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JP2019217050A - Plasma treatment kit and treatment method - Google Patents

Plasma treatment kit and treatment method Download PDF

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JP2019217050A
JP2019217050A JP2018117363A JP2018117363A JP2019217050A JP 2019217050 A JP2019217050 A JP 2019217050A JP 2018117363 A JP2018117363 A JP 2018117363A JP 2018117363 A JP2018117363 A JP 2018117363A JP 2019217050 A JP2019217050 A JP 2019217050A
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Japan
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gas
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irradiation
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JP2018117363A
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Japanese (ja)
Inventor
東儀 彰子
Akiko Tougi
彰子 東儀
上原 剛
Takeshi Uehara
剛 上原
貴也 大下
Takaya Oshita
貴也 大下
雅宏 ▲高▼田
雅宏 ▲高▼田
Masahiro Takada
安宅 元晴
Motoharu Ataka
元晴 安宅
麻友華 多田
Mayuka TADA
麻友華 多田
悠 長原
Yu Nagahara
悠 長原
井上 毅
Takeshi Inoue
毅 井上
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Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Abstract

To provide a plasma treatment kit that can confirm a region which a plasma and an active gas are irradiated with, and to provide a treatment method.SOLUTION: A plasma treatment kit includes: a plasma treatment device for discharging a jetting gas containing any one or both of a plasma and active species generated by the plasma; and a marker composition containing a marker substance which is partially or entirely decomposed by the jetting gas. A treatment method includes: preliminarily applying the marker composition to an affected part; and irradiating a region to which the marker composition is applied, with the jetting gas.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、プラズマ式治療キット及び治療方法に関する。   The present invention relates to a plasma treatment kit and a treatment method.

歯科治療等において創傷等の患部にプラズマやプラズマによって発生した活性ガスを照射して患部の治癒を図るプラズマ式治療装置が知られている。プラズマ式治療装置としては、プラズマジェット照射装置(例えば特許文献1)及び活性ガス照射装置(例えば特許文献2)がある。プラズマジェット照射装置は、プラズマ及びプラズマによって発生した活性種をノズルから吐出し、被照射物に照射する。活性ガス照射装置は、プラズマによって発生した活性種を含む活性ガスをノズルから吐出し、被照射物に照射する。   2. Description of the Related Art There is known a plasma treatment apparatus for irradiating an affected part such as a wound with plasma or an active gas generated by the plasma to cure the affected part in a dental treatment or the like. Examples of the plasma treatment device include a plasma jet irradiation device (for example, Patent Document 1) and an active gas irradiation device (for example, Patent Document 2). The plasma jet irradiation apparatus discharges plasma and active species generated by the plasma from a nozzle, and irradiates an object to be irradiated. The active gas irradiation device discharges an active gas containing active species generated by plasma from a nozzle and irradiates the object with the active gas.

特許第5441066号公報Japanese Patent No. 544066 特開2017−50267号公報JP 2017-50267 A

活性ガス照射装置における活性ガスは無色であるため、ノズルから活性ガスを吐出していることを治療中に使用者が認識できない。
プラズマジェット照射装置におけるプラズマは有色である。しかし、口腔内等にノズルを挿入している場合、ノズルからプラズマを吐出していることを治療中に使用者が認識しにくい。
加えて、照射対象である患部に対して、プラズマ及び活性種を照射できたか否かを確認したいという要望がある。
Since the active gas in the active gas irradiation device is colorless, the user cannot recognize that the active gas is being discharged from the nozzle during treatment.
The plasma in the plasma jet irradiation device is colored. However, when a nozzle is inserted into the oral cavity or the like, it is difficult for the user to recognize that plasma is being discharged from the nozzle during treatment.
In addition, there is a demand to confirm whether or not the irradiation target has been irradiated with the plasma and the active species.

本発明は、プラズマや活性ガスが照射された領域を確認できるプラズマ式治療キット及び治療方法を提供する。   The present invention provides a plasma treatment kit and a treatment method capable of confirming a region irradiated with plasma or active gas.

本発明は、下記の態様を有する。
[1]プラズマ及びプラズマによって発生した活性種のいずれか一方又は両方を含む噴射ガスを吐出するプラズマ式治療装置と、
前記噴射ガスによって一部又は全部が分解する標識物質を含む標識組成物と、
を有する、プラズマ式治療キット。
[2]前記標識物質が、色素及び呈味成分のいずれか一方又は両方である、[1]に記載のプラズマ式治療キット。
[3][1]に記載のプラズマ式治療キットを用いた、治療方法(但し、ヒトに対する医療行為を除く)であって、
患部に前記標識組成物を予め塗布し、
前記標識組成物が塗布された領域に、前記噴射ガスを照射する、治療方法。
[4]前記標識物質が、色素及び呈味成分のいずれか一方又は両方である、[3]に記載の治療方法。
[5]前記標識物質が色素であり、予め前記標識組成物が塗布された領域に前記噴射ガスを照射し、前記標識物質を変色させる、[3]又は[4]に記載の治療方法。
The present invention has the following aspects.
[1] a plasma treatment device that discharges a jet gas containing one or both of plasma and active species generated by the plasma,
A labeling composition containing a labeling substance partially or wholly decomposed by the propellant gas,
A plasma treatment kit comprising:
[2] The plasma treatment kit according to [1], wherein the labeling substance is one or both of a dye and a taste component.
[3] A method of treatment using the plasma-type treatment kit according to [1] (however, excluding medical treatment for humans),
Pre-applying the marker composition to the affected area,
A treatment method, wherein the propellant gas is irradiated to a region where the marker composition has been applied.
[4] The treatment method according to [3], wherein the labeling substance is one or both of a dye and a taste component.
[5] The treatment method according to [3] or [4], wherein the labeling substance is a dye, and the area to which the labeling composition has been previously applied is irradiated with the propellant gas to change the color of the labeling substance.

本発明のプラズマ式治療キットは、プラズマや活性ガスが照射された領域を容易に確認できる。   The plasma treatment kit of the present invention can easily confirm the region irradiated with plasma or active gas.

本発明の第一の実施形態のプラズマ式治療装置を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a plasma treatment device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第一の実施形態のプラズマ式治療装置を構成する照射器具の部分断面図である。It is a partial sectional view of an irradiation instrument which constitutes a plasma treatment device of a first embodiment of the present invention. 図2の照射器具のx−x断面図である。It is xx sectional drawing of the irradiation instrument of FIG.

本発明のプラズマ式治療キットは、プラズマ式治療装置と、標識組成物とを有する。
プラズマ式治療装置は、プラズマ及びプラズマによって発生した活性ガスのいずれか一方又は両方を含む噴射ガスを吐出する。プラズマ式治療装置は、プラズマジェット照射装置であってもよく、活性ガス照射装置であってもよい。
標識組成物は、標識物質を含む。標識物質は、プラズマ式治療装置から吐出された照射ガスによって一部又は全部が分解する物質である。
The plasma treatment kit of the present invention has a plasma treatment device and a labeling composition.
The plasma therapy apparatus discharges a jet gas containing one or both of plasma and active gas generated by the plasma. The plasma treatment device may be a plasma jet irradiation device or an active gas irradiation device.
The labeling composition contains a labeling substance. The labeling substance is a substance that is partially or entirely decomposed by the irradiation gas discharged from the plasma treatment device.

