[go: up one dir, main page]

JP2021113683A - 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法 - Google Patents

原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2021113683A
JP2021113683A JP2020005023A JP2020005023A JP2021113683A JP 2021113683 A JP2021113683 A JP 2021113683A JP 2020005023 A JP2020005023 A JP 2020005023A JP 2020005023 A JP2020005023 A JP 2020005023A JP 2021113683 A JP2021113683 A JP 2021113683A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aqueous solution
pipe
film
carbon steel
nickel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020005023A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7344132B2 (ja
Inventor
涼 浜田
Ryo Hamada
涼 浜田
剛 伊藤
Takeshi Ito
剛 伊藤
秀幸 細川
Hideyuki Hosokawa
秀幸 細川
信之 太田
Nobuyuki Ota
信之 太田
麻由 佐々木
Mayu SASAKI
麻由 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi GE Nuclear Energy Ltd
Original Assignee
Hitachi GE Nuclear Energy Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi GE Nuclear Energy Ltd filed Critical Hitachi GE Nuclear Energy Ltd
Priority to JP2020005023A priority Critical patent/JP7344132B2/ja
Priority to US17/143,288 priority patent/US20220213601A1/en
Priority to MX2021000474A priority patent/MX2021000474A/es
Publication of JP2021113683A publication Critical patent/JP2021113683A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7344132B2 publication Critical patent/JP7344132B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21CNUCLEAR REACTORS
    • G21C17/00Monitoring; Testing ; Maintaining
    • G21C17/02Devices or arrangements for monitoring coolant or moderator
    • G21C17/022Devices or arrangements for monitoring coolant or moderator for monitoring liquid coolants or moderators
    • G21C17/0225Chemical surface treatment, e.g. corrosion
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1617Purification and regeneration of coating baths
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1619Apparatus for electroless plating
    • C23C18/1632Features specific for the apparatus, e.g. layout of cells and of its equipment, multiple cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1635Composition of the substrate
    • C23C18/1637Composition of the substrate metallic substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1646Characteristics of the product obtained
    • C23C18/165Multilayered product
    • C23C18/1651Two or more layers only obtained by electroless plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/32Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/42Coating with noble metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/05Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/05Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
    • C23C22/06Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/05Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
    • C23C22/06Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
    • C23C22/48Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 not containing phosphates, hexavalent chromium compounds, fluorides or complex fluorides, molybdates, tungstates, vanadates or oxalates
    • C23C22/50Treatment of iron or alloys based thereon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F15/00Other methods of preventing corrosion or incrustation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/02Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
    • C23G1/08Iron or steel
    • C23G1/088Iron or steel solutions containing organic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G3/00Apparatus for cleaning or pickling metallic material
    • C23G3/04Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning pipes
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21CNUCLEAR REACTORS
    • G21C19/00Arrangements for treating, for handling, or for facilitating the handling of, fuel or other materials which are used within the reactor, e.g. within its pressure vessel
    • G21C19/28Arrangements for introducing fluent material into the reactor core; Arrangements for removing fluent material from the reactor core
    • G21C19/30Arrangements for introducing fluent material into the reactor core; Arrangements for removing fluent material from the reactor core with continuous purification of circulating fluent material, e.g. by extraction of fission products deterioration or corrosion products, impurities, e.g. by cold traps
    • G21C19/307Arrangements for introducing fluent material into the reactor core; Arrangements for removing fluent material from the reactor core with continuous purification of circulating fluent material, e.g. by extraction of fission products deterioration or corrosion products, impurities, e.g. by cold traps specially adapted for liquids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/32Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
    • C23C18/34Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00Energy generation of nuclear origin

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

【課題】炭素鋼部材への貴金属付着作業に要する時間をさらに短縮できる原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法を提供する。【解決手段】BWRプラントの炭素鋼製の浄化系配管に皮膜形成装置を接続する。ギ酸及び過酸化水素を皮膜形成装置の循環配管に注入する。3000ppmのギ酸及び1500ppmの過酸化水素を含む鉄溶出促進剤水溶液を浄化系配管の内面に接触させ、ギ酸、及び過酸化水素から生成されたヒドロキシラジカルにより浄化系配管からFe2+を溶出させる。ギ酸Ni水溶液の注入により鉄溶出促進剤水溶液から生成された皮膜形成水溶液を浄化系配管の内面に接触させ、置換反応によりその内面に取り込まれたNiイオンがFe2+の溶出時に発生した電子によって還元され、その内面にNi金属皮膜が形成される。Ni金属皮膜の形成を終了した後、貴金属イオンを含む水溶液をNi金属皮膜の表面に接触させ、この表面に貴金属を付着させる。【選択図】図1

