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JP2016042180A - 表示パネル及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】光配向層を有する表示パネル及びその製造方法を提供する。【解決手段】表示パネルは、薄膜トランジスタ基板と、光配向層とを含む。薄膜トランジスタ基板は、複数の画素セルを有し、各前記画素セルが複数のサブ画素を有する。光線が各前記サブ画素を通過するときに、前記表示パネルに暗縞パターンが現れ、前記暗縞パターンは、第１の主暗縞と、第１の副暗縞とを含む。前記第１の主暗縞は、第１方向に延伸し、前記第１の主暗縞の中央部に第１の主暗縞の幅を有する。前記第１の副暗縞は、前記第１の主暗縞に接続され、第２方向に延伸し、前記第１の副暗縞の中央部に第１の副暗縞の幅を有する。前記第１方向と第２方向が異なり、前記第１の主暗縞の幅が前記第１の副暗縞の幅よりも大きい。【選択図】図３Ａ

Description

本発明は、表示パネル及びその製造方法に関し、特に、光配向層を有する表示パネル及びその製造方法に関するものである。
従来の表示パネルは、薄膜トランジスタ基板、光配向層及び液晶層などの構成を含んでいる。従来の光配向層の製造工程は、まず、薄膜トランジスタ基板上に配向層を形成し、次に、異なる方向に配向される配向マスクで配向層を有する薄膜トランジスタ基板の異なる部分を段階的に覆い、そして、露光工程により異なる方向の配向を有する光配向層を薄膜トランジスタ基板の上に形成する。従来技術によると、光線が異なる方向の配向を有する光配向層を備える薄膜トランジスタ基板における各サブ画素を通過するときに、表示パネルに暗縞パターンが現れるようになっている。従来の考え方では、表示パネルの開口率を向上させるために、暗縞パターンの面積を最小化する傾向がある。
しかしながら、暗縞パターンの面積の最小化に伴い、表示パネルを水平回転させる際に、異なる回転の角度から見た表示パネルの透過率のばらつきが大きくなる。図１に示すように、従来の表示パネルを水平回転させる際に、傾斜角（４５度）から見た水平回転する表示パネルの透過率（１１４％から１００％まで下がる）の変化量が約１４％である。そのため、明暗の変化が著しく、観察者に不快感を与える。
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであって、表示パネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
上述した目的を達成するために、本発明の表示パネルは、薄膜トランジスタ基板と、光配向層とを含み、薄膜トランジスタ基板は、複数の画素セルを有し、各前記画素セルが複数のサブ画素を有し、光配向層は、複数の前記画素セル上に位置し、各前記サブ画素に対応する少なくとも２つの異なる方向の配向を有し、光線が各前記サブ画素を通過するときに、前記表示パネルに暗縞パターンが現れ、前記暗縞パターンは、第１の主暗縞と、第１の副暗縞とを含み、前記第１の主暗縞は、前記光配向層における異なる方向の配向の間の境界部に位置し、第１方向に延伸し、前記第１の主暗縞の中央部に第１の主暗縞の幅を有し、前記第１の副暗縞は、前記第１の主暗縞に接続され、第２方向に延伸し、前記第１の副暗縞の中央部に第１の副暗縞の幅を有し、前記第１方向と第２方向が異なり、前記第１の主暗縞の幅が前記第１の副暗縞の幅よりも大きい。
上述した目的を達成するために、本発明の表示パネルの製造方法は、以下のような工程を含む。まず、前記画素セル上に配向層を形成すし、次に、前記サブ画素の第１領域を第１配向マスクで覆った状態で光照射処理を行うことによって、一部が一の方向の配向を有する前記光配向層を形成し、最後に、前記サブ画素の第２領域を第２配向マスクで覆った状態で光照射処理を行うことによって、他の一部が他の方向の配向を有する前記光配向層を形成する。前記第１領域と前記第２領域との間に間隔がある。
