JP2014177683A - Substrate conveyance tray and deposition apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、成膜装置用の基板搬送トレイ、及び成膜装置に関する。 The present invention relates to a substrate transfer tray for a film forming apparatus and a film forming apparatus.
従来、成膜装置の真空チャンバ内で、基板を搬送する際に用いられる基板搬送トレイとして、特許文献1に示すものが知られている。この基板搬送トレイの搬送には、ラック・ピニオン方式が採用されている。すなわち、真空チャンバの上側にはピニオンを有する駆動部が設けられており、基板搬送トレイの上端側には、駆動部のピニオンと噛み合うように歯が直線状に並べられたラックが設けられている。このような構成により、基板搬送トレイで基板保持し、駆動部のピニオンを回転させることによってラックと共に当該基板搬送トレイが搬送方向へ移動する。これによって、成膜装置の真空チャンバ内で基板が基板搬送トレイに保持された状態で搬送される。
2. Description of the Related Art Conventionally, a substrate transport tray shown in
しかしながら、上述のように基板搬送トレイの搬送方法として、ラック・ピニオン方式を採用した場合、成膜装置の搬送部の構造や基板搬送トレイの構造が複雑になってしまうという問題がある。また、一の真空チャンバから隣りの真空チャンバへ基板搬送トレイを搬送する際に、一の真空チャンバから搬送される基板搬送トレイが、隣りの真空チャンバ内で搬送される基板搬送トレイに追いつくことができるような制御(追いつき制御)を行う場合がある。ラック・ピニオン方式を採用した場合は、ラックの歯とピニオンの歯とが噛み合う関係で、基板搬送トレイが一の真空チャンバの駆動部と、他の真空チャンバの駆動部とに差し掛かっている状態では、各真空チャンバの駆動部の間で搬送速度の差を設けることができず、追いつき制御に対応することが困難であるという問題がある。追いつき制御に対応することが困難な場合は、成膜を行う部分において、基板搬送トレイ同士の間隔が大きくなる場合があり、成膜の効率に影響が及ぼされる。以上より、基板搬送の構造をシンプルにすると共に、成膜の効率を向上させることが求められていた。 However, as described above, when the rack and pinion method is adopted as the method for transporting the substrate transport tray, there is a problem that the structure of the transport unit of the film forming apparatus and the structure of the substrate transport tray become complicated. Further, when the substrate transfer tray is transferred from one vacuum chamber to the adjacent vacuum chamber, the substrate transfer tray transferred from the one vacuum chamber can catch up with the substrate transfer tray transferred in the adjacent vacuum chamber. There is a case where control (catch-up control) is performed. When the rack and pinion method is adopted, the rack carrier and the pinion teeth mesh with each other, so that the substrate transport tray is in contact with the drive part of one vacuum chamber and the drive part of another vacuum chamber. There is a problem that it is difficult to cope with catch-up control because a difference in transport speed cannot be provided between the driving units of the vacuum chambers. When it is difficult to cope with the catch-up control, the interval between the substrate transfer trays may be increased in the film forming portion, which affects the film forming efficiency. From the above, there has been a demand for simplifying the substrate transport structure and improving the efficiency of film formation.
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、基板搬送のための構造をシンプルにすることができると共に、成膜の効率を向上させることができる基板搬送トレイ、及び成膜装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve such a problem, and can simplify a structure for transporting a substrate and improve the efficiency of film formation, and a substrate transport tray. An object is to provide a membrane device.
本発明に係る基板搬送トレイは、基板の厚み方向と交差する搬送方向に基板を搬送するときに、基板を保持可能な成膜装置用の基板搬送トレイであって、基板を取り付け可能な枠体と、枠体の一端側に設けられ、搬送時に枠体を支持する支持部と、を備え、支持部は、枠体の一端側に接続され、少なくとも枠体の厚み方向に延びる第1の部分と、搬送のための駆動力を付与する駆動ローラと接触する第2の部分と、を有する。 A substrate transport tray according to the present invention is a substrate transport tray for a film forming apparatus that can hold a substrate when transporting the substrate in a transport direction that intersects the thickness direction of the substrate, and a frame on which the substrate can be attached And a support portion that is provided on one end side of the frame body and supports the frame body during transport, and the support portion is connected to one end side of the frame body and extends at least in the thickness direction of the frame body And a second portion that comes into contact with a driving roller that applies a driving force for conveyance.
本発明に係る基板搬送トレイは、枠体の一端側に設けられる支持部を備えており、当該支持部は、搬送のための駆動力を付与する駆動ローラと接触する第2の部分を有している。これによって、基板を取り付け可能な枠体は、第2の部分を有する支持部を介して、駆動ローラから駆動力を付与され、搬送方向に基板と共に移動することができる。また、支持部は、枠体に接続される第1の部分を有しており、当該第1の部分は、枠体の厚み方向に延びている。従って、駆動ローラや、当該駆動ローラと接触する部分で膜剥がれ等によるパーティクルが発生するとしても、厚み方向に延びる第1の部分が当該パーティクルを受けることが可能となる。このように、支持部の第2の部分を駆動ローラに接触させるだけのシンプルな構造でありながら、基板の搬送が可能となると共に、パーティクルの飛散も抑制することができる。また、ラック・ピニオン方式のようにラック側の歯とピニオン側の歯とを噛み合わせて駆動力を付与するものではなく、駆動ローラを用いることにより、一方の真空チャンバの駆動部と他の真空チャンバの駆動部との間に搬送速度の差があったとしても搬送可能であるため、追いつき制御に対応することができる。従って、効率よく基板を搬送できることが可能となり、成膜効率を向上させることができる。以上により、基板搬送のための構造をシンプルにすることができると共に、成膜の効率を向上させることができる。 The substrate transport tray according to the present invention includes a support portion provided on one end side of the frame, and the support portion has a second portion that comes into contact with a driving roller that applies a driving force for transport. ing. As a result, the frame body to which the substrate can be attached can be moved with the substrate in the transport direction by being applied with the driving force from the driving roller via the support portion having the second portion. Moreover, the support part has the 1st part connected to a frame, and the said 1st part is extended in the thickness direction of the frame. Therefore, even if particles due to film peeling or the like are generated at the drive roller or a portion in contact with the drive roller, the first portion extending in the thickness direction can receive the particles. As described above, the substrate can be transported and the scattering of particles can be suppressed while having a simple structure in which the second portion of the support portion is simply brought into contact with the drive roller. In addition, the rack-side teeth and pinion-side teeth are not meshed with each other as in the rack and pinion system, and a driving force is not applied. By using a driving roller, the driving unit of one vacuum chamber and the other vacuum Even if there is a difference in the conveyance speed between the chamber drive unit and the chamber drive unit, the conveyance is possible, so it is possible to cope with catch-up control. Accordingly, the substrate can be efficiently transferred, and the film formation efficiency can be improved. As described above, the structure for transporting the substrate can be simplified and the efficiency of film formation can be improved.
