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JP2017228680A - 研削装置 - Google Patents

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JP2017228680A
JP2017228680A JP2016124333A JP2016124333A JP2017228680A JP 2017228680 A JP2017228680 A JP 2017228680A JP 2016124333 A JP2016124333 A JP 2016124333A JP 2016124333 A JP2016124333 A JP 2016124333A JP 2017228680 A JP2017228680 A JP 2017228680A
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敦 中塚
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Abstract

【課題】ワークの下面洗浄時に、洗浄部材に洗浄水が充分に行き渡るようにする。
【解決手段】円形板状ワークWの上面Waを保持し研削手段31によって研削されたワークWをチャックテーブル2から搬出する手段5と、ワークWの下面Wbを洗浄する手段6とを備え、洗浄手段6は、搬出手段5が保持するワークWの下面Wbに対して垂直な軸心を備える回転軸60と、回転軸60を回転させる手段61と、回転軸60の回転にともない円形板状ワークの周方向に沿って移動してワークWを洗浄する部材64と、洗浄部材64を収容するケース63と、回転手段61によって洗浄部材64を回転させる洗浄動作によりワークWが回転することを防止する手段68と、少なくともケース63に洗浄水を供給する手段69とを備え、ケース63に供給された洗浄水を含む洗浄部材64がワークWの下面Wbの外周部を洗浄する研削装置1である。
【選択図】図3

Description

本発明は、チャックテーブルが保持した円形板状ワークを研削する研削装置であって、特に、研削時にチャックテーブルに保持されていた円形板状ワークの下面をチャックテーブルから搬出する際に洗浄することができる研削装置に関する。
例えば、複数のデバイスが分割予定ラインによって区画され表面に形成された半導体ウエーハ等の円形板状ワークは、ワークの表面に保護テープが貼着され、ワークの表面側を研削装置のチャックテーブルにより保護テープを介して吸引保持し、吸引保持されたワークの裏面に対して回転する研削砥石を降下させ押し付けて研削し、ウエーハを所定の厚みに薄化する。研削後のウエーハは、例えば、枚葉式のスピンナー洗浄装置によりワークの研削された面である裏面が洗浄されることで、裏面に残った研削屑等の異物が除去される。洗浄後のウエーハは、乾燥された後、切削ブレードを備えた切削装置等に搬送される。そして、ウエーハは切削装置により切削され個々のデバイスに分割され、各種電子機器等に利用されている。
円形板状ワークの研削加工時には、研削装置のチャックテーブルに保持され保護テープが貼着されている表面側にも研削屑等が付着するため、スポンジ等からなる柔軟部材を円形板状ワークに貼着された保護テープに接触させて洗浄を行う洗浄機構が提案されている(例えば、特許文献1参照)。例えば、ワークの洗浄後にワークから保護テープを剥離して、ウエーハを切削可能な状態にする必要があり、そのため、洗浄後にワークに貼着されている保護テープの周縁部に剥離テープを貼着し、剥離テープを引っ張ることによって円形板状ワークから保護テープを剥離する。ここで、保護テープに研削屑が付着している場合には、研削屑が付着している部分に剥離テープを貼り付けてしまうと、剥離テープを引っ張ったときに研削屑だけが剥離テープにくっついてきてしまい、保護テープを剥離できないという問題がある。したがって、かかる問題を回避するために、ワークに貼着された保護テープを洗浄する必要がある。
特開2013−105828号公報