Description

本発明は、原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法に係り、特に、沸騰水型原子力発電プラントに適用するのに好適な原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法に関する。
例えば、沸騰水型原子力プラント(以下「BWRプラント」という。)は、原子炉圧力容器(以下「RPV」という。)内に炉心を内蔵した原子炉を有する。再循環ポンプ(またはインターナルポンプ)によって炉心に供給された炉水は、炉心内に装荷された燃料集合体内の核燃料物質の核分裂で発生する熱によって加熱され、一部が蒸気になる。この蒸気は、RPVからタービンに導かれ、タービンを回転させる。タービンから排出された蒸気は、復水器で凝縮され、水になる。この水は、給水として原子炉に供給される。給水は、RPV内での放射性腐食生成物の発生を抑制するため、給水配管に設けられたろ過脱塩装置で主として金属不純物が除去される。炉水とは、RPV内に存在する冷却水をいう。
また、放射性腐食生成物の元となる腐食生成物は、RPV及び再循環系配管等のBWRプラントの構成部材の炉水と接する表面で発生するため、主要な一次系の構成部材には腐食の少ないステンレス鋼、ニッケル基合金などが使用される。また、低合金鋼製のRPVは、内面にステンレス鋼の肉盛りが施され、低合金鋼が、直接、炉水と接触することを防いでいる。さらに、原子炉浄化系のろ過脱塩装置は、炉水の一部を浄化し、炉水に僅かに含まれる金属不純物を積極的に除去する。
しかし、上述のような腐食防止対策を講じても、炉水中における極僅かな金属不純物の存在が避けられないため、一部の金属不純物が、金属酸化物として、燃料集合体に含まれる燃料棒の表面に付着する。燃料棒表面に付着した金属不純物に含まれる金属元素は、燃料棒内の核燃料物質から放出される中性子の照射により原子核反応を起こし、コバルト60、コバルト58、クロム51、マンガン54等の放射性核種になる。これらの放射性核種は、大部分が酸化物の形態で燃料棒表面に付着したままであるが、一部の放射性核種は、取り込まれている酸化物の溶解度に応じて炉水中にイオンとして溶出したり、クラッドと呼ばれる不溶性固体として炉水中に再放出されたりする。炉水中の放射性物質は、原子炉浄化系によって取り除かれる。しかしながら、除去されなかった放射性物質は炉水とともに再循環系などを循環している間に、構成部材の炉水と接触する表面に蓄積される。その結果、構成部材表面から放射線が放射され、定検作業時の従事者の放射線被曝の原因となる。その従業者の被曝線量は、各人毎に規定値を超えないように管理されている。近年この規定値が引き下げられ、各人の被曝線量を経済的に可能な限り低くする必要が生じている。
運転を経験した原子力プラントの構造部材、例えば、配管の表面に形成された、コバルト60及びコバルト58等の放射性核種を含む酸化皮膜を、化学薬品を用いた溶解により除去する化学除染法が提案されている(特開2000−105295号公報)。
また、配管への放射性核種の付着を低減する方法が種々検討されている。例えば、化学除染後の原子力プラントの構造部材の、炉水に接触する表面に、フェライト皮膜の一種であるマグネタイト皮膜を形成することによって、原子力プラントの運転後においてその構造部材の表面に放射性核種が付着することを抑制する方法が、特開2006−38483号公報に提案されている。
さらに、炭素鋼部材の表面にニッケル金属皮膜を形成し、ニッケルイオン、鉄(II)イオン、酸化剤及びpH調整剤を含み、pHが5.5ないし9.0の範囲にあり、温度が60℃ないし100℃の範囲にある皮膜形成液を用いて、そのニッケル金属皮膜の表面にニッケルフェライト皮膜を形成し、その後、そのニッケル金属皮膜を高温水によってニッケルフェライト皮膜に転換する方法が提案されている(例えば、特開2011−32551号公報)。
特開2010−127788号公報は、原子力プラントの構成部材の、炉水と接触する表面にフェライト皮膜を形成する際に、このフェライト皮膜の形成量を水晶振動子電極装置によって計測し、計測されたフェライト皮膜の形成量に基づいて、その構成部材の表面へのフェライト皮膜の形成終了を判定することを記載している。
特開2015−158486号公報は、BWRプラントの構成部材である再循環系配管の内面に貴金属を付着させるとき、錯イオン形成剤、貴金属イオン及び還元剤を含む水溶液を、再循環系配管の内面に接触させることを記載している。
特開2018−48831号公報は、炭素鋼部材の、炉水と接触する表面にニッケル金属皮膜を形成し、このニッケル金属皮膜の表面に貴金属を付着し、貴金属が付着されたニッケル金属皮膜の表面に、酸素を含む200℃以上の水を接触させることによって、そのニッケル金属皮膜を、炭素鋼部材の表面を覆う、貴金属の作用によっても溶出しない安定なニッケルフェライト皮膜(Ni1-xFe2+x4においてxが0であるニッケルフェライト皮膜)に変換させることを記載する。
特開2000−105295号公報 特開2006−38483号公報 特開2011−32551号公報 特開2010−127788号公報 特開2015−158486号公報 特開2018−48831号公報
特開2018−48831号公報では、炭素鋼部材の炉水と接触する表面に形成されてその表面を覆い、貴金属が付着されたニッケル金属皮膜を、炭素鋼部材の表面を覆う、貴金属の作用によっても溶出しない安定なニッケルフェライト皮膜(例えば、NiFe24皮膜)に変換させることによって、原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着を長期間に亘って抑制する。
炭素鋼部材表面へのニッケル金属皮膜の形成の準備開始から形成されたニッケル金属皮膜表面への貴金属の付着終了までの貴金属付着作業に要する時間を、特開2018−48831号公報に記載された原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法よりもさらに短縮することが望まれている。
本発明の目的は、炭素鋼部材への貴金属付着作業に要する時間をさらに短縮することができる原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法を提供することにある。
上記した目的を達成する本発明の特徴は、鉄溶出剤及び過酸化水素を含む鉄溶出促進剤、及びニッケルイオンを含む皮膜形成液を原子力プラントの炭素鋼部材の、炉水と接する第1表面に接触させて、この第1表面にニッケル金属皮膜を形成し、形成されたニッケル金属皮膜の第2表面に貴金属を付着させ、ニッケル金属皮膜の形成、及び貴金属の付着は、原子力プラントの運転停止後で原子力プラントの起動前に行われることにある。
本発明によれば、鉄溶出促進剤に含まれる鉄溶出剤の作用により炭素鋼部材から溶出する鉄イオンの触媒作用によって過酸化水素から生成されるヒドロキシラジカルの作用により炭素鋼部材からの鉄イオンの溶出量が増加して、鉄イオンの溶出量の増加に伴って生成される電子の量も増加する。このため、炭素鋼部材の表面に取り込まれたニッケルイオンが上記の電子によってニッケル金属に還元される量も増加する。このため、炭素鋼部材表面へのニッケル金属皮膜の形成が促進され、そのニッケル金属皮膜の形成に要する時間が著しく短縮される。また、生成されるヒドロキシラジカルによっても炭素鋼部材から鉄イオンを溶出させることができるため、皮膜形成液における鉄溶出剤の濃度を低減できる。これにより、鉄溶出剤の分解に要する時間も短縮できる。したがって、原子力プラントにおける炭素鋼部材への貴金属付着作業に要する時間をさらに短縮することができる。
本発明によれば、原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着作業に要する時間をさらに短縮することができる。
本発明の好適な一実施例である、沸騰水型原子力プラントの浄化系配管に適用される実施例1の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法の手順を示すフローチャートである。 実施例1の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法を実施する際に用いられる皮膜形成装置を沸騰水型原子力発電プラントの浄化系配管に接続した状態を示す説明図である。 図2に示す皮膜形成装置の詳細構成図である。 図1に示される原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法が開始される前における、沸騰水型原子力プラントの浄化系配管の断面図である。 図1に示される原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法により、ニッケル金属皮膜が浄化系配管の内面に形成された状態を示す説明図である。 図1に示される原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法により浄化系配管の内面に形成されたニッケル金属皮膜の表面に貴金属を付着させた状態を示す説明図である。 表面が鉄溶出促進剤で処理されていない炭素鋼試験片、表面が鉄溶出促進剤ではなく表面浄化剤で処理された炭素鋼試験片及び表面が鉄溶出促進剤で処理された炭素鋼試験片のそれぞれに形成されたニッケル金属皮膜の形成量を示す説明図である。 本発明の好適な他の実施例である、沸騰水型原子力プラントの浄化系配管に適用される実施例2の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法の手順を示すフローチャートである。 図8に示された貴金属付着方法を実施するために原子力プラントの浄化系配管(炭素鋼部材)に接続される皮膜形成装置の詳細構成図である。 図9に示された皮膜形成装置の他の例である皮膜形成装置の詳細構成図である。 本発明の好適な他の実施例である、沸騰水型原子力プラントの浄化系配管に適用される実施例3の原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法の手順を示すフローチャートである。 図11に示される原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法において、浄化系配管の内面に形成されて白金が付着した、ニッケル金属皮膜に酸素を含む130℃以上280℃以下の温度範囲内の温度の炉水を接触させる状態を示す説明図である。 図11に示される原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法において、130℃以上280℃以下の温度範囲内の温度の炉水に含まれる酸素、及び浄化系配管内のFe2+が、浄化系配管の内面に形成されて白金が付着したニッケル金属皮膜に移行する状態を示す説明図である。 図11に示される原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法において、浄化系配管の内面に形成されて白金が付着したニッケル金属皮膜が、安定なニッケルフェライト皮膜に変換された状態を示す説明図である。 本発明の好適な他の実施例である、沸騰水型原子力プラントの浄化系配管に適用される実施例4の原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法の手順を示すフローチャートである。
沸騰水型原子力プラントの炭素鋼部材に含まれる鉄と炭素鋼部材の表面に接触される皮膜形成液に含まれるニッケルとの置換反応の促進によって、その炭素鋼部材表面へのニッケル金属皮膜の形成に要する時間を短縮させる一つの方法が、特願2019−19704号(出願日:2019年2月6日)で提案されている。特願2019−19704号に記載された原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法では、沸騰水型原子力プラントの運転停止後で沸騰水型原子力プラントの起動前において、ニッケルイオン及び表面浄化剤(例えば、ギ酸)を含みpHが1.8以上2.5以下の範囲内のpHである皮膜形成水溶液を沸騰水型原子力プラントの炭素鋼部材(例えば、浄化系配管)の、炉水と接する内面に接触させて、この内面にニッケル金属皮膜を形成し、形成されたニッケル金属皮膜の表面に貴金属(例えば、白金)を付着させる。
特願2019−19704号に記載された貴金属付着方法によれば、表面浄化剤の作用により炭素鋼部材から皮膜形成水溶液への鉄(II)イオンの溶出が増加して、鉄(II)イオンの溶出の増加に伴って生成される電子の量も増加するため、この鉄(II)イオンと皮膜形成水溶液に含まれるニッケルイオンとの置換反応が促進され、炭素鋼部材の表面に取り込まれるニッケルイオンの量が多くなる。炭素鋼部材の表面に取り込まれたニッケルイオンが前述の電子によって還元されてニッケル金属になるため、炭素鋼部材の表面へのニッケル金属皮膜の形成が促進され、そのニッケル金属皮膜の形成に要する時間が著しく短縮される。なお、特願2019−19704号では、ニッケルイオンをニッケル金属に変換する還元剤は使用されていない。
発明者らは、特願2019−19704号に記載された貴金属付着方法における、ニッケル金属皮膜の形成に要する時間をさらに短縮することができないかについて、種々の検討を行った。その結果、発明者らは、ニッケル金属皮膜の形成に要する時間をさらに短縮するための一つの手掛かりを見つけた。特願2019−19704号の貴金属付着方法では、炭素鋼部材から皮膜形成水溶液への鉄(II)イオンの溶出、及び電子の生成を増加させるために、皮膜形成水溶液に表面浄化剤、例えば、ギ酸を注入している。このギ酸の注入により、皮膜形成水溶液のギ酸濃度は、例えば、30000ppmになる。このように、特願2019−19704号に記載された貴金属付着方法では、皮膜形成水溶液に注入されるギ酸が高濃度であるため、炭素鋼部材の表面へのニッケル金属皮膜の形成終了後に実施される、皮膜形成水溶液に含まれるギ酸の分解に、より長い時間を必要とする。
そこで、発明者らは、皮膜形成水溶液へのギ酸の注入量を低減し、皮膜形成水溶液のギ酸濃度を低下させることによって、ニッケル金属皮膜の形成終了後に実施されるギ酸の分解に要する時間を短縮できると考えた。しかしながら、皮膜形成水溶液へのギ酸の注入量が少なく皮膜形成水溶液のギ酸濃度が低い場合には、炭素鋼部材から皮膜形成水溶液への鉄(II)イオンの溶出量が少なくなり、電子の生成量も減少する。このため、発明者らは、皮膜形成水溶液におけるギ酸濃度の低下に伴う炭素鋼部材からの鉄(II)イオンの溶出量の減少を改善し、鉄(II)イオン溶出量の増加をもたらすことができる対策について種々の検討を行った。この検討の結果、得られた対策はフェントン反応の利用であった。
フェントン反応とは、鉄を触媒として過酸化水素から酸化力の強いヒドロキシラジカルを生成する反応である。フェントン反応によって生成された、皮膜形成水溶液に含まれるヒドロキシラジカルは、炭素鋼部材からの鉄(II)イオンの溶出量を高めることができ、皮膜形成水溶液に含まれる低濃度のギ酸(例えば、特願2019−19704号の貴金属付着方法におけるギ酸濃度30000ppmの1/10のギ酸濃度)に起因して低下する、炭素鋼部材からの鉄(II)イオンの溶出量を増加させることができる。なお、過酸化水素からのヒドロキシラジカルの生成は、ギ酸の作用により炭素鋼部材から皮膜形成水溶液に溶出した鉄(II)イオンの触媒作用によってもたらされる。ヒドロキシラジカルが生成された後では、ヒドロキシラジカルにより炭素鋼部材から皮膜形成水溶液に溶出した鉄(II)イオンも、過酸化水素からヒドロキシラジカルを生成する前述の触媒作用を有する。特に、皮膜形成水溶液内でのフェントン反応により過酸化水素からヒドロキシラジカルを最初に生成させるために、皮膜形成水溶液は、炭素鋼部材から鉄(II)イオンを溶出させる物質、例えば、ギ酸を含んでいる必要がある。
種々の検討を行うことにより、発明者らは、フェントン反応によって生成されるヒドロキシラジカルを利用して炭素鋼部材からの鉄(II)イオンの溶出量を増加させるために、過酸化水素及び少量のギ酸を含む鉄溶出促進剤の、ニッケルイオンを含む皮膜形成水溶液への注入が必要であるという思いに至った。ニッケルイオン及び鉄溶出促進剤を含む皮膜形成水溶液を炭素鋼部材の表面に接触させることにより、ニッケル金属皮膜が、炭素鋼部材の、皮膜形成水溶液と接触する表面に形成される。
そこで、発明者らは、過酸化水素及びギ酸を含む鉄溶出促進剤を注入した皮膜形成水溶液の炭素鋼部材の表面への接触による、炭素鋼部材の表面へのニッケル金属皮膜の形成を確認するために、以下の実験を行った。炭素鋼部材の表面にニッケル金属皮膜を形成させる実験は三通りの異なる実験条件で行われ、それぞれの実験において、炭素鋼部材の表面へのニッケル金属皮膜の形成時間を確認した。各実験では炭素鋼製の試験片(炭素鋼試験片)が用いられた。
第1の実験では、特開2018−48831号公報に記載されたように、ニッケルイオン及び還元剤(例えば、ヒドラジン)を含む皮膜形成水溶液を炭素鋼試験片(以下、試験片Aという)の表面に接触させ、試験片Aの表面にニッケル金属皮膜を形成した。この実験では、ニッケルイオン及び還元剤(例えば、ヒドラジン)を含む皮膜形成水溶液を容器内に充填し、試験片Aを容器内で皮膜形成水溶液に浸漬させた。ニッケルイオンは、ギ酸ニッケル水溶液として容器内に供給された。具体的には、試験片Aを、ニッケル濃度400ppm、ギ酸濃度800ppmの90℃の皮膜形成水溶液1L(リットル)に4時間浸漬させた。4時間が経過したとき、表面にニッケル金属皮膜が形成された試験片Aが皮膜形成水溶液から取り出された。
第2の実験では、前述の特願2019−19704号の明細書に記載されたように、表面浄化剤(例えば、ギ酸)を含む表面浄化剤水溶液を炭素鋼試験片(以下、試験片Bという)の表面に接触させ、その後、ギ酸ニッケル水溶液を表面浄化剤水溶液に注入して生成された皮膜形成水溶液を、表面浄化剤水溶液に接触された試験片Bの表面に接触させ、試験片Bの表面にニッケル金属皮膜を形成した。この実験では、表面浄化剤水溶液を容器内に充填して試験片Bを容器内でその表面浄化剤水溶液に浸漬させ、所定時間経過後に容器内の表面浄化剤水溶液にギ酸ニッケル水溶液を注入することにより皮膜形成水溶液を生成し、その試験片Bを生成された容器内の皮膜形成水溶液にさらに所定時間浸漬させた。具体的には、試験片Bを、ギ酸濃度30000ppmの90℃の表面浄化剤水溶液1L(リットル)に1時間浸漬させ、その1時間が経過したとき、ギ酸ニッケル水溶液を容器内の表面浄化剤水溶液に注入して皮膜形成水溶液を生成した。表面浄化剤水溶液へのギ酸ニッケル水溶液の注入は、生成された皮膜形成水溶液におけるニッケル濃度が400ppm及びギ酸濃度が30800ppmになるまで行われた。試験片Bは、生成された、容器内の皮膜形成水溶液に1時間浸漬された。この1時間が経過したとき、表面にニッケル金属皮膜が形成された試験片Bが皮膜形成水溶液から取り出された。
第3の実験では、鉄溶出促進剤(例えば、ギ酸及び過酸化水素を含有)を含む鉄溶出促進剤水溶液を炭素鋼試験片(以下、試験片Cという)の表面に接触させ、その後、ギ酸ニッケル水溶液を鉄溶出促進剤水溶液に注入して生成された皮膜形成水溶液を、鉄溶出促進剤水溶液に接触された試験片Cの表面に接触させ、試験片Cの表面にニッケル金属皮膜を形成した。その皮膜形成水溶液は、鉄溶出促進剤、すなわち、鉄溶出剤であるギ酸、及び過酸化水素を含んでいる。この実験では、鉄溶出促進剤水溶液を容器内に充填して試験片Cを容器内でその鉄溶出促進剤水溶液に浸漬させ、所定時間経過後に容器内の鉄溶出促進剤水溶液にギ酸ニッケル水溶液を注入することにより皮膜形成水溶液を生成し、その試験片Cを生成された容器内の皮膜形成水溶液にさらに所定時間浸漬させた。具体的には、試験片Cを、ギ酸濃度3000ppm及び過酸化水素濃度1500ppmの90℃の鉄溶出促進剤水溶液1L(リットル)に1時間浸漬させ、その1時間が経過したとき、ギ酸ニッケル水溶液を容器内の鉄溶出促進剤水溶液に注入して皮膜形成水溶液を生成した。鉄溶出促進剤水溶液へのギ酸ニッケル水溶液の注入は、生成された皮膜形成水溶液におけるニッケル濃度が400ppm及びギ酸濃度が3800ppmになるまで行われた。試験片Cは、生成された、容器内の皮膜形成水溶液に1時間浸漬された。この1時間が経過したとき、表面にニッケル金属皮膜が形成された試験片Cが皮膜形成水溶液から取り出された。
上記の鉄溶出促進剤は、化学除染、具体的には、還元除染の終了後において、原子力プラントの炭素鋼部材からの鉄(II)イオンの溶出を促進させるために用いられる。鉄溶出促進剤は鉄溶出剤及び過酸化水素を含み、鉄溶出剤としては有機酸であるギ酸、マロン酸及びアスコルビン酸のいずれかを用いる。
試験片Cの表面に3000ppmのギ酸及び1500ppmの過酸化水素を含む90℃の鉄溶出促進剤水溶液を接触させることにより、3000ppmのギ酸の作用により試験片Cから鉄溶出促進剤水溶液に溶出する鉄(II)イオンの量が増加する。さらに、1500ppmの過酸化水素は、試験片Cから溶出された鉄(II)イオンを触媒とするフェントン反応により、酸化力の強いヒドロキシラジカルを生成する。このヒドロキシラジカルの作用により、試験片Cからの鉄(II)イオンの溶出が促進され、鉄溶出促進剤水溶液に溶出する鉄(II)イオンの量がさらに増加する。具体的には、ヒドロキシラジカルは、炭素鋼製の試験片Cからで鉄(II)イオン及び電子(e)を鉄溶出促進剤水溶液に溶出させる。さらに、ヒドロキシラジカルは、炭素鋼から鉄溶出促進剤水溶液内に鉄(II)イオン及び電子(e)を溶出させた際に消滅する。このため、試験片Cからの鉄(II)イオンの溶出量が著しく増加し、鉄(II)イオンの溶出量の増加に伴って生成される電子の量も増加する。
ニッケルイオン及びギ酸を含むギ酸ニッケル水溶液を鉄溶出促進剤水溶液に注入することによって生成された皮膜形成水溶液に含まれる3800ppmのギ酸及び1500ppmの過酸化水素の作用により、試験片Cから溶出される鉄(II)イオンの量が増加するため、試験片C内の鉄(II)イオンと皮膜形成液に含まれるニッケルイオンの置換反応が促進され、試験片Cの表面に取り込まれるニッケルイオンの量が増加する。試験片Cに取り込まれたニッケルイオンは、鉄(II)イオンの溶出に伴って生成された電子によって還元されてニッケル金属になる。このため、試験片Cの表面にニッケル金属皮膜が形成され、やがて、試験片Cの表面全体がニッケル金属皮膜で覆われる。3000ppmのギ酸と1500ppmの過酸化水素に作用により、試験片Cからの鉄(II)イオンの溶出量は増加し、鉄(II)イオンとニッケルの置換反応が促進されるため、試験片Cの表面全体がニッケル金属皮膜で覆われるまでに要する時間が試験片Aに比べて著しく短縮される。試験片Cの表面全体がニッケル金属皮膜で覆われるまでに要する時間は、試験片Bの表面全体がニッケル金属皮膜で覆われるまでに要する時間と同じである。
しかしながら、試験片Cの表面に接触する皮膜形成水溶液のギ酸濃度(3800ppm)が試験片Bの表面に接触する皮膜形成水溶液のギ酸濃度(30800ppm)よりも低いため、試験片Cの表面に接触する皮膜形成水溶液に含まれるギ酸の分解に要する時間が、試験片Bの表面に接触する皮膜形成水溶液に含まれるギ酸の分解に要する時間よりも短縮される。このため、試験片C表面へのニッケル金属皮膜の形成の準備開始(鉄溶出促進剤水溶液の試験片C表面への接触開始)から形成されたニッケル金属皮膜表面への貴金属の付着終了までの貴金属付着作業に要する時間を、試験片B表面へのニッケル金属皮膜の形成の準備開始(表面浄化剤水溶液の試験片B表面への接触開始)から形成されたニッケル金属皮膜表面への貴金属の付着終了までの貴金属付着作業に要する時間よりも短縮することができる。なお、貴金属、例えば、白金は、形成されたニッケル金属皮膜の表面に付着されている。
