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JP2018118230A - Cleaning device, and cleaning method - Google Patents

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JP2018118230A
JP2018118230A JP2017013236A JP2017013236A JP2018118230A JP 2018118230 A JP2018118230 A JP 2018118230A JP 2017013236 A JP2017013236 A JP 2017013236A JP 2017013236 A JP2017013236 A JP 2017013236A JP 2018118230 A JP2018118230 A JP 2018118230A
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JP
Japan
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cleaning
cleaned
tank
cleaning tank
nozzle
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JP2017013236A
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Japanese (ja)
Inventor
元宏 渥美
Motohiro Atsumi
元宏 渥美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To carry out efficient cleaning effectively by a small number of processes.SOLUTION: A cleaning device 100 removes dirt by jetting cleaning liquid to a cleaned object L, and includes a cleaning tank 10 having a bottom opening 11, a cleaning nozzle 20 which jets the cleaning liquid to the cleaned object housed in the cleaning tank, a holding tool 30 which holds the cleaned object, a vertical motion actuator 40 which vertically moves at least one of the holding tool and the cleaning tank and puts the cleaned object in and out, and a sealing member 50 which seals the bottom opening of the cleaning tank during cleaning. The cleaned object held by the holding tool is introduced from the bottom opening to an inside of the cleaning tank by first motion of the vertical motion actuator, and the sealing member water-tightly seals the bottom opening. The cleaned object held by the holding tool is taken out from the bottom opening to an outside of the cleaning tank by motion in an opposite direction to the first motion of the vertical motion actuator, and sealing of the bottom opening by the sealing member is released.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は洗浄装置、洗浄方法に関し、特にレンズ等の光学素子の洗浄等に用いて好適な技術に関する。本発明は、例えば内視鏡のレンズの製造後における洗浄に適用できる。   The present invention relates to a cleaning apparatus and a cleaning method, and more particularly to a technique suitable for use in cleaning optical elements such as lenses. The present invention can be applied, for example, to cleaning after manufacturing an endoscope lens.

ガラスやプラスチック製とされる内視鏡のレンズなどの光学素子の製造工程においては、各工程後などに洗浄をおこなう必要がある。
例えば、ガラスレンズなどの光学素子の製造工程では、ガラス母材を光学素子の形状に加工した後に、洗浄槽および乾燥槽を備えた洗浄装置によって光学素子の洗浄が行われる。洗浄が終了した光学素子は、必要に応じて検査処理などが行われる。
In the manufacturing process of an optical element such as an endoscope lens made of glass or plastic, it is necessary to perform cleaning after each process.
For example, in a manufacturing process of an optical element such as a glass lens, after processing a glass base material into the shape of the optical element, the optical element is cleaned by a cleaning device including a cleaning tank and a drying tank. The optical element that has been cleaned is subjected to an inspection process or the like as necessary.

ガラスレンズなどの被洗浄物を洗浄槽内で洗浄する場合、
(1)保持具に取り付けられた被洗浄物を導入口から洗浄槽内に導入し、
(2)上記導入口を水密に閉鎖し、
(3)洗浄槽内で被洗浄物に洗浄液を吐出して洗浄し、
(4)上記洗浄槽の排出口を開いて洗浄液を排出した後、乾燥させ、
(5)上記導入口を開いて被洗浄物を取り出す、
という必要があった。このように、洗浄作業の前後で必要なステップが多いため、洗浄のタクトタイムがどうしても長くなり、効率化の障害となっていた。
When cleaning objects such as glass lenses in the cleaning tank,
(1) The object to be cleaned attached to the holder is introduced into the cleaning tank through the inlet,
(2) Close the water inlet tightly,
(3) In the cleaning tank, discharge the cleaning liquid to the object to be cleaned and clean it.
(4) Open the outlet of the cleaning tank and discharge the cleaning liquid, then dry it.
(5) Open the inlet and take out the object to be cleaned.
It was necessary. As described above, since many steps are required before and after the cleaning operation, the cleaning tact time is inevitably long, which is an obstacle to efficiency.

また、加工後の光学素子を加工場所の近くで容易に洗浄できるコンパクトな洗浄装置が強く望まれている。このような光学素子の洗浄装置では、少なくとも、水をエアーとともに吐出する洗浄と、水切り・乾燥とがおこなえることが好ましい。
このような簡素な機能を有する洗浄装置は、光学素子の洗浄以外の用途では知られている。
In addition, a compact cleaning device that can easily clean the optical element after processing near the processing place is strongly desired. In such an optical element cleaning apparatus, it is preferable to perform at least cleaning by discharging water together with air, draining and drying.
A cleaning apparatus having such a simple function is known for uses other than cleaning of optical elements.

例えば、特許文献1には、液体の吸引吐出に用いられるノズルを洗浄するノズル洗浄ユニットであって、ノズルのうち少なくとも洗浄対象部分が収容される洗浄槽と、洗浄槽内において、洗浄液を噴射する洗浄液噴射手段と、ノズルの外側面に付着した洗浄液を洗浄槽内に吹き飛ばすべくエアーを噴射する乾燥用噴射手段と、ノズルを洗浄液噴射手段および乾燥用噴射手段に対して相対的に昇降させる移動手段と、少なくとも、洗浄液噴射手段、乾燥用噴射手段、および、移動手段の動作を制御する制御手段と、を備えるノズル洗浄ユニットが記載されている。
特許文献1に記載のノズル洗浄ユニットは、小さなノズルを洗浄すればよいため、小型の洗浄層内にノズルを移動して、ノズルを洗浄槽内に封止した状態で洗浄することができる。
For example, Patent Document 1 discloses a nozzle cleaning unit that cleans a nozzle used for sucking and discharging a liquid, and in which a cleaning liquid is ejected in a cleaning tank in which at least a portion to be cleaned is accommodated among the nozzles. Cleaning liquid injection means, drying injection means for injecting air to blow away the cleaning liquid adhering to the outer surface of the nozzle into the cleaning tank, and moving means for moving the nozzle up and down relative to the cleaning liquid injection means and the drying injection means And a nozzle cleaning unit including at least a cleaning liquid ejecting unit, a drying ejecting unit, and a control unit that controls the operation of the moving unit.
Since the nozzle cleaning unit described in Patent Document 1 only needs to clean a small nozzle, the nozzle can be moved into a small cleaning layer and cleaned with the nozzle sealed in a cleaning tank.

特開2011−078881号公報JP 2011-078881 A

しかし、特許文献1に記載された技術を光学素子製造後の洗浄に適用した場合であると、製造されたレンズ等の光学素子を洗浄するために洗浄層内に被洗浄物である光学素子を出し入れするためには、製造時に母材の研磨・整形に使用した治具から分離して、洗浄槽内に挿入搬出するための別の治具に再度保持する必要があり、この再保持に際して、レンズが汚染・破損する可能性があるという問題があった。   However, if the technique described in Patent Document 1 is applied to cleaning after manufacturing the optical element, an optical element that is an object to be cleaned is included in the cleaning layer in order to clean the manufactured optical element such as a lens. In order to put in and out, it is necessary to separate from the jig used for polishing and shaping of the base material at the time of manufacture, and to hold it again in another jig for insertion into the cleaning tank. There was a problem that the lens could be contaminated or damaged.

このため、レンズ等の光学素子の洗浄は、製造工程に連続して、製造装置近傍あるいは製造装置の内部でおこなうことが好ましいが、洗浄工程においては、洗浄液を噴射した際に、この洗浄液が飛び散った場合に、製造装置に影響が出る可能性があるため、光学素子の製造装置内部あるいはその近傍での洗浄はおこなわれていなかった。   For this reason, it is preferable to clean an optical element such as a lens in the vicinity of the manufacturing apparatus or in the manufacturing apparatus continuously in the manufacturing process. However, in the cleaning process, the cleaning liquid is scattered when sprayed. In such a case, there is a possibility that the manufacturing apparatus may be affected. Therefore, cleaning inside or in the vicinity of the optical element manufacturing apparatus has not been performed.

また、この洗浄終了後に連続して検査工程をおこなえるようにしたいという要求もあった。
さらに、洗浄に使用する洗浄液の量を削減したいという要求もあり、さらに効率的な洗浄を可能とすることが求められている。
There has also been a demand to be able to carry out the inspection process continuously after the cleaning.
Furthermore, there is a demand to reduce the amount of cleaning liquid used for cleaning, and there is a demand for enabling more efficient cleaning.

また、ノズルから洗浄液を噴射する洗浄において、効果的な洗浄をおこなうためには被洗浄物とノズルとの距離が重要になるが、多品種少量製造される内視鏡などのレンズ製造において異なるレンズ寸法の違いに対応するために、洗浄時におけるノズルと被洗浄物との距離を正確に設定可能として、効果的な洗浄をおこないたいという要求があった。   In order to perform effective cleaning in cleaning by spraying the cleaning liquid from the nozzle, the distance between the object to be cleaned and the nozzle is important. However, different lenses are used in the manufacture of lenses such as endoscopes that are manufactured in small quantities. In order to cope with the difference in dimensions, there has been a demand for effective cleaning by making it possible to accurately set the distance between the nozzle and the object to be cleaned during cleaning.

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、以下の目的の少なくとも1つを達成しようとするものである。
1.効率的な洗浄を可能とすること。
2.洗浄液の使用量と廃棄量の削減を可能とすること。
3.光学素子の製造に連続して洗浄を可能とすること。
4.洗浄後に連続して製品の検査を可能とすること。
5.洗浄時におけるノズルと被洗浄物との距離を正確に設定可能とすること。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and aims to achieve at least one of the following objects.
1. Enable efficient cleaning.
2. Make it possible to reduce the amount of cleaning liquid used and the amount discarded.
3. It is possible to perform cleaning continuously in the manufacture of optical elements.
4). Enable continuous product inspection after cleaning.
5. The distance between the nozzle and the object to be cleaned during cleaning can be set accurately.

本発明の洗浄装置は、被洗浄物に洗浄液を噴射することで汚れを除去する洗浄装置であって、
底部開口を有する洗浄槽と、
前記洗浄槽内に収容された前記被洗浄物に前記洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、
前記被洗浄物を保持する保持具と、
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を上下動させて、前記保持具が保持する被洗浄物を前記洗浄槽内へ出し入れする上下動アクチュエータと、
前記洗浄槽の底部開口を洗浄時に封止する封止部材と、
を有し、
前記上下動アクチュエータの第1の動きによって、前記保持具が保持する前記被洗浄物が前記底部開口から前記洗浄槽内に導入されるとともに、前記封止部材が前記底部開口を封止し、
前記上下動アクチュエータの前記第1の動きとは反対方向への動きによって、前記保持具が保持する前記被洗浄物が前記底部開口から前記洗浄槽外に出されるとともに、前記封止部材による前記底部開口の封止が解除される、
ように構成されていることにより上記課題を解決した。
本発明において、前記保持具が、立設された保持柱の上端に前記被洗浄物を固定するものとされ、
前記洗浄時における前記洗浄ノズル先端と前記保持柱先端の前記被洗浄物との距離を設定する距離設定機構を有することができる。
本発明の洗浄装置は、前記保持具が、洗浄時に前記保持柱を水平方向に往復移動させる横往復アクチュエータを有することができる。
本発明の洗浄装置は、前記封止部材が、前記保持柱の基部に一体とされた平板蓋体とされることができる。
本発明の洗浄装置は、前記洗浄ノズルには、前記洗浄液および気体が供給されることができる。
本発明の洗浄装置は、前記洗浄ノズルには、超音波洗浄を可能とする超音波振動子が設けられることができる。
本発明の前記洗浄装置は、洗浄の後に乾燥も行うものであり、
前記洗浄槽には、乾燥時に前記被洗浄物に気体を噴射する乾燥ノズルを有することができる。
本発明の洗浄装置は、前記洗浄槽の側面に、洗浄液を排出する排出口が設けられていることができる。
本発明の洗浄方法は、被洗浄物に洗浄槽内で洗浄液を噴射することで汚れを除去した後に、前記被洗浄物を乾燥させる洗浄方法であって、
保持具に立設された保持柱の上端に前記被洗浄物を固定して搬送する工程と、
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を上方または下方に移動させることで、前記洗浄槽の底部開口から前記被洗浄物を前記洗浄槽内に導入するとともに、封止部材により前記洗浄槽の底部開口を封止する工程と、
前記洗浄槽を封止した状態で前記洗浄槽の上方に位置する洗浄ノズルから洗浄液を前記被洗浄物に噴射する洗浄工程と、
乾燥ノズルから前記被洗浄物に気体を噴射して乾燥する工程と
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を前記移動とは反対方向に移動させることにより、前記洗浄槽から前記被洗浄物を抜出するとともに、前記封止部材による前記洗浄槽の底部開口の封止を解除する工程と、
を有することができる。
The cleaning device of the present invention is a cleaning device that removes dirt by spraying a cleaning liquid onto an object to be cleaned,
A washing tank having a bottom opening;
A cleaning nozzle for injecting the cleaning liquid onto the object to be cleaned contained in the cleaning tank;
A holder for holding the object to be cleaned;
A vertically moving actuator that moves up and down at least one of the holding tool and the cleaning tank and puts an object to be cleaned held in the holding tool into and out of the cleaning tank;
A sealing member for sealing the bottom opening of the cleaning tank during cleaning;
Have
By the first movement of the vertical movement actuator, the object to be cleaned held by the holder is introduced into the cleaning tank from the bottom opening, and the sealing member seals the bottom opening,
By the movement of the vertical movement actuator in the direction opposite to the first movement, the object to be cleaned held by the holder is taken out of the cleaning tank through the bottom opening, and the bottom portion by the sealing member The opening is unsealed,
The above-described problems have been solved by being configured as described above.
In the present invention, the holder is configured to fix the object to be cleaned to an upper end of an upright holding column,
A distance setting mechanism for setting a distance between the tip of the cleaning nozzle and the object to be cleaned at the tip of the holding column during the cleaning can be provided.
In the cleaning device of the present invention, the holder may have a horizontal reciprocating actuator that reciprocates the holding column in the horizontal direction during cleaning.
In the cleaning apparatus of the present invention, the sealing member may be a flat lid body integrated with the base of the holding column.
In the cleaning apparatus of the present invention, the cleaning liquid and gas may be supplied to the cleaning nozzle.
In the cleaning apparatus of the present invention, the cleaning nozzle may be provided with an ultrasonic transducer that enables ultrasonic cleaning.
The cleaning apparatus of the present invention also performs drying after cleaning,
The cleaning tank may have a drying nozzle that injects gas to the object to be cleaned during drying.
In the cleaning apparatus of the present invention, a discharge port for discharging the cleaning liquid may be provided on a side surface of the cleaning tank.
The cleaning method of the present invention is a cleaning method of drying the object to be cleaned after removing dirt by spraying a cleaning liquid in the cleaning tank to the object to be cleaned,
A step of fixing and transporting the object to be cleaned to the upper end of a holding column erected on the holder;
By moving at least one of the holder and the cleaning tank upward or downward, the object to be cleaned is introduced into the cleaning tank from the bottom opening of the cleaning tank, and the bottom of the cleaning tank is sealed by a sealing member. Sealing the opening;
A cleaning step of spraying a cleaning liquid onto the object to be cleaned from a cleaning nozzle located above the cleaning tank in a state where the cleaning tank is sealed,
A step of spraying a gas from a drying nozzle onto the object to be cleaned and moving at least one of the holder and the cleaning tank in a direction opposite to the movement, thereby removing the object to be cleaned from the cleaning tank; And releasing the sealing of the bottom opening of the cleaning tank by the sealing member,
Can have.

本発明の洗浄装置は、被洗浄物に洗浄液を噴射することで汚れを除去する洗浄装置であって、
底部開口を有する洗浄槽と、
前記洗浄槽内に収容された前記被洗浄物に前記洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、
前記被洗浄物を保持する保持具と、
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を上下動させて、前記保持具が保持する被洗浄物を前記洗浄槽内へ出し入れする上下動アクチュエータと、
前記洗浄槽の底部開口を洗浄時に封止する封止部材と、
を有し、
前記上下動アクチュエータの第1の動きによって、前記保持具が保持する前記被洗浄物が前記底部開口から前記洗浄槽内に導入されるとともに、前記封止部材が前記底部開口を封止し、
前記上下動アクチュエータの前記第1の動きとは反対方向への動きによって、前記保持具が保持する前記被洗浄物が前記底部開口から前記洗浄槽外に出されるとともに、前記封止部材による前記底部開口の封止が解除される、
ように構成されていることにより、上下動アクチュエータによって、保持具と封止部材とを洗浄槽に対して同時に移動させることができ、これにより、被洗浄物の洗浄槽内配置と、封止部材による洗浄槽の封止とを、一動作でおこなうことが可能となる。また、封止部材で洗浄槽が封止されているため、洗浄ノズルから洗浄液を被洗浄物に噴射して洗浄する際に、洗浄液が回りに飛び散らないようにすることができる。あるいは、封止部材で洗浄槽が封止されているため、洗浄槽内に洗浄液を貯留して、この中に被洗浄物を浸漬して洗浄することもできる。洗浄中あるいは洗浄後、前記底部開口から洗浄液を排出することができる。さらに、洗浄が終了したら、上下動アクチュエータによって、保持具と封止部材とを洗浄槽に対して同時に移動させることで、被洗浄物の取り出しと、封止部材による洗浄槽の封止解除とを同一動作によっておこなうことができる。
ここで、前記第1の動きは洗浄槽に対する保持具の上方への動きであり、前記第1の動きとは反対方向への動きは、洗浄槽に対する保持具の下方への動きである。あるいは、前記第1の動きは保持具に対する洗浄槽の下方への動きであり、前記第1の動きとは反対方向への動きは、保持具に対する洗浄槽の上方への動きであることもできる。
The cleaning device of the present invention is a cleaning device that removes dirt by spraying a cleaning liquid onto an object to be cleaned,
A washing tank having a bottom opening;
A cleaning nozzle for injecting the cleaning liquid onto the object to be cleaned contained in the cleaning tank;
A holder for holding the object to be cleaned;
A vertically moving actuator that moves up and down at least one of the holding tool and the cleaning tank and puts an object to be cleaned held in the holding tool into and out of the cleaning tank;
A sealing member for sealing the bottom opening of the cleaning tank during cleaning;
Have
By the first movement of the vertical movement actuator, the object to be cleaned held by the holder is introduced into the cleaning tank from the bottom opening, and the sealing member seals the bottom opening,
By the movement of the vertical movement actuator in the direction opposite to the first movement, the object to be cleaned held by the holder is taken out of the cleaning tank through the bottom opening, and the bottom portion by the sealing member The opening is unsealed,
By being configured in this way, the holder and the sealing member can be moved simultaneously with respect to the cleaning tank by the vertical movement actuator, whereby the object to be cleaned is disposed in the cleaning tank, and the sealing member The cleaning tank can be sealed with a single operation. In addition, since the cleaning tank is sealed with the sealing member, the cleaning liquid can be prevented from splashing around when the cleaning liquid is sprayed from the cleaning nozzle onto the object to be cleaned. Alternatively, since the cleaning tank is sealed with the sealing member, the cleaning liquid can be stored in the cleaning tank and the object to be cleaned can be immersed in the cleaning tank for cleaning. During or after cleaning, the cleaning liquid can be discharged from the bottom opening. Furthermore, when cleaning is completed, the vertical movement actuator moves the holder and the sealing member simultaneously with respect to the cleaning tank, thereby removing the object to be cleaned and releasing the sealing of the cleaning tank by the sealing member. It can be done by the same operation.
Here, the first movement is an upward movement of the holder relative to the cleaning tank, and the movement in the opposite direction to the first movement is a downward movement of the holder relative to the cleaning tank. Alternatively, the first movement may be a downward movement of the cleaning tank relative to the holder, and the movement in the direction opposite to the first movement may be an upward movement of the cleaning tank relative to the holder. .

