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JP2015206872A - Method for manufacturing laminate, method for manufacturing color filter, laminate, and color filter - Google Patents

Method for manufacturing laminate, method for manufacturing color filter, laminate, and color filter Download PDF

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JP2015206872A
JP2015206872A JP2014086710A JP2014086710A JP2015206872A JP 2015206872 A JP2015206872 A JP 2015206872A JP 2014086710 A JP2014086710 A JP 2014086710A JP 2014086710 A JP2014086710 A JP 2014086710A JP 2015206872 A JP2015206872 A JP 2015206872A
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裕樹 坂田
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正 古川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate and a method for manufacturing a laminate that can be manufactured through a simple process, in which mixing of structural components in two resin layers can be suppressed when a plurality of patterned resin layers are laminated.SOLUTION: The method for manufacturing a laminate includes: a first resin composition layer formation step of forming a first resin composition layer on a substrate; a second resin composition layer formation step of forming a second resin composition layer on the first resin composition layer by using a solvent-free photo-curable resin composition that is developable with the same developer used for the first resin composition included in the first resin composition layer; and a patterning step of exposing the first resin composition layer and the second resin composition layer along a pattern and developing and heating them by using the same developer to form the first resin layer and the second resin layer in the same pattern.

Description

本発明は、パターン状の樹脂層を複数積層する積層体の製造方法およびそれを用いたカラーフィルタの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a laminate in which a plurality of patterned resin layers are stacked, and a method for manufacturing a color filter using the same.

表示装置やタッチパネル等の各種デバイスにおいては、パターン状の樹脂層が複数積層された構造を有するものが知られており、樹脂層のパターニング方法としては、感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィ法が汎用されている。
例えば特許文献1には、カラーフィルタ形成基板の製造方法において、透明基板上に反射制御層をフォトリソ工程で形成した後、反射制御層上に遮光層をフォトリソ工程で形成する方法が開示されている。
In various devices such as display devices and touch panels, those having a structure in which a plurality of patterned resin layers are laminated are known. As a method for patterning a resin layer, a photolithography method using a photosensitive resin composition Is widely used.
For example, Patent Document 1 discloses a method for manufacturing a color filter forming substrate, in which a reflection control layer is formed on a transparent substrate by a photolithography process, and then a light shielding layer is formed on the reflection control layer by a photolithography process. .

パターン状の樹脂層を複数積層する場合において、各樹脂層をそれぞれフォトリソグラフィ法によりパターニングする場合には、樹脂層毎にマスクが必要であり、またアライメントが必要となることから、工程数が多く煩雑であり、製造コストがかかるという問題がある。   In the case of laminating a plurality of patterned resin layers, if each resin layer is patterned by photolithography, a mask is required for each resin layer, and alignment is necessary, so there are many steps. There is a problem that it is complicated and requires manufacturing costs.

一方、上記問題点を解消するために、複数の樹脂層を同時にパターニングする方法も考えられる。しかしながら、樹脂層は感光性樹脂組成物を塗布して形成することが多く、この場合には1層目の感光性樹脂組成物層上に2層目の感光性樹脂組成物を塗布した際に、2層目の感光性樹脂組成物中の溶媒によって1層目の感光性樹脂組成物層の構成成分が溶出してしまい、積層が困難であるという問題がある。また、1層目の感光性樹脂組成物層の構成成分が溶出すると、2層の感光性樹脂組成物層の構成成分が混ざり合うことになり、2層の樹脂層がそれぞれの機能を十分発揮できないという問題もある。   On the other hand, in order to solve the above problems, a method of simultaneously patterning a plurality of resin layers is also conceivable. However, the resin layer is often formed by applying a photosensitive resin composition. In this case, when the second photosensitive resin composition is applied onto the first photosensitive resin composition layer, the resin layer is formed. There is a problem that the constituent components of the first photosensitive resin composition layer are eluted by the solvent in the second photosensitive resin composition, so that lamination is difficult. In addition, when the constituent components of the first photosensitive resin composition layer are eluted, the constituent components of the two photosensitive resin composition layers are mixed, and the two resin layers exhibit their functions sufficiently. There is also a problem that it cannot be done.

国際公開第2013/008679号パンフレットInternational Publication No. 2013/008679 Pamphlet

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、パターン状の樹脂層を複数積層するに際し、2層の樹脂層の構成成分の混合を抑制することができ、簡素な工程で製造可能な積層体の製造方法、カラーフィルタの製造方法、積層体およびカラーフィルタを提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and when a plurality of patterned resin layers are laminated, the mixing of the constituent components of the two resin layers can be suppressed and can be manufactured by a simple process. Main object of the present invention is to provide a method for producing a laminate, a method for producing a color filter, a laminate, and a color filter.

本発明は、上記目的を達成するために、基板上に第1樹脂組成物層を形成する第1樹脂組成物層形成工程と、上記第1樹脂組成物層上に、上記第1樹脂組成物層に含有される第1樹脂組成物と同一の現像液で現像可能であり、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いて第2樹脂組成物層を形成する第2樹脂組成物層形成工程と、上記第1樹脂組成物層および上記第2樹脂組成物層をパターン状に露光し、同一の現像液を用いて現像し、加熱して、同一のパターン状に第1樹脂層および第2樹脂層を形成するパターニング工程とを有することを特徴とする積層体の製造方法を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a first resin composition layer forming step of forming a first resin composition layer on a substrate, and the first resin composition layer on the first resin composition layer. The second resin composition layer forming step of forming a second resin composition layer using a solvent-free photocurable resin composition that can be developed with the same developer as the first resin composition contained in the layer The first resin composition layer and the second resin composition layer are exposed in a pattern, developed using the same developer, and heated to form the first resin layer and the second resin in the same pattern. It has a patterning process which forms a resin layer, and provides a manufacturing method of a layered product characterized by things.

本発明によれば、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いて第2樹脂組成物層を形成するため、第1樹脂組成物層上に第2樹脂組成物層を容易に積層することができ、第1樹脂組成物層および第2樹脂組成物層を1回のフォトリソ工程でパターニングすることができる。そのため、複数のマスクを必要とせず、アライメント精度を考慮する必要がなく、工程数を減らし、製造コストを削減することが可能である。また本発明によれば、第2樹脂組成物層には無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いるため、第1樹脂組成物層上に第2樹脂組成物層を積層した際に第1樹脂組成物層と第2樹脂組成物層とが混ざり合うのを抑制することができる。したがって、第1樹脂層および第2樹脂層の機能の劣化を抑制することが可能である。   According to the present invention, since the second resin composition layer is formed using a solventless photocurable resin composition, the second resin composition layer can be easily laminated on the first resin composition layer. In addition, the first resin composition layer and the second resin composition layer can be patterned in one photolithography process. Therefore, a plurality of masks are not required, it is not necessary to consider alignment accuracy, the number of processes can be reduced, and manufacturing costs can be reduced. According to the present invention, since the solvent-free photocurable resin composition is used for the second resin composition layer, the first resin is formed when the second resin composition layer is laminated on the first resin composition layer. Mixing of the composition layer and the second resin composition layer can be suppressed. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the functions of the first resin layer and the second resin layer.

上記発明においては、上記第2樹脂組成物層形成工程にて、上記第1樹脂組成物層上に、上記無溶媒の光硬化性樹脂組成物を含有するドライフィルムを貼合することが好ましい。第1樹脂組成物層上に第2樹脂組成物層を容易に積層することができ、また第1樹脂組成物層上に第2樹脂組成物層を積層した際に第1樹脂組成物層と第2樹脂組成物層とが混ざり合うのを防ぐことができるからである。   In the said invention, it is preferable to paste the dry film containing the said solvent-free photocurable resin composition on the said 1st resin composition layer at the said 2nd resin composition layer formation process. The second resin composition layer can be easily laminated on the first resin composition layer, and when the second resin composition layer is laminated on the first resin composition layer, the first resin composition layer and It is because it can prevent mixing with the 2nd resin composition layer.

また本発明においては、上記第1樹脂層が反射制御層であり、上記第2樹脂層が遮光層であることが好ましい。この場合、本発明の積層体の製造方法は、カラーフィルタの製造方法やカバーガラスの製造方法に適用することができる。   In the present invention, it is preferable that the first resin layer is a reflection control layer and the second resin layer is a light shielding layer. In this case, the laminate manufacturing method of the present invention can be applied to a color filter manufacturing method and a cover glass manufacturing method.

また本発明は、透明基板上に反射制御層用樹脂組成物層を形成する反射制御層用樹脂組成物層形成工程と、上記反射制御層用樹脂組成物層上に、上記反射制御層用樹脂組成物層に含有される反射制御層用樹脂組成物と同一の現像液で現像可能であり、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いて遮光層用樹脂組成物層を形成する遮光層用樹脂組成物層形成工程と、上記反射制御層用樹脂組成物層および上記遮光層用樹脂組成物層をパターン状に露光し、同一の現像液を用いて現像し、加熱して、同一のパターン状に反射制御層および遮光層を形成するパターニング工程と、上記透明基板上の上記遮光層の開口部に複数色の着色層を形成する着色層形成工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。   The present invention also provides a resin composition layer forming step for forming a reflection control layer on a transparent substrate, and the resin for reflection control layer on the resin composition layer for reflection control layer. For the light-shielding layer, which can be developed with the same developer as the resin composition for the reflection control layer contained in the composition layer, and forms the resin composition layer for the light-shielding layer using a solvent-free photocurable resin composition The resin composition layer forming step, the reflection control layer resin composition layer and the light shielding layer resin composition layer are exposed in a pattern, developed using the same developer, heated, and the same pattern A color filter comprising: a patterning step of forming a reflection control layer and a light shielding layer in a shape; and a colored layer forming step of forming a plurality of colored layers in the openings of the light shielding layer on the transparent substrate. A manufacturing method is provided.

本発明によれば、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いて遮光層用樹脂組成物層を形成するため、反射制御層用樹脂組成物層上に遮光層用樹脂組成物層を容易に積層することができ、反射制御層用樹脂組成物層および遮光層用樹脂組成物層を1回のフォトリソ工程でパターニングすることができる。そのため、複数のマスクを必要とせず、アライメント精度を考慮する必要がなく、工程数を減らし、製造コストを削減することが可能である。また本発明によれば、遮光層用樹脂組成物層には無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いるため、反射制御層用樹脂組成物層上に遮光層用樹脂組成物層を積層した際に反射制御層用樹脂組成物層と遮光層用樹脂組成物層とが混ざり合うのを抑制することができる。したがって、反射制御層および遮光層の機能の劣化を抑制することが可能である。   According to the present invention, since the resin composition layer for the light shielding layer is formed using the solventless photocurable resin composition, the resin composition layer for the light shielding layer can be easily formed on the resin composition layer for the reflection control layer. The resin composition layer for the reflection control layer and the resin composition layer for the light shielding layer can be patterned in one photolithography process. Therefore, a plurality of masks are not required, it is not necessary to consider alignment accuracy, the number of processes can be reduced, and manufacturing costs can be reduced. Further, according to the present invention, since the solvent-free photocurable resin composition is used for the light shielding layer resin composition layer, the light shielding layer resin composition layer is laminated on the reflection control layer resin composition layer. It is possible to prevent the resin composition layer for the reflection control layer and the resin composition layer for the light shielding layer from being mixed together. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the functions of the reflection control layer and the light shielding layer.

上記発明においては、上記遮光層用樹脂組成物層形成工程にて、上記反射制御層用樹脂組成物層上に、上記無溶媒の光硬化性樹脂組成物を含有するドライフィルムを貼合することが好ましい。反射制御層用樹脂組成物層上に遮光層用樹脂組成物層を容易に積層することができ、また反射制御層用樹脂組成物層上に遮光層用樹脂組成物層を積層した際に反射制御層用樹脂組成物層と遮光層用樹脂組成物層とが混ざり合うのを防ぐことができるからである。   In the said invention, the dry film containing the said solvent-free photocurable resin composition is bonded on the said resin composition layer for reflection control layers in the said resin composition layer formation process for light shielding layers. Is preferred. The resin composition layer for the light shielding layer can be easily laminated on the resin composition layer for the reflection control layer, and also reflected when the resin composition layer for the light shielding layer is laminated on the resin composition layer for the reflection control layer. It is because it can prevent mixing the resin composition layer for control layers, and the resin composition layer for light shielding layers.

また本発明は、基板と、上記基板上にパターン状に形成された第1樹脂層と、上記第1樹脂層上に上記第1樹脂層と同一のパターン状に形成され、染料を含有する第2樹脂層とを有することを特徴とする積層体を提供する。   The present invention also provides a substrate, a first resin layer formed in a pattern on the substrate, a first resin layer formed in the same pattern as the first resin layer on the first resin layer, and containing a dye. A laminate having two resin layers is provided.

本発明によれば、第2樹脂層は染料を含有することから、無溶媒の樹脂組成物を用いて形成可能であるため、第2樹脂層の形成時に第1樹脂層と第2樹脂層とが混ざり合うのを抑制することができる。したがって、第1樹脂層および第2樹脂層の機能の劣化を抑制することが可能である。   According to the present invention, since the second resin layer contains a dye and can be formed using a solvent-free resin composition, the first resin layer and the second resin layer are formed at the time of forming the second resin layer. Can be mixed. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the functions of the first resin layer and the second resin layer.

上記発明においては、上記第1樹脂層が反射制御層であり、上記第2樹脂層が遮光層であることが好ましい。この場合、本発明の積層体は、カラーフィルタやカバーガラスに適用することができる。   In the said invention, it is preferable that the said 1st resin layer is a reflection control layer, and the said 2nd resin layer is a light shielding layer. In this case, the laminate of the present invention can be applied to a color filter or a cover glass.

また本発明は、透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成され、樹脂層である反射制御層と、上記反射制御層上に上記反射制御層と同一のパターン状に形成され、樹脂層であり、染料を含有する遮光層と、上記透明基板上の上記遮光層の開口部に形成された複数色の着色層とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供する。   The present invention also provides a transparent substrate, a reflection control layer formed in a pattern on the transparent substrate, and a resin layer, and a resin layer formed on the reflection control layer in the same pattern as the reflection control layer. And providing a color filter comprising a light-shielding layer containing a dye and a plurality of colored layers formed in openings of the light-shielding layer on the transparent substrate.

本発明によれば、遮光層は樹脂層であり染料を含有することから、無溶媒の樹脂組成物を用いて形成可能であるため、遮光層の形成時に反射制御層と遮光層とが混ざり合うのを抑制することができる。したがって、反射制御層および遮光層の機能の劣化を抑制することが可能である。   According to the present invention, since the light shielding layer is a resin layer and contains a dye, it can be formed using a solvent-free resin composition, and therefore the reflection control layer and the light shielding layer are mixed when the light shielding layer is formed. Can be suppressed. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the functions of the reflection control layer and the light shielding layer.

本発明においては、1回のフォトリソ工程で第1樹脂層および第2樹脂層をパターン状に形成することができ、また第1樹脂層および第2樹脂層が混ざり合うのを抑制し機能の劣化を抑えることができるという効果を奏する。   In the present invention, the first resin layer and the second resin layer can be formed in a pattern by a single photolithography process, and the first resin layer and the second resin layer are prevented from being mixed to deteriorate the function. There is an effect that can be suppressed.

本発明の積層体の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the laminated body of this invention. 本発明のカバーガラスの製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the cover glass of this invention. 本発明のカバーガラスの一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the cover glass of this invention. 本発明のカバーガラスの他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the cover glass of this invention. 本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the color filter of this invention. 反射率の測定方法を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the measuring method of a reflectance. 反射光を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating reflected light. 分光測色計による反射率の測定方法を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the measuring method of the reflectance by a spectrocolorimeter. 本発明のカラーフィルタにおける外光および反射光の関係を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the relationship between the external light and reflected light in the color filter of this invention. 比視感度と波長との関係の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the relationship between specific visibility and a wavelength. 屈折率と波長との関係の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the relationship between a refractive index and a wavelength. 本発明のカラーフィルタの一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the color filter of this invention.

以下、本発明の積層体の製造方法、カラーフィルタの製造方法、積層体およびカラーフィルタについて詳細に説明する。   Hereinafter, the production method of the laminate, the production method of the color filter, the laminate and the color filter of the present invention will be described in detail.

A.積層体の製造方法
本発明の積層体の製造方法は、基板上に第1樹脂組成物層を形成する第1樹脂組成物層形成工程と、上記第1樹脂組成物層上に、上記第1樹脂組成物層に含有される第1樹脂組成物と同一の現像液で現像可能であり、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いて第2樹脂組成物層を形成する第2樹脂組成物層形成工程と、上記第1樹脂組成物層および上記第2樹脂組成物層をパターン状に露光し、同一の現像液を用いて現像し、加熱して、同一のパターン状に第1樹脂層および第2樹脂層を形成するパターニング工程とを有することを特徴とする。
A. The manufacturing method of a laminated body of the present invention includes a first resin composition layer forming step of forming a first resin composition layer on a substrate, and the first resin composition layer on the first resin composition layer. A second resin composition that can be developed with the same developer as the first resin composition contained in the resin composition layer and that forms the second resin composition layer using a solvent-free photocurable resin composition The layer forming step, the first resin composition layer and the second resin composition layer are exposed in a pattern, developed using the same developer, and heated to form the first resin layer in the same pattern And a patterning step of forming the second resin layer.

