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JP2015505721A - 排出物をマイクロビーズの床において低温プラズマおよび光触媒作用により処理するための方法 - Google Patents

排出物をマイクロビーズの床において低温プラズマおよび光触媒作用により処理するための方法 Download PDF

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JP2015505721A
JP2015505721A JP2014543955A JP2014543955A JP2015505721A JP 2015505721 A JP2015505721 A JP 2015505721A JP 2014543955 A JP2014543955 A JP 2014543955A JP 2014543955 A JP2014543955 A JP 2014543955A JP 2015505721 A JP2015505721 A JP 2015505721A
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porous microbeads
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effluent
porous
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ドゥヴォー,ピエール−アレクサンドル
パルジ,ディディエ
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BEEWAIR
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Abstract

本発明は、反応器(1)の入口(4)から出口(5)までの間を移動する排出物(2)の処理方法であって、低温プラズマ処理を用いるとともにUV光触媒剤の作用を用いて排出物に処理を施して、排出物を処理するための酸化種を生成することを含む方法に関する。本発明によれば、この方法は、排出物に低温プラズマ処理を施すと同時にUV光触媒剤の作用で前記排出物を処理することを含み、反応器(1)の内部に配置され、光触媒剤を担持する多孔質マイクロビーズ(9)の床の内部で局所的に低温プラズマ処理を実施して、酸化種を発生させるとともにそれら酸化種を床の内部で拡散させる。【選択図】 図1

Description

本発明は、化学汚染物質、微生物、および/または粒子を含有するガス状または水性の排出物を光触媒作用と低温プラズマとを併用した技術を用いて処理することに関する。
本発明の目的は、例えば、粒子、ウイルス、細菌、かび、藻類などの微生物などの環境汚染物質、VOC、SVOC、BTEX、HAP(C10−C25)、HAAA、NOX、SOX、H2S、CO、O3、ハロゲン化合物、内分泌撹乱物質、およびすべての匂い分子などの化学汚染物質を含有する排出物を処理することである。
本発明の主題は、以下の用途に限定はされないが、例えば、化学および石油化学産業分野;医療および病院業分野;農産物加工ライン;養鶏、園芸植物栽培、樹木栽培、ブドウ栽培などの食品生産および飼育栽培現場;果物、野菜、魚、肉、チーズ、パン・菓子類などの腐敗しやすい食品の低温貯蔵;水処理工場;小規模発電所;雨水貯留槽;公共施設および住宅向けに供される民営および公営の第三次産業などに、特に有利に応用できる。
誘電体バリア放電により発生する低温プラズマの原理は、ラジカル型の励起化学種、アニオン、およびカチオンを生じるものである。このようにしてガス状のプラズマを発生させることで、ガス状または水性の排出物に含有される汚染物質の化学結合を攻撃できる。実際には、エアギャップなどの誘電体によって分離された2つの対称電極間に高い電圧を印加することにより、大気圧下で低温プラズマが得られる。電気アークの影響を受けて、エアギャップがイオン化される。電気アークが環境中に含有される成分をイオン化して、アニオン、カチオン、少数のラジカル、および励起種を生じる。それらの混合物が存在する化合物を分解する。
誘電体バリア放電により発生する低温プラズマを用いて化学分子および揮発性有機化合物(VOC)を破壊することは当該分野において公知である。その技術では、酸素を含有する排出物中に大気圧下でプラズマを生じさせることで、O3を発生できる。その濃度によっては、O3は微生物に対して殺菌効果を有する。