試験片Cの表面に接触する皮膜形成水溶液に含まれるギ酸の分解に要する時間が、特願2019−19704号の明細書に記載された、試験片Bの表面に接触された皮膜形成水溶液に含まれるギ酸の分解に要する時間よりも短縮されるのは、試験片Cに接触する皮膜形成水溶液に含まれるギ酸の濃度が試験片Bに接触する皮膜形成水溶液に含まれるギ酸の濃度よりも低いからである。ここで、試験片Cに接触する皮膜形成水溶液に含まれるギ酸の濃度を試験片Bに接触する皮膜形成水溶液に含まれるギ酸の濃度よりも低くできる理由を以下に説明する。試験片Cに接触する皮膜形成水溶液は、前述したように、鉄溶出促進剤、すなわち、ギ酸(鉄溶出剤)及び過酸化水素を含んでいる。ギ酸が試験片Cに接触することにより鉄(II)イオンが試験片Cから皮膜形成水溶液に溶出し、鉄(II)イオンの触媒作用により過酸化水素からヒドロキシラジカルが生成される。このヒドロキシラジカルが、試験片Cからの鉄(II)イオンの溶出を促進させる。ギ酸及びヒドロキシラジカルの作用により、試験片Cから溶出する鉄(II)イオンの量が、試験片Bから溶出するその量よりも著しく増加し、鉄(II)イオンの溶出に伴って生成される電子の量も著しく増加する。試験片Cの場合には、ギ酸だけでなくヒドロキシラジカルによっても試験片Cから鉄(II)イオンが溶出されるため、試験片Cと接触する皮膜形成水溶液のギ酸濃度を試験片Cと接触する皮膜形成水溶液のギ酸濃度よりも低減することができる。試験片Cと接触する鉄溶出促進剤水溶液に対しても、同様なことが言える。
発明者らは、試験片A、試験片B及び試験片Cのそれぞれの表面に形成されたニッケル金属皮膜の形成量を測定した。この測定結果を図7に示す。試験片B及びCのそれぞれの表面に形成されたニッケル金属皮膜の形成量は、試験片Aの表面に形成されたニッケル金属皮膜の形成量の約12倍になる。試験片Cの表面に形成されたニッケル金属皮膜の形成量は、試験片Bの表面に形成されたニッケル金属皮膜の形成量と同じであった。
なお、鉄溶出促進剤水溶液の鉄溶出剤の濃度、例えば、ギ酸濃度は250ppm〜12000ppmの範囲内の濃度に、過酸化水素の濃度は150ppm〜6000ppmの範囲内の濃度にするとよい。ギ酸濃度が3000ppm及び過酸化水素濃度が1500ppmであるとき、炭素鋼部材の表面に形成されるニッケル金属皮膜の形成量が最も大きくなる。
次に、炭素鋼部材の表面への放射性核種の付着抑制のための作業、すなわち、酸素を含む130℃以上330℃以下の温度範囲内の温度の水の、貴金属が付着されたニッケル金属皮膜の表面への接触について、説明する。
特開2011−32551号公報に記載されているように、BWRプラントの炭素鋼部材の表面に形成されたニッケル金属皮膜を覆う、鉄含有率の高いニッケルフェライトを含むニッケルフェライト皮膜に、酸素を含む150℃以上の水を接触させて、そのニッケル金属皮膜をニッケルフェライト皮膜に変換させた場合には、ニッケル金属皮膜から変換されたニッケルフェライト皮膜は、不安定なニッケルフェライト皮膜(例えば、Ni0.7Fe2.34皮膜)になる。ニッケル金属皮膜の不安定なニッケルフェライト皮膜への変換は、ニッケル金属皮膜をニッケルフェライト皮膜に変換する際にニッケル金属皮膜への鉄供給量が多くなってニッケルの量が不足するためである。
なお、ニッケル金属皮膜を元々覆っていたニッケルフェライト皮膜は、高温水接触後にニッケル金属皮膜から移行されたニッケル金属と反応してNi0.7Fe2.34の皮膜になる。元々のニッケルフェライト皮膜のNi含有率はNi0.7Fe2.34のそれよりも低く、その元々のニッケルフェライト皮膜は、還元環境では不安定なニッケルフェライト皮膜である。不安定なニッケルフェライトは、Ni1-xFe2+x4において0.3≦x<1.0を満足するニッケルフェライト、例えば、Ni0.7Fe2.34である。
このため、特開2011−32551号公報でも、特開2006−38483号公報と同様に、不安定なニッケル皮膜の表面へのBWRプラントの運転中に注入された貴金属の付着により、このニッケルフェライト皮膜が炉水に溶出する。やがて、運転サイクルの末期において、不安定なニッケルフェライト皮膜が消失し、炭素鋼部材が露出して炉水と接触する可能性がある。
ところで、貴金属を炭素鋼部材の表面に付着させる際に、炭素鋼部材からFe2+が溶出していると、貴金属を炭素鋼部材の表面に付着させることができなくなる。炭素鋼部材からのFe2+の溶出を防ぎ、炭素鋼部材への貴金属の付着を短時間で行い、その付着量を増大させるためには、特開2018−48831号公報に記載されているように、炭素鋼部材の表面をニッケル金属の皮膜で覆うと良い。
なお、還元除染剤分解工程の期間中における炭素鋼部材の表面へのニッケル金属皮膜の形成では、ニッケルイオン及びシュウ酸を含み、pHが3.5〜6.0の範囲にあって60℃以上100℃以下の温度範囲内の温度の水溶液(皮膜形成水溶液)が用いられる。還元除染剤分解工程が終了した以降、例えば、化学除染の浄化工程以降における、炭素鋼部材の表面へのニッケル金属皮膜の形成では、ニッケルイオンを含みシュウ酸を含んでいない、pHが3.5〜6.0の範囲にあって60℃以上100℃以下の温度範囲内の温度の水溶液(皮膜形成水溶液)が用いられる。
60℃〜100℃の低い温度範囲で不安定なNi0.7Fe2.34の皮膜を炭素鋼部材の表面に形成するのではなく、付着した貴金属によっても溶出しない安定なニッケルフェライト皮膜の、炭素鋼部材の表面への形成により、原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着のより長期に亘る抑制が図れる。安定なニッケルフェライト皮膜の、炭素鋼部材の表面への形成は、以下のようにして実現できる。酸素を含む130℃以上330℃以下の温度範囲内の温度の水(例えば、炉水)の、炭素鋼部材の表面に形成されたニッケル金属皮膜への接触による、炭素鋼部材及びニッケル金属皮膜での130℃以上330℃以下の温度範囲内の高温環境の形成、及びニッケル金属皮膜の表面に付着した貴金属の作用により、炭素鋼部材の表面に形成されたニッケル金属皮膜に含まれるニッケル金属が、安定なニッケルフェライトに変換される。この安定なニッケルフェライトは、Ni1-xFe2+x4において0≦x<0.3を満足するニッケルフェライトであり、例えば、Ni1-xFe2+x4においてxが0であるニッケルフェライト(NiFe24)である。本条件の適用により、炭素鋼部材の表面に形成されたニッケル金属皮膜は、炭素鋼部材の表面を覆う、付着した貴金属の作用によっても溶出しない安定なニッケルフェライト皮膜(例えば、Ni1-xFe2+x4においてxが0であるニッケルフェライト皮膜(NiFe24皮膜))になる。
炭素鋼部材の表面に形成されたニッケル金属皮膜の表面に付着させる、貴金属としては、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、オスミウム及びイリジウムのいずれかを用いてもよい。貴金属を炭素鋼部材の表面に付着させるときに使用する還元剤としては、ヒドラジン、ホルムヒドラジン、ヒドラジンカルボアミド及びカルボヒドラジド等のヒドラジン誘導体及びヒドロキシルアミンのいずれかを用いてもよい。
炭素鋼部材の表面に形成されて貴金属(例えば、白金)を付着したニッケル金属皮膜が、酸素を含む130℃以上(好ましくは、130℃以上330℃以下)の範囲内の温度の水と接触することにより、炭素鋼部材の表面を覆う安定なニッケルフェライト皮膜(NiFe24皮膜)に変換される理由を説明する。130℃以上の水が炭素鋼部材上のニッケル金属皮膜に接触すると、ニッケル金属皮膜及び炭素鋼部材が130℃以上に加熱される。その水に含まれる酸素がニッケル金属皮膜内に移行し、炭素鋼部材に含まれるFeがFe2+となってニッケル金属皮膜内に移行する。130℃以上の高温環境で、且つニッケル金属皮膜に付着した、例えば、白金の作用により、ニッケル金属皮膜内のニッケルが、ニッケル金属皮膜内に移行した酸素及びFe2+と反応し、例えば、Ni1-xFe2+x4においてxが0であるニッケルフェライトが生成される。この際、フェライト構造の中へのニッケル及び鉄のそれぞれの取り込まれ易さは貴金属の影響を受け、貴金属が存在する場合は鉄よりもニッケルが取り込まれ易くなるため、Ni1-xFe2+x4においてxが0である安定なニッケルフェライト(NiFe24)が生成される。この安定なニッケルフェライトの皮膜が、炭素鋼部材の表面を覆う。
上記のように生成された、Ni1-xFe2+x4においてxが0であるニッケルフェライトは、結晶が大きく成長しており、貴金属が付着してもNi0.7Fe2.34皮膜のように水中に溶出しなく安定であり、母材の炭素鋼への放射性核種の付着抑制に作用する。このように、130℃以上の高温の環境、及び白金の作用により生成されたその安定なニッケルフェライト皮膜は、60℃〜100℃の低い温度範囲で生成されたNi0.7Fe2.34皮膜よりも長期に亘って炭素鋼部材への放射性核種の付着を抑制することができる。
ニッケル金属皮膜に接触させる酸素を含む水の温度が130℃未満である場合には、ニッケル金属皮膜は、安定なニッケルフェライト皮膜(NiFe24皮膜)に変換されない。ニッケル金属皮膜を貴金属の作用により溶出しない安定なニッケルフェライト皮膜に変換させるためには、ニッケル金属皮膜に接触させる酸素を含む水の温度を130℃以上(130℃以上330℃以下)の温度範囲内の温度にする必要がある。
炭素鋼部材の表面へのニッケル金属皮膜の形成が終了した後、鉄(II)イオン及びニッケルイオン、ギ酸を含むその水溶液(ヒドラジンが注入された場合にはヒドラジンを含む)が、後述のカチオン交換樹脂塔で除去され、ギ酸(またはギ酸及びヒドラジン)が後述の分解装置で分解される。ギ酸及びヒドラジンの分解後、その水溶液が後述の混床樹脂塔に導かれ、水溶液に含まれる不純物が混床樹脂塔内のイオン交換樹脂で除去されてその水溶液が浄化される。
水溶液の浄化後においても、カチオン交換樹脂塔及び混床樹脂塔で除去しきれなかったFe2+がその水溶液中に存在する可能性がある。水溶液の浄化後において水溶液中に存在するFe2+は、ギ酸等を分解するためにその水溶液に供給される過酸化水素により酸化されてFe3+となり、水酸化鉄及びマグネタイトとして析出する。その後、貴金属をニッケル金属皮膜上に付着させるために、貴金属イオン及び還元剤をその水溶液に注入した場合には、注入された貴金属イオンの一部が還元剤の作用によって析出している水酸化鉄及びマグネタイトに貴金属として付着してしまい、炭素鋼部材の表面に形成されたニッケル金属皮膜上に付着する貴金属の量が低減し、所定量の貴金属をニッケル金属皮膜の表面に付着させるために要する時間が、長くなってしまう。
水溶液に残留する鉄イオン(Fe3+)が水酸化鉄及びマグネタイトとして析出し、貴金属が水酸化鉄及びマグネタイトに付着することを避けるために、水溶液に錯イオン形成剤(例えば、アンモニア)、貴金属イオン(例えば、白金イオン)及び還元剤(例えば、ヒドラジン)のそれぞれを注入し、水溶液に残留する鉄イオンと注入された錯イオン形成剤、例えば、アンモニアが鉄−アンモニア錯イオンを形成し、その鉄イオンの析出を抑えることが知られている(特開2015−158486号公報参照)。その鉄イオンとアンモニアは、特開2015−158486号公報に記載された式(4)から式(6)に示された各反応によって、鉄−アンモニア錯イオンを生成する。
このように、鉄−アンモニア錯イオンがその水溶液中に生成されると、ヒドラジンが注入されてその水溶液のpHが8程度以上のアルカリ性になったとしても、その水溶液内で鉄イオンの析出が抑制される。錯イオン形成剤を水溶液に注入することにより、水溶液に含まれる貴金属イオンを、ヒドラジンの還元作用により、プラントの炭素鋼部材の表面に形成されたニッケル金属皮膜の表面に効率良く付着させることができる。このため、炭素鋼部材の表面への貴金属の付着に要する時間をさらに短縮できる。
錯イオン形成剤としては、還元剤(例えば、ヒドラジン)の注入により水溶液のpHが増加した場合においても、錯イオンの形成によってFe3+の溶解度を上昇させ、水酸化鉄及びマグネタイトの析出を抑制できる物質であれば良く、アンモニア、ヒドロキシルアミン等のモノアミン類、シアン化合物、尿素及びチオシアン化合物のうち少なくとも1つを用いる。
以上の炭素鋼部材への貴金属付着作業に要する時間短縮に関する検討結果を反映した、原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法の好ましい実施例を以下に説明する。
本発明の好適な一実施例である実施例1の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法を、図1、図2及び図3を用いて説明する。本実施例の原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法は、沸騰水型原子力発電プラント(BWRプラント)の、炭素鋼製の浄化系配管(炭素鋼部材)に適用される。
このBWRプラントの概略構成を、図2を用いて説明する。BWRプラント1は、原子炉2、タービン9、復水器10、再循環系、原子炉浄化系及び給水系等を備えている。原子炉2は、蒸気発生装置であり、炉心4を内蔵する原子炉圧力容器(以下、RPVという)3を有し、RPV3内で炉心4を取り囲む炉心シュラウド(図示せず)の外面とRPV3の内面との間に形成される環状のダウンカマ内に複数のジェットポンプ5を設置している。炉心4には多数の燃料集合体(図示せず)が装荷されている。燃料集合体は、核燃料物質で製造された複数の燃料ペレットが充填された複数の燃料棒を含んでいる。
再循環系は、ステンレス鋼製の再循環系配管6、及び再循環系配管6に設置された再循環ポンプ7を有する。給水系は、復水器10とRPV3を連絡する給水配管11に、復水ポンプ12、復水浄化装置(例えば、復水脱塩器)13、低圧給水加熱器14、給水ポンプ15及び高圧給水加熱器16を、復水器10からRPV3に向って、この順に設置して構成されている。原子炉浄化系は、再循環系配管6と給水配管11を連絡する浄化系配管18に、浄化系ポンプ19、再生熱交換器20、非再生熱交換器21及び炉水浄化装置22をこの順に設置している。弁29を有して炉水浄化装置22をバイパスするバイパス配管28が、炉水浄化装置22の上流側と下流側で浄化系配管18に接続される。弁27が、バイパス配管28と浄化系配管18の接続点よりも炉水浄化装置22側で浄化系配管18に設けられる。浄化系配管18は、再循環ポンプ7の上流で再循環系配管6に接続される。原子炉2は、原子炉建屋(図示せず)内に配置された原子炉格納容器24内に設置される。
RPV3内の冷却水(以下、炉水という)は、再循環ポンプ7で昇圧され、再循環系配管6を通ってジェットポンプ5内に噴射される。ダウンカマ内でジェットポンプ5のノズルの周囲に存在する炉水も、ジェットポンプ5内に吸引され、ジェットポンプ5内に噴射された前述の炉水と共に炉心4に供給される。炉心4に供給された炉水は、燃料集合体内の燃料棒内の核燃料物質の核分裂で発生する熱によって加熱され、その一部が蒸気になる。この蒸気は、RPV3から主蒸気配管8を通ってタービン9に導かれ、タービン9を回転させる。タービン9に連結された発電機(図示せず)が回転し、電力が発生する。タービン9から排出された蒸気は、復水器10で凝縮されて水になる。この水は、給水として、給水配管11を通りRPV3内に供給される。給水配管11を流れる給水は、復水ポンプ12で昇圧され、復水浄化装置13で不純物が除去され、給水ポンプ15でさらに昇圧される。この給水は、低圧給水加熱器14及び高圧給水加熱器16で抽気配管17によりタービン9から抽気された抽気蒸気によって加熱されてRPV3内に導かれる。高圧給水加熱器16及び低圧給水加熱器14に接続されドレン水回収配管26が、復水器10に接続される。
再循環系配管6内を流れる炉水の一部は、浄化系ポンプ19の駆動によって浄化系配管18内に流入し、再生熱交換器20及び非再生熱交換器21で冷却された後、炉水浄化装置22で浄化される。浄化された炉水は、再生熱交換器20で加熱されて浄化系配管18及び給水配管11を経てRPV3内に戻される。
本実施例の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法では、皮膜形成装置30が用いられ、これらの皮膜形成装置30が、図2に示すように、浄化系配管18に接続される。
皮膜形成装置30の詳細な構成を、図3を用いて説明する。
皮膜形成装置30は、循環配管31、サージタンク32、加熱器33、循環ポンプ34,35、ニッケルイオン注入装置36、還元剤注入装置41、白金イオン注入装置46、冷却器52、カチオン交換樹脂塔53、混床樹脂塔54、分解装置55、酸化剤供給装置56、エゼクタ61及びギ酸注入装置82を備える。
開閉弁62、循環ポンプ35、弁63,66,69及び74、サージタンク32、循環ポンプ34、弁77及び開閉弁78が、上流よりこの順に循環配管31に設けられている。弁63をバイパスする配管65が循環配管31に接続され、弁64及びフィルタ51が配管65に設置される。弁66をバイパスして両端が循環配管31に接続される配管68には、冷却器52及び弁67が設置される。両端が循環配管31に接続されて弁69をバイパスする配管71に、カチオン交換樹脂塔53及び弁70が設置される。両端が配管71に接続されてカチオン交換樹脂塔53及び弁70をバイパスする配管73に、混床樹脂塔54及び弁72が設置される。カチオン交換樹脂塔53は陽イオン交換樹脂を充填しており、混床樹脂塔54は陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を充填している。
弁75及び弁75よりも下流に位置する分解装置55が設置される配管76が、弁74をバイパスして循環配管31に接続される。分解装置55は、内部に、例えば、ルテニウムを活性炭の表面に添着した活性炭触媒を充填している。サージタンク32が弁74と循環ポンプ34の間で循環配管31に設置される。加熱器33がサージタンク32内に配置される。空間90が、サージタンク32内における皮膜形成水溶液93の液面よりも上方でサージタンク32内に形成される。流量調節弁88が設けられてサージタンク32の側壁を貫通するガス供給管89の一端部が、サージタンク32内に配置された散気管87に接続される。ガス供給管89の他端部は、不活性ガス、例えば、窒素ガスが充填された不活性ガスボンベ(図示せず)に接続される。ガス供給管89及び不活性ガスボンベは、不活性ガス供給装置を構成する。
弁79及びエゼクタ61が設けられる配管80が、弁77と循環ポンプ34の間で循環配管31に接続され、さらに、サージタンク32に接続される。浄化系配管18の内面の汚染物を還元溶解するために用いるシュウ酸(還元除染剤)をサージタンク32内に供給するためのホッパ(図示せず)がエゼクタ61に設けられる。
ニッケルイオン注入装置36が、薬液タンク37、注入ポンプ38及び注入配管39を有する。薬液タンク37は、注入ポンプ38及び弁40が設けられた注入配管39によって循環配管31に接続される。例えば、ギ酸ニッケル(Ni(HCOO)2・2H2O)を希薄なギ酸水溶液に溶解して調製したギ酸ニッケル水溶液(ニッケルイオンを含む水溶液)が、薬液タンク37内に充填される。
白金イオン注入装置(貴金属イオン注入装置)46が、薬液タンク47、注入ポンプ48及び注入配管49を有する。薬液タンク47は、注入ポンプ48及び弁50が設けられた注入配管49によって循環配管31に接続される。白金錯体(例えば、ヘキサヒドロキソ白金酸ナトリウム水和物(Na2[Pt(OH)6]・nH2O))を水に溶解して調整した白金イオンを含む水溶液(例えば、ヘキサヒドロキソ白金酸ナトリウム水和物水溶液)が、薬液タンク47内に充填されている。白金イオンを含む水溶液は貴金属イオンを含む水溶液の一種である。
還元剤注入装置41が、薬液タンク42、注入ポンプ43及び注入配管44を有する。薬液タンク42は、注入ポンプ43及び弁45が設けられた注入配管44によって循環配管31に接続される。還元剤であるヒドラジンの水溶液が、薬液タンク42内に充填される。
ギ酸注入装置82が、薬液タンク83、注入ポンプ84及び注入配管85を有する。薬液タンク83は、注入ポンプ84及び弁86を有する注入配管85によって循環配管31に接続される。鉄溶出促進剤に含まれる一つの化学物質であるギ酸の水溶液が薬液タンク83内に充填される。後述するように、浄化系配管18内を流れる鉄溶出促進剤水溶液のギ酸濃度を3000ppmにするため、薬液タンク83内のギ酸水溶液のギ酸濃度は必要な濃度に調整されている。
注入配管85,39,49及び44が、弁77から開閉弁78に向かってその順番で、弁77と開閉弁78の間で循環配管31に接続される。
酸化剤供給装置56が、薬液タンク57、供給ポンプ58及び供給配管59を有する。薬液タンク57は、供給ポンプ58及び弁60が設けられた供給配管59によって弁75よりも上流で配管76に接続される。酸化剤である過酸化水素が薬液タンク57内に充填される。この過酸化水素は、鉄溶出促進剤に含まれる他の一つの化学物質として、また、分解装置55内における、ギ酸、シュウ酸及び還元剤(例えば、ヒドラジン)の分解時に使用する化学物質として用いられる。
pH計81が注入配管44と循環配管31の接続点と開閉弁78の間で循環配管31に取り付けられ、酸素濃度計96が循環ポンプ34と弁77との間で循環配管31に取り付けられる。
BWRプラント1は、1つの運転サイクルでの運転が終了した後に停止される。この運転停止後に、炉心4に装荷されている燃料集合体の一部が使用済燃料集合体として取り出され、燃焼度0GWd/tの新しい燃料集合体が炉心4に装荷される。このような燃料交換が終了した後、BWRプラント1が、次の運転サイクルでの運転のために再起動される。燃料交換のためにBWRプラント1が停止されている期間を利用して、BWRプラント1の保守点検が行われる。
上記のようにBWRプラント1の運転が停止されている期間中において、BWRプラント1における炭素鋼部材の一つである、RPV3に連絡される炭素鋼製の配管系、例えば、浄化系配管18を対象にした、本実施例の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法が実施される。この貴金属付着方法では、浄化系配管18の、炉水と接触する内面に形成された放射性核種を取り込んでいる酸化皮膜を化学除染によって取り除き、その後、この浄化系配管18の内面へのニッケル金属の付着処理、及び付着されたニッケル金属への貴金属、例えば、白金の付着処理が行われる。
本実施例の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法を、図1に示す手順に基づいて以下に説明する。本実施例の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法では、皮膜形成装置30が用いられ、図1に示されるステップS1〜S14の各工程が実施される。
