JP2020531307A

JP2020531307A - 配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層を作製するアセンブリ及びプロセス

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Publication number: JP2020531307A
Application number: JP2020507638A
Authority: JP
Inventors: セドリックアメラシンゲ，; エドガーミュラー，; エフゲニーロギノフ，; マシューシュミッド，; クロード−アランデスプランド，
Original assignee: SICPA Holding SA
Current assignee: SICPA Holding SA
Priority date: 2017-08-25
Filing date: 2018-08-23
Publication date: 2020-11-05
Anticipated expiration: 2038-08-23
Also published as: SG11202000273TA; AR112860A1; UA128110C2; RS65571B1; TW201913143A; HUE067360T2; AR112858A1; US11065906B2; WO2019038371A1; KR102670356B1; CN111065467B; MA49940B1; PL3672736T3; MX2020002111A; CA3070050A1; EP3672736B1; ES2981093T3; US20200247173A1; AU2018320150B2; JP7171996B2

Abstract

本発明は、磁気的に配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を基板上に含む光学効果層（ＯＥＬ）、前記光学効果層（ＯＥＬ）を作製する旋回可能な磁性アセンブリ及びプロセスの分野に関する。詳細には、本発明は、セキュリティ文書若しくはセキュリティ物品に対する偽造防止手段として、又は装飾目的で、前記ＯＥＬを作製する旋回可能な磁性アセンブリ及びプロセスに関する。【選択図】図５Ｂ

Description

［発明の分野］
［０１］本発明は、有価文書及び有価又はブランド市販品を偽造及び違法複製から保護する分野に関する。詳細には、本発明は、視野角が動的な外観及び光学効果を示す光学効果層（ＯＥＬ）、前記ＯＥＬを作製する旋回可能な磁性アセンブリ及びプロセス、並びに文書及び物品に対する偽造防止手段としての前記ＯＥＬの使用に関する。

［発明の背景］
［０２］セキュリティ要素及びセキュリティ文書の作製のための磁性又は磁化可能顔料粒子、特に非球形で光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子を含有するインク、被覆組成物、被覆、又は層の使用は、当技術分野では知られている。

［０３］セキュリティ文書及び物品に対するセキュリティ特徴は、「機密」及び「公開」セキュリティ特徴に分類することができる。機密セキュリティ特徴によって提供される保護は、そのような特徴が人間の感覚から隠されるという概念に依拠し、典型的にはそれらの検出には特殊な機器及び知識が必要とされるのに対して、「公開」セキュリティ特徴は、支援なしの人間の感覚によって容易に検出可能である。そのような特徴は、触覚を介して可視及び／又は検出可能とすることができるが、それでもなお作製及び／又は複製するのは困難である。しかし、公開セキュリティ特徴の有効性は、ユーザがその存在及び性質を認識した場合にのみ、そのようなセキュリティ特徴に基づいてセキュリティチェックを実際に実行するため、セキュリティ特徴として容易に認識できるかどうかに大きく依存する。

［０４］配向された磁性又は磁化可能顔料粒子を含む被覆又は層は、たとえば米国特許第２，５７０，８５６号、米国特許第３，６７６，２７３号、米国特許第３，７９１，８６４号、米国特許第５，６３０，８７７号、及び米国特許第５，３６４，６８９号に開示されている。被覆内の磁性又は磁化可能顔料粒子は、対応する磁場を印加し、固化されていない被覆内の磁性又は磁化可能顔料粒子の局所的な配向を引き起こし、それに続いて、被覆を固化して粒子をその位置及び配向で固定することによって、磁気的に誘起された画像、デザイン、及び／又はパターンの作成を可能にする。この結果、特有の光学効果が得られ、すなわち固定され磁気的に誘起された画像、デザイン、又はパターンは、耐偽造性が非常に強くなる。配向された磁性又は磁化可能顔料粒子に基づくセキュリティ要素は、磁性若しくは磁化可能顔料粒子又は前記粒子を含む対応するインク若しくは被覆組成物と、前記インク又は被覆組成物を塗布し、塗布されたインク又は被覆組成物内で前記顔料粒子を配向させ、それに続いて前記インク又は組成物を固化するために用いられる特定の技術との両方へのアクセスを有することによってのみ作製することができる。

［０５］効率的なセキュリティ要素として、「移動リング」効果が開発されてきた。移動リング効果は、選択された照射又は観測角、すなわち前記光学効果層の傾斜角に応じて被覆の平面内で任意のｘ−ｙ方向に動いているように見える漏斗、円錐、鉢、円、長円、及び半球などの物体の光学的に錯覚を起こさせる画像からなる。移動リング効果をもたらす手段及び方法は、たとえば欧州特許出願公開第１７１０７５６号、米国特許第８３４３６１５号、欧州特許出願公開第２３０６２２２号、欧州特許出願公開第２３２５６７７号、及び米国特許出願公開第２０１３／０８４４１１号に開示されている。

［０６］国際公開第２０１１／０９２５０２号は、視野角を変化させることによって見掛け上動いているリングを表示する移動リング画像を作製する装置を開示している。開示されている移動リング画像は、軟磁性シートと、被覆層の平面に対して直角の磁軸線を有し、前記軟磁性シートの下に配置された球形の磁石との組合せによってもたらされる磁場の助けを借りて取得又は作製することができる。

［０７］明るい人目を引く光学効果を表示するインク又は被覆組成物内で配向された磁性粒子に基づき、肉眼によって容易に検証され、偽造者にとって入手可能な機器では大規模に作製することが困難であるが、セキュリティ印刷業者では同じ機器を使用して多数の異なる形状及び色を提供することができる、異なるセキュリティ特徴が、依然として必要とされている。

［発明の概要］
［０８］したがって、本発明の目的は、視野角に依存する見掛け上の運動及び視野角が動的な外観を呈する光学効果層（ＯＥＬ）を提供することである。改善された容易に検出できる公開セキュリティ特徴として、又は追加若しくは別法として、たとえば文書セキュリティの分野の機密セキュリティ特徴として、そのようなＯＥＬを提供することが特に望ましい。さらなる目的によれば、そのようなＯＥＬはまた、装飾の目的でも好適である。

［０９］本発明は、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ｘ１０、ＯＥＬ）を提供し、前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、配向パターンに応じて配向され、
配向パターンは、回転中心の周りで円対称であり、
ＯＥＬの任意の選択された直径に沿った少なくとも２つ、好ましくは４つの別個の位置ｘ_ｉにおける非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°、好ましくは≧１５°という条件を満たす位置ｘ_ｉの平均天頂偏向角φ’及び同じ位置ｘ_ｉの選択された直径に対する平均方位角θを有し、
前記光学効果層は、前記ＯＥＬを傾斜させたとき、少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの彗星状スポットが前記回転中心の周りを回転するという光学的印象を提供する。

［０１０］偽造又は不正からのセキュリティ文書若しくは物品の保護又は装飾の適用のための本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）の使用もまた、本明細書に記載される。

［０１１］本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）のうちの１つ又は複数を含むセキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体もまた、本明細書に記載される。

［０１２］本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を作製する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）、及び本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を基板（ｘ２０）に作製する前記旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）の使用もまた、本明細書に記載される。特に、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、旋回磁性アセンブリ（ｘ００）の磁場によって配向され、ＯＥＬを備えた基板の表面は、磁性アセンブリ（ｘ００）の旋回軸線に対して実質上直角である。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、少なくともａ）第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及びｂ）第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）を備え、前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、相互に斜めの磁軸線を有し、前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり、前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の磁軸線の射影は、約５°〜約１７５°の範囲内又は約−５°〜約−１７５度の範囲内、好ましくは約１５°〜約１６５°の範囲内又は約−１５°〜約−１６５°の範囲内の角度（Ω）を形成する。本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を作製する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、
ａ）第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）であって、
旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石、又は
２つ以上の棒状の双極磁石であり、前記２つ以上の棒状の双極磁石が、旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有し、前記２つ以上の棒状の双極磁石がすべて、同じ磁場方向を有する、２つ以上の棒状の双極磁石、又は
旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石、又は
ループ状、好ましくはリング状の双極磁石内に入れ子にされた円板状の双極磁石であり、円板状の双極磁石及びループ状、好ましくはリング状の双極磁石がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線及び同じ磁場方向を有する、円板状の双極磁石、又は
２つ以上の入れ子にされたループ状、好ましくは２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石であり、前記２つ以上の入れ子にされたループ状、好ましくは２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有し、前記２つ以上の入れ子にされたループ状、好ましくは２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石がすべて、同じ磁場方向を有する、２つ以上の入れ子にされたループ状、好ましくは２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石を備える、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、
ｂ）第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）であって、
旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石、
旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石、又は
旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石を備える、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）とを具備する。

［０１３］本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載するものなどの基板上に作製する印刷装置もまた、本明細書に記載され、前記印刷装置は、本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備える。本明細書に記載する印刷装置は、本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備える回転磁性筒体、又は本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備える平床式印刷ユニットを具備する。

［０１４］本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載するものなどの基板上に作製する本明細書に記載する印刷装置の使用もまた、本明細書に記載される。

［０１５］本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）を基板（ｘ２０）に作製するプロセス、及びそのプロセスによって得られる光学効果層（ＯＥＬ）もまた、本明細書に記載され、前記プロセスは、
ｉ）本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物を基板（ｘ２０）の表面に塗布するステップであって、前記放射線硬化性の被覆組成物が第１の状態にある、塗布するステップと、
ｉｉ）本明細書に記載する旋回磁性アセンブリ（ｘ００）又は本明細書に記載する印刷装置の磁場に放射線硬化性の被覆組成物を露出させ、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップと、
ｉｉｉ）ステップｉｉ）の放射線硬化性の被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態にし、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定するステップとを含む。

［０１６］セキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体を製造する方法であって、ａ）セキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体を用意するステップと、ｂ）セキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体によって含まれるように、特に本明細書に記載するプロセスによって得られたものなど、本明細書に記載するものなどの光学効果層を用意するステップとを含むもまた、本明細書に記載される。

［０１７］本発明は、セキュリティ文書及び物品をその真正性に関して保護するための確実な手段及び方法を提供する。本明細書に記載するセキュリティ特徴は、美的な外観を有しており、多種多様な実施形態及び形式で作製して設計明細書にしっかりと組み込むことができ、人間の肉眼で容易に認識される。他方では、本明細書に記載するセキュリティ特徴は、容易に作製されるものではなく、その作製には印刷機械に組み込まれて最高作製速度で稼働するセキュリティ印刷業者の専用の機構を必要とする。

前記ＯＥＬが図１Ｂに示すように４つの照射源によって４つの基本方位（Ｎ、Ｅ、Ｓ、及びＷ）のそれぞれから順次照射されているときに前記ＯＥＬを直交図で見た、本発明による円形に動く彗星状スポットを呈する光学効果層（ＯＥＬ）（１１０）の視覚的外観を概略的に示す図である。前記ＯＥＬが図１Ｂに示すように４つの照射源によって４つの基本方位（Ｎ、Ｅ、Ｓ、及びＷ）のそれぞれから順次照射されているときに前記ＯＥＬを直交図で見た、本発明による円形に動く彗星状スポットを呈する光学効果層（ＯＥＬ）（１１０）の視覚的外観を概略的に示す図である。ＯＥＬの（ｘ，ｙ）平面内の選択された直径（２１２）に沿って原点（２１１）から生じる本発明による粒子配向パターンを概略的に示す図である。前記配向パターンがＯＥＬの選択された直径（２１２）に沿って示されている、本発明による基板（２２０）上のＯＥＬ（２１０）の配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の特徴的な反射特性の概略図である。本発明のＯＥＬ内に含まれる非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の位置及び配向について説明するために使用される座標系（ｘ，ｙ，ｚ，φ，θ）を概略的に示す図である。直交入射における反射ビーム出口角φ’に対する被覆組成物の屈折率ｎの効果について説明し、ここでφはＯＥＬの平面に対する粒子の傾斜角である、図である。ドーム型ＯＥＬを作製する従来技術の旋回可能な磁石アセンブリを概略的に示す図である。従来技術による図３Ａに示す旋回磁石アセンブリによって得られるドーム型効果を呈する円対称ＯＥＬを示す図である。図３Ａに示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。リング型ＯＥＬを作製する従来技術の旋回可能な磁石アセンブリを概略的に示す図である。従来技術による図３Ｄに示す旋回磁石アセンブリによって得られたリング型効果を呈する円対称ＯＥＬを示す図である。図３Ｄに示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。本明細書に示すＯＥＬの反射ビーム方向を測定するために使用されるコノスコープスキャタロメトリの仕事原理を概略的に示す図である。ＯＥＬ内の顔料粒子の配向を判定するために使用される完全反射コノスコープスキャタロメータの機構を概略的に示す。光学効果層（ＯＥＬ）（５１０）を基板（５２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（５００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（５００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（５２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（５２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石である第１の磁場生成デバイス（５３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（５２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（５４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（５３０）が、第２の磁場生成デバイス（５４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿ったリング状の双極磁石（５３０）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（５４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿ったリング状の双極磁石（５３０）の磁軸線の射影と円板状の双極磁石（５４０）の磁軸線の射影との間の角度Ωを概略的に示す図である。サンプルが−３０°〜＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図５Ａ１に示す旋回可能な磁性アセンブリ（５００）を使用することによって得られたＯＥＬの写真を示す図である。図５Ａ１に示す旋回磁性アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿って測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。光学効果層（ＯＥＬ）（６１０）を基板（６２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（６００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（６００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（６２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（６２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石である第１の磁場生成デバイス（６３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（６２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（６４０）とを備え、第２の磁場生成デバイス（６４０）が、第１の磁場生成デバイス（６３０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿ったリング状の双極磁石（６３０）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（６４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿ったリング状の双極磁石（６３０）の磁軸線の射影と円板状の双極磁石（６４０）の磁軸線の射影との間の角度Ωを概略的に示す図である。サンプルが−３０°〜＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図６Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られたＯＥＬの写真を示す図である。図６Ａ１に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。光学効果層（ＯＥＬ）（７１０、８１０）を基板（７２０、８２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（７００、８００）を概略的にそれぞれ示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（７００、８００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石である第１の磁場生成デバイス（７３０、８３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（７４０、８４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（７３０、８３０）が、第２の磁場生成デバイス（７４０、８４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿ったリング状の双極磁石（７３０、８３０）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（７４０、８４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。光学効果層（ＯＥＬ）（７１０、８１０）を基板（７２０、８２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（７００、８００）を概略的にそれぞれ示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（７００、８００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石である第１の磁場生成デバイス（７３０、８３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（７４０、８４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（７３０、８３０）が、第２の磁場生成デバイス（７４０、８４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿ったリング状の双極磁石（７３０、８３０）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（７４０、８４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。光学効果層（ＯＥＬ）（７１０、８１０）を基板（７２０、８２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（７００、８００）を概略的にそれぞれ示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（７００、８００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石である第１の磁場生成デバイス（７３０、８３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（７４０、８４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（７３０、８３０）が、第２の磁場生成デバイス（７４０、８４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿ったリング状の双極磁石（７３０、８３０）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（７４０、８４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。光学効果層（ＯＥＬ）（７１０、８１０）を基板（７２０、８２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（７００、８００）を概略的にそれぞれ示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（７００、８００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石である第１の磁場生成デバイス（７３０、８３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（７４０、８４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（７３０、８３０）が、第２の磁場生成デバイス（７４０、８４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿ったリング状の双極磁石（７３０、８３０）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（７４０、８４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。光学効果層（ＯＥＬ）（７１０、８１０）を基板（７２０、８２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（７００、８００）を概略的にそれぞれ示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（７００、８００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石である第１の磁場生成デバイス（７３０、８３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０、８２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（７４０、８４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（７３０、８３０）が、第２の磁場生成デバイス（７４０、８４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿ったリング状の双極磁石（７３０、８３０）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（７４０、８４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿ったリング状の双極磁石（７３０、８３０）の磁軸線の射影と円板状の双極磁石（７４０、８４０）の磁軸線の射影との間の角度Ωを概略的にそれぞれ示す図である。サンプルが−３０°〜＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図７〜図８Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られたＯＥＬの写真をそれぞれ示す図である。図７〜図８Ａ１に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。光学効果層（ＯＥＬ）（９１０）を基板（９２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（９００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（９００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（９２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（９５０）に埋め込まれており、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石（９３１）である第１の磁場生成デバイス（９３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（９４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（９３０）が、第２の磁場生成デバイス（９４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った棒状の双極磁石（９３０）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（９４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った棒状の双極磁石（９３０）の磁軸線の射影と円板状の双極磁石（９４０）の磁軸線の射影との間の角度Ωを概略的に示す図である。光学効果層（ＯＥＬ）（９１０）を基板（９２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（９００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（９００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（９２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（９５０）に埋め込まれており、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石（９３１）である第１の磁場生成デバイス（９３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（９４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（９３０）が、第２の磁場生成デバイス（９４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った棒状の双極磁石（９３０）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（９４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。光学効果層（ＯＥＬ）（９１０）を基板（９２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（９００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（９００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（９２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（９５０）に埋め込まれており、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石（９３１）である第１の磁場生成デバイス（９３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（９４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（９３０）が、第２の磁場生成デバイス（９４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った棒状の双極磁石（９３０）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（９４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。サンプルが−３０°〜＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図９Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られたＯＥＬの写真を示す図である。図９Ａ１に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。光学効果層（ＯＥＬ）（１０１０）を基板（１０２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１０２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（１０５０）に埋め込まれた２つの棒状の双極磁石（１０３１）の中心に位置合わせされた配置を備え、前記棒状の双極磁石（１０３１）がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線並びに同じ方向を指す磁軸線を有する、第１の磁場生成デバイス（１０３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（１０４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１０３０）が、第２の磁場生成デバイス（１０４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った２つの棒状の双極磁石（１０３１）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（１０４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）の磁軸線の射影と円板状の双極磁石（１０４０）の磁軸線の射影との間の角度Ωを概略的に示す図である。光学効果層（ＯＥＬ）（１０１０）を基板（１０２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１０２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（１０５０）に埋め込まれた２つの棒状の双極磁石（１０３１）の中心に位置合わせされた配置を備え、前記棒状の双極磁石（１０３１）がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線並びに同じ方向を指す磁軸線を有する、第１の磁場生成デバイス（１０３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（１０４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１０３０）が、第２の磁場生成デバイス（１０４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った２つの棒状の双極磁石（１０３１）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（１０４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。光学効果層（ＯＥＬ）（１０１０）を基板（１０２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１０２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（１０５０）に埋め込まれた２つの棒状の双極磁石（１０３１）の中心に位置合わせされた配置を備え、前記棒状の双極磁石（１０３１）がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線並びに同じ方向を指す磁軸線を有する、第１の磁場生成デバイス（１０３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（１０４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１０３０）が、第２の磁場生成デバイス（１０４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った２つの棒状の双極磁石（１０３１）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（１０４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。サンプルが−３０°〜＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図１０Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られたＯＥＬの写真を示す図である。図１０Ａ１に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。光学効果層（ＯＥＬ）（１１１０）を基板（１１２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１１００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１１００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１１２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（１１３２）に埋め込まれており、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１１２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線並びに同じ方向を指す磁軸線を有する３つの同一線上の棒状の双極磁石（１１３１）の中心に位置合わせされた配置を備える第１の磁場生成デバイス（１１３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１１２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（１１４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１１３０）が、第２の磁場生成デバイス（１１４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（１１４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った３つの棒状の双極磁石（１１３１）の磁軸線の射影と円板状の双極磁石（１１４０）の磁軸線の射影との間の角度Ωを概略的に示す図である。光学効果層（ＯＥＬ）（１１１０）を基板（１１２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１１００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１１００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１１２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（１１３２）に埋め込まれており、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１１２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線並びに同じ方向を指す磁軸線を有する３つの同一線上の棒状の双極磁石（１１３１）の中心に位置合わせされた配置を備える第１の磁場生成デバイス（１１３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１１２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（１１４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１１３０）が、第２の磁場生成デバイス（１１４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（１１４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。光学効果層（ＯＥＬ）（１１１０）を基板（１１２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１１００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１１００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１１２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（１１３２）に埋め込まれており、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１１２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線並びに同じ方向を指す磁軸線を有する３つの同一線上の棒状の双極磁石（１１３１）の中心に位置合わせされた配置を備える第１の磁場生成デバイス（１１３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１１２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（１１４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１１３０）が、第２の磁場生成デバイス（１１４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（１１４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。サンプルが−３０°〜＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図１１Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られたＯＥＬの写真を示す図である。図１１Ａ１に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。光学効果層（ＯＥＬ）（１２１０）を基板（１２２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１２００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１２００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１２２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、直径方向に磁化された円板状の双極磁石（１２３１−ａ）を備え、円板状の双極磁石（１２３１−ａ）が、直径方向に磁化されたリング状の双極磁石（１２３１−ｂ）内に入れ子にされ（すなわち、同心円状に配置される）、前記磁石（１２３１−ａ、１２３１−ｂ）がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１２２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、前記磁石（１２３１−ａ、１２３１−ｂ）がすべて、同じ方向を指し、支持マトリックス（１２５０）に埋め込まれる、第１の磁場生成デバイス（１２３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１２２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（１２４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１２３０）が、第２の磁場生成デバイス（１２４０）上に同軸に配置され、円板状の双極磁石（１２３１−ａ）及びリング状の双極磁石（１２３１−ｂ）の磁軸線の射影並びに円板状の双極磁石（１２４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。光学効果層（ＯＥＬ）（１３１０）を基板（１３２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１３００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１３００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１３２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（１３５０）に埋め込まれた２つの入れ子にされたリング状の磁石（１３３１−ａ、１１３１−ｂ）を備え、前記２つ以上の入れ子にされたリング状の磁石（１３３１−ａ、１３３１−ｂ）がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１３２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化され、前記２つ以上の入れ子にされたリング状の磁石（１３３１−ａ、１３３１−ｂ）がすべて、同じ方向を指す、第１の磁場生成デバイス（１３３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１３２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（１３４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１３３０）が、第２の磁場生成デバイス（１３４０）上に同軸に配置され、２つの入れ子にされたリング状の磁石（１３３１−ａ、１３３１−ｂ）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（１３４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。 │φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°という条件（図１４Ａ）又は│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１５°という条件（図１４Ｂ）を満たす天頂偏向角φ’及び方位角θを有する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向の範囲を（φ’，θ）グラフに陰影区域として示す図である。 │φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°という条件（図１４Ａ）又は│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１５°という条件（図１４Ｂ）を満たす天頂偏向角φ’及び方位角θを有する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向の範囲を（φ’，θ）グラフに陰影区域として示す図である。光学効果層（ＯＥＬ）（１５１０）を基板（１５２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１５００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１５００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１５２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（１５５０）に埋め込まれた２つの棒状の双極磁石（１５３１）の中心に位置合わせされた配置を備え、前記２つの棒状の双極磁石（１５３１）がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１５２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線並びに同じ方向を指す磁軸線を有し、２つの棒状の双極磁石（１５３１）の頂面の中心を交差する支持マトリックス（１５５０）の直径から特有の角度だけ傾斜している、第１の磁場生成デバイス（１５３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１５２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（１５４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１５３０）が、第２の磁場生成デバイス（１５４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った２つの棒状の双極磁石（１５３１）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（１５４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）の磁軸線の射影と円板状の双極磁石（１５４０）の磁軸線の射影との間の角度Ωを概略的に示す図である。光学効果層（ＯＥＬ）（１５１０）を基板（１５２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１５００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１５００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１５２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（１５５０）に埋め込まれた２つの棒状の双極磁石（１５３１）の中心に位置合わせされた配置を備え、前記２つの棒状の双極磁石（１５３１）がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１５２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線並びに同じ方向を指す磁軸線を有し、２つの棒状の双極磁石（１５３１）の頂面の中心を交差する支持マトリックス（１５５０）の直径から特有の角度だけ傾斜している、第１の磁場生成デバイス（１５３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１５２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（１５４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１５３０）が、第２の磁場生成デバイス（１５４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った２つの棒状の双極磁石（１５３１）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（１５４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。光学効果層（ＯＥＬ）（１５１０）を基板（１５２０）の表面に作製する旋回可能な磁性アセンブリ（１５００）を概略的に示し、前記旋回可能な磁性アセンブリ（１５００）が、ＯＥＬを作製するために使用するときに基板（１５２０）の表面に対して実質上直角である旋回軸線（矢印）を有し、旋回可能な磁性アセンブリが、支持マトリックス（１５５０）に埋め込まれた２つの棒状の双極磁石（１５３１）の中心に位置合わせされた配置を備え、前記２つの棒状の双極磁石（１５３１）がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１５２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線並びに同じ方向を指す磁軸線を有し、２つの棒状の双極磁石（１５３１）の頂面の中心を交差する支持マトリックス（１５５０）の直径から特有の角度だけ傾斜している、第１の磁場生成デバイス（１５３０）と、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１５２０）の表面に対して実質上平行である南北の磁軸線を有し、直径方向に磁化された円板状の双極磁石である第２の磁場生成デバイス（１５４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１５３０）が、第２の磁場生成デバイス（１５４０）上に同軸に配置され、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った２つの棒状の双極磁石（１５３１）の磁軸線の射影及び円板状の双極磁石（１５４０）の磁軸線の射影が角度（Ω）を形成する、図である。サンプルが−３０°〜＋３０°傾斜しているときに固定位置から見た、図１５Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られたＯＥＬの写真を示す図である。図１５Ａ１に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された粒子配向を（φ’，θ）グラフに示す図である。リング状の双極磁石（５３０）の下面と円板状の双極磁石（５４０）の上面との間の距離（ｄ）が変更されていること、及び／又はリング状の双極磁石（５３０）の上面と旋回可能な磁性アセンブリ（５００）に面している基板（５２０）の表面との間の距離（ｈ）が変更されていることを除いて、図５Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られた前記ＯＥＬを３０°〜０°傾斜させることによってＯＥＬの写真を示す図である。リング状の双極磁石（５３０）の下面と円板状の双極磁石（５４０）の上面との間の距離（ｄ）が変更されていること、及び／又はリング状の双極磁石（５３０）の上面と旋回可能な磁性アセンブリ（５００）に面している基板（５２０）の表面との間の距離（ｈ）が変更されていることを除いて、図５Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られた前記ＯＥＬを３０°〜０°傾斜させることによってＯＥＬの写真を示す図である。リング状の双極磁石（５３０）の下面と円板状の双極磁石（５４０）の上面との間の距離（ｄ）が変更されていること、及び／又はリング状の双極磁石（５３０）の上面と旋回可能な磁性アセンブリ（５００）に面している基板（５２０）の表面との間の距離（ｈ）が変更されていることを除いて、図５Ａ１に示す磁性アセンブリを使用することによって得られた前記ＯＥＬを３０°〜０°傾斜させることによってＯＥＬの写真を示す図である。