光触媒処理は、紫外(UV)光子での励起により誘発される反応によって空気中または水中に存在する各種の有機汚染物質を破壊可能な光触媒剤を用いる化学的酸化還元方法である。光触媒処理では、酸化金属(M−OX)型の半導体に対して380ナノメートル(nm)より短い波長でUV照射を行い、その結果としてラジカル(O2およびOH)を生じる。UV照射中に、M−OX型半導体の電子雲が変化する、すなわち、一つまたは複数の電子が電気的ギャップを超える。空気または水に接触すると、これらの電子は、M−OX型半導体の表面に水酸化ラジカルおよび酸素ラジカルなどのラジカルを生じる。非常に高い反応速度を有するこれらのラジカルは、UV照射により活性化したM−OX部位に吸着された有機化学成分を攻撃し、それらの化学結合を壊してそれらを分解する。これにより、CO2、H2O、N2などへの化合物の全体的な、または部分的な分解が起こり得る。
ガス状の排出物に含有される化合物を分解するためのUV光触媒処理のみの使用が、例えば特許出願WO00/72945に記載されている。さらに、光触媒処理と低温プラズマの2つの技術が、既に組み合わされて記載されている。
例として、特許出願WO2007/051912は、ガス状の排出物を処理するための方法であって、トリクルベッド型の反応器において、誘電体バリア放電により生じる低温プラズマと外部UV源を用いた光触媒処理とを同時に連動させる方法を記載している。誘電体バリア放電装置の誘電体の壁が、光触媒剤としてのTiO2で被覆されている。UV照射により活性化された光触媒の内部でプラズマ放電が起こる。その文献に記載された技術には、TiO2での放電中に生成される反応種が主にアニオンとカチオンであり、それらの一部がO2 -,O3 -、およびOH-からラジカルを発生するのに消費されるという欠点がある。その技術では、放電中のオゾンの生成は制限されるが、反応器出口でのオゾンの生成と二次汚染物質の生成とが防止されない。さらに、反応器の構造上、放電によって生成されるすべてのイオン種をラジカルに変えるための十分に長い無機化時間が得られない。
また、特許出願US2002/0168305は、ウイルスや細菌などの微生物を除去するための空気処理システムを記載している。その処理システムは、空気をイオン化しオゾンを生じさせるために放電ランプが中央に配置された環状の反応器を備えている。2つの金属メッシュ製のスリーブの間に設けられた多孔質誘電体が反応器の壁を構成している。その部分で誘電体放電を起こしてイオン種およびラジカル種を生じさせるとともに、中央チャンバで生じたオゾンを消費させる。
この浄化処理は3つの工程で実施される。
・イオン種およびオゾンの発生を伴う反応器の中心でのUV照射およびイオン化。
・多孔質誘電体内部での放電および光触媒処理:多孔質誘電体全体にわたるイオンの生成およびオゾンの生成ならびにラジカルの生成およびオゾンの破壊。
・出口での濾過。
その技術には、特許出願WO2007/051912と同様の欠点がある。ラジカルを発生するホモリティックな酸化還元反応が光触媒反応により引き起こされ、その一方で、イオンが関与するヘテロリティックな反応が放電過程により引き起こされる。また、光触媒反応の方がより急速でそれ故優勢である。このことにより、反応器内部での、イオン、オゾン、およびラジカル反応種の不均質な勾配の形成が制限される。酸化能力は変化せず、化学汚染物質および汚染微生物を有効かつ完全には無機化できない。
J.Y.BAN等の発表(“Highly concentrated toluene decomposition on the dielectric barrier discharge (DBD) plasma-photocatalytic hybrid system with Mn-Ti-incorporated mesoporous silicate photocatalyst (MN-Ti-MPS)”, Applied Surface Science, ELSEVIER, AMSTERDAM, NL, vol. 253, No. 2, 15 November 2006 (2006-11-15), pp. 535-542, SP024893621, ISSN: 0169-4332, DOI: 10.1016/J.APSUSC.2005.12.103 [2006年11月15日発行からの抜粋] *2.4章“Analysis of product for toluene decomposition”; 537頁〜538頁、図3)には、プラズマ処理および光触媒処理に基づくハイブリッドシステムにおけるトルエンの破壊にMnおよびTiを含むメソポーラスケイ酸化合物を使用することに関する研究が記載されている。この目的のために、記載されている反応器は、プラズマ反応器とその後段に配置された光触媒剤を収容する光触媒反応器とを備える。イオン種の生成を活用して放電によりトルエンを予備分解するプラズマ反応器にトルエンをまず初めに通し、次いで光触媒反応器からの副生成物をCO2へと無機化することにより、トルエンを分解する。