出願人は、暗縞パターンの主暗縞の幅が副暗縞の幅より大きい場合、正面透過率を少し犠牲にすることによって、水平回転する表示パネルの透過率の変化量を効果的に改善できることを見出した。適切な暗縞パターンを設計することで、傾斜角（４５度）から見た水平回転する表示パネルの透過率の変化量を１４％から１２％に効果的に低減することができ、正面透過率がわずか０．３％〜０．４％下がる。
また、暗縞パターンを個々に制御することによって、表示パネルによる白色光の色度を調整することも可能である。前記第１領域と前記第２領域との間の間隔を調整することによって、色の異なるサブ画素により生じる複数の前記暗縞パターンを調整し（開口率を調整する）、前記表示パネルにより生成される白色光の色度座標上の位置を調整することができる。
本発明の表示パネルによれば、水平回転する表示パネルの透過率の変化量を効果的に改善するとともに、開口率の損失を最小限にすることができる。さらに、白色光の色度を適切に調整することができ、余計な製造工程は不要となる。
従来の表示パネルを水平回転させる際に透過率の変化を示す図である。 本発明の実施形態に係る表示パネルにおける薄膜トランジスタ基板の一部を示す拡大図である。 図２Ａの２Ｂ−２Ｂ’に沿った断面図である。 本発明の一実施例の暗縞パターンを示す図である。 本発明の他の実施例の暗縞パターンを示す図である。 本発明の別の実施例の暗縞パターンを示す図である。 本発明の実施形態に係る表示パネルを水平回転させる際に傾斜角（４５度）から見た表示パネルの透過率の変化量と正面透過率との関係を示す図である。 本発明の実施形態における光配向層を画素セルに形成する方法を示す概念図である。 間隔を変化させるように制御する際に、主暗縞の幅と副暗縞の幅との変化を示す図である。
図２Ａは、本発明の実施形態に係る表示パネル１における薄膜トランジスタ基板１０の一部を示す拡大図である。図２Ｂは、図２Ａの直線２Ｂ−２Ｂ’に沿った断面図である。表示パネル１は、薄膜トランジスタ基板１０と、光配向層２０と、液晶層３０とを含んでいる。図２Ａ及び図２Ｂを合わせて参照すると、薄膜トランジスタ基板１０は、複数の画素セル１１を有し、各画素セル１１は、複数のサブ画素１２を有している。一実施形態において、各画素セル１１は、赤サブ画素１２Ｒと、緑サブ画素１２Ｇと、青サブ画素１２Ｂとを含んでいる。光配向層２０は、薄膜トランジスタ基板１０上に形成され、複数の画素セル１１上に位置し、各サブ画素１２に対応する少なくとも２つの異なる方向の配向を有している。液晶層３０は、光配向層２０上に配置され、複数の液晶分子を有している。
図２Ａ、図２Ｂ及び図３を合わせて参照する。一実施形態において、各サブ画素１２に対応する光配向層２０は、４つの異なる方向の配向を有し、光配向層２０のプレチルト角（ｐｒｅｔｉｌｔ ａｎｇｌｅ）が１．８度〜２．２度である。光線が各サブ画素１２を通過するときに、表示パネル１に暗縞パターン１００が現れる。暗縞パターン１００は、第１の主暗縞１１１と、第１の副暗縞１１２とを含んでいる。第１の主暗縞１１１は、光配向層における異なる方向の配向の間の境界部に位置し、第１方向Ｘに延伸し、第１の主暗縞１１１の中央部に第１の主暗縞の幅ｄ１１を有している。第１の副暗縞１１２は、第１の主暗縞１１１に接続され、第２方向Ｙに延伸し、第１の副暗縞１１２の中央部に第１の副暗縞の幅ｄ１２を有している。第１方向Ｘと第２方向Ｙが異なり、第１の主暗縞の幅ｄ１１が第１の副暗縞の幅ｄ１２よりも大きい。一実施形態において、第１の副暗縞１１２は、所在するサブ画素１２の第１境界１５１に平行に隣接して形成されている。一実施形態において、第１方向Ｘが第２方向Ｙに対して垂直となるようにし、第１の主暗縞１１１と第１の副暗縞１１２とが実質的に垂直となるように形成されている。
図３Ａに示すように、一実施形態において、各暗縞パターン１００が逆卍状である。具体的に、暗縞パターン１００は、第２の主暗縞１２１、第２の副暗縞１２２、第３の主暗縞１３１、第３の副暗縞１３２、第４の主暗縞１４１及び第４の副暗縞１４２をさらに含んでいる。暗縞パターン１００の形状は、配向層の配向方向及び透明導電膜（ＩＴＯ）のフリンジ電界と関連がある。一実施形態において、サブ画素１２の中心点１０１は、第１の主暗縞１１１、第２の主暗縞１２１、第３の主暗縞１３１及び第４の主暗縞１４１の交点部分であり、即ち、暗縞パターン１００の中心点である。この中心点１０１での液晶の倒れる方向が比較的に乱れ、明暗の渦巻き状パターンを呈している。そのため、従来技術では、薄膜トランジスタ基板１０の蓄積コンデンサ１３の位置を、暗縞パターン１００に対応して配置するようにしている。例えば、暗縞パターン１００の中心位置に対応して配置すると、暗縞パターン１００の中心点における液晶配向の乱れを遮蔽するとともに、開口率損失の防止を図る。