プラズマジェット照射装置は、プラズマを発生させる。プラズマジェット照射装置は、発生したプラズマと活性種とを被照射物に直接照射する。活性種は、プラズマ中の気体又はプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。活性種としては、活性酸素種、活性窒素種等を例示できる。活性酸素種としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル等を例示できる。活性窒素種としては、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等を例示できる。
活性ガス照射装置は、プラズマを発生させる。活性ガス照射装置は、活性種を含む活性ガスを被照射物に照射する。活性種は、プラズマ中の気体又はプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。
プラズマジェット照射装置において、噴射ガスはプラズマと活性種とを含む。
活性ガス照射装置において、噴射ガスは活性ガスである。
The plasma jet irradiation device generates plasma. The plasma jet irradiation device directly irradiates the object to be irradiated with the generated plasma and active species. The active species are generated by a reaction between a gas in the plasma or a gas around the plasma and the plasma. Examples of the active species include active oxygen species and active nitrogen species. Examples of the active oxygen species include a hydroxyl radical, singlet oxygen, ozone, hydrogen peroxide, and a superoxide anion radical. Examples of the active nitrogen species include nitric oxide, nitrogen dioxide, peroxynitrite, nitrous oxide, nitrous oxide and the like.
The active gas irradiation device generates plasma. The active gas irradiation device irradiates an irradiation target with an active gas containing active species. The active species are generated by a reaction between a gas in the plasma or a gas around the plasma and the plasma.
In a plasma jet irradiation apparatus, a jet gas contains plasma and active species.
In the active gas irradiation device, the injection gas is an active gas.

以下、本発明のプラズマ式治療キットの一実施形態について説明する。
本実施形態のプラズマ式治療装置は、活性ガス照射装置である。
図1に示すように、本実施形態の活性ガス照射装置100は、照射器具10(インスツルメント)と、供給ユニット20と、ガス管路30と、電気配線40とを備える。
照射器具10は、照射器具10内で発生した活性ガスを吐出する。供給ユニット20は、照射器具10に電気及びプラズマ発生用ガスを供給する。ガス管路30は、照射器具10と供給ユニット20とを接続している。電気配線40は、照射器具10と供給ユニット20とを接続している。本実施形態において、ガス管路30と電気配線40とは、各々独立しているが、ガス管路30と電気配線40とは一体でもよい。
供給ユニット20は、プラズマ発生ガスの供給源(不図示)と接続されている。また、供給ユニット20は、プラズマ発生ガスの供給源を内蔵してもよい。プラズマ発生ガスの供給源は、例えば、ガスボンベ等である。
供給ユニット20は、例えば、100Vの家庭用電源等の電源(図示略)と接続されている。
Hereinafter, one embodiment of the plasma treatment kit of the present invention will be described.
The plasma treatment device of the present embodiment is an active gas irradiation device.
As shown in FIG. 1, the active gas irradiation device 100 of the present embodiment includes an irradiation device 10 (instrument), a supply unit 20, a gas pipeline 30, and an electric wiring 40.
The irradiation device 10 discharges the active gas generated in the irradiation device 10. The supply unit 20 supplies the irradiation device 10 with electricity and a gas for generating plasma. The gas line 30 connects the irradiation device 10 and the supply unit 20. The electric wiring 40 connects the irradiation device 10 and the supply unit 20. In the present embodiment, the gas pipeline 30 and the electrical wiring 40 are independent of each other, but the gas pipeline 30 and the electrical wiring 40 may be integrated.
The supply unit 20 is connected to a plasma generation gas supply source (not shown). Further, the supply unit 20 may include a supply source of the plasma generating gas. The source of the plasma generating gas is, for example, a gas cylinder or the like.
The supply unit 20 is connected to a power supply (not shown) such as a 100 V household power supply.

図2は、照射器具10における軸線に沿う断面を示す部分断面図である。図3は、図2の照射器具のx−x断面図である。
照射器具10は、長尺状のカウリング2と、カウリング2の先端から突出するノズル1と、カウリング2内に位置するプラズマ発生部12と、カウリング2の外周面に設けられた操作スイッチ9(操作部)とを備える。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a cross section of the irradiation device 10 along the axis. FIG. 3 is an xx sectional view of the irradiation device of FIG.
The irradiation device 10 includes a long cowling 2, a nozzle 1 protruding from the tip of the cowling 2, a plasma generation unit 12 located in the cowling 2, and an operation switch 9 (operation) provided on the outer peripheral surface of the cowling 2. Part).

カウリング2は、胴体部2bと、胴体部2bの先端を塞ぐヘッド部2aとを備える。
胴体部2bは、管軸O1方向に延びる円筒状の部材である。胴体部2bは、円筒形に限らず、四角筒、六角筒、八角筒等の多角筒形でもよい。
The cowling 2 includes a body 2b and a head 2a that closes a tip of the body 2b.
The body 2b is a cylindrical member extending in the tube axis O1 direction. The body 2b is not limited to a cylindrical shape, and may be a polygonal cylinder such as a square cylinder, a hexagonal cylinder, and an octagonal cylinder.

胴体部2bの材料としては、絶縁性を有する材料が好ましい。胴体部2bは、電気絶縁性の材料のみで形成されてもよいし、電気絶縁性の材料とその表面に金属材料の層を有する多層構造でもよい。
絶縁性の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等を例示できる。熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)等を例示できる。熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコン樹脂等を例示できる。
金属材料としては、ステンレス、チタン、アルミニウム等が挙げられる。
胴体部2bの大きさは、特に制限はなく、手指で把持しやすい大きさとすることができる。
As a material of the body 2b, a material having an insulating property is preferable. The body 2b may be formed of only an electrically insulating material, or may have a multilayer structure having an electrically insulating material and a metal material layer on its surface.
Examples of the insulating material include a thermoplastic resin and a thermosetting resin. Examples of the thermoplastic resin include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polystyrene, acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS resin), and the like. Examples of the thermosetting resin include a phenol resin, a melamine resin, a urea resin, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, and a silicone resin.
Examples of the metal material include stainless steel, titanium, and aluminum.
The size of the body 2b is not particularly limited, and may be a size that can be easily grasped with fingers.

ヘッド部2aは、先端に向かい漸次窄んでいる。即ち、ヘッド部2aは、円錐形である。ヘッド部2aは、円錐形に限らず、四角錘、六角錘、八角錘等の多角錘形でもよい。
ヘッド部2aは、先端に嵌合孔2cを有している。嵌合孔2cは、ノズル1を受け入れる孔である。ノズル1は、ヘッド部2aに着脱可能になっている。ヘッド部2aは、管軸O1方向に延びる第一の活性ガス流路7を内部に有している。管軸O1は、胴体部2bの管軸である。
The head portion 2a is gradually narrowed toward the tip. That is, the head 2a has a conical shape. The head portion 2a is not limited to a conical shape, and may be a polygonal pyramid such as a quadrangular pyramid, a hexagonal pyramid, or an octagonal pyramid.
The head 2a has a fitting hole 2c at the tip. The fitting hole 2c is a hole for receiving the nozzle 1. The nozzle 1 is detachable from the head 2a. The head portion 2a has a first active gas flow path 7 extending in the tube axis O1 direction therein. The tube axis O1 is the tube axis of the body 2b.

ヘッド部2aの材料は、特に制限はなく、絶縁性を有してもよいし、絶縁性を有しなくてもよい。ヘッド部2aの材料としては、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス鋼等の金属を例示できる。ヘッド部2aと胴体部2bとの材料は、同じでもよく、異なってもよい。
ヘッド部2aの大きさは、活性ガス照射装置100の用途等を勘案して決定できる。例えば、活性ガス照射装置100が口腔内用治療器具である場合、ヘッド部2aの大きさは、口腔内に挿入できる大きさが好ましい。
The material of the head portion 2a is not particularly limited, and may have insulating properties or may not have insulating properties. As a material of the head portion 2a, a material having excellent wear resistance and corrosion resistance is preferable. Examples of the material having excellent wear resistance and corrosion resistance include metals such as stainless steel. The material of the head portion 2a and the body portion 2b may be the same or different.
The size of the head 2a can be determined in consideration of the use of the active gas irradiation device 100 and the like. For example, when the active gas irradiation device 100 is an intraoral treatment instrument, the size of the head portion 2a is preferably a size that can be inserted into the oral cavity.

