JP2017096863A - 構造物の亀裂発生検出システム及びそれに用いるひずみセンサ - Google Patents
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Abstract
【課題】ひずみセンサアレイシートの接着の出来による影響を殆ど受けることなく正確に構造物の亀裂、劣化を検出する。
【解決手段】扁平な直方体形状の鋼材201の表面に、扁平な直方体形状の鋼材202の側端部が溶接によって接合された構造物において、ひずみセンサアレイシート101が鋼材201の表面の中央部付近で、かつ、鋼材202の一方の側の領域に接着剤で貼り付けられている。ひずみセンサアレイシート101は、複数のひずみセンサがアレイ状に配置された構成で、複数のひずみセンサのそれぞれから互いに独立して出力されるひずみ検出値の相対値に基づいて、図示しない測定装置によって第1の鋼材の亀裂進行方向211や亀裂発生位置を特定する。これにより、鋼材201とひずみセンサアレイシート101との接着に不具合があってもその悪影響を殆ど受けにくくできる。
【選択図】図3
【解決手段】扁平な直方体形状の鋼材201の表面に、扁平な直方体形状の鋼材202の側端部が溶接によって接合された構造物において、ひずみセンサアレイシート101が鋼材201の表面の中央部付近で、かつ、鋼材202の一方の側の領域に接着剤で貼り付けられている。ひずみセンサアレイシート101は、複数のひずみセンサがアレイ状に配置された構成で、複数のひずみセンサのそれぞれから互いに独立して出力されるひずみ検出値の相対値に基づいて、図示しない測定装置によって第1の鋼材の亀裂進行方向211や亀裂発生位置を特定する。これにより、鋼材201とひずみセンサアレイシート101との接着に不具合があってもその悪影響を殆ど受けにくくできる。
【選択図】図3
Description
本発明は構造物の亀裂発生検出システム及びそれに用いるひずみセンサに係り、特に鋼構造物、コンクリート構造物、橋梁などの構造物に発生した亀裂を検出する亀裂発生検出システム及びそれに用いるひずみセンサに関する。
鋼構造物、コンクリート構造物、橋梁などの構造物における劣化や亀裂の発生を検出するには、ひずみ分布を測定することが有効である。ひずみ分布を測定する方法としては、ひずみセンサを用いる方法(例えば、特許文献1、2参照)、光ファイバセンサを用いる方法(例えば、特許文献3、4参照)、画像解析を用いる方法(例えば、特許文献5参照)などが知られている。
すなわち、特許文献1には、橋梁の亀裂にひずみセンサを設置し、そのひずみセンサの測定値に基づいて亀裂の進展速度を推定し、進展速度が基準値よりも大きい亀裂を特定して、特定した亀裂に今度は亀裂進展センサを設置し、その測定値が基準値よりも大きい亀裂を補修の候補に決定する亀裂監視方法が開示されている。また、特許文献2には、無線機能付きチップを有するひずみゲージを橋梁等の構造物に複数個所備え付け、複数個所のひずみゲージからの構造体変形情報に基づいて、構造物のひずみ分布を測定して安全性確認や強度低下予測をする方法が開示されている。
しかしながら、特許文献1及び2記載のひずみセンサを用いる方法のうち、特許文献1記載の方法では構造物の亀裂発生箇所にひずみセンサを設置するものであり、亀裂の発生を検出するものではなく、また、ひずみセンサの測定値に基づいて進展速度が大きな亀裂に今度は亀裂進展センサを設置するもので、作業が面倒で監視が非効率で、更に施工にコストがかかるという問題もある。また、特許文献2記載の方法もひずみゲージを構造物の複数個所に備え付けるため、やはり施工にコストがかかるという問題がある。
また、光ファイバセンサによる検知に基づいて構造物のひずみを計測する特許文献3記載の方法や、橋梁の桁の全長にわたって敷設した光ファイバ中に発生させたブリルアン散乱光を基にして光ファイバに生ずる長さ方向のひずみをパルス試験器で計測して橋梁のひずみ分布を計測する特許文献4記載の方法では、光ファイバは極めて高価なため設置可能な構造物が限定されるという問題がある。また、構造物に生じた温度分布変動を赤外線カメラにより計測した熱画像と、赤外線カメラと計測視野を一致させた可視カメラにより撮影した可視画像とから構造物の応力変動を把握する特許文献5に記載の画像解析を用いる方法では、常時監視には不向きであるという問題がある。そこで、このような問題を解決するために、複数のひずみセンサをフレキシブルシート上に並べて配置した、ひずみセンサアレイシートデバイスが報告されている(例えば、非特許文献1参照)。
