JP2018118230A - Cleaning device, and cleaning method - Google Patents
Cleaning device, and cleaning method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018118230A JP2018118230A JP2017013236A JP2017013236A JP2018118230A JP 2018118230 A JP2018118230 A JP 2018118230A JP 2017013236 A JP2017013236 A JP 2017013236A JP 2017013236 A JP2017013236 A JP 2017013236A JP 2018118230 A JP2018118230 A JP 2018118230A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- cleaned
- tank
- cleaning tank
- nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 742
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 77
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 161
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 113
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 51
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 21
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 14
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 12
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 136
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 20
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 18
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 7
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
Description
本発明は洗浄装置、洗浄方法に関し、特にレンズ等の光学素子の洗浄等に用いて好適な技術に関する。本発明は、例えば内視鏡のレンズの製造後における洗浄に適用できる。 The present invention relates to a cleaning apparatus and a cleaning method, and more particularly to a technique suitable for use in cleaning optical elements such as lenses. The present invention can be applied, for example, to cleaning after manufacturing an endoscope lens.
ガラスやプラスチック製とされる内視鏡のレンズなどの光学素子の製造工程においては、各工程後などに洗浄をおこなう必要がある。
例えば、ガラスレンズなどの光学素子の製造工程では、ガラス母材を光学素子の形状に加工した後に、洗浄槽および乾燥槽を備えた洗浄装置によって光学素子の洗浄が行われる。洗浄が終了した光学素子は、必要に応じて検査処理などが行われる。
In the manufacturing process of an optical element such as an endoscope lens made of glass or plastic, it is necessary to perform cleaning after each process.
For example, in a manufacturing process of an optical element such as a glass lens, after processing a glass base material into the shape of the optical element, the optical element is cleaned by a cleaning device including a cleaning tank and a drying tank. The optical element that has been cleaned is subjected to an inspection process or the like as necessary.
ガラスレンズなどの被洗浄物を洗浄槽内で洗浄する場合、
(1)保持具に取り付けられた被洗浄物を導入口から洗浄槽内に導入し、
(2)上記導入口を水密に閉鎖し、
(3)洗浄槽内で被洗浄物に洗浄液を吐出して洗浄し、
(4)上記洗浄槽の排出口を開いて洗浄液を排出した後、乾燥させ、
(5)上記導入口を開いて被洗浄物を取り出す、
という必要があった。このように、洗浄作業の前後で必要なステップが多いため、洗浄のタクトタイムがどうしても長くなり、効率化の障害となっていた。
When cleaning objects such as glass lenses in the cleaning tank,
(1) The object to be cleaned attached to the holder is introduced into the cleaning tank through the inlet,
(2) Close the water inlet tightly,
(3) In the cleaning tank, discharge the cleaning liquid to the object to be cleaned and clean it.
(4) Open the outlet of the cleaning tank and discharge the cleaning liquid, then dry it.
(5) Open the inlet and take out the object to be cleaned.
It was necessary. As described above, since many steps are required before and after the cleaning operation, the cleaning tact time is inevitably long, which is an obstacle to efficiency.
また、加工後の光学素子を加工場所の近くで容易に洗浄できるコンパクトな洗浄装置が強く望まれている。このような光学素子の洗浄装置では、少なくとも、水をエアーとともに吐出する洗浄と、水切り・乾燥とがおこなえることが好ましい。
このような簡素な機能を有する洗浄装置は、光学素子の洗浄以外の用途では知られている。
In addition, a compact cleaning device that can easily clean the optical element after processing near the processing place is strongly desired. In such an optical element cleaning apparatus, it is preferable to perform at least cleaning by discharging water together with air, draining and drying.
A cleaning apparatus having such a simple function is known for uses other than cleaning of optical elements.
例えば、特許文献1には、液体の吸引吐出に用いられるノズルを洗浄するノズル洗浄ユニットであって、ノズルのうち少なくとも洗浄対象部分が収容される洗浄槽と、洗浄槽内において、洗浄液を噴射する洗浄液噴射手段と、ノズルの外側面に付着した洗浄液を洗浄槽内に吹き飛ばすべくエアーを噴射する乾燥用噴射手段と、ノズルを洗浄液噴射手段および乾燥用噴射手段に対して相対的に昇降させる移動手段と、少なくとも、洗浄液噴射手段、乾燥用噴射手段、および、移動手段の動作を制御する制御手段と、を備えるノズル洗浄ユニットが記載されている。
特許文献1に記載のノズル洗浄ユニットは、小さなノズルを洗浄すればよいため、小型の洗浄層内にノズルを移動して、ノズルを洗浄槽内に封止した状態で洗浄することができる。
For example, Patent Document 1 discloses a nozzle cleaning unit that cleans a nozzle used for sucking and discharging a liquid, and in which a cleaning liquid is ejected in a cleaning tank in which at least a portion to be cleaned is accommodated among the nozzles. Cleaning liquid injection means, drying injection means for injecting air to blow away the cleaning liquid adhering to the outer surface of the nozzle into the cleaning tank, and moving means for moving the nozzle up and down relative to the cleaning liquid injection means and the drying injection means And a nozzle cleaning unit including at least a cleaning liquid ejecting unit, a drying ejecting unit, and a control unit that controls the operation of the moving unit.
Since the nozzle cleaning unit described in Patent Document 1 only needs to clean a small nozzle, the nozzle can be moved into a small cleaning layer and cleaned with the nozzle sealed in a cleaning tank.
しかし、特許文献1に記載された技術を光学素子製造後の洗浄に適用した場合であると、製造されたレンズ等の光学素子を洗浄するために洗浄層内に被洗浄物である光学素子を出し入れするためには、製造時に母材の研磨・整形に使用した治具から分離して、洗浄槽内に挿入搬出するための別の治具に再度保持する必要があり、この再保持に際して、レンズが汚染・破損する可能性があるという問題があった。 However, if the technique described in Patent Document 1 is applied to cleaning after manufacturing the optical element, an optical element that is an object to be cleaned is included in the cleaning layer in order to clean the manufactured optical element such as a lens. In order to put in and out, it is necessary to separate from the jig used for polishing and shaping of the base material at the time of manufacture, and to hold it again in another jig for insertion into the cleaning tank. There was a problem that the lens could be contaminated or damaged.
このため、レンズ等の光学素子の洗浄は、製造工程に連続して、製造装置近傍あるいは製造装置の内部でおこなうことが好ましいが、洗浄工程においては、洗浄液を噴射した際に、この洗浄液が飛び散った場合に、製造装置に影響が出る可能性があるため、光学素子の製造装置内部あるいはその近傍での洗浄はおこなわれていなかった。 For this reason, it is preferable to clean an optical element such as a lens in the vicinity of the manufacturing apparatus or in the manufacturing apparatus continuously in the manufacturing process. However, in the cleaning process, the cleaning liquid is scattered when sprayed. In such a case, there is a possibility that the manufacturing apparatus may be affected. Therefore, cleaning inside or in the vicinity of the optical element manufacturing apparatus has not been performed.
また、この洗浄終了後に連続して検査工程をおこなえるようにしたいという要求もあった。
さらに、洗浄に使用する洗浄液の量を削減したいという要求もあり、さらに効率的な洗浄を可能とすることが求められている。
There has also been a demand to be able to carry out the inspection process continuously after the cleaning.
Furthermore, there is a demand to reduce the amount of cleaning liquid used for cleaning, and there is a demand for enabling more efficient cleaning.
また、ノズルから洗浄液を噴射する洗浄において、効果的な洗浄をおこなうためには被洗浄物とノズルとの距離が重要になるが、多品種少量製造される内視鏡などのレンズ製造において異なるレンズ寸法の違いに対応するために、洗浄時におけるノズルと被洗浄物との距離を正確に設定可能として、効果的な洗浄をおこないたいという要求があった。 In order to perform effective cleaning in cleaning by spraying the cleaning liquid from the nozzle, the distance between the object to be cleaned and the nozzle is important. However, different lenses are used in the manufacture of lenses such as endoscopes that are manufactured in small quantities. In order to cope with the difference in dimensions, there has been a demand for effective cleaning by making it possible to accurately set the distance between the nozzle and the object to be cleaned during cleaning.
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、以下の目的の少なくとも1つを達成しようとするものである。
1.効率的な洗浄を可能とすること。
2.洗浄液の使用量と廃棄量の削減を可能とすること。
3.光学素子の製造に連続して洗浄を可能とすること。
4.洗浄後に連続して製品の検査を可能とすること。
5.洗浄時におけるノズルと被洗浄物との距離を正確に設定可能とすること。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and aims to achieve at least one of the following objects.
1. Enable efficient cleaning.
2. Make it possible to reduce the amount of cleaning liquid used and the amount discarded.
3. It is possible to perform cleaning continuously in the manufacture of optical elements.
4). Enable continuous product inspection after cleaning.
5. The distance between the nozzle and the object to be cleaned during cleaning can be set accurately.
本発明の洗浄装置は、被洗浄物に洗浄液を噴射することで汚れを除去する洗浄装置であって、
底部開口を有する洗浄槽と、
前記洗浄槽内に収容された前記被洗浄物に前記洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、
前記被洗浄物を保持する保持具と、
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を上下動させて、前記保持具が保持する被洗浄物を前記洗浄槽内へ出し入れする上下動アクチュエータと、
前記洗浄槽の底部開口を洗浄時に封止する封止部材と、
を有し、
前記上下動アクチュエータの第1の動きによって、前記保持具が保持する前記被洗浄物が前記底部開口から前記洗浄槽内に導入されるとともに、前記封止部材が前記底部開口を封止し、
前記上下動アクチュエータの前記第1の動きとは反対方向への動きによって、前記保持具が保持する前記被洗浄物が前記底部開口から前記洗浄槽外に出されるとともに、前記封止部材による前記底部開口の封止が解除される、
ように構成されていることにより上記課題を解決した。
本発明において、前記保持具が、立設された保持柱の上端に前記被洗浄物を固定するものとされ、
前記洗浄時における前記洗浄ノズル先端と前記保持柱先端の前記被洗浄物との距離を設定する距離設定機構を有することができる。
本発明の洗浄装置は、前記保持具が、洗浄時に前記保持柱を水平方向に往復移動させる横往復アクチュエータを有することができる。
本発明の洗浄装置は、前記封止部材が、前記保持柱の基部に一体とされた平板蓋体とされることができる。
本発明の洗浄装置は、前記洗浄ノズルには、前記洗浄液および気体が供給されることができる。
本発明の洗浄装置は、前記洗浄ノズルには、超音波洗浄を可能とする超音波振動子が設けられることができる。
本発明の前記洗浄装置は、洗浄の後に乾燥も行うものであり、
前記洗浄槽には、乾燥時に前記被洗浄物に気体を噴射する乾燥ノズルを有することができる。
本発明の洗浄装置は、前記洗浄槽の側面に、洗浄液を排出する排出口が設けられていることができる。
本発明の洗浄方法は、被洗浄物に洗浄槽内で洗浄液を噴射することで汚れを除去した後に、前記被洗浄物を乾燥させる洗浄方法であって、
保持具に立設された保持柱の上端に前記被洗浄物を固定して搬送する工程と、
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を上方または下方に移動させることで、前記洗浄槽の底部開口から前記被洗浄物を前記洗浄槽内に導入するとともに、封止部材により前記洗浄槽の底部開口を封止する工程と、
前記洗浄槽を封止した状態で前記洗浄槽の上方に位置する洗浄ノズルから洗浄液を前記被洗浄物に噴射する洗浄工程と、
乾燥ノズルから前記被洗浄物に気体を噴射して乾燥する工程と
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を前記移動とは反対方向に移動させることにより、前記洗浄槽から前記被洗浄物を抜出するとともに、前記封止部材による前記洗浄槽の底部開口の封止を解除する工程と、
を有することができる。
The cleaning device of the present invention is a cleaning device that removes dirt by spraying a cleaning liquid onto an object to be cleaned,
A washing tank having a bottom opening;
A cleaning nozzle for injecting the cleaning liquid onto the object to be cleaned contained in the cleaning tank;
A holder for holding the object to be cleaned;
A vertically moving actuator that moves up and down at least one of the holding tool and the cleaning tank and puts an object to be cleaned held in the holding tool into and out of the cleaning tank;
A sealing member for sealing the bottom opening of the cleaning tank during cleaning;
Have
By the first movement of the vertical movement actuator, the object to be cleaned held by the holder is introduced into the cleaning tank from the bottom opening, and the sealing member seals the bottom opening,
By the movement of the vertical movement actuator in the direction opposite to the first movement, the object to be cleaned held by the holder is taken out of the cleaning tank through the bottom opening, and the bottom portion by the sealing member The opening is unsealed,
The above-described problems have been solved by being configured as described above.
In the present invention, the holder is configured to fix the object to be cleaned to an upper end of an upright holding column,
A distance setting mechanism for setting a distance between the tip of the cleaning nozzle and the object to be cleaned at the tip of the holding column during the cleaning can be provided.
In the cleaning device of the present invention, the holder may have a horizontal reciprocating actuator that reciprocates the holding column in the horizontal direction during cleaning.
In the cleaning apparatus of the present invention, the sealing member may be a flat lid body integrated with the base of the holding column.
In the cleaning apparatus of the present invention, the cleaning liquid and gas may be supplied to the cleaning nozzle.
In the cleaning apparatus of the present invention, the cleaning nozzle may be provided with an ultrasonic transducer that enables ultrasonic cleaning.
The cleaning apparatus of the present invention also performs drying after cleaning,
The cleaning tank may have a drying nozzle that injects gas to the object to be cleaned during drying.
In the cleaning apparatus of the present invention, a discharge port for discharging the cleaning liquid may be provided on a side surface of the cleaning tank.