本発明に係る基板搬送トレイにおいて、搬送方向における第2の部分の端部は、搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有してよい。第2の部分は、搬送のための駆動力を付与する駆動ローラと接触するが、駆動ローラは、第2の部材を支持するために厚み方向における両端側に鍔部を有する場合がある。このような場合に、第2の部分の端部が搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有することにより、第2の部分の端部は、駆動ローラの鍔部に干渉することなくスムーズに駆動ローラと接触することができる。 In the substrate transport tray according to the present invention, the end of the second portion in the transport direction may have a shape whose width becomes narrower toward the transport direction. The second portion is in contact with a driving roller that applies a driving force for conveyance, but the driving roller may have flanges on both ends in the thickness direction in order to support the second member. In such a case, the end portion of the second portion has a shape that becomes narrower as it goes in the transport direction, so that the end portion of the second portion can smoothly move without interfering with the flange portion of the drive roller. Can contact the drive roller.
本発明に係る基板搬送トレイにおいて、枠体の他端側では、搬送方向における端部が、搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有してよい。枠体の他端側では、当該枠体の他端側の両側面を支持するような側面支持部が設けられる場合がある。このような場合に、枠体の搬送方向における端部が、搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有することにより、枠体の搬送方向における端部が、側面支持部に干渉することなくスムーズに搬送方向へ移動することができる。 The board | substrate conveyance tray which concerns on this invention WHEREIN: The edge part in a conveyance direction may have a shape where a width | variety becomes narrow as it goes to a conveyance direction at the other end side of a frame. On the other end side of the frame body, there may be a side support portion that supports both side surfaces on the other end side of the frame body. In such a case, since the end portion in the transport direction of the frame body has a shape whose width becomes narrower toward the transport direction, the end portion in the transport direction of the frame body can be smooth without interfering with the side surface support portion. Can be moved in the transport direction.
本発明に係る基板搬送トレイにおいて、第1の部分は、搬送方向から見てコ字形状に形成されており、当該コ字形状における内面には、第2の部材が取り付けられていてよい。これによって、第1の部分のコ字形状によって、第2の部分に接触している駆動ローラを取り囲むことができる。従って、駆動ローラ付近で発生するパーティクルを確実に受けて飛散を抑制することができる。 In the substrate transfer tray according to the present invention, the first portion is formed in a U shape when viewed from the transfer direction, and a second member may be attached to the inner surface of the U shape. As a result, the U-shape of the first portion can surround the drive roller that is in contact with the second portion. Therefore, the particles generated in the vicinity of the drive roller can be reliably received and scattering can be suppressed.
本発明に係る成膜装置は、上述の基板搬送トレイ、及び基板搬送トレイで保持された状態の基板を収容可能な真空チャンバと、基板を直立させた状態又は直立させた状態から傾斜した状態で搬送する搬送部と、を備える成膜装置であって、搬送部は、真空チャンバの上側に配置され、基板搬送トレイに駆動力を付与する駆動ローラを有し、駆動ローラは、支持部の第1の部分及び第2の部分に囲まれる空間内に配置されたときに、第2の部分と接触し、基板搬送トレイに駆動力を付与する。 The film forming apparatus according to the present invention includes the above-described substrate transfer tray, a vacuum chamber capable of accommodating the substrate held by the substrate transfer tray, and a state in which the substrate is upright or tilted from the upright state. A transport unit that transports the substrate transport tray, the transport unit being disposed on the upper side of the vacuum chamber, and having a driving roller that applies a driving force to the substrate transport tray. When arranged in a space surrounded by the first portion and the second portion, the second portion comes into contact with the substrate conveying tray, and a driving force is applied to the substrate carrying tray.
本発明に係る成膜装置では、真空チャンバの上側に配置された駆動ローラが、基板搬送トレイの支持部の第1の部分及び第2の部分に囲まれる空間内に配置されることで、第2の部分と接触して基板搬送トレイに駆動力を付与することが可能となる。このように、駆動ローラを支持部の第1の部分及び第2の部分に囲まれる空間に配置するだけのシンプルな構造にて、上述のような基板搬送トレイの効果を奏することができる。 In the film forming apparatus according to the present invention, the drive roller disposed on the upper side of the vacuum chamber is disposed in a space surrounded by the first portion and the second portion of the support portion of the substrate transport tray, so that the first It is possible to apply a driving force to the substrate transfer tray by contacting the portion 2. As described above, the effect of the substrate transport tray as described above can be obtained with a simple structure in which the driving roller is simply disposed in the space surrounded by the first portion and the second portion of the support portion.
本発明に係る成膜装置において、駆動ローラによって基板搬送トレイを支持及び駆動するときに、基板搬送トレイの下端部は、真空チャンバの底側の構造物から、上下方向において離間していてよい。このように、基板搬送トレイの重みを真空チャンバの上側の駆動ローラでぶら下げて支持するような構造とすることで、熱などにより基板搬送トレイが上下方向に伸びた場合の搬送への影響を無くすことができる。また、基板搬送トレイの下側で重みを支持する場合は、支持部の上側に基板搬送トレイの重心が位置する関係で、基板搬送トレイ自体の強度が高い構造としなくてはならないが、上側でのみ支持することで、支持部よりも下側に重心が位置し、基板搬送トレイの構造をシンプルなものとすることができる。 In the film forming apparatus according to the present invention, when the substrate transport tray is supported and driven by the driving roller, the lower end portion of the substrate transport tray may be separated from the structure on the bottom side of the vacuum chamber in the vertical direction. In this way, the weight of the substrate transfer tray is supported by being hung by the upper drive roller of the vacuum chamber, thereby eliminating the influence on transfer when the substrate transfer tray extends in the vertical direction due to heat or the like. be able to. In addition, when supporting the weight on the lower side of the substrate transport tray, the center of the substrate transport tray is located on the upper side of the support portion, so that the strength of the substrate transport tray itself must be high. By supporting only, the center of gravity is positioned below the support portion, and the structure of the substrate transport tray can be simplified.
本発明に係る成膜装置において、搬送部は、基板搬送トレイの下端部側における両側面を支持する側面支持部を備えてよい。これによって、基板搬送トレイを支持している上端側とは反対側の下端部側では、厚み方向のふらつきが大きくなる場合があるが、側面支持部によって当該ふらつきを抑制することができる。 In the film forming apparatus according to the present invention, the transport unit may include side surface support units that support both side surfaces on the lower end side of the substrate transport tray. As a result, the wobbling in the thickness direction may increase on the lower end side opposite to the upper end side supporting the substrate transport tray, but the wobbling can be suppressed by the side surface support portion.
本発明によれば、基板搬送のための構造をシンプルにすることができると共に、成膜の効率を向上させることができる。 According to the present invention, the structure for transporting a substrate can be simplified, and the efficiency of film formation can be improved.
