子を保持するバインダとしての役割を果たす。保持層２は、Ｓｉの酸化物である酸化シリコンを含み、酸化シリコンを主成分とすることが好ましい。酸化シリコンを主成分とする保持層２１は、膜の屈折率を低下させ、膜の反射率を抑制することに適している。保持層２１は、酸化シリコン以外の成分を含んでいてもよく、酸化シリコンを部分的に含む成分を含んでいてもよい。
酸化シリコンを部分的に含む成分は、例えば、ケイ素原子及び酸素原子により構成された部分を含み、この部分のケイ素原子又は酸素原子に、両原子以外の原子、官能基その他が結合した成分である。ケイ素原子及び酸素原子以外の原子としては、例えば、窒素原子、炭素原子、水素原子、次段落に記述する金属元素を例示できる。官能基としては、例えば次段落にＲとして記述する有機基を例示できる。このような成分は、ケイ素原子及び酸素原子のみから構成されていない点で、厳密には酸化シリコンではない。しかし、保持層２１の特性を記述する上では、ケイ素原子及び酸素原子により構成されている酸化シリコン部分も「酸化シリコン」として取り扱うことが適当であり、当該分野の慣用にも一致する。本明細書では、酸化シリコン部分も酸化シリコンとして取り扱うこととする。以上の説明からも明らかなとおり、酸化シリコンにおけるシリコン原5子と酸素原子との原子比は化学量論的（１：２）でなくてもよい。
保持層２１は、酸化シリコン以外の金属酸化物、具体的にはケイ素以外を含む金属酸化物成分又は金属酸化物部分を含み得る。保持層２１が含み得る金属酸化物は、特に制限されないが、例えば、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｌａ、Ｃｅ及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素の酸化物である。保持層２１は、酸化物以外の無機化合物成分、例えば、窒化物、炭化物、ハロゲン化物等を含んでいてもよく、有機化合物成分を含んでいてもよい。
酸化シリコン等の金属酸化物は、加水分解可能な有機金属化合物から形成することができる。加水分解可能なシリコン化合物としては、式（１）で示される化合物を挙げることができる。
ＲnＳｉＹ4-n （１）
Ｒは、アルキル基、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、メタクリロイル基及びアクリロイル基から選ばれる少なくとも１種を含む有機基である。Ｙは、アルコキシ基、アセトキシ基、アルケニルオキシ基及びアミノ基から選ばれる少なくとも１種である加水分解可能な有機基、又はハロゲン原子である。ハロゲン原子は、好ましくはＣｌである。ｎは、０から３までの整数であり、好ましくは０又は１である。
Ｒとしては、アルキル基、例えば炭素数１～３のアルキル基、特にメチル基が好適である。Ｙとしては、アルコキシ基、例えば炭素数１～４のアルコキシ基、特にメトキシ基及びエトキシ基が好適である。上記の式で示される化合物を２種以上組み合わせて用いてもよい。このような組み合わせとしては、例えばｎが０であるテトラアルコキシシランと、ｎが１であるモノアルキルトリアルコキシシランとの併用が挙げられる。
式（１）で示される化合物は、加水分解及び重縮合の後、シリコン原子が酸素原子を介して互いに結合したネットワーク構造を形成する。この構造において、Ｒで示される有機基は、シリコン原子に直接結合された状態で含まれる。
＜２－２．抗菌性微粒子＞
抗菌性微粒子２２は、抗菌機能を有する銅微粒子を含有するものとすることができる。例えば、抗菌性微粒子２２は、銅微粒子の凝集体とすることができるが、銅微粒子のほか、分散剤や結着剤を含む凝集体とすることができる。あるいは、抗菌性微粒子２２を、凝集体ではない、銅微粒子とすることができる。但し、以下では説明の便宜のため、特に断りのない限り、「抗菌性微粒子」との文言は銅微粒子の凝集体を意味することとする。凝集体を構成する銅微粒子の平均粒径は、例えば、１０～１５０ｎｍであることが好ましく、１５～１００ｎｍであることがさらに好ましく、２０～８０ｎｍであることが特に好ましい。また、凝集体である抗菌性微粒子２２の平均粒径は、例えば、保持層２１の最大厚みよりも大きく、例えば、０．１～１０μｍであることが好ましく、０．５～５μｍであることがさらに好ましく、１～４μｍであることが特に好ましい。これにより、抗菌性微粒子２２が、保持層２１から突出し、抗菌機能を発揮する。なお、抗菌性微粒子２２が保持層２１に覆われることもあるが、覆われていたとしても保持層２１の薄いため、抗菌機能が大きく抑制されることはない。
また、保持層２１に保持された抗菌性微粒子２２の間隔Ｌは、１～２００μｍであることが好ましく、２～１００μｍであることがさらに好ましく、３～７０μｍであることが特に好ましい。抗菌性微粒子２２の間隔Ｌが狭すぎると、その間で露出する保持層２１の面積が狭くなり、防眩機能が損なわれるおそれがある。一方、抗菌性微粒子２２の間隔Ｌが広すぎると、抗菌機能が低減するおそれがある。なお、抗菌性微粒子２２の平均粒径及び抗菌性微粒子２２間の間隔の測定方法は、後述する実施例の(6)項に記載している。
抗菌膜２に含有される抗菌性微粒子の含有量は、５０重量％以下、４０重量％以下、３０重量％以下、２０重量％以下、１８重量％以下、及び１５重量％以下の順で好ましい。一方、下限値としては、０．１重量％以上、５重量％以上、１０重量％以上の順で好ましい。
