JP2020502342A - 相溶化剤を用いたシロキサン含有ブロックコポリカーボネートの製造 - Google Patents

Abstract

本発明の対象は、ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物の製造方法であって、Ａ）少なくとも１つのポリカーボネートを、溶融状態で、Ｂ）少なくとも１つのヒドロキシアリール末端ポリシロキサンと、Ｃ）芳香族置換基含有シロキサン（成分Ｃ１）およびポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物Ａ）またはＡ）と異なりうるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物（成分Ｃ２）からなる群からの少なくとも１つから選択される添加剤を用いて、反応させる方法である。

Description

本発明は、特定のポリカーボネートおよびヒドロキシアリール末端ポリシロキサンから出発するポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物（ＳｉＣｏＰＣとも呼ぶ）の製造方法に関する。詳細には、本発明は、反応押出(a reactive extrusion)による前記ブロック共縮合物の製造に関する。本発明によるポリシロキサンブロック共縮合物は微細なポリシロキサンドメイン分布(domain distribution)を有し、良好な機械特性および良好な溶融安定性を特徴とする。

ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物が耐低温衝撃性または耐ノッチ付き低温衝撃性、耐薬品性および屋外耐候性ならびにエージング特性および難燃性に関して良好な特性を有することが知られている。これらの特性では、従来のポリカーボネート（ビスフェノールＡベースホモポリカーボネート）よりある程度優れている。

これらの共縮合物は、ほとんどがホスゲンを用いた相界面法によってモノマーから工業的に製造される。さらに、炭酸ジフェニルを用いた溶融エステル交換法によるシロキサン共縮合物の製造が知られている。これらの方法は、これに使用される工場は標準的ポリカーボネート製造用に使用され、したがって、大きな工場規模を有するというデメリットを有する。これらの工場での特定のブロック共縮合物製造は、これらの製品の生産量の低さが理由で経済的に合理的でないことが多い。さらに、例えば、ポリジメチルシロキサンなどの共縮合物製造に要する出発物質は、工場または溶媒回路の汚染をもたらし得るので、工場に悪影響を及ぼし得る。これに加えて、製造プロセスのためにホスゲンなどの出発物質を必要とし、エステル交換法の場合高エネルギー消費を必要とする。

相界面法によるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共重合体の製造は文献に公知であり、例えば、米国特許第３，１８９，６６２号、米国特許第３，４１９，６３４号、独国特許出願公開第３３４７８２号（ＬｅＡ２２５９４）および欧州特許第０１２２５３５号に記載されている。

ビスフェノール、炭酸ジアリール、シラノール末端ポリシロキサンおよび触媒から溶融エステル交換法によるポリシロキサンカーボネートブロック共重合体の製造は、米国特許第５，２２７，４４９号に記載されている。このとき、シロキサン化合物として、シラノール末端基を有するポリジフェニルシロキサンまたはポリジメチルシロキサンテロマーが使用される。しかしながら、シラノール末端基を有するジフェニルシロキサンと対照的に、かかるシラノール末端基を有するジメチルシロキサンは、酸性または塩基性媒体において鎖長を減らしながら次第に自己縮合する傾向があり、その結果、得られた共重合体への取込みをこれにより困難にすることが知られている。このように精製された環式シロキサンはポリマー中に残留し、電気／電子分野の用途において極めて悪影響を及ぼす。

米国特許第５，５０４，１７７号には、カーボネート末端シロキサンと、ビスフェノールおよび炭酸ジアリールとから溶融エステル交換によるブロックコポリシロキサンカーボネートの製造が記載されている。ビスフェノールおよび炭酸ジアリールと、シロキサンの大きな不相溶性が理由で、溶融エステル交換法によるシロキサンのポリカーボネートマトリックス中への均一な組込みは、非常な困難を伴ってのみ達成することができるか、または全く達成することができない。さらに、モノマーから出発するブロック共縮合物の製造は非常に費用がかかる。

欧州特許第７７０６３６号には、特定の触媒を用いてビスフェノールＡおよび炭酸ジアリールから出発するブロックコポリシロキサンカーボネートの製造のための溶融エステル交換法が記載されている。この方法におけるデメリットは、モノマーから出発する共重合体の合成に費用がかかることである。

米国特許第５，３４４，９０８号には、二段階方法によるシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体の製造が記載されており、溶融エステル交換法により製造されたＯＨ末端ＢＰＡオリゴカーボネートを有機溶媒および酸掃去剤の存在下で塩素末端ポリ有機シロキサンと反応させる。かかる二段階方法も非常に費用がかかり、大規模工場において困難を伴ってのみ実施することになる。

これらの方法全てにおけるデメリットは、シリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体の合成の少なくとも１つの工程において有機溶媒を使用すること、または出発物質としてホスゲンを使用すること、または共縮合物の不満足な品質である。特に、モノマーから出発する共縮合物の合成は、相界面法および溶融エステル交換法の上記全ての両方において非常に費用がかかる。したがって、例えば、溶融法において、蒸発およびそれによるモノマー除去を防止するために、低真空かつ低温を使用しなければならない。より高分子質量のオリゴマーが生成された反応後期においてのみ、より低圧かつより高温を使用することができる。このことは、いくつかの段階にわたって反応を行わなければならず、したがって、反応時間は相応に長くなることを意味する。

上記デメリットを避けるために、シロキサンベースブロックコポリカーボネートの製造のための反応押出法も記載されている。例えば、これは、米国特許第５，４１４，０５４号および米国特許第５，８２１，３２１号に公表されている。ここでは、反応押出法において、従来のポリカーボネートを特定のポリジメチルシロキサンと反応させる。しかしながら、この方法におけるデメリットは、高価な特定にシリコーン成分を使用することである。さらに、この方法では、高度に効果的なエステル交換触媒を使用し、該触媒は押出機における短い滞留時間内での共縮合物の製造を可能とする。しかしながら、これらのエステル交換触媒は製品中に残留し、不充分にしか不活性化されないかまたは全く不活性化されないことがある。結果的に、このように製造された共縮合物から成形された射出体は、不満足なエージング挙動、特に、不満足な熱的エージング挙動を示す。したがって、得られたブロックコポリカーボネートは高品質用途に適さない。相界面法から得られたブロックコポリカーボネートと比較して、この製品は、エージング挙動および機械特性などの対応する特性を示さない。

独国特許出願公開第１９７１００８１号には、オリゴカーボネートおよび特定のヒドロキシアリールシロキサンから出発する溶融エステル交換法における前記共縮合物の製造方法が記載されている。オリゴカーボネートの製造は本願にも記載されている。しかしながら、比較的少量の特定の共縮合物の製造のためのオリゴカーボネートの大規模工業的製造は非常に費用がかかる。これらのオリゴカーボネートは比較的低分子量であり、比較的高いＯＨ末端基濃度を有する。これらの低鎖長が理由で、これらのオリゴカーボネートは、１０００ｐｐｍを超えるフェノール性ＯＨ濃度を有することが多い。かかる製品は通常市販しておらず、したがって、共縮合物製造用に特に製造しなければならないことになる。しかしながら、少量の前駆体製造の大規模な工場を運転することは経済的でない。さらに、例えば、残留溶媒、残留触媒、未反応モノマー、その他などの、これらの製品中に含有された不純物が理由で、かかる前駆体は、通常の市販高分子量ポリカーボネートベース製品より著しく反応性が高い。これらの理由のため、かかるブロック共縮合物製造に適している適切な前駆体または芳香族オリゴカーボネートは市販されていない。さらに、独国特許出願公開第１９７１００８１号に示された方法は、短い反応時間でのブロック共縮合物の製造を可能としない。オリゴカーボネートの製造およびブロック共縮合物の製造の両方は、全体的に１時間を著しく超える滞留時間で数段階にわたって行われる。さらに、ＯＨ末端基の高濃度および例えば触媒在留成分などの他の不純物が最終製品の色不良をもたらすので、得られた材料は共縮合物の製造に適していない。

ポリカーボネートおよびポリジメチルシロキサンから出発する溶融エステル交換法によるシロキサン含有共縮合物の製造における更なる問題は、反応混合物中の高濃度の反応物である。これと対照的に、溶液中で運転され、さらに、モノマー、すなわち、ビスフェノールから出発するので、相界面法における反応物濃度は低い。したがって、ビスフェノールは希釈溶液中でシロキサンブロックと縮合する。これにより、−オリゴカーボネートまたはポリカーボネートから出発する場合−溶融エステル交換法におけるドメインサイズは希釈溶液中で運転し、モノマーから出発する方法と比較して、著しく大きくなる。結果として、溶融エステル交換法で製造された対応する材料では、しばしば表面欠陥が生じる。これらの表面欠陥は高いドメインサイズの直接的結果である。

相界面法では、ドメインサイズは、通常、１００ｎｍ未満である。結果として、低ドメインサイズが理由で光散乱が起こり難いので、半透明または透明でさえある材料を得ることができる。

低ヘイズ値を有するシロキサン含有ブロック共縮合物の製造は基本的には公知である。国際公開第２００４／０１６６７４号では、相界面法においてオリゴカーボネートおよびシロキサンからプレ縮合物を製造してから、第二工程において、相界面法でビスフェノールと更なる縮合を行う。

相溶化剤などの添加剤によって、ブロック共縮合物中のシロキサンドメインのドメインサイズを小さくすることができることが基本的に知られている。しかしながら、溶融エステル交換において伴う高温および比較的長い滞留時間は適合しないので、例えば、記載の独国特許第１９５２３０００号に記載されているものなどの相界面活性物質の添加を本発明による方法で使用することはできない。ほとんど高温が理由で、他の相溶化剤は分解するか、または溶融安定性不良の製品をもたらすので、使用することができない。

