JP2020157577A - Laminate and display device - Google Patents
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Abstract
【課題】コーティング層において、屈曲によるクラックの発生が抑制された積層体及びそれを備えた表示装置を提供する。【解決手段】第1保護層と、第1粘着剤層と、介在コーティング層と、第2粘着剤層と、第2保護層とをこの順に備える積層体であって、各層は互いに接しており、前記第1粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率をG’1〔kPa〕とし、前記第2粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率をG’2〔kPa〕とし、前記第1粘着剤層の厚みをa1〔μm〕とし、前記第2粘着剤層の厚みをa2〔μm〕としたときに、下記式(1)及び式(2):A1=G’1/a1 (1)A2=G’2/a2 (2)で表される評価パラメータA1及びA2は、下記式(3)及び式(4):A1+A2≦230 (3)A2−A1≧0 (4)を満たす、積層体。【選択図】なしPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated body in which the generation of cracks due to bending is suppressed in a coating layer, and a display device including the same. SOLUTION: The laminate includes a first protective layer, a first pressure-sensitive adhesive layer, an intervening coating layer, a second pressure-sensitive adhesive layer, and a second protective layer in this order, and the layers are in contact with each other. The storage elastic modulus of the first pressure-sensitive adhesive layer at a temperature of 25 ° C. is G'1 [kPa], and the storage elastic modulus of the second pressure-sensitive adhesive layer at a temperature of 25 ° C. is G'2 [kPa]. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is a1 [μm] and the thickness of the second pressure-sensitive adhesive layer is a2 [μm], the following formulas (1) and (2): A1 = G'1 / a1 (1) ) The evaluation parameters A1 and A2 represented by A2 = G'2 / a2 (2) satisfy the following equations (3) and (4): A1 + A2≤230 (3) A2-A1≥0 (4). Laminated body. [Selection diagram] None
Description
本発明は、積層体及び表示装置に関する。 The present invention relates to a laminate and a display device.
特開2018−101117号公報(特許文献1)には、偏光板上に第一粘着シートを介して透明フィルム基材が貼り合わされ、透明フィルム基材上に第二粘着シートを介して前面透明部材が貼り合わされた画像表示装置が開示されている。特開2018−028573号公報(特許文献2)には、複数の粘着剤層と、偏光膜を含む光学フィルムとを含む画像表示装置用積層体が開示されている。 In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-101117 (Patent Document 1), a transparent film base material is bonded onto a polarizing plate via a first pressure-sensitive adhesive sheet, and a front transparent member is placed on the transparent film base material via a second pressure-sensitive adhesive sheet. The image display device to which the above is attached is disclosed. Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-028573 (Patent Document 2) discloses a laminate for an image display device including a plurality of pressure-sensitive adhesive layers and an optical film containing a polarizing film.
積層体においては、薄型化及び軽量化を実現するために、薄膜コーティングによって積層体を構成する層を形成する方法が採用されている。しかしながら、コーティング層を含む積層体を屈曲した際に、コーティング層にクラックが発生しやすいという問題があった。 In the laminated body, a method of forming a layer constituting the laminated body by a thin film coating is adopted in order to realize thinning and weight reduction. However, there is a problem that cracks are likely to occur in the coating layer when the laminate including the coating layer is bent.
本発明は、コーティング層において、屈曲によるクラックの発生が抑制された積層体及びそれを備えた表示装置を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a laminated body in which the generation of cracks due to bending is suppressed in the coating layer and a display device including the same.
本発明は、以下に示す積層体及び表示装置を提供する。
[1] 第1保護層と、第1粘着剤層と、介在コーティング層と、第2粘着剤層と、第2保護層とをこの順に備える積層体であって、
各層は互いに接しており、
前記第1粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率をG’1〔kPa〕とし、前記第2粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率をG’2〔kPa〕とし、前記第1粘着剤層の厚みをa1〔μm〕とし、前記第2粘着剤層の厚みをa2〔μm〕としたときに、下記式(1)及び式(2):
A1=G’1/a1 (1)
A2=G’2/a2 (2)
で表される評価パラメータA1及びA2は、下記式(3)及び式(4):
A1+A2≦230 (3)
A2−A1≧0 (4)
を満たす、積層体。
[2] 前記第1保護層は、引張弾性率が4.0GPa以上であるウィンドウフィルムを含む、[1]に記載の積層体。
[3] 前記第2保護層は、引張弾性率が4.0GPa以上である背面板を含む、[1]又は[2]に記載の積層体。
[4] 前記介在コーティング層は1層以上からなり、各層の厚みは5μm以下である、[1]〜[3]のいずれかに記載の積層体。
[5] 前記介在コーティング層は、偏光子層、位相差層又はタッチセンサパネルを含む、[1]〜[4]のいずれかに記載の積層体。
[6] 前記G’1及び前記G’2は、それぞれ10000kPa以下である、[1]〜[5]のいずれかに記載の積層体。
[7] [1]〜[6]のいずれかに記載の積層体を備える表示装置。
The present invention provides the following laminates and display devices.
[1] A laminate comprising a first protective layer, a first pressure-sensitive adhesive layer, an intervening coating layer, a second pressure-sensitive adhesive layer, and a second protective layer in this order.
Each layer is in contact with each other
The storage elastic modulus of the first pressure-sensitive adhesive layer at a temperature of 25 ° C. is G'1 [kPa], and the storage elastic modulus of the second pressure-sensitive adhesive layer at a temperature of 25 ° C. is G'2 [kPa]. When the thickness of the agent layer is a1 [μm] and the thickness of the second pressure-sensitive adhesive layer is a2 [μm], the following formulas (1) and (2):
A1 = G'1 / a1 (1)
A2 = G'2 / a2 (2)
The evaluation parameters A1 and A2 represented by the following equations (3) and (4):
A1 + A2 ≤ 230 (3)
A2-A1 ≧ 0 (4)
A laminate that meets the requirements.
[2] The laminate according to [1], wherein the first protective layer contains a window film having a tensile elastic modulus of 4.0 GPa or more.
[3] The laminate according to [1] or [2], wherein the second protective layer includes a back plate having a tensile elastic modulus of 4.0 GPa or more.
[4] The laminate according to any one of [1] to [3], wherein the intervening coating layer is composed of one or more layers, and the thickness of each layer is 5 μm or less.
[5] The laminate according to any one of [1] to [4], wherein the intervening coating layer includes a polarizer layer, a retardation layer, or a touch sensor panel.
[6] The laminate according to any one of [1] to [5], wherein G'1 and G'2 are each 10,000 kPa or less.
[7] A display device including the laminate according to any one of [1] to [6].
本発明によれば、コーティング層において、屈曲によるクラックの発生が抑制された積層体及びそれを備えた表示装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a laminated body in which the occurrence of cracks due to bending is suppressed in the coating layer and a display device including the same.
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
<積層体>
図1に本発明の一態様に係る積層体(光学積層体)の概略断面図を示す。積層体100は、第1保護層10と、第1粘着剤層11と、介在コーティング層12と、第2粘着剤層13と、第2保護層14とをこの順に含む。各層は互いに接している。以下、第1粘着剤層11及び第2粘着剤層13を総称して粘着剤層ということがある。
<Laminated body>
FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a laminate (optical laminate) according to one aspect of the present invention. The
積層体100の厚みは、積層体に求められる機能及び積層体の用途等に応じて異なるため特に限定されないが、例えば50μm以上4000μm以下であり、好ましくは100μm以上2000μm以下であり、より好ましく150μm以上1000μm以下である。
The thickness of the laminated
積層体100の平面視形状は、例えば方形形状であってよく、好ましくは長辺と短辺とを有する方形形状であり、より好ましくは長方形である。積層体100の面方向の形状が長方形である場合、長辺の長さは、例えば10mm以上1400mm以下であってよく、好ましくは50mm以上600mm以下である。短辺の長さは、例えば5mm以上800mm以下であり、好ましくは30mm以上500mm以下であり、より好ましくは50mm以上300mm以下である。積層体を構成する各層は、角部がR加工されたり、端部が切り欠き加工されたり、穴あき加工されたりしていてもよい。
The plan view shape of the laminated
積層体100は、例えば表示装置等に用いることができる。表示装置は特に限定されず、例えば有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置、無機エレクトロルミネッセンス(無機EL)表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等が挙げられる。表示装置はタッチパネル機能を有していてよい。
The laminated
[粘着剤層の評価パラメータ]
積層体100において、第1粘着剤層11の温度25℃における貯蔵弾性率をG’1〔kPa〕とし、第2粘着剤層13の温度25℃における貯蔵弾性率をG’2〔kPa〕とし、第1粘着剤層11の厚みをa1〔μm〕とし、第2粘着剤層13の厚みをa2〔μm〕としたときに、下記式(1)及び式(2):
A1=G’1/a1 (1)
A2=G’2/a2 (2)
で表される評価パラメータA1及びA2は、下記式(3)及び式(4):
A1+A2≦230 (3)
A2−A1≧0 (4)
を満たす。粘着剤層の貯蔵弾性率、及び層の厚みは後述の実施例の欄に記載の測定方法に従って測定される。
[Evaluation parameters of adhesive layer]
In the
A1 = G'1 / a1 (1)
A2 = G'2 / a2 (2)
The evaluation parameters A1 and A2 represented by the following equations (3) and (4):
A1 + A2 ≤ 230 (3)
A2-A1 ≧ 0 (4)
Meet. The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer and the thickness of the layer are measured according to the measuring method described in the column of Examples described later.
積層体100は、好ましくは下記式(3’):
A1+A2≦130 (3’)
を満たす。
The
A1 + A2 ≤ 130 (3')
Meet.
積層体100は、好ましくは下記式(4’):
A2−A1≧100 (4’)
を満たす。
The
A2-A1 ≧ 100 (4')
Meet.
このような積層体100は、第1保護層10を内側にして屈曲させても介在コーティング層12にクラックが発生しにくく、すなわち屈曲性に優れる。コーティング層を含む積層体は、繰り返し屈曲すると、コーティング層中にクラックが発生する場合がある。積層体100において、第1粘着剤層11及び第2粘着剤層13の評価パラメータA1及びA2はそれぞれ、貯蔵弾性率が高くなるほど大きくなり、層の厚みが薄くなるほど大きくなる。すなわち、A1及びA2は大きいほど粘着剤層は硬くなり、A1及びA2は小さいほど粘着剤層が柔らかくなる傾向にある。本発明者らは、積層体を屈曲させた際に、屈曲軸を基準にして、硬い粘着剤層の外側にコーティング層が隣接していると、コーティング層の引張応力が増加し、クラックが発生しやすくなることを見出した。反対に、積層体を屈曲させた際に、屈曲軸を基準にして、硬い粘着剤層の内側にコーティング層が隣接していると、コーティング層の引張応力が低下し、クラックが発生しにくくなることを見出した。従って、第1粘着剤層11及び第2粘着剤層13が上記式(3)及び式(4)を満たす場合、その間に挟まれた介在コーティング層12は、引張応力が上がりにくく、第1保護層を内側に繰り返し屈曲しても、クラックの発生が抑制されることがわかった。
In such a laminated
本明細書において、屈曲には、曲げ部分に曲面が形成される折り曲げの形態が含まれる。折曲げの形態において、折り曲げた内面の曲率半径は特に限定されない。また、屈曲には、内面の屈折角が0度より大きく180度未満である屈折の形態、及び、内面の曲率半径がゼロに近似、又は内面の屈折角が0度である折り畳みの形態も含む。 As used herein, bending includes a form of bending in which a curved surface is formed at a bent portion. In the form of bending, the radius of curvature of the bent inner surface is not particularly limited. Bending also includes a form of refraction in which the refraction angle of the inner surface is greater than 0 degrees and less than 180 degrees, and a form of folding in which the radius of curvature of the inner surface is close to zero or the refraction angle of the inner surface is 0 degrees. ..
本発明に係る積層体によれば、後述する実施例の欄に記載の試験方法に従って曲率半径1mmで20万回以上繰り返し屈曲してもクラックが発生しない程度まで、コーティング層の耐クラック性を向上させることができる。本発明において、コーティング層に発生するクラックには、コーティング層に生じる亀裂及びコーティング層と粘着剤層との間における剥離等が含まれる。 According to the laminate according to the present invention, the crack resistance of the coating layer is improved to the extent that cracks do not occur even if the laminate is repeatedly bent 200,000 times or more with a radius of curvature of 1 mm according to the test method described in the column of Examples described later. Can be made to. In the present invention, the cracks generated in the coating layer include cracks generated in the coating layer and peeling between the coating layer and the pressure-sensitive adhesive layer.
第1粘着剤層11は第1粘着剤組成物から形成されており、第2粘着剤層13は第2粘着剤組成物から形成されている。第1粘着剤層11及び第2粘着剤層13の評価パラメータA1及びA2が、式(3)及び式(4)を満たすように第1粘着剤組成物及び第2粘着剤組成物を調製する方法として、例えば粘着剤層を後述する粘着剤組成物から構成したり、後述する(メタ)アクリル系ポリマーを構成するモノマーの種類を変更したり、(メタ)アクリル系ポリマーの分子量を調節したり、粘着剤層の厚みを調製したりする方法、及びこれらの組み合わせの方法等が挙げられる。
The first pressure-
[第1粘着剤層]
粘着剤層と、コーティング層と、粘着剤層とがこの順で、かつ、互いに接している構造を積層体が有しているとき、そのうちの一方の粘着剤層を第1粘着剤層11とする。第1粘着剤層11は、下記の粘着剤層であってよい。
[First adhesive layer]
When the laminate has a structure in which the pressure-sensitive adhesive layer, the coating layer, and the pressure-sensitive adhesive layer are in contact with each other in this order, one of the pressure-sensitive adhesive layers is referred to as the first pressure-
第1粘着剤層11の温度25℃における貯蔵弾性率G’1は、通常10kPa以上であり、好ましくは30kPa以上である。第1粘着剤層11の温度25℃における貯蔵弾性率G’1は、通常10000kPa以下であり、より好ましくは5000kPa以下であり、さらに好ましくは1000kPa以下である。粘着剤層の貯蔵弾性率は、後述の実施例の欄に記載の方法に従って測定される。貯蔵弾性率G’1が小さすぎると積層体の加工性が低下する傾向にあり、例えば切削加工する際に積層体から粘着剤の端部が脱落し(糊抜け)、剥離フィルムを剥離しにくくなったり、積層体の汚れが生じやすくなる。貯蔵弾性率G’1が大きすぎると積層体の屈曲性が低下する傾向にある。
The storage elastic modulus G'1 of the first pressure-
第1粘着剤層11の厚みa1は、1μm以上であってよく、好ましくは3μm以上である。第1粘着剤層11の厚みa1は、100μm以下であってよく、好ましくは50μm以下である。
The thickness a1 of the first pressure-
[第2粘着剤層]
粘着剤層と、コーティング層と、粘着剤層とがこの順で、かつ、互いに接している構造を積層体が有しているとき、一方の粘着剤層を第1粘着剤層11とみなしたときに第1粘着剤層11とは異なる粘着剤層を第2粘着剤層13とする。第2粘着剤層13は、下記の粘着剤層であってよい。
[Second adhesive layer]
When the pressure-sensitive adhesive layer, the coating layer, and the pressure-sensitive adhesive layer have a structure in which they are in contact with each other in this order, one pressure-sensitive adhesive layer is regarded as the first pressure-
第2粘着剤層13の温度25℃における貯蔵弾性率G’2は、通常10kPa以上であり、好ましくは30kPa以上である。第2粘着剤層13の温度25℃における貯蔵弾性率G’2は、通常10000kPa以下であり、より好ましくは5000kPa以下であり、さらに好ましくは1000kPa以下である。粘着剤層の貯蔵弾性率は、後述の実施例の欄に記載の方法に従って測定される。貯蔵弾性率G’2が小さすぎると積層体の加工性が低下する傾向にあり、例えば切削加工する際に積層体から粘着剤の端部が脱落し(糊抜け)、剥離フィルムを剥離しにくくなったり、積層体の汚れが生じやすくなる。貯蔵弾性率G’2が大きすぎると積層体の屈曲性が低下する傾向にある。
The storage elastic modulus G'2 of the second pressure-
第2粘着剤層13の厚みa2は、1μm以上であってよく、好ましくは3μm以上である。第2粘着剤層13の厚みa2は、100μm以下であってよく、好ましくは50μm以下である。
The thickness a2 of the second pressure-
[介在コーティング層]
粘着剤層と、コーティング層と、粘着剤層とがこの順で、かつ、互いに接している構造を積層体が有しているとき、第1粘着剤層11と第2粘着剤層13との間に介在しており、かつ、第1粘着剤層11と第2粘着剤層13とに接するコーティング層を介在コーティング層12とする。コーティング層は、塗布液を塗布する工程を含んで形成される、粘着剤層以外の層である。介在コーティング層12は、好ましくは下記の偏光子層、位相差層又はタッチセンサパネルを含む。
[Intervening coating layer]
When the laminate has a structure in which the pressure-sensitive adhesive layer, the coating layer, and the pressure-sensitive adhesive layer are in contact with each other in this order, the first pressure-
塗布方法には、コート法、印刷法、蒸着法等が含まれる。コート法としては、バーコート法、ナイフコート法、ブレードコート法、ダイコート法、ダイレクトグラビアコート法、リバースグラビアコート法、ロールコート法、CAPコート法、スピンコート法、スプレーコート法、スクリーンコート法、スリットコート法、ディップコート法等が挙げられる。印刷法としては、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法等が挙げられる。蒸着法としては、スパッタリング法、物理蒸着法(PVD)、化学蒸着法(CVD)、プラズマCVD(PECVD)等が挙げられる。 The coating method includes a coating method, a printing method, a vapor deposition method and the like. The coating methods include bar coating method, knife coating method, blade coating method, die coating method, direct gravure coating method, reverse gravure coating method, roll coating method, CAP coating method, spin coating method, spray coating method, and screen coating method. Examples include the slit coating method and the dip coating method. Examples of the printing method include an offset printing method, a gravure printing method, a screen printing method, and an inkjet printing method. Examples of the vapor deposition method include a sputtering method, a physical vapor deposition method (PVD), a chemical vapor deposition method (CVD), and a plasma CVD method (PECVD).
