JP2015061584A - 傾斜磁場コイル保持具、及び、磁気共鳴イメージング装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ＭＲＩにおいて、傾斜磁場コイルユニットの振動が静磁場磁石側に伝播することを防止する新技術を提供する。【解決手段】一実施形態の傾斜磁場コイル保持具（１００Ａ）は、３つの軸受（１１０）と、取付本体部（１２０）とを有する。３つの軸受は、少なくとも１つが球面軸受であり、その軸部分がＭＲＩ装置（１０Ａ）の静磁場磁石（３１）に固定される。取付本体部の他端側は、２カ所においてそれぞれ軸受を介して静磁場磁石の端面の内周側に対して固定され、取付本体部の一端側は、１カ所において軸受を介して静磁場磁石の端面の外周側に対して固定される。取付本体部は、静磁場磁石の内側に設置される傾斜磁場コイルユニット（３３）に対して部分的に当接されることで傾斜磁場コイルユニットを少なくとも水平方向に保持する。【選択図】 図１

Description

本発明の実施形態は、傾斜磁場コイル保持具、及び、磁気共鳴イメージング装置に関する。

ＭＲＩは、静磁場中に置かれた被検体の原子核スピンをラーモア周波数のＲＦパルスで磁気的に励起し、この励起に伴って発生するＭＲ信号から画像を再構成する撮像法である。なお、上記ＭＲＩは磁気共鳴イメージング(Magnetic Resonance Imaging)の意味であり、ＲＦパルスは高周波パルス(radio frequency pulse)の意味であり、ＭＲ信号は核磁気共鳴信号(nuclear magnetic resonance signal)の意味である。

ＭＲＩ装置のガントリは例えば、円筒状の静磁場磁石の内側に円筒状の傾斜磁場コイルユニットを配置し、傾斜磁場コイルユニットの内側に円筒状のＲＦコイルユニットを配置することで構成される。傾斜磁場コイルユニットは、ＭＲ信号に位置情報を付与する傾斜磁場を撮像領域に印加する。ＲＦコイルユニットは、上記ＲＦパルスを撮像領域に送信する。

静磁場磁石は、例えば円筒状の超電導磁石として構成される場合、円筒状の真空容器内に収納される。この真空容器は例えば、内筒の板と、外筒の板と、環状の２つの端板とを溶接することで形成される。従来技術では、傾斜磁場コイルユニットは例えば、静磁場磁石の真空容器の端板に固定された支持部材により、水平方向に固定される。

ここで、近年のＭＲＩ装置では、イメージング技術の高速化に伴い、傾斜磁場が高速でスイッチングする。このため、傾斜磁場コイルユニット内の傾斜磁場コイルに流れる電流と、静磁場との相互作用によって傾斜磁場コイルユニットが震動する。静磁場磁石の端板は剛性が低いため、傾斜磁場コイルユニットの振動が伝播すると、大きい共振倍率で静磁場磁石が振動し、静磁場磁石が騒音源となる。

そこで、固体伝播に起因する騒音を低減するために、防振ゴムを介して傾斜磁場コイルユニットを支持し、静磁場磁石への振動伝達率を小さくする技術が知られている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。

特開２００５−２４５７７５号公報 特開２００７−１９０２００号公報

静磁場磁石の真空容器において、強度的に弱い部分は、例えば、内筒の板と端板との溶接部、外筒の板と端板との溶接部などである。従来の真空容器は、端板などの各部が強度を確保するための十分な厚みを有するため、輸送時や地震時などにおいて大きな負荷が真空容器の端板に加わっても、破損するおそれはなかった。

一方、端板等を薄くして真空容器を軽量化することが望まれるが、軽量化すれば真空容器の強度は下がる。即ち、軽量化を実現するためには、薄めの真空容器であっても、大きな負荷が加わった場合に破損しないようにする技術が望まれる。そのためには、傾斜磁場コイルユニットの振動の伝播を従来よりもさらに抑制することが好ましい。

このため、ＭＲＩにおいて、傾斜磁場コイルユニットの振動が静磁場磁石側に伝播することを防止する新技術が要望されていた。

以下、本発明の実施形態が取り得る態様の数例を態様毎に説明する。
（１）一実施形態では、傾斜磁場コイル保持具は、ＭＲＩ装置において静磁場磁石の内側に設置される傾斜磁場コイルユニットを保持するものであって、３つの軸受と、取付本体部とを有する。
３つの軸受は、軸部分が静磁場磁石の端面に対して固定され、その少なくとも１つは球面軸受である。
取付本体部は、３つの軸受を介して静磁場磁石の端面に対して固定されると共に、傾斜磁場コイルユニットに対して部分的に当接されることで傾斜磁場コイルユニットを少なくとも水平方向に保持する。取付本体部の他端側は、２カ所においてそれぞれ軸受を介して静磁場磁石の端面の内周側に対して固定され、取付本体部の一端側は、１カ所において軸受を介して静磁場磁石の端面の外周側に対して固定される。

（２）一実施形態では、ＭＲＩ装置は、静磁場磁石と、傾斜磁場コイルユニットと、上記（１）の傾斜磁場コイル保持具と、ＲＦコイルユニットと、制御装置とを有する。
静磁場磁石は、撮像空間に静磁場を印加する。
傾斜磁場コイルユニットは、静磁場磁石の内側に設置されると共に撮像領域に傾斜磁場を印加する。
傾斜磁場コイル保持具は、傾斜磁場コイルユニットを保持する。
ＲＦコイルユニットは、核磁気共鳴を起こすＲＦパルスを撮像領域に送信する。
制御装置は、傾斜磁場コイルユニット及びＲＦコイルユニットを制御することで、撮像領域の被検体からＭＲ信号を収集するパルスシーケンスを実行し、ＭＲ信号に基づいて画像データを再構成する。

第１の実施形態の傾斜磁場コイル保持具の平面模式図。 球面軸受の全体構造の一例を示す模式的斜視図。 球面軸受の外輪の直径に沿った断面の構造の一例を示す断面模式図。 図３の矢印方向から見た球面軸受の平面模式図。 球面軸受のシャフトの構造の一例を示す模式図。 球面軸受の外輪の構造の一例を示す模式的な分解斜視図。 図１の第１支持部材の下端部分を拡大した模式的斜視図。 軸受固定具ＦＸの構造の一例を示す模式的斜視図。 プレートに対する球面軸受の固定方法の一例を示す模式的斜視図。 ２つの軸受固定具及び球面軸受によって、第１支持部材の下端部分がプレートに対して固定された状態を示す模式的斜視図。 第１の実施形態の傾斜磁場コイル保持具における、第１支持部材と、第２支持部材との連結部分を示す模式的斜視図。 ガントリの入り口側及び奥側における静磁場磁石の各端面に固定された各第１支持部材の平面模式図。 図１１の第２支持部材の部分を拡大した模式的斜視図。 第３支持部材が第１支持部材及び第２支持部材から離れた状態を示す模式的斜視図。 図１４の状態から第３支持部材を第１支持部材及び第２支持部材に固定後、ＲＦコイルユニットを第３支持部材上に固定した状態を示す模式的斜視図。 第１の実施形態のＭＲＩ装置の全体構成の一例を示すブロック図。 第１の実施形態のＭＲＩ装置の動作の流れの一例を示すフローチャート。 第２の実施形態の傾斜磁場コイル保持具の第３支持部材の構造の一例を示す断面模式図。 図１８の第３支持部材と、ＲＦコイルユニットとの結合部分の模式的な分解斜視図。 第３の実施形態のＭＲＩ装置のガントリの平面模式図。 第３の実施形態の傾斜磁場コイル保持具の第２支持部材の構造の一例を示す断面模式図。 第３の実施形態の変形例に係る傾斜磁場コイル保持具の構造の一例を示す断面模式図。 第１の実施形態の変形例に係る傾斜磁場コイル保持具の構造の一例を示す平面模式図。

以下、傾斜磁場コイル保持具及びＭＲＩ装置の実施形態の数例について、添付図面に基づいて説明する。なお、各図において同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。

＜第１の実施形態＞
図１は、第１の実施形態の傾斜磁場コイル保持具１００Ａの平面模式図である。ここでは一例として、傾斜磁場コイル保持具１００ＡはＭＲＩ装置１０Ａ（後述の図１６参照）のガントリ３０の一部として解釈する。但し、傾斜磁場コイル保持具１００Ａは、ＭＲＩ装置１０Ａとは別個のユニットとして解釈してもよい（この点は、第２の実施形態以下も同様である）。

図１に示すように、ガントリ３０は、円筒状の静磁場磁石３１と、防振シート３２（図中、縦線で塗り潰した部分）と、円筒状の傾斜磁場コイルユニット３３と、円筒状のＲＦコイルユニット３４とを有する。

傾斜磁場コイルユニット３３は、静磁場磁石３１の内側に敷かれた防振シート３２上に載置される。従って、ここでは一例として、傾斜磁場コイルユニット３３の重量は、静磁場磁石３１の真空容器によって支えられる。

ＲＦコイルユニット３４は、傾斜磁場コイルユニット３３の内側に設置される。ＲＦコイルユニット３４は、傾斜磁場コイルユニット３３に対しては浮上状態で設置され、ＲＦコイルユニット３４の重量は、傾斜磁場コイル保持具１００Ａによって支えられる。
ＲＦコイルユニット３４の内側（ボア）は、撮像空間となる。

ＲＦコイルユニット３４は、図１における環状の左下がりの斜線領域と、環状の縦線領域とを合わせた領域であり、その容器の外周側が軸長（図１のＺ軸方向の長さ）の大きい突出部３４ａ（左下がりの斜線領域）として形成されている。後述の図１５で説明するように、この突出部３４ａには傾斜磁場コイル保持具１００Ａの第３支持部材１２６に固定されるためのネジ穴３４ｂが形成されている。

