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JP2015107448A - Method for production of anti-fogging article, and coating liquid for forming anti-fogging film - Google Patents

Method for production of anti-fogging article, and coating liquid for forming anti-fogging film Download PDF

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JP2015107448A
JP2015107448A JP2013250587A JP2013250587A JP2015107448A JP 2015107448 A JP2015107448 A JP 2015107448A JP 2013250587 A JP2013250587 A JP 2013250587A JP 2013250587 A JP2013250587 A JP 2013250587A JP 2015107448 A JP2015107448 A JP 2015107448A
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JP
Japan
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group
antifogging
forming
general formula
antifogging film
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JP2013250587A
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Japanese (ja)
Inventor
千晴 瀧本
Chiharu Takimoto
千晴 瀧本
敏裕 平野
Toshihiro Hirano
敏裕 平野
拓史 野村
Takushi Nomura
拓史 野村
希 大西
Nozomi Onishi
希 大西
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Central Glass Co Ltd
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Central Glass Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for production of an anti-fogging article having both excellent anti-fogging property and surface hardness including the use of superheated steam for hardening, and to provide a coating liquid for anti-fogging film formation for obtaining the anti-fogging article.SOLUTION: A method for production of an anti-fogging article is characterized by having the following processes: (A) a process of preparing as a raw material, a coating liquid for anti-fogging film formation obtained by mixing at a prescribed ratio, at least (i) a copolymer having an X group imparting water absorptivity and a Y group having the crosslinking reaction with an epoxy group, (ii) an epoxy group-containing silane compound, (iii) at least one selected from the group consisting of metal oxide precursors, a hydrolysate of the precursors and a condensate of the precursors, (iv) an acid or base and (v) a solvent; (B) a process of coating the coating liquid for anti-fogging film formation on the surface of a substrate; and (C) a process of hardening a coating film after the process (B) of coating the coating liquid by exposing the coating film to a superheated steam.

Description

本発明は、車両用、建築用等の防曇窓ガラスや防曇鏡、レンズ、ディスプレー等の防曇性物品において、優れた、防曇性と表面硬度を併せ持つ防曇膜を基材上に形成した防曇性物品の製造方法に関する。   The present invention provides an antifogging film having excellent antifogging properties and surface hardness on a base material in antifogging window glass, antifogging mirrors, lenses, displays and the like for vehicles and buildings. The present invention relates to a method for producing a formed antifogging article.

ガラスやプラスチック等の透明基材は、基材を挟んで内面と外面の温湿度の差により、一方の表面が露点以下になった場合、又は、基材に対して急激な温湿度変化が起こった場合(例えば、沸騰水蒸気が基材に接触した場合や、低温部から高温多湿の環境に移った場合等)に雰囲気中の水分が水滴として付着し、基材表面は結露する。その結果、結露した水滴により光の散乱が起こる、いわゆる「曇り」が発生することで、視界が妨げられる。このような「曇り」により、一般的な窓ガラス、ショーケース用ガラス、自動車や航空機のフロントガラス、反射鏡、眼鏡、サングラス等では、安全性や視認性が著しく損なわれる。   Transparent substrates such as glass and plastic have a sudden temperature change with respect to the substrate when one surface falls below the dew point due to the difference in temperature and humidity between the inner and outer surfaces of the substrate. In the case (for example, when boiling water vapor comes into contact with the base material or when the low temperature portion moves to a high temperature and high humidity environment), moisture in the atmosphere adheres as water droplets, and the surface of the base material is condensed. As a result, the field of view is hindered by the so-called “cloudiness” in which light is scattered by the condensed water droplets. Such “cloudiness” significantly impairs safety and visibility in general window glass, glass for showcases, windshields of automobiles and aircraft, reflectors, glasses, sunglasses, and the like.

これらの基材に防曇性を付与する方法として、特許文献1には、バインダー成分、及び、ポリアクリル酸類を含有する耐熱性防曇膜形成用塗布剤であって、耐熱性防曇膜を形成した際にポリアクリル酸類由来の成分が吸水することにより防曇性が発現することを特徴とする耐熱性防曇膜形成用塗布剤を用いて基材上に耐熱性防曇膜を形成することが開示されている。   As a method for imparting antifogging properties to these substrates, Patent Document 1 discloses a heat-resistant antifogging film-forming coating agent containing a binder component and polyacrylic acid, Forming a heat-resistant anti-fogging film on a substrate using a heat-resistant anti-fogging film-forming coating agent characterized in that anti-fogging properties are manifested by water absorption of components derived from polyacrylic acids when formed It is disclosed.

また、特許文献2には、基材と、バインダー成分とポリアクリル酸類の共重合体を含有する被膜と、該基材と被膜との間にプライマー層を有することを特徴とする、防曇性、基材と被膜との密着性、及び耐熱性に優れる防曇性物品が開示されている。   Patent Document 2 discloses an antifogging property characterized by having a base material, a film containing a binder component and a polyacrylic acid copolymer, and a primer layer between the base material and the film. An anti-fogging article having excellent adhesion between a substrate and a film and heat resistance is disclosed.

また、特許文献3には、基材と該基材に密着した被膜とを具備した防曇性物品において、該被膜がバインダー成分とポリアクリル酸類の共重合体とを含有する複合膜であって、該被膜は吸水性を呈する被膜であり、該被膜の吸水飽和時の単位体積の吸水量が0.05〜3mg/mmであり、該被膜は100℃以下の熱に対して耐熱性を有することを特徴とする、耐熱性及び防曇性に優れる防曇性物品が開示されている。 Patent Document 3 discloses a composite film containing a binder component and a polyacrylic acid copolymer in an anti-fogging article having a base material and a film in close contact with the base material. The film is a film exhibiting water absorption, the water absorption of the unit volume at the time of water absorption saturation of the film is 0.05 to 3 mg / mm 3 , and the film has heat resistance against heat of 100 ° C. or less. An anti-fogging article having excellent heat resistance and anti-fogging property, characterized in that it has, is disclosed.

特開2011−153164号公報JP 2011-153164 A 特開2012−017220号公報JP 2012-017220 A 特開2012−017394号公報JP 2012-017394 A

防曇性物品は、曇りを生じさせるような環境においても視認性を確保できるような優れた防曇性と、実使用に耐えうる程度の表面硬度を持つことが望まれている。しかし、防曇性能を高めた防曇膜は、該十分な防曇性と表面硬度を併せ持たせることが極めて難しい。特許文献1〜3に記載の防曇膜は、優れた防曇性を有するものの、表面硬度が不十分な場合があり、改善の余地があった。   Antifogging articles are desired to have excellent antifogging properties that can ensure visibility even in an environment that causes fogging, and surface hardness that can withstand actual use. However, it is extremely difficult for an antifogging film with improved antifogging performance to have both sufficient antifogging properties and surface hardness. Although the antifogging films described in Patent Documents 1 to 3 have excellent antifogging properties, the surface hardness may be insufficient and there is room for improvement.

そこで、本発明は、硬化処理に過熱蒸気を使用する優れた防曇性と表面硬度が両立した防曇性物品の製造方法、及び該防曇性物品を得るための防曇膜形成用塗布液を提供することを課題とする。   Accordingly, the present invention relates to a method for producing an antifogging article that uses superheated steam for the curing treatment and has both excellent antifogging properties and surface hardness, and an antifogging film forming coating solution for obtaining the antifogging article. It is an issue to provide.

本発明は、
基材と該基材の表面に防曇膜形成用塗布液を塗布し、塗布後の塗膜を硬化することによって形成された防曇膜を有する防曇性物品の製造方法であって、
少なくとも以下の工程を有することを特徴とする防曇性物品の製造方法である。
(A)原料として、少なくとも、
(i)下記一般式[1]で表される共重合体と、
(ii)下記一般式[2]で表されるエポキシ基含有シラン化合物と、
(iii)下記一般式[3]で表される化合物及び下記一般式[4]で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物前駆体、該金属酸化物前駆体の加水分解物、及び該金属酸化物前駆体の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つと、
(iv)酸又は塩基と、
(v)溶媒とを、
(i)〜(iii)の総量100質量%に対して、
(i)10〜80質量%、(ii)5〜60質量%、(iii)5〜80質量%の割合で混合して得られる防曇膜形成用塗布液を準備する、防曇膜形成用塗布液準備工程、
(B)基材表面に上記防曇膜形成用塗布液を塗布する、防曇膜形成用塗布液塗布工程、
(C)上記防曇膜形成用塗布液塗布工程後の塗膜を過熱蒸気に曝すことにより硬化する、硬化工程。

Figure 2015107448
(式[1]で、R及びRは、水素基又はメチル基であり、Rは、水素基又は炭素数が1〜5のアルキル基であり、Xは、−C(=O)−NR(ここで、Rは炭素数が1〜4のアルキル基)、アミノ基、スルホン酸基及び水酸基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基、又は、アミド基、アミノ基、スルホン酸基及び水酸基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基であり、Yは、カルボキシル基、又は、−R−C(=O)−OHで表される基であり、該Rは、2価の脂肪族炭化水素基、又は、エステル基、エーテル基、アミド基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基と脂肪族炭化水素基とから構成された2価の有機基である。aとbはa:b=0.7〜2.5:1.0である数である。なお、式[1]中の繰り返し構造単位の順序は特に限定されない。)
[R(CHO)(CHSi(R(Z4−e−f [2]
(式[2]で、Rはエポキシ基、グリシドキシ基、及びエポキシ基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基から選ばれる少なくとも1つの基であり、Rは炭素数1〜3のアルキル基であり、Zはアルコキシ基、及びヒドロキシ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基である。c及びdはそれぞれ0〜3であり、eは1又は2であり、fは0又は1である。)
(RM(Zh−g [3]
(式[3]中、Rは1価の有機基、Zはそれぞれ独立にアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン元素、酸素元素、ハロゲン化物イオン、NO 及びCHCOOからなる群から選ばれる少なくとも1つであり、MはSi、Zr、Al及びTiからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、gは0〜3の整数であり、hは3又は4であり、h−gは1〜4の整数である。)
(RM(Zi−j [4]
(式[4]中、Rはアセチルアセトナート基及びエチルアセトアセテート基から選ばれる少なくとも1つの基、Zはアルコキシ基又はハロゲン元素であり、MはSi、Zr、Al及びTiからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、jは0〜4の整数であり、iは3又は4であり、i−jは0〜4の整数である。) The present invention
A method for producing an antifogging article having an antifogging film formed by applying a coating solution for forming an antifogging film on the surface of the base material and the base material, and curing the coated film after coating,
A method for producing an antifogging article, comprising at least the following steps.
(A) As a raw material, at least
(I) a copolymer represented by the following general formula [1];
(Ii) an epoxy group-containing silane compound represented by the following general formula [2];
(Iii) At least one metal oxide precursor selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula [3] and a compound represented by the following general formula [4], hydrolysis of the metal oxide precursor At least one selected from the group consisting of a decomposition product and a condensate of the metal oxide precursor;
(Iv) an acid or base;
(V) a solvent,
For a total amount of 100% by mass of (i) to (iii),
For preparing an antifogging film, a coating solution for forming an antifogging film obtained by mixing at a ratio of (i) 10 to 80% by mass, (ii) 5 to 60% by mass, and (iii) 5 to 80% by mass is prepared. Coating solution preparation process,
(B) Applying the antifogging film-forming coating solution on the surface of the base material, applying the antifogging film-forming coating solution,
(C) The hardening process hardened | cured by exposing the coating film after the coating liquid application process for the said anti-fogging film formation to superheated steam.
Figure 2015107448
(In the formula [1], R 1 and R 2 are a hydrogen group or a methyl group, R 3 is a hydrogen group or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and X is —C (═O). —NR 4 (wherein R 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), at least one group selected from the group consisting of an amino group, a sulfonic acid group, and a hydroxyl group, or an amide group, an amino group, and a sulfonic acid Y is a monovalent organic group composed of at least one group selected from the group consisting of a group and a hydroxyl group and an aliphatic hydrocarbon group, and Y is a carboxyl group or —R 5 —C (═O) —. R 5 is a group represented by OH, and R 5 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group, or at least one group selected from the group consisting of an ester group, an ether group, and an amide group, and an aliphatic hydrocarbon group. A and b are a: b = 0.7-2. 5: is a number from 1.0 Note that the order of the repeating units of the formula [1] is not particularly limited)..
[R 6 (CH 2 O) c (CH 2 ) d ] e Si (R 7 ) f (Z 1 ) 4-ef [2]
(In the formula [2], R 6 is at least one group selected from an epoxy group, a glycidoxy group, and a monovalent organic group composed of an epoxy group and an aliphatic hydrocarbon group, and R 7 is a carbon number. 1 to 3 alkyl groups, Z 1 is at least one group selected from the group consisting of alkoxy groups and hydroxy groups, c and d are each 0 to 3, e is 1 or 2, f is 0 or 1.)
(R 8 ) g M (Z 2 ) h-g [3]
(In the formula [3], R 8 is a monovalent organic group, Z 2 is independently an alkoxy group, a hydroxy group, a halogen element, an oxygen element, a halide ion, NO 3 and CH 3 COO —. At least one selected, M is at least one element selected from the group consisting of Si, Zr, Al and Ti, g is an integer of 0 to 3, h is 3 or 4, h -G is an integer of 1-4.)
(R 9 ) j M (Z 3 ) ij [4]
(In the formula [4], R 9 is at least one group selected from an acetylacetonate group and an ethylacetoacetate group, Z 3 is an alkoxy group or a halogen element, and M is a group consisting of Si, Zr, Al and Ti. And j is an integer of 0 to 4, i is 3 or 4, and ij is an integer of 0 to 4.)

また、本発明の防曇性物品の製造方法においては、上記の一般式[1]で表される共重合体が、下記一般式[5]で表される共重合体であることが好ましい。

Figure 2015107448
(式[5]で、X、a及びbは式[1]と同様であり、mは0〜2、nは0〜3、sは1〜4、tは1〜4の数である。なお、式[5]中の繰り返し構造単位の順序は特に限定されない。) In the method for producing an antifogging article of the present invention, the copolymer represented by the general formula [1] is preferably a copolymer represented by the following general formula [5].
Figure 2015107448
(In Formula [5], X, a, and b are the same as in Formula [1], m is 0-2, n is 0-3, s is 1-4, and t is 1-4. Note that the order of the repeating structural units in the formula [5] is not particularly limited.)

また、本発明の防曇性物品の製造方法においては、上記一般式[1]で表される共重合体の重量平均分子量が、1,000〜1,000,000であることが好ましい。   Moreover, in the manufacturing method of the anti-fogging article | item of this invention, it is preferable that the weight average molecular weights of the copolymer represented by the said General formula [1] are 1,000-1,000,000.

また、本発明の防曇性物品の製造方法においては、上記一般式[2]で表されるエポキシ基含有シラン化合物が、下記一般式[6]で表される化合物であることが好ましい。
10(CHSi(CH(OR113−p [6]
(R10はグリシドキシ基、又は、エポキシ基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基であり、R11は炭素数1〜3のアルキル基である。kは2又は3であり、pは0又は1である。)
In the method for producing an antifogging article of the present invention, the epoxy group-containing silane compound represented by the general formula [2] is preferably a compound represented by the following general formula [6].
R 10 (CH 2) k Si (CH 3) p (OR 11) 3-p [6]
(R 10 is a glycidoxy group, or a monovalent organic group composed of an epoxy group and an aliphatic hydrocarbon group, R 11 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. K is 2 or 3. And p is 0 or 1.)

また、本発明の防曇性物品の製造方法においては、上記一般式[6]で表されるエポキシ基含有シラン化合物が、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、及び3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランからなる群から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。   In the method for producing an antifogging article of the present invention, the epoxy group-containing silane compound represented by the general formula [6] is 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycol. It must be at least one selected from the group consisting of sidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane. Is preferred.

また、本発明の防曇性物品の製造方法においては、上記一般式[1]で表される共重合体のYがカルボキシル基を含む場合、
上記防曇膜形成用塗布液準備工程において、
カルボキシル基1モル量に対し、
上記エポキシ基含有シラン化合物のエポキシ基が0.2〜3モル量となるように混合されることが好ましい。
In the method for producing an antifogging article of the present invention, when Y of the copolymer represented by the general formula [1] contains a carboxyl group,
In the coating solution preparation step for forming the antifogging film,
For 1 mol of carboxyl group
It is preferable to mix so that the epoxy group of the said epoxy group containing silane compound may be 0.2-3 mol amount.

