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JP2019056873A - Optical body and window material - Google Patents

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JP2019056873A
JP2019056873A JP2017182298A JP2017182298A JP2019056873A JP 2019056873 A JP2019056873 A JP 2019056873A JP 2017182298 A JP2017182298 A JP 2017182298A JP 2017182298 A JP2017182298 A JP 2017182298A JP 2019056873 A JP2019056873 A JP 2019056873A
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transparent inorganic
layer
inorganic layer
optical body
thickness
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JP2017182298A
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Japanese (ja)
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後藤 一夫
Kazuo Goto
一夫 後藤
和田 豊
Yutaka Wada
豊 和田
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Dexerials Corp
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Abstract

To provide an optical body which features superior ultraviolet resistance and reduced color of reflections and variation thereof.SOLUTION: An optical body comprises a base layer, a first transparent inorganic layer, and a second transparent inorganic layer. The first transparent inorganic layer consists of a transparent inorganic layer A, a transparent inorganic layer B, and an intermediate division layer disposed between the transparent inorganic layer A and the transparent inorganic layer B. The first transparent inorganic layer is disposed on the base layer such that the transparent inorganic layer B is on the base layer side, and the second transparent inorganic layer is disposed on the top of the first transparent inorganic layer.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光学体、及び窓材に関するものであり、より具体的には、耐紫外線性に優れ、反射光の色味及びその変化が低減された光学体、並びに、これを備える窓材に関するものである。   The present invention relates to an optical body and a window material. More specifically, the present invention relates to an optical body excellent in ultraviolet resistance, reduced in color of reflected light and its change, and a window material including the same. Is.

近年、高層ビルやタワーマンション等を含む建築物においては、搭載される窓ガラス等に光が反射し、他の近隣の建築物の利用者に眩しさをもたらす、いわゆる反射光害が頻繁に問題となっている。この問題は、都市部においてガラス貼りのビルが増加し、反射光そのものが増えている点、及び、多くの世帯を収容する高層マンションが増加し、光害を受ける側が増えている点なども一因となっている。このような状況下、建築物の建設に当たっては、上述した反射光害への十分な対策を講じることが求められている。   In recent years, in buildings including high-rise buildings and tower condominiums, so-called reflected light damage is a frequent problem, as light is reflected on the window glass and the like, which causes glare to users of other nearby buildings. It has become. This is because the number of buildings with glass in urban areas has increased and the reflected light itself has increased, and the number of high-rise condominiums that can accommodate many households has increased, and the number of people who suffer from light pollution has increased. It is a cause. Under such circumstances, in the construction of a building, it is required to take sufficient measures against the above-mentioned reflected light damage.

ここで、建築物の窓ガラスからの反射光の眩しさ対策としては、例えば、建築物の壁面にルーバーなどを設置して反射光を直接遮る方法が挙げられる。しかし、ルーバーの設置は、工事が大掛かりでコストが高く、建築物のデザイン性にも影響することから、所有者に敬遠されることが多い。   Here, as a countermeasure against glare of reflected light from the window glass of the building, for example, a method of directly blocking the reflected light by installing a louver or the like on the wall surface of the building can be mentioned. However, the installation of louvers is often avoided by the owner because the construction is large and expensive, and affects the design of the building.

一方、建築物の窓ガラスの防眩性を向上する方法としては、上述した方法以外に、窓ガラスにフィルムを外貼りして反射特性を改善する方法が挙げられる。   On the other hand, as a method for improving the antiglare property of the window glass of a building, there is a method of improving reflection characteristics by externally attaching a film to the window glass in addition to the above-described method.

例えば、防眩性を含む反射特性を改善し得るフィルムとして、特許文献1は、基材フィルム上に紫外線硬化樹脂を用いてランダム凹凸形状面を有するAG(アンチグレア)層を形成するとともに、その凹凸形状を平坦化するように低屈折率樹脂からなる層を形成することにより、可視光域での反射率をフラットにしつつ、ディスプレイに貼り付けた場合に黒を際立たせることができる光学フィルムが得られることを開示している。   For example, as a film that can improve reflection characteristics including anti-glare properties, Patent Document 1 forms an AG (anti-glare) layer having a random concavo-convex shape surface on a base film using an ultraviolet curable resin, and the concavo-convex thereof. By forming a layer made of a low-refractive index resin so as to flatten the shape, an optical film that can make black stand out when applied to a display while flattening the reflectance in the visible light region is obtained. Is disclosed.

また、特許文献2は、基材フィルム上に紫外線硬化樹脂を用いて金型表面の凹凸を転写成形してフィルムを得る際に、所定粒径のブラスト粒子を衝打させた金型表面を用いることにより、高い透過鮮明度を保ちつつギラツキが低減したフィルムが得られることを開示している。   Further, Patent Document 2 uses a mold surface obtained by striking blast particles having a predetermined particle size when a film is obtained by transferring and forming unevenness on the mold surface using an ultraviolet curable resin on a base film. Thus, it is disclosed that a film with reduced glare can be obtained while maintaining high transmission definition.

国際公開2015/071943号International Publication No. 2015/071943 特開2016−012095号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-012095

ところで、外貼りのフィルムは、大量の紫外線に曝されるような、苛酷な屋外環境下に設置される窓ガラスにも用いられることがあり、その場合には、特に耐紫外線性が高いことが求められる。また、窓ガラスに外貼りされるフィルムは、見渡す範囲が非常に広いということもあり、様々な角度からの反射光の色味がニュートラルに近いことが望ましい。しかしながら、上述した従来の技術は、防眩性や反射率などのみに着眼するものであり、高い耐紫外線性と色味の低減とを更に両立させる点で、改良の余地があった。   By the way, an externally attached film may be used for a window glass installed in a harsh outdoor environment that is exposed to a large amount of ultraviolet rays. Desired. Moreover, the film to be externally attached to the window glass may have a very wide range, and it is desirable that the color of reflected light from various angles is close to neutral. However, the above-described conventional technology focuses only on anti-glare properties and reflectivity, and there is room for improvement in terms of further achieving both high UV resistance and reduction in color.

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明の目的は、耐紫外線性に優れ、反射光の色味及びその変化が低減された光学体、並びに、耐紫外線性に優れ、反射光の色味及びその変化が低減された窓材を提供することにある。   An object of the present invention is to solve the above-described problems and achieve the following objects. That is, an object of the present invention is an optical body having excellent ultraviolet resistance and reduced reflected light color and change thereof, and a window having excellent ultraviolet resistance and reflected light color and change thereof reduced. To provide materials.

本発明者らは、前記目的を達成すべく、フィルムに限定することなく、鋭意検討を行った。その結果、特定の層構成とすることで、高い耐紫外線性と色味の低減とを両立させられることを見出し、本発明の完成に至った。   In order to achieve the above-mentioned object, the present inventors have conducted intensive studies without being limited to films. As a result, it has been found that a specific layer configuration can achieve both high UV resistance and reduction in color, and the present invention has been completed.

本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
<1> ベース層と、第1透明無機層と、第2透明無機層とを備える光学体であって、
前記第1透明無機層は、透明無機層Aと、透明無機層Bと、前記透明無機層A及び前記透明無機層Bの間の中間分割層とから成り、
前記第1透明無機層は、前記ベース層上に、前記透明無機層Bがベース層側となるように配置され、
前記第2透明無機層は、前記第1透明無機層上に配置される、
ことを特徴とする、光学体である。
The present invention is based on the above findings by the present inventors, and means for solving the above problems are as follows. That is,
<1> An optical body comprising a base layer, a first transparent inorganic layer, and a second transparent inorganic layer,
The first transparent inorganic layer comprises a transparent inorganic layer A, a transparent inorganic layer B, and an intermediate divided layer between the transparent inorganic layer A and the transparent inorganic layer B,
The first transparent inorganic layer is disposed on the base layer so that the transparent inorganic layer B is on the base layer side,
The second transparent inorganic layer is disposed on the first transparent inorganic layer.
This is an optical body.

<2> 前記第1透明無機層が、ZnO及びCeOの少なくともいずれかを含有し、
前記第2透明無機層が、SiO、SiN、SiON及びMgFの少なくともいずれかを含有する、前記<1>に記載の光学体である。
<2> The first transparent inorganic layer contains at least one of ZnO and CeO 2 .
The optical body according to <1>, wherein the second transparent inorganic layer contains at least one of SiO 2 , SiN, SiON, and MgF 2 .

<3> 前記中間分割層が、SiOのみから成る、前記<1>又は<2>に記載の光学体である。 <3> The optical body according to <1> or <2>, wherein the intermediate divided layer is made of only SiO 2 .

<4> 前記第1透明無機層の総厚における前記透明無機層Bの厚みの割合が、30%以下である、前記<1>〜<3>のいずれかに記載の光学体である。 <4> The optical body according to any one of <1> to <3>, wherein the ratio of the thickness of the transparent inorganic layer B to the total thickness of the first transparent inorganic layer is 30% or less.

<5> 前記ベース層と前記第1透明無機層との間に、密着層を更に備える、前記<1>〜<4>のいずれかに記載の光学体である。 <5> The optical body according to any one of <1> to <4>, further including an adhesion layer between the base layer and the first transparent inorganic layer.

<6> 前記第2透明無機層上に第3透明無機層を更に備える、前記<1>〜<5>のいずれかに記載の光学体である。 <6> The optical body according to any one of <1> to <5>, further including a third transparent inorganic layer on the second transparent inorganic layer.

<7> 前記中間分割層の厚みが30nm以上60nm以下である、前記<1>〜<6>のいずれかに記載の光学体である。 <7> The optical body according to any one of <1> to <6>, wherein the intermediate divided layer has a thickness of 30 nm to 60 nm.