また、洗浄槽を封止するとは、少なくとも洗浄時に洗浄ノズルから噴射された洗浄液が外部に飛び散らない程度に遮断することができればよく、また、洗浄液を洗浄槽内に貯留して洗浄する場合には、洗浄ノズルから供給される洗浄液を洗浄槽内で所定の水位に維持する水密状態にすることができればよい。したがって、洗浄槽底部開口と封止部材との封止状態においては、厳密にこれらの全周が互いに当接している必要はないが、好ましくは、洗浄槽底部開口と封止部材との全周が互いに当接していることができる。   In addition, sealing the cleaning tank only requires that the cleaning liquid sprayed from the cleaning nozzle at the time of cleaning can be blocked to the outside, and if the cleaning liquid is stored in the cleaning tank for cleaning. It is only necessary that the cleaning liquid supplied from the cleaning nozzle can be kept in a watertight state in which a predetermined water level is maintained in the cleaning tank. Therefore, in the sealed state of the cleaning tank bottom opening and the sealing member, it is not necessary that the entire circumference of these is strictly in contact with each other, but preferably, the entire circumference of the cleaning tank bottom opening and the sealing member Can be in contact with each other.

さらに、洗浄槽底部開口と封止部材とが未封止状態で隙間を有するように設定され、この隙間が、洗浄液を排出する手段とされることもできる。ここで、洗浄槽底部開口と封止部材との全周が互いに当接して密閉可能な構成において、これらの間が離間して当接しない状態で停止させ、隙間を作ることができる。この構成を採用した場合、洗浄液を洗浄槽に貯留して洗浄する際には洗浄槽底部開口と封止部材との全周が互いに当接して密閉状態とし、排出時、あるいは、洗浄液等を供給しながら洗浄する場合には洗浄槽底部開口と封止部材との全周が互いに離間した状態とすることができる。
あるいは、洗浄槽底部開口と封止部材とのいずれかに、洗浄槽径方向に延在する切欠もしくは貫通孔などを形成し、この切欠もしくは貫通孔などを介して洗浄液を排出することもできる。
Furthermore, the cleaning tank bottom opening and the sealing member are set so as to have a gap in an unsealed state, and this gap can be used as a means for discharging the cleaning liquid. Here, in the configuration in which the entire circumference of the bottom opening of the cleaning tank and the sealing member are in contact with each other and can be sealed, they can be stopped in a state where they are separated and do not come into contact with each other, thereby creating a gap. When this configuration is adopted, when cleaning liquid is stored in the cleaning tank and cleaned, the entire circumference of the cleaning tank bottom opening and the sealing member are in contact with each other to be in a sealed state, and at the time of discharging or supplying cleaning liquid, etc. In the case of cleaning, the entire circumference of the cleaning tank bottom opening and the sealing member can be separated from each other.
Alternatively, a notch or a through hole extending in the cleaning tank radial direction can be formed in either the cleaning tank bottom opening or the sealing member, and the cleaning liquid can be discharged through the notch or the through hole.

さらに、洗浄ノズルは、下方に洗浄液を噴射するものとされ、この洗浄ノズルの下側位置に被洗浄物が配置されるように、洗浄時における保持具の位置が設定されることが好ましい。   Further, it is preferable that the position of the holding tool at the time of cleaning is set so that the cleaning nozzle ejects the cleaning liquid downward and the object to be cleaned is disposed below the cleaning nozzle.

なお、洗浄ノズルに気体を供給するようにし、洗浄ノズルから洗浄後の被洗浄物に気体を噴射して被洗浄物を乾燥させることや、洗浄ノズルから洗浄液と気体の混合流体を噴射して被洗浄物を洗浄することもできる。   In addition, gas is supplied to the cleaning nozzle, and the object to be cleaned is dried by injecting the gas from the cleaning nozzle to the object to be cleaned. It is also possible to wash the wash.

また、封止部材が被洗浄物を保持する保持具を出し入れする開口を開閉する蓋としても作用することで、被洗浄物の洗浄槽への導入と取り出しを効率化するとともに、封止部材が洗浄槽の底部開口を封止・解除する構成としたことで、洗浄槽の底面から洗浄液の排出が重力によって自動的に行われるのでさらなる効率化が可能となる。   In addition, the sealing member acts as a lid for opening and closing the opening for taking in and out the holder for holding the object to be cleaned, thereby improving the efficiency of introducing and removing the object to be cleaned from the cleaning tank, and the sealing member By adopting a configuration in which the bottom opening of the cleaning tank is sealed and released, the cleaning liquid is automatically discharged from the bottom surface of the cleaning tank by gravity, so that further efficiency can be achieved.

本発明において、前記保持具が、立設された保持柱の上端に前記被洗浄物を固定するものとされ、
前記洗浄時における前記洗浄ノズル先端と前記保持柱先端の前記被洗浄物との距離を設定する距離設定機構を有することにより、上下動アクチュエータによって、保持具と封止部材を上昇させる際に、保持具の保持柱先端高さ位置を、被洗浄物の厚さ(高さ寸法)を勘案して所定の範囲に設定することにより、異なる規格の被洗浄物であっても、それぞれの被洗浄物における高さ寸法に対応して、洗浄ノズル先端と被洗浄物との距離を効果的な洗浄が可能な範囲に維持することが可能となる。
In the present invention, the holder is configured to fix the object to be cleaned to an upper end of an upright holding column,
By having a distance setting mechanism that sets the distance between the cleaning nozzle tip and the object to be cleaned at the tip of the holding column at the time of cleaning, the holding tool and the sealing member are held by the vertical movement actuator. Even if the objects to be cleaned have different standards, the height position of the holding column tip of the tool is set within a predetermined range in consideration of the thickness (height dimension) of the object to be cleaned. It is possible to maintain the distance between the tip of the cleaning nozzle and the object to be cleaned within a range in which effective cleaning can be performed in accordance with the height dimension at.

なお、前記被洗浄物の固定は、保持柱の上端面へ接着剤等による貼り付けなどができる。または、保持柱の上端に吸引口を設けるなどして、固定解除可能なものとすることもできる。   The object to be cleaned can be fixed to the upper end surface of the holding column with an adhesive or the like. Alternatively, the fixing can be released by providing a suction port at the upper end of the holding column.

洗浄ノズル先端と保持柱先端の被洗浄物との距離を設定する距離設定機構としては、洗浄槽と洗浄ノズルとの位置設定を可能とする構成や、洗浄槽下端に装着可能なスペーサ、封止部材と保持柱との位置設定を可能とする高さ可変の保持柱、封止部材に対する保持柱への固定位置設定を可能とする保持柱の移動機構、封止部材と洗浄槽下端との位置設定を可能とする封止部材の厚さ方向寸法設定機構等を採用することができる。   The distance setting mechanism that sets the distance between the tip of the cleaning nozzle and the object to be cleaned at the tip of the holding column includes a configuration that allows the position of the cleaning tank and the cleaning nozzle to be set, a spacer that can be attached to the bottom of the cleaning tank, and sealing Holding column of variable height that enables position setting of member and holding column, moving mechanism of holding column that enables setting of fixed position to holding column with respect to sealing member, position of sealing member and lower end of cleaning tank It is possible to employ a thickness direction dimension setting mechanism of the sealing member that enables setting.

本発明の洗浄装置は、前記保持具が、洗浄時に前記保持柱を水平方向に往復移動させる横往復アクチュエータを有することにより、洗浄ノズルから噴射された洗浄液が被洗浄物に到達する位置・角度を変化させて、効果的に洗浄をおこなうことが可能となる。   In the cleaning apparatus of the present invention, the holder has a horizontal reciprocating actuator that reciprocates the holding column in the horizontal direction during cleaning, so that the position and angle at which the cleaning liquid sprayed from the cleaning nozzle reaches the object to be cleaned. It is possible to change and effectively perform cleaning.

本発明の洗浄装置は、前記封止部材が、前記保持柱の基部に一体とされた平板蓋体とされることにより、面一とされた洗浄槽下端に対して、保持柱周囲の平板蓋体表面を均一に当接して、洗浄槽内を容易に封止することが可能となる。   In the cleaning apparatus of the present invention, the sealing member is a flat plate cover integrated with the base of the holding column, so that the flat plate cover around the holding column is flush with the lower end of the cleaning tank. It becomes possible to contact the body surface uniformly and easily seal the inside of the cleaning tank.

なお、平板蓋体とされた封止部材に対して、保持柱を有する保持具を一体として、前工程である被洗浄物の製造工程から連続して移動・搬送することも可能である。
または、平板蓋体とされた封止部材に対して、その中央部に厚さ方向の貫通孔を設けて、この貫通孔に保持具の保持柱を挿入した状態で洗浄槽を封止可能な状態で、封止部材と保持柱とを、保持柱の軸方向に移動可能とすることもできる。
In addition, it is also possible to move / convey continuously from the manufacturing process of the article to be cleaned, which is a previous process, with the holding member having the holding column as an integral unit with respect to the sealing member that is a flat lid.
Alternatively, the cleaning tank can be sealed with a through hole in the thickness direction provided at the center of the sealing member that is a flat lid, and the holding column of the holder is inserted into the through hole. In the state, the sealing member and the holding column can be moved in the axial direction of the holding column.

また、少なくとも保持具の先端付近を洗浄することができるので、保持具を再度、製造工程に戻す際に、保持具の準備にかかる作業時間を短縮し、作業工程数を削減することができ、多品種少量生産に用いて好適である。   Moreover, since at least the vicinity of the tip of the holder can be cleaned, when returning the holder to the manufacturing process again, the work time required for preparing the holder can be shortened, and the number of work processes can be reduced. It is suitable for use in multi-product small-volume production.

さらに、本発明の洗浄装置では、洗浄の後工程である検査時に前記被洗浄物が引き続いて前記保持具に固定されていることもできる。これにより、洗浄工程に連続して検査できるので、作業時間を短縮し、作業工程数を削減して、製造コストを削減することができる。   Furthermore, in the cleaning apparatus of the present invention, the object to be cleaned can be continuously fixed to the holder during an inspection which is a post-cleaning process. Thereby, since it can test | inspect continuously in a washing | cleaning process, work time can be shortened, the number of work processes can be reduced, and manufacturing cost can be reduced.

本発明の洗浄装置は、前記洗浄ノズルには、前記洗浄液および気体が供給されることにより、洗浄ノズルから、洗浄液と気体とを切り替えて噴出すること、あるいは、洗浄液と気体とを混合して噴射することを可能な構成とすることができる。これにより、洗浄槽内における洗浄液または洗浄液・気体の混合流体による洗浄、および、洗浄槽内における乾燥が可能となる。   In the cleaning apparatus of the present invention, when the cleaning liquid and the gas are supplied to the cleaning nozzle, the cleaning liquid and the gas are switched and ejected from the cleaning nozzle, or the cleaning liquid and the gas are mixed and injected. It can be set as the structure which can do. As a result, cleaning with the cleaning liquid or the cleaning fluid / gas mixed fluid in the cleaning tank and drying in the cleaning tank become possible.

本発明の洗浄装置は、前記洗浄ノズルには、超音波洗浄を可能とする超音波振動子が設けられることにより、洗浄液に超音波振動を印加して被洗浄物を効率的に洗浄することが可能となる。
なお、超音波振動子を設けた場合、洗浄ノズルとは別に乾燥用の気体を噴出する乾燥ノズルを設けることが好ましいが、洗浄液と気体との噴出を切り替えて同一のノズルから噴出する構成とすることもできる。
In the cleaning apparatus of the present invention, the cleaning nozzle is provided with an ultrasonic vibrator that enables ultrasonic cleaning, whereby ultrasonic vibration is applied to the cleaning liquid to efficiently clean the object to be cleaned. It becomes possible.
In addition, when an ultrasonic transducer is provided, it is preferable to provide a drying nozzle that ejects a gas for drying separately from the cleaning nozzle, but the structure is such that the ejection of the cleaning liquid and the gas is switched to be ejected from the same nozzle. You can also.

本発明の洗浄装置は、洗浄の後に乾燥も行うものであり、前記洗浄槽には、乾燥時に前記被洗浄物に気体を噴射する乾燥ノズルを有することにより、洗浄槽内における乾燥が可能となる。また、洗浄ノズルには、超音波洗浄を可能とする超音波振動子を設けた場合でも、前記被洗浄物に気体を噴射して乾燥をおこなうことが可能となる。   The cleaning apparatus of the present invention also performs drying after cleaning, and the cleaning tank has a drying nozzle that injects gas to the object to be cleaned at the time of drying, thereby enabling drying in the cleaning tank. . In addition, even when an ultrasonic vibrator capable of ultrasonic cleaning is provided in the cleaning nozzle, it is possible to perform drying by jetting a gas to the object to be cleaned.

本発明の洗浄装置は、前記洗浄槽の側面に、洗浄液を排出する排出口が設けられていることにより、洗浄ノズルから洗浄液を噴射しつつ洗浄槽から排出することを可能とすることができる。この場合、排出口は、洗浄槽の下端付近に設けることが好ましい。
あるいは、排出口の位置を洗浄槽の上部にすることにより、洗浄槽に洗浄液を貯留して洗浄をおこなった後に洗浄液を排出口を経由して洗浄槽から排出することを可能とすることができる。この場合、排出口は、洗浄槽の被洗浄物上端位置よりも上側位置に設けることが好ましい。
In the cleaning apparatus of the present invention, a discharge port for discharging the cleaning liquid is provided on the side surface of the cleaning tank, so that the cleaning liquid can be discharged from the cleaning tank while being sprayed from the cleaning nozzle. In this case, the discharge port is preferably provided near the lower end of the cleaning tank.
Alternatively, by setting the position of the discharge port to the upper part of the cleaning tank, it is possible to store the cleaning liquid in the cleaning tank and perform cleaning, and then discharge the cleaning liquid from the cleaning tank via the discharge port. . In this case, the discharge port is preferably provided at a position above the upper end position of the object to be cleaned in the cleaning tank.

本発明の洗浄装置は、前記洗浄槽の底部開口には、前記封止部材に当接する弾性部材が周設されることにより、封止部材を洗浄槽底部開口に当接して洗浄槽内を封止する際に、洗浄槽の水密を容易に維持することができる。この構成においては、洗浄槽に洗浄液を貯留して洗浄をおこなう際に、洗浄液が漏出することを防止できる。   In the cleaning apparatus of the present invention, an elastic member that contacts the sealing member is provided around the bottom opening of the cleaning tank, so that the sealing member contacts the cleaning tank bottom opening and seals the inside of the cleaning tank. When stopping, the watertightness of the washing tank can be easily maintained. In this configuration, it is possible to prevent the cleaning liquid from leaking when the cleaning liquid is stored in the cleaning tank and cleaning is performed.

本発明の洗浄方法は、被洗浄物に洗浄槽内で洗浄液を噴射することで汚れを除去した後に、前記被洗浄物を乾燥させる洗浄方法であって、
保持具に立設された保持柱の上端に前記被洗浄物を固定して搬送する工程と、
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を上方または下方に移動させることで、前記洗浄槽の底部開口から前記被洗浄物を前記洗浄槽内に導入するとともに、封止部材により前記洗浄槽の底部開口を封止する工程と、
前記洗浄槽を封止した状態で前記洗浄槽の上方に位置する洗浄ノズルから洗浄液を前記被洗浄物に噴射する洗浄工程と、
乾燥ノズルから前記被洗浄物に気体を噴射して乾燥する工程と
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を前記移動とは反対方向に移動させることにより、前記洗浄槽から前記被洗浄物を抜出するとともに、前記封止部材による前記洗浄槽の底部開口の封止を解除する工程と、
を有することにより、保持具に固定された被洗浄物を洗浄槽内に配置するとともに、同一動作によって、封止部材を洗浄槽底部開口に当接して洗浄槽内を封止することができる。その状態で、洗浄ノズルから洗浄液を被洗浄物に噴射して洗浄する際に、洗浄液が周囲に飛び散らないようにすることができる。また、洗浄槽内に洗浄液を貯留して、この中に被洗浄物を浸漬して洗浄することもできる。洗浄中あるいは洗浄が終了したら少なくとも底部開口から洗浄液を排出して被洗浄物を乾燥させることができる。さらに、洗浄が終了したら、上下動アクチュエータによって、保持具と封止部材とを洗浄槽に対して移動させることで、洗浄槽から被洗浄物を取り出すとともに同一動作によって、封止部材による洗浄槽の封止を解除することができる。
The cleaning method of the present invention is a cleaning method of drying the object to be cleaned after removing dirt by spraying a cleaning liquid in the cleaning tank to the object to be cleaned,
A step of fixing and transporting the object to be cleaned to the upper end of a holding column erected on the holder;
By moving at least one of the holder and the cleaning tank upward or downward, the object to be cleaned is introduced into the cleaning tank from the bottom opening of the cleaning tank, and the bottom of the cleaning tank is sealed by a sealing member. Sealing the opening;
A cleaning step of spraying a cleaning liquid onto the object to be cleaned from a cleaning nozzle located above the cleaning tank in a state where the cleaning tank is sealed,
A step of spraying a gas from a drying nozzle onto the object to be cleaned and moving at least one of the holder and the cleaning tank in a direction opposite to the movement, thereby removing the object to be cleaned from the cleaning tank; And releasing the sealing of the bottom opening of the cleaning tank by the sealing member,
With this, the object to be cleaned fixed to the holder can be placed in the cleaning tank, and the inside of the cleaning tank can be sealed by contacting the sealing member with the bottom opening of the cleaning tank by the same operation. In this state, when the cleaning liquid is sprayed from the cleaning nozzle onto the object to be cleaned, the cleaning liquid can be prevented from splashing around. It is also possible to store the cleaning liquid in the cleaning tank and immerse the object to be cleaned in the cleaning tank for cleaning. During or after cleaning, the cleaning liquid can be discharged from at least the bottom opening to dry the object to be cleaned. Furthermore, when the cleaning is completed, the object to be cleaned is taken out from the cleaning tank by moving the holder and the sealing member with respect to the cleaning tank by the vertical movement actuator, and the cleaning tank by the sealing member is moved by the same operation. Sealing can be released.

