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JP2014177683A - Substrate conveyance tray and deposition apparatus - Google Patents

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JP2014177683A JP2013053259A JP2013053259A JP2014177683A JP 2014177683 A JP2014177683 A JP 2014177683A JP 2013053259 A JP2013053259 A JP 2013053259A JP 2013053259 A JP2013053259 A JP 2013053259A JP 2014177683 A JP2014177683 A JP 2014177683A
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Japan
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substrate
tray
transport
transport tray
substrate transport
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JP2013053259A
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Makoto Maehara
誠 前原
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate conveyance tray and a deposition apparatus in which a structure for substrate conveyance can be made simple and deposition efficiency can be improved.SOLUTION: A substrate conveyance tray 20 comprises a support part 22 provided for an upper end side of a frame body 21, and the support part 22 has a rail part 31 which contacts a drive roller 63 that applies driving force for conveyance. Further, even if particles caused by film peeling or the like are generated in the drive roller 63 or a portion contacting the drive roller 63, it becomes possible for a lower wall part 32 extending in a thickness direction to receive the particles. Thus, in spite of a simple structure in which the rail part 31 of the support part 22 is brought into contact with the drive roller 63, conveyance of a substrate 101 is made possible and scattering of particles can be suppressed as well.

Description

本発明は、成膜装置用の基板搬送トレイ、及び成膜装置に関する。   The present invention relates to a substrate transfer tray for a film forming apparatus and a film forming apparatus.

従来、成膜装置の真空チャンバ内で、基板を搬送する際に用いられる基板搬送トレイとして、特許文献1に示すものが知られている。この基板搬送トレイの搬送には、ラック・ピニオン方式が採用されている。すなわち、真空チャンバの上側にはピニオンを有する駆動部が設けられており、基板搬送トレイの上端側には、駆動部のピニオンと噛み合うように歯が直線状に並べられたラックが設けられている。このような構成により、基板搬送トレイで基板保持し、駆動部のピニオンを回転させることによってラックと共に当該基板搬送トレイが搬送方向へ移動する。これによって、成膜装置の真空チャンバ内で基板が基板搬送トレイに保持された状態で搬送される。   2. Description of the Related Art Conventionally, a substrate transport tray shown in Patent Document 1 is known as a substrate transport tray used when transporting a substrate in a vacuum chamber of a film forming apparatus. A rack and pinion system is adopted for transporting the substrate transport tray. That is, a drive unit having a pinion is provided on the upper side of the vacuum chamber, and a rack in which teeth are arranged in a straight line so as to mesh with the pinion of the drive unit is provided on the upper end side of the substrate transport tray. . With such a configuration, the substrate carrying tray is held in the substrate carrying tray, and the substrate carrying tray moves in the carrying direction together with the rack by rotating the pinion of the driving unit. As a result, the substrate is transported while being held on the substrate transport tray in the vacuum chamber of the film forming apparatus.

特開平1−268870号公報JP-A-1-268870

しかしながら、上述のように基板搬送トレイの搬送方法として、ラック・ピニオン方式を採用した場合、成膜装置の搬送部の構造や基板搬送トレイの構造が複雑になってしまうという問題がある。また、一の真空チャンバから隣りの真空チャンバへ基板搬送トレイを搬送する際に、一の真空チャンバから搬送される基板搬送トレイが、隣りの真空チャンバ内で搬送される基板搬送トレイに追いつくことができるような制御(追いつき制御)を行う場合がある。ラック・ピニオン方式を採用した場合は、ラックの歯とピニオンの歯とが噛み合う関係で、基板搬送トレイが一の真空チャンバの駆動部と、他の真空チャンバの駆動部とに差し掛かっている状態では、各真空チャンバの駆動部の間で搬送速度の差を設けることができず、追いつき制御に対応することが困難であるという問題がある。追いつき制御に対応することが困難な場合は、成膜を行う部分において、基板搬送トレイ同士の間隔が大きくなる場合があり、成膜の効率に影響が及ぼされる。以上より、基板搬送の構造をシンプルにすると共に、成膜の効率を向上させることが求められていた。   However, as described above, when the rack and pinion method is adopted as the method for transporting the substrate transport tray, there is a problem that the structure of the transport unit of the film forming apparatus and the structure of the substrate transport tray become complicated. Further, when the substrate transfer tray is transferred from one vacuum chamber to the adjacent vacuum chamber, the substrate transfer tray transferred from the one vacuum chamber can catch up with the substrate transfer tray transferred in the adjacent vacuum chamber. There is a case where control (catch-up control) is performed. When the rack and pinion method is adopted, the rack carrier and the pinion teeth mesh with each other, so that the substrate transport tray is in contact with the drive part of one vacuum chamber and the drive part of another vacuum chamber. There is a problem that it is difficult to cope with catch-up control because a difference in transport speed cannot be provided between the driving units of the vacuum chambers. When it is difficult to cope with the catch-up control, the interval between the substrate transfer trays may be increased in the film forming portion, which affects the film forming efficiency. From the above, there has been a demand for simplifying the substrate transport structure and improving the efficiency of film formation.

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、基板搬送のための構造をシンプルにすることができると共に、成膜の効率を向上させることができる基板搬送トレイ、及び成膜装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve such a problem, and can simplify a structure for transporting a substrate and improve the efficiency of film formation, and a substrate transport tray. An object is to provide a membrane device.

本発明に係る基板搬送トレイは、基板の厚み方向と交差する搬送方向に基板を搬送するときに、基板を保持可能な成膜装置用の基板搬送トレイであって、基板を取り付け可能な枠体と、枠体の一端側に設けられ、搬送時に枠体を支持する支持部と、を備え、支持部は、枠体の一端側に接続され、少なくとも枠体の厚み方向に延びる第1の部分と、搬送のための駆動力を付与する駆動ローラと接触する第2の部分と、を有する。   A substrate transport tray according to the present invention is a substrate transport tray for a film forming apparatus that can hold a substrate when transporting the substrate in a transport direction that intersects the thickness direction of the substrate, and a frame on which the substrate can be attached And a support portion that is provided on one end side of the frame body and supports the frame body during transport, and the support portion is connected to one end side of the frame body and extends at least in the thickness direction of the frame body And a second portion that comes into contact with a driving roller that applies a driving force for conveyance.

本発明に係る基板搬送トレイは、枠体の一端側に設けられる支持部を備えており、当該支持部は、搬送のための駆動力を付与する駆動ローラと接触する第2の部分を有している。これによって、基板を取り付け可能な枠体は、第2の部分を有する支持部を介して、駆動ローラから駆動力を付与され、搬送方向に基板と共に移動することができる。また、支持部は、枠体に接続される第1の部分を有しており、当該第1の部分は、枠体の厚み方向に延びている。従って、駆動ローラや、当該駆動ローラと接触する部分で膜剥がれ等によるパーティクルが発生するとしても、厚み方向に延びる第1の部分が当該パーティクルを受けることが可能となる。このように、支持部の第2の部分を駆動ローラに接触させるだけのシンプルな構造でありながら、基板の搬送が可能となると共に、パーティクルの飛散も抑制することができる。また、ラック・ピニオン方式のようにラック側の歯とピニオン側の歯とを噛み合わせて駆動力を付与するものではなく、駆動ローラを用いることにより、一方の真空チャンバの駆動部と他の真空チャンバの駆動部との間に搬送速度の差があったとしても搬送可能であるため、追いつき制御に対応することができる。従って、効率よく基板を搬送できることが可能となり、成膜効率を向上させることができる。以上により、基板搬送のための構造をシンプルにすることができると共に、成膜の効率を向上させることができる。   The substrate transport tray according to the present invention includes a support portion provided on one end side of the frame, and the support portion has a second portion that comes into contact with a driving roller that applies a driving force for transport. ing. As a result, the frame body to which the substrate can be attached can be moved with the substrate in the transport direction by being applied with the driving force from the driving roller via the support portion having the second portion. Moreover, the support part has the 1st part connected to a frame, and the said 1st part is extended in the thickness direction of the frame. Therefore, even if particles due to film peeling or the like are generated at the drive roller or a portion in contact with the drive roller, the first portion extending in the thickness direction can receive the particles. As described above, the substrate can be transported and the scattering of particles can be suppressed while having a simple structure in which the second portion of the support portion is simply brought into contact with the drive roller. In addition, the rack-side teeth and pinion-side teeth are not meshed with each other as in the rack and pinion system, and a driving force is not applied. By using a driving roller, the driving unit of one vacuum chamber and the other vacuum Even if there is a difference in the conveyance speed between the chamber drive unit and the chamber drive unit, the conveyance is possible, so it is possible to cope with catch-up control. Accordingly, the substrate can be efficiently transferred, and the film formation efficiency can be improved. As described above, the structure for transporting the substrate can be simplified and the efficiency of film formation can be improved.

本発明に係る基板搬送トレイにおいて、搬送方向における第2の部分の端部は、搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有してよい。第2の部分は、搬送のための駆動力を付与する駆動ローラと接触するが、駆動ローラは、第2の部材を支持するために厚み方向における両端側に鍔部を有する場合がある。このような場合に、第2の部分の端部が搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有することにより、第2の部分の端部は、駆動ローラの鍔部に干渉することなくスムーズに駆動ローラと接触することができる。   In the substrate transport tray according to the present invention, the end of the second portion in the transport direction may have a shape whose width becomes narrower toward the transport direction. The second portion is in contact with a driving roller that applies a driving force for conveyance, but the driving roller may have flanges on both ends in the thickness direction in order to support the second member. In such a case, the end portion of the second portion has a shape that becomes narrower as it goes in the transport direction, so that the end portion of the second portion can smoothly move without interfering with the flange portion of the drive roller. Can contact the drive roller.

本発明に係る基板搬送トレイにおいて、枠体の他端側では、搬送方向における端部が、搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有してよい。枠体の他端側では、当該枠体の他端側の両側面を支持するような側面支持部が設けられる場合がある。このような場合に、枠体の搬送方向における端部が、搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有することにより、枠体の搬送方向における端部が、側面支持部に干渉することなくスムーズに搬送方向へ移動することができる。   The board | substrate conveyance tray which concerns on this invention WHEREIN: The edge part in a conveyance direction may have a shape where a width | variety becomes narrow as it goes to a conveyance direction at the other end side of a frame. On the other end side of the frame body, there may be a side support portion that supports both side surfaces on the other end side of the frame body. In such a case, since the end portion in the transport direction of the frame body has a shape whose width becomes narrower toward the transport direction, the end portion in the transport direction of the frame body can be smooth without interfering with the side surface support portion. Can be moved in the transport direction.

本発明に係る基板搬送トレイにおいて、第1の部分は、搬送方向から見てコ字形状に形成されており、当該コ字形状における内面には、第2の部材が取り付けられていてよい。これによって、第1の部分のコ字形状によって、第2の部分に接触している駆動ローラを取り囲むことができる。従って、駆動ローラ付近で発生するパーティクルを確実に受けて飛散を抑制することができる。   In the substrate transfer tray according to the present invention, the first portion is formed in a U shape when viewed from the transfer direction, and a second member may be attached to the inner surface of the U shape. As a result, the U-shape of the first portion can surround the drive roller that is in contact with the second portion. Therefore, the particles generated in the vicinity of the drive roller can be reliably received and scattering can be suppressed.

