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JP2014120515A - Substrate for optical semiconductor device and method of manufacturing the same, aggregate substrate, and optical semiconductor device and method of manufacturing the same - Google Patents

Substrate for optical semiconductor device and method of manufacturing the same, aggregate substrate, and optical semiconductor device and method of manufacturing the same Download PDF

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JP2014120515A
JP2014120515A JP2012272387A JP2012272387A JP2014120515A JP 2014120515 A JP2014120515 A JP 2014120515A JP 2012272387 A JP2012272387 A JP 2012272387A JP 2012272387 A JP2012272387 A JP 2012272387A JP 2014120515 A JP2014120515 A JP 2014120515A
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optical semiconductor
substrate
light emitting
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Wataru Goto
渉 後藤
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

【課題】高放熱性、高耐久性の光学半導体装置を低コストで実現するための、金属リードフレームと樹脂の剥離が無く、高強度な光学半導体装置用基板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】発光素子を搭載するための第1のリードフレームと、前記発光素子と電気的に接続される第2のリードフレームとを有する光学半導体装置用基板であって、前記第1のリードフレーム、前記第2のリードフレーム、及びこれらリードフレーム間の隙間に形成される樹脂からなる基台部と、該基台部の側面及び表面のうち前記発光素子を搭載する領域の周囲を覆う樹脂枠部とが一体成型されたものであり、前記樹脂枠部の上端の高さ位置が前記搭載する発光素子の上端より低いものであることを特徴とする光学半導体装置用基板。
【選択図】 図1
To provide a high-strength substrate for an optical semiconductor device and a method for manufacturing the same, without the separation of a metal lead frame and resin, for realizing an optical semiconductor device with high heat dissipation and high durability at low cost. Objective.
An optical semiconductor device substrate having a first lead frame for mounting a light emitting element and a second lead frame electrically connected to the light emitting element, wherein the first lead is provided. Resin that covers a frame, the second lead frame, a base portion made of resin formed in a gap between the lead frames, and a region of the side surface and surface of the base portion on which the light emitting element is mounted The substrate for an optical semiconductor device, wherein the frame portion is integrally molded, and the height position of the upper end of the resin frame portion is lower than the upper end of the light emitting element to be mounted.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、光学半導体装置用基板とその製造方法、集合基板、及び当該基板を使用した光学半導体装置とその製造方法に関する。   The present invention relates to a substrate for an optical semiconductor device, a manufacturing method thereof, a collective substrate, an optical semiconductor device using the substrate, and a manufacturing method thereof.

LED、フォトダイオード等の光学素子は、高効率であり、外部応力および環境的な影響に対する耐性が高いことから産業界において幅広く用いられている。さらに、光学素子は効率が高いことに加えて、寿命が長く、コンパクトであり、多くの異なる構造に構成することができ、比較的低い製造コストで製造できる。
特に、大量の熱を発生する高出力の光学半導体装置において、高耐熱性であると同時に、放熱性を高める構造を有することが重要である。
Optical elements such as LEDs and photodiodes are widely used in the industry because of their high efficiency and high resistance to external stresses and environmental influences. Furthermore, in addition to high efficiency, optical elements have a long lifetime, are compact, can be constructed in many different structures, and can be manufactured at relatively low manufacturing costs.
In particular, in a high-power optical semiconductor device that generates a large amount of heat, it is important to have a structure that enhances heat dissipation as well as high heat resistance.

一般に、光学半導体装置に用いられる基板はFR−4などの樹脂系の基板や、アルミナ及び窒化アルミなどのセラミック系の基板が存在する。樹脂系基板は高放熱性や高耐久性に乏しい基板であり、セラミック系基板の放熱性や耐久性は樹脂系基板に比べて優れているが高コストである。
樹脂系基板を用いた従来の光学半導体装置の一例を図5に示す。図5に示すように、従来の光学半導体装置110は、発光素子107を載置するための第1のリードフレーム102と、発光素子107と電気的に接続される第2のリードフレーム103とをトランスファーモールドにより一体成型してなる第1の樹脂成型体101と、発光素子107を被覆して封止する第2の樹脂成型体108とを有する。この第1の樹脂成型体101には底面と側面とを持つ凹部が形成されており、リフレクター構造を有している(例えば、特許文献1参照)。これら成型体には、一般的に、PPAやシリコーン樹脂といった熱硬化性樹脂が使用されている。
In general, a substrate used for an optical semiconductor device includes a resin substrate such as FR-4 and a ceramic substrate such as alumina and aluminum nitride. The resin substrate is a substrate with poor heat dissipation and high durability, and the heat dissipation and durability of the ceramic substrate is superior to the resin substrate, but is high in cost.
An example of a conventional optical semiconductor device using a resin substrate is shown in FIG. As shown in FIG. 5, the conventional optical semiconductor device 110 includes a first lead frame 102 for placing the light emitting element 107 and a second lead frame 103 electrically connected to the light emitting element 107. It has the 1st resin molding 101 formed by integral molding by transfer molding, and the 2nd resin molding 108 which coat | covers and seals the light emitting element 107. FIG. The first resin molded body 101 has a recess having a bottom surface and a side surface, and has a reflector structure (see, for example, Patent Document 1). In general, thermosetting resins such as PPA and silicone resin are used for these molded bodies.

特許第4608294号Japanese Patent No. 4608294

しかし、リフレクター構造と金属リードフレームを一体成型する樹脂系基板は、金属リードフレームと特にリフレクター構造部分の樹脂の剥離が発生し易くなるので、品質面に問題が発生することがある。
また、ディゲート時における基板クラックを抑制するために基板の強度を確保する必要がある。
However, the resin-based substrate in which the reflector structure and the metal lead frame are integrally molded is liable to cause peeling of the resin between the metal lead frame and particularly the reflector structure portion, which may cause a problem in quality.
In addition, it is necessary to ensure the strength of the substrate in order to suppress substrate cracks during degate.

本発明は前述のような問題に鑑みてなされたもので、高放熱性、高耐久性の光学半導体装置を低コストで実現するための、金属リードフレームと樹脂の剥離が無く、高強度な光学半導体装置用基板とその製造方法、及びその光学半導体装置用基板が集合した集合基板を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and is a high-strength optical device that is free from peeling of a metal lead frame and a resin for realizing an optical semiconductor device having high heat dissipation and high durability at low cost. An object of the present invention is to provide a substrate for a semiconductor device, a manufacturing method thereof, and an aggregate substrate in which the substrates for an optical semiconductor device are aggregated.

上記目的を達成するために、本発明によれば、発光素子を搭載するための第1のリードフレームと、前記発光素子と電気的に接続される第2のリードフレームとを有する光学半導体装置用基板であって、前記第1のリードフレーム、前記第2のリードフレーム、及びこれらリードフレーム間の隙間に形成される樹脂からなる基台部と、該基台部の側面及び表面のうち前記発光素子を搭載する領域の周囲を覆う樹脂枠部とが一体成型されたものであり、前記樹脂枠部の上端の高さ位置が前記搭載する発光素子の上端より低いものであることを特徴とする光学半導体装置用基板が提供される。   In order to achieve the above object, according to the present invention, an optical semiconductor device having a first lead frame for mounting a light emitting element and a second lead frame electrically connected to the light emitting element. A base portion made of a resin formed in the first lead frame, the second lead frame, and a gap between the lead frames, and the light emission of the side surface and the surface of the base portion. A resin frame portion that covers the periphery of the region where the element is mounted is integrally molded, and the height position of the upper end of the resin frame portion is lower than the upper end of the light emitting element to be mounted. An optical semiconductor device substrate is provided.

このようなものであれば、樹脂枠部とリードフレームが剥離してしまうのを大幅に抑制でき、高強度な光学半導体装置用基板となる。また、金属と樹脂を複合化した基台部を有するものであるので、放熱性、強度が向上されたものとなるし、セラミック系の基板に比べて低コストである。さらに、発光素子が金属フレーム上に搭載されるので、発光素子から発生する熱による樹脂部分の分解、変色を抑制できるものとなる。これを用いて高放熱性、高耐久性の光学半導体装置を低コストで実現できる。また、樹脂枠部の上端の高さ位置が発光素子の上端よりも低いので、発光素子の横サイドから発光する光を効率良く取り出すことが可能となる。   If it is such, it can suppress significantly that a resin frame part and a lead frame peel, and it becomes a high intensity | strength board | substrate for optical semiconductor devices. Further, since it has a base portion in which a metal and a resin are combined, heat dissipation and strength are improved, and the cost is lower than that of a ceramic substrate. Furthermore, since the light emitting element is mounted on the metal frame, decomposition and discoloration of the resin portion due to heat generated from the light emitting element can be suppressed. Using this, an optical semiconductor device having high heat dissipation and high durability can be realized at low cost. In addition, since the height position of the upper end of the resin frame portion is lower than the upper end of the light emitting element, it is possible to efficiently extract light emitted from the lateral side of the light emitting element.

