JP2016043327A - 水処理システム、制御装置、及び水処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】実施形態の水処理システムは、流動電流計と、決定部とを持つ。流動電流計は、凝集剤が注入される貯水部から採取された水、又は貯水部に対して水の流れに関する上流側の箇所から採取された水の流動電流値を測定する。決定部は、流動電流値に基づいて吸着材の注入量又は注入率を決定する。
【選択図】図2
Description
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態における、水処理システム1である。第1の実施形態では、水処理システム1は、「水処理システム1a」という。水処理システム1aは、複数の貯水部を備える。すなわち、水処理システム1aは、取水井10と、着水井20と、混和池30と、フロック形成池40と、沈殿池50と、接触池60と、砂ろ過棟70と、配水池80とを備える。また、水処理システム1aは、調整部90と、凝集剤100と、調整部110と、吸着材120と、注入装置200aとを備える。
着水井20には、取水井10の原水が送水される。着水井20では、植物や土砂が原水から分離される。
混和池30(急速撹拌池)には、着水井20の上澄みの水が送水される。混和池30では、調整部90によって凝集剤100が水に注入される。混和池30では、運転員による手動で、凝集剤100が水に注入されてもよい。
沈殿池50は、水中で成長したフロックを沈降させる。
図2は、第1の実施形態における、注入装置200aの図である。注入装置200aは、流動電流計210(SCD: Streaming Current Detector)と、制御装置220aとを備える。制御装置220aは、記憶部221と、決定部222と、制御部223とを備える。決定部222と、制御部223とのうち一部または全部は、例えば、CPU(Central Processing Unit)等のプロセッサが、記憶部221に記憶されたプログラムを実行することにより機能するソフトウェア機能部である。また、これらの機能部のうち一部または全部は、LSI(Large Scale Integration)やASIC(Application Specific Integrated Circuit)等のハードウェア機能部であってもよい。
第1の実施形態の吸着材120は、例えば、活性炭である。活性炭は、粒状活性炭や粉末活性炭でもよい。
第1の実施形態の決定部222は、流動電流値に基づいて凝集剤100の注入量又は注入率を決定してもよい。
第2の実施形態では、流動電流値が補正される点が第1の実施形態と相違する。第2の実施形態では、第1の実施形態との相違点についてのみ説明する。
調整部110は、注入装置200bによって決定された注入量又は注入率の吸着材120を、接触池60に注入する。
第2の実施形態の水処理システム1b、制御装置220b及び水処理方法は、凝集剤100、吸着材120又は汚泥除去のランニングコストを、より低減することができる。第2の実施形態の水処理システム1b、制御装置220b及び水処理方法は、水質センサ130を使用するフィードフォワード制御(FF制御)と、流動電流計210を使用するフィードバック制御(FB制御)とを、組み合わせることができる。
第3の実施形態では、着水井20に水質センサが更に備えられる点が第2の実施形態と相違する。第3の実施形態では、第2の実施形態との相違点についてのみ説明する。
第3の実施形態の水処理システム1c、制御装置220b及び水処理方法は、凝集剤100、吸着材120又は汚泥除去のランニングコストを、より低減することができる。第3の実施形態の水処理システム1c、制御装置220b及び水処理方法は、水質センサ130及び水質センサ140を使用するフィードフォワード制御(FF制御)と、流動電流計210を使用するフィードバック制御(FB制御)とを、組み合わせることができる。
第4の実施形態では、配水池80に水質センサが更に備えられる点が第3の実施形態と相違する。第4の実施形態では、第3の実施形態との相違点についてのみ説明する。
第4の実施形態の水処理システム1d、制御装置220b及び水処理方法は、凝集剤100、吸着材120又は汚泥除去のランニングコストを、より低減することができる。第4の実施形態の水処理システム1d、制御装置220b及び水処理方法は、水質センサ150を使用するフィードフォワード制御(FF制御)と、流動電流計210を使用するフィードバック制御(FB制御)とを、組み合わせることができる。
第5の実施形態では、配水池80の水の流動電流値が測定される点が、第4の実施形態と相違する。第5の実施形態では、第4の実施形態との相違点についてのみ説明する。