その技術は、イオン化による予備分解の実施とそれに続く無機化とによるトルエンの破壊に限定的に適用されており、このような技術の用途が制限されている。さらに、この技術を用いて効率的な処理は達成できない。その理由は、この技術が以下の2つの連続する反応を通じて汚染物質を分解するからである。
・初期汚染物質よりも毒性が強いおそれのある二次反応中間生成物を生じる、発生したイオン種の付加反応および置換反応、
・最適なトルエンの無機化の達成には使用できない光触媒反応器の構成によって決定づけられる酸化能力に反応の成果が依存する、上記反応に続く光触媒酸化反応。
最初のプラズマ反応器を経て生じる二次反応中間生成物は、二番目の光触媒反応器でのラジカル分解中にトルエンと競合する。図10および図11に見られるように、還元されない毒性種が必ず存在し、これらの図は、得られるCO2変換率が27%〜43.87%であり、変異原性、発がん性、生殖毒性(CMR)のあるベンゼンを含む毒性の二次反応中間生成物が発生するという当該技術の限界を示している。
さらに、このトルエン無機化試験は1000ppmのトルエンを注入して実施されたことに留意する必要があ。このことは、ガス状の排出物の連続的な処理を必要とする工業用途に上記のシステムは使用できないことを意味する。
そこで、本発明は、UV照射による光触媒処理と低温プラズマの生成とを同時に併用することによって排出物を処理する技術であって、任意の発生源からの排出物における有機化合物破壊性能を改善するために生成される酸化種を制御するのに適した技術を提案し、先行技術の欠点を克服することを目的とする。
そこで、本発明は、反応器の入口から出口までの間を移動する排出物の処理方法であって、低温プラズマ処理を用いるとともにUV光触媒剤の作用を用いて排出物に処理を施して、排出物を処理するための酸化種を生成することを含む。
本発明によれば、上記方法は、反応器の内部に配置され、光触媒剤を担持する多孔質マイクロビーズの床の内部で局所的に上記低温プラズマ処理を実施して、酸化種を発生させるとともにそれら酸化種を床の内部で拡散させることを含む。
また、本発明の方法はさらに、以下の付加的特徴のうちの少なくとも1つを組み合わせて有してもよい。
・反応器の内部に多孔質マイクロビーズの流動床を形成する。
・光触媒処理および多孔質マイクロビーズによる部分的吸収、低温プラズマ処理を併用した光触媒処理および多孔質マイクロビーズによる部分的吸収、ならびに、光触媒処理および多孔質マイクロビーズによる部分的吸収を含む処理サイクルを、反応器の入口から出口までの間に排出物に対して少なくとも1回連続的に実施する。
本発明のさらなる目的は、上記処理方法を実施するための反応器を提供することである。
本発明によれば、上記反応器は、
・入口から出口まで排出物を移動させるための通路を画定する容器であって、その内部にUV光触媒剤を担持する多孔質マイクロビーズの床が設置されている容器と、
・多孔質マイクロビーズへのUV照射用の少なくとも1つのUV照射源と、
・低温プラズマを発生させる少なくとも1つの誘電体バリア放電装置であって、酸化種を発生させるとともに該酸化種を上記多孔質マイクロビーズの床の内部で拡散できるように、上記床の内部に局所的に内蔵されている誘電体バリア放電装置と、を備える。
また、本発明の反応器は、以下の付加的特徴のうちの少なくとも1つを組み合わせて有してもよい。
・容器が互いに同心状の外壁と内壁とによって画定され、UV照射源が内壁によって画定される収容部に設置され、一連の誘電体バリア放電装置が容器の内部に内蔵されている。
・誘電体バリア放電装置が容器内に軸方向に沿って配置され軸周りに角度をつけて分布されている、または誘電体バリア放電装置が容器の流路の1箇所または複数箇所の断面において内壁から放射状に配置されている。
・容器が、一方の面に排出物の入口を有するとともに反対の面に排出物の出口を有する細長の筐体によって画定され、出口が入口に対して短手方向にずらして配置され、筐体が誘電体バリア放電装置とUV照射源とが収容された多孔質マイクロビーズの床を含む。
・容器が、入口を画定するとともに2つの側壁に接合された外周壁によって画定され、2つの側壁の一方が出口を画定する。
・容器が、該容器の内部に互い違いに配列された一連の処理モジュールを備え、処理モジュールはそれぞれ、UV照射源と誘電体バリア放電装置とを支持する方向調節可能な支持体を備える。