Yao Yao and Branko Glisic,"Detection of Steel Fatigue Cracks with Strain Sensing Sheets Based on Large Area Electronics",Sensors vol.15.8088-8108,2015
しかしながら、非特許文献1のひずみセンサアレイシートデバイスを構造物に貼り付けてシート上に配置された複数のひずみセンサの出力に基づいて当該構造物の亀裂の発生を検出する場合は、ひずみセンサアレイシートデバイスの構造物に対する接着の出来によってひずみ感度がシートごとに異なるという問題(課題1)がある。
また、ひずみセンサとして、ピエゾ抵抗方式にした場合は、温度依存性を低減するための補償回路用のピエゾ抵抗をセンサ内のひずみが小さい箇所に配置しなければならないという問題(課題2)がある。
本発明は以上の点に鑑みなされたもので、ひずみセンサアレイシートの接着の出来による影響を殆ど受けることなく正確に構造物の亀裂、劣化を検出できる構造物の亀裂発生検出システム及びそれに用いるひずみセンサを提供することを目的とする。
また、本発明の他の目的は、ひずみセンサとしてピエゾ抵抗素子を用いた場合に、温度依存性を補償するためのピエゾ抵抗の配置位置を適切に配置して精度良く温度依存性を低減できる構造物の亀裂発生検出システム及びそれに用いるひずみセンサを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、ひずみセンサとしてピエゾ抵抗素子を用いた場合に、温度依存性を補償するためのピエゾ抵抗の配置位置を適切に配置して精度良く温度依存性を低減できる構造物の亀裂発生検出システム及びそれに用いるひずみセンサを提供することにある。
上記の目的を達成するため、第1の発明の構造物の亀裂発生検出システムは、シート部材に複数のひずみセンサがアレイ状に配置されたひずみセンサアレイシートと、前記ひずみセンサアレイシートが貼り付けられた構造物のひずみに応じて、前記複数のひずみセンサからそれぞれ互いに独立して出力されるひずみ検出値を測定し、前記複数のひずみセンサのうち時間の経過とともに初期値に対して所定値または所定割合以上に変化したひずみ検出値を出力するひずみセンサの位置に基づいて前記構造物の亀裂発生位置を検出する測定装置とを備えることを特徴とする。
また、上記の目的を達成するため、第2の発明の構造物の亀裂発生検出システムは、第1の発明における測定装置が、前記複数のひずみセンサからそれぞれ互いに独立して出力される前記ひずみ検出値の絶対値を測定し、前記複数のひずみセンサのうち測定した前記絶対値が時間の経過に従い前記所定値または前記所定割合以上に変化したひずみセンサの位置に基づいて前記構造物の亀裂発生位置を検出することを特徴とする。
また、上記の目的を達成するため、第3の発明の構造物の亀裂発生検出システムは、第1の発明における測定装置が、前記複数のひずみセンサからそれぞれ互いに独立して出力される前記ひずみ検出値の相対値を算出し、前記複数のひずみセンサのうち算出した前記相対値が時間の経過に従い前記所定値または前記所定割合以上に変化したひずみセンサの位置に基づいて前記構造物の亀裂発生位置を検出することを特徴とする。
また、上記の目的を達成するため、第4の発明の構造物の亀裂発生検出システムに用いるひずみセンサは、シート部材上にアレイ状に配置された複数のひずみセンサのそれぞれが、扁平な直方体状の基板の上の4辺の側縁部のうち、長手方向の相対向する2つの側縁部の中央の一部領域で、かつ、ひずみ測定対象箇所にそれぞれ配置された第1及び第2のピエゾ抵抗素子と、前記4辺の側縁部のうち、短手方向の相対向する2つの側縁部の中央の一部領域で、かつ、ひずみ発生が微小である箇所にそれぞれ配置された第3及び第4のピエゾ抵抗素子とを有すると共に、前記第1乃至第4のピエゾ抵抗素子の各抵抗はホイートストンブリッジ回路を構成しており、前記第1及び第2のピエゾ抵抗素子の各抵抗は前記ホイートストンブリッジ回路の4辺のうち対向する2辺の位置に配置され、前記第3及び第4のピエゾ抵抗素子の各抵抗は前記ホイートストンブリッジ回路の4辺のうち残りの対向する2辺の位置に配置された構成であることを特徴とする。
