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JP2019082621A - Display unit and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP2019082621A
JP2019082621A JP2017210755A JP2017210755A JP2019082621A JP 2019082621 A JP2019082621 A JP 2019082621A JP 2017210755 A JP2017210755 A JP 2017210755A JP 2017210755 A JP2017210755 A JP 2017210755A JP 2019082621 A JP2019082621 A JP 2019082621A
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JP
Japan
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sealing material
protective layer
organic
display
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JP2017210755A
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梶山 康一
Koichi Kajiyama
康一 梶山
貴文 平野
Takafumi Hirano
貴文 平野
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V Technology Co Ltd
Original Assignee
V Technology Co Ltd
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Abstract

【課題】長期の使用に耐え得る表示装置を提供すること。【解決手段】有機ELディスプレイ1は、第1基板2と、この第1基板の表面に設けられた表示素子3と、第1基板の表面に、表示素子を囲んで表面に密着して接合する、低融点メタルでなるシール材4Bと、第1基板と対向する第2基板5と、表示素子およびシール材を覆い、第1基板と第2基板との間隙を埋める、熱硬化型接着剤でなる保護層6Bと、を備える。【選択図】図1A display device capable of withstanding long-term use is provided. An organic EL display (1) includes a first substrate (2), a display element (3) provided on the surface of the first substrate, and a surface of the first substrate, which is in close contact with the surface surrounding the display element. A thermosetting adhesive that covers the sealing material 4B made of low melting point metal, the second substrate 5 facing the first substrate, the display element and the sealing material, and fills the gap between the first substrate and the second substrate. A protective layer 6B. [Selection] Figure 1

Description

本発明は、有機ELディスプレイや量子ドットディスプレイなどの表示装置およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a display device such as an organic EL display and a quantum dot display and a method of manufacturing the same.

近年、有機EL(Electro Luminescence)ディスプレイが注目されている。有機ELディスプレイは、表示部として機能する有機EL層が形成された駆動回路基板と、対向基板と、を備えている。駆動回路基板側に設けられた有機EL層は、保護膜で覆われている。駆動回路基板と対向基板は、保護膜で覆われた有機EL層を挟むように対向して配置され、有機EL層を取り囲むように配置されたシール材で貼り合わせられている。   In recent years, organic EL (Electro Luminescence) displays have attracted attention. The organic EL display includes a drive circuit substrate on which an organic EL layer functioning as a display unit is formed, and an opposing substrate. The organic EL layer provided on the drive circuit substrate side is covered with a protective film. The drive circuit substrate and the opposite substrate are disposed to face each other with the organic EL layer covered by the protective film interposed therebetween, and are bonded by a sealing material disposed to surround the organic EL layer.

一般に、シール材は、有機材料で構成されている。特に、有機ELディスプレイでは、シール材と駆動回路基板との界面を通して、有機ELディスプレイの外部から内部へ向けて水分や酸素などが浸入し易いという問題がある。水分や酸素などが有機ELディスプレイの内部に進入した場合、有機EL層を構成する、例えば、電子輸送層、発光層、正孔輸送層などの素子材料を変質させるという問題がある。この他に、有機ELディスプレイの内部に水分や酸素などが進入した場合、有機EL層に対して電極が剥離するという問題がある。   Generally, the sealing material is made of an organic material. In particular, in the organic EL display, there is a problem that moisture or oxygen easily infiltrates from the outside to the inside of the organic EL display through the interface between the sealing material and the drive circuit substrate. When moisture, oxygen and the like enter into the inside of the organic EL display, there is a problem that the element materials constituting the organic EL layer, such as the electron transport layer, the light emitting layer, and the hole transport layer, are altered. In addition to this, there is a problem that the electrode peels off the organic EL layer when moisture, oxygen or the like enters the inside of the organic EL display.

従来技術としては、有機EL層を額縁状に取り囲む、ともに樹脂でなる内シールと外シールとの間に、低融点の無機材料でなる水分遮断部を設けた有機EL表示装置が知られている(特許文献1参照)。この有機EL表示装置の製造においては、水分遮断部がアレイ基板と対向基板との両方に当接するように形成されている。すなわち、水分遮断部はシールを貫通するように形成されている。この従来技術においては、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせる際に、両基板間の隙間に充填材を充填している。   As a prior art, there is known an organic EL display device in which a moisture blocking portion made of a low melting point inorganic material is provided between an inner seal and an outer seal both surrounding the organic EL layer in a frame shape. (See Patent Document 1). In the manufacture of the organic EL display device, the moisture blocking portion is formed to abut on both the array substrate and the counter substrate. That is, the water blocking portion is formed to penetrate the seal. In this prior art, when the array substrate and the opposite substrate are bonded to each other, the gap between the two substrates is filled with a filler.

特開2015−222644号公報JP, 2015-222644, A

上記の従来技術では、水分遮断部がアレイ基板と対向基板との両方に当接するように形成するために、内シール、水分遮断部および外シールのそれぞれの設計寸法ならびに体積や、相互間の距離などを高い精度で設定する必要がある。   In the above-mentioned prior art, in order to form the moisture blocking portion so as to abut on both the array substrate and the opposing substrate, the design size and volume of each of the inner seal, the moisture blocking portion and the outer seal, and the distance between them Etc. need to be set with high accuracy.

上記の従来技術では、内シールを形成する工程と、外シールを形成する工程と、水分遮断部を形成する工程と、充填材を形成する工程と、が必要であるため、製造工程数が多くなるという問題がある。   In the above-mentioned prior art, since the process of forming the inner seal, the process of forming the outer seal, the process of forming the water blocking portion, and the process of forming the filler are required, the number of manufacturing processes is large. Problem of becoming

上記の従来技術では、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせる際に、内シールや外シールの高さに比べて水分遮断部の高さが低く設定される。このため、この従来技術においては、内シール、水分遮断部および外シールで構成されるシール内部に空気が封入されるという問題がある。このため、内シール、外シールおよび水分遮断部が当接するアレイ基板と対向基板との界面のシール性が低下する虞がある。特に、水分遮断部とアレイ基板との界面のシール性が低下すると、水分などが進入して有機EL層の劣化や電極の剥離などが起こり、有機EL表示装置の寿命が短くなる。   In the above-mentioned prior art, when the array substrate and the counter substrate are pasted together, the height of the water blocking portion is set lower than the height of the inner seal and the outer seal. For this reason, in this prior art, there is a problem that air is enclosed inside the seal constituted by the inner seal, the moisture blocking portion and the outer seal. For this reason, there is a possibility that the sealability of the interface between the array substrate and the counter substrate, in which the inner seal, the outer seal, and the moisture blocking portion abut, is reduced. In particular, when the sealability at the interface between the moisture blocking portion and the array substrate is reduced, moisture or the like enters to cause deterioration of the organic EL layer, peeling of the electrode, and the like, and the lifetime of the organic EL display device is shortened.

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、長期の使用に耐え得る表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。   This invention is made in view of said subject, Comprising: It aims at providing the display apparatus which can endure long-term use, and its manufacturing method.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の態様は、表示装置であって、第1基板と、前記第1基板の表面に設けられた表示素子と、前記表面に、前記表示素子を囲んで当該表面に密着して接合する、低融点メタルでなるシール材と、前記第1基板と対向する第2基板と、前記第2基板に設けられ、前記表示素子および前記シール材を覆い、前記第1基板と前記第2基板との間隙を埋める、熱硬化型接着剤でなる保護層と、を備えることを特徴とする。   In order to solve the problems described above and achieve the object, an aspect of the present invention is a display device, comprising: a first substrate, a display element provided on the surface of the first substrate, and the surface, A sealing material made of a low melting point metal, which is in close contact with and bonded to the surface surrounding the display element, a second substrate facing the first substrate, and the second substrate, the display element and the sealing material And a protective layer made of a thermosetting adhesive and filling a gap between the first substrate and the second substrate.

