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JP2018017773A - Liquid crystal display device - Google Patents

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JP2018017773A
JP2018017773A JP2016145571A JP2016145571A JP2018017773A JP 2018017773 A JP2018017773 A JP 2018017773A JP 2016145571 A JP2016145571 A JP 2016145571A JP 2016145571 A JP2016145571 A JP 2016145571A JP 2018017773 A JP2018017773 A JP 2018017773A
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JP2016145571A
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Japanese (ja)
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小間 徳夫
Tokuo Koma
徳夫 小間
大地 藤原
Daichi Fujiwara
大地 藤原
石鍋 隆宏
Takahiro Ishinabe
隆宏 石鍋
藤掛 英夫
Hideo Fujikake
英夫 藤掛
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Tohoku University NUC
Polatechno Co Ltd
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Tohoku University NUC
Polatechno Co Ltd
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Abstract

【課題】効果的な半透過表示が行える液晶表示装置を提供する。【解決手段】2枚の基板10,50間に液晶層が挟まれる。2枚の基板10,50の少なくとも1つの基板における液晶層40側に偏光層24が設けられる。そして、偏光層24の基板10側に設けられる基板側導電層22と、偏光層24の液晶層40側に設けられる液晶側導電層26と、を電気的に接続するコンタクトホール28とを有する。【選択図】図1A liquid crystal display device capable of effective transflective display is provided. A liquid crystal layer is sandwiched between two substrates. The polarizing layer 24 is provided on the liquid crystal layer 40 side of at least one of the two substrates 10 and 50. And it has the contact hole 28 which electrically connects the board | substrate side conductive layer 22 provided in the board | substrate 10 side of the polarizing layer 24, and the liquid crystal side conductive layer 26 provided in the liquid crystal layer 40 side of the polarizing layer 24. [Selection] Figure 1

Description

本発明は基板の液晶層側に偏光層を配置する液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device in which a polarizing layer is disposed on a liquid crystal layer side of a substrate.

従来より、液晶表示装置(LCD)が広く普及している。液晶表示装置としては、各種のものが知られている。液晶駆動方式として、TN(ツイスト・ネマティック)の他、VA(垂直配向)タイプ、IPS(イン・プレイン・スイッチング)などの方式が用いられている。さらに、表示方式として、液晶に光を透過させる透過方式の他、反射方式、半透過方式などがある。さらに、樹脂基板(プラスチック基板)を用いることで全体として可撓性を有し、屈曲可能なLCDも知られている。   Conventionally, a liquid crystal display (LCD) has been widely used. Various types of liquid crystal display devices are known. As a liquid crystal drive system, a VA (vertical alignment) type, an IPS (in-plane switching) system, and the like are used in addition to TN (twist nematic). Further, as a display method, there are a reflection method, a semi-transmission method, and the like in addition to a transmission method that transmits light to the liquid crystal. Further, LCDs that are flexible and bendable by using a resin substrate (plastic substrate) as a whole are also known.

図7には、従来の半透過型液晶表示装置の構成が示されている。TFT基板110と対向基板112の間に液晶層114が配置されている。TFT基板110の外側には位相差補償板120を介し、偏光層122が設けられ、対向基板112の外側には位相差補償板120を介し、偏光層122が設けられている。また、TFT基板110の液晶層114側の一部(反射領域)には、液晶層114側に突出する段差部130が,設けられその上に反射板132が設けられている。   FIG. 7 shows a configuration of a conventional transflective liquid crystal display device. A liquid crystal layer 114 is disposed between the TFT substrate 110 and the counter substrate 112. A polarizing layer 122 is provided outside the TFT substrate 110 via a phase difference compensation plate 120, and a polarizing layer 122 is provided outside the counter substrate 112 via a phase difference compensation plate 120. In addition, a stepped portion 130 that protrudes toward the liquid crystal layer 114 is provided on a part of the TFT substrate 110 on the liquid crystal layer 114 side (reflection region), and a reflector 132 is provided thereon.

透過領域では、図における下側から、偏光層122、位相差補償板120、TFT基板110、液晶層114、対向基板112、位相差補償板116、偏光層118の順番で上方に向けて光が通る。一方、反射領域では、図における上側から、偏光層118、位相差補償板116、対向基板112、液晶層114、反射板132による反射、対向基板112、位相差補償板116、偏光層118の順番で光が通る。   In the transmission region, light is directed upward from the lower side in the drawing in the order of the polarizing layer 122, the retardation compensation plate 120, the TFT substrate 110, the liquid crystal layer 114, the counter substrate 112, the retardation compensation plate 116, and the polarizing layer 118. Pass through. On the other hand, in the reflection region, the polarizing layer 118, the phase difference compensation plate 116, the counter substrate 112, the liquid crystal layer 114, the reflection by the reflection plate 132, the counter substrate 112, the phase difference compensation plate 116, and the polarization layer 118 are arranged in this order from the top in the drawing. Light passes through.

このように、半透過方式の場合、反射領域において液晶層114を光が2回通るので、反射領域の表示を透過部と同等にするために反射領域のセルギャップ(液晶層114の厚み)が透過領域の1/2になるように段差部130を設けその上に反射板132を配置している。また、通常の構造のままであると、反射部分と透過部分で白黒が反転する。そこで、位相差補償板116,120を用い、液晶層114を通過する光を円偏光としている。このようにして、TFT基板110上の画素電極への電圧印加を制御することで、透過領域および反射領域の両方での表示を行っている。   Thus, in the case of the transflective method, since light passes through the liquid crystal layer 114 twice in the reflection region, the cell gap of the reflection region (the thickness of the liquid crystal layer 114) is set to make the display in the reflection region equivalent to the transmission portion. A step portion 130 is provided so as to be ½ of the transmission region, and a reflecting plate 132 is disposed thereon. Further, when the normal structure is maintained, the black and white are reversed between the reflection portion and the transmission portion. Therefore, the phase difference compensating plates 116 and 120 are used, and the light passing through the liquid crystal layer 114 is circularly polarized. In this manner, display in both the transmissive region and the reflective region is performed by controlling the voltage application to the pixel electrode on the TFT substrate 110.