本発明の洗浄方法においては、洗浄の前工程時に前記被洗浄物が前記保持具に固定されていることにより、前記保持具が洗浄の前工程である被洗浄物加工工程から連続して、前記被洗浄物を保持している状態とすることができる。例えば、光学素子とされる被洗浄物を洗浄する際に、前工程である光学素子製造工程時に、保持具に光学素子とされる被洗浄物を固定した状態でこの製造工程を終了し、直ちに連続して光学素子とされる被洗浄物の洗浄をおこなうことができる。この際、前工程終了時に光学素子とされる被洗浄物を製造工程における保持具から固定解除し、さらに、洗浄をおこなう保持具に再固定する必要がないため、光学素子とされる被洗浄物に対して不必要に汚染が発生すること、再固定時に傷が付くあるいは破損することを防止することができる。また、製造工程に連続して洗浄できるので、作業時間を短縮し、作業工程数を削減して、製造コストを削減することができる。   In the cleaning method of the present invention, the object to be cleaned is fixed to the holder at the time of the pre-cleaning process, so that the holder is continuously processed from the object to be cleaned process that is the pre-cleaning process. The object to be cleaned can be held. For example, when cleaning an object to be cleaned that is an optical element, the manufacturing process is completed with the object to be cleaned to be an optical element fixed to a holder at the time of the optical element manufacturing process that is a previous process. An object to be cleaned that is continuously an optical element can be cleaned. At this time, it is not necessary to unfix the object to be cleaned that is an optical element at the end of the previous process from the holder in the manufacturing process, and to re-fix the object to be cleaned to the holder that performs cleaning. As a result, it is possible to prevent unnecessary contamination and damage or damage during re-fixing. Moreover, since it can wash | clean continuously in a manufacturing process, work time can be shortened, the number of work processes can be reduced, and a manufacturing cost can be reduced.

本発明によれば、効率的な洗浄を少ない工程数で効果的におこなうことができるという効果を奏することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to achieve an effect that efficient cleaning can be effectively performed with a small number of steps.

本発明に係る洗浄装置の第1実施形態を示す構成図である。It is a lineblock diagram showing a 1st embodiment of a cleaning device concerning the present invention. 本発明に係る洗浄装置の第1実施形態における上下動アクチュエータを示す模式正面図である。It is a schematic front view which shows the vertical motion actuator in 1st Embodiment of the washing | cleaning apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る洗浄方法の第1実施形態を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows 1st Embodiment of the cleaning method which concerns on this invention. 本発明に係る洗浄装置の第1実施形態における動作を説明する正断面図である。It is a front sectional view explaining operation in a 1st embodiment of a cleaning device concerning the present invention. 本発明に係る洗浄装置の第1実施形態における動作を説明する部分正断面図である。It is a fragmentary front sectional view explaining operation in a 1st embodiment of a cleaning device concerning the present invention. 本発明に係る洗浄装置の第1実施形態における動作を説明する部分正断面図である。It is a fragmentary front sectional view explaining operation in a 1st embodiment of a cleaning device concerning the present invention. 本発明に係る洗浄装置の第1実施形態における動作を説明する部分正断面図である。It is a fragmentary front sectional view explaining operation in a 1st embodiment of a cleaning device concerning the present invention. 本発明に係る洗浄装置の第1実施形態における動作を説明する部分正断面図である。It is a fragmentary front sectional view explaining operation in a 1st embodiment of a cleaning device concerning the present invention. 本発明に係る洗浄装置の第1実施形態における動作を説明する部分正断面図である。It is a fragmentary front sectional view explaining operation in a 1st embodiment of a cleaning device concerning the present invention. 本発明に係る洗浄装置の第2実施形態における動作を説明する部分正断面図である。It is a fragmentary front sectional view explaining operation | movement in 2nd Embodiment of the cleaning apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る洗浄装置の第3実施形態における動作を説明する部分正断面図である。It is a fragmentary front sectional view explaining operation | movement in 3rd Embodiment of the washing | cleaning apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る洗浄装置の第4実施形態における動作を説明する部分正断面図である。It is a fragmentary front sectional view explaining operation | movement in 4th Embodiment of the washing | cleaning apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る洗浄装置の第5実施形態における動作を説明する部分正断面図である。It is a fragmentary front sectional view explaining the operation | movement in 5th Embodiment of the washing | cleaning apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る洗浄装置の第6実施形態における動作を説明する部分正断面図である。It is a fragmentary front sectional view explaining the operation | movement in 6th Embodiment of the cleaning apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る洗浄装置の第6実施形態における動作を説明する部分正断面図である。It is a fragmentary front sectional view explaining the operation | movement in 6th Embodiment of the cleaning apparatus which concerns on this invention.

以下、本発明に係る洗浄装置、洗浄方法の第1実施形態を、図面に基づいて説明する。
図1は、本実施形態における洗浄装置を示す構成図であり、図2は、本実施形態における洗浄装置の上下動アクチュエータを示す模式正面図であり、図において、符号100は、洗浄装置である。
なお、各図面は模式図のため、形状や寸法は誇張されている(以下の図面も同様)。
Hereinafter, a cleaning device and a cleaning method according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a cleaning device according to the present embodiment. FIG. 2 is a schematic front view illustrating a vertical movement actuator of the cleaning device according to the present embodiment. In the figure, reference numeral 100 denotes a cleaning device. .
In addition, since each drawing is a schematic diagram, the shape and dimension are exaggerated (the following drawings are also the same).

本実施形態に係る洗浄装置100は、被洗浄物として光学素子Lを洗浄する装置である。
光学素子Lは、光学素子であれば特に限定されない。洗浄装置100で洗浄することができる光学素子Lの例としては、レンズ、プリズム、ミラー、フィルタなどを挙げることができる。本実施形態においては、光学素子Lとして内視鏡用のレンズの例を用いて説明する。
The cleaning apparatus 100 according to the present embodiment is an apparatus that cleans the optical element L as an object to be cleaned.
The optical element L is not particularly limited as long as it is an optical element. Examples of the optical element L that can be cleaned by the cleaning apparatus 100 include a lens, a prism, a mirror, and a filter. In this embodiment, an example of an endoscope lens will be described as the optical element L.

図においては、各構成が模式的に示されており、光学素子Lを平凸レンズ状に描いている。ただし光学素子Lの形状は、平凸レンズ状には限定されない。例えば、光学素子Lがレンズの場合にも、例えば、両凸レンズ、両凹レンズ、平凹レンズ、メニスカスレンズ等の種々の形状が可能である。また、光学素子Lがレンズ以外の光学素子の場合、例えば、円板状、矩形板状をはじめとする適宜の立体形状も可能である。   In the drawing, each configuration is schematically shown, and the optical element L is drawn in a plano-convex lens shape. However, the shape of the optical element L is not limited to the plano-convex lens shape. For example, when the optical element L is a lens, various shapes such as a biconvex lens, a biconcave lens, a plano-concave lens, and a meniscus lens are possible. Further, when the optical element L is an optical element other than a lens, for example, an appropriate three-dimensional shape including a disk shape and a rectangular plate shape is possible.

光学素子Lのうち、例えば、ガラス研磨レンズは、製造装置110における前工程において、所定の形状に加工されるまでに、研磨加工を多段階に繰り返す。洗浄装置100は、このような加工工程後で、前工程の加工で光学素子Lに付着する研磨材などを落とすものである。これにより光学素子Lの表面がきれいな状態で、検査装置120における次工程の検査等を開始することが可能である。   Among the optical elements L, for example, a glass polishing lens repeats polishing processing in multiple stages until it is processed into a predetermined shape in the previous process in the manufacturing apparatus 110. The cleaning apparatus 100 removes abrasives and the like adhering to the optical element L in the previous process after such a process. As a result, it is possible to start the inspection of the next process in the inspection apparatus 120 while the surface of the optical element L is clean.

本実施形態に係る洗浄装置100は、図1に示すように、洗浄槽10、洗浄ノズル20、保持具30と、上下動アクチュエータ40と、封止部材50と、排出機構60と、制御部70と、距離設定部材/機構(距離設定機構)80と、を有する。   As shown in FIG. 1, the cleaning apparatus 100 according to this embodiment includes a cleaning tank 10, a cleaning nozzle 20, a holder 30, a vertical movement actuator 40, a sealing member 50, a discharge mechanism 60, and a control unit 70. And a distance setting member / mechanism (distance setting mechanism) 80.

洗浄装置100は、図1に示すように、製造装置110と検査装置120との間に配置される。ベルトコンベア等である搬送装置130によって、被洗浄物としての光学素子Lが製造装置110から搬入され、検査装置120に搬出される。
具体的には、洗浄装置100は、光学素子Lの製造機である製造装置110に隣接して配置されるか、製造装置110の内部に配置されることができる。
As shown in FIG. 1, the cleaning apparatus 100 is disposed between the manufacturing apparatus 110 and the inspection apparatus 120. An optical element L as an object to be cleaned is carried in from the manufacturing apparatus 110 and carried out to the inspection apparatus 120 by a conveying device 130 such as a belt conveyor.
Specifically, the cleaning apparatus 100 can be disposed adjacent to the manufacturing apparatus 110 that is a manufacturing machine of the optical element L, or can be disposed inside the manufacturing apparatus 110.

洗浄槽10は、図1,図2に示すように、略垂直な軸線を有し底部が開口した略円筒状であり、閉塞されたその頂部中央位置に洗浄ノズル20が配置されている。洗浄槽10の材質は、洗浄液に対して耐性を有し、かつ洗浄時の設定温度、設定圧力等に耐久性を示すものであればその特に限定されない。例えば、洗浄槽10の材質は、金属、樹脂等、あるいはこれらの組み合わせたものとすることができる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the cleaning tank 10 has a substantially cylindrical shape having a substantially vertical axis and an open bottom, and a cleaning nozzle 20 is disposed at the central position of the closed top. The material of the cleaning tank 10 is not particularly limited as long as it has resistance to the cleaning liquid and exhibits durability at a set temperature, a set pressure, and the like at the time of cleaning. For example, the material of the cleaning tank 10 can be metal, resin, or a combination thereof.

なお、洗浄槽10は、円筒状に限るものではなく、断面矩形の角柱状、角柱台、円錐、円錐台形状等、他の形状とすることもできる。
また、洗浄槽10の寸法は、後述するように、洗浄液による被洗浄物である光学素子Lの洗浄をおこなうことができる容積を有していればよく、また、使用する洗浄液を削減するためにも、なるべく小さな容積を有するものとされる。例えば、内視鏡用のレンズLを洗浄するためには、10cc〜300cc程度の容積を有するものとされることが可能である。
In addition, the washing tank 10 is not limited to a cylindrical shape, and may have other shapes such as a rectangular column shape having a rectangular cross section, a prism base, a cone, and a truncated cone shape.
Moreover, the dimension of the washing tank 10 should just have the volume which can wash | clean the optical element L which is a to-be-cleaned object by a washing | cleaning liquid so that it may mention later, and in order to reduce the washing | cleaning liquid to be used. Also, it is assumed that the volume is as small as possible. For example, in order to wash the lens L for an endoscope, it is possible to have a volume of about 10 cc to 300 cc.

洗浄槽10の底部開口11は、円筒状の洗浄槽10の水平断面と同径とされて、略水平に位置する円形に配置され、後述する封止部材50とその全周で当接可能なように面一となるように形成されている。底部開口11は、光学素子Lを洗浄槽10の下側から出し入れするための挿入抜出口とされ、少なくとも、光学素子Lが通過可能な径寸法に設定されている。   The bottom opening 11 of the cleaning tank 10 has the same diameter as the horizontal cross section of the cylindrical cleaning tank 10 and is arranged in a circular shape that is positioned substantially horizontally, and can contact the sealing member 50 described later with its entire circumference. So as to be flush with each other. The bottom opening 11 serves as an insertion / extraction port for taking in and out the optical element L from the lower side of the cleaning tank 10, and is set to have at least a diameter dimension through which the optical element L can pass.

洗浄ノズル20は、図1,図2に示すように、洗浄槽10の頂部中央位置に鉛直下向きに噴射可能として配置され、洗浄槽10外部の洗浄液の供給ユニット21,気体の供給ユニット22に接続されている。洗浄ノズル20は、洗浄槽10の底部開口11と対向する位置に設けられる。洗浄ノズル20が、洗浄液を鉛直下向きに噴射する配置とされることで、噴射力と重力とによって効率的に洗浄をおこなうことができる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the cleaning nozzle 20 is arranged at the center of the top of the cleaning tank 10 so as to be able to spray vertically downward, and is connected to a cleaning liquid supply unit 21 and a gas supply unit 22 outside the cleaning tank 10. Has been. The cleaning nozzle 20 is provided at a position facing the bottom opening 11 of the cleaning tank 10. Since the cleaning nozzle 20 is arranged to inject the cleaning liquid vertically downward, cleaning can be performed efficiently by the injection force and gravity.

供給ユニット21は、加圧された洗浄液を洗浄ノズル20に供給するものである。図1に示すように、供給ユニット21は、例えば純水である洗浄液を貯留する洗浄液貯留部21aと、洗浄液貯留部21aの洗浄液を圧送するポンプ21bと、ポンプ21bから圧送された洗浄液から不純物を取り除くフィルタ21cと、フィルタ21cの下流に設けられるレギュレータ21dと、レギュレータ21dの下流に設けられ加圧された洗浄液の供給を切り替えるか供給量を制御する電磁バルブ21eと、を有する。供給ユニット21は洗浄ノズル20に接続されている。   The supply unit 21 supplies pressurized cleaning liquid to the cleaning nozzle 20. As shown in FIG. 1, the supply unit 21 includes, for example, a cleaning liquid reservoir 21a that stores a cleaning liquid that is pure water, a pump 21b that pumps the cleaning liquid in the cleaning liquid reservoir 21a, and impurities from the cleaning liquid that is pumped from the pump 21b. A filter 21c to be removed, a regulator 21d provided downstream of the filter 21c, and an electromagnetic valve 21e provided downstream of the regulator 21d for switching the supply of pressurized cleaning liquid or controlling the supply amount. The supply unit 21 is connected to the cleaning nozzle 20.

ポンプ21bと、レギュレータ21dと、電磁バルブ21eとは、いずれも後述する電子回路(CPU)である制御部70と電気的に接続されている。
洗浄液貯留部21aは、サイフォン方式により、配管を介して、洗浄ノズル20に純水を供給可能としてもよい。この場合、洗浄液貯留部21aは、ポンプを使用することなく純水を供給できる。
The pump 21b, the regulator 21d, and the electromagnetic valve 21e are all electrically connected to a control unit 70 that is an electronic circuit (CPU) described later.
The cleaning liquid reservoir 21a may be capable of supplying pure water to the cleaning nozzle 20 via a pipe by a siphon method. In this case, the cleaning liquid reservoir 21a can supply pure water without using a pump.

ポンプ21bは、高圧、低圧を切り替え可能であり、高圧で洗浄液を供給する状態と、低圧で洗浄液を供給する状態とを切り替えることができる。高圧で洗浄液を供給した場合には、洗浄ノズル20からの噴射により光学素子Lの洗浄をおこない、低圧で洗浄液を供給した場合には、洗浄槽10に洗浄液を貯留して光学素子Lの洗浄をおこなうことも可能である。   The pump 21b can switch between high pressure and low pressure, and can switch between a state in which the cleaning liquid is supplied at a high pressure and a state in which the cleaning liquid is supplied at a low pressure. When the cleaning liquid is supplied at a high pressure, the optical element L is cleaned by jetting from the cleaning nozzle 20, and when the cleaning liquid is supplied at a low pressure, the cleaning liquid is stored in the cleaning tank 10 to clean the optical element L. It is also possible to do it.

供給ユニット22は、圧縮された空気等の気体を洗浄ノズル20に供給するものである。供給ユニット22は、図1に示すように、空気等を圧縮するコンプレッサ22aと、コンプレッサ22aから圧送された気体から塵埃等の不純物を取り除くフィルタ22bと、フィルタ22bの下流に設けられるレギュレータ22cと、レギュレータ22cの下流に設けられ圧縮エアーの供給を切り替えるか供給量を制御する電磁切り替えバルブ22dと、を有する。   The supply unit 22 supplies a gas such as compressed air to the cleaning nozzle 20. As shown in FIG. 1, the supply unit 22 includes a compressor 22a that compresses air and the like, a filter 22b that removes impurities such as dust from the gas pumped from the compressor 22a, a regulator 22c that is provided downstream of the filter 22b, An electromagnetic switching valve 22d that is provided downstream of the regulator 22c and switches the supply of compressed air or controls the supply amount.

コンプレッサ22aと、レギュレータ22cと、電磁バルブ22dとは、いずれも後述する制御部70と電気的に接続されている。   The compressor 22a, the regulator 22c, and the electromagnetic valve 22d are all electrically connected to the control unit 70 described later.

供給ユニット21,22は、その内部にポンプ21aで加圧された純水とコンプレッサ22aで圧縮された空気とをそれぞれから洗浄ノズル20に供給して、これらの混合状態、あるいは、洗浄液、または空気に切り替えて噴射することもできる。このとき、純水と空気は制御部70によるバルブ21e,22dの開閉制御により切り替え可能または供給量制御可能である。   The supply units 21 and 22 supply pure water pressurized by the pump 21a and air compressed by the compressor 22a to the cleaning nozzle 20 from the inside, and the mixed state of these, cleaning liquid, or air It is also possible to inject by switching to. At this time, the pure water and the air can be switched or the supply amount can be controlled by controlling the opening and closing of the valves 21e and 22d by the controller 70.