まず、皮膜形成対象の炭素鋼製の配管系に、皮膜形成装置を接続する(ステップS1)。BWRプラント1の運転が停止されているときに、例えば、浄化系配管18に設置された弁23のボンネットを開放して再循環系配管6側を封鎖する。皮膜形成装置30の循環配管31の開閉弁78側の一端部が弁23のフランジに接続される。さらに、再生熱交換器20と非再生熱交換器21の間で浄化系配管18に設置された弁25のボンネットを開放して非再生熱交換器21側を封鎖する。循環配管31の開閉弁62側の他端部が、弁25のフランジに接続される。循環配管31の両端が浄化系配管18に接続され、浄化系配管18及び循環配管31を含む閉ループが形成される。
なお、本実施例では、皮膜形成装置30を原子炉浄化系の浄化系配管18に接続しているが、浄化系配管18以外に、炭素鋼部材であってRPV3に連絡される残留熱除去系、原子炉隔離時冷却系及び炉心スプレイ系、給水系のいずれかの炭素鋼製の配管に皮膜形成装置30を接続し、この炭素鋼製の配管に本実施例の原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法を適用してもよい。
以下に説明するステップS2〜S14の各工程は、皮膜形成装置30により、浄化系配管18の、弁23と弁25の間の部分に対して実施される。
皮膜形成対象の炭素鋼製の配管系に対する化学除染を実施する(ステップS2)。前の運転サイクルでの運転を経験したBWRプラント1では、放射性核種を含む酸化皮膜が、RPV3から流れ込む炉水と接触する浄化系配管18の内面に形成されている。ニッケル金属皮膜を浄化系配管18の内面に形成する前に、浄化系配管18の線量率を低減するために、その内面から放射性核種を含む酸化皮膜を除去することが好ましい。この酸化皮膜の除去は、ニッケル金属皮膜と浄化系配管18の内面の密着性を向上させる。この酸化皮膜を除去するために、化学除染、特に、還元除染剤であるシュウ酸を含む還元除染液を用いた還元除染が、浄化系配管18の内面に対して実施される。
ステップS2において、浄化系配管18の内面に対して適用される化学除染は、特開2000−105295号公報に記載された公知の還元除染である。この還元除染について説明する。
まず、開閉弁62,弁63,66,69,74及び77、及び開閉弁78をそれぞれ開き、他の弁を閉じた状態で、循環ポンプ34及び35を駆動する。これにより、サージタンク32内で加熱器33により90℃に加熱された水が、循環配管31及び浄化系配管18によって形成される閉ループ内を循環する。この水の温度が90℃になったとき、弁79を開いて循環配管31内を流れる一部の水を配管80内に導く。ホッパ及びエゼクタ61から配管80内に供給された所定量のシュウ酸が、配管80内を流れる水によりサージタンク32内に導かれる。このシュウ酸がサージタンク32内で水に溶解し、シュウ酸水溶液(還元除染液)がサージタンク32内で生成される。
このシュウ酸水溶液は、循環ポンプ34の駆動によってサージタンク32から循環配管31に排出される。還元剤注入装置41の薬液タンク42内のヒドラジン水溶液が、弁45を開いて注入ポンプ43を駆動することにより、注入配管44を通して循環配管31内のシュウ酸水溶液に注入される。pH計81で計測されたシュウ酸水溶液のpH値に基づいて注入ポンプ43(または弁45の開度)を制御して循環配管31内へのヒドラジン水溶液の注入量を調節して、浄化系配管18に供給されるシュウ酸水溶液のpHを2.5に調節する。本実施例では、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜の上に貴金属、例えば、白金を付着させるときに用いられる還元剤であるヒドラジン(後述のステップS10の工程)が、還元除染の工程ではシュウ酸水溶液のpHを調整するpH調整剤として用いられる。
pHが2.5で90℃のシュウ酸水溶液が循環配管31から浄化系配管18に供給され、その水溶液中のシュウ酸が、浄化系配管18の内面に形成された、放射性核種を含む酸化皮膜を溶解する。シュウ酸水溶液は、酸化皮膜を溶解しながら浄化系配管18内を流れ、循環配管31に戻される。シュウ酸水溶液は、循環配管31及び浄化系配管18を含む閉ループ内を循環し、浄化系配管18の内面の還元除染を実施してその内面に形成された酸化皮膜を溶解する。
酸化皮膜の溶解に伴って、シュウ酸水溶液の放射性核種濃度及びFe濃度が上昇する。これらの濃度上昇を抑えるために、弁70を開いて弁69の開度を減少させ、循環配管31に戻されたシュウ酸水溶液の一部を、配管71によりカチオン交換樹脂塔53に導く。シュウ酸水溶液に含まれた放射性核種及びFe等の金属陽イオンは、カチオン交換樹脂塔53内の陽イオン交換樹脂に吸着されて除去される。カチオン交換樹脂塔53から排出されたシュウ酸水溶液及び弁69を通過したシュウ酸水溶液は、循環配管31から浄化系配管18に再び供給され、浄化系配管18の還元除染に用いられる。
シュウ酸を用いた、炭素鋼部材(例えば、浄化系配管18)の表面に対する還元除染では、炭素鋼部材の表面に難溶解性のシュウ酸鉄(II)が形成され、このシュウ酸鉄(II)により、炭素鋼部材表面の酸化皮膜のシュウ酸による溶解が抑制される場合がある。この場合には、弁69を全開にし、弁70を閉じてシュウ酸水溶液のカチオン交換樹脂塔53への供給を停止する。さらに、弁60を開いて供給ポンプ58を起動し、薬液タンク57内の過酸化水素を、弁75を閉じた状態で、供給配管59及び配管76を通して循環配管31内を流れるシュウ酸水溶液に供給する。過酸化水素を含むシュウ酸水溶液が浄化系配管18に導かれる。このため、浄化系配管18の内面に形成されたシュウ酸鉄(II)に含まれるFe(II)が、その過酸化水素の作用によってFe(III)に酸化され、そのシュウ酸鉄(II)がシュウ酸鉄(III)錯体としてシュウ酸水溶液中に溶解する。すなわち、シュウ酸鉄(II)、及びシュウ酸水溶液に含まれる過酸化水素及びシュウ酸が、式(1)に示す反応を生じ、シュウ酸鉄(III)錯体、水及び水素イオンを生成する。
2Fe(COO)2+H22+2(COOH)2
2Fe[(COO)2]2−+2H2O+2H+ …(1)
浄化系配管18の内面に形成されたシュウ酸鉄(II)が溶解され、シュウ酸水溶液に注入した過酸化水素が式(1)の反応によって消失したことが確認された後、循環配管31の弁66を通過したシュウ酸水溶液の一部を、配管71を通してカチオン交換樹脂塔53に供給する。このシュウ酸水溶液に含まれる放射性核種等の金属陽イオンが、カチオン交換樹脂塔53内の陽イオン交換樹脂に吸着されて除去される。なお、シュウ酸水溶液内の過酸化水素の消失は、例えば、循環配管31からサンプリングしたシュウ酸水溶液に過酸化水素に反応する試験紙を浸漬し、試験紙に現れる色を見ることによって確認できる。
浄化系配管18の、還元除染箇所の線量率が設定線量率まで低下したとき、または、浄化系配管18の還元除染時間が所定の時間に達したとき、シュウ酸水溶液に含まれるシュウ酸及びヒドラジンを分解する。すなわち、還元除染剤分解工程が実施される。なお、還元除染箇所の線量率が設定線量率まで低下したことは、浄化系配管18の還元除染箇所からの放射線を検出する放射線検出器の出力信号に基づいて求められた線量率により確認することができる。
シュウ酸及びヒドラジンの分解は、以下のようにして行われる。弁75を開いて弁74の開度を一部減少させ、弁69と弁70を通過した、ヒドラジンを含むシュウ酸水溶液は、弁75を通って配管76により分解装置55に供給される。このとき、弁60を開いて供給ポンプ58を駆動することにより、薬液タンク57内の過酸化水素が、供給配管59及び配管76を通して分解装置55に供給される。シュウ酸水溶液に含まれるシュウ酸及びヒドラジンは、分解装置55内で、活性炭触媒及び供給された過酸化水素の作用により分解される。分解装置55内でのシュウ酸及びヒドラジンの分解反応は、式(2)及び式(3)で表される。
(COOH)2+H22 → 2CO2+2H2O ……(2)
24+2H22 → N2+4H2O ……(3)
シュウ酸及びヒドラジンの分解装置55内での分解は、シュウ酸水溶液を循環配管31及び浄化系配管18を含む閉ループ内を循環させながら行われる。供給した過酸化水素がシュウ酸及びヒドラジンの分解のために分解装置55で完全に消費されて分解装置55から流出しないように、薬液タンク57から分解装置55への過酸化水素の供給量を、供給ポンプ58の回転速度を制御して調節する。
還元除染剤分解工程においても、シュウ酸水溶液中にシュウ酸が存在する場合には、このシュウ酸水溶液と接触する浄化系配管18の内面に、シュウ酸鉄(II)が形成される可能性がある。そこで、シュウ酸水溶液に含まれるシュウ酸及びヒドラジンの分解がある程度進んだ段階で、供給ポンプ58の回転速度を増大させ、分解装置55から過酸化水素が流出するように、薬液タンク57から分解装置55への過酸化水素の供給量を増加させる。この際、事前に弁69を閉止し、カチオン交換樹脂塔53に過酸化水素が流れ込まないようにしておく。
分解装置55から排出された、過酸化水素を含むシュウ酸水溶液は、循環配管31から浄化系配管18に導かれる。炭素鋼部材である浄化系配管18の内面に形成されたシュウ酸鉄(II)は、前述したように、その過酸化水素の作用によりシュウ酸鉄(III)錯体になりシュウ酸水溶液中に溶解する。シュウ酸水溶液中のシュウ酸等の分解が進んでいるため、シュウ酸鉄(II)に含まれるFe(II)を溶解しやすいFe(III)に変換させるシュウ酸が不足し、循環配管31の内面にFe(OH)3が析出しやすくなる。このため、Fe(OH)3の析出を抑制するため、シュウ酸水溶液にギ酸を注入する。ギ酸の注入は、ギ酸注入装置82によって行われる。弁86を開いて注入ポンプ84を駆動し、薬液タンク83から循環配管31にギ酸水溶液を注入する。
循環配管31内のギ酸を含むシュウ酸水溶液は、循環配管31から浄化系配管18に供給される。ギ酸を含むそのシュウ酸水溶液は、濃度の低下したシュウ酸及びヒドラジンに加え、分解装置55から排出された過酸化水素を含んでいる。シュウ酸水溶液に含まれる過酸化水素は浄化系配管18内面に析出したシュウ酸鉄(II)を溶解し、ギ酸はFe(OH)3を溶解する。シュウ酸水溶液は、循環配管31及び浄化系配管18を含む閉ループを循環するため、シュウ酸及びヒドラジンの分解も、分解装置55内で継続される。
次に、シュウ酸の分解工程を終了するために、弁60の開度を分解装置55から過酸化水素が流出しない程度に低下させ、さらに、弁79を閉じて新たなギ酸の注入を停止する。循環配管31内を流れるシュウ酸水溶液への過酸化水素及びギ酸の注入が停止されると、シュウ酸水溶液中のこれらの濃度も低下する。シュウ酸水溶液の過酸化水素濃度が1ppm以下になったとき、弁70を開いて弁69の開度を低減させ、シュウ酸水溶液をカチオン交換樹脂塔53に供給する。シュウ酸水溶液に含まれる金属陽イオンは、前述したように、カチオン交換樹脂塔53内の陽イオン交換樹脂で除去され、シュウ酸水溶液の金属陽イオン濃度が低下する。分解装置55内でシュウ酸、ヒドラジン及びギ酸の分解は継続される。シュウ酸、ヒドラジン及びギ酸のうちでは、ヒドラジンが先に分解され、次いでシュウ酸が分解され、ギ酸が最後に残る。この状態でシュウ酸の分解工程を終了する。
以上に述べた化学除染が終了したとき、浄化系配管18は、浄化系配管18の内面から放射性核種を含む酸化皮膜が除去されて図4に示す状態になっており、前述した残存するギ酸を含む水溶液が浄化系配管18の内面に接触している。
皮膜形成水溶液の温度調整を行う。弁69及び74を開けて弁70及び75を閉じる。循環ポンプ34及び35が駆動しているので、残存するギ酸を含む水溶液が循環配管31及び浄化系配管18を含む閉ループ内を循環する。そのギ酸を含む水溶液が、加熱器33によって90℃まで加熱される。このギ酸水溶液(後述の皮膜形成水溶液)の温度は、60℃〜100℃(60℃以上100℃以下)の範囲にすることが望ましい。
さらに、弁64を開いて弁63を閉じる。これらの弁操作により、循環配管31内を流れているギ酸水溶液がフィルタ51に供給され、ギ酸水溶液に残留している微細な固形分がフィルタ51によって除去される。微細な固形分をフィルタ51によって除去しない場合には、浄化系配管18の内面にニッケル金属皮膜を形成する際に、ギ酸ニッケル水溶液を循環配管31に注入したとき、その固形物の表面にもニッケル金属皮膜が形成され、注入したニッケルイオンが無駄に消費される。フィルタ51へのギ酸水溶液の供給は、このようなニッケルイオンの無駄な消費を防止するためである。
鉄溶出促進剤を注入する(ステップS3)。本実施例では、ギ酸及び過酸化水素を含む鉄溶出促進剤が用いられるが、ギ酸及び過酸化水素は別々に循環配管31に注入される。そして、鉄溶出促進剤が、注入されたギ酸及び過酸化水素により循環配管31内で実質的に生成される。これは、循環配管31に鉄溶出促進剤を実質的に注入していることに相当する。
弁63を開いて弁64を閉じ、フィルタ51への通水を停止する。残存するギ酸を含む90℃の水溶液のギ酸濃度が極めて低いため、ギ酸注入装置82の弁86を開いて注入ポンプ84を起動させ、薬液タンク83内の高濃度のギ酸水溶液を注入配管85を通して循環配管31に注入する。循環配管31内を流れる90℃の水溶液のギ酸濃度が、例えば、3000ppmになるように、薬液タンク83内のギ酸水溶液の循環配管31への供給量が、注入ポンプ84の回転速度(または弁86の開度)を制御して調整される。また、酸化剤供給装置56の弁60を開いて供給ポンプ58を起動させ、薬液タンク57内の過酸化水素水溶液を供給配管59及び配管76を通して循環配管31に注入する。このとき、弁75は閉じている。循環配管31内を流れる90℃の水溶液の過酸化水素濃度が、例えば、1500ppmになるように、薬液タンク57内の過酸化水素水溶液の循環配管31への供給量が供給ポンプ58の回転速度(または弁60の開度)を制御して調整される。
供給配管59及び配管76を通して循環配管31に供給された過酸化水素を含む90℃の過酸化水素水溶液が、循環配管31内を流れて注入配管85と循環配管31の接続点に到達したときに、ギ酸注入装置82から循環配管31へのギ酸水溶液の注入を実施することが望ましい。注入配管85と循環配管31の接続点よりも下流の循環配管31内で、ギ酸及び過酸化水素を含む鉄溶出促進剤、すなわち、ギ酸及び過酸化水素を含む鉄溶出促進剤水溶液が生成される。鉄溶出促進剤水溶液を生成するために循環配管31に過酸化水素を供給する酸化剤供給装置56は、過酸化水素注入装置として機能する。
3000ppmの濃度のギ酸及び1500ppmの濃度の過酸化水素を含む90℃のその鉄溶出促進剤水溶液が、循環配管31から浄化系配管18に供給される。この鉄溶出促進剤水溶液は、浄化系配管18内面に接触しながら、浄化系配管18及び循環配管31を含む閉ループ内を循環する。
鉄溶出促進剤に含まれる3000ppmのギ酸の作用により浄化系配管18から鉄溶出促進剤水溶液に鉄(II)イオンが溶出する。この鉄(II)イオンの触媒作用により、1500ppmの過酸化水素から酸化力の強いヒドロキシラジカルが鉄溶出促進剤水溶液内で生成される。このヒドロキシラジカルが浄化系配管18の内面に作用することによって、浄化系配管18から鉄溶出促進剤水溶液へ鉄(II)イオンがさらに溶出する。このように、浄化系配管18から鉄溶出促進剤水溶液への鉄(II)イオンの溶出が促進される。また、鉄(II)イオンの溶出の促進に伴って多量の電子が生成される。生成された電子は、鉄溶出促進剤水溶液中に存在する。上記の閉ループ内を循環する鉄溶出促進剤水溶液が、1時間の間、浄化系配管18の内面に接触する。
ニッケルイオン水溶液を注入する(ステップS4)。鉄溶出促進剤水溶液の浄化系配管18の内面への接触開始から1時間が経過したとき、酸化剤供給装置56の供給ポンプ58を停止し弁60を閉じて、循環配管31への過酸化水素水溶液の注入を停止する。さらに、ギ酸注入装置82の注入ポンプ84を停止して弁86を閉じて、ギ酸注入装置82による循環配管31へのギ酸水溶液の注入も停止する。その後、ニッケルイオン注入装置36の弁40を開いて注入ポンプ38を駆動し、薬液タンク37内のギ酸ニッケル水溶液を、注入配管39を通して循環配管31内を流れる、3000ppmのギ酸及び1500ppmの過酸化水素を含む90℃の鉄溶出促進剤水溶液に注入する。鉄溶出促進剤水溶液にギ酸ニッケル水溶液を注入することによって、循環配管31内で皮膜形成水溶液が生成される。ギ酸ニッケル水溶液の注入により生成された皮膜形成水溶液のニッケルイオン濃度が、例えば、400ppmになるように、薬液タンク37内のギ酸ニッケル水溶液の注入量及びギ酸ニッケル水溶液のギ酸濃度が調整される。ギ酸ニッケル水溶液の注入により生成された皮膜形成水溶液のギ酸濃度は、3800ppmとなる。
なお、その生成された皮膜形成水溶液のpHは、2.5〜4.0(2.5以上4.0以下)の範囲内のpHになるように調整される。例えば、生成された皮膜形成水溶液のpH調整は、薬液タンク37内のギ酸ニッケルとギ酸の混合比率の変更及び薬液タンク37内で調整したギ酸ニッケル水溶液の注入量の変更、薬液タンク83内のギ酸の注入量の変更により行われる。
400ppmのニッケルイオン、3800ppmのギ酸及び1500ppmの過酸化水素を含みpHが2.5で90℃の皮膜形成水溶液は、循環ポンプ34の駆動により、循環配管31から浄化系配管18に供給される。この皮膜形成水溶液93が浄化系配管18の内面に接触することにより、ニッケル金属皮膜91が浄化系配管18の内面に形成される(図5参照)。このニッケル金属皮膜91の形成は、以下のようにして行われる。鉄溶出促進剤水溶液にギ酸ニッケル水溶液を注入する前に、前述したように、ギ酸水溶液及び過酸化水素水溶液のそれぞれの注入が停止されるが、鉄溶出促進剤水溶液へのギ酸ニッケル水溶液の注入により生成された皮膜形成水溶液93には、ギ酸及び過酸化水素が存在する。浄化系配管18の内面とpH2.5の皮膜形成水溶液93が接触すると、皮膜形成水溶液93に含まれるギ酸の作用により浄化系配管18から皮膜形成水溶液93に鉄(II)イオンが溶出する。この鉄(II)イオンの触媒作用により、皮膜形成水溶液93に存在する過酸化水素からヒドロキシラジカルが皮膜形成水溶液93内で生成される。このヒドロキシラジカルが浄化系配管18の内面に作用することによって、浄化系配管18から皮膜形成水溶液93へ鉄(II)イオンがさらに溶出する。また、皮膜形成水溶液93に含まれるニッケルと浄化系配管18内の鉄(II)イオンの置換反応が加速されて浄化系配管18の内面に取り込まれるニッケルイオンの量が多くなる。多くの鉄(II)イオンの溶出に伴って多量の電子が生成される。浄化系配管18の内面に取り込まれたニッケルイオンは、鉄(II)イオンの溶出に伴って発生した電子により還元されてニッケル金属になる。ステップS3の工程で生成されて鉄溶出促進剤水溶液内に存在する電子も、その後に生成された皮膜形成水溶液93内に存在し、そのニッケルイオンの還元によるニッケル金属の生成に貢献する。
皮膜形成水溶液93に過酸化水素が存在する間、この過酸化水素からヒドロキシラジカルが生成され、このヒドロラジカルにより浄化系配管18から鉄(II)イオンが溶出される。皮膜形成水溶液に残存する過酸化水素はヒドロキシラジカルの生成によって分解され、やがて、その過酸化水素は皮膜形成水溶液内に存在しなくなる。これに対して、注入されたギ酸は、後述のステップS6の工程で分解されるまで皮膜形成水溶液内に存在する。ギ酸水溶液の注入停止後においても、皮膜形成水溶液内に存在するギ酸の作用によって、浄化系配管18から鉄(II)イオンが溶出され、電子が生成される。この電子によっても、置換反応で浄化系配管18の内面に取りこまれたニッケルイオンがニッケル金属に還元される。
浄化系配管18から循環配管31に排出された皮膜形成水溶液93は、ニッケルイオン注入装置36からのギ酸ニッケル水溶液が注入された後、再び、浄化系配管18に供給される。このように、皮膜形成水溶液93が循環配管31及び浄化系配管18を含む閉ループを循環され、やがて、ニッケル金属皮膜91が、浄化系配管18の、皮膜形成水溶液93と接触する内面全体を均一に覆うようになる。このとき、浄化系配管18の内面に存在するニッケル金属皮膜91は、例えば1平方センチメートル当たり500μg以上4000μg以下(500〜4000μg/cm2)の範囲内のニッケル金属を含む。
ステップS4の工程の前の工程であるステップS3の工程で浄化系配管18の内面に鉄溶出促進剤水溶液を接触させているのは、化学除染(ステップS2)が終了した後において浄化系配管18の内面に存在している不純物(例えば、水酸化鉄)を除去するためである。この不純物が浄化系配管18の内面に残っている状態で、皮膜形成水溶液93を浄化系配管18の内面に接触させた場合には、その不純物が浄化系配管18の内面とこの内面に形成されたニッケル金属皮膜91の間に残存することになり、ニッケル金属皮膜91と浄化系配管18の密着性が阻害される可能性がある。また、浄化系配管18の内面に残存する不純物により、鉄溶出促進剤水溶液が浄化系配管18の内面に接触されている状態で、鉄溶出促進剤水溶液に含まれるギ酸及びヒドロキシラジカルによる、浄化系配管18からの鉄(II)イオンの溶出も阻害される。
ステップS4の工程の前にステップS3の工程を実施することにより、浄化系配管18の内面に接触される鉄溶出促進剤水溶液に含まれるギ酸及びヒドロキシラジカルの作用によって浄化系配管18の内面に残存するその不純物を除去することができ、ニッケル金属皮膜91と浄化系配管18の密着性を高めることができ、浄化系配管18からの鉄(II)イオンの溶出が促進される。
ニッケル金属皮膜の形成が完了したかを判定する(ステップS5)。浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91が不十分な場合には、ステップS4及びS5の工程が繰り返される。ギ酸ニッケル水溶液を循環配管31に注入してからの経過時間が設定時間(例えば、1時間)になったとき、ステップS5の判定結果が「YES」になり、注入ポンプ38、84が停止されて弁40、86が閉じられ、薬液タンク37、87から循環配管31へのギ酸ニッケル水溶液及びギ酸の注入が停止される。この結果、浄化系配管18の内面へのニッケル金属皮膜91の形成が終了する。
なお、設定厚みのニッケル金属皮膜91は、浄化系配管18の内面において、例えば、1平方センチメートル当たり500μg/cmから4000μg/cm(500μg/cm2以上4000μg/cm2以下)の範囲内のニッケル金属を含んでいる。本実施例におけるステップS5の判定結果が「YES」になった場合における、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91は、例えば、2000μg/cm2のニッケル金属を含んでいる。
鉄溶出促進剤に含まれる化学物質を分解する(ステップS6)。鉄溶出促進剤のうち、一つの化学物質である過酸化水素はニッケル金属皮膜の形成時に分解されるため、循環配管31を流れる皮膜形成水溶液中にはほとんど含まれていない。弁69の開度を絞って弁70を開き、ニッケルイオン及びギ酸を含む皮膜形成水溶液93の一部を、配管71を通してカチオン交換樹脂塔53に導く。皮膜形成水溶液93の一部に含まれたニッケルイオンがカチオン交換樹脂塔53内の陽イオン交換樹脂に吸着されて除去される。弁75を開いて弁74の開度の一部を閉じることにより、カチオン交換樹脂塔53から排出されたギ酸を含む皮膜形成水溶液93及び弁69を通過したニッケルイオン及びギ酸を含む皮膜形成水溶液93が、配管76を通して分解装置55に導かれる。このとき、薬液タンク57内の過酸化水素が供給配管59及び配管76を通して分解装置55に供給される。皮膜形成水溶液93に含まれるギ酸(他の化学物質)は、分解装置55内で、活性炭触媒及び過酸化水素の作用により二酸化炭素及び水に分解される。