<8> ガラス基板と、前記<1>〜<7>のいずれかに記載の光学体とを備える、ことを特徴とする、窓材である。 <8> A window material comprising a glass substrate and the optical body according to any one of <1> to <7>.

本発明によれば、耐紫外線性に優れ、反射光の色味及びその変化が低減された光学体、並びに、耐紫外線性に優れ、反射光の色味及びその変化が低減された窓材を提供することができる。   According to the present invention, an optical body excellent in ultraviolet resistance, the color of reflected light and its change is reduced, and a window material excellent in ultraviolet resistance and the color of reflected light and its change are reduced. Can be provided.

本発明の一実施形態に係る光学体の構成例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the structural example of the optical body which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る光学体の構成例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the structural example of the optical body which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る光学体が備える一例のベース層を形成するための、一例の方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example method for forming an example base layer with which the optical body which concerns on one Embodiment of this invention is provided. 本発明の一実施形態に係る光学体の構成例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the structural example of the optical body which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る光学体の構成例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the structural example of the optical body which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る窓材の構成例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the structural example of the window material which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る窓材の構成例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the structural example of the window material which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る窓材の構成例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the structural example of the window material which concerns on one Embodiment of this invention. 第1透明無機層(単層)の厚みと、波長320nmの光の透過率との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the thickness of a 1st transparent inorganic layer (single layer), and the transmittance | permeability of the light of wavelength 320nm. 中間分割層の厚みと、波長320nmの光の透過率との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the thickness of an intermediate division layer, and the transmittance | permeability of the light of wavelength 320nm. 透明無機層Bの厚みと、波長320nmの光の透過率との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the thickness of the transparent inorganic layer B, and the transmittance | permeability of the light of wavelength 320nm. 透明無機層Bの厚みと、a*及びb*との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the thickness of the transparent inorganic layer B, and a * and b *.

(光学体)
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る光学体(以下、「本実施形態に係る光学体」と称することがある。)60は、少なくとも、ベース層63と、第1透明無機層64と、第2透明無機層65とを備える。また、第1透明無機層64は、透明無機層A(64a)と、透明無機層B(64b)と、これらの間の中間分割層64mとから成り、ベース層63上に、透明無機層B(64b)がベース層63側となるように配置される。即ち、本実施形態に係る光学体は、少なくとも、ベース層63、透明無機層B(64b)、中間分割層64m、透明無機層A(64a)、第2透明無機層65が、この順で積層されてなる。そして、本実施形態に係る光学体は、更に必要に応じて、第3透明無機層、密着層、防汚コート層、その他の層などを備えることができる。
なお、本明細書において「透明」又は「透明性を有する」とは、透過像鮮明度が高く、光学体を通して像が明確に視認できることを指すものとする。
(Optical body)
As shown in FIG. 1, an optical body according to an embodiment of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “optical body according to this embodiment”) 60 includes at least a base layer 63 and a first transparent inorganic material. A layer 64 and a second transparent inorganic layer 65 are provided. The first transparent inorganic layer 64 includes a transparent inorganic layer A (64a), a transparent inorganic layer B (64b), and an intermediate divided layer 64m therebetween, and the transparent inorganic layer B is formed on the base layer 63. (64b) is disposed on the base layer 63 side. That is, the optical body according to this embodiment includes at least the base layer 63, the transparent inorganic layer B (64b), the intermediate divided layer 64m, the transparent inorganic layer A (64a), and the second transparent inorganic layer 65 in this order. Being done. The optical body according to the present embodiment can further include a third transparent inorganic layer, an adhesion layer, an antifouling coating layer, and other layers as necessary.
In the present specification, “transparent” or “having transparency” means that the transmitted image has high definition and the image can be clearly seen through the optical body.

<ベース層>
ベース層は、本実施形態に係る光学体の基盤として位置づけられる層である。このベース層の材料としては、特に制限されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、塩化ビニル、フッ素樹脂など、通常の光学フィルムの分野で用いられるプラスチック材料が挙げられ、また、ガラスであってもよい。
<Base layer>
The base layer is a layer positioned as the base of the optical body according to the present embodiment. The material of the base layer is not particularly limited. For example, plastics used in the field of ordinary optical films such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), vinyl chloride, and fluororesin. Materials, and may be glass.

なお、ベース層は、その材料や具体的な構造については特に制限されない。但し、ベース層63は、防眩性を高める観点から、図2に示すように、微細凹凸表面を有することが好ましい。この場合、ベース層63の表面の微細凹凸構造は、規則的なパターンで形成されていてもよく、ランダムに形成されていてもよい。   The base layer is not particularly limited with respect to its material and specific structure. However, the base layer 63 preferably has a fine uneven surface as shown in FIG. 2 from the viewpoint of improving the antiglare property. In this case, the fine uneven structure on the surface of the base layer 63 may be formed in a regular pattern or randomly.

また、微細凹凸表面を有するベース層63は、例えば、図2に示すように、基材61と微細凹凸構造を有する樹脂層62とにより構成されていてもよく、或いは、樹脂からなる基材に微細凹凸構造を直接形成したもの(図示せず)であってもよい。   Further, the base layer 63 having a fine uneven surface may be constituted by, for example, a substrate 61 and a resin layer 62 having a fine uneven structure, as shown in FIG. What formed the fine uneven structure directly (not shown) may be used.

ここで、微細凹凸表面を有するベース層(以下、「微細凹凸層」と称することがある。)は、例えば、形状転写法、相分離法、フィラー分散法などにより、形成することができる。以下、一例として、形状転写法による微細凹凸層の形成方法について、図3を参照して説明する。   Here, the base layer having a fine uneven surface (hereinafter sometimes referred to as “fine uneven layer”) can be formed by, for example, a shape transfer method, a phase separation method, a filler dispersion method, or the like. Hereinafter, as an example, a method of forming a fine uneven layer by a shape transfer method will be described with reference to FIG.

図3は、本実施形態に係る光学体の微細凹凸層を形成するための方法の一例である、形状転写法を示す模式図である。図3に示される形状転写装置1は、原盤2と、基材供給ロール51と、巻取ロール52と、ガイドロール53、54と、ニップロール55と、剥離ロール56と、塗布装置57と、光源58とを備える。   FIG. 3 is a schematic diagram showing a shape transfer method, which is an example of a method for forming the fine uneven layer of the optical body according to the present embodiment. The shape transfer apparatus 1 shown in FIG. 3 includes a master 2, a base material supply roll 51, a winding roll 52, guide rolls 53 and 54, a nip roll 55, a peeling roll 56, a coating apparatus 57, and a light source. 58.

基材供給ロール51は、シート状の基材61がロール状に巻かれたロールであり、巻取ロール52は、微細凹凸構造23が転写された樹脂層62を積層した基材61を巻き取るロールである。また、ガイドロール53、54は、基材61を搬送するロールである。ニップロール55は、樹脂層62が積層された基材61を円筒形状の原盤2に対して密着させるロールであり、剥離ロール56は、微細凹凸構造23が樹脂層62に転写された後、樹脂層62が積層された基材61を原盤2から剥離するロールである。ここで、基材61は、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリカーボネート(PC)などのプラスチック製の基材とすることができ、また、プラスチック製の透明なフィルムとすることができる。   The base material supply roll 51 is a roll in which a sheet-like base material 61 is wound in a roll shape, and the winding roll 52 winds up the base material 61 on which the resin layer 62 to which the fine concavo-convex structure 23 is transferred is laminated. It is a roll. Further, the guide rolls 53 and 54 are rolls for transporting the base material 61. The nip roll 55 is a roll for bringing the base material 61 on which the resin layer 62 is laminated into close contact with the cylindrical master 2, and the peeling roll 56 is a resin layer after the fine concavo-convex structure 23 is transferred to the resin layer 62. It is a roll which peels the base material 61 on which 62 is laminated from the master 2. Here, the base material 61 can be, for example, a plastic base material such as polyethylene terephthalate (PET) or polycarbonate (PC), or a transparent plastic film.

塗布装置57は、コーターなどの塗布手段を備え、紫外線硬化性樹脂を含む組成物(紫外線硬化性樹脂組成物)を基材61に塗布し、樹脂層62を形成する。塗布装置57は、例えば、グラビアコーター、ワイヤーバーコーター又はダイコーターなどであってもよい。また、光源58は、紫外光を発する光源であり、例えば、紫外線ランプなどとすることができる。   The coating device 57 includes coating means such as a coater, and applies a composition containing an ultraviolet curable resin (ultraviolet curable resin composition) to the substrate 61 to form a resin layer 62. The coating device 57 may be, for example, a gravure coater, a wire bar coater, or a die coater. The light source 58 is a light source that emits ultraviolet light, and may be, for example, an ultraviolet lamp.

紫外線硬化性樹脂は、紫外線が照射されることにより流動性が低下し、硬化する樹脂であり、具体的には、アクリル系樹脂などが挙げられる。また、紫外線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、開始剤、フィラー、機能性添加剤、溶剤、無機材料、顔料、帯電防止剤又は増感色素などを含有していてもよい。   The ultraviolet curable resin is a resin that is hardened and loses fluidity when irradiated with ultraviolet rays, and specific examples thereof include acrylic resins. Moreover, the ultraviolet curable resin composition may contain an initiator, a filler, a functional additive, a solvent, an inorganic material, a pigment, an antistatic agent, a sensitizing dye, or the like, if necessary.