保持具(治具)30は、図1,図2に示すように、立設された保持柱31の上端に被洗浄物である光学素子Lを固定するものであり、上下動アクチュエータ40により洗浄槽10に下から挿入可能とされる。保持柱31の基部には、封止部材50である平板蓋体51が、一体として形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the holding tool (jig) 30 fixes an optical element L as an object to be cleaned to the upper end of a standing holding column 31, and is cleaned by a vertical movement actuator 40. The tank 10 can be inserted from below. A flat lid 51 that is a sealing member 50 is integrally formed at the base of the holding column 31.

保持具30においては、図1,図2に示すように、保持柱31の上端面へ接着剤等により貼り付けられて被洗浄物である光学素子Lが固定されている。
このため、保持具30は、レンズ加工機(製造装置)110において母材から研磨等によってレンズ(光学素子)Lを形成する際の加工治具と共通とすることができる。これにより、レンズ加工機110から保持具30に取り付けられた状態で光学素子Lを取り出し、光学素子Lを保持具30に取り付けられたままで、洗浄槽10の中に導入できる。従って、レンズ加工後に光学素子Lの面に付着している汚れを、加工直後に待ち時間なく除去することが可能となる。
In the holder 30, as shown in FIGS. 1 and 2, the optical element L that is an object to be cleaned is fixed to the upper end surface of the holding column 31 with an adhesive or the like.
For this reason, the holder 30 can be made common with a processing jig used when the lens (optical element) L is formed from the base material by polishing or the like in the lens processing machine (manufacturing apparatus) 110. Accordingly, the optical element L can be taken out from the lens processing machine 110 while being attached to the holder 30, and the optical element L can be introduced into the cleaning tank 10 while being attached to the holder 30. Accordingly, it is possible to remove the dirt adhering to the surface of the optical element L after the lens processing without waiting time immediately after the processing.

なお、光学素子Lの保持柱31への固定は接着剤に限らない。例えば、保持柱31の上端に設けた吸引穴とこれに接続された減圧器を有する吸着機構等によって、被洗浄物である光学素子Lを保持柱31の上端に対して固定および固定解除することもできる。   The fixing of the optical element L to the holding column 31 is not limited to an adhesive. For example, the optical element L, which is an object to be cleaned, is fixed and released from the upper end of the holding column 31 by a suction mechanism having a suction hole provided at the upper end of the holding column 31 and a decompressor connected to the suction hole. You can also.

封止部材50は、図1,図2に示すように、保持柱31の基部に一体とされた平板蓋体51とされる。平板蓋体51は、図1,図2に示すように、その上面が滑らかな平板とされて、面一とされた洗浄槽10底部開口11の下端に対して、保持柱31周囲に位置する平板蓋体51表面が均一に当接可能とされている。平板蓋体51を洗浄槽10底部開口11の下端に対して当接した状態で洗浄槽10を容易に封止することが可能となる。
封止部材50は、被洗浄物Lを保持する保持具30を出し入れする底部開口11を開閉する蓋として作用する。
As shown in FIGS. 1 and 2, the sealing member 50 is a flat lid 51 integrated with the base of the holding column 31. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the flat plate lid 51 is positioned around the holding column 31 with respect to the lower end of the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 whose upper surface is a smooth flat plate. The surface of the flat lid 51 can be contacted uniformly. The cleaning tank 10 can be easily sealed in a state in which the flat lid 51 is in contact with the lower end of the bottom opening 11 of the cleaning tank 10.
The sealing member 50 acts as a lid that opens and closes the bottom opening 11 through which the holder 30 that holds the cleaning object L is taken in and out.

上下動アクチュエータ40は、図1,図2に示すように、搬送装置130によって製造装置110から搬出されてきた保持具30と封止部材50とを、一体として上昇させるロボットアーム等である。上下動アクチュエータ40は、略水平に設けられてその先端で保持具30と封止部材50とを保持可能である水平方向に伸縮可能なアーム(ロボットアーム)41と、アーム41の基部42を上下方向に位置規制する上下レール43と、図示しない駆動部とを有する。
上下動アクチュエータ40は制御部70に接続され、制御部70によってその動作を制御可能とされている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the vertical movement actuator 40 is a robot arm or the like that raises the holder 30 and the sealing member 50 that have been carried out of the manufacturing apparatus 110 by the transfer device 130 together. The vertically moving actuator 40 is provided substantially horizontally and can extend and retract a horizontally extendable arm (robot arm) 41 capable of holding the holder 30 and the sealing member 50 at its tip, and a base 42 of the arm 41. It has an upper and lower rail 43 that regulates the position in the direction, and a drive unit (not shown).
The vertical movement actuator 40 is connected to the control unit 70, and its operation can be controlled by the control unit 70.

アーム41は、搬送装置130における洗浄槽10の下側位置まで搬送されてきた保持具30と封止部材50とを一体として保持して、上下レール43によって、位置規制された状態で上昇し、保持柱31周囲に位置する平板蓋体51表面が洗浄槽10底部開口11の下端に対して均一に当接する封止位置まで上昇可能である。また、アーム41は、この封止位置から保持具30と封止部材50とを一体として搬送装置130上に載置する搬送位置まで下降可能である。   The arm 41 integrally holds the holder 30 and the sealing member 50 that have been transported to the lower position of the cleaning tank 10 in the transport device 130 and is lifted in a position-controlled state by the upper and lower rails 43. The surface of the flat plate lid 51 located around the holding column 31 can be raised to a sealing position where it is uniformly in contact with the lower end of the bottom opening 11 of the cleaning tank 10. Further, the arm 41 can be lowered from the sealing position to a conveying position where the holder 30 and the sealing member 50 are integrally placed on the conveying device 130.

なお、図において上下動アクチュエータ40は、簡略化して示しているが、保持具30と封止部材50とを一体として上下動可能とするとともに、洗浄槽10を封止することが可能な構成であれば限定されるものではない。上下動アクチュエータ40は、アーム41途中に折れ曲がり可能な関節となるジョイント部、あるいは、アーム41先端の角度を変更する角度変更部、あるいは、これ以外の構成を有することもできる。   Although the vertical movement actuator 40 is shown in a simplified manner in the figure, the holder 30 and the sealing member 50 can be moved up and down integrally, and the cleaning tank 10 can be sealed. It is not limited as long as it is. The vertical movement actuator 40 may have a joint part that becomes a joint that can be bent in the middle of the arm 41, an angle changing part that changes the angle of the tip of the arm 41, or other configurations.

例えば、保持具30を駆動する上下動アクチュエータ40として、ロボット以外にエアーシリンダーや機構移動などの構成とすることもでき、さらに、洗浄槽10を移動させて保持具30と底部開口11とを水密に閉塞させる構成とすることも可能である。   For example, the vertical movement actuator 40 that drives the holder 30 can be configured to move the air cylinder or the mechanism in addition to the robot. Further, the cleaning tank 10 is moved to make the holder 30 and the bottom opening 11 watertight. It is also possible to have a configuration in which the door is closed.

排出機構60は、図1に示すように、洗浄時に洗浄槽10から洗浄液を排出するものとされ、底部開口11、および、洗浄液を排出可能な位置として設けられた排出口61、および、排出を貯留する排出タンク62とを有するものとされる。本実施形態における排出口61は、洗浄槽10の底部開口11付近の側面に設けられた貫通孔とされることができる。   As shown in FIG. 1, the discharge mechanism 60 discharges the cleaning liquid from the cleaning tank 10 at the time of cleaning, and includes a bottom opening 11, a discharge port 61 provided as a position where the cleaning liquid can be discharged, and a discharge It has the discharge tank 62 to store. The discharge port 61 in the present embodiment can be a through hole provided on a side surface near the bottom opening 11 of the cleaning tank 10.

排出口61は、洗浄液を効率よく排出することが可能な適度に大きな断面積を有する。また、その断面形状および配置個数は、洗浄液を効率よく排出することが可能な適度に適宜設定することができる。   The discharge port 61 has a moderately large cross-sectional area that can efficiently discharge the cleaning liquid. Moreover, the cross-sectional shape and the number of arrangement can be appropriately set appropriately so that the cleaning liquid can be efficiently discharged.

なお、洗浄終了後には、主として洗浄槽10の底部開口11が排出機構60として用いられる。このため、排出タンク62は、洗浄終了後に開放された洗浄槽10の底部開口11、および、この下方に位置する封止部材50から流下(滴下)する排出を受けることが可能なように配置される。   In addition, after completion | finish of washing | cleaning, the bottom part opening 11 of the washing tank 10 is mainly used as the discharge mechanism 60. FIG. For this reason, the discharge tank 62 is arranged so as to be able to receive the discharge flowing down (dropping) from the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 opened after the end of the cleaning and the sealing member 50 positioned below this. The

距離設定部材/機構(距離設定機構)80は、洗浄時における洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を設定する部材または機構とされる。図1に示すように、保持柱31の平板蓋体51表面からの高さt2は固定されているため、光学素子Lの厚さt3によって、洗浄時に、その上面の高さが変化してしまうことになる。   The distance setting member / mechanism (distance setting mechanism) 80 is a member or mechanism that sets the distance t1 between the cleaning nozzle 20 tip 20a and the optical element L to be cleaned at the tip of the holding column 31 during cleaning. As shown in FIG. 1, since the height t2 of the holding column 31 from the surface of the flat plate lid 51 is fixed, the height of the upper surface changes during cleaning depending on the thickness t3 of the optical element L. It will be.

これに対応して、距離t1を洗浄に効果的な範囲に設定するために、距離設定部材/機構80は、本実施形態において、図1に示すように、洗浄槽10の底部開口11に取り付け可能なリング(スペーサ)81とされる。   Correspondingly, in order to set the distance t1 within an effective range for cleaning, the distance setting member / mechanism 80 is attached to the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 as shown in FIG. A possible ring (spacer) 81 is provided.

リング81は、図1に示すように、厚さt4とされる寸法を有し、洗浄槽10の底部開口11と同径で同厚の下端部を有する同材のものとされ、洗浄槽10の底部開口11に取り付けに取り付けた際には、その内面が洗浄槽10の底部開口11の内壁と面一となるようにされている。   As shown in FIG. 1, the ring 81 has the same dimension as the thickness t <b> 4, is made of the same material having the same diameter and the same thickness as the bottom opening 11 of the cleaning tank 10, and the cleaning tank 10. When attached to the bottom opening 11, the inner surface thereof is flush with the inner wall of the bottom opening 11 of the cleaning tank 10.

リング81を洗浄槽10の底部開口11に取り付けることにより、リング81を取り付けない場合に比べて、平板蓋体51表面の高さ位置が、厚さt4に対応する高さだけ下側に下がった位置となる。これにより、リング81を取り付けない場合に比べて、厚さt4に対応する高さだけ保持柱31先端が下側に下がった位置となり、光学素子Lの厚さt3が大きなものに対しても、洗浄時における洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を好ましい範囲とすることができる。
また、薄い光学素子Lに対しては、リング81を洗浄槽10の底部開口11に取り付けない状態で洗浄をおこなうものとされる。
By attaching the ring 81 to the bottom opening 11 of the cleaning tank 10, the height position of the surface of the flat plate lid 51 is lowered by a height corresponding to the thickness t <b> 4 as compared with the case where the ring 81 is not attached. Position. Thereby, compared with the case where the ring 81 is not attached, the tip of the holding column 31 is lowered by a height corresponding to the thickness t4, and the optical element L has a large thickness t3. The distance t1 between the cleaning nozzle 20 tip 20a during cleaning and the optical element L to be cleaned at the tip of the holding column 31 can be set within a preferable range.
Further, the thin optical element L is cleaned in a state where the ring 81 is not attached to the bottom opening 11 of the cleaning tank 10.

なお、リング81は、厚さt4として、異なる種類の光学素子Lの厚さ寸法t3に対応するものを多種類用意しておくことが好ましい。   In addition, it is preferable to prepare many types of rings 81 corresponding to the thickness dimension t3 of different types of optical elements L as the thickness t4.

次に、本実施形態における洗浄方法について説明する。   Next, the cleaning method in this embodiment will be described.

図3は、本実施形態における洗浄方法を示すフローチャートである。
本実施形態における洗浄方法は、図3に示すように、レンズ厚み設定工程S01と、準備工程S02と、ノズル距離設定工程S03と、レンズ加工工程S04と、搬入工程S05と、上昇密閉工程S06と、噴射洗浄工程S07と、排出工程S08と、乾燥工程S09と、下降開放工程S10と、搬出工程S11と、検査工程S12と、を有するものとされる。
FIG. 3 is a flowchart showing the cleaning method in the present embodiment.
As shown in FIG. 3, the cleaning method in the present embodiment includes a lens thickness setting step S01, a preparation step S02, a nozzle distance setting step S03, a lens processing step S04, a carry-in step S05, and a rising sealing step S06. The spray cleaning step S07, the discharge step S08, the drying step S09, the descending / opening step S10, the unloading step S11, and the inspection step S12.

図4〜図9は、本実施形態の洗浄方法における洗浄装置の動作を示す模式正断面図である。なお、これらの各図においては、適宜、工程の説明に即して構成を省略して示すことがある。
本実施形態における洗浄方法は、洗浄の前工程として、まず、図3に示すレンズ厚み設定工程S01において、洗浄する被洗浄物とされる光学素子(レンズ)Lの厚さt3、および、保持具30の保持柱31の高さt2等の寸法をあらかじめ設定する。
4 to 9 are schematic front sectional views showing the operation of the cleaning apparatus in the cleaning method of the present embodiment. In each of these drawings, the configuration may be omitted as appropriate in accordance with the description of the process.
In the cleaning method of the present embodiment, as a pre-cleaning process, first, in the lens thickness setting process S01 shown in FIG. 3, the thickness t3 of the optical element (lens) L to be cleaned and the holder The dimensions such as the height t2 of the 30 holding columns 31 are set in advance.

次いで、洗浄の前工程として、図3に示す準備工程S02として、保持具30の保持柱31先端に、光学素子(レンズ)Lに加工される母材を固定する。   Next, as a pre-cleaning step, as a preparatory step S02 shown in FIG. 3, the base material to be processed into the optical element (lens) L is fixed to the tip of the holding column 31 of the holder 30.

次いで、図3に示すノズル距離設定工程S03として、洗浄するレンズ(光学素子)Lの厚さt3に対応して、洗浄時における洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を設定する。このときに、洗浄ノズル20先端とレンズLの距離t1は、洗浄処理前に汚れ除去の効果が最大となる距離範囲を事前に確認して設定する。   Next, as a nozzle distance setting step S03 shown in FIG. 3, corresponding to the thickness t3 of the lens (optical element) L to be cleaned, the object to be cleaned at the tip 20a of the cleaning nozzle 20 and the tip of the holding column 31 at the time of cleaning is used. A distance t1 from the optical element L is set. At this time, the distance t1 between the tip of the cleaning nozzle 20 and the lens L is set by confirming in advance a distance range in which the effect of removing dirt is maximized before the cleaning process.

この距離t1を設定するために、図4に示すように、レンズLの厚さt3に対応する厚さt4を有する距離設定部材/機構80としてのリング81を洗浄槽10の底部開口11に取り付ける。   In order to set the distance t1, as shown in FIG. 4, a ring 81 as a distance setting member / mechanism 80 having a thickness t4 corresponding to the thickness t3 of the lens L is attached to the bottom opening 11 of the cleaning tank 10. .

具体的には、例えば、厚さt3が比較的小さな光学素子L1に対しては、図4(a)に示すように、厚さt3に対応して厚さt4の比較的小さなリング81aを対応させ、厚さt3が比較的大きな光学素子Lに対しては、図4(b)に示すように、厚さt3に対応して厚さt4の比較的大きなリング81を対応させる。   Specifically, for example, a relatively small ring 81a having a thickness t4 corresponding to the thickness t3 corresponds to the optical element L1 having a relatively small thickness t3 as shown in FIG. Then, for the optical element L having a relatively large thickness t3, as shown in FIG. 4B, a ring 81 having a relatively large thickness t4 is made to correspond to the thickness t3.

ここで、距離t1は、洗浄ノズル20から噴出する洗浄液によって、効果的に洗浄をおこなうことの可能な範囲となるように設定される。
例えば、距離t1が光学素子Lの材質、洗浄前工程であるレンズ加工工程S04における汚れ等の付着状態、洗浄ノズル20から噴出する洗浄液の圧力等の洗浄条件によって、その最適範囲となるように設定される。これに、固定された保持柱31の平板蓋体51表面からの高さt2を勘案して、対応したリング81の厚さt4が設定される。
Here, the distance t1 is set so as to be within a range in which the cleaning can be effectively performed by the cleaning liquid ejected from the cleaning nozzle 20.
For example, the distance t1 is set so as to be within the optimum range depending on the material of the optical element L, the adhesion state of dirt or the like in the lens processing step S04, which is a pre-cleaning step, and the cleaning conditions such as the pressure of the cleaning liquid ejected from the cleaning nozzle 20. Is done. The thickness t4 of the corresponding ring 81 is set in consideration of the height t2 of the fixed holding column 31 from the surface of the flat plate lid 51.

また、ノズル距離設定工程S03では、レンズ厚み設定工程S01で設定された光学素子Lの種類あるいは厚さt3、および、保持具30の保持柱31の高さt2等の寸法に対応して、後の噴射洗浄工程S07において、後述するように底部開口11と平板蓋体51とを接触させた封止状態で洗浄をおこなうか、それとも、底部開口11と平板蓋体51とを離間させた非封止状態で洗浄をおこなうかを設定する。この底部開口11と平板蓋体51との接触非接触状態は、洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1にも影響するので、噴射洗浄工程S07よりも前の工程におけるノズル距離設定工程S03で設定することが好ましい。   Further, in the nozzle distance setting step S03, the type or thickness t3 of the optical element L set in the lens thickness setting step S01, the dimensions such as the height t2 of the holding column 31 of the holder 30, and the like In the spray cleaning step S07, cleaning is performed in a sealed state in which the bottom opening 11 and the flat cover 51 are brought into contact as described later, or the bottom opening 11 and the flat cover 51 are separated from each other. Set whether to perform cleaning in the stopped state. The contact non-contact state between the bottom opening 11 and the flat lid 51 also affects the distance t1 between the cleaning nozzle 20 tip 20a and the optical element L to be cleaned at the tip of the holding column 31. It is preferable to set in the nozzle distance setting step S03 in the step before S07.

