JP2019503895A - 少なくとも１つの酸化ニッケル層を含む熱的特性を有する積層体を備えた基材 - Google Patents

Abstract

本発明は、少なくとも１つ、また、さらには１つのみの金属機能層（１４０）であって、赤外線領域及び／又は日射領域における反射特性を有し、特に銀又は銀含有金属合金をベースとする金属機能層（１４０）と、少なくとも１つの誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６８）をそれぞれ含む２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）とを含む積層体を、主面上に備えた透明基材（３０）に関する。前記の機能層（４０）は、前記２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）の間に配置されている。前記基材（３０）は、少なくとも１つの酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１５５）が、基材（３０）から出発して機能層（１４０）上に接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする。【選択図】図１

Description

本発明は、日射及び／又は長波長赤外線に影響を及ぼし得る金属タイプの機能層を含む積層体でコーティングされた、特にガラスなどの硬質鉱物材料から作られた透明基材に関する。

本発明は、より詳細には、断熱及び／又は太陽保護グレージングを製造するためのそのような基材の使用に関する。これらのグレージングは、建物及び乗物の室内のグレージング表面の重要性がますます高まっていることにより、特に空調負荷を低減し、及び／又は過度の過熱を防止し（「太陽制御性」グレージング）、及び／又は、外部に向かって散逸されるエネルギーの量を低減する（「低ｅ」グレージング）という観点で、建物及び乗物の両方に装備することが意図され得る。

これらのグレージングは、例えば、加熱グレージング又はエレクトロクロミックグレージングなどの特定の機能を有するグレージングにさらに組み込むことができる。

このような特性を基材に付与することが知られている層の１つのタイプの積層体は、赤外線領域及び／又は日射領域での反射特性を有する金属機能層、特に銀をベースとする又は銀含有金属合金をベースとする金属機能層からなる。

このタイプの積層体において、機能層は、このように、２つの反射防止性コーティングの間に配置され、各反射防止コーティングは一般に窒化物タイプ、特に窒化ケイ素若しくは窒化アルミニウム、又は、酸化物タイプの誘電体材料から各々作られた幾つかの層を含む。光学的な観点から、金属機能層を形作るこれらのコーティングの目的は、この金属機能層を「反射防止性」とすることである。

しかしながら、ブロッカーコーティングは、時折、反射防止性コーティング又は各反射防止性コーティングと金属機能層との間に挿入される。基材の方向で機能層の下方に配置されたブロッカーコーティングは、曲げ及び／又は強化タイプの起こり得る高温熱処理の間にそれを保護し、そして、基材とは反対側で機能層の上に配置されたブロッカーコーティングは、上部反射防止性コーティングの堆積の間、並びに、曲げ及び／又は強化タイプの起こり得る高温熱処理の間に起こり得る分解からこの層を保護する。

支持基材の方向で、銀ベースの金属機能層の直下に配置された酸化亜鉛をベースとする「湿潤」誘電体層は、高温曲げ又は強化熱処理に耐えることができるという利点を示しながら、金属機能層の適切な結晶学的状態の達成を促進することが、例えば、特許文献１（欧州特許出願第７１８２５０号明細書）から知られている。

さらに、この文献は、上部に他の層を堆積する間及び高温熱処理の間に機能層を保護するために銀ベースの機能層の直接上に接触して金属形態で堆積された層の存在の好ましい効果を開示している。当業者は、このタイプの層を「ブロッカー層」又は「ブロッカー」の総称で知っている。

１つ以上の銀ベースの機能層を含む積層体のフラッシュ加熱を行うための様々な解決策は、特許文献２（国際特許出願第２０１０／１４２９２６号明細書）からさらに知られている。フラッシュ加熱による処理は、金属機能層の品質を改善し、それによって放射率（これはシート抵抗に直接関係する。）を減少させることを可能にし、吸収性中間層の使用は、処理の間の積層体の吸収性を上げることを可能にし、その結果、処理の時間が短いが、効果的になる。吸収性中間層は、処理の間に透明になるので、処理後の積層体の光学特性は有利である（高い光透過率が特に得られる）。