また、本発明の防曇性物品の製造方法においては、
上記防曇膜形成用塗布液準備工程において、
防曇膜形成用塗布液の原料として、さらに、四級アンモニウム塩又は四級ホスホニウム塩を混合してもよい。
In the method for producing an antifogging article of the present invention,
In the coating solution preparation step for forming the antifogging film,
A quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt may be further mixed as a raw material for the coating solution for forming an antifogging film.

また、本発明の防曇性物品の製造方法においては、
上記防曇膜形成用塗布液準備工程において、
防曇膜形成用塗布液の原料として、さらに、硬化剤を混合することが好ましい。
In the method for producing an antifogging article of the present invention,
In the coating solution preparation step for forming the antifogging film,
It is preferable to further mix a curing agent as a raw material for the coating solution for forming an antifogging film.

また、本発明の防曇性物品の製造方法においては、
上記防曇膜形成用塗布液準備工程において、
防曇膜形成用塗布液の原料として、さらに、微粒子を混合することが好ましい。
In the method for producing an antifogging article of the present invention,
In the coating solution preparation step for forming the antifogging film,
It is preferable to further mix fine particles as a raw material for the coating solution for forming the antifogging film.

また、本発明の防曇性物品の製造方法においては、
上記防曇膜形成用塗布液準備工程の後、防曇膜形成用塗布液塗布工程の前において、
塗布液を、濃縮すること、又は、さらに溶媒を添加することにより、該塗布液の固形分濃度及び粘度を調整する操作を行ってもよい。
In the method for producing an antifogging article of the present invention,
After the coating solution preparation step for forming the antifogging film, before the coating solution coating step for forming the antifogging film,
You may perform operation which adjusts solid content concentration and viscosity of this coating liquid by concentrating a coating liquid or adding a solvent further.

また、本発明の防曇性物品の製造方法においては、
上記硬化工程が、100〜300℃の過熱水蒸気に曝すことにより硬化することが好ましい。
In the method for producing an antifogging article of the present invention,
It is preferable that the said hardening process hardens | cures by exposing to 100-300 degreeC superheated steam.

また、本発明は、
原料として、少なくとも、
(i)下記一般式[1]で表される共重合体と、
(ii)下記一般式[2]で表されるエポキシ基含有シラン化合物と、
(iii)下記一般式[3]で表される化合物及び下記一般式[4]で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物前駆体、該金属酸化物前駆体の加水分解物、及び該金属酸化物前駆体の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つと、
(iv)酸又は塩基と、
(v)溶媒とを、
(i)〜(iii)の総量100質量%に対して、
(i)10〜80質量%、(ii)5〜60質量%、(iii)3〜80質量%の割合で混合して得られる防曇膜形成用塗布液である。

Figure 2015107448
(式[1]で、R及びRは、水素基又はメチル基であり、Rは、水素基又は炭素数が1〜5のアルキル基であり、Xは、−C(=O)−NR(ここで、Rは炭素数が1〜4のアルキル基)、アミノ基、スルホン酸基及び水酸基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基、又は、アミド基、アミノ基、スルホン酸基及び水酸基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基であり、Yは、カルボキシル基、又は、−R−C(=O)−OHで表される基であり、該Rは、2価の脂肪族炭化水素基、又は、エステル基、エーテル基、アミド基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基と脂肪族炭化水素基とから構成された2価の有機基である。aとbはa:b=0.7〜2.5:1.0である数である。なお、式[1]中の繰り返し構造単位の順序は特に限定されない。)
[R(CHO)(CHSi(R(Z4−e−f [2]
(式[2]で、Rはエポキシ基、グリシドキシ基、及びエポキシ基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基から選ばれる少なくとも1つの基であり、Rは炭素数1〜3のアルキル基であり、Zはアルコキシ基、及びヒドロキシ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基である。c及びdはそれぞれ0〜3であり、eは1又は2であり、fは0又は1である。)
(RM(Zh−g [3]
(式[3]中、Rは1価の有機基、Zはそれぞれ独立にアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン元素、酸素元素、ハロゲン化物イオン、NO 及びCHCOOからなる群から選ばれる少なくとも1つであり、MはSi、Zr、Al及びTiからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、gは0〜3の整数であり、hは3又は4であり、h−gは1〜4の整数である。)
(RM(Zi−j [4]
(式[4]中、Rはアセチルアセトナート基及びエチルアセトアセテート基から選ばれる少なくとも1つの基、Zはアルコキシ基又はハロゲン元素であり、MはSi、Zr、Al及びTiからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、jは0〜4の整数であり、iは3又は4であり、i−jは0〜4の整数である。) The present invention also provides:
As a raw material, at least,
(I) a copolymer represented by the following general formula [1];
(Ii) an epoxy group-containing silane compound represented by the following general formula [2];
(Iii) At least one metal oxide precursor selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula [3] and a compound represented by the following general formula [4], hydrolysis of the metal oxide precursor At least one selected from the group consisting of a decomposition product and a condensate of the metal oxide precursor;
(Iv) an acid or base;
(V) a solvent,
For a total amount of 100% by mass of (i) to (iii),
It is a coating solution for forming an antifogging film obtained by mixing at a ratio of (i) 10 to 80% by mass, (ii) 5 to 60% by mass, and (iii) 3 to 80% by mass.
Figure 2015107448
(In the formula [1], R 1 and R 2 are a hydrogen group or a methyl group, R 3 is a hydrogen group or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and X is —C (═O). —NR 4 (wherein R 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), at least one group selected from the group consisting of an amino group, a sulfonic acid group, and a hydroxyl group, or an amide group, an amino group, and a sulfonic acid Y is a monovalent organic group composed of at least one group selected from the group consisting of a group and a hydroxyl group and an aliphatic hydrocarbon group, and Y is a carboxyl group or —R 5 —C (═O) —. R 5 is a group represented by OH, and R 5 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group, or at least one group selected from the group consisting of an ester group, an ether group, and an amide group, and an aliphatic hydrocarbon group. A and b are a: b = 0.7-2. 5: is a number from 1.0 Note that the order of the repeating units of the formula [1] is not particularly limited)..
[R 6 (CH 2 O) c (CH 2 ) d ] e Si (R 7 ) f (Z 1 ) 4-ef [2]
(In the formula [2], R 6 is at least one group selected from an epoxy group, a glycidoxy group, and a monovalent organic group composed of an epoxy group and an aliphatic hydrocarbon group, and R 7 is a carbon number. 1 to 3 alkyl groups, Z 1 is at least one group selected from the group consisting of alkoxy groups and hydroxy groups, c and d are each 0 to 3, e is 1 or 2, f is 0 or 1.)
(R 8 ) g M (Z 2 ) h-g [3]
(In the formula [3], R 8 is a monovalent organic group, Z 2 is independently an alkoxy group, a hydroxy group, a halogen element, an oxygen element, a halide ion, NO 3 and CH 3 COO —. At least one selected, M is at least one element selected from the group consisting of Si, Zr, Al and Ti, g is an integer of 0 to 3, h is 3 or 4, h -G is an integer of 1-4.)
(R 9 ) j M (Z 3 ) ij [4]
(In the formula [4], R 9 is at least one group selected from an acetylacetonate group and an ethylacetoacetate group, Z 3 is an alkoxy group or a halogen element, and M is a group consisting of Si, Zr, Al and Ti. And j is an integer of 0 to 4, i is 3 or 4, and ij is an integer of 0 to 4.)

また、本発明の防曇膜形成用塗布液においては、
上記の一般式[1]で表される共重合体が、下記一般式[5]で表される共重合体であることが好ましい。

Figure 2015107448
(式[5]で、X、a及びbは式[1]と同様であり、mは0〜2、nは0〜3、sは1〜4、tは1〜4の数である。なお、式[5]中の繰り返し構造単位の順序は特に限定されない。) In the antifogging film forming coating liquid of the present invention,
The copolymer represented by the general formula [1] is preferably a copolymer represented by the following general formula [5].
Figure 2015107448
(In Formula [5], X, a, and b are the same as in Formula [1], m is 0-2, n is 0-3, s is 1-4, and t is 1-4. Note that the order of the repeating structural units in the formula [5] is not particularly limited.)

また、本発明の防曇膜形成用塗布液においては、
上記一般式[1]で表される共重合体の重量平均分子量が、1,000〜1,000,000であることが好ましい。
In the antifogging film forming coating liquid of the present invention,
The weight average molecular weight of the copolymer represented by the general formula [1] is preferably 1,000 to 1,000,000.

また、本発明の防曇膜形成用塗布液においては、
上記一般式[2]で表されるエポキシ基含有シラン化合物が、下記一般式[6]で表される化合物であることが好ましい。
10(CHSi(CH(OR113−p [6]
(R10はグリシドキシ基、又は、エポキシ基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基であり、R11は炭素数1〜3のアルキル基である。kは2又は3であり、pは0又は1である。)
In the antifogging film forming coating liquid of the present invention,
The epoxy group-containing silane compound represented by the general formula [2] is preferably a compound represented by the following general formula [6].
R 10 (CH 2) k Si (CH 3) p (OR 11) 3-p [6]
(R 10 is a glycidoxy group, or a monovalent organic group composed of an epoxy group and an aliphatic hydrocarbon group, R 11 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. K is 2 or 3. And p is 0 or 1.)

また、本発明の防曇膜形成用塗布液においては、
上記一般式[6]で表されるエポキシ基含有シラン化合物が、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、及び3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランからなる群から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。
In the antifogging film forming coating liquid of the present invention,
The epoxy group-containing silane compound represented by the general formula [6] is 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxy. It is preferably at least one selected from the group consisting of silane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane.

また、本発明の防曇膜形成用塗布液においては、
上記一般式[1]で表される共重合体のYがカルボキシル基を含む場合、
カルボキシル基1モル量に対し、
上記エポキシ基含有シラン化合物のエポキシ基が0.2〜3モル量となるように混合されたものであることが好ましい。
In the antifogging film forming coating liquid of the present invention,
When Y of the copolymer represented by the general formula [1] contains a carboxyl group,
For 1 mol of carboxyl group
It is preferable that the epoxy group of the epoxy group-containing silane compound is mixed so as to have an amount of 0.2 to 3 mol.

また、本発明の防曇膜形成用塗布液においては、
原料として、さらに、四級アンモニウム塩又は四級ホスホニウム塩を混合して得られるものであることが好ましい。
In the antifogging film forming coating liquid of the present invention,
The raw material is preferably obtained by further mixing a quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt.

また、本発明の防曇膜形成用塗布液においては、
原料として、さらに、硬化剤を混合して得られるものであることが好ましい。
In the antifogging film forming coating liquid of the present invention,
It is preferable that the raw material is obtained by further mixing a curing agent.

また、本発明の防曇膜形成用塗布液においては、
原料として、さらに、微粒子を混合して得られるものであることが好ましい。
In the antifogging film forming coating liquid of the present invention,
It is preferable that the raw material is obtained by further mixing fine particles.

本発明により、硬化処理に過熱蒸気を使用する防曇性及び表面硬度に優れる防曇性物品の製造方法、及び該防曇性物品を得るための防曇膜形成用塗布液を提供することができる。その結果、従来得ることが困難であった、実使用に耐えうる程度の表面硬度を有する防曇性物品を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to provide a method for producing an antifogging article using superheated steam for curing treatment and an antifogging article excellent in surface hardness, and a coating liquid for forming an antifogging film for obtaining the antifogging article. it can. As a result, it is possible to obtain an antifogging article having a surface hardness that can withstand actual use, which has been difficult to obtain in the past.

1.防曇膜形成用塗布液準備工程
(1)一般式[1]で表される共重合体について
一般式[1]で表される共重合体は、Xで表される基を有する繰り返し構造単位と、Yで表される基を有する繰り返し構造単位とからなる共重合体である(以降、一般式[1]で表される共重合体を単に「共重合体」と記載する場合がある)。該共重合体は、ランダム共重合体であってもよいし、ブロック共重合体であってもよいし、交互共重合体であってもよい。
1. Coating solution preparation step for forming antifogging film (1) About copolymer represented by general formula [1] The copolymer represented by general formula [1] is a repeating structural unit having a group represented by X And a repeating structural unit having a group represented by Y (hereinafter, the copolymer represented by the general formula [1] may be simply referred to as “copolymer”). . The copolymer may be a random copolymer, a block copolymer, or an alternating copolymer.

上記の共重合体は、共重合可能な基を有するモノマー同士を共重合させて得られるものであってもよいし、共重合可能な基を有するオリゴマー同士を共重合させて得られるものであってもよいし、上記のモノマーとオリゴマーを共重合させて得られるものであってもよい。Xで表される基を有する繰り返し構造単位を形成するモノマーとしては、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジn−プロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジイソ−プロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジブチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジブチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン、1−(メタ)アクリロイルピペリジン−2−オン、1−ビニル−2−ピロリドン、3−アクリロイル−2−オキサゾリジノン、N−アリルカルバミン酸t−ブチル、N−(2−ヒドロキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノブチル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノブチル(メタ)アクリルアミド、ジプロピルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジプロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、ジプロピルアミノブチル(メタ)アクリルアミド、ジブチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジブチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、ジブチルアミノブチル(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド−t−ブチルスルホン酸、ビニルスルホン酸等が挙げられる。また、Yで表される基を有する繰り返し構造単位を形成するモノマーとしては、(メタ)アクリル酸、こはく酸モノ(2−アクリロイルオキシエチル)、β−カルボキシエチル(メタ)アクリレート、3−ブテン酸、4−ペンテン酸、trans−3−ペンテン酸、trans−2−ペンテン酸、5−ヘキセン酸、trans−3−ヘキセン酸、2−ヘプテン酸、3−ヘプテン酸、5−ヘプテン酸、6−ヘプテン酸、2−オクテン酸、trans−2−オクテン酸、7−オクテン酸、3−オクテン酸、3−アリルオキシプロピオン酸、N−チグロイルグリシン等が挙げられる。なお、共重合可能な基を有するオリゴマーを用いて上記共重合体を得る場合、該オリゴマーは上記の共重合可能な基を有するモノマーから作製されたものが好ましい。共重合体の合成は一般的な重合によって行われる。   The copolymer may be obtained by copolymerizing monomers having copolymerizable groups, or may be obtained by copolymerizing oligomers having copolymerizable groups. Alternatively, it may be obtained by copolymerizing the above monomer and oligomer. Examples of the monomer that forms a repeating structural unit having a group represented by X include N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, and N, N-di-n-propyl (meth) acrylamide. N, N-diiso-propyl (meth) acrylamide, N, N-dibutyl (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminopropyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminopropyl (meth) ) Acrylate, dibutylaminoethyl (meth) acrylate, dibutylaminopropyl (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, 1- (meth) acryloylpiperidin-2-one, 1-vinyl-2-pyrrolidone, 3-acryloyl-2 - Sazolidinone, t-butyl N-allylcarbamate, N- (2-hydroxymethyl) (meth) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) (meth) acrylamide, N-methylolacrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, Dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, dimethylaminobutyl (meth) acrylamide, diethylaminoethyl (meth) acrylamide, diethylaminopropyl (meth) acrylamide, diethylaminobutyl (meth) acrylamide, dipropylaminoethyl (meth) acrylamide, dipropylaminopropyl (Meth) acrylamide, dipropylaminobutyl (meth) acrylamide, dibutylaminoethyl (meth) acrylamide, dibutylaminopropyl (meth) a Kurylamide, dibutylaminobutyl (meth) acrylamide, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide-t-butylsulfonic acid, vinylsulfone An acid etc. are mentioned. Moreover, as a monomer which forms the repeating structural unit which has the group represented by Y, (meth) acrylic acid, succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl), (beta) -carboxyethyl (meth) acrylate, 3-butenoic acid 4-pentenoic acid, trans-3-pentenoic acid, trans-2-pentenoic acid, 5-hexenoic acid, trans-3-hexenoic acid, 2-heptenoic acid, 3-heptenoic acid, 5-heptenoic acid, 6-heptene Examples include acid, 2-octenoic acid, trans-2-octenoic acid, 7-octenoic acid, 3-octenoic acid, 3-allyloxypropionic acid, and N-tigroylglycine. In addition, when obtaining the said copolymer using the oligomer which has a copolymerizable group, what was produced from the monomer which has the said copolymerizable group for this oligomer is preferable. The copolymer is synthesized by general polymerization.