［詳細な説明］
定義
［０１８］以下の定義は、この説明で用いられる用語及び特許請求の範囲に記載の用語の意味に適用される。

［０１９］本明細書では、不定冠詞「ａ」は、１並びに１以上を示し、必ずしもその指示する名詞を単数に限定するものではない。

［０２０］本明細書では、「約（ａｂｏｕｔ）」という用語は、当該の量又は値が、指定された特有の値又はその近傍の何らかの他の値となりうることを意味する。概して、特定の値を示す「約」という用語は、その値の±５％の範囲を示すことを意図したものである。一例として、「約１００」という語句は、１００±５の範囲、すなわち９５〜１０５の範囲を示す。概して、「約」という用語が使用されるとき、記載の値の±５％の範囲内で本発明による類似の結果又は効果を得ることができると予期することができる。

［０２１］「実質上平行」という用語は、平行な位置合わせから１０°を超えて逸脱しないことを指し、「実質上直角」という用語は、直角の位置合わせから１０°を超えて逸脱しないことを指す。

［０２２］本明細書では、「及び／又は（ａｎｄ／ｏｒ）」という用語は、この用語によって接続された要素の両方又は一方のみが存在することを指す。たとえば、「Ａ及び／又はＢ（Ａａｎｄ／ｏｒＢ）」は、「Ａのみ（ｏｎｌｙＡ）、若しくはＢのみ（ｏｎｌｙＢ）、又はＡ及びＢの両方（ｂｏｔｈＡａｎｄＢ）」を意味するものとする。「Ａのみ」の場合、この用語は、Ｂが不在である可能性、すなわち「Ａのみ、Ｂなし（ｏｎｌｙＡ，ｂｕｔｎｏｔＢ）」も包含する。

［０２３］本明細書では、「備える、含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という用語は、非排他的でオープンエンドであることを意図したものである。したがって、たとえば化合物Ａを含む溶液組成は、Ａ以外に他の化合物を含むこともできる。しかし、「備える、含む」という用語は、その特定の実施形態として、「本質的に〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙｏｆ）」及び「〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇｏｆ）」というより制限的な意味も包含し、したがってたとえば、「Ａ、Ｂ、及び任意選択でＣを含む組成」は、（本質的に）Ａ及びＢからなり、又は（本質的に）Ａ、Ｂ、及びＣからなることがある。

［０２４］組成において、「含有する（ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ）」という用語は、非排他的であると解釈されたい。「Ａを含有する被覆組成物」は、Ａは存在するべきであるが、Ｂ、Ｃなどが存在することも除外しないことを意味する。

［０２５］「被覆組成物」という用語は、被覆、特に本発明の光学効果層（ＯＥＬ）を固体基板上に形成することが可能であり、好ましいが非排他的に印刷方法によって塗布することができるあらゆる組成物を指す。本発明の被覆組成物は、少なくとも複数の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子及び接着剤を含む。

［０２６］本明細書では、「光学効果層（ＯＥＬ）」という用語は、少なくとも複数の磁気的に配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子及び接着剤を含む層を示し、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、前記接着剤内の位置及び配向で固定又は凍結される（固定／凍結される）。

［０２７］本開示の文脈では、「顔料粒子」は、インク又は被覆組成物内で不溶性であり、インク又は被覆組成物に確定的スペクトル透過／反射応答を提供する粒状材料を指す。

［０２８］「磁軸線」という用語は、磁石の南北の極面の磁性中心を結んで前記極面を通って伸びる理論上の線を示す。この用語は、いかなる特有の磁場方向も含まない。

［０２９］「磁場方向」という用語は、磁石の外部で北極から南極へ向いている磁力線に沿った磁場ベクトルの方向を示す（ＨａｎｄｂｏｏｋｏｆＰｈｙｓｉｃｓ，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ２００２、４６３〜４６４頁参照）。

［０３０］「硬化」という用語は、刺激への反応として被覆組成物の粘性を増大させ、被覆組成物内に含まれる磁性又は磁化可能顔料粒子がその位置及び配向で固定／凍結され、移動又は回転することができなくなる状態（すなわち、硬化、固化、又は固体状態）に被覆組成物を変換するプロセスを示す。

［０３１］本明細書では、「少なくとも（ａｔｌｅａｓｔ）」という用語は、確定的な数量又は前記数量より大きい数量を画定し、たとえば「少なくとも１つ」は、１つ、２つ、又は３つなどを意味する。

［０３２］「セキュリティ文書」という用語は、少なくとも１つのセキュリティ特徴によって偽造又は不正から保護された文書を指す。セキュリティ文書の例には、非限定的に、通貨、有価文書、身分証明書などが含まれる。

［０３３］「セキュリティ特徴」という用語は、そのセキュリティ特徴を保持する文書又は物品の認証に使用することができる公開又は機密の画像、パターン、又はグラフィック要素を示す。

［０３４］本説明が「好ましい」実施形態／特徴に言及した場合、これらの「好ましい」実施形態／特徴の組合せもまた、その「好ましい」実施形態／特徴の組合せが技術的に有意である限り、好ましいとして開示されると考えられるものとする。

［０３５］本発明は、光学効果層（ＯＥＬ）を提供し、前記ＯＥＬは、複数の非ランダムに配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、前記顔料粒子は、固化した接着材料内に分散される。本明細書に記載するように、配向パターンが回転中心の周りで円対称であるため、本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）は、ＯＥＬの表面に対する法線が円錐をなぞるように前記ＯＥＬを傾斜及び回転させたとき、少なくとも１つの円形に動くスポットが前記回転中心の周りを回転するという視覚的印象を提供する。別の実施形態によれば、本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）は、ＯＥＬの表面に対する法線が円錐をなぞるように前記ＯＥＬを傾斜及び回転させたとき、少なくとも１つの円形に動く彗星状スポットが回転中心の周りを回転するという視覚的印象を提供する。さらに、本明細書に記載するＯＥＬは、前記ＯＥＬを前後に傾斜させたとき、前記動くスポット又は彗星状の動くスポットが、少なくとも左から右又は右から左に動いているように見え、前記ＯＥＬを左右に傾斜させたとき、前記動くスポット又は彗星状の動くスポットが、少なくとも前後に動いているように見えるようになっている。前記ＯＥＬを傾斜させたときに少なくとも１つの円形に動く彗星状スポットが回転中心の周りを回転するという視覚的印象を提供するＯＥＬの例が、図５Ｂ〜図８Ｂ及び図９Ｃ〜図１１Ｃに示されている。本明細書に記載するＯＥＬの反射パターンは、その回転中心の周りで円対称であり、すなわち本明細書に記載するＯＥＬに含まれる反射性の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向パターンは、その原点（ｘ１１）の周りで円対称である。本発明は、少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの彗星状スポットが回転中心の周りを回転するという視覚的印象を提供し、前記スポット又は彗星状スポットは、上述したように、ＯＥＬが傾斜しているとき、前後（又は上下）に動くだけではなく、左右にも動いている。

［０３６］ＯＥＬ（ｘ１０）が円対称であるため、ＯＥＬに含まれる非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向パターンは、原点（ｘ１１）から生じる半径に応じて十分に説明することができる。２つの角度値（方位θ、傾斜φ）を使用して、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を表現することができ、したがって、本発明による配向パターンは、ＯＥＬ（ｘ１０）の原点（ｘ１１）から生じる半径に沿ってこれらの２つの角度値を示すことによって完全に判定される。以下でさらに説明するように、通例どおりＯＥＬ接着剤の屈折率が実質上一定であることを条件として、光学的に測定するのがより容易であるため、粒子の配向を記述するために、φの代わりに天頂偏向角φ’を使用することができる。本明細書に提供される例では、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向は、原点（ｘ１１）を交差する選択された直径に沿って測定される。これは、配向パターンを記述するために必要とされる必要最小限の情報の２倍を生じ、実験誤差の範囲内で、パターンが円対称であることを示す。

［０３７］以下、光学効果層内の配向された顔料粒子による空間内の特定の方向への入射光の反射は、ある程度の誘導反射を意味すると理解されるものとし、これは、不純物又は欠陥による不完全な位置合わせ又は散乱のためにある程度の角度的な広がりを入射光ビームに加えることがあるが、ランダムな顔料粒子配置から得られるはずの完全な拡散反射を除外するものとする。

［０３８］図１Ａは、前記ＯＥＬが４つの照射源によって４つの基本方位（Ｎ、Ｅ、Ｓ、及びＷ、ここでｙ軸線は北を指し、ｘ軸線は東を指す）のそれぞれから順次照射されているときに直交観察状態で見た、本発明による光学効果層（ＯＥＬ）（１１０）の視覚的外観を、原点０（１１１）並びに平面内軸線ｘ及びｙ（１１２、１１３）によって概略的に示し、前記ＯＥＬを傾斜させたとき、少なくとも１つの円形に動く彗星状スポットが回転するという視覚的印象を提供する。スポット若しくは彗星状又は他の形状の図形（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）（彗星状スポット）が、照射方向に応じて原点（１１１）の周りを見掛け上回転している。図１Ｂは、図１Ａの照射及び観察状態を示す。ＯＥＬは、一度に単一の光源によって照射され、その形状の図形が、Ｎ方向から照射されると位置（Ｉ）に、Ｗ方向から照射されると位置（ＩＩ）に、Ｓ方向から照射されると位置（ＩＩＩ）に、Ｅ方向から照射されると位置（ＩＶ）に見える。

［０３９］本説明全体にわたって、「配向パターン」という用語は、被覆層（ｘ１０）内に複製可能に作製することができる１組の２次元の局所的な顔料粒子配向を指す。本発明によるＯＥＬ内の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向パターンは、ＯＥＬ（ｘ１０）の平面に直交する回転軸線に対して円対称である。前記回転軸線とＯＥＬ（ｘ１０）との交差点を、ＯＥＬの原点（ｘ１１）と呼ぶ。図２Ａは、前記ＯＥＬの（ｘ，ｙ）平面内の選択された直径（２１２）に沿って原点（２１１）から生じる本発明によるＯＥＬ内の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の粒子配向パターンを概略的に示す。ＯＥＬの平面内の選択された直径（ｘ１２、図２Ａ〜図２Ｂの２１２）に沿った非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子表面の変動する横方向傾斜は、本発明のＯＥＬの特色となる特徴である。図２Ａに示すように、ＯＥＬ内の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向は、原点（２１１）の周りの回転対称だけでなく、ＯＥＬの平面内の選択された直径（２１２）に沿った顔料粒子の変動する横方向傾斜（すなわち、径方向線の周りの回転）も特徴とする。

［０４０］図２Ｂは、基板（２２０）上のＯＥＬ（２１０）を概略的に示し、前記ＯＥＬは、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化された被覆組成物を含む。非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、配向パターンに応じて局所的に配向され、ＯＥＬ内に固定／凍結され、前記顔料粒子の前記配向パターンは、ＯＥＬ（２１０）の平面に直交して原点（２１１）でＯＥＬ（２１０）の平面を交差する回転軸線（２１３）に対して円対称である。本発明によるＯＥＬは、原点（２１１）の外側にある入射点（Ｘ）に直交入射する視準光ビーム（２９５）が、複数の入射点（Ｘ）に対して、回転軸線（２１３）及び前記入射点（Ｘ）によって画定される入射平面（２１４）から実質上外れた方向（２９６）に反射されることを特徴とする。

［０４１］図２Ｃは、本発明のＯＥＬに含まれる非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の位置及び配向を記述するために使用される座標系（ｘ，ｙ，ｚ，φ，θ）を概略的に示し、線形の位置座標が（ｘ，ｙ，ｚ）によって与えられ、ＯＥＬは（ｘ，ｙ）平面内にあり、座標系の原点はＯＥＬの原点（２１１）に一致する。ｘ軸線は、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向が測定される選択された直径に一致する。ｘ軸線（２１２）上の点Ａ及びＢは、ｘ軸線の方向を記したＯＥＬ上の２点であり、点Ａは座標ｘＡ＜０に位置し、点Ｂは回転軸線（２１１）の反対側で位置ｘＢ＞０に位置する。見やすいように、Ａ及びＢは、ｘＡ及びｘＢが回転中心（２１２）からほぼ等しい距離をあけて位置するように選択した。図２Ｃで、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向は、顔料粒子の平面に直交するベクトルの方向（φ，θ）によって画定される（図２Ａに矢印によって示す）。ｘ軸線に沿って任意の位置における非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向は、球座標（φ，θ）に対する数学的慣習に従って記述され、ここでθは、ｘ軸線の方向から測定された軸線ｚの周りの顔料粒子の方位角であり、φは、顔料表面に直交するベクトルとｚ軸線との間で測定された顔料粒子の傾斜角である。同等に、この同じ傾斜角φはまた、図２Ｄに示すように、顔料表面の平面とＯＥＬの平面との間でも測定することができる。これらの定義によれば、φ＝０の粒子がＯＥＬに平行であり、この粒子に対する方位角θは画定されない。

