JP2019168633A - Resin composition for fingerprint fitting low refractive index layer and anti-reflection film - Google Patents
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Abstract
【課題】塗面外観に優れ、指紋不可視性、かつ指紋拭き取り性に優れる反射防止フィルムを提供する。【解決手段】上記課題を解決するために、熱可塑性透明基材フィルムの一方の面上に、ハードコート層と指紋なじみ低屈折率層とをこの順に備える反射防止フィルムであって、指紋なじみ低屈折率層は、次の(a)〜(e)の各成分;(a)フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体、(b)(a)と共重合可能な紫外線硬化型樹脂、(c)中空シリカ微粒子、(d)金属酸化物微粒子、(e)光重合開始剤を含有し、(a)成分の含有量が10.0〜20.0質量%、(b)成分の含有量が19.0〜61.9質量%、(c)成分の含有量が27.0〜69.9質量%、(d)成分の含有量が0.1〜3.0質量%、(e)成分の含有量が1.0〜10.0質量%である樹脂組成物の硬化物である、反射防止フィルムを提供する。【選択図】図1An antireflection film having an excellent appearance on a painted surface, invisible fingerprints, and excellent fingerprint wiping properties is provided. In order to solve the above-mentioned problem, an antireflection film comprising a hard coat layer and a fingerprint-compatible low-refractive index layer in this order on one surface of a thermoplastic transparent base film, comprising: The refractive index layer comprises the following components (a) to (e): (a) a fluorine-containing ultraviolet-curable adamantane derivative, (b) an ultraviolet-curable resin copolymerizable with (a), and (c) hollow silica. It contains fine particles, (d) metal oxide fine particles, and (e) a photopolymerization initiator, the content of the component (a) is 10.0 to 20.0% by mass, and the content of the component (b) is 19.0. 61.9 mass%, the content of the component (c) is 27.0 to 69.9 mass%, the content of the component (d) is 0.1 to 3.0 mass%, and the content of the component (e). Is a cured product of a resin composition having a content of 1.0 to 10.0% by mass. [Selection diagram] Fig. 1
Description
本発明は、タッチパネル表面等に適用され、防汚性に優れた反射防止フィルムに関する。 The present invention relates to an antireflection film that is applied to the surface of a touch panel and has excellent antifouling properties.
現在、画像表示部に直接触れることにより、情報を入力できるデバイスとしてタッチパネルが広く用いられている。このタッチパネルの表面には、外光からの反射光によって視認性が悪化することを低減するため、一般的に反射防止フィルムが貼着されている。しかし、タッチパネルはほぼ日常的に外気と接触したり人の手に触れられるため、汚れや指紋などがその表面に付着し、視認性の悪化や美観を損ねたりする等の問題が発生する。 Currently, touch panels are widely used as devices capable of inputting information by directly touching an image display unit. An antireflection film is generally attached to the surface of the touch panel in order to reduce the deterioration of visibility due to reflected light from outside light. However, since the touch panel comes into contact with the outside air or is touched by human hands almost daily, dirt, fingerprints and the like adhere to the surface, resulting in problems such as deterioration of visibility and loss of aesthetics.
この問題を解決するために、フィルム表面にシリコーン系やフッ素系の防汚剤を施した防汚処理した反射防止フィルムが提案されている(特許文献1、特許文献2)。特許文献1では、低屈折率層にポリジメチルシロキサン構造を有するシリコーン材料を加えることで撥水撥油による防汚性の付与が図られている。また、特許文献2では、フッ素系界面活性剤を低屈折率層へ加えることで撥水撥油による防汚性の付与が図られている。これら撥水撥油性による防汚性により付着する指紋を抑制し、かつ拭き取り性を良化している。 In order to solve this problem, an antireflection film that has been subjected to an antifouling treatment in which a silicone or fluorine antifouling agent is applied to the film surface has been proposed (Patent Documents 1 and 2). In Patent Document 1, the addition of a silicone material having a polydimethylsiloxane structure to the low refractive index layer imparts antifouling properties by water and oil repellency. Further, in Patent Document 2, antifouling property is imparted by water and oil repellency by adding a fluorosurfactant to the low refractive index layer. Due to the antifouling property due to these water and oil repellency, the attached fingerprint is suppressed and the wiping property is improved.
また、フィルム表面に撥水親油性の防汚剤を施した防汚処理したハードコートフィルムが提案されている(特許文献3)。特許文献3では、ハードコート層に重合性基含有含フッ素アダマンタン誘導体を加えることで撥水親油性による防汚性の付与が図られている。これは撥水親油性による防汚性により付着する指紋の油分がなじむことで散乱による視認性不良を低減している。 Further, a hard coat film subjected to an antifouling treatment in which a water repellent and lipophilic antifouling agent is applied to the film surface has been proposed (Patent Document 3). In Patent Document 3, the addition of a polymerizable group-containing fluorinated adamantane derivative to the hard coat layer imparts antifouling properties due to water repellency and lipophilicity. This reduces the poor visibility due to scattering because the oil content of the attached fingerprint is adapted by the antifouling property due to the water repellency and lipophilicity.
しかし、特許文献1、および特許文献2記載の反射防止フィルムでは、指紋付着性、拭き取り性は優れるが、付着した指紋の油分をはじいてしまい、かえって汚れが目立つという課題がある。付着した指紋の油分をはじかなくするために、シリコーン系やフッ素系の防汚剤を施さなければ、製膜時の塗膜均一性を損ない塗面ムラが発生し、かつ、指紋が拭き取り難くなる。そこで、撥水親油性の防汚剤を施した反射防止フィルムが想定されるが、塗面外観が優れていることはもとより、表面が高強度で耐摩耗性に優れ、傷が付きがたいこと、また汚れを拭き取り易いこと、全て満足することが難しく提案が無い。
また、特許文献3のハードコート層では、付着した指紋の油分がなじむことで汚れは目立たないが、反射防止機能が無いため写り込みが強い課題がある。そこで、フィルム表面に撥水親油性の防汚剤を施した反射防止フィルムが想定される。しかし、塗面外観を満足するため必要量の撥水親油性の防汚剤を施せば、指紋付着性、拭き取り性は優れるが、表面強度、耐摩耗性が劣り、傷が付き易くなる。撥水親油性の防汚剤が不足すれば、製膜時の塗膜均一性を損ない塗面ムラが発生し、かつ、指紋が拭き取り難くなる。塗面外観が優れていることはもとより、表面が高強度で耐摩耗性に優れ、傷が付きがたいこと、また汚れを拭き取り易いこと、全て満足することが難しく提案が無い。
However, the antireflective films described in Patent Document 1 and Patent Document 2 have excellent fingerprint adhesion and wiping properties, but have a problem that the adhered fingerprint is repelled and the stains are conspicuous. If a silicone or fluorine antifouling agent is not applied to prevent the attached fingerprint from repelling oil, the coating surface uniformity during film formation will be impaired and the coating surface will be uneven and the fingerprint will be difficult to wipe off. . Therefore, an antireflection film with a water-repellent / lipophilic antifouling agent is assumed, but not only the appearance of the coated surface is excellent, but also the surface has high strength, excellent wear resistance, and scratch resistance. Also, it is easy to wipe off dirt, it is difficult to satisfy all, and there is no proposal.
Further, in the hard coat layer of Patent Document 3, dirt is inconspicuous because the oil content of the attached fingerprint is familiar, but there is a problem that reflection is strong because there is no antireflection function. Therefore, an antireflection film having a water repellent and lipophilic antifouling agent on the film surface is assumed. However, if a necessary amount of a water-repellent / lipophilic antifouling agent is applied to satisfy the appearance of the coated surface, the fingerprint adhesion and wiping properties are excellent, but the surface strength and wear resistance are poor, and scratches are easily formed. If the water-repellent / lipophilic antifouling agent is insufficient, the coating uniformity during film formation is impaired, and unevenness of the coating surface occurs, and fingerprints are difficult to wipe off. In addition to the excellent appearance of the coated surface, the surface has high strength and excellent wear resistance, is not easily scratched, and is easy to wipe off dirt.
このように、塗面外観が優れていることはもとより、指紋なじみ性、かつ指紋拭き取り性に優れ、表面が高強度で耐摩耗性に優れ、傷が付きがたい反射防止フィルムが求められているのである。 Thus, there is a demand for an antireflection film that has not only excellent appearance on the coated surface, but also excellent fingerprint compatibility and fingerprint wiping, high surface strength, excellent wear resistance, and scratch resistance. It is.
本発明の課題とするところは、塗面外観に優れ、指紋不可視性、かつ指紋拭き取り性に優れ、耐摩耗性、耐擦傷性に優れる反射防止フィルムを提供することにある。 An object of the present invention is to provide an antireflection film having excellent coating surface appearance, fingerprint invisibility, excellent fingerprint wiping property, and excellent wear resistance and scratch resistance.
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、低屈折率層の構成に、特定のフッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体と金属酸化物微粒子とを特定量用いた樹脂組成物を硬化して適用することによって、上記の課題を解決することの知見を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は下記の〔1〕および〔2〕である。
〔1〕熱可塑性透明基材フィルムの一方の面上に、ハードコート層と指紋なじみ低屈折率層とをこの順に備える反射防止フィルムであって、
前記の指紋なじみ低屈折率層は、次の(a)〜(e)の各成分;
(a)フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体、
(b)(a)と共重合可能な紫外線硬化型樹脂、
(c)中空シリカ微粒子、
(d)金属酸化物微粒子、および
(e)光重合開始剤
を含有し、(a)成分の含有量が10.0〜20.0質量%、(b)成分の含有量が19.0〜61.9質量%、(c)成分の含有量が27.0〜69.9質量%、(d)成分の含有量が0.1〜3.0質量%、および(e)成分の含有量が1.0〜10.0質量%である樹脂組成物の硬化物である、反射防止フィルム。
〔2〕オレイン酸に対する接触角が30°以下であり、かつJIS B0601−1994に規定される算術平均粗さ(Ra)が0.001〜0.020μmであることを特徴とする、前記の〔1〕に記載の反射防止フィルム。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have determined that a resin composition using a specific amount of a specific fluorine-containing UV-curable adamantane derivative and metal oxide fine particles in the structure of the low refractive index layer The present inventors have found the knowledge of solving the above problems by curing and applying an object, and have completed the present invention.
That is, the present invention includes the following [1] and [2].
[1] An antireflection film comprising a hard coat layer and a fingerprint-familiar low refractive index layer in this order on one surface of a thermoplastic transparent substrate film,
The fingerprint-familiar low refractive index layer comprises the following components (a) to (e):
(A) a fluorine-containing UV-curable adamantane derivative,
(B) an ultraviolet curable resin copolymerizable with (a),
(C) hollow silica fine particles,
It contains (d) metal oxide fine particles and (e) a photopolymerization initiator, the content of (a) component is 10.0 to 20.0% by mass, and the content of (b) component is 19.0. 61.9 mass%, the content of component (c) is 27.0-69.9 mass%, the content of component (d) is 0.1-3.0 mass%, and the content of component (e) Is an antireflection film, which is a cured product of a resin composition having 1.0 to 10.0% by mass.