以下、添付図面を参照しながら本発明による基板搬送トレイ、及び成膜装置の一実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。 Hereinafter, an embodiment of a substrate transport tray and a film forming apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
図1は、本実施形態に係る成膜装置100の概略構成を示す平面図である。図1に示す成膜装置100は、成膜対象物である基板101(例えばガラス基板)に対して成膜等の処理を施すためのものである。成膜装置100は、例えばRPD法(反応性プラズマ蒸着法)による成膜を行う装置である。成膜装置100は、プラズマを生成するプラズマガンを備え、生成されたプラズマを用いて、成膜材料(蒸着源140)をイオン化し、成膜材料の粒子を基板101の表面に付着させることにより成膜を行う。説明の便宜上、図1には、XYZ座標系を示す。Y軸方向は、基板101が搬送される方向である。X軸方向は、基板101と蒸着源140とが対向する方向である。Z軸方向は、X軸方向とY軸方向とに直交する方向である。本実施形態に係る成膜装置100は、基板101の厚み方向が水平方向となるように、基板101を直立又は直立させた状態から傾斜した状態で、基板101が真空チャンバ内に配置されて搬送される、いわゆる縦型の成膜装置であり、Z軸方向が上下方向に該当する。
FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a
成膜装置100は、ロードロックチャンバ121、バッファチャンバ122、成膜チャンバ123、バッファチャンバ124、ロードロックチャンバ125を備えている。これらのチャンバ121〜125は、この順に並んで配置されている。全てのチャンバ121〜125が真空チャンバ150として構成され、チャンバ121〜125の出入口には、チャンバゲート135が設けられている。成膜装置100は、バッファチャンバ122,124、成膜チャンバ123が複数並べられている構成でもよい。また、一連のチャンバによって構成されている成膜装置でもよい。
The
各真空チャンバ121〜125には、内部を適切な圧力とするための真空ポンプ(不図示)が接続されている。また、各真空チャンバ121〜125には、チャンバ内の圧力を監視するための真空計(不図示)が設置されている。各チャンバ121〜125には、真空ポンプに接続された真空排気管が連通され、この真空排気管に真空計が設置されている。
A vacuum pump (not shown) is connected to each of the
成膜装置100には、基板101を保持する基板搬送トレイ20を搬送するための搬送部10が設けられている。搬送部10は、真空チャンバ121〜125内で、基板101及び基板搬送トレイ20を直立させた状態で搬送する機能を有している。なお、搬送部10及び基板搬送トレイ20の詳細な構成については、後述する。
The
成膜装置100では、一の真空チャンバ150の出口側が、チャンバゲート135を介して、基板101の搬送方向D1に隣り合う他の真空チャンバ150の入口側に接続されている。一の真空チャンバ150は、チャンバゲート135を開放することで、隣り合う他の真空チャンバ150と連通される。また、基板101及び基板搬送トレイ20は、開放されたチャンバゲート135を通過することによって、一の真空チャンバ150から、隣り合う他の真空チャンバ150へ移動する。基板101及び基板搬送トレイ20の移動が完了した後、チャンバゲート135は閉じられる。
In the
次に、図2〜図6を参照して、本実施形態に係る基板搬送トレイ20、及び成膜装置100の搬送部10について説明する。基板搬送トレイ20は、基板101を直立させた状態で搬送する際に、基板101を保持可能である。基板101を直立させた状態とは、基板101の厚み方向D2が水平方向となる状態である(この場合、厚み方向D2はX軸方向と一致する)。このとき、基板101の成膜面101eは、上下方向に沿って配置される。なお、基板101が直立した状態から傾斜した状態で、基板101を保持する構成でもよい。基板101の厚み方向D2が略水平な方向でもよく、水平方向より傾斜していてもよい。なお、基板101の搬送方向D1(Y軸方向と一致する)は、基板の厚み方向D2と直交すると共に水平な方向である。なお、厚み方向D2のうち、基板101の成膜面101eが向く側を「前側」とし、基板101の裏面101fが向く側を、「後側」とする。
Next, the
(真空チャンバ)
図2及び図3に示すように、真空チャンバ150は、基板搬送トレイ20を収容可能な箱型を成し、上壁部51、下壁部52、前壁部(不図示)、後壁部54、入側端壁部55、及び出側端壁部56を備えている。上壁部51及び下壁部52は、上下方向に対向して配置された壁体である。入側端壁部55及び出側端壁部56は、搬送方向D1に対向して配置された壁体である。入側端壁部55は、基板101及び基板搬送トレイ20が真空チャンバ150内に搬入される側である入口側の壁体である。出側端壁部56は、基板101及び基板搬送トレイ20が真空チャンバ150外へ搬出される側である出口側の壁体である。前壁部及び後壁部54は、基板101の厚み方向D2に対向して配置された壁体である。入側端壁部55には、基板101及び基板搬送トレイ20を通過させるための孔部57が形成されている。出側端壁部56には、基板101及び基板搬送トレイ20を通過させるための孔部58が形成されている。
(Vacuum chamber)
As shown in FIGS. 2 and 3, the
(基板搬送トレイ)
図2及び図3に示すように、基板搬送トレイ20は、基板101を取り付け可能な枠体21と、枠体21の上端側に設けられる支持部22と、を備えている。本実施形態の基板搬送トレイ20は、1枚の基板101を保持するように構成されている。基板搬送トレイ20は、複数(例えば2枚)の基板101を保持可能な構成でもよい。基板搬送トレイ20は、基板101の縁部の全周を保持するものでもよく、基板101の縁部を部分的に保持するものでもよい。基板搬送トレイ20の材質としては、例えばステンレス鋼を用いることができる。
(Substrate transport tray)
As shown in FIGS. 2 and 3, the
枠体21は、基板101の厚み方向D2から見て、当該基板101よりも大きな外周を有すると共に、基板101よりも小さな開口部23を有する矩形環状の部材である。枠体21は、基板101の上端部101aを保持する上端部保持部21Aと、基板101の下端部101bを保持する下端部保持部21Bと、基板101の側端部101c,101dを保持する側端部保持部21C,21Dと、を備えている。
The