本明細書では、特に断りのない限り、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸は装置座標系であるものとする。ここでは一例として、装置座標系のＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸を以下のように定義する。まず、鉛直方向をＹ軸方向とする。また、ガントリ３０は、静磁場磁石３１、傾斜磁場コイルユニット３３、ＲＦコイルユニット３４の各軸方向がＺ軸方向となるように配置される。Ｘ軸方向は、これらＹ軸方向、Ｚ軸方向に直交する方向である。従って、図１は、Ｚ軸方向から見た平面模式図である。

静磁場磁石３１は例えば、超電導コイル（図示せず）を円筒状の真空容器内に収納した構造である。真空容器は例えば、ステンレスなどの高強度の金属で形成された内筒の板と、外筒の板と、環状の２つの端板とを溶接することで構成される。静磁場磁石３１の（真空容器の）端面には、ステンレスなどで形成されたプレート３１ａ、３１ｂが溶接されている。

ガントリ３０は、２つの傾斜磁場コイル保持具１００Ａを有する（図１では片方のみを示す）。即ち、２つの傾斜磁場コイル保持具１００Ａは、円筒状のガントリ３０の入口側、奥側において、静磁場磁石の各端面にそれぞれ固定される。

ここでの端面とは、円筒状の静磁場磁石３１の両側における環状の面、即ち、環状の端板の表面を指す。静磁場磁石の各端面は、Ｘ−Ｙ平面に平行な平面状である。

傾斜磁場コイル保持具１００Ａは、傾斜磁場コイルユニット３３がＺ軸方向（水平方向）に動かないように、傾斜磁場コイルユニット３３を水平方向に固定（支持）する。また、傾斜磁場コイル保持具１００Ａは、ＲＦコイルユニット３４を支持及び固定する。

傾斜磁場コイル保持具１００Ａは、３つの球面軸受１１０と、６つの軸受固定具ＦＸと、取付本体部１２０とを有する。

取付本体部１２０は、後述のネジ穴の箇所を除いて、図１に示す設置状態におけるＺ軸方向の厚みが均一となるように、且つ、Ｙ−Ｚ平面（図中の縦の一点鎖線）に対して線対称な構造となるように形成されている。

取付本体部１２０は、第１支持部材（ブラケット）１２２と、第１支持部材１２２の上端に固定された２つの第２支持部材１２４（図中、右下がりの斜線部分）と、第１支持部材１２２の上端の両側に固定された２つの第３支持部材１２６とを有する。

第１支持部材１２２、第２支持部材１２４、第３支持部材１２６は、例えばステンレスなどで形成されるが、チタンやアルミニウムでもよい。これらは、非磁性体で錆びにくく、且つ、十分な強度を有する金属、又は、ＦＲＰ(Fiber Reinforced Plastic)などの高強度樹脂で形成することが望ましい。

ここでの「十分な強度」とは、少なくともＲＦコイルユニット３４の重量では変形しない程度の厚さと、剛性を指す。なお、傾斜磁場コイルユニット（３３’）も浮上状態で支持される第３の実施形態の場合には、ＲＦコイルユニット３４及び傾斜磁場コイルユニット（３３’）の合計重量では変形しない程度の強度である。

第１支持部材１２２の３カ所がそれぞれ、３つの球面軸受１１０によって、静磁場磁石３１の端面に溶接されたプレート３１ａ、３１ｂに対して固定される。各々の球面軸受１１０のシャフト１１０ａ（後述の図２〜図４参照）が、２つの軸受固定具ＦＸにより、プレート３１ａ、３１ｂに対して固定される。

第１支持部材１２２は、本実施形態のように、３箇所において静磁場磁石３１の各端面に対して固定されることが望ましい。静磁場磁石３１の端面が平面状であるので、第１支持部材１２２における各固定箇所が同一平面上になることが望ましいからである。

より具体的には、３点固定であれば、これら３点は必然的に同一平面上になるが、４点固定だと、４カ所を完全に同一平面上に位置させることは必ずしも容易ではない。４つの固定箇所が同一平面上にならないと、静磁場磁石３１の端面への設置時の負荷が大きくなり、局所的に応力が発生し易い。

第１支持部材１２２は、一端側（図１における静磁場磁石３１の外周側）が先細りするように、線対称な形状に形成されている。第１支持部材１２２は、図１のＸ方向に各球面軸受１１０が挿入される計３つの挿入口１２２ｆ、１２２ｈ（後述の図７、図１１参照）を有する。

また、第１支持部材１２２は、２つの開口部ＡＰを有する。第１支持部材１２２の２つの他端側（各第２支持部材１２４側、即ち、図１における静磁場磁石３１の内周側）の各挿入口１２２ｆに挿入された球面軸受１１０を軸受固定具ＦＸで固定する作業を実施する場合に、各開口部ＡＰは、作業スペースとして機能する。

図２は、球面軸受１１０の全体構造の一例を示す模式的斜視図である。
図３は、球面軸受１１０の外輪１１０ｂの直径に沿った断面の構造の一例を示す断面模式図である。
図４は、図３の矢印方向から見た球面軸受１１０の平面模式図である。

図５は、球面軸受１１０のシャフト１１０ａの構造の一例を示す模式図である。
図６は、球面軸受１１０の外輪１１０ｂの構造の一例を示す模式的な分解斜視図である。以下、図２〜図６を参照しながら、球面軸受１１０の構造について説明する。

図２及び図３に示すように、球面軸受１１０は、シャフト１１０ａ（斜線部分）と、外輪１１０ｂ（斜線ではない部分）とで構成される。

図４に示すように、シャフト１１０ａは、円筒軸ＣＹと、フランジＦＲとで構成される。図４において、環状の破線は、フランジＦＲの最大直径を示し、フランジＦＲにおいて直径が最大の部分は、外輪１１０ｂ内に隠れるので外からは見えない。図４において、ハッチングで塗り潰した環状の領域は、フランジＦＲにおいて露出している部分（外輪１１０ｂで隠れない部分）である。

上記シャフト１１０ａの外形は、以下のようになる。
具体的には、図５に示すように、球ＳＰの直径ＤＭ１と、この直径ＤＭ１に直交する直径ＤＭ２とを考える。ここで、直径ＤＭ２に関して線対称となるように、且つ、横断面の法線が直径ＤＭ１に合致するように、球ＳＰを３分割する。このとき、横断面は円形となる。

３分割された球ＳＰの中央部ＳＰｏは、図５の上段においてハッチングで塗り潰した領域である。中央部ＳＰｏが、シャフト１１０ａのフランジＦＲとなる。

即ち、中央部ＳＰｏの中央において、元の球ＳＰの直径ＤＭ１が軸方向となるように、円筒状の穴を開口し、この穴に円筒軸ＣＹを嵌合及び溶接することで、シャフト１１０ａとなる。図５の下段は、そのようにして形成されるシャフト１１０ａの平面模式図である。

次に、図６を用いて外輪の外形について説明する。
外輪１１０ｂは、略リング状であり、その表面は、環状である２つの端面、円筒の側面状である外周面、球面状に面取りされた内面、の４つからなる。外輪１１０ｂの内面は、フランジＦＲの外周面（球面）に密着するように、球面状に面取りされている。

このような構造は、例えば図６に示すように、外輪１１０ｂを２等分した形状の外輪第１部１１０ｂαと、外輪第２部１１０ｂβとを合わせることで形成される。

図６の外輪第１部１１０ｂαと、外輪第２部１１０ｂβにおいて、斜線領域は、外輪１１０ｂの端面に該当し、ハッチングで塗り潰した領域は、外輪１１０ｂの内面に該当する。

外輪第１部１１０ｂαは、外輪第２部１１０ｂβに溶接される２つの面において、それぞれ円筒状の突起ＰＴを有する。外輪第２部１１０ｂβは、外輪第１部１１０ｂαに溶接される２つの面において、突起ＰＴを嵌合する円筒状の固定口ＨＬをそれぞれ有する。

例えば、シャフト１１０ａのフランジＦＲの球面を外輪第１部１１０ｂαの内面に密着させた状態で、その上から、各突起ＰＴが各固定口ＨＬに嵌合するように、外輪第２部１１０ｂβを被せれば、球面軸受１１０となる。

このとき、シャフト１１０ａの表面には一切変化が生じないように、例えば接着剤により外輪第１部１１０ｂαと、外輪第２部１１０ｂβとを接合すればよい。

このようにして、図２〜図４に示す構造の球面軸受１１０が形成される。このような構造では、外輪１１０ｂの内面と、フランジＦＲとが球面接触となるため、シャフト１１０ａは、任意の方向に傾くことができる。

ここで、静磁場磁石３１と、取付本体部１２０との間が電気的に絶縁されるように、球面軸受１１０の少なくとも一部が絶縁体で形成されていることが望ましい。
ここでは一例として、図３に示すように、シャフト１１０ａの円筒軸ＣＹの外周側には、円筒状の絶縁シートＩＮＳが巻かれている。

また、球面軸受１１０には相当の重量が課されるので、球面軸受１１０において、上記絶縁シートＩＮＳ以外の部分は、例えばステンレスなどの金属により、十分な厚さ（直径）を備えるように形成される。

球面軸受１１０において、上記絶縁シートＩＮＳ以外の部分は、非磁性体であって、強度の高い金属で形成することが望ましい。
或いは、シャフト１１０ａ全体をステンレスで形成し、外輪１１０ｂ全体をＦＲＰ(Fiber Reinforced Plastics)などの電気絶縁性の強化型樹脂で形成してもよい。