米国特許出願公開第２００７／０２３８８４６号は、特に低分子量のシロキサンブロックから出発するヘイズフリー（haze-free）シロキサンブロック共縮合物を記載している。これらのブロック共縮合物も、相界面法で製造される。

溶融エステル交換法は、基本的に、希釈で処理することができず、反応物は常に非常に濃縮されて存在することがデメリットである。経験によれば、これは、０．１〜１０μｍのサイズのシロキサンドメインの生成をもたらす。

高ドメインサイズは加工特性に悪影響を及ぼす。大きなドメインの結果として、偏析が起こり得、これは、不均一な表面構造により現れ得、フローマークおよびストリーキングをもたらすことがたまにある。大きなドメインはせん断感受性であるので、かかる材料は射出成形で加工するのが難しく、その結果、非常に小さな加工枠（processing windows）のみ可能である。したがって、サイクル時間を短くするのでしばしば望ましくない非常に低い射出速度で加工する必要があることが時々ある。

溶融エステル交換法および特に所謂反応押出法では、基本的に、触媒が最終製品中に残留し、例えば射出成形などのその後の処理中の分子量低下（molecular weight degradation）をもたらし得る危険性がある。このことは、表面欠陥および概して加工特性不良により現れ得る。

したがって、記載されている従来技術から始まって、それ故、目的は小さなドメインサイズのシロキサン含有ブロック共縮合物を提供し、同時に高溶融安定性を有する方法を開発することにあった。方法では、相界面法に代わる方法を開発すべきであり、これにより、有用なより小さいドメインのブロック共縮合物を製造することができる。さらに、目的は、従来のポリカーボネートから出発して出来るだけ小さなシロキサンドメインを得る溶融エステル交換法の開発にあった。

結果として、ドメインサイズは、１６０ｎｍ未満、好ましくは１５０ｎｍ未満、特に好ましくは１３５ｎｍ以下のＤ９０値に達するべきである。１００ｎｍ未満の径を有する粒子の含有量は、シロキサンドメインの総数に対して好ましくは７４％超、特に好ましくは８０％超であるべきである。

驚くべきことに、芳香族置換基を含有するポリシロキサンもしくはポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物またはその混合物を反応溶融物に添加することにより、ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物のドメインサイズは低減し得る。驚くべきことに、上記方法では、高溶融安定性を有するＳｉＣｏＰＣを得た。

したがって、本発明の対象は、ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物の製造方法であって、
Ａ）少なくとも１つのポリカーボネートを、溶融状態で、(at least one polycarbonate is reacted in the melt with)
Ｂ）少なくとも１つのヒドロキシアリール末端ポリシロキサンと、
Ｃ）芳香族置換基含有シロキサン（成分Ｃ１）およびポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物Ａ）またはＡ）とも異なりうるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物（成分Ｃ２）からなる群からの少なくとも１つから選択される添加剤を用いて、
反応させる方法である。
好ましくは、この方法では、Ｃ）は、芳香族置換基含有シロキサン（成分Ｃ１）および少なくとも成分Ａ）とＢ）との反応から得られるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物または少なくとも成分Ａ）とＢ）との反応から得られた製品とも異なりうるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物（成分Ｃ２）からなる群からの少なくとも１つから選択される添加剤である。

本発明によれば、用語「添加剤」は、成分Ｃ）を添加の別工程段階において添加剤として添加すると理解される。これは、成分Ｃ２は、Ａ）とＢ）との反応により、および反応中にその場(in situ)で生成される実施態様は排除されることを意味する。本発明によれば、成分Ｃ）を添加する積極的な工程は必要である。好ましくは、本発明によれば、成分Ｃ）を成分Ａ）に、成分Ｂ）にならびに／または成分Ａ）およびＢ）の混合物に添加する工程を含んでなる方法を提供する。前述したように、この工程段階は積極的な工程であり、Ｃ）がＡ）とＢ）の反応によりｉｎ ｓｉｔｕで生成される場合を含まない。

好ましくは、本発明の方法が成分Ｃ）を成分Ａ）およびＢ）の混合物に添加する工程を含む場合、成分Ａ）およびＢ）はそれまで互いに反応していない。これは、好ましくは、成分Ｃ）を成分Ａ）およびＢ）の混合物に添加することは、方法の初期段階で行われることを意味する。好ましくは、成分Ａ）およびＢ）の混合物の生成直後にこの添加を行う。当業者は、成分Ｃ）の添加前に成分Ａ）およびＢ）の反応を本質的に避けることができる。例えば、成分Ｃ）の添加までに低真空および／または低温によりこれを行うことができる。これに関連して、好ましくは、用語「直ぐに」は、成分Ｂ）の存在下適切にまたは可塑化後直接的にポリカーボネート（成分Ａ））の溶融処理中に成分Ｃ）の添加を行うことを意味する。

ＳｉＣｏＰＣの製造を、溶融エステル交換法および反応押出法の両方で行うことができる。好ましくは、ポリカーボネートＡ）と、ヒドロキシアリール末端ポリシロキサンＢ）および添加剤Ｃ）とを、押出機の溶融状態または高粘度反応器中で反応させる。

溶融エステル交換法および反応押出法は、概して公知である（例えば、米国特許第５，２２７，４４９号、米国特許第５，５０４，１７７号および上記引用文献）。

押出機または溶融反応器は、一軸反応器、二軸反応器、遊星ローラー押出機またはリング押出機であり得る。さらに、高容量のポリマー混練機であり得る。反応器の組合せは、好ましくは、プレ反応器および高粘度反応器からなる。

方法は、好ましくは、例えば、有機酸金属塩もしくはアルコールまたは下記の触媒から好適に選択される触媒の存在下、好ましくは２８０℃〜４００℃、好ましくは３００℃〜３９０℃、より好ましくは３２０℃〜３８０℃（第二反応器、好ましくは高粘度反応器中に存在）、非常に特に好ましくは３０℃〜３７０℃の温度および０．００１ミリバール（ｍｂａｒ）〜５０ミリバール、好ましくは０．００５ミリバール〜４０ミリバール、特に好ましくは０．０２〜３０ミリバール、非常に特に好ましくは０．０３〜５ミリバール（第二反応器、好ましくは高粘度反応器中に存在）において運転する。プレ反応器として、一軸または二軸押出機、特に好ましくは二軸押出機を好ましく使用する。予備段階、いわゆるプレ反応器における処理温度（組成物温度）は、好ましくは２８０℃〜４００℃、好ましくは３００〜３８０℃および３００〜０．０１ミリバール、好ましくは２００〜０．１ミリバールである。

反応押出法は、少なくとも二段階の方法で好適に行われ、反応器の組合せは、二軸または一軸押出機および高粘度反応器から好ましくなり、生成された低分子量分解産物は真空下蒸発により除去される。二軸または一軸押出機では、ポリカーボネートの溶融が起こり、必要に応じてマスターバッチの形態でシリコーン成分および必要に応じた触媒などの更なる出発物質の混合を行う。さらに、ここで、成分の混合およびプレ反応を行う。それから、プレ生成物を高粘度反応器に供給し、熱エネルギーおよび機械エネルギーの同時導入により真空下完全に反応させて重縮合製品を得る。揮発性の低分子量分解産物および他の低分子量成分を、プレ反応器後のプレ反応器（一軸または二軸押出機）中および／または高粘度反応器中の両方において取り除くことができる。好ましい実施態様では、低分子量成分を、プレ反応器中真空下で既に取り除いている。特に好ましくは、２つの真空段階でこれを行い、第一真空段階は好ましくは１０〜８００ミリバールの絶対圧、特に好ましく５０〜５００ミリバールの絶対圧において運転し、第二真空段階は好ましくは０．１〜１００ミリバールの絶対圧、特に好ましくは０．５〜５０ミリバールの絶対圧において運転する。高粘度反応器における反応も真空下で行う。真空は、０．００１ミリバール〜５０ミリバール、好ましくは０．００５ミリバール〜４０ミリバール、特に好ましくは０．０２〜３０ミリバール、非常に特に好ましくは０．０３〜５ミリバールの絶対圧である。

本発明によれば、高粘度反応器として、良好な混合で充分な滞留時間を提供し、溶融物を本発明により必要な真空に暴露する高粘度組成物の処理に適しているデバイスを使用する。特許文献には、これらの要件を本質的に満たし、本発明により使用することができる多くのデバイスが記載されている。例えば、欧州特許第４６０４６６号、欧州特許第５２８２１０号、欧州特許第６３８３５４号、欧州特許第７１５８８１号、欧州特許第７１５８８２号、欧州特許第７９８０９３号による反応器を使用することができ、または欧州特許出願公開第３２９０９２号、欧州特許第５１７０６８号、欧州特許第１４３６０７３号もしくは国際公開第２００２／１１１４号によるものならびに欧州特許第２２２５９９号によるものを使用することができる。

好ましくは、欧州特許第４６０４６６号による、運動学的に自己洗浄し、同方向に回転する２つ以上の平行軸からなり、この上に軸方向に変位し、必須ではないが円形であり、その周辺に分布されたストリッパーを備えた円板、および取り囲んでいるハウジングを備えた反応器を使用する。この反応器／混合機は、ストリッパーの全表面は運動学的に洗浄されており、特に、混合機を通って放射断面に同速度で軸が回転して、一軸のストリッパーの全内向き面は、ハウジングにより清潔にされている場合、回転中心に対して同心円状であるが、さもなければ、湾曲半径と近似した軸距離を有し、凸面であり、隣接する軸またはそのストリッパーにより洗浄され、特に混合機を通って放射断面に同速度で軸が回転して、一軸のストリッパーの全内向き面は湾曲半径と近似した軸距離を有し、別の隣接軸のストリッパーにより洗浄されていることを特徴とする。より良好な混合のため、溶融物は更なる混合エレメントを避けて通ることができる。例えば、静的ミキサーをプレ反応器および高粘度反応器の間で使用することができる。