上端部保持部21Aは、基板101の成膜面101eとは反対側から、当該基板101の上端部101aの一部を支持する支持板24Aを備えている。支持板24Aは、基板101の上端部101a側において、搬送方向D1に沿って延びる板材である。支持板24Aの厚み方向は基板101の厚み方向D2と一致しており、少なくとも基板101よりも厚い。支持板24Aは、下端側の縁部にて基板101の上端部101aを支持する。支持板24Aには、成膜面101e側から基板101の上端部101aを押さえる基板押さえ部材26(図4参照)が設けられている。これにより、基板101の上端部101aは、厚み方向D2の両側から、支持板24A及び基板押さえ部材26によって挟まれて支持される。
The upper
下端部保持部21Bは、基板101の成膜面101eとは反対側から、当該基板101の下端部101bの一部を支持する支持板24Bを備えている。支持板24Bは、基板101の下端部101b側において、搬送方向D1に沿って延びる板材である。支持板24Bの厚み方向は基板101の厚み方向D2と一致しており、少なくとも基板101よりも厚い。支持板24Bは、上端側の縁部にて基板101の下端部101bを支持する。支持板24Bには、成膜面101e側から基板101の下端部101bを押さえる基板押さえ部材26(図5参照)が設けられている。これにより、基板101の下端部101bは、厚み方向D2の両側から、支持板24B及び基板押さえ部材26によって挟まれて支持される。
The lower
下端部保持部21Bの支持板24Bの下端部24Baには、フレーム部材27Bが設けられている。フレーム部材27Bは、支持板24Bの下端部24Baの全域を支持するように搬送方向D1に延びる。フレーム部材27Bは、厚み方向D2へ延びる断面長方形状をなしており、上面27Baの厚み方向D2における中央位置にて、支持板24Bの下端部24Baに固定される(図5参照)。
A
側端部保持部21C,21Dは、基板101の成膜面101eとは反対側から、当該基板101の側端部101c,101dの一部を支持する支持板24C,24Dをそれぞれ備えている。支持板24C,24Dは、基板101の側端部101c,101d側において、上下方向に沿って延びる板材である。支持板24C,24Dの厚み方向は基板101の厚み方向D2と一致しており、少なくとも基板101よりも厚い。支持板24C,24Dは、開口部23側の縁部にて基板101の側端部101c,101dを支持する。支持板24C,24Dには、成膜面101e側から基板101の側端部101c,101dを押さえる基板押さえ部材(図示されていないが、基板押さえ部材26と同様な構成を有する)が設けられている。これにより、基板101の側端部101c,101dは、厚み方向D2の両側から、支持板24C,24D及び基板押さえ部材によって挟まれて支持される。
The side
側端部保持部21C,21Dの支持板24C,24Dの外側の側端部24Ca,24Daには、フレーム部材27C、27Dが設けられている。フレーム部材27C,27Dは、支持板24C,24Dの側端部24Ca,24Daの全域を支持するように上下方向に延びる。フレーム部材27C,27Dは、厚み方向D2へ延びる断面長方形状をなしており、内側面27Ca,27Daの厚み方向D2における中央位置にて、支持板24C,24Dの側端部24Ca,24Daに固定される。
なお、上述の支持板24A,24B,24C,24Dは、一枚の板材に開口部23を設けることで一体的に構成されていてもよく、個々の板材を互いに連結させてもよい。
The
次に、図2及び図4を参照して、基板搬送トレイ20の支持部22の構成について説明する。図2及び図4に示すように、支持部22は、枠体21の上端側に設けられ、基板101の搬送時に枠体21を支持するためのものである。支持部22は、枠体21に連結される本体部(第1の部分)30と、搬送部10の駆動ローラ63(詳細な構造は後述する)と接触するレール部(第2の部分)31と、を備えている。
Next, the configuration of the
図4に示すように、本体部30は、搬送方向D1から見て断面コ字形状に形成され、枠体21の上端側において搬送方向D1に延びる部材である。具体的には、本体部30は、枠体21の上側保持部21Aの支持板24Aの上端部24Aaに固定されると共に厚み方向D2に延びる下壁部32と、下壁部32における前側の端部32aから上方へ向かって延びる前壁部33と、前壁部33の上端部33aから後側へ厚み方向D2に延びる上壁部34と、を備えている。下壁部32、前壁部33、及び上壁部34は、枠体21の搬送方向D1における一方の端部から他方の端部に至る全域にわたって、搬送方向D1に延びている(図2参照)。
As shown in FIG. 4, the
図4に示すように、下壁部32は、下面32bの厚み方向D2における略中央位置にて、支持板24Aの上端部24Aaに固定される。本実施形態では、下壁部32の後側における端部32cは、フレーム部材27C(及びフレーム部材27D)の端部27Cbと、厚さ方向D2において同位置に配置されているが、同位置でなくともよい。また、下壁部32の前側の端部32a(すなわち、前壁部33の前面33b)は、フレーム部27C(及びフレーム部27D)の端部27Ccよりも、厚さ方向D2において前側に配置されているが、駆動ローラ63の大きさ次第でどこに配置されていてもよい。
As shown in FIG. 4, the
上壁部34は、下壁部32と上下方向に対向するように設けられており、その下面34aには、レール部31が取り付けられている。上壁部34とレール部31との固定方法は特に限定されないが、本実施形態ではボルトによって固定されている。上壁部34の後側における端部34bは、下壁部32の端部32cよりも前側に配置されているが、レール部31との固定代を十分に確保することができ、且つ、取付部材73と干渉しない限り、どこに配置されていてもよい。
The
レール部31は、厚み方向D2に延びる断面矩形状の形状をなしており、本体部30の上壁部34の下面34aに沿って搬送方向D1に延びる。レール部31は、本体部30の上壁部34の搬送方向D1における一方の端部から他方の端部に至る全域にわたって延びている。レール部31の上面31aは上壁部34の下面34aと接触し、レール部31の下面31bは駆動ローラ63の外周面63aと接触する。
The
(搬送部)
図2及び図3に示すように、搬送部10は、真空チャンバ150の上端側の領域に設けられた上部構造60と、真空チャンバ150の下端側の領域に設けられた下部構造61と、を備えている。上部構造60は、基板101を保持した基板搬送トレイ20を吊り下げる態様で支持すると共に基板搬送トレイ20に駆動力を付与する機能を有する。下部構造61は、基板搬送トレイ20の下端部側の移動をガイドすると共に、厚さ方向D2への移動を規制する機能を有している。
(Transport section)
As shown in FIGS. 2 and 3, the
図4を参照して、搬送部10の上部構造60の詳細な構造について説明する。図4に示すように、上部構造60は、基板搬送トレイ20に駆動力を付与する駆動ローラ63と、駆動ローラ63を回転可能に支持する軸部64と、真空チャンバ150の後壁部54の貫通部分において軸部64を回転可能に支持する第1の軸受部66と、真空チャンバ150内において軸部64を回転可能に支持する第2の軸受部67と、軸部64を介して駆動ローラ63を回転駆動させる駆動系68と、を備えている。なお、上部構造60では、駆動ローラ63、軸部64、第1の軸受部66及び第2の軸受部67が一組のローラーユニット70を構成している。ローラーユニット70は、互いに所定の間隔をあけて搬送方向D1に沿って複数設けられている(図2参照)。各ローラーユニット70は、上下方向において同位置に配置されている。
