JP2017076639A - Board developing system - Google Patents
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Abstract
【課題】プリント基板(PCB)の製造工程で硬化していないLPRインクを薬液で除去して回路パターンを形成するための現像システムに関する技術であって、現像室の内部で基板を垂直状態で搬送しながら薬液を基板に均一に噴射して現像工程を行うことにより、工程が連続的に進む一方で、現像工程にかかる時間を短縮し、併せて基板を垂直状態で搬送しながら薬液を噴射して現像工程を行うので、工程の歩留まりを一層高める基板現像システムを提供する。【解決手段】本発明の基板現像システムは、フレームに密閉空間として実現された現像室と、前記現像室の内部空間で基板を垂直状態で搬送する搬送手段と、前記現像室の内部空間において垂直状態で搬送される基板に薬液を均一に噴射する噴射手段と、前記現像室の内部空間で基板に噴射された薬液を集水し、前記噴射手段に薬液をポンピングして供給するポンピング手段とを含んでなり、前記噴射手段は上下に昇降作動しながら基板に薬液を均一に噴射することを特徴とする。【選択図】図1The present invention relates to a developing system for forming a circuit pattern by removing LPR ink that has not been cured in a printed circuit board (PCB) manufacturing process with a chemical solution, and transporting the substrate in a vertical state inside a developing chamber. While developing the process by uniformly injecting the chemical onto the substrate, the process proceeds continuously, while reducing the time required for the development process, and also injecting the chemical while transporting the substrate in a vertical state. Thus, a substrate development system is provided that further increases the process yield. A substrate development system according to the present invention includes a developing chamber realized as a sealed space in a frame, a conveying means for conveying a substrate in a vertical state in the inner space of the developing chamber, and a vertical in the inner space of the developing chamber. Spraying means for uniformly spraying the chemical liquid onto the substrate conveyed in a state; and pumping means for collecting the chemical liquid sprayed onto the substrate in the internal space of the developing chamber and pumping and supplying the chemical liquid to the spraying means. And the spraying means sprays the chemical liquid uniformly onto the substrate while moving up and down. [Selection] Figure 1
Description
本発明は、プリント基板(PCB)の製造工程で硬化していないLPRインクを薬液で除去して回路パターンを形成するための現像システムに係り、より詳しくは、密閉された形態で実現される現像室と、現像室の内部で基板を垂直状態で搬送する搬送手段と、垂直状態で搬送される基板に薬液を均一に噴射する噴射手段と、噴射手段に薬液をポンピングして供給するポンピング手段とを含んでなり、現像室の内部で基板を垂直状態で搬送しながら薬液を基板に噴射して現像工程を行うことにより、工程が連続的に進行する一方で、現像工程にかかる時間を短縮し、併せて基板を垂直状態で搬送しながら薬液を噴射して現像工程を行うので、工程の歩留まりを一層高める基板現像システムに関する。 The present invention relates to a development system for forming a circuit pattern by removing LPR ink that has not been cured in a printed circuit board (PCB) manufacturing process with a chemical solution, and more specifically, development realized in a sealed form. A chamber, a transport unit that transports the substrate in a vertical state inside the developing chamber, an injection unit that uniformly sprays the chemical liquid onto the substrate transported in the vertical state, and a pumping unit that pumps and supplies the chemical liquid to the spray unit By carrying out the development process by spraying the chemical solution onto the substrate while transporting the substrate in a vertical state inside the development chamber, the time required for the development process is reduced while the process proceeds continuously. In addition, the present invention relates to a substrate development system in which a development process is performed by ejecting a chemical solution while transporting a substrate in a vertical state, thereby further increasing the process yield.
一般に、プリント基板(PCB)は、電気・電子製品で最も基礎となる部品であって、生活の中でLCD TV、DVD、コンピュータ、ノートパソコン、デジタルカメラ、およびモバイルフォン(Mobile phone)、PDA、MP3などの電気・電子製品に広範囲に適用されており、デジタル方式の急速な発展と半導体開発の先端化に伴う小型化、高密度および高機能によりその活用度が益々拡大している。 In general, a printed circuit board (PCB) is the most basic component of an electric / electronic product, and is a LCD TV, DVD, computer, notebook computer, digital camera, mobile phone, PDA, It has been widely applied to electrical and electronic products such as MP3, and its utilization is increasing more and more due to the rapid development of the digital system and the miniaturization, high density, and high functionality accompanying the advancement of semiconductor development.
