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JP2020132537A - Method for generating aryne, and method for producing polyortho-arylene using the same - Google Patents

Method for generating aryne, and method for producing polyortho-arylene using the same Download PDF

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JP2020132537A
JP2020132537A JP2019024661A JP2019024661A JP2020132537A JP 2020132537 A JP2020132537 A JP 2020132537A JP 2019024661 A JP2019024661 A JP 2019024661A JP 2019024661 A JP2019024661 A JP 2019024661A JP 2020132537 A JP2020132537 A JP 2020132537A
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JP
Japan
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carbon atoms
general formula
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Application number
JP2019024661A
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Japanese (ja)
Inventor
幸一郎 巳上
Koichiro Mikami
幸一郎 巳上
仁嗣 花村
Hitoshi Hanamura
仁嗣 花村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sagami Chemical Research Institute
Original Assignee
Sagami Chemical Research Institute
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Publication date
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Abstract

【課題】アラインの発生方法、並びにポリオルトアリーレンの製造方法の提供。
【解決手段】一般式(1)

Figure 2020132537

(式中、Rは炭素数1から10のアルコキシ基、または水素原子を示す。二つのRは同一または相異なっていてもよい。Xはハロゲン原子を表す。Aはペルフルオロアルカンスルホニル基を表す。)で表される2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体と、一般式(3)
Figure 2020132537

(式中、Rは炭素数4から10のヘテロアリール基、炭素数2から6のアルキニル基、アリル基又はベンジル基を示す)で表される有機ケイ素試薬、及びセシウム塩からなるアラインの発生剤とそれを用いたアラインの発生方法、並びにポリオルトアリーレンの製造方法。
【選択図】なしPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for generating an alignment and a method for producing a polyorthoallylen.
General formula (1)
Figure 2020132537

(Wherein, R 1 is an alkoxy group or a hydrogen atom. .A two R 1 good .X be the same or different is representative of a halogen atom perfluoroalkanesulfonyl group, of 1 to 10 carbon atoms A 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative represented by (represented) and a general formula (3).
Figure 2020132537

(In the formula, R 2 indicates an organosilicon reagent represented by a heteroaryl group having 4 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an allyl group or a benzyl group), and an alignment composed of a cesium salt. An agent, a method for generating an alignment using the agent, and a method for producing polyorthoallylen.
[Selection diagram] None

Description

本発明は、2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体と有機ケイ素試薬とをセシウム塩存在下で反応させるアライン発生方法、及び該発生方法を銅触媒存在下で実施するポリオルトアリーレンの製造方法に関する。 The present invention relates to an alignment generation method in which a 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative and an organosilicon reagent are reacted in the presence of a cesium salt, and a method for producing a polyorthoarylene in which the generation method is carried out in the presence of a copper catalyst.

芳香環がオルト位で連続的に結合したポリオルトアリーレンは導電性材料や液晶分子の配向材として期待される次世代材料である(非特許文献1、2及び3)。芳香環同士を直接連結してポリマーを合成する技術は求核部位と求電子部位を有するモノマーに触媒を作用させる技術が一般的であるが、該技術では芳香環をオルト位で重合することはできないとされている(非特許文献4)。オルト位で連続的に芳香環を重合する技術として、非特許文献4及び特許文献1に開示されるアラインの重合が報告されている。該重合ではモノマー前駆体である2−(トリメチルシリル)フェニルトリフラート誘導体に対して塩基を作用させることによりモノマーであるアラインを反応系中で発生させて重合に用いるが、モノマー前駆体の製造に多段階を要すること、及び該重合に用いることが出来るモノマー前駆体の構造が限定されることが工業化における課題の一つである。 Polyorthoallylen, in which aromatic rings are continuously bonded at the ortho position, is a next-generation material expected as a conductive material or an orientation material for liquid crystal molecules (Non-Patent Documents 1, 2 and 3). The technique of directly connecting aromatic rings to synthesize a polymer is generally a technique of allowing a catalyst to act on a monomer having a nucleophilic site and an electrophilic site, but in this technique, polymerizing an aromatic ring at the ortho position is not possible. It is said that it cannot be done (Non-Patent Document 4). As a technique for continuously polymerizing aromatic rings at the ortho position, polymerization of aligns disclosed in Non-Patent Document 4 and Patent Document 1 has been reported. In the polymerization, a base is allowed to act on the 2- (trimethylsilyl) phenyltrifurate derivative which is a monomer precursor to generate an align which is a monomer in the reaction system and used for the polymerization, but there are multiple steps in the production of the monomer precursor. It is one of the problems in industrialization that the structure of the monomer precursor that can be used for the polymerization is limited.

Macromolecules,2011年, Vol.44,p.8425−8432.Macromolecules, 2011, Vol.44, p.8425−8432. Nature Chemistry,2011年, Vol.3, p.68−73.Nature Chemistry, 2011, Vol.3, p.68-73. Journal of the American Chemical Society, 2013年, Vol.135, p.14564−14567.Journal of the American Chemical Society, 2013, Vol.135, p.14564–14567. Journal of the American Chemical Society,2015年,Vol.137,p.74-77.Journal of the American Chemical Society, 2015, Vol.137, p.74-77.