本発明の積層体の製造方法について図面を参照しながら説明する。
図1(a)〜(d)は本発明の積層体の製造方法の一例を示す工程図である。まず、図1(a)に示すように、基板1上に第1樹脂組成物を塗布し、第1樹脂組成物層2aを形成する第1樹脂組成物層形成工程を行う。次いで、図1(b)に示すように、第1樹脂組成物層2a上に、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を含有するドライフィルムを貼合し、第2樹脂組成物層3aを形成する第2樹脂組成物層形成工程を行う。この第2樹脂組成物層3aに用いられる無溶媒の光硬化性樹脂組成物は、第1樹脂組成物層2aに含有される第1樹脂組成物と同一の現像液で現像可能なものである。次に、図1(c)に示すように、マスク4を介して紫外線5を照射することで第2樹脂組成物層3aおよび第1樹脂組成物層2aをパターン状に露光し、同一の現像液で現像し、その後、図示しないが加熱するパターニング工程を行う。これにより、図1(d)に示すように、同一のパターン状に第1樹脂層2および第2樹脂層3を形成する。
The manufacturing method of the laminated body of this invention is demonstrated referring drawings.
1A to 1D are process diagrams showing an example of a method for producing a laminate according to the present invention. First, as shown to Fig.1 (a), the 1st resin composition is apply | coated on the board | substrate 1, and the 1st resin composition layer formation process which forms the 1st resin composition layer 2a is performed. Subsequently, as shown in FIG.1 (b), the dry film containing a solventless photocurable resin composition is bonded on the 1st resin composition layer 2a, and the 2nd resin composition layer 3a is formed. A second resin composition layer forming step is performed. The solventless photocurable resin composition used for the second resin composition layer 3a can be developed with the same developer as the first resin composition contained in the first resin composition layer 2a. . Next, as shown in FIG.1 (c), the 2nd resin composition layer 3a and the 1st resin composition layer 2a are exposed to pattern shape by irradiating the ultraviolet-ray 5 through the mask 4, and the same image development is carried out. The patterning process which develops with a liquid and heats although not shown in figure after that is performed. Thereby, as shown in FIG.1 (d), the 1st resin layer 2 and the 2nd resin layer 3 are formed in the same pattern shape.

本発明によれば、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いて第2樹脂組成物層を形成するため、第1樹脂組成物層上に第2樹脂組成物層を容易に積層することができ、第1樹脂組成物層および第2樹脂組成物層を1回のフォトリソ工程でパターニングすることができる。したがって、複数のマスクを必要とせず、アライメント精度を考慮する必要がなく、工程数を減らし、製造コストを削減することが可能である。
また本発明によれば、第2樹脂組成物層には無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いるため、第1樹脂組成物層上に第2樹脂組成物層を積層した際に第1樹脂組成物層と第2樹脂組成物層とが混ざり合うのを防ぐことができる。したがって、第1樹脂層および第2樹脂層の機能の劣化を抑制することが可能である。
According to the present invention, since the second resin composition layer is formed using a solventless photocurable resin composition, the second resin composition layer can be easily laminated on the first resin composition layer. In addition, the first resin composition layer and the second resin composition layer can be patterned in one photolithography process. Therefore, a plurality of masks are not required, it is not necessary to consider the alignment accuracy, the number of steps can be reduced, and the manufacturing cost can be reduced.
According to the present invention, since the solvent-free photocurable resin composition is used for the second resin composition layer, the first resin is formed when the second resin composition layer is laminated on the first resin composition layer. Mixing of the composition layer and the second resin composition layer can be prevented. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the functions of the first resin layer and the second resin layer.

以下、本発明の積層体の製造方法における各工程について説明する。   Hereinafter, each process in the manufacturing method of the laminated body of this invention is demonstrated.

1.第1樹脂組成物層形成工程
本発明においては、基板上に第1樹脂組成物層を形成する第1樹脂組成物層形成工程を行う。
1. 1st resin composition layer formation process In this invention, the 1st resin composition layer formation process which forms a 1st resin composition layer on a board | substrate is performed.

第1樹脂組成物層に含有される第1樹脂組成物としては、後述の第2樹脂組成物層に用いられる無溶媒の光硬化性樹脂組成物と同一の現像液で現像可能なものであれば特に限定されるものではない。   The first resin composition contained in the first resin composition layer can be developed with the same developer as the solventless photocurable resin composition used in the second resin composition layer described below. There is no particular limitation.

第1樹脂組成物は、光硬化性を有していてもよく有さなくてもよい。第1樹脂組成物が光硬化性を有さない場合であっても、後述のパターニング工程では、パターニングされた第2樹脂組成物層がマスクとして機能することで、第1樹脂組成物層をパターニングすることができる。
中でも、第1樹脂組成物は光硬化性を有することが好ましい。パターニング工程での現像時に第1樹脂組成物層のパターンの側面が過剰に除去されてしまうのを抑制することができるからである。また、第1樹脂層および基板の密着性を向上させることができる。
The first resin composition may or may not have photocurability. Even in the case where the first resin composition does not have photocurability, in the patterning step described later, the patterned second resin composition layer functions as a mask, thereby patterning the first resin composition layer. can do.
Especially, it is preferable that the 1st resin composition has photocurability. It is because it can suppress that the side surface of the pattern of the 1st resin composition layer will be removed excessively at the time of image development in a patterning process. Moreover, the adhesiveness of a 1st resin layer and a board | substrate can be improved.

具体的には、第1樹脂組成物は、第1樹脂層の機能や積層体の用途等に応じて適宜選択される。
例えば第1樹脂層として、カラーフィルタにおける遮光層の下に形成される反射制御層、カバーガラスにおける黒色加飾層の下に設けられる反射制御層、またはカバーガラスにおける白色加飾層を形成する場合には、バインダー樹脂および色材を含有する第1樹脂組成物や、透明な第1樹脂組成物を用いることができる。この場合、第1樹脂組成物には、必要に応じて光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等が含有されていてもよい。
また、例えば第1樹脂層として、反射防止層における低屈折率層を形成する場合には、バインダー樹脂および微粒子を含有する第1樹脂組成物を用いることができる。
また、第1樹脂組成物は、溶媒を含有していてもよく、無溶媒であってもよい。
Specifically, a 1st resin composition is suitably selected according to the function of a 1st resin layer, the use of a laminated body, etc.
For example, as the first resin layer, a reflection control layer formed under the light shielding layer in the color filter, a reflection control layer provided under the black decorative layer in the cover glass, or a white decorative layer in the cover glass For this, a first resin composition containing a binder resin and a coloring material or a transparent first resin composition can be used. In this case, the first resin composition contains a photopolymerization initiator, a sensitizer, a coatability improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like as necessary. May be.
For example, when the low refractive index layer in the antireflection layer is formed as the first resin layer, a first resin composition containing a binder resin and fine particles can be used.
Moreover, the 1st resin composition may contain the solvent and may be solvent-free.

第1樹脂組成物層の形成方法としては、第1樹脂組成物の組成に応じて適宜選択される。例えば第1樹脂組成物が溶媒を含有する場合には、基板上に第1樹脂組成物を塗布する方法が挙げられる。また、第1樹脂組成物が無溶媒である場合には、基板上に第1樹脂組成物を塗布する方法や、基板上に第1樹脂組成物を含有するドライフィルムを貼合する方法が挙げられる。
第1樹脂組成物の塗布方法としては、基板の全面に第1樹脂組成物を塗布できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えばスピンコート法、ダイコート法等、一般的な方法を採用することができる。
The method for forming the first resin composition layer is appropriately selected according to the composition of the first resin composition. For example, when the 1st resin composition contains a solvent, the method of apply | coating a 1st resin composition on a board | substrate is mentioned. Moreover, when the first resin composition is solvent-free, a method of applying the first resin composition on the substrate and a method of bonding a dry film containing the first resin composition on the substrate are mentioned. It is done.
The method for applying the first resin composition is not particularly limited as long as the first resin composition can be applied to the entire surface of the substrate. For example, a general method such as a spin coating method or a die coating method is adopted. can do.

第1樹脂組成物層の膜厚としては、第1樹脂組成物層上に第2樹脂組成物層を積層可能な程度であればよく、第1樹脂層の機能や積層体の用途等に応じて適宜選択される。   The film thickness of the first resin composition layer may be as long as the second resin composition layer can be laminated on the first resin composition layer, depending on the function of the first resin layer, the use of the laminate, and the like. Are appropriately selected.

本発明に用いられる基板としては、第1樹脂層および第2樹脂層を支持できるものであれば特に限定されるものではなく、積層体の用途等に応じて適宜選択される。基板としては、例えば石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明な無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な樹脂基板等を挙げることができる。   The substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it can support the first resin layer and the second resin layer, and is appropriately selected according to the use of the laminate. Examples of the substrate include a transparent inorganic substrate having no flexibility such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, and synthetic quartz plate, and a transparent resin having flexibility such as a transparent resin film and an optical resin plate. A substrate etc. can be mentioned.

2.第2樹脂組成物層形成工程
本発明においては、上記第1樹脂組成物層上に、上記第1樹脂組成物層に含有される第1樹脂組成物と同一の現像液で現像可能であり、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いて第2樹脂組成物層を形成する第2樹脂組成物層形成工程を行う。
2. Second resin composition layer forming step In the present invention, the first resin composition layer can be developed with the same developer as the first resin composition contained in the first resin composition layer, The 2nd resin composition layer formation process which forms a 2nd resin composition layer using a solventless photocurable resin composition is performed.

ここで、「無溶媒」とは、光硬化性樹脂組成物中の溶媒の含有量が0.5質量%以下であることをいう。中でも、光硬化性樹脂組成物には、溶媒が全く含まれないことが好ましい。   Here, “solvent free” means that the content of the solvent in the photocurable resin composition is 0.5% by mass or less. Especially, it is preferable that a solvent is not contained at all in a photocurable resin composition.

第2樹脂組成物層に用いられる無溶媒の光硬化性樹脂組成物としては、上記第1樹脂組成物層に含有される第1樹脂組成物と同一の現像液で現像可能なものであれば特に限定されるものではない。
具体的には、無溶媒の光硬化性樹脂組成物は、第2樹脂層の機能や積層体の用途等に応じて適宜選択される。
例えば第2樹脂層として、カラーフィルタにおける遮光層、カバーガラスにおける黒色加飾層または遮光層を形成する場合には、バインダー樹脂および色材を含有する光硬化性樹脂組成物を用いることができる。この場合、第2樹脂組成物には、光重合開始剤や、必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等が含有されていてもよい。
また、例えば第2樹脂層として、カバーガラスにおける絶縁層を形成する場合には、絶縁性を有する光硬化性樹脂組成物を用いることができる。
また、例えば第2樹脂層として、反射防止層における高屈折率層を形成する場合には、バインダー樹脂および微粒子を含有する光硬化性樹脂組成物を用いることができる。
As the solventless photocurable resin composition used for the second resin composition layer, it can be developed with the same developer as the first resin composition contained in the first resin composition layer. It is not particularly limited.
Specifically, the solventless photocurable resin composition is appropriately selected according to the function of the second resin layer, the use of the laminate, and the like.
For example, when forming the light shielding layer in a color filter, the black decoration layer in a cover glass, or a light shielding layer as a 2nd resin layer, the photocurable resin composition containing binder resin and a coloring material can be used. In this case, the second resin composition contains a photopolymerization initiator and, if necessary, a sensitizer, a coatability improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like. It may be.
For example, when forming the insulating layer in a cover glass as a 2nd resin layer, the photocurable resin composition which has insulation can be used.
For example, when forming a high refractive index layer in the antireflection layer as the second resin layer, a photocurable resin composition containing a binder resin and fine particles can be used.

第2樹脂組成物層の形成方法としては、例えば第1樹脂組成物層上に無溶媒の光硬化性樹脂組成物を塗布する方法や、第1樹脂組成物層上に無溶媒の光硬化性樹脂組成物を含有するドライフィルムを貼合する方法が挙げられる。中でも、積層が容易であることから、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を含有するドライフィルムを貼合する方法が好ましい。
無溶媒の光硬化性樹脂組成物の塗布方法としては、第1樹脂組成物層の全面に無溶媒の光硬化性樹脂組成物を塗布できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えばスピンコート法、ダイコート法等、一般的な方法を採用することができる。
Examples of the method for forming the second resin composition layer include a method of applying a solventless photocurable resin composition on the first resin composition layer, and a solventless photocurable property on the first resin composition layer. The method of bonding the dry film containing a resin composition is mentioned. Especially, since lamination | stacking is easy, the method of bonding the dry film containing a solvent-free photocurable resin composition is preferable.
The method for applying the solventless photocurable resin composition is not particularly limited as long as it is a method that can apply the solventless photocurable resin composition to the entire surface of the first resin composition layer. General methods such as a coating method and a die coating method can be employed.

第2樹脂組成物層の膜厚としては、第1樹脂組成物層上に第2樹脂組成物層を積層可能な程度であればよく、第2樹脂層の機能や積層体の用途等に応じて適宜選択される。   The film thickness of the second resin composition layer may be as long as the second resin composition layer can be laminated on the first resin composition layer, depending on the function of the second resin layer, the use of the laminate, and the like. Are appropriately selected.

3.パターニング工程
本発明においては、上記第1樹脂組成物層および上記第2樹脂組成物層をパターン状に露光し、同一の現像液を用いて現像し、加熱して、同一のパターン状に第1樹脂層および第2樹脂層を形成するパターニング工程を行う。
3. Patterning Step In the present invention, the first resin composition layer and the second resin composition layer are exposed in a pattern, developed using the same developer, and heated to form the first pattern in the same pattern. A patterning process for forming the resin layer and the second resin layer is performed.

第1樹脂組成物層および第2樹脂組成物層をパターン状に露光する方法としては、例えばフォトマスクを介して光を照射する方法、レーザー光を直接描画する方法が挙げられる。
第1樹脂組成物層および第2樹脂組成物層に照射する光としては、少なくとも第2樹脂組成物層を硬化させることができる光であればよく、例えば紫外線が用いられる。
Examples of the method of exposing the first resin composition layer and the second resin composition layer in a pattern include a method of irradiating light through a photomask and a method of directly drawing laser light.
The light applied to the first resin composition layer and the second resin composition layer may be light that can cure at least the second resin composition layer. For example, ultraviolet light is used.

現像に用いられる現像液としては、第1樹脂組成物層の未露光部分および第2樹脂組成物層の未露光部分の両方を溶解できるものであれば特に限定されるものではなく、例えばアルカリ現像液や有機溶剤が挙げられる。中でも、アルカリ現像液が好ましく用いられる。   The developer used for development is not particularly limited as long as it can dissolve both the unexposed part of the first resin composition layer and the unexposed part of the second resin composition layer. Examples thereof include liquids and organic solvents. Among these, an alkaline developer is preferably used.

現像後は加熱を行う。第2樹脂組成物層には無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いているため、架橋密度が比較的低く、密着性が比較的弱いと考えられるが、現像後の加熱により密着性を高めることができる。また、第1樹脂組成物層に無溶媒の第1樹脂組成物を用いる場合も、加熱により密着性を高めることができる。温度や時間等の加熱条件は、第1樹脂層および第2樹脂層の機能や積層体の用途等に応じて適宜選択される。   Heating is performed after development. Since the solvent-free photocurable resin composition is used for the second resin composition layer, it is considered that the crosslinking density is relatively low and the adhesion is relatively weak, but the adhesion is improved by heating after development. be able to. Moreover, also when using a 1st resin composition without a solvent for a 1st resin composition layer, adhesiveness can be improved by heating. Heating conditions such as temperature and time are appropriately selected according to the functions of the first resin layer and the second resin layer, the use of the laminate, and the like.

また、現像後、加熱前に、第1樹脂組成物層および第2樹脂組成物層を基板側から露光してもよい。これにより、架橋密度を高めることができる。   Further, the first resin composition layer and the second resin composition layer may be exposed from the substrate side after development and before heating. Thereby, a crosslinking density can be raised.

同一のパターン状に形成された第1樹脂層および第2樹脂層のパターン形状としては、第1樹脂層および第2樹脂層の機能や積層体の用途等に応じて適宜選択される。   The pattern shapes of the first resin layer and the second resin layer formed in the same pattern are appropriately selected according to the functions of the first resin layer and the second resin layer, the use of the laminate, and the like.

4.積層体の製造方法
本発明において、第1樹脂組成物層および第2樹脂組成物層の少なくともいずれかの透過率が低い場合には、第1樹脂組成物層の下層に対するアライメントが困難になる場合がある。そのため、このような場合には、第1樹脂層および第2樹脂層は、第1樹脂層の下層に対してアライメントが必要のない部材であることが好ましい。具体的には、第1樹脂層は、積層体において基板上にパターン状に形成されている部材のうち、最も基板側に配置されている部材であることが好ましい。
4). In the present invention, when the transmittance of at least one of the first resin composition layer and the second resin composition layer is low, alignment with the lower layer of the first resin composition layer becomes difficult There is. Therefore, in such a case, the first resin layer and the second resin layer are preferably members that do not require alignment with respect to the lower layer of the first resin layer. Specifically, the first resin layer is preferably a member that is disposed on the most substrate side among members formed in a pattern on the substrate in the laminate.

本発明の積層体の製造方法は、例えばカラーフィルタ、カバーガラス、反射防止層の製造方法等、種々の用途に適用することができる。具体的には、カラーフィルタの製造方法においては、第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として遮光層を形成する方法が挙げられる。また、カバーガラスの製造方法においては、第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として黒色加飾層を形成する方法、第1樹脂層として黒色加飾層、第2樹脂層として絶縁層を形成する方法、および、第1樹脂層として白色加飾層、第2樹脂層として遮光層を形成する方法が挙げられる。また、反射防止層の製造方法において、第1樹脂層として高屈折率層、第2樹脂層として低屈折率層を形成する方法が挙げられる。   The manufacturing method of the laminated body of this invention is applicable to various uses, such as a manufacturing method of a color filter, a cover glass, an antireflection layer, etc., for example. Specifically, in the method for producing a color filter, a method of forming a reflection control layer as the first resin layer and a light shielding layer as the second resin layer can be mentioned. Moreover, in the manufacturing method of a cover glass, the method of forming a reflection control layer as a 1st resin layer, a black decorative layer as a 2nd resin layer, a black decorative layer as a 1st resin layer, and an insulating layer as a 2nd resin layer And a method of forming a white decorative layer as the first resin layer and a light shielding layer as the second resin layer. Moreover, in the manufacturing method of an antireflection layer, the method of forming a high refractive index layer as a 1st resin layer and forming a low refractive index layer as a 2nd resin layer is mentioned.

