JP2019182980A - Thermally-conductive silicone composition, and cured product of the same - Google Patents
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Abstract
【課題】難燃性及び耐熱性に優れた熱伝導性シリコーン組成物、及び前記組成物の硬化物の提供。【解決手段】(A)〜(D)を含む熱伝導性シリコーン組成物。(A)下記平均組成式で表される、25℃での動粘度500〜1,000,000mm2/sを有するオルガノポリシロキサン:100質量部、(R13SiO1/2)a(R12SiO2/2)b(R1SiO3/2)c(SiO4/2)d(R2O1/2)e(B)炭素原子数2〜6のアルケニル基を一分子中に少なくとも2個有する直鎖状オルガノポリシロキサンであり、ケイ素原子に結合する有機基の合計個数のうち40〜70%がフェニル基である前記オルガノポリシロキサン(A)及び(B)中のアルケニル基に対する(A)成分中のSiH基の比が0.5〜2、(C)熱伝導性充填剤:100〜3500質量部、(D)ヒドロシリル化触媒。【選択図】なしProvided are a thermally conductive silicone composition having excellent flame retardancy and heat resistance, and a cured product of the composition. A thermally conductive silicone composition containing (A) to (D). (A) An organopolysiloxane having a kinematic viscosity at 25 ° C of 500 to 1,000,000 mm2 / s represented by the following average composition formula: 100 parts by mass, (R13SiO1 / 2) a (R12SiO2 / 2) b ( R1SiO3 / 2) c (SiO4 / 2) d (R2O1 / 2) e (B) A linear organopolysiloxane having at least two alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms in one molecule. The ratio of the SiH groups in the component (A) to the alkenyl groups in the organopolysiloxanes (A) and (B), in which 40 to 70% of the total number of organic groups to be bonded are phenyl groups, is 0.5 to 2; , (C) a thermally conductive filler: 100 to 3500 parts by mass, (D) a hydrosilylation catalyst. [Selection diagram] None
Description
本発明は、熱可塑性を有する熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物に関する。 The present invention relates to a thermally conductive silicone composition having thermoplasticity and a cured product thereof.
近年、パーソナルコンピューター、通信装置、医療機器等の電子機器に使用されるCPUやメモリーなどのLSIは集積度の向上や動作の高速化に伴い、消費電力が増大すると共にその発熱量も増大している。この熱により電子機器の故障または機能不全が生じることから、熱を効果的に放散させる放熱対策が重要になっている。 In recent years, LSIs such as CPUs and memories used in electronic devices such as personal computers, communication devices, and medical devices have increased power consumption and heat generation as the degree of integration has increased and the operation speed has increased. Yes. Since this heat causes failure or malfunction of electronic equipment, heat dissipation measures that effectively dissipate heat are important.
従来、電子機器等において、電子部品の温度上昇を抑えるために、アルミニウム、銅、黄銅等、熱伝導率の高い金属を用いたヒートシンクに直接伝熱する方法が取られる。ヒートシンクは電子部品から発生する熱を伝導し、その熱を外気との温度差によって表面から放出する。電子部品から発生する熱をヒートシンクに効率よく伝えるために、ヒートシンクと電子部品を空隙なく密着させる必要があり、柔軟性を有する低硬度熱伝導性シートあるいは熱伝導性グリースは電子部品とヒートシンクの間に介装されている。 2. Description of the Related Art Conventionally, in an electronic device or the like, a method of directly transferring heat to a heat sink using a metal having high thermal conductivity such as aluminum, copper, brass or the like is used to suppress the temperature rise of electronic components. The heat sink conducts heat generated from the electronic component, and releases the heat from the surface due to a temperature difference from the outside air. In order to efficiently transfer heat generated from the electronic component to the heat sink, the heat sink and the electronic component must be in close contact with each other without any gaps. A flexible low-hardness thermal conductive sheet or thermal conductive grease is used between the electronic component and the heat sink. Is intervened.
しかし、従来から使用されている熱伝導性シリコーンゴムシートでは電子部品との界面に接触熱抵抗が存在するため、熱伝導性能には限界がある。 However, since the heat conductive silicone rubber sheet used conventionally has a contact thermal resistance at the interface with the electronic component, there is a limit to the heat transfer performance.
近年、作業効率の観点から、常温で固体であり熱によって軟化する相変化型放熱シート(フェイズチェンジシート)が提案されている。これは、前もってシートを用意することで、電子部品やヒートシンクへ熱をかけることで自由に装着可能な取扱い性に優れた放熱材料であるとともに、熱により軟化することで電子部品との界面の界面接触熱抵抗が無視できるレベルとなり、従来の熱伝導性シートと比較して、優れた放熱性能を示すものである。 In recent years, from the viewpoint of work efficiency, a phase change type heat radiation sheet (phase change sheet) that is solid at room temperature and softens by heat has been proposed. This is a heat-dissipating material with excellent handling that can be mounted freely by applying heat to the electronic components and heat sink by preparing a sheet in advance, and the interface with the electronic components by being softened by heat. The contact thermal resistance is negligible, and exhibits superior heat dissipation performance compared to conventional thermal conductive sheets.
これまでに様々なフェイズチェンジシートが提案されている。それらフェイズチェンジシートの先行技術として、例えば、特表2000−509209号公報(特許文献1)には、アクリル系感圧粘着剤とα―オレフィン系熱可塑剤と熱伝導性充填剤からなる熱伝導性材料、あるいはパラフィン系蝋と熱伝導性充填剤からなる熱伝導性材料が記載されている。また、特開2000−336279号公報(特許文献2)には、熱可塑性樹脂、ワックス、熱伝導性充填剤からなる熱伝導性組成物が記載されている。 Various phase change seats have been proposed so far. As a prior art of these phase change sheets, for example, Japanese Translation of PCT International Publication No. 2000-509209 (Patent Document 1) discloses heat conduction comprising an acrylic pressure-sensitive adhesive, an α-olefin thermoplastic, and a thermally conductive filler. Or a thermally conductive material composed of paraffin wax and a thermally conductive filler is described. Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2000-336279 (Patent Document 2) describes a heat conductive composition comprising a thermoplastic resin, a wax, and a heat conductive filler.
しかし、これらはいずれも有機物をベースにしたもので、難燃性を指向した材料ではなく、自動車等にこれらの部材が組み込まれた場合には、高温による劣化が懸念される。 However, these are all based on organic substances, and are not materials that are flame retardant. When these members are incorporated in an automobile or the like, deterioration due to high temperatures is a concern.
一方、耐熱性、対候性、難燃性に優れる材料として、シリコーンが知られており、シリコーンをベースにした同様の熱軟化性材料も多数提案されている。一例として、特開2000−327917号公報(特許文献3)には、熱可塑性シリコーン樹脂とワックス状変性シリコーン樹脂と熱伝導性充填剤からなる組成物が記載されている。 On the other hand, silicone is known as a material excellent in heat resistance, weather resistance, and flame retardancy, and many similar heat-softening materials based on silicone have been proposed. As an example, JP 2000-327917 A (Patent Document 3) describes a composition comprising a thermoplastic silicone resin, a wax-like modified silicone resin, and a thermally conductive filler.
しかし、これらの組成物は、シリコーン以外にワックス等の有機物やシリコーンを変性したワックスを含有しているため、シリコーン単品と比較して難燃性及び耐熱性に劣るという欠点がある。 However, since these compositions contain organic substances such as wax and wax modified with silicone in addition to silicone, there is a drawback that they are inferior in flame retardancy and heat resistance as compared with silicone alone.
難燃性及び耐熱性を改良した材料として、特開2007−150349号公報(特許文献4)には熱可塑性シリコーン樹脂と熱伝導性充填剤からなる放熱部材が記載されている。該放熱部材はシートとして成形物を提供して、電子部品やヒートシンクへ装着するものであった。 As a material having improved flame retardancy and heat resistance, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-150349 (Patent Document 4) describes a heat dissipating member made of a thermoplastic silicone resin and a heat conductive filler. The heat dissipating member provided a molded product as a sheet and was mounted on an electronic component or a heat sink.
しかし、上記特許文献4に記載のシリコーン樹脂は大きな部品に組み付ける際には作業性が良好であるが、小さな電子部品へ使用するには作業性が悪いという欠点がある。 However, the silicone resin described in Patent Document 4 has good workability when assembled to a large part, but has a drawback of poor workability when used for a small electronic part.
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、難燃性及び耐熱性に優れた熱伝導性を有するシリコーン組成物であり、ヒドロシリル化反応により架橋して、室温では固体であり、高温では軟化もしくは液状化する硬化物を提供することを目的とする。更には、小さな電子部品やヒートシンクへ適用することが容易な熱伝導性シリコーン組成物を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a silicone composition having thermal conductivity excellent in flame retardancy and heat resistance, crosslinked by hydrosilylation reaction, solid at room temperature, and softened at high temperature Or it aims at providing the hardened | cured material which liquefies. Furthermore, it aims at providing the heat conductive silicone composition easy to apply to a small electronic component and a heat sink.