特開2015−214610号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-214610

本発明は従来技術よりも入手容易な原料を用いたアライン発生方法、及び該発生方法を活用したポリオルトアリーレンの製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an alignment generation method using a raw material that is more easily available than the prior art, and a method for producing a polyorthoarylene utilizing the generation method.

上記課題を解決するために、本発明者は鋭意検討を行った結果、2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体と有機ケイ素試薬とをセシウム塩存在下で反応させることによりアラインを発生させることが出来、本反応を銅塩存在下で実施することにより生成したアラインを重合させることによりポリオルトアリーレンを製造することが可能であることを見出し本発明の完成に至った。 As a result of diligent studies in order to solve the above problems, the present inventor was able to generate an alignment by reacting a 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative with an organic silicon reagent in the presence of a cesium salt. The present invention has been completed by finding that it is possible to produce a polyorthoarylene by polymerizing the alignment produced by carrying out this reaction in the presence of a copper salt.

すなわち本発明は以下の要旨から構成される。
[要旨1]
一般式(1)
That is, the present invention is composed of the following gist.
[Summary 1]
General formula (1)

Figure 2020132537
Figure 2020132537

(式中、Rは炭素数1から10のアルコキシ基、または水素原子を示す。二つのRは同一または相異なっていてもよい。Xはハロゲン原子を表す。Aは一般式(2) (Wherein, R 1 represents an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom. The .A two R 1 is representative of the same or different may .X also be a halogen atom general formula (2)

Figure 2020132537
Figure 2020132537

(式中、nは1から10の整数を示す。)で示されるペルフルオロアルカンスルホニル基を表す。)で表される2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体と、一般式(3) (In the formula, n represents an integer from 1 to 10.) Represents a perfluoroalkanesulfonyl group represented by. 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative represented by) and the general formula (3)

Figure 2020132537
Figure 2020132537

(式中、Rは炭素数4から10のヘテロアリール基、炭素数2から6のアルキニル基、アリル基又はベンジル基を示す。)で表される有機ケイ素試薬とをセシウム塩存在下で反応させることを特徴とする、一般式(4) (In the formula, R 2 represents a heteroaryl group having 4 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an allyl group or a benzyl group) and reacting with an organic silicon reagent represented by the presence of a cesium salt. General formula (4)

Figure 2020132537
Figure 2020132537

(式中、Rは一般式(1)中のRと同じ意味を表す。)で表されるアラインの発生方法。
[要旨2]
セシウム塩がフッ化セシウム又は炭酸セシウムである請求項1に記載のアラインの発生方法。
[要旨3]
が炭素数4から10のヘテロアリール基である請求項1又は2に記載のアラインの発生方法。
[要旨4]
が5−チアゾリル基、2−チアゾリル基、2−チアナフチル基又は3−チアナフチル基である請求項1から3のいずれかに記載のアラインの発生方法。
[要旨5]
が5−チアゾリル基又は3−チアナフチル基である請求項1から3のいずれかに記載のアラインの発生方法。
[要旨6]
銅塩存在下、請求項1から5のいずれかに記載の発生方法により一般式(4)
(In the formula, R 1 formula represents the same meaning as R 1 in (1).) METHOD occurrence of alignment represented by.
[Abstract 2]
The method for generating an alignment according to claim 1, wherein the cesium salt is cesium fluoride or cesium carbonate.
[Abstract 3]
How the occurrence of alignment according to claim 1 or 2 R 2 is a heteroaryl group having from 4 to 10 carbon atoms.
[Abstract 4]
The method for generating an alignment according to any one of claims 1 to 3, wherein R 2 is a 5-thiazolyl group, a 2-thiazolyl group, a 2-thianaftyl group, or a 3-thianaftyl group.
[Abstract 5]
The method for generating an alignment according to any one of claims 1 to 3, wherein R 2 is a 5-thiazolyl group or a 3-thianaftyl group.
[Abstract 6]
General formula (4) according to the generation method according to any one of claims 1 to 5 in the presence of a copper salt.

Figure 2020132537
Figure 2020132537

(式中、Rは炭素数1から20のアルコキシ基、または水素原子を示す。二つのRは同一または相異なっていてもよい。)で表されるアラインを発生させ、該アラインを重合させることを特徴とする
、 一般式(5)
(In the formula, R 1 represents an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms or a hydrogen atom. The two R 1, may be the same or different.) To generate aligned represented by, polymerizing the aligned General formula (5)

Figure 2020132537
Figure 2020132537

(式中、Rは前記と同じ意味を表す。)で表される構造単位を有するポリオルトアリーレンの製造方法(本明細書中では、本発明の製造方法と称することがある。)。 (In the formula, R 1 has the same meaning as described above.) A method for producing a polyorthoarylene having a structural unit represented by (in the present specification, it may be referred to as a production method of the present invention).

本発明の製造方法を用いることによって、入手容易な2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体を原料としてアラインを発生させることが出来、またポリオルトアリーレンを製造することが出来る。 By using the production method of the present invention, it is possible to generate an alignment using an easily available 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative as a raw material, and to produce a polyorthoallylene.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。まずR、X、A及びRの定義の説明に併せて一般式(1)、(2)及び(3)について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. First, the general formulas (1), (2) and (3) will be described together with the explanation of the definitions of R 1 , X, A and R 2 .