また、上記の目的を達成するため、第5の発明の構造物の亀裂発生検出システムに用いるひずみセンサは、シート部材上にアレイ状に配置された複数のひずみセンサのそれぞれが、所定の機能を実現するための機能性素子、前記機能性素子の入力信号または出力信号用電極、及び前記電極用の電極パッドが積層された積層構造体と、前記積層構造体が配線領域を除く所定領域に設けられた回路基板とよりなり、前記回路基板を前記複数のひずみセンサに共通の前記シート部材として、前記シート部材が貼り付けられた構造物のひずみに応じて前記機能性素子により検出されたひずみ検出値を、前記電極パッドを通して出力することを特徴とする。
本発明によれば、それぞれ互いに独立してひずみ検出値を出力する複数のひずみセンサのシート部材上の配置位置がアレイ状でかつ既知であるので、所定値または所定割合以上に変化したひずみ検出値を出力するひずみセンサの位置に基づいて前記構造物の亀裂発生位置を確実に検出することができる。
また、本発明によれば、個々のひずみセンサのひずみ検出値が、センサアレイシートの構造物との接着状態の不具合によって悪影響を受けたとしても、各ひずみ検出値の相対値を測定し、その相対値が所定値または所定割合以上に変化したひずみセンサの位置を検出することで、亀裂が発生しそうなあるいは発生した箇所を正確に特定することができる。
また、本発明によれば、2つのひずみ測定用ピエゾ抵抗素子の各抵抗と、2つの補償回路用ピエゾ抵抗素子の各抵抗とによりホイートストンブリッジ回路を構成すると共に、2つの補償回路用ピエゾ抵抗素子はひずみの発生が微小な基板位置に配設したため、ホイートストンブリッジ回路により精度良くピエゾ抵抗素子の温度依存性を低減してひずみの発生を正確に検出することができる。
次に、本発明の実施形態について説明する。
図1は、本発明に係る構造物の亀裂発生検出システムの一実施形態の概略構成図を示す。同図において、本実施形態の亀裂発生検出システム100は、被検出対象の構造物200に貼り付けられたひずみセンサアレイシート101と、ひずみセンサアレイシート101の複数のひずみセンサから出力される各検出信号の値を測定し、それらの測定値の絶対値、あるいは相対値の分布を求め、更にその分布の変化から構造物200の亀裂発生の検出出力を得る測定装置102とから大略構成されている。構造物200には橋梁などのコンクリート構造物、鋼構造物などがある。
図1は、本発明に係る構造物の亀裂発生検出システムの一実施形態の概略構成図を示す。同図において、本実施形態の亀裂発生検出システム100は、被検出対象の構造物200に貼り付けられたひずみセンサアレイシート101と、ひずみセンサアレイシート101の複数のひずみセンサから出力される各検出信号の値を測定し、それらの測定値の絶対値、あるいは相対値の分布を求め、更にその分布の変化から構造物200の亀裂発生の検出出力を得る測定装置102とから大略構成されている。構造物200には橋梁などのコンクリート構造物、鋼構造物などがある。
図2は、ひずみセンサアレイシート101の一例の平面図を示す。同図において、ひずみセンサアレイシート101は、例えばフレキシブル基板からなるシート部材110の表面に、同一構成の16個のひずみセンサ1〜16が4行4列のアレイ状に配置された構成である。ひずみセンサ1〜16は、一例として平面形状が長方形の極薄センサで、その短手方向に隣接する2つのひずみセンサ間の間隔は例えば10mmである。
ひずみセンサ1〜16は、その配置位置で発生したひずみに対して圧電効果やピエゾ抵抗効果などに基づく電気的出力を互いに独立して発生する機能を有し、電気的出力を測定装置102にそれぞれ供給する。電気的出力の値は、発生したひずみの大きさに応じて変化する。したがって、図2に破線の矢印150で示す方向に構造物の亀裂が進展した場合は、進展する亀裂上に配置されているひずみセンサ12の電気出力値が最も大きく、亀裂上に配置されていないひずみセンサ1〜4、6〜8、9、10、13〜16の各電気出力値は所定の最小値である。なお、ひずみセンサ1〜16の具体的な各例の構成は後述する。
図3は、本発明に係る構造物の亀裂発生検出システムの動作説明のための応力分布シミュレーションの適用例を示す。同図中、図1と同一構成部分には同一符号を付してある。図3において、構造物は例えば長さが300mm、幅が140mmである扁平な直方体形状の第1の鋼材201の表面の上半分の領域の長手方向中心位置に、長さが第1の鋼材201の半分程度の扁平な直方体形状の第2の鋼材202の側端部が溶接によって接合された構造である。また、第1の鋼材201の表面の中央部付近で、かつ、第2の鋼材202の一方の側の領域に、ひずみセンサアレイシート101が接着剤で貼り付けられている。ひずみセンサアレイシート101のひずみセンサ1〜16の各ひずみ検出値は、それぞれ図示しない測定装置へ出力され、後述する所定の処理により第1の鋼材201の亀裂進展方向や亀裂発生位置が検出される。