介在コーティング層12は、1層以上からなる。各層の厚みは、通常5μm以下である。各層の厚みは、通常0.01μm以上である。介在コーティング層12の厚みは、好ましくは1μm以上20μm以下である。介在コーティング層12が偏光子層を含むとき、介在コーティング層12の厚みは、例えば1μm以上15μm以下である。介在コーティング層12が位相差層を含むとき、介在コーティング層12の厚みは、例えば1μm以上8μm以下である。介在コーティング層12がタッチセンサパネルを含むとき、介在コーティング層12の厚みは、例えば15μm以下である。
The intervening
[第1保護層]
積層体の一部であって、第1粘着剤層11に接し、介在コーティング層12側とは反対側に存在する構造部分全体を第1保護層10とする。第1粘着剤層11を挟んで、介在コーティング層12側とは反対側に複数の層がある場合は、その全てを第1保護層10とする。第1保護層10は、下記の前面板、基材フィルム、粘着剤層、偏光子層、位相差層、タッチセンサパネル、貼合層、背面板等のうち1つ以上を含んでもよい。第1保護層10は、好ましくは前面板を含む。
[First protective layer]
The entire structural portion that is a part of the laminate and is in contact with the first pressure-
[第2保護層]
積層体の一部であって、第2粘着剤層13に接し、介在コーティング層12側とは反対側に存在する構造部分全体を第2保護層14とする。第2粘着剤層13を挟んで、介在コーティング層12側とは反対側に複数の層がある場合は、その全てを第2保護層14とする。第2保護層14は、下記の前面板、基材フィルム、粘着剤層、偏光子層、位相差層、タッチセンサパネル、貼合層、背面板等のうち1つ以上を含んでもよい。第2保護層14は、好ましくは背面板を含む。
[Second protective layer]
The entire structural portion that is a part of the laminate and is in contact with the second pressure-
積層体において、粘着剤層と、コーティング層と、粘着剤層とがこの順で、かつ、互いに接している構造が複数存在するとき、第1保護層10と、第1粘着剤層11と、介在コーティング層12と、第2粘着剤層13と、第2保護層14とは、複数のパターンで認定され得る。例えば積層体100が、前面板/粘着剤層I/コーティング層I/粘着剤層II/コーティング層II/粘着剤層III/背面板からなるとき(「/」は隣り合う層が接していることを意味する。以下同様。)、第1保護層10、第1粘着剤層11、介在コーティング層12、第2粘着剤層13及び第2保護層14は、二通りのパターンで認定できる。すなわち、第1保護層10は前面板であり、第1粘着剤層11は粘着剤層Iであり、介在コーティング層12はコーティング層Iであり、第2粘着剤層13は粘着剤層IIであり、第2保護層14はコーティング層II/粘着剤層III/背面板であると認定しうる。一方で、第1保護層10は前面板/粘着剤層I/コーティング層Iであり、第1粘着剤層11は粘着剤層IIであり、介在コーティング層12はコーティング層IIであり、第2粘着剤層13は粘着剤層IIIであり、第2保護層14は背面板であるとも認定しうる。このような場合、両方の認定パターンにおいて、評価パラメータA1及びA2にかかる式(3)及び式(4)を満たす積層体は、第1保護層を内側にして屈曲した際に、コーティング層におけるクラックの発生が抑制される。
When there are a plurality of structures in which the pressure-sensitive adhesive layer, the coating layer, and the pressure-sensitive adhesive layer are in contact with each other in this order in the laminated body, the first
以下、積層体100を構成しうる層について説明する。
Hereinafter, the layers that can form the
(前面板)
前面板は、光を透過可能な板状体であれば、材料及び厚みは限定されることはなく、また1層のみから構成されてよく、2層以上から構成されてもよい。その例としては、樹脂製の板状体(例えば樹脂板、樹脂シート、樹脂フィルム等)、ガラス製の板状体(例えばガラス板、ガラスフィルム等)、後述のタッチセンサパネルが挙げられる。前面板は、表示装置の最表面を構成するものであることができる。
(Front plate)
The material and thickness of the front plate are not limited as long as it is a plate-like body capable of transmitting light, and the front plate may be composed of only one layer or may be composed of two or more layers. Examples thereof include a resin plate-like body (for example, a resin plate, a resin sheet, a resin film, etc.), a glass plate-like body (for example, a glass plate, a glass film, etc.), and a touch sensor panel described later. The front plate can constitute the outermost surface of the display device.
前面板の厚みは、例えば30μm以上500μm以下であってよく、好ましくは40μm以上200μm以下であり、より好ましくは50μm以上100μm以下である。本発明において、各層の厚みは、後述する実施例において説明する厚み測定方法に従って測定することができる。 The thickness of the front plate may be, for example, 30 μm or more and 500 μm or less, preferably 40 μm or more and 200 μm or less, and more preferably 50 μm or more and 100 μm or less. In the present invention, the thickness of each layer can be measured according to the thickness measuring method described in Examples described later.
前面板が樹脂製の板状体である場合、樹脂製の板状体は、光を透過可能なものであれば限定されることはない。樹脂フィルム等の樹脂製の板状体を構成する樹脂としては、例えばトリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、エチレン−酢酸ビニル共重合体、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリ(メタ)アクリル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアミドイミドなどの高分子で形成されたフィルムが挙げられる。これらの高分子は、単独で又は2種以上混合して用いることができる。強度及び透明性向上の観点から好ましくはポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミドなどの高分子で形成された樹脂フィルムである。 When the front plate is a resin plate-like body, the resin plate-like body is not limited as long as it can transmit light. Examples of the resin constituting the resin plate such as a resin film include triacetyl cellulose, acetyl cellulose butyrate, ethylene-vinyl acetate copolymer, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, polyester, and polystyrene. Polyamide, polyetherimide, poly (meth) acrylic, polyimide, polyether sulfone, polysulfone, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, polyether ketone, polyether ether ketone , Polyether sulfone, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyamideimide and the like. These polymers can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of improving strength and transparency, a resin film made of a polymer such as polyimide, polyamide, or polyamideimide is preferable.
前面板は、硬度の観点から好ましくは基材フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層が設けられたフィルムである。基材フィルムとしては、上記樹脂からできたフィルムを用いることができる。ハードコート層は、基材フィルムの一方の面に形成されていてもよいし、両方の面に形成されていてもよい。ハードコート層を設けることにより、硬度及びスクラッチ性を向上させた樹脂フィルムとすることができる。ハードコート層は、例えば紫外線硬化型樹脂の硬化層である。紫外線硬化型樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。ハードコート層は、強度を向上させるために、添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、又はこれらの混合物が挙げられる。 The front plate is preferably a film in which a hard coat layer is provided on at least one surface of the base film from the viewpoint of hardness. As the base film, a film made of the above resin can be used. The hard coat layer may be formed on one surface of the base film or may be formed on both surfaces. By providing the hard coat layer, a resin film having improved hardness and scratchability can be obtained. The hard coat layer is, for example, a cured layer of an ultraviolet curable resin. Examples of the ultraviolet curable resin include acrylic resin, silicone resin, polyester resin, urethane resin, amide resin, epoxy resin and the like. The hard coat layer may contain additives to improve strength. Additives are not limited, and examples thereof include inorganic fine particles, organic fine particles, and mixtures thereof.
前面板がガラス板である場合、ガラス板は、ディスプレイ用強化ガラスが好ましく用いられる。ガラス板の厚みは、例えば50μm以上1000μm以下であってよい。ガラス板を用いることにより、優れた機械的強度及び表面硬度を有する前面板を構成することができる。 When the front plate is a glass plate, tempered glass for a display is preferably used as the glass plate. The thickness of the glass plate may be, for example, 50 μm or more and 1000 μm or less. By using a glass plate, a front plate having excellent mechanical strength and surface hardness can be constructed.
積層体100が表示装置に用いられる場合、前面板は、表示装置の前面(画面)を保護する機能(ウィンドウフィルムとしての機能)を有するのみではなく、タッチセンサとしての機能、ブルーライトカット機能、視野角調整機能等を有するものであってもよい。 When the laminate 100 is used in a display device, the front plate not only has a function of protecting the front surface (screen) of the display device (function as a window film), but also functions as a touch sensor, a blue light cut function, and the like. It may have a viewing angle adjusting function or the like.
前面板は、優れた屈曲性を有する積層体100を構成しやすい観点から、温度23℃での引張弾性率が、4.0GPa以上であることが好ましく、5.0GPa以上であることがさらに好ましい。前面板は、優れた屈曲性を有する積層体100を構成しやすい観点から、温度23℃での引張弾性率が20GPa以下であることが好ましく、15GPa以下であることがさらに好ましい。引張弾性率は、下記の実施例の欄に記載の試験方法によって測定することができる。
From the viewpoint of easily forming the
(基材フィルム)
基材フィルムは、例えば樹脂フィルムから構成されてよく、好ましくは透明樹脂フィルムから構成されてよい。樹脂フィルムは、長尺のロール状樹脂フィルムであってよく、枚葉状樹脂フィルムであってよい。連続的に製造できる点で長尺のロール状樹脂フィルムが好ましい。
(Base film)
The base film may be composed of, for example, a resin film, preferably a transparent resin film. The resin film may be a long roll-shaped resin film or a single-wafer-shaped resin film. A long roll-shaped resin film is preferable because it can be continuously produced.
樹脂フィルムを構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン;ポリビニルアルコール;ポリエチレンテレフタレート;ポリメタクリル酸エステル;ポリアクリル酸エステル;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル;ポリエチレンナフタレート;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルケトン;ポリフェニレンスルフィド;ポリフェニレンオキシド;ポリアミド;ポリイミド;ポリアミドイミド等のプラスチックが挙げられる。中でも環状オレフィン系樹脂、セルロースエステル及びポリイミドが好ましい。 Examples of the resin constituting the resin film include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, norbornene-based polymer, and cyclic olefin-based resin; polyvinyl alcohol; polyethylene terephthalate; polymethacrylic acid ester; polyacrylic acid ester; triacetylcellulose, diacetylcellulose, and the like. Examples thereof include plastics such as cellulose ester such as cellulose acetate propionate; polyethylene naphthalate; polycarbonate; polysulfone; polyether sulfone; polyether ketone; polyphenylene sulfide; polyphenylene oxide; polyamide; polyimide; polyamideimide. Of these, cyclic olefin resins, cellulose esters and polyimides are preferable.
樹脂フィルムの厚みは、積層体100の薄膜化の観点からは薄い方が好ましいが、あまりに薄いと耐衝撃性が確保しにくくなる傾向がある。樹脂フィルムの厚みは、例えば10μm以上200μm以下であってよく、好ましくは15μm以上150μm以下、より好ましくは20μm以上100μm以下である。 The thickness of the resin film is preferably thin from the viewpoint of thinning the laminate 100, but if it is too thin, it tends to be difficult to secure impact resistance. The thickness of the resin film may be, for example, 10 μm or more and 200 μm or less, preferably 15 μm or more and 150 μm or less, and more preferably 20 μm or more and 100 μm or less.
基材フィルム上には、コーティング層が形成され得る。基材フィルムは、少なくとも一方の表面にハードコート層、反射防止層、又は帯電防止層を有していてもよい。基材フィルムは、コーティング層が形成されない側の表面のみに、ハードコート層、反射防止層、帯電防止層等が形成されていてもよい。基材フィルムは、コーティング層が形成されている側の表面のみに、ハードコート層、反射防止層、帯電防止層等が形成されていてもよい。 A coating layer can be formed on the base film. The base film may have a hard coat layer, an antireflection layer, or an antistatic layer on at least one surface. The base film may have a hard coat layer, an antireflection layer, an antistatic layer, or the like formed only on the surface on the side where the coating layer is not formed. The base film may have a hard coat layer, an antireflection layer, an antistatic layer, or the like formed only on the surface on the side where the coating layer is formed.
(粘着剤層)
粘着剤層は、2つの層の間に介在して、これらを貼合する層であり、例えば粘着剤や接着剤から構成される層又は該層に対して何らかの処理を施してなる層であってよい。粘着剤とは、感圧式接着剤とも呼ばれるものである。本明細書において「接着剤」とは、粘着剤(感圧式接着剤)以外の接着剤をいい、粘着剤とは明確に区別される。粘着剤層は、1層であってもよく、2層以上からなるものであってもよいが、好ましくは1層である。粘着剤層は、粘着剤組成物から形成することができる。
(Adhesive layer)
The pressure-sensitive adhesive layer is a layer that is interposed between the two layers and adheres them, for example, a layer composed of a pressure-sensitive adhesive or an adhesive, or a layer obtained by applying some treatment to the layer. You can. The pressure-sensitive adhesive is also called a pressure-sensitive adhesive. As used herein, the term "adhesive" refers to an adhesive other than an adhesive (pressure sensitive adhesive) and is clearly distinguished from an adhesive. The pressure-sensitive adhesive layer may be one layer or two or more layers, but is preferably one layer. The pressure-sensitive adhesive layer can be formed from the pressure-sensitive adhesive composition.
粘着剤層は、(メタ)アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる(メタ)アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。 The pressure-sensitive adhesive layer can be composed of a pressure-sensitive adhesive composition containing a resin as a main component, such as (meth) acrylic type, rubber type, urethane type, ester type, silicone type, and polyvinyl ether type. Among them, a pressure-sensitive adhesive composition using a (meth) acrylic resin having excellent transparency, weather resistance, heat resistance and the like as a base polymer is preferable. The pressure-sensitive adhesive composition may be an active energy ray-curable type or a thermosetting type.
粘着剤組成物に用いられる(メタ)アクリル系樹脂(ベースポリマー)としては、例えば、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルのような(メタ)アクリル酸エステルの1種又は2種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。 Examples of the (meth) acrylic resin (base polymer) used in the pressure-sensitive adhesive composition include butyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, and 2- (meth) acrylate. A polymer or copolymer containing one or more (meth) acrylic acid esters such as ethylhexyl as a monomer is preferably used. The base polymer is preferably copolymerized with a polar monomer. Examples of the polar monomer include (meth) acrylic acid, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, and glycidyl (). Examples thereof include monomers having a carboxyl group, a hydroxyl group, an amide group, an amino group, an epoxy group and the like, such as meta) acrylate.
粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、2価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの;ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの;ポリエポキシ化合物やポリオールであって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの;ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものが例示される。中でも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。 The pressure-sensitive adhesive composition may contain only the above-mentioned base polymer, but usually further contains a cross-linking agent. The cross-linking agent is a divalent or higher metal ion that forms a carboxylic acid metal salt with a carboxyl group; a polyamine compound that forms an amide bond with a carboxyl group; poly. Epoxy compounds and polyols that form an ester bond with a carboxyl group; polyisocyanate compounds that form an amide bond with a carboxyl group are exemplified. Of these, polyisocyanate compounds are preferable.
