JP2019161337A - Capacitive load bias circuit - Google Patents
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Abstract
【課題】容量性負荷に接続されるフィルタを構成するコンデンサの充電時間の短縮とフィルタ特性の向上を図る。【解決手段】スイッチ用半導体素子2のゲートと電圧出力回路50の出力段との間に設けられたブートストラップ回路52は、MOSトランジスタを用いてダイオード接続状態で直列接続された第1及び第2のスイッチ制御用半導体素子3a、3bを有する。この直列接続列のダイオードのアノードに相当する一端部が電圧出力回路50の出力段に接続される一方、他端部がスイッチ用半導体素子2のゲートに接続されている。スイッチ用半導体素子2とコンデンサ4との接続点に容量性負荷が接続された場合に、スイッチ用半導体素子2のゲート電圧を一時的に上昇させてスイッチ用半導体素子2の導通時間の増長によるコンデンサ4の充電時間短縮を可能としている。【選択図】図1PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten the charging time and improve the filter characteristics of a capacitor constituting a filter connected to a capacitive load. SOLUTION: A bootstrap circuit 52 provided between a gate of a semiconductor element 2 for a switch and an output stage of a voltage output circuit 50 is connected in series in a diode-connected state using a MOS transistor. It has semiconductor elements 3a and 3b for switch control. One end corresponding to the anode of the diode in the series connection row is connected to the output stage of the voltage output circuit 50, while the other end is connected to the gate of the switch semiconductor element 2. When a capacitive load is connected to the connection point between the switch semiconductor element 2 and the capacitor 4, the gate voltage of the switch semiconductor element 2 is temporarily increased to increase the conduction time of the switch semiconductor element 2. It is possible to shorten the charging time of 4. [Selection diagram] Fig. 1
Description
本発明は、MEMSマイクロフォン、タッチパネル等の容量性負荷にバイアス電圧を供給する容量性負荷バイアス回路に係り、特に、出力特性の向上等を図ったものに関する。 The present invention relates to a capacitive load bias circuit for supplying a bias voltage to a capacitive load such as a MEMS microphone or a touch panel, and more particularly to an improvement in output characteristics.
従来の容量性負荷バイアス回路としては、例えば、図6に示されたような構成を有するものが良く知られている(例えば、特許文献1等参照) As a conventional capacitive load bias circuit, for example, one having a configuration as shown in FIG. 6 is well known (see, for example, Patent Document 1).
以下、同図を参照しつつ、従来回路について説明する。
この容量性負荷バイアス回路は、所望されるバイアス電圧を生成、出力する電圧出力回路(図6においては「V−GEN」と表記)50Aと、この電圧出力回路50Aの出力段とグランドとの間に設けられたESD保護素子1Aと、電圧出力回路50Aと出力端子22Aとの間に設けられたローパスフィルタ51Aとを有して構成されたものとなっている。
The conventional circuit will be described below with reference to FIG.
This capacitive load bias circuit generates a desired bias voltage and outputs it between a voltage output circuit (indicated as “V-GEN” in FIG. 6) 50A and the output stage of this
かかる従来回路において、電圧出力回路50Aの出力電圧に含まれるノイズは、ダイオード(図6においては、それぞれ「D2」、「D3」と表記)31a,31bのOFF抵抗とキャパシタ(図6においては「C」と表記)32により定まるカットオフ周波数を有するローパスフィルタ51Aにより除去されるようになっている。
In such a conventional circuit, noise included in the output voltage of the
しかしながら、上述の従来回路においては、電源投入後に電圧出力回路50Aが動作し、キャパシタ32の充電が開始されるが、ダイオード31a,31bのOFF抵抗が上昇するため、電圧が安定するまでに時間を要するという問題があった。
そのため、この回路をMEMSマイクロフォンのバイアス電圧供給に用いた場合には、電源投入後、MEMSマイクロフォンの感度は徐々に上昇することとなり、立ち上がり特性が緩慢となってしまう問題がある。
However, in the above-described conventional circuit, the
For this reason, when this circuit is used to supply a bias voltage for the MEMS microphone, the sensitivity of the MEMS microphone gradually increases after power-on, and there is a problem that the rise characteristic becomes slow.
