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JP2014202959A - Color filter and display device - Google Patents

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JP2014202959A
JP2014202959A JP2013079841A JP2013079841A JP2014202959A JP 2014202959 A JP2014202959 A JP 2014202959A JP 2013079841 A JP2013079841 A JP 2013079841A JP 2013079841 A JP2013079841 A JP 2013079841A JP 2014202959 A JP2014202959 A JP 2014202959A
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light
blue
layer
blue light
subpixel
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JP2013079841A
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Japanese (ja)
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山田 泉
Izumi Yamada
泉 山田
和幸 日野
Kazuyuki Hino
和幸 日野
陽介 和田
Yosuke Wada
陽介 和田
俵屋 誠治
Seiji Tawaraya
誠治 俵屋
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter which prevents blue light hazard when used in a display device and enables the display device to display images at a good brightness level, and to provide a display device having the same.SOLUTION: A color filter which clears the above mentioned problem includes; a transparent base material; a pixel unit having blue light transmissive sub-pixels comprising at least either of blue sub-pixels formed on the transparent base material and having blue coloring layers and white sub-pixels formed on the transparent base material; and blue light reduction means provided in the blue light transmissive sub-pixels on the transparent base material to reduce emission intensity of light in a wavelength range of 380-480 nm contained in source light passing through the blue light transmissive sub-pixels.

Description

本発明は、表示装置に用いた場合にブルーライトハザードを防止して良好な輝度で表示を行うことができるカラーフィルタ、およびこれを用いた表示装置に関する。   The present invention relates to a color filter capable of preventing blue light hazard and performing display with good luminance when used in a display device, and a display device using the same.

近年、液晶表示装置等の表示装置は、その普及が進み、例えばパソコン、テレビ、携帯情報端末、携帯ゲーム機、ATM等に用いられ、人々の生活に深く浸透してきている。そのため、人々が表示装置を利用する時間についても長時間化してきている。   In recent years, display devices such as liquid crystal display devices have been widely used, and are used in, for example, personal computers, televisions, portable information terminals, portable game machines, ATMs, and the like, and have deeply penetrated people's lives. For this reason, the time for people to use the display device has also become longer.

表示装置において、バックライト等の光源を有するものは鮮やかな表示が可能であり、また屋内の暗い場所においても用いることができる。このような光源としては、従来から冷陰極管(CCFL)が用いられてきたが、CCFLは環境に有害な水銀を使用していること、寿命が短いこと、消費電力が大きいこと等の問題を有している。そこで、CCFLに代わる光源として白色LEDを採用する表示装置が増えてきている。
白色LEDとしては、例えば、青色LEDおよび黄色蛍光体を組み合わせて構成されるものや、青色LEDならびに赤色蛍光体および緑色蛍光体を組み合わせて構成されるものが好適に用いられている。
A display device having a light source such as a backlight can display vividly and can be used in a dark place indoors. Conventionally, cold cathode fluorescent lamps (CCFLs) have been used as such light sources, but CCFLs have problems such as the use of mercury harmful to the environment, short life, and high power consumption. Have. In view of this, an increasing number of display devices adopt white LEDs as light sources to replace CCFLs.
As the white LED, for example, a combination of a blue LED and a yellow phosphor, and a combination of a blue LED, a red phosphor and a green phosphor are suitably used.

上述した白色LEDを用いた表示装置においては、発光効率の向上の観点や、消費者の嗜好の観点から、白色LEDに含まれる青色光をより多く利用することが検討されており、例えば上記表示装置に用いられるカラーフィルタにおいては、青色画素部における青色光の透過率を向上させるべく、青色着色層等の調整が行われている。   In the display device using the above-described white LED, from the viewpoint of improving the light emission efficiency and the viewpoint of consumer's preference, it is considered to use more blue light contained in the white LED. In the color filter used in the apparatus, the blue colored layer and the like are adjusted in order to improve the blue light transmittance in the blue pixel portion.

特開2013−008052号公報JP2013-008052A

ところで、最近になって、表示装置に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光(以下、青色光と称して説明する場合がある。)を長時間観察した場合に、視力低下、ドライアイ、肩こり、不眠等の種々の健康傷害を引き起こす、いわゆるブルーライトハザードの問題が指摘され始めている(例えば特許文献1)。
また、図9に示すように、上述した白色LED光は、従来から用いられているCCFL光に比べて上述の波長領域の光を多く含むことから、上述したブルーライトハザードの問題が生じやすいことが懸念されている。
なお、図9は、白色LED光の発光スペクトルおよびCCFL光の発光強度のスペクトルを示すグラフである。
By the way, recently, when light in a wavelength region of 380 nm to 480 nm (hereinafter sometimes referred to as blue light) included in a display device is observed for a long time, visual acuity reduction, dry eye, stiff shoulders The problem of so-called blue light hazard that causes various health injuries such as insomnia has started to be pointed out (for example, Patent Document 1).
Further, as shown in FIG. 9, the above-described white LED light contains more light in the above-described wavelength region than the CCFL light conventionally used, and thus the above-described blue light hazard problem is likely to occur. There are concerns.
FIG. 9 is a graph showing the emission spectrum of white LED light and the emission intensity spectrum of CCFL light.

上述したブルーライトハザードを防止するため、例えば、青色光を吸収するフィルムを表示装置の最表面に設置することにより、表示装置から出てくる青色光の一部を上記フィルムに吸収させて、観察者の眼に届く青色光を少ないものとする方法が講じられている。また、青色光を吸収するレンズを有する眼鏡をかけることにより、表示装置から出てくる青色光の一部を上記レンズに吸収させて、観察者の眼に届く青色光を少ないものとする方法が講じられている。
しかしながら、上述したフィルムおよび眼鏡を用いた場合は、表示装置から出てくる青色光のみならず、他の光の一部も吸収されることから、表示装置全体の輝度が低下してしまうという問題がある。
In order to prevent the above-mentioned blue light hazard, for example, by installing a film that absorbs blue light on the outermost surface of the display device, a part of the blue light emitted from the display device is absorbed by the film and observed. A method to reduce the amount of blue light reaching the eyes of the person is being taken. In addition, there is a method for reducing the amount of blue light reaching the observer's eyes by wearing a pair of glasses having a lens that absorbs blue light so that the lens absorbs part of the blue light emitted from the display device. Has been taken.
However, when the above-described film and glasses are used, not only the blue light emitted from the display device but also a part of other light is absorbed, so that the brightness of the entire display device is lowered. There is.

また、例えば、表示装置に備えられている制御部により、表示画面の輝度や青色階調を調整することによってブルーライトハザードを防止することも可能であるが、この場合も、表示装置全体の輝度が低下するという問題がある。   In addition, for example, it is possible to prevent a blue light hazard by adjusting the luminance of the display screen and the blue gradation by a control unit provided in the display device. There is a problem that decreases.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、表示装置に用いた場合にブルーライトハザードを防止して良好な輝度で表示を行うことができるカラーフィルタ、およびこれを用いた表示装置を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and when used in a display device, a color filter capable of preventing blue light hazard and performing display with good luminance, and a display device using the same The main purpose is to provide.

本発明は、透明基材と、上記透明基材上に設けられ青色着色層を有する青色副画素および上記透明基材上に設けられた白色副画素の少なくとも一方で構成される青色光透過副画素を有する画素部と、上記透明基材上の上記青色光透過副画素に設けられ、上記青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光の発光強度を低減する青色光低減手段と、を備えることを特徴とするカラーフィルタを提供する。   The present invention relates to a blue light transmission subpixel comprising at least one of a transparent substrate, a blue subpixel having a blue colored layer provided on the transparent substrate, and a white subpixel provided on the transparent substrate. And a light emission intensity of light in a wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light that is provided in the blue light transmission subpixel on the transparent substrate and transmitted through the blue light transmission subpixel. A color filter comprising: a blue light reducing unit.

本発明によれば、上記青色光低減手段を有することにより、本発明のカラーフィルタを用いた表示装置において、ブルーライトハザードを防止することができ、良好な輝度の表示を行うことができる。   According to the present invention, by including the blue light reducing means, in the display device using the color filter of the present invention, it is possible to prevent blue light hazard and display with good luminance.

本発明は、光源と、透明基材、上記透明基材上に設けられ青色着色層を有する青色副画素および上記透明基材上に設けられた白色副画素の少なくとも一方で構成される青色光透過副画素を有する画素部、ならびに上記透明基材上の上記青色光透過副画素に設けられ、上記青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光の発光強度を低減する青色光低減手段、を備えるカラーフィルタと、を有することを特徴とする表示装置を提供する。   The present invention relates to a blue light transmission comprising at least one of a light source, a transparent substrate, a blue subpixel provided on the transparent substrate and having a blue colored layer, and a white subpixel provided on the transparent substrate. A light emission intensity of light in a wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light provided in the blue light transmission subpixel on the transparent base material and the blue light transmission subpixel on the transparent base material. There is provided a display device comprising: a color filter including a blue light reducing means for reducing.

本発明によれば、上記カラーフィルタを有することにより、ブルーライトハザードを防止することができ、良好な輝度の表示を行うことができる表示装置とすることができる。   According to the present invention, by having the color filter, a blue light hazard can be prevented and a display device capable of performing display with good luminance can be obtained.

本発明のカラーフィルタは、表示装置に用いた場合にブルーライトハザードを防止して良好な輝度で表示を行うことができるといった作用効果を奏する。   When used in a display device, the color filter of the present invention has the effect of preventing blue light hazard and performing display with good luminance.

本発明のカラーフィルタの一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the color filter of this invention. 本発明のカラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the color filter of this invention. 本発明のカラーフィルタの他の例を示す概略図である。It is the schematic which shows the other example of the color filter of this invention. 本発明のカラーフィルタの他の例を示す概略図である。It is the schematic which shows the other example of the color filter of this invention. 本発明における青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光の発光強度のスペクトル等を示すグラフである。It is a graph which shows the spectrum etc. of the emitted light intensity of the light of the wavelength range of 380 nm-480 nm contained in the light source light which permeate | transmitted the blue light transmission subpixel in this invention. 本発明の表示装置(液晶表示装置)の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the display apparatus (liquid crystal display device) of this invention. 本発明の表示装置(有機EL表示装置)の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the display apparatus (organic EL display apparatus) of this invention. 本発明の表示装置(有機EL表示装置)の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the display apparatus (organic EL display apparatus) of this invention. 白色LED光およびCCFL光の発光強度のスペクトルの一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the spectrum of the emitted light intensity of white LED light and CCFL light.

以下、本発明のカラーフィルタ、および表示装置について説明する。
なお、本発明における「光源」とは、表示装置において表示を行うための白色光を発するものをいい、表示装置用のバックライトだけでなく、白色光を発光する有機エレクトロルミネッセンス(以下、ELと称して説明する場合がある。)素子を含むものとする。
The color filter and display device of the present invention will be described below.
The “light source” in the present invention refers to a light source that emits white light for display on a display device, and not only a backlight for a display device but also organic electroluminescence that emits white light (hereinafter referred to as EL). In some cases, the element is included.)

A.カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、透明基材と、上記透明基材上に設けられ青色着色層を有する青色副画素および上記透明基材上に設けられた白色副画素の少なくとも一方で構成される青色光透過副画素を有する画素部と、上記透明基材上の上記青色光透過副画素に設けられ、上記青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光の発光強度を低減する青色光低減手段と、を備えることを特徴とするものである。
A. Color filter The color filter of the present invention is composed of at least one of a transparent substrate, a blue subpixel provided on the transparent substrate and having a blue colored layer, and a white subpixel provided on the transparent substrate. A pixel portion having a blue light transmission subpixel; and a light source light provided in the blue light transmission subpixel on the transparent base material and transmitted in the light source light transmitted through the blue light transmission subpixel. And a blue light reducing means for reducing the emission intensity.

本発明のカラーフィルタについて図を用いて説明する。
図1は本発明のカラーフィルタの一例を示す概略断面図である。図1に示すように、本発明のカラーフィルタ10は、透明基材1と、透明基材1上に設けられ青色着色層2Bを有する青色副画素3Bおよび透明基材1上に設けられ透明樹脂層2Wを有する白色副画素3Wで構成される青色光透過副画素3、ならびに透明基材1上に設けられ赤色着色層2Rを有する赤色副画素4Rおよび透明基材1上に設けられ緑色着色層2Gを有する緑色副画素4Gを有する画素部5と、透明基材1上の青色光透過副画素3に設けられ、青色光透過副画素3を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光の発光強度を低減する青色光低減手段6と、を備えることを特徴とするものである。
また、本発明のカラーフィルタ10は、透明基材1上の各副画素3B、3W、4R、4Gの間に形成された遮光部7を有していてもよい。
図1においては、青色光低減手段6が、透明基材1上の青色副画素3Bおよび白色副画素3Wに形成された光吸収層6aである例について示している。
The color filter of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of the color filter of the present invention. As shown in FIG. 1, the color filter 10 of the present invention includes a transparent substrate 1, a blue subpixel 3 </ b> B having a blue colored layer 2 </ b> B provided on the transparent substrate 1, and a transparent resin provided on the transparent substrate 1. Blue light transmitting subpixel 3 composed of white subpixel 3W having layer 2W, red subpixel 4R having red coloring layer 2R provided on transparent substrate 1, and green coloring layer provided on transparent substrate 1 A wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light that is provided in the pixel portion 5 having the green subpixel 4G having 2G and the blue light transmitting subpixel 3 on the transparent substrate 1 and transmitted through the blue light transmitting subpixel 3 And blue light reducing means 6 for reducing the emission intensity of the light.
In addition, the color filter 10 of the present invention may have a light shielding portion 7 formed between the sub-pixels 3B, 3W, 4R, and 4G on the transparent substrate 1.
FIG. 1 shows an example in which the blue light reducing means 6 is a light absorption layer 6 a formed on the blue subpixel 3 </ b> B and the white subpixel 3 </ b> W on the transparent substrate 1.

図2は本発明のカラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。図2においては、青色光低減手段6が、青色着色層2Bおよび透明樹脂層2W中に添加された光吸収剤6bである例について示している。
なお、図2において説明していない符号については、図1において説明した符号と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another example of the color filter of the present invention. FIG. 2 shows an example in which the blue light reducing means 6 is a light absorbent 6b added to the blue colored layer 2B and the transparent resin layer 2W.
2 that are not described in FIG. 2 can be the same as those described in FIG. 1, and thus description thereof is omitted here.

図3(a)は本発明のカラーフィルタの他の例を示す概略平面図であり、図3(b)は図3(a)のA−A線断面図である。また、図4(a)は本発明のカラーフィルタの他の例を示す概略平面図であり、図4(b)は図4(a)のB−B線断面図である。
図3(a)、(b)および図4(a)、(b)においては、青色光低減手段6が、透明基材1上の青色光透過副画素3(青色副画素3Bおよび白色副画素3W)内に形成された副画素用遮光部6cである例について示している。また、カラーフィルタ10が遮光部7を有する場合、副画素用遮光部6cは、図3(a)、(b)に示すように、透明基材1上の青色光透過副画素3内に所定のパターン状で形成されていてもよく、図4(a)、(b)に示すように、遮光部7と副画素用遮光部6cとを一体に形成してもよい。
なお、図3(a)、(b)および図4(a)、(b)において説明していない符号については、図1において説明した符号と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。また、説明の容易の為、図4(a)では副画素用遮光部6および遮光部7を白色で示しており、副画素用遮光部6および遮光部7の境界を破線で示している。
FIG. 3A is a schematic plan view showing another example of the color filter of the present invention, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 4A is a schematic plan view showing another example of the color filter of the present invention, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 4A.
3 (a), 3 (b) and 4 (a), 4 (b), the blue light reducing means 6 is connected to the blue light transmitting subpixel 3 (the blue subpixel 3B and the white subpixel) on the transparent substrate 1. 3W) shows an example of the sub-pixel light-shielding portion 6c formed in 3W). Further, when the color filter 10 includes the light-shielding portion 7, the sub-pixel light-shielding portion 6c is provided in the blue light transmitting sub-pixel 3 on the transparent substrate 1 as shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b). As shown in FIGS. 4A and 4B, the light shielding portion 7 and the sub-pixel light shielding portion 6c may be integrally formed.
3 (a), 3 (b) and FIGS. 4 (a), 4 (b) may be the same as the reference numerals described in FIG. Omitted. For ease of explanation, in FIG. 4A, the sub-pixel light-shielding part 6 and the light-shielding part 7 are shown in white, and the boundary between the sub-pixel light-shielding part 6 and the light-shielding part 7 is shown in broken lines.

