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JP2015231002A - Manufacturing method of package for electronic device - Google Patents

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JP2015231002A
JP2015231002A JP2014117368A JP2014117368A JP2015231002A JP 2015231002 A JP2015231002 A JP 2015231002A JP 2014117368 A JP2014117368 A JP 2014117368A JP 2014117368 A JP2014117368 A JP 2014117368A JP 2015231002 A JP2015231002 A JP 2015231002A
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JP
Japan
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manufacturing
package
metal plate
vibrator
electronic device
Prior art date
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Pending
Application number
JP2014117368A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
賢 三上
Masaru Mikami
賢 三上
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a package for an electronic device capable of thickening a terminal and accurately forming the terminal.SOLUTION: A method for manufacturing a package for an electronic device includes the steps of: preparing an insulating substrate and a metal plate; sticking the insulating substrate and the metal plate; and forming a terminal by removing a part of the metal plate. The terminal forming step preferably removes the metal plate by etching. In the preparing step, a constituent material of the insulating substrate preferably includes glass. The thickness of the terminal is preferably not less than 50 μm.

Description

本発明は、電子デバイス用パッケージの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing an electronic device package.

例えば、特許文献1には、キャップ部材とベース部材とを有するパッケージ(電子デバイス用パッケージ)に水晶片を収容してなる水晶振動子が記載されている。   For example, Patent Document 1 describes a crystal resonator in which a crystal piece is accommodated in a package (electronic device package) having a cap member and a base member.

また、ベース部材のキャップ部材と反対側の面には、水晶振動子を回路基板(実装基板)に実装する際に用いられ、半田等で前記回路基板に接続される端子が設けられている。この端子は、導電性ペーストを塗布し、焼成して形成される。   The surface of the base member opposite to the cap member is provided with a terminal that is used when the crystal resonator is mounted on a circuit board (mounting board) and is connected to the circuit board with solder or the like. This terminal is formed by applying a conductive paste and baking.

しかしながら、前記従来の端子の形成方法(電子デバイス用パッケージの製造方法)では、端子を厚く形成することは、困難であった。すなわち、導電性ペーストを塗布して焼成する工程を1回行って形成される金属層の厚さは薄く、このため、厚い端子を設けるには、前記工程を複数回行う必要があり、その複数回の工程で形成される金属層間にズレが生じ、また、焼成時に金属層が収縮するので、厚い端子を精度良く形成することができなかった。   However, in the conventional terminal forming method (electronic device package manufacturing method), it is difficult to form a thick terminal. That is, the thickness of the metal layer formed by performing the process of applying and baking the conductive paste once is thin. Therefore, in order to provide a thick terminal, the process needs to be performed a plurality of times. Since a shift occurs between the metal layers formed in the steps, and the metal layer contracts during firing, a thick terminal cannot be formed with high accuracy.

なお、端子の厚さが薄いと、水晶振動子を回路基板に実装した状態では、パッケージと回路基板との熱膨張率の違いからパッケージに応力が生じ、このため、水晶振動子の振動特性(周波数特性)が変動してしまう。   When the terminal is thin, when the crystal unit is mounted on the circuit board, stress is generated in the package due to the difference in thermal expansion coefficient between the package and the circuit board. The frequency characteristics will fluctuate.

特開平6−279103号公報JP-A-6-279103

本発明の目的は、端子を厚く、かつ精度良く形成することができる電子デバイス用パッケージの製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a package for an electronic device that can form a terminal with a high thickness and high accuracy.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]
本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法は、絶縁基板と、金属板とを用意する工程と、
前記絶縁基板と、前記金属板とを貼り合せる工程と、
前記金属板の一部を除去して端子を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
[Application Example 1]
The method for manufacturing an electronic device package of the present invention includes a step of preparing an insulating substrate and a metal plate,
Bonding the insulating substrate and the metal plate;
And a step of removing a part of the metal plate to form a terminal.

これにより、端子を厚く、かつ精度良く形成することができる。
そして、厚い端子を設けることにより、優れた応力緩和特性を有する電子デバイス用パッケージを提供することができる。すなわち、電子デバイスを収容した電子デバイス用パッケージが回路基板(実装基板)に実装された状態で、端子が緩衝部材として機能し、これにより、熱等による回路基板や電子デバイス用パッケージの伸縮によって電子デバイス用パッケージに生じる応力を吸収・緩和することができる。これにより、前記応力が電子デバイスに伝達され、電子デバイスの特性が変動してしまうことを抑制することができる。
Thereby, the terminal can be formed thick and with high accuracy.
By providing a thick terminal, an electronic device package having excellent stress relaxation characteristics can be provided. In other words, in a state where the electronic device package containing the electronic device is mounted on the circuit board (mounting board), the terminal functions as a buffer member, and thereby the electronic device is expanded and contracted by heat or the like. The stress generated in the device package can be absorbed and relaxed. Thereby, it can suppress that the said stress is transmitted to an electronic device and the characteristic of an electronic device fluctuates.

[適用例2]
本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法では、前記端子を形成する工程では、エッチングにより金属板を除去することが好ましい。
これにより、簡単にかつ優れた寸法精度で端子を形成することができる。
[Application Example 2]
In the manufacturing method of the package for electronic devices of this invention, it is preferable to remove a metal plate by an etching in the process of forming the said terminal.
Thereby, a terminal can be formed easily and with excellent dimensional accuracy.

[適用例3]
本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法では、前記用意する工程では、前記絶縁基板の構成材料はガラスを含むことが好ましい。
これにより、簡単に絶縁基板を加工することができる。
[Application Example 3]
In the method for manufacturing an electronic device package according to the present invention, in the step of preparing, the constituent material of the insulating substrate preferably includes glass.
Thereby, an insulating substrate can be processed easily.

[適用例4]
本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法では、前記絶縁基板の一部を除去し、前記絶縁基板の前記金属板と反対側の面に開口する第1の凹部を形成する工程を含むことが好ましい。
これにより、凹部を電子デバイスを収容する空間として用いることができる。
[Application Example 4]
The method for manufacturing an electronic device package according to the present invention preferably includes a step of removing a part of the insulating substrate and forming a first recess opening on a surface of the insulating substrate opposite to the metal plate. .
Thereby, a recessed part can be used as a space which accommodates an electronic device.

[適用例5]
本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法では、前記絶縁基板の一部を除去し、前記絶縁基板の前記金属板側の面に開口する第2の凹部を形成する工程を含むことが好ましい。
[Application Example 5]
The method for manufacturing an electronic device package of the present invention preferably includes a step of removing a part of the insulating substrate and forming a second recess opening in the surface of the insulating substrate on the metal plate side.

これにより、電子デバイス用パッケージの柔軟性が増し、優れた応力緩和特性を有する電子デバイス用パッケージを提供することができる。また、例えば、半田等を用いて実装する際に生じる熱を第2の凹部から逃がすことができる。   Thereby, the flexibility of the package for electronic devices increases, and the package for electronic devices which has the outstanding stress relaxation characteristic can be provided. Further, for example, heat generated when mounting using solder or the like can be released from the second recess.

[適用例6]
本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法では、前記金属板を曲げる工程を含むことが好ましい。
[Application Example 6]
In the manufacturing method of the package for electronic devices of this invention, it is preferable to include the process of bending the said metal plate.

これにより、曲がった端子が形成され、例えば、半田等を用いて実装した際、アンカー効果により、剥がれ難くなる。   Thereby, a bent terminal is formed, and when mounted using, for example, solder, it is difficult to peel off due to the anchor effect.

[適用例7]
本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法では、前記金属板に厚さの異なる部位を形成する工程を含むことが好ましい。
[Application Example 7]
In the manufacturing method of the package for electronic devices of this invention, it is preferable to include the process of forming the site | part from which thickness differs in the said metal plate.

これにより、厚さの異なる部位を有する端子が形成され、例えば、半田等を用いて実装した際、アンカー効果により、剥がれ難くなる。   As a result, a terminal having a portion having a different thickness is formed. When the terminal is mounted using, for example, solder, it is difficult to peel off due to the anchor effect.

[適用例8]
本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法では、前記端子を形成する工程では、前記金属板が積層体であることが好ましい。
これにより、種々の形状の端子を簡単に形成することができる。
[Application Example 8]
In the manufacturing method of the package for electronic devices of this invention, it is preferable that the said metal plate is a laminated body in the process of forming the said terminal.
Thereby, the terminal of various shapes can be formed easily.

[適用例9]
本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法では、前記積層体を構成する少なくとも2つの層の構成材料は、互いに異なる金属材料であるすることが好ましい。
これにより、種々の形状の端子を簡単に形成することができる。
[Application Example 9]
In the method for manufacturing an electronic device package according to the present invention, the constituent materials of at least two layers constituting the laminate are preferably different metal materials.
Thereby, the terminal of various shapes can be formed easily.

[適用例10]
本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法では、前記金属板に突出した部位を形成する工程を含むことが好ましい。
[Application Example 10]
In the manufacturing method of the package for electronic devices of this invention, it is preferable to include the process of forming the site | part which protruded in the said metal plate.

