JP2019035952A - フレキシブルディスプレイ用光学補償機能付き位相差板 - Google Patents

Abstract

【課題】折り曲げてもシワやクラック等の不具合を生ずることがなく、折り畳んだ際にも外光を着色した状態で反射することがないフレキシブル用の光学補償機能付き位相差板の製造法を提供する。【解決手段】本発明の製造方法は、塗布、乾燥、配向処理工程を経て水平配向膜を形成した後、塗布、乾燥、紫外線照射工程を経て水平配向液晶硬化膜を形成し、さらに塗布・乾燥工程を経て垂直配向膜を形成し、、塗布、乾燥、紫外線照射工程を経て垂直配向液晶硬化膜形成し、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する方法によりフレキシブルディスプレイ用光学補償機能付き位相差板を製造する。【選択図】なし

Description

本発明は、フレキシブルディスプレイ用光学補償機能付き位相差板に関する。

有機ＥＬ画像表示装置等のフラットパネルディスプレイは通常、平面状の画像表示面を有する。フラットパネルディスプレイの画像表示面は、画像を表示するときも、表示しないときも、そのまま平面状の状態であった。

このようなフラットパネルディスプレイには、位相差板がしばしば用いられている。例えば有機ＥＬ画像表示装置では、画像表示装置を構成する電極での光反射を防止するために、位相差板を偏光板と組合せた円偏光板が用いられている。

このような位相差板には、逆波長分散性を示す位相差板が、可視光の広い波長範囲で同等の位相差性能を発揮する点で好適である。逆波長分散性を示す位相差板として、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を水平方向に配向させた状態で重合硬化させた水平配向液晶硬化膜からなる位相差板が知られている。

また、斜め方向から見た場合にも、正面方向から見たときと同様の光学性能を発揮させるように補償する機能を有する光学補償機能付き位相差板も求められており、このような光学補償機能付き位相差板として、水平配向液晶硬化膜と共に、垂直配向させた状態で重合性液晶化合物を重合硬化させた垂直配向液晶硬化膜をさらに備えたものが、特許文献１〔特開2015-163935号公報〕に提案されている。同文献では、水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜とは、配向膜のみを介して、または保護層等を介して積層する旨も開示している。また、同文献には、同文献記載の光学補償機能付き位相差板をフラットパネルディスプレイに使用しうることのみを開示している。

特開２０１５−１６３９３５号公報

一方、ディスプレイとして折り畳み可能な、いわゆるフレキシブルディスプレイも開発されている。フレキシブルディスプレイでは、光学補償機能付き位相差板も、ディスプレイと共に折り畳まれることとなる。

しかし、折り畳んだときにシワやクラック等の不具合が生ずると、フレキシブルディスプレイを再び広げて画像を表示した際に、シワやクラック等の不具合の部分が欠陥となって、表示画像を損なってしまう。また、画像を表示したまま折り畳む際、折り畳み部分は実質的に仰角（フィルム平面と、観察者が画面を見る方向の成す角）が非常に小さくなるため、光学性能が十分に補償されず、着色した状態で外光を反射してしまうことも問題となる。

したがって、本発明の目的は、折り曲げてもシワやクラック等の不具合を生ずることがなく、折り畳んだ際にも外光を着色した状態で反射することがないフレキシブル用の光学補償機能付き位相差板を開発することにある。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明には、以下のものが含まれる。

〔１〕塗布、乾燥、配向処理工程を経て水平配向膜を形成し、
塗布、乾燥、紫外線照射工程を経て水平配向液晶硬化膜を形成し、
さらに塗布・乾燥工程を経て垂直配向膜を形成し、
塗布、乾燥、紫外線照射工程を経て垂直配向液晶硬化膜形成することにより、
水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔２〕膜厚が１．０μｍ以下の水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する上記〔１〕に記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔３〕光配向膜からなる水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する上記〔１〕〜〔２〕のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔４〕シンナモイル基を含む光配向膜からなる水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する上記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔５〕水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、膜厚１．０μｍ以下の垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する上記〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔６〕水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、Ｓｉ元素を含む垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する上記〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔７〕水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、Ｓｉ／Ｃの元素が０．０３〜１．００である垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する上記〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔８〕水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成して光学補償機能付き位相差板を製造する方法であって、水平配向液晶硬化膜が以下の関係（１）を満たす上記〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）＜１．００ ・・・（１）
式中、ＲｅＡ（λ）は水平配向液晶硬化膜の波長λｎｍにおける面内位相差値を示す。面内位相差値ＲｅＡ（λ）の定義は以下のとおりである。
ＲｅＡ（λ）＝（ｎｘＡ（λ）−ｎｙＡ（λ））×ｄＡ
ただし、ｎｘＡ（λ）は水平配向液晶硬化膜のフィルム面内における主屈折率であって、波長λ（ｎｍ）に置ける主屈折率を、ｎｙＡ（λ）はｎｘＡ（λ）と同一面内で直交する方向の屈折率であって波長λ（ｎｍ）における屈折率を、ｄＡは水平配向液晶硬化の膜厚をそれぞれ示す。

〔９〕水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成して光学補償機能付き位相差板を製造する方法であって、垂直配向液晶硬化膜が以下の関係（２）を満たす上記〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）＜１．００ ・・・（２）
式中、ＲｔｈＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜の波長λｎｍにおける厚み方向の位相差値を示す。位相差値ＲｔｈＣ（λ）の定義は以下のとおりである。
ＲｔｈＣ（λ）＝（（ｎｘＣ（λ）＋ｎｙＣ（λ））／２−ｎｚＣ（λ））×ｄＣ
ただし、ｎｘＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜のフィルム面内における主屈折率であって、波長λ（ｎｍ）における主屈折率を、
ｎｙＣ（λ）はｎｘＣ（λ）と同一面内で直交する方向の屈折率であって波長λ（ｎｍ）における屈折率を、
ｎｚＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜の厚み方向の屈折率であって波長λ（ｎｍ）における屈折率を、
ｄＣは垂直配向液晶硬化の膜厚をそれぞれ示す。
尚、ｎｘＣ（λ）＝ｎｙＣ（λ）の場合には、ｎｘＣ（λ）はフィルム面内で任意の方向の屈折率とする事が出来る。

また、本発明は以下のものも含まれる。
〔１０〕塗布・乾燥工程を経て垂直配向膜を形成し、
塗布、乾燥、紫外線照射工程を経て垂直配向液晶硬化膜形成し、
更に塗布、乾燥、配向処理工程を経て水平配向膜を形成し、
塗布、乾燥、紫外線照射工程を経て水平配向液晶硬化膜を形成することにより、
垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成する光学補償機能付き位相差板の製造方法

〔１１〕垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、膜厚が１．０μｍ以下の水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成する上記〔１０〕に記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔１２〕垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、光配向膜からなる水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、をこの順に形成する上記〔１０〕または〔１１〕に記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔１３〕垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、シンナモイル基を含む光配向膜からなる水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成する上記〔１０〕〜〔１２〕のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔１４〕膜厚１．０μｍ以下の垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成する上記〔１０〕〜〔１３〕のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔１５〕Ｓｉ元素を含む垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成する上記〔１０〕〜〔１４〕のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔１６〕水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、Ｓｉ／Ｃの元素が０．０３〜１．００である垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する上記〔１０〕〜〔１５〕のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。

〔１７〕垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成して光学補償機能付き位相差板を製造する方法であって、水平配向液晶硬化膜が以下の関係（３）を満たす上記〔１０〕〜〔１６〕のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）＜１．００ ・・・（３）
式中、ＲｅＡ（λ）は水平配向液晶硬化膜の波長λｎｍにおける面内位相差値を示す。面内位相差値ＲｅＡ（λ）の定義は以下のとおりである。
ＲｅＡ（λ）＝（ｎｘＡ（λ）−ｎｙＡ（λ））×ｄＡ
ただし、ｎｘＡ（λ）は水平配向液晶硬化膜のフィルム面内における主屈折率であって波長λ（ｎｍ）に置ける主屈折率を、ｎｙＡ（λ）はｎｘＡ（λ）と同一面内で直交する方向の屈折率であって波長λ（ｎｍ）における屈折率を、ｄＡは水平配向液晶硬化の膜厚をそれぞれ示す。

〔１８〕垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成して光学補償機能付き位相差板を製造する方法であって、垂直配向液晶硬化膜が以下の関係（４）を満たす上記〔１〕〜〔１７〕に記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）＜１．００ ・・・（４）
式中、ＲｔｈＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜の波長λｎｍにおける厚み方向の位相差値を示す。位相差値ＲｔｈＣ（λ）の定義は以下のとおりである。
ＲｔｈＣ（λ）＝（（ｎｘＣ（λ）＋ｎｙＣ（λ））／２−ｎｚＣ（λ））×ｄＣ
ただし、ｎｘＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜のフィルム面内における主屈折率であって波長λ（ｎｍ）における主屈折率を、
ｎｙＣ（λ）はｎｘＣ（λ）と同一面内で直交する方向の屈折率であって波長λ（ｎｍ）における屈折率を、
ｎｚＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜の厚み方向の屈折率であって波長λ（ｎｍ）における屈折率を、
ｄＣは垂直配向液晶硬化の膜厚をそれぞれ示す。
尚、ｎｘＣ（λ）＝ｎｙＣ（λ）の場合には、ｎｘＣ（λ）はフィルム面内で任意の方向の屈折率とする事が出来る。

本発明の製造方法により光学補償機能付き位相差板を得、これに偏光板を積層することにより、光学補償機能付き楕楕円偏光板を製造することができる。
この光学補償機能付き楕楕円偏光板は、例えば有機ＥＬ表示装置に組込んで好ましく使用される。

本発明の光学補償機能付き位相差板は、折り曲げたときに発生するシワやクラック等の不具合を抑制する事が出来る。

〔水平配向液晶硬化膜〕
水平配向液晶硬化膜はフィルム平面内に屈折率異方性を有する膜であって、重合性液晶化合物を含む重合体からなる。水平配向液晶硬化膜の形成は、重合性液晶組成物を水平配向膜上に塗布し、加熱及び／又は光照射によって、配向状態の重合性液晶化合物を含む組成物を重合させる方法で行うことが、水平配向液晶硬化膜の薄膜化及び波長分散特性を任意に設計できる点で好ましい。

