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JP2014530805A - アジルサルタンの結晶形並びにその製造及び使用 - Google Patents

アジルサルタンの結晶形並びにその製造及び使用 Download PDF

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Abstract

本発明は、薬化学の分野に関する。本明細書に開示するのは、実質的に純粋であるアジルサルタンの結晶形である。当該結晶形は、結晶形A、結晶形B、結晶形C、結晶形D、結晶形E、結晶形F、結晶形G、結晶形H、結晶形I、結晶形J又は結晶形Kである。本願発明の実質的に純粋なアジルサルタンの結晶形は、一般に、高い溶解度、高いバイオアベイラビリティ、高い安定性、長期保存期間、及び良好な帯電防止特性などの良好な特性を有する。アジルサルタンの結晶形は、一般に、臨床収縮期血圧(SBP)及び平均24時間SBPの低減に関して優れた効能を発揮する。本明細書に開示するのは、アジルサルタンの実質的に純粋な結晶形の製造方法、当該結晶形を含む医薬組成物、並びにこれらの製造方法及び使用方法である。【選択図】図1

Description

(発明の技術分野)
本発明は、薬化学の分野に関する。本明細書に開示するのは、アジルサルタンの新規結晶形、該結晶形を含む医薬組成物、並びにその製造方法及び使用である。
アジルサルタンは、1−[[2′−(4,5−ジヒドロ−5−オキソ−1,2,4− オキサジアゾール−3−イル)[1,1′−ビフェニル−4−イル]メチル]−2−エトキシ−1H−ベンゾイミダゾール−7−カルボン酸としても知られており、経口投与により高血圧症を治療するための有望なアンジオテンシンΙΙレセプターアンタゴニストである。アジルサルタンは、以下の式(Ι)を有する:
Figure 2014530805
アジルサルタン(TAK−536)は、高血圧症を治療するためのアンジオテンシンΙΙレセプターアンタゴニストとして、日本の武田薬品工業株式会社(Takeda)で開発された。2011年3月、Takedaは、日本で新薬承認申請を提出した。アジルサルタンは、プロドラッグエステルまたはそのプロドラッグエステル塩形態、例えば、下記式(ΙΙ)を有するアジルサルタンメドキソミル、すなわち、(5-メチル-2-オキソ-1,3-ジオキソール-4-イル)メチル-2-エトキシ-1-([2'-(5-オキソ-4,5-ジヒドロ-1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)ビフェニル-4-イル]メチル)-1H-ベンズイミダゾール-7カルボキシレート、カリウム塩での投与用に調製することかできる。
Figure 2014530805
アジルサルタンメドキソミルは、成人高血圧症の1日1回経口治療について2011年2月にFDAに承認されて収載された。アジルサルタンメドキソミルは、単独で使用でき、又は他の降圧剤と組み合わせて使用することができる。
アジルサルタンは、Takedaにより中国特許出願CN 93100006.8(CN 1079966 A)において開示された。アジルサルタンの製造方法は、CN 93100006.8の明細書に開示されている。CN 93100006.8の実施例1には、アジルサルタンが4工程で合成できることが開示されている。当該最終工程においては、当該溶媒を完全に蒸発させた後、アジルサルタンを酢酸エチルから再結晶化して、156〜157℃の融点を有する無色プリズム晶のアジルサルタンを得る。また、アジルサルタンの合成は、J. Med. Chem. 1996, 39, pp. 5228-5235及びChinese Journal of Pharmaceuticals 2010, 41(12)pp. 881-883にも開示されている。当該最終工程においては、アジルサルタンを無水エタノールから再結晶化し、190〜191℃の融点を有する白色固体のアジルサルタンを得る。
しかしながら、前記文献は、アジルサルタンの多形を完全には特徴づけしていない。したがって、発明者らは、前記文献に開示されているアジルサルタン多形に係る多形形態を知ることはない。薬物の多形を特徴付けるために使用できる多くの方法がある。単結晶X線回折は、現在、特定の多形の最も信頼性の高い証拠とみなされている。しかしながら、X線粉末回折も、多型の明確な証拠を提供するために使用することができる。顕微鏡法、熱分析法(例えば、示差走査熱量測定、熱重量分析及びホットステージ顕微鏡)、及び分光法(例えば、赤外線(IR)、ラマン分光、固体核磁気共鳴(ssNMR)))を含む他の方法も、多形形態の特徴付けに有用である。
アジルサルタンなどの薬物は、異なる結晶形で存在でき、該結晶形は、外観、溶解度、融点、溶出率、バイオアベイラビリティ、安定性、有効性などにおいて互いに顕著な差異を有し得る。しかし、アジルサルタンの現在利用可能な結晶形は、比較的低い溶解度、バイオアベイラビリティ及び/又は有効性を有する。
それゆえ、より優れた物理化学的性質を有する、特に相対的に高い溶解度、バイオアベイラビリティ及び/又は有効性を有するアジルサルタンの新規結晶形についての必要性が存在する。また、アジルサルタンの結晶形を調製するための低コストでかつ工業利用し易い方法についても、普遍的な必要性が存在する。
(本願発明の説明)
本明細書において使用する場合、化合物に係る用語“結晶形”とは、当該化合物の結晶格子中の分子の特有の秩序だった配置および/または立体構造をいう。
本明細書において使用する場合、「実質的に純粋」である結晶形とは、一以上の他の結晶形が実質的に含まれていない結晶形、すなわち、当該結晶形が、該結晶形及び一以上の他の結晶形の総体積又は総重量に基づき、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約85%、少なくとも約90%、少なくとも約93%、少なくとも約95%、少なくとも約98%、少なくとも約99%、少なくとも約99.5%、少なくとも約99.6%、少なくとも約99.7%、少なくとも約99.8%、もしくは少なくとも約99.9%の純度を有する;又は該結晶形が、20%未満、10%未満、5%未満、3%未満、1%未満、0.5%未満、0.1%未満、または0.01%未満の該一以上の他の結晶形を有することをいう。
本明細書において使用する場合、一以上の他の結晶形が“実質的に含まれていない”とは、当該結晶形及び一以上の他の結晶形の総体積または総重量に基づき、20%未満、10%未満、5%未満、4%未満、3%未満、2%未満、1%未満、0.5%未満、0.1%未満、0.01%未満の該一以上の他の結晶形を含む結晶形をいう。
本明細書において使用する場合、図面に“実質的に図示されている” 粉末X線回折パターンとは、当該図面に示されているピークの少なくとも50%、少なくとも60%、少なくとも70%、少なくとも80%、少なくとも90%、少なくとも95%、少なくとも99%を有する粉末X線回折パターンをいう。
本明細書において使用する場合、用語“相対強度”とは、粉末X線回折(XRPD)パターンにおける最も強いピーク強度について、これを100%とみなしたピーク強度をいう。
本明細書において使用する場合、用語「良溶媒(good solvent)」とは、アジルサルタンがその溶媒に1g/L超、2g/L超、3g/L超、4g/L超、5g/L超、6g/L超、7g/L超、8g/L超、9g/L超、10g/L超、15g/L超、20g/L超、30g/L超、40g/L超、50g/L超、60g/L超、70g/L超、80g/L超、又は100g/L超の溶解度を有する溶媒をいう。一部の実施態様において、良溶媒におけるアジルサルタンの溶解度は、貧溶媒(antisolvent)におけるアジルサルタンの溶解度よりも大きい。ある種の態様において、良溶媒と貧溶媒の溶解度の差は、該良溶媒の溶解度に基づいて、約10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、又は90%である。ある種の態様において、良溶媒の間の溶解度は、貧溶媒より約10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、又は90%大きい。
本明細書において使用する場合、用語「貧溶媒」とは、過飽和及び/又は結晶化を促進し得る溶媒をいう。一部の実施態様において、貧溶媒におけるアジルサルタンの溶解度は、該貧溶媒の0.001g/L未満、0.01g/L未満、0.1g/L未満、0.2g/L未満、0.3g/L未満、0.4g/L未満、0.5g/L未満、0.6g/L未満、0.8g/L未満、1g/L未満、2g/L未満、3g/L未満、4g/L未満、5g/L未満、6g/L未満、7g/L未満、8g/L未満、9g/L未満、又は10g/L未満である。
本明細書において使用する場合、用語「室温」とは、約18℃〜約30℃、約20℃〜約24℃、若しくは約22℃の温度をいう。
本明細書において使用する場合、用語「終夜」とは、約13時間〜約24時間、若しくは約16時間〜約24時間をいう。
本明細書において使用する場合、グラフ中に存在するスペクトル及び/又はデータに言及する場合、用語“ピーク”とは、当業者が背景雑音に起因するものと見なさない特徴をいう。
以下の記載において、本明細書に開示する全ての数値は、「約」又は「およそ」の語が当該数値と関連して使用されているか否かに関わらず、近似値である。各数値は、1%、2%、5%、7%、8%、10%、15%、20%異なることができる。したがって、値Nを有する数が開示されている場合は常に、値N±1%、N±2%、N±3%、N±5%、N±7%、N±8%、N±10%、N±15%又はN±20%を有する任意の数が具体的に開示されており、ここで“±”は、プラス又はマイナスを指す。下限RLと上限RUの数値範囲が開示される場合は常に、該範囲内の任意の数が具体的に開示されている。具体的にいうと、当該範囲内の以下の数が具体的に開示されている:R=RL+k*(RU-RL)、ここで、kは1%の増分で1%〜100%の範囲の変数であり、すなわち、kは1%、2%、3%、4%、5%、…、50%、51%、52%、…、95%、96%、97%、98%、99%、又は100%である。さらに、先に定義したような2つの数Rによって定義される任意の数値範囲も具体的に開示されている。