With reference to FIG. 4, the detailed structure of the
駆動ローラ63は、真空チャンバ150内の上側に配置されており、厚み方向D2に平行に延びる軸線CL1を中心として回転可能な円筒状の部材である。駆動ローラ63は、真空チャンバ150の上壁部51から下方に離間すると共に、後壁部54から厚み方向D2に離間するように配置されている。駆動ローラ63は、基板搬送トレイ20の支持部22のレール部31と接触する外周面63aを有する。駆動ローラ63の外周面63aは、レール部31の下面31bと接触すると共に、レール部31を介して基板搬送トレイ20に搬送方向D1への駆動力を付与する。駆動ローラ63の軸線方向の両端部には、レール部31の厚み方向D2の移動を規制する鍔部71が形成されている。鍔部71は、外周面63aよりも大きな外径を有するように外周側へ広がっている。各鍔部71は、レール部31の厚さ方向D2における両端部とそれぞれ対向している。鍔部71同士の間の厚み方向D2における寸法は、レール部31の厚み方向D2における寸法よりも大きい。
The
基板搬送トレイ20が搬送部10の駆動ローラ63に支持されている状態、すなわち、駆動ローラ63の外周面63aがレール部31の下面31bと接触している状態では、駆動ローラ63の下端と下壁部32の上面32dとの間には、隙間が設けられる。駆動ローラ63の先端と前壁部33の後面33cとの間には、隙間が設けられる。
When the
なお、図7(a)に示すように、レール部31の端部31c側は、駆動ローラ63の鍔部71に引っ掛からないように、船底形状となっている。すなわち、レール部31の端部31cは、搬送方向D1の先端側に向かうに従って幅(厚さ方向D2の大きさ)が狭くなる形状を有する。レール部31の端部31c側には、搬送方向へ向かって傾斜するような傾斜面31d,31dが形成される。
As shown in FIG. 7A, the
図4に示すように、軸部64は、軸線CL1を中心として厚み方向D2に延びる円形の棒状部材である。軸部64は、真空チャンバ150の後壁部54を貫通している。軸部64は、真空チャンバ150の内側の端部で駆動ローラ63と固定され、外側の端部で駆動系68に接続されている。軸部64は、駆動系68からの駆動力によって駆動ローラ63と共に回転する。
As shown in FIG. 4, the
第1の軸受部66は、真空チャンバ150の後壁部54における軸部64が貫通する部分に設けられている。第1の軸受部66として磁性流体軸受などが用いられる。これによって、第1の軸受部66は、軸部64を回転可能に支持すると共に、後壁部54における軸部64が貫通する部分の気密性を確保することができる。
The
第2の軸受部67は、軸部64の先端側を回転可能に支持する。第2の軸受部67は、軸部64を回転可能に支持する軸受72と、軸受72を取り付けるための取付部材73と、を備えている。取付部材73は、真空チャンバ150の上壁部51から下方へ延びて、下端側に軸受72が取り付けられる。取付部材73の上端部は、上壁部51に固定された板状部材74に接続されている。軸受72及び取付部材73は、駆動ローラ63よりも後側に配置されている。これによって、真空チャンバ150の上壁部51は、基板搬送トレイ20を支持することによって駆動ローラ63及び軸部64にかかる荷重を、第2の軸受部を介して支持することができる。
The
駆動系68は、各ローラーユニット70の軸部64及び駆動ローラ63に回転駆動力を付与するものである。駆動系68は、真空チャンバ150の外側に配置されている。駆動系68は、各ローラーユニット70の軸部64及び駆動ローラ63を回転駆動させることが出来るものであれば特に構成は限定されないが、一のモータによる駆動力を各軸部64及び駆動ローラ63に等速配分するような構成が好ましい。
The
具体的には、図6に示すように、モータ76は、歯付きベルト77と歯付きプーリー78を用いて、各ローラーユニット70の軸部64及び駆動ローラ63を同時に等速に回転させる。軸部64の真空チャンバ150の外側の端部には、歯付きプーリー78が取り付けられ、搬送方向D1に隣り合う軸部64の歯付きプーリー78同士が、歯付きベルト77で連結される。なお、軸部64の端部には歯付きプーリー78が厚み方向D2に二段設けられており、搬送方向D1に隣り合う他のローラーユニット70と連結するための歯付きベルト77と、搬送方向D1と反対側で隣合う他のローラーユニット70と連結するための歯付きベルト77とが、厚さ方向D2で互い違いとなる。なお、隣り合うローラーユニット70同士の間に、歯付きベルト77のテンションを調整するテンショナー(不図示)を設けてもよい。
Specifically, as shown in FIG. 6, the
搬送方向D1における最も下流側のローラーユニット70は、モータ76から駆動力を付与される(ただし、最も上流側のローラーユニット70、中間位置におけるローラーユニット70でもよい)。モータ76は、ローラーユニット70の下側(上側や横側でもよい)に配置され、図示されないブラケットを介して真空チャンバ150の壁部に固定される。モータ76の軸部の先端には歯付きプーリーが設けられ、当該モータ76の歯付きプーリーは、歯付きベルト79を介してローラーユニット70の軸部64の歯付きプーリー78と連結される。ただし、ローラーユニット70の軸部64とモータ76の軸部とが軸線方向に連結され、モータ76がローラーユニット70の軸部64に直接駆動力を付与してもよい。
The most
なお、駆動系68におけるモータ76は、ローラーユニット70の軸部64に回転力を付与できるものであれば、どのような態様で取り付けられていてもよい。例えば、モータ76の軸部が上下方向に延び、傘歯車を介してローラーユニット70の軸部64に駆動力を付与してもよい。
The
図5を参照して、搬送部10の下部構造61の詳細な構造について説明する。図5に示す。下部構造61は、基板搬送トレイ20の下端部側における厚み方向D2に対向する両側面を支持する側面支持部81と、側面支持部81を固定するための台座部82と、を備えている。なお、下部構造61では、側面支持部81及び台座部82の組が、互いに所定の間隔をあけて搬送方向D1に沿って複数設けられている(図2参照)。
With reference to FIG. 5, the detailed structure of the
台座部82は、真空チャンバ150の下壁部52から上方へ延びると共に、厚み方向D2に延びる直方体状の部材である。台座部82は、駆動ローラ63で支持されている状態の基板搬送トレイ20の下方に配置されている。台座部82の厚み方向D2における一方の端部82bは、基板搬送トレイ20の前側の側面(ここでは、フレーム部材27Bの側面27Bb)よりも前側に延びており、他方の端部82cは、基板搬送トレイ20の後側の側面(ここでは、フレーム部材27Bの側面27Bc)よりも後側へ延びている。台座部82の上面82aには、側面支持部81が設けられる。
The