水平配向液晶硬化膜が形成する３次元屈折率楕円体は２軸性を有していてもよいが、１軸性を有することが好ましい。水平配向液晶硬化膜は、水平配向液晶硬化膜の平面に対して水平方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる水平配向液晶硬化膜であってもよいし、ハイブリッド配向液晶硬化膜又は傾斜配向液晶硬化膜であってもよい。重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体における３方向の屈折率ｎｘ、ｎｙ及びｎｚは、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ（ポジティブＡプレートという）、又はｎｘ＜ｎｙ≒ｎｚ（ネガティブＡプレートという）の関係を有していてもよい。ｎｘは、水平配向液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、水平配向液晶硬化膜の平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙは、水平配向液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、水平配向液晶硬化膜の平面に対して平行であり、且つ、該ｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、水平配向液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、水平配向液晶硬化膜の平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。

水平配向液晶硬化膜は、棒状の重合性液晶と円盤状の重合性液晶のどちらであっても使用可能であるが、棒状の重合性液晶であることが好ましい。棒状の重合性液晶が水平配向液晶硬化膜を形成する場合、水平配向液晶硬化膜はポジティブＡプレートとなる。

水平配向液晶硬化膜がフィルムの面内に光学異方性を有する場合、波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値であるＲｅ１（５５０）が、下記式（２１）に示される光学特性を満たすことが好ましい。また、水平配向液晶硬化膜は、波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値であるＲｅ１（４５０）、波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値であるＲｅ１（５５０）及び波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値であるＲｅ１（６５０）が、式（２２）及び式（２３）で示される光学特性を満たすことも好ましい。水平配向液晶硬化膜は、下記式（２１）、下記式（２２）及び下記式（２３）で示される光学特性を満たすことがより好ましい。
１２０ｎｍ≦ＲｅＡ（５５０）≦１７０ｎｍ …（２１）
［式中、ＲｅＡ（５５０）は水平配向液晶硬化膜の波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値（面内リタデーション）を表す。］
ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）≦１．０ …（２２）
１．００≦ＲｅＡ（６５０）／ＲｅＡ（５５０） …（２３）
［式中、ＲｅＡ（４５０）は水平配向液晶硬化膜の波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、ＲｅＡ（５５０）は水平配向液晶硬化膜の波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、ＲｅＡ（６５０）は水平配向液晶硬化膜の波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値をそれぞれ表す。］

水平配向液晶硬化膜の面内位相差値ＲｅＡ（５５０）が式（２１）の範囲を超えると、光学補償機能付き位相差板を含む光学補償機能付き楕円偏光板を適用したディスプレイ正面の色相が赤くなったり青くなったりする問題を生じうる。面内位相差値のさらに好ましい範囲としては、１３０ｎｍ≦ＲｅＡ（５５０）≦１６０ｎｍである。水平配向液晶硬化膜の「ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）」が１．０を超えると、当該水平配向液晶硬化膜を備える楕円偏光板での短波長側における楕円率が悪化する。短波長側で楕円偏光板の楕円率が悪化して１．０を外れて小さくなると、短波長側で正面から見た時の楕円偏光板としての機能が損なわれる傾向にある。この「ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）」は、好ましくは０．７５〜０．９２、より好ましくは０．７７〜０．８７、さらに好ましくは０．７９〜０．８５である。

水平配向液晶硬化膜の面内位相差値は、水平配向液晶硬化膜の厚さによって調整することができる。面内位相差値は下記式（２４）によって決定されることから、所望の面内位相差値（ＲｅＡ（λ）：波長λ（ｎｍ）における水平配向液晶硬化膜の面内位相差値）を得るには、３次元屈折率と膜厚ｄＡとを調整すればよい。なお、３次元屈折率は、後述する重合性液晶化合物の分子構造並びに配向状態に依存する。
ＲｅＡ（λ）＝（ｎｘＡ（λ）−ｎｙＡ（λ））×ｄＡ （２４）
［式中、水平配向液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体においてｎｘＡ（λ）＞ｎｙＡ（λ）≒ｎｚＡ（λ）の関係を有し、ｎｘＡ（λ）は波長λ（ｎｍ）の光に対する水平配向液晶硬化膜平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙＡ（λ）は波長λ（ｎｍ）の光に対する、水平配向液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、水平配向液晶硬化膜平面に対して平行であり、且つ、該ｎｘＡ（λ）の方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｄＡは水平配向液晶硬化膜の厚みを表す。］

水平配向液晶硬化膜は、上述のように配向状態の重合性液晶化合物を含む組成物の重合体であることが好ましい。水平配向液晶硬化膜を形成する重合性液晶化合物は、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物である。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。

本発明において、重合性液晶化合物は、逆波長分散性を発現させる、前記式（２１）及び（２２）若しくは後述する（３１）及び（３２）の関係を充足させる観点から、下記式（Ｉ）

で表される化合物が好ましい。

式（Ｉ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。ここで言う芳香族基とは、平面性を有する環状構造の基であり、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個であるものをいう。ここで、ｎは整数を表す。−Ｎ＝や−Ｓ−等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。

Ｇ^１及びＧ^２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。
ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。

Ｌ^１、Ｌ^２ _、Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。

ｋ、ｌは、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ^１及びＢ^２、Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｅ^１及びＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｉ−で置換されていてもよい。Ｐ^１及びＰ^２は互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。

Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４−フェニレンジイル基、無置換の１，４−フェニレンジイル基、又は無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４−フェニレンジイル基、又は無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロへキサンジイル基である。また、複数存在するＧ^１及びＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ^１又はＬ^２に結合するＧ^１及びＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。

Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒ^ａ１ＯＲ^ａ２−、−Ｒ^ａ３ＣＯＯＲ^ａ４−、−Ｒ^ａ５ＯＣＯＲ^ａ６−、Ｒ^ａ７ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ８−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^ｃ＝ＣＲ^ｄ−、又はＣ≡Ｃ−である。ここで、Ｒ^ａ１〜Ｒ^ａ８はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ^ｃ及びＲ^ｄは炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲ^ａ２−１−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯＲ^ａ４−１−、又はＯＣＯＲ^ａ６−１−である。ここで、Ｒ^ａ２−１、Ｒ^ａ４−１、Ｒ^ａ６−１はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれかを表す。Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−、又はＯＣＯ−である。

Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒ^ａ９ＯＲ^ａ１０−、−Ｒ^ａ１１ＣＯＯＲ^ａ１２−、−Ｒ^ａ１３ＯＣＯＲ^ａ１４−、又はＲ^ａ１５ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ１６−である。ここで、Ｒ^ａ９〜Ｒ^ａ１６はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１〜４のアルキレン基を表す。Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲ^{ａ１０−１}−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯＲ^{ａ１２−１}−、又はＯＣＯＲ^{ａ１４−１}−である。ここで、Ｒ^{ａ１０−１}、Ｒ^{ａ１２−１}、Ｒ^{ａ１４−１}はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれかを表す。Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−、又はＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２−、である。

ｋ及びｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるためさらに好ましい。

Ｅ^１及びＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４〜１２のアルカンジイル基がより好ましい。

Ｐ^１又はＰ^２で表される重合性基としては、例えばエポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。これらの中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。これらの中でも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

式（Ｉ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎ_πは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。

Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。

式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２２）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^０、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。

Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^２’Ｒ^３’−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^２’−、−ＣＯ−又はＯ−を表し、Ｒ^２’及びＲ^３’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。

Ｊ^１、及びＪ^２は、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。

Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、ｍは０〜６の整数を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。

Ｙ^１及びＹ^２は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。

Ｚ^０、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ^０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ^１及びＺ^２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。

Ｑ^１及びＱ^２は、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ^２’−、−Ｏ−が好ましく、Ｒ^２’は水素原子が好ましい。中でも−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−が特に好ましい。

式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２２）の中でも、式（Ａｒ−６）及び式（Ａｒ−７）が分子の安定性の観点から好ましい。

式（Ａｒ−１６）〜（Ａｒ−２２）において、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子及びＺ^０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子及びＺ^０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。なお、前記式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法に準じて製造することができる。

重合性液晶化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。二種以上併用する場合、前記式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは５０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、さらに好ましくは８０質量部以上である。

水平配向液晶硬化膜の形成に使用する水平配向液晶硬化膜形成用組成物（以下、重合性液晶組成物ともいう）は、溶媒、光重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、密着性向上剤をさらに含むことができる。これらの添加剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成物の固形分１００質量部に対して、例えば７０〜９９．５質量部であり、好ましくは８０〜９９質量部であり、より好ましくは９０〜９８質量部である。含有量が上記範囲内であれば、水平配向液晶硬化膜の配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、組成物から溶媒を除いた成分の合計量のことをいう。

溶媒としては、重合性液晶化合物を溶解し得る溶媒が好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶媒であることが好ましい。溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−ブトキシエタノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフラン、アニソール及びジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等のアミド系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。ただし、前記式（Ｉ）で表される化合物は一般に比較的大きな共役系を有するため溶媒に対する溶解性が低く、上記に例示した溶媒の中でもアルコール溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、塩素含有溶媒、エーテル系溶媒、アミド系溶媒及び芳香族炭化水素溶媒を使用する事が好ましく、エステル溶媒、ケトン溶媒、塩素含有溶媒、エーテル系溶媒、アミド系溶媒を用いることがより好ましい。

溶媒の含有量は、重合性液晶組成物１００質量部に対して、好ましくは５０〜９８質量部、より好ましくは７０〜９５重量部である。従って、組成物１００質量部に占める固形分は、２〜５０質量部が好ましい。組成物の固形分が５０質量部以下であると、組成物の粘度が低くなることから、水平配向液晶硬化膜の厚みが略均一になり、水平配向液晶硬化膜にムラが生じ難くなる傾向がある。上記固形分は、製造しようとする水平配向液晶硬化膜の厚みを考慮して適宜定めることができる。

重合開始剤は、熱又は光の寄与によって反応活性種を生成し、重合性液晶等の重合反応を開始し得る化合物である。反応活性種としては、ラジカル、カチオン、又はアニオン等の活性種が挙げられる。中でも反応制御が容易であるという観点から、光照射によって反応が進行する光重合開始剤が好ましい。