上記共重合体において、Xで表される基は、防曇膜を形成した際に該膜に吸水性を付与する基であり、防曇性発現に寄与する基である。耐熱性の観点から、Xで表される基は、−C(=O)−NR(ここで、Rは炭素数が1〜4のアルキル基)である基が好ましい。また、上記共重合体において、Yで表される基は、上記エポキシ基含有シラン化合物のエポキシ基との間で架橋を形成する基であり、防曇膜を形成した際に該膜に優れた表面硬度、耐熱性、耐薬品性や耐摩耗性を付与する基である。相溶性と反応性の観点から、Yで表される基は、[-C(=O)-O-C2s-{O-C(=O)-C2t-}-C(=O)-OH(ここで、mは0〜2、nは0〜3、sは1〜4、tは1〜4の数)で表される基が好ましく、中でも、-C(=O)-OH、-C(=O)OCC(=O)-OH、-C(=O)OCOC(=O)CC(=O)-OHが好ましく、特に耐薬品性の観点から-C(=O)-OHが好ましい。 In the copolymer, the group represented by X is a group that imparts water absorption to the film when the antifogging film is formed, and is a group that contributes to the development of antifogging properties. From the viewpoint of heat resistance, the group represented by X is preferably a group which is —C (═O) —NR 4 (where R 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). In the copolymer, the group represented by Y is a group that forms a cross-linkage with the epoxy group of the epoxy group-containing silane compound, and was excellent in the film when an antifogging film was formed. It is a group that imparts surface hardness, heat resistance, chemical resistance, and wear resistance. From the viewpoint of reactivity with the compatibility, the group represented by Y is, [- C (= O) -O-C s H 2s - {O-C (= O) -C t H 2t -} m] n A group represented by -C (= O) -OH (where m is 0 to 2, n is 0 to 3, s is 1 to 4, and t is 1 to 4) is preferable. (═O) —OH, —C (═O) OC 2 H 4 C (═O) —OH, —C (═O) OC 2 H 4 OC (═O) C 2 H 4 C (═O) — OH is preferable, and —C (═O) —OH is particularly preferable from the viewpoint of chemical resistance.

上記共重合体において、Xで表される基を有する繰り返し構造単位と、Yで表される基を有する繰り返し構造単位の存在比率である、上記一般式[1]中のaとbは、a:b=0.7〜2.5:1.0である数である。bに対しaが0.7倍未満(すなわちa/b<0.7)の場合、十分な防曇性を有する膜が得られず、bに対しaが2.5倍超(すなわち2.5<a/b)の場合、架橋が少なくなるため、防曇膜を形成した際に表面硬度が低くなる。実用的な防曇性と表面硬度を両立させるため、a:b=1.0〜2.0:1.0がより好ましい。   In the copolymer, a and b in the general formula [1], which is the abundance ratio of the repeating structural unit having a group represented by X and the repeating structural unit having a group represented by Y, : B = 0.7 to 2.5: 1.0. When a is less than 0.7 times b (that is, a / b <0.7), a film having sufficient antifogging properties cannot be obtained, and a is more than 2.5 times b (ie 2.. In the case of 5 <a / b), since the cross-linking is reduced, the surface hardness is lowered when the antifogging film is formed. In order to achieve both practical antifogging properties and surface hardness, a: b = 1.0 to 2.0: 1.0 is more preferable.

上記一般式[1]で表される共重合体の重量平均分子量は、1,000〜1,000,000が好ましい。該重量平均分子量が、1,000未満であると、耐薬品性が弱くなる傾向があり好ましくない。また該重量平均分子量が、1,000,000超であると、防曇膜形成用塗布液の粘度が高くなり塗布作業等の作業性が悪くなる傾向があり好ましくない。上記重量平均分子量が30,000〜500,000であるとより好ましい。   The weight average molecular weight of the copolymer represented by the general formula [1] is preferably 1,000 to 1,000,000. If the weight average molecular weight is less than 1,000, the chemical resistance tends to be weak, which is not preferable. On the other hand, if the weight average molecular weight is more than 1,000,000, the viscosity of the coating solution for forming an antifogging film tends to be high and the workability such as coating work tends to deteriorate, which is not preferable. The weight average molecular weight is more preferably 30,000 to 500,000.

(2)エポキシ基含有シラン化合物について
エポキシ基含有シラン化合物は、下記一般式[2]で表される化合物である。
[R(CHO)(CHSi(R(Z4−e−f [2]
(式[2]で、Rはエポキシ基、グリシドキシ基、及びエポキシ基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基から選ばれる少なくとも1つの基であり、Rは炭素数1〜3のアルキル基であり、Zはアルコキシ基、及びヒドロキシ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基である。c及びdはそれぞれ0〜3であり、eは1又は2であり、fは0又は1である。)
(2) About epoxy group containing silane compound An epoxy group containing silane compound is a compound represented by following General formula [2].
[R 6 (CH 2 O) c (CH 2 ) d ] e Si (R 7 ) f (Z 1 ) 4-ef [2]
(In the formula [2], R 6 is at least one group selected from an epoxy group, a glycidoxy group, and a monovalent organic group composed of an epoxy group and an aliphatic hydrocarbon group, and R 7 is a carbon number. 1 to 3 alkyl groups, Z 1 is at least one group selected from the group consisting of alkoxy groups and hydroxy groups, c and d are each 0 to 3, e is 1 or 2, f is 0 or 1.)

該エポキシ基含有シラン化合物中のエポキシ基は、上記一般式[1]で表される共重合体のYで表される基との間で架橋を形成する基であり、該エポキシ基含有シラン化合物は、防曇膜を形成した際に該膜に優れた表面硬度、耐熱性、耐薬品性や耐摩耗性を付与する成分である。また、該エポキシ基含有シラン化合物中のZで表される基は、縮合反応によりシロキサン結合やその他のメタロキサン結合を形成する基であり、防曇膜を形成した際に該膜に優れた表面硬度、耐汚染性や密着性を付与する。なお、耐汚染性とは膜表面に汚染物を付着させ、一定時間放置後、拭き取った際、汚染物による変色、しみ、膨潤が発生し難いことを意味する。 The epoxy group in the epoxy group-containing silane compound is a group that forms a bridge with the group represented by Y of the copolymer represented by the general formula [1], and the epoxy group-containing silane compound Is a component that imparts excellent surface hardness, heat resistance, chemical resistance and wear resistance to the antifogging film. Further, the group represented by Z 1 in the epoxy group-containing silane compound is a group that forms a siloxane bond or other metalloxane bond by a condensation reaction, and has an excellent surface when the antifogging film is formed. Gives hardness, stain resistance and adhesion. The contamination resistance means that when a contaminant is attached to the film surface, left for a certain period of time, and then wiped off, discoloration, blotting, and swelling due to the contaminant do not easily occur.

エポキシ基含有シラン化合物は、下記一般式[6]で表される化合物であると、上記一般式[1]で表される共重合体との反応性や、上記一般式[3]で表される化合物及び上記一般式[4]で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物前駆体、該金属酸化物前駆体の加水分解物、及び該金属酸化物前駆体の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つとの反応性が良好であり、また、加水分解した際の脱離基が膜へ与える影響が少ないためより好ましい。
10(CHSi(CH(OR113−p [6]
(R10はグリシドキシ基、又は、エポキシ基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基であり、R11は炭素数1〜3のアルキル基である。kは2又は3であり、pは0又は1である。)
When the epoxy group-containing silane compound is a compound represented by the following general formula [6], the reactivity with the copolymer represented by the general formula [1] and the general formula [3] are represented. And at least one metal oxide precursor selected from the group consisting of compounds represented by the above general formula [4], hydrolyzate of the metal oxide precursor, and condensation of the metal oxide precursor The reactivity with at least one selected from the group consisting of products is good, and the effect of the leaving group upon hydrolysis on the membrane is small, which is more preferable.
R 10 (CH 2) k Si (CH 3) p (OR 11) 3-p [6]
(R 10 is a glycidoxy group, or a monovalent organic group composed of an epoxy group and an aliphatic hydrocarbon group, R 11 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. K is 2 or 3. And p is 0 or 1.)

上記エポキシ基含有シラン化合物としては、例えば、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、及び3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等が挙げられ、それらの中でも、防曇膜を形成した際に表面硬度や基板との密着性が良好となる、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、及び3−グリシドキシプロピルトリエトキシシランが好ましい。   Examples of the epoxy group-containing silane compound include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycid. Xylpropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and the like. Among them, when the antifogging film is formed, surface hardness and adhesion to the substrate are improved. 3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane are preferred.

本発明の防曇膜形成用塗布液には、上記のエポキシ基含有シラン化合物とともに、原料として、多官能エポキシシランカップリング剤が含まれていてもよい。該多官能エポキシシランカップリング剤は、分子中に複数のエポキシ基やトリアルコキシシリル基が含有された化合物であり、例えば、信越シリコーン製の商品名「X−12−981」、「X−12−984」、ダウコーニングコーポレーション製の商品名「XIAMETER OFS−6040Silane」等が挙げられる。   The antifogging film-forming coating solution of the present invention may contain a polyfunctional epoxysilane coupling agent as a raw material together with the epoxy group-containing silane compound. The polyfunctional epoxy silane coupling agent is a compound containing a plurality of epoxy groups or trialkoxysilyl groups in the molecule. For example, trade names “X-12-981” and “X-12” made by Shin-Etsu Silicone are used. -984 ", trade name" XIAMETER OFS-6040Silane "manufactured by Dow Corning Corporation.

上記防曇膜形成用塗布液の原料において、上記一般式[1]で表される共重合体のYがカルボキシル基を含む場合、カルボキシル基1モル量に対し、上記エポキシ基含有シラン化合物のエポキシ基が0.2〜3モル量となるように混合されることが好ましい。上記カルボキシル基1モル量に対し、上記エポキシ基が0.2モル量未満であると、得られる防曇膜中に未反応のカルボキシル基が残存し、防曇膜の耐アルカリ性が低下する傾向があり好ましくない。また、上記カルボキシル基1モル量に対し、上記エポキシ基が3モル量超であると、エポキシ基同士の反応により形成された結合部位が多くなり得られる防曇膜の耐酸性が低下する傾向があり好ましくない。上記カルボキシル基1モル量に対し、上記エポキシ基が0.5〜2モル量となるように混合されることがより好ましい。
また、原料として、上記のエポキシ基含有シラン化合物とともに、上記多官能エポキシシランカップリング剤を用いて、Yがカルボキシル基を含む一般式[1]で表される共重合体と混合する場合であっても、上記カルボキシル基1モル量に対し、上記エポキシ基含有シラン化合物のエポキシ基が0.2〜3モル量となることが好ましい。さらには、上記エポキシ基含有シラン化合物のエポキシ基及び上記多官能エポキシシランカップリング剤のエポキシ基の総量が、上記カルボキシル基1モル量に対し、0.2〜3モル量となることが好ましい。
In the raw material of the coating solution for forming the antifogging film, when Y of the copolymer represented by the general formula [1] contains a carboxyl group, the epoxy of the epoxy group-containing silane compound is used with respect to 1 mol of the carboxyl group. It is preferable to mix so that a group may be 0.2-3 mol amount. When the epoxy group is less than 0.2 mole amount relative to 1 mole amount of the carboxyl group, unreacted carboxyl groups remain in the resulting antifogging film, and the alkali resistance of the antifogging film tends to be reduced. There is not preferable. Moreover, the acid resistance of the anti-fogging film | membrane which can increase the bonding site | part formed by reaction of epoxy groups as the said epoxy group exceeds 3 mol amount with respect to 1 mol amount of said carboxyl groups tends to fall. There is not preferable. It is more preferable that the epoxy group is mixed in an amount of 0.5 to 2 mol relative to 1 mol of the carboxyl group.
In addition, when the polyfunctional epoxysilane coupling agent is used as a raw material together with the epoxy group-containing silane compound, Y is mixed with the copolymer represented by the general formula [1] containing a carboxyl group. However, it is preferable that the epoxy group of the epoxy group-containing silane compound is 0.2 to 3 mole amount relative to 1 mole amount of the carboxyl group. Furthermore, it is preferable that the total amount of the epoxy group of the epoxy group-containing silane compound and the epoxy group of the polyfunctional epoxysilane coupling agent is 0.2 to 3 moles relative to 1 mole of the carboxyl group.

(3)金属酸化物前駆体、該金属酸化物前駆体の加水分解物、該金属酸化物前駆体の縮合物について
本発明の防曇膜形成用塗布液は、原料として、下記一般式[3]で表される化合物及び下記一般式[4]で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物前駆体、該金属酸化物前駆体の加水分解物、及び該金属酸化物前駆体の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つを含む。
(RM(Zh−g [3]
(式[3]中、Rは1価の有機基、Zはそれぞれ独立にアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン元素、酸素元素、ハロゲン化物イオン、NO 及びCHCOOからなる群から選ばれる少なくとも1つであり、MはSi、Zr、Al及びTiからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、gは0〜3の整数であり、hは3又は4であり、h−gは1〜4の整数である。)
(RM(Zi−j [4]
(式[4]中、Rはアセチルアセトナート基及びエチルアセトアセテート基から選ばれる少なくとも1つの基、Zはアルコキシ基又はハロゲン元素であり、MはSi、Zr、Al及びTiからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、jは0〜4の整数であり、iは3又は4であり、i−jは0〜4の整数である。)
(3) Metal Oxide Precursor, Hydrolyzate of Metal Oxide Precursor, Condensate of Metal Oxide Precursor The coating solution for forming an antifogging film of the present invention has the following general formula [3 And at least one metal oxide precursor selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula [4], a hydrolyzate of the metal oxide precursor, and the metal oxide It contains at least one selected from the group consisting of condensates of precursors.
(R 8 ) g M (Z 2 ) h-g [3]
(In the formula [3], R 8 is a monovalent organic group, Z 2 is independently an alkoxy group, a hydroxy group, a halogen element, an oxygen element, a halide ion, NO 3 and CH 3 COO —. At least one selected, M is at least one element selected from the group consisting of Si, Zr, Al and Ti, g is an integer of 0 to 3, h is 3 or 4, h -G is an integer of 1-4.)
(R 9 ) j M (Z 3 ) ij [4]
(In the formula [4], R 9 is at least one group selected from an acetylacetonate group and an ethylacetoacetate group, Z 3 is an alkoxy group or a halogen element, and M is a group consisting of Si, Zr, Al and Ti. And j is an integer of 0 to 4, i is 3 or 4, and ij is an integer of 0 to 4.)

上記の、一般式[3]で表される化合物及び一般式[4]で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物前駆体、該金属酸化物前駆体の加水分解物、及び該金属酸化物前駆体の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つは、上記エポキシ基含有シラン化合物等と反応し、それ自身も得られる防曇膜の一部となるものであり、該膜に優れた表面硬度、耐汚染性や密着性を付与するものである。   At least one metal oxide precursor selected from the group consisting of the compound represented by the general formula [3] and the compound represented by the general formula [4], and a hydrolyzate of the metal oxide precursor , And at least one selected from the group consisting of condensates of the metal oxide precursor reacts with the epoxy group-containing silane compound and the like, and itself becomes a part of the obtained antifogging film, This film imparts excellent surface hardness, stain resistance and adhesion.

上記一般式[3]において、MがSiである場合、hは4である。gが0の場合の化合物としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラクロロシラン等が挙げられ、gが1の場合の化合物としては、モノメチルトリエトキシシラン、モノメチルトリメトキシシラン、モノメチルトリクロロシラン、(3−アミノプロピル)トリメトキシシラン等が挙げられ、gが2の場合の化合物としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。これらのなかでは、特に、一般式Si(Zで表わされるアルコキシシランを用いると、被膜の硬度が良好となるので好ましい。 In the above general formula [3], h is 4 when M is Si. Examples of the compound when g is 0 include tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, and tetrachlorosilane. Examples of the compound when g is 1 include monomethyltriethoxysilane, monomethyltrimethoxysilane, monomethyltrichlorosilane, ( 3-aminopropyl) trimethoxysilane and the like, and examples of the compound when g is 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldichlorosilane and the like. Among these, it is particularly preferable to use an alkoxysilane represented by the general formula Si (Z 2 ) 4 since the hardness of the coating becomes good.