上記態様としては、前記表面と前記シール材との間に、低融点メタルのぬれ性が高い金属膜が介在されていることが好ましい。   In the above aspect, it is preferable that a metal film having high wettability of the low melting point metal be interposed between the surface and the sealing material.

上記態様としては、前記低融点メタルは、ガリウム、インジウム、ビスマス、錫、およびこれらの合金から選ばれることが好ましい。   In the above aspect, the low melting point metal is preferably selected from gallium, indium, bismuth, tin, and an alloy thereof.

上記態様としては、前記熱硬化型接着剤は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性ポリイミド、アルキド樹脂、ポリウレタンから選ばれることが好ましい。   In the aspect described above, the thermosetting adhesive is preferably selected from an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, an unsaturated polyester resin, a thermosetting polyimide, an alkyd resin, and a polyurethane.

本発明の他の態様は、表示装置の製造方法であって、第1基板の表面に表示素子を形成する工程と、第2基板の表面に熱硬化前の熱硬化型接着剤でなる保護層を配する工程と、前記保護層の表面に、前記第2基板の周縁に沿って周回して環状になるように、低融点メタルでなるシール材を配する工程と、前記第1基板と前記第2基板とを対向配置させて所定のギャップになるように加圧し、前記シール材が前記第1基板の前記表面に接した状態で、前記シール材を前記保護層に埋没させて、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程と、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせた状態で、前記熱硬化型接着剤の硬化温度と前記シール材の融点とのうち高い方の温度以上に加熱して、前記保護層を熱硬化させ前記シール材を溶融させる工程と、を備えることを特徴とする。   Another aspect of the present invention is a method of manufacturing a display device, which comprises the steps of forming a display element on the surface of a first substrate, and a protective layer made of a thermosetting adhesive before thermosetting on the surface of a second substrate. And disposing a sealing material made of low melting point metal on the surface of the protective layer so as to form a ring around the periphery of the second substrate; The second substrate is disposed opposite to each other, and pressure is applied to form a predetermined gap, and the sealing material is buried in the protective layer in a state where the sealing material is in contact with the surface of the first substrate. In the step of bonding the first substrate and the second substrate, and in the state where the first substrate and the second substrate are bonded, the curing temperature of the thermosetting adhesive and the melting point of the sealing material are the highest. Temperature above to heat cure the protective layer and melt the sealing material. And that step, characterized in that it comprises a.

本発明の他の態様は、表示装置の製造方法であって、第1基板の表面に表示素子を形成する工程と、第2基板の表面に熱硬化前の熱硬化型接着剤でなる保護層を配する工程と、前記第1基板の前記表面に、前記第1基板の周縁に沿って周回して環状となるように、低融点メタルでなるシール材を配する工程と、前記第1基板と前記第2基板とを対向配置させて所定のギャップになるように加圧し、前記シール材が前記第1基板の前記表面に接した状態で、前記シール材を前記保護層に埋没させて貼り合わせる工程と、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせた状態で、前記熱硬化型接着剤の硬化温度と前記シール材の融点とのうち高い方の温度以上に加熱して、前記保護層を熱硬化させ前記シール材を溶融させる工程と、を備えることを特徴とする。   Another aspect of the present invention is a method of manufacturing a display device, which comprises the steps of forming a display element on the surface of a first substrate, and a protective layer made of a thermosetting adhesive before thermosetting on the surface of a second substrate. Placing a sealing material made of a low melting point metal on the surface of the first substrate so as to form a ring around the periphery of the first substrate; and And the second substrate are arranged opposite to each other and pressurized so as to have a predetermined gap, and the sealing material is embedded in the protective layer and attached in a state where the sealing material is in contact with the surface of the first substrate Combining the first substrate and the second substrate, heating the curing temperature of the thermosetting adhesive and the melting point of the sealing material to a higher temperature or higher, Heat curing the protective layer to melt the sealing material. And butterflies.

上記態様としては、前記第1基板の前記表面における前記シール材が配される領域に、低融点メタルのぬれ性が高い金属膜を形成しておく工程を備えることが好ましい。   In the above aspect, it is preferable that the method further comprises the step of forming a metal film having high wettability of a low melting point metal in a region of the surface of the first substrate where the sealing material is disposed.

上記態様としては、前記低融点メタルは、ガリウム、インジウム、ビスマス、およびこれらの合金から選ばれることが好ましい。   In the above aspect, the low melting point metal is preferably selected from gallium, indium, bismuth, and an alloy thereof.

上記態様としては、前記熱硬化型接着剤は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性ポリイミド、アルキド樹脂、ポリウレタンから選ばれることが好ましい。   In the aspect described above, the thermosetting adhesive is preferably selected from an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, an unsaturated polyester resin, a thermosetting polyimide, an alkyd resin, and a polyurethane.

上記態様としては、前記シール材は、印刷法で形成されることが好ましい。   In the aspect described above, the sealing material is preferably formed by a printing method.

本発明によれば、長期の使用に耐え得る表示装置およびその製造方法を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the display apparatus which can endure long-term use and its manufacturing method can be provided.

図1は、本発明の第1の実施の形態に係る表示装置の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a display device according to a first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第1の実施の形態に係る表示装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a display device according to the first embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第1の実施の形態に係る表示装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 3 is process sectional drawing which shows the manufacturing method of the display apparatus based on the 1st Embodiment of this invention. 図4は、本発明の第1の実施の形態に係る表示装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 4 is a process sectional view showing a method of manufacturing a display device according to the first embodiment of the present invention. 図5は、本発明の第1の実施の形態に係る表示装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 5 is a process sectional view showing a method of manufacturing a display device according to the first embodiment of the present invention. 図6は、本発明の第1の実施の形態に係る表示装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 6 is a process sectional view showing a method of manufacturing a display device according to the first embodiment of the present invention. 図7は、本発明の第2の実施の形態に係る表示装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 7 is a process sectional view showing a method of manufacturing a display device according to the second embodiment of the present invention. 図8は、本発明の第2の実施の形態に係る表示装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 8 is a process sectional view showing a method of manufacturing a display device according to the second embodiment of the present invention. 図9は、本発明の第3の実施の形態に係る表示装置の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a display device according to a third embodiment of the present invention. 図10は、本発明の第3の実施の形態に係る表示装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 10 is a process sectional view showing a method of manufacturing a display device according to the third embodiment of the present invention. 図11は、本発明の第3の実施の形態に係る表示装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 11 is a process sectional view showing a method of manufacturing a display device according to a third embodiment of the present invention. 図12は、本発明の第3の実施の形態に係る表示装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 12 is a process sectional view showing a method of manufacturing a display device according to a third embodiment of the present invention. 図13は、本発明の第3の実施の形態に係る表示装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 13 is a process sectional view showing a method of manufacturing a display device according to a third embodiment of the present invention. 図14は、本発明の第4の実施の形態に係る表示装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 14 is a process sectional view showing a method of manufacturing a display device according to the fourth embodiment of the present invention.