The cleaning method of the present invention is a cleaning method of drying the object to be cleaned after removing dirt by spraying a cleaning liquid in the cleaning tank to the object to be cleaned,
A step of fixing and transporting the object to be cleaned to the upper end of a holding column erected on the holder;
By moving at least one of the holder and the cleaning tank upward or downward, the object to be cleaned is introduced into the cleaning tank from the bottom opening of the cleaning tank, and the bottom of the cleaning tank is sealed by a sealing member. Sealing the opening;
A cleaning step of spraying a cleaning liquid onto the object to be cleaned from a cleaning nozzle located above the cleaning tank in a state where the cleaning tank is sealed,
A step of spraying a gas from a drying nozzle onto the object to be cleaned and moving at least one of the holder and the cleaning tank in a direction opposite to the movement, thereby removing the object to be cleaned from the cleaning tank; And releasing the sealing of the bottom opening of the cleaning tank by the sealing member,
Can have.
本発明の洗浄装置は、被洗浄物に洗浄液を噴射することで汚れを除去する洗浄装置であって、
底部開口を有する洗浄槽と、
前記洗浄槽内に収容された前記被洗浄物に前記洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、
前記被洗浄物を保持する保持具と、
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を上下動させて、前記保持具が保持する被洗浄物を前記洗浄槽内へ出し入れする上下動アクチュエータと、
前記洗浄槽の底部開口を洗浄時に封止する封止部材と、
を有し、
前記上下動アクチュエータの第1の動きによって、前記保持具が保持する前記被洗浄物が前記底部開口から前記洗浄槽内に導入されるとともに、前記封止部材が前記底部開口を封止し、
前記上下動アクチュエータの前記第1の動きとは反対方向への動きによって、前記保持具が保持する前記被洗浄物が前記底部開口から前記洗浄槽外に出されるとともに、前記封止部材による前記底部開口の封止が解除される、
ように構成されていることにより、上下動アクチュエータによって、保持具と封止部材とを洗浄槽に対して同時に移動させることができ、これにより、被洗浄物の洗浄槽内配置と、封止部材による洗浄槽の封止とを、一動作でおこなうことが可能となる。また、封止部材で洗浄槽が封止されているため、洗浄ノズルから洗浄液を被洗浄物に噴射して洗浄する際に、洗浄液が回りに飛び散らないようにすることができる。あるいは、封止部材で洗浄槽が封止されているため、洗浄槽内に洗浄液を貯留して、この中に被洗浄物を浸漬して洗浄することもできる。洗浄中あるいは洗浄後、前記底部開口から洗浄液を排出することができる。さらに、洗浄が終了したら、上下動アクチュエータによって、保持具と封止部材とを洗浄槽に対して同時に移動させることで、被洗浄物の取り出しと、封止部材による洗浄槽の封止解除とを同一動作によっておこなうことができる。
ここで、前記第1の動きは洗浄槽に対する保持具の上方への動きであり、前記第1の動きとは反対方向への動きは、洗浄槽に対する保持具の下方への動きである。あるいは、前記第1の動きは保持具に対する洗浄槽の下方への動きであり、前記第1の動きとは反対方向への動きは、保持具に対する洗浄槽の上方への動きであることもできる。
The cleaning device of the present invention is a cleaning device that removes dirt by spraying a cleaning liquid onto an object to be cleaned,
A washing tank having a bottom opening;
A cleaning nozzle for injecting the cleaning liquid onto the object to be cleaned contained in the cleaning tank;
A holder for holding the object to be cleaned;
A vertically moving actuator that moves up and down at least one of the holding tool and the cleaning tank and puts an object to be cleaned held in the holding tool into and out of the cleaning tank;
A sealing member for sealing the bottom opening of the cleaning tank during cleaning;
Have
By the first movement of the vertical movement actuator, the object to be cleaned held by the holder is introduced into the cleaning tank from the bottom opening, and the sealing member seals the bottom opening,
By the movement of the vertical movement actuator in the direction opposite to the first movement, the object to be cleaned held by the holder is taken out of the cleaning tank through the bottom opening, and the bottom portion by the sealing member The opening is unsealed,
By being configured in this way, the holder and the sealing member can be moved simultaneously with respect to the cleaning tank by the vertical movement actuator, whereby the object to be cleaned is disposed in the cleaning tank, and the sealing member The cleaning tank can be sealed with a single operation. In addition, since the cleaning tank is sealed with the sealing member, the cleaning liquid can be prevented from splashing around when the cleaning liquid is sprayed from the cleaning nozzle onto the object to be cleaned. Alternatively, since the cleaning tank is sealed with the sealing member, the cleaning liquid can be stored in the cleaning tank and the object to be cleaned can be immersed in the cleaning tank for cleaning. During or after cleaning, the cleaning liquid can be discharged from the bottom opening. Furthermore, when cleaning is completed, the vertical movement actuator moves the holder and the sealing member simultaneously with respect to the cleaning tank, thereby removing the object to be cleaned and releasing the sealing of the cleaning tank by the sealing member. It can be done by the same operation.
Here, the first movement is an upward movement of the holder relative to the cleaning tank, and the movement in the opposite direction to the first movement is a downward movement of the holder relative to the cleaning tank. Alternatively, the first movement may be a downward movement of the cleaning tank relative to the holder, and the movement in the direction opposite to the first movement may be an upward movement of the cleaning tank relative to the holder. .
また、洗浄槽を封止するとは、少なくとも洗浄時に洗浄ノズルから噴射された洗浄液が外部に飛び散らない程度に遮断することができればよく、また、洗浄液を洗浄槽内に貯留して洗浄する場合には、洗浄ノズルから供給される洗浄液を洗浄槽内で所定の水位に維持する水密状態にすることができればよい。したがって、洗浄槽底部開口と封止部材との封止状態においては、厳密にこれらの全周が互いに当接している必要はないが、好ましくは、洗浄槽底部開口と封止部材との全周が互いに当接していることができる。 In addition, sealing the cleaning tank only requires that the cleaning liquid sprayed from the cleaning nozzle at the time of cleaning can be blocked to the outside, and if the cleaning liquid is stored in the cleaning tank for cleaning. It is only necessary that the cleaning liquid supplied from the cleaning nozzle can be kept in a watertight state in which a predetermined water level is maintained in the cleaning tank. Therefore, in the sealed state of the cleaning tank bottom opening and the sealing member, it is not necessary that the entire circumference of these is strictly in contact with each other, but preferably, the entire circumference of the cleaning tank bottom opening and the sealing member Can be in contact with each other.
さらに、洗浄槽底部開口と封止部材とが未封止状態で隙間を有するように設定され、この隙間が、洗浄液を排出する手段とされることもできる。ここで、洗浄槽底部開口と封止部材との全周が互いに当接して密閉可能な構成において、これらの間が離間して当接しない状態で停止させ、隙間を作ることができる。この構成を採用した場合、洗浄液を洗浄槽に貯留して洗浄する際には洗浄槽底部開口と封止部材との全周が互いに当接して密閉状態とし、排出時、あるいは、洗浄液等を供給しながら洗浄する場合には洗浄槽底部開口と封止部材との全周が互いに離間した状態とすることができる。
あるいは、洗浄槽底部開口と封止部材とのいずれかに、洗浄槽径方向に延在する切欠もしくは貫通孔などを形成し、この切欠もしくは貫通孔などを介して洗浄液を排出することもできる。
Furthermore, the cleaning tank bottom opening and the sealing member are set so as to have a gap in an unsealed state, and this gap can be used as a means for discharging the cleaning liquid. Here, in the configuration in which the entire circumference of the bottom opening of the cleaning tank and the sealing member are in contact with each other and can be sealed, they can be stopped in a state where they are separated and do not come into contact with each other, thereby creating a gap. When this configuration is adopted, when cleaning liquid is stored in the cleaning tank and cleaned, the entire circumference of the cleaning tank bottom opening and the sealing member are in contact with each other to be in a sealed state, and at the time of discharging or supplying cleaning liquid, etc. In the case of cleaning, the entire circumference of the cleaning tank bottom opening and the sealing member can be separated from each other.
Alternatively, a notch or a through hole extending in the cleaning tank radial direction can be formed in either the cleaning tank bottom opening or the sealing member, and the cleaning liquid can be discharged through the notch or the through hole.
さらに、洗浄ノズルは、下方に洗浄液を噴射するものとされ、この洗浄ノズルの下側位置に被洗浄物が配置されるように、洗浄時における保持具の位置が設定されることが好ましい。 Further, it is preferable that the position of the holding tool at the time of cleaning is set so that the cleaning nozzle ejects the cleaning liquid downward and the object to be cleaned is disposed below the cleaning nozzle.
なお、洗浄ノズルに気体を供給するようにし、洗浄ノズルから洗浄後の被洗浄物に気体を噴射して被洗浄物を乾燥させることや、洗浄ノズルから洗浄液と気体の混合流体を噴射して被洗浄物を洗浄することもできる。 In addition, gas is supplied to the cleaning nozzle, and the object to be cleaned is dried by injecting the gas from the cleaning nozzle to the object to be cleaned. It is also possible to wash the wash.
また、封止部材が被洗浄物を保持する保持具を出し入れする開口を開閉する蓋としても作用することで、被洗浄物の洗浄槽への導入と取り出しを効率化するとともに、封止部材が洗浄槽の底部開口を封止・解除する構成としたことで、洗浄槽の底面から洗浄液の排出が重力によって自動的に行われるのでさらなる効率化が可能となる。 In addition, the sealing member acts as a lid for opening and closing the opening for taking in and out the holder for holding the object to be cleaned, thereby improving the efficiency of introducing and removing the object to be cleaned from the cleaning tank, and the sealing member By adopting a configuration in which the bottom opening of the cleaning tank is sealed and released, the cleaning liquid is automatically discharged from the bottom surface of the cleaning tank by gravity, so that further efficiency can be achieved.
本発明において、前記保持具が、立設された保持柱の上端に前記被洗浄物を固定するものとされ、
前記洗浄時における前記洗浄ノズル先端と前記保持柱先端の前記被洗浄物との距離を設定する距離設定機構を有することにより、上下動アクチュエータによって、保持具と封止部材を上昇させる際に、保持具の保持柱先端高さ位置を、被洗浄物の厚さ(高さ寸法)を勘案して所定の範囲に設定することにより、異なる規格の被洗浄物であっても、それぞれの被洗浄物における高さ寸法に対応して、洗浄ノズル先端と被洗浄物との距離を効果的な洗浄が可能な範囲に維持することが可能となる。
In the present invention, the holder is configured to fix the object to be cleaned to an upper end of an upright holding column,
By having a distance setting mechanism that sets the distance between the cleaning nozzle tip and the object to be cleaned at the tip of the holding column at the time of cleaning, the holding tool and the sealing member are held by the vertical movement actuator. Even if the objects to be cleaned have different standards, the height position of the holding column tip of the tool is set within a predetermined range in consideration of the thickness (height dimension) of the object to be cleaned. It is possible to maintain the distance between the tip of the cleaning nozzle and the object to be cleaned within a range in which effective cleaning can be performed in accordance with the height dimension at.
なお、前記被洗浄物の固定は、保持柱の上端面へ接着剤等による貼り付けなどができる。または、保持柱の上端に吸引口を設けるなどして、固定解除可能なものとすることもできる。 The object to be cleaned can be fixed to the upper end surface of the holding column with an adhesive or the like. Alternatively, the fixing can be released by providing a suction port at the upper end of the holding column.
洗浄ノズル先端と保持柱先端の被洗浄物との距離を設定する距離設定機構としては、洗浄槽と洗浄ノズルとの位置設定を可能とする構成や、洗浄槽下端に装着可能なスペーサ、封止部材と保持柱との位置設定を可能とする高さ可変の保持柱、封止部材に対する保持柱への固定位置設定を可能とする保持柱の移動機構、封止部材と洗浄槽下端との位置設定を可能とする封止部材の厚さ方向寸法設定機構等を採用することができる。 The distance setting mechanism that sets the distance between the tip of the cleaning nozzle and the object to be cleaned at the tip of the holding column includes a configuration that allows the position of the cleaning tank and the cleaning nozzle to be set, a spacer that can be attached to the bottom of the cleaning tank, and sealing Holding column of variable height that enables position setting of member and holding column, moving mechanism of holding column that enables setting of fixed position to holding column with respect to sealing member, position of sealing member and lower end of cleaning tank It is possible to employ a thickness direction dimension setting mechanism of the sealing member that enables setting.
本発明の洗浄装置は、前記保持具が、洗浄時に前記保持柱を水平方向に往復移動させる横往復アクチュエータを有することにより、洗浄ノズルから噴射された洗浄液が被洗浄物に到達する位置・角度を変化させて、効果的に洗浄をおこなうことが可能となる。 In the cleaning apparatus of the present invention, the holder has a horizontal reciprocating actuator that reciprocates the holding column in the horizontal direction during cleaning, so that the position and angle at which the cleaning liquid sprayed from the cleaning nozzle reaches the object to be cleaned. It is possible to change and effectively perform cleaning.
本発明の洗浄装置は、前記封止部材が、前記保持柱の基部に一体とされた平板蓋体とされることにより、面一とされた洗浄槽下端に対して、保持柱周囲の平板蓋体表面を均一に当接して、洗浄槽内を容易に封止することが可能となる。 In the cleaning apparatus of the present invention, the sealing member is a flat plate cover integrated with the base of the holding column, so that the flat plate cover around the holding column is flush with the lower end of the cleaning tank. It becomes possible to contact the body surface uniformly and easily seal the inside of the cleaning tank.
なお、平板蓋体とされた封止部材に対して、保持柱を有する保持具を一体として、前工程である被洗浄物の製造工程から連続して移動・搬送することも可能である。
または、平板蓋体とされた封止部材に対して、その中央部に厚さ方向の貫通孔を設けて、この貫通孔に保持具の保持柱を挿入した状態で洗浄槽を封止可能な状態で、封止部材と保持柱とを、保持柱の軸方向に移動可能とすることもできる。
In addition, it is also possible to move / convey continuously from the manufacturing process of the article to be cleaned, which is a previous process, with the holding member having the holding column as an integral unit with respect to the sealing member that is a flat lid.