或いは、ＦＲＰの強度がＲＦコイルユニット３４等の重量を支えるのに十分なＦＲＰであれば、球面軸受１１０全体をＦＲＰで形成してもよい。

また、シャフト１１０ａのフランジＦＲの球面部分、外輪１１０ｂの球面状の内面の少なくとも一方には、非導電性の滑りやすい樹脂コーティングを施すことが望ましい。金属同士の摩擦によるノイズの発生が抑制されるからである。第１の実施形態ではそのようなコーティングの一例として、フランジＦＲの球面部分、及び、外輪１１０ｂの内面にテフロン（登録商標）コーティングが施される。

図７は、図１の第１支持部材１２２の下端部分を拡大した模式的斜視図である。図７に示すように、第１支持部材１２２において、静磁場磁石３１の端面の外周側のプレート３１ｂ上に固定される下端部分には、円筒状の挿通口１２２ｈが形成されている。挿通口１２２ｈの軸方向は、設置時におけるＸ軸方向に合致する。

従って、第１支持部材１２２において、挿通口１２２ｈの開口の面が形成されている部分は、Ｙ−Ｚ平面に平行に面取りされている。挿通口１２２ｈは、設置時におけるＸ軸方向に反対側まで貫通しており、挿通口１２２ｈの直径は、球面軸受１１０の外輪１１０ｂの直径に等しい。即ち、設置時には、球面軸受１１０の外輪１１０ｂが挿通口１２２ｈ内に収納及び嵌合される。

図８は、軸受固定具ＦＸの構造の一例を示す模式的斜視図である。軸受固定具ＦＸの輪郭は例えば、２分割された円筒と、平板とを接合させたような形状である。軸受固定具ＦＸは、例えばステンレスなどで形成される。

軸受固定具ＦＸも、第１支持部材１２２等と同様に、非磁性体で、十分な強度及び厚みを有する金属で形成することが望ましい。軸受固定具ＦＸにおいて円筒状に盛り上がった部分には、球面軸受１１０のシャフト１１０ａを挿通させる円筒状の収納口ＦＸａが形成されている。

また、軸受固定具ＦＸにおいて平板状に形成された部分には、軸受固定具ＦＸをプレート３１ａ、３１ｂに対して固定するネジＦＸｃを挿通させる２つのネジ穴ＦＸｂが形成されている。

なお、図８では煩雑化を避けるため、ネジＦＸｃを１つのみ示すが、各々の軸受固定具ＦＸは、２つずつのネジＦＸｃを有する。

軸受固定具ＦＸの平板部分の厚さＴＨ１は、以下のように選択されている。
即ち、軸受固定具ＦＸ及び球面軸受１１０によって第１支持部材１２２がプレート３１ａ、３１ｂに対して固定された状態において、第１支持部材１２２がプレート３１ａ、３１ｂとは間隔ＤＤだけ離れるように、厚さＴＨ１は選択されている（詳細は、後述の図１２参照）。

図９は、プレート３１ｂに対する球面軸受１１０の固定方法の一例を示す模式的斜視図である。図９では区別のため、軸受固定具ＦＸの輪郭の隠れ線は破線で示し、球面軸受１１０の輪郭の隠れ線、及び、プレート３１ｂのネジ穴の輪郭の隠れ線は、一点鎖線で示す。なお、図９では煩雑となるので、第１支持部材１２２を省略している。

図１０は、２つの軸受固定具ＦＸ及び球面軸受１１０によって、第１支持部材１２２の下端部分がプレート３１ｂに対して固定された状態を示す模式的斜視図である。
図１０では区別のため、第１支持部材１２２の輪郭は太線で示し、第１支持部材１２２の輪郭の隠れ線は破線で示し、球面軸受１１０の輪郭の隠れ線は一点鎖線で示す。

以下、図９及び図１０を参照しながら、軸受固定具ＦＸによる球面軸受１１０の固定方法について説明する。
図９に示すように、プレート３１ｂには、２つの軸受固定具ＦＸの合計４つのネジ穴ＦＸｂにそれぞれ重なる位置に、ネジ穴３１ｂ−ｈがそれぞれ形成されている。

球面軸受１１０のシャフト１１０ａの円筒軸ＣＹの両側が各軸受固定具ＦＸの収納口ＦＸａに収納されるように、各軸受固定具ＦＸがプレート３１ｂ上に当接される。このとき、各ネジ穴ＦＸｂと、各ネジ穴３１ｂ−ｈとが重なるように位置合わせがされる。

そして、各ネジ穴ＦＸｂ、３１ｂ−ｈにネジＦＸｃが挿入及び固定されることで、２つの軸受固定具ＦＸは、プレート３１ｂに対して密着固定される。これにより、各軸受固定具ＦＸの収納口ＦＸａ内に円筒軸ＣＹが部分的に収納された球面軸受１１０が固定されるので、球面軸受１１０の外輪１１０ｂが嵌合している第１支持部材１２２の下端部分は、図１０に示すようにプレート３１ｂに対して固定される。

但し、この固定状態において、前述のように、第１支持部材１２２は、プレート３１ｂとは間隔ＤＤだけ離れる。

ここで、第１支持部材１２２の３カ所に嵌合される各球面軸受１１０のシャフト１１０ａは、第１支持部材１２２の固定時において、プレート３１ａ、３１ｂ、及び、第１支持部材１２２の各表面同士の僅かな傾きに応じて傾くことができる。これにより、第１支持部材１２２の固定後において、第１支持部材１２２に対して部分的な応力が発生しづらくなる。

換言すれば、プレート３１ａ、３１ｂ、及び、第１支持部材１２２の各表面同士の僅かな傾きに応じて、外輪１１０ｂの内面（球面状）と、フランジＦＲの側面（球面状）とが滑ることで、局所応力が発生しづらくなる。

図１１は、第１の実施形態の傾斜磁場コイル保持具１００Ａにおける、第１支持部材１２２と、第２支持部材１２４との連結部分を示す模式的斜視図である。

図１１において、第１支持部材１２２の輪郭は太線で示し、第２支持部材１２４の輪郭は実線で示す。輪郭の隠れ線は、開口の穴のみ破線で示し、それ以外を一点鎖線で示す。なお、煩雑となるので、図１１では第３支持部材１２６を省略する。

前述の図１及び図１１に示すように、第１支持部材１２２において静磁場磁石３１の内周側（プレート３１ａ側）に固定される部分は、両側にアームのように突出しており、その突出部分にそれぞれ第２支持部材１２４が固定される。

具体的には、図１１に示すように、第２支持部材１２４は、傾斜磁場コイル保持具１００Ａの設置時に鉛直方向（Ｙ軸方向）となる方向に沿って、同一寸法の４つのネジ穴１２４ａ、１２４ｂ、１２４ｃ、１２４ｄを有する。４つのネジ穴１２４ａ〜１２４ｄの各開口は、同一平面上となる。

一方、第１支持部材１２２において、第２支持部材１２４が固定される部分（図１１のハッチング領域）には、シート状又は略直方体状の防振部材ＥＬ１が接合されている。

防振部材ＥＬ１は、ゴムなどの弾力性を有する素材で形成されている。これは、傾斜磁場コイルユニット３３の振動が第２支持部材１２４を介して第１支持部材１２２に伝播することを防止するためである。

第１支持部材１２２において、第２支持部材１２４の各ネジ穴１２４ａ、１２４ｂ、１２４ｃ、１２４ｄの延長線上となる領域には、上記防振部材ＥＬ１を貫通するネジ穴１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１２２ｄがそれぞれ形成されている。各ネジ穴１２２ａ〜１２２ｄは、同一寸法である。

ネジ穴１２４ｃ、１２２ｃには、ネジ１２４ｇが挿入及び固定される。
煩雑となるので図１１では残りの３つのネジ１２４ｇを省略するが、ネジ穴１２４ａ、１２２ａにも同様にネジ１２４ｇが挿入及び固定される。
同様に、ネジ穴１２４ｂ、１２２ｂにもネジ１２４ｇが挿入及び固定される。
同様に、ネジ穴１２４ｄ、１２２ｄにもネジ１２４ｇが挿入及び固定される。

これら４つのネジ１２４ｇにより、第２支持部材１２４は、第１支持部材１２２に対してネジ止め固定される。

また、第２支持部材１２４には、第３支持部材１２６を固定するためのネジ穴１２４ｅが形成されている。ネジ穴１２４ｅの穴の方向は、ネジ穴１２４ａ〜１２４ｄと同様に、設置時における鉛直方向となる。

また、設置時におけるＸ軸方向の最端部となる第１支持部材１２２の側面は、Ｙ−Ｚ平面に平行に形成されており、この側面には第３支持部材１２６を固定するネジ穴１２２ｇが形成されている。

第３支持部材１２６の固定方法については、後述の図１４、図１５で説明する。
第２支持部材１２４の上端は、略円筒状に面取りされており、その中央を挿通するようにネジ穴１２４ｆが形成されている。ネジ穴１２４ｆの穴の方向は、設置時におけるＺ軸方向となる。

このネジ穴１２４ｆに対して、押しネジ１２４ｈが挿入及び固定される。押しネジ１２４ｈの先端は、第２支持部材１２４を貫通して、傾斜磁場コイルユニット３３に接触し、傾斜磁場コイルユニット３３をＺ軸方向に押圧する。

図１１では、図１の左側の第２支持部材１２４近辺の拡大図のみを示すが、傾斜磁場コイル保持具１００Ａは線対称の構造なので、図１の右側の第２支持部材１２４近辺も同様の構造である。

従って、傾斜磁場コイルユニット３３は、一方の傾斜磁場コイル保持具１００Ａの２つの押しネジ１２４ｈにより、ガントリ３０の入り口からガントリ３０の奥側に向けて、Ｚ軸方向に押圧される。

また、傾斜磁場コイルユニット３３は、他方の傾斜磁場コイル保持具１００Ａの２つの押しネジ１２４ｈにより、ガントリ３０の奥側からガントリ３０の入り口側に向けて、Ｚ軸方向に押圧される。