ここで、接着剤が硬化した状態のひずみセンサアレイシート101の各ひずみセンサ1〜16で検出されたひずみ値が図4の平面図に示すように、それぞれ10×10-6であったものとする。続いて、上記の第1の鋼材201及び第2の鋼材202からなる接合構造の接合側端部201a及び202aを固定した状態で、第1の鋼材201の接合側端部201aと反対側の先端部201bを矢印300で示す下方向へ時間の経過と共に徐々に大なる値となる荷重を印加したものとする。この荷重の印加により図3に示す第2の鋼材202の先端の第1の鋼材201との接合部分210に応力が集中し、また破線の矢印211で示す方向に亀裂が進展したものとする。また、亀裂進展方向211の真上にひずみセンサ12が位置するものとする。
図5は、上記印加荷重に対するひずみセンサ12のひずみ値の変化の一例を示す。同図に示すように、第1及び第2の鋼材201及び202からなる接合構造に対する印加荷重が、65N程度までは印加荷重に比例してひずみセンサ12の検出ひずみ値が増大していき、70×10-6までに達する。そして、印加荷重が65Nを越えた時に上記接合構造に亀裂が発生したものとすると、この時ひずみセンサ12の検出ひずみ値は図5に示すように650×10-6まで急峻に増大する。
図6及び図7は上記の亀裂発生前後のひずみセンサアレイシート101における各ひずみセンサの検出ひずみ値を示す。図6及び図7に示すように、亀裂進展方向211に対してある距離以上離れた位置にあるひずみセンサ1〜4、7〜9、13〜16の各検出ひずみ値は図4に示した接着剤硬化時の初期値と同じ10×10-6で変化はない。これに対し、亀裂進展方向211に近接した位置にあるひずみセンサ5、6、10及び11の検出ひずみ値は初期値より大なる値を示す。また、亀裂進展方向211の真上に位置するひずみセンサ12の検出ひずみ値は、図6に示す亀裂通過前は70×10-6で、ひずみセンサ5、6、10及び11の検出ひずみ値より大なる値を示し、亀裂通過後は図7に示すように初期値の数十倍程度の650×10-6と極めて大なる値に急峻に変化する。なお、図6及び図7に示すように、ひずみセンサ5、6、10及び11のうち、亀裂進展方向に近い方のひずみセンサ5及び11のひずみ検出値は60×10-6で、遠い方のひずみセンサ6及び10のひずみ検出値30×10-6よりも大であるが、これらのひずみ検出値は亀裂発生前後で変化はない。
したがって、亀裂の発生を検出するには、ひずみセンサ1〜16のうち、ひずみ検出値が初期値の数倍程度、あるいは数十倍程度にまで増大したひずみセンサを見出せばよいことになる。もし、ひずみセンサがアレイ化されておらず、ひずみセンサ1〜4、13〜16しか存在していない場合は、上記の亀裂進展方向211に進展する亀裂は検出できないことになる。したがって、本実施形態のようにひずみセンサをアレイ化することは、亀裂の発生を確実に検知するのに有効である。
ここで、ひずみセンサアレイシート101の第1の鋼材201への接着の仕方が悪かったり、あるいは経年変化により接着剤が劣化してくると、ひずみセンサ1〜16へのひずみの伝達が不十分になり、図8に示すように、亀裂進展方向212に沿った位置にあるひずみセンサ5、6、10、11、12の各検出ひずみ値は他のひずみセンサ1〜4、7〜9、13〜16の各検出ひずみ値よりも大となったとしても、亀裂通過位置にあるひずみセンサ12の検出ひずみ値以外はいずれも本来の初期値程度あるいはそれ以下となることが懸念される。このような状況ではひずみ検出値の絶対値からは、亀裂の発生が必ずしも検知できない危険性がある。
そこで、本実施形態では測定装置102がひずみセンサ1〜16の各検出ひずみ値の相対値を算出し、その相対値が最低値の数倍になったひずみセンサの付近を亀裂が通過し、その相対値が最低値の数十倍になったひずみセンサの真下を亀裂が通過したと判定する。ここで、「相対値」は、例えば各ひずみセンサの検出ひずみ値の絶対値と初期値との比、あるいは上記絶対値と全ひずみセンサの検出ひずみ値の平均値との比である。また、例えば全ひずみセンサの相対値の最低値を「1」に正規化した値であってもよい。ただし、相対値の算出方法はこれらに限定されるものではない。