[2] The contact angle with respect to oleic acid is 30 ° or less, and the arithmetic average roughness (Ra) defined in JIS B0601-1994 is 0.001 to 0.020 μm. [1] The antireflection film according to [1].
本発明によれば、指紋なじみ低屈折率層の樹脂組成を適切に設定したことで、塗膜平滑性、指紋なじみ性、指紋拭き取り性に優れ、かつ表面が高強度で耐摩耗性に優れ、傷が付きがたい反射防止フィルムを提供することができる。 According to the present invention, by appropriately setting the resin composition of the fingerprint conforming low refractive index layer, the coating film smoothness, fingerprint conformability, fingerprint wiping properties are excellent, and the surface has high strength and excellent wear resistance. An antireflection film that is difficult to scratch can be provided.
《反射防止フィルム》
本発明の反射防止フィルムは、熱可塑性透明基材フィルム(以下、基材フィルムとする
)の一方の面上に、ハードコート層と指紋なじみ低屈折率層とをこの順に備える。以下に、この反射防止フィルムの構成要素について順に説明する。
<Antireflection film>
The antireflection film of the present invention comprises a hard coat layer and a fingerprint familiar low refractive index layer in this order on one surface of a thermoplastic transparent substrate film (hereinafter referred to as a substrate film). Below, the component of this antireflection film is demonstrated in order.
<透明基材フィルム>
透明基材フィルムは、ポリエステル樹脂やポリカーボネート樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィン樹脂からなるフィルムを使用できる。ポリエステル樹脂からなるフィルムとしては東レ(株)製PETフィルム(ルミラーU−403)、ポリカーボネート樹脂からなるフィルムとしては帝人化成(株)製ポリカーボネートフィルム(PC−2151)、トリアセチルセルロース樹脂からなるフィルムとしては富士フィルム(株)製トリアセチルセルロースフィルム(フジタック)、ノルボルネン系樹脂からなるフィルムとしてはJSR(株)製アートンフィルム、シクロオレフィン樹脂からなるフィルムとしては日本ゼオン(株)製ゼオノアフィルム(ZF14,ZF16)等が挙げられる。
<Transparent substrate film>
As the transparent substrate film, a film made of polyester resin, polycarbonate resin, triacetyl cellulose resin, norbornene resin, or cycloolefin resin can be used. As a film made of polyester resin, a PET film (Lumirror U-403) made by Toray Industries, Inc. As a film made of polycarbonate resin, a polycarbonate film (PC-2151) made by Teijin Chemicals Ltd., a film made of triacetyl cellulose resin Is a triacetyl cellulose film (Fujitac) manufactured by Fuji Film Co., Ltd., an arton film manufactured by JSR Co. as a film made of norbornene resin, and a ZEONOR film (ZF14, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.). ZF16) and the like.
透明基材フィルムの膜厚は通常25〜500μm程度であり、下限値としては、好ましくは50μm以上であり、より好ましくは75μm以上である。上限値としては、好ましくは250μm以下であり、より好ましくは150μm以下であり、特に好ましくは120μm以下である。
透明基材フィルムの屈折率は通常1.49〜1.67であり、下限値としては、好ましくは1.52以上であり、より好ましくは1.56以上である。上限値としては、好ましくは1.63以下であり、より好ましくは1.59以下である。
The film thickness of the transparent substrate film is usually about 25 to 500 μm, and the lower limit is preferably 50 μm or more, and more preferably 75 μm or more. The upper limit is preferably 250 μm or less, more preferably 150 μm or less, and particularly preferably 120 μm or less.
The refractive index of the transparent substrate film is usually from 1.49 to 1.67, and the lower limit is preferably 1.52 or more, more preferably 1.56 or more. As an upper limit, Preferably it is 1.63 or less, More preferably, it is 1.59 or less.
<ハードコート層>
ハードコート層は、表面硬度向上のため透明基材フィルム上に設けられる層である。
ハードコート層の屈折率は、1.49〜1.59であり、下限値としては、好ましくは1.49以上であり、より好ましくは1.50以上である。上限値としては、好ましくは1.56以下であり、より好ましくは1.54以下である。屈折率がこの範囲内であれば、透明基材フィルムとハードコート層との屈折率差から干渉縞が発生したりすることがなく、過度の使用量からの高屈折率材料に起因した光の吸収および、光の散乱発生からのハードコート層が着色や全光線透過率が低下が起こったりすることがない。またハードコート層の乾燥硬化後の膜厚は、1〜20μmであり、下限値としては、好ましくは2μm以上であり、より好ましくは4μm以上である。上限値としては、好ましくは15μm以下であり、より好ましくは10μm以下である。膜厚がこの範囲内であれば、十分な表面硬度が得られ、屈曲性の低下等の問題が生じることがない。
<Hard coat layer>
The hard coat layer is a layer provided on the transparent substrate film for improving the surface hardness.
The refractive index of the hard coat layer is 1.49 to 1.59, and the lower limit is preferably 1.49 or more, and more preferably 1.50 or more. As an upper limit, Preferably it is 1.56 or less, More preferably, it is 1.54 or less. If the refractive index is within this range, interference fringes will not occur due to the difference in refractive index between the transparent substrate film and the hard coat layer, and light caused by a high refractive index material from an excessive amount of use will not be generated. The hard coat layer is not colored due to absorption and light scattering, and the total light transmittance does not decrease. Moreover, the film thickness after dry-hardening of a hard-coat layer is 1-20 micrometers, As a lower limit, Preferably it is 2 micrometers or more, More preferably, it is 4 micrometers or more. As an upper limit, Preferably it is 15 micrometers or less, More preferably, it is 10 micrometers or less. If the film thickness is within this range, sufficient surface hardness can be obtained, and problems such as lowering of flexibility do not occur.
<ハードコート層用樹脂組成物>
ハードコート層用樹脂組成物に用いられる材料としては、従来より反射防止フィルム等に用いられる公知のものであれば、特に制限されない。例えば、テトラエトキシシラン等の反応性珪素化合物や、活性エネルギー線硬化型樹脂を用いることができ、これらを混合してもよい。そして、これらに光重合開始剤を加えて調製したハードコート層用塗液に紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射して硬化させて第一ハードコート層および第二ハードコート層を形成することができる。活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば単官能(メタ)アクリレート、多官能(メタ)アクリレートなどが挙げられる。単官能(メタ)アクリレートとして具体的には、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸(ポリ)エチレングリコール基含有(メタ)アクリル酸エステル等が好ましい。多官能(メタ)アクリレートとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン変性アクリレート等の(メタ)アクリロイル基を2個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。なお、本明細書では、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートを指す。また、同様に、後述の「(メタ)アクリル単量体」は、アクリル単量体およびメタクリル単量体を指し、「(メタ)アクリロイル基」は、アクリロイル基およびメタクリロイル基を指す。
<Resin composition for hard coat layer>
The material used for the resin composition for the hard coat layer is not particularly limited as long as it is a known material conventionally used for antireflection films and the like. For example, a reactive silicon compound such as tetraethoxysilane or an active energy ray curable resin can be used, and these may be mixed. Then, a hard coating layer coating solution prepared by adding a photopolymerization initiator to these is irradiated with an active energy ray such as ultraviolet light or electron beam and cured to form a first hard coating layer and a second hard coating layer. be able to. Examples of the active energy ray-curable resin include monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate. Specifically as monofunctional (meth) acrylate, (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid (poly) ethylene glycol group-containing (meth) acrylic acid ester and the like are preferable. Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include ester compounds of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, polyfunctional polymerizable compounds containing two or more (meth) acryloyl groups such as urethane-modified acrylate, and the like. In the present specification, “(meth) acrylate” refers to acrylate and methacrylate. Similarly, “(meth) acrylic monomer” described later refers to an acrylic monomer and a methacrylic monomer, and “(meth) acryloyl group” refers to an acryloyl group and a methacryloyl group.
(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、t−アミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ヘキサメチル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート等の炭素数が1〜20のアルキル(メタ)アクリレート;2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシプロピル(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレート;シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等の脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)アクリレート;(メタ)アクリル酸等のカルボキシル基含有モノマーなどが挙げられる。 Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t- Butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, t-amyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) Acrylate, nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate , Tetradecyl (meth) acrylate, hexamethyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate and other alkyl (meth) acrylates having 1 to 20 carbon atoms; 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate, 3-methoxypropyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate; cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) (Meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group such as acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate Hydroxyl group-containing such as relations (meth) acrylate; (meth) and the like carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid.
多官能重合性化合物としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコール(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノールジ(メタ)アクリレート等の2官能の(メタ)アクリレート;トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の3官能の(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレート等の4官能以上の(メタ)アクリレートが挙げられる。 Polyfunctional polymerizable compounds include ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and nonanediol. Bifunctional (meth) acrylates such as di (meth) acrylate and tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decandimethanol di (meth) acrylate; trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri Trifunctional (meth) acrylates such as (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate ) Acrylate; pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane penta (meth) acrylate, dipenta Examples include tetrafunctional or higher functional (meth) acrylates such as erythritol hexa (meth) acrylate and ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylate.
これらのうち生産性および硬度を両立させる観点より、鉛筆硬度(評価法:JIS K5600−5−4)がH以上となる活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物の硬化物であることが好ましい。そのような活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物としては特に限定されるものではないが、例えば、公知の活性エネルギー線硬化型樹脂、または公知の活性エネルギー線硬化型樹脂を2種類以上混合したもの、紫外線硬化性ハードコート材として市販されているものを用いることができる。 Among these, from the viewpoint of achieving both productivity and hardness, a cured product of a composition containing an active energy ray-curable resin having a pencil hardness (evaluation method: JIS K5600-5-4) of H or higher is preferable. Although it does not specifically limit as a composition containing such an active energy ray curable resin, For example, 2 or more types of well-known active energy ray curable resins or well-known active energy ray curable resins were mixed. And those commercially available as ultraviolet curable hard coat materials can be used.