即ち、傾斜磁場コイルユニット３３は、２つずつの押しネジ１２４によって、挟まれるように押圧されることでＺ軸方向に固定される。

また、第１支持部材１２２は、第２支持部材１２４及び第３支持部材１２６の固定用にアーム状に突出した部分の下側が、設置時にＹ−Ｚ平面に平行となるように面取りされており、その面には円筒状の挿通口１２２ｆが形成されている。

挿通口１２２ｆは、開口部ＡＰまで貫通しており、挿通口１２２ｆの直径は、球面軸受１１０の外輪１１０ｂの直径に等しい。即ち、設置時には、球面軸受１１０の外輪１１０ｂが挿通口１２２ｆ内に収納及び嵌合される。

第１支持部材１２２の２カ所の挿通口１２２ｆに嵌合される各球面軸受１１０を軸受固定具ＦＸによりプレート３１ａに固定する方法は、図９、図１０で説明した挿通口１２２ｈに嵌合される球面軸受１１０の固定方法と同様であるため、詳細な説明を省略する。

なお、上記固定を実現するために、プレート３１ａ（図１参照）には、２つの軸受固定具ＦＸの合計４つのネジ穴ＦＸｂに重なる位置に、ネジＦＸｃを挿通及び固定させるネジ穴がそれぞれ形成されている（図示せず）。

図１２は、ガントリ３０の入り口側及び奥側における静磁場磁石３１の各端面に固定された各第１支持部材１２２の平面模式図である。

図１２において、第１支持部材１２２は斜線領域で示し、プレート３１ａ、３１ｂはそれぞれハッチング領域で示す。

第１支持部材１２２は、上記のようにプレート３１ａ、３１ｂに対して固定された状態において、Ｚ軸方向にプレート３１ａ、３１ｂとは間隔ＤＤだけ離れる。軸受固定具ＦＸの平板部分の厚さＴＨ１がそのように選択されているからである。

図１３は、図１１の第２支持部材１２４の部分を拡大した模式的斜視図である。
図１１では煩雑となるので説明を省略したが、第２支持部材１２４において第３支持部材１２６に接触する部分は、防振部材ＥＬ２として形成されている。これは、傾斜磁場コイルユニット３３から伝播する振動が第３支持部材１２６を介して第１支持部材１２２に伝播することを防止するためである。

ここでは一例として、防振部材ＥＬ２は、横断面（設置時におけるＸ−Ｙ平面）がＬ字状に形成されており、図１３におけるハッチングで塗り潰した領域である。
前述のネジ穴１２４ｅは、開口側が防振部材ＥＬ２のみを挿通し、開口側以外の部分は、第２支持部材１２４の金属部分のみを挿通するように形成されている。

ネジ穴１２４ａ〜１２４ｄは、第２支持部材１２４における金属部分のみを挿通するように形成される。
防振部材ＥＬ２は、ゴムなどの弾力性を有する素材で形成される。第２支持部材１２４における、防振部材ＥＬ２以外の部分は、前述のようにステンレスなどで形成される。

図１４は、第３支持部材１２６が第１支持部材１２２及び第２支持部材１２４から離れた状態を示す模式的斜視図である。
図１５は、図１４の状態から第３支持部材１２６を第１支持部材１２２及び第２支持部材１２４に固定後、ＲＦコイルユニット３４を第３支持部材１２６上に固定した状態を示す模式的斜視図である。

図１４及び図１５において、第３支持部材１２６の輪郭は太線で示し、第３支持部材１２６の輪郭の隠れ線は破線で示し、第１支持部材１２２及び第２支持部材１２４の輪郭の隠れ線は一点鎖線で示す。

以下、図１４及び図１５を参照しながら、第３支持部材１２６の構造及び固定方法の一例について説明する。

図１４に示すように、第３支持部材１２６は、設置時におけるＸ−Ｙ平面の横断面がどこでも同じになるように形成されている（ネジ穴１２６ｂ、１２６ｅ、１２６ｇの部分を除く）。第３支持部材１２６における略直方体部分の上端（設置時におけるＹ軸方向の上側）は、幅広に形成されており、円筒の側面状に面取りされている。これは、円筒状であるＲＦコイルユニット３４の外周面に密着させるためである。

第３支持部材１２６の上端には、設置時においてＲＦコイルユニット３４のネジ穴３４ｂ（図１５参照）に重なる位置に、設置時の鉛直方向（Ｙ軸方向）に沿ったネジ穴１２６ｂが形成されている。

また、第３支持部材１２６は、設置時において第２支持部材１２４のネジ穴１２４ｅが形成された面に重なる部分が突出しており、その突出部分にネジ穴１２６ｅが形成されている。

ネジ穴１２６ｅには、設置時において、第２支持部材１２４のネジ穴１２４ｅに重なる位置に、設置時の鉛直方向に沿って形成されている。
また、第３支持部材１２６は、設置時における鉛直方向下側に、ネジ穴１２６ｇが形成されている。

ネジ穴１２６ｇは、設置時において第１支持部材１２２のネジ穴１２２ｇに重なる位置に、設置時のＸ軸方向に形成されている。

従って、設置時には、４つのネジ１２４ｇにより互いに固定された第１支持部材１２２及び第２支持部材１２４に対して、以下のように第３支持部材１２６の位置合わせがされる。即ち、ネジ穴１２６ｇ及びネジ穴１２２ｇが合致するように、且つ、ネジ穴１２６ｅ及びネジ穴１２４ｅが合致するように、位置合わせがされる。

この状態では、第３支持部材１２６におけるネジ穴１２６ｅが形成された突出部分の底面が第２支持部材１２４の防振部材ＥＬ２の上面に密着し、防振部材Ｅｌ１、ＥＬ２が含まれる第１支持部材１２２及び第２支持部材１２４の各側面と、第３支持部材１２６の側面とが密着する。

上記のように位置合わせがされた状態で、ネジ穴１２６ｇ及びネジ穴１２２ｇを挿通するようにネジ１２６ｆがＸ軸方向に挿入及び固定され、ネジ穴１２６ｅ及びネジ穴１２４ｅを挿通するようにネジ１２６ｄが鉛直方向に挿入及び固定される（図１５参照）。

これにより、第１支持部材１２２及び第２支持部材１２４に対して、第３支持部材１２６が固定される。この状態では、第３支持部材１２６と第２支持部材１２４との接触部分は、防振部材ＥＬ２のみとなるため、傾斜磁場コイルユニット３３の震動が第２支持部材１２４を介して第３支持部材１２６に伝播することは、殆どない。

図１５に示すように、ここでは一例として、ＲＦコイルユニット３４は、外周部のみ軸長が長く、円筒状の突出部３４ａとして形成されている。これは、第３支持部材１２６を固定する際のネジ１２６ａの差し込み領域を確保するために、外周のみ突出させたものである。

ＲＦコイルユニット３４の突出部３４ａには、設置時において第３支持部材１２６のネジ穴１２６ｂに重なる位置に、ネジ穴３４ｂが形成されている。

設置時において、ＲＦコイルユニット３４は、第１支持部材１２２、第２支持部材１２４、第３支持部材１２６が互いに静磁場磁石３１の端面上で互いに結合及び固定後、第３支持部材１２６の上面に載せられる。このとき、ガントリ３０の入口側及び奥側にそれぞれ配置される２つの傾斜磁場コイル保持具１００Ａと、ＲＦコイルユニット３４との間で、以下の４カ所の位置合わせがされる。

即ち、２つの傾斜磁場コイル保持具１００Ａの各第３支持部材１２６の合計４つのネジ穴１２６ｂと、ＲＦコイルユニット３４の４つのネジ穴３４ｂとがそれぞれ重なるように位置合わせがされる。そして、４つのネジ１２６ａにより、ＲＦコイルユニット３４は計４つの第３支持部材１２６に対して固定される。

以上の傾斜磁場コイル保持具１００Ａを用いた傾斜磁場コイルユニット３３及びＲＦコイルユニット３４の設置方法を始めから整理すると、例えば以下のようになる。
まず、静磁場磁石３１の内筒上に防振シート３２が敷かれ、その上に傾斜磁場コイルユニット３３が載置される。

次に、２つの傾斜磁場コイル保持具１００Ａの各第１支持部材１２２が、静磁場磁石３１の両側の端面にそれぞれ固定される。具体的には、各傾斜磁場コイル保持具１００Ａにおいて、２つの挿通口１２２ｆに２つの球面軸受１１０がそれぞれ前述のように嵌合され、１つの挿通口１２２ｈに１つの球面軸受１１０が前述のように嵌合される。

この状態で、端面のプレート３１ａに対して、４つの軸受固定具ＦＸにより２つの球面軸受１１０が前述のようにしてそれぞれ固定され、端面のプレート３１ｂに対して、２つの軸受固定具ＦＸにより１つの球面軸受１１０が前述のようにしてそれぞれ固定される。

このとき、プレート３１ａ、３１ｂの表面が完全に同一平面上になくとも、球面軸受１１０による固定なので、多少の歪みに対しては、応力を発生させることなく各第１支持部材１２２を固定できる。

次に、静磁場磁石３１の両側の端面に固定された各第１支持部材１２２上に、各第２支持部材１２４が前述のように４つずつのネジ１２４ｇによりネジ止め固定される。
この後、双方のネジ穴１２４ｆに対して、傾斜磁場コイルユニット３３をＺ軸方向に挟むように押しネジ１２４ｈが挿入及び固定される。

次に、静磁場磁石３１の両側の端面に固定された各第１支持部材１２２及び第２支持部材１２４に対して、各第３支持部材１２６が前述のように固定される。
次に、突出部３４ａが第３支持部材１２６の上面に載せられるように、ＲＦコイルユニット３４が計４つの第３支持部材１２６上に載置される。