図9は、ひずみセンサ1〜16の各検出ひずみ値の相対値の一例の平面図を示す。図9に示すように、ひずみセンサアレイシート101に対して亀裂進展方向213に亀裂が進行した場合、検出ひずみ値の相対値が「6」であるひずみセンサ5及び11、検出ひずみ値の相対値が「3」であるひずみセンサ6及び10は、相対値の最低値「1」より若干大であるのでそのセンサの付近を亀裂が進行したと判定する。これに対し、ひずみセンサ12の検出ひずみ値の相対値は「65」であり、相対値が最低値「1」の数十倍になっており、よってひずみセンサ12の真下を亀裂が通過したと判定する。このようにして、本実施形態によれば、ひずみセンサアレイシート101の第1の鋼材201への接着の状態によらず、亀裂の発生方向及び発生位置を正確に検知することができる。
次に、本発明に係る構造物の亀裂発生検出システムに用いるひずみセンサの実施形態について説明する。
図10は、ひずみセンサの一実施形態の平面図を示す。同図に示す本実施形態のひずみセンサ400は、ひずみセンサ1〜16のうち任意の一つのひずみセンサを構成している。図10において、扁平な直方体形状の極薄のシリコン基板410の表面の4辺の側縁部のうち、長手方向の相対向する2つの側縁部の中央の一部領域にそれぞれピエゾ抵抗素子401及び403が配置され、また短手方向の相対向する2つの側縁部の中央の一部領域にそれぞれピエゾ抵抗素子402及び404が配置されている。また、ピエゾ抵抗素子401と404との間は端子411aを介して配線412で接続され、ピエゾ抵抗素子401と402との間は端子411bを介して配線413で接続されている。また、ピエゾ抵抗素子403と402との間は端子411cを介して配線414で接続され、ピエゾ抵抗素子403と404との間は端子411dを介して配線415で接続されている。配線412〜415は側縁部に沿って形成されている。ピエゾ抵抗素子401〜404は、周知のように、加えられた応力によって、その抵抗率(電気導電率)が変化する素子である。
図10は、ひずみセンサの一実施形態の平面図を示す。同図に示す本実施形態のひずみセンサ400は、ひずみセンサ1〜16のうち任意の一つのひずみセンサを構成している。図10において、扁平な直方体形状の極薄のシリコン基板410の表面の4辺の側縁部のうち、長手方向の相対向する2つの側縁部の中央の一部領域にそれぞれピエゾ抵抗素子401及び403が配置され、また短手方向の相対向する2つの側縁部の中央の一部領域にそれぞれピエゾ抵抗素子402及び404が配置されている。また、ピエゾ抵抗素子401と404との間は端子411aを介して配線412で接続され、ピエゾ抵抗素子401と402との間は端子411bを介して配線413で接続されている。また、ピエゾ抵抗素子403と402との間は端子411cを介して配線414で接続され、ピエゾ抵抗素子403と404との間は端子411dを介して配線415で接続されている。配線412〜415は側縁部に沿って形成されている。ピエゾ抵抗素子401〜404は、周知のように、加えられた応力によって、その抵抗率(電気導電率)が変化する素子である。
ここで、実際のひずみセンサ400においては、4つのピエゾ抵抗素子401、402、403及び404により後述のホイートストンブリッジ回路を構成してひずみ検出する場合、2つのピエゾ抵抗素子をひずみ測定対象箇所に配置し、残りの2つのピエゾ抵抗素子をひずみ発生が微小である箇所に配置する必要がある。構造物に接着剤によってピエゾ抵抗方式のひずみセンサ400を貼り付けた場合の、4つのピエゾ抵抗素子401〜404の配置位置を決定するため、非特許文献(J.Sirohi and I.Chopra,“Fundamental Understanding of Piezoelectric Strain Sensors”,Journal of Intelligent Material Systems and Structures,Vol.11,p.246-257,April,2000)に記載の理論計算により、ひずみセンサ上のひずみ分布を調べた。
図11(A)は、同図(B)の平面図に示す極薄のひずみセンサ400の各位置におけるひずみ伝達感度(前記理論計算に基づくひずみ分布)を示す。図11(A)において、実線Iは長さ5mm、厚さ5μmのひずみセンサのひずみ伝達感度、点線IIは長さ5mm、厚さ0.3μmのひずみセンサのひずみ伝達感度を示し、いずれも長手方向(長さ方向)の中央部の感度が最大で、端部の感度がほぼゼロであることが分かる。そこで、本実施形態の図10及び図11(B)に示すひずみセンサ400においては、シリコン基板410の長手方向の中央部のピエゾ抵抗素子401及び403をひずみ測定対象箇所に配置し、端部のピエゾ抵抗素子402及び404をひずみ発生が微小な箇所に配置する。ピエゾ抵抗素子402及び404は、ひずみ検出用のピエゾ抵抗素子401及び403の温度依存性を低減する補償回路用のピエゾ抵抗素子である。