活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する粘着剤組成物である。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有する。さらに必要に応じて、光重合開始剤や光増感剤等を含有させることもある。 The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition has a property of being cured by being irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and has adhesiveness even before irradiation with active energy rays. It is a pressure-sensitive adhesive composition having the property of being able to adhere to an adherend such as, etc., and being cured by irradiation with active energy rays to adjust the adhesion force. The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition is preferably an ultraviolet-curable type. The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition further contains an active energy ray-polymerizable compound in addition to the base polymer and the cross-linking agent. Further, if necessary, a photopolymerization initiator, a photosensitizer, or the like may be contained.
粘着剤組成物は、光散乱性を付与するための微粒子、ビーズ(樹脂ビーズ、ガラスビーズ等)、ガラス繊維、ベースポリマー以外の樹脂、粘着性付与剤、充填剤(金属粉やその他の無機粉末等)、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、着色剤、消泡剤、腐食防止剤、光重合開始剤等の添加剤を含むことができる。 The pressure-sensitive adhesive composition includes fine particles for imparting light scattering properties, beads (resin beads, glass beads, etc.), glass fibers, resins other than the base polymer, pressure-sensitive imparting agents, and fillers (metal powders and other inorganic powders). Etc.), antioxidants, UV absorbers, dyes, pigments, colorants, antifoaming agents, corrosion inhibitors, photopolymerization initiators and other additives can be included.
粘着剤層は、上記粘着剤組成物の有機溶剤希釈液を基材上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物を用いた場合は、形成された粘着剤層に、活性エネルギー線を照射することにより所望の硬化度を有する硬化物とすることができる。 The pressure-sensitive adhesive layer can be formed by applying an organic solvent-diluted solution of the pressure-sensitive adhesive composition on a substrate and drying it. When the active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition is used, the formed pressure-sensitive adhesive layer can be irradiated with active energy rays to obtain a cured product having a desired degree of curing.
粘着剤層の厚みは、例えば1μm以上100μm以下であることが好ましく、3μm以上50μm以下であることがより好ましく、20μm以上であってもよい。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is, for example, preferably 1 μm or more and 100 μm or less, more preferably 3 μm or more and 50 μm or less, and may be 20 μm or more.
(偏光子層)
偏光子層としては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層、吸収異方性を有する色素を塗布し硬化させてなる層等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性の有機染料が用いられる。二色性有機染料には、C.I.DIRECT RED 39等のジスアゾ化合物からなる二色性直接染料、トリスアゾ、テトラキスアゾ等の化合物からなる二色性直接染料が包含される。
(Polarizer layer)
Examples of the polarizer layer include a stretched film or a stretched layer on which a dye having an absorption anisotropy is adsorbed, a layer formed by applying a dye having an absorption anisotropy and curing the dye. Examples of the dye having absorption anisotropy include a dichroic dye. As the dichroic dye, specifically, iodine or a dichroic organic dye is used. For dichroic organic dyes, C.I. I. Included are dichroic direct dyes composed of disuazo compounds such as DIRECT RED 39 and dichroic direct dyes composed of compounds such as trisazo and tetrakisazo.
吸収異方性を有する色素を塗布し硬化させてなる偏光子層としては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は二色性色素と重合性液晶とを含む組成物を塗布し硬化させて得られる層等の重合性液晶化合物の硬化物を含む偏光子層が挙げられる。
吸収異方性を有する色素を塗布し硬化させてなる偏光子層は、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム又は延伸層に比べて、屈曲方向に制限がないため好ましい。
As the polarizer layer formed by applying and curing a dye having absorption anisotropy, a composition containing a dichroic dye having liquid crystal properties or a composition containing a dichroic dye and a polymerizable liquid crystal is applied and cured. Examples thereof include a polarizer layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound such as a layer obtained by the above-mentioned.
A polarizer layer obtained by applying and curing a dye having absorption anisotropy is preferable because there is no limitation in the bending direction as compared with a stretched film or a stretched layer on which a dye having absorption anisotropy is adsorbed.
((延伸フィルム又は延伸層である偏光子層))
吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムである偏光子層は、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。
偏光子層の厚みは、例えば2μm以上40μm以下である。偏光子層の厚みは5μm以上であってもよく、20μm以下、さらには15μm以下、なおさらには10μm以下であってもよい。
((Stretched film or polarizer layer which is a stretched layer))
The polarizer layer, which is a stretched film on which a dye having absorption anisotropy is adsorbed, is usually obtained by dyeing the polyvinyl alcohol-based resin film with a bicolor dye in a step of uniaxially stretching the polyvinyl alcohol-based resin film. It can be produced through a step of adsorbing a bicolor dye, a step of treating a polyvinyl alcohol-based resin film on which the bicolor dye is adsorbed with an aqueous boric acid solution, and a step of washing with water after the treatment with the aqueous boric acid solution.
The thickness of the polarizer layer is, for example, 2 μm or more and 40 μm or less. The thickness of the polarizer layer may be 5 μm or more, 20 μm or less, further 15 μm or less, and further 10 μm or less.
ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有する(メタ)アクリルアミド類等が挙げられる。 The polyvinyl alcohol-based resin is obtained by saponifying a polyvinyl acetate-based resin. As the polyvinyl acetate-based resin, in addition to polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, a copolymer of vinyl acetate and another monomer copolymerizable therewith is used. Examples of other monomers copolymerizable with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and (meth) acrylamides having an ammonium group.
ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常85モル%以上100モル%以下程度であり、好ましくは98モル%以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールも使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常1000以上10000以下であり、好ましくは1500以上5000以下である。 The degree of saponification of the polyvinyl alcohol-based resin is usually about 85 mol% or more and 100 mol% or less, preferably 98 mol% or more. The polyvinyl alcohol-based resin may be modified, and for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes can also be used. The degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-based resin is usually 1000 or more and 10000 or less, preferably 1500 or more and 5000 or less.
吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸層である偏光子層は、通常、上記ポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を基材フィルム上に塗布する工程、得られた積層フィルムを一軸延伸する工程、一軸延伸された積層フィルムのポリビニルアルコール系樹脂層を二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させて偏光子層とする工程、二色性色素が吸着されたフィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。
必要に応じて、基材フィルムを偏光子層から剥離除去してもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、後述する熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同様であってよい。
The polarizer layer, which is a stretched layer on which a dye having absorption anisotropy is adsorbed, is usually a step of applying a coating liquid containing the polyvinyl alcohol-based resin on a base film, and uniaxially stretching the obtained laminated film. Step, A step of dyeing a polyvinyl alcohol-based resin layer of a uniaxially stretched laminated film with a dichroic dye to adsorb the dichroic dye to form a polarizer layer, a film on which the dichroic dye is adsorbed. Can be produced through a step of treating with an aqueous boric acid solution and a step of washing with water after the treatment with the aqueous boric acid solution.
If necessary, the base film may be peeled off from the polarizer layer. The material and thickness of the base film may be the same as the material and thickness of the thermoplastic resin film described later.
延伸フィルム又は延伸層である偏光子層は、その片面又は両面に熱可塑性樹脂フィルムが貼合されている形態で積層体に組み込まれてもよい。この熱可塑性樹脂フィルムは、偏光子層用の保護フィルム、又は位相差フィルムとして機能し得る。熱可塑性樹脂フィルムは、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂(ポリプロピレン系樹脂など)、環状ポリオレフィン系樹脂(ノルボルネン系樹脂など)等のポリオレフィン系樹脂;トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;(メタ)アクリル系樹脂;又はこれらの混合物等からなるフィルムであることができる。 The stretched film or the polarizer layer, which is a stretched layer, may be incorporated into the laminate in a form in which a thermoplastic resin film is bonded to one side or both sides thereof. This thermoplastic resin film can function as a protective film for a polarizer layer or a retardation film. The thermoplastic resin film is, for example, a polyolefin resin such as a chain polyolefin resin (polypropylene resin, etc.), a cyclic polyolefin resin (norbornen resin, etc.); a cellulose resin such as triacetyl cellulose; polyethylene terephthalate, polyethylene na. A film made of a polyester resin such as phthalate or polybutylene terephthalate; a polycarbonate resin; a (meth) acrylic resin; or a mixture thereof can be used.
熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、薄型化の観点から、通常300μm以下であり、好ましくは200μm以下であり、より好ましくは100μm以下であり、さらに好ましくは80μm以下であり、なおさらに好ましくは60μm以下であり、また、通常5μm以上であり、好ましくは20μm以上である。 From the viewpoint of thinning, the thickness of the thermoplastic resin film is usually 300 μm or less, preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less, still more preferably 80 μm or less, still more preferably 60 μm or less. Yes, it is usually 5 μm or more, preferably 20 μm or more.
熱可塑性樹脂フィルムは位相差を有していても、有していなくてもよい。 The thermoplastic resin film may or may not have a phase difference.
熱可塑性樹脂フィルムは、例えば、接着剤層を用いて偏光子層に貼合することができる。 The thermoplastic resin film can be bonded to the polarizer layer using, for example, an adhesive layer.
((吸収異方性を有する色素を塗布し硬化させてなる偏光子層))
吸収異方性を有する色素を塗布し硬化させてなる偏光子層としては、液晶性を有する重合性の二色性色素を含む組成物又は二色性色素と重合性液晶とを含む組成物を基材フィルムに塗布し硬化させて得られる層等の重合性液晶化合物の硬化物を含む偏光子層が挙げられる。
((Polarizer layer formed by applying and curing a dye having absorption anisotropy))
As the polarizer layer formed by applying and curing a dye having absorption anisotropy, a composition containing a polymerizable dichroic dye having liquid crystal properties or a composition containing a dichroic dye and a polymerizable liquid crystal is used. Examples thereof include a polarizer layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound, such as a layer obtained by applying and curing the substrate film.
必要に応じて、基材フィルムを偏光子層から剥離除去してもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、上述した熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同様であってよい。 If necessary, the base film may be peeled off from the polarizer layer. The material and thickness of the base film may be the same as the material and thickness of the thermoplastic resin film described above.
吸収異方性を有する色素を塗布し硬化させてなる偏光子層は、その片面又は両面に熱可塑性樹脂フィルムが貼合されている形態で光学積層体に組み込まれてもよい。熱可塑性樹脂フィルムとしては、延伸フィルム又は延伸層である偏光子層に用い得る熱可塑性樹脂フィルムと同様のものを用いることができる。熱可塑性樹脂フィルムは、例えば、接着剤層を用いて偏光子層に貼合することができる。 The polarizing element layer formed by applying and curing a dye having absorption anisotropy may be incorporated into an optical laminate in a form in which a thermoplastic resin film is bonded to one side or both sides thereof. As the thermoplastic resin film, the same one as the thermoplastic resin film that can be used for the stretched film or the polarizer layer that is the stretched layer can be used. The thermoplastic resin film can be bonded to the polarizer layer using, for example, an adhesive layer.
吸収異方性を有する色素を塗布し硬化させてなる偏光子層の厚みは、通常10μm以下であり、好ましくは0.5μm以上8μm以下であり、より好ましくは1μm以上5μm以下である。 The thickness of the polarizer layer obtained by applying and curing a dye having absorption anisotropy is usually 10 μm or less, preferably 0.5 μm or more and 8 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 5 μm or less.
介在コーティング層12は、例えば吸収異方性を有する色素を塗布し硬化させてなる偏光子層を含むことができる。介在コーティング層12が吸収異方性を有する色素を塗布し硬化させてなる偏光子層を含むとき、基材フィルムは除去されている。介在コーティング層12が吸収異方性を有する色素を塗布し硬化させてなる偏光子層を含むとき、偏光子層に熱可塑性樹脂フィルムは貼合されていない。介在コーティング層12が吸収異方性を有する色素を塗布し硬化させてなる偏光子層を含むとき、介在コーティング層12は、コーティング層の一種である配向膜、保護層(具体的にはハードコート(OC)層やオーバーコート(HC)層が挙げられる。)などをさらに含んでもよい。
The intervening
(位相差層)
積層体100は、1層又は2層以上の位相差層を含むことができる。位相差層は通常、偏光子層と背面板との間に配置される。位相差層は、第1粘着剤層11、第2粘着剤層13、又はこれらの層以外の粘着剤若しくは接着剤から構成される層(以下、貼合層ともいう)を介して他の層(他の位相差層を含む。)上に積層させることができる。
(Phase difference layer)
The
位相差層は、λ/4板、λ/2板等のポジティブAプレート、及びポジティブCプレートであることができる。位相差層は、上述の保護フィルムの材料として例示をした樹脂フィルムであってもよいし、重合性液晶化合物を硬化してなる層であってもよい。位相差層は、さらに配向膜や基材フィルムを含んでいてもよい。位相差層の厚みは、例えば0.1μm以上10μm以下であり、好ましくは0.5μm以上8μm以下であり、より好ましくは1μm以上6μm以下である。 The retardation layer can be a positive A plate such as a λ / 4 plate or a λ / 2 plate, and a positive C plate. The retardation layer may be a resin film exemplified as the material of the protective film described above, or may be a layer formed by curing a polymerizable liquid crystal compound. The retardation layer may further include an alignment film and a base film. The thickness of the retardation layer is, for example, 0.1 μm or more and 10 μm or less, preferably 0.5 μm or more and 8 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 6 μm or less.
重合性液晶化合物を硬化してなる位相差層は、重合性液晶化合物を含む組成物を基材フィルムに塗布し硬化させることによって形成することができる。基材フィルムとコーティング層との間に配向層が形成されていてもよい。基材フィルムの材料及び厚みは、上述した熱可塑性樹脂フィルムの材料及び厚みと同様であってよい。
重合性液晶化合物を硬化してなる位相差層は、配向層及び/又は基材フィルムを有する形態で積層体100に組み込まれてもよい。
The retardation layer formed by curing the polymerizable liquid crystal compound can be formed by applying a composition containing the polymerizable liquid crystal compound to a base film and curing the composition. An orientation layer may be formed between the base film and the coating layer. The material and thickness of the base film may be the same as the material and thickness of the thermoplastic resin film described above.
The retardation layer formed by curing the polymerizable liquid crystal compound may be incorporated into the laminate 100 in the form of having an alignment layer and / or a base film.
介在コーティング層12は、例えば重合性液晶化合物を硬化してなる位相差層を含むことができる。介在コーティング層12が重合性液晶化合物を硬化してなる位相差層を含むとき、基材フィルムは除去されている。介在コーティング層12が重合性液晶化合物を硬化してなる位相差層を含むとき、介在コーティング層12は、コーティング層の一種である配向膜、保護層(具体的にはハードコート層やオーバーコート層が挙げられる。)などをさらに含んでもよい。
The intervening
(タッチセンサパネル)
タッチセンサパネルは、タッチされた位置を検出可能なセンサであれば、検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式等のタッチセンサパネルが例示される。その中でも、低コスト、早い反応速度、薄膜化の面で、静電容量方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。タッチセンサパネルは、透明導電層とこれを支持する基材フィルムとの間に、接着層、分離層、保護層等を備えてもよい。接着層としては、接着剤層、粘着剤層が挙げられる。透明導電層を支持する基材フィルムとして、一方の表面に透明導電層が蒸着形成されている基材フィルム、接着層を介して透明導電層が転写された基材フィルム等が挙げられる。
(Touch sensor panel)
As long as the touch sensor panel is a sensor that can detect the touched position, the detection method is not limited, and the resistance film method, capacitance method, optical sensor method, ultrasonic method, electromagnetic induction coupling method, etc. A touch sensor panel such as a surface acoustic wave method is exemplified. Among them, the capacitance type touch sensor panel is preferably used in terms of low cost, fast reaction speed, and thin film formation. The touch sensor panel may include an adhesive layer, a separation layer, a protective layer, and the like between the transparent conductive layer and the base film that supports the transparent conductive layer. Examples of the adhesive layer include an adhesive layer and an adhesive layer. Examples of the base film that supports the transparent conductive layer include a base film in which a transparent conductive layer is vapor-deposited on one surface, a base film in which the transparent conductive layer is transferred via an adhesive layer, and the like.
