JP2020149065A - Laminate for organic el display device and organic el display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、偏光膜を有する折り曲げ可能に構成された光学積層体を含む有機EL表示装置用積層体、そのような有機EL表示装置用積層体を含む折り曲げ可能に構成された有機EL表示装置に関する。 The present invention relates to a laminate for an organic EL display device including a foldable optical laminate having a polarizing film, and a foldable organic EL display device including such a laminate for an organic EL display device. ..
タッチセンサ一体型の有機EL表示装置が、例えば特許文献1に示されるように、従来知られている。特許文献1の有機EL表示装置においては、図1に示されるように、有機EL表示パネル901の視認側に、光学積層体920が設けられ、光学積層体920の視認側にタッチパネル930が設けられている。光学積層体920は、両面に保護膜922−1、922−2が接合された偏光膜921と位相差膜923とを含み、位相差膜923の視認側に偏光膜921が設けられている。また、タッチパネル930は、基材フィルム915−1、915−2と透明導電層912−1、912−2とを積層した構造を有する透明導電フィルム916−1、916−2がスペーサ917を介して配置された構造を有する。
An organic EL display device integrated with a touch sensor is conventionally known, for example, as shown in
一方、近年、より携帯性に優れた有機EL表示装置である折り曲げ可能な有機EL表示装置の実現が期待されている。 On the other hand, in recent years, the realization of a foldable organic EL display device, which is a more portable organic EL display device, is expected.
しかしながら、例えば特許文献1に示されるような従来の有機EL表示装置は、折り曲げることを念頭に設計されているものではない。有機EL表示パネル基材にプラスチックフィルムを用いれば有機EL表示パネルに屈曲性を与えることができるが、有機EL表示パネルに積層される、従来の有機EL表示装置の偏光膜、その保護膜、位相差膜を積層した光学積層体が、有機EL表示装置の屈曲性を阻害する。
However, the conventional organic EL display device as shown in
そこで、本発明は、偏光膜、その保護膜、位相差膜を含む光学積層体に屈曲性を与え、折り曲げ可能とする、該光学積層体を含む有機EL表示装置用積層体、及びそのような有機EL表示装置用積層体を含む折り曲げ可能な有機EL表示装置を実現することを目的とする。 Therefore, the present invention provides an optical laminate including a polarizing film, a protective film thereof, and a retardation film to be flexible and bendable, and a laminate for an organic EL display device including the optical laminate, and such a laminate. An object of the present invention is to realize a bendable organic EL display device including a laminate for an organic EL display device.
本発明の1つの態様は、光学積層体と、第1の応力緩和層とを含み、前記光学積層体は、二色性物質を配向させた厚み12μm以下のポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光膜と、前記偏光膜の第1の面に接合された透明樹脂材料の保護膜と、前記偏光膜の前記第1の面とは異なる第2の面に接合された位相差膜とを含み、前記第1の応力緩和層は、25℃における貯蔵弾性率が、0.05〜0.15MPaであり、前記保護膜に対して前記位相差膜とは反対側に配置され、前記光学積層体の厚みは、120μm以下であって該光学積層体が折り曲げ可能に構成されたことを特徴とする有機EL表示装置用積層体を提供するものである。 One aspect of the present invention includes an optical laminate and a first stress relaxation layer, wherein the optical laminate is a polarizing film made of a polyvinyl alcohol-based resin having a thickness of 12 μm or less in which a bicolor substance is oriented. A protective film made of a transparent resin material bonded to the first surface of the polarizing film and a retardation film bonded to a second surface different from the first surface of the polarizing film. The stress relaxation layer No. 1 has a storage elasticity at 25 ° C. of 0.05 to 0.15 MPa, is arranged on the opposite side of the protective film from the retardation film, and has a thickness of the optical laminate. The present invention provides a laminate for an organic EL display device, which is 120 μm or less and is characterized in that the optical laminate is foldable.
本態様の1つの実施形態においては、前記位相差膜に対して前記保護膜とは反対側に、タッチセンサを構成する折り曲げ可能な透明導電層が更に配置されることができる。 In one embodiment of the present embodiment, a bendable transparent conductive layer constituting the touch sensor can be further arranged on the opposite side of the retardation film from the protective film.
この場合において、前記透明導電層に対して前記位相差膜とは反対側に第2の応力緩和層が更に配置されることができる。 In this case, a second stress relaxation layer can be further arranged on the side opposite to the retardation film with respect to the transparent conductive layer.
本態様の1つの実施形態においては、前記保護膜と前記第1の応力緩和層との間に、タッチセンサを構成する折り曲げ可能な透明導電層が更に配置されることができる。 In one embodiment of this aspect, a bendable transparent conductive layer constituting the touch sensor can be further arranged between the protective film and the first stress relaxation layer.
この場合において、前記位相差膜に対して前記保護膜とは反対側に第2の応力緩和層が更に配置されることができる。 In this case, a second stress relaxation layer can be further arranged on the side opposite to the protective film with respect to the retardation film.
本発明の別の態様は、上記の有機EL表示装置用積層体と、折り曲げ可能に構成された有機EL表示パネルとを含み、前記有機EL表示パネルに対して視認側に前記有機EL表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている有機EL表示装置を提供するものである。 Another aspect of the present invention includes the above-mentioned laminate for an organic EL display device and an organic EL display panel configured to be foldable, and is for the organic EL display device on the visual side with respect to the organic EL display panel. It provides an organic EL display device in which a laminate is arranged and is configured to be foldable.
本態様の1つの実施形態においては、前記有機EL表示装置用積層体に対して視認側にウインドウが配置されることができる。 In one embodiment of the present embodiment, the window can be arranged on the visual side with respect to the laminated body for the organic EL display device.
本発明によれば、偏光膜、その保護膜、位相差膜を含む光学積層体に屈曲性を与え、折り曲げ可能とする、該光学積層体を含む有機EL表示装置用積層体、及びそのような有機EL表示装置用積層体を含む折り曲げ可能な有機EL表示装置を実現することができる。 According to the present invention, an optical laminate including a polarizing film, a protective film thereof, and a retardation film is made flexible and bendable, and a laminate for an organic EL display device including the optical laminate, and such a laminate. A foldable organic EL display device including a laminate for an organic EL display device can be realized.
以下、本発明による光学積層体の実施形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the optical laminate according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[有機EL表示装置用積層体]
本発明の有機EL表示装置用積層体は、光学積層体と、第1の応力緩和層と含む。
[Laminate for organic EL display device]
The laminate for an organic EL display device of the present invention includes an optical laminate and a first stress relaxation layer.
[光学積層体]
本発明の光学積層体は、二色性物質を配向させた厚み12μm以下のポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光膜と、前記偏光膜の第1の面に接合された透明樹脂材料の保護膜と、前記偏光膜の前記第1の面とは異なる第2の面に接合された位相差膜とを含む。
[Optical laminate]
The optical laminate of the present invention comprises a polarizing film made of a polyvinyl alcohol-based resin having a thickness of 12 μm or less in which a dichroic substance is oriented, and a protective film of a transparent resin material bonded to the first surface of the polarizing film. It includes a retardation film bonded to a second surface different from the first surface of the polarizing film.
本発明の光学積層体の厚みは、120μm以下である。 The thickness of the optical laminate of the present invention is 120 μm or less.
本発明の光学積層体は、折り曲げ可能に構成されている。 The optical laminate of the present invention is configured to be bendable.
<偏光膜>
本発明の光学積層体に用いる偏光膜は、空中延伸(乾式延伸)やホウ酸水中延伸工程等の延伸工程によって延伸された、ヨウ素を配向させたポリビニルアルコール系樹脂を用いることができる。
<Polarizing film>
As the polarizing film used in the optical laminate of the present invention, an iodine-oriented polyvinyl alcohol-based resin that has been stretched by a stretching step such as aerial stretching (dry stretching) or boric acid water stretching step can be used.
偏光膜の製造方法としては、代表的には、特開2004−341515号公報に記載のあるような、PVA系樹脂の単層体を染色する工程と延伸する工程を含む製法(単層延伸法)がある。また、特開昭51−069644号公報、特開2000−338329号公報、特開2001−343521号公報、国際公開第2010/100917号、特開2012−073563号公報、特開2011−2816号公報に記載のあるような、PVA系樹脂層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法が挙げられる。この製法であれば、PVA系樹脂層が薄くても、延伸用樹脂基材に支持されていることにより延伸による破断などの不具合なく延伸することが可能となる。 As a typical method for producing a polarizing film, a production method including a step of dyeing a single layer of a PVA-based resin and a step of stretching as described in JP-A-2004-341515 (single-layer stretching method). ). In addition, JP-A-51-06644, JP-A-2000-338329, JP-A-2001-343521, International Publication No. 2010/100917, JP-A-2012-073563, JP-A-2011-2816 Examples thereof include a manufacturing method including a step of stretching a PVA-based resin layer and a resin base material for stretching in a laminated state and a step of dyeing as described in 1. With this manufacturing method, even if the PVA-based resin layer is thin, it can be stretched without problems such as breakage due to stretching because it is supported by the stretching resin base material.
積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法には、上述の特開昭51−069644号公報、特開2000−338329号公報、特開2001−343521号公報に記載のあるような空中延伸(乾式延伸)法がある。そして、高倍率に延伸できて偏光性能を向上させることのできる点で、国際公開第2010/100917号、特開2012−073563号公報に記載のあるような、ホウ酸水溶液中で延伸する工程を含む製法が好ましく、特に特開2012−073563号公報のようなホウ酸水溶液中で延伸する前に空中補助延伸を行う工程を含む製法(2段延伸法)が好ましい。また、特開2011−2816号公報に記載のあるような、PVA系樹脂層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸した後に、PVA系樹脂層を過剰に染色し、その後脱色する製法(過剰染色脱色法)も好ましい。本発明の光学積層体に用いる偏光膜は、上述のようなヨウ素を配向させたポリビニルアルコール系樹脂からなり、空中補助延伸とホウ酸水中延伸とからなる2段延伸工程で延伸された偏光膜とすることができる。また、本発明の光学積層体に用いる偏光膜は、上述のようなヨウ素を配向させたポリビニルアルコール系樹脂からなり、延伸されたPVA系樹脂層と延伸用樹脂基材の積層体を過剰に染色し、その後脱色することにより作製された偏光膜とすることができる。 The production method including the step of stretching in the state of the laminated body and the step of dyeing is as described in JP-A-51-069644, JP-A-2000-338329, and JP-A-2001-343521 described above. There is an aerial stretching (dry stretching) method. Then, in that it can be stretched at a high magnification and the polarization performance can be improved, a step of stretching in an aqueous boric acid solution as described in International Publication No. 2010/100917 and JP2012-0756363 is performed. A production method including the above is preferable, and a production method (two-stage stretching method) including a step of performing auxiliary stretching in the air before stretching in an aqueous boric acid solution as in JP-A-2012-0756363 is particularly preferable. Further, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-2816, a manufacturing method in which a PVA-based resin layer and a stretching resin base material are stretched in a laminated state, the PVA-based resin layer is excessively dyed, and then decolorized. (Excessive dyeing and decolorization method) is also preferable. The polarizing film used in the optical laminate of the present invention is made of a polyvinyl alcohol-based resin in which iodine is oriented as described above, and is a polarizing film stretched in a two-step stretching step consisting of auxiliary stretching in the air and stretching in boric acid in water. can do. Further, the polarizing film used for the optical laminate of the present invention is made of a polyvinyl alcohol-based resin in which iodine is oriented as described above, and the laminated body of the stretched PVA-based resin layer and the stretching resin base material is excessively dyed. Then, the polarizing film produced by decoloring can be obtained.
本発明の光学積層体に用いる偏光膜の厚さは、12μm以下であり、好ましくは9μm以下であり、より好ましくは6μm以下であり、さらに好ましくは5μm以下である。 The thickness of the polarizing film used in the optical laminate of the present invention is 12 μm or less, preferably 9 μm or less, more preferably 6 μm or less, and further preferably 5 μm or less.
<位相差膜>
本発明の光学積層体に用いる位相差膜は、高分子フィルムを延伸させて得られるものや液晶材料を配向、固定化させたものを用いることができる。本明細書において、位相差膜は、面内及び/又は厚み方向に複屈折を有するものをいう。
<Phase difference film>
As the retardation film used for the optical laminate of the present invention, one obtained by stretching a polymer film or one in which a liquid crystal material is oriented and immobilized can be used. In the present specification, the retardation film has birefringence in the in-plane and / or thickness direction.
位相差膜としては、反射防止用位相差膜(特開2012−133303号公報〔0221〕、〔0222〕〔0228〕参照)、視野角補償用相差膜(特開2012−133303号公報〔0225〕、〔0226〕参照)、視野角補償用の傾斜配向位相差膜(特開2012−133303号公報〔0227〕参照)等が挙げられる。 Examples of the retardation film include an antireflection retardation film (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-133303 [0221] and [0222] [0228]) and a viewing angle compensation retardation film (Japanese Patent Laid-Open No. 2012-133303 [0225]. , [0226]), tilt-oriented retardation film for viewing angle compensation (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-133303 [0227]), and the like.
位相差膜としては、実質的に上記の機能を有するものであれば、例えば、位相差値、配置角度、3次元複屈折率、単層か多層かなどは特に限定されず公知の位相差膜を使用することができる。 As the retardation film, as long as it has substantially the above-mentioned functions, for example, the retardation value, the arrangement angle, the three-dimensional double refractive index, and whether it is a single layer or a multilayer are not particularly limited and are known retardation films. Can be used.
本明細書において、Re[550]とは、23℃における波長550nmの光で測定した面内の位相差値をいう。Re[550]は、波長550nmにおける位相差膜の遅相軸方向、進相軸方向の屈折率を、それぞれnx、nyとし、d(nm)を位相差膜の厚みとしたとき、式:Re[550]=(nx−ny)×dによって求めることができる。なお、遅相軸とは面内の屈折率の最大となる方向をいう。 As used herein, Re [550] refers to an in-plane retardation value measured with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. In Re [550], when the refractive indexes of the retardation film in the slow axis direction and the phase advance axis direction at a wavelength of 550 nm are nx and ny, respectively, and d (nm) is the thickness of the retardation film, the formula: Re It can be obtained by [550] = (nx-ny) × d. The slow axis refers to the direction in which the in-plane refractive index is maximized.
本発明のnx−nyである面内複屈折Δnは、0.002〜0.2、好ましくは0.0025〜0.15である。 The in-plane birefringence Δn, which is nx-ny of the present invention, is 0.002 to 0.2, preferably 0.0025 to 0.15.
上記位相差膜は、好ましくは23℃において、波長550nmの光で測定した面内の位相差値(Re[550])が、波長450nmの光で測定した面内の位相差値(Re[450])よりも大きい。このような波長分散特性を有する位相差膜は、前記比率がこの範囲であれば、長波長ほど位相差が発現し、可視領域の各波長において理想的な位相差特性を得ることができる。例えば、有機ELディスプレイに用いた場合、1/4波長板としてこのような波長依存性を有する位相差膜を作製し、偏光板と貼り合わせることにより、円偏光板等を作製することができ、色相の波長依存性が少ない、ニュートラルな偏光板および表示装置の実現が可能である。一方、前記比率がこの範囲外の場合には、反射色相の波長依存性が大きくなり、偏光板や表示装置に着色の問題が生じる。 In the above retardation film, the in-plane retardation value (Re [550]) measured with light having a wavelength of 550 nm is preferably the in-plane retardation value (Re [450]) measured with light having a wavelength of 450 nm at 23 ° C. ]) Greater than. When the ratio of the retardation film having such a wavelength dispersion characteristic is in this range, the longer the wavelength, the more the retardation appears, and the ideal retardation characteristic can be obtained at each wavelength in the visible region. For example, when used for an organic EL display, a circular polarizing plate or the like can be produced by producing a retardation film having such a wavelength dependence as a 1/4 wave plate and bonding it with a polarizing plate. It is possible to realize a neutral polarizing plate and a display device with less wavelength dependence of hue. On the other hand, when the ratio is out of this range, the wavelength dependence of the reflected hue becomes large, and a problem of coloring occurs in the polarizing plate and the display device.
