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JP2019522224A - フレキシブル表示パネル、フレキシブル表示パネルを有するフレキシブル表示装置、並びにその製造方法 - Google Patents

フレキシブル表示パネル、フレキシブル表示パネルを有するフレキシブル表示装置、並びにその製造方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、表示基板と、表示基板に対向する封止基板と、を有するフレキシブル表示パネルを開示する。封止基板は、第１ベース基板を含む。表示基板は、第２ベース基板と、第２無機ベース基板上に設けられる表示ユニットと、表示ユニットの第２ベース基板から離れかつ封止基板に近い側に設けられる封止層と、を含む。第２ベース基板は、ガラス基板をエッチングするためのエッチング液を用いてガラス基板をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い、耐湿性及び耐酸化性のある無機材料を含む。

Description

（関連出願の相互参照）
本出願は、２０１６年７月１１日に提出した中国特許出願Ｎｏ．２０１６１０５４３６８３．４の優先権を主張し、その内容が全て本出願に援用される。
本発明は、フレキシブル表示パネル、フレキシブル表示パネルを有するフレキシブル表示装置、並びにその製造方法に関する。
従来のフレキシブル表示パネルにおいて、ベース基板はポリイミド等のポリマー材料により作製されている。従来のフレキシブル表示パネルにおけるベース基板は、無機材料により作製されるバリアサブ層をさらに含む場合がある。バリア層は、ポリマーベース基板上に無機材料を積層して形成される。薄膜封止処理において、従来のフレキシブル表示パネルは、有機サブ層及び無機サブ層を含む複数のサブ層により封止される。ポリマーベース基板は柔軟なため、柔軟で、折り畳み可能な表示パネルが実現される。
ひとつの側面において、本発明は、表示基板と、前記表示基板に対向する封止基板と、を含み、前記封止基板は、第１ベース基板を含み、前記表示基板は、第２ベース基板と、前記第２ベース基板上に設けられる表示ユニットと、前記表示ユニットの前記第２ベース基板から離れかつ前記封止基板に近い側に設けられる封止層と、を含み、前記第２ベース基板は、ガラス基板をエッチングするためのエッチング液を用いて前記ガラス基板をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い、耐湿性及び耐酸化性のある無機材料を含む、フレキシブル表示パネルを提供する。
前記封止層は、気密性が高く、厚さが約０．０１μｍから約１０μｍの範囲にある無機材料を含んでもよい。
前記第１ベース基板は厚さが約０．１ｍｍ以下であってもよい。
前記第２ベース基板は、前記第１ベース基板をエッチングするためのエッチング液を用いて前記第１ベース基板をエッチングした場合よりエッチング速度が遅くてもよい。
第１ベース基板は、強化されたガラス基板であってもよい。
フレキシブル表示パネルは、前記第１ベース基板の前記封止層に近い側に設けられるタッチセンサをさらに含んでもよい。
前記第２ベース基板は、ケイ素含有無機材料及び金属材料のうちのひとつ以上を含んでもよい。
前記第２ベース基板は、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、アモルファスケイ素、多結晶ケイ素、ゴールド、白金、銅、モリブデン及びニッケルのひとつ以上を含んでもよい。
前記第２ベース基板は、前記封止基板から離れた表面上に、前記ガラス基板をエッチングするためのエッチング液に対する耐性が大きいサブ層を含んでもよい。
前記封止層は、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）及び酸窒化ケイ素（ＳｉＮｘＯｙ）のうちのひとつ以上を含んでもよい。
前記フレキシブル表示パネルはフレキシブル有機発光ダイオード表示パネルであり、前記表示ユニットは有機発光ダイオードを含んでもよい。
他の側面において、本発明は、第１ベース基板を含む封止基板を形成する工程と、前記第１ベース基板より厚さの小さい第３ベース基板上に、前記封止基板に対向する表示基板を形成する工程と、前記表示基板を前記封止基板に接着する工程と、前記第１ベース基板及び前記第３ベース基板を同一の工程においてエッチングして、前記第１ベース基板の厚さを減少し前記第３ベース基板を除去することで、前記表示基板を露出する工程と、を含む、フレキシブル表示パネルの製造方法を提供する。
前記表示基板を形成する工程は、前記第３ベース基板上に第２ベース基板を形成する工程と、前記第２ベース基板の前記第３ベース基板から離れた側に表示ユニットを形成する工程と、前記表示ユニットの前記第２ベース基板から離れかつ前記封止基板に近い側に、前記表示ユニットを封止するための封止層を形成する工程と、を含み、前記フレキシブル表示パネルの製造方法は、前記封止基板を前記表示基板に接着して前記表示ユニットをその間にシーリングする工程と、前記第１ベース基板及び前記第３ベース基板を同一の工程においてエッチングして、前記第１ベース基板の厚さを減少し前記第３ベース基板を除去することで、前記第２ベース基板を露出する工程と、をさらに含み、前記第２ベース基板は、前記第３ベース基板をエッチングするためのエッチング液を用いて前記第３ベース基板をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い、耐湿性及び耐酸化性のある無機材料を含んでもよい。
前記フレキシブル表示パネルの製造方法は、前記第１ベース基板及び前記第３ベース基板を同一の工程においてエッチングした後、前記第１ベース基板を強化することで、強化された第１ベース基板を形成する工程をさらに含んでもよい。
前記第１ベース基板及び前記第３ベース基板を同一の工程においてエッチングする前に、前記第１ベース基板の厚さは、約０．２ｍｍから約１．０ｍｍの範囲にあり、前記第３ベース基板と前記第１ベース基板の厚さの差異は０．１ｍｍ以下であってもよい。
前記第１ベース基板及び前記第３ベース基板を同一の工程においてエッチングした後、前記第１ベース基板の厚さは約０．１ｍｍ以下まで低減されてもよい。
前記第２ベース基板を形成する工程は、前記第３ベース基板に近い表面上に、ガラス基板をエッチングするためのエッチング液に対する耐性が大きくサブ層を形成する工程を含んでもよい。
前記封止層は、気密性が高い無機材料により形成され、厚さが約０．０１μｍから約１０μｍの範囲となるように形成してもよい。
他の側面において、本発明は、本発明で述べる方法により製造されるフレキシブル表示パネルを提供する。
他の側面において、本発明は、本発明で述べる、又は本発明で述べる方法により製造されるフレキシブル表示パネルを含むフレキシブル表示装置を提供する。
以下の図面は開示された様々な実施形態の例にすぎず、本発明の範囲を限定するものではない。