欧州特許出願第７１８２５０号明細書 国際特許出願第２０１０／１４２９２６号明細書

本発明の目的は、新規タイプの機能性単層又は機能性多層の層の積層体を開発することによって従来技術の欠点を克服することに成功することであり、その積層体は、曲げ及び／又は強化及び／又はアニーリング及び／又はフラッシュ加熱のタイプの１つ（又は２つ以上）の高温熱処理後に、低減したシート抵抗（そのため、低減した放射率）を示す。

驚くべきことに、このような積層体中の酸化ニッケル層の存在は、この酸化ニッケル層が銀ベースの金属機能層上に直接に接触している場合に、積層体のシート抵抗を低減するのに非常に好ましい効果を有することが発見された。

したがって、本発明の主題は、最も広い意味において、請求項１記載の透明基材である。この基材は、主面上に、少なくとも１つ、また、さらには１つのみの金属機能層であって、赤外線領域及び／又は日射領域における反射特性を有し、特に銀又は銀含有金属合金をベースとする金属機能層と、少なくとも１つの誘電体層をそれぞれ含む２つの反射防止性コーティングとを含み、前記機能層は前記２つの反射防止性コーティングの間に配置されており、少なくとも１つの酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層は、基材から出発して機能層上に接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍである、積層体を備える。

本発明の意味の範囲内における「金属層」は、層が酸素も又は窒素も含まないことを意味すると理解されるべきである。

本発明の意味の範囲内における「コーティング」は、コーティング内に単一の層又は異なる材料の幾つかの層が存在し得ることを意味すると理解されるべきである。

「接触している」とは、本発明の意味の範囲内において、考慮中の２つの層の間に層が介在しないことを意味すると理解される。

「をベースとする（に基づく）」とは、本発明の意味の範囲内において、そのように記載された元素又は材料が、考慮中の層中に５０原子％を超えて存在することを意味すると理解される。

有利には、赤外線領域及び／又は日射領域における反射特性を有する単一（又は複数）の金属機能層は、１つ（又は２つ以上）の連続層である。

実際、本発明によれば、酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層は、Ｎｉ及びＯ以外の他のいかなる元素をも含まない。この層を構成する材料は、「純粋な酸化ニッケル」と記述することができる。

「Ｎｉ_ｘＯ」なる表示は、Ｎｉ_１Ｏ_１が存在する可能性があるが、層の構成材料が、この安定な化学量論比を正確に示さなくてもよいという事実を対象としている。
− 層の材料は、Ｎｉにおいてわずかに化学量論的超であってもよく、例えば０．８≦ｘ＜１、特に０．８≦ｘ≦０．９５であってもよく、又は
− 層の材料は、Ｎｉにおいてわずかに化学量論的未満であってもよく、例えば、１＜ｘ≦１．２、特に１．０５≦ｘ≦１．２であってもよい。

特定の代替形態において、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層は、１．２〜０．５、また、さらには０．９〜０．６のｘを示す。

非常に特定の代替形態では、酸化亜鉛をベースとする層は、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層上に接触して配置されている。

好ましくは、酸化ニッケルＮｉ_ｙＯ層は、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層の上方に接触して配置されており、及び／又は、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層の下方に接触して配置されており、前記機能層に最も近い酸化ニッケル層は、基材から出発して前記機能層からより遠い別の酸化ニッケル層よりも低い酸化状態である。これは、より酸化された酸化ニッケル層がより良いブロッカーであり、より低い酸化状態の酸化ニッケル層がより良い光吸収剤であるからである。

前記下層の反射防止性コーティング及び上層の反射防止性コーティングは、好ましくはさらに、各々、窒化ケイ素をベースとし、場合によって、アルミニウムなどの少なくとも１つの他の元素を用いてドープされた、少なくとも１つの誘電体層を含む。

さらには、別の酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層は、積層体中にあって、機能層の下方に、かつ、機能層と接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍとすることが可能である。ｘは、堆積を容易にするために、好ましくはこれらの２つの酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層について同一である。