なお、ノズル距離設定工程S03は、レンズ厚み設定工程S01で設定された光学素子Lの厚さt3等の寸法に基づいて、レンズ厚み設定工程S01および/または準備工程S02と前後するか同時並行でおこなうことができる。   The nozzle distance setting step S03 may be performed before or after the lens thickness setting step S01 and / or the preparation step S02 based on the dimensions such as the thickness t3 of the optical element L set in the lens thickness setting step S01. Can be done.

次いで、洗浄の前工程として、図3に示すレンズ加工工程S04として、製造装置110において、保持具30の保持柱31先端に固定された母材を研磨等の手法により光学素子(レンズ)Lに加工する。   Next, as a pre-cleaning process, as a lens processing step S04 shown in FIG. 3, in the manufacturing apparatus 110, the base material fixed to the tip of the holding column 31 of the holder 30 is applied to the optical element (lens) L by a technique such as polishing. Process.

次いで、図3に示す搬入工程S05として、前工程であるレンズ加工工程S04を終えた保持具30を、図4に示すように、ベルトコンベア130で製造装置110から搬出させて、ロボットアーム41によって保持し、洗浄槽20の下側に移動させる。   Next, as the carrying-in process S05 shown in FIG. 3, the holder 30 that has finished the lens processing process S04 as the previous process is carried out from the manufacturing apparatus 110 by the belt conveyor 130 as shown in FIG. Hold and move to the lower side of the washing tank 20.

このとき、ベルトコンベア130は、保持具30が所定の位置まで移動してくると、図示しない位置センサが作動し、保持具(治具)30が停止位置となるように停止する。ベルトコンベア130の停止後に、制御部70からの信号により上下動アクチュエータ40が保持具30を保持して、ロボットアーム41によって洗浄槽10底部開口11下側位置まで搬送する。   At this time, when the holding tool 30 moves to a predetermined position, the belt conveyor 130 is operated so that a position sensor (not shown) is operated and the holding tool (jig) 30 is stopped. After stopping the belt conveyor 130, the vertical movement actuator 40 holds the holder 30 by a signal from the control unit 70 and conveys it to the lower position of the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 by the robot arm 41.

この際、レンズ加工機110で使用している保持具30は洗浄装置100と共通で使用可能なように設定しているので、ベルトコンベア130で接続されたレンズ加工機110と洗浄装置100とで、保持具30を移動させるだけで加工後に洗浄することができる。   At this time, since the holder 30 used in the lens processing machine 110 is set so as to be used in common with the cleaning apparatus 100, the lens processing machine 110 and the cleaning apparatus 100 connected by the belt conveyor 130 are used. By simply moving the holder 30, it can be cleaned after processing.

次いで、図3に示す上昇密閉工程S06として、保持具30を上下動アクチュエータ40により上昇させて、図5に示すように、洗浄槽10の底部開口11から光学素子Lを挿入(導入)する。このとき、保持柱31先端に固定された光学素子Lが、洗浄ノズル20の鉛直下向き直下位置となるように位置設定される。同時に、保持具30と一体とされた封止部材50を上下動アクチュエータ40により上昇させて、平板蓋体51の保持柱31周囲表面を洗浄槽10の底部開口11の全周に当接させることで、洗浄槽10を封止する。   Next, as the ascending and closing step S06 shown in FIG. 3, the holder 30 is raised by the vertical movement actuator 40, and the optical element L is inserted (introduced) from the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 as shown in FIG. At this time, the position of the optical element L fixed to the tip of the holding column 31 is set so as to be directly below the cleaning nozzle 20. At the same time, the sealing member 50 integrated with the holder 30 is raised by the vertical movement actuator 40 so that the surface around the holding column 31 of the flat lid 51 is brought into contact with the entire circumference of the bottom opening 11 of the cleaning tank 10. Then, the cleaning tank 10 is sealed.

ここで、光学素子Lの位置設定としては、ロボットアーム41により上昇させた平板蓋体51が洗浄槽10の底面開口11に密着することで、保持具30が上下方向に位置規制されて停止することにより、洗浄槽10の所定位置にレンズLをセットすることができる。
なお、平板蓋体51の表面が当接する洗浄槽10の底部開口11とは、ここでは、取り付けられたリング81の下端を意味する。
Here, as the position setting of the optical element L, the flat plate lid 51 raised by the robot arm 41 is brought into close contact with the bottom opening 11 of the cleaning tank 10, so that the holder 30 is restricted in the vertical direction and stopped. Thus, the lens L can be set at a predetermined position in the cleaning tank 10.
In addition, the bottom part opening 11 of the washing tank 10 with which the surface of the flat cover body 51 abuts here means the lower end of the attached ring 81.

このように、平板蓋体51の表面を洗浄槽10の底部開口11の全周に当接させることで、保持柱31の先端が、リング81を取り付けないときに比べて、リング81の厚さt4分だけ洗浄ノズル20から下側に離間した位置となる。これにより、洗浄ノズル20の先端である下端部から保持柱31上端に固定された被洗浄物である光学素子Lまでの距離t1を、ノズル距離設定工程S03で設定した洗浄に適した範囲とすることができる。   In this way, by bringing the surface of the flat plate lid 51 into contact with the entire periphery of the bottom opening 11 of the cleaning tank 10, the tip of the holding column 31 is thicker than the ring 81 when not attached. The position is separated from the cleaning nozzle 20 downward by t4. Thereby, the distance t1 from the lower end part which is the front-end | tip of the cleaning nozzle 20 to the optical element L which is the to-be-cleaned object fixed to the upper end of the holding column 31 is set to a range suitable for the cleaning set in the nozzle distance setting step S03. be able to.

次いで、図3に示す噴射洗浄工程S07として、制御部70により、図1に示す供給ユニット21のポンプ21bを作動して、洗浄液貯留部21aに貯留された純水とされる洗浄液を圧送する、同時に、制御部70により、図1に示すレギュレータ21dで所定の圧力とした洗浄液を圧送し、制御部70により電磁バルブ21eを開状態とする。これにより、フィルタ21cでろ過した洗浄液が洗浄ノズル20に供給される。   Next, as the jet cleaning step S07 shown in FIG. 3, the control unit 70 operates the pump 21b of the supply unit 21 shown in FIG. 1 to pump the cleaning liquid to be pure water stored in the cleaning liquid storage unit 21a. At the same time, the controller 70 pumps the cleaning liquid having a predetermined pressure by the regulator 21d shown in FIG. 1, and the controller 70 opens the electromagnetic valve 21e. Thereby, the cleaning liquid filtered by the filter 21 c is supplied to the cleaning nozzle 20.

これにより、図6に示すように、上昇密閉工程S06でセットした光学素子Lに対して、洗浄ノズル20から光学素子Lに洗浄液を噴射して、吹き付けられた洗浄液が表面に付着した汚れにぶつけられて、光学素子L表面からこれを除去する。   As a result, as shown in FIG. 6, the cleaning liquid is sprayed from the cleaning nozzle 20 onto the optical element L to the optical element L set in the ascending and sealing step S06, and the sprayed cleaning liquid hits the dirt adhering to the surface. This is removed from the surface of the optical element L.

噴射洗浄工程S07においては、図6に示すように、光学素子L表面に当接した洗浄液は、洗浄槽10の側面に設けられた排出口61から外部の排出タンク62に排出されることができる。排出口61は、洗浄槽10内に洗浄液が溜まってもレンズ1が浸漬しない高さ位置に設けられており、洗浄液の排出と洗浄液噴射時の洗浄槽10内の圧力調整をおこなうことが可能である。
噴射洗浄工程S07としての排出を、次の排出工程S08として平行しておこなうことが可能である。
In the jet cleaning step S07, as shown in FIG. 6, the cleaning liquid that has come into contact with the surface of the optical element L can be discharged from the discharge port 61 provided on the side surface of the cleaning tank 10 to the external discharge tank 62. . The discharge port 61 is provided at a height position at which the lens 1 is not immersed even when the cleaning liquid accumulates in the cleaning tank 10, and can discharge the cleaning liquid and adjust the pressure in the cleaning tank 10 when the cleaning liquid is jetted. is there.
The discharge as the jet cleaning step S07 can be performed in parallel as the next discharge step S08.

噴射洗浄工程S07においては、加圧された洗浄液を洗浄ノズル20から噴射させるが、光学素子Lの周囲が洗浄槽10で囲われているので洗浄液の飛散は防止することができる。   In the spray cleaning step S07, the pressurized cleaning liquid is sprayed from the cleaning nozzle 20, but since the periphery of the optical element L is surrounded by the cleaning tank 10, scattering of the cleaning liquid can be prevented.

本実施形態における噴射洗浄工程S07においては、洗浄ノズル20から二流体ジェットを噴射されるものとすることもできる。
二流体ジェットは、圧縮空気の力で洗浄液を洗浄ノズル20内に供給し、洗浄ノズル20先端で洗浄液が微細化され、空気圧力で吹き付けられ光学素子Lの表面の汚れを除去する。
In the jet cleaning step S07 in the present embodiment, a two-fluid jet may be jetted from the cleaning nozzle 20.
The two-fluid jet supplies cleaning liquid into the cleaning nozzle 20 with the force of compressed air, the cleaning liquid is refined at the front end of the cleaning nozzle 20, and is sprayed with air pressure to remove dirt on the surface of the optical element L.

この場合、供給ユニット21と同時に、制御部70により、図1に示す供給ユニット22のコンプレッサ22aを作動して空気等を圧縮するとともに、制御部70により、図1に示すレギュレータ22cで所定の圧力とした圧縮空気を圧送し、制御部70により電磁切り替えバルブ22dを開状態とすることにより、フィルタ22bで塵埃等の不純物を取り除いた気体を洗浄ノズル20に供給するものとされる。
二流体ジェットは高圧な空気で洗浄液を噴射させるが、光学素子L周辺が洗浄槽10で囲われているので洗浄液の飛散を防止できる。
In this case, simultaneously with the supply unit 21, the control unit 70 operates the compressor 22a of the supply unit 22 shown in FIG. 1 to compress air and the like, and the control unit 70 uses the regulator 22c shown in FIG. The compressed air is pumped and the electromagnetic switching valve 22d is opened by the control unit 70, whereby the gas from which impurities such as dust are removed by the filter 22b is supplied to the cleaning nozzle 20.
The two-fluid jet jets the cleaning liquid with high-pressure air. However, since the periphery of the optical element L is surrounded by the cleaning tank 10, the cleaning liquid can be prevented from scattering.

また、二流体ジェットを洗浄ノズル20から噴射する場合でも、排出口61は、洗浄槽10内に液体が溜まっても光学素子Lが浸漬しない位置に設けられることができる。排出口61は、排出ならびに排気の機能を充分に果たすように、洗浄槽20からの排出機能と空気噴射時の洗浄槽20内の圧力調整とを可能な状態として、その配置、断面形状、接続状態が設定され、純水の排出タンク62への排出がおこなわれる。したがって、排気用の排出口を洗浄槽上部に設けることもできる。   Further, even when the two-fluid jet is ejected from the cleaning nozzle 20, the discharge port 61 can be provided at a position where the optical element L is not immersed even when liquid is accumulated in the cleaning tank 10. The discharge port 61 is in a state in which the discharge function from the cleaning tank 20 and the pressure adjustment in the cleaning tank 20 at the time of air injection can be performed so that the functions of discharging and exhausting can be sufficiently performed. The state is set, and pure water is discharged to the discharge tank 62. Accordingly, an exhaust outlet can be provided at the upper part of the cleaning tank.

さらに、二流体ジェットを洗浄ノズル20から噴出する場合、ノズル距離設定工程S03において、洗浄液供給量、気体供給量、およびこれらの圧力条件、洗浄ノズル20の口径、等を勘案して、距離t1を、洗浄ノズル20から噴出する気液混合流体によって、効果的に洗浄をおこなうことの可能な範囲となるように設定される。   Further, when the two-fluid jet is ejected from the cleaning nozzle 20, in the nozzle distance setting step S03, the distance t1 is set in consideration of the cleaning liquid supply amount, the gas supply amount, these pressure conditions, the diameter of the cleaning nozzle 20, and the like. The gas-liquid mixed fluid ejected from the cleaning nozzle 20 is set to be within a range where cleaning can be performed effectively.

噴射洗浄工程S07を開始してから、設定した所定の洗浄時間が経過すると、制御部70により、図1に示す供給ユニット21のポンプ21bとレギュレータ21dとを停止して、電磁バルブ21eを閉状態とする。これにより、洗浄ノズル20への洗浄液の供給を停止し、噴射洗浄工程S07を終了する。   When the set cleaning time has elapsed since the start of the spray cleaning step S07, the controller 70 stops the pump 21b and the regulator 21d of the supply unit 21 shown in FIG. 1, and closes the electromagnetic valve 21e. And Thereby, the supply of the cleaning liquid to the cleaning nozzle 20 is stopped, and the jet cleaning step S07 is ended.

ここで、二流体ジェットを洗浄ノズル20から噴出した場合には、設定した所定の洗浄時間が経過すると、供給ユニット21と同時に、制御部70により、図1に示す供給ユニット22のコンプレッサ22aとレギュレータ22cとを停止して、電磁切り替えバルブ22dを閉状態とすることにより、洗浄ノズル20への気体の供給が停止される。   Here, when the two-fluid jet is ejected from the cleaning nozzle 20, when the predetermined cleaning time has elapsed, the control unit 70 and the compressor 22a and the regulator of the supply unit 22 shown in FIG. The supply of the gas to the cleaning nozzle 20 is stopped by stopping 22c and closing the electromagnetic switching valve 22d.

次に、図3に示す排出工程S08として、図7に示すように、洗浄液は、洗浄槽10の側面に設けられた排出口61から外部の排出タンク62に排出される。
このとき、さらに排出を促進するために、上下動アクチュエータ30を駆動させることにより、封止部材50の平板蓋体51を下降させ、洗浄槽10の底部開口11と離間させることで、洗浄槽10の底部付近に溜まっていた洗浄液を平板蓋体51と底部開口11との隙間から排出してもよい。
なお、排出口61が洗浄槽10の底面開口11付近に設けられた場合には、洗浄槽10の底部開口11と平板蓋体51とを離間させないで洗浄液を外部に排出させることもできる。
Next, as a discharge step S08 shown in FIG. 3, as shown in FIG. 7, the cleaning liquid is discharged from the discharge port 61 provided on the side surface of the cleaning tank 10 to the external discharge tank 62.
At this time, in order to further promote the discharge, the vertical movement actuator 30 is driven to lower the flat cover 51 of the sealing member 50 and to be separated from the bottom opening 11 of the cleaning tank 10. The cleaning liquid that has accumulated in the vicinity of the bottom of the plate may be discharged from the gap between the flat plate lid 51 and the bottom opening 11.
When the discharge port 61 is provided in the vicinity of the bottom opening 11 of the cleaning tank 10, the cleaning liquid can be discharged outside without separating the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 and the flat lid 51.

もちろん、排出口61を設けずに、洗浄槽10の底部開口11と平板蓋体51を離間した隙間だけから洗浄液を排出するようにもできる。この際、もし光学素子Lを洗浄水に浸漬することが不具合である場合には、二流体ジェットの噴出量を抑える等すればよい。   Of course, without providing the discharge port 61, the cleaning liquid can be discharged only from the gap between the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 and the flat lid 51. At this time, if it is a problem to immerse the optical element L in the cleaning water, the amount of jetting of the two-fluid jet may be suppressed.

また、底部開口11と平板蓋体51とを離間させる距離は、洗浄槽10から排出可能な程度とすることができる。
平板蓋体51の下方には、流下または滴下する排出液を受けるとともに排出タンク62に接続された受け部63を設けることができる。
Moreover, the distance which separates the bottom part opening 11 and the flat cover 51 can be made into the grade which can be discharged | emitted from the washing tank 10. FIG.
Below the flat lid 51, a receiving portion 63 that receives the drained liquid flowing down or dripping and connected to the drain tank 62 can be provided.

次いで、図3に示す乾燥工程S09として、洗浄液が排出できたところで、図8に示すように、乾燥用の気体とされる高圧な空気を洗浄ノズル20から光学素子Lに噴射して、光学素子L表面に付着した洗浄液を除去する。   Next, as the drying step S09 shown in FIG. 3, when the cleaning liquid has been discharged, as shown in FIG. 8, high-pressure air, which is a drying gas, is jetted from the cleaning nozzle 20 onto the optical element L, so that the optical element The cleaning liquid adhering to the L surface is removed.

このとき、制御部70により、図1に示す供給ユニット22のコンプレッサ22aを作動して空気等を圧縮するとともに、制御部70により、図1に示すレギュレータ22cで所定の圧力とした圧縮空気を圧送し、制御部70により電磁切り替えバルブ22dを開状態とすることにより、フィルタ22bで塵埃等の不純物を取り除いた気体を洗浄ノズル20に供給するものとされる。   At this time, the control unit 70 operates the compressor 22a of the supply unit 22 shown in FIG. 1 to compress air and the like, and the control unit 70 pumps compressed air having a predetermined pressure by the regulator 22c shown in FIG. Then, by opening the electromagnetic switching valve 22d by the control unit 70, the gas from which impurities such as dust are removed by the filter 22b is supplied to the cleaning nozzle 20.

これにより、フィルタ22bでろ過された0.5Mpaの空気が乾燥口となる洗浄ノズル20を通じて光学素子Lに噴射され、光学素子Lの面に付着していた水滴を除去して乾燥させる。
光学素子L表面から吹き飛ばされた洗浄液は、洗浄槽10の側面に設けられた排出口61から外部の排出タンク62に排出される。
Thereby, 0.5 Mpa air filtered by the filter 22b is sprayed to the optical element L through the cleaning nozzle 20 serving as a drying port, and water droplets adhering to the surface of the optical element L are removed and dried.
The cleaning liquid blown off from the surface of the optical element L is discharged from the discharge port 61 provided on the side surface of the cleaning tank 10 to the external discharge tank 62.