上記一般式[3]において、MがZrである場合、hは3である。gが0の場合の化合物としては、一般式[7]で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種のジルコニウム酸化物前駆体が挙げられる。
ZrO(Z [7]
(式[7]中、ZはCl、NO 又はCHCOOである。)
一般式[7]で表されるジルコニウム酸化物前駆体としては、例えば、オキシ塩化ジルコニウム、オキシ硝酸ジルコニウム、オキシ酢酸ジルコニウム等が挙げられる。
In the general formula [3], when M is Zr, h is 3. Examples of the compound when g is 0 include at least one zirconium oxide precursor selected from the group consisting of compounds represented by the general formula [7].
ZrO (Z 2 ) 2 [7]
(In formula [7], Z 2 is Cl , NO 3 or CH 3 COO .)
Examples of the zirconium oxide precursor represented by the general formula [7] include zirconium oxychloride, zirconium oxynitrate, and zirconium oxyacetate.

上記一般式[4]において、MがZrである場合、iは4であり、jは0〜4である。該酸化物前駆体としては、一般式[8]で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種のジルコニウム酸化物前駆体が挙げられる。
(R12Zr(Z4−r [8]
(式[8]中、R12はアセチルアセトナート基、Zは炭素数2〜4のアルコキシル基又はハロゲン、rは0〜4の整数である。)
一般式[8]で表されるジルコニウム酸化物前駆体において、rが0の場合の化合物としては、例えば、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラノルマルブトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム等が挙げられる。これらはいずれも上記一般式[4]のiが4で、jが0の化合物に相当する。また、rが4の化合物としては、例えば、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート等が挙げられる。これらはいずれも上記一般式[4]のiが4で、jが4の化合物に相当する。
In the general formula [4], when M is Zr, i is 4 and j is 0 to 4. Examples of the oxide precursor include at least one zirconium oxide precursor selected from the group consisting of compounds represented by the general formula [8].
(R 12 ) r Zr (Z 3 ) 4-r [8]
(Wherein [8], R 12 is acetyl acetonate group, Z 3 is an alkoxyl group or a halogen having 2 to 4 carbon atoms, r is an integer of 0-4.)
In the zirconium oxide precursor represented by the general formula [8], examples of the compound when r is 0 include tetraisopropoxyzirconium, tetranormalbutoxyzirconium, and tetraethoxyzirconium. These correspond to compounds in which i in the general formula [4] is 4 and j is 0. Examples of the compound where r is 4 include zirconium tetraacetylacetonate. These correspond to compounds in which i in the general formula [4] is 4 and j is 4.

上記一般式[4]において、MがAlである場合、iは3であり、jは0〜3である。jが0の場合の化合物としては、アルミニウムアルコキシドが挙げられ、具体的には、例えば、アルミニウムエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム−n−ブトキシド、アルミニウム−sec−ブトキシド、アルミニウム−tert−ブトキシドが挙げられる。jが1の場合の化合物としては、例えば、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート、アルミニウムジノルマルブトキシモノエチルアセトアセテート等が挙げられる。jが3の場合の化合物としては、例えば、アルミニウムトリスアセチルアセトナート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネート等が挙げられる。これらのなかでは、R13Al(Zで表されるアルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート、アルミニウムジノルマルブトキシモノエチルアセトアセテート等が好ましい。 In the general formula [4], when M is Al, i is 3 and j is 0 to 3. Examples of the compound in the case where j is 0 include aluminum alkoxides, and specific examples include aluminum ethoxide, aluminum isopropoxide, aluminum-n-butoxide, aluminum-sec-butoxide, and aluminum-tert-butoxide. Can be mentioned. Examples of the compound when j is 1 include aluminum ethyl acetoacetate diisopropylate, aluminum dinormal butoxy monoethyl acetoacetate and the like. Examples of the compound in the case where j is 3 include aluminum trisacetylacetonate, aluminum trisethylacetoacetate, aluminum bisethylacetoacetate / monoacetylacetonate, and the like. Among these, aluminum ethyl acetoacetate / diisopropylate represented by R 13 Al (Z 3 ) 2 , aluminum dinormalbutoxy monoethyl acetoacetate and the like are preferable.

上記一般式[3]において、MがTiである場合、hは4である。gが0の場合の化合物としては、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラn−プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラn−ブトキシチタン、テトライソブトキシチタン等が挙げられる。gが2の場合の化合物としては、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトネート)チタン、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン等が挙げられる。   In the above general formula [3], h is 4 when M is Ti. Examples of the compound when g is 0 include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra n-propoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, tetra n-butoxy titanium, and tetraisobutoxy titanium. Examples of the compound when g is 2 include diisopropoxybis (acetylacetonate) titanium, diisopropoxybis (ethylacetoacetate) titanium and the like.

また、上記で例示した金属酸化物前駆体の加水分解物としてはそれらの一部又は全部が加水分解したものが挙げられる。また、上記で例示した金属酸化物前駆体の縮合物としてはそれらの一部が縮合したものが挙げられる。   In addition, examples of the hydrolyzate of the metal oxide precursor exemplified above include those obtained by hydrolyzing part or all of them. Examples of the condensate of the metal oxide precursors exemplified above include those obtained by condensing some of them.

(4)酸又は塩基について
上記の酸又は塩基は、一般式[2]、[3]、[4]及び[6]で表される化合物の加水分解、及び重縮合反応を促進させるものであり、それ自身も防曇膜の一部となるものであってもよい。該酸としては、有機酸もしくは無機酸等が挙げられ、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、クエン酸、スルホン酸、マレイン酸等が挙げられ、それらの中でも塩酸、硝酸、酢酸がより好ましい。該塩基としては、アンモニア、n−ヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、n−オクチルアミン、n−ノニルアミン、n−デシルアミン、シクロヘキシルアミン、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミンが挙げられ、それらの中でもアンモニア、ピリジンが好ましい。また、上記酸又は塩基の添加量は、上記の加水分解、及び重縮合反応を促進させるのに有効な量であればよく、特に限定されるものではないが、加水分解性基1モル量に対して0.0001〜10モル量であることが好ましい。添加量が0.0001モル量未満の場合、加水分解、及び重縮合反応が不十分な場合があるため好ましくない。一方、10モル量を超える場合、得られる被膜にクラックが生じる場合や得られる被膜の耐加水分解性が悪い場合があるため好ましくない。上記酸又は塩基の添加量は、加水分解性基1モル量に対して0.001〜5モル量であることがより好ましい。また、酸を用いる場合のほうが塩基を用いる場合よりも、得られる防曇膜の表面硬度がより良好となる傾向があるため、酸を用いることがより好ましい。
(4) About acid or base The above acid or base promotes hydrolysis and polycondensation reaction of the compounds represented by the general formulas [2], [3], [4] and [6]. , Itself may be a part of the anti-fogging film. Examples of the acid include organic acids and inorganic acids, and examples include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid, citric acid, sulfonic acid, maleic acid, and the like, and among these, hydrochloric acid, nitric acid, and acetic acid are more preferable. Examples of the base include ammonia, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, cyclohexylamine, pyridine, piperidine, and triethylamine, and among them, ammonia and pyridine are preferable. . The amount of the acid or base added is not particularly limited as long as it is an amount effective for promoting the hydrolysis and polycondensation reactions, but it is limited to 1 mol amount of the hydrolyzable group. It is preferable that it is 0.0001-10 mol amount with respect to it. When the addition amount is less than 0.0001 molar amount, hydrolysis and polycondensation reaction may be insufficient, which is not preferable. On the other hand, when the amount exceeds 10 mol, it is not preferable because cracks may be generated in the resulting coating or the hydrolysis resistance of the resulting coating may be poor. The addition amount of the acid or base is more preferably 0.001 to 5 mol relative to 1 mol of the hydrolyzable group. Moreover, since the surface hardness of the obtained anti-fogging film tends to be better when the acid is used than when the base is used, it is more preferable to use the acid.

(5)溶媒について
上記の溶媒は、例えば、水、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、シクロヘキサノール、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。相溶性、安全性の観点からエチルアルコールが好ましい。また、複数の溶媒を用いて混合溶媒としてもよい。
(5) Solvent Examples of the solvent include water, methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, butanol, ethylene glycol, 1,2-propanediol, cyclohexanol, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide and the like. It is done. From the viewpoints of compatibility and safety, ethyl alcohol is preferred. Moreover, it is good also as a mixed solvent using a some solvent.

(6)その他の原料について
本発明の防曇膜形成用塗布液の原料として、さらに、四級アンモニウム塩又は四級ホスホニウム塩を混合してもよい。該四級アンモニウム塩又は四級ホスホニウム塩は、上記の一般式[1]で表される共重合体のカルボキシル基と、上記のエポキシ基含有シラン化合物のエポキシ基との架橋反応を促進させるものであり、それ自身も防曇膜の一部となるものであってもよい。
(6) Other raw materials As a raw material of the coating solution for forming an antifogging film of the present invention, a quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt may be further mixed. The quaternary ammonium salt or quaternary phosphonium salt promotes a crosslinking reaction between the carboxyl group of the copolymer represented by the general formula [1] and the epoxy group of the epoxy group-containing silane compound. Yes, it may itself be a part of the antifogging film.

四級アンモニウム塩としては、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、トリメチルセチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミド、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド等が挙げられる。また、四級ホスホニウム塩としては、テトラブチルホスホニウムブロミド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド、メチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラパラメチルフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、及びテトラブチルホスホニウムデカン酸塩等が挙げられる。それらの中でも、耐熱性、上記架橋反応促進効果が良好な、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド等が好ましい。   Examples of the quaternary ammonium salt include triethylbenzylammonium chloride, trimethylcetylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, trimethylbenzylammonium chloride and the like. The quaternary phosphonium salts include tetrabutylphosphonium bromide, butyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium bromide, methyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetraparamethyl. Examples thereof include phenyl borate, tetraphenylphosphonium thiocyanate, and tetrabutylphosphonium decanoate. Among them, ethyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, and the like, which are excellent in heat resistance and the effect of promoting the crosslinking reaction, are preferable.

上記四級アンモニウム塩又は四級ホスホニウム塩は、上記エポキシ基含有シラン化合物1モル量に対して0.1〜10モル量添加することが好ましい。該添加量が0.1モル量未満の場合、上記架橋反応促進効果が小さい傾向があり、得られる防曇膜の表面硬度、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性が低くなる場合がある。一方、該添加量が10モル量を超えても架橋反応促進効果はあまり変化せず、コストの面から好ましくない。   The quaternary ammonium salt or quaternary phosphonium salt is preferably added in an amount of 0.1 to 10 moles per mole of the epoxy group-containing silane compound. When the addition amount is less than 0.1 mol, the crosslinking reaction promoting effect tends to be small, and the surface hardness, heat resistance, acid resistance, and alkali resistance of the resulting antifogging film may be lowered. On the other hand, even if the added amount exceeds 10 mol, the crosslinking reaction promoting effect does not change so much, which is not preferable from the viewpoint of cost.

本発明の防曇膜形成用塗布液の原料として、さらに、硬化剤を含んでもよい。該硬化剤は、エポキシ基の反応を促進し、後述する硬化工程で塗膜の硬化を促進するものであり、それ自身も防曇膜の一部となるものであってもよい。上記硬化剤としては、アミン化合物、イミダゾール化合物、有機金属化合物などが挙げられる。また、複数の硬化剤を添加してもよい。上記硬化剤の中でも、エポキシ基の反応性促進効果、硬化後の防曇膜の耐熱性、表面硬度が良好となるため、ポリオキシアルキレントリアミン(例えば、三井化学ファイン株式会社製の商品名「T403」等)、ポリオキシアルキレンジアミン(例えば、三井化学ファイン株式会社製の商品名「D230」等)や、硬化工程で塗膜の硬化を良好に促進する、ジブチルスズジアセテート、ビス(アセトキシジブチルスズ)オキサイド、ジブチルスズビス(アセチルアセトナート)、ジブチルスズビス(マレイン酸モノブチルエステル)、ジオクチルスズビス(マレイン酸モノブチルエステル)、ジイソプロポキシチタンビス(アセチルアセトナート)、チタンテトラ(アセチルアセトナート)、ジオクタノキシチタンジオクタネート、ジイソプロポキシチタンビス(エチルアセトアセテート)等が好ましい。   The raw material of the coating solution for forming an antifogging film of the present invention may further contain a curing agent. The curing agent accelerates the reaction of the epoxy group and accelerates the curing of the coating film in the curing step described later, and may itself be a part of the antifogging film. Examples of the curing agent include amine compounds, imidazole compounds, and organometallic compounds. A plurality of curing agents may be added. Among the above curing agents, polyoxyalkylene triamine (for example, trade name “T403 manufactured by Mitsui Chemicals Fine Co., Ltd.” is obtained because the epoxy group reactivity promoting effect, the heat resistance of the antifogging film after curing, and the surface hardness are improved. , Etc.), polyoxyalkylene diamines (for example, trade name “D230” manufactured by Mitsui Chemicals Fine Co., Ltd.), and dibutyltin diacetate and bis (acetoxydibutyltin) oxide that favorably accelerate the curing of the coating film in the curing process , Dibutyltin bis (acetylacetonate), dibutyltin bis (maleic acid monobutyl ester), dioctyltin bis (maleic acid monobutyl ester), diisopropoxytitanium bis (acetylacetonate), titanium tetra (acetylacetonate), diocta Noxytitanium dioctanoate, diisotop Pokishichitanbisu (ethylacetoacetate) and the like are preferable.

また、本発明の防曇膜形成用塗布液の原料として、さらに、微粒子を含んでもよい。無機微粒子や有機物微粒子等の微粒子成分を含有させると、得られる防曇膜中に該微粒子成分が存在することにより、仮に、防曇膜表面の一部に付着した液体の汚染物質が、該膜中に吸収されて取り込まれた状態となったとしても、汚染物質が付着した部分の膜膨張が抑制されるため、付着しなかった部分との間で膜厚差が大きくなりにくいので、結果として視覚的なひずみを生じにくくなるため好ましい。上記微粒子は、液中に均一分散されたコロイド状のものが好ましく、例えば、日産化学社製の「メタノールシリカゾル」、「MA−ST−MS」、「IPA−ST」、「IPA−ST−MS」、「IPA−ST−L」、「IPA−ST−ZL」、「IPA−ST−UP」、「EG−ST」、「NPC−ST−30」、「MEK−ST」、「MEK−ST−MS」、「MIBK−ST」、「XBA−ST」、「PMA−ST」、「DMAC−ST」、「ST−20」、「ST−30」、「ST−40」、「ST−C」、「ST−N」、「ST−O」、「ST−S」、「ST−50」、「ST−20L」、「ST−OL」、「ST−XS」、「ST−XL」、「ST−YL」、「ST−ZL」、「QAS−40」、「LSS−35」、「LSS−45」、「ST−UP」、「ST−OUP」、「ST−AK」、ADEKA社製の「AT−20」、「AT−30」、「AT−40」、「AT−50」、「AT−20N」、「AT−20A」、「AT−30A」、「AT−20Q」、「AT−300」、「AT−300S」、扶桑化学工業製の「PL−1」、「PL−3」、「PL−70」、「PL−20」、「PL−1−PA」、「PL−1−MA」等が挙げられる。上記微粒子はBET法により、粒子径を測定することで得られる平均粒径が、5〜100nmであることが好ましい。5nm未満では膜膨張の低減効果が小さくなる傾向があるため好ましくない。100nm超では光の散乱中心として働き、膜のヘイズが増大する傾向があるため好ましくない。より好ましくは10〜80nmである。また、防曇膜中に含有させる微粒子は、防曇膜の固形分100質量部に対して固形分で50質量部以下となるように含有させることが好ましい。50質量部超であると得られる防曇膜の吸水量が低下する傾向があるため好ましくない。微粒子のより好ましい含有量は、防曇膜の固形分100質量部に対して固形分で3〜30質量部である。   Further, the raw material of the coating solution for forming an antifogging film of the present invention may further contain fine particles. When fine particle components such as inorganic fine particles and organic fine particles are contained, the presence of the fine particle components in the resulting anti-fogging film may cause liquid contaminants attached to a part of the anti-fogging film surface. Even if it is absorbed and taken in, the film expansion of the part to which the contaminant has adhered is suppressed, so the difference in film thickness from the part to which the substance has not adhered is difficult to increase. This is preferable because visual distortion is less likely to occur. The fine particles are preferably colloidal particles uniformly dispersed in the liquid. For example, “Methanol Silica Sol”, “MA-ST-MS”, “IPA-ST”, “IPA-ST-MS” manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. ”,“ IPA-ST-L ”,“ IPA-ST-ZL ”,“ IPA-ST-UP ”,“ EG-ST ”,“ NPC-ST-30 ”,“ MEK-ST ”,“ MEK-ST ” -MS "," MIBK-ST "," XBA-ST "," PMA-ST "," DMAC-ST "," ST-20 "," ST-30 "," ST-40 "," ST-C ”,“ ST-N ”,“ ST-O ”,“ ST-S ”,“ ST-50 ”,“ ST-20L ”,“ ST-OL ”,“ ST-XS ”,“ ST-XL ”, "ST-YL", "ST-ZL", "QAS-40", "LSS-35", "LSS- 5, “ST-UP”, “ST-OUP”, “ST-AK”, “AT-20”, “AT-30”, “AT-40”, “AT-50”, “AT-50” manufactured by ADEKA “AT-20N”, “AT-20A”, “AT-30A”, “AT-20Q”, “AT-300”, “AT-300S”, “PL-1”, “PL-3” manufactured by Fuso Chemical Industries, Ltd. ”,“ PL-70 ”,“ PL-20 ”,“ PL-1-PA ”,“ PL-1-MA ”, and the like. The fine particles preferably have an average particle size of 5 to 100 nm obtained by measuring the particle size by the BET method. If it is less than 5 nm, the effect of reducing the film expansion tends to be small, such being undesirable. If it exceeds 100 nm, it functions as a light scattering center and tends to increase the haze of the film, which is not preferable. More preferably, it is 10-80 nm. Moreover, it is preferable to contain the microparticles | fine-particles contained in an antifogging film so that it may become 50 mass parts or less by solid content with respect to 100 mass parts of solid content of an antifogging film. If it exceeds 50 parts by mass, the water absorption of the resulting antifogging film tends to decrease, such being undesirable. A more preferable content of the fine particles is 3 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the antifogging film.