ギ酸が分解された皮膜形成水溶液を浄化する(ステップS7)。ギ酸が分解された後、弁74を開いて弁75を閉じてギ酸濃度を低減させた皮膜形成水溶液93の分解装置55への供給を停止し、弁67を開いて弁66を閉じて弁72を開いて弁69の開度の一部を閉じる。このとき、弁70は閉じており、循環ポンプ35及び34は駆動している。浄化系配管18から循環配管31に戻されたギ酸濃度を低減させた皮膜形成水溶液93は、冷却器52で60℃になるまで冷却される。さらに、ギ酸濃度を低減させた60℃の皮膜形成水溶液93が混床樹脂塔54に導かれ、この皮膜形成水溶液93に残留しているニッケルイオン、他の陽イオン及び陰イオンが、混床樹脂塔54内の陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂に吸着されて除去される(第1浄化工程)。ギ酸濃度を低減させた60℃の皮膜形成水溶液を、上記の各イオンが実質的になくなるまで、循環配管31及び浄化系配管18を循環させる。各イオンが実質的になくなった皮膜形成水溶液は、実質的に60℃の水である。
錯イオン形成剤水溶液を注入する(ステップS8)。第1浄化工程が終了した後、弁69を開いて弁72を閉じ、弁79を開いてエゼクタ61に通水し、エゼクタ61によりホッパから錯イオン形成剤水溶液であるアンモニア水溶液を吸引する。このアンモニア水溶液が、サージタンク32内の、微量のFe3+を含む60℃の水に供給される。微量のFe3+、及びアンモニアを含む60℃の水溶液は、サージタンク32から、循環ポンプ34によって昇圧されて循環配管31により浄化系配管18へと供給される。アンモニアを含むこの60℃の水溶液は、構成される閉ループに沿って循環ポンプ35に到達し、循環ポンプ35で昇圧されてサージタンク32へと戻される。
白金イオン水溶液を注入する(ステップS9)。循環配管31内を流れる、アンモニアを含む60℃の水溶液は、加熱器33による加熱により60℃に保たれる。アンモニア注入が終了した後、弁50を開いて注入ポンプ48を駆動する。循環配管31内を流れる、アンモニアを含む60℃の水溶液に、注入配管49を通して薬液タンク47内の白金イオンを含む水溶液(例えば、ヘキサヒドロキソ白金酸ナトリウム水和物(Na2[Pt(OH)6]・nH2O)の水溶液)が注入される。注入されるこの水溶液の白金イオンの濃度は、例えば、1ppmである。ヘキサヒドロキソ白金酸ナトリウム水和物の水溶液内では、白金がイオン状態になっている。白金イオン及びアンモニアを含む、60℃の水溶液が、循環ポンプ34及び35の駆動により、循環配管31から浄化系配管18に供給され、循環配管31及び浄化系配管18を含む閉ループ内を循環する。
注入開始直後において、薬液タンク47から循環配管31と注入配管49の接続点を通して循環配管31に注入される、Na2[Pt(OH)6]・nH2Oの水溶液のその接続点での白金濃度が、設定濃度、例えば、1ppmとなるように、予め、Na2[Pt(OH)6]・nH2Oの水溶液の循環配管31への注入速度を計算し、さらに、循環配管31内を流れる、アンモニアを含む60℃の水溶液内の白金イオンをその設定濃度にして、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜表面に所定量の白金を付着させるのに必要な、薬液タンク47に充填するNa2[Pt(OH)6]・nH2Oの水溶液の量を計算し、計算されたNa2[Pt(OH)6]・nH2Oの水溶液の量を薬液タンク47に充填する。計算されたNa2[Pt(OH)6]・nH2Oの水溶液の循環配管31への注入速度に合わせて注入ポンプ48の回転速度を制御し、薬液タンク47内のNa2[Pt(OH)6]・nH2Oの水溶液を循環配管31内に注入する。
還元剤を注入する(ステップS10)。還元剤注入装置41の弁45を開いて注入ポンプ43を駆動し、薬液タンク42内の還元剤であるヒドラジンの水溶液が、注入配管44を通して循環配管31内を流れる、白金イオン及びアンモニアを含む60℃の水溶液に注入される。注入されるヒドラジン水溶液のヒドラジン濃度は、例えば、100ppmである。
ヒドラジン水溶液は、アンモニア及びNa2[Pt(OH)6]・nH2Oを含む60℃の水溶液がヒドラジン水溶液の注入点である注入配管44と循環配管31の接続点に到達した以降に循環配管31に注入される。この場合には、白金イオン、ヒドラジン及びアンモニアを含む60℃の水溶液が、循環配管31から浄化系配管18に供給される。しかし、より好ましくは、薬液タンク47内に充填された所定量のNa2[Pt(OH)6]・nH2Oの水溶液を全て循環配管31内に注入し終わった直後にヒドラジン水溶液を循環配管31に注入することが望ましい。この場合には、アンモニア及び白金イオンを含む60℃の水溶液が循環配管31から浄化系配管18に供給され、白金イオン水溶液の循環配管31への注入が終了した後では、白金イオン、ヒドラジン及びアンモニアを含む60℃の水溶液(図6参照)が循環配管31から浄化系配管18に供給される。
前者のヒドラジン水溶液の注入の場合には、ヒドラジンにより白金イオンを白金にする還元反応が、最初に、循環配管31内を流れる、ヒドラジン及び白金イオンを含む水溶液内で生じるのに対して、後者のヒドラジン水溶液の注入の場合には、既に、白金イオンが浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91の表面に吸着されており、この吸着された白金イオンがヒドラジンにより還元されるので、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91表面への白金92の付着量がさらに増加する(図6参照)。
ヒドラジン水溶液の注入開始直後において、薬液タンク42から循環配管31と注入配管44の接続点を通して注入されるヒドラジン水溶液のその接続点でのヒドラジン濃度が、設定濃度、例えば、100ppmとなるように、予め、ヒドラジン水溶液の循環配管31への注入速度を計算し、さらに、循環配管31内を流れる60℃の白金イオンを含む水溶液内のヒドラジンをその設定濃度にして、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91表面に吸着された白金イオンを白金92に還元するために必要な、薬液タンク42に充填するヒドラジン水溶液の量を計算し、計算されたヒドラジン水溶液の量を薬液タンク42に充填する。計算されたヒドラジン水溶液の循環配管31への注入速度に合わせて注入ポンプ43の回転速度を制御し、薬液タンク42内のヒドラジン水溶液を循環配管31内に注入する。
なお、薬液タンク47内のNa2[Pt(OH)6]・nH2Oの水溶液(白金イオンを含む水溶液)が、全量、循環配管31に注入されたとき、注入ポンプ48を停止して弁50を閉じる。これにより、白金イオンを含む水溶液の循環配管31への注入が停止される。また、薬液タンク42内のヒドラジン水溶液(還元剤水溶液)が、全量、循環配管31に注入されたとき、注入ポンプ43を停止して弁45を閉じる。これにより、ヒドラジン水溶液の循環配管31への注入が停止される。
ニッケル金属皮膜91の表面に吸着された白金イオンが注入されたヒドラジンによって還元されて白金92となるため、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91の表面に白金92が付着する(図6参照)。
本実施例では、ニッケル金属皮膜91と接触する水溶液94に含まれたアンモニアがこの水溶液94に含まれる微量の鉄イオン(Fe3+)と反応し、鉄−アンモニア錯イオンを生成する。このため、水溶液94中の鉄イオン濃度が減少し、水溶液94に含まれる鉄イオンが水酸化鉄及びマグネタイトとして析出しなくなる。水溶液94に含まれる白金イオンが、白金として水酸化鉄及びマグネタイトに付着することがなくなり、ニッケル金属皮膜91上に付着する白金の量が増加する。
白金の付着が完了したかを判定する(ステップS11)。白金イオン水溶液及び還元剤水溶液の注入からの経過時間が所定時間になったとき、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91の表面への所定量の白金92の付着が完了したと判定する。その経過時間が所定時間に到達しないときには、ステップS9〜S11の各工程が繰り返される。
浄化系配管18及び循環配管31内に残留する水溶液を浄化する(ステップS12)。浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91の表面への白金92の付着が完了したと判定された後、弁72を開いて弁69の開度の一部を閉じ、循環ポンプ35で昇圧された、白金イオン及びヒドラジン、アンモニアを含む60℃の水溶液94を、混床樹脂塔54に供給する。その水溶液94に含まれる白金イオン、他の金属陽イオン(例えば、ナトリウムイオン)、ヒドラジン、アンモニア及びOH基が、混床樹脂塔54内のイオン交換樹脂に吸着され、その水溶液94から除去される(第2浄化工程)。
廃液を処理する(ステップS13)。第2浄化工程が終了した後、ポンプ(図示せず)を有する高圧ホース(図示せず)により循環配管31と廃液処理装置(図示せず)を接続する。第2浄化工程の終了後に、浄化系配管18及び循環配管31内に残存する、放射性廃液である水溶液は、そのポンプを駆動して循環配管31から高圧ホースを通して廃液処理装置(図示せず)に排出され、廃液処理装置で処理される。浄化系配管18及び循環配管31内の水溶液が排出された後、洗浄水を浄化系配管18及び循環配管31内に供給し、循環ポンプ34,35を駆動してこれらの配管内を洗浄する。洗浄終了後、浄化系配管18及び循環配管31内の洗浄水を、上記の廃液処理装置に排出する。
以上により、浄化系配管18の、非再生熱交換器21よりも上流の弁23と弁25の間の部分の内面へのニッケル金属皮膜91の形成、及びニッケル金属皮膜91上への白金92の付着の各工程が終了する。なお、浄化系配管18の、弁25よりも下流の部分の内面には、白金92が付着したニッケル金属皮膜91が形成されていない。
皮膜形成装置を配管系から除去する(ステップS14)。ステップS1〜S13の各工程が実施された後、皮膜形成装置30が浄化系配管18から取り外され、浄化系配管18が復旧される。
本実施例によれば、鉄溶出促進剤水溶液、例えば、3000ppmのギ酸及び1500ppmの過酸化水素を含む鉄溶出促進剤水溶液を浄化系配管18の内面に接触させるため、ギ酸の作用により浄化系配管18から鉄溶出促進剤水溶液に鉄(II)イオンが溶出し、この鉄(II)イオンの触媒作用により、鉄溶出促進剤水溶液に含まれる過酸化水素からヒドロキシラジカルが鉄溶出促進剤水溶液内で生成される。ギ酸の作用だけでなく、ヒドロキシラジカルが浄化系配管18の内面に作用することによって、浄化系配管18から皮膜形成水溶液93へ鉄(II)イオンがさらに溶出する。すなわち、浄化系配管18から皮膜形成水溶液93への鉄(II)イオンの溶出量が増加する。鉄(II)イオンの溶出量の増加に伴って、生成される電子の量も多くなる。その鉄溶出促進剤水溶液にギ酸ニッケル水溶液を注入して皮膜形成水溶液を生成し、皮膜形成水溶液を浄化系配管18の内面に接触させると、浄化系配管18の内面に取り込まれるニッケルイオンの量が多くなり、その内面に取り込まれたニッケルイオンが、多量に生成された電子の作用により、浄化系配管18の内面においてニッケル金属になる。このため、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91の形成量が著しく増加する。そして、浄化系配管18の内面へのニッケル金属皮膜91の形成が完了するまでに要する時間が著しく短縮される。
特願2019−19704号において、浄化系配管18の内面に接触する表面浄化剤水溶液に含まれるギ酸の濃度よりも、本実施例における、鉄溶出促進剤水溶液に含まれるギ酸の濃度が低いが、皮膜形成水溶液に溶出した鉄(II)イオンの触媒作用により皮膜形成水溶液に含まれる過酸化水素から生成されるヒドロキシラジカルが浄化系配管18の内面に作用するため、浄化系配管18から皮膜形成水溶液に溶出する鉄(II)イオンの量、及び鉄(II)イオンの溶出により生成される電子の生成量が多くなるため、浄化系配管18の内面に形成されるニッケル金属皮膜の量は、特願2019−19704号におけるその量と同程度になる。
本実施例では、過酸化水素から生成されたヒドロキシラジカルの作用により、浄化系配管18からの鉄(II)イオンの溶出を促進させることができるため、鉄溶出促進剤水溶液に含まれるギ酸の濃度(例えば、3000ppm)が、特願2019−19704号の明細書に記載された、浄化系配管18の内面に接触する表面浄化剤水溶液に含まれるギ酸の濃度(例えば、30000ppm)の1/10程度に低減される。このため、本実施例における、浄化系配管18の内面へのニッケル金属皮膜の形成終了後に実施される皮膜形成水溶液93に含まれるギ酸の分解に要する時間は、特願2019−19704号における、浄化系配管18の内面へのニッケル金属皮膜の形成終了後に実施される皮膜形成水溶液に含まれるギ酸の分解に要する時間よりも著しく短縮される。
したがって、本実施例における、原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着作業に要する時間を、特願2019−19704号におけるその時間よりもさらに短縮することができる。
本実施例は、浄化系配管18の内面に対する還元除染が終了した後にその内面へのニッケル金属皮膜91の形成を行っているので、浄化系配管18とニッケル金属皮膜91の密着性が向上し、ニッケル金属皮膜91が浄化系配管18の内面からはがれることを防止できる。また、置換反応によって浄化系配管18に取り込まれたニッケルイオンから、電子の作用により生成されたニッケル金属は、浄化系配管18の母材との密着性が非常に強い。このため、ニッケル金属皮膜91は、浄化系配管18からはがれることはない。
本実施例では、ステップS4の工程(ニッケルイオン水溶液の注入)を実施する前でステップS3の工程(鉄溶出促進剤の注入)を行っているため、化学除染終了後に浄化系配管18の内面に残存する不純物(例えば、水酸化鉄)をギ酸及びヒドロキシラジカルの作用によって除去することができ、ニッケル金属皮膜91と浄化系配管18の密着性を高めることができ、浄化系配管18からの鉄(II)イオンの溶出を促進させることができる。
さらに、本実施例では、錯イオン形成剤であるアンモニアを皮膜形成水溶液93に注入しているため、化学除染により浄化系配管18の内面の酸化被膜の溶解によって生じたFe(III)イオンが注入されたアンモニアと反応し、Fe(III)イオンのアンモニア錯イオンが生成される。Fe(III)イオンのアンモニア錯イオンの溶解度がFe(III)イオンの溶解度よりも増大する。この結果、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91の表面に白金92を付着させるために、Na2[Pt(OH)6]・nH2O)を含む水溶液及びヒドラジン(還元剤)がアンモニアを含む皮膜形成水溶液94に注入されたとき、この皮膜形成水溶液94のpHがそのヒドラジンの作用により上昇したとしても、皮膜形成水溶液内のFe(III)イオンが水酸化鉄及びマグネタイトになって析出することを著しく抑制することができる。したがって、皮膜形成水溶液94に含まれている白金イオンがニッケル金属皮膜91の表面に吸着されてヒドラジンの作用によって白金92としてニッケル金属皮膜91の表面に付着する量が著しく増大し、ニッケル金属皮膜91の表面に所定量の白金92が付着するのに要する時間が短縮される。
本発明の好適な他の実施例である実施例2の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法を、図8、図2及び図9を用いて説明する。本実施例の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法は、沸騰水型原子力発電プラント(BWRプラント)の、炭素鋼製の浄化系配管(炭素鋼部材)に適用される。
本実施例では、実施例1で用いられた皮膜形成装置30の替りに、図9に示された皮膜形成装置30Aを用いる。皮膜形成装置30Aの構成を以下に説明する。
皮膜形成装置30Aは、皮膜形成装置30においてギ酸注入装置82を鉄溶解促進剤注入装置101に替えた構成を有する。鉄溶解促進剤注入装置101以外の皮膜形成装置30Aの構成は、ギ酸注入装置82を除いた皮膜形成装置30の構成と同じである。
鉄溶解促進剤注入装置101は、ギ酸供給装置、過酸化水素供給装置、薬液タンク102、注入ポンプ103及び注入配管104を有する。ギ酸供給装置は、薬液タンク83及び供給配管85Aを有する。ギ酸水溶液が充填される薬液タンク83は、弁86が設けられた供給配管85Aによって薬液タンク102に接続される。過酸化水素供給装置は、薬液タンク98及び供給配管99を有する。過酸化水素水溶液が充填される薬液タンク98は、弁100が設けられた供給配管99によって薬液タンク102に接続される。また、薬液タンク102は、注入ポンプ103及び弁105が設けられた注入配管104によって、循環配管31に接続される。注入配管104,39,49及び44が、弁77から開閉弁78に向かってその順番で、弁77と開閉弁78の間で循環配管31に接続される。
本実施例の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法は、実施例1の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法で実施されるステップS1〜S14のうち、ステップS3の工程を図8に示すステップS3Aの工程に替えたものである。すなわち、本実施例では、図8に示されたステップS1,S2,S3A及びS4〜S14の各工程が実施される。
本実施例のステップS1の工程では、BWRプラント1の運転が停止されているときに、皮膜形成装置30Aの循環配管31の開閉弁78側の一端部が、実施例1と同様に、弁23のフランジに接続される。また、皮膜形成装置30Aの循環配管31の開閉弁62側の他端部が、実施例1と同様に、弁25のフランジに接続される。循環配管31の両端が浄化系配管18に接続され、浄化系配管18、及び皮膜形成装置30Aの循環配管31を含む閉ループが形成される。
ステップS2の工程が実施された後、鉄溶出促進剤を注入するステップS3Aが実施される。ステップS3Aの工程を実施する前に、弁86を開いてギ酸水溶液を薬液タンク83から薬液タンク102内に供給する。このとき、弁105は閉じている。そして、弁100を開いて過酸化水素水溶液を薬液タンク98から薬液タンク102内に供給する。ギ酸水溶液と過酸化水素水溶液が薬液タンク102内で混合されて、鉄溶出促進剤水溶液が薬液タンク102内で生成される。
弁105を開いて注入ポンプ103を駆動し、薬液タンク102内の鉄溶出促進剤水溶液を、注入配管104を通して循環配管31に、具体的には、循環配管31内を循環する、ギ酸濃度が極めて低い90℃の水溶液に注入する。ギ酸濃度が極めて低い90℃の水溶液は、鉄溶出促進剤水溶液の注入によって、循環配管31内で、例えば、3000ppmの濃度のギ酸及び1500ppmの濃度の過酸化水素を含む90℃の鉄溶出促進剤水溶液を生成する。循環配管31内で3000ppmの濃度のギ酸及び1500ppmの濃度の過酸化水素を含む90℃の鉄溶出促進剤水溶液が生成されるように、薬液タンク83内のギ酸水溶液のギ酸濃度、薬液タンク83から薬液タンク102へのギ酸水溶液の供給量、薬液タンク98内の過酸化水素水溶液の過酸化水素濃度、薬液タンク98から薬液タンク102への過酸化水素水溶液の供給量が調節される。
ギ酸濃度が3000ppmで過酸化水素濃度が1500ppmである90℃の鉄溶出促進剤水溶液が、循環配管31から浄化系配管18に供給され、浄化系配管18及び循環配管31を含む閉ループ内を循環する。その鉄溶出促進剤水溶液が浄化系配管18の内面に接触する。注入ポンプ103の回転速度の制御によっても、循環配管31内の鉄溶出促進剤水溶液のギ酸濃度及び過酸化水素濃度の調節が可能である。
鉄溶出促進剤水溶液に含まれる3000ppmのギ酸の作用により浄化系配管18から溶出した鉄(II)イオンの触媒作用により、1500ppmの過酸化水素からヒドロキシラジカルが生成される。鉄溶出促進剤水溶液に含まれるそのヒドロキシラジカルが浄化系配管18の内面に作用することによって、浄化系配管18から鉄溶出促進剤水溶液への鉄(II)イオンの溶出が促進される。また、鉄(II)イオンの溶出促進に伴って生成された多量の電子が鉄溶出促進剤水溶液中に存在する。前述の閉ループ内を循環する鉄溶出促進剤水溶液が、1時間の間、浄化系配管18の内面に接触する。
鉄溶出促進剤水溶液の浄化系配管18の内面への接触が1時間を経過した後、循環配管31への過酸化水素水溶液の注入が停止され、ニッケルイオン注入装置36から循環配管31内のギ酸濃度が3000ppmで過酸化水素濃度が1500ppmである90℃の鉄溶出促進剤水溶液にギ酸ニッケル水溶液が注入される(ステップS4)。その鉄溶出促進剤水溶液へのギ酸ニッケル水溶液の注入によって、皮膜形成水溶液93が生成される。生成された皮膜形成水溶液93のニッケルイオン濃度が400ppm、ギ酸濃度が3800ppm及び過酸化水素濃度が1500ppmとなる。皮膜形成水溶液93のpHは2.5である。
皮膜形成水溶液93が浄化系配管18の内面に接触すると、皮膜形成水溶液93に含まれるギ酸により浄化系配管18から溶出された鉄(II)イオンの触媒作用により、皮膜形成水溶液93に含まれる過酸化水素からヒドロキシラジカルが皮膜形成水溶液93内で生成される。このヒドロキシラジカルの作用により、浄化系配管18から皮膜形成水溶液93へ鉄(II)イオンがさらに溶出する。また、皮膜形成水溶液93に含まれるニッケルイオンと浄化系配管18内の鉄(II)イオンの置換反応が加速されて浄化系配管18の内面に取り込まれるニッケルイオンの量が多くなる。浄化系配管18の内面に取り込まれたニッケルイオンは、鉄(II)イオンの溶出促進に伴って生成された多量の電子により還元されてニッケル金属になる。この結果、浄化系配管18の内面にニッケル金属皮膜が形成される。
その後、ステップS5の工程における判定が「YES」であるとき、ステップS6の工程(鉄溶出促進剤に含まれる化学物質の分解)が実施される。この工程では、皮膜形成水溶液93内の鉄溶出促進剤に含まれる化学物質であるギ酸が分解装置55内で分解される。ステップS6の工程終了後、ステップS7及びS8の各工程が実施される。その後、ステップS9(白金イオン溶液の注入)及びS10(還元剤の注入)の各工程が実施され、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜の表面に白金92が付着される。その後、ステップS11〜S14の各工程が実施され、浄化系配管18の内面に対する白金付着作業が終了する。
本実施例は、実施例1で生じる各効果を得ることができる。