あるいは、上下動アクチュエータ40を駆動させることにより、封止部材50の平板蓋体51を下降させ、洗浄槽10の底部開口11と離間させることで、洗浄槽10の底部付近に吹き飛ばされた洗浄液を平板蓋体51と底部開口11との隙間から排出してもよい。
なお、排出口61が洗浄槽10の底面開口11付近に設けられた場合には、洗浄槽10の底部開口11と離間させないで洗浄液を外部に排出させることもできる。
Alternatively, by driving the vertical movement actuator 40, the flat lid 51 of the sealing member 50 is lowered and separated from the bottom opening 11 of the cleaning tank 10, so that the cleaning liquid blown off near the bottom of the cleaning tank 10 can be removed. You may discharge | emit from the clearance gap between the flat cover body 51 and the bottom part opening 11. FIG.
When the discharge port 61 is provided near the bottom opening 11 of the cleaning tank 10, the cleaning liquid can be discharged outside without being separated from the bottom opening 11 of the cleaning tank 10.

乾燥工程S09を開始してから、設定した所定の乾燥時間が経過すると、制御部70により、図1に示す供給ユニット22のコンプレッサ22aとレギュレータ22cとを停止して、電磁バルブ22dを閉状態とする。乾燥させる時間はタイマで制御し、タイマ時間経過後にバルブ22dを閉じて乾燥を完了する。
これにより、洗浄ノズル20への気体の供給を停止し、乾燥工程S09を終了する。
When a predetermined drying time has elapsed since the start of the drying step S09, the control unit 70 stops the compressor 22a and the regulator 22c of the supply unit 22 shown in FIG. 1, and closes the electromagnetic valve 22d. To do. The drying time is controlled by a timer, and after the timer time has elapsed, the valve 22d is closed to complete the drying.
Thereby, supply of the gas to the washing nozzle 20 is stopped, and drying process S09 is complete | finished.

次いで、図3に示す下降開放工程S10として、保持具30と一体とされた封止部材50を上下動アクチュエータ40により下降させて、図9に示すように、保持柱31周囲表面が洗浄槽10の底部開口11の全周に当接していた平板蓋体51を離間させることで、洗浄槽10の封止を解除する。同時に、保持具30を上下動アクチュエータ40により下降させて、洗浄槽10の底部開口11から光学素子Lを抜出する。   Next, as the lowering and opening step S10 shown in FIG. 3, the sealing member 50 integrated with the holder 30 is lowered by the vertical movement actuator 40, and as shown in FIG. The sealing of the cleaning tank 10 is released by separating the flat plate lid 51 that has been in contact with the entire circumference of the bottom opening 11 of the cleaning tank 10. At the same time, the holder 30 is lowered by the vertical movement actuator 40, and the optical element L is extracted from the bottom opening 11 of the cleaning tank 10.

次いで、図3に示す搬出工程S11として、さらにロボットアーム41が下降し、ロボットアーム41が、保持具30を保持柱31が立設された状態で、図1に示すベルトコンベア130上に戻し、ロボットアーム41から保持具30および封止部材50が開放される。上下動アクチュエータ40から開放された保持具30および封止部材50は、ベルトコンベア130により、洗浄装置100からベルトコンベア130で接続された検査装置120まで搬送され、後工程に移動することになる。   Next, as the unloading step S11 shown in FIG. 3, the robot arm 41 is further lowered, and the robot arm 41 returns the holder 30 to the belt conveyor 130 shown in FIG. The holding tool 30 and the sealing member 50 are released from the robot arm 41. The holder 30 and the sealing member 50 released from the vertical movement actuator 40 are transported from the cleaning device 100 to the inspection device 120 connected by the belt conveyor 130 by the belt conveyor 130 and moved to the subsequent process.

次いで、図3に示す検査工程S12として、ベルトコンベア130で搬送された保持具30は、ベルトコンベア130の停止後に、検査装置120において、保持柱31上端に固定されて洗浄の終了した光学素子Lを検査する。   Next, as the inspection step S12 shown in FIG. 3, the holding device 30 conveyed by the belt conveyor 130 is fixed to the upper end of the holding column 31 in the inspection apparatus 120 after the belt conveyor 130 is stopped, and the optical element L which has been cleaned. Inspect.

この際、検査装置120で使用している保持具30は洗浄装置100と共通で使用可能なように設定しているので、ベルトコンベア130で接続された検査装置120と洗浄装置100とで、保持具30を移動させるだけで洗浄後に検査することができる。   At this time, since the holder 30 used in the inspection device 120 is set so as to be used in common with the cleaning device 100, the inspection device 120 and the cleaning device 100 connected by the belt conveyor 130 hold the holding device 30. Inspection can be performed after cleaning by simply moving the tool 30.

検査終了後に、洗浄が不十分であった場合には、光学素子Lを保持具30ごと、洗浄装置100に戻して再洗浄をおこなう。   If the cleaning is insufficient after the inspection is completed, the optical element L together with the holder 30 is returned to the cleaning device 100 to perform cleaning again.

以上の工程により、被洗浄物(光学素子)Lの洗浄を終了する。   The cleaning of the object to be cleaned (optical element) L is completed through the above steps.

本実施形態においては、上下動アクチュエータ40によって保持具30と封止部材50とを一体として上昇させることで、光学素子Lを洗浄槽10内の洗浄ノズル20直下に配置するとともに、封止部材50を洗浄槽10底部開口11に当接して洗浄槽10内を封止する。これらを同一動作でおこなうことができる。また、その状態で洗浄する際に、洗浄槽10によって洗浄液が回りに飛び散らないようにすることができる。洗浄後に光学素子Lを乾燥させることができる。さらに、洗浄後、上下動アクチュエータ40によって、保持具30と封止部材40を同一動作で下降させることで、洗浄槽10から光学素子Lを取り出すとともに、封止部材40による洗浄槽10の封止を解除することができる。   In the present embodiment, the holder 30 and the sealing member 50 are raised together by the vertical movement actuator 40, whereby the optical element L is disposed immediately below the cleaning nozzle 20 in the cleaning tank 10 and the sealing member 50. Is brought into contact with the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 to seal the inside of the cleaning tank 10. These can be performed in the same operation. Further, when cleaning is performed in this state, the cleaning liquid can be prevented from being scattered around by the cleaning tank 10. The optical element L can be dried after washing. Further, after cleaning, the vertical movement actuator 40 lowers the holder 30 and the sealing member 40 in the same operation, thereby taking out the optical element L from the cleaning tank 10 and sealing the cleaning tank 10 with the sealing member 40. Can be released.

この際、製造装置110と検査装置120とで使用している保持具30は洗浄装置100と共通で使用可能なように設定しているので、ベルトコンベア130で接続された製造装置110と検査装置120と洗浄装置100とで、保持具30を移動させるだけで、光学素子(レンズ)Lの加工直後に、待ち時間なく光学素子Lの面に付着している汚れを加工直後に待ち時間なく除去することができるとともに、洗浄後に待ち時間なく検査することができる。   At this time, since the holder 30 used in the manufacturing apparatus 110 and the inspection apparatus 120 is set to be used in common with the cleaning apparatus 100, the manufacturing apparatus 110 and the inspection apparatus connected by the belt conveyor 130 are set. 120 and the cleaning apparatus 100, by moving the holder 30, immediately after processing of the optical element (lens) L, the dirt adhering to the surface of the optical element L is removed without waiting time immediately after processing. And can be inspected without waiting after cleaning.

以下、本発明に係る洗浄装置、洗浄方法の第2実施形態を、図面に基づいて説明する。   Hereinafter, a cleaning device and a cleaning method according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図10は、本実施形態の洗浄方法における洗浄装置の動作を示す模式正断面図である。
本実施形態において上述した第1実施形態と異なるのは横往復アクチュエータに関する点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
FIG. 10 is a schematic front sectional view showing the operation of the cleaning apparatus in the cleaning method of the present embodiment.
This embodiment is different from the first embodiment described above in respect of the lateral reciprocating actuator, and other corresponding components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

本実施形態の洗浄装置100においては、図10に示すように、横往復アクチュエータ45を有する。   As shown in FIG. 10, the cleaning apparatus 100 according to the present embodiment includes a horizontal reciprocating actuator 45.

横往復アクチュエータ45は、制御部70に接続されて、洗浄時に保持柱31を水平方向に往復移動させるものされ、保持具30および封止部材50を一体的に水平方向に往復移動可能とされている。具体的には、上下動アクチュエータ40のロボットアーム41をその軸線方向に伸縮するように往復駆動する、あるいは、上下動アクチュエータ40のロボットアーム41をその軸線方向と直交する方向に揺動するように駆動するものとされる。   The horizontal reciprocating actuator 45 is connected to the control unit 70 to reciprocate the holding column 31 in the horizontal direction during cleaning, and is capable of reciprocating the holder 30 and the sealing member 50 integrally in the horizontal direction. Yes. Specifically, the robot arm 41 of the vertical movement actuator 40 is reciprocated so as to expand and contract in the axial direction, or the robot arm 41 of the vertical movement actuator 40 is swung in a direction perpendicular to the axial direction. It shall be driven.

本実施形態の洗浄方法においては、図3に示した噴射洗浄工程S07として、制御部70により、図1に示す供給ユニット21のポンプ21bを作動して、洗浄液貯留部21aに貯留された純水とされる洗浄液を圧送する、同時に、制御部70により、図1に示すレギュレータ21dで所定の圧力とした洗浄液を圧送し、制御部70により電磁バルブ21eを開状態とする。これにより、フィルタ21cでろ過した洗浄液が洗浄ノズル20に供給される。   In the cleaning method of the present embodiment, as the jet cleaning step S07 shown in FIG. 3, the control unit 70 operates the pump 21b of the supply unit 21 shown in FIG. 1 to store the pure water stored in the cleaning liquid storage unit 21a. At the same time, the controller 70 pressure-feeds the cleaning liquid having a predetermined pressure by the regulator 21d shown in FIG. 1, and the controller 70 opens the electromagnetic valve 21e. Thereby, the cleaning liquid filtered by the filter 21 c is supplied to the cleaning nozzle 20.

このとき、制御部70により、図10に示すように、横往復アクチュエータ45としてのロボットアーム41を往復駆動または揺動して、保持具30の保持柱31および封止部材50の平板蓋体51を一体的に水平方向に往復移動する。   At this time, as shown in FIG. 10, the controller 70 reciprocates or swings the robot arm 41 as the horizontal reciprocating actuator 45 to hold the holding pillar 31 of the holder 30 and the flat lid 51 of the sealing member 50. Are moved back and forth in the horizontal direction.

これにより、図10に示すように、上昇密閉工程S06でセットした光学素子Lに対して、洗浄ノズル20から往復動作している光学素子Lに洗浄液を噴射して、吹き付けられた洗浄液が表面に付着した汚れにぶつけられて、光学素子L表面からこれを除去する。   As a result, as shown in FIG. 10, the cleaning liquid is sprayed onto the surface of the optical element L set in the rising sealing step S06 from the cleaning nozzle 20 to the optical element L that is reciprocating. It is struck by the adhered dirt and removed from the surface of the optical element L.

本実施形態の洗浄方法においては、洗浄中に光学素子Lの位置を変える揺動工程を追加することで、洗浄ノズル20から噴射される洗浄液あるいは二流体ジェットが当接する位置・角度を変えることができる。このように揺動をおこなうことで、光学素子Lの表面全体に洗浄液あるいは二流体ジェットを均一に当てることができるため、汚れ除去の効果を高めることができる。そのため、汚れの固着強さに応じて揺動工程を追加することが好ましい。   In the cleaning method of the present embodiment, the position / angle at which the cleaning liquid ejected from the cleaning nozzle 20 or the two-fluid jet abuts can be changed by adding a swinging process for changing the position of the optical element L during cleaning. it can. By swinging in this way, the cleaning liquid or the two-fluid jet can be uniformly applied to the entire surface of the optical element L, so that the effect of removing dirt can be enhanced. Therefore, it is preferable to add a swinging process according to the adhesion strength of dirt.

なお、横往復アクチュエータ45による揺動工程の間、封止部材50の平板蓋体51と洗浄槽10の底部開口11との当接位置は変化するが、これらの当接状態は変化しない。つまり、洗浄槽10の底部開口11はその全周で平板蓋体51に当接する状態は維持されている。これにより、洗浄槽10の封止状態、および、ノズル距離設定工程S03として設定された洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1は変化せず、洗浄効率が低下することはない。   During the swinging process by the horizontal reciprocating actuator 45, the contact position between the flat lid 51 of the sealing member 50 and the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 changes, but the contact state does not change. In other words, the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 is maintained in contact with the flat plate lid 51 on the entire circumference. Thus, the sealing state of the cleaning tank 10 and the distance t1 between the cleaning nozzle 20 tip 20a set as the nozzle distance setting step S03 and the optical element L to be cleaned at the tip of the holding column 31 do not change. The cleaning efficiency is not reduced.

なお、揺動を行うことで、噴出された洗浄液や高圧噴流を光学素子Lの表面に均一に当てることができるため、汚れ除去の効果を高めることができる。そのため、汚れの固着強さに応じて他の実施形態においても揺動工程を追加することが好ましい。   In addition, since the ejected cleaning liquid and the high-pressure jet can be uniformly applied to the surface of the optical element L by swinging, the effect of removing dirt can be enhanced. Therefore, it is preferable to add a swinging process also in other embodiments according to the adhesion strength of dirt.

以下、本発明に係る洗浄装置、洗浄方法の第3実施形態を、図面に基づいて説明する。   Hereinafter, a third embodiment of a cleaning apparatus and a cleaning method according to the present invention will be described with reference to the drawings.

図11は、本実施形態の洗浄方法における洗浄装置の動作を示す模式正断面図である。
本実施形態において上述した第1および第2実施形態と異なるのは距離設定部材/機構に関する点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
FIG. 11 is a schematic front sectional view showing the operation of the cleaning apparatus in the cleaning method of the present embodiment.
This embodiment is different from the first and second embodiments described above in respect of the distance setting member / mechanism, and other corresponding components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

本実施形態の洗浄装置100においては、図11に示すように、距離設定部材/機構80として、保持柱31の高さt2を設定する構成を有する。   As shown in FIG. 11, the cleaning apparatus 100 of the present embodiment has a configuration that sets the height t <b> 2 of the holding column 31 as the distance setting member / mechanism 80.

本実施形態においては、図11に示すように、保持柱31が上保持柱31aと下保持柱31bとに分割されており、これらがネジ部83により螺合された構成とされている。
ネジ部83により上保持柱31aを下保持柱31bに対して回転させることで、保持柱31の高さt2が変化することで、距離設定部材/機構80として光学素子Lの厚さt3の規格の違いに対応し、洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を設定することができる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 11, the holding column 31 is divided into an upper holding column 31 a and a lower holding column 31 b, and these are screwed by a screw portion 83.
The height t2 of the holding column 31 is changed by rotating the upper holding column 31a with respect to the lower holding column 31b by the screw portion 83, whereby the standard of the thickness t3 of the optical element L as the distance setting member / mechanism 80 is changed. The distance t1 between the cleaning nozzle 20 tip 20a and the optical element L to be cleaned at the tip of the holding column 31 can be set.

本実施形態の洗浄方法においては、準備工程S02においてネジ部83により上保持柱31aを下保持柱31bに対して回転させ、保持柱31の高さt2を設定するか、ノズル距離設定工程S03においてネジ部83により上保持柱31aを下保持柱31bに対して回転させ、保持柱31の高さt2を設定することができる。   In the cleaning method of the present embodiment, the upper holding column 31a is rotated with respect to the lower holding column 31b by the screw portion 83 in the preparation step S02, and the height t2 of the holding column 31 is set, or in the nozzle distance setting step S03. The height t2 of the holding column 31 can be set by rotating the upper holding column 31a with respect to the lower holding column 31b by the screw portion 83.

本実施形態においては、異なる種類の光学素子Lの厚さ寸法t3に対応して、異なる厚さt4のリング81を多種類用意しておく必要がなく、一種類の保持具30により、多品種の光学素子Lに対応することができる。   In the present embodiment, it is not necessary to prepare many types of rings 81 having different thicknesses t4 corresponding to the thickness dimension t3 of different types of optical elements L, and a variety of types can be obtained by using one type of holder 30. It is possible to correspond to the optical element L.

以下、本発明に係る洗浄装置、洗浄方法の第4実施形態を、図面に基づいて説明する。   Hereinafter, a cleaning device and a cleaning method according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図12は、本実施形態の洗浄方法における洗浄装置の動作を示す模式正断面図である。
本実施形態において上述した第1ないし第3実施形態と異なるのは噴射洗浄工程S07、弾性部材13および排出機構60に関する点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
FIG. 12 is a schematic front sectional view showing the operation of the cleaning apparatus in the cleaning method of the present embodiment.
The present embodiment differs from the first to third embodiments described above in terms of the jet cleaning step S07, the elastic member 13, and the discharge mechanism 60, and other corresponding components are denoted by the same reference numerals. The description is omitted.

本実施形態の洗浄装置100においては、図12に示すように、噴射洗浄工程S07において、洗浄槽10に洗浄液を貯留して光学素子Lを洗浄するものとされる。   In the cleaning apparatus 100 of the present embodiment, as shown in FIG. 12, the optical element L is cleaned by storing the cleaning liquid in the cleaning tank 10 in the jet cleaning step S07.

このため、排出機構60における排出口61が、洗浄槽10において、洗浄時の光学素子L上端位置よりも上側位置に設けられている。   For this reason, the discharge port 61 in the discharge mechanism 60 is provided in the cleaning tank 10 at a position above the upper end position of the optical element L during cleaning.

また、洗浄槽10の密閉性を向上して水密状態を容易に維持するために、洗浄槽10の底部開口11には、封止部材50に当接する弾性部材13が周設されている。弾性部材13は、シリコン樹脂、テフロン(登録商標)樹脂、ニトリル樹脂、ウレタン樹脂、などの弾性部材からなるOリングとされることができる。   Further, in order to improve the sealing property of the cleaning tank 10 and easily maintain a watertight state, the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 is provided with an elastic member 13 that contacts the sealing member 50. The elastic member 13 can be an O-ring made of an elastic member such as silicon resin, Teflon (registered trademark) resin, nitrile resin, or urethane resin.

また、洗浄槽10の側面に設けられた排出口61により、洗浄槽10内の光学素子Lが浸漬可能な状態で洗浄するとともに、洗浄液の排出と洗浄液および空気噴射時における洗浄槽10内の圧力調整をおこなうことができる。   In addition, the discharge port 61 provided on the side surface of the cleaning tank 10 cleans the optical element L in the cleaning tank 10 so that it can be immersed, and discharges the cleaning liquid and the pressure in the cleaning tank 10 when the cleaning liquid and air are jetted. Adjustments can be made.

