JP2020506255A - Radiation curable sealant composition - Google Patents
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Abstract
液晶ディスプレイの製造に特に適した放射線硬化性シーラント組成物を開示する。このシーラント組成物は、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、マレイミド基およびそれらの組み合わせから選択される基を有する1つ以上の硬化性樹脂と、潜在性硬化剤とを含んでなり、1つ以上の硬化性樹脂における(メタ)アクリロイル基および/またはエポキシ基に対するマレイミド基のモル当量比は0.2より大きい。この放射線硬化性シーラント組成物は、UV硬化下での優れたゲル化時間、液晶浸透および液晶汚染に対する向上した耐性、良好な接着性、並びに良好な信頼性を有する。Disclosed are radiation curable sealant compositions that are particularly suited for the manufacture of liquid crystal displays. The sealant composition comprises one or more curable resins having a group selected from an epoxy group, a (meth) acryloyl group, a maleimide group, and combinations thereof, and a latent curing agent. The molar equivalent ratio of the maleimide group to the (meth) acryloyl group and / or epoxy group in the curable resin is more than 0.2. The radiation curable sealant composition has excellent gel time under UV curing, improved resistance to liquid crystal penetration and liquid crystal contamination, good adhesion, and good reliability.
Description
本発明は、放射線硬化性シーラント組成物に関する。具体的には、本発明は、優れたゲル化時間、液晶浸透および液晶汚染に対する向上した耐性、良好な接着性、並びに良好な信頼性を有する放射線硬化性シーラント組成物に関する。具体的には、放射線硬化性シーラント組成物は、液晶ディスプレイ(LCD)を製造するワンドロップフィル(ODF)法における使用に適している。 The present invention relates to radiation-curable sealant compositions. Specifically, the present invention relates to radiation curable sealant compositions having excellent gel time, improved resistance to liquid crystal penetration and liquid crystal contamination, good adhesion, and good reliability. Specifically, the radiation-curable sealant composition is suitable for use in a one-drop-fill (ODF) method of manufacturing a liquid crystal display (LCD).
軽量で高精細であるという特徴を有する液晶ディスプレイ(LCD)パネルは、携帯電話およびTVを含む様々な機器のためのディスプレイパネルとして広く使用されている。従来、LCDパネルの製造方法は、電極パターンおよび配向膜を有する基材上にシーラントを真空条件下で適用し、その上に適用されたシーラントを有する基材上に液晶(LC)を滴下し、対向する基材を真空下で互いに接合し、次いで真空を解除し、純粋な紫外線(UV)の放射、純粋な加熱、またはUV放射と加熱との組み合わせを実施してシーラントを硬化させ、それによってLCDセルを製造することを含む、ワンドロップフィル(ODF)法と称されている。 2. Description of the Related Art Liquid crystal display (LCD) panels having features of being lightweight and having high definition are widely used as display panels for various devices including mobile phones and TVs. Conventionally, a method for manufacturing an LCD panel includes applying a sealant on a substrate having an electrode pattern and an alignment film under vacuum conditions, and dropping liquid crystal (LC) on the substrate having the applied sealant thereon. The opposing substrates are bonded together under vacuum, then the vacuum is released and pure ultraviolet (UV) radiation, pure heating, or a combination of UV radiation and heating is performed to cure the sealant, thereby It is referred to as the one drop fill (ODF) method, which involves making LCD cells.
最近、LCDの開発は、「スリムボーダー」または「ナローベゼル」設計の方向に向かっている。この目的を達成するためのいくつかの方法のうちの1つは、狭い幅のシーラントの使用である。しかし、液晶材料の漏れ、位置ずれおよび汚染を防止するためには、ODF法が非常に高い信頼性を満たす必要があるという事実の故に、典型的なODF法では、より細いシーラント線幅により、より多くの課題が生じる。 Recently, the development of LCDs has been moving towards "slim border" or "narrow bezel" designs. One of several ways to achieve this goal is the use of narrow width sealants. However, due to the fact that the ODF method must meet very high reliability in order to prevent leakage, misalignment and contamination of the liquid crystal material, the typical ODF method requires a narrower sealant line width, More challenges arise.
また、通常のODF法では、単独使用または組み合わせによってシーラントを硬化させるために、UV硬化のような放射線硬化、および熱硬化を使用する。紫外線は、セルのカラーフィルター側とアレイ側から照射することができる。近年、携帯電話または携帯ゲーム機のようなLCDを含む装置の小型化のためにLCD部の額縁が狭くなってきている。従って、基材上に形成されたシーラントのパターンは、ブラックマトリクスと重なる位置に配置されることが多くなっている。ブラックマトリックス上のシーラントの重なっている部分は、UV照射後でさえも未硬化で流動性のままであるので、これは問題を招き得る。未硬化のシーラントは重なり部分から液晶中に容易に溶出し、これがLC汚染を引き起こす。 Further, in the ordinary ODF method, radiation curing such as UV curing, and heat curing are used to cure the sealant alone or in combination. Ultraviolet rays can be emitted from the color filter side and the array side of the cell. 2. Description of the Related Art In recent years, the frame of an LCD unit has been narrowed due to miniaturization of a device including an LCD such as a mobile phone or a portable game machine. Therefore, the sealant pattern formed on the base material is often arranged at a position overlapping the black matrix. This can be problematic because the overlapping portions of the sealant on the black matrix remain uncured and flowable even after UV irradiation. Uncured sealant readily elutes from the overlap into the liquid crystal, causing LC contamination.
一方、アレイ側からUV光を照射することも考えられるが、アレイ基材上の金属配線およびトランジスターがシーラントパターンと重なり合ってシャドウ領域を形成し、これにより、シーラントの未硬化部分がシーラントから溶出しやすくなり、LCと接触してLC汚染を招くといった「シャドウキュア」問題が生じ得るので、課題はなお残る。 On the other hand, it is conceivable to irradiate UV light from the array side, but metal wiring and transistors on the array base material overlap with the sealant pattern to form a shadow area, whereby uncured portions of the sealant elute from the sealant. The problem still remains, as it can be more prone to "shadow cure" problems such as contact with the LC and causing LC contamination.
純粋な加熱硬化工程または加熱硬化工程と照射硬化工程との組み合わせを用いることにより、シャドウ硬化問題を改善し、ODF法のためのLC汚染を回避する試みがなされている。 Attempts have been made to improve the shadow curing problem and avoid LC contamination for the ODF process by using a pure heat curing process or a combination of a heat curing process and an irradiation curing process.
例えばUS 20070096056 A1には、UV硬化および熱硬化を含むODF法において得られた硬化生成物のシャドウ硬化性を改善するために硬化性シーラント組成物中の連鎖移動剤としてチオール化合物を使用することを開示している。 For example, US 200796056 A1 discloses the use of thiol compounds as chain transfer agents in curable sealant compositions to improve the shadow curability of cured products obtained in ODF processes including UV curing and thermal curing. Has been disclosed.
CN 101617267 Aには、ODF法のための硬化性シーラント組成物における熱ラジカル重合開始剤およびチオール連鎖移動剤の両方の使用を開示しており、それにより、遮光領域における硬化性が向上し、良好なシール品質が得られることが記載されている。 CN 10167267 A discloses the use of both a thermal radical polymerization initiator and a thiol chain transfer agent in a curable sealant composition for the ODF method, whereby the curability in the light-shielded area is improved, and It is described that excellent seal quality can be obtained.
日本国特許第3976749号公報には、アクリル化エポキシ、アミン、チオール、ゲル化剤、チキソトロープ剤を含んでなるODF法用シーラント組成物であって、該シーラント組成物のチキソトロピー指数(TI)は1.2〜2であるシーラント組成物が開示されている。 Japanese Patent No. 3977747 discloses a sealant composition for an ODF method comprising an acrylated epoxy, an amine, a thiol, a gelling agent, and a thixotrope, wherein the sealant composition has a thixotropy index (TI) of 1 .2 to 2 are disclosed.
CN 101925852 Aには、エポキシと潜在性硬化剤とを含み、100℃におけるゲル化時間が3分未満であり、良好なシーリング形状安定性および長い可使時間を達成する、ODF法用シーラント組成物が開示されている。 CN 101952852 A contains a sealant composition for an ODF method, comprising an epoxy and a latent curing agent, having a gel time of less than 3 minutes at 100 ° C., and achieving good sealing shape stability and a long pot life. Is disclosed.
日本国特許第5597338号公報には、アルコキシシリル基変性エポキシ樹脂、ラジカル重合性樹脂、潜在性硬化剤を含んでなるODF法用シーラント組成物であって、40℃で試験された粘度は、80℃で20分間または100mW/cm2の照度および1000mJ/cm2のUV照射の後に1000〜100000Pa・sの範囲内であるODF法用シーラント組成物が開示されている。 Japanese Patent No. 5597338 discloses a sealant composition for an ODF method comprising an alkoxysilyl group-modified epoxy resin, a radical polymerizable resin, and a latent curing agent. A sealant composition for the ODF process is disclosed which is in the range of 1000 to 100000 Pa · s after 20 minutes at 100 ° C. or after illumination of 100 mW / cm 2 and UV irradiation of 1000 mJ / cm 2 .
