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JP2018079457A - Method for reducing initial disposal amount of process liquid and system for processing process liquid - Google Patents

Method for reducing initial disposal amount of process liquid and system for processing process liquid Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for reducing an initial disposal amount of process liquid that can reduce water impregnated to a filter and process liquid to be disposed with residual liquid in a filter device, and to provide a system for processing process liquid.SOLUTION: A method for reducing an initial disposal amount of process liquid that is disposed with residual liquid in a filter device 10 provided to producing piping 30 includes: wetting a filter 12 of the filter device 10 with water before filtering process liquid through the filter device 10; performing an integrity test for the filter 12 based on variation in pressure on a primary side of the filter 12; and drying the filter device 10 with heated sterile air.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、製造用配管に設けられたフィルタ装置に残留した液体とともに廃棄されるプロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システムに関する。   The present invention relates to a method for reducing an initial waste amount of a process liquid to be discarded together with a liquid remaining in a filter device provided in a manufacturing pipe, and a process liquid processing system.

従来、注射剤、点眼剤等の液状のプロセス液を処理するプラントにおいては、プロセス液を、フィルタを備えるフィルタ装置で濾過することで殺菌する工程が実施されている。通常、このフィルタについては、完全性試験が実施されている。フィルタの完全性試験とは、フィルタに物理的欠陥がなく、定められた性能を有していることを確認するための試験である。この完全性試験によりフィルタの濾過機能が損なわれていないことを確認するので、最終的に得られるプロセス液が無菌であることを担保することができる(例えば、特許文献1参照)。   2. Description of the Related Art Conventionally, in a plant that processes liquid process liquids such as injections and eye drops, a process of sterilizing the process liquid by filtering with a filter device including a filter is performed. Typically, this filter has been integrity tested. The filter integrity test is a test for confirming that the filter has no physical defect and has a defined performance. Since it is confirmed by this integrity test that the filtration function of the filter is not impaired, it is possible to ensure that the finally obtained process liquid is sterile (for example, see Patent Document 1).

完全性試験の一例としては、まず、フィルタを水で湿潤させて気体が流通しない状態とする。そして、フィルタの一次側を所定の圧力に設定し、一次側の圧力を測定する。測定された圧力に変化がなければ、フィルタの機能は損なわれていないと判断する。一方、圧力が低下すると、フィルタが破れるなどしており、フィルタの機能が損なわれていると判断する。   As an example of the integrity test, first, the filter is wetted with water so that no gas flows. Then, the primary side of the filter is set to a predetermined pressure, and the primary side pressure is measured. If there is no change in the measured pressure, it is determined that the function of the filter is not impaired. On the other hand, when the pressure decreases, the filter is broken, and it is determined that the function of the filter is impaired.

完全性試験の終了後では、フィルタ自体は湿潤した状態であり、また、そのフィルタを収容するフィルタ装置内には水が残留している。フィルタ自体に含浸した水や、フィルタ周りに残留した水は、完全性試験を実施した後に次のプロセス液を処理する際に、当該プロセス液とともにフィルタの下流側へ排出される。   After the completion of the integrity test, the filter itself is in a wet state, and water remains in the filter device that houses the filter. Water impregnated in the filter itself and water remaining around the filter are discharged to the downstream side of the filter together with the process liquid when the next process liquid is processed after the integrity test.

このため、フィルタで濾過されて得られるプロセス液のうち初期の分は、完全性試験で用いた水を含んでいるため、廃棄されている(プロセス液のうち、このように廃棄される分を初期廃棄量と称する)。特に注射剤等のプロセス液は、少量であっても非常に高価であることから、初期廃棄量の増大は大きな損失をもたらす。   For this reason, the initial portion of the process liquid obtained by filtering with a filter contains the water used in the integrity test, and therefore is discarded (the portion of the process liquid that is discarded in this way. Referred to as initial waste). In particular, since process liquids such as injections are very expensive even in a small amount, an increase in the initial waste amount causes a large loss.

なお、このような問題は、注射剤等の医薬に関する液状のプロセス液だけではなく、フィルタによる濾過を必要とするプロセス液について一般に存在する。   Such problems generally exist not only for liquid process liquids related to pharmaceuticals such as injections, but also for process liquids that require filtration with a filter.

特開2014−128780号公報JP 2014-128780 A

本発明は、このような事情に鑑み、フィルタに含浸した水やフィルタ装置に残留した液体とともに廃棄されるプロセス液を削減することができる、プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システムを提供することを目的とする。   In view of such circumstances, the present invention can reduce the amount of process liquid discarded together with the water impregnated in the filter and the liquid remaining in the filter device, and the process liquid treatment method and the process liquid treatment method. The purpose is to provide a system.

上記目的を達成するための第1の態様は、製造用配管に設けられたフィルタ装置に残留した液体とともに廃棄されるプロセス液の初期廃棄量の削減方法であって、前記プロセス液を前記フィルタ装置で濾過させる前に、前記フィルタ装置のフィルタを液体で湿潤させ、前記フィルタの一次側における圧力の変化に基づいた前記フィルタの完全性試験を実施し、加熱した無菌空気により前記フィルタ装置を乾燥させることを特徴とするプロセス液の初期廃棄量の削減方法にある。   A first aspect for achieving the above object is a method for reducing an initial waste amount of a process liquid to be discarded together with a liquid remaining in a filter device provided in a manufacturing pipe, wherein the process liquid is removed from the filter device. Before filtering with a filter, the filter of the filter device is wetted with liquid, the filter integrity test is performed based on the change in pressure on the primary side of the filter, and the filter device is dried with heated sterile air This is a method for reducing the initial waste amount of process liquid.

第1の態様では、プロセス液をフィルタ装置で濾過させる前に、フィルタ装置のフィルタを水で湿潤させ、フィルタの完全性試験を実施する。そして、加熱無菌空気によりフィルタ装置を乾燥させる。このような初期廃棄量の削減方法によれば、完全性試験のためにフィルタを湿潤させても、加熱無菌空気により乾燥させる。この結果、フィルタやフィルタ装置内を無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次のプロセス液を処理する際に、そのプロセス液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、完全性試験によりフィルタの完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理したプロセス液が完全に濾過されたことを担保することができる。   In the first aspect, before the process liquid is filtered by the filter device, the filter of the filter device is wetted with water and the filter integrity test is performed. Then, the filter device is dried with heated aseptic air. According to such a method for reducing the amount of initial waste, even if the filter is moistened for the integrity test, it is dried with heated sterile air. As a result, the filter and the filter device can be in a sterile and dry state. Thereby, when the next process liquid is processed after drying, the initial waste amount of the process liquid can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filter can be ensured by the integrity test, it can be ensured that the process liquid processed before the integrity test has been completely filtered.

本発明の第2の態様は、第1の態様に記載するプロセス液の初期廃棄量の削減方法において、前記製造用配管は、前記フィルタ装置として、上流側の第1フィルタ装置及び下流側の第2フィルタ装置を備え、前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置のそれぞれの前記フィルタを液体で湿潤させ、前記完全性試験を実施し、前記製造用配管のうち、前記第1フィルタ装置の二次側と、前記第2フィルタ装置の一次側とを接続する接続配管に残留した液体を排出し、加熱した無菌空気により前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置を乾燥させることを特徴とするプロセス液の初期廃棄量の削減方法にある。   According to a second aspect of the present invention, in the method for reducing the initial disposal amount of the process liquid described in the first aspect, the manufacturing pipe includes, as the filter device, an upstream first filter device and a downstream first filter device. Two filter devices, each of the filters of the first filter device and the second filter device is wetted with a liquid, the integrity test is performed, and two of the first filter devices of the manufacturing pipe are provided. The liquid remaining in the connecting pipe connecting the secondary side and the primary side of the second filter device is discharged, and the first filter device and the second filter device are dried by heated aseptic air. The method is to reduce the initial disposal amount of process liquid.

第2の態様では、第1フィルタ装置、第2フィルタ装置、接続配管などが、完全性試験で用いた液体で湿潤することになっても、その後の乾燥により、無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次のプロセス液を処理する際に、そのプロセス液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、完全性試験によりフィルタの完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理したプロセス液が完全に濾過されたことを担保することができる。   In the second aspect, even if the first filter device, the second filter device, the connection piping, etc. are moistened with the liquid used in the integrity test, they are made sterile and dry by subsequent drying. Can do. Thereby, when the next process liquid is processed after drying, the initial waste amount of the process liquid can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filter can be ensured by the integrity test, it can be ensured that the process liquid processed before the integrity test has been completely filtered.

本発明の第3の態様は、第2の態様に記載するプロセス液の初期廃棄量の削減方法において、前記第2フィルタ装置の一次側から前記接続配管に気体を供給し、所定時間後に当該気体を排出することで、当該気体の圧力で前記接続配管に残留した液体を第2フィルタ装置の一次側へ送出させることを特徴とするプロセス液の初期廃棄量の削減方法にある。   According to a third aspect of the present invention, in the method for reducing an initial waste amount of process liquid described in the second aspect, a gas is supplied from the primary side of the second filter device to the connection pipe, and the gas is supplied after a predetermined time. In the method for reducing the initial disposal amount of the process liquid, the liquid remaining in the connecting pipe is discharged to the primary side of the second filter device by the pressure of the gas.

第3の態様では、完全性試験で用いた液体を、第2フィルタ装置の一次側から供給した気体により接続配管から排出することができる。接続配管に直接気体を供給しないので、接続配管へ気体を供給するための構成や当該構成が無菌であることを担保するための構成も不要となり、コスト削減が可能となる。   In the third aspect, the liquid used in the integrity test can be discharged from the connection pipe by the gas supplied from the primary side of the second filter device. Since the gas is not directly supplied to the connection pipe, a configuration for supplying the gas to the connection pipe and a configuration for ensuring that the configuration is aseptic are not required, and the cost can be reduced.

本発明の第4の態様は、フィルタ装置が設けられた製造用配管と、前記フィルタ装置のフィルタを湿潤させる液体を供給する液体供給手段と、加熱した無菌空気を供給する無菌空気供給手段と、前記フィルタ装置の前記フィルタの完全性を試験する試験装置と、前記液体供給手段、前記無菌空気供給手段、及び前記試験装置を制御する制御装置と、を備え、前記制御装置は、プロセス液を前記フィルタ装置で濾過させる前に、前記液体供給手段に、液体を前記フィルタ装置に供給させることで前記フィルタを湿潤させ、前記試験装置に、前記フィルタの完全性を試験させ、前記無菌空気供給手段に、前記無菌空気を前記フィルタ装置に供給させることで前記フィルタ装置を乾燥させることを特徴とするプロセス液の処理システムにある。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a manufacturing pipe provided with a filter device, a liquid supply means for supplying a liquid for wetting the filter of the filter device, a sterile air supply means for supplying heated sterile air, A test device for testing the integrity of the filter of the filter device; and a control device for controlling the liquid supply means, the sterile air supply means, and the test device. Before filtering with a filter device, the liquid supply means supplies the liquid to the filter device to wet the filter, causing the test device to test the integrity of the filter, and to the sterile air supply means. In the process liquid processing system, the filter device is dried by supplying the sterile air to the filter device.

第4の態様では、プロセス液をフィルタ装置で濾過させる前に、フィルタ装置のフィルタを水で湿潤させ、フィルタの完全性試験を実施する。そして、加熱無菌空気によりフィルタ装置を乾燥させる。このようなプロセス液の処理システムによれば、完全性試験のためにフィルタを湿潤させても、加熱無菌空気により乾燥させる。この結果、フィルタやフィルタ装置内を無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次のプロセス液を処理する際に、そのプロセス液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、完全性試験によりフィルタの完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理したプロセス液が完全に濾過されたことを担保することができる。   In the fourth aspect, before the process liquid is filtered by the filter device, the filter of the filter device is wetted with water and a filter integrity test is performed. Then, the filter device is dried with heated aseptic air. According to such a process liquid processing system, even if the filter is wet for the integrity test, it is dried by heated sterile air. As a result, the filter and the filter device can be in a sterile and dry state. Thereby, when the next process liquid is processed after drying, the initial waste amount of the process liquid can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filter can be ensured by the integrity test, it can be ensured that the process liquid processed before the integrity test has been completely filtered.

本発明の第5の態様は、第4の態様に記載するプロセス液の処理システムにおいて、前記フィルタ装置として、前記製造用配管の上流側の第1フィルタ装置、及び下流側の第2フィルタ装置と、前記製造用配管のうち、前記第1フィルタ装置の二次側と前記第2フィルタ装置の一次側とを接続する接続配管内を加圧するための気体を供給する加圧手段と、前記第2フィルタ装置の一次側から排出される気体の輸送配管に設けられた第1バルブと、を備え、前記制御装置は、前記フィルタの完全性の試験後であり前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置の乾燥前に、前記加圧手段に、前記第2フィルタ装置の一次側から前記接続配管内に気体を供給させ、所定時間経過後に前記第1バルブを開放することを特徴とするプロセス液の処理システムにある。   According to a fifth aspect of the present invention, in the process liquid processing system according to the fourth aspect, as the filter device, a first filter device on the upstream side of the manufacturing pipe and a second filter device on the downstream side A pressurizing means for supplying a gas for pressurizing the inside of a connecting pipe connecting a secondary side of the first filter device and a primary side of the second filter device among the manufacturing pipes; and the second A first valve provided in a transport pipe for gas discharged from the primary side of the filter device, and the control device is after the integrity test of the filter and the first filter device and the second filter Before the apparatus is dried, the pressurizing means supplies gas into the connection pipe from the primary side of the second filter apparatus, and the first valve is opened after a predetermined time has elapsed. processing There is the stem.

第5の態様では、第1フィルタ装置、第2フィルタ装置、接続配管などが、完全性試験で用いた液体で湿潤することになっても、その後の乾燥により、無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次のプロセス液を処理する際に、そのプロセス液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、完全性試験によりフィルタの完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理したプロセス液が完全に濾過されたことを担保することができる。   In the fifth aspect, even if the first filter device, the second filter device, the connecting pipe, etc. are wetted with the liquid used in the integrity test, they are made sterile and dry by subsequent drying. Can do. Thereby, when the next process liquid is processed after drying, the initial waste amount of the process liquid can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filter can be ensured by the integrity test, it can be ensured that the process liquid processed before the integrity test has been completely filtered.

本発明の第6の態様は、第5の態様に記載するプロセス液の処理システムにおいて、前記加圧手段は、前記接続配管に設けられた第2バルブと、前記第2フィルタ装置の一次側に気体を圧送する第2気体供給手段と、を備え、前記制御装置は、前記フィルタの完全性の試験後であり前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置の乾燥前に、前記第2バルブを閉じ、前記第2気体供給手段に気体を供給させることで、前記第2フィルタ装置の一次側から前記接続配管へ気体を供給し、所定時間経過後に前記第1バルブを開放することを特徴とするプロセス液の処理システムにある。   According to a sixth aspect of the present invention, in the process liquid processing system according to the fifth aspect, the pressurizing means is provided on the primary side of the second valve provided in the connection pipe and the second filter device. A second gas supply means for pumping gas, and the control device is configured to turn on the second valve after the integrity test of the filter and before drying the first filter device and the second filter device. The gas is supplied from the primary side of the second filter device to the connection pipe by closing and supplying the gas to the second gas supply means, and the first valve is opened after a predetermined time has elapsed. In the process liquid treatment system.