これにより、突出した部位を有する端子が形成され、例えば、半田等を用いて実装した際、アンカー効果により、剥がれ難くなる。   As a result, a terminal having a protruding portion is formed, and when mounted using, for example, solder, it is difficult to peel off due to the anchor effect.

[適用例11]
本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法では、前記端子の厚さは、50μm以上であることが好ましい。
[Application Example 11]
In the method for manufacturing an electronic device package of the present invention, the thickness of the terminal is preferably 50 μm or more.

これにより、優れた応力緩和特性を有する電子デバイス用パッケージを提供することができる。   Thereby, the package for electronic devices which has the outstanding stress relaxation characteristic can be provided.

本発明の第1実施形態に係る電子デバイス用パッケージの製造方法により製造された電子デバイス用パッケージを用いた振動子を示す平面図である。It is a top view which shows the vibrator | oscillator using the package for electronic devices manufactured by the manufacturing method of the package for electronic devices which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1中のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line in FIG. 図1に示す振動子が有する振動素子を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view illustrating a vibration element included in the vibrator illustrated in FIG. 1. 図1に示す振動子を回路基板に実装した状態を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a state where the vibrator illustrated in FIG. 1 is mounted on a circuit board. 図1に示す振動子の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the vibrator shown in FIG. 1. 図1に示す振動子の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the vibrator shown in FIG. 1. 図1に示す振動子の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the vibrator shown in FIG. 1. 図1に示す振動子の製造方法を説明するための断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the vibrator shown in FIG. 1. 図1に示す振動子の外部接続端子の厚さと、ベース基板に生じる最大応力との関係を示すグラフである。3 is a graph showing the relationship between the thickness of an external connection terminal of the vibrator shown in FIG. 1 and the maximum stress generated in a base substrate. 本発明の第2実施形態に係る電子デバイス用パッケージの製造方法により製造された電子デバイス用パッケージを用いた振動子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the vibrator | oscillator using the package for electronic devices manufactured by the manufacturing method of the package for electronic devices which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係る電子デバイス用パッケージの製造方法により製造された電子デバイス用パッケージを用いた振動子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the vibrator | oscillator using the package for electronic devices manufactured by the manufacturing method of the package for electronic devices which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係る電子デバイス用パッケージの製造方法により製造された電子デバイス用パッケージを用いた振動子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the vibrator | oscillator using the package for electronic devices manufactured by the manufacturing method of the package for electronic devices which concerns on 4th Embodiment of this invention. 図12に示す電子デバイス用パッケージの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the package for electronic devices shown in FIG. 図12に示す電子デバイス用パッケージの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the package for electronic devices shown in FIG. 図12に示す電子デバイス用パッケージの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the package for electronic devices shown in FIG. 本発明の第5実施形態に係る電子デバイス用パッケージの製造方法により製造された電子デバイス用パッケージを用いた振動子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the vibrator | oscillator using the package for electronic devices manufactured by the manufacturing method of the package for electronic devices which concerns on 5th Embodiment of this invention. 本発明の第6実施形態に係る電子デバイス用パッケージの製造方法により製造された電子デバイス用パッケージを用いた振動子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the vibrator | oscillator using the package for electronic devices manufactured by the manufacturing method of the package for electronic devices which concerns on 6th Embodiment of this invention. 振動子を備えるモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile type (or notebook type) personal computer provided with a vibrator. 振動子を備える携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of a mobile telephone (A PHS is also included) provided with a vibrator. 振動子を備えるディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of a digital still camera provided with a vibrator. 振動子を備える移動体を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a moving body provided with a vibrator.

以下、本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法を添付図面に示す実施形態に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the package for electronic devices of this invention is demonstrated in detail based on embodiment shown to an accompanying drawing.

<第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る電子デバイス用パッケージの製造方法により製造された電子デバイス用パッケージを用いた振動子を示す平面図である。図2は、図1中のA−A線断面図である。図3は、図1に示す振動子が有する振動素子を示す平面図である。図4は、図1に示す振動子を回路基板に実装した状態を示す断面図である。図5〜図8は、それぞれ、図1に示す振動子の製造方法を説明するための断面図である。図9は、図1に示す振動子の外部接続端子の厚さと、ベース基板3に生じる最大応力との関係を示すグラフである。なお、以下の説明では、図1中の紙面手前側および図2中の上側を「上」と言い、図1中の紙面奥側および図2中の下側を「下」と言う(他の実施形態の図2に対応する図も同様)。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a plan view showing a vibrator using an electronic device package manufactured by the electronic device package manufacturing method according to the first embodiment of the present invention. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 3 is a plan view showing a vibration element included in the vibrator shown in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which the vibrator shown in FIG. 1 is mounted on a circuit board. 5 to 8 are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the vibrator shown in FIG. FIG. 9 is a graph showing the relationship between the thickness of the external connection terminal of the vibrator shown in FIG. 1 and the maximum stress generated in the base substrate 3. In the following description, the front side in FIG. 1 and the upper side in FIG. 2 are referred to as “up”, and the back side in FIG. 1 and the lower side in FIG. The figure corresponding to FIG. 2 of the embodiment is also the same).

≪振動子≫
まず、電子デバイス用パッケージを用いた振動子について説明する。
≪Oscillator≫
First, a vibrator using an electronic device package will be described.

図1および図2に示すように、振動子1は、パッケージ(電子デバイス用パッケージ)2と、パッケージ2に収容されている振動素子(電子部品)5と、を有している。また、パッケージ2は、凹部3aを有するキャビティ状のベース基板3と、凹部3aの開口を塞ぐようにしてベース基板3に接合されているリッド(蓋体)4と、を有している。   As illustrated in FIGS. 1 and 2, the vibrator 1 includes a package (electronic device package) 2 and a vibration element (electronic component) 5 accommodated in the package 2. The package 2 includes a cavity-shaped base substrate 3 having a recess 3a, and a lid (lid body) 4 joined to the base substrate 3 so as to close the opening of the recess 3a.

−振動素子−
図3(a)、(b)に示すように、振動素子5は、平面視形状が長方形(矩形)の板状をなす水晶基板51と、水晶基板51の表面に形成されている1対の導体層52、53と、を有している。なお、図3(a)は、振動素子5を上方から見た平面図であり、同図(b)は、振動素子5を上方から見た透過図である。
-Vibration element-
As shown in FIGS. 3A and 3B, the vibration element 5 includes a quartz crystal substrate 51 having a rectangular plate shape in plan view, and a pair of crystals formed on the surface of the quartz crystal substrate 51. Conductor layers 52 and 53. 3A is a plan view of the vibration element 5 as viewed from above, and FIG. 3B is a transparent view of the vibration element 5 as viewed from above.

水晶基板51は、ATカットと呼ばれるカット角で切り出された水晶基板である。また、導体層52は、水晶基板51の上面に形成された励振電極52aと、水晶基板51の下面に形成されたボンディングパッド52bと、励振電極52aとボンディングパッド52bとを電気的に接続する配線52cと、を有している。同様に、導体層53は、水晶基板51の下面に形成された励振電極53aと、水晶基板51の下面に形成されたボンディングパッド53bと、励振電極53aおよびボンディングパッド53bを電気的に接続する配線53cと、を有している。このような構成の振動素子5は、励振電極52a、53a間に交番電圧が印加されることで、励振電極52a、53aに挟まれた振動領域が厚み滑り振動する。   The quartz substrate 51 is a quartz substrate cut out at a cut angle called AT cut. The conductor layer 52 includes an excitation electrode 52a formed on the upper surface of the quartz substrate 51, a bonding pad 52b formed on the lower surface of the quartz substrate 51, and a wiring that electrically connects the excitation electrode 52a and the bonding pad 52b. 52c. Similarly, the conductor layer 53 includes an excitation electrode 53a formed on the lower surface of the quartz substrate 51, a bonding pad 53b formed on the lower surface of the quartz substrate 51, and a wiring that electrically connects the excitation electrode 53a and the bonding pad 53b. 53c. In the vibration element 5 having such a configuration, when an alternating voltage is applied between the excitation electrodes 52a and 53a, a vibration region sandwiched between the excitation electrodes 52a and 53a vibrates in thickness.