高粘度反応器から完全に反応した共縮合物を排出するために、一軸スクリュー、二軸スクリューまたはギアポンプを使用する。必要に応じて、添加剤および／または混合物をさらに添加し配合する。混合物の配合を、排出ユニットまたは下流静的ミキサー内で行うことができる。溶融物を１つ以上のノズルにより形づくり、従来技術による造粒機器でばらばらにする。

本発明による方法により、対応するブロック共縮合物を短い反応時間で得ることができる。これに関連して、短い反応時間は、シロキサン成分を組み込んだ目標粘度までの溶融出発ポリカーボネートの製造に要する時間を意味する。反応時間は、好ましくは１時間未満、特に好ましくは５０分未満、非常に特に好ましくは４０分未満である。特に好ましい実施態様では、反応時間は３０分未満、特に好ましくは２０分未満である。

好ましくは、本発明により使用しようとするポリカーボネートおよび本発明により使用しようとするシロキサンを、触媒を用いて反応させる。基本的に明らかに、触媒なしの反応を行うこともできるが、必要に応じてより高温およびより長い滞留時間を考慮に入れなければならない。

本発明による方法のため、好適な触媒は、例えば、
水酸化テトラメチルアンモニウム、
酢酸テトラメチルアンモニウム、
フッ化テトラメチルアンモニウム、
テトラフェニルボロン酸テトラメチルアンモニウム、
水酸化ジメチルジフェニルアンモニウム、
水酸化テトラエチルアンモニウム、
テトラフェニルボロン酸セチルトリメチルアンモニウムおよび
セチルトリメチルアンモニウムフェノラートなどの
アンモニウム触媒である。

式（Ｋ)：
［式中、Ｒａ、Ｒｂ、ＡｒｃおよびＲｄは、同じでも異なっていてもよいＣ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ６〜Ｃ１４アリール、Ｃ７〜Ｃ１５アリールアルキルまたはＣ５〜Ｃ６シクロアルキルであり得、好ましくはメチルまたはＣ６〜Ｃ１４アリール、特に好ましくはメチルまたはフェニルであり、Ｘ−は、水酸化、硫酸、硫酸水素、炭酸水素、炭酸またはハロゲン化物などのイオンであり得、好ましくは塩化物またはアルキレートまたは式−ＯＲ［式中、ＲはＣ６〜Ｃ１４アリール、Ｃ７〜Ｃ１５アリールアルキルもしくはＣ５〜Ｃ６シクロアルキルであり得る］のアリーレート、好ましくはフェニルである］
のホスホニウム触媒が特に好適である。

特に好ましい触媒は、塩化テトラフェニルホスホニウム、水酸化テトラフェニルホスホニウムおよびテトラフェニルホスホニウムフェノレートを表し；テトラフェニルホスホニウムフェノレートが非常に特に好ましい。

触媒を、好ましくは、組成物全体に対して、０．０００１〜１．０重量％、好ましくは０．００１〜０．５重量％、特に好ましくは０．００５〜０．３重量％、非常に特に好ましくは０．０１〜０．１５重量％である。

触媒を単独で用いてもよく、触媒混合物として用いてもよく、物質または、例えば、水溶液またはフェノール溶液として（例えば、フェノールを含む固溶体として）添加することができる。

本発明による方法に適した触媒は前述したものであり、このいずれかを適切なポリカーボネート、特に上記、または上記と別のまたは付加的にさらに添加されたポリカーボネートを含むマスターバッチによって反応に導入することができる。

触媒を単独で用いてもよく、混合物として用いてもよく、物質または、例えば、水溶液またはフェノール溶液として添加することができる。

好ましくは、触媒を、純粋な形態で、混合物として、またはマスターバッチで、好ましくは二軸押出機のプレ反応器に添加する。

成分Ａ）
本発明の意味でポリカーボネートは、ホモポリカーボネートおよびコポリカーボネートの両方、ならびにポリカーボネートの混合物である。ポリカーボネートは、公知の方法で、直鎖または分岐鎖であり得る。ポリカーボネートの製造を、溶融エステル交換法または相界面法による公知の方法で行うことができる。

本発明によるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物の製造のため、１６，０００〜２８，０００ｇ／モル（ｍｏｌ）、特に好ましくは１７，０００〜２７，０００ｇ／モル、特に好ましくは１８，０００〜２６，５００ｇ／モル（ＢＰＡ標準により測定）の分子量を有するポリカーボネートを好ましく使用する。これらのポリカーボネートは、好ましくは、２５０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍ、好ましくは３００〜９００、特に好ましくは３５０〜８００ｐｐｍのフェノール性ＯＨ基の含有量を有する。

好ましくは、本発明によるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物の製造のため、８，０００〜２８，０００ｇ／モル、特に好ましくは１０，０００〜２７，０００ｇ／モル、特に好ましくは１２，０００〜２６，５００ｇ／モルの分子量を有するポリカーボネートを好ましく使用する。これらのポリカーボネートは、好ましくは、２５０ｐｐｍ〜２５００ｐｐｍ、好ましくは５００〜２０００、特に好ましくは１０００〜１８００ｐｐｍのフェノール性ＯＨ基の含有量を有する。

本発明において示されたこれらの分子量ならびに全ての他の分子量を、どんな時にも依頼することができるＣｕｒｒｅｎｔａ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＯＨＧの方法Ｎｏ．２３０１−０２５７５０２−０９Ｄに従って決定する。

ポリカーボネートの製造用の好ましいジフェノール類は、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）フェニルエタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，３−ビス−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン（ビスフェノールＭ）、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，３−ビス−［２−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンおよび１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンである。

特に好ましいジフェノール類は、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ＢＰＡ）、ヒドロキノン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンおよび２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンである。

特に、ビスフェノール系ポリカーボネートを使用する。非常に特に好ましくは、これらのポリカーボネートは末端基としてフェノールを含有する。溶融エステル交換法により製造されたポリカーボネートも、本発明によるブロック共縮合物の製造に特に適している。

反応押出法をブロック共縮合物の製造に使用する場合、好ましい実施態様では、特定の転位構造を含有するポリカーボネートを使用する。この実施態様で使用しようとするポリカーボネートは、次の構造（４）〜（７）のうち少なくとも１つ、好ましくはいくつかを含有する：
［式中、フェノール環は、互いに独立して、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、ハロゲン、好ましくはＣ１〜Ｃ４アルキル、特に好ましくはメチルによる一置換または二置換であり得、Ｘは、一重結合、Ｃ１〜Ｃ６アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５アルキリデンまたはＣ５〜Ｃ６シクロアルキリデン、好ましくは一重結合またはＣ１〜Ｃ４アルキレン、特に好ましくはイソプロピリデンを表し、合計で構造単位（４）〜（７）の含有量（加水分解後に決定）は、概して、５０〜１０００ｐｐｍの範囲、好ましくは８０〜８５０ｐｐｍの範囲である。］

さらに、末端基としてフェノールを有するポリカーボネート（フェニル末端ポリカーボネート）が好ましい。ｔｅｒｔ−ブチルフェノールおよびクミルフェノールは更なる可能性のある末端基である。

転位構造の含有量を決定するために、特定のポリカーボネートに対して全けん化を付し、このようにして式（４ａ）〜（７ａ）の対応する分解生成物を生成し、この含有量をＨＰＬＣにより決定する（例えば、次の通り行うことができる：ポリカーボネート試料を還流下ナトリウムメトキシドでけん化する。対応する溶液を酸性化し、濃縮乾固する。乾燥残渣をアセトニトリルに溶解し、式（１ａ）〜（４ａ）フェノール性化合物を、ＵＶ検出を備えたＨＰＬＣにより決定する）：

このように遊離した式（４ａ）の化合物の含有量は、好ましくは２０〜８００ｐｐｍ、特に好ましくは２５〜７００ｐｐｍ、特に好ましくは３０〜５００ｐｐｍである。

このように遊離した式（５ａ）の化合物の含有量は、好ましくは０（すなわち、検出限界１０ｐｐｍ未満）〜１００ｐｐｍ、特に好ましくは０〜８０ｐｐｍ、特に好ましくは０〜５０ｐｐｍである。

このように遊離した式（６ａ）の化合物の含有量は、好ましくは０（すなわち、検出限界１０ｐｐｍ未満）〜８００ｐｐｍ、より好ましくは１０〜７００ｐｐｍ、特に好ましくは２０〜６００ｐｐｍ、非常に特に好ましくは３０〜３５０ｐｐｍである。

好ましくは、このように遊離した式（７ａ）の化合物の含有量は、好ましくは０（すなわち、検出限界１０ｐｐｍ未満）〜３００ｐｐｍ、好ましくは５〜２５０ｐｐｍ、特に好ましくは１０〜２００ｐｐｍである。

前述の転位構造を含有するこのようなポリカーボネートの製造は、例えば、独国特許出願公開第１０２００８０１９５０３号に記載されている。

成分Ｂ）
成分Ｂは、好ましくは、式（１）のヒドロキシアリール末端（ポリ）シロキサンである：

一般式（１）では、Ｒ^５は、水素またはＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシを表し、好ましくは水素またはメチルもしくはメトキシ、特に好ましくは水素を表す。

Ｒ^６およびＲ^７は、互いに独立して、アリールを表し、好ましくはフェニル、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、好ましくはメチルを表し、特にメチルを表す。

Ｙは、一重結合、−ＣＯ−、−Ｏ−、Ｃ_１〜Ｃ_５アルキレン、Ｃ_２〜Ｃ_５アルキリデンまたはＣ_１〜Ｃ_４アルキルにより一置換もしくは多置換されていてもよいＣ_５〜Ｃ_６シクロアルキリデン残基を表し、好ましくは一重結合、−Ｏ−、イソプロピリデンまたはＣ_１〜Ｃ_４アルキルにより一置換もしくは多置換されていてもよいＣ_５〜Ｃ_６シクロアルキリデン残基を表し、特にイソプロピリデンを表す。