光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤等が挙げられる。光ラジカル重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、トリアジン化合物等が挙げられ、光カチオン重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩、鉄−アレーン錯体等が挙げられる。
具体的には、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ、登録商標）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア１２７、イルガキュア２９５９、イルガキュア７５４、イルガキュア３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、精工化学株式会社製）、カヤキュアー（Ｋａｙａｃｕｒｅ）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＮ−１７１７、アデカオプトマーＮ−１９１９、アデカアークルズＮＣＩ−８３１、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）及びＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）、カヤラッド（登録商標）シリーズ（日本化薬株式会社製）、サイラキュア ＵＶＩシリーズ（ダウケミカル社製）、ＣＰＩシリーズ（サンアプロ株式会社製）、ＴＡＺ、ＢＢＩ及びＤＴＳ（以上、みどり化学株式会社製）、ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ（登録商標）（ローディア株式会社製）等が挙げられる。光重合開始剤は単独又は二種以上組合わせて使用できる。これらの中でも反応制御が容易であるという観点から、光照射によってラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤が好ましい。

光重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるという観点から、極大吸収波長が３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲に存在する事が好ましく、３００ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲に存在する事がより好ましい。また、同様の観点からα−アセトフェノン系重合開始剤、オキシム系光重合開始剤が好ましい。

α−アセトフェノン系重合開始剤としては、例えば、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、より好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）及びセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。

オキシム系光重合開始剤は、光が照射されることによってラジカルを生成させる。このラジカルにより水平配向液晶硬化膜の深部における重合性液晶化合物の重合が好適に進行する。また、水平配向液晶硬化膜の深部での重合反応をより効率的に進行させるという観点から、波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤を使用することが好ましい。波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤としては、トリアジン化合物やオキシムエステル型カルバゾール化合物が好ましく、感度の観点からはオキシムエステル型カルバゾール化合物がより好ましい。オキシムエステル型カルバゾール化合物としては、例えば１，２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。オキシムエステル型カルバゾール化合物の市販品としては、イルガキュアＯＸＥ−０１、イルガキュアＯＸＥ−０２、イルガキュアＯＸＥ−０３（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカオプトマーＮ−１９１９、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

光重合開始剤の添加量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常、０．１〜３０質量部であり、好ましくは１〜２０質量部であり、より好ましくは１〜１５質量部である。上記範囲内であれば、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、重合性液晶化合物の配向を乱し難い。

重合禁止剤を配合することにより、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン及びアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補捉剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類及びβ−ナフトール類が挙げられる。重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。重合禁止剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

さらに、光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセン及びアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．０５〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。

レベリング剤とは、重合性液晶組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる層をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、シランカップリング剤等のシリコーン系及びポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３及びＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。レベリング剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．０５〜３質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、得られる水平配向液晶硬化膜がより平滑となる傾向があるため好ましい。

重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物と、添加剤等の重合性液晶化合物以外の成分とを所定温度で撹拌等することにより得ることができる。

水平配向液晶硬化膜は、前記重合性液晶組成物を後述する水平配向膜上に塗布し、次いで溶媒を除去し、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を加熱及び／又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。

重合性液晶組成物を水平配向膜上に塗布する方法（以下、塗布方法Ａという場合がある）としては、例えば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗布方法が好ましい。

溶媒を除去する方法（以下、溶媒除去方法Ａという場合がある）としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥及びこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥又は加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０〜２００℃の範囲が好ましく、２０〜１５０℃の範囲がより好ましく、５０〜１３０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間〜２０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間〜１０分間である。

照射する活性エネルギー線としては、重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、及びγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、及び光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。

前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

紫外線照射強度は、通常、１０〜３，０００ｍＷ／ｃｍ^２である。紫外線照射強度は、好ましくは光カチオン重合開始剤又は光ラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．１秒〜５分、より好ましくは０．１秒〜３分、さらに好ましくは０．１秒〜１分である。
このような紫外線照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０〜３，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２である。積算光量が上記の下限以下である場合には、重合性液晶化合物の硬化が不十分となり、良好な転写性が得られない場合がある。逆に、積算光量が上記の上限以上である場合には、水平配向液晶硬化膜を含む光学補償機能付き位相差板が着色する場合がある。

水平配向液晶硬化膜の膜厚は、機能性フィルムの薄膜化の観点から、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは３μｍ以下、さらに好ましくは２．５μｍ以下である。また、水平配向液晶硬化膜の膜厚の下限は、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上、さらに好ましくは１．０μｍ以上である。水平配向液晶硬化膜の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。

〔水平配向膜〕
配向膜は液晶硬化膜の重合性液晶化合物を所定方向に配向させる配向規制力を有する膜である。配向規制力を発現させるために必要な配向処理としては、ラビング処理、光配向処理、光照射処理等があげられる。また、配向膜の種類やラビング条件や光照射条件によって、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向、及び傾斜配向等の様々な配向の制御が可能である。この中でも、水平配向膜は液晶硬化膜の重合性液晶化合物を水平方向に配向させる配向規制力を有する配向膜である。このため、水平配向膜を用いることで、水平配向液晶膜を形成することができる。

配向膜としては、重合性液晶組成物の塗布等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。

水平配向液晶硬化膜を水平方向に配向させる配向規制力を示す水平配向膜としては、ラビング配向膜、光配向膜及び、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜等が挙げられる。例えば長尺のロール状フィルムに適用する場合には、配向方向を容易に制御できる点で、光配向膜が好ましい。

ラビング配向膜は、通常、配向性ポリマーと溶媒とを含む組成物（以下、ラビング配向膜形成用組成物ともいう）を基材等の上に塗布し、溶媒を除去して塗布膜を形成し、該塗布膜をラビングすることで配向規制力を付与することができる。

配向性ポリマーとしては、例えば、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類が挙げられる。これらの配向性ポリマーは単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

ラビング配向膜形成用組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが溶媒に完溶する範囲であればよい。配向性ポリマーの含有量は、該組成物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２０質量部であり、より好ましくは０．１〜１０質量部である。

ラビング配向膜形成用組成物は、市場から入手できる。市販品としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。

溶媒は、例えば水平配向液晶硬化膜の項で例示した溶媒を使用することができる。ラビング配向膜形成用組成物を基材等に塗布する方法としては、前記塗布方法Ａが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、前記溶媒除去方法Ａが挙げられる。

ラビング処理の方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、前記塗布膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。

光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶媒とを含む組成物（光配向膜形成用組成物ともいう）を基材等の上に塗布し、溶媒を除去後に偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる。

光反応性基とは、光照射することにより配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起反応、異性化反応、光二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。

光二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造又は桂皮酸エステル構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、ポリマー又はモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚さによって調節でき、光配向膜形成用組成物１００質量部に対して、少なくとも０．２質量部以上とすることが好ましく、０．３〜１０質量部の範囲がより好ましい。

溶媒は、例えば水平配向液晶硬化膜の項で例示した溶媒を使用することができる。光配向膜形成用組成物を基材等の上に塗布する方法としては、前記塗布方法Ａが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、前記溶媒除去方法Ａが挙げられる。

偏光を照射するには、例えば、基材等の上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去したものに直接、偏光を照射する形式であってよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長域のものがよい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられる。中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光素子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。偏光素子としては、偏光フィルター、グラントムソン、及びグランテーラー等の偏光プリズム、ならびにワイヤーグリッドが挙げられる。中でも大面積化と熱による耐性の観点からワイヤーグリッドタイプの偏光素子が好ましい。

なお、ラビング又は偏光照射を行うときに、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。

グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層を形成し、形成された樹脂層を基材等へ移してから硬化する方法、及び、基材等の上に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。

前記ラビング配向膜形成用組成物、前記光配向膜形成用組成物等の水平配向膜形成用組成物は、溶媒の他、水平配向液晶硬化膜の項に例示の添加剤等を含むことができる。

水平配向膜の膜厚は、光学補償機能付き位相差板の薄膜化の観点から、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以下、さらに好ましくは０．３μｍ以下である。また、水平配向膜の膜厚は、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ以上、さらに好ましくは１０ｎｍ以上、特に好ましくは３０ｎｍ以上である。水平配向膜の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。

［垂直配向液晶硬化膜］
水平配向液晶硬化膜はフィルム平面に対して垂直な方向に屈折率異方性を有する膜であって、重合性液晶化合物を含む重合体からなる。垂直配向液晶硬化膜の形成は、重合性液晶組成物を垂直配向膜上に塗布し、加熱及び／又は光照射によって、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を重合させる方法で行うことが、垂直配向液晶硬化膜の薄膜化及び波長分散特性を任意に設計できる点で好ましい。

垂直配向液晶硬化膜が形成する３次元屈折率楕円体は２軸性を有していてもよいが、１軸性を有することが好ましい。垂直配向液晶硬化膜は、液晶硬化膜の平面に対して垂直方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる垂直配向液晶硬化膜であってもよいし、ハイブリッド配向液晶硬化膜又は傾斜配向液晶硬化膜であってもよい。重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体における３方向の屈折率ｎｘ、ｎｙ及びｎｚは、ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ（ポジティブＣプレートという）、又はｎｚ＜ｎｘ≒ｎｙ（ネガティブＣプレートという）の関係を有していてもよい。ｎｘは、垂直配向液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、垂直配向液晶硬化膜の平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙは、垂直配向液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、垂直配向液晶硬化膜の平面に対して平行であり、且つ、該ｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。尚、ｎｘ＝ｎｙとなる場合には、ｎｘは垂直配向液晶硬化膜の平面内で任意の方向をとる事ができる。ｎｚは、垂直配向液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、垂直配向液晶硬化膜の平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。

垂直配向液晶硬化膜は、棒状の重合性液晶と円盤状の重合性液晶のどちらであっても使用可能であるが、棒状の重合性液晶であることが好ましい。棒状の重合性液晶が垂直配向液晶硬化膜を形成する場合、垂直配向液晶硬化膜はポジティブＣプレートとなる。