このようなプリント基板(PCB)の製造工程は、基本的に、露光(Inner Later Exposing)−DF現像(Dry Film Developing)−エッチング(Etching)−剥離(Stripping)工程の順で行われる。ここで、露光工程は、回路形成のための工程であって、コアの表面のコートされたLPRインクに露光用フィルムを被覆した後、UVを照射して必要な部分(UVを受けたLPRインク)を光硬化させる工程である。 The printed circuit board (PCB) manufacturing process is basically performed in the order of exposure (inner laser exposing), DF development (dry film developing), etching (etching), and stripping (stripping). Here, the exposure process is a process for forming a circuit, and after coating the exposure film on the LPR ink coated on the surface of the core, the necessary part (the LPR ink that has received UV) is irradiated with UV. ) Is photocured.
また、DF現像工程は、回路を形成するために銅箔の上にDF現像液を回路のパターン形態で残す工程であり、エッチング工程は、DF現像液が残されていない銅箔をエッチング液を用いて除去する工程であり、剥離工程は、エッチング工程の後、銅箔の上に残されているDF現像液をアルカリ(Alkali)溶液を用いて除去する工程である。 The DF developing process is a process in which a DF developer is left on the copper foil in a circuit pattern form to form a circuit. The etching process is performed by removing the copper foil in which the DF developer is not left. The stripping step is a step of removing the DF developer remaining on the copper foil using an alkali solution after the etching step.
従来、現像工程で回路パターン以外の部分を薬液で除去するための現像システムは、一般なDip型であって、溶液(薬液)が収容されたタンク内に基板(PCB)を浸漬し、一定の時間薬液の化学作用によって回路パターン以外の部分を除去して現像工程を行う方式である。 Conventionally, a development system for removing a part other than a circuit pattern with a chemical solution in a development process is a general Dip type, in which a substrate (PCB) is immersed in a tank in which a solution (chemical solution) is stored, This is a system in which the development process is performed by removing portions other than the circuit pattern by the chemical action of the time chemical solution.
したがって、従来のDip型現像システムは、タンクの大きさに応じて、薬液に浸漬可能な基板の数量が限定されるうえ、一定の時間化学作用が行われなければならないので、現像工程にかかる時間が長く、タンクに収容された薬液を交換する場合には一度に多量の薬液を交換しなければならないという問題点がある。 Therefore, in the conventional Dip type development system, the number of substrates that can be immersed in the chemical solution is limited according to the size of the tank, and the chemical action must be performed for a certain period of time. However, there is a problem that a large amount of chemical solution must be exchanged at a time when the chemical solution contained in the tank is exchanged.
本発明は、従来の基板現像システムで現像工程にかかる時間が長く、基板に薬液が均一に噴射されないため現像の効率および工程の歩留まりが著しく低下する問題点を改善するために案出された技術であって、その目的は、現像室の内部で基板を垂直状態で搬送しながら薬液を基板に均一に噴射して現像工程を行うことにより、工程が連続的に進行する一方で、現像工程にかかる時間を短縮し、併せて基板を垂直状態で搬送しながら薬液を噴射して現像工程を行うので、現像の効率および工程の歩留まりを一層高める基板現像システムを提供することにある。 The present invention has been devised in order to improve the problem that the development process and the yield of the process are remarkably lowered because the time required for the development process in the conventional substrate development system is long and the chemical solution is not uniformly ejected onto the substrate. The purpose of this is to carry out the development process by uniformly injecting the chemical solution onto the substrate while transporting the substrate in a vertical state inside the development chamber, while the process proceeds continuously. It is an object of the present invention to provide a substrate development system that shortens the time and performs the development process by ejecting a chemical solution while transporting the substrate in a vertical state and further improving the development efficiency and the process yield.
上記目的を達成するための本発明の実施形態は、フレームに密閉空間として実現された現像室と、前記現像室の内部空間で基板を垂直状態で搬送する搬送手段と、前記現像室の内部空間で垂直状態で搬送される基板に薬液を均一に噴射する噴射手段と、前記現像室の内部空間で基板に噴射された薬液を集水し、前記噴射手段に薬液をポンピングして供給するポンピング手段とを含んでなり、前記噴射手段は上下に昇降作動しながら基板に薬液を均一に噴射することを特徴とする、基板現像システムを提供する。 In order to achieve the above object, an embodiment of the present invention includes a developing chamber realized as a sealed space in a frame, a transport unit that transports a substrate in a vertical state in the inner space of the developing chamber, and an inner space of the developing chamber. Injecting means for uniformly injecting the chemical liquid onto the substrate conveyed in the vertical state, and pumping means for collecting the chemical liquid injected on the substrate in the internal space of the developing chamber and pumping and supplying the chemical liquid to the injection means The substrate developing system is characterized in that the injection means uniformly injects the chemical solution onto the substrate while moving up and down.