以上、振動素子5について説明したが、振動素子5の構成は、上記の構成に限定されず、例えば、振動領域が厚肉になっているメサ型のATカット水晶振動素子であってもよいし、反対に、振動領域が薄肉になっている逆メサ型のATカット水晶振動素子であってもよい。また、ATカットに替えてBTカットの水晶基板51を用いてもよい。また、一対の振動腕が屈曲振動する音叉型の振動素子であってもよい。また、水晶基板51に替えて、例えば、窒化アルミニウム(AlN)や、ニオブ酸リチウム(LiNbO3)、タンタル酸リチウム(LiTaO)、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、四ホウ酸リチウム(Li)、ランガサイト(LaGaSiO14)などの酸化物基板や、ガラス基板上に窒化アルミニウムや五酸化タンタル(Ta)などの圧電体材料を積層させて構成された積層圧電基板や、圧電セラミック基板を用いてもよい。また、シリコン基板に圧電素子を配置し、通電によって圧電素子を伸縮させることで励振させる非圧電振動素子であってもよい。 The vibration element 5 has been described above. However, the configuration of the vibration element 5 is not limited to the above configuration, and may be, for example, a mesa-type AT-cut quartz crystal vibration element having a thick vibration region. On the contrary, an inverted mesa type AT-cut crystal resonator element having a thin vibration region may be used. Further, a BT cut crystal substrate 51 may be used instead of the AT cut. Further, a tuning fork type vibration element in which a pair of vibrating arms bend and vibrate may be used. Further, instead of the quartz substrate 51, for example, aluminum nitride (AlN), lithium niobate (LiNbO 3 ), lithium tantalate (LiTaO 3 ), lead zirconate titanate (PZT), lithium tetraborate (Li 2). B 4 O 7 ), langasite (La 3 Ga 5 SiO 14 ) and other oxide substrates, and glass substrates are laminated with piezoelectric materials such as aluminum nitride and tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ). Alternatively, a laminated piezoelectric substrate or a piezoelectric ceramic substrate may be used. Alternatively, a non-piezoelectric vibration element that is excited by arranging a piezoelectric element on a silicon substrate and expanding and contracting the piezoelectric element by energization may be used.

−パッケージ−
図1および図2に示すように、パッケージ2は、その上面に開放する凹部(第1の凹部)3aを有するベース基板3と、凹部3aの開口を塞ぐリッド4と、ベース基板3の下面に配置されている配線層32と、ベース基板3の凹部3a内に配置されている配線層34と、を有している。このようなパッケージ2では、リッド4により塞がれた凹部3aの内側が前述した振動素子5を収容する収容空間Sとして機能する。
−Package−
As shown in FIGS. 1 and 2, the package 2 has a base substrate 3 having a recess (first recess) 3 a that opens on the upper surface thereof, a lid 4 that closes the opening of the recess 3 a, and a lower surface of the base substrate 3. The wiring layer 32 is disposed, and the wiring layer 34 is disposed in the recess 3 a of the base substrate 3. In such a package 2, the inside of the recess 3 a closed by the lid 4 functions as a housing space S that houses the above-described vibration element 5.

ベース基板3は、絶縁材料、例えば、ガラス材料で構成されたガラス基板であり、後述する製造方法で説明するように、絶縁基板30(図5(a)参照)を加工して得られるものである。   The base substrate 3 is a glass substrate made of an insulating material, for example, a glass material, and is obtained by processing the insulating substrate 30 (see FIG. 5A) as described in the manufacturing method described later. is there.

ベース基板3のガラス材料としては特に限定されず、例えば、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス、ソーダガラス(ソーダ石灰ガラス)、カリウムガラス、無アルカリガラス等を用いることができる。なお、ベース基板3の構成材料としては、ガラスを含んでいればよい。   It does not specifically limit as a glass material of the base substrate 3, For example, borosilicate glass, quartz glass, soda glass (soda lime glass), potassium glass, an alkali free glass etc. can be used. The constituent material of the base substrate 3 only needs to contain glass.

また、ベース基板3の下面には導電性を有する配線層32が配置されており、この配線層32は、一対の外部接続端子321、322を有している。また、ベース基板3の凹部3a内には導電性を有する配線層34が配置されており、この配線層34は、一対の内部接続端子341、342を有している。また、これら接続端子のうち、外部接続端子321と内部接続端子341は、ベース基板3を貫通するビア(貫通電極)351を介して電気的に接続されており、外部接続端子322と内部接続端子342は、ベース基板3を貫通するビア352を介して電気的に接続されている。なお、外部接続端子321、322、内部接続端子341、342およびビア351、352の構成材料としてはそれぞれ導電性を有していれば特に限定されず、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、白金(Pt)、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)等の金属材料を用いることができる。但し、外部接続端子321、322、は、金属材料のうちの柔らかいものを用いることが好ましい。これにより、後述する優れた応力緩和特性を有するパッケージ2を提供することができる。また、外部接続端子321、322、内部接続端子341、342は、単層であってもよく、複数の層を積層してなる積層体であってもよい。   Further, a conductive wiring layer 32 is disposed on the lower surface of the base substrate 3, and the wiring layer 32 has a pair of external connection terminals 321 and 322. A conductive wiring layer 34 is disposed in the recess 3 a of the base substrate 3, and the wiring layer 34 has a pair of internal connection terminals 341 and 342. Among these connection terminals, the external connection terminal 321 and the internal connection terminal 341 are electrically connected via a via (through electrode) 351 penetrating the base substrate 3, and the external connection terminal 322 and the internal connection terminal are connected. 342 is electrically connected through a via 352 that penetrates the base substrate 3. The constituent materials of the external connection terminals 321 and 322, the internal connection terminals 341 and 342, and the vias 351 and 352 are not particularly limited as long as they have conductivity. For example, gold (Au), silver (Ag) Metal materials such as copper (Cu), platinum (Pt), aluminum (Al), chromium (Cr), nickel (Ni), molybdenum (Mo), and tungsten (W) can be used. However, the external connection terminals 321 and 322 are preferably made of a soft metal material. Thereby, the package 2 which has the outstanding stress relaxation characteristic mentioned later can be provided. Further, the external connection terminals 321 and 322 and the internal connection terminals 341 and 342 may be a single layer or a stacked body in which a plurality of layers are stacked.

また、外部接続端子321、322は、後述する製造方法で説明するように、金属板320(図5(c)参照)を加工して得られるものである。このため、外部接続端子321、322の厚さt(図2参照)は、容易に、厚く、かつ精度良く形成することができる。そして、厚い外部接続端子321、322を設けることにより、優れた応力緩和特性を有するパッケージ2を提供することができる。すなわち、振動子1が回路基板に実装された状態で、外部接続端子321、322が緩衝部材として機能し、これにより、熱等による回路基板やパッケージ2の伸縮によってパッケージ2に生じる応力を吸収・緩和することができる。これにより、その応力が振動素子5に伝達され、振動素子5の振動特性(周波数特性)が変動してしまうことを抑制することができる。   The external connection terminals 321 and 322 are obtained by processing a metal plate 320 (see FIG. 5C), as will be described in a manufacturing method described later. For this reason, the thickness t (see FIG. 2) of the external connection terminals 321 and 322 can be easily formed thick and accurately. By providing the thick external connection terminals 321 and 322, the package 2 having excellent stress relaxation characteristics can be provided. That is, in a state where the vibrator 1 is mounted on the circuit board, the external connection terminals 321 and 322 function as a buffer member, thereby absorbing the stress generated in the package 2 due to expansion and contraction of the circuit board or the package 2 due to heat or the like. Can be relaxed. Thereby, it is possible to suppress the stress from being transmitted to the vibration element 5 and the vibration characteristic (frequency characteristic) of the vibration element 5 from fluctuating.

また、外部接続端子321、322、内部接続端子341、342およびビア351、352の寸法は、それぞれ、特に限定されず、諸条件に応じて適宜設定されるものであるが、外部接続端子321、322の厚さt(図2参照)は、50μm以上であることが好ましく、50μm以上、200μm以下であることがより好ましく、100μm以上、200μm以下であることがさらに好ましい。   The dimensions of the external connection terminals 321 and 322, the internal connection terminals 341 and 342, and the vias 351 and 352 are not particularly limited, and are appropriately set according to various conditions. The thickness t (see FIG. 2) of 322 is preferably 50 μm or more, more preferably 50 μm or more and 200 μm or less, and further preferably 100 μm or more and 200 μm or less.

外部接続端子321、322の厚さtが前記下限値よりも小さいと、他の条件によっては、前記応力緩和特性が劣化する。   If the thickness t of the external connection terminals 321 and 322 is smaller than the lower limit value, the stress relaxation characteristics deteriorate depending on other conditions.

また、外部接続端子321、322の厚さtが前記上限値よりも大きくても、前記応力緩和特性の向上は見込めない。   Further, even if the thickness t of the external connection terminals 321 and 322 is larger than the upper limit value, the improvement of the stress relaxation characteristics cannot be expected.

なお、本実施形態では、外部接続端子321、322の厚さtは、一定であるが、一定でなくてもよい。   In the present embodiment, the thickness t of the external connection terminals 321 and 322 is constant, but may not be constant.

また、ベース基板3には、その上面(外部接続端子321、322(金属板)と反対側の面)に開口する凹部3aが設けられており、この凹部3aに振動素子5が収容されている。また、凹部3a内には内部接続端子341、342が位置している。言い換えると、リッド4が設けられていない状態で、内部接続端子341、342が凹部3aから外部に露出している。そして、導電性接着剤61、62によって振動素子5がベース基板3に固定されると共に、導電性接着剤61、62によって内部接続端子341、342とボンディングパッド52b、53bとが電気的に接続されている。
以上、ベース基板3について説明した。
In addition, the base substrate 3 is provided with a recess 3a that opens on the upper surface (the surface opposite to the external connection terminals 321 and 322 (metal plate)), and the vibration element 5 is accommodated in the recess 3a. . The internal connection terminals 341 and 342 are located in the recess 3a. In other words, the internal connection terminals 341 and 342 are exposed to the outside from the recess 3a in a state where the lid 4 is not provided. The vibration element 5 is fixed to the base substrate 3 by the conductive adhesives 61 and 62, and the internal connection terminals 341 and 342 and the bonding pads 52b and 53b are electrically connected by the conductive adhesives 61 and 62. ing.
The base substrate 3 has been described above.