［０４２］被覆組成物層の屈折率（ｎ）は、見掛け上の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向に影響を与える。本説明全体にわたって、座標（φ，θ）が個々の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を指すのに対して、座標（φ’，θ）が直交入射下の反射ビームの方向を指すという慣習が適用される。角度θは、これらの条件下で被覆組成物層の屈折率によって影響されないことに留意されたい。図２Ｄは、被覆組成物の屈折率ｎが直交入射で反射ビーム出口角φ’に与える作用を記述し、ここでφは、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の傾斜角である。対応する天頂偏向角φ’は、ＯＥＬによって反射及び屈折した天頂方向からの直交入射ビームの逸脱を表す。天頂偏向角は、等式φ’＝ａｒｃｓｉｎ（ｎ×ｓｉｎ（２φ））によって直交入射で顔料粒子の傾斜角φに関係し、ここでｎは被覆組成物の屈折率である。したがって、上式を適用することによって、測定された天頂偏向角φ’を粒子角φまで低減させることができる。ひいては、傾斜角φで位置する粒子はＯＥＬ内のその天頂偏向角φ’によって特徴付けることができることが、本明細書によって定義される。角度φのみが屈折及びミラーの作用によって影響され、極座標表現における反射ビームの測定された方位角θは、傾斜した顔料粒子の真方位角である。粒子の天頂偏向角φ’及び粒子の方位角θは、どちらもコノスコープスキャタロメータを使用して明瞭に測定することができるので、ＯＥＬを特徴付けるために使用される。

［０４３］ＯＥＬの任意の選択された直径に沿った少なくとも２つ、好ましくは４つの別個の位置ｘ_ｉにおける本明細書に記載するＯＥＬの非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°という条件、好ましくは│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１５°を満たす位置ｘ_ｉにおける平均天頂偏向角φ’及び同じ位置ｘ_ｉにおける選択された直径に対する平均方位角θを有し、したがって点ｘ_ｉにおける入射光は、前記直径に沿って法線入射平面（ｘ１４、図２Ｂの２１４参照）から離れて、それぞれ１０°以上、１５°以上の角度で反射される。「平均角度」という表現は、位置ｘ_ｉにおける複数の非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の平均値を指す。「位置ｘ_ｉ」という表現は、直径約１ｍｍの局所的な略円形の区域であると理解されたい。

［０４４］│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°という条件は、図１４Ａに陰影区域によって表される入射平面（ｘ１４）から離れて法線入射光を１０°以上反射するすべての配向を表す。│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１５°という条件は、図１４Ｂに陰影区域によって表される入射平面（ｘ１４）から離れて法線入射光を１５°以上反射するすべての配向を表す。

［０４５］本明細書に開示するＯＥＬの配向された顔料粒子の配向パターンを特徴付けるために、コノスコープスキャタロメータ（ＥｃｋｈａｒｔｄＯｐｔｉｃｓＬＬＣ、５４３０ＪｅｆｆｅｒｓｏｎＣｔ、ＷｈｉｔｅＢｅａｒＬａｋｅ、ＭＮ５５１１０；ｈｔｔｐ：／／ｅｃｋｏｐ．ｃｏｍから得られる）を使用した。

［０４６］図４Ａは、レンズの後焦点面ｆ’におけるスポット（ｘ_１、ｘ_２、ｘ_３）へのレンズの前焦点面ｆにおける入射光線方向（χ_１、χ_２、χ_３）をマッピングするレンズ又はレンズ系による焦点面間（（４７０〜４８０）、ここで、（４８０）は、レンズから距離ｆをあけて位置するレンズの前焦点面であり、（４７０）は、レンズから距離ｆ’をあけて位置するレンズの後焦点面である）変換撮像（すなわち、フーリエ変換撮像）に依拠するコノスコープスキャタロメトリの原理を概略的に示す。図４Ｂは、前記焦点面間変換撮像を実行する前端光学系（４６０）と、光源（４９０）と、光学系を通って直交入射下の平行な光ビーム（４８１）によって基板（４２０）上のＯＥＬ（４１０）に小さいスポットを照射する半透明の結合ミラー（４９１）と、前端光学系の後焦点面（４７０）におけるスポットパターンの画像を記録するカメラセンサ（４９３）を備える後端光学系（４９２）とを具備する完全後方反射コノスコープスキャタロメータ機構を概略的に示す。２つの異なる非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向（Ｐ１、Ｐ２）が示されており、直交入射ビームを２つの異なる光線方向に後方反射し、これらのビームは前端光学系によってその後焦点面（４７０）で２つの別個のスポットｘ_１及びｘ_３に集束される。これらのスポットの画像位置は、後端光学系（４９２）及びカメラセンサ（４９３）によって記録される。点ｘ_ｉに光を向けることによって得られた画像では、角度（φ’，θ）に対応するセンサの画素強度は、ＯＥＬ上の点ｘ_ｉにおいて前記角度で配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の数に比例し、画像は、ＯＥＬ上の位置ｘ_ｉにおける非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向の角分布を表す。

［０４７］その反射特性を測定するために、配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むＯＥＬは、直交入射下の直径１ｍｍの平行な光ビーム（ＬＥＤ、５２０ｎｍ）を使用して、その原点０（ｘ１１）を通過するＯＥＬの選択された直径（ｘ軸線として得た）に沿って、点Ａから点Ｂまで０．５ｍｍごとに評価され、各点で後方反射光の画像が得られた。これらの画像から、コノスコープスキャタロメータの後焦点面で収集された画像データに２次元のガウス分布適合を適用することによって、後方反射光スポットの対応する天頂偏向角及び方位角（φ’，θ）が得られ、（φ’，θ）値はガウス分布の中心に対応した。

［０４８］図３Ｃ、図３Ｆ、図５Ｃ、図６Ｃ、図７Ｃ、図８Ｃ、図９Ｄ、図１０Ｄ、及び図１１Ｄは、本明細書に記載し図４Ａ〜図４Ｂに示すコノスコープスキャタロメータによる特徴付け測定の結果を示す。特に、図３Ｃ、図３Ｆ、図５Ｃ、図６Ｃ、図７Ｃ、図８Ｃ、図９Ｄ、図１０Ｄ、及び図１１Ｄは、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子配向に関係する、それぞれの図に示す旋回磁石アセンブリによって得られたＯＥＬの原点を通って選択された直径に沿っていくつかの位置ｘ_ｉで測定された光反射方向を（φ’，θ）グラフに示す。曲線の支点は、円対称ＯＥＬの原点を通って前記選択された直径に沿ってサンプリングされた位置に対応する。データは、以下でさらに説明するように、コノスコープスキャタロメータ上の直径１ｍｍの５２０ｎｍのＬＥＤサンプリングビームを使用して、ｘ軸線方向（これらの図の１８０°〜０°の方向に対応する）として得られたＯＥＬの原点を通って前記選択された直径に沿って０．５ｍｍごとに点をサンプリングすることによって、垂直入射下で測定された。図３Ｃ、図３Ｆ、図５Ｃ、図６Ｃ、図７Ｃ、図８Ｃ、図９Ｄ、図１０Ｄ、図１１Ｄ、及び図１５Ｄの測定結果は、直交入射下で出ていくビームの測定された角度（φ’，θ）の分布の中心である。

［０４９］図３Ａ及び図３Ｄは、従来技術の旋回可能な磁石アセンブリを概略的に示し、図５Ａ１〜図１１Ａ１及び図１２〜図１３及び図１５は、本発明による旋回可能な磁石アセンブリを概略的に示す。図３Ａは、ドーム型ＯＥＬ（図３Ｂ参照）を作製するのに好適な旋回可能な磁石アセンブリ（３００Ａ）を概略的に示し、前記旋回可能な磁石（３００Ａ）は、基板（３２０Ａ）の表面に対して実質上直角の旋回軸線（矢印参照）を有し、円板状の双極磁石であり、直径（Ａ１）、厚さ（Ａ２）を有し、その磁軸線は、その直径に対して実質上平行であり且つ基板（３２０Ａ）の表面に対して実質上平行である。図３Ｄは、リング型ＯＥＬ（図３Ｅ参照）を作製するのに好適な旋回可能な磁石アセンブリ（３００Ｄ）を概略的に示し、前記旋回可能な磁石アセンブリ（３００Ｄ）は、基板（３２０Ｄ）の表面に対して実質上直角の旋回軸線（矢印参照）を有し、支持マトリックス（３５０Ｄ）に埋め込まれた３つの同一線上の棒状の双極磁石（３３１Ｄ）の中心に位置合わせされた配置を備え、その南北の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（３２０Ｄ）表面に対して実質上平行であり、磁軸線は同じ方向を指す。従来技術による円対称ＯＥＬが、図３Ａ〜図３Ｆに示されている。図３Ｂに示すドーム型ＯＥＬの原点を通って選択された直径にわたって測定された対応する光反射特性が、図３Ｃに示されている。従来技術によるドーム型ＯＥＬの場合、直交入射下の反射ビーム方向は、ＯＥＬの回転軸線及び直交サンプリングビームの入射点によって画定される平面内に実質上制限され、図３Ｃには、実質的な横方向の偏向は存在しない。図３Ｅに示すリング型ＯＥＬの原点を通って選択された直径にわたって測定された対応する光反射特性が図３Ｆに示されており、直交入射下の反射ビーム方向は、ＯＥＬの回転軸線及び直交サンプリングビームの入射点によって画定される平面内に実質上制限される。反射は前記平面内で前後に小刻みに動いているが、実質的な横方向の偏向はない。

［０５０］本発明は、本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）を基板上に作製する方法、及びその方法によって得られた光学効果層（ＯＥＬ）も同様に提供する。前記方法は、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物を基板表面に塗布するステップｉ）を含み、前記放射線硬化性の被覆組成物は、放射線硬化性の被覆組成物内に分散させた非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子が磁場に露出されると自由に可動、回転可能、及び／又は配向可能になるように、放射線硬化性の被覆組成物が濡れている又は十分に柔らかい、第１の状態、すなわち液体又はペースト状の状態である。

［０５１］本明細書に記載するステップｉ）は、たとえばローラ及び噴霧被覆プロセスなどの被覆プロセス、又は印刷プロセスによって実施することができる。本明細書に記載するステップｉ）は、好ましくはスクリーン印刷、輪転式グラビア印刷、フレキソグラフ印刷、インクジェット印刷、及び凹版印刷（当技術分野で、銅板刷印刷及び凹刻印刷とも呼ばれる）からなる群から選択され、より好ましくはスクリーン印刷、輪転式グラビア印刷、及びフレキソグラフ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって実施されることが好ましい。

［０５２］本明細書に記載する基板表面への本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物の塗布（ステップｉ））の後、部分的に同時、又は同時に、放射線硬化性の被覆組成物を本明細書に記載する旋回磁性アセンブリ（ｘ００）の磁場に露出させることによって、旋回アセンブリによって生成される磁力線に沿って非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を位置合わせするように、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部が配向される（ステップｉｉ））。

［０５３］本明細書に記載する磁場を印加することによって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／位置合わせするステップの後、又は部分的に同時に、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向が固定又は凍結される。したがって、放射線硬化性の被覆組成物は、放射線硬化性の被覆組成物内に分散させた非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子が磁場に露出されると自由に可動、回転可能、及び／又は配向可能になるように、放射線硬化性の被覆組成物が濡れている又は十分に柔らかい、第１の状態、すなわち液体又はペースト状の状態と、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子がそれぞれの位置及び配向で固定又は凍結される第２の硬化（たとえば固体）状態とを有するはずであることに注目すべきである。

［０５４］したがって、光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載する基板上に作製する方法は、ステップｉｉ）の放射線硬化性の被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させる第２の状態にし、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定するステップｉｉｉ）を含む。放射線硬化性の被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）は、本明細書に記載する磁場を印加することによって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／位置合わせするステップ（ステップｉｉ））の後又は部分的に同時に実施することができる。放射線硬化性の被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）は、本明細書に記載する磁場を印加することによって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／位置合わせするステップ（ステップｉｉ））と部分的に同時に実施されることが好ましい。「部分的に同時」とは、両方のステップが部分的に同時に実行されること、すなわちステップのそれぞれを実行する時間が部分的に重複することを意味する。本明細書に記載する文脈で、配向ステップｉｉ）と部分的に同時に硬化が実行されるとき、ＯＥＬの完全又は部分的な硬化又は固化前に顔料粒子が配向されるように、硬化は配向後に有効になることを理解されたい。

［０５５］そのように得られた光学効果層（ＯＥＬ）は、光学効果層を備える基板の周りで傾斜したとき、少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの動く彗星状スポットが前記ＯＥＬの原点の周りを回転するという印象を観察者に提供する。

［０５６］放射線硬化性の被覆組成物の第１及び第２の状態は、特定のタイプの放射線硬化性の被覆組成物を使用することによって提供される。たとえば、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子以外の放射線硬化性の被覆組成物の成分は、セキュリティの応用例で、たとえば銀行券の印刷に使用されるものなどのインク又は放射線硬化性の被覆組成物の形をとることができる。上述した第１及び第２の状態は、電磁放射への露出に反応して粘性の増大を示す材料を使用することによって提供される。すなわち、流体接着材料が硬化又は凝固されるとき、前記接着材料は第２の状態に変換され、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は現在の位置及び配向で固定され、接着材料内で移動又は回転することができなくなる。

［０５７］当業者には知られているように、基板などの表面へ塗布される放射線硬化性の被覆組成物に含まれる成分、及び前記放射線硬化性の被覆組成物の物性は、放射線硬化性の被覆組成物を基板表面へ伝達するために使用されるプロセスの要件を満たさなければならない。したがって、本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物に含まれる接着材料は、典型的には、当技術分野では知られているものの中から選択され、放射線硬化性の被覆組成物を塗布するために使用される被覆又は印刷プロセス及び選択された放射線硬化プロセスに依存する。

［０５８］本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）では、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を固定／凍結する硬化接着材料を含む固化された放射線硬化性の被覆組成物内で分散させられる。硬化接着材料は、２００ｎｍ〜２５００ｎｍに含まれる波長範囲の電磁放射に対して少なくとも部分的に透明である。したがって、接着材料は、少なくとも硬化又は固体状態（本明細書では第２の状態とも呼ぶ）にあり、２００ｎｍ〜２５００ｎｍに含まれる波長範囲、すなわち典型的に「光スペクトル」と呼ばれる電磁スペクトルの赤外、可視、及び紫外部分を含む波長範囲内の電磁放射に対して少なくとも部分的に透明であり、したがってその硬化又は固体状態及び配向依存反射性で接着材料内に含有される粒子は、接着材料を通して知覚することができる。硬化接着材料は、好ましくは２００ｎｍ〜８００ｎｍに含まれる、より好ましくは４００ｎｍ〜７００ｎｍに含まれる波長範囲の電磁放射に対して少なくとも部分的に透明である。本明細書では、「透明」という用語は、ＯＥＬに存在する硬化接着材料（そのような成分が存在する場合、小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を含まないが、ＯＥＬの他のすべての任意選択的な成分を含む）の２０μｍの層を通した電磁放射の透過が、関連する波長（複数可）で、少なくとも５０％、より好ましくは少なくとも６０％、さらにより好ましくは少なくとも７０％であることを示す。これはたとえば、十分に確立された試験方法、たとえばＤＩＮ５０３６−３（１９７９−１１）に従って、硬化接着材料（非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含まない）の試験片の透過率を測定することによって判定することができる。ＯＥＬが機密セキュリティ特徴として働く場合、典型的に、選択された非可視波長を含むそれぞれの照射条件下でＯＥＬによって生成される（完全）光学効果を検出するために、技術的手段が必要であり、前記検出は、入射放射の波長が可視範囲外、たとえば近紫外範囲内から選択されることを必要とする。電磁スペクトルの赤外、可視、及び紫外部分は、それぞれ７００〜２５００ｎｍ、４００〜７００ｎｍ、及び２００〜４００ｎｍの波長範囲にほぼ対応する。

［０５９］上述したように、本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物は、前記放射線硬化性の被覆組成物を塗布するために使用される被覆又は印刷プロセス及び選択された硬化プロセスに依存する。放射線硬化性の被覆組成物の硬化は、本明細書に記載するＯＥＬを備える物品の典型的な使用中に生じうる簡単な温度上昇（たとえば、最高８０℃）によって逆にされることのない化学反応を伴うことが好ましい。「硬化」又は「硬化性」という用語は、出発物質より大きい分子量を有する高分子材料にするような、塗布される放射線硬化性の被覆組成物内の少なくとも１つの成分の化学反応、架橋、又は重合を含むプロセスを指す。放射線硬化は、硬化照射への露出後に放射線硬化性の被覆組成物の粘性の瞬時増大をもたらし、したがって顔料粒子のさらなる動きを防止し、その結果、磁性配向ステップ後の情報の損失を防止することが有利である。硬化ステップ（ステップｉｉｉ））は、好ましくは紫外−可視光の放射線硬化を含む放射線硬化又は電子ビーム放射線硬化によって、より好ましくはＵＶ−Ｖｉｓ光の放射線硬化によって実施される。

［０６０］したがって、本発明にとって好適な放射線硬化性の被覆組成物は、紫外−可視光放射（以下、ＵＶ−Ｖｉｓ光放射と呼ぶ）又は電子ビーム放射（以下、ＥＢ放射と呼ぶ）によって硬化させることができる放射線硬化性組成物を含む。放射線硬化性組成物は、当技術分野で知られており、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ＆ＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙｏｆＵＶ＆ＥＢＦｏｒｍｕｌａｔｉｏｎｆｏｒＣｏａｔｉｎｇｓ，Ｉｎｋｓ＆Ｐａｉｎｔｓ」シリーズ、ＶｏｌｕｍｅＩＶ、Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ、Ｃ．Ｌｏｗｅ、Ｇ．Ｗｅｂｓｔｅｒ、Ｓ．Ｋｅｓｓｅｌ、及びＩ．ＭｃＤｏｎａｌｄ著、１９９６年、ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ出版、ＳＩＴＡＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＬｉｍｉｔｅｄ共同などの標準的な教科書に見ることができる。本発明の１つの特に好ましい実施形態によれば、本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物は、ＵＶ−Ｖｉｓ放射線硬化性の被覆組成物である。したがって、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物は、紫外−可視光放射によって、好ましくはＵＶ−Ａ（３１５〜４００ｎｍ）又は青色（４００〜５００ｎｍ）スペクトル領域内の狭帯域ＬＥＤ光によって、最も好ましくは３５０ｎｍ〜４５０ｎｍのスペクトル領域内で放出し、２０ｎｍ〜５０ｎｍ範囲の典型的な放出帯域幅を有する高出力ＬＥＤ源によって、好ましくは少なくとも部分的に硬化される。放射線硬化性の被覆組成物の硬化率を増大させるために、水銀蒸気ランプ又はドープ水銀ランプからの紫外放射を使用することもできる。

