JP2014106249A - 偏光子およびその製造方法、表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光拡散部が剥離し難く、かつ、最表面における反射光を均一にする偏光子およびその製造方法、偏光子を備えた表示装置を提供する。
【解決手段】光透過性を有する基材２１と、基材２１の一面２１ａに形成された光拡散部２３と、基材２１の一面２１ａにおいて、光拡散部２３の形成領域以外の領域に形成された遮光層２２と、を備え、光拡散部２３が、基材２１側に光射出端面２３ｂを有するとともに基材２１側と反対側に光射出端面２３ｂの面積よりも大きい面積の光入射端面２３ａを有し、光拡散部２３の光入射端面２３ａから光射出端面２３ｂまでの高さが遮光層２２の層厚よりも大きく、光拡散部２３の光入射端面２３ａと第２偏光板２５が光学接着され、光拡散部２３の厚さ方向に沿う端面と第２偏光板２５の厚さ方向に沿う端面とが概ね合っている偏光子１５。
【選択図】図２

Description

本発明は、偏光子およびその製造方法、偏光子を備えた表示装置に関する。

携帯電話機等をはじめとする携帯型電子機器、テレビジョン、パーソナルコンピューター等のディスプレイとして、液晶表示装置が広く用いられている。一般に、液晶表示装置は、正面からの視認性に優れる反面、視野角が狭い。そのため、視野角を広げるための様々な工夫がなされている。その一つとして、液晶パネル等の表示体から射出される光の拡散角度を制御するための部材（以下、光拡散部材と称する）を表示体の視認側に備える構成が提案されている。

このような光拡散部材は、逆テーパ形状の光拡散部を有する光制御フィルムを作製し、この光制御フィルムの上下を反転させて、下側（光入射側）から順に、指向性バックライト、偏光板、粘着層、ガラス基板、液晶表示素子、ガラス基板、偏光板、粘着層、光拡散部材となるように配置されて、液晶表示装置を構成している（例えば、特許文献１参照）。

国際公開第２０１２／１１８１３７号

このような構成の液晶表示装置では、光拡散部材の面積が、偏光板の面積よりも大きい場合、光拡散部材の端部（外縁部）が偏光板よりも出っ張ってしまい、その出っ張り部分が引っ掛かって、光拡散部材が剥離するおそれがあった。一方、光拡散部材の面積が、偏光板の面積よりも小さい場合、偏光板の最表面において、光拡散部材に覆われていない部分が存在するため、光拡散部材に覆われている部分と覆われていない部分では、反射光に違いが生じて、見栄えが悪くなるという問題があった。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、光拡散部が剥離し難く、かつ、最表面における反射光を均一にする偏光子およびその製造方法、偏光子を備えた表示装置を提供することを目的とする。

本発明の偏光子は、光透過性を有する基材と、前記基材の一面に形成された光拡散部と、前記基材の一面において、前記光拡散部の形成領域以外の領域に形成された遮光層と、を備え、前記光拡散部が、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有し、前記光拡散部の前記光入射端面から前記光射出端面までの高さが前記遮光層の層厚よりも大きく、前記光拡散部の前記光入射端面と偏光板が光学接着され、前記光拡散部の厚さ方向に沿う端面と前記偏光板の厚さ方向に沿う端面とが概ね合っていることを特徴とする。

本発明の偏光子において、前記基材の前記一面と反対側の面に、反射防止層、偏光フィルター層、帯電防止層、防眩処理層、防汚処理層のうちの少なくとも１つが設けられたことが好ましい。

本発明の偏光子において、前記遮光層が、前記基材の一面の法線方向から見て点在して複数配置され、前記光拡散部が、前記遮光層の形成領域以外の領域に連続して配置されていることが好ましい。

本発明の偏光子において、前記複数の遮光層が、前記基材の一面の法線方向から見て非周期的に配置されていることが好ましい。

本発明の偏光子において、前記複数の遮光層が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに等しい形状を有していることが好ましい。

本発明の偏光子において、前記複数の遮光層が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに異なる複数種類のサイズ、形状の少なくとも一を有していることが好ましい。

本発明の偏光子において、前記遮光層が、前記基材の一面の法線方向から見て連続して配置され、前記光拡散部が、前記遮光層の形成領域以外の領域に点在して複数配置されていることが好ましい。

本発明の偏光子において、前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て非周期的に配置されていることが好ましい。

本発明の偏光子において、前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに等しい形状を有していることが好ましい。

本発明の偏光子において、前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに異なる複数種類のサイズ、形状の少なくとも一を有していることが好ましい。

本発明の偏光子において、前記遮光層の形成領域には、前記光拡散部の形成領域によって区画された中空部が形成され、前記中空部に空気または前記光拡散部を形成する材料よりも低い屈折率を有する材料が存在していることが好ましい。

本発明の偏光子において、前記光拡散部を、前記基材の一面の法線方向を含む平面で切断した断面から見て、前記複数の光拡散部のうち、少なくとも１つの光拡散部の側面の傾斜角度が他の光拡散部の側面の傾斜角度と異なることが好ましい。

本発明の偏光子において、前記光拡散部を、前記基材の一面の法線方向を含む平面で切断した断面から見て、前記複数の光拡散部のうち、少なくとも１つの光拡散部の側面の傾斜角度が場所によって異なることが好ましい。

本発明の偏光子において、前記遮光層が、黒色樹脂、黒色インク、金属単体、および金属単体と金属酸化物との積層膜のいずれかで構成されていることが好ましい。

本発明の偏光子の製造方法は、光透過性を有する基材の一面に点在するように複数の遮光層を形成する工程と、前記基材の一面に、前記遮光層を覆うように光透過性を有するネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、前記遮光層および前記ネガ型感光性樹脂層を形成した前記基材の一面と反対側の面から、前記遮光層の形成領域以外の領域を通して前記ネガ型感光性樹脂層に対して拡散光を照射し、前記ネガ型感光性樹脂層を露光する工程と、前記露光が終わった前記ネガ型感光性樹脂層を現像し、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有する光拡散部を前記基材の一面側に形成する工程と、前記光拡散部の前記光入射端面に、光学接着剤を介して、偏光板を貼着する工程と、前記基材、前記遮光層、前記光拡散部および前記偏光板を備えた積層体を、その厚さ方向に沿って切断して、前記光拡散部の厚さ方向に沿う端面と前記偏光板の厚さ方向に沿う端面とを概ね合わせて配置する工程と、を有することを特徴とする。

本発明の偏光子の製造方法は、光透過性を有する基材の一面に開口部を有する遮光層を形成する工程と、前記基材の一面に、前記遮光層を覆うように光透過性を有するネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、前記遮光層および前記ネガ型感光性樹脂層を形成した前記基材の一面と反対側の面から、前記遮光層の開口部を通して前記ネガ型感光性樹脂層に対して拡散光を照射し、前記ネガ型感光性樹脂層を露光する工程と、前記露光が終わった前記ネガ型感光性樹脂層を現像し、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有する光拡散部を前記基材の一面側に形成する工程と、前記光拡散部の前記光入射端面に、光学接着剤を介して、偏光板を貼着する工程と、前記基材、前記遮光層、前記光拡散部および前記偏光板を備えた積層体を、その厚さ方向に沿って切断して、前記光拡散部の厚さ方向に沿う端面と前記偏光板の厚さ方向に沿う端面とを概ね合わせて配置する工程と、を有することを特徴とする。

本発明の表示装置は、表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を含み、前記視野角拡大部材が、本発明の偏光子で構成されていることを特徴とする。

本発明の表示装置において、前記表示体が、表示画像を構成する複数の画素を有し、前記偏光子の前記光拡散部のうち、隣接する光拡散部間の最大ピッチが、前記表示体の前記画素間のピッチよりも小さいことが好ましい。

