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JP2020129677A - Method for manufacturing light emitting device, and light emitting device - Google Patents

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JP2020129677A JP2020076514A JP2020076514A JP2020129677A JP 2020129677 A JP2020129677 A JP 2020129677A JP 2020076514 A JP2020076514 A JP 2020076514A JP 2020076514 A JP2020076514 A JP 2020076514A JP 2020129677 A JP2020129677 A JP 2020129677A
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直樹 武藏
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Abstract

【課題】微細な凹凸形状を付与する新規な方法を提供する。
【解決手段】発光装置の製造方法は、上面を有する発光素子と、発光素子の上面を少なくとも覆う透光性の樹脂体とを有する発光体を準備する工程(a)と、表面に凹凸のパターンを有し、発光素子の上面を少なくとも覆う透光性部材を形成する工程(b)とを含み、工程(b)は、複数の凸部を有する型の複数の凸部を樹脂体の表面に対向させ、加熱された状態の樹脂体の表面に型を押し付けることにより、表面に複数の凹部を形成する工程(b1)と、工程(b1)の後に、樹脂体の表面を紫外線で照射する工程(b2)とを含む。
【選択図】図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel method for imparting a fine uneven shape.
A method of manufacturing a light emitting device includes a step (a) of preparing a light emitting body having a light emitting element having an upper surface and a translucent resin body covering at least the upper surface of the light emitting element, and a pattern of unevenness on the surface. And a step (b) of forming a translucent member that covers at least the upper surface of the light-emitting element, the step (b) including a plurality of convex portions of a mold having a plurality of convex portions on the surface of the resin body. A step (b1) of forming a plurality of concave portions on the surface by pressing a mold against the surface of the resin body in a state of being opposed to each other, and a step of irradiating the surface of the resin body with ultraviolet rays after the step (b1) (B2) is included.
[Selection diagram] Figure 1

Description

本開示は、透光性部材の形成方法および発光装置の製造方法に関する。また、本開示は、発光装置にも関する。 The present disclosure relates to a method of forming a translucent member and a method of manufacturing a light emitting device. The present disclosure also relates to a light emitting device.

微細な凹凸形状を形成する技術として、微細な凹凸を有する型の表面形状を樹脂材料の層に転写するインプリント法が知られている。インプリント法によって形状が転写される対象は、熱可塑性樹脂または紫外線硬化性樹脂である。前者では、型を熱可塑性樹脂に押し当て、加熱によって熱可塑性樹脂を硬化させた後、熱可塑性樹脂から型を分離する。後者では、紫外線を透過する型を紫外線硬化性樹脂に押し当て、型を介した紫外線の照射によって紫外線硬化性樹脂を硬化させた後、紫外線硬化性樹脂から型を分離する。 As a technique for forming fine unevenness, an imprint method is known in which the surface shape of a mold having fine unevenness is transferred to a layer of resin material. The object whose shape is transferred by the imprint method is a thermoplastic resin or an ultraviolet curable resin. In the former case, the mold is pressed against the thermoplastic resin, the thermoplastic resin is cured by heating, and then the mold is separated from the thermoplastic resin. In the latter case, a mold that transmits ultraviolet rays is pressed against the ultraviolet curable resin, the ultraviolet curable resin is cured by irradiation of ultraviolet rays through the mold, and then the mold is separated from the ultraviolet curable resin.

インプリント法は、下記の特許文献1に開示されるように、例えば、表示装置用の反射防止フィルムの形成に用いられる。あるいは、インプリント法は、偏光フィルム等の製造にも用いられ得る。また、インプリント法は、エッチングに用いるレジストパターンの形成に適用されることもある。下記の特許文献2は、n型半導体層およびp型半導体層を含む半導体積層部の表面に錐台形状または錐体形状のパターンを形成するためのマスクの形成に、インプリント法を適用可能であると説明している。このように、インプリント法は、発光ダイオード(LED)に代表される発光素子、有機EL発光装置等における光取り出し効率向上のための凹凸形状の付与への応用も期待されている。 The imprint method is used, for example, for forming an antireflection film for a display device, as disclosed in Patent Document 1 below. Alternatively, the imprint method can be used for manufacturing a polarizing film and the like. The imprint method may also be applied to the formation of a resist pattern used for etching. In Patent Document 2 below, the imprint method can be applied to the formation of a mask for forming a frustum-shaped or pyramidal-shaped pattern on the surface of a semiconductor laminated portion including an n-type semiconductor layer and a p-type semiconductor layer. Explained that there is. As described above, the imprint method is also expected to be applied to a light emitting element represented by a light emitting diode (LED), an uneven shape for improving light extraction efficiency in an organic EL light emitting device and the like.

特開2017−032806号公報JP, 2017-032806, A 特開2016−001639号公報JP, 2016-001639, A

インプリント法によれば、微細な凹凸形状を形成することが可能である。しかしながら、形状を付与可能な対象は、現状、未硬化の状態の熱可塑性樹脂または紫外線硬化性樹脂のいずれかであるという制約がある。 According to the imprint method, it is possible to form a fine uneven shape. However, the object to which the shape can be applied is currently limited to either an uncured thermoplastic resin or an ultraviolet curable resin.

本開示のある実施形態による透光性部材の形成方法は、主面を有し、シリコーン樹脂を含む硬化後の樹脂体の前記主面に、複数の凸部を有する型の前記複数の凸部を対向させ、加熱された状態の前記樹脂体の前記主面に前記型を押し付けることにより、前記主面に複数の凹部を形成する工程(A)と、前記工程(A)の後に、前記樹脂体の前記主面を紫外線で照射する工程(B)とを含む。 A method of forming a translucent member according to an embodiment of the present disclosure has a main surface, and the plurality of convex portions of a mold having a plurality of convex portions on the main surface of a cured resin body containing a silicone resin. Facing each other and pressing the die against the main surface of the resin body in a heated state to form a plurality of recesses on the main surface (A), and the resin after the step (A). Irradiating the main surface of the body with ultraviolet light (B).

本開示の他のある実施形態による発光装置の製造方法は、上面を有する発光素子と、前記発光素子の前記上面を少なくとも覆う透光性の樹脂体とを有する発光体を準備する工程(a)と、表面に凹凸のパターンを有し、前記発光素子の前記上面を少なくとも覆う透光性部材を形成する工程(b)とを含み、前記工程(b)は、複数の凸部を有する型の前記複数の凸部を前記樹脂体の表面に対向させ、加熱された状態の前記樹脂体の前記表面に前記型を押し付けることにより、前記表面に複数の凹部を形成する工程(b1)と、前記工程(b1)の後に、前記樹脂体の前記表面を紫外線で照射する工程(b2)とを含む。 A method of manufacturing a light emitting device according to another embodiment of the present disclosure includes a step of preparing a light emitting body having a light emitting element having an upper surface and a translucent resin body that covers at least the upper surface of the light emitting element (a). And a step (b) of forming a translucent member having a pattern of concavities and convexities on the surface and covering at least the upper surface of the light emitting element, the step (b) including a mold having a plurality of convex portions. A step (b1) of forming a plurality of concave portions on the surface by causing the plurality of convex portions to face the surface of the resin body and pressing the mold against the surface of the resin body in a heated state; After the step (b1), a step (b2) of irradiating the surface of the resin body with ultraviolet rays is included.

本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の製造方法は、上面を有し、前記上面とは反対側に正極および負極が設けられた発光素子を準備する工程(a)と、表面に凹凸のパターンを有し、前記発光素子の前記上面を少なくとも覆う透光性部材を形成する工程(b)とを含み、前記工程(b)は、未硬化のシリコーン樹脂原料を硬化させることによって形成された透光性の樹脂体の表面に、複数の凸部を有する型の前記複数の凸部を対向させ、加熱された状態の前記樹脂体の前記表面に前記型を押し付けることにより、前記表面に複数の凹部を形成する工程(b1)と、前記工程(b1)の後に、前記樹脂体の前記表面を紫外線で照射する工程(b2)とを含む。 A method for manufacturing a light emitting device according to another embodiment of the present disclosure includes a step (a) of preparing a light emitting element having an upper surface and a positive electrode and a negative electrode provided on the side opposite to the upper surface, and the surface having unevenness. And a step (b) of forming a translucent member having at least the above pattern and covering at least the upper surface of the light emitting element, the step (b) being formed by curing an uncured silicone resin raw material. On the surface of the translucent resin body, the plurality of convex portions of a mold having a plurality of convex portions are opposed to each other, and the mold is pressed against the surface of the resin body in a heated state, thereby making the surface The method includes a step (b1) of forming a plurality of recesses and a step (b2) of irradiating the surface of the resin body with ultraviolet rays after the step (b1).

本開示のさらに他のある実施形態による発光装置の製造方法は、上面を有し、前記上面とは反対側に正極および負極が設けられた発光素子を準備する工程(a)と、表面に凹凸のパターンを有し、前記発光素子の前記上面を少なくとも覆う透光性部材を形成する工程(b)とを含み、前記工程(b)は、未硬化のシリコーン樹脂原料を硬化させることによって形成された透光シートの主面に、複数の凸部を有する型の前記複数の凸部を対向させ、加熱された状態の前記透光シートの前記主面に前記型を押し付けることにより、前記主面に複数の凹部を形成する工程(b1)と、前記工程(b1)の後に、前記透光シートの前記主面を紫外線で照射する工程(b2)と、紫外線で照射された前記透光シートを前記発光素子の前記上面側に配置する工程(b3)とを含む。 A method for manufacturing a light emitting device according to another embodiment of the present disclosure includes a step (a) of preparing a light emitting element having an upper surface and a positive electrode and a negative electrode provided on the side opposite to the upper surface, and the surface having unevenness. And a step (b) of forming a translucent member having at least the pattern and covering at least the upper surface of the light emitting element, the step (b) being formed by curing an uncured silicone resin raw material. The main surface of the translucent sheet, the plurality of convex portions of the mold having a plurality of convex portions are opposed to each other, and the main surface is pressed by pressing the die against the main surface of the translucent sheet in a heated state. A step (b1) of forming a plurality of concave portions on the substrate, a step (b2) of irradiating the main surface of the transparent sheet with ultraviolet rays after the step (b1), and a step of exposing the transparent sheet irradiated with ultraviolet rays. Arranging on the upper surface side of the light emitting element (b3).

本開示のさらに他のある実施形態による発光装置は、上面を有する発光素子と、前記発光素子の前記上面を少なくとも覆い、前記発光素子の前記上面の上方に位置する主面を含む透光性部材とを備え、前記透光性部材の前記主面は、複数の凹部を有しており、赤外分光によって得られる、前記透光性部材に関する吸収スペクトルの波数3700cm−1超3000cm−1未満の範囲に現れるSi−OH起因の吸収は、シリコーン樹脂に関する吸収スペクトルの前記範囲における吸収よりも大きく、前記透光性部材に関する吸収スペクトルの波数2960cm−1付近および800cm−1付近に現れるSi−CH起因の吸収ピークは、それぞれ、シリコーン樹脂に関する吸収スペクトルの波数2960cm−1付近および800cm−1付近の吸収ピークと比較して小さい。 A light emitting device according to another embodiment of the present disclosure is a translucent member including a light emitting element having an upper surface and a main surface that covers at least the upper surface of the light emitting element and is located above the upper surface of the light emitting element. with the door, the main surface of the light transmissive member has a plurality of recesses obtained by infrared spectroscopy, the absorption spectrum for the light-transmitting member wavenumber 3700 cm -1 of less than super 3000 cm -1 absorption of Si-OH caused appearing in range is greater than the absorption in the range of the absorption spectrum for silicone resin, Si-CH 3 appearing in the vicinity of wave number 2960 cm -1 and around 800 cm -1 of the absorption spectrum for the light transmissive member absorption peak attributed, respectively, smaller than the absorption peak in the vicinity of wave number 2960 cm -1 and around 800 cm -1 of the absorption spectra for silicone resins.

本開示のさらに他のある実施形態による発光装置は、上面を有する発光素子と、前記発光素子の前記上面を少なくとも覆い、前記発光素子の前記上面の上方に位置する主面を含む透光性部材とを備え、前記透光性部材の前記主面は、複数の凹部を有しており、前記透光性部材の前記主面の瞬間接着力は、シリコーン樹脂の瞬間接着力よりも低い。 A light emitting device according to another embodiment of the present disclosure is a translucent member including a light emitting element having an upper surface and a main surface that covers at least the upper surface of the light emitting element and is located above the upper surface of the light emitting element. The main surface of the translucent member has a plurality of recesses, and the instantaneous adhesive force of the main surface of the translucent member is lower than the instantaneous adhesive force of the silicone resin.

本開示のさらに他のある実施形態による発光装置は、上面を有する発光素子と、前記発光素子の前記上面を少なくとも覆い、前記発光素子の前記上面の上方に位置する主面を含む透光性部材とを備え、前記透光性部材の前記主面は、複数の凹部を有し、300℃の温度下で40分間加熱したとき、加熱の前後において、前記複数の凹部の深さの変化は、25%以下の範囲内である。 A light emitting device according to another embodiment of the present disclosure is a translucent member including a light emitting element having an upper surface and a main surface that covers at least the upper surface of the light emitting element and is located above the upper surface of the light emitting element. And the main surface of the translucent member has a plurality of recesses, and when heated at a temperature of 300° C. for 40 minutes, a change in depth of the plurality of recesses before and after heating is: It is within the range of 25% or less.

本開示のある実施形態によれば、微細な凹凸形状を付与する新規な方法が提供される。 According to an embodiment of the present disclosure, a novel method for imparting a fine uneven shape is provided.

本開示の第1の実施形態による透光性部材の製造方法の概要を示すフローチャートである。3 is a flowchart showing an outline of a method of manufacturing a translucent member according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1の実施形態による透光性部材の例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of the translucent member according to the first embodiment of the present disclosure. 凸部210の配置の一例を示す模式的な平面図である。It is a schematic plan view showing an example of the arrangement of convex portions 210. 本開示の第1の実施形態による透光性部材の例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of the translucent member according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1の実施形態による透光性部材の例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary manufacturing method of the translucent member according to the first embodiment of the present disclosure. 透光性部材140の一例を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing an example of a translucent member 140. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法によって得られる例示的な発光装置の構造を模式的に示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing the structure of an exemplary light emitting device obtained by the method for manufacturing a light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法の一例を示すフローチャートである。9 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 図8に示すステップS22に含まれ得るステップを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the step which may be included in step S22 shown in FIG. 発光素子110Aおよび透光性の樹脂体140Uを有する発光体100Uの例示的な構成を示す模式的な断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an exemplary configuration of a light emitting body 100U having a light emitting element 110A and a translucent resin body 140U. 図8に示すステップS21に含まれ得るステップを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the step which may be included in step S21 shown in FIG. 発光体100Uの例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary method for manufacturing light emitting body 100U. 発光体100Uの例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary method for manufacturing light emitting body 100U. 発光体100Uの例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary method for manufacturing light emitting body 100U. 発光体100Uの例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary method for manufacturing light emitting body 100U. 発光体100Uの例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary method for manufacturing light emitting body 100U. 発光体100Uの例示的な製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view for explaining an exemplary method for manufacturing light emitting body 100U. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 基板410Aと、基板410A上に設けられた第1導電部411Aおよび第2導電部412Aとを有する複合基板400Aの一例を示す模式的な上面図である。It is a typical top view showing an example of compound board 400A which has substrate 410A and the 1st electric conduction part 411A and the 2nd electric conduction part 412A provided on substrate 410A. 発光装置100Bの外観の一例を示す斜視図である。It is a perspective view showing an example of the appearance of light-emitting device 100B. 図21に示す発光装置100Bを発光装置100Bの中央付近の位置で図21中のYZ面に平行に切断したときの断面を模式的に示す図である。FIG. 22 is a diagram schematically showing a cross section of the light emitting device 100B shown in FIG. 21 taken along the YZ plane in FIG. 21 at a position near the center of the light emitting device 100B. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法の他の一例を示すフローチャートである。9 is a flowchart showing another example of the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 図23に示すステップS24に含まれ得るステップを説明するための図である。FIG. 24 is a diagram for explaining steps that may be included in step S24 shown in FIG. 23. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法の他の一例を説明するための模式的な断面図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view for explaining another example of the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法の他の一例を説明するための模式的な断面図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view for explaining another example of the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法の他の一例を説明するための模式的な断面図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view for explaining another example of the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法の他の一例を説明するための模式的な断面図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view for explaining another example of the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 第2の実施形態による発光装置の製造方法によって得られる発光装置の他の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing another example of a light emitting device obtained by the method for manufacturing a light emitting device according to the second embodiment. 図23に示すステップS24に含まれ得るステップの他の例を説明するための図である。FIG. 24 is a diagram for explaining another example of steps that can be included in step S24 shown in FIG. 23. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法のさらに他の一例を説明するための模式的な断面図である。FIG. 14 is a schematic cross-sectional view for explaining yet another example of the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法のさらに他の一例を説明するための模式的な断面図である。FIG. 14 is a schematic cross-sectional view for explaining yet another example of the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法のさらに他の一例を説明するための模式的な断面図である。FIG. 14 is a schematic cross-sectional view for explaining yet another example of the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法のさらに他の一例を説明するための模式的な断面図である。FIG. 14 is a schematic cross-sectional view for explaining yet another example of the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. 本開示の第3の実施形態による発光装置の製造方法によって得られる例示的な発光装置の外観を模式的に示す上面図である。FIG. 11 is a top view schematically showing the outer appearance of an exemplary light emitting device obtained by the method for manufacturing a light emitting device according to the third embodiment of the present disclosure. 本開示の第3の実施形態による発光装置の製造方法によって得られる例示的な発光装置の構造を模式的に示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing the structure of an exemplary light emitting device obtained by the method for manufacturing a light emitting device according to the third embodiment of the present disclosure. 図8に示すステップS21に含まれ得るステップの他の例を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining another example of steps that can be included in step S21 shown in FIG. 8. 複合基板300Fの一例を示す模式的な上面図である。It is a typical top view showing an example of compound board 300F. 本開示の第3の実施形態による発光装置の製造方法を説明するための模式的な上面図である。FIG. 14 is a schematic top view for explaining the method for manufacturing the light emitting device according to the third embodiment of the present disclosure. 本開示の第3の実施形態による発光装置の製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the light emitting device according to the third embodiment of the present disclosure. 本開示の第3の実施形態による発光装置の製造方法を説明するための模式的な断面図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the light emitting device according to the third embodiment of the present disclosure. 本開示の第3の実施形態による発光装置の製造方法によって得られる他の例示的な発光装置の構造を模式的に示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing the structure of another exemplary light emitting device obtained by the method for manufacturing a light emitting device according to the third embodiment of the present disclosure. 本開示の第3の実施形態による発光装置の製造方法によって得られるさらに他の例示的な発光装置の構造を模式的に示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing the structure of still another exemplary light emitting device obtained by the method for manufacturing a light emitting device according to the third embodiment of the present disclosure. 型の分離後に得られた透光シートの表面形状を示す図である。It is a figure which shows the surface shape of the translucent sheet obtained after mold separation. 型の分離後に得られた透光シートの断面プロファイルを示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional profile of the translucent sheet obtained after mold separation. 紫外線の照射後の透光シートの表面形状を示す図である。It is a figure which shows the surface shape of the transparent sheet after irradiation of ultraviolet rays. 紫外線の照射後の透光シートの断面プロファイルを示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional profile of the transparent sheet after irradiation of ultraviolet rays. 実施例2のサンプルに関する、紫外線の照射後の表面形状を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a surface shape of the sample of Example 2 after irradiation with ultraviolet rays. 実施例2のサンプルに関する、紫外線の照射後の断面プロファイルを示す図である。5 is a diagram showing a cross-sectional profile after irradiation of ultraviolet rays regarding the sample of Example 2. FIG. 型の分離後の樹脂シートの表面形状を示す図である。It is a figure which shows the surface shape of the resin sheet after mold separation. 実施例3のサンプルの表面形状を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a surface shape of a sample of Example 3; 比較例1のサンプルの表面形状を示す図である。7 is a diagram showing a surface shape of a sample of Comparative Example 1. FIG. フーリエ変換型赤外分光光度計によって得られた、参考例1のサンプルに関する透過光の赤外スペクトルを示す。3 shows an infrared spectrum of transmitted light regarding a sample of Reference Example 1, obtained by a Fourier transform infrared spectrophotometer. 図53の一部を拡大して示す図であり、参考例1のサンプルに関する透過光の赤外スペクトルを示す。It is a figure which expands and shows a part of FIG. 53, and shows the infrared spectrum of the transmitted light regarding the sample of the reference example 1. FIG. 図53の一部を拡大して示す図であり、参考例1のサンプルに関する透過光の赤外スペクトルを示す。It is a figure which expands and shows a part of FIG. 53, and shows the infrared spectrum of the transmitted light regarding the sample of the reference example 1. FIG. 参考例2、参考例3および比較例2の各サンプルの表面のタック性に関する測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result regarding the tackiness of the surface of each sample of the reference example 2, the reference example 3, and the comparative example 2.