第6の態様では、完全性試験で用いた液体を、第2フィルタ装置の一次側から供給した気体により接続配管から排出することができる。接続配管に直接気体を供給しないので、接続配管へ気体を供給するための構成や当該構成が無菌であることを担保するための構成も不要となり、コスト削減が可能となる   In the sixth aspect, the liquid used in the integrity test can be discharged from the connection pipe by the gas supplied from the primary side of the second filter device. Since gas is not directly supplied to the connecting pipe, a configuration for supplying gas to the connecting pipe and a configuration for ensuring that the configuration is aseptic are not required, and the cost can be reduced.

本発明の第7の態様は、第5の態様に記載するプロセス液の処理システムにおいて、前記加圧手段は、前記第1フィルタ装置の一次側に気体を圧送する第1気体供給手段と、前記第2フィルタ装置の一次側に気体を圧送する第2気体供給手段と、を備え、前記制御装置は、前記フィルタの完全性の試験後であり前記フィルタ装置の乾燥前に、前記第1気体供給手段から供給される気体が前記第2気体供給手段から供給される気体よりも高い圧力となるように、前記第1気体供給手段及び前記第2気体供給手段に気体を供給させ、所定時間経過後に前記第1バルブを開放することを特徴とするプロセス液の処理システムにある。   According to a seventh aspect of the present invention, in the process liquid processing system according to the fifth aspect, the pressurizing means includes a first gas supply means for pumping a gas to a primary side of the first filter device; Second gas supply means for pumping gas to the primary side of the second filter device, and the control device supplies the first gas after the filter integrity test and before the filter device is dried. Gas is supplied to the first gas supply means and the second gas supply means so that the gas supplied from the means has a higher pressure than the gas supplied from the second gas supply means, and after a predetermined time has elapsed. In the process liquid processing system, the first valve is opened.

第7の態様では、2台の第1フィルタ装置及び第2フィルタ装置の間の接続配管を加圧するための気体を供給する加圧手段として第1気体供給手段及び第2気体供給手段を用いる。これらの気圧差を利用して、完全性試験で用いた液体を接続配管から排出することができる。   In the seventh aspect, the first gas supply means and the second gas supply means are used as the pressurizing means for supplying the gas for pressurizing the connecting pipe between the two first filter devices and the second filter device. By using these pressure differences, the liquid used in the integrity test can be discharged from the connection pipe.

本発明の第8の態様は、第5の態様に記載するプロセス液の処理システムにおいて、前記加圧手段は、前記第1フィルタ装置の一次側に気体を圧送する第1気体供給手段を備え、前記制御装置は、前記フィルタの完全性の試験後であり前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置の乾燥前に、前記第1バルブを閉じた状態で前記第1気体供給手段に気体を供給させ、所定時間経過後に前記第1バルブを開放することを特徴とするプロセス液の処理システムにある。   According to an eighth aspect of the present invention, in the process liquid processing system according to the fifth aspect, the pressurizing unit includes a first gas supply unit that pumps a gas to a primary side of the first filter device. The control device supplies gas to the first gas supply means with the first valve closed after the filter integrity test and before the first filter device and the second filter device are dried. And the first valve is opened after a predetermined time has elapsed.

第8の態様では、接続配管を流通する気体を、第1バルブの開閉動作によって緩急を付けることができる。これにより、完全性試験で用いた液体を接続配管から排出することができる。   In the eighth aspect, the gas flowing through the connection pipe can be moderated by the opening / closing operation of the first valve. Thereby, the liquid used in the integrity test can be discharged from the connection pipe.

本発明の第9の態様は、第5の態様に記載するプロセス液の処理システムにおいて、前記加圧手段は、前記接続配管に設けられた第2バルブと、前記第2バルブよりも下流側に設けられた前記接続配管に連通するタンクと、を備え、前記制御装置は、前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置にプロセス液を供給する前に、前記接続配管を洗浄するための洗浄用気体を前記接続配管に供給するとともに、当該洗浄用気体を前記タンクに貯留させ、前記フィルタの完全性の試験後であり前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置の乾燥前に、前記第1バルブを開放し、前記第2バルブを閉鎖し、前記タンクに貯留された気体を前記接続配管に供給させることを特徴とするプロセス液の処理システムにある。   According to a ninth aspect of the present invention, in the process liquid processing system according to the fifth aspect, the pressurizing means includes a second valve provided in the connection pipe, and a downstream side of the second valve. A tank communicating with the connection pipe provided, and the control device is for cleaning the connection pipe before supplying the process liquid to the first filter device and the second filter device. The gas is supplied to the connection pipe, the cleaning gas is stored in the tank, the first filter device and the second filter device are dried after the filter integrity test and before the first filter device is dried. In the process liquid processing system, the valve is opened, the second valve is closed, and the gas stored in the tank is supplied to the connection pipe.

第9の態様では、SIPなどで用いる洗浄用気体をタンクに溜めておき、送液後に、タンクから洗浄用流体を接続配管に供給することで、接続配管に残留した完全性試験で用いた液体を接続配管から排出することができる。また、SIPで用いた洗浄用気体を有効利用することができる。   In the ninth aspect, the cleaning gas used in SIP or the like is stored in a tank, and after the liquid is supplied, the cleaning fluid is supplied from the tank to the connection pipe, whereby the liquid used in the integrity test remaining in the connection pipe. Can be discharged from the connecting pipe. Moreover, the cleaning gas used in SIP can be effectively used.

本発明によれば、フィルタに含浸した水やフィルタ装置に残留した液体とともに廃棄されるプロセス液を削減することができる、プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システムが提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the reduction method of the amount of initial disposal of a process liquid and the processing system of a process liquid which can reduce the process liquid discarded with the water which impregnated the filter and the liquid which remained in the filter apparatus are provided. .

プロセス液の処理システムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the process liquid processing system. フィルタ装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of a filter apparatus. 薬液を送液している状態における処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system in the state which is feeding the chemical | medical solution. 洗浄時における処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system at the time of washing | cleaning. 湿潤時における処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system at the time of moisture. 完全性試験の実施時における処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system at the time of implementation of an integrity test. 乾燥時における処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system at the time of drying. 実施形態2に係る処理システムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the processing system which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施形態2に係る処理システムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the processing system which concerns on Embodiment 2. FIG. 第2フィルタ装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of a 2nd filter apparatus. 実施形態2に係る送液時における処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system at the time of liquid feeding which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施形態2に係る湿潤後の処理システムを示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the processing system after the wet which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施形態2に係る残留した水の排出動作を示す処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system which shows the discharge operation | movement of the residual water which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施形態2に係る残留した水の排出動作を示す処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system which shows the discharge operation | movement of the residual water which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施形態2に係る残留した水の排出動作を示す処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system which shows the discharge operation | movement of the residual water which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施形態3に係る湿潤後の処理システムを示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the processing system after the wet which concerns on Embodiment 3. FIG. 実施形態3に係る残留した水の排出動作を示す処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system which shows discharge operation | movement of the residual water which concerns on Embodiment 3. FIG. 実施形態3に係る残留した水の排出動作を示す処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system which shows discharge operation | movement of the residual water which concerns on Embodiment 3. FIG. 実施形態4に係る湿潤後の処理システムを示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the processing system after the wet which concerns on Embodiment 4. FIG. 実施形態4に係る残留した水の排出動作を示す処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system which shows discharge operation | movement of the remaining water which concerns on Embodiment 4. FIG. 実施形態4に係る残留した水の排出動作を示す処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system which shows discharge operation | movement of the remaining water which concerns on Embodiment 4. FIG. 実施形態5に係る湿潤後の処理システムを示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the processing system after the wet which concerns on Embodiment 5. FIG. 実施形態5に係る残留した水の排出動作を示す処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system which shows discharge operation | movement of the residual water which concerns on Embodiment 5. FIG. 実施形態5に係る残留した水の排出動作を示す処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system which shows discharge operation | movement of the residual water which concerns on Embodiment 5. FIG.

〈実施形態1〉
図1は本実施形態に係るプロセス液の処理システムの概略構成図である。本実施形態の処理システム1は、プロセス液の一例として液状の医薬品(以下、薬液)を製造するプラントの一部である。
<Embodiment 1>
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a process liquid processing system according to the present embodiment. The processing system 1 of the present embodiment is a part of a plant that manufactures liquid pharmaceutical products (hereinafter referred to as chemical solutions) as an example of a process liquid.

具体的には、処理システム1は、調製タンク2と貯留タンク3とを接続する製造用配管を備え、製造用配管30には、フィルタ装置10が設けられている。製造用配管30は、調製タンク2とフィルタ装置10とを接続する第1配管31、フィルタ装置10と貯留タンク3とを接続する第2配管32とから構成されている。   Specifically, the processing system 1 includes a manufacturing pipe that connects the preparation tank 2 and the storage tank 3, and the manufacturing pipe 30 is provided with a filter device 10. The production pipe 30 includes a first pipe 31 that connects the preparation tank 2 and the filter device 10, and a second pipe 32 that connects the filter device 10 and the storage tank 3.

フィルタ装置10は、一般的な液体を濾過するフィルタを備えたフィルタ装置である。図2は、フィルタ装置の概略構成図である。   The filter device 10 is a filter device including a filter for filtering a general liquid. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the filter device.

図2に示すように、フィルタ装置10は、箱状の筐体部11と、筐体部11の内部空間に設けられたフィルタ12とを備えている。筐体部11の側面には第1配管31が接続され、筐体部11の底面には第2配管32が接続されている。また、フィルタ装置10の上部には、輸送配管41が接続されている。輸送配管41は、フィルタ装置10の一次側に接続された配管であり、洗浄用流体や加熱された無菌空気を筐体部11内に輸送するための配管であり、また、フィルタ装置10から空気抜きされた空気の流路として用いられる配管でもある。   As shown in FIG. 2, the filter device 10 includes a box-shaped housing unit 11 and a filter 12 provided in the internal space of the housing unit 11. A first pipe 31 is connected to the side surface of the casing 11, and a second pipe 32 is connected to the bottom of the casing 11. A transport pipe 41 is connected to the upper part of the filter device 10. The transport pipe 41 is a pipe connected to the primary side of the filter device 10, and is a pipe for transporting a cleaning fluid or heated aseptic air into the casing 11, and also vents air from the filter device 10. It is also a pipe used as a flow path for the generated air.

フィルタ12は、液体を流通させ、液体中の不純物や雑菌等を濾過するものである。ここでは、フィルタ12は円筒状に形成され、筐体部11の内部を二つに区分けしている。フィルタ12の外部、すなわち筐体部11の内部であり、かつフィルタ12の外側を一次側13とする。フィルタ12の内部を二次側14とする。フィルタ12の一次側13には、第1配管31が連通し、フィルタ12の二次側14には、第2配管32が連通している。   The filter 12 circulates a liquid and filters impurities, germs, and the like in the liquid. Here, the filter 12 is formed in a cylindrical shape, and divides the inside of the housing portion 11 into two. The outside of the filter 12, that is, the inside of the housing 11 and the outside of the filter 12 is a primary side 13. The inside of the filter 12 is a secondary side 14. A first pipe 31 communicates with the primary side 13 of the filter 12, and a second pipe 32 communicates with the secondary side 14 of the filter 12.

このような構成により、第1配管31からフィルタ装置10の一次側13に薬液が送液され、フィルタ12を透過し、第2配管32へ送液される。   With such a configuration, the chemical solution is sent from the first pipe 31 to the primary side 13 of the filter device 10, passes through the filter 12, and is sent to the second pipe 32.

図1に示すように、処理システム1は、液体供給手段70を備えている。液体供給手段70は、フィルタ装置10のフィルタ12を湿潤させる液体として水を供給するものである。例えば、水を蓄えるタンクや、タンク内の水に圧力を付与する機構や、配管やバルブなどから構成されている。   As shown in FIG. 1, the processing system 1 includes a liquid supply unit 70. The liquid supply means 70 supplies water as a liquid for wetting the filter 12 of the filter device 10. For example, it is composed of a tank for storing water, a mechanism for applying pressure to water in the tank, piping, valves, and the like.

液体供給手段70は、第1配管31に設けられたバルブAよりも上流側(調製タンク2側)に接続されている。液体供給手段70は、第1配管31を介してフィルタ装置10へ水を圧送する。詳細は後述するが、この水によりフィルタ12を湿潤させることができる。   The liquid supply means 70 is connected to the upstream side (preparation tank 2 side) of the valve A provided in the first pipe 31. The liquid supply means 70 pumps water to the filter device 10 via the first pipe 31. Although details will be described later, the filter 12 can be wetted by the water.

また、処理システム1は、無菌空気供給手段80を備えている。無菌空気供給手段80は、輸送配管41に設けられた熱交換器81と、無菌フィルタ装置82とから構成されている。輸送配管41には、気体として空気が供給されるようになっている。熱交換器81は、輸送配管41から供給された空気を熱媒で加熱する。空気を加熱する程度については後述する。   Further, the processing system 1 includes a sterile air supply means 80. The aseptic air supply means 80 includes a heat exchanger 81 provided in the transport pipe 41 and an aseptic filter device 82. Air is supplied to the transport pipe 41 as a gas. The heat exchanger 81 heats the air supplied from the transport pipe 41 with a heat medium. The degree to which air is heated will be described later.

無菌フィルタ装置82は、熱交換器81よりも下流側において輸送配管41に設けられている。無菌フィルタ装置82は、図示しないフィルタによって、空気中の不純物や雑菌を除去する装置である。これにより、空気は、無菌フィルタ装置82によって除菌され、無菌空気となる。なお、無菌フィルタ装置82よりも下流側の輸送配管41には、バルブBが設けられている。   The aseptic filter device 82 is provided in the transport pipe 41 on the downstream side of the heat exchanger 81. The aseptic filter device 82 is a device that removes impurities and germs in the air using a filter (not shown). Thereby, the air is sterilized by the aseptic filter device 82 and becomes aseptic air. Note that a valve B is provided in the transport pipe 41 on the downstream side of the aseptic filter device 82.

このように、熱交換器81及び無菌フィルタ装置82によって、空気は加熱された無菌空気(以下、加熱無菌空気と称する)となり、フィルタ装置10へ供給される。   As described above, the air is heated to aseptic air (hereinafter referred to as heated aseptic air) by the heat exchanger 81 and the aseptic filter device 82 and supplied to the filter device 10.

また、処理システム1は、試験装置90を備えている。試験装置90は、フィルタ装置10のフィルタ12の完全性を試験する一般的な装置である。具体的には、試験装置90は、輸送配管41から分岐した配管43に接続されている。そして、試験装置90は、フィルタ装置10の一次側13の圧力を測定することが可能となっている。   Further, the processing system 1 includes a test apparatus 90. The test apparatus 90 is a general apparatus that tests the integrity of the filter 12 of the filter apparatus 10. Specifically, the test apparatus 90 is connected to a pipe 43 branched from the transport pipe 41. The test device 90 can measure the pressure on the primary side 13 of the filter device 10.