また、「青色光低減手段が、上記青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光の発光強度を低減する」とは、青色光低減手段を有さないカラーフィルタ(以下、基準のカラーフィルタと称して説明する場合がある。)における青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光(以下、基準の青色光と称して説明する場合がある。)の発光強度に比べて、本発明のカラーフィルタにおける青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる上記波長領域の光(以下、調整後の青色光と称して説明する場合がある。)の発光強度が小さくなるように、青色光低減手段が、本発明のカラーフィルタにおける青色光透過副画素の光源光の透過率、または光源光の透過面積等の特性(以下、光特性と称して説明する場合がある。)を調整するものであることをいう。
また、基準のカラーフィルタとは、本発明のカラーフィルタにおいて青色光低減手段を設けないこと以外は同一の条件で形成されたカラーフィルタをいう。
なお、以下の説明において、基準のカラーフィルタにおける青色光透過副画素については、「基準の青色光透過副画素」と称して説明し、本発明のカラーフィルタにおける青色光透過副画素については、単に「青色光透過副画素」と称して説明する場合がある。
Further, “the blue light reducing means reduces the light emission intensity of light in the wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light transmitted through the blue light transmitting sub-pixel” means that the color does not have the blue light reducing means. Light in a wavelength region of 380 nm to 480 nm (hereinafter referred to as reference blue light) included in the light source light transmitted through the blue light transmitting subpixel in the filter (hereinafter, referred to as a reference color filter). Compared to the emission intensity of the color filter of the present invention, the light in the wavelength region included in the light source light transmitted through the blue light transmitting subpixel in the color filter of the present invention (hereinafter referred to as adjusted blue light). The blue light reducing means may reduce the light source light transmittance of the blue light transmitting sub-pixel in the color filter of the present invention, or the light source light transmission area, etc. Sex refers to (hereinafter also will be referred as optical properties.) Is used for adjusting the.
The reference color filter means a color filter formed under the same conditions except that the blue light reducing means is not provided in the color filter of the present invention.
In the following description, the blue light transmissive subpixel in the reference color filter will be referred to as “reference blue light transmissive subpixel”, and the blue light transmissive subpixel in the color filter of the present invention will simply be described. It may be described as “blue light transmitting subpixel”.

「青色光低減手段が、上記青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光の発光強度を低減する」ことについて図を用いて説明する。
図5は、光源光、基準の青色光、および調整後の青色光の発光強度のスぺクトルの一例を示すグラフである。また、図5においては光源光が白色LED光であり、基準の青色光が透明基材上に形成された青色着色層を有する青色副画素を透過した光源光であり、調整後の青色光が透明基材上に形成された青色着色層およびITOで構成される光吸収層の積層体を有する青色副画素を透過した光源光である例について示している。
基準の青色副画素に光源光を透過させた場合、通常、透明基材上に形成された青色着色層により、光源光自体に含まれる上記波長領域の光の一部が吸収されることから、図5に示すように、光源光の発光強度のピークAに比べて、基準の青色光の発光強度のピークBは小さくなる。
一方、本発明における青色光副画素に光源光を透過させた場合、上述した青色着色層に加えて青色光低減手段の作用により、図5に示すように、上述の基準の青色光の発光強度のピークBに比べて、調整後の青色光の発光強度のピークCを小さくすることができる。
“The blue light reducing means reduces the light emission intensity of light in the wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light transmitted through the blue light transmitting subpixel” will be described with reference to the drawings.
FIG. 5 is a graph showing an example of a spectrum of light emission intensity of light source light, reference blue light, and adjusted blue light. In FIG. 5, the light source light is white LED light, the reference blue light is light source light transmitted through a blue subpixel having a blue colored layer formed on a transparent substrate, and the adjusted blue light is It shows an example of light source light transmitted through a blue subpixel having a laminate of a blue colored layer formed on a transparent substrate and a light absorption layer made of ITO.
When the light source light is transmitted through the reference blue subpixel, usually, a part of the light in the wavelength region included in the light source light itself is absorbed by the blue colored layer formed on the transparent substrate. As shown in FIG. 5, the peak B of the emission intensity of the reference blue light is smaller than the emission intensity peak A of the light source light.
On the other hand, when the light source light is transmitted through the blue light sub-pixel according to the present invention, the blue light emission intensity of the reference blue light as shown in FIG. As compared with the peak B, the peak C of the emission intensity of the blue light after adjustment can be reduced.

本発明によれば、上記青色光低減手段を有することにより、本発明のカラーフィルタを用いた表示装置において、ブルーライトハザードを防止することができ、良好な輝度の表示を行うことができる。   According to the present invention, by including the blue light reducing means, in the display device using the color filter of the present invention, it is possible to prevent blue light hazard and display with good luminance.

より具体的には、本発明によれば、上記青色光低減手段を有することにより、青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光を低減することができるから、本発明のカラーフィルタを用いた表示装置において、観察者の眼に届く上記波長領域の光を少なくすることができるので、ブルーライトハザードを防止することができる。
また、本発明によれば、上記青色光低減手段が青色光透過副画素に設けられていることにより、画素部における他の副画素とは別途に青色光透過副画素の光特性を調整することができるため、他の副画素の光特性に対して、青色光低減手段の影響が及ばないものとすることができることから、本発明のカラーフィルタを用いた表示装置全体の輝度、他の副画素の色合い等を良好なものとすることができる。
More specifically, according to the present invention, the light in the wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light transmitted through the blue light transmitting subpixel can be reduced by having the blue light reducing means. In the display device using the color filter of the present invention, light in the wavelength region that reaches the observer's eyes can be reduced, so that blue light hazard can be prevented.
Further, according to the present invention, the blue light reducing means is provided in the blue light transmitting subpixel, so that the light characteristic of the blue light transmitting subpixel is adjusted separately from the other subpixels in the pixel portion. Therefore, the luminance of the entire display device using the color filter of the present invention, the other sub-pixels can be prevented from being affected by the blue light reducing means on the light characteristics of the other sub-pixels. It is possible to improve the hue of the color.

また、上述した青色光を吸収するフィルムや眼鏡を用いた従来のブルーライトハザードの防止方法においては、表示装置の利用者が負担するコストが多くなるというという問題がある。また、最近ではタッチパネル機能を備える表示装置も広く用いられており、上述したフィルムを配置した場合は、タッチパネルの操作を阻害する場合があるという問題がある。
これに対して、本発明のカラーフィルタは、表示装置自体に組み込むことでブルーライトハザードを防止することができるため、表示装置の利用者が上述したフィルムや眼鏡を購入する必要がなく、表示装置の利用にかかるコストを少なくすることができ、また、タッチパネルの操作を阻害しないものとすることができる。
Further, the conventional blue light hazard prevention method using the blue light absorbing film or glasses described above has a problem that the cost of the display device user increases. In addition, recently, a display device having a touch panel function has been widely used, and when the above-described film is disposed, there is a problem in that the operation of the touch panel may be hindered.
On the other hand, since the color filter of the present invention can prevent a blue light hazard by being incorporated in the display device itself, it is not necessary for the user of the display device to purchase the above-described film or glasses. It is possible to reduce the cost for the use of the touch panel and not to disturb the operation of the touch panel.

以下、本発明のカラーフィルタの詳細について説明する。   Details of the color filter of the present invention will be described below.

I.画素部
本発明に用いられる画素部は、青色光透過副画素を有するものであり、通常は、さらに赤色副画素および緑色副画素等の他の副画素を有するものである。
I. Pixel Unit The pixel unit used in the present invention has a blue light transmission subpixel, and usually has another subpixel such as a red subpixel and a green subpixel.

1.青色光透過副画素
本発明に用いられる青色光透過副画素は、青色副画素および白色副画素の少なくとも一方で構成されるものであり、青色光低減手段を有するものである。
また、本発明においては、上述したように、青色光透過副画素は上記青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光の発光強度を低減する青色光低減手段が設けられているもの、すなわち青色光低減手段を用いて、基準の青色光の発光強度に比べて調整後の青色光の発光強度が小さくなるように、その光特性が調整されているものである。
1. Blue light transmissive subpixel The blue light transmissive subpixel used in the present invention is configured by at least one of a blue subpixel and a white subpixel, and has blue light reduction means.
In the present invention, as described above, the blue light transmission subpixel is a blue light reduction means for reducing the light emission intensity of light in the wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light transmitted through the blue light transmission subpixel. In other words, the light characteristics are adjusted so that the emission intensity of the adjusted blue light is smaller than the emission intensity of the reference blue light using the blue light reduction means. is there.

(1)青色光透過副画素の光特性の調整
本発明に用いられる青色光透過副画素の光特性の調整方法について説明する。
本発明における青色光透過副画素の光特性は、通常、白色の光源光を用いて調整される。いずれの光源光を用いて調整するかは、本発明のカラーフィルタの用途等に応じて適宜選択することができる。
白色の光源光を発する光源としては、白色LED、CCFL、白色発光層を備える有機EL素子等を挙げることができ、なかでも、本発明においては白色LED、白色発光層を有する有機EL素子であることが好ましい。
白色LEDは、青色LEDおよび黄色蛍光体で構成されるもの、もしくは青色LEDならびに赤色蛍光体および緑色蛍光体で構成されるもの等が好適に用いられることから、白色LED光は、上述した380nm〜480nmの波長領域の光を比較的多く含む光源光である。そのため、本発明における青色光透過副画素の光特性を白色LED光を用いて調整することにより、ブルーライトハザードを好適に防止することができる。
また、白色発光層を有する有機EL素子においても、生産性の向上や長寿命化の観点から、上述した波長領域の光を多く発光するものが好適に用いられていることから、本発明における青色光透過副画素の光特性を上記有機EL素子の光を用いて調整することにより、ブルーライトハザードを好適に防止することができる。
(1) Adjustment of light characteristics of blue light transmitting subpixels A method of adjusting the light characteristics of the blue light transmitting subpixels used in the present invention will be described.
The light characteristics of the blue light transmissive subpixel in the present invention are usually adjusted using white light source light. Which light source light is used for adjustment can be appropriately selected according to the use of the color filter of the present invention.
Examples of the light source that emits white light source light include white LEDs, CCFLs, and organic EL elements having a white light emitting layer. Among them, in the present invention, white LEDs are organic EL elements having a white light emitting layer. It is preferable.
As the white LED, one composed of a blue LED and a yellow phosphor, or one composed of a blue LED and a red phosphor and a green phosphor is preferably used. The light source light contains a relatively large amount of light in the wavelength region of 480 nm. Therefore, a blue light hazard can be suitably prevented by adjusting the light characteristics of the blue light transmitting subpixel in the present invention using white LED light.
In addition, in the organic EL element having a white light emitting layer, the one that emits a lot of light in the above-described wavelength region is preferably used from the viewpoint of improving productivity and extending the life. A blue light hazard can be suitably prevented by adjusting the light characteristics of the light transmissive sub-pixel using the light of the organic EL element.

また、青色光透過副画素の光特性としては、基準の青色光の発光強度に対して、調整後の青色光の発光強度が小さくなるように調整されていればよく、基準の青色光の発光強度に対する調整後の青色光の発光強度の比率(発光強度比)については、本発明のカラーフィルタの用途に応じて適宜選択することができ、特に限定されない。
本発明においては、例えば、基準の青色光の発光強度を100%とした場合に、調整後の青色光の発光強度比が、50%〜80%の範囲内、なかでも50%〜75%の範囲内、特に50%〜70%の範囲内となるように、青色光透過副画素の光特性が調整されていることが好ましい。上記発光強度比が小さすぎる場合は、本発明のカラーフィルタを用いた表示装置において、所望のカラー表示を行うことが困難となる可能性があるからであり、上記発光強度比が大きすぎる場合は、本発明のカラーフィルタを用いた表示装置において、十分にブルーライトハザードを防止することが困難となる可能性があるからである。
The light characteristics of the blue light transmitting subpixel may be adjusted so that the adjusted blue light emission intensity is smaller than the reference blue light emission intensity. The ratio of the emission intensity of blue light after adjustment to the intensity (emission intensity ratio) can be appropriately selected depending on the use of the color filter of the present invention, and is not particularly limited.
In the present invention, for example, when the emission intensity of the reference blue light is set to 100%, the emission intensity ratio of the adjusted blue light is in the range of 50% to 80%, particularly 50% to 75%. It is preferable that the light characteristics of the blue light transmissive sub-pixel are adjusted so as to be within the range, particularly within the range of 50% to 70%. If the light emission intensity ratio is too small, it may be difficult to perform a desired color display in a display device using the color filter of the present invention. If the light emission intensity ratio is too large, This is because it may be difficult to sufficiently prevent the blue light hazard in the display device using the color filter of the present invention.

また、青色光透過副画素の光特性としては、基準の青色光の発光強度に対して、調整後の青色光の発光強度のうち、380nm〜480nmの波長領域全体の光の発光強度が小さくなるように調整されていてもよく、上記波長領域の一部の発光強度が小さくなるように調整されていてもよい。
本発明においては、基準の青色光の発光強度に対して、調整後の青色光の発光強度のうち、380nm〜430nmの波長領域の光の発光強度が小さくなるように調整されていることが好ましい。上述した380nm〜480nmの波長領域の光のうち、より短波長側の光の発光強度を小さくすることで、本発明のカラーフィルタを用いた表示装置において、観察者の眼に、より大きなエネルギーを有する青色光が届くことを抑制することができ、また、長波長側の青色光、すなわち小さいエネルギーを有する青色光を用いて良好な青色表示等を行うことができるからである。
In addition, as the light characteristics of the blue light transmitting subpixel, the light emission intensity of the entire wavelength region of 380 nm to 480 nm is smaller than the reference blue light emission intensity. It may be adjusted so that the emission intensity of a part of the wavelength region may be reduced.
In the present invention, it is preferable that the emission intensity of light in the wavelength region of 380 nm to 430 nm is adjusted to be smaller than the emission intensity of the blue light after adjustment with respect to the emission intensity of the reference blue light. . In the display device using the color filter of the present invention, by reducing the emission intensity of the light on the shorter wavelength side among the light in the wavelength region of 380 nm to 480 nm described above, more energy is given to the eyes of the observer. This is because it is possible to suppress the arrival of the blue light, and to perform good blue display or the like by using the blue light on the long wavelength side, that is, the blue light having a small energy.

具体的には、基準の青色光における380nm〜430nmの波長領域の発光強度を100%とした場合に、調整後の青色光における380nm〜430nmの波長領域の発光強度比が、75%未満、なかでも73%以下、特に70%以下であることが好ましい。
また、基準の青色光における430nm〜480nmの波長領域の発光強度を100%とした場合に、調整後の青色光における430nm〜480nmの波長領域の発光強度比が、75%以上、なかでも78%以上、特に80%以上であることが好ましい。
Specifically, when the emission intensity in the wavelength region of 380 nm to 430 nm in the reference blue light is 100%, the emission intensity ratio in the wavelength region of 380 nm to 430 nm in the adjusted blue light is less than 75%. However, it is preferably 73% or less, particularly 70% or less.
In addition, when the emission intensity in the wavelength region of 430 nm to 480 nm in the reference blue light is 100%, the emission intensity ratio in the wavelength region of 430 nm to 480 nm in the adjusted blue light is 75% or more, especially 78%. In particular, 80% or more is preferable.

本明細書において基準の青色光の発光強度とは、基準の青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の各波長の発光強度の平均値をいい、基準の青色光における特定の波長領域の発光強度とは、基準の青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域内の特定の波長領域の各波長の発光強度の平均値をいう。
本明細書において調整後の青色光の発光強度とは、本発明における青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の各波長の発光強度の平均値をいい、調整後の青色光における特定の波長領域の発光強度とは、本発明における青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の特定の波長領域の各波長の発光強度の平均値をいう。
基準の青色光の発光強度および調整後の青色光の発光強度は、例えば、輝度計((株)トプコン製 SR−3AR)を用いて求めることができる。
In this specification, the reference blue light emission intensity means the average value of the emission intensity of each wavelength in the wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light transmitted through the reference blue light transmitting subpixel. The light emission intensity in a specific wavelength region in light refers to the average value of the light emission intensities in specific wavelength regions within the wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light transmitted through the reference blue light transmission subpixel. .
In this specification, the light emission intensity of blue light after adjustment refers to the average value of the light emission intensity of each wavelength in the wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light transmitted through the blue light transmission subpixel in the present invention. The emission intensity of the specific wavelength region in the subsequent blue light is the average of the emission intensity of each wavelength in the specific wavelength region of the wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light transmitted through the blue light transmission subpixel in the present invention. Value.
The reference blue light emission intensity and the adjusted blue light emission intensity can be obtained, for example, using a luminance meter (SR-3AR, manufactured by Topcon Corporation).

また、基準の青色光の発光強度に対する調整後の青色光の発光強度比、基準の青色光における特定波長の発光強度に対する調整後の青色光における特定波長の発光強度比については、それぞれ下記式1で求めることができる。   Further, the adjusted blue light emission intensity ratio with respect to the reference blue light emission intensity and the adjusted blue light emission intensity ratio with respect to the specific blue light emission intensity ratio with respect to the reference blue light are respectively expressed by the following formulas 1 and 2. Can be obtained.

Figure 2014202959
(式1中、Iは発光強度比、A、Bは380nm(λ380)〜480nm(λ480)の波長領域内における任意の波長領域λ〜λ、Tは基準の青色光における波長領域λ〜λの各波長の発光強度を100%とした場合の、調整後の青色光における波長領域λ〜λの各波長の発光強度比である。)
Figure 2014202959
(In Formula 1, I is the emission intensity ratio, A and B are arbitrary wavelength regions λ A to λ B in the wavelength region of 380 nm (λ 380 ) to 480 nm (λ 480 ), and T is the wavelength region in the reference blue light. (The emission intensity ratio of each wavelength in the wavelength region λ A to λ B in the blue light after adjustment when the emission intensity of each wavelength of λ A to λ B is 100%.)

上記基準の青色光の発光強度に対する調整後の青色光の発光強度比は、例えば、輝度計((株)トプコン製 SR−3AR)を用いて求めることができる。   The light emission intensity ratio of the blue light after adjustment with respect to the light emission intensity of the blue light of the above reference can be determined using, for example, a luminance meter (SR-3AR manufactured by Topcon Corporation).