本発明の表示装置において、前記表示体が液晶表示素子であることが好ましい。

本発明の表示装置において、前記液晶表示素子の表示モードがツイステッドネマチックモードであることが好ましい。

本発明の表示装置において、前記液晶表示素子の表示モードがバーティカルアラインメントモードであることが好ましい。

本発明の表示装置において、前記液晶表示素子の表示モードがインプレーンスイッチングモードであることが好ましい。

本発明によれば、光拡散部が剥離し難く、かつ、最表面における反射光を均一にする偏光子を提供することができる。

第一実施形態の液晶表示装置を示す概略図であり、（Ａ）は第一実施形態の液晶表示装置を斜め上方（視認側）から見た斜視図、（Ｂ）は第一実施形態の液晶表示装置の断面図である。 第一実施形態の偏光子を示す概略図であり、（Ａ）は第一実施形態の偏光子を斜め上方（視認側）から見た斜視図、（Ｂ）は第一実施形態の偏光子の断面図である。 本発明の第一実施形態の液晶表示装置における液晶パネルを示す断面図である。 光制御フィルムを、製造工程順を追って示す斜視図である。 遮光パターンの形状を示す平面図である。 光制御フィルムの製造装置の一例を示す概略構成図である。 光制御フィルムの製造装置の要部を示す斜視図である。 偏光子を、製造工程順を追って示す斜視図である。 偏光子の製造装置の一例を示す概略構成図である。 第二実施形態の液晶表示装置を示す概略図であり、（Ａ）は第二実施形態の液晶表示装置を斜め上方（視認側）から見た斜視図、（Ｂ）は第二実施形態の液晶表示装置の断面図である。 第二実施形態の偏光子を示す概略図であり、（Ａ）は第二実施形態の偏光子を斜め上方（視認側）から見た斜視図、（Ｂ）は第二実施形態の偏光子の断面図である。

本発明の偏光子およびその製造方法、偏光子を備えた表示装置の実施の形態について説明する。
なお、本実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。

（１）第一実施形態
以下、本発明の第一実施形態について、図１〜図３を用いて説明する。
本実施形態では、表示体として透過型の液晶表示素子を備えた液晶表示装置の例を挙げて説明する。
なお、以下の全ての図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。

図１は、本実施形態の液晶表示装置を示す概略図であり、（Ａ）は本実施形態の液晶表示装置を斜め上方（視認側）から見た斜視図、（Ｂ）は本実施形態の液晶表示装置の断面図である。図２は、本実施形態の偏光子を示す概略図であり、（Ａ）は本実施形態の偏光子を斜め上方（視認側）から見た斜視図、（Ｂ）は本実施形態の偏光子の断面図である。
本実施形態の液晶表示装置（表示装置）１０は、バックライト（光源）１２と、第１偏光板１３と、液晶パネル１４と、偏光子１５とから概略構成されている。
偏光子１５は、基材２１と、基材２１の一面（視認側と反対側の面）２１ａに形成された遮光層（光吸収層、黒色層）２２と、遮光層２２と同じ基材２１の一面２１ａに形成された複数の光拡散部２３と、光拡散部２３の光入射端面２３ａに接着層２４を介して接着された第２偏光板２５とから概略構成されている。

液晶表示装置（表示装置）１０では、バックライト１２、第１偏光板１３、液晶パネル１４、および、偏光子１５の第２偏光板２５が液晶表示体（表示体）１６を構成している。
観察者は、偏光子１５が配置された図１における液晶表示装置１０の上側から表示を見ることになる。よって、以下の説明では、偏光子１５が配置された側を視認側と称し、バックライト１２が配置された側を背面側と称する。
また、図１に示すように、液晶パネル１４やバックライト１２は、偏光子１５よりもサイズが大きくなっている。

本実施形態の液晶表示装置１０においては、バックライト１２から射出された光を液晶パネル１４で変調し、変調した光によって所定の画像や文字等を表示する。また、液晶パネル１４から射出された光が偏光子１５の光拡散部２３を透過すると、射出光の角度分布が光拡散部２３に入射する前よりも広がった状態となって光が光拡散部２３から射出される。これにより、観察者は広い視野角を持って表示を視認できる。

以下、偏光子１５について詳細に説明する。
偏光子１５は、図１に示すように、第２偏光板２５が設けられた側を液晶パネル１４に向け、基材２１の側を視認側に向けた姿勢で、液晶パネル１４上に配置されている。

本実施形態では、遮光層２２が、基材２１の一面２１ａの法線方向から見て連続して配置され、光拡散部２３が、遮光層２２の形成領域以外の領域に点在して複数配置されている。
また、複数の光拡散部２３は、基材２１の一面２１ａの法線方向から見て、周期的に配置されていても、非周期的に配置されていてもよいが、非周期的に配置されていることが好ましい。

基材２１には、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム等の透明樹脂製の基材が好ましく用いられる。基材２１は、後述する製造プロセスにおいて、後で遮光層２２や光拡散部２３の材料を塗布する際の下地となるものであり、製造プロセス中の熱処理工程における耐熱性と機械的強度とを備える必要がある。したがって、基材２１には、樹脂製の基材の他、ガラス製の基材等を用いてもよい。ただし、基材２１の厚さは耐熱性や機械的強度を損なわない程度に薄い方が好ましい。その理由は、基材２１の厚さが厚くなる程、表示のボヤケが生じるおそれがあるからである。また、基材２１の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１の規定で９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られる。

光拡散部２３は、例えば，アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の光透過性および感光性を有する有機材料で構成されている。また、光拡散部２３の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１の規定で９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られる。図１（Ａ）、図２（Ａ）に示すように、光拡散部２３は、例えば、水平断面（ｘｙ断面）の形状（基材２１の一面２１ａの法線方向から見た形状）が円形であり、光射出端面となる基材２１側の面（光射出端面）２３ｂの面積が小さく、光入射端面となる基材２１と反対側の面（光射出端面）２３ａの面積が大きく、基材２１側から基材２１と反対側に向けて水平断面の面積が徐々に大きくなっている。すなわち、光拡散部２３は、基材２１側から見たとき、いわゆる逆テーパ状の円錐台状の形状を有している。
また、複数の光拡散部２３は、基材２１の一面２１ａの法線方向から見て互いに等しい形状を有していてもよい。また、複数の光拡散部２３は、基材２１の一面２１ａの法線方向から見て互いに異なる複数種類のサイズ、形状の少なくとも一を有していてもよい。

光拡散部２３ｂは、偏光子１５において光の透過に寄与する部分である。すなわち、光拡散部２３に入射した光は、光拡散部２３のテーパ状の側面２３ｃで全反射しつつ、光拡散部２３の内部に略閉じこめられた状態で導光し、射出される。複数の光拡散部２３は、図１（Ａ）、（Ｂ）、図２（Ａ）、（Ｂ）に示すように、基材２１の主面の法線方向から見てランダムに配置されている。なお、ｘ軸は液晶パネル１４の画面の水平方向、ｙ軸は液晶パネル１４の画面の垂直方向、ｚ軸は液晶表示装置１０の厚さ方向、と定義する。

遮光層２２は、基材２１の光拡散部２３が形成された側の面（一面２１ａ）のうち、光拡散部２３の形成領域以外の領域に形成されている。遮光層２２は、一例として、ブラックレジスト等の光吸収性および感光性を有する有機材料で構成されている。この他、Ｃｒ（クロム）やＣｒ／酸化Ｃｒの多層膜等の金属膜を用いてもよい。
遮光層２２の層厚は、光拡散部２３の光入射端面２３ａから光射出端面２３ｂまでの高さよりも小さく設定されている。したがって、光拡散部２３間の間隙は基材２１の一面２１ａに接する部分には遮光層２２が存在し、それ以外の部分には空気が存在している。

なお、基材２１の屈折率と光拡散部２３の屈折率とは略同等であることが望ましい。その理由は、例えば、基材２１の屈折率と光拡散部２３の屈折率とが大きく異なっていると、光入射端面２３ａから入射した光が光拡散部２３から射出しようとする際に、光拡散部２３と基材２１との界面で不要な光の屈折や反射が生じて、所望の視野角が得られない、射出光の光量が減少する等の不具合が生じるおそれがあるからである。