本発明は、有機ELディスプレイならびに量子ドットディスプレイなどの表示装置に適用できる。以下に、本発明を、有機ELディスプレイに適用した実施の形態を図面に基づいて説明する。但し、図面は模式的なものであり、各部材の寸法や寸法の比率や形状などは現実のものと異なることに留意すべきである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率や形状が異なる部分が含まれている。   The present invention is applicable to display devices such as organic EL displays and quantum dot displays. Hereinafter, an embodiment in which the present invention is applied to an organic EL display will be described based on the drawings. However, it should be noted that the drawings are schematic, and that the dimensions and ratios of the dimensions and shapes of the respective members are different from actual ones. In addition, parts having different dimensional relationships, ratios, and shapes among the drawings are included.

[第1の実施の形態]
(表示装置の構成)
図1および図2は、本発明の第1の実施の形態に係る表示装置としての有機ELディスプレイ1を示している。図1に示すように、有機ELディスプレイ1は、第1基板としての駆動回路基板2と、表示素子としての有機EL表示素子3と、シール材4Bと、第2基板としての対向基板5と、保護層6Bと、を備えている。
First Embodiment
(Configuration of display device)
FIGS. 1 and 2 show an organic EL display 1 as a display device according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the organic EL display 1 includes a drive circuit board 2 as a first substrate, an organic EL display element 3 as a display element, a sealing material 4B, and an opposing substrate 5 as a second substrate. And a protective layer 6B.

本実施の形態では、駆動回路基板2および対向基板5は、ガラス基板で構成されている。図1に示すように、駆動回路基板2と対向基板5とは、互いに対向するように所定のギャップを隔てて配置されている。   In the present embodiment, the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5 are formed of a glass substrate. As shown in FIG. 1, the drive circuit board 2 and the counter board 5 are arranged at predetermined gaps so as to face each other.

有機EL表示素子3は、駆動回路基板2の表面2Aに沿って設けられている。有機EL表示素子3は、マトリクス状に配置された画素領域を備えている。それぞれの画素領域には、スイッチング素子を備えている。有機EL表示素子3は、少なくとも、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電極、配線などを備えている。   The organic EL display element 3 is provided along the surface 2 A of the drive circuit board 2. The organic EL display element 3 includes pixel regions arranged in a matrix. Each pixel region is provided with a switching element. The organic EL display device 3 includes at least a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electrode, a wiring, and the like.

図1および図2に示すように、シール材4Bは、駆動回路基板2の表面2Aにおいて、有機EL表示素子3を囲む環状の形状に形成され、表面2Aに密着して接合している。シール材4Bは、例えば、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、ビスマス(Bi)、錫(Sn)などの単体やそれらを含む合金などの低融点メタルでなる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the sealing material 4B is formed in an annular shape surrounding the organic EL display element 3 on the surface 2A of the drive circuit substrate 2, and is closely bonded to the surface 2A. The sealing material 4B is made of, for example, a low melting point metal such as a single substance such as gallium (Ga), indium (In), bismuth (Bi), tin (Sn) or an alloy containing them.

保護層6Bは、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性ポリイミド、アルキド樹脂、ポリウレタンなどの熱硬化型接着剤で形成されている。本実施の形態においては、保護層6Bは、有機EL表示素子3およびシール材4を一括して覆い、駆動回路基板2と対向基板5との間隙を埋めている。   The protective layer 6B is formed of, for example, a thermosetting adhesive such as an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, an unsaturated polyester resin, a thermosetting polyimide, an alkyd resin, and a polyurethane. In the present embodiment, the protective layer 6B covers the organic EL display element 3 and the sealing material 4 at once and fills the gap between the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5.

そして、有機ELディスプレイ1は、保護層6Bを構成する熱硬化型接着剤の硬化温度以上で、かつシール材4Bの融点以上の温度での加熱処理が施されている。このため、保護層6Bを構成する熱硬化型接着剤は、硬化した状態にある。保護層6Bに加熱処理が施されたことにより、駆動回路基板2と対向基板5とは保護層6Bと密着した状態で接着されている。なお、加熱処理の温度は、有機EL表示素子3の性能に影響を及ぼさない温度で行うことは勿論である。   The organic EL display 1 is subjected to heat treatment at a temperature higher than the curing temperature of the thermosetting adhesive constituting the protective layer 6B and at a temperature higher than the melting point of the sealing material 4B. For this reason, the thermosetting adhesive constituting the protective layer 6B is in a cured state. Since the heat treatment is performed on the protective layer 6B, the drive circuit board 2 and the counter substrate 5 are bonded in a state of being in close contact with the protective layer 6B. Of course, the temperature of the heat treatment is performed at a temperature that does not affect the performance of the organic EL display element 3.

保護層6Bによって、シール材4Bは駆動回路基板2に密に接触した状態で封止されている。シール材4Bは、保護層6Bを熱硬化させる際に、融点以上の温度で加熱処理を経ているため、溶融時に駆動回路基板2の表面2Aのガラス構造の微細な凹凸などに密に沿った接合面で接合されている。また、例えば、駆動回路基板2の表面2Aに引き回し配線などが絶縁膜で覆われて形成されていたとしても、溶融したシール材4A(図5参照)が絶縁膜などの微細な段差形状に追従して密接な界面を形成する。したがって、温度が下がって固化したシール材4Bと駆動回路基板2との接合界面は、気密性ならびに水密性が高い。   The sealing material 4B is sealed in close contact with the drive circuit board 2 by the protective layer 6B. Since the sealing material 4B is subjected to heat treatment at a temperature higher than the melting point when the protective layer 6B is thermally cured, the bonding closely follows the fine unevenness of the glass structure of the surface 2A of the drive circuit board 2 at the time of melting. It is joined by the surface. Also, for example, even if lead wiring or the like is covered with the insulating film and formed on the surface 2A of the drive circuit substrate 2, the melted sealing material 4A (see FIG. 5) follows the minute step shape such as the insulating film. Form a close interface. Therefore, the bonding interface between the seal material 4B solidified by lowering the temperature and the drive circuit board 2 is highly airtight and water tight.

保護層6Bは、有機EL表示素子3全体を覆う構成であるため、有機EL表示素子3を外部環境から隔離保護し、有機EL表示素子3の表面を機械的、化学的に保護する。   Since the protective layer 6B is configured to cover the entire organic EL display element 3, the organic EL display element 3 is isolated and protected from the external environment, and the surface of the organic EL display element 3 is mechanically and chemically protected.

シール材4Bは、駆動回路基板2に密着して接合された状態で、保護層6Bに封止されているため、このシール材4Bと駆動回路基板2との界面を水分や空気などが通過することを阻止できる。   The sealing material 4B is sealed in the protective layer 6B in a state in which the sealing material 4B is in close contact with and is bonded to the drive circuit substrate 2, and therefore moisture, air, etc. pass through the interface between the sealing material 4B and the drive circuit substrate 2. You can stop that.

また、保護層6Bは熱硬化しているため、駆動回路基板2との界面は勿論、対向基板5との界面においても、強固な密着面を保持する。このため、保護層6Bにより、水分や空気などがディスプレイ内に進入することを抑制できる。本実施の形態に係る有機ELディスプレイ1は、水分や酸素などによる有機EL表示素子3の劣化や図示しない電極の剥離などが起こることを防止できる。このため、本実施の形態に係る有機ELディスプレイ1は、長期の使用に耐え得る。   Further, since the protective layer 6B is thermally cured, a strong adhesion surface is maintained not only at the interface with the drive circuit board 2 but also at the interface with the counter substrate 5. Therefore, the protective layer 6B can suppress entry of moisture, air, and the like into the display. The organic EL display 1 according to the present embodiment can prevent the occurrence of deterioration of the organic EL display element 3 due to moisture, oxygen, etc., peeling of electrodes not shown, and the like. Therefore, the organic EL display 1 according to the present embodiment can withstand long-term use.

