JP2016071951A - Crimp terminal - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、アルミ電線などの電線を圧着する圧着端子に関する。 The present invention relates to a crimp terminal for crimping an electric wire such as an aluminum electric wire.
従来、圧着端子は、端子部の後方に導体加締め部が設けられており、剥き出し加工された電線の端部が導体加締め部に加締められることにより、圧着端子と電線との電気的接続が図られる。 Conventionally, crimp terminals are provided with a conductor crimping part behind the terminal part, and the end of the exposed wire is crimped to the conductor crimping part, so that the electrical connection between the crimping terminal and the cable is achieved. Is planned.
近年、車両の軽量化に対する要求により、車両に配索される電線についても軽量化が要求されている。そこで、電線の素材として従来のCuまたはCu合金に代えて、より軽いAl(アルミニウム)またはAl合金が用いられたAl電線の使用が増えてきている。 In recent years, due to demands for reducing the weight of vehicles, there has been a demand for reducing the weight of electric wires routed in vehicles. Therefore, the use of Al electric wires in which lighter Al (aluminum) or Al alloys are used instead of conventional Cu or Cu alloys as the material of electric wires is increasing.
一方、電線を圧着する圧着端子は、基材としてCu合金を用い、表面にSnめっき層が形成されている。例えば、下記特許文献1には、銅や銅合金を基材とする圧着端子において、母材の金属より硬度が低いSnめっき層を形成し、アルミニウム電線を圧着することが開示されている。
On the other hand, a crimp terminal for crimping an electric wire uses a Cu alloy as a base material, and an Sn plating layer is formed on the surface. For example,
しかしながら、上記のような先行技術では、通常の使用状態において、Al電線の表面にはAl酸化膜が形成されるとともに、圧着端子の表面にはSn酸化膜が形成されるが、Al酸化膜およびSn酸化膜は、いずれも体積抵抗率が高い。さらに、Al酸化膜は、比較的厚みが大きくなり、かつ、比較的高い硬度を有している。 However, in the prior art as described above, in a normal use state, an Al oxide film is formed on the surface of the Al electric wire and an Sn oxide film is formed on the surface of the crimp terminal. Each Sn oxide film has a high volume resistivity. Furthermore, the Al oxide film has a relatively large thickness and a relatively high hardness.
そのため、圧着端子にAl電線を配置して加締めた際に、Sn酸化膜がAl酸化膜を十分に破壊することができず、圧着端子の表面と接触すべきAlの新生面が不足し、結果として良好な導通が得られないことがあるという問題があった。 Therefore, when an Al electric wire is placed and crimped on the crimp terminal, the Sn oxide film cannot sufficiently destroy the Al oxide film, and there is a shortage of the new surface of Al to be in contact with the surface of the crimp terminal. As a result, there is a problem that good conduction may not be obtained.
したがって本発明の目的は、電線の材質にかかわらず導通に対する高信頼性を得ることができる圧着端子を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a crimp terminal capable of obtaining high reliability for conduction regardless of the material of the electric wire.
上記課題を解決するために、本発明に係る圧着端子は、下記(1)〜(3)を特徴としている。 In order to solve the above problems, a crimp terminal according to the present invention is characterized by the following (1) to (3).
(1) 前端側に相手端子と嵌合接続するための電気接続部が設けられると共に、後端側に、内側に曲げられて加締められることにより電線の導体に圧着される導体圧着部が設けられた圧着端子において、
前記導体圧着部の前記電線と接触する領域に、導電性発現に寄与する元素をドープした酸化物薄膜が設けられたことを特徴とする圧着端子。
(2) 前記導電性発現に寄与する元素が、F、In、Ga、Tl、As、SbおよびBiからなる群から選択された少なくとも1種であることを特徴とする上記(1)に記載の圧着端子。
(3) 前記導電性発現に寄与する元素が、少なくともFを含むことを特徴とする上記(2)に記載の圧着端子。
(1) An electrical connection part for fitting and connecting with a mating terminal is provided on the front end side, and a conductor crimping part that is crimped to the conductor of the wire by being bent inward and crimped on the rear end side. In the crimp terminal,
A crimp terminal, wherein an oxide thin film doped with an element contributing to conductivity is provided in a region of the conductor crimping portion that is in contact with the electric wire.