［０６１］ＵＶ−Ｖｉｓ放射線硬化性の被覆組成物は、ラジカル硬化性化合物及びカチオン硬化性化合物からなる群から選択される１つ又は複数の化合物を含むことが好ましい。本明細書に記載するＵＶ−Ｖｉｓ放射線硬化性の被覆組成物は、複合システムとすることができ、１つ又は複数のカチオン硬化性化合物及び１つ又は複数のラジカル硬化性化合物の混合物を含むことができる。カチオン硬化性化合物は、典型的には酸などのカチオン種を遊離させる１つ又は複数の光開始剤の放射による活性化を含むカチオン機構によって硬化され、カチオン種は、硬化を開始してモノマー及び／又はオリゴマーを反応及び／又は架橋させ、以て放射線硬化性の被覆組成物を硬化させる。ラジカル硬化性化合物は、典型的には１つ又は複数の光開始剤の放射による活性化を含むフリーラジカル機構によって硬化され、以てラジカルを生成し、ラジカルは、重合を開始して放射線硬化性の被覆組成物を硬化させる。本明細書に記載するＵＶ−Ｖｉｓ放射線硬化性の被覆組成物に含まれる接着剤を準備するために使用されるモノマー、オリゴマー、又はプレポリマーに応じて、異なる光開始剤を使用することができる。フリーラジカル光開始剤の好適な例は、当業者には知られており、非限定的に、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタール、α−アミノケトン、α−ヒドロキシケトン、酸化ホスフィン及び酸化ホスフィン誘導体、並びにこれら２つ以上の混合物が含まれる。カチオン光開始剤の好適な例は、当業者には知られており、非限定的に、有機ヨードニウム塩（たとえば、ジアリールヨードニウム塩）、オキソニウム（たとえば、トリアリールオニウム塩）、及びスルホニウム塩（たとえば、トリアリールスルホニウム塩）、並びにこれら２つ以上の混合物などのオニウム塩が含まれる。有用な光開始剤の他の例は、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ＆ＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙｏｆＵＶ＆ＥＢＦｏｒｍｕｌａｔｉｏｎｆｏｒＣｏａｔｉｎｇｓ，Ｉｎｋｓ＆Ｐａｉｎｔｓ」、ＶｏｌｕｍｅＩＩＩ、「ＰｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓｆｏｒＦｒｅｅＲａｄｉｃａｌＣａｔｉｏｎｉｃａｎｄＡｎｉｏｎｉｃＰｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ」、第２版、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ及びＫ．Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒ著、Ｇ．Ｂｒａｄｌｅｙ編、１９９８年、ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ出版、ＳＩＴＡＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＬｉｍｉｔｅｄ共同などの標準的な教科書に見ることができる。また、効率的な硬化を実現するために、１つ又は複数の光開始剤とともに増感剤を含むことが有利になりうる。好適な光増感剤の典型的な例には、非限定的に、イソプロピル−チオキサントン（ＩＴＸ）、１−クロロ−２−プロポキシ−チオキサントン（ＣＰＴＸ）、２−クロロ−チオキサントン（ＣＴＸ）、及び２，４−ジエチル−チオキサントン（ＤＥＴＸ）、並びにこれら２つ以上の混合物が含まれる。ＵＶ−Ｖｉｓ放射線硬化性の被覆組成物に含まれる１つ又は複数の光開始剤は、好ましくは約０．１重量％〜約２０重量％、より好ましくは約１重量％〜約１５重量％の総量で存在し、重量パーセントは、ＵＶ−Ｖｉｓ放射線硬化性の被覆組成物の総重量に基づく。

［０６２］本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物は、１つ若しくは複数のマーカ物質若しくはタガント、並びに／又は磁性材料（本明細書に記載する小板状の磁性若しくは磁化可能顔料粒子とは異なる）、発光性材料、導電性材料、及び赤外線吸収性材料からなる群から選択される１つ若しくは複数の機械可読材料をさらに含むことができる。本明細書では、「機械可読材料」という用語は、肉眼では知覚することができない少なくとも１つの独特な特性を呈し、その認証のための特定の機器の使用によって層又は層を備える物品を認証する方法を示すように層に含むことができる材料を指す。

［０６３］本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物は、有機顔料粒子、無機顔料粒子、及び有機染料からなる群から選択される１つ若しくは複数の着色成分、並びに／又は１つ若しくは複数の添加物をさらに含むことができる。添加物には、非限定的に、粘性（たとえば、溶剤、増粘剤、及び界面活性剤）、粘稠性（たとえば、沈降防止剤、充填剤、及び可塑剤）、発泡特性（たとえば、消泡剤）、潤滑特性（ワックス、油）、紫外線安定性（光安定剤）、接着特性、帯電防止特性、貯蔵寿命（重合抑制剤）、グロスなどの放射線硬化性の被覆組成物の物理的、流動学的、及び化学的なパラメータを調整するために使用される化合物及び材料が含まれる。本明細書に記載する添加物は、添加物の寸法のうちの少なくとも１つが１〜１０００ｎｍの範囲内であるいわゆるナノ材料を含む、当技術分野では知られている量及び形で放射線硬化性の被覆組成物内に存在することができる。

［０６４］本明細書に記載する放射線硬化性の被覆組成物は、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む。非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、好ましくは約２重量％〜約４０重量％、より好ましくは約４重量％〜約３０重量％の量で存在し、重量パーセントは、接着材料、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子、及び放射線硬化性の被覆組成物の他の任意選択的な成分を含む放射線硬化性の被覆組成物の総重量に基づく。

［０６５］本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、非球形で扁円の形状のため、硬化又は固化接着材料が少なくとも部分的に透明である入射電磁放射に対して非等方性反射を有すると定義される。本明細書では、「非等方性反射」という用語は、粒子によって反射される第１の角度から特定の（視野）方向（第２の角度）への入射放射の割合が、粒子の配向に応じること、すなわち第１の角度に対する粒子の配向の変化が、視野方向に対して異なる大きさの反射をもたらす可能性があることを示す。本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、好ましくは約２００〜約２５００ｎｍ、より好ましくは約４００〜約７００ｎｍのいくつかの部分又は完全な波長範囲内の入射電磁放射に対して非等方性反射を有し、したがって粒子の配向が変化する結果、その粒子による特定の方向への反射も変化する。当業者には知られているように、本明細書に記載する磁性又は磁化可能顔料粒子は、従来の顔料とは異なり、前記従来の顔料粒子は、すべての視野角に対して同じ色を表示し、本明細書に記載する磁性又は磁化可能顔料粒子は、上述した非等方性反射を呈する。

［０６６］本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子である。

［０６７］本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の好適な例には、非限定的に、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、及びニッケル（Ｎｉ）からなる群から選択される磁性金属、鉄、マンガン、コバルト、ニッケル、及びこれら２つ以上の混合物の磁性合金、クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、及びこれら２つ以上の混合物の磁性酸化物、並びにこれら２つ以上の混合物を含む顔料粒子が含まれる。金属、合金、及び酸化物を参照する「磁性」という用語は、強磁性又はフェリ磁性金属、合金、及び酸化物を対象とする。クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、又はこれら２つ以上の混合物の磁性酸化物は、純粋又は混合酸化物とすることができる。磁性酸化物の例には、非限定的に、赤鉄鉱（Ｆｅ_２Ｏ_３）、磁鉄鉱（Ｆｅ_３Ｏ_４）、二酸化クロム（ＣｒＯ_２）、磁性フェライト（ＭＦｅ_２Ｏ_４）、磁性スピネル（ＭＲ_２Ｏ_４）、磁性ヘキサフェライト（ＭＦｅ_１２Ｏ_１９）、磁性オルトフェライト（ＲＦｅＯ_３）、磁性ガーネットＭ_３Ｒ_２（ＡＯ_４）_３などの酸化鉄が含まれ、ここでＭは２価金属を表し、Ｒは３価金属を表し、Ａは４価金属を表す。

［０６８］本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の例には、非限定的に、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、又はニッケル（Ｎｉ）などの磁性金属、及び鉄、コバルト、又はニッケルの磁性合金のうちの１つ又は複数から作られた磁性体層Ｍを含む顔料粒子が含まれ、前記小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、１つ又は複数の追加の層を含む多層構造とすることができる。１つ又は複数の追加の層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）などの金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、及び酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）からなる群から選択され、より好ましくは二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）である１つ若しくは複数の材料から独立して作られた層Ａ、又は金属及び金属合金からなる群から選択され、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金からなる群から選択され、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、及びニッケル（Ｎｉ）からなる群から選択され、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）である１つ若しくは複数の材料から独立して作られた層Ｂ、又は上述したものなどの１つ若しくは複数の層Ａ及び上述したものなどの１つ若しくは複数の層Ｂの組合せである。上述した多層構造である小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の典型的な例には、非限定的に、Ａ／Ｍ多層構造、Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造、Ｂ／Ｍ多層構造、Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造が含まれ、層Ａ、磁性体層Ｍ、及び層Ｂは、上述したものから選択される。

［０６９］本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子及び／又は光学的に可変でない特性を有する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成することができる。本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されることが好ましい。支援なしの人間の感覚を使用して、本明細書に記載する非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子を含むインク、放射線硬化性の被覆組成物、被覆、又は層を保持する物品又はセキュリティ文書を、起こりうる偽造から容易に検出、認識、及び／又は区別することを可能にする、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子の変色特性によって提供される公開セキュリティに加えて、小板状の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性は、ＯＥＬの認識のために機械可読ツールとして使用することもできる。したがって、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性は、顔料粒子の光学（たとえばスペクトル）特性が分析される認証プロセスにおいて、機密又は半機密セキュリティ特徴として同時に使用することができる。放射線硬化性の被覆組成物において非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子を使用してＯＥＬを作製すると、そのような材料（すなわち、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子）は、一般に市販されるのではなく、セキュリティ文書印刷業界のために保留されるため、セキュリティ文書の応用例におけるセキュリティ特徴としてのＯＥＬの重大性が高まる。

［０７０］さらに、その磁気特性のため、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は機械可読であり、したがってたとえば特有の磁気検出器によって、それらの顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物を検出することができる。したがって、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物は、セキュリティ文書に対する機密又は半機密セキュリティ要素（認証ツール）として使用することができる。

［０７１］上述したように、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されることが好ましい。これらは、非球形で扁円の磁性薄膜干渉顔料粒子、非球形で扁円の磁性コレステリック液晶顔料粒子、磁性材料を含む非球形で扁円の干渉被覆顔料粒子、及びこれら２つ以上の混合物からなる群から選択することができることがより好ましい。

［０７２］磁性薄膜干渉顔料粒子は、当業者には知られており、たとえば米国特許第４，８３８，６４８号、国際公開第２００２／０７３２５０号、欧州特許第０６８６６７５号、国際公開第２００３／０００８０１号、米国特許第６，８３８，１６６号、国際公開第２００７／１３１８３３号、欧州特許出願公開第２４０２４０１号、及び本明細書に引用した文献に開示されている。磁性薄膜干渉顔料粒子は、５層のファブリ−ペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は６層のファブリ−ペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は７層のファブリ−ペロー多層構造を有する顔料粒子を含むことが好ましい。

［０７３］５層のファブリ−ペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造からなることが好ましく、反射体及び／又は吸収体は磁性体層でもあり、反射体及び／又は吸収体は、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルトを含む磁性体層、並びに／又はニッケル、鉄、及び／若しくはコバルトを含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物であることが好ましい。

［０７４］６層のファブリ−ペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／磁性体／誘電体／吸収体の多層構造からなることが好ましい。

［０７５］７層のファブリ−ペロー多層構造は、米国特許第４，８３８，６４８号に開示されているものなど、吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造からなることが好ましい。

［０７６］本明細書に記載する反射体層は、金属及び金属合金からなる群から選択され、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金からなる群から選択され、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金からなる群から選択され、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金からなる群から選択され、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）である１つ又は複数の材料から独立して作られることが好ましい。誘電体層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ_３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ_３）、フッ化ランタン（ＬａＦ_３）、フッ化アルミニウムナトリウム（たとえば、Ｎａ_３ＡｌＦ_６）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ_３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ_３）、フッ化バリウム（ＢａＦ_２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ_２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）などの金属フッ化物、及び酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）などの金属酸化物からなる群から選択され、より好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる群から選択され、さらにより好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）である１つ又は複数の材料から独立して作られる。吸収体層は、好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、スズ（Ｓｎ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、これらの金属硫化物、これらの金属炭化物、及びこれらの金属合金からなる群から選択され、より好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、これらの金属酸化物、及びこれらの金属合金からなる群から選択され、さらにより好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの金属合金からなる群から選択される１つ又は複数の材料から独立して作られる。磁性体層は、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／又はコバルト（Ｃｏ）、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／又はコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／又はコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含むことが好ましい。７層のファブリ−ペロー構造を含む磁性薄膜干渉顔料粒子が好ましいとき、磁性薄膜干渉顔料粒子は、Ｃｒ／ＭｇＦ_２／Ａｌ／Ｍ／Ａｌ／ＭｇＦ_２／Ｃｒの多層構造からなる７層のファブリ−ペローの吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造を含むことが特に好ましく、Ｍはニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁性体層である。

［０７７］本明細書に記載する磁性薄膜干渉顔料粒子は、人間の健康及び環境にとって安全であると考えられ、たとえば５層のファブリ−ペロー多層構造、６層のファブリ−ペロー多層構造、及び７層のファブリ−ペロー多層構造に基づく多層顔料粒子とすることができ、前記顔料粒子は、約４０重量％〜約９０重量％の鉄、約１０重量％〜約５０重量％のクロム、及び約０重量％〜約３０重量％のアルミニウムを含む実質上ニッケルのない組成物を有する磁性合金を含む１つ又は複数の磁性体層を含む。人間の健康及び環境にとって安全であると考えられる多層顔料粒子の典型的な例は、全体として参照により本明細書に組み込まれている欧州特許出願公開第２４０２４０１号に見ることができる。

［０７８］本明細書に記載する磁性薄膜干渉顔料粒子は、典型的に、必要とされる異なる層をウェブへ堆積する確立された技法によって製造される。たとえば物理気相成長（ＰＶＤ）、化学気相成長（ＣＶＤ）、又は電解堆積による所望の数の層の堆積後、好適な溶剤内の解放層を溶解することによって、又はウェブから材料をはがすことによって、これらの層のスタックはウェブから除去される。そのように得られた材料は次いで、小板状の顔料粒子に分解され、これらの小板状の顔料粒子は、必要とされるサイズの顔料粒子を得るために、切削、ミリング（たとえば、ジェットミリングプロセスなど）、又は任意の好適な方法によってさらに処理しなければならない。その結果得られる生成物は、壊れた縁部、不規則な形状、及び異なる縦横比を有する平坦な小板状の顔料粒子からなる。好適な小板状の磁性薄膜干渉顔料粒子の準備に関するさらなる情報は、たとえば、参照により本明細書に組み込まれている欧州特許出願公開第１７１０７５６号及び欧州特許出願公開第１６６６５４６号に見ることができる。

［０７９］光学的に可変の特徴を呈する好適な磁性コレステリック液晶顔料粒子には、非限定的に、磁性単層コレステリック液晶顔料粒子及び磁性多層コレステリック液晶顔料粒子が含まれる。そのような顔料粒子は、たとえば国際公開第２００６／０６３９２６号、米国特許第６，５８２，７８１号、及び米国特許第６，５３１，２２１号に開示されている。国際公開第２００６／０６３９２６号は、高い輝度及び変色特性を有し、磁化性などの追加の特定の特性を有する単層、並びにそこから得られる顔料粒子を開示している。開示されている単層、及び前記単層を砕くことによってそこから得られる顔料粒子は、３次元で架橋されたコレステリック液晶混合物及び磁性ナノ粒子を含む。米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，４１０，１３０号は、Ａ^１／Ｂ／Ａ^２のシーケンスを含むコレステリック多層顔料粒子を開示しており、Ａ^１及びＡ^２は、同一又は異なるものとすることができ、それぞれ少なくとも１つのコレステリック層を含み、Ｂは、層Ａ^１及びＡ^２によって透過される光のすべて又は一部を吸収する中間層であり、この光は前記中間層に磁気特性を与える。米国特許第６，５３１，２２１号は、Ａ／Ｂ及び任意選択でＣのシーケンスを含む小板状のコレステリック多層顔料粒子を開示しており、Ａ及びＣは、磁気特性を与える顔料粒子を含む吸収層であり、Ｂはコレステリック層である。

［０８０］１つ又は複数の磁性材料を含む好適な干渉被覆顔料には、非限定的に、１つ又は複数の層で被覆されたコアからなる群から選択される基板からなる構造が含まれ、コア又は１つ若しくは複数の層のうちの少なくとも１つは、磁気特性を有する。たとえば、好適な干渉被覆顔料は、上述したものなどの磁性材料から作られたコアを含み、前記コアは、１つ若しくは複数の金属酸化物から作られた１つ若しくは複数の層で被覆され、又は好適な干渉被覆顔料は、合成若しくは天然雲母、積層ケイ酸塩（たとえば、タルク、カオリン、及びセリサイト）、ガラス（たとえば、ホウケイ酸塩）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、グラファイト、並びにこれら２つ以上の混合物から作られたコアからなる構造を有する。さらに、着色層などの１つ又は複数の追加の層が存在することができる。

［０８１］本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子は、放射線硬化性の被覆組成物内で生じうるあらゆる劣化からの保護及び／又は放射線硬化性の被覆組成物内の組込みの促進のために表面処理することができ、典型的には腐食抑制材料及び／又は湿潤剤を使用することができる。

［０８２］本明細書に記載する基板は、好ましくは、紙、又はセルロース、紙含有材料、ガラス、金属、セラミック、プラスチック、及びポリマー、金属化プラスチック若しくはポリマー、複合材料、並びにこれらの混合物若しくは組合せなどの他の繊維性材料からなる群から選択される。典型的な紙、紙状、又は他の繊維性材料は、非限定的にマニア麻、綿、リネン、木材パルプ、及びこれらの混紡物を含む様々な繊維から作られる。当業者にはよく知られているように、綿及び綿／リネンの混紡物は銀行券に好ましく、木材パルプは銀行券以外のセキュリティ文書で一般に使用される。プラスチック及びポリマーの典型的な例には、ポリエチレン（ＰＥ）及びポリプロピレン（ＰＰ）などのポリオレフィン、ポリアミド、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリ（１，４−ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）、ポリ（エチレン２，６−ナフトエート）（ＰＥＮ）などのポリエステル、並びにポリビニル塩化物（ＰＶＣ）が含まれる。また、タイベック（Ｔｙｖｅｋ）（登録商標）の商標で販売されているものなどのスパンボンドオレフィン繊維を基板として使用することもできる。金属化プラスチック又はポリマーの典型的な例には、表面に金属が連続的又は断続的に配置された上述したプラスチック又はポリマー材料が含まれる。金属の典型的な例には、非限定的に、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、これらの組合せ、又は上述した金属のうちの２つ以上の合金が含まれる。上述したプラスチック又はポリマー材料の金属化は、電着プロセス、高真空被覆プロセス、又はスパッタリングプロセスによって行うことができる。複合材料の典型的な例には、非限定的に、上述したものなどの紙及び少なくとも１つのプラスチック又はポリマー材料、並びに上述したものなどの紙状又は繊維性材料に組み込まれたプラスチック及び／又はポリマー繊維の多層構造又は積層体が含まれる。当然ながら、基板は、のり剤、漂白剤、加工助剤、補強又は湿潤増強剤などの当業者には知られているさらなる添加物を含むことができる。本明細書に記載する基板は、ウェブ（たとえば、上述した材料の連続シート）又はシートの形で提供することができる。本発明によって作製されるＯＥＬがセキュリティ文書である場合、セキュリティレベル並びに前記セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対する抵抗をさらに増大させる目的で、基板は、印刷、被覆、又はレーザマーク若しくはレーザ穿孔された印、透かし、セキュリティスレッド、繊維、プランセット、発光性化合物、窓、箔、図案、及びこれら２つ以上の組合せを含むことができる。セキュリティレベル並びにセキュリティ文書の偽造及び違法複製に対する抵抗をさらに増大させるという同じ目的で、基板は、１つ又は複数のマーカ物質若しくはタガント及び／又は機械可読物質（たとえば、発光性物質、紫外／可視／赤外吸収物質、磁性物質、及びこれらの組合せ）を含むことができる。

［０８３］旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）、及び本明細書に記載する旋回磁性アセンブリ（ｘ００）を使用して本明細書に記載するものなどのＯＥＬ（ｘ１０）を本明細書に記載する基板（ｘ２０）に作製する処理もまた、本明細書に記載され、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む前記ＯＥＬは、本明細書に記載するものなどの硬化された放射線硬化性の被覆組成物内に配向される。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、ＯＥＬ（ｘ１０）の作製により、前記ＯＥＬを傾斜させたときに少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの円形に動く彗星状スポットが回転するという光学的印象を提供することを可能にし、前記旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を配向して本明細書に記載するＯＥＬを作製するように旋回する。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、少なくとも、相互に斜めの磁軸線を有するａ）第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及びｂ）第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の相互作用に基づく。典型的には、本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、アセンブリ（ｘ００）を旋回させるときにＯＥＬの平面に実質上直交するように配向された旋回軸線を有する支持体に固定され、前記第１の磁石の磁軸線及び前記第２の磁石の磁軸線は、互いに対して斜めである。