偏光子１５は、図１（Ａ）、（Ｂ）、図２（Ａ）、（Ｂ）に示すように、基材２１が視認側に向くように配置されるため、円錐台状の光拡散部２３の２つの対向面のうち、面積の小さい方の面が光射出端面２３ｂとなり、面積の大きい方の面が光入射端面２３ａとなる。また、光拡散部２３の側面２３ｃの傾斜角（光射出端面２３ｂと側面２３ｃとのなす角）は、一例として８０°程度である。ただし、光拡散部２３の側面２３ｃの傾斜角度は、偏光子１５から射出する際に入射光を十分に拡散することが可能な角度であれば、特に限定されない。

また、光拡散部２３を、基材２１の一面２１ａの法線方向を含む平面で切断した断面から見て、複数の光拡散部２３のうち、少なくとも１つの光拡散部２３の側面２３ｃの傾斜角度が他の光拡散部２３の側面２３ｃの傾斜角度と異なっていてもよい。また、光拡散部２３を、基材２１の一面２１ａの法線方向を含む平面で切断した断面から見て、複数の光拡散部２３のうち、少なくとも１つの光拡散部２３の側面２３ｃの傾斜角度が場所によって異なっていてもよい。

本実施形態の場合、隣接する光拡散部２３間には空気が介在しているため、光拡散部２３を、例えば、透明アクリル樹脂で形成したとすると、光拡散部２３の側面２３ｃは透明アクリル樹脂と空気との界面となる。ここで、光拡散部２３の周囲を他の低屈折率材料で充填したとしても、光拡散部２３の内部と外部との界面の屈折率差は、外部にいかなる低屈折率材料が存在する場合よりも空気が存在する場合が最大となる。したがって、Ｓｎｅｌｌの法則より、本実施形態の構成においては臨界角が最も小さくなり、光拡散部２３の側面２３ｃで光が全反射する入射角範囲が最も広くなる。その結果、光の損失がより抑えられ、高い輝度を得ることができる。

接着層２４は、可視光の波長域で光の吸収を生じない透明な光学接着剤から構成されている。光学接着剤としては、光拡散部２３の屈折率および第２偏光板２５の屈折率と等しい屈折率を有するものが用いられる。
第２偏光板２５としては、第１偏光板１３と同様のものが用いられる。

また、基材２１の他面（視認側の面）２１ｂには、反射防止層、偏光フィルター層、帯電防止層、防眩処理層、防汚処理層のうちの少なくとも１つをなす薄膜２６が設けられていてもよい。

偏光子１５では、図１（Ｂ）、図２（Ｂ）に示すように、光拡散部２３の厚さ方向に沿う端面２３ｄと第２偏光板２５の厚さ方向に沿う端面２５ａとが概ね合っており、同一面上に配置されていることが好ましい。
なお、遮光層２２は、基材２１の一面２１ａのうち、光拡散部２３の形成領域以外の領域に形成されているので、遮光層２２の厚さ方向に沿う端面は、光拡散部２３の端面２３ｄおよび第２偏光板２５の端面２５ａと概ね合っているか、あるいは、光拡散部２３の端面２３ｄおよび第２偏光板２５の端面２５ａよりも内側に配置されている。
また、薄膜２６は、基材２１の他面２１ｂに設けられるので、薄膜２６の厚さ方向に沿う端面２６ａは、光拡散部２３の端面２３ｄおよび第２偏光板２５の端面２５ａと概ね合っている。
さらに、接着層２４は、光拡散部２３の光入射端面２３ａに第２偏光板２５を接着するために設けられているので、接着層２４の厚さ方向に沿う端面２４ａは、光拡散部２３の端面２３ｄおよび第２偏光板２５の端面２５ａと概ね合っているか、あるいは、光拡散部２３の端面２３ｄおよび第２偏光板２５の端面２５ａよりも内側に配置されている。

なお、本実施形態では、遮光層２２が、基材２１の一面２１ａの法線方向から見て連続して配置され、光拡散部２３が、遮光層２２の形成領域以外の領域に点在して複数配置されている場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されない。本実施形態にあっては、遮光層２２が、基材２１の一面２１ａの法線方向から見て点在して複数配置され、光拡散部２３が、遮光層２２の形成領域以外の領域に連続して配置されていてもよい。この場合、複数の遮光層２２は、基材２１の一面２１ａの法線方向から見て、周期的に配置されていても、非周期的に配置されていてもよいが、非周期的に配置されていることが好ましい。また、複数の遮光層２２は、基材２１の一面２１ａの法線方向から見て互いに等しい形状を有していてもよい。また、複数の光遮光層２２は、基材２１の一面２１ａの法線方向から見て互いに異なる複数種類のサイズ、形状の少なくとも一を有していてもよい。

以下、液晶パネル１４の具体的な構成について説明する。
ここでは、アクティブマトリクス方式の透過型液晶パネルを一例に挙げて説明するが、本発明に適用可能な液晶パネルはアクティブマトリクス方式の透過型液晶パネルに限るものではない。本発明に適用可能な液晶パネルは、例えば、半透過型（透過・反射兼用型）液晶パネルや反射型液晶パネルであってもよく、さらには、各画素がスイッチング用薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、 以下、ＴＦＴと略記する）を備えていない単純マトリクス方式の液晶パネルであってもよい。

図３は、液晶パネル１４の縦断面図である。
液晶パネル１４は、図３に示すように、スイッチング素子基板としてのＴＦＴ基板３１と、ＴＦＴ基板３１に対向して配置されたカラーフィルター基板３２と、ＴＦＴ基板３１とカラーフィルター基板３２との間に挟持された液晶層３３と、を有している。液晶層３３は、ＴＦＴ基板３１と、カラーフィルター基板３２と、ＴＦＴ基板３１とカラーフィルター基板３２とを所定の間隔をおいて貼り合わせる枠状のシール部材（図示せず）と、によって囲まれた空間内に封入されている。本実施形態の液晶パネル１４は、例えば、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ、垂直配向）モードで表示を行うものであり、液晶層３３には誘電率異方性が負の垂直配向液晶が用いられる。ＴＦＴ基板３１とカラーフィルター基板３２との間には、これら基板間の間隔を一定に保持するための球状のスペーサー３４が配置されている。なお、表示モードについては、上記のＶＡモードに限らず、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード等を用いることができる。

ＴＦＴ基板３１には、表示の最小単位領域である画素（図示せず）がマトリクス状に複数配置されている。ＴＦＴ基板３１には、複数のソースバスライン（図示せず）が、互いに平行に延在するように形成されるとともに、複数のゲートバスライン（図示せず）が、互いに平行に延在し、かつ、複数のソースバスラインと直交するように形成されている。したがって、ＴＦＴ基板３１上には、複数のソースバスラインと複数のゲートバスラインとが格子状に形成され、隣接するソースバスラインと隣接するゲートバスラインとによって区画された矩形状の領域が一つの画素となる。ソースバスラインは、後述するＴＦＴのソース電極に接続され、ゲートバスラインは、ＴＦＴのゲート電極に接続されている。

ＴＦＴ基板３１を構成する透明基板３５の液晶層３３側の面に、半導体層３６、ゲート電極３７、ソース電極３８、ドレイン電極３９等を有するＴＦＴ４０が形成されている。透明基板３５には、例えば、ガラス基板を用いることができる。透明基板３５上に、例えば、ＣＧＳ（Ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ Ｇｒａｉｎ Ｓｉｌｉｃｏｎ：連続粒界シリコン）、ＬＰＳ（Ｌｏｗ−ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ Ｐｏｌｙ−Ｓｉｌｉｃｏｎ：低温多結晶シリコン）、α−Ｓｉ（Ａｍｏｒｐｈｏｕｓ Ｓｉｌｉｃｏｎ：非結晶シリコン）等の半導体材料からなる半導体層３６が形成されている。また、透明基板３５上に、半導体層３６を覆うようにゲート絶縁膜４１が形成されている。ゲート絶縁膜４１の材料としては、例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、もしくは、これらの積層膜等が用いられる。
ゲート絶縁膜４１上には、半導体層３６と対向するようにゲート電極３７が形成されている。ゲート電極３７の材料としては、例えば、Ｗ（タングステン）／ＴａＮ（窒化タンタル）の積層膜、Ｍｏ（モリブデン）、Ｔｉ（チタン）、Ａｌ（アルミニウム）等が用いられる。

