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JP2014016382A - Solid state image pickup device, electronic equipment and method for pixel read-out - Google Patents

Solid state image pickup device, electronic equipment and method for pixel read-out Download PDF

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JP2014016382A
JP2014016382A JP2012151662A JP2012151662A JP2014016382A JP 2014016382 A JP2014016382 A JP 2014016382A JP 2012151662 A JP2012151662 A JP 2012151662A JP 2012151662 A JP2012151662 A JP 2012151662A JP 2014016382 A JP2014016382 A JP 2014016382A
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JP
Japan
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line
signal
pixel
solid
imaging device
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Pending
Application number
JP2012151662A
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Japanese (ja)
Inventor
Junya Kondo
絢哉 近藤
Haruhisa Naganokawa
晴久 永野川
Daijiro Anai
大二郎 穴井
Mami Aoki
真実 青木
Shohei Taguchi
昌平 田口
Masaru Koseki
賢 小関
Nobuo Nakamura
信男 中村
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Priority to CN201310252877.5A priority patent/CN103533257B/en
Priority to US13/926,613 priority patent/US9131175B2/en
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    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/703SSIS architectures incorporating pixels for producing signals other than image signals
    • H04N25/704Pixels specially adapted for focusing, e.g. phase difference pixel sets

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  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)
  • Focusing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a suitable line sensor by an AF sensor.SOLUTION: A solid state image pickup device includes a plurality of line sensors having a plurality of pixels aligned in one line including an amplifier for amplifying a signal corresponding to electric charge accumulated in a photoelectric converter and a signal line for reading signals of respective pixels in the line sensors. The plurality of line sensors are arranged discretely and the signal lines are wired converged along a region where a circuit block including the line sensors is arranged. This technology, for example, can be applied to an AF sensor.

Description

本技術は、固体撮像装置、電子機器、および画素読み出し方法に関し、特に、AFセンサに好適なラインセンサを提供することができるようにする固体撮像装置、電子機器、および画素読み出し方法に関する。   The present technology relates to a solid-state imaging device, an electronic device, and a pixel reading method, and more particularly, to a solid-state imaging device, an electronic device, and a pixel reading method that can provide a line sensor suitable for an AF sensor.

近年、デジタル一眼レフカメラでは、自動でピントを合わせるオートフォーカス(AF)機能を実現するために、三角測量の原理を応用した位相差検出方式が用いられている。   In recent years, in digital single-lens reflex cameras, a phase difference detection method applying the principle of triangulation is used to realize an autofocus (AF) function for automatically focusing.

位相差検出方式は、撮像レンズに入射した光をセパレータレンズで2つに分けることで2つの被写体像を取得し、その像間隔からピントのずれ量を算出して、ピントが合うように撮影レンズの駆動を制御する方式である。   The phase difference detection method obtains two subject images by dividing the light incident on the imaging lens into two by a separator lens, calculates the amount of focus shift from the image interval, and takes the photographing lens so that it is in focus This is a method for controlling the driving of the.

このような位相差検出方式を用いたAF機能を提供する撮像装置には、光電変換を行う画素をライン状に配列したラインセンサを、フォーカスポイントに合わせて離散的に複数配置して構成されるAFセンサが用いられている。   An imaging apparatus that provides an AF function using such a phase difference detection method is configured by disposing a plurality of line sensors in which pixels that perform photoelectric conversion are arranged in a line in a discrete manner in accordance with a focus point. An AF sensor is used.

AFセンサとしては、例えば、2つのラインセンサに対応して2つの出力回路を隣接して配置することで、読み出しを高速化させるようにしたAF用固体撮像装置が提案されている(例えば、特許文献1)。   As an AF sensor, for example, an AF solid-state imaging device has been proposed in which two output circuits are arranged adjacent to each other so as to correspond to two line sensors, thereby speeding up reading (for example, a patent) Reference 1).

特開2006−285013号公報JP 2006-285013 A

ところで、従来、AFセンサを構成するラインセンサには、CCD(Charge Coupled Device)が用いられていた。CCDは、入射光によって単位画素に発生した信号電荷を増幅することなく、電荷転送機能により出力回路に転送する。   Conventionally, a CCD (Charge Coupled Device) has been used as a line sensor constituting an AF sensor. The CCD transfers the signal charge generated in the unit pixel by incident light to the output circuit by the charge transfer function without amplifying the signal charge.

出力回路には、FD(Floating Diffusion)アンプと呼ばれる増幅器が用いられる。一般的に、FDアンプは、ラインセンサ毎に設けられ、CCDにより転送された信号電荷(画素信号)を順次増幅して出力する。   An amplifier called an FD (Floating Diffusion) amplifier is used for the output circuit. In general, the FD amplifier is provided for each line sensor, and sequentially amplifies and outputs signal charges (pixel signals) transferred by the CCD.

このため、CCDを用いたAFセンサにおいて、ペアで用いられる2つのラインセンサに対して同時に信号読み出しを行ったとしても、アナログで行われる信号の保持、転送、および増幅の過程で発生する外乱等により、信号の品質が劣化してしまう。すなわち、CCDを用いたAFセンサでは、耐ノイズ性や、ペアをなすラインセンサの画素信号の同一性(同時性)を維持することは困難であった。   For this reason, in the AF sensor using a CCD, even if signals are simultaneously read out for two line sensors used in pairs, disturbances that occur in the process of holding, transferring, and amplifying signals in analog, etc. As a result, the signal quality deteriorates. That is, with an AF sensor using a CCD, it has been difficult to maintain noise resistance and pixel signal identity (simultaneity) of a pair of line sensors.

また、CCDを用いたAFセンサにおいては、画素信号が順次転送、増幅されるが、その処理速度は、CCDの転送速度やFDアンプの周波数特性によって決まってしまい、処理速度の高速化は容易ではなかった。   In an AF sensor using a CCD, pixel signals are transferred and amplified sequentially, but the processing speed is determined by the CCD transfer speed and the frequency characteristics of the FD amplifier, and it is not easy to increase the processing speed. There wasn't.

これらのことは、結果として、CCDを用いたAFセンサにおけるAF動作の精度低下や、高速に移動する被写体に対するAF機能の追従性低下を招いていた。   As a result, the accuracy of the AF operation in the AF sensor using the CCD is lowered, and the followability of the AF function with respect to a subject moving at high speed is reduced.

本技術は、このような状況に鑑みてなされたものであり、AFセンサにより好適なラインセンサを提供することができるようにするものである。   The present technology has been made in view of such a situation, and makes it possible to provide a suitable line sensor by using an AF sensor.

本技術の一側面の固体撮像装置は、光電変換素子に蓄積された電荷に対応する信号を増幅するアンプを含む複数の画素が一列に配列されてなる複数のラインセンサと、前記ラインセンサの各画素の信号を読み出すための信号線とを備え、複数の前記ラインセンサは、離散的に配置され、前記信号線は、前記ラインセンサを含む回路ブロックが配置されている領域に沿って集束して配線される。   A solid-state imaging device according to one aspect of the present technology includes a plurality of line sensors in which a plurality of pixels including an amplifier that amplifies a signal corresponding to a charge accumulated in a photoelectric conversion element are arranged in a line, and each of the line sensors A plurality of the line sensors are discretely arranged, and the signal lines are converged along a region where a circuit block including the line sensor is arranged. Wired.

集束して配線されている前記信号線同士の間隔は、前記ラインセンサに配列されている前記画素同士の間隔より狭くすることができる。   An interval between the signal lines that are converged and wired can be narrower than an interval between the pixels arranged in the line sensor.

前記固体撮像装置には、複数の前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換可能な並列型のA/D変換器をさらに設け、前記信号線は、複数の前記ラインセンサの各画素と前記A/D変換器とを接続するようにすることができる。   The solid-state imaging device further includes a parallel A / D converter capable of performing A / D conversion on the signals of the pixels of the plurality of line sensors in parallel, and the signal line includes each of the plurality of line sensors. A pixel and the A / D converter can be connected.

前記A/D変換器には、全ての前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換させることができる。   The A / D converter can A / D convert the signals of the pixels of all the line sensors in parallel.

