JP2017167231A - レプリカ光学素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】型板30の溝面上に溝形状の離型剤膜43を形成する離型剤膜形成工程と、離型剤膜43上に溝形状の金属膜44を形成する金属膜形成工程と、接着用樹脂を介して金属膜44上面とガラス基板11下面とを密着させる接着工程と、ガラス基板11を型板30から取り外すことで、ガラス基板11に接着用樹脂層12及び金属膜44が接着されたレプリカ光学素子10’を作製する反射型光学素子作製工程とを含む製造方法で作製されたレプリカ光学素子10であって、ガラスのd線に対する屈折率をn1とし、接着用樹脂のd線に対する屈折率をn2としたときに、垂直反射率Rが式(1)を満足する。
【選択図】図1
Description
そして、このようなレプリカ反射型回折格子やレプリカ透過型回折格子は、主として分光器(スペクトログラフ)に利用されている。
ここで、レプリカ基板のガラス「BK7(合成石英の一種)」の屈折率n1は1.518(d線)であり、接着用樹脂の屈折率n2は1.56(d線)であり、レプリカ基板と接着用樹脂層との界面で反射して、正規の回折光と同じ方向に反射散乱光が出射して迷光となっている。これらの事実から、d線に対する垂直反射率Rが2×10−4であると、迷光が問題になることがわかった。
R=(n1−n2)2/(n1+n2)2≦1.0×10−5 ・・・ (1)
また、本発明のレプリカ光学素子において、前記ガラス基板下面の面粗さSは、下記式(2)を満足するようにしてもよい。
S≦1.0(nmRms) ・・・ (2)
本発明のレプリカ光学素子によれば、面粗さSが式(2)を満足することにより、さらに反射光と散乱光とが少なくなり、迷光を低減することができる。
本発明のレプリカ光学素子によれば、接着用樹脂には例えば有機成分と無機成分との結合性を向上させるシランカップリング剤を代表とするカップリング剤が混合されているので、レプリカ基板の接着面がスリ面ではなく光沢面であっても高い接着性を確保することができ、金属膜をレプリカ基板にしっかりと貼着することができる。
本発明のレプリカ光学素子によれば、光沢面となっているレプリカ基板の接着面にカップリング剤を塗布し、その上に接着用樹脂を塗布又は盛ることにより、カップリング剤の接着性を高めて金属膜をレプリカ基板にしっかりと貼着することができる。
さらに、本発明のレプリカ光学素子において、前記型板は、マスター回折格子又はネガ回折格子であり、前記レプリカ光学素子は、レプリカ回折格子であるようにしてもよい。
レプリカ透過型回折格子10は、レプリカ基板11と、接着用樹脂層12とを備える。
上記レプリカ基板の上面の面粗さSは、1.0(nmRms)以下であることが好ましく、0.5(nmRms)以下であることがより好ましい。また、上記レプリカ基板の下面には、所定の厚さ(例えば70nm)のMgF2等のARコート(中心波長400nm)が施されていることが好ましい。
また、上記接着用樹脂層の材質としては、例えば、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化樹脂や紫外線硬化樹脂等が挙げられる。
なお、本発明では、レプリカ基板11の材質のd線に対する屈折率をn1とし、接着用樹脂12のd線に対する屈折率をn2としたときに、垂直反射率Rが式(1)を満足することになる。
R=(n1−n2)2/(n1+n2)2≦1.0×10−5 ・・・ (1)
つまり、垂直反射率Rが1.0×10−5以下であり、4×10−7以下であることが特に好ましい。
まず、マスター回折格子20を準備する。図3は、マスター回折格子の一例を示す断面図である。マスター回折格子20は、マスター基板21と、マスター金属薄膜22とを備える。
マスター基板21は、上面(格子面)と下面及び前後左右の側面とからなる6面を有し、マスター基板21の上面には格子溝(例えば溝本数200本/mm、ブレーズ角8.6°の鋸歯形状)が形成されている。
また、上記マスター基板の材質としては、例えば、上記レプリカ基板と同様の、石英ガラス、ゼロデュア等の低膨張性結晶ガラス、BK7、パイレックスガラス、ソーダガラス等が挙げられる。
上記マスター金属薄膜の所定の厚さは、0.1μm以上2μm以下であることが好ましく、上記マスター金属薄膜の材質としては、例えば、アルミニウム、金、白金、クロム、ニクロム、ニッケル等が挙げられる。
マスター回折格子20の格子面上に、所定の厚さとなるように油膜(離型剤膜)41を形成する。
上記油膜の形成方法としては、真空蒸着法等が挙げられ、真空蒸着法を用いる際には、蒸着源に対して一定距離を保ち、格子面に対して均一に成膜が形成されるように、例えば公転回転又は遊星回転(公転回転+自転回転)させておくことが好ましい。また、上記油膜の所定の厚さは、4nm以上10nm以下であることが好ましく、上記油膜の材質としては、例えば、シリコーンオイル等が挙げられる。
油膜41上に、所定の厚さとなるようにネガ金属薄膜42を形成する。すなわち、ネガ金属薄膜42は格子溝形状となる。
上記ネガ金属薄膜の形成方法としては、上記した真空蒸着法等が挙げられる。また、上記ネガ金属薄膜の所定の厚さは、0.1μm以上2μm以下であることが好ましく、上記ネガ金属薄膜の材質としては、例えば、アルミニウム、金、白金、クロム、ニクロム、ニッケル等が挙げられる。
平板形状の青板31を用意し、青板31の下面に接着用樹脂を塗布して接着用樹脂層32’を形成する(図2(c)参照)。次に、接着用樹脂層32’を介してネガ金属薄膜42に青板31を適度な圧力で押し付ける(図2(d)参照)。このとき、接着用樹脂層32’がネガ金属薄膜42の断面鋸歯形状の格子溝を埋めるように広がることにより、下面に格子溝形状を有した接着用樹脂層32となる。次に、ベーク炉に収容し、60℃、約24時間の条件で熱を加えたり、接着用樹脂層32に紫外線を照射したりすることで硬化させる。