光重合開始剤は、紫外線(UV)等の活性エネルギー線により第一ハードコート層用塗液または第二ハードコート層用塗液を硬化させて塗膜を形成する際の重合開始剤として用いられる。光重合開始剤としては、活性エネルギー線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフェリノプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、2,2−ジメトキシ1,2−ジフェニルエタン−1−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、[4−(メチルフェニルチオ)フェニル]フェニルメタノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。
塗液の溶媒は、この種の反射防止フィルム等において各層形成用の塗液に従来から使用されている公知のものであれば特に制限は無く、例えばアルコール系、ケトン系、エステル系の溶媒が適時選択できる。
The photopolymerization initiator is used as a polymerization initiator when a coating film is formed by curing the coating liquid for the first hard coat layer or the coating liquid for the second hard coat layer with active energy rays such as ultraviolet rays (UV). . The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it initiates polymerization upon irradiation with active energy rays, and known compounds can be used. For example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1 -One, acetophenone polymerization initiators such as 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, benzoin, 2,2-dimethoxy 1,2 -Benzoin polymerization initiators such as diphenylethane-1-one, benzophenone, [4- (methylphenylthio) phenyl] phenylmethanone, 4-hydroxybenzophenone, 4-phenylbenzophenone, 3,3 ', 4,4' -Benzophenone polymerization initiators such as tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2-chlorothio Sandton, such thioxanthone type polymerization initiators such as 2,4-diethyl thioxanthone, and the like.
The solvent of the coating solution is not particularly limited as long as it is a known one that has been conventionally used for the coating solution for forming each layer in this type of antireflection film, and examples thereof include alcohol-based, ketone-based, and ester-based solvents. Can be selected in a timely manner.
また、ハードコート層は、透光性微粒子を含有していてもよい。透光性微粒子は、ハードコート層に表面の凹凸を形成し、反射防止性(防眩性)を向上させるものである。前記の透光性微粒子は、任意の材料を用いることができる。そのような透光性微粒子としては、例えばシリカのほか、塩化ビニル、(メタ)アクリル単量体、スチレンおよびエチレンから選択される少なくとも1種の単量体を重合して得られる重合体などから形成される。更に、その他添加剤を含有していても良い。その他の添加剤としては、表面調整剤やスリップ剤等が挙げられる。 The hard coat layer may contain translucent fine particles. The light-transmitting fine particles form surface irregularities on the hard coat layer and improve antireflection properties (antiglare properties). Arbitrary materials can be used for the translucent fine particles. Examples of such translucent fine particles include silica, a polymer obtained by polymerizing at least one monomer selected from vinyl chloride, (meth) acrylic monomer, styrene and ethylene. It is formed. Furthermore, other additives may be contained. Examples of other additives include surface conditioners and slip agents.
<指紋なじみ低屈折率層>
指紋なじみ低屈折率層の屈折率は、塗布対象層であるハードコート層、または高屈折率層の屈折率より低く設定されることを用件とし、その屈折率は1.30〜1.46程度であり、下限値としては、好ましくは1.33以上であり、より好ましくは1.37以上である。上限値としては、好ましくは1.43以下であり、より好ましくは1.40以下である。屈折率がこの範囲内であれば、十分に硬い層を形成することができ、十分な反射防止性能を得られる。
<Fingerprint familiar low refractive index layer>
The refractive index of the low-refractive index layer that is compatible with the fingerprint is set to be lower than the refractive index of the hard coat layer or the high-refractive index layer that is the coating target layer, and the refractive index is 1.30 to 1.46. The lower limit is preferably 1.33 or more, and more preferably 1.37 or more. As an upper limit, Preferably it is 1.43 or less, More preferably, it is 1.40 or less. If the refractive index is within this range, a sufficiently hard layer can be formed, and sufficient antireflection performance can be obtained.
<指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物>
本発明に用いる指紋なじみ低屈折率層は、次の(a)〜(e)の各成分;
(a)フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体、
(b)(a)と共重合可能な紫外線硬化型樹脂、
(c)中空シリカ微粒子、
(d)金属酸化物微粒子、および
(e)光重合開始剤
を含有する樹脂組成物の硬化物である。
(但し、(a)〜(e)の各成分の合計は100質量%である)
<Fingerprint familiar resin composition for low refractive index layer>
The fingerprint-familiar low refractive index layer used in the present invention comprises the following components (a) to (e):
(A) a fluorine-containing UV-curable adamantane derivative,
(B) an ultraviolet curable resin copolymerizable with (a),
(C) hollow silica fine particles,
It is a cured product of a resin composition containing (d) metal oxide fine particles and (e) a photopolymerization initiator.
(However, the sum of the components (a) to (e) is 100% by mass)
[(a)フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体]
本発明に用いるフッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体(a)は、塗膜平滑性を向上し、かつ撥水親油性を発現するためのものであり、指紋なじみ低屈折率層表面を触った際に付着する指紋の付着性を高めることができる。
[(A) Fluorine-containing UV-curable adamantane derivative]
The fluorine-containing UV-curable adamantane derivative (a) used in the present invention is for improving the smoothness of the coating film and expressing the water-repellent / lipophilic property. It is possible to improve the adhesion of the attached fingerprint.
本発明に用いるフッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体は、フッ素をその構造においてどの部分に含んでいてもよいが、アダマンタン環の水素原子がフッ素原子で置換されている構造のものが好ましい。また、紫外線硬化部分としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、オキセタン基等の重合性置換基が好ましい。 The fluorine-containing UV-curable adamantane derivative used in the present invention may contain fluorine in any part of its structure, but preferably has a structure in which the hydrogen atom of the adamantane ring is substituted with a fluorine atom. Moreover, as an ultraviolet curing part, polymeric substituents, such as a vinyl group, (meth) acryloyl group, an epoxy group, and an oxetane group, are preferable.
本発明に用いるフッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体(a)は、下記の一般式(I)で表される。
上記の式(II)または(III)中、R1〜R4は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、またはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20、好ましくは1〜15の脂肪族炭化水素基を示す。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。
The fluorine-containing ultraviolet curable adamantane derivative (a) used in the present invention is represented by the following general formula (I).
In the above formula (II) or (III), R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a hetero atom, which has 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 15 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group. Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
ヘテロ原子を含まない炭化水素基としては、炭素数1〜20、好ましくは1〜15の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、アイコシル基などが挙げられる。これらのうち、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましく挙げられる。 Examples of the hydrocarbon group not containing a hetero atom include a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 15 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an isopropyl group. N-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group Group, octadecyl group, eicosyl group and the like. Among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group are preferable.
ヘテロ原子を含む炭化水素基としては、
−O−(炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜15の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基)、
−S−(炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜15の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基)、
−CO−(炭素数1〜19、好ましくは炭素数1〜14の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基)、
−NH−(炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜15の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基)、
−N(炭素数1〜19、好ましくは炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基)、
などが挙げられる。
ヘテロ原子を含む炭化水素基としては、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基およびジエチルアミノ基などが挙げられる。
As a hydrocarbon group containing a hetero atom,
-O- (C1-C20, preferably C1-C15 linear or branched alkyl group),
-S- (C1-C20, preferably C1-C15 linear or branched alkyl group),
-CO- (C1-C19, preferably C1-C14 linear or branched alkyl group),
-NH- (C1-C20, preferably C1-C15 linear or branched alkyl group),
-N (C1-C19, preferably C1-C7 linear or branched alkyl group),
Etc.
Specific examples of the hydrocarbon group containing a hetero atom include a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, a hydroxymethyl group, a hydroxyethyl group, a methylthio group, an ethylthio group, a methylamino group, a dimethylamino group, and an ethylamino group. Group and diethylamino group.
nは0以上の整数、例えば0〜20の整数、好ましくは0〜10の整数、より好ましくは0,1,2,3,4または5である。
mは0以上の整数、例えば0〜20の整数、好ましくは0〜10の整数、より好ましくは0,1,2,3,4または5、特に0または1である。
n is an integer of 0 or more, for example, an integer of 0 to 20, preferably an integer of 0 to 10, more preferably 0, 1, 2, 3, 4 or 5.
m is an integer of 0 or more, for example, an integer of 0 to 20, preferably an integer of 0 to 10, more preferably 0, 1, 2, 3, 4 or 5, particularly 0 or 1.
上記の一般式(I)において、X1は、ビニル基、下記の一般式(IV)、下記の式(V)または下記の一般式(VI)で表される重合性基を示す。
上記の一般式(I)において、Yは、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン置換炭化水素基、環式炭化水素基、ハロゲン置換環式炭化水素基、水酸基、カルボキシル基、および同一の炭素原子に結合した2つのYが炭素原子と一緒になって形成されたC=Oから選ばれる基を示す。 In the above general formula (I), Y represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group, a halogen-substituted hydrocarbon group, a cyclic hydrocarbon group, a halogen-substituted cyclic hydrocarbon group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and the same Two Y bonded to a carbon atom represent a group selected from C═O formed together with a carbon atom.
Yで示される炭化水素基としては、例えば、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭化水素基などが挙げられる。ヘテロ原子を含まない炭化水素基としては、上記の式(II)または(III)で用いられるものと同様の基を用いることができ、炭素数1〜20、好ましくは1〜15の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、アイコシル基などが挙げられる。 Examples of the hydrocarbon group represented by Y include a hydrocarbon group that may contain a hetero atom. As the hydrocarbon group containing no hetero atom, the same groups as those used in the above formula (II) or (III) can be used, and a straight chain having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 15 carbon atoms, or Examples include branched alkyl groups, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, and heptyl. Group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, iconicyl group and the like.
ヘテロ原子を含む炭化水素基としては、上記の式(II)または(III)で用いられるものと同様の基を用いることができ、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基およびジエチルアミノ基などが挙げられる。 As the hydrocarbon group containing a hetero atom, the same groups as those used in the above formula (II) or (III) can be used. Specifically, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, Examples thereof include a hydroxymethyl group, a hydroxyethyl group, a methylthio group, an ethylthio group, a methylamino group, a dimethylamino group, an ethylamino group, and a diethylamino group.
Yで示される環式炭化水素基としては、例えば炭素数5〜10のシクロアルキル基、具体的にはシクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基およびエチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙げられる。また、ハロゲン置換環式炭化水素基としては、上記の環式炭化水素基の水素原子が1個以上ハロゲン原子で置換された基、例えばフルオロシクロペンチル基、フルオロシクロヘキシル基、トリフルオロメチルシクロペンチル基およびトリフルオロメチルシクロヘキシル基などが挙げられる。 Examples of the cyclic hydrocarbon group represented by Y include a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, specifically a cyclopentyl group, a methylcyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, an ethylcyclohexyl group, and a cyclooctyl group. Can be mentioned. In addition, as the halogen-substituted cyclic hydrocarbon group, a group in which one or more hydrogen atoms of the above cyclic hydrocarbon group are substituted with a halogen atom, such as a fluorocyclopentyl group, a fluorocyclohexyl group, a trifluoromethylcyclopentyl group, and a trivalent group. Examples include a fluoromethylcyclohexyl group.