側面支持部81は、厚み方向D2における、基板搬送トレイ20の下端側の領域の移動を規制すると共に、基板搬送トレイ20の下端側の領域の搬送方向D1への移動をガイドする機能を有する。側面支持部81は、厚み方向D2に間隔を設けて配置される一対のアイドラーベアリング83A,83Bと、アイドラーベアリング83A,83Bをそれぞれ支持する一対の軸部84A,84Bと、を備えている。アイドラーベアリング83A,83Bは、上下方向に鉛直に延びる軸線CL2,CL3を中心として、外周面83Aa,83Ba側の部分が回転可能である。軸部84A,84Bは、中心軸線CL2,CL3のそれぞれを中心として上下方向に延びる円柱状の部材である。軸部84A,84Bの上端部は、アイドラーベアリング83A,83Bの内周面83Ab,83Bb側の部分に嵌め込まれている。軸部84A,84Bの下端部は、台座部82の上面82aに固定されている。
The
アイドラーベアリング83Aは、基板搬送トレイ20の前側の側面(ここでは、フレーム部材27Bの側面27Bb)を支持し、アイドラーベアリング83Bは、基板搬送トレイ20の後側の側面(ここでは、フレーム部材27Bの側面27Bc)を支持する。アイドラーベアリング83A,83Bは、駆動ローラ63で支持されている状態の基板搬送トレイ20の下端側のフレーム部材27Bと、上下方向において同位置に配置されている。また、アイドラーベアリング83A,83Bは、厚み方向D2においてフレーム部材27Bを挟むように配置されている。アイドラーベアリング83Aの外周面83Aaと、フレーム部材27Bの側面27Bbとは、僅かな隙間をあけて厚み方向D2に対向する。アイドラーベアリング83Bの外周面83Baと、フレーム部材27Bの側面27Bcとは、僅かな隙間をあけて厚み方向D2に対向する。
The idler bearing 83A supports the front side surface of the substrate transport tray 20 (here, the side surface 27Bb of the
駆動ローラ63によって基板搬送トレイ20が支持され、駆動力を付与されるとき、基板搬送トレイ20の下端部(本実施形態では、フレーム部材27Bの下面27Bd)は、真空チャンバ150の底側の構造物(ここでは台座部82であるが、真空チャンバの底面側から上方へ突出している構造物が設けられている場合であっても、それらの構造物から上下方向に離間する)から、上下方向において離間している。すなわち、基板搬送トレイ20の重さ、上端側において上部構造60のみによって支持されており、下端側においては、真空チャンバ150に設けられる部材によって支持されておらず、宙に浮いたような状態となっている。本実施形態では、基板搬送トレイ20の下端部に該当するフレーム部材27Bの下面27Bdは、真空チャンバ150の底側に設けられる台座部82の上面82aから離間している。なお、アイドラーベアリング83A,83Bは、基板搬送トレイ20を厚み方向D2には支持(厚み方向D2の移動を規制)することはできるが、基板搬送トレイ20の重量を支持するものではない。
When the
なお、図7(b)に示すように、フレーム部材27Bの端部27Be側は、アイドラーベアリング83A,83B同士の間にスムーズに入り込めるように、船底形状となっている。すなわち、フレーム部材27Bの端部27Beは、搬送方向D1の先端側に向かうに従って幅(厚さ方向D2の大きさ)が狭くなる形状を有する。フレーム部材27Bの端部27Be側には、搬送方向D1へ向かって傾斜するような傾斜面27Bf,27Bfが形成される。
As shown in FIG. 7B, the end 27Be side of the
次に、本実施形態に係る成膜装置100及び基板搬送トレイ20の作用・効果について説明する。
Next, operations and effects of the
従来、成膜装置において基板を搬送する機構として、ラック・ピニオン方式が採用されている。すなわち、真空チャンバの上側にはピニオンを有する駆動部が設けられており、基板搬送トレイの上端側には、駆動部のピニオンと噛み合うように歯が直線状に並ぶように形成されたラックが設けられている。このような構成により、基板搬送トレイで基板保持し、駆動部のピニオンを回転させることによってラックと共に当該基板搬送トレイが搬送方向へ移動する。これによって、成膜装置の真空チャンバ内で基板が基板搬送トレイに保持された状態で搬送される。しかしながら、このようにラック・ピニオン方式を採用した場合は、基板搬送トレイ自体の構造も複雑になると共に、当該基板搬送トレイに駆動力を付与する駆動部側の構造も複雑になり、全体的な構造が複雑且つ、大掛かりになるという問題がある。 Conventionally, a rack and pinion system has been adopted as a mechanism for transporting a substrate in a film forming apparatus. That is, a drive unit having a pinion is provided on the upper side of the vacuum chamber, and a rack formed so that teeth are arranged in a straight line so as to mesh with the pinion of the drive unit is provided on the upper end side of the substrate transport tray. It has been. With such a configuration, the substrate carrying tray is held in the substrate carrying tray, and the substrate carrying tray moves in the carrying direction together with the rack by rotating the pinion of the driving unit. As a result, the substrate is transported while being held on the substrate transport tray in the vacuum chamber of the film forming apparatus. However, when the rack and pinion method is adopted as described above, the structure of the substrate transport tray itself is complicated, and the structure of the driving unit for applying a driving force to the substrate transport tray is also complicated. There is a problem that the structure is complicated and large.