本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの構造を示す模式図である。 本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの構造を示す模式図である。 本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの構造を示す模式図である。 本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネル内のタッチセンサの構造を示す模式図である。 本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネル内のタッチセンサの構造を示す模式図である。 本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネル内のタッチセンサの構造を示す模式図である。 本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネル内のタッチセンサの構造を示す模式図である。 本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネル内のタッチセンサの構造を示す模式図である。 本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの製造工程を示すフローチャートである。 本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの製造工程を示す。 本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの製造工程を示す。 本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの製造工程を示す。
以下では、実施形態を参照しつつ、本開示について具体的に説明する。なお、いくつかの実施形態に関する以下の説明は例示及び説明としてのものに過ぎず、全てを網羅している訳ではなく、また、開示されるそのままの形態に本発明を限定するものでもない。
ポリマーベース基板を有する従来のフレキシブル表示パネルにおいては、ポリマーベース基板に生じる気泡及び開口といった製造欠陥やベース基板の熱間延性がフレキシブル表示パネルの製品品質に影響する。例えば、ポリマーベース基板に製造欠陥があると、ポリマーベース基板に付帯する無機バリア層の同じ場所に欠陥が生じる。これらの欠陥により、ベース基板の透湿や酸素透過が容易になり、製品は劣ったものになってしまう。さらに、ポリマーベース基板を有する従来のフレキシブル表示パネルは引っかき傷がつきやすく、ダメージを受け易い。
そこで、本発明は、特に、従来技術における制限及び欠点に起因するひとつ以上の課題を実質的に解消する、フレキシブル表示パネル、フレキシブル表示パネルを有するフレキシブル表示装置、並びにその製造方法を提供する。ひとつの側面において、本開示は、封止基板及び封止基板に対向する表示基板を有するフレキシブル表示パネルを提供する。いくつかの実施形態において、封止基板は、第１無機ベース基板を含み、表示基板は、第２無機ベース基板と、第２無機ベース基板上に設けられる表示ユニットと、表示ユニットの第２無機ベース基板から離れかつ封止基板に近い側に設けられる封止層と、を含み、第２無機ベース基板は、ガラス基板をエッチングするためのエッチング液を用いてガラス基板をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い、耐湿性及び耐酸化性のある無機材料を含む。第１無機ベース基板は、フレキシブル表示パネル用のカバーガラスであってもよい。第１無機ベース基板は、強化された無機ベース基板であってもよい。
本明細書において、「表示ユニット」とは、画像を表示するための表示パネルの第１部分と、画像を表示するための駆動ユニットである第２部分との組合せを指す。本発明の表示パネルは、有機発光ダイオード表示パネルであってもよい。表示パネルは、有機発光ダイオード表示パネルであり、有機発光ダイオード表示パネル内の表示ユニットとは、有機発光ダイオード及びそれを駆動するための薄膜トランジスタを指す場合がある。本発明の表示パネルは、液晶表示パネルであってもよい。本発明の表示パネルは、液晶表示パネルであり、液晶表示パネル内の表示ユニットとは、液晶層、共通電極、画素電極、及び画像表示を駆動するための薄膜トランジスタを指す場合がある。
本明細書において、本開示に関連して用いられる「強化された」、「強化する」という表現は、様々な方法により適宜強化されたベース基板を指す。ベース基板は化学的に強化されたもの、例えば、ベース基板（例えば、ガラス基板）の表面において大きいイオンを小さいイオンとイオン交換したものであってもよい。ベース基板は、熱的に強化されたもの、即ち、焼き戻されたものであってもよい。強化されたベース基板は、ベース基板の強度保持を補助する表面圧縮応力をその表面に有してもよい。強化されたベース基板とは、化学的に強化されたベース基板を指す場合がある。
図１は、本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの構造を示す模式図である。図１を参照すると、いくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルは、封止基板２０と、封止基板２０に対向する表示基板１０とを含む。封止基板２０は、第１無機ベース基板を有するいくつかの実施形態における対向基板であってもよい。表示基板１０は、第２無機ベース基板１１を有するいくつかの実施形態におけるアレイ基板であってもよい。図１に示すように、表示基板１０は、第２無機ベース基板１１と、第２無機ベース基板１１上に設けられる表示ユニット１２と、表示ユニット１２の第２無機ベース基板１１から離れかつ封止基板２０に近い側に設けられる封止層１３と、を含む。
第１無機ベース基板は、強化されたガラス基板であってもよい。
第２無機ベース基板１１は、ガラス基板をエッチングするためのエッチング液を用いてガラス基板をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い、耐湿性及び耐酸化性のある無機材料を含んでもよい。第２無機ベース基板は、第１無機ベース基板をエッチングするためのエッチング液を用いて第１無機ベース基板をエッチングした場合よりエッチング速度が遅くてもよい。
様々な適切な材料及び様々な適切な製造方法を用いて第２無機ベース基板を作製することができる。例えば、無機ベース基板の材料は、プラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）処理により積層してもよい。第２無機ベース基板の作製に適切な材料の例には、ケイ素含有無機材料及び金属材料が含まれるが、これらに限らない。ケイ素含有無機材料の例には、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、アモルファスケイ素及び多結晶ケイ素が含まれる。金属材料の例には、ゴールド、白金、銅、モリブデン及びニッケルが含まれる。
第２無機ベース基板は、単層構造であってもよい。第２無機ベース基板は、２つ以上のサブ層を含む積層構造を有してもよい。積層構造は、金属サブ層及びケイ素含有無機材料からなるサブ層を含んでもよい。
いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルの製造工程は、第３無機ベース基板（即ち、キャリア基板）上に第２無機ベース基板を形成する工程と、封止基板を表示基板に組み付ける工程と、第１無機ベース基板及び第３無機ベース基板を同一の工程においてエッチングし、その間に第３無機ベース基板を除去する工程とを含む。それ故、第２無機ベース基板を作製する際、第３無機ベース基板をエッチングするためのエッチング液を用いて第３無機ベース基板をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い無機材料が選択される。第２無機ベース基板を作製するために、例えば、エッチング速度が０．２μｍ／分未満の無機材料を選択することができる。
第１無機ベース基板は、第３無機ベース基板と実質的に同一の材料により作製してもよい。第１無機ベース基板のエッチング速度は、第３無機ベース基板をエッチングするためのエッチング液を用いて第３無機ベース基板をエッチングした場合とほぼ同一である。
いくつかの実施形態において、第３無機ベース基板はガラス基板である。フッ化水素酸、硝酸、又はそれらの組合せを含む、さらにオプションでひとつ以上の添加剤を加えた様々なエッチング液を用いて、ガラス基板をエッチングすることができる。第２無機ベース基板のエッチング速度は、フッ化水素酸を含む、第３無機ベース基板をエッチングするためのエッチング液を用いて第３無機ベース基板をエッチングした場合より遅くてもよい。第２無機ベース基板は、フッ化水素酸を含むエッチング液を用いたエッチング速度が０．２μｍ／分未満であってもよい。
いくつかの実施形態においては、第２無機ベース基板を作製する材料として、第３無機ベース基板をエッチングするためのエッチング液を用いて第３無機ベース基板をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い金属材料が選択される。金属の多くはガラス基板をエッチングするためのエッチング液に対して耐性がある。例えば、インサート金属の多くはガラスエッチング液に対して耐性がある。
いくつかの実施形態において、第２無機ベース基板は、封止基板から離れた（例えば、第３無機ベース基板に近い）表面上にサブ層を含む。サブ層は、ガラス基板をエッチングするためのエッチング液に対する耐性が大きい。例えば、第２無機ベース基板は、金属材料により作製されるか、又は金属サブ層を含む場合、第３無機ベース基板に近い表面上にパッシベーション保護サブ層（例えば、酸化保護膜）を含んでもよい。
第２無機ベース基板は、必要な耐湿性と耐酸化性をフレキシブル表示パネルにもたらすに足る様々な適切な厚さを有することができる。設計のニーズに応じて、特定の種類の表示パネル、例えば、超薄型表示パネル、折りたたみ式表示パネル、回転式表示パネル、及び様々な曲率を有するフレキシブル表示パネルを作製する際に、第２無機ベース基板の厚さを適宜選択できる。
図２は、本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの構造を示す模式図である。図２を参照すると、いくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルは、フレキシブル有機発光ダイオード表示パネルであり、表示ユニットは有機発光ダイオード１２を含む。フレキシブル表示パネルは、各々が表示ユニットを有する複数のサブ画素を含む。有機発光ダイオード１２は、アノード１２１と、アノード１２１上に設けられる有機機能層１２３と、発光層１２３のアノード１２１から離れた側に設けられるカソード１２２と、を含んでもよい。有機機能層１２３は、アノード上に設けられる正孔輸送層と、正孔輸送層のアノードから離れた側に設けられる発光層と、発光層の正孔輸送層から離れた側に設けられる電子輸送層と、を含んでもよい。発光効率を高めるため、有機機能層１２３は、正孔輸送層のアノード１２１に近い側に設けられる正孔注入層と、電子輸送層のカソード１２２に近い側に設けられる電子注入層と、をさらに含んでもよい。
図２を参照すると、表示基板１０は複数の薄膜トランジスタ１４をさらに含む。薄膜トランジスタ１４は、活性層と、ゲート電極と、活性層とゲート絶縁層との間に設けられるゲート絶縁層と、ソース電極と、ドレイン電極と、を含む。ドレイン電極は、アノード１２１と電気的に接続される。アモルファスケイ素、多結晶ケイ素、各種金属酸化物及び各種有機半導体を含む、様々な適切な半導体材料を用いて薄膜トランジスタを作製することができる。薄膜トランジスタはトップゲート型薄膜トランジスタであってもよい。薄膜トランジスタはボトムゲート型薄膜トランジスタであってもよい。
（例えば、第１無機ベース基板との組合せにおいて）必要な耐湿性と耐酸化性をフレキシブル表示パネルにもたらすに足りるように、封止層は任意の適切な材料（例えば、無機材料）により作製され、様々な適切な厚さを有することができる。
第１無機ベース基板は、必要な耐湿性と耐酸化性をフレキシブル表示パネルにもたらすに足る様々な適切な厚さを有することができる。設計のニーズに応じて、特定の種類の表示パネル、例えば、超薄型表示パネル、折りたたみ式表示パネル、回転式表示パネル、及び様々な曲率を有するフレキシブル表示パネルを作製する際に、第１無機ベース基板の厚さを適宜選択できる。
本発明のフレキシブル表示パネルにおいては、第１ベース基板及び第２ベース基板が気密性の高い無機材料により作製されるため、フレキシブル表示パネル製品が湿気や酸素に対して優れた耐性を有する。これに対し、従来のフレキシブル表示パネルではポリマー材料を用いてベース基板を作製する。製造欠陥のために、ポリマーベース基板ではしばしば透湿や酸素透過が生じやすい。ポリマーベース基板に加えて無機バリアサブ層を有する表示パネルであっても、従来のフレキシブル表示パネルにおいて十分な耐湿性や耐酸化性を実現するのは難しい。
いくつかの実施形態において、本発明のフレキシブル表示パネルは、封止基板を表示基板に接着して表示ユニットをそれらの間にシーリングする光学接着層をさらに含む。光学接着層は、光学透明樹脂からなってもよい。図１と図２を参照すると、いくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルは、封止基板２０と表示基板１０との間に設けられる光学透明樹脂層３０を含み、フレキシブル表示パネル内の表示ユニット１２をさらに封止する。
本発明のフレキシブル表示パネルには、従来のフレキシブル表示パネルに比べいくつかの利点がある。まず、表示基板のベース基板は、無機材料からなり、無機材料をキャリア基板上に直接積層して製造される。本発明のフレキシブル表示パネルにおける第２ベース基板は、表面平面性、表面平滑性、機械的安定性及び構造的完全性において非常に優れている。次に、本発明のフレキシブル表示パネルにおけるベース基板は、気密性の高い無機材料により作製されており、ポリマーベース基板を有する従来のフレキシブル表示パネルの製造欠陥が解消される。３つ目に、本発明のフレキシブル表示パネルにおける表示ユニットは、例えば、気密性の高い封止層及び第１無機ベース基板により、複数回封止が行われるため、フレキシブル表示パネルが湿気や酸素に対して優れた耐性を有するものとなる。４つ目に、ベース基板は、高硬度で耐ひっかき性のある強化ガラス材料等の無機材料により作製されるため、カバーガラスの追加が不要となり、構造が単純な超薄型フレキシブル表示パネルが実現される。
封止層の厚さは、約０．０１μｍから約１０μｍの範囲、例えば、約０．０１μｍから約１．０μｍ、約１．０μｍから約１．５μｍ、約１．５μｍから約２．０μｍ、約２．０μｍから約５．０μｍ、約５．０μｍから約１０μｍにあってもよい。封止層の厚さは約０．１ｎｍであってもよい。封止層の厚さは約１．０μｍであってもよい。封止層の厚さは約１．５μｍであってもよい。封止層の厚さは約２．０μｍであってもよい。封止層の厚さは約５．０μｍであってもよい。