本実施例で用いられた皮膜形成装置30Aの替りに、図10に示される皮膜形成装置30Bを用いてもよい。皮膜形成装置30Bは、弁100が設けられて薬液タンク102に接続された供給配管99を、薬液タンク98ではなく酸化剤供給装置56の供給配管59に接続している。供給配管99は、供給ポンプ58と弁60の間で供給配管59に接続される。ここでは、酸化剤供給装置56は、薬液タンク57に過酸化水素水溶液を充填した過酸化水素供給装置として使用される。
皮膜形成装置30Bを用いた原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法では、BWRプラント1の運転が停止されているときに、ステップS1の工程が実施される。このステップS1の工程では、皮膜形成装置30Bの循環配管31の開閉弁78側の一端部が、実施例1と同様に、弁23のフランジに接続される。また、皮膜形成装置30Bの循環配管31の開閉弁62側の他端部が、実施例1と同様に、弁25のフランジに接続される。この結果、循環配管31の両端が浄化系配管18に接続され、浄化系配管18、及び皮膜形成装置30Aの循環配管31を含む閉ループが形成される。
ステップS2の工程が実施された後、皮膜形成装置30Bを用いて鉄溶出促進剤を注入するステップS3Aが実施される。ステップS3Aの工程を実施する前に、弁86を開いてギ酸水溶液を薬液タンク83から薬液タンク102内に供給する。このとき、弁105及び60は閉じている。そして、弁100を開いて供給ポンプ58を駆動し、過酸化水素水溶液を薬液タンク57から薬液タンク102内に供給する。ギ酸水溶液と過酸化水素水溶液が薬液タンク102内で混合されて、鉄溶出促進剤水溶液が薬液タンク102内で生成される。
前述の実施例2におけるステップS3Aの工程と同様に、弁105を開いて注入ポンプ103を駆動し、薬液タンク102内の鉄溶出促進剤水溶液を、注入配管104を通して循環配管31に注入する。これにより、循環配管31内で、3000ppmの濃度のギ酸及び1500ppmの濃度の過酸化水素を含む90℃の鉄溶出促進剤水溶液が生成され、この鉄溶出促進剤水溶液が、循環配管31から浄化系配管18に供給される。鉄溶出促進剤水溶液の浄化系配管18内面への接触により、実施例2と同様に、浄化系配管18からの鉄(II)イオンの溶出が促進され、ヒドロキシラジカルが生成され、そして、鉄(II)イオンの溶出に伴う多量の電子の生成が行われる。
ギ酸ニッケル水溶液の注入(ステップS4)によって生成される皮膜形成水溶液93が、浄化系配管18内面に接触し、実施例2と同様に、皮膜形成水溶液93に含まれるニッケルイオンが置換反応によって浄化系配管18内面に取り込まれる。取り込まれたニッケルイオンが、鉄(II)イオンの溶出に伴って生成された電子によって還元されてニッケル金属になる。この結果、ニッケル金属皮膜が浄化系配管18の内面に形成される。
さらに、ステップS5〜S7の各工程が実施される。ステップS6の「鉄溶出促進剤に含まれる化学物質の分解」の工程では、弁60が開いて供給ポンプ58を駆動し、薬液タンク57内の過酸化水素水溶液を薬液タンク102ではなく分解装置55に供給する。このとき、弁100は閉じている。過酸化水素水溶液に含まれる過酸化水素は、分解装置55内で、分解装置55内の活性炭触媒と共に鉄溶出促進剤に含まれる化学物質であるギ酸の分解に使用される。
その後、ステップS8〜S14の各工程が実施される。ステップS9及びS10の各工程を実施することによって、白金92が、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜の表面に付着される。ステップS14の工程が終了したとき、皮膜形成装置30Bを用いた原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法が終了する。
皮膜形成装置30Bを用いた原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法では、実施例2で生じる各効果を得ることができる。さらに、この貴金属付着方法では、皮膜形成装置30Bを用いているため、皮膜形成装置30Bの薬液タンク57内の過酸化水素水溶液に含まれる過酸化水素を、ステップS3A及びS4の各工程においてヒドロキシラジカル生成のための原料として使用し、ステップS6の工程におけるギ酸分解に使用することができる。皮膜形成装置30Bの薬液タンク57は、皮膜形成装置30Aの薬液タンク57及び98を共用することと同等である。このため、皮膜形成装置30Bの構造は皮膜形成装置30Aの構造よりの単純化される。
本発明の好適な他の実施例である、沸騰水型原子力プラントの浄化系配管に適用される実施例3の原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法を図11に基づいて説明する。本実施例の原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法は、BWRプラントの、炭素鋼製の浄化系配管(炭素鋼部材)に適用される。
本実施例では、図11に示すように、実施例1の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法におけるステップS1〜S14の各工程(図1参照)、及びこれらの工程に追加して新たなステップS15及びS16の各工程が実施される。ステップS1の工程では、皮膜形成装置30の循環配管31の両端部のそれぞれが、図2に示すように、浄化系配管18に接続される。
ステップS1〜S14の各工程が実施された後、ステップS15及びS16の各工程が実施される。ステップS14の工程が終了した後に実施されるステップS15及びS16の各工程を以下に具体的に説明する。
原子力プラントを起動させる(ステップS15)。燃料交換及びBWRプラント1の保守点検が終了した後、次の運転サイクルでの運転を開始するために、白金92を付着しているニッケル金属皮膜91が内面に形成された浄化系配管18を有するBWRプラント1が起動される。
130℃以上の炉水を、白金が付着されたニッケル金属皮膜に接触させる(ステップS16)。BWRプラント1が起動されたとき、RPV3内のダウンカマに存在する炉水は、前述したように、再循環系配管6及びジェットポンプ5を通って炉心4に供給される。炉心から吐出された炉水は、ダウンカマに戻される。ダウンカマ内の炉水は、再循環系配管6を経由して浄化系配管18内に流入し、やがて、給水配管11に流入してRPV3内に戻される。
炉心4から制御棒(図示せず)が引き抜かれて炉心4が未臨界状態から臨界状態になり、炉心4内の炉水が燃料棒内の核燃料物質の核分裂で生じる熱で加熱される。炉心4では蒸気が発生していない。さらに、制御棒が炉心4から引き抜かれ、原子炉2の昇温昇圧過程において、RPV3内の圧力が定格圧力まで上昇され、その核分裂で生じる熱によって炉水が加熱されてRPV3内の炉水の温度が定格温度(280℃)になる。RPV3内の圧力が定格圧力になり、炉水温度が定格温度に上昇した後、炉心4からのさらなる制御棒の引き抜き、及び炉心4に供給される炉水の流量増加により、原子炉出力が定格出力(100%出力)まで上昇される。定格出力を維持した、BWRプラント1の定格運転が、その運転サイクルの終了まで継続される。原子炉出力が、例えば、10%出力まで上昇したとき、炉心4で発生した蒸気が主蒸気配管8を通してタービン9に供給され、発電が開始される。
炉水には、RPV3内で炉水の放射線分解により生成された酸素及び過酸化水素が含まれている。RPV3内の、酸素を含む炉水95が、浄化系ポンプ19が駆動されている状態で、再循環系配管6から浄化系配管18内に導かれ、浄化系配管18の内面に形成されている、白金92が付着したニッケル金属皮膜91に接触する(図12参照)。前述の核分裂で生じる熱による炉水95の加熱により、このニッケル金属皮膜91に接触する炉水95の温度は、上昇し、やがて、130℃以上になり、最終的には定格出力時の280℃まで上昇する。
この炉水95の温度は、再生熱交換器20及び非再生熱交換器21の前後で大きく異なる。RPV3内の炉水の温度が280℃であるとき、浄化系配管18の、再生熱交換器20よりも上流の部分には、約280℃の炉水95が流れる。再生熱交換器20での熱交換の結果、再生熱交換器20から弁25側に流出する炉水95の温度は200℃から150℃程度の範囲に低下する。さらに、非再生熱交換器21において、炉水95は、50℃から室温程度までの範囲の温度に低下し、この温度範囲内で、イオン交換樹脂を含む炉水浄化装置22に供給される。炉水浄化装置22から流出した炉水95は、給水として用いられるため、再生熱交換器20で150℃から200℃程度の範囲に加熱された後、給水配管11を流れる給水に合流する。
BWRプラント1が起動されてRPV3内の圧力が定格圧力(このときの炉水の温度は280℃)まで上昇する期間において、浄化系配管18の、弁23と再生熱交換器20の間の部分を流れる炉水95、浄化系配管18の、再生熱交換器20と弁25の間の部分を流れる炉水95、及び浄化系配管18の再生熱交換器20よりも給水配管11側の部分を流れる炉水95は、時間のずれはあるが、130℃以上の温度になる。原子炉2の昇温昇圧過程において、RPV3内の圧力が上昇するに伴って、RPV3内の炉水95の温度は130℃を超えてより高い温度まで上昇する。
このため、弁23と弁25の間の浄化系配管18の内面に形成された、白金92が付着したニッケル金属皮膜91の表面が、前述の130℃以上280℃以下の温度範囲内の温度で酸素を含む炉水95と接触することによって、浄化系配管18及びそのニッケル金属皮膜91が炉水95と同じ温度に加熱される。炉水95に含まれる酸素が、弁23と弁25の間において浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91内に移行し、炭素鋼部材である浄化系配管18に含まれるFeがFe2+となってニッケル金属皮膜91内に移行する(図13参照)。130℃以上280℃以下の温度範囲内の高温環境では、炉水95に含まれる酸素及び浄化系配管18からのFe2+が、ニッケル金属皮膜91内に移行し易くなる。なお、炉水95の酸素濃度が低い場合には、炉水95の水分子が鉄の腐食によって分解されて酸素が生じ、この酸素が前述の炉水95に含まれる酸素と同じ働きをする。ニッケル金属皮膜91に付着した白金92の作用による、浄化系配管18及びニッケル金属皮膜91のそれぞれの腐食電位の低下、及び130℃以上280℃以下の温度範囲内の高温環境の形成により、ニッケル金属皮膜91がニッケル金属皮膜91内に移行した酸素及びFe2+と反応し、Ni1-xFe2+x4においてxが0である安定なニッケルフェライト(NiFe24)が生成される。
昇温昇圧工程において、炉水95の温度が130℃になる前の段階から、復水ポンプ12と復水浄化装置13の間で給水配管11に接続される水素注入装置(図示せず)により給水配管11内を流れる給水に水素が注入される。この水素注入は、昇温昇圧工程、原子炉出力の上昇工程及びBWRプラント1の定格運転時において実施される。水素を含む給水が原子炉圧力容器3に供給されるため、水素は、結局、炉水に注入されることになる。前述した白金92の作用による、浄化系配管18及びニッケル金属皮膜91のそれぞれの腐食電位の低下は、炉水95に含まれる酸素と注入された水素が白金92の作用によって反応して水になることによって生じる。
安定なニッケルフェライトが生成される際において、フェライト構造へのニッケルと鉄の取り込まれ易さは白金(貴金属)92の影響を受け、白金92が存在する場合は鉄よりもニッケルが取り込まれ易くなるため、Ni1-xFe2+x4においてxが0である安定なニッケルフェライトが生成される。そして、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91は安定なニッケルフェライト(NiFe24)皮膜97に変換され、弁23と弁25の間における浄化系配管18の内面が、表面に白金92が付着された安定なニッケルフェライト皮膜97で覆われる(図14参照)。
本実施例は、実施例1で生じる各効果を得ることができる。さらに、本実施例は、以下に述べる各効果も得ることができる。
浄化系配管18の内面を覆ったニッケル金属皮膜91から、130℃以上280℃以下の温度範囲内の高温の環境下において上記のように生成された、Ni1-xFe2+x4においてxが0であるニッケルフェライト(NiFe24)は、結晶が大きく成長しており、貴金属が付着してもNi0.7Fe2.34皮膜のように水中に溶出しなく安定であり、母材である炭素鋼、すなわち、浄化系配管18への放射性核種の付着を抑制することができる。
本実施例によれば、ニッケル金属皮膜91に付着した白金92の作用、及び130℃以上280℃以下の高温環境下で、前述したように、ニッケル金属皮膜91から生成された、Ni1-xFe2+x4においてxが0であるニッケルフェライトの皮膜97は、BWRプラント1の運転中においても、付着した白金92の作用により炉水中に溶出しない安定なニッケルフェライト皮膜である。このように生成された、付着した白金92の作用によっても炉水中に溶出しない安定なニッケルフェライト皮膜97は、60℃〜100℃の低い温度範囲で生成されたNi0.7Fe2.34皮膜よりも長期に亘って浄化系配管18の腐食を抑制することができる。具体的には、浄化系配管18の内面に形成されたその安定なニッケルフェライト皮膜97は、付着した白金92の作用によって溶出することがなく、複数の運転サイクル、例えば、5つの運転サイクル(例えば、5年間)に亘って浄化系配管18の内面を覆うことができる。このように、安定なニッケルフェライト皮膜97が長期に亘って浄化系配管18の内面を覆うことができるため、浄化系配管18は長期に亘って放射性核種の付着が抑制される。
本実施例では、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91は、浄化系配管18への白金の付着に要する時間を短縮させるだけでなく、付着した白金92の作用と相俟って、浄化系配管18の内面への、付着した白金によっても炉水に溶出しない安定なニッケルフェライト皮膜97の形成に貢献する。そのニッケルフェライト皮膜97によって、次の運転サイクルにおけるBWRプラントの起動後において、浄化系配管18内を流れる炉水が浄化系配管18の母材と接触することが遮られる。このため、炉水による浄化系配管18の腐食が抑制され、さらに、炉水に含まれる放射性核種の浄化系配管18の母材への取り込みが生じない。
本実施例のステップS15及びS16の各工程は、実施例2においてステップS14の工程が終了した後において、また、皮膜形成装置30Bを用いた原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法におけるステップS14の工程が終了した後において、各ステップS14の工程に引き続いて実施してもよい。
本発明の好適な他の実施例である実施例4の原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法を、図2、図3及び図15を用いて説明する。本実施例の原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法は、BWRプラントの、炭素鋼製の浄化系配管に適用される。
本実施例では、実施例3の原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法におけるステップS1〜S16の各工程及び新たなステップS17の工程が実施される。ステップS17の工程は、ステップS3の工程とステップS4の工程の間で実施される。本実施例の原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法は、ステップS1〜S4、S17及びS5〜S7の各工程を実施する原子力プラントの炭素鋼部材へのニッケル金属皮膜の形成方法を含んでいる。
ステップS1の工程では、皮膜形成装置30がBWRプラントの浄化系配管に接続される。ステップS1及びステップS2の各工程が実施された後、ギ酸及び過酸化水素を含む鉄溶出促進剤を注入する(ステップS3)。実施例1と同様に3000ppmのギ酸及び1500ppmの過酸化水素を含む鉄溶出促進剤水溶液が薬液タンク83及び57から循環配管31を流れる残存するギ酸を含む90℃の水溶液に注入される。鉄溶出促進剤に含まれる3000ppmのギ酸により浄化系配管18から鉄溶出促進剤水溶液へ鉄(II)イオンが溶出される。この鉄(II)イオンの触媒作用により1500ppmの過酸化水素からヒドロキシラジカルが生成され、このヒドロキシラジカルの作用によっても、浄化系配管18から鉄溶出促進剤水溶液への鉄(II)イオンの溶出が促進される。鉄(II)イオンの溶出促進に伴って多量の電子が生成される。1時間の間、鉄溶出促進剤水溶液が浄化系配管18の内面に接触する。この間、多量の鉄(II)イオンが、浄化系配管18から鉄溶出促進剤水溶液に溶出し、多量の電子が生成される。
ニッケルイオン水溶液を注入する(ステップS4)。ニッケルイオン注入装置36の弁40を開いて注入ポンプ38を駆動することにより、薬液タンク37内のギ酸ニッケル水溶液を、循環配管31内を流れる鉄溶出促進剤水溶液に注入する。鉄溶出促進剤水溶液にギ酸ニッケル水溶液を注入した結果、循環配管31内で皮膜形成水溶液93が生成される。この皮膜形成水溶液93は、3800ppmのギ酸及び1500ppmの過酸化水素を含む90℃の皮膜形成水溶液である。このとき、ギ酸ニッケル水溶液の注入された循環配管31内を流れる循環水のニッケルイオン濃度が、例えば、500ppmになるように薬液タンク37内のギ酸ニッケル水溶液の濃度と注入量を調整する。このときのギ酸ニッケル水溶液を注入された循環配管31内を流れる循環水のpHは、前述したように、2.5〜4.0(2.5以上4.0以下)の範囲になるように調整する。
ニッケルイオン及びギ酸を含みpHが2.5で90℃の皮膜形成水溶液(皮膜形成液)93は、循環ポンプ34の駆動により、循環配管31から浄化系配管18に供給される。皮膜形成水溶液93が浄化系配管18の内面に接触することにより、実施例1と同様に、ニッケル金属皮膜91が浄化系配管18の内面に形成される。皮膜形成水溶液93に含まれたギ酸、及び過酸化水素から生成されたヒドロキシラジカルの作用により、皮膜形成水溶液93への鉄(II)イオンの溶出が増大し、前述の置換反応により浄化系配管18の内面に取り込まれるニッケルイオンの量が多くなる。その内面に取り込まれたニッケルイオンは、鉄(II)イオンの溶出によって生成された多量の電子により還元されてニッケル金属になる。そして、浄化系配管18の内面を覆うニッケル金属皮膜91が形成される。そのニッケル金属皮膜91は、例えば1平方センチメートル当たり500μg以上4000μg以下(500〜4000μg/cm2)の範囲内のニッケル金属を含む。
還元剤を注入する(ステップS17)。ギ酸ニッケル水溶液を循環配管31に注入してからの経過時間が設定時間(例えば、1時間)になったとき、注入ポンプ84及び供給ポンプ58が停止されて弁86、60が閉じられ、ギ酸水溶液及び過酸化水素水溶液の循環配管31への注入を停止する。その後、還元剤であるヒドラジンの水溶液が、還元剤注入装置41から循環配管31内を流れる皮膜形成水溶液に注入される。注入されるヒドラジン水溶液のヒドラジン濃度は、例えば、450ppmである。皮膜形成水溶液は、ヒドラジンの注入により残存する過酸化水素が分解され、ニッケルイオン及びヒドラジンを含みpHが4.0以上9.0以下の範囲内にある皮膜形成水溶液、具体的には、ニッケルイオン、ギ酸及びヒドラジンを含みpHが6で90℃の皮膜形成水溶液93になる。
浄化系配管18に供給された、ヒドラジンを含むその皮膜形成水溶液93は、ニッケル金属皮膜91の表面に接触する。皮膜形成水溶液に含まれたニッケルイオンがニッケル金属皮膜91の表面に吸着され、このニッケルイオンがヒドラジンにより還元されてニッケル金属になる。皮膜形成水溶液93が循環配管31及び浄化系配管18を含む閉ループ内を循環するため、ニッケル金属皮膜91の表面に付着するニッケル金属が増加し、浄化系配管18の内面に形成されるニッケル金属皮膜91の厚みが増加する。
ステップS17の工程が終了した後、ステップS5〜S14の各工程が実施される。ステップS1〜S4,S17及びS5〜S14の各工程の実施は、原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法の一つの実施例を実施することに相当する。ステップS14の工程が終了した後、実施例3と同様に、ステップS15及びS16の各工程が実施される。ステップS16の実施により、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91が、安定なニッケルフェライト皮膜97に変換される。
本実施例は、実施例3で生じる各効果を得ることができる。さらに、本実施例は、ステップS4のニッケルイオン水溶液の注入後にステップS17の還元剤の注入工程を実施しているため、ニッケルイオン濃度が高いニッケルイオン水溶液を循環配管31に注入した場合でも、浄化系配管18の内面に取りこまれた多くのニッケルイオンをニッケル金属に変換することができる。すなわち、ニッケルイオン濃度が高いニッケルイオン水溶液の循環配管31への注入時に、鉄(II)イオンの溶出に伴って生成されてニッケルイオンを還元してニッケル金属に変換する電子が不足し、ニッケルイオンのニッケル金属への変換が危ぶまれる場合においても、注入した還元剤(例えば、ヒドラジン)を循環配管31に注入するので、浄化系配管18の内面に取りこまれた多量のニッケルイオンをニッケル金属に変換することができる。このため、浄化系配管18の内面に形成されたニッケル金属皮膜91の厚みを増加させることができる。
また、本実施例では、還元剤を皮膜形成液に注入するため、還元剤の作用により過酸化水素の分解が可能であり、ギ酸の分解工程においてカチオン交換樹脂への過酸化水素の供給を抑制できる。このため、ニッケル金属皮膜形成工程において実施例1よりも多量の過酸化水素を供給し、生成される電子の量を増加させることができる。この結果、ニッケル金属皮膜の形成量も増加する。
本実施例においても、皮膜形成装置30A及び30Bのいずれかを用い、ステップS3の替りに図8に示すステップS3Aを実施してもよい。
実施例1ないし4のそれぞれは、加圧水型原子力プラントにおいて原子炉圧力容器に連絡される炭素鋼製の配管に対して適用することができる。加圧水型原子力プラントの原子炉圧力容器内の炉水の温度は、沸騰水型原子力プラントにおける原子炉圧力容器3内の炉水の温度よりも高くなる。
1…沸騰水型原子力発電プラント、3…原子炉圧力容器、4…炉心、6…再循環系配管、9…タービン、11…給水配管、18…浄化系配管、30,30A,30B…皮膜形成装置、31…循環配管、32…サージタンク、33…加熱器、34,35…循環ポンプ、36…ニッケルイオン注入装置、37,42,47,57,83,98,102…薬液タンク、38,43,48,84,103…注入ポンプ、41…還元剤注入装置、46…白金イオン注入装置、52…冷却器、53…カチオン交換樹脂塔、54…混床樹脂塔、55…分解装置、56…酸化剤供給装置、58…供給ポンプ、82…ギ酸注入装置、91…ニッケル金属皮膜、92…白金、97…ニッケルフェライト、101…鉄溶出促進剤注入装置。