他には、金属層、特にニッケル及びクロムを含む金属層は、機能層の下方に、かつ、それと接触して配置されており、前記金属層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍとすることが可能である。

さらに、別の酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層は、基材の方向で前記機能層の下方に配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層と前記機能層との間に異なる材料から作られた少なくとも１つの層又は１つのみの層が介在しており、この酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層は、好ましくは、０．３〜１０．０ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍ、また、さらには１．０〜５．０ｎｍの厚さを示すことが可能である。これは、金属機能層の結晶状態、それによる積層体のシート抵抗に関する好ましい効果を有することもできる。

積層体は、最終層（オーバーコート）、すなわち保護層を含むことができる。この保護層は、好ましくは０．５〜１０ｎｍの物理的厚さを示す。

本発明によるグレージングは、本発明による積層体を担持した基材を少なくとも組み入れ、場合により、少なくとも１つの他の基材と組み合わされている。各基材はクリアであっても又は着色されていてもよい。１つの基材は、少なくとも特に、バルク着色ガラスから作ることができる。着色タイプの選択は、製造が完了したときのグレージングに望ましい光透過レベル及び／又は比色外観によるであろう。

本発明によるグレージングは、ガラス／積層体／シート／ガラスのタイプの構造を示すために、熱可塑性ポリマーの少なくとも１つのシートにより、特に少なくとも２つのガラスタイプの剛性基材を組み合わせたラミネート化構造を示すことができる。ポリマーは、特に、ポリビニルブチラールＰＶＢ、エチレン／酢酸ビニルＥＶＡ、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴ又はポリ塩化ビニルＰＶＣをベースとすることができる。

グレージングは、さらに、ガラス／積層体／ポリマーシートのタイプの構造を示すことができる。

本発明によるグレージングは、積層体を損傷することなく熱処理することができる。このように、これらは場合により、曲げられ及び／又は強化される。

グレージングは、積層体を備えた単一の基材からなっても、曲げられ及び／又は強化され得る。その際、それは「モノリシック」グレージングである。特に乗物のグレージングを形成する目的で曲げられる場合に、積層体は、好ましくは、少なくとも部分的に非平面である面に見られる。

グレージングは複合グレージング、特にダブルグレージングであってもよく、少なくとも積層体を担持する基材を、曲げ及び／又は強化することが可能である。複合グレージング構成において、導入されるガス充填キャビティに、積層体が対面するように配置されることが好ましい。ラミネート化構造において、積層体をポリマーシートと接触させることができる。

グレージングは、ガス充填キャビティによって対になって分離された３つのガラスシートからなるトリプルグレージングとすることもできる。トリプルグレージング構造において、積層体を担持する基材は、太陽光の入射方向が番号の昇順で面を横切ると考えられる場合に、面２及び／又は面５上にあることができる。

グレージングがモノリシックであるか、又は、ダブルグレージング、トリプルグレージング又はラミネート化グレージングのタイプの複合グレージングであるときに、少なくとも、積層体を担持する基材は、曲げられた又は強化されたガラスから作られていてよく、この基材は、積層体の堆積の前又は後に、曲げられ又は強化されることができる。

有利には、本発明は、このように、積層体の光学的パラメータに悪影響を与えることなく、熱処理後に、より低いシート抵抗を示す、金属機能性単層又は金属機能性多層の積層体を製造することを可能にする。

本発明の詳細及び有利な特徴は、以下の非限定的な例から明らかであり、示される添付図面により例示される。

図１において、本発明による機能性単層積層体であって、機能層は、アンダーブロッカーコーティングの上に直接堆積され、かつ、オーバーブロッカーコーティングの下に直接堆積されており、積層体は照射線を生成する源を用いた処理中に示されている。 図２において、機能性単層積層体を取り込んだダブルグレージング手段である。 図３において、酸素の存在下で金属ターゲットから堆積された酸化ニッケルのヒステリシス曲線である。