上記位相差膜のRe[550]とRe[450]の比(Re[450]/Re[550])は、0.8 以上1.0未満、より好ましくは0.8〜0.95である。 The ratio of Re [550] to Re [450] (Re [450] / Re [550]) of the retardation film is 0.8 or more and less than 1.0, more preferably 0.8 to 0.95. ..
上記位相差膜は、好ましくは23℃において、波長550nmの光で測定した面内の位相差値(Re[550])が、波長650nmの光で測定した面内の位相差値(Re[650])よりも小さい。このような波長分散特性を有する位相差膜は、赤色の領域で位相差値が一定になり、例えば、液晶表示装置に用いた場合に、見る角度によって光漏れが生じる現象や、表示画像が赤味を帯びる現象(レッドイッシュ現象ともいう)を改善することができる。 In the above retardation film, the in-plane retardation value (Re [550]) measured with light having a wavelength of 550 nm is preferably the in-plane retardation value (Re [650]) measured with light having a wavelength of 650 nm at 23 ° C. ]) Is smaller than. A retardation film having such wavelength dispersion characteristics has a constant retardation value in the red region. For example, when used in a liquid crystal display device, a phenomenon that light leakage occurs depending on the viewing angle and a red display image are displayed. It is possible to improve the phenomenon of taking on a taste (also called the redish phenomenon).
上記位相差膜のRe[650]とRe[550]の比(Re[550]/Re[650])は、0.8以上1.0未満、好ましくは0.8〜097である。Re[550]/Re[650]を上記の範囲とすることによって、例えば、上記位相差膜を有機ELディスプレイに用いた場合に、より一層優れた表示特性を得ることができる。 The ratio of Re [650] to Re [550] (Re [550] / Re [650]) of the retardation film is 0.8 or more and less than 1.0, preferably 0.8 to 097. By setting Re [550] / Re [650] in the above range, even more excellent display characteristics can be obtained, for example, when the retardation film is used for an organic EL display.
Re[450]、Re[550]、Re[650]は、Axometrics社製 製品名「AxoScan」を用いて測定することができる。 Re [450], Re [550], and Re [650] can be measured using the product name "AxoScan" manufactured by Axometrics.
本明細書において、NZは、厚み方向複屈折であるnx−nzと面内複屈折であるnx−nyとの比をいう(Nz係数ともいう)。 In the present specification, NZ refers to the ratio of nx-nz, which is birefringence in the thickness direction, to nx-ny, which is birefringence in the plane (also referred to as Nz coefficient).
本発明の位相差膜のNZは、0〜1.3、好ましくは0〜1.25、より好ましくは0〜1.2である。 The NZ of the retardation film of the present invention is 0 to 1.3, preferably 0 to 1.25, and more preferably 0 to 1.2.
本発明の位相差膜の屈折率異方性は、nx>ny、好ましくはnx>ny≧nzの関係を満たすことが好ましい。 The refractive index anisotropy of the retardation film of the present invention preferably satisfies the relationship of nx> ny, preferably nx> ny ≧ nz.
例えば、通常縦延伸を行う場合は、フィルムの長手方向の延伸に対し、幅方向が固定されていないため、幅収縮が起こる。そのため、より一軸方向に分子が配向した状態となり、屈折率の関係としては、例えば、nx>ny=nzとなる。この場合は、延伸方向であるフィルムの長手方向の耐折強さは強くなるが、幅方向の耐折強さは非常に弱くなる。これを解決するために、延伸方向に対して交差する角度方向に、幅を規制する力を発生した状態(例えば、横一軸延伸の場合、延伸方向であるフィルムの幅方向に対して直角方向であるフィルムの長手方向の長さを一定にする力が発生している)で、延伸を施すことで、延伸方向のみならず、延伸方向と交差する角度方向にも分子を配向させることができ、屈折率の関係としては、nx>ny>nzとすることができる。これより、延伸方向の耐折強さと幅方向の耐折強さを、高いレベルで両立することができる。 For example, in the case of normal longitudinal stretching, width shrinkage occurs because the width direction is not fixed with respect to stretching in the longitudinal direction of the film. Therefore, the molecules are oriented in a more uniaxial direction, and the relationship of the refractive index is, for example, nx> ny = nz. In this case, the bending strength in the longitudinal direction of the film, which is the stretching direction, becomes strong, but the folding resistance in the width direction becomes very weak. In order to solve this, a state in which a force for regulating the width is generated in an angle direction intersecting the stretching direction (for example, in the case of lateral uniaxial stretching, in a direction perpendicular to the width direction of the film which is the stretching direction). A force is generated to make the length of a film constant in the longitudinal direction), and by stretching, the molecules can be oriented not only in the stretching direction but also in the angular direction that intersects the stretching direction. The relationship of the refractive index can be nx> ny> nz. As a result, both the folding resistance in the stretching direction and the folding resistance in the width direction can be achieved at a high level.
上記位相差膜の23℃における光弾性係数の絶対値;C(m2/N)は、2×10-12〜100×10-12(m2/N)、好ましくは2×10-12〜50×10-12(m2/N)である。偏光膜の収縮応力や、表示パネルの熱や、周囲の環境(耐湿・耐熱)によって、位相差膜に力がかかり、それにより発生する位相差値の変化を防ぐことができ、その結果、良好な表示均一性を有する表示パネル装置を得ることができる。好ましくは、上記位相差膜のCは3×10-12〜45×10-12であり、特に好ましくは10×10-12〜40×10-12以下である。Cを上記の範囲とすることによって、上記位相差膜に力がかかった時に発生する位相差値の変化やムラを低減することができる。また、光弾性係数とΔnはトレードオフの関係になりやすく、この光弾性係数範囲であれば、位相差発現性を低減させることなく、表示品位を保つことが可能となる。 The absolute value of the photoelastic coefficient of the retardation film at 23 ° C.; C (m 2 / N) is 2 × 10 -12 to 100 × 10 -12 (m 2 / N), preferably 2 × 10 -12 to. It is 50 × 10 -12 (m 2 / N). Due to the shrinkage stress of the polarizing film, the heat of the display panel, and the surrounding environment (moisture resistance / heat resistance), a force is applied to the retardation film, and the change in the retardation value caused by this can be prevented, resulting in good results. It is possible to obtain a display panel device having various display uniformity. Preferably, the C of the retardation film is 3 × 10 -12 to 45 × 10 -12 , and particularly preferably 10 × 10 -12 to 40 × 10 -12 or less. By setting C in the above range, it is possible to reduce changes and unevenness in the retardation value that occur when a force is applied to the retardation film. Further, the photoelastic modulus and Δn tend to have a trade-off relationship, and within this photoelastic modulus range, it is possible to maintain the display quality without reducing the phase difference expression.
1つの実施形態において、本発明の位相差膜は、高分子フィルムを延伸することによって、配向させて作製される。 In one embodiment, the retardation film of the present invention is produced by stretching a polymer film to orient it.
上記高分子フィルムを延伸する方法としては、目的に応じて、任意の適切な延伸方法が採用され得る。本発明に適した上記延伸方法としては、例えば、横一軸延伸方法、縦横同時二軸延伸方法、縦横逐次二軸延伸方法等が挙げられる。延伸する手段としては、テンター延伸機、二軸延伸機等々の、任意の適切な延伸機が用いられ得る。好ましくは、上記延伸機は、温度制御手段を備える。加熱して延伸を行う場合は、延伸機の内部温度は連続的に変化させてもよいし、連続的に変化させてもよい。工程は1回でも2回以上に分割してもいい。延伸方向はフィルム幅方向(TD方向)や斜め方向に延伸するのがよい。 As a method for stretching the polymer film, any suitable stretching method can be adopted depending on the intended purpose. Examples of the stretching method suitable for the present invention include a horizontal uniaxial stretching method, a vertical and horizontal simultaneous biaxial stretching method, and a vertical and horizontal sequential biaxial stretching method. As the stretching means, any suitable stretching machine such as a tenter stretching machine, a biaxial stretching machine, or the like can be used. Preferably, the stretching machine is provided with temperature control means. When stretching by heating, the internal temperature of the stretching machine may be continuously changed or may be continuously changed. The process may be divided into one time or two or more times. The stretching direction is preferably the film width direction (TD direction) or the diagonal direction.
斜め延伸は、未延伸樹脂フィルムを長手方向に送出しつつ、幅方向に対して前記特定の範囲の角度をなす方向に延伸する斜め延伸処理を連続的に行う。これにより、フィルムの幅方向と遅相軸とがなす角度(配向角θ)が前記特定の範囲となる長尺位相差膜を得ることができる。 Diagonal stretching involves continuously delivering the unstretched resin film in the longitudinal direction and continuously stretching the unstretched resin film in a direction forming an angle in the specific range with respect to the width direction. As a result, it is possible to obtain a long retardation film in which the angle (alignment angle θ) formed by the width direction of the film and the slow axis is in the specific range.
斜め延伸する方法としては、未延伸樹脂フィルムの幅方向に対して前記特定の範囲の角度をなす方向に連続的に延伸して、遅相軸をフィルムの幅方向に対して前記特定の範囲の角度をなす方向に形成できるものであれば特に制約されない。特開2005−319660、特開2007−30466、特開2014−194482、特開放2014−199483、特開2014−199483等、従前公知のこのような延伸方法から任意の適切な方法を採用することができる。 As a method of diagonally stretching, the unstretched resin film is continuously stretched in a direction forming an angle of the specific range with respect to the width direction of the unstretched resin film, and the slow axis is stretched in the specific range with respect to the width direction of the film. It is not particularly limited as long as it can be formed in an angled direction. Any suitable method can be adopted from such stretching methods previously known such as JP-A-2005-319660, JP-A-2007-30466, JP-A-2014-194482, Special Opening 2014-199483, JP-A-2014-199483 and the like. it can.
未延伸樹脂フィルムを延伸する温度(延伸温度)は、目的に応じて、適宜、適切な値が選択され得る。好ましくは、延伸は、高分子フィルムのガラス転移温度(Tg)に対し、Tg−20℃〜Tg+30℃の範囲で行なう。このような条件を選択することによって、位相差値が均一になり易く、かつ、フィルムが結晶化(白濁)しにくくなる。具体的には、上記延伸温度は90℃〜210℃であり、さらに好ましくは100℃〜200℃であり、特に好ましくは100℃〜180℃である。なお、ガラス転移温度は、JIS K 7121(1987)に準じたDSC法によって求めることができる。 As the temperature at which the unstretched resin film is stretched (stretching temperature), an appropriate value can be appropriately selected depending on the intended purpose. Preferably, the stretching is carried out in the range of Tg-20 ° C. to Tg + 30 ° C. with respect to the glass transition temperature (Tg) of the polymer film. By selecting such a condition, the retardation value tends to be uniform, and the film is less likely to crystallize (white turbidity). Specifically, the stretching temperature is 90 ° C. to 210 ° C., more preferably 100 ° C. to 200 ° C., and particularly preferably 100 ° C. to 180 ° C. The glass transition temperature can be determined by the DSC method according to JIS K 7121 (1987).
上記延伸温度を制御する手段としては、任意の適切な手段が採用され得る。上記温度制御手段としては、例えば、熱風または冷風が循環する空気循環式恒温オーブン、マイクロ波または遠赤外線を利用したヒーター、温度調節用に加熱されたロール、ヒートパイプロール、金属ベルト等が挙げられる。 Any suitable means can be adopted as the means for controlling the stretching temperature. Examples of the temperature control means include an air circulation type constant temperature oven in which hot air or cold air circulates, a heater using microwaves or far infrared rays, a roll heated for temperature control, a heat pipe roll, a metal belt, and the like. ..
上記未延伸樹脂フィルムを延伸する倍率(延伸倍率)は、目的に応じて、適宜、選択され得る。上記延伸倍率は、好ましくは1を超え6倍以下であり、さらに好ましくは1.5倍を超え4倍以下である。 The magnification for stretching the unstretched resin film (stretching magnification) can be appropriately selected depending on the intended purpose. The draw ratio is preferably more than 1 and 6 times or less, and more preferably more than 1.5 times and 4 times or less.
また、延伸時の送り速度は、特に制限はないが、機械精度、安定性等から好ましくは0.5m/分〜30m/分であり、より好ましくは1m/分〜20m/分である。上記の延伸条件であれば、目的とする光学特性が得られ得るのみならず、光学均一性に優れた位相差膜を得ることができる。 The feed rate during stretching is not particularly limited, but is preferably 0.5 m / min to 30 m / min, more preferably 1 m / min to 20 m / min, from the viewpoint of mechanical accuracy, stability, and the like. Under the above stretching conditions, not only the desired optical characteristics can be obtained, but also a retardation film having excellent optical uniformity can be obtained.
また。この別の実施形態として、ポリシクロオレフィンフィルムやポリカーボネートフィルムなどを用いて、偏光板の吸収軸と1/2波長板の遅相軸とのなす角が15°、偏光板の吸収軸と1/4波長板の遅相軸とのなす角が75°となるようにアクリル系粘着剤を用いて枚葉貼り合せされた位相差膜を用いてもよい。 Also. As another embodiment, using a polycycloolefin film, a polycarbonate film, or the like, the angle between the absorption axis of the polarizing plate and the slow axis of the 1/2 wave plate is 15 °, and the absorption axis of the polarizing plate and 1 /. A retardation film laminated with a single-wafer using an acrylic pressure-sensitive adhesive may be used so that the angle formed by the slow axis of the four-wave plate is 75 °.
他の実施形態において、本発明の位相差膜は、液晶材料を配向、固定化させることによって作製される位相差層を積層させたものを用いることができる。それぞれの位相差層は、液晶化合物の配向固化層であり得る。液晶化合物を用いることにより、得られる位相差層のnxとnyとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための位相差層の厚みを格段に小さくすることができる。その結果、円偏光板(最終的には、有機EL表示装置)のさらなる薄型化を実現することができる。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。本実施形態においては、代表的には、棒状の液晶化合物が位相差層の遅相軸方向に並んだ状態で配向している(ホモジニアス配向)。液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物(ネマチック液晶)が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。 In another embodiment, as the retardation film of the present invention, a retardation film formed by aligning and immobilizing a liquid crystal material can be used. Each retardation layer can be an orientation solidification layer of a liquid crystal compound. By using the liquid crystal compound, the difference between nx and ny of the obtained retardation layer can be made much larger than that of the non-liquid crystal material, so that the thickness of the retardation layer for obtaining a desired in-plane retardation can be obtained. Can be made much smaller. As a result, it is possible to further reduce the thickness of the circularly polarizing plate (finally, the organic EL display device). As used herein, the term "oriented solidified layer" refers to a layer in which a liquid crystal compound is oriented in a predetermined direction within the layer and the oriented state is fixed. In the present embodiment, the rod-shaped liquid crystal compounds are typically oriented in a state of being aligned in the slow axis direction of the retardation layer (homogeneous orientation). Examples of the liquid crystal compound include a liquid crystal compound (nematic liquid crystal) in which the liquid crystal phase is a nematic phase. As such a liquid crystal compound, for example, a liquid crystal polymer or a liquid crystal monomer can be used. The liquid crystal expression mechanism of the liquid crystal compound may be either lyotropic or thermotropic. The liquid crystal polymer and the liquid crystal monomer may be used alone or in combination.
液晶化合物が液晶モノマーである場合、当該液晶モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーであることが好ましい。液晶モノマーを重合または架橋させることにより、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により3次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された位相差層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、位相差層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた位相差層となる。 When the liquid crystal compound is a liquid crystal monomer, the liquid crystal monomer is preferably a polymerizable monomer and a crosslinkable monomer. This is because the orientation state of the liquid crystal monomer can be fixed by polymerizing or cross-linking the liquid crystal monomer. After the liquid crystal monomers are oriented, for example, if the liquid crystal monomers are polymerized or crosslinked with each other, the oriented state can be fixed. Here, the polymer is formed by polymerization, and the three-dimensional network structure is formed by cross-linking, but these are non-liquid crystal. Therefore, the formed retardation layer does not undergo a transition to a liquid crystal phase, a glass phase, or a crystal phase due to a temperature change peculiar to a liquid crystal compound, for example. As a result, the retardation layer becomes an extremely stable retardation layer that is not affected by temperature changes.