このとき、前記基台部と樹脂枠部とがトランスファーモールドによって一体成型されたものであることが好ましい。
このようなものであれば、基台部の反りや樹脂バリが効果的に低減されたものとなるし、複雑な形状の第1及び第2のリードフレームを用いて一体成型された光学半導体装置用基板を構成できる。
At this time, it is preferable that the base portion and the resin frame portion are integrally formed by transfer molding.
In such a case, warpage of the base portion and resin burrs are effectively reduced, and an optical semiconductor device integrally molded using the first and second lead frames having complicated shapes. A substrate can be configured.

またこのとき、前記基台部の樹脂及び/又は前記樹脂枠部は熱硬化性樹脂からなるものであることが好ましい。
このようなものであれば、耐熱性及び強度に優れたものとなるし、封止材との密着性を高めることができる。
Moreover, at this time, it is preferable that the resin of the said base part and / or the said resin frame part consist of thermosetting resins.
If it is such, it will become the thing excellent in heat resistance and intensity | strength, and can improve adhesiveness with a sealing material.

またこのとき、前記基台部の樹脂及び/又は前記樹脂枠部は酸化チタン、又は酸化アルミニウムを含むものであることが好ましい。
このようなものであれば、耐熱性に優れ、高光束なものとなる。
Moreover, it is preferable at this time that the resin of the said base part and / or the said resin frame part contain a titanium oxide or an aluminum oxide.
If it is such, it will be excellent in heat resistance and will have a high luminous flux.

またこのとき、前記基台部に、表面から裏面にかけて厚さ方向に全て樹脂から成る部分と、一部が樹脂他の一部が金属から成る部分と、全て金属から成る部分とを有するものであることが好ましい。
このようなものであれば、放熱性及び強度により優れたものとなる。
Further, at this time, the base portion has a part made of resin in the thickness direction from the front surface to the back surface, a part made of resin partly made of metal, and a part made entirely of metal. Preferably there is.
If it is such, it will become more excellent in heat dissipation and intensity | strength.

またこのとき、前記樹脂枠部の前記基台部表面を覆う部分が前記搭載する発光素子を封止材で封止する領域の内側まで伸長したものであることが好ましい。
このようなものであれば、樹脂枠部の剥離をより確実に抑制できると共に、この光学半導体装置用基板を用いて製造する光学半導体装置の封止材と樹脂枠部との接合強度をより高めることができる。
Moreover, it is preferable at this time that the part which covers the said base part surface of the said resin frame part is extended to the inner side of the area | region which seals the said light emitting element to mount with a sealing material.
If it is such, while peeling of a resin frame part can be suppressed more reliably, the joint strength of the sealing material and resin frame part of the optical semiconductor device manufactured using this board | substrate for optical semiconductor devices is raised more. be able to.

また、本発明によれば、上記本発明の光学半導体装置用基板が集合した集合基板であって、前記集合基板の外周には前記集合した光学半導体装置用基板を取り囲むガイドフレーム部を有し、該ガイドフレーム部には、前記一体成型する際に使用する金型のゲート部又はエアベント部に隣接する位置に樹脂ダム構造を有することを特徴とする集合基板が提供される。   According to the present invention, there is provided a collective substrate in which the optical semiconductor device substrates of the present invention are assembled, and the outer periphery of the collective substrate has a guide frame portion surrounding the assembled optical semiconductor device substrate, In the guide frame portion, there is provided a collective substrate characterized by having a resin dam structure at a position adjacent to a gate portion or an air vent portion of a mold used for the integral molding.

このような集合基板であれば、集合基板の強度が向上するだけでなく、ディゲート時における集合基板上へのゲート残りの防止や、集合した光学半導体装置用基板への発光素子の一括封止を可能とするものとなる。これにより、集合基板の低コスト化や品質向上だけでなく、発光素子の色ばらつきを低減することが可能となる。
Such a collective substrate not only improves the strength of the collective substrate, but also prevents the gate from remaining on the collective substrate at the time of degate, and collective sealing of light emitting elements to the aggregated optical semiconductor device substrate. It will be possible. Thereby, not only cost reduction and quality improvement of the collective substrate but also color variation of the light emitting elements can be reduced.

また、本発明によれば、光学半導体装置であって、上記本発明の光学半導体装置用基板又は集合基板の前記第1のリードフレームに発光素子が搭載され、該搭載された発光素子が封止材により封止されたものであることを特徴とする光学半導体装置が提供される。
このようなものであれば、高放熱性、高耐久性の低コストな光学半導体装置となる。
According to the present invention, there is provided an optical semiconductor device, wherein a light emitting element is mounted on the first lead frame of the optical semiconductor device substrate or the collective substrate of the present invention, and the mounted light emitting element is sealed. An optical semiconductor device is provided which is sealed with a material.
If it is such, it will become a low-cost optical semiconductor device with high heat dissipation and high durability.

また、本発明によれば、発光素子を搭載するための第1のリードフレームと、前記発光素子と電気的に接続される第2のリードフレームとを有する光学半導体装置用基板の製造方法であって、前記第1のリードフレーム、前記第2のリードフレーム、及びこれらリードフレーム間の隙間に形成される樹脂からなる基台部と、該基台部の側面及び表面のうち前記搭載する発光素子を搭載する領域の周囲を覆う樹脂枠部とを、前記樹脂枠部の上端の高さ位置が前記搭載する発光素子の上端より低くなるように一体成型する工程を含むことを特徴とする光学半導体装置用基板の製造方法が提供される。   In addition, according to the present invention, there is provided a method for manufacturing a substrate for an optical semiconductor device, comprising: a first lead frame for mounting a light emitting element; and a second lead frame electrically connected to the light emitting element. The first lead frame, the second lead frame, a base portion made of resin formed in a gap between the lead frames, and the light emitting element to be mounted among the side surfaces and the surface of the base portion An optical semiconductor comprising a step of integrally molding a resin frame portion covering a periphery of a region where the optical frame is mounted so that a height position of an upper end of the resin frame portion is lower than an upper end of the light emitting element to be mounted A method of manufacturing a device substrate is provided.

このような製造方法であれば、樹脂枠部とリードフレームの剥離が大幅に抑制された高強度な光学半導体装置用基板を製造できる。また、この光学半導体装置用基板は発光素子の横サイドから発光する光を効率良く取り出すことが可能である。また、金属と樹脂を複合化して基板を製造するので、放熱性、強度を向上できるし、セラミック系の基板を用いる方法に比べて低コストで製造できる。さらに、発光素子が金属フレーム上に搭載されるので、発光素子から発生する熱による樹脂部分の分解、変色を抑制できる光学半導体装置用基板を製造できる。これを用いて高放熱性、高耐久性の光学半導体装置を低コストで製造できる。   With such a manufacturing method, it is possible to manufacture a high-strength substrate for an optical semiconductor device in which peeling between the resin frame portion and the lead frame is significantly suppressed. Further, this optical semiconductor device substrate can efficiently extract light emitted from the lateral side of the light emitting element. Further, since the substrate is manufactured by combining the metal and the resin, the heat dissipation and strength can be improved, and the substrate can be manufactured at a lower cost than the method using the ceramic substrate. Furthermore, since the light emitting element is mounted on the metal frame, an optical semiconductor device substrate capable of suppressing decomposition and discoloration of the resin portion due to heat generated from the light emitting element can be manufactured. By using this, an optical semiconductor device with high heat dissipation and high durability can be manufactured at low cost.

このとき、前記基台部と樹脂枠部の一体成型をトランスファーモールドによって行うことが好ましい。
このようにすれば、基板の反りや樹脂バリを効果的に低減できるし、複雑な形状の第1及び第2のリードフレームを用いても、容易に一体成型できる。
At this time, it is preferable to perform integral molding of the base portion and the resin frame portion by transfer molding.
In this way, warpage of the substrate and resin burrs can be effectively reduced, and even if the first and second lead frames having complicated shapes are used, they can be easily integrally formed.

またこのとき、前記基台部の樹脂及び/又は前記樹脂枠部を熱硬化性樹脂とすることが好ましい。
このようにすれば、耐熱性及び強度に優れ、封止材との密着性を高めた光学半導体装置用基板を製造できる。
At this time, it is preferable that the resin of the base and / or the resin frame is a thermosetting resin.
In this way, it is possible to manufacture a substrate for an optical semiconductor device that is excellent in heat resistance and strength and has improved adhesion to a sealing material.

またこのとき、前記基台部の樹脂及び/又は前記樹脂枠部に酸化チタン、又は酸化アルミニウムを含めることが好ましい。
このようにすれば、耐熱性に優れ、高光束な光学半導体装置用基板を製造できる。
At this time, it is preferable that titanium oxide or aluminum oxide is included in the resin of the base portion and / or the resin frame portion.
In this way, an optical semiconductor device substrate having excellent heat resistance and high luminous flux can be manufactured.