しかし、LC汚染および/またはシャドウ硬化性の懸念は、先行技術のODF法用シーラント組成物に残っている。従って、問題を少なくとも部分的に解決し、優れた接着性能プロファイルを維持できる放射線硬化性シーラント組成物が依然として求められている。 However, concerns about LC contamination and / or shadow curability remain with prior art ODF process sealant compositions. Accordingly, there remains a need for radiation curable sealant compositions that can at least partially solve the problem and maintain an excellent adhesive performance profile.
本発明は、ODF法、特に1以上のUV硬化工程を含むODF法に適した放射線硬化性シーラント組成物を提供する。本発明者らは、本発明の放射線硬化性シーラント組成物が、向上したゲル化時間、硬化シーラント生成物の優れたLC浸透および汚染に対する耐性に寄与することを見出した。具体的には、放射線硬化性シーラント組成物は、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、マレイミド基およびそれらの組み合わせから選択される基を有する1つ以上の硬化性樹脂と、潜在性硬化剤とを含んでなり、1つ以上の硬化性樹脂における(メタ)アクリロイル基および/またはエポキシ基に対するマレイミド基のモル当量比は約0.2より大きい。 The present invention provides radiation curable sealant compositions suitable for ODF processes, particularly ODF processes that include one or more UV curing steps. We have found that the radiation curable sealant composition of the present invention contributes to improved gel time, excellent LC penetration of the cured sealant product and resistance to contamination. Specifically, the radiation-curable sealant composition comprises at least one curable resin having a group selected from an epoxy group, a (meth) acryloyl group, a maleimide group and a combination thereof, and a latent curing agent. The molar equivalent ratio of maleimide groups to (meth) acryloyl groups and / or epoxy groups in one or more curable resins is greater than about 0.2.
本発明はまた、
1)第一基材の表面の周縁部のシーリング領域に、本発明の放射線硬化性シーラント組成物を適用する工程;
2)放射線硬化性シーラント組成物の放射線硬化を実施し、部分的に硬化した生成物を得る工程;
3)第一基材の表面のシーリング領域によって取り囲まれている中央領域、または第二基材の対応する領域に、液晶を滴下し、液晶層を形成する工程;
4)第一基材と第二基材とを重ね合わせる工程;および
5)部分的に硬化した生成物の熱硬化を実施する工程
を含む、第一基材と第二基材との間に液晶層を有する液晶ディスプレイの製造方法も提供する。
The present invention also provides
1) a step of applying the radiation-curable sealant composition of the present invention to a sealing region at a peripheral portion of the surface of the first base material;
2) performing radiation curing of the radiation-curable sealant composition to obtain a partially cured product;
3) a step of forming a liquid crystal layer by dropping liquid crystal on a central area surrounded by a sealing area on the surface of the first base material or on a corresponding area of the second base material;
4) laminating the first and second substrates; and 5) performing a thermal cure of the partially cured product, between the first and second substrates. A method for manufacturing a liquid crystal display having a liquid crystal layer is also provided.
以下において、本発明をより詳細に説明する。
そのように記載された各態様は、そうでないことが明確に記載されていない限り、任意の他の態様と組み合わせることができる。特に、好ましいまたは有利であると記載された任意の特徴は、好ましいまたは有利であると記載された他の任意の1つまたは複数の特徴と組み合わせることができる。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
Each aspect so described can be combined with any other aspect, unless expressly stated otherwise. In particular, any feature described as preferred or advantageous may be combined with any other feature or features described as preferred or advantageous.
本明細書において、使用される用語は、特に記載のない限り、下記定義に従って解釈されるべきである。 In this specification, the terms used should be interpreted according to the following definitions unless otherwise specified.
本明細書において、単数形「a」、「an」および「the」は、文脈が明らかにそうでないことを記載していない限り、単数形および複数形の両方の指示対象を含む。 As used herein, the singular forms "a", "an", and "the" include both singular and plural referents unless the context clearly dictates otherwise.
本明細書で使用される用語「含んでなる」、「含む」、および「含んでなり」という用語は、「包含する」、「包含し」または「含有する」、「含有し」と同義であり、包括的またはオープンエンドであり、追加の記載されていない要素、成分またはプロセス工程を除外しない。 The terms “comprising,” “including,” and “including” as used herein are synonymous with “include,” “include,” or “containing,” “containing.” Yes, comprehensive or open-ended and does not exclude additional unlisted elements, components or process steps.
数値の終点の記載は、記載された終点だけでなく、それぞれの範囲内に包含される全ての数および分数を含む。 The recitation of numerical endpoints includes not only the stated endpoint, but also all numbers and fractions subsumed within each respective range.
本明細書において引用された全ての参考文献は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。 All references cited herein are hereby incorporated by reference in their entirety.
他に定義されない限り、技術的および科学的用語を包含する本明細書において使用されている用語は全て、本発明が属する技術分野の当業者によって一般的に理解される意味を有する。さらなる指針によって、本発明の教示をよりよく理解するために用語定義が含まれる。 Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical and scientific terms, have the meaning commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. By further guidance, term definitions are included to better understand the teachings of the present invention.
一態様において、本発明は、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、マレイミド基およびそれらの組み合わせから選択される基を有する1つ以上の硬化性樹脂と、潜在性硬化剤とを含んでなる放射線硬化性シーラント組成物であって、1つ以上の硬化性樹脂における(メタ)アクリロイル基および/またはエポキシ基に対するマレイミド基のモル当量比は約0.2より大きい、放射線硬化性シーラント組成物を提供する。 In one aspect, the present invention provides a radiation curable composition comprising one or more curable resins having a group selected from an epoxy group, a (meth) acryloyl group, a maleimide group, and combinations thereof, and a latent curing agent. A radiation-curable sealant composition, wherein the molar equivalent ratio of maleimide groups to (meth) acryloyl groups and / or epoxy groups in one or more curable resins is greater than about 0.2. .
硬化性樹脂
本発明のシーラント組成物に含まれる硬化性樹脂は、マレイミド樹脂、エポキシ樹脂、(メタ)アクリレート樹脂、マレイミド基、エポキシ基および(メタ)アクリロイル基から選択される少なくとも2つの基を有するハイブリッド樹脂、並びにそれらの混合物から選択されてよい。ただし、1つ以上の硬化性樹脂における(メタ)アクリロイル基および/またはエポキシ基に対するマレイミド基のモル当量比は約0.2より大きく、好ましくは約0.25〜約10、より好ましくは約0.3〜約5.0である。
Curable resin The curable resin contained in the sealant composition of the present invention has at least two groups selected from a maleimide resin, an epoxy resin, a (meth) acrylate resin, a maleimide group, an epoxy group, and a (meth) acryloyl group. It may be selected from hybrid resins, as well as mixtures thereof. However, the molar equivalent ratio of maleimide groups to (meth) acryloyl groups and / or epoxy groups in one or more curable resins is greater than about 0.2, preferably about 0.25 to about 10, more preferably about 0. 0.3 to about 5.0.
一態様において、シーラントに含まれる硬化性樹脂は、マレイミド樹脂とエポキシ樹脂との組み合わせ、またはマレイミド樹脂と(メタ)アクリレート樹脂との組み合わせである。 In one embodiment, the curable resin contained in the sealant is a combination of a maleimide resin and an epoxy resin, or a combination of a maleimide resin and a (meth) acrylate resin.
マレイミド樹脂
本発明において、その分子内に、1つ以上の、好ましくは1つまたは2つの部分(I):
マレイミド樹脂は好ましくは室温で液体であり、従って、部分(I)はマレイミド樹脂が液体であることを可能にする基、例えば、マレイミド樹脂を液体にするのに十分な長さおよび分岐を有する、分岐アルキル、アルキレン、アルキレンオキシド、アルキレンカルボキシルまたはアルキレンアミド構造を含む有機基に結合している。マレイミド樹脂は、1つまたは2つ以上の部分構造(I)を含んでいてもよい。これらの基を2つ有する化合物はビスマレイミド化合物である。また、マレイミド化合物は、液体でなくても、他のマレイミド化合物と混合したり、他の成分と混合したりしてシーラント組成物が液体になる場合には使用してよい。 The maleimide resin is preferably liquid at room temperature, so that moiety (I) has a group that allows the maleimide resin to be liquid, for example, a length and branches sufficient to make the maleimide resin liquid, It is attached to an organic group containing a branched alkyl, alkylene, alkylene oxide, alkylenecarboxyl or alkyleneamide structure. The maleimide resin may include one or more partial structures (I). The compound having two of these groups is a bismaleimide compound. Further, the maleimide compound is not necessarily a liquid, but may be used when it is mixed with another maleimide compound or when mixed with other components to make the sealant composition liquid.
部分(I)がアルキル基またはアルキレン基(これらの基は二重結合および飽和脂環式を含み得る)に結合しているマレイミド化合物としては、下記化合物が挙げられる。
Maleimide compounds in which moiety (I) is bonded to an alkyl or alkylene group (these groups can include a double bond and a saturated alicyclic) include the following compounds.