試験装置90は、フィルタ12が水で湿潤し、バルブAやバルブBを閉鎖した状態において、フィルタ装置10の一次側13の圧力を測定する。試験装置90は、当該圧力が所定時間維持されればフィルタ12の機能が損なわれていないと判断する。または、試験装置90は、当該圧力が低下するとフィルタの機能が損なわれていると判断する。   The test device 90 measures the pressure on the primary side 13 of the filter device 10 in a state where the filter 12 is wet with water and the valve A and the valve B are closed. The test apparatus 90 determines that the function of the filter 12 is not impaired if the pressure is maintained for a predetermined time. Alternatively, the test apparatus 90 determines that the function of the filter is impaired when the pressure decreases.

また、処理システム1は、洗浄用流体を供給する装置群(図示せず)を備えている。洗浄用流体は、CIP、SIPで用いる洗浄液などの液体や蒸気などの気体である。本実施形態では、洗浄用流体は、輸送配管41を介して、フィルタ装置10や製造用配管30に供給され、それらを洗浄するために用いられる。もちろん、輸送配管41を介してフィルタ装置10や製造用配管30に洗浄用流体を供給する構成に限定されない。例えば、調製タンク2や貯留タンク3にも洗浄用流体を供給して、それらを洗浄する構成としてもよい。   Further, the processing system 1 includes a device group (not shown) that supplies a cleaning fluid. The cleaning fluid is a liquid such as a cleaning liquid used in CIP or SIP, or a gas such as a vapor. In the present embodiment, the cleaning fluid is supplied to the filter device 10 and the manufacturing pipe 30 via the transport pipe 41 and used for cleaning them. Of course, the present invention is not limited to the configuration in which the cleaning fluid is supplied to the filter device 10 and the manufacturing pipe 30 via the transport pipe 41. For example, it is good also as a structure which supplies the fluid for washing | cleaning also to the preparation tank 2 and the storage tank 3, and wash | cleans them.

また、処理システム1は、処理システム1の処理を制御するプログラマブルロジックコントローラ(PLC)などの制御装置(図示せず)を備えている。制御装置は、調製タンク2から薬液を送液させる制御や、洗浄用流体の供給・停止、液体供給手段70による水の供給・停止、無菌空気供給手段80による加熱無菌空気の供給・停止、試験装置90によるフィルタ12の完全性試験の実施を制御することが可能である。   In addition, the processing system 1 includes a control device (not shown) such as a programmable logic controller (PLC) that controls processing of the processing system 1. The control device controls the feeding of the chemical solution from the preparation tank 2, the supply / stop of the cleaning fluid, the supply / stop of water by the liquid supply means 70, the supply / stop of heated sterile air by the sterile air supply means 80, the test It is possible to control the implementation of the integrity test of the filter 12 by the device 90.

調製タンク2は、薬液を調整するタンクである。特に図示しないが、調製タンク2は、製造する薬液の原料が投入される投入口、製造された薬液を排出する排出口が設けられており、制御装置からの制御信号により開閉可能となっている。また、調製タンク2には、その内部に圧縮空気を供給する圧縮空気供給装置(図示せず)が接続されている。圧縮空気供給装置は、制御装置からの制御により指定された圧力で空気を調製タンク2に供給する。これにより、調製タンク2から薬液を製造用配管30へ送液させることができる。   The preparation tank 2 is a tank for adjusting a chemical solution. Although not particularly illustrated, the preparation tank 2 is provided with an inlet for supplying a raw material of the chemical liquid to be manufactured and an outlet for discharging the manufactured chemical liquid, and can be opened and closed by a control signal from the control device. . The preparation tank 2 is connected to a compressed air supply device (not shown) for supplying compressed air therein. The compressed air supply device supplies air to the preparation tank 2 at a pressure specified by control from the control device. Thereby, a chemical | medical solution can be sent from the preparation tank 2 to the piping 30 for manufacture.

貯留タンク3は、調製タンク2から製造用配管30を通って圧送された薬液を貯留するタンクである。特に図示しないが、貯留タンク3は、圧送された薬液が投入される投入口、薬液を排出する排出口が設けられており、制御装置からの制御により開閉可能となっている。また、貯留タンク3は、薬液を容器に詰める充填機に接続されており、当該充填機の排出口から薬液を排出し、充填機に供給することが可能となっている。   The storage tank 3 is a tank that stores the chemical solution fed from the preparation tank 2 through the manufacturing pipe 30. Although not particularly shown, the storage tank 3 is provided with an inlet for feeding the pumped chemical and an outlet for discharging the chemical, and can be opened and closed by control from the control device. In addition, the storage tank 3 is connected to a filling machine that fills the container with the chemical liquid, and the chemical liquid can be discharged from the discharge port of the filling machine and supplied to the filling machine.

また、輸送配管41から試験装置90へ分岐する配管43にはバルブCが設けられ、第2配管32にはバルブDが設けられ、第2配管32のバルブDより上流部分から分岐した配管35にはバルブEが設けられている。これらのバルブC〜バルブE、及び上述したバルブA、バルブBは、いずれも制御装置によって開閉制御が可能となっている。   Further, a valve C is provided in the pipe 43 branched from the transport pipe 41 to the test apparatus 90, a valve D is provided in the second pipe 32, and a pipe 35 branched from an upstream portion of the valve D of the second pipe 32 is provided. Is provided with a valve E. These valves C to E and the above-described valves A and B can be controlled to be opened and closed by a control device.

上述した構成の処理システムの動作について説明する。図3は、調製タンク2から貯留タンク3に薬液を送液している状態における処理システム1の概略図である。なお、図3のハッチは薬液を表している。各バルブが開放された状態を白塗りで表し、閉鎖された状態を黒塗りで表している。   The operation of the processing system configured as described above will be described. FIG. 3 is a schematic diagram of the processing system 1 in a state in which a chemical solution is being sent from the preparation tank 2 to the storage tank 3. In addition, the hatch of FIG. 3 represents the chemical | medical solution. The open state of each valve is represented by white, and the closed state is represented by black.

送液時においては、制御装置は、バルブA、バルブB、バルブDを開放し、バルブC、バルブEを閉鎖し、調製タンク2に圧縮空気を供給させる。このような制御により、調製タンク2から製造用配管30を介して貯留タンク3へ薬液が圧送される。薬液は、フィルタ装置10で濾過されるので、無菌状態となって貯留タンク3に貯留される。   At the time of liquid feeding, the control device opens the valves A, B, and D, closes the valves C and E, and supplies compressed air to the preparation tank 2. By such control, the chemical solution is pumped from the preparation tank 2 to the storage tank 3 through the manufacturing pipe 30. Since the chemical solution is filtered by the filter device 10, the chemical solution is aseptic and stored in the storage tank 3.

次に、処理システム1において、薬液の送液後に、製造用配管30等を洗浄するときの動作について説明する。図4は、洗浄時における処理システム1の概略図である。例えば、洗浄時においては、制御装置は、バルブA、バルブC、バルブDを閉鎖し、バルブB、バルブEを開放する。そして、制御装置は洗浄用流体を輸送配管41からフィルタ装置10や製造用配管30(第2配管32)に供給する。具体的には、洗浄用流体として洗浄液をフィルタ装置10、製造用配管30に流通させてCIPを行い、その後、洗浄用流体として蒸気をフィルタ装置10、製造用配管30に流通させてSIPを行う。洗浄後の洗浄用流体は、配管35から排出される。   Next, in the processing system 1, an operation when the manufacturing pipe 30 and the like are washed after the chemical solution is fed will be described. FIG. 4 is a schematic diagram of the processing system 1 during cleaning. For example, at the time of cleaning, the control device closes the valves A, C, and D and opens the valves B and E. Then, the control device supplies the cleaning fluid from the transport pipe 41 to the filter device 10 and the manufacturing pipe 30 (second pipe 32). Specifically, the cleaning liquid is circulated through the filter device 10 and the manufacturing pipe 30 as the cleaning fluid to perform CIP, and then the steam is circulated through the filter device 10 and the manufacturing pipe 30 as the cleaning fluid to perform SIP. . The cleaning fluid after cleaning is discharged from the pipe 35.

このような洗浄によって、フィルタ装置10や製造用配管30は洗浄される。また、SIP後においては、フィルタ装置10(フィルタ12や筐体部11内など)や製造用配管30の内部は、ほとんど乾燥した状態となる。   By such cleaning, the filter device 10 and the manufacturing pipe 30 are cleaned. In addition, after the SIP, the inside of the filter device 10 (in the filter 12 and the housing portion 11) and the manufacturing pipe 30 is almost dry.

次に、処理システム1において、フィルタ12を湿潤させるときの動作について説明する。図5は、湿潤時における処理システム1の概略図である。図5のハッチは水を表している。湿潤時においては、制御装置は、バルブC、バルブDを閉鎖し、バルブA、バルブB、バルブEを開放する。そして、制御装置は、液体供給手段70に水をフィルタ装置10に供給させる。   Next, the operation when the filter 12 is wetted in the processing system 1 will be described. FIG. 5 is a schematic view of the processing system 1 when wet. The hatches in FIG. 5 represent water. When wet, the control device closes the valves C and D and opens the valves A, B and E. Then, the control device causes the liquid supply means 70 to supply water to the filter device 10.

液体供給手段70による水の供給によって、フィルタ装置10の筐体部11内は水で満たされ、フィルタ12は湿潤した状態となる。特に図示しないが、制御装置は、フィルタ装置10の筐体部11内が水で満たされるのに十分な時間が経過したら、液体供給手段70による水の供給を停止させる。また、制御装置は、水の供給停止後から一定時間経過後に、バルブEを開放して、水を排出する。   By supply of water by the liquid supply means 70, the inside of the housing portion 11 of the filter device 10 is filled with water, and the filter 12 is in a wet state. Although not particularly illustrated, the control device stops the supply of water by the liquid supply means 70 when a sufficient time has elapsed for the inside of the casing 11 of the filter device 10 to be filled with water. In addition, the control device opens the valve E and discharges water after a lapse of a certain time from the stop of water supply.

次に、処理システム1において、フィルタ12の完全性試験を実施する動作について説明する。図6は、完全性試験の実施時における処理システム1の概略図である。フィルタ12を湿潤させた後では、フィルタ装置10の一次側13内には若干量の水が残り(図示せず)、また、フィルタ12は水で湿潤した状態となっている。   Next, an operation for performing the integrity test of the filter 12 in the processing system 1 will be described. FIG. 6 is a schematic diagram of the processing system 1 when the integrity test is performed. After the filter 12 has been wetted, some amount of water remains in the primary side 13 of the filter device 10 (not shown), and the filter 12 is in a wet state with water.

完全性試験の実施においては、制御装置は、バルブA、バルブB、バルブD、バルブEを閉鎖し、バルブCを開放する。すなわち、フィルタ装置10の一次側13から外部へ空気が漏れない状態とする。そして、制御装置は、試験装置90に、一次側13の圧力を所定の圧力に調整させ、一次側13の圧力を測定させる。   In performing the integrity test, the controller closes valve A, valve B, valve D, and valve E and opens valve C. That is, air is not leaked from the primary side 13 of the filter device 10 to the outside. Then, the control device causes the test device 90 to adjust the pressure on the primary side 13 to a predetermined pressure and measure the pressure on the primary side 13.

上述したようにフィルタ12が湿潤しているので、フィルタ12に破損がなければ、フィルタ12の一次側13から二次側14へ空気が透過しない。したがって、試験装置90は、一次側13の圧力に変化がなければ、またはその変化が許容できる範囲であるならば、フィルタ12に破損がないと判断する。   Since the filter 12 is wet as described above, air does not permeate from the primary side 13 to the secondary side 14 of the filter 12 if the filter 12 is not damaged. Therefore, the test apparatus 90 determines that the filter 12 is not damaged if there is no change in the pressure on the primary side 13 or if the change is within an allowable range.

一方、フィルタ12が湿潤しているにもかかわらず、フィルタ12が破損していると、一次側13から二次側14へ空気が通過してしまい、一次側13の圧力は低下する。試験装置90は、一次側13の圧力低下を検出したら、フィルタ12が破損したと判断する。   On the other hand, if the filter 12 is damaged even though the filter 12 is wet, air passes from the primary side 13 to the secondary side 14 and the pressure on the primary side 13 decreases. The test apparatus 90 determines that the filter 12 is damaged when detecting a pressure drop on the primary side 13.

このようにして、フィルタ12の完全性試験を実施する。上述したように、完全性試験に先だってフィルタ12は湿潤させられており、完全性試験では特に乾燥させないので、完全性試験の終了後でも湿潤した状態である。つまり、フィルタ装置10の一次側13には水が若干量残留し、フィルタ12は湿潤している。このように、SIP後ではそれらは乾燥していたにも関わらず、完全性試験の実施によって相当量の水が残った状態となる。   In this way, the integrity test of the filter 12 is performed. As described above, the filter 12 is wetted prior to the integrity test, and is not particularly dried in the integrity test, so that it remains wet even after the completion of the integrity test. That is, a small amount of water remains on the primary side 13 of the filter device 10 and the filter 12 is wet. Thus, after the SIP, although they were dry, a substantial amount of water remained after the integrity test.

従来技術で述べたように、これらの水は、次の薬液を図3に示したように濾過させるときに、当該薬液とともにフィルタ装置10外部へ排出される。このように、フィルタ装置10で濾過された薬液のうち初期の分には、フィルタ12に湿潤していた水や一次側13に残っていた水が含まれるため、廃棄される。   As described in the prior art, these waters are discharged to the outside of the filter device 10 together with the chemical solution when the next chemical solution is filtered as shown in FIG. Thus, the initial portion of the chemical liquid filtered by the filter device 10 includes water that has been wetted by the filter 12 and water that has remained on the primary side 13, and is discarded.

ここで、CIPやSIPを実施する前にフィルタ12を湿潤させて完全性試験を実施することも考えられる。これによれば、完全性試験後にCIP、SIPを実施することになるので、フィルタ12はほとんど乾燥した状態となり、薬液の初期廃棄量もほとんどない。しかしながら、薬液の製造にあたっては、国際的な法規により、SIP後に完全性試験をすることが要請されている。したがって、このようなSIP後の完全性試験の実施を前提として、初期廃棄量を削減することが望まれている。   Here, it is also conceivable to perform the integrity test by wetting the filter 12 before performing CIP or SIP. According to this, since CIP and SIP are performed after the integrity test, the filter 12 is almost in a dry state, and there is almost no initial amount of chemical solution discarded. However, in the manufacture of chemicals, it is required to conduct an integrity test after SIP according to international regulations. Therefore, it is desired to reduce the initial discard amount on the premise that such an integrity test after SIP is performed.

そこで、本実施形態に係る処理システム1及び初期廃棄量の削減方法では、完全性試験を実施した後に、フィルタ12を乾燥させる。図7は、乾燥時における処理システム1の概略図である。乾燥時においては、制御装置は、バルブA、バルブC、バルブD、バルブEを閉鎖し、バルブBを開放する。そして、制御装置は、無菌空気供給手段80に、加熱無菌空気をフィルタ装置10に供給させる。   Therefore, in the processing system 1 and the method for reducing the initial waste amount according to the present embodiment, the filter 12 is dried after performing the integrity test. FIG. 7 is a schematic diagram of the processing system 1 during drying. At the time of drying, the control device closes the valve A, the valve C, the valve D, and the valve E, and opens the valve B. Then, the control device causes the sterile air supply means 80 to supply heated sterile air to the filter device 10.