＜２－３．抗菌膜の形成方法＞
抗菌膜２の形成方法は、特には限定されないが、例えば、以下のように形成することができる。まず、上述したマトリクスを構成する材料、例えば、テトラエトキシシランを酸性条件下で溶液とし、前駆体液を生成する。また、上述した抗菌性微粒子２２を含む分散液、例えば、銅微粒子分散液をプロピレングリコール等によって希釈し、微粒子分散液を生成する。そして、前駆体液と微粒子分散液とを混合し、抗菌膜用コーティング液を生成する。このコーティング液中の抗菌性微粒子２２の濃度は、例えば、１００～８０００ｐｐｍであることが好ましく、５００～５０００ｐｐｍであることがさらに好ましい。抗菌性微粒子２２の濃度が高すぎると、カバー部材１０の可視光透過率が低減し、またヘイズ率が高くなるおそれがある。一方、抗菌性微粒子２２の濃度が低すぎると、抗菌機能が発揮できないおそれがある。
次に、洗浄したガラス板１の第１面に、コーティング液を塗布する。塗布方法は特には限定されないが、例えば、フローコート法、スプレーコート法、スピンコート法などを採用することができる。その後、塗布したコーティング液をオーブンなどで、例えば、溶液中のアルコール分を揮発させるため、所定温度（例えば、８０～１２０℃）で乾燥した後、例えば、加水分解及び有機鎖の分解のため、所定温度（例えば、２００～５００℃）で焼結させると、抗菌膜２を得ることができる。
＜３．カバー部材の光学特性＞
上記のように抗菌膜２が形成されたカバー部材１０の光学特性としては、例えば、可視光透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。また、カバー部材１０のヘイズ率は、例えば２０％以下、さらに１５％以下、特に１０％以下であり、場合によっては１～８％、さらに１～６％であってもよい。
また、グロスは、鏡面光沢度により評価することができる。カバー部材１０の６０°鏡面光沢度は、例えば６０～１３０％、さらに７０～１２０％、特に８０～１１０％である。これらの鏡面光沢度は、抗菌膜２を形成した面について測定された値である。なお、カーナビゲーション等の車載機器のディスプレイのカバー部材としては、一般的に、１２０～１４０％のグロスを示すものが用いられている。
６０°鏡面光沢度Ｇとヘイズ率Ｈ（％）との間には、関係式（ａ）が成立することが好ましく、関係式（ｂ）が成立することがさらに好ましい。
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２５ （ａ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２４．５ （ｂ）
なお、グロスはＪＩＳ Ｚ８７４１－１９９７の「鏡面光沢度測定方法」の「方法３（６０度鏡面光沢）」に従って、ヘイズはＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に従ってそれぞれ測定することができる。
＜４．特徴＞
本実施形態に係るカバー部材は、以下の効果を奏することができる。
（１）本実施形態に係るカバー部材１０は、以下の効果を奏することができる。例えば、銅イオンのような形態で抗菌性微粒子が保持層内に拡散されていると、水などの液体が付着した場合、銅イオンが液体に溶出しやすくなり、抗菌性能が低下するおそれがある。これに対して、本実施形態に係る抗菌性微粒子２２は、抗菌性能を有する銅が、微粒子（または凝集体）としての形態で保持層２１によって保持されている。したがって、抗菌膜２からの抗菌性微粒子２２の離脱を抑制することができる。その結果、１つの効果として、高い耐水性能により、抗菌機能を長く維持することができる。
（２）ガラス板１の第１面に凹凸が形成され、この第１面に保持層２１と抗菌性微粒子２２とを有する抗菌膜２が形成されている。そのため、保持層２１の表面にもガラス板１の凹凸に沿うように凹凸が形成され、これによって、防眩機能が発揮される。また、抗菌膜２には、保持層２１の最大厚みよりも大きい平均粒径を有する抗菌性微粒子２２が含有されているため、抗菌性微粒子２２は保持層２１から突出するように配置される。これによって、抗菌機能が発揮される。このように、本実施形態に係るカバー部材１の抗菌膜２は、防眩機能と抗菌機能とを両立することができる。
＜５．変形例＞
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、種々の変更が可能である。なお、以下の変形例は適宜組み合わせることができる。
＜５－１＞
上記実施形態では、ガラス板１のボトム面にエッチングを施し、これによって凹凸を形成しているが、トップ面にエッチングを施して同様に凹凸を形成することもできる。
＜５－２＞
ガラス板１に凹凸を形成するには種々の方法があり、上述したエッチングには限定されない。その他、例えば、ガラス板１のいずれか一方の面に、凹凸を有する下地層を形成することもできる。下地層は、例えば、上述した保持層２１と同様の材料で形成された基層と、この基層に保持される微粒子とで形成することができる。