・容器が、取り外し可能なカートリッジとして作製され、仮固定手段と誘電体バリア放電装置用およびUV照射源用の電気接続端子とが設けられた装着基部を備え、多孔質マイクロビーズの床が、処理対象である排出物を透過可能な保持用のスクリーンを用いて基部に保持されている。
・多孔質マイクロビーズの床を流動化するためのシステム。
・多孔質マイクロビーズの床を流動化するためのシステムが、多孔質マイクロビーズの床を過圧状態または減圧状態にできる。
・多孔質マイクロビーズが、3〜10オングストロームの範囲の孔径を有する。
・多孔質マイクロビーズが、500マイクロメートル(μm)〜5センチメートル(cm)の範囲、好ましくは1000μm〜8000μmの範囲の直径を有する。
・多孔質マイクロビーズが、イルメナイト、ゼオライト、活性炭、および/または過マンガン酸カリウムからなる。
・多孔質マイクロビーズの光触媒剤が、イルメナイト、TiO2、ZnO、MO、および重金属の中から単独で、または組み合わせて選択される。
・UV照射源が、150nm〜420nmの範囲の波長で照射する。
・UV照射源が、保持用のスクリーンの周縁に分布された一連のUVダイオードによって形成される。
他の様々な特徴が、本発明の主題の実施形態を非限定的な例として示している添付の図面を参照してなされる以下の説明から明らかになる。
図1は、本発明に係る処理反応器の第1の実施形態例の縦断面図である。 図1Aは、反応器内で得られる酸化能力Cの変動を排出物の経路Lに応じて示す図である。 図2は、本発明に係る反応器の実質的に図1のII‐II線に沿った横断面図である。 図2Aは、反応器内で得られる酸化能力Cの変動を反応器の断面Sに沿って示す図である。 図3は、本発明に係る反応器の第2の実施形態例の縦断面図である。 図3Aは、反応器内で得られる酸化能力Cの変化を排出物の経路Lの長さ方向に応じて示す図である。 図4は、実質的に図3のIV‐IV線に沿った横断面図である。 図4Aは、反応器内で得られる酸化能力Cの変化を反応器の断面Sに沿って示す図である。 図5は、本発明に係る反応器の様々な別の実施形態を示す。 図6は、本発明に係る反応器の様々な別の実施形態を示す。 図7は、本発明に係る反応器の様々な別の実施形態を示す。 図8は、本発明に係る反応器の様々な別の実施形態を示す。 図9は、本発明に係る反応器の様々な別の実施形態を示す。
図1、図2は、排出物2を処理するための本発明に係る反応器1の第1の実施形態例を一般的に示している。排出物2はガス状または水性であり、例えば、粒子、ウイルス、細菌、かび、藻類などの微生物などの環境汚染物質、VOC、SVOC、BTEX、HAP(C10−C25)、HAAA、NOX、SOX、H2S、CO、O3、ハロゲン化合物、内分泌撹乱物質、およびすべての匂い分子などの化学汚染物質といった汚染物質を含む。
反応器1は、排出物の入口4と処理済み排出物の出口5とを有する本体あるいは容器3を備える。容器3の内部が、入口4から出口5まで排出物を移動させるための通路を形成するチャンバ6を画定しており、排出物は不連続的にまたは連続的に移動される。
図示した実施形態では、容器3は断面円形の外壁7を備え、その内部に同じく断面円形の内壁8が設けられている。これら2つの壁、内壁8と外壁7とは、互いに同心状に設けられた2つの筒状の壁である。従って、チャンバ6は円環状である。当然ながら、反応器の形状は断面円形の筒状構造とは異なっていてもよい。
本発明の1つの特徴によれば、多孔質マイクロビーズ9の床が容器3の内部に設置されている。以下の記載において説明するように、排出物が反応器の入口4から出口5までの間を進行する際に多孔質マイクロビーズの床を通過するように、多孔質マイクロビーズ9が移動通路6に配置されている。この実施形態では、容器3は、排出物を透過可能でかつ多孔質マイクロビーズ9を適切な位置に保持できる2つの側壁を備える。従って、容器3は例えば、マイクロビーズ9を保持するためのシステムとしてスクリーン10を備える。
なお、1つの変形形態では、多孔質マイクロビーズの床を流動化してもよい。この変形形態では、反応器1は、多孔質マイクロビーズの床を流動化するためのシステム11を備える。一例として、多孔質マイクロビーズ9の床を流動化するためのシステム11を用いて多孔質マイクロビーズの床を過圧状態または減圧状態にできる。一例として、システム11はポンプまたはファンであってもよい。
多孔質マイクロビーズの孔径は、有利には3〜10000オングストロームの範囲にあり、有利には3〜5000オングストロームの範囲にあり、より好ましくは3〜10オングストロームの範囲にある。