特に好ましい例としては、ステアリルマレイミド、オレイルマレイミド、ベヘニルマレイミド、およびHenkel Corporation から市販されているX-BMI〔X−ビスマレイミド;式(X−1)〜(X−4)〕およびそれらの組み合わせが挙げられる。X-BMIは、1,20−ジアミノ−10,11−ジオクチルエイコサンおよび/またはその環式異性体ジアミンから米国特許第5,973,166号(米国特許第5,973,166号の開示は参照してここに組み込まれる)に記載された方法に従って合成される。X-BMIは、1,20−ビスマレイミド−10,11−ジオクチルエイコサン〔式(X−1)で示される樹脂〕、1−ヘプチレンマレイミド−2−オクチレンマレイミド−4−オクチル−5−ヘプチルシクロヘキサン〔式(X−2)で示される樹脂〕、1,2−ジオクチレンマレイミド−3−オクチル−4−ヘキシルシクロヘキサン〔式(X−3)で示される樹脂〕、4,5−ジオクチレンマレイミド−1,2−ジヘプチルシクロヘキセン〔式(X−4)で示される樹脂〕等の1つまたは2つ以上を含む。式(X−1)〜(X−4)で示されるビスマレイミド樹脂は、単独で用いてもよく、好ましい。 Particularly preferred examples include stearyl maleimide, oleyl maleimide, behenyl maleimide, and X-BMI (X-bismaleimide; formulas (X-1) to (X-4)) commercially available from Henkel Corporation and combinations thereof. No. X-BMI is derived from 1,20-diamino-10,11-dioctyleicosane and / or its cyclic isomer diamine in U.S. Pat. No. 5,973,166 (disclosed in U.S. Pat. No. 5,973,166). (Incorporated herein by reference). X-BMI is 1,20-bismaleimide-10,11-dioctyleicosane [resin represented by the formula (X-1)], 1-heptylenemaleimido-2-octylenemaleimido-4-octyl-5. -Heptylcyclohexane [resin represented by formula (X-2)], 1,2-dioctylenemaleimido-3-octyl-4-hexylcyclohexane [resin represented by formula (X-3)], 4,5- One or two or more such as dioctylene maleimide-1,2-diheptylcyclohexene [resin represented by the formula (X-4)] is included. The bismaleimide resins represented by the formulas (X-1) to (X-4) may be used alone, and are preferred.
エポキシ樹脂
本発明において、エポキシ基を有し、(メタ)アクリロイル基およびマレイミド基を本質的に有さないかまたは有さない放射線硬化性樹脂をエポキシ樹脂と称する。本発明のエポキシ樹脂はまた、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂およびビスフェノールS型エポキシ樹脂のようなビスフェノール型エポキシ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびクレゾールノボラック型エポキシ樹脂のようなノボラック型エポキシ樹脂;ビフェニル型エポキシ樹脂;水添ビスフェノール型エポキシ樹脂(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂およびビスフェノールS型エポキシ樹脂のようなビスフェノール型エポキシ樹脂中のベンゼン環が水素添加されたもの);ジシクロペンタジエンフェノールノボラックのグリシジルエーテルのようなジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;およびシクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルを包含するあらゆるエポキシ樹脂を包含し得るが、これらに限定されない。
Epoxy Resin In the present invention, a radiation curable resin having an epoxy group and having essentially no or no (meth) acryloyl group and maleimide group is referred to as an epoxy resin. The epoxy resins of the present invention also include bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and bisphenol S type epoxy resin; novolak type epoxy resins such as phenol novolak type epoxy resin and cresol novolak type epoxy resin. Resin; Biphenyl type epoxy resin; Hydrogenated bisphenol type epoxy resin (Bisphenol A type epoxy resin, Bisphenol F type epoxy resin, Bisphenol type epoxy resin such as bisphenol S type epoxy resin with hydrogenated benzene ring); Dicyclopentadiene type epoxy resins such as glycidyl ether of dicyclopentadiene phenol novolak; and cyclohexane dimethanol diglycidyl ether It may include Ruarayuru epoxy resin, but is not limited thereto.
本発明に使用される適当な市販のエポキシ樹脂は、例えば、三菱ケミカル株式会社製のビスフェノールA型エポキシ樹脂JER YL 980である。 A suitable commercially available epoxy resin used in the present invention is, for example, a bisphenol A type epoxy resin JER YL 980 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.
エポキシ樹脂は、樹脂が液体になるような分子量を有することが好ましい。エポキシ樹脂は好ましくは液体であって25℃で約1,000〜約1,000,000cpsの範囲の粘度を有し、より好ましくは約2,000〜約700,000cpsの範囲の粘度を有する。 The epoxy resin preferably has a molecular weight such that the resin becomes a liquid. The epoxy resin is preferably liquid and has a viscosity at 25 ° C in the range of about 1,000 to about 1,000,000 cps, and more preferably has a viscosity in the range of about 2,000 to about 700,000 cps.
(メタ)アクリレート樹脂
本発明において、(メタ)アクリロイル基、特に(メタ)アクリレート基〔すなわち、(メタ)アクリロイルオキシ基〕を有し、エポキシ基およびマレイミド基を本質的に有さないかまたは有さない放射線硬化性樹脂を(メタ)アクリレート樹脂と称する。(メタ)アクリロイルという用語は、一般に使用されているアクリロイルとメタクリロイルの両方を意味する。(メタ)アクリレート等も同様である。放射線硬化性樹脂において用いるのに適している(メタ)アクリレート樹脂には、(メタ)アクリル酸とヒドロキシル基を有する化合物との反応によって得られるエステル化合物、(メタ)アクリル酸とエポキシ化合物との反応によって得られるエポキシ(メタ)アクリレート、およびイソシアネートとヒドロキシル基を有する(メタ)アクリル酸誘導体との反応によって得られるウレタン(メタ)アクリレート、およびそれらの混合物または組み合わせが包含されるが、これらに限定されない。
(Meth) acrylate resin In the present invention, it has a (meth) acryloyl group, particularly a (meth) acrylate group (that is, a (meth) acryloyloxy group), and has essentially no or no epoxy group and maleimide group. The radiation-curable resin that is not used is referred to as a (meth) acrylate resin. The term (meth) acryloyl refers to both the commonly used acryloyl and methacryloyl. The same applies to (meth) acrylate and the like. (Meth) acrylate resins suitable for use in radiation-curable resins include ester compounds obtained by the reaction of (meth) acrylic acid with a compound having a hydroxyl group, and the reaction of (meth) acrylic acid with an epoxy compound. (Meth) acrylates obtained by the method described above, and urethane (meth) acrylates obtained by reacting isocyanates with (meth) acrylic acid derivatives having hydroxyl groups, and mixtures or combinations thereof. .
(メタ)アクリル酸とヒドロキシル基を有する化合物との反応により得られるエステル化合物は特に限定されない。1つの官能基を有するエステル化合物の例には、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、イミド(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートが包含されるが、これらに限定されない。2つの官能基を有するエステル化合物の例には、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、および1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレートが包含されるが、これらに限定されない。3つ以上の官能基を有するエステル化合物の例には、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等が包含される。 The ester compound obtained by reacting (meth) acrylic acid with a compound having a hydroxyl group is not particularly limited. Examples of the ester compound having one functional group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, and imide (meth) acrylate , Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate. But not limited to these. Examples of ester compounds having two functional groups include, but are not limited to, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and 1,9-nonanediol di (meth) acrylate. Examples of the ester compound having three or more functional groups include pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and the like.
エポキシ(メタ)アクリレートも本発明において適しており、これは、(メタ)アクリル酸とエポキシ化合物との反応により得られ、1つ以上の(メタ)アクリレート基を有し、エポキシ基を実質的に有さないエポキシ樹脂の誘導体である。本発明によれば、エポキシ(メタ)アクリレートは、エポキシ樹脂ではなく、特定の種類の(メタ)アクリレート樹脂を意味する。その例としては、当技術分野で公知の方法に従って、塩基性触媒の存在下でエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸とを反応させることによって得られるエポキシ(メタ)アクリレートが挙げられる。好ましくは、エポキシ(メタ)アクリレートは、エポキシ基のほぼ100%が(メタ)アクリル基に転化され得た完全(メタ)アクリレート化エポキシである。 Epoxy (meth) acrylates are also suitable in the present invention, which are obtained by the reaction of (meth) acrylic acid with an epoxy compound, have one or more (meth) acrylate groups, and are substantially free of epoxy groups. It is a derivative of epoxy resin that does not have. According to the invention, epoxy (meth) acrylate refers to a specific type of (meth) acrylate resin, not an epoxy resin. Examples include epoxy (meth) acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid in the presence of a basic catalyst according to methods known in the art. Preferably, the epoxy (meth) acrylate is a fully (meth) acrylated epoxy in which nearly 100% of the epoxy groups can be converted to (meth) acrylic groups.