また、電圧出力回路50Aがチャージポンプ回路のような電源電圧の10倍近くの出力電圧となる回路をもちいて構成される場合には、MEMSマイクロフォン等の負荷と出力端子22Aとの間に簡単にスイッチを設けることができないとうい問題があった。
Further, when the
本発明は、上記実状に鑑みてなされたもので、容量性負荷に接続されるフィルタ回路を構成するコンデンサの充電時間の短縮とフィルタ特性の向上を図った容量性負荷バイアス回路を提供するものである。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a capacitive load bias circuit that shortens the charging time of a capacitor constituting a filter circuit connected to a capacitive load and improves filter characteristics. is there.
上記本発明の目的を達成するため、本発明に係る容量性負荷バイアス回路は、
所望のバイアス電圧を生成、出力する電圧出力回路と、前記電圧出力回路の出力段とグランドとの間に接続された過電圧保護素子と、前記電圧出力回路の出力段に接続されたローパスフィルタとを有し、
前記ローパスフィルタは、MOSトランジスタを用いたスイッチ用半導体素子とコンデンサとを有してなり、
前記スイッチ半導体素子は、ダイオード接続状態で前記電圧出力回路の出力電圧に対して順方向に設けられると共に、前記電圧出力回路の出力電圧が出力される側の端子とグランドとの間に前記コンデンサが接続される一方、前記スイッチ半導体素子のゲートは外部からスイッチ信号が印加可能とされると共に、当該ゲートと前記電圧出力回路の出力段との間にブートストラップ回路が設けられ、
前記ブートストラップ回路は、MOSトランジスタを用いたスイッチ制御用半導体素子がダイオード接続状態とされて複数直列接続され、当該直列接続されたスイッチ制御用半導体素子列のダイオードのアノードに相当する端部が前記電圧出力回路の出力段に接続される一方、他端が前記スイッチ用半導体素子のゲートに接続され、
前記スイッチ用半導体素子と前記コンデンサとの接続点に容量性負荷が接続された場合に、前記ブートストラップ回路により前記スイッチ用半導体素子のゲート電圧を一時的に上昇させて当該スイッチ用半導体スイッチの導通時間の増長を可能としてなるものである。
In order to achieve the above object of the present invention, a capacitive load bias circuit according to the present invention comprises:
A voltage output circuit that generates and outputs a desired bias voltage, an overvoltage protection element connected between the output stage of the voltage output circuit and the ground, and a low-pass filter connected to the output stage of the voltage output circuit Have
The low-pass filter includes a switch semiconductor element using a MOS transistor and a capacitor.
The switch semiconductor element is provided in a forward direction with respect to the output voltage of the voltage output circuit in a diode connection state, and the capacitor is provided between a terminal on the output side of the voltage output circuit and the ground. On the other hand, a switch signal can be applied to the gate of the switch semiconductor element from the outside, and a bootstrap circuit is provided between the gate and the output stage of the voltage output circuit,
In the bootstrap circuit, a plurality of switch control semiconductor elements using MOS transistors are in a diode-connected state and connected in series, and an end corresponding to the anode of the diode of the series-connected switch control semiconductor element array is One end of the voltage output circuit is connected to the output stage, and the other end is connected to the gate of the switch semiconductor element.
When a capacitive load is connected to a connection point between the switch semiconductor element and the capacitor, the bootstrap circuit temporarily raises the gate voltage of the switch semiconductor element so that the switch semiconductor switch becomes conductive. The time can be increased.