また、例えば基準の青色光の発光強度をIとし、調整後の青色光の発光強度をIとした場合、基準の青色光の発光強度に対する調整後の青色光の発光強度比は、I/Iとして求めることもできる。 For example, when the emission intensity of the reference blue light is I 1 and the emission intensity of the adjusted blue light is I 2 , the ratio of the emission intensity of the adjusted blue light to the emission intensity of the reference blue light is I It may be obtained as 2 / I 1.

(2)青色光低減手段
本発明に用いられる青色光低減手段は、上記青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光の発光強度を低減するものであり、より具体的には、基準の青色光の発光強度に比べて調整後の青色光の発光強度が小さくなるように、青色光透過副画素の光特性を調整するものである。
(2) Blue light reducing means The blue light reducing means used in the present invention reduces the light emission intensity of light in the wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light transmitted through the blue light transmitting subpixel. More specifically, the light characteristic of the blue light transmitting sub-pixel is adjusted so that the light emission intensity of the adjusted blue light becomes smaller than the light emission intensity of the reference blue light.

このような青色光低減手段としては、透明基材上の青色光透過副画素に設けられていれば特に限定されず、例えば、青色光透過副画素が青色副画素および白色副画素を有する場合は、いずれか一方の副画素に設けられていればよいが、青色副画素および白色副画素の両方に設けられていることが好ましい。本発明のカラーフィルタを用いた表示装置においてブルーライトハザードをより好適に防止することができるからである。   Such blue light reducing means is not particularly limited as long as it is provided in the blue light transmitting subpixel on the transparent substrate. For example, when the blue light transmitting subpixel has a blue subpixel and a white subpixel. However, it may be provided in any one of the subpixels, but is preferably provided in both the blue subpixel and the white subpixel. This is because the blue light hazard can be more suitably prevented in the display device using the color filter of the present invention.

青色光低減手段としては、具体的には、光吸収層、光吸収剤、および副画素用遮光部のうち、少なくともいずれか1つが用いられる。青色光低減手段は、一の青色光透過副画素において2種類以上を用いてもよい。また、青色光透過副画素が青色副画素および白色副画素を有する場合は、各副画素に用いられる青色光低減手段が同一種類であってもよく、異なる種類であってもよい。
以下、青色光低減手段に用いられる光吸収層、光吸収剤、および副画素用遮光部について説明する。
Specifically, as the blue light reducing means, at least one of a light absorption layer, a light absorber, and a sub-pixel light shielding portion is used. Two or more types of blue light reducing means may be used in one blue light transmitting subpixel. When the blue light transmitting subpixel includes a blue subpixel and a white subpixel, the blue light reducing means used for each subpixel may be the same type or different types.
Hereinafter, the light absorption layer, the light absorber, and the sub-pixel light-shielding portion used for the blue light reduction unit will be described.

(a)光吸収層
光吸収層は、透明基材上の青色光透過副画素に形成されるものであり、光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光を吸収する層である。また、光吸収層は、通常、青色画素部においては青色着色層と別体で形成される。一方、白色副画素においては、後述する透明樹脂層を有する場合は、透明樹脂層と別体で形成され、透明樹脂層を有さない場合は、透明基材上に直接形成される。
光吸収層を有することにより、基準の青色光透過副画素の380nm〜480nmの波長領域の光の透過率に比べて、本発明における青色光透過副画素の380nm〜480nmの波長領域の光の透過率を下げることができるため、基準の青色光の発光強度に比べて調整後の発光強度を小さくすることができる。
(A) Light absorption layer A light absorption layer is formed in the blue light transmission subpixel on a transparent base material, and is a layer which absorbs the light of the wavelength range of 380 nm-480 nm contained in light source light. Further, the light absorption layer is usually formed separately from the blue colored layer in the blue pixel portion. On the other hand, in a white subpixel, when it has the transparent resin layer mentioned later, it forms separately from a transparent resin layer, and when it does not have a transparent resin layer, it forms directly on a transparent base material.
By including the light absorption layer, the light transmission in the wavelength region of 380 nm to 480 nm of the blue light transmission subpixel according to the present invention is compared with the light transmittance of the wavelength region of 380 nm to 480 nm of the reference blue light transmission subpixel. Since the rate can be lowered, the light emission intensity after adjustment can be made smaller than the light emission intensity of the reference blue light.

光吸収層の光透過性としては、本発明のカラーフィルタを用いた表示装置において青色光透過副画素を用いて所望の青色表示、もしくは白色表示を行うことができれば特に限定されない。具体的には、光吸収層の380nm〜480nmの波長領域の光の平均透過率が、50%〜85%の範囲内、なかでも55%〜80%の範囲内、特に60%〜75%の範囲内であることが好ましい。
光吸収層の上記平均透過率が大きすぎる場合は、光吸収層を設けた場合も、本発明のカラーフィルタを用いた表示装置において十分にブルーライトハザードを防止することが困難となる可能性があるからであり、上記平均透過率が小さすぎる場合は、本発明のカラーフィルタを用いた表示装置において所望のカラー表示を行うことが困難となる可能性があるからである。
The light transmittance of the light absorption layer is not particularly limited as long as a desired blue display or white display can be performed using the blue light transmission subpixel in the display device using the color filter of the present invention. Specifically, the average transmittance of light in the wavelength region of 380 nm to 480 nm of the light absorption layer is in the range of 50% to 85%, particularly in the range of 55% to 80%, particularly 60% to 75%. It is preferable to be within the range.
When the average transmittance of the light absorption layer is too large, even when the light absorption layer is provided, it may be difficult to sufficiently prevent the blue light hazard in the display device using the color filter of the present invention. This is because if the average transmittance is too small, it may be difficult to perform a desired color display in the display device using the color filter of the present invention.

また、光吸収層を有する場合、基準の青色光透過副画素の上記波長領域の平均透過率を1とした場合に、本発明における青色光透過副画素の380nm〜480nmの平均透過率比としては、0.5〜0.85の範囲内、なかでも0.55〜0.80の範囲内、特に0.6〜0.75の範囲内となることが好ましい。具体的な、本発明における青色光透過副画素の380nm〜480nmの平均透過率としては55%以下、25%〜55%の範囲内、30%〜50%の範囲内であることが好ましい。本発明のカラーフィルタにおける青色光透過副画素の上記波長領域の平均透過率が上述した範囲内であることにより、光吸収層を用いて、調整後の青色光の発光強度を好適に調整することができるからである。   Further, in the case of having a light absorption layer, when the average transmittance in the wavelength region of the reference blue light transmissive subpixel is 1, the average transmittance ratio of 380 nm to 480 nm of the blue light transmissive subpixel in the present invention is as follows. In the range of 0.5 to 0.85, in particular in the range of 0.55 to 0.80, particularly preferably in the range of 0.6 to 0.75. Specifically, the average transmittance of 380 nm to 480 nm of the blue light transmitting subpixel in the present invention is preferably 55% or less, in the range of 25% to 55%, and in the range of 30% to 50%. When the average transmittance of the wavelength region of the blue light transmitting subpixel in the color filter of the present invention is within the above-described range, the light emission layer is suitably adjusted to adjust the emission intensity of the blue light after adjustment. Because you can.

また、本発明においては、光吸収層の380nm〜430nmの波長領域の平均透過率が430nm〜480nmの波長領域の平均透過率よりも低いことが好ましい。調整後の青色光における380nm〜430nmの波長領域の発光強度を、430nm〜480nmの波長領域の発光強度よりも低くすることができるからである。
また、具体的には、光吸収層の380nm〜430nmの波長領域の平均透過率と、430nm〜480nmの平均透過率の差が、10%以上、なかでも13%以上、特に15%以上であることが好ましい。光吸収層の380nm〜430nmの波長領域の平均透過率と、430nm〜480nmの平均透過率の差が、上記範囲内であることにより、調整後の青色光に含まれる短波長側の光をより少ないものとし、長波長側の光を多いものとすることができるからである。
Moreover, in this invention, it is preferable that the average transmittance | permeability of the wavelength region of 380 nm-430 nm of a light absorption layer is lower than the average transmittance | permeability of the wavelength region of 430 nm-480 nm. This is because the emission intensity in the wavelength region of 380 nm to 430 nm in the blue light after adjustment can be made lower than the emission intensity in the wavelength region of 430 nm to 480 nm.
Specifically, the difference between the average transmittance of the light absorption layer in the wavelength region of 380 nm to 430 nm and the average transmittance of 430 nm to 480 nm is 10% or more, especially 13% or more, particularly 15% or more. It is preferable. The difference between the average transmittance of the light absorption layer in the wavelength region of 380 nm to 430 nm and the average transmittance of 430 nm to 480 nm is within the above range, so that the light on the short wavelength side included in the blue light after adjustment is more This is because the amount of light on the long wavelength side can be increased.

また光吸収層を有する場合、基準の青色透過副画素における380nm〜430nmの波長領域の平均透過率を1とした場合に、本発明における青色透過副画素における380nm〜430nmの波長領域の平均透過率比が、0.7以下、なかでも0.65以下、特に0.6以下であることが好ましい。
また、基準の青色透過副画素における430nm〜480nmの波長領域の平均透過率を1とした場合に、本発明における青色透過副画素における430nm〜480nmの波長領域の平均透過率比が、0.75以上、なかでも0.8以上、特に0.85以上であることが好ましい。
In addition, when the light absorption layer is included, when the average transmittance in the wavelength region of 380 nm to 430 nm in the reference blue transmitting subpixel is 1, the average transmittance in the wavelength region of 380 nm to 430 nm in the blue transmitting subpixel in the present invention. The ratio is preferably 0.7 or less, particularly 0.65 or less, and particularly preferably 0.6 or less.
Further, when the average transmittance in the wavelength region of 430 nm to 480 nm in the reference blue transmitting subpixel is 1, the average transmittance ratio in the wavelength region of 430 nm to 480 nm in the blue transmitting subpixel in the present invention is 0.75. Above all, 0.8 or more, particularly 0.85 or more is preferable.

光吸収層、基準の青色光透過副画素、および本発明における青色光透過副画素の透過率の測定方法としては、一般的な測定方法に求めることができ、例えば、顕微分光装置OSP−SP2000(OLYMPUS社製)を用いて測定することにより求めることができる。
なお、光吸収層を有する場合の本発明における青色光透過副画素の透過率とは、透明基材上に形成された青色着色層および光吸収層の積層体、透明基材上に形成された透明樹脂層および光吸収層の積層体、または透明基材上に形成された光吸収層のいずれかを用いて測定された透過率をいうものとする。
基準の青色光透過副画素の透過率とは、透明基材上に形成された青色着色層、透明基材上に形成された透明樹脂層、または透明基材自体のいずれか用いて測定された透過率をいうものとする。
As a method for measuring the transmittance of the light absorption layer, the reference blue light transmission subpixel, and the blue light transmission subpixel in the present invention, it can be obtained by a general measurement method. For example, the microspectroscopic device OSP-SP2000 ( It can obtain | require by measuring using OLYMPUS company).
Note that the transmittance of the blue light transmitting subpixel in the present invention in the case of having a light absorbing layer is a laminate of a blue colored layer and a light absorbing layer formed on a transparent substrate, and formed on a transparent substrate. The transmittance measured using either a laminate of a transparent resin layer and a light absorption layer or a light absorption layer formed on a transparent substrate shall be used.
The transmittance of the reference blue light transmitting subpixel was measured using either the blue colored layer formed on the transparent substrate, the transparent resin layer formed on the transparent substrate, or the transparent substrate itself. It shall mean transmittance.

また、基準の青色光透過副画素の平均透過率に対する本発明における青色光透過副画素の平均透過率比、本発明における青色光透過副画素における特定波長の平均透過率に対する本発明における青色光透過副画素における特定波長の平均透過率比については、それぞれ下記式2で求めることができる。   Further, the ratio of the average transmittance of the blue light transmission subpixel in the present invention to the average transmittance of the reference blue light transmission subpixel, and the blue light transmission in the present invention with respect to the average transmittance of a specific wavelength in the blue light transmission subpixel in the present invention. About the average transmittance | permeability ratio of the specific wavelength in a subpixel, it can obtain | require by the following formula 2, respectively.

Figure 2014202959
(式2中、Jは平均透過率比、A、Bは380nm(λ380)〜480nm(λ480)の波長領域内における任意の波長領域λ〜λ、Uは基準の青色光透過副画素における波長領域λ〜λの各波長の平均透過率を1とした場合の、本発明における青色光透過副画素における波長領域λ〜λの各波長の平均透過率比である。)
Figure 2014202959
(In Formula 2, J is an average transmittance ratio, A and B are arbitrary wavelength regions λ A to λ B within a wavelength region of 380 nm (λ 380 ) to 480 nm (λ 480 ), and U is a reference blue light transmission sub-pixel. It is an average transmittance ratio of each wavelength of the wavelength regions λ A to λ B in the blue light transmitting subpixel in the present invention when the average transmittance of each wavelength of the wavelength regions λ A to λ B in the pixel is 1. )

また、例えば基準の青色光透過副画素の平均透過率をJとし、本発明における青色光透過副画素の平均透過率をJとした場合、基準の青色光透過副画素の平均透過率に対する調整後の青色光透過副画素の平均透過率比は、J/Jとして求められる。 Further, for example the average transmittance of the blue light transmission subpixel criteria and J 1, when the average transmissivity of the blue light transmission sub-pixels in the present invention was J 2, the average transmittance of the blue light transmission sub-pixel of the reference The average transmittance ratio of the blue light transmissive subpixel after adjustment is obtained as J 2 / J 1 .

光吸収層としては、少なくとも光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光を吸収することができる層であれば特に限定されず、具体的には、透明樹脂層中に光吸収剤を分散または溶解させた光吸収剤含有樹脂層、黄変樹脂で構成される黄変樹脂層、透明金属酸化物で構成される透明金属酸化物層等を挙げることができる。   The light absorption layer is not particularly limited as long as it is a layer that can absorb at least light in the wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light, and specifically, the light absorber is dispersed in the transparent resin layer. Alternatively, a dissolved light absorber-containing resin layer, a yellowing resin layer composed of a yellowing resin, a transparent metal oxide layer composed of a transparent metal oxide, and the like can be given.

光吸収剤含有樹脂層に用いられる光吸収剤としては、着色剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。
着色剤としては、例えば、C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン10、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン37、C.I.ピグメントグリーン58、C.I.ピグメントブルー15:1、C.I.ピグメントブルー15:3等を挙げることができる。
また、紫外線吸収剤としては、例えば、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−p−クレゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−6−ビス(1−メチルー1−フェニルエチル)フェノール、2−[5クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル]−4−メチル−6−(tertブチルフェノール)、2,4ジ−tertブチル−6−(5−クロロベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール、2−(2Hベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−tert−ペンチルフェノール、2−(2Hベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、2(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−ドデシル−4−メチルフェノール、2[2−ヒドロキシ−3−(3,4,5,6テトラヒドロフタルイミド−メチル)−5−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、オクタベンゾン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール等が挙げられる。
また、光吸収剤含有樹脂層に用いられる樹脂としては、例えば、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、感光性樹脂等を挙げることができる。
本発明においては、光吸収剤が着色剤である場合は感光性樹脂を用いることが好ましい。フォトリソグラフィ法を用いて、透明基材上の青色光透過副画素に光吸収剤含有樹脂層をパターン状に容易に形成することができるからである。一方、光吸収剤が紫外線吸収剤である場合は、熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。
なお、光吸収剤含有樹脂層に用いられる樹脂については一般的な樹脂とすることができるため、ここでの説明は省略する。
Examples of the light absorber used in the light absorber-containing resin layer include a colorant and an ultraviolet absorber.
Examples of the colorant include C.I. I. Pigment green 7, C.I. I. Pigment green 10, C.I. I. Pigment green 36, C.I. I. Pigment green 37, C.I. I. Pigment green 58, C.I. I. Pigment blue 15: 1, C.I. I. And CI Pigment Blue 15: 3.
Examples of the ultraviolet absorber include 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -p-cresol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4-6-bis (1-methyl-1). -Phenylethyl) phenol, 2- [5chloro (2H) -benzotriazol-2-yl] -4-methyl-6- (tertbutylphenol), 2,4 di-tertbutyl-6- (5-chlorobenzotriazole) 2-yl) phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-tert-pentylphenol, 2- (2H-benzotriazole-2 -Yl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2 (2H-benzotriazol-2-yl) -6-dodecy -4-methylphenol, 2 [2-hydroxy-3- (3,4,5,6 tetrahydrophthalimide-methyl) -5-methylphenyl] benzotriazole, octabenzone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, And 2- (4,6-diphenyl-1,3,5 triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol.
Moreover, as resin used for a light absorber containing resin layer, a thermosetting resin, a photocurable resin, a photosensitive resin etc. can be mentioned, for example.
In the present invention, when the light absorber is a colorant, it is preferable to use a photosensitive resin. This is because the photoabsorber-containing resin layer can be easily formed in a pattern on the blue light transmitting subpixel on the transparent substrate by using the photolithography method. On the other hand, when the light absorber is an ultraviolet absorber, it is preferable to use a thermosetting resin.
In addition, since it can be set as general resin about resin used for a light absorber containing resin layer, description here is abbreviate | omitted.

