JP2020091203A - Projection device and three-dimensional measuring device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、位相シフト法などのパターン投影法を利用した三次元計測を行うにあたり、所定のパターン光を投影する投影装置及びこれを備えた三次元計測装置に関するものである。 The present invention relates to a projection device that projects a predetermined pattern of light when performing three-dimensional measurement using a pattern projection method such as a phase shift method, and a three-dimensional measurement device including the projection device.
一般に、プリント基板上に電子部品を実装する場合、まずプリント基板上に配設された所定の電極パターン上にクリーム半田が印刷される。次に、該クリーム半田の粘性に基づいてプリント基板上に電子部品が仮止めされる。その後、前記プリント基板がリフロー炉へ導かれ、所定のリフロー工程を経ることで半田付けが行われる。昨今では、リフロー炉に導かれる前段階においてクリーム半田の印刷状態を検査する必要があり、かかる検査に際して三次元計測装置が用いられることがある。 Generally, when an electronic component is mounted on a printed circuit board, cream solder is first printed on a predetermined electrode pattern arranged on the printed circuit board. Next, the electronic component is temporarily fixed on the printed board based on the viscosity of the cream solder. After that, the printed circuit board is introduced into a reflow furnace and soldered by performing a predetermined reflow process. Nowadays, it is necessary to inspect the printed state of the cream solder before it is introduced into the reflow furnace, and a three-dimensional measuring device may be used for such inspection.
従来、所定のパターン光を投影して三次元計測を行う三次元計測装置が種々提案されている。中でも、位相シフト法を利用した三次元計測装置がよく知られている。 Conventionally, various three-dimensional measuring devices have been proposed that project a predetermined pattern of light to perform three-dimensional measurement. Among them, a three-dimensional measuring device using the phase shift method is well known.
位相シフト法を利用した三次元計測装置は、プリント基板等の被計測物に対し、縞状の光強度分布を有するパターン光(以下、「縞パターン」という)を斜め上方より投影する投影装置と、該縞パターンの投影された被計測物を撮像する撮像装置とを備えている。 A three-dimensional measurement device using the phase shift method is a projection device that projects pattern light having a striped light intensity distribution (hereinafter, referred to as “striped pattern”) onto an object to be measured such as a printed circuit board from diagonally above. , And an image pickup device for picking up an image of the measured object on which the stripe pattern is projected.
投影装置は、所定の光を発する光源と、該光源からの光を縞パターンに変換するパターン生成部とを備え、ここで生成された縞パターンが投影レンズ等からなる投影光学系を介して被計測物に対し投影される。 The projection device includes a light source that emits a predetermined light and a pattern generation unit that converts the light from the light source into a striped pattern, and the striped pattern generated here is projected through a projection optical system including a projection lens or the like. It is projected on the measured object.
かかる構成の下、被計測物に投影される縞パターンの位相を複数通り(例えば4通り)にシフトさせると共に、位相の異なる各縞パターンの下で撮像を行い、被計測物に係る複数通りの画像データを取得する。そして、これらの画像データを基に被計測物の三次元計測を行う。 Under such a configuration, the phase of the stripe pattern projected on the object to be measured is shifted in a plurality of ways (for example, four ways), and imaging is performed under each of the stripe patterns having different phases, so that a plurality of patterns related to the object to be measured are obtained. Get image data. Then, three-dimensional measurement of the object to be measured is performed based on these image data.
但し、実際に高さ計測される計測対象には、高さの高いものもあれば低いものもある。例えばクリーム半田に関して言えば、従来の一般的なプリント基板上に印刷されるクリーム半田の高さは通常100μm程度であるが、近年、自動車の電動化に伴い増加している車載用プリント基板等においては、パワー回路等が搭載されるため、クリーム半田の高さが300〜400μm程度となる場合もある。 However, some of the measurement targets whose heights are actually measured are high in height and low in height. For example, regarding cream solder, the height of the cream solder printed on a conventional general printed circuit board is usually about 100 μm. Since the power circuit and the like are mounted, the height of the cream solder may be about 300 to 400 μm.
ここで、例えば車載用プリント基板に合わせて、投影する縞パターンの周期を従来よりも長くした三次元計測装置を用いれば、高さのダイナミックレンジが増え、車載用プリント基板の計測は可能となるものの、これを従来の一般的なプリント基板の計測に用いた場合には、高さ分解能が粗くなり、計測精度が悪化してしまうおそれがある。 Here, for example, if a three-dimensional measuring device in which the period of the projected stripe pattern is made longer than in the past according to the vehicle printed circuit board is used, the height dynamic range is increased and the vehicle printed circuit board can be measured. However, when this is used for the measurement of the conventional general printed circuit board, the height resolution becomes rough and the measurement accuracy may be deteriorated.
従って、三次元計測装置に汎用性を持たせるためには、プリント基板等の被計測物の凹凸度合いが大きい場合には周期の長い縞パターンを投影し、凹凸度合いが小さい場合には周期の短い縞パターンを投影するといったように、被計測物の凹凸度合いに応じた縞パターンを投影する必要がある。 Therefore, in order to make the three-dimensional measuring device versatile, a striped pattern having a long cycle is projected when the degree of unevenness of an object to be measured such as a printed circuit board is large, and a short cycle when the degree of unevenness is small. It is necessary to project a striped pattern according to the degree of unevenness of the measured object, such as projecting a striped pattern.
しかしながら、パターン生成部として、フィルムやガラス板などに格子を印刷した従来の格子板を用いた場合には、印刷された格子の幅やピッチを変更できないため、被計測物に投影される縞パターンは一定となる。 However, when a conventional grid plate in which a grid is printed on a film or a glass plate is used as the pattern generation unit, the width and pitch of the printed grid cannot be changed, so the stripe pattern projected on the measured object. Is constant.
そのため、仮に格子板を用いる三次元計測装置によって、被計測物の凹凸度合いに応じて異なる縞パターンを投影しようとした場合には、印刷された格子の幅やピッチが異なる格子板を予め複数用意しておき、被計測物の凹凸度合いに応じて、これらの格子板を使い分ける必要が生じる。このように、その都度、格子板を交換しなければならない三次元計測装置は、利便性が悪く、生産性の低下を招くおそれがある。 Therefore, if an attempt is made to project different stripe patterns depending on the degree of unevenness of the object to be measured by a three-dimensional measuring device using a grid plate, a plurality of grid plates with different printed grid widths or pitches are prepared in advance. However, it is necessary to use these lattice plates properly according to the degree of unevenness of the measured object. As described above, the three-dimensional measuring device in which the grid plate has to be replaced each time is inconvenient and may cause a decrease in productivity.
一方、パターン生成部として、複数の画素がマトリクス状に二次元配列されてなる液晶素子などを用いた三次元計測装置なども見受けられる。 On the other hand, as a pattern generation unit, a three-dimensional measurement device using a liquid crystal element in which a plurality of pixels are two-dimensionally arranged in a matrix is also found.
しかしながら、従来の液晶素子は画素と画素の間が暗部となることから、生成される縞パターンが微視的には不連続なものとなるため、被計測物に投影される縞パターンが、想定した縞パターンとならず、三次元計測の計測精度が低下するおそれがある。 However, since the conventional liquid crystal element has a dark portion between pixels, the generated stripe pattern is microscopically discontinuous, so that the stripe pattern projected on the measured object is assumed. The striped pattern is not formed, and the measurement accuracy of the three-dimensional measurement may be reduced.
これに対し、近年では、上記不具合を解消するため特殊な液晶素子を用いて、被計測物の凹凸度合いに応じて格子の幅やピッチを変更し、周期の異なる縞パターンを投影可能とした三次元計測装置も見受けられる(例えば、特許文献1参照)。 On the other hand, in recent years, in order to solve the above problems, a special liquid crystal element is used to change the width and pitch of the lattice according to the degree of unevenness of the object to be measured, which makes it possible to project a stripe pattern with different periods An original measuring device can also be seen (for example, refer to Patent Document 1).
具体的に、特許文献1に記載された三次元計測装置は、液晶素子に一定のピッチと幅を有するストライブ状の電極をN本形成し、3あるいは4の倍数の電極数nで前記ストライブ状電極をN/n個のグループに分割し、各々のグループごとに正弦波状の強度分布を有する格子を1本ずつ作成し、前記電極数nに応じて前記正弦波の一周期をn等分に分割し、該分割された各々の領域の正弦波の振幅と、該正弦波のバイアス強度との和の強度に対応する液晶駆動信号を前記ストライブ電極の各々に印加して正弦波強度分布を有する格子パターン(縞パターン)をN/n本発生させると共に、該格子パターンの一周期を3あるいは4分割した周期を単位とし、前記ストライブ電極に印加する前記の液晶駆動信号の電圧印加の配列を順次変化させ、前記格子パターンの位相を2π/3、あるいはπ/2ピッチごとにシフトさせ、前記電極数nを変化させることによって測定される物体の表面形状に適する格子パターンを形成するように構成されている。
Specifically, the three-dimensional measuring apparatus described in
しかしながら、特許文献1に係る構成では、上述した特殊な液晶素子が必要となり、投影装置の製造コストが増大するおそれがある。
However, the configuration according to
さらに、液晶素子は、偏光フィルタを介するため、被計測物に投影される縞パターンが暗くなるおそれがある。結果として、精度の良い輝度画像データを取得できず、三次元計測の計測精度が低下するおそれがある。 Further, since the liquid crystal element passes through the polarization filter, the stripe pattern projected on the measured object may be dark. As a result, accurate luminance image data cannot be acquired, and the measurement accuracy of the three-dimensional measurement may decrease.