またこのとき、前記基台部と樹脂枠部を一体成型する工程において、前記基台部に、表面から裏面にかけて厚さ方向に全て樹脂から成る部分と、一部が樹脂他の一部が金属から成る部分と、全て金属から成る部分とを成型することが好ましい。
このようにすれば、放熱性及び強度により優れた光学半導体装置用基板を製造できる。
Further, at this time, in the step of integrally molding the base part and the resin frame part, the base part is made of resin in the thickness direction from the front surface to the back surface, and part of the resin is part of the metal. It is preferable to mold a portion made of metal and a portion made entirely of metal.
In this way, it is possible to manufacture an optical semiconductor device substrate that is more excellent in heat dissipation and strength.

またこのとき、前記基台部と樹脂枠部を一体成型する工程において、前記樹脂枠部の前記基台部表面を覆う部分を前記搭載する発光素子を封止材で封止する領域の内側まで伸長させることが好ましい。
このようにすれば、樹脂枠部の剥離をより確実に抑制できると共に、光学半導体装置の封止材と樹脂枠部との接合強度をより高めることができる光学半導体装置用基板を製造できる。
Further, at this time, in the step of integrally molding the base portion and the resin frame portion, the portion of the resin frame portion covering the surface of the base portion is inside the region where the light emitting element to be mounted is sealed with a sealing material. It is preferable to elongate.
If it does in this way, while peeling of a resin frame part can be suppressed more reliably, the board | substrate for optical semiconductor devices which can raise the joining strength of the sealing material and resin frame part of an optical semiconductor device more can be manufactured.

また、本発明によれば、光学半導体装置の製造方法であって、上記本発明の光学半導体装置用基板の製造方法により製造した光学半導体装置用基板又は上記本発明の集合基板を用い、該光学半導体装置用基板の前記第1のリードフレームに発光素子を搭載し、該搭載した発光素子を封止材により封止することを特徴とする光学半導体装置の製造方法が提供される。   According to the present invention, there is also provided a method for manufacturing an optical semiconductor device, wherein the optical semiconductor device substrate manufactured by the method for manufacturing an optical semiconductor device substrate of the present invention or the collective substrate of the present invention is used, and the optical semiconductor device is manufactured. There is provided a method for manufacturing an optical semiconductor device, wherein a light emitting element is mounted on the first lead frame of a substrate for a semiconductor device, and the mounted light emitting element is sealed with a sealing material.

このような製造方法であれば、高放熱性、高耐久性の低コストな光学半導体装置を製造できる。   With such a manufacturing method, a low-cost optical semiconductor device with high heat dissipation and high durability can be manufactured.

本発明では、光学半導体装置用基板の製造において、第1のリードフレーム、第2のリードフレーム、及びこれらリードフレーム間の隙間に形成される樹脂からなる基台部と、該基台部の側面及び表面のうち搭載する発光素子を搭載する領域の周囲を覆う樹脂枠部とを、樹脂枠部の上端の高さ位置が搭載する発光素子の上端より低くなるように一体成型するので、高放熱性、高耐久性の光学半導体装置を低コストで実現可能な、リードフレームと樹脂枠部の剥離の発生が大幅に抑制された高強度の光学半導体装置用基板及びこれを集合させた集合基板を製造できる。   In the present invention, in the manufacture of a substrate for an optical semiconductor device, a first lead frame, a second lead frame, a base portion made of resin formed in a gap between the lead frames, and a side surface of the base portion In addition, the resin frame portion that covers the periphery of the region where the light emitting element to be mounted on the surface is mounted is integrally molded so that the height position of the upper end of the resin frame portion is lower than the upper end of the light emitting element to be mounted. A high-strength optical semiconductor device substrate that can significantly reduce the occurrence of peeling between the lead frame and the resin frame, and a collective substrate obtained by assembling the same Can be manufactured.

本発明の光学半導体装置用基板の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the board | substrate for optical semiconductor devices of this invention. 本発明の集合基板の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the aggregate substrate of this invention. 本発明の光学半導体装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the optical semiconductor device of this invention. 本発明の光学半導体装置の製造方法の一例を示すフロー図である。It is a flowchart which shows an example of the manufacturing method of the optical semiconductor device of this invention. 従来の光学半導体装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the conventional optical semiconductor device.

以下、本発明について実施の形態を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
従来の光学半導体装置の製造において、上記したように、リードフレームとリフレクター構造を樹脂で一体成型する際にリードフレームと樹脂の剥離や基板強度不足が発生するという問題がある。そこで、本発明者はこの問題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、リフレクター構造を一体成型せず、第1のリードフレーム、第2のリードフレーム、及びこれらリードフレーム間の隙間に形成される樹脂からなる基台部と、該基台部の側面及び表面のうち発光素子を搭載する領域の周囲を覆う樹脂枠部とを、樹脂枠部の上端の高さ位置が搭載する発光素子の上端より低くなるように一体成型させれば、リードフレームと樹脂枠部の剥離が大幅に抑制された高強度な光学半導体装置用基板とすることができるし、この光学半導体装置用基板を樹脂枠部で連結した集合基板は強度が大幅に向上されたものとなることに想到し、本発明を完成させた。
Hereinafter, although an embodiment is described about the present invention, the present invention is not limited to this.
In the manufacture of the conventional optical semiconductor device, as described above, there is a problem that when the lead frame and the reflector structure are integrally molded with resin, the lead frame and the resin are peeled off or the substrate strength is insufficient. Therefore, the present inventor has intensively studied to solve this problem. As a result, the reflector structure is not integrally molded, and the first lead frame, the second lead frame, and the base portion made of resin formed in the gap between the lead frames, and the side surface and the surface of the base portion If the resin frame portion that covers the periphery of the region where the light emitting element is mounted is integrally molded so that the height position of the upper end of the resin frame portion is lower than the upper end of the light emitting element to be mounted, the lead frame and the resin frame It is possible to obtain a high-strength substrate for an optical semiconductor device in which peeling of the portion is greatly suppressed, and the aggregate substrate in which the optical semiconductor device substrate is connected by a resin frame portion has a significantly improved strength. In view of this, the present invention has been completed.

まず、本発明の光学半導体装置用基板について説明する。
図1に示すように、本発明の光学半導体装置用基板1は、第1のリードフレーム2、第2のリードフレーム3、及びこれらリードフレーム間の隙間に形成された樹脂6からなる基台部4と、樹脂枠部5とが一体成型されたものである。
第1のリードフレーム2及び第2のリードフレーム3の材質は金属であり、例えば、銅合金、アルミ合金、鉄合金などとすることができる。第1のリードフレーム2の上には、後述する光学半導体装置の製造時に発光素子が搭載される。この発光素子の搭載領域12は第1のリードフレーム2、すなわち金属が露出している部分である。第2のリードフレーム3は光学半導体装置の製造時に発光素子と電気的に接続される。
First, the substrate for an optical semiconductor device of the present invention will be described.
As shown in FIG. 1, an optical semiconductor device substrate 1 according to the present invention includes a first lead frame 2, a second lead frame 3, and a base portion made of a resin 6 formed in a gap between the lead frames. 4 and the resin frame part 5 are integrally molded.
The material of the first lead frame 2 and the second lead frame 3 is a metal, for example, a copper alloy, an aluminum alloy, an iron alloy, or the like. A light emitting element is mounted on the first lead frame 2 when an optical semiconductor device described later is manufactured. The light emitting element mounting region 12 is the first lead frame 2, that is, a portion where the metal is exposed. The second lead frame 3 is electrically connected to the light emitting element when the optical semiconductor device is manufactured.

基台部4は、発光素子の搭載領域12が平坦になるように第1のリードフレーム2と第2のリードフレーム3とこれらリードフレーム2、3間の隙間に形成される樹脂6から構成されたものである。
樹脂枠部5は、基台部4の側面と、基台部4の表面のうち発光素子の搭載領域12の周囲を覆い、樹脂枠部5の上端の高さ位置が搭載する発光素子の上端より低いものである。すなわち、樹脂枠部5の上端の高さ位置は発光素子の上面より、例えば5〜150μmリードフレーム側に位置することができる。また、樹脂枠部5の上端の高さ位置は発光素子を搭載する第1のリードフレーム2の上面より、例えば30〜200μm突出した位置とすることができる。また、樹脂枠部5は、光学半導体装置の製造時に発光素子を封止する際の封止材の流れ止めを行う役割も果たすこともできる。
The base part 4 is composed of a first lead frame 2, a second lead frame 3, and a resin 6 formed in a gap between the lead frames 2, 3 so that the light emitting element mounting region 12 becomes flat. It is a thing.
The resin frame portion 5 covers the periphery of the light emitting element mounting region 12 on the side surface of the base portion 4 and the surface of the base portion 4, and the height position of the upper end of the resin frame portion 5 is the upper end of the light emitting element to be mounted. Is lower. That is, the height position of the upper end of the resin frame part 5 can be located, for example, on the lead frame side of 5 to 150 μm from the upper surface of the light emitting element. Moreover, the height position of the upper end of the resin frame part 5 can be made into the position which protruded, for example by 30-200 micrometers from the upper surface of the 1st lead frame 2 which mounts a light emitting element. Moreover, the resin frame part 5 can also play a role of blocking the flow of the sealing material when sealing the light emitting element during the manufacture of the optical semiconductor device.