中でも、本発明の積層体の製造方法は、カラーフィルタの製造方法またはカバーガラスの製造方法に用いられることが好ましく、特に第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として遮光層を形成する方法であることが好ましい。   Especially, it is preferable that the manufacturing method of the laminated body of this invention is used for the manufacturing method of a color filter or the manufacturing method of a cover glass, and especially forms a reflection control layer as a 1st resin layer, and a light shielding layer as a 2nd resin layer. A method is preferred.

以下、カラーフィルタの製造方法およびカバーガラスの製造方法について説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of a color filter and the manufacturing method of a cover glass are demonstrated.

(1)カラーフィルタの製造方法
本発明におけるカラーフィルタの製造方法は、本発明の積層体の製造方法において、第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として遮光層を形成する方法である。
なお、カラーフィルタの製造方法については、後述の「B.カラーフィルタの製造方法」に詳しく記載するので、ここでの説明は省略する。
(1) Color Filter Manufacturing Method The color filter manufacturing method of the present invention is a method of forming a reflection control layer as the first resin layer and a light shielding layer as the second resin layer in the method of manufacturing the laminate of the present invention. .
The color filter manufacturing method will be described in detail in “B. Color filter manufacturing method”, which will be described later, and will not be described here.

(2)カバーガラスの製造方法
本発明におけるカバーガラスの製造方法は、本発明の積層体の製造方法において、第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として黒色加飾層を形成する方法、第1樹脂層として黒色加飾層、第2樹脂層として絶縁層を形成する方法、あるいは、第1樹脂層として白色加飾層、第2樹脂層として遮光層を形成する方法である。
(2) Manufacturing method of cover glass The manufacturing method of the cover glass in this invention is the method of forming a reflection control layer as a 1st resin layer and a black decoration layer as a 2nd resin layer in the manufacturing method of the laminated body of this invention. The first resin layer is a black decorative layer, the second resin layer is an insulating layer, or the first resin layer is a white decorative layer, and the second resin layer is a light shielding layer.

図2(a)〜(d)は本発明におけるカバーガラスの製造方法の一例を示す工程図であり、第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として黒色加飾層を形成する方法の一例である。まず、図2(a)に示すように、透明基板21上に反射制御層用樹脂組成物を塗布して、反射制御層用樹脂組成物層22aを形成する反射制御層用樹脂組成物層形成工程を行う。次いで、図2(b)に示すように、反射制御層用樹脂組成物層22a上に、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を含有するドライフィルムを貼合し、黒色加飾層用樹脂組成物層23aを形成する黒色加飾層用樹脂組成物層形成工程を行う。この黒色加飾層用樹脂組成物層23aに用いられる無溶媒の光硬化性樹脂組成物は、反射制御層用樹脂組成物層22aに含有される反射制御層用樹脂組成物と同一の現像液で現像可能なものである。次に、図2(c)に示すように、マスク4を介して紫外線5を照射することで反射制御層用樹脂組成物層22aおよび黒色加飾層用樹脂組成物層23aをパターン状に露光し、同一の現像液を用いて現像し、加熱するパターニング工程を行う。これにより、図2(d)に示すように、同一のパターン状に反射制御層22および黒色加飾層23を形成する。このようにして、カバーガラス20が得られる。   2A to 2D are process diagrams showing an example of a method for producing a cover glass according to the present invention, in which a reflection control layer is formed as a first resin layer and a black decorative layer is formed as a second resin layer. It is an example. First, as shown in FIG. 2A, the resin composition layer for reflection control layer is formed by applying the resin composition for reflection control layer on the transparent substrate 21 to form the resin composition layer 22a for reflection control layer. Perform the process. Next, as shown in FIG. 2 (b), a dry film containing a solvent-free photocurable resin composition is bonded onto the resin composition layer 22a for the reflection control layer, and the resin composition for the black decorative layer is bonded. The black decorative layer resin composition layer forming step for forming the physical layer 23a is performed. The solvent-free photocurable resin composition used for the black decorative layer resin composition layer 23a is the same developer as the reflection control layer resin composition contained in the reflection control layer resin composition layer 22a. Can be developed. Next, as shown in FIG.2 (c), the ultraviolet ray 5 is irradiated through the mask 4, and the resin composition layer 22a for reflection control layers and the resin composition layer 23a for black decorating layers are exposed in a pattern form. Then, a patterning process is performed in which development is performed using the same developer and heating is performed. Thereby, as shown in FIG.2 (d), the reflection control layer 22 and the black decorating layer 23 are formed in the same pattern shape. In this way, the cover glass 20 is obtained.

上記の場合、反射制御層と黒色加飾層とを積層することにより、カバーガラスをタッチパネルに用いた場合には、視認性や意匠性を向上させることができる。例えば、外光反射を抑制し、非表示時に表示領域および非表示領域の境界を視認しにくくすることができ、意匠性を改善することができる。
また、反射制御層および黒色加飾層を一括形成することができ、工程数を削減し、製造コストを抑えることができる。
さらに、黒色加飾層用樹脂組成物層の積層時に、反射制御層用樹脂組成物層と黒色加飾層用樹脂組成物層とが混ざり合うのを抑制することができ、色ムラが発生するのを抑えることができる。
In the above case, by stacking the reflection control layer and the black decorative layer, visibility and design can be improved when the cover glass is used for the touch panel. For example, it is possible to suppress external light reflection, make it difficult to visually recognize the boundary between the display area and the non-display area at the time of non-display, and improve the design.
In addition, the reflection control layer and the black decorative layer can be formed in a lump, reducing the number of steps and reducing the manufacturing cost.
Furthermore, when the resin composition layer for the black decorative layer is laminated, the resin composition layer for the reflection control layer and the resin composition layer for the black decorative layer can be prevented from being mixed, and color unevenness occurs. Can be suppressed.

また、第1樹脂層として黒色加飾層、第2樹脂層として絶縁層を形成する方法の場合には、図3に例示するように、透明基板21上に黒色加飾層23および絶縁層24を同一のパターン状に一括で形成することができる。
この場合、黒色加飾層上に絶縁層が形成されていることにより、黒色加飾層にカーボンブラック等の導電性を有する黒色色材が含有されている場合には、カバーガラスをタッチパネルに用いた際に、配線と黒色加飾層との導通を防ぐことができる。
また、絶縁層用樹脂組成物層の積層時に、黒色加飾層用樹脂組成物層と絶縁層用樹脂組成物層とが混ざり合うのを抑制することができ、色ムラが発生したり、絶縁層の絶縁性が低下したりするのを抑えることができる。
In the case of a method of forming a black decorative layer as the first resin layer and an insulating layer as the second resin layer, as illustrated in FIG. 3, the black decorative layer 23 and the insulating layer 24 are formed on the transparent substrate 21. Can be collectively formed in the same pattern.
In this case, the cover glass is used for the touch panel when the black decorative layer contains a conductive black color material such as carbon black because the insulating layer is formed on the black decorative layer. In this case, conduction between the wiring and the black decorative layer can be prevented.
In addition, when the resin composition layer for the insulating layer is laminated, it is possible to suppress the mixing of the resin composition layer for the black decorative layer and the resin composition layer for the insulating layer. It can suppress that the insulation of a layer falls.

また、第1樹脂層として白色加飾層、第2樹脂層として遮光層を形成する方法の場合には、図4に例示するように、透明基板21上に白色加飾層25および絶縁層26を同一のパターン状に一括で形成することができる。
この場合、白色加飾層上に遮光層が形成されていることにより、白色加飾層を視認しやすくすることができ、意匠性を向上させることができる。
また、遮光層用樹脂組成物層の積層時に、白色加飾層用樹脂組成物層と遮光層用樹脂組成物層とが混ざり合うのを抑制することができ、色ムラが発生するのを抑えることができる。
In the case of a method of forming a white decorative layer as the first resin layer and a light shielding layer as the second resin layer, as illustrated in FIG. 4, the white decorative layer 25 and the insulating layer 26 are formed on the transparent substrate 21. Can be collectively formed in the same pattern.
In this case, since the light shielding layer is formed on the white decorative layer, the white decorative layer can be easily recognized and the design can be improved.
In addition, when the resin composition layer for the light shielding layer is laminated, it is possible to suppress the mixing of the resin composition layer for the white decorative layer and the resin composition layer for the light shielding layer, and to prevent the occurrence of color unevenness. be able to.

以下、本発明のカバーガラスの製造方法について、第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として黒色加飾層を形成する方法、第1樹脂層として黒色加飾層、第2樹脂層として絶縁層を形成する方法、および、第1樹脂層として白色加飾層、第2樹脂層として遮光層を形成する方法に分けて説明する。   Hereinafter, about the manufacturing method of the cover glass of this invention, the method of forming a reflection control layer as a 1st resin layer, a black decoration layer as a 2nd resin layer, a black decoration layer as a 1st resin layer, as a 2nd resin layer A description will be given separately for a method of forming an insulating layer and a method of forming a white decorative layer as the first resin layer and a light shielding layer as the second resin layer.

(a)第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として黒色加飾層を形成する方法
本態様のカバーガラスの製造方法は、後述の「B.カラーフィルタの製造方法」において、第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として遮光層を形成する方法と同様とすることができる。
反射制御層および遮光層のパターン形状としては、カバーガラスにおける一般的な加飾層のパターン形状と同様とすることができ、枠状を例示することができる。
(A) Method of Forming Reflection Control Layer as First Resin Layer and Black Decorating Layer as Second Resin Layer The method for producing the cover glass of this aspect is described in “B. Method for producing color filter” described below. The method may be the same as the method of forming the reflection control layer as the resin layer and the light shielding layer as the second resin layer.
The pattern shape of the reflection control layer and the light shielding layer can be the same as the pattern shape of a general decorative layer in a cover glass, and a frame shape can be exemplified.

(b)第1樹脂層として黒色加飾層、第2樹脂層として絶縁層を形成する方法
黒色加飾層を形成する方法については、後述の「B.カラーフィルタの製造方法」における遮光層を形成する方法と同様とすることができる。
また、絶縁層に用いられる絶縁層用樹脂組成物や絶縁層の膜厚等については、カバーガラスにおける一般的な絶縁層と同様とすることができる。
黒色加飾層および絶縁層のパターン形状としては、カバーガラスにおける一般的な加飾層のパターン形状と同様とすることができ、枠状を例示することができる。
(B) Method of forming a black decorative layer as the first resin layer and an insulating layer as the second resin layer For the method of forming the black decorative layer, the light shielding layer in “B. Color filter manufacturing method” described later is used. It can be the same as the method of forming.
Moreover, about the resin composition for insulating layers used for an insulating layer, the film thickness of an insulating layer, etc., it can be made to be the same as that of the general insulating layer in a cover glass.
The pattern shape of the black decorative layer and the insulating layer can be the same as the pattern shape of a general decorative layer in a cover glass, and a frame shape can be exemplified.

(c)第1樹脂層として白色加飾層、第2樹脂層として遮光層を形成する方法
白色加飾層に用いられる白色加飾層用樹脂組成物や白色加飾層の膜厚等については、カバーガラスにおける一般的な白色加飾層と同様とすることができる。
また、遮光層を形成する方法については、後述の「B.カラーフィルタの製造方法」における遮光層を形成する方法と同様とすることができる。
白色加飾層および遮光層のパターン形状としては、カバーガラスにおける一般的な加飾層のパターン形状と同様とすることができ、枠状を例示することができる。
(C) Method of forming a white decorative layer as the first resin layer and a light shielding layer as the second resin layer About the resin composition for the white decorative layer used in the white decorative layer, the film thickness of the white decorative layer, and the like It can be the same as that of a general white decorative layer in a cover glass.
The method for forming the light shielding layer can be the same as the method for forming the light shielding layer in “B. Color filter manufacturing method” described later.
The pattern shape of the white decorative layer and the light shielding layer can be the same as the pattern shape of a general decorative layer in a cover glass, and a frame shape can be exemplified.

B.カラーフィルタの製造方法
本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明基板上に反射制御層用樹脂組成物層を形成する反射制御層用樹脂組成物層形成工程と、上記反射制御層用樹脂組成物層上に、上記反射制御層用樹脂組成物層に含有される反射制御層用樹脂組成物と同一の現像液で現像可能であり、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いて遮光層用樹脂組成物層を形成する遮光層用樹脂組成物層形成工程と、上記反射制御層用樹脂組成物層および上記遮光層用樹脂組成物層をパターン状に露光し、同一の現像液を用いて現像し、加熱して、同一のパターン状に反射制御層および遮光層を形成するパターニング工程と、上記透明基板上の上記遮光層の開口部に複数色の着色層を形成する着色層形成工程とを有する。
B. Method for Producing Color Filter The method for producing a color filter of the present invention comprises a resin composition layer forming step for a reflection control layer for forming a resin composition layer for a reflection control layer on a transparent substrate, and the resin composition for a reflection control layer. On the layer, it can be developed with the same developer as the resin composition for the reflection control layer contained in the resin composition layer for the reflection control layer, and for the light-shielding layer using a solvent-free photocurable resin composition. The resin composition layer forming step for the light shielding layer for forming the resin composition layer, the resin composition layer for the reflection control layer and the resin composition layer for the light shielding layer are exposed in a pattern, and the same developer is used. A patterning step of developing and heating to form a reflection control layer and a light shielding layer in the same pattern, and a color layer forming step of forming a plurality of colored layers in the openings of the light shielding layer on the transparent substrate, Have

図5(a)〜(e)は本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。まず、図5(a)に示すように、透明基板11上に反射制御層用樹脂組成物を塗布して、反射制御層用樹脂組成物層12aを形成する反射制御層用樹脂組成物層形成工程を行う。次いで、図5(b)に示すように、反射制御層用樹脂組成物層12a上に、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を含有するドライフィルムを貼合し、遮光層用樹脂組成物層13aを形成する遮光層用樹脂組成物層形成工程を行う。この遮光層用樹脂組成物層13aに用いられる無溶媒の光硬化性樹脂組成物は、反射制御層用樹脂組成物層12aに含有される反射制御層用樹脂組成物と同一の現像液で現像可能なものである。次に、図5(c)に示すように、マスク4を介して紫外線5を照射することで反射制御層用樹脂組成物層12aおよび遮光層用樹脂組成物層13aをパターン状に露光し、同一の現像液を用いて現像し、加熱するパターニング工程を行う。これにより、図5(d)に示すように、同一のパターン状に反射制御層12および遮光層13を形成する。次に、図5(e)に示すように、透明基板11上の遮光層13の開口部に、赤色着色層16R、緑色着色層16G、青色着色層16Bをそれぞれパターン状に形成し、着色層16を形成する着色層形成工程を行う。   5A to 5E are process diagrams showing an example of a method for producing a color filter of the present invention. First, as shown in FIG. 5A, a resin composition layer for reflection control layer is formed by applying a resin composition for reflection control layer on a transparent substrate 11 to form a resin composition layer 12a for reflection control layer. Perform the process. Subsequently, as shown in FIG.5 (b), the dry film containing a solventless photocurable resin composition is bonded on the resin composition layer 12a for reflection control layers, and the resin composition layer for light shielding layers The resin composition layer formation process for light shielding layers which forms 13a is performed. The solventless photocurable resin composition used for the light shielding layer resin composition layer 13a is developed with the same developer as the reflection control layer resin composition contained in the reflection control layer resin composition layer 12a. It is possible. Next, as shown in FIG.5 (c), the resin composition layer 12a for reflection control layers and the resin composition layer 13a for light-shielding layers are exposed by patterning by irradiating the ultraviolet-ray 5 through the mask 4, A patterning process is performed in which development is performed using the same developer and heating is performed. Thereby, as shown in FIG. 5D, the reflection control layer 12 and the light shielding layer 13 are formed in the same pattern. Next, as shown in FIG. 5 (e), a red colored layer 16R, a green colored layer 16G, and a blue colored layer 16B are formed in patterns in the openings of the light shielding layer 13 on the transparent substrate 11, respectively. A colored layer forming step for forming 16 is performed.

図5に示す例においては、表示領域18に形成され、画素を画定する画素区分用遮光部14と、非表示領域19に形成され、表示領域18を画定する額縁遮光部15との両方を反射制御層12および遮光層13の積層構造としている。   In the example shown in FIG. 5, both the pixel-shading light-shielding portion 14 that is formed in the display area 18 and demarcates the pixels and the frame light-shielding portion 15 that is formed in the non-display area 19 and demarcates the display area 18 are reflected. A laminated structure of the control layer 12 and the light shielding layer 13 is employed.

本発明によれば、反射制御層および遮光層を積層することにより、本発明のカラーフィルタを表示装置に用いた場合には、外光反射を抑制することができ、視認性や意匠性を向上させることができる。例えば表示領域の画素区分用遮光部や非表示領域の額縁遮光部において反射制御層および遮光層を積層することにより、外光反射を抑制し、表示時の視認性を向上させることができる。また、非表示領域の額縁遮光部において反射制御層および遮光層を積層することにより、非表示時に表示領域および非表示領域の境界を視認しにくくすることができ、意匠性を改善することができる。   According to the present invention, by laminating the reflection control layer and the light shielding layer, when the color filter of the present invention is used for a display device, reflection of external light can be suppressed, and visibility and design are improved. Can be made. For example, by stacking the reflection control layer and the light shielding layer in the pixel-shading light-shielding portion in the display area and the frame light-shielding portion in the non-display area, external light reflection can be suppressed and visibility during display can be improved. Further, by laminating the reflection control layer and the light shielding layer in the frame light shielding portion of the non-display area, it is possible to make it difficult to visually recognize the boundary between the display area and the non-display area during non-display and to improve the design. .

また本発明によれば、遮光層用樹脂組成物層の積層時に、反射制御層用樹脂組成物層と遮光層用樹脂組成物層とが混ざり合うのを抑制することができ、色ムラが発生したり、遮光層の遮光性が低下したりするのを抑えることができる。
さらに、反射制御層および遮光層を一括形成することができ、工程数を削減し、製造コストを抑えることができる。
Further, according to the present invention, it is possible to suppress mixing of the resin composition layer for the reflection control layer and the resin composition layer for the light shielding layer when the resin composition layer for the light shielding layer is laminated, and color unevenness occurs. Or a reduction in the light shielding property of the light shielding layer can be suppressed.
Furthermore, the reflection control layer and the light shielding layer can be formed at a time, so that the number of steps can be reduced and the manufacturing cost can be reduced.