図１及び２において、異なる層又は異なる要素の厚さの比率は、読みやすくするために尊重されていない。

図１は、透明ガラス基材３０の面２９の上に堆積された本発明による機能性単層積層体３５の構造を示しており、ここで、特に銀又は銀含有金属合金をベースとする単一機能層１４０は、２つの反射防止性コーティングの間に配置され、すなわち、基材３０の方向で機能層１４０の下方に配置される下層の反射防止性コーティング１２０と、基材３０とは反対側の機能層１４０の上方に配置される上層の反射防止性コーティング１６０との間に配置される。

これらの２つの反射防止性コーティング１２０，１６０は、各々少なくとも１つの誘電体層１２２，１２６；１６２，１６８を含み、好ましくは、各々少なくとも２つの誘電体層を含み、各誘電体コーティングにおいて、機能層１４０に近い、好ましくは酸化亜鉛をベースとする誘電体層１２６，１６２と、機能層１４０から離れた、好ましくは窒化ケイ素をベースとする誘電体層１２２，１６８を含む。

場合により、一方で、機能層１４０は、下層の反射防止性コーティング１２０と機能層１４０との間に配置されるアンダーブロッカーコーティング１３０の上に直接堆積させることができ、他方で、機能層１４０は、機能層１４０と上層の反射防止性コーティング１６０との間に配置されるオーバーブロッカーコーティング１５０の下に直接堆積させることができる。

アンダーブロッカー層及び／又はオーバーブロッカー層は、金属形態で堆積され、金属層として示されているが、（特にオーバーブロッカー層に関する）それらの機能の１つは、機能層を保護するために積層体の堆積の間に酸化状態になることであるから、時折、実際上、酸化された層である。

本発明によれば、少なくとも１つの酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層（以下の表１の層１５５）は、基材３０から出発して前記機能層１４０上に接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍである。

図２に示すように、ダブルグレージング構造の複合グレージング１００において積層体が使用されるときに、このグレージングは、フレーム構造９０によって一緒に保持され、かつ、挿入されたガス充填キャビティ１９によって互いに分離された２つの基材６０，３０を含む。したがって、各基材３０，６０はそれぞれ、挿入されたガス充填キャビティ１９と接触している内側面２９，６１を含み、基材３０，６０の他方の面３１，５９は、内部空間ＩＳ及び外部空間ＥＳにそれぞれ接触している。

したがって、グレージングは外部空間ＥＳと内部空間ＩＳとの間の分離を提供する。

積層体は、面３（建物に入る太陽光の入射方向を考慮したときの建物の最も離れた内側のシート上で、ガス充填キャビティに対面する面）に配置されることができる。

図２は、基材３０の内側面２９上に配置された積層体３５の面３上のこの配置（建物に入射する太陽光の入射方向は二重矢印によって示される）を示し、該内側面２９は挿入されたガス充填キャビティ１９と接触しており、基材３０の他方の面３１は内部空間ＩＳと接触している。

しかしながら、このダブルグレージング構造では、一方の基材がラミネート化構造を示すことも考えられる。

以下のすべての例について、層の堆積条件は以下のとおりである。

したがって、堆積された層は４つのカテゴリーに分類することができる：
ｉ− 可視領域の全波長範囲にわたって５より大きいｎ／ｋ比を示す反射防止性／誘電体材料の層：Ｓｉ_３Ｎ_４，ＺｎＯ、
ｉｉ− 赤外線領域及び／又は日射領域での反射特性を有する材料から作られた金属機能層：Ａｇ；銀は可視領域の全波長範囲にわたって０＜ｎ／ｋ＜５の比を示し、そのバルク電気抵抗率は１０^−６Ω・ｃｍ未満であることが観察された。
ｉｉｉ− 積層体の堆積の間に機能層をその性質の変性から保護することを目的とするアンダーブロッカー層及びオーバーブロッカー層、
ｉｖ− 酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層及びＮｉ_ｙＯ層；図３は、これらの２つの層の堆積条件を示す。