封止層は、気密性の高い無機材料により作製されてもよい。封止層を作製するための適切な無機材料の例には、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）及び酸窒化ケイ素（ＳｉＮｘＯｙ）が含まれるが、これらに限らない。窒化ケイ素材料は、疎水性及び気密性が高い。酸窒化ケイ素金属は、フレキシブル表示パネルの他の層と非常に接着しやすい。さらに、これらの材料のうちのひとつ以上により作製される封止層は、表面平面性が非常に良好である。これらの材料のうちのひとつ以上により作製される封止層を有するフレキシブル表示パネルは、外部の湿気や酸素に対して優れた耐性を有する。
本発明のフレキシブル表示パネルにおいて、表示ユニットは、例えば、気密性の高い封止層及び第１無機ベース基板により、複数回封止が行われるため、外部の湿気や酸素の透過経路が完全に絶たれる。その結果、複数の有機及び無機サブ層を有する封止層は不要となる。簡素化された、費用対効果の高い製造工程が可能となる。
第１無機ベース基板の厚さは、約０．１ｍｍ以下、例えば、約０．０５ｍｍから約０．１ｍｍの範囲にあってもよい。このような設計とすることで、フレキシブル表示パネルを超薄型の、柔軟、折り畳み可能で、回転可能なものに作製することができる。
第１無機ベース基板の厚さは、０．１ｍｍを超えてもよい。
第１無機ベース基板のモース硬度は、約８から約９の範囲にあってもよい。
いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルはタッチセンサをさらに含む。タッチセンサは、封止基板内に設けてもよい。タッチセンサは、表示基板内に設けてもよい。
図３は、本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの構造を示す模式図である。図３を参照すると、いくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルは、第１無機ベース基板２０ａの封止層１３に近い側に設けられるタッチセンサ４０を含む。
図４Ａは、本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネル内のタッチセンサの構造を示す模式図である。図４Ａを参照すると、タッチセンサ４０はタッチ電極層を有する自己容量型のタッチセンサである。
図４Ｂは、本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネル内のタッチセンサの構造を示す模式図である。図４Ｂを参照すると、タッチセンサ４０は、タッチセンシング電極層及びタッチスキャニング電極層を有する相互容量型のタッチセンサである。タッチセンシング電極層及びタッチスキャニング電極層は、絶縁層により互いに絶縁される。
様々な適切な電極材料及び様々な適切な製造方法を用いてタッチセンサを作製することができる。例えば、電極材料は、プラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）処理により積層するか、又はナノインプリントリソグラフィ処理により製造することができる。タッチセンサの作製に適切な電極材料の例には、酸化インジウムスズ、ナノ銀、メタルメッシュ、グラフェン及びカーボンナノチューブが含まれるが、これらに限らない。
本発明のフレキシブル表示パネルでは、タッチセンサを第１無機ベース基板の封止層に近い側に積層することで、タッチコントロール機能を表示モジュールに内蔵させている。この設計により、アドオン型タッチパネルを表示モジュールに付着する必要がなく、フレキシブル表示パネルの全体的な厚さが大幅に減少する。その結果、より薄く、より柔軟なフレキシブル表示パネルが得られる。
いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルはカラーフィルタをさらに含む。カラーフィルタは、封止基板内に設けてもよい。カラーフィルタは、表示基板内に設けてもよい。図５は、本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネル内のタッチセンサの構造を示す模式図である。図５を参照すると、いくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルは、第１無機ベース基板２０ａの封止層１３に近い側に設けられるカラーフィルタ５０をさらに含む。図５に示すように、表示基板１０は、各々が第１の色のサブ画素１０１、第２の色のサブ画素１０２及び第３の色のサブ画素１０３を含む、複数の画素を含む。カラーフィルタ５０は、第１の色のサブ画素１０１に対応する第１のカラーフィルタ層５０１と、第２の色のサブ画素１０２に対応する第２のカラーフィルタ層５０２と、第３の色のサブ画素１０３に対応する第３のカラーフィルタ層５０３と、を含む。第１の色、第２の色及び第３の色は、赤、緑及び青から選ばれる異なる色であってもよい。第１の色のサブ画素１０１、第２の色のサブ画素１０２及び第３の色のサブ画素１０３は、赤色サブ画素、緑色サブ画素及び青色サブ画素から選ばれる３つのサブ画素であってもよい。第１のカラーフィルタ層５０１、第２のカラーフィルタ層５０２及び第３のカラーフィルタ層５０３は、赤色カラーフィルタ層、緑色カラーフィルタ層及び青色カラーフィルタ層から選ばれる３つのカラーフィルタ層であってもよい。
フレキシブル表示パネル内に、例えば、第１無機ベース基板上の封止層に近い側にカラーフィルタを有することで、薄膜トランジスタ及び表示ユニットによって反射される周辺光が低減又は除去され、表示コントラストが向上する。カラーフィルタは、偏光子よりも厚さがかなり小さくなるように作製してもよい。例えば、いくつかの実施形態におけるカラーフィルタは、厚さが約２μｍから約６μｍの範囲にある樹脂材料により作製することができる。従来のフレキシブル表示パネルに比べ、本発明のフレキシブル表示パネルは、より薄く、より柔軟なものに作製することができる。
いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルは、さらにブラックマトリックス層を、例えば、第１無機ベース基板の封止層に近い側に含む。ブラックマトリックス層はフレキシブル表示パネルのサブ画素間領域に配置され、隣接するサブ画素同士の混色が回避される。本明細書において、サブ画素間領域とは、例えば、液晶表示パネルにおけるブラックマトリクスに対応する領域、及び有機発光ダイオード表示パネルにおける画素定義層又は本発明の表示パネルにおけるブラックマトリクスに対応する領域等の、隣接するサブ画素領域の間の領域を指す。サブ画素間領域は、同一の画素における隣接するサブ画素領域の間の領域であってもよい。サブ画素間領域は、２つの隣接する画素からなる２つの隣接するサブ画素領域の間の領域であってもよい。サブ画素間領域は、赤色サブ画素のサブ画素領域と、隣接する緑色サブ画素のサブ画素領域との間の領域であってもよい。サブ画素間領域は、赤色サブ画素のサブ画素領域と、隣接する青色サブ画素のサブ画素領域との間の領域であってもよい。サブ画素間領域は、緑色サブ画素のサブ画素領域と、隣接する青色サブ画素のサブ画素領域との間の領域であってもよい。
