JP2014037453A - Active energy ray curable resin composition and laminate using the same - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
【課題】耐擦傷性のような機械的強度と耐候性が両立されたハードコート層の形成に有用な活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)表面に(メタ)アクリロイル基が−O−Si−X−結合を介して結合している有機無機複合体、(B)紫外線吸収剤、(C)ヒンダードアミン系光安定剤、(D)沸点が70−200℃の有機溶剤を有する組成物であって、(D)の有機溶媒が特定の条件を満たす、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
【選択図】なしAn active energy ray-curable resin composition useful for forming a hard coat layer having both mechanical strength such as scratch resistance and weather resistance is provided.
(A) An organic-inorganic composite in which a (meth) acryloyl group is bonded to the surface via an -O-Si-X- bond, (B) an ultraviolet absorber, and (C) a hindered amine light stabilizer. (D) An active energy ray-curable resin composition having an organic solvent having a boiling point of 70 to 200 ° C., wherein the organic solvent (D) satisfies a specific condition.
[Selection figure] None
Description
本発明は、ハードコート層を形成する際に用いられる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物及びそれを用いて形成する積層体に関する。 The present invention relates to an active energy ray-curable resin composition used for forming a hard coat layer and a laminate formed using the same.
ポリカーボネート樹脂やメタクリル樹脂は、優れた透明性、耐熱性、機械的強度、易加工性の長所を有するため、電気、自動車、医療用途等に広く用いられている。しかしポリカーボネートは表面硬度が不足し耐擦傷性が不十分である、また長期の屋外での使用では黄変してしまう、という欠点があった。他方メタクリル樹脂はやはり耐擦傷性が不十分であるし、長期の屋外の使用で脆化する、という欠点があった。これらの欠点を改良する目的で、ポリカーボネート成形品やメタクリル樹脂成形品の表面を種々のコーティング剤で被覆する方法が提案されている。 Polycarbonate resins and methacrylic resins are widely used in electrical, automotive and medical applications because they have the advantages of excellent transparency, heat resistance, mechanical strength and easy processability. However, polycarbonate has the drawbacks that it has insufficient surface hardness and inadequate scratch resistance, and yellows when used outdoors for a long time. On the other hand, the methacrylic resin still has insufficient scratch resistance and has the disadvantage that it becomes brittle when used outdoors for a long time. In order to improve these drawbacks, methods for coating the surfaces of polycarbonate molded products and methacrylic resin molded products with various coating agents have been proposed.
このような方法としては、紫外線等の活性エネルギー線硬化性の有機系樹脂組成物によってハードコート層を形成する方法が広く知られている。特に活性エネルギー線硬化性有機系樹脂組成物を用いたハードコート層の形成は、加熱硬化を必要としないため、生産性の観点から注目されている。
そのようなハードコート層を形成するために用いられる組成物として、例えば、紫外線硬化性シリコーン硬質被覆組成物が知られており、その組成物には、コロイド状シリカに加えてアクリルオキシ官能性シラン、多官能アクリレート単量体及びヒンダードアミンからなる光重合開始剤混合物が含有さることが記載されている他、これをポリカーボネート基材上に塗布して得られる層が知られている(特許文献1)。また、紫外線吸収剤としてトリアジンやジベンゾイルレゾルシノール誘導体を用い、耐摩耗性を付与するためにシリルアクリレート改質シリカを含有させた組成物も知られている(特許文献2)。
As such a method, a method of forming a hard coat layer with an active energy ray-curable organic resin composition such as ultraviolet rays is widely known. In particular, formation of a hard coat layer using an active energy ray-curable organic resin composition does not require heat curing, and thus has attracted attention from the viewpoint of productivity.
As a composition used to form such a hard coat layer, for example, an ultraviolet curable silicone hard coating composition is known, and the composition includes an acryloxy functional silane in addition to colloidal silica. In addition, it is described that a photopolymerization initiator mixture composed of a polyfunctional acrylate monomer and a hindered amine is contained, and a layer obtained by applying the mixture onto a polycarbonate substrate is known (Patent Document 1). . In addition, a composition containing triazine or dibenzoylresorcinol derivative as an ultraviolet absorber and containing silylacrylate-modified silica for imparting abrasion resistance is also known (Patent Document 2).
一方、特許文献3によれば、(A)アルコキシシリル基及び(メタ)アクリロイル基を有する樹脂と、コロイダルシリカ及び/又はシリケートとを加水分解縮合させてなる有機無機複合体と、(B)紫外線吸収剤及び/又は(C)光安定剤を含有する活性エネルギー線硬化性組成物が開示されており、この組成物には(D)分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートを含有させてよいことが記載されている。 On the other hand, according to Patent Document 3, (A) an organic-inorganic composite formed by hydrolytic condensation of a resin having an alkoxysilyl group and a (meth) acryloyl group, colloidal silica and / or silicate, and (B) an ultraviolet ray. An active energy ray-curable composition containing an absorber and / or (C) a light stabilizer is disclosed. This composition has (D) two or more (meth) acryloyl groups in the molecule ( It is described that (meth) acrylates may be included.
また、特許文献4には、コロイダルシリカをラジカル重合性シラン化合物またはその加水分解物で化学修飾した紫外線硬化性シリコーンと、特定の構造を有する〔(メタ)アクリロイルオキシアルキル〕イソシアヌレートと、1分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有し、脂式骨格を有するウレタンポリ(メタ)アクリレートと、光重合開始剤を含有する耐摩耗性被覆形成組成物が記載されている。 Patent Document 4 discloses ultraviolet curable silicone obtained by chemically modifying colloidal silica with a radical polymerizable silane compound or a hydrolyzate thereof, [(meth) acryloyloxyalkyl] isocyanurate having a specific structure, and one molecule. A wear-resistant coating-forming composition containing urethane poly (meth) acrylate having at least two (meth) acryloyloxy groups and having an alicyclic skeleton, and a photopolymerization initiator is described.
また、長時間紫外線に曝される過酷な屋外用途に適用する場合には、ハードコート層のみならず、基材とハードコート層の間にプライマー層を設け、耐候性、機械的強度、密着性を高める手法が用いられている。熱硬化性の有機系樹脂組成物とイソシアネート硬化剤を組み合わせたプライマー層を用い、ハードコート層との密着性を高めた耐候ハードコートフィルムも提案されている(特許文献5)。 In addition, when applied to harsh outdoor applications exposed to ultraviolet rays for a long time, not only the hard coat layer but also a primer layer is provided between the base material and the hard coat layer to provide weather resistance, mechanical strength, adhesion A technique to increase the There has also been proposed a weather-resistant hard coat film that uses a primer layer in which a thermosetting organic resin composition and an isocyanate curing agent are combined and has improved adhesion to the hard coat layer (Patent Document 5).
さらに、未硬化のプライマーでも特定の性能を有する(メタ)アクリル共重合体をプラ
イマーに用いると、ハードコートとも基材(主としてポリカーボネート)とも密着し、優れた耐候性・耐擦傷性を実現しうることが提案されている(特許文献6)。
Furthermore, when a (meth) acrylic copolymer having a specific performance even with an uncured primer is used as a primer, it can adhere to a hard coat and a base material (mainly polycarbonate), and can realize excellent weather resistance and scratch resistance. (Patent Document 6).
長時間紫外線に曝される過酷な屋外用途に適用されるポリカーボネート樹脂やメタクリル樹脂に積層されるハードコート層には、紫外線に対する耐候性を持たせるために、紫外線吸収剤を添加させることが通常である。しかし、ハードコート層に紫外線吸収剤を添加させると、耐擦傷性が低下する傾向が見られる。これを解決するために、特許文献5に記載のように、ハードコート層に加えて他層を設ける技術が提案されているが、他層を設けることなく、ハードコート層の一層のみに耐候性及び耐擦傷性の機能を持たせることについては、検討の余地があった。また、耐擦傷性をより高めるために、ハードコート層に特定の有機無機複合成分を用いる場合、例えば、特許文献6に記載のような未硬化の(メタ
)アクリル(共)重合体系プライマーを用いると、ハードコート層を形成するための組成物を塗布してから硬化させるまでの間に、プライマー層が一部溶解し、ハードコート層と混ざり、かつ無機成分が相分離し、透明性、耐候性、耐擦傷性とも著しく低下するため、改良が必須であった。このようなプライマーの代わりにポリメタクリル酸メチルのホモポリマー層を用いると、鉛筆硬度が向上するうえ、ハードコート層形成時の溶解も軽減されるものの、依然として部分的には溶解するため、改良が必要であった。本発明は上記の問題を解決する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物およびそれを用いた積層体を提供することを課題とする。
In order to provide weather resistance against ultraviolet rays, it is normal to add an ultraviolet absorber to the hard coat layer laminated on polycarbonate resin or methacrylic resin that is applied to harsh outdoor applications exposed to ultraviolet rays for a long time. is there. However, when an ultraviolet absorber is added to the hard coat layer, the scratch resistance tends to decrease. In order to solve this, as described in Patent Document 5, a technique for providing another layer in addition to the hard coat layer has been proposed, but without providing the other layer, only one layer of the hard coat layer has weather resistance. In addition, there was room for studying to provide the function of scratch resistance. Moreover, when using a specific organic-inorganic composite component in the hard coat layer in order to further improve the scratch resistance, for example, an uncured (meth) acrylic (co) polymer primer as described in Patent Document 6 is used. In addition, the primer layer partially dissolves and mixes with the hard coat layer and the inorganic component phase-separates between application of the composition for forming the hard coat layer and curing, transparency, weather resistance Improvement was essential because both properties and scratch resistance were significantly reduced. When a polymethyl methacrylate homopolymer layer is used instead of such a primer, the pencil hardness is improved and the dissolution during the formation of the hard coat layer is reduced, but it is still partially dissolved, so the improvement It was necessary. This invention makes it a subject to provide the active energy ray-curable resin composition which solves said problem, and a laminated body using the same.
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、特定の成分を含み、かつ活性エネルギー線の照射によって硬化する樹脂組成物を使用することにより、例えば、未硬化のポリ(メタ)アクリル酸エステル層のような組成物を塗布してから硬化させるまでの間に、一部ハードコート層に溶解する可能性のあるプライマー層を用いても、有機無機複合成分を含むハードコート層の耐傷性(機械的強度)と耐候性の両方の性質が向上することを見出した。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor, for example, uses a resin composition that contains a specific component and is cured by irradiation with active energy rays. ) A hard coat layer containing an organic-inorganic composite component even if a primer layer that may be partially dissolved in the hard coat layer is applied after the composition such as an acrylate layer is applied and cured. It has been found that both the scratch resistance (mechanical strength) and the weather resistance are improved.
本発明では、以下のものを提供する。
[1](A)表面に(メタ)アクリロイル基が−O−Si−X−結合を介して結合している有機無機複合体
(B)紫外線吸収剤
(C)ヒンダードアミン系光安定剤
(D)沸点が70−200℃の有機溶剤
を有する組成物であって、
前記(A)におけるXは任意の−CH2−が−OCONH−及び/または−S−で置換されていてもよい炭素数2〜10のアルキレン基を示し、
かつ前記(D)が、(D)成分をトータル100重量部とするとき、沸点70℃から200℃の脂肪族アルコール51−99重量部、沸点70-180℃のエステルおよび/またはエーテル構造を有する有機化合物49−1重量部の混合物
あることを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
The present invention provides the following.
[1] (A) Organic-inorganic composite in which a (meth) acryloyl group is bonded to the surface via an -O-Si-X- bond (B) Ultraviolet absorber (C) Hindered amine light stabilizer (D) A composition having an organic solvent having a boiling point of 70-200 ° C,
X in the above (A) represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms in which any —CH 2 — may be substituted with —OCONH— and / or —S—;
And when said (D) makes (D) component total 100 weight part, it has 51-99 weight part of aliphatic alcohol with a boiling point of 70 to 200 degreeC, and an ester and / or ether structure with a boiling point of 70 to 180 degreeC. An active energy ray-curable resin composition comprising a mixture of 49-1 parts by weight of an organic compound.
[2](E)1分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有し、ウレタン構造およびヌレート構造を含まない紫外線硬化性アクリレート化合物
及び/または
(F)1分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を含むウレタン構造を有する(メタ)アクリレートおよび/または1分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を含むヌレート構造を有する(メタ)アクリレート化合物
を有することを特徴とする[1]に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[2] (E) An ultraviolet curable acrylate compound having three or more (meth) acryloyl groups in one molecule and not containing a urethane structure and a nurate structure and / or (F) two or more in one molecule It has a (meth) acrylate having a urethane structure containing a (meth) acryloyl group and / or a (meth) acrylate compound having a nurate structure containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule [ 1] The active energy ray-curable resin composition according to 1.
[3](A)の有機無機複合体が、
(A1)無機酸化物微粒子と、
(A2)(メタ)アクリロイル基とアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤
との反応物であり、かつ、
前記(A1)無機酸化物微粒子はその表面が未修飾であって、
前記(A2)のシランカップリング剤の分子量をMとし、当該無機酸化物微粒子を構成する無機酸化物の組成式で表される単位を1ユニットとして、その1ユニットの式量で(A1)の無機酸化物の重量を除して得た値を無機酸化物のモル当量とし、その1モル当量に対する(A2)のアルコキシシリル基のSi原子のモル数をAとしたとき、前記MとAの積(M×A)が下記(1)の関係を満たすことを特徴とする[1]または[2]に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[3] The organic-inorganic composite of (A) is
(A1) inorganic oxide fine particles;
(A2) a reaction product of a (meth) acryloyl group and a silane coupling agent having an alkoxysilyl group, and
The surface of the (A1) inorganic oxide fine particles is unmodified,
The molecular weight of the silane coupling agent (A2) is M, the unit represented by the composition formula of the inorganic oxide constituting the inorganic oxide fine particles is one unit, and the formula weight of (A1) When the value obtained by dividing the weight of the inorganic oxide is defined as the molar equivalent of the inorganic oxide, and the number of Si atoms of the alkoxysilyl group of (A2) relative to 1 molar equivalent is defined as A, the above M and A The active energy ray-curable resin composition according to [1] or [2], wherein the product (M × A) satisfies the following relationship (1).
15<M×A<50・・・(1)
[4]前記(A1)で用いる無機酸化物微粒子が、体積平均粒子径が5〜200nm以下のコロイド状シリカであることを特徴とする[1]〜[3]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[5]前記(A)+(B)+(C)の合計含有量を100重量部とするとき、(D)は40〜200重量部であることを特徴とする[1]〜[4]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
15 <M × A <50 (1)
[4] The inorganic oxide fine particles used in the (A1) are colloidal silica having a volume average particle diameter of 5 to 200 nm or less, according to any one of [1] to [3] An active energy ray-curable resin composition.
[5] When the total content of (A) + (B) + (C) is 100 parts by weight, (D) is 40 to 200 parts by weight [1] to [4] The active energy ray-curable resin composition according to any one of the above.
[6]前記(A)+(E)+(F)の合計含有量を100重量部とするとき、前記(A)を合成するために用いる(A1)の量が、15〜50重量部であることを特徴とする[1]〜[5]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[7]前記(A)+(E)+(F)の合計含有量を100重量部とするとき、(A)が17.5〜70重量部、(E)+(F)が30〜82.5重量部、(E)/(F)の重量比が1/9〜9/1、(B)が0.5〜10重量部および(C)が0.1〜5重量部であることを特徴とする[1]〜[6]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[6] When the total content of (A) + (E) + (F) is 100 parts by weight, the amount of (A1) used to synthesize (A) is 15-50 parts by weight. The active energy ray-curable resin composition according to any one of [1] to [5], which is characterized in that it exists.
[7] When the total content of (A) + (E) + (F) is 100 parts by weight, (A) is 17.5 to 70 parts by weight, and (E) + (F) is 30 to 82. .5 parts by weight, (E) / (F) weight ratio is 1/9 to 9/1, (B) is 0.5 to 10 parts by weight, and (C) is 0.1 to 5 parts by weight. The active energy ray-curable resin composition according to any one of [1] to [6].
[8]前記(A)+(B)+(C)+(D)+(E)の合計含有量を100重量部とするとき、(F)は10〜200重量部であることを特徴とする[1]〜[7]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[9]前記(A)+(E)+(F)の合計含有量を100重量部とするとき、(G)光重合開始剤を、0.1〜7重量部含むことを特徴とする[1]〜[8]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[8] When the total content of (A) + (B) + (C) + (D) + (E) is 100 parts by weight, (F) is 10 to 200 parts by weight. The active energy ray-curable resin composition according to any one of [1] to [7].
[9] When the total content of (A) + (E) + (F) is 100 parts by weight, 0.1 to 7 parts by weight of (G) photopolymerization initiator is included [ The active energy ray-curable resin composition according to any one of 1] to [8].
[10]前記(F)が、脂環構造を有するジオール、ラクトン類、ポリイソシアネート、及び水酸基含有(メタ)アクリレートを含む材料を反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレートを含むことを特徴とする[1]〜[9]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[11]前記脂環構造を有するジオールが、トリシクロデカンジメタノールである、[10]に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
[12][1]〜[11]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物を含有する組成物に活性エネルギー線を照射して形成されるハードコート層を有する、積層体。
[10] The (F) includes a urethane (meth) acrylate obtained by reacting a material containing a diol having an alicyclic structure, a lactone, a polyisocyanate, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate. [1] The active energy ray-curable composition according to any one of [9].
[11] The active energy ray-curable composition according to [10], wherein the diol having an alicyclic structure is tricyclodecane dimethanol.
[12] A laminate having a hard coat layer formed by irradiating a composition containing the active energy ray-curable composition according to any one of [1] to [11] with active energy rays.
[13]基材、基材上に形成される複層下層、及び複層下層上に形成されるハードコート層からなる積層体であって、前記ハードコート層が、[1]〜[12]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物を含有する組成物を複層下層上に塗膜し、活性エネルギー線を照射して形成される層である、積層体。
[14]前記基材が、厚さ0.02〜10mmの熱可塑性樹脂の押出成形物又は射出成形物であり、前記複層下層が、(メタ)アクリル(共)重合体の塗膜またはフィルムである、[12]または[13]に記載の積層体。
[15]前記複層下層と前記ハードコート層との間に、1層以上の他の層を含む、[12]〜[14]のいずれか一項に記載の積層体。
[16](メタ)アクリル(共)重合体を主成分とする基材、及び基材上に形成されるハードコート層からなる積層体であって、前記ハードコート層が、[1]〜[11]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物を含有する組成物を基材上に塗膜し、活性エネルギー線を照射して形成される層である、積層体。
[13] A laminate comprising a substrate, a multilayer lower layer formed on the substrate, and a hard coat layer formed on the multilayer lower layer, wherein the hard coat layer is [1] to [12] The laminated body which is a layer formed by apply | coating the composition containing the active energy ray curable composition as described in any one of these on a multilayer lower layer, and irradiating an active energy ray.
[14] The base material is an extruded or injection-molded product of a thermoplastic resin having a thickness of 0.02 to 10 mm, and the multilayer lower layer is a coating film or film of a (meth) acrylic (co) polymer The laminate according to [12] or [13].
[15] The laminate according to any one of [12] to [14], including one or more other layers between the multilayer lower layer and the hard coat layer.
[16] A laminate comprising a base material composed mainly of a (meth) acrylic (co) polymer, and a hard coat layer formed on the base material, wherein the hard coat layer comprises [1] to [1] 11] A laminate, which is a layer formed by coating a composition containing the active energy ray-curable composition according to any one of [11] on a substrate and irradiating with active energy rays.
本発明により、密着性を保ったまま、透明性が高く、耐摩耗性、耐擦傷性及び鉛筆硬度のような機械的強度乃至耐候性の性質に優れるハードコート層及びそれが積層された積層体を形成することができる。 According to the present invention, a hard coat layer excellent in mechanical properties and weather resistance properties such as high transparency, abrasion resistance, scratch resistance, and pencil hardness while maintaining adhesion, and a laminate in which the hard coat layer is laminated Can be formed.
本発明は、ハードコート層を形成するための活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であって、特定の成分を含み、かつ活性エネルギー線照射によって硬化するものであることを特徴とする。
なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの総称であり、いずれか一方又は両方を意味する。同様に「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸の総称であり、いずれか一方又は両方を意味し、「(メタ)アクリロイル基」は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の総称であり、いずれか一方又は両方を意味する。また、本発明でいう活性エネルギー線には、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等が含まれる。
The present invention is an active energy ray-curable resin composition for forming a hard coat layer, which contains a specific component and is cured by irradiation with active energy rays.
In the present invention, “(meth) acrylate” is a general term for acrylate and methacrylate, and means either one or both. Similarly, “(meth) acrylic acid” is a generic term for acrylic acid and methacrylic acid, meaning either one or both, and “(meth) acryloyl group” is a generic term for acryloyl group and methacryloyl group, Means either or both. The active energy ray as used in the present invention includes ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, γ rays and the like.
<活性エネルギー線硬化性樹脂組成物>
本発明に係る樹脂組成物は、ハードコート層を形成するための樹脂組成物であって、
(A)表面に(メタ)アクリロイル基が−O−Si−X−結合を介して結合している有機無機複合体
(B)紫外線吸収剤
(C)ヒンダードアミン系光安定剤
(D)沸点が70−200℃の有機溶剤
を有する組成物であって、
<Active energy ray-curable resin composition>
The resin composition according to the present invention is a resin composition for forming a hard coat layer,
(A) Organic-inorganic composite in which (meth) acryloyl group is bonded to the surface via —O—Si—X— bond (B) UV absorber (C) hindered amine light stabilizer (D) Boiling point is 70 A composition having an organic solvent at −200 ° C.