本明細書は、アジルサルタンの新規結晶形及びその製造を提供する。
本明細書において提供するのは、アジルサルタンの新規結晶形である。薬剤化合物の結晶形は、融点、化学的反応性、見かけ上の溶解度、溶出率、光学的及び機械的特性、蒸気圧、及び密度を含む、様々な化学的及び物理的特性を有し得る。これらの特性は、薬剤化合物及び薬剤製品を加工及び/又は製造する能力、並びに薬剤製品の安定性、溶解度、及びバイオアベイラビリティに直接的な影響を有し得る。したがって、アジルサルタンの結晶形は、アジルサルタンを含む薬剤製品の品質、安全性及び有効性に影響を及ぼし得る。
本願発明の主要な実施態様は、アジルサルタンが結晶形で存在し得るか否かを調査することである。予測し得なかったことに、発明者らは、アジルサルタンが、結晶形A、結晶形B、結晶形C、結晶形D、結晶形E、結晶形F、結晶形G、結晶形H、結晶形I、結晶形J及び結晶形Kを含む、多くの新規な結晶形で存在し得ることを発見した。一部の実施態様において、アジルサルタンの新規結晶形の各々は、実質的に純粋である。
アジルサルタンの結晶形は、溶解度及び熱安定性の増加を示すことができ;特定の製剤についてより良好な経口バイオアベイラビリティ及び/又はより良好な溶解プロファイルを提供でき;自由流での濾過容易性、及び/又は、特定の製剤における使用のために適切な熱安定特性も提供できる。アジルサルタンの結晶形は、製造プロセスの操作に便利である低帯電特性を有する。アジルサルタンの結晶形は、臨床収縮期血圧(SBP)の低減を示すことができ、かつ、24時間平均臨床収縮に関して優れた効能を有し得る。したがって、該結晶形は、高血圧症の予防及び/又は治療のための医薬組成物の製造に適切である。
一部の実施態様において、アジルサルタンの結晶形は、結晶形Aである。ある種の実施態様において、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形Aは、実質的に純粋である。一部の実施態様において、結晶形Aは、2θで約9.15度にピークを含む粉末X線回折パターンを有する。一部の実施態様において、結晶形Aは、2θで約9.15、18.34、20.42、21.49及び23.53度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Aは、2θで約9.15、12.75、18.34、18.68、19.36、19.97、20.42、21.49、21.82、23.53、23.98及び25.26度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Aは、2θで約9.15、12.75、14.91、15.38、17.98、18.34、18.68、19.36、19.97、20.42、21.49、21.82、23.53、23.98、24.60、25.26、25.53、26.68、27.72、28.77、29.11及び29.40度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Aは、図1に実質的に図示されているXRPDを有し、2θでの該約9.15度のピークは、該XRPDにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約99%の相対強度を有する。
ある種の態様において、結晶形Aの特徴は、融点を含むがこれに限定されない周知の技術を用いて検出し、同定し、種別分けし、かつ特徴づけることができる。結晶形Aの融点は、約200.2℃〜約213.7℃である。
一部の実施態様において、アジルサルタンの結晶形は、結晶形Bである。一部の実施態様において、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形Bは、実質的に純粋である。一部の実施態様において、結晶形Bは、2θで約9.08度にピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Bは、2θで約9.08、21.41及び23.47度に一以上のピークを含むXRPD、又は、2θで約7.63、9.08、18.62、19.30、21.41及び23.47度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Bは、2θで約7.63、9.08、10.62、12.69、13.24、15.34、15.75、16.53、16.95、18.27、18.62、19.08、19.30、19.64、19.89、20.10、20.35、21.41、21.76、22.21、22.98、23.47、23.92、24.31、25.18、25.48、26.31及び26.62度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Bは、図2に実質的に図示されているXRPDを有し、ここで、2θでの該約9.08度のピークは、該XRPDにおける最も高いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約99%の相対強度を有する。
ある種の態様において、結晶形Bの特徴は、融点を含むがこれに限定されない周知の他の技術を用いて検出し、同定し、種別分けし、かつ特徴づけることができる。結晶形Bの融点は、約196.9℃〜約198.6℃である。
一部の実施態様において、アジルサルタンの結晶形は、結晶形Cである。一部の実施態様において、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形Cは、実質的に純粋である。一部の実施態様において、結晶形Cは、2θで約18.32度にピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Cは、2θで約18.32、21.85、23.34及び24.60度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Cは、2θで約9.13、11.77、15.74、16.33、18.32、18.68、21.85、22.46、23.34及び24.60度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Cは、2θで約7.56、9.13、11.77、13.97、15.74、16.33、18.32、18.68、19.07、19.72、20.12、20.77、21.85、22.12、22.46、22.83、23.34、24.12、24.60、25.20、25.51、26.91、28.17、29.87、30.60、及び31.09度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Cは、図3に実質的に図示されているXRPDを有し、ここで2θでの該約18.32度のピークは、該XRPDにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約99%の相対強度を有する。
ある種の態様において、結晶形Cの特徴は、融点を含むがこれに限定されない周知の技術を用いて検出し、同定し、種別分けし、かつ特徴づけることができる。結晶形Cの融点は、約202.2℃〜約204.1℃である。
一部の実施態様において、アジルサルタンの結晶形は、結晶形Dである。一部の実施態様において、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形Dは、実質的に純粋である。一部の実施態様において、結晶形Dは、2θで約9.33度にピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Dは、2θで約9.33、9.55、20.83、21.82、25.05及び26.23度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Dは、2θで約9.33、9.55、11.65、13.46、14.99、15.83、17.69、18.39、19.11、19.51、20.16、20.83、21.36、21.67、21.82、22.15、22.38、23.02、23.48、24.63、25.05、25.46、25.99、26.23、27.09、28.40、29.09及び32.49度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Dは、図4に実質的に図示されているXRPDを有し、ここで2θでの該約9.33度のピークは、該XRPDにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約99%の相対強度を有する。
ある種の態様において、結晶形Dの特徴は、融点を含むがこれに限定されない周知の技術を用いて検出し、同定し、種別分けし、かつ特徴づけることができる。結晶形Dの融点は、約171.6℃〜約176.2℃である。
一部の実施態様において、アジルサルタンの結晶形は、結晶形Eである。一部の実施態様において、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形Eは実質的に純粋である。一部の実施態様において、結晶形Eは、2θで約23.89度にピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Eは、2θで約9.20、10.42、18.04、21.53、23.05、23.57及び23.89度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Eは、2θで約6.48、9.20、10.42、11.36、12.81、14.97、15.62、16.32、17.03、18.04、18.72、19.00、19.67、20.55、21.53、23.05、23.57、23.89、24.91、25.65及び26.70度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Eは、2θで約6.48、6.87、7.87、9.20、9.81、10.42、11.36、11.94、12.81、14.97、15.62、16.32、17.03、18.04、18.72、19.00、19.67、20.55、21.53、23.05、23.57、23.89、24.91、25.65、26.70、27.61及び28.80度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Eは、図5に実質的に図示されているXRPDを有し、ここで2θでの該約23.89度のピークは、該XRPDにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約99%の相対強度を有する。