本発明は、上記課題を解決すべく鋭意検討し、フェニル基含有量を特定した下記(A)成分及び(B)成分、並びに(C)熱伝導性充填剤及び(D)ヒドロシリル化触媒を含む熱伝導性シリコーン組成物を硬化してなる硬化物が、室温では固体であり、高温では著しく軟化もしくは液状化することを見出し、本発明を成すに至った。 The present invention includes the following (A) component and (B) component that have been intensively studied to solve the above-mentioned problems and specified the phenyl group content, and (C) a thermally conductive filler and (D) a hydrosilylation catalyst. It has been found that a cured product obtained by curing a thermally conductive silicone composition is solid at room temperature and is significantly softened or liquefied at a high temperature, thus achieving the present invention.
即ち、本発明は、下記(A)成分〜(D)成分を含む、熱伝導性シリコーン組成物及び該組成物の硬化物を提供する。
(A)平均組成式(1)で表される、25℃での動粘度500〜1,000,000mm2/sを有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
(R1 3SiO1/2)a(R1 2SiO2/2)b(R1SiO3/2)c(SiO4/2)d(R2O1/2)e
(1)
(式中、R1は互いに独立に、フェニル基、炭素数1〜6の、アルキル基又はシクロアルキル基、炭素原子数2〜6のアルケニル基、または水素原子であり、ただしR1の合計個数のうち50〜80%はフェニル基であり、R1の合計個数のうち10〜20%は水素原子であり、R1の合計個数のうち0〜20%はアルケニル基であり、R2は水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、a、b、c、dおよびeは、0≦a≦0.2、0.2≦b≦0.7、0.2≦c≦0.6、0≦d≦0.2、0≦e≦0.1、かつa+b+c+d=1を満たす数である)
(B)炭素原子数2〜6のアルケニル基を一分子中に少なくとも2個有する直鎖状オルガノポリシロキサンであり、ケイ素原子に結合する有機基の合計個数のうち40〜70%がフェニル基である前記オルガノポリシロキサン (A)成分及び(B)成分中のアルケニル基の個数の合計に対する(A)成分中のSiH基の個数の比が0.5〜2となる量、
(C)熱伝導性充填剤:100〜3500質量部、および
(D)ヒドロシリル化触媒。
That is, this invention provides the heat conductive silicone composition containing the following (A) component-(D) component, and the hardened | cured material of this composition.
(A) Organopolysiloxane having a kinematic viscosity of 500 to 1,000,000 mm 2 / s at 25 ° C. represented by the average composition formula (1): 100 parts by mass
(R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 1 2 SiO 2/2 ) b (R 1 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (R 2 O 1/2 ) e
(1)
(In the formula, R 1 is independently of each other a phenyl group, an alkyl group or a cycloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a hydrogen atom, provided that the total number of R 1 is 50-80% of them are phenyl groups, 10-20% of the total number of R 1 are hydrogen atoms, 0-20% of the total number of R 1 are alkenyl groups, and R 2 is hydrogen. It is an atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a, b, c, d and e are 0 ≦ a ≦ 0.2, 0.2 ≦ b ≦ 0.7, 0.2 ≦ c ≦ 0. (6, 0 ≦ d ≦ 0.2, 0 ≦ e ≦ 0.1, and a + b + c + d = 1)
(B) A linear organopolysiloxane having at least two alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms in one molecule, and 40 to 70% of the total number of organic groups bonded to silicon atoms is a phenyl group The amount of the ratio of the number of SiH groups in the component (A) to the total number of alkenyl groups in the organopolysiloxane (A) component and the component (B) is 0.5 to 2,
(C) Thermally conductive filler: 100-3500 parts by mass, and (D) hydrosilylation catalyst.
本発明の熱伝導性シリコーン組成物は熱可塑性の硬化物を提供することができ、該硬化物は室温では固体(軟質ゴム状)であり、高温(例えば100℃)で軟化もしくは液状化する。また、本発明の熱伝導性シリコーン組成物はグリース状であることができ、小さな電子部品やヒートシンクへ容易に適用できる。さらには、本発明の熱伝導性シリコーン組成物を発熱部材と冷却部材との間に介在させて硬化することも可能である。また、一度発熱部材または冷却部材のどちらか一方へ塗布して硬化させた後で、熱により軟化させることでもう一方の部材と組み合わせることができる。 The thermally conductive silicone composition of the present invention can provide a thermoplastic cured product, which is a solid (soft rubber) at room temperature and softens or liquefies at a high temperature (for example, 100 ° C.). The thermally conductive silicone composition of the present invention can be in the form of grease and can be easily applied to small electronic components and heat sinks. Furthermore, the heat conductive silicone composition of the present invention can be cured by being interposed between the heat generating member and the cooling member. Moreover, after apply | coating to either a heat-emitting member or a cooling member once and making it harden | cure, it can combine with the other member by making it soften with a heat | fever.
以下、本発明の熱伝導性シリコーン組成物をより詳細に説明する。
(A)成分は、本組成物の主成分であり、下記平均組成式(1)で表される。
(R1 3SiO1/2)a(R1 2SiO2/2)b(R1SiO3/2)c(SiO4/2)d(R2O1/2)e
(1)
該オルガノポリシロキサンは、25℃での動粘度500〜1,000,000mm2/sを有する。好ましくは、1,000〜10,000mm2/sを有する。動粘度が上記下限値未満であると、得られる架橋物の室温での十分な硬さが得られなくなるおそれがある。一方、上記上限値超では、取扱い作業性が低下する。なお、本発明において、動粘度は、ウベローデ型オストワルド粘度計を用いて25℃にて測定した値である。
Hereinafter, the thermally conductive silicone composition of the present invention will be described in more detail.
(A) A component is a main component of this composition and is represented by the following average composition formula (1).
(R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 1 2 SiO 2/2 ) b (R 1 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (R 2 O 1/2 ) e
(1)
The organopolysiloxane has a kinematic viscosity at 25 ° C. of 500 to 1,000,000 mm 2 / s. Preferably, it has 1,000-10,000 mm < 2 > / s. If the kinematic viscosity is less than the lower limit, sufficient hardness at room temperature of the resulting crosslinked product may not be obtained. On the other hand, when the value exceeds the upper limit, handling workability decreases. In the present invention, the kinematic viscosity is a value measured at 25 ° C. using an Ubbelohde Ostwald viscometer.
式(1)中、R1はフェニル基、炭素数1〜6の、アルキル基又はシクロアルキル基、炭素原子数2〜6のアルケニル基、または水素原子である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、及びヘキシル基が例示される。シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、及びシクロへキシル基が例示される。アルケニル基としてはビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、及びヘキセニル基が例示される。 In Formula (1), R 1 is a phenyl group, an alkyl group or a cycloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a hydrogen atom. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, and a hexenyl group.
本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、(A)成分が特定量のフェニル基及びSiH基を有することを特徴とする。即ち、上記式中、フェニル基の含有量はR1の合計個数のうち50〜80%であり、好ましくは50〜70%である。フェニル基量が上記下限値未満であると、室温で十分な硬さを得られなくなる。上記上限値を超えると、得られる硬化物の機械的強度が低下するため好ましくない。さらに上記式中、R1の合計個数のうち水素原子の個数割合は10〜20%であり、好ましくは10〜15%である。SiH基の量が上記下限値未満であると、得られる硬化物は室温で十分な硬さを得られなくなる。また、上記上限値を超えると、得られる硬化物は高温での軟化が不十分となる。上記(A)成分はアルケニル基を有していてもよいが、該アルケニル基の含有量はR1の合計個数のうち0〜20%であり、好ましくは0〜15%である。アルケニル基の含有量が上記上限を超えると、得られる架橋物の高温での軟化が不十分となるため好ましくない。 The thermally conductive silicone composition of the present invention is characterized in that the component (A) has specific amounts of phenyl groups and SiH groups. That is, in the above formula, the phenyl group content is 50 to 80%, preferably 50 to 70%, of the total number of R 1 . When the phenyl group amount is less than the lower limit, sufficient hardness cannot be obtained at room temperature. Exceeding the upper limit is not preferable because the mechanical strength of the resulting cured product is lowered. Further, in the above formula, the ratio of the number of hydrogen atoms in the total number of R 1 is 10 to 20%, preferably 10 to 15%. When the amount of SiH groups is less than the lower limit, the obtained cured product cannot obtain sufficient hardness at room temperature. Moreover, when the said upper limit is exceeded, the hardened | cured material obtained will become inadequate softening at high temperature. The component (A) may have an alkenyl group, but the content of the alkenyl group is 0 to 20%, preferably 0 to 15%, of the total number of R 1 . When the content of the alkenyl group exceeds the above upper limit, the resulting crosslinked product is not sufficiently softened at high temperature, which is not preferable.
式(1)中、R2は水素原子または炭素原子数1〜6のアルキル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、及びヘキシル基が挙げられる。好ましくは、メチル基、及びエチル基である。 In Formula (1), R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. Preferably, they are a methyl group and an ethyl group.