静電容量方式のタッチセンサパネルの一例は、基材フィルムと、基材フィルムの表面に設けられた位置検出用の透明導電層と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。静電容量方式のタッチセンサパネルを有する光学積層体を設けた表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、タッチされた点で人体の静電容量を介して透明導電層が接地される。タッチ位置検知回路が、透明導電層の接地を検知し、タッチされた位置が検出される。互いに離間した複数の透明導電層を有することにより、より詳細な位置の検出が可能となる。 An example of a capacitance type touch sensor panel is composed of a base film, a transparent conductive layer for position detection provided on the surface of the base film, and a touch position detection circuit. In a display device provided with an optical laminate having a capacitance type touch sensor panel, when the surface of the front plate is touched, the transparent conductive layer is grounded via the capacitance of the human body at the touched point. To. The touch position detection circuit detects the grounding of the transparent conductive layer, and the touched position is detected. By having a plurality of transparent conductive layers separated from each other, more detailed position detection becomes possible.
透明導電層は、ITO等の金属酸化物からなる透明導電層であってもよく、アルミニウムや銅、銀、金、またはこれらの合金等の金属からなる金属層であってもよい。透明電極層は、スパッタリング法、印刷法、蒸着法等の塗布法により形成される。透明電極層の上に感光性レジストを形成し、その後、フォトリソグラフィによって電極パターン層が形成される。感光性レジストはネガティブタイプ感光性レジスト又はポジティブタイプ感光性レジストが使用され、パターニング後には感光性レジストは残存していてもよいし、除去されていてもよい。スパッタリング法により製膜する場合には、電極パターン形状をもつマスクを配置して、スパッタリングを行い、電極パターン層を形成することもできる。 The transparent conductive layer may be a transparent conductive layer made of a metal oxide such as ITO, or may be a metal layer made of a metal such as aluminum, copper, silver, gold, or an alloy thereof. The transparent electrode layer is formed by a coating method such as a sputtering method, a printing method, or a thin film deposition method. A photosensitive resist is formed on the transparent electrode layer, and then an electrode pattern layer is formed by photolithography. As the photosensitive resist, a negative type photosensitive resist or a positive type photosensitive resist is used, and the photosensitive resist may remain or be removed after patterning. When the film is formed by the sputtering method, a mask having an electrode pattern shape can be arranged and sputtering can be performed to form an electrode pattern layer.
分離層は、ガラス等の基板上に形成されて、分離層上に形成された透明導電層を分離層とともに、基板から分離するための層であることができる。分離層は、無機物層又は有機物層であることが好ましい。無機物層を形成する材料としては、例えばシリコン酸化物が挙げられる。有機物層を形成する材料としては、例えば(メタ)アクリル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ポリイミド系樹脂組成物等を用いることができる。分離層は、公知のコート法で塗布し、熱硬化もしくはUV硬化又はこれらの組合わせの方法により硬化させて形成することができる。 The separation layer can be a layer formed on a substrate such as glass and for separating the transparent conductive layer formed on the separation layer from the substrate together with the separation layer. The separation layer is preferably an inorganic layer or an organic layer. Examples of the material forming the inorganic layer include silicon oxide. As the material for forming the organic material layer, for example, a (meth) acrylic resin composition, an epoxy resin composition, a polyimide resin composition, or the like can be used. The separation layer can be formed by applying it by a known coating method and curing it by a method of thermosetting, UV curing, or a combination thereof.
保護層は、透明導電層に接して導電層を保護するために設けることができる。保護層は有機絶縁膜及び無機絶縁膜のうちの少なくとも一つを含み、これらの膜は、スピンコート法、スパッタリング法、蒸着法等の塗布法によって形成することができる。 The protective layer can be provided in contact with the transparent conductive layer to protect the conductive layer. The protective layer contains at least one of an organic insulating film and an inorganic insulating film, and these films can be formed by a coating method such as a spin coating method, a sputtering method, or a vapor deposition method.
絶縁層は、例えばシリコン酸化物等の無機絶縁物質、アクリル系樹脂等の透明有機物質から形成することができる。絶縁層は、公知のコート法で塗布した後、熱硬化、UV硬化、熱乾燥、真空乾燥等によって形成することができる。 The insulating layer can be formed from, for example, an inorganic insulating substance such as silicon oxide or a transparent organic substance such as an acrylic resin. The insulating layer can be formed by heat curing, UV curing, heat drying, vacuum drying, or the like after coating by a known coating method.
タッチセンサパネルの基材フィルムとしては、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンナフタレート、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスチレン、ポリノルボルネンなどの樹脂フィルムが挙げられる。所望のタフネスを有する基材フィルムを構成しやすい観点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。 As the base film of the touch sensor panel, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, cycloolefin polymer, polyethylene naphthalate, polyolefin, polycycloolefin, polycarbonate, polyether sulfone, polyarylate, polyimide, polyamide, polystyrene, polynorbornene, etc. Resin film can be mentioned. Polyethylene terephthalate is preferably used from the viewpoint of easily forming a base film having a desired toughness.
タッチセンサパネルの基材フィルムは、優れた耐屈曲性を有する光学積層体を構成しやすい観点から、厚みが50μm以下であることが好ましく、30μm以下であることがさらに好ましい。タッチセンサパネルの基材フィルムは、厚みが、例えば5μm以上である。 The base film of the touch sensor panel preferably has a thickness of 50 μm or less, and more preferably 30 μm or less, from the viewpoint of easily forming an optical laminate having excellent bending resistance. The base film of the touch sensor panel has a thickness of, for example, 5 μm or more.
タッチセンサパネルは、例えば以下のようにして製造することができる。第1の方法では、まず基板へ接着層を介して基材フィルムを積層する。基材フィルム上に、フォトリソグラフィによりパターン化された透明導電層を形成する。熱を加えることにより、基板と基材フィルムとを分離して、透明導電層と基材フィルムとからなるタッチセンサパネルが得られる。基板は、平坦性を維持し、耐熱性を有する基板であれば特に限定されないが、好ましくはガラス基板である。 The touch sensor panel can be manufactured, for example, as follows. In the first method, the base film is first laminated on the substrate via the adhesive layer. A transparent conductive layer patterned by photolithography is formed on the base film. By applying heat, the substrate and the base film are separated to obtain a touch sensor panel composed of the transparent conductive layer and the base film. The substrate is not particularly limited as long as it maintains flatness and has heat resistance, but is preferably a glass substrate.
第2の方法では、まず基板上に分離層を形成する材料を塗布し、分離層を形成する。必要に応じて、分離層上に保護層を塗布によって形成する。パッドパターン層が形成される部分には保護層が形成されないように保護層を形成してもよい。分離層(または保護層)上に、フォトリソグラフィによりパターン化された透明導電層を形成する。透明導電層上に、電極パターン層を埋めるように絶縁層を形成する。絶縁層の上に剥離可能な粘着剤によって保護フィルムを積層し、絶縁層から分離層までを転写して、基板を分離する。剥離可能な保護フィルムを剥離することで、絶縁層/透明導電層/(保護層)/分離層をこの順に有するタッチセンサパネルが得られる。 In the second method, a material for forming a separation layer is first applied onto the substrate to form the separation layer. If necessary, a protective layer is formed on the separation layer by coating. A protective layer may be formed in the portion where the pad pattern layer is formed so that the protective layer is not formed. A transparent conductive layer patterned by photolithography is formed on the separation layer (or protective layer). An insulating layer is formed on the transparent conductive layer so as to fill the electrode pattern layer. A protective film is laminated on the insulating layer with a peelable adhesive, and the insulating layer to the separating layer are transferred to separate the substrate. By peeling off the peelable protective film, a touch sensor panel having an insulating layer / a transparent conductive layer / (protective layer) / a separating layer in this order can be obtained.
基材フィルムを含むとき、タッチセンサパネルの厚みは、例えば5μm以上2000μm以下であってよく、5μm以上100μm以下であってもよい。 When the base film is included, the thickness of the touch sensor panel may be, for example, 5 μm or more and 2000 μm or less, and may be 5 μm or more and 100 μm or less.
基材フィルムを含まないとき、タッチセンサパネルの厚みは、例えば0.5μm以上10μm以下であり、好ましくは5μm以下である。 When the base film is not included, the thickness of the touch sensor panel is, for example, 0.5 μm or more and 10 μm or less, preferably 5 μm or less.
介在コーティング層12は、例えば第2の方法によって作製したタッチセンサパネルを含むことができる。
The intervening
(貼合層)
貼合層は、粘着剤又は接着剤から構成される層である。貼合層は、例えば前面板とタッチセンサパネルとを貼合する層、前面板と偏光板とを貼合する層、偏光板とタッチセンサパネルとを貼合する層であることができる。貼合層を構成する粘着剤は、粘着剤層を構成する粘着剤組成物について例示したものと同じ剤であってもよいし、他の粘着剤、例えば(メタ)アクリル系粘着剤、スチレン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、エポキシ系共重合体粘着剤等であってもよい。積層体100は、貼合層を1つ備えてもよいし、2以上備えてもよい。積層体100が貼合層を複数備える場合、複数の貼合層は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
(Lated layer)
The bonding layer is a layer composed of an adhesive or an adhesive. The bonding layer can be, for example, a layer for bonding the front plate and the touch sensor panel, a layer for bonding the front plate and the polarizing plate, and a layer for bonding the polarizing plate and the touch sensor panel. The pressure-sensitive adhesive constituting the bonding layer may be the same as that exemplified for the pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer, or other pressure-sensitive adhesives such as (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive and styrene-based adhesive. It may be a pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, a polyester-based pressure-sensitive adhesive, an epoxy-based copolymer pressure-sensitive adhesive, or the like. The laminate 100 may include one laminating layer or two or more laminating layers. When the laminate 100 includes a plurality of bonded layers, the plurality of bonded layers may be the same as each other or may be different from each other.
貼合層を構成する接着剤としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤等のうち1又は2種以上を組み合せて形成することができる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。 As the adhesive constituting the bonded layer, for example, one or two or more of water-based adhesives, active energy ray-curable adhesives, adhesives and the like can be combined to form the adhesive. Examples of the water-based adhesive include a polyvinyl alcohol-based resin aqueous solution, a water-based two-component urethane-based emulsion adhesive, and the like. The active energy ray-curable adhesive is an adhesive that cures by irradiating with active energy rays such as ultraviolet rays, and includes, for example, a polymerizable compound and a photopolymerizable initiator, a photoreactive resin, and the like. Examples thereof include those containing a binder resin and a photoreactive cross-linking agent. Examples of the polymerizable compound include photopolymerizable monomers such as a photocurable epoxy monomer, a photocurable acrylic monomer, and a photocurable urethane monomer, and oligomers derived from these monomers. Examples of the photopolymerization initiator include substances that generate active species such as neutral radicals, anionic radicals, and cationic radicals by irradiating them with active energy rays such as ultraviolet rays.
貼合層の厚みは、例えば1μm以上であってよく、好ましくは1μm以上25μm以下、より好ましくは2μm以上15μm以下、さらに好ましくは2.5μm以上5μm以下である。 The thickness of the bonding layer may be, for example, 1 μm or more, preferably 1 μm or more and 25 μm or less, more preferably 2 μm or more and 15 μm or less, and further preferably 2.5 μm or more and 5 μm or less.
(背面板)
背面板としては、光を透過可能な板状体や通常の表示装置に用いられる構成要素等を用いることができる。
(Back plate)
As the back plate, a plate-like body capable of transmitting light, a component used in a normal display device, or the like can be used.
背面板の厚みは、例えば5μm以上2000μm以下であってよく、好ましくは10μm以上1000μm以下であり、より好ましくは15μm以上500μm以下である。 The thickness of the back plate may be, for example, 5 μm or more and 2000 μm or less, preferably 10 μm or more and 1000 μm or less, and more preferably 15 μm or more and 500 μm or less.
背面板に用いる板状体としては、1層のみから構成されてよく、2層以上から構成されたものであってよく、上記の前面板において述べた板状体について例示したものを用いることができる。 The plate-like body used for the back plate may be composed of only one layer, may be composed of two or more layers, and the plate-like body described in the above-mentioned front plate may be used as an example. it can.
背面板に用いる通常の表示装置に用いられる構成要素としては、例えばタッチセンサパネル、有機EL表示素子等が挙げられる。表示装置における構成要素の積層順としては、例えばウィンドウフィルム/円偏光板/タッチセンサパネル/有機EL表示素子、ウィンドウフィルム/タッチセンサパネル/円偏光板/有機EL表示素子等が挙げられる。 Examples of the components used in the ordinary display device used for the back plate include a touch sensor panel, an organic EL display element, and the like. Examples of the stacking order of the components in the display device include a window film / circular polarizing plate / touch sensor panel / organic EL display element, a window film / touch sensor panel / circular polarizing plate / organic EL display element, and the like.
背面板は、優れた屈曲性を有する積層体100を構成しやすい観点から、温度23℃での引張弾性率が、4.0GPa以上であることが好ましく、4.5GPa以上であることがさらに好ましい。背面板は、優れた屈曲性を有する積層体100を構成しやすい観点から、温度23℃での引張弾性率が20GPa以下であることが好ましく、15GPa以下であることがさらに好ましい。引張弾性率は、下記の実施例の欄に記載の試験方法によって測定することができる。
From the viewpoint that the back plate can easily form the
[積層体の製造方法]
積層体100は、粘着剤層、あるいはさらに接着剤層を介して積層体100を構成する層同士を貼合する工程を含む方法によって製造することができる。粘着剤層や接着剤層を介して層同士を貼合する場合には、密着性を高めるために、貼合面の一方または両方に対して、例えばコロナ処理等の表面活性化処理を施すことが好ましい。
[Manufacturing method of laminate]
The laminate 100 can be manufactured by a method including a step of adhering layers constituting the laminate 100 to each other via an adhesive layer or an adhesive layer. When the layers are bonded to each other via the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer, one or both of the bonded surfaces should be subjected to a surface activation treatment such as corona treatment in order to improve the adhesion. Is preferable.
<表示装置>
本発明に係る表示装置は、上記本発明に係る積層体100を含む。表示装置は特に限定されず、例えば有機EL表示装置、無機EL表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。表示装置はタッチパネル機能を有していてもよい。光学積層体は、屈曲又は折り曲げ等が可能な可撓性を有する表示装置に好適である。
<Display device>
The display device according to the present invention includes the laminate 100 according to the present invention. The display device is not particularly limited, and examples thereof include an image display device such as an organic EL display device, an inorganic EL display device, a liquid crystal display device, and an electroluminescent display device. The display device may have a touch panel function. The optical laminate is suitable for a flexible display device that can be bent or bent.
表示装置において、光学積層体は、前面板を外側(表示素子側とは反対側、すなわち視認側)に向けて表示装置が有する表示素子の視認側に配置される。 In the display device, the optical laminate is arranged on the visible side of the display element of the display device with the front plate facing outward (the side opposite to the display element side, that is, the visual recognition side).
本発明に係る表示装置は、スマートフォン、タブレット等のモバイル機器、テレビ、デジタルフォトフレーム、電子看板、測定器や計器類、事務用機器、医療機器、電算機器等として用いることができる。本発明に係る表示装置は、前面板表面に映り込む反射像の歪曲が抑制されているため、画面の視認性に優れている。 The display device according to the present invention can be used as a mobile device such as a smartphone or tablet, a television, a digital photo frame, an electronic signboard, a measuring instrument or an instrument, an office device, a medical device, a computer device, or the like. The display device according to the present invention is excellent in the visibility of the screen because the distortion of the reflected image reflected on the surface of the front plate is suppressed.
以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
<「基材フィルム/偏光子層」からなる積層体>
(基材フィルム)
基材フィルムとして、シクロオレフィンポリマー(COP)フィルム(ZF−14、日本ゼオン株式会社製、厚み23μm)を準備した。
<Laminated body consisting of "base film / polarizer layer">
(Base film)
As a base film, a cycloolefin polymer (COP) film (ZF-14, manufactured by Nippon Zeon Corporation, thickness 23 μm) was prepared.