また、本発明の防曇膜形成用塗布液には、本発明の目的を損なわない限りにおいて、公知の界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、赤外線吸収剤、難燃剤、加水分解防止剤、防黴剤、酸化物微粒子などの無機微粒子、有機物微粒子等の成分が含有されていてもよい。また、本発明の防曇膜形成用塗布液は、原料として、レベリング剤を含んでもよい。レベリング剤を含有させると、防曇膜形成用塗布液を基材に塗布した際に塗膜の表面平滑性が向上するため、その結果得られる被膜の表面も平滑なものとしやすい。このように、表面が平滑な被膜であると、表面硬度を評価する際に膜表面に引っ掛かりが少ないため、より優れた表面硬度を達成できる場合がある。上記レベリング剤としては、シリコン系表面調整剤、アクリル系表面調整剤等が挙げられるが、例えば、ビックケミー・ジャパン製のBYK306,BYK307,BYK333,BYK337,BYK345,BYK346,BYK347等が挙げられ、それらの中でもBYK306,BYK307,BYK333等のシリコン系表面調整剤が好ましい。上記の成分は、元々、原料である、一般式[1]で表される共重合体や、エポキシ基含有シラン化合物や、一般式[3]で表される化合物及び一般式[4]で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物前駆体、該金属酸化物前駆体の加水分解物、及び該金属酸化物前駆体の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つや、酸又は塩基や、溶媒に含まれるものであってもよいし、防曇膜形成用塗布液準備工程やその後の操作において添加されたものであってもよいが、反応に影響を及ぼさないように防曇膜形成用塗布液準備工程やその後の操作において添加されたものであることが好ましい。   Further, the coating solution for forming an antifogging film of the present invention includes a known surfactant, antioxidant, ultraviolet absorber, light stabilizer, infrared absorber, flame retardant, and the like, as long as the object of the present invention is not impaired. Components such as an antihydrolysis agent, an antifungal agent, inorganic fine particles such as oxide fine particles, and organic fine particles may be contained. Further, the coating solution for forming an antifogging film of the present invention may contain a leveling agent as a raw material. When the leveling agent is contained, the surface smoothness of the coating film is improved when the antifogging film-forming coating solution is applied to the substrate, so that the surface of the coating film obtained as a result is easily smooth. Thus, when the surface is a smooth coating, there is little catching on the surface of the film when evaluating the surface hardness, and thus a more excellent surface hardness may be achieved. Examples of the leveling agent include a silicon-based surface conditioner and an acrylic-based surface conditioner. For example, BYK306, BYK307, BYK333, BYK337, BYK345, BYK346, BYK347, and the like manufactured by BYK Chemie Japan are listed. Of these, silicon-based surface conditioners such as BYK306, BYK307, and BYK333 are preferable. The above components are originally represented by the copolymer represented by the general formula [1], the epoxy group-containing silane compound, the compound represented by the general formula [3], and the general formula [4]. At least one metal oxide precursor selected from the group consisting of the above compounds, at least one selected from the group consisting of hydrolysates of the metal oxide precursors, and condensates of the metal oxide precursors, It may be contained in an acid or base or a solvent, or may be added in the coating solution preparation step for forming an antifogging film or in a subsequent operation, so as not to affect the reaction. It is preferable that it is added in the coating liquid preparation process for antifogging film formation and subsequent operation.

(7)防曇膜形成用塗布液準備工程の条件について
防曇膜形成用塗布液準備工程において、上述した原料を混合する際の条件は特に限定されないが、混合液の液温は0℃以上、溶媒の沸点以下で行われることが好ましく、密閉容器内で行う場合は、加圧状態となってもよく、その場合の液温の上限は溶媒の沸点+20℃であってもよい。なお上記の溶媒の沸点は、該溶媒が混合溶媒である場合は、混合溶媒の中で含有量が最も多い溶媒の沸点を意味する。上記の混合時間は特に限定されないが、1分間〜24時間程度行うのが好ましい。
(7) About conditions of coating liquid preparation process for antifogging film formation In the coating liquid preparation process for antifogging film formation, the conditions at the time of mixing the raw material mentioned above are not specifically limited, The liquid temperature of a liquid mixture is 0 degreeC or more. It is preferably carried out at a temperature equal to or lower than the boiling point of the solvent. When it is carried out in a closed container, it may be in a pressurized state. In addition, the boiling point of said solvent means the boiling point of the solvent with most content in a mixed solvent, when this solvent is a mixed solvent. Although said mixing time is not specifically limited, It is preferable to carry out for about 1 minute-24 hours.

防曇膜形成用塗布液準備工程において、原料として、少なくとも、
(i)上記一般式[1]で表される共重合体と、
(ii)上記一般式[2]で表されるエポキシ基含有シラン化合物と、
(iii)上記一般式[3]で表される化合物及び上記一般式[4]で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物前駆体、該金属酸化物前駆体の加水分解物、及び該金属酸化物前駆体の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つと、
(iv)酸又は塩基と、
(v)溶媒とを、
(i)〜(iii)の総量100質量%に対して、
(i)10〜80質量%、(ii)5〜60質量%、(iii)3〜80質量%の割合で混合して防曇膜形成用塗布液を調製する。
(i)〜(iii)の総量100質量%に対して、
(i)が10質量%未満では防曇膜の防曇性が不足してしまう。
(i)が80質量%超では防曇膜の表面硬度が不足してしまう。
(i)は好ましくは25〜75質量%である。
(ii)が5質量%未満では防曇膜の表面硬度が不足してしまう。
(ii)が60質量%超では防曇膜の表面硬度又は防曇性が不足してしまう。
(ii)は好ましくは10〜50質量%である。
(iii)が3質量%未満では防曇膜の表面硬度が不足してしまう。
(iii)が80質量%超では防曇膜の防曇性が不足してしまう。
(iii)は好ましくは5〜70質量%である。
In the coating solution preparation step for forming the antifogging film, as a raw material, at least,
(I) a copolymer represented by the above general formula [1];
(Ii) an epoxy group-containing silane compound represented by the general formula [2],
(Iii) At least one metal oxide precursor selected from the group consisting of the compound represented by the general formula [3] and the compound represented by the general formula [4], and hydrolysis of the metal oxide precursor At least one selected from the group consisting of a decomposition product and a condensate of the metal oxide precursor;
(Iv) an acid or base;
(V) a solvent,
For a total amount of 100% by mass of (i) to (iii),
A coating solution for forming an antifogging film is prepared by mixing at a ratio of (i) 10 to 80% by mass, (ii) 5 to 60% by mass, and (iii) 3 to 80% by mass.
For a total amount of 100% by mass of (i) to (iii),
When (i) is less than 10% by mass, the antifogging property of the antifogging film is insufficient.
When (i) exceeds 80% by mass, the surface hardness of the antifogging film is insufficient.
(I) is preferably 25 to 75% by mass.
When (ii) is less than 5% by mass, the surface hardness of the antifogging film is insufficient.
When (ii) exceeds 60% by mass, the surface hardness or antifogging property of the antifogging film is insufficient.
(Ii) is preferably 10 to 50% by mass.
When (iii) is less than 3% by mass, the surface hardness of the antifogging film is insufficient.
When (iii) exceeds 80% by mass, the antifogging property of the antifogging film is insufficient.
(Iii) is preferably 5 to 70% by mass.

また、上記の防曇膜形成用塗布液準備工程の後、防曇膜形成用塗布液塗布工程の前において、塗布液を、濃縮すること、又は、さらに溶媒を添加することにより、該塗布液の固形分濃度及び粘度を調整する操作を行ってもよい。   In addition, after the above-described antifogging film forming coating liquid preparation step and before the antifogging film forming coating liquid coating step, the coating liquid is concentrated or further added with a solvent, whereby the coating liquid is added. You may perform operation which adjusts solid content concentration and viscosity of.

上記の固形分濃度及び粘度を調整するために、さらに添加する溶媒は、上記の防曇膜形成用塗布液準備工程で記載したものと同様のものであってもよい。   In order to adjust the solid content concentration and the viscosity, the solvent to be added may be the same as described in the coating solution preparation step for forming the antifogging film.

上記の防曇膜形成用塗布液準備工程後の操作で、固形分濃度及び粘度が調整された防曇膜形成用塗布液が得られる。防曇膜形成用塗布液の固形分濃度は10〜60質量%であることが好ましい。該固形分濃度範囲内であると、防曇膜を形成した際に、該防曇膜の膜厚を制御しやすい。また、防曇膜形成用塗布液の粘度は、例えばJIS Z 8803に準拠した測定方法において、25℃での粘度が20〜200mPa・sであることが好ましい。該粘度範囲内であると、後述する防曇膜形成用塗布液塗布工程の際に、塗膜のレベリング性が良好で、その結果、成膜性が良好である。なお、上記の防曇膜形成用塗布液準備工程後の操作で行われることのある濃縮としては、加熱濃縮、脱気濃縮等の公知の方法が挙げられる。なお、上記の防曇膜形成用塗布液準備工程で、上述のような固形分濃度及び粘度の防曇膜形成用塗布液が得られる場合は、その後の、濃縮すること、又は、さらに溶媒を添加することにより固形分濃度及び粘度を調整する操作を省略しても構わない。   By the operation after the above-described coating solution preparation step for forming an antifogging film, a coating solution for forming an antifogging film whose solid content concentration and viscosity are adjusted is obtained. It is preferable that the solid content concentration of the coating solution for forming an antifogging film is 10 to 60% by mass. When the solid content is within the range, the film thickness of the antifogging film can be easily controlled when the antifogging film is formed. The viscosity of the coating solution for forming an antifogging film is preferably 20 to 200 mPa · s at 25 ° C. in a measuring method based on, for example, JIS Z 8803. When the viscosity is within the range, the leveling property of the coating film is good in the coating solution coating step for forming an antifogging film, which will be described later, and as a result, the film forming property is good. In addition, well-known methods, such as heating concentration and deaeration concentration, are mentioned as concentration which may be performed by operation after said coating liquid preparation process for anti-fogging film formation. In addition, when the coating solution for forming an antifogging film having the above-described solid content concentration and viscosity is obtained in the coating solution forming process for forming an antifogging film, the subsequent concentration or further solvent is used. You may abbreviate | omit the operation which adjusts solid content concentration and a viscosity by adding.

2.防曇膜形成用塗布液塗布工程
本発明の防曇性物品は、基材と、該基材の表面に形成された防曇膜を有する防曇性物品であり、少なくとも、上述したような組成の防曇膜形成用塗布液を準備する、防曇膜形成用塗布液準備工程、基材表面に上記防曇膜形成用塗布液を塗布する、防曇膜形成用塗布液塗布工程、上記防曇膜形成用塗布液塗布工程後の塗膜を過熱蒸気に曝すことにより硬化する、硬化工程を経て得られたものである。本発明の防曇膜は基材との密着性が良好であるため、予め基材にプライマー層を設ける必要は無いため、構成を簡略化できるという利点がある。ただし、上記の防曇性物品は、基材とその表面に形成されたプライマー層、及び該プライマー層表面に形成された防曇膜を有する防曇性物品であってもよく、少なくとも、基材表面にシランカップリング剤からなるプライマー層を形成する、プライマー層形成工程、上記防曇膜形成用塗布液を上記プライマー層上に塗布する、防曇膜形成用塗布液塗布工程、上記防曇膜形成用塗布液塗布工程後の塗膜を過熱蒸気に曝すことにより硬化する、硬化工程を経て得られたものであってもよい。
2. The antifogging article of the present invention is an antifogging article having a base material and an antifogging film formed on the surface of the base material, and at least the composition as described above. An antifogging film forming coating solution, an antifogging film forming coating solution preparing step, applying the antifogging film forming coating solution onto the substrate surface, an antifogging film forming coating solution step, It is obtained through a curing process in which the coating film after the coating liquid coating process for forming a cloudy film is cured by exposure to superheated steam. Since the anti-fogging film of the present invention has good adhesion to the base material, there is no need to previously provide a primer layer on the base material, which has the advantage that the configuration can be simplified. However, the antifogging article may be an antifogging article having a base material, a primer layer formed on the surface of the base material, and an antifogging film formed on the surface of the primer layer. Forming a primer layer comprising a silane coupling agent on the surface, forming a primer layer, applying the antifogging film forming coating liquid on the primer layer, applying an antifogging film forming liquid, and the antifogging film It may be obtained through a curing step in which the coating film after the forming coating solution coating step is cured by exposure to superheated steam.

上記基材としては、光透過性、光反射性又は光沢性を有し、曇りにより著しく視認性、外観、意匠性が損なわれるものが挙げられる。   Examples of the substrate include those having light transmittance, light reflectivity, or glossiness, and the visibility, appearance, and design properties are significantly impaired by fogging.

光透過性を有する代表的な基材としてはガラスが挙げられる。該ガラスは自動車用ならびに建築用、産業用ガラス等に通常用いられている板ガラスであり、フロート法、デュープレックス法、ロールアウト法等による板ガラスであって、製法は特に問わない。ガラス種としては、クリアをはじめグリーン、ブロンズ等の各種着色ガラスやUV、IRカットガラス、電磁遮蔽ガラス等の各種機能性ガラス、網入りガラス、低膨張ガラス、ゼロ膨張ガラス等防火ガラスに供し得るガラス、強化ガラスやそれに類するガラス、合わせガラスのほか複層ガラス等が挙げられる。また、上記板ガラス以外に、例えば、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルム、ポリカーボネート、アクリル等の樹脂板等を挙げることもできる。   As a typical base material having optical transparency, glass is used. The glass is a plate glass usually used for automobiles, architectural and industrial glasses, and is a plate glass by a float method, a duplex method, a roll-out method, etc., and the production method is not particularly limited. As glass types, it can be used for various colored glasses such as clear, green and bronze, various functional glasses such as UV, IR cut glass and electromagnetic shielding glass, netted glass, low expansion glass, zero expansion glass and fireproof glass. Examples thereof include glass, tempered glass, glass similar to them, laminated glass, and multilayer glass. In addition to the above plate glass, for example, a resin film such as polyethylene terephthalate, a resin plate such as polycarbonate and acrylic, and the like can also be mentioned.

また、光反射性を有する代表的な基材としては、鏡、金属、金属メッキされた物品等が挙げられる。   Moreover, as a typical base material having light reflectivity, a mirror, a metal, a metal-plated article, and the like can be given.

また、光沢性を有する代表的な基材としては、金属、金属メッキされた物品、セラミックス等が挙げられる。   Moreover, as a typical base material having gloss, a metal, a metal-plated article, ceramics, and the like can be given.