以下、本発明のカラーフィルタの製造方法における各工程について説明する。   Hereinafter, each process in the manufacturing method of the color filter of this invention is demonstrated.

1.反射制御層用樹脂組成物層形成工程
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、透明基板上に反射制御層用樹脂組成物層を形成する反射制御層用樹脂組成物層形成工程を行う。
1. Step of forming resin composition layer for reflection control layer In the method for producing a color filter of the present invention, a step of forming a resin composition layer for reflection control layer for forming a resin composition layer for reflection control layer on a transparent substrate is performed.

反射制御層用樹脂組成物層に用いられる反射制御層用樹脂組成物としては、画素区分用遮光部や額縁遮光部での外光反射を抑制することが可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えばバインダー樹脂中に色材を分散させたものや、透明なものを用いることができる。   The resin composition for the reflection control layer used for the resin composition layer for the reflection control layer is particularly limited as long as it can suppress external light reflection at the pixel-partitioning light-shielding part and the frame light-shielding part. For example, a material in which a coloring material is dispersed in a binder resin or a transparent material can be used.

色材としては、例えば、黒、赤、緑、青、黄、橙、紫等の各色の色材を用いることができる。色材は顔料および染料のいずれも用いることができ、反射制御層用樹脂組成物の組成や反射制御層用樹脂組成物層の形成方法に応じて適宜選択される。透明基板上に無溶媒の反射制御層用樹脂組成物を塗布する場合には、染料が用いられる。また、透明基板上に溶媒を含有する反射制御層用樹脂組成物を塗布する場合、および、透明基板上に無溶媒の反射制御層用樹脂組成物を含有するドライフィルムを貼合する場合には、顔料および染料のいずれも用いることができる。
なお、各色の色材については、後述の遮光層に用いられる無溶媒の光硬化性樹脂組成物や、着色層用樹脂組成物に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
As the color material, for example, color materials of each color such as black, red, green, blue, yellow, orange, and purple can be used. Either a pigment or a dye can be used as the color material, and it is appropriately selected according to the composition of the resin composition for the reflection control layer and the method for forming the resin composition layer for the reflection control layer. When the solventless resin composition for reflection control layer is applied on the transparent substrate, a dye is used. Also, when applying a resin composition for a reflection control layer containing a solvent on a transparent substrate, and when pasting a dry film containing a solvent-free resin composition for a reflection control layer on a transparent substrate Any of pigments and dyes can be used.
In addition, about the coloring material of each color, since it can be the same as that used for the solventless photocurable resin composition used for the below-mentioned light shielding layer and the resin composition for colored layers, description here Is omitted.

バインダー樹脂として、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
反射制御層用樹脂組成物は、溶媒を含有していてもよく、無溶媒であってもよい。
また、反射制御層用樹脂組成物には、光重合開始剤や、必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等が含有されていてもよい。
As the binder resin, for example, a photosensitive resin having a reactive vinyl group such as acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber is used.
The resin composition for a reflection control layer may contain a solvent or may be solventless.
In addition, the resin composition for the reflection control layer contains a photopolymerization initiator and, if necessary, a sensitizer, a coatability improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like. May be.

反射制御層用樹脂組成物が、赤、緑、青等の色材とバインダー樹脂と溶媒とを含有する場合には、後述の着色層用樹脂組成物と同様のものを用いることができる。また、反射制御層用樹脂組成物が、黒色色材とバインダー樹脂とを含有する場合には、従来の遮光層用樹脂組成物において黒色色材の含有量を減らしたものを用いることができる。また、反射制御層用樹脂組成物が、黒色色材とバインダー樹脂とを含有し、無溶媒である場合には、後述の遮光層に用いられる無溶媒の光硬化性樹脂組成物において黒色色材の含有量を少なくしたものを用いることができる。
また、反射制御層用樹脂組成物が透明なものである場合には、上記の色材とバインダー樹脂とを含有するものから色材を除いたものを用いることができる。
When the resin composition for a reflection control layer contains a color material such as red, green, and blue, a binder resin, and a solvent, the same resin composition for a colored layer that will be described later can be used. Moreover, when the resin composition for reflection control layers contains a black color material and a binder resin, a conventional resin composition for a light shielding layer in which the content of the black color material is reduced can be used. When the resin composition for the reflection control layer contains a black color material and a binder resin and is solvent-free, the black color material in the solvent-free photocurable resin composition used for the light shielding layer described later What reduced content of can be used.
Moreover, when the resin composition for reflection control layers is transparent, what remove | excluded the color material from what contains said color material and binder resin can be used.

ここで、視認性や意匠性の低下は、遮光層の反射率が各色の着色層の平均の反射率よりも高いことに起因する。そのため、反射制御層用樹脂組成物は、反射制御層の反射率と各色の着色層の平均の反射率との差を小さくすることができるものであることが好ましい。なお、反射率は、JIS Z8701のXYZ表色系における明るさYで評価することができる。具体的には、反射制御層の明るさYと各色の着色層の平均の明るさYとの差(ΔY)の絶対値が、1.5以下であることが好ましく、中でも1以下、特に1未満であることが好ましい。明るさYの差が大きいと、外光反射を抑制するのが困難になる場合がある。   Here, the drop in visibility and design property is attributed to the fact that the reflectance of the light shielding layer is higher than the average reflectance of the colored layers of the respective colors. Therefore, it is preferable that the resin composition for a reflection control layer can reduce the difference between the reflectance of the reflection control layer and the average reflectance of the colored layer of each color. The reflectance can be evaluated by the brightness Y in the XYZ color system of JIS Z8701. Specifically, the absolute value of the difference (ΔY) between the brightness Y of the reflection control layer and the average brightness Y of the colored layers of each color is preferably 1.5 or less, more preferably 1 or less, particularly 1 It is preferable that it is less than. If the difference in brightness Y is large, it may be difficult to suppress external light reflection.

また、視認性や意匠性の低下は、遮光層の反射光の色合いと各色の着色層の平均の反射光の色合いとの差にも影響される。そのため、反射制御層用樹脂組成物は、反射制御層の反射光の色合いと各色の着色層の平均の反射光の色合いとの差を小さくすることができるものであることがより好ましい。なお、反射光の色合いは、JISZ8701のXYZ表色系における色座標(x、y)で評価することができる。具体的には、反射制御層の色座標(x、y)の各成分と各色の着色層の平均の色座標(x、y)の各成分との差(Δx、Δy)の絶対値が、Δxは0.100以下、中でも0.050以下、特に0.020以下であることが好ましく、Δyは0.100以下、中でも0.050以下、特に0.020以下であることが好ましい。色座標(x、y)の各成分の差が大きいと、外光反射を抑制するのが困難になる場合がある。   Further, the deterioration in visibility and design is also affected by the difference between the shade of reflected light from the light shielding layer and the average shade of reflected light from the colored layers of each color. Therefore, it is more preferable that the resin composition for the reflection control layer can reduce the difference between the reflected light color of the reflection control layer and the average reflected light color of each color layer. The shade of reflected light can be evaluated by the color coordinates (x, y) in the XYZ color system of JISZ8701. Specifically, the absolute value of the difference (Δx, Δy) between each component of the color coordinate (x, y) of the reflection control layer and each component of the average color coordinate (x, y) of the colored layer of each color is Δx is 0.100 or less, preferably 0.050 or less, particularly 0.020 or less, and Δy is 0.100 or less, especially 0.050 or less, particularly preferably 0.020 or less. If the difference between the components of the color coordinates (x, y) is large, it may be difficult to suppress external light reflection.

ここで、各層の反射分光特性は、顕微分光装置OSP−SP2000(OLYMPUS社製)を用いて測定することができる。
具体的には、図6に例示するように、まず、測定用基板51上に測定用反射制御層または測定用着色層52を形成し、測定用反射制御層または測定用着色層52を測定用黒色板54と屈折率調整用オイル53を介して配置した測定用カラーフィルタ基板50を作製する。次に、測定用カラーフィルタ基板50の測定用基板51側に検出光56を照射し、検出光56の反射光を検出器55により検出することで、反射率を測定する。
なお、測定用基板の反射率については、測定用基板を測定用黒色板上に屈折率調整用オイルを介して配置したものを用いて測定することができる。
そして、測定された反射分光特性をもとに、C光源を用いて測定したJIS Z8701のXYZ表色系における色度座標(x、y)、明るさYを求めることができる。
Here, the reflection spectral characteristics of each layer can be measured using a microspectroscopic device OSP-SP2000 (manufactured by OLYMPUS).
Specifically, as illustrated in FIG. 6, first, a measurement reflection control layer or a measurement colored layer 52 is formed on the measurement substrate 51, and the measurement reflection control layer or the measurement colored layer 52 is used for measurement. A color filter substrate for measurement 50 arranged through a black plate 54 and a refractive index adjusting oil 53 is produced. Next, the reflectance is measured by irradiating the measurement color filter substrate 50 with the detection light 56 on the measurement substrate 51 side and detecting the reflected light of the detection light 56 with the detector 55.
The reflectance of the measurement substrate can be measured by using the measurement substrate disposed on the measurement black plate via the refractive index adjusting oil.
Based on the measured reflection spectral characteristics, chromaticity coordinates (x, y) and brightness Y in the XYZ color system of JIS Z8701 measured using a C light source can be obtained.

また、反射制御層用樹脂組成物は、遮光層よりも光学濃度が低い反射制御層を形成可能なものであることが好ましく、単位厚さ1μmでの光学濃度が2.0以下となる反射制御層を形成可能なものであることがより好ましい。反射制御層の光学濃度が遮光層の光学濃度よりも低いというのは、反射制御層に含有される色材の含有量が遮光層に含有される色材の含有量よりも少ないということができる。これは、反射制御層からの外光反射が、遮光層からの外光反射よりも、外光の反射光の明るさが小さいことを意味する。以下、この点について簡単に説明する。   In addition, the resin composition for the reflection control layer is preferably capable of forming a reflection control layer having an optical density lower than that of the light shielding layer, and the reflection control with an optical density of 2.0 or less at a unit thickness of 1 μm. More preferably, the layer can be formed. That the optical density of the reflection control layer is lower than the optical density of the light shielding layer can be said that the content of the color material contained in the reflection control layer is less than the content of the color material contained in the light shielding layer. . This means that the external light reflection from the reflection control layer is less bright than the external light reflection from the light shielding layer. This point will be briefly described below.

ここで、拡散反射と色材の濃度、粒子径との関係について、図7に基づいて、簡単に説明する。例えば、図7(c)に示すように大きな径の粒子12bが界面11Sに接しており、図7(a)に示すように小さな径の粒子12bが界面11Sに接している場合、図7(c)に示す界面11Sにおける粒子12bの拡散反射は、図7(a)に示す界面11Sにおける粒子12bの拡散反射よりも大きくなる。また、図7(a)に示すように小さな径の粒子12bが界面11Sに接しており、図7(b)に示すように粒子12bに樹脂被膜12cを被覆した状態で界面11Sに接している場合、図7(a)に示す界面11Sにおける粒子12bの拡散反射は、図7(b)に示す粒子12bに樹脂被膜12cを被覆した状態で界面11Sに接している場合の拡散反射よりも大きくなる。
このように、透明基板11上に色材を分散させた反射制御層12を形成した場合、色材の粒子の粒径(平均粒子径)が小さいほど、色材の粒子の濃度が薄いほど、透明基板11側(観察者側)から見た遮光部からの拡散反射は小さくなり、また色材の粒子に樹脂被覆を施すことにより、拡散反射を小さくすることができる。
したがって、反射制御層の光学濃度を低くすることにより、拡散反射を小さくし、外光反射を低減することができる。
なお、透明基板がガラス基板の場合の屈折率は1.4程度で、カラーフィルタの着色層や遮光層に用いられている樹脂の屈折率は1.4〜1.5程度である。また、黒色顔料として一般に用いられているカーボンブラックは複素屈折率の虚数項の値が大きいため、光は主に表面で反射される。
Here, the relationship between the diffuse reflection, the concentration of the color material, and the particle diameter will be briefly described with reference to FIG. For example, when the large-diameter particles 12b are in contact with the interface 11S as shown in FIG. 7C, and the small-diameter particles 12b are in contact with the interface 11S as shown in FIG. The diffuse reflection of the particles 12b at the interface 11S shown in c) is larger than the diffuse reflection of the particles 12b at the interface 11S shown in FIG. Further, as shown in FIG. 7A, the small-diameter particles 12b are in contact with the interface 11S, and as shown in FIG. 7B, the particles 12b are in contact with the interface 11S in a state where the resin coating 12c is coated. In this case, the diffuse reflection of the particles 12b at the interface 11S shown in FIG. 7A is larger than the diffuse reflection when the particles 12b shown in FIG. 7B are in contact with the interface 11S in the state where the resin coating 12c is coated. Become.
Thus, when the reflection control layer 12 in which the color material is dispersed on the transparent substrate 11 is formed, the smaller the particle size (average particle size) of the color material particles, the lower the concentration of the color material particles, Diffuse reflection from the light-shielding portion viewed from the transparent substrate 11 side (observer side) is reduced, and diffuse reflection can be reduced by applying resin coating to the particles of the color material.
Therefore, by reducing the optical density of the reflection control layer, diffuse reflection can be reduced and external light reflection can be reduced.
When the transparent substrate is a glass substrate, the refractive index is about 1.4, and the refractive index of the resin used for the color layer and the light shielding layer of the color filter is about 1.4 to 1.5. In addition, since carbon black generally used as a black pigment has a large imaginary term value of a complex refractive index, light is mainly reflected on the surface.

ここで、拡散反射光についての測定は、分光測色計により拡散反射成分を検出できる測定方式で、図8に例示するような、正反射光を取り除いて測定するSCE方式(Specular Components Exclude方式の略で、拡散反射測定方式と呼ばれる)により行う。この測定方式の場合、同じ色でも、試料の表面状態によって測定値が異なり、目視評価の状況に近い測定結果を得ることができる。
なお、分光測色計としては、コニカミノルタ(株)製のCM−2500dを用いることができる。
図8においては、太線実線矢印は、光源62からの入射光62Lを示し、点線矢印は各点からの光の向きを示し、細線実線矢印は、検出器63へ入射する検出光63Lを示している。また、61は積分球、64はトラップを示す。なお、図8において、測定用カラーフィルタ基板50の構成は図6に示すものと同様である。
Here, the measurement of the diffuse reflected light is a measurement method in which the diffuse reflection component can be detected by the spectrocolorimeter, and the SCE method (special components exclusive method of the specular components excluded method) that measures by removing the regular reflected light as illustrated in FIG. It is abbreviated and called a diffuse reflection measurement method). In the case of this measurement method, even for the same color, the measurement value differs depending on the surface state of the sample, and a measurement result close to the state of visual evaluation can be obtained.
As the spectrocolorimeter, CM-2500d manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. can be used.
In FIG. 8, the thick solid line arrow indicates the incident light 62L from the light source 62, the dotted line arrow indicates the direction of the light from each point, and the thin solid line arrow indicates the detection light 63L incident on the detector 63. Yes. Reference numeral 61 denotes an integrating sphere, and 64 denotes a trap. In FIG. 8, the configuration of the measurement color filter substrate 50 is the same as that shown in FIG.

図8に示すように、測定用反射制御層52を測定用基板51側から分光測色計により拡散反射光を検出できる測定方式(SCE方式)で測定して得られた反射率の分光特性から求めたJIS Z8701のXYZ表色系における明るさYは、0.03以下であることが好ましい。この場合、見た目で額縁遮光部の黒色の締りが良好となる。   As shown in FIG. 8, from the spectral characteristics of the reflectance obtained by measuring the measurement reflection control layer 52 from the measurement substrate 51 side by a measurement method (SCE method) capable of detecting diffuse reflection light with a spectrocolorimeter. The obtained brightness Y in the XYZ color system of JIS Z8701 is preferably 0.03 or less. In this case, the blackness of the frame light-shielding portion is good in appearance.

また、反射制御層用樹脂組成物は、透明基板の屈折率n、反射制御層の複素屈折率の実数部をn、遮光層の複素屈折率の実数部をnとした場合、明るい所での視感度が高い555nmを中心とする波長領域505nm〜605nmにおいて、屈折率nと屈折率nとの差の絶対値が、屈折率nと屈折率nとの差の絶対値よりも小さく、波長領域505nm〜605nmにおいて光吸収性を有する反射制御層を形成可能なものであることも好ましい。以下、この点について簡単に説明する。 The resin composition for the reflection control layer is bright when the refractive index n s of the transparent substrate, the real part of the complex refractive index of the reflection control layer is n 1 , and the real part of the complex refractive index of the light shielding layer is n 2. The absolute value of the difference between the refractive index n s and the refractive index n 1 is the absolute value of the difference between the refractive index n s and the refractive index n 2 in the wavelength region 505 nm to 605 nm centered at 555 nm where the visibility is high. It is also preferable that a reflection control layer having a light absorptivity in a wavelength region of 505 nm to 605 nm can be formed. This point will be briefly described below.