このように、本発明の光学半導体装置用基板1は、金属と樹脂を複合化した基台部4を有し、金属フレーム上に発光素子の搭載領域を有するので、高放熱性、高強度なものとなる。また、樹脂を用いたものであるのでセラミック系の基板に比べて低コストであり、樹脂に白色系の顔料を添加することで樹脂による光の吸収を低減し反射率を高めることができる。また、光学半導体装置用基板1は、基台部のリードフレームと樹脂枠部との剥離の発生が大幅に抑制されており、高強度な光学半導体装置用基板である。さらに、発光素子が金属フレーム上に搭載されることで、発光素子から発生する熱による樹脂部分の分解、変色を抑制でき、耐久性に優れたものとなる。   As described above, the substrate 1 for an optical semiconductor device of the present invention has the base portion 4 in which a metal and a resin are combined, and has a light emitting element mounting region on the metal frame, so that it has high heat dissipation and high strength. It will be a thing. In addition, since a resin is used, the cost is lower than that of a ceramic substrate, and by adding a white pigment to the resin, absorption of light by the resin can be reduced and reflectance can be increased. The optical semiconductor device substrate 1 is a high-strength optical semiconductor device substrate in which occurrence of peeling between the lead frame of the base portion and the resin frame portion is greatly suppressed. Furthermore, by mounting the light emitting element on the metal frame, the resin portion can be prevented from being decomposed and discolored by heat generated from the light emitting element, and the durability is excellent.

また、樹脂枠部の上端の高さ位置が搭載する発光素子の上端より低いものであるので、発光素子から発光する光を高効率で活用することが可能となる。
図3に示すように、樹脂枠部5は、その基台部表面を覆う部分が搭載する発光素子を封止材8で封止する領域の内側まで伸長したものとすることもできる。このようなものであれば、樹脂枠部5の剥離をより確実に抑制できると共に、この光学半導体装置用基板を用いて製造した光学半導体装置の封止材8と樹脂枠部5との接合強度をより高めることができる。
Moreover, since the height position of the upper end of the resin frame portion is lower than the upper end of the light emitting element to be mounted, the light emitted from the light emitting element can be used with high efficiency.
As shown in FIG. 3, the resin frame portion 5 may be extended to the inside of the region where the light emitting element mounted on the portion covering the base portion surface is sealed with the sealing material 8. If it is such, while peeling of the resin frame part 5 can be suppressed more reliably, the joining strength of the sealing material 8 and the resin frame part 5 of the optical semiconductor device manufactured using this board | substrate for optical semiconductor devices is used. Can be further enhanced.

本発明の光学半導体装置用基板1を用いて、高放熱性、高耐久性の光学半導体装置を低コストで実現できる。
基台部4の樹脂6及び/又は樹脂枠部5として熱硬化性樹脂を用いることができる。これにより、耐熱性及び強度に優れたものとなる。熱硬化性樹脂は分子内に芳香族成分を有さないものが耐光性の観点から望ましい。また、樹脂6に繊維強化材を含めることができ、こうすることで、より耐熱性、強度に優れたものとなる。繊維強化材としてはガラス繊維を用いることができる。
Using the optical semiconductor device substrate 1 of the present invention, an optical semiconductor device with high heat dissipation and high durability can be realized at low cost.
A thermosetting resin can be used as the resin 6 and / or the resin frame portion 5 of the base portion 4. Thereby, it becomes the thing excellent in heat resistance and intensity | strength. A thermosetting resin having no aromatic component in the molecule is desirable from the viewpoint of light resistance. Moreover, a fiber reinforcement can be included in the resin 6, and it becomes what was more excellent in heat resistance and intensity | strength by carrying out like this. Glass fiber can be used as the fiber reinforcement.

ここで好ましく用いられる熱硬化性樹脂の例として、1)熱硬化性シリコーン樹脂組成物、2)トリアジン誘導体エポキシ樹脂、酸無水物、硬化促進剤、無機質充填剤からなる熱硬化性エポキシ樹脂組成物、3)熱硬化性のシリコーン樹脂とエポキシ樹脂からなるハイブリッド樹脂(混成樹脂)組成物などが挙げられる。しかし、樹脂6及び樹脂枠部5はこれらに限定されることはなく、最終的な光学半導体装置の使用用途に合わせて決定すれば良い。   Examples of the thermosetting resin preferably used here are 1) a thermosetting silicone resin composition, 2) a thermosetting epoxy resin composition comprising a triazine derivative epoxy resin, an acid anhydride, a curing accelerator, and an inorganic filler. 3) The hybrid resin (hybrid resin) composition etc. which consist of a thermosetting silicone resin and an epoxy resin are mentioned. However, the resin 6 and the resin frame portion 5 are not limited to these, and may be determined according to the final use application of the optical semiconductor device.

上記1)の熱硬化性シリコーン樹脂組成物としては、下記平均組成式(1)で表される縮合型熱硬化性シリコーン樹脂組成物などが代表的なものである。
Si(OR(OH)(4−a−b−c)/2 (1)
(式中、Rは同一又は異種の炭素数1〜20の有機基、Rは同一又は異種の炭素数1〜4の有機基を示し、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数である。)
このほかに付加硬化型シリコーン樹脂組成物も使用できる。
As the thermosetting silicone resin composition of 1), a condensation type thermosetting silicone resin composition represented by the following average composition formula (1) is representative.
R 1 a Si (OR 2 ) b (OH) c O (4-abc) / 2 (1)
(Wherein R 1 is the same or different organic group having 1 to 20 carbon atoms, R 2 is the same or different organic group having 1 to 4 carbon atoms, 0.8 ≦ a ≦ 1.5, 0 ≦ (b ≦ 0.3, 0.001 ≦ c ≦ 0.5, 0.801 ≦ a + b + c <2)
In addition, an addition-curable silicone resin composition can also be used.

上記2)の熱硬化性エポキシ樹脂組成物のトリアジン誘導体エポキシ樹脂としては、1,3,5−トリアジン核誘導体エポキシ樹脂が耐熱性、耐光性などの観点から好ましい。熱硬化性エポキシ樹脂組成物はトリアジン誘導体、硬化剤としての酸無水物などからなるものに限らず、従来から公知のエポキシ樹脂やアミン、フェノール硬化剤なども適宜使用しても良い。   As the triazine derivative epoxy resin of the thermosetting epoxy resin composition of the above 2), 1,3,5-triazine nucleus derivative epoxy resin is preferable from the viewpoint of heat resistance, light resistance and the like. The thermosetting epoxy resin composition is not limited to a triazine derivative and an acid anhydride as a curing agent, and conventionally known epoxy resins, amines, phenol curing agents, and the like may be used as appropriate.

上記3)のシリコーン樹脂とエポキシ樹脂の組成物には、無機充填材を配合することができる。配合される無機充填材としては、通常エポキシ樹脂組成物等に配合されるものを使用できる。例えば、溶融シリカ、結晶性シリカ等のシリカ類、アルミナ、窒化珪素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライド、ガラス繊維、ウォラステナイト等の繊維状充填材、三酸化アンチモンなどが挙げられる。これら無機充填材の平均粒径や形状は特に限定されない。   An inorganic filler can be blended in the composition of the silicone resin and the epoxy resin in the above 3). As the inorganic filler to be blended, those usually blended in an epoxy resin composition or the like can be used. Examples thereof include silicas such as fused silica and crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, glass fibers, fibrous fillers such as wollastonite, antimony trioxide, and the like. The average particle diameter and shape of these inorganic fillers are not particularly limited.

また、耐熱性及び光束性を高めるために、樹脂6及び/又は樹脂枠5に酸化チタン、又は酸化アルミニウムを含めても良い。酸化チタンとしては二酸化チタンを配合することができる。二酸化チタンは、白色着色材として、白色度を高め、光の反射効率を向上させるために配合するものであり、この二酸化チタンの単位格子はルチル型、アナタース型のどちらでも構わない。また、平均粒径や形状も限定されない。二酸化チタンは、樹脂や無機充填材との相溶性、分散性を高めるため、AlやSiなどの含水酸化物等で予め表面処理することができる。   Moreover, in order to improve heat resistance and light flux property, the resin 6 and / or the resin frame 5 may contain titanium oxide or aluminum oxide. Titanium dioxide can be blended as the titanium oxide. Titanium dioxide is blended as a white colorant to increase whiteness and improve light reflection efficiency. The unit cell of titanium dioxide may be either a rutile type or an anatase type. Also, the average particle size and shape are not limited. Titanium dioxide can be surface-treated in advance with a hydrous oxide such as Al or Si in order to enhance compatibility and dispersibility with resins and inorganic fillers.