Claims (15)

  1. 鉄溶出剤及び過酸化水素を含む鉄溶出促進剤、及びニッケルイオンを含む皮膜形成水溶液を原子力プラントの炭素鋼部材の、炉水と接する第1表面に接触させて、この第1表面にニッケル金属皮膜を形成し、
    形成された前記ニッケル金属皮膜の第2表面に貴金属を付着させ、
    前記ニッケル金属皮膜の形成、及び前記貴金属の付着は、前記原子力プラントの運転停止後で前記原子力プラントの起動前に行われることを特徴とする原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  2. 前記皮膜形成水溶液を前記炭素鋼部材の第1表面に接触させる前に、前記鉄溶出剤及び前記過酸化水素を含む前記鉄溶出促進剤を含有する鉄溶出促進剤水溶液を前記炭素鋼部材の第1表面に接触させる請求項1に記載の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  3. 前記鉄溶出促進剤水溶液に前記鉄溶出剤及び前記過酸化水素を別々に注入する請求項2に記載の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  4. 前記鉄溶出剤及び前記過酸化水素を混合した状態で前記鉄溶出促進剤水溶液に注入する請求項2に記載の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  5. 前記鉄溶出剤としてギ酸、マロン酸及びアスコルビン酸のいずれかが用いられる請求項1ないし4のいずれか1項に記載の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  6. 前記ニッケル金属皮膜の形成は、前記鉄溶出剤、及び前記過酸化水素から生成されるヒドロキシラジカルの作用により前記炭素鋼部材から鉄イオンが溶出する際に発生する電子が、前記炭素鋼部材の第1表面に取り込まれた前記ニッケルイオンを還元することによって行われる請求項1ないし5のいずれか1項に記載の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  7. 前記ニッケルイオン及び前記鉄溶出促進剤を含む前記皮膜形成水溶液のpHが2.5以上4.0以下の範囲内のpHである請求項1に記載の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  8. 前記ニッケル金属皮膜の形成は、前記炭素鋼部材の第1表面に対して還元除染が実施された後に行われる請求項1に記載の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  9. 前記炭素鋼部材の第1表面への前記ニッケル金属皮膜の形成後で前記ニッケル金属皮膜の第2表面への前記貴金属の付着前に、前記皮膜形成水溶液に含まれる前記鉄溶出剤を分解する請求項1ないし8のいずれか1項に記載の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  10. 原子炉圧力容器に連絡される、炭素鋼部材である第1配管にこの第1配管とは別の第2配管を接続し、
    鉄溶出剤及び過酸化水素を含む鉄溶出促進剤、及びニッケルイオンを含む皮膜形成水溶液を、前記第2配管を通して、前記第1配管に供給し、
    前記皮膜形成水溶液を前記第1配管の内面に接触させて前記第1配管の内面にニッケル金属皮膜を形成し、
    貴金属を含む貴金属水溶液を、前記第2配管から前記第1配管に供給して前記第1配管の内面に形成された前記ニッケル金属皮膜の表面に接触させ、前記貴金属を前記ニッケル金属皮膜の表面に付着させることを特徴とする原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  11. 前記皮膜形成水溶液を前記第1配管の内面に接触させる前に、前記鉄溶出剤及び前記過酸化水素を含む前記鉄溶出促進剤を含有する鉄溶出促進剤水溶液を、前記第2配管を通して前記第1配管内に供給し、前記鉄溶出促進剤水溶液を前記炭素鋼部材の第1表面に接触させる請求項10に記載の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  12. 前記鉄溶出剤は前記第2配管に接続された鉄溶出剤注入装置から前記第2配管に注入され、前記過酸化水素は前記第2配管に接続された過酸化水素注入装置から前記第2配管に注入され、前記ニッケルイオンは前記第2配管に接続されたニッケルイオン注入装置から前記第2配管に注入され、
    前記第1配管に供給される皮膜形成水溶液は、前記第2配管に注入された前記鉄溶出剤、前記過酸化水素及び前記ニッケルイオンによって前記第2配管内で生成される請求項11に記載の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  13. 前記鉄溶出剤及び前記過酸化水素を含む鉄溶出促進剤は前記第2配管に接続された鉄溶出促進剤注入装置から前記第2配管に注入され、前記ニッケルイオンは前記第2配管に接続されたニッケルイオン注入装置から前記第2配管に注入され、
    前記第1配管に供給される皮膜形成水溶液は、前記第2配管に注入された前記鉄溶出促進剤及び前記ニッケルイオンによって前記第2配管内で生成される請求項11に記載の原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法。
  14. 請求項1ないし13のいずれか1項に記載された原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法を実施し、
    酸素を含む130℃以上330℃以下の温度範囲内の温度の水を前記貴金属が付着した前記ニッケル金属皮膜の第2表面に接触させることを特徴とする原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法。
  15. 前記ニッケル金属皮膜の第2表面に前記貴金属が付着された後、前記原子力プラントが起動され、
    酸素を含む130℃以上330℃以下の温度範囲内の温度の水として、炉水が用いられる請求項14に記載の原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法。
JP2020005023A 2020-01-16 2020-01-16 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法 Active JP7344132B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020005023A JP7344132B2 (ja) 2020-01-16 2020-01-16 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法
US17/143,288 US20220213601A1 (en) 2020-01-16 2021-01-07 Method for adhering noble metal to carbon steel member of nuclear power plant and method for preventing adhesion of radionuclides to carbon steel member of nuclear power plant
MX2021000474A MX2021000474A (es) 2020-01-16 2021-01-12 Metodo para adherir metal noble a un elemento de acero al carbono de una planta de energia nuclear y metodo para prevenir la adhesion de radionucleidos a un elemento de acero a carbono de una planta de energia nuclear.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020005023A JP7344132B2 (ja) 2020-01-16 2020-01-16 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021113683A true JP2021113683A (ja) 2021-08-05
JP7344132B2 JP7344132B2 (ja) 2023-09-13