第２の主暗縞１２１の一端がサブ画素１２の中心点１０１で第１の主暗縞１１１に接続され、第２の主暗縞１２１は第１方向Ｘと逆の方向（−Ｘ）に延伸し、第２の主暗縞１２１の中央部に第２の主暗縞の幅ｄ２１を有している。第２の副暗縞１２２は、第２の主暗縞１２１の他端に接続され、第２方向Ｙと逆の方向（−Ｙ）に延伸し、第２の副暗縞１２２の中央部に第２の副暗縞の幅ｄ２２を有している。ここで、第２の主暗縞の幅ｄ２１が第２の副暗縞の幅ｄ２２よりも大きい。一実施形態において、第２の副暗縞１２２は、所在するサブ画素１２の第２境界１５２に平行に隣接して形成されている。第２境界１５２は、サブ画素１２の第１境界１５１に対向する辺である。
第３の主暗縞１３１の一端がサブ画素１２の中心点１０１で第１の主暗縞１１１と第２の主暗縞１２１とに接続され、第３の主暗縞１３１は第２方向Ｙに延伸し、第３の主暗縞１３１の中央部に第３の主暗縞の幅ｄ３１を有している。第３の副暗縞１３２は、第３の主暗縞１３１の他端に接続され、第１方向Ｘと逆の方向（−Ｘ）に延伸し、第３の副暗縞１３２の中央部に第３の副暗縞の幅ｄ３２を有している。ここで、第３の主暗縞の幅ｄ３１が第３の副暗縞の幅ｄ３２よりも大きい。一実施形態において、第３の副暗縞１３２は、所在するサブ画素１２の第３境界１５３に平行に隣接して形成されている。第３境界１５３は、サブ画素１２の第１境界１５１と第２境界１５２とに隣接する側辺である。
第４の主暗縞１４１の一端がサブ画素１２の中心点１０１で第１の主暗縞１１１と第２の主暗縞１２１と第３の主暗縞１３１とに接続され、第４の主暗縞１４１は第２方向Ｙと逆の方向（−Ｙ）に延伸し、第４の主暗縞１４１の中央部に第４の主暗縞の幅ｄ４１を有している。第４の副暗縞１４２は、第４の主暗縞１４１の他端に接続され、第１方向Ｘに延伸し、第４の副暗縞１４２の中央部に第４の副暗縞の幅ｄ４２を有している。ここで、第４の主暗縞の幅ｄ４１が第４の副暗縞の幅ｄ４２よりも大きい。一実施形態において、第４の副暗縞１４２は、所在するサブ画素１２の第４境界１５４に平行に隣接して形成されている。第４境界１５４は、サブ画素１２の第３境界１５３に対向して第１境界１５１と第２境界１５２とに隣接する側辺である。
一実施形態において、第１の主暗縞の幅ｄ１１、第２の主暗縞の幅ｄ２１、第３の主暗縞の幅ｄ３１及び第４の主暗縞の幅ｄ４１は実質的に等しい。また、第１の副暗縞の幅ｄ１２、第２の副暗縞の幅ｄ２２、第３の副暗縞の幅ｄ３２及び第４の副暗縞の幅ｄ４２は実質的に等しい。
図４は、主暗縞の幅と副暗縞の幅との比が異なる場合、表示パネルを水平回転させる際に傾斜角（４５度）かた見た表示パネルの透過率の変化量と正面透過率との関係を示す図である。例えば、主暗縞の幅と副暗縞の幅との比が１．５５である場合には、傾斜角（４５度）から見た水平回転する表示パネルの透過率の変化量が約１３％、正面透過率が約１７％である。ここで、■印は主暗縞の幅と副暗縞の幅との比を示している。
図４に示すように、主暗縞の幅と副暗縞の幅が近似している従来の場合には、例えば、主暗縞の幅と副暗縞の幅との比が１．０５である場合、傾斜角（４５度）から見た水平回転する表示パネルの透過率の変化量が約１４％であり、正面透過率が１８％である。主暗縞の幅と副暗縞の幅との比が１から２に徐々に大きくなると、傾斜角（４５度）から見た水平回転する表示パネルの透過率の変化量が１４％から１２％に急激に小さくなり、正面透過率が１８％から１７％に小さくなる。一方、主暗縞の幅と副暗縞の幅との比が２から５．７に徐々に大きくなると、傾斜角（４５度）から見た水平回転する表示パネルの透過率の変化量が１２％から約１１．５％に徐々に小さくなり、正面透過率が１７％から１３．５％に急激に小さくなる。