Ｖは、酸素、Ｃ１〜Ｃ６アルキレンまたはＣ２〜Ｃ５アルキリデンを表し、好ましくは酸素、Ｃ３アルキリデンを表し、特に酸素を表す。

Ｗは、一重結合、酸素、Ｃ１〜Ｃ６アルキレンまたはＣ２〜Ｃ５アルキリデンを表し、好ましくは一重結合、酸素、Ｃ３アルキレンまたはイソプロピリデンを表し、ｑが１の場合Ｗは一重結合ではなく、ｑが０の場合Ｗは酸素ではない。

ｐおよびｑは、互いに独立して、各々、０または１を表す。

ｏは、１０〜４００、好ましくは１０〜１００、特に好ましくは１５〜５０の反復単位の平均数を表す。

ｍは、１〜１０、好ましくは１〜６、特に好ましくは１．５〜５の反復単位の平均数を表す。

特に好ましいのは、式（２）および（３）のシロキサンである：
［式中、Ｒ１は、水素、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルを表し、好ましくは水素またはメチルを表し、特に好ましくは水素を表し、
Ｒ２は、互いに独立して、アリールまたはアルキルを表し、好ましくはメチルを表し、
Ｘは、一重結合、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−Ｓ−、Ｃ１〜Ｃ６アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５アルキリデンまたはヘテロ原子を含有する更なる芳香環と縮合してもよい(can optionally be condensed with)Ｃ６〜Ｃ１２アリーレンを表し、
Ｘは、好ましくは、一重結合、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５アルキリデン、Ｃ５〜Ｃ１２シクロアルキリデン、−Ｏ−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−を表し、Ｘは、特に好ましくは一重結合、イソプロピリデン、Ｃ５〜Ｃ１２シクロアルキリデンまたは酸素を表し、非常に特に好ましくはイソプロピリデンを表し、
ｎは、１０〜４００、好ましくは１０〜１００、特に好ましくは１０〜５０の平均数を意味し、
ｍは、１〜１０、好ましくは１〜６、特に好ましくは１．５〜５の平均数を表す。］

シロキサン成分の分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーおよび標準としてＢＰＡ（ビスフェノールＡ）−ポリカーボネートを用いて決定した、好ましくは３，０００〜２０，０００ｇ／モルを表し、特に好ましくは３５００〜１５，０００ｇ／モルを表す。

式（１）〜（３）のシロキサンの製造は、例えば、独国特許出願公開第３３３４７８２（Ａ１）号および独国特許出願公開第１９７１００８１号に記載されている。

式（１）、（２）または（３）のシロキサン成分を、各々、成分Ａ）およびＢ）に対して、０．５〜５０重量％、好ましくは１〜４０重量％、特に好ましくは２〜２０重量％、非常に特に好ましくは２．５〜１０重量％の量で使用する。

シロキサンブロックの製造は、基本的に公知であり、これらを例えば米国特許第８，９１２，２９０号に記載されている方法により製造することができる。

シロキサン成分Ｂは、加えて、０．０２〜５．０ミリモル（ｍｍｏｌ）／ｋｇの国際公開第２０１５／０５２２２９号による共触媒を含んでなり得る。共触媒として、３〜７（２５℃）の範囲内のｐＫＡ値を好適に有する有機酸の有機塩または無機塩が好ましい。

好適な酸としては、カルボン酸、好ましくは酢酸、プロピオン酸、オレイン酸、ステアリン酸、ラウリン酸および安息香酸などのＣ２〜Ｃ２２カルボン酸、一有機もしくは二有機リン酸エステル（mono- or diorgaao phosphoric acid esters）などのポリカルボン酸の部分エステル、２，２−ジメチルプロピオン酸、２，２−ジメチルブタン酸および２，２−ジメチルペンタン酸などの分岐鎖脂肪族カルボン酸が挙げられる。有用な有機塩および無気塩は、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、オレイン酸ナトリウム、オレイン酸リチウム、オレイン酸カリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、ビスフェノールＡの二ナトリウム塩、二カリウム塩および二リチウム塩であるか、またはから誘導される。さらに、塩としては、酢酸カルシウム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロンチウムおよびそれぞれのオレイン酸塩を挙げることができる。これらの塩を、単独で用いてもよく、組合せて用いてもよい。

好ましい有機塩または無機塩は、アルカリ金属塩（好ましくはナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩）、アルカリ土類金属塩（好ましくはマグネシウム塩、カルシウム塩）、第四級アンモニウム塩（好ましくはテトラ（ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラフェニルアンモニウム、テトラベンジルアンモニウム、セチルトリメチルアンモニウム）および第四級ホスホニウム塩（好ましくはテトラ（ｎ−ブチル）ホスホニウム、テトラフェニルホスホニウム、テトラベンジルホスホニウム、セチルトリメチルホスホニウム）からなる群から選択される。最も好ましいのは、アルカリ金属塩および第四級ホスホニウム塩であり、好ましくは、３０個以下の炭素原子を好適に有するカルボン酸のいずれもの場合の塩である。

さらに好ましい実施態様では、有機塩または無機塩は、３〜７、好ましくは３〜６、より好ましくは３．５〜５．５（２５℃、溶媒として水）のｐＫＡを有する弱酸の塩からなる群から選択される。ｐＫＡは、国際公開第２０１５／０５２２２９号に定義されている。

成分Ｃ）
好ましくは、本発明によれば、成分Ｃ）は、芳香族置換基含有シロキサン（成分Ｃ１）ならびに少なくとも成分Ａ）およびＢ）の反応から得られたポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物または少なくとも成分Ａ）およびＢ）の反応から得られた製品と異なり得るポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物（成分Ｃ２）からなる群からの少なくとも１つから選択される。成分Ｃ２）に関連して述べられる成分Ａ）およびＢ）は、上記の成分Ａ）およびＢ）から選択されることが好ましい。

好ましい成分Ｃ１は、構成要素(building block)として構造（８）を有する芳香族基を含む直鎖シロキサンまたは構造（９）を有する環状シロキサンである：
［式中、Ｒは、互いに独立して、非置換または一〜四つのＣ１〜Ｃ４アルキルで置換されたアリール(singly to quadruply C1 to C4 alkyl-substituted aryl)を表し、好ましくは非置換または一〜三つのメチルで置換されたフェニル(singly to triply methyl-substituted phenyl)を表す］；
構造（９）：
［式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに独立して、アリールおよび／またはアルキル、好ましくは互いに独立して、フェニルまたはメチルを表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、いずれの場合も少なくとも１つ、好ましくはいずれの場合も２つのアリールまたは好ましくはフェニルを表し、式（９）のｎは、１〜１０、好ましくは１〜５の整数を表し、特に好ましくは１または２を表す］。特に好ましくは、オクタフェニルシクロテトラシロキサンである。

成分Ｃ２として、好ましくは上記ポリカーボネートおよびポリシロキサンビルディングブロックから構築されるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物は可能である。これらは、本発明による方法または溶融エステル交換法、相界面法または反応押出法などの一般的に公知の方法により製造することができる。ビスフェノールＡおよびポリジメチルシロキサンを含有するポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物または式（８）および／または式（９）のポリシロキサンとのブロック共縮合物の組合せが特に好ましい。

ブロック共縮合物は、特に、ポリシロキサンブロックとして式（１）、（２）または（３）のポリシロキサンならびに好ましい末端基としてフェノールを有するビスフェノールＡをベースとするポリカーボネートを含有する。

さらに、成分Ｃ２、すなわち、ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物は、次の構造エレメントを含有する：
シロキサン含有ブロック共縮合物は、次の構造単位を有するブロック共縮合物に関する：
式中、Ｒ１は、二価置換もしくは非置換芳香族残基、二価直鎖もしくは環式脂肪族残基を表し、
または構造単位（Ｉ）は、ビルディングブロックの混合物を表し、Ｒ１は、二価置換もしくは非置換芳香族残基、またはＲ１は二価直鎖もしくは環式脂肪族残基である］。芳香族Ｒ１残基の含有量は、式（ＩＩＩ）のジフェノール類の合計に対して、重量％を用いて、６０〜１００重量％であり、脂肪族残基の含有量は、０〜４０重量％であり、
ならびに構造単位（ＩＩ）：
［式中、Ｒ２は、互いに独立して、直鎖もしくは分岐鎖脂肪族残基、好ましくはＣ１〜Ｃ１２アルキル、特に好ましくはＣ１〜Ｃ４アルキル、特にメチル、または置換もしくは非置換芳香族残基、好ましくはフェニルである］。

非常に特に好ましい構造単位（ＩＩ）は、ジメチルシロキサン、またはジフェニルシロキサン、メチル／フェニルシロキサンまたはジメチルシロキサンとジフェニルシロキサン単位の混合物である。

構造単位（１）では、Ｒ１は、好ましくは、式（ＩＩＩ）に対応するジヒドロキシアリール化合物から誘導される：
［式中、
Ｚは、１つ以上の芳香族核を含有し得る６〜３０個のＣ原子を有する芳香族残基を表し、置換されていてもよく、脂肪族残基もしくはアルキルアリールまたは架橋員としてヘテロ原子を含有してもよい］。

好ましくは、式（ＩＩＩ）のＺは、式（ＩＩＩａ）の残基である：
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、互いに独立して、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ１〜Ｃ１８アルコキシ、ＣｌもしくはＢｒなどのハロゲンを表し、またはいずれの場合にも、置換されていてもよいアリールもしくはアラルキル、好ましくは互いに独立して、ＨもしくはＣ１〜Ｃ１２アルキル、特に好ましくはＨもしくはＣ１〜Ｃ８アルキル、非常に特に好ましくは互いに独立してＨもしくはメチルを表し、ならびに
Ｘは、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、Ｃ１〜Ｃ６アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５アルキリデン、Ｃ６〜Ｃ１０シクロアルキリデンまたはヘテロ原子を含有する更なる芳香環と縮合してもよいＣ６〜Ｃ１２アリーレンを表す］。