二酸化チタンの充填量は、組成物全体の2〜30質量%、特に5〜10質量%が好ましい。2質量%以上とすれば十分な白色度が得られ、30質量%以下とすれば未充填やボイド等の成形性が低下することもない。
また、所定の機能を持たせるため、樹脂6及び/又は樹脂枠5に、フィラー、拡散材、顔料、蛍光物質、反射性物質、遮光性物質からなる群から選択される少なくとも1種類以上を混合することもできる。必要に応じて、白色レジストが一部塗布されているものであっても良い。
The filling amount of titanium dioxide is preferably 2 to 30% by mass, particularly 5 to 10% by mass based on the entire composition. When the content is 2% by mass or more, sufficient whiteness is obtained, and when the content is 30% by mass or less, moldability such as unfilling and voids is not deteriorated.
In order to have a predetermined function, at least one selected from the group consisting of a filler, a diffusing material, a pigment, a fluorescent material, a reflective material, and a light shielding material is mixed in the resin 6 and / or the resin frame 5 You can also If necessary, a part of white resist may be applied.

基台部4と樹脂枠部5はトランスファーモールドによって一体成型されたものであることが好ましい。このようなものであれば、光学半導体装置用基板1の反りや樹脂バリがより効果的に低減されたものとなる。また、複雑な形状の例えば穴や溝を有する第1及び第2のリードフレームを用いて一体成型された光学半導体装置用基板1を構成できる。
例えば、図1に示すように、基台部4が表面から裏面にかけて厚さ方向に全て樹脂から成る部分(a)と、一部が樹脂他の一部が金属から成る部分(b)と、全て金属から成る部分(c)とを有するものとして一体成型できる。
It is preferable that the base part 4 and the resin frame part 5 are integrally molded by transfer molding. If it is such, the curvature and resin burr | flash of the board | substrate 1 for optical semiconductor devices will be reduced more effectively. In addition, the optical semiconductor device substrate 1 integrally formed using the first and second lead frames having complicated shapes such as holes and grooves can be configured.
For example, as shown in FIG. 1, the base part 4 is a part (a) made entirely of resin in the thickness direction from the front surface to the back face, a part (b) partly made of resin and part of the other part made of metal, It can be integrally formed as having a part (c) made entirely of metal.

このような構造を有した基台部4であれば、強度がより向上されたものとなる。特に(b)の一部が樹脂他の一部が金属から成る部分によって樹脂と金属の接着性を向上させることができる。また、(a)の表面から裏面にかけて厚さ方向に全て樹脂から成る部分は第1リードフレームと第2リードフレーム間の絶縁体となる。また、第1のリードフレーム2における(c)の全て金属から成る部分を発光素子の搭載領域とすれば、発光素子から発生する熱を露出面から外部に効率的に放出して放熱性を向上できるし、第2のリードフレーム3における(c)の部分をワイヤボンド接続する箇所とすれば、ワイヤボンドの接着強度を向上できる。(c)の部分は基板の裏面側も金属が露出しているので、裏面側から電気接続する構成とすることもできる。   If it is the base part 4 which has such a structure, intensity | strength will be improved more. In particular, the adhesiveness between the resin and the metal can be improved by the part in which (b) is part of the resin and the other part is made of metal. Further, the part made of resin in the thickness direction from the front surface to the back surface of (a) becomes an insulator between the first lead frame and the second lead frame. In addition, if the part made of all metal (c) in the first lead frame 2 is used as the light emitting element mounting area, the heat generated from the light emitting element is efficiently released from the exposed surface to the outside to improve the heat dissipation. In addition, if the portion (c) in the second lead frame 3 is a location where wire bonding is performed, the bonding strength of the wire bonding can be improved. Since the metal is exposed also on the back side of the substrate, the part (c) can be configured to be electrically connected from the back side.

図2に本発明の集合基板を示す。図2の(b)は図2の(a)の円で囲まれた部分を拡大した図である。図2の(a)に示すように、本発明の集合基板20は、光学半導体装置用基板1が集合したもので、大面積プリント基板やMAP(マトリックスアレイパッケージ)生産方式に対応可能な集合基板の形態をとるものである。すなわち、集合基板20に複数の発光素子の搭載領域12を有し、発光素子を搭載、封止後にダイシングすることで複数の光学半導体装置を製造可能なものである。集合基板20の外周には、集合した光学半導体装置用基板1を取り囲むガイドフレーム部13を有する。また、ガイドフレーム部13には、一体成型する際に使用する金型のゲート部又はエアベント部に隣接する位置に樹脂ダム構造11を有する。   FIG. 2 shows the collective substrate of the present invention. FIG. 2B is an enlarged view of a portion surrounded by a circle in FIG. As shown in FIG. 2 (a), the collective substrate 20 of the present invention is an aggregate of substrates 1 for optical semiconductor devices, and is a collective substrate compatible with large-area printed circuit boards and MAP (matrix array package) production methods. It takes the form of That is, a plurality of light-emitting element mounting regions 12 are provided on the collective substrate 20, and a plurality of optical semiconductor devices can be manufactured by mounting the light-emitting elements and dicing after sealing. On the outer periphery of the collective substrate 20, there is a guide frame portion 13 surrounding the assembled optical semiconductor device substrate 1. Further, the guide frame portion 13 has a resin dam structure 11 at a position adjacent to a gate portion or an air vent portion of a mold used when integrally molding.

このような本発明の集合基板20は、ディゲート時における集合基板の折れやクラック、ディゲート残りを防ぐだけでなく、樹脂ダム構造11を活用することで集合搭載される発光素子の一括封止が可能となる。これにより、集合基板の低コスト化や品質向上だけでなく、発光素子の色ばらつきを低減することが可能となる。また、本発明の集合基板20は、各光学半導体装置用基板1間の連結部分に樹脂枠部5を有するものであるので、集合基板20の強度が大幅に向上されたものとなる。   The collective substrate 20 according to the present invention not only prevents the collective substrate from being bent or cracked during degate, but also prevents the remaining degate, and by using the resin dam structure 11, collective sealing of the light-emitting elements that are collectively mounted is possible. It becomes. Thereby, not only cost reduction and quality improvement of the collective substrate but also color variation of the light emitting elements can be reduced. In addition, since the collective substrate 20 of the present invention has the resin frame portion 5 at the connection portion between the substrates 1 for optical semiconductor devices, the strength of the collective substrate 20 is greatly improved.

次に、本発明の光学半導体装置用基板の製造方法について説明する。
ここでは、図1に示すような上記した本発明の光学半導体装置用基板1を製造する場合について説明する。
まず、第1及び第2のリードフレームと、これらを一体成型するための樹脂を準備する。第1及び第2のリードフレームには樹脂との接着強度を高めるためにプラズマ処理又はUVオゾン処理を実施しておくことが好ましい。
Next, the manufacturing method of the substrate for an optical semiconductor device of the present invention will be described.
Here, the case where the above-described substrate 1 for an optical semiconductor device of the present invention as shown in FIG. 1 is manufactured will be described.
First, first and second lead frames and a resin for integrally molding them are prepared. The first and second lead frames are preferably subjected to plasma treatment or UV ozone treatment in order to increase the adhesive strength with the resin.

準備した第1のリードフレーム、第2のリードフレーム、及びこれらリードフレーム間の隙間に形成される樹脂からなる基台部と、該基台部の側面及び表面のうち搭載する発光素子を搭載する領域の周囲を覆う樹脂枠部とを一体成型する。この際、樹脂枠部の上端の高さ位置が搭載する発光素子の上端より低くなるようにする。ここで、リードフレームの材質や、樹脂及び混合物は上記した本発明の光学半導体装置用基板1で説明したものと同様なものを用いることができる。   The prepared first lead frame, the second lead frame, a base portion made of resin formed in a gap between the lead frames, and a light emitting element to be mounted among the side surfaces and the surface of the base portion are mounted. A resin frame that covers the periphery of the region is integrally formed. At this time, the height position of the upper end of the resin frame portion is set to be lower than the upper end of the light emitting element to be mounted. Here, the material of the lead frame, the resin, and the mixture can be the same as those described in the optical semiconductor device substrate 1 of the present invention described above.

このようにすれば、樹脂枠部とリードフレームの剥離が大幅に抑制された高強度な光学半導体装置用基板を製造できる。また、この光学半導体装置用基板は発光素子の横サイドから発光する光を効率良く取り出すことが可能である。特に、この一体成型をトランスファーモールドによって行うことが好ましい。このようにすれば、成型時の反りや樹脂バリを効果的に低減できる。反りを低減することによって第1及び第2のリードフレームの発光素子を搭載する領域をより高精度に平坦にできる。また、第1のリードフレームと第2のリードフレームとが実質的に同一平面上となるので、発光素子の実装時の安定性を向上できる。   In this way, it is possible to manufacture a high-strength substrate for an optical semiconductor device in which peeling between the resin frame portion and the lead frame is significantly suppressed. Further, this optical semiconductor device substrate can efficiently extract light emitted from the lateral side of the light emitting element. In particular, this integral molding is preferably performed by transfer molding. If it does in this way, the curvature at the time of shaping | molding and a resin burr | flash can be reduced effectively. By reducing the warpage, the region where the light emitting elements of the first and second lead frames are mounted can be flattened with higher accuracy. Further, since the first lead frame and the second lead frame are substantially on the same plane, the stability at the time of mounting the light emitting element can be improved.