ある種の態様において、結晶形Eの特徴は、融点を含むがこれに限定されない周知の技術を用いて検出し、同定し、種別分けし、かつ特徴づけることができる。結晶形Eの融点は、約197.5℃〜約201.3℃である。
一部の実施態様において、アジルサルタンの結晶形は、結晶形Fである。一部の実施態様において、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形Fは、実質的に純粋である。一部の実施態様において、結晶形Fは、2θで約9.09度にピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Fは、2θで約9.09、9.22及び18.29度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Fは、2θで約9.09、9.22、12.76、18.29、18.44、18.71、19.41、20.01、20.24、20.44、21.45、21.82、23.44、23.54、24.01、25.30、25.65、26.72、28.86、29.10、37.14及び37.26度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Fは、図6に実質的に図示されているXRPDを有し、ここで2θでの該約9.09度のピークは、該XRPDにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約99%の相対強度を有する。
ある種の態様において、結晶形Fの特徴は、融点を含むがこれに限定されない周知の技術を用いて検出し、同定し、種別分けし、かつ特徴づけることができる。結晶形Fの融点は、約201.6℃〜約204.6℃である。
一部の実施態様において、アジルサルタンの結晶形は、結晶形Gである。一部の実施態様において、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形Gは、実質的に純粋である。一部の実施態様において、結晶形Gは、2θで約9.18度にピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Gは、2θで約9.18及び18.37度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Gは、2θで約7.51、8.52、9.18、10.96、12.74、13.12、13.56、14.22、15.03、15.43、16.22、17.10、17.96、18.37、18.71、19.38、19.97、20.47、21.16、21.53、21.85、22.07、22.71、23.17、23.54、24.02、24.96、25.36、25.78及び26.72度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Gは、図7に実質的に図示されているXRPDを有し、ここで2θでの該約9.18度のピークは、該XRPDにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約99%の相対強度を有する。
ある種の態様において、結晶形Gの特徴は、融点を含むがこれに限定されない周知の技術を用いて検出し、同定し、種別分けし、かつ特徴づけることができる。結晶形Gの融点は、約203.5℃〜約205.1℃である。
一部の実施態様において、アジルサルタンの結晶形は、結晶形Hである。一部の実施態様において、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形Hは、実質的に純粋である。一部の実施態様において、結晶形Hは、2θで約21.09度にピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Hは、2θで約7.52、21.09、22.05及び23.21度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Hは、2θで約7.52、8.45、14.93、18.92、19.94、21.09、22.05、22.71、23.21、24.98及び28.80度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Hは、2θで約7.52、8.45、9.44、10.97、12.45、13.14、13.61、14.15、14.93、15.40、16.18、16.95、18.32、18.92、19.94、21.09、22.05、22.71、23.21、23.52、24.98、25.26、25.71、27.22、28.47、28.80、29.22及び30.15度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Hは、図8に実質的に図示されているXRPDを有し、ここで2θでの該約21.09度のピークは、該XRPDにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約99%の相対強度を有する。
ある種の態様において、結晶形Hの特徴は、融点を含むがこれに限定されない周知の技術を用いて検出し、同定し、種別分けし、かつ特徴づけることができる。結晶形Hの融点は、約190.8℃〜約192.0℃である。
一部の実施態様において、アジルサルタンの結晶形は、結晶形Iである。一部の実施態様において、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形Iは、実質的に純粋である。一部の実施態様において、結晶形Iは、2θで約21.01度にピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Iは、2θで約7.41、8.57、18.27及び21.01度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Iは、2θで約7.41、8.57、12.13、14.18、15.02、15.39、15.98、17.08、18.27、18.73、21.01、21.92、22.31、22.91、24.66、25.36、28.27、28.61及び29.07度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Iは、図9に実質的に図示されているXRPDを有し、ここで2θでの該約21.01度のピークは、該XRPDにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約99%の相対強度を有する。
ある種の態様において、結晶形Iの特徴は、融点を含むがこれに限定されない周知の技術を用いて検出し、同定し、種別分けし、かつ特徴づけることができる。結晶形Iの融点は、約185.8℃〜約186.3℃である。
一部の実施態様において、アジルサルタンの結晶形は、結晶形Jである。一部の実施態様において、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形Jは、実質的に純粋である。一部の実施態様において、結晶形Jは、2θで約23.32度にピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Jは、2θで約21.30、22.81及び23.32度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Jは、2θで約7.61、19.00、21.30、22.10、22.81、 23.32及び25.05度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Jは、2θで約2.10、4.93、7.61、8.64、9.50、10.99、13.17、13.64、14.30、15.12、15.57、16.25、17.21、18.49、19.00、19.99、21.30、22.10、22.81、23.32、24.19、25.05、25.55、25.96、27.43、28.64、29.04及び30.43度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Jは、図10に実質的に図示されているXRPDを有し、ここで2θでの該約23.32度のピークは、該XRPDにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約99%の相対強度を有する。
ある種の態様において、結晶形Jの特徴は、融点を含むがこれに限定されない周知の技術を用いて検出し、同定し、種別分けし、かつ特徴づけることができる。結晶形Jの融点は、約192.4℃〜約195.7℃である。