また、液晶表示装置では、偏光を液晶層に通過させ、偏光状態を変化させることで表示を行う。そこで、偏光層を必要とする。この偏光層として、ヨウ素系のものの他、染料系偏光層が知られている(特許文献1,2,3参照)。   In the liquid crystal display device, display is performed by passing polarized light through the liquid crystal layer and changing the polarization state. Therefore, a polarizing layer is required. As this polarizing layer, in addition to iodine-based ones, dye-based polarizing layers are known (see Patent Documents 1, 2, and 3).

特開2013−47842号公報JP 2013-47842 A 特開2014−167089号公報JP 2014-167089 A WO2007/138980号公報WO2007 / 138980

ここで、半透過方式の場合、段差部130を必要とする。このため、この段差部130を形成するプロセスが追加され、工程が煩雑になり、さらに、段差部130のエッジ部で光漏れが発生し表示品位を低下させてしまう。また、IPS方式を使用した場合には、円偏光を利用することは困難であり、半透過方式を利用することが難しかった。また、可撓性のLCDにおいては、樹脂基板が屈曲することで、位置に応じて位相差が発生する。このため、ここを通過する偏光の状態が変化して、コントラストが悪化しやすかった。   Here, in the case of the semi-transmissive method, the stepped portion 130 is required. For this reason, a process for forming the stepped portion 130 is added, the process becomes complicated, and further, light leakage occurs at the edge portion of the stepped portion 130 and the display quality is deteriorated. When the IPS method is used, it is difficult to use circularly polarized light, and it is difficult to use a semi-transmissive method. Further, in a flexible LCD, a phase difference is generated according to the position by bending the resin substrate. For this reason, the state of the polarized light passing through it changed, and the contrast was likely to deteriorate.

本発明は、2枚の基板間に液晶層が挟まれてなる液晶表示装置であって、前記2枚の基板の少なくとも1つの基板における液晶層側に設けられる偏光層と、前記偏光層の基板側に設けられる基板側導電層と、前記偏光層の液晶層側に設けられる液晶側導電層と、前記偏光層に設けられ、前記基板側導電層と、前記液晶側導電層を電気的に接続するコンタクトホールと、を有する。   The present invention is a liquid crystal display device in which a liquid crystal layer is sandwiched between two substrates, the polarizing layer provided on the liquid crystal layer side of at least one of the two substrates, and the substrate of the polarizing layer A substrate-side conductive layer provided on the side, a liquid crystal-side conductive layer provided on the liquid crystal layer side of the polarizing layer, and provided on the polarizing layer, electrically connecting the substrate-side conductive layer and the liquid crystal-side conductive layer A contact hole.

また、前記偏光層は、PVAを二色性染料で染色した染料系偏光層であることが好適である。   The polarizing layer is preferably a dye-based polarizing layer obtained by dyeing PVA with a dichroic dye.

また、前記偏光層が設けられる基板は薄膜トランジスタにより液晶層に対する電界の印加を制御するTFT基板であり、前記TFT基板上の薄膜トランジスタと、偏光層上の電極を前記コンタクトホールで接続することが好適である。   The substrate on which the polarizing layer is provided is a TFT substrate that controls application of an electric field to the liquid crystal layer by a thin film transistor, and it is preferable that the thin film transistor on the TFT substrate and the electrode on the polarizing layer are connected by the contact hole. is there.

また、前記TFT基板ではないもう1つの基板である対向基板においては、前記液晶層とは反対側に第2偏光層を設けることが好適である。   In the counter substrate which is another substrate which is not the TFT substrate, it is preferable to provide a second polarizing layer on the opposite side to the liquid crystal layer.

前記対向基板と前記第2偏光層の間に、位相差補償板を設けることが好適である。   It is preferable to provide a retardation compensation plate between the counter substrate and the second polarizing layer.

偏光層を基板の液晶層側に配置することで、TFTでも半透過方式を採用しやすくできる。また、IPS方式でも半透過方式が採用できる。可撓性を有する場合には、樹脂基板(プラスチック基板)の複屈折により表示が悪化するが、本技術によりそれを防止することができる。   By disposing the polarizing layer on the liquid crystal layer side of the substrate, it is possible to easily adopt the transflective method even in the TFT. Further, the semi-transmission method can be adopted even in the IPS method. In the case of flexibility, the display deteriorates due to the birefringence of the resin substrate (plastic substrate), which can be prevented by the present technology.

実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the liquid crystal display device which concerns on embodiment. 実施形態に係る液晶表示装置の平面を示す図である。It is a figure which shows the plane of the liquid crystal display device which concerns on embodiment. 画素回路の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of a pixel circuit. 補助容量の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of an auxiliary capacity. 他の実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the liquid crystal display device which concerns on other embodiment. さらに他の実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the liquid crystal display device which concerns on other embodiment. 従来技術の半透過型液晶表示装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the transflective liquid crystal display device of a prior art.

以下、本発明の実施形態について、図面に基づいて説明する。なお、本発明は、ここに記載される実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited to the embodiments described herein.

<構成>
図1は、実施形態に係る液晶表示装置の一構成例を示す断面図(模式図)であり、データラインDLは図示を省略してある。図2は、TFT基板36の平面図であり、基板10、偏光層24,感光層38、配向膜34の他、ゲート酸化膜16も図示を省略している。いずれも、模式的な図であり、スケールなども各部で見やすいように変更してある。
<Configuration>
FIG. 1 is a cross-sectional view (schematic diagram) showing a configuration example of the liquid crystal display device according to the embodiment, and a data line DL is not shown. FIG. 2 is a plan view of the TFT substrate 36, and the gate oxide film 16 is omitted in addition to the substrate 10, the polarizing layer 24, the photosensitive layer 38, and the alignment film 34. Each is a schematic diagram, and the scale and the like are changed so that each part can be easily seen.