(表示装置の製造方法)
次に、図3から図6を用いて、本発明の表示装置の製造方法を、上記有機ELディスプレイ1の製造方法に適用して説明する。
(Method of manufacturing display device)
Next, the method of manufacturing the display device of the present invention will be described by applying the method of manufacturing the organic EL display 1 with reference to FIGS. 3 to 6.

図3に示すように、駆動回路基板2の表面2Aに有機EL表示素子3を形成しておく。この有機EL表示素子3の形成工程では、図示しない、正孔注入電極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入電極、配線などの形成工程を備える。   As shown in FIG. 3, the organic EL display element 3 is formed on the surface 2A of the drive circuit board 2. The step of forming the organic EL display device 3 includes a step of forming a hole injection electrode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection electrode, a wiring, and the like (not shown).

また、対向基板5の一方の表面に、熱硬化前の熱硬化性樹脂でなる保護層6Aを所定の厚さ寸法となるように塗布する。なお、保護層6Aの厚さ寸法は、駆動回路基板2と対向基板5との設定ギャップよりわずかに長く(厚く)なるように設定する。なお、保護層6Aは、塗布された膜厚の状態を保持できる程度で、しかも流動性を有する粘度に調整されている。   Further, on one surface of the opposing substrate 5, a protective layer 6A made of a thermosetting resin before thermosetting is applied so as to have a predetermined thickness dimension. The thickness dimension of the protective layer 6A is set to be slightly longer (thicker) than the set gap between the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5. The protective layer 6A is adjusted to a viscosity having fluidity so as to maintain the coated film thickness.

図3に示すように、対向基板5の表面に形成された保護層6Aの表面上に、この表面の周縁に沿って周回して環状になるようなパターンに、低融点メタルでなるシール材4Bを印刷法により形成する。図3に示すシール材4Bは、溶融された状態で印刷された後に、温度が下がって固化した状態である。図2に示すように、このシール材4Bは、有機ELディスプレイ1の製造が完成したときに、有機EL表示素子3を取り囲むように有機ELディスプレイ1の輪郭に沿って、四角い環状となるように設定されている。   As shown in FIG. 3, on the surface of the protective layer 6A formed on the surface of the counter substrate 5, a sealing material 4B made of low melting point metal is formed in a pattern that turns around along the periphery of the surface to become annular. Are formed by the printing method. The sealing material 4B shown in FIG. 3 is in a state in which the temperature is lowered and solidified after printing in a molten state. As shown in FIG. 2, when the manufacturing of the organic EL display 1 is completed, the sealing material 4B has a square annular shape along the outline of the organic EL display 1 so as to surround the organic EL display element 3. It is set.

次に、有機EL表示素子3が設けられた駆動回路基板2と、保護層6Aおよびシール材4Bが形成された対向基板5とを図3に示すように向き合わせて配置する。   Next, the drive circuit substrate 2 provided with the organic EL display element 3 and the opposite substrate 5 provided with the protective layer 6A and the sealing material 4B are disposed to face each other as shown in FIG.

そして、図4に示すように、駆動回路基板2と対向基板5とを加圧して貼り合わせる。ここで、駆動回路基板2と対向基板5とが、所定のギャップを隔てるように設定されている。このとき、シール材4Bは、保護層6Aに埋没し、駆動回路基板2に当接した状態となる。また、シール材4Bが保護層6Aに埋没した状態で、保護層6Aの表面とシール材4Bの表面(保護層6Aから露呈する面)とが面一となる。このとき、保護層6Aは、駆動回路基板2の表面に密着している。図4に示すように、貼り合わせた状態において、有機EL表示素子3は、シール材4Bと同様に保護層6Aに埋没して、駆動回路基板2と保護層6Aとで封止されている。   Then, as shown in FIG. 4, the drive circuit board 2 and the counter board 5 are pressurized and attached. Here, the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5 are set to separate a predetermined gap. At this time, the sealing material 4B is buried in the protective layer 6A and is in contact with the drive circuit board 2. Further, in a state where the sealing material 4B is buried in the protective layer 6A, the surface of the protective layer 6A and the surface of the sealing material 4B (surface exposed from the protective layer 6A) become flush. At this time, the protective layer 6A is in close contact with the surface of the drive circuit board 2. As shown in FIG. 4, in the bonded state, the organic EL display element 3 is buried in the protective layer 6A in the same manner as the sealing material 4B, and is sealed by the drive circuit board 2 and the protective layer 6A.

次に、図5に示すように、駆動回路基板2と対向基板5とを貼り合わせた状態で、保護層6Aの構成材料である熱硬化型接着剤の硬化温度と、シール材4Bの融点と、のうち、高い方の温度以上に所定時間の加熱を行い、保護層6Aを熱硬化させシール材4Bを溶融させる。図5は、硬化した状態の保護層6Bと、溶融した状態のシール材4Aを示している。このようにして、有機ELディスプレイ1の製造は、完了する。図6は、有機ELディスプレイ1の完成状態を示している。すなわち、この有機ELディスプレイ1は、熱処理を施した後に常温に戻った状態である。   Next, as shown in FIG. 5, with the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5 attached, the curing temperature of the thermosetting adhesive that is the constituent material of the protective layer 6A, and the melting point of the sealing material 4B The heat treatment is performed for a predetermined time above the higher temperature to heat-set the protective layer 6A and melt the sealing material 4B. FIG. 5 shows the protective layer 6B in a cured state and the sealing material 4A in a melted state. Thus, the manufacture of the organic EL display 1 is completed. FIG. 6 shows the completed state of the organic EL display 1. That is, the organic EL display 1 is in a state where it returns to normal temperature after heat treatment.

上記の製造方法によれば、熱処理によりシール材4Bが流動化して駆動回路基板2と密着した状態で接合させることができるため、有機EL表示素子3が設けられた駆動回路基板2の表面2Aに沿って水分や酸素などが進入することを防止できる。このため、本実施の形態に係る有機ELディスプレイ(表示装置)の製造方法によれば、有機EL表示素子3を構成する有機EL層の劣化や電極の剥離などを防止できる。したがって、本実施の形態に係る有機ELディスプレイの製造方法によれば、寿命の長い有機ELディスプレイ1を製造することができる。   According to the above manufacturing method, since the sealing material 4B can be fluidized by heat treatment and can be bonded in close contact with the drive circuit board 2, the surface 2A of the drive circuit board 2 provided with the organic EL display element 3 is provided. Water and oxygen can be prevented from entering along. For this reason, according to the method of manufacturing the organic EL display (display device) according to the present embodiment, it is possible to prevent the deterioration of the organic EL layer constituting the organic EL display element 3 and the peeling of the electrodes. Therefore, according to the method of manufacturing an organic EL display according to the present embodiment, the organic EL display 1 having a long lifetime can be manufactured.

上記の製造方法によれば、図3に示したように、保護層6Aの上にシール材4Bを形成しておけば、シール材4Bの寸法、形状、ならびに体積など精度の影響を受けずに、駆動回路基板2の表面2Aとシール材4Bとの確実なシール面を確保できる。   According to the above manufacturing method, as shown in FIG. 3, if the sealing material 4B is formed on the protective layer 6A, the size, shape, and volume of the sealing material 4B are not affected by the accuracy. A reliable sealing surface between the surface 2A of the drive circuit board 2 and the sealing material 4B can be secured.