Alternatively, the cleaning tank can be sealed with a through hole in the thickness direction provided at the center of the sealing member that is a flat lid, and the holding column of the holder is inserted into the through hole. In the state, the sealing member and the holding column can be moved in the axial direction of the holding column.
また、少なくとも保持具の先端付近を洗浄することができるので、保持具を再度、製造工程に戻す際に、保持具の準備にかかる作業時間を短縮し、作業工程数を削減することができ、多品種少量生産に用いて好適である。 Moreover, since at least the vicinity of the tip of the holder can be cleaned, when returning the holder to the manufacturing process again, the work time required for preparing the holder can be shortened, and the number of work processes can be reduced. It is suitable for use in multi-product small-volume production.
さらに、本発明の洗浄装置では、洗浄の後工程である検査時に前記被洗浄物が引き続いて前記保持具に固定されていることもできる。これにより、洗浄工程に連続して検査できるので、作業時間を短縮し、作業工程数を削減して、製造コストを削減することができる。 Furthermore, in the cleaning apparatus of the present invention, the object to be cleaned can be continuously fixed to the holder during an inspection which is a post-cleaning process. Thereby, since it can test | inspect continuously in a washing | cleaning process, work time can be shortened, the number of work processes can be reduced, and manufacturing cost can be reduced.
本発明の洗浄装置は、前記洗浄ノズルには、前記洗浄液および気体が供給されることにより、洗浄ノズルから、洗浄液と気体とを切り替えて噴出すること、あるいは、洗浄液と気体とを混合して噴射することを可能な構成とすることができる。これにより、洗浄槽内における洗浄液または洗浄液・気体の混合流体による洗浄、および、洗浄槽内における乾燥が可能となる。 In the cleaning apparatus of the present invention, when the cleaning liquid and the gas are supplied to the cleaning nozzle, the cleaning liquid and the gas are switched and ejected from the cleaning nozzle, or the cleaning liquid and the gas are mixed and injected. It can be set as the structure which can do. As a result, cleaning with the cleaning liquid or the cleaning fluid / gas mixed fluid in the cleaning tank and drying in the cleaning tank become possible.
本発明の洗浄装置は、前記洗浄ノズルには、超音波洗浄を可能とする超音波振動子が設けられることにより、洗浄液に超音波振動を印加して被洗浄物を効率的に洗浄することが可能となる。
なお、超音波振動子を設けた場合、洗浄ノズルとは別に乾燥用の気体を噴出する乾燥ノズルを設けることが好ましいが、洗浄液と気体との噴出を切り替えて同一のノズルから噴出する構成とすることもできる。
In the cleaning apparatus of the present invention, the cleaning nozzle is provided with an ultrasonic vibrator that enables ultrasonic cleaning, whereby ultrasonic vibration is applied to the cleaning liquid to efficiently clean the object to be cleaned. It becomes possible.
In addition, when an ultrasonic transducer is provided, it is preferable to provide a drying nozzle that ejects a gas for drying separately from the cleaning nozzle, but the structure is such that the ejection of the cleaning liquid and the gas is switched to be ejected from the same nozzle. You can also.
本発明の洗浄装置は、洗浄の後に乾燥も行うものであり、前記洗浄槽には、乾燥時に前記被洗浄物に気体を噴射する乾燥ノズルを有することにより、洗浄槽内における乾燥が可能となる。また、洗浄ノズルには、超音波洗浄を可能とする超音波振動子を設けた場合でも、前記被洗浄物に気体を噴射して乾燥をおこなうことが可能となる。 The cleaning apparatus of the present invention also performs drying after cleaning, and the cleaning tank has a drying nozzle that injects gas to the object to be cleaned at the time of drying, thereby enabling drying in the cleaning tank. . In addition, even when an ultrasonic vibrator capable of ultrasonic cleaning is provided in the cleaning nozzle, it is possible to perform drying by jetting a gas to the object to be cleaned.
本発明の洗浄装置は、前記洗浄槽の側面に、洗浄液を排出する排出口が設けられていることにより、洗浄ノズルから洗浄液を噴射しつつ洗浄槽から排出することを可能とすることができる。この場合、排出口は、洗浄槽の下端付近に設けることが好ましい。
あるいは、排出口の位置を洗浄槽の上部にすることにより、洗浄槽に洗浄液を貯留して洗浄をおこなった後に洗浄液を排出口を経由して洗浄槽から排出することを可能とすることができる。この場合、排出口は、洗浄槽の被洗浄物上端位置よりも上側位置に設けることが好ましい。
In the cleaning apparatus of the present invention, a discharge port for discharging the cleaning liquid is provided on the side surface of the cleaning tank, so that the cleaning liquid can be discharged from the cleaning tank while being sprayed from the cleaning nozzle. In this case, the discharge port is preferably provided near the lower end of the cleaning tank.
Alternatively, by setting the position of the discharge port to the upper part of the cleaning tank, it is possible to store the cleaning liquid in the cleaning tank and perform cleaning, and then discharge the cleaning liquid from the cleaning tank via the discharge port. . In this case, the discharge port is preferably provided at a position above the upper end position of the object to be cleaned in the cleaning tank.
本発明の洗浄装置は、前記洗浄槽の底部開口には、前記封止部材に当接する弾性部材が周設されることにより、封止部材を洗浄槽底部開口に当接して洗浄槽内を封止する際に、洗浄槽の水密を容易に維持することができる。この構成においては、洗浄槽に洗浄液を貯留して洗浄をおこなう際に、洗浄液が漏出することを防止できる。 In the cleaning apparatus of the present invention, an elastic member that contacts the sealing member is provided around the bottom opening of the cleaning tank, so that the sealing member contacts the cleaning tank bottom opening and seals the inside of the cleaning tank. When stopping, the watertightness of the washing tank can be easily maintained. In this configuration, it is possible to prevent the cleaning liquid from leaking when the cleaning liquid is stored in the cleaning tank and cleaning is performed.
本発明の洗浄方法は、被洗浄物に洗浄槽内で洗浄液を噴射することで汚れを除去した後に、前記被洗浄物を乾燥させる洗浄方法であって、
保持具に立設された保持柱の上端に前記被洗浄物を固定して搬送する工程と、
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を上方または下方に移動させることで、前記洗浄槽の底部開口から前記被洗浄物を前記洗浄槽内に導入するとともに、封止部材により前記洗浄槽の底部開口を封止する工程と、
前記洗浄槽を封止した状態で前記洗浄槽の上方に位置する洗浄ノズルから洗浄液を前記被洗浄物に噴射する洗浄工程と、
乾燥ノズルから前記被洗浄物に気体を噴射して乾燥する工程と
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を前記移動とは反対方向に移動させることにより、前記洗浄槽から前記被洗浄物を抜出するとともに、前記封止部材による前記洗浄槽の底部開口の封止を解除する工程と、
を有することにより、保持具に固定された被洗浄物を洗浄槽内に配置するとともに、同一動作によって、封止部材を洗浄槽底部開口に当接して洗浄槽内を封止することができる。その状態で、洗浄ノズルから洗浄液を被洗浄物に噴射して洗浄する際に、洗浄液が周囲に飛び散らないようにすることができる。また、洗浄槽内に洗浄液を貯留して、この中に被洗浄物を浸漬して洗浄することもできる。洗浄中あるいは洗浄が終了したら少なくとも底部開口から洗浄液を排出して被洗浄物を乾燥させることができる。さらに、洗浄が終了したら、上下動アクチュエータによって、保持具と封止部材とを洗浄槽に対して移動させることで、洗浄槽から被洗浄物を取り出すとともに同一動作によって、封止部材による洗浄槽の封止を解除することができる。
The cleaning method of the present invention is a cleaning method of drying the object to be cleaned after removing dirt by spraying a cleaning liquid in the cleaning tank to the object to be cleaned,
A step of fixing and transporting the object to be cleaned to the upper end of a holding column erected on the holder;
By moving at least one of the holder and the cleaning tank upward or downward, the object to be cleaned is introduced into the cleaning tank from the bottom opening of the cleaning tank, and the bottom of the cleaning tank is sealed by a sealing member. Sealing the opening;
A cleaning step of spraying a cleaning liquid onto the object to be cleaned from a cleaning nozzle located above the cleaning tank in a state where the cleaning tank is sealed,
A step of spraying a gas from a drying nozzle onto the object to be cleaned and moving at least one of the holder and the cleaning tank in a direction opposite to the movement, thereby removing the object to be cleaned from the cleaning tank; And releasing the sealing of the bottom opening of the cleaning tank by the sealing member,
With this, the object to be cleaned fixed to the holder can be placed in the cleaning tank, and the inside of the cleaning tank can be sealed by contacting the sealing member with the bottom opening of the cleaning tank by the same operation. In this state, when the cleaning liquid is sprayed from the cleaning nozzle onto the object to be cleaned, the cleaning liquid can be prevented from splashing around. It is also possible to store the cleaning liquid in the cleaning tank and immerse the object to be cleaned in the cleaning tank for cleaning. During or after cleaning, the cleaning liquid can be discharged from at least the bottom opening to dry the object to be cleaned. Furthermore, when the cleaning is completed, the object to be cleaned is taken out from the cleaning tank by moving the holder and the sealing member with respect to the cleaning tank by the vertical movement actuator, and the cleaning tank by the sealing member is moved by the same operation. Sealing can be released.
本発明の洗浄方法においては、洗浄の前工程時に前記被洗浄物が前記保持具に固定されていることにより、前記保持具が洗浄の前工程である被洗浄物加工工程から連続して、前記被洗浄物を保持している状態とすることができる。例えば、光学素子とされる被洗浄物を洗浄する際に、前工程である光学素子製造工程時に、保持具に光学素子とされる被洗浄物を固定した状態でこの製造工程を終了し、直ちに連続して光学素子とされる被洗浄物の洗浄をおこなうことができる。この際、前工程終了時に光学素子とされる被洗浄物を製造工程における保持具から固定解除し、さらに、洗浄をおこなう保持具に再固定する必要がないため、光学素子とされる被洗浄物に対して不必要に汚染が発生すること、再固定時に傷が付くあるいは破損することを防止することができる。また、製造工程に連続して洗浄できるので、作業時間を短縮し、作業工程数を削減して、製造コストを削減することができる。 In the cleaning method of the present invention, the object to be cleaned is fixed to the holder at the time of the pre-cleaning process, so that the holder is continuously processed from the object to be cleaned process that is the pre-cleaning process. The object to be cleaned can be held. For example, when cleaning an object to be cleaned that is an optical element, the manufacturing process is completed with the object to be cleaned to be an optical element fixed to a holder at the time of the optical element manufacturing process that is a previous process. An object to be cleaned that is continuously an optical element can be cleaned. At this time, it is not necessary to unfix the object to be cleaned that is an optical element at the end of the previous process from the holder in the manufacturing process, and to re-fix the object to be cleaned to the holder that performs cleaning. As a result, it is possible to prevent unnecessary contamination and damage or damage during re-fixing. Moreover, since it can wash | clean continuously in a manufacturing process, work time can be shortened, the number of work processes can be reduced, and a manufacturing cost can be reduced.
本発明によれば、効率的な洗浄を少ない工程数で効果的におこなうことができるという効果を奏することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to achieve an effect that efficient cleaning can be effectively performed with a small number of steps.
以下、本発明に係る洗浄装置、洗浄方法の第1実施形態を、図面に基づいて説明する。
図1は、本実施形態における洗浄装置を示す構成図であり、図2は、本実施形態における洗浄装置の上下動アクチュエータを示す模式正面図であり、図において、符号100は、洗浄装置である。
なお、各図面は模式図のため、形状や寸法は誇張されている(以下の図面も同様)。
Hereinafter, a cleaning device and a cleaning method according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a cleaning device according to the present embodiment. FIG. 2 is a schematic front view illustrating a vertical movement actuator of the cleaning device according to the present embodiment. In the figure,
In addition, since each drawing is a schematic diagram, the shape and dimension are exaggerated (the following drawings are also the same).
本実施形態に係る洗浄装置100は、被洗浄物として光学素子Lを洗浄する装置である。
光学素子Lは、光学素子であれば特に限定されない。洗浄装置100で洗浄することができる光学素子Lの例としては、レンズ、プリズム、ミラー、フィルタなどを挙げることができる。本実施形態においては、光学素子Lとして内視鏡用のレンズの例を用いて説明する。
The
The optical element L is not particularly limited as long as it is an optical element. Examples of the optical element L that can be cleaned by the
図においては、各構成が模式的に示されており、光学素子Lを平凸レンズ状に描いている。ただし光学素子Lの形状は、平凸レンズ状には限定されない。例えば、光学素子Lがレンズの場合にも、例えば、両凸レンズ、両凹レンズ、平凹レンズ、メニスカスレンズ等の種々の形状が可能である。また、光学素子Lがレンズ以外の光学素子の場合、例えば、円板状、矩形板状をはじめとする適宜の立体形状も可能である。 In the drawing, each configuration is schematically shown, and the optical element L is drawn in a plano-convex lens shape. However, the shape of the optical element L is not limited to the plano-convex lens shape. For example, when the optical element L is a lens, various shapes such as a biconvex lens, a biconcave lens, a plano-concave lens, and a meniscus lens are possible. Further, when the optical element L is an optical element other than a lens, for example, an appropriate three-dimensional shape including a disk shape and a rectangular plate shape is possible.