前記(A)におけるXは任意の−CH2−が−OCONH−及び/または−S−で置換されていてもよい炭素数2〜10のアルキレン基を示し、
かつ前記(D)が、(D)成分をトータル100重量部とするとき、沸点70℃から200℃の脂肪族アルコール51−99重量部、沸点70-180℃のエステルおよび/またはエーテル構造を有する有機化合物49−1重量部の混合物
あることを特徴とする。
X in the above (A) represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms in which any —CH 2 — may be substituted with —OCONH— and / or —S—;
And when said (D) makes (D) component total 100 weight part, it has 51-99 weight part of aliphatic alcohol with a boiling point of 70 to 200 degreeC, and an ester and / or ether structure with a boiling point of 70 to 180 degreeC. It is characterized by being a mixture of 49-1 parts by weight of organic compound.
上記の樹脂組成物を活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、優れた透明性
、耐擦傷性、硬度、耐候性に加え、微小な変形への付随性及び密着耐久性を有するハードコート層が得られる。
Hard coating layer that has excellent transparency, scratch resistance, hardness, weather resistance, incidental to minute deformation and adhesion durability by curing the above resin composition by irradiation with active energy rays Is obtained.
<(A)表面に(メタ)アクリロイル基が−O−Si−X−結合を介して結合している有機無機複合体>
本発明で用いる上記(A)の有機無機複合体は、表面に(メタ)アクリロイル基が−O−Si−X−結合を介して結合している有機無機複合体である有機無機複合体であることを特徴としている。
<(A) Organic-inorganic composite in which a (meth) acryloyl group is bonded to the surface via an -O-Si-X- bond>
The (A) organic-inorganic composite used in the present invention is an organic-inorganic composite that is an organic-inorganic composite in which a (meth) acryloyl group is bonded to the surface via an -O-Si-X- bond. It is characterized by that.
Xとしては、炭素数2〜10のアルキレン基であって、任意の−CH2−が−OCONH−及び/または−S−で置換されていてもよいアルキレン基であることを特徴としている。Xの炭素数としては、下限値としては、有機無機複合体の安定性が良好である点から、2以上が好ましく、3以上がさらに好ましい。上限値としては、鉛筆硬度が良好である点から、10以下が好ましく、7以下がさらに好ましく、5以下が特に好ましい。また、他成分との密着性や相溶性が良好である点から、ウレタン基またはチオエーテル基を含むアルキレン基であることがより好ましい。 X is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and is characterized in that an arbitrary —CH 2 — may be substituted with —OCONH— and / or —S—. The lower limit of the number of carbon atoms in X is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, from the viewpoint of good stability of the organic-inorganic composite. The upper limit is preferably 10 or less, more preferably 7 or less, and particularly preferably 5 or less from the viewpoint of good pencil hardness. Moreover, it is more preferable that it is an alkylene group containing a urethane group or a thioether group from the point that adhesiveness and compatibility with another component are favorable.
また、(A1)無機酸化物微粒子と、(A2)(メタ)アクリロイル基とアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤との反応物であり、かつ、前記(A1)無機酸化物微粒子はその表面が未修飾であって、前記(A2)のシランカップリング剤の分子量をMとし、当該無機酸化物微粒子を構成する無機酸化物の組成式で表される単位を1ユニットとして、その1ユニットの式量で(A1)の無機酸化物の重量を除して得た値を無機酸化物のモル当量とし、その1モル当量に対する(A2)のアルコキシシリル基のSi原子のモル数をAとしたとき、前記MとAの積(M×A)が下記(1)の関係を満たすことが好ましい。 Further, (A1) is a reaction product of inorganic oxide fine particles and (A2) a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group and an alkoxysilyl group, and the surface of the (A1) inorganic oxide fine particles has a surface. Unmodified, where the molecular weight of the silane coupling agent (A2) is M, the unit represented by the composition formula of the inorganic oxide constituting the inorganic oxide fine particles is one unit, and the unit formula When the value obtained by dividing the weight of the inorganic oxide of (A1) by the amount is the molar equivalent of the inorganic oxide, and the number of Si atoms of the alkoxysilyl group of (A2) relative to 1 molar equivalent is A The product of M and A (M × A) preferably satisfies the following relationship (1).
15<M×A<50 (1)
(A1)無機酸化物微粒子
本発明の(A1)で用いる無機酸化物微粒子の種類は特に限定されないが、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン、セリウム、リチウム等の酸化物又はこれらの複合酸化物が好ましく、具体的には、ケイ素の酸化物(シリカ)、アルミニウムの酸化物(アルミナ)、ケイ素−アルミニウムの複合酸化物、ジルコニウムの酸化物(ジルコニア)、チタニウムの酸化物(チタニア)、酸化亜鉛、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫、インジウム−錫複合酸化物(ITO)、酸化セリウム、シリカ−酸化リチウムの複合酸化物等を挙げることができる。特にシリカを含むハードコート層に特に好適である。
なお、前記のM×Aを算出する際の、上記無機酸化物微粒子における、無機酸化物の1モル当量の算出の仕方については、以下の通りである。
15 <M × A <50 (1)
(A1) Inorganic oxide fine particles The kind of inorganic oxide fine particles used in (A1) of the present invention is not particularly limited, but silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, lead, germanium, indium, tin, antimony, cerium, lithium Oxides such as these or composite oxides thereof are preferable, and specifically, silicon oxide (silica), aluminum oxide (alumina), silicon-aluminum composite oxide, zirconium oxide (zirconia), Examples thereof include titanium oxide (titania), zinc oxide, tin oxide, antimony-doped tin oxide, indium-tin composite oxide (ITO), cerium oxide, and silica-lithium oxide composite oxide. It is particularly suitable for a hard coat layer containing silica.
In addition, how to calculate 1 molar equivalent of the inorganic oxide in the inorganic oxide fine particles when calculating the M × A is as follows.
上記無機酸化物微粒子を構成する無機酸化物の組成式で表される単位を1ユニットとして、その1ユニットの式量で、実際に用いる無機酸化物の重量を除して得た値を無機酸化物のモル当量とする。そして、そのモル当量で上記(A2)のアルコキシシリル基のSi原子のモル数を除すことで、1モル当量あたりに換算した上記(A2)のアルコキシシリル基のSi原子のモル数が算出できる。シリカで例示すると、シリカの組成式はSiO2
であり、これを1ユニットとする。そしてその式量は60.1であることから、その数値で実際に用いるシリカの重量(g)を割って得られる数値をシリカのモル当量とする。そして、得られたモル当量の数値を用いて、1モル当量あたりの上記(A2)のアルコキシシリル基のSi原子のモル数を算出する。
Taking the unit represented by the composition formula of the inorganic oxide constituting the inorganic oxide fine particle as one unit, the value obtained by dividing the weight of the inorganic oxide actually used by the unit amount of the unit is the inorganic oxidation value. The molar equivalent of the product. Then, by dividing the number of moles of Si atoms of the alkoxysilyl group of (A2) by the mole equivalent, the number of moles of Si atoms of the alkoxysilyl group of (A2) converted per mole equivalent can be calculated. . Taking silica as an example, the composition formula of silica is SiO 2.
This is one unit. And since the formula weight is 60.1, the numerical value obtained by dividing the weight (g) of the silica actually used by the numerical value is taken as the molar equivalent of silica. Then, the number of moles of Si atoms of the alkoxysilyl group (A2) per mole equivalent is calculated using the obtained molar equivalent numerical value.
シリカは、分散媒中に分散しているコロイド状シリカを用いることができる。分散媒と
しては、例えば、水、メタノール、2−プロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルアセトアミド、キシレン及びこれらの混合溶剤が挙げられる。
As the silica, colloidal silica dispersed in a dispersion medium can be used. Examples of the dispersion medium include water, methanol, 2-propanol, n-butanol, isobutanol, ethylene glycol, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethylacetamide, xylene, and the like. These mixed solvents are mentioned.
このようなコロイド状シリカとしては、例えば、「IPA−ST」(IPA分散オルガノシリカゾル、日産化学工業株式会社製)、「MEK−ST」(MEK分散オルガノシリカゾル、日産化学工業株式会社製)、「MIBK−ST」(MIBK分散オルガノシリカゾル、日産化学工業株式会社製)、「PMA−ST」(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート分散オルガノシリカゾル、日産化学工業株式会社製)等、又はこれらを原料に他の水酸基を有する溶剤に溶媒置換したゾル(例えばPGM分散オルガノシリカゾル等)が挙げられる。
なお、上記のいずれのシリカを用いる場合でも、後述の表面処理が行われるまでシリカの表面は未修飾である。
Examples of such colloidal silica include “IPA-ST” (IPA-dispersed organosilica sol, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), “MEK-ST” (MEK-dispersed organosilica sol, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), “ "MIBK-ST" (MIBK-dispersed organosilica sol, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), "PMA-ST" (propylene glycol monomethyl ether acetate-dispersed organosilica sol, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), etc. Sol (for example, PGM-dispersed organosilica sol) substituted with a solvent containing
Even when any of the above silicas is used, the surface of the silica is unmodified until the surface treatment described later is performed.
コロイド状シリカの体積平均粒子径は、積層体の透明性や塗膜の均一性の観点から、通常、200nm以下であり、一方、通常1nm以上である。この体積平均粒子径は5〜200nmであることがより好ましく、5〜50nmであることが本発明の効果をよりよく得る観点からさらに好ましい。コロイド状シリカの体積平均粒子径は、走査型電子顕微鏡(日本電子株式会社製JSM−7401F)を用いて粒子を撮影し、この画像の50個の粒子について画像解析ソフトImageProPlus(MediaCybernetics社製)を用いて測定することができる。 The volume average particle diameter of the colloidal silica is usually 200 nm or less from the viewpoint of the transparency of the laminate and the uniformity of the coating film, and is usually 1 nm or more. The volume average particle diameter is more preferably from 5 to 200 nm, and further preferably from 5 to 50 nm from the viewpoint of better obtaining the effects of the present invention. The volume average particle size of the colloidal silica was measured using a scanning electron microscope (JSM-7401F manufactured by JEOL Ltd.), and image analysis software ImageProPlus (manufactured by Media Cybernetics) was used for 50 particles of this image. Can be measured.
(A2)(メタ)アクリロイル基とアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤
無機酸化物微粒子を表面修飾する(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤とは、例えば(メタ)アクリロイル基と、アルコキシシリル基のような加水分解性ケイ
素基とをともに有する化合物がこれに該当する。
具体的にはβ−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、β−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
(A2) Silane coupling agent having (meth) acryloyl group and alkoxysilyl group The silane coupling agent having (meth) acryloyl group for modifying the surface of inorganic oxide fine particles is, for example, (meth) acryloyl group and alkoxysilyl A compound having both a hydrolyzable silicon group such as a group corresponds to this.
Specifically, β- (meth) acryloyloxyethyltrimethoxysilane, β- (meth) acryloyloxyethyltrimeethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloyloxypropyltriethoxy Examples include silane and γ- (meth) acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane.
これらの化合物や、これら以外のシランカップリング剤を用いて無機酸化物微粒子を表面修飾した場合には、目的とする有機官能基を炭素数2〜10のアルキレン基を介して導入することができる。この炭素数については、上記のシランカップリング剤におけるアルキレン基の炭素数が所望のものであるものを選択することで調整可能である。
炭素数2〜10のアルキレン基を介して導入することで、有機官能基と無機酸化物表面との間の距離が好ましいものとなり、有機官能基本来の反応性を発揮することができる。
When inorganic oxide fine particles are surface-modified using these compounds or a silane coupling agent other than these compounds, the target organic functional group can be introduced via an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms. . About this carbon number, it can adjust by selecting what the carbon number of the alkylene group in said silane coupling agent has desired.
By introducing it via an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, the distance between the organic functional group and the surface of the inorganic oxide becomes preferable, and the basic reactivity of the organic functional group can be exhibited.
一方、(メタ)アクリロイル基と、アルコキシシリル基のような加水分解性ケイ素基とをともに有する化合物としては、以下の化合物(I)〜(V)を重合又は共重合させる際に化合物(VI)を共重合させることによりアルコキシシリル基を導入し、続いて(i)〜(iii)の方法により(メタ)アクリロイル基を導入するか、又は、以下の化合物(I
)〜(V)を重合又は共重合して得た重合体に(iv)〜(vi)の方法によりアルコキシシリル基を導入し、続いて(i)〜(iii)の方法により(メタ)アクリロイル基を導入し
て得ることもできる。
On the other hand, as a compound having both a (meth) acryloyl group and a hydrolyzable silicon group such as an alkoxysilyl group, the compound (VI) is used when the following compounds (I) to (V) are polymerized or copolymerized. Are introduced, and then a (meth) acryloyl group is introduced by the methods (i) to (iii), or the following compound (I
) To (V) are polymerized or copolymerized to introduce an alkoxysilyl group by the methods (iv) to (vi), and then the (meth) acryloyl by the methods (i) to (iii). It can also be obtained by introducing a group.
(I)エポキシ基を有する単量体
グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル等
(II)水酸基を有する単量体
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシエチルフタレート、N−メチロールアクリルアミド等
(I) Monomer having an epoxy group Glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, etc. (II) Monomer having a hydroxyl group 2- Hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2-acryloyl Oxyethyl-2-hydroxyethyl phthalate, N-methylol acrylamide, etc.
(III)カルボキシル基を有する単量体
(メタ)アクリル酸、モノ(2−アクリロイルオキシエチル)フタレート、モノ(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)ヘキサヒドロフタレート、モノ(2−(メタ)アクリロイルプロピル)フタレート、モノ((メタ)アクリロイルオキシエチル)サクシネート等
(IV)イソシアネート基を有する単量体
2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレート、上記水酸基含有(メタ)アクリレートと2,4−トルイレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物との付加体等
(III) Monomers having a carboxyl group (Meth) acrylic acid, mono (2-acryloyloxyethyl) phthalate, mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) hexahydrophthalate, mono (2- (meth) acryloylpropyl) ) Phthalate, mono ((meth) acryloyloxyethyl) succinate, etc. (IV) Monomer having isocyanate group 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate, hydroxyl group-containing (meth) acrylate and 2,4-toluylene diisocyanate, 1 Adducts with diisocyanate compounds such as 1,6-hexamethylene diisocyanate
(V)上記化合物と共重合可能な単量体
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、シアノエチル(メタ)アクリレート、スチレン等
(V) Monomer copolymerizable with the above compound Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meta ) Acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (Meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate , Dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, cyanoethyl (meth) acrylate, styrene, etc.
(VI)アルコキシシリル基を有する単量体
p−スチリルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等
上述のアルコキシシリル基を導入した、化合物(I)〜(V)を重合又は共重合させて得た重合体又は共重合体に(メタ)アクリロイル基を導入する方法としては以下の(i)〜(iii)の方法が使用できる。
(VI) Monomer having alkoxysilyl group p-styryltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropylmethyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxy Propylmethyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. Polymers obtained by polymerizing or copolymerizing the above-mentioned alkoxysilyl groups (I) to (V) Alternatively, the following methods (i) to (iii) can be used as a method for introducing a (meth) acryloyl group into the copolymer.
(i)上記エポキシ基を有する単量体の重合体又は共重合体に上記カルボキシル基及び/又は水酸基を有する単量体を付加反応させる。
(ii)上記水酸基を有する単量体の重合体又は共重合体に上記カルボキシル基を有する単量体を縮合反応させる。
(iii)上記カルボキシル基を有する単量体の重合体又は共重合体に上記水酸基を有す
る単量体を縮合反応させる、又は上記エポキシ基を有する単量体を付加反応させる。
上述の化合物(I)〜(V)を重合又は共重合させて得た重合体又は共重合体にアルコキシシリル基を導入する方法としては以下の(iv)〜(vi)の方法が使用できる。
(I) The monomer or monomer having an epoxy group is subjected to an addition reaction with the monomer having a carboxyl group and / or a hydroxyl group.
(Ii) The monomer having the carboxyl group is subjected to a condensation reaction with the polymer or copolymer of the monomer having the hydroxyl group.
(Iii) The monomer having a hydroxyl group is subjected to a condensation reaction with the polymer or copolymer of the monomer having a carboxyl group, or the monomer having an epoxy group is subjected to an addition reaction.
As a method for introducing an alkoxysilyl group into a polymer or copolymer obtained by polymerizing or copolymerizing the above-mentioned compounds (I) to (V), the following methods (iv) to (vi) can be used.
(iv)上記エポキシ基を有する単量体の重合体又は共重合体にアミノ基を有するアルコキシシラン(3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン等)を付加反応させる。
(v)上記水酸基を有する単量体の重合体又は共重合体にイソシアネート基を有するアルコキシシラン(3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等)を付加反応させる。
(Iv) An alkoxysilane (3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, etc.) having an amino group is added to the polymer or copolymer of the monomer having an epoxy group.
(V) An alkoxysilane having an isocyanate group (such as 3-isocyanatopropyltriethoxysilane) is subjected to an addition reaction with the polymer or copolymer of the monomer having a hydroxyl group.
(vi)上記カルボキシル基を有する単量体の重合体又は共重合体にエポキシ基を有するアルコキシシラン(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等)を付加反応させる。
上記以外にも、例えば、−OCONH−を有するアルキレン基を介して目的の有機官能基を導入する場合には、以下の方法が挙げられる。
(Vi) An alkoxysilane (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyl) having an epoxy group in the polymer or copolymer of the monomer having the carboxyl group. Doxytriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, etc.) are subjected to an addition reaction.
In addition to the above, for example, when the target organic functional group is introduced via an alkylene group having —OCONH—, the following method is exemplified.
このような反応に用いる(メタ)アクリロイル基とアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤としては、OH基を有する(メタ)アクリレート化合物のOH基と、NCO基を有するトリアルコキシシランのNCO基とが−OCONH−を介して結合した化合物が挙げられる。これらの中でも他成分との相溶性や生成ハードコート層の性能が特に良好であるため、ペンタエリスリトールトリアクリレートと3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランの反応物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートと3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランの反応物、グリセリンジアクリレートと3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランの反応物、トリメチロールプロパンジアクリレートと3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランの反応物、2−ヒドロキシエチルアクリレートと、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランの反応物が好ましい。 Examples of the silane coupling agent having a (meth) acryloyl group and an alkoxysilyl group used in such a reaction include an OH group of a (meth) acrylate compound having an OH group and an NCO group of a trialkoxysilane having an NCO group. And compounds bonded through —OCONH—. Among these, the compatibility with other components and the performance of the produced hard coat layer are particularly good, so that a reaction product of pentaerythritol triacrylate and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, dipentaerythritol pentaacrylate and 3-isocyanatopropyltriacrylate. Reaction product of ethoxysilane, reaction product of glycerin diacrylate and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, reaction product of trimethylolpropane diacrylate and 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, 2-hydroxyethyl acrylate and 3-isocyanatepropyltri Ethoxysilane reactants are preferred.
一方、例えば、−S−を有するアルキレン基を介して目的の有機官能基を導入する場合には、以下の方法が挙げられる。このような反応に用いる(メタ)アクリロイル基とアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤としては、
1)SH基を有するトリアルコキシシラン化合物のSH基と、ジイソシアネートの一方のNCO基を−NHCOS−を介して結合し、残りのNCO基にOH基を有する(メタ)アクリレート化合物を作用させ、−NHCOO−を介して結合した化合物、
2)NCO基を有する(メタ)アクリレート化合物のNCO基と、SH基を有するトリアルコキシシランのSH基とが、−NHCOS−を介して結合した化合物、
3)分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物、とSH基を有するトリアルコキシシランとが、SH基の不飽和基((メタ)アクリロイル基)へのマイケル付加反応により生成するチオエーテルを解して結合した化合物が挙げられる。
On the other hand, for example, in the case of introducing a target organic functional group through an alkylene group having —S—, the following method is exemplified. As a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group and an alkoxysilyl group used for such a reaction,
1) SH group of trialkoxysilane compound having SH group and one NCO group of diisocyanate are bonded via -NHCOS-, and the remaining NCO group is allowed to act with (meth) acrylate compound having OH group, A compound bonded via NHCOO-,
2) a compound in which an NCO group of a (meth) acrylate compound having an NCO group and an SH group of a trialkoxysilane having an SH group are bonded via —NHCOS—,
3) A compound containing two or more (meth) acryloyl groups in the molecule and a trialkoxysilane having an SH group are formed by a Michael addition reaction of the SH group to an unsaturated group ((meth) acryloyl group). And a compound in which the thioether is bonded to form a thioether.
OH基を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、モノ(メタ)アクリレート(ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレートおよびヒドロキシプロピルメタクリレートなど)、ジ(メタ)アクリレート(グリセリンジ(メタ)アクリレートおよびトリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレートなど)、トリ〜ポリ(メタ)アクリレート(ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールトリ〜ペンタアクリレートおよびジトリメチロールプロパントリアクリレートなど)が好ましい。 Examples of the (meth) acrylate having an OH group include mono (meth) acrylate (such as hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate and hydroxypropyl methacrylate), di (meth) acrylate (glycerin di (meth) acrylate and Trimethylolpropane di (meth) acrylate) and tri-poly (meth) acrylate (pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tri-pentaacrylate, and ditrimethylolpropane triacrylate) are preferable.
NCO基を有するトリアルコキシシラン化合物としては、例えば、3−イソシアネートトリエトキシシラン(信越化学製、KBE9007など)、3−イソシアネートトリメトキシシランが挙げられる。また、メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学製、KBM803、および、東レダウコーニングシリコン製、SH6062など)などのメルカプトアルキルトリアルコキシシランと、ジイソシアネート(イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)およびトルエンジイソシアナート(TDI)など)の一方のNCO基とが、チオウレタン結合を介して結合した化合物なども例示することができる。 Examples of trialkoxysilane compounds having an NCO group include 3-isocyanate triethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBE9007, etc.) and 3-isocyanate trimethoxysilane. In addition, mercaptoalkyltrialkoxysilane such as mercaptopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM803, and Toray Dow Corning Silicon Co., Ltd., SH6062), diisocyanate (isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate (MDI) and toluene) A compound in which one NCO group of diisocyanate (TDI) or the like is bonded via a thiourethane bond can also be exemplified.