上記特許文献1に記載されている洗浄機構では、研削装置のチャックテーブルに保持されていたワークの被保持面中の洗浄したい箇所と洗浄機構に備える洗浄部材との接触部位に対して、洗浄水を供給しながら洗浄を行っていく。しかし、ワークの洗浄したい箇所に充分に洗浄水が届かず、洗浄機構の洗浄部材が乾燥した状態でワークに擦り付けられていくことで、洗浄部材が急速に磨耗するという問題があった。
よって、円形板状ワークの下面を洗浄する洗浄手段を備える研削装置においては、ワークの洗浄時に、洗浄部材に洗浄水が充分に行き渡らず洗浄部材が乾燥した状態でワークに擦り付けられ洗浄が行われていくという事態が生じないようにするという課題がある。
上記課題を解決するための本発明は、円形板状ワークを吸引保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された円形板状ワークを研削加工する研削手段と、円形板状ワークの上面を保持し該研削手段によって研削された円形板状ワークを該チャックテーブルから搬出する搬出手段と、円形板状ワークの下面を洗浄する洗浄手段と、を備える研削装置において、該洗浄手段は、該搬出手段が保持する円形板状ワークの下面に対して垂直な軸心を備える回転軸と、該回転軸を回転させる回転手段と、該回転軸の回転にともない円形板状ワークの周方向に沿って移動して円形板状ワークを洗浄する洗浄部材と、該洗浄部材を収容するケースと、該洗浄部材を円形板状ワークに当接させ該回転手段によって該洗浄部材を回転させる洗浄動作によって円形板状ワークが回転することを防止するための回転防止手段と、少なくとも該ケースに洗浄水を供給する洗浄水供給手段とを備え、該洗浄水供給手段から該ケースに供給された洗浄水を含んだ該洗浄部材が円形板状ワークの下面の外周部を洗浄する研削装置である。
前記ケースは貫通孔を有し、前記洗浄水供給手段は該貫通孔と連通し該ケースに洗浄水を供給するものとすると好ましい。
前記洗浄部材は、曲面形状の角部を備えるものとすると好ましい。
本発明に係る研削装置に備える洗浄手段は、搬出手段が保持する円形板状ワークの下面に対して垂直な軸心を備える回転軸と、回転軸を回転させる回転手段と、回転軸の回転にともない円形板状ワークの周方向に沿って移動して円形板状ワークを洗浄する洗浄部材と、洗浄部材を収容するケースと、洗浄部材を円形板状ワークに当接させ回転手段によって洗浄部材を回転させる洗浄動作によって円形板状ワークが回転することを防止するための回転防止手段と、少なくともケースに洗浄水を供給する洗浄水供給手段とを備えている。そして、ワークの下面を洗浄する際に、洗浄水供給手段が、洗浄部材が収容されるケース内に洗浄水を供給してケース内に洗浄水を貯め、洗浄部材がケース内で洗浄水を吸い上げ洗浄部材が洗浄水を含んだ状態になることで、洗浄部材のワークとの接触部位が常に洗浄水を含み濡れた状態になるので、洗浄部材が乾燥した状態でワークに擦り付けられることがなくなり、洗浄部材が急速に磨耗してしまうことを防止することができる。
また、ケースは貫通孔を有し、洗浄水供給手段は貫通孔と連通しケースに洗浄水を供給するものとすることで、洗浄水供給手段から直にケースに対して洗浄水を供給させることで、ケース内に収容された洗浄部材が洗浄水をより多く吸い上げることができるようになり、洗浄部材のワークとの接触部位が常により多くの洗浄水を含み濡れた状態になるので、洗浄部材が乾燥した状態でワークに擦り付けられることがなくなり、洗浄部材が急速に磨耗してしまうことをより防止することができる。
さらに、洗浄部材は、曲面形状の角部を備えるものとすることで、例えば、直方状に形成されたスポンジ等の洗浄部材に比べて、ワーク洗浄時において洗浄部材の角部に集中的な力が加わることで生じる洗浄部材の角部の削れを抑制することが可能となり、洗浄中に洗浄部材の角部が削れて洗浄屑となりワークに付着してしまうことを防止できる。
研削装置の一例を模式的に示した平面図である。 搬出手段の一例を示す断面図である。 洗浄手段の一例を示す平面図である。 洗浄手段の一例を示す縦断面図である。 帯状の洗浄部材を折り曲げている状態を示す正面図である。 洗浄手段に備える洗浄部材が曲面形状の角部を備えた状態を示す斜視図である。 洗浄手段により円形板状ワークの下面の外周部を洗浄している状態を示す断面図である。 円形板状ワークを洗浄する際に、回転防止手段が円形板状ワークの中央領域に接触してワークの回転を防止する洗浄手段の一例を示す平面図である。