光学素子Lのうち、例えば、ガラス研磨レンズは、製造装置110における前工程において、所定の形状に加工されるまでに、研磨加工を多段階に繰り返す。洗浄装置100は、このような加工工程後で、前工程の加工で光学素子Lに付着する研磨材などを落とすものである。これにより光学素子Lの表面がきれいな状態で、検査装置120における次工程の検査等を開始することが可能である。
Among the optical elements L, for example, a glass polishing lens repeats polishing processing in multiple stages until it is processed into a predetermined shape in the previous process in the
本実施形態に係る洗浄装置100は、図1に示すように、洗浄槽10、洗浄ノズル20、保持具30と、上下動アクチュエータ40と、封止部材50と、排出機構60と、制御部70と、距離設定部材/機構(距離設定機構)80と、を有する。
As shown in FIG. 1, the
洗浄装置100は、図1に示すように、製造装置110と検査装置120との間に配置される。ベルトコンベア等である搬送装置130によって、被洗浄物としての光学素子Lが製造装置110から搬入され、検査装置120に搬出される。
具体的には、洗浄装置100は、光学素子Lの製造機である製造装置110に隣接して配置されるか、製造装置110の内部に配置されることができる。
As shown in FIG. 1, the
Specifically, the
洗浄槽10は、図1,図2に示すように、略垂直な軸線を有し底部が開口した略円筒状であり、閉塞されたその頂部中央位置に洗浄ノズル20が配置されている。洗浄槽10の材質は、洗浄液に対して耐性を有し、かつ洗浄時の設定温度、設定圧力等に耐久性を示すものであればその特に限定されない。例えば、洗浄槽10の材質は、金属、樹脂等、あるいはこれらの組み合わせたものとすることができる。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
なお、洗浄槽10は、円筒状に限るものではなく、断面矩形の角柱状、角柱台、円錐、円錐台形状等、他の形状とすることもできる。
また、洗浄槽10の寸法は、後述するように、洗浄液による被洗浄物である光学素子Lの洗浄をおこなうことができる容積を有していればよく、また、使用する洗浄液を削減するためにも、なるべく小さな容積を有するものとされる。例えば、内視鏡用のレンズLを洗浄するためには、10cc〜300cc程度の容積を有するものとされることが可能である。
In addition, the
Moreover, the dimension of the
洗浄槽10の底部開口11は、円筒状の洗浄槽10の水平断面と同径とされて、略水平に位置する円形に配置され、後述する封止部材50とその全周で当接可能なように面一となるように形成されている。底部開口11は、光学素子Lを洗浄槽10の下側から出し入れするための挿入抜出口とされ、少なくとも、光学素子Lが通過可能な径寸法に設定されている。
The
洗浄ノズル20は、図1,図2に示すように、洗浄槽10の頂部中央位置に鉛直下向きに噴射可能として配置され、洗浄槽10外部の洗浄液の供給ユニット21,気体の供給ユニット22に接続されている。洗浄ノズル20は、洗浄槽10の底部開口11と対向する位置に設けられる。洗浄ノズル20が、洗浄液を鉛直下向きに噴射する配置とされることで、噴射力と重力とによって効率的に洗浄をおこなうことができる。
As shown in FIGS. 1 and 2, the cleaning
供給ユニット21は、加圧された洗浄液を洗浄ノズル20に供給するものである。図1に示すように、供給ユニット21は、例えば純水である洗浄液を貯留する洗浄液貯留部21aと、洗浄液貯留部21aの洗浄液を圧送するポンプ21bと、ポンプ21bから圧送された洗浄液から不純物を取り除くフィルタ21cと、フィルタ21cの下流に設けられるレギュレータ21dと、レギュレータ21dの下流に設けられ加圧された洗浄液の供給を切り替えるか供給量を制御する電磁バルブ21eと、を有する。供給ユニット21は洗浄ノズル20に接続されている。
The
ポンプ21bと、レギュレータ21dと、電磁バルブ21eとは、いずれも後述する電子回路(CPU)である制御部70と電気的に接続されている。
洗浄液貯留部21aは、サイフォン方式により、配管を介して、洗浄ノズル20に純水を供給可能としてもよい。この場合、洗浄液貯留部21aは、ポンプを使用することなく純水を供給できる。
The
The cleaning
ポンプ21bは、高圧、低圧を切り替え可能であり、高圧で洗浄液を供給する状態と、低圧で洗浄液を供給する状態とを切り替えることができる。高圧で洗浄液を供給した場合には、洗浄ノズル20からの噴射により光学素子Lの洗浄をおこない、低圧で洗浄液を供給した場合には、洗浄槽10に洗浄液を貯留して光学素子Lの洗浄をおこなうことも可能である。
The
供給ユニット22は、圧縮された空気等の気体を洗浄ノズル20に供給するものである。供給ユニット22は、図1に示すように、空気等を圧縮するコンプレッサ22aと、コンプレッサ22aから圧送された気体から塵埃等の不純物を取り除くフィルタ22bと、フィルタ22bの下流に設けられるレギュレータ22cと、レギュレータ22cの下流に設けられ圧縮エアーの供給を切り替えるか供給量を制御する電磁切り替えバルブ22dと、を有する。
The
コンプレッサ22aと、レギュレータ22cと、電磁バルブ22dとは、いずれも後述する制御部70と電気的に接続されている。
The
供給ユニット21,22は、その内部にポンプ21aで加圧された純水とコンプレッサ22aで圧縮された空気とをそれぞれから洗浄ノズル20に供給して、これらの混合状態、あるいは、洗浄液、または空気に切り替えて噴射することもできる。このとき、純水と空気は制御部70によるバルブ21e,22dの開閉制御により切り替え可能または供給量制御可能である。
The
保持具(治具)30は、図1,図2に示すように、立設された保持柱31の上端に被洗浄物である光学素子Lを固定するものであり、上下動アクチュエータ40により洗浄槽10に下から挿入可能とされる。保持柱31の基部には、封止部材50である平板蓋体51が、一体として形成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the holding tool (jig) 30 fixes an optical element L as an object to be cleaned to the upper end of a standing holding
保持具30においては、図1,図2に示すように、保持柱31の上端面へ接着剤等により貼り付けられて被洗浄物である光学素子Lが固定されている。
このため、保持具30は、レンズ加工機(製造装置)110において母材から研磨等によってレンズ(光学素子)Lを形成する際の加工治具と共通とすることができる。これにより、レンズ加工機110から保持具30に取り付けられた状態で光学素子Lを取り出し、光学素子Lを保持具30に取り付けられたままで、洗浄槽10の中に導入できる。従って、レンズ加工後に光学素子Lの面に付着している汚れを、加工直後に待ち時間なく除去することが可能となる。
In the
For this reason, the
なお、光学素子Lの保持柱31への固定は接着剤に限らない。例えば、保持柱31の上端に設けた吸引穴とこれに接続された減圧器を有する吸着機構等によって、被洗浄物である光学素子Lを保持柱31の上端に対して固定および固定解除することもできる。
The fixing of the optical element L to the holding
封止部材50は、図1,図2に示すように、保持柱31の基部に一体とされた平板蓋体51とされる。平板蓋体51は、図1,図2に示すように、その上面が滑らかな平板とされて、面一とされた洗浄槽10底部開口11の下端に対して、保持柱31周囲に位置する平板蓋体51表面が均一に当接可能とされている。平板蓋体51を洗浄槽10底部開口11の下端に対して当接した状態で洗浄槽10を容易に封止することが可能となる。
封止部材50は、被洗浄物Lを保持する保持具30を出し入れする底部開口11を開閉する蓋として作用する。
As shown in FIGS. 1 and 2, the sealing
The sealing
上下動アクチュエータ40は、図1,図2に示すように、搬送装置130によって製造装置110から搬出されてきた保持具30と封止部材50とを、一体として上昇させるロボットアーム等である。上下動アクチュエータ40は、略水平に設けられてその先端で保持具30と封止部材50とを保持可能である水平方向に伸縮可能なアーム(ロボットアーム)41と、アーム41の基部42を上下方向に位置規制する上下レール43と、図示しない駆動部とを有する。
上下動アクチュエータ40は制御部70に接続され、制御部70によってその動作を制御可能とされている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
The
アーム41は、搬送装置130における洗浄槽10の下側位置まで搬送されてきた保持具30と封止部材50とを一体として保持して、上下レール43によって、位置規制された状態で上昇し、保持柱31周囲に位置する平板蓋体51表面が洗浄槽10底部開口11の下端に対して均一に当接する封止位置まで上昇可能である。また、アーム41は、この封止位置から保持具30と封止部材50とを一体として搬送装置130上に載置する搬送位置まで下降可能である。
The
なお、図において上下動アクチュエータ40は、簡略化して示しているが、保持具30と封止部材50とを一体として上下動可能とするとともに、洗浄槽10を封止することが可能な構成であれば限定されるものではない。上下動アクチュエータ40は、アーム41途中に折れ曲がり可能な関節となるジョイント部、あるいは、アーム41先端の角度を変更する角度変更部、あるいは、これ以外の構成を有することもできる。
Although the
例えば、保持具30を駆動する上下動アクチュエータ40として、ロボット以外にエアーシリンダーや機構移動などの構成とすることもでき、さらに、洗浄槽10を移動させて保持具30と底部開口11とを水密に閉塞させる構成とすることも可能である。
For example, the
排出機構60は、図1に示すように、洗浄時に洗浄槽10から洗浄液を排出するものとされ、底部開口11、および、洗浄液を排出可能な位置として設けられた排出口61、および、排出を貯留する排出タンク62とを有するものとされる。本実施形態における排出口61は、洗浄槽10の底部開口11付近の側面に設けられた貫通孔とされることができる。
As shown in FIG. 1, the
排出口61は、洗浄液を効率よく排出することが可能な適度に大きな断面積を有する。また、その断面形状および配置個数は、洗浄液を効率よく排出することが可能な適度に適宜設定することができる。
The
なお、洗浄終了後には、主として洗浄槽10の底部開口11が排出機構60として用いられる。このため、排出タンク62は、洗浄終了後に開放された洗浄槽10の底部開口11、および、この下方に位置する封止部材50から流下(滴下)する排出を受けることが可能なように配置される。
In addition, after completion | finish of washing | cleaning, the
距離設定部材/機構(距離設定機構)80は、洗浄時における洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を設定する部材または機構とされる。図1に示すように、保持柱31の平板蓋体51表面からの高さt2は固定されているため、光学素子Lの厚さt3によって、洗浄時に、その上面の高さが変化してしまうことになる。
The distance setting member / mechanism (distance setting mechanism) 80 is a member or mechanism that sets the distance t1 between the cleaning
これに対応して、距離t1を洗浄に効果的な範囲に設定するために、距離設定部材/機構80は、本実施形態において、図1に示すように、洗浄槽10の底部開口11に取り付け可能なリング(スペーサ)81とされる。
Correspondingly, in order to set the distance t1 within an effective range for cleaning, the distance setting member /
リング81は、図1に示すように、厚さt4とされる寸法を有し、洗浄槽10の底部開口11と同径で同厚の下端部を有する同材のものとされ、洗浄槽10の底部開口11に取り付けに取り付けた際には、その内面が洗浄槽10の底部開口11の内壁と面一となるようにされている。
As shown in FIG. 1, the
リング81を洗浄槽10の底部開口11に取り付けることにより、リング81を取り付けない場合に比べて、平板蓋体51表面の高さ位置が、厚さt4に対応する高さだけ下側に下がった位置となる。これにより、リング81を取り付けない場合に比べて、厚さt4に対応する高さだけ保持柱31先端が下側に下がった位置となり、光学素子Lの厚さt3が大きなものに対しても、洗浄時における洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を好ましい範囲とすることができる。
また、薄い光学素子Lに対しては、リング81を洗浄槽10の底部開口11に取り付けない状態で洗浄をおこなうものとされる。
By attaching the
Further, the thin optical element L is cleaned in a state where the
なお、リング81は、厚さt4として、異なる種類の光学素子Lの厚さ寸法t3に対応するものを多種類用意しておくことが好ましい。
In addition, it is preferable to prepare many types of
次に、本実施形態における洗浄方法について説明する。 Next, the cleaning method in this embodiment will be described.
図3は、本実施形態における洗浄方法を示すフローチャートである。
本実施形態における洗浄方法は、図3に示すように、レンズ厚み設定工程S01と、準備工程S02と、ノズル距離設定工程S03と、レンズ加工工程S04と、搬入工程S05と、上昇密閉工程S06と、噴射洗浄工程S07と、排出工程S08と、乾燥工程S09と、下降開放工程S10と、搬出工程S11と、検査工程S12と、を有するものとされる。
FIG. 3 is a flowchart showing the cleaning method in the present embodiment.
As shown in FIG. 3, the cleaning method in the present embodiment includes a lens thickness setting step S01, a preparation step S02, a nozzle distance setting step S03, a lens processing step S04, a carry-in step S05, and a rising sealing step S06. The spray cleaning step S07, the discharge step S08, the drying step S09, the descending / opening step S10, the unloading step S11, and the inspection step S12.
図4〜図9は、本実施形態の洗浄方法における洗浄装置の動作を示す模式正断面図である。なお、これらの各図においては、適宜、工程の説明に即して構成を省略して示すことがある。
本実施形態における洗浄方法は、洗浄の前工程として、まず、図3に示すレンズ厚み設定工程S01において、洗浄する被洗浄物とされる光学素子(レンズ)Lの厚さt3、および、保持具30の保持柱31の高さt2等の寸法をあらかじめ設定する。
4 to 9 are schematic front sectional views showing the operation of the cleaning apparatus in the cleaning method of the present embodiment. In each of these drawings, the configuration may be omitted as appropriate in accordance with the description of the process.