OH基とNCO基との反応による−OCONH−の生成法は、各化合物NCO基/OH基≦1となるような割合で配合し、60〜100℃で1時間〜20時間混合攪拌することにより得られる。本反応においては、反応中のアクリル基による重合などを防止するために、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、カテコール、p−t−ブチルカテコールおよびフェノチアジンなどの重合禁止剤を使用するのが好ましい。その配合量は反応混合物に対して、好ましくは0.01〜1重量%、より好ましくは0.05〜0.5重量%である。また反応を促進するために、例えば、ジオクチルスズラウレート、および、ジアザビシクロオクタン(DABCO)などのような公知の反応触媒を添加しても良い。さらに、本反応は、例えば、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒、エチレングリコールジエチルエーテルおよびジエチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのカルボン酸エステル系溶媒、ならびに、キシレンおよびトルエンなどの芳香族炭化水素溶媒など、イソシアネート基と反応しうる基を含まない溶媒中で、または、同時に、分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートの存在下で行うことができる。 The production method of -OCONH- by the reaction of OH group and NCO group is blended in such a ratio that each compound NCO group / OH group ≦ 1, and mixed and stirred at 60 to 100 ° C. for 1 hour to 20 hours. can get. In this reaction, it is preferable to use a polymerization inhibitor such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, catechol, pt-butylcatechol and phenothiazine in order to prevent polymerization due to the acrylic group during the reaction. The blending amount is preferably 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the reaction mixture. In order to accelerate the reaction, for example, a known reaction catalyst such as dioctyltin laurate and diazabicyclooctane (DABCO) may be added. Furthermore, this reaction is carried out, for example, with a ketone solvent such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, an ether solvent such as ethylene glycol diethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether, a carboxylic acid ester solvent such as ethyl acetate and butyl acetate, and xylene and toluene. In a solvent that does not contain a group capable of reacting with an isocyanate group, such as an aromatic hydrocarbon solvent, or in the presence of a polyfunctional acrylate having three or more (meth) acryloyl groups in the molecule. Can do.
SH基を有するトリアルコキシシラン化合物としては、例えば、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学製、KBM803、および、東レダウコーニングシリコン製、SH6062など)などを例示することができる。
NCO基とSH基との反応による−NHCOS−の生成法は、NCO基とOH基との反応による−NHCOO−生成と同様の方法で行うことができる。
Examples of the trialkoxysilane compound having an SH group include 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM803, and Toray Dow Corning Silicon Co., Ltd., SH6062) and the like.
The production method of -NHCOS- by the reaction of the NCO group and the SH group can be performed in the same manner as the production of -NHCOO- by the reaction of the NCO group and OH group.
無機酸化物微粒子を表面修飾する方法は、特に限定されず、公知の方法を適宜採用することができるが、具体的には無機酸化物微粒子の表面官能基と前述のシランカップリング剤を、溶媒の存在下、室温〜150℃の温度で1〜40時間反応させることにより行うことができる。
上記のように、本発明で用いる(A1)無機酸化物微粒子は、その表面が(A2)(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤で修飾されることで、(A)の有機無機複合体を形成するが、(A2)の分子量をMとし、(A1)の無機酸化物微粒子を構成する無機酸化物の1モル当量を修飾するために用いる(A2)のアルコキシシリル基に由来するSi原子のモル数をAとしたとき、以下の式(1)の関係を満たす。
The method for modifying the surface of the inorganic oxide fine particles is not particularly limited, and a known method can be appropriately employed. Specifically, the surface functional group of the inorganic oxide fine particles and the silane coupling agent described above are used as a solvent. Can be carried out by reacting at room temperature to 150 ° C. for 1 to 40 hours.
As described above, the surface of the inorganic oxide fine particles (A1) used in the present invention is modified with a silane coupling agent having a (A2) (meth) acryloyl group, whereby the organic-inorganic composite of (A) Si atoms derived from the alkoxysilyl group of (A2) used to modify one molar equivalent of the inorganic oxide constituting the inorganic oxide fine particles of (A1), where M is the molecular weight of (A2) When the number of moles of A is A, the relationship of the following formula (1) is satisfied.
15<M×A<50 (1)
上記のうち、Aの求め方については、上記で説明した通りである。
M×Aが15よりも大きいことで、無機酸化物微粒子の表面が十分に保護されていることになり、環境中での過度の吸水及び脱水を防ぐことができ、その結果、ハードコート層とした場合には、層の剥離やクラックを防ぐことができ、一方、M×Aが50よりも小さいことで、未反応のアルコキシシリル基が無機酸化物微粒子とは独立して存在することによる、アルコキシシリル基同士の反応等で層の剥離やクラックが発生するのを防ぐことが可能となる。
15 <M × A <50 (1)
Among the above, how to obtain A is as described above.
When M × A is larger than 15, the surface of the inorganic oxide fine particles is sufficiently protected, and excessive water absorption and dehydration in the environment can be prevented. As a result, the hard coat layer and In this case, peeling and cracking of the layer can be prevented. On the other hand, when M × A is smaller than 50, an unreacted alkoxysilyl group exists independently from the inorganic oxide fine particles. It becomes possible to prevent exfoliation or cracking of the layer due to reaction between alkoxysilyl groups.
上記式(1)において、M×Aは17よりも大きいことがさらに好ましく、17.5よりも大きいことが特に好ましい。一方、M×Aは、未反応のアルコキシシリル基が無機酸化物微粒子と独立して存在することによる、アルコキシシリル基同士の反応等で層の剥離やクラックが発生するのを防ぐ観点から40よりも小さいことがさらに好ましく、30よりも小さいことが特に好ましい。 In the above formula (1), M × A is more preferably greater than 17, and particularly preferably greater than 17.5. On the other hand, M × A is more than 40 from the viewpoint of preventing the occurrence of layer peeling or cracking due to the reaction between alkoxysilyl groups due to the presence of unreacted alkoxysilyl groups independently of the inorganic oxide fine particles. Is more preferable, and it is especially preferable that it is smaller than 30.
なお、(A)有機無機複合体におけるM×Aは、例えば、修飾前の無機酸化物微粒子のOH価、修飾後の無機酸化物微粒子のOH価を種々の公知のOH価算出方法滴定装置を用
いた中和滴定などにより、用いられている(A2)の種類と、その使用量、及び樹脂組成物に含有されている(A)の合成に用いられた(A1)の無機微粒子に由来するシリカの含有量を推定し、計算により求めることができる。また、形成されたハードコート層におけるM×Aの値は、例えばハードコート層を切削し、微粉砕した粉体とし、そのOH価を求め、併せて粉体の有機成分を熱分解により除去したあと、残存する無機残渣量とその無機分析手法による同定、および有機成分を熱分解−MS等で成分・成分比を同定、とをすることにより、原料となっていた組成物の構成材料を推定し、上述した樹脂組成物に含まれる(A)有機無機複合体と同様の方法で計算により求めることができる。
In addition, (A) M × A in the organic-inorganic composite is, for example, the OH value of the inorganic oxide fine particles before modification and the OH value of the inorganic oxide fine particles after modification using various known OH value calculation method titration apparatuses. Derived from the inorganic fine particles (A1) used for the synthesis of (A) contained in the resin composition, the type and amount of (A2) used by neutralization titration used, etc. The silica content can be estimated and calculated. In addition, the value of M × A in the formed hard coat layer is, for example, obtained by cutting the hard coat layer into finely pulverized powder, obtaining the OH value, and removing the organic components of the powder by thermal decomposition. Estimate the constituent materials of the composition that was the raw material by identifying the amount of remaining inorganic residue and its inorganic analysis method, and identifying the component / component ratio by pyrolysis-MS etc. of the organic component And it can obtain | require by calculation by the method similar to the (A) organic inorganic composite contained in the resin composition mentioned above.
また、本発明では、前記(A)におけるXが、炭素数2〜10のアルキレン基、任意の−CH2−が−OCONH−で置換されている炭素数2〜10のアルキレン基、任意の−
CH2−が−S−で置換されている炭素数2〜10のアルキレン基のいずれかであること
が、有機官能基本来の反応性を発揮させることができる点で好ましい。
In the present invention, X in (A) is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, an arbitrary —CH 2 — alkylene group substituted with —OCONH—, an arbitrary —
CH 2 — is preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms substituted with —S— from the viewpoint that the reactivity inherent in organic functions can be exhibited.
<(B)紫外線吸収剤>
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、サリシレート系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系の紫外線吸収剤が挙げられる。これらの中でも耐候性(特に耐黄変性)と低揮発性、他成分との相溶性とのバランスが良好であるため、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系の紫外線吸収剤が好ましい。
<(B) UV absorber>
Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole, benzophenone, triazine, salicylate, benzoate, and cyanoacrylate ultraviolet absorbers. Among these, benzotriazole-based, benzophenone-based, and triazine-based ultraviolet absorbers are preferable because of a good balance between weather resistance (particularly yellowing resistance), low volatility, and compatibility with other components.
ベンゾトリアゾール系の具体例としては、2−(2−ヒドロキシ−5−メチル)ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−t−ペンチルベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3,−テトラメチルブチル)]ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−s−ブチル−5’−t−ブチルベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3−ドデシル−5’−メチルベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)]−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、3−[3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネートとポリエチレングリコールが挙げられる。これらの中でも耐候性(特に耐黄変性)と低揮発性、他成分との相溶性とのバランスが良好であるため、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールが好ましい。 Specific examples of the benzotriazole series include 2- (2-hydroxy-5-methyl) benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole 2- (2′-hydroxy-5′-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-t-butyl-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′- Hydroxy-3 ′, 5′-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazole- 2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-t-pentylbenzoto Riazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(1,1,3,3, -tetramethylbutyl)] benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-s-butyl-5'-t -Butylbenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3-dodecyl-5'-methylbenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzo Triazole, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl)]-6- (2H-benzotriazole- 2-yl) phenol], 3- [3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl] propionate and polyethylene glycol Among these, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α) has a good balance between weather resistance (particularly yellowing resistance), low volatility, and compatibility with other components. -Dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-t-butyl-5′-methyl) Phenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-t-butylphenyl) benzotriazole, and 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole are preferred.
ベンゾフェノン系の具体例としては、2−ヒドロキシベンゾフェノン、5−クロロ2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、4−ドデシロキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシ
ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン等が挙げられる。これらの中でも耐候性(特に耐黄変性)と低揮発性、他成分との相溶性とのバランスが良好であるため、ベンゾフェノン、2−ヒドロキシベンゾフェノン、5−クロロ2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンが好ましい。
Specific examples of the benzophenone series include 2-hydroxybenzophenone, 5-chloro-2-hydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 4 -Dodecyloxy-2-hydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone and the like. Among these, since the balance between weather resistance (particularly yellowing resistance), low volatility, and compatibility with other components is good, benzophenone, 2-hydroxybenzophenone, 5-chloro-2-hydroxybenzophenone, 2,4- Dihydroxybenzophenone is preferred.
トリアジン系の具体例としては、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(メチル)オキシ]−フェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(エチル)オキシ]−フェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル−[(プロピル)オキシ]−フェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ブチル)オキシ]−フェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール等が挙げられる。これらの中でも耐候性(特に耐黄変性)と低揮発性とのバランスが特に良好であるため、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(メチル)オキシ]−フェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(エチル)オキシ]−フェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル−[(プロピル)オキシ]−フェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ブチル)オキシ]−フェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール等のトリアジン類、が好ましい。 Specific examples of the triazine series include 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(methyl) oxy] -phenol, 2- (4,6-diphenyl- 1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(ethyl) oxy] -phenol, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl-[(propyl) oxy ] -Phenol, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(butyl) oxy] -phenol, 2- (4,6-diphenyl-1,3, 5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol, etc. Among them, since the balance between weather resistance (particularly yellowing resistance) and low volatility is particularly good, 2 -(4,6-diphenyl-1,3,5-tria N-2-yl) -5-[(methyl) oxy] -phenol, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(ethyl) oxy] -phenol 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl-[(propyl) oxy] -phenol, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazine-2- Yl) -5-[(butyl) oxy] -phenol, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol, and other triazines Are preferred.
サリシレート系の具体例としては、フェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート等が挙げられる。
ベンゾエート系の具体例としては、3−ヒドロキシフェニルベンゾエート、フェニレン−1,3−ベンゾエート等が挙げられる。
アクリレート系の具体例としては、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3’−ジフェニルアクリレート、エチル−2−シアノ−3,3’−ジフェニルアクリレートが挙げられる。
Specific examples of salicylates include phenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, and the like.
Specific examples of the benzoate series include 3-hydroxyphenyl benzoate, phenylene-1,3-benzoate and the like.
Specific examples of the acrylate system include 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3′-diphenyl acrylate and ethyl-2-cyano-3,3′-diphenyl acrylate.
<(C)ヒンダードアミン系光安定剤>
ヒンダードアミン化合物としては、例えば、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ヘキサノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−オクタノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアオイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、コハク酸−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン)、セバシン酸−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン)、セバシン酸−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジン)、セバシン酸−ビス(1−オクタノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン)、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4,5]デカン−2,4−ジオン、N−メチル−3−ドデシル−1−(−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)ピロリジン−2,5−ジオン、N−アセチル−3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジン)、及びトリメシン酸−トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)が挙げられる。これらの中でもこれらの中でも耐候性(特に耐黄変性)と低揮発性、他成分との相溶性とのバランスが特に良好であるため、セバシン酸−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジン)、セバシン酸−ビス(1−オクタノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン)などのNがアルキル基またはアルコキシ基で置換された化合物が好ましい。
<(C) Hindered amine light stabilizer>
Examples of the hindered amine compound include 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-hexanoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-octanoyloxy-2, 2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-steaoiloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, succinic acid-bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidine), sebacic acid-bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidine), sebacic acid-bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidine), sebacic acid-bis (1-octanoyloxy-2,2 , 6,6-tetramethylpiperidine), 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] decane 2,4-dione, N-methyl-3-dodecyl-1-(-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) pyrrolidine-2,5-dione, N-acetyl-3-dodecyl-1 -(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine) and trimesic acid-tris (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl). Among these, since the balance between weather resistance (particularly yellowing resistance), low volatility, and compatibility with other components is particularly good, sebacic acid-bis (1,2,2,6,6- A compound in which N is substituted with an alkyl group or an alkoxy group, such as pentamethyl-4-piperidine) and sebacic acid-bis (1-octanoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine), is preferable.
<(D)沸点が70−200℃の有機溶剤>
沸点が70−200℃の有機溶剤としては、沸点の下限値が72℃以上が好ましく、75℃以上が特に好ましく、78℃以上が最も好ましい。上限値が180℃以下が好ましく、165℃以下が特に好ましく、150℃以下が最も好ましい。上記の下限値以上であれば揮発速度が適度に早く、塗膜外観を良好に維持できるため好ましく、上限値以下であれば通常の乾燥条件下で溶剤がほぼ完全に揮発できるため好ましい。具体的な例としては、例えば、2−プロパノール、イソブタノール、n−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸−n−ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、が挙げられる。これらの中でも他の成分の溶解力、揮発性のバランスが良好であるため、イソブタノール、n−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸−n−ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、を含有することが好ましい。
<(D) Organic solvent having a boiling point of 70-200 ° C.>
As an organic solvent having a boiling point of 70-200 ° C, the lower limit of the boiling point is preferably 72 ° C or higher, particularly preferably 75 ° C or higher, and most preferably 78 ° C or higher. The upper limit is preferably 180 ° C. or lower, particularly preferably 165 ° C. or lower, and most preferably 150 ° C. or lower. If it is above the above lower limit value, the volatilization rate is reasonably fast, and it is preferable because the appearance of the coating film can be maintained satisfactorily. Specific examples include 2-propanol, isobutanol, n-butanol, propylene glycol monomethyl ether, ethyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate. Among these, since the balance of solubility and volatility of other components is good, it is preferable to contain isobutanol, n-butanol, propylene glycol monomethyl ether, acetic acid-n-butyl, propylene glycol monomethyl ether acetate. .
さらに、前記(D)が、(D)成分をトータル100重量部とするとき、沸点70℃から200℃の脂肪族アルコール51−99重量部、沸点70-180℃のエステルおよび/またはエーテル構造を有する有機化合物49−1重量部の混合物であることを特徴としている。脂肪族アルコールは、下限値としては52重量部以上が好ましく、53重量部以上が特に好ましく、54重量部以上が最も好ましい。上限値としては98重量部以下が好ましく、90重量部以下が特に好ましく、85重量部以下が最も好ましい。上記の下限値以上であれば未硬化の(メタ)アクリルポリマー系の基材やプライマーを溶解することを避
けられるため好ましく、上限値以下であれば他成分(特にB成分)の溶解性が良好であるため好ましい。エステルおよび/またはエーテル構造を有する有機化合物は、下限値とし
ては2重量部以上が好ましく、10重量部以上が特に好ましく、15重量部以上が最も好ましい。上限値としては48重量部以下が好ましく、47重量部以下が特に好ましく、46重量部以下が最も好ましい。上記の下限値以上であれば他成分(特にB成分)の溶解性が良好であるため好ましく、上限値以下であれば未硬化の(メタ)アクリルポリマー系の
基材やプライマーを溶解することを避けられるため好ましい。
Further, when the component (D) is a total of 100 parts by weight of the component (D), 51 to 99 parts by weight of an aliphatic alcohol having a boiling point of 70 ° C. to 200 ° C., an ester and / or ether structure having a boiling point of 70 to 180 ° C. It is characterized by being a mixture of 49-1 parts by weight of an organic compound. The lower limit of the aliphatic alcohol is preferably 52 parts by weight or more, particularly preferably 53 parts by weight or more, and most preferably 54 parts by weight or more. The upper limit is preferably 98 parts by weight or less, particularly preferably 90 parts by weight or less, and most preferably 85 parts by weight or less. If it is above the above lower limit value, it is preferable to avoid dissolving uncured (meth) acrylic polymer base materials and primers, and if it is below the upper limit value, the solubility of other components (particularly B component) is good. Therefore, it is preferable. The lower limit of the organic compound having an ester and / or ether structure is preferably 2 parts by weight or more, particularly preferably 10 parts by weight or more, and most preferably 15 parts by weight or more. The upper limit is preferably 48 parts by weight or less, particularly preferably 47 parts by weight or less, and most preferably 46 parts by weight or less. If it is above the above lower limit value, the solubility of other components (particularly B component) is preferable because it is good, and if it is below the upper limit value, uncured (meth) acrylic polymer-based substrates and primers are dissolved. It is preferable because it can be avoided.
また、(A)+(B)+(C)の合計含有量を100重量部とするとき、(D)は40から200重量部であることが好ましい。下限値としては45重量部以上が好ましく、50重量部以上が特に好ましく、55重量部以上が最も好ましい。上限値としては180重量部以下が好ましく、165重量部以下が特に好ましく、150重量部以下が最も好ましい。上記の下限値以上であれば塗布に適切な粘度範囲におさまり塗布欠陥(スジやヌケなど)生成を避けられるため好ましく、上限値以下であれば溶剤の揮発時に発生しやすい塗布欠陥(ワキやハジキなど)生成を避けられるため好ましい。 Further, when the total content of (A) + (B) + (C) is 100 parts by weight, (D) is preferably 40 to 200 parts by weight. The lower limit is preferably 45 parts by weight or more, particularly preferably 50 parts by weight or more, and most preferably 55 parts by weight or more. The upper limit is preferably 180 parts by weight or less, particularly preferably 165 parts by weight or less, and most preferably 150 parts by weight or less. If it is above the above lower limit value, it is preferable because it falls within the viscosity range suitable for coating and avoids the formation of coating defects (such as streaks and spots), and if it is less than the upper limit value, coating defects (flakes and repellencies) that are likely to occur when the solvent is volatilized. Etc.) This is preferable because generation can be avoided.
<(E)1分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有し、ウレタン構造およびヌレート構造を含まない紫外線硬化性アクリレート化合物>
1分子内に3個以上(メタ)アクリロイル基を有し、ウレタン構造およびヌレート構造を含まない多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクロン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の三官能以上の(メタ)アクリレートが挙げられる。これらの中でも硬化性と塗膜の耐擦傷性が良好であるため、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)
アクリレート、カプロラクロン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が好ましい。
<(E) UV curable acrylate compound having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule and not containing urethane structure or nurate structure>
Examples of the polyfunctional (meth) acrylate having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule and not containing a urethane structure and a nurate structure include, for example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth). Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, propionic acid modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene Oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol penta Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trifunctional or higher (meth) acrylates such as Kapurorakuron modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Among these, since the curability and the scratch resistance of the coating film are good, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth)
Preferred are acrylate, caprolaclone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like.
多官能(メタ)アクリレートとしては、
例えば、三官能以上の(メタ)アクリレートとγ−メルカプトプロピルトリメトキシシランの付加物とのシリケート加水分解縮合物;
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の水酸基含有アクリレートとイソシアネートプロピルトリエトキシシランの付加物とのシリケート加水分解縮合物;
ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ノボラック型エポキシ樹脂類、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、2,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、EHPE−3150(ダイセル化学工業株式会社製、脂環式エポキシ樹脂)等を(メタ)アクリル酸又はカルボキシル基含有の三官能以上の(メタ)アクリレートで変性したエポキシ(メタ)アクリレート類;
も挙げられる。これらの中でも硬化性と塗膜の耐擦傷性が良好であるため、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の水酸基含有アクリレートとイソシアネートプロピルトリエトキシシランの付加物とのシリケート加水分解縮合物等が好ましい。
As polyfunctional (meth) acrylate,
For example, a silicate hydrolysis condensate of a tri- or higher functional (meth) acrylate and an adduct of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane;
Silicate hydrolysis condensate of a hydroxyl group-containing acrylate such as pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate and an adduct of isocyanate propyltriethoxysilane;
Bisphenol A diglycidyl ether, novolak epoxy resins, trisphenol methane triglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether , Propylene glycol diglycidyl ether, 2,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5- Spiro-3,4-epoxy) cyclohexanone-meta-dioxane, bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether, EHPE-3150 (Daicel Chemical Industries, Ltd.) , Modified epoxy (meth) acrylates with cycloaliphatic epoxy resin) or the like (meth) acrylic acid or carboxyl group-containing trifunctional or higher (meth) acrylate;
Also mentioned. Among these, since the curability and scratch resistance of the coating film are good, a silicate hydrolysis condensate of a hydroxyl group-containing acrylate such as pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate and an adduct of isocyanate propyltriethoxysilane, etc. Is preferred.