光吸収剤含有樹脂層の厚みとしては、本発明のカラーフィルタの用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、0.5μm〜10μmの範囲内、なかでも0.5μm〜8μmの範囲内、特に0.5μm〜5μmの範囲内であることが好ましい。
光吸収剤含有樹脂層の形成方法としては、一般的な樹脂層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
The thickness of the light absorber-containing resin layer can be appropriately selected according to the use of the color filter of the present invention, and is not particularly limited, but is in the range of 0.5 μm to 10 μm, particularly 0.5 μm to 8 μm. It is preferable that it exists in the range of 0.5 micrometer-5 micrometers especially.
Since the light absorbing agent-containing resin layer can be formed in the same manner as a general resin layer forming method, description thereof is omitted here.

また、光吸収層が黄変樹脂層である場合、黄変樹脂層に用いられる黄変樹脂としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、脂肪酸変性ポリエステル類、および3級アミン変性ポリウレタン類等を挙げることができる。
黄変樹脂層の厚み、およびその形成方法については、上述した光吸収剤含有樹脂層の項で説明したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
In addition, when the light absorption layer is a yellowing resin layer, the yellowing resin used for the yellowing resin layer includes polyoxyethylene alkyl such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, etc. Ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ethers such as polyoxyethylene octylphenyl ether and polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid esters, fatty acid-modified polyesters And tertiary amine-modified polyurethanes.
The thickness of the yellowing resin layer and the method for forming the yellowing resin layer can be the same as those described in the section of the light absorber-containing resin layer described above, and thus the description thereof is omitted here.

光吸収層が金属酸化物層である場合、金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム、酸化亜鉛、および酸化第二錫等が挙げられる。   When the light absorption layer is a metal oxide layer, examples of the metal oxide include indium tin oxide (ITO), indium oxide, zinc oxide, and stannic oxide.

金属酸化物層の厚さとしては、カラーフィルタの用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、例えば、200nm〜800nm程度とすることができる。
金属酸化物層の形成方法としては、透明基材上の青色透過副画素にパターン状に形成することができれば特に限定されず、例えば金属マスクを用いた蒸着法、スパッタ法や、蒸着法、スパッタ法により透明基材上の画素部側表面の全面に金属酸化物層を形成した後、フォトエッチング法を用いてパターニングする方法等が挙げられる。
The thickness of the metal oxide layer can be appropriately selected according to the use of the color filter and the like, and is not particularly limited, but can be, for example, about 200 nm to 800 nm.
The method for forming the metal oxide layer is not particularly limited as long as it can be formed in a pattern on the blue transmissive subpixel on the transparent substrate. For example, a vapor deposition method using a metal mask, a sputtering method, a vapor deposition method, a sputter method, or the like. Examples thereof include a method of forming a metal oxide layer on the entire surface of the pixel portion side surface on the transparent substrate by a method and then patterning using a photoetching method.

(b)光吸収剤
青色光低減手段が光吸収剤の場合、上記光吸収剤は、通常、青色着色層中に含有されて用いられる。また、白色副画素が透明樹脂層を有する場合は、上記光吸収剤は透明樹脂層中に含有されて用いられる。
光吸収剤を有することにより、基準のカラーフィルタにおける青色光透過副画素の380nm〜480nmの波長領域の光の透過率に比べて、本発明のカラーフィルタにおける青色光透過副画素の380nm〜480nmの波長領域の光の透過率を下げることができるため、基準の青色光の発光強度に比べて調整後の発光強度を小さくすることができる。
(B) Light absorber When the blue light reducing means is a light absorber, the light absorber is usually contained and used in a blue colored layer. Moreover, when a white subpixel has a transparent resin layer, the said light absorber is contained and used in a transparent resin layer.
By having a light absorber, the light transmittance of the blue light transmitting subpixel in the color filter of the present invention is 380 nm to 480 nm compared to the transmittance of light in the wavelength region of 380 nm to 480 nm of the blue light transmitting subpixel in the reference color filter. Since the transmittance of light in the wavelength region can be lowered, the light emission intensity after adjustment can be made smaller than the light emission intensity of the reference blue light.

光吸収剤としては、上述した「(a)光吸収層」の項で説明した光吸収剤含有樹脂層に用いられるものと同様とすることができる。
また、青色着色層に用いられる光吸収剤については、例えば、青色着色層中に含まれる青色着色剤を用い、基準のカラーフィルタに用いられる青色着色層に比べて、本発明のカラーフィルタに用いられる青色着色層中の着色剤の含有量を多くしてもよい。
青色光低減手段として用いられる光吸収剤としては、着色剤であることが好ましい。青色着色層は、フォトリソグラフィ法を用いて形成することが好ましいことから光吸収剤として着色材を用いた場合は紫外線吸収剤を用いる場合に比べて、光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光を低減できる青色着色層を好適に形成することができるからである。
The light absorber can be the same as that used for the light absorber-containing resin layer described in the section “(a) Light absorption layer” described above.
Moreover, about the light absorber used for a blue colored layer, it uses for the color filter of this invention compared with the blue colored layer used for a reference | standard color filter, for example using the blue colorant contained in a blue colored layer. You may increase content of the coloring agent in the blue colored layer formed.
The light absorber used as the blue light reducing means is preferably a colorant. Since the blue colored layer is preferably formed using a photolithography method, a wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light is used when a colorant is used as a light absorber, compared to a case where an ultraviolet absorber is used. This is because a blue colored layer capable of reducing the light can be suitably formed.

光吸収剤の青色着色層中の添加量としては、カラーフィルタの用途および光吸収剤の種類等に応じて適宜選択することができる。   The addition amount of the light absorber in the blue colored layer can be appropriately selected according to the use of the color filter, the type of the light absorber, and the like.

光吸収剤を含有する場合の本発明における青色光透過副画素の透過率および基準の青色光透過副画素の透過率との関係については、上述した「(a)光吸収層」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
なお、光吸収剤を含有する場合の本発明における青色光透過副画素の透過率は、透明基材上に形成された光吸収剤を含有する青色着色層、透明基材上に形成された光吸収剤を含有する透明樹脂層のいずれかを用いて測定された透過率をいうものとする。
The relationship between the transmittance of the blue light transmissive subpixel and the transmittance of the reference blue light transmissive subpixel in the present invention in the case of containing a light absorber is described in the above-mentioned section “(a) Light Absorbing Layer”. Since it can be made to be the same as that which was done, description here is abbreviate | omitted.
In addition, the transmittance | permeability of the blue light transmission subpixel in this invention in the case of containing a light absorber is the blue color layer containing the light absorber formed on the transparent base material, the light formed on the transparent base material The transmittance measured using any of the transparent resin layers containing the absorbent shall be said.

(c)副画素用遮光部
副画素用遮光部は、透明基材上の青色光透過副画素の内部に形成され、遮光性を有するものである。
副画素用遮光部を用いることにより、青色光透過副画素の開口部の面積を他の副画素の開口部の面積よりも小さくすることができ、基準の青色光透過副画素の光源光の透過面積に対して本発明における青色光透過副画素の光源光の透過面積を小さくすることができるので、基準の青色光の発光強度に対して調整後の青色光の発光強度を小さくすることができる。
(C) Subpixel light shielding portion The subpixel light shielding portion is formed inside the blue light transmitting subpixel on the transparent substrate and has a light shielding property.
By using the sub-pixel light shielding portion, the area of the opening of the blue light transmitting sub-pixel can be made smaller than the area of the opening of the other sub-pixel, and the light source light of the reference blue light transmitting sub-pixel can be transmitted. Since the light source light transmission area of the blue light transmission subpixel in the present invention can be reduced with respect to the area, the blue light emission intensity after adjustment can be reduced with respect to the reference blue light emission intensity. .

副画素用遮光部は、本発明における青色光透過副画素の開口部の面積を所望のものとすることができればよく、後述する遮光部と同一の材料で形成されていてもよく、異なる材料で形成されていてもよいが、同一材料で形成されていることが好ましい。後述する遮光部と同一の工程で形成することができ、本発明のカラーフィルタをより生産性の高いものとすることができるからである。   The sub-pixel light-shielding portion only needs to have a desired opening area of the blue light transmitting sub-pixel in the present invention, and may be formed of the same material as the light-shielding portion described later, or a different material. Although it may be formed, it is preferable to be formed of the same material. This is because it can be formed in the same process as the light shielding portion described later, and the color filter of the present invention can be made more productive.

副画素用遮光部としては、本発明における青色光透過副画素の開口部の面積を所望のものとすることができればよく、図3(a)、(b)等に示すように、青色光透過副画素3の内部に副画素用遮光部6cがパターン状に形成されていてもよく、図4(a)、(b)に示すように、後述する遮光部7と一体に副画素用遮光部6cが形成されていてもよい。副画素用遮光部を青色光透過副画素の内部にパターン状に形成する場合、副画素用遮光部のパターン形状としては、例えば、格子形状、ライン形状、ドット形状等、およびこれらを組み合わせた形状が挙げられる。   As the sub-pixel light-shielding portion, it is sufficient that the area of the opening of the blue-light transmitting sub-pixel in the present invention can be set to a desired one. As shown in FIGS. The sub-pixel light-shielding portion 6c may be formed in a pattern shape inside the sub-pixel 3, and as shown in FIGS. 4A and 4B, the sub-pixel light-shielding portion is integrated with the light-shielding portion 7 described later. 6c may be formed. When the sub-pixel light-shielding portion is formed in a pattern inside the blue light transmitting sub-pixel, examples of the pattern shape of the sub-pixel light-shielding portion include a lattice shape, a line shape, a dot shape, and a combination thereof. Is mentioned.

本発明における副画素遮光部を有する青色光透過副画素の開口部の面積としては、基準の青色光の発光強度に対して調整後の青色光の発光強度を小さくすることができれば特に限定されないが、基準の青色光透過副画素の開口部の面積を100%とした場合に、50%〜85%の範囲内、なかでも55%〜80%の範囲内、特に60%〜75%の範囲内であることが好ましい。本発明における青色光透過副画素の開口部の面積比を上述した範囲内とすることにより、本発明のカラーフィルタを用いた表示装置において、ブルーライトハザードを好適に防止することができるからである。
具体的な本発明における青色光透過部の開口部については、カラーフィルタの用途等に応じて適宜決定される。
The area of the opening of the blue light transmitting subpixel having the subpixel light-shielding portion in the present invention is not particularly limited as long as the adjusted blue light emission intensity can be reduced with respect to the reference blue light emission intensity. When the area of the opening of the reference blue light transmitting sub-pixel is 100%, it is within the range of 50% to 85%, particularly within the range of 55% to 80%, particularly within the range of 60% to 75%. It is preferable that This is because, by setting the area ratio of the openings of the blue light transmitting subpixels in the present invention within the above-described range, it is possible to suitably prevent the blue light hazard in the display device using the color filter of the present invention. .
The specific opening of the blue light transmitting portion in the present invention is appropriately determined according to the use of the color filter.

画素部用遮光部の材料、厚さ、および形成方法については、後述する遮光部の項で説明するため、ここでの説明は省略する。   Since the material, thickness, and formation method of the light-shielding portion for the pixel portion will be described in the section of the light-shielding portion described later, description thereof is omitted here.

(3)青色副画素および白色副画素
青色光透過副画素は、青色副画素および白色副画素の少なくともいずれか一方で構成されるものである。本発明のカラーフィルタは、通常、青色副画素を有し、必要に応じてさらに白色副画素を有する。以下、青色副画素、および白色副画素について説明する。
(3) Blue subpixel and white subpixel The blue light transmissive subpixel is configured by at least one of a blue subpixel and a white subpixel. The color filter of the present invention usually has a blue subpixel and, if necessary, further has a white subpixel. Hereinafter, the blue subpixel and the white subpixel will be described.

(a)青色副画素
青色副画素は、透明基材上に設けられ、青色着色層を有するものである。青色着色層は、通常、透明基材上に形成され、青色着色材および樹脂で構成される。
青色着色層に用いられる青色着色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
また、青色着色層に用いられる樹脂としては、感光性樹脂を好適に用いることができる。感光性樹脂については、一般的なカラーフィルタの着色層に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
(A) Blue subpixel The blue subpixel is provided on a transparent substrate and has a blue colored layer. The blue colored layer is usually formed on a transparent substrate and is composed of a blue colorant and a resin.
Examples of the blue colorant used in the blue colored layer include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments and the like. These pigments may be used alone or in combination of two or more.
Moreover, as resin used for a blue colored layer, photosensitive resin can be used suitably. The photosensitive resin can be the same as that used for a colored layer of a general color filter, and thus description thereof is omitted here.

青色着色層の厚さとしては、カラーフィルタの用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、通常、0.5μm〜5μm程度とすることができる。   The thickness of the blue colored layer can be appropriately selected according to the use of the color filter and the like, and is not particularly limited, but is usually about 0.5 μm to 5 μm.

青色着色層の形成方法としては、一般的なカラーフィルタの着色層の形成方法として公知の方法を用いることができ、例えば、フォトリソグラフィ法等を好適に用いることができる。   As a formation method of a blue colored layer, a well-known method can be used as a formation method of the colored layer of a general color filter, For example, the photolithographic method etc. can be used suitably.

(b)白色副画素
白色副画素は、透明基材上に副画素と同等の面積で設けられるものであり、光源光における全可視光領域を透過するものである。
透明基材上の白色副画素には、着色層等と同等の厚みを有する透明樹脂層が形成されていてもよく、形成されていなくてもよい。透明樹脂層を有する場合は、本発明のカラーフィルタの画素部側表面の平坦性を良好なものとすることができる。
白色副画素が透明樹脂層を有さない場合は、カラーフィルタの製造工程数を削減することができるため、より生産性が良好なカラーフィルタとすることができる。
(B) White subpixel The white subpixel is provided on the transparent base material in the same area as the subpixel, and transmits the entire visible light region in the light source light.
The white subpixel on the transparent substrate may or may not be formed with a transparent resin layer having the same thickness as the colored layer. When it has a transparent resin layer, the flatness of the pixel part side surface of the color filter of this invention can be made favorable.
When the white subpixel does not have a transparent resin layer, the number of manufacturing steps of the color filter can be reduced, so that a color filter with better productivity can be obtained.

白色副画素が透明樹脂層を有する場合、透明樹脂層に用いられる樹脂としては、一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができ、例えば感光性樹脂を好適に用いることができる。また、透明樹脂層の厚さおよび形成方法については、上述した青色着色層の厚さおよび形成方法等と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   When the white subpixel has a transparent resin layer, the resin used for the transparent resin layer can be the same as that used for a general color filter. For example, a photosensitive resin can be suitably used. Further, the thickness and the forming method of the transparent resin layer can be the same as the thickness and the forming method of the blue colored layer described above, and thus the description thereof is omitted here.

2.他の副画素
本発明に用いられる画素部は、上述した青色光透過副画素の他に、通常、透明基材上に設けられ赤色着色層を有する赤色副画素と、透明基材上に設けられ緑色着色層を有する緑色副画素とを有するものである。
2. Other sub-pixels In addition to the blue light transmission sub-pixel described above, the pixel portion used in the present invention is usually provided on a transparent substrate and a red sub-pixel having a red colored layer and a transparent substrate. And a green sub-pixel having a green coloring layer.

各色の着色層は、通常、着色材および樹脂で構成されるものである。
赤色着色層に用いられる赤色着色剤としては、例えば、リレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
また、緑色着色層に用いられる緑色着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
The colored layer of each color is usually composed of a coloring material and a resin.
Examples of the red colorant used in the red colored layer include a rylene pigment, a lake pigment, an azo pigment, a quinacridone pigment, an anthraquinone pigment, an anthracene pigment, and an isoindoline pigment. These pigments may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the green colorant used in the green colored layer include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, And indolinone pigments. These pigments or dyes may be used alone or in combination of two or more.

赤色着色層および緑色着色層に用いられる樹脂、着色層の厚さ、および形成方法については、上述した「1.青色光透過副画素 (3)青色副画素および白色副画素 (a)青色副画素」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   Regarding the resin used for the red colored layer and the green colored layer, the thickness of the colored layer, and the formation method, the above-mentioned “1. Blue light transmitting subpixel (3) Blue subpixel and white subpixel (a) Blue subpixel” The description is omitted here because it can be the same as that described in the section.

3.画素部
本発明における画素部は、上述した青色光透過副画素および他の副画素を有するものである。各副画素の配列としては、一般的な表示装置に用いられる副画素の配列と同様とすることができる。例えば、ストライブ型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等の公知の配列とすることができ、各副画素の面積は任意に設定することができる。
3. Pixel Unit The pixel unit in the present invention has the above-described blue light transmission subpixel and other subpixels. The arrangement of the sub-pixels can be the same as the arrangement of sub-pixels used in a general display device. For example, a known arrangement such as a stripe type, a mosaic type, a triangle type, or a four-pixel arrangement type can be used, and the area of each sub-pixel can be arbitrarily set.

II.透明基材
本発明に用いられる透明基材は、上述した画素部における着色層、青色光低減手段、および必要に応じて形成される透明樹脂層等を支持するものである。
II. Transparent base material The transparent base material used for this invention supports the colored layer in a pixel part mentioned above, a blue light reduction means, and the transparent resin layer formed as needed.