式(1)中、aは、一般式:R1 3SiO1/2で表されるシロキサン単位の割合を示す数であり、a+b+c+d=1に対して、0≦a≦0.2、好ましくは0≦a≦0.1を満たす数である。aが上記上限を超えると、得られる硬化物が室温での十分な硬さを得られなくなる。bは、一般式:R1 2SiO2/2で表されるシロキサン単位の割合を示す数であり、a+b+c+d=1に対して、0.2≦b≦0.7、好ましくは0.4≦b≦0.7を満たす数である。bが上記下限未満であると、得られる硬化物は高温での軟化が不十分となる。また、上記上限を超えると、得られる硬化物は室温での十分な硬さが得られなくなる。cは、一般式:R1SiO3/2で表されるシロキサン単位の割合を示す数であり、a+b+c+d=1に対して、0.2≦c≦0.6、好ましくは0.2≦c≦0.5を満たす数である。cが上記下限未満であると、得られる硬化物は室温での十分な硬さが得られなくなる。また、上記上限を超えると、得られる硬化物の高温での軟化が不十分となる。式中、dは、一般式:SiO4/2で表されるシロキサン単位の割合を示す数であり、a+b+c+d=1に対して0≦d≦0.2、好ましくは、0≦d≦0.1を満たす数である。dが上記上限超では得られる架橋物の高温での軟化が不十分となる。また、式中、eは、一般式:R2O1/2で表される単位の割合を示す数であり、0≦e≦0.1を満たす数である。eが上記上限超では、得られる架橋物の室温での十分な硬さが得られなくなるからである。なお、式中、a、b、c、及びdの合計は1である。 In the formula (1), a is a number indicating the ratio of siloxane units represented by the general formula: R 1 3 SiO 1/2 , and 0 ≦ a ≦ 0.2, preferably a + b + c + d = 1 It is a number that satisfies 0 ≦ a ≦ 0.1. When a exceeds the above upper limit, the resulting cured product cannot obtain sufficient hardness at room temperature. b is a number indicating the ratio of the siloxane unit represented by the general formula: R 1 2 SiO 2/2 , and 0.2 ≦ b ≦ 0.7, preferably 0.4 ≦ for a + b + c + d = 1. It is a number that satisfies b ≦ 0.7. When b is less than the above lower limit, the resulting cured product is insufficiently softened at a high temperature. If the above upper limit is exceeded, the resulting cured product will not have sufficient hardness at room temperature. c is a number indicating the ratio of the siloxane unit represented by the general formula: R 1 SiO 3/2 , and 0.2 ≦ c ≦ 0.6, preferably 0.2 ≦ c with respect to a + b + c + d = 1. It is a number satisfying ≦ 0.5. When c is less than the above lower limit, the obtained cured product cannot obtain sufficient hardness at room temperature. Moreover, when the said upper limit is exceeded, softening at high temperature of the hardened | cured material obtained will become inadequate. In the formula, d is a number indicating the ratio of the siloxane unit represented by the general formula: SiO 4/2 , and 0 ≦ d ≦ 0.2, preferably 0 ≦ d ≦ 0, with respect to a + b + c + d = 1. It is a number satisfying 1. When d exceeds the above upper limit, the resulting crosslinked product is not sufficiently softened at high temperature. In the formula, e is a number indicating the ratio of units represented by the general formula: R 2 O 1/2 and is a number satisfying 0 ≦ e ≦ 0.1. This is because if e exceeds the above upper limit, sufficient hardness at room temperature of the resulting crosslinked product cannot be obtained. In the formula, the sum of a, b, c, and d is 1.
(B)成分は、炭素原子数2〜6のアルケニル基を一分子中に少なくとも2個有する直鎖状オルガノポリシロキサンである。該シロキサンのケイ素原子に結合する有機基の合計個数のうち40〜70%がフェニル基であることを特徴とする。(B)成分中のアルケニル基が(A)成分中のSiH基とヒドロシリル化することにより組成物は硬化する。 The component (B) is a linear organopolysiloxane having at least two alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms in one molecule. 40 to 70% of the total number of organic groups bonded to the silicon atom of the siloxane is a phenyl group. The composition is cured by hydrosilylation of the alkenyl group in component (B) with the SiH group in component (A).
(B)成分は、好ましくは下記一般式(2)で表される。
R3 3SiO(R3SiO)mSiR3 3 (2)
The component (B) is preferably represented by the following general formula (2).
R 3 3 SiO (R 3 SiO) m SiR 3 3 (2)
式(2)中、R3は互いに独立に、フェニル基、炭素原子数1〜6の、アルキル基又はシクロアルキル基、または炭素原子数2〜6のアルケニル基である。該アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、及びヘキシル基が挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、及びシクロへキシル基が挙げられる。アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、及びヘキセニル基が挙げられる。なお、R3の合計個数のうちフェニル基の含有量は40〜70%であり、好ましくは50〜70%である。(B)成分中のフェニル基の割合が上記上限値を超えると、得られる硬化物の機械的強度が低下する。また、式(2)においてR3の少なくとも2個はアルケニル基である。アルケニル基の個数が1個未満であると、(B)成分が架橋反応に取り込まれず硬化物が形成できないことや、硬化物が室温で十分な硬さを得られなくなるおそれがある。 In formula (2), R 3 is independently a phenyl group, an alkyl group or a cycloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, and a hexenyl group. The content of the phenyl group of the total number of R 3 is from 40 to 70%, preferably 50 to 70%. When the ratio of the phenyl group in (B) component exceeds the said upper limit, the mechanical strength of the obtained hardened | cured material will fall. In Formula (2), at least two of R 3 are alkenyl groups. If the number of alkenyl groups is less than 1, the component (B) is not taken into the crosslinking reaction and a cured product cannot be formed, or the cured product may not have sufficient hardness at room temperature.
式(2)中、mは1〜100の整数であり、好ましくは1〜50の整数であり、更に好ましくは1〜20である。mが上記上限超では、得られる硬化物が室温で十分な硬さを得られなくなるおそれがある。 In Formula (2), m is an integer of 1-100, Preferably it is an integer of 1-50, More preferably, it is 1-20. If m exceeds the above upper limit, the resulting cured product may not have sufficient hardness at room temperature.
本組成物において(B)成分の量は、(A)成分中及び(B)成分中のアルケニル基の合計個数に対する(A)成分中のSiH基の個数の比が0.5〜2となる量であり、好ましくは0.5〜1.5となる量である。(B)成分の量が上記下限未満であると、得られる硬化物は高温での軟化が不十分となるおそれがある。また、上記上限値超では、得られる硬化物の室温での十分な硬さが得られなくなるおそれがある。 In this composition, the amount of component (B) is such that the ratio of the number of SiH groups in component (A) to the total number of alkenyl groups in component (A) and component (B) is 0.5-2. The amount is preferably 0.5 to 1.5. When the amount of component (B) is less than the above lower limit, the resulting cured product may be insufficiently softened at high temperatures. Moreover, when it exceeds the above upper limit, there is a possibility that sufficient hardness at room temperature of the obtained cured product cannot be obtained.
(C)成分は熱伝導性充填剤であり、組成物に熱伝導性を付与する。該熱伝導性充填剤としては、金属、金属酸化物、金属水酸化物、金属窒化物、金属炭化物、及び炭素の同素体からなる群より選ばれる少なくとも1種の材料からなるものが好ましい。例えば、アルミニウム、銀、銅、金属ケイ素、アルミナ、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素、ダイヤモンド、グラファイト、カーボンナノチューブ、及びグラフェンなどが挙げられる。熱伝導性充填剤の形状は、球状、不定形状、及び針状等いずれであってもよく、特に限定されるものではない。 Component (C) is a thermally conductive filler and imparts thermal conductivity to the composition. The thermally conductive filler is preferably made of at least one material selected from the group consisting of metals, metal oxides, metal hydroxides, metal nitrides, metal carbides, and carbon allotropes. For example, aluminum, silver, copper, metal silicon, alumina, zinc oxide, magnesium oxide, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, diamond, graphite, carbon nanotube, graphene, and the like can be given. The shape of the thermally conductive filler may be any of spherical shape, indefinite shape, and needle shape, and is not particularly limited.
該熱伝導性充填剤は、大粒径成分と小粒径成分を組み合わせたものが好ましい。大粒径成分とは、平均粒径10〜120μm、好ましくは15〜75μm、大粒径成分の平均粒径が上記下限未満であると、得られる組成物の粘度が高くなりすぎるおそれがある。上記上限超では、得られる組成物が不均一となるおそれがある。小粒径成分とは、平均粒径0.01〜10μm、好ましくは0.1〜4μmを有する充填剤であるのがよい。小粒径成分の平均粒径が上記下限未満であると、得られる組成物の粘度が高くなりすぎるおそれがある。上記上限超では、得られる組成物が不均一となるおそれがある。なお、本発明における平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値(又はメジアン径)として求めることができる。 The thermally conductive filler is preferably a combination of a large particle size component and a small particle size component. The large particle size component means an average particle size of 10 to 120 μm, preferably 15 to 75 μm, and the average particle size of the large particle size component is less than the above lower limit, the resulting composition may have a too high viscosity. Above the above upper limit, the resulting composition may be non-uniform. The small particle size component is a filler having an average particle size of 0.01 to 10 μm, preferably 0.1 to 4 μm. There exists a possibility that the viscosity of the composition obtained may become too high that the average particle diameter of a small particle size component is less than the said minimum. Above the above upper limit, the resulting composition may be non-uniform. In addition, the average particle diameter in this invention can be calculated | required as a mass average value (or median diameter) in the particle size distribution measurement by a laser beam diffraction method.