以下、図面を参照しながら、本開示の実施形態を詳細に説明する。以下の実施形態は、例示であり、本開示による透光性部材の形成方法および発光装置の製造方法は、以下の実施形態に限られない。例えば、以下の実施形態で示される数値、形状、材料、ステップ、そのステップの順序などは、あくまでも一例であり、技術的に矛盾が生じない限りにおいて種々の改変が可能である。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. The following embodiments are exemplifications, and the method for forming a translucent member and the method for manufacturing a light emitting device according to the present disclosure are not limited to the following embodiments. For example, the numerical values, shapes, materials, steps, order of the steps, and the like shown in the following embodiments are merely examples, and various modifications can be made as long as there is no technical contradiction.

図面が示す構成要素の寸法、形状等は、わかり易さのために誇張されている場合があり、実際の透光性部材、発光装置、および、製造装置における、寸法、形状および構成要素間の大小関係を反映していない場合がある。また、図面が過度に複雑になることを避けるために、一部の要素の図示を省略することがある。 The dimensions, shapes, etc. of the components shown in the drawings may be exaggerated for the sake of easy understanding, and the dimensions, shapes, and sizes of the components in the actual translucent member, the light-emitting device, and the manufacturing device may differ from each other. It may not reflect the relationship. Further, in order to avoid making the drawings excessively complicated, some of the elements may not be shown.

以下の説明において、実質的に同じ機能を有する構成要素は共通の参照符号で示し、説明を省略することがある。以下の説明では、特定の方向または位置を示す用語(例えば、「上」、「下」、「右」、「左」およびそれらの用語を含む別の用語)を用いる場合がある。しかしながら、それらの用語は、参照した図面における相対的な方向または位置をわかり易さのために用いているに過ぎない。参照した図面における「上」、「下」等の用語による相対的な方向または位置の関係が同一であれば、本開示以外の図面、実際の製品、製造装置等において、参照した図面と同一の配置でなくてもよい。本開示において「平行」とは、特に他の言及がない限り、2つの直線、辺、面等が0°から±5°程度の範囲にある場合を含む。また、本開示において「垂直」または「直交」とは、特に他の言及がない限り、2つの直線、辺、面等が90°から±5°程度の範囲にある場合を含む。 In the following description, components having substantially the same function are denoted by common reference numerals, and the description may be omitted. In the following description, terms indicating a particular direction or position (for example, “upper”, “lower”, “right”, “left” and another term including those terms) may be used. However, those terms are only used for the sake of clarity in the relative orientation or position in the referenced drawings. In the drawings other than the present disclosure, the actual product, the manufacturing apparatus, etc., the same as the referenced drawings, as long as the relative directions or positions are the same in terms such as “upper” and “lower” in the referenced drawings. It does not have to be arranged. In the present disclosure, “parallel” includes a case where two straight lines, sides, surfaces, etc. are in the range of 0° to ±5° unless otherwise specified. Further, in the present disclosure, “vertical” or “orthogonal” includes a case where two straight lines, sides, surfaces, etc. are in the range of about 90° to ±5° unless otherwise specified.

(第1の実施形態)
図1は、本開示の第1の実施形態による透光性部材の製造方法の概要を示すフローチャートである。図1に例示された透光性部材の製造方法は、概略的には、加熱された状態の樹脂体の主面に、複数の凸部を有する型を押し付けることにより、樹脂体の主面に複数の凹部を形成する工程(ステップS11)と、複数の凹部の形成後に、樹脂体の主面を紫外線で照射する工程(ステップS12)とを含む。
(First embodiment)
FIG. 1 is a flowchart showing an outline of a method of manufacturing a translucent member according to the first embodiment of the present disclosure. The method for manufacturing the light-transmissive member illustrated in FIG. 1 is generally performed by pressing a mold having a plurality of protrusions onto the main surface of the resin body in a heated state, so that the main surface of the resin body is pressed. The method includes a step of forming a plurality of recesses (step S11) and a step of irradiating the main surface of the resin body with ultraviolet rays after forming the plurality of recesses (step S12).

上述したように、微細な凹凸形状を形成するための手法の1つであるインプリント法では、型を押し付ける対象として、未硬化の状態の熱可塑性樹脂または紫外線硬化性樹脂を用いている。これに対し、本開示の実施形態では、熱硬化性樹脂であるシリコーン樹脂を含む樹脂体、特に、硬化後の状態の樹脂体に型を押し付ける。未硬化の状態ではなく硬化後の樹脂体に型を押し付ける点、および、熱硬化性樹脂にさらに紫外線を照射する点は、従来にない着想である。本開示のある実施形態によれば、シリコーン樹脂を含む樹脂体であって、しかも、硬化後の樹脂体でありながらも、型を用いて例えば複数の凹部を形成した後に樹脂体を紫外線で照射することにより、型の押し付けによって形成された形状を固定可能である。本開示の実施形態によれば、例えば、硬化後の熱硬化性樹脂の表面に微細な凹凸形状を付与することが可能になる。 As described above, in the imprint method, which is one of the methods for forming the fine uneven shape, the uncured thermoplastic resin or the ultraviolet curable resin is used as the object to be pressed against the mold. On the other hand, in the embodiment of the present disclosure, the mold is pressed against a resin body containing a silicone resin that is a thermosetting resin, particularly a resin body in a cured state. The idea of pressing the mold against the cured resin body instead of the uncured state and the point of irradiating the thermosetting resin with ultraviolet rays are new ideas. According to an embodiment of the present disclosure, a resin body including a silicone resin, which is a cured resin body, is irradiated with ultraviolet rays after forming a plurality of recesses using a mold, for example. By doing so, the shape formed by pressing the mold can be fixed. According to the embodiment of the present disclosure, for example, it becomes possible to give a fine uneven shape to the surface of the thermosetting resin after curing.

以下、図面を参照しながら、透光性部材の製造方法の実施形態を詳細に説明する。 Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing a translucent member will be described in detail with reference to the drawings.

まず、図2に示すように、樹脂体140Xを準備する。図2に示す例において、樹脂体140Xは、全体として板状であり、平面状の主面140aを有する。ここでは、樹脂体140Xは、板状の部材であるが、樹脂体140Xの形状は、任意である。図2においては樹脂体140Xの上面に相当する、主面140aの形状も、平面に限定されず、曲面であってもかまわない。 First, as shown in FIG. 2, a resin body 140X is prepared. In the example shown in FIG. 2, the resin body 140X has a plate shape as a whole and has a planar main surface 140a. Here, the resin body 140X is a plate-shaped member, but the shape of the resin body 140X is arbitrary. In FIG. 2, the shape of the main surface 140a, which corresponds to the upper surface of the resin body 140X, is not limited to a flat surface and may be a curved surface.

樹脂体140Xは、透光性を有し、凹凸形状が付与された後、例えば、保護部材、光拡散部材等の光学部材として、発光素子、発光装置等の光出射側に配置され得る。なお、本明細書における「透光性」および「透光」の用語は、入射した光に対して拡散性を示すことをも包含するように解釈され、「透明」であることに限定されない。 The resin body 140X has a light-transmitting property and is provided with an uneven shape, and then, for example, can be arranged on the light emitting side of a light emitting element, a light emitting device or the like as an optical member such as a protective member or a light diffusing member. In addition, the terms “translucent” and “translucent” in the present specification are construed to include showing diffusibility with respect to incident light, and are not limited to “transparent”.

樹脂体140Xは、シリコーン樹脂を含み、かつ、既に硬化した後の状態である。樹脂体140X中のシリコーン樹脂は、少なくとも1つのフェニル基を分子中に有する有機ポリシロキサンを含有する。あるいは、樹脂体140X中のシリコーン樹脂は、2つのメチル基がケイ素原子に結合したDユニットを有する有機ポリシロキサンを含有する。樹脂体140Xは、これら2種の有機ポリシロキサンの両方を含んでいてもよい。樹脂体140X中のシリコーン樹脂は、例えば、フェニル基を有し、かつ、Dユニットを有する有機ポリシロキサンを含有していてもよい。樹脂体140Xを構成するシリコーン樹脂組成物は、メチル基およびフェニル基以外の基が導入された変性シリコーンを含んでいてもよい。 The resin body 140X contains a silicone resin and is in a state after being already cured. The silicone resin in the resin body 140X contains an organic polysiloxane having at least one phenyl group in the molecule. Alternatively, the silicone resin in the resin body 140X contains an organic polysiloxane having a D unit in which two methyl groups are bonded to silicon atoms. The resin body 140X may include both of these two types of organic polysiloxane. The silicone resin in the resin body 140X may contain, for example, an organic polysiloxane having a phenyl group and having a D unit. The silicone resin composition forming the resin body 140X may include a modified silicone having a group other than the methyl group and the phenyl group introduced therein.

樹脂体140Xは、実質的にシリコーン樹脂からなる部材に限定されず、シリコーン樹脂以外の材料を含む複合部材であり得る。例えば、樹脂体140Xは、シリコーン樹脂を含む樹脂材料を母材とし、光散乱性のフィラーが分散された部材等であってもよい。光反射性のフィラーとしては、母材よりも高い屈折率を有する無機材料もしくは有機材料の粒子を用いることができる。光反射性のフィラーの例は、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、チタン酸カリウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ムライト、酸化ニオブ、硫酸バリウム、酸化ケイ素、各種希土類酸化物(例えば、酸化イットリウム、酸化ガドリニウム)等の粒子である。なお、樹脂体140Xを構成する母材は、シリコーン樹脂以外の樹脂を含んでいてもかまわない。 The resin body 140X is not limited to a member substantially made of a silicone resin, and may be a composite member containing a material other than the silicone resin. For example, the resin body 140X may be a member or the like in which a resin material containing a silicone resin is used as a base material and a light scattering filler is dispersed. As the light-reflecting filler, particles of an inorganic material or an organic material having a higher refractive index than the base material can be used. Examples of light reflective fillers include titanium dioxide, zirconium dioxide, potassium titanate, aluminum oxide, aluminum nitride, boron nitride, mullite, niobium oxide, barium sulfate, silicon oxide, various rare earth oxides (e.g., yttrium oxide, oxidized Gadolinium) and other particles. The base material forming the resin body 140X may contain a resin other than the silicone resin.

樹脂体140Xは、樹脂中に分散された波長変換部材を含んでいてもよい。樹脂体140Xが波長変換部材を含むことにより、樹脂体140Xは、入射した光の少なくとも一部を吸収し、入射した光の波長とは異なる波長の光を発することができる。波長変換部材の典型例は、蛍光体等の粒子である。蛍光体には、公知の材料を適用することができる。蛍光体の例は、YAG系蛍光体、KSF系蛍光体等のフッ化物系蛍光体およびCASN等の窒化物系蛍光体、βサイアロン蛍光体等である。YAG系蛍光体は、青色光を黄色光に変換する波長変換物質の例であり、KSF系蛍光体およびCASNは、青色光を赤色光に変換する波長変換物質の例であり、βサイアロン蛍光体は、青色光を緑色光に変換する波長変換物質の例である。蛍光体は、量子ドット蛍光体であってもよい。 The resin body 140X may include a wavelength conversion member dispersed in the resin. Since the resin body 140X includes the wavelength conversion member, the resin body 140X can absorb at least part of the incident light and emit light having a wavelength different from the wavelength of the incident light. A typical example of the wavelength conversion member is particles such as a phosphor. A known material can be applied to the phosphor. Examples of the phosphors are YAG-based phosphors, fluoride-based phosphors such as KSF-based phosphors, nitride-based phosphors such as CASN, and β-sialon phosphors. The YAG-based phosphor is an example of a wavelength conversion material that converts blue light into yellow light, and the KSF-based phosphor and CASN are examples of a wavelength conversion material that convert blue light into red light, and a β-sialon phosphor. Is an example of a wavelength conversion material that converts blue light into green light. The phosphor may be a quantum dot phosphor.

樹脂体140Xは、購入または作製によって準備することができる。例えば、シリコーン樹脂を含むシリコーン樹脂原料をスプレー法、キャスト法、ポッティング法等の塗布法あるいはスクリーン印刷法によって基板等の支持体上に付与した後、支持体上の樹脂原料を硬化させることにより樹脂体140Xを得てもよい。あるいは、樹脂体140Xの形成にトランスファー成形、圧縮成形法等を適用してもよい。 The resin body 140X can be prepared by purchasing or manufacturing. For example, a silicone resin raw material containing a silicone resin is applied onto a support such as a substrate by a coating method such as a spray method, a casting method, a potting method or a screen printing method, and then the resin raw material on the support is cured to obtain a resin. Body 140X may be obtained. Alternatively, transfer molding, compression molding, or the like may be applied to form the resin body 140X.

次に、表面に凹凸形状を有する型を準備する。ここでは、図2に示すように、複数の凸部210を有する型200を用いる。型200の材料は、特に限定されず、例えば、硬化鋼、アルミニウム、ベリリウム銅合金等の一般的な材料を用いることができる。 Next, a mold having an uneven surface is prepared. Here, as shown in FIG. 2, a mold 200 having a plurality of convex portions 210 is used. The material of the mold 200 is not particularly limited, and for example, a general material such as hardened steel, aluminum, beryllium copper alloy, or the like can be used.

図2に例示する構成において、凸部210は、型200の下面200bから突出する三角錐状の突起である。図3は、凸部210の配置の一例を示す。この例では、三角格子の格子点上に各突起の頂部が位置するように複数の凸部210が型200の下面200bに二次元に配置されている。凸部210の配置ピッチ、つまり、互いに隣接する2つの凸部210の中心間距離は、例えば、0.1μm以上300μm以下の範囲であり、凸部210の高さ、つまり、下面200bから凸部210の頂部までの距離は、例えば、0.1μm以上200μm以下の範囲である。もちろん、凸部210の配置および凸部210の各々の形状は、図2および図3に示す例に限定されず、任意の配置および形状を採用し得る。 In the configuration illustrated in FIG. 2, the protrusion 210 is a triangular pyramid-shaped protrusion that protrudes from the lower surface 200b of the mold 200. FIG. 3 shows an example of the arrangement of the convex portions 210. In this example, a plurality of convex portions 210 are two-dimensionally arranged on the lower surface 200b of the mold 200 so that the tops of the protrusions are located on the lattice points of the triangular lattice. The arrangement pitch of the protrusions 210, that is, the center-to-center distance between two adjacent protrusions 210 is, for example, in the range of 0.1 μm or more and 300 μm or less, and the height of the protrusions 210, that is, from the lower surface 200b to the protrusions. The distance to the top of 210 is, for example, in the range of 0.1 μm or more and 200 μm or less. Of course, the arrangement of the convex portions 210 and the shape of each of the convex portions 210 are not limited to the examples shown in FIGS. 2 and 3, and any arrangement and shape can be adopted.

次に、図2に模式的に示すように、十分な剛性を有する支持体60上に樹脂体140Xを配置し、凸部210を樹脂体140Xの主面140aに向けて型200を樹脂体140Xに対向させる。さらに、図4に太い矢印PSで模式的に示すように、樹脂体140Xの主面140aに型200を押し付ける。このとき、70℃〜300℃程度に加熱された状態の樹脂体140Xに、50kPa〜50MPa程度の圧力で型200を押し付けることにより、樹脂体140Xの主面140aに、型200の複数の凸部210に対応した複数の凹部140qを形成することができる(図1のステップS11)。樹脂体140Xの加熱は、樹脂体140Xの周囲の温度を上昇させることによって実行されてもよいし、型200および/または支持体60の温度を上昇させることによって実行されてもよい。 Next, as schematically shown in FIG. 2, the resin body 140X is arranged on the support body 60 having sufficient rigidity, and the mold 200 is placed with the convex 210 facing the main surface 140a of the resin body 140X. To face. Furthermore, as schematically shown by a thick arrow PS in FIG. 4, the mold 200 is pressed against the main surface 140a of the resin body 140X. At this time, the mold 200 is pressed against the resin body 140X heated to about 70° C. to 300° C. under a pressure of about 50 kPa to 50 MPa, so that the main surface 140a of the resin body 140X has a plurality of convex portions of the mold 200. A plurality of recesses 140q corresponding to 210 can be formed (step S11 in FIG. 1). The heating of the resin body 140X may be performed by raising the temperature around the resin body 140X, or may be performed by raising the temperature of the mold 200 and/or the support body 60.

次に、図5に模式的に示すように、紫外線照射装置500により、樹脂体140Xの主面140aを紫外線で照射する(図1のステップS12)。このときの紫外線の照射量は、例えば20J/cm以上である。照射される紫外線の波長に特に限定はなく、例えば、UVA(400〜315nm)〜UVC(280〜140nm)の波長範囲にわたるスペクトルを有する紫外線を発する紫外線照射装置を用いることができる。ここでは、発光の主ピーク波長が365nmの光源を用いる。なお、石英等の透光性の材料から形成された型を型200として用いた場合には、型200を介して紫外線を照射することが可能である。 Next, as schematically shown in FIG. 5, the main surface 140a of the resin body 140X is irradiated with ultraviolet rays by the ultraviolet ray irradiation device 500 (step S12 in FIG. 1). The irradiation amount of ultraviolet rays at this time is, for example, 20 J/cm 2 or more. The wavelength of the ultraviolet rays to be irradiated is not particularly limited, and for example, an ultraviolet irradiation device that emits ultraviolet rays having a spectrum in the wavelength range of UVA (400 to 315 nm) to UVC (280 to 140 nm) can be used. Here, a light source whose main peak wavelength of light emission is 365 nm is used. When a mold made of a translucent material such as quartz is used as the mold 200, it is possible to irradiate ultraviolet rays through the mold 200.

以上の工程により、図6に示すように、主面140aに複数の凹部140dを有する透光性部材140が得られる。なお、図6では、説明の便宜のために凹部140dを誇張して大きく描いている。 Through the above steps, as shown in FIG. 6, the translucent member 140 having the plurality of recesses 140d on the main surface 140a is obtained. Note that in FIG. 6, the recess 140d is exaggeratedly drawn for convenience of description.

この例では、型200の凸部210が、三角格子の格子点上にそれぞれの中心が位置する配置を有することに対応して、凹部140dも、三角格子の格子点上にそれぞれの中心が位置する配置を有する。主面140aの法線方向に沿った、凹部140dの開口から底までの距離、すなわち、凹部140dの深さは、0.9μm以上であり得る。なお、後に実施例により説明するように、紫外線の照射により、凹部140qと凹部140dとの間で形状の変化が生じることもある。 In this example, since the convex portions 210 of the mold 200 have an arrangement in which their centers are located on the lattice points of the triangular lattice, the concave portions 140d also have their centers located on the lattice points of the triangular lattice. Have an arrangement. The distance from the opening of the recess 140d to the bottom along the normal direction of the main surface 140a, that is, the depth of the recess 140d may be 0.9 μm or more. Note that, as will be described later with reference to examples, the shape of the recess 140q may change between the recess 140q and the recess 140d due to irradiation with ultraviolet light.

透光性部材140の主面140a側または主面140aの反対側の主面140b(この例では下面)に配置され得るLED等の発光素子または発光装置の発光ピーク波長の光に対する、透光性部材140の透過率は、典型的には、60%以上である。上述の発光ピーク波長の光に対する、透光性部材140の透過率が70%以上であると有益であり、80%以上であるとより有益である。透光性部材140は、50%以上のヘーズ値を有し得る。ヘーズ値は、JIS K7136:2000に準拠した測定方法によって測定することができる。 Translucency with respect to light having a light emission peak wavelength of a light emitting element such as an LED or a light emitting device that can be arranged on the main surface 140a side of the translucent member 140 or on the main surface 140b (the lower surface in this example) opposite to the main surface 140a. The transmittance of the member 140 is typically 60% or more. It is advantageous that the transmissivity of the translucent member 140 with respect to the light having the above-mentioned emission peak wavelength is 70% or more, and is more beneficial if it is 80% or more. The translucent member 140 may have a haze value of 50% or more. The haze value can be measured by a measuring method based on JIS K7136:2000.

本開示の実施形態によれば、硬化後の樹脂体の表面にさらに形状を付与することが可能である。なお、図4を参照して説明したように、加熱された状態の樹脂体140Xの主面140aに型200の凸部210を押し付けることにより、主面140aに複数の凹部140qを形成することができる。換言すれば、紫外線の照射の工程を行うことなく、主面140aに複数の凹部140qを形成すること自体は可能である。つまり、一見すると、紫外線の照射の工程を省略しても、表面に複数の凹部を有する透光性部材を得られるように見える。しかしながら、後に実施例により説明するように、紫外線の照射の工程を省略した場合、型200の押し付けの後に樹脂体140Xを300℃前後の高温の環境下におくと、凹部140qの形状が崩れ、極端な場合には主面140aが平坦面に近い形状に戻ってしまう。換言すれば、紫外線の照射の工程を省略すると、所望の形状を得られないことがある。 According to the embodiment of the present disclosure, it is possible to further impart a shape to the surface of the resin body after curing. As described with reference to FIG. 4, the plurality of recesses 140q may be formed in the main surface 140a by pressing the convex portions 210 of the mold 200 against the main surface 140a of the heated resin body 140X. it can. In other words, it is possible to form the plurality of recesses 140q in the main surface 140a itself without performing the step of irradiating the ultraviolet rays. That is, at first glance, it seems that a translucent member having a plurality of concave portions on the surface can be obtained even if the step of irradiating the ultraviolet rays is omitted. However, as described later in Examples, when the step of irradiating ultraviolet rays is omitted, when the resin body 140X is placed under a high temperature environment of around 300° C. after pressing the mold 200, the shape of the recess 140q collapses, In an extreme case, the main surface 140a will return to a shape close to a flat surface. In other words, if the step of irradiation with ultraviolet rays is omitted, the desired shape may not be obtained.