図６Ａは、本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネル内のタッチセンサの構造を示す模式図である。図６Ａを参照すると、封止基板２０は、第１無機ベース基板２０ａと、第１無機ベース基板２０ａ上に設けられるタッチセンサ４０と、タッチセンサ４０の第１無機ベース基板２０ａから離れかつ表示基板１０内の封止層１３に近い側に設けられるカラーフィルタ５０と、を含む。カラーフィルタ５０は、第１のカラーフィルタ層５０１、第２のカラーフィルタ層５０２及び第３のカラーフィルタ層５０３を含む。このような設計とすることで、タッチセンサ４０は第１無機ベース基板２０ａ上に直接配置される。第１無機ベース基板２０ａはほぼ平坦であるため、タッチセンサ４０をほぼ平坦に作製して製造欠陥の発生を回避することができる。いくつかの実施形態におけるタッチセンサ４０は、グラフェン及びカーボンナノチューブから選ばれるひとつ以上の材料により作製することができる。
図６Ｂは、本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネル内のタッチセンサの構造を示す模式図である。図６Ｂを参照すると、封止基板２０は、第１無機ベース基板２０ａと、第１無機ベース基板２０ａ上に設けられるカラーフィルタ５０と、カラーフィルタ５０の第１無機ベース基板２０ａから離れかつ表示基板１０内の封止層１３に近い側に設けられるタッチセンサ４０と、を含む。カラーフィルタ５０は、第１のカラーフィルタ層５０１、第２のカラーフィルタ層５０２及び第３のカラーフィルタ層５０３を含む。このような設計とすることで、カラーフィルタは、表示ユニット１２及び薄膜トランジスタによって反射される光線だけでなく、タッチセンサ４０によって反射される光線をも除去するため、画質がさらに向上する。いくつかの実施形態におけるタッチセンサ４０は、酸化インジウムスズ、ナノ銀、メタルメッシュ、グラフェン及びカーボンナノチューブから選ばれるひとつ以上の材料により作製することができる。
他の側面において、本開示はフレキシブル表示パネルの製造方法を提供する。図７は、本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの製造工程を示すフローチャートである。図７を参照すると、いくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの製造方法は、第１無機ベース基板を有する封止基板を形成する工程と、封止基板に対向する表示基板を形成する工程と、を含む。表示基板を形成する工程は、第１無機ベース基板より厚さが小さい第３無機ベース基板上に第２無機ベース基板を形成する工程と、第２無機ベース基板の第３無機ベース基板から離れた側に表示ユニットを形成する工程と、表示ユニットの第２無機ベース基板から離れかつ封止基板に近い側に、表示ユニットを封止するための封止層を形成する工程と、を含む。いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルの製造方法は、封止基板を表示基板に接着することで、表示ユニットをその間にシーリングする工程と、第１無機ベース基板及び第３無機ベース基板を同一の工程においてエッチングすることで、第１無機ベース基板の厚さを低減し第３無機ベース基板を除去して、第２無機ベース基板を露出する工程と、をさらに含む。第２無機ベース基板は、第３無機ベース基板をエッチングするためのエッチング液を用いて第３無機ベース基板をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い、耐湿性及び耐酸化性のある無機材料により作製されてもよい。
図８Ａ〜８Ｃは、本開示のいくつかの実施形態におけるフレキシブル表示パネルの製造工程を示す。図８Ａを参照すると、フレキシブル表示パネルの製造方法は、キャリア基板６０上に第２無機ベース基板１１を形成する工程と、第２無機ベース基板１１のキャリア基板６０から離れた側に表示ユニット１２を形成する工程と、表示ユニット１２の第２無機ベース基板１１から離れた側に、表示ユニット１２を封止するための封止層１３を形成する工程と、を含む。
第２無機ベース基板１１は、キャリア基板をエッチングするためのエッチング液を用いてキャリア基板６０をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い、耐湿性及び耐酸化性のある無機材料を用いて形成される。様々な適切な材料及び様々な適切な製造方法を用いて第２無機ベース基板を製造することができる。例えば、無機ベース基板の材料は、スパッタリング又はプラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）処理により積層してもよい。第２無機ベース基板の作製に適切な材料の例には、ケイ素含有無機材料及び金属材料が含まれるが、これらに限らない。ケイ素含有無機材料の例には、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、アモルファスケイ素及び多結晶ケイ素が含まれる。金属材料の例には、ゴールド、白金、銅、モリブデン及びニッケルが含まれる。従来のフレキシブル表示パネルにおけるポリマーベース基板に比べ、本発明のフレキシブル表示パネルにおける第２無機ベース基板１１には気泡や開口等の製造欠陥がほぼ生じない。外部の湿気及び酸素に対し優れた耐性をもつフレキシブル表示パネルを作製することができる。
第２無機ベース基板１１は、単層構造を有するように形成してもよい。第２無機ベース基板１１は、２つ以上のサブ層を含む積層構造を有するように形成してもよい。積層構造には、金属サブ層と、ケイ素含有無機材料からなるサブ層とを含んでもよい。
いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルの製造工程は、キャリア基板６０上に第２無機ベース基板１１を形成する工程と、封止基板を表示基板に組み付ける工程と、第１無機ベース基板及びキャリア基板６０を同一の工程においてエッチングし、その間にキャリア基板６０を除去する工程とを含む。それ故、第２無機ベース基板１１を作製する際、キャリア基板をエッチングするためのエッチング液を用いてキャリア基板６０をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い無機材料が選択される。第２無機ベース基板を作製するために、例えば、エッチング速度が０．２μｍ／分未満の無機材料を選択することができる。
いくつかの実施形態において、キャリア基板６０はガラス基板である。フッ化水素酸、硝酸、又はそれらの組合せを含む、さらにオプションでひとつ以上の添加剤を加えた様々なエッチング液を用いて、ガラス基板をエッチングすることができる。第２無機ベース基板１１のエッチング速度は、キャリア基板をエッチングするためのフッ化水素酸を含むエッチング液を用いてキャリア基板６０をエッチングした場合のエッチング速度より遅くてもよい。第２無機ベース基板は、フッ化水素酸を含むエッチング液のエッチング速度が０．２μｍ／分未満であってもよい。
いくつかの実施形態において、第２無機ベース基板１１は、キャリア基板６０をエッチングするためのエッチング液を用いてキャリア基板６０をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い金属材料（例えば、インサート金属）を用いて作製される。