従来のカラーフィルタの場合、遮光部は、図9(a)に例示するように、透明基板11上に遮光層13が形成されており、外光L0の反射光は、透明基板11と遮光層13との界面で反射される反射光ref0からの光が出射される反射光Ref0となる。この場合、反射光Ref0が大きいために、反射光Ref0に起因して、屋内外、室内光下、太陽光下で、遮光部の黒色の締りが良くなく、カラーフィルタを表示装置に用いた際には、意匠面で、高級感のある製品に仕上げることが難しかった。
これに対して、図9(b)に示すように、透明基板11上に反射制御層12および遮光層13が順に積層されている場合、外光L0の反射光は、透明基板11と反射制御層12との界面で反射される反射光ref1からの光が出射される反射光Ref1と、透明基板11側から反射制御層12を通過し、反射制御層12と遮光層13との界面で反射される反射光ref2から光が出射される反射光Ref2との和になる。そして、それ以外の外光L0から入射された光は、反射制御層12および遮光層13にて吸収される。
In the case of a conventional color filter, as illustrated in FIG. 9A, the light shielding portion includes a light shielding layer 13 formed on the transparent substrate 11, and the reflected light of the external light L0 is transmitted between the transparent substrate 11 and the light shielding layer. The light from the reflected light ref0 reflected at the interface with the light 13 is reflected light Ref0. In this case, since the reflected light Ref0 is large, due to the reflected light Ref0, the black color of the light-shielding portion is not good under indoor, outdoor, or sunlight, and the color filter is used for the display device. In terms of design, it was difficult to produce a high-quality product.
On the other hand, as shown in FIG. 9B, when the reflection control layer 12 and the light shielding layer 13 are sequentially laminated on the transparent substrate 11, the reflected light of the external light L0 is reflected between the transparent substrate 11 and the reflection control. The reflected light Ref1 that is emitted from the reflected light ref1 reflected at the interface with the layer 12 passes through the reflection control layer 12 from the transparent substrate 11 side, and is reflected at the interface between the reflection control layer 12 and the light shielding layer 13 It becomes the sum with the reflected light Ref2 from which the light is emitted from the reflected light ref2. Then, other light incident from outside light L 0 is absorbed by the reflection control layer 12 and the light shielding layer 13.

透明基板11の屈折率n、反射制御層12の複素屈折率の実数部をn、遮光層13の複素屈折率の実数部をnとした場合、明るい所での視感度が高い555nmを中心とする波長領域505nm〜605nmにおいて、屈折率nと屈折率nとの差の絶対値が、屈折率nと屈折率nとの差の絶対値よりも小さく、かつ、反射制御層が波長領域505nm〜605nmにおいて光吸収性を有することにより、人の視感度が大きい波長領域において、透明基板11と反射制御層12との界面で反射される反射光ref1からの出射光Ref1と、透明基板11側から反射制御層12を通過し、反射制御層12と遮光層13との界面で反射される反射光ref2から出射される反射光Ref2とを、少なく抑えることができる。これにより、図9(b)に示すような反射光Ref1と反射光Ref2とによる見た目の外光の影響を、図9(a)に示すような反射光Ref0による見た目の外光の影響よりも少なくすることができる。その結果、カラーフィルタを表示装置に用いた際には、外光の反射光に起因して、屋内外、室内光下、太陽光下で遮光部の黒色の締りを良くでき、意匠面で高級感のある製品に仕上げることができる。 When the refractive index n s of the transparent substrate 11, the real part of the complex refractive index of the reflection control layer 12 is n 1 , and the real part of the complex refractive index of the light shielding layer 13 is n 2 , the visibility at a bright place is high at 555 nm. And the absolute value of the difference between the refractive index n s and the refractive index n 1 is smaller than the absolute value of the difference between the refractive index n s and the refractive index n 2 , and reflection Since the control layer has light absorptivity in the wavelength region 505 nm to 605 nm, the emitted light Ref1 from the reflected light ref1 reflected at the interface between the transparent substrate 11 and the reflection control layer 12 in the wavelength region where human visibility is high. The reflected light Ref2 emitted from the reflected light ref2 that passes through the reflection control layer 12 from the transparent substrate 11 side and is reflected at the interface between the reflection control layer 12 and the light shielding layer 13 can be reduced. As a result, the influence of the apparent external light caused by the reflected light Ref1 and the reflected light Ref2 as shown in FIG. 9B is more than the influence of the apparent external light caused by the reflected light Ref0 as shown in FIG. Can be reduced. As a result, when a color filter is used in a display device, it is possible to improve the blackness of the light-shielding part indoors / outdoors, under indoor light, under sunlight, due to the reflected light of the outside light. It can be finished into a product with a feeling.

ここで、各層の複素屈折率は、ガラス基板上に屈折率を測定する層を形成し、(有)テクノシナジー社製の光学膜厚測定システムDF−1042RTを用いて測定することにより求めることができる。   Here, the complex refractive index of each layer is obtained by forming a layer for measuring a refractive index on a glass substrate and measuring it using an optical film thickness measuring system DF-1042RT manufactured by Techno Synergy. it can.

なお、屈折率n01の均質、等方性である媒質から屈折率n02の媒質へ角度θi(入射角)で入射し、角度θt(出射角)に屈折する光を考えると、入射光平面波の電気ベクトルの入射面に含まれる成分をP偏光、入射面に垂直な成分をS偏光と呼び、それぞれのエネルギー反射率であるP偏光エネルギー反射率r、S偏光エネルギー反射率rは、それぞれ、以下の式(1)、式(2)で表される。そして、反射率をrとrとの和の1/2と表す。 Incidentally, homogeneous refractive index n 01, is incident at an angle from the medium is isotropic to a medium having a refractive index n 02 .theta.i (angle of incidence), considering the light refraction angle [theta] t (exit angle), the incident light plane wave The component included in the incident plane of the electric vector is called P-polarized light, and the component perpendicular to the incident plane is called S-polarized light. The P-polarized energy reflectivity r p and the S-polarized energy reflectivity r s, respectively, are Each is represented by the following formulas (1) and (2). Then, representing the reflectance half the sum of r p and r s.

Figure 2015206872
Figure 2015206872

式(1)、式(2)からは、屈折率n01と屈折率n02との差が小さいほど反射率も小さくなることがわかる。
したがって、図9(b)において、明るい所での視感度が高い555nmを中心とする波長領域505nm〜605nmにおいて、透明基板11の屈折率nと反射制御層12の屈折率nとの差が、透明基板11の屈折率nと遮光層13の屈折率nとの差よりも小さい場合、反射制御層12では吸収があることから、波長領域505nm〜605nmのほぼ全域において、透明基板11と反射制御層12との界面で反射される反射光ref1の強度と、反射制御層12と遮光層13との界面で反射される反射光ref2の強度との和は、図9(a)に示す透明基板11と遮光層13との界面で反射される反射光ref0の強度よりも小さくなる。
From equations (1) and (2), it can be seen that the smaller the difference between the refractive index n01 and the refractive index n02 , the smaller the reflectance.
Therefore, in FIG. 9B, the difference between the refractive index n s of the transparent substrate 11 and the refractive index n 1 of the reflection control layer 12 in the wavelength region 505 nm to 605 nm centered at 555 nm where the visibility in a bright place is high. However, when the difference between the refractive index n s of the transparent substrate 11 and the refractive index n 2 of the light shielding layer 13 is smaller, the reflection control layer 12 absorbs the transparent substrate over almost the entire wavelength region 505 nm to 605 nm. The sum of the intensity of the reflected light ref1 reflected at the interface between the reflection control layer 12 and the reflection control layer 12 and the intensity of the reflected light ref2 reflected at the interface between the reflection control layer 12 and the light shielding layer 13 is shown in FIG. The intensity of the reflected light ref0 reflected at the interface between the transparent substrate 11 and the light shielding layer 13 shown in FIG.

ここで、図10からも分かるように、観察者の感じる外光の反射光を低減するには、視感度の大きい555nm波長近辺の波長領域での光量を少なくすることが重要である。図10から、特に波長範囲505nm〜605nmで、外光の反射光を低減することが効果的と判断される。なお、図10における比視感度は、555nmを視感度を1として、他の波長の視感度を相対的に表したものである。
また、例えば、透明基板11の屈折率をnとし、赤色着色層、緑色着色層、青色着色層、Gray着色層、透明樹脂層、遮光層の複素屈折率の実数部(単に屈折率とも称する場合がある。)を、それぞれ、n、n、n、n、n、nとした場合、図11に示すような分光特性になる。なお、Gray着色層は、遮光層中の黒色色材の含有量を減らし、樹脂の含有量を増やしたものであり、透明樹脂層は、遮光層中の色材を除いたものである。
図11に示すように、各層は、555nmを中心とする波長領域505nm〜605nmで、屈折率nと屈折率nとの差の絶対値が、屈折率nと屈折率nとの差の絶対値よりも小さくなる関係を満たしている。
Here, as can be seen from FIG. 10, it is important to reduce the amount of light in the wavelength region near the 555 nm wavelength where the visibility is high in order to reduce the reflected light of the external light felt by the observer. From FIG. 10, it is judged that it is effective to reduce the reflected light of outside light particularly in the wavelength range of 505 nm to 605 nm. Note that the relative visibility in FIG. 10 is a relative representation of the visibility of other wavelengths, with a visibility of 555 nm as 1.
Further, for example, refers to the refractive index of the transparent substrate 11 and n s, the red colored layer, the green coloring layer, the blue colored layer, Gray colored layer, a transparent resin layer, also a real part (simply a refractive index of the complex refractive index of the light-shielding layer 11), n R , n G , n B , n b , n c , and n 2 , respectively, the spectral characteristics shown in FIG. 11 are obtained. Note that the Gray colored layer is obtained by reducing the content of the black color material in the light shielding layer and increasing the resin content, and the transparent resin layer is obtained by removing the color material in the light shielding layer.
As shown in FIG. 11, each layer has a wavelength region of 505 nm to 605 nm centered at 555 nm, and the absolute value of the difference between the refractive index n s and the refractive index n 1 is equal to the refractive index n s and the refractive index n 2 . The relationship smaller than the absolute value of the difference is satisfied.

したがって、赤色着色層、緑色着色層、青色着色層、Gray着色層等の各色の着色層は、上述の屈折率の関係および光吸収性を満たすことから、反射制御層として着色層を形成することは有効である。
特に、反射制御層として青色着色層を形成する場合には、反射制御層の光吸収性が大きく、さらに屈折率nと屈折率nとの差の絶対値が、屈折率nと屈折率nとの差の絶対値よりも小さいため、反射抑制層12と遮光層13との界面で反射される反射光ref2から出射される反射光Ref2を効果的に抑制することができる。これより、反射制御層として青色着色層を形成した場合、他の色の着色層を形成した場合に比べて、人の視感度が大きい波長領域505nm〜605nmにおいて、図9(b)に示す反射光Ref1と反射光Ref2とによる見た目の外光の影響を一層少なくできる。その結果、カラーフィルタを表示装置に用いた際には、屋内外、室内光下、太陽光下で遮光部の黒色の締りを一層良くでき、意匠面で高級感のある製品に仕上げることができる。
Accordingly, the colored layers of each color such as the red colored layer, the green colored layer, the blue colored layer, and the Gray colored layer satisfy the above-described refractive index relationship and light absorption, so that a colored layer is formed as the reflection control layer. Is valid.
In particular, when a blue colored layer is formed as the reflection control layer, the light absorption of the reflection control layer is large, and the absolute value of the difference between the refractive index n 1 and the refractive index n 2 is the refractive index ns and the refractive index. smaller than the absolute value of the difference between the rate n 2, it is possible to effectively suppress the reflected light ref2 emitted from the reflected light ref2 which is reflected at the interface between the antireflection layer 12 and the light-shielding layer 13. As a result, when the blue colored layer is formed as the reflection control layer, the reflection shown in FIG. 9B is performed in the wavelength region 505 nm to 605 nm where human visibility is higher than when the colored layers of other colors are formed. It is possible to further reduce the influence of external light due to the light Ref1 and the reflected light Ref2. As a result, when the color filter is used in a display device, the black color of the light-shielding portion can be further improved indoors, outdoors, under sunlight, and can be finished into a high-quality product in terms of design. .

また、反射制御層の光吸収性の面からは、反射制御層の分光透過率から計算された、視感度を考慮したJIS Z8701のXYZ表色系における明るさYが低いことが好ましい。赤色着色層、緑色着色層、青色着色層、Gray着色層等の各色の着色層はいずれも、555nmを中心とする波長領域505nm〜605nmで、光吸収性を十分有する。中でも、青色着色層は、分光透過率から計算された、視感度を考慮したJIS Z8701のXYZ表色系における明るさYが低く、好ましい。
具体的には、反射制御層は、SCI方式の測定によるY値(D65光源)が、見た目が良いとされる5.0以下であることが好ましい。
Further, from the aspect of light absorption of the reflection control layer, it is preferable that the brightness Y in the XYZ color system of JIS Z8701 calculated from the spectral transmittance of the reflection control layer is considered. Each of the colored layers such as the red colored layer, the green colored layer, the blue colored layer, and the Gray colored layer has a wavelength region of 505 nm to 605 nm centered at 555 nm and has sufficient light absorption. Among them, the blue colored layer is preferable because the brightness Y in the XYZ color system of JIS Z8701 calculated from the spectral transmittance and considering the visibility is low.
Specifically, it is preferable that the reflection control layer has a Y value (D65 light source) measured by the SCI method of 5.0 or less, which is considered to have good appearance.

ここで、SCI方式(Specular Components Include方式の略)とは、分光測色計により正反射光と拡散反射光の合計を検出する測定方式である。外光の反射光の反射率の分光特性の測定結果から計算により得られた、JIS Z8701のXYZ表色系における明るさYの値は小さいほど良く、外光反射による見た目の評価方法として用いられている。SCI方式は物体色を測定する場合に広く用いられている。
SCI方式では、例えば図8において、トラップ64を設けない状態で測定する。
なお、分光透過率の測定は、顕微分光測光装置としてOSP−SP2000(OLYMPUS(株)製)を用いて行うことができる。各層の分光透過率を求めて、得られた結果から、計算により、透過光のJIS Z8701のXYZ表色系における明るさYの値を求め、これを各層での減衰の程度の評価とすることができる。
Here, the SCI method (abbreviation of Special Components Include method) is a measurement method in which a spectrocolorimeter detects the sum of regular reflection light and diffuse reflection light. The value of brightness Y in the XYZ color system of JIS Z8701 obtained by calculation from the measurement result of the spectral characteristics of the reflectance of the reflected light of outside light is better, and it is used as an appearance evaluation method by reflection of outside light. ing. The SCI method is widely used when measuring an object color.
In the SCI method, for example, the measurement is performed in a state where the trap 64 is not provided in FIG.
The spectral transmittance can be measured using OSP-SP2000 (manufactured by OLYMPUS) as a microspectrophotometer. The spectral transmittance of each layer is obtained, and from the obtained result, the value of brightness Y in the XYZ color system of JIS Z8701 of the transmitted light is obtained by calculation, and this is used as an evaluation of the degree of attenuation in each layer. Can do.

反射制御層用樹脂組成物が色材を含有する場合、色材の含有量としては、上述の特性を満たす量であれば特に限定されるものではなく、適宜調整される。   When the resin composition for a reflection control layer contains a color material, the content of the color material is not particularly limited as long as it is an amount that satisfies the above-described characteristics, and is appropriately adjusted.

中でも、反射制御層用樹脂組成物は、黒色色材または青色色材を含有することが好ましく、特に黒色色材を含有することが好ましい。上述の特性を満たす反射制御層を容易に形成することができるからである。
また、従来のカラーフィルタを有する表示装置においては、額縁遮光部が遮光層のみで構成されており、額縁遮光部の色合いが表示領域の色合いに比べて黄色味を帯びやすいという不具合があった。そのため、青色色材を含有する反射制御層用樹脂組成物を用い、反射制御層として青色着色層を形成する場合には、額縁遮光部の色合いが黄色味を帯びるのを抑制することができ、表示領域および非表示領域の色合いの差を小さくすることができる。
Especially, it is preferable that the resin composition for reflection control layers contains a black color material or a blue color material, and it is especially preferable to contain a black color material. This is because a reflection control layer that satisfies the above characteristics can be easily formed.
In addition, in a display device having a conventional color filter, the frame light-shielding portion is composed of only the light-shielding layer, and there is a problem that the color of the frame light-shielding portion tends to be yellowish compared to the color of the display area. Therefore, when using a resin composition for a reflection control layer containing a blue color material and forming a blue colored layer as a reflection control layer, it is possible to suppress the shade of the frame light-shielding portion from becoming yellowish, The difference in hue between the display area and the non-display area can be reduced.

また、反射制御層用樹脂組成物が透明なものである場合には、反射制御層として透明樹脂層を形成することになる。透明な反射制御層用樹脂組成物としては、透過率が90%以上の反射制御層を形成可能なものであることが好ましい。反射制御層として透明樹脂層を形成する場合、外光の大部分が遮光層まで達することになり、遮光層中の色材と透明基板との距離を反射制御層を設けない場合に比べて大きくすることができる。これにより、反射制御層を設けない場合に比べて遮光層からの外光反射を低減することができる。   When the resin composition for the reflection control layer is transparent, a transparent resin layer is formed as the reflection control layer. The transparent resin composition for the reflection control layer is preferably capable of forming a reflection control layer having a transmittance of 90% or more. When a transparent resin layer is formed as the reflection control layer, most of the outside light reaches the light shielding layer, and the distance between the color material in the light shielding layer and the transparent substrate is larger than when no reflection control layer is provided. can do. Thereby, external light reflection from the light shielding layer can be reduced as compared with the case where no reflection control layer is provided.

本発明のカラーフィルタに用いられる透明基板としては、カラーフィルタに一般に使用されているものを用いることができる。具体的には、「A.積層体の製造方法」における基板と同様とすることができる。特に、無機基板を用いることが好ましく、無機基板のなかでもガラス基板を用いることが好ましい。さらには、ガラス基板のなかでも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、アクティブマトリックス方式による表示装置用のカラーフィルタに好適に用いることができるからである。   As the transparent substrate used in the color filter of the present invention, those generally used for color filters can be used. Specifically, it can be the same as the substrate in “A. Manufacturing method of laminate”. In particular, an inorganic substrate is preferably used, and a glass substrate is preferably used among the inorganic substrates. Furthermore, it is preferable to use an alkali-free type glass substrate among the glass substrates. An alkali-free glass substrate is excellent in dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and does not contain an alkali component in the glass, so it can be suitably used for a color filter for a display device using an active matrix method. Because it can.