これに対し、本開示の実施形態では、主面140aへの形状の付与後に、主面140aを紫外線で照射しているので、透光性部材140を300℃前後の高温の環境にさらした場合であっても、主面140aに形成された凹部140dの形状を維持させることが可能である。したがって、透光性部材140を得た後に、高温を伴うプロセスに透光性部材140を投入することが可能である。また、本開示の実施形態では、未硬化の樹脂材料を用いる一般的な熱インプリント法とは異なり、硬化後の樹脂体140Xに対して型200の押し付けが実行されるので、樹脂体140Xからの型200の分離が容易である。 On the other hand, in the embodiment of the present disclosure, since the main surface 140a is irradiated with ultraviolet rays after the shape is given to the main surface 140a, when the translucent member 140 is exposed to a high temperature environment of about 300° C. Even in this case, it is possible to maintain the shape of the recess 140d formed in the main surface 140a. Therefore, after obtaining the transparent member 140, the transparent member 140 can be put into a process involving high temperature. Further, in the embodiment of the present disclosure, unlike the general thermal imprinting method using an uncured resin material, the mold 200 is pressed against the cured resin body 140X, so that the resin body 140X is pressed. The mold 200 can be easily separated.

(第2の実施形態)
図7は、本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法によって得られる例示的な発光装置の断面を模式的に示す。図7に示す発光装置100Aは、発光素子110Aと、波長変換部材120Aと、導光部材130Aと、透光性部材140Aと、光反射性部材150Aとを有する。
(Second embodiment)
FIG. 7 schematically illustrates a cross section of an exemplary light emitting device obtained by the method for manufacturing a light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. The light emitting device 100A shown in FIG. 7 includes a light emitting element 110A, a wavelength conversion member 120A, a light guide member 130A, a translucent member 140A, and a light reflective member 150A.

発光素子110Aは、例えばLEDであり、この例では、発光素子110Aは、素子本体111と、発光素子110Aの下面側に位置する正極112Aおよび負極114Aとを有する。図7に例示する構成では、発光素子110Aの上面は、素子本体111の上面111aに一致し、正極112Aおよび負極114Aは、発光素子110Aの上面とは反対側の、素子本体111の下面111b上に配置されている。 The light emitting element 110A is, for example, an LED, and in this example, the light emitting element 110A has an element body 111, and a positive electrode 112A and a negative electrode 114A located on the lower surface side of the light emitting element 110A. In the configuration illustrated in FIG. 7, the upper surface of the light emitting element 110A matches the upper surface 111a of the element body 111, and the positive electrode 112A and the negative electrode 114A are on the lower surface 111b of the element body 111 opposite to the upper surface of the light emitting element 110A. It is located in.

素子本体111は、例えば、サファイアまたは窒化ガリウム等の支持基板と、支持基板上の半導体積層構造とを含む。半導体積層構造は、活性層と、活性層を挟むn型半導体層およびp型半導体層とを含む。半導体積層構造は、紫外〜可視域の発光が可能な窒化物半導体(InxAlyGa1-x-yN、0≦x、0≦y、x+y≦1)を含んでいてもよい。上
述の正極112Aおよび負極114Aは、半導体積層構造に所定の電流を供給する機能を有する。図7に示すように、正極112Aの下面および負極114Aの下面は、発光装置100Aの下面100bから露出されており、したがって、発光装置100Aは、フリップチップ接続による実装に適合した構成を有するといえる。
The element body 111 includes, for example, a support substrate such as sapphire or gallium nitride, and a semiconductor laminated structure on the support substrate. The semiconductor laminated structure includes an active layer and n-type semiconductor layers and p-type semiconductor layers sandwiching the active layer. The semiconductor laminated structure may include a light emitting capable nitride semiconductor of ultraviolet to visible range (In x Al y Ga 1- xy N, 0 ≦ x, 0 ≦ y, x + y ≦ 1). The positive electrode 112A and the negative electrode 114A described above have a function of supplying a predetermined current to the semiconductor laminated structure. As shown in FIG. 7, the lower surface of the positive electrode 112A and the lower surface of the negative electrode 114A are exposed from the lower surface 100b of the light emitting device 100A. Therefore, it can be said that the light emitting device 100A has a configuration suitable for mounting by flip-chip connection. ..

図7に例示する構成において、発光装置100Aは、素子本体111の上面111aの上方に、波長変換部材120Aおよび透光性部材140Aの積層構造を含む。波長変換部材120Aは、上面120aと下面120bとの間に位置する側面120cを有し、透光性部材140Aは、上面140aと下面140bとの間に位置する側面140cを有する。図示するように、この例では、波長変換部材120Aの側面120cおよび透光性部材140Aの側面140cは、光反射性部材150Aによって覆われている。導光部材130Aは、波長変換部材120Aの下面120bと素子本体111の上面111aとの間に位置する部分を有し、導光部材130Aの他の一部は、素子本体111の上面111aと下面111bとの間に位置する、素子本体111の側面111cの少なくとも一部を覆う。 In the configuration illustrated in FIG. 7, the light emitting device 100A includes a laminated structure of the wavelength conversion member 120A and the translucent member 140A above the upper surface 111a of the element body 111. The wavelength conversion member 120A has a side surface 120c located between the upper surface 120a and the lower surface 120b, and the translucent member 140A has a side surface 140c located between the upper surface 140a and the lower surface 140b. As illustrated, in this example, the side surface 120c of the wavelength conversion member 120A and the side surface 140c of the translucent member 140A are covered with the light reflecting member 150A. The light guide member 130A has a portion located between the lower surface 120b of the wavelength conversion member 120A and the upper surface 111a of the element body 111, and the other part of the light guide member 130A includes the upper surface 111a and the lower surface of the element body 111. At least a part of the side surface 111c of the element body 111, which is located between the element body 111 and the element 111b, is covered.

ここでは、透光性部材140Aは、第1の実施形態の透光性部材140と同様の板状の構造であり、図7に模式的に示すように、例えば、発光素子110Aの上面の上方に位置する上面140aは、複数の凹部140dを有している。凹部140dの深さは、例えば0.9μm以上である。後述するように、複数の凹部140dは、第1の実施形態とほぼ同様の方法によって透光性部材140Aに形成され得る。後に実施例により説明するように、後述のプローブ法に基づいて得られる、透光性部材140の瞬間接着力は、意図的な紫外線の照射がなされていないシリコーン樹脂の表面の瞬間接着力の例えば50%以下の範囲内である。 Here, the translucent member 140A has a plate-like structure similar to that of the translucent member 140 of the first embodiment, and as shown schematically in FIG. 7, for example, above the upper surface of the light emitting element 110A. The upper surface 140a located at is provided with a plurality of recesses 140d. The depth of the recess 140d is, for example, 0.9 μm or more. As will be described later, the plurality of recesses 140d can be formed in the translucent member 140A by a method substantially similar to that of the first embodiment. As will be described later in Examples, the instantaneous adhesive force of the translucent member 140, which is obtained based on the probe method described below, is, for example, the instantaneous adhesive force of the surface of the silicone resin which is not intentionally irradiated with ultraviolet rays. It is within the range of 50% or less.

発光素子110Aの発光ピーク波長の光に対する、透光性部材140Aの透過率は、典型的には、60%以上である。光を有効に利用する観点から、発光素子110Aの発光ピーク波長における透光性部材140Aの透過率が70%以上であると有益であり、80%以上であるとより有益である。 The transmissivity of the light transmissive member 140A with respect to the light having the emission peak wavelength of the light emitting element 110A is typically 60% or more. From the viewpoint of effectively utilizing light, the transmissivity of the light transmissive member 140A at the emission peak wavelength of the light emitting element 110A is beneficially 70% or more, and more favorably 80% or more.

波長変換部材120Aは、ここでは、透光性部材140Aと同様に板状の形状を有する。波長変換部材120Aは、例えば、シリコーン樹脂等の母材と、蛍光体等の波長変換部材とを含有し、発光素子110Aからの光の少なくとも一部を吸収し、入射した光の波長とは異なる波長の光を発する。 Here, the wavelength conversion member 120A has a plate-like shape like the translucent member 140A. The wavelength conversion member 120A contains, for example, a base material such as a silicone resin and a wavelength conversion member such as a phosphor, absorbs at least a part of the light from the light emitting element 110A, and is different from the wavelength of the incident light. It emits light of a wavelength.

光反射性部材150Aは、波長変換部材120A、透光性部材140Aおよび導光部材130Aを取り囲む形状を有し、素子本体111のうち、側面111cを少なくとも覆う。また、図示する例において、光反射性部材150Aの一部は、素子本体111の下面111bのうち、正極112Aおよび負極114Aを除く領域を覆う。なお、本明細書における「覆う」は、被覆される部材と、被覆する部材とが直接に接している態様だけでなく、例えばこれらの部材の間にさらに他の部材が介在することにより、これらが直接に接していない部分を含むような態様をも包含するように解釈される。本明細書において、「光反射性」とは、発光素子の発光ピーク波長における反射率が60%以上であることを指す。光反射性部材150Aの、発光素子110Aの発光ピーク波長における反射率が70%以上であるとより有益であり、80%以上であるとさらに有益である。また、光反射性部材150Aが白色を有すると有益である。 The light reflective member 150A has a shape surrounding the wavelength conversion member 120A, the translucent member 140A, and the light guide member 130A, and covers at least the side surface 111c of the element body 111. Further, in the illustrated example, a part of the light reflecting member 150A covers a region of the lower surface 111b of the element body 111 except the positive electrode 112A and the negative electrode 114A. It should be noted that the term "cover" in the present specification is not limited to the aspect in which the member to be covered and the member to be covered are in direct contact with each other, and for example, by further interposing another member between these members, Are to be construed to include such an embodiment that includes a portion which is not in direct contact with. In the present specification, “light reflectivity” means that the reflectance at the emission peak wavelength of the light emitting element is 60% or more. It is more useful if the reflectance of the light reflecting member 150A at the emission peak wavelength of the light emitting element 110A is 70% or more, and further useful if it is 80% or more. Further, it is advantageous that the light reflecting member 150A has a white color.

図8は、本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法の一例を示すフローチャートである。図8に例示された発光装置の製造方法は、概略的には、発光素子および透光性の樹脂体を有する発光体を準備する工程(ステップS21)と、表面に凹凸のパターンを有し、発光素子の上面を少なくとも覆う透光性部材を形成する工程(ステップS22)とを含む。ここで説明する例では、透光性部材を形成する工程は、図9に示すように、加熱された状態の樹脂体の表面に型を押し付けることにより、樹脂体の表面に複数の凹部を形成する工程(ステップS221)と、複数の凹部が形成された、樹脂体の表面を紫外線で照射する工程(ステップS222)とを含む。型の押し付けの対象となる樹脂体は、シリコーン樹脂原料を硬化させることによって形成された例えば樹脂シートである。以下、図面を参照しながら、図7に示す発光装置100Aの例示的な製造方法の詳細を説明する。 FIG. 8 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing a light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. The method for manufacturing the light-emitting device illustrated in FIG. 8 schematically includes a step of preparing a light-emitting body having a light-emitting element and a light-transmitting resin body (step S21), and a surface having an uneven pattern, And a step of forming a transparent member that covers at least the upper surface of the light emitting element (step S22). In the example described here, in the step of forming the translucent member, as shown in FIG. 9, a plurality of recesses are formed on the surface of the resin body by pressing a mold against the surface of the resin body in a heated state. And a step (step S222) of irradiating the surface of the resin body having a plurality of recesses with ultraviolet rays. The resin body to be pressed against the mold is, for example, a resin sheet formed by curing a silicone resin raw material. Hereinafter, details of an exemplary method for manufacturing the light emitting device 100A shown in FIG. 7 will be described with reference to the drawings.

[発光体の準備の工程]
まず、発光素子および透光性の樹脂体を有する発光体を準備する(図8のステップS21)。ここでは、図10に例示するような、発光素子110Aの上面の上方に配置されたシート状の樹脂体140Uを含む発光体100Uを準備する。図10は、発光体100Uを発光体100Uの上面100Uaに垂直に切断したときの断面を模式的に示している。
[Procedure for preparing the luminous body]
First, a light emitting body having a light emitting element and a transparent resin body is prepared (step S21 in FIG. 8). Here, as illustrated in FIG. 10, a light emitting body 100U including a sheet-shaped resin body 140U disposed above the upper surface of the light emitting element 110A is prepared. FIG. 10 schematically shows a cross section when the light emitter 100U is cut perpendicularly to the upper surface 100Ua of the light emitter 100U.

図10に示す発光体100Uは、発光素子110Aおよび樹脂体140Uに加えて、波長変換部材120A、導光部材130Aおよび光反射性部材150Aをさらに有する。図10に示すように、発光体100Uは、波長変換部材120Aおよび樹脂体140Uの積層構造をその一部に含み、光反射性部材150Aは、樹脂体140Uの側面140cおよび波長変換部材120Aの側面120cを覆っている。発光体100Uは、購入によって準備されてもよいし、製作によって準備されてもよい。図10に示す発光体100Uは、例えば、以下のようにして得られる。 The light emitting body 100U shown in FIG. 10 further includes a wavelength conversion member 120A, a light guide member 130A, and a light reflective member 150A in addition to the light emitting element 110A and the resin body 140U. As shown in FIG. 10, the light emitting body 100U includes a laminated structure of the wavelength conversion member 120A and the resin body 140U in a part thereof, and the light reflective member 150A includes the side surface 140c of the resin body 140U and the side surface of the wavelength conversion member 120A. It covers 120c. The light emitter 100U may be prepared by purchase or may be prepared by manufacturing. The light emitter 100U shown in FIG. 10 is obtained, for example, as follows.

図11は、発光体100Uの例示的な製造方法を説明するためのフローチャートである。発光体100Uの準備の工程は、例えば、上面を有する発光素子を準備する工程(ステップS211)と、発光素子の上面に未硬化の透光性樹脂材料を付与する工程(ステップS212)と、透光性樹脂材料を硬化させることにより、発光素子の上面の上方に樹脂体を配置する工程(ステップS213)とを含む。 FIG. 11 is a flowchart for explaining an exemplary manufacturing method of the light emitter 100U. The steps of preparing the light emitting body 100U include, for example, a step of preparing a light emitting element having an upper surface (step S211), a step of applying an uncured transparent resin material to the upper surface of the light emitting element (step S212), and a transparent step. Curing the light-sensitive resin material to dispose the resin body above the upper surface of the light emitting element (step S213).

まず、上面を有し、上面とは反対側に位置する下面111b側に正極112Aおよび負極114Aを有する発光素子110Aを準備する(図11のステップS211)。発光素子110Aは、購入によって準備されてもよい。次に、耐熱性の粘着シートまたは基板等の支持体50を準備し、正極112Aおよび負極114Aを支持体50に向けて発光素子110Aを支持体50上に配置する。ここでは、図12に示すように、支持体50の上面50aに複数の発光素子110Aを一時的に固定する。簡単のために、図12では、紙面の左右方向に沿って配置された3つの発光素子110Aを示しているが、上面50a上に発光素子110Aが二次元に配置されてももちろんかまわない。 First, the light emitting element 110A having the upper surface and the positive electrode 112A and the negative electrode 114A on the lower surface 111b side opposite to the upper surface is prepared (step S211 in FIG. 11). The light emitting element 110A may be prepared by purchase. Next, a support 50 such as a heat-resistant adhesive sheet or substrate is prepared, and the light emitting element 110A is placed on the support 50 with the positive electrode 112A and the negative electrode 114A facing the support 50. Here, as shown in FIG. 12, the plurality of light emitting elements 110A are temporarily fixed to the upper surface 50a of the support body 50. For simplification, FIG. 12 shows three light emitting elements 110A arranged along the left-right direction of the paper surface, but the light emitting elements 110A may be two-dimensionally arranged on the upper surface 50a.

次に、図13に示すように、発光素子110Aの上面である上面111aにディスペンサ等によって透光性の第1樹脂材料130rを付与する(図11のステップS212)。第1樹脂材料130rは、シリコーン樹脂、シリコーン変性樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、トリメチルペンテン樹脂もしくはポリノルボルネン樹脂、または、これらの2種以上を含む材料を母材として含む。 Next, as shown in FIG. 13, the transparent first resin material 130r is applied to the upper surface 111a, which is the upper surface of the light emitting element 110A, by a dispenser or the like (step S212 in FIG. 11). The first resin material 130r includes a silicone resin, a silicone-modified resin, an epoxy resin, a phenol resin, a polycarbonate resin, an acrylic resin, a trimethylpentene resin, a polynorbornene resin, or a material containing two or more of these as a base material.

次に、図14に模式的に示すように、波長変換部材120Aおよび樹脂体140Uを第1樹脂材料130r上に配置し、第1樹脂材料130rを硬化させる。ここでは、波長変換部材120Aおよび樹脂体140Uの積層シートLBを準備し、波長変換部材120Aおよび樹脂体140Uを一括して第1樹脂材料130r上に配置している。積層シートLBの配置後、第1樹脂材料130rを硬化させることにより、図15に示すように、導光部材130Aを形成して、発光素子110Aの上面の上方に樹脂体140Uを配置することができる(図11のステップS213)。第1樹脂材料130rの硬化後に、ダイシング装置等を利用して波長変換部材120Aの側面120cおよび樹脂体140Uの側面140cをトリミングしてもよい。これにより、それぞれが、発光素子110Aの上面を少なくとも覆う樹脂体140Uを有する複数の発光体が得られる。 Next, as schematically shown in FIG. 14, the wavelength conversion member 120A and the resin body 140U are arranged on the first resin material 130r, and the first resin material 130r is cured. Here, the laminated sheet LB of the wavelength conversion member 120A and the resin body 140U is prepared, and the wavelength conversion member 120A and the resin body 140U are collectively arranged on the first resin material 130r. After arranging the laminated sheet LB, the light guide member 130A is formed by curing the first resin material 130r, and the resin body 140U may be arranged above the upper surface of the light emitting element 110A, as shown in FIG. Yes (step S213 in FIG. 11). After the first resin material 130r is cured, the side surface 120c of the wavelength conversion member 120A and the side surface 140c of the resin body 140U may be trimmed by using a dicing device or the like. As a result, a plurality of light emitting bodies each having a resin body 140U that covers at least the upper surface of the light emitting element 110A are obtained.

なお、積層シートLBは、例えば、蛍光体の粒子が分散された樹脂材料中の樹脂をBステージの状態とした蛍光体シートと、透光性の樹脂シートとを準備し、これらを熱によって貼り合わせ、超音波カッタ等により所定の寸法の切断片を得ることによって準備することができる。蛍光体シートは、蛍光体、シリコーン樹脂等の樹脂材料、フィラー粒子および溶媒を含有する第2樹脂材料から形成することができる。蛍光体としては、上述のYAG系蛍光体、KSF系蛍光体、CASNおよびβサイアロン蛍光体等の公知の蛍光体を用い得る。透光性の樹脂シートは、例えば、未硬化のシリコーン樹脂原料を硬化させることによって得ることができる。シリコーン樹脂原料は、シリコーン樹脂を母材として含み、付加的に、光反射性のフィラー等を含んでいてもよい。母材としてのシリコーン樹脂は、典型的には、少なくとも1つのフェニル基を分子中に有する有機ポリシロキサン、および/または、Dユニットを有する有機ポリシロキサンを含有する。上述の第2樹脂材料をスプレー法、キャスト法、ポッティング法等の塗布法によって透光シートの主面上に付与し、第2樹脂材料を硬化させることによっても積層シートLBを得ることができる。あるいは、購入によって積層シートLBを準備してもよい。購入によって蛍光体シートおよび/または透光シートを準備してもよい。 As the laminated sheet LB, for example, a phosphor sheet in which a resin in a resin material in which phosphor particles are dispersed is in a B-stage state and a translucent resin sheet are prepared, and these are attached by heat. It can be prepared by combining and obtaining a cut piece of a predetermined size with an ultrasonic cutter or the like. The phosphor sheet can be formed of a phosphor, a resin material such as a silicone resin, a second resin material containing filler particles and a solvent. As the fluorescent substance, known fluorescent substances such as the above-mentioned YAG type fluorescent substance, KSF type fluorescent substance, CASN and β-sialon fluorescent substance can be used. The translucent resin sheet can be obtained, for example, by curing an uncured silicone resin raw material. The silicone resin raw material contains a silicone resin as a base material and may additionally contain a light-reflecting filler or the like. The silicone resin as a base material typically contains an organic polysiloxane having at least one phenyl group in the molecule and/or an organic polysiloxane having a D unit. The laminated sheet LB can also be obtained by applying the above-mentioned second resin material onto the main surface of the translucent sheet by a coating method such as a spray method, a casting method, or a potting method, and curing the second resin material. Alternatively, the laminated sheet LB may be prepared by purchase. The phosphor sheet and/or the translucent sheet may be prepared by purchase.