複数の前記ラインセンサはそれぞれ選択的に動作させ、前記信号線には、複数の前記ラインセンサ間で対応する画素毎に、前記A/D変換器側の配線を共有して、複数の前記ラインセンサの各画素と前記A/D変換器とを接続させ、前記A/D変換器には、選択された前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換させることができる。   A plurality of the line sensors are selectively operated, and the signal lines share a wiring on the A / D converter side for each corresponding pixel among the plurality of line sensors, and a plurality of the line sensors are shared. Each pixel of the sensor and the A / D converter can be connected, and the A / D converter can A / D convert the signal of each pixel of the selected line sensor in parallel.

前記固体撮像装置には、前記信号線において、他のラインセンサの前記画素と供給しない配線部分に、前記ラインセンサ毎に各画素と前記A/D変換器との接続をオン/オフするスイッチを設け、前記A/D変換器には、前記スイッチがオンされた前記信号線に対応する前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換させることができる。   In the solid-state imaging device, a switch for turning on / off the connection between each pixel and the A / D converter for each line sensor is provided in a wiring portion of the signal line that is not supplied with the pixel of another line sensor. The A / D converter can perform A / D conversion in parallel on the signals of the pixels of the line sensor corresponding to the signal line on which the switch is turned on.

前記固体撮像装置には、前記A/D変換器により出力されたデジタル信号を保持するラインメモリをさらに設けることができる。   The solid-state imaging device may further include a line memory that holds the digital signal output from the A / D converter.

前記固体撮像装置には、前記A/D変換器により出力されたデジタル信号に対して所定の信号処理を施す信号処理回路をさらに設けることができる。   The solid-state imaging device may further include a signal processing circuit that performs predetermined signal processing on the digital signal output from the A / D converter.

前記信号線が集束して配線される領域の近傍に、電源電位または接地電位に接続されたシールド線がさらに配線されるようにすることができる。   A shield line connected to a power supply potential or a ground potential can be further wired near a region where the signal lines are converged and wired.

複数の前記ラインセンサの少なくとも一部が、並列して隣接して配置されている場合、一方の前記ラインセンサの各画素の信号を読み出す前記信号線は、他方の前記ラインセンサを跨って配線されるようにすることができる。   When at least some of the plurality of line sensors are arranged adjacent to each other in parallel, the signal line for reading the signal of each pixel of one of the line sensors is wired across the other line sensor. You can make it.

複数の前記ラインセンサにおいて、一方の前記ラインセンサは他方の前記ラインセンサと対をなし、対をなす前記ラインセンサは、それぞれに配列されている画素列が、所定の方向に一列に配列されるように配置されるようにすることができる。   In the plurality of line sensors, one of the line sensors is paired with the other of the line sensors, and each of the paired line sensors has pixel rows arranged in a row in a predetermined direction. Can be arranged as follows.

前記ラインセンサは、CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)イメージセンサとすることができる。   The line sensor can be a complementary metal-oxide semiconductor (CMOS) image sensor.

本技術の一側面の電子機器は、光電変換素子に蓄積された電荷に対応する信号を増幅するアンプを含む複数の画素が一列に配列されてなる複数のラインセンサと、前記ラインセンサの各画素の信号を読み出すための信号線とを備え、複数の前記ラインセンサは、離散的に配置され、前記信号線は、前記ラインセンサを含む回路ブロックが配置されている領域に沿って集束して配線される固体撮像装置を備える。   An electronic apparatus according to an aspect of the present technology includes a plurality of line sensors in which a plurality of pixels including an amplifier that amplifies a signal corresponding to a charge accumulated in a photoelectric conversion element are arranged in a line, and each pixel of the line sensor A plurality of the line sensors are discretely arranged, and the signal lines are converged and wired along a region where the circuit block including the line sensor is arranged. A solid-state imaging device.

本技術の一側面の画素読み出し方法は、光電変換素子に蓄積された電荷に対応する信号を増幅するアンプを含む複数の画素が一列に配列されてなる複数のラインセンサと、前記ラインセンサの各画素の信号を読み出すための信号線と、複数の前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換可能な並列型のA/D変換器と前記信号線の前記ラインセンサ側に、前記ラインセンサ毎に各画素と前記A/D変換器との接続をオン/オフするスイッチを備え、複数の前記ラインセンサは、離散的に配置され、前記信号線は、前記ラインセンサを含む回路ブロックが配置されている領域に沿って集束して配線され、複数の前記ラインセンサ間で対応する画素毎に、前記A/D変換器側の配線を共有して、複数の前記ラインセンサの各画素と前記A/D変換器とを接続する固体撮像装置の画素読み出し方法であって、前記固体撮像装置が、前記スイッチがオンされた前記信号線に対応する前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換するステップを含む。   A pixel readout method according to one aspect of the present technology includes a plurality of line sensors in which a plurality of pixels including an amplifier that amplifies a signal corresponding to a charge accumulated in a photoelectric conversion element are arranged in a line, and each of the line sensors. A signal line for reading out a pixel signal, a parallel A / D converter capable of performing A / D conversion on the signal of each pixel of the plurality of line sensors in parallel, and the signal line on the line sensor side, Each line sensor includes a switch for turning on / off connection between each pixel and the A / D converter, the plurality of line sensors are discretely arranged, and the signal line includes a circuit block including the line sensor. Are arranged and converged along a region where the plurality of line sensors are arranged, and for each corresponding pixel among the plurality of line sensors, the wiring on the A / D converter side is shared, and each pixel of the plurality of line sensors is shared. And the A / D converter A pixel readout method of a solid-state imaging device, the solid-state imaging device, comprising the steps of A / D conversion signals of the pixels of the line sensors corresponding to the signal line in which the switch is turned on in parallel.

本技術の一側面においては、複数のラインセンサが離散的に配置され、信号線が、ラインセンサを含む回路ブロックが配置されている領域に沿って集束して配線される。   In one aspect of the present technology, a plurality of line sensors are discretely arranged, and signal lines are converged and wired along a region where a circuit block including the line sensors is arranged.

本技術の一側面によれば、AFセンサにより好適なラインセンサを提供することが可能となる。   According to one aspect of the present technology, it is possible to provide a line sensor that is more suitable for the AF sensor.

従来のAFセンサの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the conventional AF sensor. 本技術を適用した固体撮像装置の第1の実施の形態の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of 1st Embodiment of the solid-state imaging device to which this technique is applied. 単位画素の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of a unit pixel. 単位画素の具体的な構成例を示す図である。It is a figure which shows the specific structural example of a unit pixel. 本技術を適用した固体撮像装置の第2の実施の形態の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of 2nd Embodiment of the solid-state imaging device to which this technique is applied. 本技術を適用した固体撮像装置の第3の実施の形態の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of 3rd Embodiment of the solid-state imaging device to which this technique is applied. 本技術を適用した固体撮像装置の第4の実施の形態の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of 4th Embodiment of the solid-state imaging device to which this technique is applied. ラインセンサの読み出しの例について説明する図である。It is a figure explaining the example of reading of a line sensor. ラインセンサの読み出しの他の例について説明する図である。It is a figure explaining other examples of reading of a line sensor. 本技術を適用した固体撮像装置の第5の実施の形態の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of 5th Embodiment of the solid-state imaging device to which this technique is applied. スイッチの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of a switch. ラインセンサの読み出しの例について説明する図である。It is a figure explaining the example of reading of a line sensor. 本技術を適用した固体撮像装置の第6の実施の形態の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of 6th Embodiment of the solid-state imaging device to which this technique is applied. 本技術を適用した固体撮像装置の第7の実施の形態の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of 7th Embodiment of the solid-state imaging device to which this technique is applied. 本技術を適用した電子機器の一実施の形態の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of one Embodiment of the electronic device to which this technique is applied.

まず、本技術の実施の形態について説明する前に、従来の構成について説明する。   First, prior to describing embodiments of the present technology, a conventional configuration will be described.

[従来のAFセンサの構成例]
図1は、CCDを用いた従来のAF(Auto Focus)センサの構成例を示す図である。
[Example of conventional AF sensor configuration]
FIG. 1 is a diagram showing a configuration example of a conventional AF (Auto Focus) sensor using a CCD.

図1のAFセンサは、4つのラインセンサ11、出力切替スイッチ12、および出力回路13から構成される。   The AF sensor shown in FIG. 1 includes four line sensors 11, an output changeover switch 12, and an output circuit 13.

図1のAFセンサにおいては、水平方向に並ぶ2つのラインセンサ11がそれぞれ対(ペア)をなし、垂直方向に並ぶ2つのラインセンサ11がそれぞれペアをなしている。   In the AF sensor of FIG. 1, two line sensors 11 arranged in the horizontal direction form a pair, and two line sensors 11 arranged in the vertical direction form a pair.