尚、上記課題は、必ずしもプリント基板上に印刷されたクリーム半田等の三次元計測に限らず、他の三次元計測の分野においても内在するものである。勿論、位相シフト法に限られる問題ではない。 The above problem is not limited to three-dimensional measurement of cream solder or the like printed on a printed circuit board, but is inherent in other three-dimensional measurement fields. Of course, the problem is not limited to the phase shift method.
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、パターン投影法を利用した三次元計測を行うにあたり計測精度の向上等を図ることのできる投影装置及び三次元計測装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a projection apparatus and a three-dimensional measurement apparatus capable of improving the measurement accuracy when performing three-dimensional measurement using the pattern projection method. To do.
以下、上記課題を解決するのに適した各手段につき項分けして説明する。なお、必要に応じて対応する手段に特有の作用効果を付記する。 Hereinafter, each means suitable for solving the above-mentioned problems will be described by itemizing. In addition, the action and effect peculiar to the corresponding means will be additionally described as needed.
手段1.所定の被計測物(例えばプリント基板)に係る三次元計測を行うにあたり、前記被計測物に対し所定のパターン光を投影する投影装置であって、
所定の光を発する光源と、
前記光源から入射する光を前記パターン光に変換する格子部材と、
前記格子部材から出射される前記パターン光を前記被計測物に対し結像させる投影光学系とを備え、
前記投影光学系は、
その光軸方向に対し前記格子部材側に位置する格子側レンズと、前記被計測物側に位置する被計測物側レンズとを備えた両側テレセントリック光学系により構成され、
前記格子部材及び前記格子側レンズ間の光路長(光学的距離)、並びに、前記被計測物側レンズ及び前記被計測物間の光路長を維持しつつ、前記格子側レンズ及び前記被計測物側レンズ間の光路長を変更可能な光路長変更手段を備えていることを特徴とする投影装置。
A light source that emits predetermined light,
A grating member for converting the light incident from the light source into the pattern light;
A projection optical system for forming an image of the pattern light emitted from the grating member on the object to be measured,
The projection optical system is
A grating side lens positioned on the grating member side with respect to the optical axis direction, and a both-side telecentric optical system including a measured object side lens positioned on the measured object side,
While maintaining the optical path length (optical distance) between the grating member and the lens on the grating side, and the optical path length between the lens on the object to be measured and the object to be measured, the lens on the grating side and the object to be measured side A projection apparatus comprising an optical path length changing means capable of changing an optical path length between lenses.
尚、「格子部材」には、例えばガラスやアクリル樹脂などの透光素材により平板状又はフィルム状に形成された基材上に格子が印刷(蒸着)形成されたものや、不透明樹脂や金属等を加工しスリット等を開口形成することにより格子を形成したものなどが含まれる。 The "lattice member" is, for example, one in which a lattice is printed (deposited) on a flat or film-shaped substrate made of a translucent material such as glass or acrylic resin, or an opaque resin or metal. And a lattice is formed by forming slits and the like to form openings, and the like.
上記手段1によれば、光源からの光をパターン光に変換するパターン生成部として格子部材を用いることにより、液晶格子等を用いた場合よりも明るいパターン光の投影が可能となると共に、上記光路長変更手段を備えることにより、該格子を交換することなく、被計測物に対し投影するパターン光の周期(ピッチ)を変更することが可能となる。
According to the
また、ガラス板等の基材上に格子が印刷された既存の格子板など、安価な格子部材を用いることができるため、液晶素子等の高価な光学制御素子をパターン生成部として用いた場合に比べ、パターン生成部の製造コストを抑制することができる。 In addition, since an inexpensive lattice member such as an existing lattice plate in which a lattice is printed on a substrate such as a glass plate can be used, when an expensive optical control element such as a liquid crystal element is used as the pattern generation unit. In comparison, the manufacturing cost of the pattern generation unit can be suppressed.
さらに、既存の液晶素子等を用いた場合のように、画素の制御を行う必要もなく、制御の簡素化を図ることができると共に、生成されるパターン光が微視的に不連続となることもないため、より理想的なパターン光を被計測物に対し投影することが可能となる。 Further, unlike the case of using an existing liquid crystal element or the like, it is not necessary to control the pixel, the control can be simplified, and the generated pattern light is microscopically discontinuous. Therefore, it becomes possible to project a more ideal pattern light onto the object to be measured.
加えて、光路長変更手段は、両側テレセントリック光学系を利用した上で、格子部材及び格子側レンズ間の光路長、並びに、被計測物側レンズ及び被計測物間の光路長を維持しつつ、格子側レンズ及び被計測物側レンズ間の光路長を変更する構成となっているため、パターン光の周期を変更する度に、その都度、ピント調整等を行う必要がない。 In addition, the optical path length changing means uses the both-side telecentric optical system, and while maintaining the optical path length between the grating member and the grating side lens, and the optical path length between the measured object side lens and the measured object, Since the optical path length between the lens on the grating side and the lens on the measured object side is changed, it is not necessary to adjust the focus each time the cycle of the pattern light is changed.
仮に投影光学系が両側テレセントリック光学系により構成されていない場合には、格子側レンズ及び被計測物側レンズ間の光路長を変化させる際に合焦位置も変化してしまうため、ピント調整を行うための何らかの補正機構が必要となる。 If the projection optical system is not composed of a telecentric optical system on both sides, the focus position also changes when changing the optical path length between the lens on the grating side and the lens on the measured object side, so focus adjustment is performed. Therefore, some kind of correction mechanism is required.
換言すれば、本手段では、このような補正機構を備える必要がなく、装置の構成や制御のさらなる簡素化を図ることができる。 In other words, this means does not need to have such a correction mechanism, and the configuration and control of the device can be further simplified.
手段2.前記光路長変更手段は、
前記光軸方向における前記格子部材及び前記格子側レンズ間の相対位置関係(物理的距離)、並びに、前記光軸方向における前記被計測物側レンズ及び前記被計測物間の相対位置関係を維持しつつ、前記光軸方向における前記格子側レンズ及び前記被計測物側レンズ間の相対位置関係を変更可能な構成を有していることを特徴とする手段1に記載の投影装置。
Maintaining the relative positional relationship (physical distance) between the grating member and the grating side lens in the optical axis direction, and the relative positional relationship between the measured object side lens and the measured object in the optical axis direction. At the same time, the projection apparatus according to
上記手段2によれば、既存の光学ズーム機構を用いて、上記手段1に係る構成を実現可能となるため、構造や制御の簡素化を図ると共に、製造コストを抑制することができる。 According to the above means 2, the configuration according to the above means 1 can be realized by using the existing optical zoom mechanism, so that the structure and control can be simplified and the manufacturing cost can be suppressed.
手段3.前記光路長変更手段は、
前記格子部材及び前記格子側レンズ間の相対位置関係を維持しつつ、該格子部材及び格子側レンズを移動させる移動手段を備えることにより、前記格子側レンズ及び前記被計測物側レンズ間の相対位置関係を変更可能な構成を有していることを特徴とする手段2に記載の投影装置。
The relative position between the grating side lens and the DUT side lens is provided by providing a moving means for moving the grating member and the grating side lens while maintaining the relative positional relationship between the grating member and the grating side lens. 3. The projection apparatus according to
格子部材と格子側レンズに関しては、単一の移動手段により、まとめて移動させることが可能である。一方、被計測物側レンズと被計測物に関しては、両者の相対位置関係を維持しつつ移動させようとした場合、それぞれ別々の移動手段を設けると共に、これらを同期制御する必要があり、構造や制御が極めて複雑化するおそれがある。また、より大掛かりな機構が必要となり、装置が大型化するおそれがあると共に、素早い動きが難しく周期変更速度の低下、ひいては計測速度の低下が懸念される。 The grating member and the lens on the grating side can be moved together by a single moving means. On the other hand, regarding the object-to-be-measured lens and the object to be measured, when it is attempted to move them while maintaining the relative positional relationship between them, it is necessary to provide separate moving means for each and to control them synchronously. Control can be extremely complicated. Further, a larger-scale mechanism is required, which may increase the size of the apparatus, and it is difficult to perform a quick movement, and there is a concern that the cycle changing speed is lowered and the measurement speed is lowered.
この点、上記手段3によれば、このような不具合を発生させることなく、上記手段1の作用効果を得ることができる。
In this respect, according to the
手段4.前記光路長変更手段は、入射面から出射面までの光路長を変更可能な可変レンズ(例えば液体レンズ)により構成されていることを特徴とする手段1に記載の投影装置。
上記手段4によれば、格子部材及び格子側レンズの相対位置関係、格子側レンズ及び被計測物側レンズの相対位置関係、並びに、被計測物側レンズ及び被計測物の相対位置関係を変更することなく、格子側レンズ及び被計測物側レンズ間の光路長を変更することができる。 According to the above means 4, the relative positional relationship between the grating member and the grating side lens, the relative positional relationship between the grating side lens and the measured object side lens, and the relative positional relationship between the measured object side lens and the measured object are changed. Without changing the optical path length between the grating side lens and the measured object side lens.
上記可変レンズを用いることにより、光路長変更手段に係る構成をコンパクトにすることができる。また、素早い動きが可能となり、周期変更速度の向上、ひいては計測速度の向上を図ることができる。 By using the variable lens described above, the configuration relating to the optical path length changing unit can be made compact. In addition, quick movement is possible, and the cycle changing speed can be improved, which in turn can improve the measurement speed.