この後、ＲＦコイルユニット３４は、傾斜磁場コイルユニット３３に対しては浮上状態で、前述のように第３支持部材１２６に対して固定される。
以上が設置方法の一例である。

図１６は、第１の実施形態のＭＲＩ装置１０Ａの全体構成の一例を示すブロック図である。ここでは一例として、ＭＲＩ装置１０Ａの構成要素を寝台ユニット２０、ガントリ３０、制御装置４０の３つに分けて説明する。

第１に、寝台ユニット２０は、寝台２１と、天板２２と、寝台２１内に配置される天板移動機構２３とを有する。天板２２の上面には、被検体Ｐが載置される。また、天板２２内には、被検体ＰからのＭＲ信号を検出する受信ＲＦコイル２４が配置される。さらに、天板２２の上面には、装着型のＲＦコイル装置８０が接続される接続ポート２５が複数配置される。

寝台２１は、天板２２を水平方向（Ｚ軸方向）に移動可能に支持する。天板移動機構２３は、天板２２がガントリ３０外に位置する場合に、寝台２１の高さを調整することで天板２２の鉛直方向の位置を調整する。また、天板移動機構２３は、天板２２を水平方向に移動させることで天板２２をガントリ３０内に入れ、撮像後には天板２２をガントリ３０外に出す。

第２に、ガントリ３０は、例えば円筒状に構成され、撮像室に設置される。ガントリ３０は、前述のように、静磁場磁石３１と、傾斜磁場コイルユニット３３と、ＲＦコイルユニット３４と、２つの傾斜磁場コイル保持具１００Ａとを有する。

静磁場磁石３１は、例えば超伝導コイルであり、後述の制御装置４０の静磁場電源４２から供給される電流により、撮像空間に静磁場を形成する。撮像空間とは例えば、被検体Ｐが置かれて、静磁場が印加されるガントリ３０内の空間を意味する。なお、静磁場電源４２を設けずに、静磁場磁石３１を永久磁石で構成してもよい。

傾斜磁場コイルユニット３３は、Ｘ軸傾斜磁場コイル３３ｘと、Ｙ軸傾斜磁場コイル３３ｙと、Ｚ軸傾斜磁場コイル３３ｚとを有する。

Ｘ軸傾斜磁場コイル３３ｘは、後述のＸ軸傾斜磁場電源４６ｘから供給される電流に応じたＸ軸方向の傾斜磁場Ｇｘを撮像領域に形成する。同様に、Ｙ軸傾斜磁場コイル３３ｙは、後述のＹ軸傾斜磁場電源４６ｙから供給される電流に応じたＹ軸方向の傾斜磁場Ｇｙを撮像領域に形成する。同様に、Ｚ軸傾斜磁場コイル３３ｚは、後述のＺ軸傾斜磁場電源４６ｚから供給される電流に応じたＺ軸方向の傾斜磁場Ｇｚを撮像領域に形成する。

そして、スライス選択方向傾斜磁場Ｇｓｓ、位相エンコード方向傾斜磁場Ｇｐｅ、及び、読み出し方向（周波数エンコード方向）傾斜磁場Ｇｒｏは、装置座標系の３軸方向の傾斜磁場Ｇｘ、Ｇｙ、Ｇｚの合成により、任意の方向に設定可能である。

上記撮像領域は、例えば、１画像又は１セットの画像の生成に用いられるＭＲ信号の収集範囲の少なくとも一部であって、画像となる領域である。撮像領域は例えば、撮像空間の一部として装置座標系で３次元的に規定される。例えば折り返しアーチファクトを防止するために、画像化される領域よりも広範囲でＭＲ信号が収集される場合、撮像領域はＭＲ信号の収集範囲の一部である。一方、ＭＲ信号の収集範囲の全てが画像となり、ＭＲ信号の収集範囲と撮像領域とが合致する場合もある。また、上記「１セットの画像」は、例えばマルチスライス撮像などのように、１のパルスシーケンスで複数画像のＭＲ信号が一括的に収集される場合の複数画像である。

ＲＦコイルユニット３４は、ここでは一例として、ＲＦパルスの送信及びＭＲ信号の受信を兼用する全身用コイルを含む。ＲＦコイルユニット３４内には、ＲＦパルスの送信のみを行う送信ＲＦコイルをさらに含めてもよい。

第３に、制御装置４０は、静磁場電源４２と、傾斜磁場電源４６と、ＲＦ送信器４８と、ＲＦ受信器５０と、シーケンスコントローラ５８と、演算装置６０と、入力装置７２と、表示装置７４と、記憶装置７６とを有する。

傾斜磁場電源４６は、Ｘ軸傾斜磁場電源４６ｘと、Ｙ軸傾斜磁場電源４６ｙと、Ｚ軸傾斜磁場電源４６ｚとを有する。Ｘ軸傾斜磁場電源４６ｘ、Ｙ軸傾斜磁場電源４６ｙ、Ｚ軸傾斜磁場電源４６ｚは、傾斜磁場Ｇｘ、Ｇｙ、Ｇｚを形成するための各電流を、Ｘ軸傾斜磁場コイル３３ｘ、Ｙ軸傾斜磁場コイル３３ｙ、Ｚ軸傾斜磁場コイル３３ｚにそれぞれ供給する。

ＲＦ送信器４８は、シーケンスコントローラ５８から入力される制御情報に基づいて、核磁気共鳴を起こすラーモア周波数のＲＦ電流パルスを生成し、これをＲＦコイルユニット３４に送信する。このＲＦ電流パルスに応じたＲＦパルスが、ＲＦコイルユニット３４から被検体Ｐに送信される。

ＲＦコイルユニット３４の全身用コイル、受信ＲＦコイル２４は、被検体Ｐ内の原子核スピンがＲＦパルスによって励起されることで発生したＭＲ信号を検出し、検出されたＭＲ信号は、ＲＦ受信器５０に入力される。

ＲＦ受信器５０は、受信したＭＲ信号に所定の信号処理を施した後、Ａ／Ｄ(analog to digital)変換を施すことで、デジタル化されたＭＲ信号の複素データである生データを生成する。ＲＦ受信器５０は、ＭＲ信号の生データを演算装置６０（の画像再構成部６２）に入力する。

シーケンスコントローラ５８は、演算装置６０の指令に従って、傾斜磁場電源４６、ＲＦ送信器４８及びＲＦ受信器５０の駆動に必要な制御情報を記憶する。ここでの制御情報とは、例えば、傾斜磁場電源４６に印加すべきパルス電流の強度や印加時間、印加タイミング等の動作制御情報を記述したシーケンス情報である。

シーケンスコントローラ５８は、記憶した所定のシーケンスに従って傾斜磁場電源４６、ＲＦ送信器４８及びＲＦ受信器５０を駆動させることで、傾斜磁場Ｇｘ、Ｇｙ、Ｇｚ及びＲＦパルスを発生させる。

演算装置６０は、システム制御部６１と、システムバスＳＢと、画像再構成部６２と、画像データベース６３と、画像処理部６４とを有する。

システム制御部６１は、本スキャンの撮像条件の設定、撮像動作及び撮像後の画像表示において、システムバスＳＢ等の配線を介してＭＲＩ装置１０Ａ全体のシステム制御を行う。

上記撮像条件とは例えば、どの種類のパルスシーケンスにより、どのような条件でＲＦパルス等を送信し、どのような条件で被検体ＰからＭＲ信号を収集するかを意味する。撮像条件の例としては、撮像空間内の位置的情報としての撮像領域、スライス数、撮像部位、スピンエコー法やパラレルイメージング等のパルスシーケンスの種類などが挙げられる。上記撮像部位とは、例えば、頭部、胸部などの被検体Ｐのどの部分を撮像領域として画像化するかを意味する。

上記「本スキャン」は、Ｔ１強調画像などの、目的とする診断画像の撮像のためのスキャンであって、位置決め画像用のＭＲ信号収集のスキャンや、較正スキャンを含まないものとする。
スキャンとは、ＭＲ信号の収集動作を指し、画像再構成を含まないものとする。

較正スキャンとは例えば、本スキャンの撮像条件の内の未確定のものや、画像再構成処理や画像再構成後の補正処理に用いられる条件やデータを決定するために、本スキャンとは別に行われるスキャンを指す。較正スキャンの例としては、本スキャンでのＲＦパルスの中心周波数を算出するシーケンス等がある。
プレスキャンとは、較正スキャンの内、本スキャン前に行われるものを指す。

また、システム制御部６１は、撮像条件の設定画面情報を表示装置７４に表示させ、入力装置７２からの指示情報に基づいて撮像条件を設定し、設定した撮像条件をシーケンスコントローラ５８に入力する。また、システム制御部６１は、撮像後には、生成された表示用画像データが示す画像を表示装置７４に表示させる。

入力装置７２は、撮像条件や画像処理条件を設定する機能をユーザに提供する。
画像再構成部６２は、位相エンコードステップ数及び周波数エンコードステップ数に応じて、ＲＦ受信器５０から入力されるＭＲ信号の生データをｋ空間データとして配置及び保存する。ｋ空間とは、周波数空間の意味である。画像再構成部６２は、ｋ空間データに２次元又は３次元のフーリエ変換を含む画像再構成処理を施すことで、被検体Ｐの画像データを生成する。画像再構成部６２は、生成した画像データを画像データベース６３に保存する。

画像処理部６４は、画像データベース６３から画像データを取り込み、これに所定の画像処理を施し、画像処理後の画像データを表示用画像データとして記憶装置７６に保存する。

記憶装置７６は、上記の表示用画像データに対し、その表示用画像データの生成に用いた撮像条件や被検体Ｐの情報（患者情報）等を付帯情報として付属させて記憶する。

なお、演算装置６０、入力装置７２、表示装置７４、記憶装置７６の４つを１つのコンピュータとして構成し、例えば制御室に設置してもよい。
また、上記説明では、ＭＲＩ装置１０Ａの構成要素をガントリ３０、寝台ユニット２０、制御装置４０の３つに分類したが、これは一解釈例にすぎない。例えば、天板移動機構２３は、制御装置４０の一部として捉えてもよい。