微粒子の形状は、特に制限されないが、球状であることが好ましい。微粒子は球状粒子により実質的に構成されていてもよい。但し、微粒子の一部は、球状以外の形状、例えば平板状の形状を有していてもよい。微粒子は球状粒子のみにより構成されていても構わない。ここで、球状粒子とは、重心を通過する最短径に対する最長径の比が１以上１．８以下、特に１以上１．５以下であって、表面が曲面により構成されている粒子をいう。球状粒子の平均粒径は、５ｎｍ～２００ｎｍ、さらに１０ｎｍ～１００ｎｍ、特に２０ｎｍ～６０ｎｍであってもよい。球状粒子の平均粒径は、個々の粒径、具体的には上述の最短径と最長径との平均値、の平均により定まるが、その測定は、ＳＥＭ像に基づいて、３０個、好ましくは５０個の粒子を対象として実施することが望ましい。このように、抗菌性微粒子２２よりも平均粒径の小さい微粒子を用いることで、抗菌膜２の保持層２１に適切な表面粗さＲａを形成するための下地となる凹凸を形成することができる。
微粒子を構成する材料は、特に制限されないが、金属酸化物、特に酸化シリコンを含むことが好ましい。ただし、金属酸化物は、例えば、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｌａ、Ｃｅ及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素の酸化物を含んでいてもよい。
また、微粒子は、フィロケイ酸塩（phyllosilicate）鉱物粒子であってもよい。フィロケイ酸塩鉱物粒子に含まれるフィロケイ酸塩鉱物は、層状ケイ酸塩鉱物とも呼ばれる。フィロケイ酸塩鉱物としては、例えばカオリナイト、ディッカイト、ナクライト、ハロイサイト等のカオリン鉱物、クリソタイル、リザーダイト、アメサイト等のサーペンティン、モンモリロナイト、バイデライト等の２八面体型スメクタイト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイト等の３八面体型スメクタイト、白雲母、パラゴナイト、イライト、セラドナイト等の２八面体型雲母、金雲母、アナイト、レピドライト等の３八面体型雲母、マーガライト等の２八面体型脆雲母、クリントナイト、アナンダイト等の３八面体型脆雲母、ドンバサイト等の２八面体型クロライト、クッケアイト、スドーアイト等の２・３八面体型クロライト、クリノクロア、シャモサイト等の３八面体型クロライト、パイロフィライト、タルク、２八面体型バーミキュライト、３八面体型バーミキュライトを挙げることができる。フィロケイ酸塩鉱物粒子は、スメクタイト、カオリン、又はタルクに属する鉱物を含むことが好ましい。スメクタイトに属する鉱物としては、モンモリロナイトが好適である。なお、モンモリロナイトは単斜晶系に属し、カオリンは三斜晶系に属し、タルクは単斜晶系又は三斜晶系に属する。
このような下地層は、上述した抗菌膜と同様に形成することができる。すなわち、上述したような前駆体液と微粒子分散液とを混合し、下地層用コーティング液を生成し、これをガラス板の表面に塗布した後、焼結させることで、表面に凹凸を有する下地層を形成することができる。下地層の表面粗さＲａは、上述したガラス板１の第１面の表面粗さＲａと同様にすることができる。また、このような下地層は、抗菌膜２の保持層２１と同じ材料で形成することができるため、下地層と抗菌膜２の屈折率を近づけることができる。したがって、防眩機能をより効果的に発揮することができる。
この場合、例えば、フロート法により形成されたガラス板（フロートガラス）に化学強化を施し、トップ面に対して下地層を形成することができる。フロートガラスに化学強化を施すと、ナトリウムイオンの濃度が高いトップ面において、ボトム面よりも、カリウムイオン等のアルカリイオンとの交換が進むため、トップ面が凸となるように反りやすくなる。そこで、上記のような下地層をトップ面に形成すると、積層した下地層が収縮し、反りが緩和される。したがって、反りを抑制するという観点からは、化学強化を施したガラス板に対し、トップ面に下地層を形成することが好ましい。
また、下地層と抗菌膜２との間に、公知の反射防止膜を配置することもできる。
なお、上述した下地層の基層を構成する材料は一例であり、適宜変更することができる。例えば、基層は、酸化シリコンを主成分とする材料で形成することができるが、これに限定されない。酸化シリコンを主成分とすれば、基層の屈折率（反射率）が低くなりやすい。また、基層の化学的安定性等も良好である。また、ガラス板１との密着性が良好である。ここで、酸化シリコンを主成分とするとは、ＳｉＯ2を５０質量％以上含むことを意味するが、９０質量％以上含むことが好ましい。
酸化シリコンを主成分とする場合、基層は、酸化シリコンのみから構成されてもよく、酸化シリコン以外の成分を少量含んでもよい。その成分としては、Ｌｉ、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｆ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｋ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ，Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｂｉおよびランタノイド元素より選ばれる１つもしくは複数のイオンおよびまたは酸化物等の化合物が挙げられる。