上記の4つのピエゾ抵抗素子401〜404は、同一構成で図12に示すようなホイートストンブリッジ回路(以下、ブリッジ回路)を構成している。図12において、Rg1、Rg2、Rg3、Rg4は、それぞれピエゾ抵抗素子401、402、403、404の抵抗を示し、それぞれ初期状態では同一抵抗値である。また、図12に示すブリッジ回路の端子a、b、c、dは、図10に示したひずみセンサ400の端子411a、411b、411c、411dに相当する。ブリッジ回路の抵抗Rg1及びRg4の接続端子aと抵抗Rg2及びRg3の接続端子cとの間に電圧Eを印加した場合に、抵抗Rg1及びRg2の接続端子bと抵抗Rg3及びRg4の接続端子dとの間に出力されるブリッジ電圧e0は、ひずみε、ピエゾ抵抗のゲージ率Ksを用いて次式
e0=E*Ks*ε/2
で表される。
e0=E*Ks*ε/2
で表される。
ここで、ひずみεが発生すると、ひずみ測定対象箇所に配置されたピエゾ抵抗素子401及び403の各抵抗Rg1及びRg3の値が初期値から変化するが、ピエゾ抵抗素子402及び404はひずみ発生が微小な箇所に配置されているので、抵抗Rg2及びRg4の値は初期値と殆ど変化しない。これにより、ひずみεの大きさに応じてブリッジ電圧e0が変化する。ゲージ率Ksは材料固有の値であり、ピエゾ抵抗素子の場合は50程度である。
したがって、上式のうち入力電圧E及びゲージ率Ksは既知であるので、ひずみ測定対象箇所に配置されたピエゾ抵抗素子401(抵抗Rg1)及び403(抵抗Rg3)の各一方の端子411a、411c間に電圧Eを印加したときに、ピエゾ抵抗素子401(抵抗Rg1)及び403(抵抗Rg3)の各他方の端子411b、411dの間に出力されるブリッジ電圧e0を測定することにより、上式に基づいてひずみεを測定することができる。また、ひずみ発生が微小な箇所に配置されたピエゾ抵抗素子402及び404を補償回路として用いてブリッジ回路を構成しているため、それらによりピエゾ抵抗素子401及び403の温度依存性が相殺される。
次に、本発明に係る構造物の亀裂発生検出システムに用いるひずみセンサの他の実施形態について説明する。
図13は、ひずみセンサの他の実施形態の断面図を示す。同図において、ひずみセンサ500を製造するため、まずSOI(Silicon On Insulator)基板のシリコン膜の上の表面シリコン層501の上に下部電極502、圧電薄膜503、上部電極504がこの順で積層されるとともに、下部電極502の所定位置と上部電極504の所定位置に電極パッド505、506が形成された積層構造体510が形成される。続いて、転写工程により、積層構造体510がSOI基板のシリコン膜から剥離されて、フレキシブル回路基板511の表面の配線512及び513が形成されていないスペースに接着層514により接着される。接着層514は例えばエポキシ樹脂をスクリーン印刷したものである。なお、一例として、フレキシブル回路基板511は50μmの厚さであり、接着層514は30μmの厚さであり、配線512及び513は18μmの厚さである。したがって、上記の構造全体は積層構造体510が極薄であるので、全体構造も極薄である。
図13は、ひずみセンサの他の実施形態の断面図を示す。同図において、ひずみセンサ500を製造するため、まずSOI(Silicon On Insulator)基板のシリコン膜の上の表面シリコン層501の上に下部電極502、圧電薄膜503、上部電極504がこの順で積層されるとともに、下部電極502の所定位置と上部電極504の所定位置に電極パッド505、506が形成された積層構造体510が形成される。続いて、転写工程により、積層構造体510がSOI基板のシリコン膜から剥離されて、フレキシブル回路基板511の表面の配線512及び513が形成されていないスペースに接着層514により接着される。接着層514は例えばエポキシ樹脂をスクリーン印刷したものである。なお、一例として、フレキシブル回路基板511は50μmの厚さであり、接着層514は30μmの厚さであり、配線512及び513は18μmの厚さである。したがって、上記の構造全体は積層構造体510が極薄であるので、全体構造も極薄である。