(偏光子層)
厚み30μmの長尺のポリビニルアルコール(PVA)原反フィルム〔株式会社クラレ製の商品名「クラレポバールフィルムVF−PE#3000」、平均重合度2400、ケン化度99.9モル%以上〕をロールから巻き出しながら連続的に搬送し、20℃の純水からなる膨潤浴に滞留時間31秒で浸漬させた(膨潤工程)。その後、膨潤浴から引き出したフィルムを、ヨウ化カリウム/水が、2/100(重量比)であるヨウ素を含む30℃の染色浴に滞留時間122秒で浸漬させた(染色工程)。次いで、染色浴から引き出したフィルムを、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水が12/4.1/100(重量比)である56℃の架橋浴に滞留時間70秒で浸漬させ、続いて、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水が9/2.9/100(重量比)である40℃の架橋浴に滞留時間13秒で浸漬させた(架橋工程)。染色工程及び架橋工程において、浴中でのロール間延伸により縦一軸延伸を行った。原反フィルムを基準とする総延伸倍率は5.4倍とした。次に、架橋浴から引き出したフィルムを5℃の純水からなる洗浄浴に滞留時間3秒で浸漬させた後(洗浄工程)、引き続き、湿度調節が可能な第1加熱炉に導入することにより滞留時間190秒で高温高湿処理を行って(高温高湿処理工程)、厚み12.1μmの偏光子層(PVA)を得た。
(Polarizer layer)
Roll a long polyvinyl alcohol (PVA) raw film with a thickness of 30 μm [trade name “Kuraray Poval Film VF-PE # 3000” manufactured by Kuraray Co., Ltd., average degree of polymerization 2400, saponification degree 99.9 mol% or more] The film was continuously conveyed while being unwound from, and immersed in a swelling bath made of pure water at 20 ° C. with a residence time of 31 seconds (swelling step). Then, the film pulled out from the swelling bath was immersed in a dyeing bath containing iodine having a potassium iodide / water ratio of 2/100 (weight ratio) at 30 ° C. for a residence time of 122 seconds (dyeing step). Next, the film drawn from the dyeing bath was immersed in a cross-linked bath at 56 ° C. in which potassium iodide / boric acid / water was 12 / 4.1 / 100 (weight ratio) for a residence time of 70 seconds, followed by iodine. Potassium iodide / boric acid / water was immersed in a cross-linking bath at 40 ° C. of 9 / 2.9 / 100 (weight ratio) with a residence time of 13 seconds (cross-linking step). In the dyeing step and the cross-linking step, longitudinal uniaxial stretching was performed by stretching between rolls in a bath. The total draw ratio based on the raw film was 5.4 times. Next, the film drawn from the crosslinked bath was immersed in a washing bath made of pure water at 5 ° C. for a residence time of 3 seconds (washing step), and then introduced into a first heating furnace capable of controlling humidity. A high-temperature and high-humidity treatment was performed with a residence time of 190 seconds (high-temperature and high-humidity treatment step) to obtain a polarizer layer (PVA) having a thickness of 12.1 μm.
(接着剤組成物)
水:100重量部、ポリビニルアルコール樹脂粉末(株式会社クラレ製、平均重合度18000、商品名:KL−318):3重量部、ポリアミドエポキシ樹脂(架橋剤、住化ケムテックス株式会社製、商品名:SR650(30)):1.5重量部を混合し、接着剤組成物を得た。
(Adhesive composition)
Water: 100 parts by weight, polyvinyl alcohol resin powder (manufactured by Kuraray Co., Ltd., average degree of polymerization 18,000, trade name: KL-318): 3 parts by weight, polyamide epoxy resin (crosslinking agent, manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd., product name: SR650 (30)): 1.5 parts by weight was mixed to obtain an adhesive composition.
(「基材フィルム/偏光子層」からなる積層体の作製)
偏光子層と基材フィルムに、コロナ処理を施した。コロナ処理の条件は、出力0.3kW、処理速度3m/分とした。その後、接着剤組成物を介してこれらを貼合して、60℃で2分間乾燥することで、「基材フィルム/偏光子層」からなる積層体を得た。
(Preparation of a laminate composed of "base film / polarizer layer")
The polarizer layer and the base film were subjected to corona treatment. The conditions for corona treatment were an output of 0.3 kW and a processing speed of 3 m / min. Then, these were bonded together via an adhesive composition and dried at 60 ° C. for 2 minutes to obtain a laminate composed of a "base film / polarizer layer".
<「基材フィルム/第1配向膜/偏光子層/保護層(OC層)」からなる積層体>
(基材フィルム)
基材フィルムとして、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(コニカミノルタ株式会社製、厚み25μm)を準備した。
<Laminated body composed of "base film / first alignment film / polarizer layer / protective layer (OC layer)">
(Base film)
As a base film, a triacetyl cellulose (TAC) film (manufactured by Konica Minolta Co., Ltd., thickness 25 μm) was prepared.
(配向膜形成用組成物)
ポリマー1は、以下の構造単位からなる光反応性基を有するポリマーである。
GPC測定より、得られたポリマー1の分子量は数平均分子量28200、Mw/Mn1.82を示し、モノマー含有量は0.5%であった。
ポリマー1を濃度5質量%で、シクロペンタノンに溶解した溶液を配向膜形成用組成物として用いた。
(Composition for forming an alignment film)
Polymer 1 is a polymer having a photoreactive group consisting of the following structural units.
From the GPC measurement, the molecular weight of the obtained polymer 1 showed a number average molecular weight of 28200 and Mw / Mn1.82, and the monomer content was 0.5%.
A solution prepared by dissolving polymer 1 in cyclopentanone at a concentration of 5% by mass was used as a composition for forming an alignment film.
(重合性液晶化合物)
重合性液晶化合物は、式(1−6)で表される重合性液晶化合物[以下、化合物(1−6)ともいう]と式(1−7)で表される重合性液晶化合物[以下、化合物(1−7)ともいう]とを用いた。
(Polymerizable liquid crystal compound)
The polymerizable liquid crystal compound is a polymerizable liquid crystal compound represented by the formula (1-6) [hereinafter, also referred to as compound (1-6)] and a polymerizable liquid crystal compound represented by the formula (1-7) [hereinafter, Also referred to as compound (1-7)].
化合物(1−6)及び化合物(1−7)は、Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays−Bas、115、321−328(1996)記載の方法により合成した。 Compound (1-6) and compound (1-7) are described in Lub et al. Recl. Trav. Chim. It was synthesized by the method described in Pays-Bas, 115, 321-328 (1996).
(二色性色素)
二色性色素には、下記式(2−1a)、(2−1b)、(2−3a)で示される特開2013−101328号公報の実施例に記載のアゾ色素を用いた。
(Dichroic pigment)
As the dichroic dye, the azo dye described in Examples of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-101328 represented by the following formulas (2-1a), (2-1b) and (2-3a) was used.
(偏光子層形成用組成物)
偏光子層形成用組成物は、化合物(1−6)75質量部、化合物(1−7)25質量部、二色性染料としての上記式(2−1a)、(2−1b)、(2−3a)で示されるアゾ色素各2.5質量部、重合開始剤としての2−ジメチルアミノ−2−ベンジル−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン(Irgacure369、BASFジャパン社製)6質量部、及びレベリング剤としてのポリアクリレート化合物(BYK−361N、BYK−Chemie社製)1.2質量部を、溶剤のトルエン400質量部に混合し、得られた混合物を80℃で1時間攪拌することにより調製した。
(Composition for forming a polarizer layer)
The composition for forming the polarizer layer has 75 parts by mass of the compound (1-6), 25 parts by mass of the compound (1-7), and the above formulas (2-1a), (2-1b), as bicolor dyes. 2.5 parts by mass of each of the azo dyes shown in 2-3a), 2-dimethylamino-2-benzyl-1- (4-morpholinophenyl) butane-1-one as a polymerization initiator (Irgacure 369, manufactured by BASF Japan) ) 6 parts by mass and 1.2 parts by mass of a polyacrylate compound (BYK-361N, manufactured by BYK-Chemie) as a leveling agent are mixed with 400 parts by mass of toluene as a solvent, and the obtained mixture is 1 at 80 ° C. Prepared by stirring for hours.
(保護層(OC層)用組成物)
保護層用組成物は、水100質量部に対して、ポリビニルアルコール樹脂粉末(株式会社クラレ製、平均重合度18000、商品名:KL−318)3質量部と、ポリアミドエポキシ樹脂(架橋剤、住化ケムテックス株式会社製、商品名:SR650(30))1.5質量部とを混合して調製した。
(Composition for protective layer (OC layer))
The composition for the protective layer contains 3 parts by mass of polyvinyl alcohol resin powder (manufactured by Kuraray Co., Ltd., average degree of polymerization 18000, trade name: KL-318) and polyamide epoxy resin (crosslinking agent, Sumitomo) with respect to 100 parts by mass of water. It was prepared by mixing with 1.5 parts by mass of Kuraray Chemtex Co., Ltd., trade name: SR650 (30)).
(「基材フィルム/第1配向膜/偏光子層/保護層(OC層)」からなる積層体の作製)
基材フィルムにコロナ処理を施した。コロナ処理の条件は、出力0.3kW、処理速度3m/分とした。その後、基材フィルム上に、配向膜形成用組成物をバーコート法により塗布し、80℃の乾燥オーブン中で1分間加熱乾燥した。得られた乾燥被膜に偏光UV照射処理を施して第1配向膜を形成した。偏光UV処理は、UV照射装置(SPOT CURE SP−7;ウシオ電機株式会社製)から照射される光を、ワイヤーグリッド(UIS−27132##、ウシオ電機株式会社製)を透過させて、波長365nmで測定した積算光量が100mJ/cm2である条件で行った。第1配向膜の厚みは100nmであった。
(Preparation of a laminate composed of "base film / first alignment film / polarizer layer / protective layer (OC layer)")
The base film was corona-treated. The conditions for corona treatment were an output of 0.3 kW and a processing speed of 3 m / min. Then, the composition for forming an alignment film was applied onto the base film by the bar coating method, and dried by heating in a drying oven at 80 ° C. for 1 minute. The obtained dry film was subjected to polarized UV irradiation treatment to form a first alignment film. In the polarized UV treatment, the light emitted from the UV irradiation device (SPOT CURE SP-7; manufactured by Ushio, Inc.) is transmitted through a wire grid (UIS-27132 ##, manufactured by Ushio, Inc.) to have a wavelength of 365 nm. The test was performed under the condition that the integrated light amount measured in 1 was 100 mJ / cm 2 . The thickness of the first alignment film was 100 nm.
形成した第1配向膜上に、偏光子層形成用組成物をバーコート法により塗布し、120℃の乾燥オーブンにて1分間加熱乾燥した後、室温まで冷却した。上記UV照射装置を用いて、積算光量1200mJ/cm2(365nm基準)で紫外線を、乾燥被膜に照射することにより、偏光子層を形成した。得られた偏光子層の厚みをレーザー顕微鏡(オリンパス株式会社社製 OLS3000)により測定したところ、1.8μmであった。このようにして、「基材フィルム/第1配向膜/偏光子層」からなる積層体を得た。 The composition for forming a polarizer layer was applied onto the formed first alignment film by a bar coating method, heated and dried in a drying oven at 120 ° C. for 1 minute, and then cooled to room temperature. A polarizer layer was formed by irradiating the dry film with ultraviolet rays at an integrated light amount of 1200 mJ / cm 2 (365 nm standard) using the above UV irradiation device. The thickness of the obtained polarizing element layer was measured with a laser microscope (OLS3000 manufactured by Olympus Corporation) and found to be 1.8 μm. In this way, a laminate composed of "base film / first alignment film / polarizer layer" was obtained.
形成した偏光子層上に、保護層(OC層)用組成物をバーコート法により塗布し、乾燥後の厚みが1.0μmとなるように塗工し、温度80℃で3分間乾燥した。このようにして、「基材フィルム/第1配向膜/偏光子層/保護層(OC層)」からなる積層体を得た。 The composition for a protective layer (OC layer) was applied onto the formed polarizer layer by a bar coating method, coated so that the thickness after drying was 1.0 μm, and dried at a temperature of 80 ° C. for 3 minutes. In this way, a laminate composed of "base film / first alignment film / polarizer layer / protective layer (OC layer)" was obtained.
<「基材フィルム/保護層(HC層)/第1配向膜/偏光子層/保護層(OC層)」からなる積層体>
(基材フィルム)
基材フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み100μm)を準備した。
<Laminated body composed of "base film / protective layer (HC layer) / first alignment film / polarizer layer / protective layer (OC layer)">
(Base film)
A polyethylene terephthalate (PET) film (
(保護層(HC層)用組成物)
18官能のアクリル基を有するデンドリマーアクリレート(Miramer SP1106、Miwon)2.8質量部と、6官能のアクリル基を有するウレタンアクリレート(Miramer PU−620D、Miwon)6.6質量部と、光重合開始剤(Irgacure−184、BASF)0.5質量部と、レベリング剤(BYK−3530、BYK)0.1質量部と、メチルエチルケトン(MEK)90質量部と混合して、保護層(HC層)用組成物を調製した。
(Composition for protective layer (HC layer))
2.8 parts by mass of dendrimer acrylate (Miramer SP1106, Miwon) having an 18-functional acrylic group, 6.6 parts by mass of urethane acrylate (Miramer PU-620D, Miwon) having a hexafunctional acrylic group, and a photopolymerization initiator. Composition for protective layer (HC layer) by mixing 0.5 parts by mass of (Irgacure-184, BASF), 0.1 parts by mass of leveling agent (BYK-3530, BYK), and 90 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK). The thing was prepared.
配向膜形成用組成物、偏光子層形成用組成物及び保護層(OC層)用組成物は、上記<「基材フィルム/第1配向膜/偏光子層/保護層(OC層)」からなる積層体>の項に記載の組成物をそれぞれ用いた。 The composition for forming an alignment film, the composition for forming a polarizer layer, and the composition for a protective layer (OC layer) are described in the above <"Base film / First alignment film / Polarizer layer / Protective layer (OC layer)". Each of the compositions described in the section of>
(「基材フィルム/保護層(HC層)/第1配向膜/偏光子層/保護層(OC層)」からなる積層体の作製)
基材フィルムに、保護層(HC層)用組成物をバーコート法により塗布し、80℃の乾燥オーブン中で3分間加熱乾燥した。得られた乾燥被膜にUV照射装置(SPOT CURE SP−7、ウシオ電機株式会社製)を用いて、露光量500mJ/cm2(365nm基準)のUV光を照射して保護層(HC層)を形成した。保護層(HC層)層の厚みをレーザー顕微鏡(オリンパス株式会社製OLS3000)により測定したところ、2.0μmであった。このようにして、「基材フィルム/保護層(HC層)」からなる積層体を得た。
(Preparation of a laminate composed of "base film / protective layer (HC layer) / first alignment film / polarizer layer / protective layer (OC layer)")
The composition for the protective layer (HC layer) was applied to the base film by the bar coating method, and dried by heating in a drying oven at 80 ° C. for 3 minutes. A UV irradiation device (SPOT CURE SP-7, manufactured by Ushio, Inc.) was used to irradiate the obtained dry film with UV light having an exposure of 500 mJ / cm 2 (365 nm standard) to form a protective layer (HC layer). Formed. The thickness of the protective layer (HC layer) was measured with a laser microscope (OLS3000 manufactured by Olympus Corporation) and found to be 2.0 μm. In this way, a laminate composed of a "base film / protective layer (HC layer)" was obtained.
「基材フィルム/保護層(HC層)」からなる積層体の保護層(HC層)側にコロナ処理を1回施した。コロナ処理の条件は、出力0.3kW、処理速度3m/分とした。その後、保護層(HC層)上に、配向膜形成用組成物をバーコート法により塗布し、80℃の乾燥オーブン中で1分間加熱乾燥した。得られた乾燥被膜に偏光UV照射処理を施して第1配向膜を形成した。偏光UV処理は、UV照射装置(SPOT CURE SP−7;ウシオ電機株式会社製)から照射される光を、ワイヤーグリッド(UIS−27132##、ウシオ電機株式会社製)を透過させて、波長365nmで測定した積算光量が100mJ/cm2である条件で行った。第1配向膜の厚みは100nmであった。 The corona treatment was applied once to the protective layer (HC layer) side of the laminate composed of the "base film / protective layer (HC layer)". The conditions for corona treatment were an output of 0.3 kW and a processing speed of 3 m / min. Then, the composition for forming an alignment film was applied onto the protective layer (HC layer) by the bar coating method, and dried by heating in a drying oven at 80 ° C. for 1 minute. The obtained dry film was subjected to polarized UV irradiation treatment to form a first alignment film. In the polarized UV treatment, the light emitted from the UV irradiation device (SPOT CURE SP-7; manufactured by Ushio, Inc.) is transmitted through a wire grid (UIS-27132 ##, manufactured by Ushio, Inc.) to have a wavelength of 365 nm. The test was performed under the condition that the integrated light amount measured in 1 was 100 mJ / cm 2 . The thickness of the first alignment film was 100 nm.