形状転写装置1では、まず、基材供給ロール51からガイドロール53を介して、シート状の基材61が連続的に送出される。送出された基材61に対して、塗布装置57により紫外線硬化性樹脂組成物が塗布され、基材61に樹脂層62が積層される。また、樹脂層62が積層された基材61は、ニップロール55により、原盤2に密着する。これにより、原盤2の外周面に形成された微細凹凸構造23が樹脂層62に転写される。微細凹凸構造23が転写された後、樹脂層62は、光源58からの光の照射により硬化する。続いて、硬化した樹脂層62が積層された基材61は、剥離ロール56により原盤2から剥離され、ガイドロール54を介して、巻取ロール52によって巻き取られる。
このような形状転写装置1により、微細凹凸表面を有する微細凹凸層を連続的に形成することができる。ここで、微細凹凸表面の構造は、例えば、原盤2の微細凹凸構造23を適宜変更することにより、調整することができる。
In the shape transfer device 1, first, the sheet-like base material 61 is continuously fed from the base material supply roll 51 through the guide roll 53. The ultraviolet curable resin composition is applied to the delivered base material 61 by the coating device 57, and the resin layer 62 is laminated on the base material 61. The substrate 61 on which the resin layer 62 is laminated is in close contact with the master 2 by the nip roll 55. As a result, the fine uneven structure 23 formed on the outer peripheral surface of the master 2 is transferred to the resin layer 62. After the fine concavo-convex structure 23 is transferred, the resin layer 62 is cured by light irradiation from the light source 58. Subsequently, the base material 61 on which the cured resin layer 62 is laminated is peeled off from the master 2 by the peeling roll 56, and taken up by the winding roll 52 via the guide roll 54.
With such a shape transfer device 1, a fine uneven layer having a fine uneven surface can be continuously formed. Here, the structure of the fine uneven surface can be adjusted, for example, by appropriately changing the fine uneven structure 23 of the master 2.

<第1透明無機層>
本実施形態に係る光学体は、第1透明無機層を備える。また、図1に示すように、第1透明無機層64は、透明無機層A(64a)と、透明無機層B(64b)と、これらの間の中間分割層64mとから成る。本発明者らは、光学体における第1透明無機層をこのような構造にすることにより、紫外線吸収能が効率的に向上して、第1透明無機層が単層である場合よりも耐紫外線性が高まるとともに、反射光の色味及びその変化を低減することができることを見出した。この第1透明無機層は、透明性を有するとともに、例えば、所定の波長の光を吸収する機能を有することができる。また、図1、図2に示すように、この第1透明無機層64は、ベース層63上(又は、存在する場合には密着層上)に、透明無機層B(64b)がベース層63側となるように配置されるものである。そして、透明無機層A(64a)、中間分割層64m及び透明無機層B(64b)はそれぞれ、例えば、スパッタ法、真空蒸着法又はCVD法により形成することができる。
なお、第1透明無機層64は、透明無機層A(64a)及び透明無機層B(64b)に加えて、1層以上の透明無機層を更に備えてもよく、また、それに応じて、1層以上の中間分割層を透明無機層の間に更に備えてもよい。但し、第1透明無機層64は、所望の効果をより確実に得る観点から、透明無機層A(64a)、中間分割層64m及び透明無機層B(64b)のみによって構成されることが好ましい。
<First transparent inorganic layer>
The optical body according to this embodiment includes a first transparent inorganic layer. As shown in FIG. 1, the first transparent inorganic layer 64 includes a transparent inorganic layer A (64a), a transparent inorganic layer B (64b), and an intermediate divided layer 64m therebetween. The inventors of the present invention have the structure in which the first transparent inorganic layer in the optical body has such a structure, so that the ultraviolet absorbing ability is efficiently improved, and the ultraviolet light resistance is higher than that in the case where the first transparent inorganic layer is a single layer. It has been found that the color of reflected light and its change can be reduced as the properties increase. The first transparent inorganic layer can have transparency and a function of absorbing light having a predetermined wavelength, for example. As shown in FIGS. 1 and 2, the first transparent inorganic layer 64 is formed on the base layer 63 (or on the adhesion layer if present), and the transparent inorganic layer B (64b) is formed on the base layer 63. It is arranged to be on the side. The transparent inorganic layer A (64a), the intermediate divided layer 64m, and the transparent inorganic layer B (64b) can be formed by, for example, a sputtering method, a vacuum evaporation method, or a CVD method.
The first transparent inorganic layer 64 may further include one or more transparent inorganic layers in addition to the transparent inorganic layer A (64a) and the transparent inorganic layer B (64b). You may provide further intermediate | middle division layers more than a layer between transparent inorganic layers. However, it is preferable that the 1st transparent inorganic layer 64 is comprised only by the transparent inorganic layer A (64a), the intermediate | middle division | segmentation layer 64m, and the transparent inorganic layer B (64b) from a viewpoint of obtaining a desired effect more reliably.

第1透明無機層は、ZnO及びCeOの少なくともいずれかを含有することが好ましい。特に、後述から明らかな通り、透明無機層A及び透明無機層Bが、ZnO及びCeOの少なくともいずれかを含有することがより好ましい。
なお、本明細書において、「ZnO」は、アルミニウム(Al)でドープされたZnO、及び、その他の元素でドープされたZnOを含むものとする。
また、本明細書において、「CeO」は、ガドリニウム(Gd)でドープされたCeO(CeGdOと総称されることがある)(Ce0.9Gd0.1など)、サマリウム(Sm)でドープされたCeO(CeSmOと総称されることがある)、及び、その他の元素(例えば、Zr、Yなど)でドープされたCeOを含むものとする。
The first transparent inorganic layer preferably contains at least one of ZnO and CeO 2. In particular, as will be apparent from the following description, it is more preferable that the transparent inorganic layer A and the transparent inorganic layer B contain at least one of ZnO and CeO 2 .
In this specification, “ZnO” includes ZnO doped with aluminum (Al) and ZnO doped with other elements.
In this specification, “CeO 2 ” refers to CeO 2 doped with gadolinium (Gd) (sometimes collectively referred to as CeGdO 2 ) (such as Ce 0.9 Gd 0.1 O 2 ), samarium ( sm) has been CeO 2 (sometimes referred to collectively as CeSmO 2 doped with), and other elements (e.g., Zr, is intended to include CeO 2 doped with Y, etc.).

また、第1透明無機層は、総厚が、100nm以上であることが好ましく、また、300nm以下であることが好ましい。第1透明無機層の総厚が、100nm以上であることにより、十分に高い耐紫外線性を得ることができ、また、300nm以下であることにより、生産性の低下やクラック発生のリスクを抑制することができる。同様の観点から、第1透明無機層の総厚は、120nm以上であることがより好ましく、200nm以下であることがより好ましい。
なお、本実施形態に係る光学体における第1透明無機層は、上述の通り多層構造を有するものの、単層である場合よりも耐紫外線性に優れる。そのため、耐紫外線を良好に維持しつつ、当該第1透明無機層の厚み、ひいては光学体の厚みを、従来よりも低減することができる。
The first transparent inorganic layer preferably has a total thickness of 100 nm or more, and preferably 300 nm or less. When the total thickness of the first transparent inorganic layer is 100 nm or more, sufficiently high UV resistance can be obtained, and when it is 300 nm or less, the productivity is reduced and the risk of cracking is suppressed. be able to. From the same viewpoint, the total thickness of the first transparent inorganic layer is more preferably 120 nm or more, and more preferably 200 nm or less.
In addition, although the 1st transparent inorganic layer in the optical body which concerns on this embodiment has a multilayer structure as above-mentioned, it is excellent in ultraviolet-ray resistance rather than the case where it is a single layer. Therefore, it is possible to reduce the thickness of the first transparent inorganic layer, and thus the thickness of the optical body, as compared with the conventional one while maintaining good UV resistance.

図2に示すように、第1透明無機層64(透明無機層A(64a)、中間分割層64m、及び透明無機層B(64b))は、効果的に防眩性を高める観点から、ベース層63とともに、微細凹凸表面を有することが好ましい。そのような第1透明無機層は、例えば、微細凹凸表面を有するベース層上に、スパッタ法、真空蒸着法又はCVD法により所定成分を積層することで形成することができる。   As shown in FIG. 2, the first transparent inorganic layer 64 (the transparent inorganic layer A (64a), the intermediate divided layer 64m, and the transparent inorganic layer B (64b)) is a base from the viewpoint of effectively improving the antiglare property. It is preferable to have a fine uneven surface together with the layer 63. Such a 1st transparent inorganic layer can be formed by laminating | stacking a predetermined component by a sputtering method, a vacuum evaporation method, or CVD method on the base layer which has a fine uneven | corrugated surface, for example.

また、第1透明無機層は、波長320nmの光の透過率が6%以下であることが好ましく、3%以下であることが更に好ましい。第1透明無機層の波長320nmの光の透過率が6%以下であることにより、紫外線による基材の黄変等の劣化を効果的に抑制することができる。
なお、第1透明無機層の波長320nmの光の透過率は、例えば、日本分光株式会社製「V−560」を用いて測定することができる。また、第1透明無機層の波長320nmの光の透過率の調節は、例えば、透明無機層A、中間分割層及び透明無機層Bの主成分、厚みなどをそれぞれ調整することにより、行うことができる。
The first transparent inorganic layer preferably has a light transmittance of 320% at a wavelength of 320% or less, more preferably 3% or less. When the transmittance of light having a wavelength of 320 nm of the first transparent inorganic layer is 6% or less, deterioration such as yellowing of the base material due to ultraviolet rays can be effectively suppressed.
In addition, the transmittance | permeability of the light with a wavelength of 320 nm of a 1st transparent inorganic layer can be measured using JASCO Corporation "V-560", for example. Moreover, the adjustment of the transmittance of light having a wavelength of 320 nm of the first transparent inorganic layer can be performed, for example, by adjusting the main components and thicknesses of the transparent inorganic layer A, the intermediate divided layer, and the transparent inorganic layer B, respectively. it can.