ガラス、樹脂などで形成される透明の基板10上には、TFT(薄膜トランジスタ)を含む画素回路および配線が形成される。なお、データドライバ、ゲートドライバなども基板10の周辺部分に配置するとよい。   On a transparent substrate 10 formed of glass, resin, or the like, pixel circuits and wirings including TFTs (thin film transistors) are formed. Note that a data driver, a gate driver, and the like may be disposed in the peripheral portion of the substrate 10.

基板10上には、TFT12が画素毎に配置される。図においては、TFT12が2つ表されている。TFT12のほぼ真ん中の下部(基板10上)には、ゲートラインに接続されるゲート電極14が配置されている。ゲート電極14を覆ってゲート絶縁膜16が形成され、このゲート絶縁膜16を覆って半導体層18が形成されている。ゲート絶縁膜16は、例えばSiOなどの絶縁体で形成される。また、半導体層18は、アモルファスシリコンや、ポリシリコンで形成され、ゲート電極14の直上部分が不純物のほとんどないチャネル領域とされ、両側が不純物ドープによって導電性が付与されたソース領域およびドレイン領域となっている。 On the substrate 10, a TFT 12 is arranged for each pixel. In the figure, two TFTs 12 are shown. A gate electrode 14 connected to the gate line is disposed at a substantially lower portion (on the substrate 10) of the TFT 12. A gate insulating film 16 is formed to cover the gate electrode 14, and a semiconductor layer 18 is formed to cover the gate insulating film 16. The gate insulating film 16 is formed of an insulator such as SiO 2 , for example. The semiconductor layer 18 is formed of amorphous silicon or polysilicon, and a portion immediately above the gate electrode 14 is a channel region having almost no impurities, and both sides are a source region and a drain region to which conductivity is imparted by impurity doping. It has become.

TFT12のドレイン領域の上には金属(例えば、アルミニウム)のドレイン電極20が配置(電気的に接続)され、ソース領域の上には金属(例えば、アルミニウム)のソース電極22が配置(電気的に接続)されている。なお、後述するように、ドレイン電極20はデータ電圧が供給されるデータラインに接続される。従って、ゲートラインの信号に寄ってTFT12がオンした状態でデータラインのデータ電圧が取り込まれる。   A metal (for example, aluminum) drain electrode 20 is disposed (electrically connected) on the drain region of the TFT 12, and a metal (for example, aluminum) source electrode 22 is disposed (electrically connected) on the source region. It is connected. As will be described later, the drain electrode 20 is connected to a data line to which a data voltage is supplied. Therefore, the data voltage of the data line is taken in the state where the TFT 12 is turned on according to the signal of the gate line.

TFT12を覆って、偏光層24が形成される。この偏光層24は、PVA(ポリビニルアルコール)系樹脂に二色性染料による染色がなされた染色系の偏光層であり、TFT12上方を覆って絶縁するとともに、その表面を平坦化している。   A polarizing layer 24 is formed so as to cover the TFT 12. The polarizing layer 24 is a dyeing-type polarizing layer in which a PVA (polyvinyl alcohol) resin is dyed with a dichroic dye. The polarizing layer 24 covers and insulates the TFT 12 and flattens the surface.

偏光層24の表面には、表示電極26が設けられている。この表示電極26は画素毎に分離された個別電極であり、例えばITO(インジウム・チン・オキサイド)などによる透明電極である。   A display electrode 26 is provided on the surface of the polarizing layer 24. The display electrode 26 is an individual electrode separated for each pixel, and is a transparent electrode made of, for example, ITO (indium tin oxide).

偏光層24は、水系接着剤グリオキザールにより基板と接着させ、その上に感光性ポリイミド(JSR社オプトマ)からなる感光層38を0.5μmの厚みで形成し、露光・現像工程を経てパターンを形成する。更に温水(80℃)に浸漬し、偏光層をパターニングする。この工程により偏光層24のソース電極22の上方にはコンタクトホール28が形成され、ここに表示電極26のITOが充満されることで、ソース電極22と表示電極26が電気的に接続されている。   The polarizing layer 24 is adhered to the substrate with a water-based adhesive glyoxal, and a photosensitive layer 38 made of photosensitive polyimide (JSR Optoma) is formed thereon with a thickness of 0.5 μm, and a pattern is formed through an exposure / development process. To do. Further, it is immersed in warm water (80 ° C.) to pattern the polarizing layer. By this process, a contact hole 28 is formed above the source electrode 22 of the polarizing layer 24, and the display electrode 26 is filled with ITO so that the source electrode 22 and the display electrode 26 are electrically connected. .

表示電極26を覆って絶縁層30が形成され、この絶縁層30の表面上に共通電極32が配置される。本実施形態は、IPS方式であり、表示電極26上に共通電極32が間隙を持って形成され、両者間の電圧印加によって生じる横電界により、液晶の水平面内の配向を制御して表示を行う。液晶に横電界を印加する電極の配置などは公知のものが適宜採用できる。   An insulating layer 30 is formed to cover the display electrode 26, and a common electrode 32 is disposed on the surface of the insulating layer 30. This embodiment is an IPS system, in which a common electrode 32 is formed on the display electrode 26 with a gap, and display is performed by controlling the alignment of the liquid crystal in the horizontal plane by a lateral electric field generated by applying a voltage between the two. . Known arrangements of electrodes for applying a lateral electric field to the liquid crystal can be appropriately employed.