具体的には、熱交換器81が空気を加熱し、無菌フィルタ装置82が当該空気を除菌することで加熱無菌空気を形成し、これをフィルタ装置10に供給する。加熱無菌空気の温度は、フィルタ12が許容できる温度以下であり、フィルタ12の水を乾燥させることが可能な温度とする。また、加熱無菌空気の圧力は特に限定はないが、フィルタ12が許容する圧力以下とする。   Specifically, the heat exchanger 81 heats the air, and the sterile filter device 82 sterilizes the air to form heated sterile air, which is supplied to the filter device 10. The temperature of the heated sterilized air is set to a temperature that is lower than or equal to the temperature that the filter 12 can tolerate and that can dry the water of the filter 12. Further, the pressure of the heated aseptic air is not particularly limited, but is set to be equal to or lower than the pressure allowed by the filter 12.

このように加熱無菌空気をフィルタ装置10に供給することで、フィルタ12に含浸されていた水が蒸発し、フィルタ12を乾燥させることができる。また、フィルタ装置10の一次側13に残留していた水も同様に乾燥させることができる。また、無菌の空気で乾燥させるので、フィルタ装置10内が無菌であることを担保することができる。   By supplying heated aseptic air to the filter device 10 in this way, the water impregnated in the filter 12 evaporates and the filter 12 can be dried. Further, the water remaining on the primary side 13 of the filter device 10 can be similarly dried. Moreover, since it dries with aseptic air, it can ensure that the inside of the filter apparatus 10 is aseptic.

フィルタ装置10やフィルタ12を乾燥させた後は、制御装置は加熱無菌空気の供給を停止させる。その後は、次の薬液の処理を行ってもよいし、バルブBを閉じることで製造用配管30やフィルタ装置10を外気と遮断して無菌の状態を保ち、次の薬液の処理に備えて待機させてもよい。   After the filter device 10 and the filter 12 are dried, the control device stops the supply of heated sterile air. After that, the next chemical solution may be processed, or the valve B is closed to shut off the manufacturing pipe 30 and the filter device 10 from the outside air so that the sterilized state is maintained, and waiting for the next chemical solution processing. You may let them.

フィルタ12の乾燥後に次の薬液を処理するときは、無菌であり、かつ乾燥したフィルタ12(フィルタ装置10の内部)に薬液を濾過させることになる。これにより、フィルタ12に薬液を濾過させても、完全性試験に用いた水が含まれないので、薬液の初期の分を廃棄する必要がない。   When the next chemical liquid is processed after the filter 12 is dried, the chemical liquid is filtered by the filter 12 (inside the filter device 10) which is aseptic and dry. Thereby, even if the chemical solution is filtered by the filter 12, the water used for the integrity test is not included, and therefore, it is not necessary to discard the initial portion of the chemical solution.

以上に説明した処理システム1及び初期廃棄量の削減方法では、薬液をフィルタ装置10で濾過させる前に、フィルタ装置10のフィルタ12を水で湿潤させ、フィルタ12の一次側における圧力の変化に基づいたフィルタ12の完全性試験を実施する。そして、 加熱無菌空気によりフィルタ装置10を乾燥させる。   In the processing system 1 and the method for reducing the initial waste amount described above, the filter 12 of the filter device 10 is moistened with water before the chemical solution is filtered by the filter device 10, and based on the change in pressure on the primary side of the filter 12. A completeness test of the filter 12 is performed. Then, the filter device 10 is dried with heated aseptic air.

このような処理システム1及び初期廃棄量の削減方法によれば、SIP後に実施する完全性試験のためにフィルタ12等を湿潤させても、加熱無菌空気により乾燥させる。この結果、フィルタ12やフィルタ装置10の一次側13を無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次の薬液を処理する際に、その薬液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、SIP後の完全性試験によりフィルタ12の完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理した薬液が完全に濾過されたことを担保することができる。   According to the processing system 1 and the method for reducing the initial waste amount, even when the filter 12 or the like is moistened for the integrity test performed after SIP, it is dried with heated aseptic air. As a result, the filter 12 and the primary side 13 of the filter device 10 can be in a sterile and dry state. Thereby, when processing the next chemical | medical solution after drying, the amount of initial disposal of the chemical | medical solution can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filter 12 can be ensured by the integrity test after SIP, it can be ensured that the chemical solution processed before the integrity test has been completely filtered.

〈実施形態2〉
実施形態1では、フィルタ装置10を一つ備えた処理システム1について説明したが、本実施形態では、2つのフィルタ装置を備える処理システム1について説明する。図8及び図9は本実施形態に係る処理システム1の概略構成図であり、図10は第2フィルタ装置の概略構成図である。なお、実施形態1と同一のものには同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
<Embodiment 2>
In the first embodiment, the processing system 1 including one filter device 10 has been described. In the present embodiment, the processing system 1 including two filter devices will be described. 8 and 9 are schematic configuration diagrams of the processing system 1 according to the present embodiment, and FIG. 10 is a schematic configuration diagram of the second filter device. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same thing as Embodiment 1, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

本実施形態の処理システム1は、第1フィルタ装置10及び第2フィルタ装置20を備えている。第1フィルタ装置10は、実施形態1のフィルタ装置10と同様の構成である。製造用配管30は、第1配管31、第2配管32、第3配管33とから構成されている。このうち、第1配管31は実施形態1と同様である。第2配管32は、本実施形態では第1フィルタ装置10と第2フィルタ装置20とを接続している。第3配管33は第2フィルタ装置20と貯留タンク3とを接続している。   The processing system 1 of the present embodiment includes a first filter device 10 and a second filter device 20. The first filter device 10 has the same configuration as the filter device 10 of the first embodiment. The manufacturing pipe 30 includes a first pipe 31, a second pipe 32, and a third pipe 33. Among these, the 1st piping 31 is the same as that of Embodiment 1. In the present embodiment, the second pipe 32 connects the first filter device 10 and the second filter device 20. The third pipe 33 connects the second filter device 20 and the storage tank 3.

図10に示すように、第2フィルタ装置20は、箱状の筐体部21と、筐体部21の内部空間に設けられたフィルタ22とを備えている。筐体部21の側面には第2配管32が接続され、筐体部21の底面には第3配管33が接続されている。また、第2フィルタ装置20の上部には、輸送配管42が接続されている。輸送配管42は、第2フィルタ装置20の一次側に接続された配管であり、加圧用の気体を筐体部21内に輸送するための配管であり、また、第2フィルタ装置20から排出された空気の流路として用いられる配管でもある。   As shown in FIG. 10, the second filter device 20 includes a box-shaped housing portion 21 and a filter 22 provided in the internal space of the housing portion 21. A second pipe 32 is connected to the side surface of the casing unit 21, and a third pipe 33 is connected to the bottom surface of the casing unit 21. In addition, a transport pipe 42 is connected to the upper part of the second filter device 20. The transport pipe 42 is a pipe connected to the primary side of the second filter device 20, is a pipe for transporting the gas for pressurization into the housing portion 21, and is discharged from the second filter device 20. It is also a pipe used as a flow path for air.

フィルタ22は、液体を流通させ、液体中の不純物や雑菌等を濾過するものである。ここでは、フィルタ22は円筒状に形成され、筐体部21の内部を二つに区分けしている。フィルタ22の外部、すなわち筐体部21の内部であり、かつフィルタ22の外側を一次側23とする。フィルタ22の内部を二次側24とする。フィルタ22の一次側23には、第2配管32が連通し、フィルタ22の二次側24には、第3配管33が連通している。   The filter 22 circulates the liquid and filters impurities, germs, and the like in the liquid. Here, the filter 22 is formed in a cylindrical shape, and divides the inside of the housing portion 21 into two. The outside of the filter 22, that is, the inside of the housing portion 21 and the outside of the filter 22 is a primary side 23. The inside of the filter 22 is a secondary side 24. A second pipe 32 communicates with the primary side 23 of the filter 22, and a third pipe 33 communicates with the secondary side 24 of the filter 22.

このような構成により、第2配管32から第2フィルタ装置20の一次側23に薬液が送液され、フィルタ22を透過し、第3配管33へ送液される。   With such a configuration, the chemical solution is sent from the second pipe 32 to the primary side 23 of the second filter device 20, passes through the filter 22, and is sent to the third pipe 33.

また、輸送配管42から分岐した配管に気体供給手段60が接続されている。気体供給手段60は、第2フィルタ装置20の一次側23に気体を圧送する。気体供給手段60は、加圧した気体を供給できるものであれば、特に限定はない。本実施形態では、気体供給手段60は、気体として、加熱殺菌された無菌空気を供給する。具体的には、外部から取り込んだ空気を加熱殺菌して無菌空気とする殺菌機、無菌空気を所定圧力まで加圧するポンプやその圧力を調整する圧力弁などから気体供給手段60は構成されている。   A gas supply means 60 is connected to a pipe branched from the transport pipe 42. The gas supply means 60 pumps the gas to the primary side 23 of the second filter device 20. The gas supply means 60 is not particularly limited as long as it can supply pressurized gas. In the present embodiment, the gas supply means 60 supplies heat-sterilized aseptic air as a gas. Specifically, the gas supply means 60 includes a sterilizer that heats and sterilizes air taken from outside to produce aseptic air, a pump that pressurizes aseptic air to a predetermined pressure, a pressure valve that adjusts the pressure, and the like. .

第2フィルタ装置20の一次側23は第2配管32に連通しているので、気体供給手段60は、一次側23から第2配管32まで無菌空気を供給することが可能となっている。   Since the primary side 23 of the second filter device 20 communicates with the second pipe 32, the gas supply means 60 can supply aseptic air from the primary side 23 to the second pipe 32.

第2配管32には、第2バルブ52が設けられている。第2バルブ52は、第2配管32の鉛直方向に沿った部分に設けられている。また、輸送配管42には第1バルブ51が設けられている。輸送配管42は、第2フィルタ装置20の空気抜きのための流路であるが、本実施形態では、気体供給手段60により第2フィルタ装置20に供給された無菌空気を排出するための流路としても兼用される。   A second valve 52 is provided in the second pipe 32. The second valve 52 is provided in a portion along the vertical direction of the second pipe 32. Further, the transport pipe 42 is provided with a first valve 51. The transport pipe 42 is a flow path for venting the second filter device 20. In this embodiment, the transport pipe 42 is a flow path for discharging aseptic air supplied to the second filter device 20 by the gas supply means 60. Is also used.

また、第2フィルタ装置20に接続された輸送配管42から分岐して、試験装置91が接続されている。この試験装置91は、試験対象が第2フィルタ装置20である以外は、実施形態1の試験装置90と同様の装置である。   In addition, a test device 91 is connected to branch from the transport pipe 42 connected to the second filter device 20. The test apparatus 91 is the same apparatus as the test apparatus 90 of Embodiment 1 except that the test target is the second filter apparatus 20.

上述した構成の処理システムの動作について説明する。図11は、調製タンク2から貯留タンク3に薬液を送液している状態における処理システム1の概略図である。なお、網目のハッチは薬液を表している。   The operation of the processing system configured as described above will be described. FIG. 11 is a schematic diagram of the processing system 1 in a state in which a chemical solution is being sent from the preparation tank 2 to the storage tank 3. The mesh hatch represents a chemical solution.

本実施形態の処理システム1では、調製タンク2から供給された薬液を、第1フィルタ装置10及び第2フィルタ装置20により濾過し、貯留タンク3に送液する。具体的には、送液時においては、制御装置は、第2バルブ52を開放し、調製タンク2に圧縮空気を供給させる。また、第1フィルタ装置10と輸送配管41との間は閉鎖され、第2フィルタ装置20と輸送配管42との間は閉鎖されている。   In the processing system 1 of the present embodiment, the chemical solution supplied from the preparation tank 2 is filtered by the first filter device 10 and the second filter device 20 and sent to the storage tank 3. Specifically, at the time of liquid feeding, the control device opens the second valve 52 and supplies compressed air to the preparation tank 2. The first filter device 10 and the transport pipe 41 are closed, and the second filter device 20 and the transport pipe 42 are closed.

このような制御により、調製タンク2から製造用配管30を介して貯留タンク3へ薬液が圧送される。薬液は、第1フィルタ装置10及び第2フィルタ装置20を通り濾過されるので、無菌状態となって貯留タンク3に貯留される。   By such control, the chemical solution is pumped from the preparation tank 2 to the storage tank 3 through the manufacturing pipe 30. Since the chemical solution is filtered through the first filter device 10 and the second filter device 20, the chemical solution is sterilized and stored in the storage tank 3.

そして、特に図示しないが、送液の終了後は、実施形態1と同様に、洗浄用流体によってCIP、SIPを実施する。その後、完全性試験を実施するために、液体供給手段70から水を第1フィルタ装置10に供給する。この水は第1フィルタ装置10のフィルタ12(図示せず)を透過し、第2配管32を経由して第2フィルタ装置20のフィルタ22(図示せず)を湿潤させる。   And although not shown in particular, after completion of liquid feeding, CIP and SIP are performed by the cleaning fluid as in the first embodiment. Thereafter, water is supplied from the liquid supply means 70 to the first filter device 10 in order to perform an integrity test. This water passes through the filter 12 (not shown) of the first filter device 10 and wets the filter 22 (not shown) of the second filter device 20 via the second pipe 32.

図12は、フィルタを湿潤させた後の処理システムの状態を示す概略構成図である。第1フィルタ装置10及び第2フィルタ装置20の双方のフィルタを湿潤させた後に、水を排出する。そして、第1フィルタ装置10のフィルタ12について、試験装置90で完全性試験を実施する。同様に第2フィルタ装置20のフィルタ22について、試験装置91で完全性試験を実施する。   FIG. 12 is a schematic configuration diagram illustrating a state of the processing system after the filter is wetted. After the filters of both the first filter device 10 and the second filter device 20 are wetted, the water is discharged. Then, an integrity test is performed on the filter 12 of the first filter device 10 by the test device 90. Similarly, an integrity test is performed on the filter 22 of the second filter device 20 by the test device 91.

完全性試験の実施後においては、実施形態1と同様に、第1フィルタ装置10及び第2フィルタ装置20のフィルタ12及びフィルタ22は水が含浸した状態であり、一次側13及び一次側23に若干量の水が残留する。さらに、第1フィルタ装置10と第2フィルタ装置20とを接続する第2配管32(請求項の接続配管に相当する)にも若干量の水が残留する。   After the integrity test, as in the first embodiment, the filters 12 and 22 of the first filter device 10 and the second filter device 20 are impregnated with water, and the primary side 13 and the primary side 23 are in contact with each other. Some water remains. Furthermore, a small amount of water also remains in the second pipe 32 (corresponding to the connection pipe in the claims) connecting the first filter device 10 and the second filter device 20.

実施形態1の処理システム1では、完全性試験の実施後に乾燥を行ったが、本実施形態の処理システム1では、乾燥を実施する前に、第2配管32の水を排出する。   In the processing system 1 of the first embodiment, drying is performed after the integrity test is performed, but in the processing system 1 of the present embodiment, the water in the second pipe 32 is discharged before the drying is performed.