で表される炭素数1から10のアルコキシ基としては、直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基等の直鎖アルコシキ基、イソプロポキシ基、1−(2−メチルプロピル)オキシ基、2−ブチルオキシ基、tert−ブトキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基等の分岐アルコキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の環状アルコキシ基を例示することができる。Rは得られるポリマーの溶解性や導電性、配向性などの機能が良好な点で炭素数1から6のアルコキシ基又は水素原子が好ましく、メトキシ基又は水素原子が更に好ましい。
Xはハロゲン原子を表し、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、及びフッ素原子を例示することができる。製造収率が良い点でヨウ素原子、臭素原子が好ましく、ヨウ素原子がさらに好ましい。
The alkoxy group having from 1 carbon atoms represented by R 1 10, which may be linear or branched or cyclic, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, Linear alkoxy group such as heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, isopropoxy group, 1- (2-methylpropyl) oxy group, 2-butyloxy group, tert-butoxy group, 2-ethylhexyloxy group , 3,7-Dimethyloctyloxy group and other branched alkoxy groups, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group and other cyclic alkoxy groups can be exemplified. R 1 is preferably an alkoxy group or a hydrogen atom having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a methoxy group or a hydrogen atom in terms of good functions such as solubility, conductivity and orientation of the obtained polymer.
X represents a halogen atom, and iodine atom, bromine atom, chlorine atom, and fluorine atom can be exemplified. Iodine atom and bromine atom are preferable, and iodine atom is more preferable from the viewpoint of good production yield.

Aで表されるペルフルオロアルカンスルホニル基(2)としては、直鎖状、又は分岐状のペルフルオロアルカンスルホニル基のいずれでもよく、アライン(4)及びポリオルトアリーレン(5)の収率が良い点でnが1から8のものが好ましく、ペルフルオロ−1−ブタンスルホニル基、ペルフルオロ−1−オクタンスルホニル基又はトリフルオロメタンスルホニル基が更に好ましく、ノナフルオロ−1−ブタンスルホニル基又はトリフルオロメタンスルホニル基が殊更好ましい。一般式(1)で表される具体的な2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体は(1−1)から(1−12) The perfluoroalkanesulfonyl group (2) represented by A may be either a linear or branched perfluoroalkanesulfonyl group, and the yields of align (4) and polyorthoallylen (5) are good. Those having n of 1 to 8 are preferable, perfluoro-1-butanesulfonyl group, perfluoro-1-octanesulfonyl group or trifluoromethanesulfonyl group is more preferable, and nonaflate-1-butanesulfonyl group or trifluoromethanesulfonyl group is particularly preferable. Specific 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivatives represented by the general formula (1) are (1-1) to (1-12).

Figure 2020132537
Figure 2020132537

Figure 2020132537
Figure 2020132537

(式中、Tfはトリフルオロメタンスルホニル基を表す。)
本発明のアライン発生方法及び本発明の製造方法における製造効率が良い点で(1−1)、(1−2)、(1−3)、(1−7)又は(1−8)が好ましい。
有機ケイ素試薬(3)の具体的な構造としては、例えば(3−1)から(3−15)
(In the formula, Tf represents a trifluoromethanesulfonyl group.)
(1-1), (1-2), (1-3), (1-7) or (1-8) are preferable in terms of good production efficiency in the alignment generation method of the present invention and the production method of the present invention. ..
Specific structures of the organosilicon reagent (3) include, for example, (3-1) to (3-15).

Figure 2020132537
Figure 2020132537

Figure 2020132537
Figure 2020132537

Figure 2020132537
Figure 2020132537

を挙げることが出来る。製造効率が良い点で(3−1)から(3−7)、(3−10)から(3−15)が好ましく、(3−1)、(3−3)、(3−6)、(3−7)がさらに好ましく、(3−3)、(3−6)が殊更好ましい。 Can be mentioned. From the viewpoint of good production efficiency, (3-1) to (3-7), (3-10) to (3-15) are preferable, and (3-1), (3-3), (3-6), (3-7) is more preferable, and (3-3) and (3-6) are particularly preferable.

次に本発明のアラインの発生方法(本明細書中では、本発明の発生方法とも称する。)について詳細に説明する。 Next, the method of generating the alignment of the present invention (also referred to as the method of generating the present invention in the present specification) will be described in detail.

まず2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体(1)と有機ケイ素試薬(3)の当量について説明する。有機ケイ素試薬(3)の量に特に制限は無いが、反応収率がよい点で、2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体(1)に対して、1〜30当量の範囲にあることが好ましく、1〜10当量の範囲にあることがさらに好ましく、1〜6当量の範囲になることが殊更好ましい。 First, the equivalents of the 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative (1) and the organosilicon reagent (3) will be described. The amount of the organic silicon reagent (3) is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 30 equivalents with respect to the 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative (1) in terms of good reaction yield. It is more preferably in the range of 1-10 equivalents, and even more preferably in the range of 1-6 equivalents.

本発明の発生方法に用いるセシウム塩としては、フッ化セシウム、炭酸セシウム、水酸化セシウムなどを例示することが出来、これらを任意の比で混合して用いてもよい。反応収率が良い点でフッ化セシウム、炭酸セシウム、又はフッ化セシウムと炭酸セシウムの混合物が好ましく、フッ化セシウム又は炭酸セシウムがさらに好ましい。また、クラウンエーテルなどの錯化剤を添加してもよい。 Examples of the cesium salt used in the generation method of the present invention include cesium fluoride, cesium carbonate, cesium hydroxide and the like, and these may be mixed and used in any ratio. Cesium fluoride, cesium carbonate, or a mixture of cesium fluoride and cesium carbonate is preferable, and cesium fluoride or cesium carbonate is more preferable in terms of good reaction yield. Further, a complexing agent such as crown ether may be added.