本実施形態の洗浄方法においては、図3に示した噴射洗浄工程S07として、まず、供給ユニット21により、洗浄槽10内に洗浄液を貯留する。このとき、洗浄槽10内に貯留する洗浄液の水位は、少なくとも光学素子Lの上端よりも上側位置とされ、例えば、洗浄ノズル20の先端20aよりも上側位置とされる。この、洗浄槽10貯留工程においては、供給ユニット21による洗浄液の供給は、次工程に比べて低圧でおこなうことができる。   In the cleaning method of the present embodiment, as the spray cleaning step S07 illustrated in FIG. 3, first, the cleaning liquid is stored in the cleaning tank 10 by the supply unit 21. At this time, the water level of the cleaning liquid stored in the cleaning tank 10 is at least an upper position than the upper end of the optical element L, for example, an upper position than the tip 20 a of the cleaning nozzle 20. In the cleaning tank 10 storage step, the supply of the cleaning liquid by the supply unit 21 can be performed at a lower pressure than in the next step.

このときに、高圧、低圧を切り替え可能なポンプ21bにより低圧に切り替えてもよく、洗浄液が洗浄ノズル20先端20aに到達するまでは低圧で給水するのが望ましい。   At this time, the pressure may be switched to a low pressure by a pump 21b capable of switching between a high pressure and a low pressure, and it is desirable to supply water at a low pressure until the cleaning liquid reaches the tip 20a of the cleaning nozzle 20.

また、洗浄槽10が満水になって注水を停止する判断は、タイマ設定や排出口61より排水が始まったことを検出器で検出して、制御部70に出力された検出信号に基づいて制御することもできる。   In addition, the decision to stop the water injection when the cleaning tank 10 is full is detected based on the detection signal output to the control unit 70 by detecting the timer setting or the start of drainage from the discharge port 61 with a detector. You can also

次いで、供給ユニット21により、ポンプ21bで加圧された洗浄液が、洗浄ノズル20に配管を介して供給されて、洗浄液は開閉弁21eにより制御可能な状態で、洗浄ノズル20先端20aを通り洗浄槽10に貯留された洗浄液内部に噴射される。   Next, the cleaning liquid pressurized by the pump 21b is supplied by the supply unit 21 to the cleaning nozzle 20 through a pipe, and the cleaning liquid is controlled by the on-off valve 21e and passes through the front end 20a of the cleaning nozzle 20 to the cleaning tank. 10 is sprayed into the cleaning liquid stored in 10.

本実施形態の洗浄方法においては、貯留時に比べて高圧として供給した洗浄液を洗浄ノズル20先端20aの穴から噴射することで、光学素子L表面の汚れを除去し、圧縮気体を洗浄ノズル20先端20aの穴から噴射することで、光学素子L表面を乾燥させることが可能となる。   In the cleaning method of the present embodiment, the cleaning liquid supplied at a higher pressure than that at the time of storage is sprayed from the hole of the tip 20a of the cleaning nozzle 20 to remove dirt on the surface of the optical element L, and compressed gas is supplied to the tip 20a of the cleaning nozzle 20. The surface of the optical element L can be dried by spraying from the holes.

つまり、光学素子Lの洗浄方法として、ウォータジェット内で成長したキャビテーションによる圧潰衝撃力を利用するものである。このため、供給ユニット21および供給ユニット22により、洗浄液の圧力等供給条件がキャビテーション発生に好ましい範囲に設定される。   That is, as a cleaning method of the optical element L, a crushing impact force caused by cavitation grown in the water jet is used. For this reason, the supply unit 21 and the supply unit 22 set the supply conditions such as the pressure of the cleaning liquid within a preferable range for the occurrence of cavitation.

キャビテ−ション噴流(高速水中水噴流)を生じるには,一般には洗浄液中に高圧で洗浄液を噴射するために、洗浄液を貯留する洗浄槽10が必要とされる。このため、キャビテ−ション噴流による洗浄においては被洗浄物を密閉状態とする必要がある。   In order to generate a cavitation jet (high-speed submerged water jet), a cleaning tank 10 for storing the cleaning liquid is generally required to inject the cleaning liquid into the cleaning liquid at a high pressure. For this reason, in the cleaning by the cavitation jet, the object to be cleaned needs to be sealed.

また、洗浄ノズル20と被洗浄物である光学素子Lとの距離t1を、キャビテーション噴流による洗浄効果を効果的に得る範囲とすることが必要となる。この範囲より距離t1が大きいと、高圧噴流で発生したキャビテ−ションによる圧潰衝撃力が洗浄に必要なレベルに達しないため好ましくなく、また、この範囲より距離t1が小さいと、充分なキャビテ−ションの圧潰衝撃力が到達するものの、キャビテーションによる衝撃範囲が中心から外れたところになり、中央部分における洗浄が不十分となるため好ましくない。   In addition, it is necessary to set the distance t1 between the cleaning nozzle 20 and the optical element L that is the object to be cleaned within a range in which the cleaning effect by the cavitation jet can be effectively obtained. If the distance t1 is larger than this range, the crushing impact force due to cavitation generated by the high-pressure jet does not reach the level necessary for cleaning, and it is not preferable. If the distance t1 is smaller than this range, sufficient cavitation is caused. However, it is not preferable because the impact range due to cavitation is out of the center and the central portion is not sufficiently cleaned.

噴射洗浄工程S07におけるキャビテ−ション噴流による洗浄を開始してから、設定した所定の洗浄時間が経過すると、制御部70により、図1に示す供給ユニット21のポンプ21bとレギュレータ21dとを停止して、電磁バルブ21eを閉状態とする。これにより、洗浄ノズル20への洗浄液の供給を停止する。   When the set cleaning time has elapsed since the start of cleaning by the cavitation jet in the jet cleaning step S07, the controller 70 stops the pump 21b and the regulator 21d of the supply unit 21 shown in FIG. Then, the electromagnetic valve 21e is closed. Thereby, the supply of the cleaning liquid to the cleaning nozzle 20 is stopped.

次に、図3に示す排出工程S08として、図7に示したように、上下動アクチュエータ30を駆動させることにより、封止部材50の平板蓋体51を下降させ、洗浄槽10の底部開口11と離間させることで洗浄槽10の密閉状態を解除して、洗浄槽10に貯留していた洗浄液を、平板蓋体51と底部開口11との隙間から排出する。平板蓋体51の周囲から流下または滴下して排出された洗浄液は、受け部63を介して排出タンク62に排出される。   Next, as the discharging step S08 shown in FIG. 3, as shown in FIG. 7, by driving the vertical movement actuator 30, the flat plate lid body 51 of the sealing member 50 is lowered, and the bottom opening 11 of the cleaning tank 10. The cleaning tank 10 is released from the sealed state, and the cleaning liquid stored in the cleaning tank 10 is discharged from the gap between the flat lid 51 and the bottom opening 11. The cleaning liquid discharged or dropped from the periphery of the flat lid 51 is discharged to the discharge tank 62 via the receiving portion 63.

ここで、平板蓋体51と底部開口11とを離間させる距離は、洗浄槽10に貯留していた洗浄液を排出可能な程度とすることができる。   Here, the distance which separates the flat plate lid 51 and the bottom opening 11 can be set to such an extent that the cleaning liquid stored in the cleaning tank 10 can be discharged.

本実施形態によれば、より効果的な洗浄をおこなって、効率的に汚れの除去をおこなうことができる。特に、水の中でしか伝わらないので貯留した洗浄液中での噴出が必要となる高圧噴流による洗浄をおこなうことができ、貯留した洗浄液から被洗浄物を取り出して別途乾燥工程をおこなう必要がないため、洗浄装置100の小型化や、動作機構を簡素にすることができる。   According to this embodiment, it is possible to perform more effective cleaning and efficiently remove dirt. In particular, since it can only be transmitted in water, it can be washed with a high-pressure jet that needs to be ejected in the stored cleaning liquid, and it is not necessary to take out the object to be cleaned from the stored cleaning liquid and perform a separate drying process. Therefore, the size of the cleaning device 100 and the operation mechanism can be simplified.

また、高圧で噴射される水が飛び散ることなく、被洗浄物の出し入れや被洗浄物の位置制御するために駆動機構が複雑となることがなく、貯留する洗浄液の容積を被洗浄物Lに対して充分縮小することができるため、給排水に時間がかかってしまうことを防止できる。   Further, the water sprayed at high pressure does not scatter, the drive mechanism for controlling the position of the object to be put in and out and the object to be cleaned is not complicated, and the volume of the cleaning liquid to be stored is compared with the object L to be cleaned. Therefore, it is possible to prevent the water supply / drainage from taking time.

以下、本発明に係る洗浄装置、洗浄方法の第5実施形態を、図面に基づいて説明する。   Hereinafter, a cleaning device and a cleaning method according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図13は、本実施形態の洗浄方法における洗浄装置の動作を示す模式正断面図である。
本実施形態において上述した第1ないし第4実施形態と異なるのは超音波振動子25および乾燥ノズル26に関する点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
FIG. 13 is a schematic front sectional view showing the operation of the cleaning apparatus in the cleaning method of the present embodiment.
This embodiment differs from the first to fourth embodiments described above with respect to the ultrasonic transducer 25 and the drying nozzle 26, and the other corresponding components are denoted by the same reference numerals and description thereof. Is omitted.

本実施形態の洗浄装置100においては、図13に示すように、洗浄ノズル20に超音波洗浄を可能とする超音波振動子25が設けられている。
超音波振動子25は、超音波振動を洗浄液に印加するものとされ、洗浄ノズル20は、超音波流水ノズルとなっている。
In the cleaning apparatus 100 of the present embodiment, as shown in FIG. 13, an ultrasonic transducer 25 that enables ultrasonic cleaning is provided in the cleaning nozzle 20.
The ultrasonic vibrator 25 applies ultrasonic vibration to the cleaning liquid, and the cleaning nozzle 20 is an ultrasonic water flow nozzle.

また、洗浄槽10の頂部には、洗浄ノズル120とは別に、乾燥時に光学素子Lに乾燥用の気体を噴射する乾燥ノズル26が設けられている。
本実施形態における洗浄ノズル20には、供給ユニット21が接続され、また、乾燥ノズル26には、供給ユニット22がそれぞれ接続されており、ポンプ21aで加圧された洗浄液は超音波流水ノズル20に供給され、コンプレッサ22aで圧縮された空気は乾燥ノズル26に供給される。
In addition to the cleaning nozzle 120, the top of the cleaning tank 10 is provided with a drying nozzle 26 that injects a drying gas onto the optical element L during drying.
In the present embodiment, a supply unit 21 is connected to the cleaning nozzle 20, and a supply unit 22 is connected to the drying nozzle 26. The cleaning liquid pressurized by the pump 21 a is supplied to the ultrasonic water nozzle 20. The air supplied and compressed by the compressor 22 a is supplied to the drying nozzle 26.

本実施形態における超音波流水ノズル20はノズル内部20bに露出した超音波振動子25が電気的に振動することで超音波流水ノズル20を通過する洗浄液に超音波を印加し、液体に印加された状態の超音波振動により光学素子Lの表面の汚れを除去することが可能となるものである。このように、光学素子L表面の汚れに直接超音波振動を伝えるために、光学素子L表面を洗浄液中に浸漬しないようにする必要がある。   The ultrasonic flowing water nozzle 20 in this embodiment applies ultrasonic waves to the cleaning liquid passing through the ultrasonic flowing water nozzle 20 when the ultrasonic vibrator 25 exposed in the nozzle interior 20b is electrically vibrated and applied to the liquid. The contamination on the surface of the optical element L can be removed by the ultrasonic vibration in the state. Thus, in order to transmit ultrasonic vibration directly to the dirt on the surface of the optical element L, it is necessary not to immerse the surface of the optical element L in the cleaning liquid.

そのため、洗浄槽10の側面に設けられる排出口61は、洗浄槽10内に洗浄液が溜まっても光学素子Lが浸漬しない位置に設けられており、洗浄液の排出と洗浄液や空気噴射時における洗浄槽10内の圧力調整をおこなうことが可能となっている。洗浄液は効率よく排出されることが好ましいため、排出口61は、その断面が大きく設定されるか、多数設けられることができる。   Therefore, the discharge port 61 provided on the side surface of the cleaning tank 10 is provided at a position where the optical element L is not immersed even when the cleaning liquid accumulates in the cleaning tank 10, and the cleaning tank is used for discharging the cleaning liquid and jetting the cleaning liquid or air. The pressure within 10 can be adjusted. Since it is preferable that the cleaning liquid is efficiently discharged, the discharge port 61 may have a large cross section or a large number of discharge ports.

乾燥ノズル26は、超音波流水ノズル20とは別に取り付いているため、乾燥ノズル26は、先端からの噴出方向延長線上に光学素子Lの表面が位置するように設置されている。   Since the drying nozzle 26 is attached separately from the ultrasonic water nozzle 20, the drying nozzle 26 is installed so that the surface of the optical element L is positioned on the line extending in the ejection direction from the tip.

本実施形態の洗浄方法においては、図3に示した噴射洗浄工程S07として、供給ユニット21からポンプ21aで加圧された洗浄液を超音波流水ノズル20に供給するとともに、超音波振動子25を電気的に振動することで超音波流水ノズル20を通過する洗浄液に超音波を印加し、超音波振動の力で光学素子Lの表面の汚れを除去する。   In the cleaning method of this embodiment, as the jet cleaning step S07 shown in FIG. 3, the cleaning liquid pressurized by the pump 21a is supplied from the supply unit 21 to the ultrasonic water nozzle 20 and the ultrasonic vibrator 25 is electrically connected. The ultrasonic wave is applied to the cleaning liquid that passes through the ultrasonic water nozzle 20 by virtue of mechanical vibration, and the surface of the optical element L is removed by the ultrasonic vibration force.

これに先だって、本実施形態の洗浄方法においては、図3に示したノズル距離設定工程S03において、ノズル先端と光学素子Lの距離t1は事前に汚れ除去の効果が最大となる範囲を事前に確認してあらかじめ設定する。超音波流水は超音波を印加させたときに、純水の蒸気が発生するが、洗浄槽10で囲われているので蒸気の飛散は防止できる。   Prior to this, in the cleaning method of the present embodiment, in the nozzle distance setting step S03 shown in FIG. 3, the distance t1 between the nozzle tip and the optical element L is confirmed in advance as to the range where the effect of removing dirt is maximized. To set in advance. The ultrasonic flowing water generates pure water vapor when ultrasonic waves are applied, but since it is surrounded by the cleaning tank 10, it is possible to prevent the vapor from being scattered.

設定した洗浄時間が経過すると同時に、制御部70から出力した信号により超音波振動子25の発振が停止し、続けて洗浄液のバルブ21eが閉状態となり噴射洗浄工程S07を終了する。   Simultaneously with the elapse of the set cleaning time, the oscillation of the ultrasonic transducer 25 is stopped by a signal output from the control unit 70, and the cleaning liquid valve 21e is closed, and the spray cleaning step S07 is completed.

次いで、図3に示した排出工程S08として、図7に示したように、上下動アクチュエータ30を駆動させることにより、封止部材50の平板蓋体51を下降させ、洗浄槽10の底部開口11と離間させることで洗浄槽10の密閉状態を解除して、洗浄槽10に貯留していた洗浄液を、平板蓋体51と底部開口11との隙間から排出する。平板蓋体51の周囲から流下または滴下して排出された洗浄液は、受け部63を介して排出タンク62に排出される。   Next, as the discharging step S08 shown in FIG. 3, as shown in FIG. 7, the vertical movement actuator 30 is driven to lower the flat plate lid 51 of the sealing member 50, and the bottom opening 11 of the cleaning tank 10. The cleaning tank 10 is released from the sealed state, and the cleaning liquid stored in the cleaning tank 10 is discharged from the gap between the flat lid 51 and the bottom opening 11. The cleaning liquid discharged or dropped from the periphery of the flat lid 51 is discharged to the discharge tank 62 via the receiving portion 63.

次いで、図3に示した乾燥工程S09として、供給ユニット22において、空気の電磁切り替えバルブ22dが開状態とされて、コンプレッサ22aで加圧されフィルタ22bでろ過された0.5Mpaの空気が乾燥ノズル26を通じて光学素子Lに噴射され、光学素子Lの面に付着していた水滴を除去して乾燥させる。乾燥させる時間はタイマで制御し、タイマ時間経過後に空気の電磁切り替えバルブ22dを閉じて乾燥工程S09が完了する。   Next, as the drying step S09 shown in FIG. 3, in the supply unit 22, the air electromagnetic switching valve 22d is opened, and 0.5 Mpa of air pressurized by the compressor 22a and filtered by the filter 22b is dried by the drying nozzle. The water droplets sprayed onto the optical element L through the nozzle 26 and adhered to the surface of the optical element L are removed and dried. The drying time is controlled by a timer, and after the timer time has elapsed, the air electromagnetic switching valve 22d is closed to complete the drying step S09.

本実施形態によれば、より効果的な洗浄をおこなって、効率的に汚れの除去をおこなうことができる。   According to this embodiment, it is possible to perform more effective cleaning and efficiently remove dirt.

以下、本発明に係る洗浄装置、洗浄方法の第6実施形態を、図面に基づいて説明する。   Hereinafter, a cleaning device and a cleaning method according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図14,図15は、本実施形態の洗浄方法における洗浄装置の動作を示す模式正断面図である。
本実施形態において上述した第1ないし第5実施形態と異なるのは距離設定部材/機構80、保持具30、封止部材50に関する点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
14 and 15 are schematic front sectional views showing the operation of the cleaning apparatus in the cleaning method of the present embodiment.
This embodiment is different from the first to fifth embodiments described above with respect to the distance setting member / mechanism 80, the holder 30, and the sealing member 50, and other corresponding components are denoted by the same reference numerals. The description is omitted.

本実施形態の洗浄装置100においては、図14,図15に示すように、距離設定部材/機構80として、保持柱31と封止部材50との高さ方向位置を設定する構成を有する。   In the cleaning apparatus 100 of the present embodiment, as shown in FIGS. 14 and 15, the distance setting member / mechanism 80 is configured to set the height direction positions of the holding column 31 and the sealing member 50.

本実施形態においては、図14,図15に示すように、保持柱31が基部33に立設されており搬送機構130によって搬送可能とされ、また、保持柱31の高さが固定された状態とされている。   In this embodiment, as shown in FIGS. 14 and 15, the holding column 31 is erected on the base 33 and can be transferred by the transfer mechanism 130, and the height of the holding column 31 is fixed. It is said that.