共通電極32を覆って、基板10側の配向膜34が形成され、これによってTFT基板36が形成される。   An alignment film 34 on the substrate 10 side is formed so as to cover the common electrode 32, whereby a TFT substrate 36 is formed.

TFT基板36の配向膜34上には液晶層40が配置され、液晶層40の上側に、対向基板側の配向膜42が配置される。従って、液晶層40は下側で配向膜34、上側で配向膜42で配向が制御される。すなわち、液晶層40の液晶の初期(電界非印加時)の配向状態は配向膜34,42によって決定される。そして、液晶層40への電界印加によって、液晶の配向が制御されて光の透過不透過が制御される。   A liquid crystal layer 40 is disposed on the alignment film 34 of the TFT substrate 36, and an alignment film 42 on the counter substrate side is disposed above the liquid crystal layer 40. Accordingly, the alignment of the liquid crystal layer 40 is controlled by the alignment film 34 on the lower side and the alignment film 42 on the upper side. That is, the alignment state of the liquid crystal in the liquid crystal layer 40 in the initial stage (when no electric field is applied) is determined by the alignment films 34 and 42. Then, by applying an electric field to the liquid crystal layer 40, the alignment of the liquid crystal is controlled and the transmission / reception of light is controlled.

配向膜42の上には、カラーフィルタ層44が形成される。カラー表示の場合、通常RGBの3つの画素を合わせて、カラー表示の表示画素と機能し、各画素毎にRGBいずれかの色のカラーフィルタが配置される。   A color filter layer 44 is formed on the alignment film 42. In the case of color display, three pixels of normal RGB are combined to function as a display pixel for color display, and a color filter of any color of RGB is arranged for each pixel.

カラーフィルタ層44の上には、ガラスや樹脂の基板50が配置され、この基板50上に拡散層52が配置される。拡散層52は、透明材料中に小球(ビーズ)が分散されたもので、透過光を拡散し反射光の場所による強弱(ぎらつき)等を解消する。   A glass or resin substrate 50 is disposed on the color filter layer 44, and a diffusion layer 52 is disposed on the substrate 50. The diffusion layer 52 is a transparent material in which small spheres (beads) are dispersed, diffuses transmitted light, and eliminates the strength (glare) due to the location of reflected light.

拡散層52の上方には、位相差補償板54を介し偏光層56が配置される。ここで、位相差補償板54は、ポジティブAプレートとポジティブCプレートの複合体であって、光の波長の相違などによる位相差を補償し、視野角を広げる効果がある。そして、偏光層56が偏光層24と対になり、光を透過または遮断する。   A polarizing layer 56 is disposed above the diffusion layer 52 via a phase difference compensation plate 54. Here, the phase difference compensation plate 54 is a composite of a positive A plate and a positive C plate, and has an effect of widening the viewing angle by compensating for a phase difference due to a difference in light wavelength. The polarizing layer 56 is paired with the polarizing layer 24 to transmit or block light.

なお、実際には、基板50の一方の面にカラーフィルタ層44,配向膜42を形成するとともに他方の面に拡散層52,位相差補償板54,偏光層56を形成することで対向基板58を形成し、TFT基板36と対向基板58との間(配向膜34,42の間)に液晶を封入することで液晶層40を形成する。   Actually, the counter substrate 58 is formed by forming the color filter layer 44 and the alignment film 42 on one surface of the substrate 50 and forming the diffusion layer 52, the retardation compensation plate 54, and the polarizing layer 56 on the other surface. The liquid crystal layer 40 is formed by encapsulating liquid crystal between the TFT substrate 36 and the counter substrate 58 (between the alignment films 34 and 42).

<作用>
そして、例えばTFT基板36の偏光層24の偏光方向を吸収軸が90°方向とし、対向基板58の偏光層56の偏光方向を吸収軸が0°の方向とする。
<Action>
Then, for example, the polarization direction of the polarizing layer 24 of the TFT substrate 36 is the 90 ° absorption axis, and the polarization direction of the polarizing layer 56 of the counter substrate 58 is the 0 ° absorption axis.

TFT基板36の下側から光が上方に抜ける場合(透過型)において、電界非印加により液晶層40の偏光方向の変化が0であれば、黒(不透過)表示がなされる。また、電界印加によって、液晶層40において、偏光方向が90°変化すれば、白(透過)表示がなされる。なお、印加電圧を制御することによって液晶層40における偏光方向の回転の程度を制御することができ、これによって透過度合い(輝度)が制御される。   When light passes upward from the lower side of the TFT substrate 36 (transmission type), if the change in the polarization direction of the liquid crystal layer 40 is zero due to no application of an electric field, black (non-transmission) display is performed. Further, when the polarization direction changes by 90 ° in the liquid crystal layer 40 by applying an electric field, white (transmission) display is performed. Note that the degree of rotation of the polarization direction in the liquid crystal layer 40 can be controlled by controlling the applied voltage, and thereby the degree of transmission (luminance) is controlled.

また、本実施形態では、ソース電極22などの金属部材の表面を反射板として利用する。この場合には、液晶層40に電圧印加しない場合に、偏光層56からの偏光がそのまま偏光層24に至るため、ここと透過できず黒表示になる。一方、液晶層40に電圧印加した場合には、偏光層56からの偏光が90°偏光方向を変化させて偏光層24を通過する。そして、反射板によって偏光方向は反転する(180°シフト)するが、そのまま偏光層24を通過し、液晶層40で90°シフトして偏光層56を通過して白(透過)表示となる。ここで、上述したように、反射光について、拡散層52により光の部分的な強弱によるぎらつきが除去される。   In the present embodiment, the surface of a metal member such as the source electrode 22 is used as a reflector. In this case, when no voltage is applied to the liquid crystal layer 40, the polarized light from the polarizing layer 56 reaches the polarizing layer 24 as it is, so that it cannot be transmitted here and a black display is obtained. On the other hand, when a voltage is applied to the liquid crystal layer 40, the polarized light from the polarizing layer 56 changes the 90 ° polarization direction and passes through the polarizing layer 24. The direction of polarization is reversed (shifted by 180 °) by the reflecting plate, but passes through the polarizing layer 24 as it is, shifted by 90 ° by the liquid crystal layer 40, passes through the polarizing layer 56, and becomes white (transmissive) display. Here, as described above, with respect to the reflected light, the diffusion layer 52 removes the glare due to the partial strength of the light.