液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは40℃〜120℃であり、さらに好ましくは50℃〜100℃であり、最も好ましくは60℃〜90℃である。 The temperature range in which the liquid crystal monomer exhibits liquid crystallinity differs depending on the type. Specifically, the temperature range is preferably 40 ° C. to 120 ° C., more preferably 50 ° C. to 100 ° C., and most preferably 60 ° C. to 90 ° C.
上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表2002−533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、およびGB2280445等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、BASF社の商品名LC242、Merck社の商品名E7、Wacker−Chem社の商品名LC−Sillicon−CC3767が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。 As the liquid crystal monomer, any suitable liquid crystal monomer can be adopted. For example, the polymerizable mesogen compounds described in Special Tables 2002-533742 (WO00 / 37585), EP358208 (US521187), EP66137 (US4388453), WO93 / 22397, EP02671712, DE19504224, DE4408171, GB2280445 and the like can be used. Specific examples of such a polymerizable mesogen compound include, for example, BASF's trade name LC242, Merck's trade name E7, and Wacker-Chem's trade name LC-Sillicon-CC3767. As the liquid crystal monomer, for example, a nematic liquid crystal monomer is preferable.
液晶化合物の配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。1つの実施形態においては、基材は任意の適切な樹脂フィルムであり、当該基材上に形成された配向固化層は、偏光膜の表面に転写され得る。この時偏光膜の吸収軸と液晶配向固化層の遅相軸とのなす角が15°となるように配置される。また、液晶配向固化層の位相差は550nmの波長に対してλ/2(約270nm)である。さらに、前述と同様に550nmの波長に対してλ/4(約140nm)である液晶配向固化層を転写可能な基材上に形成し、偏光膜と1/2波長板の積層体の1/2波長板側に、偏光膜の吸収軸と1/4波長板の遅相軸とのなす角が75°になるように積層される。 The alignment treatment of the liquid crystal compound is performed on the surface of a predetermined base material, and a coating liquid containing the liquid crystal compound is applied to the surface to orient the liquid crystal compound in a direction corresponding to the orientation treatment. It can be formed by fixing the orientation state. In one embodiment, the substrate is any suitable resin film and the oriented solidified layer formed on the substrate can be transferred to the surface of the polarizing film. At this time, the angle formed by the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the liquid crystal oriented solidifying layer is arranged so as to be 15 °. The phase difference of the liquid crystal oriented solidified layer is λ / 2 (about 270 nm) with respect to a wavelength of 550 nm. Further, as described above, a liquid crystal oriented solidified layer having a wavelength of λ / 4 (about 140 nm) for a wavelength of 550 nm is formed on a transferable substrate, and 1 / of the laminate of the polarizing film and the 1/2 wave plate. It is laminated on the two-wave plate side so that the angle formed by the absorption axis of the polarizing film and the slow-phase axis of the 1/4 wave plate is 75 °.
上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。 As the orientation treatment, any appropriate orientation treatment can be adopted. Specific examples thereof include mechanical orientation treatment, physical orientation treatment, and chemical orientation treatment. Specific examples of the mechanical orientation treatment include a rubbing treatment and a stretching treatment. Specific examples of the physical orientation treatment include magnetic field orientation treatment and electric field orientation treatment. Specific examples of the chemical alignment treatment include an orthorhombic deposition method and a photoalignment treatment. As the treatment conditions for the various orientation treatments, any appropriate conditions can be adopted depending on the purpose.
液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。 The orientation of the liquid crystal compound is performed by treating at a temperature indicating the liquid crystal phase according to the type of the liquid crystal compound. By performing such temperature treatment, the liquid crystal compound takes a liquid crystal state, and the liquid crystal compound is oriented according to the orientation treatment direction of the substrate surface.
配向状態の固定は、1つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。 In one embodiment, the orientation state is fixed by cooling the liquid crystal compound oriented as described above. When the liquid crystal compound is a polymerizable monomer or a crosslinkable monomer, the orientation state is fixed by subjecting the liquid crystal compound oriented as described above to a polymerization treatment or a crosslinking treatment.
液晶化合物の具体例および配向固化層の形成方法の詳細は、特開2006−163343号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。 Specific examples of the liquid crystal compound and details of the method for forming the oriented solidified layer are described in JP-A-2006-163343. The description of this publication is incorporated herein by reference.
[保護膜]
本発明の光学積層体に用いる透明樹脂材料の保護膜は、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂などを用いることができる。
[Protective film]
As the protective film of the transparent resin material used in the optical laminate of the present invention, a cycloolefin resin such as norbornene resin, an olefin resin such as polyethylene or polypropylene, a polyester resin, a (meth) acrylic resin or the like may be used. it can.
本発明の光学積層体に用いる保護膜の厚さは、10〜50μm、好ましくは15〜45μmであり、適宜アンチグレア層又は反射防止層などの表面処理層を設けることができる。 The thickness of the protective film used for the optical laminate of the present invention is 10 to 50 μm, preferably 15 to 45 μm, and a surface treatment layer such as an antiglare layer or an antireflection layer can be appropriately provided.
本発明の光学積層体に用いる保護膜の透過湿度は、200g/m2以下、好ましくは170g/m2以下、より好ましくは130g/m2以下、特に好ましくは90g/m2以下である。 The permeation humidity of the protective film used in the optical laminate of the present invention is 200 g / m 2 or less, preferably 170 g / m 2 or less, more preferably 130 g / m 2 or less, and particularly preferably 90 g / m 2 or less.
[第1の応力緩和層]
本発明の有機EL表示装置用積層体に用いる第1の応力緩和層は、前記保護膜に対して前記位相差膜とは反対側に配置される。
[First stress relaxation layer]
The first stress relaxation layer used in the laminate for an organic EL display device of the present invention is arranged on the opposite side of the protective film from the retardation film.
本発明の有機EL表示装置用積層体に用いる第1の応力緩和層を構成する粘着剤層は、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ウレタン系粘着剤、フッ素系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤などが挙げられる。なお、上記粘着剤層を構成する粘着剤は、単独で又は2種以上組み合わせて用いられる。透明性、加工性、耐久性などの点から、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。 The pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer used in the laminate for the organic EL display device of the present invention is an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a vinyl alkyl ether-based pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, or a polyester-based pressure-sensitive adhesive. Examples thereof include adhesives, polyamide-based adhesives, urethane-based adhesives, fluorine-based adhesives, epoxy-based adhesives, and polyether-based adhesives. The pressure-sensitive adhesives constituting the pressure-sensitive adhesive layer may be used alone or in combination of two or more. Acrylic adhesives are preferably used from the viewpoints of transparency, processability, durability and the like.
本発明の有機EL表示装置用積層体に用いる第1の応力緩和層を構成する粘着剤層の厚みは、10〜250μm、好ましくは10〜150μmであり、単層であっても積層構造であってもよい。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer used in the laminate for an organic EL display device of the present invention is 10 to 250 μm, preferably 10 to 150 μm, and even a single layer has a laminated structure. You may.
本発明の有機EL表示装置用積層体に用いる第1の応力緩和層の可視光波長領域における全光線透過率(JIS K 7136に準じる)は、好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上である。 The total light transmittance (according to JIS K 7136) in the visible light wavelength region of the first stress relaxation layer used in the laminate for an organic EL display device of the present invention is preferably 85% or more, more preferably 90% or more. is there.
本発明の有機EL表示装置用積層体に用いる第1の応力緩和層のヘイズ(JIS K 7136に準じる)は、3.0%以下、より好ましくは2.0%以下である。 The haze of the first stress relaxation layer (according to JIS K 7136) used in the laminate for an organic EL display device of the present invention is 3.0% or less, more preferably 2.0% or less.
なお、上記全光線透過率及び上記ヘイズは、例えば、ヘーズメータ(村上色彩技術研究所製、商品名「HM−150」)を用いて測定することができる。 The total light transmittance and the haze can be measured using, for example, a haze meter (manufactured by Murakami Color Technology Research Institute, trade name "HM-150").
本発明の有機EL表示装置用積層体に用いる第1の応力緩和層の貯蔵弾性率(G’)は、25℃において0.05〜0.15(MPa)である。 The storage elastic modulus (G') of the first stress relaxation layer used in the laminate for an organic EL display device of the present invention is 0.05 to 0.15 (MPa) at 25 ° C.
[透明導電層]
本発明の透明導電層は、導電性ナノワイヤや金属メッシュを用いることができる。透明導電層として、導電性ナノワイヤや金属メッシュを用いた場合、耐屈曲性に優れ、屈曲しても導電性が失われ難いので、透明導電層は折り曲げ可能に構成される。導電性ナノワイヤは保護膜により保護されていてもよい。
[Transparent conductive layer]
For the transparent conductive layer of the present invention, conductive nanowires or metal mesh can be used. When a conductive nanowire or a metal mesh is used as the transparent conductive layer, the transparent conductive layer is configured to be bendable because it has excellent bending resistance and the conductivity is not easily lost even if it is bent. The conductive nanowires may be protected by a protective film.
本発明の透明導電層の厚みは、好ましくは0.01μm〜10μmであり、より好ましくは0.05μm〜3μmであり、さらに好ましくは0.1μm〜1μmである。 The thickness of the transparent conductive layer of the present invention is preferably 0.01 μm to 10 μm, more preferably 0.05 μm to 3 μm, and further preferably 0.1 μm to 1 μm.
本発明の透明導電層の全光線透過率は、好ましくは80%以上であり、より好ましくは85%以上であり、さらに好ましくは90%以上である。例えば、導電性ナノワイヤを用いれば、開口部が形成された透明導電層を形成することができ、光透過率の高い透明導電層を得ることができる。 The total light transmittance of the transparent conductive layer of the present invention is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and further preferably 90% or more. For example, if conductive nanowires are used, a transparent conductive layer having openings can be formed, and a transparent conductive layer having high light transmittance can be obtained.
本発明の透明導電層の密度は、好ましくは1.0g/cm3〜10.5g/cm3であり、より好ましくは1.3g/cm3〜3.0g/cm3である。 The density of the transparent conductive layer of the present invention is preferably from 1.0g / cm 3 ~10.5g / cm 3 , more preferably from 1.3g / cm 3 ~3.0g / cm 3 .
本発明の透明導電層の表面抵抗値は、好ましくは0.1Ω/□〜1000Ω/□であり、より好ましくは0.5Ω/□〜500Ω/□であり、さらに好ましくは1Ω/□〜250Ω/□である。 The surface resistance value of the transparent conductive layer of the present invention is preferably 0.1Ω / □ to 1000Ω / □, more preferably 0.5Ω / □ to 500Ω / □, and even more preferably 1Ω / □ to 250Ω /. □.
上記導電性ナノワイヤとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な導電性ナノワイヤが用いられ得る。導電性ナノワイヤとは、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。導電性ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。導電性ナノワイヤで構成された透明導電層を用いれば、耐屈曲性に優れる導電性フィルムを得ることができる。また、導電性ナノワイヤで構成された透明導電層を用いれば、導電性ナノワイヤ同士が隙間を形成して網の目状となることにより、少量の導電性ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい導電性フィルムを得ることができる。さらに、導電性ワイヤが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率の高い導電性フィルムを得ることができる。導電性ナノワイヤとしては、例えば、金属により構成される金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブを含む導電性ナノワイヤ等が挙げられる。 As the conductive nanowire, any suitable conductive nanowire can be used as long as the effect of the present invention can be obtained. The conductive nanowire is a conductive substance having a needle-like or thread-like shape and a diameter of nanometer size. The conductive nanowires may be linear or curved. By using a transparent conductive layer made of conductive nanowires, a conductive film having excellent bending resistance can be obtained. In addition, if a transparent conductive layer made of conductive nanowires is used, the conductive nanowires form gaps to form a mesh, so that even a small amount of conductive nanowires can provide a good electrical conduction path. It can be formed and a conductive film having low electrical resistance can be obtained. Further, since the conductive wire has a mesh shape, an opening can be formed in the gap between the meshes to obtain a conductive film having high light transmittance. Examples of the conductive nanowires include metal nanowires made of metal, conductive nanowires containing carbon nanotubes, and the like.
上記導電性ナノワイヤの太さdと長さLとの比(アスペクト比:L/d)は、好ましくは10〜100,000であり、より好ましくは50〜100,000であり、特に好ましくは100〜10,000である。このようにアスペクト比の大きい導電性ナノワイヤを用いれば、導電性ナノワイヤが良好に交差して、少量の導電性ナノワイヤにより高い導電性を発現させることができる。その結果、光透過率の高い導電性フィルムを得ることができる。なお、本明細書において、「導電性ナノワイヤの太さ」とは、導電性ナノワイヤの断面が円状である場合はその直径を意味し、楕円状である場合はその短径を意味し、多角形である場合は最も長い対角線を意味する。導電性ナノワイヤの太さおよび長さは、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡によって確認することができる。 The ratio (aspect ratio: L / d) of the thickness d to the length L of the conductive nanowire is preferably 10 to 100,000, more preferably 50 to 100,000, and particularly preferably 100. ~ 10,000. When conductive nanowires having a large aspect ratio are used in this way, the conductive nanowires can intersect well, and a small amount of conductive nanowires can exhibit high conductivity. As a result, a conductive film having high light transmittance can be obtained. In the present specification, the "thickness of conductive nanowires" means the diameter of the conductive nanowires when the cross section is circular, and the minor diameter when the cross section of the conductive nanowires is elliptical. When it is a polygon, it means the longest diagonal line. The thickness and length of the conductive nanowires can be confirmed by a scanning electron microscope or a transmission electron microscope.
上記導電性ナノワイヤの太さは、好ましくは500nm未満であり、より好ましくは200nm未満であり、特に好ましくは1nm〜100nmであり、最も好ましくは1nm〜50nmである。このような範囲であれば、光透過率の高い透明導電層を形成することができる。 The thickness of the conductive nanowires is preferably less than 500 nm, more preferably less than 200 nm, particularly preferably 1 nm to 100 nm, and most preferably 1 nm to 50 nm. Within such a range, a transparent conductive layer having high light transmittance can be formed.
上記導電性ナノワイヤの長さは、好ましくは2.5μm〜1000μmであり、より好ましくは10μm〜500μmであり、特に好ましくは20μm〜100μmである。このような範囲であれば、導電性の高い導電性フィルムを得ることができる。 The length of the conductive nanowires is preferably 2.5 μm to 1000 μm, more preferably 10 μm to 500 μm, and particularly preferably 20 μm to 100 μm. Within such a range, a conductive film having high conductivity can be obtained.
上記金属ナノワイヤを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。上記金属ナノワイヤは、好ましくは、金、白金、銀および銅からなる群より選ばれた1種以上の金属により構成される。なかでも好ましくは、導電性の観点から、銀、銅または金であり、より好ましくは銀である。また、上記金属にメッキ処理(例えば、金メッキ処理)を行った材料を用いてもよい。 As the metal constituting the metal nanowire, any suitable metal can be used as long as it is a highly conductive metal. The metal nanowires are preferably composed of one or more metals selected from the group consisting of gold, platinum, silver and copper. Of these, silver, copper or gold is preferable, and silver is more preferable, from the viewpoint of conductivity. Further, a material obtained by plating the metal (for example, gold plating) may be used.
上記金属ナノワイヤの製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば溶液中で硝酸銀を還元する方法、前駆体表面にプローブの先端部から印可電圧又は電流を作用させ、プローブ先端部で金属ナノワイヤを引き出し、該金属ナノワイヤを連続的に形成する方法等が挙げられる。溶液中で硝酸銀を還元する方法においては、エチレングリコール等のポリオール、およびポリビニルピロリドンの存在下で、硝酸銀等の銀塩の液相還元することによりにより、銀ナノワイヤが合成され得る。均一サイズの銀ナノワイヤは、例えば、Xia, Y.etal., Chem.Mater.(2002)、14、4736−4745、 Xia, Y.etal., Nano letters(2003)3(7)、955−960に記載される方法に準じて、大量生産が可能である。 Any suitable method can be adopted as the method for producing the metal nanowires. Examples thereof include a method of reducing silver nitrate in a solution, a method of applying an applied voltage or a current to the surface of the precursor from the tip of the probe, pulling out a metal nanowire at the tip of the probe, and continuously forming the metal nanowire. .. In the method of reducing silver nitrate in a solution, silver nanowires can be synthesized by liquid-phase reduction of a silver salt such as silver nitrate in the presence of a polyol such as ethylene glycol and polyvinylpyrrolidone. Uniform size silver nanowires are available, for example, in Xia, Y. et al. etal. , Chem. Mater. (2002), 14, 4736-4745, Xia, Y. et al. etal. , Nano letters (2003) 3 (7), 955-960, can be mass-produced.