市販されているエポキシ(メタ)アクリレートの例は、Ebecryl 3708、Ebecryl 3600、Ebecryl 3701、Ebecryl 3703、Ebecryl 3200、Ebecryl 3201、Ebecryl 3600、Ebecryl 3702、Ebecryl 3412、Ebecryl 860、Ebecryl RDX63182、Ebecryl 6040、Ebecryl 3800(全てCytec Industries, Inc.製)、EA-1020、EA-1010、EA-5520、EA-5323、EA-CHD、EMA-1020(全て新中村化学工業株式会社製)を包含するが、これらに限定されない。 Examples of commercially available epoxy (meth) acrylates include Ebecryl 3708, Ebecryl 3600, Ebecryl 3701, Ebecryl 3703, Ebecryl 3200, Ebecryl 3201, Ebecryl 3600, Ebecryl 3702, Ebecryl 3412, Ebecryl 860, Ebecryl RDX63182, Ebecryl 6040 3800 (all manufactured by Cytec Industries, Inc.), EA-1020, EA-1010, EA-5520, EA-5323, EA-CHD, EMA-1020 (all manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) It is not limited to.
イソシアネートとヒドロキシル基を有する(メタ)アクリル酸誘導体との反応により得られるウレタン(メタ)アクリレートは、触媒量のスズ化合物の存在下で2つのイソシアネート基を有する化合物1当量とヒドロキシル基を有する(メタ)アクリル酸誘導体2当量とを反応させることにより得ることができる。 The urethane (meth) acrylate obtained by the reaction of an isocyanate with a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group has one equivalent of a compound having two isocyanate groups and a hydroxyl group (meth) in the presence of a catalytic amount of a tin compound. ) Acrylic acid derivative can be obtained by reacting with 2 equivalents.
市販のウレタン(メタ)アクリレートの例は、M-1100、M-1200、M-1210、M-1600(全て東亞合成株式会社製)、Ebecryl 230、Ebecryl 270、Ebecryl 4858、Ebecryl 8402、Ebecryl 8804、Ebecryl 8803、Ebecryl 8807、Ebecryl 9260、Ebecryl 1290、Ebecryl 5129、Ebecryl 4842、Ebecryl 210、Ebecryl 4827、Ebecryl 6700、Ebecryl 220、Ebecryl 2220(全てダイセル・オルネクス株式会社製)、Art Resin UN-9000H、Art Resin UN-9000A、Art Resin UN-7100、Art Resin UN-1255、Art Resin UN-330、Art Resin UN-3320HB、Art Resin UN-1200TPK、Art Resin SH-500B(全て根上工業株式会社製)を包含するが、これらに限定されない。 Examples of commercially available urethane (meth) acrylates are M-1100, M-1200, M-1210, M-1600 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Ebecryl 230, Ebecryl 270, Ebecryl 4858, Ebecryl 8402, Ebecryl 8804, Ebecryl 8803, Ebecryl 8807, Ebecryl 9260, Ebecryl 1290, Ebecryl 5129, Ebecryl 4842, Ebecryl 210, Ebecryl 4827, Ebecryl 6700, Ebecryl 220, Ebecryl 2220 (all manufactured by Daicel Ornex), Art Resin UN-9000H, Art Resin Including UN-9000A, Art Resin UN-7100, Art Resin UN-1255, Art Resin UN-330, Art Resin UN-3320HB, Art Resin UN-1200TPK, Art Resin SH-500B (all manufactured by Negami Industry Co., Ltd.) However, it is not limited to these.
ハイブリッド樹脂
本発明において、マレイミド基と、エポキシ基および(メタ)アクリロイル基から選択される1つ以上の基とを有する樹脂をハイブリッド樹脂と称する。好ましくは、ハイブリッド樹脂は、分子末端に、マレイミド基と、(メタ)アクリロイル基およびマレイミド基から選択される基とを有する。
Hybrid Resin In the present invention, a resin having a maleimide group and one or more groups selected from an epoxy group and a (meth) acryloyl group is referred to as a hybrid resin. Preferably, the hybrid resin has a maleimide group and a group selected from a (meth) acryloyl group and a maleimide group at a molecular terminal.
ハイブリッド樹脂の主鎖は、ビスフェノールA主鎖、ジシクロペンタジエン系主鎖、レゾルシルジグリシジルエーテル系主鎖、イソシアヌレート化系主鎖等のような多くの種類を有し、末端官能基は、マレイミド、エポキシまたは(メタ)アクリロイル基或いはそれらの組み合わせであってよく、官能基の数は2より大きくてよい。市販のハイブリッド樹脂は、EA1010、EA1010N(新中村化学工業株式会社製)、HCT-1、HCT-2(カガワケミカル株式会社製)のようなビスフェノールAエポキシおよびアクリレートハイブリッド樹脂を包含するが、これらに限定されない。 The main chain of the hybrid resin has many types such as a bisphenol A main chain, a dicyclopentadiene-based main chain, a resorcil diglycidyl ether-based main chain, an isocyanurated main chain, and the like, and the terminal functional group has It may be a maleimide, epoxy or (meth) acryloyl group or a combination thereof, and the number of functional groups may be greater than two. Commercially available hybrid resins include bisphenol A epoxy and acrylate hybrid resins such as EA1010, EA1010N (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), HCT-1, HCT-2 (manufactured by Kagawa Chemical Co., Ltd.). Not limited.
一態様では、ハイブリッド樹脂は、PCT/CN2015/083963(同文献を参照してここに組み込む)に開示されているように、1つの分子内にマレイミド基と、エポキシ基または(メタ)アクリロイル基とを有し、好ましくはビスフェノールAおよびDCPD(ジシクロペンタジエン)フェノール系主鎖を有する。 In one aspect, the hybrid resin has a maleimide group and an epoxy or (meth) acryloyl group in one molecule, as disclosed in PCT / CN2015 / 083963, which is incorporated herein by reference. And preferably has a bisphenol A and DCPD (dicyclopentadiene) phenol-based main chain.
例示される化合物は下記を包含するが、これらに限定されない。
本発明において、1つ以上の硬化性樹脂における(メタ)アクリロイル基および/またはエポキシ基に対するマレイミド基のモル当量比は、0.2より大きい。本発明者らは、意外なことに、放射線硬化性樹脂の官能基のモル当量比の選択が、シーラント組成物のゲル化時間、並びにLC浸透および汚染、接着性、並びにシーラントの信頼性にとって重要であることを見出した。モル当量比がこの範囲内であれば、放射線硬化性シーラントは、ODF法におけるLC浸透、汚染、接着性、および信頼性の優れたバランスを有することになる。範囲がこれより小さいと、ODF法におけるシーラントの全体的な性能は低下するであろう。好ましくは、(メタ)アクリロイル基および/またはエポキシ基に対するマレイミド基のモル当量比は、約0.25〜約10、好ましくは約0.3〜約5.0である。 In the present invention, the molar equivalent ratio of maleimide groups to (meth) acryloyl groups and / or epoxy groups in one or more curable resins is greater than 0.2. We have surprisingly found that the selection of the molar equivalent ratio of functional groups of the radiation-curable resin is important for the gel time of the sealant composition, as well as for LC penetration and contamination, adhesion, and sealant reliability. Was found. When the molar equivalent ratio is within this range, the radiation-curable sealant will have an excellent balance of LC penetration, contamination, adhesion, and reliability in the ODF process. If the range is smaller, the overall performance of the sealant in the ODF process will be reduced. Preferably, the molar equivalent ratio of maleimide groups to (meth) acryloyl groups and / or epoxy groups is from about 0.25 to about 10, preferably from about 0.3 to about 5.0.
放射線硬化性樹脂の量は、シーリング組成物中の潜在性硬化剤の種類に応じて適宜選択してよい。好ましくは、シーリング組成物中の放射線硬化性樹脂は、シーラント組成物の成分の総重量に基づいて、約30〜約90重量%、より好ましくは約50〜約80重量%の量で存在する。 The amount of the radiation-curable resin may be appropriately selected according to the type of the latent curing agent in the sealing composition. Preferably, the radiation curable resin in the sealing composition is present in an amount of about 30 to about 90%, more preferably about 50 to about 80% by weight, based on the total weight of the components of the sealant composition.
潜在性硬化剤
潜在性硬化剤は、ある温度で遊離する潜在性硬化剤に基づく。潜在性硬化剤は、市販の潜在性硬化剤から容易に得ることができ、単独でまたは2つ以上を組み合わせて使用できる。具体的には、好ましく使用される潜在性硬化剤は、アミン系化合物、微粉型変性アミンおよび変性イミダゾール系化合物を包含する。アミン系潜在性硬化剤の例は、ジシアンジアミド、アジピン酸ジヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、グルタル酸ジヒドラジド、スベリン酸ジヒドラジド、アゼライン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジドおよびフタル酸ジヒドラジドのようなヒドラジドを包含する。変性アミンおよび変形イミダゾール系化合物としては、アミン化合物(またはアミン付加物)コアの表面を変性アミン生成物のシェルで被覆(表面付加等)したコア−シェル型、およびコア−シェル型硬化剤とエポキシ樹脂との混合物としてのマスターバッチ型硬化剤が挙げられる。
Latent curing agents Latent curing agents are based on latent curing agents that release at a certain temperature. Latent curing agents can be easily obtained from commercially available latent curing agents, and can be used alone or in combination of two or more. Specifically, the latent curing agent preferably used includes an amine compound, a fine powder type modified amine and a modified imidazole compound. Examples of amine-based latent curing agents include dicyandiamide, adipic dihydrazide, oxalic dihydrazide, malonic dihydrazide, succinic dihydrazide, glutaric dihydrazide, suberic dihydrazide, azelaic dihydrazide, sehydric acid dihydrazide and dihydrazide such as phthalic acid dihydrazide. Hydrazide. Examples of the modified amine and modified imidazole-based compound include a core-shell type in which the surface of an amine compound (or amine adduct) core is coated with a shell of a modified amine product (surface addition, etc.), and a core-shell type curing agent and epoxy. A masterbatch type curing agent as a mixture with a resin is exemplified.