また、本発明の実施形態において、搬送手段は、モーターの駆動力の伝達を受けて回転し、一定の間隔で設置された多数の駆動ローラーと、前記多数の駆動ローラーの上に置かれて水平に移送され、上下垂直状にフレームが構成された治具と、前記治具の上部と下部に設置され、基板を垂直状態で把持する多数のクランプとから構成されたことを特徴とする。 Further, in the embodiment of the present invention, the conveying means rotates in response to transmission of the driving force of the motor, and is placed on the plurality of driving rollers installed at regular intervals and placed on the plurality of driving rollers in a horizontal direction. And a plurality of clamps which are installed on the upper and lower portions of the jig and hold the substrate in a vertical state.
また、本発明の実施形態において、噴射手段は、四角枠状をし、両側部に一対から構成されたフレームと、前記フレームに上下一定の間隔で取り付けられ、多数のノズルを有する噴射管と、前記フレームの両側部に上下垂直状に設置された案内レールと、前記フレームの両側部に回転可能に設置され、案内レールに乗って駆動する昇降ローラーと、前記フレームの上部に駆動軸で結合されて設置され、駆動軸を上下に作動させてフレームを昇降させる駆動部とを含んでなる。 Further, in the embodiment of the present invention, the injection means has a rectangular frame shape, a frame constituted by a pair on both sides, and an injection tube attached to the frame at a certain vertical distance and having a number of nozzles, Guide rails installed vertically on both sides of the frame, a lifting roller rotatably installed on both sides of the frame and driven on the guide rails, and coupled to the upper part of the frame by a drive shaft And a drive unit that moves the drive shaft up and down to raise and lower the frame.
本発明の実施形態によれば、密閉された形態で実現される現像室と、現像室の内部で基板を垂直状態で搬送する搬送手段と、垂直状態で搬送される基板に薬液を均一に噴射する噴射手段と、噴射手段に薬液をポンピングして供給するポンピング手段とを含んでなり、現像室の内部で基板を垂直状態で搬送しながら薬液を基板に噴射して現像工程を行うことにより、工程が連続的に進行する一方で、現像工程にかかる時間を短縮するという効果がある。 According to the embodiment of the present invention, the developing chamber realized in a sealed form, the transporting means for transporting the substrate in the vertical state inside the developing chamber, and the chemical solution uniformly sprayed onto the substrate transported in the vertical state And a pumping means for pumping and supplying the chemical liquid to the injection means, and performing the developing process by spraying the chemical liquid onto the substrate while conveying the substrate in a vertical state inside the developing chamber, While the process proceeds continuously, there is an effect of reducing the time required for the development process.
また、本発明の実施形態によれば、基板を垂直状態で搬送しながら薬液を基板に均一に噴射して現像工程を行うので、現像の効率および工程の歩留まりを一層高める一方で、現像室で基板に噴射された薬液を集水して濾過した後、再利用するので、薬液の使用時間が長く、効率性に優れるという効果がある。 Further, according to the embodiment of the present invention, the developing process is performed by uniformly injecting the chemical solution onto the substrate while the substrate is transported in the vertical state, so that the development efficiency and the process yield can be further increased while the developing chamber is used. Since the chemical liquid sprayed on the substrate is collected and filtered and then reused, there is an effect that the chemical liquid is used for a long time and is highly efficient.