−透明無機層A−
透明無機層Aの主成分は、2.8eV以上4.8eV以下のバンドギャップを有する無機化合物であることが好ましい。ここで、バンドギャップは、吸収端の波長を表し、広義的に、バンドギャップに相当する波長を下回る光を吸収し、バンドギャップに相当する波長以上の光を透過することを示す。そして、上述した2.8eV以上4.8eV以下のバンドギャップは、Planck定数(6.626×10−34J・s)及び光速度(2.998×10m/s)を用いて得られる波長λとバンドギャップエネルギーEとの関係式:「λ(nm)=1240/E(eV)」から、おおよそ、紫外領域と可視領域との境界である260nm以上440nm以下の範囲内に吸収端の波長があることを示している。従って、上述した無機化合物を透明無機層Aに用いることにより、透明性と紫外線吸収特性とを両立することができる。同様の観点から、透明無機層Aの主成分は、3.0eV以上3.7eV以下(波長換算でおよそ340nm以上420nm以下)のバンドギャップを有する無機化合物であることがより好ましい。また、生産性の低下やクラック発生のリスクを抑制するために薄膜化を図ることも踏まえれば、透明無機層Aの主成分は、3.0eV以上3.4eV以下(波長換算でおよそ360nm以上420nm以下)のバンドギャップを有する無機化合物であることがより好ましい。
なお、本明細書において「主成分」とは、含有量が最も多い成分を指すものとする。
-Transparent inorganic layer A-
The main component of the transparent inorganic layer A is preferably an inorganic compound having a band gap of 2.8 eV to 4.8 eV. Here, the band gap represents the wavelength of the absorption edge, and broadly indicates that light below the wavelength corresponding to the band gap is absorbed and light having a wavelength equal to or greater than the wavelength corresponding to the band gap is transmitted. The band gap of 2.8 eV or more and 4.8 eV or less is obtained using the Planck constant (6.626 × 10 −34 J · s) and the speed of light (2.998 × 10 8 m / s). From the relational expression between the wavelength λ and the band gap energy E: “λ (nm) = 1240 / E (eV)”, the absorption edge is approximately within the range of 260 nm to 440 nm, which is the boundary between the ultraviolet region and the visible region. It shows that there is a wavelength. Therefore, by using the inorganic compound described above for the transparent inorganic layer A, both transparency and ultraviolet absorption characteristics can be achieved. From the same viewpoint, the main component of the transparent inorganic layer A is more preferably an inorganic compound having a band gap of 3.0 eV or more and 3.7 eV or less (approximately 340 nm or more and 420 nm or less in terms of wavelength). In view of reducing the thickness and reducing the risk of occurrence of cracks, the main component of the transparent inorganic layer A is 3.0 eV or more and 3.4 eV or less (approximately 360 nm or more and 420 nm in terms of wavelength). More preferably, the inorganic compound has a band gap of
In the present specification, the “main component” refers to a component having the largest content.

なお、2.8eV以上4.8eV以下のバンドギャップを有する無機化合物としては、具体的に、ZnO、CeO、TiO、SnO、In、Nb、Ta、SiC、ZnSなどが挙げられる。また、3.0eV以上3.7eV以下のバンドギャップを有する無機化合物の例としては、具体的に、ZnO、CeO、TiO、Nb、SiC、ZnSなどが挙げられる。更に、3.0eV以上3.4eV以下のバンドギャップを有する無機化合物の例としては、具体的に、ZnO、CeOなどが挙げられる。以上を考慮して、透明無機層Aは、ZnO及びCeOの少なくともいずれかを含有することが好ましく、ZnO及びCeOを含有することがより好ましく、ZnO及びCeOのみから成ることが更に好ましい。
これら無機化合物は、一種単独で透明無機層Aに用いてもよく、二種以上を組み合わせて透明無機層Aに用いてもよい。
なお、本明細書において「のみから成る」とは、実質的にその成分だけで構成されることを意味し、具体的には、その成分が99.9質量%以上を占めることとする。
Specific examples of the inorganic compound having a band gap of 2.8 eV to 4.8 eV are ZnO, CeO 2 , TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , SiC, ZnS, etc. are mentioned. Specific examples of inorganic compounds having a band gap of 3.0 eV to 3.7 eV include ZnO, CeO 2 , TiO 2 , Nb 2 O 5 , SiC, ZnS, and the like. Furthermore, specific examples of inorganic compounds having a band gap of 3.0 eV or more and 3.4 eV or less include ZnO, CeO 2 and the like. In view of the foregoing, a transparent inorganic layer A preferably contains either at least ZnO and CeO 2, and more preferably containing ZnO and CeO 2, more preferably consisting of only ZnO and CeO 2 .
These inorganic compounds may be used alone for the transparent inorganic layer A, or two or more kinds may be used in combination for the transparent inorganic layer A.
In the present specification, “consisting only of” means that the component is substantially composed only of the component, and specifically, the component occupies 99.9% by mass or more.

−中間分割層−
中間分割層は、透明無機層Aと透明無機層Bとの間に配置されることで、光学体の耐紫外線性を高めるとともに、反射光の色味を調整することができる層である。
-Intermediate division layer-
The intermediate divided layer is a layer that can be arranged between the transparent inorganic layer A and the transparent inorganic layer B, thereby improving the ultraviolet resistance of the optical body and adjusting the color of the reflected light.

中間分割層の主成分としては、透明無機層Aの主成分及び透明無機層Bの主成分よりも屈折率が低いものが好ましく、特に制限されず、SiO、SiN、SiON、MgFなどの無機化合物が挙げられる。言い換えると、中間分割層は、SiO、SiN、SiON及びMgFの少なくともいずれかを含有することができる。また、中間分割層は、少なくともSiOを含有することが好ましく、SiOのみから成ることがより好ましい。
これら無機化合物は、一種単独で中間分割層に用いてもよく、二種以上を組み合わせて中間分割層に用いてもよい。
The main component of the intermediate division layer, a transparent inorganic layer A preferably has a lower refractive index than the main component of the principal component and the transparent inorganic layer B, is not particularly limited, SiO 2, SiN, SiON, such as MgF 2 An inorganic compound is mentioned. In other words, the intermediate divided layer can contain at least one of SiO 2 , SiN, SiON, and MgF 2 . The intermediate split layer preferably contains at least SiO 2, and more preferably made of only SiO 2.
These inorganic compounds may be used alone for the intermediate divided layer, or two or more kinds may be used in combination for the intermediate divided layer.

中間分割層は、厚みが30nm以上であることが好ましく、また、60nm以下であることが好ましい。中間分割層の厚みが30nm以上であることにより、光学体における光の透過率、特には波長320nmの光の透過率を効果的に低減して、耐紫外線性を有意に高めることができる。また、中間分割層の厚みが60nm以下であることにより、透明無機層A及び透明無機層Bに起因する高い紫外線吸収特性が悪化するのを抑制することができる。   The intermediate divided layer preferably has a thickness of 30 nm or more, and preferably 60 nm or less. When the thickness of the intermediate dividing layer is 30 nm or more, the light transmittance in the optical body, particularly the light transmittance of a wavelength of 320 nm can be effectively reduced, and the ultraviolet resistance can be significantly increased. Moreover, it can suppress that the high ultraviolet-ray absorption characteristic resulting from the transparent inorganic layer A and the transparent inorganic layer B deteriorates because the thickness of an intermediate division layer is 60 nm or less.

また、第1透明無機層の総厚における中間分割層の厚みの割合は、20%以上であることが好ましく、また、40%以下であることが好ましい。上記の割合が20%以上であることにより、光学体における光の透過率、特には波長320nmの光の透過率を低減して、耐紫外線性を有意に高めることができる。また、上記の割合が40%以下であることにより、透明無機層A及び透明無機層Bに起因する高い紫外線吸収特性が悪化するのを抑制することができる。   The ratio of the thickness of the intermediate divided layer in the total thickness of the first transparent inorganic layer is preferably 20% or more, and preferably 40% or less. When the above ratio is 20% or more, the light transmittance in the optical body, in particular, the light transmittance at a wavelength of 320 nm can be reduced, and the ultraviolet resistance can be significantly increased. Moreover, it can suppress that the high ultraviolet-ray absorption characteristic resulting from the transparent inorganic layer A and the transparent inorganic layer B deteriorates because said ratio is 40% or less.

−透明無機層B−
透明無機層Bの好ましい主成分については、透明無機層Aについて既述したものと同様である。具体的に、透明無機層Bは、ZnO及びCeOの少なくともいずれかを含有することが好ましく、ZnO及びCeOを含有することがより好ましい。また、透明無機層Bの組成は、透明無機層Aの組成と同じであることが好ましい。
-Transparent inorganic layer B-
The preferred main component of the transparent inorganic layer B is the same as that already described for the transparent inorganic layer A. Specifically, the transparent inorganic layer B preferably contains at least one of ZnO and CeO 2, and more preferably contains ZnO and CeO 2. The composition of the transparent inorganic layer B is preferably the same as the composition of the transparent inorganic layer A.