上記カーボンナノチューブとしては、任意の適切なカーボンナノチューブが用いられ得る。例えば、いわゆる多層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ、単層カーボンナノチューブ等が用いられる。なかでも、導電性が高い点から、単層カーボンナノチューブが好ましく用いられる。上記カーボンナノチューブの製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。好ましくは、アーク放電法で作製されたカーボンナノチューブが用いられる。アーク放電法で作製されたカーボンナノチューブは結晶性に優れるため好ましい。 As the carbon nanotube, any suitable carbon nanotube can be used. For example, so-called multi-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, single-walled carbon nanotubes, and the like are used. Among them, single-walled carbon nanotubes are preferably used because of their high conductivity. Any suitable method can be adopted as the method for producing the carbon nanotubes. Preferably, carbon nanotubes produced by the arc discharge method are used. Carbon nanotubes produced by the arc discharge method are preferable because they have excellent crystallinity.
上記導電性ナノワイヤを含む透明導電層は、上記導電性ナノワイヤを溶剤に分散させて得られた分散液(導電性ナノワイヤ分散液)を、上記位相差膜上に塗布した後、塗布層を乾燥させて、形成することができる。 For the transparent conductive layer containing the conductive nanowires, a dispersion liquid (conductive nanowire dispersion liquid) obtained by dispersing the conductive nanowires in a solvent is applied onto the retardation film, and then the coating layer is dried. Can be formed.
上記導電性ナノワイヤ分散液に含まれる溶剤としては、水、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤、芳香族系溶剤等が挙げられる。環境負荷低減の観点から、水を用いることが好ましい。 Examples of the solvent contained in the conductive nanowire dispersion liquid include water, alcohol-based solvent, ketone-based solvent, ether-based solvent, hydrocarbon-based solvent, aromatic solvent and the like. From the viewpoint of reducing the environmental load, it is preferable to use water.
上記導電性ナノワイヤ分散液中の導電性ナノワイヤの分散濃度は、好ましくは0.1重量%〜1重量%である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電層を形成することができる。 The dispersion concentration of the conductive nanowires in the conductive nanowire dispersion liquid is preferably 0.1% by weight to 1% by weight. Within such a range, a transparent conductive layer having excellent conductivity and light transmission can be formed.
上記導電性ナノワイヤ分散液は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。上記添加剤としては、例えば、導電性ナノワイヤの腐食を防止する腐食防止材、導電性ナノワイヤの凝集を防止する界面活性剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類、数および量は、目的に応じて適切に設定され得る。また、導電性ナノワイヤ分散液は、本発明の効果が得られる限り、必要に応じて、任意の適切なバインダー樹脂を含み得る。 The conductive nanowire dispersion may further contain any suitable additive depending on the intended purpose. Examples of the additive include a corrosion inhibitor that prevents corrosion of conductive nanowires, a surfactant that prevents aggregation of conductive nanowires, and the like. The type, number and amount of additives used can be appropriately set according to the purpose. In addition, the conductive nanowire dispersion liquid may contain any suitable binder resin, if necessary, as long as the effects of the present invention can be obtained.
上記導電性ナノワイヤ分散液の塗布方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。塗布方法としては、例えば、スプレーコート、バーコート、ロールコート、ダイコート、インクジェットコート、スクリーンコート、ディップコート、スロットダイコート、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法等が挙げられる。塗布層の乾燥方法としては、任意の適切な乾燥方法(例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥)が採用され得る。例えば、加熱乾燥の場合には、乾燥温度は代表的には100℃〜200℃であり、乾燥時間は代表的には1分〜10分である。 Any suitable method can be adopted as the method for applying the conductive nanowire dispersion liquid. Examples of the coating method include spray coating, bar coating, roll coating, die coating, inkjet coating, screen coating, dip coating, slot die coating, letterpress printing method, intaglio printing method, gravure printing method and the like. As a method for drying the coating layer, any suitable drying method (for example, natural drying, blast drying, heat drying) can be adopted. For example, in the case of heat drying, the drying temperature is typically 100 ° C. to 200 ° C., and the drying time is typically 1 minute to 10 minutes.
上記透明導電層が導電性ナノワイヤから構成される場合、該透明導電層の厚みは、好ましくは0.01μm〜10μmであり、より好ましくは0.05μm〜3μmであり、さらに好ましくは0.1μm〜1μmである。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる導電性フィルムを得ることができる。 When the transparent conductive layer is composed of conductive nanowires, the thickness of the transparent conductive layer is preferably 0.01 μm to 10 μm, more preferably 0.05 μm to 3 μm, and further preferably 0.1 μm to 0.1 μm. It is 1 μm. Within such a range, a conductive film having excellent conductivity and light transmission can be obtained.
上記透明導電層が導電性ナノワイヤから構成される場合、該透明導電層の全光線透過率は、好ましくは80%以上であり、より好ましくは85%以上であり、さらに好ましくは90%以上である。 When the transparent conductive layer is composed of conductive nanowires, the total light transmittance of the transparent conductive layer is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 90% or more. ..
上記導電性ナノワイヤが銀から構成される金属ナノワイヤである場合、透明導電層の密度は、好ましくは1.0g/cm3〜10.5g/cm3であり、より好ましくは1.3g/cm3〜3.0g/cm3である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる導電性フィルムを得ることができる。 When the conductive nanowire is a metal nanowire composed of silver, the density of the transparent conductive layer is preferably 1.0 g / cm3 to 10.5 g / cm3, and more preferably 1.3 g / cm3 to 3. It is 0 g / cm3. Within such a range, a conductive film having excellent conductivity and light transmission can be obtained.
上記導電性ナノワイヤを含む透明導電層は、所定のパターンにパターン化され得る。透明導電層のパターンの形状はタッチパネル(例えば、静電容量方式タッチパネル)として良好に動作するパターンが好ましく、例えば、特表2011−511357号公報、特開2010−164938号公報、特開2008−310550号公報、特表2003−511799号公報、特表2010−541109号公報に記載のパターンが挙げられる。透明導電層は透明基材上に形成された後、公知の方法を用いてパターン化することができる。 The transparent conductive layer containing the conductive nanowires can be patterned in a predetermined pattern. The shape of the pattern of the transparent conductive layer is preferably a pattern that operates well as a touch panel (for example, a capacitive touch panel). For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-511357, JP-A-2010-164938, JP-A-2008-310550. Examples thereof include the patterns described in Japanese Patent Publication No. 2003-511799 and Japanese Patent Publication No. 2010-541109. After the transparent conductive layer is formed on the transparent substrate, it can be patterned by a known method.
上記金属メッシュとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な金属メッシュが用いられ得る。例えば、フィルム基材上に設けられた金属配線層が網目状にパターン形成されたものを用いることができる。 As the metal mesh, any suitable metal mesh can be used as long as the effects of the present invention can be obtained. For example, a metal wiring layer provided on a film base material having a mesh-like pattern can be used.
(フィルム基材)
金属配線層を支持するフィルム基材は、単層であってもよいし、複層であってもよい。フィルム基材の厚みは、透明性や取扱性の観点から、好ましくは20μm〜200μmである。
(Film base material)
The film base material that supports the metal wiring layer may be a single layer or a plurality of layers. The thickness of the film base material is preferably 20 μm to 200 μm from the viewpoint of transparency and handleability.
上記フィルム基材は、金属配線層が形成される両面に複数の突起を有している。フィルム基材の表面に複数の突起を設けることによって、フィルム基材に滑り性や耐磨耗性を付与し、金属配線層を連続的に成膜する際に、品質を高く維持しながら、その成膜速度を高めて生産性を向上させることができる。 The film base material has a plurality of protrusions on both sides on which a metal wiring layer is formed. By providing a plurality of protrusions on the surface of the film base material, the film base material is provided with slipperiness and abrasion resistance, and when the metal wiring layer is continuously formed, the quality is maintained high. The film formation rate can be increased to improve productivity.
突起は、フィルム基材の金属配線層が形成される側の表面の平面視において、その外径Dが0を超え3μm以下、好ましくは、0.1μm〜2μmである。突起の外径は、例えばフィルム基材の金属配線層が形成される側の表面を所定倍率で画像観察することにより測定することができる。外径Dが3μm以下である場合、フィルム基材の表面と突起表面の境界部近傍で金属配線が断線するのを確実に防止することができる。 The protrusions have an outer diameter D of more than 0 and 3 μm or less, preferably 0.1 μm to 2 μm, in a plan view of the surface of the film base material on the side where the metal wiring layer is formed. The outer diameter of the protrusion can be measured, for example, by observing the surface of the film base material on the side where the metal wiring layer is formed at a predetermined magnification. When the outer diameter D is 3 μm or less, it is possible to reliably prevent the metal wiring from being broken near the boundary between the surface of the film base material and the surface of the protrusion.
突起の高さは、フィルム基材の平坦な面を基準として、好ましくは0を超え3μm以下であり、さらに好ましくは0.1μm〜2μmである。 The height of the protrusions is preferably more than 0 and 3 μm or less, more preferably 0.1 μm to 2 μm, based on the flat surface of the film substrate.
突起の形状は、本実施形態では略ドーム型であり、フィルム基材の面方向断面は略円形、厚み方向断面は略半円形である。ただし、本発明における突起は、フィルム基
材に滑り性や耐磨耗性を付与し、また、高品質な金属配線層を連続的且つ速い速度で成膜し得るものであれば、ドーム型以外の他の形状であってもよい。
The shape of the protrusion is substantially dome-shaped in the present embodiment, the cross section of the film base material in the surface direction is substantially circular, and the cross section in the thickness direction is substantially semicircular. However, the protrusions in the present invention are other than the dome type as long as they impart slipperiness and abrasion resistance to the film base material and can form a high-quality metal wiring layer continuously and at a high speed. It may have other shapes.
フィルム基材上に突起を設ける手段としては、該フィルム基材の内部に滑剤を分散させる方法、フィルム表面に、複数の粒子を分散させたバインダー(binder)を塗布する方法などが挙げられる。 Examples of means for providing the protrusions on the film base material include a method of dispersing the lubricant inside the film base material, a method of applying a binder in which a plurality of particles are dispersed, and the like on the film surface.
フィルム基材を構成するフィルムは、光学的に等方性を有するポリマーフィルムが好ましい。本発明において「光学的に等方性を有する」とは、波長590nmで測定した面内の位相差値が10nm未満であるものをいう。このようなポリマーフィルムを用いれば、タッチセンサに外光が入射したとき、2つの金属配線層の間で、光の位相の変化が小さいので、各金属配線層で反射した光を円偏光フィルムで効果的に遮断することができる。このポリマーフィルムは、例えば延伸加工されていない無延伸フィルムである。 The film constituting the film base material is preferably a polymer film having optically isotropic properties. In the present invention, "optically isotropic" means that the in-plane retardation value measured at a wavelength of 590 nm is less than 10 nm. If such a polymer film is used, when external light is incident on the touch sensor, the phase change of the light between the two metal wiring layers is small, so that the light reflected by each metal wiring layer is reflected by the circular polarizing film. It can be effectively blocked. This polymer film is, for example, a non-stretched film that has not been stretched.
上記ポリマーフィルムは、例えば、ポリシクロオレフィンフィルム、又はポリカーボネートフィルムである。このポリマーフィルムは、例えば日本ゼオン株式会社、帝人化成株式会社等から入手できる。 The polymer film is, for example, a polycycloolefin film or a polycarbonate film. This polymer film can be obtained from, for example, Nippon Zeon Corporation, Teijin Chemicals Ltd., and the like.
(金属配線層)
金属配線層は、透光性を付与するために、例えば網目状にパターン形成されたものである。上記金属配線層の網目状パターンは、特に制限はなく、例えば、正方形格子、ひし形格子、又は多角形格子である。
(Metal wiring layer)
The metal wiring layer is, for example, a mesh-like pattern formed in order to impart translucency. The mesh pattern of the metal wiring layer is not particularly limited, and is, for example, a square lattice, a rhombus lattice, or a polygonal lattice.
上記金属配線層を形成する材料は、電気伝導性を有するものであれば制限はないが、好ましくは銀、銅又はそれらの合金であり、さらに好ましくは銅である。 The material for forming the metal wiring layer is not limited as long as it has electrical conductivity, but is preferably silver, copper or an alloy thereof, and more preferably copper.
上記金属配線層の線幅は、5μmを超え8μm未満であり、好ましくは5.5μmを超え7μm以下である。このような線幅の範囲であれば、フィルム基材の突起に起因する断線を防ぐことができる。線幅が5μm以下である場合は、金属配線層の網目状パターンが視認され難くはなるものの、フィルム基材の突起によって、金属配線が断線する頻度が高くなり、大量生産すると品質及び信頼性が低くなる。一方、線幅が8μm以上である場合は、金属配線層の網目状パターンが顕著に視認される。 The line width of the metal wiring layer is more than 5 μm and less than 8 μm, preferably more than 5.5 μm and less than 7 μm. Within such a line width range, it is possible to prevent disconnection due to protrusions on the film base material. When the wire width is 5 μm or less, the mesh pattern of the metal wiring layer becomes difficult to see, but the protrusions on the film base material increase the frequency of disconnection of the metal wiring, and mass production improves quality and reliability. It gets lower. On the other hand, when the line width is 8 μm or more, the mesh pattern of the metal wiring layer is remarkably visually recognized.
金属配線層の厚みは、0.1μm以上0.5μm未満であり、好ましくは0.1μmを超え0.4μm以下、さらに好ましくは0.15μm〜0.35μmである。金属配線層は、その厚みを例えば2μmよりも薄くすることによって、より一層、網目状パターンが視認されることを防ぐ。このような構成は、タッチセンサに対して、斜め方向から外光が入射したとき、金属配線層の側面が光輝せず、視認され難い。 The thickness of the metal wiring layer is 0.1 μm or more and less than 0.5 μm, preferably more than 0.1 μm and 0.4 μm or less, and more preferably 0.15 μm to 0.35 μm. By making the thickness of the metal wiring layer thinner than, for example, 2 μm, the mesh pattern is further prevented from being visually recognized. In such a configuration, when external light is incident on the touch sensor from an oblique direction, the side surface of the metal wiring layer does not shine and is difficult to see.
金属配線層は、扁平形状を有している点に特徴があり、厚みに対する線幅の比率(線幅/厚み)は、好ましくは10以上80未満であり、さらに好ましくは15〜50である。このような関係を満足するタッチセンサは、生産性に優れ、金属配線の断線を生じず、且つ金属配線層の網目状パターンが視認され難い。 The metal wiring layer is characterized in that it has a flat shape, and the ratio of the line width to the thickness (line width / thickness) is preferably 10 or more and less than 80, and more preferably 15 to 50. A touch sensor that satisfies such a relationship is excellent in productivity, does not cause disconnection of the metal wiring, and it is difficult to visually recognize the mesh pattern of the metal wiring layer.
金属配線層の断面積は、タッチパネルセンサに必要な電気伝導性を得るために、好ましくは0.5μm2〜4μm2であり、さらに好ましくは0.5μm2〜3.2μm2であり、特に好ましくは0.5μm2〜2.5μm2である。 Sectional area of the metal wiring layer, in order to obtain the electrical conductivity required for a touch panel sensor, preferably 0.5μm 2 ~4μm 2, more preferably from 0.5μm 2 ~3.2μm 2, particularly preferably is a 0.5μm 2 ~2.5μm 2.
金属配線層のピッチ間隔は、十分な透光性を得るために、好ましくは200μm〜800μmであり、さらに好ましくは350μm〜650μmである。金属配線層の開口率は、好ましくは95%〜99%であり、さらに好ましくは96%〜99%である。 The pitch interval of the metal wiring layer is preferably 200 μm to 800 μm, and more preferably 350 μm to 650 μm in order to obtain sufficient translucency. The aperture ratio of the metal wiring layer is preferably 95% to 99%, more preferably 96% to 99%.