リッド4は、平板状をなしており、凹部3aの開口を塞ぐようにベース基板3の上面に接合されている。これにより、ベース基板3の内側に気密な収容空間Sが画成され、この収容空間Sに振動素子5が収容される。なお、収容空間Sの環境は、振動素子5の構成によっても異なるが、例えば、減圧状態(好ましくは、真空状態)となっていてもよく、また、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスが封入されていてもよい。このようなリッド4の構成材料としては特に限定されず、例えば、各種セラミック、各種金属、各種ガラス、水晶、シリコン等を用いることができる。また、リッド4とベース基板3との接合方法は、リッド4の構成材料によっても異なり、例えば、接着剤、低融点ガラス、金属層等の接合層を介して接合してもよいし、陽極接合、界面活性化接合等によって接合してもよい。   The lid 4 has a flat plate shape and is joined to the upper surface of the base substrate 3 so as to close the opening of the recess 3a. Thereby, an airtight accommodation space S is defined inside the base substrate 3, and the vibration element 5 is accommodated in the accommodation space S. The environment of the accommodation space S varies depending on the configuration of the vibration element 5, but may be, for example, in a reduced pressure state (preferably in a vacuum state), or an inert gas such as nitrogen, helium, argon, or the like. It may be enclosed. The constituent material of the lid 4 is not particularly limited, and for example, various ceramics, various metals, various glasses, crystal, silicon, and the like can be used. Further, the bonding method of the lid 4 and the base substrate 3 differs depending on the constituent material of the lid 4. For example, the lid 4 and the base substrate 3 may be bonded via a bonding layer such as an adhesive, a low melting point glass, a metal layer, or anodic bonding. Alternatively, bonding may be performed by surface activated bonding or the like.

以上、振動子1について説明した。このような振動子1では、優れた応力緩和(吸収)機能を発揮することができる。具体的には、図4に示すように、半田H1、H2を用いて振動子1を回路基板(プリント配線基板)9に実装した状態では回路基板9とパッケージ2との熱膨張率の違いから、ベース基板3に熱応力が加わるが、前述したように、外部接続端子321、322の厚さtを厚くすることにより、外部接続端子321、322において、前記熱応力を緩和・吸収することができる。そのため、前記熱応力がベース基板3を介して振動素子5に伝達されてしまうことが抑制され、振動素子5の振動特性(周波数特性)の変動を防止または低減することができる。   The vibrator 1 has been described above. Such a vibrator 1 can exhibit an excellent stress relaxation (absorption) function. Specifically, as shown in FIG. 4, when the vibrator 1 is mounted on the circuit board (printed wiring board) 9 using the solders H1 and H2, the difference in thermal expansion coefficient between the circuit board 9 and the package 2 is caused. Although the thermal stress is applied to the base substrate 3, as described above, by increasing the thickness t of the external connection terminals 321 and 322, the thermal stress can be relaxed and absorbed in the external connection terminals 321 and 322. it can. Therefore, transmission of the thermal stress to the vibration element 5 via the base substrate 3 is suppressed, and fluctuations in vibration characteristics (frequency characteristics) of the vibration element 5 can be prevented or reduced.

また、前記振動子1では、優れた加工性を有している。具体的には、ベース基板3には凹部3aが形成されているが、ベース基板3は、ガラスで構成されており、例えば、フォトリソグラフィー技法とエッチング技法とを用いるパターニング処理に対して相性がよく、よって、簡単に、凹部3aを形成することができる。   Further, the vibrator 1 has excellent workability. Specifically, the recess 3a is formed in the base substrate 3, but the base substrate 3 is made of glass and has good compatibility with, for example, a patterning process using a photolithography technique and an etching technique. Therefore, the recess 3a can be easily formed.

なお、本実施形態では、ベース基板3がガラスで構成されているが、ベース基板3の構成材料としては、ガラスに替えて、シリコン(単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコン)または水晶、セラミック等を用いてもよい。この場合、ベース基板3をシリコンや水晶で構成しても、ガラスで構成した場合と同様の効果(すなわち、優れた寸法精度)を発揮することができる。したがって、ガラス、シリコンまたは水晶が好ましい。また、ベース基板3は、所定の2つ以上の層が積層した構成となっていてもよい。   In this embodiment, the base substrate 3 is made of glass, but the constituent material of the base substrate 3 is silicon (single crystal silicon, polycrystalline silicon, amorphous silicon), quartz, ceramic, instead of glass. Etc. may be used. In this case, even if the base substrate 3 is made of silicon or quartz, the same effect (that is, excellent dimensional accuracy) as when it is made of glass can be exhibited. Therefore, glass, silicon or quartz is preferred. The base substrate 3 may have a configuration in which two or more predetermined layers are stacked.

また、本実施形態では、外部接続端子321、322と、内部接続端子341、342とは、ビア351、352で電気的に接続されているが、これに限らず、例えば、外部接続端子321、322と、内部接続端子341、342とは、パッケージ2の外側を通る配線で電気的に接続されていてもよい。   In the present embodiment, the external connection terminals 321 and 322 and the internal connection terminals 341 and 342 are electrically connected by vias 351 and 352. However, the present invention is not limited to this. For example, the external connection terminals 321, 322 and the internal connection terminals 341 and 342 may be electrically connected by wiring that passes outside the package 2.

≪振動子(パッケージ)の製造方法≫
次に、振動子1(ベース基板3)の製造方法について説明する。
<< Manufacturing method of vibrator (package) >>
Next, a method for manufacturing the vibrator 1 (base substrate 3) will be described.

振動子1(パッケージ2)の製造方法は、複数の個片化領域S1を有する絶縁基板30と、金属板320とを用意(準備)する工程と、絶縁基板30と、金属板320とを貼り合せる貼り合せ工程と、金属板320の一部を除去して外部接続端子321、322を含む配線層32を絶縁基板30の下面上に形成する配線層形成工程と、絶縁基板30の一部を除去し、絶縁基板30にその上面(絶縁基板30の金属板320と反対側の面)に開口する凹部3aを形成する凹部形成工程と、凹部3a内に内部接続端子341、342を含む配線層34を形成する配線層形成工程と、凹部3a内に振動素子5を搭載する振動素子搭載工程と、リッド4を接合するリッド接合工程と、個片化領域S1毎に個片化して複数の振動子1を得る個片化工程と、を含む。   The method for manufacturing the vibrator 1 (package 2) includes a step of preparing (preparing) an insulating substrate 30 having a plurality of individualized regions S1 and a metal plate 320, and bonding the insulating substrate 30 and the metal plate 320 together. A bonding step for bonding, a wiring layer forming step for forming a wiring layer 32 including external connection terminals 321 and 322 on a lower surface of the insulating substrate 30 by removing a part of the metal plate 320, and a part of the insulating substrate 30 A recess forming step for removing and forming a recess 3a opening on the upper surface of the insulating substrate 30 (a surface opposite to the metal plate 320 of the insulating substrate 30), and a wiring layer including internal connection terminals 341 and 342 in the recess 3a A wiring layer forming step for forming 34, a vibration element mounting step for mounting the vibration element 5 in the recess 3 a, a lid bonding step for bonding the lid 4, and a plurality of vibrations separated into pieces for each individual region S 1. A singulation process for obtaining a child 1 and Including the.

[配線層形成工程]
まず、図5(a)に示すように、ガラス材料で構成され、複数の個片化領域S1をマトリックス状に有する絶縁基板30を用意するとともに、金属板320を用意する(図5(c))。そして、絶縁基板30に、ビア351、352用の貫通孔311、312を形成する。
[Wiring layer forming process]
First, as shown in FIG. 5A, an insulating substrate 30 made of a glass material and having a plurality of singulated regions S1 in a matrix is prepared, and a metal plate 320 is prepared (FIG. 5C). ). Then, through holes 311 and 312 for vias 351 and 352 are formed in the insulating substrate 30.

次に、図5(b)に示すように、絶縁基板30の貫通孔311、312内に、ビア351、352を形成する。   Next, as shown in FIG. 5B, vias 351 and 352 are formed in the through holes 311 and 312 of the insulating substrate 30.

次に、図5(c)に示すように、絶縁基板30と、金属板320とを貼り合せる。絶縁基板30と、金属板320とを貼り合せる方法は、特に限定されず、例えば、接着剤、低融点ガラス、金属層等の接合層を介して貼り合せてもよいし、陽極接合、界面活性化接合等によって貼り合せてもよい。   Next, as shown in FIG. 5C, the insulating substrate 30 and the metal plate 320 are bonded together. The method for bonding the insulating substrate 30 and the metal plate 320 is not particularly limited. For example, the insulating substrate 30 and the metal plate 320 may be bonded via a bonding layer such as an adhesive, low-melting glass, or a metal layer, or anodic bonding or surface active They may be bonded together by chemical bonding or the like.