本発明によれば、スイッチ用半導体素子によりローパスフィルタを構成するキャパシタを短時間で確実に充電可能となり、かつ、フィルタ特性の向上を図ることができるという効果を奏するものである。
また、スイッチ用半導体素子とキャパシタで構成されたローパスフィルタを複数縦続接続して設けることでフィルタの次数を上げることができ、さらなるノイズ低減が可能となる。
さらに、スイッチ用半導体素子と逆並列にダイオードを設けることで、ESD耐性をさらに向上することが可能となり、スイッチ用半導体素子の破壊を確実に抑圧、防止することができる。
According to the present invention, the capacitor constituting the low-pass filter can be reliably charged in a short time by the switch semiconductor element, and the filter characteristics can be improved.
In addition, by providing a plurality of low-pass filters composed of switch semiconductor elements and capacitors connected in cascade, the order of the filters can be increased, and noise can be further reduced.
Furthermore, by providing a diode in antiparallel with the switching semiconductor element, it is possible to further improve the ESD resistance, and it is possible to reliably suppress and prevent the destruction of the switching semiconductor element.
以下、本発明の実施の形態について、図1乃至図5を参照しつつ説明する。
なお、以下に説明する部材、配置等は本発明を限定するものではなく、本発明の趣旨の範囲内で種々改変することができるものである。
最初に、第1の回路構成例について、図1を参照しつつ説明する。
容量性負荷バイアス回路は、所望されるバイアス電圧を生成、出力する電圧出力回路(図1においては「V−GEN」と表記)50と、この電圧出力回路50の出力段とグランドとの間に設けられたESD保護素子(過電圧保護素子)1と、電圧出力回路50と出力端子22との間に設けられたローパスフィルタ51と、ブートストラップ回路52とに大別されて構成されてなるものである。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 5.
The members and arrangements described below do not limit the present invention and can be variously modified within the scope of the gist of the present invention.
First, a first circuit configuration example will be described with reference to FIG.
The capacitive load bias circuit generates a desired bias voltage and outputs it between a voltage output circuit (indicated as “V-GEN” in FIG. 1) 50 and an output stage of the
電圧出力回路50は、バイアス電圧として所望される電圧を生成、出力するもので、基本的に従来と同様な構成を有してなるものである。
かかる電圧出力回路50は、具体的には、例えば、チャージポンプ回路を用いて構成され、電源電圧を基により高い所望の電圧を生成、出力可能とするものである。
The
Specifically, the
ESD保護素子1は、電圧出力回路50の出力段とグランドとの間に直列接続されて設けられている。かかるESD保護素子1は、出力端子22に生じた静電気放電による過電圧から電圧出力回路50を保護するためのもので、基本的に従来と同様のものである。
このESD保護素子1は、出力端子22に静電気放電による過電圧が生じた場合に導通状態となり、過電圧によって生ずる電流をグランドへ逃がすことで電圧出力回路50の保護を図るものである。
The
The
ローパスフィルタ51は、スイッチ半導体素子(図1においては「M1」と表記)2とフィルタ用キャパシタ(図1においては「C1」と表記)4とを有して構成されている。
本発明の実施の形態においては、スイッチ用半導体素子2には、NチャンネルMOS FET(以下「NMOS」と称する)が用いられている。
The
In the embodiment of the present invention, an N-channel MOS FET (hereinafter referred to as “NMOS”) is used as the switching