［０８４］旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び本明細書に記載する第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）を備え、本明細書に記載する前記第１及び第２の磁場生成デバイスは、ともに随伴して旋回することが可能である。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）の旋回軸線は、ＯＥＬ及び基板（ｘ２０）の表面に対して実質上直角である。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）の旋回軸線は、本明細書に記載するＯＥＬの円対称配向パターンの中心に対応する。動作中、磁性アセンブリ（ｘ００）は、必要とされる周波数で旋回している。本明細書に記載する磁性アセンブリ（ｘ００）及び方法の一実施形態では、磁性アセンブリ（ｘ００）の中心旋回軸線は、露出中に基板の一部分を直交して通過する。

［０８５］本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び本明細書に記載する第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）を随伴して旋回させる電気モータを備えることが好ましい。好ましい電気モータは、国際公開第２０１６／０２６８９６号に開示されている。

［０８６］第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の磁軸線はどちらも、旋回軸線に対して実質上直角であり、すなわちＯＥＬの平面に対して実質上平行（基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）である。本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は積層され、前記第１のデバイスの磁軸線及び前記第２のデバイスの磁軸線は、旋回軸線に対して直角、すなわちＯＥＬ／基板（ｘ２０）の表面の平面に対して実質上平行の平面に、旋回軸線に沿って射影されるとき、これらの射影が、約１５°〜約１７５°又は約−１５°〜約−１７５°、好ましくは約１５°〜約１６５°又は約−１５°〜約−１６５°の角度（Ω）にまで及ぶように配置される。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）の第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）は、旋回軸線上にその質量中心を有し、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、旋回軸線上にその質量中心を有することが好ましい。

［０８７］上述した旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）の第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、独立して単一片の磁石又は２つ以上の磁石の組合せ（すなわち、２つ、３つなどの磁石の組合せ）とすることができる。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の構成要素（複数可）及び／又は第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の構成要素（複数可）をともに保持する１つ又は複数の支持マトリックス（ｘ５０）をさらに備えることができる。

［０８８］本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）の第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、長方形、円筒形、球形、又は任意の複雑な形状など、任意の幾何学的な形態又は形状を有することができる。本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）の第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、棒磁石（立方体又は直方体）、円板状の磁石（円板又は筒体）、リング状の磁石（リング又は中空筒体）、及びこれらの組合せからなる群から独立して選択されることが好ましい。

［０８９］本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）のさらに２つ以上の棒状の双極磁石のうちの３つ以上、すなわち３つ、４つなどが使用されるとき、前記さらに３つ以上の棒状の双極磁石は、同一線上の配置で配置されることが好ましい。

［０９０］特に好ましいアセンブリは、旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）であり、旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、
ａ）第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）であって、ｉ）旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石、ｉｉ）２つ以上の棒状の双極磁石であり、前記２つ以上の棒状の双極磁石がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有し、前記２つ以上の棒状の双極磁石がすべて、同じ磁場方向を有する、２つ以上の棒状の双極磁石、ｉｉｉ）旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石、ｉｖ）ループ状、好ましくはリング状の双極磁石内に入れ子にされた円板状の双極磁石であり、円板状の双極磁石及びループ状、好ましくはリング状の双極磁石がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有し、円板状の双極磁石及びループ状、好ましくはリング状の双極磁石がすべて、同じ磁場方向を有する、円板状の双極磁石、又はｖ）２つ以上の入れ子にされたループ状、好ましくは２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石であり、前記２つ以上の入れ子にされたループ状、好ましくは２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石がそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有し、前記２つ以上の入れ子にされたループ状、好ましくは２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石がすべて、同じ磁場方向を有する、２つ以上の入れ子にされたループ状、好ましくは２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石を備える、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と、
ｂ）第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）であって、ｉ）旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石、ｉｉ）旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石、又はｉｉｉ）旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石である、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）とを具備する。図５Ａ１及び図６Ａ１に示すように、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）を第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）上に配置することができ（図５Ａ１参照）、又は別法として、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）を第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）上に配置することができる（図６Ａ１参照）。

［０９１］図５Ａ１〜図１２Ａ１に示すように、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の磁軸線の射影が、同じ平面内で旋回軸線に沿った第２の磁場生成デバイス（ｘ３０）の磁軸線の射影とともに、約５°〜約１７５°又は約−５°〜約−１７５°、好ましくは約１５°〜約１６５°又は約−１５°〜約−１６５°の値を有する角度（Ω）を形成するように配置される。

［０９２］本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）を備え、前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び／又は前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の構成要素（複数可）及び／又は第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の構成要素（複数可）をともに保持する１つ又は複数の支持マトリックス（ｘ５０）をさらに備えることができる。

［０９３］本明細書に記載する１つ又は複数の支持マトリックス（ｘ５０）は、１つ又は複数の非磁性材料から独立して作られる。非磁性材料は、たとえばエンジニアリングプラスチック及びポリマー、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、チタン合金、及びオーステナイト鋼（すなわち、非磁性鋼）などの低導電性材料、非導電性材料、及びこれらの混合物からなる群から選択されることが好ましい。エンジニアリングプラスチック及びポリマーには、非限定的に、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）及びその誘導体、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリエーテルエーテルケトンケトン（ＰＥＥＫＫ）、並びにポリエーテルケトンエーテルケトンケトン（ＰＥＫＥＫＫ）、ポリアセタール、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、コポリエーテルエステル、ポリイミド、ポリエーテルイミド、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリプロピレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）共重合体、フッ化及びペルフッ化ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、並びに液晶ポリマーが含まれる。好ましい材料としては、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ナイロン（登録商標）（ポリアミド）、及びＰＰＳが挙げられる。

［０９４］本明細書に記載する１つ又は複数の支持マトリックス（ｘ５０）は、本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の構成要素（複数可）及び／又は第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の構成要素（複数可）を保持する１つ又は複数の凹部、空隙、くぼみ、及び／又は空間を独立して備える。

［０９５］一実施形態によれば、図９Ａ１に示すように、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石（ｘ３１）である。第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石は、本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ５０）に少なくとも部分的又は完全に埋め込まれることが好ましい。

［０９６］別の実施形態によれば、図１０Ａ１及び図１５Ａ１に示すように、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）は、２つ以上の棒状の双極磁石からなり、前記２つ以上の棒状の双極磁石はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有し、前記２つ以上の棒状の双極磁石はすべて、同じ磁場方向を有する。第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の２つ以上の棒状の双極磁石は、本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ５０）に少なくとも部分的又は完全に埋め込まれることが好ましい。図１０Ａ１に示す一実施形態によれば、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の２つ以上の棒状の双極磁石は、本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ５０）に少なくとも部分的又は完全に埋め込まれており、同じ方向を指す磁軸線を有する２つ以上の磁石は、支持マトリックス（ｘ５０）の対称軸線に対して実質上平行、特に円板状の支持マトリックス（ｘ５０）である支持マトリックス（ｘ５０）の直径に対して実質上平行の磁軸線を有することができ、又は図１５Ａ１に示すように、同じ方向を指す磁軸線を有する２つ以上の磁石は、支持マトリックス（ｘ５０）の対称軸線に対して特有の角度だけ傾斜した、特に支持マトリックス（ｘ５０）の直径に対して実質上傾斜した磁軸線を有することができる。

［０９７］別の実施形態によれば、図５Ａ１〜図８Ａ１に示すように、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有するリング状の双極磁石である。第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）のリング状の双極磁石は、本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ５０）に少なくとも部分的又は完全に埋め込むことができる。

［０９８］別の実施形態によれば、図１２に示すように、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）は、リング状の双極磁石（ｘ１０−ｂ）内に入れ子にされた円板状の双極磁石（ｘ３１−ａ）を備え、円板状の双極磁石及びリング状の双極磁石はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線及び同じ磁場方向を有する。第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の円板状の双極磁石（ｘ３１−ａ）及びリング状の双極磁石（ｘ３１−ｂ）は、本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ５０）に少なくとも部分的又は完全に埋め込むことができる。

［０９９］別の実施形態によれば、図１３に示すように、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）は、２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石（ｘ３１−ａ、ｘ３１−ｂ）を備え、前記２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有し、前記２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石（ｘ３１−ａ、ｘ３１−ｂ）はすべて、同じ磁場方向を有する。第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石（ｘ３１−ａ、ｘ３１−ｂ）は、本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ５０）に少なくとも部分的又は完全に埋め込むことができる。

［０１００］本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）に加えて、本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載する第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）を備え、前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、
ｉ）旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石、ｉｉ）旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石、又は
ｉｉｉ）旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石とすることができる。

［０１０１］一実施形態によれば、図５Ａ１、図６Ａ１、図９Ａ１、図１０Ａ１、図１１Ａ１、図１２、図１３、及び図１５に示すように、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石である。第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の円板状の双極磁石は、本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ５０）に少なくとも部分的又は完全に埋め込むことができる。

［０１０２］別の実施形態によれば、図７Ａ１及び図８Ａ１に示すように、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有するリング状の双極磁石である。第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）のリング状の双極磁石は、本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ５０）に少なくとも部分的又は完全に埋め込むことができる。

［０１０３］別の実施形態によれば、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（ｘ２０）の表面に対して実質上平行）の南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石である。第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の棒状の双極磁石は、本明細書に記載する支持マトリックス（ｘ５０）に少なくとも部分的又は完全に埋め込むことができる。

［０１０４］第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石（複数可）、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）のループ状、好ましくはリング状の双極磁石（複数可）、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の円板状の双極磁石、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）のループ状、好ましくはリング状の双極磁石、及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の棒状の双極磁石は、高保磁力材料（強磁性材料とも呼ぶ）から独立して作られることが好ましい。好適な高保磁力材料は、少なくとも２０ｋＪ／ｍ^３、好ましくは少なくとも５０ｋＪ／ｍ^３、より好ましくは少なくとも１００ｋＪ／ｍ^３、さらにより好ましくは少なくとも２００ｋＪ／ｍ^３の最大エネルギー積（ＢＨ）_ｍａｘの値を有する材料である。好適な高保磁力材料は、たとえばアルニコ５（Ｒ１−１−１）、アルニコ５ＤＧ（Ｒ１−１−２）、アルニコ５−７（Ｒ１−１−３）、アルニコ６（Ｒ１−１−４）、アルニコ８（Ｒ１−１−５）、アルニコ８ＨＣ（Ｒ１−１−７）、及びアルニコ９（Ｒ１−１−６）などのアルニコからなる群から選択される１つ又は複数の焼結又はポリマー結合磁性材料、式ＭＦｅ_１２０_１９のヘキサフェライト（たとえば、ストロンチウムヘキサフェライト（ＳｒＯ＊６Ｆｅ_２０_３）又はバリウムヘキサフェライト（ＢａＯ＊６Ｆｅ_２０_３））、式ＭＦｅ_２０_４の硬質フェライト（たとえば、コバルトフェライト（ＣｏＦｅ_２０_４）又は磁鉄鉱（Ｆｅ_３Ｏ_４）、Ｍは２価金属イオンである）、セラミック８（ＳＩ−１−５）、ＲＥＣｏ_５（ＲＥ＝Ｓｍ又はＰｒ）、ＲＥ_２ＴＭ_１７（ＲＥ＝Ｓｍ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｈｆ）、ＲＥ_２ＴＭ_１４Ｂ（ＲＥ＝Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｏ）を含む群から選択される希土類磁性材料、ＦｅＣｒＣｏの異方性合金、ＰｔＣｏ、ＭｎＡｌＣ、ＲＥコバルト５／１６、ＲＥコバルト１４の群から選択される材料から作られることが好ましい。棒磁石の高保磁力材料は、好ましくは希土類磁性材料からなる群から、より好ましくはＮｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ及びＳｍＣｏ_５からなる群から選択される。プラスチック又はゴム型のマトリックスにストロンチウム−ヘキサフェライト（ＳｒＦｅ_１２Ｏ_１９）又はネオジム−鉄−ホウ素（Ｎｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ）の粉末などの永久磁性充填剤を含む容易に実行可能な永久磁性複合材料が、特に好ましい。

［０１０５］本明細書に記載する本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）と第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０〜約１０ｍｍ、より好ましくは約０ｍｍ〜約５ｍｍ、さらにより好ましくは０である。

［０１０６］本明細書に記載する第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）又は第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の最上面と、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）又は第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）に面している基板（ｘ２０）の下面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ〜約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ〜約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ〜７ｍｍである。

［０１０７］第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の棒状の双極磁石（複数可）、第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）のループ状、好ましくはリング状の双極磁石（複数可）、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の円板状の双極磁石、第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）のループ状、好ましくはリング状の双極磁石、及び第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の棒状の双極磁石の材料、並びに距離（ｄ）、（ｈ）は、旋回磁性アセンブリ（ｘ００）の第１及び第２の磁場生成デバイス（ｘ３０及びｘ４０）によってもたらされる磁場の相互作用に起因する磁場が、本明細書に記載する光学効果層を作製するのに好適になるように選択される。旋回磁性アセンブリ（ｘ００）の第１及び第２の磁場生成デバイス（ｘ３０及びｘ４０）によってもたらされる磁場は相互作用し、その結果生じる装置の磁場は、装置の磁場内に配置された基板のまだ硬化していない放射線硬化性の被覆組成物内に位置する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させて、前記ＯＥＬを傾斜させたときに少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの円形に動く彗星状スポットが回転中心の周りを回転するという光学的印象をもたらすことが可能である。

［０１０８］図５Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（５１０）を基板（５２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（５００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（５００）は、リング状の双極磁石からなる第１の磁場生成デバイス（５３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（５４０）とを備える。

［０１０９］第１の磁場生成デバイス（５３０）のリング状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（５２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。第２の磁場生成デバイス（５４０）の円板状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（５２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

［０１１０］リング状の双極磁石（５３０）は、円板状の双極磁石（５４０）上に配置され、すなわちリング状の双極磁石（５３０）は、円板状の双極磁石（５４０）と基板（５２０）との間に配置される。

［０１１１］図５Ａ２に示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（５３０）のリング状の双極磁石の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（５４０）の円板状の双極磁石の磁軸線の射影は、約−３０°の値を有する角度（Ω）を形成する。

［０１１２］リング状の双極磁石（５３０）及び円板状の双極磁石（５４０）を備える旋回可能な磁性アセンブリ（５００）は、基板（５２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

［０１１３］リング状の双極磁石（５３０）の下面と円板状の双極磁石（５４０）の上面との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０〜約１０ｍｍ、より好ましくは約０〜約５ｍｍであり、さらにより好ましくは約０であり、すなわちリング状の双極磁石（５３０）及び円板状の双極磁石（５４０）は直接接触している。

［０１１４］図５Ｃは、図５Ｂに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（５２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

［０１１５］リング状の双極磁石（５３０）の上面と旋回可能な磁性アセンブリ（５００）に面している基板（５２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ〜約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ〜約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ〜７ｍｍである。

［０１１６］その結果、図５Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（５００）によって作製されたＯＥＬは、基板（５２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図５Ｂに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。その結果、図５Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（５００）によって作製されたＯＥＬは、距離（ｄ）及び／又は（ｈ）を変動させて、図１６Ａ〜図１６Ｃに示されている。

［０１１７］図６Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（６１０）を基板（６２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（６００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（６００）は、リング状の双極磁石からなる第１の磁場生成デバイス（６３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（６４０）とを備える。

［０１１８］第１の磁場生成デバイス（６３０）のリング状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（６２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（６２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

［０１１９］円板状の双極磁石（６４０）は、リング状の双極磁石（６３０）上に配置され、すなわち円板状の双極磁石（６４０）は、基板（６２０）とリング状の双極磁石（６３０）との間に配置される。

［０１２０］図６Ａ２に示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（６３０）のリング状の双極磁石の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石の磁軸線の射影は、約＋４５°の値を有する角度（Ω）を形成する。

［０１２１］図６Ｃは、図６Ｂに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（６２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。リング状の双極磁石（６３０）及び円板状の双極磁石（６４０）を備える旋回可能な磁性アセンブリ（６００）は、基板（６２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

［０１２２］円板状の双極磁石（６４０）の下面とリング状の双極磁石（６３０）の上面との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０〜約１０ｍｍ、より好ましくは約０〜約５ｍｍであり、さらにより好ましくは約０ｍｍであり、すなわちリング状の双極磁石（６３０）及び円板状の双極磁石（６４０）は直接接触している。

［０１２３］円板状の双極磁石（６４０）の上面と旋回可能な磁性アセンブリ（６００）に面している基板（６２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ〜約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ〜約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ〜７ｍｍである。

［０１２４］その結果、図６Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（６００）によって作製されたＯＥＬは、基板（６２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図６Ｂに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０１２５］図７Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（７１０）を基板（７２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（７００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（７００）は、リング状の双極磁石からなる第１の磁場生成デバイス（７３０）と、リング状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（７４０）とを備える。

［０１２６］第１の磁場生成デバイス（７３０）のリング状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（７２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。第２の磁場生成デバイス（７４０）のリング状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（７２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

［０１２７］第１の磁場生成デバイス（７３０）のリング状の双極磁石は、第２の磁場生成デバイス（７４０）のリング状の双極磁石上に配置され、すなわち第１の磁場生成デバイス（７３０）のリング状の双極磁石は、基板（７２０）と第２の磁場生成デバイス（７４０）のリング状の双極磁石との間に配置される。

［０１２８］図７Ａ２に示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（７３０）のリング状の双極磁石の磁軸線及び第２の磁場生成デバイス（７４０）のリング状の双極磁石の磁軸線は、約−９０°の値を有する角度（Ω）を形成する。

［０１２９］第１の磁場生成デバイス（７３０）のリング状の双極磁石及び第２の磁場生成デバイス（７４０）のリング状の双極磁石を備える旋回可能な磁性アセンブリ（７００）は、基板（７２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

［０１３０］図７Ｃは、図７Ｂに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（７２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

［０１３１］第１の磁場生成デバイス（７３０）のリング状の双極磁石の下面と第２の磁場生成デバイス（７４０）のリング状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０〜約１０ｍｍであり、より好ましくは約０ｍｍであり、すなわちリング状の双極磁石（７３０）及び円板状の双極磁石（７４０）は直接接触している。

［０１３２］第１の磁場生成デバイス（７３０）のリング状の双極磁石の上面と旋回可能な磁性アセンブリ（７００）に面している基板（７２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ〜約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ〜約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ〜７ｍｍである。

［０１３３］第１の磁場生成デバイス（７３０）のリング状の双極磁石及び第２の磁場生成デバイス（７４０）のリング状の双極磁石を備える旋回可能な磁性アセンブリ（７００）は、基板（７２０）の表面に対して直角の軸線の周りを旋回することが可能である。

［０１３４］その結果、図７Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（７００）によって作製されたＯＥＬは、基板（７２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図７Ｂに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０１３５］図８Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（８１０）を基板（８２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（８００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（８００）は、リング状の双極磁石からなる第１の磁場生成デバイス（８３０）と、リング状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（８４０）とを備える。

［０１３６］第１の磁場生成デバイス（８３０）のリング状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（８２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。第２の磁場生成デバイス（８４０）のリング状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（８２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

［０１３７］第１の磁場生成デバイス（８３０）のリング状の双極磁石は、第２の磁場生成デバイス（８４０）のリング状の双極磁石上に配置され、すなわち第１の磁場生成デバイス（８３０）のリング状の双極磁石は、基板（８２０）と第２の磁場生成デバイス（８４０）のリング状の双極磁石との間に配置される。

［０１３８］図８Ａ２に示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（８３０）のリング状の双極磁石の磁軸線及び第２の磁場生成デバイス（８４０）のリング状の双極磁石の磁軸線は、約９０°の値を有する角度（Ω）を形成する。

［０１３９］第１の磁場生成デバイス（８３０）のリング状の双極磁石及び第２の磁場生成デバイス（８４０）のリング状の双極磁石を備える旋回可能な磁性アセンブリ（８００）は、基板（８２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

［０１４０］図８Ｃは、図８Ｂに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（８２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