透明基材は、光透過性を有するものである。透明基材の具体的な光透過性としては、カラーフィルタの用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、可視光領域における平均透過率が、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。透明基材の透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。   The transparent substrate is light transmissive. The specific light transmittance of the transparent substrate can be appropriately selected according to the use of the color filter and the like, and is not particularly limited. However, the average transmittance in the visible light region is preferably 80% or more. 90% or more is more preferable. The transmittance of the transparent substrate can be measured according to JIS K7361-1 (Plastic—Testing method for total light transmittance of transparent material).

透明基材としては、一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができ、例えば、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英などのリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。   The transparent substrate can be the same as that used for general color filters, for example, rigid materials such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, synthetic quartz, or transparent resin films, optical A transparent flexible material having flexibility, such as a resin plate, can be used.

透明基材の厚さとしては、本発明のカラーフィルタの用途等に応じて適宜選択することができる。   The thickness of the transparent substrate can be appropriately selected according to the use of the color filter of the present invention.

III.その他の構成
本発明のカラーフィルタは、上述した透明基材、および画素部を有するものであれば特に限定されず、必要に応じて上記以外の構成を適宜選択して追加することができる。このような構成としては、例えば、遮光部、オーバーコート層等を挙げることができる。
III. Other Configurations The color filter of the present invention is not particularly limited as long as it has the above-described transparent substrate and pixel portion, and other configurations than those described above can be appropriately selected and added as necessary. Examples of such a configuration include a light shielding part and an overcoat layer.

1.遮光部
本発明のカラーフィルタは、透明基材上の副画素間に遮光部が形成されていてもよい。遮光部は、副画素を画定するものであり、表示装置において良好なコントラストでの表示を可能とする機能を有するものである。
1. Light Shielding Part In the color filter of the present invention, a light shielding part may be formed between the sub-pixels on the transparent substrate. The light-shielding portion defines subpixels and has a function that enables display with good contrast in the display device.

上記遮光部としては、例えば、クロム等の金属材料から構成されるもの、樹脂層中に遮光材料を分散させたもの、着色層と同一の材料からなる層を複数積層させたもの等を挙げることができる。
これらの遮光部に用いられる材料、厚み、およびその形成方法等については、公知のものを用いることができるので、ここでの説明は省略する。
Examples of the light shielding part include those composed of a metal material such as chromium, those obtained by dispersing a light shielding material in a resin layer, and those obtained by laminating a plurality of layers made of the same material as the colored layer. Can do.
About the material used for these light-shielding parts, thickness, its formation method, etc., since a well-known thing can be used, description here is abbreviate | omitted.

2.オーバーコート層
本発明のカラーフィルタは、透明基材上の着色層、青色光低減手段等を覆うように形成されたオーバーコート層を有していてもよい。オーバーコート層はカラーフィルタ表面を平坦化し、カラーフィルタの加工性を良好なものとする機能を有するものである。
オーバーコート層は、通常、透明樹脂を用いて形成される。オーバーコート層に用いられる材料、厚み、およびその形成方法については、一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
2. Overcoat layer The color filter of the present invention may have an overcoat layer formed so as to cover the colored layer on the transparent substrate, the blue light reducing means, and the like. The overcoat layer has a function of flattening the surface of the color filter and improving the workability of the color filter.
The overcoat layer is usually formed using a transparent resin. The material, thickness, and formation method used for the overcoat layer can be the same as those used for a general color filter, and thus the description thereof is omitted here.

3.その他の構成
本発明のカラーフィルタは、上述した遮光部およびオーバーコート層以外にも、必要に応じて任意の構成を適宜追加することができる。
3. Other Configurations The color filter of the present invention can be arbitrarily added with any configuration as necessary in addition to the above-described light shielding portion and overcoat layer.

IV.カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述した構成を有するカラーフィルタを製造することができれば特に限定されず、一般的なカラーフィルタの製造方法と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
IV. Color Filter The color filter manufacturing method of the present invention is not particularly limited as long as the color filter having the above-described configuration can be manufactured, and can be the same as a general color filter manufacturing method. Description is omitted.

本発明のカラーフィルタの用途としては、光源を有する表示装置に用いることができる。本発明のカラーフィルタは、特に白色LEDを光源として有する液晶表示装置、白色発光層を有する有機EL素子を光源として有する有機EL表示装置に好適に用いることができる。なお、本発明のカラーフィルタを用いた表示装置について詳しくは、後述する「B.表示装置」の項で説明する。   The color filter of the present invention can be used for a display device having a light source. The color filter of the present invention can be suitably used particularly for a liquid crystal display device having a white LED as a light source and an organic EL display device having an organic EL element having a white light emitting layer as a light source. The display device using the color filter of the present invention will be described in detail in the section “B. Display device” described later.

B.表示装置
本発明の表示装置は、光源と、透明基材、上記透明基材上に設けられ青色着色層を有する青色副画素および上記透明基材上に設けられた白色副画素の少なくとも一方で構成される青色光透過副画素を有する画素部、ならびに上記透明基材上の上記青色光透過副画素に設けられ、上記青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光の発光強度を低減する青色光低減手段、を備えるカラーフィルタと、を有することを特徴とするものである。
B. Display device The display device of the present invention comprises at least one of a light source, a transparent base material, a blue subpixel having a blue colored layer provided on the transparent base material, and a white subpixel provided on the transparent base material. Of the wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light provided in the pixel portion having the blue light transmitting subpixel and the blue light transmitting subpixel on the transparent substrate and transmitted through the blue light transmitting subpixel. And a color filter provided with a blue light reducing means for reducing the light emission intensity.

本発明によれば、上記カラーフィルタを有することにより、ブルーライトハザードを防止することができ、良好な輝度の表示を行うことができる表示装置とすることができる。   According to the present invention, by having the color filter, a blue light hazard can be prevented and a display device capable of performing display with good luminance can be obtained.

より具体的には、本発明によれば、上記カラーフィルタを有することにより、光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光を低減することができるから、観察者の眼に届く上記波長領域の光を少なくすることができ、ブルーライトハザードを防止することができる表示装置とすることができる。
また、本発明によれば、上記カラーフィルタを有することにより、画素部における他の副画素とは別途に青色光透過副画素の光特性を調整することができるため、他の副画素の光特性に対して、青色光低減手段の影響が及ばないものとすることができることから、良好なカラー表示を行うことができ、輝度が良好な表示装置とすることができる。
また、表示装置の利用者が負担するコストを少なくすることができ、さらに、表示装置がタッチパネル機能を有する場合もタッチパネルの操作を良好に行うことができるものとすることができる。
More specifically, according to the present invention, since the light in the wavelength region of 380 nm to 480 nm contained in the light source light can be reduced by having the color filter, the wavelength region reaching the observer's eyes. The display device can reduce the amount of light and can prevent blue light hazard.
In addition, according to the present invention, since the color filter is provided, the light characteristic of the blue light transmitting subpixel can be adjusted separately from the other subpixels in the pixel portion. On the other hand, since the influence of the blue light reducing means cannot be exerted, a good color display can be performed and a display device having a good luminance can be obtained.
Moreover, the cost which the user of a display apparatus bears can be reduced, and also when a display apparatus has a touch-panel function, it can operate a touch panel favorably.

本発明の表示装置としては、上述したカラーフィルタおよび光源を有するものであれば特に限定されず、例えば、液晶表示装置、有機EL表示装置を挙げることができる。
以下、本発明の表示装置が液晶表示装置である場合、および有機EL表示装置である場合についてそれぞれ説明する。
The display device of the present invention is not particularly limited as long as it has the above-described color filter and light source, and examples thereof include a liquid crystal display device and an organic EL display device.
Hereinafter, the case where the display device of the present invention is a liquid crystal display device and the case where it is an organic EL display device will be described.

I.液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、通常、光源としてバックライトを有し、上述したカラーフィルタと、対向基材および対向基材上に形成された対向電極を有する対向電極基材と、カラーフィルタおよび対向電極基材の間に配置された液晶を含む液晶層とを有するものである。
I. Liquid crystal display device The liquid crystal display device of the present invention usually has a backlight as a light source, the above-described color filter, a counter substrate having a counter substrate and a counter electrode formed on the counter substrate, and a color And a liquid crystal layer including a liquid crystal disposed between the filter and the counter electrode substrate.

本発明の液晶表示装置について図を用いて説明する。
図6は、本発明の表示装置の一例を示す概略断面図である。また、図6においては、表示装置100が液晶表示装置101である例について示している。図6に示すように、本発明の液晶表示装置101は、光源20であるバックライト21と、カラーフィルタ10と、対向基材31および対向基材31上に形成された対向電極32を有する対向電極基材30と、カラーフィルタ10および対向電極基材30との間に配置された液晶を含有する液晶層40とを有し、対向電極基材30側にバックライト21が配置されているものである。また、カラーフィルタ10および対向電極基材30の間に配置された液晶層40を封止するシール剤50を有するものである。
なお、図6におけるカラーフィルタ10については、図1で説明したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
以下、本発明の液晶表示装置の詳細について説明する。
The liquid crystal display device of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 6 is a schematic sectional view showing an example of the display device of the present invention. FIG. 6 shows an example in which the display device 100 is a liquid crystal display device 101. As shown in FIG. 6, the liquid crystal display device 101 of the present invention includes a backlight 21 that is a light source 20, a color filter 10, a counter substrate 31 and a counter electrode 32 formed on the counter substrate 31. The electrode substrate 30 and the liquid crystal layer 40 containing liquid crystal disposed between the color filter 10 and the counter electrode substrate 30, and the backlight 21 is disposed on the counter electrode substrate 30 side It is. Moreover, it has the sealing agent 50 which seals the liquid crystal layer 40 arrange | positioned between the color filter 10 and the counter electrode base material 30. FIG.
Note that the color filter 10 in FIG. 6 can be the same as that described with reference to FIG.
Hereinafter, the details of the liquid crystal display device of the present invention will be described.

1.カラーフィルタ
本発明に用いられるカラーフィルタの詳細については、上述した「A.カラーフィルタ」の項で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
1. Color Filter The details of the color filter used in the present invention are the same as those described in the section “A. Color Filter” described above, and thus the description thereof is omitted here.

2.光源(バックライト)
本発明に用いられる光源は、通常、バックライトとして液晶表示装置の表示面側とは反対側に配置される。
本発明に用いられる光源としては、380nm〜480nmの波長領域の光を含む白色光を発光することができるものであれば特に限定されず、例えば、白色LED、CCFL等を挙げることができ、なかでも、白色LEDであることが好ましい。なお、この理由については、上述した「A.カラーフィルタ」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
2. Light source (backlight)
The light source used in the present invention is usually disposed on the side opposite to the display surface side of the liquid crystal display device as a backlight.
The light source used in the present invention is not particularly limited as long as it can emit white light including light in the wavelength region of 380 nm to 480 nm, and examples thereof include white LEDs and CCFLs. However, a white LED is preferable. Note that the reason for this can be the same as that described in the section “A. Color filter” described above, and a description thereof will be omitted here.

光源(バックライト)の構成、形態等については、一般的な液晶表示装置に用いられているものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   Since the configuration, form, and the like of the light source (backlight) can be the same as those used in a general liquid crystal display device, description thereof is omitted here.

3.対向電極基材および液晶層
本発明に用いられる対向電極基材は、対向基材および対向基材上に形成された対向電極を有するものである。また、液晶層は、カラーフィルタおよび対向電極基材の間に配置され、液晶を含有するものである。
本発明に用いられる対向電極基材および液晶層に用いられる液晶としては、本発明の液晶表示装置の駆動方式等に応じて適宜選択して用いることができる。また、対向電極基材および液晶については一般的な液晶表示装置に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
3. Counter electrode substrate and liquid crystal layer The counter electrode substrate used in the present invention has a counter substrate and a counter electrode formed on the counter substrate. The liquid crystal layer is disposed between the color filter and the counter electrode substrate and contains liquid crystal.
The liquid crystal used for the counter electrode substrate and the liquid crystal layer used in the present invention can be appropriately selected and used according to the driving method of the liquid crystal display device of the present invention. Further, the counter electrode base material and the liquid crystal can be the same as those used in a general liquid crystal display device, and thus description thereof is omitted here.

なお、上記液晶表示装置の駆動方式としては、特に限定されるものではなく一般的に液晶表示装置に用いられている駆動方式を採用することができる。このような駆動方式としては、例えば、TN方式、IPS方式、OCB方式、および、MVA方式等を挙げることができる。本発明においてはこれらのいずれの方式であっても好適に用いることができる。   The driving method of the liquid crystal display device is not particularly limited, and a driving method generally used for a liquid crystal display device can be employed. Examples of such a drive method include a TN method, an IPS method, an OCB method, and an MVA method. In the present invention, any of these methods can be preferably used.

4.液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、光源、カラーフィルタ、対向電極基材、および液晶層を有していれば特に限定されず、必要に応じて上記以外の構成を適宜選択して追加することができる。このような構成としては、例えば、配向膜、偏光板等を挙げることができる。なお、これらの構成については、一般的な液晶表示装置に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
4). Liquid crystal display device The liquid crystal display device of the present invention is not particularly limited as long as it has a light source, a color filter, a counter electrode base material, and a liquid crystal layer, and a configuration other than the above is appropriately selected and added as necessary. be able to. Examples of such a configuration include an alignment film and a polarizing plate. Since these configurations can be the same as those used in a general liquid crystal display device, description thereof is omitted here.

本発明の液晶表示装置の製造方法については、一般的な液晶表示装置の製造方法と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   Since the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention can be the same as the manufacturing method of a general liquid crystal display device, description thereof is omitted here.

II.有機EL表示装置
本発明の表示装置が有機EL表示装置である場合、有機EL表示装置は、光源として有機EL素子を有する。また、この場合、有機EL表示装置は、その構造の違いにより、2つの態様を有する。具体的には、トップエミッション型の有機EL表示装置である態様(第1態様)とボトムエミッション型の有機EL表示装置である態様(第2態様)とを挙げることができる。
以下、各態様について説明する。
II. Organic EL Display Device When the display device of the present invention is an organic EL display device, the organic EL display device has an organic EL element as a light source. In this case, the organic EL display device has two modes due to the difference in structure. Specifically, an embodiment (first embodiment) which is a top emission type organic EL display device and an embodiment (second embodiment) which is a bottom emission type organic EL display device can be exemplified.
Hereinafter, each aspect will be described.

1.第1態様
本態様の有機EL表示装置は、光源として有機EL素子を有するトップエミッション型の有機EL表示装置であり、通常、カラーフィルタと、基材と、基材上に形成された第1電極層、第1電極層上に形成され発光層を含む有機EL層、および有機EL層上に形成された第2電極層を有する有機EL素子とを有し、カラーフィルタの一方の表面および基材の間に有機EL素子が配置されているものである。
1. 1st aspect The organic EL display apparatus of this aspect is a top emission type organic EL display apparatus which has an organic EL element as a light source, and usually a color filter, a base material, and the 1st electrode formed on the base material And an organic EL element having a second electrode layer formed on the organic EL layer, and one surface of the color filter and a substrate An organic EL element is disposed between the two.

本態様の有機EL表示装置について図を用いて説明する。
図7は、本発明の表示装置の他の例を示す概略断面図である。また、図7においては、表示装置100が光源20として有機EL素子22を有するトップエミッション型の有機EL表示装置102である例について示している。図7に示すように、本態様の有機EL表示装置102は、カラーフィルタ10と、基材23と、基材23上に形成された第1電極層22a、第1電極層22a上に形成され発光層を含む有機EL層22b、および有機EL層22b上に形成された第2電極層22cを有する有機EL素子22とを有し、カラーフィルタ10の画素部5側表面と、基材23との間に有機EL素子22が配置されているものである。また、図7においては、カラーフィルタ10および基材23の間に配置された有機EL素子22を封止するシール剤50を有する例について示している。なお、図7におけるカラーフィルタ10については、図1で説明したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
以下、本発明の有機EL表示装置の詳細について説明する。
The organic EL display device of this embodiment will be described with reference to the drawings.
FIG. 7 is a schematic sectional view showing another example of the display device of the present invention. FIG. 7 shows an example in which the display device 100 is a top emission type organic EL display device 102 having the organic EL element 22 as the light source 20. As shown in FIG. 7, the organic EL display device 102 of this aspect is formed on the color filter 10, the base material 23, the first electrode layer 22a formed on the base material 23, and the first electrode layer 22a. An organic EL layer 22b including a light emitting layer, and an organic EL element 22 having a second electrode layer 22c formed on the organic EL layer 22b. The organic EL element 22 is disposed between the two. Further, FIG. 7 shows an example having a sealing agent 50 for sealing the organic EL element 22 disposed between the color filter 10 and the base material 23. Note that the color filter 10 in FIG. 7 can be the same as that described with reference to FIG.
Hereinafter, the details of the organic EL display device of the present invention will be described.

(1)カラーフィルタ
本態様におけるカラーフィルタについては、上述した「A.カラーフィルタ」の項で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
(1) Color filter Since the color filter in this aspect is the same as the content described in the section “A. Color filter” described above, the description thereof is omitted here.

(2)基材
次に、本態様における基材について説明する。
本態様における基材は、後述する有機EL素子が形成される。
(2) Substrate Next, the substrate in this embodiment will be described.
The base material in this embodiment is formed with an organic EL element described later.