Ｎｉ_１Ｏ_１セラミックターゲットも試験され、以下の例で見られるものと同様の結果が導かれたことに留意されたい。

以下の全ての例において、積層体は、Ｓａｉｎｔ−ＧｏｂａｉｎによってＰｌａｎｉｃｌｅａｒブランドで流通される厚さ４ｍｍのクリアソーダライムガラスから作られた基材上に堆積される。

表１において、「番号」の列は、図１の構成に関連して層の番号を示し、第二の列は、コーティングを示す。第三の列は、第一の列の層で堆積された材料を示す。

この表１において、基材３０は層１２２の下に配置され、例の層は、この基材３０から始まって下から上に、左側の列に示された順序で配置されている。したがって、図１に示されていないこれらの表に番号が付けられた層は、表１に示されるのと同じように、例において位置付けられる。

表１の一連の例において、例５０〜５４に関して、酸化ニッケル層１５４及び／又は１５５及び／又は１５６は、上層のブロッカーコーティング１５０内にあり、かつ、金属機能層１４０と接触している。

層１５４又は１５６の酸化ニッケルＮｉ_ｙＯは、層１５５の酸化ニッケルＮｉ_ｘＯとは異なる：図３を参照すると、酸化雰囲気中で金属ターゲットから堆積された酸化ニッケルのヒステリシス曲線が示され（横座標は酸素流量、ｓｃｃｍであり、縦軸はターゲットの端子の電圧を示す）、Ｎｉ_ｘＯは、酸素リッチな酸化物をもたらす（換言すれば、酸素が化学量論的超であり、又は酸素が化学量論的であり、また、さらには、酸素が若干化学量論的未満である）標準条件下で堆積され、一方、Ｎｉ_ｙＯは、Ｎｉリッチな酸化物をもたらす（換言すれば、酸素が明らかに化学量論的未満である）標準条件下で堆積される。Ｎｉ_ｙＯの使用により、より高い光吸収性が得られる。

表２に示す積層体によりコーティングされた基材の特性は、６５０℃で１０分間、強化熱処理し、次いで、冷却操作した後の測定からなる。
− Ｒに関しては、スクエアあたりのオームでの４点プローブで通常通りに測定されたシート抵抗である。
− Ａｂｓに関しては、積層体が堆積された基材の主面の反対側で、発光体Ｄ６５ ２°により測定された％での可視領域における光吸収率である。

括弧内の値は、例１からなる基準に対するシート抵抗の改善（減少）を示す。

熱処理は、レーザライン８の下で１０ｍ／分の速度で基材３０を順方向に進行させることからなり得るであろう。一例として、このようなレーザラインは、幅が６０μｍであり、出力が２５Ｗ／ｍｍであり、レーザラインは、面２９に垂直に、そして面２９から最も遠い積層体の終端層の方向に向けられ、すなわち、図１に見られるように、レーザラインを積層体の上に配置し（直線の黒色矢印により示す）、積層体の方向にレーザを向けることによる。

酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層１５５を厚さ１ｎｍで用いて他の試験を行い、同様の結果が得られた。

銀から作られた金属機能層を厚さ１５ｎｍで用いて他の試験を行い、同様の結果が得られた。

さらに、例５０に基づいて、Ｎｉ_ｘＯ層１５５の堆積方法が、得られる改善に影響を及ぼし得るかどうかを理解するための試験を行なった。これは、Ｎｉ_ｘＯ層が
ｉ． Ｎｉのみを含む金属ターゲットを、酸素を含む、また、さらに、アルゴンなどの中性ガスを含む雰囲気中においてスパッタリングすることにより、
ｉｉ． 又は、アルゴンなどの中性ガスを含む、また、さらに酸素を含む雰囲気中において、Ｎｉ及び酸素の両方を含有する「セラミック」ターゲットをスパッタリングすることにより、
得ることができるからである。