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態に係る主要構成を説明する。 Hereinafter, main configurations according to embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
フレーム11に密閉空間として実現された現像室10と、前記現像室10の内部空間で基板Pを垂直状態で搬送する搬送手段20と、前記現像室10の内部空間において垂直状態で搬送される基板Pに薬液を均一に噴射する噴射手段30と、前記現像室10の内部空間で基板Pに噴射された薬液を集水し、噴射手段30に薬液をポンピングして供給するポンピング手段40とを含んでなり、前記噴射手段30は上下に昇降作動しながら基板Pに薬液を均一に噴射することを特徴とする、
A developing
本発明の実施形態は、現像室10の内部空間で基板Pを垂直状態で搬送しながら基板Pに薬液を噴射して現像工程を行う現像システムであって、図1および図2に示すように、現像室10、搬送手段20、噴射手段30及びポンピング手段40から構成され、現像室10で基板Pに噴射された薬液を集水して濾過した後、ポンピング手段40を介して噴射手段30へ供給して再利用する。
The embodiment of the present invention is a developing system that performs a developing process by injecting a chemical solution onto a substrate P while conveying the substrate P in a vertical state in the internal space of the developing
前記実施形態の主要構成において、現像室10は、図1および図2に示すように、現像工程でフレーム11上に四角枠状に構成され、できる限り密閉空間として実現され、前記現像室10の内部空間に後述の搬送手段20と噴射手段30が備えられる。
In the main configuration of the embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the developing
前記現像室10は、できる限り密閉空間として実現された状態で基板Pが搬送手段20を介して一側方向に搬送できるように所定の長さ(2〜5m)で構成され、外部から現像室10内の作業状態を肉眼で確認することができるようにガラスドアが設置できる。
The developing
また、前記実施形態の主要構成において、搬送手段20は、現像室10の内部空間で基板Pを垂直状態で搬送する機能をする。前記搬送手段20は、図1〜図4に示すように、モーターの駆動力の伝達を受けて回転し、一定の間隔で設置された多数の駆動ローラー21と、前記多数の駆動ローラー21の上に置かれて水平に移送され、上下垂直状にフレームが構成された治具23と、前記治具23の上部と下部に設置され、基板Pを垂直状態で把持する多数のクランプ24とから構成される。
Further, in the main configuration of the embodiment, the
前記現像室10の底部に一定の間隔で回転可能に多数のシャフト22が設置され、前記シャフト22の両側に一定の距離で離隔して多数の駆動ローラー21が結合設置され、一側部に設けられた駆動部21aからモーターの駆動力が多数のシャフト22へ伝達されることにより、モーターの駆動によって多数の駆動ローラー21が回転作動する。
A large number of
一方、前記治具23は、駆動ローラー21上にベースプレートが置かれて駆動ローラー21に乗って水平に移送され、前記ベースプレートの上部中間部分に上下垂直状にフレームが構成される一方で、フレームの上部と下部にそれぞれ多数のクランプ24が設置される。
On the other hand, the
前記治具23に構成されたフレームは、基板Pの面積よりも大きい空間が備えられるように四角枠状をし、前記フレームの上部と下部に基板Pを垂直状態で把持する多数のクランプ24が設置され、前記クランプ24は、フレームに備えられた空間内に基板Pが置かれるように基板Pの上下縁部を把持する。
The frame formed in the
したがって、搬送手段20は、多数のクランプ24に基板Pが垂直状態で把持され、クランプ24の設置された治具23が多数の駆動ローラー21に乗って水平に移送されることにより、結果として、現像室10の内部空間で基板Pを垂直状態で搬送する。
Therefore, the transport means 20 is configured such that the substrate P is held in a vertical state by a large number of
また、前記実施形態の主要構成において、噴射手段30は、現像室10の内部空間において垂直状態で搬送される基板Pに薬液を均一に噴射する機能をする。前記噴射手段30は、図1〜図3及び図5〜図8に示すように、四角枠状をし、両側部に一対から構成されたフレーム31と、前記フレーム31に上下一定の間隔で取り付けられ、多数のノズル33を有する噴射管32と、前記フレーム31の両側部に上下垂直状に設置された案内レール34と、前記フレーム31の両側部に回転可能に設置され、案内レール34に乗って駆動する昇降ローラー35と、前記フレーム31の上部に駆動軸37で結合設置され、駆動軸37を上下作動させてフレーム31を上下に移動させる駆動部36とを含んでなる。
In the main configuration of the embodiment, the ejecting
前記フレーム31は、基板Pの面積よりも大きい空間が備えられるように四角枠状をし、垂直状態で搬送される基板Pの両側部に一定の距離で離隔して位置するように現像室10の内部空間に一対から構成され、一定の間隔で多数のノズル33が装着された噴射管32がフレーム31に取り付けられる。
The
前記噴射管32は、フレーム31の内側空間を横切って両側部の縁部に上下一定の間隔で取り付けられ、一側方向が下方に傾くように設けられ、後述するポンピング手段40を介して薬液が供給される一方で、多数のノズル33を介して基板Pに薬液が微粒子として噴射される。
The
一方、案内レール34は、フレーム31の両側部に上下垂直状に配置されるようにフレーム31の両側部で上下ブラケット34aに垂直状に設置され、フレーム31の両側部から一定の距離だけ離隔して設置される。