酸化シリコンを主成分とする基層としては、酸化シリコン前駆体を含む塗布組成物から形成されるものや粒子として酸化シリコン粒子を含む塗布組成物から形成されるもの、その他酸化シリコンを主成分としない樹脂膜等により形成されたものが挙げられる。
＜５－３＞
保持層２１の組成は特には限定されず、上述したように、表面に所定の表面粗さを有し、抗菌性微粒子２２を保持できるような材料であればよい。
＜５－４＞
上記説明では、ガラス板１、下地層、及び保持層２に、所定の表面粗さを有する凹凸を形成している。これによって、最表面の保持層２には、上記のような所定の表面粗さを有する凹凸が形成され、防眩機能を発揮することを説明した。しかしながら、保持層２１の防眩機能は必ずしも必要ではなく、少なくとも、抗菌性微粒子２２が微粒子として保持層２１に保持されていればよい。したがって、保持層２１が防眩機能を有するように、ガラス板１、下地層、及び保持層２１に所定の表面粗さを有する凹凸が形成されていなくてもよい。そのため、抗菌性微粒子２２の平均粒径も保持層２１に凹凸が形成されていなければ、特には限定されない。
＜５－５＞
抗菌膜２の表面に耐指紋層を形成することもできる。耐指紋層を形成することで、カバー部材１０上でのスワイプ操作がしやすくなり、また指紋等の汚れを拭き取りやすくなる。以下、耐指紋層の一例を説明するが、これに限定されるものではない。
（１）耐指紋層の組成の例
この耐指紋層は、実質的にフッ素系溶媒で可溶な組成物のみを含有することを特徴としている。そのような組成物は、特には限定されないが、例えば、以下の式（Ｘ）で表される化合物を含むことができる。なお、「実質的にフッ素系溶媒で可溶な組成物のみ」とは、例えば、製造過程で混入した他の組成物を排除することを意味せず、１％重量以下の他の組成物の混入を許容する意味である。
［Ｒｆ1－Ｚ1］a－Ｑ1－［Ｚ2－ＳｉＲcＭ3-c］b （Ｘ）
（式中、Ｒｆ1は独立に炭素数１～６のパーフルオロアルキレン基と酸素原子によって構成される分子量４００～２０，０００の１価のパーフルオロポリエーテル基であり、Ｚ1は独立に炭素数１～２０の酸素原子、窒素原子及びケイ素原子を含んでいてもよい２価の炭化水素基であり、途中環状構造を含んでいてもよい。Ｚ2は独立に炭素数２～８の２価の炭化水素基である。Ｑ1は少なくとも（ａ＋ｂ）個のケイ素原子を含む（ａ＋ｂ）価の連結基であり、環状構造をなしていてもよい。ａは１～１０の整数であり、ｂは独立に１～１０の整数であり、ｃはそれぞれ独立に０、１又は２である。式（Ｘ）における［ ］で括られたａ個のＺ1及びｂ個のＺ2はすべてそれぞれＱ1又はＱ2構造中のケイ素原子と結合している。Ｒは独立に１～６の１価の炭化水素基である。Ｍはアルコキシ基又はアルコキシアルキル基であり、－ＳｉＲcＭ3-cがアルコキシシリル基である。）で表される含フッ素反応性シラン化合物を、実質的にフッ素系溶媒で可溶な組成物として例示することができる。
ここで、上記式（Ｘ）で表される含フッ素反応性シラン化合物としては、下記に示すものが例示できる。
Figure 2022048046000002
Figure 2022048046000003
Figure 2022048046000004
Figure 2022048046000005
Figure 2022048046000006
 （式中、ｒ１、Ｒｆ'は上記と同じである。）
パーフルオロアルキレン基にあるフルオロポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば１，０００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。上記数平均分子量は、19Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。これは、上記数平均分子量が、１０００以上であると、分子の結合が長くなり、例えば、後述するように、ガラス板上に直接耐指紋層を形成する場合には、図３に示すように、耐指紋層上に油が付着しても、分子が倒れるのが抑制され、耐指紋性能、防汚性能の低下を防止することができる。なお、保持層２１に酸化シリコンが含有されている場合には、同等の効果を得ることができる。一方、数平均分子量が大きすぎると、ガラス板１と結合するアルコキシシリル基の数が減るおそれがある。したがって、数平均分子量を３０，０００以下とすると、ガラス板１のＯＨ基との結合数が減少し、結合強度が低下を防止できる。
一方、フルオロポリエーテル鎖の数平均分子量が、１，０００未満となると、アルコキシシリル基が含有されていたとしても、ガラス板の表面での反応確率が低下する。その結果、耐摩耗性が低下するおそれがある。また、分子量が低いと、後述するように、耐指紋層用の塗布液が気化しやすくなり、特に、スプレーで塗布する場合には、所定の領域に塗布しにくくなるおそれがある。
耐指紋層の機能とは、例えば、後述する拭き取り試験による性能を奏するものである。また、例えば、耐指紋層の表面での接触角が６０°以上、好ましくは８０°以上、さらに好ましくは１００°以上であることを意味する。