或いは、ＲＦ受信器５０は、ガントリ３０外ではなく、ガントリ３０内に配置されてもよい。この場合、例えばＲＦ受信器５０に相当する電子回路基盤がガントリ３０内に配設される。そして、受信ＲＦコイル２４等によって電磁波からアナログの電気信号に変換されたＭＲ信号は、当該電子回路基盤内のプリアンプで増幅され、デジタル信号としてガントリ３０外に出力され、画像再構成部６２に入力される。ガントリ３０外への出力に際しては、例えば光通信ケーブルを用いて光デジタル信号として送信すれば、外部ノイズの影響が軽減されるので望ましい。

図１７は、第１の実施形態のＭＲＩ装置１０Ａの動作の流れの一例を示すフローチャートである。以下、図１７に示すステップ番号に従って、ＭＲＩ装置１０Ａの動作の一例を説明する。

［ステップＳ１］システム制御部６１は、入力装置７２を介してＭＲＩ装置１０に対して入力された撮像条件に基づいて、本スキャンの撮像条件の一部を設定する。この後、ステップＳ２に進む。

［ステップＳ２］システム制御部６１は、ＭＲＩ装置１０Ａの各部を制御することでプレスキャンを実行させ、その実行結果に基づいて、ＲＦパルスの中心周波数等の本スキャンの未設定の撮像条件を設定する。

なお、プレスキャンの実行時には、傾斜磁場Ｇｘ、Ｇｙ、Ｇｚを形成するための各電流がＸ軸傾斜磁場コイル３３ｘ、Ｙ軸傾斜磁場コイル３３ｙ、Ｚ軸傾斜磁場コイル３３ｚに流れるため、傾斜磁場コイルユニット３３が振動する。

しかし、傾斜磁場コイルユニット３３は、上述の傾斜磁場コイル保持具１００ＡによりＺ軸方向に挟まれるように保持されているので、傾斜磁場コイルユニット３３の振動が静磁場磁石３１側に伝播することは、抑制される。この後、ステップＳ３に進む。

［ステップＳ３］システム制御部６１は、ＭＲＩ装置１０Ａの各部を制御することで、本スキャンを実行させる。具体的には、静磁場電源４２により励磁された静磁場磁石３１によって、ステップＳ２以前から撮像空間に静磁場が形成されている。そして、入力装置７２からシステム制御部６１に撮像開始指示が入力されると、システム制御部６１は、パルスシーケンスを含む撮像条件をシーケンスコントローラ５８に入力する。

シーケンスコントローラ５８は、入力されたパルスシーケンスに従って傾斜磁場電源４６、ＲＦ送信器４８及びＲＦ受信器５０を駆動させることで、被検体Ｐの撮像部位が含まれる撮像領域に傾斜磁場を形成させると共に、ＲＦコイルユニット３４からＲＦパルスを発生させる。

このため、被検体Ｐ内の核磁気共鳴により生じたＭＲ信号が受信ＲＦコイル２４、ＲＦコイル装置８０等により検出されて、ＲＦ受信器５０に入力される。ＲＦ受信器５０は、ＭＲ信号に前述の処理を施すことでＭＲ信号の生データを生成し、ＭＲ信号の生データを画像再構成部６２に入力する。画像再構成部６２は、ＭＲ信号の生データをｋ空間データとして配置及び保存する。

なお、上記本スキャンの実行時には、プレスキャン実行時と同様に傾斜磁場コイルユニット３３が振動するが、傾斜磁場コイルユニット３３の振動が静磁場磁石３１側に伝播することは、傾斜磁場コイル保持具１００Ａにより抑制される。この後、ステップＳ４に進む。

［ステップＳ４］画像再構成部６２は、ｋ空間データにフーリエ変換を含む画像再構成処理を施すことで画像データを再構成し、得られた画像データを画像データベース６３に保存する。画像処理部６４は、画像データベース６３から画像データを取り込み、これに所定の画像処理を施すことで２次元の表示用画像データを生成し、この表示用画像データを記憶装置７６に保存する。この後、システム制御部６１は、表示用画像データが示す画像を表示装置７４に表示させる。以上が本実施形態のＭＲＩ装置１０Ａの動作説明である。

以下、従来技術と、第１の実施形態との違いについて説明する。
球面軸受１１０を用いない場合を考える。この場合、第１支持部材１２２の部品の寸法及び平面性の精度と、静磁場磁石３１の真空容器の端板、プレート３１ａ、３１ｂの各平面性とが極めて良好な場合を除いて、プレート３１ａ、３１ｂに対して第１支持部材１２２を平行に、且つ、左右均等に取り付けることが困難である。

プレート３１ａ、３１ｂに対して第１支持部材１２２を平行に、且つ、左右均等に固定できないと、第１支持部材１２２と、プレート３１ａ、３１ｂとを連結する部品に力のモーメントがかかる。

そこで第１の実施形態では、その力のモーメントを殺すために、球面軸受１１０を用いる。第１支持部材１２２の３カ所に嵌合される各球面軸受１１０のシャフト１１０ａは、第１支持部材１２２の固定時において、プレート３１ａ、３１ｂ、及び、第１支持部材１２２の各表面同士の僅かな傾きに応じて傾くことができる。外輪１１０ｂの球面状の内面と、フランジＦＲの球面状の側面とが滑るからである。これにより、第１支持部材１２２の固定後において、第１支持部材１２２に対して応力が発生しづらくなる。

また、第１支持部材１２２がプレート３１ａ、３１ｂから距離ＤＤだけ離れるように、各軸受固定具ＦＸの厚みＴＨ１が選択される。傾斜磁場コイル保持具１００Ａの主要部分である第１支持部材１２２を静磁場磁石３１の真空容器の端板から離すことで、力のモーメントが抑制され、静磁場磁石３１の真空容器が従来構造よりも保護される。

さらに、第１支持部材１２２は、３箇所において静磁場磁石３１の端面に対して固定される。４点固定だと、４カ所を完全に同一平面上に位置させることが難しいが、３点固定であれば、これら３点は必然的に同一平面上になり、第１支持部材１２２をプレート３１ａ、３１ｂに対して安定的に固定できる。

即ち、第１の実施形態では、傾斜磁場コイル保持具１００Ａと、静磁場磁石３１の端板側（プレート３１ａ、３１ｂ側）とを距離ＤＤだけ離すことで力のモーメントを抑制し、さらに、結合部分に球面軸受１１０を用いることで局所応力を緩和する。

これにより、輸送時の揺れによる振動や、撮像時における傾斜磁場コイルユニット３３の振動がガントリ３０の各部に伝播することを防止できる。この結果、従来よりも静音化されたＭＲＩ装置１０Ａを提供できる。

以上説明した実施形態によれば、ＭＲＩにおいて、傾斜磁場コイルユニット３３の振動が静磁場磁石３１側に伝播することを防止する新技術を提供することができる。

＜第２の実施形態＞
第２の実施形態のＭＲＩ装置は、第１の実施形態の２つの傾斜磁場コイル１００Ａに代えて、２つの傾斜磁場コイル保持具１００Ｂを有する。各傾斜磁場コイル保持具１００Ｂは、第３支持部材１２６’と、ＲＦコイルユニット３４との結合部分に防振構造が介在する点を除いて、第１の実施形態の傾斜磁場コイル保持具１００Ａと同様である。

便宜上、第２の実施形態のＭＲＩ装置の符号を１０Ｂとするが、違いは上記の点のみなので、ＭＲＩ装置１０Ｂの全体図は省略する。従って、第１の実施形態との違いのみを説明する。

図１８は、第２の実施形態の傾斜磁場コイル保持具１００Ｂの第３支持部材１２６’の構造の一例を示す断面模式図である。

図１９は、図１８の第３支持部材１２６’と、ＲＦコイルユニット３４との結合部分の模式的な分解斜視図である。図１８、図１９において、第３支持部材１２６’における防振部材ＥＬ３より下側の金属部分の輪郭は太線で示し、当該金属部分の輪郭の隠れ線は一点鎖線で示す。

以下、図１８、図１９を参照しながら、第３支持部材１２６’と、ＲＦコイルユニット３４との結合構造について説明する。

図１８に示すように、傾斜磁場コイル保持具１００Ｂは、ＲＦコイルユニット３４の固定用に、ボルトＶＴ、ワッシャーＷＡ、スリーブＳＬ、防振部材ＥＬ３、ＥＬ４を有する。また、傾斜磁場コイル保持具１００Ｂの第３支持部材１２６’の輪郭は、第１の実施形態と同様であり、第３支持部材１２６’は第１の実施形態と同様にして第１支持部材１２２及び第２支持部材１２４に対して結合される。

図１９に示すように、第３支持部材１２６’の上面には、ボルトＶＴの先端側とほぼ同径の円筒状の固定穴ＨＨ１が形成されている。

防振部材ＥＬ３、ＥＬ４は、ゴムなどで形成されており、ＲＦコイルユニット３４と第３支持部材１２６’との間の震動伝播を絶縁する。

防振部材ＥＬ３は、例えばシート状であって第３支持部材１２６’の上面に接合されている。防振部材ＥＬ３には、固定穴ＨＨ１に重なる位置に、円筒状の固定穴ＨＨ２が形成されている。
防振部材ＥＬ４は、「リング部分」と、「このリング部分よりも外径が小さいものの、内径が等しい円筒部分」とを接合した形状である。