その後、図13に示すように、上部電極504に接続された電極パッド506の上面の一部、上部電極504の端部、圧電薄膜503の端部、下部電極502の端部、表面シリコン層501の端部、接着層514の端部及びフレキシブル回路基板511の表面の一部をそれぞれ覆うように、絶縁ペースト601が印刷・塗布されて電極パッド506の側面を保護する。続いて、電極パッド506の上面から絶縁ペースト601の表面を経由して配線512の一部に至るまでの範囲を被覆するように導電性ペースト602を印刷・塗布すると共に、下部電極502に接続された電極バッド505の端部から配線513までの範囲を被覆するように導電性ペースト603を印刷・塗布する。これにより、上部電極504と下部電極502とのショートを発生させることなく、上部電極504と配線512とを電気的に接続できると共に、下部電極502と配線513とを電気的に接続できる。このようにしてひずみセンサ500が製造される。ひずみセンサ500は、ひずみセンサ1〜16のうち任意の一つのひずみセンサを構成している。
ひずみセンサ500は、全体形状が扁平な直方体形状であり、長手方向上の両端の一方に電極パッド505側、他方に電極パッド506側がそれぞれ位置している。そして、ひずみセンサ500に印加される、ひずみ発生に基づく応力がフレキシブル回路基板511を通して圧電薄膜503に伝搬し、その圧電薄膜503の圧電効果により印加応力に応じた電圧が発生し、電極パッド505及び506間の出力電圧の値が変化する。これにより、ひずみセンサ500によりひずみ検出電圧が得られる。
なお、表面に複数個のひずみセンサ500がアレイ状に形成されたひずみセンサアレイシートを製造するためには、例えば大面積で配線済みのフレキシブル回路基板511の上に、まず極薄の複数個の積層構造体510をそれぞれアレイ状に規則的に転写する。続いて、それら複数個の積層構造体510のそれぞれに対して、前述した絶縁ペースト601の印刷・塗布を一括して行う工程を経て、前述した導電性ペースト602及び603の印刷・塗布を一括して行う。このようにして、同じフレキシブル回路基板511上にアレイ状に配設された複数個のひずみセンサ500からなるひずみセンサアレイシートが製造される。
その後、このひずみセンサアレイシートのフレキシブル回路基板511の裏面を被検出対象の構造物に貼り付け、複数個のひずみセンサ500の各電極パッド505及び506間の出力電圧の値を測定することにより、構造物のひずみ分布を検出することができ、また前述したように複数のひずみ検出値の相対値に基づいて、ひずみセンサアレイシートの構造物への接着の状態によらず、亀裂の発生を正確に検知することができる。
なお、本発明は以上の実施形態に限定されるものではなく、例えば図13のひずみセンサ500では圧電薄膜503を有しているが、圧電薄膜503に代えて、磁性薄膜、ホール素子、熱電変換材料、あるいは赤外線検出素子などの他の機能性素子を設けてもよい。また、フレキシブル回路基板511に代えてフレキシブルでない回路基板を用いてもよい。
1〜16、400、500 ひずみセンサ
100 亀裂発生検出システム
101 ひずみセンサアレイシート
102 測定装置
110 シート部材
150、211、212、213 亀裂進展方向
200 構造物
201 第1の鋼材
201a 接合側端部
202 第2の鋼材
202a 接合側端部
210 接合部分
300 荷重印加方向
401、402、403、404 ピエゾ抵抗素子
410 シリコン基板
411a、411b、411c、411d 端子
412、413、414、415 配線
501 表面シリコン層
502 下部電極
503 圧電薄膜
504 上部電極
505、506 電極パッド
510 積層構造体
511 フレキシブル回路基板
512、513 配線
514 接着層
601 絶縁ペースト
602、603 導電性ペースト
100 亀裂発生検出システム
101 ひずみセンサアレイシート
102 測定装置
110 シート部材
150、211、212、213 亀裂進展方向
200 構造物
201 第1の鋼材
201a 接合側端部
202 第2の鋼材
202a 接合側端部
210 接合部分
300 荷重印加方向
401、402、403、404 ピエゾ抵抗素子
410 シリコン基板
411a、411b、411c、411d 端子
412、413、414、415 配線
501 表面シリコン層
502 下部電極
503 圧電薄膜
504 上部電極
505、506 電極パッド
510 積層構造体
511 フレキシブル回路基板
512、513 配線
514 接着層
601 絶縁ペースト
602、603 導電性ペースト
Claims (5)
- シート部材に複数のひずみセンサがアレイ状に配置されたひずみセンサアレイシートと、