用いるセシウム塩の量に特に制限は無いが、反応収率がよい点で、2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体(1)に対して、1〜20当量の範囲にあることが好ましく、1〜10当量の範囲にあることがさらに好ましく、1〜6当量の範囲にあることが殊更好ましい。 The amount of cesium salt used is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 20 equivalents with respect to the 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative (1) in terms of good reaction yield. It is more preferably in the range of equivalents, and even more preferably in the range of 1-6 equivalents.

本発明の発生方法は溶媒中で実施することが可能である。用いることのできる溶媒としては、反応に害を及ぼさないものであれば特に制限は無く、ヘキサン、ヘプタン、デカン、トリデカン等の脂肪族炭化水素溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、テトラヒドロフラン(THF)、2−メチルテトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、4−フルオロエチレンカーボネート等の炭酸エステル溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、γ−ラクトン等のエステル溶媒、ジメチルスルホキシド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、N−メチルピロリドン(NMP)等のアミド溶媒、N,N,N’,N’−テトラメチルウレア(TMU)、N,N’−ジメチルプロピレンウレア(DMPU)等のウレア溶媒、ジメチルスルホキシド(DMSO)等のスルホキシド溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、オクタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、2,2,2−トリフルオロエタノール等のアルコール溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン溶媒、ビス(2,2,2−トリフルオロエチル)=N,N−ジイソプロピルホスホロアミダート(PF−37)、リン酸=トリス(2,2,2−トリフルオロエチル)(TFEP)等のフッ素溶媒、ニトロメタン、水等を例示することができ、これらを任意の比で混合して用いてもよい。 The generation method of the present invention can be carried out in a solvent. The solvent that can be used is not particularly limited as long as it does not harm the reaction, and is an aliphatic hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, decane, or tridecane, diisopropyl ether, dibutyl ether, cyclopentyl methyl ether (CPME). , Ether solvent such as tetrahydrofuran (THF), 2-methyl tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dimethoxyethane, aromatic hydrocarbon solvent such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, tetraline, ethylene carbonate, propylene carbonate, dimethyl carbonate, Carbonate ester solvents such as diethyl carbonate, ethyl methyl carbonate, 4-fluoroethylene carbonate, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, γ-lactone, dimethyl sulfoxide (DMF), dimethyl Amid solvents such as acetoamide (DMAc) and N-methylpyrrolidone (NMP), urea solvents such as N, N, N', N'-tetramethylurea (TMU) and N, N'-dimethylpropylene urea (DMPU), Sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide (DMSO), alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, octanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 2,2,2-trifluoroethanol, etc. Halogen solvents such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, orthodichlorobenzene, bis (2,2,2-trifluoroethyl) = N, N-diisopropylphosphoroamidate (PF-37) ), Fluorine solvent such as phosphate = tris (2,2,2-trifluoroethyl) (TFEP), nitromethane, water and the like can be exemplified, and these may be mixed and used in any ratio.

これらのうち、製造収率がよい点で脂肪族炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、エーテル溶媒が好ましく、芳香族炭化水素溶媒、エーテル溶媒がさらに好ましく、トルエン、THFが殊更好ましい。 Of these, an aliphatic hydrocarbon solvent, an aromatic hydrocarbon solvent, and an ether solvent are preferable, an aromatic hydrocarbon solvent and an ether solvent are more preferable, and toluene and THF are particularly preferable, in terms of good production yield.

溶媒の使用量に特に制限はないが、2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体(1)の重量に対して、0.1〜100mL/mgの範囲にあることが好ましく、0.1〜10mL/mgの範囲にあることがさらに好ましい。 The amount of the solvent used is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.1 to 100 mL / mg with respect to the weight of the 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative (1), and is 0.1 to 10 mL / mg. It is more preferable that it is in the range of.

本発明の製造方法はアルゴンガスまたは窒素ガスといった不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。 The production method of the present invention is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as argon gas or nitrogen gas.

本発明の製造方法を実施する反応温度に制限はないが、−78℃〜200℃の範囲で実施することが好ましく、0℃〜150℃の範囲で実施することより好ましく、40℃〜130℃の範囲で実施することが殊更好ましい。 The reaction temperature at which the production method of the present invention is carried out is not limited, but it is preferably carried out in the range of −78 ° C. to 200 ° C., more preferably in the range of 0 ° C. to 150 ° C., and 40 ° C. to 130 ° C. It is particularly preferable to carry out within the range of.