本態様の有機EL表示装置は、カラーフィルタ側を発光面として用いることから、基材としては、透明性を有するものであってもよく、透明性を有さないものであってもよい。   Since the organic EL display device of this embodiment uses the color filter side as the light emitting surface, the substrate may be transparent or may not have transparency.

基材としては、例えば、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のないリジッド材、あるいは、樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有するフレキシブル材等を用いることができる。また、樹脂フィルムにバリア層が形成されたものを用いてもよい。   As the base material, for example, inflexible rigid materials such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, synthetic quartz plate, or flexible materials such as resin film and optical resin plate are used. Can be used. Moreover, you may use what formed the barrier layer in the resin film.

本態様の有機EL表示装置はトップエミッション型の有機EL表示装置であることから、基材上にはTFTが形成されていてもよい。
TFTとしては、有機EL表示装置に一般的に用いられるものを使用することができる。
Since the organic EL display device of this embodiment is a top emission type organic EL display device, a TFT may be formed on the substrate.
As the TFT, those generally used in organic EL display devices can be used.

(3)光源(有機EL素子)
本態様の有機EL表示装置は、光源として有機EL素子を有するものである。
本態様に用いられる有機EL素子は、上記基材上に形成され、発光層を含む有機EL層を有するものである。また、上記有機EL素子は、通常、基材上に形成された第1電極層と、第1電極層上に形成され、発光層を含む有機EL層と、有機EL層上に形成された第2電極層とを有し、必要に応じて絶縁層および隔壁等を有するものである。以下、有機EL素子の各構成について説明する。
(3) Light source (organic EL element)
The organic EL display device of this embodiment has an organic EL element as a light source.
The organic EL element used in this embodiment has an organic EL layer that is formed on the substrate and includes a light emitting layer. The organic EL element is usually formed on a first electrode layer formed on a substrate, an organic EL layer including a light emitting layer formed on the first electrode layer, and a first electrode formed on the organic EL layer. It has 2 electrode layers, and has an insulating layer, a partition, etc. as needed. Hereinafter, each configuration of the organic EL element will be described.

(a)有機EL層
有機EL層は、少なくとも発光層を含む1層もしくは複数層の有機層を有するものである。
有機EL層を構成する層としては、発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等が挙げられる。
以下、本態様に用いられる有機EL層の詳細について説明する。
(A) Organic EL layer The organic EL layer has one or more organic layers including at least a light emitting layer.
Examples of the layer constituting the organic EL layer include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, and an electron transport layer in addition to the light emitting layer.
Hereinafter, the details of the organic EL layer used in this embodiment will be described.

(i)発光層
本態様に用いられる発光層は、少なくとも青色光透過副画素に対応する発光層が白色光を発光するものが用いられる。具体的には、白色発光する白色発光層であってもよく、三原色をそれぞれ発光する赤色発光層、緑色発光層および青色発光層から構成され、白色光を発光する発光層であってもよい。
また、赤色副画素および緑色副画素に対応する発光層としては、上述した白色光を発光するものであってもよく、各着色副画素の色に対応する色の光を発光する発光層であってもよい。
発光層の種類については、有機EL表示装置の用途等に応じて適宜選択することができる。
(I) Light-Emitting Layer As the light-emitting layer used in this embodiment, at least a light-emitting layer corresponding to a blue light transmitting subpixel emits white light. Specifically, it may be a white light-emitting layer that emits white light, or may be a light-emitting layer that is composed of a red light-emitting layer, a green light-emitting layer, and a blue light-emitting layer that emit three primary colors, respectively, and that emits white light.
The light emitting layer corresponding to the red subpixel and the green subpixel may emit white light as described above, and is a light emitting layer that emits light of a color corresponding to the color of each colored subpixel. May be.
About the kind of light emitting layer, it can select suitably according to the use etc. of an organic electroluminescence display.

発光層に用いられる発光材料としては、蛍光もしくは燐光を発するものであればよく、例えば、色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料等を挙げることができる。   The light emitting material used for the light emitting layer may be any material that emits fluorescence or phosphorescence, and examples thereof include dye materials, metal complex materials, and polymer materials.

色素系材料としては、例えば、シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等を挙げることができる。   Examples of dye-based materials include cyclopentadiene derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, silole derivatives, thiophene ring compounds, pyridine Examples thereof include a ring compound, a perinone derivative, a perylene derivative, an oligothiophene derivative, a coumarin derivative, an oxadiazole dimer, and a pyrazoline dimer.

金属錯体系材料としては、例えば、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体、あるいは、中心金属にAl、Zn、Be等またはTb、Eu、Dy等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体を挙げることができる。具体的には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq3)を用いることができる。   Examples of the metal complex material include an aluminum quinolinol complex, a benzoquinolinol beryllium complex, a benzoxazole zinc complex, a benzothiazole zinc complex, an azomethyl zinc complex, a porphyrin zinc complex, a europium complex, or a central metal such as Al, Zn, Be, etc. Alternatively, a metal complex having a rare earth metal such as Tb, Eu, or Dy and having a oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline structure, or the like as a ligand can be given. Specifically, tris (8-quinolinolato) aluminum complex (Alq3) can be used.

高分子系材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレノン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、ポリジアルキルフルオレン誘導体、およびそれらの共重合体等を挙げることができる。また、高分子系材料として、上記の色素系材料および金属錯体系材料を高分子化したものも用いることができる。   Examples of the polymer material include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyvinylcarbazole, polyfluorenone derivatives, polyfluorene derivatives, polyquinoxaline derivatives, polydialkylfluorene derivatives, and Examples thereof include copolymers thereof. Moreover, what polymerized said pigment-type material and metal complex-type material as a polymeric material can also be used.

また、燐光材料としては、例えば、イリジウム錯体、プラチナ錯体、あるいは、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt、Au等のスピン軌道相互作用が大きい重金属を中心金属とする金属錯体等を用いることができる。具体的には、フェニルピリジンやチエニルピリジンなどを配位子とするイリジウム錯体、プラチナポルフィリン誘導体等が挙げられる。   As the phosphorescent material, for example, an iridium complex, a platinum complex, or a metal complex having a heavy metal having a large spin-orbit interaction such as Ru, Rh, Pd, Os, Ir, Pt, or Au as a central metal is used. Can do. Specific examples include iridium complexes having platinum pyridine, thienyl pyridine and the like as ligands, platinum porphyrin derivatives, and the like.

これらの発光材料は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   These luminescent materials may be used alone or in combination of two or more.

また、発光材料には、発光効率の向上、発光波長を変化させる等の目的で、蛍光もしくは燐光を発するドーパントを添加してもよい。このようなドーパントとしては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン、キノキサリン誘導体、カルバゾール誘導体、フルオレン誘導体を挙げることができる。   Further, a dopant that emits fluorescence or phosphorescence may be added to the light emitting material for the purpose of improving the light emission efficiency and changing the light emission wavelength. Examples of such dopants include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squalium derivatives, porphyrin derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazoline derivatives, decacyclene, phenoxazone, quinoxaline derivatives, carbazole derivatives, and fluorene derivatives. Can be mentioned.

発光層の厚みとしては、電子および正孔の再結合の場を提供して発光する機能を発現することができる厚みであれば特に限定されるものではなく、例えば10nm〜500nm程度にすることができる。   The thickness of the light-emitting layer is not particularly limited as long as it can provide a function of emitting light by providing a recombination field of electrons and holes, and may be, for example, about 10 nm to 500 nm. it can.

発光層の形成方法としては、上述の発光材料等を溶媒に溶解もしくは分散させた発光層形成用塗工液を塗布するウェットプロセスであってもよく、真空蒸着法等のドライプロセスであってもよい。中でも、効率およびコストの面から、ウェットプロセスが好ましい。   The method for forming the light emitting layer may be a wet process in which a light emitting layer forming coating solution in which the above light emitting material or the like is dissolved or dispersed in a solvent may be applied, or may be a dry process such as a vacuum deposition method. Good. Among these, a wet process is preferable from the viewpoint of efficiency and cost.

発光層形成用塗工液の塗布方法としては、例えば、インクジェット法、スピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法等を挙げることができる。   Examples of the application method of the light emitting layer forming coating liquid include an inkjet method, a spin coating method, a casting method, a dipping method, a bar coating method, a blade coating method, a roll coating method, a spray coating method, a gravure printing method, and screen printing. Method, flexographic printing method, offset printing method and the like.

(ii)正孔注入輸送層
本態様においては、発光層と陽極との間に正孔注入輸送層が形成されていてもよい。
正孔注入輸送層は、正孔注入機能を有する正孔注入層であってもよく、正孔輸送機能を有する正孔輸送層であってもよく、正孔注入層および正孔輸送層が積層されたものであってもよく、正孔注入機能および正孔輸送機能の両機能を有するものであってもよい。
(Ii) Hole Injecting and Transporting Layer In this embodiment, a hole injecting and transporting layer may be formed between the light emitting layer and the anode.
The hole injection transport layer may be a hole injection layer having a hole injection function, or a hole transport layer having a hole transport function, and the hole injection layer and the hole transport layer are laminated. And may have both a hole injection function and a hole transport function.

正孔注入輸送層に用いられる材料としては、発光層への正孔の注入、輸送を安定化させることができる材料であれば特に限定されるものではなく、上記発光層の発光材料に例示した化合物の他、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム、酸化チタン等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリフェニレンビニレンおよびそれらの誘導体等の導電性高分子等を用いることができる。具体的には、ビス(N−(1−ナフチル)−N−フェニル)ベンジジン(α−NPD)、4,4,4−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(MTDATA)、ポリ3,4エチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルホン酸(PEDOT−PSS)、ポリビニルカルバゾール等が挙げられる。   The material used for the hole injecting and transporting layer is not particularly limited as long as it is a material that can stabilize injection and transportation of holes to the light emitting layer, and is exemplified in the light emitting material of the light emitting layer. In addition to compounds, phenylamine, starburst amine, phthalocyanine, vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, aluminum oxide, titanium oxide and other oxides, amorphous carbon, polyaniline, polythiophene, polyphenylene vinylene and their derivatives The conductive polymer can be used. Specifically, bis (N- (1-naphthyl) -N-phenyl) benzidine (α-NPD), 4,4,4-tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine (MTDATA), poly-3 , 4 ethylenedioxythiophene-polystyrene sulfonic acid (PEDOT-PSS), polyvinylcarbazole and the like.

正孔注入輸送層の厚みとしては、正孔注入機能や正孔輸送機能が十分に発揮される厚みであれば特に限定されないが、具体的には0.5nm〜1000nmの範囲内、中でも10nm〜500nmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the hole injecting and transporting layer is not particularly limited as long as the hole injecting function and the hole transporting function are sufficiently exhibited. Specifically, the thickness is in the range of 0.5 nm to 1000 nm, particularly 10 nm to It is preferable to be in the range of 500 nm.

正孔注入輸送層の形成方法としては、上述の材料等を溶媒に溶解もしくは分散させた正孔注入輸送層形成用塗工液を塗布するウェットプロセスであってもよく、真空蒸着法等のドライプロセスであってもよく、材料の種類等に応じて適宜選択される。   The formation method of the hole injection transport layer may be a wet process in which a coating liquid for forming a hole injection transport layer in which the above-described materials or the like are dissolved or dispersed in a solvent may be applied. It may be a process and is appropriately selected according to the type of material.

(iii)電子注入輸送層
本態様においては、発光層と陰極との間に電子注入輸送層が形成されていてもよい。
電子注入輸送層は、電子注入機能を有する電子注入層であってもよく、電子輸送機能を有する電子輸送層であってもよく、電子注入層および電子輸送層が積層されたものであってもよく、電子注入機能および電子輸送機能の両機能を有するものであってもよい。
(Iii) Electron injection / transport layer In this embodiment, an electron injection / transport layer may be formed between the light-emitting layer and the cathode.
The electron injection / transport layer may be an electron injection layer having an electron injection function, may be an electron transport layer having an electron transport function, or may be a laminate of an electron injection layer and an electron transport layer. It may have both an electron injection function and an electron transport function.

電子注入層に用いられる材料としては、発光層への電子の注入を安定化させることができる材料であれば特に限定されるものではなく、上記発光層の発光材料に例示した化合物の他、アルミリチウム合金、ストロンチウム、カルシウム、リチウム、セシウム、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化セシウム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウム、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム等のアルカリ金属およびアルカリ土類金属の金属、合金、化合物、有機錯体等を用いることができる。   The material used for the electron injection layer is not particularly limited as long as it can stabilize the injection of electrons into the light emitting layer. In addition to the compounds exemplified as the light emitting material for the light emitting layer, aluminum may be used. Alkali metals such as lithium alloys, strontium, calcium, lithium, cesium, lithium fluoride, magnesium fluoride, strontium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride, cesium fluoride, magnesium oxide, strontium oxide, sodium polystyrene sulfonate, and Alkaline earth metal metals, alloys, compounds, organic complexes, and the like can be used.

また、電子輸送性の有機材料にアルカリ金属またはアルカリ土類金属をドープした金属ドープ層を形成し、これを電子注入層にすることもできる。電子輸送性の有機材料としては、例えば、バソキュプロイン、バソフェナントロリン、フェナントロリン誘導体等を挙げることができ、ドープする金属としては、Li、Cs、Ba、Sr等が挙げられる。   Alternatively, a metal doped layer in which an alkali metal or an alkaline earth metal is doped on an electron transporting organic material may be formed, and this may be used as an electron injection layer. Examples of the electron-transporting organic material include bathocuproine, bathophenanthroline, and phenanthroline derivatives. Examples of the metal to be doped include Li, Cs, Ba, and Sr.

電子輸送層に用いられる材料としては、陰極から注入された電子を発光層へ輸送することが可能な材料であれば特に限定されるものではなく、例えば、バソキュプロイン、バソフェナントロリン、フェナントロリン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq3)の誘導体等を挙げることができる。   The material used for the electron transport layer is not particularly limited as long as it can transport electrons injected from the cathode to the light emitting layer. For example, bathocuproin, bathophenanthroline, phenanthroline derivative, triazole derivative Oxadiazole derivatives, tris (8-quinolinolato) aluminum complex (Alq3) derivatives, and the like.

電子注入輸送層の厚みとしては、電子注入機能や電子輸送機能が十分に発揮される厚みであれば特に限定されない。   The thickness of the electron injection / transport layer is not particularly limited as long as the electron injection function and the electron transport function are sufficiently exhibited.

電子注入輸送層の形成方法としては、上述の材料等を溶媒に溶解もしくは分散させた電子注入輸送層形成用塗工液を塗布するウェットプロセスであってもよく、真空蒸着法等のドライプロセスであってもよく、材料の種類等に応じて適宜選択される。   The method for forming the electron injecting and transporting layer may be a wet process in which a coating liquid for forming an electron injecting and transporting layer in which the above-described materials or the like are dissolved or dispersed in a solvent may be applied, or by a dry process such as a vacuum evaporation method. There may be, and it chooses suitably according to the kind etc. of material.

(b)第1電極層および第2電極層
本態様に用いられる第1電極層は基材上に形成されるものである。また、第1電極層は、基材上に一様に形成されていてもよくパターン状に形成されていてもよく、本態様の有機EL表示装置の用途や駆動方法に応じて適宜選択される。
また、本態様においては、第1電極層としては、後述する背面電極層が用いられる。
一方、本態様に用いられる第2電極層は、上述した有機EL層上に形成されるものである。また、上記第2電極層としては、有機EL表示装置において、カラーフィルタ側に配置されることから、通常、透明電極層が用いられる。
以下、本態様に用いられる透明電極層、および背面電極層について説明する。
(B) 1st electrode layer and 2nd electrode layer The 1st electrode layer used for this mode is formed on a substrate. Moreover, the 1st electrode layer may be uniformly formed on the base material, and may be formed in pattern form, and is suitably selected according to the use and drive method of the organic electroluminescent display apparatus of this aspect. .
In this embodiment, a back electrode layer described later is used as the first electrode layer.
On the other hand, the 2nd electrode layer used for this mode is formed on the organic EL layer mentioned above. Further, as the second electrode layer, a transparent electrode layer is usually used because it is disposed on the color filter side in the organic EL display device.
Hereinafter, the transparent electrode layer and the back electrode layer used in this embodiment will be described.

(i)透明電極層
本態様に用いられる透明電極層は陽極および陰極のいずれであってもよい。
(I) Transparent electrode layer The transparent electrode layer used in this embodiment may be either an anode or a cathode.

陽極は、抵抗が小さいことが好ましく、一般的には導電性材料である金属材料が用いられるが、有機化合物または無機化合物を用いてもよい。
陽極には、正孔が注入しやすいように仕事関数の大きい導電性材料を用いることが好ましい。例えば、Au、Ta、W、Pt、Ni、Pd、Cr、Cu、Mo、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属;これらの金属の酸化物;AlLi、AlCa、AlMg等のAl合金、MgAg等のMg合金、Ni合金、Cr合金、アルカリ金属の合金、アルカリ土類金属の合金等の合金;酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化亜鉛、酸化インジウム等の無機酸化物;金属ドープされたポリチオフェン、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリアルキルチオフェン誘導体、ポリシラン誘導体等の導電性高分子;α−Si、α−SiC;等が挙げられる。これらの導電性材料は、単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。2種類以上を用いる場合には、各材料からなる層を積層してもよい。
The anode preferably has a low resistance, and a metal material that is a conductive material is generally used, but an organic compound or an inorganic compound may be used.
For the anode, a conductive material having a large work function is preferably used so that holes can be easily injected. For example, metals such as Au, Ta, W, Pt, Ni, Pd, Cr, Cu, Mo, alkali metals, alkaline earth metals; oxides of these metals; Al alloys such as AlLi, AlCa, AlMg, MgAg, etc. Mg alloys, Ni alloys, Cr alloys, alkali metal alloys, alkaline earth metal alloys, etc .; inorganic oxides such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide, indium oxide; Examples thereof include conductive polymers such as metal-doped polythiophene, polyaniline, polyacetylene, polyalkylthiophene derivatives, and polysilane derivatives; α-Si, α-SiC; and the like. These conductive materials may be used alone or in combination of two or more. When two or more types are used, layers made of each material may be stacked.