各ラインセンサ11においては、光電変換素子であるフォトダイオードからなる単位画素21が一列に(ライン状に)配列されており、単位画素21それぞれは、入射光を信号電荷に変換し、CCDシフトレジスタ22に出力する。CCDシフトレジスタ22は、単位画素21それぞれから出力された信号電荷を、FD(Floating Diffusion)アンプ23に順次転送する。FDアンプ23は、ラインセンサ11毎に設けられ、CCDシフトレジスタ22から転送された信号電荷(画素信号)を順次増幅して、出力切替スイッチ12に出力する。   In each line sensor 11, unit pixels 21 made of photodiodes that are photoelectric conversion elements are arranged in a line (in a line), and each unit pixel 21 converts incident light into a signal charge, and a CCD shift register. 22 to output. The CCD shift register 22 sequentially transfers signal charges output from each unit pixel 21 to an FD (Floating Diffusion) amplifier 23. The FD amplifier 23 is provided for each line sensor 11, sequentially amplifies signal charges (pixel signals) transferred from the CCD shift register 22, and outputs them to the output changeover switch 12.

出力切替スイッチ12は、各ラインセンサ11からの出力を所定の順番で選択し、出力回路13に供給する。   The output changeover switch 12 selects the output from each line sensor 11 in a predetermined order and supplies it to the output circuit 13.

出力回路13は、少なくともCDS(Correlated Double Sampling)回路を含むように構成されており、相関二重サンプリングを行う。これにより、各単位画素21からの出力に含まれるノイズ成分が除去される。   The output circuit 13 is configured to include at least a CDS (Correlated Double Sampling) circuit, and performs correlated double sampling. Thereby, the noise component contained in the output from each unit pixel 21 is removed.

AFセンサにおいては、ペアをなすラインセンサ間の画素信号の同時性が重要とされるが、図1に示される構成では、ペアをなす2つのラインセンサ11から画素信号が読み出される際に、CCDシフトレジスタ22による転送中に外乱により重畳されたノイズ成分は、ペアをなすラインセンサ11間で異なるため、CDS回路でも除去されない。すなわち、図1のAFセンサにおいては、ペアをなすラインセンサ間の画素信号の同時性を保つことができなかった。   In the AF sensor, the simultaneity of the pixel signals between the paired line sensors is important. However, in the configuration shown in FIG. 1, when the pixel signals are read from the two line sensors 11 forming the pair, The noise component superimposed due to disturbance during the transfer by the shift register 22 differs between the paired line sensors 11 and is therefore not removed by the CDS circuit. That is, in the AF sensor of FIG. 1, the pixel signal simultaneity between the paired line sensors could not be maintained.

一方、特許文献1においては、2つのラインセンサに対応して2つの出力回路を隣接して配置し、2つのラインセンサから並列に画素信号を読み出すことが開示されている。これにより、AFの高速化を図ることがなされているが、ラインセンサからの画素信号は、CCDで構成された垂直シフトレジスタによって順次転送されるため、AFの処理速度は、CCDの転送速度や出力回路の動作速度によって決まってしまい、AFの処理速度のさらなる高速化の妨げとなっていた。   On the other hand, Patent Document 1 discloses that two output circuits are arranged adjacent to each other corresponding to two line sensors and pixel signals are read out in parallel from the two line sensors. As a result, the AF speed has been increased, but the pixel signal from the line sensor is sequentially transferred by a vertical shift register composed of a CCD, so the AF processing speed is the CCD transfer speed or This was determined by the operating speed of the output circuit, which hindered further increases in AF processing speed.

また、CCDを用いたAFセンサは、その動作に10Vを超える電源電圧が必要とされる上に、複数の周辺回路のための複数の電源も必要とされるため、消費電力が大きくなっていた。さらに、CCDを用いたAFセンサは、その製造に専用のプロセスが必要とされたり、複数の周辺回路を組み合わせて動作させる必要があったりと、非常に複雑なシステムとなっていた。   In addition, an AF sensor using a CCD requires a power supply voltage exceeding 10 V for its operation, and also requires a plurality of power supplies for a plurality of peripheral circuits, resulting in an increase in power consumption. . Furthermore, an AF sensor using a CCD requires a dedicated process for its manufacture, or requires a combination of a plurality of peripheral circuits to be operated, resulting in a very complicated system.

このように、従来のAFセンサにおいては、ラインセンサの画素信号の耐ノイズ性および同時性の確保と、読み出しの高速化とを実現することが困難であった。その原因として、以下の2点が挙げられる。
1.ラインセンサ内の全ての画素の画素信号を同時に読み出すことができない点
2.信号読み出しが、耐ノイズ性の低いアナログ信号のままで行われている点
As described above, in the conventional AF sensor, it is difficult to ensure the noise resistance and simultaneity of the pixel signal of the line sensor and to increase the reading speed. The following two points are mentioned as the cause.
1. 1. The pixel signals of all the pixels in the line sensor cannot be read out simultaneously. Signal readout is performed with analog signals with low noise resistance

そこで、以下においては、上述した2点を解消し、ラインセンサの画素信号の耐ノイズ性および同時性の確保と、読み出しの高速化とを実現するAFセンサの構成について説明する。   Therefore, in the following, the configuration of the AF sensor that eliminates the above-described two points, and ensures the noise resistance and simultaneity of the pixel signals of the line sensor and speeds up reading will be described.

[本技術を適用した固体撮像装置の第1の実施の形態]
図2は、本技術を適用した固体撮像装置の第1の実施の形態の構成例を示す図である。
[First embodiment of solid-state imaging device to which the present technology is applied]
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example of the first embodiment of the solid-state imaging device to which the present technology is applied.

図2の固体撮像装置31は、5つのラインセンサ41、画素駆動部42、画素信号線43、カラムADC(Analog Digital Converter)44、およびラインメモリ45から構成される。   The solid-state imaging device 31 of FIG. 2 includes five line sensors 41, a pixel driving unit 42, a pixel signal line 43, a column ADC (Analog Digital Converter) 44, and a line memory 45.

各ラインセンサ41は、固体撮像装置31を構成するチップ上で、離散的に、すなわち、ある規則性をもちながら分散して配置されており、それぞれ同一数の単位画素51を備えている。ラインセンサ41においては、所定数の単位画素51が一列に配列されている。ラインセンサ41は、CMOSイメージセンサ(Complementary Metal Oxide Semiconductor)として構成される。   Each line sensor 41 is discretely arranged on the chip constituting the solid-state imaging device 31, that is, distributed in a certain regularity, and includes the same number of unit pixels 51. In the line sensor 41, a predetermined number of unit pixels 51 are arranged in a line. The line sensor 41 is configured as a CMOS image sensor (Complementary Metal Oxide Semiconductor).

ここで、図3および図4を参照して、単位画素51の構成について説明する。図3は、単位画素51の構成を示す概略図であり、図4は、単位画素51の構成例を示す図である。   Here, the configuration of the unit pixel 51 will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a configuration of the unit pixel 51, and FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration example of the unit pixel 51.

まず、図3に示されるように、単位画素51は、少なくとも、光電変換素子61、アンプ65、およびスイッチ66から構成される。単位画素51において、光電変換素子61は、入射光量に応じて信号電荷を蓄積し、アンプ65は、その信号電荷に応じた画素信号を増幅する。スイッチ66は、画素駆動部42からの駆動信号に応じて、増幅された画素信号を出力する。   First, as shown in FIG. 3, the unit pixel 51 includes at least a photoelectric conversion element 61, an amplifier 65, and a switch 66. In the unit pixel 51, the photoelectric conversion element 61 accumulates signal charges according to the amount of incident light, and the amplifier 65 amplifies pixel signals according to the signal charges. The switch 66 outputs an amplified pixel signal in accordance with the drive signal from the pixel drive unit 42.

図4に示される単位画素51は、フォトダイオード(PD)61、転送ゲート62、フローティングディフュージョン(FD)63、リセットトランジスタ64、増幅トランジスタ65、および選択トランジスタ66から構成される。なお、図4におけるフォトダイオード61、増幅トランジスタ65、および選択トランジスタ66は、図3における光電変換素子61、アンプ65、およびスイッチ66にそれぞれ対応する。   The unit pixel 51 shown in FIG. 4 includes a photodiode (PD) 61, a transfer gate 62, a floating diffusion (FD) 63, a reset transistor 64, an amplification transistor 65, and a selection transistor 66. The photodiode 61, the amplification transistor 65, and the selection transistor 66 in FIG. 4 correspond to the photoelectric conversion element 61, the amplifier 65, and the switch 66 in FIG.