図13から図15は、第2配管32に残留した水を排出させる動作を示す処理システムの概略図である。図13から図15の矢印は無菌空気の流れを表している。図13に示すように、制御装置は、完全性試験の実施後、第1バルブ51及び第2バルブ52を閉鎖する。そして、気体供給手段60に無菌空気を第2フィルタ装置20の一次側23に供給させる。   FIGS. 13 to 15 are schematic views of the processing system showing the operation of discharging the water remaining in the second pipe 32. The arrows in FIGS. 13 to 15 represent the flow of aseptic air. As shown in FIG. 13, the control device closes the first valve 51 and the second valve 52 after performing the integrity test. Then, the gas supply means 60 is supplied with aseptic air to the primary side 23 of the second filter device 20.

第2フィルタ装置20の一次側23に供給された無菌空気は、一次側23に連通した第2配管32に充填される。この無菌空気の圧力としては、陽圧とし、送液時においてフィルタ22が水から受ける圧力以下とすることが好ましい。このような無菌圧力とすることで、フィルタ22が損傷することを回避することができる。   The aseptic air supplied to the primary side 23 of the second filter device 20 is filled in the second pipe 32 communicating with the primary side 23. The pressure of the sterilized air is preferably a positive pressure, and is preferably equal to or lower than the pressure that the filter 22 receives from water during liquid feeding. By using such an aseptic pressure, it is possible to avoid the filter 22 from being damaged.

そして、図14に示すように、制御装置は、所定時間経過後に第1バルブ51を開放する。第1バルブ51が開放されると、第2配管32、及び第2フィルタ装置20の一次側23内は外部に連通するので、それらの内部の無菌空気は外部に排出される。   Then, as shown in FIG. 14, the control device opens the first valve 51 after a predetermined time has elapsed. If the 1st valve | bulb 51 is open | released, since the inside of the primary side 23 of the 2nd piping 32 and the 2nd filter apparatus 20 will be connected outside, those aseptic air inside those will be discharged | emitted outside.

気体供給手段60から無菌空気の供給を始めてから、第1バルブ51を開くまでの所定時間としては、無菌空気が第2配管32に充填されるのに十分な時間とする。   The predetermined time from the start of the supply of aseptic air from the gas supply means 60 to the opening of the first valve 51 is a time sufficient to fill the second pipe 32 with aseptic air.

このように第2配管32に加圧された無菌空気が導入され(図13)、その後、無菌空気が排出される(図14)。本実施形態の処理システム1は、このような無菌空気の流れを形成することで、第2配管32に残留していた水を第2フィルタ装置20の一次側23に押し出すことができる。   In this way, the pressurized sterile air is introduced into the second pipe 32 (FIG. 13), and then the sterile air is discharged (FIG. 14). The processing system 1 of this embodiment can push out the water remaining in the second pipe 32 to the primary side 23 of the second filter device 20 by forming such a sterile air flow.

次に、図15に示すように、制御装置は、第1バルブ51を閉じる。これにより、再び、陽圧の無菌空気が第2フィルタ装置20の一次側23に供給される。この無菌空気の圧力により、水はフィルタ22を透過し、第3配管33を経由して貯留タンク3に圧送される。   Next, as shown in FIG. 15, the control device closes the first valve 51. Thereby, positive pressure sterile air is supplied to the primary side 23 of the second filter device 20 again. Due to the pressure of the aseptic air, water passes through the filter 22 and is pumped to the storage tank 3 via the third pipe 33.

なお、図13に示した無菌空気の導入、図14に示した無菌空気の排出、図15に示した水の第3配管33への圧送を複数回繰り返してもよい。これにより、より確実に第2配管32に残留した水を第2フィルタ装置20に送液することができる。   The introduction of aseptic air shown in FIG. 13, the discharge of aseptic air shown in FIG. 14, and the pumping of water to the third pipe 33 shown in FIG. 15 may be repeated a plurality of times. Thereby, the water remaining in the second pipe 32 can be more reliably sent to the second filter device 20.

このように、処理システム1では、2台の第1フィルタ装置10及び第2フィルタ装置20間の第2配管32に残留した水を圧送するための無菌空気を、第2フィルタ装置20の一次側23から第2配管32に送り込む(図13参照)。そして、無菌空気を第1バルブ51から外部に排出することで、無菌空気の排気の流れにより、残留した水を第2配管32から第2フィルタ装置20へ送液することができる(図14参照)。そして、第2フィルタ装置20から配管35を介して外部へ水が排出される。   Thus, in the processing system 1, aseptic air for pumping water remaining in the second pipe 32 between the two first filter devices 10 and the second filter device 20 is used as the primary side of the second filter device 20. 23 to the second pipe 32 (see FIG. 13). Then, by discharging the sterilized air from the first valve 51 to the outside, the remaining water can be sent from the second pipe 32 to the second filter device 20 by the flow of the sterilized air exhaust (see FIG. 14). ). Then, water is discharged from the second filter device 20 to the outside through the pipe 35.

次に、制御装置は、無菌空気供給手段80に、加熱無菌空気を第1フィルタ装置10に供給させる。これにより、第1フィルタ装置10のフィルタ12や一次側13に残留していた水を乾燥させることができる。また、フィルタ12の乾燥後、加熱無菌空気はフィルタ12を通過し、第2配管32を通り、第2フィルタ装置20のフィルタ22や一次側23に残留していた水を乾燥させる。   Next, the control device causes the sterile air supply means 80 to supply heated sterile air to the first filter device 10. Thereby, the water remaining on the filter 12 and the primary side 13 of the first filter device 10 can be dried. Further, after the filter 12 is dried, the heated aseptic air passes through the filter 12, passes through the second pipe 32, and dries the water remaining on the filter 22 and the primary side 23 of the second filter device 20.

ここで、図13〜図15に示した処理によって、第2配管32に残留していた水のほとんどは第2フィルタ装置20へ排出されている。このように第2配管32にほとんど水がない状態で、加熱無菌空気による乾燥を行うので、第2配管32をより早く乾燥させることができる。図13〜図15に示した処理を行わずに、第2配管32に加熱無菌空気を流通させる場合では、多くの残留した水を乾燥させる必要があるため、時間が掛かってしまう。   Here, most of the water remaining in the second pipe 32 is discharged to the second filter device 20 by the processing shown in FIGS. As described above, since drying with heated aseptic air is performed in a state where there is almost no water in the second pipe 32, the second pipe 32 can be dried more quickly. In the case where heated aseptic air is circulated through the second pipe 32 without performing the processing shown in FIGS. 13 to 15, it takes time because much remaining water needs to be dried.

以上に説明した処理システム1及び初期廃棄量の削減方法によれば、SIP後に実施する完全性試験のためにフィルタ12等を湿潤させても、加熱無菌空気により乾燥させる。そして、この乾燥に先立ち、2台の第1フィルタ装置10と第2フィルタ装置20との間に残留した水を第2フィルタ装置20側へ排出するので、第2配管32をより確実に、より早く乾燥させることができる。   According to the processing system 1 and the method for reducing the amount of initial waste described above, even if the filter 12 or the like is wet for the integrity test performed after SIP, it is dried with heated aseptic air. And before this drying, since the water remaining between the two first filter devices 10 and the second filter device 20 is discharged to the second filter device 20 side, the second pipe 32 is more reliably and more It can be dried quickly.

この結果、第1フィルタ装置10、第2フィルタ装置20、第2配管32などが、完全性試験で用いた水で湿潤することになっても、その後の乾燥により、無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次の薬液を処理する際に、その薬液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、SIP後の完全性試験によりフィルタ12,22の完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理した薬液が完全に濾過されたことを担保することができる。なお、本実施形態とは異なり、仮に、第2配管32(接続配管)に残留した水を、第2フィルタ装置20へ排出しないとする。この場合では、第2配管32に残留した水を、次の薬液とともに廃棄することになるので、薬液の初期廃棄量が増えてしまう。   As a result, even if the first filter device 10, the second filter device 20, the second pipe 32, etc. are wetted with the water used in the integrity test, they are made aseptic and dry by subsequent drying. be able to. Thereby, when processing the next chemical | medical solution after drying, the amount of initial disposal of the chemical | medical solution can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filters 12 and 22 can be ensured by the integrity test after SIP, it can be ensured that the chemicals processed before the integrity test have been completely filtered. Unlike the present embodiment, it is assumed that water remaining in the second pipe 32 (connection pipe) is not discharged to the second filter device 20. In this case, since the water remaining in the second pipe 32 is discarded together with the next chemical solution, the initial amount of chemical solution is increased.

また、第2配管32に無菌空気を直接送り込むのではなく、第2フィルタ装置20の一次側23を介して送り込んでいる。つまり、無菌空気を送り込む輸送配管42が第2配管32や第2フィルタ装置20の内部とは切り離されている。薬液が流通する第2配管32や一次側23などとは異なり、薬液が流通しない輸送配管42が無菌であることを担保するための装置構成は不要となり、コスト削減が可能となる。   Further, aseptic air is not sent directly into the second pipe 32 but is sent through the primary side 23 of the second filter device 20. That is, the transport pipe 42 for feeding sterile air is separated from the inside of the second pipe 32 and the second filter device 20. Unlike the second pipe 32 and the primary side 23 through which the chemical liquid circulates, an apparatus configuration for ensuring that the transport pipe 42 through which the chemical liquid does not circulate is aseptic is not necessary, and costs can be reduced.

なお、第2配管32に直接的に無菌空気を送り込む場合、別途に送気用配管を設けなければならない。この場合、送気用配管が無菌であることを担保するために、送気用配管を洗浄殺菌するための装置構成が必要となり、処理システム1の構成が複雑化し、コストが増大してしまう。   In addition, when sending aseptic air directly into the 2nd piping 32, you have to provide piping for air supply separately. In this case, in order to ensure that the air supply pipe is aseptic, an apparatus configuration for cleaning and sterilizing the air supply pipe is required, and the configuration of the processing system 1 becomes complicated and costs increase.

また、特に図示しないが、第2配管32は、第2フィルタ装置20に向けて降下するように傾斜していてもよい。このような第2配管32とすることで、残留した水をより確実に第2フィルタ装置20へ送液することができる。   Although not particularly shown, the second pipe 32 may be inclined so as to descend toward the second filter device 20. By setting it as such 2nd piping 32, the remaining water can be sent to the 2nd filter apparatus 20 more reliably.

〈実施形態3〉
実施形態2では、第2バルブ52を閉じ、気体供給手段60から無菌空気(気体)を供給することで、第2配管32を加圧し、その後、第1バルブ51を開放することで、無菌空気の排気の流れを発生させたが、このような態様に限定されない。
<Embodiment 3>
In the second embodiment, the second valve 52 is closed, and aseptic air (gas) is supplied from the gas supply means 60 to pressurize the second pipe 32 and then the first valve 51 is opened, so that aseptic air is supplied. However, the present invention is not limited to such an embodiment.

図16は、本実施形態に係る処理システムの概略構成図である。なお、実施形態2と同一のものには同一の符号を付し、重複する説明は省略する。   FIG. 16 is a schematic configuration diagram of a processing system according to the present embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same thing as Embodiment 2, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図16に示すように、本実施形態の処理システム1は、第2配管32には、第2バルブ52は設けられていない。本実施形態の加圧手段は、第1気体供給手段及び第2気体供給手段60である。第2気体供給手段60は、実施形態2の気体供給手段60と同じであるので、重複する説明は省略する。第1気体供給手段は、本実施形態では、無菌空気供給手段80により実現されている。すなわち、第1気体供給手段として、無菌空気供給手段80が第1フィルタ装置10の一次側13に気体を圧送する。   As shown in FIG. 16, in the processing system 1 of the present embodiment, the second valve 52 is not provided in the second pipe 32. The pressurizing means of the present embodiment is a first gas supply means and a second gas supply means 60. Since the second gas supply unit 60 is the same as the gas supply unit 60 of the second embodiment, a duplicate description is omitted. In the present embodiment, the first gas supply means is realized by the sterile air supply means 80. That is, as the first gas supply means, the sterile air supply means 80 pumps the gas to the primary side 13 of the first filter device 10.

図17及び図18は、第2配管32に残留した水を排出させる動作を示す処理システムの概略図である。図17及び図18の矢印は無菌空気の流れを表している。また、これらの図では第1フィルタ装置10の図示を省略している。   17 and 18 are schematic views of the processing system showing the operation of discharging the water remaining in the second pipe 32. FIG. The arrows in FIGS. 17 and 18 represent the flow of sterile air. Moreover, illustration of the 1st filter apparatus 10 is abbreviate | omitted in these figures.

図17に示すように、制御装置は、完全性試験の実施後、第2気体供給手段60に無菌空気を第2フィルタ装置20の一次側23に供給させる。一方、無菌空気供給手段80に無菌空気を第1フィルタ装置10の一次側13に供給させる(図16参照)。このとき、無菌空気供給手段80からの無菌空気の圧力が、第2気体供給手段60からの無菌空気の圧力よりも高くなるようにする。   As shown in FIG. 17, the control device causes the second gas supply means 60 to supply aseptic air to the primary side 23 of the second filter device 20 after performing the integrity test. On the other hand, aseptic air supply means 80 supplies aseptic air to the primary side 13 of the first filter device 10 (see FIG. 16). At this time, the pressure of sterile air from the sterile air supply means 80 is set to be higher than the pressure of sterile air from the second gas supply means 60.

このように圧力を調整して、無菌空気供給手段80及び第2気体供給手段60に無菌空気を供給させる。これにより、第2気体供給手段60から供給した気体は、第1フィルタ装置10からさらに上流へ抜けてしまうことがない。したがって、第2気体供給手段60から供給された無菌空気は、第2配管32に残留した水を上流に押し戻してしまうことが抑制される。   The pressure is adjusted in this way, and sterile air is supplied to the sterile air supply means 80 and the second gas supply means 60. Thereby, the gas supplied from the second gas supply means 60 does not escape further upstream from the first filter device 10. Therefore, the aseptic air supplied from the second gas supply means 60 is suppressed from pushing back the water remaining in the second pipe 32 upstream.

そして、図18に示すように、制御装置は、所定時間経過後に第1バルブ51を開放する。第1バルブ51が開放されると、第2配管32、及び第2フィルタ装置20の一次側23内は外部に連通するので、それらの内部の無菌空気は外部に排出される。   Then, as shown in FIG. 18, the control device opens the first valve 51 after a predetermined time has elapsed. If the 1st valve | bulb 51 is open | released, since the inside of the primary side 23 of the 2nd piping 32 and the 2nd filter apparatus 20 will be connected outside, those aseptic air inside those will be discharged | emitted outside.

無菌空気供給手段80及び第2気体供給手段60から無菌空気の供給を始めてから、第1バルブ51を開くまでの所定時間としては、無菌空気が第2配管32に充填されるのに十分な時間とする。   The predetermined time from the start of the supply of sterile air from the sterile air supply means 80 and the second gas supply means 60 to the opening of the first valve 51 is a time sufficient for filling the second pipe 32 with sterile air. And

このように第2配管32に加圧された無菌空気が導入され(図17)、その後、無菌空気が排出される(図18)。本実施形態の処理システム1は、このような無菌空気の流れを形成することで、第2配管32に残留していた水を第2フィルタ装置20の一次側23に押し出すことができる。   Aseptic air pressurized in this way is introduced into the second pipe 32 (FIG. 17), and then the aseptic air is discharged (FIG. 18). The processing system 1 of this embodiment can push out the water remaining in the second pipe 32 to the primary side 23 of the second filter device 20 by forming such a sterile air flow.