［０１４１］第１の磁場生成デバイス（８３０）のリング状の双極磁石の下面と第２の磁場生成デバイス（８４０）のリング状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０〜約１０ｍｍであり、より好ましくは約０ｍｍであり、すなわちリング状の双極磁石（８３０）及び円板状の双極磁石（８４０）は直接接触している。

［０１４２］第１の磁場生成デバイス（８３０）のリング状の双極磁石の上面と旋回可能な磁性アセンブリ（８００）に面している基板（８２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ〜約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ〜約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ〜７ｍｍである。

［０１４３］その結果、図８Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（８００）によって作製されたＯＥＬは、基板（８２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図８Ｂに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０１４４］図９Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（９１０）を基板（９２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（９００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（９００）は、棒状の双極磁石（９３１）からなる第１の磁場生成デバイス（９３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（９４０）とを備える。

［０１４５］第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（９２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有する。第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）は、円板状の支持マトリックス（９５０）に埋め込まれており、前記円板状の支持マトリックスは、棒状の双極磁石と同じ形状を有する空隙を含む。第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）の頂面及び下面は、支持マトリックス（９５０）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

［０１４６］第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（９２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

［０１４７］第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）を備える支持マトリックス（９５０）は、第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石上に配置され、すなわち第１の磁場生成デバイス（９３０）は、基板（９２０）と第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石との間に配置される。

［０１４８］図９Ａ２に示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石の磁軸線の射影は、約−６０°の値を有する角度（Ω）を形成する。

［０１４９］第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）及び第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石を備える旋回可能な磁性アセンブリ（９００）は、基板（９２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

［０１５０］図９Ｄは、図９Ｂに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（９２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

［０１５１］第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）の下面と第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０〜５ｍｍであり、より好ましくは約０ｍｍであり、すなわち第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）及び円板状の双極磁石（９４０）は直接接触している。

［０１５２］第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）の上面と旋回可能な磁性アセンブリ（９００）に面している基板（９２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ〜約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ〜約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ〜７ｍｍである。

［０１５３］その結果、図９Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（９００）によって作製されたＯＥＬは、基板（９２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図９Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０１５４］図１０Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１０１０）を基板（１０２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）は、２つ以上、特に２つの棒状の双極磁石（１０３１）からなる第１の磁場生成デバイス（１０３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（１０４０）とを備える。

［０１５５］第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（１０２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有する。第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）は、同じ方向を指す磁軸線を有する。第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）は、円板状の支持マトリックス（１０５０）に埋め込まれており、前記円板状の支持マトリックスは、棒状の双極磁石と同じ形状を有する２つの空隙を含む。第１の磁場生成デバイス（１０３０）の棒状の双極磁石（１０３１）の頂面及び下面は、支持マトリックス（１０５０）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

［０１５６］第２の磁場生成デバイス（１０４０）の円板状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（１０２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

［０１５７］第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）を備える支持マトリックス（１０５０）は、第２の磁場生成デバイス（１０４０）の円板状の双極磁石上に配置され、すなわち第１の磁場生成デバイス（１０３０）は、基板（１０２０）と第２の磁場生成デバイス（１０４０）の円板状の双極磁石との間に配置される。

［０１５８］図１０Ａ２に示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（１０４０）の円板状の双極磁石の磁軸線の射影は、約−３０°の値を有する角度（Ω）を形成する。

［０１５９］第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）及び第２の磁場生成デバイス（１０４０）の円板状の双極磁石を備える旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）は、基板（１０２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

［０１６０］図１０Ｄは、図１０Ｂに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（１０２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

［０１６１］第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）の下面と第２の磁場生成デバイス（１０４０）の円板状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０〜約５ｍｍであり、より好ましくは約０ｍｍであり、すなわち第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）及び円板状の双極磁石（１０４０）は直接接触している。

［０１６２］第１の磁場生成デバイス（１０３０）２つの棒状の双極磁石（１０３１）の上面と旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）に面している基板（１０２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ〜約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ〜約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ〜７ｍｍである。

［０１６３］その結果、図１０Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（１０００）によって作製されたＯＥＬは、基板（１０２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図１０Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０１６４］図１１Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１１１０）を基板（１１２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（１１００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（１１００）は、２つ以上、特に３つの棒状の双極磁石（１１３１）からなる第１の磁場生成デバイス（１１３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（１１４０）とを備える。第１の磁場生成デバイス（１１３０）は、支持マトリックス（１１５０）に埋め込まれた３つの同一線上の棒状の双極磁石（１１３１）の中心に位置合わせされた配置を備える。

［０１６５］第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（１１２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有する。第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）は、同じ方向を指す磁軸線を有する。第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）は、円板状の支持マトリックス（１１５０）に埋め込まれており、前記円板状の支持マトリックスは、棒状の双極磁石と同じ形状を有する３つの空隙を含む。第１の磁場生成デバイス（１１３０）の棒状の双極磁石（１１３１）の頂面及び下面は、支持マトリックス（１１５０）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

［０１６６］第２の磁場生成デバイス（１１４０）の円板状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（１１２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

［０１６７］第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）を備える支持マトリックス（１１５０）は、第２の磁場生成デバイス（１１４０）の円板状の双極磁石上に配置され、すなわち第１の磁場生成デバイス（１１３０）は、基板（１１２０）と第２の磁場生成デバイス（１１４０）の円板状の双極磁石との間に配置される。

［０１６８］図１１Ａ２に示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの同一線上の棒状の双極磁石（１１３１）の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（１１４０）の円板状の双極磁石の磁軸線の射影は、約−１２０°の値を有する角度（Ω）を形成する。

［０１６９］第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）及び第２の磁場生成デバイス（１１４０）の円板状の双極磁石を備える旋回可能な磁性アセンブリ（１１００）は、基板（１１２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

［０１７０］図１１Ｄは、図１１Ｂに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（１１２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

［０１７１］第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）の下面と第２の磁場生成デバイス（１１４０）の円板状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０〜約５ｍｍであり、より好ましくは約０ｍｍであり、すなわち第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）及び円板状の双極磁石（１１４０）は直接接触している。

［０１７２］第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）の上面と旋回可能な磁性アセンブリ（１１００）に面している基板（１１２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ〜約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ〜約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ〜７ｍｍである。

［０１７３］その結果、図１１Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（１１００）によって作製されたＯＥＬは、基板（１１２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図１１Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに２周円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転する光学的印象を提供する。

［０１７４］図１５Ａ１は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１５１０）を基板（１５２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（１５００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（１５００）は、２つ以上、特に２つの棒状の双極磁石（１５３１）からなる第１の磁場生成デバイス（１５３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（１５４０）とを備える。

［０１７５］第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（１５２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有する。第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）は、同じ方向を指す磁軸線を有する。第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）は、２つの棒状の双極磁石（１５３１）の頂面の中心を交差する支持マトリックス（１５５０）の直径から特有の角度、特に約３０°の角度β（図１５Ｂ１に示す）だけ傾斜した磁軸線を有する。第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）は、円板状の支持マトリックス（１５５０）に埋め込まれており、前記円板状の支持マトリックスは、棒状の双極磁石と同じ形状を有する２つ以上、特に２つの空隙を含む。第１の磁場生成デバイス（１５３０）の棒状の双極磁石（１５３１）の頂面及び下面は、支持マトリックス（１５５０）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

［０１７６］第２の磁場生成デバイス（１５４０）の円板状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（１５２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

［０１７７］第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）を備える支持マトリックス（１５５０）は、第２の磁場生成デバイス（１５４０）の円板状の双極磁石上に配置され、すなわち第１の磁場生成デバイス（１５３０）は、基板（１５２０）と第２の磁場生成デバイス（１５４０）の円板状の双極磁石との間に配置される。

［０１７８］図１５Ａ２に示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（１５４０）の円板状の双極磁石の磁軸線の射影は、約１５０°の値を有する角度（Ω）を形成する。

［０１７９］第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）及び第２の磁場生成デバイス（１５４０）の円板状の双極磁石を備える旋回可能な磁性アセンブリ（１５００）は、基板（１５２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

［０１８０］図１５Ｄは、図１５Ｃに示すＯＥＬの直径に沿って法線入射で基板（１５２０）の表面に当たるコノスコープスキャタロメータの光ビームの球面極座標における偏向角を表す。

［０１８１］第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）の下面と第２の磁場生成デバイス（１５４０）の円板状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は、好ましくは約０〜約５ｍｍであり、より好ましくは約０ｍｍであり、すなわち第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）及び円板状の双極磁石（１５４０）は直接接触している。

［０１８２］第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）の上面と旋回可能な磁性アセンブリ（１５００）に面している基板（１０２０）の表面との間の距離（ｈ）は、好ましくは約０．５ｍｍ〜約１０ｍｍ、より好ましくは約０．５ｍｍ〜約７ｍｍ、さらにより好ましくは約１ｍｍ〜７ｍｍである。

［０１８３］その結果、図１５Ａ１に示す旋回磁性アセンブリ（１５００）によって作製されたＯＥＬは、基板（１５２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図１５Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０１８４］図１２は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１２１０）を基板（１２２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（１２００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（１２００）は、リング状の双極磁石（１２３１−ｂ）内に入れ子にされた円板状の双極磁石（１２３１−ａ）からなる第１の磁場生成デバイス（１２３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（１２４０）とを備える。

［０１８５］第１の磁場生成デバイス（１２３０）のリング状の双極磁石（１２３１−ｂ）内に入れ子にされた円板状の双極磁石（１２３１−ａ）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（１２２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化され、どちらも同じ方向を指す磁軸線を有する。円板状の双極磁石（１２３１−ａ）及びリング状の双極磁石（１２３１−ｂ）は、中心に位置合わせされる。第１の磁場生成デバイス（１２３０）のリング状の双極磁石（１２３１−ｂ）内に入れ子にされた円板状の双極磁石（１２３１−ａ）は、円板状の支持マトリックス（１２５０）に埋め込まれており、前記円板状の支持マトリックスは、円板状の双極磁石（１２３１−ａ）及びリング状の双極磁石（１２３１−ｂ）と同じ外形を有する２つの円形の空隙又はくぼみを含む。

［０１８６］第２の磁場生成デバイス（１２４０）の円板状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（１２２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

［０１８７］第１の磁場生成デバイス（１２３０）のリング状の双極磁石（１２３１−ｂ）内に入れ子にされた円板状の双極磁石（１２３１−ａ）を備える支持マトリックス（１２５０）は、第２の磁場生成デバイス（１２４０）の円板状の双極磁石上に配置され、すなわち第１の磁場生成デバイス（１２３０）は、基板（１２２０）と第２の磁場生成デバイス（１２４０）の円板状の双極磁石との間に配置される。第１の磁場生成デバイス（１１３０）のリング状の双極磁石（１２３１−ｂ）内に入れ子にされた円板状の双極磁石（１２３１−ａ）及び第２の磁場生成デバイス（１２４０）の円板状の双極磁石を備える旋回可能な磁性アセンブリ（１２００）は、基板（１２２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

［０１８８］その結果、図１２に示す旋回磁性アセンブリ（１２００）によって作製されたＯＥＬは、基板（１２２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって異なる視野角で円形に動く２重の彗星状スポットになるはずであり、すなわち図１１Ｃに示すＯＥＬに類似しているＯＥＬになるはずである。

［０１８９］図１３は、本発明によって非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１３１０）を基板（１３２０）に作製するのに好適な旋回可能な磁性アセンブリ（１３００）の一例を示す。旋回可能な磁性アセンブリ（１３００）は、２つ以上、特に２つの入れ子にされたリング状の双極磁石（１３３１−ａ、１３３１−ｂ）からなる第１の磁場生成デバイス（１３３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（１３４０）とを備える。

［０１９０］第１の磁場生成デバイス（１３３０）の２つの入れ子にされたリング状の双極磁石（１３３１−ａ、１３３１−ｂ）はそれぞれ、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（１３２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化され、どちらも同じ方向を指す磁軸線を有する。第１の磁場生成デバイス（１３３０）の２つの入れ子にされたリング状の双極磁石（１３３１−ａ、１３３１−ｂ）は、中心に位置合わせされる。第１の磁場生成デバイス（１３３０）の２つの入れ子にされたリング状の磁石（１３３１−ａ、１３３１−ｂ）は、円板状の支持マトリックス（１３５０）に埋め込まれており、前記円板状の支持マトリックスは、２つの入れ子にされたリング状の双極磁石（１３３１−ａ、１３３１−ｂ）と同じ形状を有する２つの円形の空隙又はくぼみを含む。第１の磁場生成デバイス（１３３０）の２つの入れ子にされたリング状の双極磁石（１３３１−ａ、１３３１−ｂ）の頂面及び下面は、支持マトリックス（１３５０）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

［０１９１］第２の磁場生成デバイス（１３４０）の円板状の双極磁石は、旋回軸線に対して実質上直角（すなわち、基板（１３２０）の表面に対して実質上平行）の磁軸線を有し、直径方向に磁化される。

［０１９２］第１の磁場生成デバイス（１３３０）の２つの入れ子にされたリング状の双極磁石（１３３１−ａ、１３３１−ｂ）は、第２の磁場生成デバイス（１３４０）の円板状の双極磁石上に配置される。第１の磁場生成デバイス（１３３０）の２つの入れ子にされたリング状の双極磁石（１３３１−ａ、１３３１−ｂ）及び第２の磁場生成デバイス（１３４０）の円板状の双極磁石を備える旋回可能な磁性アセンブリ（１３００）は、基板（１３２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回することが可能である。

［０１９３］その結果、図１３に示す旋回磁性アセンブリ（１３００）によって作製されたＯＥＬは、基板（１３２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって異なる視野角で円形に動く２重の彗星状スポットになるはずであり、すなわち図１１Ｃに示すＯＥＬに類似しているＯＥＬになるはずである。

［０１９４］本発明は、回転磁性筒体、及び回転磁性筒体の円周方向又は軸線方向の溝に取り付けられた本明細書に記載する１つ又は複数の旋回可能な磁性アセンブリ（ｘ００）と、平床式印刷ユニット、及び平床式印刷ユニットの凹部に取り付けられた本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリの１つ又は複数を備える印刷アセンブリとを備える印刷装置をさらに提供する。

［０１９５］回転磁性筒体とは、印刷若しくは被覆機器内で使用され、又は印刷若しくは被覆機器とともに使用され、又は印刷若しくは被覆機器の一部であり、本明細書に記載する１つ又は複数の旋回可能な磁性アセンブリを保持することを意味する。一実施形態では、回転磁性筒体は、速い印刷速度で連続して動作する回転式、シート供給式、又はウェブ供給式の産業用印刷プレスの一部である。

［０１９６］平床式印刷ユニットとは、印刷若しくは被覆機器内で使用され、又は印刷若しくは被覆機器とともに使用される、又は印刷若しくは被覆機器の一部であり、本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリの１つ又は複数を保持することを意味する。一実施形態では、平床式印刷ユニットは、断続的に動作するシート供給式の産業用印刷プレスの一部である。

［０１９７］本明細書に記載する回転磁性筒体又は本明細書に記載する平床式印刷ユニットを備える印刷装置は、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の層を有する本明細書に記載するものなどの基板を供給する基板フィーダを含むことができ、したがって磁性アセンブリは、光学効果層（ＯＥＬ）を形成するように顔料粒子に作用して配向させる磁場を生成する。本明細書に記載する回転磁性筒体を備える印刷装置の一実施形態では、基板は、シート又はウェブの形で基板フィーダによって供給される。本明細書に記載する平床式印刷ユニットを備える印刷装置の一実施形態では、基板は、シートの形で供給される。本明細書に記載する回転磁性筒体又は本明細書に記載する平床式印刷ユニットを備える印刷装置は、本明細書に記載する非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物を本明細書に記載する基板上に塗布する被覆又は印刷ユニットを含むことができ、放射線硬化性の被覆組成物は、光学効果層（ＯＥＬ）を形成するように本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリによって生成される磁場によって配向される非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む。本明細書に記載する回転磁性筒体を備える印刷装置の一実施形態では、被覆又は印刷ユニットは、連続的な回転プロセスに応じて動作する。本明細書に記載する平床式印刷ユニットを備える印刷装置の一実施形態では、被覆又は印刷ユニットは、断続的な線形プロセスに応じて動作する。

［０１９８］本明細書に記載する回転磁性筒体又は本明細書に記載する平床式印刷ユニットを備える印刷装置は、本明細書に記載する旋回可能な磁性アセンブリによって磁気的に配向された非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させ、以て非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の配向及び位置を固定して光学効果層（ＯＥＬ）を作製する硬化ユニットを含むことができる。

［０１９９］本明細書に記載するＯＥＬは、基板上に直接設けることができ、基板上に恒久的に残るものとする（銀行券の応用例など）。別法として、ＯＥＬは、作製の目的で一時基板上に設けることもでき、ＯＥＬはその後除去される。これはたとえば、特に接着材料がまだその流体状態にあるときでも、ＯＥＬの作製を容易にすることができる。その後、ＯＥＬの作製のために被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させた後、一時基板をＯＥＬから除去することができる。

［０２００］別法として、接着剤層がＯＥＬ上に存在することができ、又は光学効果層（ＯＥＬ）を備える基板上に存在することができ、前記接着剤層は、ＯＥＬが設けられる側とは基板の反対側又はＯＥＬと同じ側でＯＥＬ上にある。したがって、光学効果層（ＯＥＬ）又は基板に接着剤層を塗布することができる。そのような物品は、機械及びさらに高い労力を伴う印刷又は他のプロセスなしに、あらゆる種類の文書又は他の物品若しくは品目に取り付けることができる。別法として、本明細書に記載するＯＥＬを備える本明細書に記載する基板は、別個の転写ステップで文書又は物品に取り付けることができる転写箔の形態とすることができる。この目的で、基板は剥離被覆を含み、その上にＯＥＬが本明細書に記載するように作製される。１つ又は複数の接着剤層は、そのように作製されたＯＥＬの上に塗布することができる。

［０２０１］本明細書に記載するプロセスによって得られる２つ以上、すなわち２つ、３つ、４つなどの光学効果層（ＯＥＬ）を備える本明細書に記載するものなどの基板もまた、本明細書に記載される。

［０２０２］本発明によって作製された光学効果層（ＯＥＬ）を備える物品、特にセキュリティ文書、装飾要素又は物体もまた、本明細書に記載される。物品、特にセキュリティ文書、装飾要素又は物体は、本発明によって作製された２つ以上（たとえば、２つ、３つなど）のＯＥＬを備えることができる。

［０２０３］本明細書に記載したように、本発明によって作製された光学効果層（ＯＥＬ）は、装飾の目的で、並びにセキュリティ文書を保護及び認証するために使用することができる。装飾要素又は物体の典型的な例には、非限定的に、贅沢品、化粧品の包装、自動車部品、電子／電気機器、家具、及びマニキュアが含まれる。

［０２０４］セキュリティ文書には、非限定的に、有価文書及び有価市販品が含まれる。有価文書の典型的な例には、非限定的に、銀行券、捺印証書、伝票、小切手、証明書、収入印紙、及び税標識、合意書など、パスポートなどの身分証明書、ＩＤカード、ビザ、運転免許証、バンクカード、クレジットカード、トランザクションカード、アクセス文書又はカード、入場チケット、公共交通切符又はタイトルなど、好ましくは銀行券、身分証明書、権利付与文書、運転免許証、及びクレジットカードが含まれる。「有価市販品」という用語は、特に化粧品、機能性食品、医薬品、アルコール、タバコ物品、飲料又は食品、電気／電子物品、衣料品又は宝石類、すなわちたとえば本物の薬剤のような包装の中身を保証するために偽造及び／又は違法複製から保護されるべき物品に対する包装材料を指す。これらの包装材料の例には、非限定的に、認証ブランドラベル、改ざん証拠ラベル、及びシールなどのラベルが含まれる。開示された基板、有価文書、及び有価市販品は、例示のみを目的として与えられたものであり、本発明の範囲を制限しないことが指摘される。

［０２０５］別法として、光学効果層（ＯＥＬ）は、たとえばセキュリティスレッド、セキュリティストリップ、箔、図案、窓、又はラベルなどの補助基板上に作製することができ、したがって別個のステップでセキュリティ文書へ伝達することができる。