また、格子側レンズ等を物理的に移動する際に発生し得る振動等を抑制することができる。結果として、より精度のよいパターン光を投影することができ、計測精度の向上を図ることができる。 Further, it is possible to suppress vibrations or the like that may occur when the grating side lens or the like is physically moved. As a result, more accurate pattern light can be projected, and the measurement accuracy can be improved.
手段5.前記被計測物に対して、前記格子部材及び前記投影光学系の主面がシャインプルーフの条件を満たすように配置されることを特徴とする手段1乃至4のいずれかに記載の投影装置。
上記手段5によれば、格子板(格子印刷面)を含む平面と、投影光学系の主面を含む平面と、被計測物(パターン投影面)を含む平面とがシャインプルーフの条件を満たすように、同一直線上で互いに交わるように設定されることにより、被計測物上の投影範囲全域に対しパターン光を合焦状態で投影することができる。 According to the above means 5, the plane including the lattice plate (lattice printing surface), the plane including the main surface of the projection optical system, and the plane including the DUT (pattern projection surface) satisfy the Scheimpflug condition. In addition, the pattern light can be projected in the focused state over the entire projection range on the object to be measured by setting the lines so as to intersect with each other on the same straight line.
結果として、パターン投影法を利用した三次元計測を行うにあたり、計測精度の良いパターン光を投影することができる。 As a result, when performing three-dimensional measurement using the pattern projection method, it is possible to project pattern light with high measurement accuracy.
尚、格子側レンズと被計測物側レンズの光路長(相対位置関係)が変化した場合においても、シャインプルーフの条件は満たされるため、投影するパターン光の周期を変更する場合においても、その前後で格子部材等の傾き調整を行う必要はない。 Even when the optical path length (relative positional relationship) between the lens on the grating side and the lens on the object to be measured changes, the Scheimpflug condition is satisfied, so even when the cycle of the projected pattern light is changed, Therefore, it is not necessary to adjust the inclination of the lattice member or the like.
手段6.前記パターン光として、縞状(例えば正弦波状)の光強度分布を有するパターン光を投影可能に構成されていることを特徴とする手段1乃至5のいずれかに記載の投影装置。
Means 6. 6. The projection apparatus according to any one of
上記手段6によれば、縞状の光強度分布を有するパターン光を投影することにより、位相シフト法による三次元計測を行うことができる。結果として、三次元計測の計測精度の向上等を図ることができる。 According to the above means 6, by projecting the pattern light having the striped light intensity distribution, it is possible to perform the three-dimensional measurement by the phase shift method. As a result, it is possible to improve the measurement accuracy of the three-dimensional measurement.
位相シフト法のように、位相の異なるパターン光の下で撮像し取得した複数の画像データの輝度値の違いを基に三次元計測を行う構成においては、輝度値の誤差が僅かであっても、計測精度に多大な影響を与えるおそれがある。従って、本手段に係る構成の下において上記各手段の作用効果がより奏功することとなる。特に正弦波状の光強度分布を有するパターン光は、光強度分布(波形)が崩れやすいため、高い投影精度が要求される。 In the configuration such as the phase shift method in which the three-dimensional measurement is performed based on the difference in the brightness value of the plurality of image data acquired by capturing under the pattern light having different phases, even if the error in the brightness value is small, , The measurement accuracy may be greatly affected. Therefore, under the configuration according to the present means, the action and effect of each of the above means will be more successful. In particular, pattern light having a sinusoidal light intensity distribution is likely to collapse the light intensity distribution (waveform), and thus high projection accuracy is required.
手段7.手段1乃至6のいずれかに記載の投影装置と、
前記パターン光の投影された前記被計測物の所定範囲を撮像可能な撮像手段と、
前記撮像手段により撮像され取得された画像データを基に前記被計測物に係る三次元計測を実行可能な画像処理手段とを備えたことを特徴とする三次元計測装置。
Means 7. A projection device according to any one of
An image capturing unit capable of capturing an image of a predetermined range of the measured object onto which the pattern light is projected;
A three-dimensional measuring device comprising: an image processing unit capable of performing three-dimensional measurement of the object to be measured based on the image data captured and acquired by the image capturing unit.
上記手段7によれば、手段1乃至6のいずれかに記載の投影装置から投影されるパターン光を利用して三次元計測を行うことができる。通常、パターン投影法を利用した三次元計測を行う際には、所定の光源から出射された光をパターン生成部(格子部材)において所定のパターン光に変換し、投影光学系を介して被計測物に対し投影する。そして、パターン光の投影された被計測物を撮像手段により撮像し、取得した画像データを基に被計測物の三次元計測を行う。
According to the above means 7, three-dimensional measurement can be performed by using the pattern light projected from the projection device according to any one of the
より具体的に、上記手段6に記載の投影装置から投影されるパターン光を利用して位相シフト法による三次元計測を行う三次元計測装置としては、
「手段6に記載の投影装置と、
前記パターン光の投影された前記被計測物の所定範囲を撮像可能な撮像手段と、
前記投影装置によって投影されるパターン光と、前記被計測物との相対位置関係(位相)を変位させる変位手段と、
前記パターン光と前記被計測物との相対位置関係が異なる状態で、前記撮像手段により撮像され取得された前記被計測物に係る複数の画像データを基に位相シフト法により前記被計測物に係る三次元計測を実行可能な画像処理手段とを備えたことを特徴とする三次元計測装置。」が一例に挙げられる。
More specifically, as a three-dimensional measurement device that performs three-dimensional measurement by the phase shift method using the pattern light projected from the projection device according to the above means 6,
“A projection device according to means 6,
An image capturing unit capable of capturing an image of a predetermined range of the measured object onto which the pattern light is projected;
Displacement means for displacing the relative positional relationship (phase) between the pattern light projected by the projection device and the object to be measured,
In a state where the relative positional relationship between the pattern light and the measured object is different, the measured object is related to the measured object by a phase shift method based on a plurality of image data of the measured object captured and captured by the imaging unit. A three-dimensional measuring apparatus, comprising: an image processing unit capable of performing three-dimensional measurement. Is given as an example.
尚、上記「被計測物」としては、例えばクリーム半田が印刷されたプリント基板などが挙げられる。つまり、上記各手段に記載の投影装置を用いることにより、プリント基板に印刷されたクリーム半田の三次元計測を行うことができる。ひいては、クリーム半田の検査において、その計測値に基づいてクリーム半田の良否判定を行うことができる。従って、かかる検査において、上記各手段の作用効果が奏されることとなり、精度よく良否判定を行うことができる。結果として、半田印刷検査装置における検査精度の向上を図ることができる。 Examples of the "measurement object" include a printed circuit board on which cream solder is printed. That is, by using the projection device described in each of the above means, it is possible to perform three-dimensional measurement of the cream solder printed on the printed circuit board. As a result, in the inspection of the cream solder, the quality of the cream solder can be judged based on the measured value. Therefore, in such an inspection, the effects of each of the above-described means are exhibited, and it is possible to accurately determine the quality. As a result, it is possible to improve the inspection accuracy in the solder printing inspection device.