2.遮光層用樹脂組成物層形成工程
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、上記反射制御層用樹脂組成物層上に、上記反射制御層用樹脂組成物層に含有される反射制御層用樹脂組成物と同一の現像液で現像可能であり、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いて遮光層用樹脂組成物層を形成する遮光層用樹脂組成物層形成工程を行う。
2. Step of forming resin composition layer for light shielding layer In the method for producing a color filter of the present invention, the resin for reflection control layer contained in the resin composition layer for reflection control layer on the resin composition layer for reflection control layer. The resin composition layer formation process for light shielding layers which can develop with the same developing solution as a composition and forms the resin composition layer for light shielding layers using a solventless photocurable resin composition is performed.

無溶媒の光硬化性樹脂組成物としては、反射制御層用樹脂組成物と同一の現像液で現像可能なものであればよく、例えばバインダー樹脂中に黒色色材を分散させたものが用いられる。
黒色色材としては、顔料や染料を挙げることができ、遮光層用樹脂組成物層の形成方法に応じて適宜選択される。反射制御層用樹脂組成物層上に無溶媒の光硬化性樹脂組成物を塗布する場合には、遮光層用樹脂組成物として無溶媒の光硬化性樹脂組成物を調製するために、染料が用いられる。なお、無溶媒の光硬化性樹脂組成物であっても顔料を用いることができ、この場合には分散性の観点から樹脂被覆顔料が好ましく用いられる。また、反射制御層用樹脂組成物層上に無溶媒の光硬化性樹脂組成物を含有するドライフィルムを貼合する場合には、顔料および染料のいずれも用いることができる。
黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック等が挙げられる。また、黒色染料としては、カラーインデックスナンバーソルベントブラック3、ソルベントブラック7、ソルベントブラック21、ソルベントブラック23、ソルベントブラック27、ソルベントブラック28、ソルベントブラック31等が挙げられる。
バインダー樹脂として、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
また、無溶媒の光硬化性樹脂組成物には、光重合開始剤や、必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等が含有されていてもよい。
The solvent-free photocurable resin composition may be any one that can be developed with the same developer as the resin composition for the reflection control layer. For example, a composition in which a black color material is dispersed in a binder resin is used. .
Examples of the black color material include pigments and dyes, which are appropriately selected according to the method for forming the light-shielding layer resin composition layer. In the case of applying a solventless photocurable resin composition on the resin composition layer for the reflection control layer, in order to prepare a solventless photocurable resin composition as the light shielding layer resin composition, a dye is used. Used. In addition, even if it is a solvent-free photocurable resin composition, a pigment can be used. In this case, a resin-coated pigment is preferably used from the viewpoint of dispersibility. Moreover, when bonding the dry film containing a solventless photocurable resin composition on the resin composition layer for reflection control layers, both a pigment and dye can be used.
Examples of black pigments include carbon black and titanium black. Examples of the black dye include Color Index Number Solvent Black 3, Solvent Black 7, Solvent Black 21, Solvent Black 23, Solvent Black 27, Solvent Black 28, Solvent Black 31, and the like.
As the binder resin, for example, a photosensitive resin having a reactive vinyl group such as acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber is used.
Solvent-free photocurable resin compositions include photopolymerization initiators, sensitizers, coating improvers, development improvers, crosslinking agents, polymerization inhibitors, plasticizers, flame retardants, etc. May be contained.

また、遮光層用樹脂組成物は、光学濃度が4.0以上、中でも単位厚さ1μmでの光学濃度が4.0以上の遮光層を形成可能なものであることが好ましい。
遮光層用樹脂組成物中の黒色色材の含有量としては、上記光学濃度を満たす量であることが好ましく、適宜調整される。
In addition, the light shielding layer resin composition is preferably capable of forming a light shielding layer having an optical density of 4.0 or more, particularly an optical density of 4.0 μm or more at a unit thickness of 1 μm.
The content of the black color material in the light shielding layer resin composition is preferably an amount satisfying the optical density, and is appropriately adjusted.

遮光層用樹脂組成物層の膜厚は、カラーフィルタにおける一般的な遮光層の膜厚と同様とすることができ、例えば0.5μm〜2.0μmの範囲内で設定することができる。   The thickness of the resin composition layer for the light shielding layer can be the same as the thickness of a general light shielding layer in the color filter, and can be set, for example, within a range of 0.5 μm to 2.0 μm.

なお、遮光層用樹脂組成物層の形成方法については、上記「A.積層体の製造方法」における第2樹脂組成物層の形成方法と同様であるので、ここでの説明は省略する。   In addition, about the formation method of the resin composition layer for light shielding layers, since it is the same as that of the formation method of the 2nd resin composition layer in said "A. manufacturing method of a laminated body", description here is abbreviate | omitted.

3.パターニング工程
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、上記反射制御層用樹脂組成物層および上記遮光層用樹脂組成物層をパターン状に露光し、同一の現像液を用いて現像し、加熱して、同一のパターン状に反射制御層および遮光層を形成するパターニング工程を行う。
なお、パターニング工程については、上記「A.積層体の製造方法」におけるパターニング工程と同様であるので、ここでの説明は省略する。
3. Patterning Step In the method for producing a color filter of the present invention, the reflection control layer resin composition layer and the light shielding layer resin composition layer are exposed in a pattern, developed using the same developer, and heated. Then, a patterning process for forming the reflection control layer and the light shielding layer in the same pattern is performed.
The patterning step is the same as the patterning step in “A. Laminate manufacturing method” above, and thus the description thereof is omitted here.

反射制御層および遮光層のパターン形状としては、カラーフィルタにおける一般的な遮光部のパターン形状と同様とすることができ、表示領域では格子状、非表示領域では枠状である。   The pattern shape of the reflection control layer and the light shielding layer can be the same as the pattern shape of a general light shielding portion in a color filter, and is a lattice shape in the display region and a frame shape in the non-display region.

また、反射制御層および遮光層の特性としては、上述した通りであり、上述の反射分光特性、屈折率を満たすことが好ましい。   Further, the characteristics of the reflection control layer and the light shielding layer are as described above, and it is preferable to satisfy the above reflection spectral characteristics and refractive index.

4.着色層形成工程
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、上記透明基板上の上記遮光層の開口部に複数色の着色層を形成する着色層形成工程を行う。
4). Colored layer formation process In the manufacturing method of the color filter of this invention, the colored layer formation process which forms the colored layer of several colors in the opening part of the said light shielding layer on the said transparent substrate is performed.

着色層は、例えば赤、緑、青の3色の着色層を有する。着色層の色としては、赤、緑、青の3色を少なくとも含むものであればよく、例えば、赤、緑、青の3色、赤、緑、青、黄の4色、または、赤、緑、青、黄、シアンの5色等とすることもできる。   The colored layer has, for example, three colored layers of red, green, and blue. The color of the colored layer may be any color as long as it contains at least three colors of red, green, and blue. For example, three colors of red, green, and blue, four colors of red, green, blue, and yellow, or red, Five colors such as green, blue, yellow, and cyan may be used.

着色層は、例えば色材をバインダー樹脂中に分散させた着色層用樹脂組成物を用いて形成することができる。
色材としては、各色の顔料や染料等を挙げることができる。赤色着色層に用いられる色材としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。緑色着色層に用いられる色材としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。青色着色層に用いられる色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料や染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
バインダー樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
着色層用樹脂組成物には、光重合開始剤や、必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を含有させてもよい。
The colored layer can be formed using, for example, a colored layer resin composition in which a coloring material is dispersed in a binder resin.
Examples of the color material include pigments and dyes of each color. Examples of the color material used for the red colored layer include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. Examples of the color material used in the green coloring layer include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, and isoindolinone pigments. And pigments. Examples of the color material used in the blue colored layer include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments, and the like. These pigments and dyes may be used alone or in combination of two or more.
As the binder resin, for example, a photosensitive resin having a reactive vinyl group such as acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber is used.
The colored layer resin composition may contain a photopolymerization initiator and, if necessary, a sensitizer, a coatability improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like. Good.

着色層の配列は特に限定されるものではなく、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等の公知の配列とすることができる。   The arrangement of the colored layers is not particularly limited, and may be a known arrangement such as a stripe type, a mosaic type, a triangle type, or a four-pixel arrangement type.

隣接する着色層の間には隙間があってもよく無くてもよいが、中でも隙間が無いほうが好ましい。   There may or may not be a gap between adjacent colored layers, but it is preferable that there is no gap among them.

着色層の膜厚は、カラーフィルタにおける一般的な着色層の膜厚と同様とすることができ、例えば1μm〜5μmの範囲内で設定することができる。
着色層の形成方法としては、複数色の着色層を同一平面上に配列可能な方法であればよく、例えばフォトリソグラフィ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。
The film thickness of the colored layer can be the same as the film thickness of a general colored layer in a color filter, and can be set, for example, within a range of 1 μm to 5 μm.
As a method for forming the colored layer, any method can be used as long as a plurality of colored layers can be arranged on the same plane, and examples thereof include a photolithography method, an inkjet method, and a printing method.

5.その他の工程
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述の反射制御層用樹脂組成物層形成工程、遮光層用樹脂組成物層形成工程、パターニング工程および着色層形成工程の他に、例えば着色層上に保護層を形成する保護層形成工程を有していてもよい。
5. Other Steps In addition to the above-described resin composition layer forming step for reflection control layer, resin composition layer forming step for light shielding layer, patterning step and colored layer forming step, the method for producing a color filter of the present invention includes, for example, a colored layer. You may have the protective layer formation process which forms a protective layer on it.

(保護層形成工程)
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、上記着色層形成工程後に、遮光層および着色層を覆うように保護層を形成する保護層形成工程を行ってもよい。なお、保護層は、オーバーコート層とも称される。
(Protective layer forming step)
In the manufacturing method of the color filter of this invention, you may perform the protective layer formation process which forms a protective layer so that a light shielding layer and a colored layer may be covered after the said colored layer formation process. The protective layer is also referred to as an overcoat layer.

保護層の形成に用いられる材料としては、例えば熱硬化性樹脂組成物、光硬化性樹脂組成物が挙げられる。   Examples of the material used for forming the protective layer include a thermosetting resin composition and a photocurable resin composition.

光硬化性樹脂組成物は、多面付けのカラーフィルタを作製した後に切断するのに好ましい。光硬化性樹脂組成物としては、上記着色層に用いられるバインダー樹脂と同様のもの、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂を用いることができる。光硬化性樹脂組成物には、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。   The photocurable resin composition is preferable for cutting after producing a multi-faceted color filter. The photocurable resin composition is the same as the binder resin used for the colored layer, for example, a photosensitive resin having a reactive vinyl group such as acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber. Can be used. A photopolymerization initiator may be added to the photocurable resin composition, and further, if necessary, a sensitizer, a coating property improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a difficult agent. A flame retardant or the like may be added.

熱硬化性樹脂組成物としては、例えばエポキシ化合物を用いたもの、熱ラジカル発生剤を用いたものが挙げられる。
エポキシ化合物としては、カルボン酸やアミン系化合物等により硬化しうる公知の多価エポキシ化合物を挙げることができ、このようなエポキシ化合物は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊(昭和62年)等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。
熱ラジカル発生剤としては、過硫酸塩、ヨウ素等のハロゲン、アゾ化合物、および有機過酸化物からなる群から選択される少なくとも一種であり、より好ましくは、アゾ化合物または有機過酸化物である。アゾ化合物としては、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、および2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)等が挙げられる。有機過酸化物としては、ジ(4−メチルゼンゾイル)パーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルエキサネート、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカルボネート、t−ブチル−4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)ブタネート、およびジクミルパーオキサイド等が挙げられる。
Examples of the thermosetting resin composition include those using an epoxy compound and those using a thermal radical generator.
Examples of the epoxy compound include known polyvalent epoxy compounds that can be cured by a carboxylic acid, an amine compound, and the like. Examples of such epoxy compounds include “Epoxy resin handbook” edited by Masaki Shinbo, published by Nikkan Kogyo Shimbun. (1987) and the like, and these can be used.
The thermal radical generator is at least one selected from the group consisting of persulfates, halogens such as iodine, azo compounds, and organic peroxides, and more preferably azo compounds or organic peroxides. As the azo compound, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile, 1-[(1-cyano-1-methylethyl) azo] formamide, 2,2′-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2′-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide), and the like. Peroxides include di (4-methylzenzoyl) peroxide, t-butylperoxy-2-ethylexanate, 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-di (t -Butylperoxy) cyclohexane, t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-butyl -4,4-di- (t-butylperoxy) butanate, dicumyl peroxide and the like.

C.積層体
本発明の積層体は、基板と、上記基板上にパターン状に形成された第1樹脂層と、上記第1樹脂層上に上記第1樹脂層と同一のパターン状に形成され、染料を含有する第2樹脂層とを有することを特徴とするものである。
C. Laminate The laminate of the present invention comprises a substrate, a first resin layer formed in a pattern on the substrate, and the same pattern as the first resin layer on the first resin layer. It has the 2nd resin layer containing this, It is characterized by the above-mentioned.

図1(d)は本発明の積層体の一例を示す概略断面図である。図1(d)に示すように、積層体は、基板1と、基板1上にパターン状に形成された第1樹脂層2と、第1樹脂層2上にパターン状に形成され、染料を含有する第2樹脂層3とを有しており、第1樹脂層2および第2樹脂層3は同一のパターン状に形成されている。   FIG.1 (d) is a schematic sectional drawing which shows an example of the laminated body of this invention. As shown in FIG. 1D, the laminate is formed in a pattern on the substrate 1, the first resin layer 2 formed in a pattern on the substrate 1, and on the first resin layer 2. The first resin layer 2 and the second resin layer 3 are formed in the same pattern.

本発明によれば、第2樹脂層は染料を含有するため、無溶媒の樹脂組成物を用いて形成可能である。そのため、第2樹脂層の形成時に、第1樹脂層と第2樹脂層とが混ざり合うのを防ぐことができる。したがって、第1樹脂層および第2樹脂層の機能の劣化を抑制することが可能である。   According to the present invention, since the second resin layer contains a dye, it can be formed using a solventless resin composition. Therefore, it is possible to prevent the first resin layer and the second resin layer from being mixed when the second resin layer is formed. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the functions of the first resin layer and the second resin layer.

なお、基板については上記「A.積層体の製造方法」に記載したので、ここでの説明は省略する。以下、本発明の積層体における他の構成について説明する。   In addition, since it described in the said "A. manufacturing method of a laminated body" about a board | substrate, description here is abbreviate | omitted. Hereinafter, the other structure in the laminated body of this invention is demonstrated.

1.第1樹脂層
本発明における第1樹脂層は、基板上にパターン状に形成されるものである。
第1樹脂層としては、例えば、カラーフィルタにおける反射制御層、カバーガラスにおける反射制御層や白色加飾層を挙げることができる。
なお、第1樹脂層について詳しくは上記「A.積層体の製造方法」に記載したので、ここでの説明は省略する。
1. 1st resin layer The 1st resin layer in this invention is formed in a pattern shape on a board | substrate.
Examples of the first resin layer include a reflection control layer in a color filter, a reflection control layer in a cover glass, and a white decorative layer.
Since the first resin layer is described in detail in the above “A. Manufacturing method of laminated body”, the description thereof is omitted here.

2.第2樹脂層
本発明における第2樹脂層は、第1樹脂層上に第1樹脂層と同一のパターン状に形成され、染料を含有するものである。
第2樹脂層としては、例えば、カラーフィルタにおける遮光層、カバーガラスにおける黒色加飾層や遮光層を挙げることができる。
なお、第2樹脂層について詳しくは上記「A.積層体の製造方法」に記載したので、ここでの説明は省略する。
2. 2nd resin layer The 2nd resin layer in this invention is formed in the same pattern shape as a 1st resin layer on a 1st resin layer, and contains dye.
Examples of the second resin layer include a light shielding layer in a color filter, a black decorative layer and a light shielding layer in a cover glass.
Since the second resin layer is described in detail in the above “A. Manufacturing method of laminated body”, description thereof is omitted here.

3.積層体
本発明の積層体は、例えばカラーフィルタ、カバーガラス等、種々の用途に適用することができる。具体的には、カラーフィルタにおいては、第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として遮光層を有するカラーフィルタが挙げられる。また、カバーガラスにおいては、第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として黒色加飾層を有するカバーガラス、第1樹脂層として白色加飾層、第2樹脂層として遮光層を有するカバーガラスが挙げられる。
中でも、本発明の積層体は、カラーフィルタまたはカバーガラスに用いられることが好ましく、特に第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として遮光層を有するカラーフィルタまたはカバーガラスに用いられることが好ましい。
以下、カラーフィルタおよびカバーガラスについて説明する。
3. Laminated body The laminated body of this invention is applicable to various uses, such as a color filter and a cover glass, for example. Specifically, in the color filter, a color filter having a reflection control layer as the first resin layer and a light shielding layer as the second resin layer can be mentioned. In the cover glass, a cover glass having a reflection control layer as the first resin layer, a black decorative layer as the second resin layer, a white decorative layer as the first resin layer, and a light shielding layer as the second resin layer Glass is mentioned.
Especially, it is preferable that the laminated body of this invention is used for a color filter or a cover glass, and it is used especially for the color filter or cover glass which has a reflection control layer as a 1st resin layer, and a light shielding layer as a 2nd resin layer. preferable.
Hereinafter, the color filter and the cover glass will be described.

(1)カラーフィルタ
本発明におけるカラーフィルタは、本発明の積層体において、第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として遮光層を有するものである。
なお、カラーフィルタについては、後述の「D.カラーフィルタ」に詳しく記載するので、ここでの説明は省略する。
(1) Color filter The color filter in this invention has a reflection control layer as a 1st resin layer, and a light shielding layer as a 2nd resin layer in the laminated body of this invention.
Since the color filter is described in detail in “D. Color filter” described later, description thereof is omitted here.