ノズル1は、嵌合孔2cに嵌合する台座部1bと、台座部1bから突出する照射管1cとを備える。台座部1bと照射管1cとは一体になっている。ノズル1は、その内部に、第二の活性ガス流路8を有している。ノズル1は、先端に照射口1aを有している。第二の活性ガス流路8と第一の活性ガス流路7とは、連通している。   The nozzle 1 includes a pedestal portion 1b fitted into the fitting hole 2c, and an irradiation tube 1c protruding from the pedestal portion 1b. The pedestal portion 1b and the irradiation tube 1c are integrated. The nozzle 1 has a second active gas flow path 8 therein. The nozzle 1 has an irradiation port 1a at the tip. The second active gas channel 8 and the first active gas channel 7 are in communication.

ノズル1の材料は、特に制限はなく、絶縁性を有してもよいし、導電性を有してもよい。ノズル1の材料としては、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス鋼等の金属を例示できる。   The material of the nozzle 1 is not particularly limited, and may have an insulating property or a conductive property. As a material of the nozzle 1, a material having excellent wear resistance and corrosion resistance is preferable. Examples of the material having excellent wear resistance and corrosion resistance include metals such as stainless steel.

ノズル1における照射管1c内の流路の長さ(即ち、距離L2)は、活性ガス照射装置100の用途等を勘案して、適宜決定できる。
照射口1aの開口径は、例えば、0.5〜5mmが好ましい。開口径が上記下限値以上であると、活性ガスの圧力損失を抑制できる。開口径が上記上限値以下であると、照射する活性ガスの流速を高めて、患部の治癒等を促進できる。
照射管1cは、管軸O1に対して屈曲している。
照射管1cの管軸O2と管軸O1とのなす角度θは、活性ガス照射装置100の用途等を勘案して決定できる。
The length of the flow path in the irradiation tube 1c of the nozzle 1 (that is, the distance L2) can be appropriately determined in consideration of the use of the active gas irradiation device 100 and the like.
The opening diameter of the irradiation port 1a is preferably, for example, 0.5 to 5 mm. When the opening diameter is equal to or more than the lower limit, the pressure loss of the active gas can be suppressed. When the opening diameter is equal to or less than the upper limit, the flow rate of the active gas to be irradiated can be increased, and the healing of the affected part can be promoted.
The irradiation tube 1c is bent with respect to the tube axis O1.
The angle θ between the tube axis O2 and the tube axis O1 of the irradiation tube 1c can be determined in consideration of the use of the active gas irradiation device 100 and the like.

プラズマ発生部12は、管状誘電体3と、内部電極4と、外部電極5とを備える。
管状誘電体3と内部電極4と外部電極5とは、管軸O1を中心として同心円状に位置している。
内部電極4の外周面と外部電極5の内周面とは、管状誘電体3を挟んで互いに対向している。
The plasma generation unit 12 includes a tubular dielectric 3, an internal electrode 4, and an external electrode 5.
The tubular dielectric 3, the internal electrode 4, and the external electrode 5 are concentrically located around the tube axis O1.
The outer peripheral surface of the internal electrode 4 and the inner peripheral surface of the external electrode 5 face each other with the tubular dielectric 3 interposed therebetween.

管状誘電体3は、管軸O1方向に延びる円筒状の部材である。管状誘電体3は、管軸O1方向に延びるガス流路6を内部に有している。第一の活性ガス流路7とガス流路6とは連通している。なお、管軸O1は、管状誘電体3の管軸と同じである。   The tubular dielectric 3 is a cylindrical member extending in the tube axis O1 direction. The tubular dielectric 3 has therein a gas flow path 6 extending in the direction of the tube axis O1. The first active gas flow path 7 and the gas flow path 6 communicate with each other. Note that the tube axis O1 is the same as the tube axis of the tubular dielectric 3.

管状誘電体3の材料としては、公知のプラズマ装置に使用する誘電体材料を適用できる。管状誘電体3の材料としては、例えば、ガラス、セラミックス、合成樹脂等を例示できる。管状誘電体3の誘電率は低いほど好ましい。   As a material of the tubular dielectric 3, a dielectric material used for a known plasma device can be applied. Examples of the material of the tubular dielectric 3 include glass, ceramics, and synthetic resin. The lower the dielectric constant of the tubular dielectric 3, the better.

管状誘電体3の内径Rは、内部電極4の外径dを勘案して適宜決定できる。内径Rは、後述する距離sを所望の範囲とするように決定する。   The inner diameter R of the tubular dielectric 3 can be appropriately determined in consideration of the outer diameter d of the internal electrode 4. The inner diameter R is determined so that a distance s described later is in a desired range.

内部電極4は、管軸O1方向に延びる略円柱状の部材である。内部電極4は、管状誘電体3の内部に位置し、管状誘電体3の内面と離間している。
内部電極4は、管軸O1方向に延びる軸部と、軸部の外周面のねじ山とを備える。軸部は、中実でもよいし、中空でもよい。軸部は中実が好ましい。軸部が中実であれば、加工が容易であり、かつ機械的な耐久性を高められる。内部電極4のねじ山は、軸部の周方向に周回する螺旋状のねじ山である。内部電極4の形態は、雄ねじと同様の形態である。
内部電極4は、外周面にねじ山を有することで、ねじ山先端部の電界が局所的に強くなり、放電開始電圧が低くなる。このため、低電力でプラズマを生成し、維持できる。
なお、内部電極4は、外周面にねじ山等の凹凸を有しなくてもよい。即ち、内部電極4は、外周面に凹凸を有しない円柱の部材でもよい。
The internal electrode 4 is a substantially columnar member extending in the tube axis O1 direction. The internal electrode 4 is located inside the tubular dielectric 3 and is separated from the inner surface of the tubular dielectric 3.
The internal electrode 4 includes a shaft portion extending in the tube axis O1 direction, and a thread on the outer peripheral surface of the shaft portion. The shaft may be solid or hollow. The shaft is preferably solid. If the shaft portion is solid, processing is easy and mechanical durability can be enhanced. The screw thread of the internal electrode 4 is a spiral screw thread orbiting in the circumferential direction of the shaft portion. The form of the internal electrode 4 is the same as that of the male screw.
Since the internal electrode 4 has a thread on the outer peripheral surface, the electric field at the tip of the thread is locally increased, and the discharge starting voltage is reduced. Therefore, plasma can be generated and maintained with low power.
Note that the internal electrode 4 may not have unevenness such as a thread on the outer peripheral surface. That is, the internal electrode 4 may be a cylindrical member having no irregularities on the outer peripheral surface.

内部電極4の外径dは、活性ガス照射装置100の用途(即ち、照射器具10の大きさ)等を勘案して、適宜決定できる。活性ガス照射装置100が口腔内用治療器具である場合、外径dは、0.5〜20mmが好ましく、1〜10mmがより好ましい。外径dが上記下限値以上であると、内部電極4を容易に製造できる。加えて、外径dが上記下限値以上であると、内部電極4の表面積が大きくなり、プラズマをより効率的に発生して、治癒等をより促進できる。外径dが上記上限値以下であると、照射器具10を過度に大きくすることなく、プラズマをより効率的に発生し、治癒等をより促進できる。   The outer diameter d of the internal electrode 4 can be appropriately determined in consideration of the use of the active gas irradiation device 100 (that is, the size of the irradiation device 10) and the like. When the active gas irradiation device 100 is an intraoral treatment device, the outer diameter d is preferably 0.5 to 20 mm, more preferably 1 to 10 mm. When the outer diameter d is equal to or larger than the lower limit, the internal electrode 4 can be easily manufactured. In addition, when the outer diameter d is equal to or larger than the lower limit, the surface area of the internal electrode 4 is increased, and plasma is generated more efficiently, and healing and the like can be further promoted. When the outer diameter d is equal to or less than the above upper limit, plasma can be generated more efficiently without excessively increasing the size of the irradiation device 10, and healing and the like can be further promoted.