〔第1実施形態〕
以下、一実施形態について図面を参照しつつ説明する。まず本実施形態において被計測物となるプリント基板1の構成について詳しく説明する(図2,3参照)。図2は、プリント基板1の概略構成を示す平面模式図である。図3は、プリント基板1の断面模式図である。
[First Embodiment]
Hereinafter, an embodiment will be described with reference to the drawings. First, the configuration of the printed
図2,3に示すように、プリント基板1は、ガラスエポキシ樹脂等からなる平板状のベース基板2の表面上に、銅箔からなる電極パターン3Aやランド3Bが形成されてなる。ベース基板2の表面上には、ランド3B及びその近傍を除く部分にレジスト膜4がコーティングされている。そして、ランド3B上にクリーム半田5が印刷される。
As shown in FIGS. 2 and 3, the printed
尚、本実施形態に係るプリント基板1は、例えば電気自動車などに搭載される車載用プリント基板であって、インバータ回路など、比較的大きな負荷電流が流れる電子部品が実装されるパワー回路部PAや、これを制御する制御回路など、比較的小さな信号電流が流れる電子部品が実装される制御回路部PBが混在した構成となっている。
The printed
次に、本実施形態における三次元計測装置を構成する基板検査装置10について詳しく説明する(図1参照)。図1は、基板検査装置10の概略構成を示す模式図である。以下、図1の紙面左右方向を「X軸方向」とし、紙面前後方向を「Y軸方向」とし、紙面上下方向(鉛直方向)を「Z軸方向」として説明する。
Next, the
基板検査装置10は、プリント基板1に印刷されたクリーム半田5の印刷状態を検査する半田印刷検査装置である。基板検査装置10は、プリント基板1の搬送や位置決め等を行う搬送機構11と、プリント基板1の検査を行うための検査ユニット12と、搬送機構11や検査ユニット12の駆動制御など基板検査装置10内における各種制御や画像処理、演算処理を実施するための制御装置13(図7参照)とを備えている。
The
搬送機構11は、プリント基板1の搬送方向(Y軸方向)に沿って配置された一対の搬送レール11aと、各搬送レール11aに対し回転可能に配設された無端のコンベアベルト11bと、該コンベアベルト11bを駆動するモータ等の駆動手段(図示略)と、プリント基板1を所定位置に位置決めするためのチャック機構(図示略)と備え、制御装置13により駆動制御される。
The
上記構成の下、基板検査装置10へ搬入されたプリント基板1は、搬送方向と直交する幅方向(X軸方向)の両側縁部がそれぞれ搬送レール11aに挿し込まれると共に、コンベアベルト11b上に載置される。続いて、コンベアベルト11bが動作を開始し、プリント基板1が所定の検査位置まで搬送される。プリント基板1が検査位置に達すると、コンベアベルト11bが停止すると共に、チャック機構が作動する。このチャック機構の動作により、コンベアベルト11bが押し上げられ、コンベアベルト11bと搬送レール11aの上辺部によってプリント基板1の両側縁部が挟持された状態となる。これにより、プリント基板1が検査位置に位置決め固定される。検査が終了すると、チャック機構による固定が解除されると共に、コンベアベルト11bが動作を開始する。これにより、プリント基板1は、基板検査装置10から搬出される。勿論、搬送機構11の構成は、上記形態に限定されるものではなく、他の構成を採用してもよい。
Under the above configuration, the printed
検査ユニット12は、プリント基板1の搬送路(一対の搬送レール11a)の上方に配設されている。検査ユニット12は、プリント基板1上の所定の検査範囲に対し斜め上方から縞パターンW(図4参照)を投影する投影装置14と、該縞パターンWの投影されたプリント基板1上の所定の検査範囲を真上から撮像する撮像手段としてのカメラ15と、X軸方向への移動を可能とするX軸移動機構16(図7参照)と、Y軸方向への移動を可能とするY軸移動機構17(図7参照)とを備え、制御装置13により駆動制御される。
The
尚、図2に示すように、プリント基板1上の所定の検査範囲は、カメラ15の撮像視野(撮像範囲)Kの大きさを1単位としてプリント基板1上に予め設定された複数のエリア(検査範囲「1」〜「15」)のうちの1つのエリアである。
As shown in FIG. 2, the predetermined inspection range on the printed
制御装置13は、X軸移動機構16及びY軸移動機構17を駆動制御することにより、検査ユニット12(撮像視野K)を、検査位置に位置決め固定されたプリント基板1上の任意の検査範囲の上方位置へ移動することができる。そして、プリント基板1上に設定された複数の検査範囲に検査ユニット12を順次移動させつつ、各検査範囲に係る検査処理を実行していくことで、プリント基板1全域に係る半田印刷検査を実行する構成となっている。
The
投影装置14は、図5に示すように、所定の光を発する光源19と、該光源19からの光を縞パターンWに変換する格子部材としての格子板20と、該格子板20を移動させる格子移動機構(図示略)と、格子板20により生成された縞パターンWをプリント基板1上に結像する投影光学系としての投影レンズ群21と、プリント基板1に投影される縞パターンWの周期を変更可能なパターン周期変更機構22(図6参照)とを備え、制御装置13により駆動制御される。「パターン周期変更機構22」により本実施形態における「光路長変更手段」が構成される。
As shown in FIG. 5, the
投影装置14は、その光軸J1がX−Z平面に平行し、かつ、Z軸方向に対し所定角度α(例えば30°)傾斜するように配置されている。
The
光源19は、白色光を出射するハロゲンランプにより構成されている。光源19から出射された光は、図示しない前処理レンズ群等を介して平行光化された状態で光軸J1に沿って格子板20に入射する。
The
格子板20は、所定の透光素材(例えばガラスやアクリル樹脂等)により平板状又はフィルム状に形成された基材上に格子23が印刷(蒸着)形成されてなる。本実施形態では、格子23の印刷面(格子面)が投影レンズ群21側、すなわち光の出射側に向くように格子板20が配置されている。
The
格子23は、Y軸方向に沿って直線状に形成された透光部23a及び遮光部23bがX−Z平面において交互に並ぶように構成されている。
The grating 23 is configured such that the light-transmitting
投影レンズ群21は、入射側レンズ25及び出射側レンズ26を有し、これら両レンズ25,26により両側テレセントリック光学系(両側テレセントリックレンズ)として構成されている。
The
ここで、入射側レンズ25は、格子板20から出射された光(縞パターンW)を集光するものであり、入射側で光軸J1と主光線とが平行となるテレセントリック構造を有する。入射側レンズ25が本実施形態における格子側レンズに相当する。
Here, the
出射側レンズ26は、入射側レンズ25を透過した光(縞パターンW)の像をプリント基板1上に結像させるためのものであり、出射側で光軸J1と主光線とが平行となるテレセントリック構造を有する。出射側レンズ26が本実施形態における被計測物側レンズに相当する。
The
次にパターン周期変更機構22について図6を参照して詳しく説明する。図6に示すように、パターン周期変更機構22は、光軸J1方向(図6左右方向)に沿って設けられかつ出射側レンズ26が取付けられる固定筒部22Aと、該固定筒部22Aに対し光軸J1方向に沿って変位可能に設けられかつ格子板20及び入射側レンズ25が取付けられる可動筒部22Bと、該可動筒部22Bを光軸J1方向にスライド変位させる移動手段としてのスライド機構(図示略)と備え、制御装置13により駆動制御される。
Next, the pattern
かかる構成により、光軸J1方向における格子板20及び入射側レンズ25間の距離Lf1、並びに、光軸J1方向における出射側レンズ26及びプリント基板1間の距離Lf2を維持しつつ、光軸J1方向における入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の距離Lsを変更可能となる〔図6(a),(b)参照〕。
With this configuration, while maintaining the distance Lf1 between the
結果として、投影装置14は、周期(縞ピッチ)の異なる複数種類の縞パターンWを切換えて投影可能となる。本実施形態では、第1周期300μm(高さ分解能3μm)の第1縞パターンW1と、第2周期1000μm(高さ分解能10μm)の第2縞パターンW2の2種類の縞パターンWを切換えて投影可能に構成されている。ここで「第1周期300μm」が「短周期」に相当し、「第2周期1000μm」が「長周期」に相当する。
As a result, the
より詳しくは、パターン周期変更機構22を駆動制御し、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の距離Lsを第1距離Ls1に設定することにより〔図6(a)参照〕、プリント基板1上に投影される縞パターンWを短周期の第1縞パターンW1に設定することができる。第1縞パターンW1を投影することにより、0μm〜300μmの高さ範囲内にあるクリーム半田5を「3μm」刻みの精度で計測することができる。
More specifically, the pattern
一方、パターン周期変更機構22を駆動制御し、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の距離Lsを第2距離Ls2に設定することにより〔図6(b)参照〕、プリント基板1上に投影される縞パターンWを長周期の第2縞パターンW2に設定することができる。第2縞パターンW2を投影することにより、0μm〜1000μmの高さ範囲内にあるクリーム半田5を「10μm」刻みの精度で計測することができる。
On the other hand, by driving and controlling the pattern
さらに、本実施形態に係る投影装置14においては、プリント基板1上に投影される縞パターンWが投影範囲(本実施形態では撮像視野Kと同一範囲)全域において合焦するように、光軸J1に対し格子板20が傾くように設定されている(図5参照)。但し、図6(a),(b)においては、構成の簡素化を図るため、格子板20が光軸J1方向(図6左右方向)に対し傾くことなく、その入射面20a及び出射面(格子面)20bが光軸J1に直交するように配置された状態で図示されている。
Further, in the
具体的には、プリント基板1に対して、格子板20の出射面20b及び投影レンズ群21の主面がシャインプルーフの条件を満たすように設定されている。
Specifically, with respect to the printed
ここで、シャインプルーフの原理について図5を参照して説明する。シャインプルーフの原理とは、格子板20の出射面20bを含む平面S1と、投影レンズ群21の主面を含む平面S2とが同一直線C(図5上の点Cにおける紙面に垂直な直線)上で交わる場合、縞パターンWが合焦状態で投影される物体面S3も同一直線C上で交わるというものである。従って、このようなシャインプルーフの原理に基づく条件は、格子板20の出射面20bを含む平面S1と、投影レンズ群21の主面を含む平面S2と、プリント基板1の表面(投影面)を含む平面S3が同一直線C上で互いに交わることである。
Here, the principle of Scheimpflug will be described with reference to FIG. The Scheimpflug principle is that a plane S1 including the
上記構成の下、投影装置14において、光源19から出射された光は、格子板20の入射面20aに対し入射する。そして、格子板20内を光軸J1に沿って直進する。格子板20内を透過した光は、格子板20の出射面(格子面)20bから縞パターンWとして出射される。そして、投影レンズ群21を介してプリント基板1上に投影される。
With the above configuration, in the
これにより、本実施形態では、図4に示すように、プリント基板1の搬送方向(Y軸方向)に平行な縞パターンWが投影されることとなる。
As a result, in the present embodiment, as shown in FIG. 4, the stripe pattern W parallel to the transport direction (Y-axis direction) of the printed
尚、通常、格子23を通過する光は完全な平行光でなく、透光部23a及び遮光部23bの境界部における回折作用等に起因して、縞パターンWの「明部」及び「暗部」の境界部に中間階調域が生じることとなる。そのため、プリント基板1に対し投影される縞パターンWは、プリント基板1の搬送方向(Y軸方向)と直交する方向(X軸方向)に沿って正弦波状の光強度分布を有するパターン光となる。但し、図4では、簡略化のため、中間階調域を省略し、明暗2値の縞模様で縞パターンWを図示している。
It should be noted that the light passing through the grating 23 is not a perfect parallel light in general, and the "bright part" and the "dark part" of the stripe pattern W are caused by the diffraction effect or the like at the boundary between the light transmitting