Family

ID=77076888

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020005023A Active JP7344132B2 (ja) 2020-01-16 2020-01-16 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20220213601A1 (ja)
JP (1) JP7344132B2 (ja)
MX (1) MX2021000474A (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115448282B (zh) * 2022-09-15 2024-01-05 广东邦普循环科技有限公司 一种镍铁合金制备磷酸铁锂的方法及应用

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002333498A (ja) * 2001-05-10 2002-11-22 Toshiba Corp 放射性物質の除染方法
JP2008036591A (ja) * 2006-08-10 2008-02-21 Toshiba Corp 廃液中の有機酸の分解方法及びその分解装置
JP2010229543A (ja) * 2009-03-06 2010-10-14 Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd 炭素鋼部材へのニッケルフェライト皮膜形成方法
US20110030850A1 (en) * 2009-08-04 2011-02-10 Hitachi-Ge Nuclear Energy, Ltd. Suppression Method for Corrosion of Carbon Steel Member
JP2011247651A (ja) * 2010-05-25 2011-12-08 Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd プラント構成部材へのフェライト皮膜形成方法
JP2019158808A (ja) * 2018-03-16 2019-09-19 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属の付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2836510A (en) * 1953-05-21 1958-05-27 Gen Motors Corp Nickel plating by chemical reduction
EP1531591A1 (en) * 2003-11-11 2005-05-18 STMicroelectronics Belgium N.V. Sample selector time domain interpolation
JP6620081B2 (ja) * 2016-09-20 2019-12-11 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属の付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002333498A (ja) * 2001-05-10 2002-11-22 Toshiba Corp 放射性物質の除染方法
JP2008036591A (ja) * 2006-08-10 2008-02-21 Toshiba Corp 廃液中の有機酸の分解方法及びその分解装置
JP2010229543A (ja) * 2009-03-06 2010-10-14 Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd 炭素鋼部材へのニッケルフェライト皮膜形成方法
US20110030850A1 (en) * 2009-08-04 2011-02-10 Hitachi-Ge Nuclear Energy, Ltd. Suppression Method for Corrosion of Carbon Steel Member
JP2011032551A (ja) * 2009-08-04 2011-02-17 Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd 炭素鋼部材の防食方法
JP2011247651A (ja) * 2010-05-25 2011-12-08 Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd プラント構成部材へのフェライト皮膜形成方法
JP2019158808A (ja) * 2018-03-16 2019-09-19 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属の付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20220213601A1 (en) 2022-07-07
JP7344132B2 (ja) 2023-09-13
MX2021000474A (es) 2021-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6620081B2 (ja) 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属の付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法
JP4538022B2 (ja) 原子力プラント構成部材への放射性核種の付着抑制方法及びフェライト皮膜形成装置
JP6619717B2 (ja) 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属の付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法
JP2012247322A (ja) プラント構成部材への白金皮膜形成方法
JP2016102727A (ja) 原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種付着抑制方法及び皮膜形成装置
JP6931622B2 (ja) 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属の付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法
US20220213601A1 (en) Method for adhering noble metal to carbon steel member of nuclear power plant and method for preventing adhesion of radionuclides to carbon steel member of nuclear power plant
JP6751044B2 (ja) 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属の付着方法、及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法
JP2009210307A (ja) 原子力プラント構成部材への放射性核種の付着抑制方法及びフェライト皮膜形成装置
JP6868545B2 (ja) プラントの炭素鋼部材の腐食抑制方法
JP6523973B2 (ja) 放射性核種の付着抑制方法、及び炭素鋼配管への皮膜形成装置
JP6894862B2 (ja) 原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種付着抑制方法
JP7142587B2 (ja) 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法
WO2019102768A1 (ja) 原子力プラントの炭素鋼部材への貴金属の付着方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法
JP7104616B2 (ja) 原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法
JP7001534B2 (ja) 原子力プラントの構造部材への放射性核種の付着抑制方法
JP2016099159A (ja) 炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法及びその装置
JP2016003940A (ja) 原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種付着抑制方法
JP7475171B2 (ja) 化学除染方法および化学除染装置
JP2019157215A (ja) プラントの炭素鋼部材の腐食抑制方法
JP2019164059A (ja) 原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法
JP2020148574A (ja) 原子力プラントの炭素鋼部材へのニッケル金属皮膜の形成方法及び原子力プラントの炭素鋼部材への放射性核種の付着抑制方法
JP4771994B2 (ja) フェライト皮膜形成後における溶液の処理方法
JP5645759B2 (ja) 原子力プラント構成部材の線量低減方法
JP2014130160A (ja) 原子力プラント構成部材の線量低減方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220415

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230206

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230221

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230405

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230523

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230713

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230808

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230901

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7344132

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150