本発明に係る成膜装置は、上述の基板搬送トレイ、及び基板搬送トレイで保持された状態の基板を収容可能な真空チャンバと、基板を直立させた状態又は直立させた状態から傾斜した状態で搬送する搬送部と、を備える成膜装置であって、搬送部は、真空チャンバの上側に配置され、基板搬送トレイに駆動力を付与する駆動ローラを有し、駆動ローラは、支持部の第1の部分及び第2の部分に囲まれる空間内に配置されたときに、第2の部分と接触し、基板搬送トレイに駆動力を付与する。   The film forming apparatus according to the present invention includes the above-described substrate transfer tray, a vacuum chamber capable of accommodating the substrate held by the substrate transfer tray, and a state in which the substrate is upright or tilted from the upright state. A transport unit that transports the substrate transport tray, the transport unit being disposed on the upper side of the vacuum chamber, and having a driving roller that applies a driving force to the substrate transport tray. When arranged in a space surrounded by the first portion and the second portion, the second portion comes into contact with the substrate conveying tray, and a driving force is applied to the substrate carrying tray.

本発明に係る成膜装置では、真空チャンバの上側に配置された駆動ローラが、基板搬送トレイの支持部の第1の部分及び第2の部分に囲まれる空間内に配置されることで、第2の部分と接触して基板搬送トレイに駆動力を付与することが可能となる。このように、駆動ローラを支持部の第1の部分及び第2の部分に囲まれる空間に配置するだけのシンプルな構造にて、上述のような基板搬送トレイの効果を奏することができる。   In the film forming apparatus according to the present invention, the drive roller disposed on the upper side of the vacuum chamber is disposed in a space surrounded by the first portion and the second portion of the support portion of the substrate transport tray, so that the first It is possible to apply a driving force to the substrate transfer tray by contacting the portion 2. As described above, the effect of the substrate transport tray as described above can be obtained with a simple structure in which the driving roller is simply disposed in the space surrounded by the first portion and the second portion of the support portion.

本発明に係る成膜装置において、駆動ローラによって基板搬送トレイを支持及び駆動するときに、基板搬送トレイの下端部は、真空チャンバの底側の構造物から、上下方向において離間していてよい。このように、基板搬送トレイの重みを真空チャンバの上側の駆動ローラでぶら下げて支持するような構造とすることで、熱などにより基板搬送トレイが上下方向に伸びた場合の搬送への影響を無くすことができる。また、基板搬送トレイの下側で重みを支持する場合は、支持部の上側に基板搬送トレイの重心が位置する関係で、基板搬送トレイ自体の強度が高い構造としなくてはならないが、上側でのみ支持することで、支持部よりも下側に重心が位置し、基板搬送トレイの構造をシンプルなものとすることができる。   In the film forming apparatus according to the present invention, when the substrate transport tray is supported and driven by the driving roller, the lower end portion of the substrate transport tray may be separated from the structure on the bottom side of the vacuum chamber in the vertical direction. In this way, the weight of the substrate transfer tray is supported by being hung by the upper drive roller of the vacuum chamber, thereby eliminating the influence on transfer when the substrate transfer tray extends in the vertical direction due to heat or the like. be able to. In addition, when supporting the weight on the lower side of the substrate transport tray, the center of the substrate transport tray is located on the upper side of the support portion, so that the strength of the substrate transport tray itself must be high. By supporting only, the center of gravity is positioned below the support portion, and the structure of the substrate transport tray can be simplified.

本発明に係る成膜装置において、搬送部は、基板搬送トレイの下端部側における両側面を支持する側面支持部を備えてよい。これによって、基板搬送トレイを支持している上端側とは反対側の下端部側では、厚み方向のふらつきが大きくなる場合があるが、側面支持部によって当該ふらつきを抑制することができる。   In the film forming apparatus according to the present invention, the transport unit may include side surface support units that support both side surfaces on the lower end side of the substrate transport tray. As a result, the wobbling in the thickness direction may increase on the lower end side opposite to the upper end side supporting the substrate transport tray, but the wobbling can be suppressed by the side surface support portion.

本発明によれば、基板搬送のための構造をシンプルにすることができると共に、成膜の効率を向上させることができる。   According to the present invention, the structure for transporting a substrate can be simplified, and the efficiency of film formation can be improved.

本発明の実施形態に係る成膜装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the film-forming apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る基板搬送トレイを蒸着源側から見た図である。It is the figure which looked at the board | substrate conveyance tray which concerns on embodiment of this invention from the vapor deposition source side. 図2に示すIII−III線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the III-III line | wire shown in FIG. 図3に示す上部構造周辺の構成を示す拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view showing a configuration around an upper structure shown in FIG. 3. 図3に示す下部構造周辺の構成を示す拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view showing a configuration around a lower structure shown in FIG. 3. 駆動系の概略構成を上方から見た図である。It is the figure which looked at schematic structure of a drive system from the upper part. 搬送方向におけるレール部の端部及び下端部側における枠体の端部の形状を示す概略図である。It is the schematic which shows the shape of the edge part of the frame in the edge part of a rail part in a conveyance direction, and a lower end part side. 変形例に係る基板搬送トレイの上部構造周辺の概略構成を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows schematic structure of the upper structure periphery of the board | substrate conveyance tray which concerns on a modification.

以下、添付図面を参照しながら本発明による基板搬送トレイ、及び成膜装置の一実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。   Hereinafter, an embodiment of a substrate transport tray and a film forming apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

図1は、本実施形態に係る成膜装置100の概略構成を示す平面図である。図1に示す成膜装置100は、成膜対象物である基板101(例えばガラス基板)に対して成膜等の処理を施すためのものである。成膜装置100は、例えばRPD法(反応性プラズマ蒸着法)による成膜を行う装置である。成膜装置100は、プラズマを生成するプラズマガンを備え、生成されたプラズマを用いて、成膜材料(蒸着源140)をイオン化し、成膜材料の粒子を基板101の表面に付着させることにより成膜を行う。説明の便宜上、図1には、XYZ座標系を示す。Y軸方向は、基板101が搬送される方向である。X軸方向は、基板101と蒸着源140とが対向する方向である。Z軸方向は、X軸方向とY軸方向とに直交する方向である。本実施形態に係る成膜装置100は、基板101の厚み方向が水平方向となるように、基板101を直立又は直立させた状態から傾斜した状態で、基板101が真空チャンバ内に配置されて搬送される、いわゆる縦型の成膜装置であり、Z軸方向が上下方向に該当する。   FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a film forming apparatus 100 according to the present embodiment. A film forming apparatus 100 shown in FIG. 1 is for performing a film forming process on a substrate 101 (for example, a glass substrate) that is a film forming target. The film forming apparatus 100 is an apparatus that performs film formation by an RPD method (reactive plasma vapor deposition method), for example. The film forming apparatus 100 includes a plasma gun that generates plasma, and uses the generated plasma to ionize the film forming material (evaporation source 140) and attach particles of the film forming material to the surface of the substrate 101. Film formation is performed. For convenience of explanation, FIG. 1 shows an XYZ coordinate system. The Y-axis direction is a direction in which the substrate 101 is transported. The X-axis direction is a direction in which the substrate 101 and the vapor deposition source 140 face each other. The Z-axis direction is a direction orthogonal to the X-axis direction and the Y-axis direction. In the film forming apparatus 100 according to the present embodiment, the substrate 101 is placed in a vacuum chamber and transported in a state where the substrate 101 is tilted from an upright state or an upright state so that the thickness direction of the substrate 101 is a horizontal direction. This is a so-called vertical film forming apparatus, and the Z-axis direction corresponds to the vertical direction.

成膜装置100は、ロードロックチャンバ121、バッファチャンバ122、成膜チャンバ123、バッファチャンバ124、ロードロックチャンバ125を備えている。これらのチャンバ121〜125は、この順に並んで配置されている。全てのチャンバ121〜125が真空チャンバ150として構成され、チャンバ121〜125の出入口には、チャンバゲート135が設けられている。成膜装置100は、バッファチャンバ122,124、成膜チャンバ123が複数並べられている構成でもよい。また、一連のチャンバによって構成されている成膜装置でもよい。   The film forming apparatus 100 includes a load lock chamber 121, a buffer chamber 122, a film forming chamber 123, a buffer chamber 124, and a load lock chamber 125. These chambers 121 to 125 are arranged in this order. All the chambers 121 to 125 are configured as a vacuum chamber 150, and a chamber gate 135 is provided at the entrance / exit of the chambers 121 to 125. The film forming apparatus 100 may have a configuration in which a plurality of buffer chambers 122 and 124 and a plurality of film forming chambers 123 are arranged. Moreover, the film-forming apparatus comprised by a series of chambers may be sufficient.

各真空チャンバ121〜125には、内部を適切な圧力とするための真空ポンプ(不図示)が接続されている。また、各真空チャンバ121〜125には、チャンバ内の圧力を監視するための真空計(不図示)が設置されている。各チャンバ121〜125には、真空ポンプに接続された真空排気管が連通され、この真空排気管に真空計が設置されている。   A vacuum pump (not shown) is connected to each of the vacuum chambers 121 to 125 for setting the inside to an appropriate pressure. Each vacuum chamber 121 to 125 is provided with a vacuum gauge (not shown) for monitoring the pressure in the chamber. Each chamber 121-125 is connected to a vacuum exhaust pipe connected to a vacuum pump, and a vacuum gauge is installed in the vacuum exhaust pipe.

成膜装置100には、基板101を保持する基板搬送トレイ20を搬送するための搬送部10が設けられている。搬送部10は、真空チャンバ121〜125内で、基板101及び基板搬送トレイ20を直立させた状態で搬送する機能を有している。なお、搬送部10及び基板搬送トレイ20の詳細な構成については、後述する。   The film forming apparatus 100 is provided with a transport unit 10 for transporting the substrate transport tray 20 that holds the substrate 101. The transport unit 10 has a function of transporting the substrate 101 and the substrate transport tray 20 in an upright state in the vacuum chambers 121 to 125. The detailed configuration of the transport unit 10 and the substrate transport tray 20 will be described later.

成膜装置100では、一の真空チャンバ150の出口側が、チャンバゲート135を介して、基板101の搬送方向D1に隣り合う他の真空チャンバ150の入口側に接続されている。一の真空チャンバ150は、チャンバゲート135を開放することで、隣り合う他の真空チャンバ150と連通される。また、基板101及び基板搬送トレイ20は、開放されたチャンバゲート135を通過することによって、一の真空チャンバ150から、隣り合う他の真空チャンバ150へ移動する。基板101及び基板搬送トレイ20の移動が完了した後、チャンバゲート135は閉じられる。   In the film forming apparatus 100, the outlet side of one vacuum chamber 150 is connected to the inlet side of another vacuum chamber 150 adjacent in the transport direction D <b> 1 of the substrate 101 via a chamber gate 135. One vacuum chamber 150 communicates with another adjacent vacuum chamber 150 by opening the chamber gate 135. Further, the substrate 101 and the substrate transport tray 20 move from one vacuum chamber 150 to another adjacent vacuum chamber 150 by passing through the opened chamber gate 135. After the movement of the substrate 101 and the substrate transfer tray 20 is completed, the chamber gate 135 is closed.