カメラ15は、図1に示すように、複数の受光素子が二次元配列された受光面を有する撮像素子15aと、該撮像素子15aに対し、縞パターンWが投影されたプリント基板1の撮像視野Kの像を結像させる撮像光学系としての撮像レンズユニット15bとを有し、その光軸J2がプリント基板1の上面に垂直な鉛直方向(Z軸方向)に沿って設定されている。本実施形態では、撮像素子15aとしてCCDエリアセンサを採用している。
As shown in FIG. 1, the
撮像レンズユニット15bは、物体側レンズ、開口絞り、像側レンズ等を一体に備えた両側テレセントリックレンズ(両側テレセントリック光学系)により構成されている。但し、図1においては、簡素化のため、撮像レンズユニット15bを1つのレンズとして図示している。
The
ここで、物体側レンズは、プリント基板1からの反射光を集光するものであり、物体側で光軸J2と主光線とが平行となるテレセントリック構造を有する。また、像側レンズは、物体側レンズから開口絞りを透過した光を撮像素子15aの受光面に結像させるためのものであり、像側で光軸J2と主光線とが平行となるテレセントリック構造を有する。
Here, the object side lens collects the reflected light from the printed
カメラ15によって撮像され取得された画像データは、随時、該カメラ15内部においてデジタル信号に変換された上で、デジタル信号の形で制御装置13に入力され、後述する画像データ記憶装置44に記憶される。そして、制御装置13は、該画像データを基に、後述するような画像処理や演算処理等を実施する。制御装置13が本実施形態における画像処理手段を構成する。
The image data captured and acquired by the
次に制御装置13の電気的構成について図7を参照して説明する。図7は、基板検査装置10の電気的構成を示すブロック図である。
Next, the electrical configuration of the
図7に示すように、制御装置13は、基板検査装置10全体の制御を司るマイクロコンピュータ41、キーボードやマウス、タッチパネル等で構成される「入力手段」としての入力装置42、CRTや液晶などの表示画面を有する「表示手段」としての表示装置43、カメラ15により撮像され取得された画像データなどを記憶するための画像データ記憶装置44、該画像データに基づいて得られた三次元計測結果など、各種演算結果を記憶するための演算結果記憶装置45、ガーバデータなどの各種情報を予め記憶しておくための設定データ記憶装置46などを備えている。
As shown in FIG. 7, the
マイクロコンピュータ41は、演算手段としてのCPU41aや、各種プログラムを記憶するROM41b、演算データや入出力データなどの各種データを一時的に記憶するRAM41cなどを備え、上記各装置42〜46等と電気的に接続されている。そして、これら各装置42〜46等との間で各種データや信号の入出力制御を行う機能を有する。
The
設定データ記憶装置46には、プリント基板1に設定された複数の検査範囲、並びに、これらに対するカメラ15の撮像視野Kの移動順序に関する情報などが記憶されている。ここで「撮像視野Kの移動順序」とは、プリント基板1上に設定された複数の検査範囲について、いかなる順序でカメラ15の撮像視野Kを移動させていくかを定めたものである。
The setting
尚、プリント基板1に係る複数の検査範囲並びにこれらに対する撮像視野Kの移動順序の設定は、ガーバデータ等を基にして事前に所定のプログラムにより自動で又は作業者により手動で行われる。
The plurality of inspection ranges on the printed
例えば図2に示した例では、右上コーナー部の検査範囲を起点として撮像視野Kの移動順序(検査順序)が設定されている。尚、図2において二点鎖線枠により囲まれた範囲が撮像視野K(検査範囲)を示し、この枠内に付された丸付き数字「1」〜「15」が検査順序を示す。また、図2においては、撮像視野Kの移動方向(移動経路)を点線矢印で示している。 For example, in the example shown in FIG. 2, the movement order (inspection order) of the imaging visual field K is set with the inspection range in the upper right corner as a starting point. In FIG. 2, the area surrounded by the chain double-dashed line frame indicates the imaging visual field K (inspection range), and the circled numbers “1” to “15” in the frame indicate the inspection order. Further, in FIG. 2, the moving direction (moving path) of the imaging visual field K is indicated by a dotted arrow.
次に基板検査装置10により行われるプリント基板1の検査ルーチンについて詳しく説明する。かかる検査ルーチンは、制御装置13(マイクロコンピュータ41)により実行されるものである。
Next, the inspection routine of the printed
上述したように、基板検査装置10へ搬入されたプリント基板1が所定の検査位置に位置決め固定されると、制御装置13は、まずプリント基板1の位置検出処理を実行する。
As described above, when the printed
より詳しくは、制御装置13は、プリント基板1上に付された位置決め用マーク(図示略)を検出し、該検出したマークの位置情報(座標)と、ガーバデータに記憶されたマークの位置情報(座標)とを基に、プリント基板1の位置情報(傾きや位置ズレなど)を算出する。これにより、プリント基板1の位置検出処理を終了する。そして、このプリント基板1の位置情報を基に、検査ユニット12(カメラ15)とプリント基板1との相対位置関係のズレを補正する補正処理を実行する。
More specifically, the
その後、設定データ記憶装置46に記憶された検査順序に従って、検査ユニット12をプリント基板1上の「1」番目の検査範囲に対応する位置へ移動させる移動処理を実行する。
After that, according to the inspection order stored in the setting
この間、制御装置13は、設定データ記憶装置46に記憶されたガーバデータに基づき、「1」番目の検査範囲に投影する縞パターンWの周期を該検査範囲に対応した周期に調整する処理を実行する。
During this time, the
図2に示すように、本実施形態では、「1」番目の検査範囲が制御回路部PBとなっているため、ここでは短周期の第1縞パターンW1に設定する。 As shown in FIG. 2, in the present embodiment, since the “1”-th inspection range is the control circuit unit PB, the first stripe pattern W1 having a short cycle is set here.
検査ユニット12の移動処理が完了し、カメラ15の撮像視野Kがプリント基板1上の「1」番目の検査範囲に合わせられると、投影装置14から第1縞パターンW1を投影して、プリント基板1上の「1」番目の検査範囲に係る検査処理を実行する。かかる検査処理の詳細については後述する(他の検査範囲に係る検査処理についても同様)。
When the moving process of the
その後、プリント基板1上の「1」番目の検査範囲に係る検査処理が終了すると、設定データ記憶装置46に記憶された検査順序に従って、検査ユニット12をプリント基板1上の「2」番目の検査範囲に対応する位置へ移動させる移動処理を開始する。
After that, when the inspection process related to the “1”-th inspection range on the printed
この間、制御装置13は、上記同様、「2」番目の検査範囲に投影する縞パターンWの周期を該検査範囲に対応した周期に調整(変更)する処理を実行する。
During this time, the
図2に示すように、本実施形態では、「2」番目の検査範囲がパワー回路部PAとなっているため、ここでは長周期の第2縞パターンW2に設定する。 As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the "2"th inspection range is the power circuit unit PA, so here, the second stripe pattern W2 having a long cycle is set.
検査ユニット12の移動処理が完了し、カメラ15の撮像視野Kがプリント基板1上の「2」番目の検査範囲に合わせられると、投影装置14から第2縞パターンW2を投影して、プリント基板1上の「2」番目の検査範囲に係る検査処理を実行する。
When the moving process of the
その後、プリント基板1上の「2」番目の検査範囲に係る検査処理が終了すると、設定データ記憶装置46に記憶された検査順序に従って、検査ユニット12をプリント基板1上の「3」番目の検査範囲に対応する位置へ移動させる移動処理を開始する。
After that, when the inspection process related to the "2"th inspection range on the printed
以降同様に、プリント基板1上の「3」番目〜「15」番目の検査範囲ついて、該検査範囲に対応する縞パターンW(第1縞パターンW1又は第2縞パターンW2)によって検査処理が実行されることにより、プリント基板1全体に係る半田印刷検査が終了する。
Similarly, thereafter, the inspection processing is executed for the “3”th to “15th” inspection ranges on the printed
次にプリント基板1の各検査範囲にて行われる検査処理について説明する。かかる検査処理は、制御装置13(マイクロコンピュータ41)によって実行されるものである。
Next, the inspection process performed in each inspection range of the printed
本実施形態では、各検査範囲について、投影装置14から投影される縞パターンWの位相を変化させつつ、位相の異なる縞パターンWの下で4回の撮像処理を行うことにより、光強度分布の異なる4通りの画像データを取得する。以下、詳しく説明する。
In the present embodiment, for each inspection range, while changing the phase of the stripe pattern W projected from the
上述したように、制御装置13は、まずX軸移動機構16及びY軸移動機構17を駆動制御して検査ユニット12を移動させ、カメラ15の撮像視野Kをプリント基板1の所定の検査範囲に位置合わせする。同時に、投影装置14の格子板20を移動制御し、該格子板20に形成された格子23の位置を所定の基準位置(例えば位相「0°」の位置)に設定する。
As described above, the
格子板20の位置決めが完了すると、制御装置13は、投影装置14の光源19を発光させ、所定の縞パターンW(第1縞パターンW1又は第2縞パターンW2)を投影すると共に、カメラ15を駆動制御して、該縞パターンWの下での1回目の撮像処理を実行する。
When the positioning of the
その後、制御装置13は、所定の縞パターンWの下での1回目の撮像処理の終了と同時に、光源19を消灯すると共に、格子板20の移動処理を実行する。具体的には、格子板20に形成された格子23の位置を前記基準位置から、縞パターンWの位相が4分の1ピッチ(90°)ずれる第2の位置へ移動させる。
After that, the
格子板20の移動処理が完了すると、制御装置13は、光源19を発光させ、所定の縞パターンWを投影すると共に、カメラ15を駆動制御して、該縞パターンWの下での2回目の撮像処理を実行する。
When the moving process of the
以後、同様の処理を繰り返し行うことで、90°ずつ(4分の1ピッチずつ)位相の異なる縞パターンWの下で光強度分布の異なる4通りの画像データを取得する。これにより、正弦波状の光強度分布を有する縞パターンWの位相を90°ずつシフトさせた4通りの画像データを取得することができる。 After that, by repeating the same process, four types of image data having different light intensity distributions are acquired under the stripe pattern W having different phases by 90° (each quarter pitch). This makes it possible to acquire four types of image data in which the phase of the fringe pattern W having a sinusoidal light intensity distribution is shifted by 90°.