上記の基材には、平板、曲げ板等各種の成形体を使用できる。板厚は特に制限されないが、1.0mm以上10mm以下が好ましく、例えば車両用の窓材としては1.0mm以上5.0mm以下が好ましい。また、上記の基材は予め洗浄し、乾燥することにより表面を清浄な状態にしたものが好ましい。   Various molded bodies, such as a flat plate and a bending board, can be used for said base material. The plate thickness is not particularly limited, but is preferably 1.0 mm or more and 10 mm or less. For example, the window material for a vehicle is preferably 1.0 mm or more and 5.0 mm or less. In addition, it is preferable that the base material is cleaned in advance and dried to have a clean surface.

上記プライマー層を形成する化合物としては、例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。   Examples of the compound forming the primer layer include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N Examples include silane coupling agents such as 2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.

上記防曇膜形成用塗布液塗布工程で、上記基材上に上記防曇膜形成用塗布液を塗布する方法としては、ディップコート、フローコート、スピンコート、ロールコート、スプレーコート、ノズルコート、スクリーン印刷、フレキソ印刷、手塗り法、インクジェット法等の公知の方法が挙げられる。   As a method of applying the antifogging film forming coating liquid on the substrate in the antifogging film forming coating liquid coating step, dip coating, flow coating, spin coating, roll coating, spray coating, nozzle coating, Known methods such as screen printing, flexographic printing, hand-coating method, ink jet method and the like can be mentioned.

上記防曇膜形成用塗布液塗布工程の後、硬化工程の前に、基材を10〜300℃の温度で保持し、上記塗膜を予め乾燥してタックフリーの状態にしてもよい。以降、この工程を「乾燥工程」と記載する。乾燥工程によって塗膜がタックフリーの状態であると、後工程の硬化工程で基材を過熱蒸気に曝した際に、結露により塗膜表面に水滴が付着したとしても、得られる被膜の平滑性が損なわれ難いため好ましい。さらには、上記の乾燥工程で基材の表面温度を100℃以上にしてから、硬化工程で基材を過熱蒸気に曝すと、塗膜表面に結露を生じ難くなるためより好ましい。ただし、上記乾燥工程を300℃超の温度で行うと、上記防曇膜を形成する材料自体が劣化する場合があるため好ましくない。   The substrate may be held at a temperature of 10 to 300 ° C. after the coating solution coating step for forming the antifogging film and before the curing step, and the coating film may be dried in advance to be in a tack-free state. Hereinafter, this process is referred to as “drying process”. If the coating film is tack-free by the drying process, even if water droplets adhere to the coating film surface due to condensation when the substrate is exposed to superheated steam in the subsequent curing process, the smoothness of the coating film obtained Is preferable because it is difficult to damage. Furthermore, it is more preferable that the surface temperature of the substrate is raised to 100 ° C. or higher in the drying step and then the substrate is exposed to superheated steam in the curing step because condensation hardly occurs on the coating film surface. However, it is not preferable to perform the drying step at a temperature higher than 300 ° C. because the material itself forming the antifogging film may be deteriorated.

乾燥工程は実験室環境下で保持して行ってもよいし、加熱環境下で保持して行ってもよい。加熱方法は特に限定されないが、例えば、熱風循環炉内で加熱する方法、赤外線による加熱、マイクロ波による加熱等が挙げられ、これらを組み合わせても良い。また、後工程の硬化工程で用いられる装置と同一の装置内で乾燥工程を実施してもよい。乾燥工程と硬化工程を連続的に行う方法であれば、乾燥工程で加熱した場合の基材の表面温度を維持したままで硬化工程に移ることが容易である。   The drying step may be performed while being held in a laboratory environment or may be performed while being held in a heating environment. The heating method is not particularly limited, and examples thereof include a method of heating in a hot air circulating furnace, heating by infrared rays, heating by microwaves, and the like, and these may be combined. Moreover, you may implement a drying process in the apparatus same as the apparatus used by the hardening process of a post process. If it is the method of performing a drying process and a hardening process continuously, it will be easy to transfer to a hardening process, maintaining the surface temperature of the base material at the time of heating at a drying process.

3.硬化工程
上記硬化工程で塗膜を硬化する方法は、塗膜を過熱蒸気に曝す方法である。過熱蒸気としては、水や、水とアルコールの混合液等の液体をその沸点(混合液の場合は共沸点)以上に加熱して生成させたものを用いることができる。その中でも、安全性、環境負荷の観点から過熱水蒸気が好ましい。基材の温度や、塗膜表面に接触させる蒸気の量が安定しやすいため、硬化工程をチャンバー内で行うことが好ましい。過熱蒸気の温度は100〜300℃が好ましい。100℃未満では硬化速度が遅く、硬化に時間が掛かる傾向があるため好ましくない。一方、300℃超では上記防曇膜を形成する材料自体が劣化する場合があるため好ましくない。より好ましくは100〜200℃である。また、供給する過熱蒸気の圧力は大気圧〜0.5MPaであることが好ましく、大気圧〜0.2MPaであることがより好ましい。
3. Curing Step The method of curing the coating film in the curing step is a method of exposing the coating film to superheated steam. As the superheated steam, it is possible to use water or a liquid such as a mixed liquid of water and alcohol heated to a boiling point or higher (equal boiling point in the case of a mixed liquid). Among these, superheated steam is preferable from the viewpoint of safety and environmental load. Since the temperature of the base material and the amount of vapor to be brought into contact with the coating surface are likely to be stable, it is preferable to perform the curing step in the chamber. The temperature of the superheated steam is preferably 100 to 300 ° C. If it is less than 100 ° C., the curing rate is slow and the curing tends to take time, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 300 ° C., the material for forming the antifogging film itself may deteriorate, which is not preferable. More preferably, it is 100-200 degreeC. Further, the pressure of the superheated steam to be supplied is preferably from atmospheric pressure to 0.5 MPa, and more preferably from atmospheric pressure to 0.2 MPa.

4.防曇性物品
本発明の防曇性物品の防曇膜の厚さは5〜100μmであることが好ましい。5μm未満であると、上記防曇膜に十分な吸水性能が付与されない傾向があり、好ましくない。一方、100μmを超えると、防曇膜に光学的な歪が生じ易くなることや、生産性が低下することがあるため、好ましくない。
4). Antifogging article The thickness of the antifogging film of the antifogging article of the present invention is preferably 5 to 100 µm. If it is less than 5 μm, there is a tendency that sufficient water absorption performance is not imparted to the antifogging film, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 100 μm, optical distortion is likely to occur in the antifogging film, and productivity may be lowered, which is not preferable.

本発明の防曇膜表面におけるJIS K 5600に基づく鉛筆硬度が3H以上であることが好ましい。3H以上であると防曇膜が実使用に耐えうる表面硬度を有しているといえる。より好ましくは4H以上である。   The pencil hardness based on JIS K 5600 on the antifogging film surface of the present invention is preferably 3H or more. If it is 3H or more, it can be said that the antifogging film has a surface hardness that can withstand actual use. More preferably, it is 4H or more.

本発明の防曇性物品の防曇膜の吸水飽和時の単位面積の吸水量が0.1〜5mg/cmであることが好ましい。該吸水量が上記範囲内であると、防曇膜が十分な吸水性能を有するため、該防曇膜を有する防曇性物品が十分な防曇性を発揮しやすい。また、防曇膜が良好な表面硬度を有しやすい。より好ましくは該吸水量が0.1〜3mg/cmである。 It is preferable that the water absorption of the unit area at the time of water absorption saturation of the antifogging film of the antifogging article of the present invention is 0.1 to 5 mg / cm 2 . When the amount of water absorption is within the above range, the antifogging film has sufficient water absorption performance, and thus the antifogging article having the antifogging film tends to exhibit sufficient antifogging properties. Further, the antifogging film tends to have good surface hardness. More preferably, the water absorption is 0.1 to 3 mg / cm 2 .

以下、実施例により本発明を具体的に説明する。なお、本実施例および比較例で得られた防曇性物品(以下、「サンプル」と記載する場合がある)は、以下に示す方法により品質評価を行った。   Hereinafter, the present invention will be described specifically by way of examples. In addition, quality evaluation was performed by the method shown below for the anti-fogging articles (hereinafter sometimes referred to as “samples”) obtained in the examples and comparative examples.

[防曇膜の膜厚]
触針式表面粗さ計(小坂研究所製、サーフコーダーET−4000A)を用いて、基材上に形成した防曇膜の膜厚を測定した。
[Thickness of anti-fogging film]
The film thickness of the antifogging film formed on the substrate was measured using a stylus type surface roughness meter (manufactured by Kosaka Laboratory, Surfcoder ET-4000A).

[鉛筆硬度]
JIS K 5600に準じて、防曇膜の鉛筆硬度を測定した。なお、鉛筆硬度は、最も軟らかい(低硬度)「6B」から、「6B、5B、4B、3B、2B、B、HB、F、H、2H、3H、4H、5H、6H、・・・」という順番でより硬い(より高硬度)のレベルが設定されており、該鉛筆硬度がより高いほど(より高硬度であるほど)表面硬度がより優れているといえる。特に、防曇膜の鉛筆硬度が3H以上であると、実使用に耐えうる表面硬度を有しているといえる。
[Pencil hardness]
The pencil hardness of the antifogging film was measured according to JIS K 5600. The pencil hardness is from the softest (low hardness) “6B” to “6B, 5B, 4B, 3B, 2B, B, HB, F, H, 2H, 3H, 4H, 5H, 6H,. In this order, the level of harder (higher hardness) is set, and it can be said that the higher the pencil hardness (the higher the hardness), the better the surface hardness. In particular, when the pencil hardness of the antifogging film is 3H or more, it can be said that the antifogging film has a surface hardness that can withstand actual use.

[35℃水蒸気防曇性]
35℃飽和水蒸気で満たされた槽の上部に、防曇膜面を前記槽に向けてサンプルを設置し、曇りが生じるまでの時間を測定した。防曇膜の防曇性と表面硬度をバランスよく両立する観点から、該試験において、曇りが生じるまでの時間が10〜40秒間であることが好ましい。
[35 ° C water vapor defogging]
A sample was placed on the top of a tank filled with 35 ° C. saturated steam with the antifogging film surface facing the tank, and the time until cloudiness occurred was measured. From the viewpoint of achieving a good balance between the antifogging property and the surface hardness of the antifogging film, it is preferable that the time until fogging is 10 to 40 seconds in the test.

[防曇膜の吸水飽和時の単位面積吸水量]
温度80℃の乾燥炉で2時間保持した後の防曇性物品の質量(a)を測定し、防曇膜に35℃飽和水蒸気を60分間接触させ、蒸気が暴露する全面に曇りを生じさせ、防曇膜を吸水飽和させた。その後、防曇膜表面の水滴を払拭した後に防曇性物品の質量(b)を測定した。「(b−a)/蒸気暴露面積」の計算式で得られた値を防曇膜の吸水飽和時の単位面積吸水量とした。尚、ここでの(a)値は、防曇膜が吸水していない状態のものに相当する。該単位面積の吸水量が0.1〜5mg/cmであれば、防曇性物品が十分な防曇性を発揮しやすく、防曇膜が良好な表面硬度を有しやすい。
[Unit area water absorption at the time of water absorption saturation of the anti-fogging film]
The mass (a) of the antifogging article after being held in a drying furnace at a temperature of 80 ° C. for 2 hours is measured, and 35 ° C. saturated water vapor is brought into contact with the antifogging film for 60 minutes to cause fogging on the entire surface exposed to the vapor. The antifogging film was saturated with water absorption. Then, after wiping off the water droplets on the antifogging film surface, the mass (b) of the antifogging article was measured. The value obtained by the calculation formula of “(b−a) / steam exposure area” was defined as the unit area water absorption at the time of water absorption saturation of the antifogging film. The value (a) here corresponds to that in a state where the antifogging film does not absorb water. If the water absorption of the unit area is 0.1 to 5 mg / cm 2 , the antifogging article tends to exhibit sufficient antifogging properties, and the antifogging film tends to have good surface hardness.

[実施例1]
(基材の準備)
基材として、厚さ3mm、100mm四方のフロートガラスを使用した。該基材表面をセリア微粒子で研磨し、ブラッシング洗浄を行い乾燥した。
(防曇膜形成用塗布液準備工程)
まず、上記一般式[1]で表される共重合体を合成した。N,N−ジエチルアクリルアミド(以降、「DEAA」と記載する場合がある)とアクリル酸(以降、「AA」と記載する場合がある)を原料として用い、モル比でDEAA/AA=1.4/1.0の割合で反応させ、重量平均分子量が90,000の共重合体(上記一般式[1]で表される共重合体)を得た。該共重合体において、一般式[1]のXで表される基は−C(=O)N(C基に相当し、Yで表される基はカルボキシル基に相当する。一般式[1]中のaとbは、−C(=O)N(C基を有する繰り返し構造単位とカルボキシル基を有する繰り返し構造単位の存在比率であり、原料として用いた−C(=O)N(C基を有するDEAAとカルボキシル基を有するAAのモル比によって算出することができ、a:b=1.4:1.0である。
次いで、上記の共重合体1.50gに対し、上記一般式[2]で表される化合物として3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(以降、「GPTMS」と記載することがある)を1.70g、上記一般式[3]で表される化合物としてテトラエトキシシラン(以降、「TEOS」と記載することがある)を1.04g、1N HNOを0.21g、四級ホスホニウム塩としてブチルトリフェニルホスホニウムブロミド(以降、「BTPPB」と記載することがある)を0.02g加え、溶媒としてメタノール(以降、「MeOH」と記載することがある)を4.30g加えて、密閉容器内で室温で2時間攪拌した。なお、(i)上記一般式[1]で表される共重合体と、(ii)上記一般式[2]で表されるエポキシ基含有シラン化合物と、(iii)上記一般式[3]で表される化合物の総量100質量%に対して、(i)は50質量%、(ii)は40質量%、(iii)は10質量%であった。また、(iv)は上記の塗布液中に含まれる加水分解性基を1モル量とすると0.005モル量であった。
更に、レベリング剤としてBYK333を0.08g加え、防曇膜形成用塗布液を調液した。得られた防曇膜形成用塗布液の固形分濃度は33質量%であり、25℃での粘度は、JIS Z 8803に準拠した測定方法において、80mPa・sであった。
(防曇膜形成用塗布液塗布工程〜硬化工程)
上記で調製した防曇膜形成用塗布液を、上記基材上にスピンコーティング法により塗布した。該基材を150℃に保持された電気炉に15分間入れ塗膜をタックフリーの状態にまで乾燥させた(乾燥工程)後、大気圧で180℃の過熱水蒸気に15分間曝し、塗膜を硬化させることにより防曇膜を形成させて防曇性物品を得た。
[Example 1]
(Preparation of base material)
As the substrate, float glass having a thickness of 3 mm and 100 mm square was used. The surface of the substrate was polished with ceria fine particles, washed by brushing and dried.
(Preparation process for coating solution for forming antifogging film)
First, a copolymer represented by the general formula [1] was synthesized. N, N-diethylacrylamide (hereinafter sometimes referred to as “DEAA”) and acrylic acid (hereinafter sometimes referred to as “AA”) are used as raw materials, and DEAA / AA = 1.4 in molar ratio. /1.0 to give a copolymer having a weight average molecular weight of 90,000 (copolymer represented by the above general formula [1]). In the copolymer, the group represented by X in the general formula [1] corresponds to a —C (═O) N (C 2 H 5 ) 2 group, and the group represented by Y corresponds to a carboxyl group. . A and b in the general formula [1] are abundance ratios of a repeating structural unit having a —C (═O) N (C 2 H 5 ) 2 group and a repeating structural unit having a carboxyl group, and were used as raw materials. -C (= O) N (C 2 H 5) can be calculated by the molar ratio of AA with DEAA a carboxyl group having 2 group, a: b = 1.4: 1.0.
Next, 1.70 g of 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane (hereinafter sometimes referred to as “GPTMS”) as the compound represented by the general formula [2] with respect to 1.50 g of the copolymer. 1.04 g of tetraethoxysilane (hereinafter sometimes referred to as “TEOS”) as the compound represented by the above general formula [3], 0.21 g of 1N HNO 3, and butyltriphenyl as the quaternary phosphonium salt Add 0.02 g of phosphonium bromide (hereinafter sometimes referred to as “BTPPB”), add 4.30 g of methanol (hereinafter sometimes referred to as “MeOH”) as a solvent, and in a sealed container at room temperature. Stir for 2 hours. In addition, (i) the copolymer represented by the general formula [1], (ii) the epoxy group-containing silane compound represented by the general formula [2], and (iii) the general formula [3] (I) was 50 mass%, (ii) was 40 mass%, and (iii) was 10 mass% with respect to 100 mass% of the total amount of the compound represented. Further, (iv) was 0.005 mol when the hydrolyzable group contained in the coating solution was 1 mol.
Further, 0.08 g of BYK333 was added as a leveling agent to prepare a coating solution for forming an antifogging film. The resulting antifogging film-forming coating solution had a solid content concentration of 33% by mass, and the viscosity at 25 ° C. was 80 mPa · s in the measuring method based on JIS Z 8803.
(Anti-fogging film forming coating solution coating process to curing process)
The coating solution for forming an antifogging film prepared above was applied onto the substrate by a spin coating method. The substrate was placed in an electric furnace maintained at 150 ° C. for 15 minutes, and the coating film was dried to a tack-free state (drying process), and then exposed to superheated steam at 180 ° C. for 15 minutes at atmospheric pressure. An antifogging film was formed by curing to obtain an antifogging article.