図1に示す研削装置1は、円形板状ワークWを吸引保持する複数の(図示の例では4つの)チャックテーブル2と、チャックテーブル2に保持された円形板状ワークWを研削加工する第1研削手段30(例えば、粗研削を行う研削手段である。)及び第2研削手段31(例えば、仕上げ研削を行う研削手段である。)と、研削された円形板状ワークWを研磨する研磨手段32とを備えている。複数のチャックテーブル2は、研削装置1上のターンテーブル2aによって公転及び自転可能に支持されている。円形板状ワークWは、例えば、その外形が平板円形状の半導体ウエーハであるが、これに限定されるものではない。
研削装置1の前部側(−Y方向側)には、加工前の円形板状ワークWを収容する第1カセット40と、加工後の円形板状ワークWを収容する第2カセット41とを備えている。そして、第1カセット40及び第2カセット41の近傍には、第1カセット40からの加工前の円形板状ワークWの取り出し及び第2カセット41への加工後の円形板状ワークWの収容を行うロボット42が配設されている。ロボット42は、円形板状ワークWを吸引保持するハンド部420と、ハンド部420に連結され屈曲可能なアーム部421と、ハンド部420及びアーム部421をX軸方向に移動させる駆動手段422とを備えている。
ハンド部420の可動領域には、カメラ431によって撮像された円形板状ワークWの画像データを基に、加工前の円形板状ワークWを所定の位置に位置あわせする仮置きテーブル43が配設されている。
第1研削手段30の前方側(−Y方向側)は、加工前の円形板状ワークWをチャックテーブル2に載置したり、加工後の円形板状ワークWを次の工程に移送するためにチャックテーブル2から取り出したりする領域である搬出入領域44となっている。搬出入領域44の近傍には、仮置きテーブル43から搬出入領域44に位置するチャックテーブル2への円形板状ワークWの搬入を行う搬入手段45と、搬出入領域44に位置するチャックテーブル2からの円形板状ワークWの搬出を行う搬出手段5とが配設されている。
搬入手段45は、Y軸方向に延びる直動軸450と、直動軸450の側面をY軸方向に自在にスライド移動可能であり円形板状ワークWを吸引保持できる吸引パッド451とを備えている。
図2に示す円形板状ワークWの被加工面である上面Waを保持し研磨手段32によって研磨された円形板状ワークWをチャックテーブル2から搬出する搬出手段5は、例えば、図1に示す搬出入領域44において水平方向に旋回可能なアーム部50と、アーム部50の先端に配設され円形板状ワークWを吸引保持する保持パッド51とを備えている。保持パッド51は、ポーラス部材からなり円形板状ワークWを吸引する吸引面51aを備えており、吸引面51aは図示しない吸引源に連通している。そして、吸引源が吸引を行うことで生み出された吸引力が、吸引面51aに伝達されることで、搬出手段5は吸引面51aで円形板状ワークWを吸引保持する。なお、搬出手段5は、本実施形態における構成に限定されるものではない。例えば、円形板状ワークWが、ワークの上面Waの外周部分だけを環状の補強部として残し、その内側だけを研削したウエーハ等である場合には、搬出手段5は、補強部の外周部を側面側から支持することで、円形板状ワークを保持できるように構成されていてもよい(例えば、特許文献1に記載されている保持機構10を備える搬出手段5等である)。
図1に示すように、搬出手段5による円形板状ワークWの搬出経路には、保持パッド51によって吸引保持された図2に示す円形板状ワークWの下面Wb、すなわちチャックテーブル2によって吸引保持されていた被保持面を洗浄する洗浄手段6を備えている。また、洗浄手段6の近傍には、円形板状ワークWの上面Wa側を洗浄し乾燥する洗浄乾燥手段7が配設されている。なお、洗浄手段6の配設位置は、搬出手段5による円形板状ワークWの搬出経路の下方であれば、図示の位置には限定されない。