かかるスイッチ用半導体素子2は、そのドレインが出力端子22に接続される一方、バックゲートとソースが相互に接続されると共に、電圧出力回路50の出力段に接続されている。このように、スイッチ用半導体素子2はダイオード接続状態で設けられている。
本発明の実施の形態においては、スイッチ用半導体素子2を、外部からのスイッチ信号SWによってONとする際、スイッチ用半導体素子2のゲート電圧をブートストラップ回路52で引き上げてフィルタ用キャパシタ4の短時間での充電を可能としている(詳細は後述)。その一方、充電完了の際には、スイッチ用半導体素子2を速やかにOFFとさせることで、高抵抗状態としてフィルタ用キャパシタ4と良好なフィルタの形成を可能としている(詳細は後述)。
The
In the embodiment of the present invention, when the
ブートスラップ回路52は、第1及び第2のスイッチ制御用半導体素子(図1においては、それぞれ「M2」、「M3」と表記)3a,3bを有して構成されてなるものである。
本発明の実施の形態においては、第1及び第2のスイッチ制御用半導体素子3a,3bとして、NMOSがそれぞれ用いられている。
The
In the embodiment of the present invention, NMOSs are used as the first and second switch
しかして、第1のスイッチ制御用半導体素子3aのドレインとゲートは相互に接続されると共に、スイッチ用半導体素子2のゲート、及び、DCカットキャパシタ(図1においては「C2」と表記)5の一端に接続されている。
DCカットキャパシタ5の他端は、スイッチ信号入力端子21に接続されている。
Thus, the drain and gate of the first switch
The other end of the
また、第1のスイッチ制御用半導体素子3aのソースは、第2のスイッチ制御用半導体素子3bのドレインに接続され、バックゲートは、第2のスイッチ制御用半導体素子3bのバックゲートと共にスイッチ用半導体素子2のソースに接続されている。
The source of the first switch
第2のスイッチ制御用半導体素子3bは、ゲートとドレインが相互に接続されており、その接続点には、先に述べたように第1のスイッチ制御用半導体素子3aのソースが接続されている。
そして、第2のスイッチ制御用半導体素子3bのソースは、第1のスイッチ用半導体素子2のソースに接続されている。
The gate and drain of the second switch
The source of the second switch
このように、第1及び第2のスイッチ制御用半導体素子3a,3bは、それぞれダイオード接続状態とされてスイッチ用半導体素子2のゲートと、ソースとの間に直列接続されて設けられている。
本発明の実施の形態においては、直列接続された第1及び第2のスイッチ制御用半導体素子3a,3bの一方の端部のドレインがスイッチ用半導体素子2のゲートと共にDCカットキャパシタ5を介してスイッチ信号入力端子21に接続されている。
また、直列接続された第1及び第2のスイッチ制御用半導体素子3a,3bの他方の端部のソースがスイッチ用半導体素子2のソースに接続されている。
As described above, the first and second switch
In the embodiment of the present invention, the drain of one end of the first and second switch
The source of the other end of the first and second switch
なお、本発明の実施の形態においては、2つのNMOSを第1及び第2のスイッチ制御用半導体素子3a,3bとして直列接続して設けたが、この直列接続されるスイッチ制御用半導体素子の数は2つに限定される必要は無く、3つ以上任意の数のスイッチ制御用半導体素子を直列接続して設けても良い。
In the embodiment of the present invention, two NMOSs are provided in series as the first and second switch
次に、かかる構成における動作について説明する。
最初に、スイッチ信号入力端子21が論理値Lowに相当する電圧レベルにあって、電圧出力回路50の電源投入がなされた場合、スイッチ用半導体素子2のゲートには、電源投入直後の電圧出力回路50の出力電圧V0が、ダイオード接続状態の第1及び第2のスイッチ制御用半導体素子3a,3bのドレイン・バックゲートを介して供給されるため、その電圧はV0−VFとなる。なお、ここで、VFは、ダイオード接続状態のNMOSのON電圧である。
そして、出力端子22に出力されるBIAS電圧は、スイッチ用半導体素子2のバックゲートを介して供給されるためV0−VFとなる。
Next, the operation in this configuration will be described.