このように、本実施形態では、電圧印加によって、透過光および反射光の白黒(透過不透過)切り換えが行われる。従って、IPS方式の液晶表示装置であるにもかかわらず、半透過型の液晶表示装置として機能する。   As described above, in this embodiment, switching between black and white (transmission / non-transmission) of transmitted light and reflected light is performed by applying a voltage. Therefore, although it is an IPS liquid crystal display device, it functions as a transflective liquid crystal display device.

なお、各画素間には、光抜けを防止するためのブラックマトリクスを配置する。また、TFT12のドレイン電極20,ソース電極22の上面には大きな凹凸が生じる。このような大きな凹凸がある箇所は、反射板として利用することが好ましくない。そこで、この部分については、ブラックマトリクスで覆うことも好適である。また、反射板として機能する表面には、小さな凹凸を形成し、反射光を拡散しぎらつきを低減することもできる。   A black matrix for preventing light leakage is arranged between each pixel. Further, large irregularities are formed on the upper surfaces of the drain electrode 20 and the source electrode 22 of the TFT 12. It is not preferable to use such a large uneven portion as a reflector. Therefore, it is also preferable to cover this portion with a black matrix. In addition, small unevenness can be formed on the surface functioning as the reflecting plate to diffuse the reflected light and reduce glare.

<回路構成>
ここで、図3に画素回路の回路図を示す。このように、データラインDataには、TFT12のドレイン電極20が接続される。また、TFT12のゲート電極14はゲートラインGateに接続されており、ソース電極22は、液晶層40に面する表示電極26に接続されている。図示の例では、TFT12はnチャネルであるが、pチャネルでもよい。表示電極26には液晶層40を介し共通電極32が対向しており、共通電極32が一定電位の電源、例えばグランドに接続されている。
<Circuit configuration>
Here, FIG. 3 shows a circuit diagram of the pixel circuit. Thus, the drain electrode 20 of the TFT 12 is connected to the data line Data. The gate electrode 14 of the TFT 12 is connected to the gate line Gate, and the source electrode 22 is connected to the display electrode 26 facing the liquid crystal layer 40. In the illustrated example, the TFT 12 is an n-channel, but may be a p-channel. A common electrode 32 is opposed to the display electrode 26 with a liquid crystal layer 40 interposed therebetween, and the common electrode 32 is connected to a power source having a constant potential, for example, ground.

また、ソース電極22には、補助容量60の一端に接続され、補助容量60の他端が補助容量ライン62を介し一定電位の電源、例えばグランドに接続されている。   The source electrode 22 is connected to one end of the auxiliary capacitor 60, and the other end of the auxiliary capacitor 60 is connected to a power source having a constant potential, for example, ground, via the auxiliary capacitor line 62.

ここで、図4には、補助容量60の構成例を示してある。基板10上には、グランドに接続された補助容量ライン62が形成され、この上に絶縁膜64が形成される。補助容量ライン62は、ゲート電極14と同一プロセスで形成することが好ましく、絶縁膜64はゲート絶縁膜16と同一プロセスで形成することが好ましい。そして、ソース電極22の一部が延伸されて、補助容量ライン62と絶縁膜64を介し対向配置され、補助容量60が形成される。   Here, FIG. 4 shows a configuration example of the auxiliary capacitor 60. An auxiliary capacitance line 62 connected to the ground is formed on the substrate 10, and an insulating film 64 is formed thereon. The auxiliary capacitance line 62 is preferably formed by the same process as the gate electrode 14, and the insulating film 64 is preferably formed by the same process as the gate insulating film 16. Then, a part of the source electrode 22 is extended to be opposed to the auxiliary capacitance line 62 via the insulating film 64, and the auxiliary capacitance 60 is formed.

なお、この補助容量60は、1画素内の所望の領域に形成することが可能であり、補助容量60に位置するソース電極22を表示領域内(例えば、表示領域の上下方向の中央部分)に位置させ、ここを反射板として利用することが好適である。   The auxiliary capacitor 60 can be formed in a desired region in one pixel, and the source electrode 22 located in the auxiliary capacitor 60 is in the display region (for example, the central portion in the vertical direction of the display region). It is preferable to position and use this as a reflector.

液晶表示装置は、複数の画素がマトリクス状に配置される。そして、ストライプタイプであれば、列毎にRGBの色に順に割り当てられる。   In a liquid crystal display device, a plurality of pixels are arranged in a matrix. And if it is a stripe type, it assigns in order to RGB color for every row | line | column.

例えば、データラインDataが画素の各列の間に列方向に配置され、ゲートラインGateが画素の各行の間に行方向に配置される。また、補助容量ライン62は、画素の行の中間部で行方向に配置される。   For example, the data line Data is arranged between the columns of pixels in the column direction, and the gate line Gate is arranged between the rows of pixels in the row direction. The auxiliary capacitance line 62 is arranged in the row direction at an intermediate portion of the pixel row.