反応時間は用いる2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体(1)、溶媒、及び反応温度など諸条件により異なるが、0.1〜100時間が好ましく、0.5〜78時間がさらに好ましく、1〜48時間が殊更好ましい。
なお、本発明の発生方法に用いる2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体(1)は、反応系中で生成したものを用いることも出来る。すなわち一般式(6)
The reaction time varies depending on various conditions such as the 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative (1) used, the solvent, and the reaction temperature, but is preferably 0.1 to 100 hours, more preferably 0.5 to 78 hours, and 1 to 48 hours. Time is especially preferred.
As the 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative (1) used in the generation method of the present invention, those produced in the reaction system can also be used. That is, the general formula (6)

Figure 2020132537
Figure 2020132537

(式中、R及びXは前記と同じ意味を表す。)
にハロゲン化スルホニルを作用させることで、反応系中で発生させることも可能である。用いることのできるハロゲン化スルホニルとしては、フッ化テトラフルオロ−2−(テトラフルオロ−2−ヨードエトキシ)エタンスルホニル、フッ化ペンタフルオロ−1−ブタンスルホニル、フッ化ペンタデカフルオロ−1−オクタンスルホニル、塩化2−フルオロベンゼンスルホニル、塩化3−フルオロベンゼンスルホニル、塩化4−フルオロベンゼンスルホニル等を例示することができる。反応収率が良い点でフッ化テトラフルオロ−2−(テトラフルオロ−2−ヨードエトキシ)エタンスルホニル、フッ化ペンタフルオロ−1−ブタンスルホニル、フッ化ペンタデカフルオロ−1−オクタンスルホニルが好ましく、フッ化ノナタフルオロ−1−ブタンスルホニル、フッ化ペンタデカフルオロ−1−オクタンスルホニルがさらに好ましく、フッ化ノナフルオロ−1−ブタンスルホニルが殊更好ましい。
(Wherein, R 1 and X are as defined above.)
It is also possible to generate it in a reaction system by allowing a sulfonyl halide to act on it. Examples of the sulfonyl halide that can be used include tetrafluoro-2- (tetrafluoro-2-iodoethoxy) ethanesulfonyl, pentafluoro-1-butanesulfonyl fluoride, pentadecafluoro-1-octanesulfonyl fluoride, and the like. Examples thereof include 2-fluorobenzenesulfonyl chloride, 3-fluorobenzenesulfonyl chloride, 4-fluorobenzenesulfonyl chloride and the like. Tetrafluoro-2- (tetrafluoro-2-iodoethoxy) ethanesulfonyl, pentafluoro-1-butanesulfonyl fluoride, and pentadecafluoro-1-octanesulfonyl fluoride are preferable because of their good reaction yield. Nonatafluoro-1-butanesulfonyl fluorinated, pentadecafluoro-1-octanesulfonyl fluoride are more preferred, and nonafluoro-1-butanesulfonyl fluoride is particularly preferred.

一般式(6)で表される具体的な構造は(6−1)から(6−6) The specific structures represented by the general formula (6) are (6-1) to (6-6).

Figure 2020132537
Figure 2020132537

で表される。製造効率が良い点で(6−1)、(6−2)、(6−3)、(6−5)が好ましい。 It is represented by. (6-1), (6-2), (6-3), and (6-5) are preferable in terms of good production efficiency.

次に本発明のポリオルトアリーレンの製造方法(以下、本発明の製造方法)、すなわち本発明の発生方法を実施してアライン(4)を発生させ、該アライン(4)を重合することによりポリオルトアリーレン(5)を製造する方法について詳細に説明する。 Next, the method for producing a polyorthoarylene of the present invention (hereinafter referred to as the production method of the present invention), that is, the method for producing the present invention is carried out to generate an alignment (4), and the alignment (4) is polymerized to generate poly. The method for producing the ortho-allylen (5) will be described in detail.

本発明の製造方法は一価の銅塩存在下で本発明の発生方法を実施することで達成される。用いることのできる銅塩としては塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、シアン化銅などを例示することができる。反応収率が良い点で臭化銅、ヨウ化銅又はシアン化銅が好ましく、臭化銅又はシアン化銅がさらに好ましく、臭化銅が殊更好ましい。 The production method of the present invention is achieved by carrying out the generation method of the present invention in the presence of a monovalent copper salt. Examples of the copper salt that can be used include copper chloride, copper bromide, copper iodide, and copper cyanide. Copper bromide, copper iodide or copper cyanide is preferable, copper bromide or copper cyanide is more preferable, and copper bromide is particularly preferable, in terms of good reaction yield.

銅塩の使用量は、特に限定されないが、2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体(1)に対する銅塩の量を変化させることにより、ポリオルトアリーレン(5)の重合度を変化させることができるため、目的とする重合体の重合度に合わせて適宜選択することができる。通常、2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体(1)に対して、0.001〜1当量であることが好ましく、0.01〜0.1当量であることがさらに好ましい。 The amount of the copper salt used is not particularly limited, but the degree of polymerization of the polyorthoarylene (5) can be changed by changing the amount of the copper salt with respect to the 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative (1). , Can be appropriately selected according to the degree of polymerization of the target polymer. Usually, it is preferably 0.001 to 1 equivalent, more preferably 0.01 to 0.1 equivalent, relative to the 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative (1).