内部電極4のねじ山の高さhは、内部電極4の外径dを勘案して適宜決定できる。
内部電極4のねじ山のピッチpは、内部電極4の長さや外径d等を勘案して適宜決定できる。ピッチpは、0.2〜2.5mmが好ましく、0.2〜2.0mmがより好ましい。
The height h of the thread of the internal electrode 4 can be appropriately determined in consideration of the outer diameter d of the internal electrode 4.
The pitch p of the thread of the internal electrode 4 can be appropriately determined in consideration of the length, the outer diameter d, and the like of the internal electrode 4. The pitch p is preferably from 0.2 to 2.5 mm, more preferably from 0.2 to 2.0 mm.

内部電極4の材料は、導電材であれば特に制限はなく、公知のプラズマ装置の電極に使用する金属を適用できる。内部電極4の材料としては、ステンレス鋼、銅、タングステン等の金属、カーボン等を例示できる。   The material of the internal electrode 4 is not particularly limited as long as it is a conductive material, and a metal used for an electrode of a known plasma device can be applied. Examples of the material of the internal electrode 4 include metals such as stainless steel, copper, and tungsten, and carbon.

内部電極4としては、JIS B 0205:2001のメートルねじの規格品(M2、M2.2、M2.5、M3、M3.5等)、JIS B 2016:1987のメートル台形ねじの規格品(Tr8×1.5、Tr9×2、Tr9×1.5等)、JIS B 0206:1973のユニファイ並目ねじの規格品(No.1−64UNC、No.2−56UNC、No.3−48UNC等)等と同等の仕様が好ましい。これらの規格品と同等の仕様であれば、コスト面で優位である。   As the internal electrode 4, JIS B 0205: Standard metric screws (M2, M2.2, M2.5, M3, M3.5, etc.) according to 2001, JIS B 2016: 1987 standard metric screws (Tr8) × 1.5, Tr9 × 2, Tr9 × 1.5, etc.), JIS B 0206: 1973, unified coarse thread standard products (No. 1-64UNC, No. 2-56UNC, No. 3-48UNC, etc.) Specifications equivalent to the above are preferable. If the specification is equivalent to these standard products, it is superior in cost.

内部電極4の外面と管状誘電体3の内面との距離sは、0.05〜5mmが好ましく、0.1〜1mmがより好ましい。距離sが上記下限値以上であると、所望量のプラズマ発生用ガスを容易に通流できる。距離sが上記上限値以下であると、プラズマをさらに効率的に発生し、活性ガスの温度を低くできる。   The distance s between the outer surface of the internal electrode 4 and the inner surface of the tubular dielectric 3 is preferably 0.05 to 5 mm, and more preferably 0.1 to 1 mm. When the distance s is equal to or greater than the lower limit, a desired amount of the plasma generating gas can easily flow. When the distance s is equal to or less than the upper limit, plasma is generated more efficiently, and the temperature of the active gas can be lowered.

外部電極5は、管状誘電体3の外周面に沿って周回する環状の電極である。外部電極5は、管状誘電体3の外周面の一部に存在する。   The external electrode 5 is an annular electrode that goes around the outer peripheral surface of the tubular dielectric 3. The external electrode 5 exists on a part of the outer peripheral surface of the tubular dielectric 3.

外部電極5の材料は、導電材であれば特に制限はなく、公知のプラズマ装置の電極に使用する金属を適用できる。外部電極5の材料としては、ステンレス鋼、銅、タングステン等の金属、カーボン等を例示できる。   The material of the external electrode 5 is not particularly limited as long as it is a conductive material, and a metal used for an electrode of a known plasma device can be applied. Examples of the material of the external electrode 5 include metals such as stainless steel, copper, and tungsten, and carbon.

外部電極5の先端中心点Q1からヘッド部2aの先端Q2までの距離L1と、先端Q2から照射口1aまでの距離L2との合計(即ち、内部電極4から照射口1aまでの道のり)は、活性ガス照射装置100に求める大きさや、照射した活性ガスが当たる面(被照射面)における温度等を勘案して適宜決定する。距離L1と距離L2の合計が長ければ、被照射面の温度を低くできる。距離L1と距離L2の合計が短ければ、活性ガスのラジカル密度がさらに高くなり、被照射面における清浄化、賦活化、治癒等の効果がさらに高くなる。なお、先端Q2は、管軸O1と管軸O2との交点である。   The sum of the distance L1 from the tip center point Q1 of the external electrode 5 to the tip Q2 of the head 2a and the distance L2 from the tip Q2 to the irradiation port 1a (ie, the distance from the internal electrode 4 to the irradiation port 1a) is: The size is appropriately determined in consideration of the size required for the active gas irradiation device 100, the temperature on the surface (irradiated surface) to which the irradiated active gas is applied, and the like. If the sum of the distance L1 and the distance L2 is long, the temperature of the irradiated surface can be lowered. If the sum of the distance L1 and the distance L2 is short, the radical density of the active gas is further increased, and the effect of cleaning, activating, healing, etc. on the irradiated surface is further enhanced. Note that the tip Q2 is an intersection between the tube axis O1 and the tube axis O2.

操作スイッチ9は、使用者が操作することによって、ノズル1からの活性ガスの吐出を開始するための電気信号を発信する。
操作スイッチ9は、例えば、押釦である。操作スイッチ9が押釦である場合、操作スイッチ9は、使用者が押釦を1回押したときに電気信号を1回だけ発信する構成を有してもよく、使用者が押釦を押し続けている間、電気信号を発信し続ける構成を有してもよい。
The operation switch 9 transmits an electric signal for starting discharge of the active gas from the nozzle 1 when operated by a user.
The operation switch 9 is, for example, a push button. When the operation switch 9 is a push button, the operation switch 9 may have a configuration in which an electric signal is transmitted only once when the user presses the push button once, and the user keeps pressing the push button. During this time, a configuration in which the electric signal is continuously transmitted may be provided.

ガス管路30は、供給ユニット20から照射器具10にプラズマ発生用ガスを供給する経路である。ガス管路30は、照射器具10の管状誘電体3の後端部に接続している。ガス管路30の材料は特に制限はなく、公知のガス管に用いる材料を適用できる。ガス管路30の材料としては、例えば、樹脂製の配管、ゴム製のチューブ等を例示でき、可撓性を有する材料が好ましい。   The gas pipe 30 is a path for supplying a plasma generation gas from the supply unit 20 to the irradiation device 10. The gas conduit 30 is connected to the rear end of the tubular dielectric 3 of the irradiation device 10. The material of the gas pipe 30 is not particularly limited, and a known material used for a gas pipe can be applied. Examples of the material of the gas pipeline 30 include a resin pipe and a rubber tube, and a flexible material is preferable.

電気配線40は、供給ユニット20の給電部50から照射器具10のプラズマ発生部12に電気を供給する配線、及び照射器具10の操作スイッチ9と供給ユニット20とを電気的に接続する配線を備える。
電気配線40は、照射器具10の内部電極4、外部電極5及び操作スイッチ9に接続している。電気配線40の材料は特に制限はなく、公知の電気配線に用いる材料を適用できる。電気配線40の材料としては、絶縁材料で被覆した金属導線等を例示できる。
The electric wiring 40 includes wiring for supplying electricity from the power supply unit 50 of the supply unit 20 to the plasma generation unit 12 of the irradiation device 10 and wiring for electrically connecting the operation switch 9 of the irradiation device 10 and the supply unit 20. .
The electric wiring 40 is connected to the internal electrode 4, the external electrode 5 and the operation switch 9 of the irradiation device 10. The material of the electric wiring 40 is not particularly limited, and a known material used for electric wiring can be applied. Examples of the material of the electric wiring 40 include a metal conductor covered with an insulating material.