垂直配向液晶硬化膜がポジティブＣプレートである場合、垂直配向液晶硬化膜は、波長λｎｍの光に対する厚み方向の位相差値であるＲｔｈＣ（λ）が、下記式（３１）に示される光学特性を満たすことが好ましい。また、下記式（３２）及び式（３３）に示される光学特性を満たすことも好ましい。垂直配向液晶硬化膜は下記式（３１）、下記式（３２）及び下記式（３３）で示される光学特性を満たすことがより好ましい。
−１００ｎｍ≦ＲｔｈＣ（５５０）≦−５０ｎｍ …（３１）
（式中、ＲｔｈＣ（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する厚み方向の位相差値を表す。
）
ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）≦１．０ …（３２）
１．００≦ＲｔｈＣ（６５０）／ＲｔｈＣ（５５０） …（３３）
（式中、ＲｔｈＣ（４５０）は波長４５０ｎｍの光に対する厚み方向の位相差値を、ＲｔｈＣ（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する厚み方向の位相差値を、ＲｔｈＣ（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する厚み方向の位相差値をそれぞれ表す。）

垂直配向液晶硬化膜の厚み方向の位相差値ＲｔｈＣ（５５０）が式（３１）の範囲を超えると、光学補償機能付き位相差板を含む光学補償機能付き楕円偏光板を適用したディスプレイの斜方の色相が赤くなったり青くなったりする問題を生じうる。厚み方向の位相差値のより好ましい範囲としては、−９５ｎｍ≦ＲｔｈＣ（５５０）≦−５５ｎｍ、さらに好ましい範囲としては−９０ｎｍ≦ＲｔｈＣ（５５０）≦−６０ｎｍである。垂直配向液晶硬化膜の「ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）」が１．０を超えると、当該垂直配向液晶硬化膜を備える楕楕円偏光板での短波長側での斜方から見た場合の楕円率が悪化する。短波長側で楕円偏光板の楕円率が悪化して１．０を外れて小さくなると、短波長側で楕円偏光板としての機能が損なわれる傾向にある。「ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）」は、好ましくは０．７５〜０．９２、より好ましくは０．７７〜０．８７、さらに好ましくは０．７９〜０．８５である。

垂直配向液晶硬化膜の厚み方向の位相差値は、垂直配向液晶硬化膜の厚さによって調整することができる。厚み方向の位相差値は下記式（３４）によって決定されることから、所望の厚み方向の位相差値（ＲｔｈＣ（λ）：波長λ（ｎｍ）における垂直配向液晶硬化膜の厚み方向の位相差値）を得るには、３次元屈折率と膜厚ｄＣとを調整すればよい。なお、３次元屈折率は、後述する重合性液晶化合物の分子構造並びに配向性に依存する。
ＲｔｈＣ（λ）＝［（ｎｘＣ（λ）＋ｎｙＣ（λ））／２−ｎｚＣ（λ）］×ｄＣ （３４）
（式中、垂直配向液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体においてｎｚＣ（λ）＞ｎｘＣ（λ）≒ｎｙＣ（λ）の関係を有し、式中、ｎｚＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する垂直配向液晶硬化膜平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。ｎｘＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する垂直配向液晶硬化膜平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。ｎｙＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、垂直配向液晶硬化膜平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘＣの方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ただし、ｎｘＣ（λ）＝ｎｙＣ（λ）となる場合には、ｎｘＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。ここで、ｄＣは垂直配向液晶硬化膜の厚みを表す。）

垂直配向液晶硬化膜は、上述のように垂直配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体であることが好ましい。垂直配向液晶硬化膜を形成する重合性液晶化合物は、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物である。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。

垂直配向液晶硬化膜の形成に用いられる重合性液晶化合物は、前述の式（Ｉ）で示される化合物を用いる事が好ましい。式（Ｉ）で示される化合物を用いる事により、逆波長分散性が発現し、前記（３１）及び（３２）の関係を充足させることができる。

垂直配向液晶硬化膜に用いられる重合性液晶化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。二種以上併用する場合、前記式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは５０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、さらに好ましくは８０質量部以上である。

垂直配向液晶硬化膜に用いられる垂直配向液晶硬化膜形成用組成物（以下、重合性液晶組成物ともいう）は、溶媒、光重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、密着性向上剤をさらに含むことができる。これらの添加剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成物の固形分１００質量部に対して、例えば７０〜９９．５質量部であり、好ましくは８０〜９９質量部であり、より好ましくは９０〜９８質量部である。含有量が上記範囲内であれば、垂直配向液晶硬化膜の配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、組成物から溶媒を除いた成分の合計量のことをいう。

溶媒としては、重合性液晶化合物を溶解し得る溶媒が好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶媒であることが好ましい。溶媒としては水平配向液晶硬化膜形成用組成物に用いられるものと同様の溶媒が使用可能である。

溶媒の含有量は、重合性液晶組成物１００質量部に対して、好ましくは５０〜９８質量部、より好ましくは７０〜９５重量部である。従って、組成物１００質量部に占める固形分は、２〜５０質量部が好ましい。組成物の固形分が５０質量部以下であると、組成物の粘度が低くなることから、垂直配向液晶硬化膜の厚みが略均一になり、垂直配向液晶硬化膜にムラが生じ難くなる傾向がある。上記固形分は、製造しようとする垂直配向液晶硬化膜の厚みを考慮して適宜定めることができる。

重合開始剤は、熱又は光の寄与によって反応活性種を生成し、重合性液晶等の重合反応を開始し得る化合物である。反応活性種としては、ラジカル、カチオン、又はアニオン等の活性種が挙げられる。中でも反応制御が容易であるという観点から、光照射によって反応が進行する光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤は、水平配向液晶硬化膜形成用組成物に用いられるものと同様の開始剤を使用する事ができる。

光重合開始剤の添加量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常、０．１〜３０質量部であり、好ましくは１〜２０質量部であり、より好ましくは１〜１５質量部である。上記範囲内であれば、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、重合性液晶化合物の配向を乱し難い。

重合禁止剤を配合することにより、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。重合禁止剤としては水平配向液晶硬化膜形成用組成物に用いられるものと同様のものが使用できる。重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。重合禁止剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

さらに、光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては水平配向液晶硬化膜形成用組成物に用いられるものと同様のものが使用できる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．０５〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。

レベリング剤とは、重合性液晶組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる層をより平坦にする機能を有する添加剤であり、水平配向液晶硬化膜形成用組成物に用いられるものと同様のものが使用できる。

レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．０５〜３質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、得られる垂直配向液晶硬化膜がより平滑となる傾向があるため好ましい。

垂直配向液晶硬化膜の形成に用いられる重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物と、添加剤等の重合性液晶化合物以外の成分とを所定温度で撹拌等することにより得ることができる。

垂直配向液晶硬化膜は、前記重合性液晶組成物を後述する垂直配向膜上に塗布し、次いで溶媒を除去し、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を加熱及び／又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。

重合性液晶組成物を垂直配向膜上に塗布する方法は、水平配向液晶硬化膜を形成する際と同じ方法を使用する事が出来る。

溶媒を除去する方法は、水平配向液晶硬化膜を形成する際と同じ方法を使用できる。

照射する活性エネルギー線としては、重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、及びγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、及び光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。

前記活性エネルギー線の光源としては、水平配向液晶硬化膜を形成する際に使用するものと同じものが使用できる。

紫外線照射強度は、通常、１０〜３，０００ｍＷ／ｃｍ^２である。紫外線照射強度は、好ましくは光カチオン重合開始剤又は光ラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．１秒〜５分、より好ましくは０．１秒〜３分、さらに好ましくは０．１秒〜１分である。
このような紫外線照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０〜３，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２である。積算光量が上記の下限以下である場合には、重合性液晶化合物の硬化が不十分となり、良好な転写性が得られない場合がある。逆に、積算光量が上記の上限以上である場合には、垂直配向液晶硬化膜を含む光学補償機能付き位相差板が着色する場合がある。

垂直配向液晶硬化膜の膜厚は、機能性フィルムの薄膜化の観点から、好ましくは３μｍ以下であり、より好ましくは２μｍ以下、さらに好ましくは１．５μｍ以下である。また、垂直配向液晶硬化膜の膜厚の下限は、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．３μｍ以上、さらに好ましくは０．５μｍ以上である。垂直配向液晶硬化膜の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。
［垂直配向膜］

配向膜は液晶硬化膜の重合性液晶化合物を所定方向に配向させる配向規制力を有する膜である。また、配向膜の種類やラビング条件や光照射条件によって、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向、及び傾斜配向等の様々な配向の制御が可能である。この中でも、垂直配向膜は液晶硬化膜の重合性液晶化合物を垂直方向に配向させる配向規制力を有する配向膜である。このため、垂直配向膜を用いることで、垂直配向液晶膜を形成することができる。

垂直配向膜としては、基材等の表面の表面張力を下げるような材料を適用することが好ましい。このような材料としては、上述した配向性ポリマー、例えばポリイミド、ポリアミド、その加水分解物であるポリアミック酸、パーフルオロアルキル等のフッ素系ポリマー、及びシラン化合物並びにそれらの縮合反応により得られるポリシロキサン化合物が挙げられる。垂直配向膜は、このような材料と溶媒、例えば垂直配向液晶膜の項で例示した溶媒とを含む組成物（以下、垂直配向膜形成用組成物ともいう）を基材等の上に塗布し、溶媒除去後、塗布膜に加熱等施すことで得ることができる。

垂直配向膜にシラン化合物を使用する場合には、表面張力を低下させやすく、垂直配向膜に隣接する層との密着性を高めやすい観点から、垂直配向膜は構成元素にＳｉ元素とＣ元素とを含む化合物からなる膜が好ましく、シラン化合物を好適に使用することができる。本発明において水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜の間に垂直配向膜が配置される場合、垂直配向膜と、水平配向液晶硬化膜及び垂直配向液晶硬化膜との高い密着性が発現され、光学補償機能付き位相差板において、各層間の界面における剥がれを有効に抑制又は防止することができる。

シラン化合物としては、上述したシランカップリング剤等のシリコーン系が好適に適用可能であるが、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラン、３−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシランなどが挙げられる。