形成した第1配向膜上に、偏光子層形成用組成物をバーコート法により塗布し、120℃の乾燥オーブンにて1分間加熱乾燥した後、室温まで冷却した。上記UV照射装置を用いて、積算光量1200mJ/cm2(365nm基準)で紫外線を、乾燥被膜に照射することにより、偏光子層を形成した。得られた偏光子層の厚みをレーザー顕微鏡(オリンパス株式会社社製 OLS3000)により測定したところ、1.8μmであった。このようにして、「基材フィルム/保護層(HC層)/第1配向膜/偏光子層」からなる積層体を得た。 The composition for forming a polarizer layer was applied onto the formed first alignment film by a bar coating method, heated and dried in a drying oven at 120 ° C. for 1 minute, and then cooled to room temperature. A polarizer layer was formed by irradiating the dry film with ultraviolet rays at an integrated light amount of 1200 mJ / cm 2 (365 nm standard) using the above UV irradiation device. The thickness of the obtained polarizing element layer was measured with a laser microscope (OLS3000 manufactured by Olympus Corporation) and found to be 1.8 μm. In this way, a laminate composed of "base film / protective layer (HC layer) / first alignment film / polarizer layer" was obtained.
形成した偏光層層上に、保護層(OC層)用組成物をバーコート法により塗布し、乾燥後の厚みが1.0μmとなるように塗工し、温度80℃で3分間乾燥した。このようにして、「基材フィルム/保護層(HC層)/第1配向膜/偏光子層/保護層(OC層)」からなる積層体を得た。 The composition for a protective layer (OC layer) was applied onto the formed polarizing layer layer by a bar coating method, coated so that the thickness after drying was 1.0 μm, and dried at a temperature of 80 ° C. for 3 minutes. In this way, a laminate composed of "base film / protective layer (HC layer) / first alignment film / polarizer layer / protective layer (OC layer)" was obtained.
<「基材フィルム/第2配向膜/位相差層」からなる積層体>
(基材フィルム)
基材フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み100μm)を準備した。
<Laminated body consisting of "base film / second alignment film / retardation layer">
(Base film)
A polyethylene terephthalate (PET) film (
配向膜形成用組成物としては、上記<「基材フィルム/第1配向膜/偏光子層/保護層(OC層)」からなる積層体>の項に記載の配向膜形成用組成物を用いた。 As the alignment film forming composition, the alignment film forming composition according to the above <Laminated body composed of "base film / first alignment film / polarizer layer / protective layer (OC layer)"> is used. There was.
(位相差層形成用組成物)
下記に示す各成分を混合し、得られた混合物を80℃で1時間攪拌することにより、位相差層形成用組成物を得た。
下記式で示される化合物b−1:80質量部
(Composition for forming a retardation layer)
Each of the components shown below was mixed, and the obtained mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour to obtain a composition for forming a retardation layer.
Compound b-1 represented by the following formula: 80 parts by mass
下記式で示される化合物b−2:20質量部
Compound b-2: 20 parts by mass represented by the following formula
重合開始剤(Irgacure369、2−ジメチルアミノ−2−ベンジル−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、BASFジャパン社製):6質量部
レベリング剤(BYK−361N、ポリアクリレート化合物、BYK−Chemie社製):0.1質量部
溶剤(シクロペンタノン):400質量部
Polymerization initiator (Irgacure369, 2-dimethylamino-2-benzyl-1- (4-morpholinophenyl) butane-1-one, manufactured by BASF Japan Ltd.): 6 parts by mass leveling agent (BYK-361N, polyacrylate compound, BYK) -Chemie): 0.1 parts by mass Solvent (cyclopentanone): 400 parts by mass
(「基材フィルム/第2配向膜/位相差層」からなる積層体の作製)
基材フィルム上に配向膜形成用組成物をバーコート法により塗布し、80℃の乾燥オーブン中で1分間加熱乾燥した。得られた乾燥被膜に偏光UV照射処理を施して第2配向膜を形成した。偏光UV処理は、上記UV照射装置を用いて、波長365nmで測定した積算光量が100mJ/cm2である条件で行った。また、偏光UVの偏光方向は偏光層の吸収軸に対して45°となるように行った。このようにして、「基材フィルム/第2配向膜」からなる積層体を得た。第2配向膜の厚みは100nmであった。
(Preparation of a laminate composed of "base film / second alignment film / retardation layer")
The composition for forming an alignment film was applied onto the base film by the bar coating method, and dried by heating in a drying oven at 80 ° C. for 1 minute. The obtained dry film was subjected to polarized UV irradiation treatment to form a second alignment film. The polarized UV treatment was carried out under the condition that the integrated light amount measured at a wavelength of 365 nm was 100 mJ / cm 2 using the above UV irradiation device. Further, the polarization direction of the polarized UV was set to 45 ° with respect to the absorption axis of the polarizing layer. In this way, a laminate made of a "base film / second alignment film" was obtained. The thickness of the second alignment film was 100 nm.
「基材フィルム/第2配向膜」からなる積層体の第2配向膜上に、位相差層形成用組成物をバーコート法により塗布し、120℃の乾燥オーブンで1分間加熱乾燥した後、室温まで冷却した。得られた乾燥被膜に、上記UV照射装置を用いて、積算光量1000mJ/cm2(365nm基準)の紫外線を照射することにより、位相差層を形成した。得られた位相差層の厚みをレーザー顕微鏡(オリンパス株式会社製OLS3000)により測定したところ、2.0μmであった。位相差層は、面内方向にλ/4の位相差値を示すλ/4板であった。このようにして、「基材フィルム/第2配向膜/位相差層」からなる積層体を得た。 The composition for forming a retardation layer is applied to the second alignment film of the laminate composed of the "base film / second alignment film" by the bar coating method, and after heating and drying in a drying oven at 120 ° C. for 1 minute, It was cooled to room temperature. A retardation layer was formed by irradiating the obtained dry film with ultraviolet rays having an integrated light intensity of 1000 mJ / cm 2 (365 nm standard) using the above UV irradiation device. The thickness of the obtained retardation layer was measured with a laser microscope (OLS3000 manufactured by Olympus Corporation) and found to be 2.0 μm. The retardation layer was a λ / 4 plate showing a retardation value of λ / 4 in the in-plane direction. In this way, a laminate composed of "base film / second alignment film / retardation layer" was obtained.
<タッチセンサパネル>
基板上に有機高分子膜を塗布し、分離層を形成した。分離層上に有機絶縁膜を塗布し、保護層を形成した。保護層上に透明電極層としてITO透明電極層を形成し、その上に感光性レジストを形成した。その上に、フォトリソグラフィによって選択的にパターニングし、電極パターン層を形成した。感光性レジストを電極パターン層から除去した。その上に、絶縁層を塗布によって形成し、タッチセンサパネルを得た。タッチセンサパネルの絶縁層の上部に保護フィルムを仮着し、分離層を基板から剥離し、「タッチセンサパネル/保護フィルム」からなる積層体を得た。タッチセンサパネルの厚みは4.6μmであった。
<Touch sensor panel>
An organic polymer film was applied onto the substrate to form a separation layer. An organic insulating film was applied on the separation layer to form a protective layer. An ITO transparent electrode layer was formed on the protective layer as a transparent electrode layer, and a photosensitive resist was formed on the ITO transparent electrode layer. On it, an electrode pattern layer was formed by selectively patterning by photolithography. The photosensitive resist was removed from the electrode pattern layer. An insulating layer was formed on the coating layer to obtain a touch sensor panel. A protective film was temporarily attached to the upper part of the insulating layer of the touch sensor panel, and the separation layer was peeled off from the substrate to obtain a laminate made of a "touch sensor panel / protective film". The thickness of the touch sensor panel was 4.6 μm.
<粘着シート>
(粘着剤組成物A)
冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌機を備えた反応器に、アセトン81.8質量部、アクリル酸ブチル98.6質量部、アクリル酸0.4質量部、及びアクリル酸2−ヒドロキシエチル1.0質量部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら、内温を55℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル(重合開始剤)0.14質量部をアセトン10質量部に溶かした溶液を全量添加した。重合開始剤添加1時間後に、単量体を除くアクリル樹脂の濃度が35%になるよう、添加速度17.3質量部/hrでアセトンを連続的に反応器に添加しながら、内温54〜56℃で12時間保温し、最後に酢酸エチルを添加して、アクリル樹脂の濃度が20%となるようにアクリル樹脂溶液Aを調節した。
<Adhesive sheet>
(Adhesive Composition A)
81.8 parts by mass of acetone, 98.6 parts by mass of butyl acrylate, 0.4 parts by mass of acrylic acid, and 2-hydroxyethyl acrylate 1 in a reactor equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirrer. A mixed solution of 0.0 parts by mass was charged, and the internal temperature was raised to 55 ° C. while replacing the air in the apparatus with nitrogen gas to make it oxygen-free. Then, a total amount of a solution prepared by dissolving 0.14 parts by mass of azobisisobutyronitrile (polymerization initiator) in 10 parts by mass of acetone was added. One hour after the addition of the polymerization initiator, the internal temperature was 54 to 54 while continuously adding acetone to the reactor at an addition rate of 17.3 parts by mass / hr so that the concentration of the acrylic resin excluding the monomer became 35%. The temperature was kept at 56 ° C. for 12 hours, and finally ethyl acetate was added to adjust the acrylic resin solution A so that the concentration of the acrylic resin was 20%.
アクリル樹脂溶液Aの不揮発分量アクリル樹脂:100質量部
イソシアネート系化合物:0.4質量部
シラン系化合物:0.5質量部
を混合した。全体固形分濃度が10%になるように酢酸エチルを添加して、粘着剤組成物Aを得た。
上記イソシアネート系化合物は、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液(固形分濃度75%)(東ソー株式会社製、「コロネートL」)を用いた。シラン系化合物は、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、「KBM403」)を用いた。
Non-volatile content of acrylic resin solution A Acrylic resin: 100 parts by mass Isocyanate compound: 0.4 parts by mass Silane compound: 0.5 parts by mass was mixed. Ethyl acetate was added so that the total solid content concentration became 10% to obtain a pressure-sensitive adhesive composition A.
As the isocyanate-based compound, an ethyl acetate solution (solid content concentration 75%) of a trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate (“Coronate L” manufactured by Tosoh Corporation) was used. As the silane compound, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., "KBM403") was used.
(粘着シート「A40」、「A25」、「A15」)
得られた粘着剤組成物Aを離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム(軽剥離フィルムB、厚み38μm)の離型処理面に、アプリケータを利用して乾燥後の厚みが40μmになるように塗布し、100℃で1分間乾燥して、粘着剤層を備えるフィルムを得た。その後、粘着剤層上に、離型処理された別のポリエチレンテレフタレートフィルム(重剥離フィルムA、厚み38μm)を貼合した。その後、温度23℃、相対湿度50%RHの条件で7日間養生させて、粘着シート「A40」を製作した。
(Adhesive sheets "A40", "A25", "A15")
The obtained pressure-sensitive adhesive composition A is applied to the release-treated surface of a polyethylene terephthalate film (light release film B, thickness 38 μm) that has been release-treated so that the thickness after drying is 40 μm using an applicator. Then, it was dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain a film having an adhesive layer. Then, another release-treated polyethylene terephthalate film (heavy release film A, thickness 38 μm) was laminated on the pressure-sensitive adhesive layer. Then, it was cured for 7 days under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% RH to produce an adhesive sheet "A40".
乾燥後の厚みが25μmになるように塗布した以外は、「A40」と同様にして粘着シート「A25」を製作した。 An adhesive sheet "A25" was produced in the same manner as "A40" except that the coating was applied so that the thickness after drying was 25 μm.
乾燥後の厚みが15μmになるように塗布した以外は、「A40」と同様にして粘着シート「A15」を製作した。 An adhesive sheet "A15" was produced in the same manner as "A40" except that the coating was applied so that the thickness after drying was 15 μm.
(粘着剤組成物B)
単量体組成を、アクリル酸ブチル78.6部、メタクリル酸メチル20部、アクリル酸0.4部、及びアクリル酸2−ヒドロキシエチル1.0部に変更した以外は、アクリル樹脂溶液Aと同様にしてアクリル樹脂溶液Bを得た。
(Adhesive Composition B)
Same as acrylic resin solution A except that the monomer composition was changed to 78.6 parts of butyl acrylate, 20 parts of methyl methacrylate, 0.4 parts of acrylic acid, and 1.0 part of 2-hydroxyethyl acrylate. Acrylic resin solution B was obtained.
アクリル樹脂溶液Bの不揮発分量アクリル樹脂:100質量部
イソシアネート系化合物:0.5質量部
シラン系化合物:0.5質量部
を混合した。全体固形分濃度が10%になるように酢酸エチルを添加して、粘着剤組成物Bを得た。イソシアネート系化合物及びシラン系化合物は、粘着剤組成物Aで使用したものと同じものを用いた。
Non-volatile content of acrylic resin solution B Acrylic resin: 100 parts by mass Isocyanate compound: 0.5 parts by mass Silane compound: 0.5 parts by mass was mixed. Ethyl acetate was added so that the total solid content concentration became 10% to obtain a pressure-sensitive adhesive composition B. As the isocyanate-based compound and the silane-based compound, the same ones used in the pressure-sensitive adhesive composition A were used.
(粘着シート「B40」、「B25」、「B15」)
粘着剤組成物Bを用いた以外は上記粘着シート「A40」と同様にして、乾燥後の粘着剤層の厚みが40μm、25μm、15μmとなる粘着シート「B40」、「B25」、「B15」を作製した。
(Adhesive sheets "B40", "B25", "B15")
Adhesive sheets "B40", "B25", "B15" having a thickness of the adhesive layer of 40 μm, 25 μm, and 15 μm after drying in the same manner as the adhesive sheet “A40” except that the adhesive composition B is used. Was produced.
(粘着剤組成物C)
単量体組成を、アクリル酸ブチル61.0部、メタクリル酸メチル37部、アクリル酸1.0部、及びアクリル酸2−ヒドロキシエチル1.0部に変更した以外は、アクリル樹脂溶液Aと同様にしてアクリル樹脂溶液Cを得た。
(Adhesive Composition C)
Same as acrylic resin solution A except that the monomer composition was changed to 61.0 parts of butyl acrylate, 37 parts of methyl methacrylate, 1.0 part of acrylic acid, and 1.0 part of 2-hydroxyethyl acrylate. Acrylic resin solution C was obtained.
アクリル樹脂溶液Cの不揮発分量アクリル樹脂:100質量部
イソシアネート系化合物:3.0質量部
シラン系化合物:0.5質量部
を混合した。全体固形分濃度が10%になるように酢酸エチルを添加して、粘着剤組成物Cを得た。イソシアネート系化合物及びシラン系化合物は、粘着剤組成物Aで使用したものと同じものを用いた。
Non-volatile content of acrylic resin solution C Acrylic resin: 100 parts by mass Isocyanate compound: 3.0 parts by mass Silane compound: 0.5 parts by mass was mixed. Ethyl acetate was added so that the total solid content concentration became 10% to obtain a pressure-sensitive adhesive composition C. As the isocyanate-based compound and the silane-based compound, the same ones used in the pressure-sensitive adhesive composition A were used.
(粘着シート「C25」、「C15」、「C05」)
粘着剤組成物Cを用いた以外は上記粘着シート「A40」と同様にして、乾燥後の粘着剤層の厚みが25μm、15μm、5μmとなる粘着シート「C25」、「C15」、「C05」を作製した。
(Adhesive sheets "C25", "C15", "C05")
Adhesive sheets "C25", "C15", "C05" having a thickness of the adhesive layer of 25 μm, 15 μm, and 5 μm after drying in the same manner as the adhesive sheet “A40” except that the adhesive composition C is used. Was produced.
作製した粘着剤層について、貯蔵弾性率及び層の厚みを下記に従って測定し、評価パラメータA(貯蔵弾性率/層の厚み)を求めた。評価パラメータAとは、A1及びA2の総称である。結果を表1に示す。 With respect to the prepared pressure-sensitive adhesive layer, the storage elastic modulus and the layer thickness were measured according to the following, and the evaluation parameter A (storage elastic modulus / layer thickness) was determined. Evaluation parameter A is a general term for A1 and A2. The results are shown in Table 1.
[層の厚み]
粘着剤層の厚みは、接触式膜厚測定装置(株式会社ニコン製「MS−5C」)を用いて測定した。ただし、偏光子層及び配向膜については、レーザー顕微鏡(オリンパス株式会社製「OLS3000」)を用いて測定した。
[Layer thickness]
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was measured using a contact-type film thickness measuring device (“MS-5C” manufactured by Nikon Corporation). However, the polarizer layer and the alignment film were measured using a laser microscope (“OLS3000” manufactured by Olympus Corporation).