(C)成分の配合量は(A)成分100質量部に対し、100〜3500質量部であり、好ましくは500〜3000質量部である。(C)成分の量が上記下限未満では、熱伝導性に乏しいものとなる。また上記上限超では、伸展性の乏しいものになる。 (C) The compounding quantity of a component is 100-3500 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 500-3000 mass parts. When the amount of component (C) is less than the above lower limit, the thermal conductivity is poor. Above the upper limit, the extensibility is poor.
(D)成分はヒドロシリル化触媒であり、(A)成分中のSiH基と(A)成分および(B)成分中のアルケニル基とのヒドロシリル化反応を促進する。該ヒドロシリル化触媒は従来公知のものであってよく、例えば白金系、パラジウム系、ロジウム系の触媒が挙げられる。中でも比較的入手しやすい白金または白金化合物が好ましい。より詳細には、例えば、白金の単体、白金黒、塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−アルコール錯体、白金配位化合物等が挙げられる。白金系触媒は1種単独でも2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Component (D) is a hydrosilylation catalyst and promotes a hydrosilylation reaction between the SiH group in component (A) and the alkenyl group in components (A) and (B). The hydrosilylation catalyst may be a conventionally known catalyst, and examples thereof include platinum-based, palladium-based, and rhodium-based catalysts. Of these, platinum or platinum compounds that are relatively easily available are preferred. More specifically, for example, platinum alone, platinum black, chloroplatinic acid, platinum-olefin complex, platinum-alcohol complex, platinum coordination compound and the like can be mentioned. A platinum-type catalyst may be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
(D)成分の含有量は触媒量であればよく、特に制限されない。触媒量とは上記ヒドロシリル化反応を促進するために十分な量である。好ましくは、本組成物の全質量に対して、触媒が有する金属原子量に換算して、質量単位で0.1〜500ppm、より好ましくは1.0〜100ppmとなる量が好ましい。(D)成分の量が上記下限未満では、触媒としての効果が得られない恐れがある。また、上記上限値超では、触媒効果が増大することはなく不経済であるため好ましくない。 The content of the component (D) is not particularly limited as long as it is a catalytic amount. The catalytic amount is an amount sufficient to promote the hydrosilylation reaction. Preferably, an amount that is 0.1 to 500 ppm, more preferably 1.0 to 100 ppm in terms of mass unit in terms of the amount of metal atoms of the catalyst with respect to the total mass of the composition. If the amount of component (D) is less than the above lower limit, the effect as a catalyst may not be obtained. On the other hand, if the value exceeds the upper limit, the catalytic effect does not increase and is uneconomical.
本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、更に(E)下記一般式(3)で表されるシリル基を1分子中に少なくとも1個有し、25℃での粘度0.01〜30Pa・sを有するオルガノポリシロキサンを含有することができる。該(E)成分はウェッターとして機能する。(E)成分は1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
−SiR4 f(OR5)3-f (3)
(式(3)中、R4は互いに独立に、非置換又は置換の1価炭化水素基であり、R5は互いに独立に、アルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基又はアシル基であり、fは0、1又は2である)。
The thermally conductive silicone composition of the present invention further comprises (E) at least one silyl group represented by the following general formula (3) in one molecule, and a viscosity at 25 ° C. of 0.01 to 30 Pa · s. It can contain the organopolysiloxane which has. The component (E) functions as a wetter. (E) A component may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
-SiR 4 f (OR 5 ) 3-f (3)
(In the formula (3), R 4 are each independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, R 5 are each independently an alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkenyl group or an acyl group, and f Is 0, 1 or 2.
(E)成分は、25℃における粘度0.01〜30Pa・sを有し、好ましくは0.01〜10Pa・sを有する。粘度が上記下限未満であると、シリコーン組成物からオイルブリードが発生し易くなってしまい、また垂れ易くなってしまうおそれがあるため好ましくない。一方、上記上限超では、得られるシリコーン組成物の流動性が著しく乏しくなり、塗布作業性が悪化してしまうおそれがある。なお、本発明において粘度は、回転粘度計による測定値である。 The component (E) has a viscosity at 25 ° C. of 0.01 to 30 Pa · s, preferably 0.01 to 10 Pa · s. If the viscosity is less than the above lower limit, oil bleed is likely to occur from the silicone composition, and it tends to sag, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds the above upper limit, the fluidity of the resulting silicone composition becomes extremely poor, and the coating workability may be deteriorated. In the present invention, the viscosity is a value measured by a rotational viscometer.
(E)成分としては、例えば下記一般式で表されるオルガノポリシロキサンが挙げられる。
上記式中、R4は、互いに独立に、非置換又は置換の、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは1〜6、さらに好ましくは1〜3の1価炭化水素基である。例えば、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、及びハロゲン化アルキル基が挙げられる。直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、及びデシル基等が挙げられる。分岐鎖状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル基、及び2−エチルヘキシル基等が挙げられる。環状アルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、及びアリル基等が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基、及びトリル基等が挙げられる。アラルキル基としては、例えば、2−フェニルエチル基、2−メチル−2−フェニルエチル基等が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、例えば、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2−(ノナフルオロブチル)エチル基、及び2−(ヘプタデカフルオロオクチル)エチル基等が挙げられる。中でも、R4として、メチル基及びフェニル基が好ましい。 In the above formula, R 4 s are each independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and further preferably 1 to 3 carbon atoms. Examples thereof include a linear alkyl group, a branched alkyl group, a cyclic alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, and a halogenated alkyl group. Examples of the linear alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, an octyl group, and a decyl group. Examples of the branched alkyl group include isopropyl group, isobutyl group, tert-butyl group, 2-ethylhexyl group and the like. Examples of the cyclic alkyl group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group and an allyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group and a tolyl group. Examples of the aralkyl group include a 2-phenylethyl group and a 2-methyl-2-phenylethyl group. Examples of the halogenated alkyl group include a 3,3,3-trifluoropropyl group, a 2- (nonafluorobutyl) ethyl group, and a 2- (heptadecafluorooctyl) ethyl group. Among these, as R 4 , a methyl group and a phenyl group are preferable.
上記式中、R5は互いに独立に、アルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基又はアシル基である。炭素数は1〜8であるのが好ましい。アルキル基としては、例えば、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、及び環状アルキル基が挙げられ、詳細にはR4において例示した基が挙げられる。アルコキシアルキル基としては、例えば、メトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば、R4において例示した基が挙げられる。アシル基としては、例えば、アセチル基、及びオクタノイル基等が挙げられる。中でも、R5はアルキル基が好ましく、特にはメチル基、及びエチル基が好ましい。nは2〜100であり、好ましくは5〜50である。fは0、1又は2であり、好ましくは0である。 In the above formula, R 5 s independently of one another are an alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkenyl group, or an acyl group. The number of carbon atoms is preferably 1-8. Examples of the alkyl group include linear alkyl groups, branched-chain alkyl groups, and include cyclic alkyl groups, in particular include the groups exemplified in R 4. Examples of the alkoxyalkyl group include a methoxyethyl group and a methoxypropyl group. Examples of the alkenyl group include the groups exemplified for R 4 . Examples of the acyl group include an acetyl group and an octanoyl group. Among these, R 5 is preferably an alkyl group, particularly preferably a methyl group or an ethyl group. n is 2-100, Preferably it is 5-50. f is 0, 1 or 2, preferably 0.
(E)オルガノポリシロキサンとしては、例えば、下記のものが挙げられる。
(E)成分の含有量は(A)成分100質量部に対して0.1〜80質量部であることが好ましく、より好ましくは10〜80質量部である。上記上限超では、硬化物の室温での十分な硬さが得られなくなるおそれがある。 It is preferable that content of (E) component is 0.1-80 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, More preferably, it is 10-80 mass parts. If it exceeds the above upper limit, the cured product may not have sufficient hardness at room temperature.
本発明のシリコーン組成物はさらに(F)ケイ素原子結合有機基中のフェニル基が40モル%未満であるオルガノポリシロキサンを含有してよい。該オルガノポリシロキサンは、ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に少なくとも2個有し、及び、25℃における動粘度10〜10,000mm2/sを有する。該(F)成分は、シリコーン組成物中にあるケイ素原子結合水素原子とヒドロシリル化することにより、架橋構造を形成する。 The silicone composition of the present invention may further contain (F) an organopolysiloxane in which the phenyl group in the silicon atom-bonded organic group is less than 40 mol%. The organopolysiloxane has at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule and has a kinematic viscosity at 25 ° C. of 10 to 10,000 mm 2 / s. The component (F) forms a crosslinked structure by hydrosilylation with a silicon atom-bonded hydrogen atom in the silicone composition.