尚、成型時に樹脂バリが発生してしまった場合は、ブラスト処理やウォータジェット等のバリ取りを実施するが、上記のようにトランスファーモールドによって成型を行えば、樹脂バリの発生が大幅に低減されるので、露出する金属表面を高品質に保つことができる。   If resin burrs are generated during molding, burring such as blasting or water jet is performed. However, if molding is performed by transfer molding as described above, the generation of resin burrs is greatly reduced. Therefore, the exposed metal surface can be kept in high quality.

このような本発明の光学半導体装置用基板の製造方法で製造した光学半導体装置用基板は更に以下のような利点を有する。金属と樹脂を複合化し、発光素子の搭載領域を金属フレーム上に設けるので、放熱性、強度が向上する。また、樹脂を用いるのでセラミック系の基板を用いる方法に比べて低コストであり、樹脂に白色系の顔料を添加することで樹脂による光の吸収を低減し反射率を高めることができる。基板は反りや樹脂バリの発生が大幅に抑制されており、高品質である。さらに、発光素子の搭載領域を金属フレーム上に設けるので、発光素子から発生する熱による樹脂部分の分解、変色を抑制できる。
この製造した光学半導体装置用基板を用いて高放熱性、高耐久性の光学半導体装置を低コストで実現できる。
The optical semiconductor device substrate manufactured by the method for manufacturing an optical semiconductor device substrate of the present invention further has the following advantages. Since the metal and the resin are combined and the mounting region for the light emitting element is provided on the metal frame, the heat dissipation and the strength are improved. In addition, since a resin is used, the cost is lower than a method using a ceramic substrate, and by adding a white pigment to the resin, light absorption by the resin can be reduced and the reflectance can be increased. The generation of warpage and resin burrs is greatly suppressed, and the substrate is of high quality. Furthermore, since the light emitting element mounting region is provided on the metal frame, decomposition and discoloration of the resin portion due to heat generated from the light emitting element can be suppressed.
Using this manufactured optical semiconductor device substrate, an optical semiconductor device with high heat dissipation and high durability can be realized at low cost.

基台部と樹脂枠部を一体成型する際、図1に示すように、表面から裏面にかけて厚さ方向に全て樹脂から成る部分(a)と、一部が樹脂他の一部が金属から成る部分(b)と、全て金属から成る部分(c)とを成型することが好ましい。
このようにすれば、上記した本発明の光学半導体装置用基板1で説明したように、製造する光学半導体装置用基板を放熱性及び強度により優れたものとすることができる。
When the base part and the resin frame part are integrally molded, as shown in FIG. 1, a part (a) made entirely of resin in the thickness direction from the front surface to the back surface, and part of the resin part is made of metal. It is preferable to mold the part (b) and the part (c) made entirely of metal.
If it does in this way, as demonstrated with the board | substrate 1 for optical semiconductor devices of this invention mentioned above, the board | substrate for optical semiconductor devices to manufacture can be made more excellent by heat dissipation and intensity | strength.

この場合、(a)の部分は、準備するリードフレームに予め貫通孔を形成しておき、その貫通孔に樹脂を埋め込むようにすることで成型できる。(b)の部分は、一部が樹脂となる箇所に対応するリードフレームの部分のみを例えばエッチング処理などにより予め除去して厚さを薄くしておき、その部分に樹脂を埋め込むようにすることで成型できる。(c)の部分は、製造する基板の厚さと同じ厚さのリードフレームを準備すれば良い。
また、光束性を向上するために基板の一部を白色レジストにてコーティングすることができる。
In this case, the part (a) can be molded by previously forming a through hole in the lead frame to be prepared and embedding a resin in the through hole. For the part (b), only the part of the lead frame corresponding to the part where the part is made of resin is removed in advance by, for example, an etching process to reduce the thickness, and the resin is embedded in the part. Can be molded. For the portion (c), a lead frame having the same thickness as the substrate to be manufactured may be prepared.
In addition, a part of the substrate can be coated with a white resist in order to improve luminous properties.

次に、本発明の光学半導体装置及びその製造方法について説明する。
図3に示すように、本発明の光学半導体装置10は、本発明の光学半導体装置用基板1の第1のリードフレーム2に発光素子7が搭載され、該搭載された発光素子7が封止材8により封止されたものである。発光素子7はワイヤ9を介して第2のリードフレーム3と電気的に接続している。或いは、発光素子7が上面と下面に電極を持つ場合は、ワイヤを用いず、ダイボンディングのみで電気的に接続するものであっても良い。
Next, the optical semiconductor device and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described.
As shown in FIG. 3, in the optical semiconductor device 10 of the present invention, a light emitting element 7 is mounted on the first lead frame 2 of the optical semiconductor device substrate 1 of the present invention, and the mounted light emitting element 7 is sealed. It is sealed with the material 8. The light emitting element 7 is electrically connected to the second lead frame 3 through a wire 9. Alternatively, when the light emitting element 7 has electrodes on the upper surface and the lower surface, it may be electrically connected only by die bonding without using a wire.

このような本発明の光学半導体装置用基板を用いた光学半導体装置は放熱性、耐久性に優れ、低コストである。
光学半導体装置10は、さらに保護素子としてツェナーダイオードを有するものであっても良い。ツェナーダイオードは、発光素子と離れて発光素子と並行に載置できる。ツェナーダイオードは封止剤の内側及び外側のどちら側にも配置でき、内側に配置する際は、発光素子の配光特性を考慮しておく必要がある。
An optical semiconductor device using such a substrate for an optical semiconductor device of the present invention has excellent heat dissipation and durability, and is low in cost.
The optical semiconductor device 10 may further include a Zener diode as a protective element. The Zener diode can be placed in parallel with the light emitting element apart from the light emitting element. The Zener diode can be arranged on either the inner side or the outer side of the encapsulant, and when arranged inside, it is necessary to consider the light distribution characteristics of the light emitting element.

図4に示すように、本発明の光学半導体装置の製造方法は、上記した本発明の光学半導体装置用基板の製造方法により製造した光学半導体装置用基板又は本発明の集合基板を用い(図4の(A))、第1のリードフレーム2に発光素子7を搭載し、発光素子7と第2のリードフレーム3とをワイヤ9を介して電気的に接続する(図4の(B))。ただし、発光素子7が上面と下面に電極を持つ場合は、ワイヤを用いず、ダイボンディングのみで電気的に接続することもできる。図4では本発明の集合基板20を用いた場合の例を示している。   As shown in FIG. 4, the optical semiconductor device manufacturing method of the present invention uses the optical semiconductor device substrate manufactured by the above-described optical semiconductor device substrate manufacturing method of the present invention or the collective substrate of the present invention (FIG. 4). (A)), the light emitting element 7 is mounted on the first lead frame 2, and the light emitting element 7 and the second lead frame 3 are electrically connected through the wire 9 ((B) of FIG. 4). . However, when the light emitting element 7 has electrodes on the upper surface and the lower surface, it can be electrically connected only by die bonding without using a wire. FIG. 4 shows an example in which the collective substrate 20 of the present invention is used.

次に、搭載した発光素子7を封止材8により封止する(図4の(C))。この封止材8は、特に限定されないが、例えば熱硬化性樹脂とすることができる。封止材8による封止は、滴下やコンプレッション成型などで行うことができる。
封止材8には、蛍光物質を混合しておくことが好ましく、これにより光学半導体装置の色調整を容易に行うことができる。
Next, the mounted light emitting element 7 is sealed with a sealing material 8 ((C) of FIG. 4). Although this sealing material 8 is not specifically limited, For example, it can be set as a thermosetting resin. Sealing with the sealing material 8 can be performed by dropping or compression molding.
The sealing material 8 is preferably mixed with a fluorescent material, so that the color of the optical semiconductor device can be easily adjusted.

集合基板を用いた場合には、ダイシングによって個別のユニットに分割する(図4の(D))。この場合、集合基板をダイシングシートへの貼り付けた直後に、集合基板をシートと一緒に70℃〜90℃で5分間程度加熱することが好ましい。これにより、集合基板とダイシングシートの接着剤が馴染み、ダイシング時のチッピングを防止できる。
このように本発明の光学半導体装置用基板又は集合基板を用いて、放熱性、耐久性に優れ、低コストな光学半導体装置を製造できる。
When the aggregate substrate is used, it is divided into individual units by dicing ((D) in FIG. 4). In this case, it is preferable to heat the aggregate substrate together with the sheet at 70 ° C. to 90 ° C. for about 5 minutes immediately after the aggregate substrate is attached to the dicing sheet. Thereby, the adhesive agent of a collective substrate and a dicing sheet becomes familiar, and the chipping at the time of dicing can be prevented.
As described above, by using the optical semiconductor device substrate or the aggregate substrate of the present invention, an optical semiconductor device having excellent heat dissipation and durability and low cost can be manufactured.