上記金属配線層を形成する方法としては、例えば、フィルム基材の表面全体に金属層を成膜した後、金属層上に所定のレジストパターン(resist pattern)を積層し、エッチング(etching)により、網目状の金属配線層が形成されるように、不要領域の金属層を除去した後、レジストを剥離する方法が用いられる。上記金属層は、例えば、スパッタリング(spattering)法、メッキ(plating)法、又はそれらの組み合わせにより成膜することができる。 As a method of forming the metal wiring layer, for example, after forming a metal layer on the entire surface of a film substrate, a predetermined resist pattern is laminated on the metal layer, and etching is performed. A method is used in which the resist is peeled off after removing the metal layer in an unnecessary region so that a mesh-like metal wiring layer is formed. The metal layer can be formed by, for example, a sputtering method, a plating method, or a combination thereof.
本発明の透明導電層は、タッチセンサを構成し、折り曲げ可能に構成されている。 The transparent conductive layer of the present invention constitutes a touch sensor and is configured to be bendable.
本発明の透明導電層は、前記位相差膜に対して前記保護膜とは反対側に配置されることができる。 The transparent conductive layer of the present invention can be arranged on the opposite side of the retardation film from the protective film.
本発明の透明導電層は、前記保護膜と前記第1の応力緩和層との間に配置されることができる。 The transparent conductive layer of the present invention can be arranged between the protective film and the first stress relaxation layer.
[第2の応力緩和層]
本発明の有機EL表示装置用積層体に用いる第2の応力緩和層は、透明導電層が前記位相差膜に対して前記保護膜とは反対側に配置される場合、前記透明導電層に対して前記位相差膜とは反対側に配置されることができる。
[Second stress relaxation layer]
The second stress relaxation layer used in the laminated body for an organic EL display device of the present invention relates to the transparent conductive layer when the transparent conductive layer is arranged on the side opposite to the protective film with respect to the retardation film. It can be arranged on the opposite side of the retardation film.
本発明の有機EL表示装置用積層体に用いる第2の応力緩和層は、透明導電層が前記保護膜と前記第1の応力緩和層との間に配置される場合、前記位相差膜に対して前記保護膜とは反対側に配置されることができる。 When the transparent conductive layer is arranged between the protective film and the first stress relaxation layer, the second stress relaxation layer used for the laminated body for the organic EL display device of the present invention has a reference to the retardation film. It can be arranged on the opposite side of the protective film.
[有機EL表示装置]
本発明の有機EL表示装置は、上記の有機EL表示装置用積層体と、折り曲げ可能に構成された有機EL表示パネルとを含み、有機EL表示パネルに対して視認側に有機EL表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。
[Organic EL display device]
The organic EL display device of the present invention includes the above-mentioned laminated body for an organic EL display device and an organic EL display panel configured to be foldable, and the organic EL display device is laminated on the visual side with respect to the organic EL display panel. The body is arranged and configured to be foldable.
任意ではあるが、有機EL表示装置用積層体に対して視認側にウインドウが配置されることができる。 Although optional, a window can be arranged on the visual side with respect to the laminated body for the organic EL display device.
図2は、本発明による有機EL表示装置の1つの実施形態を示す断面図である。この有機EL表示装置100は、有機EL表示装置用積層体110と、折り曲げ可能に構成された有機EL表示パネル101を含む。そして、有機EL表示パネル101に対して視認側に有機EL表示装置用積層体110が配置され、有機EL表示装置100は折り曲げ可能に構成されている。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing one embodiment of the organic EL display device according to the present invention. The organic EL display device 100 includes a laminate 110 for an organic EL display device and an organic EL display panel 101 configured to be foldable. Then, the
任意ではあるが、有機EL表示装置用積層体110に対して視認側に透明なウインドウ102が配置されることができる。
Although optional, a transparent window 102 can be arranged on the visual side with respect to the
有機EL表示装置用積層体110は、光学積層体120と、第1の応力緩和層111を構成する粘着剤層とを含む。
The
光学積層体120は、偏光膜121、透明樹脂材料の保護膜122及び位相差膜123を含む。透明樹脂材料の保護膜122は、偏光膜121の視認側の第1の面に接合される。位相差膜123は、偏光膜121の第1の面とは異なる第2の面に接合される。偏光膜121と位相差膜123は、例えば、偏光膜121の視認側から内部に入射した光が内部反射して視認側に射出されることを防止するために円偏光を生成したり、視野角を補償したりするためのものである。
The
本実施形態においては、従来偏光膜の両面に保護膜が設けられていたのに対して、片面のみに保護膜が設けられる構成とされ、偏光膜自体も従来の有機EL表示装置に使用されている偏光膜に比べて非常に薄い厚みが12μm以下の偏光膜が使用されることによって、光学積層体120の厚みが低減されている。また、偏光膜121は、従来の有機EL表示装置に使用されている偏光膜に比べて非常に薄いので、温度又は湿度条件で発生する伸縮による応力が極めて小さくなる。したがって、偏光膜の収縮によって生じる応力が隣接する有機EL表示パネル101に反り等の変形を生じさせる可能性が大幅に軽減され、変形に起因する表示品質の低下やパネル封止材料の破壊を大幅に抑制することが可能になる。
In the present embodiment, the protective film is provided on both sides of the conventional polarizing film, whereas the protective film is provided on only one side, and the polarizing film itself is also used in the conventional organic EL display device. The thickness of the
第1の応力緩和層111の25℃における貯蔵弾性率は、0.05〜0.15MPaであり、保護膜122に対して位相差膜123とは反対側に配置される。 The storage elastic modulus of the first stress relaxation layer 111 at 25 ° C. is 0.05 to 0.15 MPa, and is arranged on the side opposite to the retardation film 123 with respect to the protective film 122.
光学積層体120を、保護膜122側を内側として折り曲げる場合、光学積層体120の厚みを120μm以下と薄くし、上記のような貯蔵弾性率を有する第1の応力緩和層111を保護膜122に対して位相差膜123とは反対側に配置することによって、光学積層体120にかかる応力を低減することが可能となり、これにより光学積層体120が折り曲げ可能となる。また、したがって、有機EL表示装置が使用される環境温度に応じて適切な貯蔵弾性率の範囲を設定してもよい。例えば、想定使用環境温度が0℃〜80℃である場合、0℃における貯蔵弾性率と80℃における貯蔵弾性率が適切な数値範囲となるような第1の応力緩和層を用いることができる。
When the
任意ではあるが、位相差膜123に対して保護膜122とは反対側に、タッチセンサを構成する折り曲げ可能な透明導電層112が更に配置されることができる。透明導電層112は、例えば特開2014−219667号公報に示されるような製造方法によって位相差膜123に直接接合される構成とし、これにより光学積層体120の厚みが低減され、光学積層体120を折り曲げた場合の光学積層体120にかかる応力をより低減することができる。
Although optional, a bendable transparent conductive layer 112 constituting the touch sensor can be further arranged on the opposite side of the retardation film 123 from the protective film 122. The transparent conductive layer 112 is configured to be directly bonded to the retardation film 123 by, for example, a manufacturing method as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-219667, whereby the thickness of the
任意ではあるが、透明導電層112に対して位相差膜123とは反対側に第2の応力緩和層113を構成する粘着剤層が更に配置されることができる。本実施形態においては、第2の応力緩和層113は、透明導電層112に直接接合されている。第2の応力緩和層113を設けることにより、光学積層体120を折り曲げた場合の光学積層体120にかかる応力をより低減することができる。
Although optional, an adhesive layer constituting the second stress relaxation layer 113 can be further arranged on the side opposite to the retardation film 123 with respect to the transparent conductive layer 112. In the present embodiment, the second stress relaxation layer 113 is directly bonded to the transparent conductive layer 112. By providing the second stress relaxation layer 113, the stress applied to the
図3に示す有機EL表示装置は、基本的に図2に示すものと同一であるが、透明導電層112が位相差膜123に直接接合されておらず、ポリシクロオレフィンやポリカーボネートフィルムなどの光学的に等方性を有するフィルム基材114上に設けられた透明導電層112が位相差膜123に接合されている点で異なる。 The organic EL display device shown in FIG. 3 is basically the same as that shown in FIG. 2, but the transparent conductive layer 112 is not directly bonded to the retardation film 123, and optics such as a polycycloolefin or a polycarbonate film are used. The difference is that the transparent conductive layer 112 provided on the film substrate 114 having an isotropic property is bonded to the retardation film 123.
図4に示す有機EL表示装置は、図2に示すものとほぼ同一であるが、図2の有機EL表示装置においては、位相差膜123に対して保護膜122とは反対側に、タッチセンサを構成する折り曲げ可能な透明導電層112が配置されるのに対して、図4の有機EL表示装置においては、保護膜122と第1の応力緩和層123との間に、タッチセンサを構成する折り曲げ可能な透明導電層112が配置される点で異なる。また、図2の有機EL表示装置においては、第2の応力緩和層113が、透明導電層112に対して位相差膜123とは反対側に配置されるのに対して、図4の有機EL表示装置においては、位相差膜123に対して保護膜122とは反対側に配置される点で異なる。 The organic EL display device shown in FIG. 4 is almost the same as that shown in FIG. 2, but in the organic EL display device shown in FIG. 2, the touch sensor is on the opposite side of the retardation film 123 from the protective film 122. In contrast to the foldable transparent conductive layer 112 that constitutes the above, in the organic EL display device of FIG. 4, a touch sensor is formed between the protective film 122 and the first stress relaxation layer 123. The difference is that the foldable transparent conductive layer 112 is arranged. Further, in the organic EL display device of FIG. 2, the second stress relaxation layer 113 is arranged on the side opposite to the retardation film 123 with respect to the transparent conductive layer 112, whereas the organic EL of FIG. 4 is arranged. The display device differs in that it is arranged on the opposite side of the retardation film 123 from the protective film 122.
本発明の光学積層体について、以下の実施例を用いて更に説明する。なお、本発明の光学積層体は、これらの実施例のみに限定されるものではない。 The optical laminate of the present invention will be further described with reference to the following examples. The optical laminate of the present invention is not limited to these examples.
〔実施例1〕
[偏光膜]
熱可塑性樹脂基材として、イソフタル酸ユニットを7モル%有するアモルファスのポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」ともいう。)(IPA共重合PET)フィルム(厚み:100μm)を用意し、表面にコロナ処理(58W/m2/min)を施した。一方、アセトアセチル変性PVA(日本合成化学工業(株)製 商品名:ゴーセファイマー Z200(平均重合度:1200,ケン化度:98.5モル%,アセトアセチル化度:5モル%)を1wt%添加したPVA(重合度4200、ケン化度99.2%)を用意して、PVA系樹脂が5.5wt%であるPVA水溶液の塗工液を準備し、乾燥後の膜厚が12μmになるように塗工し、60℃の雰囲気下において熱風乾燥により10分間乾燥して、基材上にPVA系樹脂の層を設けた積層体を作製した。
[Example 1]
[Polarizing film]
As a thermoplastic resin base material, an amorphous polyethylene terephthalate (hereinafter, also referred to as “PET”) (IPA copolymer PET) film (thickness: 100 μm) containing 7 mol% of isophthalic acid units was prepared, and the surface was corona-treated (thickness: 100 μm). 58 W / m 2 / min) was applied. On the other hand, 1 wt of acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: Gosefimer Z200 (average degree of polymerization: 1200, saponification degree: 98.5 mol%, acetoacetylation degree: 5 mol%)) % PVA (polymerization degree 4200, saponification degree 99.2%) was prepared, and a coating liquid of a PVA aqueous solution having a PVA-based resin of 5.5 wt% was prepared, and the film thickness after drying was 12 μm. It was coated so as to be, and dried in an atmosphere of 60 ° C. by hot air drying for 10 minutes to prepare a laminate having a layer of PVA-based resin on the base material.
次いで、この積層体をまず空気中130℃で1.8倍に自由端延伸して(空中補助延伸)、延伸積層体を生成した。次に、延伸積層体を液温30℃のホウ酸不溶化水溶液に30秒間浸漬することによって、延伸積層体に含まれるPVA分子が配向されたPVA層を不溶化する工程を行った。本工程のホウ酸不溶化水溶液は、ホウ酸含有量を水100重量部に対して3重量部とした。この延伸積層体を染色することによって着色積層体を生成した。着色積層体は、延伸積層体を液温30℃のヨウ素およびヨウ化カリウムを含む染色液に、最終的に生成される偏光膜を構成するPVA層の単体透過率が40〜44%になるように任意の時間、浸漬することによって、延伸積層体に含まれるPVA層をヨウ素により染色させたものである。本工程において、染色液は、水を溶媒として、ヨウ素濃度を0.1〜0.4重量%の範囲内とし、ヨウ化カリウム濃度を0.7〜2.8重量%の範囲内とした。ヨウ素とヨウ化カリウムの濃度の比は1対7である。次に、着色積層体を30℃のホウ酸架橋水溶液に60秒間浸漬することによって、ヨウ素を吸着させたPVA層のPVA分子同士に架橋処理を施す工程を行った。本工程のホウ酸架橋水溶液は、ホウ酸含有量を水100重量部に対して3重量部とし、ヨウ化カリウム含有量を水100重量部に対して3重量部とした。 Next, this laminate was first stretched 1.8 times at a free end in air at 130 ° C. (auxiliary stretching in the air) to produce a stretched laminate. Next, a step of insolubilizing the PVA layer in which the PVA molecules contained in the stretched laminate were oriented was performed by immersing the stretched laminate in a boric acid insoluble aqueous solution having a liquid temperature of 30 ° C. for 30 seconds. The boric acid insolubilized aqueous solution in this step had a boric acid content of 3 parts by weight based on 100 parts by weight of water. A colored laminate was produced by dyeing this stretched laminate. In the colored laminate, the stretched laminate is mixed with a dyeing solution containing iodine and potassium iodide at a liquid temperature of 30 ° C., and the single transmittance of the PVA layer constituting the polarizing film finally formed is 40 to 44%. The PVA layer contained in the stretched laminate was stained with iodine by immersing it in the stretched laminate for an arbitrary time. In this step, the dyeing solution used water as a solvent and had an iodine concentration in the range of 0.1 to 0.4% by weight and a potassium iodide concentration in the range of 0.7 to 2.8% by weight. The ratio of iodine to potassium iodide concentrations is 1: 7. Next, a step of cross-linking the PVA molecules of the PVA layer on which iodine was adsorbed was performed by immersing the colored laminate in a boric acid cross-linked aqueous solution at 30 ° C. for 60 seconds. The boric acid crosslinked aqueous solution in this step had a boric acid content of 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of water and a potassium iodide content of 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of water.
さらに、得られた着色積層体をホウ酸水溶液中で延伸温度70℃として、先の空気中での延伸と同様の方向に3.05倍に延伸して(ホウ酸水中延伸)、最終的な延伸倍率は5.50倍である光学フィルム積層体を得た。光学フィルム積層体をホウ酸水溶液から取り出し、PVA層の表面に付着したホウ酸を、ヨウ化カリウム含有量が水100重量部に対して4重量部とした水溶液で洗浄した。洗浄された光学フィルム積層体を60℃の温風による乾燥工程によって乾燥した。得られた光学フィルム積層体に含まれる偏光膜の厚みは5μmであった。 Further, the obtained colored laminate was stretched 3.05 times in the same direction as the previous stretching in air at a stretching temperature of 70 ° C. in an aqueous boric acid solution (stretching in boric acid water) to finally complete the stretching. An optical film laminate having a draw ratio of 5.50 times was obtained. The optical film laminate was taken out from the boric acid aqueous solution, and the boric acid adhering to the surface of the PVA layer was washed with an aqueous solution having a potassium iodide content of 4 parts by weight based on 100 parts by weight of water. The washed optical film laminate was dried by a drying step with warm air at 60 ° C. The thickness of the polarizing film contained in the obtained optical film laminate was 5 μm.