(F)成分は1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。(F)成分は直鎖状でも分岐状でもよく、異なる粘度を有する2種以上のオルガノポリシロキサンを併用してもよい。アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、1−ブテニル基、及び1−ヘキセニル基が例示されるが、合成のし易さ、コストの面からビニル基が好ましい。ケイ素原子に結合するアルケニル基は、オルガノポリシロキサンの分子鎖の末端、途中の何れに存在してもよいが、少なくとも末端に存在することが好ましい。 (F) A component may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. Component (F) may be linear or branched, and two or more organopolysiloxanes having different viscosities may be used in combination. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a 1-butenyl group, and a 1-hexenyl group, and a vinyl group is preferable from the viewpoint of ease of synthesis and cost. The alkenyl group bonded to the silicon atom may be present at any end of the molecular chain of the organopolysiloxane, but is preferably present at least at the end.
ケイ素原子に結合するアルケニル基以外の有機基としては、置換又は非置換の一価炭化水素基が挙げられる。該一価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、及びドデシル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基、2−フェニルエチル基、及び2−フェニルプロピル基等のアラルキル基が挙げられる。また、前記炭化水素基の炭素原子に結合した水素原子がハロゲン原子で置換された1価炭化水素基(例えば、クロロメチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等)も挙げられる。これらのうち、合成のし易さ、コストの面から、メチル基及びフェニル基が好ましい。(F)成分は、25℃における動粘度10〜100,000mm2/sを有ることが好ましく、より好ましくは100〜50,000mm2/sを有する。これは、上記下限値未満であると、シリコーン組成物の保存安定性が悪くなるおそれがある。また、上記上限超では、得られるシリコーン組成物の伸展性が悪くなるおそれがある。 Examples of the organic group other than the alkenyl group bonded to the silicon atom include a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group. Examples of the monovalent hydrocarbon group include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, and dodecyl group, aryl groups such as phenyl group, 2-phenylethyl group, and 2-phenylpropyl group. And an aralkyl group such as a group. Moreover, the monovalent hydrocarbon group (for example, chloromethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group etc.) by which the hydrogen atom couple | bonded with the carbon atom of the said hydrocarbon group was substituted with the halogen atom is mentioned. Among these, a methyl group and a phenyl group are preferable from the viewpoint of ease of synthesis and cost. The component (F) preferably has a kinematic viscosity of 10 to 100,000 mm 2 / s at 25 ° C., more preferably 100 to 50,000 mm 2 / s. If this is less than the above lower limit, the storage stability of the silicone composition may deteriorate. On the other hand, if it exceeds the upper limit, the extensibility of the resulting silicone composition may be deteriorated.
(F)成分の含有量は、(A)成分100質量部に対して0.1〜50質量部であることが好ましく、より好ましくは10〜50質量部である。(F)成分の量が上記上限を超えると、硬化物は高温での軟化が不十分となるおそれがある。 (F) It is preferable that content of a component is 0.1-50 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, More preferably, it is 10-50 mass parts. When the amount of the component (F) exceeds the above upper limit, the cured product may be insufficiently softened at a high temperature.
本発明のシリコーン組成物は、(G)ケイ素原子結合水素原子を1分子中に少なくとも2個有する直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサンをさらに含有することができる。該オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、組成物中にあるアルケニル基をヒドロシリル化反応して架橋し、網状構造を形成する。 The silicone composition of the present invention may further contain (G) a linear organohydrogenpolysiloxane having at least two silicon atom-bonded hydrogen atoms in one molecule. The organohydrogenpolysiloxane is crosslinked by hydrosilylation reaction of alkenyl groups in the composition to form a network structure.
(G)成分は1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサンのケイ素原子に結合する有機基としては、置換又は非置換の一価炭化水素基が挙げられる。該一価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、及びドデシル基などのアルキル基、フェニル基等のアリール基、2−フェニルエチル基、及び、2−フェニルプロピル基等のアラルキル基、並びに、前記炭化水素基の炭素原子に結合した水素原子がハロゲン原子又はグリシドキシ基で置換された1価炭化水素基(例えば、クロロメチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2−グリシドキシエチル基、3−グリシドキシプロピル基、及び4−グリシドキシブチル基など)が挙げられる。 (G) A component may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. Examples of the organic group bonded to the silicon atom of the linear organohydrogenpolysiloxane include a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group. Examples of the monovalent hydrocarbon group include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, and a dodecyl group, an aryl group such as a phenyl group, a 2-phenylethyl group, and a 2-phenylpropylene group. And a monovalent hydrocarbon group in which a hydrogen atom bonded to a carbon atom of the hydrocarbon group is substituted with a halogen atom or a glycidoxy group (for example, a chloromethyl group, 3,3,3-trialkyl group). Fluoropropyl group, 2-glycidoxyethyl group, 3-glycidoxypropyl group, 4-glycidoxybutyl group, etc.).
(G)成分の量は、シリコーン組成物中のアルケニル基の合計個数に対するSiH基の合計個数の比が0.5〜2となる量であり、好ましくは0.5〜1.5となる量である。これは(G)成分の含有量が上記範囲の下限未満であると得られる硬化物は室温での十分な硬さが得られなくなるおそれがある。一方、上記上限を超えると、硬化物は高温での軟化が不十分となるおそれがあるため好ましくない。 The amount of component (G) is such that the ratio of the total number of SiH groups to the total number of alkenyl groups in the silicone composition is 0.5-2, preferably 0.5-1.5. It is. This is because the cured product obtained when the content of the component (G) is less than the lower limit of the above range may not have sufficient hardness at room temperature. On the other hand, when the above upper limit is exceeded, the cured product is not preferable because softening at high temperatures may be insufficient.
本発明は、上記(A)〜(D)成分及び任意の(E)〜(G)成分を含むシリコーン組成物である。該(A)〜(G)成分以外にも任意成分として、(H)反応制御剤及び(I)接着促進剤を含有していてもよい。 This invention is a silicone composition containing the said (A)-(D) component and arbitrary (E)-(G) component. In addition to the components (A) to (G), (H) a reaction control agent and (I) an adhesion promoter may be contained as optional components.
(H)反応制御剤は、室温でのヒドロシリル化反応の進行を抑え、シェルフライフ、ポットライフを延長させる。反応制御剤としては公知のものを使用することができ、例えば、エチニルヘキサノール、2−メチル−3−ブチン−2−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、2−フェニル−3−ブチン−2−オール等のアルキンアルコール;3−メチル−3−ペンテン−1−イン、3,5−ジメチル−3−ヘキセン−1−イン等のエンイン化合物;1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラヘキセニルシクロテトラシロキサン、ベンゾトリアゾール等が挙げられる。該反応制御剤は、1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。反応制御剤の量は本発明の効果を損ねない限りにおいて制限されないが、例えば、シリコーン組成物の全質量に対して1〜5000ppmであることが好ましい。 (H) The reaction control agent suppresses the progress of the hydrosilylation reaction at room temperature and prolongs shelf life and pot life. Known reaction control agents can be used, such as ethynylhexanol, 2-methyl-3-butyn-2-ol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 2-phenyl- Alkyne alcohols such as 3-butyn-2-ol; Enyne compounds such as 3-methyl-3-penten-1-yne and 3,5-dimethyl-3-hexen-1-yne; 1,3,5,7- Examples include tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetrahexenylcyclotetrasiloxane, and benzotriazole. These reaction control agents may be used alone or in combination of two or more. The amount of the reaction control agent is not limited as long as the effects of the present invention are not impaired, but for example, it is preferably 1 to 5000 ppm with respect to the total mass of the silicone composition.