一例として、各多孔質マイクロビーズ9は球状であり、500μm〜5cmの範囲、好ましくは1000μm〜8000μmの直径を有する。
多孔質マイクロビーズは、イルメナイト、ゼオライト、活性炭、および/または過マンガン酸カリウムからなる。
本発明の別の特徴によれば、多孔質マイクロビーズ9はUV光触媒剤を担持する。
多孔質マイクロビーズ9の光触媒剤は、イルメナイト、TiO2、ZnO、MO、および重金属の中から単独で、または組み合わせて選択される。
多孔質マイクロビーズ9は1つまたは複数の材料から作製されることが理解されるであろう。多孔質マイクロビーズ9は、それが光触媒剤であれば単一の材料から作製されてもよい。従って、例えば、多孔質マイクロビーズ9は、イルメナイトのみから作製されてもよい。
1つの変形形態では、反応器1の内部に配置された床の多孔質マイクロビーズ9のすべてが同一である。別の変形形態では、反応器1は、構成材料の量、空孔率、および直径が異なる多孔質マイクロビーズ9を収容してもよい。従って、多孔質マイクロビーズ9は、好ましくは3〜10オングストロームの均一な、または不均一な孔径を有してもよい。また、多孔質マイクロビーズ9は、500μm〜5cmの均一な、または不均一な直径を有してもよい。本発明の別の特徴によれば、反応器1は、多孔質マイクロビーズ9へのUV照射用の少なくとも1つのUV照射源12を備え、図1〜図4に示す例では1つのみのUV照射源12を備える。図示した例では、UV照射源12は、筒状の内壁8の内部に設けられた収容部に設置されている。UV照射源12は、発せられたUV光が容器3に配置された多孔質マイクロビーズ9の光触媒剤に作用できるように設置されている。UV照射源は、150nm〜420nmの範囲、好ましくは180nm〜365nmの範囲の波長で照射する。当然ながら、より大きなサイズの、または異なる形状の容器3の場合には、反応器1は、容器3の内部に配置されたすべての多孔質マイクロビーズ9を照射できるように、複数のUV照射源12を装備してもよい。
反応器1はまた、低温プラズマを発生させる少なくとも1つの誘電体バリア放電装置14であって、多孔質マイクロビーズ9の床の内部に局所的に内蔵された誘電体バリア放電装置14を備え、図1、図2に示す例では4つの誘電体バリア放電装置14を備える。各誘電体バリア放電装置14は、誘電体17によって隔てられた2つの電極15、16を備える。電極15、16は、12ボルト(V)〜220Vの直流(DC)または交流(AC)電源19に接続されている。なお、各誘電体バリア放電装置14は、多孔質マイクロビーズ9に包囲されるように、多孔質マイクロビーズ9の床内に埋め込まれている。なお、多孔質マイクロビーズ9は、電極15、16の間には位置できないが、電極15、16の外側に配置されている。
図1、図2に示す例では、誘電体バリア放電装置14は、容器3内に軸方向に沿って配置され、軸周りに角度をつけて分布されている。各誘電体バリア放電装置14は、隣り合う装置に対して90°ずらして配置され、反応器の軸方向長さよりも短い限られた長さにわたって延びている。図1、図2に見られるように、各誘電体バリア放電装置14は、多孔質マイクロビーズ9群の内部に完全に内蔵されるか、または多孔質マイクロビーズ9によって完全に包囲されるように、内外壁8、7から間隔をおいて、さらには反応器1の両端からも間隔をおいて延びている。
上述した本発明に係る反応器1を用いることで、特に効果的な処理方法を実施できる。
すなわち、本発明の方法は、排出部に低温プラズマ処理(1つまたは複数の誘電体バリア放電装置14を用いる)を施すと同時にUV光触媒剤の作用(多孔質マイクロビーズ9に対して作動するUV照射源12を用いる)で排出物を処理することにより、活性酸化種、有利には主として排出物の処理と最適な無機化を促進するラジカル雲を形成するラジカルから構成される活性酸化種、の最適な発生を可能にすることを目的とする。本発明の方法は、反応器1の内部に配置され、光触媒剤を担持する多孔質マイクロビーズ9が誘電体バリア放電装置14の誘電体バリアを介した放電にさらされないように、多孔質マイクロビーズ9の床の内部に内蔵されて配置された手段によって低温プラズマ処理を実施する。このような方法を用いることで、異なる性質の活性種または酸化種、主としてプラズマについてはイオンおよびオゾン、光触媒については水酸化ラジカルおよび酸素ラジカルを発生させることができる。低温プラズマとUV源12に照射された自己触媒性の多孔質マイクロビーズ9とによってそれぞれ別々にかつ同時に発生したこれらの活性化合物もしくは酸化化合物または活性種もしくは酸化種は、化合物および微生物を破壊して無機化できるとともに、粒子を保持して多孔質マイクロビーズ9を再生できる。このような原理によれば、活性種または酸化種を発生させながら、反応器1における存続期間および各種反応の速度を適切に管理できる。酸化種または反応種(イオンまたはラジカル)(および/または反応器の酸化能力の要素となる反応種の混合物)の性質と汚染物質の性質とによっては、存続期間および反応速度は、10-9秒(S)〜数秒の範囲である。