ゲート絶縁膜４１上に、ゲート電極３７を覆うように第１層間絶縁膜４２が形成されている。
第１層間絶縁膜４２の材料としては、例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、もしくは、これらの積層膜等が用いられる。
第１層間絶縁膜４２上に、ソース電極３８およびドレイン電極３９が形成されている。ソース電極３８は、第１層間絶縁膜４２とゲート絶縁膜４１とを貫通するコンタクトホール４３を介して半導体層３６のソース領域に接続されている。同様に、ドレイン電極３９は、第１層間絶縁膜４２とゲート絶縁膜４１とを貫通するコンタクトホール４４を介して半導体層３６のドレイン領域に接続されている。
ソース電極３８およびドレイン電極３９の材料としては、上述のゲート電極３７と同様の導電性材料が用いられる。
第１層間絶縁膜４２上に、ソース電極３８およびドレイン電極３９を覆うように第２層間絶縁膜４５が形成されている。
第２層間絶縁膜４５の材料としては、上述の第１層間絶縁膜４２と同様の材料、もしくは、有機絶縁性材料が用いられる。

第２層間絶縁膜４５上に、画素電極４６が形成されている。画素電極４６は、第２層間絶縁膜４５を貫通するコンタクトホール４７を介してドレイン電極３９に接続されている。よって、画素電極４６は、ドレイン電極３９を中継用電極として半導体層３６のドレイン領域に接続されている。
画素電極４６の材料としては、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、インジウム錫酸化物）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ、インジウム亜鉛酸化物）等の透明導電性材料が用いられる。
この構成により、ゲートバスラインを通じて走査信号が供給され、ＴＦＴ４０がオン状態となったときに、ソースバスラインを通じてソース電極３８に供給された画像信号が、半導体層３６、ドレイン電極３９を経て画素電極４６に供給される。また、画素電極４６を覆うように第２層間絶縁膜４５上の全面に配向膜４８が形成されている。この配向膜４８は、液晶層３３を構成する液晶分子を垂直配向させる配向規制力を有している。なお、ＴＦＴの形態としては、図３に示したボトムゲート型ＴＦＴであってもよいし、トップゲート型ＴＦＴであってもよい。

一方、カラーフィルター基板３２を構成する透明基板４９の液晶層３３側の面には、ブラックマトリクス５０、カラーフィルター５１、平坦化層５２、対向電極５３、配向膜５４が順次形成されている。
ブラックマトリクス５０は、画素間領域において光の透過を遮断する機能を有しており、Ｃｒ（クロム）やＣｒ／酸化Ｃｒの多層膜等の金属、もしくは、カーボン粒子を感光性樹脂に分散させたフォトレジストで形成されている。
カラーフィルター５１には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色の色素が含まれており、ＴＦＴ基板３１上の一つの画素電極４６にＲ，Ｇ，Ｂのいずれか一つのカラーフィルター５１が対向して配置されている。
平坦化層５２は、ブラックマトリクス５０およびカラーフィルター５１を覆う絶縁膜で構成されており、ブラックマトリクス５０およびカラーフィルター５１によってできる段差を緩和して平坦化する機能を有している。
平坦化層５２上には対向電極５３が形成されている。対向電極５３の材料としては、画素電極４６と同様の透明導電性材料が用いられる。
また、対向電極５３上の全面に、垂直配向規制力を有する配向膜５４が形成されている。
カラーフィルター５１は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色以上の多色構成としてもよい。

図１（Ｂ）に示すように、バックライト１２は、発光ダイオード、冷陰極管等の光源５５と、光源５５から射出された光の内部反射を利用して液晶パネル１４に向けて射出させる導光板５６と、を有している。バックライト１２は、光源が導光体の端面に配置されたエッジライト型でもよく、光源が導光体の直下に配置された直下型でもよい。本実施形態で用いられるバックライト１２には、光の射出方向を制御して指向性を持たせたバックライト、いわゆる指向性バックライトを用いることが望ましい。偏光子１５の光拡散部２３にコリメートまたは略コリメートした光を入射させるような指向性バックライトを用いることでボヤケを少なくし、さらに光の利用効率を高めることができる。上記の指向性バックライトは、導光板５６内に形成する反射パターンの形状や配置等を最適化することで実現できる。また、バックライト１２と液晶パネル１４との間には、偏光子として機能する第１偏光板１３が設けられている。また、液晶パネル１４と光拡散部２３との間には、検光子として機能する、偏光子１５の第２偏光板２５が設けられている。

本実施形態では、偏光子１５において、光拡散部２３の厚さ方向に沿う端面２３ｄと第２偏光板２５の厚さ方向に沿う端面２５ａとが概ね合っているので、光拡散部２３の端部（外縁部）が第２偏光板２５よりも出っ張っていないため、その出っ張り部分が引っ掛かって、光拡散部２３が、第２偏光板２５から剥離し難い。また、光拡散部２３の面積と、第２偏光板２５の面積とが等しいので、第２偏光板２５の最表面において、光拡散部２３に覆われていない部分が存在しないから、液晶表示装置１０の最表面において、反射光に違いが生じることなく、見栄えが悪くなることがない。

次に、上記構成の液晶表示装置１０の製造方法について、図４、図６〜図９を用いて説明する。
以下では、偏光子１５の製造工程を中心に説明する。
液晶パネル１４の製造工程の概略を先に説明すると、最初に、ＴＦＴ基板３１とカラーフィルター基板３２をそれぞれ作製する。その後、ＴＦＴ基板３１のＴＦＴ４０が形成された側の面とカラーフィルター基板３２のカラーフィルター５１が形成された側の面とを対向させて配置し、ＴＦＴ基板３１とカラーフィルター基板３２とをシール部材を介して貼り合わせる。その後、ＴＦＴ基板３１とカラーフィルター基板３２とシール部材とによって囲まれた空間内に液晶を注入する。そして、このようにしてできた液晶パネル１４のバックライト１２側の面に、光学接着剤等を用いて第１偏光板１３を貼り合わせる。以上の工程を経て、液晶パネル１４が完成する。
なお、ＴＦＴ基板３１やカラーフィルター基板３２の製造方法には従来から公知の方法が用いられるため、説明を省略する。

最初に、図４（Ａ）に示すように、例えば、トリアセチルセルロースの基材２１を準備し、スピンコート法を用いて、この基材２１の一面２１ａに遮光層材料としてカーボンを含有したブラックネガレジストを塗布し、塗膜６０を形成する。
次いで、上記の塗膜６０を形成した基材２１をホットプレート上に載置し、温度９０℃で塗膜のプリベークを行う。これにより、ブラックネガレジスト中の溶媒が揮発する。

次いで、露光装置を用い、複数の遮光パターン６１がランダムに配置されたフォトマスク６２を介して塗膜６０に光を照射し、露光を行う。このとき、波長３６５ｎｍのｉ線、波長４０４ｎｍのｈ線、波長４３６ｎｍのｇ線の混合線を用いた露光装置を使用する。露光量は１００ｍＪ／ｃｍ^２とする。本実施形態の場合、次工程で遮光層２２をマスクとして透明ネガレジストの露光を行い、光拡散部２３を形成するため、フォトマスク６２の遮光パターン６１の位置が光拡散部２３の形成位置に対応する。複数の遮光パターン６１は全て円形パターンであり、ランダムに配置されている。そのため、隣接する遮光パターン６１間の間隔（ピッチ）は一定でない。遮光パターン６１の平均間隔は液晶パネル１４の画素の間隔（ピッチ）よりも小さいことが望ましい。これにより、画素内に少なくとも１つの光拡散部２３が形成されるので、例えば、モバイル機器等に用いる画素ピッチが小さい液晶パネルと組み合わせたときに広視野角化を図ることができる。
なお、本実施形態では、視認側から見た遮光パターンの形状が円形パターンである場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されない。本実施形態にあっては、視認側から見た遮光パターンの形状が図５（ａ）〜（ｉ）に示すような種々の形状をなしていてもよい。