標識組成物は、標識物質を含有する。標識組成物は、標識物質のみから構成されてもよいし、分散媒等の媒体を含有してもよい。
標識物質は、噴射ガスによって一部又は全部が分解する物質である。
標識物質としては、例えば、色素、呈味成分、臭気成分等を例示できる。
色素としては、例えば、食品用色素を例示できる。食品用色素は、合成色素でもよいし、天然色素でもよい。
合成色素としては、いわゆるタール系色素を例示できる。タール系色素は、赤色2号、赤色3号、赤色40号、赤色102号、赤色104号、赤色105号、赤色106号、青色1号、青色2号、黄色4号、黄色5号、緑色3号等である。
天然色素は、例えば、カラメル色素、コチニール色素、クチナシ色素、アナトー色素、アントシアニン色素、パプリカ色素、紅花色素、紅麹色素、フラボノイド色素等である。
色素は、紫外線照射により発光する顔料又は染料でもよい。
色素は、1種単独でもよいし、2種以上の組み合わせでもよい。
これらの色素は、被照射物の色調等を勘案して決定できる。例えば、歯肉に色素を塗布する場合、赤色以外の色調の色素が好ましい。赤色以外の色素であれば、色素を塗布した領域と色素を塗布していない領域とを目視で識別しやすい。
The labeling composition contains a labeling substance. The labeling composition may be composed of only a labeling substance, or may contain a medium such as a dispersion medium.
The labeling substance is a substance that is partially or entirely decomposed by the propellant gas.
Examples of the labeling substance include a pigment, a taste component, an odor component, and the like.
Examples of the pigment include a food pigment. The food coloring may be a synthetic coloring or a natural coloring.
Examples of the synthetic dye include a so-called tar dye. Tar pigments are Red No. 2, Red No. 3, Red No. 40, Red No. 102, Red No. 104, Red No. 105, Red No. 106, Blue No. 1, Blue No. 2, Yellow No. 4, Yellow No. 5, Green No. No. 3, etc.
Natural pigments include, for example, caramel pigments, cochineal pigments, gardenia pigments, annatto pigments, anthocyanin pigments, paprika pigments, safflower pigments, monascus pigments, and flavonoid pigments.
The pigment may be a pigment or dye that emits light when irradiated with ultraviolet light.
The dyes may be used alone or in combination of two or more.
These dyes can be determined in consideration of the color tone and the like of the irradiation object. For example, when applying a pigment to the gum, a pigment having a color tone other than red is preferable. In the case of a dye other than red, it is easy to visually discriminate a region where the dye is applied from a region where the dye is not applied.

呈味成分は、例えば、グルタミン酸等の呈味性アミノ酸、イノシン酸等の呈味性ヌクレオチド、ブドウ糖、果糖、ショ糖等の天然甘味料、アスパルテーム、スクラロース、アセルファムカリウム、サッカリン等の合成甘味料等である。
これらの呈味成分は、1種単独でもよいし、2種以上の組み合わせでもよい。
Taste components include, for example, taste-bearing amino acids such as glutamic acid, taste-bearing nucleotides such as inosinic acid, natural sweeteners such as glucose, fructose, and sucrose, and synthetic sweeteners such as aspartame, sucralose, aserfam potassium, and saccharin. And so on.
These taste components may be used alone or in combination of two or more.

標識組成物の任意成分としては、水、エタノール、液体油脂等の液体分散媒、乳糖、デンプン等の固体の賦形剤等を例示できる。中でも、標識組成物は、液体分散媒を含有する分散液(標識物分散液)であることが好ましい。分散液であれば、標識組成物を被照射物に塗布しやすい。
標識物分散液中の標識物質の含有量は、標識物質の種類に応じて適宜決定する。標識物分散液100質量%に対する標識物質の含有量は、0.0001〜70質量%が好ましく、0.001〜50質量%がより好ましく、0.1〜50質量%がさらに好ましい。標識物質の含有量が上記下限値以上であれば、標識物質が塗布された領域を視認しやすい。標識物質の含有量が上記上限値以下であれば、標識物分散液の流動性が高まり、被照射物に標識物分散液を塗布しやすい。
標識物分散液は、増粘多糖類、ゼラチン等の増粘剤を含有してもよい。標識物分散液は、増粘剤を含有することで、塗布領域に滞留しやすい。
増粘多糖類は、キサンタンガム、カラギナン、グァーガム、ジェランガム等である。
標識物分散液中の増粘剤の含有量は、増粘剤の種類等を関して決定する。標識物分散液中の増粘剤の含有量は、例えば、標識物分散液100質量%に対して、0.01〜10質量%が好ましい。
Examples of optional components of the labeling composition include liquid dispersion media such as water, ethanol, and liquid fats and oils, and solid excipients such as lactose and starch. Above all, the labeling composition is preferably a dispersion containing a liquid dispersion medium (labeled substance dispersion). In the case of a dispersion, the labeling composition can be easily applied to an object to be irradiated.
The content of the labeling substance in the labeling substance dispersion liquid is appropriately determined according to the type of the labeling substance. The content of the labeling substance with respect to 100% by weight of the labeling substance dispersion is preferably 0.0001 to 70% by weight, more preferably 0.001 to 50% by weight, and still more preferably 0.1 to 50% by weight. When the content of the labeling substance is equal to or more than the above lower limit, the region to which the labeling substance has been applied is easily visible. When the content of the labeling substance is equal to or less than the above upper limit, the flowability of the labeling substance dispersion liquid is increased, and the labeling substance dispersion liquid is easily applied to an object to be irradiated.
The labeling substance dispersion may contain a thickening agent such as a thickening polysaccharide or gelatin. The label dispersion liquid easily stays in the application area by containing the thickener.
Thickening polysaccharides include xanthan gum, carrageenan, guar gum, gellan gum and the like.
The content of the thickener in the labeling substance dispersion liquid is determined depending on the type of the thickener and the like. The content of the thickener in the labeling substance dispersion is, for example, preferably 0.01 to 10% by mass based on 100% by mass of the labeling substance dispersion.

次に、プラズマ式治療キットの使用方法(治療方法)を説明する。
まず、標識組成物を被照射物に塗布する。
被照射物としては、例えば、細胞、生体組織、生物個体等を例示できる。
生体組織としては、各器官(内臓等)、体表や体腔の内面を覆う上皮組織、歯周組織(歯肉、歯槽骨、歯根膜、セメント質等)、歯、骨等を例示できる。活性ガスの照射によって処理可能な疾患及び症状としては、例えば、歯肉炎、歯周病等の口腔内の疾患、皮膚の創傷等を例示できる。
生物個体としては、哺乳類(ヒト、犬、猫、豚等)、鳥類、魚類等を例示できる。
標識組成物を塗布する領域(塗布領域)は、治療対象となる領域である。即ち、塗布領域は、患部の一部又は全部の領域、患部を含む広範囲の領域である。
Next, a method of using the plasma treatment kit (treatment method) will be described.
First, the marker composition is applied to an object to be irradiated.
As the irradiation object, for example, a cell, a living tissue, a living individual, and the like can be exemplified.
Examples of the living tissue include various organs (such as internal organs), epithelial tissue covering the surface of the body and the inner surface of the body cavity, periodontal tissue (gingiva, alveolar bone, periodontal ligament, cementum, etc.), teeth, bones, and the like. Examples of diseases and symptoms that can be treated by irradiation with active gas include diseases in the oral cavity such as gingivitis and periodontal disease, and wounds on the skin.
Examples of living organisms include mammals (humans, dogs, cats, pigs, etc.), birds, fish and the like.
The area to which the marker composition is applied (application area) is an area to be treated. That is, the application area is a part or all of the affected area, and a wide area including the affected area.