図3に示す洗浄手段6は、搬出手段5が保持する円形板状ワークWの下面Wbに対して垂直な軸心を備える回転軸60を備えている。すなわち、回転軸60の軸心はZ軸方向に延在している。図4に示すように、回転軸60の下端側には、回転軸60を回転させる回転手段61が接続されている。回転手段61は、例えば、サーボモータやパルスモータであるが、無端状の駆動ベルト等からなる回転プーリー手段等であってもよい。
図3、図4に示すように回転軸60の上端側には、洗浄部材保持部62が固定されている。洗浄部材保持部62は、回転軸60に固定された平板状の基部620と、基部620と一体的に形成され基部620から例えば水平に少なくとも3方向に均等な角度(例えば120度)で放射状に延びる3枚の略長方形状の平板部621とを備えている。そして、回転軸60の軸中心の延長線上に、基部620の中心が位置している。
3枚の平板部621の各先端部分上面には、ボルト等の止め具で略直方体状のケース63がそれぞれ1つずつ固定されている。ケース63は、例えば、略長方形状の底板63aと、63aの四辺から+Z方向に立設される4枚の側板63bとからなり上部が開口している。
ケース63に収容され円形板状ワークWを洗浄する洗浄部材64は、例えば、スポンジのような柔軟な部材を直方体状に形成したものであり、気泡が互いに連通している構造を有する連泡スポンジを用いると好ましいが、各泡が単独の室になっている単泡スポンジを用いてもよい。スポンジの具体例としては、ポリウレタンを発泡成形して作られるスポンジ(例えば、アイオン社製、ソフラススポンジ)、PVAスポンジ(例えば、アイオン社製、ベルイータースポンジ)等である。
洗浄部材64は、例えば、ケース63の底板63aに、適宜の接着剤等によって貼着されるか、または交換容易性を考慮しネジにより固定されることで、ケース63内に固定される。ケース63内に収容された洗浄部材64は、図4に示すように、洗浄部材64の上部がケース63の内部から露出しており、洗浄部材64の上面が円形板状ワークWの下面Wbに接触する洗浄面になる。ケース63は、例えば、洗浄部材64が収容された状態において、ケース63の各側板63bと洗浄部材64との間に所定の隙間Vが設けられる程度の容積を備えていると好ましい。
洗浄部材64の形状や、洗浄部材64の洗浄部材保持部62への固定の仕方は上記のような形態に限定されるものではない。例えば、図5に示すように帯状に形成された洗浄部材64Aを、洗浄部材64Aの両端を中央に向かって矢印R方向に折り曲げるようにして、図6に示すように、平板部621に巻き付けて固定するものとしてもよい。この場合には、例えば、ケース63には、側板63bから平板部621を挿し込む挿入口が設けられており、平板部621がケース63に挿し込まれることで、平板部621に固定される。洗浄部材64Aは、このようにケース63に挿し込まれた状態の平板部621の先端部分にまき付けられて固定される。例えば、洗浄部材64Aを平板部621に巻きつける際には、平板部621とケース63の底板63aとの間に、洗浄部材64Aの洗浄面高さ調整用のスペーサー630を配設するものとしてもよい。スペーサー630は、例えば、洗浄部材64Aの厚み等に合わせて決められた所定の高さを備える長方形状の平板であり、固定ネジ631を螺入させる図示しないネジ孔が設けられている。例えば、平板部621にも固定ネジ631を螺入させる図示しないネジ孔が設けられており、スペーサー630のネジ孔と平板部621のネジ孔とを一致させた状態で、固定ネジ631を両者のネジ孔に螺入させることで、平板部621とケース63の底板63aとの間にスペーサー630が固定される。そして、スペーサー630は、スペーサー630の高さの分だけ洗浄部材64Aの高さ位置をかさ上げして調整することができる。なお、例えば、図4に示す洗浄部材64を、予め角部を削って角部を曲面形状に形成し、ケース63の底板63aに、適宜の接着剤等によって貼着するものとしてもよいが、帯状の洗浄部材64Aを上記のように巻きつけて平板部621に固定する方が、より簡単に洗浄部材に曲面形状を形成できるため好ましい。