一部の実施態様において、アジルサルタンの結晶形は、結晶形Kである。一部の実施態様において、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形Kは、実質的に純粋である。一部の実施態様において、結晶形Kは、2θで約21.16度にピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Kは、2θで約7.58、8.52、17.03、21.16、21.56、22.14及び22.88度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Kは、2θで約7.58、8.52、13.77、15.05、15.56、17.03、18.67、19.03、19.27、 20.04、21.16、21.56、22.14、22.88、23.31、23.66、25.08、25.36、27.48、28.65及び28.90度に一以上のピークを含むXRPDを有する。一部の実施態様において、結晶形Kは、図11に実質的に図示されているXRPDを有し、ここで2θでの該約21.16度のピークは、該XRPDにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約99%の相対強度を有する。
ある種の態様において、結晶形Kの特徴は、融点を含むがこれに限定されない周知の技術を用いて検出し、同定し、種別分けし、かつ特徴づけることができる。結晶形Kの融点は、約194.4℃〜約196.5℃である。
本明細書によると、アジルサルタンの形態A〜Kの粉末X線回折は、CuKα線を使用して測定され、ここで、縦軸又はY軸はカウント/秒(cps)での回折強度を表し、かつ、横軸又はX軸は度単位での2θ回折角を表す。
特定の結晶形の粉末X線回折ピークについて、2θ値は、装置間又はサンプル間において僅かに変化し得ることは、指摘するに価する。その値における差異は、約1度、約0.8度、約0.5度、約0.3度、又は約0.1度であり得る。それゆえ、上記の2θの値は、絶対的であるとみなされるべきではない。
具体的な結晶形の融点については、装置間またはサンプル間で、わずかに変化し得る。その値における差異は、約5℃以下、約4℃以下、約3℃以下、又は約2℃以下であり得る。したがって、上記の融点の数値は、絶対的であるとみなされるべきではない。
また、本明細書が開示するのは、アジルサルタンの結晶形A〜Kを製造するための方法であって、該方法は、本明細書に開示する1の任意の形態のジルサルタンをアジルサルタンの別の形態に変更することを含む。本明細書に開示する方法から得られたアジルサルタンの結晶形は、結晶形A、結晶形B、結晶形C、結晶形D、結晶形E、結晶形F、結晶形G、結晶形H、結晶形I、結晶形J、又は結晶形Kであることができ、該アジルサルタンの新規結晶形は、実質的に純粋である。
アジルサルタンは、中国特許出願CN 93100006.8に記載されている方法を使用することにより、調製できる。
アジルサルタンの結晶形を製造するための方法は、アジルサルタンを良溶媒中に溶解させて溶液を形成させること、及び、該溶液を冷却して結晶を形成させることを含む。
一部の実施態様において、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形は、貧溶媒結晶化法(沈澱結晶化法、塩析法、又は析出法(drowning out)としても知られる)によって調製できる。貧溶媒結晶化法は、一般に、当該生成物がわずかに溶ける1以上の溶媒に生成物溶液を曝露することにより、過飽和及び固化を達成する。貧溶媒結晶化は、バッチ、半バッチ、または連続的プロセス若しくは操作により実行し得る。
一部の実施態様において、貧溶媒結晶化は、バッチ又は半バッチで実行される。バッチ又は半バッチは、一般に、貧溶媒を生成物溶液に加えること(通常添加)、又は、生成物溶液を貧溶媒に加えること(逆添加)を含む。
貧溶媒を生成物溶液に加えると、過飽和が発生する。核生成前に生成される過飽和の量は、一般に、システム特異的であり、添加速度、混合、一次若しくは二次核生成速度、成長速度、投入位置、並びに溶液中の不純物若しくは種晶の量及び型に依存する。
一部の実施態様において、十分な量の種晶を加え、任意の形態A〜Kなどの結晶アジルサルタンの特定の形態を促進させる。種晶とは、同じ若しくは異なる型の大きい結晶がそれから成長する、小さな単結晶をいう。一部の実施態様において、小さな単結晶と大きい結晶は同じ型の結晶形である。ある種の態様において、小さな単結晶と大きい結晶は異なる型の結晶形である。
成長を達成するとともに種晶分解の可能性を最小限化するために、当該系がわずかに過飽和になった時点で、貧溶媒の添加を停止し、種晶を加える。濃度がそのような過飽和点に達した時点は、フーリエ変換赤外分光器若しくは紫外線分光器などの分光測定法に基づくインサイチュウ測定装置を使用して測定できる。
一部の実施態様において、生成物溶液を貧溶媒に添加して、核生成制御環境及び超微粒子を生じさせる。
一部の実施態様において、種晶化は、過度の核生成を回避するために使用される。種晶は、貧溶媒、又は貧溶媒を有する粉末又はスラリー形態の生成物溶液に添加できる。一部の実施態様において、種晶は、オストワルド熟成(Oswald ripening)により条件付けできる。一部の実施態様において、種晶は、当該系の準安定領域内の点で、粉末として又はスラリーで添加される。
生成物溶液への貧溶媒の添加、又は貧溶媒への生成物溶液の添加は、一定速度でよく、又は、初期の低い添加速度からそれに続けて速度を漸増させてもよい。
一部の実施態様において、貧溶媒結晶化は、連続操作によって実行され、これは、小さな平均結晶サイズを促進し、狭いサイズ分布を促進し得る。一部の実施態様において、インライン混合装置または撹拌槽が連続操作に使用できる。インライン混合装置の特定の非限定的な例には、衝撃噴流ミキサー、ボルテックスミキサー、Yミキサー、ホモジナイザー、及びローター−ステータの構成を含む。貧溶媒及び生成物溶液(これは種晶を含み得る)は、インライン混合装置で混合することができる。
ある種の実施態様において、衝撃噴流システムが使用され、該システムは、衝撃噴射ミキサー、及び衝撃噴射ミキサー内の生成物と貧溶媒の流れの接触後に該生成物を受けて成熟させるための熟成タンクを含む。熟成タンクは、撹拌機を含んでもよい。熟成タンクは、核生成固体にトラップされた母液の拡散を容易にするように設計されており、バッチ式又は連続式であり得る。一部の実施態様において、種晶は、貧溶媒流または熟成容器に加えられる。
一部の実施態様において、前記方法には、さらに、結晶化を促進させるための冷却工程前又は冷却工程中における当該溶液への1種以上の貧溶媒の添加を含み、該貧溶媒中のアジルサルタンの溶解度は、良溶媒より低い。良溶媒と貧溶媒との間の溶解度の差異は、約10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、又は80%である。貧溶媒は、極性溶媒又は非極性溶媒であり得る。
良溶媒または貧溶媒は、1種以上の極性溶媒、1種以上の非極性溶媒若しくはそれらの混合物であることができ、該良溶媒または貧溶媒は、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、水、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、アルカン系溶媒、ニトリル系溶媒及びそれらの組み合わせから選択され、該アルコール系溶媒は、メタノール、エタノール、又は1,3− プロパンジオール、1,2−プロピレングリコール、1,1,1−トリクロロ−2−メチルプロパン−2−オール及びそれらの組み合わせから選択され、該エーテル系溶媒は、テトラヒドロフラン(THF)、メチルtert−ブチルエーテル(MTBE)、1,4−ジオキサンまたはそれらの組み合わせから選択され、該ケトン系溶媒は、アセトン、メチルエチルケトン、又は4−メチル−2−ペンタノン及びそれらの組み合わせから選択され、該エステル系溶媒は、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸tert−ブチル及びそれらの組み合わせから選択され、該アルカン系溶媒は、ジクロロメタン、クロロホルム、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、ヘプタン及びそれらの組み合わせから選択され、該芳香族炭化水素系溶媒は、ベンゼン、トルエン及びそれらの組み合わせから選択され、該ニトリル系溶媒は、アセトニトリル、マロノニトリル及びそれらの組み合わせから選択される。
本願発明の方法によると、アジルサルタンを良溶媒中に溶解させる方法には、撹拌、加熱還流、又はこれらの組み合わせを含む。
一部の実施態様において、結晶化の温度は、約−10℃〜約40℃であり得る。ある種の実施態様において、該温度は、約−10℃〜約25℃であり得る。一部の実施態様において、該温度は、約−10℃〜約10℃であり得る。一部の実施態様において、該温度は、約−10℃〜約0℃であり得る。一部の実施態様において、一部の実施態様において該温度は、約0℃〜約10℃であり得る。
結晶化は、真空濾過、重力濾過、吸引濾過、及びこれらの組み合わせによって単離及び/又は精製できる。単離した結晶は、母液を含む可能性がある。ゆえに、単離した結晶は、適切な溶媒で更に洗浄した後、乾燥させることができる。ある種の実施態様において、洗浄は、当該方法において使用されるものと同じ溶媒を用いてなされる。別の実施態様において、洗浄は貧溶媒でなされる。
また、本明細書に開示するのは、実質的に純粋なアジルサルタンの結晶形Aを製造するための方法であって、該良溶媒または貧溶媒は、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、水、メタノール、エタノール、THF、n-ヘプタン、塩化メチレン、DMSO、酢酸エチル、アセトン、アセトニトリル、1,4−ジオキソ−ジオキサン、クロロブタノール、4−メチル−2−ペンタノン、MTBE、1,2−プロパンジオール、及びそれらの組み合わせから選択される。
一部の実施態様において、良溶媒または貧溶媒は、メタノール、エタノール、アセトン、酢酸エチル、アセトニトリル、1,4−ジオキサン、ジクロロメタン(DCM)、MTBE、DMFと水の混合溶媒、エタノールと水の混合溶媒、1,2−プロピレングリコールと水の混合溶媒、DMSOと水の混合溶媒、THFと水の混合溶媒、メタノールとエタノールの混合溶媒、クロロブタノールとアセトンの混合溶媒、酢酸エチルとエタノールの混合溶媒、メタノールとn-ヘプタンの混合溶媒、DMSOと酢酸エチルの混合溶媒、アセトンとDMSOの混合溶媒、THFとn-ヘプタンの混合溶媒、THFとDCMの混合溶媒、アセトンとDMFと水の混合溶媒、DMFとDCMと水の混合溶媒、4−メチル−2−ペンタノンとエタノールと水の混合溶媒、DMSOとn-ヘプタンと酢酸エチルと水の混合溶媒、DMSOと酢酸エチルとアセトンと水の混合溶媒の一以上から選択される。