上記のフォトマスク６２を用いて露光を行った後、専用の現像液を用いてブラックネガレジストからなる塗膜６０の現像を行い、１００℃で乾燥し、図４（Ｂ）に示すように、複数の円形の開口部２２ａを有する遮光層２２を基材２１の一面２１ａに形成する。円形の開口部２２ａは次工程の光拡散部２３の形成領域に対応する。本実施形態では、ブラックネガレジストを用いたフォトリソグラフィー法によって遮光層２２を形成したが、この構成に代えて、本実施形態の遮光パターン６１と光透過部とが反転したフォトマスクを用いれば、ポジレジストを用いることもできる。もしくは、蒸着法や印刷法等を用いて遮光層２２を形成してもよい。

次いで、図４（Ｃ）に示すように、スピンコート法を用いて、遮光層２２の上面に光拡散部材料として、例えば、アクリル樹脂からなる透明ネガレジストを塗布し、塗膜６３を形成する。
次いで、上記の塗膜６３を形成した基材２１をホットプレート上に載置し、温度９５℃で塗膜６３のプリベークを行う。これにより、透明ネガレジスト中の溶媒が揮発する。

次いで、図４（Ｄ）に示すように、基材２１を上下反転し、基材２１側から遮光層２２をマスクとして塗膜６３に拡散光Ｆを照射し、露光を行う。このとき、波長３６５ｎｍのｉ線、波長４０４ｎｍのｈ線、波長４３６ｎｍのｇ線の混合線を用いた露光装置を使用する。露光量は５００ｍＪ／ｃｍ^２とする。また、露光装置から射出された平行光を拡散光Ｆとして基材に照射する手段としては、例えば、露光装置から射出された光の光路上にヘイズ５０程度の拡散板を配置すればよい。
その後、上記の塗膜６３を形成した基材２１をホットプレート上に載置し、温度９５℃で塗膜６３のポストエクスポージャーベイク（ＰＥＢ）を行う。

次いで、専用の現像液を用いて透明ネガレジストからなる塗膜６３の現像を行い、１００℃でポストベークし、図４（Ｅ）に示すように、複数の光拡散部２３を基材２１の一面２１ａに形成する。
次いで、図４（Ｆ）に示すように、基材２１の他面２１ｂに、反射防止層、偏光フィルター層、帯電防止層、防眩処理層、防汚処理層のうちの少なくとも１つをなす薄膜２６を形成してもよい。

以上の工程を経て、少なくとも、基材２１と、基材２１の一面２１ａに形成された遮光層２２と、遮光層２２と同じ基材２１の一面２１ａに形成された光拡散部２３とを有する光制御フィルム６４を得る。
光制御フィルム６４の全光線透過率は、９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られ、光制御フィルムに求められる光学性能を十分に発揮できる。全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１の規定によるものである。

なお、基材２１を上下反転した上で露光を行うと説明したが、製造装置によっては基材２１を上下反転させなくてもよく、基材２１側から露光が行えるような構成になっていればよい。

なお、本実施形態では、基材２１の一面２１ａの法線方向から見て連続して遮光層２２を形成し、遮光層２２の形成領域以外の領域に点在するように複数の光拡散部２３を形成する場合を例示したが、本実施形態はこれに限定されない。本実施形態にあっては、基材２１の一面２１ａの法線方向から見て連続して光拡散部２３を形成し、光拡散部２３の形成領域以外の領域に点在するように複数の遮光層２２を形成してもよい。

図６は、光制御フィルム６４の製造装置の一例を示す概略構成図である。
図６に示す製造装置７０は、長尺の基材２１をロール・トゥー・ロールで搬送し、その間に各種の処理を行うものである。また、この製造装置７０は、遮光層２２の形成に、上述のフォトマスク６２を用いたフォトリソグラフィー法に代えて、印刷法を用いている。

製造装置７０の一端に基材２１を送り出す送出ローラー７１が設けられ、他端には基材２１を巻き取る巻取ローラー７２が設けられており、基材２１は送出ローラー７１側から巻取ローラー７２側に向けて移動する構成となっている。基材２１の上方には、送出ローラー７１側から巻取ローラー７２側に向けて印刷装置７３、第１乾燥装置７４、塗布装置７５、現像装置７６、第２乾燥装置７７が順次配置されている。基材２１の下方には、露光装置７８が配置されている。印刷装置７３は、基材２１上に遮光層２２を印刷するためのものである。第１乾燥装置７４は、印刷により形成した遮光層２２を乾燥させるためのものである。塗布装置７５は、遮光層２２上に透明ネガレジストを塗布するためのものである。現像装置７６は、露光後の透明ネガレジストを現像液によって現像するためのものである。第２乾燥装置７７は、現像後の透明レジストからなる光拡散部２３が形成された基材２１を乾燥させるためのものである。

露光装置７８は、基材２１側から透明ネガレジストの塗膜６３の露光を行うためのものである。図７（Ａ）、（Ｂ）は、製造装置７０のうち、露光装置７８の部分だけを取り出して示す図である。露光装置７８は、図７（Ａ）に示すように、複数の光源７９を備えており、基材２１の進行に伴って、各光源７９からの拡散光Ｆの強度が徐々に弱くなる等、拡散光Ｆの強度が変化してもよい。あるいは、露光装置７８は、図７（Ｂ）に示すように、基材２１の進行に伴って、各光源７９からの拡散光Ｆの射出角度が徐々に変化しても良い。このような露光装置７８を用いることにより、光拡散部２３の側面２３ｃの傾斜角度を所望の角度に制御することができる。

なお、上記の例では遮光層２２や光拡散部２３の形成時に液状のレジストを塗布することとしたが、この構成に代えて、フィルム状のレジストを基材３９の一面に貼付するようにしてもよい。

次いで、図８（Ａ）に示すように、光制御フィルム６４の光拡散部２３の光入射端面に、光学接着剤からなる接着層２４を介して、第２偏光板２５を貼着する。
ここでは、第２偏光板２５としては、光制御フィルム６４よりも面積が大きいものを用いる。

次いで、図８（Ｂ）に示すように、基材２１、遮光層２２、光拡散部２３および第２偏光板２５を備えた積層体の端部を、その厚さ方向に沿って（図８（Ｂ）に示す直線（ｉ）〜（ｉｖ）に沿って）切断して、光拡散部２３の厚さ方向に沿う端面と第２偏光板２５の厚さ方向に沿う端面とを概ね合わせて配置し、図２（Ａ）、（Ｂ）に示す偏光子１５を得る。

図９は、偏光子１５の製造装置の一例を示す概略構成図である。
図９に示す製造装置８０は、長尺の光制御フィルム６４をロール・トゥー・ロールで搬送し、光制御フィルム６４に第２偏光板２５を貼着するものである。

製造装置８０の一端に光制御フィルム６４を送り出す第１送出ローラー８１と、接着層２４となる光学接着剤からなる接着シート８２を送り出す第２送出ローラー８３とが設けられ、第１送出ローラー８１、第２送出ローラー８３とは所定の間隔を隔てて、第１送出ローラー８１、第２送出ローラー８３側から順に、第１圧着ローラー８４，８４と、第２圧着ローラー８５，８５とが設けられており、光制御フィルム６４は第１送出ローラー８１、第２送出ローラー８３側から第１圧着ローラー８４，８４、第２圧着ローラー８５，８５側に向けて移動する構成となっている。なお、第１圧着ローラー８４，８４と、第２圧着ローラー８５，８５とは、所定の間隔を隔てて配置されている。また、第１圧着ローラー８４，８４と、第２圧着ローラー８５，８５との間には、第２偏光板２５となる偏光フィルム８６を送り出す第３送出ローラー８７が設けられている。さらに、第２圧着ローラー８５，８５とは所定の間隔を隔てて、第２圧着ローラー８５，８５よりも光制御フィルム６４の移動方向側には、第２圧着ローラー８５，８５とは所定の間隔を隔てて切断機８８が設けられている。