図3,4に示すように、洗浄部材保持部62の上方には、洗浄部材64を円形板状ワークWに当接させ回転手段61によって洗浄部材64を回転させる洗浄動作によって円形板状ワークWが回転することを防止するための回転防止手段68が配設されている。回転防止手段68は、例えば、略直方体状に形成されたスポンジ等の回転防止部材680と、回転防止部材680が固定される固定板681とを備えている。固定板681は、平板状の基部681aと、基部681aと一体的に形成され基部681aから例えば水平に少なくとも3方向に均等な角度(例えば120度)で放射状に延びる3枚の平板部681bとからなる。平板部681bは、例えば先端部分681cが平面視扇型形状に形成されており、この先端部分681cの中心領域に、回転防止部材680が適宜の接着剤またはボルト等によって固定されている。
固定板681の内部には、少なくともケース63に洗浄水を供給する洗浄水供給手段69に連通する通水路681dが形成されている。通水路681dは、例えば、基部681aの内部から3枚の平板部681bの内部に向かって3方向に延びており、基部681aにおいて各端が合流して一体になっている。平板部681bの内部に延びる通水路681dは、平板部681bの内部において二股に分岐して延び、平板部681bの先端部分681cの上面に開口する噴出口681eに連通している。噴出口681eは、先端部分681cの両側辺に沿って整列して複数(図3においては、4つずつ整列しており、計8つ)設けられている。なお、噴出口681eは平板部681bの先端部分681cの側面に開口しているものとしてもよい。
洗浄水供給手段69は、洗浄水を基部681aの内部に形成された通水路681dへ流入させる。この洗浄水は平板部681bの内部において二股に分流され、平板部681bの先端部分681cの上面に開口する噴出口681eへと到達し、噴出口681eから各平板部681bの外側に向かって噴出し、各平板部681bの隣に位置している状態のケース63の内部に洗浄水を供給する。
図3、4に示すように、固定板681の下面側には、固定板681を支持する支持柱682が接続されており、支持柱682は、回転軸60を囲うように配設されている。図4に示すように、支持柱682には、エアシリンダ683が接続されている。エアシリンダ683は、内部に図示しないピストンを備え基端側(−Z方向側)に底のある有底円筒状のシリンダチューブ683aと、シリンダチューブ683aに挿入され一端がピストンに取り付けられたピストンロッド683bとを備える。ピストンロッド683bのもう一端は、支持柱682に固定されている。シリンダチューブ683aにエアが供給(または、排出)されシリンダチューブ683aの内部の圧力が変化することで、ピストンロッド683bがZ軸方向に移動する。支持柱682は、エアシリンダ683により支持柱682が上下動することで、固定板681が洗浄部材保持部62に対して相対的に上下動する。
以下に、図1〜7を用いて、研削装置1において、洗浄手段6により円形板状ワークWを洗浄する場合の、研削装置1の各構成の動作について説明する。
図1に示す円形板状ワークWは、第1研削手段30及び第2研削手段31によって研削されてから研磨手段32による研磨加工が行われた後、ターンテーブル2aの回転によって搬出入領域44に移動し、搬出手段5によって加工後の円形板状ワークWが保持される。すなわち、保持パッド51が旋回移動し、図2に示す保持パッド51の吸引面51aの中心が円形板状ワークWの上面Waの中心に略合致するように、円形板状ワークWの上方に位置付けられる。さらに、保持パッド51が−Z方向へと降下し、保持パッド51の吸引面51aを円形板状ワークWの上面Waに接触させる。さらに、図示しない吸引源が吸引することで生み出された吸引力が吸引面51aへと伝達されることで、搬出手段5が円形板状ワークWの上面Waを吸引保持する。
加工後の円形板状ワークWが保持パッド51によって保持されると、図1に示したアーム部50のY軸方向の移動及び旋回により、円形板状ワークWが、搬出経路に位置する図3に示す洗浄手段6の洗浄部材保持部62及び回転防止手段68の直上に移動し、そこで停止する。このとき、搬出手段5に保持された円形板状ワークWの位置は、その中心が洗浄手段6の回転軸60と略一致するワーク洗浄位置となる。