On the other hand, the
また、昇降ローラー35は、フレーム31の両側部に上下に取り付けられ、ベアリングが内蔵されて回転可能に設置され、フレーム31の両側部で垂直状に配置された案内レール34に乗って上下駆動するように設置される。
The elevating
前記駆動部36は、フレーム31を上下連続的に往復移動させる機能をするもので、駆動モーターや油圧または空圧シリンダーを適用することができ、現像室10の外側上部に設置されることが好ましい。駆動部36から駆動力の伝達を受けて上下に作動する駆動軸37がフレーム31の上部に結合設置される。
The
前記駆動軸37は、現像室10の外側上部に設置された駆動部36側から、現像室10の内部空間に設置されたフレーム31に垂直状に設置され、駆動部36が作動する場合、駆動軸37が上下に作動してフレーム31を上下連続的に往復移動させる。このとき、フレーム31の両側部で昇降ローラー35が案内レール34に乗って上下駆動するので、フレーム31が揺れることなく安定的に上下移動する。
The
したがって、噴射手段30は、駆動部36の作動によってフレーム31が上下連続的に往復移動する状態で、後述するポンピング手段40を介して噴射管32に薬液がポンピングされてノズル33から噴射されることにより、垂直状態で搬送される基板Pの両側部に薬液を均一に噴射することができる。
Therefore, in the injection means 30, the chemical liquid is pumped to the
また、前記実施形態の主要構成において、ポンピング手段40は、噴射手段30に薬液をポンピングして供給する機能をする。前記ポンピング手段40は、図1および図2に示すように、タンク41、集水ダクト42、フィルター43及びポンプ44から構成され、現像室10の内部空間で基板Pに噴射された薬液を集水し、集水された薬液をフィルター43で濾過した後、再循環させて使用する。
In the main configuration of the embodiment, the pumping means 40 has a function of pumping and supplying the chemical solution to the injection means 30. As shown in FIGS. 1 and 2, the pumping means 40 includes a
前記ポンピング手段40は、現像室10の底部に下方に傾くように設けられた集水槽42aと、前記集水槽42aに連設される集水ダクト42と、前記集水ダクト42に連設されるフィルター43およびタンク41と、前記タンク41に収容された薬液をポンピングするポンプ44とを含んでなる。
The pumping means 40 is connected to the
前記集水槽42aは、現像室10の底部に長さ方向に設けられ、中央部分が下方に傾いて薬液を集水するように設置される。前記集水槽42aの下部に集水ダクト42が結合されて現像室10の外部に設置される。前記集水ダクト42はフィルター43とタンク41に順次連設される。
The
薬液が収容されたタンク41にポンピング管でポンプ44が連設され、前記ポンプ44は、タンク41に収容された薬液をポンピングして噴射手段30の噴射管32へ供給し、前記噴射管32が上下に動くことにより流動性に優れるホースを噴射管32に連設することが好ましい。
A
したがって、ポンピング手段40では、集水槽42aが現像室10の内部空間で基板Pに噴射された薬液を集水し、集水された薬液が集水ダクト42を介してフィルター43に流入して異物が濾過された後、タンク41に収容され、ポンプ44がタンク41に収容された薬液をポンピングして噴射管32へ供給してノズル33から噴射することにより、薬液を再循環させて使用するので、使用時間が長く、効率性に優れる。
Therefore, in the pumping means 40, the
このような本発明の実施形態は、現像室の内部空間で基板を垂直状態で搬送しながら、噴射管とノズルが上下連続的に移動して薬液を基板の両側部に均一に噴射することにより、現像工程にかかる時間を短縮し、現像の効率および工程の歩留まりを一層高める一方で、現像工程が連続的に行われる。 In such an embodiment of the present invention, while the substrate is conveyed in the vertical state in the internal space of the developing chamber, the spray tube and the nozzle move continuously up and down to spray the chemical liquid uniformly on both sides of the substrate. The development process is continuously performed while shortening the time required for the development process and further improving the development efficiency and the process yield.
また、本発明の実施形態は、現像室の内部空間で基板に噴射された薬液を集水し、集水された薬液をフィルターで濾過した後、タンクに収容して再循環させて使用することにより、薬液の使用時間が非常に長く、効率性に優れる。 In the embodiment of the present invention, the chemical solution sprayed onto the substrate is collected in the internal space of the developing chamber, and the collected chemical solution is filtered through a filter, and then stored in a tank and recirculated for use. Therefore, the usage time of the chemical solution is very long and the efficiency is excellent.