従って、本発明の方法によれば、床の内部で生成される酸化種の量が反応器1の入口4から出口5までの間で変化して、これにより、酸化種が局所的に発生するとともに床の内部で拡散することが確実になる。容器3においてこのような酸化種生成の勾配を得ることで、化学汚染物質、汚染微生物、および粒子の複合混合物の同時分解が可能になり、その結果それらがCO2、H2O、N2、O2、およびH22へと無機化される。図1Aに見られるように、多孔質マイクロビーズの床の内部で生成される酸化種の量、すなわち反応器の酸化能力Cは、反応器の入口4から出口5までの間で増大・向上する。
従って、本発明の反応器1を用いることで、フェントン効果によるラジカル種およびH22の生成を促進できる。H22の生成を利用することで、反応器内の酸化能力Cを向上させ、得られる全体的な殺菌効果を向上させることができる。残存したH22は、細菌への攻撃および/またはOHの生成の際に局所的に消費される。このように、本発明の方法は、反応器の入口から出口までの間に排出物に対して処理サイクルを少なくとも1回連続的に実施することを目的とすることが理解されるであろう。当該処理サイクルは、
・入口4と誘電体バリア放電装置14との間に位置する領域における光触媒処理および多孔質マイクロビーズ9による部分的吸収、
・誘電体バリア放電装置14が配置された反応器1のチャンバにおける低温プラズマ処理を併用した光触媒処理および多孔質マイクロビーズ9による部分的吸収、ならびに、
・反応器の出口5と誘電体バリア放電装置14との間に位置する領域における光触媒処理および多孔質マイクロビーズ9による部分的吸収、
を含む。
図3、図4は、本発明に係る反応器1の別の実施形態例を示しており、反応器1は、容器内に放射状に分布された誘電体バリア放電装置14を備える。この例では、容器3の流路の複数箇所の断面において、誘電体バリア放電装置14が放射状に分布されている。容器3の流路の当該複数箇所の断面のそれぞれは、反応器1の内壁6から放射状に延びる5つの誘電体バリア放電装置14を含む。図3、図4に示す例では、反応器1は、反応器1の入口4と出口5との間に分布された3組の誘電体バリア放電装置14群を備える。図3、図4に示す反応器1の動作原理は、図1、図2に示す反応器1の動作原理と類似している。従って、多孔質マイクロビーズの床の内部で生成される酸化種の量、すなわち反応器の酸化能力Cが、反応器1の入口4から出口5までの間で増大・向上する(図3A)。しかし、隣り合う2組の誘電体バリア放電装置14群の間で、生成される酸化種の量はわずかに低下・減少する。図3Aに明らかに見られるように、誘電体バリア放電装置14を排出物の経路に沿って並べて配置することで、反応器の入口から出口までの間で反応器の全体的な酸化能力を向上できる。
当然ながら、反応器1には、放射状に延びる複数の誘電体バリア放電装置14を1箇所のみに設けてもよい。同様に、同一の反応器1において、軸方向に延びる誘電体バリア放電装置14と放射状に延びる誘電体バリア放電装置14とを併用してもよい。
図5は、本発明に係る反応器のさらなる実施形態例を示しており、この反応器は細長の筐体20で、その内部が容器3を画定している。筐体20はその一方の主面に排出物の入口4を有し、その反対の主面に排出物の出口5を有する。入口4および出口5は、細長の筐体20の長さの全体または一部にわたって延びており、容器3内に配置された多孔質マイクロビーズ9群の内部を排出物が通過できるようにするために、互いに対して短手方向にずらして配置されている。多孔質マイクロビーズ9群の内部には、筐体20の内部を長手方向に延びる1つまたは複数のUV照射源12が設置されているとともに、同じく筐体20の内部を長手方向に延びる1つまたは複数の誘電体バリア放電装置14が設置されている。一例として、UV照射源12は出口5に対向するように配置され、一方誘電体バリア放電装置14は入口4に対向するように配置される。