また、本明細書に提供するのは、アジルサルタンの結晶形Bの製造方法であり、該良溶媒はエーテル、より好ましくはTHFであり、該アジルサルタンの結晶形Bは、実質的に純粋である。
また、本明細書に提供するのは、アジルサルタンの結晶形Cの製造方法であり、該良溶媒はTHFであり、アジルサルタンの結晶形Cは、実質的に純粋である。
また、本明細書に提供するのは、アジルサルタンの結晶形Dの製造方法であり、該良溶媒はDMFであり、該結晶形Dは、実質的に純粋である。
また、本明細書に提供するのは、アジルサルタンの結晶形Eの製造方法であり、該良溶媒は1,4−ジオキサンであり、該貧溶媒は水であり、該アジルサルタンの結晶形Eは、実質的に純粋である。
また、本明細書に提供するのは、アジルサルタンの結晶形Fの製造方法であり、該良溶媒は4−メチル−2−ペンタノン若しくはエタノールであり、該貧溶媒は水であり、該アジルサルタンの結晶形Fは、実質的に純粋である。
また、本明細書に提供するのは、アジルサルタンの結晶形Hの製造方法であり、該良溶媒はメタノールであり、該貧溶媒は1,4−ジオキサン若しくはメチルテトラヒドロフランであり、該アジルサルタンの結晶形Hは、実質的に純粋である。
また、本明細書に提供するのは、アジルサルタンの結晶形Iの製造方法であり、該良溶媒はメチルテトラヒドロフラン、イソプロパノール、若しくはメタノールであり、該アジルサルタンの結晶形Hは実質的に純粋であり、該貧溶媒は水である。
また、本明細書に提供するのは、アジルサルタンの結晶形Jの製造方法であり、該方法は、THF、アセトン又はこれらの組み合わせなどの良溶媒にアジルサルタンを溶解させて溶液を形成させること、及びその後、該溶液を冷却してアジルサルタンの結晶形Jを得ることを含み、該アジルサルタンの結晶形Jは、実質的に純粋である。
また、本明細書に提供するのは、アジルサルタンの高度に純粋な結晶形Kを取得するための方法であり、該良溶媒は、THF、アセトン、クロロホルム、水、エタノール、トルエン、1,4−ジオキサン、又はそれらの組み合わせから選択される。一部の実施態様において、該良溶媒または貧溶媒は、1,4−ジオキサンとアセトンとTHFの混合溶媒、クロロホルムと水の混合溶媒、THFとエタノールの混合溶媒、及びトルエンとTHFの混合溶媒から選択される。
本明細書に開示するアジルサルタンの新規結晶形は、一般に、良好な性質、例えば、高い溶解度、熱安定性、より良好な経口バイオアベイラビリティ、特定の製剤についてのより良好な溶解プロフィール、自由流、濾過容易性、特定の製剤に適切である熱安定性を有する。本明細書に開示するアジルサルタンの新規結晶形は、一般に、良好な帯電防止特性を有し、これは、当該製造方法を操作するのに便利である。アジルサルタンの新規結晶形は、一般に、臨床収縮期血圧(SBP)と24時間平均SBPを低減することに優れた性能を発揮する。したがって、アジルサルタンの新規結晶形は、高血圧症の予防または治療のための医薬組成物を調製するために使用することができる。
本願発明の例示的実施態様において、アジルサルタンの新規結晶形A、結晶形B、結晶形C、結晶形D、結晶形E、結晶形F、結晶形G、結晶形H、結晶形I、結晶形J又は結晶形Kは、実質的に純粋であり、該新規結晶形の製造方法は、一般に、工場のGMP生産要件に準拠し、かつ、工業生産に適している。
また、本明細書に開示するのは、治療有効量のアジルサルタンの結晶形A、結晶形B、結晶形C、結晶形D、結晶形E、結晶形F、結晶形G、結晶形H、結晶形I、結晶形J、又は結晶形Kなどの本明細書に開示する新規結晶形、及び一以上の医薬として許容し得る担体、賦形剤又は希釈剤を含む医薬組成物である。
特定の実施態様において、医薬組成物は、アジルサルタンの結晶形を含み、該医薬組成物は、錠剤、丸剤、散剤、及び顆粒剤などの剤形に組み込まれる。医薬組成物は、賦形剤又は担体を含むことができ、該賦形剤又は担体には、クエン酸ナトリウム、リン酸カルシウム、充填剤、結合剤、保湿剤、崩壊剤、遅延剤、吸収促進剤、湿潤剤、吸収剤、潤滑剤、及びこれらの組み合わせを含み、該結合剤には、デンプン、ラクトース、スクロース、グルコース、マンニトール、ケイ酸、及びこれらの組み合わせを含み、該結合剤には、カルボキシメチルセルロース、アルギナート、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、スクロース、アラビアゴム、及びこれらの組み合わせを含み、該保湿剤には、グリセロールを含み、該崩壊剤には、寒天、炭酸カルシウム、ジャガイモまたはタピオカデンプン、アルギン酸、特定のシリケート、及び炭酸ナトリウム、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、及びこれらの組み合わせを含み、該遮断剤溶液には、パラフィンを含み、該吸収促進剤には、第四級アンモニウム化合物を含み、該湿潤剤には、セチルアルコール、ステアリン酸グリセリド、及びこれらの組み合わせを含み、該吸収剤には、カオリン、ベントナイト、及びこれらの組み合わせを含み、該潤滑剤には、タルク、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、固体ポリエチレングリコール、ラウリル硫酸ナトリウム、及びそれらの組み合わせを含む。
本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形、又は本明細書に開示する医薬組成物は、患者における高血圧症の予防または治療に使用することができる。
また、本明細書に開示するのは、本明細書に開示するアジルサルタンの結晶形または本明細書に開示する医薬組成物の医薬的有効量を患者に投与することを含む、患者における高血圧症の予防または治療の方法を提供する。
また、本明細書に開示するのは、例えば強力かつ持続的なアンジオテンシンΙΙ拮抗活性及び降圧作用、及びインスリン増感作用、並びに循環器系疾患、例えば高血圧症、心臓疾患(例えば心肥大、心不全、心筋梗塞)などのその必要のある対象における状態を治療するための、治療有効量のアジルサルタンの結晶形A、結晶形B、結晶形C、結晶形D、結晶形E、結晶形F、結晶形G、結晶形H、結晶形I、結晶形J、又は結晶形K、及び一以上の医薬として許容し得る担体、賦形剤若しくは希釈剤を含む医薬組成物の使用である。
図1は、アジルサルタンの結晶形Aの粉末X線回折パターンである。
図2は、アジルサルタンの結晶形Bの粉末X線回折パターンである。
図3は、アジルサルタンの結晶形Cの粉末X線回折パターンである。
図4は、アジルサルタンの結晶形Dの粉末X線回折パターンである。
図5は、アジルサルタンの結晶形Eの粉末X線回折パターンである。
図6は、アジルサルタンの結晶形Fの粉末X線回折パターンである。
図7は、アジルサルタンの結晶形Gの粉末X線回折パターンである。
図8は、アジルサルタンの結晶形Hの粉末X線回折パターンである。
図9は、アジルサルタンの結晶形Iの粉末X線回折パターンである。
図10は、アジルサルタンの結晶形Jの粉末X線回折パターンである。
図11は、アジルサルタンの結晶形Kの粉末X線回折パターンである。
本願発明の様々な実施態様が本明細書に開示されているが、当業者の一般知識に従って、多くの適合化及び変更が本願発明の範囲内でなされ得る。このような変更には、実質的に同じ方法で同じ結果を達成するための、本願発明の任意の態様についての既知の同等物の置換を含む。数値範囲は、当該範囲を規定する数を含む。さらに、数値範囲は、当該範囲を除外して特異的に定義される定義範囲内の個々の値に加えて、当該値の範囲が定義されるように提供される。
実施例1:アジルサルタンの結晶形Aの製造
アジルサルタン(2.0g)を75℃でDMF(5ml)に溶解して溶液を形成させた。該溶液に水(10ml)を加えた。該溶液の温度を約25℃に下げながら該溶液をゆっくり撹拌し、約25℃で1時間維持し、約10℃に冷却した後、約10℃で2時間維持して、沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過により単離し、約55℃で12時間真空乾燥させた。該沈殿物は、図1に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Aであることを発見した。
実施例2:アジルサルタンの結晶形Aの製造
アジルサルタン(2.0g)を還流下メタノール(20ml)に溶解し、溶液を形成させた。この溶液の温度を約25℃に下げながら、当該溶液をゆっくり撹拌した。該溶液を約25℃で1時間維持し、約10℃に冷却した後、2時間10℃に維持して沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過により単離した後、約50℃で真空乾燥させた。該沈殿物は、図1に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Aであることを発見した。
実施例3:アジルサルタンの結晶形Aの製造
アジルサルタン(2.0g)を還流下エタノール(15ml)に溶解し、溶液を形成させた。この溶液の温度を約25℃に下げながら、当該溶液をゆっくり撹拌した。該溶液を約25℃で1時間維持し、約10℃に冷却した後、2時間10℃に維持して沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過により単離した後、約50℃で真空乾燥させた。該沈殿物は、図1に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Aであることを発見した。
実施例4:アジルサルタンの結晶形Aの製造