以上、本発明の好適な実施形態を参照して説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されるものではない。本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の要旨から逸脱することなく、様々な変更を加え得ることを理解するであろう。 As described above, the preferred embodiments of the present invention have been described. However, the present invention is not limited to these embodiments. Those skilled in the art to which the present invention pertains will understand that various modifications can be made without departing from the spirit of the invention.
10 現像室
11 フレーム
20 搬送手段
21 駆動ローラー
22 シャフト
23 治具
24 クランプ
30 噴射手段
31 フレーム
32 噴射管
33 ノズル
34 案内レール
35 昇降ローラー
40 ポンピング手段
41 タンク
42 集水ダクト
42a 集水槽
43 フィルター
44 ポンプ
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記現像室の内部空間で基板を垂直状態で搬送する搬送手段と、
前記現像室の内部空間で垂直状態で搬送される基板に薬液を均一に噴射する噴射手段と、
前記現像室の内部空間で基板に噴射された薬液を集水し、前記噴射手段に薬液をポンピングして供給するポンピング手段とを含んでなり、
前記噴射手段は上下に昇降作動しながら基板に薬液を均一に噴射することを特徴とする、基板現像システム。 A development chamber realized as a sealed space in the frame;
Transport means for transporting the substrate in a vertical state in the internal space of the developing chamber;
Spraying means for uniformly spraying a chemical onto a substrate transported in a vertical state in the internal space of the developing chamber;
Pumping means for collecting the chemical liquid sprayed onto the substrate in the internal space of the developing chamber and pumping and supplying the chemical liquid to the spraying means,
The substrate developing system according to claim 1, wherein the spraying unit uniformly sprays the chemical solution onto the substrate while moving up and down.
モーターの駆動力の伝達を受けて回転し、一定の間隔で設置された多数の駆動ローラーと、前記多数の駆動ローラーの上に置かれて水平に搬送され、上下垂直状にフレームが構成された治具と、前記治具の上部と下部に設置され、基板を垂直状態で把持する多数のクランプとから構成されたことを特徴とする、請求項1に記載の基板現像システム。 The conveying means is
Rotating in response to the driving force of the motor, it is rotated, and a number of driving rollers installed at regular intervals and placed on the driving rollers are transported horizontally, and the frame is configured vertically and vertically. 2. The substrate development system according to claim 1, wherein the substrate development system is configured by a jig and a plurality of clamps that are installed at an upper part and a lower part of the jig and hold the substrate in a vertical state.
四角枠状をし、両側部に一対から構成されたフレームと、前記フレームに上下一定の間隔で取り付けられ、多数のノズルを有する噴射管と、前記フレームの両側部に上下垂直状に設置された案内レールと、前記フレームの両側部に回転可能に設置され、前記案内レールに乗って駆動する昇降ローラーと、前記フレームの上部に駆動軸で結合されて設置され、前記駆動軸を上下作動させて前記フレームを昇降させる駆動部とを含んでなることを特徴とする、請求項1に記載の基板現像システム。 The injection means
The frame has a quadrangular frame shape and is configured with a pair of both sides, a jet pipe having a large number of nozzles attached to the frame at a certain vertical distance, and vertically installed on both sides of the frame. A guide rail, a lifting roller rotatably installed on both sides of the frame and driven on the guide rail; and a drive shaft connected to the upper part of the frame by a drive shaft; The substrate development system according to claim 1, further comprising a drive unit that raises and lowers the frame.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111712048A (en) * | 2020-06-30 | 2020-09-25 | 东莞宇宙电路板设备有限公司 | Surface treatment equipment |
US20210402424A1 (en) * | 2020-06-30 | 2021-12-30 | Universal Circuit Board Equipment Co., Ltd. | Surface treatment device |
-
2015
- 2015-10-13 JP JP2015201762A patent/JP2017076639A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111712048A (en) * | 2020-06-30 | 2020-09-25 | 东莞宇宙电路板设备有限公司 | Surface treatment equipment |
US20210402424A1 (en) * | 2020-06-30 | 2021-12-30 | Universal Circuit Board Equipment Co., Ltd. | Surface treatment device |
KR20220003951A (en) * | 2020-06-30 | 2022-01-11 | 유니버셜 서킷 보드 이큅먼트 컴퍼니 리미티드 | surface treatment device |
KR102396878B1 (en) * | 2020-06-30 | 2022-05-12 | 유니버셜 서킷 보드 이큅먼트 컴퍼니 리미티드 | surface treatment device |
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