本発明の製造方法は第三級リン化合物やカルベン化合物存在下で実施することも可能である。用いることのできる第三級リン化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−o−トリルホスフィン、トリオクチルホスフィン、9,9−ジメチル−4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)キサンテン、2−(ジ−tert−ブチルホスフィノ)ビフェニル、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)ビフェニル、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、tert−ブチルジフェニルホスフィン、2−(ジフェニルホスフィノ)−2’−(N,N−ジメチルアミノ)ビフェニル、ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、トリ(2−フリル)ホスフィン、トリス(2,5−キシリル)ホスフィン、ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル等が例示できる。用いることのできるカルベン化合物としては、1,3−ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)イミダゾール−2−イリデン、1,3−ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)イミダゾリジン−2−イリデン、1,3−ジ−tert−ブチルイミダゾール−2−イリデン、又は1,3−ジメシチルイミダゾール−2−イリデン等が例示できる。 The production method of the present invention can also be carried out in the presence of a tertiary phosphorus compound or carbene compound. Examples of the tertiary phosphorus compound that can be used include triphenylphosphine, trimethylphosphine, triethylphosphine, tributylphosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tricyclohexylphosphine, tri-o-tolylphosphine, trioctylphosphine, 9, 9-Dimethyl-4,5-bis (diphenylphosphino) xanthene, 2- (di-tert-butylphosphino) biphenyl, 2- (dicyclohexylphosphino) biphenyl, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene, tert-butyldiphenylphosphine, 2- (diphenylphosphino) -2'-(N, N-dimethylamino) biphenyl, bis (diphenylphosphine) methane, 1,4-bis (diphenylphosphine) butane, tri (2-furyl) phosphine, tris (2,5-kisilyl) Examples thereof include phosphine and bis (diphenylphosphino) -1,1'-binaphthyl. Examples of the carbene compound that can be used include 1,3-bis (2,6-diisopropylphenyl) imidazol-2-iriden, 1,3-bis (2,6-diisopropylphenyl) imidazolidine-2-iriden, 1, Examples thereof include 3-di-tert-butylimidazol-2-imidazole, 1,3-dimesityl imidazole-2-imidazole and the like.

第三級リン化合物やカルベン化合物の使用量は、特に限定されないが、銅塩に対して、0.01〜10当量であることが好ましく、0.1〜5当量であることがさらに好ましい。 The amount of the tertiary phosphorus compound or carbene compound used is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 10 equivalents, and more preferably 0.1 to 5 equivalents, relative to the copper salt.

ポリオルトアリーレン(5)は、本発明の製造方法の終了後に通常の処理をすることで得られる。必要に応じて、沈殿、ろ過、透析、カラムクロマトグラフィー、分取HPLC、ソックスレー抽出等で精製してもよい。 Polyorthoallylen (5) can be obtained by subjecting it to conventional treatment after completion of the production method of the present invention. If necessary, purification may be performed by precipitation, filtration, dialysis, column chromatography, preparative HPLC, Soxhlet extraction, or the like.

2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体(1)は市販品を用いてもよく、文献記載(ChemicalCommunications,46巻,7028−7030ページ,2010年、The Journal of Organic Chemistry,80巻、11460−11467、2015年)の方法に従って調製してもよい。 As the 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative (1), a commercially available product may be used, and it is described in the literature (Chemical Communications, Vol. 46, pp. 7028-7030, 2010, The Journal of Organic Chemistry, Vol. 80, 11460-11467, 2015). Year) may be prepared according to the method.

有機ケイ素試薬(3)は市販品を用いてもよく、文献記載(Nature,518巻,80−84ページなど)の方法に従って調製してもよい。 The organosilicon reagent (3) may be a commercially available product, or may be prepared according to the method described in the literature (Nature, Vol. 518, pp. 80-84, etc.).

以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

実施例で得られたモノマーは、H−NMR測定により構造解析を行った。実施例で得られた高分子の分子量と分子量分布はGel Permeation Chro,atography(GPC)測定により見積もった。試薬類は市販品を用いた。
<NMR測定条件>
測定装置:Bruker社 ASCENDTM ADVANCE III HD(400MHz)
測定溶媒:重クロロホルム(CDCl
内部標準物質:テトラメチルシラン
<TGA測定条件>
測定装置:SII株式会社 EXSTAR6000 TGA/DTA6200
試料容器:アルミパン
測定雰囲気:窒素
d3、Td5並びにTd10は3%、5%並びに10%重量減少温度をそれぞれ表す。
[実施例1]
The monomer obtained in the example was structurally analyzed by 1 1 H-NMR measurement. The molecular weight and molecular weight distribution of the polymers obtained in the examples were estimated by Gel Permeation Chro, attografy (GPC) measurement. Commercially available reagents were used.
<NMR measurement conditions>
Measuring device: Bruker ASCEND TM ADVANCE III HD (400MHz)
Measuring solvent: Deuterated chloroform (CDCl 3 )
Internal standard substance: Tetramethylsilane <TGA measurement conditions>
Measuring device: SII Co., Ltd. EXSTAR6000 TGA / DTA6200
Sample container: Aluminum pan Measurement atmosphere: Nitrogen T d3 , T d5 and T d10 represent 3%, 5% and 10% weight loss temperatures, respectively.
[Example 1]