[位相差膜]
撹拌翼および100℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器2器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。9,9−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン(BHEPF)、イソソルビド(ISB)、ジエチレングリコール(DEG)、ジフェニルカーボネート(DPC)、および酢酸マグネシウム4水和物を、モル比率でBHEPF/ISB/DEG/DPC/酢酸マグネシウム=0.348/0.490/0.162/1.005/1.00×10-5になるように仕込んだ。反応器内を十分に窒素置換した後(酸素濃度0.0005〜0.001vol%)、熱媒で加温を行い、内温が100℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始40分後に内温を220℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、220℃に到達してから90分で13.3kPaにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を100℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は45℃の凝縮器に導いて回収した。
[Phase difference film]
Polymerization was carried out using a batch polymerization apparatus consisting of two vertical reactors equipped with a stirring blade and a reflux condenser controlled at 100 ° C. 9,9- [4- (2-Hydroxyethoxy) phenyl] fluorene (BHEPF), isosorbide (ISB), diethylene glycol (DEG), diphenyl carbonate (DPC), and magnesium acetate tetrahydrate in a molar ratio of BHEPF / ISB / DEG / DPC / magnesium acetate = 0.348 / 0.490 / 0.162 / 1.005 / 1.00 × 10 -5 . After sufficiently replacing the inside of the reactor with nitrogen (oxygen concentration 0.0005 to 0.001 vol%), heating was performed with a heat medium, and stirring was started when the internal temperature reached 100 ° C. The internal temperature was brought to 220 ° C. 40 minutes after the start of the temperature rise, and the depressurization was started at the same time as controlling to maintain this temperature, and the temperature was 13.3 kPa 90 minutes after reaching 220 ° C. The phenol vapor produced as a by-product of the polymerization reaction was guided to a reflux condenser at 100 ° C., the monomer component contained in a small amount in the phenol vapor was returned to the reactor, and the uncondensed phenol vapor was guided to a condenser at 45 ° C. for recovery.
第1反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第1反応器内のオリゴマー化された反応液を第2反応器に移した。次いで、第2反応器内の昇温および減圧を開始して、50分で内温240℃、圧力0.2kPaにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、反応液をストランドの形態で抜出し、回転式カッターでペレット化を行い、BHEPF/ISB/DEG=34.8/49.0/16.2[mol%]の共重合組成のポリカーボネート樹脂Aを得た。このポリカーボネート樹脂の還元粘度は0.430dL/g、ガラス転移温度は128℃であった。 After introducing nitrogen into the first reactor and once restoring the pressure to atmospheric pressure, the oligomerized reaction solution in the first reactor was transferred to the second reactor. Then, the temperature rise and depressurization in the second reactor were started, and the internal temperature was 240 ° C. and the pressure was 0.2 kPa in 50 minutes. Then, the polymerization was allowed to proceed until the stirring power became a predetermined value. When the predetermined power is reached, nitrogen is introduced into the reactor to repressurize, the reaction solution is extracted in the form of strands, pelletized with a rotary cutter, and BHEPF / ISB / DEG = 34.8 / 49.0 /. A polycarbonate resin A having a copolymerization composition of 16.2 [mol%] was obtained. The reduced viscosity of this polycarbonate resin was 0.430 dL / g, and the glass transition temperature was 128 ° C.
得られたポリカーボネート樹脂を80℃で5時間真空乾燥をした後、単軸押出機(いすず化工機社製、スクリュー径25mm、シリンダー設定温度:220℃)、Tダイ(幅900mm、設定温度:220℃)、チルロール(設定温度:120〜130℃)および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み150μmのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。
After vacuum-drying the obtained polycarbonate resin at 80 ° C. for 5 hours, a single-screw extruder (manufactured by Isuzu Kakoki Co., Ltd.,
上記のようにして得られたポリカーボネート樹脂フィルムを、予熱処理、第1の斜め延伸および第2の斜め延伸処理に供し、長尺位相差膜を得た。具体的には、以下のとおりである。 The polycarbonate resin film obtained as described above was subjected to preheat treatment, first diagonal stretching and second diagonal stretching treatment to obtain a long retardation film. Specifically, it is as follows.
図5を参照して、ポリカーボネート樹脂フィルム(厚み150μm、幅(W1)765mm)を左右のクリップ1にて把持しつつ搬送し(把持ゾーンA)、延伸装置の予熱ゾーンBで145℃に予熱した。予熱ゾーンBにおいては、左右のクリップのクリップピッチ(P1)は125mmであった。次に、フィルムが第1の斜め延伸ゾーンCに入ると同時に、右側クリップのクリップピッチの増大および左側クリップのクリップピッチの減少を開始した。第1の斜め延伸ゾーンCの終端部における右側クリップのクリップピッチの変化率(P2/P1)は1.42であり、左側クリップのクリップピッチの変化率(P3/P1)は0.72であった。なお、第1の斜め延伸は138℃で行った。第1の斜め延伸後のフィルム幅(W2)は1092mmであった(TD延伸倍率(W2/W1)=1.45倍)。次に、フィルムが第2の斜め延伸ゾーンDに入ると同時に、左側クリップのクリップピッチの増大を開始し、P3からP2まで増大させた。第2の斜め延伸ゾーンDにおける左側クリップのクリップピッチの変化率(P2/P3)は1.97であった。一方、右側クリップのクリップピッチは、第2の斜め延伸ゾーンDにおいてP2のまま維持した。なお、第2の斜め延伸は138℃で行った。第2の斜め延伸後のフィルム幅(W3)は1419mmであった。また、上記第1の斜め延伸工程および第2の斜め延伸工程における幅方向への延伸倍率(W3/W1)は、1.9倍であった。 With reference to FIG. 5, a polycarbonate resin film (thickness 150 μm, width (W1) 765 mm) was conveyed while being gripped by the left and right clips 1 (grasping zone A), and preheated to 145 ° C. in the preheating zone B of the stretching apparatus. .. In the preheating zone B, the clip pitch (P1) of the left and right clips was 125 mm. Next, as soon as the film entered the first oblique stretching zone C, the clip pitch of the right side clip was increased and the clip pitch of the left side clip was decreased. The rate of change in the clip pitch (P2 / P1) of the right clip at the end of the first diagonally stretched zone C is 1.42, and the rate of change in the clip pitch of the left clip (P3 / P1) is 0.72. It was. The first diagonal stretching was performed at 138 ° C. The film width (W2) after the first diagonal stretching was 1092 mm (TD stretching ratio (W2 / W1) = 1.45 times). Next, as soon as the film entered the second diagonally stretched zone D, the clip pitch of the left clip was started to increase, increasing from P3 to P2. The rate of change (P2 / P3) of the clip pitch of the left clip in the second diagonally stretched zone D was 1.97. On the other hand, the clip pitch of the right clip was maintained at P2 in the second oblique stretching zone D. The second diagonal stretching was performed at 138 ° C. The film width (W3) after the second diagonal stretching was 1419 mm. Further, the stretching ratio (W3 / W1) in the width direction in the first diagonal stretching step and the second diagonal stretching step was 1.9 times.
次いで、解放ゾーンにおいて、125℃で60秒間フィルムを保持して熱固定を行った。熱固定されたフィルムを、100℃まで冷却後、左右のクリップを開放した(開放ゾーンE)。 Then, in the release zone, the film was held at 125 ° C. for 60 seconds for heat fixation. After cooling the heat-fixed film to 100 ° C., the left and right clips were opened (open zone E).
以上のようにして、配向角が48°の長尺位相差膜(厚み55μm、幅1419mm)を得た。 As described above, a long retardation film (thickness 55 μm, width 1419 mm) having an orientation angle of 48 ° was obtained.
[第1の応力緩和層]
本実施例の第1の応力緩和層を構成する粘着剤層を、以下の方法により作製した。
ブチルアクリレート(BA):67重量部、シクロヘキシルアクリレート(CHA):14重量部、4−ヒドロキシブチルアクリレート(4HBA):27重量部、ヒドロキシエチルアクリレート(HEA):9重量部、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニル−1−オン(商品名「イルガキュア651」、BASFジャパン社製):0.05重量部、及び1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(商品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):0.05重量部を4つ口フラスコに投入し、窒素雰囲気下で紫外線に曝露して部分的に光重合することによって、重合率10%の部分重合物(モノマーシロップ)を得た。この部分重合物100重量部に、イソシアネート化合物(商品名「コロネートL」、日本ポリウレタン工業社製、固形分75重量%)を固形分換算で0.1重量部添加した後、これらを均一に混合して光重合性組成物を調製した。
[First stress relaxation layer]
The pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer of this example was prepared by the following method.
Butyl acrylate (BA): 67 parts by weight, cyclohexyl acrylate (CHA): 14 parts by weight, 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA): 27 parts by weight, hydroxyethyl acrylate (HEA): 9 parts by weight, 2,2-dimethoxy- 1,2-Diphenyl-1-one (trade name "Irgacure 651", manufactured by BASF Japan): 0.05 parts by weight, and 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan) (Manufactured): A partial polymer (monomer syrup) having a polymerization rate of 10% was obtained by putting 0.05 parts by weight into a four-necked flask and exposing it to ultraviolet rays in a nitrogen atmosphere to partially photopolymerize it. .. To 100 parts by weight of this partial polymer, 0.1 part by weight of an isocyanate compound (trade name "Coronate L", manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., solid content 75% by weight) was added in terms of solid content, and then these were uniformly mixed. To prepare a photopolymerizable composition.
この光重合性組成物を、剥離ライナー(ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に剥離処理が施されているタイプ、厚み38μm、商品名「MRF38」、三菱樹脂社製)の剥離処理面上に塗布して塗布層を形成してから、該塗布層上にも同様の剥離ライナーを設けた。 This photopolymerizable composition is applied by applying it on the peeling surface of a release liner (a type in which one side of a polyethylene terephthalate film is peeled, a thickness of 38 μm, trade name “MRF38”, manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd.). After forming the layer, a similar release liner was provided on the coating layer.
次に、ブラックライトにより、強度が5mW/cm2の紫外線を照射して、光量で3600mJ/cm2照射されるまで重合を行い、粘着剤層の両面にセパレータが設けられた粘着シート(基材レスタイプ、粘着剤層の厚み:100μm)を作製した。 Next, a black light is used to irradiate ultraviolet rays with an intensity of 5 mW / cm 2 and polymerize until the light is irradiated at 3600 mJ / cm 2 , and an adhesive sheet (base material) provided with separators on both sides of the adhesive layer. A less type, thickness of adhesive layer: 100 μm) was prepared.
なお、粘着剤層のベースポリマーとしてのアクリル系ポリマーの重量平均分子量は200万であった。 The weight average molecular weight of the acrylic polymer as the base polymer of the pressure-sensitive adhesive layer was 2 million.
[光学積層体]
上記のように得られた斜め方向に遅相軸を有する長尺位相差膜と、上記のように得られた長手方向に吸収軸を有する長尺偏光フィルムとをロールツーロール方式を用いて連続的に貼り合わせ、遅相軸と吸収軸の軸角度が45°となるように、長尺積層フィルムを作製した。
[Optical laminate]
The long retardation film having a slow axis in the oblique direction obtained as described above and the long polarizing film having an absorption axis in the longitudinal direction obtained as described above are continuously connected by a roll-to-roll method. A long laminated film was prepared so that the axis angle between the slow-phase axis and the absorption axis was 45 °.
次いで、得られた長尺フィルムを15cm×1cmに裁断することにより、円偏光板を作製した。 Next, the obtained long film was cut into 15 cm × 1 cm to prepare a circularly polarizing plate.
得られた円偏光板に保護膜となる(メタ)アクリル系樹脂フィルムを接着剤を介して貼り合わせ、光学積層体を作成した。さらに上記のように得られた粘着シートからセパレータを剥離し、保護膜となる(メタ)アクリル系樹脂フィルムに、第1の応力緩和層を構成する粘着剤を貼り合わせることにより、有機EL表示装置用積層体を作製した。なお、この粘着剤層が剥き出しになっていると後述の180°耐折性試験を行うことが困難となるので、有機EL表示装置用積層体の粘着剤層の上には厚みが38μmのPET基材を貼り合せた。 An (meth) acrylic resin film serving as a protective film was bonded to the obtained circularly polarizing plate via an adhesive to prepare an optical laminate. Further, by peeling the separator from the adhesive sheet obtained as described above and adhering the adhesive constituting the first stress relaxation layer to the (meth) acrylic resin film serving as the protective film, the organic EL display device. A laminate for use was prepared. If this adhesive layer is exposed, it will be difficult to perform the 180 ° folding resistance test described later. Therefore, PET having a thickness of 38 μm is placed on the adhesive layer of the laminate for the organic EL display device. The base materials were bonded together.
得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第1の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機EL表示装置用積層体について、以下のように各種評価を行った。得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第1の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機EL表示装置用積層体の特性を表1に示す。 Various evaluations were performed on the obtained polarizing film, retardation film, optical laminate, pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer, and laminate for an organic EL display device as follows. Table 1 shows the characteristics of the obtained polarizing film, retardation film, optical laminate, pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer, and laminate for an organic EL display device.
〔実施例2〕
以下の相違点を除き、実施例1と同様の条件で偏光膜、第1の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機EL表示装置用積層体を製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。相違点は位相差膜の構成にある。実施例1の位相差膜は、斜め延伸法により製造された一層構成の位相差膜であったが、本実施例の位相差膜(1/4波長位相差板6)は、液晶材料が配向、固定化された1/4波長板用位相差層8、1/2波長板用位相差層9の2層から構成される位相差膜であった。具体的には以下のように製造された。
(液晶材料)
1/2波長板用位相差層9、1/4波長板用位相差層8を形成する材料として、ネマチック液晶相を示す重合性液晶材料(BASF社製: 商品名P a l i o c o l o r L C 2 4 2)を用いた。当該重合性液晶材料に対する光重合開始剤(BASF社製: 商品名イルガキュア9 0 7 )をトルエンに溶解した。さらに塗工性向上を目的としてDIC製のメガファックシリーズを液晶厚みに応じて0.1から0.5%程度加え、液晶塗工液を調製した。配向基材上に、当該液晶塗工液をバーコーターにより塗工した後、9 0 ℃ で2 分間加熱乾燥後、窒素雰囲気下で紫外線硬化により配向固定化させた。基材は、例えばPETのように液晶コーティング層を後から転写できるものを使用した。さらに塗工性向上を目的としてDIC製のメガファックシリーズであるフッ素系ポリマーを液晶層の厚みに応じて0.1%から0.5%程度加え、MIBK(メチルイソブチルケトン)、シクロヘキサノン、またはMIBKとシクロヘキサノンの混合溶剤を用いて固形分濃度25%に溶解して塗工液を作製した。この塗工液をワイヤーバーにより基材に塗工して65℃設定で3分間の乾燥工程を得て、窒素雰囲気下で紫外線硬化により配向固定して作製した。基材は、例えばPETのように液晶コーティング層を後から転写できるものを使用した。
[Example 2]
Except for the following differences, a polarizing film, a pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer, and a laminate for an organic EL display device were manufactured and manufactured under the same conditions as in Example 1, and various evaluations were performed as follows. Was done. The difference lies in the configuration of the retardation film. The retardation film of Example 1 was a one-layer retardation film manufactured by the oblique stretching method, but in the retardation film of this example (1/4 wavelength waveplate 6), the liquid crystal material is oriented. It was a retardation film composed of two layers, a fixed retardation layer 8 for a 1/4 wave plate and a retardation layer 9 for a 1/2 wavelength plate. Specifically, it was manufactured as follows.
(Liquid crystal material)
A polymerizable liquid crystal material exhibiting a nematic liquid crystal phase as a material for forming the retardation layer 9 for a 1/2 wave plate and the retardation layer 8 for a 1/4 wave plate (manufactured by BASF, trade name: P aliocolor LC 2 4 2). Was used. A photopolymerization initiator for the polymerizable liquid crystal material (manufactured by BASF, trade name: Irgacure 907) was dissolved in toluene. Further, for the purpose of improving the coatability, a megafuck series made by DIC was added in an amount of about 0.1 to 0.5% depending on the thickness of the liquid crystal to prepare a liquid crystal coating liquid. The liquid crystal coating liquid was applied onto the oriented substrate with a bar coater, dried by heating at 90 ° C. for 2 minutes, and then oriented and fixed by ultraviolet curing in a nitrogen atmosphere. As the base material, a material such as PET, which can transfer the liquid crystal coating layer later, was used. Furthermore, for the purpose of improving coatability, about 0.1% to 0.5% of a fluoropolymer, which is a megafuck series made by DIC, is added depending on the thickness of the liquid crystal layer, and MIBK (methyl isobutyl ketone), cyclohexanone, or MIBK is added. And cyclohexanone mixed solvent was used to dissolve in a solid content concentration of 25% to prepare a coating solution. This coating liquid was applied to a base material with a wire bar to obtain a drying step of 3 minutes at a setting of 65 ° C., and the orientation was fixed by ultraviolet curing in a nitrogen atmosphere. As the base material, a material such as PET, which can transfer the liquid crystal coating layer later, was used.