<(F)1分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有し、ウレタン構造を含む(メタ)アクリレート化合物および/または1分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有し、ヌレート構造を含む(メタ)アクリレート化合物>
1分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有し、ウレタン構造を有する(メタ)アクリレート化合物としては、
例えば1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、2,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート、エチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4−ジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート等の脂環族ポリイソシアネート、キシレンジイソシアネート、又はテトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ポリイソシアネート等のイソシアネート化合物と、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等のヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレートとの反応で得られたウレタン(メタ)アクリレート類;イソシアネート化合物と、(ポリ)ブタジエンジオール、(ポリ)エチレングリコール、(ポリ)プロピレングリコール、(ポリ)テトラメチレングリコール、(ポリ)エステルジオール、(ポリ)カプロラクトン変性ジオール、(ポリ)カーボネートジオール、(ポリ)スピログリコール等の多価アルコールとの反応で得られたウレタンプレポリマーと、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等のヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレートとの反応で得られたウレタン
(メタ)アクリレート類;イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のアルコキシシリル基を有するイソシアネート化合物と、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等のヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート、コロイダルシリカ及び/又はシリケートとの反応で得られた加水分解縮合物等;が挙げられる。これらの中でも硬化性と塗膜の耐黄変性が良好であるため、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4−ジイソシアネートなどの脂環構造を有するイソシアネート、と、(ポリ)テトラメチレングリコール、(ポリ)エステルジオール、(ポリ)カプロラクトン変性ジオール、(ポリ)カーボネートジオール等の多価アルコールとの反応で得られたウレタンプレポリマーと、ヒドロキシエチルアクリレートペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等のヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート、との反応で得られるウレタン(メタ)アクリレート類が好ましい。
<(F) having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule, having a (meth) acrylate compound containing a urethane structure and / or having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule; (Meth) acrylate Compound Containing Nurate Structure>
As a (meth) acrylate compound having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule and having a urethane structure,
For example, aromatic polyisocyanates such as 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 2,4-diphenylmethane diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate , Ethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, lysine triisocyanate and other aliphatic polyisocyanates, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4 , 4-diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate and other alicyclic polyisocyanates, xylene diisocyanate Or isocyanate compounds such as araliphatic polyisocyanates such as tetramethylxylylene diisocyanate and hydroxy groups such as hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl acrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate Urethane (meth) acrylates obtained by reaction with (meth) acrylate; isocyanate compounds, (poly) butadiene diol, (poly) ethylene glycol, (poly) propylene glycol, (poly) tetramethylene glycol, (poly) Obtained by reaction with polyhydric alcohol such as ester diol, (poly) caprolactone modified diol, (poly) carbonate diol, (poly) spiroglycol Urethane prepolymers and urethane (meth) acrylates obtained by reaction of hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl acrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate and other (meth) acrylates having a hydroxy group Class: Isocyanate compounds having an alkoxysilyl group such as isocyanatepropyltriethoxysilane, and (meth) acrylates having a hydroxy group such as hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl acrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, etc. , Hydrolytic condensation obtained by reaction with colloidal silica and / or silicate And the like. Among these, since the curability and yellowing resistance of the coating film are good, an isocyanate having an alicyclic structure such as isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4-diisocyanate, (poly) tetramethylene glycol, (poly) Urethane prepolymers obtained by reaction with polyhydric alcohols such as ester diols, (poly) caprolactone-modified diols, (poly) carbonate diols, and hydroxy groups such as hydroxyethyl acrylate pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate. Urethane (meth) acrylates obtained by a reaction with (meth) acrylate having are preferable.
この中でも好ましいのは、(ポリ)カプロラクトン変性ジオールまたは(ポリ)カーボネートジオールと、脂環族ポリイソシアネートと、ヒドロキシ基を有するアクリレートの反応で得られたウレタンアクリレート化合物である。
1分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有し、ヌレート構造を含む(メタ)アクリレート化合物としては、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリス(メタクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−アクリロイルオキシプロピル)イソシアヌレート、トリス(2−メタクリロイルオキシプロピル)イソシアヌレート、ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス(メタクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス(2−アクリロイルオキシプロピル)−2−エトキシプロピルイソシアヌレート、ビス(2−メタクリロイルオキシプロピル)−2−ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、トリス(アクリロイルオキシエトキシエチル)イソシアヌレート、トリス(メタクリロイルオキシエトキシエチル)イソシアヌレート、ビス(アクリロイルオキシエトキシエチル)−2−ヒドロキシエトキシエチルイソシアヌレート、ビス(メタクリロイルオキシエトキシエチル)−2−ヒドロキシエトキシエチルイソシアヌレートなどを例示することができ、これらは1種で、または2種以上を混合して使用することができる。
Among these, a urethane acrylate compound obtained by a reaction of (poly) caprolactone-modified diol or (poly) carbonate diol, an alicyclic polyisocyanate, and an acrylate having a hydroxy group is preferable.
Examples of the (meth) acrylate compound having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule and including a nurate structure include tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, tris (methacryloyloxyethyl) isocyanurate, tris (2 -Acryloyloxypropyl) isocyanurate, tris (2-methacryloyloxypropyl) isocyanurate, bis (acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, bis (methacryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, bis (2-acryloyloxypropyl)- 2-ethoxypropyl isocyanurate, bis (2-methacryloyloxypropyl) -2-hydroxypropyl isocyanurate, tris (acryloyloxyethoxyethyl) i Examples include cyanurate, tris (methacryloyloxyethoxyethyl) isocyanurate, bis (acryloyloxyethoxyethyl) -2-hydroxyethoxyethyl isocyanurate, bis (methacryloyloxyethoxyethyl) -2-hydroxyethoxyethyl isocyanurate, and the like. These can be used alone or in admixture of two or more.
この中でも好ましいのは、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレート、およびこれらの混合物である。
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記(A)、(E)及び(F)の合計を100重量部とするとき、前記(A)を合成するために用いる(A1)の量が、15〜50重量部であることが好ましい。
Among these, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, bis (acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, and mixtures thereof are preferable.
When the total of (A), (E) and (F) in the active energy ray-curable resin composition of the present invention is 100 parts by weight, the amount of (A1) used to synthesize (A) is as follows. It is preferable that it is 15-50 weight part.
(A1)の量が15重量部以上であることで、本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて形成されたハードコート層に十分な耐擦傷性を付与することができるので好ましい。一方、(A1)の量が50重量部以下であることで、後述する複層下層とともにハードコート層を積層する際に、複層下層の溶融を防止することができるので好ましい。
また、この(A1)の量は、18重量部以上であることがより好ましく、20重量部以上であることが特に好ましい。一方、この(A1)の量は、45重量部以下であることがより好ましく、40重量部以下であることが特に好ましい。
It is preferable for the amount of (A1) to be 15 parts by weight or more because sufficient scratch resistance can be imparted to the hard coat layer formed using the active energy ray-curable resin composition of the present invention. On the other hand, it is preferable that the amount of (A1) is 50 parts by weight or less, since melting of the multilayer lower layer can be prevented when the hard coat layer is laminated together with the multilayer lower layer described later.
The amount of (A1) is more preferably 18 parts by weight or more, and particularly preferably 20 parts by weight or more. On the other hand, the amount of (A1) is more preferably 45 parts by weight or less, and particularly preferably 40 parts by weight or less.
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記(A)+(E)+(F)の含有量を100重量部とするとき、(A)が17.5〜70重量部であり、(E)+(F)が30〜82.5重量部であり、(E)/(F)が1/9〜9/1であり、(B)が0.5〜10重量部であり、(C)が0.1〜5重量部であることが好ましい。上記の条件を
満たすと、硬化性、透明性、耐擦傷性、耐候性が特に良好であるため、好ましい。
前記(A)+(E)+(F)の含有量を100重量部とするとき、(A)は20〜65重量部であることがより好ましく、25〜62重量部であることが特に好ましい。
When the content of (A) + (E) + (F) in the active energy ray-curable resin composition of the present invention is 100 parts by weight, (A) is 17.5 to 70 parts by weight, E) + (F) is 30-82.5 parts by weight, (E) / (F) is 1 / 9-9 / 1, (B) is 0.5-10 parts by weight, C) is preferably 0.1 to 5 parts by weight. It is preferable to satisfy the above conditions because curability, transparency, scratch resistance, and weather resistance are particularly good.
When the content of (A) + (E) + (F) is 100 parts by weight, (A) is more preferably 20 to 65 parts by weight, and particularly preferably 25 to 62 parts by weight. .
また、その時(E)+(F)の含有量は、35〜80重量部であることがより好ましく、38〜75重量部であることが特に好ましい。
さらに、(E)/(F)は15/85〜85/15であることがより好ましく、2/8〜8/2であることが特に好ましい。
前記(A)+(B)+(C)+(D)+(E)の合計含有量を100重量部とするとき、(F)は10〜200重量部であることが耐候性と耐擦傷性のバランスが特に良好であるため好ましい。さらに、(F)は、12〜150重量部であることがより好ましく、15〜100であることが特に好ましい。
At that time, the content of (E) + (F) is more preferably 35 to 80 parts by weight, and particularly preferably 38 to 75 parts by weight.
Furthermore, (E) / (F) is more preferably 15/85 to 85/15, and particularly preferably 2/8 to 8/2.
When the total content of (A) + (B) + (C) + (D) + (E) is 100 parts by weight, (F) is 10 to 200 parts by weight. It is preferable because the balance of properties is particularly good. Furthermore, (F) is more preferably 12 to 150 parts by weight, and particularly preferably 15 to 100 parts.
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物において、(F)として含有させるウレタン(メタ)アクリレートには、脂環構造を有し、かつ1分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するウレタン(メタ)アクリレートが含まれていてもよい。
このような、脂環構造を有し、かつ1分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するウレタン(メタ)アクリレートは、例えば脂環構造を有するジオール、ラクトン類、ポリイソシアネート及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させることによって得られる。
In the active energy ray-curable resin composition of the present invention, the urethane (meth) acrylate to be contained as (F) has an alicyclic structure and two or more (meth) acryloyl groups in one molecule. Urethane (meth) acrylate may be contained.
Such urethane (meth) acrylates having an alicyclic structure and having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule include, for example, diols, lactones, polyisocyanates and hydroxyl groups having an alicyclic structure. It is obtained by reacting (meth) acrylate.
具体的には、脂環構造を有するジオールとラクトン類とから脂環構造を有するラクトン変性ジオールを合成し、得られたラクトン変性ジオールとポリイソシアネートとを反応させてジイソシアネートを合成し、さらに得られたジイソシアネートと水酸基含有(メタ)アクリレートとを反応させることによって得ることができる。また、ウレタン(メタ)アクリレートは、ラクトン変性ジオール及び水酸基含有(メタ)アクリレートとポリイソシアネートとのウレタン反応によっても得ることができる。例えば、ウレタン(メタ)アクリレートは、脂環構造を有するカプロラクトン変性ジオールを合成し、さらにカプロラクトン変性ジオールに、ジイソシアネートを20〜100℃、好ましくは40〜80℃で1〜20時間反応することによりジイソシアネートを合成し、さらに水酸基含有(メタ)アクリレートを20〜100℃にて1〜20時間反応させることにより得ることができる。ウレタン(メタ)アクリレートの合成に使用する原料は、それぞれ1種に限られず、2種以上を用いてもよい。 Specifically, a lactone-modified diol having an alicyclic structure is synthesized from a diol having an alicyclic structure and a lactone, and the resulting lactone-modified diol and polyisocyanate are reacted to synthesize a diisocyanate. It can be obtained by reacting diisocyanate with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate. Urethane (meth) acrylate can also be obtained by urethane reaction of lactone-modified diol and hydroxyl group-containing (meth) acrylate with polyisocyanate. For example, urethane (meth) acrylate is synthesized by synthesizing a caprolactone-modified diol having an alicyclic structure, and further reacting the caprolactone-modified diol with a diisocyanate at 20 to 100 ° C., preferably 40 to 80 ° C. for 1 to 20 hours. Can be obtained by further reacting a hydroxyl group-containing (meth) acrylate at 20 to 100 ° C. for 1 to 20 hours. The raw materials used for the synthesis of urethane (meth) acrylate are not limited to one type, and two or more types may be used.
より具体的には、例えば、脂環構造を有するカプロラクトン変性ジオールは、脂環構造を有するジオールとしてトリシクロデンカンジメタノールを用い、ラクトン類としてε−カプロラクトンを用いた場合、触媒の存在下、50〜220℃、好ましくは100〜200℃に加熱することにより付加反応を行うことで合成できる。
前記の反応における反応温度は、反応速度や反応性の観点から決定される。反応温度が低いと反応速度が遅くなることがあり、反応温度が高いと熱分解が起こることがある。この反応には触媒を用いることができる。このような触媒としては、例えば、無機塩類、無機酸、有機アルカリ金属、スズ化合物、チタン化合物、アルミニウム化合物、亜鉛化合物、タングステン化合物、モリブデン化合物、及びジルコニウム化合物が挙げられる。
More specifically, for example, when a caprolactone-modified diol having an alicyclic structure uses tricyclodencan dimethanol as the diol having an alicyclic structure and ε-caprolactone is used as the lactone, It can synthesize | combine by performing addition reaction by heating to -220 degreeC, Preferably it is 100-200 degreeC.
The reaction temperature in the above reaction is determined from the viewpoint of reaction rate and reactivity. When the reaction temperature is low, the reaction rate may be slow, and when the reaction temperature is high, thermal decomposition may occur. A catalyst can be used for this reaction. Examples of such a catalyst include inorganic salts, inorganic acids, organic alkali metals, tin compounds, titanium compounds, aluminum compounds, zinc compounds, tungsten compounds, molybdenum compounds, and zirconium compounds.
変性ジオールとジイソシアネートとの反応で生成したジイソアネートと水酸基含有(メタ)アクリレートとの反応に当たっては、反応を促進するために触媒を使用することが好ましい。ここで使用できる触媒としては、例えば、ジブチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテートに代表される有機錫化合物や、トリエチルアミン等の第3級アミン化合物が挙げられる。 In the reaction of the diisocyanate produced by the reaction between the modified diol and the diisocyanate and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate, it is preferable to use a catalyst to accelerate the reaction. Examples of the catalyst that can be used here include organic tin compounds typified by dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, and dibutyltin diacetate, and tertiary amine compounds such as triethylamine.
ウレタン(メタ)アクリレートにおける脂環構造を有するジオール、ラクトン類、ポリイソシアネート類、水酸基含有(メタ)アクリレート、及び必要に応じて用いられるその他の原料化合物の使用量は、ウレタン(メタ)アクリレートにおける全イソシアネート基の量とそれと反応する全官能基の量とが、イソシアネート基に対する官能基のモル%で50〜200モル%になる量であることが好ましく、90〜110モル%になる量であることがより好ましく、100モル%になる量であることがさらに好ましい。 The amount of diol, lactones, polyisocyanates, hydroxyl group-containing (meth) acrylates having a alicyclic structure in urethane (meth) acrylate, and other raw material compounds used as necessary is the total amount of urethane (meth) acrylate. The amount of the isocyanate group and the amount of all functional groups that react with it are preferably 50 to 200 mol% in terms of mol% of the functional group with respect to the isocyanate group, and 90 to 110 mol%. Is more preferable, and the amount is more preferably 100 mol%.
脂環構造を有するジオールにおける脂環構造は、炭素数5〜20の非芳香族性の環である。脂環構造は酸素や窒素等のヘテロ原子を含んでいてもよいし、2以上の環の縮合環であってもよい。また脂環構造の数は、脂環構造を有するジオールの1分子中に1つでもよいし2以上であってもよい。
脂環構造を有するジオールとしては、例えば、インデン、ナフタレン、アズレン、アントラセン等をヒドロキシアルキル化した化合物;ビシクロ[5,3,0]デカンジメタノール、ビシクロ[4,4,0]デカンジメタノール、ビシクロ[4,3,0]ノナンジメタノール、ノルボルナンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、1,3−アダマンタンジオール(1,3−ジヒドロキシトリシクロ[3,3,1,13,7]デカン、3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、イソソルバイド、水添ビスフェノールA、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、及び1,2−シクロヘキサンジメタノールが挙げられる。
The alicyclic structure in the diol having an alicyclic structure is a non-aromatic ring having 5 to 20 carbon atoms. The alicyclic structure may contain heteroatoms such as oxygen and nitrogen, or may be a condensed ring of two or more rings. The number of alicyclic structures may be one per molecule of diol having an alicyclic structure, or two or more.
Examples of the diol having an alicyclic structure include compounds in which indene, naphthalene, azulene, anthracene and the like are hydroxyalkylated; bicyclo [5,3,0] decanedimethanol, bicyclo [4,4,0] decanedimethanol, Bicyclo [4,3,0] nonanedimethanol, norbornanedimethanol, tricyclodecane dimethanol, 1,3-adamantanediol (1,3-dihydroxytricyclo [3,3,1,13,7] decane, 3 , 9-bis (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, isosorbide, hydrogenated bisphenol A, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, and 1,2-cyclohexanedimethanol That.
脂環構造を有するジオールは、トリシクロデカンジメタノールであることが、硬度、透明性、耐候性、及び活性エネルギー線での硬化性の観点から好ましい。
ラクトン類としては、例えば、β−プロピオラクトン、ε−カプロラクトン、δ−バレロラクトン、β−メチル−δ−バレロラクトン、α,β,γ−トリメトキシ−δ−バレロラクトン、β−メチル−ε−イソプロピル−ε−カプロラクトン、ラクチド、及びグリコリドが挙げられる。
The diol having an alicyclic structure is preferably tricyclodecane dimethanol from the viewpoints of hardness, transparency, weather resistance, and curability with active energy rays.
Examples of lactones include β-propiolactone, ε-caprolactone, δ-valerolactone, β-methyl-δ-valerolactone, α, β, γ-trimethoxy-δ-valerolactone, β-methyl-ε- Examples include isopropyl-ε-caprolactone, lactide, and glycolide.
ポリイソシアネートは、イソシアネート基を2以上有する化合物である。ポリイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、及びリジンジイソシアネートが挙げられる。 Polyisocyanate is a compound having two or more isocyanate groups. Examples of the polyisocyanate include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,5. -Naphthalene diisocyanate, norbornene diisocyanate, tolidine diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.
水酸基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシエチルフタレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートが挙げられる。 Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-hydroxy Examples include -3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2-acryloyloxyethyl-2-hydroxyethyl phthalate, pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol pentaacrylate.
前記(F)の成分における、脂環構造を有するジオール、ラクトン類、ポリイソシアネート、及び水酸基含有(メタ)アクリレートを含む材料を反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレートの含有量は、(F)成分全体を100重量部としたとき、ハードコート層の硬度、密着性、及び吸水率を良好にする観点から10〜100重量部であることが好ましく、20〜100重量部であることがより好ましい。 In the component (F), the content of urethane (meth) acrylate obtained by reacting a material containing a diol having an alicyclic structure, a lactone, a polyisocyanate, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate is (F) When the whole component is 100 parts by weight, it is preferably 10 to 100 parts by weight, and more preferably 20 to 100 parts by weight from the viewpoint of improving the hardness, adhesion, and water absorption rate of the hard coat layer. .
<(G)光重合開始剤>
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、さらに(G)光重合開始剤を含有してもよい。
そのような光重合開始剤としては、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に用いられるものであれば特に限定されないが、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、等のベンゾインとそのアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノン等のアセトフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−アミルアントラキノン等のアントラキノン類、ベンゾフェノン、ベンゾイルギ酸メチルやベンゾイルギ酸エチル等のギ酸誘導体、が挙げられる。この中で、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(イルガキュア184 BASF製)またはベンゾイルギ酸メチル(ダロキュアMBF、BASF製)、ベンゾフェノンが、硬化性
および耐候性試験時の耐黄変性に優れるため、より好ましい。
<(G) Photopolymerization initiator>
The active energy ray-curable resin composition of the present invention may further contain (G) a photopolymerization initiator.
Such a photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is used in the active energy ray-curable resin composition. For example, benzoin such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and the like can be used. Its alkyl ethers: acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl -1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-1- [4- ( Methylthio) phenyl] -2-morpholinop Acetophenones such as pan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone; 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, Examples include anthraquinones such as 1-chloroanthraquinone and 2-amylanthraquinone, and formic acid derivatives such as benzophenone, methyl benzoylformate and ethyl benzoylformate. Of these, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184 manufactured by BASF), methyl benzoylformate (Darocur MBF, manufactured by BASF), and benzophenone are more preferable because they are excellent in curability and yellowing resistance during a weather resistance test.
光重合開始剤は1種でも2種以上であってもよく、その含有量は、前記(A)+(E)+(F)の合計量を100重量部としたとき、硬化性と硬化物の物性のバランスが良好である点から、0.1〜7重量部であることが好ましく、1〜6重量部であることがより好ましい。
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、上記した成分の他にも、滑り剤、レベリング剤、溶剤等の任意成分が含まれていてもよい。
1 type or 2 types or more may be sufficient as a photoinitiator, The content is sclerosis | hardenability and hardened | cured material, when the total amount of said (A) + (E) + (F) is 100 weight part. From the point that the balance of physical properties is good, it is preferably 0.1 to 7 parts by weight, and more preferably 1 to 6 parts by weight.
In addition to the above-described components, the active energy ray-curable resin composition of the present invention may contain optional components such as a slip agent, a leveling agent, and a solvent.