次に、図6(a)に示すように、金属板320の下面に、外部接続端子321、322を含む配線層32に対応する形状のマスクM1を形成する。   Next, as illustrated in FIG. 6A, a mask M <b> 1 having a shape corresponding to the wiring layer 32 including the external connection terminals 321 and 322 is formed on the lower surface of the metal plate 320.

次に、図6(b)に示すように、金属板320の下面側からこのマスクM1を介してドライエッチングして外部接続端子321、322を含む配線層32を形成する。このように、エッチング処理を用いることで、所望の寸法の外部接続端子321、322を簡単かつ精度よく形成することができる。なお、エッチング方法としては、ドライエッチングに限定されず、ウエットエッチングを用いてもよい。   Next, as shown in FIG. 6B, the wiring layer 32 including the external connection terminals 321 and 322 is formed by dry etching from the lower surface side of the metal plate 320 through the mask M1. As described above, by using the etching process, the external connection terminals 321 and 322 having desired dimensions can be easily and accurately formed. Note that the etching method is not limited to dry etching, and wet etching may be used.

次に、図6(c)に示すように、マスクM1を除去する。
[凹部形成工程]
次に、個片化領域S1毎に凹部3aを形成する。具体的には、まず、図7(a)に示すように、絶縁基板の上面に、凹部3aに対応する開口を有するマスクM2を形成する。
Next, as shown in FIG. 6C, the mask M1 is removed.
[Recess formation step]
Next, the concave portion 3a is formed for each singulated region S1. Specifically, first, as shown in FIG. 7A, a mask M2 having an opening corresponding to the recess 3a is formed on the upper surface of the insulating substrate.

次に、図7(b)に示すように、絶縁基板30の上面側からこのマスクM2を介してウエットエッチングして凹部3aを形成する。このように、エッチング処理を用いることで、所望の寸法の凹部3aを簡単かつ精度よく形成することができる。なお、エッチング方法としては、ウエットエッチングに限定されず、ドライエッチングを用いてもよい。   Next, as shown in FIG. 7B, the recess 3a is formed by wet etching from the upper surface side of the insulating substrate 30 through the mask M2. As described above, by using the etching process, the concave portion 3a having a desired dimension can be easily and accurately formed. Note that the etching method is not limited to wet etching, and dry etching may be used.

次に、マスクM2を除去する(図7(c)参照)。
[配線層形成工程]
次に、図7(c)に示すように、凹部3aの底面に、内部接続端子341、342(配線層34)を形成する。内部接続端子341、342の形成方法は、特に限定されないが、例えば、凹部3aの底面に金属層を成膜し、この金属層をフォトリソグラフィー技法およびエッチング技法を用いてパターニングすることで形成することができる。
Next, the mask M2 is removed (see FIG. 7C).
[Wiring layer forming process]
Next, as shown in FIG. 7C, internal connection terminals 341 and 342 (wiring layer 34) are formed on the bottom surface of the recess 3a. The method of forming the internal connection terminals 341 and 342 is not particularly limited. For example, the internal connection terminals 341 and 342 are formed by forming a metal layer on the bottom surface of the recess 3a and patterning the metal layer using a photolithography technique and an etching technique. Can do.

[振動素子搭載工程・リッド接合工程]
次に、図8(a)に示すように、導電性接着剤61、62(導電性接着剤61は、不図示)を用いて各凹部3a内に振動素子5を搭載した後、絶縁基板30の上面にリッド40を接合して、凹部3aの開口を塞ぐ。なお、図示しないが、絶縁基板30には、収容空間Sの内外を連通する封止孔が形成されており、絶縁基板30にリッド40を接合した後、前記封止孔を介して収容空間S内を減圧とし、Au−Ge系合金等で封止孔を封止することで、収容空間S内を減圧状態に維持することができる。
[Vibration element mounting process / lid bonding process]
Next, as shown in FIG. 8A, the vibration element 5 is mounted in each recess 3 a using conductive adhesives 61 and 62 (the conductive adhesive 61 is not shown), and then the insulating substrate 30. The lid 40 is joined to the upper surface of the first and the opening of the recess 3a is closed. Although not shown, the insulating substrate 30 is formed with a sealing hole that communicates the inside and outside of the housing space S. After the lid 40 is joined to the insulating substrate 30, the housing space S is interposed via the sealing hole. The inside of the accommodation space S can be maintained in a reduced pressure state by reducing the pressure inside and sealing the sealing hole with an Au—Ge alloy or the like.

[個片化工程]
最後に、ダイシングソー等を用いて、絶縁基板30を個片化領域S1毎に個片化することで、図8(b)に示すように、複数の振動子1(パッケージ2)が得られる。このように、複数の振動子1(パッケージ2)を一体形成した後に個片化することで、振動子1(パッケージ2)の製造効率が向上する。ただし、個片化工程の順番は、上記の順番に限定されず、例えば、内部配線層形成工程、振動素子搭載工程およびリッド接合工程のいずれかに先立って行ってもよい。
以上、振動子1の製造方法について説明した。
[Individualization process]
Finally, using a dicing saw or the like, the insulating substrate 30 is separated into pieces for each pieced region S1, and a plurality of vibrators 1 (packages 2) are obtained as shown in FIG. 8B. . As described above, the plurality of vibrators 1 (package 2) are integrally formed and then separated into individual pieces, whereby the manufacturing efficiency of the vibrator 1 (package 2) is improved. However, the order of the singulation process is not limited to the order described above, and may be performed, for example, prior to any of the internal wiring layer forming process, the vibration element mounting process, and the lid bonding process.
The method for manufacturing the vibrator 1 has been described above.

次に、前述した振動子1において、外部接続端子321、322の厚さが、10μm、50μm、70μm、100μm、150μm、200μm、300μm、500μm、700μm、1000μmのものを前述した製造方法で製造し、それぞれを回路基板に実装し、ベース基板3に生じる最大応力を求めた。その結果は、図9に示す通りである。   Next, in the vibrator 1 described above, the external connection terminals 321 and 322 having thicknesses of 10 μm, 50 μm, 70 μm, 100 μm, 150 μm, 200 μm, 300 μm, 500 μm, 700 μm, and 1000 μm are manufactured by the manufacturing method described above. Each was mounted on a circuit board, and the maximum stress generated in the base board 3 was determined. The result is as shown in FIG.

図9に示すように、外部接続端子321、322の厚さが50μm以上であると、ベース基板3に生じる最大応力が格段に減少することが判る。   As shown in FIG. 9, it can be seen that the maximum stress generated in the base substrate 3 is remarkably reduced when the thickness of the external connection terminals 321 and 322 is 50 μm or more.

<第2実施形態>
図10は、本発明の第2実施形態に係る電子デバイス用パッケージの製造方法により製造された電子デバイス用パッケージを用いた振動子を示す断面図である。
Second Embodiment
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a vibrator using the electronic device package manufactured by the electronic device package manufacturing method according to the second embodiment of the present invention.

以下、第2実施形態について説明するが、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。   Hereinafter, although the second embodiment will be described, the description will focus on the differences from the first embodiment described above, and the description of the same matters will be omitted.

図10に示すように、第2実施形態では、パッケージ2のベース基板3は、その下面(外部接続端子321、322(金属板)側の面)に開放する凹部(第2の凹部)3bを有している。   As shown in FIG. 10, in the second embodiment, the base substrate 3 of the package 2 has a recess (second recess) 3b that opens to the bottom surface (surface on the side of the external connection terminals 321 and 322 (metal plate)). Have.

これにより、ベース基板3の柔軟性が増し、優れた応力緩和特性を有するパッケージ2を提供することができる。また、振動子1が回路基板に半田等を用いて実装する際に生じる熱を凹部3bから逃がすことができる。   Thereby, the flexibility of the base substrate 3 is increased, and the package 2 having excellent stress relaxation characteristics can be provided. Further, the heat generated when the vibrator 1 is mounted on the circuit board using solder or the like can be released from the recess 3b.

また、外部接続端子321、322は、その凹部3b側の部位が、塑性変形で下側に曲がっている。なお、弾性変形していてもよい。   In addition, the external connection terminals 321 and 322 are bent downward on the recess 3b side due to plastic deformation. It may be elastically deformed.

これにより、振動子1が回路基板に半田等を用いて実装された際、アンカー効果により、剥がれ難くなる。   Thereby, when the vibrator 1 is mounted on the circuit board using solder or the like, it is difficult to peel off due to the anchor effect.

また、この振動子1では、外部接続端子321、322の厚さtの最大値(最大厚さ)tmaxが、第1実施形態で説明した外部接続端子321、322の厚さtの好適範囲内に設定されていることが好ましい。   In this vibrator 1, the maximum value (maximum thickness) tmax of the thickness t of the external connection terminals 321 and 322 is within the preferable range of the thickness t of the external connection terminals 321 and 322 described in the first embodiment. It is preferable that it is set to.