市販の潜在性硬化剤の例には、下記化合物が包含されるが、これらに限定されない:Adeka Hardener EH-5011S(イミダゾール型)、Adeka Hardener EH-4357S(変性アミン型)、Adeka Hardener EH-4357PK(変性アミン型)、Adeka Hardener EH-4380S(特殊ハイブリッド型)、Adeka Hardener EH-5001P(特殊変性型)、Ancamine 2014FG/2014AS(変性ポリアミン)、Ancamine 2441(変性ポリアミン)、Ancamine 2337s(変性アミン型)、Fujicure FXR-1081(変性アミン型)、Fujicure FXR-1020(変性アミン型)、Sunmide LH-210(変性イミダゾール型)、Sunmide LH-2102(変性イミダゾール型)、Sunmide LH-2100(変性イミダゾール型)、Ajicure PN-23(変性イミダゾール型)、Ajicure PN-23J(変性イミダゾール型)、Ajicure PN-31(変性イミダゾール型)、Ajicure PN-31J(変性イミダゾール型)、Novacure HX-3722(マスターバッチ型)、Novacure HX-3742(マスターバッチ型)、Novacure HX-3613(マスターバッチ型)およびそれらの混合物。 Examples of commercially available latent curing agents include, but are not limited to, the following compounds: Adeka Hardener EH-5011S (imidazole type), Adeka Hardener EH-4357S (modified amine type), Adeka Hardener EH-4357PK (Modified amine type), Adeka Hardener EH-4380S (Special hybrid type), Adeka Hardener EH-5001P (Special modified type), Ancamine 2014FG / 2014AS (Modified polyamine), Ancamine 2441 (Modified polyamine), Ancamine 2337s (Modified amine type) ), Fujicure FXR-1081 (modified amine type), Fujicure FXR-1020 (modified amine type), Sunmide LH-210 (modified imidazole type), Sunmide LH-2102 (modified imidazole type), Sunmide LH-2100 (modified imidazole type) Ajicure PN-23 (modified imidazole type), Ajicure PN-23J (modified imidazole type), Ajicure PN-31 (modified imidazole type), Ajicure PN-31J (modified imidazole type), Novacure HX-3722 (master batch type) ), Nov acure HX-3742 (master batch type), Novacuure HX-3613 (master batch type) and mixtures thereof.
1つの好ましい態様では、約50〜約110℃の融点、特に約60〜約100℃の融点を有する潜在性硬化剤が、放射線硬化性シーラント組成物において使用するのに適している。 In one preferred embodiment, a latent curing agent having a melting point of about 50 to about 110C, especially about 60 to about 100C, is suitable for use in the radiation-curable sealant composition.
好ましくは、シーリング組成物における潜在性硬化剤は、シーラント組成物の成分の総重量に基づいて、約1〜約50重量%、より好ましくは約5〜約40重量%の量で存在する。 Preferably, the latent hardener in the sealing composition is present in an amount of about 1 to about 50%, more preferably about 5 to about 40% by weight, based on the total weight of the components of the sealant composition.
他の成分
シーラント組成物の特性(例えば、流動性、ディスペンス性または印刷性、貯蔵安定性、硬化特性および硬化後の物性)を向上または変更するために、シーラント組成物は、1つ以上の添加剤、樹脂成分等をさらに含んでよい。
Other Ingredients To improve or modify the properties of the sealant composition (eg, flowability, dispensing or printability, storage stability, curing properties and post-curing properties), the sealant composition may include one or more additives. It may further contain an agent, a resin component and the like.
必要に応じてシーラント組成物に含有させることができる成分としては、例えば、有機または無機の充填剤、チキソトロープ剤、シランカップリング剤、希釈剤、改質剤、顔料および染料等の着色剤、界面活性剤、防腐剤、安定剤、可塑剤、滑剤、消泡剤、レベリング剤等が挙げられるが、これらに限定されない。特に、シーラント組成物は好ましくは、無機または有機充填剤、チキソトロープ剤、シランカップリング剤、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される添加剤を含んでなる。 Components that can be included in the sealant composition as needed include, for example, organic or inorganic fillers, thixotropic agents, silane coupling agents, diluents, modifiers, coloring agents such as pigments and dyes, Examples include, but are not limited to, activators, preservatives, stabilizers, plasticizers, lubricants, defoamers, leveling agents, and the like. In particular, the sealant composition preferably comprises an additive selected from the group consisting of inorganic or organic fillers, thixotropic agents, silane coupling agents, and combinations thereof.
本発明において任意に使用され得る適当な充填剤としては、シリカ、珪藻土、アルミナ、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化チタン、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、石膏、ケイ酸カルシウム、タルク、ガラスビーズ、セリサイト活性白土、ベントナイト、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等の無機充填剤;ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリペンタジエン、ポリイソプレン、ポリイソプロピレン等の有機充填剤が挙げられるが、これらに限定されない。充填剤は、単独でまたは組み合わせて使用してよい。 Suitable fillers that can be optionally used in the present invention include silica, diatomaceous earth, alumina, zinc oxide, iron oxide, magnesium oxide, tin oxide, titanium oxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, magnesium carbonate, barium sulfate, Gypsum, calcium silicate, talc, glass beads, sericite activated clay, bentonite, aluminum nitride, inorganic fillers such as silicon nitride; polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, polypropyl methacrylate, polybutyl methacrylate, polyacrylonitrile, polystyrene, Organic fillers such as, but not limited to, polybutadiene, polypentadiene, polyisoprene, polyisopropylene, and the like. Fillers may be used alone or in combination.
本発明において任意に使用され得る適当なチキソトロープ剤としては、タルク、ヒュームシリカ、超微細表面処理炭酸カルシウム、微粒子アルミナ、板状アルミナ;モンモリロナイトのような層状化合物、ホウ酸アルミニウムウィスカーのような針状化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。タルク、ヒュームシリカおよび微細アルミナが好ましいチキソトロープ剤である。 Suitable thixotropic agents that can optionally be used in the present invention include talc, fumed silica, ultrafine surface-treated calcium carbonate, fine-particle alumina, plate-like alumina; layered compounds such as montmorillonite, and needle-like compounds such as aluminum borate whiskers. Examples include, but are not limited to, compounds. Talc, fumed silica and fine alumina are the preferred thixotropic agents.
有用なシランカップリング剤としては、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランおよびヘキサメチルジシラザンが挙げられる。これらのうち、アミノ−またはエポキシ系シランカップリング剤として、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、およびβ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランがより好ましい。 Useful silane coupling agents include vinylmethoxysilane, vinylethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl)- γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and hexamethyldisilazane. Among them, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, and N- (β-aminoethyl) -γ are used as amino- or epoxy silane coupling agents. -Aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and β-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane are more preferred.
本発明の放射線硬化性シーラント組成物は、光開始剤を本質的に含まず、好ましくは光開始剤を含まない。光開始剤の例には、ジエトキシアセトフェノンおよびベンジルジメチルケタールのようなアセトフェノン系開始剤、ベンゾインおよびベンゾインエチルエーテルのようなベンゾインエーテル系開始剤、ベンゾフェノンおよびメチルo−ベンゾイルベンゾエートのようなベンゾフェノン系開始剤、ブタンジオン、ベンジルおよびアセトナフトフェノンのようなα−ジケトン系開始剤、並びにメチルチオキサントンのようなチオ化合物が包含されるが、これらに限定されない。 The radiation-curable sealant composition of the present invention is essentially free of, and preferably free of, a photoinitiator. Examples of photoinitiators include acetophenone-based initiators such as diethoxyacetophenone and benzyldimethyl ketal, benzoin ether-based initiators such as benzoin and benzoin ethyl ether, benzophenone-based initiators such as benzophenone and methyl o-benzoylbenzoate. Agents, butanedione, alpha-diketone-based initiators such as benzyl and acetonaphthophenone, and thio compounds such as methylthioxanthone.
本発明の放射線硬化性シーラント組成物は、例えば、撹拌翼を有する撹拌機および3本ロールミル等の混合機を用いて、上記各成分を混合することにより得ることができる。シーラント組成物の粘度は、それが容易にディスペンスされ得る限り制限されない。好ましくは、シーラント組成物は、25℃で約50〜約500Pa・sの範囲の粘度を有する。 The radiation-curable sealant composition of the present invention can be obtained, for example, by mixing the above components using a stirrer having a stirring blade and a mixer such as a three-roll mill. The viscosity of the sealant composition is not limited as long as it can be easily dispensed. Preferably, the sealant composition has a viscosity at 25 [deg.] C ranging from about 50 to about 500 Pa.s.