各行のゲートラインGateは、画面の縦方向走査に応じて、順にHレベルにセットされる。各列のデータラインDataには、ゲートラインGateにより選択された行の列の各列のデータラインDataには、供給されてくる画素のデータが対応する画素に供給されるように順番に供給される。   The gate line Gate of each row is set to the H level in order according to the vertical scanning of the screen. The data line Data of each column is sequentially supplied to the data line Data of each column of the column of the row selected by the gate line Gate so that the supplied pixel data is supplied to the corresponding pixel. The

従って、各画素のTFT12は、自己の画素のデータ電圧がデータラインDataに供給されているときにオンになり、そのデータ電圧が各画素の補助容量60に順次蓄積される。そして、各画素の補助容量は当該画素のTFT12がオフした後も、次のデータ電圧が補助容量60に書き込まれるまで、書き込まれたデータ電圧を維持する。従って、1フレーム毎のデータ電圧が書き込まれれば、補助容量60は1フレームの期間データ電圧を維持し、このデータ電圧が液晶層40に印加される。このため、各画素においてデータ電圧に応じた液晶表示が行われる。なお、カラー表示の場合、RGB毎に供給されるデータ電圧に応じて対応する色の画素の表示が行われる。   Therefore, the TFT 12 of each pixel is turned on when the data voltage of its own pixel is supplied to the data line Data, and the data voltage is sequentially stored in the auxiliary capacitor 60 of each pixel. The auxiliary capacitor of each pixel maintains the written data voltage until the next data voltage is written to the auxiliary capacitor 60 even after the TFT 12 of the pixel is turned off. Accordingly, if the data voltage for each frame is written, the auxiliary capacitor 60 maintains the data voltage for the period of one frame, and this data voltage is applied to the liquid crystal layer 40. Therefore, liquid crystal display corresponding to the data voltage is performed in each pixel. In the case of color display, the corresponding color pixel is displayed according to the data voltage supplied for each RGB.

ここで、本実施形態においては、偏光層24をTFT12の内側に形成した。従って、TFT12を構成するソース電極22などの金属電極が偏光層24の外側に位置する。従って、装置の上方から入力されて来る光についても偏光層24を通過した後反射された光が偏光層24をもう一度通って液晶層40,偏光層56を通過する。このため、液晶層40によりスイッチングは、反射部分と、透過部分と同様に行われる。そこで、IPS方式においても、半透過型とすることができる。   Here, in the present embodiment, the polarizing layer 24 is formed inside the TFT 12. Therefore, a metal electrode such as the source electrode 22 constituting the TFT 12 is positioned outside the polarizing layer 24. Accordingly, the light input from above the device also passes through the polarizing layer 24 and is reflected again through the polarizing layer 24 and then passes through the liquid crystal layer 40 and the polarizing layer 56. For this reason, switching is performed by the liquid crystal layer 40 in the same manner as the reflection portion and the transmission portion. Therefore, the IPS system can also be a semi-transmissive type.

また、IPS方式以外の液晶モードにおいても簡単に高性能な半透過型を実現することができる。また、電極などのTFT基板36における電極表面を反射板として利用できるため、別途反射板を設けるのに比べ、開口率を向上することができる。   In addition, a high-performance transflective type can be easily realized even in a liquid crystal mode other than the IPS mode. In addition, since the electrode surface of the TFT substrate 36 such as an electrode can be used as a reflection plate, the aperture ratio can be improved compared to the case where a separate reflection plate is provided.

また、偏光層24は、TFT12と表示電極26を電気的に分離する絶縁膜として機能し、ここにコンタクトホール28を形成することでTFT12と表示電極26との電気的接続が達成される。従って、絶縁膜を別に形成する必要がない。さらに、偏光層24はPVAなどの有機膜(樹脂膜)であり、平坦化効果を得ることもできる。   The polarizing layer 24 functions as an insulating film that electrically separates the TFT 12 and the display electrode 26, and the electrical connection between the TFT 12 and the display electrode 26 is achieved by forming a contact hole 28 therein. Therefore, it is not necessary to form an insulating film separately. Furthermore, the polarizing layer 24 is an organic film (resin film) such as PVA, and can also obtain a flattening effect.

<偏光層24>
偏光層24は、基板10の内側に形成されている。ここで、通常の偏光層は、基板10の外側(液晶層40の反対側)に形成される。これは、偏光層が通常は樹脂にヨウ素およびヨウ素化合物によって染色した材料で形成されたヨウ素系の偏光層を使用するからである。すなわち、ヨウ素およびヨウ素化合物は熱に弱く、100℃程度の加熱によって変質してしまう。一方、基板10の液晶層40に接する面には、配向膜34を形成する必要がある。この配向膜34を形成する場合には、少なくとも100℃超え、130℃以上(好ましくはそれ以上)に加熱する必要がある。従って、偏光層にヨウ素系の染色材料を使用することを前提とする場合には、配向膜34を形成した後、基板10の外側に偏光層を形成することが必須となる。
<Polarizing layer 24>
The polarizing layer 24 is formed inside the substrate 10. Here, the normal polarizing layer is formed on the outer side of the substrate 10 (opposite side of the liquid crystal layer 40). This is because the polarizing layer usually uses an iodine-based polarizing layer formed of a material dyed with resin by iodine and an iodine compound. That is, iodine and iodine compounds are vulnerable to heat and are altered by heating at about 100 ° C. On the other hand, it is necessary to form an alignment film 34 on the surface of the substrate 10 in contact with the liquid crystal layer 40. In the case of forming this alignment film 34, it is necessary to heat at least over 100 ° C. and 130 ° C. or higher (preferably higher). Therefore, when it is assumed that an iodine-based dyeing material is used for the polarizing layer, it is essential to form the polarizing layer outside the substrate 10 after forming the alignment film 34.

一方、特許文献1,2などには、染料(二色性染料)を用いる偏光層が示されている。この染料は、比較的熱に強い。例えば、特許文献1,2に示されている各種の染料により130℃程度の加熱であれば、変質を防げる。特に、特許文献2に記載されるアゾ化合物及びその塩を含む染料が好適である。   On the other hand, Patent Documents 1 and 2 show a polarizing layer using a dye (dichroic dye). This dye is relatively heat resistant. For example, if heating is performed at about 130 ° C. with various dyes disclosed in Patent Documents 1 and 2, alteration can be prevented. In particular, a dye containing an azo compound and a salt thereof described in Patent Document 2 is preferable.