好ましくは、Ｘは、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５アルキリデン、Ｃ６〜Ｃ９シクロヘキシリデン、−Ｏ−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、特に好ましくはイソプロピリデン、３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデンまたは酸素、特にイソプロピリデンを表す。

本発明によるＳｉＣｏＰＣの製造に適した式（ＩＩＩ）のジフェノール類は、例えば、ヒドロキノン、レゾルシノール、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン類、ビス（ヒドロキシフェニル）スルフィド類、ビス（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（ヒドロキシフェニル）ケトン類、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホン類、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホキシド類、α，α’−ビス（ヒドロキシフェニル）ジイソプロピルベンゼン類、ならびにそのアルキル化、環アルキル化および環ハロゲン化化合物である。

式（ＩＩＩ）の更なる好ましいジフェノール類は、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）フェニルエタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，３−ビス−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン（ビスフェノールＭ）、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，３−ビス−［２−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンおよび１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンである。

式（ＩＩＩ）の特に好ましいジフェノール類は、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ＢＰＡ）、ヒドロキノン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンおよび２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンである。

これらおよび更なる適したジフェノール類は市販されており、例えば、「H. Schnell, Chemistry and Physics of Polycarbonates, Interscience Publishers, New York 1964, p. 28 ff; p. 102 ff.」および「D. G. Legrand, J. T. Bendler, Handbook of Polycarbonates Science and Technology, Marcel Dekker New York 2000, p. 72 ff.」に記載されている。

１つの実施態様では、シロキサンブロックは、次の構造（ＩＶ）を有し得る：

［式中、Ｒ２は、前述の意味を有し、
ｎは、１０〜４００、好ましくは１０〜１００、特に好ましくは１５〜５０の平均数を表し、
ｋは１であるか、またはｅが０と異なる場合、ｋは０を表す。。
Ｒ３は、互いに独立して、次の構造エレメント（Ｖ）または（ＶＩ）を含んでなる：
［式中、Ｒ４は、互いに独立して、水素、ハロゲンであり、および／または各Ｃ１〜Ｃ１０は、好ましくはＣ１〜Ｃ４直鎖もしくは分岐鎖、不飽和もしくは一置換〜四置換アルキル残基もしくはアルコキシ残基であり、好ましくは該アルキルおよびアルコキシ残基は、好ましくは不飽和であり、特に好ましくは、Ｒ４は水素であり、
ｅは０または２〜１２、好ましくは２〜６の整数であり、ｅが０と等しい場合、ｋは１と等しい］、
または式（ＶＩ）の構造エレメント：
［式中、Ｒ６、Ｒ７およびＸは式（ＩＩＩａ）で指定した意味を有する］］。

例えばおよび好ましくは、前記シロキサンブロックは次の構造を含有することができる：

［式中、式（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）のａは、１０〜４００、好ましくは１０〜１００、特に好ましくは１５〜５０の平均数を表す］。

更なる実施態様では、前述のシロキサンブロックは、テレフタル酸またはイソフタル酸により一重結合または多重結合して例として示された次の構造エレメントを得ることができる：
（ＩＸ）
［式中、ｐは、０または１を表し、
Ｒ２、Ｒ３、ｎおよびｋは、構造エレメント（ＩＶ）で上記指定された意味を有する］。

ポリカーボネートとの反応またはホスゲンもしくはジアリールカーボネートを用いて式（ＩＩＩ）もしくは式（ＩＩＩａ）から誘導されるジフェノール類との反応のためのシロキサンブロックに対応して、各々はフェノール性ＯＨ基を有する、すなわち、

（ＩＸａ）
［式中、Ｒ２、Ｒ３、ｎ、ｋおよびｐは、構造エレメント（ＩＸ）で指定された意味を有する］。

本発明の好ましい実施態様では、成分Ｃ）は、少なくとも成分Ａ）およびＢ）の反応から得られたポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物または少なくとも成分Ａ）およびＢ）の反応から得られた製品と異なり得るポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物（成分Ｃ２）からなる群からの少なくとも１つである。この特定の実施態様では、成分Ｃ）が芳香族置換基を含有するシロキサン（成分Ｃ１）を付加的に含んでなることはさらに好ましい。成分Ｃ２）およびＣ１）は、好ましくは、上記これらの成分の種類から選択される。

本発明による方法は、上記全て、成分Ｃ）を、組成物全体（成分Ａ〜Ｃの合計）に対して、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％、特に好ましくは０．２〜８重量％で反応溶融物に添加することを特徴とする。上記のように、本発明によれば、この添加は、積極的な工程を必要とし、成分Ｃ２）が成分Ａ）およびＢ）の反応によりｉｎ ｓｉｔｕで生成する場合を含まない。これは、成分Ｃ）の指定された重量％は成分Ｃ）に対して単独で算出されることを意味する。成分Ｃ）の添加後に、成分Ａ）およびＢ）の進行中の反応のために、Ｃ）の濃度全体がより高いまたはより高くなることを意味しない。好ましくは、方法は、成分Ｃ）を、成分Ａ）へ、成分Ｂ）へならびに／または成分Ａ）およびＢ）の混合物へ添加する工程を含み、成分Ｃ）を、組成物全体（成分Ａ〜Ｃの合計）に対して、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％、特に好ましくは０．２〜８重量％で反応溶融物に添加する。

いつでも、方法のいかなる点においても添加を行うことができる。好ましくは、初期の時点において反応混合物へ成分Ｃ）を添加する。特に好ましくは、成分Ｂ）の添加前に成分Ｃ）を添加する。成分Ｃ）を、例えば、反応開始時にポリカーボネートと一緒に溶融または反応押出中にポリカーボネートと一緒に可塑化することができる。成分Ｃ）は、本発明により得られたシロキサン含有ブロック共縮合物であり得る。反応押出では、製造されたブロック共縮合物の一部を、可塑化ユニット、すなわち、プレ反応器中に戻すことができる。したがって、製品流の一部はプレ反応器または主反応器中に連続的に戻される。

ここで、成分Ｃ）は、直接またはマスターバッチの形態で導入され得る。成分Ｃ）を、例えば、触媒−例えば、構造（Ｋ）に対応する触媒などの他の成分と混合することができる。マスターバッチの基材として、例えば、ポリカーボネートは可能性があり、特に成分Ａ）に従ったポリカーボネートは言及される。

添加剤および／またはフィラーおよび強化材を、本発明による方法により得ることができるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物へ、０．０重量％〜５．０重量％、好ましくは０．０１重量％〜１．００重量％の量で添加することができる。可能性ある添加剤は、難燃剤、ＵＶ安定剤、ガンマ安定剤、帯電防止剤、蛍光増白剤、流動性向上剤、熱安定剤、無機顔料、離型剤および加工助剤の群からの少なくとも１つから選択される。

添加剤は、例えば、欧州特許出願公開第０８３９６２３号、国際公開第９６／１５１０２号、欧州特許出願公開第０５００４９６号または「Plastics Additives Handbook」, Hans Zweifel, 5th Edition 2000, Hanser Verlag, Munichに記載されているものなど通常のポリマー添加剤である。

これらの添加剤を、単独またはいずれかの混合物もしくはいくつかの異なる混合物でポリマー溶融物へ添加することができる。添加剤を、純粋な物質としてポリマー単離中に直接（例えば、サイド押出機などのサイドシステムにより）、またはマスターバッチの形態で、さもなければ、いわゆるコンパウンディング工程においてポリカーボネート粒体の溶融後に、ポリカーボネート中に導入することができる。この場合、添加剤またはその混合物を、粉末である固形物として、または溶融物として、ポリマー溶融物へ添加することができる。別の種類の投与は、添加剤もしくは添加剤混合物のマスターバッチまたはマスターバッチ混合物の使用である。

好ましい実施態様では、ポリマー組成物は、熱安定剤または加工安定剤を含有する。ホスフィットならびにホスホニトおよびホスフィンが好ましく好適である。例としては、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリスリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−クミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリスリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホニト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”−ニトリロ−［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジｙｌ）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスホリナン、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフィット、トリフェニルホスフィン（ＴＰＰ）、トリアルキルフェニルホスフィン、ビスジフェニルホスフィノエタンまたはトリナフチルホスフィンである。特に好ましくは、トリフェニルホスフィン（ＴＰＰ）、Ｉｒｇａｆｏｓ（登録商標）１６８（トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）ホスフィット）およびトリス（ノニルフェニル）ホスフィットまたはこれらの混合物を使用する。

さらに、アルキル化モノフェノール類、アルキル化チオアルキルフェノール類、ヒドロキノン類およびアルキル化ヒドロキノン類を使用することができる。特に好ましくは、Ｉｒｇａｎｏｘ（登録商標）１０１０（ペンタエリスリトール３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）プロピオネート；ＣＡＳ：６６８３−１９−８）およびＩｒｇａｎｏｘ１０７６（登録商標）（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（オクタデカノキシカルボニルエチル）フェノール）を使用する。

適したＵＶ吸収剤は、例えば、欧州特許出願公開第１３０８０８４（Ａ１）号、独国特許出願公開第１０２００７０１１０６９（Ａ１）号および独国特許出願公開第１０３１１０６３（Ａ１）号に記載されている。