(2) The element contributing to the development of conductivity is at least one selected from the group consisting of F, In, Ga, Tl, As, Sb, and Bi, as described in (1) above Crimp terminal.
(3) The crimp terminal according to (2) above, wherein the element contributing to the development of conductivity includes at least F.
本発明の圧着端子は、電線を加締めた際に、圧着端子の表面に形成されている導電性酸化膜を用いて電線の表面に形成される酸化膜を破壊し電線を構成する基材の新生面を生じさせることができる。したがって、圧着端子と電線との導通に対する高信頼性を得ることができる。 The crimp terminal according to the present invention is a base material that forms an electric wire by destroying an oxide film formed on the surface of the electric wire using a conductive oxide film formed on the surface of the crimp terminal when the electric wire is caulked. A new surface can be created. Therefore, high reliability with respect to conduction between the crimp terminal and the electric wire can be obtained.
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る酸化物薄膜を説明するための断面図である。図1に示す電気素子1は、基材12上に、元素をドープした酸化物薄膜16を設けてなる。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining an oxide thin film according to an embodiment of the present invention. The
基材12の材質としては、用途に応じて適宜選択することができるが、圧着端子としては、一般的にCuや黄銅等のCu合金を用いることができる。これとは別に、Al、Feまたはこれらの合金を用いることもできる。基材12の厚さは用途に応じて適宜決定することができ、また基材12の形状は矩形型、円柱型、その他の異形型であることができる。
The material of the
酸化物薄膜16の材質としては、用途に応じて適宜選択することができる。酸化物としては、SnO、SnO2、NiO、Ni2O3、ZnO、CuO2、CuAlO2、In2O3、またはこれらの混合物等が挙げられる。中でも本発明の効果が向上するという観点から、酸化物は、SnOおよび/またはSnO2であるのが好ましい。
As a material of the oxide
また、酸化物薄膜16にドープされる元素としては、導電性発現に寄与する元素が好ましく、例えばF、In、Ga、Tl、As、SbおよびBiからなる群から選択された少なくとも1種が挙げられる。中でも導電性、耐摩耗性に優れるという観点から、Fが好ましく、酸化物薄膜16は、フッ素ドープ酸化錫(FTO)であるのがとくに好ましい。
The element doped in the oxide
また、基材12および酸化物薄膜16の厚さやサイズとしては、用途に応じて適宜選択することができるが、酸化物薄膜16の厚さとしては、例えば10nm〜1μmが好適である。
In addition, the thickness and size of the
基材12上には、必要に応じて、基材12に含まれる例えばCuまたはCu合金が酸化物薄膜16上に拡散するのを防止するために、Niめっき層を設けてもよい。Niめっき層は、Niのほか、Fe−Ni合金やSn−Ni合金等のNi合金を使用することができる。Niめっき層の厚さは、当該目的を達成できればよく、適宜決定される。
An Ni plating layer may be provided on the
以下、本発明に係る圧着端子20について説明する。
図2は、圧着端子20の斜視図である。図3は、圧着端子20の導体圧着部側面断面図である。図4は、圧着端子20の導体圧着部正面断面図である。図5は、圧着端子20の導体圧着部上面図である。
Hereinafter, the
FIG. 2 is a perspective view of the
圧着端子20は、主に底板部21と、相手側端子が挿入される電気接続部22と、Al電線100の導体露出部100aに加締められる導体圧着部23と、Al電線100の被覆部100bに加締められる被覆加締部24とによって構成される。導体圧着部23には、底板部21の左右方向両側縁に、一対の導体加締片23aがU字状に形成され、その内側には、圧着端子20の左右方向に延びる複数のセレーション23bが形成されている。被覆加締部24には、底板部21の左右方向両側縁に、一対の被覆加締片24aが形成されている。
The
また、圧着端子20には、図3に示すように、導体圧着部23にFTO薄膜33が形成されている。このFTO薄膜33は、図4に示すように、導体圧着部23において、Al電線100が設置される面に積層されている。なお、本実施形態に係る圧着端子20は、上記の電気素子1に対応し、FTO薄膜33は、上記の酸化物薄膜16に対応する。
Further, as shown in FIG. 3, the
本実施形態に係る圧着端子20の製造方法について説明する。
まず、黄銅からなるCu合金により形成された金属板を準備し、必要に応じてNiめっき層を形成する。めっき層は、公知のめっき法により形成できる。例えば、電解めっき法は、慣用的に行なわれている方法であり、装置構成も簡易で、また層厚の制御も比較的容易であることから好ましい。なお、本実施形態では、金属板にSnめっき層36が形成されている。