フォトダイオード61のアノードは接地されており、フォトダイオード61のカソードは、転送ゲート62のソースに接続されている。転送ゲート62のドレインは、それぞれリセットトランジスタ64のドレインおよび増幅トランジスタ65のゲートに接続されており、この接続点が、FD63を構成する。   The anode of the photodiode 61 is grounded, and the cathode of the photodiode 61 is connected to the source of the transfer gate 62. The drain of the transfer gate 62 is connected to the drain of the reset transistor 64 and the gate of the amplification transistor 65, respectively, and this connection point constitutes the FD 63.

リセットトランジスタ64のソースは、所定の電源に接続されており、増幅トランジスタ65のソースもまた、所定の電源に接続されている。増幅トランジスタ65のドレインは、選択トランジスタ66のソースに接続されており、選択トランジスタ66のドレインは、画素信号線43に接続されている。   The source of the reset transistor 64 is connected to a predetermined power source, and the source of the amplification transistor 65 is also connected to a predetermined power source. The drain of the amplification transistor 65 is connected to the source of the selection transistor 66, and the drain of the selection transistor 66 is connected to the pixel signal line 43.

転送ゲート62のゲート、リセットトランジスタ64のゲート、および選択トランジスタ66のゲートは、図示せぬ制御線を介して、画素駆動部42にそれぞれ接続されており、駆動信号としてのパルスがそれぞれ供給される。   The gate of the transfer gate 62, the gate of the reset transistor 64, and the gate of the selection transistor 66 are connected to the pixel drive unit 42 via a control line (not shown), and a pulse as a drive signal is supplied thereto. .

フォトダイオード61は、入射光を光電変換し、その光量に応じた電荷を生成し、蓄積する。   The photodiode 61 photoelectrically converts incident light, and generates and accumulates charges corresponding to the amount of light.

転送ゲート62は、画素駆動部42から供給される駆動信号TRGに従って、フォトダイオード61からFD63への電荷の転送をオン/オフする。例えば、転送ゲート62は、H(High)レベルの駆動信号TRGが供給されると、フォトダイオード61に蓄積されている電荷をFD63に転送し、L(Low)レベルの駆動信号TRGが供給されると、電荷の転送を停止する。なお、転送ゲート62が、FD63への電荷の転送を停止している間、フォトダイオード61が光電変換した電荷は、フォトダイオード61に蓄積される。   The transfer gate 62 turns on / off the transfer of charges from the photodiode 61 to the FD 63 in accordance with the drive signal TRG supplied from the pixel drive unit 42. For example, when an H (High) level drive signal TRG is supplied to the transfer gate 62, the charge accumulated in the photodiode 61 is transferred to the FD 63 and an L (Low) level drive signal TRG is supplied. Then, the charge transfer is stopped. Note that the charge photoelectrically converted by the photodiode 61 is stored in the photodiode 61 while the transfer gate 62 stops transferring the charge to the FD 63.

FD63は、フォトダイオード61から転送ゲート62を介して転送されてくる電荷を蓄積し、電圧に変換する。なお、FD63は、露光期間中にフォトダイオード61に蓄積された電荷を保持する電荷保持部として機能する。   The FD 63 accumulates the charge transferred from the photodiode 61 via the transfer gate 62 and converts it into a voltage. Note that the FD 63 functions as a charge holding unit that holds charges accumulated in the photodiode 61 during the exposure period.

リセットトランジスタ64は、画素駆動部42から供給される駆動信号RSTに従って、FD63に蓄積されている電荷の排出をオン/オフする。例えば、リセットトランジスタ64は、Hレベルの駆動信号RSTが供給されると、FD63を電源電圧にクランプし、FD63に蓄積されている電荷を排出(リセット)する。また、リセットトランジスタ64は、Lレベルの駆動信号RSTが供給されると、FD63を電気的に浮遊状態にする。   The reset transistor 64 turns on / off the discharge of the charge accumulated in the FD 63 according to the drive signal RST supplied from the pixel drive unit 42. For example, when the H level drive signal RST is supplied, the reset transistor 64 clamps the FD 63 to the power supply voltage and discharges (resets) the electric charge accumulated in the FD 63. The reset transistor 64 causes the FD 63 to be in an electrically floating state when an L level drive signal RST is supplied.

増幅トランジスタ65は、FD63に蓄積されている電荷に応じた電圧を増幅する。増幅トランジスタ65により増幅された電圧(電圧信号)は、選択トランジスタ66を介して画素信号線43に出力される。   The amplification transistor 65 amplifies a voltage corresponding to the electric charge accumulated in the FD 63. The voltage (voltage signal) amplified by the amplification transistor 65 is output to the pixel signal line 43 via the selection transistor 66.

選択トランジスタ66は、画素駆動部42から供給される駆動信号SELに従って、増幅トランジスタ65からの電圧信号の画素信号線43への出力をオン/オフする。例えば、選択トランジスタ66は、Hレベルの駆動信号SELが供給されると、電圧信号を画素信号線43に出力し、Lレベルの駆動信号SELが供給されると、電圧信号の出力を停止する。   The selection transistor 66 turns on / off the output of the voltage signal from the amplification transistor 65 to the pixel signal line 43 in accordance with the drive signal SEL supplied from the pixel drive unit 42. For example, the selection transistor 66 outputs a voltage signal to the pixel signal line 43 when an H level drive signal SEL is supplied, and stops outputting the voltage signal when an L level drive signal SEL is supplied.

このように、単位画素51は、画素駆動部42から供給される駆動信号TRG、駆動信号RST、および駆動信号SELに従って駆動する。   As described above, the unit pixel 51 is driven in accordance with the drive signal TRG, the drive signal RST, and the drive signal SEL supplied from the pixel drive unit 42.

なお、単位画素51は、図3に示された構成に限らず、他の構成をとることもできる。   The unit pixel 51 is not limited to the configuration shown in FIG.

また、以下では、単位画素51を、単に画素51ともいう。   Hereinafter, the unit pixel 51 is also simply referred to as a pixel 51.

図2の説明に戻り、画素駆動部42は、ラインセンサ41の各画素51に対して駆動信号を供給することで、画素51を駆動する。   Returning to the description of FIG. 2, the pixel driving unit 42 drives the pixel 51 by supplying a driving signal to each pixel 51 of the line sensor 41.

画素信号線43は、各ラインセンサ41の各画素51の信号を読み出すための信号線であり、各画素51とカラムADC44とを接続している。   The pixel signal line 43 is a signal line for reading the signal of each pixel 51 of each line sensor 41 and connects each pixel 51 and the column ADC 44.

図2に示されるように、画素信号線43は、ラインセンサ41を含む回路ブロック、すなわち、ラインセンサ41、カラムADC44、およびラインメモリ45が配置されている領域に沿って集束して配線されている。集束して配線されている画素信号線43同士の間隔(ピッチ)は、ラインセンサ41において配列されている画素51同士の間隔(ピッチ)より狭い。   As shown in FIG. 2, the pixel signal lines 43 are converged and wired along a circuit block including the line sensor 41, that is, a region where the line sensor 41, the column ADC 44, and the line memory 45 are arranged. Yes. The interval (pitch) between the pixel signal lines 43 arranged in a concentrated manner is narrower than the interval (pitch) between the pixels 51 arranged in the line sensor 41.

カラムADC44は、列並列型のカラムAD変換器であり、各ラインセンサ41の各画素51の信号に対して、並列にCDS処理を行うとともに、AD変換を行い、画素信号をデジタル信号としてラインメモリ45に出力(供給)する。   The column ADC 44 is a column parallel type column AD converter, and performs a CDS process on the signal of each pixel 51 of each line sensor 41 in parallel and performs an AD conversion to convert the pixel signal into a digital signal as a line memory. 45 (output).

ラインメモリ45は、カラムADC44から供給されたデジタル信号を保持し、必要に応じて、保持しているデジタル信号を適宜出力する。   The line memory 45 holds the digital signal supplied from the column ADC 44, and appropriately outputs the held digital signal as necessary.