Figure 2020132537
Figure 2020132537

フッ化セシウム(0.458g)と18−クラウン−6エーテル(1.571g)の混合物にトルエン(5mL)を加えて減圧下で溶媒を留去した。そこにそこに1,3−ジフェニルイソベンゾフラン(0.406g)、2−ヨードフェニルトリフルオロメタンスルホン酸エステル(0.350g)とテトラヒドロフラン(5mL)、3-トリメチルシリルベンゾ[3,2−b]チオフェン(0.309g)、並びに内標としてヘキサデカン(0.227g)を加えて60℃で21時間攪拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止した後に酢酸エチルで抽出した。集めた有機層を水、並びに飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。減圧下で溶媒を留去し、褐色固体を得た(1.008g、80%)。その固体は何だったのか名称を文章中にきちんと書く。収率はH−NMRスペクトルに基づいて決定した。
H−NMR(CDCl,400MHz)δ7.94(d,J=7.0Hz,4H),7.60(t,J=7.4Hz,4H),7.49(t,J=7.4Hz,2H),7.36(dd,J=3.0Hz,5.2Hz,4H),7.03(dd,J=3.0Hz,5.2Hz,4H)。
Toluene (5 mL) was added to a mixture of cesium fluoride (0.458 g) and 18-crown-6 ether (1.571 g), and the solvent was distilled off under reduced pressure. There 1,3-diphenylisobenzofuran (0.406 g), 2-iodophenyltrifluoromethanesulfonic acid ester (0.350 g) and tetrahydrofuran (5 mL), 3-trimethylsilylbenzo [3,2-b] thiophene ( 0.309 g) and hexadecane (0.227 g) as an internal standard were added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 21 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution was added to the reaction solution to stop the reaction, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and filtered. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a brown solid (1.08 g, 80%). Write the name of what the solid was in the text. The yield was determined based on 1 1 H-NMR spectrum.
1 1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.94 (d, J = 7.0 Hz, 4H), 7.60 (t, J = 7.4 Hz, 4H), 7.49 (t, J = 7. 4Hz, 2H), 7.36 (dd, J = 3.0Hz, 5.2Hz, 4H), 7.03 (dd, J = 3.0Hz, 5.2Hz, 4H).

[実施例2〜実施例17]
実施例1と同じ操作を繰り返して、表1に示される有機ケイ素試薬、塩基、添加剤を用いてアラインを発生させる検証実験を行なった。表1には実施例1から17の結果を示した。アラインが発生していることは文献記載(Journal of the American Chemical Society, 2008年, 130巻, p.472−480.(例えば、p.474、第二カラムにおける19行目から40行目)、Journal of the American Chemical Society, 2017年, 139巻, p.8416−8419.(例えば、p.8417の第二カラムにおける4行目からp.8418の第一カラムにおける18行目))の方法に従って確認した。
[Examples 2 to 17]
The same operation as in Example 1 was repeated, and a verification experiment was conducted in which an alignment was generated using the organosilicon reagents, bases, and additives shown in Table 1. Table 1 shows the results of Examples 1 to 17. The occurrence of alignment is described in the literature (Journal of the American Chemical Society, 2008, Vol. 130, p.472-480. (For example, p.474, lines 19-40 in the second column), According to the method of Journal of the American Chemical Society, 2017, Vol. 139, p.8416-8419. (For example, line 4 in the second column of p.8417 to line 18 in the first column of p.8418). confirmed.

Figure 2020132537
Figure 2020132537

実施例1〜17において反応系中でアラインが発生していることを確認した。
[実施例18]
It was confirmed that alignment occurred in the reaction system in Examples 1 to 17.
[Example 18]

Figure 2020132537
Figure 2020132537

フッ化セシウム(0.399g)と18−クラウン−6エーテル(0.071g)の混合物にトルエン(5mL)を加えて減圧下で溶媒を留去した。そこに2−ヨードフェニルトリフルオロメタンスルホン酸エステル(0.298g)とテトラヒドロフラン(9mL)、臭化銅(0.026g)、5−トリメチルシリルチアゾール(0.200g)、並びに内標としてヘキサデカン(0.192g)を加えて60℃で19時間攪拌した。反応溶液をメタノールで希釈してろ過し、得られた固体を水とメタノールで洗浄することにより、白色の固体を得た(0.048g、75%)。IR(ATR、cm−1)3076,1471,1369,1302,1215,1157,1113,974,893,869,802,758,611。Td3=186℃、Td5=211、Td10=270。
[実施例19]
Toluene (5 mL) was added to a mixture of cesium fluoride (0.399 g) and 18-crown-6 ether (0.071 g), and the solvent was distilled off under reduced pressure. There, 2-iodophenyltrifluoromethanesulfonic acid ester (0.298 g) and tetrahydrofuran (9 mL), copper bromide (0.026 g), 5-trimethylsilylthiazole (0.200 g), and hexadecane (0.192 g) as an internal standard were added. ) Was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 19 hours. The reaction solution was diluted with methanol and filtered, and the obtained solid was washed with water and methanol to obtain a white solid (0.048 g, 75%). IR (ATR, cm -1 ) 3076,1471,1369,1302,125,1157,1113,974,893,869,802,758,611. T d3 = 186 ° C., T d5 = 211, T d10 = 270.
[Example 19]