[貯蔵弾性率測定方法]
粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率は、粘弾性測定装置(MCR−301、Anton Paar社)を使用して測定した。厚み25μmの各粘着シートを幅30mm×長さ30mmに裁断した。剥離フィルムを剥がし、厚みが150μmとなるように複数枚積層してガラス板に接合後、測定チップと接着した状態で−20℃から100℃の温度領域で周波数1.0Hz、変形量1%、昇温速度5℃/分の条件下にて測定を行い、温度25℃における貯蔵弾性率を確認した。
[Method for measuring storage elastic modulus]
The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer at a temperature of 25 ° C. was measured using a viscoelasticity measuring device (MCR-301, Antonio Par). Each adhesive sheet having a thickness of 25 μm was cut into a width of 30 mm and a length of 30 mm. After peeling off the release film, laminating a plurality of sheets so as to have a thickness of 150 μm and joining them to a glass plate, the frequency is 1.0 Hz and the amount of deformation is 1% in the temperature range of -20 ° C to 100 ° C in a state of being adhered to the measurement chip. The measurement was carried out under the condition of a temperature rising rate of 5 ° C./min, and the storage elastic modulus at a temperature of 25 ° C. was confirmed.
<前面板>
前面板であるウィンドウフィルムとして、片面にハードコート層を有するポリイミドフィルム(HC−PIフィルム、全体の厚み:70μm、引張弾性率5.6GPa)を用意した。
<Front plate>
As a window film as a front plate, a polyimide film (HC-PI film, overall thickness: 70 μm, tensile elastic modulus 5.6 GPa) having a hard coat layer on one side was prepared.
<背面板>
背面板として、ポリエチレンテレフタレート(PET)基板(厚み38μm、引張弾性率4.5GPa)を用意した。
<Back plate>
As a back plate, a polyethylene terephthalate (PET) substrate (thickness 38 μm, tensile elastic modulus 4.5 GPa) was prepared.
[引張弾性率測定方法]
前面板及び背面板の引張弾性率は次のように測定した。前面板又は背面板から長辺110mm×短辺10mmの長方形の小片をスーパーカッターを用いて切り出した。次いで、引張試験機(株式会社島津製作所製、オートグラフ AG−Xplus試験機)の上下つかみ具で、つかみ具の間隔が5cmとなるように上記測定用サンプルの長辺方向両端を挟み、23℃、相対湿度55%の環境下、引張速度4mm/分で測定用サンプルを測定用サンプルの長さ方向に引張り、得られる応力−ひずみ曲線における20〜40MPa間の直線の傾きから、23℃、相対湿度55%での引張弾性率を算出した。このとき、応力を算出するための厚みは、上記に記載の方法によって測定した。
[Tensile modulus measurement method]
The tensile elastic modulus of the front plate and the back plate was measured as follows. A rectangular small piece having a long side of 110 mm and a short side of 10 mm was cut out from the front plate or the back plate using a super cutter. Next, the upper and lower grippers of a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, Autograph AG-Xplus tester) sandwich both ends of the measurement sample in the long side direction so that the gap between the grippers is 5 cm, and the temperature is 23 ° C. In an environment with a relative humidity of 55%, the measurement sample was pulled in the length direction of the measurement sample at a tensile speed of 4 mm / min, and from the slope of a straight line between 20 and 40 MPa in the obtained stress-strain curve, 23 ° C., relative The tensile elastic modulus at a humidity of 55% was calculated. At this time, the thickness for calculating the stress was measured by the method described above.
<実施例1−1の積層体の製造>
粘着シート「A15」から軽剥離フィルムBを剥離し、「基材フィルム/偏光子層」からなる積層体の偏光子層側に貼合し、積層体A1を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。
<Manufacturing of the laminate of Example 1-1>
The light release film B was peeled off from the pressure-sensitive adhesive sheet "A15" and bonded to the polarizer layer side of the laminate composed of the "base film / polarizer layer" to obtain the laminate A1. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体A1から重剥離フィルムAを剥離し、「基材フィルム/第2配向膜/位相差層」からなる積層体の位相差層側に貼合し、積層体A2を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The heavy release film A was peeled from the laminate A1 and bonded to the retardation layer side of the laminate composed of the "base film / second alignment film / retardation layer" to obtain the laminate A2. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
粘着シート「B15」から軽剥離フィルムBを剥離し、積層体A2から位相差層の形成に用いた基材フィルムと第2配向膜とを剥離した面に貼合し、積層体A3を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The light release film B was peeled from the pressure-sensitive adhesive sheet "B15", and the base film used for forming the retardation layer and the second alignment film were bonded to the peeled surface from the laminate A2 to obtain the laminate A3. .. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
粘着シート「A25」から軽剥離フィルムBを剥離し、前面板のハードコート層を有さない側に貼合し、積層体A4を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The light release film B was peeled from the adhesive sheet "A25" and bonded to the side of the front plate having no hard coat layer to obtain a laminated body A4. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体A4から重剥離フィルムAを剥離し、積層体A3における偏光子層の形成に用いた基材フィルム側に貼合し、積層体A5を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The heavy release film A was peeled from the laminate A4 and bonded to the base film side used for forming the polarizer layer in the laminate A3 to obtain the laminate A5. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体A5から重剥離フィルムAを剥離し、背面板に貼合し、図2に示すような実施例1−1の積層体を得た。図2中、前面板から偏光子層までが第1保護層10、偏光子層下の粘着剤層が第1粘着剤層11、位相差層が介在コーティング層12、位相差層下の粘着剤層が第2粘着剤層13、背面板が第2保護層14である。
The heavy release film A was peeled from the laminate A5 and bonded to the back plate to obtain the laminate of Example 1-1 as shown in FIG. In FIG. 2, the first
<実施例1−2の積層体の製造>
粘着シート「A15」の代わりに「B25」を、「B15」の代わりに「C05」を用いた以外は実施例1−1と同様にして、実施例1−2の積層体を得た。
<Manufacturing of Laminated Body of Example 1-2>
A laminate of Example 1-2 was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that "B25" was used instead of the adhesive sheet "A15" and "C05" was used instead of "B15".
<比較例1−1の積層体の製造>
粘着シート「A15」の代わりに「C05」を、「B15」の代わりに「B25」を用いた以外は実施例1−1と同様にして、比較例1−1の積層体を得た。
<Manufacturing of Laminated Body of Comparative Example 1-1>
A laminate of Comparative Example 1-1 was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that "C05" was used instead of the adhesive sheet "A15" and "B25" was used instead of "B15".
<比較例1−2の積層体の製造>
粘着シート「A15」の代わりに「C15」を、「B15」の代わりに「C05」を用いた以外は実施例1−1と同様にして、比較例1−2の積層体を得た。
<Manufacturing of laminated body of Comparative Example 1-2>
A laminate of Comparative Example 1-2 was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that "C15" was used instead of the adhesive sheet "A15" and "C05" was used instead of "B15".
実施例1−1、1−2、比較例1−1、1−2の積層体に用いられた粘着剤層を表2にまとめる。「A1+A2」、「A2−A1」の値は表2に記載の通りである。積層体について、屈曲性試験を行った結果を表2に示す。 Table 2 summarizes the pressure-sensitive adhesive layers used in the laminates of Examples 1-1 and 1-2 and Comparative Examples 1-1 and 1-2. The values of "A1 + A2" and "A2-A1" are as shown in Table 2. Table 2 shows the results of the flexibility test of the laminated body.
[屈曲性試験]
積層体について、屈曲評価設備(Science Town社製、STS−VRT−500)を用いて、屈曲性を確認する評価試験を行った。図6は、本評価試験の方法を模式的に示す図である。図6に示すように、個別に移動可能な二つの載置台501,502を、間隙Cが2mm(曲率半径1mm)となるように配置し、間隙Cの中心に幅方向の中心が位置するようにし、かつ、第1保護層が上側に位置するようにして積層体を固定して配置した(図6(a))。そして、二つの載置台501,502を位置P1及び位置P2を回転軸の中心として上方に90度回転させて、載置台の間隙Cに対応する積層体の領域に曲げの力を付加した(図6(b))。その後、二つの載置台501,502を元の位置に戻した(図6(a))。以上の一連の操作を完了して、曲げの力の付加回数を1回とカウントした。これを、温度25℃において繰返し行った後、積層体の載置台501,502の間隙Cに対応する領域におけるコーティング層中のクラックの発生の有無を確認した。載置台501,502の移動速度、曲げの力の付加のペースは、いずれの積層体に対する評価試験においても同一の条件とした。
A:曲げの力の付加回数が30万に達してもクラックが発生しなかった。
B:曲げの力の付加回数が20万以上30万未満でクラックが発生した。
C:曲げの力の付加回数が10万以上20万未満でクラックが発生した。
D:曲げの力の付加回数が10万未満でクラックが発生した。
[Flexibility test]
The laminate was subjected to an evaluation test for confirming the flexibility using a bending evaluation facility (STS-VRT-500 manufactured by Science Town). FIG. 6 is a diagram schematically showing the method of this evaluation test. As shown in FIG. 6, two individually movable mounting tables 501 and 502 are arranged so that the gap C is 2 mm (radius of curvature 1 mm), and the center in the width direction is located at the center of the gap C. And the laminated body was fixedly arranged so that the first protective layer was located on the upper side (FIG. 6 (a)). Then, the two mounting tables 501 and 502 were rotated 90 degrees upward with the positions P1 and P2 as the centers of the rotation axes, and a bending force was applied to the region of the laminated body corresponding to the gap C of the mounting tables (FIG. 6 (b)). After that, the two mounting tables 501 and 502 were returned to their original positions (FIG. 6 (a)). After completing the above series of operations, the number of times the bending force was applied was counted as one. After repeating this at a temperature of 25 ° C., it was confirmed whether or not cracks were generated in the coating layer in the region corresponding to the gap C of the mounting tables 501 and 502 of the laminated body. The moving speed of the mounting tables 501 and 502 and the pace of application of the bending force were set to the same conditions in the evaluation test for all the laminated bodies.
A: No cracks occurred even when the number of times the bending force was applied reached 300,000.
B: A crack occurred when the number of times the bending force was applied was 200,000 or more and less than 300,000.
C: A crack occurred when the number of times the bending force was applied was 100,000 or more and less than 200,000.
D: A crack occurred when the number of times the bending force was applied was less than 100,000.
表2中、「A1+A2」について、「A1+A2≦130」を「A」、「130<A1+A2≦230」を「B」、「230<A1+A2≦260」を「C」、「260<A1+A2」を「D」とした。「A2−A1」について、「100≦A2−A1」を「A」、「0≦A2−A1<100」を「B」、「−100≦A2−A1<0」を「C」、「A2−A1<−100」を「D」とした。以下の表についても同様である。 In Table 2, for "A1 + A2", "A1 + A2≤130" is "A", "130 <A1 + A2≤230" is "B", "230 <A1 + A2≤260" is "C", and "260 <A1 + A2" is " It was set as "D". Regarding "A2-A1", "100≤A2-A1" is "A", "0≤A2-A1 <100" is "B", "-100≤A2-A1 <0" is "C", and "A2". -A1 <-100 "was set to" D ". The same applies to the table below.
実施例1−1及び1−2の積層体は、「A1+A2」が230以下であり、「A2−A1」が0以上であった。これらの積層体では、コーティング層のクラックの発生が抑制されていた。また、「A1+A2」が130以下である実施例1−1の積層体では、クラックの発生がより抑制されていた。一方、同じコーティング層を用いているにも関わらず、「A2−A1」が0より小さい比較例1−2の積層体や、「A1+A2」が230より大きい比較例1−2の積層体では、クラックの発生が抑制されていなかった。 In the laminates of Examples 1-1 and 1-2, "A1 + A2" was 230 or less, and "A2-A1" was 0 or more. In these laminates, the occurrence of cracks in the coating layer was suppressed. Further, in the laminated body of Example 1-1 in which "A1 + A2" was 130 or less, the occurrence of cracks was further suppressed. On the other hand, in the laminated body of Comparative Example 1-2 in which "A2-A1" is smaller than 0 and the laminated body of Comparative Example 1-2 in which "A1 + A2" is larger than 230, although the same coating layer is used. The occurrence of cracks was not suppressed.
<実施例2−1の積層体の製造>
粘着シート「C25」から軽剥離フィルムBを剥離し、「基材フィルム/第1配向膜/偏光子層/保護層(OC層)」からなる積層体の保護層(OC層)側に貼合し、積層体B1を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。
<Manufacturing of the laminate of Example 2-1>
The light release film B is peeled off from the adhesive sheet "C25" and bonded to the protective layer (OC layer) side of the laminate composed of "base film / first alignment film / polarizer layer / protective layer (OC layer)". Then, the laminated body B1 was obtained. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体B1から重剥離フィルムAを剥離し、「基材フィルム/第2配向膜/位相差層」からなる積層体の位相差層側に貼合し、積層体B2を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The heavy release film A was peeled from the laminate B1 and bonded to the retardation layer side of the laminate composed of the "base film / second alignment film / retardation layer" to obtain the laminate B2. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
粘着シート「C15」から軽剥離フィルムBを剥離し、積層体B2から位相差層の形成に用いた基材フィルムと第2配向膜とを剥離した面に貼合し、積層体B3を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The light release film B was peeled from the adhesive sheet "C15", and the base film used for forming the retardation layer and the second alignment film were bonded to the peeled surface from the laminate B2 to obtain the laminate B3. .. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
粘着シート「A25」から軽剥離フィルムBを剥離し、前面板のハードコート層を有さない側に貼合し、積層体B4を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The light release film B was peeled from the adhesive sheet "A25" and bonded to the side of the front plate having no hard coat layer to obtain a laminated body B4. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体B4から重剥離フィルムAを剥離し、積層体B3における偏光子層の形成に用いた基材フィルム側に貼合し、積層体B5を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The heavy release film A was peeled from the laminate B4 and bonded to the base film side used for forming the polarizer layer in the laminate B3 to obtain the laminate B5. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体B5から重剥離フィルムAを剥離し、背面板に貼合し、図3に示すような実施例2−1の積層体を得た。図3中、前面板から保護層(OC層)までが第1保護層10、保護層(OC層)下の粘着剤層が第1粘着剤層11、位相差層が介在コーティング層12、位相差層下の粘着剤層が第2粘着剤層13、背面板が第2保護層14である。
The heavy release film A was peeled from the laminate B5 and bonded to the back plate to obtain the laminate of Example 2-1 as shown in FIG. In FIG. 3, the first
<実施例2−2の積層体の製造>
粘着シート「C15」の代わりに「C05」を用いた以外は実施例2−1と同様にして、実施例2−2の積層体を得た。
<Manufacturing of Laminated Body of Example 2-2>
A laminate of Example 2-2 was obtained in the same manner as in Example 2-1 except that "C05" was used instead of the adhesive sheet "C15".
<比較例2−1の積層体の製造>
粘着シート「A25」の代わりに「C05」を、「C25」の代わりに「C15」を、「C15」の代わりに「C05」を用いた以外は実施例2−1と同様にして、比較例2−1の積層体を得た。
<Manufacturing of Laminated Body of Comparative Example 2-1>
Comparative Example in the same manner as in Example 2-1 except that "C05" was used instead of the adhesive sheet "A25", "C15" was used instead of "C25", and "C05" was used instead of "C15". A laminate of 2-1 was obtained.
<比較例2−2の積層体の製造>
粘着シート「A25」の代わりに「C15」を、「C25」の代わりに「C05」を用いた以外は実施例2−1と同様にして、比較例2−2の積層体を得た。
<Manufacturing of Laminated Body of Comparative Example 2-2>
A laminate of Comparative Example 2-2 was obtained in the same manner as in Example 2-1 except that "C15" was used instead of the adhesive sheet "A25" and "C05" was used instead of "C25".
実施例2−1、2−2、比較例2−1、2−2の積層体に用いられた粘着剤層を表3にまとめる。「A1+A2」、「A2−A1」の値は表3に記載の通りである。積層体について、屈曲性試験を行った結果を表3に示す。 Table 3 summarizes the pressure-sensitive adhesive layers used in the laminates of Examples 2-1 and 2-2 and Comparative Examples 2-1 and 2-2. The values of "A1 + A2" and "A2-A1" are as shown in Table 3. Table 3 shows the results of the flexibility test of the laminated body.