上記の製造方法によれば、対向基板5に塗布した保護層6Aが加圧処理および加熱処理を経ることで、シール材4Bの封止効果、駆動回路基板2と対向基板5との接着効果、および有機EL表示素子3の保護効果を同時に実現できる。したがって、本実施の形態に係る有機ELディスプレイの製造方法によれば、製造工程数を少なくでき、製造時間および製造コストを大幅に削減できる。   According to the above manufacturing method, the protective layer 6A applied to the counter substrate 5 is subjected to pressure treatment and heat treatment, whereby the sealing effect of the sealing material 4B, the adhesion effect between the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5, And the protective effect of the organic EL display element 3 can be realized simultaneously. Therefore, according to the method of manufacturing an organic EL display according to the present embodiment, the number of manufacturing steps can be reduced, and manufacturing time and cost can be significantly reduced.

上記の製造方法によれば、保護層6Bが有機EL表示素子3全体を覆うため、万一、対向基板5と保護層6Bとの界面から水分や酸素が進入した場合に、有機EL表示素子3を保護層6Bが保護するため、有機EL表示素子3を構成する有機EL層の劣化や電極の剥離などを防止できる。すなわち、保護層6は、対向基板5と保護層6Bとの界面から水分や酸素が進入したとしても、その水分や酸素が有機EL表示素子3と駆動回路基板2との界面に到ることを防止する。   According to the above manufacturing method, since the protective layer 6B covers the whole of the organic EL display element 3, the organic EL display element 3 should be exposed to moisture or oxygen from the interface between the opposing substrate 5 and the protective layer 6B. Since the protective layer 6B protects the organic EL display element 3, deterioration of the organic EL layer constituting the organic EL display element 3, peeling of the electrode and the like can be prevented. That is, even if moisture or oxygen intrudes from the interface between the opposing substrate 5 and the protective layer 6B, the protective layer 6 causes the moisture or oxygen to reach the interface between the organic EL display element 3 and the drive circuit substrate 2 To prevent.

上記の製造方法においては、加圧処理に伴い、熱処理前の保護層6Aに対して、シール材4Bおよび有機EL表示素子3が徐々に埋没していくため、保護層6A内に空気が残って空洞を作ることを抑制できる。このため、有機ELディスプレイ1の内部に、水分や酸素などが蓄積される空洞が形成されることを防止できる。   In the above manufacturing method, since the sealing material 4B and the organic EL display element 3 are gradually buried in the protective layer 6A before the heat treatment along with the pressure treatment, air remains in the protective layer 6A. It is possible to suppress the formation of a cavity. For this reason, it can prevent that the cavity in which water | moisture content, oxygen, etc. are accumulate | stored in the inside of the organic EL display 1 is formed.

[第2の実施の形態]
次に、図7および図8を用いて、本発明の表示装置の製造方法を、有機ELディスプレイの製造方法に適用した第2の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態において、上記第1の実施の形態と同一部材には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
Second Embodiment
Next, a second embodiment in which the method for manufacturing a display device of the present invention is applied to a method for manufacturing an organic EL display will be described using FIGS. 7 and 8. In the present embodiment, the same members as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description will be omitted.

図7に示すように、駆動回路基板2の表面2Aに、有機EL表示素子3を形成しておく。駆動回路基板2の表面2Aの周縁には、有機EL表示素子3を取り囲むように、低融点メタルでなるシール材4Bを印刷法により形成する。このシール材4Bは、有機EL表示素子3を取り囲むように有機ELディスプレイ1の輪郭に沿って、四角い環状となるように設定されている。   As shown in FIG. 7, the organic EL display element 3 is formed on the surface 2A of the drive circuit substrate 2. On the periphery of the surface 2A of the drive circuit board 2, a sealing material 4B made of a low melting point metal is formed by printing so as to surround the organic EL display element 3. The sealing material 4 B is set to have a square ring shape along the contour of the organic EL display 1 so as to surround the organic EL display element 3.

図7に示すように、対向基板5の一方の表面には、熱硬化前の熱硬化性樹脂でなる保護層6Aを所定の厚さ寸法となるように塗布する。なお、保護層6Aの厚さ寸法は、駆動回路基板2と対向基板5とのギャップよりわずかに長く(厚く)なるように設定する。   As shown in FIG. 7, on one surface of the counter substrate 5, a protective layer 6A made of a thermosetting resin before thermosetting is applied so as to have a predetermined thickness. The thickness dimension of the protective layer 6A is set to be slightly longer (thicker) than the gap between the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5.

次に、有機EL表示素子3およびシール材4Bが設けられた駆動回路基板2と、保護層6Aが形成された対向基板5とを図7に示すように向き合わせて配置する。   Next, the drive circuit board 2 on which the organic EL display element 3 and the sealing material 4B are provided, and the counter substrate 5 on which the protective layer 6A is formed are disposed to face each other as shown in FIG.

そして、図8に示すように、駆動回路基板2と対向基板5とを加圧して貼り合わせる。このとき、駆動回路基板2と対向基板5とが、所定のギャップを隔てるように設定されている。このとき、シール材4Bは、保護層6Aに埋没し、駆動回路基板2に当接した状態を維持する(シール材4Bは駆動回路基板2に印刷されている)。この状態において、保護層6は、駆動回路基板2の表面2Aに密着している。図8に示すように、貼り合わせた状態において、有機EL表示素子3は、シール材4と同様に保護層6Aに埋没して、駆動回路基板2と保護層6Aとで封止されている。   Then, as shown in FIG. 8, the drive circuit board 2 and the counter board 5 are pressurized and bonded. At this time, the drive circuit board 2 and the counter board 5 are set to separate a predetermined gap. At this time, the sealing material 4B is buried in the protective layer 6A and is maintained in a state of being in contact with the drive circuit board 2 (the sealing material 4B is printed on the drive circuit board 2). In this state, the protective layer 6 is in close contact with the surface 2 A of the drive circuit board 2. As shown in FIG. 8, in the bonded state, the organic EL display element 3 is buried in the protective layer 6A in the same manner as the sealing material 4 and sealed with the drive circuit board 2 and the protective layer 6A.

次に、上記第1の実施の形態と同様に、駆動回路基板2と対向基板5とを貼り合わせた状態で、保護層6Aの構成材料である熱硬化型接着剤の硬化温度と、シール材4Bの融点と、のうち、高い方の温度以上に所定時間の加熱を行い、保護層6Aを熱硬化させることにより、有機ELディスプレイ1の製造が完了する。   Next, in the same manner as in the first embodiment, in the state where the drive circuit board 2 and the counter board 5 are bonded to each other, the curing temperature of the thermosetting adhesive which is the constituent material of the protective layer 6A, and the sealing material By heating the protective layer 6A for a predetermined time at a temperature higher than the melting point of 4B and higher, the manufacturing of the organic EL display 1 is completed.

本実施の形態では、シール材4Bを、平坦性の高い駆動回路基板2側に形成したため、シール材4Bの形成工程が容易になるという利点がある。なお、本実施の形態における作用・効果は上記第1の実施の形態と同様であるため、説明を省略する。   In the present embodiment, since the sealing material 4B is formed on the side of the drive circuit substrate 2 with high flatness, there is an advantage that the process of forming the sealing material 4B becomes easy. In addition, since the operation and effect in the present embodiment are the same as those in the first embodiment, the description will be omitted.

[第3の実施の形態]
(表示装置の構成)
図9は、本発明の第3の実施の形態に係る表示装置としての有機ELディスプレイ1Aを示している。本実施の形態では、有機ELディスプレイ1Aが、シール材4Bの他に金属膜7を備えたことを特徴とする。なお、本実施の形態において、上記第1の実施の形態と同一部材には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
Third Embodiment
(Configuration of display device)
FIG. 9 shows an organic EL display 1A as a display device according to a third embodiment of the present invention. The present embodiment is characterized in that the organic EL display 1A includes the metal film 7 in addition to the sealing material 4B. In the present embodiment, the same members as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description will be omitted.