防振部材ＥＬ３の固定穴ＨＨ２の直径は、防振部材ＥＬ４の円筒部分の外径ＤＩ１（図１９参照）に等しいか、この外径ＤＩ１よりも若干大きい。ここでは一例として、防振部材ＥＬ３は、第３支持部材１２６’の上面に接合されているので、防振部材ＥＬ３は第３支持部材１２６’の一部として解釈する。

ＲＦコイルユニット３４の突出部３４ａには、固定穴ＨＨ２に重なる位置に円筒状の固定穴ＨＨ３が形成されている。突出部３４ａの固定穴ＨＨ３の直径は、防振部材ＥＬ４の円筒部分の外径ＤＩ１に等しい。

かかる構造では、傾斜磁場コイルユニット３３及びＲＦコイルユニット３４の設置方法は、例えば以下のようになる。

まず、第１支持部材１２２がプレート３１ａ、３１ｂに対して固定され、第１支持部材１２２上に各第２支持部材１２４が固定されてから、押しネジ１２４ｈにより傾斜磁場コイルユニット３３が保持され、第１支持部材１２２及び第２支持部材１２４に対して、第３支持部材１２６’が固定される。ここまでは第１の実施形態と同様である。

次に、突出部３４ａが防振部材ＥＬ３上に載せられるように、ＲＦコイルユニット３４が計４つの第３支持部材１２６’の上に載置される。このとき、各固定穴ＨＨ１、ＨＨ２、ＨＨ３が同軸上になるように位置合わせがされる。

位置合わせがされた状態で、各固定穴ＨＨ２、ＨＨ３を挿通するように防振部材ＥＬ４がそれぞれ挿入される。

次に、各防振部材ＥＬ４の開口部分にスリーブＳＬがそれぞれ挿入される。ここで、スリーブＳＬは円筒状であり、その内径が第３支持部材１２６’の固定穴ＨＨ１の直径よりも大きい。従って、スリーブＳＬは、固定穴ＨＨ２、ＨＨ３を挿通するが、第３支持部材１２６’の金属部分より奥には入らない。

次に、スリーブＳＬ上にワッシャーＷＡが載せられた状態で、ワッシャーＷＡ、スリーブＳＬを挿通するように、ボルトＶＴが固定穴ＨＨ１の奥まで挿入される。
これにより、ＲＦコイルユニット３４は、第３支持部材１２６’に対して固定される。

以上、第２の実施形態においても、第１の実施形態と同様の効果が得られる。
さらに、第２の実施形態では、第３支持部材１２６’の先端に防振部材ＥＬ３、ＥＬ４等による震動絶縁構造を有するので、傾斜磁場コイルユニット３３の震動がＲＦコイルユニット３４側に伝播することをより確実に防止できる。

＜第３の実施形態＞
図２０は、第３の実施形態のＭＲＩ装置のガントリ３０’の平面模式図である。第３の実施形態のＭＲＩ装置のガントリ３０’は、第２の実施形態の２つの傾斜磁場コイル保持具１００Ｂに代えて、２つの傾斜磁場コイル保持具１００Ｃを有する。

第３の実施形態は、傾斜磁場コイルユニット３３’が傾斜磁場コイル保持具１００Ｃの第２支持部材１２４’によって静磁場磁石３１に対して浮上状態で支持される点を除いて、第２の実施形態と同様である。従って、第３の実施形態では、第１及び第２の実施形態の防振シート３２は省略される。

なお、便宜上、第３の実施形態のＭＲＩ装置の符号を１０Ｃとするが、違いは上記の点のみなので、ＭＲＩ装置１０Ｃの全体図は省略する。従って、第２の実施形態との違いのみを説明する。

浮上状態での固定を実現するため、第３の実施形態のＭＲＩ装置１０Ｃの傾斜磁場コイルユニット３３’は、ＲＦコイルユニット３４と同様に、その容器の外周部が突出している。即ち、傾斜磁場コイルユニット３３’は、図２０におけるハッチングの濃い環状領域と、ハッチングの薄い環状領域とを合わせた領域であり、その容器の外周側が軸長の大きい突出部３３ａ（ハッチングの濃い環状領域）として形成されている。

次の図２１で説明するように、この突出部３３ａに形成された固定穴を介して、傾斜磁場コイルユニット３３’は、傾斜磁場コイル保持具１００Ｃの第２支持部材１２４’に対してボルトで固定される。

図２１は、第３の実施形態の傾斜磁場コイル保持具１００Ｃの第２支持部材１２４’の構造の一例を示す断面模式図である。図２１において、第２支持部材１２４’における防振部材ＥＬ５よりも鉛直方向に下側の金属部分の輪郭は、太線で示す。

図２１に示すように、傾斜磁場コイルユニット３３’と、第２支持部材１２４’との結合構造は、第２の実施形態におけるＲＦコイルユニット３４と、第３支持部材１２６’の結合構造と同様である。具体的には、傾斜磁場コイル保持具１００Ｃは、傾斜磁場コイルユニット３３’の支持及び固定用に、ボルトＶＴ２、ワッシャーＷＡ２、スリーブＳＬ２、防振部材ＥＬ５、ＥＬ６を有する。

また、第２支持部材１２４’の輪郭は、先端部分（固定時における傾斜磁場コイルユニット３３’側）を除いて、第１の実施形態と同様であり、第２支持部材１２４’は第１の実施形態と同様にして第１支持部材１２２に対して結合される。第２支持部材１２４’の先端部分は、第３支持部材１２６’の先端部分と同様の防振構造であり、傾斜磁場コイルユニット３３’の突出部３３ａの円筒状の外周面に密着する形状に面取りされている。

そして、第２支持部材１２４’の上面には、ボルトＶＴ２の先端側とほぼ同径の円筒状の固定穴（図示せず）が形成されている。

防振部材ＥＬ５、ＥＬ６は、ゴムなどで形成されており、傾斜磁場コイルユニット３３’と第２支持部材１２４’との間の震動伝播を絶縁する。防振部材ＥＬ５は、例えばシート状であり、第２支持部材１２４’の上面に接合されている。防振部材ＥＬ５には、第２支持部材１２４’の上面の固定穴に重なる位置に、円筒状の固定穴（図示せず）が形成されている。防振部材ＥＬ６は、第２の実施形態の防振部材ＥＬ４と同様の構造である。

また、傾斜磁場コイルユニット３３’の突出部３４ａには、防振部材ＥＬ５の固定穴に重なる位置に円筒状の固定穴（図示せず）が形成されている。

かかる構造では、傾斜磁場コイルユニット３３及びＲＦコイルユニット３４の設置方法は、例えば以下のようになる。
まず、第１支持部材１２２がプレート３１ａ、３１ｂに対して固定され、第１支持部材１２２上に各第２支持部材１２４が固定される。

次に、突出部３３ａが防振部材ＥＬ５上に載せられるように、傾斜磁場コイルユニット３３’が計４つの第２支持部材１２４’の上に載置される。このとき、突出部３３ａの各固定穴と、第２支持部材１２４’上面の固定穴とが互いに同軸上になるように位置合わせがされる。

位置合わせされた状態で、これら固定穴を挿通するように防振部材ＥＬ６がそれぞれ挿入される。
次に、各防振部材ＥＬ６の開口部分にスリーブＳＬ２がそれぞれ挿入される。

次に、スリーブＳＬ２上にワッシャーＷＡ２が載せられた状態で、ワッシャーＷＡ２、スリーブＳＬ２を挿通するように、ボルトＶＴ２が第２支持部材１２４’の固定穴の奥まで挿入される。これにより、傾斜磁場コイルユニット３３’は、第２支持部材１２４’に対して固定される。

この後、第２の実施形態と同様にして、第３支持部材１２６’が第１支持部材１２２及び第２支持部材１２４’に対して固定された後、ＲＦコイルユニット３４が固定される。

以上、第３の実施形態においても、第２の実施形態と同様の効果が得られる。
さらに、第３の実施形態では、静磁場磁石３１に対して浮上状態で傾斜磁場コイルユニット３３’を固定することができる。

また、傾斜磁場コイルユニット３３’を直接支持する第２支持部材１２４’の先端には防振部材ＥＬ５、ＥＬ６等による震動絶縁構造を有するので、傾斜磁場コイルユニット３３の震動がＲＦコイルユニット３４側に伝播することをより確実に防止できる。

＜実施形態の補足事項＞
［１］第３の実施形態の傾斜磁場コイル保持具１００Ｃでは、第１支持部材１２２において、第２支持部材１２４‘との接合部分が防振部材ＥＬ１として形成されている例を述べた。本発明の実施形態は、かかる態様に限定されるものではない。

第３の実施形態のように、第２支持部材１２４’の先端に防振部材ＥＬ５、ＥＬ６を有することで傾斜磁場コイルユニット３３’に対する震動絶縁が実現されている場合、二重に振動絶縁をしなくてもよい。従って、第３の実施形態の変形例の傾斜磁場コイル保持具１００Ｄとして、防振部材ＥＬ１を省き、第１支持部材全体をステンレスなどの金属やＦＲＰで形成してもよい。

図２２は、第３の実施形態の変形例に係る傾斜磁場コイル保持具１００Ｄの構造の一例を示す断面模式図である。
図２２において、第１支持部材１２２’は、右下がりの斜線領域である。傾斜磁場コイルユニット３３’の振動が小さく設計されたＭＲＩ装置の場合にも、上記同様に防振部材ＥＬ１を省略してもよい。

［２］第３の実施形態では、ＲＦコイルユニット３３との振動絶縁を実現するために、第３支持部材１２６’の先端にワッシャーＷＡ、スリーブＳＬ、防振部材ＥＬ３、ＥＬ４等が配置される例を述べた。本発明の実施形態は、かかる態様に限定されるものではなく、ＲＦコイルユニット３３との振動絶縁構造は必須ではない。例えば、第３の実施形態の傾斜磁場コイル保持具１００Ｃにおいて、第１の実施形態の第３支持部材１２６を第３支持部材１２６’の代わりに用いてもよい。