このように、主暗縞の幅と副暗縞の幅との比が大きくなると、主暗縞の幅が副暗縞の幅よりはるかに大きいため、開口率が低下し、正面透過率が小さくなる。図４から明らかなように、主暗縞の幅と副暗縞の幅との比が１〜２である場合、正面透過率を少し犠牲にすることによって、水平回転する表示パネルの透過率の変化量を効果的に改善できることが分かる。特に、主暗縞の幅と副暗縞の幅との比が１．４〜２である場合、水平回転する表示パネルの透過率の変化量がより良い。
上記実施形態において、暗縞パターン１００の主暗縞の幅（ｄ１１、ｄ２１、ｄ３１、ｄ４１）を副暗縞の幅（ｄ１２、ｄ２２、ｄ３２、ｄ４２）より大きくするように設計する場合には、例えば、暗縞パターン１００の主暗縞の幅（ｄ１１、ｄ２１、ｄ３１、ｄ４１）と副暗縞の幅（ｄ１２、ｄ２２、ｄ３２、ｄ４２）との比を１〜２（好ましくは１．４〜２）にするように設計すると、正面透過率を少し犠牲にすることによって、水平回転する表示パネルの透過率の変化量を効果的に改善することできる。
一実施形態において、上記暗縞パターンは、以下のような方法によって形成されてもよい。表示パネルの製造過程においては、薄膜トランジスタ基板上（薄膜トランジスタ基板と液晶層との間）及びカラーフィルタ基板上（カラーフィルタ基板と液晶層との間）にそれぞれ光配向層を形成している。ここで、薄膜トランジスタ基板上に光配向層を形成することのみについて説明する。図５を参照する。表示パネルの製造過程において、光配向層を画素セル上に形成する工程は、以下のような工程を含んでいる。まず、画素セル上に配向層を形成する。次に、第１配向マスク４１でサブ画素の下半部の第１領域Ａ１を覆い、サブ画素の上半部の第２領域Ａ２に対して光照射処理を行うことによって、第２領域Ａ２に第１方向Ｘに配向される光配向層を形成する。そして、第２配向マスク４２でサブ画素の上半部の第２領域Ａ２を覆い、サブ画素の下半部の第１領域Ａ１に対して光照射処理を行うことによって、第１領域Ａ１に第１方向Ｘと逆の方向（−Ｘ）に配向される光配向層を形成する。ここで、第３領域Ａ３は、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２との間に介在する。第３領域Ａ３は、重複に配向される領域であるため、光線がこの第３領域Ａ３を通過するときに暗縞、即ち、上記実施形態における主暗縞（１１１、１２１、１３１、１４１）が形成される。そのため、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２との間の間隔ｇを調整することによって、第３領域Ａ３に形成される主暗縞の幅を制御することができる。
図３Ａ〜図３Ｃ及び図６を合わせて参照する。図６は、図３Ａ〜図３Ｃの３Ｂ−３Ｂ’断面線に沿った輝度分布を示す図である。図６から明らかなように、間隔ｇを変化させるように制御することにより、主暗縞の幅が変化するが、副暗縞の幅が変化せず維持することが分かる。副暗縞の形成は、サブ画素のフリンジ電界と液晶の倒れる方向とが逆となることに起因するため、間隔ｇの影響を受けることがない。副暗縞の幅が変化しないので、主暗縞の幅と副暗縞の幅との比は、間隔ｇが大きくなることによって大きくなる。一実施形態において、図３Ａを参照して、間隔ｇを１０μｍにするように制御する場合には、主暗縞の幅と副暗縞の幅との比が１．８７である。図３Ｂを参照して、間隔ｇを７．５μｍにするように制御する場合には、主暗縞の幅と副暗縞の幅との比が１．５６である。図３Ｃを参照して、間隔ｇを５μｍにするように制御する場合には、主暗縞の幅と副暗縞の幅との比が１．３８である。
上述したように、主暗縞の幅と副暗縞の幅との比を１〜２（好ましくは１．４〜２）にするように設計すると、正面透過率を少し犠牲にする代わりに、水平回転する表示パネルの透過率の変化量を効果的に改善することできる。
また、暗縞パターンを個々に制御することによって、表示パネルによる白色光の色度を調整することも可能である。図２Ａを再び参照して、一実施形態において、各画素セル１１は、赤サブ画素１２Ｒと、緑サブ画素１２Ｇと、青サブ画素１２Ｂとを含んでいる。第１領域Ａ１と第２領域Ａ２との間の間隔ｇを調整することによって、赤サブ画素１２Ｒ、緑サブ画素１２Ｇ及び青サブ画素１２Ｂのそれぞれにより生じる複数の暗縞パターンを調整し（開口率を調整する）、表示パネルにより生成される白色光の色度座標上の位置（座標値）を調整することができる。