陰極は、抵抗が小さいことが好ましく、一般的には導電性材料である金属材料が用いられるが、有機化合物または無機化合物を用いてもよい。
陰極には、電子が注入しやすいように仕事関数の小さい導電性材料を用いることが好ましい。例えば、MgAg等のマグネシウム合金、AlLi、AlCa、AlMg等のアルミニウム合金、Li、Cs、Ba、Sr、Ca等のアルカリ金属類およびアルカリ土類金属類の合金等が挙げられる。
The cathode preferably has a low resistance, and a metal material that is a conductive material is generally used, but an organic compound or an inorganic compound may be used.
For the cathode, it is preferable to use a conductive material having a low work function so that electrons can be easily injected. Examples thereof include magnesium alloys such as MgAg, aluminum alloys such as AlLi, AlCa, and AlMg, and alloys of alkali metals and alkaline earth metals such as Li, Cs, Ba, Sr, and Ca.

透明電極層の形成方法としては、一般的な電極の形成方法を用いることができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、EB蒸着法、イオンプレーティング法等のPVD法、またはCVD法等を挙げることができる。   As a method for forming the transparent electrode layer, a general electrode forming method can be used, for example, a PVD method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an EB deposition method, an ion plating method, or a CVD method. be able to.

(ii)背面電極層
本態様における背面電極層としては、反射性を有する電極層が用いられ、通常、金属電極層が用いられる。
(Ii) Back electrode layer As the back electrode layer in this embodiment, a reflective electrode layer is used, and a metal electrode layer is usually used.

背面電極層は陽極および陰極のいずれであってもよい。
なお、陽極および陰極の材料については上記透明電極層の項に記載し、背面電極層の形成方法については上記透明電極層の形成方法と同様であるので、ここでの説明は省略する。
The back electrode layer may be either an anode or a cathode.
The materials for the anode and the cathode are described in the section of the transparent electrode layer, and the method for forming the back electrode layer is the same as the method for forming the transparent electrode layer, and thus the description thereof is omitted here.

(c)絶縁層
本態様に用いられる有機EL素子においては、第1電極層(背面電極層上)に絶縁層がパターン状に形成されていてもよい。絶縁層は、画素を画定するように形成されるものである。絶縁層のパターンとしては、画素の配列に応じて適宜選択されるものであり、例えば格子状にすることができる。
また、本態様においては基材上に第1電極層(背面電極層)がパターン状に形成されている場合、第1電極層(背面電極層)の開口部に絶縁層が形成されていてもよい。絶縁層は、第1電極層(背面電極層)と第2電極層(透明電極層)とが直接接触することを防ぐために設けられるものである。
絶縁層の材料としては、有機EL素子における一般的な絶縁層の材料を用いることができ、例えば、感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、無機材料等を挙げることができる。
絶縁層の厚みとしては、画素を画定し、透明電極層および背面電極層を絶縁することができれば特に限定されるものではない。
絶縁層の形成方法としては、有機EL素子における一般的な絶縁層の形成方法を適用することができ、例えば、フォトリソグラフィ法等が挙げられる。
(C) Insulating layer In the organic EL element used in this embodiment, an insulating layer may be formed in a pattern on the first electrode layer (on the back electrode layer). The insulating layer is formed so as to define a pixel. The pattern of the insulating layer is appropriately selected according to the arrangement of the pixels and can be, for example, a lattice shape.
Moreover, in this aspect, when the first electrode layer (back electrode layer) is formed in a pattern on the substrate, an insulating layer is formed in the opening of the first electrode layer (back electrode layer). Good. The insulating layer is provided to prevent direct contact between the first electrode layer (back electrode layer) and the second electrode layer (transparent electrode layer).
As a material of the insulating layer, a material of a general insulating layer in an organic EL element can be used. For example, a photo-curable resin such as a photosensitive polyimide resin or an acrylic resin, a thermosetting resin, an inorganic material, or the like. Can be mentioned.
The thickness of the insulating layer is not particularly limited as long as pixels can be defined and the transparent electrode layer and the back electrode layer can be insulated.
As a method for forming the insulating layer, a general method for forming an insulating layer in an organic EL element can be applied, and examples thereof include a photolithography method.

(d)隔壁
本態様に用いられる有機EL素子においては、絶縁層上に隔壁がパターン状に形成されていてもよい。隔壁は、透明電極層のパターンを画定するように形成されるものである。
隔壁が形成されている場合には、メタルマスク等を用いなくとも透明電極層をパターン状に形成することが可能になる。
隔壁のパターンとしては、透明電極層のパターンに応じて適宜選択される。
隔壁の材料としては、有機EL素子における一般的な隔壁の材料を用いることができ、例えば、感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂、および無機材料等を挙げることができる。
また、発光層をパターン状に形成するに際して、隔壁には表面エネルギーを変化させる表面処理を予め行ってもよい。
隔壁の高さとしては、透明電極層のパターンを画定し、隣接する透明電極層同士を絶縁することができれば特に限定されるものではない。
隔壁の形成方法としては、有機EL素子における一般的な隔壁の形成方法を適用することができ、例えば、フォトリソグラフィ法等が挙げられる。
(D) Partition Wall In the organic EL element used in this embodiment, the partition wall may be formed in a pattern on the insulating layer. The partition walls are formed so as to define a pattern of the transparent electrode layer.
When the partition walls are formed, the transparent electrode layer can be formed in a pattern without using a metal mask or the like.
The partition pattern is appropriately selected according to the pattern of the transparent electrode layer.
As a material for the partition, a general partition material in an organic EL element can be used. For example, a photo-curable resin such as a photosensitive polyimide resin or an acrylic resin, a thermosetting resin, an inorganic material, or the like. Can be mentioned.
Further, when the light emitting layer is formed in a pattern, the partition may be subjected to a surface treatment that changes the surface energy in advance.
The height of the partition wall is not particularly limited as long as the pattern of the transparent electrode layer can be defined and the adjacent transparent electrode layers can be insulated from each other.
As a method for forming the partition, a general method for forming a partition in an organic EL element can be applied, and examples thereof include a photolithography method.

(4)その他の構成
本態様の有機EL表示装置は、上述したカラーフィルタ、基材、および有機EL素子を有するものであれば特に限定されない。
(4) Other Configurations The organic EL display device according to this aspect is not particularly limited as long as it has the above-described color filter, base material, and organic EL element.

本態様においては、通常、カラーフィルタおよび基材の間であって、カラーフィルタおよび基材の外周に、シール材が配置される。シール材は、カラーフィルタおよび基材を接着し、有機EL素子を封止するために設けられるものである。
シール材に用いられる材料としては、カラーフィルタおよび基材を接着し、有機EL素子が大気中の水分等と接触するのを抑制することができるものであればよく、有機EL素子に一般的に用いられるものを使用することができる。
In this aspect, a sealing material is usually disposed between the color filter and the base material and on the outer periphery of the color filter and the base material. The sealing material is provided for adhering the color filter and the base material and sealing the organic EL element.
As a material used for the sealing material, any material can be used as long as it can adhere a color filter and a base material and can prevent the organic EL element from coming into contact with moisture or the like in the atmosphere. What is used can be used.

また、本態様の有機EL表示装置がシール材を有する場合、本態様の有機EL表示装置のカラーフィルタおよび基材の間の空間は不活性ガスで充填されていてもよい。不活性ガスとしては、有機EL素子に用いられる一般的なものであれば特に限定されるものではなく、例えば、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガスが挙げられる。また、カラーフィルタおよび基材の間の空間は真空とされていてもよい。   Moreover, when the organic EL display device of this aspect has a sealing material, the space between the color filter and the base material of the organic EL display device of this aspect may be filled with an inert gas. The inert gas is not particularly limited as long as it is a general one used for organic EL elements, and examples thereof include nitrogen gas, helium gas, and argon gas. Further, the space between the color filter and the substrate may be evacuated.

また、本態様の有機EL表示装置は、上述したシール材の代わりに、例えば、カラーフィルタおよび基材の間に接着剤を充填して形成された接着剤層を用いて封止がなされていてもよい。接着剤層に用いられる接着剤については、一般的な有機EL表示装置に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   In addition, the organic EL display device according to this aspect is sealed using, for example, an adhesive layer formed by filling an adhesive between a color filter and a base material instead of the sealing material described above. Also good. Since the adhesive used for the adhesive layer can be the same as that used for a general organic EL display device, description thereof is omitted here.

(5)有機EL表示装置
本態様の有機EL表示装置の駆動方法としては、パッシブマトリクスおよびアクティブマトリクスのいずれも適用することができる。
(5) Organic EL Display Device As a method for driving the organic EL display device of this aspect, either a passive matrix or an active matrix can be applied.

本態様の有機EL表示装置の製造方法としては、一般的な有機EL表示装置の製造方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。   Since the manufacturing method of the organic EL display device of this aspect can be the same as the manufacturing method of a general organic EL display device, description thereof is omitted here.

2.第2態様
本態様の有機EL表示装置は、光源として有機EL素子を有するボトムエミッション型の有機EL表示装置であり、通常、カラーフィルタと、カラーフィルタの画素部上に形成された第1電極層、第1電極層上に形成され発光層を含む有機EL層、および有機EL層上に形成された第2電極層を有する有機EL素子とを有するものである。
2. Second Aspect The organic EL display device according to this aspect is a bottom emission type organic EL display device having an organic EL element as a light source, and is usually a color filter and a first electrode layer formed on a pixel portion of the color filter. And an organic EL layer having a light emitting layer formed on the first electrode layer, and an organic EL element having a second electrode layer formed on the organic EL layer.

本態様の有機EL表示装置について図を用いて説明する。
図8は、本発明の表示装置の他の例を示す概略断面図である。また、図8においては、表示装置100が光源20として有機EL素子22を有するボトムエミッション型の有機EL表示装置103である例について示している。図8に示すように、本態様の有機EL表示装置103は、カラーフィルタ10と、カラーフィルタ10の画素部5上に形成された第1電極層22a、第1電極層22a上に形成され発光層を含む有機EL層22b、および有機EL層22b上に形成された第2電極層22cを有する有機EL素子22とを有するものである。カラーフィルタ10については、図1で説明したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
以下、本態様の有機EL表示装置の詳細について説明する。
The organic EL display device of this embodiment will be described with reference to the drawings.
FIG. 8 is a schematic sectional view showing another example of the display device of the present invention. FIG. 8 shows an example in which the display device 100 is a bottom emission type organic EL display device 103 having the organic EL element 22 as the light source 20. As shown in FIG. 8, the organic EL display device 103 of this aspect includes a color filter 10, a first electrode layer 22 a formed on the pixel portion 5 of the color filter 10, and light emission formed on the first electrode layer 22 a. And an organic EL element 22 having a second electrode layer 22c formed on the organic EL layer 22b. Since the color filter 10 can be the same as that described in FIG. 1, the description thereof is omitted here.
Hereinafter, the details of the organic EL display device of this embodiment will be described.

(1)カラーフィルタ
本態様に用いられるカラーフィルタについては、上述した「A.カラーフィルタ」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。また、本態様においては、カラーフィルタの着色層上に後述する有機EL素子が形成されることから、着色層上に形成されたオーバーコート層を有していることが好ましい。
(1) Color filter Since the color filter used in this embodiment can be the same as that described in the section “A. Color filter” described above, description thereof is omitted here. Moreover, in this aspect, since the organic EL element mentioned later is formed on the colored layer of a color filter, it is preferable to have the overcoat layer formed on the colored layer.

(2)光源(有機EL素子)
本態様に用いられる有機EL素子は、上記カラーフィルタの画素部上に形成され、発光層を含む有機EL層を有するものである。また、上記有機EL素子は、通常、カラーフィルタの着色層上に形成された第1電極層と、第1電極層上に形成され、発光層を含む有機EL層と、有機EL層上に形成された第2電極層とを有し、必要に応じて絶縁層、隔壁等を有するものである。
本態様においては、上記有機EL素子が着色層等の表面上に直接形成されてもよく、例えば着色層等の表面上に形成されたオーバーコート層等の他の層を介して形成されてもよい。
(2) Light source (organic EL element)
The organic EL element used in this embodiment has an organic EL layer including a light emitting layer, which is formed on the pixel portion of the color filter. The organic EL element is usually formed on the first electrode layer formed on the colored layer of the color filter, the organic EL layer formed on the first electrode layer, including the light emitting layer, and the organic EL layer. A second electrode layer, and an insulating layer, a partition wall, and the like as necessary.
In this aspect, the organic EL element may be formed directly on the surface of the colored layer or the like, for example, via another layer such as an overcoat layer formed on the surface of the colored layer or the like. Good.

本態様に用いられる有機EL素子においては、通常、第1電極層として上述した透明電極層が用いられ、第2電極層として上述した背面電極層が用いられる。
有機EL素子について、上記の点以外については、上述した「1.第1態様」の項で説明したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
In the organic EL element used in this embodiment, the above-described transparent electrode layer is usually used as the first electrode layer, and the above-described back electrode layer is used as the second electrode layer.
About an organic EL element, since it can be the same as that of what was demonstrated by the term of the above-mentioned "1. 1st aspect" except for said point, description here is abbreviate | omitted.

(3)その他
本態様の有機EL表示装置は、上述したカラーフィルタと、有機EL素子とを有するものであれば特に限定されない。本態様においては、必要に応じて、有機EL表示装置が封止基材を有していてもよい。本態様において封止基材を有する場合、封止基材はカラーフィルタの着色層および有機EL素子側表面と対向するように配置される。また、カラーフィルタおよび封止基材の間には、上述したシール材、または接着剤層等が配置される。封止基材については、上述した「1.第1態様」の項で説明した対向基材と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。シール材、および接着剤層については、上述した「1.第1態様」の項で説明したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
(3) Others The organic EL display device of this aspect is not particularly limited as long as it has the above-described color filter and organic EL element. In this embodiment, the organic EL display device may have a sealing substrate as necessary. When it has a sealing base material in this aspect, a sealing base material is arrange | positioned so as to oppose the colored layer and organic EL element side surface of a color filter. Further, the above-described sealing material or adhesive layer is disposed between the color filter and the sealing substrate. About the sealing base material, since it can be the same as that of the opposing base material demonstrated by the term of "1. 1st aspect" mentioned above, description here is abbreviate | omitted. About a sealing material and an adhesive bond layer, since it can be made to be the same as that of what was demonstrated by the term of "1. 1st aspect" mentioned above, description here is abbreviate | omitted.

本態様の有機EL表示装置について、上述した点以外は、「1.第1態様」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   The organic EL display device according to this aspect can be the same as the contents described in the section “1. First aspect” except for the points described above.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本態様の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has the same configuration as the technical idea described in the claims of this aspect and exhibits any similar function and effect. Are included in the technical scope.

以下、実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples.

[実施例1]
(遮光層形成用組成物の調整)
まず、重合槽中にメタクリル酸メチル(MMA)を63質量部、アクリル酸(AA)を12質量部、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル(HEMA)を6質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)を88質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、2、2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を7質量部添加し、均一に溶解させた。
その後、窒素気流下、85℃で2時間攪拌し、更に100℃で1時間反応させた。
得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル(GMA)を7質量部、トリエチルアミンを0.4質量部、及びハイドロキノンを0.2質量部添加し、100℃で5時間攪拌し、共重合樹脂溶液(固形分50%)を得た。
[Example 1]
(Adjustment of composition for forming light shielding layer)
First, 63 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 12 parts by mass of acrylic acid (AA), 6 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), and 88 parts by mass of diethylene glycol dimethyl ether (DMDG) in the polymerization tank. After the parts were charged, stirred and dissolved, 7 parts by mass of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) was added and dissolved uniformly.
Then, it stirred at 85 degreeC under nitrogen stream for 2 hours, and also was made to react at 100 degreeC for 1 hour.
Further, 7 parts by mass of glycidyl methacrylate (GMA), 0.4 parts by mass of triethylamine, and 0.2 parts by mass of hydroquinone were added to the obtained solution, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 5 hours to obtain a copolymer resin solution ( A solid content of 50%) was obtained.