In the cleaning method of the present embodiment, as a pre-cleaning process, first, in the lens thickness setting process S01 shown in FIG. 3, the thickness t3 of the optical element (lens) L to be cleaned and the holder The dimensions such as the height t2 of the 30 holding
次いで、洗浄の前工程として、図3に示す準備工程S02として、保持具30の保持柱31先端に、光学素子(レンズ)Lに加工される母材を固定する。
Next, as a pre-cleaning step, as a preparatory step S02 shown in FIG. 3, the base material to be processed into the optical element (lens) L is fixed to the tip of the holding
次いで、図3に示すノズル距離設定工程S03として、洗浄するレンズ(光学素子)Lの厚さt3に対応して、洗浄時における洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を設定する。このときに、洗浄ノズル20先端とレンズLの距離t1は、洗浄処理前に汚れ除去の効果が最大となる距離範囲を事前に確認して設定する。
Next, as a nozzle distance setting step S03 shown in FIG. 3, corresponding to the thickness t3 of the lens (optical element) L to be cleaned, the object to be cleaned at the
この距離t1を設定するために、図4に示すように、レンズLの厚さt3に対応する厚さt4を有する距離設定部材/機構80としてのリング81を洗浄槽10の底部開口11に取り付ける。
In order to set the distance t1, as shown in FIG. 4, a
具体的には、例えば、厚さt3が比較的小さな光学素子L1に対しては、図4(a)に示すように、厚さt3に対応して厚さt4の比較的小さなリング81aを対応させ、厚さt3が比較的大きな光学素子Lに対しては、図4(b)に示すように、厚さt3に対応して厚さt4の比較的大きなリング81を対応させる。
Specifically, for example, a relatively
ここで、距離t1は、洗浄ノズル20から噴出する洗浄液によって、効果的に洗浄をおこなうことの可能な範囲となるように設定される。
例えば、距離t1が光学素子Lの材質、洗浄前工程であるレンズ加工工程S04における汚れ等の付着状態、洗浄ノズル20から噴出する洗浄液の圧力等の洗浄条件によって、その最適範囲となるように設定される。これに、固定された保持柱31の平板蓋体51表面からの高さt2を勘案して、対応したリング81の厚さt4が設定される。
Here, the distance t1 is set so as to be within a range in which the cleaning can be effectively performed by the cleaning liquid ejected from the cleaning
For example, the distance t1 is set so as to be within the optimum range depending on the material of the optical element L, the adhesion state of dirt or the like in the lens processing step S04, which is a pre-cleaning step, and the cleaning conditions such as the pressure of the cleaning liquid ejected from the cleaning
また、ノズル距離設定工程S03では、レンズ厚み設定工程S01で設定された光学素子Lの種類あるいは厚さt3、および、保持具30の保持柱31の高さt2等の寸法に対応して、後の噴射洗浄工程S07において、後述するように底部開口11と平板蓋体51とを接触させた封止状態で洗浄をおこなうか、それとも、底部開口11と平板蓋体51とを離間させた非封止状態で洗浄をおこなうかを設定する。この底部開口11と平板蓋体51との接触非接触状態は、洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1にも影響するので、噴射洗浄工程S07よりも前の工程におけるノズル距離設定工程S03で設定することが好ましい。
Further, in the nozzle distance setting step S03, the type or thickness t3 of the optical element L set in the lens thickness setting step S01, the dimensions such as the height t2 of the holding
なお、ノズル距離設定工程S03は、レンズ厚み設定工程S01で設定された光学素子Lの厚さt3等の寸法に基づいて、レンズ厚み設定工程S01および/または準備工程S02と前後するか同時並行でおこなうことができる。 The nozzle distance setting step S03 may be performed before or after the lens thickness setting step S01 and / or the preparation step S02 based on the dimensions such as the thickness t3 of the optical element L set in the lens thickness setting step S01. Can be done.
次いで、洗浄の前工程として、図3に示すレンズ加工工程S04として、製造装置110において、保持具30の保持柱31先端に固定された母材を研磨等の手法により光学素子(レンズ)Lに加工する。
Next, as a pre-cleaning process, as a lens processing step S04 shown in FIG. 3, in the
次いで、図3に示す搬入工程S05として、前工程であるレンズ加工工程S04を終えた保持具30を、図4に示すように、ベルトコンベア130で製造装置110から搬出させて、ロボットアーム41によって保持し、洗浄槽20の下側に移動させる。
Next, as the carrying-in process S05 shown in FIG. 3, the
このとき、ベルトコンベア130は、保持具30が所定の位置まで移動してくると、図示しない位置センサが作動し、保持具(治具)30が停止位置となるように停止する。ベルトコンベア130の停止後に、制御部70からの信号により上下動アクチュエータ40が保持具30を保持して、ロボットアーム41によって洗浄槽10底部開口11下側位置まで搬送する。
At this time, when the holding
この際、レンズ加工機110で使用している保持具30は洗浄装置100と共通で使用可能なように設定しているので、ベルトコンベア130で接続されたレンズ加工機110と洗浄装置100とで、保持具30を移動させるだけで加工後に洗浄することができる。
At this time, since the
次いで、図3に示す上昇密閉工程S06として、保持具30を上下動アクチュエータ40により上昇させて、図5に示すように、洗浄槽10の底部開口11から光学素子Lを挿入(導入)する。このとき、保持柱31先端に固定された光学素子Lが、洗浄ノズル20の鉛直下向き直下位置となるように位置設定される。同時に、保持具30と一体とされた封止部材50を上下動アクチュエータ40により上昇させて、平板蓋体51の保持柱31周囲表面を洗浄槽10の底部開口11の全周に当接させることで、洗浄槽10を封止する。
Next, as the ascending and closing step S06 shown in FIG. 3, the
ここで、光学素子Lの位置設定としては、ロボットアーム41により上昇させた平板蓋体51が洗浄槽10の底面開口11に密着することで、保持具30が上下方向に位置規制されて停止することにより、洗浄槽10の所定位置にレンズLをセットすることができる。
なお、平板蓋体51の表面が当接する洗浄槽10の底部開口11とは、ここでは、取り付けられたリング81の下端を意味する。
Here, as the position setting of the optical element L, the
In addition, the
このように、平板蓋体51の表面を洗浄槽10の底部開口11の全周に当接させることで、保持柱31の先端が、リング81を取り付けないときに比べて、リング81の厚さt4分だけ洗浄ノズル20から下側に離間した位置となる。これにより、洗浄ノズル20の先端である下端部から保持柱31上端に固定された被洗浄物である光学素子Lまでの距離t1を、ノズル距離設定工程S03で設定した洗浄に適した範囲とすることができる。
In this way, by bringing the surface of the
次いで、図3に示す噴射洗浄工程S07として、制御部70により、図1に示す供給ユニット21のポンプ21bを作動して、洗浄液貯留部21aに貯留された純水とされる洗浄液を圧送する、同時に、制御部70により、図1に示すレギュレータ21dで所定の圧力とした洗浄液を圧送し、制御部70により電磁バルブ21eを開状態とする。これにより、フィルタ21cでろ過した洗浄液が洗浄ノズル20に供給される。
Next, as the jet cleaning step S07 shown in FIG. 3, the
これにより、図6に示すように、上昇密閉工程S06でセットした光学素子Lに対して、洗浄ノズル20から光学素子Lに洗浄液を噴射して、吹き付けられた洗浄液が表面に付着した汚れにぶつけられて、光学素子L表面からこれを除去する。
As a result, as shown in FIG. 6, the cleaning liquid is sprayed from the cleaning
噴射洗浄工程S07においては、図6に示すように、光学素子L表面に当接した洗浄液は、洗浄槽10の側面に設けられた排出口61から外部の排出タンク62に排出されることができる。排出口61は、洗浄槽10内に洗浄液が溜まってもレンズ1が浸漬しない高さ位置に設けられており、洗浄液の排出と洗浄液噴射時の洗浄槽10内の圧力調整をおこなうことが可能である。
噴射洗浄工程S07としての排出を、次の排出工程S08として平行しておこなうことが可能である。
In the jet cleaning step S07, as shown in FIG. 6, the cleaning liquid that has come into contact with the surface of the optical element L can be discharged from the
The discharge as the jet cleaning step S07 can be performed in parallel as the next discharge step S08.
噴射洗浄工程S07においては、加圧された洗浄液を洗浄ノズル20から噴射させるが、光学素子Lの周囲が洗浄槽10で囲われているので洗浄液の飛散は防止することができる。
In the spray cleaning step S07, the pressurized cleaning liquid is sprayed from the cleaning
本実施形態における噴射洗浄工程S07においては、洗浄ノズル20から二流体ジェットを噴射されるものとすることもできる。
二流体ジェットは、圧縮空気の力で洗浄液を洗浄ノズル20内に供給し、洗浄ノズル20先端で洗浄液が微細化され、空気圧力で吹き付けられ光学素子Lの表面の汚れを除去する。
In the jet cleaning step S07 in the present embodiment, a two-fluid jet may be jetted from the cleaning
The two-fluid jet supplies cleaning liquid into the cleaning
この場合、供給ユニット21と同時に、制御部70により、図1に示す供給ユニット22のコンプレッサ22aを作動して空気等を圧縮するとともに、制御部70により、図1に示すレギュレータ22cで所定の圧力とした圧縮空気を圧送し、制御部70により電磁切り替えバルブ22dを開状態とすることにより、フィルタ22bで塵埃等の不純物を取り除いた気体を洗浄ノズル20に供給するものとされる。
二流体ジェットは高圧な空気で洗浄液を噴射させるが、光学素子L周辺が洗浄槽10で囲われているので洗浄液の飛散を防止できる。
In this case, simultaneously with the
The two-fluid jet jets the cleaning liquid with high-pressure air. However, since the periphery of the optical element L is surrounded by the
また、二流体ジェットを洗浄ノズル20から噴射する場合でも、排出口61は、洗浄槽10内に液体が溜まっても光学素子Lが浸漬しない位置に設けられることができる。排出口61は、排出ならびに排気の機能を充分に果たすように、洗浄槽20からの排出機能と空気噴射時の洗浄槽20内の圧力調整とを可能な状態として、その配置、断面形状、接続状態が設定され、純水の排出タンク62への排出がおこなわれる。したがって、排気用の排出口を洗浄槽上部に設けることもできる。
Further, even when the two-fluid jet is ejected from the cleaning
さらに、二流体ジェットを洗浄ノズル20から噴出する場合、ノズル距離設定工程S03において、洗浄液供給量、気体供給量、およびこれらの圧力条件、洗浄ノズル20の口径、等を勘案して、距離t1を、洗浄ノズル20から噴出する気液混合流体によって、効果的に洗浄をおこなうことの可能な範囲となるように設定される。
Further, when the two-fluid jet is ejected from the cleaning
噴射洗浄工程S07を開始してから、設定した所定の洗浄時間が経過すると、制御部70により、図1に示す供給ユニット21のポンプ21bとレギュレータ21dとを停止して、電磁バルブ21eを閉状態とする。これにより、洗浄ノズル20への洗浄液の供給を停止し、噴射洗浄工程S07を終了する。
When the set cleaning time has elapsed since the start of the spray cleaning step S07, the
ここで、二流体ジェットを洗浄ノズル20から噴出した場合には、設定した所定の洗浄時間が経過すると、供給ユニット21と同時に、制御部70により、図1に示す供給ユニット22のコンプレッサ22aとレギュレータ22cとを停止して、電磁切り替えバルブ22dを閉状態とすることにより、洗浄ノズル20への気体の供給が停止される。
Here, when the two-fluid jet is ejected from the cleaning
次に、図3に示す排出工程S08として、図7に示すように、洗浄液は、洗浄槽10の側面に設けられた排出口61から外部の排出タンク62に排出される。
このとき、さらに排出を促進するために、上下動アクチュエータ30を駆動させることにより、封止部材50の平板蓋体51を下降させ、洗浄槽10の底部開口11と離間させることで、洗浄槽10の底部付近に溜まっていた洗浄液を平板蓋体51と底部開口11との隙間から排出してもよい。
なお、排出口61が洗浄槽10の底面開口11付近に設けられた場合には、洗浄槽10の底部開口11と平板蓋体51とを離間させないで洗浄液を外部に排出させることもできる。
Next, as a discharge step S08 shown in FIG. 3, as shown in FIG. 7, the cleaning liquid is discharged from the
At this time, in order to further promote the discharge, the
When the
もちろん、排出口61を設けずに、洗浄槽10の底部開口11と平板蓋体51を離間した隙間だけから洗浄液を排出するようにもできる。この際、もし光学素子Lを洗浄水に浸漬することが不具合である場合には、二流体ジェットの噴出量を抑える等すればよい。
Of course, without providing the
また、底部開口11と平板蓋体51とを離間させる距離は、洗浄槽10から排出可能な程度とすることができる。
平板蓋体51の下方には、流下または滴下する排出液を受けるとともに排出タンク62に接続された受け部63を設けることができる。
Moreover, the distance which separates the
Below the
次いで、図3に示す乾燥工程S09として、洗浄液が排出できたところで、図8に示すように、乾燥用の気体とされる高圧な空気を洗浄ノズル20から光学素子Lに噴射して、光学素子L表面に付着した洗浄液を除去する。
Next, as the drying step S09 shown in FIG. 3, when the cleaning liquid has been discharged, as shown in FIG. 8, high-pressure air, which is a drying gas, is jetted from the cleaning
このとき、制御部70により、図1に示す供給ユニット22のコンプレッサ22aを作動して空気等を圧縮するとともに、制御部70により、図1に示すレギュレータ22cで所定の圧力とした圧縮空気を圧送し、制御部70により電磁切り替えバルブ22dを開状態とすることにより、フィルタ22bで塵埃等の不純物を取り除いた気体を洗浄ノズル20に供給するものとされる。
At this time, the
これにより、フィルタ22bでろ過された0.5Mpaの空気が乾燥口となる洗浄ノズル20を通じて光学素子Lに噴射され、光学素子Lの面に付着していた水滴を除去して乾燥させる。
光学素子L表面から吹き飛ばされた洗浄液は、洗浄槽10の側面に設けられた排出口61から外部の排出タンク62に排出される。
Thereby, 0.5 Mpa air filtered by the
The cleaning liquid blown off from the surface of the optical element L is discharged from the
あるいは、上下動アクチュエータ40を駆動させることにより、封止部材50の平板蓋体51を下降させ、洗浄槽10の底部開口11と離間させることで、洗浄槽10の底部付近に吹き飛ばされた洗浄液を平板蓋体51と底部開口11との隙間から排出してもよい。
なお、排出口61が洗浄槽10の底面開口11付近に設けられた場合には、洗浄槽10の底部開口11と離間させないで洗浄液を外部に排出させることもできる。
Alternatively, by driving the
When the
乾燥工程S09を開始してから、設定した所定の乾燥時間が経過すると、制御部70により、図1に示す供給ユニット22のコンプレッサ22aとレギュレータ22cとを停止して、電磁バルブ22dを閉状態とする。乾燥させる時間はタイマで制御し、タイマ時間経過後にバルブ22dを閉じて乾燥を完了する。
これにより、洗浄ノズル20への気体の供給を停止し、乾燥工程S09を終了する。
When a predetermined drying time has elapsed since the start of the drying step S09, the
Thereby, supply of the gas to the
次いで、図3に示す下降開放工程S10として、保持具30と一体とされた封止部材50を上下動アクチュエータ40により下降させて、図9に示すように、保持柱31周囲表面が洗浄槽10の底部開口11の全周に当接していた平板蓋体51を離間させることで、洗浄槽10の封止を解除する。同時に、保持具30を上下動アクチュエータ40により下降させて、洗浄槽10の底部開口11から光学素子Lを抜出する。
Next, as the lowering and opening step S10 shown in FIG. 3, the sealing
次いで、図3に示す搬出工程S11として、さらにロボットアーム41が下降し、ロボットアーム41が、保持具30を保持柱31が立設された状態で、図1に示すベルトコンベア130上に戻し、ロボットアーム41から保持具30および封止部材50が開放される。上下動アクチュエータ40から開放された保持具30および封止部材50は、ベルトコンベア130により、洗浄装置100からベルトコンベア130で接続された検査装置120まで搬送され、後工程に移動することになる。
Next, as the unloading step S11 shown in FIG. 3, the
次いで、図3に示す検査工程S12として、ベルトコンベア130で搬送された保持具30は、ベルトコンベア130の停止後に、検査装置120において、保持柱31上端に固定されて洗浄の終了した光学素子Lを検査する。
Next, as the inspection step S12 shown in FIG. 3, the holding
この際、検査装置120で使用している保持具30は洗浄装置100と共通で使用可能なように設定しているので、ベルトコンベア130で接続された検査装置120と洗浄装置100とで、保持具30を移動させるだけで洗浄後に検査することができる。
At this time, since the
検査終了後に、洗浄が不十分であった場合には、光学素子Lを保持具30ごと、洗浄装置100に戻して再洗浄をおこなう。
If the cleaning is insufficient after the inspection is completed, the optical element L together with the
以上の工程により、被洗浄物(光学素子)Lの洗浄を終了する。 The cleaning of the object to be cleaned (optical element) L is completed through the above steps.