あとは、特に図示しないが、制御装置は、第1バルブ51を閉じる。これにより、再び、陽圧の無菌空気が第2フィルタ装置20の一次側23に供給される。この無菌空気の圧力により、薬液はフィルタ22を透過し、第3配管33を経由して貯留タンク3に圧送される。   After that, although not particularly shown, the control device closes the first valve 51. Thereby, positive pressure sterile air is supplied to the primary side 23 of the second filter device 20 again. Due to the pressure of the aseptic air, the chemical liquid passes through the filter 22 and is pumped to the storage tank 3 via the third pipe 33.

以上に説明した処理システム1及び初期廃棄量の削減方法によれば、SIP後に実施する完全性試験のためにフィルタ12等を湿潤させても、加熱無菌空気により乾燥させる。そして、この乾燥に先立ち、2台の第1フィルタ装置10と第2フィルタ装置20との間に残留した水を第2フィルタ装置20側へ排出するので、第2配管32をより確実に、より早く乾燥させることができる。   According to the processing system 1 and the method for reducing the amount of initial waste described above, even if the filter 12 or the like is wet for the integrity test performed after SIP, it is dried with heated aseptic air. And before this drying, since the water remaining between the two first filter devices 10 and the second filter device 20 is discharged to the second filter device 20 side, the second pipe 32 is more reliably and more It can be dried quickly.

この結果、第1フィルタ装置10、第2フィルタ装置20、第2配管32などが、完全性試験で用いた水で湿潤することになっても、その後の乾燥により、無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次の薬液を処理する際に、その薬液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、SIP後の完全性試験によりフィルタ12,22の完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理した薬液が完全に濾過されたことを担保することができる。なお、本実施形態とは異なり、仮に、第2配管32(接続配管)に残留した水を、第2フィルタ装置20へ排出しないとする。この場合では、第2配管32に残留した水を、次の薬液とともに廃棄することになるので、薬液の初期廃棄量が増えてしまう。   As a result, even if the first filter device 10, the second filter device 20, the second pipe 32, etc. are wetted with the water used in the integrity test, they are made aseptic and dry by subsequent drying. be able to. Thereby, when processing the next chemical | medical solution after drying, the amount of initial disposal of the chemical | medical solution can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filters 12 and 22 can be ensured by the integrity test after SIP, it can be ensured that the chemicals processed before the integrity test have been completely filtered. Unlike the present embodiment, it is assumed that water remaining in the second pipe 32 (connection pipe) is not discharged to the second filter device 20. In this case, since the water remaining in the second pipe 32 is discarded together with the next chemical solution, the initial amount of chemical solution is increased.

〈実施形態4〉
実施形態1では、第2気体供給手段60から無菌空気(気体)を供給したが、無菌空気供給手段80からのみ無菌空気を供給するようにしてもよい。
<Embodiment 4>
In the first embodiment, aseptic air (gas) is supplied from the second gas supply means 60, but aseptic air may be supplied only from the sterile air supply means 80.

図19は、本実施形態に係る処理システムの概略構成図である。なお、実施形態2、3と同一のものには同一の符号を付し、重複する説明は省略する。   FIG. 19 is a schematic configuration diagram of a processing system according to the present embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same thing as Embodiment 2, 3, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

同図に示すように、本実施形態の処理システム1は、第2配管32には、第2バルブ52は設けられていない。また、第1フィルタ装置10の一次側に気体を供給する第1気体供給手段として無菌空気供給手段80が設けられている。本実施形態の加圧手段は、第1気体供給手段から構成されている。   As shown in the figure, in the processing system 1 of the present embodiment, the second pipe 52 is not provided with the second valve 52. Further, aseptic air supply means 80 is provided as first gas supply means for supplying gas to the primary side of the first filter device 10. The pressurizing means of this embodiment is composed of first gas supply means.

図20及び図21は、第2配管32に残留した薬液を排出させる動作を示す処理システムの概略図である。図20及び図21の矢印は無菌空気の流れを表している。また、これらの図では第1フィルタ装置10の図示を省略している。   20 and 21 are schematic views of the processing system showing the operation of discharging the chemical solution remaining in the second pipe 32. FIG. The arrows in FIGS. 20 and 21 represent the flow of aseptic air. Moreover, illustration of the 1st filter apparatus 10 is abbreviate | omitted in these figures.

図20に示すように、制御装置は、調製タンク2が空になったことを検出した後、無菌空気供給手段80に無菌空気を第1フィルタ装置10の一次側13に供給させる。また、制御装置は、第1バルブ51を閉鎖しておく。   As shown in FIG. 20, after detecting that the preparation tank 2 is empty, the control device causes the sterile air supply means 80 to supply sterile air to the primary side 13 of the first filter device 10. The control device keeps the first valve 51 closed.

このように第1バルブ51を閉鎖した状態で無菌空気供給手段80から無菌空気を供給しても、第2配管32や第2フィルタ装置20の一次側23は閉空間であるので、無菌空気の流れはそれほど大きくはない。   Even if aseptic air is supplied from the aseptic air supply means 80 with the first valve 51 closed as described above, the primary side 23 of the second pipe 32 and the second filter device 20 is a closed space. The flow is not so great.

次に、図21に示すように、制御装置は、所定時間経過後に第1バルブ51を開放する。第1バルブ51が開放されると、第2配管32、及び第2フィルタ装置20の一次側23内は外部に連通するので、図20の状態に比べて高速に、それらの内部の無菌空気は外部に排出される。   Next, as shown in FIG. 21, the control device opens the first valve 51 after a predetermined time has elapsed. When the first valve 51 is opened, the second pipe 32 and the inside of the primary side 23 of the second filter device 20 communicate with the outside, so that the sterilized air inside them is faster than in the state of FIG. It is discharged outside.

無菌空気供給手段80から無菌空気の供給を始めてから、第1バルブ51を開くまでの所定時間としては、無菌空気が第2配管32に充填されるのに十分な時間とする。また、無菌空気供給手段80から供給する無菌空気の圧力は、第1フィルタ装置10のフィルタ12に支障がない圧力とすることが好ましい。例えば、送液時においてフィルタ12が薬液から受ける圧力以下の圧力で無菌空気を供給することが好ましい。   The predetermined time from the start of the supply of sterile air from the sterile air supply means 80 to the opening of the first valve 51 is set to a time sufficient for filling the second pipe 32 with sterile air. Moreover, it is preferable that the pressure of the sterilized air supplied from the sterilized air supply means 80 is a pressure that does not hinder the filter 12 of the first filter device 10. For example, it is preferable to supply sterile air at a pressure equal to or lower than the pressure received by the filter 12 from the chemical solution during liquid feeding.

このように第2配管32に加圧された無菌空気が比較的低速で導入され(図20)、その後、より高速で無菌空気が排出される(図21)。このような動作を任意の回数繰り返してもよい。本実施形態の処理システム1は、第2配管32を流通する無菌空気を、第1バルブ51の開閉動作によって緩急を付けて下流側へ供給することができる。これにより、第2配管32に残留していた水をより効果的に第2フィルタ装置20の一次側23に押し出すことができる。   Thus, the sterilized air pressurized into the second pipe 32 is introduced at a relatively low speed (FIG. 20), and then the sterilized air is discharged at a higher speed (FIG. 21). Such an operation may be repeated any number of times. The processing system 1 according to the present embodiment can supply the aseptic air flowing through the second pipe 32 to the downstream side with the first valve 51 being opened and closed. Thereby, the water remaining in the second pipe 32 can be pushed out to the primary side 23 of the second filter device 20 more effectively.

本実施形態の処理システム1は、第1バルブ51の開閉で無菌空気の流れに緩急をつけて水を押し出すことができるので、第1フィルタ装置10の一次側13から供給する無菌空気としては、過度の圧力である必要はない。従来では、フィルタ12を透過するために強い圧力を掛けなければならないが、本発明では、フィルタ12を破損させないような圧力で無菌空気を一次側13から供給しても、第2配管32の水を十分に第2フィルタ装置20へ押し出すことができる。   Since the treatment system 1 of the present embodiment can push the water by gradually opening and closing the flow of sterile air by opening and closing the first valve 51, the sterile air supplied from the primary side 13 of the first filter device 10 is as follows. There is no need for excessive pressure. Conventionally, a strong pressure has to be applied in order to permeate the filter 12. However, in the present invention, even if sterile air is supplied from the primary side 13 at a pressure that does not damage the filter 12, Can be sufficiently pushed out to the second filter device 20.

以上に説明した処理システム1及び初期廃棄量の削減方法によれば、SIP後に実施する完全性試験のためにフィルタ12等を湿潤させても、加熱無菌空気により乾燥させる。そして、この乾燥に先立ち、2台の第1フィルタ装置10と第2フィルタ装置20との間に残留した水を第2フィルタ装置20側へ排出するので、第2配管32をより確実に、より早く乾燥させることができる。   According to the processing system 1 and the method for reducing the amount of initial waste described above, even if the filter 12 or the like is wet for the integrity test performed after SIP, it is dried with heated aseptic air. And before this drying, since the water remaining between the two first filter devices 10 and the second filter device 20 is discharged to the second filter device 20 side, the second pipe 32 is more reliably and more It can be dried quickly.

この結果、第1フィルタ装置10、第2フィルタ装置20、第2配管32などが、完全性試験で用いた水で湿潤することになっても、その後の乾燥により、無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次の薬液を処理する際に、その薬液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、SIP後の完全性試験によりフィルタ12の完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理した薬液が完全に濾過されたことを担保することができる。なお、本実施形態とは異なり、仮に、第2配管32(接続配管)に残留した水を、第2フィルタ装置20へ排出しないとする。この場合では、第2配管32に残留した水を、次の薬液とともに廃棄することになるので、薬液の初期廃棄量が増えてしまう。   As a result, even if the first filter device 10, the second filter device 20, the second pipe 32, etc. are wetted with the water used in the integrity test, they are made aseptic and dry by subsequent drying. be able to. Thereby, when processing the next chemical | medical solution after drying, the amount of initial disposal of the chemical | medical solution can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filter 12 can be ensured by the integrity test after SIP, it can be ensured that the chemical solution processed before the integrity test has been completely filtered. Unlike the present embodiment, it is assumed that water remaining in the second pipe 32 (connection pipe) is not discharged to the second filter device 20. In this case, since the water remaining in the second pipe 32 is discarded together with the next chemical solution, the initial amount of chemical solution is increased.

〈実施形態5〉
実施形態2〜実施形態4では、第1気体供給手段としての無菌空気供給手段80又は第2気体供給手段60から無菌空気(気体)を供給したが、このような態様に限定されず、処理システム1の洗浄に用いられる洗浄用流体によって、第2配管32の残液の圧送に用いてもよい。
<Embodiment 5>
In Embodiments 2 to 4, aseptic air (gas) is supplied from the sterile air supply means 80 or the second gas supply means 60 as the first gas supply means, but the present invention is not limited to this aspect, and the processing system The remaining fluid in the second pipe 32 may be used for pressure feeding by the cleaning fluid used for the cleaning of No. 1.

図22は、本実施形態に係る送液システムの概略構成図である。図23及び図24は、第2配管32に残留した薬液を排出させる動作を示す送液システムの概略図である。なお、実施形態2〜4と同一のものには同一の符号を付し、重複する説明は省略する。   FIG. 22 is a schematic configuration diagram of a liquid feeding system according to the present embodiment. FIG. 23 and FIG. 24 are schematic diagrams of a liquid feeding system showing an operation for discharging the chemical liquid remaining in the second pipe 32. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same thing as Embodiment 2-4, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図22に示すように、本実施形態の処理システム1は、第2配管32には、洗浄用流体を貯留するためのタンク4が接続されている。このタンク4と第2配管32との間には第3バルブ53が設けられている。この第3バルブ53は制御装置により開閉制御が可能となっている。本実施形態の加圧手段は、第2バルブ52と、第2配管32に連通するタンク4とから構成されている。   As shown in FIG. 22, in the processing system 1 of the present embodiment, a tank 4 for storing a cleaning fluid is connected to the second pipe 32. A third valve 53 is provided between the tank 4 and the second pipe 32. The third valve 53 can be controlled to open and close by a control device. The pressurizing means of this embodiment includes a second valve 52 and a tank 4 that communicates with the second pipe 32.

SIPにおいて、制御装置は第3バルブ53を開放し、タンク4に高温高圧の蒸気を送り込む。そして、タンク4が上記で満たされるのに十分な時間が経過したら、第3バルブ53を閉鎖する。これによりタンク4内に無菌空気が貯留される。そして、SIPの終了後、特に図示しないが、制御装置は第1フィルタ装置10及び第2フィルタ装置20に水を供給してフィルタ12及びフィルタ22を湿潤させる。その後、完全性試験を実施する。   In SIP, the control device opens the third valve 53 and sends high-temperature and high-pressure steam into the tank 4. When a sufficient time has elapsed for the tank 4 to be filled as described above, the third valve 53 is closed. As a result, aseptic air is stored in the tank 4. And after completion | finish of SIP, although not shown in figure, a control apparatus supplies the water to the 1st filter apparatus 10 and the 2nd filter apparatus 20, and wets the filter 12 and the filter 22. FIG. Thereafter, an integrity test is performed.

図23に示すように、制御装置は、完全性試験の実施後、第1バルブ51及び第2バルブ52を閉鎖しておく。   As shown in FIG. 23, the control device closes the first valve 51 and the second valve 52 after performing the integrity test.

次に、図24に示すように、制御装置は、第1バルブ51及び第3バルブ53を開放する。第3バルブ53が開放されると、タンク4に貯留されていた蒸気は、第2配管32へ送出される。この蒸気の流れによって、本実施形態の処理システム1は、第2配管32に残留していた水を第2フィルタ装置20の一次側23に押し出すことができる。   Next, as shown in FIG. 24, the control device opens the first valve 51 and the third valve 53. When the third valve 53 is opened, the steam stored in the tank 4 is sent to the second pipe 32. With this steam flow, the processing system 1 of the present embodiment can push the water remaining in the second pipe 32 to the primary side 23 of the second filter device 20.

このように本実施形態の処理システム1は、SIPに用いた洗浄用気体を有効利用し、第2配管32に残留した水を第2フィルタ装置20へ押し出すことができる。従来では、SIPに用いた洗浄用気体をこのような残留した水の圧送には用いていなかったが、本発明では、このような洗浄用気体を有効利用することができる。   As described above, the processing system 1 of the present embodiment can effectively use the cleaning gas used in the SIP and push out the water remaining in the second pipe 32 to the second filter device 20. Conventionally, the cleaning gas used for SIP has not been used for the pumping of such residual water. However, in the present invention, such a cleaning gas can be used effectively.

なお、図23、図24では、スペースの都合上、タンク4は、第2配管32の中央付近に接続されているが、第2配管32の上流に接続されていることが好ましい。   In FIG. 23 and FIG. 24, the tank 4 is connected near the center of the second pipe 32 for the sake of space, but is preferably connected upstream of the second pipe 32.