滑り剤は、(表面の摩擦係数を下げ、耐擦傷性や鉛筆硬度を向上させる目的で添加される助剤)である。またレベリング剤は、(表面を平滑にし、塗布外観や透明性を損なうような欠陥を発生させたいために添加される助剤)である。滑り剤又はレベリング剤は1種でも2種以上でもよい。滑り剤又はレベリング剤には、ポリジメチルシロキサン構造を有する滑り剤又はレベリング剤を用いることができる。滑り剤又はレベリング剤の含有量は、前記(A)+(E)+(F)の含有量の合計を100重量部としたときに、透明性、塗布外観、密着性、硬度の観点から0〜5重量部であることが好ましく、0〜2重量部であることがより好ましく、0〜1重量部であることがさらに好ましい。 The slip agent is (an auxiliary agent added for the purpose of lowering the coefficient of friction of the surface and improving scratch resistance and pencil hardness). Further, the leveling agent is (an auxiliary agent added for the purpose of generating defects that smooth the surface and impair the coating appearance and transparency). One or more slipping agents or leveling agents may be used. As the slipping agent or leveling agent, a slipping agent or leveling agent having a polydimethylsiloxane structure can be used. The content of the slipping agent or leveling agent is 0 from the viewpoint of transparency, coating appearance, adhesion, and hardness when the total content of (A) + (E) + (F) is 100 parts by weight. It is preferably ˜5 parts by weight, more preferably 0 to 2 parts by weight, and still more preferably 0 to 1 part by weight.
滑り剤としては、例えば、ポリジメチルシロキサン、その共重合物、ポリジメチルシロキサン骨格を有するアクリルポリマー、ポリジメチルシロキサン骨格を有するウレタンポリマー、及びこれらにアクリロイル基やメタクリロイル基を導入し、活性エネルギー線反応性を付与した化合物が挙げられる。
レベリング剤としては、例えば、ポリエーテル変性したポリジメチルシロキサン及びその共重合物、エーテル基、水酸基等の親水基を含み、かつポリジメチルシロキサン骨格を有するアクリルポリマー、親水基とポリジメチルシロキサン骨格を有するウレタンポリマー、及びこれらにアクリロイル基やメタクリロイル基を導入し、活性エネルギー線反応性を付与した化合物が挙げられる。
Examples of the slip agent include polydimethylsiloxane, a copolymer thereof, an acrylic polymer having a polydimethylsiloxane skeleton, a urethane polymer having a polydimethylsiloxane skeleton, and introducing an acryloyl group or a methacryloyl group into these to react with an active energy ray. The compound which gave the property is mentioned.
Examples of the leveling agent include polyether-modified polydimethylsiloxane and copolymers thereof, an acrylic polymer containing a hydrophilic group such as an ether group and a hydroxyl group and having a polydimethylsiloxane skeleton, and a hydrophilic group and a polydimethylsiloxane skeleton. Examples thereof include urethane polymers and compounds obtained by introducing an acryloyl group or a methacryloyl group into these to impart active energy ray reactivity.
溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2
−プロパノール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;2−メトキシエチルアセテート、2−エトキシエチルアセテート、2−ブトキシエチルアセテート、3−メトキシプロピルアセタート等のエーテルエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類;が挙げられる。溶剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の取り扱い上の観点(例えば活性エネルギー線硬化性組成物の粘度等)から適宜に決めることができる。
Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, and n-butanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2- Butoxyethanol, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2
-Ethers such as propanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether; ether esters such as 2-methoxyethyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, 3-methoxypropyl acetate; toluene And aromatic hydrocarbons such as xylene; esters such as ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate; The content of the solvent can be appropriately determined from the viewpoint of handling the active energy ray-curable composition (for example, the viscosity of the active energy ray-curable composition).
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布する方法は特に限定されないが、例えば、スプレー法、刷毛塗法、ローラー塗法、スピンコート法、ディッピング法、フローコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアナイフコート法、オフセット法、バーコート法が挙げられる。また組成物は、印刷等により画像様に塗工することもできる。 The method of applying the active energy ray curable resin composition is not particularly limited, for example, spray method, brush coating method, roller coating method, spin coating method, dipping method, flow coating method, gravure coating method, roll coating method, Examples include a blade coating method, an air knife coating method, an offset method, and a bar coating method. The composition can also be applied imagewise by printing or the like.
溶剤を用いた場合、塗布した後、乾燥して溶剤を除去することが好ましい。乾燥条件は溶剤の沸点、塗布量等によって好ましい範囲が異なるが、一般的には、30〜120℃で1〜30分間であることが好ましく、50〜100℃で1〜5分間であることがより好ましい。
ハードコート層用の本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布する際の塗膜の厚さは、最終的に形成されるハードコート層の厚みが所望の厚みになるのであれば特に制限は無いが、乾燥後の膜厚で表す場合、通常0.1〜50μm、好ましくは1〜10μmとなるように塗工するのが好ましい。
When a solvent is used, it is preferable to remove the solvent by drying after coating. The preferable range of drying conditions varies depending on the boiling point of the solvent, the coating amount, etc., but in general, it is preferably 30 to 120 ° C. for 1 to 30 minutes, and 50 to 100 ° C. for 1 to 5 minutes. More preferred.
The thickness of the coating film when applying the active energy ray-curable resin composition of the present invention for the hard coat layer is particularly limited as long as the finally formed hard coat layer has a desired thickness. However, when expressed by the film thickness after drying, it is usually 0.1 to 50 μm, preferably 1 to 10 μm.
ハードコート層は、前述した基材の表面に直接形成されていてもよいし、1層以上の他の層を介して形成されていてもよいが、高い性能(透明性、機械的強度、密着性、及び耐候性)の維持と高い生産性確保との両立の観点から、基材の表面に直接形成されているか、あるいは後述する特定の下層上に形成することが好ましい。
ハードコート層形成用の本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化に用いる活性エネルギー線としては、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の光源から発せられる紫外線、通常20〜2,000kVの粒子加速器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等を用いることができる。
The hard coat layer may be directly formed on the surface of the base material described above, or may be formed through one or more other layers, but has high performance (transparency, mechanical strength, adhesion) From the standpoint of both maintaining the stability and weather resistance) and ensuring high productivity, it is preferably formed directly on the surface of the substrate or on a specific lower layer described later.
Active energy rays used for curing the active energy ray-curable resin composition of the present invention for forming a hard coat layer include xenon lamps, low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultrahigh-pressure mercury lamps, metal halide lamps, carbon arc lamps, tungsten lamps, etc. For example, ultraviolet rays emitted from a light source, electron beams extracted from a particle accelerator of 20 to 2,000 kV, α rays, β rays, γ rays and the like can be used.
活性エネルギー線の照射条件は特に限定されず、必要に応じて適宜設定することができるが、通常積算光量300mJ/cm2以上、好ましくは500mJ/cm2以上になるように条件を設定することが好ましい。
前述のとおり、上記の本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、基材、基材上に形成される複層下層、及び複層下層上に形成され、活性エネルギーを照射して硬化されることによって、ハードコート層となり積層体を形成する。
The irradiation condition of the active energy ray is not particularly limited and can be appropriately set as necessary. However, the condition may be set so that the accumulated light amount is usually 300 mJ / cm 2 or more, preferably 500 mJ / cm 2 or more. preferable.
As described above, the active energy ray-curable resin composition of the present invention is formed on a substrate, a multilayer lower layer formed on the substrate, and a multilayer lower layer, and is cured by irradiation with active energy. As a result, a hard coat layer is formed and a laminate is formed.
<複層下層(以下、単に下層ともいう)>
後述する本発明の積層体には、ハードコート層の下地となる下層が後述する基材上に形成される。下層については、熱可塑性(メタ)アクリル樹脂に耐候処方したフィルムを熱
ラミネートまたは粘着剤を介して貼り合わせたものでもよいし、紫外線吸収剤を配合した熱可塑性(メタ)アクリル樹脂から得られる塗膜、紫外線吸収重合体から形成される塗膜を用いてもよい。このような下層を用いることで、比較的安価かつ簡略化された製造プロセスで、コーティング層としての機械的強度、密着性、及び耐候性を高めた積層体を得ることができる。
<Multilayer lower layer (hereinafter also simply referred to as the lower layer)>
In the laminate of the present invention described later, a lower layer serving as a base of the hard coat layer is formed on a substrate described later. For the lower layer, a film weather-resistant formulated with a thermoplastic (meth) acrylic resin may be bonded via a thermal laminate or an adhesive, or a coating obtained from a thermoplastic (meth) acrylic resin containing an ultraviolet absorber. A film or a coating film formed from an ultraviolet absorbing polymer may be used. By using such a lower layer, it is possible to obtain a laminate having improved mechanical strength, adhesion, and weather resistance as a coating layer by a relatively inexpensive and simplified manufacturing process.
<下層:熱可塑性(メタ)アクリル樹脂に耐候処方したフィルム>
本発明に係る第一の下層形成用組成物に含有される熱可塑性(メタ)アクリル樹脂に耐
候処方されたフィルムは、ポリメチルメタクリレートのような(メタ)アクリルホモポリマー、またはメタクリル酸メチルを主成分とする(メタ)アクリル共重合体に、耐候処方
されたフィルムであるあることが好ましい。耐候処方としては、公知の紫外線吸収剤や光安定剤を配合してもよいし、メタクリル酸メチルを主成分とし、紫外線吸収基や光安定化基を有する(メタ)アクリレートを共重合した(メタ)アクリル共重合体を用いてもよい。またフィルムの靭性改良のために、公知の方法(ゴム成分や耐衝撃改良剤)で変性された熱可塑性(メタル)アクリル樹脂組成物を用いてもよい。
<Lower layer: Weather-resistant film for thermoplastic (meth) acrylic resin>
The film weather-resistant formulated with the thermoplastic (meth) acrylic resin contained in the first underlayer-forming composition according to the present invention is mainly composed of a (meth) acrylic homopolymer such as polymethylmethacrylate, or methyl methacrylate. It is preferable that the film is weather-prescribed to the component (meth) acrylic copolymer. As the weather resistance prescription, a known ultraviolet absorber or light stabilizer may be blended, or (meth) acrylate having methyl methacrylate as a main component and having an ultraviolet absorbing group or a light stabilizing group is copolymerized (meta ) An acrylic copolymer may be used. In order to improve the toughness of the film, a thermoplastic (metal) acrylic resin composition modified by a known method (rubber component or impact resistance improver) may be used.
フィルムは、押し出し成形、またはキャスト成形、どちらで製造されたものでもよい。
このようなフィルムとして、市販されている耐候処方された(メタ)アクリル樹脂系フ
ィルムとしては、たとえばアクリプレン(三菱レイヨン社製)、サンデュレン(カネカ社製)、テクノロイ(住友化学社製)、などをあげることができる。
The film may be produced by either extrusion molding or cast molding.
Examples of commercially available weather-resistant (meth) acrylic resin-based films include acryloprene (Mitsubishi Rayon), Sandulen (Kaneka), Technoloy (Sumitomo Chemical), etc. I can give you.
<下層:熱可塑性(メタ)アクリル樹脂に耐候処方した組成物>
本発明に係る第一の下層形成用組成物に含有される、紫外線吸収剤を配合した熱可塑性(メタ)アクリル樹脂から得られる塗膜は、ポリメチルメタクリレート、またはメタクリル酸メチルを主成分とする(メタ)アクリル共重合体に、公知の紫外線吸収剤を配合した
ものを塗布・乾燥して得られる塗膜であることが好ましい。さらに併せてヒンダードアミン系光安定剤を含むとより好ましい。紫外線吸収剤としては、特に制限されないが、ヒドロキシトリアジン系紫外線吸収剤またはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましい。
ヒンダードアミン系光安定剤を含む場合、特に制限さればいが、N−アルキル化またはN−アルコキシ化されたテトラメチルピペリジン誘導体が好ましい。
<Lower layer: Composition weather-resistant to thermoplastic (meth) acrylic resin>
The coating film obtained from the thermoplastic (meth) acrylic resin blended with the ultraviolet absorber contained in the first underlayer-forming composition according to the present invention contains polymethyl methacrylate or methyl methacrylate as a main component. A coating film obtained by applying and drying a (meth) acrylic copolymer blended with a known ultraviolet absorber is preferable. In addition, it is more preferable to include a hindered amine light stabilizer. Although it does not restrict | limit especially as an ultraviolet absorber, A hydroxy triazine type ultraviolet absorber or a benzotriazole type ultraviolet absorber is preferable.
When a hindered amine light stabilizer is included, an N-alkylated or N-alkoxylated tetramethylpiperidine derivative is preferred, although it is not particularly limited.
<下層:紫外線吸収重合体)
本発明に係る第一の下層形成用組成物に含有される紫外線吸収重合体は、紫外線吸収基を有する不飽和単量体(a−1)、及び(a−1)と共重合可能な不飽和単量体(a−2)を共重合させて得られる(メタ)アクリル系共重合体であることが好ましい。かかる(メタ)アクリル系共重合体は、(a−1)に属する1種類の不飽和単量体及び(a−2)に属する1種類の単量体の計2種類の単量体からなる重合体のみを意味するものではなく、(a−1)に属する複数種類の不飽和単量体及び(a−2)に属する複数種類の不飽和単量体からなる共重合体であってもよい。
<Lower layer: UV absorbing polymer)
The ultraviolet-absorbing polymer contained in the first composition for forming a lower layer according to the present invention is an unsaturated monomer (a-1) having an ultraviolet-absorbing group and a copolymer copolymerizable with (a-1). A (meth) acrylic copolymer obtained by copolymerizing the saturated monomer (a-2) is preferred. Such a (meth) acrylic copolymer is composed of two types of monomers, one kind of unsaturated monomer belonging to (a-1) and one kind of monomer belonging to (a-2). Not only a polymer, but also a copolymer comprising a plurality of types of unsaturated monomers belonging to (a-1) and a plurality of types of unsaturated monomers belonging to (a-2) Good.
紫外線吸収基を有する不飽和単量体(a−1)は、紫外線吸収基を有するとともに、重合可能な(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系単量体である。紫外線吸収性基とは、主に300nm近傍の光を吸収又は遮断する化学構造を有する官能基であり、例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン骨格を有する基、トリアジン骨格を有する基、2−(5’−メチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール骨格を有する基、エチル−2−シアノ−3,3’−ジフェニルアクリレート等のシアノアクリレート骨格を有する基、フェニルサリシレート等のサリシレート骨格を有する基、ジエチル−p−メトキシベンジリデンマロネート等のベンジリデンマロネート骨格を有する基が挙げられる。なかでも、ベンゾフェノン骨格を有する基、トリアジン骨格を有する基、及びベンゾトリアゾール骨格を有する基が好ましく、ベンゾトリアゾール骨格を有する基がより好ましい。 The unsaturated monomer (a-1) having an ultraviolet absorbing group is a (meth) acrylic monomer having an ultraviolet absorbing group and a polymerizable (meth) acryloyl group. The ultraviolet absorbing group is a functional group having a chemical structure that mainly absorbs or blocks light in the vicinity of 300 nm. For example, a group having a benzophenone skeleton such as 2,4-dihydroxybenzophenone, a group having a triazine skeleton, -Groups having a benzotriazole skeleton such as (5'-methyl-2'-hydroxyphenyl) benzotriazole, groups having a cyanoacrylate skeleton such as ethyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate, phenyl salicylate, etc. Examples thereof include a group having a salicylate skeleton and a group having a benzylidene malonate skeleton such as diethyl-p-methoxybenzylidene malonate. Among these, a group having a benzophenone skeleton, a group having a triazine skeleton, and a group having a benzotriazole skeleton are preferable, and a group having a benzotriazole skeleton is more preferable.
不飽和単量体(a−2)は、(a−1)と共重合可能なものであれば特に限定されないが、(メタ)アクロイル基を有する不飽和単量体、アクリロニトリル化合物、アクリルアミド化合物等の不飽和単量体が好ましい。
(メタ)アクロイル基を有する不飽和単量体(a−2)としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イ
ソブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、シアノエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート等のアルコキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシエチルフタレート、(メタ)アクリル酸、2−アクリロイルオキシエチルフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタレート、2−(メタ)アクリロイルプロピルフタレート、(メタ)アクリロイルオキシエチルサクシネート、2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルトリメトキシシラン、及び3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルトリエトキシシランが挙げられる。
The unsaturated monomer (a-2) is not particularly limited as long as it is copolymerizable with (a-1), but an unsaturated monomer having an (meth) acryloyl group, an acrylonitrile compound, an acrylamide compound, etc. The unsaturated monomer is preferred.
Examples of the unsaturated monomer (a-2) having a (meth) acryloyl group include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, benzyl ( (Meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, ethyl Carbitol (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, cyanoethyl (meth) acrylate, methoxypoly Alkoxypolyalkylene glycol (meth) acrylate such as tylene glycol (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) Acrylate glycidyl ether, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) ) Acrylate, 2-acryloyloxyethyl-2-hydroxyethyl phthalate, (meth) acrylic acid, 2-acryloyloxyethyl phthalate, 2- (meth) Acryloyloxyethyl hexahydrophthalate, 2- (meth) acryloylpropyl phthalate, (meth) acryloyloxyethyl succinate, 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate, 3- (meth) acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- ( And (meth) acryloyloxypropylmethyltrimethoxysilane and 3- (meth) acryloyloxypropylmethyltriethoxysilane.
これらの中で、炭素数1以上7以下のアルキル(メタ)アクリレートが好ましく、具体的にはメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレートが挙げられる。
アクリロニトリル化合物としては、例えば、α−クロロアクリロニトリル、α−クロロメチルアクリロニトリル、α−トリフルオロメチルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニトリル、α−エトキシアクリロニトリル、及びシアノ化ビニリデン等が挙げられる。
Among these, an alkyl (meth) acrylate having 1 to 7 carbon atoms is preferable, and specifically, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, Examples include benzyl (meth) acrylate and cyclohexyl (meth) acrylate.
Examples of the acrylonitrile compound include α-chloroacrylonitrile, α-chloromethylacrylonitrile, α-trifluoromethylacrylonitrile, α-methoxyacrylonitrile, α-ethoxyacrylonitrile, vinylidene cyanide, and the like.
アクリルアミド化合物としては、例えば、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−エメチル(メタ)アクリルアミド、N−メトキシ(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメトキシ(メタ)アクリルアミド、N−エトキシ(メタ)アクリルアミド、N,N−エトキシ(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノメチル(メタ)アクリルアミド、N−(2−ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−メチレンビス(メタ)アクリルアミド、及びN,N−エチレンビス(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。 Examples of the acrylamide compound include N-methyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N, N-ethyl (meth) acrylamide, and N-methoxy (meth) acrylamide. N, N-dimethoxy (meth) acrylamide, N-ethoxy (meth) acrylamide, N, N-ethoxy (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) ) (Meth) acrylamide, N, N-dimethylaminomethyl (meth) acrylamide, N- (2-dimethylamino) ethyl (meth) acrylamide, N, N-methylenebis (meth) acrylamide, and N, N-ethylenebis ( Meta) acrylamide etc. It is below.
不飽和単量体(a−2)としては、例えば、アルキルビニルエーテル、アルキルビニルエステル、並びにスチレン及びその誘導体も挙げられる。
アルキルビニルエーテルとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、及びヘキシルビニルエーテルが挙げられる。
アルキルビニルエステルとしては、例えば、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、アクリル酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、及びステアリン酸ビニルが挙げられる。
Examples of the unsaturated monomer (a-2) include alkyl vinyl ethers, alkyl vinyl esters, and styrene and derivatives thereof.
Examples of the alkyl vinyl ether include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether, and hexyl vinyl ether.
Examples of the alkyl vinyl ester include vinyl formate, vinyl acetate, vinyl acrylate, vinyl butyrate, vinyl caproate, and vinyl stearate.
スチレン及びその誘導体の具体例としては、例えば、スチレン、p−スチリルトリメトキシシラン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、及びクロロメチルスチレンが挙げられる。
本発明に係る第一の紫外線吸収重合体は、前記不飽和単量体(a−1)及び前記不飽和単量体(a−2)の他に、さらに下記で例示される不飽和単量体(a−3)を共重合させて得られる(メタ)アクリル系共重合体であってもよい。
Specific examples of styrene and its derivatives include, for example, styrene, p-styryltrimethoxysilane, α-methylstyrene, vinyltoluene, and chloromethylstyrene.
In addition to the unsaturated monomer (a-1) and the unsaturated monomer (a-2), the first UV-absorbing polymer according to the present invention may further include an unsaturated monomer exemplified below. A (meth) acrylic copolymer obtained by copolymerizing the body (a-3) may be used.
上記不飽和単量体(a−3)としては、例えば、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、4−t−ブチルシクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、及びベヘニル(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of the unsaturated monomer (a-3) include 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, and isostearyl. (Meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, 4-t-butylcyclohexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, and behenyl (meth) ) Acrylates.
第一の紫外線吸収重合体の合成に用いる単量体(a−1)、(a−2)及び(a−3)の分子量は、特に限定されないが、炭素数で表すと紫外線吸収重合体の合成の容易性から、炭素数は50以下であることが好ましく、40以下であることがより好ましく、35以下であることがさらに好ましい。
本発明に係る第一の紫外線吸収重合体は、紫外線吸収基を有する不飽和単量体(a−1)、不飽和単量体(a−2)を共重合して得られる(メタ)アクリル系共重合体であるが、(メタ)アクリル系共重合体は、ブロック共重合体であっても、ランダム共重合体であってもよい。また、(a−1)及び(a−2)の共重合比率も特に限定されないが、例えば、本発明に係る紫外線吸収重合体として重要性の高い紫外線吸収基を有する不飽和単量体(a−1)の比率は、通常1〜25重量部、好ましくは3〜20重量部、さらに好ましくは4〜15重量部であり、また不飽和単量体(a−2)の比率は、通常75〜99重量部、好ましくは80〜98重量部、さらに好ましくは85〜97重量部である。
The molecular weights of the monomers (a-1), (a-2) and (a-3) used for the synthesis of the first ultraviolet absorbing polymer are not particularly limited. In view of ease of synthesis, the number of carbon atoms is preferably 50 or less, more preferably 40 or less, and even more preferably 35 or less.