図9に示すように、有機ELディスプレイ1Aは、第1基板としての駆動回路基板2と、表示素子としての有機EL表示素子3と、シール材4Bと、第2基板としての対向基板5と、保護層6Bと、シール材4Bと接合する膜厚の薄い金属膜7と、を備えている。   As shown in FIG. 9, the organic EL display 1A includes a drive circuit board 2 as a first substrate, an organic EL display element 3 as a display element, a sealing material 4B, and an opposing substrate 5 as a second substrate. A protective layer 6B and a thin metal film 7 to be bonded to the sealing material 4B are provided.

本実施の形態においても、駆動回路基板2および対向基板5は、ガラス基板で構成されている。図9に示すように、駆動回路基板2と対向基板5とは、互いに対向するように所定のギャップを隔てて配置されている。   Also in the present embodiment, the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5 are formed of a glass substrate. As shown in FIG. 9, the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5 are disposed with a predetermined gap so as to face each other.

有機EL表示素子3は、駆動回路基板2の表面2Aに沿って設けられている。金属膜7は、有機EL表示素子3を囲むように表面に密着して接合する。この金属膜7は、シール材4Bを構成する低融点メタルとのぬれ性の高い金属であり、例えば、金(Au)、銀(Ag)などを挙げることができる。なお、この金属膜の形成方法としては、印刷法、蒸着法などを用いることができる。   The organic EL display element 3 is provided along the surface 2 A of the drive circuit board 2. The metal film 7 is in close contact with and bonded to the surface so as to surround the organic EL display element 3. The metal film 7 is a metal having high wettability with the low melting point metal constituting the sealing material 4B, and examples thereof include gold (Au) and silver (Ag). In addition, the printing method, the vapor deposition method, etc. can be used as a formation method of this metal film.

シール材4Bは、金属膜7と重なるように、略同一形状に形成されている。シール材4Bは、例えば、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、ビスマス(Bi)、錫(Sn)などの単体やそれらを含む合金などの低融点メタルでなり、金属膜7を構成する金属に対してぬれ性が高い。   The sealing material 4 B is formed in substantially the same shape so as to overlap the metal film 7. The sealing material 4 B is made of, for example, a low melting point metal such as a single substance such as gallium (Ga), indium (In), bismuth (Bi), tin (Sn) or an alloy containing them. It has high wettability.

保護層6Bは、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性ポリイミド、アルキド樹脂、ポリウレタンなどの熱硬化型接着剤で形成されている。保護層6Bは、有機EL表示素子3およびシール材4および金属膜7を一括して覆い、駆動回路基板2と対向基板5との間隙を埋めている。   The protective layer 6B is formed of, for example, a thermosetting adhesive such as an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, an unsaturated polyester resin, a thermosetting polyimide, an alkyd resin, and a polyurethane. The protective layer 6 B covers the organic EL display element 3, the sealing material 4 and the metal film 7 at one time, and fills the gap between the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5.

そして、有機ELディスプレイ1Aは、保護層6Bを構成する熱硬化型接着剤の硬化温度以上で、かつシール材4Bの融点以上の温度での加熱処理が施されている。このため、保護層6Bを構成する熱硬化型接着剤は、硬化した状態にある。保護層6Bに加熱処理が施されたことにより、駆動回路基板2と対向基板5とは保護層6Bと密着した状態で接着されている。   The organic EL display 1A is subjected to heat treatment at a temperature higher than the curing temperature of the thermosetting adhesive constituting the protective layer 6B and at a temperature higher than the melting point of the sealing material 4B. For this reason, the thermosetting adhesive constituting the protective layer 6B is in a cured state. Since the heat treatment is performed on the protective layer 6B, the drive circuit board 2 and the counter substrate 5 are bonded in a state of being in close contact with the protective layer 6B.

保護層6Bによって、シール材4Bは金属膜7を介して駆動回路基板2に密に接触した状態で封止されている。シール材4Bは、保護層6Bを熱硬化させる際に、融点以上の温度での加熱処理を経ているため、溶融時に金属膜7に対してぬれ性のよい状態で接合されている。   The sealing material 4B is sealed by the protective layer 6B in close contact with the drive circuit board 2 via the metal film 7. Since the sealing material 4B is subjected to heat treatment at a temperature equal to or higher than the melting point when the protective layer 6B is thermally cured, the sealing material 4B is bonded in a state of good wettability to the metal film 7 at the time of melting.

保護層6Bは、有機EL表示素子3全体を覆う構成であるため、有機EL表示素子3を外部環境から隔離保護し、有機EL表示素子3の表面を機械的、化学的に保護する。シール材4Bは、このシール材4Bとのぬれ性が高い金属膜7に密着して接合された状態で保護層6Bに封止されているため、金属膜7とシール材4Bとの界面を水分や空気などが通過することを阻止できる。   Since the protective layer 6B is configured to cover the entire organic EL display element 3, the organic EL display element 3 is isolated and protected from the external environment, and the surface of the organic EL display element 3 is mechanically and chemically protected. Since the sealing material 4B is sealed in the protective layer 6B in a state in which the sealing material 4B is in close contact with and bonded to the metal film 7 having high wettability with the sealing material 4B, the interface between the metal film 7 and the sealing material 4B And air can be blocked.

(表示装置の製造方法)
図10から図13は、本発明の表示装置を有機ELディスプレイ1Aに適用した有機ELディスプレイの製造方法を示す工程断面図である。
(Method of manufacturing display device)
10 to 13 are process sectional views showing a method of manufacturing an organic EL display in which the display device of the present invention is applied to the organic EL display 1A.

図10に示すように、駆動回路基板2の表面2Aに有機EL表示素子3を形成しておく。駆動回路基板2における有機EL表示素子3の外側には、有機EL表示素子3を取り囲むように金属膜7を環状に形成する。   As shown in FIG. 10, the organic EL display element 3 is formed on the surface 2 A of the drive circuit substrate 2. A metal film 7 is annularly formed on the outside of the organic EL display element 3 in the drive circuit substrate 2 so as to surround the organic EL display element 3.

また、対向基板5の一方の表面に、熱硬化前の熱硬化性樹脂でなる保護層6Aを所定の厚さ寸法となるように塗布する。なお、保護層6Aの厚さ寸法は、駆動回路基板2と対向基板5とのギャップよりわずかに長く(厚く)なるように設定する。なお、この状態では、保護層6Aは、塗布された膜厚の状態を保持できる程度で、しかも流動性を有する粘度に調整されている。   Further, on one surface of the opposing substrate 5, a protective layer 6A made of a thermosetting resin before thermosetting is applied so as to have a predetermined thickness dimension. The thickness dimension of the protective layer 6A is set to be slightly longer (thicker) than the gap between the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5. In this state, the protective layer 6A is adjusted to a viscosity having fluidity so as to maintain the coated film thickness.

図10に示すように、対向基板5の表面に形成された保護層6Aの表面上に、この表面の周縁に沿って周回して環状になるようなパターンに、低融点メタルでなるシール材4Bを印刷法により形成する。なお、図10に示すシール材4Bは、溶融された状態で印刷された後に、温度が下がって固化した状態である。このシール材4Bは、上記金属膜7と対応する環状の形状である。   As shown in FIG. 10, on the surface of the protective layer 6A formed on the surface of the opposing substrate 5, a sealing material 4B made of low melting point metal is formed in a pattern that turns around along the periphery of this surface to become annular. Are formed by the printing method. The sealing material 4B shown in FIG. 10 is in a state in which the temperature is lowered and solidified after being printed in a melted state. The sealing material 4 B has an annular shape corresponding to the metal film 7.