図4に示すエアシリンダ683により、支持柱682がZ軸方向に移動して、固定板681上に固定されている回転防止部材680の高さ位置と洗浄部材保持部62上に固定されている洗浄部材64との相対的な高さ位置の調整が行われる。円形板状ワークWがワーク洗浄位置に位置した状態で、保持パッド51が下降することにより、図7に示すように、円形板状ワークWの下面Wbの外周部に洗浄部材64を接触させる。また、回転防止部材680を円形板状ワークWの下面Wbの外周部に接触させる。このとき、回転防止部材680の上面は、洗浄部材64の上面よりも若干高い位置にあり、回転防止部材680は、洗浄部材64よりも強く円形板状ワークWを押圧する。このようにして、回転防止部材680が円形板状ワークWの回転を摩擦力により阻止する。
図3,7に示すように、洗浄部材64及び回転防止部材680を円形板状ワークWの下面Wbの外周部に接触させた時は、洗浄部材64と回転防止部材680とが重ならない位置に位置している。そして、図3に示すように、回転手段61が洗浄部材保持部62を矢印P方向に回転させることで、回転軸60の回転にともない洗浄部材保持部62に固定された洗浄部材64が円形板状ワークWの周方向に沿って移動し、下面Wbの外周部を洗浄する。具体的には、洗浄手段6は、1つの洗浄部材64を両側に位置する2つの回転防止部材680に衝突しない範囲で回転させてから停止させる。そして、今度は、回転手段61が矢印P方向とは反対の方向に向かって洗浄部材保持部62を回転させる。このようにして、洗浄部材64が円形板状ワークWの下面Wbの外周部に接触した状態で回転することにより、円形板状ワークWの下面Wbの外周部のうち、回転防止部材680が接触している箇所以外の領域が洗浄される。洗浄中は、回転手段61が洗浄部材64を回転させることによって円形板状ワークWが回転するのを回転防止手段68が防止するため、洗浄を確実に行うことができる。
次いで、回転防止手段68を下降させることにより回転防止部材680と円形板状ワークWの下面Wbとの接触状態を解除した後、洗浄部材保持部62を所定の角度回転させる。そうすると、円形板状ワークWの下面Wbが回転防止部材680と接触していないため、洗浄部材64とともに円形板状ワークWも所定の角度回転する。このようにして、円形板状ワークWの下面Wbの外周部中の回転防止部材680が先の洗浄において接触していた箇所を、回転防止部材680からずらし、円形板状ワークWの下面Wbの外周部中、先の洗浄において回転防止部材680が接触していたため未洗浄となっている領域を露出させる。
次いで、再び回転防止部材680を上昇させて円形板状ワークWの下面Wbの外周部に接触させ、先と同様に回転手段61が洗浄部材保持部62を回転させて、円形板状ワークWの下面Wbの外周部全周を洗浄部材64により洗浄する。
洗浄部材64により円形板状ワークWの下面Wbの外周部を洗浄している際には、図3に示す洗浄水供給手段69が、洗浄水を基部681aの内部に形成された通水路681dへ流入させる。この洗浄水は平板部681bの内部において二股に分流され、図7に示すように、平板部681bの先端部分681cの上面に開口する噴出口681eから外側に向かって噴出し、各平板部681bの隣に位置している状態のケース63の内部、例えば、洗浄部材64とのケース63の側壁63bとの隙間Vに向かって放物線を描くように流入していく。なお、先端部分681cの上面に開口する噴出口681eは、先端部分681cの上面に対して所定の角度だけ先端部分681cの外側方向に向かって傾斜するように形成されていてもよい。
図3に示すように、ワーク洗浄中において、回転手段61は、1つの洗浄部材64を両側に位置する2つの回転防止部材680に衝突しない範囲で往復移動するように回転させるため、ケース63のより近くに位置する片方の回転防止部材680に形成されている噴出口681eから、常時ケース63に対して洗浄水が供給された状態になる。また、図7に示すように、ケース63の高さ位置と噴出口681eが形成されている回転防止部材680との高さ位置とが近い位置にあるため、噴出口681eから噴射された洗浄水がケース63に供給されやすくなっている。
ケース63の内部に到達した洗浄水は、例えば連泡スポンジからなる洗浄部材64によって吸い上げられ、洗浄部材64の全体に広範囲にわたって染み込んでいく。したがって、洗浄部材64の円形板状ワークWの下面Wbとの接触部位である洗浄部材64の上面は、常に多くの洗浄水を含み濡れた状態になるので、洗浄部材64が乾燥した状態でワークWに擦り付けられることがなくなり、洗浄部材64が急速に磨耗してしまうことがなくなる。