図6は、反応器1の別の変形形態を示しており、この反応器1では、処理対象である排出物の入口を画定している外周壁25によって容器3が画定されている。この周壁25は、2つの側壁26、27に接合されており、2つの壁の一方、例えば壁27が、排出物の出口5を画定している。容器3は、出口5が設けられた壁とは反対側の壁26から容器3の内部を軸方向に延びる1つまたは複数のUV照射源12を備える。反応器はまた、壁26から軸方向に延びるとともに、出口5が設けられた壁25からも延びる1つまたは複数の放電装置14を備える。従って、排出物は、接線状に容器3内へ入り、出口5を介して軸方向に沿って出ていく。
図7は、反応器1の別の実施形態を示しており、この反応器1は、筐体29によって画定される容器3の内部に互い違いに配列された一連の処理モジュール28を備える。各処理モジュール28は、1つまたは複数のUV照射源12と1つまたは複数の放電装置14とが設けられた支持体30を備える。処理モジュール28は、筐体19の2つの対向する側壁にそれぞれ配置された入口4と出口5との間の排出物の経路に連続して配置されている。各支持体30は筐体29の全幅にわたって延びており、UV照射源12が筐体の幅に沿って延びる一方、誘電体バリア放電装置14は、支持体30上に適切に分布されるように、支持体30から立ち上がっている。
このように処理モジュール28を容器3の内部に配置すれば、乱流を生じさせることができ、流れと圧力損失とを制御できる。有利には、各支持体29が反応器1の内部で自在に方向調節できるように設置されている。
当然ながら、図5〜図7に示す反応器の容器3は、図1〜図4に関して説明したように多孔質マイクロビーズ9を収容している。これら多孔質マイクロビーズ9は、保持用のスクリーンなどの排出物を透過可能な保持システム10を用いて、容器の内部に適切な位置で保持される。
なお、容器3の全体が多孔質マイクロビーズ9で充填されていてもよい。ただし、多孔質マイクロビーズ9は、誘電体バリア放電装置14を1つのみ包囲するように構成された保持システム10によって閉じ込められていてもよい。すなわち、図8に明らかに見られるように、容器3の部分3aは多孔質マイクロビーズ9を含まない。当然ながら、このような配置を本発明に係る反応器のすべての実施形態に対して選択してもよい。
図9は、反応器1の別の変形形態を示しており、この反応器1は、好ましくは取り外し可能なコンパクトな構成である。反応器1は、バヨネットや締め付けねじなどの任意の種類の仮固定手段31が設けられた装着基部30を備える取り外し可能なカートリッジとして作製される。基部30はまた、放電装置14用およびUV照射源12用の電気接続端子33を備える。有利には、放電装置14が基部30上に設置され、処理対象である排出物を透過可能な保持用のスクリーン10を用いて基部30に保持された多孔質マイクロビーズ9によって放電装置14が包囲されている。限定的ではないが好ましい変形形態では、UV照射源12が、保持用のスクリーン10の周縁に分布された一連のUV発光ダイオード(LED)によって形成される。
当然ながら、多孔質マイクロビーズ9の床を流動化するためのシステム11を備える、または備えない本発明の反応器の任意の変形形態が可能である。
本発明は、発明の範囲を逸脱しない限り種々の変更を施すことが可能であるので、説明し図示した例に限定されない。

Claims (18)

  1. 反応器(1)の入口(4)から出口(5)までの間を移動する排出物(2)の処理方法であって、低温プラズマ処理を用いるとともにUV光触媒剤の作用を用いて前記排出物に処理を施して、前記排出物を処理するための酸化種を生成することを含み、
    前記処理方法は、
    前記排出物に低温プラズマ処理を施すと同時にUV光触媒剤の作用で前記排出物を処理することを含み、
    前記反応器(1)の内部に配置され、前記光触媒剤を担持する多孔質マイクロビーズ(9)の床の内部で局所的に前記低温プラズマ処理を実施して、酸化種を発生させるとともに前記酸化種を前記床の内部で拡散させることを特徴とする、方法。
  2. 前記反応器(1)の内部に多孔質マイクロビーズ(9)の流動床を形成することを含むことを特徴とする、請求項1に記載の処理方法。
  3. 前記反応器(1)の前記入口(4)から前記出口(5)までの間に前記排出物に対して処理サイクルを少なくとも1回連続的に実施することを含む処理方法であって、前記処理サイクルは、
    光触媒処理および前記多孔質マイクロビーズ(9)による部分的吸収、
    低温プラズマ処理を併用した光触媒処理および前記多孔質マイクロビーズ(9)による部分的吸収、ならびに、
    光触媒処理および前記多孔質マイクロビーズ(9)による部分的吸収、
    を含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の処理方法。
  4. 請求項1〜3のいずれか一項に記載の処理方法を実施するための反応器であって、