そして、制御装置13は、上記のように取得した4通りの画像データ(各座標の4通りの輝度値)を基に公知の位相シフト法によりクリーム半田5の三次元計測(各座標の高さ計測)を行い、かかる計測結果を演算結果記憶装置45に記憶する。
Then, the
ここで、公知の位相シフト法について説明する。上記4通りの画像データにおけるプリント基板1上の所定座標位置の光強度(輝度)I0,I1,I2,I3は、それぞれ下記式(1)、(2)、(3)、(4)により表すことができる。
Here, a known phase shift method will be described. Light intensities (luminances) I0, I1, I2, and I3 at predetermined coordinate positions on the printed
I0=αsinθ+β ・・・(1)
I1=αsin(θ+90°)+β =αcosθ+β ・・・(2)
I2=αsin(θ+180°)+β=−αsinθ+β ・・・(3)
I3=αsin(θ+270°)+β=−αcosθ+β ・・・(4)
但し、α:ゲイン、β:オフセット、θ:縞パターンの位相。
I0=αsinθ+β (1)
I1=αsin(θ+90°)+β=αcos θ+β (2)
I2=αsin(θ+180°)+β=−αsinθ+β (3)
I3=αsin(θ+270°)+β=−αcos θ+β (4)
However, α: gain, β: offset, θ: phase of fringe pattern.
そして、上記式(1)、(2)、(3)、(4)を位相θについて解くと、下記式(5)を導き出すことができる。 Then, by solving the above equations (1), (2), (3), and (4) for the phase θ, the following equation (5) can be derived.
θ=tan-1{(I0−I2)/(I1−I3)} ・・(5)
このように算出された位相θを用いることにより、三角測量の原理に基づき、プリント基板1上の各座標(X,Y)における高さ(Z)を求めることができる。
θ=tan −1 {(I0-I2)/(I1-I3)} ··· (5)
By using the phase θ calculated in this way, the height (Z) at each coordinate (X, Y) on the printed
次に、制御装置13は、上記のようにして得られた三次元計測結果(各座標における高さデータ)に基づき、クリーム半田5の印刷状態の良否判定処理を行う。具体的に、制御装置13は、上記のように得られた検査範囲の計測結果に基づいて、各検査範囲(パワー回路部PA、制御回路部PB)ごとに定められた高さ基準面より所定長以上、高くなったクリーム半田5の印刷範囲を検出し、この範囲内での各部位の高さを積分することにより、印刷されたクリーム半田5の量を算出する。
Next, the
続いて、制御装置13は、このようにして求めたクリーム半田5の位置、面積、高さ又は量等のデータを、予め設定データ記憶装置46に記憶されている基準データ(ガーバデータなど)と比較判定し、この比較結果が許容範囲内にあるか否かによって、その検査範囲におけるクリーム半田5の印刷状態の良否を判定する。
Subsequently, the
上記4通りの画像データの取得後、上記良否判定処理が行われている間に、制御装置13は、検査ユニット12を次の検査範囲へと移動させる。以降、上記一連の処理が、プリント基板1上の全ての検査範囲で繰り返し行われることで、プリント基板1全体に係る半田印刷検査が終了する。
After the acquisition of the four types of image data, the
以上詳述したように、本実施形態によれば、投影装置14からプリント基板1に対し縞パターンWを投影すると共に、該縞パターンWの位相を異ならせた4通りの画像データを取得し、これらの画像データを基に位相シフト法によるプリント基板1の三次元計測が行われる。
As described above in detail, according to the present embodiment, the
この際、本実施形態では、プリント基板1上の検査範囲の凹凸度合いに応じて、投影装置14から投影する縞パターンWの周期(ピッチ)を変更する構成となっている。具体的には、短周期の第1縞パターンW1と、長周期の第2縞パターンW2の2種類の縞パターンWを切換えて投影する。
At this time, in this embodiment, the cycle (pitch) of the stripe pattern W projected from the
特に本実施形態に係る投影装置14によれば、光源19からの光を縞パターンWに変換するパターン生成部として格子板20を用いることにより、液晶格子等を用いた場合よりも明るい縞パターンWの投影が可能となると共に、パターン周期変更機構22を備えることにより、該格子板20を交換することなく、プリント基板1に対し投影する縞パターンWの周期を変更することが可能となる。
Particularly, according to the
また、本実施形態では、ガラス板等の基材上に格子23が印刷された既存の格子板20など、安価な光学部材をパターン生成部として用いることができるため、高価な液晶素子等の光学制御素子をパターン生成部として用いた場合に比べ、パターン生成部の製造コストを抑制することができる。
Further, in the present embodiment, since an inexpensive optical member such as the existing
さらに、既存の液晶素子等を用いた場合のように、画素の制御を行う必要もなく、制御の簡素化を図ることができると共に、生成される縞パターンWが微視的に不連続となることもないため、より理想的な縞パターンWをプリント基板1に対し投影することが可能となる。
Further, unlike the case where an existing liquid crystal element or the like is used, it is not necessary to control the pixel, the control can be simplified, and the generated stripe pattern W becomes microscopically discontinuous. Since this is not the case, a more ideal stripe pattern W can be projected onto the printed
加えて、投影レンズ群21が両側テレセントリック光学系により構成されると共に、パターン周期変更機構22によって、光軸J1方向における格子板20及び入射側レンズ25間の距離Lf1、並びに、光軸J1方向における出射側レンズ26及びプリント基板1間の距離Lf2を維持しつつ、光軸J1方向における入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の距離Lsを変更する構成となっているため、縞パターンWの周期を変更する度に、その都度、ピント調整等を行う必要がない。
In addition, the
仮に投影レンズ群21が両側テレセントリック光学系により構成されていない場合には、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の距離Lsを変化させる際に合焦位置も変化してしまうため、ピント調整を行うための何らかの補正機構が必要となる。
If the
換言すれば、本実施形態によれば、このような補正機構を備える必要がなく、装置の構成や制御のさらなる簡素化を図ることができる。 In other words, according to the present embodiment, it is not necessary to provide such a correction mechanism, and the configuration and control of the device can be further simplified.
また、本実施形態に係るパターン周期変更機構22は、光軸J1方向に沿って設けられかつ出射側レンズ26が取付けられる固定筒部22Aと、該固定筒部22Aに対し光軸J1方向に沿って変位可能に設けられかつ格子板20及び入射側レンズ25が取付けられる可動筒部22Bと、該可動筒部22Bを光軸J1方向にスライド変位させる移動手段としてのスライド機構と備え、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の距離Lsを変更する構成となっている。
Further, the pattern
尚、格子板20と入射側レンズ25に関しては、単一の移動手段(スライド機構)により、まとめて移動させることが可能である。一方、出射側レンズ26とプリント基板1に関しては、両者の相対位置関係を維持しつつ移動させようとした場合、それぞれ別々の移動手段を設けると共に、これらを同期制御する必要があり、構造や制御が極めて複雑化するおそれがある。また、より大掛かりな機構が必要となり、装置が大型化するおそれがあると共に、素早い動きが難しく周期変更速度の低下、ひいては計測速度の低下が懸念される。
The
この点、本実施形態によれば、このような不具合を発生させることなく、上述した種々の作用効果を得ることができる。 In this respect, according to the present embodiment, it is possible to obtain the various operational effects described above without causing such a problem.
また、本実施形態に係る投影装置14では、プリント基板1に対して、格子板20の出射面20b及び投影レンズ群21の主面がシャインプルーフの条件を満たすように設定されている。
Further, in the
つまり、格子板20の出射面20bを含む平面S1と、投影レンズ群21の主面を含む平面S2と、プリント基板1の表面(投影面)を含む平面S3が同一直線C上で互いに交わるように設定されている。
That is, the plane S1 including the
これにより、プリント基板1上の投影範囲全域に対し縞パターンWを合焦状態で投影することができる。結果として、パターン投影法を利用した三次元計測を行うにあたり、計測精度の良いパターン光を投影することができる。
As a result, the stripe pattern W can be projected in the focused state over the entire projection range on the printed
〔第2実施形態〕
次に第2実施形態について図8を参照して詳しく説明する。本実施形態では、投影装置14において、縞パターンWの周期を変更可能なパターン周期変更機構(光路長変更手段)に係る構成が第1実施形態と異なる。
[Second Embodiment]
Next, the second embodiment will be described in detail with reference to FIG. In the present embodiment, in the
上記第1実施形態に係るパターン周期変更機構22は、光軸J1方向に沿って入射側レンズ25等をスライド変位させることにより、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の物理的距離Lsを変更する構成となっていたが、本実施形態では、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の物理的距離Lsは一定のまま、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の光学的距離(光路長)のみを変化させる構成となっている。以下、詳しく説明する。
The pattern
尚、上記第1実施形態と重複する部分については、同一の部材名称、同一の符号を用いる等してその詳細な説明を省略するとともに、以下には第1実施形態と相違する部分を中心として説明することとする。 In addition, about the part which overlaps with the said 1st Embodiment, the detailed description is abbreviate|omitted using the same member name and the same code|symbol, and below, focusing on the part different from 1st Embodiment. I will explain.