以上の構成によれば、ラインセンサにおいて、画素毎にアンプを備えたCMOSイメージセンサを用いるとともに、その画素出力が、カラムADCにおいて並列にAD変換されるようになったので、ラインセンサ内の全ての画素の画素信号を同時に読み出すことができるとともに、信号読み出しが、耐ノイズ性の高いデジタル信号で行われるようになった。これにより、ラインセンサの画素信号の耐ノイズ性および同時性の確保と、読み出しの高速化の妨げとなっていた原因を解消することができ、AFセンサにより好適な固体撮像装置を提供することが可能となる。   According to the above configuration, the line sensor uses a CMOS image sensor having an amplifier for each pixel, and the pixel output is AD-converted in parallel in the column ADC. The pixel signals of these pixels can be read out simultaneously, and the signal readout is performed with a digital signal having high noise resistance. As a result, it is possible to secure the noise resistance and simultaneity of the pixel signals of the line sensor and eliminate the cause that hinders the speeding up of reading, and to provide a solid-state imaging device more suitable for the AF sensor. It becomes possible.

なお、図2の構成において、ラインセンサ41の各画素51についての画素信号線43は、ラインセンサ41における画素51の数や、チップ上におけるラインセンサ41の数に応じて増加する。また、ラインセンサ41は、チップ上に離散的に配置されるため、その他の回路ブロック(カラムADC44やラインメモリ45等)を配置する箇所には大きな制約がある。   In the configuration of FIG. 2, the pixel signal line 43 for each pixel 51 of the line sensor 41 increases according to the number of pixels 51 in the line sensor 41 and the number of line sensors 41 on the chip. Further, since the line sensor 41 is discretely arranged on the chip, there is a great restriction on the location where other circuit blocks (column ADC 44, line memory 45, etc.) are arranged.

そこで、以上においては、各画素51についての画素信号線43を、ラインセンサ41やその他の回路ブロックが配置される領域に沿って集束して配線するようにしたので、カラムADC44やラインメモリ45等の回路ブロックを配置する領域を確保しつつ、全ての画素51とカラムADC44とを接続することができ、チップサイズの縮小を図ることが可能となる。   Therefore, in the above, the pixel signal lines 43 for the respective pixels 51 are converged and wired along the region where the line sensor 41 and other circuit blocks are arranged, so that the column ADC 44, the line memory 45, etc. All the pixels 51 and the column ADC 44 can be connected while securing an area for arranging the circuit blocks, and the chip size can be reduced.

また、従来のCCDを用いたAFセンサは、その動作に高い電源電圧が必要とされたが、図2の構成によれば、CMOSを用いるようにしたので、低い電源電圧での動作が可能となり、結果として、消費電力を低減させることが可能となる。   In addition, the conventional AF sensor using a CCD requires a high power supply voltage for its operation. However, according to the configuration of FIG. 2, the CMOS is used so that it can be operated with a low power supply voltage. As a result, power consumption can be reduced.

さらに、図2の構成によれば、全てのラインセンサ41に対して並列に読み出しを行うことができるので、AFセンサとしては、より多くのフォーカスポイントに対して高精度のフォーカスをとることが可能となる。   Further, according to the configuration of FIG. 2, since reading can be performed in parallel with respect to all the line sensors 41, the AF sensor can focus on more focus points with high accuracy. It becomes.

ところで、図2に示されるように、画素信号線43同士を十分狭い間隔で配線する場合、近接している距離が長いほど、画素信号は、画素信号線43間の寄生容量によるクロストークの影響を受けやすくなる。また、チップ上の広い範囲で画素信号線43を配線する場合、カラムADC44や他の回路ブロックの信号線と並列または交差することが考えられる。   By the way, as shown in FIG. 2, when the pixel signal lines 43 are wired with a sufficiently narrow interval, the longer the distance between the pixel signal lines 43, the more the pixel signal is affected by crosstalk due to the parasitic capacitance between the pixel signal lines 43. It becomes easy to receive. Further, when the pixel signal lines 43 are wired in a wide range on the chip, it is conceivable that the signal lines of the column ADC 44 and other circuit blocks are parallel or crossed.

このような場合、配線レイアウトにおいて、画素信号線43の近傍、具体的には、画素信号線43同士の間や、画素信号線43が配線されている配線層の上または下の配線層に、電源電位または接地電位に接続されたシールド線を配線するようにしてもよい。これにより、画素信号線43間の寄生容量による画素信号に対するクロストークの影響を抑えることが可能となる。   In such a case, in the wiring layout, in the vicinity of the pixel signal lines 43, specifically, between the pixel signal lines 43 or above or below the wiring layer where the pixel signal lines 43 are wired, A shield line connected to the power supply potential or the ground potential may be wired. As a result, the influence of crosstalk on the pixel signal due to the parasitic capacitance between the pixel signal lines 43 can be suppressed.

なお、画素信号線43の近傍にシールド線を配線することで、画素信号線43それぞれとシールド線との間の寄生容量が発生してしまう。これに対しては、寄生容量が、画素信号線43が配線される距離や画素信号線43に要求される静定時間(セトリング時間)を考慮して適切な容量値となるように、画素信号線43とシールド線との間隔や、各画素51に設けられているアンプの駆動能力を調整すればよい。   In addition, by wiring a shield line in the vicinity of the pixel signal line 43, a parasitic capacitance between each pixel signal line 43 and the shield line is generated. On the other hand, the pixel signal is set so that the parasitic capacitance has an appropriate capacitance value in consideration of the distance at which the pixel signal line 43 is wired and the settling time (settling time) required for the pixel signal line 43. The distance between the line 43 and the shield line and the driving capability of the amplifier provided in each pixel 51 may be adjusted.

[本技術を適用した固体撮像装置の第2の実施の形態]
図5は、本技術を適用した固体撮像装置の第2の実施の形態の構成例を示す図である。
[Second Embodiment of Solid-State Imaging Device to which Present Technology is Applied]
FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration example of the second embodiment of the solid-state imaging device to which the present technology is applied.

図5の固体撮像装置31Aは、6つのラインセンサ41、画素駆動部42、画素信号線43、カラムADC44、およびラインメモリ45から構成される。なお、図5において、図2と同一の機能を有する部分には同一符号を付してあり、その説明は適宜省略する。   The solid-state imaging device 31 </ b> A of FIG. 5 includes six line sensors 41, a pixel driving unit 42, a pixel signal line 43, a column ADC 44, and a line memory 45. 5, parts having the same functions as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.

図5の固体撮像装置31Aにおいては、ラインセンサ41が2つずつ、並列して隣接して配置されている。さらに、図5の固体撮像装置31Aにおいて、並列して隣接して配置されている2つのラインセンサ41のうち、一方のラインセンサ41(カラムADC44から遠い方のラインセンサ41)の各画素51の信号を読み出すための画素信号線43は、他方のラインセンサ41(カラムADC44に近い方のラインセンサ41)を跨って配線されている。   In the solid-state imaging device 31A of FIG. 5, two line sensors 41 are arranged adjacent to each other in parallel. Furthermore, in the solid-state imaging device 31A of FIG. 5, of the two line sensors 41 arranged adjacently in parallel, each pixel 51 of one line sensor 41 (the line sensor 41 far from the column ADC 44). The pixel signal line 43 for reading a signal is wired across the other line sensor 41 (the line sensor 41 closer to the column ADC 44).

以上の構成によれば、図2の固体撮像装置31と同様の作用、効果が得られる上に、ラインセンサ41が並列して隣接して配置されている場合であっても、配線領域を増やすことなく、チップサイズの縮小を図ることが可能となる。   According to the above configuration, the same operation and effect as the solid-state imaging device 31 of FIG. 2 can be obtained, and the wiring area can be increased even when the line sensors 41 are arranged adjacently in parallel. Therefore, the chip size can be reduced.

[本技術を適用した固体撮像装置の第3の実施の形態]
図6は、本技術を適用した固体撮像装置の第3の実施の形態の構成例を示す図である。
[Third embodiment of a solid-state imaging device to which the present technology is applied]
FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration example of the third embodiment of the solid-state imaging device to which the present technology is applied.