また、第1透明無機層の総厚における透明無機層Bの厚みの割合は、30%以下であることが好ましい。上記の割合が30%以下であることにより、耐紫外線性を良好に維持しつつ、a*b*表色系におけるa*の数値及びb*の値がゼロにより近くなり、様々な角度からの光入射に対する反射光の色味をよりニュートラルにすることができる。同様の観点から、第1透明無機層の総厚における透明無機層Bの厚みの割合は、20%以下であることがより好ましく、10%以下であることが更に好ましい。   Moreover, it is preferable that the ratio of the thickness of the transparent inorganic layer B in the total thickness of a 1st transparent inorganic layer is 30% or less. When the above ratio is 30% or less, the a * b * color system and the a * value in the a * b * color system are closer to zero while maintaining good UV resistance, and from various angles. The color of the reflected light with respect to light incidence can be made more neutral. From the same viewpoint, the ratio of the thickness of the transparent inorganic layer B to the total thickness of the first transparent inorganic layer is more preferably 20% or less, and still more preferably 10% or less.

また、透明無機層A及び透明無機層Bの合計厚みにおける透明無機層Bの厚みの割合は、30%以下であることが好ましい。上記の割合が30%以下であることにより、耐紫外線性を良好に維持しつつ、a*b*表色系におけるa*の数値及びb*の数値がゼロにより近くなり、様々な角度からの光入射に対する反射光の色味をよりニュートラルにすることができる。同様の観点から、第1透明無機層の総厚における透明無機層Bの厚みの割合は、20%以下であることがより好ましく、10%以下であることが更に好ましい。   Moreover, it is preferable that the ratio of the thickness of the transparent inorganic layer B in the total thickness of the transparent inorganic layer A and the transparent inorganic layer B is 30% or less. When the above ratio is 30% or less, the numerical value of a * and the value of b * in the a * b * color system are closer to zero while maintaining good UV resistance, and from various angles. The color of the reflected light with respect to light incidence can be made more neutral. From the same viewpoint, the ratio of the thickness of the transparent inorganic layer B to the total thickness of the first transparent inorganic layer is more preferably 20% or less, and still more preferably 10% or less.

<第2透明無機層>
本実施形態に係る光学体は、第2透明無機層を備える。この第2透明無機層は、透明性を有するとともに、第1透明無機層への雨などによる汚れの付着を防止する機能や、反射光の色味を調整する機能を有することができる。また、図1、図2に示すように、この第2透明無機層65は、第1透明無機層64上に配置されるものであり、例えば、スパッタ法、真空蒸着法又はCVD法により形成することができる。
<Second transparent inorganic layer>
The optical body according to this embodiment includes a second transparent inorganic layer. The second transparent inorganic layer has transparency and can have a function of preventing adhesion of dirt due to rain or the like to the first transparent inorganic layer and a function of adjusting the color of reflected light. As shown in FIGS. 1 and 2, the second transparent inorganic layer 65 is disposed on the first transparent inorganic layer 64 and is formed by, for example, a sputtering method, a vacuum evaporation method, or a CVD method. be able to.

第2透明無機層の主成分は、第1透明無機層の主成分のバンドギャップよりも大きいバンドギャップを有することが好ましく、より具体的には、第1透明無機層の主成分のバンドギャップよりも4.0eV以上大きいバンドギャップを有する無機化合物であることが好ましい。第2透明無機層の主成分のバンドギャップが第1透明無機層の主成分のバンドギャップよりも大きい、好適には4.0eV以上大きいことにより、第1透明無機層の防汚性の向上に加えて、得られる光学体の防眩性を向上させることができる。また、第2透明無機層の主成分としては、透明無機層Aの主成分及び透明無機層Bの主成分よりも屈折率が低いものが好ましい。
具体的に、好ましい第2透明無機層の主成分としては、SiO、SiN、SiON、MgFなどの無機化合物が挙げられる。言い換えると、第2透明無機層は、SiO、SiN、SiON及びMgFの少なくともいずれかを含有することが好ましい。また、第2透明無機層は、少なくともSiOを含有することがより好ましい。
これら無機化合物は、一種単独で第2透明無機層に用いてもよく、二種以上を組み合わせて第2透明無機層に用いてもよい。
The main component of the second transparent inorganic layer preferably has a band gap larger than the band gap of the main component of the first transparent inorganic layer, and more specifically, from the band gap of the main component of the first transparent inorganic layer. Is preferably an inorganic compound having a band gap larger than 4.0 eV. The bandgap of the main component of the second transparent inorganic layer is larger than the bandgap of the main component of the first transparent inorganic layer, preferably 4.0 eV or more, thereby improving the antifouling property of the first transparent inorganic layer. In addition, the antiglare property of the obtained optical body can be improved. Moreover, as a main component of a 2nd transparent inorganic layer, a thing with a refractive index lower than the main component of the transparent inorganic layer A and the main component of the transparent inorganic layer B is preferable.
Specifically, preferred main components of the second transparent inorganic layer include inorganic compounds such as SiO 2 , SiN, SiON, and MgF 2 . In other words, the second transparent inorganic layer preferably contains at least one of SiO 2 , SiN, SiON, and MgF 2 . The second transparent inorganic layer more preferably contains at least SiO 2 .
These inorganic compounds may be used alone in the second transparent inorganic layer, or two or more kinds may be used in combination in the second transparent inorganic layer.

第2透明無機層は、厚みが、20nm以上であることが好ましく、また、200nm以下であることが好ましい。第2透明無機層の厚みが20nm以上200nm以下であることにより、反射率を十分に低減し、防眩性をより効果的に向上させることができる。同様の観点から、第2透明無機層の厚みは、40nm以上であることがより好ましく、また、100nm以下であることがより好ましい。   The second transparent inorganic layer preferably has a thickness of 20 nm or more, and preferably 200 nm or less. When the thickness of the second transparent inorganic layer is 20 nm or more and 200 nm or less, the reflectance can be sufficiently reduced and the antiglare property can be improved more effectively. From the same viewpoint, the thickness of the second transparent inorganic layer is more preferably 40 nm or more, and more preferably 100 nm or less.

図2に示すように、第2透明無機層65は、効果的に防眩性を高める観点から、ベース層63及び第1透明無機層64とともに、微細凹凸表面を有することが好ましい。そのような第2透明無機層は、例えば、微細凹凸表面を有するベース層上に、スパッタ法、真空蒸着法又はCVD法により第1透明無機層を積層した後、スパッタ法、真空蒸着法又はCVD法により所定成分を積層することで形成することができる。   As shown in FIG. 2, it is preferable that the 2nd transparent inorganic layer 65 has a fine uneven | corrugated surface with the base layer 63 and the 1st transparent inorganic layer 64 from a viewpoint of improving anti-glare property effectively. Such a second transparent inorganic layer is formed by, for example, laminating a first transparent inorganic layer on a base layer having a fine concavo-convex surface by sputtering, vacuum vapor deposition or CVD, and then sputtering, vacuum vapor deposition or CVD. It can be formed by laminating predetermined components by the method.

<第3透明無機層>
本実施形態に係る光学体は、図4に示すように、第1透明無機層64及び第2透明無機層65に加え、第2透明無機層65の上に、第3透明無機層66を更に備えることが好ましい。第3透明無機層を備えることにより、第2透明無機層への雨などによる汚れの付着を防止することができる。この第3透明無機層は、透明性を有し、撥水性であっても親水性であってもよく、また、例えば、スパッタ法、真空蒸着法又はCVD法により形成することができる。
<Third transparent inorganic layer>
As shown in FIG. 4, the optical body according to the present embodiment further includes a third transparent inorganic layer 66 on the second transparent inorganic layer 65 in addition to the first transparent inorganic layer 64 and the second transparent inorganic layer 65. It is preferable to provide. By providing the third transparent inorganic layer, it is possible to prevent adhesion of dirt due to rain or the like to the second transparent inorganic layer. This third transparent inorganic layer has transparency, may be water-repellent or hydrophilic, and can be formed by, for example, sputtering, vacuum deposition, or CVD.

第3透明無機層は、主成分として、SiOを含有することができる。また、第3透明無機層は、ZrOを更に含有することが好ましい。第3透明無機層がSiOとともにZrOを含有することにより、光学体の耐アルカリ性が向上し、例えば、薬品に曝され得る環境下や、過酷な屋外環境下(酸性雨、コンクリートから溶出する水酸化カルシウム、塩水、水+太陽光などが想定される)に設けられる窓ガラスなどに、好適に用いることができる。 The third transparent inorganic layer can contain SiO 2 as a main component. The third transparent inorganic layer preferably further contains ZrO 2. By the third transparent inorganic layer containing ZrO 2 with SiO 2, improved alkali resistance of the optical body, for example, environment or that may be exposed to chemicals, harsh outdoor environment (acid rain, eluted from the concrete It can be suitably used for window glass provided in calcium hydroxide, salt water, water + sunlight, etc.).

第3透明無機層におけるZrOの割合は、6質量%以上50質量%以下であることが好ましい。ZrOの割合が6質量%以上であることにより、耐薬品性、特に耐アルカリ性の改善効果を十分に得ることができ、また、50質量%以下であることにより、第2透明無機層との屈折率差を適度に保ち、光学設計の困難化を回避することができる。同様の観点から、第3透明無機層におけるZrOの割合は、13質量%以上であることがより好ましく、20質量%以上であることが更に好ましく、また、40質量%以下であることがより好ましい。 The proportion of ZrO 2 in the third transparent inorganic layer is preferably 6% by mass or more and 50% by mass or less. When the ratio of ZrO 2 is 6% by mass or more, chemical resistance, particularly alkali resistance improvement effect can be sufficiently obtained, and when it is 50% by mass or less, It is possible to keep the refractive index difference moderate and avoid the difficulty in optical design. From the same viewpoint, the ratio of ZrO 2 in the third transparent inorganic layer is more preferably 13% by mass or more, further preferably 20% by mass or more, and more preferably 40% by mass or less. preferable.