典型的には、導光部材130Aの形成後に、発光素子110Aの側面に相当する素子本体111の側面111cを覆う光反射性部材を形成する。例えば、図16に示すように、支持体50上の構造を光反射性樹脂層150Tで覆う。光反射性樹脂層150Tは、例えば光反射性のフィラーが分散された第3樹脂材料を支持体50の上面50aに付与した後、第3樹脂材料を硬化させることによって形成することができる。第3樹脂材料としては、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、BTレジン、ポリフタルアミド(PPA)等を母材として含む材料を用いることができる。光反射性のフィラーとしては、上述の光散乱粒子を用いることができる。光反射性樹脂層150Tの形成には、例えばトランスファー成形を適用できる。図16に示す状態では、樹脂体140Uの上面140aは、光反射性樹脂層150Tによって覆われている。 Typically, after forming the light guide member 130A, a light reflecting member that covers the side surface 111c of the element body 111 corresponding to the side surface of the light emitting element 110A is formed. For example, as shown in FIG. 16, the structure on the support 50 is covered with the light reflective resin layer 150T. The light-reflecting resin layer 150T can be formed by, for example, applying a third resin material in which a light-reflecting filler is dispersed to the upper surface 50a of the support 50 and then curing the third resin material. As the third resin material, a material containing a silicone resin, a phenol resin, an epoxy resin, BT resin, polyphthalamide (PPA) or the like as a base material can be used. The light-scattering particles described above can be used as the light-reflecting filler. For example, transfer molding can be applied to the formation of the light reflective resin layer 150T. In the state shown in FIG. 16, the upper surface 140a of the resin body 140U is covered with the light reflective resin layer 150T.

次に、研削加工等を適用して光反射性樹脂層150Tの上面側から光反射性樹脂層150Tの一部を除去することによって樹脂体140Uの上面140aを研削面から露出させる。さらに、ダイシング装置等によって支持体50上の構造を所望の形状に切り出す。例えば、互いに隣接する2つの発光素子110Aの位置で、研削後の光反射性樹脂層150Tを切断する。光反射性樹脂層150Tの研削および切断の工程により、図17に示すように、光反射性部材150Aを形成することができる。その後、支持体50上の構造を支持体50から分離することにより、図10に示す発光体100Uが得られる。 Next, a part of the light reflecting resin layer 150T is removed from the upper surface side of the light reflecting resin layer 150T by applying a grinding process or the like to expose the upper surface 140a of the resin body 140U from the ground surface. Further, the structure on the support 50 is cut out into a desired shape by a dicing device or the like. For example, the light-reflecting resin layer 150T after grinding is cut at the position of two light emitting elements 110A adjacent to each other. Through the steps of grinding and cutting the light reflecting resin layer 150T, the light reflecting member 150A can be formed as shown in FIG. Then, the structure on the support body 50 is separated from the support body 50 to obtain the light emitting body 100U shown in FIG.

[透光性部材の形成の工程]
発光体100Uの準備後、加熱された状態の樹脂体の表面に型を押し付けることにより、樹脂体の表面、ここでは、樹脂体140Uの上面140aに複数の凹部を形成する(図9のステップS221)。樹脂体の表面への凹部形成の工程は、図2〜図4を参照して説明した、樹脂体140Xの主面140aへの複数の凹部140qの形成の例と同様にして実行することができる。
[Process of forming translucent member]
After the light emitting body 100U is prepared, a mold is pressed against the surface of the resin body in a heated state to form a plurality of recesses on the surface of the resin body, here, the upper surface 140a of the resin body 140U (step S221 in FIG. 9). ). The step of forming the recesses on the surface of the resin body can be performed in the same manner as the example of forming the plurality of recesses 140q on the main surface 140a of the resin body 140X described with reference to FIGS. ..

例えば、図18に模式的に示すように、図2に示す例と同様にして、支持体60上に発光体100Uを配置し、複数の凸部210を有する型200の凸部210を樹脂体140Uの上面140a(例えば樹脂体140Xの主面140aに相当)に対向させる。さらに、例えば周囲の温度を70℃〜300℃程度に上昇させ、図4に示す例と同様にして、加熱された状態の樹脂体140Uの上面140aに型200を押し付ける。樹脂体140Uの加熱は、発光体100Uの周囲の温度を上昇させることによって実行され得る。 For example, as schematically shown in FIG. 18, similarly to the example shown in FIG. 2, the light emitting body 100U is arranged on the support body 60, and the convex portion 210 of the mold 200 having a plurality of convex portions 210 is formed by the resin body. The upper surface 140a of 140U (e.g., the main surface 140a of the resin body 140X) is opposed to the upper surface 140a. Further, for example, the ambient temperature is raised to about 70° C. to 300° C., and the mold 200 is pressed against the upper surface 140a of the heated resin body 140U in the same manner as the example shown in FIG. The heating of the resin body 140U can be performed by increasing the temperature around the light emitting body 100U.

樹脂体140Uの加熱および型200の押し付けにより、樹脂体140Uの上面140aに、型200の複数の凸部210に対応した複数の凹部(図4に示す凹部140qに相当)を形成することができる(図9のステップS221)。樹脂体140Uに対する型200の押し付けは、図18に示すように複数の発光体100Uに対して一括して実行されてもよいし、複数の発光体100Uのそれぞれに対して個別に実行されてもよい。凹部140qは、発光体100Uの上面100Uaのうち、樹脂体140Uの上面140aに選択的に形成されてもよいし、発光体100Uの上面100Uaの全体に形成されてもかまわない。 By heating the resin body 140U and pressing the mold 200, a plurality of recesses (corresponding to the recesses 140q shown in FIG. 4) corresponding to the plurality of protrusions 210 of the mold 200 can be formed on the upper surface 140a of the resin body 140U. (Step S221 of FIG. 9). The pressing of the mold 200 against the resin body 140U may be collectively performed on the plurality of light emitters 100U as shown in FIG. 18, or may be individually performed on each of the plurality of light emitters 100U. Good. The recess 140q may be selectively formed on the upper surface 140a of the resin body 140U of the upper surface 100Ua of the light emitting body 100U, or may be formed on the entire upper surface 100Ua of the light emitting body 100U.

次に、複数の凹部が形成された、樹脂体の表面を紫外線で照射する(図9のステップS222)。この工程も、図5を参照して説明した、樹脂体140Xの主面140aへの紫外線の照射の例と同様にして実行することができる。例えば、図5に示す例と同様にして、紫外線照射装置500により、複数の凹部140qが形成された樹脂体140Uの上面140aを紫外線で照射する。紫外線の照射は、発光体100Uの上面100Uaのうち、樹脂体140Uの上面140aに対して選択的に実行されてもよい。紫外線の照射により、図19に示すように、複数の凹部140dを有し、発光素子110Aの上面を覆う透光性部材140Aが得られる。以上の工程により、図7に示す発光装置100Aが得られる。なお、図19では、図6と同様に、説明の便宜のために凹部140dを誇張して大きく描いている。本開示の他の図面においても、説明の便宜のために凹部140dまたは凹部140qを誇張して大きく描くことがある。 Next, the surface of the resin body having the plurality of recesses formed therein is irradiated with ultraviolet rays (step S222 in FIG. 9). This step can also be performed in the same manner as the example of irradiation of the main surface 140a of the resin body 140X with ultraviolet rays described with reference to FIG. For example, similarly to the example shown in FIG. 5, the ultraviolet irradiation device 500 irradiates the upper surface 140a of the resin body 140U having the plurality of recesses 140q with ultraviolet rays. The irradiation of ultraviolet rays may be selectively performed on the upper surface 140a of the resin body 140U among the upper surface 100Ua of the light emitting body 100U. By irradiation with ultraviolet rays, as shown in FIG. 19, a translucent member 140A having a plurality of recesses 140d and covering the upper surface of the light emitting element 110A is obtained. Through the above steps, the light emitting device 100A shown in FIG. 7 is obtained. Note that, in FIG. 19, as in FIG. 6, the recess 140d is exaggeratedly drawn for convenience of description. Also in the other drawings of the present disclosure, the recess 140d or the recess 140q may be exaggeratedly drawn for convenience of description.

本開示の第2の実施形態によれば、発光素子を覆う透光性の部材の表面に微細な構造を付与して光の取り出し効率を向上させ得る。上述の発光装置100Aのように、発光素子110Aの光出射側に透光性の部材を配置する場合、発光素子110Aからの光による劣化を考慮して、透光性の部材の材料として熱硬化性樹脂を用いることが有益である。本開示の実施形態によれば、硬化後の熱硬化性樹脂の表面に凹凸のパターンを形成することが可能になるので、光の取り出し効率の向上に有利である。特許文献2には、発光素子を樹脂材料で覆い、さらに、硬化後の樹脂の表面に凹凸パターンを形成するという着眼点はない。 According to the second embodiment of the present disclosure, it is possible to improve the light extraction efficiency by imparting a fine structure to the surface of the translucent member that covers the light emitting element. When the translucent member is arranged on the light emitting side of the light emitting element 110A as in the light emitting device 100A described above, thermosetting is used as the material of the translucent member in consideration of deterioration due to light from the light emitting element 110A. It is beneficial to use a hydrophilic resin. According to the embodiment of the present disclosure, it becomes possible to form a pattern of irregularities on the surface of the thermosetting resin after curing, which is advantageous in improving the light extraction efficiency. In Patent Document 2, there is no focus on covering the light emitting element with a resin material and further forming an uneven pattern on the surface of the cured resin.

上述の例では、発光素子110Aの上面に付与された第1樹脂材料130r上に積層シートLBを配置後、第1樹脂材料130rを硬化させ、積層シートLBを発光素子110Aの上方に接合している。このとき、第1樹脂材料130rから導光部材130Aを形成することができる。導光部材130Aは、発光素子110Aの側面である素子本体111の側面111cから出射された光を発光装置100Aの上方に向けて反射させる機能を有する。したがって、導光部材130Aの形成により、光の利用効率を向上させることが可能になる。 In the above-mentioned example, after arranging the laminated sheet LB on the first resin material 130r provided on the upper surface of the light emitting element 110A, the first resin material 130r is cured and the laminated sheet LB is bonded above the light emitting element 110A. There is. At this time, the light guide member 130A can be formed from the first resin material 130r. The light guide member 130A has a function of reflecting the light emitted from the side surface 111c of the element body 111, which is the side surface of the light emitting element 110A, toward the upper side of the light emitting device 100A. Therefore, by forming the light guide member 130A, it is possible to improve the light utilization efficiency.

さらに、上述の例では、導光部材130Aを取り囲み、かつ、素子本体111の下面111bのうち正極112Aおよび負極114Aを除く領域を覆う光反射性部材150Aを発光装置100Aに設けている。そのため、発光装置100Aの側面または下面からの光の漏れを抑制して、光の利用効率をより向上させ得る。 Further, in the above-described example, the light reflecting member 150A that surrounds the light guide member 130A and covers the region of the lower surface 111b of the element body 111 excluding the positive electrode 112A and the negative electrode 114A is provided in the light emitting device 100A. Therefore, leakage of light from the side surface or the lower surface of the light emitting device 100A can be suppressed, and the light utilization efficiency can be further improved.

注目すべきは、光反射性樹脂層150Tの内部に一旦樹脂体140Uを埋設してから樹脂体140Uの上面140aを光反射性樹脂層150Tから露出させ、上面140aに凹凸パターンを形成している点である。従来、光反射性樹脂層150Tの内部に樹脂体140Uのような透光性の部材を埋設するような製造方法では、研削面に現れる、透光性の部材の表面に事後的に凹凸パターンを付与することは困難であった。これに対し、本開示の実施形態によれば、硬化後の樹脂体140Uの表面に形状を付与することが可能である。そのため、製品として使用可能な発光装置を得た後に、透光性の部材に事後的に形状を付与することが可能になり、発光装置からの光の取出し効率向上の効果が期待できる。 It should be noted that the resin body 140U is once embedded inside the light-reflecting resin layer 150T, the upper surface 140a of the resin body 140U is exposed from the light-reflecting resin layer 150T, and an uneven pattern is formed on the upper surface 140a. It is a point. Conventionally, in a manufacturing method in which a translucent member such as the resin body 140U is embedded inside the light-reflecting resin layer 150T, a concavo-convex pattern is formed on the surface of the translucent member that appears on the ground surface. It was difficult to give. On the other hand, according to the embodiment of the present disclosure, it is possible to give a shape to the surface of the cured resin body 140U. Therefore, after obtaining a light emitting device that can be used as a product, it becomes possible to post-shape the translucent member, and the effect of improving the light extraction efficiency from the light emitting device can be expected.

図7を参照して説明したように、ここでは、正極112Aおよび負極114Aが発光装置100Aの下面100bから露出されており、発光装置100Aは、例えばリフローによって配線基板等に実装され得る。本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、透光性の樹脂体の表面への形状の付与後に、主面を紫外線で照射しているので、透光性部材140Aが高温の環境にさらされた場合であっても、凹部140dの形状を維持させることが可能である。つまり、本開示の実施形態は、リフロー等の高温を伴うプロセスの適用に有利である。例えば、発光装置100Aを300℃の温度下で40分間加熱したときの、加熱の前後における凹部140dの深さの変化は、25%以下の範囲内であり得る。ここで、凹部140dの深さの変化は、加熱を実行する前における任意の10箇所の凹部140dの深さの平均値をDp、加熱を実行した後における任意の10箇所の凹部140dの深さの平均値をDqとしたとき、|Dq−Dp|/Dpにより定義することができる。 As described with reference to FIG. 7, here, the positive electrode 112A and the negative electrode 114A are exposed from the lower surface 100b of the light emitting device 100A, and the light emitting device 100A can be mounted on a wiring board or the like by, for example, reflow. Also in the present embodiment, as in the first embodiment, since the main surface is irradiated with ultraviolet rays after the shape is applied to the surface of the translucent resin body, the translucent member 140A has a high temperature environment. Even when exposed to light, the shape of the recess 140d can be maintained. That is, the embodiments of the present disclosure are advantageous for application of a process involving high temperature such as reflow. For example, when the light emitting device 100A is heated at a temperature of 300° C. for 40 minutes, the change in the depth of the recess 140d before and after heating may be within a range of 25% or less. Here, the change in the depth of the recess 140d is defined as Dp, which is the average value of the depths of the recesses 140d at any 10 locations before the heating is performed, and the depth of the recess 140d at any 10 locations after the heating is performed. It can be defined by |Dq−Dp|/Dp, where Dq is the average value of

なお、上述の支持体50に代えて、図20に例示するような、基板410Aと、基板410A上に設けられた第1導電部411Aおよび第2導電部412Aとを有する複合基板400Aを用いてもよい。図20は、複合基板400Aを上面400a側から見たときの外観の一例を示している。基板410Aは、図20に模式的に示すように、貫通孔414を有する。図20には表れていないが、第1導電部411Aの一部および第2導電部412Aの一部は、貫通孔414を介して上面400aとは反対側の下面まで延びている。 Instead of the above-mentioned support 50, a composite substrate 400A having a substrate 410A and a first conductive portion 411A and a second conductive portion 412A provided on the substrate 410A, as illustrated in FIG. 20, is used. Good. FIG. 20 shows an example of the external appearance of the composite substrate 400A when viewed from the upper surface 400a side. The substrate 410A has a through hole 414 as schematically shown in FIG. Although not shown in FIG. 20, a part of the first conductive portion 411A and a part of the second conductive portion 412A extend to the lower surface opposite to the upper surface 400a through the through hole 414.

基板410Aを用いる場合、支持体50への複数の発光素子110Aの一時的な固定(図12参照)に代えて、例えば、フリップチップ接続により複数の発光素子110Aが複合基板400Aの上面400a側に固定される。このとき、はんだ等の接合部材により、各発光素子110Aの正極112Aおよび負極114Aが複合基板400Aの第1導電部411Aおよび第2導電部412Aにそれぞれ接続される。なお、図20中に細い破線で描かれた矩形は、発光素子110Aが配置される位置を示している。導光部材130Aの形成および透光性の樹脂体140Uの配置の後、図16を参照して説明した工程と同様に、複合基板400Aの上面400a上の構造を光反射性樹脂層150Tによって覆う。 When the substrate 410A is used, instead of temporarily fixing the plurality of light emitting elements 110A to the support body 50 (see FIG. 12), the plurality of light emitting elements 110A are provided on the upper surface 400a side of the composite substrate 400A by flip chip connection, for example. Fixed. At this time, the positive electrode 112A and the negative electrode 114A of each light emitting element 110A are connected to the first conductive portion 411A and the second conductive portion 412A of the composite substrate 400A by a joining member such as solder. The rectangle drawn by a thin broken line in FIG. 20 indicates the position where the light emitting element 110A is arranged. After forming the light guide member 130A and disposing the translucent resin body 140U, the structure on the upper surface 400a of the composite substrate 400A is covered with the light reflective resin layer 150T, similarly to the step described with reference to FIG. ..

研削等によって樹脂体140Uの上面140aを光反射性樹脂層150Tから露出させた後、図18および図19を参照して説明した例と同様にして上面140aに複数の凹部140dを形成する。その後、図20に太い破線CTで示す位置でダイシング装置等によって光反射性樹脂層150Tおよび複合基板400Aを一括して切断することにより、複数の発光装置100Bが得られる。 After exposing the upper surface 140a of the resin body 140U from the light reflecting resin layer 150T by grinding or the like, a plurality of recesses 140d are formed in the upper surface 140a in the same manner as the example described with reference to FIGS. 18 and 19. After that, the light-reflecting resin layer 150T and the composite substrate 400A are collectively cut by a dicing device or the like at a position indicated by a thick broken line CT in FIG. 20 to obtain a plurality of light emitting devices 100B.

図21は、発光装置100Bの外観の一例を示す。図22は、発光装置100Bを発光装置100Bの中央付近の位置で図21中のYZ面に平行に切断したときの断面を模式的に示す。図21および図22に示すように、発光装置100Bは、透光性部材140Aの側面140cを覆う光反射性部材150Bと、複合基板400Bとを含む。複合基板400Bは、基板410Bと、第1導電部411Bと、第2導電部412Bとを含み、図22に示すように、第1導電部411Bおよび第2導電部412Bは、接合部材420によって発光素子110Aの正極112Aおよび負極114Aにそれぞれ電気的に接続されている。図22に例示する構成において、光反射性部材150Bは、複合基板400Bにまで達し、接合部材420をも覆っている。 FIG. 21 shows an example of the external appearance of the light emitting device 100B. FIG. 22 schematically shows a cross section when the light emitting device 100B is cut in parallel with the YZ plane in FIG. 21 at a position near the center of the light emitting device 100B. As shown in FIGS. 21 and 22, the light emitting device 100B includes a light reflective member 150B that covers the side surface 140c of the translucent member 140A, and a composite substrate 400B. The composite substrate 400B includes a substrate 410B, a first conductive portion 411B, and a second conductive portion 412B. As illustrated in FIG. 22, the first conductive portion 411B and the second conductive portion 412B emit light by the bonding member 420. The positive electrode 112A and the negative electrode 114A of the element 110A are electrically connected to each other. In the configuration illustrated in FIG. 22, the light reflecting member 150B reaches the composite substrate 400B and also covers the joining member 420.

ここで、基板410B、第1導電部411Bおよび第2導電部412Bは、それぞれ、図20に示す基板410A、第1導電部411Aおよび第2導電部412Aの一部である。図21および図22に例示する構成において、発光装置100Bは、図のX軸方向に対してY軸方向に長い形状を有し、いわゆるサイドビュータイプの発光装置として用いられる。 Here, the substrate 410B, the first conductive portion 411B, and the second conductive portion 412B are a part of the substrate 410A, the first conductive portion 411A, and the second conductive portion 412A shown in FIG. 20, respectively. In the configuration illustrated in FIGS. 21 and 22, the light emitting device 100B has a shape elongated in the Y axis direction with respect to the X axis direction in the drawing, and is used as a so-called side view type light emitting device.

図7に示す発光装置100Aは、以下のようにして得ることもできる。図23は、本開示の第2の実施形態による発光装置の製造方法の他の一例を示すフローチャートである。図23に例示された発光装置の製造方法は、概略的には、発光素子を準備する工程(ステップS23)と、表面に凹凸のパターンを有し、発光素子の上面を少なくとも覆う透光性部材を形成する工程(ステップS24)とを含む。この例において、透光性部材を形成する工程(図23のステップS24)は、図24に例示されるように、加熱された状態の透光性の樹脂体の表面に型を押し付けることにより、樹脂体の表面に複数の凹部を形成する工程(ステップS241)と、複数の凹部が形成された、樹脂体の表面を紫外線で照射する工程(ステップS242)とを含む。型の押し付けの対象となる樹脂体は、シリコーン樹脂原料を硬化させることによって形成された透光性の部分をその一部に含む樹脂シートである。 The light emitting device 100A shown in FIG. 7 can also be obtained as follows. FIG. 23 is a flowchart showing another example of the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment of the present disclosure. In the method for manufacturing a light emitting device illustrated in FIG. 23, roughly, a step of preparing a light emitting element (step S23) and a translucent member which has an uneven pattern on the surface and at least covers the upper surface of the light emitting element. And a step of forming (step S24). In this example, the step of forming the translucent member (step S24 in FIG. 23) is performed by pressing the mold against the surface of the translucent resin body in a heated state, as illustrated in FIG. The method includes a step of forming a plurality of recesses on the surface of the resin body (step S241) and a step of irradiating the surface of the resin body having the plurality of recesses with ultraviolet rays (step S242). The resin body to be pressed against the mold is a resin sheet including a translucent portion formed by curing a silicone resin raw material as a part thereof.