いくつかの実施形態において、第２無機ベース基板１１を形成する工程は、ガラス基板をエッチングするためのエッチング液に対する耐性の大きいサブ層を形成する工程を含む。例えば、第２無機ベース基板１１が金属材料により作製されるか、又は金属サブ層を含む場合、第２無機ベース基板１１を形成する工程は、キャリア基板６０に近い表面上にパッシベーション保護サブ層（例えば、酸化保護膜）を形成する工程を含んでもよい。
（例えば、第１無機ベース基板との組合せにおいて）必要な耐湿性と耐酸化性をフレキシブル表示パネルにもたらすに足りるように、封止層１３は任意の適切な材料（例えば、無機材料）により作製され、様々な適切な厚さを有することができる。
図８Ｂを参照すると、いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルの製造方法は、初期無機ベース基板７０を有する封止基板を表示基板に接着して、表示ユニットをその間にシーリングする工程、をさらに含む。キャリア基板６０は、初期無機ベース基板７０より厚さが小さい。図８Ｂに示すように、封止基板及び表示基板１０は、光学透明樹脂３０を用いて互いに接着されてもよい。
キャリア基板６０と初期無機ベース基板７０の厚さの差異は、最終製品における第１無機ベース基板の厚さとほぼ等しくてもよい。
キャリア基板６０と初期無機ベース基板７０の厚さの差異は、最終製品における第１無機ベース基板の厚さより大きくてもよい。後続のエッチング工程でキャリア基板６０及び初期無機ベース基板７０をエッチングする場合、オーバエッチングを行って、キャリア基板６０が完全に除去されるのを確実にしてもよい。第２無機ベース基板１１のエッチング速度がキャリア基板６０のエッチング速度より遅い（例えば、エッチング液に対して耐性がある）ため、第２無機ベース基板１１がエッチング液の影響をほぼ受けずに、エッチング液は所望の厚さが得られるまで初期無機ベース基板７０のエッチングを続ける。
図８Ｃを参照すると、いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルの製造方法は、初期無機ベース基板７０及びキャリア基板６０を同一の工程でエッチングして、初期無機ベース基板７０の厚さを小さくし、キャリア基板６０を除去することで、第２無機ベース基板１１を露出する工程をさらに含む。例えば、エッチング工程は、接着され、シーリングされた封止基板及び表示基板をエッチング溶液に浸し、初期無機ベース基板７０及びキャリア基板６０を同一の工程においてエッチングして行ってもよい。別の例において、エッチング工程は、接着され、シーリングされた封止基板及び表示基板の両側にエッチング溶液をスプレーすることで、初期無機ベース基板７０及びキャリア基板６０を同一の工程においてエッチングして行ってもよい。
初期無機ベース基板７０はキャリア基板６０より厚いため、キャリア基板６０がエッチング液により完全に除去されても、初期無機ベース基板７０は完全に除去されない。残りの初期無機ベース基板７０は第１無機ベース基板となり、超薄型ベース基板を形成できる。超薄型ベース基板は製造工程がほぼ終了した段階に限って形成されるため、本発明の方法では物理的損傷が生じにくい。
いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルの製造方法は、エッチング工程の後で第１無機ベース基板を強化することにより、強化された第１無機ベース基板を封止基板内に形成する工程をさらに含む。強化された第１無機ベース基板は、高硬度で耐ひっかき性があるため、カバーガラスの追加が不要となり、構造が単純な超薄型フレキシブル表示パネルが実現される。強化された第１無機ベース基板のモース硬度は、約８から約９の範囲にあってもよい。
本発明の方法により製造されるフレキシブル表示パネルには、従来のフレキシブル表示パネルに比べいくつかの利点がある。まず、表示パネルのベース基板は、無機材料からなり、無機材料をキャリア基板上に直接積層して製造される。本発明のフレキシブル表示パネルにおける第２ベース基板は、表面平面性、表面平滑性、機械的安定性及び構造的完全性において非常に優れている。次に、本発明の方法により製造されるフレキシブル表示パネルにおけるベース基板は、気密性の高い無機材料により作製されており、ポリマーベース基板を有する従来のフレキシブル表示パネルの製造欠陥が解消される。３つ目に、本発明のフレキシブル表示パネルにおける表示ユニットは、例えば、気密性の高い封止層及び第１無機ベース基板により、複数回封止が行われるため、フレキシブル表示パネルは湿気や酸素に対して優れた耐性を有するものとなる。４つ目に、ベース基板は、高硬度で耐ひっかき性のある強化ガラス材料等の無機材料により作製されるため、カバーガラスの追加が不要となり、構造が単純な超薄型フレキシブル表示パネルが実現される。
封止層は、厚さが約０．０１μｍから約１０μｍの範囲、例えば、約０．０１μｍから約１．０μｍ、約１．０μｍから約１．５μｍ、約１．５μｍから約２．０μｍ、約２．０μｍから約５．０μｍ、約５．０μｍから約１０μｍとなるように形成してもよい。
封止層は、プラズマ強化化学気相成長処理を用いて形成してもよい。ミクロンスケールの厚さを有する封止層は、プラズマ強化化学気相成長処理により製造されてもよい。封止層は、原子層堆積により形成してもよい。１０ナノメートルスケールの厚さを有する封止層は、原子層堆積により製造されてもよい。
本発明の方法により製造されたフレキシブル表示パネルにおいて、表示ユニットは、例えば、気密性の高い封止層及び第１無機ベース基板により、複数回封止が行われるため、外部の湿気や酸素の透過経路が完全に絶たれる。その結果、複数の有機及び無機サブ層を有する封止層は不要となる。簡素化された、費用対効果の高い製造工程が可能となる。
封止層は、気密性の高い無機材料により作製されてもよい。封止層を作製するための適切な無機材料の例には、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）及び酸窒化ケイ素（ＳｉＮｘＯｙ）が含まれるが、これらに限らない。窒化ケイ素材料は、疎水性及び気密性が高い。酸窒化ケイ素材料は、フレキシブル表示パネルの他の層と非常に接着しやすい。さらに、これらの材料のうちのひとつ以上により作製される封止層は、表面平面性が非常に良好である。これらの材料のうちのひとつ以上により作製される封止層を有するフレキシブル表示パネルは、外部の湿気や酸素に対して優れた耐性を有する。
初期無機ベース基板の厚さは約０．２ｍｍから約１．０ｍｍの範囲にあり、第３無機キャリア基板と初期無機ベース基板の厚さの差異は、０．１ｍｍ未満であり、例えば、約０．０５ｍｍから約０．１ｍｍの範囲にあってもよい。
第１無機ベース基板は、約０．１ｍｍ以下の厚さ、例えば、約０．０５ｍｍから約０．１ｍｍの範囲の厚さを有するように形成してもよい。このような設計とすることで、フレキシブル表示パネルを超薄型、柔軟、折り畳み可能で、回転可能なものに作製することができる。
いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルの製造方法は、封止基板を表示基板に接着する工程の前に、封止基板内にタッチセンサを形成する工程をさらに含む。フレキシブル表示パネルの製造方法は、封止基板を表示基板に接着して表示ユニットをその間にシーリングする工程をさらに含み、接着工程の後、タッチセンサが初期無機ベース基板の、表示基板内に設けられる封止層に近い側に配置されてもよい。