以上に説明した処理システム1及び初期廃棄量の削減方法によれば、SIP後に実施する完全性試験のためにフィルタ12等を湿潤させても、加熱無菌空気により乾燥させる。そして、この乾燥に先立ち、2台の第1フィルタ装置10と第2フィルタ装置20との間に残留した水を第2フィルタ装置20側へ排出するので、第2配管32をより確実に、より早く乾燥させることができる。   According to the processing system 1 and the method for reducing the amount of initial waste described above, even if the filter 12 or the like is wet for the integrity test performed after SIP, it is dried with heated aseptic air. And before this drying, since the water remaining between the two first filter devices 10 and the second filter device 20 is discharged to the second filter device 20 side, the second pipe 32 is more reliably and more It can be dried quickly.

この結果、第1フィルタ装置10、第2フィルタ装置20、第2配管32などが、完全性試験で用いた水で湿潤することになっても、その後の乾燥により、無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次の薬液を処理する際に、その薬液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、SIP後の完全性試験によりフィルタ12の完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理した薬液が完全に濾過されたことを担保することができる。なお、本実施形態とは異なり、仮に、第2配管32(接続配管)に残留した水を、第2フィルタ装置20へ排出しないとする。この場合では、第2配管32に残留した水を、次の薬液とともに廃棄することになるので、薬液の初期廃棄量が増えてしまう。   As a result, even if the first filter device 10, the second filter device 20, the second pipe 32, etc. are wetted with the water used in the integrity test, they are made aseptic and dry by subsequent drying. be able to. Thereby, when processing the next chemical | medical solution after drying, the amount of initial disposal of the chemical | medical solution can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filter 12 can be ensured by the integrity test after SIP, it can be ensured that the chemical solution processed before the integrity test has been completely filtered. Unlike the present embodiment, it is assumed that water remaining in the second pipe 32 (connection pipe) is not discharged to the second filter device 20. In this case, since the water remaining in the second pipe 32 is discarded together with the next chemical solution, the initial amount of chemical solution is increased.

〈他の実施形態〉
以上、本発明の一実施形態について説明したが、勿論、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。
<Other embodiments>
As mentioned above, although one embodiment of the present invention has been described, of course, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and addition, omission, replacement, etc., of a configuration is possible without departing from the spirit of the present invention. And other changes are possible.

実施形態1〜実施形態5に係る処理システム1は、調製タンク2から貯留タンク3へ薬液を送液した。しかし、第1フィルタ装置10の上流側、第2フィルタ装置20の下流側に設置される装置は、調製タンク2及び貯留タンク3に限定されず、被処理液体を製造用配管30を介して送液するための装置であれば任意のものを適用できる。   The processing system 1 according to Embodiments 1 to 5 sent the chemical solution from the preparation tank 2 to the storage tank 3. However, the devices installed on the upstream side of the first filter device 10 and the downstream side of the second filter device 20 are not limited to the preparation tank 2 and the storage tank 3, and send the liquid to be processed through the manufacturing pipe 30. Any device can be used as long as it is a device for liquid.

実施形態1〜実施形態5に係る処理システム1は、プロセス液として薬液を送液したが、これに限定されず、飲料など任意のプロセス液を送液する場合に適用できる。また、実施形態2に係る処理システム1は、気体供給手段60は無菌空気を供給したが、これに限定されない。残留したプロセス液を圧送できる気体であればよい。   Although the processing system 1 which concerns on Embodiment 1-Embodiment 5 sent the chemical | medical solution as a process liquid, it is not limited to this, It is applicable when sending arbitrary process liquids, such as a drink. In the processing system 1 according to the second embodiment, the gas supply unit 60 supplies aseptic air, but is not limited thereto. Any gas that can pump the remaining process liquid may be used.

実施形態1〜実施形態5に係る処理システム1は、第2配管32はほぼ水平としたが、これに限定されない。例えば、第2配管32は、第2フィルタ装置20に向けて降下するように傾斜していてもよい。このような第2配管32とすることで、残留した水をより確実に第2フィルタ装置20へ送液することができる。   In the processing system 1 according to the first to fifth embodiments, the second pipe 32 is substantially horizontal, but the present invention is not limited to this. For example, the second pipe 32 may be inclined so as to descend toward the second filter device 20. By setting it as such 2nd piping 32, the remaining water can be sent to the 2nd filter apparatus 20 more reliably.

また、完全性試験やフィルタ装置の乾燥は、薬液をフィルタ装置10で濾過させる前に実施するが、具体的なタイミングに特に限定はない。例えば、薬液をフィルタ装置10で濾過させる直前に、完全性試験やフィルタ装置の乾燥を行ってもよい。他にも、薬液の濾過を完了したあとに完全性試験及び乾燥を実施し、次の薬液の濾過を行ってもよい。この場合では、完全性試験及び乾燥は、次の薬液を濾過させる前に行われていることになる。   Moreover, although an integrity test and drying of a filter apparatus are implemented before filtering a chemical | medical solution with the filter apparatus 10, there is no limitation in particular in a specific timing. For example, an integrity test or drying of the filter device may be performed immediately before the chemical solution is filtered by the filter device 10. In addition, after completing the filtration of the chemical solution, the integrity test and drying may be performed, and the next chemical solution may be filtered. In this case, the integrity test and drying are performed before the next chemical solution is filtered.

1…処理システム、10…フィルタ装置(第1フィルタ装置)、12、22…フィルタ、13、23…一次側、14、24…二次側、20…第2フィルタ装置、30…製造用配管、31…第1配管、32…第2配管、33…第3配管、41、42…輸送配管、51…第1バルブ、52…第2バルブ、60…気体供給手段(第2気体供給手段)、70…液体供給手段、80…無菌空気供給手段(第1気体供給手段)、90、91…試験装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Processing system, 10 ... Filter apparatus (1st filter apparatus), 12, 22 ... Filter, 13, 23 ... Primary side, 14, 24 ... Secondary side, 20 ... 2nd filter apparatus, 30 ... Manufacturing piping, 31 ... 1st piping, 32 ... 2nd piping, 33 ... 3rd piping, 41, 42 ... Transport piping, 51 ... 1st valve, 52 ... 2nd valve, 60 ... Gas supply means (2nd gas supply means), 70 ... Liquid supply means, 80 ... Aseptic air supply means (first gas supply means), 90, 91 ... Test apparatus

上記目的を達成するための第1の態様は、製造用配管に設けられたフィルタ装置に残留した液体とともに廃棄されるプロセス液の初期廃棄量の削減方法であって、前記製造用配管は、前記フィルタ装置として、上流側の第1フィルタ装置及び下流側の第2フィルタ装置を備え、前記プロセス液を前記フィルタ装置で濾過させる前に、前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置のそれぞれのフィルタを液体で湿潤させ、前記フィルタの一次側における圧力の変化に基づいた前記フィルタの完全性試験を実施し、前記製造用配管のうち、前記第1フィルタ装置の二次側と、前記第2フィルタ装置の一次側とを接続する接続配管に残留した液体を排出する際に、前記第2フィルタ装置の一次側から前記接続配管に気体を供給し、所定時間後に当該気体を排出することで、当該気体の圧力で前記接続配管に残留した液体を前記第2フィルタ装置の一次側へ送出させ、加熱した無菌空気により前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置を乾燥させることを特徴とするプロセス液の初期廃棄量の削減方法にある。 A first aspect for achieving the above object is a method for reducing an initial waste amount of a process liquid to be discarded together with a liquid remaining in a filter device provided in a manufacturing pipe , wherein the manufacturing pipe includes The filter device includes a first filter device on the upstream side and a second filter device on the downstream side, and each filter of the first filter device and the second filter device is filtered before the process liquid is filtered by the filter device. The filter is subjected to a filter integrity test based on a change in pressure on the primary side of the filter, and the secondary side of the first filter device and the second filter of the manufacturing pipe. When discharging the liquid remaining in the connection pipe connecting the primary side of the apparatus, gas is supplied to the connection pipe from the primary side of the second filter apparatus, and after a predetermined time By discharging the gas, the liquid remaining in the connecting pipe at a pressure of the gas is delivered to the primary side of the second filter device, the heated sterile air the first filter device and the second filter device There is a method for reducing the initial waste amount of a process liquid characterized by drying.

第1の態様では、プロセス液をフィルタ装置で濾過させる前に、フィルタ装置のフィルタを水で湿潤させ、フィルタの完全性試験を実施する。そして、加熱無菌空気によりフィルタ装置を乾燥させる。このような初期廃棄量の削減方法によれば、完全性試験のためにフィルタを湿潤させても、加熱無菌空気により乾燥させる。この結果、フィルタやフィルタ装置内を無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次のプロセス液を処理する際に、そのプロセス液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、完全性試験によりフィルタの完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理したプロセス液が完全に濾過されたことを担保することができる。
また、第1フィルタ装置、第2フィルタ装置、接続配管などが、完全性試験で用いた液体で湿潤することになっても、その後の乾燥により、無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次のプロセス液を処理する際に、そのプロセス液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、完全性試験によりフィルタの完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理したプロセス液が完全に濾過されたことを担保することができる。
また、完全性試験で用いた液体を、第2フィルタ装置の一次側から供給した気体により接続配管から排出することができる。接続配管に直接気体を供給しないので、接続配管へ気体を供給するための構成や当該構成が無菌であることを担保するための構成も不要となり、コスト削減が可能となる。
In the first aspect, before the process liquid is filtered by the filter device, the filter of the filter device is wetted with water and the filter integrity test is performed. Then, the filter device is dried with heated aseptic air. According to such a method for reducing the amount of initial waste, even if the filter is moistened for the integrity test, it is dried with heated sterile air. As a result, the filter and the filter device can be in a sterile and dry state. Thereby, when the next process liquid is processed after drying, the initial waste amount of the process liquid can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filter can be ensured by the integrity test, it can be ensured that the process liquid processed before the integrity test has been completely filtered.
Further, even when the first filter device, the second filter device, the connection piping, etc. are wetted with the liquid used in the integrity test, they can be made aseptic and dry by subsequent drying. Thereby, when the next process liquid is processed after drying, the initial waste amount of the process liquid can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filter can be ensured by the integrity test, it can be ensured that the process liquid processed before the integrity test has been completely filtered.
Further, the liquid used in the integrity test can be discharged from the connection pipe by the gas supplied from the primary side of the second filter device. Since the gas is not directly supplied to the connection pipe, a configuration for supplying the gas to the connection pipe and a configuration for ensuring that the configuration is aseptic are not required, and the cost can be reduced.

本発明の第の態様は、フィルタ装置が設けられた製造用配管と、前記フィルタ装置のフィルタを湿潤させる液体を供給する液体供給手段と、加熱した無菌空気を供給する無菌空気供給手段と、前記フィルタ装置の前記フィルタの完全性を試験する試験装置と、前記液体供給手段、前記無菌空気供給手段、及び前記試験装置を制御する制御装置と、前記フィルタ装置として、前記製造用配管の上流側の第1フィルタ装置、及び下流側の第2フィルタ装置と、前記製造用配管のうち、前記第1フィルタ装置の二次側と前記第2フィルタ装置の一次側とを接続する接続配管内を加圧するための気体を供給する加圧手段と、前記第2フィルタ装置の一次側から排出される気体の輸送配管に設けられた第1バルブと、を備え、前記制御装置は、プロセス液を前記フィルタ装置で濾過させる前に、前記液体供給手段に、液体を前記フィルタ装置に供給させることで前記フィルタを湿潤させ、前記試験装置に、前記フィルタの完全性を試験させ、前記フィルタの完全性の試験後であり前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置の乾燥前に、前記加圧手段に、前記第2フィルタ装置の一次側から前記接続配管内に気体を供給させ、所定時間経過後に前記第1バルブを開放させ、前記無菌空気供給手段に、前記無菌空気を前記フィルタ装置に供給させることで前記フィルタ装置を乾燥させることを特徴とするプロセス液の処理システムにある。 According to a second aspect of the present invention, a manufacturing pipe provided with a filter device, a liquid supply means for supplying a liquid for wetting the filter of the filter device, a sterile air supply means for supplying heated sterile air, A test device for testing the integrity of the filter of the filter device, the liquid supply means, the sterile air supply means, a control device for controlling the test device, and the filter device as an upstream side of the manufacturing pipe The first filter device, the downstream second filter device, and the manufacturing pipe, the inside of the connecting pipe that connects the secondary side of the first filter device and the primary side of the second filter device are added. and pressurizing means for supplying a gas for pressurizing, and a first valve provided in the transportation pipeline of the gas exiting the primary side of the second filter device, said control device, process Prior to filtration the liquid in the filter device, the liquid supply means, liquid wetted the filter by causing supplied to the filter device, to the test apparatus, to test the integrity of the filter, the filter After the integrity test and before the drying of the first filter device and the second filter device, the pressurizing means supplies gas from the primary side of the second filter device into the connection pipe for a predetermined time. In the process liquid processing system, the first valve is opened after a lapse of time, and the sterilized air supply means supplies the sterilized air to the filter device to dry the filter device.

の態様では、プロセス液をフィルタ装置で濾過させる前に、フィルタ装置のフィルタを水で湿潤させ、フィルタの完全性試験を実施する。そして、加熱無菌空気によりフィルタ装置を乾燥させる。このようなプロセス液の処理システムによれば、完全性試験のためにフィルタを湿潤させても、加熱無菌空気により乾燥させる。この結果、フィルタやフィルタ装置内を無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次のプロセス液を処理する際に、そのプロセス液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、完全性試験によりフィルタの完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理したプロセス液が完全に濾過されたことを担保することができる。
また、第1フィルタ装置、第2フィルタ装置、接続配管などが、完全性試験で用いた液体で湿潤することになっても、その後の乾燥により、無菌かつ乾燥した状態とすることができる。これにより、乾燥後に次のプロセス液を処理する際に、そのプロセス液の初期廃棄量を削減することができる。さらに、完全性試験によりフィルタの完全性を担保することができるので、完全性試験以前に処理したプロセス液が完全に濾過されたことを担保することができる。
In the second embodiment, the filter of the filter device is wetted with water and the filter integrity test is performed before the process liquid is filtered by the filter device. Then, the filter device is dried with heated aseptic air. According to such a process liquid processing system, even if the filter is wet for the integrity test, it is dried by heated sterile air. As a result, the filter and the filter device can be in a sterile and dry state. Thereby, when the next process liquid is processed after drying, the initial waste amount of the process liquid can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filter can be ensured by the integrity test, it can be ensured that the process liquid processed before the integrity test has been completely filtered.
Further, even when the first filter device, the second filter device, the connection piping, etc. are wetted with the liquid used in the integrity test, they can be made aseptic and dry by subsequent drying. Thereby, when the next process liquid is processed after drying, the initial waste amount of the process liquid can be reduced. Furthermore, since the integrity of the filter can be ensured by the integrity test, it can be ensured that the process liquid processed before the integrity test has been completely filtered.

本発明の第の態様は、第の態様に記載するプロセス液の処理システムにおいて、前記加圧手段は、前記接続配管に設けられた第2バルブと、前記第2フィルタ装置の一次側に気体を圧送する第2気体供給手段と、を備え、前記制御装置は、前記フィルタの完全性の試験後であり前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置の乾燥前に、前記第2バルブを閉じ、前記第2気体供給手段に気体を供給させることで、前記第2フィルタ装置の一次側から前記接続配管へ気体を供給し、所定時間経過後に前記第1バルブを開放することを特徴とするプロセス液の処理システムにある。 According to a third aspect of the present invention, in the process liquid treatment system according to the second aspect, the pressurizing means is provided on a primary side of the second valve provided in the connection pipe and the second filter device. A second gas supply means for pumping gas, and the control device is configured to turn on the second valve after the integrity test of the filter and before drying the first filter device and the second filter device. The gas is supplied from the primary side of the second filter device to the connection pipe by closing and supplying the gas to the second gas supply means, and the first valve is opened after a predetermined time has elapsed. In the process liquid treatment system.