アジルサルタン(2.0g)をDMF(2ml)に室温で溶解させて溶液を形成させた。該溶液にアセトン(10ml)を加え、該溶液を約60℃に加熱した後、濾過した。水(20ml)を滴加し、該溶液の温度を室温に冷却して、沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過した後、約50℃で真空乾燥させた。該沈殿物は、図1に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Aであることを発見した。
実施例5:アジルサルタンの結晶形Bの製造
アジルサルタン(2.0g)を還流下THF(10ml)に溶解させて溶液を形成させた。この溶液をゆっくり撹拌し、該溶液の温度を約25℃に下げた。該溶液を約25℃で1時間維持し、約10℃に冷却した後、約10℃で2時間維持して、沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過した後、約50℃で真空乾燥させた。該沈殿物は、図2に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Bであることを発見した。
実施例6:アジルサルタンの結晶形Cの製造
アジルサルタン(4.0g)を還流下THF(28ml)に溶解させて溶液を形成させた。この溶液をゆっくり撹拌し、該溶液の温度を約32℃の温度に下げた。該溶液を約32℃で1時間維持し、約10℃に冷却した後、約30分間約10℃に維持して、沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過した後、約50℃で真空乾燥させて、粗生成物を得た。
該粗生成物(1g)を還流下THF(7ml)に溶解させて溶液を形成させた。この溶液をゆっくり撹拌し、該溶液の温度を約32℃に下げた。該溶液を約32℃で1時間維持し、約10℃に冷却した後、約10℃で30分間維持して沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過により単離した。該沈殿物をジクロロメタン(8ml)で二回洗浄した後、約50℃で真空乾燥させた。該沈殿物は、図3に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Cであることを発見した。
実施例7:アジルサルタンの結晶形Dの製造
アジルサルタン(2g)を約80℃でDMF(2.5ml)に溶解させて溶液を形成させた。この溶液をそれから約30分間撹拌し、該溶液の温度を室温に下げた。該溶液は、沈殿が形成されるまで、室温に維持した。該沈殿物を濾過した後、約50℃で真空乾燥させた。該沈殿物は、図4に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Dであることを発見した。
実施例8:アジルサルタンの結晶形Eの製造
アジルサルタン(2g)を約100℃で1,4−ジオキサン(15ml)に溶解させて溶液を形成させた。この溶液を約30分間撹拌し、該溶液の温度を約10℃に下げた。該溶液を濾過した後、該溶液に水(100ml)を加えた。該溶液は、沈殿が形成されるまで静置した後、終夜撹拌した。該沈殿物を濾過した後、約50℃で真空乾燥させた。該沈殿物は、図5に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Eであることを発見した。
実施例9:アジルサルタンの結晶形Fの製造
アジルサルタン(3.5g)を約70℃で4−メチル−2−ペンタノン(20ml)とエタノール(10ml)の混合溶媒に溶解させて溶液を形成させた。水(60ml)を該溶液に加えた。沈殿が形成した。この溶液を約30分間撹拌した後、終夜静置した。該沈殿物を濾過した後、約50℃で真空乾燥させた。該沈殿物は、図6に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Fであることを発見した。
実施例10:アジルサルタンの結晶形Gの製造
アジルサルタン(1.0g)を約67℃でTHF(7ml)と水(7ml)の混合溶媒に溶解させて溶液を形成させた。該溶液を約32℃に冷却した後、48時間揮発させて、沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過し、約50℃で真空乾燥させた。該沈殿物は、図7に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Gであることを発見した。
実施例11:アジルサルタンの結晶形Hの製造
アジルサルタン(1.0g)をメタノール(15ml)と1,4−ジオキサン(2ml)の混合溶媒に加えた後、約70℃で還流加熱した。アジルサルタンが溶解して溶液を形成した。該溶液を約30℃に冷却した後、沈殿を形成した。該沈殿物を濾過した後、約55℃で終夜真空乾燥させた。該沈殿物は、図8に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Hであることを発見した。
実施例12:アジルサルタンの結晶形Hの製造
アジルサルタン(1.0g)をメタノール(15ml)に加え、撹拌し、約70℃で還流加熱した。アジルサルタンは、完全には溶解しなかった。該溶液に2−メチルテトラヒドロフラン(6ml)をゆっくり加えた。アジルサルタンが徐々に綿状になった。該溶液を1時間撹拌した後、室温に冷却して、沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過した後、約55℃で終夜真空乾燥させた。該沈殿物は、図8に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Hであるように形成させた。
実施例13:アジルサルタンの結晶形Iの製造
アジルサルタン(1.0g)をメチルテトラヒドロフラン(8ml)に加えて約70℃で撹拌した。アジルサルタンが徐々に綿状になった。該溶液に2−メチルテトラヒドロフラン(12ml)をゆっくりと加えた。該溶液の温度を室温に下げながら、該溶液を撹拌して、沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過して単離した後、約55℃で終夜真空乾燥させた。該沈殿物は、図9に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Hであることを発見した。
実施例14:アジルサルタンの結晶形Iの製造
アジルサルタン(1.5g)を1:1のメタノール:水の溶媒(10ml)に溶解させて、溶液を形成させた。該溶液を室温で2日間撹拌し、沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過した後、約55℃で真空乾燥させた。該沈殿物は、図9に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Iであることを発見した。
実施例15:アジルサルタンの結晶形Jの製造
アジルサルタン(1.0g)を約68℃で撹拌しながらTHF(11ml)とアセトン(18ml)の混合溶媒に溶解させて、溶液を形成させた。この溶液を約5℃に冷却し、室温で終夜揮発させて、沈殿物を形成させた。この沈殿物を濾過した後、約55℃で終夜真空乾燥させた。該沈殿物は、図10に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Jであることを発見した。
実施例16:アジルサルタンの結晶形Kの製造
アジルサルタン(1.0g)を約70℃で撹拌しながらTHF(8ml)とエタノール(20ml)の混合溶媒に溶解させて、溶液を形成させた。この溶液を約5℃に冷却した。沈殿物は形成されなかった。溶液を終夜室温で静置して、沈殿物を形成させた。この沈殿物を濾過し、約55℃で終夜真空乾燥させた。該沈殿物は、図11に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Kであることを発見した。
実施例17:アジルサルタンの結晶形Kの製造
アジルサルタン(1.0g)をトルエン(12ml)に加え、撹拌し、約70℃で還流加熱して、溶液を形成させた。アジルサルタンは完全には溶解しなかった。該溶液にTHF(6ml)をゆっくり加えた。アジルサルタンが徐々に綿状になった。該溶液の温度を室温に下げながら該溶液を1時間撹拌し、沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過した後、約55℃で終夜真空乾燥させた。該沈殿物は、図11に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Kであることを発見した。
実施例18:アジルサルタンの結晶形Kの製造
アジルサルタン(0.3g)をクロロホルム(150ml)と水(40ml)の混合溶媒に加え、溶液を形成させた。該溶液を約70℃で2時間撹拌し、室温に冷却して沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過により単離した。該沈殿物は、図11に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Kであることを発見した。
実施例19:アジルサルタンの結晶形Kの製造
アジルサルタン(1.0g)をTHF(8.5ml)に加え、撹拌し、約68℃で還流加熱して、溶液を形成させた。該溶液が透明になった後、突然大量の白い沈殿物が形成された。該溶液を室温に冷却した。該沈殿物を濾過した後、約55℃で終夜真空乾燥させた。該沈殿物は、図11に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Kであることを発見した。
実施例20:アジルサルタンの結晶形Kの製造
アジルサルタン(1.0g)を1,4−ジオキサン(8ml)に加え、撹拌し、約70℃で還流加熱して、溶液を形成させた。該溶液に撹拌しながら1,4−ジオキサン(7ml)を更に加えた。アジルサルタンが徐々に綿状になった。該溶液を室温に冷却し、沈殿物を形成させた。該沈殿物を濾過した後、約55℃で終夜真空乾燥させた。該沈殿物は、図11に図示されるXRPDを有するアジルサルタンの結晶形Kであるように形成させた。
実施例21:アジルサルタンの結晶形A,結晶形B、結晶形C及び結晶形Dの溶解度