(製造工程)
図6を参照して、本実施例の製造工程を説明する。この製造工程20は、基材14がロールにより提供され、この基材14を供給リール21から供給した。製造工程20は、ダイ22によりこの基材14に紫外線硬化性樹脂10の塗布液を塗布した。この製造工程20において、ロール版30は、1/4波長位相差板6の1/4波長板用配向膜11に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の賦型用金型であった。製造工程20は、紫外線硬化性樹脂が塗布された基材14を加圧ローラ24によりロール版30の周側面に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置25による紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させた。これにより製造工程20は、ロール版30の周側面に形成された凹凸形状をMD方向に対して75°になるように基材14に転写した。その後、剥離ローラ26により硬化した紫外線硬化性樹脂10と一体に基材14をロール版30から剥離し、ダイ29により液晶材料を塗布した。またその後、紫外線照射装置27による紫外線の照射により液晶材料を硬化させ、これらにより1/4波長板用位相差層8に係る構成を作成した。続いてこの工程20は、搬送ローラ31により基材14をダイ32に搬送し、ダイ32によりこの基材14の1/4波長板用位相差層8上に紫外線硬化性樹脂12の塗布液を塗布した。この製造工程20において、ロール版40は、1/4波長位相差板6の1/2波長板用配向膜13に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の賦型用金型であった。製造工程20は、紫外線硬化性樹脂が塗布された基材14を加圧ローラ34によりロール版40の周側面に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置35による紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させた。これにより製造工程20は、ロール版40の周側面に形成された凹凸形状をMD方向に対して15°になるように基材14に転写した。その後、剥離ローラ36により硬化した紫外線硬化性樹脂12と一体に基材14をロール版40から剥離し、ダイ39により液晶材料を塗布した。またその後、紫外線照射装置37による紫外線の照射により液晶材料を硬化させ、これらにより1/2波長板用位相差層9に係る構成を作成した。
(Manufacturing process)
The manufacturing process of this embodiment will be described with reference to FIG. In this
得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第1の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機EL表示装置用積層体について、以下のように各種評価を行った。 Various evaluations were performed on the obtained polarizing film, retardation film, optical laminate, pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer, and laminate for an organic EL display device as follows.
得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第1の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機EL表示装置用積層体の特性を表1に示す。 Table 1 shows the characteristics of the obtained polarizing film, retardation film, optical laminate, pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer, and laminate for an organic EL display device.
〔実施例3〕
第1の応力緩和層を構成する粘着剤層の粘着材として25℃における貯蔵弾性率が0.05MPaの粘着剤を用いる以外は、実施例1と同様の条件で偏光膜、位相差膜、光学積層体、及び有機EL表示装置用積層体を製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。
[Example 3]
A polarizing film, a retardation film, and optics under the same conditions as in Example 1 except that a pressure-sensitive adhesive having a storage elastic modulus at 25 ° C. of 0.05 MPa is used as the pressure-sensitive adhesive material of the pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer. Laminates and laminates for organic EL display devices were manufactured and manufactured, and various evaluations were performed as follows.
本実施例の第1の応力緩和層を構成する粘着剤層を、以下の方法により作製した。 The pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer of this example was prepared by the following method.
ラウリルアクリレート(LA)50重量部、2−エチルヘキシルアクリレート(2EHA)32重量部、4−ヒドロキシブチルアクリレート(HBA)8重量部及びN−ビニル−2−ピロリドン(NVP)10重量部を混合することにより混合物(モノマー混合物)を得た。次いで、上記混合物100重量部、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(商品名「イルガキュア184」、BASFジャパン株式会社製、光重合開始剤)0.05重量部及び2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名「イルガキュア651」、BASFジャパン株式会社製、光重合開始剤)0.05重量部を、4つ口フラスコに投入し、窒素雰囲気下で粘度(BH粘度系No.5ローター、10rpm、温度30℃)が約15Pa・sになるまで紫外線を照射して、光重合させることにより、部分重合モノマーシロップ(モノマー成分の部分重合物)を得た。
By mixing 50 parts by weight of lauryl acrylate (LA), 32 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 8 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (HBA) and 10 parts by weight of N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP). A mixture (monomer mixture) was obtained. Next, 100 parts by weight of the above mixture, 0.05 part by weight of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan Co., Ltd., photopolymerization initiator) and 2,2-dimethoxy-1, Add 0.05 parts by weight of 2-diphenylethane-1-one (trade name "Irgacure 651", manufactured by BASF Japan Co., Ltd., photopolymerization initiator) into a four-port flask and add viscosity (BH viscosity) under a nitrogen atmosphere. A partially polymerized monomer syrup (partially polymerized monomer component) was obtained by irradiating with ultraviolet rays until the system No. 5 rotor (10 rpm,
この部分重合モノマーシロップ100重量部に、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(HDDA、多官能モノマー)0.04重量部、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(商品名「イルガキュア184」、BASFジャパン株式会社製、光重合開始剤(追加開始剤))0.05重量部及び2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名「イルガキュア651」、BASFジャパン株式会社製、光重合開始剤(追加開始剤))0.05重量部及びシランカップリング剤(商品名「KBM−403」、信越化学工業株式会社製)0.3重量部を均一に混合して、粘着剤組成物を得た。上記粘着剤組成物を、剥離フィルム(商品名「MRF#38」、三菱樹脂株式会社製)の剥離処理された面上に、粘着剤層形成後の厚さが100μmとなるように塗布して、粘着剤組成物層を形成し、次いで、粘着剤組成物層の表面に、剥離フィルム(商品名「MRN#38」、三菱樹脂株式会社製)を貼り合わせた。その後、照度:4mW/cm2、光量:1200mJ/cm2の条件にて紫外線照射を行い、粘着剤組成物層を光硬化させて、粘着剤層の両面にセパレータが設けられた粘着シート(基材レスタイプ、粘着剤層の厚み:100μm)を作製した。
In addition to 100 parts by weight of this partially polymerized monomer syrup, 0.04 parts by weight of 1,6-hexanediol diacrylate (HDDA, polyfunctional monomer), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name "Irgacure 184", BASF Japan) Photopolymerization initiator (additional initiator) manufactured by Co., Ltd., 0.05 parts by weight and 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (trade name "Irgacure 651", manufactured by BASF Japan Co., Ltd., 0.05 parts by weight of photopolymerization initiator (additional initiator) and 0.3 parts by weight of silane coupling agent (trade name "KBM-403", manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) are uniformly mixed to prepare an adhesive. The composition was obtained. The above pressure-sensitive adhesive composition is applied onto the peel-treated surface of a release film (trade name "
得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第1の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機EL表示装置用積層体の特性を表1に示す。 Table 1 shows the characteristics of the obtained polarizing film, retardation film, optical laminate, pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer, and laminate for an organic EL display device.
〔比較例1〕
[偏光膜]
厚さ50μmのポリビニルアルコールフィルムを下記[1]〜[5]の5浴に周速の異なる複数セットのロール間を通して順次フィルム長手方向に張力を付与しながら浸漬し、最終的な延伸倍率がフィルム元長に対し、6.0倍になるように延伸した。このフィルムを50℃オーブンで4分間乾燥させ、厚み22μmの偏光膜を得た。
[1]膨潤浴:30℃の純水
[2]染色浴:水100重量部に対し、ヨウ素濃度を0.02〜0.2重量%の範囲内とし、ヨウ化カリウム濃度を0.14〜1.4重量%の範囲内とした。ヨウ素とヨウ化カリウムの濃度の比は1対7である。これらを含む30℃の水溶液へ、最終的な偏光膜の単体透過率が40〜44%となるように任意の時間浸漬した。
[3]第1の架橋浴:3重量%のヨウ化カリウムと3重量%のホウ酸とを含む、40℃の水溶液。
[4]第2の架橋浴:5重量%のヨウ化カリウムと4重量%のホウ酸とを含む、60℃の水溶液。
[5]洗浄浴:3重量%のヨウ化カリウムを含む、25℃の水溶液
[Comparative Example 1]
[Polarizing film]
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 50 μm is immersed in the following 5 baths [1] to [5] through a plurality of sets of rolls having different peripheral speeds while sequentially applying tension in the longitudinal direction of the film, and the final draw ratio is the film. It was stretched so as to be 6.0 times the original length. This film was dried in an oven at 50 ° C. for 4 minutes to obtain a polarizing film having a thickness of 22 μm.
[1] Swelling bath: Pure water at 30 ° C. [2] Dyeing bath: The iodine concentration is in the range of 0.02 to 0.2% by weight and the potassium iodide concentration is 0.14 to 0.2% by weight with respect to 100 parts by weight of water. It was within the range of 1.4% by weight. The ratio of iodine to potassium iodide concentrations is 1: 7. The final polarizing film was immersed in an aqueous solution containing these at 30 ° C. for an arbitrary time so that the single transmittance of the polarizing film was 40 to 44%.
[3] First cross-linking bath: An aqueous solution at 40 ° C. containing 3% by weight of potassium iodide and 3% by weight of boric acid.
[4] Second cross-linking bath: An aqueous solution at 60 ° C. containing 5% by weight of potassium iodide and 4% by weight of boric acid.
[5] Washing bath: An aqueous solution at 25 ° C. containing 3% by weight of potassium iodide.
[位相差膜]
イソソルビド(以下、「ISB」と略記することがある。)を445.1重量部、9,9−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン(以下、「BHEPF」と略記することがある。)を906.2重量部、分子量1000のポリエチレングリコール(以下、「PEG#1000」と略記することがある。)15.4重量部、ジフェニルカーボネート(以下、「DPC」と略記することがある。)を1120.4重量部、及び触媒として炭酸セシウム(0.2重量%水溶液)6.27重量部を、それぞれ反応器に投入し、窒素雰囲気下にて、反応の第1段目の工程として、反応容器の熱媒温度を150℃にし、必要に応じて攪拌しながら、原料を溶解させた(約15分)。次いで、反応容器内の圧力を常圧から13.3kPaにし、反応容器の熱媒温度を190℃まで1時間で上昇させながら、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。
[Phase difference film]
Isosorbide (hereinafter, may be abbreviated as "ISB") may be abbreviated as 445.1 parts by weight, 9,9- (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene (hereinafter, may be abbreviated as "BHEPF"). ) Is 906.2 parts by weight, polyethylene glycol having a molecular weight of 1000 (hereinafter, may be abbreviated as “PEG # 1000”) 15.4 parts by weight, diphenyl carbonate (hereinafter, may be abbreviated as “DPC”). ) Is 1120.4 parts by weight, and 6.27 parts by weight of cesium carbonate (0.2 wt% aqueous solution) is charged into the reactor as a catalyst, and the first step of the reaction is carried out under a nitrogen atmosphere. The temperature of the heat medium of the reaction vessel was set to 150 ° C., and the raw materials were dissolved while stirring as necessary (about 15 minutes). Next, the pressure inside the reaction vessel was changed from normal pressure to 13.3 kPa, and the heat medium temperature of the reaction vessel was raised to 190 ° C. in 1 hour, and the generated phenol was extracted from the reaction vessel.
反応容器内温度を190℃で15分保持した後、第2段目の工程として、反応容器内の圧力を6.67kPaとし、反応容器の熱媒温度を230℃まで、15分で上昇させ、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。攪拌機の攪拌トルクが上昇してくるので、8分で250℃まで昇温し、さらに発生するフェノールを取り除くため、反応容器内の圧力を200Pa以下に減圧した。所定の攪拌トルクに到達後、反応を終了し、生成した反応物を水中に押し出した後に、ペレット化を行い、BHEPF/ISB/PEG#1000=40.3モル%/59.4モル%/0.3モル%のポリカーボネート樹脂Aを得た。 After maintaining the temperature inside the reaction vessel at 190 ° C. for 15 minutes, as the second step, the pressure inside the reaction vessel was set to 6.67 kPa, and the heat medium temperature of the reaction vessel was raised to 230 ° C. in 15 minutes. The generated phenol was extracted from the reaction vessel. Since the stirring torque of the stirrer increased, the temperature was raised to 250 ° C. in 8 minutes, and the pressure in the reaction vessel was reduced to 200 Pa or less in order to remove the generated phenol. After reaching the predetermined stirring torque, the reaction is terminated, the produced reaction product is extruded into water, and then pelletized, and BHEPF / ISB / PEG # 1000 = 40.3 mol% / 59.4 mol% / 0. A 3 mol% polycarbonate resin A was obtained.
得られたポリカーボネート樹脂Aを80℃で5時間真空乾燥した後、単軸押出機(いすず化工機社製、スクリュー径25mm、シリンダー設定温度:220℃)、Tダイ(幅200mm、設定温度:220℃)、チルロール(設定温度:120〜130℃)及び巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み110μmの原反フィルムを作製した。この原反フィルムから幅6cm、長さ6cmの試料を切り出し、厚み斑を測定した。この試料を、バッチ式二軸延伸装置(東洋精機社製)で、延伸温度を127〜177℃で調節しながらR1(550)が130±20nmとなるように、延伸速度720mm/分(ひずみ速度1200%/分)で、1×2.0倍の一軸延伸を行い、位相差膜を得た。このとき延伸方向に対して垂直方向は、保持した状態(延伸倍率1.0)で延伸を行った。以上のようにして、厚み55μmの長尺位相差膜を得た。
After vacuum-drying the obtained polycarbonate resin A at 80 ° C. for 5 hours, a single-screw extruder (manufactured by Isuzu Kakoki Co., Ltd.,
[第1の応力緩和層]
本比較例の第1の応力緩和層を構成する粘着剤層を、以下の方法により作製した。
[First stress relaxation layer]
The pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer of this comparative example was prepared by the following method.
(アクリル系ポリマー)
ジシクロペンタニルアクリレート(DCPMA、メタクリル酸ジシクロペンタニル)60重量部、メチルメタクリレート(MMA、メタクリル酸メチル)40重量部、連鎖移動剤としてのα−チオグリセロール3.5重量部及び重合溶媒としてのトルエン100重量部を、4つ口フラスコに投入し、これらを窒素雰囲気下にて70℃で1時間撹拌した。次に、重合開始剤としての2,2´−アゾビスイソブチロニトリル0.2重量部を4つ口フラスコに投入し、70℃で2時間反応させ、続いて、80℃で2時間反応させた。その後、反応液を130℃温度雰囲気下に投入し、トルエン、連鎖移動剤及び未反応モノマーを乾燥除去させ、固形状のアクリル系ポリマーを得た。このアクリル系ポリマーの重量平均分子量(Mw)は5.1×103であった。
(Acrylic polymer)
60 parts by weight of dicyclopentanyl acrylate (DCPMA, dicyclopentanyl methacrylate), 40 parts by weight of methyl methacrylate (MMA, methyl methacrylate), 3.5 parts by weight of α-thioglycerol as a chain transfer agent, and as a polymerization solvent. 100 parts by weight of toluene was put into a four-necked flask, and these were stirred at 70 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere. Next, 0.2 parts by weight of 2,2'-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator was put into a four-necked flask and reacted at 70 ° C. for 2 hours, followed by a reaction at 80 ° C. for 2 hours. I let you. Then, the reaction solution was put into a temperature atmosphere of 130 ° C., and toluene, the chain transfer agent and the unreacted monomer were dried and removed to obtain a solid acrylic polymer. The weight average molecular weight of the acrylic polymer (Mw) was 5.1 × 10 3.