上記の一般式(I)において、sは1〜15の整数であり、下限値としては、好ましくは5以上であり、より好ましくは8以上である。上限値としては、好ましくは14以下であり、より好ましくは12以下である。sを1以上とすることで、指紋なじみ低屈折率層を硬い層とすることができる。
上記の一般式(I)において、tは1〜15の整数であり、下限値としては、好ましくは4以上であり、より好ましくは8以上である。tを1以上とすることで、指紋なじみ低屈折率層の指紋拭き取り性を優れたものとすることができる。
上記の一般式(I)において、uは0〜14の整数であり、好ましくは0〜4の整数である。
上記の一般式(I)において、s+t+u=16である。
In said general formula (I), s is an integer of 1-15, As a lower limit, Preferably it is 5 or more, More preferably, it is 8 or more. As an upper limit, Preferably it is 14 or less, More preferably, it is 12 or less. By setting s to 1 or more, the low-refractive-index layer familiar to fingerprints can be made a hard layer.
In said general formula (I), t is an integer of 1-15, As a lower limit, Preferably it is 4 or more, More preferably, it is 8 or more. By setting t to 1 or more, it is possible to improve the fingerprint wiping property of the low-refractive-index layer familiar to fingerprints.
In said general formula (I), u is an integer of 0-14, Preferably it is an integer of 0-4.
In the above general formula (I), s + t + u = 16.
フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体は、パーフルオロアダマンタノール類とアクリル酸、メタクリル酸を溶媒の還流下に共沸脱水する方法によることができる。ここで用いる原料のパーフルオロアダマンタノール類としては、パーフルオロ−1−アダマンタノール、パーフルオロ−1,3−アダマンタンジオール、パーフルオロ−1−アダマンタンメタノール、パーフルオロ−1,3−アダマンタンジメタノール、パーフルオロ−1−アダマンタンエタノール、パーフルオロ−1,3−アダマンタンジエタノール、1ー(2―ヒドロキシエトキシ)パーフルオロアダマンタン、1,3―ビス(2―ヒドロキシエトキシ)パーフルオロアダマンタンが挙げられる。これらの反応溶媒としては、トルエンやキシレンなどが好適に用いられる。 The fluorine-containing ultraviolet curable adamantane derivative can be obtained by a method in which perfluoroadamantanols and acrylic acid and methacrylic acid are azeotropically dehydrated under reflux of a solvent. As the raw material perfluoroadamantanol used here, perfluoro-1-adamantanol, perfluoro-1,3-adamantanediol, perfluoro-1-adamantane methanol, perfluoro-1,3-adamantane dimethanol, Examples include perfluoro-1-adamantane ethanol, perfluoro-1,3-adamantanediethanol, 1- (2-hydroxyethoxy) perfluoroadamantane, and 1,3-bis (2-hydroxyethoxy) perfluoroadamantane. As these reaction solvents, toluene, xylene and the like are preferably used.
フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体は、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物中に10.0〜20.0質量%含まれる。下限値としては、好ましくは12.0質量%以上あり、より好ましくは14.0質量%以上である。上限値としては、好ましくは18.0質量%以下であり、より好ましくは16.0質量%以下である。含有量が10.0質量%未満では、コーティング時に平滑性を高めることが出来ず、また指紋なじみ低屈折率層表面を触った際に付着する指紋の付着性を弱めることが出来ない。一方、20.0質量%を越えると、表面強度で耐摩耗性、傷が付きがたさが悪化する。 The fluorine-containing UV-curable adamantane derivative is contained in an amount of 10.0 to 20.0% by mass in the resin composition for a low-refractive index layer familiar with fingerprints. As a lower limit, Preferably it is 12.0 mass% or more, More preferably, it is 14.0 mass% or more. As an upper limit, Preferably it is 18.0 mass% or less, More preferably, it is 16.0 mass% or less. When the content is less than 10.0% by mass, the smoothness cannot be increased during coating, and the adhesion of the fingerprint that adheres to the surface of the low refractive index layer familiar to the fingerprint cannot be weakened. On the other hand, if it exceeds 20.0% by mass, the wear resistance and scratch resistance of the surface strength deteriorate.
[(b)(a)と共重合可能な紫外線硬化型樹脂]
本発明に用いる(a)と共重合可能な紫外線硬化型樹脂(b)は、指紋なじみ低屈折率層へ硬度を付与することができる。
本発明に用いる(a)と共重合可能な紫外線硬化型樹脂(b)としては、例えば単官能(メタ)アクリレート、多官能(メタ)アクリレートなどが挙げられる。単官能(メタ)アクリレートとして具体的には、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸(ポリ)エチレングリコール基含有(メタ)アクリル酸エステル等が好ましい。多官能(メタ)アクリレートとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン変性アクリレート等の(メタ)アクリロイル基を2個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。
(a)と共重合可能な紫外線硬化型樹脂(b)としては、上記ハードコート層用樹脂組成物に用いられる単官能(メタ)アクリレート、多官能重合性化合物などを同様に用いることができる。
[(B) UV curable resin copolymerizable with (a)]
The ultraviolet curable resin (b) copolymerizable with (a) used in the present invention can impart hardness to the low refractive index layer familiar with fingerprints.
Examples of the ultraviolet curable resin (b) copolymerizable with (a) used in the present invention include monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate. Specifically as monofunctional (meth) acrylate, (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid (poly) ethylene glycol group-containing (meth) acrylic acid ester and the like are preferable. Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include ester compounds of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, polyfunctional polymerizable compounds containing two or more (meth) acryloyl groups such as urethane-modified acrylate, and the like.
As the ultraviolet curable resin (b) copolymerizable with (a), monofunctional (meth) acrylates, polyfunctional polymerizable compounds, and the like used in the hard coat layer resin composition can be similarly used.
本発明に用いる(a)と共重合可能な紫外線硬化型樹脂(b)は、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物中に19.0〜61.9質量%含まれる。下限値としては、好ましくは25.0質量%以上あり、より好ましくは30.0質量%以上である。上限値としては、好ましくは50.0質量%以下であり、より好ましくは40.0質量%以下である。含有量が19.0質量%未満では、指紋なじみ低屈折率層の硬度不足や、透過率の低下が生じる。一方、61.9質量%を越えると、塗膜屈折率が高くなり、反射率防止性能が低下するため好ましくない。 The ultraviolet curable resin (b) copolymerizable with (a) used in the present invention is contained in 19.0 to 61.9% by mass in the resin composition for a low refractive index layer familiar with fingerprints. As a lower limit, Preferably it is 25.0 mass% or more, More preferably, it is 30.0 mass% or more. As an upper limit, Preferably it is 50.0 mass% or less, More preferably, it is 40.0 mass% or less. If the content is less than 19.0% by mass, the low-refractive-index layer familiar to fingerprints is insufficient in hardness and the transmittance is lowered. On the other hand, if it exceeds 61.9% by mass, the refractive index of the coating film becomes high and the anti-reflectivity performance is lowered, which is not preferable.
[(c)中空シリカ微粒子]
本発明に用いる中空シリカ微粒子(c)は、屈折率を積極的に低くするために配合されるものである。中空シリカ微粒子(c)の屈折率は製法によって異なるが、1.25〜1.40であることが好ましい。中空シリカ微粒子としては、屈折率を低くするものであれば特に限定されず、公知の中空シリカ微粒子を使用できる。具体的には、日揮触媒化成(株)製アクリル修飾中空シリカ微粒子 スルーリアNAU等が挙げられる。
本発明に用いる中空シリカ微粒子(c)は、指紋なじみ低屈折率層中に27.0〜69.9質量%含まれる。下限値としては、好ましくは25.0質量%以上であり、より好ましくは35.0質量%以上である。上限値としては、好ましくは60.0質量%以下であり、より好ましくは45.0質量%以下である。中空シリカ微粒子(c)の含有量が27.0質量%未満では、指紋なじみ低屈折率層の屈折率を後述の範囲とすることが出来ない。一方、シリカ微粒子の含有量が69.9質量%より多いと、塗膜強度が弱くなる。
[(C) Hollow silica fine particles]
The hollow silica fine particles (c) used in the present invention are blended to actively lower the refractive index. The refractive index of the hollow silica fine particles (c) varies depending on the production method, but is preferably 1.25 to 1.40. The hollow silica fine particles are not particularly limited as long as the refractive index is lowered, and known hollow silica fine particles can be used. Specific examples include acrylic modified hollow silica fine particles through rear NAU manufactured by JGC Catalysts & Chemicals.
The hollow silica fine particles (c) used in the present invention are contained in an amount of 27.0 to 69.9 mass% in the fingerprint-familiar low refractive index layer. As a lower limit, Preferably it is 25.0 mass% or more, More preferably, it is 35.0 mass% or more. As an upper limit, Preferably it is 60.0 mass% or less, More preferably, it is 45.0 mass% or less. When the content of the hollow silica fine particles (c) is less than 27.0% by mass, the refractive index of the low-refractive-index layer familiar to fingerprints cannot be in the range described later. On the other hand, when the content of silica fine particles is more than 69.9% by mass, the coating film strength becomes weak.
[(d)金属酸化物微粒子]
本発明に用いる金属酸化物微粒子(d)は、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化錫、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化ベリリウム等の微粒子が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子のうち、特に酸化アルミニウムの微粒子が耐摩耗性および耐擦傷性の観点から好ましい。
[(D) Metal oxide fine particles]
Examples of the metal oxide fine particles (d) used in the present invention include fine particles of aluminum oxide (alumina), zinc oxide, titanium oxide, zirconium oxide, cerium oxide, tin oxide, antimony oxide, tungsten oxide, beryllium oxide, and the like. Of these metal oxide fine particles, aluminum oxide fine particles are particularly preferred from the viewpoints of wear resistance and scratch resistance.
本発明に用いる金属酸化物微粒子(d)の平均粒子径は、指紋なじみ低屈折率層の厚さを大きく越えないことが好ましく、通常0.1μm以下、特に好ましくは10〜100nmである。平均粒子径がこの範囲内であれば、光の散乱が生じる等、指紋なじみ低屈折率層の光学性能が不本意な方向へ変化することがない。また、金属酸化物微粒子(d)の屈折率や層中での含有率等に起因する透明性への影響も重要であり、光学物品の透明性を低下させないよう、金属酸化物微粒子(d)の屈折率、含有率を調整する。さらに、金属酸化物微粒子(d)は、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することができる。そのようなカップリング剤としては、例えば3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン等の有機置換された珪素化合物が挙げられる。その他にも、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、アンチモン等の金属アルコキシドを含む有機酸塩等が挙げられる。特に、表面を(メタ)アクリロイル基等の反応性基で修飾することにより、硬度の高い減反射層を形成することができる。 The average particle diameter of the metal oxide fine particles (d) used in the present invention preferably does not greatly exceed the thickness of the low-refractive-index layer familiar to fingerprints, usually 0.1 μm or less, particularly preferably 10 to 100 nm. If the average particle diameter is within this range, the optical performance of the low-refractive-index layer familiar to fingerprints does not change unintentionally, such as light scattering. In addition, the influence on the transparency due to the refractive index of the metal oxide fine particles (d), the content in the layer, and the like is also important, and the metal oxide fine particles (d) so as not to reduce the transparency of the optical article. The refractive index and the content rate are adjusted. Furthermore, the metal oxide fine particles (d) can be modified on the surface of the fine particles with various coupling agents as required. As such a coupling agent, for example, 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyltrimethoxy Examples include organically substituted silicon compounds such as silane. In addition, organic acid salts containing metal alkoxides such as aluminum, titanium, zirconium, and antimony can be used. In particular, by modifying the surface with a reactive group such as a (meth) acryloyl group, it is possible to form a highly reflective anti-reflection layer.