図8(a),(b)に示すように、本実施形態に係る投影装置14では、光軸J1方向に沿って設けられた固定筒部100に対し、格子板20、入射側レンズ25及び出射側レンズ26が取付固定されている。
As shown in FIGS. 8A and 8B, in the
さらに固定筒部100には、入射側レンズ25と出射側レンズ26との間において、パターン周期変更機構(光路長変更手段)を構成する可変レンズ110が取付固定されている。
Further, a
本実施形態に係る可変レンズ110は、光軸J1方向に一対に設けられた透明樹脂板111A,111Bと、該一対の透明樹脂板111A,111B間に形成されたキャビティ内に充填された液体(例えばシリコンオイル)112と、該キャビティ内における液体112の容量を調整可能な液量調整機構(図示略)とを備えた液体レンズであって、キャビティ内の液体112の容量を増減することで、入射面側の透明樹脂板111Aから出射面側の透明樹脂板111Bまでの物理的距離(厚み)を変更可能な構成となっている。
The
ここで、可変レンズ110内に充填される液体112は、空気の屈折率よりも高い所定の屈折率を有する。このため、可変レンズ110内を進む光の光路長は、空気中を進む光の光路長よりも光学的に長くなる。従って、可変レンズ110の透明樹脂板111Aから透明樹脂板111Bまでの物理的距離が長くなれば、入射側レンズ25から出射側レンズ26までの光学的距離も長くなることとなる。
Here, the liquid 112 filled in the
かかる構成により、本実施形態によれば、光軸J1方向における入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の物理的距離Lsを一定に維持しつつ、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の光学的距離(光路長)のみを変更することができる〔図8(a),(b)参照〕。
With this configuration, according to the present embodiment, the optical distance between the
例えば可変レンズ110内の液体112の容量を減らし、可変レンズ110の厚みを薄くすれば〔図8(a)参照〕、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の光路長(光学的距離)が短くなり、プリント基板1上に投影される縞パターンWが短周期の第1縞パターンW1となる。
For example, if the volume of the liquid 112 in the
一方、可変レンズ110内の液体112の容量を増やし、可変レンズ110の厚みを厚くすれば〔図8(b)参照〕、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の光路長(光学的距離)が長くなり、プリント基板1上に投影される縞パターンWが長周期の第2縞パターンW2となる。
On the other hand, if the volume of the liquid 112 in the
以上詳述したように、本実施形態によれば、上記第1実施形態と同様の作用効果が奏される。 As described in detail above, according to this embodiment, the same operational effects as those of the above-described first embodiment are exhibited.
特に本実施形態では、格子板20及び入射側レンズ25の相対位置関係、入射側レンズ25及び出射側レンズ26の相対位置関係、並びに、出射側レンズ26及びプリント基板1の相対位置関係を変更することなく、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の光路長を変更することができる。
Particularly, in the present embodiment, the relative positional relationship between the
可変レンズ110を用いることにより、光路長変更手段に係る構成をコンパクトにすることができる。また、素早い動きが可能となり、周期変更速度の向上、ひいては計測速度の向上を図ることができる。
By using the
また、入射側レンズ25等を物理的に移動する際に発生し得る振動等を抑制することができる。結果として、より精度のよいパターン光を投影することができ、計測精度の向上を図ることができる。
Further, it is possible to suppress vibrations and the like that may occur when the
尚、上記実施形態の記載内容に限定されず、例えば次のように実施してもよい。勿論、以下において例示しない他の応用例、変更例も当然可能である。 It should be noted that the present invention is not limited to the contents described in the above embodiment, and may be implemented as follows, for example. Of course, other application examples and modification examples not illustrated below are naturally possible.
(a)上記各実施形態では、本願発明である投影装置及び三次元計測装置を、プリント基板1に印刷されたクリーム半田5の印刷状態を検査する基板検査装置10に具体化したが、これに限らず、例えばプリント基板上に実装された電子部品など、他の対象を検査する装置に具体化してもよい。勿論、基板とは異なる対象物を被計測物として三次元計測を行う構成としてもよい。
(A) In each of the above embodiments, the projection device and the three-dimensional measuring device according to the present invention are embodied in the
(b)上記各実施形態では、パワー回路部PA及び制御回路部PBが混在したプリント基板1を被計測物とし、該プリント基板1上のパワー回路部PAに対しては長周期の第2縞パターンW2を投影して三次元計測を行い、制御回路部PBに対しては短周期の第1縞パターンW1を投影して三次元計測を行うといったように、プリント基板1上の各検査範囲の凹凸度合いに応じて縞パターンWの周期を切換える構成となっている。
(B) In each of the above-described embodiments, the printed
これに限らず、パワー回路部PAのみを有したプリント基板を被計測物とし、これに対し長周期の第2縞パターンW2だけを投影して三次元計測を行い、制御回路部PBのみを有したプリント基板を被計測物とし、これに対し短周期の第1縞パターンW1だけを投影して三次元計測を行うといったように、製造ラインにおいて製造されるプリント基板の種別に応じて縞パターンWの周期を切換える構成としてもよい。 Not limited to this, a printed circuit board having only the power circuit section PA is used as an object to be measured, and only the second striped pattern W2 having a long period is projected on the object to be three-dimensionally measured, and only the control circuit section PB is provided. The measured printed board is used as an object to be measured, and only the first striped pattern W1 having a short cycle is projected on the measured board to perform three-dimensional measurement. For example, the striped pattern W is manufactured according to the type of the printed board manufactured in the manufacturing line. The cycle may be switched.
また、パワー回路部PAに対しては、短周期の第1縞パターンW1と長周期の第2縞パターンW2の双方をそれぞれ複数通り投影して、両者を組み合わせて三次元計測を行う構成としてもよい。これにより、計測時間は増えるものの、高さ分解能を落とすことなく、ダイナミックレンジを広げることができる。 Further, a plurality of short cycle first stripe patterns W1 and long cycle second stripe patterns W2 may be projected on the power circuit section PA in plural ways, and the two may be combined to perform three-dimensional measurement. Good. Thereby, although the measurement time is increased, the dynamic range can be expanded without lowering the height resolution.
(c)上記各実施形態では、位相シフト法による三次元計測を行う上で、縞パターンWの位相が90°ずつ異なる4通りの画像データを取得する構成となっているが、位相シフト回数及び位相シフト量は、これらに限定されるものではない。位相シフト法により三次元計測可能な他の位相シフト回数及び位相シフト量を採用してもよい。例えば位相が120°又は90°ずつ異なる3通りの画像データを取得して三次元計測を行う構成としてもよい。 (C) In each of the above-described embodiments, in performing three-dimensional measurement by the phase shift method, four types of image data in which the phase of the stripe pattern W differs by 90° are acquired. The phase shift amount is not limited to these. Other number of phase shifts and amount of phase shift that can be three-dimensionally measured by the phase shift method may be adopted. For example, three-dimensional measurement may be performed by acquiring three types of image data having different phases by 120° or 90°.
(d)上記各実施形態では、位相シフト法による三次元計測を行う上で、縞パターンWとして、正弦波状の光強度分布を有するパターン光を投影する構成となっているが、これに限らず、縞パターンWとして、例えば矩形波状や三角波状など非正弦波状の光強度分布を有するパターン光を投影する構成としてもよい。 (D) In each of the above-described embodiments, the pattern light having the sinusoidal light intensity distribution is projected as the stripe pattern W when performing three-dimensional measurement by the phase shift method, but the present invention is not limited to this. As the stripe pattern W, for example, a pattern light having a non-sinusoidal light intensity distribution such as a rectangular wave shape or a triangular wave shape may be projected.
但し、非正弦波状の光強度分布を有するパターン光を投影し三次元計測を行うよりも、正弦波状の光強度分布を有するパターン光を投影し三次元計測を行う方が計測精度が良い。そのため、計測精度の向上を図る点においては、正弦波状の光強度分布を有するパターン光を投影し三次元計測を行う構成とすることが好ましい。 However, rather than projecting the pattern light having the non-sinusoidal light intensity distribution and performing the three-dimensional measurement, it is better to project the pattern light having the sinusoidal light intensity distribution and perform the three-dimensional measurement. Therefore, in order to improve the measurement accuracy, it is preferable that the pattern light having a sinusoidal light intensity distribution is projected to perform three-dimensional measurement.