本発明の表示パネルによれば、水平回転する表示パネルの透過率の変化量を効果的に改善するとともに、開口率の損失を最小限にすることができる。さらに、白色光の色度を適切に調整することができ、余計な製造工程は不要となる。
本発明の好適な実施形態を前述の通り開示したが、これらは決して本発明を限定するものではない。本発明の特許請求の範囲による各種の変動及び修正は、本発明の保護を求める範囲内に属するものである。
１…表示パネル
１０…薄膜トランジスタ基板
１１…画素セル
１２…サブ画素
１３…蓄積コンデンサ
２０…光配向層
３０…液晶層
４１…第１配向マスク
４２…第２配向マスク
１００…暗縞パターン
１０１…中心点
１１１…第１の主暗縞
１１２…第１の副暗縞
１２１…第２の主暗縞
１２２…第２の副暗縞
１３１…第３の主暗縞
１３２…第３の副暗縞
１４１…第４の主暗縞
１４２…第４の副暗縞
１５１…第１境界
１５２…第２境界
１５３…第３境界
１５４…第４境界
ｄ１１… 第１の主暗縞の幅
ｄ１２… 第１の副暗縞の幅
ｄ２１… 第２の主暗縞の幅
ｄ２２… 第２の副暗縞の幅
ｄ３１… 第３の主暗縞の幅
ｄ３２… 第３の副暗縞の幅
ｄ４１… 第４の主暗縞の幅
ｄ４２… 第４の副暗縞の幅
Ｘ…第１方向
Ｙ…第２方向
Ａ１…第１領域
Ａ２…第２領域
ｇ…間隔

Claims (16)

  1. 表示パネルであって、
    薄膜トランジスタ基板と、光配向層と、を含み、
    薄膜トランジスタ基板は、複数の画素セルを有し、各前記画素セルが複数のサブ画素を有し、
    光配向層は、複数の前記画素セル上に位置し、各前記サブ画素に対応する少なくとも２つの異なる方向の配向を有し、
    光線が各前記サブ画素を通過するときに、前記表示パネルに暗縞パターンが現れ、前記暗縞パターンは、第１の主暗縞と、第１の副暗縞と、を含み、
    前記第１の主暗縞は、前記光配向層における異なる方向の配向の間の境界部に位置し、第１方向に延伸し、前記第１の主暗縞の中央部に第１の主暗縞の幅を有し、
    前記第１の副暗縞は、前記第１の主暗縞に接続され、第２方向に延伸し、前記第１の副暗縞の中央部に第１の副暗縞の幅を有し、
    前記第１方向と第２方向が異なり、前記第１の主暗縞の幅が前記第１の副暗縞の幅よりも大きいことを特徴とする表示パネル。
  2. 前記第１の主暗縞の幅と前記第１の副暗縞の幅との比が１．４〜２であることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
  3. 各前記画素セルにおける異なる色の複数の前記サブ画素の複数の前記主暗縞の幅が互いに異なることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
  4. 前記第１の副暗縞は、所在する前記サブ画素の境界に平行に隣接して形成されることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
  5. 各前記暗縞パターンは逆卍状であることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
  6. 前記暗縞パターンは、第２の主暗縞と第２の副暗縞とをさらに含み、
    前記第２の主暗縞は、前記光配向層における異なる方向の配向の間の境界部に位置し、その一端が前記サブ画素の中心点で前記第１の主暗縞に接続され、前記第１方向と逆の方向に延伸し、前記第２の主暗縞の中央部に第２の主暗縞の幅を有し、
    前記第２の副暗縞は、前記第２の主暗縞の他端に接続され、前記第２方向と逆の方向に延伸し、前記第２の副暗縞の中央部に第２の副暗縞の幅を有し、
    前記第２の主暗縞の幅が前記第２の副暗縞の幅よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