各実施例及び比較例について、防曇膜形成用塗布液と防曇性物品の作製条件を表1に、得られた防曇性物品の品質評価結果を表2に示す。   For each example and comparative example, Table 1 shows the coating solution for forming the antifogging film and the preparation conditions of the antifogging article, and Table 2 shows the quality evaluation results of the obtained antifogging articles.

Figure 2015107448
Figure 2015107448

Figure 2015107448
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[実施例2〜12]
実施例1で、防曇膜形成用塗布液準備工程で用いた一般式[1]で表される共重合体(該化合物のX基、Y基、a:b比、重量平均分子量)、一般式[2]で表されるエポキシ基含有シラン化合物、及びカルボキシル基1モル量に対するエポキシ基のモル量、金属酸化物前駆体、該金属酸化物前駆体の加水分解物、及び該金属酸化物前駆体の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つ、酸又は塩基、溶媒、及び、防曇膜の硬化工程の過熱蒸気温度を変更し、それ以外は実施例1と同様の操作で防曇性物品を作製し評価を行った。
[Examples 2 to 12]
A copolymer represented by the general formula [1] used in the coating solution preparation step for forming an antifogging film in Example 1 (X group, Y group, a: b ratio, weight average molecular weight of the compound), general The epoxy group-containing silane compound represented by the formula [2], the molar amount of the epoxy group relative to 1 molar amount of the carboxyl group, the metal oxide precursor, the hydrolyzate of the metal oxide precursor, and the metal oxide precursor At least one selected from the group consisting of condensates of the body, acid or base, solvent, and the superheated steam temperature in the curing process of the antifogging film were changed. Articles were prepared and evaluated.

なお、表中で、X基が「−C(=O)N(CH」で表される繰り返し構造は原料としてN,N−ジメチルアクリルアミドを用いて形成された構造であり、Y基が「−C(=O)OCO(C=O)CC(=O)OH」で表される繰り返し構造は原料としてこはく酸モノ(2−アクリロイルオキシエチル)を用いて形成された構造であり、「(ECH)ETMS」は2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランを意味し、「MTES」はメチルトリエトキシシランを意味し、「IPA」はイソプロピルアルコールを意味する。 In the table, the repeating structure in which the X group is represented by “—C (═O) N (CH 3 ) 2 ” is a structure formed using N, N-dimethylacrylamide as a raw material, and the Y group Is represented by “—C (═O) OC 2 H 4 O (C═O) C 2 H 4 C (═O) OH”, and succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) is used as a raw material. “(ECH) ETMS” means 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, “MTES” means methyltriethoxysilane, and “IPA” means isopropyl. Means alcohol.

[実施例13]
実施例1の防曇膜形成用塗布液の原料として四級ホスホニウム塩及びレベリング剤を用いず、得られた塗布液に対してさらにMeOHを添加して固形分濃度及び粘度を調整したこと以外は、実施例1と同様の操作で防曇性物品を作製し評価を行った。なお、得られた防曇膜形成用塗布液の固形分濃度は23質量%であり、25℃での粘度は、JIS Z 8803に準拠した測定方法において、60mPa・sであった。
[Example 13]
Except that the quaternary phosphonium salt and the leveling agent were not used as raw materials for the coating solution for forming the antifogging film of Example 1, and MeOH was further added to the resulting coating solution to adjust the solid content concentration and viscosity. An antifogging article was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. In addition, the solid content concentration of the obtained coating solution for forming an antifogging film was 23% by mass, and the viscosity at 25 ° C. was 60 mPa · s in the measuring method based on JIS Z 8803.

[実施例14]
実施例1の防曇膜形成用塗布液の原料として四級ホスホニウム塩を用いなかったこと以外は、実施例1と同様の操作で防曇性物品を作製し評価を行った。
[Example 14]
An antifogging article was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the quaternary phosphonium salt was not used as a raw material for the coating solution for forming the antifogging film of Example 1.

[実施例15]
実施例1の防曇膜形成用塗布液の原料としてレベリング剤を用いず、得られた塗布液に対してさらにMeOHを添加して固形分濃度及び粘度を調整したこと以外は、実施例1と同様の操作で防曇性物品を作製し評価を行った。なお、得られた防曇膜形成用塗布液の固形分濃度は23質量%であり、25℃での粘度は、JIS Z 8803に準拠した測定方法において、60mPa・sであった。
[Example 15]
Example 1 except that the leveling agent was not used as a raw material for the coating solution for forming an antifogging film of Example 1, and MeOH was further added to the resulting coating solution to adjust the solid content concentration and viscosity. An antifogging article was prepared and evaluated in the same manner. In addition, the solid content concentration of the obtained coating solution for forming an antifogging film was 23% by mass, and the viscosity at 25 ° C. was 60 mPa · s in the measuring method based on JIS Z 8803.

[比較例1]
上記一般式[1]で表される共重合体を用いなかった以外は実施例1と同様の操作で防曇性物品の作製を試み、評価を行った。得られた防曇性物品の防曇膜には部分的にクラックが発生していた。また、該防曇膜では、防曇性が確認できなかった。
[Comparative Example 1]
An antifogging article was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the copolymer represented by the general formula [1] was not used. Cracks were partially generated in the antifogging film of the obtained antifogging article. Moreover, antifogging property could not be confirmed with the antifogging film.

[比較例2]
上記一般式[1]で表される共重合体として、該化合物のa:bの比が0:1の化合物を用いた以外は実施例1と同様の操作で防曇性物品の作製を試み、評価を行った。得られた防曇性物品は、防曇性が不十分であった。
[Comparative Example 2]
Attempts were made to produce an antifogging article by the same operation as in Example 1 except that a compound having a ratio of a: b of the compound of 0: 1 was used as the copolymer represented by the general formula [1]. And evaluated. The resulting antifogging article was insufficient in antifogging properties.

[比較例3]
上記一般式[1]で表される共重合体として、該化合物のa:bの比が1:0の化合物を用いた以外は実施例1と同様の操作で防曇性物品の作製を試み、評価を行った。得られた防曇性物品の防曇膜は、鉛筆硬度が不十分であった。
[Comparative Example 3]
As the copolymer represented by the general formula [1], an antifogging article was prepared in the same manner as in Example 1 except that a compound having an a: b ratio of 1: 0 was used. And evaluated. The antifogging film of the obtained antifogging article had insufficient pencil hardness.

[比較例4]
上記一般式[2]で表されるエポキシ基含有シラン化合物を用いなかった以外は実施例1と同様の操作で防曇性物品の作製を試み、評価を行った。得られた防曇性物品の防曇膜は、鉛筆硬度が不十分であった。
[Comparative Example 4]
An antifogging article was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the epoxy group-containing silane compound represented by the general formula [2] was not used. The antifogging film of the obtained antifogging article had insufficient pencil hardness.

[比較例5]
上記一般式[3]で表される化合物を用いなかった以外は実施例1と同様の操作で防曇性物品の作製を試み、評価を行った。得られた防曇性物品の防曇膜は、鉛筆硬度が不十分であった。
[Comparative Example 5]
An antifogging article was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by the general formula [3] was not used. The antifogging film of the obtained antifogging article had insufficient pencil hardness.

[比較例6]
酸を用いなかった以外は実施例1と同様の操作で防曇性物品の作製を試みた。しかし、加水分解反応や重縮合反応が不十分であり、原料成分同士の相溶性が得られず、防曇膜形成用塗布液は不均一な液であった。得られた防曇性物品の被膜も白濁しており、品質評価することができなかった。
[Comparative Example 6]
An attempt was made to produce an antifogging article by the same operation as in Example 1 except that no acid was used. However, the hydrolysis reaction and the polycondensation reaction are insufficient, the compatibility of the raw material components is not obtained, and the coating solution for forming the antifogging film is a non-uniform solution. The film of the obtained anti-fogging article was also cloudy and could not be evaluated for quality.

[比較例7]
過熱蒸気による硬化を行なわず、乾燥工程後、電気炉中で180℃による加熱を15分間行った以外は実施例1と同様の操作で防曇性物品の作製を試みた。得られた防曇性物品の防曇膜は、鉛筆硬度が不十分であった。
[Comparative Example 7]
An attempt was made to produce an antifogging article by the same operation as in Example 1 except that the heating with 180 ° C. was carried out in an electric furnace for 15 minutes after the drying step without curing with superheated steam. The antifogging film of the obtained antifogging article had insufficient pencil hardness.

表1及び表2から明らかなように、上記で説明した組成の防曇膜形成用塗布液を用いるとともに、過熱蒸気による硬化を行った実施例1〜15では、得られる防曇性物品の防曇膜の防曇性及び表面硬度が優れていることがわかった。
また、防曇膜形成用塗布液のうち、酸又は塩基として、塩基(1N NH)を用いた実施例12よりも、酸(1N HNOや1N CHCOOH)を用いた実施例1及び実施例9のほうがより優れた表面硬度を有していることがわかった。
また、防曇膜形成用塗布液の原料として、四級ホスホニウム塩を用いなかった、実施例13、14よりも、四級ホスホニウム塩を用いた実施例1のほうがより優れた表面硬度を有していることがわかった。
また、防曇膜形成用塗布液の原料として、レベリング剤を用いなかった、実施例13、15よりも、レベリング剤を用いた実施例1のほうがより優れた表面硬度を有していることがわかった。
なお、実施例13、15では塗布液に対して希釈を行ったため、実施例1よりも固形分濃度が低く、粘度も小さいため、得られる防曇膜の膜厚も薄くなっており(10μm)、その結果、防曇性が低くなっているように見えるが、実施例1と同じ15μmの膜厚で換算すると、実施例13、15の防曇性は実施例1の防曇性と同程度である。
As is clear from Tables 1 and 2, in Examples 1 to 15 in which the coating solution for forming an antifogging film having the composition described above was used and curing with superheated steam was performed, the antifogging article obtained was prevented It was found that the anti-fogging property and surface hardness of the cloud film were excellent.
In addition, in the coating solution for forming an antifogging film, Example 1 in which an acid (1N HNO 3 or 1N CH 3 COOH) is used as an acid or a base rather than Example 12 in which a base (1N NH 3 ) is used. Example 9 was found to have better surface hardness.
Further, as a raw material of the coating solution for forming an antifogging film, Example 1 using a quaternary phosphonium salt has better surface hardness than Examples 13 and 14, which did not use a quaternary phosphonium salt. I found out.
Moreover, as a raw material of the coating liquid for forming an antifogging film, Example 1 using a leveling agent has a surface hardness superior to that of Examples 13 and 15 in which a leveling agent is not used. all right.
In Examples 13 and 15, since the coating solution was diluted, the solid content concentration was lower than that in Example 1 and the viscosity was small. Therefore, the film thickness of the obtained antifogging film was thin (10 μm). As a result, although it appears that the antifogging property is low, the antifogging properties of Examples 13 and 15 are comparable to the antifogging property of Example 1 when converted to the same film thickness of 15 μm as Example 1. It is.

一方、上記で説明した組成から外れた塗布液を調製し、該塗布液を用いて防曇性物品の作製を試みた比較例1〜6では、得られる被膜の防曇性や表面硬度が不十分であったり、得られる被膜が白濁したものであったりして、劣っていた。   On the other hand, in Comparative Examples 1 to 6 in which a coating liquid deviating from the composition described above was prepared and an antifogging article was attempted to be produced using the coating liquid, the resulting film had poor antifogging properties and surface hardness. It was inferior because it was sufficient or the film obtained was cloudy.

また、過熱蒸気による硬化を行なわなかった比較例7では、得られる被膜の表面硬度が不十分であり、劣っていた。
Moreover, in the comparative example 7 which did not harden | cure by superheated steam, the surface hardness of the film obtained was inadequate and was inferior.

Claims (20)