シラン化合物は、シリコーンモノマータイプのものであってもよく、タイプシリコーンオリゴマー（ポリマー）タイプのものであってもよい。シリコーンオリゴマーを（単量体）−（単量体）コポリマーの形式で示すと、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、メルカプトプロピル基含有のコポリマー；メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及びメルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、メルカプトメチル基含有のコポリマー；３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び３−メタクリロキシイルオプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、メタクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー；３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、アクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー；ビニルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及びビニルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、ビニル基含有のコポリマー；３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、アミノ基含有のコポリマー等が挙げられる。シラン化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。また、レベリング剤としても使用される場合もある、シランカップリング剤等も使用する事が出来る。

これらの中でも分子末端にアルキル基を有するシラン化合物が好ましく、炭素数３〜３０のアルキル基を有するシラン化合物がより好ましい。

密着性をより向上しやすい観点、及び垂直配向液晶硬化膜形成用組成物の塗布性の観点、及び後述する光学補償機能付き位相差板の製造方法において下層に配置される層が溶解しにくい観点から、垂直配向膜は、構成元素にＳｉ元素、Ｃ元素及びＯ元素を含む化合物からなる膜であることが好ましい。また、垂直配向膜を形成するシラン化合物のＳｉ原子に結合するＣ原子を含む置換基、好ましくはアルキル基又はアルコキシ基の炭素原子数は、好ましくは１〜３０、より好ましくは２〜２５、さらに好ましくは３〜２０である。すなわち、Ｓｉ元素とＣ元素との比率（Ｓｉ／Ｃ、モル比）は、好ましくは０．０３〜１．００、より好ましくは０．０４〜０．５０、さらに好ましくは０．０５〜０．３３である。Ｓｉ／Ｃ比が上記の下限以上であると、垂直配向液晶硬化膜形成用組成物の塗布性が向上し、Ｓｉ／Ｃ比が上記の上限以下であると隣接する層との密着性を向上できる。

溶媒は、例えば水平配向液晶硬化膜の項で例示した溶媒を使用することができる。垂直配向膜形成用組成物を塗布する方法としては、前記塗布方法Ａが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、前記溶媒除去方法Ａが挙げられる。

垂直配向膜形成用組成物は溶媒の他、水平配向液晶硬化膜の項に例示の添加剤等を含むことができる。

垂直配向膜の膜厚は、光学補償機能付き位相差板の薄膜化、及び配向規制力の発現の観点から、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１μｍ以下である。また、垂直配向膜の膜厚は、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ以上、さらに好ましくは１０ｎｍ以上、特に好ましくは３０ｎｍ以上である。垂直配向膜の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。

〔基材〕
基材は、配向膜形成用組成物や液晶硬化膜形成用組成物を塗布する際に使用するものであり、基材を剥離して基材上に塗布した膜を転写できる設計であっても、基材との密着性が付与され転写できない設計であってもどちらでも良いが、薄膜化の観点から被転写体への転写し、基材を剥離できる設計が好ましい。上述のような基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、加工性の観点からフィルム基材が好ましく、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド等のプラスチックが挙げられる。この基材表面にシリコーン処理のような離型処理が施されたものであることができる。市販のセルロースエステル基材としては、“フジタックフィルム”（富士写真フイルム株式会社製）；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が挙げられる。このような樹脂を、溶媒キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。

市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ社（独）製）、“アートン”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）（以上、日本ゼオン株式会社製）及び“アペル”（登録商標）（三井化学株式会社製）が挙げられる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）、“ＳＣＡ４０”（登録商標）（以上、積水化学工業株式会社製）、“ゼオノアフィルム”（登録商標）（オプテス株式会社製）及び“アートンフィルム”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）が挙げられる。

基材は、水平配向液晶硬化膜、水平配向膜、垂直配向液晶硬化膜や垂直配向膜を積層しやすく、かつ剥離が容易な厚みであることが好ましい。このような基材の厚みは、通常５〜３００μｍであり、好ましくは２０〜２００μｍである。

〔光学補償機能付き位相差板〕
本発明の光学補償機能付き位相差板は、水平配向液晶硬化膜、水平配向膜又は垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に含み、以下に記載の（１）〜（４）の要件を満たすことが好ましい。
水平配向液晶硬化膜と、垂直配向液晶硬化膜の層間距離が５μｍ以下であること。 ・・・（１）
水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜の層間に、水平配向膜又は垂直配向膜を含むこと。 ・・・（２）
以下の関係式
ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）＜１．００ ・・・（３）
を満たすこと。
ここで、ＲｅＡ（λ）は水平配向液晶硬化膜の波長λｎｍにおける面内位相差値を示す。位相差値定義は以下のとおりである。
ＲｅＡ（λ）＝（ｎｘＡ−ｎｙＡ）×ｄＡ
ただし、ｎｘＡは水平配向液晶硬化膜のフィルム面内における主屈折率、ｎｙＡはｎｘＡと同一面内で直交する方向の屈折率、ｄＡは水平配向液晶硬化の膜厚を示す。
以下の関係式
ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）＜１．００
を満たすこと。 ・・・（４）
ここで、ＲｔｈＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜の波長λｎｍにおける厚み方向の位相差値を示す。位相差値定義は以下のとおりである。
ＲｔｈＣ（λ）＝（（ｎｘＣ＋ｎｙＣ）／２−ｎｚＣ）×ｄＣ
ただし、ｎｘＣは垂直配向液晶硬化膜のフィルム面内における主屈折率、ｎｙＣはｎｘＣと同一面内で直交する方向の屈折率、ｎｚＣは垂直配向液晶硬化膜の厚み方向の屈折率を、ｄＣは垂直配向液晶硬化の膜厚を示す。

尚、ｎｘＣ＝ｎｙＣの場合には、ｎｘＣはフィルム面内で任意の方向の屈折率とする事が出来る。
また、水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜の層間距離は式（１）のとおり５μｍ以下が好ましいが、より好ましくは１μｍ以下、さらに好ましくは０．５μｍ以下、特に好ましくは０．３μｍ以下である。また、水平配向膜の膜厚は、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ以上、さらに好ましくは１０ｎｍ以上、特に好ましくは３０ｎｍ以上である。

光学補償機能付き位相差板は以下の関係式（５）を満たす事が好ましい。｜Ｒ０（５５０）−Ｒ４０（５５０）｜の値は、光学補償機能付き位相差板を用いた光学補償機能付き楕円偏光板をディスプレイに適用した場合の斜方の波長５５０ｎｍ付近の光抜け量が少なくなるため小さい程良い。｜Ｒ０（５５０）−Ｒ４０（５５０）｜の値は、好ましくは１０ｎｍ未満、より好ましくは５ｎｍ以下、更に好ましくは４ｎｍ以下、特に好ましくは３ｎｍ以下である。
｜Ｒ０（５５０）−Ｒ４０（５５０）｜＜１０ｎｍ ・・・（５）
ここで、Ｒ０（λ）は、水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜を含む光学補償機能付き位相差板の面内位相差値を示す。また、Ｒ４０は、水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜を含む光学補償機能付き位相差板の内、フィルム面内の主屈折率方向と同一面内で直交する方向（進相軸方向）周りで４０°回転させた時のみかけの位相差値を示す。

光学補償機能付き位相差板は以下の関係式（６）を満たす事が好ましい。｜Ｒ０（４５０）−Ｒ４０（４５０）｜の値は、光学補償機能付き位相差板を用いた光学補償機能付き楕円偏光板をディスプレイに適用した場合の斜方の波長４５０ｎｍ付近の光抜け量が少なくなるため小さい程良い。｜Ｒ０（４５０）−Ｒ４０（４５０）｜の値は、好ましくは１０ｎｍ未満、より好ましくは５ｎｍ以下、更に好ましくは４ｎｍ以下、特に好ましくは３ｎｍ以下である。
｜Ｒ０（４５０）−Ｒ４０（４５０）｜＜１０ｎｍ ・・・（６）
ただし、Ｒ０（λ）は、水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜を含む光学補償機能付き位相差板の面内位相差値を示す。また、Ｒ４０は、水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜を含む光学補償機能付き位相差板の内、フィルム面内の主屈折率方向と同一面内で直交する方向（進相軸方向）周りで４０°回転させた時のみかけの位相差値を示す。

更に、関係式（５）、及び（６）で示される値の差は、以下関係式式（７）を満たすことが好ましい。
｜｛Ｒ０（４５０）−Ｒ４０（４５０）｝−｛Ｒ０（５５０）−Ｒ４０（５５０）｝｜＜３ｎｍ ・・・（７）
関係式（７）を満たす場合には光学補償機能付き位相差板を用いた光学補償機能付き楕円偏光板をディスプレイに適用した場合の正面・及び斜方の反射色相が黒に近くなるため、好ましくは（７）の値が３ｎｍ以下、より好ましくは２ｎｍ以下、更に好ましくは１ｎｍ以下である。

また、各層の平均屈折率差、即ち、本発明の光学補償機能付き位相差板を構成する各層の平均屈折率と、該層に隣接する他の層の平均屈折率との差が大きい場合には、層間で発生する界面反射の影響により光抜けが発生する事がある。各層の波長５５０ｎｍにおける平均屈折率の差は、好ましくは０．２０以下、より好ましくは０．１５以下、更に好ましくは０．１０以下、特に好ましくは０．０５以下である。この範囲であれば、界面反射による光抜けの発生を抑制できる。

各層の平均屈折率の差として具体的には、
(1)水平配向液晶硬化膜の平均屈折率と垂直配向液晶硬化膜の平均屈折率との差、
(2)水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜との間に水平配向膜を含む場合には、
(2-a)水平配向液晶硬化膜の平均屈折率と水平配向膜の平均屈折率との差、
(2-b)水平配向膜の平均屈折率と垂直配向液晶硬化膜の平均屈折率の差、
(3)水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜との間に垂直配向膜が含まれる場合には、
(3-a)水平配向液晶硬化膜の平均屈折率と垂直配向膜の平均屈折率との差、
(3-b)垂直配向膜の平均屈折率と垂直配向液晶硬化膜の平均屈折率の差、
などが挙げられる。

本発明の光学補償機能付き位相差板は、水平配向液晶硬化膜、水平配向膜、垂直配向液晶硬化膜、及び垂直配向膜以外の層を含むことができ、その具体例としては、他の配向液晶硬化膜、他の配向膜、保護層等が挙げられる。他の配向液晶硬化膜としては、上記に例示の垂直配向液晶硬化膜、水平配向液晶硬化膜等が挙げられ、他の配向膜としては、上記に例示の配向膜等が挙げられる。