別の態様において、本発明はまた、第一基材と第二基材との間に液晶層を有する液晶ディスプレイの製造方法に関し、この方法は、
1)第一基材の表面の周縁部のシーリング領域に、本発明の放射線硬化性シーラント組成物を適用する工程;
2)放射線硬化性シーラント組成物の放射線硬化を実施し、部分的に硬化した生成物を得る工程;
3)第一基材の表面のシーリング領域によって取り囲まれている中央領域、または第二基材の対応する領域に、液晶を滴下し、液晶層を形成する工程;
4)第一基材と第二基材とを重ね合わせる工程;および
5)部分的に硬化した生成物の熱硬化を実施する工程
を含む。
In another aspect, the present invention also relates to a method of manufacturing a liquid crystal display having a liquid crystal layer between a first substrate and a second substrate, the method comprising:
1) a step of applying the radiation-curable sealant composition of the present invention to a sealing region at a peripheral portion of the surface of the first base material;
2) performing radiation curing of the radiation-curable sealant composition to obtain a partially cured product;
3) a step of forming a liquid crystal layer by dropping liquid crystal on a central area surrounded by a sealing area on the surface of the first base material or on a corresponding area of the second base material;
4) laminating the first substrate and the second substrate; and 5) performing a thermal cure of the partially cured product.
本発明において、第一基材および第二基材は、ガラスまたはプラスチック製の透明基材である。一般に、2つの基材の対向する面の少なくとも一方には、透明電極、活性マトリックス素子(例えばTFT)、配向膜、カラーフィルター等が形成されている。これらの構成は、LCDの種類に応じて変化し得る。本発明による製造方法は、任意の種類のLCDに適用されると考えてよい。プラスチック基材は、プラスチック製の、例えばポリエステル製、ポリアリレート製、ポリカーボネート製およびポリ(エーテルスルホン)製の基材を包含する。 In the present invention, the first substrate and the second substrate are transparent substrates made of glass or plastic. Generally, a transparent electrode, an active matrix element (for example, a TFT), an alignment film, a color filter, and the like are formed on at least one of the opposing surfaces of the two substrates. These configurations can vary depending on the type of LCD. The manufacturing method according to the present invention may be considered to be applied to any type of LCD. Plastic substrates include those made of plastic, for example, polyester, polyarylate, polycarbonate, and poly (ether sulfone).
工程1)では、フレーム形状に基材の周囲を一周するように基材の1つである第一基材の表面(他方の基材と対向する面)の周縁部部分に、シーラント組成物を適用する。本明細書に記載するように、シーラント組成物がフレーム形状に適用された部分をシール領域と称する。このとき、シーラント組成物は流動性であるため、適用することができ、スクリーン印刷およびディスペンスのような公知の方法で適用することができる。 In step 1), the sealant composition is applied to the peripheral portion of the surface of the first base material, which is one of the base materials (the surface facing the other base material), so as to make a round around the base material in a frame shape. Apply. As described herein, the portion where the sealant composition is applied to the frame shape is referred to as a seal region. At this time, since the sealant composition is fluid, it can be applied, and can be applied by a known method such as screen printing and dispensing.
工程2)では、組成物が仮硬化し、部分的に硬化した生成物が得られるよう、第一基材に適用した硬化性樹脂組成物を化学線に暴露する。好ましくは紫外線によるこのような工程は、2つの基材を一緒に組み立てる際の利便性のために部分硬化しているが完全硬化はしていないときにシーラント表面を粘着性にするために、シーラント組成物を予備硬化するステージを意味するいわゆる「UV B−ステージ」である。 In step 2), the curable resin composition applied to the first substrate is exposed to actinic radiation so that the composition is pre-cured and a partially cured product is obtained. Such a process, preferably with UV light, is intended to make the sealant surface tacky when partially cured but not fully cured for convenience in assembling the two substrates together. This is the so-called "UV B-stage" which means the stage of pre-curing the composition.
他の種類の化学線を使用してもよいが、紫外線、可視光またはブラックライト放射によりシーラント組成物を硬化させることが好ましい。硬化中、放射線源は基材に対して実質的に垂直であることが好ましい。 Although other types of actinic radiation may be used, it is preferred to cure the sealant composition by ultraviolet, visible or black light radiation. During curing, the radiation source is preferably substantially perpendicular to the substrate.
工程2)における特定の波長範囲のUV光のための放射線源として適しているものは、例えば、UV−A放射線源〔例えば、Panacol-Elosol GmbH(ドイツ国シュタインバッハ在)からUV-H 254、Quick-Start UV 1200、UV-F 450、UV-P 250C、UV-P 280/6またはUV-F 900の名称で市販されている、蛍光管、LED技術またはランプ〕、高圧または中圧水銀灯(ここで、水銀蒸気はガリウムまたは鉄のような他の元素でのドーピングにより改質されていてよい)、(例えばUVフラッシュランプとして知られている)パルスランプ、またはハロゲンランプである。さらに適当なUVエミッターまたはランプも、本発明において使用することができる。機械的デバイスによって放射線源を通過するよう照射する物品を移動させることで、エミッターを固定位置に設置することができるし、或いは、エミッターを移動可能にし、工程2)の仮硬化中、照射する物品の位置を変えなくてもよい。 Suitable radiation sources for UV light in the specific wavelength range in step 2) are, for example, UV-A radiation sources [eg UV-H 254 from Panacol-Elosol GmbH, Steinbach, Germany]. Quick-Start UV 1200, UV-F 450, UV-P 250C, UV-P 280/6 or UV-F 900, fluorescent tubes, LED technology or lamps), high or medium pressure mercury lamps ( Here, the mercury vapor may be modified by doping with other elements such as gallium or iron), a pulse lamp (for example known as a UV flash lamp), or a halogen lamp. Further, suitable UV emitters or lamps can also be used in the present invention. The emitter can be placed in a fixed position by moving the illuminated article through a radiation source by a mechanical device, or the emitter can be moved and the illuminated article during the pre-curing of step 2) Need not be changed.
より好ましくは、LEDランプが本発明の方法の工程2)において使用され、LED光源の波長は、より好ましくは単一波長、一般的には特定の波長を中心とする狭いスペクトルアウトプット、+/−10nm、好ましくは、約365nm〜約405nmの範囲である。 More preferably, an LED lamp is used in step 2) of the method of the invention, wherein the wavelength of the LED light source is more preferably a single wavelength, generally a narrow spectral output centered on a particular wavelength, +/- -10 nm, preferably in the range of about 365 nm to about 405 nm.
一般に、照射時間は好ましくは短く、例えば約5分以下、好ましくは約3分以下、さらに好ましくは約1分以下である。 Generally, the irradiation time is preferably short, for example about 5 minutes or less, preferably about 3 minutes or less, more preferably about 1 minute or less.
次いで、工程3)において、第一基材の表面のフレーム状のシーリング領域によって取り囲まれている中央領域、または第二基材の対応する領域に、液晶を滴下する。「対応する領域」とは、基材を付着させたときに、第一基材のシーリング領域によって取り囲まれている中央領域に対応する第二基材の領域を意味する。続いて、好ましくは第一基材のシーリング領域によって取り囲まれている中央領域に、液晶を滴下する。 Next, in step 3), liquid crystal is dropped on a central region surrounded by a frame-shaped sealing region on the surface of the first base material or on a corresponding region of the second base material. “Corresponding region” means the region of the second substrate that corresponds to the central region surrounded by the sealing region of the first substrate when the substrate is deposited. Subsequently, the liquid crystal is dropped in a central region, which is preferably surrounded by a sealing region of the first substrate.
工程4)において、第二基材を第一基材と重ねるかまたは第一基材上に重ね合わせ、減圧下、好ましくは真空下、2つの基材を、その間の部分的に硬化した生成物によって一時的に固定し得る。真空は、約1.0〜約3.0Paの真空度を達成するための従来の方法により印加することができる。真空発生ギャップは、約0.1〜約0.5mmであってよい。 In step 4), the second substrate is superimposed or superimposed on the first substrate and the two substrates are cured under reduced pressure, preferably under vacuum, with a partially cured product therebetween. Can be temporarily fixed. The vacuum can be applied by conventional methods to achieve a vacuum of about 1.0 to about 3.0 Pa. The vacuum generation gap may be from about 0.1 to about 0.5 mm.
工程5)において、熱硬化は通常、約80〜約150℃の温度下で約30〜約90分間実施する。 In step 5), the thermal curing is usually performed at a temperature of about 80 to about 150C for about 30 to about 90 minutes.
以上の工程により、LCDパネルの大部分が完成する。 Through the above steps, most of the LCD panel is completed.
本発明において使用されるシーラント組成物はまた、位置ズレのない正確な組み立てが必要とされるLCD製造のためのODF法、特に上記したような純粋な熱硬化ODF法以外の用途にも使用され得る。 The sealant composition used in the present invention may also be used for ODF processes for LCD manufacturing where precise assembly without misalignment is required, especially applications other than the pure thermoset ODF process as described above. obtain.