The first ultraviolet absorbing polymer according to the present invention is a (meth) acryl obtained by copolymerizing an unsaturated monomer (a-1) having an ultraviolet absorbing group and an unsaturated monomer (a-2). The (meth) acrylic copolymer may be a block copolymer or a random copolymer. In addition, the copolymerization ratio of (a-1) and (a-2) is not particularly limited. For example, an unsaturated monomer having a UV absorbing group having high importance as the UV absorbing polymer according to the present invention (a The ratio of -1) is usually 1 to 25 parts by weight, preferably 3 to 20 parts by weight, more preferably 4 to 15 parts by weight, and the ratio of the unsaturated monomer (a-2) is usually 75. It is -99 weight part, Preferably it is 80-98 weight part, More preferably, it is 85-97 weight part.
不飽和単量体(a−2)としては、アルキルビニルエーテル、アルキルビニルエステル、並びにスチレン及びその誘導体も挙げられることを前述したが、紫外線吸収重合体におけるかかる単量体の比率は、本発明の効果を充分に得る観点から、50モル%以下であることが好ましく、30モル%以下であることがより好ましく、20モル%以下であることがさらに好ましく、10モル%以下であることがより一層好ましい。 As described above, the unsaturated monomer (a-2) includes alkyl vinyl ethers, alkyl vinyl esters, and styrene and derivatives thereof. From the viewpoint of sufficiently obtaining the effect, it is preferably 50 mol% or less, more preferably 30 mol% or less, further preferably 20 mol% or less, and even more preferably 10 mol% or less. preferable.
第一の紫外線吸収重合体の分子量は、形成される下層の十分な機械的強度の発現や下層形成時の塗膜の均一性の観点から、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量で15,000〜200,000、GPCによるポリスチレン換算の数平均分子量で5,000〜50,000であることが好ましい。上記範囲であると、均一な塗膜が可能となるとともに、良好な機械的強度及び密着性を確保することができる。 The molecular weight of the first UV-absorbing polymer is from 15,000 to the weight average molecular weight in terms of polystyrene by GPC, from the viewpoint of sufficient mechanical strength of the lower layer to be formed and the uniformity of the coating film when the lower layer is formed. The number average molecular weight in terms of polystyrene by GPC is preferably 5,000 to 50,000. Within the above range, a uniform coating film can be obtained, and good mechanical strength and adhesion can be ensured.
<積層体>
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて形成されたハードコート層と、前述した下層を組み合わせることによって、耐擦傷性のような機械的強度と耐候性の両方が優れた積層体になることを前述したが、かかる積層体もまた本発明の1つである。
「積層体」とは、何らかの基材上に形成される層であって、前述したハードコート層と前記基材との間に前述した複層下層が形成された複層を意味するものとし、基材自体は含まないものを意味するものとする。また、「基材」とは本発明の積層体が形成される対象であり、具体的な物品も特に限定されないものとする。
<Laminate>
By combining the hard coat layer formed using the active energy ray-curable resin composition of the present invention and the lower layer described above, a laminate having excellent mechanical strength such as scratch resistance and weather resistance is obtained. As described above, such a laminate is also one aspect of the present invention.
“Laminate” means a layer formed on some base material, and means a multi-layer in which the multi-layer lower layer described above is formed between the hard coat layer and the base material described above, The base material itself is meant not to be included. The “base material” is an object on which the laminate of the present invention is formed, and the specific article is not particularly limited.
本発明の積層体は、前述した下層及びハードコート層を含み、下層が基材及びハードコート層の間に形成されたものであればよく、その形態(層の厚み、層の大きさ等)、層構成等については特に限定されない。即ち、下層は基材上に直接に形成されるほか、その他の層を介して形成されてもよく、また、ハードコート層も下層上に直接形成されるほか、
その他の層を介して形成されてもよいものとする。また、基材、基材上に形成される複層下層、及び複層下層上に形成されるハードコート層からなる積層体であって、前記ハードコート層が、前述の活性エネルギー線硬化性組成物を必須成分として含有する組成物を複層下層上に塗膜し、活性エネルギー線を照射して形成される層であることが耐候性が一層高まる場合があるため、好ましい。層と層の弾性変形率差が大きい場合、又は温湿度変化による膨張率や収縮率の差が大きい場合には、層の密着性が低下することがある。これらの差を緩和する観点から、別の層を形成させてもよい。つまり、前記複層下層と前記ハードコート層との間に、1層以上の他の層を含むことが密着性低下を抑え、耐候性を高める場合がある点から好ましい。
The laminate of the present invention may include the lower layer and the hard coat layer described above, and the lower layer may be formed between the base material and the hard coat layer, and its form (layer thickness, layer size, etc.) The layer structure and the like are not particularly limited. That is, the lower layer may be formed directly on the substrate, may be formed through other layers, and the hard coat layer may be directly formed on the lower layer,
It may be formed through other layers. Also, a laminate comprising a substrate, a multilayer lower layer formed on the substrate, and a hard coat layer formed on the multilayer lower layer, wherein the hard coat layer is the active energy ray-curable composition described above. A layer formed by coating a composition containing the product as an essential component on a multilayer lower layer and irradiating with active energy rays is preferable because the weather resistance may be further enhanced. When the difference in elastic deformation rate between layers is large, or when the difference in expansion rate or shrinkage rate due to temperature and humidity changes is large, the adhesion of the layers may be reduced. From the viewpoint of alleviating these differences, another layer may be formed. That is, it is preferable that one or more other layers are included between the multilayer lower layer and the hard coat layer from the viewpoint that adhesion deterioration is suppressed and weather resistance may be increased.
このような層としては、例えば、(メタ)アクリルポリマー、変性ポリエステル、酢酸ビニル変性塩化ビニル樹脂、アクリル変性ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂等の樹脂により形成される層、が挙げられる。これらの層の形成は、下層と同様に、樹脂組成物の塗膜から形成してもよいし、熱や光により重合するモノマーを含む塗膜に熱や光を与えることによって形成してもよい。下層とハードコート層の間に形成されるその他の層としては、透明性、密着性、弾性率、耐候性、耐水性の観点から、下層に記載以外の(メタ)アクリルポリマー、変性ポリエステル、アクリル変性ウレタン樹脂であることが好ましい。また、このような層の厚さは、本発明の効果に加えて、この層の形成による効果を得る観点から、適宜、例えば0.1〜15μmの範囲から決めることができる。 Examples of such a layer include a layer formed of a resin such as (meth) acrylic polymer, modified polyester, vinyl acetate-modified vinyl chloride resin, acrylic-modified urethane resin, and polycarbonate resin. The formation of these layers may be formed from a coating film of the resin composition, similarly to the lower layer, or may be formed by applying heat or light to a coating film containing a monomer that is polymerized by heat or light. . Other layers formed between the lower layer and the hard coat layer include (meth) acrylic polymers, modified polyesters, acrylics other than those described in the lower layer from the viewpoints of transparency, adhesion, elastic modulus, weather resistance, and water resistance. It is preferably a modified urethane resin. In addition to the effects of the present invention, the thickness of such a layer can be appropriately determined from the range of, for example, 0.1 to 15 μm from the viewpoint of obtaining the effect of forming this layer.
本発明の積層体の用途も特に限定されないが、前述のように本発明の積層体は、耐擦傷性のような機械的強度及び耐候性の特性に優れるため、物品を保護するためのコーティング層として利用することが好適である。保護対象となる物品としては、例えば、窓、サンルーフ、計器カバー等の車両用物品、採光用屋根材等の建材用物品、太陽電池、温室被覆剤、看板、照明具、表示灯等が挙げられる。コーティング層として利用する方法も特に限定されないが、保護対象となる物品の表面に本発明の積層体を直接形成させるほか(この場合、物品自体が基材となる)、本発明の積層体を板状の樹脂基材の表面に形成させた後、かかる樹脂板によって保護対象となる物品の表面を被覆(貼付、接触を含む)する方法が挙げられる。なお、「樹脂板」とは、板状の形状を有する樹脂材料を意味するものであるが、「板状」とは硬質又は軟質を問わず、また厚みも特に限定されないものとし、シート状又はフィルム状等の形状も含まれることを意味するものとする。 Although the use of the laminate of the present invention is not particularly limited, as described above, the laminate of the present invention is excellent in mechanical strength and weather resistance characteristics such as scratch resistance, and thus is a coating layer for protecting articles. It is preferable to use as. Examples of articles to be protected include articles for vehicles such as windows, sunroofs, and instrument covers, articles for building materials such as daylighting roofing materials, solar cells, greenhouse coating agents, signboards, lighting fixtures, indicator lamps, and the like. . There is no particular limitation on the method used as the coating layer, but in addition to directly forming the laminate of the present invention on the surface of the article to be protected (in this case, the article itself is a base material), the laminate of the present invention is a plate For example, a method may be used in which the surface of an article to be protected is covered (including pasting and contacting) with the resin plate after being formed on the surface of the resin substrate. The “resin plate” means a resin material having a plate shape, but the “plate shape” is not limited to a hard or soft material, and the thickness is not particularly limited. It is meant to include shapes such as film.
本発明の積層体を形成した樹脂板によって、保護対象となる物品を被覆する場合、樹脂基材の一方の表面に本発明の積層体を形成させ、他方の表面には接着層を設けることが好ましい。樹脂板の使用条件、また被覆する表面の材質に応じて、公知の接着剤や接着性を有する層を適宜に用いることができる。なお、樹脂板の被覆は、接着剤による接着のほかに、真空成形、圧空成形、三次元ラミネート成形、及びフィルムインサート成形等の公知のフィルム成形技術、及びこれらの組み合わせによって行うことができる。 When the article to be protected is covered with the resin plate on which the laminate of the present invention is formed, the laminate of the present invention may be formed on one surface of the resin substrate, and an adhesive layer may be provided on the other surface. preferable. A known adhesive or a layer having adhesiveness can be appropriately used depending on the use conditions of the resin plate and the material of the surface to be coated. The resin plate can be coated by known film forming techniques such as vacuum forming, pressure forming, three-dimensional laminate forming, and film insert forming, and combinations thereof, in addition to bonding with an adhesive.
樹脂基材の材質は特に限定されないが、加工の容易性の観点から、熱可塑性樹脂が好ましく、例えば、ポリカーボネート、芳香族ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等の(メタ)アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、塩化ビニル樹脂、ポリスチレン等のスチレン樹脂、酢酸セルロース、脂環構造を有するオレフィン系重合体、脂環構造を有するポリイミド、脂環構造を有するポリアミド、及びポリプロピレンがより好ましいものとして挙げられる。また、下層との接着性の観点から、カルボニル基を有する重合体が好ましく、また樹脂板としての物性を好ましく満たすという観点から、ポリカーボネート、ポリ(メタ)アクリレート、ポリエステル、トリ酢酸セルロースであることが好ましく、ポリカーボネート、芳香族ポリカーボネートまたはポリ(メタ)ア
クリレート、ポリエステルであることがより好ましく、ポリカーボネート、芳香族ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートまたはポリエチレンテレフタレートがさらに好ま
しい。
The material of the resin base material is not particularly limited, but from the viewpoint of ease of processing, a thermoplastic resin is preferable. More preferred are vinyl chloride resins, styrene resins such as polystyrene, cellulose acetate, olefin polymers having an alicyclic structure, polyimides having an alicyclic structure, polyamides having an alicyclic structure, and polypropylene. Further, from the viewpoint of adhesion to the lower layer, a polymer having a carbonyl group is preferable, and from the viewpoint of preferably satisfying physical properties as a resin plate, it may be polycarbonate, poly (meth) acrylate, polyester, or cellulose triacetate. Polycarbonate, aromatic polycarbonate, poly (meth) acrylate, and polyester are more preferable, and polycarbonate, aromatic polycarbonate, polymethyl methacrylate, and polyethylene terephthalate are more preferable.
熱可塑性樹脂の使用量は、これらの材料を使用する効果が得られる範囲であればよく、樹脂基材の全材料100重量部に対して、50〜100重量部であることが好ましく、70〜100重量部であることがより好ましく、80〜100重量部であることがさらに好ましい。
芳香族ポリカーネートは、二価アルコールとして二価フェノールを用いて、この二価フェノールとカーボネート前駆体とを界面法又は溶融法で反応させて得られる樹脂である。芳香族ポリカーボネートは1種でも2種以上でもよい。
The amount of the thermoplastic resin used may be within a range in which the effect of using these materials can be obtained, and is preferably 50 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total material of the resin base, 70 to 100 parts by weight is more preferable, and 80 to 100 parts by weight is even more preferable.
An aromatic polycarbonate is a resin obtained by reacting a dihydric phenol with a carbonate precursor by an interfacial method or a melting method using a dihydric phenol as a dihydric alcohol. The aromatic polycarbonate may be one type or two or more types.
カーボネート前駆体としては、例えば、ホスゲン等のカルボニルハライド、ジフェニルカーボネート等のカルボニルエステル、及びハロホルメートが挙げられる。
芳香族ポリカーネートの数平均分子量は、GPC法によるポリスチレン換算で、15,000〜50,000程度であることが好ましい。更にポリカーボネート樹脂には本発明の目的を損なわない範囲で各種の添加剤、例えば、離型剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、着色剤、増白剤、難燃剤を含有してもよい。
Examples of the carbonate precursor include carbonyl halides such as phosgene, carbonyl esters such as diphenyl carbonate, and haloformates.
The number average molecular weight of the aromatic polycarbonate is preferably about 15,000 to 50,000 in terms of polystyrene by the GPC method. Further, the polycarbonate resin contains various additives such as a mold release agent, a heat stabilizer, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, a colorant, a whitening agent, and a flame retardant within the range not impairing the object of the present invention. Also good.
カルボニル基を有する重合体を構成するモノマーユニットとしては、通常知られる如何なるものも使用することができる。このようなモノマーユニットには、ポリエステル、ポリアリレート、及びポリカーボネートのモノマーユニットとして通常用いられる二価アルコールを用いることが好ましい。 As the monomer unit constituting the polymer having a carbonyl group, any conventionally known monomer unit can be used. As such a monomer unit, it is preferable to use a dihydric alcohol usually used as a monomer unit of polyester, polyarylate, and polycarbonate.
このようなモノマーユニットとしては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシノール、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,8−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン等の二官能性フェノール化合物;4,4’−ビフェノール、3,3’−ジメチル−4,4’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル、3,3’−ジ(t−ブチル)−4,4’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル、3,3’,5,5’−テトラ(t−ブチル)−4,4’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル、2,2’,3,3’,5,5’−ヘキサメチル−4,4’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル、2,4’−ビフェノール、3,3’−ジメチル−2,4’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル、3,3’−ジ(t−ブチル)−2,4’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル、2,2’−ビフェノール、3,3’−ジメチル−2,2’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル、3,3’−ジ(t−ブチル)−2,2’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル等のビフェノール化合物;ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチルブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサン、3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン等の芳香族環上に置換基を有しないビスフェノール化合物;が挙げられる。 Examples of such monomer units include hydroquinone, resorcinol, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2 Bifunctional phenolic compounds such as 2,6-dihydroxynaphthalene and 2,7-dihydroxynaphthalene; 4,4′-biphenol, 3,3′-dimethyl-4,4′-dihydroxy-1,1′-biphenyl, 3, 3′-di (t-butyl) -4,4′-dihydroxy-1,1′-biphenyl, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxy-1,1′-biphenyl 3,3 ′, 5,5′-tetra (t-butyl) -4,4′-dihydroxy-1,1′-biphenyl, 2,2 , 3,3 ′, 5,5′-hexamethyl-4,4′-dihydroxy-1,1′-biphenyl, 2,4′-biphenol, 3,3′-dimethyl-2,4′-dihydroxy-1, 1'-biphenyl, 3,3'-di (t-butyl) -2,4'-dihydroxy-1,1'-biphenyl, 2,2'-biphenol, 3,3'-dimethyl-2,2'- Biphenol compounds such as dihydroxy-1,1′-biphenyl, 3,3′-di (t-butyl) -2,2′-dihydroxy-1,1′-biphenyl; bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1, 1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2, 2 Bis (4-hydroxyphenyl) butane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, 3,3-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, 2, 2-bis (4-hydroxyphenyl) -3-methylbutane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) hexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexane, 3,3-bis (4-hydroxyphenyl) ) Aromatics such as hexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -4-methylpentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane And bisphenol compounds having no substituent on the ring.
また、モノマーユニットとしては、例えば、ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1
−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン等の芳香族環上に置換基としてアリール基を有するビスフェノール化合物;ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロヘキサン、ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−イソプロピルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−(sec−ブチル)フェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)シクロヘキサン、ビス(4−ヒドロキシ−3,6−ジメチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,6−ジメチルフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,6−ジメチルフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシ−2,3,5−トリメチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−2,3,5−トリメチルフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−2,3,5−トリメチルフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシ−2,3,5−トリメチルフェニル)フェニルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−2,3,5−トリメチルフェニル)フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−2,3,5−トリメチルフェニル)シクロヘキサン等の芳香族環上に置換基としてアルキル基を有するビスフェノール化合物;が挙げられる。
Examples of the monomer unit include bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1
A bisphenol compound having an aryl group as a substituent on an aromatic ring such as -bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane or 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane; -Hydroxy-3-methylphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) ethane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-bis ( 4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) cyclohexane, bis (4-hydroxy-3-ethylphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxy) -3-ethylphenyl) ethane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-ethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy) Loxy-3-ethylphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-ethylphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-isopropylphenyl) propane, 2,2-bis (4 -Hydroxy-3- (sec-butyl) phenyl) propane, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) ethane, 2, 2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) cyclohexane, bis (4-hydroxy-3,6-dimethylphenyl) methane 1,1-bis (4-hydroxy-3,6-dimethylphenyl) ethane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,6-dimethyl) Phenyl) propane, bis (4-hydroxy-2,3,5-trimethylphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxy-2,3,5-trimethylphenyl) ethane, 2,2-bis (4- Hydroxy-2,3,5-trimethylphenyl) propane, bis (4-hydroxy-2,3,5-trimethylphenyl) phenylmethane, 1,1-bis (4-hydroxy-2,3,5-trimethylphenyl) And bisphenol compounds having an alkyl group as a substituent on an aromatic ring such as phenylethane and 1,1-bis (4-hydroxy-2,3,5-trimethylphenyl) cyclohexane.
モノマーユニットとしては、例えば、ビス(4−ヒドロキシフェニル)(フェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルプロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)(ジフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)(ジベンジル)メタン等の芳香族環を連結する二価の基が置換基としてアリール基を有するビスフェノール化合物;4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル等の芳香族環をエーテル結合で連結したビスフェノール化合物;4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン等の芳香族環をスルホン結合で連結したビスフェノール化合物;4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド等の芳香族環をスルフィド結合で連結したビスフェノール化合物;ビス(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)エーテル、フェノールフタルレイン、が挙げられる。 Examples of the monomer unit include bis (4-hydroxyphenyl) (phenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, and 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1- Bisphenol compounds in which a divalent group connecting aromatic rings such as phenylpropane, bis (4-hydroxyphenyl) (diphenyl) methane, bis (4-hydroxyphenyl) (dibenzyl) methane has an aryl group as a substituent; 4 Bisphenol compounds in which aromatic rings such as 3,4′-dihydroxydiphenyl ether and 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxydiphenyl ether are connected by an ether bond; 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxydi Bisphenol compounds in which aromatic rings such as phenyl sulfone are linked by sulfone bonds; aromatics such as 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfide and 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfide Examples include bisphenol compounds in which rings are connected by a sulfide bond; bis (4-hydroxyphenyl) ketone, bis (4-hydroxyphenyl) ether, bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) ether, and phenolphthalein.
樹脂基材は、厚さ0.02〜10mmの熱可塑性樹脂の押出成形物又は射出成形物であることが、(成形物の透明性、と成形物としての機械的強度・耐熱性・耐水性との両立)の観点から好ましい。熱可塑性樹脂としては、上記したポリカーボネートまたは耐候処方された(コ)ポリメチルメタクリレートであることが好ましい。また、樹脂基材は、厚さ20〜500μmのフィルム・シート状基材であることが、(ロール巻き取り性などフィルム・シートとして取扱い可能であることとフィルム・シート自体の強度との両立)の観点から好ましい。 The resin base material is an extruded or injection molded product of a thermoplastic resin having a thickness of 0.02 to 10 mm (transparency of the molded product, and mechanical strength, heat resistance, and water resistance of the molded product). From the viewpoint of coexistence with). The thermoplastic resin is preferably the above-mentioned polycarbonate or (co) polymethylmethacrylate formulated with weather resistance. In addition, the resin base material is a film / sheet-like base material having a thickness of 20 to 500 μm (coexistence of being able to be handled as a film / sheet such as roll winding property and the strength of the film / sheet itself) From the viewpoint of
なお、樹脂基材として耐候処方された(コ)ポリメチルメタクリレートを用いる場合は、複層下層を省略し、直接上記のハードコート用の樹脂組成物を塗布・乾燥・活性エネル
ギー線照射し、ハードコート層を設けてもよい。このようにすることで、層を1層減らした積層体とすることができ、製造プロセスの簡略化、製造コストの低減が可能となり、好ましい場合がある。
In addition, when using (co) polymethyl methacrylate weather-resistant as a resin base material, the multilayer lower layer is omitted, and the above hard coat resin composition is directly applied, dried, and irradiated with active energy rays. A coat layer may be provided. By doing in this way, it can be set as the laminated body which reduced one layer, and it becomes possible to simplify a manufacturing process and to reduce manufacturing cost, and may be preferable.