金属酸化物微粒子(d)は、本発明においてはフッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体(a)と組合わせて用いているので、相互に強め合うことによって過度の量を添加することなく、耐摩耗性や耐擦傷性の表面強度についての性能を発現することができる。
金属酸化物微粒子(d)の含有量は、低屈折率層用樹脂組成物中に0.1〜3.0質量%である。下限値としては、好ましくは0.2質量%以上であり、より好ましくは0.5質量%以上である。上限値としては、好ましくは2.5質量%以下であり、より好ましくは2.0質量%以下である。但し、先述の酸化アルミニウムにおいては、透明性への影響が大きく、また少量の添加で十分な効果が得られることから、下限値としては、好ましくは0.1質量%以上であり、より好ましくは0.2質量%以上である。上限値としては、好ましくは1.0質量%以下であり、より好ましくは0.5質量%以下である。
In the present invention, the metal oxide fine particles (d) are used in combination with the fluorine-containing ultraviolet curable adamantane derivative (a), so that they do not add an excessive amount by strengthening each other and wear resistance. In addition, it is possible to develop performance with respect to surface strength of scratch resistance.
Content of metal oxide microparticles | fine-particles (d) is 0.1-3.0 mass% in the resin composition for low refractive index layers. As a lower limit, Preferably it is 0.2 mass% or more, More preferably, it is 0.5 mass% or more. As an upper limit, Preferably it is 2.5 mass% or less, More preferably, it is 2.0 mass% or less. However, in the above-described aluminum oxide, since the influence on transparency is large, and a sufficient effect can be obtained with a small amount of addition, the lower limit is preferably 0.1% by mass or more, more preferably It is 0.2% by mass or more. As an upper limit, Preferably it is 1.0 mass% or less, More preferably, it is 0.5 mass% or less.
[(e)光重合開始剤]
本発明に用いる光重合開始剤(e)は、紫外線(UV)等の活性エネルギー線により指紋なじみ低屈折率層用塗液を硬化させて塗膜を形成する際の重合開始剤として用いられる。光重合開始剤(e)としては、活性エネルギー線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、2,2−ジメトキシ1,2−ジフェニルエタン−1−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、[4−(メチルフェニルチオ)フェニル]フェニルメタノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。
本発明に用いる光重合開始剤(e)の含有量は、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物中に1.0〜10.0質量%であり、下限値としては、好ましくは2.0質量%以上であり、より好ましくは4.0質量%以上である。上限値としては、好ましくは8.0質量%以下であり、より好ましくは6.0質量%以下である。光重合開始剤(e)の含有量が1.0質量%未満では、ハードコート層の硬化が不十分となる。一方、光重合開始剤(e)の含有量が10.0質量%を超えると、光開始剤が不必要に多くなり好ましくない。
[(E) Photopolymerization initiator]
The photopolymerization initiator (e) used in the present invention is used as a polymerization initiator for forming a coating film by curing a coating solution for a low refractive index layer that is compatible with fingerprints using active energy rays such as ultraviolet rays (UV). The photopolymerization initiator (e) is not particularly limited as long as polymerization is initiated by irradiation with active energy rays, and known compounds can be used. For example, acetophenone-based polymerization initiators such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzoin, 2,2-dimethoxy 1,2-diphenylethane-1 Benzoin-based polymerization initiators such as -one, benzophenone, [4- (methylphenylthio) phenyl] phenylmethanone, 4-hydroxybenzophenone, 4-phenylbenzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (t- Examples thereof include benzophenone polymerization initiators such as (butylperoxycarbonyl) benzophenone, and thioxanthone polymerization initiators such as 2-chlorothioxanthone and 2,4-diethylthioxanthone.
The content of the photopolymerization initiator (e) used in the present invention is 1.0 to 10.0% by mass in the resin composition for a low refractive index layer familiar to fingerprints, and the lower limit is preferably 2.0. It is at least mass%, more preferably at least 4.0 mass%. As an upper limit, Preferably it is 8.0 mass% or less, More preferably, it is 6.0 mass% or less. If content of a photoinitiator (e) is less than 1.0 mass%, hardening of a hard-coat layer will become inadequate. On the other hand, when the content of the photopolymerization initiator (e) exceeds 10.0% by mass, the photoinitiator is unnecessarily increased, which is not preferable.
[その他の成分]
また、本発明に用いる指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物には上記の化合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいても差し支えない。その他の成分は特に限定されるものではなく、例えば無機または有機顔料、他の重合体、熱分解型重合開始剤、光重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、レベリング剤等が挙げられる。
[Other ingredients]
Further, the resin composition for a fingerprint-familiar low refractive index layer used in the present invention may contain other components in addition to the above-mentioned compounds within a range not impairing the effects of the present invention. Other components are not particularly limited, for example, inorganic or organic pigments, other polymers, thermal decomposition polymerization initiators, photopolymerization initiators, polymerization inhibitors, antioxidants, dispersants, surfactants, A light stabilizer, a leveling agent, etc. are mentioned.
本発明の反射防止フィルムは、ハードコート層と指紋なじみ指紋なじみ低屈折率層以外の他の層を含むことも可能である。
他の層としては、例えば、反射防止効果をより発揮することができるための高屈折率層や、ハードコートと基材フィルムとの密着性を向上させる易接着層等の層が好ましい。
The antireflective film of the present invention can contain other layers other than the hard coat layer and the fingerprint familiarity low-refractive index layer.
As the other layer, for example, a layer such as a high refractive index layer that can more effectively exhibit an antireflection effect or an easy-adhesion layer that improves the adhesion between the hard coat and the base film is preferable.
<高屈折率層>
高屈折率層は、上記の指紋なじみ低屈折率層との有意な屈折率差により、反射防止効果を発現させるための層である。高屈折率層の屈折率は、ハードコート層および指紋なじみ低屈折率層より高く設定される。高屈折率層の屈折率は1.5〜2.4に設定する。この屈折率が1.5より小さい場合、反射防止性能が損なわれる。一方、屈折率が2.4を超える高屈折率層を形成することは現状では困難である。
<High refractive index layer>
The high refractive index layer is a layer for exhibiting an antireflection effect due to a significant refractive index difference from the above-mentioned fingerprint familiar low refractive index layer. The refractive index of the high refractive index layer is set higher than that of the hard coat layer and the low refractive index layer familiar to fingerprints. The refractive index of the high refractive index layer is set to 1.5 to 2.4. When this refractive index is smaller than 1.5, the antireflection performance is impaired. On the other hand, it is difficult to form a high refractive index layer having a refractive index exceeding 2.4.
<高屈折率層用樹脂組成物>
この高屈折率層を構成する材料としては、前記の高屈折率層の屈折率の範囲において、従来より反射防止フィルム等に用いられる公知のものであれば、特に制限されず、無機材料および有機材料を任意に用いることができる。無機材料としては、例えば酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化シラン、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化錫、ITO等の微粒子が挙げられる。特に、導電性や帯電防止能の観点より、酸化錫、酸化アンチモンおよびITOが好ましく、高屈折率の観点より、酸化チタン、酸化セリウム、酸化亜鉛および酸化ジルコニウムが好ましい。
<Resin composition for high refractive index layer>
The material constituting the high refractive index layer is not particularly limited as long as it is a known material conventionally used for an antireflection film or the like in the range of the refractive index of the high refractive index layer. Any material can be used. Examples of the inorganic material include fine particles such as zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, aluminum oxide, silane oxide, antimony oxide, zirconium oxide, tin oxide, and ITO. In particular, tin oxide, antimony oxide and ITO are preferable from the viewpoint of conductivity and antistatic ability, and titanium oxide, cerium oxide, zinc oxide and zirconium oxide are preferable from the viewpoint of high refractive index.
有機材料としては、例えば重合硬化したものの屈折率が1.5〜1.8の重合性単量体を含む組成物等を用いることができる。そのような重合性単量体としては、2−ビニルナフタレン、4−ブロモスチレン、9−ビニルアントラセン等が挙げられる。
また、高屈折率層を構成する材料としては、無機材料の微粒子と有機材料とを併用することができるが、この場合には、前述した重合硬化物の屈折率が1.6〜1.8であるような重合性単量体のみならず、それ以外の重合性単量体およびこれらの重合体を含む組成物をウェットコーティング時の活性エネルギー線硬化型樹脂として用いることができる。無機材料の微粒子の平均粒子径は高屈折率層の厚みを大きく超えないことが好ましく、特に0.15μm以下であることが好ましい。無機材料の微粒子の平均粒子径が高屈折率層の厚みより大きくなると、光の散乱が生じる等、高屈折率層の光学性能が低下する傾向にある。
As the organic material, for example, a composition containing a polymerizable monomer having a refractive index of 1.5 to 1.8 that has been polymerized and cured can be used. Examples of such a polymerizable monomer include 2-vinylnaphthalene, 4-bromostyrene, 9-vinylanthracene and the like.
Further, as the material constituting the high refractive index layer, fine particles of inorganic material and organic material can be used in combination. In this case, the refractive index of the polymerized cured product described above is 1.6 to 1.8. In addition to such polymerizable monomers, other polymerizable monomers and compositions containing these polymers can be used as the active energy ray-curable resin during wet coating. The average particle size of the fine particles of the inorganic material preferably does not greatly exceed the thickness of the high refractive index layer, and is particularly preferably 0.15 μm or less. If the average particle size of the fine particles of the inorganic material is larger than the thickness of the high refractive index layer, the optical performance of the high refractive index layer tends to deteriorate, such as light scattering.
<易接着層>
易接着層は、光学的な悪影響を及ぼすことなく、基材フィルムとハードコート層との密着性を高める機能を有している。この易接着層の膜厚は5〜30nmである。下限としては、好ましくは10nm以上であり、より好ましくは15nm以上である。上限としては、好ましくは25nm以下であり、より好ましくは20nm以下である。
易接着層を形成する材料としては特に限定されないが、干渉縞等が生じない屈折率を有する材料であることが好ましい。
<Easily adhesive layer>
The easy-adhesion layer has a function of enhancing the adhesion between the base film and the hard coat layer without adversely affecting the optical properties. The film thickness of this easy adhesion layer is 5 to 30 nm. As a minimum, Preferably it is 10 nm or more, More preferably, it is 15 nm or more. As an upper limit, Preferably it is 25 nm or less, More preferably, it is 20 nm or less.