特に適した紫外線吸収剤は、２−（３’，５’−ビス−（１，１−ジメチル−ベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール （Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）２３４、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ、バーゼル）、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（ｔｅｒｔ．−オクチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール（Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３２９、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ、バーゼル）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（２−ブチル）−５’−（ｔｅｒｔ．ブチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール（Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３５０、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ、バーゼル）、ビス−（３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾリル）−２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．−オクチル）メタン、（Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３６０、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ、バーゼル）、（２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（ヘキシルオキシ）フェノール（Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１５７７、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ、バーゼル）などのヒドロキシベンゾトリアゾール類、ならびにベンゾフェノン類：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）２２、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ、バーゼル）および２−ヒドロキシ−４−（オクチルオキシ）ベンゾフェノン（Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）８１、Ｃｉｂａ、バーゼル）、２−プロペン酸、２−シアノ−３，３−ジフェニル−、２，２−ビス［［（２−シアノ−１−オキソ−３，３−ジフェニル−２−プロペニル）オキシ］−メチル］−１，３−プロパンジイルエステル（９ＣＩ）（Ｕｖｉｎｕｌ（登録商標）３０３０、ＢＡＳＦ ＡＧ、ルートヴィヒスハーフェン）、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＧＸ ＵＶＡ ００６、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ、バーゼル）またはテトラエチル−２，２’−（１，４−フェニレン−ジメチリデン）ビスマロネート（Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｂ−Ｃａｐ、Ｃｌａｒｉａｎｔ ＡＧ）である。

これらの紫外線吸収剤の混合物も使用することができる。

本発明によるポリマー組成物は、必要に応じて、離型剤を含有することができる。本発明による組成物のために特に適した離型剤は、ペンタエリスリトールテトラステアレート（ＰＥＴＳ）またはグリセリンモノステアレート（ＧＭＳ）である。

さらに、例えば、ポリエステルカーボネート、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ＰＥＴ−シクロヘキサンジメタノール共重合体（ＰＥＴＧ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などの芳香族ポリエステル、環状ポリオレフィン、例えば、ポリまたはコポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡなど）などのポリまたはコポリアクリレートおよびポリまたはコポリメタクリレート、例えば、ポリスチレン−アクリロニトリル（ＰＳＡＮ）などのスチレンとの共重合体、熱可塑性ポリウレタン類、および環状オレフィンベースの重合体（例えば、ＴＯＰＡＳ（登録商標）、Ｔｉｃｏｎａからの市販製品）などの他のポリマーを、本発明により得ることができるブロック共縮合物と配合することもできる。

好ましくは、本発明によれば、
５０．０〜０．５重量％の成分Ａ）によるポリカーボネート(polycarbonate according to component A))を、
Ａ）およびＢ）の含有量に対して、０．５〜５０．０重量％の成分Ｂ）によるヒドロキシアリール末端ポリシロキサンと使用する、
方法を提供する。

より好ましくは、本発明によれば、Ａ）およびＢ）の含有量に対して、
９８．０〜８０．０重量％の成分Ａ）によるポリカーボネートを、
２．０〜２０．０重量％の成分Ｂ）によるヒドロキシアリール末端ポリシロキサンと使用する、
方法を提供する。

本発明の別の面では、少なくとも１つのポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物および少なくとも１つの芳香族置換基含有シロキサン（成分Ｃ１）を含んでなる組成物を提供する。好ましくは、少なくとも１つのポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物を、本発明による成分Ａ）とＢ）との反応により生成する。好ましくは、この組成物を、本発明の方法により得る。本発明のいくつかの実施態様では、組成物は、少なくとも成分Ａ）とＢ）との反応から得られた製品とは異なる少なくとも１つのポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物をさらに含んでなることができる。

本発明の更なる面では、化合物の使用であって、前記ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物の製造方法において、ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物中のシロキサンドメインの粒径分布を小さくする(reducing)ための、芳香族置換基含有シロキサン（成分Ｃ１）およびポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物（成分Ｃ２）からなる群からの少なくとも１つから選択される、使用を提供する。本発明によれば、Ｃ１）ならびに／またはＣ２）、好ましくはＣ２）またはＣ２）およびＣ１）の混合物などの化合物は、ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物中のシロキサンドメインの粒径に影響を及ぼすことができることを、驚くべきことに見出した。したがって、Ｃ１）ならびに／またはＣ２）、好ましくはＣ２）またはＣ２）およびＣ１）の混合物として化合物は、ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物の加工特性によい影響を与える。

本発明による方法により得ることができるブロック共縮合物を、熱可塑性ポリカーボネートのために公知な方法で成形品に加工することができる。

これに関連して、本発明による組成物を、例えば、ホットプレス成形、スピニング成形、ブロー成形、ディープドローイング、押出成形または射出成形により、製品、成形体または成形物体（成形品として纏められる）に変換することができる。多層径におけるこれらの使用も興味深い。本発明により得ることができる組成物の適用を、例えば、多成分射出成形において、または共押出層のための基材として使用することができる。しかしながら、例えば、薄膜の積層または溶液の塗布により、成形ベース体上に適用することもできる。

ベース層および必要に応じて被覆層／必要に応じて被覆層（多層系）から形成されたプレートおよび成形体を、（共）押出、直接スキニング（direct skinning）、直接コーティング、インサート成形、フィルムバック成形または当業者に公知の他の適切な方法により製造することができる。

本発明による方法により得ることができるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物は、例えば、大きな自動車外装部品および屋外用スイッチボックス、プレート、中空チャンバープレート、電気および電子装置ならびに光学メモリーの製造用など、公知の芳香族ポリカーボネートを今まで用いていたところどこでも、ならびに、加えて、改良された離型挙動と一緒に良好な流動性および低温における良好な高靱性および改良された薬品耐性を必要とするところどこでも利用可能である。したがって、ブロック共縮合物を、コンピュータハウジングおよびマルチメディアハウジング、携帯電話カバーなどのＩＴ分野および洗濯機または食器洗い機などの家庭分野、およびスポーツ分野、例えば、ヘルメット用材料で使用することができる。

以下に、本発明を実施例に基づいてより詳細に説明し、本明細書に記載されている決定方法を、それと反対のものは記載されないという条件で、本発明における全ての対応する量について使用する。

ＭＶＲ
特に指定されない限り、メルトボリュームレート（ＭＶＲ）の決定を、他の条件は記載されないという条件で、ＩＳＯ１１３３（２０１１年）（３００℃；１．２ｋｇ）に従って行う。

溶液粘度
溶液粘度の決定：相対溶液粘度（ηｒｅｌ；イータｒｅｌとも言う）を、ウベローデ粘度を用いて、２５℃において５ｇ／ｌの濃度でジクロロメタン中で決定した。

原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によるシロキサンドメインサイズの評価
シロキサンドメインサイズおよび分布を、原子間力顕微鏡により決定した。このために、関連試料（実験室システム中の溶融ケーキまたは押出システム中の粒体の形態で）を、ウルトラミクロトームを用いて低温（窒素冷却）において切り出した。Ｂｒｕｋｅｒ Ｄ３１００ ＡＦＭ顕微鏡を使用する。ＡＦＭ画像を、室温（２５℃、相対湿度３０％）で記録した。測定のため、「Ｓｏｆｔ Ｉｎｔｅｒｍｉｔｔｅｎｔ Ｃｏｎｔａｃｔ Ｍｏｄｅ」または「Ｔａｐｐｉｎｇ Ｍｏｄｅ」を使用した。試料を走査するため、２．８Ｎｍ^−１のバネ定数および約７５ｋＨｚの共鳴周波数の「Ｔａｐｐｉｎｇ Ｍｏｄｅ Ｃａｎｔｉｌｅｖｅｒ」（Ｎａｎｏｗｏｒｌｄ社ポイントプローブ）を使用した。タッピング力を、目標振幅および固有振動振幅（空気中の固有振動に対するプローブチップの振幅）の比により制御する。サンプリング速度を１Ｈｚに設定した。表面形状を記録するために、位相差およびトポグラフィー画像を、２．５μｍ×２．５μｍの領域に対して記録した。粒子またはシロキサンドメインをオリンパスＳＩＳ画像評価ソフトウェア（Ｏｌｙｍｐｕｓ Ｓｏｆｔ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ ＧｍｂＨ、独国ミュンスター市４８１４９）によって、明暗コントラスト（位相差画像から）により自動的に評価した。粒子の径を、対応する等面積円の径により決定した。

いくつかの位相差画像（２００超の粒子数）を上記の通りに評価する。個々の径を画像ソフトウェアおよび生成された径分布により分類する。個々のＤ値への割当てをこれで行う。Ｄ値から、指定値未満の粒子のパーセンテージを得る。Ｄ９０値がｘの場合、粒子の９０％はｘより小さい。さらに、１００ｍｍより小さい粒子のパーセンテージを分布から決定する。

出発物質
成分Ａ：ポリカーボネート
ＰＣ１：反応押出のための出発物質として、３００℃および１．２ｋｇ負荷で測定された（ＩＳＯ１０３３に従って）５９〜６２ｃｍ^３／１０分メルトボリュームレートを有するＣｏｖｅｓｔｒｏ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＡＧからのフェノールベースの基を有する直鎖ビスフェノールＡポリカーボネートを使用する。このポリカーボネートは、ＵＶ安定剤、離型剤または熱安定剤などの添加剤を含有しない。ポリカーボネートの製造を、独国特許出願公開第１０２００８０１９５０３号に記載されている溶融エステル交換法により行った。ポリカーボネートは、約６００ｐｐｍのフェノール性末端基の含有量を有する。

成分Ｂ：シロキサン
シロキサン−１：
２６．２ｍｇＫＯＨ／ｇのヒドロキシ含有量および３６６ｍＰａ・ｓ（２３℃）の粘度を有し、ｎが約２０、ｍが３〜４の範囲（Ｒ^１＝Ｈ、Ｒ^２；Ｘ＝イソプロピリデン）である、式３のビスフェノールＡ末端ポリジメチルシロキサン；ナトリウム含有量は２．９ｐｐｍである。