一方、本実施形態に係る基板搬送トレイ20は、枠体21の上端側に設けられる支持部22を備えており、当該支持部22は、搬送のための駆動力を付与する駆動ローラ63と接触するレール部31を有している。これによって、基板101を取り付け可能な枠体21は、レール部31を有する支持部22を介して、駆動ローラ63から駆動力を付与され、搬送方向D1に基板101と共に移動することができる。また、支持部22は、枠体21に接続される本体部30を有しており、当該本体部30のうち枠体21に接続されている下壁部32(その上面32d)は、枠体21の厚み方向D2に延びている。従って、駆動ローラ63や、当該駆動ローラ63と接触する部分で膜剥がれ等によるパーティクルが発生するとしても、厚み方向に延びる下壁部32が当該パーティクルを受けることが可能となる。このとき、下壁部32の面のうち、少なくとも、厚み方向D2に延びる上面32dと、駆動系68側へ向いている端部32cがパーティクル受面として機能する。パーティクル受面でパーティクルを受けることにより、基板101の成膜面にパーティクルが付着すること、当たることによって成膜面の質が低下することを抑制することができる。このように、支持部22のレール部31を駆動ローラ63に接触させるだけのシンプルな構造でありながら、基板101の搬送が可能となると共に、パーティクルの飛散も抑制することができる。
On the other hand, the
また、図1に示すような成膜装置100においては、一の真空チャンバ150から隣りの真空チャンバ150へ基板搬送トレイ20を搬送する際に、一の真空チャンバ150から搬送される基板搬送トレイ20が、隣りの真空チャンバ150内で搬送される基板搬送トレイ20に追いつくことができるような制御(追いつき制御)を行う場合がある。具体的には、成膜チャンバ123では、均一な膜厚を得るために基板搬送トレイ20を一定速度(膜が堆積時間を確保するために、成膜チャンバ123での速度は、他の真空チャンバ150での速度よりも低速である)で搬送する必要がある。一方、バッファチャンバ122から成膜チャンバ123へ基板搬送トレイ20を搬送する場合、既に成膜チャンバ123内に搬送されて一定速度で搬送されている基板搬送トレイ20との間の間隔が大きくならないように(先行する基板搬送トレイ20に追いつくように)、基板搬送トレイ20を加速させてバッファチャンバ122から成膜チャンバ123内へ搬送することが好ましい。
In the
ここで、従来のようなラック・ピニオン方式を採用した場合、ラックの歯とピニオンの歯とが噛み合う関係で、一の真空チャンバ150の駆動部と、他の真空チャンバ150の駆動部との間で搬送速度の差を設けることができず、追いつき制御に対応することが困難(例えば、構造が極めて複雑になるなどにより)であるという問題がある。追いつき制御に対応することが困難な場合は、成膜を行う部分において、基板搬送トレイ同士の間隔が大きくなる場合があり、成膜の効率に影響が及ぼされる。
Here, when the rack and pinion system as in the prior art is adopted, the rack teeth and the pinion teeth are engaged with each other, so that the drive part of one
例えば、図1に示すように、成膜チャンバ123が、バッファチャンバ122から基板搬送トレイ20を受け取る受け取り領域EA1と、蒸着源140と対向する位置で基板搬送トレイ20を一定速度で搬送する一定速度領域EA2と、バッファチャンバ124へ基板搬送トレイ20を受け渡す受け渡し領域EA3と、を有しており、各領域EA1,EA2,EA3がそれぞれ独立して駆動する駆動系68を有しているものとする。このような構成で追いつき制御を行う場合、一定速度領域EA2では駆動系68は一定速度で基板搬送トレイ20を搬送する一方、受け取り領域EA1及バッファチャンバ122の駆動系68は、速やかに成膜チャンバ123へ入れるために基板搬送トレイ20を加速させるように動作する。しかしながら、ラック・ピニオン方式を採用した場合、一定速度領域EA2で搬送されている基板搬送トレイ20のラックの歯が一部でも受け取り領域EA1でのピニオンの歯と噛み合っている場合、受け取り領域EA1も一定速度領域EA2の速度に合わせる必要がある。従って、基板搬送トレイ20が完全に一定速度領域EA2側へ移動するのを待たなくては、受け取り領域EA1及びバッファチャンバ122での駆動系68は、基板搬送トレイ20を加速させることはできない。このように、従来のラック・ピニオン方式では追いつき制御に対応することが困難であった。
For example, as shown in FIG. 1, the
一方、本実施形態に係る基板搬送トレイ20は、駆動ローラ63によって駆動力を付与されることによって、搬送される。従って、一定速度領域EA2で搬送されている基板搬送トレイ20の一部が受け取り領域EA1での駆動ローラ63に差し掛かっている状態で、受け取り領域EA1及びバッファチャンバ122の駆動ローラ63を加速させたとしても、一定速度で搬送されている基板搬送トレイ20の一部と接触している駆動ローラ63は単に滑って空回りするだけであって、ラック・ピニオン方式のように搬送不能となることはない。従って、先行する基板搬送トレイ20が完全に一定速度領域EA2へ搬送されることを待たなくとも、後続の基板搬送トレイ20をバッファチャンバ122から成膜チャンバ123へ速やかに加速させて搬送することができる。このように、本実施形態では、駆動ローラ63を用いることにより、一方の真空チャンバ150の駆動系68と他の真空チャンバ150の駆動系68との間に搬送速度の差があったとしても搬送可能であるため、追いつき制御に対応することができる。従って、効率よく基板101を搬送できることが可能となり、成膜効率を向上させることができる。以上により、基板搬送のための構造をシンプルにすることができると共に、成膜の効率を向上させることができる。
On the other hand, the
また、成膜装置100では、真空チャンバ150の上側に配置された駆動ローラ63が、基板搬送トレイ20の支持部22の下壁部32、前壁部33、上壁部34及びレール部31に囲まれる空間内に配置されることで、レール部31と接触して基板搬送トレイ20に駆動力を付与することが可能となる。このように、駆動ローラ63を支持部22内の空間に配置するだけのシンプルな構造にて、上述のような基板搬送トレイ20の効果を奏することができる。
In the
また、本実施形態に係る基板搬送トレイ20において、搬送方向D1におけるレール部31の端部31cは、搬送方向D1に向かうに従って幅が狭くなる形状を有している。これによって、レール部31の端部31cは、駆動ローラ63の鍔部71に干渉することなくスムーズに駆動ローラ63と接触することができる。
Moreover, in the board |
本実施形態に係る基板搬送トレイ20において、枠体21の下端側では、搬送方向D1における進行方向における端部27Beが、搬送方向D1に向かうに従って幅が狭くなる形状を有している。これによって、枠体21の搬送方向D1における端部27Beが、側面支持部81に干渉することなくスムーズに搬送方向へ移動することができる。
In the
本実施形態に係る基板搬送トレイ20において、本体部30は、搬送方向D1から見てコ字形状に形成されており、当該コ字形状における内面(ここでは上壁部34の下面34a)には、レール部31が取り付けられている。これによって、本体部30のコ字形状によって、レール部31に接触している駆動ローラ63を取り囲むことができる。従って、駆動ローラ63付近で発生するパーティクルを確実に受けて基板101の成膜面101eへの飛散を抑制することができる。この場合、本体部30のうち、少なくとも、下壁部32の上面32d及び端部32cと、前壁部33の内面33cと、上壁部34の下面34aの一部がパーティクル受面として機能する。このようなパーティクル受面でパーティクルを受けることにより、基板101の成膜面にパーティクルが付着すること、当たることによって成膜面の質が低下することを抑制することができる。
In the
本実施形態に係る成膜装置100において、駆動ローラ63によって基板搬送トレイ20を支持し、駆動力を付与するときに、基板搬送トレイ20の下端部は、真空チャンバの底側の構造物から、上下方向において離間している。このように、基板搬送トレイ20の重みを真空チャンバ150の上側の駆動ローラ63でぶら下げて支持するような構造とすることで、熱などにより基板搬送トレイ20が上下方向に伸びた場合の搬送への影響を無くすことができる。また、例えば、基板搬送トレイ20の下側で重みを支持する場合は、基板搬送トレイ20の支持点よりも上側に基板搬送トレイ20の重心が位置するため、不安定(振動が発生しやすい状態)になる。また、基板搬送トレイ20を下側で支持すると、基板搬送トレイ20が自重に耐えなければならない(自重による曲げに耐えなければならない)ため、強度を高くする必要がある。しかし、本実施形態では、真空チャンバ150の上側でのみ基板搬送トレイ20を支持することで、基板搬送トレイ20の支持部22よりも下側に重心が位置するため、安定的に支持することができる。また、基板搬送トレイ20の自重による変形を過度に考慮する必要がなくなるため強度を高くする必要がなく、基板搬送トレイ20の構造をシンプルなものとすることができる。
In the
本実施形態に係る成膜装置100において、搬送部10は、基板搬送トレイ20の下端部側における両側面27Bb,27Bcを支持する側面支持部81を備えている。基板搬送トレイ20を支持している上端側とは反対側の下端部側では、厚み方向D2のふらつきが大きくなる場合があるが、側面支持部81によって当該ふらつきを抑制することができる。
In the
また、本実施形態に係る成膜装置100では、駆動ローラ63を真空チャンバ150の後壁部54側で支持する片持ち構造とし、このような駆動ローラ63に基板搬送トレイ20を引っ掛けるような構造である。従って、駆動関係の構造物(例えば、駆動ローラ63を支持する第2の軸受部67や駆動系68など)を基板搬送トレイ20よりも後側へ寄せておくことが可能となり、基板101の成膜面101eの上方に駆動部や摺動部を設けなくともよく、それらの構造物から膜剥がれによって発生したパーティクルが成膜面101eへ向かうことを抑制できる。
Further, in the