The material for forming the easy adhesion layer is not particularly limited, but a material having a refractive index that does not cause interference fringes or the like is preferable.
本発明の反射防止フィルムについて、図1を用いて説明する。
図1(a)、(b)に示す反射防止フィルム10、10Aは、透明基材フィルム1上にハードコート層2、必要に応じて形成される高屈折率層3および最表面層としての指紋なじみ低屈折率層4を積層した構成である。
The antireflection film of the present invention will be described with reference to FIG.
The antireflection films 10 and 10A shown in FIGS. 1A and 1B are a hard coat layer 2 on a transparent base film 1, a high refractive index layer 3 formed as necessary, and a fingerprint as an outermost layer. The familiar low refractive index layer 4 is laminated.
<ハードコート層、高屈折率層および指紋なじみ低屈折率層の形成>
ハードコート層、高屈折率層および指紋なじみ低屈折率層は、各樹脂組成物を透明基材フィルム上へ順に塗布した後に、活性エネルギー線照射により硬化することで形成される。
ハードコート層、高屈折率層および指紋なじみ低屈折率層の塗布方法は特に制限されず、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、インクジェット法、グラビアコート法等公知のいかなる方法も採用できる。また、活性エネルギー線の種類は特に制限されないが、利便性等の観点から紫外線を用いることが好ましい。尚、ハードコート層の透明基材フィルムに対する密着性を向上させるために、予め透明基材フィルム表面にコロナ放電処理等の前処理を施すことも可能である。
<Formation of hard coat layer, high refractive index layer and fingerprint-familiar low refractive index layer>
The hard coat layer, the high refractive index layer and the fingerprint familiar low refractive index layer are formed by sequentially applying each resin composition onto the transparent substrate film and then curing it by irradiation with active energy rays.
The coating method of the hard coat layer, high refractive index layer and fingerprint familiar low refractive index layer is not particularly limited. For example, roll coating method, spin coating method, dip coating method, spray coating method, bar coating method, knife coating method, die coating method. Any known method such as a method, an ink jet method, or a gravure coating method can be adopted. The type of active energy ray is not particularly limited, but it is preferable to use ultraviolet rays from the viewpoint of convenience and the like. In addition, in order to improve the adhesiveness of the hard coat layer to the transparent substrate film, it is possible to pre-treat the surface of the transparent substrate film such as a corona discharge treatment in advance.
また、塗工性の観点から、各樹脂組成物は溶媒に希釈し塗工することが好ましい。溶媒としては、各層形成用の塗液に従来から使用されている公知のものであれば特に制限は無く、例えばアルコール系、ケトン系、エステル系の溶媒が適時選択でき、フィルム表面の乾燥ムラ等を考慮して、蒸気圧の異なる複数の溶媒を用いることが好ましい。
上記のコーティング法等で塗布された後の乾燥は、乾燥機等を用いて適宜行えばよい。乾燥温度は、溶媒の蒸気圧や固形分濃度によって適宜設定することができるが、フィルム表面の乾燥ムラやゆず肌等を防ぐために、段階的に温度を上げて乾燥することが好ましい。乾燥時間は、溶媒の蒸気圧や固形分濃度によって適宜設定すればよい。
Further, from the viewpoint of coatability, each resin composition is preferably diluted with a solvent for coating. The solvent is not particularly limited as long as it is a known one that has been conventionally used for coating liquids for forming each layer. For example, alcohol-based, ketone-based, and ester-based solvents can be selected as appropriate, such as uneven drying on the film surface, etc. Therefore, it is preferable to use a plurality of solvents having different vapor pressures.
What is necessary is just to perform drying after apply | coating by said coating method etc. suitably using a dryer etc. The drying temperature can be appropriately set depending on the vapor pressure and solid content concentration of the solvent, but it is preferable to increase the temperature stepwise in order to prevent drying unevenness on the film surface, distorted skin, and the like. What is necessary is just to set drying time suitably with the vapor pressure and solid content concentration of a solvent.
本発明に用いる樹脂組成物が(a)〜(d)成分を本発明の規定量範囲含有するので、その硬化物の作用により、本発明の反射防止フィルムは、オレイン酸に対する接触角が好ましくは30°以下であり、より好ましくは20°以下である。接触角は小さいほど好ましいためその下限は特に規定されないが、5°以上であることが好ましい。また、本発明の反射防止フィルムは、JIS B0601−1994に規定される算術平均粗さ(Ra)が好ましくは0.001〜0.020μmである。接触角および算術平均粗さ(Ra)の値から、本発明の反射防止フィルムにおいては、指紋なじみ低屈折率層を構成する樹脂が生体由来脂質成分に対してなじみやすくなり、付着した指紋が視認され難くなる機能を発現することができるものと推測される。同時に、本発明の反射防止フィルムにおいては、生体由来脂質成分の微小液滴化からの光の乱反射によって、ディスプレイ画像等の視認性が悪くなることもない。 Since the resin composition used in the present invention contains the components (a) to (d) in the specified amount range of the present invention, the antireflection film of the present invention preferably has a contact angle with respect to oleic acid due to the action of the cured product. It is 30 ° or less, more preferably 20 ° or less. Since the smaller the contact angle, the better. The lower limit is not particularly defined, but it is preferably 5 ° or more. The antireflection film of the present invention preferably has an arithmetic average roughness (Ra) defined in JIS B0601-1994 of 0.001 to 0.020 μm. From the values of contact angle and arithmetic mean roughness (Ra), in the antireflection film of the present invention, the resin constituting the low refractive index layer that is compatible with fingerprints is easily compatible with lipid components derived from living organisms, and the attached fingerprint is visible. It is presumed that a function that is difficult to be performed can be expressed. At the same time, in the antireflection film of the present invention, the visibility of a display image or the like is not deteriorated due to irregular reflection of light from the formation of microdroplets of a lipid component derived from a living body.
以下に、実施例および比較例を挙げて前記の実施形態をさらに具体的に説明する。
(L1−1〜L1−11(実施例用指紋なじみ低屈折率層用組成物の作製))
指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物として次の原料を使用し、各原料を下記の表1に記載した組成にて、(a)フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体、(b)(a)と共重合可能な紫外線硬化型樹脂、(c)中空シリカ微粒子、(d)金属酸化物微粒子、(e)光重合開始剤とを混合し、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物L1−1〜L1−11を調製した。尚、各材料の配合量は、固形分の質量%を記載している。その結果を表1に示す。
Hereinafter, the embodiment will be described more specifically with reference to examples and comparative examples.
(L1-1 to L1-11 (Preparation of composition for low refractive index layer familiar with fingerprint for Examples))
The following raw materials are used as a resin composition for a fingerprint-familiar low refractive index layer, and each raw material has the composition described in Table 1 below: (a) a fluorine-containing ultraviolet curable adamantane derivative, (b) (a) and Ultraviolet curable resin that can be copolymerized, (c) hollow silica fine particles, (d) metal oxide fine particles, and (e) a photopolymerization initiator are mixed, and the resin composition L1-1 for a low refractive index layer familiar with fingerprints. L1-11 was prepared. In addition, the compounding quantity of each material has described the mass% of solid content. The results are shown in Table 1.
また、屈折率の測定は、下記方法を用いて行った。
(1)屈折率1.49のアクリル樹脂板(「デラグラスA」、旭化成ケミカルズ(株)製)上に、ディップコーター((株)杉山元医理器製)により、各塗液をそれぞれ乾燥膜厚で光学膜厚が550nm程度になるように層の厚みを調整して塗布した。
(2)溶媒乾燥後、必要に応じて紫外線照射装置(岩崎電気(株)製)により窒素雰囲気下で120W高圧水銀灯を用いて、400mJの紫外線を照射して各塗液を硬化させた。
(3)アクリル樹脂板裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計(「U−Best V560」、日本分光(株)製)により、光の波長400〜650nmにおける5°、−5°正反射率を測定し、その反射率の極小値又は極大値を読み取った。
(4)反射率の極値より以下の式を用いて屈折率を計算した。
The refractive index was measured using the following method.
(1) Each coating solution is dried on an acrylic resin plate ("Delagrass A", manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation) with a refractive index of 1.49 by means of a dip coater (manufactured by Sugiyama Genki Riki Co., Ltd.). The layer thickness was adjusted so that the optical film thickness was about 550 nm.
(2) After drying the solvent, each coating solution was cured by irradiating 400 mJ of ultraviolet rays using a 120 W high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere by an ultraviolet irradiation device (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) as necessary.
(3) The back surface of the acrylic resin plate is roughened with sandpaper, and the one painted with black paint is measured with a spectrophotometer ("U-Best V560", manufactured by JASCO Corporation) at 5 ° at a light wavelength of 400 to 650 nm. The −5 ° regular reflectance was measured, and the minimum or maximum value of the reflectance was read.
(4) The refractive index was calculated from the extreme value of the reflectance using the following formula.
指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物の各原料としては、以下の通りである。(a)フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体として、1−パーフルオロアダマンチルメタクリラート(出光興産(株)製、商品名:アダマンテートX−F−101)、パーフルオロ−1,3−ビス(アクリロキシエトキシ)アダマンタン(出光興産(株)製、商品名:アダマンテートX−F−201)、2−パーフルオロ−1,3−アダマンタンジオールジメタクリラート(出光興産(株)製、商品名:アダマンテートX−F−203)を使用した。(b)(a)と共重合可能な紫外線硬化型樹脂としては、日本化薬(株)製KAYARAD DPHA、日本合成化学工業(株)製紫光UV−7600Bを使用した。(c)中空シリカ微粒子として、日揮触媒化成(株)製アクリル修飾中空シリカ微粒子 スルーリアNAU(屈折率1.25、平均粒径60nm)を使用した。(d)金属酸化物微粒子として、ビックケミー・ジャパン(株)製、アルミナ微粒子(屈折率1.76、平均粒径40nm)を使用した。(e)光開始剤として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製IRGACURE907(I−907)、IRGACURE184(I−184)を使用した。 The raw materials for the resin composition for a fingerprint-familiar low refractive index layer are as follows. (A) As fluorine-containing UV-curable adamantane derivatives, 1-perfluoroadamantyl methacrylate (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd., trade name: adamantate X-F-101), perfluoro-1,3-bis (acryloxy) Ethoxy) adamantane (made by Idemitsu Kosan Co., Ltd., trade name: adamantate X-F-201), 2-perfluoro-1,3-adamantanediol dimethacrylate (made by Idemitsu Kosan Co., Ltd., trade name: adamantate) X-F-203) was used. (B) As an ultraviolet curable resin copolymerizable with (a), KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and Murasakiko UV-7600B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. were used. (C) As hollow silica fine particles, acrylic modified hollow silica fine particles through rear NAU (refractive index of 1.25, average particle diameter of 60 nm) manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd. were used. (D) As metal oxide fine particles, alumina fine particles (refractive index: 1.76, average particle size: 40 nm) manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. were used. (E) IRGACURE907 (I-907) and IRGACURE184 (I-184) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. were used as photoinitiators.