  7. 前記暗縞パターンは、第３の主暗縞と第３の副暗縞とをさらに含み、
    前記第３の主暗縞は、前記光配向層における異なる方向の配向の間の境界部に位置し、その一端が前記サブ画素の中心点で前記第１の主暗縞と前記第２の主暗縞とに接続され、前記第２方向に延伸し、前記第３の主暗縞の中央部に第３の主暗縞の幅を有し、
    前記第３の副暗縞は、前記第３の主暗縞の他端に接続され、前記第１方向と逆の方向に延伸し、前記第３の副暗縞の中央部に第３の副暗縞の幅を有し、
    前記第３の主暗縞の幅が前記第３の副暗縞の幅よりも大きいことを特徴とする請求項６に記載の表示パネル。
  8. 前記暗縞パターンは、第４の主暗縞と第４の副暗縞とをさらに含み、
    前記第４の主暗縞は、前記光配向層における異なる方向の配向の間の境界部に位置し、その一端が前記サブ画素の中心点で前記第１の主暗縞と前記第２の主暗縞と前記第３の主暗縞とに接続され、前記第２方向と逆の方向に延伸し、前記第４の主暗縞の中央部に第４の主暗縞の幅を有し、
    前記第４の副暗縞は、前記第４の主暗縞の他端に接続され、前記第１方向に延伸し、前記第４の副暗縞の中央部に第４の副暗縞の幅を有し、
    前記第４の主暗縞の幅が前記第４の副暗縞の幅よりも大きいことを特徴とする請求項７に記載の表示パネル。
  9. 表示パネルの製造方法であって、
    複数の画素セルを有し、各前記画素セルが複数のサブ画素を有する薄膜トランジスタ基板を提供する工程と、
    各前記サブ画素に対応する少なくとも２つの異なる方向の配向を有する光配向層を前記画素セル上に形成する工程と、を含み、
    光線が各前記サブ画素を通過するときに、前記表示パネルに暗縞パターンが現れ、前記暗縞パターンは、第１の主暗縞と、第１の副暗縞と、を含み、
    前記第１の主暗縞は、前記光配向層における異なる方向の配向の間の境界部に位置し、第１方向に延伸し、前記第１の主暗縞の中央部に第１の主暗縞の幅を有し、
    前記第１の副暗縞は、前記第１の主暗縞に接続され、第２方向に延伸し、前記第１の副暗縞の中央部に第１の副暗縞の幅を有し、
    前記第１方向と第２方向が異なり、前記第１の主暗縞の幅が前記第１の副暗縞の幅よりも大きいことを特徴とする表示パネルの製造方法。
  10. 前記光配向層を前記画素セル上に形成する工程は、
    前記画素セル上に配向層を形成する工程と、
    前記サブ画素の第１領域を第１配向マスクで覆った状態で光照射処理を行うことによって、一部が一の方向の配向を有する前記光配向層を形成する工程と、
    前記サブ画素の第２領域を第２配向マスクで覆った状態で光照射処理を行うことによって、他の一部が他の方向の配向を有する前記光配向層を形成する工程と、をさらに含み、
    前記第１領域と前記第２領域との間に間隔があることを特徴とする請求項９に記載の表示パネルの製造方法。
  11. 前記間隔が０〜１０μｍであることを特徴とする請求項１０に記載の表示パネルの製造方法。
  12. 前記間隔が５〜１０μｍであることを特徴とする請求項１１に記載の表示パネルの製造方法。
  13. 前記第１配向マスクの配向方向と前記第２配向マスクの配向方向が互いに逆であることを特徴とする請求項１０に記載の表示パネルの製造方法。
  14. 各前記画素セルは、赤サブ画素と、緑サブ画素と、青サブ画素とを含み、
    前記赤サブ画素、前記緑サブ画素及び前記青サブ画素のそれぞれにより生じる複数の前記暗縞パターンを調整するように、前記第１領域と前記第２領域との間の間隔を調整することによって、前記表示パネルにより生成される白色光の色度座標上の位置を調整する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の表示パネルの製造方法。
  15. 前記第１の主暗縞の幅と前記第１の副暗縞の幅との比が１．４〜２であることを特徴とする請求項９に記載の表示パネルの製造方法。
  16. 各前記暗縞パターンは逆卍状であることを特徴とする請求項９に記載の表示パネルの製造方法。
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