耐指紋層を構成する組成物は、フッ素系溶媒に溶解された後、後述する方法でガラス板１に積層される。フッ素系溶媒としては、例えば、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロオクタン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロジメチルシクロヘキサン、パーフルオロデカリン、パーフルオロアルキルエタノール、パーフルオロベンゼン、パーフルオロトルエン、パーフルオロアルキルアミン（フロリナート（商品名）等）、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロブチルテトラヒドロフラン、ポリフルオロ脂肪族炭化水素（アサヒクリンＡＣ６０００（商品名））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ－２２５（商品名）等）、ハイドロフルオロエーテル（ノベック（商品名）、ＨＦＥ－７１００（商品名）、ＨＦＥ－７２００（商品名）、ＨＦＥ－７３００（商品名）、ＨＦＥ－７０００（商品名）、アサヒクリンＡＥ－３０００（商品名）等）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、含フッ素アルコール、パーフルオロアルキルブロミド、パーフルオロアルキルヨージド、パーフルオロポリエーテル（クライトックス（商品名）、デムナム（商品名）、フォンブリン（商品名）等）、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン、メタクリル酸２－（パーフルオロアルキル）エチル、アクリル酸２－（パーフルオロアルキル）エチル、パーフルオロアルキルエチレン、フロン１３４ａ、およびヘキサフルオロプロペンオリゴマー、１，２－ジクロロ－１，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペンなどを挙げることができる。
（２）耐指紋層の物性及び性能
(２－１)膜厚
耐指紋層の厚みは、特には限定されないが、１μｍ以下とすることができる。具体的には、例えば、５～２００ｎｍであることが好ましく、１０～８０ｎｍであることがさらに好ましい。耐指紋層の膜厚が５０ｎｍを超えるとコストが高くなるおそれがある。一方、耐指紋層は、単分子膜のような薄い膜厚でも防汚機能を奏するが、例えば、５ｎｍより小さくなると、乾燥前に外力が加わったときに、保持層２１から剥がれるおそれがある。したがって、耐指紋層の膜厚は５ｎｍ以上であることが好ましい。膜厚は、種々の方法で算出することができるが、例えば、膜厚を測定したい箇所でカバー部材を切断し、断面をＳＥＭ等で観察することで測定することができる。
ＳＥＭでの観察は、例えば、次のように行うことができる。電界放射型走査型電子顕微鏡Ｓ－４７００（日立ハイテク社製）を用い、加速電圧を５ｋＶとする。そして、０．１％のフッ化水素にて、耐指紋層をエッチングする。そして、導電処理のためにＰｔ－Ｐｄのコーティングを行った後、ＳＥＭによる観察を行う。
また、膜厚が大きくなると、例えば、上述したアルコキシシリル基が過剰になり、後述するように、耐指紋層をガラス板１に直接形成した場合、ガラス板１と結合しないものが、耐指紋層の表面に現れ、凹凸を形成する可能性がある。この点は、酸化シリコンを含有する保持層２１においても同様である。このような凹凸は、水滴がスムーズに流れるのを阻害する可能性があり、その結果、耐指紋性能や防汚性能が低下するおそれがある。
(２－２)水の接触角
耐指紋層における水の接触角は、６０°以上であることが好ましく、８０°以上であることがさらに好ましく、１００°以上であることが特に好ましい。この接触角が大きいほど、耐指紋性能、防汚性能が優れていることを表している。また、一般的な現象として接触角は、１２０°以下であることが知られている。なお、接触角は、例えば、接触角測定装置（「ＤＭｓ－４０１」、協和界面科学社製）を用いて水３μＬにて測定する。
(２－３)拭き取り試験
摩耗試験は、例えば、次のように行うことができる。まず、１滴が１０μＬのオレイン酸を含有する試験液を、耐指紋層上に３点滴下する。次に、往復摩耗試験機（新東科学社製「ＨＥＩＤＯＮ－１８」）に、乾布であるネル布（３００番）を取り付け、耐指紋層の表面上を１ｋｇ／４ｃｍ2の荷重を加えながら、２００回往復させる。そして、この試験後において、ヘイズ率を測定した。そして、試験前のヘイズ率と２００回の往復後のヘイズ率の差が、１．０％以下であることが好ましい。このような差になると、試験液、つまり汚れが拭き取られることを意味し、耐指紋性能、防汚性能が高いことの指標となる。なお、ヘイズ率の測定は後述の通りである。
(３)耐指紋層の形成方法
上記のような耐指紋層の形成方法は特には限定されないが、例えば、耐指紋層用の塗布液をスプレーにより対象面に塗布したり、あるいはフローコート法、ロールコーティングなどの方法を採用することができる。
耐指紋層用の塗布液を塗布した後、塗布液の表面に水分を供給してもよい。水分を供給することにより、加水分解が期待できる場合がある。
塗布液に含有されるフッ素系溶媒は速やかに蒸発するため、塗布液は速やかに硬化して、耐指紋層が形成される。
(４)抗菌性能