また、封止部材50としては、平板蓋体53,54として横方向2枚に分割されており、これらが当接した突き合わせ中央位置に保持柱31が貫通可能な凹部55が設けられて、洗浄槽10を封止可能な構成とされている。また、平板蓋体53,54を横方向に駆動する駆動機構が設けられる。   Further, the sealing member 50 is divided into two pieces in the horizontal direction as the flat plate lid bodies 53 and 54, and a recess 55 through which the holding column 31 can pass is provided at the abutting center position where these contact each other. The tank 10 can be sealed. Further, a drive mechanism for driving the flat lid bodies 53 and 54 in the lateral direction is provided.

本実施形態においては、上下動アクチュエータ40のロボットアーム41を距離設定部材/機構80として駆動し、図14に示すように、平板蓋体53,54が離間して洗浄槽10の底部開口11が開放された状態で、保持柱31を上昇させて、洗浄槽10内に挿入するとともに、図15に示すように、駆動機構により平板蓋体53,54を近接する方向に駆動し、凹部55が保持柱31に当接するように平板蓋体53,54を互いに突き合わせて、洗浄槽10の底部開口11を封止することが可能である。凹部55,55は封止部材50の封止状態において、保持柱31の側面の全周に当接可能な形状に設定されている。なお、封止部材50は、水平方向に移動するだけで、底部開口11に当接可能な高さ位置に設定されている。   In this embodiment, the robot arm 41 of the vertical movement actuator 40 is driven as a distance setting member / mechanism 80, and the flat lid bodies 53 and 54 are separated from each other so that the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 is opened as shown in FIG. In the opened state, the holding column 31 is raised and inserted into the cleaning tank 10, and as shown in FIG. It is possible to seal the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 by abutting the flat plate lids 53 and 54 so as to contact the holding column 31. The recesses 55, 55 are set in a shape that can contact the entire circumference of the side surface of the holding column 31 in the sealed state of the sealing member 50. The sealing member 50 is set to a height position at which the sealing member 50 can contact the bottom opening 11 only by moving in the horizontal direction.

この閉塞状態で、保持柱31を上下動アクチュエータ40により軸線方向(上下方向)に移動することで、図15に示すように、封止部材50の平板蓋体53,54表面から洗浄槽10内部に突出した保持柱31の高さt2を変化させることができる。この互いに位置設定可能な保持柱31および封止部材50を距離設定部材/機構80として、光学素子Lの厚さt3の規格の違いに対応し、洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を設定することができる。   In this closed state, the holding column 31 is moved in the axial direction (vertical direction) by the vertical movement actuator 40, so that the interior of the cleaning tank 10 is removed from the surface of the flat lid bodies 53 and 54 of the sealing member 50 as shown in FIG. It is possible to change the height t2 of the holding column 31 protruding in the direction. The holding column 31 and the sealing member 50 that can be positioned relative to each other are used as a distance setting member / mechanism 80 to cope with the difference in the standard of the thickness t3 of the optical element L, and to cover the tip of the cleaning nozzle 20 and the tip of the holding column 31 It is possible to set the distance t1 with the optical element L to be cleaned.

本実施形態の洗浄方法においては、図3に示す上昇密閉工程S06として、保持具30を上下動アクチュエータ40により上昇させて、図14に示すように、洗浄槽10の底部開口11から光学素子Lを挿入する。
その後、封止部材50を駆動機構により近接する方向に移動させて、平板蓋体53,54の対向端部を互いに当接させるとともに、凹部55,55を保持柱31側面に当接させる。この状態で、洗浄槽10の底部開口11の全周に平板蓋体53,54表面を当接させることで、洗浄槽10を封止する。
In the cleaning method of the present embodiment, as the ascending and sealing step S06 shown in FIG. 3, the holder 30 is raised by the vertical movement actuator 40, and the optical element L is removed from the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 as shown in FIG. Insert.
Thereafter, the sealing member 50 is moved in the direction approaching by the driving mechanism, the opposing end portions of the flat plate lid bodies 53 and 54 are brought into contact with each other, and the concave portions 55 and 55 are brought into contact with the side surface of the holding column 31. In this state, the cleaning tank 10 is sealed by bringing the surfaces of the flat lid bodies 53 and 54 into contact with the entire periphery of the bottom opening 11 of the cleaning tank 10.

次いで、ノズル距離設定工程S03として、上昇密閉工程S06後に、さらに、図15に示すように、保持具30を上下動アクチュエータ40により上下させて、洗浄する光学素子(レンズ)Lの厚さt3に対応して、洗浄時における洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を設定する。   Next, as the nozzle distance setting step S03, after the ascending and sealing step S06, as shown in FIG. 15, the holder 30 is moved up and down by the vertical movement actuator 40 to the thickness t3 of the optical element (lens) L to be cleaned. Correspondingly, the distance t1 between the cleaning nozzle 20 tip 20a during cleaning and the optical element L to be cleaned at the tip of the holding column 31 is set.

次いで、噴射洗浄工程S07と、排出工程S08と、乾燥工程S09とを経た後、
図3に示す下降開放工程S10として、封止部材50の平板蓋体53,54を駆動機構により離間する方向に移動させて、洗浄槽10の底部開口11を開放する。このとき、平板蓋体53,54は、洗浄槽10の底部開口11の水平方向外側位置にとなるように設定されている。
その後、保持具30を上下動アクチュエータ40により下降させて、洗浄槽10の底部開口11から光学素子Lを抜出する。
Then, after going through the spray cleaning step S07, the discharge step S08, and the drying step S09,
As the downward opening step S10 shown in FIG. 3, the flat plate lids 53 and 54 of the sealing member 50 are moved in the direction of separation by the drive mechanism, and the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 is opened. At this time, the flat plate lids 53 and 54 are set so as to be in the horizontal outer position of the bottom opening 11 of the cleaning tank 10.
Thereafter, the holder 30 is lowered by the vertical movement actuator 40, and the optical element L is extracted from the bottom opening 11 of the cleaning tank 10.

なお、本実施形態においては、排出工程S08および・または乾燥工程S09において、封止部材50の平板蓋体53,54を駆動機構により離間する方向に移動させて、洗浄槽10の底部開口11を開放することもできる。この際、平板蓋体53,54の離間距離は、底部開口11の開放状態に比べて近接した状態とすることができ、洗浄液が排出可能な状態とすることができる。   In the present embodiment, in the discharging step S08 and / or the drying step S09, the flat lid bodies 53 and 54 of the sealing member 50 are moved away from each other by the drive mechanism, so that the bottom opening 11 of the cleaning tank 10 is opened. It can also be opened. At this time, the separation distance between the flat lid bodies 53 and 54 can be close to that in the open state of the bottom opening 11, and the cleaning liquid can be discharged.

本実施形態においては、洗浄ノズル20先端20aと保持柱31先端の被洗浄物とされる光学素子Lとの距離t1を、より精密に設定することが可能となる。これにより、洗浄条件の精密な設定に対応することが可能となる。   In this embodiment, it is possible to set the distance t1 between the cleaning nozzle 20 tip 20a and the optical element L to be cleaned at the tip of the holding column 31 more precisely. Thereby, it becomes possible to cope with precise setting of the cleaning conditions.

なお、上記の各実施形態において、ノズル距離設定工程S03として、保持具30側を移動したが、洗浄ノズル20を洗浄槽10に対して位置設定可能な構成とすることもできる。   In each of the above embodiments, the holder 30 side is moved as the nozzle distance setting step S03. However, the cleaning nozzle 20 may be configured to be positionable with respect to the cleaning tank 10.

なお、本発明の洗浄装置、洗浄方法を用いることなく、作業員が光学素子(レンズ)面を拭いて検査する際に、光学素子を拭く時間は1個につき60sec程度である。これに対して、本発明の洗浄装置、洗浄方法を用いた場合には、洗浄に要する時間が30sec程度となり、必要な時間を50%程度削減できる。   In addition, when an operator wipes and inspects the optical element (lens) surface without using the cleaning apparatus and the cleaning method of the present invention, the time for wiping the optical element is about 60 sec. On the other hand, when the cleaning apparatus and the cleaning method of the present invention are used, the time required for cleaning is about 30 seconds, and the required time can be reduced by about 50%.

さらに、本発明の洗浄装置、洗浄方法を用いた場合には作業者が直接光学素子(レンズ)を拭かないため、ロット分の加工が終わるまで別作業が可能となり、さらに時間を短縮することができる。また、本発明の洗浄装置、洗浄方法を用いた場合で加工後の光学素子(レンズ)面から汚れを除去し乾燥させているので、光学素子(レンズ)面に汚れが固着することを確実に防止できるという効果が得られる。   Furthermore, when the cleaning apparatus and the cleaning method of the present invention are used, the operator does not wipe the optical element (lens) directly, so that another operation can be performed until the processing for the lot is completed, and the time can be further reduced. it can. In addition, when the cleaning device and the cleaning method of the present invention are used, dirt is removed from the processed optical element (lens) surface and dried, so that the dirt is firmly fixed on the optical element (lens) surface. The effect that it can prevent is acquired.

また、従来からある浸漬洗浄槽と温風乾燥槽を備えた装置であれば、洗浄とリンスと乾燥の3槽構成となるため、装置の設置面積は2m×1m=2m程度の設置面積が必要となる。これに対し、本発明の洗浄装置では、0.8m×0.8m=0.64m程度しか必要でないため、設置面積として1/3程度に削減することができる。 In addition, if the apparatus is equipped with a conventional immersion cleaning tank and hot air drying tank, it has three tank configurations of cleaning, rinsing and drying, so the installation area of the apparatus is about 2 m × 1 m = 2 m 2. Necessary. On the other hand, in the cleaning apparatus of the present invention, only about 0.8 m × 0.8 m = 0.64 m 2 is necessary, so that the installation area can be reduced to about 1/3.

本発明の活用例として、光学素子加工後の汚れ除去、組立て時の光学素子の汚れ除去、組立て時の微小金属部品の汚れ除去、金属加工機内での加工部品の汚れ除去として活用できる。   As an application example of the present invention, it can be used for removing dirt after processing an optical element, removing dirt from an optical element during assembly, removing dirt from a minute metal part during assembly, and removing dirt from a processed part in a metal working machine.

10…洗浄槽
11…底部開口
13…弾性部材
20…洗浄ノズル
20a…先端
20b…内部
21…供給ユニット
21a…コンプレッサ
21b…ポンプ
21c…フィルタ
21d…レギュレータ
21e…電磁バルブ
22…供給ユニット
22a…コンプレッサ
22b…フィルタ
22c…レギュレータ
22d…電磁バルブ
25…超音波振動子
26…乾燥ノズル
30…保持具
31…保持柱
31a…上保持柱
31b…下保持柱
33…基部
40…上下動アクチュエータ
41…アーム(ロボットアーム)
42…基部
43…上下レール
45…横往復アクチュエータ
50…封止部材
51…平板蓋体
53,54…平板蓋体
55…凹部
60…排出機構
61…排出口
62…排出タンク
63…受け部
70…制御部
80…距離設定部材/機構(距離設定機構)
81…リング(スペーサ)
83…ネジ部
100…洗浄装置
L…光学素子(被洗浄物)レンズ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Cleaning tank 11 ... Bottom opening 13 ... Elastic member 20 ... Cleaning nozzle 20a ... Tip 20b ... Inside 21 ... Supply unit 21a ... Compressor 21b ... Pump 21c ... Filter 21d ... Regulator 21e ... Electromagnetic valve 22 ... Supply unit 22a ... Compressor 22b ... Filter 22c ... Regulator 22d ... Electromagnetic valve 25 ... Ultrasonic vibrator 26 ... Drying nozzle 30 ... Holder 31 ... Holding pillar 31a ... Upper holding pillar 31b ... Lower holding pillar 33 ... Base 40 ... Vertical actuator 41 ... Arm (robot) arm)
42 ... Base 43 ... Upper / lower rail 45 ... Horizontal reciprocating actuator 50 ... Sealing member 51 ... Flat plate lid 53, 54 ... Flat plate lid 55 ... Concave 60 ... Discharge mechanism 61 ... Discharge port 62 ... Discharge tank 63 ... Receiving portion 70 ... Control unit 80: Distance setting member / mechanism (distance setting mechanism)
81 ... Ring (spacer)
83 ... Screw part 100 ... Cleaning device L ... Optical element (object to be cleaned) lens

Claims (10)

被洗浄物に洗浄液を噴射することで汚れを除去する洗浄装置であって、
底部開口を有する洗浄槽と、
前記洗浄槽内に収容された前記被洗浄物に前記洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、
前記被洗浄物を保持する保持具と、
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を上下動させて、前記保持具が保持する被洗浄物を前記洗浄槽内へ出し入れする上下動アクチュエータと、
前記洗浄槽の底部開口を洗浄時に封止する封止部材と、
を有し、
前記上下動アクチュエータの第1の動きによって、前記保持具が保持する前記被洗浄物が前記底部開口から前記洗浄槽内に導入されるとともに、前記封止部材が前記底部開口を封止し、
前記上下動アクチュエータの前記第1の動きとは反対方向への動きによって、前記保持具が保持する前記被洗浄物が前記底部開口から前記洗浄槽外に出されるとともに、前記封止部材による前記底部開口の封止が解除される、
ように構成されている
ことを特徴とする洗浄装置。
A cleaning device that removes dirt by spraying a cleaning liquid onto an object to be cleaned,
A washing tank having a bottom opening;
A cleaning nozzle for injecting the cleaning liquid onto the object to be cleaned contained in the cleaning tank;
A holder for holding the object to be cleaned;
A vertically moving actuator that moves up and down at least one of the holding tool and the cleaning tank and puts an object to be cleaned held in the holding tool into and out of the cleaning tank;
A sealing member for sealing the bottom opening of the cleaning tank during cleaning;
Have
By the first movement of the vertical movement actuator, the object to be cleaned held by the holder is introduced into the cleaning tank from the bottom opening, and the sealing member seals the bottom opening,
By the movement of the vertical movement actuator in the direction opposite to the first movement, the object to be cleaned held by the holder is taken out of the cleaning tank through the bottom opening, and the bottom portion by the sealing member The opening is unsealed,
It is comprised so that the washing | cleaning apparatus characterized by the above-mentioned.
前記保持具が、立設された保持柱の上端に前記被洗浄物を固定するものとされ、
前記洗浄時における前記洗浄ノズル先端と前記保持柱先端の前記被洗浄物との距離を設定する距離設定機構を有する
ことを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。
The holder is to fix the object to be cleaned to the upper end of a standing holding column,
The cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a distance setting mechanism that sets a distance between the tip of the cleaning nozzle and the object to be cleaned at the tip of the holding column during the cleaning.
前記保持具が、洗浄時に前記保持柱を水平方向に往復移動させる横往復アクチュエータを有する
ことを特徴とする請求項2記載の洗浄装置。
The cleaning apparatus according to claim 2, wherein the holder has a horizontal reciprocating actuator that reciprocates the holding column in a horizontal direction during cleaning.
前記封止部材が、前記保持柱の基部に一体とされた平板蓋体とされる
ことを特徴とする請求項2または3記載の洗浄装置。
The cleaning apparatus according to claim 2, wherein the sealing member is a flat plate lid integrated with a base portion of the holding column.
前記洗浄ノズルには、前記洗浄液および気体が供給される
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか記載の洗浄装置。
The cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning liquid and gas are supplied to the cleaning nozzle.
前記洗浄ノズルには、超音波洗浄を可能とする超音波振動子が設けられる
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか記載の洗浄装置。
The cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning nozzle is provided with an ultrasonic vibrator that enables ultrasonic cleaning.
前記洗浄装置は、洗浄の後に乾燥も行うものであり、
前記洗浄槽には、乾燥時に前記被洗浄物に気体を噴射する乾燥ノズルを有する
ことを特徴とする請求項6記載の洗浄装置。
The cleaning device also performs drying after cleaning,
The cleaning apparatus according to claim 6, wherein the cleaning tank includes a drying nozzle that injects a gas to the object to be cleaned during drying.
前記洗浄槽の側面に、洗浄液を排出する排出口が設けられている
ことを特徴とする請求項1から7のいずれか記載の洗浄装置。
The cleaning apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein a discharge port for discharging the cleaning liquid is provided on a side surface of the cleaning tank.
前記洗浄槽の底部開口には、前記封止部材に当接する弾性部材が周設される
ことを特徴とする請求項1から6のいずれか記載の洗浄装置。
The cleaning apparatus according to claim 1, wherein an elastic member that comes into contact with the sealing member is provided around the bottom opening of the cleaning tank.
被洗浄物に洗浄槽内で洗浄液を噴射することで汚れを除去した後に、前記被洗浄物を乾燥させる洗浄方法であって、
保持具に立設された保持柱の上端に前記被洗浄物を固定して搬送する工程と、
前記保持具および前記洗浄槽の少なくとも一方を上方または下方に移動させることで、前記洗浄槽の底部開口から前記被洗浄物を前記洗浄槽内に導入するとともに、封止部材により前記洗浄槽の底部開口を封止する工程と、
前記洗浄槽を封止した状態で前記洗浄層の上方に位置する洗浄ノズルから洗浄液を前記被洗浄物に噴射する洗浄工程と、
乾燥ノズルから前記被洗浄物に気体を噴射して乾燥する工程と
前記保持具および前記洗浄層の少なくとも一方を前記移動とは反対方向に移動させることにより、前記洗浄槽から前記被洗浄物を抜出するとともに、前記封止部材による前記洗浄槽の底部開口の封止を解除する工程と、
を有する
ことを特徴とする洗浄方法。
A cleaning method for drying the object to be cleaned after removing dirt by spraying a cleaning liquid on the object to be cleaned in a cleaning tank,
A step of fixing and transporting the object to be cleaned to the upper end of a holding column erected on the holder;
By moving at least one of the holder and the cleaning tank upward or downward, the object to be cleaned is introduced into the cleaning tank from the bottom opening of the cleaning tank, and the bottom of the cleaning tank is sealed by a sealing member. Sealing the opening;
A cleaning step of spraying a cleaning liquid onto the object to be cleaned from a cleaning nozzle positioned above the cleaning layer in a state where the cleaning tank is sealed;
A step of spraying a gas from a drying nozzle onto the object to be cleaned, and moving at least one of the holder and the cleaning layer in a direction opposite to the movement, thereby extracting the object to be cleaned from the cleaning tank; And releasing the sealing of the bottom opening of the cleaning tank by the sealing member,
A cleaning method comprising the steps of:
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