第１圧着ローラー８４，８４は、第１送出ローラー８１から送り出された光制御フィルム６４の光拡散部２３の光入射端面に、接着シート８２を貼着するためのものである。第２圧着ローラー８５，８５は、第１圧着ローラー８４，８４を通過した光制御フィルム６４に、接着シート８２を介して、偏光フィルム８６を貼着するためのものである。切断機８８は、第２圧着ローラー８５，８５を通過した、光制御フィルム６４、接着シート８２および偏光フィルム８６を備えた積層体の端部を、その厚さ方向に沿って切断して、光制御フィルム６４の光拡散部２３の厚さ方向に沿う端面と偏光フィルム８６（第２偏光板２５）の厚さ方向に沿う端面とを概ね合わせて配置し、図２（Ａ）、（Ｂ）に示す偏光子１５を得るためのものである。

最後に、完成した偏光子１５を、図１に示すように、基材２１を視認側に向け、光拡散部２３に貼着された第２偏光板２５を、液晶パネル１４に対向させた状態で貼付する。
以上の工程により、本実施形態の液晶表示装置１０が完成する。

（２）第二実施形態
以下、本発明の第二実施形態について、図１０および図１１を用いて説明する。
本実施形態では、表示体として透過型の液晶表示素子を備えた液晶表示装置の例を挙げて説明する。
なお、以下の全ての図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。

図１０は、本実施形態の液晶表示装置を示す概略図であり、（Ａ）は本実施形態の液晶表示装置を斜め上方（視認側）から見た斜視図、（Ｂ）は本実施形態の液晶表示装置の断面図である。図１１は、本実施形態の偏光子を示す概略図であり、（Ａ）は本実施形態の偏光子を斜め上方（視認側）から見た斜視図、（Ｂ）は本実施形態の偏光子の断面図である。
本実施形態の液晶表示装置（表示装置）１００は、バックライト（光源）１０２と、第１偏光板１０３と、液晶パネル１０４と、偏光子１０５とから概略構成されている。
偏光子１０５は、基材１１１と、基材１１１の一面（視認側と反対側の面）１１１ａに形成された遮光層（光吸収層、黒色層）１１２と、遮光層１１２と同じ基材１１１の一面１１１ａに形成された光拡散部１１３と、光拡散部１１３の光入射端面１１３ａに接着層１１４を介して接着された第２偏光板１１５とから概略構成されている。

液晶表示装置（表示装置）１００では、バックライト１０２、第１偏光板１０３、液晶パネル１０４、および、偏光子１０５の第２偏光板１１５が液晶表示体（表示体）１０６を構成している。
観察者は、偏光子１０５が配置された図１０における液晶表示装置１００の上側から表示を見ることになる。よって、以下の説明では、偏光子１０５が配置された側を視認側と称し、バックライト１０２が配置された側を背面側と称する。
また、図１０に示すように、液晶パネル１０４やバックライト１０２は、偏光子１０５よりもサイズが大きくなっている。

本実施形態の液晶表示装置１００においては、バックライト１０２から射出された光を液晶パネル１０４で変調し、変調した光によって所定の画像や文字等を表示する。また、液晶パネル１０４から射出された光が偏光子１０５の光拡散部１１３を透過すると、射出光の角度分布が光拡散部１１３に入射する前よりも広がった状態となって光が光拡散部１１３から射出される。これにより、観察者は広い視野角を持って表示を視認できる。

以下、偏光子１０５について詳細に説明する。
偏光子１０５は、図１０に示すように、第２偏光板１１５が設けられた側を液晶パネル１０４に向け、基材１１１の側を視認側に向けた姿勢で、液晶パネル１０４上に配置されている。

本実施形態では、基材１１１の一面１１１ａの法線方向から見て連続して光拡散部１１３が形成され、光拡散部１１３の形成領域以外の領域に点在するように複数の遮光層１１２が形成されている。複数の遮光層１１２は、基材１１１の一面１１１ａの法線方向から見て、周期的に配置されていても、非周期的に配置されていてもよいが、非周期的に配置されていることが好ましい。

基材１１１としては、上述の第一実施形態の基材２１と同様のものが用いられる。
光拡散部１１３を構成する材料としては、上述の第一実施形態の光拡散部２３を構成する材料と同様のものが用いられる。

遮光層１１２を構成する材料としては、上述の第一実施形態の遮光層２２を構成する材料と同様のものが用いられる。
遮光層１１２の層厚は、光拡散部１１３の光入射端面１１３ａから光射出端面１１３ｂまでの高さよりも小さく設定されている。したがって、光拡散部１１３間の間隙は基材１１１の一面１１１ａに接する部分には遮光層１１２が存在し、それ以外の部分には空気が存在している。
また、本実施形態でも、上述の第一実施形態と同様に、基材１１１の屈折率と光拡散部１１３の屈折率とは略同等であることが望ましい。

偏光子１０５は、図１０（Ａ）、（Ｂ）、図１１（Ａ）、（Ｂ）に示すように、基材１１１が視認側に向くように配置されるため、台形状の光拡散部１１３の２つの対向面のうち、面積の小さい方の面が光射出端面１１３ｂとなり、面積の大きい方の面が光入射端面１１３ａとなる。また、光拡散部１１３の側面１１３ｃの傾斜角（光射出端面１１３ｂと側面１１３ｃとのなす角）は、一例として８０°程度である。ただし、光拡散部１１３の側面１１３ｃの傾斜角度は、偏光子１０５から射出する際に入射光を十分に拡散することが可能な角度であれば、特に限定されない。

また、光拡散部１１３を、基材１１１の一面１１１ａの法線方向を含む平面で切断した断面から見て、光拡散部１１３のうち、少なくとも１つの光拡散部１１３の側面１１３ｃの傾斜角度が他の光拡散部１１３の側面１１３ｃの傾斜角度と異なっていてもよい。また、光拡散部１１３を、基材１１１の一面１１１ａの法線方向を含む平面で切断した断面から見て、光拡散部１１３のうち、少なくとも１つの光拡散部１１３の側面１１３ｃの傾斜角度が場所によって異なっていてもよい。

本実施形態の場合、光拡散部１１３間の間隙には空気が介在しているため、光拡散部１１３を、例えば、透明アクリル樹脂で形成したとすると、光拡散部１１３の側面１１３ｃは透明アクリル樹脂と空気との界面となる。ここで、この隙間を他の低屈折率材料で充填したとしても、光拡散部１１３の内部と外部との界面の屈折率差は、外部にいかなる低屈折率材料が存在する場合よりも空気が存在する場合が最大となる。したがって、Ｓｎｅｌｌの法則より、本実施形態の構成においては臨界角が最も小さくなり、光拡散部１１３の側面１１３ｃで光が全反射する入射角範囲が最も広くなる。その結果、光の損失がより抑えられ、高い輝度を得ることができる。

接着層１１４を構成する材料としては、上述の第一実施形態の接着層２４を構成する材料と同様のものが用いられる。
第２偏光板１１５としては、上述の第一実施形態の第１偏光板１３と同様のものが用いられる。

また、基材１１１の他面（視認側の面）１１１ｂには、反射防止層、偏光フィルター層、帯電防止層、防眩処理層、防汚処理層のうちの少なくとも１つをなす薄膜１１６が設けられていてもよい。