まず、図25に示すように、透光部172を有する第1の樹脂層170を準備する。樹脂層170は、2以上の透光部172を有し得る。図25に例示する構成において、樹脂層170は、光反射性樹脂部174を有し、各透光部172は、光反射性樹脂部174によって互いに分離されている。なお、この例では、各透光部172は、透光層140Lおよび波長変換層120Lを含む。樹脂層170は、例えば以下のようにして得ることができる。 First, as shown in FIG. 25, a first resin layer 170 having a transparent portion 172 is prepared. The resin layer 170 may have two or more light transmitting portions 172. In the configuration illustrated in FIG. 25, the resin layer 170 has a light reflecting resin portion 174, and the respective light transmitting portions 172 are separated from each other by the light reflecting resin portion 174. In addition, in this example, each translucent part 172 includes a translucent layer 140L and a wavelength conversion layer 120L. The resin layer 170 can be obtained as follows, for example.

まず、光反射性の樹脂シートを準備する。光反射性の樹脂シートの材料としては、上述の第3樹脂材料を用いることができる。例えば、光反射性の樹脂シートは、シリコーン樹脂に二酸化チタンおよび酸化ケイ素の粒子が60重量%程度分散された樹脂シートであり得る。光反射性の樹脂シートの形成には、圧縮成形、トランスファー成形もしくは射出成形、または、印刷法もしくはスプレー法を適用した成形を用い得る。 First, a light-reflecting resin sheet is prepared. As the material of the light-reflecting resin sheet, the above-mentioned third resin material can be used. For example, the light-reflecting resin sheet may be a resin sheet in which particles of titanium dioxide and silicon oxide are dispersed in a silicone resin in an amount of about 60% by weight. For forming the light-reflecting resin sheet, compression molding, transfer molding or injection molding, or molding to which a printing method or a spray method is applied can be used.

次に、パンチング等によって樹脂シートに貫通孔を設ける。上面視における貫通孔の形状は、例えば矩形状である。貫通孔の形成後、ポッティング法、印刷法、スプレー法等により、シリコーン樹脂を母材として含む、例えば上述の第2樹脂材料で貫通孔の内部を充填する。このとき、貫通孔の内部に充填された第2樹脂材料において蛍光体の粒子を沈降させて第2樹脂材料を硬化させることにより、厚さ方向において蛍光体の濃度差を有する透光部を形成することが可能である。例えば、蛍光体の粒子が下面側に多く分布する透光部を形成することができる。あるいは、貫通孔の内部に透明な樹脂材料を配置して硬化させた後、透明な樹脂材料上に第2樹脂材料を付与して貫通孔をこれらの材料で充填してもよい。 Next, through holes are provided in the resin sheet by punching or the like. The shape of the through hole in a top view is, for example, a rectangular shape. After the through hole is formed, the inside of the through hole is filled with, for example, the above-described second resin material containing a silicone resin as a base material by a potting method, a printing method, a spray method, or the like. At this time, particles of the phosphor are settled in the second resin material filled in the through holes to cure the second resin material, thereby forming a light transmitting portion having a phosphor concentration difference in the thickness direction. It is possible to For example, it is possible to form a translucent part in which a large number of phosphor particles are distributed on the lower surface side. Alternatively, a transparent resin material may be placed inside the through hole and cured, and then the second resin material may be applied onto the transparent resin material to fill the through hole with these materials.

蛍光体の粒子を沈降させ、第2樹脂材料の硬化後に上下を反転させれば、図25に示すような、光反射性樹脂部174および複数の透光部172を有する樹脂層170が得られる。図25に例示する構成において、透光層140Lは、透光部172中、蛍光体の粒子の濃度が相対的に低い層である。なお、図25では、波長変換層120Lと透光層140Lとの間に境界が存在するかのようにこれらの層を図示しているが、これらの層の間の境界を明確に認識できないこともある。 When the particles of the phosphor are settled and inverted upside down after the second resin material is cured, a resin layer 170 having a light-reflecting resin portion 174 and a plurality of light transmitting portions 172 as shown in FIG. 25 is obtained. .. In the configuration illustrated in FIG. 25, the transparent layer 140L is a layer in the transparent portion 172 in which the concentration of phosphor particles is relatively low. Note that, in FIG. 25, these layers are illustrated as if there is a boundary between the wavelength conversion layer 120L and the transparent layer 140L, but the boundary between these layers cannot be clearly recognized. There is also.

次に、樹脂層170のうち透光部172が配置された領域上にディスペンサ等によって透光性の第1樹脂材料130rを付与する。さらに、発光素子110Aを準備し(図23のステップS23)、図26に示すように、正極112Aおよび負極114Aを樹脂層170とは反対側に向けて、発光素子110Aを第1樹脂材料130r上に配置する。これにより、素子本体111の側面111cの少なくとも一部の上に第1樹脂材料130rを配置することができる。第1樹脂材料130rを硬化させることにより、第1樹脂材料130rから導光部材130Aを形成することができる。 Next, the transparent first resin material 130r is applied to the region of the resin layer 170 where the transparent portion 172 is arranged by a dispenser or the like. Further, the light emitting element 110A is prepared (step S23 in FIG. 23), and the positive electrode 112A and the negative electrode 114A are directed to the side opposite to the resin layer 170 as shown in FIG. 26, and the light emitting element 110A is placed on the first resin material 130r. To place. Accordingly, the first resin material 130r can be arranged on at least a part of the side surface 111c of the element body 111. By curing the first resin material 130r, the light guide member 130A can be formed from the first resin material 130r.

次に、図27に示すように、樹脂層170上の構造を覆う第2の樹脂層としての光反射性樹脂層150Tを形成する。光反射性樹脂層の材料には、上述の光反射性の樹脂シートの材料、すなわち、樹脂層170の光反射性樹脂部174の材料と同様に上述の第3樹脂材料を用いることができる。光反射性樹脂層150Tの形成には、例えばトランスファー成形を適用できる。 Next, as shown in FIG. 27, a light reflecting resin layer 150T as a second resin layer that covers the structure on the resin layer 170 is formed. As the material of the light-reflecting resin layer, the above-mentioned third resin material can be used similarly to the material of the above-mentioned light-reflecting resin sheet, that is, the material of the light-reflecting resin portion 174 of the resin layer 170. For example, transfer molding can be applied to the formation of the light reflective resin layer 150T.

次に、研削加工等を適用して光反射性樹脂層150Tの上面側から光反射性樹脂層150Tの一部を除去することによって各発光素子110Aの正極112Aおよび負極114Aを研削面から露出させる。さらに、ダイシング装置等によって樹脂層170および光反射性樹脂層150Tを互いに隣接する2つの発光素子110Aの位置で切断することにより、光反射性樹脂部174および光反射性樹脂層150Tから光反射性部材150Aを形成して、図28に示すように、各々が図10に示す発光体100Uと同様の構成を有する複数の発光体が得られる。この例において、樹脂層170の透光部172の透光層140Lおよび波長変換層120Lが、透光性の樹脂体140Uおよび波長変換部材120Aに対応する。 Next, the positive electrode 112A and the negative electrode 114A of each light emitting element 110A are exposed from the ground surface by applying a grinding process or the like to remove a part of the light reflective resin layer 150T from the upper surface side of the light reflective resin layer 150T. .. Further, by cutting the resin layer 170 and the light-reflecting resin layer 150T at the positions of the two light emitting elements 110A adjacent to each other by using a dicing device or the like, the light-reflecting resin portion 174 and the light-reflecting resin layer 150T are light-reflected. By forming the member 150A, as shown in FIG. 28, a plurality of light emitters each having the same structure as the light emitter 100U shown in FIG. 10 are obtained. In this example, the transparent layer 140L and the wavelength conversion layer 120L of the transparent portion 172 of the resin layer 170 correspond to the transparent resin body 140U and the wavelength conversion member 120A.

次に、樹脂体140Uから、発光素子110Aの上面を少なくとも覆う透光性部材140Aを形成する。透光性部材140Aの形成の工程は、図18および図19を参照して説明した例と同様にして実行することができる。 Next, the translucent member 140A that covers at least the upper surface of the light emitting element 110A is formed from the resin body 140U. The process of forming the transparent member 140A can be performed in the same manner as the example described with reference to FIGS. 18 and 19.

例えば、まず、図18に示すように、支持体60上に発光体100Uを配置し、複数の凸部210を有する型200の凸部210を樹脂体140Uの上面140aに対向させる。さらに、図4に示す例と同様にして、加熱された状態の樹脂体140Uの上面140aに型200を押し付ける。樹脂体140Uの加熱および型200の押し付けにより、樹脂体140Uの上面140aに複数の凹部を形成することができる(図24のステップS241)。 For example, first, as shown in FIG. 18, the light emitting body 100U is arranged on the support body 60, and the convex portion 210 of the mold 200 having the plurality of convex portions 210 is made to face the upper surface 140a of the resin body 140U. Further, similarly to the example shown in FIG. 4, the mold 200 is pressed against the upper surface 140a of the heated resin body 140U. By heating the resin body 140U and pressing the mold 200, a plurality of recesses can be formed in the upper surface 140a of the resin body 140U (step S241 in FIG. 24).

さらに、複数の凹部が形成された樹脂体の表面を紫外線で照射する(図24のステップS242)。この工程も、図5を参照して説明した、樹脂体140Xの主面140aへの紫外線の照射の例と同様にして実行することができる。例えば、図5に示す例と同様にして、紫外線照射装置500により、複数の凹部140qが形成された樹脂体140Uの上面140aを紫外線で照射する。紫外線の照射により、複数の凹部140dを有し、発光素子110Aの上面を覆う透光性部材140Aが得られる。なお、透光部172を有する樹脂層170の段階で、図2〜図5を参照した例と同様の方法により、透光部172の表面に複数の凹部140dを形成してもよい。 Further, the surface of the resin body having the plurality of recesses is irradiated with ultraviolet rays (step S242 in FIG. 24). This step can also be performed in the same manner as the example of irradiation of the main surface 140a of the resin body 140X with ultraviolet rays described with reference to FIG. For example, similarly to the example shown in FIG. 5, the ultraviolet irradiation device 500 irradiates the upper surface 140a of the resin body 140U having the plurality of recesses 140q with ultraviolet rays. By irradiation with ultraviolet rays, a transparent member 140A having a plurality of recesses 140d and covering the upper surface of the light emitting element 110A is obtained. At the stage of the resin layer 170 having the light-transmitting portion 172, a plurality of recesses 140d may be formed on the surface of the light-transmitting portion 172 by the same method as the example with reference to FIGS.

(第2の実施形態の変形例)
図29は、第2の実施形態による発光装置の製造方法によって得られる発光装置の他の一例を示す。図29に示す発光装置100Cは、図7を参照して説明した例と同様に、発光素子110A、波長変換部材120A、導光部材130A、透光性部材140Aおよび光反射性部材150Cを有する。光反射性部材150Cが、発光素子110Aの側面を取り囲み、かつ、素子本体111の下面111bのうち、正極112Aおよび負極114Aの配置された領域以外の領域を覆う点は、図7に示す発光装置100Aの光反射性部材150Aと同様である。ただし、この例では、光反射性部材150Cは、波長変換部材120Aの側面120cおよび透光性部材140Aの側面140cを覆っていない。
(Modification of the second embodiment)
FIG. 29 shows another example of the light emitting device obtained by the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment. The light emitting device 100C shown in FIG. 29 includes a light emitting element 110A, a wavelength conversion member 120A, a light guide member 130A, a light transmissive member 140A, and a light reflective member 150C, as in the example described with reference to FIG. The light reflecting member 150C surrounds the side surface of the light emitting element 110A and covers the area of the lower surface 111b of the element body 111 other than the area in which the positive electrode 112A and the negative electrode 114A are arranged, as shown in FIG. This is the same as the light reflecting member 150A of 100A. However, in this example, the light reflective member 150C does not cover the side surface 120c of the wavelength conversion member 120A and the side surface 140c of the translucent member 140A.

図29に示す発光装置100Cは、概略的には、図25〜図28を参照しながら説明した例と同様に、図23に示すフローと同様の工程に従って製造することができる。ただし、ここでは、透光性部材の形成の工程は、図30に示すように、加熱された状態の透光シートの主面に型を押し付けることにより、主面に複数の凹部を形成する工程(ステップS243)と、複数の凹部が形成された、透光シートの主面を紫外線で照射する工程(ステップS244)と、紫外線で照射された透光シートを発光素子の上面側に配置する工程(ステップS245)とを含む。型の押し付けの対象となる透光シートは、シリコーン樹脂原料を硬化させることによって形成されたシートである。以下、図面を参照しながら、発光装置100Cの例示的な製造方法の詳細を説明する。 The light-emitting device 100C shown in FIG. 29 can be manufactured generally according to the same process as the flow shown in FIG. 23, similar to the example described with reference to FIGS. However, here, in the step of forming the light-transmissive member, as shown in FIG. 30, a step of forming a plurality of recesses on the main surface by pressing a mold against the main surface of the light-transmissive sheet in a heated state. (Step S243), a step of irradiating the main surface of the translucent sheet having a plurality of recesses with ultraviolet rays (step S244), and a step of disposing the translucent sheet irradiated with ultraviolet rays on the upper surface side of the light emitting element. (Step S245) is included. The translucent sheet to be pressed against the mold is a sheet formed by curing a silicone resin raw material. Hereinafter, the details of an exemplary manufacturing method of the light emitting device 100C will be described with reference to the drawings.

まず、発光素子を準備する(図23のステップS23)。さらに、発光素子110Aの上面を少なくとも覆う透光性部材を形成する(図23のステップS24)。ここでは、透光性部材の形成に際し、まず、図31に示すような、波長変換層120Vおよび透光層140Vを有する積層シート170Vを準備する。この例では、透光層140Vは、主面140Vaおよび主面140Vbを有し、主面140Vbは、波長変換層120Vの一方の主面120Vaに対向している。図31に模式的に示すように、透光層140Vは、主面140Vaに複数の凹部140dを有している。積層シート170Vは、例えば、上述の積層シートLBと同様にして作製することができる。 First, a light emitting element is prepared (step S23 in FIG. 23). Further, a translucent member that covers at least the upper surface of the light emitting element 110A is formed (step S24 in FIG. 23). Here, when forming the translucent member, first, a laminated sheet 170V having a wavelength conversion layer 120V and a translucent layer 140V as shown in FIG. 31 is prepared. In this example, the transparent layer 140V has a main surface 140Va and a main surface 140Vb, and the main surface 140Vb faces one main surface 120Va of the wavelength conversion layer 120V. As schematically shown in FIG. 31, the light transmitting layer 140V has a plurality of recesses 140d on the main surface 140Va. The laminated sheet 170V can be produced, for example, in the same manner as the laminated sheet LB described above.

まず、主面を有する透光性の樹脂シート(以下、簡単のために、単に「透光シート」と呼ぶことがある。)を準備する。透光シートは、例えば、未硬化のシリコーン樹脂原料を硬化させることによって得ることができる。透光シートの準備後、加熱された状態の透光シートの主面に型を押し付けることにより、透光シートの主面に複数の凹部を形成する(図30のステップS243)。上述の樹脂体140Xは、透光シートの一例である。透光シートの主面への凹部形成の工程は、図2〜図4を参照して説明した、樹脂体140Xの主面140aへの複数の凹部140qの形成の例と同様にして実行することができる。例えば、図2に示す例と同様にして、支持体60上に透光シートを配置し、図4に示す例と同様にして、加熱された状態の透光シートの主面に型200を押し付ける。 First, a translucent resin sheet having a main surface (hereinafter, simply referred to as “translucent sheet” for simplicity) is prepared. The translucent sheet can be obtained, for example, by curing an uncured silicone resin raw material. After preparation of the translucent sheet, a mold is pressed against the main surface of the translucent sheet in a heated state to form a plurality of recesses on the main surface of the translucent sheet (step S243 in FIG. 30). The resin body 140X described above is an example of a translucent sheet. The step of forming the recesses on the main surface of the translucent sheet may be performed in the same manner as the example of forming the plurality of recesses 140q on the main surface 140a of the resin body 140X described with reference to FIGS. 2 to 4. You can For example, similarly to the example shown in FIG. 2, a light-transmitting sheet is arranged on the support 60, and the mold 200 is pressed against the main surface of the light-transmitting sheet in a heated state in the same manner as the example shown in FIG. ..

次に、型200の複数の凸部210に対応した複数の凹部が形成された、透光シートの主面を紫外線で照射する(図30のステップS244)。この工程も、図5を参照して説明した、樹脂体140Xの主面140aへの紫外線の照射の例と同様にして実行することができる。必要に応じて、紫外線の照射後の透光シートを所定の寸法に切断する。以上の工程により、図6に示す透光性部材140と同様の、主面140aに複数の凹部140dを有する透光シートが得られる。ここでは、透光シートは、上面視において例えば矩形状の外形を有する。さらに、透光シートの主面140aとは反対側の主面上に波長変換層120Vを形成する。波長変換層120Vの形成により、上述の透光シートを透光層140Vとして含む積層シートLBが得られる。 Next, the main surface of the translucent sheet, in which a plurality of concave portions corresponding to the plurality of convex portions 210 of the mold 200 are formed, is irradiated with ultraviolet rays (step S244 in FIG. 30). This step can also be performed in the same manner as the example of irradiation of the main surface 140a of the resin body 140X with ultraviolet rays described with reference to FIG. If necessary, the translucent sheet after irradiation with ultraviolet rays is cut into a predetermined size. Through the above steps, a light-transmitting sheet having a plurality of concave portions 140d on the main surface 140a, similar to the light-transmitting member 140 shown in FIG. 6, is obtained. Here, the translucent sheet has, for example, a rectangular outer shape in a top view. Further, the wavelength conversion layer 120V is formed on the main surface of the translucent sheet opposite to the main surface 140a. By forming the wavelength conversion layer 120V, a laminated sheet LB including the above-mentioned light-transmitting sheet as the light-transmitting layer 140V is obtained.

波長変換層120Vの形成には、上述の積層シートLBの形成の例と同様の手法を適用できる。例えば、蛍光体の粒子が分散された樹脂材料中の樹脂をBステージの状態とした蛍光体シートを透光シートの主面140aとは反対側の主面上に配置し、熱によってこれらのシートを貼り合わせることにより、積層シート170Vが得られる。あるいは、透光シートの主面140aとは反対側の主面上に上述の第2樹脂材料を付与した後、第2樹脂材料を硬化させることによって波長変換層120Vを形成してもよい。購入によって積層シート170Vを準備してもよい。なお、複数の凹部140dの形成は、透光層140Vの一方の主面上に波長変換層120Vを配置した後に実行されてもかまわない。例えば、透光層140Vの一方の主面上に波長変換層120Vを形成した後に、透光シートの波長変換層120Vとは反対側の主面に複数の凹部140dを形成してもかまわない。 For the formation of the wavelength conversion layer 120V, the same method as the example of forming the laminated sheet LB described above can be applied. For example, a phosphor sheet in which a resin in a resin material in which phosphor particles are dispersed is in a B stage state is arranged on the main surface of the translucent sheet opposite to the main surface 140a, and these sheets are heated by heat. The laminated sheet 170V is obtained by laminating. Alternatively, the wavelength conversion layer 120V may be formed by applying the above-mentioned second resin material on the main surface of the translucent sheet opposite to the main surface 140a and then curing the second resin material. The laminated sheet 170V may be prepared by purchase. The formation of the plurality of recesses 140d may be performed after disposing the wavelength conversion layer 120V on one main surface of the translucent layer 140V. For example, after forming the wavelength conversion layer 120V on one main surface of the translucent layer 140V, a plurality of recesses 140d may be formed on the main surface of the translucent sheet opposite to the wavelength conversion layer 120V.