(I)接着促進剤は、硬化途上で接触している基材への接着性を更に向上させる。接着促進剤としては、例えば、トリアルコキシシロキサン基(例えば、トリメトキシシロキシ基、トリエトキシシロキシ基)もしくはトリアルコキシシリルアルキル基(例えば、トリメトキシシリルエチル基、トリエトキシシリルエチル基)と、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基)を有するオルガノシラン、またはケイ素原子数4〜20程度の直鎖状構造、分岐状構造又は環状構造のオルガノシロキサンオリゴマー;トリアルコキシシロキサン基もしくはトリアルコキシシリルアルキル基とメタクリロキシアルキル基(例えば、3−メタクリロキシプロピル基)を有するオルガノシラン、またはケイ素原子数4〜20程度の直鎖状構造、分岐状構造又は環状構造のオルガノシロキサンオリゴマー;トリアルコキシシロキシ基もしくはトリアルコキシシリルアルキル基とエポキシ基結合アルキル基(例えば、3−グリシドキシプロピル基、4−グリシドキシブチル基、2−(3,4−エポキシシクロへキシル)エチル基、3−(3,4−エポキシシクロへキシル)プロピル基)を有するオルガノシラン、またはケイ素原子数4〜20程度の直鎖状構造、分岐状構造又は環状構造のオルガノシロキサンオリゴマー;アミノアルキルトリアルコキシシランとエポキシ基結合アルキルトリアルコキシシランの反応物、エポキシ基含有エチルポリシリケートが挙げられる。より詳細には、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ハイドロジェントリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシランと3−アミノプロピルトリエトキシシランの反応物、シラノール基封鎖メチルビニルシロキサンオリゴマーと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの縮合反応物、シラノール基封鎖メチルビニルシロキサンオリゴマーと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの縮合反応物、シラノール基封鎖メチルビニルシロキサンオリゴマーと3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシランの縮合反応物、及びトリス(3−トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレートが挙げられる。 (I) The adhesion promoter further improves the adhesion to the substrate in contact with the curing process. Examples of the adhesion promoter include trialkoxysiloxane group (for example, trimethoxysiloxy group, triethoxysiloxy group) or trialkoxysilylalkyl group (for example, trimethoxysilylethyl group, triethoxysilylethyl group) and hydrosilyl group. Or an organosilane having an alkenyl group (for example, vinyl group, allyl group), or a linear, branched or cyclic organosiloxane oligomer having about 4 to 20 silicon atoms; trialkoxysiloxane group or trialkoxysilyl Organosilane having an alkyl group and a methacryloxyalkyl group (for example, 3-methacryloxypropyl group), or an organosiloxane oligomer having a linear structure, a branched structure or a cyclic structure having about 4 to 20 silicon atoms; A xysiloxy group or trialkoxysilylalkyl group and an epoxy group-bonded alkyl group (for example, 3-glycidoxypropyl group, 4-glycidoxybutyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group) or an organosiloxane oligomer having a linear structure, a branched structure or a cyclic structure having about 4 to 20 silicon atoms; aminoalkyltrialkoxysilane and epoxy Examples include a reaction product of a group-bonded alkyltrialkoxysilane and an epoxy group-containing ethyl polysilicate. More specifically, vinyltrimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, hydrogentriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyl Trimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, reaction product of 3-glycidoxypropyltriethoxysilane and 3-aminopropyltriethoxysilane, silanol-blocked methylvinylsiloxane oligomer and 3-glycidoxypropyltrimethoxy Silane condensation reaction product, silanol-blocked methyl vinyl siloxane oligomer and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane condensation reaction product, silanol-blocked methyl vinyl siloxane oligomer and 3-meta Lilo propyl condensation reaction product triethoxysilane, and tris (3-trimethoxysilylpropyl) isocyanurate.
さらに、本発明のシリコーン組成物には、本発明の目的を損なわない限り、その他任意成分として、前記(A)〜(I)成分以外のポリオルガノシロキサン;シリカ、ガラス、アルミナ、酸化亜鉛等の無機質充填剤;ポリメタクリレート樹脂等の有機樹脂微粉末;耐熱剤、染料、顔料、蛍光体、難燃性付与剤、及び溶剤等を含有してもよい。 Furthermore, the silicone composition of the present invention includes, as other optional components, polyorganosiloxanes other than the above components (A) to (I); silica, glass, alumina, zinc oxide, etc., unless the object of the present invention is impaired. An inorganic filler; organic resin fine powder such as polymethacrylate resin; a heat-resistant agent, a dye, a pigment, a phosphor, a flame retardant, and a solvent.
本発明のシリコーン組成物は好ましくはグリース状である。グリース状であることにより、小さな電子部品又はヒートシンクへ容易に適用することができる。該シリコーン組成物の25℃における粘度は特に限定されないが、10〜500Pa・sの範囲内であることが好ましく、特に10〜300Pa・sの範囲内であることが好ましい。粘度が上記下限値未満であると、組成物の取扱い性が悪くなる。また、上記上限値を超えると、組成物がディスペンス塗布されたときなどに、泡噛みしやすくなるため好ましくない。本発明において、シリコーン組成物の粘度は、例えばスパイラル粘度計にて測定できる。 The silicone composition of the present invention is preferably in the form of a grease. Being grease-like, it can be easily applied to small electronic components or heat sinks. The viscosity of the silicone composition at 25 ° C. is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 500 Pa · s, and more preferably in the range of 10 to 300 Pa · s. When the viscosity is less than the above lower limit, the handleability of the composition is deteriorated. Moreover, when it exceeds the said upper limit, when a composition is dispense-applied etc., it becomes easy to chew foam, and it is not preferable. In the present invention, the viscosity of the silicone composition can be measured, for example, with a spiral viscometer.
本シリコーン組成物は、少なくとも1.0W/mK以上の熱伝導率を有することが好ましく、特には、2.0W/mK以上であることが好ましい。熱伝導率が上記下限値未満では、所望する放熱性能が得られなくなるため好ましくない。 The silicone composition preferably has a thermal conductivity of at least 1.0 W / mK, and particularly preferably 2.0 W / mK or more. If the thermal conductivity is less than the above lower limit, the desired heat dissipation performance cannot be obtained, which is not preferable.
本シリコーン組成物の製造方法は、従来のシリコーン組成物の製造方法に従えばよく、特に制限されるものではない。例えば、上記(A)成分〜(I)成分、及び必要その他成分をトリミックス、ツウィンミックス、プラネタリミキサー(いずれも井上製作所(株)製混合機の商標登録)、ウルトラミキサー(みずほ工業(株)製混合機の登録商標)、ハイビスディスパーミックス(特殊機化工業(株)製混合機の登録商標)等の混合機にて混合する方法により製造することができる。 The manufacturing method of this silicone composition should just follow the manufacturing method of the conventional silicone composition, and is not restrict | limited in particular. For example, the above-mentioned components (A) to (I) and other necessary components are mixed with Trimix, Twinmix, Planetary Mixer (all registered trademark of mixer manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd.), Ultramixer (Mizuho Industry Co., Ltd.) It can be manufactured by a method of mixing with a mixer such as a registered trademark of a mixer manufactured by Hibisu Dispersix (registered trademark of a mixer manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.).
上記シリコーン組成物をヒドロシリル化反応により架橋することにより硬化物を得ることができる。組成物の硬化条件は特に制限されるものでなく、従来の付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化条件に従えばよい。該硬化物は、室温、例えば25℃では固体状、より詳細には、軟質ゴム状であり、高温、例えば、100℃では軟化、あるいは液状化するという特徴がある。該硬化物は、25℃でのアスカーC硬さが5以上であることが好ましい。また、該硬化物は100℃で流動性を有するか、100℃でモジュラスが2.0MPa以下である軟質ゴム状であることが好ましい。100℃で流動性を有するとは、その粘度は特に限定されないが、少なくとも100Pa・s以上であることが好ましく、好ましくは100Pa・s〜300Pa・s、さらに好ましくは100〜200Pa・sであるのがよい。このような特徴を有する硬化物は、加熱により軟化する熱伝導性放熱部材として好適に利用できる。尚、本発明におけるモジュラスとはJIS K7244−4に記載の動的粘弾性測定(DMA)により測定される、貯蔵弾性率(E’)の値を意味する。 A cured product can be obtained by crosslinking the silicone composition by a hydrosilylation reaction. The curing conditions of the composition are not particularly limited, and may be according to the curing conditions of a conventional addition reaction curable silicone composition. The cured product is solid at room temperature, for example, 25 ° C., more specifically, soft rubber, and is characterized by being softened or liquefied at a high temperature, for example, 100 ° C. The cured product preferably has an Asker C hardness of 5 or more at 25 ° C. Moreover, it is preferable that this hardened | cured material is a soft rubber-like thing which has fluidity | liquidity at 100 degreeC, or whose modulus is 2.0 MPa or less at 100 degreeC. The fluidity at 100 ° C. is not particularly limited, but is preferably at least 100 Pa · s or more, preferably 100 Pa · s to 300 Pa · s, more preferably 100 to 200 Pa · s. Is good. The cured product having such characteristics can be suitably used as a heat conductive heat radiating member that is softened by heating. The modulus in the present invention means a value of storage elastic modulus (E ′) measured by dynamic viscoelasticity measurement (DMA) described in JIS K7244-4.
以下、実施例及び比較例を示し、本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated in detail, this invention is not restrict | limited to the following Example.
実施例及び比較例に用いた各成分は以下の通りである。また、式中のMe、Ph、Viはそれぞれメチル基、フェニル基、ビニル基を表している。下記において、Ph基量とは、ケイ素原子に結合する水素原子及び置換基の合計個数に対するフェニル基の個数割合である。また、SiH基量とは、ケイ素原子に結合する水素原子及び置換基の合計個数に対するSiH基の個数割合である。動粘度は、ウベローデ型オストワルド粘度計を用いて25℃にて測定した値である。
(A)成分:下記平均単位式で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン
A−1:平均単位式
(Me3SiO1/2)0.10(MeHSiO2/2)0.25(Ph2SiO2/2)0.30(PhMeSiO2/2)0.10(PhSiO3/2)0.25(MeO1/2)0.05、動粘度:2,840mm2/s、Ph基量:51%、SiH基量:13.5%
A−2:平均単位式
(Me3SiO1/2)0.10(MeViSiO2/2)0.05(MeHSiO2/2)0.20(Ph2SiO2/2)0.30(PhMeSiO2/2)0.10(PhSiO3/2)0.25(MeO1/2)0.05、動粘度:2,132mm2/s、Ph基量:51%、SiH基量:10.8%
A−3:平均単位式
(Me3SiO1/2)0.15(MeHSiO2/2)0.25(Ph2SiO2/2)0.30(PhMeSiO2/2)0.15(PhSiO3/2)0.15(MeO1/2)0.05、動粘度:1,120mm2/s、Ph基量:45%、SiH基量:12.5%
A−4:平均単位式
(Me3SiO1/2)0.10(MeHSiO2/2)0.10(Ph2SiO2/2)0.35(PhMeSiO2/2)0.2(PhSiO3/2)0.25(MeO1/2)0.05、動粘度:2,340mm2/s、Ph基量:62%、SiH基量:5.4%
Each component used in the examples and comparative examples is as follows. In the formula, Me, Ph, and Vi represent a methyl group, a phenyl group, and a vinyl group, respectively. In the following, the amount of Ph groups is the number ratio of phenyl groups to the total number of hydrogen atoms and substituents bonded to silicon atoms. Further, the amount of SiH groups is the number ratio of SiH groups to the total number of hydrogen atoms and substituents bonded to silicon atoms. The kinematic viscosity is a value measured at 25 ° C. using an Ubbelohde Ostwald viscometer.