放射線硬化性シーラント組成物は、約200秒未満、好ましくは185秒未満の、405nm、約500Mw/cm2の放射線下でのゲル化時間を有する。放射線硬化性シーラント組成物のゲル化は、放射線硬化中にシーラント組成物に木製スティックを挿入または接触させ、シーラント組成物から木製スティックを引き上げ、シーラント組成物の糸状物の形成を目視確認できるかどうかによって調べることができる。硬化開始時、シーラント組成物は流動性であり、スティック端部とシーラントとの間にシーラントの糸状物は形成されない。硬化の継続およびゲル化に伴って、シーラント組成物の流動性は低下し、その粘度は上昇し、シーラント組成物に木製スティックを挿入して引き上げるときに糸状物が形成される。ゲル化時間は、放射線硬化の開始から、糸状物が木製スティックに付着しない時間として定義される。ゲル化時間が200秒を超えると、放射線硬化中にシーラント組成物の粘度は上昇するが、熱硬化後であっても液晶が浸透する危険性が高い。 The radiation-curable sealant composition has a gel time under radiation of 405 nm, about 500 Mw / cm 2 of less than about 200 seconds, preferably less than 185 seconds. Gelation of the radiation-curable sealant composition can be performed by inserting or contacting a wooden stick with the sealant composition during radiation curing, pulling up the wooden stick from the sealant composition, and visually confirming the formation of a thread of the sealant composition. You can find out by: At the start of curing, the sealant composition is flowable and no sealant thread forms between the stick end and the sealant. With continued curing and gelling, the flowability of the sealant composition decreases, its viscosity increases, and a thread forms when a wooden stick is inserted into the sealant composition and pulled up. The gel time is defined as the time from the onset of radiation curing that the thread does not adhere to the wooden stick. If the gelation time exceeds 200 seconds, the viscosity of the sealant composition increases during radiation curing, but the risk of liquid crystal penetration even after thermal curing is high.
実施例
以下の実施例は、当業者が本発明をよりよく理解し、実施するのを助けることを目的としている。本発明の範囲は実施例によって限定されず、添付の特許請求の範囲において規定される。特に記載のない限り、全ての部およびパーセントは重量に基づく。
Examples The following examples are intended to help those skilled in the art to better understand and practice the present invention. The scope of the invention is not limited by the examples, but is defined in the appended claims. All parts and percentages are by weight unless otherwise indicated.
材料
硬化性樹脂1:Ebecryl 3708、変性ビスフェノールA型エポキシジアクリレート、Cytec Industries Inc.製
硬化性樹脂2:YL980、ビスフェノールA型エポキシ、三菱ケミカル株式会社製
硬化性樹脂3:24-414A、ビスマレイミド樹脂、Henkel Corporation製
シランカップリング剤:Silquest A-187、エポキシ官能性シラン、Momentive Performance Materials Inc.製
充填剤:SO-E2、シリカ充填剤、Admatechs Co., Ltd.製
潜在性硬化剤:EH-4357S、ポリアミン型潜在性硬化剤、株式会社ADEKA製
Material curable resin 1: Ebecryl 3708, modified bisphenol A type epoxy diacrylate, curable resin manufactured by Cytec Industries Inc. 2: YL980, bisphenol A type epoxy, curable resin 3: 24-414A, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, bismaleimide Resin, Henkel Corporation silane coupling agent: Silquest A-187, epoxy-functional silane, Momentive Performance Materials Inc. filler: SO-E2, silica filler, Admatechs Co., Ltd. latent curing agent: EH -4357S, polyamine type latent curing agent, manufactured by ADEKA Corporation
調製
実施例(Ex)1〜4として、表1に示す配合を有する本発明の放射線硬化性シーラント組成物を調製した。撹拌機、次いで3本ロールミルにより全成分を十分に混合し、均一なシーラント組成物を得た。5μmメッシュを通して濾過した後、組成物を脱気して組成物中の気泡を除去した。特定の成分の存在および重量比以外は同様にして比較例(CE)1〜2を調製し、その配合も表1に記載する。
Preparation As Examples (Ex) 1-4, radiation-curable sealant compositions of the present invention having the formulations shown in Table 1 were prepared. All components were sufficiently mixed by a stirrer and then a three-roll mill to obtain a uniform sealant composition. After filtration through a 5 μm mesh, the composition was degassed to remove air bubbles in the composition. Comparative Examples (CE) 1 and 2 were prepared in the same manner except for the presence and the weight ratio of specific components, and the formulations are also shown in Table 1.
試験方法および結果
ゲル化時間
実施例および比較例の各1gを秤量し、LEDランプ室に投入した。405nm、500mW/cm2の放射により放射線硬化性シーラント組成物を硬化させた。ゲル化時間は、シーラント組成物に木製スティックを挿入または接触させ、シーラント組成物から木製スティックを引き上げ、シーラント組成物の糸状物が形成されたかどうかを目視確認することにより測定した。試験結果は表1に示す。
Test Method and Result Gelling Time 1 g of each of Examples and Comparative Examples was weighed and put into an LED lamp chamber. The radiation-curable sealant composition was cured by radiation of 405 nm, 500 mW / cm 2 . The gel time was measured by inserting or contacting a wooden stick with the sealant composition, pulling up the wooden stick from the sealant composition, and visually checking whether a thread of the sealant composition was formed. The test results are shown in Table 1.
粘度
各実施例の25℃における粘度をレオメーター(TA, AR2000 ex)により1.5s−1の剪断速度で測定し、チキソトロピー指数(TI)を1.5s−1/15s−1における粘度により測定した。
Viscosity The viscosity at 25 ° C. of each example was measured by a rheometer (TA, AR2000 ex) at a shear rate of 1.5 s −1 , and the thixotropic index (TI) was measured by a viscosity at 1.5 s −1 / 15 s −1 . did.
接着強度
各実施例のシーラント組成物は、線幅0.5mmで、L字型のITOガラス(50mm×60mm)上にディスペンスした。各実施例を、第一加熱工程条件で第一硬化のためにオーブンに投入した。対向するITOガラス板を重ね合わせ、2つのガラス板を固定した。次いで、実施例を120℃のオーブンに1時間投入し、シーラント組成物を完全に硬化させた。1枚のガラス板をインストロン強度試験機により1.27mm/秒の速度で引っ張った。各実施例について5つの試験片の平均接着強度をそれぞれ記録した。
Adhesive Strength The sealant composition of each example was dispensed on L-shaped ITO glass (50 mm × 60 mm) with a line width of 0.5 mm. Each example was placed in an oven for a first cure at a first heating step condition. Opposite ITO glass plates were overlapped, and the two glass plates were fixed. Next, the example was put into an oven at 120 ° C. for 1 hour to completely cure the sealant composition. One glass plate was pulled by an Instron strength tester at a speed of 1.27 mm / sec. The average bond strength of the five test specimens for each example was each recorded.
老化後の接着強度を試験するために、各実施例についてさらに5つの試験片を作製し、24時間にわたってPresscure Cooking Testオーブン(120℃、湿度100%、2気圧、ESPEC Corporation製、EHS-221Mモデル)に投入した。その後、平均値を記録することによってインストロン強度試験機で接着強度を試験した。 In order to test the adhesive strength after aging, five more test pieces were prepared for each example, and a Pressure Cooking Test oven (120 ° C., 100% humidity, 2 atm, ESPEC Corporation, EHS-221M model) was prepared for 24 hours. ). Thereafter, the adhesive strength was tested on an Instron strength tester by recording the average value.
電圧保持率(VHR)
各シーラント組成物0.03gと液晶0.27gを秤量し、混合し、120℃のオーブンに1時間投入した。混合物を取り出して室温で保ち、特定の試験セルに充填した。VHRは、Toyo 6254分析装置(Toyo Corporation製)によって60℃、5Vおよび60Hzで試験した。
Voltage holding ratio (VHR)
0.03 g of each sealant composition and 0.27 g of liquid crystal were weighed, mixed, and placed in an oven at 120 ° C. for 1 hour. The mixture was removed and kept at room temperature and filled into a specific test cell. VHR was tested on a Toyo 6254 analyzer (Toyo Corporation) at 60 ° C., 5 V and 60 Hz.
NI点変化(液晶のネマチック相から等方相へ)
各シーラント組成物0.03gと液晶0.27gを秤量し、混合し、120℃のオーブンに1時間投入した。混合物を取り出し、DSC(示差走査熱量測定)パンに導入し、温度を5℃/分で120℃まで上昇させた。純粋な液晶とシーラント組成物を含む液晶混合物との間の温度変化を記録した。
NI point change (from nematic phase of liquid crystal to isotropic phase)
0.03 g of each sealant composition and 0.27 g of liquid crystal were weighed, mixed, and placed in an oven at 120 ° C. for 1 hour. The mixture was removed and introduced into a DSC (differential scanning calorimetry) pan and the temperature was increased at 5 ° C / min to 120 ° C. The temperature change between the pure liquid crystal and the liquid crystal mixture containing the sealant composition was recorded.
水蒸気透過率(WVTR)
各シーラント組成物0.5gを特定のモジュールに充填し、120℃で1時間硬化させ、厚さ0.3mmを有し10cm2超の円形試験片を得た。次いで、試験片をMocon PERMATRAN-W(登録商標)Model 3/61機器(Mocon Inc.製)に投入し、水蒸気透過率を50℃、100%RHで試験した。
Water vapor transmission rate (WVTR)
0.5 g of each sealant composition was filled into a specific module and cured at 120 ° C. for 1 hour to obtain a circular specimen having a thickness of 0.3 mm and more than 10 cm 2 . Next, the test piece was put into a Mocon PERMATRAN-W (registered trademark) Model 3/61 device (manufactured by Mocon Inc.), and the water vapor permeability was tested at 50 ° C. and 100% RH.