［３］上述した傾斜磁場コイル保持具１００Ａ〜１００Ｄの各部の構造は、例示にすぎず、ガントリ３０の各部の構造に応じて、適切に変更することができる。
図２３は、第１の実施形態の変形例に係る傾斜磁場コイル保持具１００Ｅの構造の一例を示す平面模式図である。

この例では、傾斜磁場コイルユニット３３”において、シムトレイを挿入するための複数の挿入口３３ｓが突出している。この場合、第３支持部材１２６”は、挿入口３３ｓを避けるように折曲された輪郭である。第３支持部材１２６”が折曲している点を除いて、傾斜磁場コイル保持具１００Ｅは、第１の実施形態の傾斜磁場コイル保持具１００Ａと同様の構造である。

［４］静磁場磁石３１、傾斜磁場コイルユニット３３、ＲＦコイルユニット３４等のガントリ３０の主な構成要素が円筒状である例を説明したが、本発明の実施形態は、かかる態様に限定されるものではない。

例えば、撮像空間となる空洞部分の断面と、ガントリ全体の断面とが正方形状のガントリであってもよい。即ち、静磁場磁石の内側に傾斜磁場コイルユニットが配置される構造であれば、各部の形状を適切に変更することで、上記実施形態の傾斜磁場コイル保持具１００Ａ〜１００Ｅを適用可能である。

［５］静磁場磁石３１が超電導磁石として構成され、真空容器に収納される例を述べた。本発明の実施形態は、かかる態様に限定されるものではない。
上述した傾斜磁場コイル保持具１００Ａ〜１００Ｅは、永久磁石を容器に収納した形態の静磁場磁石であっても適用可能である。

［６］上記実施形態では、３カ所の球面軸受１１０を介して、静磁場磁石３１の端面に対して第１支持部材１２２が浮上状態で固定される例を述べた。本発明の実施形態は、かかる態様に限定されるものではない。

プレート３１ａ、３１ｂの各表面、及び、第１支持部材１２２における静磁場磁石３１側の面が完全に平らであって、プレート３１ａ、３１ｂの各表面と、第１支持部材１２２とを完全に平行な状態にできる精度でこれら部品が形成されている場合を考える。このような理想的な場合、３つの球面軸受１１０の代わりに、３つのピン（円筒棒）を介して、第１支持部材をプレート３１ａ、３１ｂ上に固定してもよい。

その場合、ピンの直径、及び、挿入口１２２ｆ、１２２ｈの直径を球面軸受１１０のシャフト１１０ａの円筒軸ＣＹの直径と同径とし、軸受固定具ＦＸを用いて、第１支持部材をプレート３１ａ、３１ｂ上に固定すればよい。

或いは、第１の実施形態の傾斜磁場コイル保持具１００Ａにおいて、図１０の第１支持部材１２２の挿通口１２２ｈに嵌合される球面軸受１１０のみを、すべり軸受けなどの他の軸受に代えてもよい。この場合、残り２カ所の軸受には球面軸受１１０が用いられるので、線対称性は維持される。

或いは、第１の実施形態の傾斜磁場コイル保持具１００Ａにおいて、図１１の挿通口１２２ｆと、反対側の挿通口１２２ｆ（線対称形状なので図示せず）に嵌合される軸受をすべり軸受けなどの他の軸受に代えてもよい。この場合、図１０の第１支持部材１２２の挿通口１２２ｈに嵌合される軸受のみが球面軸受１１０となり、線対称性は維持される。

即ち、３点固定において、３カ所とも球面軸受を用いることが効果面から最も望ましいが、少なくとも１カ所に球面軸受を用いることで、上述した効果がある程度得られる。以上の点は、他の実施形態の傾斜磁場コイル保持具１００Ｂ〜１００Ｅについても同様である。また、すべり軸受などの他の軸受が用いられる場合、前述同様、フランジの表面と、外輪の内面には、ノイズを抑制するために樹脂コーティングを施すことが望ましい。

［７］以上の説明では、傾斜磁場コイル保持具(gradient coil supporting implement)１００Ａ〜１００Ｅと記載したが、これは名称の一例にすぎない。傾斜磁場コイル保持具１００Ａ〜１００Ｅは、傾斜磁場コイル設置補助具(auxiliary instrument for setting a gradient coil)、或いは、傾斜磁場コイル取付具(gradient coil attachment tool)、と解釈してもよい。

［８］本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。

１０Ａ：ＭＲＩ装置，
２０：寝台ユニット，２２：天板，
３１：静磁場磁石，３３：傾斜磁場コイルユニット，３４：ＲＦコイルユニット，
４０：制御装置，６０：演算装置，１００Ａ〜１００Ｅ：傾斜磁場コイル取付具
１１０：球面軸受

Claims (13)

1. 磁気共鳴イメージング装置において静磁場磁石の内側に設置される傾斜磁場コイルユニットを保持する傾斜磁場コイル保持具であって、
   軸部分が前記静磁場磁石の端面に対して固定される３つの軸受と、
   ３つの前記軸受を介して前記静磁場磁石の端面に対して固定されると共に、前記傾斜磁場コイルユニットに対して部分的に当接されることで前記傾斜磁場コイルユニットを少なくとも水平方向に保持する取付本体部と
   を備え、
   前記取付本体部の一端側は、１カ所において前記軸受を介して前記静磁場磁石の端面の外周側に対して固定され、
   前記取付本体部の他端側は、２カ所においてそれぞれ前記軸受を介して前記静磁場磁石の端面の内周側に対して固定され、
   ３つの前記軸受の少なくとも１つは球面軸受である
   ことを特徴とする傾斜磁場コイル保持具。
2. 請求項１記載の傾斜磁場コイル保持具において、
   ３つの前記軸受の少なくとも２つは前記球面軸受であり、
   前記取付本体部は、３つの前記軸受を介して前記静磁場磁石の端面に対して固定される第１支持部材と、前記第１支持部材に固定される第２支持部材とを有し、
   前記第１支持部材は、一端側が前記静磁場磁石の端面の外周側に対して前記軸受を介して固定されると共に、他端側が２カ所においてそれぞれ前記球面軸受を介して前記静磁場磁石の端面の内周側に対して固定され、
   前記第２支持部材は、前記第１支持部材の他端側に固定され、一部が前記傾斜磁場コイルユニットに当接されることで前記傾斜磁場コイルユニットを少なくとも前記水平方向に保持する
   ことを特徴とする傾斜磁場コイル保持具。
3. 請求項２記載の傾斜磁場コイル保持具において、
   前記取付本体部は、前記第１支持部材の他端側に固定された防振部材をさらに有し、
   前記第２支持部材は、前記防振部材を介して前記第１支持部材の他端側に固定される
   ことを特徴とする傾斜磁場コイル保持具。
4. 請求項３記載の傾斜磁場コイル保持具において、
   前記第１支持部材の他端側に固定されると共に、前記傾斜磁場コイルユニットの内側に配置されるＲＦコイルユニットに当接されることで前記ＲＦコイルユニットを鉛直方向に支持する第３支持部材を前記取付本体部はさらに有する
   ことを特徴とする傾斜磁場コイル保持具。
5. 請求項４記載の傾斜磁場コイル保持具において、
   前記第３支持部材は、前記ＲＦコイルユニット側に固定された防振部材を含む
   ことを特徴とする傾斜磁場コイル保持具。
6. 請求項４記載の傾斜磁場コイル保持具において、
   前記取付本体部は、線対称の形状であることを特徴とする傾斜磁場コイル保持具。
7. 請求項４記載の傾斜磁場コイル保持具において、
   ３つの前記軸受の各々は、少なくとも一部が絶縁体で形成されており、前記静磁場磁石と前記取付本体部との間を電気的に絶縁する
   ことを特徴とする傾斜磁場コイル保持具。
8. 請求項１記載の傾斜磁場コイル保持具において、
   ３つの前記軸受は、全て前記球面軸受であることを特徴とする傾斜磁場コイル保持具。
9. 請求項８記載の傾斜磁場コイル保持具において、
   ３つの前記球面軸受の各々は、少なくとも一部が絶縁体で形成されており、前記静磁場磁石と前記取付本体部との間を電気的に絶縁する
   ことを特徴とする傾斜磁場コイル保持具。
10. 請求項１記載の傾斜磁場コイル保持具において、
    前記取付本体部は、線対称の形状であることを特徴とする傾斜磁場コイル保持具。
11. 請求項１記載の傾斜磁場コイル保持具において、
    ３つの前記軸受の各々は、少なくとも一部が絶縁体で形成されており、前記静磁場磁石と前記取付本体部との間を電気的に絶縁する
    ことを特徴とする傾斜磁場コイル保持具。
12. 請求項２記載の傾斜磁場コイル保持具において、
    前記第１支持部材の他端側に固定されると共に、前記傾斜磁場コイルユニットの内側に配置されるＲＦコイルユニットに当接されることで前記ＲＦコイルユニットを鉛直方向に支持する第３支持部材を前記取付本体部はさらに有する
    ことを特徴とする傾斜磁場コイル保持具。
13. 撮像空間に静磁場を印加する静磁場磁石と、
    前記静磁場磁石の内側に設置されると共に撮像領域に傾斜磁場を印加する傾斜磁場コイルユニットと、
    前記傾斜磁場コイルユニットを保持する請求項１記載の傾斜磁場コイル保持具と、
    核磁気共鳴を起こすＲＦパルスを前記撮像領域に送信するＲＦコイルユニットと、
    前記傾斜磁場コイルユニット及び前記ＲＦコイルユニットを制御することで、前記撮像領域の被検体から核磁気共鳴信号を収集するパルスシーケンスを実行し、前記核磁気共鳴信号に基づいて画像データを再構成する制御装置と
    を備えることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。