第3透明無機層は、厚みが、20nm以上であることが好ましい。第3透明無機層の厚みが20nm以上であることにより、より十分に高い耐薬品性を得ることができる。また、第3透明無機層は、厚みが、200nm以下であることが好ましい。第3透明無機層の厚みが200nm以下であることにより、生産性の低下やクラック発生のリスクを抑制することができる。同様の観点から、第3透明無機層の厚みは、100nm以下であることがより好ましい。   The third transparent inorganic layer preferably has a thickness of 20 nm or more. When the thickness of the third transparent inorganic layer is 20 nm or more, sufficiently higher chemical resistance can be obtained. The third transparent inorganic layer preferably has a thickness of 200 nm or less. When the thickness of the third transparent inorganic layer is 200 nm or less, it is possible to suppress the productivity reduction and the risk of cracking. From the same viewpoint, the thickness of the third transparent inorganic layer is more preferably 100 nm or less.

<密着層>
本実施形態に係る光学体は、図5に示すように、上述したベース層63と第1透明無機層64とを強固に密着させるため、これらの間に密着層67を更に備えることが好ましい。この密着層としては、例えば、SiO層が挙げられ、厚みは、例えば、2nm以上10nm以下とすることができ、着色の影響を回避する観点及び必要最小限の材料で機能を発揮させる観点から、8nm以下であることが好ましく、5nm以下であることがより好ましい。この密着層は、例えば、スパッタ法、真空蒸着法又はCVD法により形成することができる。特にスパッタ法を用いてSiO層を形成する場合には、ケイ素ターゲットを用い、酸素不足の状態として成膜することができる。
<Adhesion layer>
As shown in FIG. 5, the optical body according to the present embodiment preferably further includes an adhesion layer 67 between the above-described base layer 63 and the first transparent inorganic layer 64 in order to firmly adhere. Examples of the adhesion layer include a SiO x layer, and the thickness can be set to, for example, 2 nm or more and 10 nm or less, from the viewpoint of avoiding the influence of coloring and from the viewpoint of exhibiting the function with a minimum necessary material. , 8 nm or less is preferable, and 5 nm or less is more preferable. This adhesion layer can be formed by, for example, sputtering, vacuum deposition, or CVD. In particular, when a SiO x layer is formed using a sputtering method, a silicon target can be used to form a film in an oxygen-deficient state.

<防汚コート層>
本実施形態に係る光学体は、前記第2透明無機層上の最表面に、防汚コート層を備えることが好ましい。具体的には、本実施形態に係る光学体は、第2透明無機層の上、又は、第3透明無機層の上に、防汚コート層を備えることが好ましい。防汚コート層を備えることにより、光学体への汚れの付着を低減することができるとともに、付着した汚れを容易に落とすことができ、光学体が所期の性能をより長期的に発揮することができる。
なお、防汚コート層は、接着性が高い観点から、SiOを主成分とする第2透明無機層又は第3透明無機層の上に備えることが好ましい。
<Anti-fouling coating layer>
The optical body according to the present embodiment preferably includes an antifouling coating layer on the outermost surface on the second transparent inorganic layer. Specifically, the optical body according to this embodiment preferably includes an antifouling coating layer on the second transparent inorganic layer or the third transparent inorganic layer. By providing an antifouling coating layer, it is possible to reduce the adhesion of dirt to the optical body, and the attached dirt can be easily removed, so that the optical body exhibits the expected performance for a longer period of time. Can do.
Incidentally, antifouling coat layer, the high adhesiveness viewpoint, it is preferably provided on the second transparent inorganic layer or the third transparent inorganic layer mainly comprising SiO 2.

防汚コート層の主成分は、撥水性であっても親水性であってもよく、また、撥油性であっても親油性であってもよい。ただし、より効果的に防汚性を高める観点から、防汚コート層の主成分は、撥水性で且つ撥油性であることが好ましい。撥水性に関して具体的に言うと、防汚コート層は、純水接触角が110°以上であることが好ましく、115°以上であることがより好ましい。これらの性質を有するものとして、防汚コート層の主成分は、パーフルオロポリエーテルであることが好ましい。   The main component of the antifouling coating layer may be water-repellent or hydrophilic, and may be oil-repellent or oleophilic. However, from the viewpoint of more effectively increasing the antifouling property, the main component of the antifouling coating layer is preferably water-repellent and oil-repellent. Specifically, regarding the water repellency, the antifouling coating layer preferably has a pure water contact angle of 110 ° or more, and more preferably 115 ° or more. As those having these properties, the main component of the antifouling coating layer is preferably perfluoropolyether.

防汚コート層は、厚みが、5nm以上であることが好ましく、また、20nm以下であることが好ましく、例えば10nmである。防汚コート層の厚みが5nm以上であることにより、光学体の防汚性を十分に高めることができ、また、20nm以下であることにより、任意に存在する微細凹凸構造の埋没を回避することができる。   The antifouling coating layer preferably has a thickness of 5 nm or more, and preferably 20 nm or less, for example 10 nm. When the thickness of the antifouling coating layer is 5 nm or more, the antifouling property of the optical body can be sufficiently enhanced, and when it is 20 nm or less, avoiding the burying of an arbitrarily existing fine uneven structure. Can do.

<その他の層>
本実施形態に係る光学体は、特に制限されず、上述した層以外のその他の層を備えていてもよい。
<Other layers>
The optical body according to the present embodiment is not particularly limited, and may include other layers other than the layers described above.

例えば、本実施形態に係る光学体は、ベース層の、第1透明無機層が配置されている面とは反対側の面に、可視光を吸収する粘着層を備えることが好ましい。第1透明無機層が配置されている面とは反対側の面に可視光を吸収する粘着層を備えることで、図6に示すような、当該光学体の粘着層84を備える面にガラス基板81を積層させた窓材80において、第2透明無機層65、第1透明無機層64及び微細凹凸層63を透過して粘着層84に入射する可視光、並びに、第2透明無機層65、第1透明無機層64、微細凹凸層63及び粘着層84を透過した後、ガラス基板81で反射して粘着層84に入射する可視光などを効率良く吸収して可視光線透過率を低減し、防眩性をより改善することができる。加えて、可視光吸収率の異なる粘着層を用いることで、光沢度の異なる商品ラインナップを容易に揃えることができるようになるというメリットもある。
なお、可視光を吸収する粘着層は、例えば、粘着性を有する材料に、可視光を吸収する染料又は顔料等の着色剤を任意の割合で分散させたものを用いて、調製することができる。
一方で、例えば可視光を吸収する染料や顔料の割合が多く、粘着力が低下したり、耐久性が悪化するなどの不具合がある場合等には、染料又は顔料等の着色剤を含有させた可視光を吸収する基材や、DLC等の可視光を吸収する無機膜を、ベース層の上に積層させても良い。
For example, the optical body according to the present embodiment preferably includes an adhesive layer that absorbs visible light on the surface of the base layer opposite to the surface on which the first transparent inorganic layer is disposed. By providing an adhesive layer that absorbs visible light on the surface opposite to the surface on which the first transparent inorganic layer is disposed, a glass substrate is provided on the surface including the adhesive layer 84 of the optical body as shown in FIG. 81, the visible light that passes through the second transparent inorganic layer 65, the first transparent inorganic layer 64, and the fine uneven layer 63 and enters the adhesive layer 84, and the second transparent inorganic layer 65, After passing through the first transparent inorganic layer 64, the fine concavo-convex layer 63 and the adhesive layer 84, the visible light reflected by the glass substrate 81 and incident on the adhesive layer 84 is efficiently absorbed to reduce the visible light transmittance, The antiglare property can be further improved. In addition, the use of adhesive layers having different visible light absorptivity has the advantage that product lineups having different glossiness can be easily arranged.
The adhesive layer that absorbs visible light can be prepared, for example, by using a material having adhesive properties in which a colorant such as a dye or pigment that absorbs visible light is dispersed in an arbitrary ratio. .
On the other hand, for example, when there is a large proportion of a dye or pigment that absorbs visible light and there is a problem such as a decrease in adhesive strength or deterioration in durability, a coloring agent such as a dye or pigment is included. A base material that absorbs visible light or an inorganic film that absorbs visible light such as DLC may be laminated on the base layer.

<光学体の特性>
また、本実施形態に係る光学体は、波長320nmの光の透過率が10%以下であることが好ましく、6%以下であることがより好ましく、3%以下であることが更に好ましい。光学体の波長320nmの光の透過率が10%以下であることにより、紫外線による基材の黄変等の劣化を効果的に抑制することができるとともに、基材と樹脂層との密着耐久性を向上させることができる。
なお、光学体の波長320nmの光の透過率は、例えば、日本分光株式会社製「V−560」を用いて測定することができる。
<Characteristics of optical body>
In the optical body according to this embodiment, the transmittance of light having a wavelength of 320 nm is preferably 10% or less, more preferably 6% or less, and further preferably 3% or less. When the transmittance of the optical body with a wavelength of 320 nm is 10% or less, it is possible to effectively suppress deterioration such as yellowing of the base material due to ultraviolet rays, and durability of adhesion between the base material and the resin layer. Can be improved.
In addition, the transmittance | permeability of the light with a wavelength of 320 nm of an optical body can be measured using "V-560" by JASCO Corporation, for example.