次に、図2〜図6を参照して、本実施形態に係る基板搬送トレイ20、及び成膜装置100の搬送部10について説明する。基板搬送トレイ20は、基板101を直立させた状態で搬送する際に、基板101を保持可能である。基板101を直立させた状態とは、基板101の厚み方向D2が水平方向となる状態である(この場合、厚み方向D2はX軸方向と一致する)。このとき、基板101の成膜面101eは、上下方向に沿って配置される。なお、基板101が直立した状態から傾斜した状態で、基板101を保持する構成でもよい。基板101の厚み方向D2が略水平な方向でもよく、水平方向より傾斜していてもよい。なお、基板101の搬送方向D1(Y軸方向と一致する)は、基板の厚み方向D2と直交すると共に水平な方向である。なお、厚み方向D2のうち、基板101の成膜面101eが向く側を「前側」とし、基板101の裏面101fが向く側を、「後側」とする。   Next, the substrate transport tray 20 and the transport unit 10 of the film forming apparatus 100 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. The substrate transport tray 20 can hold the substrate 101 when transporting the substrate 101 in an upright state. The state in which the substrate 101 is upright is a state in which the thickness direction D2 of the substrate 101 is a horizontal direction (in this case, the thickness direction D2 coincides with the X-axis direction). At this time, the film formation surface 101e of the substrate 101 is arranged along the vertical direction. Note that the substrate 101 may be held while the substrate 101 is inclined from the upright state. The thickness direction D2 of the substrate 101 may be a substantially horizontal direction or may be inclined from the horizontal direction. The transport direction D1 of the substrate 101 (which coincides with the Y-axis direction) is perpendicular to the substrate thickness direction D2 and is a horizontal direction. In the thickness direction D2, the side facing the film forming surface 101e of the substrate 101 is referred to as “front side”, and the side facing the back surface 101f of the substrate 101 is referred to as “rear side”.

(真空チャンバ)
図2及び図3に示すように、真空チャンバ150は、基板搬送トレイ20を収容可能な箱型を成し、上壁部51、下壁部52、前壁部(不図示)、後壁部54、入側端壁部55、及び出側端壁部56を備えている。上壁部51及び下壁部52は、上下方向に対向して配置された壁体である。入側端壁部55及び出側端壁部56は、搬送方向D1に対向して配置された壁体である。入側端壁部55は、基板101及び基板搬送トレイ20が真空チャンバ150内に搬入される側である入口側の壁体である。出側端壁部56は、基板101及び基板搬送トレイ20が真空チャンバ150外へ搬出される側である出口側の壁体である。前壁部及び後壁部54は、基板101の厚み方向D2に対向して配置された壁体である。入側端壁部55には、基板101及び基板搬送トレイ20を通過させるための孔部57が形成されている。出側端壁部56には、基板101及び基板搬送トレイ20を通過させるための孔部58が形成されている。
(Vacuum chamber)
As shown in FIGS. 2 and 3, the vacuum chamber 150 has a box shape that can accommodate the substrate transfer tray 20, and includes an upper wall portion 51, a lower wall portion 52, a front wall portion (not shown), and a rear wall portion. 54, an entry-side end wall portion 55, and an exit-side end wall portion 56. The upper wall portion 51 and the lower wall portion 52 are wall bodies that are arranged to face each other in the vertical direction. The entry side end wall portion 55 and the exit side end wall portion 56 are wall bodies arranged to face the transport direction D1. The entrance-side end wall portion 55 is a wall on the entrance side that is the side on which the substrate 101 and the substrate transport tray 20 are carried into the vacuum chamber 150. The exit-side end wall portion 56 is an exit-side wall body on the side where the substrate 101 and the substrate transport tray 20 are carried out of the vacuum chamber 150. The front wall portion and the rear wall portion 54 are wall bodies arranged to face the thickness direction D2 of the substrate 101. A hole 57 for allowing the substrate 101 and the substrate transport tray 20 to pass therethrough is formed in the entry side end wall portion 55. A hole 58 for allowing the substrate 101 and the substrate transport tray 20 to pass through is formed in the exit side end wall portion 56.

(基板搬送トレイ)
図2及び図3に示すように、基板搬送トレイ20は、基板101を取り付け可能な枠体21と、枠体21の上端側に設けられる支持部22と、を備えている。本実施形態の基板搬送トレイ20は、1枚の基板101を保持するように構成されている。基板搬送トレイ20は、複数(例えば2枚)の基板101を保持可能な構成でもよい。基板搬送トレイ20は、基板101の縁部の全周を保持するものでもよく、基板101の縁部を部分的に保持するものでもよい。基板搬送トレイ20の材質としては、例えばステンレス鋼を用いることができる。
(Substrate transport tray)
As shown in FIGS. 2 and 3, the substrate transport tray 20 includes a frame body 21 to which the substrate 101 can be attached, and a support portion 22 provided on the upper end side of the frame body 21. The substrate transport tray 20 of this embodiment is configured to hold one substrate 101. The substrate transport tray 20 may be configured to hold a plurality (for example, two) of substrates 101. The substrate transport tray 20 may hold the entire periphery of the edge of the substrate 101, or may hold the edge of the substrate 101 partially. As a material of the substrate transport tray 20, for example, stainless steel can be used.

枠体21は、基板101の厚み方向D2から見て、当該基板101よりも大きな外周を有すると共に、基板101よりも小さな開口部23を有する矩形環状の部材である。枠体21は、基板101の上端部101aを保持する上端部保持部21Aと、基板101の下端部101bを保持する下端部保持部21Bと、基板101の側端部101c,101dを保持する側端部保持部21C,21Dと、を備えている。   The frame body 21 is a rectangular annular member having an outer periphery larger than that of the substrate 101 and an opening 23 smaller than that of the substrate 101 when viewed from the thickness direction D2 of the substrate 101. The frame body 21 includes an upper end holding portion 21A that holds the upper end portion 101a of the substrate 101, a lower end holding portion 21B that holds the lower end portion 101b of the substrate 101, and a side that holds the side end portions 101c and 101d of the substrate 101. End holding portions 21C and 21D.

上端部保持部21Aは、基板101の成膜面101eとは反対側から、当該基板101の上端部101aの一部を支持する支持板24Aを備えている。支持板24Aは、基板101の上端部101a側において、搬送方向D1に沿って延びる板材である。支持板24Aの厚み方向は基板101の厚み方向D2と一致しており、少なくとも基板101よりも厚い。支持板24Aは、下端側の縁部にて基板101の上端部101aを支持する。支持板24Aには、成膜面101e側から基板101の上端部101aを押さえる基板押さえ部材26(図4参照)が設けられている。これにより、基板101の上端部101aは、厚み方向D2の両側から、支持板24A及び基板押さえ部材26によって挟まれて支持される。   The upper end holding portion 21A includes a support plate 24A that supports a part of the upper end portion 101a of the substrate 101 from the side opposite to the film formation surface 101e of the substrate 101. The support plate 24A is a plate material extending along the transport direction D1 on the upper end 101a side of the substrate 101. The thickness direction of the support plate 24A coincides with the thickness direction D2 of the substrate 101 and is at least thicker than the substrate 101. The support plate 24A supports the upper end 101a of the substrate 101 at the lower edge. The support plate 24A is provided with a substrate pressing member 26 (see FIG. 4) for pressing the upper end portion 101a of the substrate 101 from the film formation surface 101e side. Accordingly, the upper end portion 101a of the substrate 101 is sandwiched and supported by the support plate 24A and the substrate pressing member 26 from both sides in the thickness direction D2.

下端部保持部21Bは、基板101の成膜面101eとは反対側から、当該基板101の下端部101bの一部を支持する支持板24Bを備えている。支持板24Bは、基板101の下端部101b側において、搬送方向D1に沿って延びる板材である。支持板24Bの厚み方向は基板101の厚み方向D2と一致しており、少なくとも基板101よりも厚い。支持板24Bは、上端側の縁部にて基板101の下端部101bを支持する。支持板24Bには、成膜面101e側から基板101の下端部101bを押さえる基板押さえ部材26(図5参照)が設けられている。これにより、基板101の下端部101bは、厚み方向D2の両側から、支持板24B及び基板押さえ部材26によって挟まれて支持される。   The lower end holding unit 21B includes a support plate 24B that supports a part of the lower end 101b of the substrate 101 from the side opposite to the film formation surface 101e of the substrate 101. The support plate 24 </ b> B is a plate material that extends along the transport direction D <b> 1 on the lower end 101 b side of the substrate 101. The thickness direction of the support plate 24B coincides with the thickness direction D2 of the substrate 101 and is at least thicker than the substrate 101. The support plate 24B supports the lower end portion 101b of the substrate 101 at the upper end side edge portion. The support plate 24B is provided with a substrate pressing member 26 (see FIG. 5) for pressing the lower end portion 101b of the substrate 101 from the film forming surface 101e side. Thereby, the lower end 101b of the substrate 101 is sandwiched and supported by the support plate 24B and the substrate pressing member 26 from both sides in the thickness direction D2.

下端部保持部21Bの支持板24Bの下端部24Baには、フレーム部材27Bが設けられている。フレーム部材27Bは、支持板24Bの下端部24Baの全域を支持するように搬送方向D1に延びる。フレーム部材27Bは、厚み方向D2へ延びる断面長方形状をなしており、上面27Baの厚み方向D2における中央位置にて、支持板24Bの下端部24Baに固定される(図5参照)。   A frame member 27B is provided at the lower end 24Ba of the support plate 24B of the lower end holding part 21B. The frame member 27B extends in the transport direction D1 so as to support the entire area of the lower end 24Ba of the support plate 24B. The frame member 27B has a rectangular cross section extending in the thickness direction D2, and is fixed to the lower end 24Ba of the support plate 24B at the center position in the thickness direction D2 of the upper surface 27Ba (see FIG. 5).

側端部保持部21C,21Dは、基板101の成膜面101eとは反対側から、当該基板101の側端部101c,101dの一部を支持する支持板24C,24Dをそれぞれ備えている。支持板24C,24Dは、基板101の側端部101c,101d側において、上下方向に沿って延びる板材である。支持板24C,24Dの厚み方向は基板101の厚み方向D2と一致しており、少なくとも基板101よりも厚い。支持板24C,24Dは、開口部23側の縁部にて基板101の側端部101c,101dを支持する。支持板24C,24Dには、成膜面101e側から基板101の側端部101c,101dを押さえる基板押さえ部材(図示されていないが、基板押さえ部材26と同様な構成を有する)が設けられている。これにより、基板101の側端部101c,101dは、厚み方向D2の両側から、支持板24C,24D及び基板押さえ部材によって挟まれて支持される。   The side end holding portions 21C and 21D respectively include support plates 24C and 24D that support part of the side end portions 101c and 101d of the substrate 101 from the side opposite to the film formation surface 101e of the substrate 101. The support plates 24C and 24D are plate members extending along the vertical direction on the side end portions 101c and 101d side of the substrate 101. The thickness directions of the support plates 24C and 24D coincide with the thickness direction D2 of the substrate 101 and are at least thicker than the substrate 101. The support plates 24C and 24D support the side end portions 101c and 101d of the substrate 101 at the edge on the opening 23 side. The support plates 24C and 24D are provided with a substrate pressing member (not shown, but having the same configuration as the substrate pressing member 26) that presses the side end portions 101c and 101d of the substrate 101 from the film formation surface 101e side. Yes. As a result, the side end portions 101c and 101d of the substrate 101 are sandwiched and supported by the support plates 24C and 24D and the substrate pressing member from both sides in the thickness direction D2.

側端部保持部21C,21Dの支持板24C,24Dの外側の側端部24Ca,24Daには、フレーム部材27C、27Dが設けられている。フレーム部材27C,27Dは、支持板24C,24Dの側端部24Ca,24Daの全域を支持するように上下方向に延びる。フレーム部材27C,27Dは、厚み方向D2へ延びる断面長方形状をなしており、内側面27Ca,27Daの厚み方向D2における中央位置にて、支持板24C,24Dの側端部24Ca,24Daに固定される。   Frame members 27C and 27D are provided on the side end portions 24Ca and 24Da outside the support plates 24C and 24D of the side end holding portions 21C and 21D. The frame members 27C and 27D extend in the vertical direction so as to support the entire region of the side end portions 24Ca and 24Da of the support plates 24C and 24D. The frame members 27C and 27D have a rectangular cross section extending in the thickness direction D2, and are fixed to the side end portions 24Ca and 24Da of the support plates 24C and 24D at the center position in the thickness direction D2 of the inner side surfaces 27Ca and 27Da. The

なお、上述の支持板24A,24B,24C,24Dは、一枚の板材に開口部23を設けることで一体的に構成されていてもよく、個々の板材を互いに連結させてもよい。   The support plates 24A, 24B, 24C, and 24D described above may be integrally configured by providing the opening 23 in a single plate material, or individual plate materials may be connected to each other.