その後、紫外線で照射された透光シートを発光素子の上面側に配置する(図30のステップS245)。ここでは、図31に模式的に示すように、波長変換層120V上に第1樹脂材料130rを付与し、第1樹脂材料130r上に発光素子110Aを配置する。このとき、素子本体111の上面111aを積層シート170Vに向けて第1樹脂材料130r上に発光素子110Aを配置する。これにより、素子本体111の側面111cの少なくとも一部の上に第1樹脂材料130rを配置することができる。第1樹脂材料130rを硬化させることにより、図32に示すように、導光部材130Aを形成して、上述の透光シートを透光層140Vの形で発光素子110Aの上面側に配置することができる。なお、図31では、1つの発光素子110Aを図示しているが、図26を参照して説明した、樹脂層170上に複数の発光素子110Aを配置する例のように、積層シート170V上に複数の発光素子110Aを配置してよいことはいうまでもない。 After that, the translucent sheet irradiated with ultraviolet rays is arranged on the upper surface side of the light emitting element (step S245 in FIG. 30). Here, as schematically shown in FIG. 31, the first resin material 130r is provided on the wavelength conversion layer 120V, and the light emitting element 110A is arranged on the first resin material 130r. At this time, the light emitting element 110A is arranged on the first resin material 130r with the upper surface 111a of the element body 111 facing the laminated sheet 170V. Accordingly, the first resin material 130r can be arranged on at least a part of the side surface 111c of the element body 111. By hardening the first resin material 130r, as shown in FIG. 32, the light guide member 130A is formed, and the above-mentioned light-transmitting sheet is arranged on the upper surface side of the light-emitting element 110A in the form of the light-transmitting layer 140V. You can Note that FIG. 31 illustrates one light emitting element 110A, but as in the example of disposing a plurality of light emitting elements 110A on the resin layer 170 described with reference to FIG. It goes without saying that a plurality of light emitting elements 110A may be arranged.

次に、積層シート170Vに例えば上述の第3樹脂材料を付与し、積層シート170V上の構造を第3樹脂材料によって覆い、第3樹脂材料を硬化させる。第3樹脂材料を硬化させることにより、図33に示すように、発光素子110Aおよび導光部材130Aを覆う光反射性樹脂層150Tを形成することができる。光反射性樹脂層150Tの形成には、例えばトランスファー成形を適用できる。 Next, for example, the above-described third resin material is applied to the laminated sheet 170V, the structure on the laminated sheet 170V is covered with the third resin material, and the third resin material is cured. By curing the third resin material, as shown in FIG. 33, it is possible to form the light reflective resin layer 150T that covers the light emitting element 110A and the light guide member 130A. For example, transfer molding can be applied to the formation of the light reflective resin layer 150T.

その後、研削加工等によって正極112Aおよび負極114Aを研削面から露出させ、図34に示すように、ダイシング装置等を用いて積層シート170Vおよび光反射性樹脂層150Tを所望の形状に切り出す。以上の工程により、積層シート170Vから透光性部材140Aおよび波長変換部材120Aを形成し、光反射性樹脂層150Tから光反射性部材150Cを形成して、図29に示す発光装置100Cが得られる。なお、ここでは、積層シート170Vの波長変換層120Vおよび透光層140Vのうちの透光層140Vに、複数の凹部140dが形成された透光シートを用いている。ただし、この例に限定されず、図2〜図5を参照して説明した手法と同様の手法を適用することによって複数の凹部が形成された蛍光体シートを波長変換層120Vとして用いてもよい。このとき、透光層140Vを省略して、発光素子110Aの上面の上方に位置する透光性部材を波長変換層120Vから形成してもよい。 Then, the positive electrode 112A and the negative electrode 114A are exposed from the ground surface by a grinding process or the like, and the laminated sheet 170V and the light reflective resin layer 150T are cut into a desired shape by using a dicing device or the like, as shown in FIG. Through the above steps, the light-transmissive member 140A and the wavelength conversion member 120A are formed from the laminated sheet 170V, and the light-reflective member 150C is formed from the light-reflective resin layer 150T, whereby the light-emitting device 100C shown in FIG. 29 is obtained. .. Here, a light-transmitting sheet in which a plurality of recesses 140d are formed in the light-transmitting layer 140V of the wavelength conversion layer 120V and the light-transmitting layer 140V of the laminated sheet 170V is used. However, the present invention is not limited to this example, and a phosphor sheet having a plurality of recesses formed by applying a method similar to the method described with reference to FIGS. 2 to 5 may be used as the wavelength conversion layer 120V. .. At this time, the transparent layer 140V may be omitted and the transparent member located above the upper surface of the light emitting element 110A may be formed from the wavelength conversion layer 120V.

本実施形態において、凹部140dを有する主面140aが発光装置の上面を構成することは、必須ではない。凹部140dが形成された主面140aを発光素子または発光体の上面に対向させてもよい。あるいは、主面140aおよび主面140bの両方に凹凸のパターンを形成してもよい。凹部140dの内部は、空気によって満たされていてもよいし、透光性部材140Aを構成する材料とは異なる屈折率を有する材料で充填されてもよい。いずれにせよ、透光性部材140Aの表面に凹凸のパターンが形成されている点は、上述の各例の間で共通している。 In the present embodiment, it is not essential that the main surface 140a having the recess 140d constitutes the upper surface of the light emitting device. The main surface 140a in which the recess 140d is formed may be opposed to the upper surface of the light emitting element or the light emitting body. Alternatively, an uneven pattern may be formed on both the main surface 140a and the main surface 140b. The inside of the recess 140d may be filled with air or may be filled with a material having a refractive index different from that of the material forming the translucent member 140A. In any case, the point that an uneven pattern is formed on the surface of the translucent member 140A is common to the above-described examples.

(第3の実施形態)
これまでの例では、透光性を有する、板状またはシート状の構造に対して型200を押し付け、さらに紫外線を照射することによって凹部140dを形成している。しかしながら、以下に説明するように、凹凸パターンを付与する対象が板状またはシート状の構造であることは、本開示の実施形態において必須ではない。
(Third Embodiment)
In the examples so far, the recess 140d is formed by pressing the mold 200 against the translucent plate-shaped or sheet-shaped structure and further irradiating it with ultraviolet rays. However, as described below, it is not essential in the embodiments of the present disclosure that the object to which the concavo-convex pattern is applied has a plate-like or sheet-like structure.

図35および図36は、第3の実施形態による発光装置の製造方法によって得られる発光装置の一例を示す。図35は、発光装置を上面側から見た例示的な外観を示し、図36は、図35のXXXVI−XXXVI断面を示す。 35 and 36 show an example of a light emitting device obtained by the method for manufacturing a light emitting device according to the third embodiment. 35 shows an exemplary external appearance of the light emitting device as seen from the upper surface side, and FIG. 36 shows a cross section taken along the line XXXVI-XXXVI of FIG.

図35および図36に示す発光装置100Eは、概略的には、発光素子110Bと、発光素子110Bを取り囲む樹脂部350および一対の導電性リード361、362を有する樹脂パッケージ300とを含む。樹脂パッケージ300の樹脂部350の中央には、凹部350eが設けられており、発光素子110Bは、凹部350eの内側に配置されている。樹脂部350は、上述の光反射性部材150A〜150Cと同様に、例えば、光反射性のフィラーが分散された第3樹脂材料から形成され、発光素子110Bから出射された光線を反射させて発光装置100Eの上面100a側から外部に出射させる機能を有する。 The light emitting device 100E shown in FIGS. 35 and 36 schematically includes a light emitting element 110B, a resin portion 350 surrounding the light emitting element 110B, and a resin package 300 having a pair of conductive leads 361 and 362. A recess 350e is provided in the center of the resin portion 350 of the resin package 300, and the light emitting element 110B is arranged inside the recess 350e. The resin part 350 is formed of, for example, a third resin material in which a light-reflecting filler is dispersed, as in the above-described light-reflecting members 150A to 150C, and reflects the light beam emitted from the light emitting element 110B to emit light. It has a function of emitting light from the upper surface 100a side of the device 100E.

図36に示すように、導電性リード361の上面361aの一部および導電性リード362の上面362aの一部は、凹部350eの底面350fの一部を構成し、導電性リード361の下面361bおよび導電性リード362の下面362bは、発光装置100Eの下面100bから露出されている。ここでは、発光素子110Bは、接合部材360によって導電性リード361上に固定されている。接合部材360を構成する材料は、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の樹脂材料等の絶縁性の材料、または、Agペースト等の導電性の材料である。 As shown in FIG. 36, part of the upper surface 361a of the conductive lead 361 and part of the upper surface 362a of the conductive lead 362 form part of the bottom surface 350f of the recess 350e, and the lower surface 361b of the conductive lead 361 and The lower surface 362b of the conductive lead 362 is exposed from the lower surface 100b of the light emitting device 100E. Here, the light emitting element 110B is fixed on the conductive lead 361 by the joining member 360. The material forming the joining member 360 is an insulating material such as a resin material such as an epoxy resin or a silicone resin, or a conductive material such as Ag paste.

図35および図36に例示する構成において、発光素子110Bは、下面110bとは反対側の上面110aに正極112Bおよび負極114Bを有する。正極112Bおよび負極114Bには、Au、Al、Cu等の導電性ワイヤ372および371がそれぞれ接続される。この例では、導電性ワイヤ372によって正極112Bが導電性リード362に電気的に接続され、導電性ワイヤ371によって負極114Bが導電性リード361に電気的に接続されている。 35 and 36, the light emitting element 110B has a positive electrode 112B and a negative electrode 114B on the upper surface 110a opposite to the lower surface 110b. Conductive wires 372 and 371 made of Au, Al, Cu or the like are connected to the positive electrode 112B and the negative electrode 114B, respectively. In this example, the conductive wire 372 electrically connects the positive electrode 112B to the conductive lead 362, and the conductive wire 371 electrically connects the negative electrode 114B to the conductive lead 361.

発光装置100Eは、凹部350eの内側に位置する透光性部材340をさらに含む。図36に模式的に示すように、透光性部材340は、発光素子110B、導電性ワイヤ371および372を覆っている。また、図36に模式的に示すように、透光性部材340は、発光素子110Bの上面110aの上方に位置する上面340aに、例えば二次元的に配置された複数の凹部340dを有する。なお、この例では、透光性部材340の上面340aは、樹脂部350の上面350aと整合しており、上面340aは、上面350aとともに発光装置100Eの上面100aを構成する。 The light emitting device 100E further includes a translucent member 340 located inside the recess 350e. As schematically shown in FIG. 36, the translucent member 340 covers the light emitting element 110B and the conductive wires 371 and 372. Further, as schematically shown in FIG. 36, the translucent member 340 has a plurality of recesses 340d arranged two-dimensionally on the upper surface 340a located above the upper surface 110a of the light emitting element 110B. In this example, the upper surface 340a of the translucent member 340 is aligned with the upper surface 350a of the resin portion 350, and the upper surface 340a constitutes the upper surface 100a of the light emitting device 100E together with the upper surface 350a.

以下、発光装置100Eの例示的な製造方法を説明する。図35および図36に示す発光装置100Eは、概略的には、図8に示すフローと同様の工程に従って製造することができる。ただし、ここでは、発光体の準備の工程は、図37に示すように、上面を有する発光素子を準備する工程(ステップS214)と、シリコーン樹脂原料で発光素子を覆い、シリコーン樹脂原料を硬化させることによって樹脂体を形成する工程(ステップS215)とを含む。透光性部材の形成の工程は、図9を参照して説明した例と同様であり得る。 Hereinafter, an exemplary method for manufacturing the light emitting device 100E will be described. The light emitting device 100E shown in FIGS. 35 and 36 can be schematically manufactured according to the same steps as the flow shown in FIG. However, here, in the step of preparing the light emitting body, as shown in FIG. 37, a step of preparing a light emitting element having an upper surface (step S214), and covering the light emitting element with a silicone resin raw material and curing the silicone resin raw material. And a step of forming a resin body (step S215). The process of forming the translucent member may be similar to the example described with reference to FIG. 9.

発光体の準備(図8のステップS21)に際し、まず、発光素子110Bおよび樹脂パッケージ300を準備する(図37のステップS214)。ここで、樹脂パッケージ300は、各々が樹脂パッケージ300を構成する複数の単位を含む複合基板の形で準備することができる。図38は、複合基板の一例を示す。図38に例示する複合基板300Fは、導電性のリードフレーム360Fと、複数の凹部350eが設けられた樹脂部350Fとを含む。図38では、それぞれが凹部350eを含む複数の単位のうちの4つを取り出して示している。 In preparing the light emitting body (step S21 in FIG. 8), first, the light emitting element 110B and the resin package 300 are prepared (step S214 in FIG. 37). Here, the resin package 300 can be prepared in the form of a composite substrate that includes a plurality of units that form the resin package 300. FIG. 38 shows an example of a composite substrate. The composite substrate 300F illustrated in FIG. 38 includes a conductive lead frame 360F and a resin portion 350F provided with a plurality of recesses 350e. In FIG. 38, four of the plurality of units each including the recess 350e are taken out and shown.

図38に模式的に示すように、リードフレーム360Fは、第1導電部材である導電性リード361および第2導電部材である導電性リード362の複数の組と、互いに隣接する組の間に配置され、これらの組を互いに接続する複数の連結部363とを有する。導電性リード361および362は、例えば、Cuから形成された基材と、基材を被覆する金属層とを有し得る。基材を被覆する金属層は、Ag、Al、Ni、Pd、Rh、Au、Cu、または、これらの合金等を含む、例えばめっき層である。 As schematically shown in FIG. 38, the lead frame 360F is arranged between a plurality of sets of the conductive lead 361 which is the first conductive member and the conductive lead 362 which is the second conductive member, and a set adjacent to each other. And a plurality of connecting portions 363 that connect these sets to each other. The conductive leads 361 and 362 may have, for example, a base material formed of Cu and a metal layer that covers the base material. The metal layer that coats the base material is, for example, a plating layer containing Ag, Al, Ni, Pd, Rh, Au, Cu, or an alloy thereof.

導電性リード361の一部および導電性リード362の一部は、樹脂部350Fの凹部350eのそれぞれの底部において露出されている。凹部350e内において互いに対向する導電性リード361および362の組のそれぞれは、導電性リード361および362が互いに空間的に分離されることによって形成されたギャップGpを有する。ギャップGpは、樹脂部350Fを構成する材料によって埋められる。 Part of the conductive lead 361 and part of the conductive lead 362 are exposed at the bottom of each recess 350e of the resin portion 350F. Each of the set of conductive leads 361 and 362 facing each other in the recess 350e has a gap Gp formed by spatially separating the conductive leads 361 and 362 from each other. The gap Gp is filled with the material forming the resin portion 350F.

複合基板300Fは、リードフレーム360Fに樹脂部350Fをトランスファー成形等によって一体的に形成することによって得ることが可能である。例えば、金型のキャビティ内にリードフレーム360Fを配置し、キャビティの内部を第3樹脂材料で充填して第3樹脂材料を硬化させることにより、リードフレーム360Fを得ることができる。 The composite substrate 300F can be obtained by integrally forming the resin portion 350F on the lead frame 360F by transfer molding or the like. For example, the lead frame 360F can be obtained by disposing the lead frame 360F in the cavity of the mold, filling the inside of the cavity with the third resin material, and curing the third resin material.

次に、図39に示すように、各凹部350e内に発光素子110Bを配置し、導電性ワイヤ371および372によって正極112Bおよび負極114Bを導電性リード361、362に電気的に接続する。この例では、正極112Bおよび負極114Bを導電性リード362および361にそれぞれ接続しているが、正極112Bが導電性リード361に接続され、負極114Bが導電性リード362に接続されることもあり得る。 Next, as shown in FIG. 39, the light emitting element 110B is arranged in each recess 350e, and the positive electrodes 112B and the negative electrodes 114B are electrically connected to the conductive leads 361 and 362 by the conductive wires 371 and 372. In this example, the positive electrode 112B and the negative electrode 114B are connected to the conductive leads 362 and 361 respectively, but the positive electrode 112B may be connected to the conductive lead 361 and the negative electrode 114B may be connected to the conductive lead 362. ..

さらに、各凹部350eを未硬化のシリコーン樹脂を含むシリコーン樹脂原料で充填し、シリコーン樹脂原料を硬化させることにより、発光素子110Bを覆う透光性の樹脂体340Zを形成する(図37のステップS215)。樹脂体340Zを形成するためのシリコーン樹脂原料は、上述の樹脂体140Xの材料と同様の材料であり得る。すなわち、樹脂体340Z中のシリコーン樹脂は、典型的には、少なくとも1つのフェニル基を分子中に有する有機ポリシロキサン、および/または、2つのメチル基がケイ素原子に結合したDユニットを有する有機ポリシロキサンを含有する。シリコーン樹脂原料は、光反射性のフィラー等がさらに分散された原料であってもよい。 Further, each recess 350e is filled with a silicone resin raw material containing an uncured silicone resin, and the silicone resin raw material is cured to form a translucent resin body 340Z that covers the light emitting element 110B (step S215 in FIG. 37). ). The silicone resin raw material for forming the resin body 340Z may be the same material as the material of the resin body 140X described above. That is, the silicone resin in the resin body 340Z is typically an organic polysiloxane having at least one phenyl group in the molecule and/or an organic polysiloxane having a D unit in which two methyl groups are bonded to a silicon atom. Contains siloxane. The silicone resin raw material may be a raw material in which a light-reflecting filler or the like is further dispersed.

以上の工程により、図39に示すように、各々が発光素子110Bおよび透光性の樹脂体340Zを有する複数の発光体100Yを単位とする繰り返し構造が得られる。ここでは、さらに、図18および図19を参照して説明した例と同様にして、樹脂体340Zの上面に凹凸パターンを形成する。 Through the above steps, as shown in FIG. 39, a repeating structure in which a plurality of light emitting elements 100Y each having a light emitting element 110B and a transparent resin body 340Z are used as a unit is obtained. Here, similarly to the example described with reference to FIGS. 18 and 19, a concavo-convex pattern is formed on the upper surface of the resin body 340Z.

例えば、図40に模式的に示すように、支持体60上に発光体100Yを配置し、型200の凸部210を樹脂体340Zの上面340aに対向させる。さらに、例えば周囲の温度を上昇させ、樹脂体340Zが加熱された状態で上面340aに型200を押し付ける。型200の押し付けにより、樹脂体340Zの上面340aに複数の凹部340qが形成される(図9のステップS221)。なお、この例では、樹脂体340Zの上面340aに選択的に凹部340qを形成しているが、樹脂部350Fの上面350aにも凹部340qを形成してもかまわない。 For example, as schematically shown in FIG. 40, the light emitting body 100Y is arranged on the support body 60, and the convex portion 210 of the mold 200 is opposed to the upper surface 340a of the resin body 340Z. Further, for example, the ambient temperature is raised, and the mold 200 is pressed against the upper surface 340a while the resin body 340Z is heated. By pressing the mold 200, a plurality of recesses 340q are formed on the upper surface 340a of the resin body 340Z (step S221 in FIG. 9). In this example, the recess 340q is selectively formed on the upper surface 340a of the resin body 340Z, but the recess 340q may be formed on the upper surface 350a of the resin portion 350F.

次に、例えば、紫外線照射装置500により、複数の凹部340qが形成された樹脂体340Zの上面340aを紫外線で照射する(図9のステップS222)。紫外線の照射により、図41に模式的に示すように、樹脂体340Zから、発光素子110Bの上面110aを覆い、上面340aに複数の凹部340dを有する透光性部材340を形成することができる。その後、ダイシング装置等によって、互いに隣接する2つの発光体100Yの間の位置で樹脂部350Fとリードフレーム360Fの連結部363とを切断することにより、複数の発光装置100Eを得ることができる。 Next, for example, the ultraviolet irradiation device 500 irradiates the upper surface 340a of the resin body 340Z having the plurality of recesses 340q with ultraviolet rays (step S222 in FIG. 9). By irradiating with ultraviolet rays, as shown schematically in FIG. 41, it is possible to form the translucent member 340 covering the upper surface 110a of the light emitting element 110B from the resin body 340Z and having the plurality of recesses 340d in the upper surface 340a. After that, a plurality of light emitting devices 100E can be obtained by cutting the resin portion 350F and the connecting portion 363 of the lead frame 360F at a position between two adjacent light emitting bodies 100Y with a dicing device or the like.

なお、樹脂体340Zの形成に先立ち、発光素子110Bを覆う波長変換部材を形成してもよい。例えば、発光素子110Bが覆われるように各凹部350eの内部に第2樹脂材料を付与し、第2樹脂材料を硬化させることにより、波長変換部材を形成する。さらに、波長変換部材上に樹脂体340Zを形成する。その後、図40および図41を参照して説明した工程を実行すれば、図42に例示する発光装置100Fが得られる。発光装置100Fは、発光素子110Bを覆う波長変換部材320Aと、波長変換部材320Aを覆う透光性部材340とを凹部350eの内側に有する。透光性部材340の上面340aには、複数の凹部340dが設けられている。 A wavelength conversion member that covers the light emitting element 110B may be formed prior to the formation of the resin body 340Z. For example, the wavelength conversion member is formed by applying the second resin material to the inside of each recess 350e so as to cover the light emitting element 110B and curing the second resin material. Further, the resin body 340Z is formed on the wavelength conversion member. Then, by performing the steps described with reference to FIGS. 40 and 41, the light emitting device 100F illustrated in FIG. 42 is obtained. The light emitting device 100F has a wavelength conversion member 320A that covers the light emitting element 110B and a translucent member 340 that covers the wavelength conversion member 320A inside the recess 350e. A plurality of recesses 340d are provided on the upper surface 340a of the translucent member 340.