実施例2−1及び2−2の積層体は、「A1+A2」が230以下であり、「A2−A1」が0以上であった。これらの積層体では、コーティング層のクラックの発生が抑制されていた。一方、同じコーティング層を用いているにも関わらず、「A1+A2」が230より大きい比較例2−1の積層体や、「A1+A2」が230より大きく、「A2−A1」が0より小さい比較例2−2の積層体では、クラックの発生が抑制されていなかった。 In the laminates of Examples 2-1 and 2-2, "A1 + A2" was 230 or less, and "A2-A1" was 0 or more. In these laminates, the occurrence of cracks in the coating layer was suppressed. On the other hand, although the same coating layer is used, the laminate of Comparative Example 2-1 in which "A1 + A2" is larger than 230, and the comparative example in which "A1 + A2" is larger than 230 and "A2-A1" is smaller than 0. In the 2-2 laminate, the occurrence of cracks was not suppressed.
<実施例3−1の積層体の製造>
粘着シート「A15」の軽剥離フィルムBを剥離し、「基材フィルム/保護層(HC層)/第1配向膜/偏光子層/保護層(OC層)」からなる積層体の保護層(OC層)側に貼合し、積層体C1を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。
<Manufacturing of Laminated Body of Example 3-1>
The light release film B of the adhesive sheet "A15" is peeled off, and the protective layer of the laminated body composed of "base film / protective layer (HC layer) / first alignment film / polarizer layer / protective layer (OC layer)" ( It was bonded to the OC layer) side to obtain a laminated body C1. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体C1から重剥離フィルムAを剥離し、「基材フィルム/第2配向膜/位相差層」からなる積層体の位相差層側に貼合し、積層体C2を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The heavy release film A was peeled from the laminate C1 and bonded to the retardation layer side of the laminate composed of the "base film / second alignment film / retardation layer" to obtain the laminate C2. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
粘着シート「B15」から軽剥離フィルムBを剥離し、積層体C2から位相差層の形成に用いた基材フィルムと第2配向膜とを剥離した面に貼合し、積層体C3を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The light release film B was peeled from the adhesive sheet "B15", and the base film used for forming the retardation layer and the second alignment film were bonded to the peeled surface from the laminate C2 to obtain the laminate C3. .. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
粘着シート「A25」から軽剥離フィルムBを剥離し、前面板のハードコート層を有さない側に貼合し、積層体C4を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The light release film B was peeled from the adhesive sheet "A25" and bonded to the side of the front plate having no hard coat layer to obtain a laminated body C4. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体C4から重剥離フィルムAを剥離し、積層体C3から偏光子層の形成に用いた基材フィルムを剥離した面に貼合し、積層体C5を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The heavy release film A was peeled from the laminate C4, and the base film used for forming the polarizer film from the laminate C3 was bonded to the peeled surface to obtain the laminate C5. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体C5から重剥離フィルムAを剥離し、背面板に貼合し、図4に示すような実施例3−1の積層体を得た。図4中、パターン(a)としては、前面板が第1保護層10、前面板下の粘着剤層が第1粘着剤層11、保護層(HC層)から保護層(OC層)が介在コーティング層12、保護層(OC層)下の粘着剤層が第2粘着剤層13、位相差層から背面板までが第2保護層14と認定される。パターン(b)としては、前面板から保護層(OC層)までが第1保護層10、保護層(OC層)下の粘着剤層が第1粘着剤層11、位相差層が介在コーティング層12、位相差層下の粘着剤層が第2粘着剤層13、背面板が第2保護層14と認定される。
The heavy release film A was peeled off from the laminate C5 and bonded to the back plate to obtain the laminate of Example 3-1 as shown in FIG. In FIG. 4, as the pattern (a), the front plate is the first
<実施例3−2の積層体の製造>
粘着シート「A15」の代わりに「B25」を、「B15」の代わりに「C05」を用いた以外は実施例3−1と同様にして、実施例3−2の積層体を得た。
<Manufacturing of Laminated Body of Example 3-2>
A laminate of Example 3-2 was obtained in the same manner as in Example 3-1 except that "B25" was used instead of the adhesive sheet "A15" and "C05" was used instead of "B15".
<比較例3−1の積層体の製造>
粘着シート「A25」の代わりに「C05」を、「A15」の代わりに「B25」を、「B15」の代わりに「A25」を用いた以外は実施例3−1と同様にして、比較例3−1の積層体を得た。
<Manufacturing of Laminated Body of Comparative Example 3-1>
Comparative Example in the same manner as in Example 3-1 except that "C05" was used instead of the adhesive sheet "A25", "B25" was used instead of "A15", and "A25" was used instead of "B15". A laminate of 3-1 was obtained.
<比較例3−2の積層体の製造>
粘着シート「A25」の代わりに「C25」を、「A15」の代わりに「C15」を、「B15」の代わりに「C05」を用いた以外は実施例3−1と同様にして、比較例3−2の積層体を得た。
<Manufacturing of laminated body of Comparative Example 3-2>
Comparative Example in the same manner as in Example 3-1 except that "C25" was used instead of the adhesive sheet "A25", "C15" was used instead of "A15", and "C05" was used instead of "B15". A 3-2 laminate was obtained.
実施例3−1、3−2、比較例3−1、3−2の積層体に用いられた粘着剤層を表4にまとめる。「A1+A2」、「A2−A1」の値は表4に記載の通りである。積層体について、屈曲性試験を行った結果を表4に示す。 Table 4 summarizes the pressure-sensitive adhesive layers used in the laminates of Examples 3-1 and 3-2 and Comparative Examples 3-1 and 3-2. The values of "A1 + A2" and "A2-A1" are as shown in Table 4. Table 4 shows the results of the flexibility test of the laminated body.
実施例3−1及び3−2の積層体は、積層体をパターン(a)及び(b)のどちらで認識したときでも、「A1+A2」が230以下であり、「A2−A1」が0以上であった。これらの積層体では、クラックの発生が抑制されていた。一方、積層体をパターン(a)及び(b)のどちらで認識したときでも、「A2−A1」が0より小さい比較例3−1の積層体では、クラックの発生が抑制されていなかった。比較例3−2の積層体は、パターン(a)で認識したときには、「A1+A2」が230以下、「A2−A1」が0以上であったが、パターン(b)で認識したときには、「A1+A2」が230よりも大きかった。比較例3−2の積層体では、屈曲によるクラックの発生は抑制されていなかった。 In the laminates of Examples 3-1 and 3-2, "A1 + A2" is 230 or less and "A2-A1" is 0 or more regardless of whether the laminate is recognized by the patterns (a) or (b). Met. In these laminated bodies, the occurrence of cracks was suppressed. On the other hand, when the laminated body was recognized by either the pattern (a) or (b), the occurrence of cracks was not suppressed in the laminated body of Comparative Example 3-1 in which "A2-A1" was smaller than 0. In the laminated body of Comparative Example 3-2, "A1 + A2" was 230 or less and "A2-A1" was 0 or more when recognized by the pattern (a), but "A1 + A2" was recognized by the pattern (b). Was greater than 230. In the laminated body of Comparative Example 3-2, the generation of cracks due to bending was not suppressed.
<実施例4−1の積層体の製造>
粘着シート「A15」から軽剥離フィルムBを剥離し、「基材フィルム/保護層(HC層)/第1配向膜/偏光子層/保護層(OC層)」からなる積層体の保護層(OC層)側に貼合し、積層体D1を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。
<Manufacturing of Laminated Body of Example 4-1>
The light release film B is peeled off from the adhesive sheet "A15", and the protective layer (OC layer) of the laminate composed of "base film / protective layer (HC layer) / first alignment film / polarizer layer / protective layer (OC layer)". It was bonded to the OC layer) side to obtain a laminated body D1. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体D1から重剥離フィルムAを剥離し、「基材フィルム/第2配向膜/位相差層」からなる積層体の位相差層側に貼合し、積層体D2を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The heavy release film A was peeled from the laminate D1 and bonded to the retardation layer side of the laminate composed of the "base film / second alignment film / retardation layer" to obtain the laminate D2. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
粘着シート「B25」から軽剥離フィルムBを剥離し、積層体D2から位相差層の形成に用いた基材フィルムと第2配向膜とを剥離した面に貼合し、積層体D3を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The light release film B was peeled from the pressure-sensitive adhesive sheet "B25", and the base film used for forming the retardation layer and the second alignment film were bonded to the peeled surface from the laminate D2 to obtain a laminate D3. .. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
粘着シート「A25」から軽剥離フィルムBを剥離し、前面板のハードコート層を有さない側に貼合し、積層体D4を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The light release film B was peeled off from the adhesive sheet "A25" and bonded to the side of the front plate having no hard coat layer to obtain a laminated body D4. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体D4から重剥離フィルムAを剥離し、積層体D3から偏光子層の形成に用いた基材フィルムを剥離した面に貼合し、積層体D5を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The heavy release film A was peeled from the laminate D4, and the base film used for forming the polarizer film from the laminate D3 was bonded to the peeled surface to obtain a laminate D5. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体D5から重剥離フィルムAを剥離し、タッチセンサパネルの分離層側に貼合し、積層体D6を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The heavy release film A was peeled from the laminate D5 and bonded to the separation layer side of the touch sensor panel to obtain a laminate D6. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
粘着シート「B15」から軽剥離フィルムBを剥離し、積層体D6からタッチセンサパネルの保護フィルムを剥離し他面に貼合し、積層体D7を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理(出力0.3kW、速度3m/分)を行った。 The light release film B was peeled off from the adhesive sheet "B15", the protective film of the touch sensor panel was peeled off from the laminated body D6, and the protective film was bonded to the other surface to obtain the laminated body D7. The bonded surface was previously subjected to double-sided corona treatment (output 0.3 kW, speed 3 m / min).
積層体D7から重剥離フィルムAを剥離し、背面板に貼合し、図5に示すような実施例4−1の積層体を得た。図5中、パターン(a)としては、前面板が第1保護層10、前面板下の粘着剤層が第1粘着剤層11、保護層(HC層)から保護層(OC)が介在コーティング層12、保護層(OC)下の粘着剤層が第2粘着剤層13、位相差層から背面板までが第2保護層14と認定される。パターン(b)としては、前面板から保護層(OC層)までが第1保護層10、保護層(OC層)下の粘着剤層が第1粘着剤層11、位相差層が介在コーティング層12、位相差層下の粘着剤層が第2粘着剤層13、タッチセンサパネルから背面板が第2保護層14と認定される。パターン(c)としては、前面板から位相差層までが第1保護層10、位相差層下の粘着剤層が第1粘着剤層11、タッチセンサパネルが介在コーティング層12、タッチセンサパネル下の粘着剤層が第2粘着剤層13、背面板が第2保護層14と認定される。
The heavy release film A was peeled off from the laminate D7 and bonded to the back plate to obtain the laminate of Example 4-1 as shown in FIG. In FIG. 5, as the pattern (a), the front plate is the first
<実施例4−2の積層体の製造>
粘着シート「A15」の代わりに「B25」を、「B25」の代わりに「C25」を、「B15」の代わりに「C05」を用いた以外は実施例4−1と同様にして、実施例4−2の積層体を得た。
<Manufacturing of Laminated Body of Example 4-2>
Examples were the same as in Example 4-1 except that "B25" was used instead of the adhesive sheet "A15", "C25" was used instead of "B25", and "C05" was used instead of "B15". A laminate of 4-2 was obtained.
<比較例4−1の積層体の製造>
粘着シート「A25」の代わりに「C05」を、「A15」の代わりに「C25」を、「B15」の代わりに「A25」を用いた以外は実施例4−1と同様にして、比較例4−1の積層体を得た。
<Manufacturing of Laminated Body of Comparative Example 4-1>
Comparative Example in the same manner as in Example 4-1 except that "C05" was used instead of the adhesive sheet "A25", "C25" was used instead of "A15", and "A25" was used instead of "B15". A 4-1 laminate was obtained.
<比較例4−2の積層体の製造>
粘着シート「A25」の代わりに「B25」を、「A15」の代わりに「C25」を、「B25」の代わりに「C15」を、「B15」の代わりに「C05」を用いた以外は実施例4−1と同様にして、比較例4−2の積層体を得た。
<Manufacturing of Laminated Body of Comparative Example 4-2>
Implemented except that "B25" was used instead of the adhesive sheet "A25", "C25" was used instead of "A15", "C15" was used instead of "B25", and "C05" was used instead of "B15". A laminate of Comparative Example 4-2 was obtained in the same manner as in Example 4-1.
実施例4−1、4−2、比較例4−1、4−2の積層体に用いられた粘着剤層を表5にまとめる。「A1+A2」、「A2−A1」の値は表5に記載の通りである。積層体について、屈曲性試験を行った結果を表5に示す。 Table 5 summarizes the pressure-sensitive adhesive layers used in the laminates of Examples 4-1 and 4-2 and Comparative Examples 4-1 and 4-2. The values of "A1 + A2" and "A2-A1" are as shown in Table 5. Table 5 shows the results of the flexibility test of the laminated body.
実施例4−1及び4−2の積層体は、積層体をパターン(a)〜(c)のいずれで認識したときでも、「A1+A2」が230以下であり、「A2−A1」が0以上であった。これらの積層体では、クラックの発生が抑制されていた。また、いずれのパターンでも「A1+A2」が130以下である実施例4−1の積層体では、クラックの発生がより抑制されていた。一方、積層体をパターン(a)〜(c)のいずれで認識したときでも、「A2−A1」が0より小さい比較例4−1の積層体では、クラックの発生が抑制されていなかった。比較例4−2の積層体は、パターン(a)及び(b)で認識したときには、「A1+A2」が230以下、「A2−A1」が0以上であったが、パターン(c)で認識したときには、「A1+A2」が230よりも大きかった。比較例4−2の積層体では、屈曲によるクラックの発生は抑制されていなかった。 In the laminated body of Examples 4-1 and 4-2, "A1 + A2" is 230 or less and "A2-A1" is 0 or more even when the laminated body is recognized by any of the patterns (a) to (c). Met. In these laminated bodies, the occurrence of cracks was suppressed. Further, in the laminated body of Example 4-1 in which "A1 + A2" was 130 or less in any of the patterns, the occurrence of cracks was further suppressed. On the other hand, when the laminated body was recognized by any of the patterns (a) to (c), the occurrence of cracks was not suppressed in the laminated body of Comparative Example 4-1 in which "A2-A1" was smaller than 0. When the laminate of Comparative Example 4-2 was recognized by the patterns (a) and (b), "A1 + A2" was 230 or less and "A2-A1" was 0 or more, but it was recognized by the pattern (c). Occasionally, "A1 + A2" was greater than 230. In the laminated body of Comparative Example 4-2, the generation of cracks due to bending was not suppressed.
100 積層体、10 第1保護層、11 第1粘着剤層、12 介在コーティング層、13 第2粘着剤層、14 第2保護層、501,502 ステージ。 100 laminates, 10 first protective layer, 11 first adhesive layer, 12 intervening coating layer, 13 second adhesive layer, 14 second protective layer, 501,502 stages.
Claims (7)
各層は互いに接しており、
前記第1粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率をG’1〔kPa〕とし、前記第2粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率をG’2〔kPa〕とし、前記第1粘着剤層の厚みをa1〔μm〕とし、前記第2粘着剤層の厚みをa2〔μm〕としたときに、下記式(1)及び式(2):
A1=G’1/a1 (1)
A2=G’2/a2 (2)
で表される評価パラメータA1及びA2は、下記式(3)及び式(4):
A1+A2≦230 (3)
A2−A1≧0 (4)
を満たす、積層体。 A laminate including a first protective layer, a first pressure-sensitive adhesive layer, an intervening coating layer, a second pressure-sensitive adhesive layer, and a second protective layer in this order.
Each layer is in contact with each other
The storage elastic modulus of the first pressure-sensitive adhesive layer at a temperature of 25 ° C. is G'1 [kPa], and the storage elastic modulus of the second pressure-sensitive adhesive layer at a temperature of 25 ° C. is G'2 [kPa]. When the thickness of the agent layer is a1 [μm] and the thickness of the second pressure-sensitive adhesive layer is a2 [μm], the following formulas (1) and (2):
A1 = G'1 / a1 (1)
A2 = G'2 / a2 (2)
The evaluation parameters A1 and A2 represented by the following equations (3) and (4):
A1 + A2 ≤ 230 (3)
A2-A1 ≧ 0 (4)
A laminate that meets the requirements.
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