そこで、このような染料を用いて偏光層24を形成することで、基板10の内側に偏光層24を形成することが可能になる。   Therefore, the polarizing layer 24 can be formed inside the substrate 10 by forming the polarizing layer 24 using such a dye.

なお、偏光層の基材としては、特許文献1,2,3に記載されるように延伸PVA系樹脂が好ましい。
具体的には、次のような手順で得た偏光膜を利用することが好適である。特許文献3の実施例1で示された下記記構造式(2)の染料を0.01%、シー・アイ・ダイレクト・レッド81を0.01%、特許2622748号公報の実施例1において示されている下記構造式(10)で示される染料を0.03%、特開昭60−156759号公報の実施例23において公開されている下記構造式(11)で示される染料0.03%及び芒硝0.1%の濃度とした45℃の水溶液に厚さ75μmのポリビニルアルコールを4分間浸漬した。このフィルムを3%ホウ酸水溶液中で50℃で5倍に延伸し、緊張状態を保ったまま水洗、乾燥して中性色(平行位ではグレーで、直交位では黒色)の偏光膜を得た。
In addition, as a base material of a polarizing layer, as described in Patent Documents 1, 2, and 3, a stretched PVA resin is preferable.
Specifically, it is preferable to use a polarizing film obtained by the following procedure. The dye of the following structural formula (2) shown in Example 1 of Patent Document 3 is 0.01%, C.I. Direct Red 81 is 0.01%, and Example 1 of Japanese Patent No. 2622748 is shown. 0.03% of the dye represented by the following structural formula (10) and 0.03% of the dye represented by the following structural formula (11) disclosed in Example 23 of JP-A-60-156759 In addition, polyvinyl alcohol having a thickness of 75 μm was immersed in an aqueous solution of 45 ° C. having a concentration of 0.1% sodium sulfate for 4 minutes. This film was stretched 5 times at 50 ° C. in a 3% boric acid aqueous solution, washed with water and dried while maintaining a tension state to obtain a polarizing film of neutral color (gray in parallel position and black in orthogonal position). It was.

Figure 2018017773
Figure 2018017773

なお、この例では、偏光層56は、基板50の外側に配置されており、染色系でない耐熱性の低い偏光層でもよく、例えばヨウ素およびヨウ素化合物を用いた偏光層であっても構わない。   In this example, the polarizing layer 56 is disposed outside the substrate 50, and may be a polarizing layer with low heat resistance that is not a dyeing system. For example, a polarizing layer using iodine and an iodine compound may be used.

さらに、配向膜34について低温で形成できるものとすれば、耐熱性の低い偏光層24でも構わない。   Furthermore, if the alignment film 34 can be formed at a low temperature, the polarizing layer 24 having low heat resistance may be used.

<他の実施形態>
図5には、他の実施形態の構成が示してある。この例では、対向基板58の基板50の内側に偏光層56を配置する。従って、この偏光層56に耐熱性の高い材料を用いている。また、カラーフィルタ層44,拡散層52,位相差補償板54は省略した。これらは必ずしも必要な構成でないからであるが、これを設けても構わない。なお、配置する場合、位相差補償板54は、偏光層56の内側に配置する。
<Other embodiments>
FIG. 5 shows the configuration of another embodiment. In this example, the polarizing layer 56 is disposed inside the substrate 50 of the counter substrate 58. Therefore, a material having high heat resistance is used for the polarizing layer 56. Further, the color filter layer 44, the diffusion layer 52, and the retardation compensation plate 54 are omitted. This is because these are not necessarily required structures, but they may be provided. In addition, when arrange | positioning, the phase difference compensating plate 54 is arrange | positioned inside the polarizing layer 56. FIG.

そして、この例では、基板10,50に可撓性がある樹脂基板を用いる。そこで、液晶表示装置全体が柔軟であり屈曲可能となる。   In this example, a flexible resin substrate is used for the substrates 10 and 50. Therefore, the entire liquid crystal display device is flexible and can be bent.

ここで、上述したように、偏光層56を基板50の内側に配置した。偏光層24も基板10の内側にあるため、偏光層24,56ともに基板10,50の内側に位置する。   Here, as described above, the polarizing layer 56 is disposed inside the substrate 50. Since the polarizing layer 24 is also inside the substrate 10, both the polarizing layers 24 and 56 are located inside the substrates 10 and 50.

基板10,50は、樹脂で形成されるが、樹脂基板は屈曲すると、場所によって透過光について位相差が生じる。従って、位相差が生じた透過光が偏光層24,56を通過することで、表示にムラが生じる。   The substrates 10 and 50 are made of resin, but when the resin substrate is bent, a phase difference occurs in the transmitted light depending on the location. Therefore, the transmitted light having a phase difference passes through the polarizing layers 24 and 56, thereby causing unevenness in display.

本実施形態によれば、偏光層24,56が基板10,50の内側にあり、基板10,50の屈曲による位相差の発生が偏光層24,56による光透過、不透過の制御に影響することを排除することが可能になる。   According to this embodiment, the polarizing layers 24 and 56 are inside the substrates 10 and 50, and the generation of the phase difference due to the bending of the substrates 10 and 50 affects the control of light transmission and non-transmission by the polarizing layers 24 and 56. It becomes possible to eliminate that.