保護層は、通常、多官能アクリレート（メタクリレート）、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等からなるアクリル系オリゴマーあるいはポリマー、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、デンプン類、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等の水溶性ポリマーと溶媒とを含有する保護層形成用組成物から形成されることが好ましい。

保護層形成用組成物に含有される溶媒は、上記に例示の溶媒と同様のものが挙げられ、中でも、水、アルコール溶媒およびエーテル溶媒からなる群より選ばれる少なくとも一つの溶媒が、保護層を形成する層を溶解させることがない点で、好ましい。アルコール溶媒としては、メタノール、エタノール、ブタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルが挙げられる。エーテル溶媒としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテートおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。

保護層の膜厚は、０．１μｍ〜１０μｍ、より好ましくは０．１μｍ〜３μｍである。
［光学補償機能付き位相差板の製造方法］

本発明の光学補償機能付き位相差板の製造方法は、水平配向液晶硬化膜、水平配向膜又は垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜を、この順に積層可能な方法であれば特に限定されないが、基材上に水平配向膜を積層し、次いで水平配向液晶硬化膜を積層し、さらに垂直配向膜を積層した後、垂直配向液晶硬化膜を積層する方法（以下、製造方法Ａという）か、基材上に垂直配向膜を積層し、次いで垂直配向液晶硬化膜を積層し、さらに水平配向膜を積層した後、水平配向液晶硬化膜を積層する方法（以下、製造方法Ｂ）が好ましい。水平配向液晶硬化膜、水平配向膜、垂直配向液晶硬化膜、垂直配向膜の積層方法は、上述した各層の形成方法を使用することができる。

製造方法Ａ、又は製造方法Ｂにて光学補償機能付き位相差板を製造する際、下層に配置される液晶硬化膜の配向に起因して配向不良や配向欠陥が発生する可能性がある。すなわち、製造方法Ａの場合には下層に水平配向液晶硬化膜を積層した後、垂直配向液晶硬化膜を積層するため、垂直配向液晶硬化膜を形成する際に下層の水平配向液晶硬化膜の影響を受けて配向不良や配向欠陥が発生する事があり、製造方法Ｂの場合には同用に下層に垂直配向液晶硬化膜を積層した後、水平配向液晶硬化膜を積層するため、水平配向液晶硬化膜を形成する際に下層の垂直配向液晶硬化膜の影響を受けて配向不良や配向欠陥が発生する事がある。このため、積層する各層を形成するために使用する組成物（水平配向膜形成用組成物、水平配向液晶硬化膜形成用組成物、垂直配向膜形成用組成物、垂直配向液晶硬化膜形成用組成物）の溶剤種によっては、下層を溶解させてしまい光学特性の変化や配向不良、配向欠陥等を発生させる場合もある。したがって、積層する各層を形成するために使用する組成物に含まれる材料・溶剤・固形分濃度・塗布方法・膜厚等を、適宜選択しなければならない。

〔光学補償機能付き楕円偏光板〕
本発明の光学補償機能付き位相差板は、被転写体と貼合し基材を剥離して転写されるか、又は基材付きの状態で粘着剤等を介して積層される事により、光学補償機能付き位相差板の有する機能、すなわち、その光学特性を被転写体に付与することができ、光学補償機能付き位相差板の光学特性が付与された光学積層体を製造できる。この中でも偏光板と積層した場合には光学補償機能付き楕円偏光板を作製する事が可能である。本発明の実施態様においては、水平配向液晶硬化膜の遅相軸（光軸）と偏光板の吸収軸とを実質的に４５°となるように積層することが好ましい。本発明の光学フィルムの遅相軸（光軸）と偏光板の吸収軸とを実質的に４５°となるように積層することによって、円偏光板としての機能を得ることができる。なお、実質的に４５°とは通常４５±５°の範囲である。

［被転写体］
被転写体としては、単層構造の光学フィルム、例えば偏光板、位相差板、輝度向上フィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム、拡散フィルム、集光フィルム等、多層構造の光学フィルム、例えば位相差板、楕円偏光板が挙げられ、これらの中でも位相差板、位相差板、偏光板、楕楕円偏光板を好適に使用できる。本発明における光学積層体は、画像表示装置、例えば、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（電場放出表示装置（ＦＥＤ等）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置）、プラズマ表示装置、投射型表示装置（グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置等）及び圧電セラミックディスプレイ等に利用でき、特に有機ＥＬ表示装置及びタッチパネル表示装置等に好適に利用できる。

［偏光板］
偏光板としては、偏光機能を有する偏光子からなる。偏光子としては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は、吸収異方性を有する色素を塗布配向した膜が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、二色性色素が挙げられる。

吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムは、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造される。このようにして得られた偏光子と透明保護フィルムを貼り合せることで偏光板が得られる。二色性色素として、ヨウ素や二色性の有機染料が挙げられる。二色性の有機染料としては、C.I. DIRECT RED 39等のジスアゾ化合物からなる二色性直接染料及び、トリスアゾ、テトラキスアゾ等の化合物からなる二色性直接染料等が挙げられる。上述のように、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗及び乾燥をして得られる偏光子の厚さは、好ましくは５μｍ〜４０μｍである。

［粘接着剤］
粘接着剤としては、感圧式粘着剤、乾燥固化型接着剤及び化学反応型接着剤が挙げられる。化学反応型接着剤としては、例えば、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。

感圧式粘着剤は、通常、ポリマーを含み、溶媒を含んでいてもよい。ポリマーとしては、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、又はポリエーテル等が挙げられる。中でも、アクリル系ポリマーを含むアクリル系の粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を有し、接着性に優れ、さらには耐候性や耐熱性等が高く、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等が生じ難いため好ましい。

アクリル系ポリマーとしては、エステル部分のアルキル基がメチル基、エチル基又はブチル基等の炭素数１〜２０のアルキル基である（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリル酸やヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を有する（メタ）アクリル系モノマーとの共重合体が好ましい。

このような共重合体を含む感圧式粘着剤は、粘着性に優れており、被転写体に貼合した後に取り除くときも、被転写体に糊残り等を生じさせることなく、比較的容易に取り除くことが可能であるので好ましい。アクリル系ポリマーのガラス転移温度は、２５℃以下が好ましく、０℃以下がより好ましい。このようなアクリル系ポリマーの質量平均分子量は、１０万以上であることが好ましい。

溶媒としては、上記溶媒として挙げられた溶媒等が挙げられる。感圧式粘着剤は、光拡散剤を含有していてもよい。光拡散剤は、粘着剤に光拡散性を付与する添加剤であり、粘着剤が含むポリマーの屈折率と異なる屈折率を有する微粒子であればよい。光拡散剤としては、無機化合物からなる微粒子、及び有機化合物（ポリマー）からなる微粒子が挙げられる。アクリル系ポリマーを含めて、粘着剤が有効成分として含むポリマーの多くは１．４〜１．６程度の屈折率を有するため、その屈折率が１．２〜１．８である光拡散剤から適宜選択することが好ましい。粘着剤が有効成分として含むポリマーと光拡散剤との屈折率差は、通常、０．０１以上であり、表示装置の明るさと表示性の観点からは、０．０１〜０．２が好ましい。光拡散剤として用いる微粒子は、球形の微粒子、それも単分散に近い微粒子が好ましく、平均粒径が２〜６μｍである微粒子がより好ましい。屈折率は、一般的な最小偏角法又はアッベ屈折計によって測定される。

無機化合物からなる微粒子としては、酸化アルミニウム（屈折率１．７６）及び酸化ケイ素（屈折率１．４５）等が挙げられる。有機化合物（ポリマー）からなる微粒子としては、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリメタクリル酸メチルビーズ（屈折率１．４９）、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂ビーズ（屈折率１．５０〜１．５９）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５５）、ポリエチレンビーズ（屈折率１．５３）、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．４６）、及びシリコーン樹脂ビーズ（屈折率１．４６）等が挙げられる。光拡散剤の含有量は、通常、ポリマー１００質量部に対して、３〜３０質量部である。

感圧式粘着剤の厚みは、その密着力等に応じて決定されるため、特に制限されないが、通常、１μｍ〜４０μｍである。加工性や耐久性等の点から、当該厚さは３μｍ〜２５μｍが好ましく、５μｍ〜２０μｍがより好ましい。粘着剤から形成される粘接着剤層の厚さを５μｍ〜２０μｍとすることにより、表示装置を正面から見た場合や斜めから見た場合の明るさを保ち、表示像のにじみやボケを生じ難くすることができる。

乾燥固化型接着剤は、溶媒を含んでいてもよい。乾燥固化型接着剤としては、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体、又は、ウレタンポリマーを主成分として含有し、さらに、多価アルデヒド、エポキシ化合物、エポキシ樹脂、メラミン化合物、ジルコニア化合物、及び亜鉛化合物等の架橋剤又は硬化性化合物を含有する組成物等が挙げられる。水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体としては、エチレン−マレイン酸共重合体、イタコン酸共重合体、アクリル酸共重合体、アクリルアミド共重合体、ポリ酢酸ビニルのケン化物、及び、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリビニルアルコール、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、及び、アミノ基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。水系の粘接着剤におけるポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、水１００質量部に対して、通常、１〜１０質量部であり、好ましくは１〜５質量部である。

ウレタン樹脂としては、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂等が挙げられる。
ここでいうポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分（親水成分）が導入された樹脂である。係るアイオノマー型ウレタン樹脂は、乳化剤を使用せずに、水中で乳化してエマルジョンとなるため、水系の粘接着剤とすることができる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を用いる場合は、架橋剤として水溶性のエポキシ化合物を配合することが有効である。

エポキシ樹脂としては、ジエチレントリアミン又はトリエチレンテトラミン等のポリアルキレンポリアミンとアジピン酸等のジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られるポリアミドエポキシ樹脂等が挙げられる。係るポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、“スミレーズレジン（登録商標）６５０”及び“スミレーズレジン６７５”（以上、住化ケムテックス株式会社製）、“ＷＳ−５２５”（日本ＰＭＣ株式会社製）等が挙げられる。エポキシ樹脂を配合する場合、その添加量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して、通常、１〜１００質量部であり、好ましくは１〜５０質量部である。

乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層の厚さは、通常、０．００１〜５μｍであり、好ましくは０．０１〜２μｍであり、さらに好ましくは０．０１〜０．５μｍである。乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層が厚すぎると、外観不良となり易い。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶媒を含んでいてもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤とは、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する接着剤である。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の接着剤、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の接着剤、エポキシ化合物等のカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物等のラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、さらにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を含有する接着剤、及び、これら重合開始剤を含まずに電子ビームを照射することで硬化される接着剤等が挙げられる。

中でも、アクリル系硬化成分と光ラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、エポキシ化合物と光カチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。アクリル系硬化成分としては、メチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸等が挙げられる。エポキシ化合物を含有する活性エネルギー線硬化型接着剤は、エポキシ化合物以外の化合物をさらに含有していてもよい。エポキシ化合物以外の化合物としては、オキセタン化合物やアクリル化合物等が挙げられる。

光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤としては、上述の光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられる。ラジカル重合開始剤並びにカチオン重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤１００質量部に対して、通常、０．５〜２０質量部であり、好ましくは１〜１５質量部である。

活性エネルギー線硬化型接着剤には、さらに、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤及び消泡剤等が含有されていてもよい。

本明細書において活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられ、紫外線及び電子線が好ましい。好ましい紫外線の照射条件は前述した重合性液晶化合物の重合と同様である。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。尚、例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部を意味する。また、以下の実施例において、膜厚は日本分光株式会社製のエリプソメータ Ｍ−２２０、又は接触式膜厚計（Ｎｉｋｏｎ社製のＭＨ−１５Ｍ、カウンタＴＣ１０１、ＭＳ−５Ｃ）を用いて測定した。また、厚み方向の位相差値Ｒｔｈ（λ）や面内位相差値Ｒｅ（λ）、４０°方向から測定した場合の見かけの位相差値Ｒ４０（λ）は王子計測機器株式会社 ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ、又は日本分光株式会社製のエリプソメータ Ｍ−２２０を使用して測定、算出した。また、Ｓｉ／Ｃの比率は、垂直配向膜の元素分析、Ｘ線光電分光法を使用した表面構成元素の測定から算出するか、垂直配向膜の形成に使用した化合物の構造式が全て分かっている場合には構造式から算出できる。また、コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ−Ｂ１０を用いた。コロナ処理は、基材への組成物を塗布する場合に適宜実施する事が出来る。上記コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。

［実施例１］
〔水平配向膜形成用組成物の調製〕
下記構造の光配向性材料５部（重量平均分子量：３００００）とシクロペンタノン（溶媒）９５部とを成分として混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、水平配向膜形成用組成物を得た。

〔垂直配向膜形成用組成物の調製〕
信越化学工業株式会社製のシランカップリング剤「ＫＢＥ−９１０３」を、エタノールと水を９：１（質量比）の割合で混合した混合溶媒に溶解させ、固形分０．５％の垂直配向膜形成用組成物を得た。

〔水平配向液晶硬化膜形成用組成物、及び垂直配向液晶硬化膜形成用組成物の調製〕
以下に示す重合性液晶化合物Ａ、及び重合性液晶化合物Ｂを９０：１０の質量比で混合した混合物に対して、レベリング剤（Ｆ−５５６；ＤＩＣ社製）を１．０部、及び重合開始剤である２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（「イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を６部添加した。

さらに、固形分濃度が１３％となるようにＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、水平配向液晶硬化膜形成用組成物、及び垂直配向液晶硬化膜形成用組成物を得た。

重合性液晶化合物Ａは特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法で製造した。また、重合性液晶化合物Ｂは、特開２００９−１７３８９３号公報に記載の方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。

［重合性液晶化合物Ａ］

［重合性液晶化合物Ｂ］

〔偏光板の製造〕
平均重合度約２,４００、ケン化度９９.９モル％以上、厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０.０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った（ヨウ素染色工程）。ヨウ素染色工程を経たポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に、５６.５℃で浸漬してホウ酸処理を行った（ホウ酸処理工程）。ホウ酸処理工程を経たポリビニルアルコールフィルムを８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光子（延伸後の厚さ２７μｍ）を得た。この際、ヨウ素染色工程とホウ酸処理工程において延伸を行った。かかる延伸におけるトータル延伸倍率は５.３倍であった。得られた偏光子と、ケン化処理されたトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ製 ＫＣ４ＵＹＴＡＣ ４０μｍ）とを水系接着剤を介してニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、片面に保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを有する偏光板を得た。なお、前記水系接着剤は水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（クラレ製、「クラレポバール ＫＬ３１８」）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（住化ケムテックス製、「スミレーズレジン６５０」、固形分濃度３０％の水溶液〕１.５部とを添加して調製した。

得られた偏光板について光学特性の測定を行った。測定は上記で得られた偏光板の偏光子面を入射面として分光光度計（「Ｖ７１００」、日本分光製）にて実施した。偏光板の吸収軸はポリビニルアルコールの延伸方向と一致しており、得られた偏光板の視感度補正単体透過率は４２．１％、視感度補正偏光度は９９．９９６％、単体色相ａは−１．１、単体色相ｂは３．７であった。

〔基材、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜からなる積層体の製造〕
日本ゼオン株式会社製のＣＯＰフィルム（ＺＦ−１４−５０）上にコロナ処理を実施した後、水平配向膜形成用組成物をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（「ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−９」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、波長３１３ｎｍにおける積算光量：１００ｍＪ／ｃｍ^２で軸角度４５°にて偏光ＵＶ露光を実施した。得られた水平配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、１００ｎｍであった。

続いて、水平配向膜に、水平配向液晶硬化膜形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、水平配向液晶硬化膜を形成し、基材、水平配向膜及び水平配向液晶硬化膜からなる積層体を得た。水平配向液晶硬化膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、２．３μｍであった。

〔水平配向液晶硬化膜のＲｅ測定〕
上記方法にて製造した水平配向液晶硬化膜の面内位相差値ＲｅＡ（λ）は、粘着剤を介してガラスに貼合した後、基材であるＣＯＰを剥離した後に、測定機（「ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ」、王子計測機器株式会社製）により測定した。各波長における位相差値ＲｅＡ（λ）を測定結果は、ＲｅＡ（４５０）＝１２１ｎｍ、ＲｅＡ（５５０）＝１４２ｎｍ、ＲｅＡ（６５０）＝１４６ｎｍ、ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）＝０．８５であった。

〔基材、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜からなる積層体の製造〕
前述の方法にて製造した基材、水平配向膜及び水平配向液晶硬化膜からなる積層体上にコロナ処理を実施した後、垂直配向膜形成用組成物をバーコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥し、垂直配向膜を得た。得られた垂直配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、５０ｎｍであった。

さらに、垂直配向膜に、垂直配向液晶硬化膜形成用組成物をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、垂直配向液晶硬化膜を形成し、基材、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜からなる積層体を得た。垂直配向液晶硬化膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、１．２μｍであった。また、水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜の層間距離は５０ｎｍであった。また、垂直配向膜の構成元素比は、Ｓｉ／Ｃ＝０．３３であった。

〔垂直配向液晶硬化膜のＲｔｈ測定〕
垂直配向液晶硬化膜のＲｔｈを測定するために、上記と同様の手順で日本ゼオン株式会社製のＣＯＰフィルム（ＺＦ−１４−５０）上に垂直配向膜、及び垂直配向液晶硬化膜を製造し、垂直配向液晶硬化膜を粘着剤（リンテック社製感圧式粘着剤 １５μｍ）を介してガラスと貼合し、ＣＯＰに位相差がない事を確認した上で、エリプソメータによりサンプルへの光の入射角を変えて位相差値を測定した。また、４５０ｎｍ及び５５０ｎｍの波長λにおける平均屈折率は屈折率計（株式会社アタゴ製、「多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４」）を用いて測定した。得られた膜厚、平均屈折率、及びエリプソメータの測定結果から算出されるＲｅＣはそれぞれ、ＲｔｈＣ（４５０）＝−６３ｎｍ、ＲｔｈＣ（５５０）＝−７３ｎｍであり、ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）＝０．８５であった。
〔水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜からなる積層体（光学補償機能付き位相差板）のＲ０、及びＲ４０の測定〕

上記方法にて製造した基材、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜からなる積層体を粘着剤（リンテック社製感圧式粘着剤 １５μｍ）を介してガラスと貼合し、ＣＯＰを剥離して測定用サンプルを作製した後、水平配向膜、及び垂直配向膜に位相差がない事を確認した上で、光学補償機能付き位相差板の正面方向の位相差値Ｒ０（λ）、及び水平配向液晶硬化膜の進相軸を中心として４０°傾斜させた時の位相差値Ｒ４０（λ）をＫＯＢＲＡ−ＷＰＲを用いて測定した。得られたＲ０（λ）及びＲ４０（λ）の値から｜Ｒ０（５５０）−Ｒ４０（５５０）｜、｜Ｒ０（４５０）−Ｒ４０（４５０）｜、及び｜｛Ｒ０（４５０）−Ｒ４０（４５０）｝−｛Ｒ０（５５０）−Ｒ４０（５５０）｝｜を計算した結果を表１に示す。

〔各層の面内平均屈折率の差〕
上記方法に準じて各層をガラス上に塗布し、屈折率計（株式会社アタゴ製、「多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４」）またはエリプソメータを使用して各層の平均屈折率を算出し、各層の面内平均屈折率の差が０．２以下である事を確認した。

〔屈曲性試験〕
上記方法にて作製した基材、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜からなる積層体の塗膜面側に厚み０．７ｍｍのガラス板を載せ、ガラス板に這わせるようにして積層体を１８０度曲げた後、１０倍のルーペを使用して蛍光灯の光に透過させて屈曲部分を観察し、シワやクラックの有無を確認した。結果を表１に示す。