(応力緩和糊)
アクリル酸2−エチルヘキシル(2EHA)68重量部、N−ビニル−2−ピロリドン(NVP)14.5重量部及びアクリル酸2−ヒドロキシエチル(HEA)17.5重量部から構成されるモノマー混合物に、光重合開始剤(商品名「イルガキュア184」、BASF社製)0.035重量部及び光重合開始剤(商品名「イルガキュア651」、BASF社製)0.035重量部を配合した後、粘度(BH粘度計No.5ローター、10rpm、測定温度30℃)が約20Pa・sになるまで紫外線を照射して、上記モノマー成分の一部が重合したプレポリマー組成物を得た。
(Stress relaxation glue)
In a monomer mixture composed of 68 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 14.5 parts by weight of N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP) and 17.5 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA). After blending 0.035 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name "Irgacure 184", manufactured by BASF) and 0.035 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name "Irgacure 651", manufactured by BASF), the viscosity ( A prepolymer composition in which a part of the above-mentioned monomer components was polymerized was obtained by irradiating ultraviolet rays until the BH viscometer No. 5 rotor (10 rpm,
次に、該プレポリマー組成物に、上記アクリル系ポリマー5重量部、ヘキサンジオールジアクリレート(HDDA)0.30重量部、シランカップリング剤(商品名「KBM−403」、信越化学工業株式会社製)0.3重量部を添加して、混合し、アクリル系粘着剤組成物を得た。上記粘着剤組成物を、剥離フィルム(商品名「MRF#38」、三菱樹脂株式会社製)の剥離処理された面上に、粘着剤層形成後の厚さが100μmとなるように塗布して、粘着剤組成物層を形成し、次いで、粘着剤組成物層の表面に、剥離フィルム(商品名「MRN#38」、三菱樹脂株式会社製)を貼り合わせた。その後、照度:5mW/cm2、光量:1500mJ/cm2の条件にて紫外線照射を行い、粘着剤組成物層を光硬化させて、粘着剤層を形成し、粘着剤層の両面にセパレータが設けられた粘着シート(基材レスタイプ、粘着剤層の厚み:100μm)を作製した。
Next, the prepolymer composition contains 5 parts by weight of the acrylic polymer, 0.30 parts by weight of hexanediol diacrylate (HDDA), a silane coupling agent (trade name "KBM-403", manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.). ) 0.3 parts by weight was added and mixed to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition. The above pressure-sensitive adhesive composition is applied onto the peel-treated surface of a release film (trade name "
[光学積層体]
得られた位相差膜の遅相軸と得られた偏光フィルムの吸収軸とのなす角が45°となるようにしてこれらを貼り合せることにより、積層長尺フィルムを作製した。
[Optical laminate]
A laminated long film was produced by laminating these so that the angle formed by the slow axis of the obtained retardation film and the absorption axis of the obtained polarizing film was 45 °.
次いで、得られた積層長尺フィルムを15cm×1cmに裁断することにより、円偏光板を作製した。 Next, the obtained laminated long film was cut into a size of 15 cm × 1 cm to prepare a circularly polarizing plate.
得られた円偏光板の両面に、保護膜となる(メタ)アクリル系樹脂フィルムを接着剤を介して貼り合わせ、光学積層体を作成した。さらに上記のようにして得られた粘着シートからセパレータを剥離し、保護膜となる(メタ)アクリル系樹脂フィルムに、第1の応力緩和層を構成する粘着剤を貼り合わせることにより、有機EL表示装置用積層体を作製した。なお、粘着剤層が剥き出しになっていると後述の180°耐折性試験を行うことが困難となるので、有機EL表示装置用積層体の粘着剤層の上には厚みが38μmのPET基材を貼り合せた。 An (meth) acrylic resin film serving as a protective film was bonded to both sides of the obtained circularly polarizing plate with an adhesive to prepare an optical laminate. Further, the separator is peeled off from the pressure-sensitive adhesive sheet obtained as described above, and the pressure-sensitive adhesive constituting the first stress relaxation layer is attached to the (meth) acrylic resin film serving as a protective film to display an organic EL. A laminate for the device was produced. If the adhesive layer is exposed, it becomes difficult to perform the 180 ° folding resistance test described later. Therefore, a PET group having a thickness of 38 μm is placed on the adhesive layer of the laminate for the organic EL display device. The materials were pasted together.
得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第1の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機EL表示装置用積層体について、以下のように各種評価を行った。得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第1の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機EL表示装置用積層体の特性を表1に示す。 Various evaluations were performed on the obtained polarizing film, retardation film, optical laminate, pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer, and laminate for an organic EL display device as follows. Table 1 shows the characteristics of the obtained polarizing film, retardation film, optical laminate, pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer, and laminate for an organic EL display device.
〔比較例2〕
第1の応力緩和層を構成する粘着剤層の粘着材として25℃における貯蔵弾性率が0.20MPaの粘着剤を用いる以外は、比較例1と同様の条件で偏光膜、位相差膜、光学積層体、及び有機EL表示装置用積層体を製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。
[Comparative Example 2]
A polarizing film, a retardation film, and optics under the same conditions as in Comparative Example 1 except that a pressure-sensitive adhesive having a storage elastic modulus at 25 ° C. of 0.20 MPa is used as the pressure-sensitive adhesive material of the pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer. Laminates and laminates for organic EL display devices were manufactured and manufactured, and various evaluations were performed as follows.
本比較例の第1の応力緩和層を構成する粘着剤層を、以下の方法により作製した。 The pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer of this comparative example was prepared by the following method.
2−エチルヘキシルアクリレート(2EHA)32重量部、イソステアリルアクリレート(ISTA)48重量部、2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)20重量部、2種の光重合開始剤(商品名:イルガキュア184、BASF製)0.05重量部および光重合開始剤(商品名:イルガキュア651、BASF製)0.05重量部を4つ口フラスコに投入してモノマー混合物を調製した。次いで、前記モノマー混合物を窒素雰囲気下で紫外線に曝露して部分的に光重合させることによって、重合率約10重量%の部分重合物(アクリル系ポリマーシロップ)を得た。得られたアクリル系ポリマーシロップの100重量部に、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)0.02重量部、シランカップリング剤(商品名:KBM−403、信越化学工業(株)製)を0.3部添加した後、これらを均一に混合してモノマー成分を調製した。 32-weight part of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 48 parts by weight of isostearyl acrylate (ISTA), 20 parts by weight of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA), two photopolymerization initiators (trade name: Irgacure 184, manufactured by BASF) A monomer mixture was prepared by charging 0.05 parts by weight of 0.05 parts by weight and 0.05 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 651, manufactured by BASF) into a four-necked flask. Then, the monomer mixture was exposed to ultraviolet rays in a nitrogen atmosphere and partially photopolymerized to obtain a partial polymer (acrylic polymer syrup) having a polymerization rate of about 10% by weight. To 100 parts by weight of the obtained acrylic polymer syrup, 0.02 part by weight of trimethylolpropane triacrylate (TMPTA) and a silane coupling agent (trade name: KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were added. After adding 3 parts, these were uniformly mixed to prepare a monomer component.
次いで、上記で調製したモノマー成分を、片面をシリコーンで剥離処理した厚み38μmのポリエステルフィルム(商品名:ダイアホイルMRF、三菱樹脂(株)製)の剥離処理面に、最終的な厚みが100μmになるように塗布して塗布層を形成した。次いで、塗布されたモノマー成分の表面に、片面をシリコーンで剥離処理した厚み38μmのポリエステルフィルム(商品名:ダイアホイルMRE、三菱樹脂(株)製)を、当該フィルムの剥離処理面が塗布層側になるようにして被覆した。これにより、モノマー成分の塗布層を酸素から遮断した。このようにして得られた塗布層を有するシートにケミカルライトランプ((株)東芝製)を用いて照度5mW/cm2(約350nmに最大感度をもつトプコンUVR−T1で測定)の紫外線を360秒間照射して、塗布層を硬化させて粘着剤層を形成し、粘着剤層の両面にセパレータが設けられた粘着シート(基材レスタイプ、粘着剤層の厚み:100μm)を作製した。 Next, the monomer component prepared above was peeled off on one side of a polyester film having a thickness of 38 μm (trade name: Diafoil MRF, manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd.) to a final thickness of 100 μm. To form a coating layer. Next, a polyester film (trade name: Diafoil MRE, manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd.) having a thickness of 38 μm, one side of which was peeled off with silicone, was applied to the surface of the coated monomer component, and the peeled surface of the film was on the coated layer side. It was coated so as to be. As a result, the coating layer of the monomer component was shielded from oxygen. Using a chemical light lamp (manufactured by Toshiba Corporation), ultraviolet rays with an illuminance of 5 mW / cm2 (measured with Topcon UVR-T1 having the maximum sensitivity at about 350 nm) are applied to the sheet having the coating layer thus obtained for 360 seconds. By irradiating, the coating layer was cured to form a pressure-sensitive adhesive layer, and a pressure-sensitive adhesive sheet (base material-less type, thickness of pressure-sensitive adhesive layer: 100 μm) provided with separators on both sides of the pressure-sensitive adhesive layer was prepared.
得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第1の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機EL表示装置用積層体の特性を表1に示す。 Table 1 shows the characteristics of the obtained polarizing film, retardation film, optical laminate, pressure-sensitive adhesive layer constituting the first stress relaxation layer, and laminate for an organic EL display device.
[評価]
(厚みの測定)
偏光膜、位相差膜、保護膜、光学積層体の厚みは、ダイヤルゲージ(ミツトヨ製)を用いて測定した。
[Evaluation]
(Measurement of thickness)
The thicknesses of the polarizing film, the retardation film, the protective film, and the optical laminate were measured using a dial gauge (manufactured by Mitutoyo).
(第1の応力緩和層の貯蔵弾性率の測定)
各実施例および比較例の粘着シートからセパレータを剥離し、複数の粘着シートを積層して、厚さ約1.5mmの試験サンプルを作製した。この試験サンプルを直径7.9mmの円盤状に打ち抜き、パラレルプレートに挟み込み、Rheometric Scientific社製「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」を用いて、以下の条件により、動的粘弾性測定を行い、測定結果から貯蔵弾性率G’を読み取った。
(測定条件)
変形モード:ねじり
測定温度:−40℃〜150℃
昇温速度:5℃/分
測定周波数:1Hz
(Measurement of storage elastic modulus of the first stress relaxation layer)
The separator was peeled off from the pressure-sensitive adhesive sheets of each Example and Comparative Example, and a plurality of pressure-sensitive adhesive sheets were laminated to prepare a test sample having a thickness of about 1.5 mm. This test sample is punched into a disk shape with a diameter of 7.9 mm, sandwiched between parallel plates, and dynamic viscoelasticity measurement is performed and measured under the following conditions using "Advanced Rheometric Expansion System (ARES)" manufactured by Rheometric Scientific. The storage elastic modulus G'was read from the result.
(Measurement condition)
Deformation mode: Torsion measurement temperature: -40 ° C to 150 ° C
Temperature rise rate: 5 ° C / min Measurement frequency: 1Hz
(耐折強さ(回)の測定)
図7に180°耐折性試験機(井元製作所製)の概略図を示す。本装置は、恒温槽内で、マンドレルを挟んで片側のチャックが180°曲げを繰り返す機構となっており、マンドレルの直径により折り曲げ半径を変えることができる。フィルム破断すると試験が停止する機構になっている。試験は、各実施例及び比較例で得られた1cm×15cmの光学積層体を装置にセットし、温度25℃、曲げ角度180°、曲げ半径5mm、曲げ速度2秒/回、重り100gの条件で実施した。光学積層体の破断までの回数で耐折強さを評価した。ここで、折り曲げの回数が100000回に達した場合は、試験を打ち切った。
(Measurement of folding strength (times))
FIG. 7 shows a schematic view of a 180 ° folding resistance tester (manufactured by Imoto Seisakusho). This device has a mechanism in which the chuck on one side repeatedly bends 180 ° across the mandrel in a constant temperature bath, and the bending radius can be changed according to the diameter of the mandrel. The mechanism is such that the test stops when the film breaks. In the test, the 1 cm × 15 cm optical laminates obtained in each Example and Comparative Example were set in the apparatus, and the conditions were a temperature of 25 ° C., a bending angle of 180 °, a bending radius of 5 mm, a bending speed of 2 seconds / time, and a weight of 100 g. It was carried out in. The folding resistance was evaluated by the number of times until the optical laminate was broken. Here, when the number of bends reached 100,000, the test was terminated.
(評価)
表1から以下のことが分かった。実施例1〜3では、光学積層体の耐折強さが100000回を超えたが、比較例1、2では、耐折強さがそれぞれ40000回、20000回と100000回を大幅に下回った。すなわち、各実施例の光学積層体において、効果的に光学積層体にかかる応力を抑制することができ、光学積層体の厚みが120μm以下であって、第1の応力緩和層の25℃における貯蔵弾性率が0.05〜0.15MPaである場合、耐折強さが十分大きく、光学積層体の厚みが120μmを超え、第1の応力緩和層の25℃における貯蔵弾性率が0.15MPaを超える場合、耐折強さが大幅に小さくなることが分かった。
(Evaluation)
The following was found from Table 1. In Examples 1 to 3, the folding resistance of the optical laminate exceeded 100,000 times, but in Comparative Examples 1 and 2, the folding resistance was significantly lower than 40,000 times, 20,000 times, and 100,000 times, respectively. That is, in the optical laminate of each embodiment, the stress applied to the optical laminate can be effectively suppressed, the thickness of the optical laminate is 120 μm or less, and the first stress relaxation layer is stored at 25 ° C. When the elastic modulus is 0.05 to 0.15 MPa, the folding resistance is sufficiently large, the thickness of the optical laminate exceeds 120 μm, and the storage elastic modulus of the first stress relaxation layer at 25 ° C. is 0.15 MPa. It was found that if it exceeds, the folding resistance is significantly reduced.
以上、本発明を特定の実施形態について図面を参照して説明したが、本発明は、図示し説明した構成以外にも、幾多の変更が可能である。したがって、本発明は、図示し説明した構成に限定されるものではなく、その範囲は、添付の特許請求の範囲及びその均等範囲によってのみ定められるべきである。 Although the present invention has been described above with reference to the drawings for a specific embodiment, the present invention can be modified in many ways other than the configurations shown and described. Therefore, the present invention is not limited to the configurations illustrated and described, and its scope should be defined only by the appended claims and their equivalents.
100 有機EL表示装置
101 有機EL表示パネル
102 ウィンドウ
110 有機EL表示装置用積層体
111 第1の応力緩和層
112 透明導電層
113 第2の応力緩和層
114 基材
115 基材
120 光学積層体
121 偏光膜
122 保護膜
123 位相差層
900 有機EL表示装置
901 有機EL表示パネル
912−1、912−2 透明導電層
915−1、915−2 基材フィルム
916−1、916−2 透明導電フィルム
917 スペーサ
920 光学積層体
921 偏光膜
922−1、922−2 保護膜
923 位相差層
930 タッチパネル
100 Organic EL display device 101 Organic EL display panel 102
Claims (7)
第1の応力緩和層と、
を含み、
前記光学積層体は、
二色性物質を配向させた厚み12μm以下のポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光膜と、
前記偏光膜の第1の面に接合された透明樹脂材料の保護膜と、
前記偏光膜の前記第1の面とは異なる第2の面に接合された位相差膜と、
を含み、
前記第1の応力緩和層は、25℃における貯蔵弾性率が、0.05〜0.15MPaであり、前記保護膜に対して前記位相差膜とは反対側に配置され、
前記光学積層体の厚みは、120μm以下であって該光学積層体が折り曲げ可能に構成された、
ことを特徴とする有機EL表示装置用積層体。 Optical laminate and
The first stress relaxation layer and
Including
The optical laminate is
A polarizing film made of a polyvinyl alcohol-based resin having a thickness of 12 μm or less in which a dichroic substance is oriented, and
A protective film made of a transparent resin material bonded to the first surface of the polarizing film,
A retardation film bonded to a second surface different from the first surface of the polarizing film,
Including
The first stress relaxation layer has a storage elastic modulus at 25 ° C. of 0.05 to 0.15 MPa, and is arranged on the opposite side of the protective film from the retardation film.
The thickness of the optical laminate was 120 μm or less, and the optical laminate was configured to be bendable.
A laminate for an organic EL display device.
折り曲げ可能に構成された有機EL表示パネルと、
を含み、
前記有機EL表示パネルに対して視認側に前記有機EL表示装置用積層体が配置され、 折り曲げ可能に構成されている、
有機EL表示装置。 The laminate for an organic EL display device according to any one of claims 1 to 5,
An organic EL display panel that is foldable and
Including
The laminated body for the organic EL display device is arranged on the visual side with respect to the organic EL display panel, and is configured to be foldable.
Organic EL display device.
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