(H1−1(高屈折率層用樹脂組成物の作製))
高屈折率層用樹脂組成物として(f)金属酸化物微粒子47.5質量%と、(g)紫外線硬化型樹脂47.5質量%と、(h)光開始剤5質量%とを混合し、高屈折率層用樹脂組成物H1−1を調製した。尚、各材料の配合量は、固形分の質量%を記載している。
高屈折率層用樹脂組成物の各原料としては、以下の通りである。
(f)金属酸化物微粒子:シーアイ化成(株)製RTTMIBK15WT%−N24(チタニア分散液)(g)紫外線硬化型樹脂:日本合成化学工業(株)製紫光UV−7600B
(h)光開始剤:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製IRGACURE184(I−184)
(H1-1 (Preparation of resin composition for high refractive index layer))
(F) 47.5% by mass of metal oxide fine particles, (g) 47.5% by mass of an ultraviolet curable resin, and (h) 5% by mass of a photoinitiator are mixed as a resin composition for a high refractive index layer. Then, a resin composition H1-1 for a high refractive index layer was prepared. In addition, the compounding quantity of each material has described the mass% of solid content.
The raw materials for the high refractive index layer resin composition are as follows.
(F) Metal oxide fine particles: RTTMIBK15WT% -N24 (titania dispersion) manufactured by CI Kasei Co., Ltd. (g) UV curable resin: Purple light UV-7600B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.
(H) Photoinitiator: IRGACURE184 (I-184) manufactured by Ciba Specialty Chemicals
(HC1−1〜HC1−2(ハードコート用樹脂組成物の作製))
ハードコート用樹脂組成物として次の原料を使用し、各原料を下記の表2に記載した組成にて、(i)紫外線硬化型樹脂と、(j)表面調整剤と、(k)光開始剤とを混合し、ハードコート用樹脂組成物HC1−1〜HC1−2を調製した。尚、各材料の配合量は、固形分の質量%を記載している。その結果を下記の表2に示す。
(HC1-1 to HC1-2 (Preparation of resin composition for hard coat))
The following raw materials are used as the hard coat resin composition, and each raw material has the composition described in Table 2 below, (i) an ultraviolet curable resin, (j) a surface conditioner, and (k) photo initiation. An agent was mixed to prepare hard coat resin compositions HC1-1 to HC1-2. In addition, the compounding quantity of each material has described the mass% of solid content. The results are shown in Table 2 below.
ハードコート用樹脂組成物の各原料としては、以下の通りである。(i)紫外線硬化型樹脂としては、日本化薬(株)製KAYARAD DPHA、日本合成化学工業(株)製紫光UV−7600Bを使用した。(j)表面調整剤としては、ビックケミー・ジャパン(株)製BYK−306を使用した。(k)光開始剤として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製IRGACURE184(I−184)を使用した。 The raw materials for the resin composition for hard coat are as follows. (I) Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD DPHA and Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. purple light UV-7600B were used as ultraviolet curable resin. (J) BYK-306 manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. was used as the surface conditioner. (K) IRGACURE184 (I-184) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. was used as a photoinitiator.
(実施例1−1)
透明基材フィルムとしてコニカミノルタオプト(株)製トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(製品名:KC8UY、膜厚:80μm)の一面に、ハードコート用樹脂組成物(HC1−1)および溶媒(メチルイソブチルケトン)を1:1の割合で混合したハードコート層用塗液をバーコーターにて硬化後の膜厚が7μmとなるように塗布し、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させることによりハードコート層を形成した。
次いで、このハードコート層上に、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物(L1−1)および溶媒(メチルイソブチルケトン)を1:5の割合で混合した指紋なじみ低屈折率層用塗液をバーコーターにて硬化後の膜厚が0.1μmとなるように塗布し、窒素雰囲気下、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させることにより反射防止フィルム(AR1−1)を作製した。
(Example 1-1)
On one side of a triacetyl cellulose (TAC) film (product name: KC8UY, film thickness: 80 μm) manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd. as a transparent substrate film, a hard coat resin composition (HC1-1) and a solvent (methyl isobutyl) A hard coat layer coating solution in which a ketone) is mixed at a ratio of 1: 1 is applied with a bar coater so that the film thickness after curing is 7 μm, and is cured by irradiating 400 mJ ultraviolet rays with a 120 W high-pressure mercury lamp. Thus, a hard coat layer was formed.
Next, a fingerprint-fitted low refractive index layer coating solution prepared by mixing the resin composition (L1-1) for fingerprint-fatigue low refractive index layer and the solvent (methyl isobutyl ketone) in a ratio of 1: 5 on the hard coat layer. An anti-reflective film (AR1-1) is produced by coating with a bar coater such that the film thickness after curing is 0.1 μm, and irradiating with a UV light of 400 mJ with a 120 W high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere. did.
(実施例1−2〜実施例1−11)
ハードコート用樹脂組成物、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物を下記の表3に記載した材料および各層の組合せとした以外は、実施例1−1と同様にして、反射防止フィルム(AR1−2〜AR1−11)を作製した。
(実施例1−12)
実施例1−1で形成したハードコート層上に、高屈折率層用樹脂組成物(H1−1)および溶媒(メチルイソブチルケトン)を1:5の割合で混合した高屈折率層用塗液をバーコーターにて硬化後の膜厚が0.1μmとなるように塗布し、窒素雰囲気下、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させることにより高屈折率層を形成した。最後に、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物を下記の表3に記載した材料および各層の組合せとした以外は、実施例1−1と同様にして、反射防止フィルム(AR1−12)を作製した。
得られた反射防止フィルムについて、指紋拭取り性、耐擦傷性、最小反射率を下記の方法で測定した。その結果を下記の表3に示す。
(Example 1-2 to Example 1-11)
An antireflection film (AR1) was prepared in the same manner as in Example 1-1 except that the resin composition for hard coat and the resin composition for a low-refractive index layer familiar to fingerprint were combined with the materials and layers described in Table 3 below. -2 to AR1-11) were prepared.
(Example 1-12)
A coating solution for a high refractive index layer obtained by mixing the resin composition for high refractive index layer (H1-1) and a solvent (methyl isobutyl ketone) in a ratio of 1: 5 on the hard coat layer formed in Example 1-1. Was coated with a bar coater such that the film thickness after curing was 0.1 μm, and was cured by irradiating with 400 mJ of ultraviolet light with a 120 W high pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere to form a high refractive index layer. Finally, an antireflection film (AR1-12) was prepared in the same manner as in Example 1-1, except that the resin composition for a fingerprint-familiar low refractive index layer was a combination of the materials and layers described in Table 3 below. Produced.
About the obtained antireflection film, fingerprint wiping property, scratch resistance, and minimum reflectance were measured by the following methods. The results are shown in Table 3 below.
<最小反射率>
反射防止フィルムの裏面反射を防ぐため、裏面をサンドペーパーで粗し、黒色塗料で塗り潰したものを分光光度計[日本分光(株)製、商品名:U−best560]により、光の波長380nm〜780nmの5°、−5°正反射スペクトルを測定した。得られた反射スペクトルより、最小反射率(%)を読み取った。
<Minimum reflectivity>
In order to prevent back reflection of the antireflection film, the back surface was roughened with sandpaper and filled with a black paint, and a spectrophotometer [trade name: U-best 560, manufactured by JASCO Corporation] was used. A 5 ° and −5 ° specular reflection spectrum at 780 nm was measured. The minimum reflectance (%) was read from the obtained reflection spectrum.
<ヘイズ値および全光線透過率>
日本電色工業(株)製のNDH−2000を使用し、ヘイズ値、および全光線透過率を測定した。
<Haze value and total light transmittance>
NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. was used, and the haze value and total light transmittance were measured.
<指紋不可視性>
ディスプレイ用表面材上に指紋を付着させ、その視認性について下記の4段階にて目視による官能評価を行った。
4:散乱による指紋が全く見えない
3:散乱による指紋が極僅かに見える
2:散乱による指紋が僅かに見える
1:散乱による指紋がはっきり見える
<Fingerprint invisibility>
Fingerprints were attached on the surface material for display, and the sensory evaluation by visual observation was performed on the visibility in the following four stages.
4: The fingerprint due to scattering is completely invisible. 3: The fingerprint due to scattering is very slightly visible. 2: The fingerprint due to scattering is slightly visible. 1: The fingerprint due to scattering is clearly visible.
<指紋拭取り性>
人工指脂液(尿素1g、乳酸4.6g、ピロリン酸ナトリウム8g、食塩7g、エタノール20mLを蒸留水で1Lに希釈したもの)を1滴、反射防止フィルム表面に滴下する。その後、日本製紙クレシア(株)製キムワイプを用い、人工指脂液を馴染ませる。続いて、東レ(株)製トレシーを用いて5往復拭取りを実施した後、表面の跡を目視で観察し下記の3段階で評価した。
○:人工指脂液の跡が無い場合
△:人工指脂液の跡が一部残る場合
×:人工指脂液の跡が残る場合
<Fingerprint wiping>
One drop of artificial finger oil (1 g of urea, 4.6 g of lactic acid, 8 g of sodium pyrophosphate, 7 g of sodium chloride and 20 mL of ethanol diluted to 1 L with distilled water) is dropped on the surface of the antireflection film. Then, use Nippon Paper Crecia Co., Ltd. Kimwipe to blend in the artificial finger oil. Then, after carrying out 5 reciprocating wiping using Toray Co., Ltd. Toraysee, the surface trace was observed visually and evaluated in the following three steps.
○: When there is no trace of artificial finger oil △: When some trace of artificial finger oil remains *: When trace of artificial finger oil remains
<耐摩耗性>
反射防止フィルム表面を(株)本光製作所製の消しゴム摩耗試験機の先端に、市販のネル布をシリコーンゴム製
のクッションを介して設置し、500gfの荷重をかけて、ストローク幅25mm、速度30mm/secで500往復摩擦したあとの表面を目視で観察し、以下の○、×で評価した。
○:傷が0〜10本、かつ著しい変色無し
×:傷が11本以上、まはた著しい変色有り
<Abrasion resistance>
The surface of the antireflection film is placed on the tip of an eraser abrasion tester manufactured by Honko Seisakusho Co., Ltd., and a commercially available flannel cloth is installed through a cushion made of silicone rubber. A load of 500 gf is applied, a stroke width of 25 mm, and a speed of 30 mm. The surface after 500 reciprocal frictions at / sec was visually observed and evaluated by the following ○ and ×.