以下、本発明の実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples of the present invention, but the present invention is not limited to these.

(実施例)
図3に示すような、本発明の光学半導体装置を本発明の光学半導体装置の製造方法に従って製造した。
まず、厚み0.25mmのCuベースの基材(三菱伸銅製Tamac194)を用いて、エッチング工程を通じて複数の第1のリードフレームと第2のリードフレームを形成し、Ni/Pd/Auメッキを施した金属リードフレームを作製した。金属リードフレームの表面にプラズマ処理を50W/60秒にて実施した。この金属リードフレームをトランスファー成型機にセットし、基台部と樹脂枠部とが一体成型された光学半導体装置用基板が集合した集合基板を製造した。
(Example)
The optical semiconductor device of the present invention as shown in FIG. 3 was manufactured according to the method for manufacturing an optical semiconductor device of the present invention.
First, a plurality of first and second lead frames are formed through an etching process using a 0.25 mm-thick Cu-based base material (Mitsubishi Shindoh Tamac 194), and Ni / Pd / Au plating is performed. A metal lead frame was prepared. Plasma treatment was performed on the surface of the metal lead frame at 50 W / 60 seconds. This metal lead frame was set in a transfer molding machine to produce an aggregate substrate in which substrates for an optical semiconductor device in which a base portion and a resin frame portion were integrally molded were assembled.

このとき、樹脂枠部の上端の高さ位置が、搭載する発光素子(Cree製TR350Mシリーズ 素子高さ150μm)の上端よりも低くなるようにするため、金属リードフレームの表面から120μmの位置となるようにした。
また、集合基板にはディゲート時の樹脂残りを防止するため、50mm×2mm×0.9mmの樹脂ダム構造をゲート部とエアベント部に隣接するように同時に一体成型した。
At this time, the height position of the upper end of the resin frame portion is set to be 120 μm from the surface of the metal lead frame in order to be lower than the upper end of the light emitting element to be mounted (TR350M series element height 150 μm manufactured by Cree). I did it.
In addition, a resin dam structure having a size of 50 mm × 2 mm × 0.9 mm was integrally formed on the collective substrate at the same time so as to be adjacent to the gate portion and the air vent portion in order to prevent residual resin at the time of degate.

製造した集合基台の発光素子を搭載する領域にシリコーン系ダイボンド材(信越化学製:商品名632DA−1)をスタンピング塗布した後、青色LEDチップ(Cree製TR350Mシリーズ)を搭載し、150℃4時間にてダイボンド材を硬化させた。その後、30μmの金ワイヤにてワイヤボンドを実施した。
その後、黄色蛍光体とシリコーン樹脂(信越化学製:商品名KJR−9022)を混練したインナー材を武蔵エンジニアリング製ディスペンサーにて塗布後、150℃4時間にて熱硬化させて発光素子を封止した後、光学半導体装置の集合体とした。ダイシングブレード0.2mmのフルダインシング工程にて集合体を個片化し、光学半導体装置を得た。
After stamping the silicone die bond material (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: product name 632DA-1) on the area where the light emitting device of the assembled base is to be mounted, a blue LED chip (TR350M series made by Cree) is mounted and 150 ° C. 4 The die bond material was cured over time. Thereafter, wire bonding was performed using a 30 μm gold wire.
Thereafter, an inner material kneaded with a yellow phosphor and a silicone resin (trade name: KJR-9022) was applied with a dispenser made by Musashi Engineering, and then thermally cured at 150 ° C. for 4 hours to seal the light emitting element. Later, an optical semiconductor device assembly was obtained. The assembly was separated into pieces by a full dicing process with a dicing blade of 0.2 mm to obtain an optical semiconductor device.

(比較例)
第1のリードフレームと第2のリードフレームとをリフレクター構造を有するように樹脂で一体成型した図5に示すような従来の光学半導体装置用基板に発光素子を搭載、封止した光学半導体装置を製造した。
まず、上記のリフレクター構造を有する光学半導体装置用基板が集合した集合基板を製造した。このとき、一体成型はリフレクターを成型する部分に凹部を有する上金型を用いたトランスファーモールドにより実施した。金属リードフレーム及び樹脂は実施例と同様なものを用いた。この際、集合基板には樹脂ダム構造を設けなかった。
このように製造した集合基板を用いた以外は実施例と同様にして、光学半導体装置を製造した。
(Comparative example)
An optical semiconductor device in which a light emitting element is mounted and sealed on a conventional substrate for an optical semiconductor device as shown in FIG. 5 in which a first lead frame and a second lead frame are integrally molded with resin so as to have a reflector structure. Manufactured.
First, an aggregate substrate in which the optical semiconductor device substrates having the reflector structure described above were assembled was manufactured. At this time, the integral molding was performed by transfer molding using an upper mold having a recess in a portion where the reflector was molded. The metal lead frame and the resin were the same as in the example. At this time, no resin dam structure was provided on the collective substrate.
An optical semiconductor device was manufactured in the same manner as in the example except that the aggregate substrate manufactured in this way was used.

<ディゲート残りの評価>
実施例及び比較例で光学半導体装置を製造した際のディゲート時におけるディゲート残りと基板クラックの発生状況を評価した。その結果を表1に示す。表1は評価数に対してディゲート残りが発生した回数を示している。表1に示すように、実施例ではディゲート残りや基板クラックの発生も無く、本発明の集合基板及び光学半導体装置は良好な強度と品質を保っている。これに対し、比較例ではディゲート残りや基板クラックがかなりの割合で発生してしまった。
<Evaluation of the remaining degate>
In the example and the comparative example, the remaining state of the degate and the occurrence of substrate cracks during the degate when the optical semiconductor device was manufactured were evaluated. The results are shown in Table 1. Table 1 shows the number of occurrences of delegation remaining with respect to the evaluation number. As shown in Table 1, in the examples, there is no degate residue and no substrate cracks, and the aggregate substrate and optical semiconductor device of the present invention maintain good strength and quality. On the other hand, in the comparative example, a degate residue and a substrate crack occurred at a considerable rate.

Figure 2014120515
Figure 2014120515

<樹脂枠部の剥離の評価>
実施例及び比較例において製造した光学半導体装置を外部基板に接着し、吸湿リフロー試験を実施した。温度85℃湿度60%の環境下に168時間放置し、その後260℃リフローを3回連続して実施した。その後、赤インクを滴下し24時間放置した。そして顕微鏡にてリードフレームと樹脂枠部の剥離状況を評価した。その結果を表2に示す。表2は評価数に対して剥離が発生した回数を示している。表2に示すように、実施例では剥離の発生も無く、本発明の集合基板及び光学半導体装置は外部基板と良好な接着状況を保っていた。これに対し、比較例ではリードフレームとリフレクターの剥離が発生してしまった。
<Evaluation of peeling of resin frame>
The optical semiconductor devices manufactured in Examples and Comparative Examples were bonded to an external substrate, and a moisture absorption reflow test was performed. It was left in an environment of temperature 85 ° C. and humidity 60% for 168 hours, and then 260 ° C. reflow was performed three times in succession. Thereafter, red ink was dropped and left for 24 hours. And the peeling condition of a lead frame and a resin frame part was evaluated with the microscope. The results are shown in Table 2. Table 2 shows the number of occurrences of peeling with respect to the evaluation number. As shown in Table 2, no peeling occurred in the examples, and the collective substrate and the optical semiconductor device of the present invention maintained a good adhesion state with the external substrate. On the other hand, in the comparative example, peeling of the lead frame and the reflector occurred.

Figure 2014120515
Figure 2014120515

<クラックの評価>
実施例及び比較例において製造した光学半導体装置を外部基板に接着し、熱衝撃試験(エスペック製TSE−11−A)を−40℃〜150℃、500サイクル、1,000サイクルの条件で実施し、クラック発生状況を評価した。その結果を表3に示す。表3は評価数に対してクラックが発生した回数を示している。表3に示すように、実施例ではクラックの発生も無く、本発明の光学半導体装置は外部基板と良好な接着状況を保っていた。これに対し、比較例ではクラックが発生してしまった。
<Evaluation of crack>
The optical semiconductor devices manufactured in Examples and Comparative Examples were bonded to an external substrate, and a thermal shock test (ESPEC TSE-11-A) was performed under the conditions of -40 ° C to 150 ° C, 500 cycles, and 1,000 cycles. The crack generation situation was evaluated. The results are shown in Table 3. Table 3 shows the number of cracks generated with respect to the evaluation number. As shown in Table 3, no crack was generated in the examples, and the optical semiconductor device of the present invention maintained a good adhesion state with the external substrate. On the other hand, cracks occurred in the comparative example.