次に、図11に示すように、駆動回路基板2と対向基板5とを向き合わせ、加圧して貼り合わせる。ここで、駆動回路基板2と対向基板5とが、所定のギャップを隔てるように設定されている。このとき、シール材4Bと金属膜7は当接し、ともに保護層6Aに埋没する。図11示すように、貼り合わせた状態において、有機EL表示素子3は、シール材4および金属膜7と同様に保護層6Aに埋没して、駆動回路基板2と保護層6Aとで封止されている。   Next, as shown in FIG. 11, the drive circuit board 2 and the counter board 5 are faced to each other, pressed and bonded. Here, the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5 are set to separate a predetermined gap. At this time, the sealing material 4B and the metal film 7 are in contact with each other, and both are buried in the protective layer 6A. As shown in FIG. 11, in the bonded state, the organic EL display element 3 is buried in the protective layer 6A in the same manner as the sealing material 4 and the metal film 7, and sealed with the drive circuit board 2 and the protective layer 6A. ing.

次に、図12に示すように、駆動回路基板2と対向基板5とを貼り合わせた状態で、保護層6Aの構成材料である熱硬化型接着剤の硬化温度と、シール材4Bの融点と、のうち、高い方の温度以上に所定時間の加熱を行い、保護層6Aを熱硬化させシール材4Bを溶融させる。図12は、硬化した状態の保護層6Bと、溶融した状態のシール材4Aを示している。このようにして、有機ELディスプレイ1Aの製造は、完了する。   Next, as shown in FIG. 12, with the drive circuit substrate 2 and the counter substrate 5 attached to each other, the curing temperature of the thermosetting adhesive that is the constituent material of the protective layer 6A and the melting point of the sealing material 4B The heat treatment is performed for a predetermined time above the higher temperature to heat-set the protective layer 6A and melt the sealing material 4B. FIG. 12 shows the protective layer 6B in a cured state and the sealing material 4A in a melted state. Thus, the manufacture of the organic EL display 1A is completed.

上記の製造方法によれば、ぬれ性の高い(シール材4Bとの親和性の高い)金属膜7によってシール材4Bが駆動回路基板2から剥離し難くなる。このため、有機EL表示素子3が設けられた駆動回路基板2の表面2Aに沿って水分や酸素などが進入することを防止できる。本実施の形態に係る有機ELディスプレイの製造方法によれば、有機EL表示素子3を構成する有機EL層の劣化や電極の剥離などを防止できる。そして、本実施の形態に係る有機ELディスプレイの製造方法によれば、寿命の長い有機ELディスプレイ1Aを製造することができる。なお、本実施の形態において、シール材4Bを金属膜7と同じ幅の帯状に形成したが、シール材4Bの幅を金属膜7の幅よりも大きくしてシール材4Bが駆動回路基板2に直接当接する部分を備えるようにしてもよい。   According to the above manufacturing method, the seal material 4B is difficult to peel off from the drive circuit board 2 by the metal film 7 having high wettability (high affinity with the seal material 4B). For this reason, it is possible to prevent moisture, oxygen, and the like from entering along the surface 2A of the drive circuit substrate 2 provided with the organic EL display element 3. According to the method of manufacturing an organic EL display according to the present embodiment, it is possible to prevent the deterioration of the organic EL layer constituting the organic EL display element 3 and the peeling of electrodes. And according to the manufacturing method of the organic EL display concerning this embodiment, organic EL display 1A with a long life can be manufactured. In the present embodiment, the sealing material 4B is formed in a band shape having the same width as the metal film 7. However, the width of the sealing material 4B is made larger than the width of the metal film 7, and the sealing material 4B is used as the driving circuit substrate 2. You may make it provide the part which contact | abuts directly.

[第4の実施の形態]
図14は、本発明の表示装置の第4の実施の形態に係る有機ELディスプレイ1Bを示す。本実施の形態に係る有機ELディスプレイ1Bは、ともに低融点メタルでなる、内側のシール材41Bと、外側のシール材42Bと、を備えることを特徴とする。本実施の形態に係る有機ELディスプレイ1Bの他の構成は、上記した第1の実施の形態に係る有機ELディスプレイ1と同様であるので、他の構成の説明は省略する。
Fourth Embodiment
FIG. 14 shows an organic EL display 1B according to a fourth embodiment of the display device of the present invention. The organic EL display 1B according to the present embodiment is characterized by including an inner seal material 41B and an outer seal material 42B, both of which are low melting point metals. The other configuration of the organic EL display 1B according to the present embodiment is the same as that of the organic EL display 1 according to the first embodiment described above, and thus the description of the other configuration is omitted.

本実施の形態に係る有機ELディスプレイ1Bは、シール材41Bとシール材42Bとが、駆動回路基板2の表面2Aとの界面で、水分や酸素などの進入を確実に阻止できる。このため、有機ELディスプレイ1Bでは、周縁部の駆動回路基板2と保護層6Bとの界面から水分や酸素などが進入したとしても、2つのシール材41B、42Bを乗り越えない限り有機ELディスプレイ1Bの内部まで到達できない。すなわち、2つのシール材41B、42Bで、水分や酸素などの進入距離を稼ぐため、水分や酸素などの進入を抑制する効果がある。   In the organic EL display 1B according to the present embodiment, the sealing material 41B and the sealing material 42B can reliably prevent the entry of moisture, oxygen, and the like at the interface between the surface 2A of the drive circuit substrate 2. For this reason, in the organic EL display 1B, even if water, oxygen and the like enter from the interface between the drive circuit substrate 2 in the peripheral portion and the protective layer 6B, the organic EL display 1B is used as long as the two sealing materials 41B and 42B are not overcome. It can not reach to the inside. That is, the two sealing materials 41B and 42B have an effect of suppressing the penetration of moisture, oxygen, and the like because the penetration distance of moisture, oxygen, and the like is increased.

[その他の実施の形態]
以上、本発明の各実施の形態について説明したが、これら実施の形態の開示の一部をなす論述および図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
[Other Embodiments]
Although the embodiments of the present invention have been described above, it should not be understood that the statements and drawings that form a part of the disclosure of the embodiments limit the present invention. Various alternative embodiments, examples and operation techniques will be apparent to those skilled in the art from this disclosure.

例えば、上記の各実施の形態では、表示装置として有機ELディスプレイに本発明を適用して説明したが、量子ドットディスプレイなどの他の表示装置に本発明を適用できることは云うまでもない。   For example, although the present invention is applied to an organic EL display as a display device in each of the above embodiments, it is needless to say that the present invention can be applied to other display devices such as a quantum dot display.

上記の各実施の形態では、第1基板および第2基板がガラス基板あるが、本発明はこれに限定されるものではない。   In the above embodiments, the first substrate and the second substrate are glass substrates, but the present invention is not limited thereto.

上記の各実施の形態では、シール材4B、41B、42Bなどを覆う保護層6Bと有機EL表示素子3を覆う保護層6Bを一層の一体構造としたが、有機EL表示素子3を配置した領域と、周縁のシール領域と、に分離して保護層6Bを形成してもよい。   In each of the above-described embodiments, the protective layer 6B covering the sealing materials 4B, 41B, 42B, etc. and the protective layer 6B covering the organic EL display element 3 have a single-layer integral structure, but the area where the organic EL display element 3 is disposed And the peripheral seal area may be separated to form the protective layer 6B.