例えば、洗浄部材64により多くの洗浄水を含ませるために、図7のケース63に破線で示す貫通孔63dを形成してもよい。貫通孔63dは、例えば、ケース63の底板63aを厚み方向に貫通して形成されている。また、この場合は、洗浄部材保持部62の平板部621の厚み方向にも、洗浄水を通水させる通水路を設けて、貫通孔63d、この平板部621に形成された通水路、及び洗浄水供給手段69を連通させる。ワークWの洗浄時に、ケース63の外部からケース63に対して洗浄水を供給すると共に、洗浄水供給手段69から貫通孔63dを経てケース63に対して洗浄水を供給させることで、ケース63内に収容された洗浄部材64が洗浄水をより多く吸い上げることができるようになるため、洗浄部材64が乾燥した状態でワークWに擦り付けられることがよりなくなり、洗浄部材64が急速に磨耗してしまうことがなくなる。
さらに、例えば、洗浄部材64として単泡スポンジを使用する場合には、図7の洗浄部材64に一点鎖線で示す連通孔64dを形成してもよい。連通孔64dは、例えば、洗浄部材64の底面から洗浄部材64の内部に至るように形成されており、ケース63の貫通孔63dに連通している。単泡スポンジは洗浄水を吸い上げ難いが、連通孔64dを形成することで、ワークWの洗浄時に、ケース63の外部からケース63に対して洗浄水を供給すると共に、洗浄水供給手段69から貫通孔63d及び連通孔64dを経て洗浄部材64に対して洗浄水を供給させることで、洗浄部材64が乾燥した状態でワークWに擦り付けられるおそれがより低減され、洗浄部材64が急速に磨耗してしまうことがなくなる。
なお、本発明に係る研削装置1は上記実施形態に限定されるものではなく、また、添付図面に図示されている研削装置1の各構成の大きさや形状等についても、これに限定されず、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。
例えば、研削装置1は、図8に示す洗浄手段6Aを備えるものとしてもよい。洗浄手段6Aは、図3に示す洗浄手段6の構成の一部、すなわち、回転防止手段68を回転防止手段68Aに変更したものであり、回転防止手段68と回転防止手段86Aとの構成の違い以外については、洗浄手段6と洗浄手段6Aとは同様に構成されている。図8に示す洗浄手段6Aは、図3に示す洗浄手段6と同様に、洗浄部材保持部62を備えており、洗浄部材保持部62は、模式的に示す回転軸60及び回転手段61により回転可能となっている。また、洗浄部材保持部62の平板部621には、ケース63が固定されており、ケース63には洗浄部材64が収容されている。
洗浄部材保持部62の上方には、洗浄部材64を円形板状ワークWに当接させ回転手段61によって洗浄部材64を回転させる洗浄動作によって円形板状ワークWが回転することを防止するための回転防止手段68Aが配設されている。回転防止手段68Aは、例えば、円形板状に形成されたスポンジ等の回転防止部材680Aと、回転防止部材680Aが固定される固定板681Aとを備えている。固定板681Aは、円形板状に形成されており、その中央領域に、回転防止部材680Aが適宜の接着剤またはボルト等によって固定されている。固定板681Aの下面側には、支持柱682が接続されており、支持柱682は、回転軸60を囲うように配設されている。支持柱682には、エアシリンダ683が接続されており、エアシリンダ683により支持柱682が上下動することで、固定板681Aが洗浄部材保持部62に対して相対的に上下動する。
固定板681Aには、ボルト681Bによって複数の洗浄水ノズル681Cが固定されている。洗浄水ノズル681Cは、例えば、固定板681Aから水平に少なくとも3方向に均等な角度(例えば120度)で放射状に延在している。洗浄水ノズル681Cの外側面には、噴出口681Fが洗浄水ノズル681Cの延在方向に沿って整列して複数(図8においては、5つずつ整列しており、計10つ)設けられている。各洗浄水ノズル681Cには、少なくともケース63に洗浄水を供給する洗浄水供給手段69が連通しており、洗浄水供給手段69から供給された洗浄水は、噴出口681Fから洗浄水ノズル681Cの両脇方向に向かって噴出し、各洗浄水ノズル681Cの隣に位置している状態のケース63の内部に供給される。