本発明者が検討したところによると、抗菌膜２上に耐指紋層を形成した場合でも、後述するように抗菌性能が発揮されていることが確認されている。これは、抗菌性微粒子２２は、耐指紋層に覆われている場合でも、抗菌性能が発揮されているか、あるいは抗菌性微粒子２２の少なくとも一部が耐指紋層に覆われず露出していることによって抗菌性能が発揮されているか、のいずれか、または双方が理由であると考えられる。
(５)その他
上記のような耐指紋層は、保持層２１の代わりに用いることができる。すなわち、抗菌膜２として、上記保持層２１の代わりに上述した耐指紋層を用い、この耐指紋層によって上述した抗菌性微粒子２１を保持することができる。すなわち、耐指紋層は、ガラス板１または下地層上に形成される。この場合、耐指紋層の厚みは、例えば、２０～２００ｎｍであることが好ましく、３０～８０ｎｍであることがさらに好ましい。このように、上述した保持層２１に代わって、耐指紋層を採用する場合、保持層２１以外の構成は上述したものを適宜採用することができる。
ガラス板１に直接耐指紋層を形成する場合には、耐指紋層用の塗布液を塗布した後、ガラス板を、例えば、１００～２００℃の温度で加熱することができる。このような雰囲気下では、耐指紋層を構成する組成物において、Ｓｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合し、その結果、上記組成物とガラス板１との間で結合の促進が期待できる場合がある。
＜５－６＞
ガラス板１の一部にマスク層を形成し、マスク層が形成されている部分において、被保護部材１００が外部から見えないようにすることができる。例えば、ガラス板１の周縁にマスク層を形成し、カバー部材１０の周縁においては、被保護部材１００が外部から見えないようにすることができる。これにより、例えば、被保護部材１００の配線やブラケットなどの部品が外部から見えないようにすることができる。マスク層の材料は、外部からの視野を遮蔽可能であれば、実施形態に応じて適宜選択されればよく、例えば、黒色、茶色、灰色、濃紺等の濃色のセラミックを用いてもよい。その他、シート材を貼り付けることもできる。
マスク層の材料に黒色のセラミックが選択された場合には、例えば、カバー部材１０において抗菌膜２が形成される面とは反対側の面に、スクリーン印刷等で黒色のセラミックを積層し、ガラス板ともに積層したセラミックを加熱する。そして、セラミックが硬化すると、マスク層が完成する。なお、マスク層に利用するセラミックは、種々の材料を利用することができるが、例えば、以下の表１に示す組成のセラミックをマスク層に利用することができる。
Figure 2022048046000007
 ＊１，主成分：酸化銅、酸化クロム、酸化鉄及び酸化マンガン
＊２，主成分：ホウケイ酸ビスマス、ホウケイ酸亜鉛
＜５－７＞
本発明に係るカバー部材は、無色透明のほか、ガラス板１、抗菌膜２、下地層の少なくとも１つに着色することで、有色透明、又は半透明にすることができる。
以下、本発明の実施例について説明する。但し、本発明は、以下の実施例には限定されない。
(1)実施例及び比較例の準備
５０ｍｍx５０ｍｍのフロートガラス板上に、抗菌膜を積層することで、実施例１～８に係るカバー部材を形成した。また、実施例９では、抗菌膜上にさらに耐指紋層を形成した。実施例１～９は、コーティング液の組成及び塗布方法が相違している。比較例の形成方法は、後述する。
以下の組成を有する保持層用の前駆体液を調製した(単位はｇである)。そして、これらの混合溶液を６０℃で７時間攪拌し、ＴＥＯＳの加水分解反応により前駆体液を得た。
Figure 2022048046000008
この前駆体液に対し、以下の組成の抗菌膜用コーティング液を調製した(単位はｇである)。抗菌性微粒子用の銅の分散液は、プロピレングリコールで１％の濃度に希釈したものを用いた。そして、表４の材料を上から下の順に攪拌しながら混合した。そして、この混合溶液を室温で攪拌し、コーティング液を得た。実施例１～９及び比較例のコーティング液の組成は以下の表５の通りである（表５のＣｕは抗菌性微粒子を示している）。
Figure 2022048046000009
そして、このコーティング液をスプレーコーティングまたはロールコーティングによりガラス板上により塗布し、１０分間の自然乾燥の後、３００℃に設定したオーブン内で３０分加熱し、抗菌膜を形成した。実施例１～５のコーティング液は、スプレーコーティングでガラス板に塗布し、実施例６～８のコーティング液は、ロールコーティングでガラス板に塗布した。こうして、本実施例１～８に係るカバー部材が完成した。なお、抗菌膜の膜厚は、実施例９も含め、いずれも５０ｎｍとしている。
実施例９では、抗菌膜上にさらに耐指紋層を形成した。耐指紋層として、信越化学工業株式会社製ＫＹ－１９０１をフッ素系溶媒に溶解したコーティング液を準備し、これを抗菌膜上にスプレーコーティングにより塗布した。その後、乾燥し、耐指紋層を得た。耐指紋層の膜厚は、２０ｎｍであった。なお、このコーティング液は、カップリング剤としてのアルコキシシリル基、を含有し、平均分子量が１，０００以上であった。
比較例に係るカバー部材は、以下のように形成した。まず、以下の組成を有する比較例用のコーティング液を調製した（単位はｇである）。混合溶液を室温で一晩撹拌し、ＴＥＯＳの加水分解反応によりコーティング液を得た。