偏光子１０５では、図１０（Ｂ）、図１１（Ｂ）に示すように、光拡散部１１３の厚さ方向に沿う端面１１３ｄと第２偏光板１１５の厚さ方向に沿う端面１１５ａとが概ね合っており、同一面上に配置されていることが好ましい。
なお、遮光層１１２は、基材１１１の一面１１１ａのうち、光拡散部１１３の形成領域以外の領域に形成されているので、遮光層１１２の厚さ方向に沿う端面は、光拡散部１１３の端面１１３ｄおよび第２偏光板１１５の端面１１５ａと概ね合っているか、あるいは、光拡散部１１３の端面１１３ｄおよび第２偏光板１１５の端面１１５ａよりも内側に配置されている。
また、薄膜１１６は、基材１１１の他面１１１ｂに設けられるので、薄膜１１６の厚さ方向に沿う端面１１６ａは、光拡散部１１３の端面１１３ｄおよび第２偏光板１１５の端面１１５ａと概ね合っている。
さらに、接着層１１４は、光拡散部１１３の光入射端面１１３ａに第２偏光板１１５を接着するために設けられているので、接着層１１４の厚さ方向に沿う端面１１４ａは、光拡散部１１３の端面１１３ｄおよび第２偏光板１１５の端面１１５ａと概ね合っているか、あるいは、光拡散部１１３の端面１１３ｄおよび第２偏光板１１５の端面１１５ａよりも内側に配置されている。

液晶パネル１０４としては、上述の第一実施形態の液晶パネル１４と同様のものが用いられる。
第１偏光板１０３としては、上述の第一実施形態の第１偏光板１３と同様のものが用いられる。

バックライト１０２としては、上述の第一実施形態のバックライト１２と同様のものが用いられ、バックライト１０２は、発光ダイオード、冷陰極管等の光源１４５と、光源１４５から射出された光の内部反射を利用して液晶パネル１０４に向けて射出させる導光板１４６と、を有している。

本実施形態では、偏光子１０５において、光拡散部１１３の厚さ方向に沿う端面１１３ｄと第２偏光板１１５の厚さ方向に沿う端面１１５ａとが概ね合っているので、光拡散部１１３の端部（外縁部）が第２偏光板１１５よりも出っ張っていないため、その出っ張り部分が引っ掛かって、光拡散部１１３が、第２偏光板１１５から剥離し難い。また、光拡散部１１３の面積と、第２偏光板１１５の面積とが等しいので、第２偏光板１１５の最表面において、光拡散部１１３に覆われていない部分が存在しないから、液晶表示装置１００の最表面において、反射光に違いが生じることなく、見栄えが悪くなることがない。

また、本実施形態の液晶表示装置１００は、上述の第一実施形態と同様の製造方法および製造装置により製造することができる。

（１）光透過性を有する基材と、前記基材の一面に形成された光拡散部と、前記基材の一面において、前記光拡散部の形成領域以外の領域に形成された遮光層と、を備え、
前記光拡散部が、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有し、
前記光拡散部の前記光入射端面から前記光射出端面までの高さが前記遮光層の層厚よりも大きく、
前記光拡散部の前記光入射端面と偏光板が光学接着され、
前記光拡散部の厚さ方向に沿う端面と前記偏光板の厚さ方向に沿う端面とが概ね合っていることを特徴とする偏光子。

上記の偏光子によれば、光拡散部が剥離し難く、かつ、最表面における反射光を均一にすることができる。

（２）前記基材の前記一面と反対側の面に、反射防止層、偏光フィルター層、帯電防止層、防眩処理層、防汚処理層のうちの少なくとも１つが設けられたことを特徴とする（１）に記載の偏光子。

上記の偏光子において、反射防止層を設けることにより、偏光子に反射防止の機能を付与することができる。また、偏光フィルター層を設けることにより、偏光子に偏光板としての機能を付与することができる。また、帯電防止層を設けることにより、偏光子に帯電防止の機能を付与することができる。また、防眩処理層を設けることにより、偏光子に眩しさを少なくする機能を付与することができる。また、防汚処理層を設けることにより、偏光子に汚れが付き難くする機能を付与することができる。

（３）前記遮光層が、前記基材の一面の法線方向から見て点在して複数配置され、前記光拡散部が、前記遮光層の形成領域以外の領域に連続して配置されていることを特徴とする（１）または（２）に記載の偏光子。

上記の偏光子によれば、所望の光拡散性能を得ることができる。

（４）前記複数の遮光層が、前記基材の一面の法線方向から見て非周期的に配置されていることを特徴とする（３）に記載の偏光子。

上記の偏光子によれば、所望の光拡散性能を得ることができる。

（５）前記複数の遮光層が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに等しい形状を有していることを特徴とする（３）または（４）に記載の偏光子。

上記の偏光子によれば、所望の光拡散性能を得ることができる。

（６）前記複数の遮光層が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに異なる複数種類のサイズ、形状の少なくとも一を有していることを特徴とする（３）または（４）に記載の偏光子。

上記の偏光子によれば、所望の光拡散性能を得ることができる。

（７）前記遮光層が、前記基材の一面の法線方向から見て連続して配置され、前記光拡散部が、前記遮光層の形成領域以外の領域に点在して複数配置されていることを特徴とする（１）または（２）に記載の偏光子。

上記の偏光子によれば、所望の光拡散性能を得ることができる。

（８）前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て非周期的に配置されていることを特徴とする（７）に記載の偏光子。

上記の偏光子によれば、所望の光拡散性能を得ることができる。

（９）前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに等しい形状を有していることを特徴とする（７）または（８）に記載の偏光子。

上記の偏光子によれば、所望の光拡散性能を得ることができる。

（１０）前記複数の光拡散部が、前記基材の一面の法線方向から見て互いに異なる複数種類のサイズ、形状の少なくとも一を有していることを特徴とする（７）または（８）に記載の偏光子。

上記の偏光子によれば、所望の光拡散性能を得ることができる。

（１１）前記遮光層の形成領域には、前記光拡散部の形成領域によって区画された中空部が形成され、
前記中空部に空気または前記光拡散部を形成する材料よりも低い屈折率を有する材料が存在していることを特徴とする（１）〜（１０）のいずれかに記載の偏光子。

上記の偏光子によれば、所望の光拡散性能を得ることができる。

（１２）前記光拡散部を、前記基材の一面の法線方向を含む平面で切断した断面から見て、
前記複数の光拡散部のうち、少なくとも１つの光拡散部の側面の傾斜角度が他の光拡散部の側面の傾斜角度と異なることを特徴とする（７）〜（１１）のいずれかに記載の偏光子。

上記の偏光子によれば、所望の光拡散性能を得ることができる。

（１３）前記光拡散部を、前記基材の一面の法線方向を含む平面で切断した断面から見て、
前記複数の光拡散部のうち、少なくとも１つの光拡散部の側面の傾斜角度が場所によって異なることを特徴とする（７）〜（１１）のいずれかに記載の偏光子。

上記の偏光子によれば、所望の光拡散性能を得ることができる。

（１４）前記遮光層が、黒色樹脂、黒色インク、金属単体、および金属単体と金属酸化物との積層膜のいずれかで構成されていることを特徴とする（１）〜（１３）のいずれかに記載の偏光子。

上記の偏光子によれば、所望の光拡散性能を得ることができる。

（１５）光透過性を有する基材の一面に点在するように複数の遮光層を形成する工程と、
前記基材の一面に、前記遮光層を覆うように光透過性を有するネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、
前記遮光層および前記ネガ型感光性樹脂層を形成した前記基材の一面と反対側の面から、前記遮光層の形成領域以外の領域を通して前記ネガ型感光性樹脂層に対して拡散光を照射し、前記ネガ型感光性樹脂層を露光する工程と、
前記露光が終わった前記ネガ型感光性樹脂層を現像し、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有する光拡散部を前記基材の一面側に形成する工程と、
前記光拡散部の前記光入射端面に、光学接着剤を介して、偏光板を貼着する工程と、
前記基材、前記遮光層、前記光拡散部および前記偏光板を備えた積層体を、その厚さ方向に沿って切断して、前記光拡散部の厚さ方向に沿う端面と前記偏光板の厚さ方向に沿う端面とを概ね合わせて配置する工程と、を有することを特徴とする偏光子の製造方法。