本実施形態においては、上下動アクチュエータ40によって保持具30と封止部材50とを一体として上昇させることで、光学素子Lを洗浄槽10内の洗浄ノズル20直下に配置するとともに、封止部材50を洗浄槽10底部開口11に当接して洗浄槽10内を封止する。これらを同一動作でおこなうことができる。また、その状態で洗浄する際に、洗浄槽10によって洗浄液が回りに飛び散らないようにすることができる。洗浄後に光学素子Lを乾燥させることができる。さらに、洗浄後、上下動アクチュエータ40によって、保持具30と封止部材40を同一動作で下降させることで、洗浄槽10から光学素子Lを取り出すとともに、封止部材40による洗浄槽10の封止を解除することができる。
In the present embodiment, the
この際、製造装置110と検査装置120とで使用している保持具30は洗浄装置100と共通で使用可能なように設定しているので、ベルトコンベア130で接続された製造装置110と検査装置120と洗浄装置100とで、保持具30を移動させるだけで、光学素子(レンズ)Lの加工直後に、待ち時間なく光学素子Lの面に付着している汚れを加工直後に待ち時間なく除去することができるとともに、洗浄後に待ち時間なく検査することができる。
At this time, since the
以下、本発明に係る洗浄装置、洗浄方法の第2実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, a cleaning device and a cleaning method according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図10は、本実施形態の洗浄方法における洗浄装置の動作を示す模式正断面図である。
本実施形態において上述した第1実施形態と異なるのは横往復アクチュエータに関する点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
FIG. 10 is a schematic front sectional view showing the operation of the cleaning apparatus in the cleaning method of the present embodiment.
This embodiment is different from the first embodiment described above in respect of the lateral reciprocating actuator, and other corresponding components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
本実施形態の洗浄装置100においては、図10に示すように、横往復アクチュエータ45を有する。
As shown in FIG. 10, the
横往復アクチュエータ45は、制御部70に接続されて、洗浄時に保持柱31を水平方向に往復移動させるものされ、保持具30および封止部材50を一体的に水平方向に往復移動可能とされている。具体的には、上下動アクチュエータ40のロボットアーム41をその軸線方向に伸縮するように往復駆動する、あるいは、上下動アクチュエータ40のロボットアーム41をその軸線方向と直交する方向に揺動するように駆動するものとされる。
The
本実施形態の洗浄方法においては、図3に示した噴射洗浄工程S07として、制御部70により、図1に示す供給ユニット21のポンプ21bを作動して、洗浄液貯留部21aに貯留された純水とされる洗浄液を圧送する、同時に、制御部70により、図1に示すレギュレータ21dで所定の圧力とした洗浄液を圧送し、制御部70により電磁バルブ21eを開状態とする。これにより、フィルタ21cでろ過した洗浄液が洗浄ノズル20に供給される。
In the cleaning method of the present embodiment, as the jet cleaning step S07 shown in FIG. 3, the
このとき、制御部70により、図10に示すように、横往復アクチュエータ45としてのロボットアーム41を往復駆動または揺動して、保持具30の保持柱31および封止部材50の平板蓋体51を一体的に水平方向に往復移動する。
At this time, as shown in FIG. 10, the
これにより、図10に示すように、上昇密閉工程S06でセットした光学素子Lに対して、洗浄ノズル20から往復動作している光学素子Lに洗浄液を噴射して、吹き付けられた洗浄液が表面に付着した汚れにぶつけられて、光学素子L表面からこれを除去する。
As a result, as shown in FIG. 10, the cleaning liquid is sprayed onto the surface of the optical element L set in the rising sealing step S06 from the cleaning
本実施形態の洗浄方法においては、洗浄中に光学素子Lの位置を変える揺動工程を追加することで、洗浄ノズル20から噴射される洗浄液あるいは二流体ジェットが当接する位置・角度を変えることができる。このように揺動をおこなうことで、光学素子Lの表面全体に洗浄液あるいは二流体ジェットを均一に当てることができるため、汚れ除去の効果を高めることができる。そのため、汚れの固着強さに応じて揺動工程を追加することが好ましい。
In the cleaning method of the present embodiment, the position / angle at which the cleaning liquid ejected from the cleaning
なお、横往復アクチュエータ45による揺動工程の間、封止部材50の平板蓋体51と洗浄槽10の底部開口11との当接位置は変化するが、これらの当接状態は変化しない。つまり、洗浄槽10の底部開口11はその全周で平板蓋体51に当接する状態は維持されている。これにより、洗浄槽10の封止状態、および、ノズル距離設定工程S03として設定された洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1は変化せず、洗浄効率が低下することはない。
During the swinging process by the
なお、揺動を行うことで、噴出された洗浄液や高圧噴流を光学素子Lの表面に均一に当てることができるため、汚れ除去の効果を高めることができる。そのため、汚れの固着強さに応じて他の実施形態においても揺動工程を追加することが好ましい。 In addition, since the ejected cleaning liquid and the high-pressure jet can be uniformly applied to the surface of the optical element L by swinging, the effect of removing dirt can be enhanced. Therefore, it is preferable to add a swinging process also in other embodiments according to the adhesion strength of dirt.
以下、本発明に係る洗浄装置、洗浄方法の第3実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, a third embodiment of a cleaning apparatus and a cleaning method according to the present invention will be described with reference to the drawings.
図11は、本実施形態の洗浄方法における洗浄装置の動作を示す模式正断面図である。
本実施形態において上述した第1および第2実施形態と異なるのは距離設定部材/機構に関する点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
FIG. 11 is a schematic front sectional view showing the operation of the cleaning apparatus in the cleaning method of the present embodiment.
This embodiment is different from the first and second embodiments described above in respect of the distance setting member / mechanism, and other corresponding components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
本実施形態の洗浄装置100においては、図11に示すように、距離設定部材/機構80として、保持柱31の高さt2を設定する構成を有する。
As shown in FIG. 11, the
本実施形態においては、図11に示すように、保持柱31が上保持柱31aと下保持柱31bとに分割されており、これらがネジ部83により螺合された構成とされている。
ネジ部83により上保持柱31aを下保持柱31bに対して回転させることで、保持柱31の高さt2が変化することで、距離設定部材/機構80として光学素子Lの厚さt3の規格の違いに対応し、洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を設定することができる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 11, the holding
The height t2 of the holding
本実施形態の洗浄方法においては、準備工程S02においてネジ部83により上保持柱31aを下保持柱31bに対して回転させ、保持柱31の高さt2を設定するか、ノズル距離設定工程S03においてネジ部83により上保持柱31aを下保持柱31bに対して回転させ、保持柱31の高さt2を設定することができる。
In the cleaning method of the present embodiment, the
本実施形態においては、異なる種類の光学素子Lの厚さ寸法t3に対応して、異なる厚さt4のリング81を多種類用意しておく必要がなく、一種類の保持具30により、多品種の光学素子Lに対応することができる。
In the present embodiment, it is not necessary to prepare many types of
以下、本発明に係る洗浄装置、洗浄方法の第4実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, a cleaning device and a cleaning method according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図12は、本実施形態の洗浄方法における洗浄装置の動作を示す模式正断面図である。
本実施形態において上述した第1ないし第3実施形態と異なるのは噴射洗浄工程S07、弾性部材13および排出機構60に関する点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
FIG. 12 is a schematic front sectional view showing the operation of the cleaning apparatus in the cleaning method of the present embodiment.
The present embodiment differs from the first to third embodiments described above in terms of the jet cleaning step S07, the
本実施形態の洗浄装置100においては、図12に示すように、噴射洗浄工程S07において、洗浄槽10に洗浄液を貯留して光学素子Lを洗浄するものとされる。
In the
このため、排出機構60における排出口61が、洗浄槽10において、洗浄時の光学素子L上端位置よりも上側位置に設けられている。
For this reason, the
また、洗浄槽10の密閉性を向上して水密状態を容易に維持するために、洗浄槽10の底部開口11には、封止部材50に当接する弾性部材13が周設されている。弾性部材13は、シリコン樹脂、テフロン(登録商標)樹脂、ニトリル樹脂、ウレタン樹脂、などの弾性部材からなるOリングとされることができる。
Further, in order to improve the sealing property of the
また、洗浄槽10の側面に設けられた排出口61により、洗浄槽10内の光学素子Lが浸漬可能な状態で洗浄するとともに、洗浄液の排出と洗浄液および空気噴射時における洗浄槽10内の圧力調整をおこなうことができる。
In addition, the
本実施形態の洗浄方法においては、図3に示した噴射洗浄工程S07として、まず、供給ユニット21により、洗浄槽10内に洗浄液を貯留する。このとき、洗浄槽10内に貯留する洗浄液の水位は、少なくとも光学素子Lの上端よりも上側位置とされ、例えば、洗浄ノズル20の先端20aよりも上側位置とされる。この、洗浄槽10貯留工程においては、供給ユニット21による洗浄液の供給は、次工程に比べて低圧でおこなうことができる。
In the cleaning method of the present embodiment, as the spray cleaning step S07 illustrated in FIG. 3, first, the cleaning liquid is stored in the
このときに、高圧、低圧を切り替え可能なポンプ21bにより低圧に切り替えてもよく、洗浄液が洗浄ノズル20先端20aに到達するまでは低圧で給水するのが望ましい。
At this time, the pressure may be switched to a low pressure by a
また、洗浄槽10が満水になって注水を停止する判断は、タイマ設定や排出口61より排水が始まったことを検出器で検出して、制御部70に出力された検出信号に基づいて制御することもできる。
In addition, the decision to stop the water injection when the
次いで、供給ユニット21により、ポンプ21bで加圧された洗浄液が、洗浄ノズル20に配管を介して供給されて、洗浄液は開閉弁21eにより制御可能な状態で、洗浄ノズル20先端20aを通り洗浄槽10に貯留された洗浄液内部に噴射される。
Next, the cleaning liquid pressurized by the
本実施形態の洗浄方法においては、貯留時に比べて高圧として供給した洗浄液を洗浄ノズル20先端20aの穴から噴射することで、光学素子L表面の汚れを除去し、圧縮気体を洗浄ノズル20先端20aの穴から噴射することで、光学素子L表面を乾燥させることが可能となる。
In the cleaning method of the present embodiment, the cleaning liquid supplied at a higher pressure than that at the time of storage is sprayed from the hole of the
つまり、光学素子Lの洗浄方法として、ウォータジェット内で成長したキャビテーションによる圧潰衝撃力を利用するものである。このため、供給ユニット21および供給ユニット22により、洗浄液の圧力等供給条件がキャビテーション発生に好ましい範囲に設定される。
That is, as a cleaning method of the optical element L, a crushing impact force caused by cavitation grown in the water jet is used. For this reason, the
キャビテ−ション噴流(高速水中水噴流)を生じるには,一般には洗浄液中に高圧で洗浄液を噴射するために、洗浄液を貯留する洗浄槽10が必要とされる。このため、キャビテ−ション噴流による洗浄においては被洗浄物を密閉状態とする必要がある。
In order to generate a cavitation jet (high-speed submerged water jet), a
また、洗浄ノズル20と被洗浄物である光学素子Lとの距離t1を、キャビテーション噴流による洗浄効果を効果的に得る範囲とすることが必要となる。この範囲より距離t1が大きいと、高圧噴流で発生したキャビテ−ションによる圧潰衝撃力が洗浄に必要なレベルに達しないため好ましくなく、また、この範囲より距離t1が小さいと、充分なキャビテ−ションの圧潰衝撃力が到達するものの、キャビテーションによる衝撃範囲が中心から外れたところになり、中央部分における洗浄が不十分となるため好ましくない。
In addition, it is necessary to set the distance t1 between the cleaning
噴射洗浄工程S07におけるキャビテ−ション噴流による洗浄を開始してから、設定した所定の洗浄時間が経過すると、制御部70により、図1に示す供給ユニット21のポンプ21bとレギュレータ21dとを停止して、電磁バルブ21eを閉状態とする。これにより、洗浄ノズル20への洗浄液の供給を停止する。
When the set cleaning time has elapsed since the start of cleaning by the cavitation jet in the jet cleaning step S07, the
次に、図3に示す排出工程S08として、図7に示したように、上下動アクチュエータ30を駆動させることにより、封止部材50の平板蓋体51を下降させ、洗浄槽10の底部開口11と離間させることで洗浄槽10の密閉状態を解除して、洗浄槽10に貯留していた洗浄液を、平板蓋体51と底部開口11との隙間から排出する。平板蓋体51の周囲から流下または滴下して排出された洗浄液は、受け部63を介して排出タンク62に排出される。
Next, as the discharging step S08 shown in FIG. 3, as shown in FIG. 7, by driving the
ここで、平板蓋体51と底部開口11とを離間させる距離は、洗浄槽10に貯留していた洗浄液を排出可能な程度とすることができる。
Here, the distance which separates the
本実施形態によれば、より効果的な洗浄をおこなって、効率的に汚れの除去をおこなうことができる。特に、水の中でしか伝わらないので貯留した洗浄液中での噴出が必要となる高圧噴流による洗浄をおこなうことができ、貯留した洗浄液から被洗浄物を取り出して別途乾燥工程をおこなう必要がないため、洗浄装置100の小型化や、動作機構を簡素にすることができる。
According to this embodiment, it is possible to perform more effective cleaning and efficiently remove dirt. In particular, since it can only be transmitted in water, it can be washed with a high-pressure jet that needs to be ejected in the stored cleaning liquid, and it is not necessary to take out the object to be cleaned from the stored cleaning liquid and perform a separate drying process. Therefore, the size of the
また、高圧で噴射される水が飛び散ることなく、被洗浄物の出し入れや被洗浄物の位置制御するために駆動機構が複雑となることがなく、貯留する洗浄液の容積を被洗浄物Lに対して充分縮小することができるため、給排水に時間がかかってしまうことを防止できる。 Further, the water sprayed at high pressure does not scatter, the drive mechanism for controlling the position of the object to be put in and out and the object to be cleaned is not complicated, and the volume of the cleaning liquid to be stored is compared with the object L to be cleaned. Therefore, it is possible to prevent the water supply / drainage from taking time.