(窓材)
本発明の一実施形態に係る窓材(以下、「本実施形態に係る窓材」と称することがある。)は、ガラス基板と、上述した光学体とを備える。具体的に、図7に示すように、本実施形態に係る窓材80は、上述した光学体60とガラス基板81とを、当該光学体60の第1透明無機層64が配置されていない面がガラス基板81と向かい合うように、積層させてなるものとすることができる。このように、本実施形態に係る窓材は、少なくとも上述した光学体を備え、耐紫外線性に優れるとともに、反射光の色味及びその変化が低減されているため、高層ビルや住宅等の建築用窓ガラス、車両用の窓ガラスなどとして、好適に用いることができる。
なお、本実施形態に係る窓材は、上述した光学体を、ガラス基板の片面のみに備えていてもよく、両面に備えていてもよい。
(Window material)
A window material according to an embodiment of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “window material according to the present embodiment”) includes a glass substrate and the optical body described above. Specifically, as shown in FIG. 7, the window member 80 according to the present embodiment is a surface on which the optical body 60 and the glass substrate 81 described above are not disposed on the first transparent inorganic layer 64 of the optical body 60. Can be laminated so as to face the glass substrate 81. As described above, the window material according to the present embodiment includes at least the above-described optical body, has excellent ultraviolet resistance, and the color of reflected light and changes thereof are reduced. As window glass for vehicles, window glass for vehicles, etc., it can use suitably.
In addition, the window material which concerns on this embodiment may be equipped with the optical body mentioned above only in the single side | surface of a glass substrate, and may be provided in both surfaces.

本実施形態に係る窓材は、複層ガラスであってもよい。ここで、複層ガラスとは、通常、図8に示すように、複数枚のガラス基板(82,83)がスペーサー85を周縁に介して積層され、各ガラス基板の間に空間が形成されている構造を有するガラスを指す。
そして、複層ガラスである本実施形態に係る窓材80は、図8の(a)に示すように、窓ガラスとして建築物等に設置したときに屋外側になるガラス基板82の屋外側の面のみに、光学体60が設けられていてもよく、図8の(b)〜(d)に示すように、屋外側になるガラス基板82の屋外側の面に、光学体60が設けられるとともに、屋内側になるガラス基板83の片面及び/又は両面にも、光学体60が設けられていてもよく、更に図8の(e)〜(h)に示すように、屋外側になるガラス基板82の両面に、光学体が設けられるとともに、任意に、屋内側になるガラス基板83の片面及び/又は両面にも、光学体60が設けられていてもよい。
The window material according to the present embodiment may be a multilayer glass. Here, as shown in FIG. 8, the multi-layer glass is usually formed by laminating a plurality of glass substrates (82, 83) with a spacer 85 at the periphery, and a space is formed between the glass substrates. Refers to glass having a structure.
And the window material 80 which concerns on this embodiment which is a multilayer glass, as shown to (a) of FIG. 8, is an outdoor side of the glass substrate 82 used as the outdoor side when installing in a building etc. as a window glass. The optical body 60 may be provided only on the surface, and as shown in FIGS. 8B to 8D, the optical body 60 is provided on the surface on the outdoor side of the glass substrate 82 that is the outdoor side. At the same time, the optical body 60 may be provided on one side and / or both sides of the glass substrate 83 on the indoor side, and further, the glass on the outdoor side as shown in FIGS. The optical body is provided on both surfaces of the substrate 82, and optionally, the optical body 60 may be provided on one surface and / or both surfaces of the glass substrate 83 on the indoor side.

また、本実施形態に係る窓材が複層ガラスであり、且つ、窓ガラスとして建築物等に設置したときに屋外側になるガラス基板の屋外側の面に光学体が設けられている場合には、当該光学体の第1透明無機層が配置されている面とは反対側の面(より具体的には、当該光学体とガラス基板との間)に、可視光を吸収する粘着層を備えることが特に好ましい。このような可視光を吸収する粘着層を備えることにより、光学体を透過して粘着層に入射する可視光、光学体及び粘着層を透過した後、屋外側のガラス基板の屋内側の面で反射して粘着層に入射する可視光、並びに、光学体、粘着層及び屋外側のガラス基板を透過した後、屋内側のガラス基板で反射し、屋外側のガラス基板を透過して粘着層に入射する可視光などを効率良く吸収して可視光線透過率を低減し、高い眺望性を維持したまま、複層ガラスが頻繁に直面し得る防眩性の問題を解消することができる。   In addition, when the window material according to the present embodiment is a multi-layer glass, and an optical body is provided on the surface on the outdoor side of the glass substrate that becomes the outdoor side when installed in a building or the like as a window glass. Is an adhesive layer that absorbs visible light on the surface opposite to the surface on which the first transparent inorganic layer of the optical body is disposed (more specifically, between the optical body and the glass substrate). It is particularly preferred to provide. By providing such a pressure-sensitive adhesive layer that absorbs visible light, the visible light that passes through the optical body and enters the pressure-sensitive adhesive layer, passes through the optical body and the pressure-sensitive adhesive layer, and then on the indoor side surface of the glass substrate on the outdoor side. Visible light reflected and incident on the adhesive layer, and after passing through the optical body, the adhesive layer, and the outdoor glass substrate, reflected by the indoor glass substrate, and transmitted through the outdoor glass substrate to the adhesive layer By efficiently absorbing incident visible light and the like, the visible light transmittance is reduced, and the problem of anti-glare that the multi-layer glass can frequently face can be solved while maintaining high viewability.

次に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。   Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

(1)透明無機層の厚みと、波長320nmの光の透過率との関係
PET製の基材(東洋紡株式会社製、「A4300」、厚み75μm)の上に、微細凹凸表面を有する樹脂層を、アクリル系の紫外線硬化性樹脂を含む組成物を用いて形状転写法により形成し、ベース層を得た。次いで、このベース層における樹脂層の微細凹凸表面上に、ZnO及びCeO(ZnO:CeO2=30:70(質量比))から成る第1透明無機層(単層)をスパッタ法により積層し、この第1透明無機層の表面上に、SiOを含有する第2透明無機層をスパッタ法により積層し、光学体を得た。
ここで、第1透明無機層(単層)の厚みを種々変更して得られた複数の上記光学体について、日本分光株式会社製「V−560」を用い、JIS A 5759に準拠して、波長320nmの光の透過率をそれぞれ測定した。そして、第1透明無機層(単層)の厚みと、波長320nmの光の透過率との関係を、図9に示す。
図9より、第1透明無機層(単層)は、厚みが大きくなるほど、波長320nmの光の透過率が低下し、耐紫外線性が高くなる傾向にあることが分かる。具体的に、第1透明無機層の厚みが100nm以上であれば、透過率がおよそ3%以下となって好ましく、120nm以上であれば、透過率がおよそ2%以下となってより好ましい。
(1) Relationship between the thickness of the transparent inorganic layer and the light transmittance at a wavelength of 320 nm A resin layer having a fine irregular surface on a PET substrate (Toyobo Co., Ltd., “A4300”, thickness 75 μm) A base layer was obtained by forming a composition using an acrylic ultraviolet curable resin by a shape transfer method. Next, a first transparent inorganic layer (single layer) made of ZnO and CeO 2 (ZnO: CeO 2 = 30: 70 (mass ratio)) is laminated on the fine uneven surface of the resin layer in the base layer by sputtering, on the surface of the first transparent inorganic layer, a second transparent inorganic layer containing SiO 2 stacked by sputtering to obtain an optical member.
Here, for the plurality of optical bodies obtained by variously changing the thickness of the first transparent inorganic layer (single layer), “V-560” manufactured by JASCO Corporation was used in accordance with JIS A 5759, The transmittance of light having a wavelength of 320 nm was measured. FIG. 9 shows the relationship between the thickness of the first transparent inorganic layer (single layer) and the transmittance of light having a wavelength of 320 nm.
From FIG. 9, it can be seen that as the thickness of the first transparent inorganic layer (single layer) increases, the transmittance of light having a wavelength of 320 nm decreases and the ultraviolet resistance tends to increase. Specifically, if the thickness of the first transparent inorganic layer is 100 nm or more, the transmittance is preferably about 3% or less, and if it is 120 nm or more, the transmittance is more preferably about 2% or less.