次に、図2及び図4を参照して、基板搬送トレイ20の支持部22の構成について説明する。図2及び図4に示すように、支持部22は、枠体21の上端側に設けられ、基板101の搬送時に枠体21を支持するためのものである。支持部22は、枠体21に連結される本体部(第1の部分)30と、搬送部10の駆動ローラ63(詳細な構造は後述する)と接触するレール部(第2の部分)31と、を備えている。   Next, the configuration of the support portion 22 of the substrate transport tray 20 will be described with reference to FIGS. As shown in FIGS. 2 and 4, the support portion 22 is provided on the upper end side of the frame body 21 and supports the frame body 21 when the substrate 101 is transported. The support portion 22 includes a main body portion (first portion) 30 connected to the frame body 21 and a rail portion (second portion) 31 that comes into contact with a driving roller 63 (detailed structure will be described later) of the transport portion 10. And.

図4に示すように、本体部30は、搬送方向D1から見て断面コ字形状に形成され、枠体21の上端側において搬送方向D1に延びる部材である。具体的には、本体部30は、枠体21の上側保持部21Aの支持板24Aの上端部24Aaに固定されると共に厚み方向D2に延びる下壁部32と、下壁部32における前側の端部32aから上方へ向かって延びる前壁部33と、前壁部33の上端部33aから後側へ厚み方向D2に延びる上壁部34と、を備えている。下壁部32、前壁部33、及び上壁部34は、枠体21の搬送方向D1における一方の端部から他方の端部に至る全域にわたって、搬送方向D1に延びている(図2参照)。   As shown in FIG. 4, the main body 30 is a member that is formed in a U-shaped cross section when viewed in the transport direction D <b> 1 and extends in the transport direction D <b> 1 on the upper end side of the frame body 21. Specifically, the main body portion 30 is fixed to the upper end portion 24Aa of the support plate 24A of the upper holding portion 21A of the frame body 21 and extends in the thickness direction D2, and the front end of the lower wall portion 32. The front wall part 33 extended upwards from the part 32a, and the upper wall part 34 extended in the thickness direction D2 from the upper end part 33a of the front wall part 33 to the rear side are provided. The lower wall portion 32, the front wall portion 33, and the upper wall portion 34 extend in the transport direction D1 over the entire region from one end portion to the other end portion in the transport direction D1 of the frame body 21 (see FIG. 2). ).

図4に示すように、下壁部32は、下面32bの厚み方向D2における略中央位置にて、支持板24Aの上端部24Aaに固定される。本実施形態では、下壁部32の後側における端部32cは、フレーム部材27C(及びフレーム部材27D)の端部27Cbと、厚さ方向D2において同位置に配置されているが、同位置でなくともよい。また、下壁部32の前側の端部32a(すなわち、前壁部33の前面33b)は、フレーム部27C(及びフレーム部27D)の端部27Ccよりも、厚さ方向D2において前側に配置されているが、駆動ローラ63の大きさ次第でどこに配置されていてもよい。   As shown in FIG. 4, the lower wall portion 32 is fixed to the upper end portion 24Aa of the support plate 24A at a substantially central position in the thickness direction D2 of the lower surface 32b. In the present embodiment, the end portion 32c on the rear side of the lower wall portion 32 is disposed at the same position in the thickness direction D2 as the end portion 27Cb of the frame member 27C (and the frame member 27D). Not necessary. Further, the front end portion 32a of the lower wall portion 32 (that is, the front surface 33b of the front wall portion 33) is disposed on the front side in the thickness direction D2 relative to the end portion 27Cc of the frame portion 27C (and the frame portion 27D). However, it may be disposed anywhere depending on the size of the drive roller 63.

上壁部34は、下壁部32と上下方向に対向するように設けられており、その下面34aには、レール部31が取り付けられている。上壁部34とレール部31との固定方法は特に限定されないが、本実施形態ではボルトによって固定されている。上壁部34の後側における端部34bは、下壁部32の端部32cよりも前側に配置されているが、レール部31との固定代を十分に確保することができ、且つ、取付部材73と干渉しない限り、どこに配置されていてもよい。   The upper wall portion 34 is provided so as to face the lower wall portion 32 in the vertical direction, and the rail portion 31 is attached to the lower surface 34a. Although the fixing method of the upper wall part 34 and the rail part 31 is not specifically limited, In this embodiment, it is fixed with the volt | bolt. The end portion 34b on the rear side of the upper wall portion 34 is disposed on the front side of the end portion 32c of the lower wall portion 32. However, a sufficient fixing allowance with the rail portion 31 can be secured, and attachment As long as it does not interfere with the member 73, it may be disposed anywhere.

レール部31は、厚み方向D2に延びる断面矩形状の形状をなしており、本体部30の上壁部34の下面34aに沿って搬送方向D1に延びる。レール部31は、本体部30の上壁部34の搬送方向D1における一方の端部から他方の端部に至る全域にわたって延びている。レール部31の上面31aは上壁部34の下面34aと接触し、レール部31の下面31bは駆動ローラ63の外周面63aと接触する。   The rail portion 31 has a rectangular cross-sectional shape extending in the thickness direction D2, and extends in the transport direction D1 along the lower surface 34a of the upper wall portion 34 of the main body portion 30. The rail portion 31 extends over the entire region from one end portion to the other end portion in the transport direction D1 of the upper wall portion 34 of the main body portion 30. The upper surface 31 a of the rail portion 31 is in contact with the lower surface 34 a of the upper wall portion 34, and the lower surface 31 b of the rail portion 31 is in contact with the outer peripheral surface 63 a of the drive roller 63.

(搬送部)
図2及び図3に示すように、搬送部10は、真空チャンバ150の上端側の領域に設けられた上部構造60と、真空チャンバ150の下端側の領域に設けられた下部構造61と、を備えている。上部構造60は、基板101を保持した基板搬送トレイ20を吊り下げる態様で支持すると共に基板搬送トレイ20に駆動力を付与する機能を有する。下部構造61は、基板搬送トレイ20の下端部側の移動をガイドすると共に、厚さ方向D2への移動を規制する機能を有している。
(Transport section)
As shown in FIGS. 2 and 3, the transport unit 10 includes an upper structure 60 provided in the upper end side region of the vacuum chamber 150 and a lower structure 61 provided in the lower end side region of the vacuum chamber 150. I have. The upper structure 60 has a function of supporting the substrate transport tray 20 holding the substrate 101 in a suspended manner and applying a driving force to the substrate transport tray 20. The lower structure 61 has a function of guiding movement on the lower end side of the substrate carrying tray 20 and restricting movement in the thickness direction D2.

図4を参照して、搬送部10の上部構造60の詳細な構造について説明する。図4に示すように、上部構造60は、基板搬送トレイ20に駆動力を付与する駆動ローラ63と、駆動ローラ63を回転可能に支持する軸部64と、真空チャンバ150の後壁部54の貫通部分において軸部64を回転可能に支持する第1の軸受部66と、真空チャンバ150内において軸部64を回転可能に支持する第2の軸受部67と、軸部64を介して駆動ローラ63を回転駆動させる駆動系68と、を備えている。なお、上部構造60では、駆動ローラ63、軸部64、第1の軸受部66及び第2の軸受部67が一組のローラーユニット70を構成している。ローラーユニット70は、互いに所定の間隔をあけて搬送方向D1に沿って複数設けられている(図2参照)。各ローラーユニット70は、上下方向において同位置に配置されている。   With reference to FIG. 4, the detailed structure of the upper structure 60 of the conveyance part 10 is demonstrated. As shown in FIG. 4, the upper structure 60 includes a driving roller 63 that applies driving force to the substrate transport tray 20, a shaft portion 64 that rotatably supports the driving roller 63, and a rear wall portion 54 of the vacuum chamber 150. A first bearing portion 66 that rotatably supports the shaft portion 64 in the penetrating portion, a second bearing portion 67 that rotatably supports the shaft portion 64 in the vacuum chamber 150, and a driving roller via the shaft portion 64 And a drive system 68 that rotationally drives 63. In the upper structure 60, the driving roller 63, the shaft portion 64, the first bearing portion 66, and the second bearing portion 67 constitute a set of roller units 70. A plurality of roller units 70 are provided along the transport direction D1 at predetermined intervals (see FIG. 2). Each roller unit 70 is arrange | positioned in the same position in the up-down direction.

駆動ローラ63は、真空チャンバ150内の上側に配置されており、厚み方向D2に平行に延びる軸線CL1を中心として回転可能な円筒状の部材である。駆動ローラ63は、真空チャンバ150の上壁部51から下方に離間すると共に、後壁部54から厚み方向D2に離間するように配置されている。駆動ローラ63は、基板搬送トレイ20の支持部22のレール部31と接触する外周面63aを有する。駆動ローラ63の外周面63aは、レール部31の下面31bと接触すると共に、レール部31を介して基板搬送トレイ20に搬送方向D1への駆動力を付与する。駆動ローラ63の軸線方向の両端部には、レール部31の厚み方向D2の移動を規制する鍔部71が形成されている。鍔部71は、外周面63aよりも大きな外径を有するように外周側へ広がっている。各鍔部71は、レール部31の厚さ方向D2における両端部とそれぞれ対向している。鍔部71同士の間の厚み方向D2における寸法は、レール部31の厚み方向D2における寸法よりも大きい。   The drive roller 63 is a cylindrical member that is disposed on the upper side in the vacuum chamber 150 and is rotatable about an axis CL1 extending in parallel with the thickness direction D2. The drive roller 63 is disposed so as to be spaced downward from the upper wall portion 51 of the vacuum chamber 150 and spaced from the rear wall portion 54 in the thickness direction D2. The drive roller 63 has an outer peripheral surface 63 a that contacts the rail portion 31 of the support portion 22 of the substrate transport tray 20. The outer peripheral surface 63a of the drive roller 63 is in contact with the lower surface 31b of the rail portion 31 and applies a driving force in the transport direction D1 to the substrate transport tray 20 via the rail portion 31. At both ends of the drive roller 63 in the axial direction, flange portions 71 are formed that restrict the movement of the rail portion 31 in the thickness direction D2. The flange portion 71 extends to the outer peripheral side so as to have a larger outer diameter than the outer peripheral surface 63a. Each flange 71 is opposed to both end portions in the thickness direction D2 of the rail portion 31. The dimension in the thickness direction D2 between the flange parts 71 is larger than the dimension in the thickness direction D2 of the rail part 31.

基板搬送トレイ20が搬送部10の駆動ローラ63に支持されている状態、すなわち、駆動ローラ63の外周面63aがレール部31の下面31bと接触している状態では、駆動ローラ63の下端と下壁部32の上面32dとの間には、隙間が設けられる。駆動ローラ63の先端と前壁部33の後面33cとの間には、隙間が設けられる。   When the substrate transport tray 20 is supported by the drive roller 63 of the transport unit 10, that is, when the outer peripheral surface 63 a of the drive roller 63 is in contact with the lower surface 31 b of the rail unit 31, A gap is provided between the upper surface 32 d of the wall portion 32. A gap is provided between the front end of the driving roller 63 and the rear surface 33 c of the front wall portion 33.