第5の実施形態の水処理システム1e、制御装置220b及び水処理方法は、凝集剤100、吸着材120又は汚泥除去のランニングコストを、より低減することができる。第5の実施形態の水処理システム1e、制御装置220b及び水処理方法は、水質センサ130及び水質センサ140を使用するフィードフォワード制御(FF制御)と、流動電流計210を使用するフィードバック制御(FB制御)とを、組み合わせることができる。
第6の実施形態では、混和池30に対して水の流れに関する上流側の箇所に、吸着材120が注入される点が、第5の実施形態と相違する。第6の実施形態では、第5の実施形態との相違点についてのみ説明する。
第6の実施形態の水処理システム1e、制御装置220b及び水処理方法は、凝集剤100、吸着材120又は汚泥除去のランニングコストを、より低減することができる。第6の実施形態の水処理システム1e、制御装置220b及び水処理方法は、水質センサ130及び水質センサ140を使用するフィードフォワード制御(FF制御)と、流動電流計210を使用するフィードバック制御(FB制御)とを、組み合わせることができる。
沈殿池50に対して水の流れに関する上流側で、イオン性の物質が水から除去されているので、沈殿池50は、成長したフロックを効果的に沈降させることができる。
第7の実施形態では、配水池80に水質センサが更に備えられる点が第6の実施形態と相違する。第7の実施形態では、第6の実施形態との相違点についてのみ説明する。
第7の実施形態の水処理システム1g、制御装置220b及び水処理方法は、凝集剤100、吸着材120又は汚泥除去のランニングコストを、より低減することができる。第7の実施形態の水処理システム1g、制御装置220b及び水処理方法は、水質センサ130と水質センサ140と水質センサ150を使用するフィードフォワード制御(FF制御)と、流動電流計210を使用するフィードバック制御(FB制御)とを、組み合わせることができる。
従来の注入装置は、凝集剤の注入率を定めるための関係式に基づいて、凝集剤の注入率を算出する。従来の注入装置は、凝集剤の注入について、フィードフォワード制御(FF制御)を実行可能である。
(背景技術について、以上)
Claims (10)
- 凝集剤が注入される貯水部から採取された水、又は前記貯水部に対して水の流れに関する上流側の箇所から採取された水の流動電流値を測定する流動電流計と、
前記流動電流値に基づいて吸着材の注入量又は注入率を決定する決定部と、
を備える水処理システム。 - 前記貯水部に対して水の流れに関する上流側又は下流側の箇所に、前記決定部によって決定された前記注入量又は注入率の前記吸着材が注入されるよう制御する制御部
を更に備える、請求項1に記載の水処理システム。 - 前記流動電流値を補正する補正部
を更に備え、
前記決定部は、前記補正部によって補正された前記流動電流値に基づいて前記吸着材の注入量又は注入率を決定する、請求項1又は請求項2に記載の水処理システム。 - 前記補正部は、前記貯水部の上流又は下流の水の水質に基づいて、前記流動電流値を補正する、請求項3に記載の水処理システム。
- 前記水質は、不溶性の粒子の濃度、溶解性の有機物の濃度、水温、又は、イオンの濃度である、請求項4に記載の水処理システム。
- 前記補正部は、前記貯水部の上流の水の水質と、前記貯水部の下流の水の水質との差に基づいて、前記流動電流値を補正する、請求項4又は請求項5に記載の水処理システム。
- 前記吸着材は、活性炭である、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の水処理システム。
- 前記決定部は、前記流動電流値に基づいて前記凝集剤の注入量又は注入率を決定する、請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の水処理システム。
- 凝集剤が注入される貯水部から採取された水、又は前記貯水部に対して水の流れに関する上流側の箇所から採取された水の流動電流値に基づいて、吸着材の注入量又は注入率を決定する決定部と、
前記貯水部に対して水の流れに関する上流側又は下流側の箇所に、前記決定部によって決定された前記注入量又は注入率の前記吸着材が注入されるよう制御する制御部と、
を備える制御装置。 - 水処理システムにおける水処理方法であって、
凝集剤が注入される貯水部から採取された水、又は前記貯水部に対して水の流れに関する上流側の箇所から採取された水の流動電流値を測定するステップと、
前記流動電流値に基づいて吸着材の注入量又は注入率を決定するステップと、
を含む水処理方法。
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