Figure 2014120515
Figure 2014120515

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

1…光学半導体装置用基板、 2…第1のリードフレーム、
3…第2のリードフレーム、 4…基台部、 5…樹脂枠部、
6…樹脂、 7…発光素子、 8…封止材、 9…ワイヤ、
10…光学半導体装置、 11…樹脂ダム構造、 12…発光素子の載置領域、
13…ガイドフレーム部、 20…集合基板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate for optical semiconductor devices, 2 ... 1st lead frame,
3 ... 2nd lead frame, 4 ... Base part, 5 ... Resin frame part,
6 ... Resin, 7 ... Light emitting element, 8 ... Sealing material, 9 ... Wire,
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Optical semiconductor device, 11 ... Resin dam structure, 12 ... Mounting area of light emitting element,
13: guide frame portion, 20 ... collective substrate.

Claims (15)

発光素子を搭載するための第1のリードフレームと、前記発光素子と電気的に接続される第2のリードフレームとを有する光学半導体装置用基板であって、
前記第1のリードフレーム、前記第2のリードフレーム、及びこれらリードフレーム間の隙間に形成される樹脂からなる基台部と、該基台部の側面及び表面のうち前記発光素子を搭載する領域の周囲を覆う樹脂枠部とが一体成型されたものであり、前記樹脂枠部の上端の高さ位置が前記搭載する発光素子の上端より低いものであることを特徴とする光学半導体装置用基板。
An optical semiconductor device substrate comprising a first lead frame for mounting a light emitting element and a second lead frame electrically connected to the light emitting element,
The first lead frame, the second lead frame, a base portion made of resin formed in a gap between the lead frames, and a region where the light emitting element is mounted on the side surface and the surface of the base portion An optical semiconductor device substrate characterized in that a resin frame portion covering the periphery of the optical frame is integrally molded, and the height position of the upper end of the resin frame portion is lower than the upper end of the light emitting element to be mounted. .
前記基台部と樹脂枠部とがトランスファーモールドによって一体成型されたものであることを特徴とする請求項1に記載の光学半導体装置用基板。   The substrate for an optical semiconductor device according to claim 1, wherein the base portion and the resin frame portion are integrally formed by transfer molding. 前記基台部の樹脂及び/又は前記樹脂枠部は熱硬化性樹脂からなるものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学半導体装置用基板。   3. The substrate for an optical semiconductor device according to claim 1, wherein the resin of the base portion and / or the resin frame portion is made of a thermosetting resin. 前記基台部の樹脂及び/又は前記樹脂枠部は酸化チタン、又は酸化アルミニウムを含むものであることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の光学半導体装置用基板。   4. The substrate for an optical semiconductor device according to claim 1, wherein the resin of the base portion and / or the resin frame portion includes titanium oxide or aluminum oxide. 5. 前記基台部に、表面から裏面にかけて厚さ方向に全て樹脂から成る部分と、一部が樹脂他の一部が金属から成る部分と、全て金属から成る部分とを有するものであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の光学半導体装置用基板。   The base portion has a part made of resin in the thickness direction from the front surface to the back surface, a part of the resin part of the other part made of metal, and a part made of metal. The substrate for an optical semiconductor device according to any one of claims 1 to 4. 前記樹脂枠部の前記基台部表面を覆う部分が前記搭載する発光素子を封止材で封止する領域の内側まで伸長したものであることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の光学半導体装置用基板。   The portion of the resin frame portion covering the surface of the base portion extends to the inside of a region where the light emitting element to be mounted is sealed with a sealing material. The substrate for an optical semiconductor device according to claim 1. 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の光学半導体装置用基板が集合した集合基板であって、
前記集合基板の外周には前記集合した光学半導体装置用基板を取り囲むガイドフレーム部を有し、該ガイドフレーム部には、前記一体成型する際に使用する金型のゲート部又はエアベント部に隣接する位置に樹脂ダム構造を有することを特徴とする集合基板。
An aggregate substrate in which the substrates for an optical semiconductor device according to any one of claims 1 to 6 are assembled,
A guide frame portion surrounding the assembled optical semiconductor device substrate is provided on an outer periphery of the collective substrate, and the guide frame portion is adjacent to a gate portion or an air vent portion of a mold used for the integral molding. A collective substrate having a resin dam structure at a position.
光学半導体装置であって、
請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の光学半導体装置用基板又は請求項7に記載の集合基板の前記第1のリードフレームに発光素子が搭載され、該搭載された発光素子が封止材により封止されたものであることを特徴とする光学半導体装置。
An optical semiconductor device,
A light emitting element is mounted on the first lead frame of the optical semiconductor device substrate according to any one of claims 1 to 6 or the collective substrate according to claim 7, and the mounted light emitting element is mounted on the first lead frame. An optical semiconductor device which is sealed with a sealing material.
発光素子を搭載するための第1のリードフレームと、前記発光素子と電気的に接続される第2のリードフレームとを有する光学半導体装置用基板の製造方法であって、
前記第1のリードフレーム、前記第2のリードフレーム、及びこれらリードフレーム間の隙間に形成される樹脂からなる基台部と、該基台部の側面及び表面のうち前記搭載する発光素子を搭載する領域の周囲を覆う樹脂枠部とを、前記樹脂枠部の上端の高さ位置が前記搭載する発光素子の上端より低くなるように一体成型する工程を含むことを特徴とする光学半導体装置用基板の製造方法。
A method for manufacturing a substrate for an optical semiconductor device, comprising: a first lead frame for mounting a light emitting element; and a second lead frame electrically connected to the light emitting element.
Mounting the first lead frame, the second lead frame, a base portion made of resin formed in a gap between the lead frames, and the light emitting element to be mounted among the side surfaces and the surface of the base portion A step of integrally molding a resin frame portion covering the periphery of the region to be mounted so that the height position of the upper end of the resin frame portion is lower than the upper end of the light emitting element to be mounted. A method for manufacturing a substrate.
前記基台部と樹脂枠部の一体成型をトランスファーモールドによって行うことを特徴とする請求項9に記載の光学半導体装置用基板の製造方法。   10. The method for manufacturing a substrate for an optical semiconductor device according to claim 9, wherein the base part and the resin frame part are integrally molded by transfer molding. 前記基台部の樹脂及び/又は前記樹脂枠部を熱硬化性樹脂とすることを特徴とする請求項9又は請求項10に記載の光学半導体装置用基板の製造方法。   The method for manufacturing a substrate for an optical semiconductor device according to claim 9 or 10, wherein the resin of the base portion and / or the resin frame portion is a thermosetting resin. 前記基台部の樹脂及び/又は前記樹脂枠部に酸化チタン、又は酸化アルミニウムを含めることを特徴とする請求項9乃至請求項11のいずれか1項に記載の光学半導体装置用基板の製造方法。   The method for manufacturing a substrate for an optical semiconductor device according to claim 9, wherein titanium oxide or aluminum oxide is included in the resin and / or the resin frame portion of the base portion. . 前記基台部と樹脂枠部を一体成型する工程において、前記基台部に、表面から裏面にかけて厚さ方向に全て樹脂から成る部分と、一部が樹脂他の一部が金属から成る部分と、全て金属から成る部分とを成型することを特徴とする請求項9乃至請求項12のいずれか1項に記載の光学半導体装置用基板の製造方法。   In the step of integrally molding the base part and the resin frame part, the base part includes a part made entirely of resin in the thickness direction from the front surface to the back surface, a part made of resin and a part made of metal. The method for manufacturing a substrate for an optical semiconductor device according to claim 9, wherein a portion made entirely of metal is molded. 前記基台部と樹脂枠部を一体成型する工程において、前記樹脂枠部の前記基台部表面を覆う部分を前記搭載する発光素子を封止材で封止する領域の内側まで伸長させることを特徴とする請求項9乃至請求項13のいずれか1項に記載の光学半導体装置用基板の製造方法。   In the step of integrally molding the base portion and the resin frame portion, extending the portion covering the surface of the base portion of the resin frame portion to the inside of the region where the light emitting element to be mounted is sealed with a sealing material The method for manufacturing a substrate for an optical semiconductor device according to any one of claims 9 to 13, characterized in that: 光学半導体装置の製造方法であって、
請求項9乃至請求項14のいずれか1項に記載の光学半導体装置用基板の製造方法により製造した光学半導体装置用基板又は請求項7に記載の集合基板を用い、該光学半導体装置用基板の前記第1のリードフレームに発光素子を搭載し、該搭載した発光素子を封止材により封止することを特徴とする光学半導体装置の製造方法。
A method for manufacturing an optical semiconductor device, comprising:
An optical semiconductor device substrate manufactured by the method for manufacturing an optical semiconductor device substrate according to any one of claims 9 to 14 or the aggregate substrate according to claim 7, wherein the optical semiconductor device substrate A method of manufacturing an optical semiconductor device, wherein a light emitting element is mounted on the first lead frame, and the mounted light emitting element is sealed with a sealing material.
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