(2)カバーガラス
本発明におけるカバーガラスは、本発明の積層体において、第1樹脂層として反射制御層、第2樹脂層として黒色加飾層を有する、あるいは、第1樹脂層として白色加飾層、第2樹脂層として遮光層を有するものである。すなわち、本発明におけるカバーガラスは、透明基板と、透明基板上にパターン状に形成された反射制御層と、反射制御層上に反射制御層と同一のパターン状に形成され、染料を含有する黒色加飾層とを有する、あるいは、透明基板と、透明基板上にパターン状に形成された白色加飾層と、白色加飾層上に白色加飾層と同一のパターン状に形成され、染料を含有する遮光層とを有するものである。
(2) Cover glass In the laminated body of the present invention, the cover glass of the present invention has a reflection control layer as the first resin layer and a black decorative layer as the second resin layer, or white decorative as the first resin layer. The layer and the second resin layer have a light shielding layer. That is, the cover glass in the present invention is a transparent substrate, a reflection control layer formed in a pattern on the transparent substrate, and a black containing a dye formed in the same pattern as the reflection control layer on the reflection control layer. A decorative layer, or a transparent substrate, a white decorative layer formed in a pattern on the transparent substrate, and a white decorative layer formed in the same pattern as the white decorative layer on the white decorative layer. And a light-shielding layer to be contained.

本発明によれば、黒色加飾層または遮光層は染料を含有することから、無溶媒の樹脂組成物を用いて形成可能であり、黒色加飾層または遮光層の形成時に、反射制御層と黒色加飾層とが混ざり合う、あるいは、白色加飾層と遮光層とが混ざり合うのを抑制することができる。そのため、色ムラが発生するのを抑えることができる。   According to the present invention, since the black decorative layer or the light shielding layer contains a dye, the black decorative layer or the light shielding layer can be formed using a solventless resin composition, and at the time of forming the black decorative layer or the light shielding layer, It can suppress that a black decoration layer mixes or a white decoration layer and a light shielding layer mix. Therefore, the occurrence of color unevenness can be suppressed.

なお、カバーガラスにおける各構成については、上記「A.積層体の製造方法」に記載したので、ここでの説明は省略する。
本発明のカバーガラスの用途としては、例えばタッチパネル等を挙げることができる。
In addition, since it described in the said "A. manufacturing method of a laminated body" about each structure in a cover glass, description here is abbreviate | omitted.
Examples of the use of the cover glass of the present invention include a touch panel.

D.カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、透明基板と、透明基板上にパターン状に形成され、樹脂層である反射制御層と、反射制御層上に反射制御層と同一のパターン状に形成され、樹脂層であり、染料を含有する遮光層と、透明基板上の遮光層の開口部に形成された複数色の着色層とを有するものである。
D. Color filter The color filter of the present invention is formed in a pattern on a transparent substrate, a transparent substrate, a reflection control layer that is a resin layer, and formed on the reflection control layer in the same pattern as the reflection control layer. A light-shielding layer containing a dye and a plurality of colored layers formed in the opening of the light-shielding layer on the transparent substrate.

図12は本発明のカラーフィルタの一例を示す概略断面図である。図12に示すように、カラーフィルタ10は、透明基板11と、透明基板11上にパターン状に形成された反射制御層12と、反射制御層12上に反射制御層12と同一のパターン状に形成された遮光層13と、透明基板11上の遮光層13の開口部に形成され、赤色着色層16R、緑色着色層16G、青色着色層16Bが配列された着色層16と、着色層16を覆うように形成された保護層17とを有している。図12に示す例においては、表示領域18に形成され、画素を画定する画素区分用遮光部14と、非表示領域19に形成され、表示領域18を画定する額縁遮光部15との両方を反射制御層12および遮光層13の積層構造としている。   FIG. 12 is a schematic sectional view showing an example of the color filter of the present invention. As shown in FIG. 12, the color filter 10 includes a transparent substrate 11, a reflection control layer 12 formed in a pattern on the transparent substrate 11, and the same pattern as the reflection control layer 12 on the reflection control layer 12. The formed light shielding layer 13, the colored layer 16 formed in the opening of the light shielding layer 13 on the transparent substrate 11 and arranged with the red colored layer 16R, the green colored layer 16G, and the blue colored layer 16B, and the colored layer 16 And a protective layer 17 formed so as to cover it. In the example shown in FIG. 12, both the pixel-partitioning light-shielding part 14 that defines the pixel and is formed in the display area 18 and the frame light-shielding part 15 that is formed in the non-display area 19 and defines the display area 18 are reflected. A laminated structure of the control layer 12 and the light shielding layer 13 is employed.

本発明によれば、反射制御層および遮光層を積層することにより、カラーフィルタを表示装置に用いた場合には、外光反射を抑制することができ、視認性や意匠性を向上させることができる。
また本発明によれば、遮光層は染料を含有することから、無溶媒の樹脂組成物を用いて形成可能であり、遮光層の形成時に、反射制御層と遮光層とが混ざり合うのを抑制することができる。そのため、色ムラが発生したり、遮光層の遮光性が低下したりするのを抑えることができる。
According to the present invention, by stacking the reflection control layer and the light shielding layer, when a color filter is used in a display device, reflection of external light can be suppressed, and visibility and design can be improved. it can.
Further, according to the present invention, since the light shielding layer contains a dye, it can be formed using a solvent-free resin composition, and the reflection control layer and the light shielding layer are prevented from being mixed when the light shielding layer is formed. can do. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of color unevenness and the deterioration of the light shielding property of the light shielding layer.

なお、カラーフィルタにおける各構成については、上記「B.カラーフィルタの製造方法」に記載したので、ここでの説明は省略する。
本発明のカラーフィルタの用途としては、例えば液晶表示装置、有機EL表示装置等を挙げることができる。
Since each configuration of the color filter is described in “B. Manufacturing method of color filter” above, description thereof is omitted here.
Examples of the use of the color filter of the present invention include a liquid crystal display device and an organic EL display device.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

[実施例1]
図5に例示するようにカラーフィルタを作製した。まず、光硬化性の硬化性樹脂組成物Aを調製し、この硬化性樹脂組成物Aを用いて、赤色着色層用樹脂組成物、緑色着色層用樹脂組成物および青色着色層用樹脂組成物と、反射制御層用樹脂組成物Cとを調製した。次いで、これらを用いて、樹脂組成物毎にフォトリソグラフィ法を行い、各色着色層および反射制御層を形成した。遮光層13については、反射制御層用樹脂組成物層12aと遮光層用樹脂組成物層13aとを積層させた後、フォトリソグラフィ法により、所定のパターン状の反射制御層12および遮光層13を形成した。ここでは、反射制御層12および遮光層13を形成した後、赤色着色層16R、緑色着色層16G、青色着色層16Bをそれぞれフォトリソ工程で形成した。
[Example 1]
A color filter was produced as illustrated in FIG. First, a photocurable curable resin composition A is prepared, and using this curable resin composition A, a red colored layer resin composition, a green colored layer resin composition, and a blue colored layer resin composition are prepared. And a resin composition C for reflection control layer were prepared. Next, using these, a photolithographic method was performed for each resin composition to form each colored layer and the reflection control layer. About the light shielding layer 13, after laminating | stacking the resin composition layer 12a for reflection control layers, and the resin composition layer 13a for light shielding layers, the reflection control layer 12 and the light shielding layer 13 of a predetermined pattern were formed by the photolithographic method. Formed. Here, after forming the reflection control layer 12 and the light shielding layer 13, the red colored layer 16R, the green colored layer 16G, and the blue colored layer 16B were each formed by a photolithography process.

(硬化性樹脂組成物Aの調製)
重合槽中にメタクリル酸メチル(MMA)を63重量部、アクリル酸(AA)を12重量部、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル(HEMA)を6重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)を88重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、2、2′−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を7重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、85℃で2時間攪拌し、さらに100℃で1時間反応させた。得られた溶液に、さらにメタクリル酸グリシジル(GMA)を7重量部、トリエチルアミンを0.4重量部、およびハイドロキノンを0.2重量部添加し、100℃で5時間攪拌し、共重合樹脂溶液(固形分50%)を得た。
次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物Aとした。
<硬化性樹脂組成物Aの組成>
・ 上記共重合樹脂溶液(固形分50%) :16重量部
・ ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399)
:24重量部
・ オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70) :4重量部
・ 2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン :4重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル :52重量部
(Preparation of curable resin composition A)
The polymerization tank is charged with 63 parts by weight of methyl methacrylate (MMA), 12 parts by weight of acrylic acid (AA), 6 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), and 88 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether (DMDG). After stirring and dissolving, 7 parts by weight of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) was added and dissolved uniformly. Then, it stirred at 85 degreeC under nitrogen stream for 2 hours, and also was made to react at 100 degreeC for 1 hour. Further, 7 parts by weight of glycidyl methacrylate (GMA), 0.4 parts by weight of triethylamine, and 0.2 parts by weight of hydroquinone were added to the obtained solution, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 5 hours to obtain a copolymer resin solution ( A solid content of 50%) was obtained.
Next, the following materials were stirred and mixed at room temperature to obtain a curable resin composition A.
<Composition of curable resin composition A>
-Copolymer resin solution (solid content 50%): 16 parts by weight-Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399)
: 24 parts by weight-Orthocresol novolak type epoxy resin (Epicoat Shell Epoxy Co., Ltd. Epicoat 180S70): 4 parts by weight-2-Methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight Parts ・ Diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight

(反射制御層用樹脂組成物Cの調製)
まず、下記分量の成分を混合し、ビーズミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液Bを調製した。
<黒色顔料分散液Bの組成>
・ 樹脂被覆カーボンブラック(三菱化学社製MS18E) :20重量部
・ 高分子分散材(ビックケミー・ジャパン株式会社 Disperbyk 163) :5重量部
・ 溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル) :75重量部
上記の樹脂被覆カーボンブラック(三菱化学社製MS18E)は、平均粒径25nmであった。なお、粒径は、例えば、日機装社製のレーザードップラー散乱光解析粒度分析計(商品名「Microtrac934UPA」)を用い、組成物に含まれる溶剤(希釈溶剤と呼ぶ)で希釈し、組成物の顔料粒径の累積が50%を占める粒径を50%平均粒径とし、その値を測定して求めた。
次に、下記分量の成分を十分混合して、反射制御層用樹脂組成物Cを得た。
<反射制御層用樹脂組成物Cの組成>
・ 上記黒色顔料分散液B :5重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :15重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル :80重量部
(Preparation of resin composition C for reflection control layer)
First, the following components were mixed and sufficiently dispersed by a bead mill to prepare a black pigment dispersion B.
<Composition of black pigment dispersion B>
-Resin-coated carbon black (Mitsubishi Chemical Corporation MS18E): 20 parts by weight-Polymer dispersion (Big Chemie Japan, Ltd. Disperbyk 163): 5 parts by weight-Solvent (diethylene glycol dimethyl ether): 75 parts by weight The above resin-coated carbon black (MS18E manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) had an average particle size of 25 nm. The particle diameter is, for example, diluted with a solvent (referred to as a dilution solvent) contained in the composition using a laser Doppler scattered light analysis particle size analyzer (trade name “Microtrac 934UPA”) manufactured by Nikkiso Co., Ltd. The particle size in which the accumulation of particle size occupies 50% was defined as 50% average particle size, and the value was measured.
Next, the following amounts of components were sufficiently mixed to obtain a resin composition C for reflection control layer.
<Composition of Resin Composition C for Reflection Control Layer>
-Black pigment dispersion B: 5 parts by weight-Curable resin composition A: 15 parts by weight-Diethylene glycol dimethyl ether: 80 parts by weight

(反射制御層および遮光層の形成)
まず、ガラス基板(旭硝子社製、AN材)上の一面に、上記反射制御層用樹脂組成物Cをスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、反射制御層用樹脂組成物層を形成した。この際、反射制御層用樹脂組成物層の膜厚が1.0μmになるように調整した。
次に、反射制御層用樹脂組成物層上に、ラミネータ((株)日立インダストリイズ製、LamicII型)を用いて、ドライフィルム(富士フイルム社製、T−FK K43)をラミネートし、ドライフィルムから保護フィルムを剥離して、遮光層用樹脂組成物層を形成した。次いで、遮光層用樹脂組成物層から100μmの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプでパターン状に露光した後、0.05wt%水酸化カリウム水溶液で現像した。その後、基板を230℃の雰囲気下に30分間放置することにより加熱処理を施して、反射制御層および遮光層を所定のパターン状に形成した。反射制御層および遮光層の合計膜厚は3.0μmであった。
(Formation of reflection control layer and light shielding layer)
First, the resin composition C for reflection control layer is applied on one surface of a glass substrate (Asahi Glass Co., Ltd., AN material) with a spin coater and dried at 100 ° C. for 3 minutes. Formed. Under the present circumstances, it adjusted so that the film thickness of the resin composition layer for reflection control layers might be set to 1.0 micrometer.
Next, on the resin composition layer for the reflection control layer, a laminator (manufactured by Hitachi Industries, Ltd., Lamic II type) is used to laminate a dry film (F-Film, T-FK K43) and dry. The protective film was peeled from the film to form a light shielding layer resin composition layer. Next, a photomask was placed at a distance of 100 μm from the resin composition layer for the light shielding layer, and after exposure in a pattern with a 2.0 kW ultrahigh pressure mercury lamp by a proximity aligner, 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution was used. Developed. Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere of 230 ° C. for 30 minutes to perform heat treatment, thereby forming a reflection control layer and a light shielding layer in a predetermined pattern. The total film thickness of the reflection control layer and the light shielding layer was 3.0 μm.

(着色層の形成)
次に、以下のようにして、各色の着色層を形成した。
(1)赤色着色層の形成
反射制御層および遮光層がパターン状に形成された基板上に、下記組成の赤色着色層用樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布し、その後、70℃のオーブン中で3分間乾燥した。次いで、赤色着色層用樹脂組成物の塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより2.0kwの超高圧水銀ランプを用いて赤色着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、赤色着色層用樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を230℃の雰囲気下に15分間放置することにより加熱処理を施して、パターン状の赤色着色層を表示領域に形成した。形成膜厚は2.0μmとなった。
<赤色着色層用樹脂組成物の組成>
・ C.I.ピグメントレッド177 :3重量部
・ C.I.ピグメントレッド254 :4重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 :3重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :23重量部
・ 酢酸−3−メトキシブチル :67重量部
(Formation of colored layer)
Next, a colored layer of each color was formed as follows.
(1) Formation of red colored layer On the substrate on which the reflection control layer and the light shielding layer are formed in a pattern, a red colored layer resin composition having the following composition is applied by spin coating, and then in an oven at 70 ° C. For 3 minutes. Next, a photomask is placed at a distance of 100 μm from the coating film of the resin composition for the red colored layer, and only a region corresponding to the red colored layer forming region is used by a proximity aligner using a 2.0 kw ultrahigh pressure mercury lamp. Were irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds. Subsequently, it was immersed in 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution (liquid temperature 23 degreeC) for 1 minute, and alkali image development was carried out, and only the uncured part of the coating film of the resin composition for red colored layers was removed. Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere of 230 ° C. for 15 minutes to perform heat treatment, thereby forming a patterned red colored layer in the display region. The formed film thickness was 2.0 μm.
<Composition of resin composition for red colored layer>
C. I. Pigment Red 177: 3 parts by weight C.I. I. Pigment Red 254: 4 parts by weight-Polysulfonic acid type polymer dispersant: 3 parts by weight-Curable resin composition A: 23 parts by weight-3-methoxybutyl acetate: 67 parts by weight

(2)緑色着色層の形成
次に、下記組成の緑色着色層用樹脂組成物を用いて、赤色着色層の形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が2.0μmとなるようにしてパターン状の緑色着色層を表示領域に形成した。
<緑色着色層用樹脂組成物の組成>
・ C.I.ピグメントグリーン58 :7重量部
・ C.I.ピグメントイエロー138 :1重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 :3重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :22重量部
・ 酢酸−3−メトキシブチル :67重量部
(2) Formation of green colored layer Next, using a resin composition for a green colored layer having the following composition, in the same process as the formation of the red colored layer, the coating film thickness was changed, and the formed film thickness was 2.0 μm. Thus, a patterned green colored layer was formed in the display area.
<Composition of resin composition for green colored layer>
C. I. Pigment Green 58: 7 parts by weight C.I. I. Pigment Yellow 138: 1 part by weight-Polysulfonic acid type polymer dispersant: 3 parts by weight-Curable resin composition A: 22 parts by weight-3-methoxybutyl acetate: 67 parts by weight

(3)青色着色層の形成
次に、下記組成の青色着色層用樹脂組成物を用いて、赤色着色層の形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が2.0μmとなるようにしてパターン状の青色着色層を表示領域に形成した。
<青色着色層用樹脂組成物の組成>
・ C.I.ピグメントブルー15:6 :4重量部
・ C.I.ピグメントバイオレット23:1重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 :3重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :25重量部
・ 酢酸−3−メトキシブチル :67重量部
(3) Formation of blue colored layer Next, using the resin composition for a blue colored layer having the following composition, in the same process as the formation of the red colored layer, the applied film thickness was changed, and the formed film thickness was 2.0 μm. Thus, a patterned blue colored layer was formed in the display region.
<Composition of resin composition for blue colored layer>
C. I. Pigment Blue 15: 6: 4 parts by weight C.I. I. Pigment Violet 23: 1 part by weight-Polysulfonic acid type polymer dispersant: 3 parts by weight-Curable resin composition A: 25 parts by weight-3-methoxybutyl acetate: 67 parts by weight

[実施例2]
下記に示すように遮光層用樹脂組成物Dを調製し、反射制御層および遮光層を形成したこと以外は、実施例1と同様にしてカラーフィルタを作製した。
[Example 2]
A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the light-shielding layer resin composition D was prepared as shown below, and a reflection control layer and a light-shielding layer were formed.