(e)上記各実施形態では、プリント基板1に対し縞パターンWを投影し、位相シフト法により三次元計測を行う構成となっているが、これに限らず、例えば空間コード法やモアレ法など、他のパターン投影法を利用して三次元計測を行う構成としてもよい。但し、クリーム半田5など小さな計測対象を計測する場合には、位相シフト法など、計測精度の高い計測方法を採用することがより好ましい。
(E) In each of the above-described embodiments, the stripe pattern W is projected on the printed
(f)上記各実施形態では、所定位置に固定されたプリント基板1上の複数の検査範囲に対し、検査ユニット12(投影装置14及びカメラ15)を順次移動させることにより、プリント基板1全域の検査を行う構成となっている。これに限らず、検査ユニット12を固定させた状態で、プリント基板1を移動させることにより、プリント基板1全域の検査を行う構成としてもよい。
(F) In each of the above-described embodiments, the inspection unit 12 (the
また、上記各実施形態では、投影装置14において格子板20を移動させる格子移動機構を備えることにより、検査ユニット12とプリント基板1とを相対移動させることなく、所定位置に固定されたプリント基板1と、そこに投影される縞パターンWとの相対位置関係を移動(位相シフト)させる構成となっているが、縞パターンWとプリント基板1とを相対移動させる構成(変位手段)は、上記実施形態に限定されるものではない。
In each of the above-described embodiments, the
例えば上述したようにプリント基板全域において、投影する縞パターンWの周期を切換えない場合には、コンベア等によりプリント基板を連続移動させる、又は、固定されたプリント基板に対し検査ユニット12を連続移動させることにより、該プリント基板と、そこに投影される縞パターンWとの相対位置関係を移動(位相シフト)させる構成としてもよい。
For example, as described above, when the period of the projected stripe pattern W is not switched over the entire printed circuit board, the printed circuit board is continuously moved by a conveyor or the like, or the
(g)上記各実施形態では、光源19が白色光を出射するハロゲンランプにより構成されている。これに限らず、白色LEDなど他の光源を用いる構成としてもよい。
(G) In each of the above embodiments, the
(h)格子板の構成は上記各実施形態に限定されるものではない。例えば上記実施形態に係る格子板20は、その出射面20bに格子23が設けられた構成となっているが、これに限らず、例えば入射面20aに格子23が設けられた構成としてもよい。
(H) The configuration of the lattice plate is not limited to the above embodiments. For example, the
上記各実施形態では、格子23が印刷(蒸着)により設けられた構成となっているが、これに限らず、例えばレーザー加工など他の方法により設けられた構成としてもよい。
In each of the above-described embodiments, the
上記各実施形態に係る格子23は、透光部23aと遮光部23bとが交互に並ぶ2値的な構成となっているが、これに限らず、例えば3段階以上に透過率が異なる多値的な格子パターンが設けられた構成としてもよい。
The grating 23 according to each of the above-described embodiments has a binary configuration in which the light-transmitting
上記各実施形態に係る格子板20は、所定の透光素材(例えばガラスやアクリル樹脂等)により平板状又はフィルム状に形成された基材上に格子23が印刷(蒸着)形成されてなるが、これに限らず、不透明樹脂や金属等を加工しスリット等を開口形成することにより格子を形成した格子板などを採用してもよい。
The
(i)投影光学系に係る構成は、上記各実施形態に限定されるものではない。例えば上記各実施形態では、プリント基板1上のパワー回路部PAに対応して、第2周期1000μmの第2縞パターンW2を投影し、制御回路部PBに対応して、第1周期300μmの第1縞パターンW1を投影する構成となっている。投影する縞パターンWの周期や数は、これらに限定されるものではない。
(I) The configuration related to the projection optical system is not limited to the above embodiments. For example, in each of the above-described embodiments, the second stripe pattern W2 having a second cycle of 1000 μm is projected corresponding to the power circuit section PA on the printed
例えばプリント基板1上の検査範囲の凹凸度合いに応じて、周期の異なる3種類以上の縞パターンWを切換えて投影可能な構成としてもよい。
For example, three or more types of stripe patterns W having different cycles may be switched and projected according to the degree of unevenness of the inspection range on the printed
(j)縞パターンWの周期を変更可能なパターン周期変更機構(光路長変更手段)に係る構成は、上記各実施形態に限定されるものではない。 (J) The configuration relating to the pattern period changing mechanism (optical path length changing unit) capable of changing the period of the striped pattern W is not limited to the above embodiments.
例えば上記第1実施形態に係るパターン周期変更機構22は、光軸J1方向に沿って設けられかつ出射側レンズ26が取付けられる固定筒部22Aと、該固定筒部22Aに対し光軸J1方向に沿って変位可能に設けられかつ格子板20及び入射側レンズ25が取付けられる可動筒部22Bと、該可動筒部22Bを光軸J1方向にスライド変位させる移動手段としてのスライド機構と備え、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の距離Lsを変更する構成となっている。
For example, the pattern
これに限らず、格子板20及び入射側レンズ25を固定した状態で、出射側レンズ26及びプリント基板1を移動させることにより、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の距離Lsを変更する構成としてもよい。
Not limited to this, the distance Ls between the
但し、かかる構成では、出射側レンズ26とプリント基板1に対しそれぞれ別々の移動手段を設ける必要があり、上述した種々の不具合が発生するおそれがあるため、かかる点においては、上記第1実施形態のような構成とすることが好ましい。
However, in such a configuration, it is necessary to provide separate moving means for the
また、上記第2実施形態に係る可変レンズの構成は、可変レンズ(液体レンズ)100に限定されるものではない。入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の物理的距離Lsは一定のまま、入射側レンズ25及び出射側レンズ26間の光学的距離(光路長)のみを変化させる構成を有した他の異なる可変レンズ(複数のレンズからなるレンズユニットを含む)を採用してもよい。
The configuration of the variable lens according to the second embodiment is not limited to the variable lens (liquid lens) 100. The physical distance Ls between the entrance-
(k)撮像手段は、上記実施形態のカメラ15に限定されるものではない。例えば上記実施形態では、撮像素子15aとしてCCDエリアセンサを採用しているが、これに限らず、例えばCMOSエリアセンサ等を採用してもよい。
(K) The image pickup means is not limited to the
また、撮像レンズユニット15bが両側テレセントリックレンズ(両側テレセントリック光学系)により構成されている。これに限らず、撮像レンズユニット15bとして、物体側テレセントリックレンズ(物体側テレセントリック光学系)を採用してもよい。また、テレセントリック構造を有しない構成としてもよい。
Further, the
(l)上記各実施形態に係る投影装置14では、プリント基板1に対して、格子板20の出射面20b及び投影レンズ群21の主面がシャインプルーフの条件を満たすように設定されている。
(L) In the
これに限らず、投影範囲全域における縞パターンWの合焦状態によっては、必ずしもシャインプルーフの条件を満たすように設定されていなくともよい。 Not limited to this, the Scheimpflug condition may not necessarily be set depending on the focused state of the stripe pattern W in the entire projection range.
1…プリント基板、5…クリーム半田、10…基板検査装置、12…検査ユニット、13…制御装置、14…投影装置、15…カメラ、19…光源、20…格子板、21…投影レンズ群、22…パターン周期変更機構、23…格子、23a…透光部、23b…遮光部、25…入射側レンズ、26…出射側レンズ、J1…光軸、PA…パワー回路部、PB…制御回路部、W(W1,W2)…縞パターン。
DESCRIPTION OF
Claims (7)
所定の光を発する光源と、
前記光源から入射する光を前記パターン光に変換する格子部材と、
前記格子部材から出射される前記パターン光を前記被計測物に対し結像させる投影光学系とを備え、
前記投影光学系は、
その光軸方向に対し前記格子部材側に位置する格子側レンズと、前記被計測物側に位置する被計測物側レンズとを備えた両側テレセントリック光学系により構成され、
前記格子部材及び前記格子側レンズ間の光路長、並びに、前記被計測物側レンズ及び前記被計測物間の光路長を維持しつつ、前記格子側レンズ及び前記被計測物側レンズ間の光路長を変更可能な光路長変更手段を備えていることを特徴とする投影装置。 In performing three-dimensional measurement of a predetermined object to be measured, a projection device for projecting a predetermined pattern light onto the object to be measured,
A light source that emits predetermined light,
A grating member for converting the light incident from the light source into the pattern light;
A projection optical system for forming an image of the pattern light emitted from the grating member on the object to be measured,
The projection optical system is
A grating side lens positioned on the grating member side with respect to the optical axis direction, and a both-side telecentric optical system including a measured object side lens positioned on the measured object side,
An optical path length between the grating side lens and the measured object side lens while maintaining an optical path length between the grating member and the grating side lens and an optical path length between the measured object side lens and the measured object side lens A projection device comprising an optical path length changing means capable of changing the optical path length.
前記光軸方向における前記格子部材及び前記格子側レンズ間の相対位置関係、並びに、前記光軸方向における前記被計測物側レンズ及び前記被計測物間の相対位置関係を維持しつつ、前記光軸方向における前記格子側レンズ及び前記被計測物側レンズ間の相対位置関係を変更可能な構成を有していることを特徴とする請求項1に記載の投影装置。 The optical path length changing means,
While maintaining the relative positional relationship between the grating member and the grating side lens in the optical axis direction, and the relative positional relationship between the measured object side lens and the measured object in the optical axis direction, the optical axis The projection device according to claim 1, wherein the projection device has a configuration capable of changing a relative positional relationship between the grating side lens and the measured object side lens in a direction.
前記格子部材及び前記格子側レンズ間の相対位置関係を維持しつつ、該格子部材及び格子側レンズを移動させる移動手段を備えることにより、前記格子側レンズ及び前記被計測物側レンズ間の相対位置関係を変更可能な構成を有していることを特徴とする請求項2に記載の投影装置。 The optical path length changing means,
The relative position between the grating side lens and the DUT side lens is provided by providing a moving means for moving the grating member and the grating side lens while maintaining the relative positional relationship between the grating member and the grating side lens. The projection device according to claim 2, wherein the projection device has a configuration capable of changing a relationship.
前記パターン光の投影された前記被計測物の所定範囲を撮像可能な撮像手段と、
前記撮像手段により撮像され取得された画像データを基に前記被計測物に係る三次元計測を実行可能な画像処理手段とを備えたことを特徴とする三次元計測装置。 A projection device according to any one of claims 1 to 6,
An image capturing unit capable of capturing an image of a predetermined range of the measured object onto which the pattern light is projected;
A three-dimensional measuring device comprising: an image processing unit capable of performing three-dimensional measurement of the object to be measured based on the image data captured and acquired by the image capturing unit.
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