    入口(4)から出口(5)まで排出物(2)を移動させるための通路を画定する容器(3)であって、その内部にUV光触媒剤を担持する多孔質マイクロビーズ(9)の床が設置されている容器(3)と、
    前記多孔質マイクロビーズ(9)へのUV照射用の少なくとも1つのUV照射源(12)と、
    低温プラズマを発生させる少なくとも1つの誘電体バリア放電装置(14)であって、前記UV照射を同時に実施することによって酸化種を発生させるとともに前記酸化種を前記多孔質マイクロビーズの前記床の内部で拡散できるように、前記床の内部に局所的に内蔵されている誘電体バリア放電装置(14)と、
    を備えることを特徴とする、反応器。
  5. 前記容器(3)は、互いに同心状の外壁と内壁とによって画定され、
    UV照射源(12)が前記内壁(8)によって画定される収容部に設置され、一連の誘電体バリア放電装置(14)が前記容器(3)の内部に内蔵され、
    前記容器(3)は、前記入口(4)と前記出口(5)とをそれぞれ画定する側壁を有することを特徴とする、請求項4に記載の反応器。
  6. 前記誘電体バリア放電装置(14)は、前記容器(3)内に軸方向に沿って配置され軸周りに角度をつけて分布されている、または前記誘電体バリア放電装置(14)は、前記容器(3)の流路の1箇所または複数箇所の断面において前記内壁(8)から放射状に配置されていることを特徴とする、請求項5に記載の反応器。
  7. 前記容器(3)は、一方の面に前記排出物の前記入口(4)を有するとともに反対の面に前記排出物の前記出口(5)を有する細長の筐体(20)によって画定され、
    前記出口は前記入口に対して短手方向にずらして配置され、
    前記筐体は、前記誘電体バリア放電装置(14)と前記UV照射源(12)とが収容された前記多孔質マイクロビーズ(9)の床を含むことを特徴とする、請求項5に記載の反応器。
  8. 前記容器(3)は、前記入口を画定するとともに2つの側壁に接合された外周壁によって画定され、前記2つの側壁の一方が前記出口(5)を画定することを特徴とする、請求項5に記載の反応器。
  9. 前記容器(3)は、該容器の内部に互い違いに配列された一連の処理モジュールを備え、前記処理モジュールはそれぞれ、前記UV照射源(12)と前記誘電体バリア放電装置(14)とを支持する方向調節可能な支持体(29)を備えることを特徴とする、請求項5に記載の反応器。
  10. 前記容器(3)は、取り外し可能なカートリッジとして作製され、仮固定手段(31)と前記誘電体バリア放電装置(14)用および前記UV照射源(12)用の電気接続端子(33)とが設けられた装着基部(30)を備え、
    前記多孔質マイクロビーズ(9)の床は、処理対象である前記排出物を透過可能な保持用のスクリーン(10)を用いて前記基部に保持されていることを特徴とする、請求項5に記載の反応器。
  11. 前記多孔質マイクロビーズ(9)の床を流動化するためのシステム(11)を備えることを特徴とする、請求項4〜10のいずれか一項に記載の反応器。
  12. 前記多孔質マイクロビーズ(9)の床を流動化するための前記システム(11)は、前記多孔質マイクロビーズの床を過圧状態または減圧状態にできることを特徴とする、請求項11に記載の反応器。
  13. 前記多孔質マイクロビーズ(9)は、3〜10オングストロームの範囲の孔径を有することを特徴とする、請求項4〜12のいずれか一項に記載の反応器。
  14. 前記多孔質マイクロビーズ(9)は、500μm〜5cmの範囲、好ましくは1000μm〜8000μmの範囲の直径を有することを特徴とする、請求項4〜13のいずれか一項に記載の反応器。
  15. 前記多孔質マイクロビーズ(9)は、イルメナイト、ゼオライト、活性炭、および/または過マンガン酸カリウムからなることを特徴とする、請求項4〜14のいずれか一項に記載の反応器。
  16. 前記多孔質マイクロビーズ(9)の前記光触媒剤は、イルメナイト、TiO2、ZnO、MO、および重金属の中から単独で、または組み合わせて選択されることを特徴とする、請求項4〜15のいずれか一項に記載の反応器。
  17. 前記UV照射源(12)は、150nm〜420nmの範囲の波長で照射することを特徴とする、請求項4〜16のいずれか一項に記載の反応器。
  18. 前記UV照射源(12)は、前記保持用のスクリーン(35)の周縁に分布された一連のUVダイオードによって形成されることを特徴とする、請求項17に記載の反応器。
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