次に、振動子1(パッケージ2)の製造方法について説明する。
振動子1(ベース基板3)の製造方法は、さらに、絶縁基板30にその下面(絶縁基板30の金属板320側の面)に開口する凹部3bを形成する凹部形成工程と、金属板320を曲げて外部接続端子321、322を形成する工程とを含む。凹部3bの形成は、例えば、凹部3aの形成と同様に行う。
Next, a method for manufacturing the vibrator 1 (package 2) will be described.
The method for manufacturing the vibrator 1 (base substrate 3) further includes the step of forming a recess 3b in the insulating substrate 30 that opens to the lower surface (the surface of the insulating substrate 30 on the metal plate 320 side), and the metal plate 320. And forming external connection terminals 321 and 322 by bending. The formation of the recess 3b is performed in the same manner as the formation of the recess 3a, for example.

なお、前記金属板320を曲げて外部接続端子321、322を形成する工程は、換言すれば、金属板320に厚さの異なる部位を形成する工程、または、金属板320に突出した部位を形成する工程とも言うことができる。   In addition, the step of bending the metal plate 320 to form the external connection terminals 321 and 322 is, in other words, the step of forming a portion having a different thickness on the metal plate 320 or the portion protruding from the metal plate 320. It can also be said to be a process of performing.

以上のような第2実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。   According to the second embodiment as described above, the same effect as that of the first embodiment described above can be exhibited.

<第3実施形態>
図11は、本発明の第3実施形態に係る電子デバイス用パッケージの製造方法により製造された電子デバイス用パッケージを用いた振動子を示す断面図である。
<Third Embodiment>
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a vibrator using an electronic device package manufactured by the electronic device package manufacturing method according to the third embodiment of the present invention.

以下、第3実施形態について説明するが、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。   In the following, the third embodiment will be described. The description will focus on the differences from the first embodiment described above, and the description of the same matters will be omitted.

図11に示すように、第3実施形態では、外部接続端子321は、その両端部に、下側に向かって突出する凸部3211、3212を有し、外部接続端子322は、その両端部に、下側に向かって突出する凸部3221、3222を有している。   As shown in FIG. 11, in the third embodiment, the external connection terminal 321 has convex portions 3211 and 3212 projecting downward at both ends thereof, and the external connection terminal 322 is provided at both ends thereof. , Convex portions 3221 and 3222 that protrude downward.

これにより、振動子1が回路基板に半田等を用いて実装された際、アンカー効果により、剥がれ難くなる。   Thereby, when the vibrator 1 is mounted on the circuit board using solder or the like, it is difficult to peel off due to the anchor effect.

また、この振動子1では、外部接続端子321、322の厚さtの最大値(最大厚さ)tmaxが、第1実施形態で説明した外部接続端子321、322の厚さtの好適範囲内に設定されていることが好ましい。   In this vibrator 1, the maximum value (maximum thickness) tmax of the thickness t of the external connection terminals 321 and 322 is within the preferable range of the thickness t of the external connection terminals 321 and 322 described in the first embodiment. It is preferable that it is set to.

次に、振動子1(パッケージ2)の製造方法について説明する。
振動子1(ベース基板3)の製造方法は、さらに、金属板320に、下側に向かって突出する凸部(突出した部位)3211、3212、3221、3222を形成する工程を有している。凸部3211、3212、3221、3222の形成は、例えば、金属板320の下面に、凸部3211、3212、3221、3222に対応する形状のマスクを形成し、金属板320の下面側からこのマスクを介してドライエッチングする。なお、エッチング方法としては、ドライエッチングに限定されず、ウエットエッチングを用いてもよい。
Next, a method for manufacturing the vibrator 1 (package 2) will be described.
The method for manufacturing the vibrator 1 (base substrate 3) further includes a step of forming convex portions (protruding portions) 3211, 3212, 3221, 3222 protruding downward on the metal plate 320. . The protrusions 3211, 3212, 3221, 3222 are formed by, for example, forming a mask having a shape corresponding to the protrusions 3211, 3212, 3221, 3222 on the lower surface of the metal plate 320, and then forming the mask from the lower surface side of the metal plate 320. To dry-etch. Note that the etching method is not limited to dry etching, and wet etching may be used.

なお、前記凸部3211、3212、3221、3222を形成する工程は、換言すれば、金属板320に厚さの異なる部位を形成する工程とも言うことができる。   In addition, the process of forming the said convex part 3211, 3212, 3221, 3222 can be said to be a process of forming the site | part from which thickness differs in the metal plate 320 in other words.

以上のような第3実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。   According to the third embodiment as described above, the same effects as those of the first embodiment described above can be exhibited.

<第4実施形態>
図12は、本発明の第4実施形態に係る電子デバイス用パッケージの製造方法により製造された電子デバイス用パッケージを用いた振動子を示す断面図である。図13〜図15は、それぞれ、図12に示す電子デバイス用パッケージの製造方法を説明するための断面図である。
<Fourth embodiment>
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a vibrator using an electronic device package manufactured by the electronic device package manufacturing method according to the fourth embodiment of the present invention. 13 to 15 are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the electronic device package shown in FIG.

以下、第4実施形態について説明するが、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。   Hereinafter, although the fourth embodiment will be described, the description will focus on the differences from the first embodiment described above, and the description of the same matters will be omitted.

また、本実施形態では、製造方法の説明において、複数の個片化領域のうちの1つのみを図示して説明する。   In the present embodiment, in the description of the manufacturing method, only one of the plurality of singulated regions is illustrated and described.

図12に示すように、第4実施形態では、外部接続端子321は、第1層321aの下側に、第2層321bおよび321cを積層してなる積層体で構成され、外部接続端子322は、第1層322aの下側に、第2層322bおよび322cを積層してなる積層体で構成されている。   As shown in FIG. 12, in the fourth embodiment, the external connection terminal 321 is configured by a stacked body in which the second layers 321b and 321c are stacked below the first layer 321a. The second layer 322b and 322c are stacked on the lower side of the first layer 322a.

第1層321aは、その両端部に、下側に向かって突出する凸部3211、3212を有し、凸部3211の下面に、第2層321bが接合され、凸部3212の下面に、第2層321cが接合されている。   The first layer 321a has convex portions 3211 and 3212 projecting downward at both ends thereof, the second layer 321b is joined to the lower surface of the convex portion 3211, and the lower surface of the convex portion 3212 is The two layers 321c are joined.

同様に、第1層322aは、その両端部に、下側に向かって突出する凸部3221、3222を有し、凸部3221の下面に、第2層322bが接合され、凸部3222の下面に、第2層322cが接合されている。   Similarly, the first layer 322 a has convex portions 3221 and 3222 that protrude downward at both ends thereof, and the second layer 322 b is joined to the lower surface of the convex portion 3221, and the lower surface of the convex portion 3222. In addition, the second layer 322c is bonded.

これにより、振動子1が回路基板に半田等を用いて実装された際、アンカー効果により、剥がれ難くなる。   Thereby, when the vibrator 1 is mounted on the circuit board using solder or the like, it is difficult to peel off due to the anchor effect.

また、第1層321aと、第2層321b、321cの構成材料は、互いに異なる金属材料である。同様に、第1層322aと、第2層322b、322cの構成材料は、互いに異なる金属材料である。   The constituent materials of the first layer 321a and the second layers 321b and 321c are different metal materials. Similarly, the constituent materials of the first layer 322a and the second layers 322b and 322c are different metal materials.

これにより、エッチングで外部接続端子321、322を形成するにあたり、金属材料やエッチングの処理ガスや処理液等を選択することで、種々の形状の外部接続端子321、322を簡単に形成することができる。   Accordingly, when forming the external connection terminals 321 and 322 by etching, the external connection terminals 321 and 322 having various shapes can be easily formed by selecting a metal material, an etching process gas, a processing solution, or the like. it can.

また、この振動子1では、外部接続端子321、322の厚さtの最大値(最大厚さ)tmaxが、第1実施形態で説明した外部接続端子321、322の厚さtの好適範囲内に設定されていることが好ましい。   In this vibrator 1, the maximum value (maximum thickness) tmax of the thickness t of the external connection terminals 321 and 322 is within the preferable range of the thickness t of the external connection terminals 321 and 322 described in the first embodiment. It is preferable that it is set to.

次に、振動子1(パッケージ2)の製造方法について説明する。
振動子1(ベース基板3)の製造方法では、金属板320として、第1層(第1基板)320aと第2層(第2基板)320bとを積層してなる積層体を用いる。第1層320aと第2層320bの構成材料は、互いに異なる金属材料である。そして、振動子1(ベース基板3)の製造方法は、さらに、金属板320に突出した部位を形成する工程を含む。
Next, a method for manufacturing the vibrator 1 (package 2) will be described.
In the method for manufacturing the vibrator 1 (base substrate 3), a laminated body formed by laminating a first layer (first substrate) 320a and a second layer (second substrate) 320b is used as the metal plate 320. The constituent materials of the first layer 320a and the second layer 320b are different metal materials. The method for manufacturing the vibrator 1 (base substrate 3) further includes a step of forming a projecting portion on the metal plate 320.