標識組成物を塗布する方法としては、特に限定されず、例えば、噴霧して塗布する方法、刷毛等で塗布する方法、シリンジ等で滴下する方法等を例示できる。
標識組成物の塗布量は、標識物質の種類等を勘案して決定できる。標識物質が色素である場合、標識組成物の塗布量は、色素が塗布されていることを視認できる量である。
標準物質の塗布量は、0.001〜1mg/cmが好ましく、0.05〜0.1mg/cmがより好ましい。塗布量が上記下限値以上であれば、標識組成物が塗布された領域を視認しやすい。塗布量が上記上限値以下であれば、標識物質の分解に要する時間が過度に長くならない。
The method of applying the labeling composition is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying by spraying, a method of applying with a brush or the like, and a method of dropping with a syringe or the like.
The application amount of the labeling composition can be determined in consideration of the type of the labeling substance and the like. When the labeling substance is a dye, the coating amount of the labeling composition is an amount by which the dye can be visually recognized as being applied.
The coating amount of the reference material, preferably 0.001~1mg / cm 2, 0.05~0.1mg / cm 2 is more preferable. If the coating amount is equal to or more than the lower limit, the region where the labeling composition has been applied is easily visible. When the coating amount is equal to or less than the upper limit, the time required for decomposing the labeling substance does not become excessively long.

次いで、医師等の使用者は、照射器具10を持って移動させ、ノズル1を被照射物に向ける。この状態で操作スイッチ9を押し、供給ユニット20からガス管路30を介して照射器具10のプラズマ発生部12にプラズマ発生用ガスを供給する。また、供給ユニット20から照射器具10のプラズマ発生部12に電気を供給する。
プラズマ発生部12に供給したプラズマ発生用ガスは、管状誘電体3の後端部から管状誘電体3の内空部に流入する。プラズマ発生用ガスは、電圧を印加した内部電極4と外部電極5とが対向する位置において電離し、プラズマになる。
Next, a user such as a doctor moves the irradiation device 10 while holding it, and turns the nozzle 1 toward the object to be irradiated. In this state, the operation switch 9 is pressed, and the gas for plasma generation is supplied from the supply unit 20 to the plasma generation unit 12 of the irradiation device 10 via the gas pipe 30. Further, electricity is supplied from the supply unit 20 to the plasma generation unit 12 of the irradiation device 10.
The gas for plasma generation supplied to the plasma generator 12 flows into the inner space of the tubular dielectric 3 from the rear end of the tubular dielectric 3. The plasma generating gas is ionized at a position where the internal electrode 4 and the external electrode 5 to which the voltage is applied oppose, and becomes plasma.

本実施形態においては、内部電極4と外部電極5とが、プラズマ発生用ガスの流れる方向と直交する向きに対向している。内部電極4の外周面と外部電極5の内周面とが対向する位置で発生したプラズマは、ガス流路6と、第一の活性ガス流路7と、第二の活性ガス流路8とをこの順に通流する。この間、プラズマは、ガス組成を変化しつつ通流し、ラジカル等の活性種を含む活性ガスとなる。   In the present embodiment, the internal electrode 4 and the external electrode 5 face each other in a direction orthogonal to the direction in which the plasma generating gas flows. The plasma generated at a position where the outer peripheral surface of the internal electrode 4 and the inner peripheral surface of the external electrode 5 face each other has a gas flow path 6, a first active gas flow path 7, and a second active gas flow path 8. Flow in this order. During this time, the plasma flows while changing the gas composition, and becomes an active gas containing active species such as radicals.

生じた活性ガスはノズル1の照射口1aから吐出される。吐出された活性ガスは、照射口1a近傍の気体の一部をさらに活性化して活性種を生成する。これらの活性種を含む活性ガスを塗布領域に照射する。   The generated active gas is discharged from the irradiation port 1a of the nozzle 1. The discharged active gas further activates a part of the gas near the irradiation port 1a to generate an active species. The application region is irradiated with an active gas containing these active species.

活性ガスを塗布領域に照射すると、活性ガスが標識物質の一部又は全部を分解する。標識物質が色素であれば、活性ガスが照射されることで、活性ガスの照射量に応じて変色する。このため、使用者は、標識物質が変色した領域に活性ガスを照射したことを視認できる。加えて、使用者は、標識物質の変色の程度によって、活性ガスの照射量を視認できる。なお、「変色」とは、色調が変わる(例えば、青色から赤色に変わる)こと、又は色が消失すること(消色)である。また、「色調が変わること」は、彩度又は輝度が変わることを含む。
また、標識物質が呈味成分であれば、患者は、塗布領域の呈味の変化によって、治療されていることを実感できる。
When the active region is irradiated with the active gas, the active gas decomposes part or all of the labeling substance. If the labeling substance is a dye, the color changes in accordance with the irradiation amount of the active gas when irradiated with the active gas. For this reason, the user can visually recognize that the region in which the labeling substance has changed color has been irradiated with the active gas. In addition, the user can visually recognize the irradiation amount of the active gas depending on the degree of discoloration of the labeling substance. Note that “discoloration” means that the color tone changes (for example, the color changes from blue to red) or the color disappears (decoloration). Further, "change in color tone" includes change in saturation or luminance.
Further, if the labeling substance is a taste component, the patient can feel that the treatment is being performed by a change in the taste of the application area.

プラズマ発生用ガスとしては、例えば、希ガス(ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン等)、窒素等を例示できる。これらのガスは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
プラズマ発生用ガスは、窒素を主成分とすることが好ましい。ここで、窒素を主成分とするとは、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量が50体積%超であることをいう。
即ち、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量は、50体積%超が好ましく、70体積%以上がより好ましく、80〜100体積%がさらに好ましく、90〜100体積%が特に好ましい。プラズマ発生用ガス中の窒素以外のガス成分としては、例えば、空気、酸素、希ガス等を例示できる。
プラズマ発生ガスは、窒素を主成分とすることで、被照射物の清浄化、賦活化又は治癒をより促進できる。加えて、窒素を主成分とすることで、プラズマ発生ガス中の酸素を低減して、活性ガス中のオゾンを低減できる。活性ガス照射装置100を口腔内の治療に用いる場合、活性ガス中のオゾンを低減することが好ましい。
従来のプラズマ発生部では、窒素を含むプラズマ発生ガスを用いると、プラズマを発生しにくかった。本実施形態においては、外周面にらせん状の凸条(ねじ山)を備える(即ち、らせん状の溝を備える)内部電極を用いるため、容易にプラズマを発生できる。
Examples of the plasma generating gas include a rare gas (such as helium, neon, argon, and krypton), and nitrogen. These gases may be used alone or in combination of two or more.
The plasma generating gas preferably contains nitrogen as a main component. Here, “mainly containing nitrogen” means that the content of nitrogen in the plasma generating gas is more than 50% by volume.
That is, the content of nitrogen in the plasma generating gas is preferably more than 50% by volume, more preferably 70% by volume or more, further preferably 80 to 100% by volume, and particularly preferably 90 to 100% by volume. Examples of gas components other than nitrogen in the plasma generating gas include air, oxygen, and a rare gas.
By using nitrogen as a main component, the plasma generation gas can further promote cleaning, activation, or healing of the irradiation target. In addition, by using nitrogen as a main component, oxygen in the plasma generation gas can be reduced, and ozone in the active gas can be reduced. When the active gas irradiation device 100 is used for treatment in the oral cavity, it is preferable to reduce ozone in the active gas.
In a conventional plasma generation unit, when a plasma generation gas containing nitrogen is used, it is difficult to generate plasma. In the present embodiment, plasma is easily generated because the internal electrode having a helical ridge (thread) on the outer peripheral surface (that is, having a helical groove) is used.

活性ガス照射装置100が口腔内用治療器具である場合、管状誘電体3に導入するプラズマ発生用ガスの酸素濃度は、1体積%以下が好ましい。酸素濃度が上限値以下であると、オゾンの発生をさらに低減できる。   When the active gas irradiation device 100 is an intraoral treatment device, the oxygen concentration of the plasma generating gas introduced into the tubular dielectric 3 is preferably 1% by volume or less. When the oxygen concentration is equal to or lower than the upper limit, generation of ozone can be further reduced.