同一のＮｉ_ｘＯ層１５５の厚さを有する両方のケースにおいて同様の結果が得られることが判った。

さらに、熱処理前の上記ｉのケースにしたがって堆積されたＮｉ_ｘＯの抵抗率は、１９０μΩ・ｃｍ程度であり、すなわちＩＴＯ（約２００μΩ・ｃｍ）に近い値であり、機能層１４０に使用される３μΩ・ｃｍ程度である銀の抵抗率よりもずっと高い。６５０℃で１０分間の熱処理後に、上記のケースｉにより堆積されたこの同じＮｉ_ｘＯの抵抗率は、約３０μΩ・ｃｍに低下した。

例５０の機械的強度を試験し、例１の機械的強度と比較した。これは、良好であり、また時折さらには、高負荷ではより良好である。

得られる低シート抵抗、及び、良好な光学特性（特に可視領域での光透過率）の結果として、本発明による積層体でコーティングされた基材を使用して、透明電極基材を製造することがさらに可能である。

一般に、透明電極基材は、任意の加熱グレージング、任意のエレクトロクロミックグレージング、任意の表示スクリーン、又は光起電力電池（若しくはパネル）、特に透明光起電力電池バックシートに適していてもよい。

本発明は、先行の記載で例として説明されている。しかしながら、当業者は、特許請求の範囲によって規定される特許の範囲から逸脱することなく、本発明の異なる代替形態を製造することができることが理解される。

Claims (11)

1. 少なくとも１つ、また、さらには１つのみの金属機能層（１４０）であって、赤外線領域及び／又は日射領域における反射特性を有し、特に銀又は銀含有金属合金をベースとする金属機能層（１４０）と、少なくとも１つの誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６８）をそれぞれ含む２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）とを含み、前記機能層（４０）は、前記２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）の間に配置されている、積層体を、主面上に備えた透明基材（３０）であって、
   少なくとも１つの酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層（１５５）が、基材（３０）から出発して機能層（１４０）上に接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層（１５５）の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、透明基材（３０）。
2. 前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層（１５５）は、１．２〜０．５、また、さらには０．９〜０．６のｘを示すことを特徴とする、請求項１に記載の基材（３０）。
3. 酸化亜鉛をベースとする層が、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層（１５５）の上方でそれと接触して配置されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の基材（３０）。
4. 酸化ニッケルＮｉ_ｙＯ層（１５４、１５６）が、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層（１５５）の上方でそれと接触して配置されており、及び／又は、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層（１５５）の下方でそれと接触して配置されており、前記機能層（１４０）に最も近い酸化ニッケル層は、より遠い別の酸化ニッケル層よりも低い酸化状態であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材（３０）。
5. 前記下層の反射防止性コーティング（１２０）及び上層の反射防止性コーティング（６０）は、各々、窒化ケイ素をベースとし、場合により、アルミニウムなどの少なくとも１つの他の元素を用いてドープされている、少なくとも１つの誘電体層（１２２，１６８）を含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基材（３０）。
6. 酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層が、機能層（１４０）の下方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基材（３０）。
7. 金属層、特にニッケル及びクロムを含む金属層は、機能層（１４０）の下方でそれと接触して配置されており、前記金属層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍ、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基材（３０）。
8. 酸化ニッケル層は、基材（３０）の方向で前記機能層（１４０）の下方に配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層と前記機能層（１４０）との間に、異なる材料から作られた少なくとも１つの層又は１つのみの層が介在しており、この酸化ニッケルＮｉ_ｘＯ層は、好ましくは、０．３〜１０．０ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍの厚さを示すことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基材（３０）。
9. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の少なくとも１つの基材（３０）を、場合により少なくとも１つの他の基材と組み合わせて組み入れた、グレージング（１００）。
10. モノリシックユニットとして、又は、ダブルグレージング若しくはトリプルグレージング若しくはラミネート化グレージングのタイプの複合グレージングユニットとして取り付けられたグレージング（１００）であって、少なくとも、前記積層体を担持した基材が、曲げられ及び／又は強化されていることを特徴とする、請求項９に記載のグレージング（１００）。
11. 加熱グレージング又はエレクトロクロミックグレージング又は照明デバイス又は表示デバイス又は光起電力パネルの透明電極を製造するための、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基材の使用。