まず、図13(a)に示すように、絶縁基板30と、金属板320とを貼り合せる。
次に、図13(b)に示すように、金属板320の下面に、第2層321b、321c、322b、322cに対応する形状のマスクM3を形成する。
First, as shown in FIG. 13A, the insulating substrate 30 and the metal plate 320 are bonded together.
Next, as shown in FIG. 13B, a mask M3 having a shape corresponding to the second layers 321b, 321c, 322b, and 322c is formed on the lower surface of the metal plate 320.

次に、図13(c)に示すように、金属板320の下面側からこのマスクM1を介してドライエッチングして第2層321b、321c、322b、322cを形成する。次に、マスクM3を除去する。   Next, as shown in FIG. 13C, the second layers 321b, 321c, 322b, and 322c are formed by dry etching from the lower surface side of the metal plate 320 through the mask M1. Next, the mask M3 is removed.

次に、図14(a)に示すように、中央部のみ開口を有するマスクM4を形成する。
次に、図14(b)に示すように、下面側からこのマスクM4を介してウエットエッチングする。次に、マスクM4を除去する。
Next, as shown in FIG. 14A, a mask M4 having an opening only at the center is formed.
Next, as shown in FIG. 14B, wet etching is performed from the lower surface side through the mask M4. Next, the mask M4 is removed.

次に、図15(a)に示すように、マスクM5を形成する。
次に、図15(b)に示すように、下面側からこのマスクM5を介してウエットエッチングする。次に、マスクM5を除去する。
以上により、外部接続端子321、322が形成される。
Next, as shown in FIG. 15A, a mask M5 is formed.
Next, as shown in FIG. 15B, wet etching is performed from the lower surface side through this mask M5. Next, the mask M5 is removed.
Thus, the external connection terminals 321 and 322 are formed.

以上のような第4実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。   According to the fourth embodiment as described above, the same effects as those of the first embodiment described above can be exhibited.

なお、第1層320aと第2層320bの構成材料は、同じ金属材料であってもよい。すなわち、第1層321aと、第2層321b、321cの構成材料は、同じ金属材料でよく、また、第1層322aと、第2層322b、322cの構成材料は、同じ金属材料であってもよい。   The constituent material of the first layer 320a and the second layer 320b may be the same metal material. That is, the constituent materials of the first layer 321a and the second layers 321b and 321c may be the same metal material, and the constituent materials of the first layer 322a and the second layers 322b and 322c are the same metal material. Also good.

<第5実施形態>
図16は、本発明の第5実施形態に係る電子デバイス用パッケージの製造方法により製造された電子デバイス用パッケージを用いた振動子を示す断面図である。
<Fifth Embodiment>
FIG. 16: is sectional drawing which shows the vibrator | oscillator using the electronic device package manufactured by the manufacturing method of the electronic device package which concerns on 5th Embodiment of this invention.

以下、第5実施形態について説明するが、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。   Hereinafter, the fifth embodiment will be described. The description will focus on the differences from the first embodiment described above, and the description of the same matters will be omitted.

図16に示すように、第5実施形態では、外部接続端子321は、第1層321aの下側に、第2層321bを積層してなる積層体で構成され、外部接続端子322は、第1層322aの下側に、第2層322bを積層してなる積層体で構成されている。   As shown in FIG. 16, in the fifth embodiment, the external connection terminal 321 is configured by a stacked body in which the second layer 321b is stacked below the first layer 321a. The second layer 322b is laminated on the lower side of the first layer 322a.

第1層321aおよび322aとしては、例えば、第1実施形態の外部接続端子321、322と同様の金属材料を用いる。   As the first layers 321a and 322a, for example, the same metal material as that of the external connection terminals 321 and 322 of the first embodiment is used.

また、第2層321bおよび322bは、例えば、半田(共晶合金)を用いる。また、第2層321bおよび322bとしては、反応して半田になる(共晶合金化する)2種以上の金属層を用いてもよい。
これにより、実装の際、別途半田を設ける手間を省くことができる。
The second layers 321b and 322b use, for example, solder (eutectic alloy). Further, as the second layers 321b and 322b, two or more metal layers that react to become solder (eutectic alloy) may be used.
As a result, it is possible to save the trouble of separately providing solder during mounting.

また、この振動子1では、外部接続端子321、322の厚さtの最大値(最大厚さ)tmaxが、第1実施形態で説明した外部接続端子321、322の厚さtの好適範囲内に設定されていることが好ましい。   In this vibrator 1, the maximum value (maximum thickness) tmax of the thickness t of the external connection terminals 321 and 322 is within the preferable range of the thickness t of the external connection terminals 321 and 322 described in the first embodiment. It is preferable that it is set to.

以上のような第5実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。   According to the fifth embodiment as described above, the same effect as that of the first embodiment described above can be exhibited.

<第6実施形態>
図17は、本発明の第6実施形態に係る電子デバイス用パッケージの製造方法により製造された電子デバイス用パッケージを用いた振動子を示す断面図である。
<Sixth Embodiment>
FIG. 17 is a cross-sectional view showing a vibrator using an electronic device package manufactured by the electronic device package manufacturing method according to the sixth embodiment of the present invention.

以下、第6実施形態について説明するが、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。   Hereinafter, although the sixth embodiment will be described, the description will focus on the differences from the first embodiment described above, and description of similar matters will be omitted.

図17に示すように、第6実施形態では、リッド4が凹部4aを有している。そして、このパッケージ2では、ベース基板3により塞がれた凹部4aの内側が振動素子5を収容する収容空間Sとして機能する。   As shown in FIG. 17, in 6th Embodiment, the lid 4 has the recessed part 4a. In the package 2, the inside of the recess 4 a closed by the base substrate 3 functions as a housing space S for housing the vibration element 5.

以上のような第6実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。   According to the sixth embodiment as described above, the same effect as that of the first embodiment described above can be exhibited.

次に、振動子1を備えた電子機器について説明する。
図18は、振動子を備えたモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。この図において、パーソナルコンピューター1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部1108を備えた表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。このようなパーソナルコンピューター1100には発振器として振動子1が内蔵されている。
Next, an electronic device including the vibrator 1 will be described.
FIG. 18 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile (or notebook) personal computer including a vibrator. In this figure, a personal computer 1100 includes a main body portion 1104 provided with a keyboard 1102 and a display unit 1106 provided with a display portion 1108. The display unit 1106 is rotated with respect to the main body portion 1104 via a hinge structure portion. It is supported movably. Such a personal computer 1100 incorporates the vibrator 1 as an oscillator.

図19は、振動子を備えた携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。この図において、携帯電話機1200は、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206を備え、操作ボタン1202と受話口1204との間には、表示部1208が配置されている。このような携帯電話機1200には発振器として振動子1が内蔵されている。   FIG. 19 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile phone (including PHS) including a vibrator. In this figure, a cellular phone 1200 includes a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1204, and a mouthpiece 1206, and a display unit 1208 is disposed between the operation buttons 1202 and the earpiece 1204. Such a cellular phone 1200 incorporates the vibrator 1 as an oscillator.

図20は、振動子を備えたディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)などの撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。   FIG. 20 is a perspective view illustrating a configuration of a digital still camera including a vibrator. In this figure, connection with an external device is also simply shown. Here, an ordinary camera sensitizes a silver halide photographic film with a light image of a subject, whereas a digital still camera 1300 photoelectrically converts a light image of a subject with an imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device). An imaging signal (image signal) is generated.

ディジタルスチルカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部1310が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、表示部は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース1302の正面側(図中裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。   A display unit 1310 is provided on the back of a case (body) 1302 in the digital still camera 1300, and is configured to perform display based on an imaging signal from the CCD. The display unit displays a subject as an electronic image. Function as. A light receiving unit 1304 including an optical lens (imaging optical system), a CCD, and the like is provided on the front side (the back side in the drawing) of the case 1302.

撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、メモリー1308に転送・格納される。また、このディジタルスチルカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示されるように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニター1430が、データ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピューター1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、メモリー1308に格納された撮像信号が、テレビモニター1430や、パーソナルコンピューター1440に出力される構成になっている。このようなディジタルスチルカメラ1300には、発振器として振動子1が内蔵されている。   When the photographer confirms the subject image displayed on the display unit and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory 1308. In the digital still camera 1300, a video signal output terminal 1312 and an input / output terminal 1314 for data communication are provided on the side surface of the case 1302. As shown in the figure, a television monitor 1430 is connected to the video signal output terminal 1312 and a personal computer 1440 is connected to the input / output terminal 1314 for data communication as necessary. Further, the imaging signal stored in the memory 1308 is output to the television monitor 1430 or the personal computer 1440 by a predetermined operation. Such a digital still camera 1300 incorporates the vibrator 1 as an oscillator.