First, when the switch
The BIAS voltage output to the
次に、スイッチ信号入力端子21に論理値Highに相当する電圧レベル、例えば、VDDのスイッチ信号が印加されると、スイッチ用半導体素子2のゲート電圧は上昇し、V0−VF+VDDとなる。
しかしながら、このスイッチ信号に対して、ダイオード接続状態の第1及び第2のスイッチ制御用半導体素子3a,3bは逆方向に設けられている。そのため、スイッチ用半導体素子2のゲート電圧の上限は、V0+(Vth×N)に制限されることとなる。なお、ここで、VthはMOS FETのしきい値電圧であり、Nはスイッチ制御用半導体素子の直列接続数である。本発明の実施の形態においては、N=2である。
Next, when a voltage level corresponding to the logical value High, for example, a VDD switch signal is applied to the switch
However, the first and second switch
しかして、スイッチ信号が論理値Highに相当する電圧となると、スイッチ用半導体素子2のゲート電圧は上昇するが、時間の経過と共に低下することは回避できないためゲート電圧が低下してON状態を維持できなくなる。
本発明の実施の形態においては、先に述べたように、直列接続された第1及び第2のスイッチ制御用半導体素子3a,3bによってスイッチ用半導体素子2のゲート電圧を従来に比して一時的に高くすることで、スイッチ用半導体素子2のON時間を増長し、より長くON状態に維持可能としている。
Therefore, when the switch signal becomes a voltage corresponding to the logical value High, the gate voltage of the
In the embodiment of the present invention, as described above, the gate voltage of the switching
第1及び第2のスイッチ制御用半導体素子3a,3bはダイオード接続状態で直列接続されているが、それぞれのバックゲートは共通であるため、スイッチ信号の極性に対して逆向きとなるダイオードは、ドレイン・バックゲート間の1個だけである。そのため、スイッチ用半導体素子2の初期のゲート電圧をV0−VFという高い電圧に維持可能となっている。
The first and second switch
次に、第2の構成例について、図2を参照しつつ説明する。
なお、図1に示された構成要素と同一の構成要素については、同一の符号を付して、その詳細な説明を省略し、以下、異なる点を中心に説明する。
この第2の構成例は、第1の構成例において示されたスイッチ用半導体素子2とフィルタ用キャパシタ4で構成されたローパスフィルタ51と同一構成を有する複数のローパスフィルタ51−1〜51−nが、電圧出力回路50の出力段と出力端子22との間に縦続接続されて設けられたものとなっている。なお、この第2の構成例は、n個のローパスフィルタ51−1〜51−nが設けられたものなっている。
Next, a second configuration example will be described with reference to FIG.
The same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, detailed description thereof is omitted, and different points will be mainly described below.
The second configuration example includes a plurality of low-pass filters 51-1 to 51-n having the same configuration as the low-
第1乃至第nのスイッチ用半導体素子(図2においては、「M1−1」〜「M1−n」と表記)2−1〜2−nは、いずれもバックゲートとソースが相互に接続されて、それぞれダイオード接続状態で直列接続されたものとなっている。 Each of the first to n-th switching semiconductor elements (indicated as “M1-1” to “M1-n” in FIG. 2) 2-1 to 2-n has a back gate and a source connected to each other. Thus, they are connected in series in a diode connection state.
直列接続された第1乃至第nのスイッチ用半導体スイッチ2−1〜2−nの直列接続列の一方の端部となる第1のスイッチ用半導体素子2−1のソースは、電圧出力回路50の出力段と接続さる一方、直列接続列の他端となる第nのスイッチ用半導体素子2−nのドレインは、出力端子22に接続されている。
The source of the first switch semiconductor element 2-1 that is one end of the series connection row of the first to n-th switch semiconductor switches 2-1 to 2-n connected in series is the
第1のスイッチ用半導体素子2−1と第nのスイッチ用半導体素子2−nの間に位置するスイッチ用半導体素子は、電圧出力回路50の出力段側にソース及びバックゲートが、出力端子22側にドレインが、それぞれ位置するようにして、第1のスイッチ用半導体素子2−1と第nのスイッチ用半導体素子2−nの間に直列接続されて設けられている。
The switch semiconductor element located between the first switch semiconductor element 2-1 and the nth switch semiconductor element 2-n has a source and a back gate on the output stage side of the
また、第1乃至第nのスイッチ用半導体素子2−1〜2−nの各々のゲートは、第1のスイッチ制御用半導体素子3aのドレインに接続されている。
そして、第1乃至第nのフィルタ用キャパシタ4−1〜4−nは、それぞれ対応する第1乃至第nのスイッチ用半導体素子2−1〜2−nのドレインとグランドとの間に接続されている。
The gates of the first to nth switch semiconductor elements 2-1 to 2-n are connected to the drain of the first switch
The first to nth filter capacitors 4-1 to 4-n are connected between the drains of the corresponding first to nth switch semiconductor elements 2-1 to 2-n and the ground, respectively. ing.