［０２０６］図５Ａ〜図１１Ａに示す旋回可能な磁性アセンブリを使用して、表１に記載の紫外線硬化性スクリーン印刷インクの印刷層において非球形で扁円の光学的に可変の磁性顔料粒子を配向し、図５Ｂ〜図８Ｂ及び図９Ｃ〜図１１Ｃに示す光学効果層（ＯＥＬ）を作製した。紫外線硬化性スクリーン印刷インクを黒色の市販の用紙（ＧａｓｃｏｇｎｅＬａｍｉｎａｔｅｓＭ−ｃｏｔｅ１２０）に塗布し、前記塗布は、Ｔ９０スクリーンを使用して手動スクリーン印刷によって実施し、約２０μｍの厚さを有する被覆層を形成した。紫外線硬化性スクリーン印刷インクの塗布層を保持する基板を、旋回磁石アセンブリに配置した。実施例Ｅ１〜Ｅ７及びＣ１〜Ｃ２の旋回可能な磁性アセンブリは、国際公開第２０１６／０２６８９６号の図２に記載されているモータを使用することによって、３０Ｈｚの周波数で約５秒間旋回した。小板状の光学的に可変の顔料粒子のそのように得られた磁性配向パターンは、次いで、配向ステップと部分的に同時に（すなわち、紫外線硬化性スクリーン印刷インクの塗布層を保持する基板がまだ磁性アセンブリの旋回磁場内に位置する間に）、Ｐｈｏｓｅｏｎからの紫外ＬＥＤランプ（ＴｙｐｅＦｉｒｅＦｌｅｘ５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ^２）を使用して、顔料粒子を含む塗布層を紫外線硬化させる約０．５秒間の露出によって固定された。

顔料粒子配向の測定（図４）
［０２０７］ＥｃｋｈａｒｄｔＯｐｔｉｃｓＬＬＣ（ＥｃｋｈａｒｄｔＯｐｔｉｃｓＬＬＣ、５４３０ＪｅｆｆｅｒｓｏｎＣｔ、ＷｈｉｔｅＢｅａｒＬａｋｅ、ＭＮ５５１１０、ｈｔｔｐ：／／ｅｃｋｏｐ．ｃｏｍ）からのコノスコープスキャタロメータ上で、ＯＥＬの直径に沿った非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターンの測定を実施した。

［０２０８］コノスコープスキャタロメータの前焦点面内の手動ｘｙテーブルに、被覆層（ｘ１０）を保持する基板（ｘ２０）を平坦に独立して連続的に配置した。ｘｙテーブルは、両軸線において０〜２６ｍｍで調整可能であった。光学系の下で、ＯＥＬの中心（ＯＥＬの円対称及び配向パターンの円対称の結果としてゼロの天頂角を有する顔料粒子の配向によって特定可能）が光学系の中心に面するように、ＯＥＬを有する基板を保持するｘｙテーブルを手動で調整した。ｘ軸線の原点は、ｘｙテーブルの両軸線に沿って１３ｍｍに任意に設定した（走査範囲の中央）。

［０２０９］直径１ｍｍの平行な緑色光ビーム（５２０ｎｍ）によって、配向された非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子を含む被覆層を、光学系を介して直交入射で照射した。サンプルによって反射される光ビーム偏向角の測定をＯＥＬの直径に沿って０．５ｍｍごとに行い、図３Ｃ、図３Ｆ、図５Ｃ、図６Ｃ、図７Ｃ、図８Ｃ、図９Ｄ、図１０Ｄ、及び図１１Ｄの球面極座標で報告した。したがって、図３Ｃ、図３Ｆ、図５Ｃ、図６Ｃ、図７Ｃ、図８Ｃ、図９Ｄ、図１０Ｄ、及び図１１Ｄは、ｘ方向に沿ってＯＥＬの直径に沿った方位角θ及び天頂偏向角φ’の変動を示す。直径に沿った走査方向が、グラフの一端の負のｘ値及び他端の正のｘ値から０．５ｍｍ刻みで関連グラフに示されている。
比較例Ｃ１（図３Ａ〜図３Ｃ）

［０２１０］国際公開第２０１６／０２６８９６号、図１及び図１３の実施例Ｅ１に従って、比較例Ｃ１（図３Ａ〜図３Ｃ）を準備した。

［０２１１］Ｃ１を準備するために使用された磁性アセンブリ（３００Ａ）は、円板状の双極磁石（３００Ａ）を備えた。円板状の双極磁石（３００Ａ）は、直径方向に磁化され、約３０ｍｍの直径（Ａ１）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。円板状の双極磁石（３００Ａ）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（３２０Ａ）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２１２］円板状の双極磁石（３００Ａ）の上面と双極磁石に面している基板（３２０Ａ）の表面との間の距離（ｈ）は、約５ｍｍであった。

［０２１３］磁性アセンブリ（３００Ａ）は、基板（３２０Ａ）の表面に対して直角の旋回軸線の周りを約３０Ｈｚの速度で旋回した。

［０２１４］その結果、図３Ａに示す磁性アセンブリ（３００Ａ）によって作製されたＯＥＬが図３Ｂに示されている。そのように得られたＯＥＬは、ドームの光学的印象を提供する。

［０２１５］図３Ｂに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターンの測定を可能にし、その結果得られたグラフが図３Ｃに示されている。ｘ方向に沿って−９．７ｍｍ（Ａ）〜＋９．３ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°〜約５５°の値に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約１８０°で、対称的にｘが正の位置において約３６０°で、実質上一定のままである。

比較例Ｃ２（図３Ｄ〜図３Ｆ）
［０２１６］国際公開第２０１６／０２６８９６号の実施例Ｅ２に類似している磁性デバイスによって、比較例Ｃ２（図３Ｄ〜図３Ｆ）を準備した。

［０２１７］Ｃ２を準備するために使用された磁性アセンブリ（３００Ｄ）は、支持マトリックス（３５０Ｄ）に埋め込まれた３つの同一線上の棒状の双極磁石（３３１Ｄ）の中心に位置合わせされた配置からなった。

［０２１８］３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）はそれぞれ、約５ｍｍの長さ（Ａ３）を有する立方体ブロックであった。３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）は、支持マトリックス（３５０Ｄ）の中心の周りに、支持マトリックス（３５０Ｄ）の直径に沿って互いから約５ｍｍの距離（Ａ４）をあけて対称に配置された。３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（３２０Ｄ）の表面に対して実質上平行であり、前記３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）の北極は同じ方向を指した。３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）は、ＮｄＦｅＢＮ４５から作られた。

［０２１９］３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）は、棒状の双極磁石（３３１Ｄ）と同じ形状を有する３つの空隙を含む支持マトリックス（３５０Ｄ）に埋め込まれた。支持マトリックス（３５０Ｄ）は、約３０ｍｍの直径（Ａ１）及び約５ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。支持マトリックス（３５０Ｄ）は、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）から作られた。３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）の頂面及び下面は、支持マトリックス（３５０Ｄ）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

［０２２０］支持マトリックス（３５０Ｄ）に埋め込まれた３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）の上面と３つの棒状の双極磁石（３３１Ｄ）に面している基板（３２０Ｄ）の表面との間の距離（ｈ）は、約５ｍｍであった。

［０２２１］磁性アセンブリ（３００Ｄ）は、基板（３２０Ｄ）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを約３０Ｈｚの速度で旋回した。

［０２２２］その結果、図３Ｄに示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬが図３Ｅに示されている。そのように得られたＯＥＬは、複数のリングの中心に入れ子にされた突起の光学的印象を提供する。

［０２２３］図３Ｅに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターンの測定を可能にし、その結果得られたグラフが図３Ｆに示されている。ｘ方向に沿ってある距離にわたって、天頂偏向角φ’及び方位角θは大幅に変動したが、０°−１８０°軸線に近接した角位置に拘束されたままであった。この文脈で、０°−１８０°軸線に近接とは、偏向角が入射平面（ｘ１４、図２Ｂの２１４）の１０°〜１５°の範囲内に留まることを意味する。

実施例１、Ｅ１（図５）
［０２２４］実施例１の光学効果層（５１０）を基板（５２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（５００）が、図５Ａ１に示されている。

［０２２５］磁性アセンブリ（５００）は、リング状の双極磁石からなる第１の磁場生成デバイス（５３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（５４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（５３０）は、第２の磁場生成デバイス（５４０）上に配置された。

［０２２６］第１の磁場生成デバイス（５３０）のリング状の双極磁石は、直径方向に磁化され、約２５ｍｍの外径（Ａ１）、約１４ｍｍの内径（Ａ２）、及び約２ｍｍの厚さ（Ａ３）を有した。リング状の双極磁石（５３０）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（５２０）の表面に対して実質上平行であった。リング状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２２７］第２の磁場生成デバイス（５４０）の円板状の双極磁石は、直径方向に磁化され、約２５ｍｍの直径（Ａ４）及び約２ｍｍの厚さ（Ａ５）を有した。円板状の双極磁石の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（５２０）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２２８］図５Ｂに示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（５３０）のリング状の双極磁石の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（５４０）の円板状の双極磁石の磁軸線の射影は、約−３０°の角度（Ω）を形成した。

［０２２９］第１の磁場生成デバイス（５３０）のリング状の双極磁石の下面と第２の磁場生成デバイス（５４０）の円板状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は０ｍｍであり、すなわちリング状の双極磁石及び円板状の双極磁石は直接接触していた。第１の磁場生成デバイス（５３０）のリング状の双極磁石の上面とリング状の双極磁石に面している基板（５２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約４．５ｍｍであった。

［０２３０］第１の磁場生成デバイス（５３０）及び第２の磁場生成デバイス（５４０）を備える磁性アセンブリ（５００）は、基板（５２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

［０２３１］その結果、図５Ａに示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（５２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図５Ｂに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０２３２］図５Ｂに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図５Ｃ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って−７．７ｍｍ（Ａ）〜＋７．８ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°〜約６０°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約１３５°〜約７５°、対称的にｘが正の位置において約２５５°〜約３１５°の値の範囲に及ぶ。

実施例２、Ｅ２（図６）
［０２３３］実施例２の光学効果層（６１０）を基板（６２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（６００）が、図６Ａ１に示されている。

［０２３４］磁性アセンブリ（６００）は、リング状の双極磁石からなる第１の磁場生成デバイス（６３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（６４０）とを備え、第２の磁場生成デバイス（６４０）は、第１の磁場生成デバイス（６４０）上に配置された。

［０２３５］第１の磁場生成デバイス（６３０）のリング状の双極磁石は、直径方向に磁化され、約２５ｍｍの外径（Ａ３）、約１０ｍｍの内径（Ａ４）、及び約３ｍｍの厚さ（Ａ５）を有した。リング状の双極磁石の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（６２０）の表面に対して実質上平行であった。リング状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２３６］第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石は、直径方向に磁化され、約２５ｍｍの外径（Ａ１）及び約２ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。円板状の双極磁石（６４０）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（６２０）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２３７］図６Ｂに示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（６３０）のリング状の双極磁石の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石の磁軸線の射影は、約＋４５°の角度（Ω）を形成した。

［０２３８］第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石の下面と第１の磁場生成デバイス（６４０）のリング状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は０ｍｍであり、すなわちリング状の双極磁石及び円板状の双極磁石は直接接触していた。第２の磁場生成デバイス（６４０）の円板状の双極磁石の上面と円板状の双極磁石に面している基板（６２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約１．５ｍｍであった。

［０２３９］第１の磁場生成デバイス（６３０）及び第２の磁場生成デバイス（６４０）を備える磁性アセンブリ（６００）は、基板（６２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

［０２４０］その結果、図６Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（６２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図６Ｂに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０２４１］図６Ｂに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図６Ｃ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って−８．４ｍｍ（Ａ）〜＋８．１ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°〜約７０°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約１９５°〜約３１５°、対称的にｘが正の位置において約１３５°〜約１５°の値の範囲に及ぶ。
実施例３、Ｅ３（図７）
［０２４２］実施例３の光学効果層（７１０）を基板（７２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（７００）が、図７Ａ１に示されている。

［０２４３］磁性アセンブリ（７００）は、リング状の双極磁石からなる第１の磁場生成デバイス（７３０）と、リング状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（６４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（７３０）は、第２の磁場生成デバイス（７４０）上に配置された。

［０２４４］第１の磁場生成デバイス（７３０）のリング状の双極磁石は、直径方向に磁化され、約２５ｍｍの外径（Ａ１）、約１６ｍｍの内径（Ａ２）、及び約２ｍｍの厚さ（Ａ３）を有した。リング状の双極磁石の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０）の表面に対して実質上平行であった。リング状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２４５］第２の磁場生成デバイス（７４０）のリング状の双極磁石は、直径方向に磁化され、約２５ｍｍの外径（Ａ４）、約１０ｍｍの内径（Ａ５）、及び約２ｍｍの厚さ（Ａ６）を有した。リング状の双極磁石（７４０）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（７２０）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２４６］図７Ｂに示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（７３０）のリング状の双極磁石の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（７４０）のリング状の双極磁石の磁軸線の射影は、約−９０°の角度（Ω）を形成した。

［０２４７］第１の磁場生成デバイス（７３０）のリング状の双極磁石の下面と第２の磁場生成デバイス（７４０）のリング状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は０ｍｍであり、すなわち両方のリング状の双極磁石は直接接触していた。第１の磁場生成デバイス（７３０）の円板状の双極磁石の上面とリング状の双極磁石に面している基板（７２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約５．５ｍｍであった。

［０２４８］第１の磁場生成デバイス（７３０）及び第２の磁場生成デバイス（７４０）を備える磁性アセンブリ（７００）は、基板（７２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

［０２４９］その結果、図７Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（７２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図６Ｂに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０２５０］図７Ｂに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図７Ｃ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って−７．９ｍｍ（Ａ）〜＋８．１ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°〜約６０°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約１３５°〜６０°、対称的にｘが正の位置において約２４０°〜約３１５°の値の範囲に及ぶ。
実施例４、Ｅ４（図８）
［０２５１］実施例４の光学効果層（８１０）を基板（８２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（８００）が、図８Ａ１に示されている。

［０２５２］磁性アセンブリ（８００）は、リング状の双極磁石からなる第１の磁場生成デバイス（８３０）と、リング状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（６４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（８３０）は、第２の磁場生成デバイス（８４０）上に配置された。

［０２５３］第１の磁場生成デバイス（８３０）のリング状の双極磁石は、直径方向に磁化され、約２５ｍｍの外径（Ａ１）、約１６ｍｍの内径（Ａ２）、及び約２ｍｍの厚さ（Ａ３）を有した。リング状の双極磁石の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（８２０）の表面に対して実質上平行であった。リング状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２５４］第２の磁場生成デバイス（８４０）のリング状の双極磁石は、直径方向に磁化され、約２５ｍｍの外径（Ａ４）、約１０ｍｍの内径（Ａ５）、及び約２ｍｍの厚さ（Ａ６）を有した。リング状の双極磁石（８４０）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（８２０）の表面に対して実質上平行であった。リング状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２５５］図８Ｂに示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（８３０）のリング状の双極磁石の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（８４０）のリング状の双極磁石の磁軸線の射影は、約＋９０°の角度（Ω）を形成した。

［０２５６］第１の磁場生成デバイス（８３０）のリング状の双極磁石の下面と第２の磁場生成デバイス（８３０）のリング状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は０ｍｍであり、すなわち両方のリング状の磁石は直接接触していた。第１の磁場生成デバイス（８３０）の円板状の双極磁石の上面と円板状の双極磁石に面している基板（８２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約５．５ｍｍであった。

［０２５７］第１の磁場生成デバイス（８３０）及び第２の磁場生成デバイス（８４０）を備える磁性アセンブリ（８００）は、基板（８２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

［０２５８］その結果、図８Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（８２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図６Ｂに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０２５９］図８Ｂに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図８Ｃ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って−７．１ｍｍ（Ａ）〜＋７．９ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°〜約６０°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約６０°〜９５°、ｘが正の位置において約２８５°〜約２４０°の値の範囲に及ぶ。

実施例５、Ｅ５（図９）
［０２６０］実施例５の光学効果層（９１０）を基板（９２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（９００）が、図９Ａ１に示されている。

［０２６１］磁性アセンブリ（９００）は、支持マトリックス（９５０）に埋め込まれた棒状の双極磁石（９３１）からなる第１の磁場生成デバイス（９３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（９４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（９３０）は、第２の磁場生成デバイス（９４０）上に配置された。

［０２６２］第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）は、約１８ｍｍの長さ（Ａ３）、約３ｍｍの幅（Ａ４）、及び約３ｍｍの厚さ（Ａ５）を有した。棒状の双極磁石（９３１）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行であった。棒状の双極磁石（５３１）は、ＮｄＦｅＢＮ４５から作られた。

［０２６３］棒状の双極磁石（９３１）は、棒状の双極磁石と同じ形状を有する空隙（９３１）を含む支持マトリックス（９５０）に埋め込まれた。支持マトリックス（９５０）は、約２５ｍｍの直径（Ａ１）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。支持マトリックス（９５０）は、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）から作られた。第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）の頂面及び下面は、支持マトリックス（９５０）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

［０２６４］第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石は、直径方向に磁化され、約２５ｍｍの直径（Ａ６）及び約２ｍｍの厚さ（Ａ７）を有した。円板状の双極磁石（９４０）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（９２０）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２６５］図９Ａ２に示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（９３０）の棒状の双極磁石（９３１）の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石の磁軸線の射影は、約−６０°の角度（Ω）を形成した。

［０２６６］第１の磁場生成デバイス（９３０）の支持マトリックスの下面と第２の磁場生成デバイス（９４０）の円板状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は０ｍｍであり、すなわち支持マトリックス及び円板状の双極磁石は直接接触している。第１の磁場生成デバイス（９３０）の支持マトリックス（９５０）の上面と支持マトリックス磁石に面している基板（９２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約２．５ｍｍであった。

［０２６７］第１の磁場生成デバイス（９３０）及び第２の磁場生成デバイス（９４０）を備える磁性アセンブリ（９００）は、基板（９２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

［０２６８］その結果、図９Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（９２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図９Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０２６９］図９Ｃに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図９Ｄ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って−６．２ｍｍ（Ａ）〜＋６．３ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°〜約６５°の値に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約２１０°〜３１５°、対称的にｘが正の位置において約１３５°〜約４５°の値の範囲に及ぶ。

実施例６、Ｅ６（図１０）
［０２７０］実施例６の光学効果層（１０１０）を基板（１０２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（１０００）が、図１０Ａ１に示されている。

［０２７１］磁性アセンブリ（１０００）は、支持マトリックス（１０５０）に埋め込まれた２つの棒状の双極磁石（１０３１）からなる第１の磁場生成デバイス（１０３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（６４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１０３０）は、第２の磁場生成デバイス（１０４０）上に配置された。

［０２７２］第１の磁場生成デバイス（１０３０）の２つの棒状の双極磁石（１０３１）はそれぞれ、約６ｍｍの長さ（Ａ３）、約３ｍｍの幅（Ａ４）、及び約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。２つの棒状の双極磁石（１０３１）は、支持マトリックス（１０５０）の中心の周りに、支持マトリックス（１０５０）の直径に沿って互いから約９ｍｍの距離（Ａ７）をあけて対称的に配置された。２つの棒状の双極磁石（１０３１）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上平行であり、前記２つの棒状の双極磁石（１０３１）の北極は同じ方向を指した。２つの棒状の双極磁石（１０３１）は、ＮｄＦｅＢＮ４５から作られた。

［０２７３］２つの棒状の双極磁石（１０３１）は、棒状の双極磁石（１０３１）と同じ形状を有する２つの空隙を含む支持マトリックス（１０５０）に埋め込まれた。支持マトリックス（１０５０）は、２５ｍｍの直径（Ａ１）及び３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。支持マトリックス（１０５０）は、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）から作られた。第１の磁場生成デバイス（１０３０）の棒状の双極磁石（１０３１）の頂面及び下面は、支持マトリックス（１０５０）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