樹脂基材には、密着性向上、平滑化、模様つけ等を目的として予め表面処理を施す事もできる。表面処理の例としては例えばプラズマ処理、コロナ放電処理、紫外線照射処理、火炎処理、薬品処理、脱脂、酸化処理、蒸着処理、ブラスト処理、イオン処理等が挙げられる。
本発明の積層体は、高い硬度を有するにもかかわらず、ある程度の変形に対応し得る柔軟性も有していることから、可撓性を有するフィルムやシートの形態での使用に適している。よって本発明の積層体は、屋内外を問わず、また透明性の有無を問わず、表装部材における表面の保護に用いるのに適しており、従来における表装部材の表面の保護の用途のガラスや金属に代えて用いることができ特に複雑な表面形状や大きな曲率を持つ表装部材の表面の保護に好適に用いることができる。
The resin substrate can be subjected to surface treatment in advance for the purpose of improving adhesion, smoothing, patterning, and the like. Examples of the surface treatment include plasma treatment, corona discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, flame treatment, chemical treatment, degreasing, oxidation treatment, vapor deposition treatment, blast treatment, ion treatment and the like.
The laminate of the present invention is suitable for use in the form of a flexible film or sheet because it has a high hardness but also a flexibility that can cope with a certain degree of deformation. . Therefore, the laminate of the present invention is suitable for use in protecting the surface of a cover member regardless of whether it is indoors or outdoors, and whether or not it is transparent. It can be used in place of metal, and can be suitably used for protecting the surface of a cover member having a particularly complicated surface shape and large curvature.
このほかにも、本発明の積層体を目的の部材の表面に形成させる際に剥がされる転写成形用のフィルムをさらに有する各種作製用フィルムやシート、例えば携帯電話用部材作製用のフィルム・シート等にも利用することができる。 In addition, various production films and sheets further having a film for transfer molding that is peeled off when the laminate of the present invention is formed on the surface of the target member, such as a film or sheet for producing a member for a mobile phone. Can also be used.
以下に製造例及び実施例を記載して、本発明をさらに具体的に説明する。以下の製造例及び実施例に記載される成分、割合、手順等は、本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に記載される具体例に制限されるものではない。なお、製造例及び実施例に記載される「部」及び「%」は、「重量部」及び「重量%」をそれぞれ意味する。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to production examples and examples. The components, ratios, procedures, and the like described in the following production examples and examples can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. Accordingly, the scope of the present invention is not limited to the specific examples described below. Note that “parts” and “%” described in the production examples and examples mean “parts by weight” and “% by weight”, respectively.
(製造例1:表面修飾コロイド状シリカ(シリカ1)の製造)
温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えたフラスコに、ペンタエリスリトールトリアクリレート/ペンタエリスリトールテトラアクリレート=55/45の混合物(ビスコート300)250g、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン25g、及びジオクチ
ルスズジラウレート0.05gを加え、70℃にて2時間撹拌した後、2−プロパノールに分散させたコロイド状シリカ(シリカ含有量30重量%、体積平均粒子径15nm)611g、アセチルアセトンアルミニウム0.15g、水2g、及び2−プロパノール30gを加え、70℃にて4時間加熱撹拌することにより、不揮発分50%の表面修飾コロイド状シリカとペンタエリスリトールトリアクリレート/ペンタエリスリトールテトラアクリレートの反応混合物(以下、「シリカ1」ということがある)を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレートと3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランの反応物の分子量は545であり、上記例では0.101モル。無機酸化物であるシリカは3.05モル当量であり、シリカ1モル当量についてのM×Aの値は18であった。
(Production Example 1: Production of surface-modified colloidal silica (silica 1))
In a flask equipped with a thermometer, stirrer and reflux condenser, 250 g of a mixture of pentaerythritol triacrylate / pentaerythritol tetraacrylate (Biscoat 300), 25 g of 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, and dioctyltin dilaurate. After adding 05 g and stirring at 70 ° C. for 2 hours, 611 g of colloidal silica (silica content 30 wt%, volume average particle diameter 15 nm) dispersed in 2-propanol, 0.15 g of acetylacetone aluminum, 2 g of water, and By adding 30 g of 2-propanol and stirring with heating at 70 ° C. for 4 hours, a reaction mixture of surface-modified colloidal silica having a non-volatile content of 50% and pentaerythritol triacrylate / pentaerythritol tetraacrylate (hereinafter, “ Sometimes referred to as silica 1 ”.
The molecular weight of the reaction product of pentaerythritol triacrylate and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane is 545, and in the above example is 0.101 mol. Silica which is an inorganic oxide was 3.05 molar equivalent, and the value of M × A for 1 molar equivalent of silica was 18.
なお、本発明でいうシリカ3.05モル当量についての計算は、コロイド状シリカ611g(30重量%)中のシリカ有効含有量が611×0.3=183.3gであることと、シリカの組成式がSiO2であり、その式量が60.1であることに基づいている。シ
リカ60.1gが1モル当量であることから、183.3/60.1=3.05モル当量
と算出した。以下の製造例においても同様に無機酸化物であるシリカのモル当量を算出した。
The calculation for 3.05 molar equivalent of silica in the present invention is that the effective silica content in 611 g (30% by weight) of colloidal silica is 611 × 0.3 = 183.3 g, and the composition of silica. Based on the formula being SiO 2 and its formula weight being 60.1. Since 60.1 g of silica was 1 molar equivalent, it was calculated as 183.3 / 60.1 = 3.05 molar equivalent. In the following production examples, the molar equivalent of silica, which is an inorganic oxide, was also calculated.
(製造例2:表面修飾コロイド状シリカ(シリカ2)の製造)
温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えたフラスコに、ペンタエリスリトールトリアクリレート/ペンタエリスリトールテトラアクリレート=55/45の混合物(ビスコート3
00)250g、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン37.5g、及びジオ
クチルスズジラウレート0.05gを加え、70℃にて2時間撹拌した後、2−プロパノールに分散させたコロイド状シリカ(シリカ含有量30%、体積平均粒子径15nm)611g、アセチルアセトンアルミニウム0.15g、水2g、及び2−プロパノール30gを加え、70℃にて4時間加熱撹拌することにより、不揮発分50%の表面修飾コロイド状シリカとペンタエリスリトールトリアクリレート/ペンタエリスリトールテトラアクリレートの反応混合物(以下、「シリカ2」ということがある)を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレートと3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランの反応物の分子量は545であり、上記例では0.152モル。無機酸化物であるシリカは3.05モル当量であり、シリカ1モル当量についてのM×Aの値は27であった。
(Production Example 2: Production of surface-modified colloidal silica (silica 2))
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux condenser, a mixture of pentaerythritol triacrylate / pentaerythritol tetraacrylate = 55/45 (Biscoat 3
00) 250 g, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane 37.5 g, and dioctyltin dilaurate 0.05 g were added, stirred at 70 ° C. for 2 hours, and then dispersed in 2-propanol (silica content 30). %, Volume average particle size 15 nm) 611 g, 0.15 g of acetylacetone aluminum, 2 g of water, and 30 g of 2-propanol, and heated and stirred at 70 ° C. for 4 hours to obtain a surface-modified colloidal silica having a non-volatile content of 50% A reaction mixture of pentaerythritol triacrylate / pentaerythritol tetraacrylate (hereinafter sometimes referred to as “silica 2”) was obtained.
The molecular weight of the reaction product of pentaerythritol triacrylate and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane is 545, 0.152 mol in the above example. Silica, which is an inorganic oxide, was 3.05 molar equivalent, and the M × A value for 27 molar equivalents of silica was 27.
(製造例3:表面修飾コロイド状シリカ(シリカ3)の製造)
温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えたフラスコに、アクリル酸トリメトキシシリルプロピル20g、2−プロパノールに分散させたコロイド状シリカ(シリカ含有量30%、体積平均粒子径15nm)200g、アセチルアセトンアルミニウム0.05g、水2gを加え、70℃にて4時間加熱撹拌することにより、不揮発分36%の表面修飾コロイド状シリカ(以下、「シリカ3」ということがある)を得た。
メタクリル酸トリメトキシシリルプロピルの分子量は234であり、上記例では0.085モル。無機酸化物であるシリカは1モル当量であり、シリカ1モル当量についてのM×Aの値は20であった。
(Production Example 3: Production of surface-modified colloidal silica (silica 3))
In a flask equipped with a thermometer, stirrer and reflux condenser, 20 g of trimethoxysilylpropyl acrylate, 200 g of colloidal silica dispersed in 2-propanol (silica content 30%, volume average particle size 15 nm), acetylacetone aluminum 0 0.05 g and 2 g of water were added, and the mixture was heated and stirred at 70 ° C. for 4 hours to obtain a surface-modified colloidal silica having a nonvolatile content of 36% (hereinafter sometimes referred to as “silica 3”).
The molecular weight of trimethoxysilylpropyl methacrylate is 234, 0.085 mol in the above example. Silica, which is an inorganic oxide, was 1 molar equivalent, and the M × A value for 20 molar equivalents of silica was 20.
(製造例4:表面修飾コロイド状シリカ(シリカ4)の製造)
温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えたフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテル139.5gにグリシジルメタクリレート90g、メルカプトプロピルトリメトキシシラン5.0g、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.93gを加え65℃にて3時間反応させ、さらに2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.47gを加え3時間反応させた。次にアクリル酸51.7g、トリフェニルホスフィン1.45g、p−メトキシフェノール0.36g、プロピレングリコールモノメチルエーテル77.6gを添加し110℃にて10時間反応させ、(メタ)アクリロイル基とアルコキシシリル基を有する共重合体(a)を得た。この時点で測定すると不揮発分40%、数平均分子量は5000であった。
(Production Example 4: Production of surface-modified colloidal silica (silica 4))
In a flask equipped with a thermometer, stirrer and reflux condenser, 139.5 g of propylene glycol monomethyl ether, 90 g of glycidyl methacrylate, 5.0 g of mercaptopropyltrimethoxysilane, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) 0 .93 g was added and reacted at 65 ° C. for 3 hours, and further, 0.42 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added and reacted for 3 hours. Next, 51.7 g of acrylic acid, 1.45 g of triphenylphosphine, 0.36 g of p-methoxyphenol and 77.6 g of propylene glycol monomethyl ether were added and reacted at 110 ° C. for 10 hours, and (meth) acryloyl group and alkoxysilyl A copolymer (a) having a group was obtained. When measured at this time, the nonvolatile content was 40% and the number average molecular weight was 5000.
次いで、2−プロパノールに分散させたコロイド状シリカ(シリカ含有量30%、体積平均粒子径15nm)161g、アセチルアセトンアルミニウム0.02g、水0.5gを加え、70℃にて4時間加熱撹拌することにより、不揮発分37%の表面修飾コロイド状シリカ(以下、「シリカ4」ということがある)を得た。
上記ポリマーの分子量は数平均分子量5000であり、上記例では0.026モル。無機酸化物であるシリカは0.805モル当量であり、シリカ1モル当量についてのM×Aの値は24であった。
Next, 161 g of colloidal silica (silica content 30%, volume average particle diameter 15 nm) dispersed in 2-propanol, 0.02 g of acetylacetone aluminum and 0.5 g of water are added, and the mixture is heated and stirred at 70 ° C. for 4 hours. As a result, a surface-modified colloidal silica having a nonvolatile content of 37% (hereinafter sometimes referred to as “silica 4”) was obtained.
The polymer has a number average molecular weight of 5000, 0.026 mol in the above example. Silica, which is an inorganic oxide, was 0.805 molar equivalent, and the M × A value for 24 molar equivalents of silica was 24.
(製造例5:紫外線吸収重合体(P−1)の製造)
温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテル300g、メチルメタクリレート150g、ステアリルメタクリレート40g、2,[2’−ヒドロキシ−5’−(メタクリロキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール(大塚化学株式会社製RUVA93)10g、及び2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)1gを加え、65℃にて3時間反応させ、さらに2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)2gを加え3時間反応させて、不揮発分40%、重量平均分子量68,000(数平均分子量19,000、いずれもGPCによるポリスチレン換算値)の共重合体(共重合体P−1)を得た。
(Production Example 5: Production of UV-absorbing polymer (P-1))
In a flask equipped with a thermometer, stirrer, and reflux condenser, 300 g of propylene glycol monomethyl ether, 150 g of methyl methacrylate, 40 g of stearyl methacrylate, 2, [2′-hydroxy-5 ′-(methacryloxyethyl) phenyl] -2H-benzo 10 g of triazole (RUVA93 manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) and 1 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added and reacted at 65 ° C. for 3 hours, and further 2,2′-azobis (2, 4 g of 4-dimethylvaleronitrile) was allowed to react for 3 hours, and a copolymer (copolymer) having a nonvolatile content of 40% and a weight average molecular weight of 68,000 (number average molecular weight of 19,000, both in terms of polystyrene by GPC). P-1) was obtained.
(製造例6:ウレタンアクリレート1の製造)
温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えたフラスコに、トリシクロデカンジメタノール39.3g、ε−カプロラクトン46.6g、テトラオクチルスズ0.1gを加え窒素気流下180℃にて15時間加熱撹拌した後、イソホロンジイソシアネート88.9g、2−ヒドロキシエチルアクリレート46.5g、フェノキシジエチレングリコールアクリレート55.3g、ジブチルスズラウレート0.2g及びハイドロキノンモノメチルエーテル0.1gを空気気流下80℃にて5時間加熱撹拌し、ウレタンアクリレート1(不揮発分99%)を得た。
(Production Example 6: Production of urethane acrylate 1)
To a flask equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux condenser, 39.3 g of tricyclodecane dimethanol, 46.6 g of ε-caprolactone and 0.1 g of tetraoctyltin were added, and the mixture was heated and stirred at 180 ° C. for 15 hours under a nitrogen stream. Thereafter, 88.9 g of isophorone diisocyanate, 46.5 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 55.3 g of phenoxydiethylene glycol acrylate, 0.2 g of dibutyltin laurate and 0.1 g of hydroquinone monomethyl ether were heated and stirred at 80 ° C. for 5 hours in an air stream. Urethane acrylate 1 (non-volatile content 99%) was obtained.
<実施例1>
(ハードコート層形成用塗料:活性エネルギー線硬化性樹脂組成物)
シリカ2を140部(不揮発分として70部、イソプロパノール(沸点82℃)を70部)、ウレタンアクリレート1(製造例6で製造したもの)30部、チヌビン400(BASF社製)5部、チヌビン123(BASF社製)1.5部、ダロキュアMBF(BASF社製)2部、ベンゾフェノン1部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点120℃)7部をよく混合、攪拌して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物1を得た。不揮発分は59%であった。
<Example 1>
(Hard coat layer forming coating: active energy ray-curable resin composition)
140 parts of silica 2 (70 parts as non-volatile content, 70 parts of isopropanol (boiling point 82 ° C.)), 30 parts of urethane acrylate 1 (produced in Production Example 6), 5 parts of tinuvin 400 (manufactured by BASF), tinuvin 123 1.5 parts of BASF (product made by BASF), 2 parts of Darocur MBF (made by BASF), 1 part of benzophenone and 7 parts of propylene glycol monomethyl ether (boiling point 120 ° C.) are thoroughly mixed and stirred to obtain an active energy ray-curable resin composition. Product 1 was obtained. The nonvolatile content was 59%.
(ハードコート層の形成)
厚み125μmの耐候処方されたポリメチルメタクリレートフィルム(三菱レイヨン社製アクリプレンHBS006、ヘーズ0.1%)に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物1を、バーコーターを用いて、乾燥後の塗膜の厚さが7μmになるように塗布し、80℃で2分間加熱乾燥した。次いで、この塗膜に、出力120mW/cm2の高圧水銀灯を光源として、照射強度500mW/cm2にて積算光量750mJ/cm2になるように紫外線を照射し、塗膜を硬化させてハードコート層1を形成した。
(Formation of hard coat layer)
The active energy ray-curable resin composition 1 is applied to a polymethylmethacrylate film having a thickness of 125 μm which is weather-resistant formulated (Acryprene HBS006 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., 0.1% haze) using a bar coater. The film was applied to a thickness of 7 μm and dried by heating at 80 ° C. for 2 minutes. Then, this coating film, a high-pressure mercury lamp of output 120 mW / cm 2 as a light source, irradiating ultraviolet radiation so that the integrated light amount 750 mJ / cm 2 at an irradiation intensity 500 mW / cm 2, a hard coat to cure the coating Layer 1 was formed.
<実施例2〜7>
ハードコート層を形成するための活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における材料及び組成を、表1に示したものに変更した以外は実施例1と同様に実施し、ハードコート層2〜5をそれぞれ得た。ハードコート層6については、ポリメチルメタクリレートフィルムの代わりに厚み1000μmのポリカーボネート板(三菱瓦斯化学社製、ユーピロンNF2000U)上に厚さ10ミクロンでメタクリルポリマー(パラペットG(クラレ社製)にチヌビン328(BASF社製)を2重量%添加し、イソプロパノールで20重量%溶液に調整した塗液を用いた)塗膜を形成した基材を用い、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における材料及び組成を、表1に示したものに変更してハードコート層を作製した。
<Examples 2 to 7>
Except having changed into the material and composition in the active energy ray-curable resin composition for forming a hard-coat layer into what was shown in Table 1, it implemented similarly to Example 1, and each of the hard-coat layers 2-5 was carried out. Obtained. For the hard coat layer 6, instead of the polymethyl methacrylate film, a methacrylic polymer (Parapet G (manufactured by Kuraray Co., Ltd.)) and Tinuvin 328 ( 2% by weight of BASF) and a base material on which a coating film was formed (using a coating solution adjusted to a 20% by weight solution with isopropanol), and the materials and compositions in the active energy ray-curable resin composition, A hard coat layer was prepared by changing to the one shown in Table 1.
<比較例1〜6>
ハードコート層を形成するための活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における溶剤組成を表2に示したものに変更した以外は実施例1と同様に実施し、ハードコート層をそれぞれ得た。
<Comparative Examples 1-6>
Except having changed the solvent composition in the active energy ray-curable resin composition for forming a hard-coat layer into what was shown in Table 2, it implemented similarly to Example 1 and obtained the hard-coat layer, respectively.
なお、表1及び2における各記載の用語の意味を以下に示す。
未修飾シリカ:15nmの体積平均粒子径のIPA分散コロイダルシリカ(日産化学社製)
多官能アクリレート1:ビスコート300(大阪有機化学工業株式会社製)
ウレタンアクリレート1:製造例6で製造したウレタンアクリレート
M315:トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート(東亞合成社製)
チヌビン400:トリアジン系紫外線吸収剤(BASF社製)
チヌビン328:ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(BASF社製)
チヌビン123:N−アルキルオキシ型HALS(BASF社製)
チヌビン765:N−アルキル型HALS(BASF社製)
シリカ1からシリカ10:製造例1から製造例10でそれぞれ製造した表面修飾コロイド状シリカ
ダロキュアMBF:蓚酸エステル系光重合開始剤(BASF社製)
PGM:プロピレングリコールモノメチルエーテル
PGMAc:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
IPA:2−プロパノール
IBA:イソブタノール
耐候処方されたPMMAフィルム:アクリプレンHBS006(三菱レイヨン社製)
PC板:ユーピロンNF2000U(三菱瓦斯化学社製)
In addition, the meaning of the term of each description in Table 1 and 2 is shown below.
Unmodified silica: IPA-dispersed colloidal silica having a volume average particle diameter of 15 nm (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.)
Multifunctional acrylate 1: Biscoat 300 (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.)
Urethane acrylate 1: urethane acrylate M315 produced in Production Example 6: trisacryloyloxyethyl isocyanurate (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Tinuvin 400: Triazine UV absorber (BASF)
Tinuvin 328: Benzotriazole UV absorber (manufactured by BASF)
Tinuvin 123: N-alkyloxy type HALS (manufactured by BASF)
Tinuvin 765: N-alkyl type HALS (manufactured by BASF)
Silica 1 to Silica 10: Surface-modified colloidal silica Darocur MBF produced in Production Examples 1 to 10 respectively: Succinic acid ester photopolymerization initiator (manufactured by BASF)
PGM: Propylene glycol monomethyl ether PGMAc: Propylene glycol monomethyl ether acetate IPA: 2-propanol IBA: Isobutanol weather-resistant PMMA film: Acryprene HBS006 (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)
PC board: Iupilon NF2000U (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.)
(評価)
以上のようにして作製したハードコートフィルムまたはハードコート板を下記の評価方法によって評価した。
(ヘーズ)
JIS K7105に従って、各積層体のヘーズ値(H%)を求めた。値が小さい程、透明性が高い。
(Evaluation)
The hard coat film or hard coat plate produced as described above was evaluated by the following evaluation method.
(Haze)
According to JIS K7105, the haze value (H%) of each laminate was determined. The smaller the value, the higher the transparency.
(耐摩耗性1)
JIS K5600に従って摩耗輪CS−10F、荷重500g、回転数100サイクルの条件にて、ハードコート層に対するテーバー摩耗試験を行い、試験前後のヘーズ値の差ΔH%を測定した。値が小さい程、耐摩耗性に優れている。
(耐摩耗性2)
JIS K5600に従って摩耗輪CS−10F、荷重500g、回転数500サイクルの条件にて、ハードコート層に対するテーバー摩耗試験を行い、試験前後のヘーズ値の差ΔH%を測定した。値が小さい程、耐摩耗性に優れている。
(Abrasion resistance 1)
In accordance with JIS K5600, a Taber abrasion test was performed on the hard coat layer under the conditions of a wear wheel CS-10F, a load of 500 g, and a rotation speed of 100 cycles, and a haze value difference ΔH% before and after the test was measured. The smaller the value, the better the wear resistance.
(Abrasion resistance 2)
In accordance with JIS K5600, a Taber abrasion test was performed on the hard coat layer under the conditions of a wear wheel CS-10F, a load of 500 g, and a rotation speed of 500 cycles, and a haze value difference ΔH% before and after the test was measured. The smaller the value, the better the wear resistance.