○: 0 to 10 scratches and no significant discoloration ×: 11 or more scratches or significant discoloration
<耐擦傷性>
反射防止フィルム表面を#0000のスチールウールに250gfの荷重をかけて、ストローク幅25mm、速度30mm/secで10往復摩擦したあとの表面を目視で観察し、以下の○、×で評価した。
※スチールウールは約10mmφにまとめ、表面が均一になるようにカット、摩擦して均したものを使用した。
○:傷が0〜10本
×:傷が11本以上
<Abrasion resistance>
The surface of the antireflection film was subjected to a reciprocal friction of 10 mm at a stroke width of 25 mm and a speed of 30 mm / sec by applying a load of 250 gf to # 0000 steel wool, and the surface was visually evaluated and evaluated by the following ○ and ×.
* Steel wool was gathered to about 10mmφ, and was cut and rubbed so that the surface was uniform.
○: 0 to 10 scratches ×: 11 or more scratches
<表面粗さ>
(株)小坂研究所製表面粗さ測定機、サーフコーダSE4000を使用し、走査範囲1.5mm、走査速度0.1mm/sの条件で、に規定に基づいて算術平均粗さ(Ra)を測定した。
<Surface roughness>
Using a surface roughness measuring machine manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd., Surfcorder SE4000, with a scanning range of 1.5 mm and a scanning speed of 0.1 mm / s, the arithmetic average roughness (Ra) It was measured.
<オレイン酸接触角>
協和界面科学(株)製DropMaster500を使用し、4μLの液滴により接触角を測定した。
<Oleic acid contact angle>
Using a DropMaster 500 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., the contact angle was measured with a 4 μL droplet.
<塗面外観>
UV照射後の硬化膜表面を目視で観察し、以下の○、×で評価した。
○:著しいムラ、スジ、ハジキ等がない
×:容易に視認できる著しいムラ、スジ、ハジキ等がある
<Coating appearance>
The surface of the cured film after UV irradiation was visually observed and evaluated by the following ○ and ×.
○: No noticeable unevenness, streak, repelling, etc. ×: Remarkable unevenness, streak, repelling, etc. easily visible
(L2−1〜L2−14(比較例用低屈折率層用組成物の作製))
低屈折率用樹脂組成物として上記の原料に加え、下記の原料を使用し、各原料を表4に記載した組成にて混合し、低屈折率層用樹脂組成物L2−1〜L2−14を調製した。尚、各材料の配合量は、固形分の質量%を記載している。その結果を表4に示す。
各原料としては、以下の通りである。フッ素含有紫外線硬化型樹脂として、ダイキン工業(株)製オプツールDAC−HP、フッ素を含有しないシリコーン系紫外線硬化型樹脂として、信越シリコーン(株)性TIC−2459、フッ素を含有し紫外線硬化しない樹脂として、DIC(株)製メガファックF−558を使用した。その結果を下記の表4に示す。
(L2-1 to L2-14 (production of composition for low refractive index layer for comparative example))
In addition to the above raw materials as the resin composition for low refractive index, the following raw materials are used, and the respective raw materials are mixed in the composition described in Table 4, and resin compositions for low refractive index layers L2-1 to L2-14 Was prepared. In addition, the compounding quantity of each material has described the mass% of solid content. The results are shown in Table 4.
Each raw material is as follows. As a fluorine-containing ultraviolet curable resin, Daikin Industries, Ltd. OPTOOL DAC-HP, as a silicone-based ultraviolet curable resin that does not contain fluorine, Shin-Etsu Silicone TIC-2459, as a resin that contains fluorine and does not cure ultraviolet DIC Co., Ltd. MegaFuck F-558 was used. The results are shown in Table 4 below.
(比較例1−1〜比較例1−14)
低屈折率層用樹脂組成物を表4に記載した材料とした以外は、実施例1−1と同様にして、反射防止フィルム(AR2−1〜AR2−14)を作製した。得られた反射防止フィルムについて、指紋拭取り性、耐擦傷性、最小反射率を測定した。その結果を下記の表5に示す。
(Comparative Example 1-1 to Comparative Example 1-14)
Antireflection films (AR2-1 to AR2-14) were produced in the same manner as in Example 1-1 except that the resin composition for the low refractive index layer was used as the material described in Table 4. The obtained antireflection film was measured for fingerprint wiping property, scratch resistance, and minimum reflectance. The results are shown in Table 5 below.
実施例1−1〜1−12では、指紋なじみ低屈折率層を形成する指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物が本発明で規定される範囲に設定されていることから、反射防止機能が良好で、ヘイズ値が1.0%以下、指紋不可視性、指紋拭き取り性が優れ、耐摩耗性、耐擦傷性が良好で、表面粗さが0.001μm〜0,020μm範囲内で、かつオレイン酸接触角が30°以下の反射防止フィルムを作製することが出来た。 In Examples 1-1 to 1-12, since the resin composition for a fingerprint-familiar low refractive index layer for forming the fingerprint-fat low refractive index layer is set within the range defined by the present invention, the antireflection function is provided. Good, haze value of 1.0% or less, excellent fingerprint invisibility and fingerprint wiping property, good wear resistance and scratch resistance, surface roughness in the range of 0.001 μm to 0,020 μm, and olein An antireflection film having an acid contact angle of 30 ° or less could be produced.
その一方、比較例1−1は、(a)フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体の配合が7.0質量%である低屈折率層を用いていることから、指紋視認性、指紋拭き取り性が悪い結果となった。比較例1−2は、(a)フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体の配合が25.0質量%である低屈折率層を用いていることから、耐摩耗性、耐擦傷性が弱い結果となった。比較例1−3は、(b)(a)と共重合可能な紫外線硬化型樹脂が15.0質量%であり、(c)中空シリカ微粒子の配合が73.9質量%である指紋なじみ低屈折率層を用いていることから、耐摩耗性、耐擦傷性が弱く、または反射防止性能が悪い結果となった。比較例1−4は(b)が70.9質量%であり、(c)の配合が18.0質量%である低屈折率層を用いていることから、耐摩耗性、耐擦傷性が弱い結果、または反射防止性能が悪い結果となった。
比較例1−5、1−6は(d)金属酸化物微粒子を配合していない、または5.0質量%含む低屈折率層を用いていることから、耐摩耗性、耐擦傷性が弱い結果、またはヘイズ値が高い結果となった。比較例1−7、1−8は(e)光重合開始剤の配合が0.5質量%であるか、15.0質量%である指紋なじみ低屈折率層を用いていることから、耐摩耗性、耐擦傷性が弱い結果となった。
比較例1−9はフッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体でなく、アダマンタン構造を有さないフッ素含有紫外線硬化型の樹脂からなる低屈折率層を用いたことから、オレイン酸接触角が高く、指紋がハジキ、散乱することで指紋不可視性が悪化する結果となった。比較例1−10はフッ素含有紫外線硬化型樹脂でなく、シリコーン系紫外線硬化型の樹脂を含む低屈折率層を用いたことから、オレイン酸接触角が高く、指紋がハジキ、散乱することで指紋不可視性が悪化する結果となった。比較例1−11はフッ素含有紫外線硬化型樹脂でなく、フッ素を含有し紫外線硬化しない樹脂を含む低屈折率層を用いたことから、耐擦傷性が弱い結果となった。
On the other hand, Comparative Example 1-1 uses (a) a low refractive index layer containing 7.0% by mass of the fluorine-containing UV-curable adamantane derivative, so that fingerprint visibility and fingerprint wiping properties are poor. As a result. In Comparative Example 1-2, (a) the low refractive index layer containing 25.0% by mass of the fluorine-containing ultraviolet curable adamantane derivative was used, and thus the results were poor in wear resistance and scratch resistance. It was. In Comparative Example 1-3, (b) the ultraviolet curable resin copolymerizable with (a) is 15.0% by mass, and (c) the blending ratio of the hollow silica fine particles is 73.9% by mass. Since the refractive index layer was used, the abrasion resistance and scratch resistance were weak, or the antireflection performance was poor. Since Comparative Example 1-4 uses a low refractive index layer in which (b) is 70.9% by mass and (c) is 18.0% by mass, the wear resistance and scratch resistance are high. The result was weak or the antireflection performance was poor.
In Comparative Examples 1-5 and 1-6, (d) the metal oxide fine particles are not blended or a low refractive index layer containing 5.0% by mass is used, so that the wear resistance and scratch resistance are weak. A result or a result with a high haze value was brought. In Comparative Examples 1-7 and 1-8, the blending ratio of the photopolymerization initiator (e) is 0.5% by mass or the fingerprint-familiar low refractive index layer of 15.0% by mass is used. Abrasion and scratch resistance were poor.
Comparative Example 1-9 was not a fluorine-containing ultraviolet curable adamantane derivative, but a low refractive index layer made of a fluorine-containing ultraviolet curable resin having no adamantane structure was used. The result was that fingerprint invisibility deteriorated due to repellency and scattering. Comparative Example 1-10 uses a low refractive index layer containing a silicone-based ultraviolet curable resin instead of a fluorine-containing ultraviolet curable resin, so that the contact angle of oleic acid is high, and the fingerprint is repelled and scattered. As a result, invisibility deteriorated. Since Comparative Example 1-11 was not a fluorine-containing ultraviolet curable resin but a low refractive index layer containing a resin containing fluorine and not ultraviolet curable, the result was poor in scratch resistance.
1 透明基材フィルム
2 ハードコート層
3 高屈折率層
4 指紋なじみ低屈折率層
10,10A 反射防止フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent base film 2 Hard-coat layer 3 High refractive index layer 4 Fingerprint familiar low refractive index layer 10,10A Antireflection film
Claims (2)
前記の指紋なじみ低屈折率層は、次の(a)〜(e)の各成分;
(a)フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体、
(b)(a)と共重合可能な紫外線硬化型樹脂、
(c)中空シリカ微粒子、
(d)金属酸化物微粒子、および
(e)光重合開始剤
を含有し、(a)成分の含有量が10.0〜20.0質量%、(b)成分の含有量が19.0〜61.9質量%、(c)成分の含有量が27.0〜69.9質量%、(d)成分の含有量が0.1〜3.0質量%、および(e)成分の含有量が1.0〜10.0質量%である樹脂組成物の硬化物である、反射防止フィルム。 On one surface of the thermoplastic transparent substrate film, an antireflection film comprising a hard coat layer and a fingerprint familiar low refractive index layer in this order,
The fingerprint-familiar low refractive index layer comprises the following components (a) to (e):
(A) a fluorine-containing UV-curable adamantane derivative,
(B) an ultraviolet curable resin copolymerizable with (a),
(C) hollow silica fine particles,
It contains (d) metal oxide fine particles and (e) a photopolymerization initiator, the content of (a) component is 10.0 to 20.0% by mass, and the content of (b) component is 19.0. 61.9 mass%, the content of component (c) is 27.0-69.9 mass%, the content of component (d) is 0.1-3.0 mass%, and the content of component (e) Is an antireflection film, which is a cured product of a resin composition having 1.0 to 10.0% by mass.
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