かかる構成における動作は、基本的に図1に示された第1の構成例と同様であるが、直列接続された第1乃至第nのローパスフィルタ51−1〜51−nによってフィルタの次数が上がるため、よりノイズ低減が可能となる。 The operation in this configuration is basically the same as that of the first configuration example shown in FIG. 1, but the order of the filter is reduced by the first to nth low-pass filters 51-1 to 51-n connected in series. Therefore, noise can be further reduced.
次に、第3の構成例について、図3を参照しつつ説明する。
なお、図1、又は、図2に示された構成要素と同一の構成要素については、同一の符号を付して、その詳細な説明を省略し、以下、異なる点を中心に説明する。
この第3の構成例は、スイッチ用半導体素子2と逆並列接続される保護用ダイオード(図3においては「D1」と表記)6を設けたものである。
Next, a third configuration example will be described with reference to FIG.
The same components as those shown in FIG. 1 or FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, detailed description thereof will be omitted, and different points will be mainly described below.
This third configuration example is provided with a protective diode 6 (denoted as “D1” in FIG. 3) 6 connected in reverse parallel to the switching
すなわち、保護用ダイオード6のアノードは、スイッチ用半導体素子2のドレインに接続される一方、カソードは、スイッチ用半導体素子2のソースに接続されている。
このような保護用ダイオード6を設けることで、ESD耐性を高められ、出力端子22から流れ込む電流の流入方向における回路保護の強化を図ることが可能となる。
That is, the anode of the protective diode 6 is connected to the drain of the switching
By providing such a protective diode 6, ESD tolerance can be increased, and circuit protection in the inflow direction of the current flowing from the
また、スイッチ用半導体素子2の両端に高電圧がかかることが防止される。すなわち、電源電圧の供給が停止された場合、出力端子22の電荷はリーク経路が無くなるため、電圧出力回路50側からリークするが、スイッチ用半導体素子2は、OFF状態であり、そのドレイン・ソース間には、電圧出力回路50のコンデンサに残留している電圧がかかる虞がある。MEMSマイクロフォンのように所望されるバイアス電圧が高電圧の場合には、スイッチ用半導体素子2を高耐圧特性を有するものとしなければ破壊に至る虞があるが、保護用ダイオード6を設けたことで、ドレイン・ソース間耐圧が高いスイッチ用半導体素子2を用いること無く破壊防止が可能となる。
Further, it is possible to prevent a high voltage from being applied to both ends of the
次に、第4の構成例について、図4を参照しつつ説明する。
なお、図1、図2、図3のいずれかに示された構成要素と同一の構成要素については、同一の符号を付して、その詳細な説明を省略し、以下、異なる点を中心に説明する。
この第4の構成例は、第1の構成例におけるNMOSに代えてPMOS(PチャンネルMOS FET)を用いた点が異なるもので、半導体素子の種類が異なるのみで、回路構成は基本的に第1の構成例と同一である。
Next, a fourth configuration example will be described with reference to FIG.
The same components as those shown in any of FIGS. 1, 2, and 3 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. Hereinafter, the different points will be mainly described. explain.
The fourth configuration example is different from the first configuration example in that a PMOS (P-channel MOS FET) is used instead of the NMOS in the first configuration example, and only the type of semiconductor element is different. This is the same as the configuration example 1.
以下、具体的な回路構成について、図1と異なる点を中心に説明する。
PMOSを用いたスイッチ用半導体素子(図4において「M4」と表記)2Aは、図1におけるスイッチ用半導体素子2に対応している。
また、同じくPMOSを用いた第1のスイッチ制御用半導体素子(図4において「M5」と表記)7aは、図1における第1のスイッチ制御用半導体素子3aに、PMOSを用いた第2のスイッチ制御用半導体素子(図4において「M6」と表記)7bは、図1における第2のスイッチ制御用半導体素子3bに、それぞれ対応している。
かかる構成における回路動作は、基本的には第1の構成例と同様であるので、ここでの再度の詳細な説明は省略する。
Hereinafter, a specific circuit configuration will be described focusing on differences from FIG.