<さらに他の実施形態>
図6には、さらに他の実施形態の構成が示してある。この例は、TN方式の液晶表示装置である。従って、対向基板58において対向電極70を有しており、表示電極26への電圧印加によってデータ電圧に基づき電界を表示電極26と対向電極70間の液晶層40に印加して液晶層40における偏光方向の回転を制御する。TN方式の場合、通常電圧印加がない状態で白表示であり、電圧印加により黒表示となる。
<Still another embodiment>
FIG. 6 shows the configuration of still another embodiment. This example is a TN liquid crystal display device. Accordingly, the counter substrate 58 has the counter electrode 70, and an electric field is applied to the liquid crystal layer 40 between the display electrode 26 and the counter electrode 70 by applying a voltage to the display electrode 26, thereby polarizing the liquid crystal layer 40. Control direction rotation. In the case of the TN system, white display is normally performed when no voltage is applied, and black display is performed when the voltage is applied.

TFT基板36において、偏光層24の上には、表示電極26が画素毎に形成される。そして、この表示電極26を覆って配向膜34が形成され、この配向膜34上に液晶層40が配置される。対向基板58においては、基板50の内側にカラーフィルタ層44を介し、対向電極70が形成される。この対向電極70もITOなどで形成される透明電極である。また、対向電極70は複数の表示電極26に対向する1枚の共通電極である。対向電極の下側表面に配向膜42が形成され、配向膜42が液晶層40に面する。   In the TFT substrate 36, the display electrode 26 is formed on the polarizing layer 24 for each pixel. An alignment film 34 is formed so as to cover the display electrode 26, and the liquid crystal layer 40 is disposed on the alignment film 34. In the counter substrate 58, the counter electrode 70 is formed inside the substrate 50 through the color filter layer 44. The counter electrode 70 is also a transparent electrode formed of ITO or the like. The counter electrode 70 is one common electrode facing the plurality of display electrodes 26. An alignment film 42 is formed on the lower surface of the counter electrode, and the alignment film 42 faces the liquid crystal layer 40.

このような構成により、各画素の表示電極26と対向電極70との間に、データ電圧に基づく電界が印加されて画素毎の表示が行われる。   With such a configuration, an electric field based on the data voltage is applied between the display electrode 26 and the counter electrode 70 of each pixel to perform display for each pixel.

なお、VA方式などでも、同様の構成にて液晶表示装置が構成できる。さらに、図5に示したような受信基板を用いたフレキシブルな装置も同様に作成することが可能である。   Note that a liquid crystal display device can be configured with a similar configuration even in the VA mode or the like. Further, a flexible device using a receiving substrate as shown in FIG. 5 can be similarly produced.

10,50 基板、14 ゲート電極、16 ゲート絶縁膜、18 半導体層、20 ドレイン電極、22 ソース電極、24,56 偏光層、26 表示電極、28 コンタクトホール、30 絶縁層、32 共通電極、34,42 配向膜、36 TFT基板、40 液晶層、44 カラーフィルタ層、52 拡散層、54 位相差補償板、58 対向基板、60 補助容量、62 補助容量ライン、64 絶縁膜、70 対向電極。   10, 50 Substrate, 14 Gate electrode, 16 Gate insulating film, 18 Semiconductor layer, 20 Drain electrode, 22 Source electrode, 24, 56 Polarizing layer, 26 Display electrode, 28 Contact hole, 30 Insulating layer, 32 Common electrode, 34, 42 alignment film, 36 TFT substrate, 40 liquid crystal layer, 44 color filter layer, 52 diffusion layer, 54 retardation compensation plate, 58 counter substrate, 60 auxiliary capacitor, 62 auxiliary capacitor line, 64 insulating film, 70 counter electrode.

Claims (5)

2枚の基板間に液晶層が挟まれてなる液晶表示装置であって、
前記2枚の基板の少なくとも1つの基板における液晶層側に設けられる偏光層と、
前記偏光層の基板側に設けられる基板側導電層と、
前記偏光層の液晶層側に設けられる液晶側導電層と、
前記偏光層に設けられ、前記基板側導電層と、前記液晶側導電層を電気的に接続するコンタクトホールと、
を有する液晶表示装置。
A liquid crystal display device in which a liquid crystal layer is sandwiched between two substrates,
A polarizing layer provided on the liquid crystal layer side of at least one of the two substrates;
A substrate-side conductive layer provided on the substrate side of the polarizing layer;
A liquid crystal side conductive layer provided on the liquid crystal layer side of the polarizing layer;
A contact hole provided in the polarizing layer, electrically connecting the substrate side conductive layer and the liquid crystal side conductive layer;
A liquid crystal display device.
請求項1に記載の液晶表示装置において、
前記偏光層は、PVAを二色性染料で染色した染料系偏光層である、
液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1.
The polarizing layer is a dye-based polarizing layer obtained by dyeing PVA with a dichroic dye.
Liquid crystal display device.
請求項1または2に記載の液晶表示装置において、
前記偏光層が設けられる基板は薄膜トランジスタにより液晶層に対する電界の印加を制御するTFT基板であり、
前記TFT基板上の薄膜トランジスタと、偏光層上の電極を前記コンタクトホールで接続する、
液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1 or 2,
The substrate on which the polarizing layer is provided is a TFT substrate that controls application of an electric field to the liquid crystal layer by a thin film transistor,
The thin film transistor on the TFT substrate and the electrode on the polarizing layer are connected by the contact hole;
Liquid crystal display device.
請求項3に記載の液晶表示装置において、
前記TFT基板ではないもう1つの基板である対向基板においては、前記液晶層とは反対側に第2偏光層を設ける、
液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 3.
In the counter substrate, which is another substrate that is not the TFT substrate, a second polarizing layer is provided on the side opposite to the liquid crystal layer.
Liquid crystal display device.
請求項4に記載の液晶表示装置において、
前記対向基板と前記第2偏光層の間に、位相差板を設ける、
液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 4.
A retardation plate is provided between the counter substrate and the second polarizing layer.
Liquid crystal display device.
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JP2020134558A (en) * 2019-02-13 2020-08-31 三菱電機株式会社 Array substrate, liquid crystal display device and method for manufacturing array substrate

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