図6の固体撮像装置31Bは、8つのラインセンサ41−1乃至41−8、画素駆動部42−1乃至42−3、画素信号線43−1,43−2、カラムADC44−1,44−2、およびラインメモリ45−1,45−2から構成される。なお、図6において、図2と同一の機能を有する部分には同一符号を付してあり、その説明は適宜省略する。また、図6においては、それぞれの部分の符号に対して、便宜上、枝番号を付してあり、適宜、枝番号を付して説明する。   The solid-state imaging device 31B of FIG. 6 includes eight line sensors 41-1 to 41-8, pixel driving units 42-1 to 42-3, pixel signal lines 43-1 and 43-2, and column ADCs 44-1 and 44-. 2 and line memories 45-1 and 45-2. 6, parts having the same functions as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate. In FIG. 6, branch numbers are assigned to the reference numerals of the respective parts for convenience, and description will be made by appropriately adding branch numbers.

図6の固体撮像装置31Bにおいて、ラインセンサ41−1,41−3,41−5,41−7は、ラインセンサ41−2,41−4,41−6,41−8とそれぞれ対(ペア)をなしている。ペアをなすラインセンサ41は、離散的かつ対称的に、具体的には、画素駆動部42を中心にして、画素51の画素列が、水平方向または垂直方向に一列に配列されるように配置されている。   In the solid-state imaging device 31B of FIG. 6, the line sensors 41-1, 41-3, 41-5, and 41-7 are respectively paired with the line sensors 41-2, 41-4, 41-6, and 41-8. ). The paired line sensors 41 are arranged discretely and symmetrically, specifically, so that the pixel columns of the pixels 51 are arranged in a line in the horizontal direction or the vertical direction around the pixel driving unit 42. Has been.

ここで、ペアをなすラインセンサ41のうちの一方(ラインセンサ41−1,41−3,41−5,41−7)を主列のラインセンサ41、他方(ラインセンサ41−2,41−4,41−6,41−8)を副列のラインセンサ41と呼ぶこととすると、主列のラインセンサ41の各画素51の信号は、画素信号線43−1を介してカラムADC44−1に出力され、副列のラインセンサ41の各画素51の信号は、画素信号線43−2を介してカラムADC44−2に出力されるようになされている。   Here, one of the paired line sensors 41 (line sensors 41-1, 41-3, 41-5, and 41-7) is the main line sensor 41, and the other (line sensors 41-2, 41-). 4, 41-6, 41-8) are referred to as sub-row line sensors 41, the signals of the pixels 51 of the main-row line sensors 41 are transmitted to the column ADC 44-1 via the pixel signal lines 43-1. The signal of each pixel 51 of the sub-line line sensor 41 is output to the column ADC 44-2 via the pixel signal line 43-2.

また、カラムADC44−1から出力されるデジタル信号は、ラインメモリ45−1に供給され、カラムADC44−2から出力されるデジタル信号は、ラインメモリ45−2に供給されるようになされている。   The digital signal output from the column ADC 44-1 is supplied to the line memory 45-1, and the digital signal output from the column ADC 44-2 is supplied to the line memory 45-2.

図6の固体撮像装置31Bにおいても、画素信号線43(43−1,43−2)は、ラインセンサ41を含む回路ブロック、すなわち、ラインセンサ41、カラムADC44、およびラインメモリ45が配置されている領域に沿って集束して配線されている。集束して配線されている画素信号線43同士の間隔(ピッチ)は、ラインセンサ41において配列されている画素51同士の間隔(ピッチ)より狭い。   Also in the solid-state imaging device 31B of FIG. 6, the pixel signal line 43 (43-1, 43-2) includes a circuit block including the line sensor 41, that is, the line sensor 41, the column ADC 44, and the line memory 45. Concentrated and wired along the area. The interval (pitch) between the pixel signal lines 43 arranged in a concentrated manner is narrower than the interval (pitch) between the pixels 51 arranged in the line sensor 41.

なお、図6の固体撮像装置31Bにおいて、カラムADC44−1,44−2は、図示せぬ制御部からのタイミング制御信号により同時に動作可能とされる。これにより、同時性を確保しつつ、全てのラインセンサ41の各画素51の信号を、並列にAD変換することができる。   In the solid-state imaging device 31B of FIG. 6, the column ADCs 44-1 and 44-2 can be operated simultaneously by a timing control signal from a control unit (not shown). Thereby, it is possible to AD convert the signals of the pixels 51 of all the line sensors 41 in parallel while ensuring simultaneity.

以上の構成においても、図2の固体撮像装置31と同様の作用、効果が得られる。   Also in the above configuration, the same operation and effect as the solid-state imaging device 31 of FIG.

[本技術を適用した固体撮像装置の第4の実施の形態]
図7は、本技術を適用した固体撮像装置の第4の実施の形態の構成例を示す図である。
[Fourth embodiment of solid-state imaging device to which the present technology is applied]
FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration example of the fourth embodiment of the solid-state imaging device to which the present technology is applied.

図7の固体撮像装置31Cは、16つのラインセンサ41−1A,41−1B,・・・,41−8A,41−8B、画素駆動部42−1乃至42−3、画素信号線43−1,43−2、カラムADC44−1,44−2、およびラインメモリ45−1,45−2から構成される。なお、図7において、図6と対応する部分には同一符号を付してあり、その説明は適宜省略する。   The solid-state imaging device 31C of FIG. 7 includes 16 line sensors 41-1A, 41-1B,..., 41-8A, 41-8B, pixel driving units 42-1 to 42-3, and a pixel signal line 43-1. 43-2, column ADCs 44-1, 44-2, and line memories 45-1, 45-2. In FIG. 7, parts corresponding to those in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.

図7の固体撮像装置31Cにおいては、ラインセンサ41−1A,41−1B,41−3A,41−3B,41−5A,41−5B,41−7A,41−7Bは、ラインセンサ41−2A,41−2B,41−4A,41−4B,41−6A,41−6B,41−8A,41−8Bとそれぞれ対(ペア)をなしている。ペアをなすラインセンサ41は、離散的かつ対称的に、具体的には、画素駆動部42を中心にして、画素51の画素列が、水平方向または垂直方向に一列に配列されるように配置されている。   In the solid-state imaging device 31C of FIG. 7, the line sensors 41-1A, 41-1B, 41-3A, 41-3B, 41-5A, 41-5B, 41-7A, and 41-7B are line sensors 41-2A. , 41-2B, 41-4A, 41-4B, 41-6A, 41-6B, 41-8A, and 41-8B, respectively. The paired line sensors 41 are arranged discretely and symmetrically, specifically, so that the pixel columns of the pixels 51 are arranged in a line in the horizontal direction or the vertical direction around the pixel driving unit 42. Has been.

また、図7の固体撮像装置31Cにおいて、局所的に隣接して配置されているラインセンサの集合をラインセンサ群という。具体的には、ラインセンサ41−1A,41−1Bをラインセンサ群71−1といい、ラインセンサ41−2A,41−2Bをラインセンサ群71−2という。他のラインセンサ41についても同様であるものとする。   In the solid-state imaging device 31C of FIG. 7, a set of line sensors that are locally adjacent to each other is referred to as a line sensor group. Specifically, the line sensors 41-1A and 41-1B are referred to as a line sensor group 71-1 and the line sensors 41-2A and 41-2B are referred to as a line sensor group 71-2. The same applies to the other line sensors 41.

ここでも、ペアをなすラインセンサ41のうちの一方(ラインセンサ41−1A,41−1B,41−3A,41−3B,41−5A,41−5B,41−7A,41−7B)を主列のラインセンサ41、他方(ラインセンサ41−2A,41−2B,41−4A,41−4B,41−6A,41−6B,41−8A,41−8B)を副列のラインセンサ41と呼ぶこととすると、主列のラインセンサ41の各画素51の信号は、画素信号線43−1を介してカラムADC44−1に出力され、副列のラインセンサ41の各画素51の信号は、画素信号線43−2を介してカラムADC44−2に出力されるようになされている。   Again, one of the paired line sensors 41 (line sensors 41-1A, 41-1B, 41-3A, 41-3B, 41-5A, 41-5B, 41-7A, 41-7B) is mainly used. The line sensor 41 in the row and the other (line sensors 41-2A, 41-2B, 41-4A, 41-4B, 41-6A, 41-6B, 41-8A, 41-8B) are connected to the line sensor 41 in the subrow. As a result, the signal of each pixel 51 of the line sensor 41 in the main column is output to the column ADC 44-1 via the pixel signal line 43-1, and the signal of each pixel 51 of the line sensor 41 in the sub column is The signal is output to the column ADC 44-2 via the pixel signal line 43-2.