以下、本発明に係る洗浄装置、洗浄方法の第5実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, a cleaning device and a cleaning method according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図13は、本実施形態の洗浄方法における洗浄装置の動作を示す模式正断面図である。
本実施形態において上述した第1ないし第4実施形態と異なるのは超音波振動子25および乾燥ノズル26に関する点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
FIG. 13 is a schematic front sectional view showing the operation of the cleaning apparatus in the cleaning method of the present embodiment.
This embodiment differs from the first to fourth embodiments described above with respect to the
本実施形態の洗浄装置100においては、図13に示すように、洗浄ノズル20に超音波洗浄を可能とする超音波振動子25が設けられている。
超音波振動子25は、超音波振動を洗浄液に印加するものとされ、洗浄ノズル20は、超音波流水ノズルとなっている。
In the
The
また、洗浄槽10の頂部には、洗浄ノズル120とは別に、乾燥時に光学素子Lに乾燥用の気体を噴射する乾燥ノズル26が設けられている。
本実施形態における洗浄ノズル20には、供給ユニット21が接続され、また、乾燥ノズル26には、供給ユニット22がそれぞれ接続されており、ポンプ21aで加圧された洗浄液は超音波流水ノズル20に供給され、コンプレッサ22aで圧縮された空気は乾燥ノズル26に供給される。
In addition to the
In the present embodiment, a
本実施形態における超音波流水ノズル20はノズル内部20bに露出した超音波振動子25が電気的に振動することで超音波流水ノズル20を通過する洗浄液に超音波を印加し、液体に印加された状態の超音波振動により光学素子Lの表面の汚れを除去することが可能となるものである。このように、光学素子L表面の汚れに直接超音波振動を伝えるために、光学素子L表面を洗浄液中に浸漬しないようにする必要がある。
The ultrasonic flowing
そのため、洗浄槽10の側面に設けられる排出口61は、洗浄槽10内に洗浄液が溜まっても光学素子Lが浸漬しない位置に設けられており、洗浄液の排出と洗浄液や空気噴射時における洗浄槽10内の圧力調整をおこなうことが可能となっている。洗浄液は効率よく排出されることが好ましいため、排出口61は、その断面が大きく設定されるか、多数設けられることができる。
Therefore, the
乾燥ノズル26は、超音波流水ノズル20とは別に取り付いているため、乾燥ノズル26は、先端からの噴出方向延長線上に光学素子Lの表面が位置するように設置されている。
Since the drying
本実施形態の洗浄方法においては、図3に示した噴射洗浄工程S07として、供給ユニット21からポンプ21aで加圧された洗浄液を超音波流水ノズル20に供給するとともに、超音波振動子25を電気的に振動することで超音波流水ノズル20を通過する洗浄液に超音波を印加し、超音波振動の力で光学素子Lの表面の汚れを除去する。
In the cleaning method of this embodiment, as the jet cleaning step S07 shown in FIG. 3, the cleaning liquid pressurized by the
これに先だって、本実施形態の洗浄方法においては、図3に示したノズル距離設定工程S03において、ノズル先端と光学素子Lの距離t1は事前に汚れ除去の効果が最大となる範囲を事前に確認してあらかじめ設定する。超音波流水は超音波を印加させたときに、純水の蒸気が発生するが、洗浄槽10で囲われているので蒸気の飛散は防止できる。
Prior to this, in the cleaning method of the present embodiment, in the nozzle distance setting step S03 shown in FIG. 3, the distance t1 between the nozzle tip and the optical element L is confirmed in advance as to the range where the effect of removing dirt is maximized. To set in advance. The ultrasonic flowing water generates pure water vapor when ultrasonic waves are applied, but since it is surrounded by the
設定した洗浄時間が経過すると同時に、制御部70から出力した信号により超音波振動子25の発振が停止し、続けて洗浄液のバルブ21eが閉状態となり噴射洗浄工程S07を終了する。
Simultaneously with the elapse of the set cleaning time, the oscillation of the
次いで、図3に示した排出工程S08として、図7に示したように、上下動アクチュエータ30を駆動させることにより、封止部材50の平板蓋体51を下降させ、洗浄槽10の底部開口11と離間させることで洗浄槽10の密閉状態を解除して、洗浄槽10に貯留していた洗浄液を、平板蓋体51と底部開口11との隙間から排出する。平板蓋体51の周囲から流下または滴下して排出された洗浄液は、受け部63を介して排出タンク62に排出される。
Next, as the discharging step S08 shown in FIG. 3, as shown in FIG. 7, the
次いで、図3に示した乾燥工程S09として、供給ユニット22において、空気の電磁切り替えバルブ22dが開状態とされて、コンプレッサ22aで加圧されフィルタ22bでろ過された0.5Mpaの空気が乾燥ノズル26を通じて光学素子Lに噴射され、光学素子Lの面に付着していた水滴を除去して乾燥させる。乾燥させる時間はタイマで制御し、タイマ時間経過後に空気の電磁切り替えバルブ22dを閉じて乾燥工程S09が完了する。
Next, as the drying step S09 shown in FIG. 3, in the
本実施形態によれば、より効果的な洗浄をおこなって、効率的に汚れの除去をおこなうことができる。 According to this embodiment, it is possible to perform more effective cleaning and efficiently remove dirt.
以下、本発明に係る洗浄装置、洗浄方法の第6実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, a cleaning device and a cleaning method according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図14,図15は、本実施形態の洗浄方法における洗浄装置の動作を示す模式正断面図である。
本実施形態において上述した第1ないし第5実施形態と異なるのは距離設定部材/機構80、保持具30、封止部材50に関する点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
14 and 15 are schematic front sectional views showing the operation of the cleaning apparatus in the cleaning method of the present embodiment.
This embodiment is different from the first to fifth embodiments described above with respect to the distance setting member /
本実施形態の洗浄装置100においては、図14,図15に示すように、距離設定部材/機構80として、保持柱31と封止部材50との高さ方向位置を設定する構成を有する。
In the
本実施形態においては、図14,図15に示すように、保持柱31が基部33に立設されており搬送機構130によって搬送可能とされ、また、保持柱31の高さが固定された状態とされている。
In this embodiment, as shown in FIGS. 14 and 15, the holding
また、封止部材50としては、平板蓋体53,54として横方向2枚に分割されており、これらが当接した突き合わせ中央位置に保持柱31が貫通可能な凹部55が設けられて、洗浄槽10を封止可能な構成とされている。また、平板蓋体53,54を横方向に駆動する駆動機構が設けられる。
Further, the sealing
本実施形態においては、上下動アクチュエータ40のロボットアーム41を距離設定部材/機構80として駆動し、図14に示すように、平板蓋体53,54が離間して洗浄槽10の底部開口11が開放された状態で、保持柱31を上昇させて、洗浄槽10内に挿入するとともに、図15に示すように、駆動機構により平板蓋体53,54を近接する方向に駆動し、凹部55が保持柱31に当接するように平板蓋体53,54を互いに突き合わせて、洗浄槽10の底部開口11を封止することが可能である。凹部55,55は封止部材50の封止状態において、保持柱31の側面の全周に当接可能な形状に設定されている。なお、封止部材50は、水平方向に移動するだけで、底部開口11に当接可能な高さ位置に設定されている。
In this embodiment, the
この閉塞状態で、保持柱31を上下動アクチュエータ40により軸線方向(上下方向)に移動することで、図15に示すように、封止部材50の平板蓋体53,54表面から洗浄槽10内部に突出した保持柱31の高さt2を変化させることができる。この互いに位置設定可能な保持柱31および封止部材50を距離設定部材/機構80として、光学素子Lの厚さt3の規格の違いに対応し、洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を設定することができる。
In this closed state, the holding
本実施形態の洗浄方法においては、図3に示す上昇密閉工程S06として、保持具30を上下動アクチュエータ40により上昇させて、図14に示すように、洗浄槽10の底部開口11から光学素子Lを挿入する。
その後、封止部材50を駆動機構により近接する方向に移動させて、平板蓋体53,54の対向端部を互いに当接させるとともに、凹部55,55を保持柱31側面に当接させる。この状態で、洗浄槽10の底部開口11の全周に平板蓋体53,54表面を当接させることで、洗浄槽10を封止する。
In the cleaning method of the present embodiment, as the ascending and sealing step S06 shown in FIG. 3, the
Thereafter, the sealing
次いで、ノズル距離設定工程S03として、上昇密閉工程S06後に、さらに、図15に示すように、保持具30を上下動アクチュエータ40により上下させて、洗浄する光学素子(レンズ)Lの厚さt3に対応して、洗浄時における洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を設定する。
Next, as the nozzle distance setting step S03, after the ascending and sealing step S06, as shown in FIG. 15, the
次いで、噴射洗浄工程S07と、排出工程S08と、乾燥工程S09とを経た後、
図3に示す下降開放工程S10として、封止部材50の平板蓋体53,54を駆動機構により離間する方向に移動させて、洗浄槽10の底部開口11を開放する。このとき、平板蓋体53,54は、洗浄槽10の底部開口11の水平方向外側位置にとなるように設定されている。
その後、保持具30を上下動アクチュエータ40により下降させて、洗浄槽10の底部開口11から光学素子Lを抜出する。
Then, after going through the spray cleaning step S07, the discharge step S08, and the drying step S09,
As the downward opening step S10 shown in FIG. 3, the
Thereafter, the
なお、本実施形態においては、排出工程S08および・または乾燥工程S09において、封止部材50の平板蓋体53,54を駆動機構により離間する方向に移動させて、洗浄槽10の底部開口11を開放することもできる。この際、平板蓋体53,54の離間距離は、底部開口11の開放状態に比べて近接した状態とすることができ、洗浄液が排出可能な状態とすることができる。
In the present embodiment, in the discharging step S08 and / or the drying step S09, the
本実施形態においては、洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を、より精密に設定することが可能となる。これにより、洗浄条件の精密な設定に対応することが可能となる。
In this embodiment, it is possible to set the distance t1 between the cleaning
なお、上記の各実施形態において、ノズル距離設定工程S03として、保持具30側を移動したが、洗浄ノズル20を洗浄槽10に対して位置設定可能な構成とすることもできる。
In each of the above embodiments, the
なお、本発明の洗浄装置、洗浄方法を用いることなく、作業員が光学素子(レンズ)面を拭いて検査する際に、光学素子を拭く時間は1個につき60sec程度である。これに対して、本発明の洗浄装置、洗浄方法を用いた場合には、洗浄に要する時間が30sec程度となり、必要な時間を50%程度削減できる。 In addition, when an operator wipes and inspects the optical element (lens) surface without using the cleaning apparatus and the cleaning method of the present invention, the time for wiping the optical element is about 60 sec. On the other hand, when the cleaning apparatus and the cleaning method of the present invention are used, the time required for cleaning is about 30 seconds, and the required time can be reduced by about 50%.
さらに、本発明の洗浄装置、洗浄方法を用いた場合には作業者が直接光学素子(レンズ)を拭かないため、ロット分の加工が終わるまで別作業が可能となり、さらに時間を短縮することができる。また、本発明の洗浄装置、洗浄方法を用いた場合で加工後の光学素子(レンズ)面から汚れを除去し乾燥させているので、光学素子(レンズ)面に汚れが固着することを確実に防止できるという効果が得られる。 Furthermore, when the cleaning apparatus and the cleaning method of the present invention are used, the operator does not wipe the optical element (lens) directly, so that another operation can be performed until the processing for the lot is completed, and the time can be further reduced. it can. In addition, when the cleaning device and the cleaning method of the present invention are used, dirt is removed from the processed optical element (lens) surface and dried, so that the dirt is firmly fixed on the optical element (lens) surface. The effect that it can prevent is acquired.