［０２７４］第２の磁場生成デバイス（１０４０）の円板状の双極磁石は、２５ｍｍの直径（Ａ５）及び２ｍｍの厚さ（Ａ６）を有した。円板状の双極磁石（１０４０）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１０２０）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２７５］図１０Ｂに示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（１０３０）２つの棒状の双極磁石（１０３１）の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（１０４０）の円板状の双極磁石の磁軸線の射影は、約−３０°の角度（Ω）を形成した。

［０２７６］第１の磁場生成デバイス（１０３０）の支持マトリックス（１０５０）の下面と第２の磁場生成デバイス（１０４０）の円板状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は０ｍｍであり、すなわち支持マトリックス及び円板状の双極磁石は直接接触していた。第１の磁場生成デバイス（１０３０）の支持マトリックス（１０５０）の上面と支持マトリックス磁石に面している基板（１０２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約３．５ｍｍであった。

［０２７７］第１の磁場生成デバイス（１０３０）及び第２の磁場生成デバイス（１０４０）を備える磁性アセンブリ（１０００）は、基板（１０２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

［０２７８］その結果、図１０Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（１０２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図６Ｂに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０２７９］図１０Ｂに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図１０Ｄ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って−７．０ｍｍ（Ａ）〜＋６．０ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°〜約６０°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約１５０°〜約７５°、対称的にｘが正の位置において約２５５°〜約３３０°の値の範囲に及ぶ。
実施例７、Ｅ７（図１１）
［０２８０］実施例７の光学効果層（１１１０）を基板（１１２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（１１００）が、図１１Ａ１に示されている。

［０２８１］磁性アセンブリ（１１００）は、支持マトリックス（１１５０）に埋め込まれた３つの同一線上の棒状の双極磁石（１１３１）の中心に位置合わせされた配置からなる第１の磁場生成デバイス（１１３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（１１４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１１３０）は、第２の磁場生成デバイス（１１４０）上に配置された。

［０２８２］第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）はそれぞれ、約３ｍｍの長さ（Ａ３）を有する立方体ブロックであった。

［０２８３］３つの棒状の双極磁石（１１３１）は、支持マトリックス（１１５０）の中心の周りに、支持マトリックス（１０５０）の直径に沿って互いから約２ｍｍの距離（Ａ４）をあけて対称的に配置された。３つの棒状の双極磁石（１１３１）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１１２０）の表面に対して実質上平行であり、前記３つの棒状の双極磁石（１１３１）の北極は同じ方向を指した。２つの棒状の双極磁石（１１３１）は、ＮｄＦｅＢＮ４５から作られた。

［０２８４］３つの棒状の双極磁石（１１３１）は、棒状の双極磁石（１１３１）と同じ形状を有する３つの空隙を含む支持マトリックス（１１５０）に埋め込まれた。支持マトリックス（１１５０）は、約２５ｍｍの直径（Ａ１）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。支持マトリックス（１１５０）は、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）から作られた。第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）の頂面及び下面は、支持マトリックス（１１５０）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

［０２８５］第２の磁場生成デバイス（１１４０）の円板状の双極磁石は、直径方向に磁化され、約２５ｍｍの直径（Ａ５）及び約２ｍｍの厚さ（Ａ６）を有した。円板状の双極磁石（１１４０）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１１２０）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２８６］図１１Ｂに示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（１１３０）の３つの棒状の双極磁石（１１３１）の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（１１４０）の円板状の双極磁石の磁軸線の射影は、約−１２０°の角度（Ω）を形成した。

［０２８７］第１の磁場生成デバイス（１１３０）の支持マトリックス（１１５０）の下面と第２の磁場生成デバイス（１１４０）の円板状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は０ｍｍであり、すなわち支持マトリックス及び円板状の双極磁石は直接接触していた。第１の磁場生成デバイス（１１３０）の支持マトリックス（１１５０）の上面と支持マトリックス磁石に面している基板（１１２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約２．５ｍｍであった。

［０２８８］第１の磁場生成デバイス（１１３０）及び第２の磁場生成デバイス（１１４０）を備える磁性アセンブリ（１１００）は、基板（１１２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

［０２８９］その結果、図１１Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（１１２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図６Ｂに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに２周円形に動く彗星状スポット（すなわち、２つの円形に動く彗星）が反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０２９０］図１１Ｃに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図３Ａ、実施例７参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って−５．５ｍｍ（Ａ）〜＋５．０ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°〜約６０°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約１８０°〜約２７０°、対称的にｘが正の位置において約９０°〜３６０°の値の範囲に及ぶ。

実施例８、Ｅ８（図１５）
［０２９１］実施例８の光学効果層（１５１０）を基板（１５２０）に準備するために使用された旋回可能な磁性アセンブリ（１５００）が、図１５Ａ１に示されている。

［０２９２］磁性アセンブリ（１５００）は、支持マトリックス（１５５０）に埋め込まれた２つの棒状の双極磁石（１５３１）からなる第１の磁場生成デバイス（１５３０）と、円板状の双極磁石からなる第２の磁場生成デバイス（１５４０）とを備え、第１の磁場生成デバイス（１５３０）は、第２の磁場生成デバイス（１５４０）上に配置された。

［０２９３］第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）はそれぞれ、約３ｍｍの長さ（Ａ３）を有する立方体ブロックであった。２つの棒状の双極磁石（１５３１）のそれぞれの中心は、支持マトリックス（１５５０）の中心の周りに、支持マトリックス（１５５０）の直径に沿って２つの棒状の双極磁石（１５３１）の頂面の中心間に約６ｍｍの距離（Ａ４）をあけて対称的に配置された。２つの棒状の双極磁石（１５３１）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１５２０）の表面に対して実質上平行であり、前記２つの棒状の双極磁石（１５３１）の北極は同じ方向を指した。第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）は、互いに対して平行の磁軸線を有し、２つの棒状の双極磁石（１５３１）の頂面の中心を交差する支持マトリックス（１５５０）の直径から約３０°（図１５Ｂ１）の角度βだけ傾斜していた。２つの棒状の双極磁石（１５３１）は、ＮｄＦｅＢＮ４５から作られた。

［０２９４］２つの棒状の双極磁石（１５３１）は、棒状の双極磁石（１５３１）と同じ形状を有する２つの空隙を含む支持マトリックス（１５５０）に埋め込まれた。支持マトリックス（１５５０）は、約２５ｍｍの直径（Ａ１）及び約３ｍｍの厚さ（Ａ２）を有した。支持マトリックス（１５５０）は、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）から作られた。第１の磁場生成デバイス（１５３０）の棒状の双極磁石（１５３１）の頂面及び下面は、支持マトリックス（１５５０）の頂面及び下面とそれぞれ同一平面であった。

［０２９５］第２の磁場生成デバイス（１５４０）の円板状の双極磁石は、２５ｍｍの直径（Ａ５）及び３ｍｍの厚さ（Ａ６）を有した。円板状の双極磁石（１５４０）の磁軸線は、旋回軸線に対して実質上直角であり且つ基板（１５２０）の表面に対して実質上平行であった。円板状の双極磁石は、ＮｄＦｅＢＮ４０から作られた。

［０２９６］図１５Ａ２に示すように、旋回軸線に対して直角の平面への旋回軸線に沿った第１の磁場生成デバイス（１５３０）の２つの棒状の双極磁石（１５３１）の磁軸線の射影及び第２の磁場生成デバイス（１５４０）の円板状の双極磁石の磁軸線の射影は、約１５０°の角度（Ω）を形成した。

［０２９７］第１の磁場生成デバイス（１５３０）の支持マトリックス（１５５０）の下面と第２の磁場生成デバイス（１５４０）の円板状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は０ｍｍであり、すなわち支持マトリックス及び円板状の双極磁石は直接接触していた。第１の磁場生成デバイス（１５３０）の支持マトリックス（１５５０）の上面と支持マトリックス磁石に面している基板（１５２０）の表面との間の距離（ｈ）は、約２．５ｍｍであった。

［０２９８］第１の磁場生成デバイス（１５３０）及び第２の磁場生成デバイス（１５４０）を備える磁性アセンブリ（１５００）は、基板（１５２０）の表面に対して実質上直角の旋回軸線の周りを旋回した。

［０２９９］その結果、図１５Ａ１に示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、基板（１５２０）を−３０°〜＋３０°傾斜させることによって、異なる視野角で図１５Ｃに示されている。そのように得られたＯＥＬは、前記ＯＥＬを傾斜させたときに円形に動く彗星状スポットが反時計回りに回転するという光学的印象を提供する。

［０３００］図１５Ｃに示すＯＥＬのコノスコープスキャタロメトリは、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子の配向パターン（図１５Ｄ参照）の測定を可能にした。ｘ方向に沿って−６．９ｍｍ（Ａ）〜＋７．１ｍｍ（Ｂ）の範囲の距離にわたって、天頂偏向角φ’は、０°〜約６０°の値の範囲に及び、方位角θは、負のｘ分枝において約６０°〜約１６５°、対称的にｘが正の位置において約３４５°〜約２５０°の値の範囲に及ぶ。
実施例９〜１１、Ｅ９〜１１（図１６Ａ〜図１６Ｃ）

［０３０１］実施例Ｅ９〜Ｅ１１の光学効果層は、以下の点を除いて、図５Ａ１の旋回可能な磁性アセンブリを使用することによって独立して準備された。
ａ）実施例９（Ｅ９）の場合、第１の磁場生成デバイスのリング状の双極磁石の下面と第２の磁場生成デバイスの円板状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は、約４ｍｍであった。
ｂ）実施例１０（Ｅ１０）の場合、第１の磁場生成デバイスのリング状の双極磁石の下面と第２の磁場生成デバイスの円板状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は、約７ｍｍであり、第１の磁場生成デバイスのリング状の双極磁石の上面とリング状の双極磁石に面している基板の表面との間の距離（ｈ）は、約９．５ｍｍであった。
ｃ）実施例１１（Ｅ１１）の場合、第１の磁場生成デバイスのリング状の双極磁石の下面と第２の磁場生成デバイスの円板状の双極磁石の上面との間の距離（ｄ）は、約４ｍｍであり、第１の磁場生成デバイスのリング状の双極磁石の上面とリング状の双極磁石に面している基板の表面との間の距離（ｈ）は、約８ｍｍであった。

［０３０２］その結果、上記に提供した距離（ｄ）及び（ｈ）で図５Ａに示す磁性アセンブリによって作製されたＯＥＬは、異なる２つの視野角で図１６Ａ〜図１６Ｃに示されている（Ａ：Ｅ９、Ｂ：Ｅ１０、Ｃ：Ｅ１１）。

［０３０３］図３Ｃ及び図３Ｆは、従来技術の円対称ＯＥＬの非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子配向特性を示し、配向された粒子は、ＯＥＬの選択された直径（ｘ１２、図２Ａ〜図２Ｂの２１２）に沿って本質的にすべての位置ｘ_ｉにおいて、実質上入射平面（ｘ１４、図２Ｂの２１４）内で入射光を偏向させた。

［０３０４］図５Ｃ、図６Ｃ、図７Ｃ、図８Ｃ、図９Ｄ、図１０Ｄ、図１１Ｄ、及び図１５Ｄは、本発明のＯＥＬの特徴付け特性を示し、対応するＯＥＬ内の配向された非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子は、円対称パターンに応じて配向され、実質上入射平面（ｘ１４、図２Ｂの２１４）から離れる方へ入射光を偏向させる。ＯＥＬの選択された直径（ｘ１２、図２Ａ〜図２Ｂの２１２）に沿って複数の位置ｘ_ｉで、位置ｘ_ｉにおける複数の粒子は、以下の条件を満たすｘ_ｉによって、選択された直径（ｘ１２、図２Ａ〜図２Ｂの２１２）に対して平均天頂偏向角φ’及び平均方位角θを有する。
│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１０°、好ましくは│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１５°
したがって点ｘ_ｉにおける入射光は、それぞれ１０°以上、好ましくは１５°以上の角度だけ、入射法平面（ｘ１４）から離れる方へ反射される。

ａ）図５Ｃ、図６Ｃ、図７Ｃ、図８Ｃ、図９Ｄ、図１０Ｄ、図１１Ｄ、及び図１５Ｄの連続データ点は、直径に沿って０．５ｍｍごとに分離されたＯＥＬ内の連続位置ｘ_ｉに対応するため、グラフの一連の連続点は、ＯＥＬ上の対応する位置間の（ｎ＋１）／２ミリメートルの距離に対応する。

ｂ）したがって、ＯＥＬが│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１０°、好ましくは│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１５°という前記特徴付け条件を満たす直径に沿った距離は、それぞれ図１４Ａ及び図１４Ｂに示す陰影区域に入るグラフ上の点の数を数えることによって判定することができる。

ｃ）本明細書に記載するすべての例示的な実施形態では、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子は、選択された直径の各辺に沿って２．５ｍｍの距離（図５Ｃ、図６Ｃ、図７Ｃ、図８Ｃ、図９Ｄ、図１０Ｄ、図１１Ｄ、及び図１５Ｄの４つ以上の点）にわたって、│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１５°という条件を満たす。

ｄ）実施例１、２、３、４、５、及び６として本明細書に記載する例示的な実施形態では、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子は、選択された直径の各辺に沿って少なくとも５ｍｍの距離（図５Ｃ、図６Ｃ、図７Ｃ、図８Ｃ、図９Ｄ、図１０Ｄ、及び図１５Ｄの９つ以上の点）にわたって、│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１５°という条件を満たす。

ｅ）実施例１、２、３、４、及び６として記載する例示的な実施形態では、非球形で小板状の光学的に可変の磁性顔料粒子は、選択された直径の各辺に沿って少なくとも６．５ｍｍの距離（図５Ｃ、図６Ｃ、図７Ｃ、図８Ｃ、図１０Ｄ、及び図１５Ｄの１２個以上の点）にわたって、│φ’・ｓｉｎ（θ）│≧１５°という条件を満たす。

Claims

非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む、放射線硬化された被覆組成物を備える光学効果層（ｘ１０、ＯＥＬ）であって、前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子が、配向パターンに応じて配向され、
前記配向パターンが、回転中心の周りで円対称であり、
前記ＯＥＬの任意の選択された直径に沿った少なくとも２つ、好ましくは４つの別個の位置ｘ_ｉにおける前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子が、│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１０°、好ましくは│φ’ｓｉｎ（θ）│≧１５°という条件を満たす、位置ｘ_ｉの平均天頂偏向角φ’及び前記同じ位置ｘ_ｉの前記選択された直径に対する平均方位角θを有し、
前記光学効果層が、前記ＯＥＬを傾斜させたとき、少なくとも１つの円形に動くスポット又は少なくとも１つの彗星状スポットが前記回転中心の周りを回転するという光学的印象を提供する、光学効果層。
前記非球形で扁円の複数の磁性又は磁化可能粒子のうちの少なくとも一部が、非球形で扁円の光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成される、請求項１に記載の光学効果層。
前記光学的に可変の磁性又は磁化可能顔料が、磁性薄膜干渉顔料、磁性コレステリック液晶顔料、及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項２に記載の光学効果層。
前記放射線硬化された被覆組成物が、ＵＶ−Ｖｉｓ放射線で硬化された被覆組成物である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学効果層。
偽造、不正、若しくは違法複製からのセキュリティ文書の保護又は装飾目的のための、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学効果層（ＯＥＬ）の使用。
請求項１〜４のいずれか一項に記載の１つ又は複数の光学効果層（ＯＥＬ）を備えるセキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体。
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を基板上に作製する印刷装置であって、前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子が、前記装置内に含まれる少なくとも１つの旋回磁性アセンブリ（ｘ００）からの磁場によって配向され、前記旋回磁性アセンブリ（ｘ００）が、旋回軸線を有し、前記ＯＥＬを備えた前記基板の表面が、前記磁性アセンブリ（ｘ００）の旋回軸線に対して実質上直角であり、少なくともａ）第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及びｂ）第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）を備え、前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）及び前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）が、相互に斜めの磁軸線を有し、前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の磁軸線が、前記旋回軸線に対して実質上直角であり、前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の磁軸線が、前記旋回軸線に対して実質上直角であり、前記旋回軸線に対して直角の平面への前記旋回軸線に沿った前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）の前記磁軸線の射影及び前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）の前記磁軸線の射影が、約５°〜約１７５°の範囲内又は約−５°〜約−１７５°の範囲内のいずれか、好ましくは約１５°〜約１６５°の範囲内又は約−１５°〜約−１６５°の範囲内の角度（Ω）を形成し、
ａ）前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）が、
前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石、又は
２つ以上の棒状の双極磁石であり、前記２つ以上の棒状の双極磁石がそれぞれ、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有し、前記２つ以上の棒状の双極磁石がすべて、同じ磁場方向を有する、２つ以上の棒状の双極磁石、又は
前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石、又は
ループ状、好ましくはリング状の双極磁石内に入れ子にされた円板状の双極磁石であり、前記円板状の双極磁石及び前記ループ状、好ましくはリング状の双極磁石がそれぞれ、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線及び同じ磁場方向を有する、円板状の双極磁石、又は
２つ以上の入れ子にされたループ状、好ましくは２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石であり、前記２つ以上の入れ子にされたループ状、好ましくは２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石がそれぞれ、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有し、前記２つ以上の入れ子にされたループ状、好ましくは２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石がすべて、同じ磁場方向を有する、２つ以上の入れ子にされたループ状、好ましくは２つ以上の入れ子にされたリング状の双極磁石を備え、
ｂ）前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）が、
前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石、又は
前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石、又は
前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石を備える、装置。
前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）が、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石を備え、前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）が、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石を備え、又は
前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）が、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石を備え、前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）が、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有するループ状、好ましくはリング状の双極磁石を備え、又は
前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）が、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する棒状の双極磁石を備え、前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）が、前記旋回軸線に対して直角の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石を備え、又は
前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）が、２つ以上の棒状の双極磁石を備え、前記２つ以上の棒状の双極磁石がそれぞれ、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有し、前記２つ以上の棒状の双極磁石がすべて、同じ磁場方向を有し、前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）が、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石を備え、又は
前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）が、ループ状、好ましくはリング状の双極磁石内に入れ子にされた円板状の双極磁石を備え、前記円板状の双極磁石及び前記ループ状、好ましくはリング状の双極磁石がそれぞれ、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線及び同じ磁場方向を有し、前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）が、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石を備え、又は
前記第１の磁場生成デバイス（ｘ３０）が、２つ以上の入れ子にされたリング状の磁石を備え、前記２つ以上の入れ子にされたリング状の磁石がそれぞれ、前記旋回軸線に対して実質上直角の南北の磁軸線を有し、前記２つ以上の入れ子にされたリング状の磁石がすべて、同じ磁場方向を有し、前記第２の磁場生成デバイス（ｘ４０）が、前記旋回軸線に対して直角の南北の磁軸線を有する円板状の双極磁石を備える、
請求項７に記載の装置。
回転磁性筒体又は平床式印刷ユニットをさらに備え、前記少なくとも１つの旋回磁性アセンブリ（ｘ００）が、前記回転磁性筒体又は前記平床式印刷ユニット内に含まれる、請求項７又は８に記載の装置。
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を基板（ｘ２０）上に作製するプロセスであって、
ｉ）非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性の被覆組成物を基板（ｘ２０）の表面に塗布するステップであり、前記放射線硬化性の被覆組成物が第１の状態にある、塗布するステップと、
ｉｉ）請求項７〜９のいずれか一項に記載の印刷装置の磁場に前記放射線硬化性の被覆組成物を露出させ、前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップと、
ｉｉｉ）ステップｉｉ）の前記放射線硬化性の被覆組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態にし、前記非球形で扁円の磁性又は磁化可能顔料粒子を採用された位置及び配向で固定するステップとを含むプロセス。
ステップｉｉｉ）が、ＵＶ−Ｖｉｓ光放射線硬化によって実施される、請求項１０に記載のプロセス。
ステップｉｉｉ）が、前記ステップｉｉ）と部分的に同時に実施される、請求項１０又は１１に記載のプロセス。