あるいは、シリコーン樹脂を含有する第2樹脂材料をシリコーン樹脂原料として用いて第2樹脂材料で各凹部350eを充填してもよい。凹部350e内の第2樹脂材料を硬化させて発光体を得た後、図40および図41を参照して説明した工程と同様の工程を実行すれば、図43に例示する発光装置100Gが得られる。発光装置100Gは、凹部350e内に、発光素子110Bを覆う波長変換部材320Bを有する。図43に模式的に示すように、波長変換部材320Bは、その上面320aに、複数の凹部340dを有する。このように、透光性部材としての波長変換部材320Bに、型の押し付けおよび紫外線の照射により、複数の凹部320dを形成してもよい。 Alternatively, a second resin material containing a silicone resin may be used as a silicone resin raw material to fill each recess 350e with the second resin material. After the second resin material in the recess 350e is cured to obtain the light emitting body, the same steps as the steps described with reference to FIGS. 40 and 41 are performed to obtain the light emitting device 100G illustrated in FIG. To be The light emitting device 100G has a wavelength conversion member 320B that covers the light emitting element 110B in the recess 350e. As schematically shown in FIG. 43, the wavelength conversion member 320B has a plurality of recesses 340d on its upper surface 320a. As described above, the plurality of recesses 320d may be formed in the wavelength conversion member 320B as the translucent member by pressing the mold and irradiating the ultraviolet rays.

上述の第2の実施形態と同様に、本開示の第3の実施形態によれば、発光素子を覆う透光性の樹脂体の表面に微細な構造を付与することが可能であり、光の取り出し効率向上の効果が期待できる。第3の実施形態によれば、発光素子を樹脂で封止した後に、発光素子を覆う透光性部材の表面に凹凸パターンを形成することが可能である。また、本実施形態においても、透光性の樹脂体の表面への形状の付与後に、樹脂体の表面を紫外線で照射しているので、リフロー等の高温を伴うプロセスを実行しても、透光性部材の表面の凹凸形状を維持させ得る。 Similar to the second embodiment described above, according to the third embodiment of the present disclosure, it is possible to impart a fine structure to the surface of the translucent resin body that covers the light emitting element, and The effect of improving the extraction efficiency can be expected. According to the third embodiment, it is possible to form the uneven pattern on the surface of the translucent member that covers the light emitting element after sealing the light emitting element with the resin. Also in this embodiment, since the surface of the resin body is irradiated with ultraviolet rays after the shape is applied to the surface of the transparent resin body, even if a process involving high temperature such as reflow is performed, It is possible to maintain the uneven shape of the surface of the optical member.

(実施例1)
以下の手順に従って実施例1のサンプルを作製し、実施例1のサンプルの表面の形状を紫外線の照射の前後で比較した。
(Example 1)
The sample of Example 1 was prepared according to the following procedure, and the surface shapes of the sample of Example 1 were compared before and after irradiation with ultraviolet rays.

まず、フェニル基を分子中に有する有機ポリシロキサンを含有するシリコーン樹脂を硬化させることにより形成された透光シートを準備した。ここでは、透光シートとして、信越化学工業株式会社から販売されているシリコーン樹脂(型番:KE−1011)をスクリーン印刷法によってシート状に整形した後、150℃の温度下で4時間加熱することによりシリコーン樹脂を硬化させ、厚さ100μmの樹脂シートを得た。 First, a translucent sheet formed by curing a silicone resin containing an organic polysiloxane having a phenyl group in its molecule was prepared. Here, as the translucent sheet, a silicone resin (model number: KE-1011) sold by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. is shaped into a sheet by a screen printing method, and then heated at a temperature of 150° C. for 4 hours. The silicone resin was cured by to obtain a resin sheet having a thickness of 100 μm.

また、複数の凸部を表面に有する型を準備した。凸部の各々の形状は、正三角錐状であり、型の表面からの凸部の高さは、1.3μmであった。また、これらの凸部は、それぞれの頂部が三角格子の格子点上に位置するように型の表面に二次元に配置されており、互いに隣接する2つの凸部の間の頂部の間隔は、3.5μmであった。 Further, a mold having a plurality of convex portions on the surface was prepared. The shape of each of the protrusions was a regular triangular pyramid, and the height of the protrusion from the surface of the mold was 1.3 μm. Further, these protrusions are two-dimensionally arranged on the surface of the mold so that the respective tops are located on the lattice points of the triangular lattice, and the spacing between the tops between two adjacent protrusions is It was 3.5 μm.

次に、透光シートの一方の主面と、複数の凸部が設けられた型の表面とを対向させ、周囲の温度を150℃に上昇させた状態で、ヒートプレス装置を用いて3MPaの圧力で透光シートの主面に型を押し付けた。その後、透光シートから型を分離した。型の分離後の透光シートの主面には、型の凸部に対応した位置に複数の凹部が形成されていた。図44および図45は、型の分離後に得られた透光シートの表面形状を示す、レーザー顕微鏡によって得られた画像である。図45は、透光シートの断面プロファイルを示している。透光シートの表面に形成された凹部の深さは、1.1〜1.5μm程度の範囲であった。 Next, one main surface of the translucent sheet and the surface of the mold provided with the plurality of protrusions are opposed to each other, and the ambient temperature is raised to 150° C. The mold was pressed against the main surface of the translucent sheet with pressure. Then, the mold was separated from the translucent sheet. On the main surface of the light-transmitting sheet after separation of the mold, a plurality of recesses were formed at positions corresponding to the protrusions of the mold. 44 and 45 are images obtained by a laser microscope showing the surface shape of the light-transmitting sheet obtained after the mold separation. FIG. 45 shows a cross-sectional profile of the translucent sheet. The depth of the recess formed on the surface of the translucent sheet was in the range of about 1.1 to 1.5 μm.

次に、最も強いピークの波長が365nmの位置にある紫外線光源を有する紫外線照射装置を用い、複数の凹部が形成された透光シートの主面を紫外線で照射した。なお、照射された紫外線は、UVA〜UVCの波長範囲にわたるスペクトルを有していた。このときの紫外線の照射量は、23J/cm、照射時間は、50秒程度であった。 Next, the main surface of the translucent sheet in which a plurality of recesses were formed was irradiated with ultraviolet rays using an ultraviolet ray irradiation device having an ultraviolet light source with the wavelength of the strongest peak at 365 nm. The irradiated ultraviolet rays had a spectrum covering the wavelength range of UVA to UVC. The irradiation amount of ultraviolet rays at this time was 23 J/cm 2 , and the irradiation time was about 50 seconds.

図46および図47は、紫外線の照射後の透光シートの表面形状を示す。図45と同様に、図47は、透光シートの断面プロファイルを示している。紫外線照射後の透光シート表面の凹部の深さは、1.0〜1.4μm程度の範囲であり、紫外線の照射の前後で凹部の深さに大きな変化は見られなかった。ただし、図45と図47との比較から、紫外線の照射によって、凹部と凹部との間に位置する領域がわずかに尖鋭化することがわかった。 46 and 47 show the surface shape of the translucent sheet after irradiation with ultraviolet rays. Similar to FIG. 45, FIG. 47 shows a cross-sectional profile of the light-transmitting sheet. The depth of the recesses on the surface of the translucent sheet after irradiation with ultraviolet rays was in the range of about 1.0 to 1.4 μm, and no significant change was observed in the depth of the recesses before and after irradiation with ultraviolet rays. However, it was found from the comparison between FIGS. 45 and 47 that the region located between the recesses was slightly sharpened by the irradiation of ultraviolet rays.

(実施例2)
複数の凸部の形状および配置が異なる型を用いたこと以外は実施例1のサンプルと同様にして、実施例2のサンプルを作製した。実施例2のサンプルの作製に用いた型の凸部の各々の形状は、円錐状であり、凸部の高さは、1.5μmであった。また、これらの凸部は、それぞれの頂部が三角格子の格子点上に位置するように型の表面に二次元に配置されており、互いに隣接する2つの凸部の間の頂部の間隔は、3μmであった。
(Example 2)
A sample of Example 2 was prepared in the same manner as the sample of Example 1 except that molds having different shapes and arrangements of the plurality of convex portions were used. The shape of each of the convex portions of the mold used in the preparation of the sample of Example 2 was conical, and the height of the convex portions was 1.5 μm. Further, these protrusions are two-dimensionally arranged on the surface of the mold so that the respective tops are located on the lattice points of the triangular lattice, and the spacing between the tops between two adjacent protrusions is It was 3 μm.

図48および図49は、紫外線の照射後の透光シートの表面形状を示す。図45、図47と同様に、図49は、透光シートの断面プロファイルを示している。図49に示す範囲において、紫外線照射後の透光シート表面の凹部の深さの最大値は、およそ2.8μmであった。図49からわかるように、凹部および凹部間の領域は、0.5μm程度の微細な凸部を含む荒れた表面を有している。これは、硬化後のシリコーン樹脂の透光シートの表面に型を押し当て、透光シートの表面から型の凸部を引き抜いた影響が現れているためであると推測される。 48 and 49 show the surface shape of the translucent sheet after irradiation with ultraviolet rays. Similar to FIGS. 45 and 47, FIG. 49 shows a cross-sectional profile of the light-transmitting sheet. In the range shown in FIG. 49, the maximum value of the depth of the recesses on the surface of the translucent sheet after irradiation with ultraviolet rays was about 2.8 μm. As can be seen from FIG. 49, the concave portion and the region between the concave portions have a rough surface including fine convex portions of about 0.5 μm. It is speculated that this is because the mold is pressed against the surface of the translucent sheet of the cured silicone resin and the convex portion of the mold is pulled out from the surface of the translucent sheet.

(実施例3、比較例1)
次に、サンプルに付与された形状への熱の影響を検証するために、以下の手順により、実施例3のサンプルおよび比較例1のサンプルを作製した。
(Example 3, Comparative Example 1)
Next, in order to verify the influence of heat on the shape given to the sample, the sample of Example 3 and the sample of Comparative Example 1 were manufactured by the following procedure.

まず、信越化学工業株式会社から販売されているシリコーン樹脂(型番:LPS−3541)をスクリーン印刷法によってシート状に整形した後、150℃の温度下で4時間加熱することにより、厚さ150μmの樹脂シートを作製した。ここで、LPS−3541は、上述のKE−1011と同様に、フェニル基を分子中に有する有機ポリシロキサンを含有する。 First, a silicone resin (model number: LPS-3541) sold by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. is shaped into a sheet by a screen printing method, and then heated at a temperature of 150° C. for 4 hours to obtain a thickness of 150 μm. A resin sheet was produced. Here, LPS-3541 contains the organic polysiloxane which has a phenyl group in a molecule like KE-1011 mentioned above.

次に、複数の凸部を表面に有する型を準備し、樹脂シートの一方の主面と、型の凸部とを対向させ、周囲の温度を300℃に上昇させた状態で、ヒートプレス装置を用いて5MPaの圧力で樹脂シートの主面に型を押し付けた。その後、樹脂シートから型を分離した。なお、ここでは、実施例2のサンプルの作製と同様の、円錐状の凸部が二次元に配置された表面を有する型を用いた。図50は、型の分離後の樹脂シートの表面形状を示す。樹脂シートの表面に形成された凹部の深さは、0.9〜1.1μm程度の範囲であった。 Next, a mold having a plurality of convex portions on the surface is prepared, one main surface of the resin sheet and the convex portion of the mold are opposed to each other, and the ambient temperature is raised to 300° C., and the heat press device is used. The mold was pressed against the main surface of the resin sheet with a pressure of 5 MPa. Then, the mold was separated from the resin sheet. In addition, here, a mold having a surface in which conical convex portions are two-dimensionally arranged was used, which is similar to the case of manufacturing the sample of Example 2. FIG. 50 shows the surface shape of the resin sheet after the mold is separated. The depth of the recess formed on the surface of the resin sheet was in the range of about 0.9 to 1.1 μm.

次に、樹脂シートを切断することにより、2枚のシートを得た。2枚のシートのうちの一方については、実施例1のサンプルの作製に用いた紫外線照射装置を用い、凹部が形成された表面を22.4J/cmの照射量、30秒程度の照射時間で紫外線で照射した。他方のシートについては、型の押し付けによる凹部の形成後に紫外線照射装置による紫外線の照射を行わなかった。 Next, the resin sheet was cut to obtain two sheets. For one of the two sheets, the ultraviolet irradiation device used in the preparation of the sample of Example 1 was used, and the surface on which the recess was formed was irradiated with an irradiation amount of 22.4 J/cm 2 and an irradiation time of about 30 seconds. It was irradiated with ultraviolet rays. The other sheet was not irradiated with ultraviolet light by the ultraviolet irradiation device after the depression was formed by pressing the mold.

2枚のシートを電気炉内に配置し、300℃の温度下に40分間おいた後に電気炉から取り出して室温まで自然冷却させた。これらのシートのうち、紫外線照射装置による紫外線の照射が行われたシートを実施例3のサンプルとし、紫外線照射装置による紫外線の照射が行われなかった他方のシートを比較例1のサンプルとした。 The two sheets were placed in an electric furnace, left at a temperature of 300° C. for 40 minutes, then taken out of the electric furnace and naturally cooled to room temperature. Of these sheets, the sheet irradiated with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation device was used as the sample of Example 3, and the other sheet which was not irradiated with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation device was used as the sample of Comparative Example 1.

図51は、実施例3のサンプルの表面形状を示す。図50と図51との比較から、型の押し付けによる凹部の形成後に紫外線を照射することにより、300℃程度の加熱によっても凹部の形状を維持可能であることがわかった。なお、実施例3のサンプルの表面に形成された凹部の深さは、0.9〜1.1μm程度の範囲であった。換言すれば、加熱の前後において、凹部の深さの変化は、おおよそ25%以下の範囲内であった。 FIG. 51 shows the surface shape of the sample of Example 3. From the comparison between FIG. 50 and FIG. 51, it was found that by irradiating ultraviolet rays after forming the concave portion by pressing the mold, the shape of the concave portion can be maintained even by heating at about 300° C. The depth of the recess formed on the surface of the sample of Example 3 was in the range of about 0.9 to 1.1 μm. In other words, the change in the depth of the recess before and after the heating was within the range of approximately 25% or less.

図52は、比較例1のサンプルの表面形状を示す。図52から、紫外線の照射を行わない場合には、加熱により、型の押し付けによって表面に形成された凹形状がほぼ失われることがわかった。なお、比較例1のサンプルの表面に残った凹部の深さは、0.03μm程度に過ぎなかった。 FIG. 52 shows the surface shape of the sample of Comparative Example 1. From FIG. 52, it was found that when the irradiation of ultraviolet rays was not performed, the concave shape formed on the surface by pressing the mold was almost lost by heating. The depth of the recesses remaining on the surface of the sample of Comparative Example 1 was only about 0.03 μm.

(参考例1)
図51と図52との比較から明らかなように、型の押し付けによって凹部が形成された樹脂シートの表面を20J/cm程度以上の照射量で紫外線で照射することにより、高温(例えばガラス転移点以上の温度)にさらされた場合であっても凹部の形状を維持させることが可能になることがわかった。これは、紫外線で照射された表面およびその近傍に何らかの変化が生じたためであると推測される。ここでは、樹脂シートに部分的に紫外線の照射を行った参考例1のサンプルを作製し、赤外分光分析により、紫外線で照射された部分と、紫外線で照射されなかった部分との間でスペクトルの比較を行った。参考例1のサンプルは、上述のシリコーン樹脂LPS−3541を予備硬化させることにより形成された、厚さ150μmの透光シートの表面の一部を紫外線で照射することによって作製した。その後、透光シート中のシリコーン樹脂を本硬化させた。
(Reference example 1)
As is clear from the comparison between FIG. 51 and FIG. 52, by irradiating the surface of the resin sheet in which the concave portions are formed by pressing the mold with ultraviolet rays at an irradiation dose of about 20 J/cm 2 or more, high temperature (for example, glass transition) It was found that it is possible to maintain the shape of the recess even when exposed to a temperature above the point). It is presumed that this is because some change occurred on the surface irradiated with ultraviolet rays and its vicinity. Here, a sample of Reference Example 1 in which a resin sheet was partially irradiated with ultraviolet rays was prepared, and by infrared spectroscopic analysis, a spectrum was obtained between a portion irradiated with ultraviolet rays and a portion not irradiated with ultraviolet rays. Were compared. The sample of Reference Example 1 was produced by irradiating a part of the surface of a 150 μm-thick light-transmitting sheet formed by pre-curing the above-mentioned silicone resin LPS-3541 with ultraviolet rays. Then, the silicone resin in the translucent sheet was fully cured.

図53〜図55は、フーリエ変換型赤外分光光度計によって得られた、参考例1のサンプルに関する透過光の赤外スペクトルを示す。図53〜図55中、曲線K1は、意図的に紫外線で照射されていない部分に関するスペクトルを示し、曲線K2は、意図的に紫外線で照射された部分に関するスペクトルを示している。ここでは、赤外スペクトルの取得に、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社から販売されているNicolet
iS50モジュールを用いた。
53 to 55 show infrared spectra of transmitted light regarding the sample of Reference Example 1 obtained by a Fourier transform infrared spectrophotometer. In FIGS. 53 to 55, a curve K1 shows a spectrum relating to a portion not intentionally irradiated with ultraviolet rays, and a curve K2 shows a spectrum relating to a portion intentionally irradiated with ultraviolet rays. Here, for the acquisition of infrared spectrum, Nicolet sold by Thermo Fisher Scientific Co., Ltd.
The iS50 module was used.

図54を参照する。図54は、図53のスペクトルのうち、波数が4000〜1300cm−1の範囲を拡大して示す。図54中には、波数が2000〜1400cm−1の範囲をさらに拡大した図も示されている。図54に示すスペクトルにおいて、Si−OHに由来する吸収に関係する、波数が3700〜3000cm−1の範囲に注目すると、紫外線の照射により、波数が3400cm−1付近に吸収のピークが出現し、3700〜3000cm−1の範囲の吸収が増加していることがわかった。 Refer to FIG. FIG. 54 shows an enlarged view of the range of wave numbers of 4000 to 1300 cm −1 in the spectrum of FIG. FIG. 54 also shows a further enlarged view of the range of wave numbers of 2000 to 1400 cm −1 . In the spectrum shown in FIG. 54, focusing on the range of the wave number of 3700 to 3000 cm −1 related to the absorption derived from Si—OH, the absorption peak appears near the wave number of 3400 cm −1 by the irradiation of ultraviolet rays, It was found that the absorption in the range of 3700 to 3000 cm −1 was increased.

図55も参照する。図55は、図53のスペクトルのうち、波数が1400〜400cm−1の範囲を拡大して示している。図54および図55から、Si−CHに由来する吸収に関係する、波数が2960cm−1および800cm−1付近の吸収ピークに着目すると、紫外線の照射により、それぞれのピークの高さが低くなることがわかった。つまり、本開示の実施形態による発光装置の透光性部材の赤外吸収は、基本的に、20J/cm以上の照射量で意図的に紫外線が照射されていないシリコーン樹脂と比較して波数3700cm−1超3000cm−1未満の範囲で大きく、波数2960cm−1および800cm−1付近において小さい。このことから、紫外線の照射により、透光シートのうち、紫外線の照射された表面のごく浅い領域に変化が生じて透光シートの硬さが部分的に向上し、その結果として高温による凹部の形状の変化が抑制された可能性がある。 Refer also to FIG. FIG. 55 shows an enlarged range of wave numbers of 1400 to 400 cm −1 in the spectrum of FIG. Figures 54 and 55, relating to the absorption derived from Si-CH 3, the wave number is focused on the absorption peak around 2960 cm -1 and 800 cm -1, by irradiation with ultraviolet rays, the height of each peak is lower I understood it. That is, the infrared absorption of the translucent member of the light emitting device according to the embodiment of the present disclosure is basically the same as that of a silicone resin that is not intentionally irradiated with ultraviolet rays at an irradiation amount of 20 J/cm 2 or more. 3700 cm -1 increased in a range of less than super 3000 cm -1, smaller in the vicinity of wave number 2960 cm -1 and 800 cm -1. From this, the irradiation of ultraviolet rays causes a change in a very shallow region of the surface of the translucent sheet irradiated with ultraviolet rays, which partially improves the hardness of the translucent sheet. The change in shape may have been suppressed.

次に、紫外線の照射量が互いに異なる複数のサンプルを作製し、紫外線の照射がサンプルの表面の瞬間接着力に与える影響を検証した。なお、本明細書では、「タック性」の用語を「瞬間接着力」の用語とを区別せずに使用し、これらを同じ意味で用いる。本明細書における「瞬間接着力」または「タック性」は、以下に説明するプローブ法による測定によって得られる値を意味する。 Next, a plurality of samples having different UV irradiation doses were prepared, and the effect of UV irradiation on the instantaneous adhesive force on the surface of the sample was verified. In the present specification, the term “tackiness” is used without distinguishing it from the term “instantaneous adhesive force”, and these terms have the same meaning. The "instantaneous adhesive force" or "tackiness" in the present specification means a value obtained by measurement by the probe method described below.