本発明は上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、枠体の形状・大きさや駆動ローラの個数や配置等は一例に過ぎず、基板の大きさや形状、及び成膜装置の大きさやタイプなどによって適宜変更してもよい。例えば、図8に示すようなボール状のローラーユニット270を採用してもよい。それに対応して、基板搬送トレイ側の本体部270の形状も、当該ボール状のローラーに対応する形状になる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, the shape and size of the frame and the number and arrangement of the driving rollers are merely examples, and may be appropriately changed depending on the size and shape of the substrate and the size and type of the film forming apparatus. For example, a ball-shaped
10…搬送部、20…基板搬送トレイ、21…枠体、22…支持部、30…本体部(第1の部分)、31…レール部(第2の部分)、61…駆動ローラ、81…側面支持部、100…成膜装置、150…真空チャンバ。
DESCRIPTION OF
本発明に係る基板搬送トレイにおいて、搬送方向における第2の部分の端部は、搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有してよい。第2の部分は、搬送のための駆動力を付与する駆動ローラと接触するが、駆動ローラは、第2の部分を支持するために厚み方向における両端側に鍔部を有する場合がある。このような場合に、第2の部分の端部が搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有することにより、第2の部分の端部は、駆動ローラの鍔部に干渉することなくスムーズに駆動ローラと接触することができる。 In the substrate transport tray according to the present invention, the end of the second portion in the transport direction may have a shape whose width becomes narrower toward the transport direction. The second portion comes into contact with a driving roller that applies a driving force for conveyance, but the driving roller may have flanges on both ends in the thickness direction in order to support the second portion . In such a case, the end portion of the second portion has a shape that becomes narrower as it goes in the transport direction, so that the end portion of the second portion can smoothly move without interfering with the flange portion of the drive roller. Can contact the drive roller.
本発明に係る基板搬送トレイにおいて、第1の部分は、搬送方向から見てコ字形状に形成されており、当該コ字形状における内面には、第2の部分が取り付けられていてよい。これによって、第1の部分のコ字形状によって、第2の部分に接触している駆動ローラを取り囲むことができる。従って、駆動ローラ付近で発生するパーティクルを確実に受けて飛散を抑制することができる。 In the substrate transport tray according to the present invention, the first portion is formed in a U shape when viewed from the transport direction, and the second portion may be attached to the inner surface of the U shape. As a result, the U-shape of the first portion can surround the drive roller that is in contact with the second portion. Therefore, the particles generated in the vicinity of the drive roller can be reliably received and scattering can be suppressed.
各チャンバ121〜125には、内部を適切な圧力とするための真空ポンプ(不図示)が接続されている。また、各チャンバ121〜125には、チャンバ内の圧力を監視するための真空計(不図示)が設置されている。各チャンバ121〜125には、真空ポンプに接続された真空排気管が連通され、この真空排気管に真空計が設置されている。
Each
成膜装置100には、基板101を保持する基板搬送トレイ20を搬送するための搬送部10が設けられている。搬送部10は、チャンバ121〜125内で、基板101及び基板搬送トレイ20を直立させた状態で搬送する機能を有している。なお、搬送部10及び基板搬送トレイ20の詳細な構成については、後述する。
The
図5を参照して、搬送部10の下部構造61の詳細な構造について説明する。図5に示す下部構造61は、基板搬送トレイ20の下端部側における厚み方向D2に対向する両側面を支持する側面支持部81と、側面支持部81を固定するための台座部82と、を備えている。なお、下部構造61では、側面支持部81及び台座部82の組が、互いに所定の間隔をあけて搬送方向D1に沿って複数設けられている(図2参照)。
With reference to FIG. 5, the detailed structure of the
Claims (7)
前記基板を取り付け可能な枠体と、
前記枠体の一端側に設けられ、搬送時に前記枠体を支持する支持部と、を備え、
前記支持部は、
前記枠体の前記一端側に接続され、少なくとも前記枠体の厚み方向に延びる第1の部分と、
搬送のための駆動力を付与する駆動ローラと接触する第2の部分と、を有する基板搬送トレイ。 A substrate transport tray for a film forming apparatus capable of holding the substrate when transporting the substrate in a transport direction intersecting a thickness direction of the substrate,
A frame to which the substrate can be attached;
A support portion that is provided on one end side of the frame body and supports the frame body during transportation;
The support part is
A first portion connected to the one end side of the frame body and extending at least in the thickness direction of the frame body;
A substrate transport tray having a second portion in contact with a driving roller for applying a driving force for transport.
前記基板を直立させた状態又は直立させた状態から傾斜した状態で搬送する搬送部と、を備える成膜装置であって、
前記搬送部は、
前記真空チャンバの上側に配置され、前記基板搬送トレイに駆動力を付与する駆動ローラを有し、
前記駆動ローラは、前記支持部の前記第1の部分及び前記第2の部分に囲まれる空間内に配置されたときに、前記第2の部分と接触し、前記基板搬送トレイに駆動力を付与する、成膜装置。 A substrate transfer tray according to any one of claims 1 to 4, and a vacuum chamber capable of accommodating the substrate held by the substrate transfer tray;
A film forming apparatus comprising: a transfer unit configured to transfer the substrate in an upright state or in an inclined state from the upright state,
The transport unit is
A driving roller disposed on the upper side of the vacuum chamber for applying a driving force to the substrate transport tray;
When the driving roller is disposed in a space surrounded by the first portion and the second portion of the support portion, the driving roller is in contact with the second portion and applies a driving force to the substrate transport tray. A film forming apparatus.
前記基板搬送トレイの下端部側における両側面を支持する側面支持部を備える、請求項5又は6に記載の成膜装置。 The transport unit is
The film-forming apparatus of Claim 5 or 6 provided with the side surface support part which supports the both sides | surfaces in the lower end part side of the said board | substrate conveyance tray.
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