上記青板の下面の面粗さSは、スリ面であることが好ましく、また、上記接着用樹脂層の材質としては、例えば、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化樹脂や紫外線硬化樹脂等が挙げられる。
青板31をマスター回折格子20から上方側に取り外すと、油膜(離型剤膜)41を境にして、ネガ金属薄膜42と接着用樹脂層32とが青板31とともに取り外される。なお、ネガ金属薄膜42の下面に残った油膜41はフッ素系溶剤(AK−255:旭硝子株式会社製)等で洗浄して除去する。
その結果、青板31に接着用樹脂層32とネガ金属薄膜42とが接着されたネガ回折格子30が作製される。
ネガ回折格子30の格子面上に、所定の厚さとなるように油膜(離型剤膜)43を形成する。
上記油膜の形成方法としては、先に述べた真空蒸着法等が挙げられる。また、上記油膜の所定の厚さは、4nm以上10nm以下であることが好ましく、上記油膜の材質としては、例えば、シリコーンオイル等が挙げられる。
油膜43上に、所定の厚さとなるようにレプリカ金属薄膜44を形成する。すなわち、レプリカ金属薄膜44は格子溝形状となる。
上記レプリカ金属薄膜の形成方法としては、先に述べた真空蒸着法等が挙げられる。また、上記レプリカ金属薄膜の所定の厚さは、0.1μm以上2μm以下であることが好ましく、上記レプリカ金属薄膜の材質としては、例えば、アルミニウム、金、白金、クロム、ニクロム、ニッケル等が挙げられる。
レプリカ基板11を用意し、レプリカ基板11の上面を所定の面粗さSに研磨し、フッ素系溶剤等で洗浄した後に、レプリカ基板11の上面に接着用樹脂を塗布して接着用樹脂層12’を形成する(図2(h)参照)。
上記レプリカ基板の上面の研磨方法としては、両面ラップ研磨加工等が挙げられる。
上記カップリング剤は、有機質材料と無機質材料とのバインダとして作用するものであり、例えばシランカップリング剤等が挙げられ、このシランカップリング剤の具体例としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(「KBM−403」、信越化学工業株式会社製)等が有用である。
レプリカ基板11をネガ回折格子30から下方側に取り外すと、油膜(離型剤膜)44を境にして、レプリカ金属薄膜44と接着用樹脂層12とがレプリカ基板11とともに取り外される。なお、レプリカ金属薄膜44の上面に残った油膜43はフッ素系溶剤等で洗浄して除去する。
その結果、レプリカ基板11に接着用樹脂層12とレプリカ金属薄膜44とが接着されたレプリカ反射型回折格子10’が作製される。
レプリカ反射型回折格子10’を水酸化ナトリウム(苛性ソーダ)溶液に浸漬して、レプリカ金属薄膜44を溶解させた後に苛性ソーダ溶液から取り出して純水で洗浄し、スピンナ等を用いて乾燥させる。これにより、レプリカ基板11と格子面を有する接着用樹脂層12とからなるレプリカ透過型回折格子10(図1参照)を作製することができる。
なお、本発明は、例えば非球面光学レプリカ素子や球面光学レプリカ素子や平面光学レプリカ素子等にも適用することができる。
上述したような製造方法で、面粗さSが1nmRms、材質の屈折率n1が1.562(d線)となる厚さ11mm、前後60mm、左右60mmの平板形状のレプリカ基板「N−SK11(SCHOTT社製)」を用いるとともに、接着用樹脂の屈折率n2が1.56(d線)となる接着用樹脂を用いて、溝本数200本/mm、ブレーズ角8.6°の鋸歯形状の格子面を有する実施例1に係るレプリカ透過型回折格子を作製した。なお、垂直反射率Rは4×10−7となっている。
面粗さSが1nmRmsのレプリカ基板の代わりに、面粗さSが14μmRmsとなるレプリカ基板を用いたこと以外は実施例1と同様にして、実施例2に係るレプリカ透過型回折格子を作製した。なお、垂直反射率Rは4×10−7となっている。
面粗さSが1nmRms、材質の屈折率n1が1.562(d線)となるレプリカ基板の代わりに、面粗さSが14μmRms、材質の屈折率n1が1.518(d線)となるレプリカ基板「BK7」を用いたこと以外は実施例1と同様にして、比較例1に係るレプリカ透過型回折格子を作製した。なお、垂直反射率Rは2×10−4となっている。
実施例1、2及び比較例1に係るレプリカ透過型回折格子の下面に光を照射し、上面から出射された回折光を検出した。図4は、回折光の波長と光強度との関係を示すグラフである。
図4に示すように、比較例1に係るレプリカ透過型回折格子による回折光は、迷光が多くブロードとなっているが、実施例1、2に係るレプリカ透過型回折格子による回折光は、迷光がほとんどなくシャープな形状を示している。すなわち、実施例1、2に係るレプリカ透過型回折格子は、比較例1に係るレプリカ透過型回折格子と比べて1/10程度に迷光が抑えられた。
実施例1、2及び比較例1に係るレプリカ透過型回折格子の下面に光を照射し、上面から出射された回折光を検出した。図5は、絶対回折効率を示すグラフである。
図5に示すように、比較例1に係るレプリカ透過型回折格子、実施例2に係るレプリカ透過型回折格子、実施例1に係るレプリカ透過型回折格子の順に、絶対回折効率が大きくなった。すなわち、実施例1、2に係るレプリカ透過型回折格子は、比較例1に係るレプリカ透過型回折格子と比べて絶対回折効率が10%程度向上した。
10’ レプリカ反射型回折格子
11 レプリカ基板(ガラス基板)
12 接着用樹脂層