まず、厚さ3mmの樹脂ブロックを作製し、同一の樹脂ブロックから、切断により、直径が16mmの複数の試験片を準備する。これらの試験片について、インストロンジャパン カンパニイリミテッドから販売されているデュアルコラム卓上型試験機5966を用いて、樹脂ブロックの表面にプローブを接触させた後、一定の速度でプローブを移動させ、樹脂ブロックの表面からのプローブの剥離に必要な力を測定する。測定においては、先端形状が平面状かつ先端面の面積が1800mmの、ステンレス製のプローブを用いる。樹脂シートの表面に対するプローブの接触時間およびプローブの引張速度は、それぞれ、1秒および9mm/分とする。同一のシートから切断によって得られる3枚の試験片に関する測定値の平均をタック性の測定値とする。 First, a resin block having a thickness of 3 mm is produced, and a plurality of test pieces having a diameter of 16 mm are prepared by cutting from the same resin block. For these test pieces, a probe was brought into contact with the surface of the resin block using a dual column tabletop tester 5966 sold by Instron Japan Company Limited, and then the probe was moved at a constant speed to move the resin block. Measure the force required to detach the probe from the surface of the. In the measurement, a stainless steel probe having a flat tip shape and a tip surface area of 1800 mm 2 is used. The contact time of the probe with respect to the surface of the resin sheet and the pulling speed of the probe are 1 second and 9 mm/min, respectively. The average of the measured values of the three test pieces obtained by cutting from the same sheet is used as the measured value of tackiness.

(参考例2)
以下の手順により、参考例2および参考例3のサンプルならびに比較例2のサンプルを作製した。上述の実施例3のサンプルと同様にして、信越化学工業株式会社製のシリコーン樹脂LPS−3541をスクリーン印刷法によってシート状に整形し、150℃の温度下で4時間加熱することにより、厚さ150μmの樹脂シートを作製した。ただし、ここでは、型の押し付けによる形状の付与は行わず、樹脂シートを切断することによって複数の樹脂シート片を得た。これらの樹脂シート片から無作為に3枚の樹脂シート片を抽出し、実施例3のサンプルと同様にして、一方の主面を240J/cmの照射量、30秒程度の照射時間で紫外線で照射した。紫外線の照射後の樹脂シート片を電気炉内に配置し、300℃の温度下に40分間おいた後に電気炉から取り出して室温まで自然冷却させ、参考例2のサンプルとした。
(Reference example 2)
The samples of Reference Examples 2 and 3 and the sample of Comparative Example 2 were prepared by the following procedure. Similar to the sample of Example 3 described above, a silicone resin LPS-3541 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was shaped into a sheet by a screen printing method, and heated at a temperature of 150° C. for 4 hours to obtain a thickness. A 150 μm resin sheet was prepared. However, here, a plurality of resin sheet pieces were obtained by cutting the resin sheet without applying the shape by pressing the mold. Three resin sheet pieces were randomly extracted from these resin sheet pieces, and one main surface was irradiated with ultraviolet rays at an irradiation amount of 240 J/cm 2 and an irradiation time of about 30 seconds in the same manner as the sample of Example 3. Illuminated. The resin sheet piece after irradiation with ultraviolet rays was placed in an electric furnace, left at a temperature of 300° C. for 40 minutes, then taken out of the electric furnace and naturally cooled to room temperature to obtain a sample of Reference Example 2.

(参考例3)
紫外線の照射量を22.4J/cmに変更したこと以外は参考例2のサンプルと同様にして、参考例3のサンプルを作製した。
(Reference example 3)
A sample of Reference Example 3 was prepared in the same manner as the sample of Reference Example 2 except that the irradiation amount of ultraviolet rays was changed to 22.4 J/cm 2 .

(比較例2)
紫外線の照射を実行しなかったことたこと以外は参考例2のサンプルと同様にして、比較例2のサンプルを作製した。
(Comparative example 2)
A sample of Comparative Example 2 was prepared in the same manner as the sample of Reference Example 2 except that the irradiation of ultraviolet rays was not performed.

図56は、参考例2、参考例3および比較例2の各サンプルの表面のタック性に関する測定結果を示す。図56中、最も右側のプロットは、参考例2のサンプルに関する測定値を示し、中央のプロットは、参考例3のサンプルに関する測定値を示す。図56中、最も左側のプロットは、比較例2のサンプルに関する測定値を示す。 FIG. 56 shows the measurement results regarding the tackiness of the surface of each sample of Reference Example 2, Reference Example 3 and Comparative Example 2. In FIG. 56, the rightmost plot shows the measured values of the sample of Reference Example 2, and the center plot shows the measured values of the sample of Reference Example 3. In FIG. 56, the leftmost plot shows the measured values of the sample of Comparative Example 2.

図56に示すように、比較例2のサンプルに関する表面のタック性の測定値は、おおよそ23〜32N・cm−2の範囲であった。一方、22.4J/cmの照射量で紫外線
が照射された参考例3のサンプルは、おおよそ0.1〜8N・cm−2の範囲のタック性
の値を示し、240J/cmの照射量で紫外線が照射された参考例2のサンプルは、0.3〜0.6N・cm−2の範囲のタック性の値を示した。このことから、意図的な紫外
線の照射により、シリコーン樹脂から形成された樹脂シートの表面および/または表面近傍に何らかの変化が生じた可能性がある。その結果、意図的な紫外線の照射により、樹脂表面のタック性が低下したものと推測される。図56に示す結果から、例えば、シリコーン樹脂を含む樹脂体の表面を20J/cm程度以上の照射量で意図的に紫外線で照射することによって、樹脂体の表面の瞬間接着力を、意図的な紫外線の照射がなされていないシリコーン樹脂の表面の瞬間接着力の例えば50%以下に低下させ得ることがわかった。
As shown in FIG. 56, the measured surface tackiness of the sample of Comparative Example 2 was in the range of approximately 23 to 32 N·cm −2 . On the other hand, the sample of Reference Example 3 UV is irradiated at an irradiation amount of 22.4J / cm 2 is roughly shows tackiness value in the range of 0.1~8N · cm -2, the irradiation of 240 J / cm 2 The sample of Reference Example 2, which was irradiated with ultraviolet rays in an amount, showed a tackiness value in the range of 0.3 to 0.6 N·cm −2 . From this, it is possible that some changes occurred on the surface and/or in the vicinity of the surface of the resin sheet formed of the silicone resin due to intentional irradiation of ultraviolet rays. As a result, it is speculated that the tackiness of the resin surface was lowered by the intentional irradiation of ultraviolet rays. From the results shown in FIG. 56, for example, by intentionally irradiating the surface of the resin body containing the silicone resin with ultraviolet rays at an irradiation amount of about 20 J/cm 2 or more, the instantaneous adhesive force of the surface of the resin body was intentionally changed. It has been found that the instantaneous adhesive force of the surface of the silicone resin which has not been irradiated with various ultraviolet rays can be reduced to, for example, 50% or less.

本開示の実施形態は、例えば光源の前面に配置され、入射光線の少なくとも一部を透過させる光学要素の製造に適用できる。本開示の実施形態は、特に、LED等の発光素子を覆う透光性部材を有する発光装置の製造に有用である。 Embodiments of the present disclosure are applicable, for example, to the manufacture of optical elements that are located in front of a light source and that transmit at least a portion of incident light. The embodiments of the present disclosure are particularly useful for manufacturing a light emitting device having a light transmissive member that covers a light emitting element such as an LED.

100A〜100C、100E〜100G 発光装置
100U、100Y 発光体
110、110A、110B 発光素子
110a 発光素子の上面
110b 発光素子の下面
112A、112B 発光素子の正極
114A、114B 発光素子の負極
120A 波長変換部材
120L、120V 波長変換層
130A 導光部材
140、140A 透光性部材
140L、140V 透光層
140U、140X、340Z 樹脂体
140a 上面
140b 下面
140d、140q 凹部
150A〜150C 光反射性部材
170 樹脂層
170V、LB 積層シート
172 透光部
174 光反射性樹脂部
200 型
210 型の凸部
300 樹脂パッケージ
300F 複合基板
320A、320B 波長変換部材
340 透光性部材
340Z 樹脂体
320d、340d、340q 凹部
350 樹脂部
361、362 導電性リード
371、372 導電性ワイヤ
400A、400B 複合基板
410A、410B 基板
411A、411B 第1導電部
412A、412B 第2導電部
500 紫外線照射装置
100A-100C, 100E-100G Light-emitting device 100U, 100Y Light-emitting body 110, 110A, 110B Light-emitting element 110a Light-emitting element upper surface 110b Light-emitting element lower surface 112A, 112B Light-emitting element positive electrode 114A, 114B Light-emitting element negative electrode 120A Wavelength conversion member 120L , 120V Wavelength conversion layer 130A Light guide member 140, 140A Light transmissive member 140L, 140V Light transmissive layer 140U, 140X, 340Z Resin body 140a Upper surface 140b Lower surface 140d, 140q Recess 150A-150C Light reflective member 170 Resin layer 170V, LB Laminated sheet 172 Light transmissive part 174 Light reflective resin part 200 type 210 type convex part 300 Resin package 300F Composite substrate 320A, 320B Wavelength conversion member 340 Translucent member 340Z Resin body 320d, 340d, 340q Recessed part 350 Resin part 361, 362 conductive lead 371, 372 conductive wire 400A, 400B composite substrate 410A, 410B substrate 411A, 411B first conductive portion 412A, 412B second conductive portion 500 UV irradiation device

Claims (19)

上面を有する発光素子と、前記発光素子の前記上面を少なくとも覆う透光性の樹脂体とを有する発光体を準備する工程(a)と、
表面に凹凸のパターンを有し、前記発光素子の前記上面を少なくとも覆う透光性部材を形成する工程(b)と
を含み、
前記工程(b)は、
複数の凸部を有する型の前記複数の凸部を前記樹脂体の表面に対向させ、加熱された状態の前記樹脂体の前記表面に前記型を押し付けることにより、前記表面に複数の凹部を形成する工程(b1)と、
前記工程(b1)の後に、前記樹脂体の前記表面を紫外線で照射する工程(b2)と
を含む、発光装置の製造方法。
A step (a) of preparing a light emitting body having a light emitting element having an upper surface and a translucent resin body that covers at least the upper surface of the light emitting element;
A step (b) of forming a translucent member which has an uneven pattern on the surface and covers at least the upper surface of the light emitting element,
The step (b) includes
Forming a plurality of concave portions on the surface by causing the plurality of convex portions of a mold having a plurality of convex portions to face the surface of the resin body and pressing the mold against the surface of the resin body in a heated state The step (b1) of
A step (b2) of irradiating the surface of the resin body with ultraviolet rays after the step (b1).
前記工程(a)は、
前記発光素子を準備する工程であって、前記発光素子は、前記上面とは反対側に正極および負極を有する、工程(a1)と、
前記発光素子の前記上面に未硬化の透光性樹脂材料を付与する工程(a2)と、
前記透光性樹脂材料を硬化させることにより、前記発光素子の前記上面の上方に前記樹脂体を配置する工程(a3)と
を含む、請求項1に記載の発光装置の製造方法。
The step (a) includes
A step (a1) of preparing the light emitting element, wherein the light emitting element has a positive electrode and a negative electrode on a side opposite to the upper surface;
A step (a2) of applying an uncured translucent resin material to the upper surface of the light emitting element;
A step (a3) of disposing the resin body above the upper surface of the light emitting element by curing the light transmissive resin material, the method for manufacturing a light emitting device according to claim 1.
上面を有し、前記上面とは反対側に正極および負極が設けられた発光素子を準備する工程(a)と、
表面に凹凸のパターンを有し、前記発光素子の前記上面を少なくとも覆う透光性部材を形成する工程(b)と
を含み、
前記工程(b)は、
未硬化のシリコーン樹脂原料を硬化させることによって形成された透光性の樹脂体の表面に、複数の凸部を有する型の前記複数の凸部を対向させ、加熱された状態の前記樹脂体の前記表面に前記型を押し付けることにより、前記表面に複数の凹部を形成する工程(b1)と、
前記工程(b1)の後に、前記樹脂体の前記表面を紫外線で照射する工程(b2)と
を含む、発光装置の製造方法。
A step (a) of preparing a light emitting device having an upper surface and a positive electrode and a negative electrode provided on the side opposite to the upper surface;
A step (b) of forming a translucent member which has an uneven pattern on the surface and covers at least the upper surface of the light emitting element,
The step (b) includes
The surface of the translucent resin body formed by curing an uncured silicone resin raw material is made to face the plurality of convex portions of a mold having a plurality of convex portions, and the resin body in a heated state is Forming a plurality of concave portions on the surface by pressing the mold on the surface (b1),
A step (b2) of irradiating the surface of the resin body with ultraviolet rays after the step (b1).
前記工程(a)は、
前記発光素子を準備する工程(a1)と、
未硬化のシリコーン樹脂原料で前記発光素子を覆い、前記シリコーン樹脂原料を硬化させることによって前記樹脂体を形成する工程(a2)と
を含む、請求項1に記載の発光装置の製造方法。
The step (a) includes
A step (a1) of preparing the light emitting device,
The method of manufacturing a light emitting device according to claim 1, further comprising a step (a2) of covering the light emitting element with an uncured silicone resin raw material and curing the silicone resin raw material to form the resin body.
前記工程(a)と前記工程(b)との間に、前記発光素子の側面を少なくとも覆う光反射性部材を形成する工程(c)をさらに含む、請求項1から3のいずれかに記載の発光装置の製造方法。 The method according to claim 1, further comprising a step (c) of forming a light-reflecting member that covers at least a side surface of the light emitting element, between the step (a) and the step (b). A method for manufacturing a light emitting device. 前記樹脂体は、少なくとも1つのフェニル基を分子中に有する有機ポリシロキサンを含有する、請求項1から5のいずれかに記載の発光装置の製造方法。 The method for manufacturing a light emitting device according to claim 1, wherein the resin body contains an organic polysiloxane having at least one phenyl group in a molecule. 前記樹脂体は、2つのメチル基がケイ素原子に結合したDユニットを有する有機ポリシロキサンを含有する、請求項1から6のいずれかに記載の発光装置の製造方法。 The method for manufacturing a light emitting device according to claim 1, wherein the resin body contains an organic polysiloxane having a D unit in which two methyl groups are bonded to silicon atoms. 上面を有し、前記上面とは反対側に正極および負極が設けられた発光素子を準備する工程(a)と、
表面に凹凸のパターンを有し、前記発光素子の前記上面を少なくとも覆う透光性部材を形成する工程(b)と
を含み、
前記工程(b)は、
未硬化のシリコーン樹脂原料を硬化させることによって形成された透光シートの主面に、複数の凸部を有する型の前記複数の凸部を対向させ、加熱された状態の前記透光シートの前記主面に前記型を押し付けることにより、前記主面に複数の凹部を形成する工程(b1)と、
前記工程(b1)の後に、前記透光シートの前記主面を紫外線で照射する工程(b2)と、
紫外線で照射された前記透光シートを前記発光素子の前記上面側に配置する工程(b3)と
を含む、発光装置の製造方法。
A step (a) of preparing a light emitting device having an upper surface and a positive electrode and a negative electrode provided on the side opposite to the upper surface;
A step (b) of forming a translucent member which has an uneven pattern on the surface and covers at least the upper surface of the light emitting element,
The step (b) includes
The main surface of the translucent sheet formed by curing an uncured silicone resin raw material is made to face the plurality of convex portions of a mold having a plurality of convex portions, and the translucent sheet in the heated state is A step (b1) of forming a plurality of concave portions on the main surface by pressing the mold on the main surface;
After the step (b1), a step (b2) of irradiating the main surface of the translucent sheet with ultraviolet rays;
And (b3) disposing the translucent sheet irradiated with ultraviolet rays on the upper surface side of the light emitting element.
前記工程(b)の後に、前記発光素子の側面を少なくとも覆う光反射性部材を形成する工程(c)をさらに含む、請求項8に記載の発光装置の製造方法。 The method for manufacturing a light emitting device according to claim 8, further comprising a step (c) of forming a light reflecting member that covers at least a side surface of the light emitting element after the step (b). 前記透光性部材は、少なくとも1つのフェニル基を分子中に有する有機ポリシロキサンを含有する、請求項8または9に記載の発光装置の製造方法。 The method for manufacturing a light emitting device according to claim 8, wherein the translucent member contains an organic polysiloxane having at least one phenyl group in a molecule. 前記透光性部材は、2つのメチル基がケイ素原子に結合したDユニットを有する有機ポリシロキサンを含有する、請求項8から10のいずれかに記載の発光装置の製造方法。 The method for manufacturing a light-emitting device according to claim 8, wherein the translucent member contains an organic polysiloxane having a D unit in which two methyl groups are bonded to silicon atoms. 前記工程(b)の実行後の前記複数の凹部は、0.9μm以上の深さを有する、請求項1から11のいずれかに記載の発光装置の製造方法。 The method for manufacturing a light-emitting device according to claim 1, wherein the plurality of recesses after performing step (b) have a depth of 0.9 μm or more. 前記工程(b2)における紫外線の照射量は、20J/cm以上である、請求項1から12のいずれかに記載の発光装置の製造方法。 The method for manufacturing a light-emitting device according to claim 1, wherein the irradiation amount of ultraviolet rays in step (b2) is 20 J/cm 2 or more. 上面を有する発光素子と、
前記発光素子の前記上面を少なくとも覆い、前記発光素子の前記上面の上方に位置する主面を含む透光性部材と
を備え、
前記透光性部材の前記主面は、複数の凹部を有しており、
赤外分光によって得られる、前記透光性部材に関する吸収スペクトルの波数3700cm−1超3000cm−1未満の範囲に現れるSi−OH起因の吸収は、シリコーン樹脂に関する吸収スペクトルの前記範囲における吸収よりも大きく、前記透光性部材に関する吸収スペクトルの波数2960cm−1付近および800cm−1付近に現れるSi−CH起因の吸収ピークは、それぞれ、シリコーン樹脂に関する吸収スペクトルの波数2960cm−1付近および800cm−1付近の吸収ピークと比較して小さい、発光装置。
A light emitting element having an upper surface,
A light transmissive member that covers at least the upper surface of the light emitting element, and includes a main surface located above the upper surface of the light emitting element;
The main surface of the translucent member has a plurality of recesses,
Obtained by infrared spectroscopy, the absorption of the Si-OH caused appearing in a range of less than the wave number 3700 cm -1 super 3000 cm -1 of the absorption spectrum for the light-transmitting member is greater than the absorption in the range of the absorption spectrum for silicone resin , the absorption peak of the Si-CH 3 due appearing in the vicinity of wave number 2960 cm -1 and around 800 cm -1 of the absorption spectrum for the light-transmitting member, respectively, near the wave number 2960 cm -1 and around 800 cm -1 of the absorption spectrum for silicone resin A light-emitting device that is smaller than the absorption peak of.
上面を有する発光素子と、
前記発光素子の前記上面を少なくとも覆い、前記発光素子の前記上面の上方に位置する主面を含む透光性部材と
を備え、
前記透光性部材の前記主面は、複数の凹部を有しており、
前記透光性部材の前記主面の瞬間接着力は、シリコーン樹脂の瞬間接着力よりも低い、発光装置。
A light emitting element having an upper surface,
A light transmissive member that covers at least the upper surface of the light emitting element, and includes a main surface located above the upper surface of the light emitting element;
The main surface of the translucent member has a plurality of recesses,
The light emitting device, wherein the instantaneous adhesive force of the main surface of the translucent member is lower than the instantaneous adhesive force of silicone resin.
上面を有する発光素子と、
前記発光素子の前記上面を少なくとも覆い、前記発光素子の前記上面の上方に位置する主面を含む透光性部材と
を備え、
前記透光性部材の前記主面は、複数の凹部を有し、
300℃の温度下で40分間加熱したとき、加熱の前後において、前記複数の凹部の深さの変化は、25%以下の範囲内である、発光装置。
A light emitting element having an upper surface,
A light transmissive member that covers at least the upper surface of the light emitting element, and includes a main surface located above the upper surface of the light emitting element;
The main surface of the translucent member has a plurality of recesses,
A light-emitting device in which, when heated at a temperature of 300° C. for 40 minutes, a change in depth of the plurality of recesses before and after heating is within a range of 25% or less.
前記複数の凹部は、0.9μm以上の深さを有する、請求項14から16のいずれかに記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 14, wherein the plurality of recesses have a depth of 0.9 μm or more. 前記透光性部材は、シリコーン樹脂を含み、
前記シリコーン樹脂は、少なくとも1つのフェニル基を分子中に有する有機ポリシロキサンを含有する、請求項14から17のいずれかに記載の発光装置。
The translucent member includes a silicone resin,
18. The light emitting device according to claim 14, wherein the silicone resin contains an organic polysiloxane having at least one phenyl group in the molecule.
前記透光性部材は、シリコーン樹脂を含み、
前記シリコーン樹脂は、2つのメチル基がケイ素原子に結合したDユニットを有する有機ポリシロキサンを含有する、請求項14から18のいずれかに記載の発光装置。
The translucent member includes a silicone resin,
19. The light emitting device according to claim 14, wherein the silicone resin contains an organic polysiloxane having a D unit in which two methyl groups are bonded to silicon atoms.
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