(遮光層用樹脂組成物Dの調製)
まず、下記分量の成分を混合し、ビーズミルにて十分に分散し、遮光層用樹脂組成物D調製した。
<遮光層用樹脂組成物Dの組成>
・ 樹脂被覆カーボンブラック(三菱化学社製MS18E) :20重量部
・ 高分子分散材(ビックケミー・ジャパン株式会社 Disperbyk 163) :5重量部
・ 重合反応性モノマー(共栄社化学株式会社 PE3A−MS):70重量部
・ 2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン :5重量部
(Preparation of resin composition D for light shielding layer)
First, the following components were mixed and sufficiently dispersed with a bead mill to prepare a light shielding layer resin composition D.
<Composition of resin composition D for light shielding layer>
-Resin-coated carbon black (Mitsubishi Chemical Corporation MS18E): 20 parts by weight-Polymer dispersion (Big Chemie Japan Co., Ltd. Disperbyk 163): 5 parts by weight-Polymerization reactive monomer (Kyoeisha Chemical Co., Ltd. PE3A-MS): 70 Part by weight-2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 5 parts by weight

(反射制御層および遮光層の形成)
実施例1と同様にして、ガラス基板上に反射制御層用樹脂組成物層を形成した。
次に、反射制御層用樹脂組成物層上に、上記遮光層用樹脂組成物Dをスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、遮光層用樹脂組成物層を形成した。この際、遮光層用樹脂組成物層の膜厚が1.0μmになるように調整した。遮光層用樹脂組成物層から100μmの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプでパターン状に露光した後、0.05wt%水酸化カリウム水溶液で現像した。その後、基板を230℃の雰囲気下に30分間放置することにより加熱処理を施して、反射制御層および遮光層を所定のパターン状に形成した。反射制御層および遮光層の合計膜厚は2.0μmであった。
(Formation of reflection control layer and light shielding layer)
In the same manner as in Example 1, a resin composition layer for a reflection control layer was formed on a glass substrate.
Next, the resin composition D for the light shielding layer was applied on the resin composition layer for the reflection control layer with a spin coater and dried at 100 ° C. for 3 minutes to form a resin composition layer for the light shielding layer. At this time, the thickness of the resin composition layer for the light shielding layer was adjusted to 1.0 μm. A photomask was placed at a distance of 100 μm from the resin composition layer for the light-shielding layer, exposed in a pattern with a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp using a proximity aligner, and then developed with a 0.05 wt% aqueous potassium hydroxide solution. . Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere of 230 ° C. for 30 minutes to perform heat treatment, thereby forming a reflection control layer and a light shielding layer in a predetermined pattern. The total film thickness of the reflection control layer and the light shielding layer was 2.0 μm.

[実施例3]
下記に示すように遮光層用樹脂組成物Eを調製し、反射制御層および遮光層を形成したこと以外は、実施例1と同様にしてカラーフィルタを作製した。
[Example 3]
A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the light-shielding layer resin composition E was prepared as shown below and a reflection control layer and a light-shielding layer were formed.

(遮光層用樹脂組成物Eの調製)
まず、下記分量の成分を十分混合し、遮光層用樹脂組成物Eを調製した。
<遮光層用樹脂組成物Eの組成>
・ 黒色染料(オリエント化学工業社製 NUBIAN BLACK PC−8550) :20重量部
・ 重合反応性モノマー(共栄社化学株式会社 PE3A−MS):70重量部
・ 2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン :5重量部
(Preparation of resin composition E for light shielding layer)
First, the following amounts of components were sufficiently mixed to prepare a light shielding layer resin composition E.
<Composition of resin composition E for light shielding layer>
Black dye (NUBIAN BLACK PC-8550 manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.): 20 parts by weight Polymerization reactive monomer (Kyoeisha Chemical Co., Ltd. PE3A-MS): 70 parts by weight 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 5 parts by weight

(反射制御層および遮光層の形成)
実施例1と同様にして、ガラス基板上に反射制御層用樹脂組成物層を形成した。
次に、反射制御層用樹脂組成物層上に、上記遮光層用樹脂組成物Eをスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、遮光層用樹脂組成物層を形成した。この際、遮光層用樹脂組成物層の膜厚が1.0μmになるように調整した。遮光層用樹脂組成物層から100μmの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプでパターン状に露光した後、0.05wt%水酸化カリウム水溶液で現像した。その後、基板を230℃の雰囲気下に30分間放置することにより加熱処理を施して、反射制御層および遮光層を所定のパターン状に形成した。反射制御層および遮光層の合計膜厚は2.0μmであった。
(Formation of reflection control layer and light shielding layer)
In the same manner as in Example 1, a resin composition layer for a reflection control layer was formed on a glass substrate.
Next, the light shielding layer resin composition E was applied onto the reflection control layer resin composition layer with a spin coater and dried at 100 ° C. for 3 minutes to form a light shielding layer resin composition layer. At this time, the thickness of the resin composition layer for the light shielding layer was adjusted to 1.0 μm. A photomask was placed at a distance of 100 μm from the resin composition layer for the light-shielding layer, exposed in a pattern with a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp using a proximity aligner, and then developed with a 0.05 wt% aqueous potassium hydroxide solution. . Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere of 230 ° C. for 30 minutes to perform heat treatment, thereby forming a reflection control layer and a light shielding layer in a predetermined pattern. The total film thickness of the reflection control layer and the light shielding layer was 2.0 μm.

[比較例1]
下記に示すように遮光層用樹脂組成物Fを調製し、反射制御層および遮光層を形成したこと以外は、実施例1と同様にしてカラーフィルタを作製した。
[Comparative Example 1]
A color filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that the light-shielding layer resin composition F was prepared as shown below and a reflection control layer and a light-shielding layer were formed.

(遮光層用樹脂組成物Fの調製)
まず、下記分量の成分を十分混合し、遮光層用樹脂組成物Fを調製した。
<遮光層用樹脂組成物Fの組成>
・ 上記黒色顔料分散液B :43重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :19重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル :38重量部
(Preparation of resin composition F for light shielding layer)
First, the following amounts of components were sufficiently mixed to prepare a light shielding layer resin composition F.
<Composition of resin composition F for light shielding layer>
-Black pigment dispersion B: 43 parts by weight-Curable resin composition A: 19 parts by weight-Diethylene glycol dimethyl ether: 38 parts by weight

(反射制御層および遮光層の形成)
実施例1と同様にして、ガラス基板上に反射制御層用樹脂組成物層を形成した。
次に、反射制御層用樹脂組成物層上に、上記遮光層用樹脂組成物Fをスピンコーターで塗布したところ、反射制御層用樹脂組成物層が遮光層用樹脂組成物Fに溶解し、ムラが発生した。
(Formation of reflection control layer and light shielding layer)
In the same manner as in Example 1, a resin composition layer for a reflection control layer was formed on a glass substrate.
Next, when the resin composition F for the light shielding layer was applied on the resin composition layer for the reflection control layer with a spin coater, the resin composition layer for the reflection control layer was dissolved in the resin composition F for the light shielding layer, Unevenness occurred.

[比較例2]
反射制御層を形成せず、上記遮光層用樹脂組成物Fを用いて遮光層を形成したこと以外は、実施例1と同様にしてカラーフィルタを作製した。
[Comparative Example 2]
A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the light-shielding layer was formed using the light-shielding layer resin composition F without forming a reflection control layer.

(遮光層の形成)
ガラス基板の一面に、上記遮光層用樹脂組成物Fをスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、遮光層用樹脂組成物層を形成した。遮光層用樹脂組成物層から100μmの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプでパターン状に露光した後、0.05wt%水酸化カリウム水溶液で現像した。その後、基板を230℃の雰囲気下に30分間放置することにより加熱処理を施して、遮光層を所定のパターン状に形成した。
(Formation of light shielding layer)
The light shielding layer resin composition F was applied to one surface of a glass substrate with a spin coater and dried at 100 ° C. for 3 minutes to form a light shielding layer resin composition layer. A photomask was placed at a distance of 100 μm from the resin composition layer for the light-shielding layer, exposed in a pattern with a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp using a proximity aligner, and then developed with a 0.05 wt% aqueous potassium hydroxide solution. . Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere of 230 ° C. for 30 minutes to perform heat treatment, thereby forming a light shielding layer in a predetermined pattern.

[比較例3]
下記に示すように反射制御層および遮光層を形成したこと以外は、実施例1と同様にしてカラーフィルタを作製した。
[Comparative Example 3]
A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that a reflection control layer and a light shielding layer were formed as shown below.

(反射制御層の形成)
ガラス基板の一面に、上記反射制御層用樹脂組成物Cをスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、反射制御層用樹脂組成物層を形成した。反射制御層用樹脂組成物層から100μmの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプでパターン状に露光した後、0.05wt%水酸化カリウム水溶液で現像した。その後、基板を230℃の雰囲気下に30分間放置することにより加熱処理を施して、反射制御層を所定のパターン状に形成した。
(Formation of reflection control layer)
The resin composition C for reflection control layer was applied on one surface of a glass substrate with a spin coater and dried at 100 ° C. for 3 minutes to form a resin composition layer for reflection control layer. A photomask is placed at a distance of 100 μm from the resin composition layer for the reflection control layer, exposed to a pattern with a 2.0 kW ultrahigh pressure mercury lamp using a proximity aligner, and then developed with a 0.05 wt% aqueous potassium hydroxide solution. did. Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere of 230 ° C. for 30 minutes to perform heat treatment, thereby forming a reflection control layer in a predetermined pattern.

(遮光層の形成)
反射制御層上に、上記遮光層用樹脂組成物Fをスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、遮光層用樹脂組成物層を形成した。遮光層用樹脂組成物層から100μmの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプでパターン状に露光した後、0.05wt%水酸化カリウム水溶液で現像した。その後、基板を230℃の雰囲気下に30分間放置することにより加熱処理を施して、遮光層を所定のパターン状に形成した。
(Formation of light shielding layer)
On the reflection control layer, the light shielding layer resin composition F was applied by a spin coater and dried at 100 ° C. for 3 minutes to form a light shielding layer resin composition layer. A photomask was placed at a distance of 100 μm from the resin composition layer for the light-shielding layer, exposed in a pattern with a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp using a proximity aligner, and then developed with a 0.05 wt% aqueous potassium hydroxide solution. . Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere of 230 ° C. for 30 minutes to perform heat treatment, thereby forming a light shielding layer in a predetermined pattern.

[評価]
得られた各カラーフィルタの額縁遮光部についてコニカミノルタ(株)製のCM−2500dを用いて反射率を評価した。なお、比較例1については遮光層用樹脂組成物層の積層時にムラが発生したため、測定は未実施とした。
[Evaluation]
The reflectance was evaluated using CM-2500d manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. for the frame shading part of each color filter obtained. In Comparative Example 1, since unevenness occurred when the light-shielding layer resin composition layer was laminated, the measurement was not performed.

<測定条件:分光測色計>
測定器 : コニカミノルタ(株)製、分光測色計CM−2500d
照明の受光条件 : d/8°(JIS Z8722条件c)
照射領域 : 測定径=直径11mmの円形
測定領域 : 照射領域中の8mmの円形(重心位置は照射領域、直径11mmの円形と同じ)
<Measurement conditions: spectrocolorimeter>
Measuring instrument: Konica Minolta Co., Ltd., spectral colorimeter CM-2500d
Light receiving condition for illumination: d / 8 ° (JIS Z8722 condition c)
Irradiation area: Measurement diameter = circle with a diameter of 11 mm Measurement area: Circle of 8 mm in the irradiation area (the center of gravity is the same as the irradiation area, circle with a diameter of 11 mm)

SCI方式により、分光反射率の測定を行い、得られた測定結果から計算により、D65光源におけるJIS Z8701のXYZ表色系での、明るさYを求めた。
表1に結果を示す。
Spectral reflectance was measured by the SCI method, and brightness Y in the XYZ color system of JIS Z8701 in a D65 light source was obtained by calculation from the obtained measurement result.
Table 1 shows the results.

Figure 2015206872
Figure 2015206872

以上の結果より、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を使用することで、形成容易かつ低反射の遮光層を有するカラーフィルタを得られることが明らかとなった。   From the above results, it became clear that a color filter having a light-shielding layer that is easy to form and has low reflection can be obtained by using a solvent-free photocurable resin composition.

1 … 基板
2a … 第1樹脂組成物層
2 … 第1樹脂層
3a … 第2樹脂組成物層
3 … 第2樹脂層
4 … マスク
5 … 紫外線
10 … カラーフィルタ
11 … 透明基板
12a … 反射制御層用樹脂組成物層
12 … 反射制御層
13a … 遮光層用樹脂組成物層
13 … 遮光層
14 … 画素区分用遮光部
15 … 額縁遮光部
18 … 表示領域
19 … 非表示領域
20 … カバーガラス
21 … 透明基板
22a … 反射制御層用樹脂組成物層
22 … 反射制御層
23a … 黒色加飾層用樹脂組成物層
23 … 黒色加飾層
24 … 絶縁層
25 … 白色加飾層
26 … 遮光層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate 2a ... 1st resin composition layer 2 ... 1st resin layer 3a ... 2nd resin composition layer 3 ... 2nd resin layer 4 ... Mask 5 ... Ultraviolet ray 10 ... Color filter 11 ... Transparent substrate 12a ... Reflection control layer Resin composition layer 12 ... Reflection control layer 13a ... Light shielding layer resin composition layer 13 ... Light shielding layer 14 ... Pixel segmenting light shielding part 15 ... Frame light shielding part 18 ... Display area 19 ... Non-display area 20 ... Cover glass 21 ... Transparent substrate 22a ... Resin control layer for reflection control layer 22 ... Reflection control layer 23a ... Resin composition layer for black decorative layer 23 ... Black decorative layer 24 ... Insulating layer 25 ... White decorative layer 26 ... Light shielding layer

Claims (8)

基板上に第1樹脂組成物層を形成する第1樹脂組成物層形成工程と、
前記第1樹脂組成物層上に、前記第1樹脂組成物層に含有される第1樹脂組成物と同一の現像液で現像可能であり、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いて第2樹脂組成物層を形成する第2樹脂組成物層形成工程と、
前記第1樹脂組成物層および前記第2樹脂組成物層をパターン状に露光し、同一の現像液を用いて現像し、加熱して、同一のパターン状に第1樹脂層および第2樹脂層を形成するパターニング工程と
を有することを特徴とする積層体の製造方法。
A first resin composition layer forming step of forming a first resin composition layer on a substrate;
The first resin composition layer can be developed with the same developer as the first resin composition contained in the first resin composition layer, and a first solvent-free photocurable resin composition is used. A second resin composition layer forming step of forming two resin composition layers;
The first resin composition layer and the second resin composition layer are exposed in a pattern, developed using the same developer, and heated to form the first resin layer and the second resin layer in the same pattern. And a patterning step for forming a laminate.
前記第2樹脂組成物層形成工程にて、前記第1樹脂組成物層上に、前記無溶媒の光硬化性樹脂組成物を含有するドライフィルムを貼合することを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。   2. The dry film containing the solvent-free photocurable resin composition is bonded onto the first resin composition layer in the second resin composition layer forming step. The manufacturing method of the laminated body of description. 前記第1樹脂層が反射制御層であり、前記第2樹脂層が遮光層であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 1, wherein the first resin layer is a reflection control layer, and the second resin layer is a light shielding layer. 透明基板上に反射制御層用樹脂組成物層を形成する反射制御層用樹脂組成物層形成工程と、
前記反射制御層用樹脂組成物層上に、前記反射制御層用樹脂組成物層に含有される反射制御層用樹脂組成物と同一の現像液で現像可能であり、無溶媒の光硬化性樹脂組成物を用いて遮光層用樹脂組成物層を形成する遮光層用樹脂組成物層形成工程と、
前記反射制御層用樹脂組成物層および前記遮光層用樹脂組成物層をパターン状に露光し、同一の現像液を用いて現像し、加熱して、同一のパターン状に反射制御層および遮光層を形成するパターニング工程と、
前記透明基板上の前記遮光層の開口部に複数色の着色層を形成する着色層形成工程と
を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
A resin composition layer forming step for reflection control layer for forming a resin composition layer for reflection control layer on a transparent substrate;
A solvent-free photocurable resin that can be developed on the reflection control layer resin composition layer with the same developer as the reflection control layer resin composition contained in the reflection control layer resin composition layer. A light shielding layer resin composition layer forming step of forming a light shielding layer resin composition layer using the composition;
The reflection control layer resin composition layer and the light shielding layer resin composition layer are exposed in a pattern, developed using the same developer, and heated to form the reflection control layer and the light shielding layer in the same pattern. Patterning process to form,
And a colored layer forming step of forming a colored layer of a plurality of colors in the opening of the light shielding layer on the transparent substrate.
前記遮光層用樹脂組成物層形成工程にて、前記反射制御層用樹脂組成物層上に、前記無溶媒の光硬化性樹脂組成物を含有するドライフィルムを貼合することを特徴とする請求項4に記載のカラーフィルタの製造方法。   The dry film containing the solventless photocurable resin composition is bonded onto the resin composition layer for the reflection control layer in the resin composition layer forming process for the light shielding layer. Item 5. A method for producing a color filter according to Item 4. 基板と、
前記基板上にパターン状に形成された第1樹脂層と、
前記第1樹脂層上に前記第1樹脂層と同一のパターン状に形成され、染料を含有する第2樹脂層と
を有することを特徴とする積層体。
A substrate,
A first resin layer formed in a pattern on the substrate;
A laminate having a second resin layer formed on the first resin layer in the same pattern as the first resin layer and containing a dye.
前記第1樹脂層が反射制御層であり、前記第2樹脂層が遮光層であることを特徴とする請求項6に記載の積層体。   The laminate according to claim 6, wherein the first resin layer is a reflection control layer and the second resin layer is a light shielding layer. 透明基板と、
前記透明基板上にパターン状に形成され、樹脂層である反射制御層と、
前記反射制御層上に前記反射制御層と同一のパターン状に形成され、樹脂層であり、染料を含有する遮光層と、
前記透明基板上の前記遮光層の開口部に形成された複数色の着色層と
を有することを特徴とするカラーフィルタ。
A transparent substrate;
A reflection control layer that is formed in a pattern on the transparent substrate and is a resin layer;
A light-shielding layer that is formed on the reflection control layer in the same pattern as the reflection control layer, is a resin layer, and contains a dye;
A color filter comprising: a plurality of colored layers formed in openings of the light shielding layer on the transparent substrate.
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