Figure 2020132537
Figure 2020132537

炭酸セシウム(0.663g)とフッ化セシウム(0.335g)、並びに18−クラウン−6エーテル(0.056g)の混合物にトルエン(5mL)を加えて減圧下で溶媒を留去した。そこに2−ヨードフェノール(0.220g)とテトラヒドロフラン(10mL)、臭化銅(0.032g)、5−トリメチルシリルチアゾール(0.631g)、ノナフルオロ−1−ブタンスルホニルフロリド(0.598g)、及び内標としてヘキサデカン(0.231g)を加えて70℃で18時間攪拌した。反応溶液をメタノールで希釈してろ過を行った後に、得られた固体を水とメタノールで洗浄することで、黒色固体を得た(0.052g、73%)。IR(ATR、cm−1)3078,1684,1635,1558,1541,1489,1458,1338,1230,1151,1111,899,870,806,760,613。Td3=117℃、Td5=135、Td10=217。 Toluene (5 mL) was added to a mixture of cesium carbonate (0.663 g), cesium fluoride (0.335 g), and 18-crown-6 ether (0.056 g), and the solvent was evaporated under reduced pressure. There, 2-iodophenol (0.220 g) and tetrahydrofuran (10 mL), copper bromide (0.032 g), 5-trimethylsilylthiazole (0.631 g), nonafluoro-1-butanesulfonylfloride (0.598 g), Hexadecane (0.231 g) was added as an internal marker, and the mixture was stirred at 70 ° C. for 18 hours. The reaction solution was diluted with methanol and filtered, and then the obtained solid was washed with water and methanol to obtain a black solid (0.052 g, 73%). IR (ATR, cm -1 ) 3078, 168, 1635, 1558, 1541, 1489, 1458, 1338, 1230, 1151, 1111, 899, 870, 806, 760, 613. T d3 = 117 ° C., T d5 = 135, T d10 = 217.

本発明の発生方法に関する利用可能性も記載を。本発明により提供されるポリオルトフェニレンは導電性材料や分子配向材料として有機ELや液晶ディスプレイ等の電子デバイス等に有用な新規な化合物として期待される。 Also describe the availability of the method of generation of the present invention. The polyorthophenylene provided by the present invention is expected as a novel compound useful for electronic devices such as organic EL and liquid crystal displays as a conductive material and a molecular orientation material.

Claims (6)

一般式(1)
Figure 2020132537
(式中、Rは炭素数1から10のアルコキシ基、または水素原子を示す。二つのRは同一または相異なっていてもよい。Xはハロゲン原子を表す。Aは一般式(2)
Figure 2020132537
(式中、nは1から10の整数を示す。)で示されるペルフルオロアルカンスルホニル基を表す。)で表される2−ハロゲノスルホン酸アリールエステル誘導体と、一般式(3)
Figure 2020132537
(式中、Rは炭素数4から10のヘテロアリール基、炭素数2から6のアルキニル基、アリル基又はベンジル基を示す。)で表される有機ケイ素試薬とをセシウム塩存在下で反応させることを特徴とする、一般式(4)
Figure 2020132537
(式中、Rは一般式(1)中のRと同じ意味を表す。)で表されるアラインの発生方法。
General formula (1)
Figure 2020132537
(Wherein, R 1 represents an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom. The .A two R 1 is representative of the same or different may .X also be a halogen atom general formula (2)
Figure 2020132537
(In the formula, n represents an integer from 1 to 10.) Represents a perfluoroalkanesulfonyl group represented by. 2-halogenosulfonic acid aryl ester derivative represented by) and the general formula (3)
Figure 2020132537
(In the formula, R 2 represents a heteroaryl group having 4 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an allyl group or a benzyl group) and reacting with an organic silicon reagent represented by the presence of a cesium salt. General formula (4)
Figure 2020132537
(In the formula, R 1 formula represents the same meaning as R 1 in (1).) METHOD occurrence of alignment represented by.
セシウム塩がフッ化セシウム又は炭酸セシウムである請求項1に記載のアラインの発生方法。 The method for generating an alignment according to claim 1, wherein the cesium salt is cesium fluoride or cesium carbonate. が炭素数4から10のヘテロアリール基である請求項1又は2に記載のアラインの発生方法。 How the occurrence of alignment according to claim 1 or 2 R 2 is a heteroaryl group having from 4 to 10 carbon atoms. が5−チアゾリル基、2−チアゾリル基、2−チアナフチル基又は3−チアナフチル基である請求項1から3のいずれかに記載のアラインの発生方法。 The method for generating an alignment according to any one of claims 1 to 3, wherein R 2 is a 5-thiazolyl group, a 2-thiazolyl group, a 2-thianaftyl group, or a 3-thianaftyl group. が5−チアゾリル基又は3−チアナフチル基である請求項1から3のいずれかに記載のアラインの発生方法。 The method for generating an alignment according to any one of claims 1 to 3, wherein R 2 is a 5-thiazolyl group or a 3-thianaftyl group. 銅塩存在下、請求項1から5のいずれかに記載の発生方法により一般式(4)
Figure 2020132537
(式中、Rは炭素数1から20のアルコキシ基、または水素原子を示す。二つのRは同一または相異なっていてもよい。)で表されるアラインを発生させ、該アラインを重合させることを特徴とする
、 一般式(5)
Figure 2020132537
(式中、Rは前記と同じ意味を表す。)で表される構造単位を有するポリオルトアリーレンの製造方法。
General formula (4) according to the generation method according to any one of claims 1 to 5 in the presence of a copper salt.
Figure 2020132537
(In the formula, R 1 represents an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms or a hydrogen atom. The two R 1, may be the same or different.) To generate aligned represented by, polymerizing the aligned General formula (5)
Figure 2020132537
(In the formula, R 1 has the same meaning as described above.) A method for producing a polyorthoallylen having a structural unit represented by the above.
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