20 マスター回折格子
30 ネガ回折格子(型板)
41 油膜(離型剤膜)
43 油膜(離型剤膜)
44 レプリカ金属薄膜(金属膜)
Claims (6)
- 型板の溝面上に溝形状の離型剤膜を形成する離型剤膜形成工程と、
前記離型剤膜上に溝形状の金属膜を形成する金属膜形成工程と、
接着用樹脂を介して前記金属膜上面とガラス基板下面とを密着させる接着工程と、
前記ガラス基板を前記型板から取り外すことで、前記ガラス基板に接着用樹脂層及び前記金属膜が接着されたレプリカ光学素子を作製する反射型光学素子作製工程とを含む製造方法で作製されたレプリカ光学素子であって、
前記ガラスのd線に対する屈折率をn1とし、前記接着用樹脂のd線に対する屈折率をn2としたときに、垂直反射率Rが下記式(1)を満足することを特徴とするレプリカ光学素子。
R=(n1−n2)2/(n1+n2)2≦1.0×10−5 ・・・ (1) - 前記ガラス基板下面の面粗さSは、下記式(2)を満足することを特徴とする請求項1に記載のレプリカ光学素子。
S≦1.0(nmRms) ・・・ (2) - 前記接着用樹脂は、カップリング剤を含有したものであることを特徴とする請求項2に記載のレプリカ光学素子。
- 前記接着工程において、前記接着用樹脂を介して前記金属膜上面とガラス基板下面とを密着させる前に、前記ガラス基板下面にカップリング剤が塗布されたものであることを特徴とする請求項2に記載のレプリカ光学素子。
- 前記レプリカ反射型光学素子から前記金属膜が除去されることで、溝面を有する前記接着用樹脂層と前記ガラス基板とからなるレプリカ透過型光学素子とすることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のレプリカ光学素子。
- 前記型板は、マスター回折格子又はネガ回折格子であり、
前記レプリカ光学素子は、レプリカ回折格子であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載のレプリカ光学素子。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020026303A1 (ja) * | 2018-07-30 | 2020-02-06 | 株式会社島津製作所 | 回折格子 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001072442A (ja) * | 1999-07-07 | 2001-03-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 凹凸表面を有する物品の製造方法およびそれによって製造される物品 |
US20040183220A1 (en) * | 2003-03-18 | 2004-09-23 | Avinash Dalmia | Ultra thin layer coating using self-assembled molecules as a separating layer for diffraction grating application |
JP2006098428A (ja) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Shimadzu Corp | レプリカ回折格子 |
WO2007119681A1 (ja) * | 2006-04-13 | 2007-10-25 | Panasonic Corporation | 回折光学素子及びその製造方法 |
WO2013099875A1 (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-04 | 旭化成株式会社 | 光学用基材および発光デバイス |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001072442A (ja) * | 1999-07-07 | 2001-03-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 凹凸表面を有する物品の製造方法およびそれによって製造される物品 |
US20040183220A1 (en) * | 2003-03-18 | 2004-09-23 | Avinash Dalmia | Ultra thin layer coating using self-assembled molecules as a separating layer for diffraction grating application |
JP2006098428A (ja) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Shimadzu Corp | レプリカ回折格子 |
WO2007119681A1 (ja) * | 2006-04-13 | 2007-10-25 | Panasonic Corporation | 回折光学素子及びその製造方法 |
WO2013099875A1 (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-04 | 旭化成株式会社 | 光学用基材および発光デバイス |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020026303A1 (ja) * | 2018-07-30 | 2020-02-06 | 株式会社島津製作所 | 回折格子 |
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