Component (A): Organohydrogenpolysiloxane represented by the following average unit formula A-1: Average unit formula (Me 3 SiO 1/2 ) 0.10 (MeHSiO 2/2 ) 0.25 (Ph 2 SiO 2 / 2 ) 0.30 (PhMeSiO 2/2 ) 0.10 (PhSiO 3/2 ) 0.25 (MeO 1/2 ) 0.05 , kinematic viscosity: 2,840 mm 2 / s, Ph group amount: 51% , SiH group content: 13.5%
A-2: Average unit formula (Me 3 SiO 1/2 ) 0.10 (MeViSiO 2/2 ) 0.05 (MeHSiO 2/2 ) 0.20 (Ph 2 SiO 2/2 ) 0.30 (PhMeSiO 2 / 2 ) 0.10 (PhSiO 3/2 ) 0.25 (MeO 1/2 ) 0.05 , kinematic viscosity: 2,132 mm 2 / s, Ph group amount: 51%, SiH group amount: 10.8%
A-3: Average unit formula (Me 3 SiO 1/2 ) 0.15 (MeHSiO 2/2 ) 0.25 (Ph 2 SiO 2/2 ) 0.30 (PhMeSiO 2/2 ) 0.15 (PhSiO 3 / 2 ) 0.15 (MeO 1/2 ) 0.05, kinematic viscosity: 1,120 mm 2 / s, Ph group amount: 45%, SiH group amount: 12.5%
A-4: Average unit formula (Me 3 SiO 1/2 ) 0.10 (MeHSiO 2/2 ) 0.10 (Ph 2 SiO 2/2 ) 0.35 (PhMeSiO 2/2 ) 0.2 (PhSiO 3 / 2 ) 0.25 (MeO 1/2 ) 0.05 , kinematic viscosity: 2,340 mm 2 / s, Ph group amount: 62%, SiH group amount: 5.4%
(B)成分:下記式で表されるオルガノポリシロキサン
B−1:下記式で表されるオルガノトリシロキサン
(C)成分
C−1:平均粒径1.0μmの球状酸化アルミニウム
C−2:平均粒径10μmの球状酸化アルミニウム
C−3:平均粒径45μmの球状酸化アルミニウム
C−4:平均粒径70μmの球状酸化アルミニウム
(D)成分
D−1:白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のF−1溶液(白金原子として1質量%含有)(F−1は、下記(F)成分のオルガノポリシロキサンである)
(C) Component C-1: Spherical aluminum oxide with an average particle size of 1.0 μm C-2: Spherical aluminum oxide with an average particle size of 10 μm C-3: Spherical aluminum oxide with an average particle size of 45 μm C-4: Average particle size of 70 μm Spherical aluminum oxide (D) component D-1: F-1 solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (containing 1% by mass as platinum atom) (F-1 is an organopolysiloxane of the following component (F) is there)
(E)成分
E−1:下記式で表されるオルガノポリシロキサン(25℃での粘度0.03Pa・s)
(F)成分
F−1:下記式で表されるオルガノポリシロキサン(25℃での動粘度700mm2/s)
(G)成分
G−1:下記式で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン
H−1:1−エチニル−1−シクロヘキサノール
(I)成分
I−1:下記式で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン
[実施例1〜7、比較例1〜4]
上記各成分を表1又は2に示す配合量で、下記の方法に従い混合してシリコーン組成物を得た。即ち、5リットルゲートミキサー(井上製作所(株)製、商品名:5リットルプラネタリミキサー)に、(A)、(B)、(C)、(E)、及び(F)成分を表1又は2に示す配合量で取り、150℃で1時間脱気加熱混合した。その後、常温(25℃)になるまで冷却し、(H)成分を加え、均一になるように室温(25℃)にて混合し、続けて(D)成分を加え、均一になるように室温(25℃)にて混合した。さらに(G)及び(I)成分を加え、均一になるように室温にて脱気混合した。
上記にて得られた各シリコーン組成物について下記の方法に従い硬化して熱伝導性成形物を形成した。各シリコーン組成物の粘度、及び、硬化物の硬化後硬度、熱伝導率、及びモジュラスを下記に示す方法により評価した。結果を表1及び2に記載する。
[Examples 1-7, Comparative Examples 1-4]
The above components were mixed in the amounts shown in Table 1 or 2 according to the following method to obtain a silicone composition. That is, the components (A), (B), (C), (E), and (F) are added to a 5-liter gate mixer (Inoue Seisakusho Co., Ltd., trade name: 5-liter planetary mixer). The mixture was degassed and heated at 150 ° C. for 1 hour. Then, it cools until it becomes normal temperature (25 degreeC), (H) component is added, it mixes at room temperature (25 degreeC) so that it may become uniform, (D) component is added continuously, and it is room temperature so that it may become uniform (25 ° C). Further, components (G) and (I) were added and deaerated and mixed at room temperature so as to be uniform.
Each of the silicone compositions obtained above was cured according to the following method to form a thermally conductive molded product. The viscosity of each silicone composition, the hardness after curing of the cured product, the thermal conductivity, and the modulus were evaluated by the methods shown below. The results are listed in Tables 1 and 2.
[シリコーン組成物の25℃粘度測定]
シリコーン組成物の25℃における初期粘度を測定した。粘度の測定はスパイラル粘度計:マルコム粘度計(タイプPC−10AA、回転数10rpm)を用いた。
[熱伝導率]
硬化前のシリコーン組成物の25℃における熱伝導率を、京都電子工業(株)製ホットディスク法熱物性測定装置TPS 2500 Sを用いて測定した(ISO 22007−2準拠のホットディスク法)。
[硬化後硬度評価]
シリコーン組成物を6mm硬化厚みとなるような成形型に流し込み、125℃で1時間硬化させた。次に6mm厚みの硬化物を2枚重ねてアスカーC硬度計で硬度を測定した。
[硬化物の100℃粘度測定]
また該硬化物を100℃に加熱した後に、上述した方法に従い粘度を測定した。
なお、実施例1〜5のシリコーン組成物から得られた硬化物は100℃にて軟質ゴム状を有するため粘度の測定ができなかった。
[硬化後モジュラス評価]
シリコーン組成物を2mm硬化厚みとなるような成形型に流し込み、125℃で1時間硬化させた。次に2mm厚みの硬化物を1.0cm×3.0cmの短冊状になるように型抜いた。型抜いた硬化物について、JIS K7244−4に記載の動的粘弾性測定(DMA)に準拠し、(株)日立ハイテクサイエンス製粘弾性測定装置DMA 7100を用いて25℃から100℃までのモジュラス変化を測定した。25℃でのモジュラス(MPa)及び100℃でのモジュラス(MPa)の値を表1及び2に示す。
尚、実施例6及び7の組成物から得られた硬化物は、100℃にて流動性を有する(液状化した)ため、モジュラスの測定ができなかった。
[Measurement of viscosity at 25 ° C. of silicone composition]
The initial viscosity at 25 ° C. of the silicone composition was measured. The viscosity was measured using a spiral viscometer: Malcolm viscometer (type PC-10AA, rotation speed 10 rpm).
[Thermal conductivity]
The thermal conductivity of the silicone composition before curing at 25 ° C. was measured using a hot disk method thermophysical property measuring apparatus TPS 2500 S manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd. (a hot disk method based on ISO 22007-2).
[Evaluation of hardness after curing]
The silicone composition was poured into a mold having a cured thickness of 6 mm and cured at 125 ° C. for 1 hour. Next, two 6 mm thick cured products were stacked and the hardness was measured with an Asker C hardness tester.
[Measurement of viscosity of cured product at 100 ° C]
Moreover, after heating this hardened | cured material to 100 degreeC, the viscosity was measured according to the method mentioned above.
In addition, since the hardened | cured material obtained from the silicone composition of Examples 1-5 had a soft rubber form at 100 degreeC, the viscosity was not able to be measured.