上記の偏光子の製造方法によれば、光拡散部が剥離し難い偏光子を製造することができる。

（１６）光透過性を有する基材の一面に開口部を有する遮光層を形成する工程と、
前記基材の一面に、前記遮光層を覆うように光透過性を有するネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、
前記遮光層および前記ネガ型感光性樹脂層を形成した前記基材の一面と反対側の面から、前記遮光層の開口部を通して前記ネガ型感光性樹脂層に対して拡散光を照射し、前記ネガ型感光性樹脂層を露光する工程と、
前記露光が終わった前記ネガ型感光性樹脂層を現像し、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有する光拡散部を前記基材の一面側に形成する工程と、
前記光拡散部の前記光入射端面に、光学接着剤を介して、偏光板を貼着する工程と、
前記基材、前記遮光層、前記光拡散部および前記偏光板を備えた積層体を、その厚さ方向に沿って切断して、前記光拡散部の厚さ方向に沿う端面と前記偏光板の厚さ方向に沿う端面とを概ね合わせて配置する工程と、を有することを特徴とする偏光子の製造方法。

上記の偏光子の製造方法によれば、光拡散部が剥離し難い偏光子を製造することができる。

（１７）表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を含み、
前記視野角拡大部材が、（１）〜（１４）のいずれかに記載の偏光子で構成されていることを特徴とする表示装置。

上記の表示装置によれば、幅広い視野角範囲でコントラストを改善して表示品質を向上させることが可能である。

（１８）前記表示体が、表示画像を構成する複数の画素を有し、
前記偏光子の前記光拡散部のうち、隣接する光拡散部間の最大ピッチが、前記表示体の前記画素間のピッチよりも小さいことを特徴とする（１７）に記載の表示装置。

上記の表示装置によれば、幅広い視野角範囲でコントラストを改善して表示品質を向上させることが可能である。

（１９）前記表示体が液晶表示素子であることを特徴とする（１７）または（１８）に記載の表示装置。

上記の表示装置によれば、幅広い視野角範囲でコントラストを改善して表示品質を向上させることが可能である。

（２０）前記液晶表示素子の表示モードがツイステッドネマチックモードであることを特徴とする（１７）〜（１９）のいずれかに記載の表示装置。

上記の表示装置によれば、幅広い視野角範囲でコントラストを改善して表示品質を向上させることが可能である。

（２１）前記液晶表示素子の表示モードがバーティカルアラインメントモードであることを特徴とする（１７）〜（１９）のいずれかに記載の表示装置。

上記の表示装置によれば、幅広い視野角範囲でコントラストを改善して表示品質を向上させることが可能である。

（２２）前記液晶表示素子の表示モードがインプレーンスイッチングモードであることを特徴とする（１７）〜（１９）のいずれかに記載の表示装置。

上記の表示装置によれば、幅広い視野角範囲でコントラストを改善して表示品質を向上させることが可能である。

本発明は、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ等の各種表示装置に利用可能である。

１０，１００・・・液晶表示装置（表示装置）、１２，１０２・・・バックライト（光源）、１３，１０３・・・第１偏光板、１４，１０４・・・液晶パネル、１５，１０５・・・偏光子、１６，１０６・・・液晶表示体（表示体）、２１，１１１・・・基材、２２，１１２・・・遮光層、２３，１１３・・・光拡散部、２４，１１４・・・接着層、２５，１１５・・・第２偏光板、２６，１１６・・・薄膜、３１・・・ＴＦＴ基板、３２・・・カラーフィルター基板、３３・・・液晶層、３４・・・スペーサー、３５・・・透明基板、３６・・・半導体層、３７・・・ゲート電極、３８・・・ソース電極、３９・・・ドレイン電極、４０・・・ＴＦＴ、４１・・・ゲート絶縁膜、４２・・・第１層間絶縁膜、４３，４４，４７・・・コンタクトホール、４５・・・第２層間絶縁膜、４６・・・画素電極、４８・・・配向膜、４９・・・透明基板、５０・・・ブラックマトリクス、５１・・・カラーフィルター、５２・・・平坦化層、５３・・・対向電極、５４・・・配向膜、５５，１４５・・・光源、５６，１４６・・・導光板、６０，６３・・・塗膜、６１・・・遮光パターン、６２・・・フォトマスク、６４・・・光制御フィルム、７０・・・製造装置、７１・・・送出ローラー、７２・・・巻取ローラー、７３・・・印刷装置、７４・・・第１乾燥装置、７５・・・塗布装置、７６・・・現像装置、７７・・・第２乾燥装置、７８・・・露光装置、７９・・・光源、８０・・・製造装置、８１・・・第１送出ローラー、８２・・・接着シート、８３・・・第２送出ローラー、８４・・・第１圧着ローラー、８５・・・第２圧着ローラー、８６・・・偏光フィルム、８７・・・第３送出ローラー、８８・・・切断機。

Claims (5)

1. 光透過性を有する基材と、前記基材の一面に形成された光拡散部と、前記基材の一面において、前記光拡散部の形成領域以外の領域に形成された遮光層と、を備え、
   前記光拡散部が、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有し、
   前記光拡散部の前記光入射端面から前記光射出端面までの高さが前記遮光層の層厚よりも大きく、
   前記光拡散部の前記光入射端面と偏光板が光学接着され、
   前記光拡散部の厚さ方向に沿う端面と前記偏光板の厚さ方向に沿う端面とが概ね合っていることを特徴とする偏光子。
2. 光透過性を有する基材の一面に点在するように複数の遮光層を形成する工程と、
   前記基材の一面に、前記遮光層を覆うように光透過性を有するネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、
   前記遮光層および前記ネガ型感光性樹脂層を形成した前記基材の一面と反対側の面から、前記遮光層の形成領域以外の領域を通して前記ネガ型感光性樹脂層に対して拡散光を照射し、前記ネガ型感光性樹脂層を露光する工程と、
   前記露光が終わった前記ネガ型感光性樹脂層を現像し、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有する光拡散部を前記基材の一面側に形成する工程と、
   前記光拡散部の前記光入射端面に、光学接着剤を介して、偏光板を貼着する工程と、
   前記基材、前記遮光層、前記光拡散部および前記偏光板を備えた積層体を、その厚さ方向に沿って切断して、前記光拡散部の厚さ方向に沿う端面と前記偏光板の厚さ方向に沿う端面とを概ね合わせて配置する工程と、を有することを特徴とする偏光子の製造方法。
3. 光透過性を有する基材の一面に開口部を有する遮光層を形成する工程と、
   前記基材の一面に、前記遮光層を覆うように光透過性を有するネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、
   前記遮光層および前記ネガ型感光性樹脂層を形成した前記基材の一面と反対側の面から、前記遮光層の開口部を通して前記ネガ型感光性樹脂層に対して拡散光を照射し、前記ネガ型感光性樹脂層を露光する工程と、
   前記露光が終わった前記ネガ型感光性樹脂層を現像し、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有する光拡散部を前記基材の一面側に形成する工程と、
   前記光拡散部の前記光入射端面に、光学接着剤を介して、偏光板を貼着する工程と、
   前記基材、前記遮光層、前記光拡散部および前記偏光板を備えた積層体を、その厚さ方向に沿って切断して、前記光拡散部の厚さ方向に沿う端面と前記偏光板の厚さ方向に沿う端面とを概ね合わせて配置する工程と、を有することを特徴とする偏光子の製造方法。
4. 表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を含み、
   前記視野角拡大部材が、請求項１に記載の偏光子で構成されていることを特徴とする表示装置。
5. 前記表示体が、表示画像を構成する複数の画素を有し、
   前記偏光子の前記光拡散部のうち、隣接する光拡散部間の最大ピッチが、前記表示体の前記画素間のピッチよりも小さいことを特徴とする請求項４に記載の表示装置。

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