なお、図7の固体撮像装置31Cにおいても、ラインセンサ群を構成する2つのラインセンサ41のうち、一方のラインセンサ41(カラムADC44から遠い方のラインセンサ41)の各画素51の信号を読み出すための画素信号線43は、他方のラインセンサ41(カラムADC44に近い方のラインセンサ41)を跨って配線されている。   Also in the solid-state imaging device 31C of FIG. 7, the signal of each pixel 51 of one line sensor 41 (the line sensor 41 far from the column ADC 44) is read out of the two line sensors 41 constituting the line sensor group. The pixel signal line 43 for this purpose is wired across the other line sensor 41 (the line sensor 41 closer to the column ADC 44).

また、カラムADC44−1から出力されるデジタル信号は、ラインメモリ45−1に供給され、カラムADC44−2から出力されるデジタル信号は、ラインメモリ45−2に供給されるようになされている。   The digital signal output from the column ADC 44-1 is supplied to the line memory 45-1, and the digital signal output from the column ADC 44-2 is supplied to the line memory 45-2.

さらに、図7の固体撮像装置31Cにおいて、ペアをなす主列のラインセンサ41および副列のラインセンサ41は、選択的に動作するものとする。言い換えると、図7の固体撮像装置31Cにおいては、8ペアのうちの1ペアのラインセンサ41のみが、選択されて画素信号を出力するようになされている。   Furthermore, in the solid-state imaging device 31C of FIG. 7, the paired main row line sensors 41 and sub row line sensors 41 are selectively operated. In other words, in the solid-state imaging device 31C of FIG. 7, only one pair of line sensors 41 out of eight pairs is selected and outputs a pixel signal.

また、図7の固体撮像装置31Cにおいては、画素信号線43(43−1,43−2)は、ラインセンサ41を含む回路ブロックが配置されている領域に沿って集束して配線される上に、カラムADC44−1,44−2側の配線を共有して、主列のラインセンサ41および副列のラインセンサ41とカラムADC44−1,44−2とをそれぞれ接続している。   Further, in the solid-state imaging device 31C of FIG. 7, the pixel signal lines 43 (43-1, 43-2) are converged and wired along the region where the circuit block including the line sensor 41 is disposed. In addition, the column ADCs 44-1 and 44-2 are shared, and the line sensor 41 of the main column and the line sensor 41 of the sub column and the column ADCs 44-1 and 44-2 are respectively connected.

したがって、カラムADC44−1,44−2は、それぞれ選択された主列のラインセンサ41および副列のラインセンサ41の各画素51、つまり、1つのラインセンサ41が備える画素数分の信号だけを、並列にAD変換すればよい。これにより、カラムADC44のカラム数は大きく削減されるので、カラムADC44を小型化することができる。   Therefore, the column ADCs 44-1 and 44-2 receive only the signals corresponding to the number of pixels included in each pixel 51 of the selected main row line sensor 41 and sub row line sensor 41, that is, one line sensor 41. It is sufficient to perform AD conversion in parallel. As a result, the number of columns of the column ADC 44 is greatly reduced, and the column ADC 44 can be downsized.

図8は、図6の固体撮像装置31Cにおけるラインセンサ41の読み出しの例を示している。   FIG. 8 shows an example of reading by the line sensor 41 in the solid-state imaging device 31C of FIG.

図8は、ラインセンサ群71,72のペア、ラインセンサ群73,74のペア、ラインセンサ群75,76のペア、ラインセンサ群77,78のペアの順で、ラインセンサ41が選択されて、読み出し(AD変換)が行われる例を示している。なお、選択されるラインセンサ41のペアは、各ラインセンサ群のうちの1ペアとする。また、ここでは、全てのラインセンサ41の蓄積時間は同一に設定されているものとする。   In FIG. 8, the line sensor 41 is selected in the order of a pair of line sensor groups 71 and 72, a pair of line sensor groups 73 and 74, a pair of line sensor groups 75 and 76, and a pair of line sensor groups 77 and 78. In this example, reading (AD conversion) is performed. The selected pair of line sensors 41 is one pair in each line sensor group. Here, it is assumed that the accumulation times of all the line sensors 41 are set to be the same.

図8の例では、カラムADC44は、パイプライン処理によりAD変換を行うため、各ラインセンサ群におけるラインセンサ41の蓄積は、AD変換にかかる時間に応じて順次開始される。   In the example of FIG. 8, since the column ADC 44 performs AD conversion by pipeline processing, accumulation of the line sensor 41 in each line sensor group is sequentially started according to the time required for AD conversion.

全てのラインセンサ41の蓄積時間が同一である場合には、図8に示される動作シーケンスにより、最も短い時間で読み出しを行うことができる。   When the accumulation times of all the line sensors 41 are the same, reading can be performed in the shortest time by the operation sequence shown in FIG.

また、ラインセンサ41の蓄積時間が異なる時間に設定されている場合には、図9に示されるように、AD変換のタイミングが重ならないように、その順番やタイミングを変更するようにして読み出しを行うようにしてもよい。   When the accumulation times of the line sensors 41 are set to different times, as shown in FIG. 9, reading is performed by changing the order and timing so that the AD conversion timing does not overlap. You may make it perform.

なお、図7の固体撮像装置31Cにおいて、ペアとなるラインセンサ41の選択は、画素駆動部42による駆動信号SELによって制御される。   Note that in the solid-state imaging device 31C of FIG.

さらに、図7の固体撮像装置31Cにおいて、どのラインセンサ群のペアが選択されるか、また、ラインセンサ群のなかでどのペアが選択されるかは、画面内のどの領域でフォーカスをとるかによって決定される。   Further, in the solid-state imaging device 31C in FIG. 7, which line sensor group pair is selected and which pair is selected in the line sensor group is determined in which area in the screen is focused. Determined by.

以上の構成によれば、画素信号線43の配線の一部を共有することで、配線領域を小さくすることができ、チップサイズの縮小を図ることが可能となる。   According to the above configuration, by sharing a part of the wiring of the pixel signal line 43, the wiring area can be reduced, and the chip size can be reduced.

さらに、図7の構成において、全てのラインセンサ41の各画素51を並列に読み出すのではなく、選択されたペアのラインセンサ41の各画素51を順次、並列に読み出すようにしたので、カラムADC44−1,44−2のカラム数をそれぞれ、1つのラインセンサ41が備える画素数分にまで削減することができる。これにより、カラムADC44を小型化することができ、チップサイズのさらなる縮小を図ることが可能となるとともに、消費電力も低減することが可能となる。   Further, in the configuration of FIG. 7, the pixels 51 of all the line sensors 41 are not read in parallel, but the pixels 51 of the selected pair of line sensors 41 are sequentially read in parallel. The number of columns of −1 and 44-2 can be reduced to the number of pixels included in one line sensor 41, respectively. As a result, the column ADC 44 can be downsized, the chip size can be further reduced, and the power consumption can be reduced.

なお、図7の構成においては、選択されたペアのラインセンサ41の読み出しが順次行われるが、カラムADC44による読み出し(AD変換)に要する時間は、1回あたり数μsec乃至十数μsec程度であるので、同時性や高速性を大きく損なうものではない。   In the configuration of FIG. 7, the reading of the selected pair of line sensors 41 is sequentially performed, but the time required for reading (AD conversion) by the column ADC 44 is about several μsec to tens of μsec per time. Therefore, it does not significantly impair simultaneity and high speed.

また、選択されたペアのラインセンサ41の読み出しが順次行われるので、読み出されるペア毎にAD変換のゲインを変更することができる。これにより、例えば、光学的に入射光量が低くなるチップの外周に近いラインセンサについてのゲインを上げることで、その感度を高めることができるようになる。   In addition, since the reading of the selected pair of line sensors 41 is sequentially performed, the AD conversion gain can be changed for each read pair. Thereby, for example, the sensitivity can be increased by increasing the gain of the line sensor near the outer periphery of the chip where the amount of incident light is optically reduced.

なお、図7の固体撮像装置31Cにおいては、ラインセンサ群はそれぞれ2つのラインセンサから構成されるものとしたが、3つ以上のラインセンサから構成されるようにしてもよい。   In the solid-state imaging device 31C of FIG. 7, each line sensor group is composed of two line sensors, but may be composed of three or more line sensors.