なお、振動子を備える電子機器は、図18のパーソナルコンピューター(モバイル型パーソナルコンピューター)、図19の携帯電話機、図20のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、インクジェット式吐出装置(例えばインクジェットプリンター)、ラップトップ型パーソナルコンピューター、テレビ、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、POS端末、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシミュレーター等に適用することができる。   In addition to the personal computer (mobile personal computer) in FIG. 18, the mobile phone in FIG. 19, and the digital still camera in FIG. 20, the electronic device including the vibrator is, for example, an ink jet type ejection device (for example, an ink jet printer). , Laptop personal computers, TVs, video cameras, video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks (including those with communication functions), electronic dictionaries, calculators, electronic game devices, word processors, workstations, videophones, crime prevention TV monitors, electronic binoculars, POS terminals, medical devices (eg, electronic thermometers, blood pressure monitors, blood glucose meters, electrocardiogram measuring devices, ultrasonic diagnostic devices, electronic endoscopes), fish detectors, various measuring devices, instruments (eg, , Vehicle, aircraft, ship total S), it can be applied to a flight simulator or the like.

次に、振動子1を備えた移動体について説明する。
図21は、振動子を備えた移動体を示す斜視図である。自動車(移動体)1500には、振動子1が搭載されている。振動子1は、例えば、キーレスエントリー、イモビライザー、カーナビゲーションシステム、カーエアコン、アンチロックブレーキシステム(ABS)、エアバック、タイヤ・プレッシャー・モニタリング・システム(TPMS:Tire Pressure Monitoring System)、エンジンコントロール、ハイブリッド自動車や電気自動車の電池モニター、車体姿勢制御システム、等の電子制御ユニット(ECU:electronic control unit)に広く適用できる。
Next, the moving body provided with the vibrator 1 will be described.
FIG. 21 is a perspective view showing a moving body including a vibrator. A vibrator (1) is mounted on an automobile (moving body) 1500. The vibrator 1 includes, for example, a keyless entry, an immobilizer, a car navigation system, a car air conditioner, an antilock brake system (ABS), an air bag, a tire pressure monitoring system (TPMS), an engine control, and a hybrid. The present invention can be widely applied to electronic control units (ECUs) such as battery monitors for automobiles and electric vehicles, and vehicle body attitude control systems.

以上、本発明の電子デバイス用パッケージの製造方法を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、他の任意の構成物や工程が付加されていてもよい。   As mentioned above, although the manufacturing method of the package for electronic devices of this invention was demonstrated based on embodiment of illustration, this invention is not limited to this, Each part is the thing of arbitrary structures which have the same function. Can be substituted. Moreover, other arbitrary structures and processes may be added.

また、前述した実施形態では、パッケージ(電子デバイス用パッケージ)は、ベース基板と、リッド(蓋体)を有しているが、これに限定されず、例えば、リッドが省略されていてもよい。   In the above-described embodiment, the package (electronic device package) includes the base substrate and the lid (lid body). However, the present invention is not limited to this. For example, the lid may be omitted.

また、前述した実施形態では、電子部品として振動素子を収容しているが、電子部品としては、振動素子に限定されず、例えば、IC等の各種回路(回路基板)であってもよい。   In the above-described embodiment, the vibration element is housed as an electronic component. However, the electronic component is not limited to the vibration element, and may be various circuits (circuit boards) such as an IC.

1……振動子
2……パッケージ
3……ベース基板
3a、3b……凹部
30……絶縁基板
311、312……貫通孔
32……配線層
320……金属板
320a……第1層
320b……第2層
321、322……外部接続端子
3211、3212、3221、3222……凸部
321a、322a……第1層
321b、321c、322b、322c……第2層
34……配線層
341、342……内部接続端子
351、352……ビア
4……リッド
4a……凹部
40……リッド
5……振動素子
51……水晶基板
52、53……導体層
52a、53a……励振電極
52b、53b……ボンディングパッド
52c、53c……配線
61、62……導電性接着剤
9……回路基板
1100……パーソナルコンピューター
1102……キーボード
1104……本体部
1106……表示ユニット
1108……表示部
1200……携帯電話機
1202……操作ボタン
1204……受話口
1206……送話口
1208……表示部
1300……ディジタルスチルカメラ
1302……ケース
1304……受光ユニット
1306……シャッターボタン
1308……メモリー
1310……表示部
1312……ビデオ信号出力端子
1314……入出力端子
1430……テレビモニター
1440……パーソナルコンピューター
1500……自動車
H1、H2……半田
M1、M2、M3、M4、M5……マスク
S……収容空間
S1……個片化領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Vibrator 2 ... Package 3 ... Base substrate 3a, 3b ... Recessed part 30 ... Insulating substrate 311, 312 ... Through-hole 32 ... Wiring layer 320 ... Metal plate 320a ... First layer 320b ... ... 2nd layer 321, 322 ... External connection terminals 3211, 3212, 3221, 3222 ... Projections 321a, 322a ... 1st layer 321b, 321c, 322b, 322c ... 2nd layer 34 ... Wiring layer 341, 342... Internal connection terminals 351 and 352... Via 4... Lid 4a... Recess 40... Lid 5... Vibrating element 51... Crystal substrate 52 and 53 ... Conductive layers 52a and 53a. 53b: Bonding pads 52c, 53c ... Wiring 61, 62 ... Conductive adhesive 9 ... Circuit board 1100 ... Personal computer 1102 ... -Board 1104 …… Main body 1106 …… Display unit 1108 …… Display unit 1200 …… Mobile phone 1202 …… Operating buttons 1204 …… Earpiece 1206 …… Speaker 1208 …… Display 1300 …… Digital still camera 1302… ... Case 1304 …… Light receiving unit 1306 …… Shutter button 1308 …… Memory 1310 …… Display unit 1312 …… Video signal output terminal 1314 …… Input / output terminal 1430 …… TV monitor 1440 …… Personal computer 1500 …… Automobile H1, H2: Solder M1, M2, M3, M4, M5 ... Mask S ... Accommodating space S1 ... Individualized area

Claims (11)

絶縁基板と、金属板とを用意する工程と、
前記絶縁基板と、前記金属板とを貼り合せる工程と、
前記金属板の一部を除去して端子を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電子デバイス用パッケージの製造方法。
A step of preparing an insulating substrate and a metal plate;
Bonding the insulating substrate and the metal plate;
Removing a part of the metal plate to form a terminal;
The manufacturing method of the package for electronic devices characterized by the above-mentioned.
前記端子を形成する工程では、エッチングにより金属板を除去する請求項1に記載の電子デバイス用パッケージの製造方法。   The method for manufacturing an electronic device package according to claim 1, wherein in the step of forming the terminal, the metal plate is removed by etching. 前記用意する工程では、前記絶縁基板の構成材料はガラスを含む請求項1または2に記載の電子デバイス用パッケージの製造方法。   3. The method of manufacturing an electronic device package according to claim 1, wherein in the step of preparing, the constituent material of the insulating substrate includes glass. 前記絶縁基板の一部を除去し、前記絶縁基板の前記金属板と反対側の面に開口する第1の凹部を形成する工程を含む請求項1ないし3のいずれか1項に記載の電子デバイス用パッケージの製造方法。   4. The electronic device according to claim 1, further comprising a step of removing a part of the insulating substrate and forming a first recess opening on a surface of the insulating substrate opposite to the metal plate. Package manufacturing method. 前記絶縁基板の一部を除去し、前記絶縁基板の前記金属板側の面に開口する第2の凹部を形成する工程を含む請求項1ないし4のいずれか1項に記載の電子デバイス用パッケージの製造方法。   5. The electronic device package according to claim 1, further comprising a step of removing a part of the insulating substrate and forming a second recess opening in the surface of the insulating substrate on the metal plate side. Manufacturing method. 前記金属板を曲げる工程を含む請求項5に記載の電子デバイス用パッケージの製造方法。   The manufacturing method of the package for electronic devices of Claim 5 including the process of bending the said metal plate. 前記金属板に厚さの異なる部位を形成する工程を含む請求項1ないし4のいずれか1項に記載の電子デバイス用パッケージの製造方法。   The manufacturing method of the package for electronic devices of any one of Claim 1 thru | or 4 including the process of forming the site | part from which thickness differs in the said metal plate. 前記端子を形成する工程では、前記金属板が積層体である請求項1ないし4のいずれか1項に記載の電子デバイス用パッケージの製造方法。   5. The method of manufacturing an electronic device package according to claim 1, wherein in the step of forming the terminal, the metal plate is a laminated body. 前記積層体を構成する少なくとも2つの層の構成材料は、互いに異なる金属材料である請求項8に記載の電子デバイス用パッケージの製造方法。   The method for manufacturing an electronic device package according to claim 8, wherein the constituent materials of at least two layers constituting the laminate are metal materials different from each other. 前記金属板に突出した部位を形成する工程を含む請求項1ないし4のいずれか1項に記載の電子デバイス用パッケージの製造方法。   The manufacturing method of the package for electronic devices of any one of Claim 1 thru | or 4 including the process of forming the site | part which protruded in the said metal plate. 前記端子の厚さは、50μm以上である請求項1ないし10のいずれか1項に記載の電子デバイス用パッケージの製造方法。   11. The method of manufacturing a package for an electronic device according to claim 1, wherein the terminal has a thickness of 50 μm or more.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018050235A (en) * 2016-09-23 2018-03-29 京セラ株式会社 Piezoelectric parts

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