また、従来からある浸漬洗浄槽と温風乾燥槽を備えた装置であれば、洗浄とリンスと乾燥の3槽構成となるため、装置の設置面積は2m×1m=2m2程度の設置面積が必要となる。これに対し、本発明の洗浄装置では、0.8m×0.8m=0.64m2程度しか必要でないため、設置面積として1/3程度に削減することができる。 In addition, if the apparatus is equipped with a conventional immersion cleaning tank and hot air drying tank, it has three tank configurations of cleaning, rinsing and drying, so the installation area of the apparatus is about 2 m × 1 m = 2 m 2. Necessary. On the other hand, in the cleaning apparatus of the present invention, only about 0.8 m × 0.8 m = 0.64 m 2 is necessary, so that the installation area can be reduced to about 1/3.
本発明の活用例として、光学素子加工後の汚れ除去、組立て時の光学素子の汚れ除去、組立て時の微小金属部品の汚れ除去、金属加工機内での加工部品の汚れ除去として活用できる。 As an application example of the present invention, it can be used for removing dirt after processing an optical element, removing dirt from an optical element during assembly, removing dirt from a minute metal part during assembly, and removing dirt from a processed part in a metal working machine.
10…洗浄槽
11…底部開口
13…弾性部材
20…洗浄ノズル
20a…先端
20b…内部
21…供給ユニット
21a…コンプレッサ
21b…ポンプ
21c…フィルタ
21d…レギュレータ
21e…電磁バルブ
22…供給ユニット
22a…コンプレッサ
22b…フィルタ
22c…レギュレータ
22d…電磁バルブ
25…超音波振動子
26…乾燥ノズル
30…保持具
31…保持柱
31a…上保持柱
31b…下保持柱
33…基部
40…上下動アクチュエータ
41…アーム(ロボットアーム)
42…基部
43…上下レール
45…横往復アクチュエータ
50…封止部材
51…平板蓋体
53,54…平板蓋体
55…凹部
60…排出機構
61…排出口
62…排出タンク
63…受け部
70…制御部
80…距離設定部材/機構(距離設定機構)
81…リング(スペーサ)
83…ネジ部
100…洗浄装置
L…光学素子(被洗浄物)レンズ
DESCRIPTION OF
42 ...
81 ... Ring (spacer)
83 ... Screw
Claims (10)
底部開口を有する洗浄槽と、
前記洗浄槽内に収容された前記被洗浄物に前記洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、
前記被洗浄物を保持する保持具と、
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を上下動させて、前記保持具が保持する被洗浄物を前記洗浄槽内へ出し入れする上下動アクチュエータと、
前記洗浄槽の底部開口を洗浄時に封止する封止部材と、
を有し、
前記上下動アクチュエータの第1の動きによって、前記保持具が保持する前記被洗浄物が前記底部開口から前記洗浄槽内に導入されるとともに、前記封止部材が前記底部開口を封止し、
前記上下動アクチュエータの前記第1の動きとは反対方向への動きによって、前記保持具が保持する前記被洗浄物が前記底部開口から前記洗浄槽外に出されるとともに、前記封止部材による前記底部開口の封止が解除される、
ように構成されている
ことを特徴とする洗浄装置。 A cleaning device that removes dirt by spraying a cleaning liquid onto an object to be cleaned,
A washing tank having a bottom opening;
A cleaning nozzle for injecting the cleaning liquid onto the object to be cleaned contained in the cleaning tank;
A holder for holding the object to be cleaned;
A vertically moving actuator that moves up and down at least one of the holding tool and the cleaning tank and puts an object to be cleaned held in the holding tool into and out of the cleaning tank;
A sealing member for sealing the bottom opening of the cleaning tank during cleaning;
Have
By the first movement of the vertical movement actuator, the object to be cleaned held by the holder is introduced into the cleaning tank from the bottom opening, and the sealing member seals the bottom opening,
By the movement of the vertical movement actuator in the direction opposite to the first movement, the object to be cleaned held by the holder is taken out of the cleaning tank through the bottom opening, and the bottom portion by the sealing member The opening is unsealed,
It is comprised so that the washing | cleaning apparatus characterized by the above-mentioned.
前記洗浄時における前記洗浄ノズル先端と前記保持柱先端の前記被洗浄物との距離を設定する距離設定機構を有する
ことを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。 The holder is to fix the object to be cleaned to the upper end of a standing holding column,
The cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a distance setting mechanism that sets a distance between the tip of the cleaning nozzle and the object to be cleaned at the tip of the holding column during the cleaning.
ことを特徴とする請求項2記載の洗浄装置。 The cleaning apparatus according to claim 2, wherein the holder has a horizontal reciprocating actuator that reciprocates the holding column in a horizontal direction during cleaning.
ことを特徴とする請求項2または3記載の洗浄装置。 The cleaning apparatus according to claim 2, wherein the sealing member is a flat plate lid integrated with a base portion of the holding column.
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか記載の洗浄装置。 The cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning liquid and gas are supplied to the cleaning nozzle.
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか記載の洗浄装置。 The cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning nozzle is provided with an ultrasonic vibrator that enables ultrasonic cleaning.
前記洗浄槽には、乾燥時に前記被洗浄物に気体を噴射する乾燥ノズルを有する
ことを特徴とする請求項6記載の洗浄装置。 The cleaning device also performs drying after cleaning,
The cleaning apparatus according to claim 6, wherein the cleaning tank includes a drying nozzle that injects a gas to the object to be cleaned during drying.
ことを特徴とする請求項1から7のいずれか記載の洗浄装置。 The cleaning apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein a discharge port for discharging the cleaning liquid is provided on a side surface of the cleaning tank.
ことを特徴とする請求項1から6のいずれか記載の洗浄装置。 The cleaning apparatus according to claim 1, wherein an elastic member that comes into contact with the sealing member is provided around the bottom opening of the cleaning tank.
保持具に立設された保持柱の上端に前記被洗浄物を固定して搬送する工程と、
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を上方または下方に移動させることで、前記洗浄槽の底部開口から前記被洗浄物を前記洗浄槽内に導入するとともに、封止部材により前記洗浄槽の底部開口を封止する工程と、
前記洗浄槽を封止した状態で前記洗浄層の上方に位置する洗浄ノズルから洗浄液を前記被洗浄物に噴射する洗浄工程と、
乾燥ノズルから前記被洗浄物に気体を噴射して乾燥する工程と
前記保持具および前記洗浄層の少なくとも一方を前記移動とは反対方向に移動させることにより、前記洗浄槽から前記被洗浄物を抜出するとともに、前記封止部材による前記洗浄槽の底部開口の封止を解除する工程と、
を有する
ことを特徴とする洗浄方法。 A cleaning method for drying the object to be cleaned after removing dirt by spraying a cleaning liquid on the object to be cleaned in a cleaning tank,
A step of fixing and transporting the object to be cleaned to the upper end of a holding column erected on the holder;
By moving at least one of the holder and the cleaning tank upward or downward, the object to be cleaned is introduced into the cleaning tank from the bottom opening of the cleaning tank, and the bottom of the cleaning tank is sealed by a sealing member. Sealing the opening;
A cleaning step of spraying a cleaning liquid onto the object to be cleaned from a cleaning nozzle positioned above the cleaning layer in a state where the cleaning tank is sealed;
A step of spraying a gas from a drying nozzle onto the object to be cleaned, and moving at least one of the holder and the cleaning layer in a direction opposite to the movement, thereby extracting the object to be cleaned from the cleaning tank; And releasing the sealing of the bottom opening of the cleaning tank by the sealing member,
A cleaning method comprising the steps of:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017013236A JP2018118230A (en) | 2017-01-27 | 2017-01-27 | Cleaning device, and cleaning method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017013236A JP2018118230A (en) | 2017-01-27 | 2017-01-27 | Cleaning device, and cleaning method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018118230A true JP2018118230A (en) | 2018-08-02 |
Family
ID=63044503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017013236A Pending JP2018118230A (en) | 2017-01-27 | 2017-01-27 | Cleaning device, and cleaning method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2018118230A (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111005059A (en) * | 2018-10-05 | 2020-04-14 | 株式会社荏原制作所 | Cleaning device, plating device provided with same, and cleaning method |
JP2021065851A (en) * | 2019-10-25 | 2021-04-30 | 大陽日酸株式会社 | Cleaning device of component for vapor phase growing device |
CN115382832A (en) * | 2022-09-29 | 2022-11-25 | 深圳华大智造科技股份有限公司 | Cleaning chip, cleaning device of sequencer and sequencer |
CN115474623A (en) * | 2022-07-27 | 2022-12-16 | 江苏派瑞克生物科技有限公司 | Automatic flushing device for casing in heparin sodium production process |
CN115846334A (en) * | 2022-12-02 | 2023-03-28 | 东莞市乐一电子有限公司 | Automatic production equipment for display |
KR102749761B1 (en) * | 2024-05-17 | 2025-01-07 | (주)에프엠에스텍 | Cleaning and measurement device of flowable particle |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62128125A (en) * | 1985-11-29 | 1987-06-10 | Canon Inc | Wafer washing apparatus |
JPH0945654A (en) * | 1995-07-28 | 1997-02-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate cleaner |
JP2001110773A (en) * | 1999-08-05 | 2001-04-20 | Tokyo Electron Ltd | Cleaning device, cleaning system, processing device and cleaning mehtod |
JP2006093497A (en) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate cleaning device |
JP2011218243A (en) * | 2010-04-05 | 2011-11-04 | Aqua J:Kk | Shower washing device for machinery parts |
JP2012094659A (en) * | 2010-10-26 | 2012-05-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | Spinner cleaning device |
-
2017
- 2017-01-27 JP JP2017013236A patent/JP2018118230A/en active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62128125A (en) * | 1985-11-29 | 1987-06-10 | Canon Inc | Wafer washing apparatus |
JPH0945654A (en) * | 1995-07-28 | 1997-02-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate cleaner |
JP2001110773A (en) * | 1999-08-05 | 2001-04-20 | Tokyo Electron Ltd | Cleaning device, cleaning system, processing device and cleaning mehtod |
JP2006093497A (en) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate cleaning device |
JP2011218243A (en) * | 2010-04-05 | 2011-11-04 | Aqua J:Kk | Shower washing device for machinery parts |
JP2012094659A (en) * | 2010-10-26 | 2012-05-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | Spinner cleaning device |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111005059A (en) * | 2018-10-05 | 2020-04-14 | 株式会社荏原制作所 | Cleaning device, plating device provided with same, and cleaning method |
JP2021065851A (en) * | 2019-10-25 | 2021-04-30 | 大陽日酸株式会社 | Cleaning device of component for vapor phase growing device |
JP7316189B2 (en) | 2019-10-25 | 2023-07-27 | 大陽日酸株式会社 | Cleaning equipment for parts for vapor phase growth equipment |
CN115474623A (en) * | 2022-07-27 | 2022-12-16 | 江苏派瑞克生物科技有限公司 | Automatic flushing device for casing in heparin sodium production process |
CN115382832A (en) * | 2022-09-29 | 2022-11-25 | 深圳华大智造科技股份有限公司 | Cleaning chip, cleaning device of sequencer and sequencer |
CN115382832B (en) * | 2022-09-29 | 2024-06-04 | 深圳华大智造科技股份有限公司 | Cleaning device for cleaning chip and sequencer |
CN115846334A (en) * | 2022-12-02 | 2023-03-28 | 东莞市乐一电子有限公司 | Automatic production equipment for display |
CN115846334B (en) * | 2022-12-02 | 2023-08-08 | 东莞市乐一电子有限公司 | A kind of automatic production equipment of display |
KR102749761B1 (en) * | 2024-05-17 | 2025-01-07 | (주)에프엠에스텍 | Cleaning and measurement device of flowable particle |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2018118230A (en) | Cleaning device, and cleaning method | |
KR100769763B1 (en) | Cleaning method and dishwasher using same | |
JP5449967B2 (en) | Nozzle cleaning unit | |
JP5038196B2 (en) | Cleaning apparatus, cleaning tank, cleaning method, and article manufacturing method | |
JP5404196B2 (en) | Cleaning device | |
TWI565526B (en) | Nozzle cleaning method and coating device | |
US11772134B2 (en) | Sonic cleaning of brush | |
JPH11347917A (en) | Polishing device | |
CA2661375C (en) | Cleaning device including a flood chamber | |
KR20170056956A (en) | Cleaning fluid removing and cleaning apparatus having the same | |
US20210039127A1 (en) | Cleaning device and corresponding method | |
JP2006013015A (en) | Cleaning device and cleaning method | |
JP4492813B2 (en) | Cleaning device | |
JP2009006241A (en) | Cleaning apparatus | |
KR101113272B1 (en) | Filter cleaner | |
KR101786485B1 (en) | Chemical mechanical polishing system | |
KR20230143766A (en) | Apparatus For Cleaning Nozzle For Dispenser And Method For Cleaning The Inside Of Nozzle using thereof | |
KR101904645B1 (en) | Industrial cleaner apparatus | |
CN114536213B (en) | Apparatus for cleaning polishing pad and polishing device | |
KR101431068B1 (en) | Multi washing apparatus | |
JP2010056312A (en) | Dicing device, and workpiece cleaning/drying method | |
JPH05281A (en) | Apparatus for washing bottle | |
KR20040029578A (en) | A device for cleaning wafer by a megasonic cleaner | |
JP2016036785A (en) | Cleaning device | |
JPH064067U (en) | Work cleaning device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20170130 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190725 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200515 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200609 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20201208 |