の態様では、完全性試験で用いた液体を、第2フィルタ装置の一次側から供給した気体により接続配管から排出することができる。接続配管に直接気体を供給しないので、接続配管へ気体を供給するための構成や当該構成が無菌であることを担保するための構成も不要となり、コスト削減が可能となる。 In the third aspect, the liquid used in the integrity test can be discharged from the connection pipe by the gas supplied from the primary side of the second filter device. Since the gas is not directly supplied to the connection pipe, a configuration for supplying the gas to the connection pipe and a configuration for ensuring that the configuration is aseptic are not required, and the cost can be reduced.

本発明の第の態様は、第の態様に記載するプロセス液の処理システムにおいて、前記加圧手段は、前記第1フィルタ装置の一次側に気体を圧送する第1気体供給手段と、前記第2フィルタ装置の一次側に気体を圧送する第2気体供給手段と、を備え、前記制御装置は、前記フィルタの完全性の試験後であり前記フィルタ装置の乾燥前に、前記第1気体供給手段から供給される気体が前記第2気体供給手段から供給される気体よりも高い圧力となるように、前記第1気体供給手段及び前記第2気体供給手段に気体を供給させ、所定時間経過後に前記第1バルブを開放することを特徴とするプロセス液の処理システムにある。 According to a fourth aspect of the present invention, in the process liquid processing system according to the second aspect, the pressurizing unit includes a first gas supply unit that pumps a gas to a primary side of the first filter device; Second gas supply means for pumping gas to the primary side of the second filter device, and the control device supplies the first gas after the filter integrity test and before the filter device is dried. Gas is supplied to the first gas supply means and the second gas supply means so that the gas supplied from the means has a higher pressure than the gas supplied from the second gas supply means, and after a predetermined time has elapsed. In the process liquid processing system, the first valve is opened.

の態様では、2台の第1フィルタ装置及び第2フィルタ装置の間の接続配管を加圧するための気体を供給する加圧手段として第1気体供給手段及び第2気体供給手段を用いる。これらの気圧差を利用して、完全性試験で用いた液体を接続配管から排出することができる。 In a 4th aspect, a 1st gas supply means and a 2nd gas supply means are used as a pressurization means to supply the gas for pressurizing the connection piping between two 1st filter apparatuses and a 2nd filter apparatus. By using these pressure differences, the liquid used in the integrity test can be discharged from the connection pipe.

本発明の第の態様は、第の態様に記載するプロセス液の処理システムにおいて、前記加圧手段は、前記第1フィルタ装置の一次側に気体を圧送する第1気体供給手段を備え、前記制御装置は、前記フィルタの完全性の試験後であり前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置の乾燥前に、前記第1バルブを閉じた状態で前記第1気体供給手段に気体を供給させ、所定時間経過後に前記第1バルブを開放することを特徴とするプロセス液の処理システムにある。 According to a fifth aspect of the present invention, in the process liquid processing system according to the second aspect, the pressurizing unit includes a first gas supply unit that pumps a gas to a primary side of the first filter device, The control device supplies gas to the first gas supply means with the first valve closed after the filter integrity test and before the first filter device and the second filter device are dried. And the first valve is opened after a predetermined time has elapsed.

の態様では、接続配管を流通する気体を、第1バルブの開閉動作によって緩急を付けることができる。これにより、完全性試験で用いた液体を接続配管から排出することができる。 In the fifth aspect, the gas flowing through the connection pipe can be moderated by the opening / closing operation of the first valve. Thereby, the liquid used in the integrity test can be discharged from the connection pipe.

本発明の第の態様は、第の態様に記載するプロセス液の処理システムにおいて、前記加圧手段は、前記接続配管に設けられた第2バルブと、前記第2バルブよりも下流側に設けられた前記接続配管に連通するタンクと、を備え、前記制御装置は、前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置にプロセス液を供給する前に、前記接続配管を洗浄するための洗浄用気体を前記接続配管に供給するとともに、当該洗浄用気体を前記タンクに貯留させ、前記フィルタの完全性の試験後であり前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置の乾燥前に、前記第1バルブを開放し、前記第2バルブを閉鎖し、前記タンクに貯留された気体を前記接続配管に供給させることを特徴とするプロセス液の処理システムにある。 According to a sixth aspect of the present invention, in the process liquid processing system according to the second aspect, the pressurizing means is provided on the downstream side of the second valve provided in the connection pipe and the second valve. A tank communicating with the connection pipe provided, and the control device is for cleaning the connection pipe before supplying the process liquid to the first filter device and the second filter device. The gas is supplied to the connection pipe, the cleaning gas is stored in the tank, the first filter device and the second filter device are dried after the filter integrity test and before the first filter device is dried. In the process liquid processing system, the valve is opened, the second valve is closed, and the gas stored in the tank is supplied to the connection pipe.

の態様では、SIPなどで用いる洗浄用気体をタンクに溜めておき、送液後に、タンクから洗浄用流体を接続配管に供給することで、接続配管に残留した完全性試験で用いた液体を接続配管から排出することができる。また、SIPで用いた洗浄用気体を有効利用することができる。 In the sixth aspect, the cleaning gas used in SIP or the like is stored in a tank, and after the liquid is supplied, the cleaning fluid is supplied from the tank to the connection pipe, whereby the liquid used in the integrity test remaining in the connection pipe. Can be discharged from the connecting pipe. Moreover, the cleaning gas used in SIP can be effectively used.

Claims (9)

製造用配管に設けられたフィルタ装置に残留した液体とともに廃棄されるプロセス液の初期廃棄量の削減方法であって、
前記プロセス液を前記フィルタ装置で濾過させる前に、
前記フィルタ装置のフィルタを液体で湿潤させ、前記フィルタの一次側における圧力の変化に基づいた前記フィルタの完全性試験を実施し、
加熱した無菌空気により前記フィルタ装置を乾燥させる
ことを特徴とするプロセス液の初期廃棄量の削減方法。
A method for reducing the initial waste amount of a process liquid to be discarded together with a liquid remaining in a filter device provided in a manufacturing pipe,
Before filtering the process liquid through the filter device,
Wetting the filter of the filter device with a liquid and performing an integrity test of the filter based on a change in pressure on the primary side of the filter;
A method for reducing an initial waste amount of a process liquid, wherein the filter device is dried with heated aseptic air.
請求項1に記載するプロセス液の初期廃棄量の削減方法において、
前記製造用配管は、前記フィルタ装置として、上流側の第1フィルタ装置及び下流側の第2フィルタ装置を備え、
前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置のそれぞれの前記フィルタを液体で湿潤させ、前記完全性試験を実施し、
前記製造用配管のうち、前記第1フィルタ装置の二次側と、前記第2フィルタ装置の一次側とを接続する接続配管に残留した液体を排出し、
加熱した無菌空気により前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置を乾燥させる
ことを特徴とするプロセス液の初期廃棄量の削減方法。
In the method for reducing the initial waste amount of the process liquid according to claim 1,
The manufacturing pipe includes, as the filter device, a first filter device on the upstream side and a second filter device on the downstream side,
Wetting each of the filters of the first filter device and the second filter device with a liquid and performing the integrity test;
Among the production pipes, discharge the liquid remaining in the connection pipe connecting the secondary side of the first filter device and the primary side of the second filter device,
A method for reducing an initial waste amount of a process liquid, wherein the first filter device and the second filter device are dried with heated aseptic air.
請求項2に記載するプロセス液の初期廃棄量の削減方法において、
前記第2フィルタ装置の一次側から前記接続配管に気体を供給し、所定時間後に当該気体を排出することで、当該気体の圧力で前記接続配管に残留した液体を第2フィルタ装置の一次側へ送出させる
ことを特徴とするプロセス液の初期廃棄量の削減方法。
In the method for reducing the initial disposal amount of the process liquid according to claim 2,
By supplying gas from the primary side of the second filter device to the connection pipe and discharging the gas after a predetermined time, the liquid remaining in the connection pipe at the pressure of the gas is sent to the primary side of the second filter device. A method for reducing the initial disposal amount of process liquid, characterized in that the process liquid is sent out.
フィルタ装置が設けられた製造用配管と、
前記フィルタ装置のフィルタを湿潤させる液体を供給する液体供給手段と、
加熱した無菌空気を供給する無菌空気供給手段と、
前記フィルタ装置の前記フィルタの完全性を試験する試験装置と、
前記液体供給手段、前記無菌空気供給手段、及び前記試験装置を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、
プロセス液を前記フィルタ装置で濾過させる前に、
前記液体供給手段に、液体を前記フィルタ装置に供給させることで前記フィルタを湿潤させ、
前記試験装置に、前記フィルタの完全性を試験させ、
前記無菌空気供給手段に、前記無菌空気を前記フィルタ装置に供給させることで前記フィルタ装置を乾燥させる
ことを特徴とするプロセス液の処理システム。
A production pipe provided with a filter device;
Liquid supply means for supplying a liquid for wetting the filter of the filter device;
Sterile air supply means for supplying heated sterile air;
A test device for testing the integrity of the filter of the filter device;
A control device for controlling the liquid supply means, the sterile air supply means, and the test device;
The controller is
Before filtering the process liquid through the filter device,
Allowing the liquid supply means to supply the liquid to the filter device to wet the filter;
Let the test equipment test the integrity of the filter;
The process liquid processing system, wherein the filter apparatus is dried by causing the sterile air supply means to supply the sterile air to the filter apparatus.
請求項4に記載するプロセス液の処理システムにおいて、
前記フィルタ装置として、前記製造用配管の上流側の第1フィルタ装置、及び下流側の第2フィルタ装置と、
前記製造用配管のうち、前記第1フィルタ装置の二次側と前記第2フィルタ装置の一次側とを接続する接続配管内を加圧するための気体を供給する加圧手段と、
前記第2フィルタ装置の一次側から排出される気体の輸送配管に設けられた第1バルブと、を備え、
前記制御装置は、
前記フィルタの完全性の試験後であり前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置の乾燥前に、
前記加圧手段に、前記第2フィルタ装置の一次側から前記接続配管内に気体を供給させ、所定時間経過後に前記第1バルブを開放する
ことを特徴とするプロセス液の処理システム。
In the process liquid processing system according to claim 4,
As the filter device, a first filter device on the upstream side of the manufacturing pipe, and a second filter device on the downstream side,
A pressurizing means for supplying a gas for pressurizing the inside of the connecting pipe connecting the secondary side of the first filter device and the primary side of the second filter device among the pipes for manufacturing;
A first valve provided in a transport pipe for gas discharged from the primary side of the second filter device,
The controller is
After testing the integrity of the filter and before drying the first filter device and the second filter device,
A process liquid treatment system, wherein the pressurizing means is configured to supply gas into the connection pipe from the primary side of the second filter device, and to open the first valve after a predetermined time has elapsed.
請求項5に記載するプロセス液の処理システムにおいて、
前記加圧手段は、
前記接続配管に設けられた第2バルブと、
前記第2フィルタ装置の一次側に気体を圧送する第2気体供給手段と、を備え、
前記制御装置は、
前記フィルタの完全性の試験後であり前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置の乾燥前に、
前記第2バルブを閉じ、前記第2気体供給手段に気体を供給させることで、前記第2フィルタ装置の一次側から前記接続配管へ気体を供給し、所定時間経過後に前記第1バルブを開放する
ことを特徴とするプロセス液の処理システム。
In the process liquid processing system according to claim 5,
The pressurizing means is
A second valve provided in the connection pipe;
A second gas supply means for pumping gas to the primary side of the second filter device,
The controller is
After testing the integrity of the filter and before drying the first filter device and the second filter device,
By closing the second valve and supplying the gas to the second gas supply means, gas is supplied from the primary side of the second filter device to the connection pipe, and the first valve is opened after a predetermined time has elapsed. A process liquid processing system.
請求項5に記載するプロセス液の処理システムにおいて、
前記加圧手段は、
前記第1フィルタ装置の一次側に気体を圧送する第1気体供給手段と、
前記第2フィルタ装置の一次側に気体を圧送する第2気体供給手段と、を備え、
前記制御装置は、
前記フィルタの完全性の試験後であり前記フィルタ装置の乾燥前に、
前記第1気体供給手段から供給される気体が前記第2気体供給手段から供給される気体よりも高い圧力となるように、前記第1気体供給手段及び前記第2気体供給手段に気体を供給させ、所定時間経過後に前記第1バルブを開放する
ことを特徴とするプロセス液の処理システム。
In the process liquid processing system according to claim 5,
The pressurizing means is
First gas supply means for pumping gas to the primary side of the first filter device;
A second gas supply means for pumping gas to the primary side of the second filter device,
The controller is
After testing the integrity of the filter and before drying the filter device,
Gas is supplied to the first gas supply means and the second gas supply means so that the gas supplied from the first gas supply means has a higher pressure than the gas supplied from the second gas supply means. The process liquid processing system is characterized in that the first valve is opened after a predetermined time has elapsed.
請求項5に記載するプロセス液の処理システムにおいて、
前記加圧手段は、
前記第1フィルタ装置の一次側に気体を圧送する第1気体供給手段を備え、
前記制御装置は、
前記フィルタの完全性の試験後であり前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置の乾燥前に、
前記第1バルブを閉じた状態で前記第1気体供給手段に気体を供給させ、所定時間経過後に前記第1バルブを開放する
ことを特徴とするプロセス液の処理システム。
In the process liquid processing system according to claim 5,
The pressurizing means is
A first gas supply means for pumping gas to the primary side of the first filter device;
The controller is
After testing the integrity of the filter and before drying the first filter device and the second filter device,
A process liquid treatment system, wherein gas is supplied to the first gas supply means with the first valve closed, and the first valve is opened after a predetermined time has elapsed.
請求項5に記載するプロセス液の処理システムにおいて、
前記加圧手段は、
前記接続配管に設けられた第2バルブと、
前記第2バルブよりも下流側に設けられた前記接続配管に連通するタンクと、を備え、
前記制御装置は、
前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置にプロセス液を供給する前に、前記接続配管を洗浄するための洗浄用気体を前記接続配管に供給するとともに、当該洗浄用気体を前記タンクに貯留させ、
前記フィルタの完全性の試験後であり前記第1フィルタ装置及び前記第2フィルタ装置の乾燥前に、
前記第1バルブを開放し、前記第2バルブを閉鎖し、前記タンクに貯留された気体を前記接続配管に供給させる
ことを特徴とするプロセス液の処理システム。



In the process liquid processing system according to claim 5,
The pressurizing means is
A second valve provided in the connection pipe;
A tank communicating with the connection pipe provided on the downstream side of the second valve,
The controller is
Before supplying the process liquid to the first filter device and the second filter device, a cleaning gas for cleaning the connection pipe is supplied to the connection pipe, and the cleaning gas is stored in the tank. ,
After testing the integrity of the filter and before drying the first filter device and the second filter device,
The process valve processing system, wherein the first valve is opened, the second valve is closed, and the gas stored in the tank is supplied to the connection pipe.



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