管状誘電体3に導入するプラズマ発生用ガスの流量は、1〜10L/minが好ましい。管状誘電体3に導入するプラズマ発生用ガスの流量が上記下限値以上であると、被照射物における被照射面の温度の上昇を抑制しやすい。プラズマ発生用ガスの流量が上記上限値以下であると、被照射物の清浄化、賦活化又は治癒をさらに促進できる。   The flow rate of the plasma generating gas introduced into the tubular dielectric 3 is preferably 1 to 10 L / min. When the flow rate of the plasma generating gas introduced into the tubular dielectric 3 is equal to or more than the above lower limit, it is easy to suppress an increase in the temperature of the irradiated surface of the irradiated object. When the flow rate of the plasma generating gas is equal to or less than the upper limit, cleaning, activation, or healing of the irradiation target can be further promoted.

内部電極4と外部電極5との間に印加する交流電圧は、5kVpp以上20kVpp以下が好ましい。ここで、交流電圧を表す単位「Vpp(Volt peak to peak)」は、交流電圧波形の最高値と最低値との電位差である。印加する交流電圧が上記上限値以下であると、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。印加する交流電圧が上記下限値以上であると、さらに効率的にプラズマを発生できる。   The AC voltage applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5 is preferably 5 kVpp or more and 20 kVpp or less. Here, the unit “Vpp (Volt peak to peak)” representing the AC voltage is a potential difference between the highest value and the lowest value of the AC voltage waveform. When the applied AC voltage is equal to or lower than the above upper limit, the temperature of the generated plasma can be kept low. When the applied AC voltage is equal to or higher than the lower limit, plasma can be generated more efficiently.

内部電極4と外部電極5との間に印加する交流の周波数は、0.5kHz以上20kHz未満が好ましく、1kHz以上15kHz未満がより好ましく、2kHz以上10kHz未満がさらに好ましく、3kHz以上9kHz未満が特に好ましく、4kHz以上8kHz未満が最も好ましい。交流の周波数が上記上限値以下であると、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。交流の周波数が上記下限値以上であると、さらに効率的にプラズマを発生できる。   The frequency of the alternating current applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5 is preferably 0.5 kHz or more and less than 20 kHz, more preferably 1 kHz or more but less than 15 kHz, further preferably 2 kHz or more and less than 10 kHz, and particularly preferably 3 kHz or more and less than 9 kHz. Most preferably, 4 kHz or more and less than 8 kHz. When the frequency of the alternating current is lower than the upper limit, the temperature of the generated plasma can be kept low. When the AC frequency is equal to or higher than the lower limit, plasma can be generated more efficiently.

ノズル1の照射口1aから照射する活性ガスの温度は、50℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましく、40℃以下がさらに好ましい。ノズル1の照射口1aから照射する活性ガスの温度が上記上限値以下であると、被照射面の温度を40℃以下にしやすい。被照射面の温度を40℃以下にすることで、被照射部分が患部である場合にも、患部への刺激を低減できる。ノズル1の照射口1aから照射する活性ガスの温度の下限値は、特に制限はなく、例えば、10℃である。活性ガスの温度は、照射口1aにおける活性ガスの温度を熱電対で測定した値である。   The temperature of the active gas irradiated from the irradiation port 1a of the nozzle 1 is preferably 50 ° C or lower, more preferably 45 ° C or lower, and further preferably 40 ° C or lower. When the temperature of the active gas irradiated from the irradiation port 1a of the nozzle 1 is equal to or lower than the upper limit, the temperature of the irradiated surface is easily reduced to 40 ° C or lower. By setting the temperature of the surface to be irradiated at 40 ° C. or less, even when the irradiated portion is the affected part, the stimulation to the affected part can be reduced. The lower limit of the temperature of the active gas irradiated from the irradiation port 1a of the nozzle 1 is not particularly limited, and is, for example, 10 ° C. The temperature of the active gas is a value obtained by measuring the temperature of the active gas at the irradiation port 1a with a thermocouple.

照射口1aから被照射面までの距離(照射距離)は、例えば、0.01〜10mmが好ましい。照射距離が上記下限値以上であると、被照射面の温度を低くし、被照射面への刺激をさらに緩和できる。照射距離が上記上限値以下であると、治癒等の効果をさらに高められる。   The distance (irradiation distance) from the irradiation port 1a to the surface to be irradiated is preferably, for example, 0.01 to 10 mm. When the irradiation distance is equal to or more than the lower limit, the temperature of the irradiated surface can be lowered, and the stimulus to the irradiated surface can be further reduced. When the irradiation distance is equal to or less than the upper limit, effects such as healing can be further enhanced.

照射口1aから1mm以上10mm以下の距離で離れた位置の被照射面における活性ガスの温度は、40℃以下が好ましい。被照射面における活性ガスの温度が40℃以下であると、被照射面への刺激を低減できる。被照射面における活性ガスの温度の下限値は特に制限はないが、例えば10℃である。
被照射面の温度は、内部電極4と外部電極5との間に印加する交流電圧、照射する活性ガスの吐出量、外部電極5の先端中心Q1から照射口1aまでの道のり等の組み合わせで調節できる。被照射面の温度は、熱電対を用いて測定できる。
The temperature of the active gas on the irradiated surface at a distance of 1 mm or more and 10 mm or less from the irradiation port 1a is preferably 40 ° C. or less. When the temperature of the active gas on the surface to be irradiated is 40 ° C. or less, the stimulation on the surface to be irradiated can be reduced. The lower limit of the temperature of the active gas on the surface to be irradiated is not particularly limited, but is, for example, 10 ° C.
The temperature of the irradiated surface is adjusted by a combination of the AC voltage applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5, the discharge amount of the active gas to be applied, the distance from the tip center Q1 of the external electrode 5 to the irradiation port 1a, and the like. it can. The temperature of the irradiated surface can be measured using a thermocouple.

活性ガスに含まれる活性種としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等を例示できる。活性ガスに含まれる活性種の種類は、例えば、プラズマ発生用ガスの種類等によって調節できる。   The active species contained in the active gas include hydroxyl radical, singlet oxygen, ozone, hydrogen peroxide, superoxide anion radical, nitric oxide, nitrogen dioxide, peroxynitrite, peroxynitrite, nitrous oxide and the like. Can be illustrated. The type of the active species contained in the active gas can be adjusted by, for example, the type of the gas for generating plasma.

活性ガス中におけるヒドロキシルラジカルの密度(ラジカル密度)は、0.1〜300μmol/Lが好ましく、0.1〜100μmol/Lがより好ましく、0.1〜50μmol/Lがさらに好ましい。ラジカル密度が上記下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。ラジカル密度が上記上限値以下であると、被照射面への刺激を低減できる。   The density (radical density) of hydroxyl radicals in the active gas is preferably from 0.1 to 300 μmol / L, more preferably from 0.1 to 100 μmol / L, even more preferably from 0.1 to 50 μmol / L. When the radical density is equal to or more than the above lower limit, it is easy to promote cleaning, activation, or abnormal abnormality healing of an irradiation target selected from cells, living tissues, and living organisms. When the radical density is equal to or less than the upper limit, the stimulation on the irradiated surface can be reduced.

ラジカル密度は、例えば、以下の方法で測定できる。
DMPO(5,5−ジメチル−1−ピロリン−N−オキシド)0.2mol/L溶液0.2mLに対して、活性ガスを30秒間照射する。この際、照射口1aから液面までの距離を5.0mmとする。活性ガスを照射した溶液について、電子スピン共鳴(ESR)法を利用してヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル密度とする。
The radical density can be measured, for example, by the following method.
The active gas is irradiated to 0.2 mL of a 0.2 mol / L solution of DMPO (5,5-dimethyl-1-pyrroline-N-oxide) for 30 seconds. At this time, the distance from the irradiation port 1a to the liquid surface is 5.0 mm. The hydroxyl radical concentration of the solution irradiated with the active gas is measured by using an electron spin resonance (ESR) method, and this is defined as a radical density.