(2)第1透明無機層における中間分割層の厚みと、波長320nmの光の透過率との関係
PET製の基材(東洋紡株式会社製、「A4300」、厚み75μm)の上に、微細凹凸表面を有する樹脂層を、アクリル系の紫外線硬化性樹脂を含む組成物を用いて形状転写法により形成し、ベース層を得た。次いで、このベース層における樹脂層の微細凹凸表面上に、ZnO及びCeO(ZnO:CeO2=30:70(質量比))から成る透明無機層Bをスパッタ法により積層し、この透明無機層Bの表面上に、SiOのみから成る中間分割層をスパッタ法により積層し、この中間分割層の表面上に、透明無機層Bと同じ組成を有する透明無機層Aをスパッタ法により積層し、この透明無機層Aの表面上に、SiOを含有する第2透明無機層をスパッタ法により積層し、光学体を得た。
ここで、第1透明無機層の総厚を150nm又は170nmとし、透明無機層Aの厚み及び透明無機層Bの厚みを同じとした上で、中間分割層の積層厚みを種々変更して得られた複数の上記光学体について、上記と同様にして波長320nmの光の透過率をそれぞれ測定した。そして、中間分割層の厚みと、波長320nmの光の透過率との関係を、図10に示す。
図10より、中間分割層を設ける(厚みを0超えとする)ことで、波長320nmの光の透過率が低下し、耐紫外線性が高くなる傾向にあることが分かる。特に、中間分割層の厚みが40nm〜60nmであるときに、透過率がより低下し、耐紫外線性がより高くなる傾向にあることが分かる。
(2) Relationship between the thickness of the intermediate divided layer in the first transparent inorganic layer and the transmittance of light having a wavelength of 320 nm Fine unevenness on a PET substrate (Toyobo Co., Ltd., “A4300”, thickness 75 μm) A resin layer having a surface was formed by a shape transfer method using a composition containing an acrylic ultraviolet curable resin to obtain a base layer. Next, a transparent inorganic layer B made of ZnO and CeO 2 (ZnO: CeO 2 = 30: 70 (mass ratio)) is laminated on the fine uneven surface of the resin layer in the base layer by a sputtering method, and this transparent inorganic layer B An intermediate divided layer made of only SiO 2 is laminated on the surface of the intermediate divided layer by a sputtering method, and a transparent inorganic layer A having the same composition as the transparent inorganic layer B is laminated on the surface of the intermediate divided layer by a sputtering method. on the surface of the transparent inorganic layer a, a second transparent inorganic layer containing SiO 2 stacked by sputtering to obtain an optical member.
Here, the total thickness of the first transparent inorganic layer is 150 nm or 170 nm, the thickness of the transparent inorganic layer A and the thickness of the transparent inorganic layer B are the same, and the thickness of the intermediate divided layer is variously changed. Further, the transmittance of light having a wavelength of 320 nm was measured for each of the plurality of optical bodies in the same manner as described above. FIG. 10 shows the relationship between the thickness of the intermediate divided layer and the transmittance of light having a wavelength of 320 nm.
From FIG. 10, it can be seen that by providing the intermediate division layer (thickness is more than 0), the transmittance of light having a wavelength of 320 nm is lowered and the ultraviolet resistance tends to be increased. In particular, it can be seen that when the thickness of the intermediate divided layer is 40 nm to 60 nm, the transmittance tends to decrease and the ultraviolet resistance tends to be higher.

(3)透明無機層Bの厚みの割合と、波長320nmの光の透過率との関係
上記(2)と同様にして、光学体を得た。ここで、第1透明無機層の総厚を150nmとし、中間分割層の積層厚みを10nmとした上で、透明無機層Bの積層厚みを種々変更して得られた複数の上記光学体について、上記と同様にして波長320nmの光の透過率をそれぞれ測定した。そして、透明無機層Bの厚みと、波長320nmの光の透過率との関係を、図11に示す。
図11より、第1透明無機層の総厚における透明無機層Bの厚みを変更したとしても、波長320nmの光の透過率は0.6%〜0.8%の範囲内に収まっており、耐紫外線性に大きな影響が及ぼされていないことが分かる。
(3) Relationship between the ratio of the thickness of the transparent inorganic layer B and the transmittance of light having a wavelength of 320 nm In the same manner as in the above (2), an optical body was obtained. Here, the total thickness of the first transparent inorganic layer is 150 nm, the laminated thickness of the intermediate divided layer is 10 nm, and the plurality of optical bodies obtained by variously changing the laminated thickness of the transparent inorganic layer B, The transmittance of light having a wavelength of 320 nm was measured in the same manner as described above. FIG. 11 shows the relationship between the thickness of the transparent inorganic layer B and the transmittance of light having a wavelength of 320 nm.
From FIG. 11, even if the thickness of the transparent inorganic layer B in the total thickness of the first transparent inorganic layer is changed, the transmittance of light with a wavelength of 320 nm is within the range of 0.6% to 0.8%. It can be seen that the UV resistance is not greatly affected.

(4)透明無機層Bの厚みと、反射光のa*及びb*との関係
上記(2)と同様にして、光学体を得た。ここで、第1透明無機層の総厚を150nmとし、中間分割層の積層厚みを10nmとした上で、透明無機層Bの積層厚みを種々変更して得られた複数の上記光学体について、分光光度計を用い、300nmから800nmまでの波長範囲で測定した反射分光光度のデータより、CIELAB色空間に基づき、5°又は60°の光入射に対する反射光のa*及びb*を算出した。透明無機層Bの厚みと、a*及びb*との関係を、図12に示す。
図12より、第1透明無機層の総厚における透明無機層Bの厚みを変更したとしても、少なくとも60°の光の入射に対する反射光のa*及びb*の値は、ゼロ付近を推移することが分かる。特に、第1透明無機層の総厚における透明無機層Bの厚みの割合が30%以下である場合には、5°及び60°の光入射に対する反射光のa*及びb*の値がゼロにより近いことが分かる。
(4) Relationship between the thickness of the transparent inorganic layer B and the a * and b * of the reflected light An optical body was obtained in the same manner as in (2) above. Here, the total thickness of the first transparent inorganic layer is 150 nm, the laminated thickness of the intermediate divided layer is 10 nm, and the plurality of optical bodies obtained by variously changing the laminated thickness of the transparent inorganic layer B, Based on the CIELAB color space, a * and b * of reflected light with respect to 5 ° or 60 ° light incidence were calculated from reflection spectrophotometric data measured in the wavelength range from 300 nm to 800 nm using a spectrophotometer. The relationship between the thickness of the transparent inorganic layer B and a * and b * is shown in FIG.
From FIG. 12, even if the thickness of the transparent inorganic layer B in the total thickness of the first transparent inorganic layer is changed, the values of a * and b * of the reflected light with respect to incident light of at least 60 ° change around zero. I understand that. In particular, when the ratio of the thickness of the transparent inorganic layer B to the total thickness of the first transparent inorganic layer is 30% or less, the values of a * and b * of reflected light with respect to light incident at 5 ° and 60 ° are zero. You can see that it is closer.

本発明によれば、耐紫外線性に優れ、反射光の色味及びその変化が低減された光学体、並びに、耐紫外線性に優れ、反射光の色味及びその変化が低減された窓材を提供することができる。   According to the present invention, an optical body excellent in ultraviolet resistance, the color of reflected light and its change is reduced, and a window material excellent in ultraviolet resistance and the color of reflected light and its change are reduced. Can be provided.

1 形状転写装置
2 原盤
23 微細凹凸構造
51 基材供給ロール
52 巻取ロール
53,54 ガイドロール
55 ニップロール
56 剥離ロール
57 塗布装置
58 光源
60 光学体
61 基材
62 樹脂層
63 ベース層
64 第1透明無機層
64a 透明無機層A
64m 中間分割層
64b 透明無機層B
65 第2透明無機層
66 第3透明無機層
67 密着層
80 窓材
81,82,83 ガラス基板
84 粘着層
85 スペーサー
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Shape transfer apparatus 2 Master 23 Fine uneven structure 51 Base material supply roll 52 Winding roll 53, 54 Guide roll 55 Nip roll 56 Peeling roll 57 Coating device 58 Light source 60 Optical body 61 Base material 62 Resin layer 63 Base layer 64 1st transparent Inorganic layer 64a Transparent inorganic layer A
64m Intermediate split layer 64b Transparent inorganic layer B
65 Second transparent inorganic layer 66 Third transparent inorganic layer 67 Adhesion layer 80 Window material 81, 82, 83 Glass substrate 84 Adhesive layer 85 Spacer

Claims (8)

ベース層と、第1透明無機層と、第2透明無機層とを備える光学体であって、
前記第1透明無機層は、透明無機層Aと、透明無機層Bと、前記透明無機層A及び前記透明無機層Bの間の中間分割層とから成り、
前記第1透明無機層は、前記ベース層上に、前記透明無機層Bがベース層側となるように配置され、
前記第2透明無機層は、前記第1透明無機層上に配置される、
ことを特徴とする、光学体。
An optical body comprising a base layer, a first transparent inorganic layer, and a second transparent inorganic layer,
The first transparent inorganic layer comprises a transparent inorganic layer A, a transparent inorganic layer B, and an intermediate divided layer between the transparent inorganic layer A and the transparent inorganic layer B,
The first transparent inorganic layer is disposed on the base layer so that the transparent inorganic layer B is on the base layer side,
The second transparent inorganic layer is disposed on the first transparent inorganic layer.
An optical body characterized by that.
前記第1透明無機層が、ZnO及びCeOの少なくともいずれかを含有し、
前記第2透明無機層が、SiO、SiN、SiON及びMgFの少なくともいずれかを含有する、請求項1に記載の光学体。
The first transparent inorganic layer contains at least one of ZnO and CeO 2 ;
The optical body according to claim 1, wherein the second transparent inorganic layer contains at least one of SiO 2 , SiN, SiON, and MgF 2 .
前記中間分割層が、SiOのみから成る、請求項1又は2に記載の光学体。 The optical body according to claim 1, wherein the intermediate division layer is made of only SiO 2 . 前記第1透明無機層の総厚における前記透明無機層Bの厚みの割合が、30%以下である、請求項1〜3のいずれかに記載の光学体。   The optical body in any one of Claims 1-3 whose ratio of the thickness of the said transparent inorganic layer B in the total thickness of a said 1st transparent inorganic layer is 30% or less. 前記ベース層と前記第1透明無機層との間に、密着層を更に備える、請求項1〜4のいずれかに記載の光学体。   The optical body according to claim 1, further comprising an adhesion layer between the base layer and the first transparent inorganic layer. 前記第2透明無機層上に第3透明無機層を更に備える、請求項1〜5のいずれかに記載の光学体。   The optical body according to claim 1, further comprising a third transparent inorganic layer on the second transparent inorganic layer. 前記中間分割層の厚みが30nm以上60nm以下である、請求項1〜6のいずれかに記載の光学体。   The optical body according to any one of claims 1 to 6, wherein the intermediate divided layer has a thickness of 30 nm to 60 nm. ガラス基板と、請求項1〜7のいずれかに記載の光学体とを備える、ことを特徴とする、窓材。   A window material comprising a glass substrate and the optical body according to claim 1.
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