タッチセンサはタッチ電極層を有する自己容量型のタッチセンサであってもよい。タッチセンサは、タッチセンシング電極層及びタッチスキャニング電極層を有する相互容量型のタッチセンサであってもよい。
様々な適切な電極材料及び様々な適切な製造方法を用いてタッチセンサを作製することができる。例えば、電極材料は、プラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）処理により積層するか、又はナノインプリントリソグラフィ処理により製造することができる。タッチセンサの作製に適切な電極材料の例には、酸化インジウムスズ、ナノ銀、メタルメッシュ、グラフェン及びカーボンナノチューブが含まれるが、これらに限らない。
本発明の方法により製造されるフレキシブル表示パネルでは、タッチセンサを初期無機ベース基板の封止層に近い側に形成することで、タッチコントロール機能を表示モジュール内に内蔵させている。このような本発明の方法ではアドオン型タッチパネルを表示モジュールに接着する必要がなくなり、フレキシブル表示パネルの全体的な厚さが大幅に減少する。その結果、より薄く、より柔軟なフレキシブル表示パネルを得ることができる。タッチセンサを表示モジュール内に内蔵することで、それに続くベース基板のエッチングが実施しやすくなる。
いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルの製造方法は、封止基板を表示基板に接着する工程の前に、封止基板内にカラーフィルタを形成する工程をさらに含む。フレキシブル表示パネルの製造方法は、封止基板を表示基板に接着して表示ユニットをその間にシーリングする工程をさらに含み、接着工程の後、カラーフィルタは初期無機ベース基板の、表示基板内に設けられる封止層に近い側に配置されてもよい。
いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルは、各々が第１の色のサブ画素、第２の色のサブ画素及び第３の色のサブ画素を含む、複数の画素を含むように形成される。カラーフィルタを形成する工程は、第１の色のサブ画素に対応する第１のカラーフィルタ層を形成する工程と、第２の色のサブ画素に対応する第２のカラーフィルタ層を形成する工程と、第３の色のサブ画素に対応する第３のカラーフィルタ層を形成する工程と、を含んでもよい。第１の色、第２の色及び第３の色は、赤、緑及び青から選ばれる異なる色であってもよい。第１の色のサブ画素、第２の色のサブ画素及び第３の色のサブ画素は、赤色サブ画素、緑色サブ画素及び青色サブ画素から選ばれる３つのサブ画素であってもよい。第１のカラーフィルタ層、第２のカラーフィルタ層、第３のカラーフィルタ層は、赤色カラーフィルタ層、緑色カラーフィルタ層、青色カラーフィルタ層から選ばれる３つのカラーフィルタ層であってもよい。
フレキシブル表示パネル内に、例えば、第１無機ベース基板上の封止層に近い側にカラーフィルタを有することで、薄膜トランジスタ及び表示ユニットによって反射される周辺光が低減又は除去され、表示コントラストが向上する。カラーフィルタは、従来の表示パネルにおける偏光子よりも厚さがかなり小さくなるように作製してもよい。例えば、いくつかの実施形態におけるカラーフィルタは、厚さが約２μｍから約６μｍの範囲にある樹脂材料により作製することができる。従来の方法により製造されるフレキシブル表示パネルに比べ、本発明の方法により製造されるフレキシブル表示パネルは、より薄型で柔軟なものに作製することができる。
いくつかの実施形態において、フレキシブル表示パネルの製造方法は、封止基板を表示基板に接着する工程の前に、ブラックマトリックス層を、例えば、封止基板内に形成する工程をさらに含む。フレキシブル表示パネルの製造方法は、封止基板を表示基板に接着して表示ユニットをその間にシーリングする工程をさらに含み、接着工程の後、ブラックマトリックス層は、初期無機ベース基板の、表示基板内に設けられる封止層に近い側に配置されてもよい。ブラックマトリックス層はフレキシブル表示パネルのサブ画素間領域に形成され、隣接するサブ画素同士の混色が回避される。
いくつかの実施形態において、封止基板を形成する工程は、第１無機ベース基板上にタッチセンサを形成する工程と、タッチセンサの第１無機ベース基板から離れかつ表示基板内に設けられる封止層に近い側にカラーフィルタを形成する工程と、を含む。カラーフィルタを形成する工程は、第１のカラーフィルタ層を形成する工程と、第２のカラーフィルタ層を形成する工程と、第３のカラーフィルタ層を形成する工程と、を含んでもよい。このような設計とすることで、タッチセンサは第１無機ベース基板上に直接配置される。第１無機ベース基板はほぼ平坦であるため、タッチセンサをほぼ平坦に作製して製造欠陥の発生を回避することができる。いくつかの実施形態におけるタッチセンサは、グラフェン及びカーボンナノチューブから選ばれるひとつ以上の材料を用いて形成することができる。
いくつかの実施形態において、封止基板を形成する工程は、第１無機ベース基板上にカラーフィルタを形成する工程と、カラーフィルタの第１無機ベース基板から離れかつ表示基板内に設けられる封止層に近い側にタッチセンサを形成する工程と、を含む。カラーフィルタを形成する工程は、第１のカラーフィルタ層を形成する工程と、第２のカラーフィルタ層を形成する工程と、第３のカラーフィルタ層を形成する工程と、を含んでもよい。このような設計とすることで、カラーフィルタは、表示ユニットと薄膜トランジスタによって反射される光線だけでなく、タッチセンサによって反射される光線をも除去し、画質がさらに向上する。いくつかの実施形態におけるタッチセンサは、酸化インジウムスズ、ナノ銀、メタルメッシュ、グラフェン及びカーボンナノチューブから選ばれるひとつ以上の材料を用いて形成することができる。
他の側面において、本開示は、本開示で述べる、又は本開示で述べる方法により製造されるフレキシブル表示パネルを有するフレキシブル表示装置を提供する。適切な表示装置の例には、電子ペーパー、携帯電話、タブレットコンピュータ、テレビ、モニタ、ノートパソコン、電子アルバム、ＧＰＳ等が含まれるが、これらに限らない。
本発明の実施形態に関する以上の記載は例示と説明を目的としており、全てを網羅している訳ではなく、また開示された形態そのものに本発明を限定するものでもない。それ故、上記記載は限定ではなく例示を目的としていると見なすべきであり、多くの変更や変形は当業者にとって明らかであろう。本発明の原理とそれが実際に適用される最良の形態を最も説明しやすいような実施形態を選択しそれについて記載することで、特定の用途又は想定される適用に適した本発明の様々な実施形態及び様々な変更を当業者に理解させることを目的としている。本開示に付した請求項及びその均等物により本発明の範囲を定義することが意図され、別途示唆しない限り、すべての用語は合理的な範囲内で最も広く解釈されるべきである。従って、「本発明」、「本開示」又はこれに類する用語は請求項の範囲を必ずしも特定の実施形態に限定せず、本発明の例示的実施形態に対する参照は本発明への限定を示唆するものではなく、かかる限定を推論すべきではない。本発明は付属する請求項の構想と範囲のみにより限定される。さらに、これらの請求項では後に名詞又は要素を伴って「第１」「第２」等という表現を用いる場合がある。特定の数量が示されない限り、このような用語は専用語であると理解すべきであり、修飾された要素の数量が上記専用語により限定されると解釈してはならない。記載した効果や利点はいずれも本発明のすべての実施形態に適用されるとは限らない。当業者であれば、以下の請求項により定義される本発明の範囲から逸脱せずに、記載した実施形態を変形できることが理解されよう。さらに、以下の請求項に明記されているか否かを問わず、本開示の要素及び部品のいずれも公衆に捧げる意図はない。