A switching semiconductor element (indicated as “M4” in FIG. 4) 2A using PMOS corresponds to the switching
Similarly, the first switch control semiconductor element (referred to as “M5” in FIG. 4) 7a using PMOS is a second switch using PMOS as the first switch
Since the circuit operation in such a configuration is basically the same as that of the first configuration example, detailed description thereof is omitted here.
次に、第5の構成例について、図5を参照しつつ説明する。
なお、図1、図2、図3、図4のいずれかに示された構成要素と同一の構成要素については、同一の符号を付して、その詳細な説明を省略し、以下、異なる点を中心に説明する。
この第5の構成例は、ブートストラップ回路52と多段ローパスフィルタ53とを一組のフィルタ回路ブロック41として、このフィルタ回路ブロック41を複数、すなわち、図5に示された構成例においては、n個のフィルタ回路ブロック41−1〜41−nが縦続接続された構成を有するものである。
Next, a fifth configuration example will be described with reference to FIG.
The same components as those shown in any of FIGS. 1, 2, 3, and 4 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. The explanation will be focused on.
In the fifth configuration example, the
まず、多段ローパスフィルタ53は、2つのローパスフィルタ51−1,51−2が縦続接続されて構成されている。
2つのローパスフィルタ51−1,51−2の縦続接続は、図2に示された第2の構成例におけるローパスフィルタ51−1〜51−nの縦続接続において、n=2とした場合の構成と同一のものである。
First, the multistage low-
The cascade connection of the two low-pass filters 51-1 and 51-2 is a configuration in which n = 2 in the cascade connection of the low-pass filters 51-1 to 51-n in the second configuration example shown in FIG. Is the same.
フィルタ回路ブロック41−1〜41−nには、それぞれ別個にスイッチ信号SW1〜SWnが入力されるものとなっている。
これらのスイッチ信号SW1〜SWnは、同時に論理値Highに相当する電圧レベルとして良いし、また、それぞれ個別に論理値Highに相当する電圧レベルとしてもいずれでも良い。
Switch signals SW1 to SWn are separately input to the filter circuit blocks 41-1 to 41-n, respectively.
These switch signals SW1 to SWn may be simultaneously at a voltage level corresponding to the logical value High, or may be any voltage level corresponding to the logical value High individually.
先の第2の構成例の場合、先に説明したように、最終段のフィルタ51−1のスイッチ用半導体素子2−nにおいては、ゲート電圧がV0−VFであるのに対して、ソース電圧はV0−nVFとなる。そのため、ローパスフィルタ51の接続段数が増えるに従い、スイッチ用半導体素子2−nに必要とされる耐圧は高くなる。
In the case of the second configuration example, as described above, in the switching semiconductor element 2-n of the final-stage filter 51-1, the gate voltage is V0-VF, whereas the source voltage Becomes V0-nVF. Therefore, the withstand voltage required for the switching semiconductor element 2-n increases as the number of connection stages of the low-
これに対して、この第5の構成例の場合、多段ローパスフィルタ53のスイッチ用半導体素子2−2のソース電圧は、フィルタ回路ブロック41−1〜41−nの段数に関係無くV0−2×VFであるため、第2の構成例よりも耐圧の低いスイッチ用半導体素子2−2を用いることが可能となる。
On the other hand, in the case of the fifth configuration example, the source voltage of the switching semiconductor element 2-2 of the multistage low-
この第5の構成例の場合、第2の構成例においてローパスフィルタ51−1〜51−nが多数である場合に比してフィルタ用キャパシタ4−1,4−2の迅速な充電が可能となる。
なお、かかる第5の構成例の基本的な回路動作は、第1の構成例と同様であるので、ここでの再度の詳細な説明は省略する。
In the case of this fifth configuration example, it is possible to charge the filter capacitors 4-1 and 4-2 quickly compared to the case where the number of low-pass filters 51-1 to 51-n is large in the second configuration example. Become.