なお、図7(a)に示すように、レール部31の端部31c側は、駆動ローラ63の鍔部71に引っ掛からないように、船底形状となっている。すなわち、レール部31の端部31cは、搬送方向D1の先端側に向かうに従って幅(厚さ方向D2の大きさ)が狭くなる形状を有する。レール部31の端部31c側には、搬送方向へ向かって傾斜するような傾斜面31d,31dが形成される。   As shown in FIG. 7A, the end 31 c side of the rail portion 31 has a ship bottom shape so as not to be caught by the flange portion 71 of the drive roller 63. That is, the end portion 31c of the rail portion 31 has a shape in which the width (the size in the thickness direction D2) becomes narrower toward the leading end side in the transport direction D1. On the end portion 31c side of the rail portion 31, inclined surfaces 31d and 31d are formed so as to be inclined in the transport direction.

図4に示すように、軸部64は、軸線CL1を中心として厚み方向D2に延びる円形の棒状部材である。軸部64は、真空チャンバ150の後壁部54を貫通している。軸部64は、真空チャンバ150の内側の端部で駆動ローラ63と固定され、外側の端部で駆動系68に接続されている。軸部64は、駆動系68からの駆動力によって駆動ローラ63と共に回転する。   As shown in FIG. 4, the shaft portion 64 is a circular rod-shaped member that extends in the thickness direction D2 around the axis line CL1. The shaft portion 64 passes through the rear wall portion 54 of the vacuum chamber 150. The shaft portion 64 is fixed to the drive roller 63 at the inner end of the vacuum chamber 150 and is connected to the drive system 68 at the outer end. The shaft portion 64 rotates together with the driving roller 63 by the driving force from the driving system 68.

第1の軸受部66は、真空チャンバ150の後壁部54における軸部64が貫通する部分に設けられている。第1の軸受部66として磁性流体軸受などが用いられる。これによって、第1の軸受部66は、軸部64を回転可能に支持すると共に、後壁部54における軸部64が貫通する部分の気密性を確保することができる。   The first bearing portion 66 is provided at a portion of the rear wall portion 54 of the vacuum chamber 150 through which the shaft portion 64 passes. A magnetic fluid bearing or the like is used as the first bearing portion 66. As a result, the first bearing portion 66 can rotatably support the shaft portion 64 and ensure airtightness of the portion of the rear wall portion 54 through which the shaft portion 64 passes.

第2の軸受部67は、軸部64の先端側を回転可能に支持する。第2の軸受部67は、軸部64を回転可能に支持する軸受72と、軸受72を取り付けるための取付部材73と、を備えている。取付部材73は、真空チャンバ150の上壁部51から下方へ延びて、下端側に軸受72が取り付けられる。取付部材73の上端部は、上壁部51に固定された板状部材74に接続されている。軸受72及び取付部材73は、駆動ローラ63よりも後側に配置されている。これによって、真空チャンバ150の上壁部51は、基板搬送トレイ20を支持することによって駆動ローラ63及び軸部64にかかる荷重を、第2の軸受部を介して支持することができる。   The 2nd bearing part 67 supports the front end side of the axial part 64 rotatably. The second bearing portion 67 includes a bearing 72 that rotatably supports the shaft portion 64 and an attachment member 73 for attaching the bearing 72. The attachment member 73 extends downward from the upper wall portion 51 of the vacuum chamber 150, and the bearing 72 is attached to the lower end side. An upper end portion of the attachment member 73 is connected to a plate-like member 74 fixed to the upper wall portion 51. The bearing 72 and the attachment member 73 are disposed on the rear side of the drive roller 63. Accordingly, the upper wall portion 51 of the vacuum chamber 150 can support the load applied to the driving roller 63 and the shaft portion 64 by supporting the substrate transport tray 20 via the second bearing portion.

駆動系68は、各ローラーユニット70の軸部64及び駆動ローラ63に回転駆動力を付与するものである。駆動系68は、真空チャンバ150の外側に配置されている。駆動系68は、各ローラーユニット70の軸部64及び駆動ローラ63を回転駆動させることが出来るものであれば特に構成は限定されないが、一のモータによる駆動力を各軸部64及び駆動ローラ63に等速配分するような構成が好ましい。   The drive system 68 applies a rotational drive force to the shaft portion 64 and the drive roller 63 of each roller unit 70. The drive system 68 is disposed outside the vacuum chamber 150. The configuration of the drive system 68 is not particularly limited as long as the shaft portion 64 and the drive roller 63 of each roller unit 70 can be rotationally driven. However, the drive force of one motor is applied to each shaft portion 64 and the drive roller 63. It is preferable to distribute at a constant speed.

具体的には、図6に示すように、モータ76は、歯付きベルト77と歯付きプーリー78を用いて、各ローラーユニット70の軸部64及び駆動ローラ63を同時に等速に回転させる。軸部64の真空チャンバ150の外側の端部には、歯付きプーリー78が取り付けられ、搬送方向D1に隣り合う軸部64の歯付きプーリー78同士が、歯付きベルト77で連結される。なお、軸部64の端部には歯付きプーリー78が厚み方向D2に二段設けられており、搬送方向D1に隣り合う他のローラーユニット70と連結するための歯付きベルト77と、搬送方向D1と反対側で隣合う他のローラーユニット70と連結するための歯付きベルト77とが、厚さ方向D2で互い違いとなる。なお、隣り合うローラーユニット70同士の間に、歯付きベルト77のテンションを調整するテンショナー(不図示)を設けてもよい。   Specifically, as shown in FIG. 6, the motor 76 rotates the shaft portion 64 and the driving roller 63 of each roller unit 70 simultaneously at a constant speed using a toothed belt 77 and a toothed pulley 78. A toothed pulley 78 is attached to the outer end of the vacuum chamber 150 of the shaft portion 64, and the toothed pulleys 78 of the shaft portion 64 adjacent in the transport direction D <b> 1 are connected by a toothed belt 77. In addition, a toothed pulley 78 is provided in two stages in the thickness direction D2 at the end of the shaft portion 64, and a toothed belt 77 for connecting to another roller unit 70 adjacent in the transport direction D1, and a transport direction The toothed belt 77 for connecting with another roller unit 70 adjacent on the opposite side to D1 is staggered in the thickness direction D2. A tensioner (not shown) that adjusts the tension of the toothed belt 77 may be provided between the adjacent roller units 70.

搬送方向D1における最も下流側のローラーユニット70は、モータ76から駆動力を付与される(ただし、最も上流側のローラーユニット70、中間位置におけるローラーユニット70でもよい)。モータ76は、ローラーユニット70の下側(上側や横側でもよい)に配置され、図示されないブラケットを介して真空チャンバ150の壁部に固定される。モータ76の軸部の先端には歯付きプーリーが設けられ、当該モータ76の歯付きプーリーは、歯付きベルト79を介してローラーユニット70の軸部64の歯付きプーリー78と連結される。ただし、ローラーユニット70の軸部64とモータ76の軸部とが軸線方向に連結され、モータ76がローラーユニット70の軸部64に直接駆動力を付与してもよい。   The most downstream roller unit 70 in the transport direction D1 is given a driving force from the motor 76 (however, the most upstream roller unit 70 or the roller unit 70 at the intermediate position may be used). The motor 76 is disposed on the lower side (or on the upper side or the side) of the roller unit 70, and is fixed to the wall portion of the vacuum chamber 150 via a bracket (not shown). A toothed pulley is provided at the tip of the shaft portion of the motor 76, and the toothed pulley of the motor 76 is connected to a toothed pulley 78 of the shaft portion 64 of the roller unit 70 via a toothed belt 79. However, the shaft portion 64 of the roller unit 70 and the shaft portion of the motor 76 may be coupled in the axial direction, and the motor 76 may directly apply a driving force to the shaft portion 64 of the roller unit 70.

なお、駆動系68におけるモータ76は、ローラーユニット70の軸部64に回転力を付与できるものであれば、どのような態様で取り付けられていてもよい。例えば、モータ76の軸部が上下方向に延び、傘歯車を介してローラーユニット70の軸部64に駆動力を付与してもよい。   The motor 76 in the drive system 68 may be attached in any manner as long as it can apply a rotational force to the shaft portion 64 of the roller unit 70. For example, the shaft portion of the motor 76 may extend in the vertical direction, and a driving force may be applied to the shaft portion 64 of the roller unit 70 via a bevel gear.

図5を参照して、搬送部10の下部構造61の詳細な構造について説明する。図5に示す。下部構造61は、基板搬送トレイ20の下端部側における厚み方向D2に対向する両側面を支持する側面支持部81と、側面支持部81を固定するための台座部82と、を備えている。なお、下部構造61では、側面支持部81及び台座部82の組が、互いに所定の間隔をあけて搬送方向D1に沿って複数設けられている(図2参照)。   With reference to FIG. 5, the detailed structure of the lower structure 61 of the conveyance part 10 is demonstrated. As shown in FIG. The lower structure 61 includes a side surface support portion 81 that supports both side surfaces facing the thickness direction D <b> 2 on the lower end side of the substrate transport tray 20, and a pedestal portion 82 for fixing the side surface support portion 81. Note that, in the lower structure 61, a plurality of sets of the side surface support portions 81 and the pedestal portions 82 are provided along the transport direction D1 with a predetermined interval therebetween (see FIG. 2).

台座部82は、真空チャンバ150の下壁部52から上方へ延びると共に、厚み方向D2に延びる直方体状の部材である。台座部82は、駆動ローラ63で支持されている状態の基板搬送トレイ20の下方に配置されている。台座部82の厚み方向D2における一方の端部82bは、基板搬送トレイ20の前側の側面(ここでは、フレーム部材27Bの側面27Bb)よりも前側に延びており、他方の端部82cは、基板搬送トレイ20の後側の側面(ここでは、フレーム部材27Bの側面27Bc)よりも後側へ延びている。台座部82の上面82aには、側面支持部81が設けられる。   The pedestal portion 82 is a rectangular parallelepiped member that extends upward from the lower wall portion 52 of the vacuum chamber 150 and extends in the thickness direction D2. The pedestal portion 82 is disposed below the substrate transport tray 20 that is supported by the drive roller 63. One end portion 82b in the thickness direction D2 of the pedestal portion 82 extends to the front side of the front side surface (here, the side surface 27Bb of the frame member 27B) of the substrate transport tray 20, and the other end portion 82c The rear side surface of the transport tray 20 (here, the side surface 27Bc of the frame member 27B) extends rearward. A side support portion 81 is provided on the upper surface 82 a of the pedestal portion 82.

側面支持部81は、厚み方向D2における、基板搬送トレイ20の下端側の領域の移動を規制すると共に、基板搬送トレイ20の下端側の領域の搬送方向D1への移動をガイドする機能を有する。側面支持部81は、厚み方向D2に間隔を設けて配置される一対のアイドラーベアリング83A,83Bと、アイドラーベアリング83A,83Bをそれぞれ支持する一対の軸部84A,84Bと、を備えている。アイドラーベアリング83A,83Bは、上下方向に鉛直に延びる軸線CL2,CL3を中心として、外周面83Aa,83Ba側の部分が回転可能である。軸部84A,84Bは、中心軸線CL2,CL3のそれぞれを中心として上下方向に延びる円柱状の部材である。軸部84A,84Bの上端部は、アイドラーベアリング83A,83Bの内周面83Ab,83Bb側の部分に嵌め込まれている。軸部84A,84Bの下端部は、台座部82の上面82aに固定されている。   The side support part 81 has a function of regulating movement of the lower end side region of the substrate transport tray 20 in the thickness direction D2 and guiding movement of the lower end side region of the substrate transport tray 20 in the transport direction D1. The side surface support portion 81 includes a pair of idler bearings 83A and 83B arranged at intervals in the thickness direction D2, and a pair of shaft portions 84A and 84B that respectively support the idler bearings 83A and 83B. The idler bearings 83A and 83B are rotatable about the outer peripheral surfaces 83Aa and 83Ba around the axes CL2 and CL3 extending vertically in the vertical direction. The shaft portions 84A and 84B are columnar members extending in the vertical direction about the center axis lines CL2 and CL3. The upper end portions of the shaft portions 84A and 84B are fitted into portions on the inner peripheral surfaces 83Ab and 83Bb side of the idler bearings 83A and 83B. The lower end portions of the shaft portions 84A and 84B are fixed to the upper surface 82a of the pedestal portion 82.