活性ガス中における一重項酸素の密度(一重項酸素密度)は、0.1〜300μmol/Lが好ましく、0.1〜100μmol/Lがより好ましく、0.1〜50μmol/Lがさらに好ましい。一重項酸素密度が上記下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体等の被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。上記上限値以下であると、被照射面への刺激を低減できる。   The density of singlet oxygen (singlet oxygen density) in the active gas is preferably from 0.1 to 300 μmol / L, more preferably from 0.1 to 100 μmol / L, even more preferably from 0.1 to 50 μmol / L. When the singlet oxygen density is equal to or higher than the above lower limit, it is easy to promote the cleaning, activation, or healing of an object to be irradiated such as a cell, a living tissue, or a living individual. When the value is equal to or less than the above upper limit, stimulation to the irradiated surface can be reduced.

一重項酸素密度は、例えば、以下の方法で測定できる。
TPC(2,2,5,5−テトラメチル−3−ピロリン−3−カルボキサミド)0.1mol/L溶液0.4mLに対して、活性ガスを30秒間照射する。この際、照射口1aから液面までの距離を5.0mmとする。活性ガスを照射した溶液について、電子スピン共鳴(ESR)法を利用して一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素密度とする。
The singlet oxygen density can be measured, for example, by the following method.
An active gas is irradiated for 30 seconds to 0.4 mL of a 0.1 mol / L solution of TPC (2,2,5,5-tetramethyl-3-pyrroline-3-carboxamide). At this time, the distance from the irradiation port 1a to the liquid surface is 5.0 mm. The singlet oxygen concentration of the solution irradiated with the active gas is measured by using an electron spin resonance (ESR) method, and this is defined as a singlet oxygen density.

照射口1aから吐出する活性ガスの流量は、1〜10L/minが好ましい。
照射口1aから吐出する活性ガスの流量が上記下限値以上であると、活性ガスが被照射面に作用する効果を充分に高められる。照射口1aから吐出する活性ガスの流量が上記上限値以下であると、活性ガスの被照射面の温度が過度に高まることを防止できる。加えて、被照射面が濡れている場合には、被照射面の急速な乾燥を防止できる。さらに、被照射面が患部である場合には、患者への刺激を抑制できる。活性ガス照射装置100において、照射口1aから吐出する活性ガスの流量は、管状誘電体3へのプラズマ発生用ガスの供給量で調節できる。
The flow rate of the active gas discharged from the irradiation port 1a is preferably 1 to 10 L / min.
When the flow rate of the active gas discharged from the irradiation port 1a is equal to or greater than the lower limit, the effect of the active gas acting on the irradiated surface can be sufficiently enhanced. When the flow rate of the active gas discharged from the irradiation port 1a is equal to or less than the upper limit, it is possible to prevent the temperature of the surface to be irradiated with the active gas from excessively increasing. In addition, when the irradiated surface is wet, rapid drying of the irradiated surface can be prevented. Furthermore, when the surface to be irradiated is an affected part, stimulation to the patient can be suppressed. In the active gas irradiation device 100, the flow rate of the active gas discharged from the irradiation port 1 a can be adjusted by the supply amount of the plasma generating gas to the tubular dielectric 3.

活性ガス照射装置100によって生じる活性ガスは、外傷や異常の治癒を促進する効果を有する。活性ガスを細胞、生体組織又は生物個体に照射することによって、その被照射部分の清浄化、賦活化、又はその被照射部分の治癒を促進できる。   The active gas generated by the active gas irradiation device 100 has an effect of promoting healing of wounds and abnormalities. By irradiating a cell, a living tissue or a living individual with an active gas, it is possible to promote the cleaning and activation of the irradiated part or the healing of the irradiated part.

外傷や異常の治癒を促進する目的で活性ガスを照射する場合、その照射頻度、照射回数及び照射期間は特に制限はない。例えば、1〜5.0L/minの照射量で活性ガスを患部に照射する場合、1日1〜5回、毎回10秒〜10分、1〜30日間、等の照射条件が、治癒を促進する観点から好ましい。   When irradiating active gas for the purpose of promoting healing of trauma or abnormalities, the frequency of irradiation, the number of times of irradiation, and the irradiation period are not particularly limited. For example, when irradiating the affected area with an active gas at an irradiation amount of 1 to 5.0 L / min, irradiation conditions such as 1 to 5 times a day, 10 seconds to 10 minutes each time, and 1 to 30 days promote healing. It is preferable from the viewpoint of doing.

本実施形態のプラズマ式治療キットは、特に口腔内用治療器具、歯科用治療器具として有用である。また、本実施形態のプラズマ式治療キットは、ヒトを除く動物治療用器具としても好適である。   The plasma treatment kit of the present embodiment is particularly useful as an intraoral treatment instrument and a dental treatment instrument. Further, the plasma treatment kit of the present embodiment is also suitable as a device for treating animals other than humans.

以上説明したプラズマ式治療キットは、標識物質が分解されることによる変化(変色、呈味変化等)によって、噴射ガスの照射された領域を認識できる。このため、噴射ガスを照射したい領域に対し、噴射ガスを確実に照射できる。加えて、本実施形態のプラズマ式治療キットによれば、使用者は、標識物質の変化(変色、呈味変化等)の程度によって、噴射ガスの照射量を確認できる。   The plasma treatment kit described above can recognize the area irradiated with the propellant gas by a change (discoloration, taste change, etc.) due to the decomposition of the labeling substance. For this reason, it is possible to reliably irradiate the region to be irradiated with the injection gas with the injection gas. In addition, according to the plasma treatment kit of the present embodiment, the user can confirm the irradiation amount of the propellant gas based on the degree of change (color change, taste change, etc.) of the labeling substance.

本発明のプラズマ式治療キットは、口腔内の治療、歯科の治療、動物の治療等の用途に有用である。
本発明の治療方法は、生体組織の治癒促進に有効である。本発明の治療方法は、ヒトのみならず、ヒトを除く動物の治療にも有効である。
The plasma treatment kit of the present invention is useful for applications such as intraoral treatment, dental treatment, and animal treatment.
The treatment method of the present invention is effective for promoting healing of living tissue. The treatment method of the present invention is effective for treating not only humans but also animals other than humans.

100 活性ガス照射装置   100 Active gas irradiation device

Claims (5)

プラズマ及びプラズマによって発生した活性種のいずれか一方又は両方を含む噴射ガスを吐出するプラズマ式治療装置と、
前記噴射ガスによって一部又は全部が分解する標識物質を含む標識組成物と、
を有する、プラズマ式治療キット。
A plasma treatment device that ejects a jet gas containing one or both of plasma and active species generated by the plasma,
A labeling composition containing a labeling substance partially or wholly decomposed by the propellant gas,
A plasma treatment kit comprising:
前記標識物質が、色素及び呈味成分のいずれか一方又は両方である、請求項1に記載のプラズマ式治療キット。   The plasma treatment kit according to claim 1, wherein the labeling substance is one or both of a dye and a taste component. 請求項1に記載のプラズマ式治療キットを用いた、動物の治療方法(但し、ヒトに対する医療行為を除く)であって、
患部に前記標識組成物を予め塗布し、
前記標識組成物が塗布された領域に、前記噴射ガスを照射する、治療方法。
A method for treating an animal using the plasma treatment kit according to claim 1 (however, excluding medical treatment for a human),
The marker composition is applied to the affected area in advance,
A treatment method, wherein the propellant gas is irradiated to a region where the marker composition has been applied.
前記標識物質が、色素及び呈味成分のいずれか一方又は両方である、請求項3に記載の治療方法。   The treatment method according to claim 3, wherein the labeling substance is one or both of a dye and a taste component. 前記標識物質が色素であり、予め前記標識組成物が塗布された領域に前記噴射ガスを照射し、前記標識物質を変色させる、請求項3又は4に記載の治療方法。   The treatment method according to claim 3, wherein the labeling substance is a dye, and the area to which the labeling composition has been applied in advance is irradiated with the propellant gas to change the color of the labeling substance.
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