(耐擦傷性)
学振型摩耗試験器にてスチールウール#0000の上に500gの荷重をかけて各積層体のハードコート層上を10往復させ、傷の状況を目視にて観察し、以下の基準で判定した。
◎:全く傷が付かない
○:1〜4本の傷が付く
△:5〜9本の傷が付く
×:10本以上の傷が付く
(初期密着性)
各積層体の試験片のハードコート層に2mm間隔にて100個のます目を作り、セロハンテープ(ニチバン株式会社製24mm)を圧着させて上方に剥がし、剥離を目視にて観察し、以下の基準で判定した。
○:剥離無し
×:剥離あり
(鉛筆硬度)
JIS準拠鉛筆硬度計(太佑機材社製)を用い、JIS K5600−5−4の条件に基づき測定を行い、傷の入らないもっとも硬い鉛筆の番手で評価した。
(Abrasion resistance)
A 500 g load was applied to steel wool # 0000 on the Gakushin-type wear tester, and the hard coat layer of each laminate was reciprocated 10 times. The condition of the scratch was visually observed and judged according to the following criteria. .
◎: No scratches are observed. ○: 1-4 scratches are observed. Δ: 5-9 scratches are observed. ×: Ten or more scratches are present (initial adhesion).
Make 100 squares at 2mm intervals on the hard coat layer of the test piece of each laminate, press the cellophane tape (24 mm made by Nichiban Co., Ltd.), peel it upward, and observe the peeling visually. Judged by criteria.
○: no peeling ×: peeling (pencil hardness)
Using a JIS-compliant pencil hardness tester (manufactured by Dazai Equipment Co., Ltd.), measurement was performed based on the conditions of JIS K5600-5-4, and the hardness was evaluated with the hardest pencil count without scratches.
(耐候性)
各積層体の試験片をメタルハライドウエザーメータ(ダイプラウインテス社製KU−R5N−W)にセットし、UV照射強度90mW/cm2、ブラックパネル温度63℃で照射240分間、降雨240分間、結露240分間のサイクルで紫外線積算照射量65MJ/m2ごとに以下の基準で外観を評価し、判定した。積算照射量585MJ/m2での判定結果は表3及び4に示す。
○:剥離なし、クラックなし、黄変なし、白化なし
△:部分的黄変(b値差が2以下)、白化あり(全体の10%以下、あるいは均一白化の場合、ヘーズ差が1〜2%)
×:剥離又はクラックあり、又は顕著な黄変、白化あり
前記の評価の結果を表3及び表4に示す。比較例1〜6は対応する本発明の範囲内のハードコートフィルム(またはハードコート板)と比較し、透明性が劣り、同時に耐摩耗性・鉛筆硬度・耐候性(特に加湿や結露条件を含む評価)少なくとも1つの性能において劣
る結果であった。即ち、本発明の範囲を満たすハードコート膜が、本発明の範囲外のものに比べ、特徴的に優れた特性を発現することが明らかである。
(Weatherability)
Set the test piece of the laminate to the metal halide weather meter (DAIPLA Wynn test manufactured KU-R5N-W), UV irradiation intensity 90 mW / cm 2, black panel temperature 63 ° C. irradiation for 240 minutes, precipitation 240 min, condensation 240 Appearance was evaluated and judged according to the following criteria for each ultraviolet integrated irradiation dose of 65 MJ / m 2 in a cycle of minutes. Tables 3 and 4 show the determination results at an integrated dose of 585 MJ / m 2 .
○: No peeling, no cracking, no yellowing, no whitening Δ: partial yellowing (b value difference is 2 or less), whitening (10% or less of the whole or uniform whitening, haze difference is 1-2) %)
X: Peeling or cracking, or remarkable yellowing and whitening The results of the evaluation are shown in Tables 3 and 4. Comparative Examples 1 to 6 are inferior in transparency as compared with the corresponding hard coat film (or hard coat plate) within the scope of the present invention, and at the same time, wear resistance, pencil hardness, and weather resistance (including particularly humidification and condensation conditions). Evaluation) At least one performance was inferior. That is, it is clear that the hard coat film satisfying the scope of the present invention expresses characteristically superior characteristics as compared with those outside the scope of the present invention.
<実施例8>
実施例1により得られたハードコート付きの耐候処方PMMAフィルムを厚さ2mmのポリカーボネート樹脂板(三菱瓦斯化学社製、ユーピロンNF2000U)に140℃で加熱ラミネートした積層体を得た。ヘーズは0.2%、耐摩耗性1は4%、耐摩耗性2は8%、耐擦傷性は○、密着性は○、鉛筆硬度は2H,耐候性(585MJ/m2)は○と、積層体の物性は良好な結果であった。
<Example 8>
A laminated body obtained by laminating a weather-resistant PMMA film with a hard coat obtained in Example 1 on a polycarbonate resin plate (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., Iupilon NF2000U) heated at 140 ° C. was obtained. Haze 0.2%, abrasion resistance 1 4%, abrasion resistance 2 8%, scratch resistance ○, adhesion ○, pencil hardness 2H, weather resistance (585MJ / m 2 ) ○ The physical properties of the laminate were good results.
(製造例7:表面修飾コロイド状シリカ(シリカ5)の製造)
温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えたフラスコに、ペンタエリスリトールトリアクリレート/ペンタエリスリトールテトラアクリレート=55/45の混合物(ビスコート300)250g、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン10g、及びジオクチ
ルスズジラウレート0.05gを加え、70℃にて2時間撹拌した後、2−プロパノールに分散させたコロイド状シリカ(シリカ含有量30%、体積平均粒子径15nm)611
g、アセチルアセトンアルミニウム0.15g、水2g、及び2−プロパノール30gを加え、70℃にて4時間加熱撹拌することにより、不揮発分50%の表面修飾コロイド状シリカとペンタエリスリトールトリアクリレート/ペンタエリスリトールテトラアクリレートの反応混合物(以下、「シリカ5」ということがある)を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレートと3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランの反応物の分子量は545であり、上記例では0.0405モル。無機酸化物であるシリカは3.03モル当量であり、シリカ1モル当量についてのM×Aの値は7.3であった。
(Production Example 7: Production of surface-modified colloidal silica (silica 5))
In a flask equipped with a thermometer, stirrer and reflux condenser, 250 g of a mixture of pentaerythritol triacrylate / pentaerythritol tetraacrylate = 55/45 (Biscoat 300), 10 g of 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, and dioctyltin dilaurate After adding 05 g and stirring at 70 ° C. for 2 hours, colloidal silica dispersed in 2-propanol (silica content 30%, volume average particle diameter 15 nm) 611
g, 0.15 g of acetylacetone aluminum, 2 g of water and 30 g of 2-propanol were added, and the mixture was heated and stirred at 70 ° C. for 4 hours. An acrylate reaction mixture (hereinafter sometimes referred to as “silica 5”) was obtained.
The molecular weight of the reaction product of pentaerythritol triacrylate and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane is 545, and 0.0405 mol in the above example. Silica, which is an inorganic oxide, was 3.03 molar equivalent, and the value of M × A for 1 molar equivalent of silica was 7.3.
(製造例8:表面修飾コロイド状シリカ(シリカ6)の製造)
温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えたフラスコに、メタクリル酸トリメトキシシリルプロピル60g、2−プロパノールに分散させたコロイド状シリカ(シリカ含有量30%、体積平均粒子径15nm)200g、アセチルアセトンアルミニウム0.05g、水2gを加え、70℃にて4時間加熱撹拌することにより、不揮発分46%の表面修飾コロイド状シリカと(以下、「シリカ6」ということがある)を得た。
(Production Example 8: Production of surface-modified colloidal silica (silica 6))
In a flask equipped with a thermometer, stirrer and reflux condenser, 60 g of trimethoxysilylpropyl methacrylate, 200 g of colloidal silica dispersed in 2-propanol (silica content 30%, volume average particle size 15 nm), acetylacetone aluminum 0 0.05 g and 2 g of water were added, and the mixture was heated and stirred at 70 ° C. for 4 hours to obtain a surface-modified colloidal silica having a nonvolatile content of 46% (hereinafter sometimes referred to as “silica 6”).
メタクリル酸トリメトキシシリルプロピルの分子量は248であり、上記例では0.242モル。無機酸化物であるシリカは1モル当量であり、シリカ1モル当量についてのM×Aの値は60であった。 The molecular weight of trimethoxysilylpropyl methacrylate is 248, 0.242 mol in the above example. Silica, which is an inorganic oxide, was 1 molar equivalent, and the M × A value for 60 molar equivalents of silica was 60.
<比較例7>
修飾シリカをシリカ5に変えた他は、実施例1と同様の配合を行い、得られた組成物から、実施例1と同様にして ハードコート付きの耐候処方PMMAフィルムを得た。組成物液の安定性が劣るものの、塗膜生成は可能であった。しかし、ヘーズは0.7%、耐摩耗性1は6%、耐摩耗性2は16%、耐擦傷性は△、密着性は○、鉛筆硬度はHB,耐候性(585MJ/m2)は×と、透明性・耐擦傷性・耐候性に劣るものであった。
<Comparative Example 7>
The same composition as in Example 1 was used except that the modified silica was changed to Silica 5, and a weather-resistant PMMA film with a hard coat was obtained from the resulting composition in the same manner as in Example 1. Although the stability of the composition liquid was inferior, it was possible to produce a coating film. However, haze is 0.7%, abrasion resistance 1 is 6%, abrasion resistance 2 is 16%, scratch resistance is Δ, adhesion is ○, pencil hardness is HB, and weather resistance (585 MJ / m 2 ) is × and transparency, scratch resistance, and weather resistance were inferior.
<比較例8>
修飾シリカをシリカ6に変えた他は、実施例1と同様の配合を行い、得られた組成物から、実施例1と同様にして ハードコート付きの耐候処方PMMAフィルムを得た。組成物液の安定性が劣るものの、塗膜生成は可能であった。しかし、ヘーズは0.9%、耐摩耗性1は7%、耐摩耗性2は17%、耐擦傷性は×、密着性は○、鉛筆硬度はHB,耐候性(585MJ/m2)は×と、透明性・耐擦傷性・耐候性に劣るものであった。
これらの例から、本願発明の請求項1の条件を満たせば、優れた透明性・耐擦傷性・耐候性を発現することを明確とした。
<Comparative Example 8>
The same composition as in Example 1 was used except that the modified silica was changed to silica 6, and a weather-resistant PMMA film with a hard coat was obtained from the resulting composition in the same manner as in Example 1. Although the stability of the composition liquid was inferior, it was possible to produce a coating film. However, haze is 0.9%, abrasion resistance 1 is 7%, abrasion resistance 2 is 17%, scratch resistance is x, adhesion is ○, pencil hardness is HB, and weather resistance (585MJ / m 2 ) is × and transparency, scratch resistance, and weather resistance were inferior.
From these examples, it was clarified that excellent transparency, scratch resistance, and weather resistance were exhibited if the conditions of claim 1 of the present invention were satisfied.
近年では、製品の重量の軽減やそれによる環境負荷の軽減の観点から、無機化合物製品から有機化合物製品への転換が検討されている。本発明では、表面の機械的強度が高い、すなわち耐擦傷性に優れるばかりでなく、耐候性にも優れたハードコート層を形成するための活性エネルギー線硬化性樹脂組成物と、それを用いて形成されたハードコート層を有する積層体が得られる。これにより、ガラスや金属によって表面の保護がなされていた物品において、この表面保護用のガラス部材や金属部材に代えて本発明の積層体を用いることができる。したがって、本発明は、このような表面の保護を有する製品の製造や設置において、製品重量の軽減や表面保護工程の簡易化による環境負荷の軽減、及び現場での施工の簡易化による作業性の向上等の幅広い効果をもたらすことが期待される。 In recent years, conversion from inorganic compound products to organic compound products has been studied from the viewpoint of reducing the weight of the product and the environmental load caused thereby. In the present invention, an active energy ray-curable resin composition for forming a hard coat layer having a high surface mechanical strength, that is, excellent in scratch resistance, and also excellent in weather resistance, and using the same A laminate having the formed hard coat layer is obtained. Thus, in an article whose surface is protected by glass or metal, the laminate of the present invention can be used in place of the glass member or metal member for surface protection. Therefore, the present invention can reduce the environmental burden by reducing the weight of the product and simplifying the surface protection process in the manufacture and installation of the product having such surface protection, and the workability by simplifying the construction at the site. It is expected to bring about wide effects such as improvement.
Claims (16)
(B)紫外線吸収剤
(C)ヒンダードアミン系光安定剤
(D)沸点が70−200℃の有機溶剤
を有する組成物であって、
前記(A)におけるXは任意の−CH2−が−OCONH−及び/または−S−で置換されていてもよい炭素数2〜10のアルキレン基を示し、
かつ前記(D)が、(D)成分をトータル100重量部とするとき、沸点70℃から200℃の脂肪族アルコール51−99重量部、沸点70-180℃のエステルおよび/またはエーテル構造を有する有機化合物49−1重量部の混合物
あることを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 (A) Organic-inorganic composite in which (meth) acryloyl group is bonded to the surface via —O—Si—X— bond (B) UV absorber (C) hindered amine light stabilizer (D) Boiling point is 70 A composition having an organic solvent at −200 ° C.
X in the above (A) represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms in which any —CH 2 — may be substituted with —OCONH— and / or —S—;
And when said (D) makes (D) component total 100 weight part, it has 51-99 weight part of aliphatic alcohol with a boiling point of 70 to 200 degreeC, and an ester and / or ether structure with a boiling point of 70 to 180 degreeC. An active energy ray-curable resin composition comprising a mixture of 49-1 parts by weight of an organic compound.
及び/または
(F)1分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を含むウレタン構造を有する(メタ)アクリレートおよび/または1分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を含むヌレート構造を有する(メタ)アクリレート化合物
を有することを特徴とする請求項1に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 (E) an ultraviolet curable acrylate compound having three or more (meth) acryloyl groups in one molecule and not containing a urethane structure and a nurate structure; and / or (F) two or more (meth) in one molecule. 2. A (meth) acrylate having a urethane structure containing an acryloyl group and / or a (meth) acrylate compound having a nurate structure containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule. The active energy ray-curable resin composition described.
(A1)無機酸化物微粒子と、
(A2)(メタ)アクリロイル基とアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤
との反応物であり、かつ、
前記(A1)無機酸化物微粒子はその表面が未修飾であって、
前記(A2)のシランカップリング剤の分子量をMとし、当該無機酸化物微粒子を構成する無機酸化物の組成式で表される単位を1ユニットとして、その1ユニットの式量で(A1)の無機酸化物の重量を除して得た値を無機酸化物のモル当量とし、その1モル当量に対する(A2)のアルコキシシリル基のSi原子のモル数をAとしたとき、前記MとAの積(M×A)が下記(1)の関係を満たすことを特徴とする請求項1または2に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
15<M×A<50・・・(1) The organic-inorganic composite of (A) is
(A1) inorganic oxide fine particles;
(A2) a reaction product of a (meth) acryloyl group and a silane coupling agent having an alkoxysilyl group, and
The surface of the (A1) inorganic oxide fine particles is unmodified,
The molecular weight of the silane coupling agent (A2) is M, the unit represented by the composition formula of the inorganic oxide constituting the inorganic oxide fine particles is one unit, and the formula weight of (A1) When the value obtained by dividing the weight of the inorganic oxide is defined as the molar equivalent of the inorganic oxide, and the number of Si atoms of the alkoxysilyl group of (A2) relative to 1 molar equivalent is defined as A, the above M and A The active energy ray-curable resin composition according to claim 1, wherein the product (M × A) satisfies the following relationship (1).
15 <M × A <50 (1)
/9〜9/1、(B)が0.5〜10重量部および(C)が0.1〜5重量部であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 When the total content of (A) + (E) + (F) is 100 parts by weight, (A) is 17.5 to 70 parts by weight, and (E) + (F) is 30 to 82.5 parts by weight. Part, the weight ratio of (E) / (F) is 1
/ 9 to 9/1, (B) is 0.5 to 10 parts by weight, and (C) is 0.1 to 5 parts by weight. An active energy ray-curable resin composition.
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015196685A (en) * | 2014-03-31 | 2015-11-09 | 株式会社松風 | Novel sulfur-containing silane coupling agent and dental composition containing the same |
JP2016125049A (en) * | 2014-12-26 | 2016-07-11 | 中国塗料株式会社 | Photocurable resin composition, cured coating film formed from the composition and substrate with coating film, and method for producing cured coating film and substrate with coating film |
JP2017177553A (en) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 | Laminate |
US9988472B2 (en) | 2015-08-31 | 2018-06-05 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Composition, electronic device, and thin film transistor |
JP2018203989A (en) * | 2017-05-30 | 2018-12-27 | リケンテクノス株式会社 | Active energy ray curable resin composition, hard coat laminate film, and film for glass outer lamination |
JP2019501793A (en) * | 2016-03-24 | 2019-01-24 | ユニド カンパニーリミテッドUnid Co., Ltd. | Organic / inorganic composite thin film substrate and method for manufacturing the same |
US10358578B2 (en) | 2015-05-29 | 2019-07-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Insulating ink and insulator and thin film transistor and electronic device |
US10522771B2 (en) | 2014-12-01 | 2019-12-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Composition, electronic device, and thin film transistor |
KR20210068434A (en) | 2018-09-27 | 2021-06-09 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | Acrylic coating composition comprising inorganic oxide particles |
CN114106282A (en) * | 2021-08-27 | 2022-03-01 | 江南大学 | Polyurethane acrylate hybrid fluorine-containing silicone resin, preparation method and application |
JP2022107598A (en) * | 2017-08-07 | 2022-07-22 | 凸版印刷株式会社 | Laminate and decorative sheet using the same |
WO2025143162A1 (en) * | 2023-12-28 | 2025-07-03 | 積水化学工業株式会社 | Adhesive tape and method for using adhesive tape |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997011129A1 (en) * | 1995-09-20 | 1997-03-27 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Coating composition forming wear-resistant coat and article covered with the coat |
JPH10183016A (en) * | 1996-08-15 | 1998-07-07 | General Electric Co <Ge> | Radiation-curable coating improved in weatherability |
JPH1110805A (en) * | 1997-06-25 | 1999-01-19 | Asahi Glass Co Ltd | Transparent coated molded article and method for producing the same |
JP2000063549A (en) * | 1998-08-24 | 2000-02-29 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Thin article having abrasion resistant thin membrane, and optical disk |
JP2008163205A (en) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | Paint for forming transparent film and substrate with transparent film |
JP2011121304A (en) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Mitsubishi Chemicals Corp | Laminate |
JP2011144309A (en) * | 2010-01-18 | 2011-07-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Active energy ray curable coating composition and molded article having cured coating film of the composition |
JP2011201931A (en) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | Composition for hardcoat and base material coated therewith |
-
2012
- 2012-08-10 JP JP2012178783A patent/JP2014037453A/en active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997011129A1 (en) * | 1995-09-20 | 1997-03-27 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Coating composition forming wear-resistant coat and article covered with the coat |
JPH10183016A (en) * | 1996-08-15 | 1998-07-07 | General Electric Co <Ge> | Radiation-curable coating improved in weatherability |
JPH1110805A (en) * | 1997-06-25 | 1999-01-19 | Asahi Glass Co Ltd | Transparent coated molded article and method for producing the same |
JP2000063549A (en) * | 1998-08-24 | 2000-02-29 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Thin article having abrasion resistant thin membrane, and optical disk |
JP2008163205A (en) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | Paint for forming transparent film and substrate with transparent film |
JP2011121304A (en) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Mitsubishi Chemicals Corp | Laminate |
JP2011144309A (en) * | 2010-01-18 | 2011-07-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Active energy ray curable coating composition and molded article having cured coating film of the composition |
JP2011201931A (en) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | Composition for hardcoat and base material coated therewith |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015196685A (en) * | 2014-03-31 | 2015-11-09 | 株式会社松風 | Novel sulfur-containing silane coupling agent and dental composition containing the same |
US10522771B2 (en) | 2014-12-01 | 2019-12-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Composition, electronic device, and thin film transistor |
US10879475B2 (en) | 2014-12-01 | 2020-12-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Composition, electronic device, and thin film transistor |
JP2016125049A (en) * | 2014-12-26 | 2016-07-11 | 中国塗料株式会社 | Photocurable resin composition, cured coating film formed from the composition and substrate with coating film, and method for producing cured coating film and substrate with coating film |
US10358578B2 (en) | 2015-05-29 | 2019-07-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Insulating ink and insulator and thin film transistor and electronic device |
US9988472B2 (en) | 2015-08-31 | 2018-06-05 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Composition, electronic device, and thin film transistor |
US11292884B2 (en) | 2016-03-24 | 2022-04-05 | Unid Co., Ltd. | Organic-inorganic-hybrid thin film and method of manufacturing the same |
JP2019501793A (en) * | 2016-03-24 | 2019-01-24 | ユニド カンパニーリミテッドUnid Co., Ltd. | Organic / inorganic composite thin film substrate and method for manufacturing the same |
JP2017177553A (en) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 | Laminate |
JP2018203989A (en) * | 2017-05-30 | 2018-12-27 | リケンテクノス株式会社 | Active energy ray curable resin composition, hard coat laminate film, and film for glass outer lamination |
JP7199156B2 (en) | 2017-05-30 | 2023-01-05 | リケンテクノス株式会社 | Active energy ray-curable resin composition, hard coat laminate film, and film for glass exterior application |
JP2022107598A (en) * | 2017-08-07 | 2022-07-22 | 凸版印刷株式会社 | Laminate and decorative sheet using the same |
JP7383237B2 (en) | 2017-08-07 | 2023-11-20 | Toppanホールディングス株式会社 | Laminate and decorative sheet using the same |
KR20210068434A (en) | 2018-09-27 | 2021-06-09 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | Acrylic coating composition comprising inorganic oxide particles |
CN114106282A (en) * | 2021-08-27 | 2022-03-01 | 江南大学 | Polyurethane acrylate hybrid fluorine-containing silicone resin, preparation method and application |
WO2025143162A1 (en) * | 2023-12-28 | 2025-07-03 | 積水化学工業株式会社 | Adhesive tape and method for using adhesive tape |
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