アイドラーベアリング83Aは、基板搬送トレイ20の前側の側面(ここでは、フレーム部材27Bの側面27Bb)を支持し、アイドラーベアリング83Bは、基板搬送トレイ20の後側の側面(ここでは、フレーム部材27Bの側面27Bc)を支持する。アイドラーベアリング83A,83Bは、駆動ローラ63で支持されている状態の基板搬送トレイ20の下端側のフレーム部材27Bと、上下方向において同位置に配置されている。また、アイドラーベアリング83A,83Bは、厚み方向D2においてフレーム部材27Bを挟むように配置されている。アイドラーベアリング83Aの外周面83Aaと、フレーム部材27Bの側面27Bbとは、僅かな隙間をあけて厚み方向D2に対向する。アイドラーベアリング83Bの外周面83Baと、フレーム部材27Bの側面27Bcとは、僅かな隙間をあけて厚み方向D2に対向する。   The idler bearing 83A supports the front side surface of the substrate transport tray 20 (here, the side surface 27Bb of the frame member 27B), and the idler bearing 83B supports the rear side surface of the substrate transport tray 20 (here, the frame member 27B). The side surface 27Bc) is supported. The idler bearings 83 </ b> A and 83 </ b> B are disposed at the same position in the vertical direction as the frame member 27 </ b> B on the lower end side of the substrate transport tray 20 supported by the driving roller 63. Further, the idler bearings 83A and 83B are arranged so as to sandwich the frame member 27B in the thickness direction D2. The outer peripheral surface 83Aa of the idler bearing 83A and the side surface 27Bb of the frame member 27B are opposed to each other in the thickness direction D2 with a slight gap. The outer peripheral surface 83Ba of the idler bearing 83B and the side surface 27Bc of the frame member 27B are opposed to each other in the thickness direction D2 with a slight gap.

駆動ローラ63によって基板搬送トレイ20が支持され、駆動力を付与されるとき、基板搬送トレイ20の下端部(本実施形態では、フレーム部材27Bの下面27Bd)は、真空チャンバ150の底側の構造物(ここでは台座部82であるが、真空チャンバの底面側から上方へ突出している構造物が設けられている場合であっても、それらの構造物から上下方向に離間する)から、上下方向において離間している。すなわち、基板搬送トレイ20の重さ、上端側において上部構造60のみによって支持されており、下端側においては、真空チャンバ150に設けられる部材によって支持されておらず、宙に浮いたような状態となっている。本実施形態では、基板搬送トレイ20の下端部に該当するフレーム部材27Bの下面27Bdは、真空チャンバ150の底側に設けられる台座部82の上面82aから離間している。なお、アイドラーベアリング83A,83Bは、基板搬送トレイ20を厚み方向D2には支持(厚み方向D2の移動を規制)することはできるが、基板搬送トレイ20の重量を支持するものではない。   When the substrate transport tray 20 is supported by the driving roller 63 and a driving force is applied, the lower end portion of the substrate transport tray 20 (in this embodiment, the lower surface 27Bd of the frame member 27B) is the structure on the bottom side of the vacuum chamber 150. From the object (here, the pedestal portion 82, even if a structure projecting upward from the bottom surface side of the vacuum chamber is provided), the vertical direction Are separated. That is, the weight of the substrate transport tray 20 is supported only by the upper structure 60 on the upper end side, and is not supported by the member provided in the vacuum chamber 150 on the lower end side, and is in a state of floating in the air. It has become. In the present embodiment, the lower surface 27 </ b> Bd of the frame member 27 </ b> B corresponding to the lower end portion of the substrate transport tray 20 is separated from the upper surface 82 a of the pedestal portion 82 provided on the bottom side of the vacuum chamber 150. The idler bearings 83A and 83B can support the substrate transport tray 20 in the thickness direction D2 (regulate the movement in the thickness direction D2), but do not support the weight of the substrate transport tray 20.

なお、図7(b)に示すように、フレーム部材27Bの端部27Be側は、アイドラーベアリング83A,83B同士の間にスムーズに入り込めるように、船底形状となっている。すなわち、フレーム部材27Bの端部27Beは、搬送方向D1の先端側に向かうに従って幅(厚さ方向D2の大きさ)が狭くなる形状を有する。フレーム部材27Bの端部27Be側には、搬送方向D1へ向かって傾斜するような傾斜面27Bf,27Bfが形成される。   As shown in FIG. 7B, the end 27Be side of the frame member 27B has a ship bottom shape so that it can smoothly enter between the idler bearings 83A and 83B. That is, the end portion 27Be of the frame member 27B has a shape in which the width (the size in the thickness direction D2) becomes narrower toward the front end side in the transport direction D1. Inclined surfaces 27Bf and 27Bf are formed on the end 27Be side of the frame member 27B so as to incline in the transport direction D1.

次に、本実施形態に係る成膜装置100及び基板搬送トレイ20の作用・効果について説明する。   Next, operations and effects of the film forming apparatus 100 and the substrate transport tray 20 according to the present embodiment will be described.

従来、成膜装置において基板を搬送する機構として、ラック・ピニオン方式が採用されている。すなわち、真空チャンバの上側にはピニオンを有する駆動部が設けられており、基板搬送トレイの上端側には、駆動部のピニオンと噛み合うように歯が直線状に並ぶように形成されたラックが設けられている。このような構成により、基板搬送トレイで基板保持し、駆動部のピニオンを回転させることによってラックと共に当該基板搬送トレイが搬送方向へ移動する。これによって、成膜装置の真空チャンバ内で基板が基板搬送トレイに保持された状態で搬送される。しかしながら、このようにラック・ピニオン方式を採用した場合は、基板搬送トレイ自体の構造も複雑になると共に、当該基板搬送トレイに駆動力を付与する駆動部側の構造も複雑になり、全体的な構造が複雑且つ、大掛かりになるという問題がある。   Conventionally, a rack and pinion system has been adopted as a mechanism for transporting a substrate in a film forming apparatus. That is, a drive unit having a pinion is provided on the upper side of the vacuum chamber, and a rack formed so that teeth are arranged in a straight line so as to mesh with the pinion of the drive unit is provided on the upper end side of the substrate transport tray. It has been. With such a configuration, the substrate carrying tray is held in the substrate carrying tray, and the substrate carrying tray moves in the carrying direction together with the rack by rotating the pinion of the driving unit. As a result, the substrate is transported while being held on the substrate transport tray in the vacuum chamber of the film forming apparatus. However, when the rack and pinion method is adopted as described above, the structure of the substrate transport tray itself is complicated, and the structure of the driving unit for applying a driving force to the substrate transport tray is also complicated. There is a problem that the structure is complicated and large.

一方、本実施形態に係る基板搬送トレイ20は、枠体21の上端側に設けられる支持部22を備えており、当該支持部22は、搬送のための駆動力を付与する駆動ローラ63と接触するレール部31を有している。これによって、基板101を取り付け可能な枠体21は、レール部31を有する支持部22を介して、駆動ローラ63から駆動力を付与され、搬送方向D1に基板101と共に移動することができる。また、支持部22は、枠体21に接続される本体部30を有しており、当該本体部30のうち枠体21に接続されている下壁部32(その上面32d)は、枠体21の厚み方向D2に延びている。従って、駆動ローラ63や、当該駆動ローラ63と接触する部分で膜剥がれ等によるパーティクルが発生するとしても、厚み方向に延びる下壁部32が当該パーティクルを受けることが可能となる。このとき、下壁部32の面のうち、少なくとも、厚み方向D2に延びる上面32dと、駆動系68側へ向いている端部32cがパーティクル受面として機能する。パーティクル受面でパーティクルを受けることにより、基板101の成膜面にパーティクルが付着すること、当たることによって成膜面の質が低下することを抑制することができる。このように、支持部22のレール部31を駆動ローラ63に接触させるだけのシンプルな構造でありながら、基板101の搬送が可能となると共に、パーティクルの飛散も抑制することができる。   On the other hand, the substrate transport tray 20 according to the present embodiment includes a support portion 22 provided on the upper end side of the frame body 21, and the support portion 22 contacts a driving roller 63 that applies a driving force for transport. The rail part 31 to be used is provided. As a result, the frame body 21 to which the substrate 101 can be attached can be moved together with the substrate 101 in the transport direction D <b> 1 by being applied with a driving force from the driving roller 63 via the support portion 22 having the rail portion 31. Moreover, the support part 22 has the main-body part 30 connected to the frame 21, and the lower wall part 32 (the upper surface 32d) connected to the frame 21 among the said main-body parts 30 is a frame. 21 extends in the thickness direction D2. Therefore, even if particles due to film peeling or the like are generated at the driving roller 63 or a portion in contact with the driving roller 63, the lower wall portion 32 extending in the thickness direction can receive the particles. At this time, at least the upper surface 32d extending in the thickness direction D2 and the end 32c facing the drive system 68 among the surfaces of the lower wall portion 32 function as a particle receiving surface. By receiving the particles on the particle receiving surface, it is possible to suppress the particles from adhering to the film forming surface of the substrate 101 and the deterioration of the quality of the film forming surface due to the contact. As described above, the substrate 101 can be transported and the scattering of particles can be suppressed while having a simple structure in which the rail portion 31 of the support portion 22 is in contact with the driving roller 63.

また、図1に示すような成膜装置100においては、一の真空チャンバ150から隣りの真空チャンバ150へ基板搬送トレイ20を搬送する際に、一の真空チャンバ150から搬送される基板搬送トレイ20が、隣りの真空チャンバ150内で搬送される基板搬送トレイ20に追いつくことができるような制御(追いつき制御)を行う場合がある。具体的には、成膜チャンバ123では、均一な膜厚を得るために基板搬送トレイ20を一定速度(膜が堆積時間を確保するために、成膜チャンバ123での速度は、他の真空チャンバ150での速度よりも低速である)で搬送する必要がある。一方、バッファチャンバ122から成膜チャンバ123へ基板搬送トレイ20を搬送する場合、既に成膜チャンバ123内に搬送されて一定速度で搬送されている基板搬送トレイ20との間の間隔が大きくならないように(先行する基板搬送トレイ20に追いつくように)、基板搬送トレイ20を加速させてバッファチャンバ122から成膜チャンバ123内へ搬送することが好ましい。   In the film forming apparatus 100 as shown in FIG. 1, the substrate transport tray 20 transported from one vacuum chamber 150 when transporting the substrate transport tray 20 from one vacuum chamber 150 to the adjacent vacuum chamber 150. However, there may be a control (catch-up control) that can catch up with the substrate transfer tray 20 transferred in the adjacent vacuum chamber 150. Specifically, in the film forming chamber 123, the substrate transfer tray 20 is moved at a constant speed (in order to secure the deposition time of the film, the speed in the film forming chamber 123 is different from other vacuum chambers in order to obtain a uniform film thickness. It is necessary to transport at a lower speed than the speed at 150). On the other hand, when the substrate transfer tray 20 is transferred from the buffer chamber 122 to the film formation chamber 123, the interval between the substrate transfer tray 20 already transferred into the film formation chamber 123 and transferred at a constant speed is not increased. In order to catch up with the preceding substrate transfer tray 20, the substrate transfer tray 20 is preferably accelerated and transferred from the buffer chamber 122 into the film forming chamber 123.