シロキサン−２：
２０．８ｍｇＫＯＨ／ｇのヒドロキシ含有量および１９１ｍＰａ・ｓ（２３℃）の粘度を有し、ｎが約２０、ｍが３〜４の範囲、式（２）（Ｒ^１＝Ｈ、Ｒ^２）である、ヒドロキノン末端ポリジメチルシロキサン；ナトリウム含有量は４．９ｐｐｍである。

シロキサン−３：
２２．２ｍｇＫＯＨ／ｇのヒドロキシ含有量および１７５ｍＰａ・ｓ（２３℃）の粘度を有し、ｎが約２０、ｍが３〜４の範囲、式（２）（Ｒ^１＝Ｈ、Ｒ^２）である、ヒドロキノン末端ポリジメチルシロキサン；ナトリウム含有量は約３ｐｐｍである。

シロキサンの製造は、例えば、米国特許第８，９１２，２９０号に記載されている。

触媒マスターバッチ（シロキサン系添加成分を含まず）：
触媒として、Ｒｈｅｉｎ Ｃｈｅｍｉｅ Ｒｈｅｉｎａｕ ＧｍｂＨ（独国マンハイム市）からのテトラフェニルホスホニウムフェノレートを、マスターバッチの形態で使用する。テトラフェニルホスホニウムフェノレートを、フェノールを含む固溶体として使用し、約７０％のテトラフェニルホスホニウムフェノレートを含有する。次の量は、Ｒｈｅｉｎ Ｃｈｅｍｉｅ社から得られた物質に関する（フェノールを含む固溶体として）。

マスターバッチを、０．２５％混合物として製造する。このために、４９８２ｇのポリカーボネートＰＣ１を、ドラムフープミキサー中で３０分間１８ｇのテトラフェニルホスホニウムフェノレートとタンブルする。マスターバッチを１：１０の比で導入した結果、ポリカーボネートの全量中、触媒は０．０２５重量％の含有量で存在する。

成分Ｃ：
成分Ｃ２−１：
式（２）に従った上記構造をベースとするポリシロキサンを含有するポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物

成分Ｃ２−１の製造：
実験セットアップの流れ図は、図１で見ることができる。

図１は、シロキサン含有ブロック共縮合物の製造流れ図を示す。ポリカーボネート（成分Ａ））および触媒マスターバッチ（下記参照）を重量式定量供給（４）および（５）により二軸押出機（１）に計量投入する。押出機（Ｌｅｉｓｔｒｉｔｚ Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎｓｔｅｃｈｎｉｋ ＧｍｂＨ、ニュルンベルク、のタイプＺＳＥ ２７ ＭＡＸＸ）は、蒸気除去のための真空ゾーンを備えた二軸同方向回転押出機である。押出機は、１１のハウジング部（ａ〜ｋ）からなる−図１参照。ハウジング部ａでは、ポリカーボネートおよび触媒マスターバッチの添加を行い、ハウジングｂおよびｃでは、これらの成分を溶融する。ハウジング部ｄでは、液状シロキサン成分（成分Ｂ）の添加を行う。ハウジング部ｅおよびｆは、液状シロキサン成分（成分Ｂ）の混合を行う。ハウジング部ｇ、ｈ、ｉおよびｊは、共縮合物製品を取出すためにガス抜き開口部を備える。ハウジング部ｇおよびｈは、第一真空段階に割当てられ、ハウジング部ｉおよびｊは第二に割当てられる。第一真空段階における真空は、２５０〜５００ミリバールの絶対圧であった。第二真空段階の真空は、１ミリバール未満である。シロキサン（成分Ｂ）をタンク（６）内に貯え、定量ポンプ（７）により押出機に供給する。２つの真空ポンプ（８）により、真空にする。蒸気を押出機から追い出し、２つの冷却器（９）でトラップする。このように脱気された溶融物は、二軸押出機のハウジング部ｋから高粘度反応器（２）へパイプにより送られる。

高粘度反応器（２）は、水平に配置された２つの同方向回転ローターおよび平行軸を備えた自己洗浄機器である。欧州特許出願公開第０４６０４６６号に構造が記載されている、その中の図７参照。使用された機械は、長さ９２４ｍｍ、ローター径１８７ｍｍを有する。反応器の全内容積は、４４．６リットルの容積を有する。高粘度反応器を、真空ポンプ（８）および冷却器（９）とも連結する。高粘度反応器に存在する真空は、０．１〜５ミリバールである。反応完了後、ブロック共縮合物を排出スクリューにより排出してから造粒する（水浴（１０）および造粒装置（１１）により）。

ブロック共縮合物を、次の処理パラメーターで製造した：
ポリカーボネートとして、ポリカーボネートＰＣ−１を上記のように使用した。シロキサンとして、シロキサン−３を使用した。ポリカーボネート成分の供給速度は６２ｋｇ／時であり、シロキサン成分の供給速度は３．１ｋｇ／時である。押出機温度は３５０℃であり、高粘度反応器内の温度は３５０℃である。溶液粘度１．３０６の乳白色粒体を得る。

方法は、国際公開第２０１５／０５２１１０号により詳細に記載されている。

構造（９）による成分Ｃ１：
ＡＢＣＲ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ（独国カールスルーエ）のオクタフェニルシクロテトラシロキサン（ＣＡＳ：５４６−５６−５）、９５％。

構造（ＩＸ）による構造エレメントを含有する成分Ｃ２−２：
約９％のポリシロキサンを含有し、Ｓａｍｙａｎｇ Ｃｏｒｐ．の商品名Ｔｒｉｒｅｘ ＳＴ６−３０２２ＰＪであるシロキサン含有ブロック共縮合物；ビスフェノールＡ系ポリカーボネートおよび構造（ＩＸ）によるシロキサンを含有するブロック共縮合物。

実施例１（比較例；成分Ｃなしの方法）
４２．５ｇのポリカーボネート粒体（ＰＣ−１；８５重量％）、２．５ｇのシロキサン−１（５重量％）および５ｇ（１０重量％）の触媒マスターバッチを撹拌機および分子蒸留分離器を備えた２５０ｍｌガラス製フラスコ内に計量投入する。装置を真空にし、窒素でフラッシュ（毎回３回）する。３５０℃に前加熱された金属浴により１０分以内で真空下、混合物を溶融する。装置内の圧は約１．５ミリバールである。反応混合物を、撹拌しながら３０分間この真空下で保持する。それから、系を窒素でフラッシュし、ポリマー溶融物を取出す。乳白色ポリマーを得る。製品の溶液粘度は、ηｒｅｌ＝１．４３９である。

実施例２（本発明による実施例；成分Ｃ）を用いた方法
３７．５ｇのポリカーボネート粒体（ＰＣ−１；７５重量％）、２．５ｇのシロキサン−１（５重量％）、５ｇ（１０重量％）の触媒マスターバッチおよび５ｇ（１０重量％）の成分Ｃ２−１を撹拌機および分子蒸留分離器を備えた２５０ｍｌガラス製フラスコ内に計量投入する。装置を真空にし、窒素でフラッシュ（毎回３回）する。３５０℃に前加熱された金属浴により１０分以内で真空下、混合物を溶融する。装置内の圧は約１．５ミリバールである。反応混合物を、撹拌しながら３０分間この真空下で保持する。それから、系を窒素でフラッシュし、ポリマー溶融物を取出す。乳白色ポリマーを得る。製品の溶液粘度は、ηｒｅｌ＝１．４７０である。

表１に記載のシロキサンドメインの粒径分布は、シロキサン系添加成分を使用する場合、顕著な優位性を示す。１００ｎｍ未満の径を有する粒子の含有量はより高いほど、Ｄ９０値は著しく低くなる。さらに、実施例２におけるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物の積極的な添加は、実施例１におけるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物のｉｎ ｓｉｔｕでの生成より好ましい粒子分布をもたらすことが分かる。

実施例３（比較例；成分Ｃなし）
４２．５ｇのポリカーボネート粒体（ＰＣ−１；８５重量％）、および５ｇ（１０重量％）の触媒マスターバッチを撹拌機および分子蒸留分離器を備えた２５０ｍｌガラス製フラスコ内に計量投入する。装置を真空にし、窒素でフラッシュ（毎回３回）する。３５０℃に前加熱された金属浴により５０ミリバールにおいて１０分以内で、混合物を溶融する。溶融を完了後、系を通気して、２．５ｇのシロキサン−２（５重量％）を、窒素を通しながらこれに添加する。装置を再び５０ミリバールまで排気し、反応混合物を、２分間撹拌速度を大きく増速して混合する。それから、装置内の圧を約１．５ミリバールまで下げて、反応混合物の粘度増大に応じて撹拌速度を減ずる。反応混合物を、撹拌しながら２０分間この真空下で保持する。それから、系を窒素でフラッシュし、ポリマー溶融物を取出す。乳白色ポリマーを得る。製品の溶液粘度は、ηｒｅｌ＝１．３３５である。

実施例4（本発明による実施例；成分Ｃ１および成分Ｃ２−１を用いる）
３７．５ｇのポリカーボネート粒体（ＰＣ−１；７５重量％）、および５ｇ（１０重量％）の触媒マスターバッチならびに５ｇの成分Ｃ２−１（１０重量％）および０．１０５ｇの成分Ｃ１（０．２重量％）を撹拌機および分子蒸留分離器を備えた２５０ｍｌガラス製フラスコ内に計量投入する。装置を真空にし、窒素でフラッシュ（毎回３回）する。３５０℃に前加熱された金属浴により５０ミリバールにおいて１０分以内で、混合物を溶融する。溶融を完了後、系を通気して、２．５ｇのシロキサン−２（５重量％）を、窒素を通しながらこれに添加する。装置を再び５０ミリバールまで排気し、反応混合物を、２分間撹拌速度を大きく増速して混合する。それから、装置内の圧を約１．５ミリバールまで下げて、反応混合物の粘度増大に応じて撹拌速度を減ずる。反応混合物を、撹拌しながら２０分間この真空下で保持する。それから、系を窒素でフラッシュし、ポリマー溶融物を取出す。乳白色ポリマーを得る。製品の溶液粘度は、ηｒｅｌ＝１．５４０である。