前記ひずみセンサアレイシートが貼り付けられた構造物のひずみに応じて、前記複数のひずみセンサからそれぞれ互いに独立して出力されるひずみ検出値を測定し、前記複数のひずみセンサのうち時間の経過とともに初期値に対して所定値または所定割合以上に変化したひずみ検出値を出力するひずみセンサの位置に基づいて前記構造物の亀裂発生位置を検出する測定装置と、
を備えることを特徴とする構造物の亀裂発生検出システム。 - 前記測定装置は、前記複数のひずみセンサからそれぞれ互いに独立して出力される前記ひずみ検出値の絶対値を測定し、前記複数のひずみセンサのうち測定した前記絶対値が時間の経過に従い前記所定値または前記所定割合以上に変化したひずみセンサの位置に基づいて前記構造物の亀裂発生位置を検出することを特徴とする請求項1記載の構造物の亀裂発生検出システム。
- 前記測定装置は、前記複数のひずみセンサからそれぞれ互いに独立して出力される前記ひずみ検出値の相対値を算出し、前記複数のひずみセンサのうち算出した前記相対値が時間の経過に従い前記所定値または前記所定割合以上に変化したひずみセンサの位置に基づいて前記構造物の亀裂発生位置を検出することを特徴とする請求項1記載の構造物の亀裂発生検出システム。
- シート部材上にアレイ状に配置された複数のひずみセンサのそれぞれが、
扁平な直方体状の基板の上の4辺の側縁部のうち、長手方向の相対向する2つの側縁部の中央の一部領域で、かつ、ひずみ測定対象箇所にそれぞれ配置された第1及び第2のピエゾ抵抗素子と、
前記4辺の側縁部のうち、短手方向の相対向する2つの側縁部の中央の一部領域で、かつ、ひずみ発生が微小である箇所にそれぞれ配置された第3及び第4のピエゾ抵抗素子とを有すると共に、
前記第1乃至第4のピエゾ抵抗素子の各抵抗はホイートストンブリッジ回路を構成しており、前記第1及び第2のピエゾ抵抗素子の各抵抗は前記ホイートストンブリッジ回路の4辺のうち対向する2辺の位置に配置され、前記第3及び第4のピエゾ抵抗素子の各抵抗は前記ホイートストンブリッジ回路の4辺のうち残りの対向する2辺の位置に配置された構成であることを特徴とする請求項1記載の構造物の亀裂発生検出システムに用いるひずみセンサ。 - シート部材上にアレイ状に配置された複数のひずみセンサのそれぞれが、
所定の機能を実現するための機能性素子、前記機能性素子の入力信号または出力信号用電極、及び前記電極用の電極パッドが積層された積層構造体と、
前記積層構造体が配線領域を除く表面上の所定領域に設けられた回路基板とよりなり、
前記回路基板を前記複数のひずみセンサに共通の前記シート部材として、前記シート部材が貼り付けられた構造物のひずみに応じて前記機能性素子により検出されたひずみ検出値を、前記電極パッドを通して出力することを特徴とする請求項1記載の構造物の亀裂発生検出システムに用いるひずみセンサ。
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JP2015231423A JP2017096863A (ja) | 2015-11-27 | 2015-11-27 | 構造物の亀裂発生検出システム及びそれに用いるひずみセンサ |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101806272B1 (ko) | 2017-07-10 | 2018-01-10 | 주식회사 태강이앤아이 | 건물 옥상의 콘크리트 균열 탐지 장치 |
WO2018211811A1 (ja) | 2017-05-15 | 2018-11-22 | 住友電気工業株式会社 | 固体絶縁母線の防水構造、及び固体絶縁母線の接続構造 |
CN114486000A (zh) * | 2022-01-15 | 2022-05-13 | 西安交通大学 | 一种破片击中位置和压力检测传感器结构及检测系统 |
CN116295235A (zh) * | 2023-04-10 | 2023-06-23 | 中交四航局第一工程有限公司 | 一种组合型支撑结构的变形监控方法 |
JP7641776B2 (ja) | 2021-03-16 | 2025-03-07 | 株式会社ユーシン | 操作検出装置 |
-
2015
- 2015-11-27 JP JP2015231423A patent/JP2017096863A/ja active Pending
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