ここで、従来のようなラック・ピニオン方式を採用した場合、ラックの歯とピニオンの歯とが噛み合う関係で、一の真空チャンバ150の駆動部と、他の真空チャンバ150の駆動部との間で搬送速度の差を設けることができず、追いつき制御に対応することが困難(例えば、構造が極めて複雑になるなどにより)であるという問題がある。追いつき制御に対応することが困難な場合は、成膜を行う部分において、基板搬送トレイ同士の間隔が大きくなる場合があり、成膜の効率に影響が及ぼされる。   Here, when the rack and pinion system as in the prior art is adopted, the rack teeth and the pinion teeth are engaged with each other, so that the drive part of one vacuum chamber 150 and the drive part of the other vacuum chamber 150 are connected. Therefore, there is a problem that it is difficult to provide a difference in the conveyance speed and it is difficult to cope with the catch-up control (for example, due to the extremely complicated structure). When it is difficult to cope with the catch-up control, the interval between the substrate transfer trays may be increased in the film forming portion, which affects the film forming efficiency.

例えば、図1に示すように、成膜チャンバ123が、バッファチャンバ122から基板搬送トレイ20を受け取る受け取り領域EA1と、蒸着源140と対向する位置で基板搬送トレイ20を一定速度で搬送する一定速度領域EA2と、バッファチャンバ124へ基板搬送トレイ20を受け渡す受け渡し領域EA3と、を有しており、各領域EA1,EA2,EA3がそれぞれ独立して駆動する駆動系68を有しているものとする。このような構成で追いつき制御を行う場合、一定速度領域EA2では駆動系68は一定速度で基板搬送トレイ20を搬送する一方、受け取り領域EA1及バッファチャンバ122の駆動系68は、速やかに成膜チャンバ123へ入れるために基板搬送トレイ20を加速させるように動作する。しかしながら、ラック・ピニオン方式を採用した場合、一定速度領域EA2で搬送されている基板搬送トレイ20のラックの歯が一部でも受け取り領域EA1でのピニオンの歯と噛み合っている場合、受け取り領域EA1も一定速度領域EA2の速度に合わせる必要がある。従って、基板搬送トレイ20が完全に一定速度領域EA2側へ移動するのを待たなくては、受け取り領域EA1及びバッファチャンバ122での駆動系68は、基板搬送トレイ20を加速させることはできない。このように、従来のラック・ピニオン方式では追いつき制御に対応することが困難であった。   For example, as shown in FIG. 1, the deposition chamber 123 receives the substrate transport tray 20 from the buffer chamber 122, and a constant speed at which the substrate transport tray 20 is transported at a constant speed at a position facing the vapor deposition source 140. An area EA2 and a transfer area EA3 for transferring the substrate transport tray 20 to the buffer chamber 124, and each of the areas EA1, EA2, and EA3 has a drive system 68 that is driven independently. To do. When the catch-up control is performed with such a configuration, in the constant speed area EA2, the driving system 68 transports the substrate transport tray 20 at a constant speed, while the receiving area EA1 and the driving system 68 of the buffer chamber 122 promptly form the film forming chamber. It operates to accelerate the substrate transport tray 20 to enter 123. However, when the rack and pinion method is adopted, if the rack teeth of the substrate transport tray 20 being transported in the constant speed area EA2 are partially engaged with the pinion teeth in the receiving area EA1, the receiving area EA1 is also It is necessary to match the speed of the constant speed area EA2. Accordingly, the drive system 68 in the receiving area EA1 and the buffer chamber 122 cannot accelerate the substrate transport tray 20 without waiting for the substrate transport tray 20 to completely move to the constant speed area EA2. Thus, it is difficult for the conventional rack and pinion system to cope with catch-up control.

一方、本実施形態に係る基板搬送トレイ20は、駆動ローラ63によって駆動力を付与されることによって、搬送される。従って、一定速度領域EA2で搬送されている基板搬送トレイ20の一部が受け取り領域EA1での駆動ローラ63に差し掛かっている状態で、受け取り領域EA1及びバッファチャンバ122の駆動ローラ63を加速させたとしても、一定速度で搬送されている基板搬送トレイ20の一部と接触している駆動ローラ63は単に滑って空回りするだけであって、ラック・ピニオン方式のように搬送不能となることはない。従って、先行する基板搬送トレイ20が完全に一定速度領域EA2へ搬送されることを待たなくとも、後続の基板搬送トレイ20をバッファチャンバ122から成膜チャンバ123へ速やかに加速させて搬送することができる。このように、本実施形態では、駆動ローラ63を用いることにより、一方の真空チャンバ150の駆動系68と他の真空チャンバ150の駆動系68との間に搬送速度の差があったとしても搬送可能であるため、追いつき制御に対応することができる。従って、効率よく基板101を搬送できることが可能となり、成膜効率を向上させることができる。以上により、基板搬送のための構造をシンプルにすることができると共に、成膜の効率を向上させることができる。   On the other hand, the substrate transport tray 20 according to the present embodiment is transported by applying a driving force by the drive roller 63. Accordingly, it is assumed that the driving roller 63 of the receiving area EA1 and the buffer chamber 122 is accelerated in a state where a part of the substrate transport tray 20 transported in the constant speed area EA2 is approaching the driving roller 63 in the receiving area EA1. However, the drive roller 63 that is in contact with a part of the substrate transport tray 20 that is transported at a constant speed is merely slid and idles, and cannot be transported unlike the rack and pinion system. Therefore, the subsequent substrate transfer tray 20 can be quickly accelerated from the buffer chamber 122 to the film forming chamber 123 and transferred without waiting for the preceding substrate transfer tray 20 to be completely transferred to the constant speed area EA2. it can. Thus, in this embodiment, by using the drive roller 63, even if there is a difference in the conveyance speed between the drive system 68 of one vacuum chamber 150 and the drive system 68 of the other vacuum chamber 150, Since it is possible, it can respond to catch-up control. Accordingly, the substrate 101 can be efficiently transferred, and the film formation efficiency can be improved. As described above, the structure for transporting the substrate can be simplified and the efficiency of film formation can be improved.

また、成膜装置100では、真空チャンバ150の上側に配置された駆動ローラ63が、基板搬送トレイ20の支持部22の下壁部32、前壁部33、上壁部34及びレール部31に囲まれる空間内に配置されることで、レール部31と接触して基板搬送トレイ20に駆動力を付与することが可能となる。このように、駆動ローラ63を支持部22内の空間に配置するだけのシンプルな構造にて、上述のような基板搬送トレイ20の効果を奏することができる。   In the film forming apparatus 100, the driving roller 63 disposed on the upper side of the vacuum chamber 150 is placed on the lower wall portion 32, the front wall portion 33, the upper wall portion 34, and the rail portion 31 of the support portion 22 of the substrate transport tray 20. By being arranged in the enclosed space, it becomes possible to apply a driving force to the substrate transport tray 20 in contact with the rail portion 31. As described above, the effect of the substrate transport tray 20 as described above can be achieved with a simple structure in which the driving roller 63 is simply disposed in the space in the support portion 22.

また、本実施形態に係る基板搬送トレイ20において、搬送方向D1におけるレール部31の端部31cは、搬送方向D1に向かうに従って幅が狭くなる形状を有している。これによって、レール部31の端部31cは、駆動ローラ63の鍔部71に干渉することなくスムーズに駆動ローラ63と接触することができる。   Moreover, in the board | substrate conveyance tray 20 which concerns on this embodiment, the edge part 31c of the rail part 31 in the conveyance direction D1 has a shape where a width | variety becomes narrow as it goes to the conveyance direction D1. As a result, the end portion 31 c of the rail portion 31 can smoothly contact the drive roller 63 without interfering with the flange portion 71 of the drive roller 63.

本実施形態に係る基板搬送トレイ20において、枠体21の下端側では、搬送方向D1における進行方向における端部27Beが、搬送方向D1に向かうに従って幅が狭くなる形状を有している。これによって、枠体21の搬送方向D1における端部27Beが、側面支持部81に干渉することなくスムーズに搬送方向へ移動することができる。   In the substrate transport tray 20 according to the present embodiment, on the lower end side of the frame body 21, the end portion 27Be in the traveling direction in the transport direction D1 has a shape whose width becomes narrower toward the transport direction D1. Accordingly, the end 27Be of the frame body 21 in the transport direction D1 can smoothly move in the transport direction without interfering with the side surface support portion 81.

本実施形態に係る基板搬送トレイ20において、本体部30は、搬送方向D1から見てコ字形状に形成されており、当該コ字形状における内面(ここでは上壁部34の下面34a)には、レール部31が取り付けられている。これによって、本体部30のコ字形状によって、レール部31に接触している駆動ローラ63を取り囲むことができる。従って、駆動ローラ63付近で発生するパーティクルを確実に受けて基板101の成膜面101eへの飛散を抑制することができる。この場合、本体部30のうち、少なくとも、下壁部32の上面32d及び端部32cと、前壁部33の内面33cと、上壁部34の下面34aの一部がパーティクル受面として機能する。このようなパーティクル受面でパーティクルを受けることにより、基板101の成膜面にパーティクルが付着すること、当たることによって成膜面の質が低下することを抑制することができる。   In the substrate transport tray 20 according to the present embodiment, the main body 30 is formed in a U-shape when viewed from the transport direction D1, and the inner surface of the U-shape (here, the lower surface 34a of the upper wall portion 34) The rail part 31 is attached. Accordingly, the U-shaped shape of the main body 30 can surround the drive roller 63 in contact with the rail portion 31. Therefore, it is possible to reliably receive particles generated in the vicinity of the driving roller 63 and to prevent the substrate 101 from being scattered on the film formation surface 101e. In this case, at least a part of the upper surface 32d and end portion 32c of the lower wall portion 32, the inner surface 33c of the front wall portion 33, and the lower surface 34a of the upper wall portion 34 of the main body portion 30 function as a particle receiving surface. . By receiving particles on such a particle receiving surface, it is possible to prevent the particles from adhering to the film forming surface of the substrate 101 and from deteriorating the quality of the film forming surface by hitting.

本実施形態に係る成膜装置100において、駆動ローラ63によって基板搬送トレイ20を支持し、駆動力を付与するときに、基板搬送トレイ20の下端部は、真空チャンバの底側の構造物から、上下方向において離間している。このように、基板搬送トレイ20の重みを真空チャンバ150の上側の駆動ローラ63でぶら下げて支持するような構造とすることで、熱などにより基板搬送トレイ20が上下方向に伸びた場合の搬送への影響を無くすことができる。また、例えば、基板搬送トレイ20の下側で重みを支持する場合は、基板搬送トレイ20の支持点よりも上側に基板搬送トレイ20の重心が位置するため、不安定(振動が発生しやすい状態)になる。また、基板搬送トレイ20を下側で支持すると、基板搬送トレイ20が自重に耐えなければならない(自重による曲げに耐えなければならない)ため、強度を高くする必要がある。しかし、本実施形態では、真空チャンバ150の上側でのみ基板搬送トレイ20を支持することで、基板搬送トレイ20の支持部22よりも下側に重心が位置するため、安定的に支持することができる。また、基板搬送トレイ20の自重による変形を過度に考慮する必要がなくなるため強度を高くする必要がなく、基板搬送トレイ20の構造をシンプルなものとすることができる。   In the film forming apparatus 100 according to the present embodiment, when the substrate transport tray 20 is supported by the driving roller 63 and a driving force is applied, the lower end portion of the substrate transport tray 20 is separated from the structure on the bottom side of the vacuum chamber. They are separated in the vertical direction. In this way, the weight of the substrate transport tray 20 is supported by being suspended by the driving roller 63 on the upper side of the vacuum chamber 150, so that the transport when the substrate transport tray 20 extends in the vertical direction due to heat or the like is performed. The influence of can be eliminated. Further, for example, when weight is supported on the lower side of the substrate transport tray 20, the center of gravity of the substrate transport tray 20 is located above the support point of the substrate transport tray 20, and therefore unstable (a state in which vibration is likely to occur). )become. In addition, if the substrate transport tray 20 is supported on the lower side, the substrate transport tray 20 must withstand its own weight (it must withstand bending due to its own weight), and thus the strength needs to be increased. However, in this embodiment, by supporting the substrate transport tray 20 only on the upper side of the vacuum chamber 150, the center of gravity is positioned below the support portion 22 of the substrate transport tray 20, so that stable support is possible. it can. Further, since it is not necessary to excessively consider deformation due to the weight of the substrate transport tray 20, it is not necessary to increase the strength, and the structure of the substrate transport tray 20 can be simplified.