Figure 2022048046000010
次に、このコーティング液をフローコーティングによりガラス板に塗布し、１０分の自然乾燥の後、２００℃に設定したオーブン内で２０分加熱した。こうして、抗菌膜を形成し、比較例に係るカバーガラスを得た。この抗菌膜の膜厚は、１５０ｎｍとした。このように形成された比較例の抗菌膜中には、銅イオンが拡散していると考えられる。
Figure 2022048046000011
(2) 評価
実施例１～９及び比較例のカバー部材に対し、以下の試験を行った。結果は、表６に示すとおりである。
(2-1) 光学特性
ヘイズ率及び可視光透過率を測定した。ヘイズ率は、日本電色工業株式会社製ヘイズメータＮＤＨ２０００により行った。この際、抗菌膜を入射面とし、試料の３点でヘイズ率を測定し、その平均値をヘイズ率とした。
(2-2) 抗菌試験
抗菌性の評価を、以下の通り、ＪＩＳ Ｚ２８０１：２０１２(フィルム密着法)に基づいて行った（ＩＳＯ２２９１６に相当）。
・試験細菌：Ｅ．Ｃｏｌｉ（大腸菌 ＮＢＲＣ３９７２）
・試料形態：上記カバー部材
・作用時間：２４時間
・抗菌活性値（Ｒ）の算出：Ｒ＝（Ｕｔ－Ｕ０）－（Ａｔ－Ｕ０）＝Ｕｔ－Ａｔ
Ｕ０：ガラス板の接種直後の生菌数の対数値の平均値
Ｕｔ：ガラス板の２４時間後の生菌数の対数値の平均値
Ａｔ：カバー部材の２４時間後の生菌数の対数値の平均値
・作用条件：温度３５℃、湿度９０％以上（ＪＩＳ準拠）
・密着フィルム：４０ｍｍ×４０ｍｍのＰＰフィルム（ＪＩＳ基準）
・試験菌液の摂取量：０．２ｍｌ
・試験菌液の生菌数：１．１×１０6
・生菌数測定：ガラス板の菌液接種直後および２４時間培養後のカバー部材の生菌数を測定
Figure 2022048046000012
上記試験の結果、本実施例１～９に係るカバー部材は、十分な光学性能が得られていることが分かった。また、抗菌活性は、いずれも５．０以上であった。２．０以上で抗菌活性があると評価されるため、本実施例１～９に係るカバー部材においては十分な抗菌性能が確認できた。
(2-3) 拭き取り試験
実施例９に対し、上述した拭き取り試験を行い、ヘイズ率を測定したところ、ヘイズ率は、１．７８％であった。したがって、試験前後のヘイズ率の変化量は、０．８８％であるので、実施例９に係るカバー部材は、汚れを拭き取りやすく、耐指紋性能、防汚性能が高いことが分かった。
(2-4) 接触角
３個の実施例９の耐指紋層上に、注射器からオレイン酸を適量押し出し、ガラス板の表面に付着させる。そして、各実施例９に対し、オレイン酸の接触角を測定した。結果は、以下の通りである。
Figure 2022048046000013
オレイン酸がガラス板に付着すると、接触角が低くなるが、実施例９のように耐指紋層が積層されていると、接触角が低下しないことが分かった。したがって、耐指紋性能、防汚性能が高いことが分かった。
(2-5) 耐水試験
実施例８及び比較例を２５ｍｌの水に浸漬し、所定時間おきに、その水から１．５ｍｌを抽出し、銅イオンの溶出量（コーティング単位面積当たりの溶出量）を算出した。この溶出量の算出は、次のように行った。まず、パックテスト銅（共立理化学研究所製）で発色させた検水をデジタルパックテスト銅（同上）で測定し、液中に含まれる銅イオン濃度を求めた後、これをコーティング単位面積当たりの量に換算した。結果は、以下の表８及び図４に示すとおりである。
Figure 2022048046000014
表８及び図４に示すように、実施例８は、時間が経過しても、銅の溶出量が少なかった。一方、比較例は、銅がイオンとして抗菌膜中に拡散していると考えられるため、時間とともに銅イオンの溶出量が増大している。したがって、イオンのような形態で抗菌性微粒子が保持層に含有されている比較例の抗菌膜に比べ、実施例８のような微粒子が粒子として保持層に保持されている実施例８の抗菌膜は、抗菌性微粒子の離脱を抑制することができることが分かった。よって、実施例８に係るカバー部材は、水などの液体が付着しても抗菌性能の低下が抑制できることが分かった。
(2-6) 表面性状
図５は、実施例８の抗菌膜の表面性状をＳＥＭで観察した写真、図６は、図５の写真に写る抗菌性微粒子の拡大図である。図５に写る白色の複数の点が抗菌性微粒子を示している。また、図６に示すように、実施例８に係る抗菌性微粒子は、銅粒子の凝集体であることが分かる。図５に写る抗菌性微粒子の粒子径は１～４μｍであった。また、抗菌性微粒子間の距離は最大５０μｍ、最小５μｍ、平均２５μｍであった。
平均粒径は、以下の方法で算出した。まず、倍率が１０００倍のＳＥＭ画像を異なる視野で３枚取得した。次に、９０μｍｘ１２０μｍの範囲（図５の破線で囲まれた範囲）において、次の計測を行った。まず、抗菌性微粒子の長軸方向の長さと短軸方向の長さを計測し、それらの平均をひとつの抗菌性微粒子の粒径とする。そして、同様の計測を任意の抗菌性微粒子について１画像につき１０点、合計３０点行い、それらの平均を平均粒径とした。
抗菌性微粒子間の距離は、以下のように算出した。まず、倍率が１０００倍のＳＥＭ画像を異なる視野で３枚取得した。次に、任意の隣り合う抗菌性微粒子の間隔を計測した。同様の計測を任意の１０組の抗菌性微粒子について１画像につき１０点、合計３０点行い、それらの平均を抗菌性微粒子間の距離とした。