〔屈曲部の反射色相確認〕
上記方法にて作製した基材、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜からなる積層体の塗膜面側にコロナ処理を実施した後、偏光板の吸収軸と水平配向膜の遅相軸との成す角度が４５°となるように粘着剤を介して前述の方法にて作製した偏光板に貼合し、基材を剥離して光学補償機能付き楕円偏光板を作製した。その後、粘着剤を介してアルミホイルに貼合し、偏光板側に半径１ｃｍとなるように１８０°屈曲し、屈曲部分の反射色相を目視で観察した。結果を表１に示す。

（実施例２及び３）
垂直配向膜の膜厚を表１に記載のように変更したこと以外は、実施例１と同様に光学補償機能付き位相差板を作製し、位相差値測定、屈曲性試験及び屈曲部の反射色相確認を実施した。結果を表１に示す。

（実施例４）
０.５重量％のポリイミド（「サンエバーＳＥ−６１０」、日産化学工業株式会社製）、７２．３重量％のＮ−メチル−２−ピロリドン、１８．１重量％の２−ブトキシエタノール、９．１重量％のエチルシクロヘキサン、及び０．０１重量％のＤＰＨＡ（新中村化学製）を混合して、垂直配向膜形成用組成物Ｂを作製し、この垂直配向膜形成用組成物Ｂを使用したこと以外は、実施例１と同様に光学補償機能付き位相差板を作製し、位相差値測定、屈曲性試験及び屈曲部の反射色相確認を実施した。結果を表１に示す。なお、垂直配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ０．２μｍであった。このことから、水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜の層間距離は０．２μｍであった。また、垂直配向液晶硬化膜形成用組成物塗布時に、垂直配向膜が溶剤で侵され、部分的に配向欠陥や配向不良が発生していることを確認した。

（実施例５）
基材を離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック（株）製、ＳＰ−ＰＬＲ３８２０５０、以下、「セパレーター」と略記する。）に変更した事、積層順序を垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜の順に変更した事以外は、実施例１と同様に光学補償機能付き位相差板を作製し、位相差値測定、屈曲性試験及び屈曲部の反射色相確認を実施した。結果を表１に示す。なお、水平配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ０．２μｍであった。このことから、水平配向液晶硬化膜と垂直配向液晶硬化膜の層間距離は０．２μｍであった。

（実施例６及び７）
垂直配向液晶硬化膜の膜厚を変更する事でＲｔｈＣ（４５０）、及びＲｔｈＣ（５５０）の値を表１に記載のように変更したこと以外は、実施例１と同様に光学補償機能付き位相差板を作製し、位相差値測定、屈曲性試験及び屈曲部の反射色相確認を実施した。結果を表１に示す。

（実施例８）
垂直配向液晶硬化膜形成用組成物を以下に記載の垂直配向液晶硬化膜形成用組成物（Ｂ）に変更した事、前記垂直配向液晶硬化膜形成用組成物（Ｂ）を塗布した後の乾燥温度を１２０℃から８０℃に変更した事以外は実施例１に記載の方法と同様に光学補償機能付き位相差板を作製し、位相差値測定、屈曲性試験及び屈曲部の反射色相確認を実施した。結果を表１に示す。

(垂直配向液晶硬化膜形成用組成物（Ｂ）の調整)
以下に記載の液晶化合物ＬＣ２４２：ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社登録商標）に対して、レベリング剤Ｆ−５５６を０．１部、及び重合開始剤Ｉｒｇ３６９を３部添加し、固形分濃度が１３％となるようにシクロペンタノンを添加して、垂直配向液晶硬化膜形成用組成物（Ｂ）を得た。得られた液晶組成物の名称を“組成物Ｖ“とする。
液晶化合物ＬＣ２４２：ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社登録商標）

（比較例１）
実施例１に記載の方法で水平配向膜、水平配向液晶硬化膜の積層体を製造した後、別途ＣＯＰ上に実施例と同じ方法で垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜の積層体（リンテック社製）を準備した。得られた積層体同士を粘着剤（リンテック社製感圧式粘着剤 １５μｍ）を用いて貼合し、位相差値測定、屈曲性試験及び屈曲部の反射色相確認を実施した。結果を表１に示す。

屈曲部反射色相：黒色の場合を○、明らかに着色が確認される場合を×とする。
屈曲性試験：不具合が発生しない場合を○、シワやクラック等の不具合が発生する場合を×とする。

本発明の製造方法を適用することにより、折り曲げたときに発生するシワやクラック等の不具合を抑制する事が可能な光学補償機能付き位相差板が得られた。

Claims (18)

1. 塗布、乾燥、配向処理工程を経て水平配向膜を形成し、
   塗布、乾燥、紫外線照射工程を経て水平配向液晶硬化膜を形成し、
   さらに塗布・乾燥工程を経て垂直配向膜を形成し、
   塗布、乾燥、紫外線照射工程を経て垂直配向液晶硬化膜を形成することにより、
   水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する光学補償機能付き位相差板の製造方法。
2. 膜厚が１．０μｍ以下の水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する請求項１に記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
3. 光配向膜からなる水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する請求項１〜２のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
4. シンナモイル基を含む光配向膜からなる水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する請求項１〜３のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
5. 水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、膜厚１．０μｍ以下の垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する請求項１〜４のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
6. 水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、Ｓｉ元素を含む垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する請求項１〜５のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
7. 水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、Ｓｉ／Ｃの元素が０．０３〜１．００である垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する請求項１〜６のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
8. 水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成して光学補償機能付き位相差板を製造する方法であって、水平配向液晶硬化膜が以下の関係（１）を満たす請求項１〜７のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
   ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）＜１．００ ・・・（１）
   式中、ＲｅＡ（λ）は水平配向液晶硬化膜の波長λｎｍにおける面内位相差値を示す。面内位相差値ＲｅＡ（λ）の定義は以下のとおりである。
   ＲｅＡ（λ）＝（ｎｘＡ（λ）−ｎｙＡ（λ））×ｄＡ
   ただし、ｎｘＡ（λ）は水平配向液晶硬化膜のフィルム面内における主屈折率であって、波長λ（ｎｍ）に置ける主屈折率を、ｎｙＡ（λ）はｎｘＡ（λ）と同一面内で直交する方向の屈折率であって波長λ（ｎｍ）における屈折率を、ｄＡは水平配向液晶硬化の膜厚をそれぞれ示す。
9. 水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成して光学補償機能付き位相差板を製造する方法であって、垂直配向液晶硬化膜が以下の関係（２）を満たす請求項１〜８のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
   ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）＜１．００ ・・・（２）
   式中、ＲｔｈＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜の波長λｎｍにおける厚み方向の位相差値を示す。位相差値ＲｔｈＣ（λ）の定義は以下のとおりである。
   ＲｔｈＣ（λ）＝（（ｎｘＣ（λ）＋ｎｙＣ（λ））／２−ｎｚＣ（λ））×ｄＣ
   ただし、ｎｘＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜のフィルム面内における主屈折率であって、波長λ（ｎｍ）における主屈折率を、
   ｎｙＣ（λ）はｎｘＣ（λ）と同一面内で直交する方向の屈折率であって波長λ（ｎｍ）における屈折率を、
   ｎｚＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜の厚み方向の屈折率であって波長λ（ｎｍ）における屈折率を、
   ｄＣは垂直配向液晶硬化の膜厚をそれぞれ示す。
10. 塗布・乾燥工程を経て垂直配向膜を形成し、
    塗布、乾燥、紫外線照射工程を経て垂直配向液晶硬化膜を形成し、
    更に塗布、乾燥、配向処理工程を経て水平配向膜を形成し、
    塗布、乾燥、紫外線照射工程を経て水平配向液晶硬化膜を形成することにより、
    垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成する光学補償機能付き位相差板の製造方法
11. 垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、膜厚が１．０μｍ以下の水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成する請求項１０に記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
12. 垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、光配向膜からなる水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、をこの順に形成する請求項１０または１１に記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
13. 垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、シンナモイル基を含む光配向膜からなる水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成する請求項１０〜１２のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
14. 膜厚１．０μｍ以下の垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成する請求項１０〜１３のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
15. Ｓｉ元素を含む垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成する請求項１０〜１４のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
16. 水平配向膜、水平配向液晶硬化膜、Ｓｉ／Ｃの元素が０．０３〜１．００である垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜をこの順に形成する請求項１０〜１５のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
17. 垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成して光学補償機能付き位相差板を製造する方法であって、水平配向液晶硬化膜が以下の関係（３）を満たす請求項１０〜１６のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
    ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）＜１．００ ・・・（３）
    式中、ＲｅＡ（λ）は水平配向液晶硬化膜の波長λｎｍにおける面内位相差値を示す。面内位相差値ＲｅＡ（λ）の定義は以下のとおりである。
    ＲｅＡ（λ）＝（ｎｘＡ（λ）−ｎｙＡ（λ））×ｄＡ
    ただし、ｎｘＡ（λ）は水平配向液晶硬化膜のフィルム面内における主屈折率であって波長λ（ｎｍ）に置ける主屈折率を、ｎｙＡ（λ）はｎｘＡ（λ）と同一面内で直交する方向の屈折率であって波長λ（ｎｍ）における屈折率を、ｄＡは水平配向液晶硬化の膜厚をそれぞれ示す。
18. 垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜、水平配向膜、水平配向液晶硬化膜をこの順に形成して光学補償機能付き位相差板を製造する方法であって、垂直配向液晶硬化膜が以下の関係（４）を満たす請求項１０〜１７のいずれかに記載の光学補償機能付き位相差板の製造方法。
    ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）＜１．００ ・・・（４）
    式中、ＲｔｈＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜の波長λｎｍにおける厚み方向の位相差値を示す。位相差値ＲｔｈＣ（λ）の定義は以下のとおりである。
    ＲｔｈＣ（λ）＝（（ｎｘＣ（λ）＋ｎｙＣ（λ））／２−ｎｚＣ（λ））×ｄＣ
    ただし、ｎｘＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜のフィルム面内における主屈折率であって波長λ（ｎｍ）における主屈折率を、
    ｎｙＣ（λ）はｎｘＣ（λ）と同一面内で直交する方向の屈折率であって波長λ（ｎｍ）における屈折率を、
    ｎｚＣ（λ）は垂直配向液晶硬化膜の厚み方向の屈折率であって波長λ（ｎｍ）における屈折率を、
    ｄＣは垂直配向液晶硬化の膜厚をそれぞれ示す。