１０ 表示基板
１１ 第２無機ベース基板
１２ 表示ユニット１
１３ 封止層
１４ 薄膜トランジスタ
２０ 封止基板
２０ａ 第１無機ベース基板
３０ 光学透明樹脂
４０ タッチセンサ
５０ カラーフィルタ
６０ キャリア基板
７０ 初期無機ベース基板
１０１ 第１の色のサブ画素
１０２ 第２の色のサブ画素
１０３ 第３の色のサブ画素
１２１ アノード
１２２ カソード
１２３ 発光層
５０１ 第１のカラーフィルタ層
５０２ 第２のカラーフィルタ層
５０３ 第３のカラーフィルタ層

Claims (20)

  1. 表示基板と、前記表示基板に対向する封止基板と、を含み、
    前記封止基板は、第１ベース基板を含み、
    前記表示基板は、第２ベース基板と、前記第２ベース基板上に設けられる表示ユニットと、前記表示ユニットの前記第２ベース基板から離れかつ前記封止基板に近い側に設けられる封止層と、を含み、
    前記第２ベース基板は、ガラス基板をエッチングするためのエッチング液を用いて前記ガラス基板をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い、耐湿性及び耐酸化性のある無機材料を含む、フレキシブル表示パネル。
  2. 前記封止層は、気密性が高く、厚さが約０．０１μｍから約１０μｍの範囲にある無機材料を含む、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。
  3. 前記第１ベース基板は厚さが約０．１ｍｍ以下である、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。
  4. 前記第２ベース基板は、前記第１ベース基板をエッチングするためのエッチング液を用いて前記第１ベース基板をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。
  5. 前記第１ベース基板は強化されたガラス基板である、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。
  6. 前記第１ベース基板の前記封止層に近い側に設けられるタッチセンサをさらに含む、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。
  7. 前記第２ベース基板は、ケイ素含有無機材料及び金属材料のうちのひとつ以上を含む、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。
  8. 前記第２ベース基板は、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、アモルファスケイ素、多結晶ケイ素、ゴールド、白金、銅、モリブデン及びニッケルのうちのひとつ以上を含む、請求項７に記載のフレキシブル表示パネル。
  9. 前記第２ベース基板は、前記封止基板から離れた表面上に、前記ガラス基板をエッチングするためのエッチング液に対する耐性が大きいサブ層を含む、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。
  10. 前記封止層は、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）及び酸窒化ケイ素（ＳｉＮｘＯｙ）のうちのひとつ以上を含む、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。
  11. 前記フレキシブル表示パネルはフレキシブル有機発光ダイオード表示パネルであり、前記表示ユニットは有機発光ダイオードを含む、請求項１に記載のフレキシブル表示パネル。
  12. 請求項１〜１１のいずれか一項に記載のフレキシブル表示パネルを含む、フレキシブル表示装置。
  13. 第１ベース基板を含む封止基板を形成する工程と、
    前記第１ベース基板より厚さの小さい第３ベース基板上に、前記封止基板に対向する表示基板を形成する工程と、
    前記表示基板を前記封止基板に接着する工程と、
    前記第１ベース基板及び前記第３ベース基板を同一の工程においてエッチングして、前記第１ベース基板の厚さを減少し前記第３ベース基板を除去することで、前記表示基板を露出する工程と、を含む、フレキシブル表示パネルの製造方法。
  14. 前記表示基板を形成する工程は、
    前記第３ベース基板上に第２ベース基板を形成する工程と、
    前記第２ベース基板の前記第３ベース基板から離れた側に表示ユニットを形成する工程と、
    前記表示ユニットの前記第２ベース基板から離れかつ前記封止基板に近い側に、前記表示ユニットを封止するための封止層を形成する工程と、を含み、
    前記フレキシブル表示パネルの製造方法は、
    前記封止基板を前記表示基板に接着して前記表示ユニットをその間にシーリングする工程と、
    前記第１ベース基板及び前記第３ベース基板を同一の工程においてエッチングして、前記第１ベース基板の厚さを減少し前記第３ベース基板を除去することで、前記第２ベース基板を露出する工程と、をさらに含み、
    前記第２ベース基板は、前記第３ベース基板をエッチングするためのエッチング液を用いて前記第３ベース基板をエッチングした場合よりエッチング速度の遅い、耐湿性及び耐酸化性のある無機材料を含む、請求項１３に記載のフレキシブル表示パネルの製造方法。
  15. 前記第１ベース基板及び前記第３ベース基板を同一の工程においてエッチングした後、前記第１ベース基板を強化することで、強化された第１ベース基板を形成する工程をさらに含む、請求項１３に記載のフレキシブル表示パネルの製造方法。
  16. 前記第１ベース基板及び前記第３ベース基板を同一の工程においてエッチングする前に、
    前記第１ベース基板の厚さは、約０．２ｍｍから約１．０ｍｍの範囲にあり、
    前記第３ベース基板と前記第１ベース基板の厚さの差異は０．１ｍｍ以下である、請求項１３に記載のフレキシブル表示パネルの製造方法。
  17. 前記第１ベース基板及び前記第３ベース基板を同一の工程においてエッチングした後、前記第１ベース基板の厚さは約０．１ｍｍ以下まで低減される、請求項１３に記載のフレキシブル表示パネルの製造方法。
  18. 前記第２ベース基板を形成する工程は、前記第３ベース基板に近い表面上に、ガラス基板をエッチングするためのエッチング液に対する耐性が大きいサブ層を形成する工程を含む、請求項１４に記載のフレキシブル表示パネルの製造方法。
  19. 前記封止層は、気密性が高い無機材料により形成され、厚さが約０．０１μｍから約１０μｍの範囲となるように形成される、請求項１４に記載のフレキシブル表示パネルの製造方法。
  20. 請求項１３から１９のいずれか一項に記載の方法により製造されるフレキシブル表示パネル。
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