上記の各実施の形態では、シール材4B、41B、42Bなどを印刷する構成としたが、これに限定されるものではなく、各種の形成方法が適用できる。   In each of the above-described embodiments, the seal members 4B, 41B, 42B and the like are printed, but the present invention is not limited to this, and various forming methods can be applied.

上記の各実施の形態では、低融点メタルとして、ガリウム、インジウム、ビスマス、錫、およびこれらの合金を挙げたが、これに限定されるものではなく、他の低融点メタルを適用してもよい。したがって、上記の各実施の形態では、低融点メタルとして常温で固体状態となる材料を適用して説明したが、常温で溶融状態となる低融点メタルを適用してもよい。この場合は、シール材を駆動回路基板2の表面または保護層6Aの表面に形成する際に、雰囲気温度を低く設定すればよい。   In each of the above-mentioned embodiments, although gallium, indium, bismuth, tin, and alloys thereof are mentioned as low melting point metals, the invention is not limited thereto, and other low melting point metals may be applied. . Therefore, in each of the above-described embodiments, a material which is in a solid state at normal temperature is applied as the low melting point metal, but a low melting point metal which is in a molten state at normal temperature may be applied. In this case, when the sealing material is formed on the surface of the drive circuit substrate 2 or the surface of the protective layer 6A, the ambient temperature may be set low.

1 有機ELディスプレイ(表示装置)
2 駆動回路基板(第1基板)
2A 表面
3 有機EL表示素子(表示素子)
4A シール材(溶融状態)
4B シール材(固化状態)
5 対向基板(第2基板)
6A 保護層(未硬化状態)
6B 保護層(硬化状態)
7 金属膜
41B シール材
42B シール材
1 Organic EL Display (Display Device)
2 Drive circuit board (first board)
2A Surface 3 Organic EL Display Element (Display Element)
4A Sealing material (melted)
4B Sealing material (solidified)
5 Counter substrate (second substrate)
6A Protective layer (uncured)
6B Protective layer (cured state)
7 Metal film 41B Sealing material 42B Sealing material

Claims (10)

第1基板と、
前記第1基板の表面に設けられた表示素子と、
前記表面に、前記表示素子を囲んで当該表面に密着して接合する、低融点メタルでなるシール材と、
前記第1基板と対向する第2基板と、
前記第2基板に設けられ、前記表示素子および前記シール材を覆い、前記第1基板と前記第2基板との間隙を埋める、熱硬化型接着剤でなる保護層と、
を備える表示装置。
A first substrate,
A display element provided on the surface of the first substrate;
A sealing material made of a low melting point metal that adheres to and is bonded to the surface surrounding the display element on the surface;
A second substrate facing the first substrate;
A protective layer formed of a thermosetting adhesive, provided on the second substrate, covering the display element and the sealing material, and filling a gap between the first substrate and the second substrate;
A display device comprising:
前記表面と前記シール材との間に、低融点メタルのぬれ性が高い金属膜が介在されている
請求項1に記載の表示装置。
The display device according to claim 1, wherein a metal film having high wettability of a low melting point metal is interposed between the surface and the sealing material.
前記低融点メタルは、ガリウム、インジウム、ビスマス、錫、およびこれらの合金から選ばれる
請求項1または請求項2に記載の表示装置。
The display device according to claim 1, wherein the low melting point metal is selected from gallium, indium, bismuth, tin, and an alloy thereof.
前記熱硬化型接着剤は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性ポリイミド、アルキド樹脂、ポリウレタンから選ばれる
請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の表示装置。
The display according to any one of claims 1 to 3, wherein the thermosetting adhesive is selected from an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, an unsaturated polyester resin, a thermosetting polyimide, an alkyd resin and a polyurethane. apparatus.
第1基板の表面に表示素子を形成する工程と、
第2基板の表面に熱硬化前の熱硬化型接着剤でなる保護層を配する工程と、
前記保護層の表面に、前記第2基板の周縁に沿って周回して環状になるように、低融点メタルでなるシール材を配する工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを対向配置させて所定のギャップになるように加圧し、前記シール材が前記第1基板の前記表面に接した状態で、前記シール材を前記保護層に埋没させて、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせた状態で、前記熱硬化型接着剤の硬化温度と前記シール材の融点とのうち高い方の温度以上に加熱して、前記保護層を熱硬化させ前記シール材を溶融させる工程と、
を備える表示装置の製造方法。
Forming a display element on the surface of the first substrate;
Arranging a protective layer of thermosetting adhesive before thermosetting on the surface of the second substrate;
Disposing a sealing material made of a low melting point metal on the surface of the protective layer so as to form a ring around the periphery of the second substrate;
The first substrate and the second substrate are disposed to face each other and pressurized so as to form a predetermined gap, and the sealing material is applied to the protective layer while the sealing material is in contact with the surface of the first substrate. And burying the first substrate and the second substrate.
In a state where the first substrate and the second substrate are bonded to each other, the protective layer is heated by heating to a temperature higher than the curing temperature of the thermosetting adhesive and the melting point of the sealing material. Curing and melting the sealing material;
Method of manufacturing a display device comprising:
第1基板の表面に表示素子を形成する工程と、
第2基板の表面に熱硬化前の熱硬化型接着剤でなる保護層を配する工程と、
前記第1基板の前記表面に、前記第1基板の周縁に沿って周回して環状となるように、低融点メタルでなるシール材を配する工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを対向配置させて所定のギャップになるように加圧し、前記シール材が前記第1基板の前記表面に接した状態で、前記シール材を前記保護層に埋没させて貼り合わせる工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせた状態で、前記熱硬化型接着剤の硬化温度と前記シール材の融点とのうち高い方の温度以上に加熱して、前記保護層を熱硬化させ前記シール材を溶融させる工程と、
を備える表示装置の製造方法。
Forming a display element on the surface of the first substrate;
Arranging a protective layer of thermosetting adhesive before thermosetting on the surface of the second substrate;
Disposing a sealing material made of a low melting point metal on the surface of the first substrate so as to form a ring around the periphery of the first substrate;
The first substrate and the second substrate are disposed to face each other and pressurized so as to form a predetermined gap, and the sealing material is applied to the protective layer while the sealing material is in contact with the surface of the first substrate. Process of embedding and bonding
In a state where the first substrate and the second substrate are bonded to each other, the protective layer is heated by heating to a temperature higher than the curing temperature of the thermosetting adhesive and the melting point of the sealing material. Curing and melting the sealing material;
Method of manufacturing a display device comprising:
前記第1基板の前記表面における前記シール材が配される領域に、低融点メタルのぬれ性が高い金属膜を形成しておく工程を備える、
請求項5または請求項6に記載の表示装置の製造方法。
Forming a metal film having high wettability of a low melting point metal in a region of the surface of the first substrate where the sealing material is disposed;
The manufacturing method of the display apparatus of Claim 5 or Claim 6.
前記低融点メタルは、ガリウム、インジウム、ビスマス、およびこれらの合金から選ばれる
請求項5から請求項7のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
The method for manufacturing a display device according to any one of claims 5 to 7, wherein the low melting point metal is selected from gallium, indium, bismuth, and an alloy thereof.
前記熱硬化型接着剤は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性ポリイミド、アルキド樹脂、ポリウレタンから選ばれる
請求項5から請求項8いずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
The display device according to any one of claims 5 to 8, wherein the thermosetting adhesive is selected from an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, an unsaturated polyester resin, a thermosetting polyimide, an alkyd resin, and a polyurethane. Manufacturing method.
前記シール材は、印刷法で形成される
請求項5から請求項9のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
The method for manufacturing a display device according to any one of claims 5 to 9, wherein the sealing material is formed by a printing method.
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