洗浄手段6Aにより円形板状ワークWの下面Wbの外周部を洗浄する場合には、回転防止部材680Aを、図2に示す保持パッド51により上面Waを保持された円形板状ワークWの下面Wbの中央領域に接触させて、円形板状ワークWの回転を摩擦力により阻止する。また、洗浄部材64が円形板状ワークWの下面Wbの外周部に接触した状態で回転することにより、円形板状ワークWの下面Wbの外周部が洗浄される。
洗浄部材64により円形板状ワークWの下面Wbの外周部を洗浄している際には、洗浄水供給手段69が、洗浄水を洗浄水ノズル681Cへ流入させる。この洗浄水は、洗浄水ノズル681Cの内部を通り、噴出口681Fから外側に向かって噴出し、洗浄水ノズル681Cの隣に位置している状態のケース63の内部に向かって放物線を描くように流入していく。
ケース63の内部に到達した洗浄水は、例えば連泡スポンジからなる洗浄部材64によって吸い上げられ、洗浄部材64の全体に広範囲にわたって染み込んでいく。したがって、洗浄部材64の円形板状ワークWの下面Wbとの接触部位である洗浄部材64の上面は、常に多くの洗浄水を含み濡れた状態になるので、洗浄部材64が乾燥した状態でワークWに擦り付けられることがなくなり、洗浄部材64が急速に磨耗してしまうことがなくなる。
1:研削装置
2:チャックテーブル 2a:ターンテーブル
30:第1研削手段 31:第2研削手段 32:研磨手段
40:第1カセット 41:第2カセット
42:ロボット 420:ハンド部 421:アーム部 422:駆動手段
43:仮置きテーブル 44:搬出入領域 45:搬入手段 450:直動軸
451:吸引パッド
5:搬出手段 50:アーム部 51:保持パッド 51a:吸引面
6:洗浄手段 60:回転軸 61:回転手段
62:洗浄部材保持部 620:基部 621:平板部
63:ケース 63a:ケースの底板 63b:ケースの側板 63d:貫通孔
64:洗浄部材 64d:連通孔 64A:帯状の洗浄部材 630:スペーサー
631:固定ネジ
68:回転防止手段 680:回転防止部材 681:固定板 681a:基部
681b:平板部 681c:平板部の先端部分 681d:通水路 681e:噴出口
683:エアシリンダ
W:円形板状ワーク Wa:ワークの上面 Wb:ワークの下面
6A:洗浄手段 68A:回転防止手段 680A:回転防止部材 681A:固定板
681C:洗浄水ノズル 681F:噴出口

Claims (3)

  1. 円形板状ワークを吸引保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された円形板状ワークを研削加工する研削手段と、円形板状ワークの上面を保持し該研削手段によって研削された円形板状ワークを該チャックテーブルから搬出する搬出手段と、円形板状ワークの下面を洗浄する洗浄手段と、を備える研削装置において、
    該洗浄手段は、該搬出手段が保持する円形板状ワークの下面に対して垂直な軸心を備える回転軸と、該回転軸を回転させる回転手段と、該回転軸の回転にともない円形板状ワークの周方向に沿って移動して円形板状ワークを洗浄する洗浄部材と、該洗浄部材を収容するケースと、該洗浄部材を円形板状ワークに当接させ該回転手段によって該洗浄部材を回転させる洗浄動作によって円形板状ワークが回転することを防止するための回転防止手段と、少なくとも該ケースに洗浄水を供給する洗浄水供給手段とを備え、
    該洗浄水供給手段から該ケースに供給された洗浄水を含んだ該洗浄部材が円形板状ワークの下面の外周部を洗浄する研削装置。
  2. 前記ケースは貫通孔を有し、
    前記洗浄水供給手段は該貫通孔と連通し該ケースに洗浄水を供給する請求項1に記載の研削装置。
  3. 前記洗浄部材は、曲面形状の角部を備える請求項1または2に記載の研削装置。
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