A method for manufacturing the
First, a metal plate formed of a Cu alloy made of brass is prepared, and a Ni plating layer is formed as necessary. The plating layer can be formed by a known plating method. For example, the electrolytic plating method is a method that is conventionally performed, and is preferable because the apparatus configuration is simple and the control of the layer thickness is relatively easy. In the present embodiment, the
次に、金属板上に、元素をドープしたFTO薄膜33を設ける。FTO薄膜33は、例えばスプレー熱分解(SPD:Spray Pyrolysis Deposition)法により設けることができる。SPD法はよく知られているように、基材を成膜温度まで加熱し、そこに向けて霧化器等の噴霧手段を用いて膜の原料となる溶液を噴霧することにより、反応初期には、基材表面に付着した液滴中の溶媒の蒸発と、溶質の熱分解に続く加水分解反応および熱酸化反応することにより結晶を形成させ、反応が進むにつれその結晶上に、液滴が付着し、液滴中の溶媒蒸発と共に、溶質および下部の結晶間で結晶成長を進行させ、薄膜を形成する方法である。SPD法を採用することにより、FTO薄膜33をピンポイントで、および/または、任意の形状で成膜することができる。なおFTO薄膜33は、SPD法以外にも公知の方法を採用し、形成することができる。そして、金属板に対し公知のプレス成形や曲げ加工を施し、図2に示すような圧着端子20が作製される。
Next, an FTO
図6は、本発明の実施形態に係る圧着端子と電線との導通を説明するための図である。図6(a)に示すように、Al電線100と圧着端子20との圧着前においては、Al電線100の表面にAl酸化膜38が形成されており、圧着端子20の上述した領域にはFTO薄膜33が積層されている。
そして、図6(b)に示すように、圧着端子20にAl電線100が圧着され始めると、FTO薄膜33の一部が破壊され断片となる。この破壊されたFTO薄膜33の断片は、導電性を有しているため、Al電線100と圧着端子20との導通を妨げることはない。一方、Al電線100は、圧着により変形するため、表面に形成されているAl酸化膜38の一部が破壊され、Alの新生面が発生する。さらに、破壊されたFTO薄膜33の断片が、砥石としての機能を果たすので、Al酸化膜38の破壊された箇所に入り込み、Al酸化膜38の破壊がさらに進み、新たなAlの新生面が発生する。
FIG. 6 is a view for explaining conduction between the crimp terminal and the electric wire according to the embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6A, an
Then, as shown in FIG. 6B, when the Al
なお、金属板の上に電解めっき法によりAgめっき層等の貴金属めっき層を形成し、その上にFTO薄膜33をSPD法により設けてもよい。この場合、FTO薄膜33を積層する分だけ貴金属めっき層の厚みを薄くできるので、従来よりもコストを低減できる。
Note that a noble metal plating layer such as an Ag plating layer may be formed on the metal plate by an electrolytic plating method, and the FTO
このようにして形成されたFTO薄膜33は、導電性(例えば比抵抗値が1×107Ω・cm以下)を有し、さらに、SPD法を用いることにより、FTO薄膜33の成膜位置や厚みを自在に制御することができる。
以上のように、本発明の実施形態に係る圧着端子は、電線を加締めた際に、圧着端子の表面に形成されている導電性酸化膜を用いて電線の表面に形成される酸化膜を破壊し電線を構成する基材の新生面を生じさせることができる。したがって、圧着端子と電線との導通に対する高信頼性を得ることができる。また、圧着端子が、Al電線の表面に形成されるAl酸化膜を破壊して新生面を生じさせるための特別な構造を有する必要がないため、コストの低減や小型化を実現できる。
The FTO
As described above, the crimp terminal according to the embodiment of the present invention has an oxide film formed on the surface of the electric wire using the conductive oxide film formed on the surface of the crimp terminal when the electric wire is caulked. The new surface of the base material which destroys and comprises an electric wire can be produced. Therefore, high reliability with respect to conduction between the crimp terminal and the electric wire can be obtained. Further, since the crimp terminal does not need to have a special structure for breaking the Al oxide film formed on the surface of the Al electric wire and generating a new surface, cost reduction and downsizing can be realized.