基材と該基材の表面に防曇膜形成用塗布液を塗布し、塗布後の塗膜を硬化することによって形成された防曇膜を有する防曇性物品の製造方法であって、
少なくとも以下の工程を有することを特徴とする防曇性物品の製造方法。
(A)原料として、少なくとも、
(i)下記一般式[1]で表される共重合体と、
(ii)下記一般式[2]で表されるエポキシ基含有シラン化合物と、
(iii)下記一般式[3]で表される化合物及び下記一般式[4]で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物前駆体、該金属酸化物前駆体の加水分解物、及び該金属酸化物前駆体の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つと、
(iv)酸又は塩基と、
(v)溶媒とを、
(i)〜(iii)の総量100質量%に対して、
(i)10〜80質量%、(ii)5〜60質量%、(iii)3〜80質量%の割合で混合して得られる防曇膜形成用塗布液を準備する、防曇膜形成用塗布液準備工程、
(B)基材表面に前記防曇膜形成用塗布液を塗布する、防曇膜形成用塗布液塗布工程、
(C)前記防曇膜形成用塗布液塗布工程後の塗膜を過熱蒸気に曝すことにより硬化する、硬化工程。
Figure 2015107448
(式[1]で、R及びRは、水素基又はメチル基であり、Rは、水素基又は炭素数が1〜5のアルキル基であり、Xは、−C(=O)−NR(ここで、Rは炭素数が1〜4のアルキル基)、アミノ基、スルホン酸基及び水酸基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基、又は、アミド基、アミノ基、スルホン酸基及び水酸基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基であり、Yは、カルボキシル基、又は、−R−C(=O)−OHで表される基であり、該Rは、2価の脂肪族炭化水素基、又は、エステル基、エーテル基、アミド基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基と脂肪族炭化水素基とから構成された2価の有機基である。aとbはa:b=0.7〜2.5:1.0である数である。なお、式[1]中の繰り返し構造単位の順序は特に限定されない。)
[R(CHO)(CHSi(R(Z4−e−f [2]
(式[2]で、Rはエポキシ基、グリシドキシ基、及びエポキシ基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基から選ばれる少なくとも1つの基であり、Rは炭素数1〜3のアルキル基であり、Zはアルコキシ基、及びヒドロキシ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基である。c及びdはそれぞれ0〜3であり、eは1又は2であり、fは0又は1である。)
(RM(Zh−g [3]
(式[3]中、Rは1価の有機基、Zはそれぞれ独立にアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン元素、酸素元素、ハロゲン化物イオン、NO 及びCHCOOからなる群から選ばれる少なくとも1つであり、MはSi、Zr、Al及びTiからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、gは0〜3の整数であり、hは3又は4であり、h−gは1〜4の整数である。)
(RM(Zi−j [4]
(式[4]中、Rはアセチルアセトナート基及びエチルアセトアセテート基から選ばれる少なくとも1つの基、Zはアルコキシ基又はハロゲン元素であり、MはSi、Zr、Al及びTiからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、jは0〜4の整数であり、iは3又は4であり、i−jは0〜4の整数である。)
A method for producing an antifogging article having an antifogging film formed by applying a coating solution for forming an antifogging film on the surface of the base material and the base material, and curing the coated film after coating,
The manufacturing method of the anti-fogging article | item characterized by having the following processes at least.
(A) As a raw material, at least
(I) a copolymer represented by the following general formula [1];
(Ii) an epoxy group-containing silane compound represented by the following general formula [2];
(Iii) At least one metal oxide precursor selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula [3] and a compound represented by the following general formula [4], hydrolysis of the metal oxide precursor At least one selected from the group consisting of a decomposition product and a condensate of the metal oxide precursor;
(Iv) an acid or base;
(V) a solvent,
For a total amount of 100% by mass of (i) to (iii),
(I) 10-80 mass%, (ii) 5-60 mass%, (iii) The antifogging film formation coating liquid prepared by mixing in the ratio of 3-80 mass% is obtained. Coating solution preparation process,
(B) A coating liquid application step for forming an antifogging film, wherein the coating liquid for forming an antifogging film is applied to the surface of a substrate.
(C) A curing step in which the coating film after the coating solution coating step for forming the antifogging film is cured by exposing it to superheated steam.
Figure 2015107448
(In the formula [1], R 1 and R 2 are a hydrogen group or a methyl group, R 3 is a hydrogen group or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and X is —C (═O). —NR 4 (wherein R 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), at least one group selected from the group consisting of an amino group, a sulfonic acid group, and a hydroxyl group, or an amide group, an amino group, and a sulfonic acid Y is a monovalent organic group composed of at least one group selected from the group consisting of a group and a hydroxyl group and an aliphatic hydrocarbon group, and Y is a carboxyl group or —R 5 —C (═O) —. R 5 is a group represented by OH, and R 5 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group, or at least one group selected from the group consisting of an ester group, an ether group, and an amide group, and an aliphatic hydrocarbon group. A and b are a: b = 0.7-2. 5: is a number from 1.0 Note that the order of the repeating units of the formula [1] is not particularly limited)..
[R 6 (CH 2 O) c (CH 2 ) d ] e Si (R 7 ) f (Z 1 ) 4-ef [2]
(In the formula [2], R 6 is at least one group selected from an epoxy group, a glycidoxy group, and a monovalent organic group composed of an epoxy group and an aliphatic hydrocarbon group, and R 7 is a carbon number. 1 to 3 alkyl groups, Z 1 is at least one group selected from the group consisting of alkoxy groups and hydroxy groups, c and d are each 0 to 3, e is 1 or 2, f is 0 or 1.)
(R 8 ) g M (Z 2 ) h-g [3]
(In the formula [3], R 8 is a monovalent organic group, Z 2 is independently an alkoxy group, a hydroxy group, a halogen element, an oxygen element, a halide ion, NO 3 and CH 3 COO —. At least one selected, M is at least one element selected from the group consisting of Si, Zr, Al and Ti, g is an integer of 0 to 3, h is 3 or 4, h -G is an integer of 1-4.)
(R 9 ) j M (Z 3 ) ij [4]
(In the formula [4], R 9 is at least one group selected from an acetylacetonate group and an ethylacetoacetate group, Z 3 is an alkoxy group or a halogen element, and M is a group consisting of Si, Zr, Al and Ti. And j is an integer of 0 to 4, i is 3 or 4, and ij is an integer of 0 to 4.)
前記の一般式[1]で表される共重合体が、下記一般式[5]で表される共重合体である請求項1に記載の防曇性物品の製造方法。
Figure 2015107448
(式[5]で、X、a及びbは式[1]と同様であり、mは0〜2、nは0〜3、sは1〜4、tは1〜4の数である。なお、式[5]中の繰り返し構造単位の順序は特に限定されない。)
The method for producing an antifogging article according to claim 1, wherein the copolymer represented by the general formula [1] is a copolymer represented by the following general formula [5].
Figure 2015107448
(In Formula [5], X, a, and b are the same as in Formula [1], m is 0-2, n is 0-3, s is 1-4, and t is 1-4. Note that the order of the repeating structural units in the formula [5] is not particularly limited.)
前記一般式[1]で表される共重合体の重量平均分子量が、1,000〜1,000,000である請求項1又は2に記載の防曇性物品の製造方法。 The method for producing an antifogging article according to claim 1 or 2, wherein the copolymer represented by the general formula [1] has a weight average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. 前記一般式[2]で表されるエポキシ基含有シラン化合物が、下記一般式[6]で表される化合物である請求項1〜3のいずれかに記載の防曇性物品の製造方法。
10(CHSi(CH(OR113−p [6]
(R10はグリシドキシ基、又は、エポキシ基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基であり、R11は炭素数1〜3のアルキル基である。kは2又は3であり、pは0又は1である。)
The method for producing an antifogging article according to any one of claims 1 to 3, wherein the epoxy group-containing silane compound represented by the general formula [2] is a compound represented by the following general formula [6].
R 10 (CH 2) k Si (CH 3) p (OR 11) 3-p [6]
(R 10 is a glycidoxy group, or a monovalent organic group composed of an epoxy group and an aliphatic hydrocarbon group, R 11 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. K is 2 or 3. And p is 0 or 1.)
前記一般式[6]で表されるエポキシ基含有シラン化合物が、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、及び3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランからなる群から選ばれる少なくとも1つである請求項4に記載の防曇性物品の製造方法。 The epoxy group-containing silane compound represented by the general formula [6] is 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxy. The method for producing an antifogging article according to claim 4, which is at least one selected from the group consisting of silane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane. 前記一般式[1]で表される共重合体のYがカルボキシル基を含む場合、
前記防曇膜形成用塗布液準備工程において、
カルボキシル基1モル量に対し、
前記エポキシ基含有シラン化合物のエポキシ基が0.2〜3モル量となるように混合される請求項1〜5のいずれかに記載の防曇性物品の製造方法。
When Y of the copolymer represented by the general formula [1] contains a carboxyl group,
In the coating solution preparation step for forming the antifogging film,
For 1 mol of carboxyl group
The method for producing an antifogging article according to any one of claims 1 to 5, wherein the epoxy group of the epoxy group-containing silane compound is mixed so as to have an amount of 0.2 to 3 mol.
前記防曇膜形成用塗布液準備工程において、
防曇膜形成用塗布液の原料として、さらに、四級アンモニウム塩又は四級ホスホニウム塩を混合する請求項1〜6のいずれかに記載の防曇性物品の製造方法。
In the coating solution preparation step for forming the antifogging film,
The method for producing an antifogging article according to any one of claims 1 to 6, wherein a quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt is further mixed as a raw material of the coating solution for forming an antifogging film.
前記防曇膜形成用塗布液準備工程において、
防曇膜形成用塗布液の原料として、さらに、硬化剤を混合する請求項1〜7のいずれかに記載の防曇性物品の製造方法。
In the coating solution preparation step for forming the antifogging film,
The method for producing an antifogging article according to any one of claims 1 to 7, further comprising mixing a curing agent as a raw material for the coating liquid for forming an antifogging film.
前記防曇膜形成用塗布液準備工程において、
防曇膜形成用塗布液の原料として、さらに、微粒子を混合する請求項1〜8のいずれかに記載の防曇性物品の製造方法。
In the coating solution preparation step for forming the antifogging film,
The method for producing an antifogging article according to any one of claims 1 to 8, wherein fine particles are further mixed as a raw material for the coating liquid for forming an antifogging film.
前記防曇膜形成用塗布液準備工程の後、防曇膜形成用塗布液塗布工程の前において、
塗布液を、濃縮すること、又は、さらに溶媒を添加することにより、該塗布液の固形分濃度及び粘度を調整する操作を行う請求項1〜9のいずれかに記載の防曇性物品の製造方法。
After the antifogging film forming coating liquid preparation step, before the antifogging film forming coating liquid coating step,
The production of an antifogging article according to any one of claims 1 to 9, wherein the operation of adjusting the solid content concentration and viscosity of the coating solution is performed by concentrating the coating solution or further adding a solvent. Method.
前記硬化工程が、100〜300℃の過熱水蒸気に曝すことにより硬化することである請求項1〜10のいずれかに記載の防曇性物品の製造方法。 The method for producing an antifogging article according to any one of claims 1 to 10, wherein the curing step is curing by exposure to superheated steam at 100 to 300 ° C. 原料として、少なくとも、
(i)下記一般式[1]で表される共重合体と、
(ii)下記一般式[2]で表されるエポキシ基含有シラン化合物と、
(iii)下記一般式[3]で表される化合物及び下記一般式[4]で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物前駆体、該金属酸化物前駆体の加水分解物、及び該金属酸化物前駆体の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つと、
(iv)酸又は塩基と、
(v)溶媒とを、
(i)〜(iii)の総量100質量%に対して、
(i)10〜80質量%、(ii)5〜60質量%、(iii)3〜80質量%の割合で混合して得られる防曇膜形成用塗布液。
Figure 2015107448
(式[1]で、R及びRは、水素基又はメチル基であり、Rは、水素基又は炭素数が1〜5のアルキル基であり、Xは、−C(=O)−NR(ここで、Rは炭素数が1〜4のアルキル基)、アミノ基、スルホン酸基及び水酸基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基、又は、アミド基、アミノ基、スルホン酸基及び水酸基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基であり、Yは、カルボキシル基、又は、−R−C(=O)−OHで表される基であり、該Rは、2価の脂肪族炭化水素基、又は、エステル基、エーテル基、アミド基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基と脂肪族炭化水素基とから構成された2価の有機基である。aとbはa:b=0.7〜2.5:1.0である数である。なお、式[1]中の繰り返し構造単位の順序は特に限定されない。)
[R(CHO)(CHSi(R(Z4−e−f [2]
(式[2]で、Rはエポキシ基、グリシドキシ基、及びエポキシ基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基から選ばれる少なくとも1つの基であり、Rは炭素数1〜3のアルキル基であり、Zはアルコキシ基、及びヒドロキシ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基である。c及びdはそれぞれ0〜3であり、eは1又は2であり、fは0又は1である。)
(RM(Zh−g [3]
(式[3]中、Rは1価の有機基、Zはそれぞれ独立にアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン元素、酸素元素、ハロゲン化物イオン、NO 及びCHCOOからなる群から選ばれる少なくとも1つであり、MはSi、Zr、Al及びTiからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、gは0〜3の整数であり、hは3又は4であり、h−gは1〜4の整数である。)
(RM(Zi−j [4]
(式[4]中、Rはアセチルアセトナート基及びエチルアセトアセテート基から選ばれる少なくとも1つの基、Zはアルコキシ基又はハロゲン元素であり、MはSi、Zr、Al及びTiからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、jは0〜4の整数であり、iは3又は4であり、i−jは0〜4の整数である。)
As a raw material, at least,
(I) a copolymer represented by the following general formula [1];
(Ii) an epoxy group-containing silane compound represented by the following general formula [2];
(Iii) At least one metal oxide precursor selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula [3] and a compound represented by the following general formula [4], hydrolysis of the metal oxide precursor At least one selected from the group consisting of a decomposition product and a condensate of the metal oxide precursor;
(Iv) an acid or base;
(V) a solvent,
For a total amount of 100% by mass of (i) to (iii),
A coating solution for forming an antifogging film obtained by mixing at a ratio of (i) 10 to 80% by mass, (ii) 5 to 60% by mass, and (iii) 3 to 80% by mass.
Figure 2015107448
(In the formula [1], R 1 and R 2 are a hydrogen group or a methyl group, R 3 is a hydrogen group or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and X is —C (═O). —NR 4 (wherein R 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), at least one group selected from the group consisting of an amino group, a sulfonic acid group, and a hydroxyl group, or an amide group, an amino group, and a sulfonic acid Y is a monovalent organic group composed of at least one group selected from the group consisting of a group and a hydroxyl group and an aliphatic hydrocarbon group, and Y is a carboxyl group or —R 5 —C (═O) —. R 5 is a group represented by OH, and R 5 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group, or at least one group selected from the group consisting of an ester group, an ether group, and an amide group, and an aliphatic hydrocarbon group. A and b are a: b = 0.7-2. 5: is a number from 1.0 Note that the order of the repeating units of the formula [1] is not particularly limited)..
[R 6 (CH 2 O) c (CH 2 ) d ] e Si (R 7 ) f (Z 1 ) 4-ef [2]
(In the formula [2], R 6 is at least one group selected from an epoxy group, a glycidoxy group, and a monovalent organic group composed of an epoxy group and an aliphatic hydrocarbon group, and R 7 is a carbon number. 1 to 3 alkyl groups, Z 1 is at least one group selected from the group consisting of alkoxy groups and hydroxy groups, c and d are each 0 to 3, e is 1 or 2, f is 0 or 1.)
(R 8 ) g M (Z 2 ) h-g [3]
(In the formula [3], R 8 is a monovalent organic group, Z 2 is independently an alkoxy group, a hydroxy group, a halogen element, an oxygen element, a halide ion, NO 3 and CH 3 COO —. At least one selected, M is at least one element selected from the group consisting of Si, Zr, Al and Ti, g is an integer of 0 to 3, h is 3 or 4, h -G is an integer of 1-4.)
(R 9 ) j M (Z 3 ) ij [4]
(In the formula [4], R 9 is at least one group selected from an acetylacetonate group and an ethylacetoacetate group, Z 3 is an alkoxy group or a halogen element, and M is a group consisting of Si, Zr, Al and Ti. And j is an integer of 0 to 4, i is 3 or 4, and ij is an integer of 0 to 4.)
前記の一般式[1]で表される共重合体が、下記一般式[5]で表される共重合体である請求項12に記載の防曇膜形成用塗布液。
Figure 2015107448
(式[5]で、X、a及びbは式[1]と同様であり、mは0〜2、nは0〜3、sは1〜4、tは1〜4の数である。なお、式[5]中の繰り返し構造単位の順序は特に限定されない。)
The coating solution for forming an antifogging film according to claim 12, wherein the copolymer represented by the general formula [1] is a copolymer represented by the following general formula [5].
Figure 2015107448
(In Formula [5], X, a, and b are the same as in Formula [1], m is 0-2, n is 0-3, s is 1-4, and t is 1-4. Note that the order of the repeating structural units in the formula [5] is not particularly limited.)
前記一般式[1]で表される共重合体の重量平均分子量が、1,000〜1,000,000である請求項12又は13に記載の防曇膜形成用塗布液。 The coating solution for forming an antifogging film according to claim 12 or 13, wherein the copolymer represented by the general formula [1] has a weight average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. 前記一般式[2]で表されるエポキシ基含有シラン化合物が、下記一般式[6]で表される化合物である請求項12〜14のいずれかに記載の防曇膜形成用塗布液。
10(CHSi(CH(OR113−p [6]
(R10はグリシドキシ基、又は、エポキシ基と脂肪族炭化水素基とから構成された1価の有機基であり、R11は炭素数1〜3のアルキル基である。kは2又は3であり、pは0又は1である。)
The coating solution for forming an antifogging film according to any one of claims 12 to 14, wherein the epoxy group-containing silane compound represented by the general formula [2] is a compound represented by the following general formula [6].
R 10 (CH 2) k Si (CH 3) p (OR 11) 3-p [6]
(R 10 is a glycidoxy group, or a monovalent organic group composed of an epoxy group and an aliphatic hydrocarbon group, R 11 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. K is 2 or 3. And p is 0 or 1.)
前記一般式[6]で表されるエポキシ基含有シラン化合物が、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、及び3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランからなる群から選ばれる少なくとも1つである請求項15に記載の防曇膜形成用塗布液。 The epoxy group-containing silane compound represented by the general formula [6] is 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxy. The coating solution for forming an antifogging film according to claim 15, which is at least one selected from the group consisting of silane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane. 前記一般式[1]で表される共重合体のYがカルボキシル基を含む場合、
カルボキシル基1モル量に対し、
前記エポキシ基含有シラン化合物のエポキシ基が0.2〜3モル量となるように混合されたものである請求項12〜16のいずれかに記載の防曇膜形成用塗布液。
When Y of the copolymer represented by the general formula [1] contains a carboxyl group,
For 1 mol of carboxyl group
The coating solution for forming an antifogging film according to any one of claims 12 to 16, wherein the epoxy group of the epoxy group-containing silane compound is mixed so that an amount of the epoxy group is 0.2 to 3 mol.
原料として、さらに、四級アンモニウム塩又は四級ホスホニウム塩を混合して得られる請求項12〜17のいずれかに記載の防曇膜形成用塗布液。 The coating solution for forming an antifogging film according to any one of claims 12 to 17, which is obtained by further mixing a quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt as a raw material. 原料として、さらに、硬化剤を混合して得られる請求項12〜18のいずれかに記載の防曇膜形成用塗布液。 The coating solution for forming an antifogging film according to any one of claims 12 to 18, which is obtained by further mixing a curing agent as a raw material. 原料として、さらに、微粒子を混合して得られる請求項12〜19のいずれかに記載の防曇膜形成用塗布液。 The coating solution for forming an antifogging film according to any one of claims 12 to 19, which is obtained by further mixing fine particles as a raw material.
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