The basic circuit operation of the fifth configuration example is the same as that of the first configuration example, and thus detailed description thereof is omitted here.
本発明の実施の形態においては、負荷としてMEMSマイクロフォンを前提として説明したが、本発明に係る容量性負荷バイアス回路の負荷は、MEMSマイクロフォンに限定される必要は無く、容量性負荷であれば同様に適用できるものである。 In the embodiment of the present invention, the description has been made on the assumption that the MEMS microphone is used as the load. However, the load of the capacitive load bias circuit according to the present invention is not limited to the MEMS microphone. Is applicable.
容量性負荷に接続されるフィルタ回路を構成するキャパシタの充電時間の短縮とフィルタ特性の向上が所望される容量性負荷バイアス回路に適用できる。 The present invention can be applied to a capacitive load bias circuit in which it is desired to shorten the charging time of the capacitor constituting the filter circuit connected to the capacitive load and to improve the filter characteristics.
2…スイッチ用半導体素子
3a…第1のスイッチ制御用半導体素子
3b…第2のスイッチ制御用半導体素子
4…フィルタ用キャパシタ
50…電圧出力回路
51…ローパスフィルタ
52…ブートストラップ回路
2.
Claims (4)
前記ローパスフィルタは、MOSトランジスタを用いたスイッチ用半導体素子とコンデンサとを有してなり、
前記スイッチ半導体素子は、ダイオード接続状態で前記電圧出力回路の出力電圧に対して順方向に設けられると共に、前記電圧出力回路の出力電圧が出力される側の端子とグランドとの間に前記コンデンサが接続される一方、前記スイッチ半導体素子のゲートは外部からスイッチ信号が印加可能とされると共に、当該ゲートと前記電圧出力回路の出力段との間にブートストラップ回路が設けられ、
前記ブートストラップ回路は、MOSトランジスタを用いたスイッチ制御用半導体素子がダイオード接続状態とされて複数直列接続され、当該直列接続されたスイッチ制御用半導体素子列のダイオードのアノードに相当する端部が前記電圧出力回路の出力段に接続される一方、他端が前記スイッチ用半導体素子のゲートに接続され、
前記スイッチ用半導体素子と前記コンデンサとの接続点に容量性負荷が接続された場合に、前記ブートストラップ回路により前記スイッチ用半導体素子のゲート電圧を一時的に上昇させて当該スイッチ用半導体スイッチの導通時間の増長を可能としてなることを特徴とする容量性負荷バイアス回路。 A voltage output circuit that generates and outputs a desired bias voltage, an overvoltage protection element connected between the output stage of the voltage output circuit and the ground, and a low-pass filter connected to the output stage of the voltage output circuit Have
The low-pass filter includes a switch semiconductor element using a MOS transistor and a capacitor.
The switch semiconductor element is provided in a forward direction with respect to the output voltage of the voltage output circuit in a diode connection state, and the capacitor is provided between a terminal on the output side of the voltage output circuit and the ground. On the other hand, a switch signal can be applied to the gate of the switch semiconductor element from the outside, and a bootstrap circuit is provided between the gate and the output stage of the voltage output circuit,
In the bootstrap circuit, a plurality of switch control semiconductor elements using MOS transistors are in a diode-connected state and connected in series, and an end corresponding to the anode of the diode of the series-connected switch control semiconductor element array is One end of the voltage output circuit is connected to the output stage, and the other end is connected to the gate of the switch semiconductor element.
When a capacitive load is connected to a connection point between the switch semiconductor element and the capacitor, the bootstrap circuit temporarily raises the gate voltage of the switch semiconductor element so that the switch semiconductor switch becomes conductive. Capacitive load bias circuit characterized in that time can be increased.
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