実施例５（本発明による実施例；成分Ｃ２−２を用いた方法
３７．５ｇのポリカーボネート粒体（ＰＣ−１；７５重量％）、５ｇの成分Ｃ２−２（１０重量％）および５ｇ（１０重量％）の触媒マスターバッチを撹拌機および分子蒸留分離器を備えた２５０ｍｌガラス製フラスコ内に計量投入する。装置を真空にし、窒素でフラッシュ（毎回３回）する。３５０℃に前加熱された金属浴により５０ミリバールにおいて１０分以内で、混合物を溶融する。溶融を完了後、系を通気して、２．５ｇのシロキサン−２（５重量％）を、窒素を通しながらこれに添加する。装置を再び５０ミリバールまで排気し、反応混合物を、２分間撹拌速度を大きく増速して混合する。それから、装置内の圧を約１．５ミリバールまで下げて、反応混合物の粘度増大に応じて撹拌速度を減ずる。反応混合物を、撹拌しながら２０分間この真空下で保持する。それから、系を窒素でフラッシュし、ポリマー溶融物を取出す。乳白色ポリマーを得る。製品の溶液粘度は、ηｒｅｌ＝１．４３２である。

選択された実験条件下、成分Ｃを含有する処方物は、小さなシロキサンドメインを著しくより高い含有量を有することが、表２で分かる。したがって、これらの処方物のＤ９０値は、比較処方物と比較して低い。

実施例６（比較例；成分Ｃなしの方法）
基本的に、「成分Ｃ２−１の製造」に記載されている通りに実験を行う。これと対照的に、成分Bシロキサン−３を使用し、これを押出機に計量投入する。処理パラメーターは変更しなかった。溶液粘度１．３０６の乳白色粒体を得る。

実施例７（本発明による実施例、成分Ｃ１および成分Ｃ２−１）
基本的に、「シロキサン系追加成分−１の製造」に記載されている通りに実験を行う。これと対照的に、成分Bシロキサン−３を使用し、これを押出機に計量投入する。ポリカーボネート成分の供給速度は６０ｋｇ／時であり、成分Bの供給速度は３．０ｋｇ／時である。成分Ｃ（すなわち、Ｃ１およびＣ２−１、下記参照）およびテトラフェニルホスホニウムフェノレートを含有するマスターバッチの供給速度は、３ｋｇ／時である。押出機温度は３５０℃であり、高粘度反応器内の温度は３５０℃である。溶液粘度１．３１２の乳白色粒体を得る。

成分Ｃを含有するマスターバッチの組成：
８０％の成分Ｃ２−１
１．７％の成分Ｃ１
０．２５％のテトラフェニルホスホニウムフェノレート（成分Ｃ４）
１８．０５％のＰＣ−１（成分Ｃ３）

本発明による組成物の実施例７における溶融粘度は、比較例６と比較して著しく高い。当業者は、溶融安定性は追加の成分のせいで低下すると予想するので、このことは驚くべきことであった。

本発明による実施例７において、＜１００ｎｍの径を有する粒子の含有量が比較例６と比較して著しく高いことは、表４で分かる。Ｄ９０値も有意に低い。

Claims (15)

1. ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物の製造方法であって、
   Ａ）少なくとも１つのポリカーボネートを、溶融状態で、
   Ｂ）少なくとも１つのヒドロキシアリール末端ポリシロキサンと
   Ｃ）芳香族置換基含有シロキサン（成分Ｃ１）、ならびに少なくとも成分Ａ）およびＢ）の反応から得られるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物または前記少なくとも成分Ａ）およびＢ）の反応から得られる製品とも異なりうるポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物（成分Ｃ２）からなる群からの少なくとも１つから選択される添加剤を用いて、
   反応させる、方法。
2. 前記方法が、成分Ｃ）を成分Ａ）に、成分Ｂ）に、ならびに／または成分Ａ）およびＢ）の混合物に添加する工程を含む、請求項１に記載の方法。
3. 成分Ｂ）が式（１）のヒドロキシアリール末端（ポリ）シロキサンである、請求項１または２に記載の方法：
   ［式中、
   Ｒ^５は、水素またはＣ１〜Ｃ４アルキルを表し、好ましくは水素またはメチルを表し、
   Ｒ^６およびＲ^７は、互いに独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキルを表し、好ましくはメチルを表し、
   Ｙは、一重結合、−ＣＯ−、−Ｏ−、Ｃ_１〜Ｃ_５アルキレン、Ｃ_２〜Ｃ_５アルキリデンまたはＣ_１〜Ｃ_４アルキルにより一置換もしくは多置換されていてもよいＣ_５〜Ｃ_６シクロアルキリデン残基を表し、好ましくは一重結合、−Ｏ−、イソプロピリデンまたはＣ_１〜Ｃ_４アルキルにより一置換もしくは多置換されていてもよいＣ_５〜Ｃ_６シクロアルキリデン残基を表し、
   Ｖは、酸素、Ｃ１〜Ｃ６アルキレンまたはＣ２〜Ｃ５アルキリデンを表し、好ましくは酸素、Ｃ３アルキリデンを表し、特に酸素を表し、
   Ｗは、一重結合、酸素、Ｃ１〜Ｃ６アルキレンまたはＣ２〜Ｃ５アルキリデンを表し、好ましくは一重結合、酸素、Ｃ３アルキレンまたはイソプロピリデンを表し、ｑが１の場合Ｗは一重結合ではなく、ｑが０の場合Ｗは酸素ではなく、
   ｐおよびｑは、互いに独立して、各々、０または１を表し、
   ｏは、１０〜４００、好ましくは１０〜１００の反復単位の平均数を表し、および
   ｍは、１〜６、好ましくは２〜５の反復単位の平均数を表す］。
4. 成分Ｂ）が式（２）または（３）のヒドロキシアリール末端（ポリ）シロキサンである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法：
   ［式中、Ｒ１は、水素、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｃ１〜Ｃ４アルキルを表し、好ましくは水素またはメチルを表し、
   Ｒ２は、独立して、アリールまたはアルキルを表し、好ましくはメチルを表し、
   Ｘは、一重結合、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５アルキリデン、Ｃ５〜Ｃ１２シクロアルキリデン、−Ｏ−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−を表し、好ましくは一重結合、イソプロピリデン、Ｃ５〜Ｃ１２シクロアルキリデンまたは酸素を表し、非常に特に好ましくはイソプロピリデンを表し、
   ｎは、１０〜１５０の数を表し、および
   ｍは、１〜１０の数を表す］。
5. 成分Ｃ）が、構成要素としての、構造（８）を有する芳香族基を有する直鎖シロキサンまたは式（９）を有する環式シロキサンである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法：
   構造（８）：
   ［式中、Ｒは、互いに独立して、非置換または一〜四つのＣ１〜Ｃ４アルキルで置換されたアリールを表し、好ましくは非置換または一〜三つのメチルで置換されたフェニルを表す］、
   構造（９）
   ［式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに独立して、アリールおよびアルキルからなる群から選択される少なくとも１つの残基を表し、好ましくは互いに独立して、フェニルまたはメチルを表し、およびｎは、１〜１０の整数を表し、好ましくは１〜５の整数を表す］。
6. 前記シロキサンブロックが次の構造から誘導される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法であって、
   例えばおよび好ましくは、前記シロキサンブロックは次の構造を含有しうる、方法：
   ［式中、ｐは、１〜５を表し、
   Ｒ２は、独立して、アリールまたはアルキルを表し、
   ｎは、１０〜１５０の平均数を表し、
   ｍは、１〜１０の数を表し、および
   Ｒ３は、互いに独立して、次の構造を含んでなる：
   ［式中、Ｒ４は、互いに独立して、水素、ハロゲンおよび／またはいずれの場合でもＣ１〜Ｃ１０アルキルを表し、ｅは、２〜１２の整数を表す］］。
7. 成分Ｃが、
   ０．５〜９９．９重量部の成分Ｃ１および／またはＣ２
   成分Ｃ３として、０．１〜９９．５重量部のポリカーボネート、ならびに
   成分Ｃ４として、０〜１重量部のホスホニウム触媒、
   を含有するマスターバッチである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
8. 成分Ｃ）を、組成物全体（成分Ａ〜Ｃの合計）に対して、０．０１〜２０重量％の量で反応溶融物に添加する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
9. 成分Ｃ）を、組成物全体（成分Ａ〜Ｃの合計）に対して、０．１〜１０重量％の量で反応溶融物に添加する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
10. 成分Ｃ）を、組成物全体（成分Ａ〜Ｃの合計）に対して、０．２〜８重量％の量で反応溶融物に添加する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
11. 成分Ｃ）を、成分Ｂ）の添加前に成分Ａ）に添加する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
12. 反応開始時に、成分Ｃ）をポリカーボネートと共に溶融するか、または反応押出の場合に成分Ａ）のポリカーボネートと共に可塑化する、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
13. ５０．０〜０．５重量％の成分Ａ）によるポリカーボネートと、
    Ａ）およびＢ）の含有量に対して、０．５〜５０．０重量％の成分Ｂ）によるヒドロキシアリール末端ポリシロキサンと
    を使用する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
14. 少なくとも１つのポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物および少なくとも１つの芳香族置換基含有シロキサン（成分Ｃ１）を含んでなる組成物。
15. 前記ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物の製造方法において、ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物中のシロキサンドメインの粒径分布を小さくするための、芳香族置換基含有シロキサン（成分Ｃ１）およびポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物（成分Ｃ２）からなる群からの少なくとも１つから選択される化合物の使用。