アジルサルタンの結晶形A,結晶形B、結晶形C及び結晶形Dの溶解度を、「中国薬局方2010」の「トピックと要件 15」に記載されていた溶解度試験に準拠して測定した。アジルサルタンの結晶形を粉砕して粉末にした。この粉末(300mg)を25℃±2℃で溶媒としての6mlの0.1M HClに加えた。該固体を5分間ごとに30秒間振盪することにより溶解させた後、該固体の溶解度を目測した。試験の合計時間は、30分であった。該混合物中に人の目視により固体が検出されない場合、溶解されたとみなした。アジルサルタンの結晶形A,結晶形B、結晶形C及び結晶形Dの溶解度は、以下に示すとおりである。
表1:6mlの0.1M HClにおけるアジルサルタンの結晶形A、B、C及びDの溶解度データ:
Figure 2014530805
当該データは、アジルサルタンの結晶形A、結晶形B、結晶形C及び結晶形Dが非常に可溶的であることを示している。
実施例22:アジルサルタンの結晶形Aの安定性
熱安定性
厚さ5mm未満の結晶形Aの層をフラット秤量瓶内に入れた。該層を60℃で15日間静置した。サンプルを6日目、11日目および16日目に取り出し、HPLCで純度、外観、及び結晶形について検査した。
湿度安定性
厚さ5mm未満の結晶形Aの層をフラット秤量瓶内に入れた。該層を25℃および90%±5%の相対湿度(RH)に15日間静置した。サンプルを5日目、10日目および15日目に取り出し、HPLCで純度、外観、及び結晶形について検査した。
光安定性
厚さ5mm未満の結晶形Aの層をフラット秤量瓶内に入れた。該層を4500±500ルクスの照度を有する光で15日間照らした。サンプルを6日目、11日目および16日目に取り出し、HPLCで純度、外観、及び結晶形について検査した。
HPLCの測定の条件は、以下に示すとおりである。
機器:Agilent 1200 HPLC
カラム:Agilent Eclipse XDB-C18 4.6*150mm、5μm
波長:254nm
移動相:A相 10mM 酢酸アンモニウム(pH= 3.5);B相 アセトニトリル
表2:溶出条件:
Figure 2014530805
停止時間:45分; 後実行時間:8分; カラム温度:30℃
アジルサルタンの結晶形Aの熱安定性、湿度安定性および光安定性の結果を表3に示す。

Figure 2014530805

Claims (19)

  1. アジルサルタンの結晶形であって、結晶形A、結晶形B、結晶形C、結晶形D、結晶形E、結晶形F、結晶形G、結晶形H、結晶形I、結晶形J又は結晶形Kであり、実質的に純粋である、前記アジルサルタンの結晶形。
  2. 結晶形Aであり、該結晶形Aが、2θで約9.15度にピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約9.15、12.75、18.34、20.42、21.49及び23.53度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約9.15、12.75、18.34、18.68、19.36、19.97、20.42、21.49、21.82、23.53、23.98及び25.26度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約9.15、12.75、14.91、15.38、17.98、18.34、18.68、19.36、19.97、20.42、21.49、21.82、23.53、23.98、24.60、25.26、25.53、26.68、27.72、28.77、29.11及び29.40度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは実質的に図1に図示される粉末X線回折パターン;を有し、2θでの当該約9.15度のピークは、当該粉末X線回折パターンにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、少なくとも約99%の相対強度を有する、請求項1記載のアジルサルタンの結晶形。
  3. 結晶形Bであり、該結晶形Bが、2θで約9.08度にピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約9.08、21.41及び23.47度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約7.63、9.08、18.62、19.30、21.41及び23.47度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約7.63、9.08、10.62、12.69、13.24、15.34、15.75、16.53、16.95、18.27、18.62、19.08、19.30、19.64、19.89、20.10、20.35、21.41、21.76、22.21、22.98、23.47、23.92、24.31、25.18、25.48、26.31及び26.62度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは実質的に図2に図示される粉末X線回折パターン;を有し、2θでの当該約9.08度のピークは、当該粉末X線回折パターンにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、少なくとも約99%の相対強度を有する、請求項1記載のアジルサルタンの結晶形。
  4. 結晶形Cであって、該結晶形Cが、2θで約18.32度にピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約18.32、21.85、23.34及び24.60度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約9.13、11.77、15.74、16.33、18.32、18.68、21.85、22.46、23.34及び24.60度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約7.56、9.13、11.77、13.97、15.74、16.33、18.32、18.68、19.07、19.72、20.12、20.77、21.85、22.12、22.46、22.83、23.34、24.12、24.60、25.20、25.51、26.91、28.17、29.87、30.60、及び31.09度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは実質的に図3に図示される粉末X線回折パターン;を有し、2θでの当該約18.32度のピークは、当該粉末X線回折パターンにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、少なくとも約99%の相対強度を有する、請求項1記載のアジルサルタンの結晶形。
  5. 結晶形Dであって、当該結晶形Dが、2θで約9.33度にピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約9.33、9.55、20.83、21.82、25.05及び26.23度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約9.33、9.55、11.65、13.46、14.99、15.83、17.69、18.39、19.11、19.51、20.16、20.83、21.36、21.67、21.82、22.15、22.38、23.02、23.48、24.63、25.05、25.46、25.99、26.23、27.09、28.40、29.09及び32.49度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは実質的に図4に図示される粉末X線回折パターン;を有し、2θでの当該約9.33度のピークは、当該粉末X線回折パターンにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、、少なくとも約60%、、少なくとも約70%、、少なくとも約80%、、少なくとも約90%、、少なくとも約99%の相対強度を有する、請求項1記載のアジルサルタンの結晶形。
  6. 結晶形Eであって、該結晶形Eが、2θで約23.89度にピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約9.20、10.42、18.04、21.53、23.05、23.57及び23.89度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約6.48、9.20、10.42、11.36、12.81、14.97、15.62、16.32、17.03、18.04、18.72、19.00、19.67、20.55、21.53、23.05、23.57、23.89、24.91、25.65及び26.70度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約6.48、6.87、7.87、9.20、9.81、10.42、11.36、11.94、12.81、14.97、15.62、16.32、17.03、18.04、18.72、19.00、19.67、20.55、21.53、23.05、23.57、23.89、24.91、25.65、26.70、27.61及び28.80度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは実質的に図5に図示される粉末X線回折パターン;を有し、2θでの当該約23.89度のピークは、当該粉末X線回折パターンにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、、少なくとも約60%、、少なくとも約70%、、少なくとも約80%、、少なくとも約90%、、少なくとも約99%の相対強度を有する、請求項1記載のアジルサルタンの結晶形。