なお、上記では本発明の電気素子1として、圧着端子20を例にとり本発明を説明したが、この用途以外にも、当業界で公知の電気素子としての各種用途に利用することができる。
In the above description, the present invention has been described by taking the
ここで、上述した本発明に係る電気素子の実施形態の特徴をそれぞれ以下[1]〜[3]に簡潔に纏めて列記する。
[1] 前端側に相手端子と嵌合接続するための電気接続部(22)が設けられると共に、後端側に、内側に曲げられて加締められることにより電線(Al電線100)の導体(導体露出部100a)に圧着される導体圧着部(23)が設けられた圧着端子(20)において、
前記導体圧着部(23)の前記電線(Al電線100)と接触する領域に、導電性発現に寄与する元素をドープした酸化物薄膜(FTO薄膜33)が設けられたことを特徴とする圧着端子(20)。
[2] 前記導電性発現に寄与する元素が、F、In、Ga、Tl、As、SbおよびBiからなる群から選択された少なくとも1種であることを特徴とする上記[1]に記載の圧着端子。
[3] 前記導電性発現に寄与する元素が、少なくともFを含むことを特徴とする上記[2]に記載の圧着端子(20)。
Here, the features of the embodiment of the electric element according to the present invention described above are briefly summarized and listed in the following [1] to [3], respectively.
[1] An electrical connection portion (22) for fitting and connecting to a mating terminal is provided on the front end side, and the conductor (Al wire 100) of the electric wire (Al electric wire 100) is bent and crimped on the rear end side. In the crimp terminal (20) provided with the conductor crimping part (23) to be crimped to the conductor exposed
A crimp terminal characterized in that an oxide thin film (FTO thin film 33) doped with an element contributing to conductivity is provided in a region of the conductor crimping portion (23) that is in contact with the electric wire (Al electric wire 100). (20).
[2] The element according to [1], wherein the element contributing to the development of conductivity is at least one selected from the group consisting of F, In, Ga, Tl, As, Sb, and Bi. Crimp terminal.
[3] The crimp terminal (20) according to the above [2], wherein the element contributing to the development of conductivity includes at least F.
1 電気素子
12 基材
16 酸化物薄膜
20 圧着端子
21 底板部
22 電気接続部
23 導体圧着部
23a 導体加締片
23b セレーション
24 被覆加締部
24a 被覆加締片
33 FTO薄膜
36 Snめっき層
100 Al電線
100a 導体露出部
100b 被覆部
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記導体圧着部の前記電線と接触する領域に、導電性発現に寄与する元素をドープした酸化物薄膜が設けられたことを特徴とする圧着端子。 Crimping with an electrical connection part for fitting and connecting to the mating terminal on the front end side, and a conductor crimping part that is crimped to the conductor of the wire by being bent inward and crimped on the rear end side At the terminal,
A crimp terminal, wherein an oxide thin film doped with an element contributing to conductivity is provided in a region of the conductor crimping portion that is in contact with the electric wire.
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