[Modulus evaluation after curing]
The silicone composition was poured into a mold having a cured thickness of 2 mm and cured at 125 ° C. for 1 hour. Next, the cured product having a thickness of 2 mm was punched out so as to have a strip shape of 1.0 cm × 3.0 cm. For the cured product that has been punched, the modulus from 25 ° C. to 100 ° C. is measured using a viscoelasticity measuring device DMA 7100 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. Changes were measured. Tables 1 and 2 show the modulus (MPa) at 25 ° C and the modulus (MPa) at 100 ° C.
In addition, since the hardened | cured material obtained from the composition of Example 6 and 7 had fluidity | liquidity (liquefied) at 100 degreeC, a modulus was not able to be measured.
上記表2に示す通り、フェニル基量が少ないオルガノポリシロキサン(A−3)を含む比較例1及び2の組成物を硬化して成る硬化物は、硬化物が室温(25℃)で十分な硬さを得られない。また、SiH量が下限値未満であるオルガノポリシロキサン(A−4)を含む比較例3及び4の組成物を硬化して成る硬化物も室温(25℃)での十分な硬さを得られない。更には、得られた硬化物は100℃にて粘度が高く流動性を有さない。これに対して、上記表1に示す通り、実施例1〜7のシリコーン組成物から成る硬化物は、室温(25℃)でアスカーC硬度5以上を有する固体(軟質ゴム)である。また、25℃でのモジュラスの値と100℃でのモジュラスの値からわかる通り、実施例1〜5の硬化物は高温(100℃)で軟化した。また、実施例6及び7の硬化物は高温(100℃)で液状化した。 As shown in Table 2 above, the cured product obtained by curing the compositions of Comparative Examples 1 and 2 containing the organopolysiloxane (A-3) having a small amount of phenyl groups is sufficient at room temperature (25 ° C.). Hardness cannot be obtained. In addition, a cured product obtained by curing the compositions of Comparative Examples 3 and 4 containing the organopolysiloxane (A-4) whose SiH amount is less than the lower limit can also obtain a sufficient hardness at room temperature (25 ° C.). Absent. Furthermore, the obtained cured product has a high viscosity at 100 ° C. and does not have fluidity. On the other hand, as shown in Table 1 above, the cured product composed of the silicone compositions of Examples 1 to 7 is a solid (soft rubber) having an Asker C hardness of 5 or more at room temperature (25 ° C.). Moreover, the hardened | cured material of Examples 1-5 softened at high temperature (100 degreeC) so that the value of the modulus in 25 degreeC and the value of the modulus in 100 degreeC were understood. Moreover, the hardened | cured material of Example 6 and 7 was liquefied at high temperature (100 degreeC).
本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、加熱硬化により、熱可塑性をもつ硬化物を提供することができる。また、本発明の熱伝導性シリコーン組成物はグリース状を有するため、該組成物を発熱部材と冷却部材との間に介在させて硬化することも可能である。さらには、一度発熱部材または冷却部材のどちらか一方へ塗布して硬化させた後で、熱により軟化させることでもう一方の部材と組み合わせることができる。従って、本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、電子部品やヒートシンクへ容易に適用することができ、小さな電子部品においても好適に使用することができる。 The thermally conductive silicone composition of the present invention can provide a cured product having thermoplasticity by heat curing. Moreover, since the heat conductive silicone composition of this invention has a grease form, it can also be hardened by interposing this composition between a heat generating member and a cooling member. Furthermore, it can be combined with the other member by once applying and curing to either one of the heat generating member or the cooling member and then softening with heat. Therefore, the thermally conductive silicone composition of the present invention can be easily applied to electronic components and heat sinks, and can be suitably used even in small electronic components.
Claims (8)
(A)平均組成式(1)で表される、25℃での動粘度500〜1,000,000mm2/sを有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
(R1 3SiO1/2)a(R1 2SiO2/2)b(R1SiO3/2)c(SiO4/2)d(R2O1/2)e
(1)
(式中、R1は互いに独立に、フェニル基、炭素数1〜6の、アルキル基又はシクロアルキル基、炭素原子数2〜6のアルケニル基、または水素原子であり、ただしR1の合計個数のうち50〜80%はフェニル基であり、R1の合計個数のうち10〜20%は水素原子であり、R1の合計個数のうち0〜20%はアルケニル基であり、R2は水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、a、b、c、dおよびeは、0≦a≦0.2、0.2≦b≦0.7、0.2≦c≦0.6、0≦d≦0.2、0≦e≦0.1、かつa+b+c+d=1を満たす数である)
(B)炭素原子数2〜6のアルケニル基を一分子中に少なくとも2個有する直鎖状オルガノポリシロキサンであり、ケイ素原子に結合する有機基の合計個数のうち40〜70%がフェニル基である前記オルガノポリシロキサン (A)成分及び(B)成分中のアルケニル基の個数の合計に対する(A)成分中のSiH基の個数の比が0.5〜2となる量、
(C)熱伝導性充填剤:100〜3500質量部、および
(D)ヒドロシリル化触媒。 A kneading viscosity at 25 ° C. of 500 to 1,000,000 mm 2 / s represented by the average composition formula (1) including the following components (A) to (D): Organopolysiloxane having: 100 parts by mass,
(R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 1 2 SiO 2/2 ) b (R 1 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (R 2 O 1/2 ) e
(1)
(In the formula, R 1 is independently of each other a phenyl group, an alkyl group or a cycloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a hydrogen atom, provided that the total number of R 1 is 50-80% of them are phenyl groups, 10-20% of the total number of R 1 are hydrogen atoms, 0-20% of the total number of R 1 are alkenyl groups, and R 2 is hydrogen. It is an atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a, b, c, d and e are 0 ≦ a ≦ 0.2, 0.2 ≦ b ≦ 0.7, 0.2 ≦ c ≦ 0. (6, 0 ≦ d ≦ 0.2, 0 ≦ e ≦ 0.1, and a + b + c + d = 1)
(B) A linear organopolysiloxane having at least two alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms in one molecule, and 40 to 70% of the total number of organic groups bonded to silicon atoms is a phenyl group The amount of the ratio of the number of SiH groups in the component (A) to the total number of alkenyl groups in the organopolysiloxane (A) component and the component (B) is 0.5 to 2,
(C) Thermally conductive filler: 100-3500 parts by mass, and (D) hydrosilylation catalyst.
R3 3SiO(R3SiO)mSiR3 3 (2)
(式中、R3は互いに独立に、フェニル基、炭素原子数1〜6の、アルキル基又はシクロアルキル基、または炭素原子数2〜6のアルケニル基であり、ただし、R3の合計個数のうち40〜70%はフェニル基であり、R3の少なくとも2個はアルケニル基であり、mは1〜100の整数である)。 The thermally conductive silicone composition R 3 3 SiO (R 3 SiO) m SiR 3 3 (2) according to claim 1, wherein the component (B) is represented by the following general formula (2).
(In the formula, R 3 is independently of each other a phenyl group, an alkyl group or a cycloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, provided that the total number of R 3 is 40 to 70% of them are phenyl groups, at least two of R 3 are alkenyl groups, and m is an integer of 1 to 100).
−SiR4 f(OR5)3-f (3)
(式中、R4は互いに独立に、非置換又は置換の1価炭化水素基であり、R5は互いに独立に、アルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基又はアシル基であり、fは0、1又は2である)。 Furthermore, (E) an organopolysiloxane having at least one silyl group represented by the following general formula (3) in one molecule and having a viscosity of 0.01 to 30 Pa · s at 25 ° C. (A) component 100 The heat conductive silicone composition of Claim 1 or 2 contained by 0.1-80 mass parts with respect to a mass part.
-SiR 4 f (OR 5 ) 3-f (3)
(Wherein R 4 are each independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, R 5 are each independently an alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkenyl group, or an acyl group, and f is 0, 1 or 2).
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018074747A JP6981914B2 (en) | 2018-04-09 | 2018-04-09 | Thermally conductive silicone composition and its cured product |
PCT/JP2019/010935 WO2019198424A1 (en) | 2018-04-09 | 2019-03-15 | Heat-conductive silicone composition and cured product thereof |
TW108111679A TWI812693B (en) | 2018-04-09 | 2019-04-02 | Thermally conductive silicone composition and hardened product thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018074747A JP6981914B2 (en) | 2018-04-09 | 2018-04-09 | Thermally conductive silicone composition and its cured product |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019182980A true JP2019182980A (en) | 2019-10-24 |
JP6981914B2 JP6981914B2 (en) | 2021-12-17 |
Family
ID=68163569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018074747A Active JP6981914B2 (en) | 2018-04-09 | 2018-04-09 | Thermally conductive silicone composition and its cured product |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6981914B2 (en) |
TW (1) | TWI812693B (en) |
WO (1) | WO2019198424A1 (en) |
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- 2019-03-15 WO PCT/JP2019/010935 patent/WO2019198424A1/en active Application Filing
- 2019-04-02 TW TW108111679A patent/TWI812693B/en active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI812693B (en) | 2023-08-21 |
TW201943768A (en) | 2019-11-16 |
WO2019198424A1 (en) | 2019-10-17 |
JP6981914B2 (en) | 2021-12-17 |
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