次に、下記の材料を室温で攪拌、混合して下記組成の硬化性樹脂組成物を調製した。
<硬化性樹脂組成物の組成>
・上記共重合樹脂溶液(固形分50%) …16質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399)
…24質量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70) …4質量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン
…4質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル …52質量部
Next, the following materials were stirred and mixed at room temperature to prepare a curable resin composition having the following composition.
<Composition of curable resin composition>
-Copolymer resin solution (solid content 50%) ... 16 parts by mass-Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399)
... 24 parts by mass · Ortho-cresol novolac type epoxy resin (Epico Shell Epoxy Epicoat 180S70) · 4 parts by mass · 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one
... 4 parts by mass, diethylene glycol dimethyl ether ... 52 parts by mass

次いで、下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した。
<黒色顔料分散液の組成>
・黒色顔料(三菱化学社製 #2600) …20質量部
・高分子分散材(ビックケミー・ジャパン株式会社 Disperbyk 111)
…16質量部
・溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル) …64質量部
Next, the following components were mixed and sufficiently dispersed with a sand mill to prepare a black pigment dispersion.
<Composition of black pigment dispersion>
Black pigment (Mitsubishi Chemical Corporation # 2600) ... 20 parts by mass Polymer dispersion (Bic Chemie Japan, Ltd. Disperbyk 111)
... 16 parts by mass, solvent (diethylene glycol dimethyl ether) ... 64 parts by mass

その後、下記分量の成分を十分混合して、遮光層形成用組成物を得た。
<遮光層形成用組成物の組成>
・上記黒色顔料分散液 …50質量部
・上記硬化性樹脂組成物 …20質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル …30質量部
Thereafter, the following components were mixed sufficiently to obtain a light shielding layer forming composition.
<Composition of light shielding layer forming composition>
-Black pigment dispersion liquid: 50 parts by mass-Curable resin composition: 20 parts by mass-Diethylene glycol dimethyl ether: 30 parts by mass

(遮光層の形成)
次に、得られた遮光層形成用組成物を透明基板に塗布し、フォトリソグラフィ法によりパターニングし、その後焼成して遮光層を形成した。
(Formation of light shielding layer)
Next, the obtained composition for forming a light shielding layer was applied to a transparent substrate, patterned by a photolithography method, and then baked to form a light shielding layer.

(着色層の形成)
次いで、下記組成の赤色着色層形成用組成物、緑色着色層形成用組成物、青色着色層形成用組成物を調製した。
(Formation of colored layer)
Next, a red colored layer forming composition, a green colored layer forming composition, and a blue colored layer forming composition having the following compositions were prepared.

<赤色着色層形成用組成物>
・C.I.ピグメントレッド254 …10質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 …8質量部
・上記硬化性樹脂組成物 …15質量部
・酢酸−3−メトキシブチル …67質量部
<Red colored layer forming composition>
・ C. I. Pigment Red 254 ... 10 parts by mass, polysulfonic acid type polymer dispersant ... 8 parts by mass, the above curable resin composition ... 15 parts by mass, 3-methoxybutyl acetate ... 67 parts by mass

<緑色着色層形成用組成物>
・C.I.ピグメントグリーン58 …10質量部
・C.I.ピグメントイエロー138 …3質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 …8質量部
・上記硬化性樹脂組成物 …12質量部
・酢酸−3−メトキシブチル …67質量部
<Green colored layer forming composition>
・ C. I. Pigment Green 58: 10 parts by mass / C.I. I. Pigment Yellow 138 ... 3 parts by mass, polysulfonic acid type polymer dispersant ... 8 parts by mass, the curable resin composition ... 12 parts by mass, 3-methoxybutyl acetate ... 67 parts by mass

<青色着色層形成用組成物>
・C.I.ピグメントブルー1 …5質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 …3質量部
・上記硬化性樹脂組成物 …25質量部
・酢酸−3−メトキシブチル …67質量部
<Blue colored layer forming composition>
・ C. I. Pigment Blue 1 ... 5 parts by mass, polysulfonic acid type polymer dispersant ... 3 parts by mass, the above curable resin composition ... 25 parts by mass, 3-methoxybutyl acetate ... 67 parts by mass

<白色層形成用組成物>
・上記硬化性樹脂組成物A …33質量部
・酢酸−3−メトキシブチル …67質量部
<White layer forming composition>
-The said curable resin composition A ... 33 mass parts-3-methoxybutyl acetate ... 67 mass parts

(着色層の形成)
次に、ガラス基板上の遮光層を覆うように赤色着色層形成用組成物をスピンコート法により塗布し、フォトリソグラフィ法によりパターニングした後、焼成して赤色着色層を形成した。
その後、緑色着色層形成用組成物、および青色着色層形成用組成物を用いて、同様の操作により緑色着色層および青色着色層を形成した。これにより、赤色着色層、緑色着色層、および青色着色層が配列された着色層を形成した。
着色層の膜厚は、赤色着色層1.5μm、緑色着色層1.5μm、青色着色層1.5μm、白色着色層1.5μmとした。
(Formation of colored layer)
Next, a red colored layer forming composition was applied by spin coating so as to cover the light shielding layer on the glass substrate, patterned by photolithography, and then baked to form a red colored layer.
Then, the green colored layer and the blue colored layer were formed by the same operation using the green colored layer forming composition and the blue colored layer forming composition. As a result, a colored layer in which a red colored layer, a green colored layer, and a blue colored layer were arranged was formed.
The thickness of the colored layer was 1.5 μm for the red colored layer, 1.5 μm for the green colored layer, 1.5 μm for the blue colored layer, and 1.5 μm for the white colored layer.

(青色光透過副画素の作製)
次に、下記組成の青色光低減手段用組成物を用いて青色着色層と白色層上に各着色層形成方法と同様の方法によりパターニングした後、焼成して、厚さ1.5μmの光吸収層を形成することにより、青色光透過副画素を形成した。
(Production of blue light transmitting subpixel)
Next, after patterning by the same method as each colored layer forming method on the blue colored layer and the white layer using the composition for blue light reducing means having the following composition, it is baked to absorb light having a thickness of 1.5 μm. A blue light transmissive subpixel was formed by forming a layer.

<青色光低減手段用組成物>
・C.I.ピグメントブルー15:3 …5質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 …3質量部
・上記硬化性樹脂組成物 …25質量部
・酢酸−3−メトキシブチル …67質量部
<Composition for blue light reducing means>
・ C. I. Pigment Blue 15: 3 5 parts by mass, polysulfonic acid type polymer dispersant 3 parts by mass, the curable resin composition 25 parts by mass, 3-methoxybutyl acetate 67 parts by mass

以上の工程によりカラーフィルタを作製した。   The color filter was produced by the above process.

(有機EL表示装置の作製)
上記のカラーフィルタと対向配置して有機EL表示装置を作製するためのEL素子側基板として、白色発光光源を備える有機EL素子側基板を以下の要領で作製した。
まず、透明基材に対して、定法にしたがって薄膜トランジスタ回路を作製した。
この上に、カラーフィルタ基板の各色の着色層に対応するようにアルミニウムからなる下面電極層を形成し、これらの下面電極層の間隙にポリイミドからなる絶縁層(隔壁部)を形成した。次に、絶縁層(隔壁部)の間隙に白色発光の有機EL素子(正孔注入層、白色発光層、電子注入層の積層構成)を形成し、これらの上に酸化インジウムスズ(ITO)からなる上面透明電極層を形成した。
その後、カラーフィルタの着色層側表面と上面透明電極層を有する有機EL素子側基板の前記有機EL素子側表面とが対向するよう接触させ、接着剤(日東電工(株)製 NT−01UV)を介して貼り合わせることにより、有機EL表示装置を作製した。
(Production of organic EL display device)
As an EL element side substrate for producing an organic EL display device facing the above color filter, an organic EL element side substrate provided with a white light emitting source was produced in the following manner.
First, a thin film transistor circuit was produced according to a conventional method on a transparent substrate.
On this, a lower electrode layer made of aluminum was formed so as to correspond to the colored layers of each color of the color filter substrate, and an insulating layer (partition wall) made of polyimide was formed in the gap between these lower electrode layers. Next, a white light emitting organic EL element (laminated structure of a hole injection layer, a white light emitting layer, and an electron injection layer) is formed in the gap between the insulating layers (partition walls), and indium tin oxide (ITO) is formed thereon. An upper transparent electrode layer was formed.
Thereafter, the colored layer side surface of the color filter and the organic EL element side surface of the organic EL element side substrate having the upper transparent electrode layer are brought into contact with each other, and an adhesive (NT-01UV manufactured by Nitto Denko Corporation) is applied. Thus, an organic EL display device was produced.

[実施例2]
実施例1と同様の方法により、着色層の形成までを行った。
[Example 2]
By the same method as in Example 1, the coloring layer was formed.

(青色光透過副画素の作製)
次いで、スパッタリング法により厚み300nmのITO膜を青色着色層及び白色層上のみに形成した。その後、150℃の条件下で40分間アニール処理を行った。その後、実施例1と同様の方法により有機EL表示装置の作製を行った。
(Production of blue light transmitting subpixel)
Next, an ITO film having a thickness of 300 nm was formed only on the blue colored layer and the white layer by sputtering. Thereafter, annealing was performed for 40 minutes at 150 ° C. Thereafter, an organic EL display device was produced by the same method as in Example 1.

[実施例3]
実施例1と同様の方法により、着色層の形成までを行った。その後、以下の青色光低減手段用組成物を用いて実施例1と同様の方法で光吸収層を形成してカラーフィルタを得た。その後、実施例1と同様の方法により有機EL表示装置の作製を行った。
[Example 3]
By the same method as in Example 1, the coloring layer was formed. Then, the light absorption layer was formed by the method similar to Example 1 using the following composition for blue light reduction means, and the color filter was obtained. Thereafter, an organic EL display device was produced by the same method as in Example 1.

<青色光低減手段用組成物>
・C.I.ピグメントグリーン7 …2質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 …3質量部
・上記硬化性樹脂組成物A …25質量部
・酢酸−3−メトキシブチル …70質量部
<Composition for blue light reducing means>
・ C. I. Pigment Green 7 2 parts by mass, polysulfonic acid type polymer dispersant 3 parts by mass, the curable resin composition A 25 parts by mass, 3-methoxybutyl acetate 70 parts by mass

[実施例4]
青色着色層と白色層の材料を変更して、実施例1と同様の方法で着色層を作製することにより青色光透過副画素を作成した。その後、実施例1と同様の方法により有機EL表示装置の作製を行った。
[Example 4]
A blue light transmitting subpixel was prepared by changing the materials of the blue colored layer and the white layer and preparing the colored layer in the same manner as in Example 1. Thereafter, an organic EL display device was produced by the same method as in Example 1.

<青色着色層形成用組成物>
・C.I.ピグメントブルー1 …5質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 …3質量部
・上記硬化性樹脂組成物A …25質量部
・酢酸−3−メトキシブチル …62質量部
・2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−p−クレゾール …5質量部
<Blue colored layer forming composition>
・ C. I. Pigment Blue 1 ... 5 parts by mass, polysulfonic acid type polymer dispersant ... 3 parts by mass, the curable resin composition A ... 25 parts by mass, 3-methoxybutyl acetate ... 62 parts by mass, 2- (2H-benzotriazole -2-yl) -p-cresol: 5 parts by mass

<白色層形成用組成物>
・上記硬化性樹脂組成物A …28質量部
・酢酸−3−メトキシブチル …67質量部
・2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−p−クレゾール …5質量部
<White layer forming composition>
-Curable resin composition A ... 28 parts by mass-3-methoxybutyl acetate ... 67 parts by mass-2- (2H-benzotriazol-2-yl) -p-cresol ... 5 parts by mass

[実施例5]
青色光透過副画素部の遮光層の線幅を変更し、下記の表1に示すように開口率を変更した。その後、実施例1と同様の方法により着色層を形成したことにより青色光透過副画素部を得た。その後、実施例1と同様の方法により有機EL表示装置の作製を行った。
[Example 5]
The line width of the light shielding layer in the blue light transmitting subpixel portion was changed, and the aperture ratio was changed as shown in Table 1 below. Thereafter, a colored layer was formed by the same method as in Example 1 to obtain a blue light transmitting subpixel portion. Thereafter, an organic EL display device was produced by the same method as in Example 1.

[比較例1]
実施例1と同様の方法で着色層までを形成しカラーフィルタを得た。その後、実施例1と同様の方法により有機EL表示装置の作製を行った。
[Comparative Example 1]
A color filter was obtained by forming up to the colored layer in the same manner as in Example 1. Thereafter, an organic EL display device was produced by the same method as in Example 1.

<評価>
得られたカラーフィルタに対して、顕微分光装置OSP−SP2000(OLYMPUS社製)を用いて、基準の青色光透過副画素に対する調整後の青色光透過副画素の平均透過率比を評価した。
また、得られた有機EL表示装置に対して、輝度計((株)トプコン製 SR−3AR)を用いてY比率の測定評価を行った。下記の判断基準1〜3のうちのいずれかを満たした場合を○、いずれも満たさない場合を×とした。また、比較例1の平均透過率比、Y比率及び発光強度比を1として実施例を比較した。結果を表に示した。
<Evaluation>
Using the microspectroscope OSP-SP2000 (manufactured by OLYMPUS), the average transmittance ratio of the adjusted blue light transmissive subpixel to the reference blue light transmissive subpixel was evaluated for the obtained color filter.
Moreover, measurement evaluation of Y ratio was performed with respect to the obtained organic EL display apparatus using the luminance meter (SR-3AR by Topcon Co., Ltd.). A case where any one of the following criteria 1 to 3 was satisfied was evaluated as ◯, and a case where none of them was satisfied was evaluated as ×. In addition, Examples were compared by setting the average transmittance ratio, Y ratio, and emission intensity ratio of Comparative Example 1 to 1. The results are shown in the table.

判断基準1:380nm〜480nmの波長領域の基準の青色光透過副画素に対する本発明における青色光透過副画素の発光強度比が0.50〜0.80の範囲内であること。
判断基準2:380nm〜430nmの波長領域の基準の青色光透過副画素に対する青色光透過副画素の発光強度比が0.75未満、かつ、430nm〜480nmの波長領域の基準の青色光透過副画素に対する青色光透過副画素の発光強度比が0.75以上であること。
判断基準3:開口率調整による380nm〜480nmの波長領域の基準の青色光透過副画素に対する青色光透過副画素の発光強度比が0.50〜0.80の範囲内であること。
Judgment criterion 1: The emission intensity ratio of the blue light transmitting subpixel in the present invention to the reference blue light transmitting subpixel in the wavelength region of 380 nm to 480 nm is in the range of 0.50 to 0.80.
Judgment criterion 2: The emission intensity ratio of the blue light transmission subpixel to the reference blue light transmission subpixel in the wavelength region of 380 nm to 430 nm is less than 0.75, and the reference blue light transmission subpixel in the wavelength region of 430 nm to 480 nm The light emission intensity ratio of the blue light transmitting sub-pixel to is 0.75 or more.
Judgment criterion 3: The emission intensity ratio of the blue light transmitting subpixel to the reference blue light transmitting subpixel in the wavelength region of 380 nm to 480 nm by adjusting the aperture ratio is in the range of 0.50 to 0.80.

Figure 2014202959
Figure 2014202959

カラーフィルタに青色光低減手段を設けた実施例1〜5の有機EL表示装置においては、青色光の発光強度の低減を確認することができた。   In the organic EL display devices of Examples 1 to 5 in which the color filter is provided with blue light reducing means, it was confirmed that the emission intensity of blue light was reduced.

1 … 透明基材
2B … 青色着色層
2W … 透明樹脂層
3B … 青色副画素
3W … 白色副画素
3 … 青色光透過副画素
5 … 画素部
6 … 青色光低減手段
10 … カラーフィルタ
20 … 光源
100 … 表示装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent base material 2B ... Blue colored layer 2W ... Transparent resin layer 3B ... Blue subpixel 3W ... White subpixel 3 ... Blue light transmission subpixel 5 ... Pixel part 6 ... Blue light reduction means 10 ... Color filter 20 ... Light source 100 … Display device

Claims (2)

透明基材と、
前記透明基材上に設けられ青色着色層を有する青色副画素および前記透明基材上に設けられた白色副画素の少なくとも一方で構成される青色光透過副画素を有する画素部と、
前記透明基材上の前記青色光透過副画素に設けられ、前記青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光の発光強度を低減する青色光低減手段と、
を備えることを特徴とするカラーフィルタ。
A transparent substrate;
A pixel portion having a blue light transmissive subpixel configured on at least one of a blue subpixel having a blue colored layer provided on the transparent substrate and a white subpixel provided on the transparent substrate;
Blue light reducing means provided on the blue light transmitting subpixel on the transparent substrate, and reducing the light emission intensity of light in the wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light transmitted through the blue light transmitting subpixel;
A color filter comprising:
光源と、
透明基材、前記透明基材上に設けられ青色着色層を有する青色副画素および前記透明基材上に設けられた白色副画素の少なくとも一方で構成される青色光透過副画素を有する画素部、ならびに前記透明基材上の前記青色光透過副画素に設けられ、前記青色光透過副画素を透過した光源光に含まれる380nm〜480nmの波長領域の光の発光強度を低減する青色光低減手段、を備えるカラーフィルタと、
を有することを特徴とする表示装置。
A light source;
A pixel portion having a transparent base material, a blue subpixel having a blue colored layer provided on the transparent base material, and a blue light transmitting subpixel configured by at least one of a white subpixel provided on the transparent base material, And a blue light reducing means that is provided in the blue light transmitting subpixel on the transparent substrate and reduces the light emission intensity of light in a wavelength region of 380 nm to 480 nm included in the light source light transmitted through the blue light transmitting subpixel. A color filter comprising:
A display device comprising:
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