  7. 結晶形Fであって、該結晶形Eが、2θで約9.09度にピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約9.09、9.22及び18.29度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約9.09、9.22、12.76、18.29、18.44、18.71、19.41、20.01、20.24、20.44、21.45、21.82、23.44、23.54、24.01、25.30、25.65、26.72、28.86、29.10、37.14及び37.26度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは実質的に図6に図示される粉末X線回折パターン;を有し、2θでの当該約9.09度のピークは、当該粉末X線回折パターンにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、、少なくとも約60%、、少なくとも約70%、、少なくとも約80%、、少なくとも約90%、、少なくとも約99%の相対強度を有する、請求項1記載のアジルサルタンの結晶形。
  8. 結晶形Gであって、該結晶形Gが、2θで約9.18度にピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約9.18及び18.37度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約7.51、8.52、9.18、10.96、12.74、13.12、13.56、14.22、15.03、15.43、16.22、17.10、17.96、18.37、18.71、19.38、19.97、20.47、21.16、21.53、21.85、22.07、22.71、23.17、23.54、24.02、24.96、25.36、25.78及び26.72度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは実質的に図7に図示される粉末X線回折パターン;を有し、2θでの当該約9.18度のピークは、当該粉末X線回折パターンにおける最も強いピークについて、少なくとも約50%、、少なくとも約60%、、少なくとも約70%、、少なくとも約80%、、少なくとも約90%、、少なくとも約99%の相対強度を有する、請求項1記載のアジルサルタンの結晶形。
  9. 結晶形Hであって、該結晶形Hが、2θで約21.09度にピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約7.52、21.09、22.05及び23.21度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約7.52、8.45、14.93、18.92、19.94、21.09、22.05、22.71、23.21、24.98及び28.80度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約7.52、8.45、9.44、10.97、12.45、13.14、13.61、14.15、14.93、15.40、16.18、16.95、18.32、18.92、19.94、21.09、22.05、22.71、23.21、23.52、24.98、25.26、25.71、27.22、28.47、28.80、29.22及び30.15度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは実質的に図8に図示される粉末X線回折パターン;を有し、2θでの当該約21.09度のピークは、少なくとも約50%、、少なくとも約60%、、少なくとも約70%、、少なくとも約80%、、少なくとも約90%、、少なくとも約99%の相対強度を有する、請求項1記載のアジルサルタンの結晶形。
  10. 結晶形Iであって、該結晶形Iが、2θで約21.01度にピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約7.41、8.57、18.27及び21.01度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約7.41、8.57、12.13、14.18、15.02、15.39、15.98、17.08、18.27、18.73、21.01、21.92、22.31、22.91、24.66、25.36、28.27、28.61及び29.07度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは実質的に図9に図示される粉末X線回折パターン;を有し、2θでの当該約21.01度のピークは、少なくとも約50%、、少なくとも約60%、、少なくとも約70%、、少なくとも約80%、、少なくとも約90%、、少なくとも約99%の相対強度を有する、請求項1記載のアジルサルタンの結晶形。
  11. 結晶形Jであって、該結晶形Jが、2θで約23.32度にピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約21.30、22.81及び23.32度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約7.61、19.00、21.30、22.10、22.81、 23.32及び25.05度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約2.10、4.93、7.61、8.64、9.50、10.99、13.17、13.64、14.30、15.12、15.57、16.25、17.21、18.49、19.00、19.99、21.30、22.10、22.81、23.32、24.19、25.05、25.55、25.96、27.43、28.64、29.04及び30.43度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは実質的に図10に図示される粉末X線回折パターン;を有し、2θでの当該約23.32度のピークは、少なくとも約50%、、少なくとも約60%、、少なくとも約70%、、少なくとも約80%、、少なくとも約90%、、少なくとも約99%の相対強度を有する、請求項1記載のアジルサルタンの結晶形。
  12. 結晶形Kであって、該結晶形Kが、2θで約21.16度にピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約7.58、8.52、17.03、21.16、21.56、22.14及び22.88度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは2θで約7.58、8.52、13.77、15.05、15.56、17.03、18.67、19.03、19.27、 20.04、21.16、21.56、22.14、22.88、23.31、23.66、25.08、25.36、27.48、28.65及び28.90度に一以上のピークを含む粉末X線回折パターン;若しくは実質的に図11に図示される粉末X線回折パターン;を有し、2θでの当該約21.16度のピークは、少なくとも約50%、、少なくとも約60%、、少なくとも約70%、、少なくとも約80%、、少なくとも約90%、、少なくとも約99%の相対強度を有する、請求項1記載のアジルサルタンの結晶形。
  13. 請求項1〜12のいずれか1項記載のアジルサルタンの結晶形を製造するための方法であって、アジルサルタンを良溶媒中に溶解させて溶液を形成すること、及び、該溶液を冷却することにより結晶を形成することを含む、前記方法。
  14. さらに、冷却前に該溶液に貧溶媒を加えることを含む、請求項13に記載の方法。
  15. 前記良溶媒または前記貧溶媒が、一以上の極性溶媒、一以上の非極性溶媒、若しくはそれらの混合物であり、該良溶媒または該貧溶媒が、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、アルカン系溶媒、ニトリル系溶媒、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項13又は14記載の方法。
  16. 前記アルコール系溶媒が、メタノール、エタノール、1,3−プロパンジオール、1,2−プロピレングリコール、1,1,1−トリクロロ−2−メチルプロパン−2−オール、及びそれらの組み合わせから選択され;前記エーテル系溶媒が、テトラヒドロフラン、メチルtert−ブチルエーテル、1,4−ジオキサン、及びそれらの組み合わせから選択され;前記ケトン系溶媒が、アセトン、メチルエチルケトン、4−メチル−2−ペンタノン、及びそれらの組み合わせから選択され;前記エステル系溶媒が、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸tert−ブチル、及びそれらの組み合わせから選択され;前記アルカン系溶媒が、ジクロロメタン、クロロホルム、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、ヘプタン、及びそれらの組み合わせから選択され;前記芳香族炭化水素系溶媒が、ベンゼン、トルエン、及びそれらの組み合わせから選択され;前記ニトリル系溶媒が、アセトニトリル、マロノニトリル、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項15記載の方法。
  17. 請求項1−12のいずれか1項記載のアジルサルタンの結晶形及び一以上の不活性な賦形剤または担体を含む、医薬組成物。
  18. 患者における高血圧症の予防または治療における使用のための、請求項1〜12のいずれか1項記載のアジルサルタンの結晶形または請求項17記載の医薬組成物。
  19. 請求項1〜12のいずれか1項記載のアジルサルタンの結晶形又は請求項17記載のアジルサルタンの医薬組成物の有効量を患者に投与することによる、患者における高血圧症の予防または治療のための方法。
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