本実施形態に係る成膜装置100において、搬送部10は、基板搬送トレイ20の下端部側における両側面27Bb,27Bcを支持する側面支持部81を備えている。基板搬送トレイ20を支持している上端側とは反対側の下端部側では、厚み方向D2のふらつきが大きくなる場合があるが、側面支持部81によって当該ふらつきを抑制することができる。   In the film forming apparatus 100 according to this embodiment, the transport unit 10 includes a side surface support unit 81 that supports both side surfaces 27Bb and 27Bc on the lower end side of the substrate transport tray 20. On the lower end side opposite to the upper end side supporting the substrate transport tray 20, the wobbling in the thickness direction D <b> 2 may be increased, but the wobbling can be suppressed by the side support portion 81.

また、本実施形態に係る成膜装置100では、駆動ローラ63を真空チャンバ150の後壁部54側で支持する片持ち構造とし、このような駆動ローラ63に基板搬送トレイ20を引っ掛けるような構造である。従って、駆動関係の構造物(例えば、駆動ローラ63を支持する第2の軸受部67や駆動系68など)を基板搬送トレイ20よりも後側へ寄せておくことが可能となり、基板101の成膜面101eの上方に駆動部や摺動部を設けなくともよく、それらの構造物から膜剥がれによって発生したパーティクルが成膜面101eへ向かうことを抑制できる。   Further, in the film forming apparatus 100 according to the present embodiment, a cantilever structure in which the driving roller 63 is supported on the rear wall portion 54 side of the vacuum chamber 150 and a structure in which the substrate transport tray 20 is hooked on the driving roller 63 is provided. It is. Therefore, it is possible to move the structure related to driving (for example, the second bearing portion 67 and the driving system 68 that support the driving roller 63) to the rear side of the substrate transport tray 20. There is no need to provide a driving part or a sliding part above the film surface 101e, and particles generated by film peeling from these structures can be prevented from moving toward the film forming surface 101e.

本発明は上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、枠体の形状・大きさや駆動ローラの個数や配置等は一例に過ぎず、基板の大きさや形状、及び成膜装置の大きさやタイプなどによって適宜変更してもよい。例えば、図8に示すようなボール状のローラーユニット270を採用してもよい。それに対応して、基板搬送トレイ側の本体部270の形状も、当該ボール状のローラーに対応する形状になる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, the shape and size of the frame and the number and arrangement of the driving rollers are merely examples, and may be appropriately changed depending on the size and shape of the substrate and the size and type of the film forming apparatus. For example, a ball-shaped roller unit 270 as shown in FIG. 8 may be employed. Correspondingly, the shape of the main body 270 on the substrate transport tray side also becomes a shape corresponding to the ball-shaped roller.

10…搬送部、20…基板搬送トレイ、21…枠体、22…支持部、30…本体部(第1の部分)、31…レール部(第2の部分)、61…駆動ローラ、81…側面支持部、100…成膜装置、150…真空チャンバ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Conveyance part, 20 ... Board | substrate conveyance tray, 21 ... Frame, 22 ... Support part, 30 ... Main-body part (1st part), 31 ... Rail part (2nd part), 61 ... Drive roller, 81 ... Side support part, 100 ... film forming apparatus, 150 ... vacuum chamber.

本発明に係る基板搬送トレイにおいて、搬送方向における第2の部分の端部は、搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有してよい。第2の部分は、搬送のための駆動力を付与する駆動ローラと接触するが、駆動ローラは、第2の部分を支持するために厚み方向における両端側に鍔部を有する場合がある。このような場合に、第2の部分の端部が搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有することにより、第2の部分の端部は、駆動ローラの鍔部に干渉することなくスムーズに駆動ローラと接触することができる。 In the substrate transport tray according to the present invention, the end of the second portion in the transport direction may have a shape whose width becomes narrower toward the transport direction. The second portion comes into contact with a driving roller that applies a driving force for conveyance, but the driving roller may have flanges on both ends in the thickness direction in order to support the second portion . In such a case, the end portion of the second portion has a shape that becomes narrower as it goes in the transport direction, so that the end portion of the second portion can smoothly move without interfering with the flange portion of the drive roller. Can contact the drive roller.

本発明に係る基板搬送トレイにおいて、第1の部分は、搬送方向から見てコ字形状に形成されており、当該コ字形状における内面には、第2の部分が取り付けられていてよい。これによって、第1の部分のコ字形状によって、第2の部分に接触している駆動ローラを取り囲むことができる。従って、駆動ローラ付近で発生するパーティクルを確実に受けて飛散を抑制することができる。 In the substrate transport tray according to the present invention, the first portion is formed in a U shape when viewed from the transport direction, and the second portion may be attached to the inner surface of the U shape. As a result, the U-shape of the first portion can surround the drive roller that is in contact with the second portion. Therefore, the particles generated in the vicinity of the drive roller can be reliably received and scattering can be suppressed.

チャンバ121〜125には、内部を適切な圧力とするための真空ポンプ(不図示)が接続されている。また、各チャンバ121〜125には、チャンバ内の圧力を監視するための真空計(不図示)が設置されている。各チャンバ121〜125には、真空ポンプに接続された真空排気管が連通され、この真空排気管に真空計が設置されている。 Each chamber 121 to 125 is connected to a vacuum pump (not shown) for setting the inside to an appropriate pressure. Each chamber 121-125 is provided with a vacuum gauge (not shown) for monitoring the pressure in the chamber. Each chamber 121-125 is connected to a vacuum exhaust pipe connected to a vacuum pump, and a vacuum gauge is installed in the vacuum exhaust pipe.

成膜装置100には、基板101を保持する基板搬送トレイ20を搬送するための搬送部10が設けられている。搬送部10は、チャンバ121〜125内で、基板101及び基板搬送トレイ20を直立させた状態で搬送する機能を有している。なお、搬送部10及び基板搬送トレイ20の詳細な構成については、後述する。 The film forming apparatus 100 is provided with a transport unit 10 for transporting the substrate transport tray 20 that holds the substrate 101. The transport unit 10 has a function of transporting the substrate 101 and the substrate transport tray 20 in an upright state in the chambers 121 to 125. The detailed configuration of the transport unit 10 and the substrate transport tray 20 will be described later.

図5を参照して、搬送部10の下部構造61の詳細な構造について説明する。図5に示す下部構造61は、基板搬送トレイ20の下端部側における厚み方向D2に対向する両側面を支持する側面支持部81と、側面支持部81を固定するための台座部82と、を備えている。なお、下部構造61では、側面支持部81及び台座部82の組が、互いに所定の間隔をあけて搬送方向D1に沿って複数設けられている(図2参照)。 With reference to FIG. 5, the detailed structure of the lower structure 61 of the conveyance part 10 is demonstrated. The lower structure 61 shown in FIG. 5 includes a side support part 81 that supports both side faces facing the thickness direction D2 on the lower end part side of the substrate transport tray 20, and a pedestal part 82 for fixing the side support part 81. I have. Note that, in the lower structure 61, a plurality of sets of the side surface support portions 81 and the pedestal portions 82 are provided along the transport direction D1 with a predetermined interval therebetween (see FIG. 2).

Claims (7)

基板の厚み方向と交差する搬送方向に前記基板を搬送するときに、前記基板を保持可能な成膜装置用の基板搬送トレイであって、
前記基板を取り付け可能な枠体と、
前記枠体の一端側に設けられ、搬送時に前記枠体を支持する支持部と、を備え、
前記支持部は、
前記枠体の前記一端側に接続され、少なくとも前記枠体の厚み方向に延びる第1の部分と、
搬送のための駆動力を付与する駆動ローラと接触する第2の部分と、を有する基板搬送トレイ。
A substrate transport tray for a film forming apparatus capable of holding the substrate when transporting the substrate in a transport direction intersecting a thickness direction of the substrate,
A frame to which the substrate can be attached;
A support portion that is provided on one end side of the frame body and supports the frame body during transportation;
The support part is
A first portion connected to the one end side of the frame body and extending at least in the thickness direction of the frame body;
A substrate transport tray having a second portion in contact with a driving roller for applying a driving force for transport.
前記搬送方向における前記第2の部分の端部は、前記搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有する、請求項1に記載の基板搬送トレイ。   2. The substrate transport tray according to claim 1, wherein an end portion of the second portion in the transport direction has a shape whose width becomes narrower toward the transport direction. 前記枠体の他端側では、前記搬送方向における端部が、前記搬送方向に向かうに従って幅が狭くなる形状を有する、請求項1又は2に記載の基板搬送トレイ。   3. The substrate transport tray according to claim 1, wherein, on the other end side of the frame body, an end portion in the transport direction has a shape whose width becomes narrower toward the transport direction. 前記第1の部分は、前記搬送方向から見てコ字形状に形成されており、当該コ字形状における内面には、前記第2の部材が取り付けられている、請求項1〜3の何れか一項に記載の基板搬送トレイ。   The first portion is formed in a U shape when viewed from the transport direction, and the second member is attached to an inner surface of the U shape. The substrate transfer tray according to one item. 請求項1〜4の何れか一項に記載された基板搬送トレイ、及び前記基板搬送トレイで保持された状態の前記基板を収容可能な真空チャンバと、
前記基板を直立させた状態又は直立させた状態から傾斜した状態で搬送する搬送部と、を備える成膜装置であって、
前記搬送部は、
前記真空チャンバの上側に配置され、前記基板搬送トレイに駆動力を付与する駆動ローラを有し、
前記駆動ローラは、前記支持部の前記第1の部分及び前記第2の部分に囲まれる空間内に配置されたときに、前記第2の部分と接触し、前記基板搬送トレイに駆動力を付与する、成膜装置。
A substrate transfer tray according to any one of claims 1 to 4, and a vacuum chamber capable of accommodating the substrate held by the substrate transfer tray;
A film forming apparatus comprising: a transfer unit configured to transfer the substrate in an upright state or in an inclined state from the upright state,
The transport unit is
A driving roller disposed on the upper side of the vacuum chamber for applying a driving force to the substrate transport tray;
When the driving roller is disposed in a space surrounded by the first portion and the second portion of the support portion, the driving roller is in contact with the second portion and applies a driving force to the substrate transport tray. A film forming apparatus.
前記駆動ローラによって前記基板搬送トレイを支持及び駆動するときに、前記基板搬送トレイの下端部は、前記真空チャンバの底側の構造物から、上下方向において離間している、請求項5に記載の成膜装置。   The lower end portion of the substrate transport tray is spaced apart in the vertical direction from the bottom structure of the vacuum chamber when the substrate transport tray is supported and driven by the drive roller. Deposition device. 前記搬送部は、
前記基板搬送トレイの下端部側における両側面を支持する側面支持部を備える、請求項5又は6に記載の成膜装置。
The transport unit is
The film-forming apparatus of Claim 5 or 6 provided with the side surface support part which supports the both sides | surfaces in the lower end part side of the said board | substrate conveyance tray.
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