LCDパネルシーリング性能
1重量部の3.5μmスペーサーを100重量部のシーラント組成物に添加した。脱気後、シーラント組成物をガラス基材(200mm×200mm)表面の周縁部にMusashi screwディスペンス機により矩形状にディスペンスした。この長方形の周囲を囲むより大きな長方形形状のシーラント組成物を、近接ダミーシールとしてディスペンスした。ディスペンスノズルの直径は0.15mmであり、ディスペンス速度は70mm/秒であり、樹脂組成物の最終線幅は500μmである。
LCD Panel Sealing Performance 1 part by weight of 3.5 μm spacer was added to 100 parts by weight of the sealant composition. After degassing, the sealant composition was dispensed in a rectangular shape on the periphery of the surface of the glass substrate (200 mm × 200 mm) by a Musashi screw dispensing machine. A larger rectangular sealant composition surrounding the perimeter of the rectangle was dispensed as a proximity dummy seal. The diameter of the dispensing nozzle is 0.15 mm, the dispensing speed is 70 mm / sec, and the final line width of the resin composition is 500 μm.
シーラントをディスペンスした基材を、表2に記載の硬化条件でUV予備硬化のためにLEDランプ室に投入した。基材を取り出し、次いで、数グラムの液晶(シーリング体積に関して計算された105%LC量)を、シーリング領域により取り囲まれている中央領域に滴下し、真空脱気した後、3Kpaで第二ガラス基材を第一の基材上に重ねた。2つのガラス基材を付着させた後、真空を解除し、LCDセルを得、その後、アセンブリを120℃のオーブンに投入し、第二硬化を実施した。 The substrate on which the sealant was dispensed was put into an LED lamp chamber for UV pre-curing under the curing conditions described in Table 2. The substrate was removed and a few grams of liquid crystal (105% LC amount calculated with respect to the sealing volume) was dropped into the central area surrounded by the sealing area, vacuum degassed and then the second glass base at 3 Kpa. The material was overlaid on the first substrate. After depositing the two glass substrates, the vacuum was released and an LCD cell was obtained, after which the assembly was placed in a 120 ° C. oven to perform a second cure.
次に、LCDセルを顕微鏡で調べた。液晶からフレーム状に硬化したシーラント組成物までの浸透幅が50μm未満であれば、耐浸透性は「良好」と記録した。液晶からフレーム状に硬化した樹脂組成物までの浸透幅が50〜200μmの範囲にある場合、耐浸透性は「一般的」と記録した。また、液晶からフレーム状に硬化した樹脂組成物までの浸透幅が200μmを超える場合は、耐浸透性は「不良」と記録した。 Next, the LCD cell was examined under a microscope. If the penetration width from the liquid crystal to the sealant composition cured in a frame shape was less than 50 μm, the penetration resistance was recorded as “good”. When the permeation width from the liquid crystal to the resin composition cured into a frame was in the range of 50 to 200 μm, the permeation resistance was recorded as “general”. When the penetration width from the liquid crystal to the resin composition cured in a frame shape exceeded 200 μm, the penetration resistance was recorded as “poor”.
LCD性能試験では、LCDセルに5Vの直流電圧を印加したときに色の不一致が発生した場合、「ムラ」印象が生じたとする。ムラ問題は通常、LCDセルのフレーム付近で生じる。フレーム付近に明らかな色の不一致が存在しない場合、ムラ印象性能は「良好」と記録した。フレーム付近に僅かな色の不一致がある場合、ムラ印象性能は「一般的」と記録した。そして、フレーム付近に深刻な色の不一致がある場合、ムラ印象の性能は「不良」と記録した。 In the LCD performance test, if a color mismatch occurs when a DC voltage of 5 V is applied to the LCD cell, it is assumed that an “uneven” impression has occurred. The unevenness problem usually occurs near the frame of the LCD cell. If there was no apparent color mismatch near the frame, the uneven impression performance was recorded as "Good". If there was a slight color mismatch near the frame, the uneven impression performance was recorded as "General". When there was a serious color mismatch near the frame, the performance of the uneven impression was recorded as “poor”.
作製したLCDセルをそれぞれ、60℃および90%RHのオーブンで3日間老化させた。次に、老化後の各LCDセルのムラ印象を、5Vの直流電圧をLCDセルに印加することによって試験した。フレーム付近に明らかな色の不一致が存在しなければ、耐ムラ印象性は「良好」と記録した。フレーム付近に僅かな色の不一致がある場合、耐ムラ印象性は「一般的」と記録した。そして、フレーム付近に深刻な色の不一致がある場合、耐ムラ印象性は「不良」と記録した。 Each of the prepared LCD cells was aged in an oven at 60 ° C. and 90% RH for 3 days. Next, the uneven impression of each LCD cell after aging was tested by applying a DC voltage of 5V to the LCD cell. If there was no apparent color mismatch near the frame, the non-uniform impression resistance was recorded as "good". If there was a slight color mismatch near the frame, the non-uniform impression resistance was recorded as "General". When there was a serious color mismatch near the frame, the non-uniformity impression resistance was recorded as “poor”.
試験結果を表1に示す。 Table 1 shows the test results.
表1に示されているように、本発明のシーラント組成物は、200秒未満のゲル化時間、良好な接着性、ディスペンス特性などの満足な特性を有し、LC浸透、LC汚染およびムラ印象に対する優れた耐性を示した。 As shown in Table 1, the sealant compositions of the present invention have satisfactory properties such as gel time of less than 200 seconds, good adhesion, dispensing properties, LC penetration, LC contamination and uneven impression. Showed excellent resistance to
UV硬化のメカニズムはビスマレイミド樹脂中の二重結合のラジカル重合であり、従って、ビスマレイミド樹脂の含有量および組成物中の他の樹脂に対するその比率は、LC浸透およびLC汚染に対する良好な耐性を達成するために重要である。比較例1および2では、他の官能性樹脂(エポキシまたはアクリレート)に対するマレイミド基のモル比が0.2未満であるので、405nmLEDランプによる500mW/cm2の照射下での各ゲル化時間は200秒より長く、LC浸透およびムラ印象に対する不十分な耐性を示した。これは主に、シーラントのより緩慢なUV硬化速度に起因する。緩慢なUV硬化速度により、LC浸透は防止され得ず、シーラント組成物中の小分子を有する化合物は熱硬化中に液晶に侵入し、最終的にムラ印象を引き起こす。 The mechanism of UV curing is the radical polymerization of the double bond in the bismaleimide resin, so that the content of the bismaleimide resin and its ratio to other resins in the composition will result in good resistance to LC penetration and LC contamination. Important to achieve. In Comparative Examples 1 and 2, since the molar ratio of the maleimide group to the other functional resin (epoxy or acrylate) was less than 0.2, each gel time under irradiation of 500 mW / cm 2 by a 405 nm LED lamp was 200. Longer than a second, showed poor resistance to LC penetration and uneven impression. This is mainly due to the slower UV cure rate of the sealant. Due to the slow UV cure rate, LC penetration cannot be prevented and the compounds with small molecules in the sealant composition penetrate the liquid crystal during heat curing, eventually causing an uneven impression.
以上の結果から、本発明のシーラント組成物は、バリア性、接着強度、耐LC浸透/汚染性、および耐ムラ印象性のバランスがとれていることから、二段熱硬化ODF法に使用するのに適していることが明らかに示された。 From the above results, since the sealant composition of the present invention has a good balance of barrier properties, adhesive strength, LC penetration / contamination resistance, and uneven impression resistance, it can be used in the two-stage thermosetting ODF method. It was clearly shown to be suitable for
Claims (13)
で示される部分構造を有する、請求項2に記載の放射線硬化性シーラント組成物。 The maleimide resin comprises one or more, preferably one or two, moieties (I):
The radiation-curable sealant composition according to claim 2, which has a partial structure represented by the following formula:
2)放射線硬化性シーラント組成物の放射線硬化を実施し、部分的に硬化した生成物を得る工程;
3)第一基材の表面のシーリング領域によって取り囲まれている中央領域、または第二基材の対応する領域に、液晶を滴下し、液晶層を形成する工程;
4)第一基材と第二基材とを重ね合わせる工程;および
5)部分的に硬化した生成物の熱硬化を実施する工程
を含む、第一基材と第二基材との間に液晶層を有する液晶ディスプレイの製造方法。 1) a step of applying the radiation-curable sealant composition according to any one of claims 1 to 11 to a sealing region at a peripheral portion of a surface of the first base material;
2) performing radiation curing of the radiation-curable sealant composition to obtain a partially cured product;
3) a step of forming a liquid crystal layer by dropping liquid crystal on a central area surrounded by a sealing area on the surface of the first base material or on a corresponding area of the second base material;
4) laminating the first and second substrates; and 5) performing a thermal cure of the partially cured product, between the first and second substrates. A method for manufacturing a liquid crystal display having a liquid crystal layer.
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