１ ガラス板
２ 抗菌膜
２１ 保持層
２２ 抗菌性微粒子
１０ カバー部材
１００ 被保護部材

Claims (23)

  1. 第１面及び第２面を有する板状の基材と、
    前記第１面に形成された抗菌膜と、
    を備え、
    前記抗菌膜は、
    前記第１面に形成される保持層と、
    前記保持層に保持され、銅微粒子を含有する抗菌性微粒子と、を備えている、カバー部材。
  2. 前記抗菌性微粒子の平均粒径は、０．１～１０μｍである、請求項１に記載のカバー部材。
  3. 前記抗菌膜における、前記抗菌性微粒子の含有量は、０．１～５０重量％である、請求項１または２に記載のカバー部材。
  4. 可視光透過率が、９０％以上である、請求項１から３のいずれかに記載のカバー部材。
  5. ヘイズ率が、３％以下である、請求項１から４のいずれかに記載のカバー部材。
  6. 前記基材の第１面は、所定の表面粗さを有しており、
    前記抗菌膜は、前記第１面に形成されており、
    前記抗菌性微粒子は、前記保持層の膜厚以上の平均粒径を有する、請求項１から５のいずれかに記載のカバー部材。
  7. 前記保持層の表面粗さは、前記基材の第１面の表面粗さより小さく、且つ１２０ｎｍより小さい、請求項６に記載のカバー部材。
  8. 前記保持層の最大膜厚は、前記基材の表面粗さより小さい、請求項６または７に記載のカバー部材。
  9. 前記抗菌膜の保持層は、酸化シリコンを主成分として含有し、請求項６から８のいずれかに記載のカバー部材。
  10. 前記基材は、前記第１面及び前記第２面を有するガラス板により形成されている、請求項６から９のいずれかに記載のカバー部材。
  11. 前記ガラス板はフロートガラスによって形成され、当該フロートガラスのボトム面が前記第１面を構成している、請求項１０に記載のカバー部材。
  12. 前記基材は、ガラス板と、前記ガラス板の一方の面に形成され、前記所定の表面粗さを有する下地層と、を備えている、請求項６から９のいずれかに記載のカバー部材。
  13. 前記下地層は、酸化シリコンを主成分として含有する基層と、前記基層に保持される微粒子と、を備えている、請求項１２に記載のカバー部材。
  14. 前記ガラス板はフロートガラスにより形成され、当該フロートガラスのトップ面に前記下地層が形成されている、請求項１２または１３に記載のカバー部材。
  15. 前記ガラス板の厚みは、３ｍｍ以下である、請求項１０から１４のいずれかに記載のカバー部材。
  16. 前記微粒子の平均粒径は、前記抗菌性微粒子の平均粒径よりも小さい、請求項１５に記載のカバー部材。
  17. 前記保持層上における前記抗菌性微粒子間の間隔は、１～２００μｍである、請求項６から１６のいずれかに記載のカバー部材。
  18. 前記抗菌性微粒子の平均粒径は、０．１～１０μｍである、請求項６から１７のいずれかに記載のカバー部材。
  19. 前記抗菌膜上の少なくとも一部に形成された耐指紋層が形成されている、請求項６から１８のいずれかに記載のカバー部材。
  20. 前記耐指紋層の膜厚は、前記抗菌膜より薄い、請求項１９に記載のカバー部材。
  21. 前記耐指紋層は、前記抗菌膜上の一部に形成されている、請求項１９または２０に記載のカバー部材。
  22. 前記基材と前記抗菌膜との間に配置された、反射防止膜をさらに備えている、請求項６から２１のいずれかに記載のカバー部材。
  23. ディスプレイ、キーボード、電子黒板、または電子機器の表面を覆うように配置される、請求項１から２２のいずれかに記載のカバー部材。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000154106A (ja) * 1998-11-17 2000-06-06 Casio Comput Co Ltd 抗菌性物品及びその製造方法
JP5201930B2 (ja) * 2007-02-16 2013-06-05 富士フイルム株式会社 親水性部材及びその製造方法
CN102939269B (zh) * 2009-11-25 2015-11-25 旭硝子株式会社 显示器保护玻璃用玻璃基板及其制造方法
DE102014013528B4 (de) * 2014-09-12 2022-06-23 Schott Ag Beschichtetes Glas-oder Glaskeramiksubstrat mit beständigen multifunktionellen Oberflächeneigenschaften, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung
JP6138380B2 (ja) * 2015-05-15 2017-05-31 三菱電機株式会社 抗菌性被膜、それを備えた物品、抗菌性被膜の形成方法並びに抗菌性被膜形成用の塗布液
JP2018018378A (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 兼松株式会社 タッチパネル用カバーガラス

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