また、図7の固体撮像装置31Cにおいては、各ラインセンサ41をラインセンサ群として配置するようにしたが、ラインセンサ41が単体で配置されるようにしてもよい。   Further, in the solid-state imaging device 31C of FIG. 7, each line sensor 41 is arranged as a line sensor group, but the line sensor 41 may be arranged alone.

ところで、図7の固体撮像装置31Cにおいて、ラインセンサの数が増加した場合や、ラインセンサが互いに離れた位置に配置された場合、画素信号線43の寄生容量および寄生抵抗が増大し、画素信号線43を伝達する画素信号の静定(セトリング)に時間を要してしまう。このセトリングを改善するためには、電流の増大が必要であり、結果として、消費電力が増大してしまう。   By the way, in the solid-state imaging device 31C of FIG. 7, when the number of line sensors increases or when the line sensors are arranged at positions separated from each other, the parasitic capacitance and parasitic resistance of the pixel signal line 43 increase, and the pixel signal It takes time to settle the pixel signal transmitted through the line 43. In order to improve the settling, it is necessary to increase the current, resulting in an increase in power consumption.

そこで、以下においては、上述したセトリングに伴う消費電力の増大を抑制する構成について説明する。   Therefore, in the following, a configuration for suppressing an increase in power consumption due to the settling described above will be described.

[本技術を適用した固体撮像装置の第5の実施の形態]
図10は、本技術を適用した固体撮像装置の第5の実施の形態の構成例を示す図である。
[Fifth embodiment of solid-state imaging device to which the present technology is applied]
FIG. 10 is a diagram illustrating a configuration example of the fifth embodiment of the solid-state imaging device to which the present technology is applied.

図10の固体撮像装置31Dは、図7の固体撮像装置31Cと同一の構成に加え、スイッチSW_1,SW_2,SW_5,SW_6,SW_7,SW_8を備えている。なお、以下では、スイッチSW_1,SW_2,SW_5,SW_6,SW_7,SW_8をそれぞれ区別しない場合、単にスイッチSWという。   A solid-state imaging device 31D in FIG. 10 includes switches SW_1, SW_2, SW_5, SW_6, SW_7, and SW_8 in addition to the same configuration as the solid-state imaging device 31C in FIG. In the following description, the switches SW_1, SW_2, SW_5, SW_6, SW_7, and SW_8 are simply referred to as switches SW when not distinguished from each other.

スイッチSW_1は、ラインセンサ群71(ラインセンサ41−1A,41−1B)の各画素51とカラムADC44−1とを接続する画素信号線43−1の配線のうちの、他のラインセンサ群の画素と共有しない配線部分に設けられている。スイッチSW_1は、ラインセンサ群71の各画素51とカラムADC44−1との接続をオン/オフする。   The switch SW_1 is connected to the other line sensor group among the wirings of the pixel signal line 43-1 that connects each pixel 51 of the line sensor group 71 (line sensors 41-1A and 41-1B) and the column ADC 44-1. It is provided in a wiring portion that is not shared with the pixel. The switch SW_1 turns on / off the connection between each pixel 51 of the line sensor group 71 and the column ADC 44-1.

また、スイッチSW_2は、ラインセンサ群72(ラインセンサ41−2A,41−2B)の各画素51とカラムADC44−2とを接続する画素信号線43−2の配線のうちの、他のラインセンサ群の画素と共有しない配線部分に設けられている。スイッチSW_2は、ラインセンサ群72の各画素51とカラムADC44−2との接続をオン/オフする。   The switch SW_2 is another line sensor in the wiring of the pixel signal line 43-2 that connects each pixel 51 of the line sensor group 72 (line sensors 41-2A, 41-2B) and the column ADC 44-2. It is provided in a wiring portion that is not shared with a group of pixels. The switch SW_2 turns on / off the connection between each pixel 51 of the line sensor group 72 and the column ADC 44-2.

同様にして、スイッチSW_5はラインセンサ群75に対して、スイッチSW_6はラインセンサ群76に対して、スイッチSW_7はラインセンサ群77に対して、スイッチSW_8はラインセンサ群78に対して、それぞれ設けられている。なお、ラインセンサ群73,74に対しては、スイッチSWが設けられていない。   Similarly, the switch SW_5 is provided for the line sensor group 75, the switch SW_6 is provided for the line sensor group 76, the switch SW_7 is provided for the line sensor group 77, and the switch SW_8 is provided for the line sensor group 78. It has been. Note that the switch SW is not provided for the line sensor groups 73 and 74.

図11は、スイッチSWの構成例を示す図である。   FIG. 11 is a diagram illustrating a configuration example of the switch SW.

スイッチSWは、トランジスタ81,82、およびNOTゲート83から構成される。NOTゲート83に対して、図示せぬ制御部からの制御信号が入力される(Hレベルになる)と、トランジスタ81,82が、スイッチとして動作し、p−q間が導通する。   The switch SW includes transistors 81 and 82 and a NOT gate 83. When a control signal from a control unit (not shown) is input to the NOT gate 83 (becomes H level), the transistors 81 and 82 operate as a switch, and p-q is conducted.

なお、スイッチSWの構成は、図11に示される構成に限らず、他の構成であってももちろんよい。   The configuration of the switch SW is not limited to the configuration shown in FIG.

図12は、図10の固体撮像装置31Dにおけるラインセンサ41の読み出しの例を示している。   FIG. 12 shows an example of reading by the line sensor 41 in the solid-state imaging device 31D of FIG.

ここでは、図8と同様の動作シーケンスで読み出し(AD変換)が行われるものとする。   Here, reading (AD conversion) is performed in the same operation sequence as in FIG.

図12の例では、スイッチSW_1,SW_2の制御信号がHレベルになることで、スイッチSW_1,SW_2がオンになり、カラムADC44−1,44−2により、ラインセンサ群71,72のペアの読み出し(AD変換)が行われる。   In the example of FIG. 12, when the control signals of the switches SW_1 and SW_2 become H level, the switches SW_1 and SW_2 are turned on, and the column ADCs 44-1 and 44-2 read out the pair of line sensor groups 71 and 72. (AD conversion) is performed.

また、スイッチSW_5,SW_6の制御信号がHレベルになることで、スイッチSW_5,SW_6がオンになり、カラムADC44−1,44−2により、ラインセンサ群75,76のペアの読み出し(AD変換)が行われる。   Further, when the control signals of the switches SW_5 and SW_6 become H level, the switches SW_5 and SW_6 are turned on, and the column ADCs 44-1 and 44-2 read out the pair of line sensor groups 75 and 76 (AD conversion). Is done.

さらに、スイッチSW_7,SW_8の制御信号がHレベルになることで、スイッチSW_7,SW_8がオンになり、カラムADC44−1,44−2により、ラインセンサ群77,78のペアの読み出し(AD変換)が行われる。   Further, when the control signals of the switches SW_7 and SW_8 become H level, the switches SW_7 and SW_8 are turned on, and the column ADCs 44-1 and 44-2 read out a pair of line sensor groups 77 and 78 (AD conversion). Is done.

また、ラインセンサ群73,74に対するスイッチSWは設けられていないが、ラインセンサ群73,74のペアの各画素51に対して、画素駆動部42からの駆動信号SELが供給されることで、カラムADC44−1,44−2により、ラインセンサ群73,74のペアの読み出し(AD変換)が行われる。   Further, the switch SW for the line sensor groups 73 and 74 is not provided, but the drive signal SEL from the pixel drive unit 42 is supplied to each pixel 51 of the pair of line sensor groups 73 and 74, A pair of line sensor groups 73 and 74 is read (AD conversion) by the column ADCs 44-1 and 44-2.

なお、図10の固体撮像装置31Dにおいて、ラインセンサ群73,74に対するスイッチSW_3,SW_4をそれぞれ設けるようにして、ラインセンサ群73,74のペアの読み出し(AD変換)が行われるようにしてもよい。   In addition, in the solid-state imaging device 31D of FIG. 10, the switches SW_3 and SW_4 for the line sensor groups 73 and 74 are provided, respectively, so that reading (AD conversion) of the pair of line sensor groups 73 and 74 is performed. Good.

以上の構成によれば、読み出しが行われるラインセンサ41のみがカラムADC44と電気的に接続され、それ以外のラインセンサ41は、カラムADC44とは電気的に切り離されるようになる。これにより、画素信号線43の寄生容量や寄生抵抗の影響は無視できる程度に小さくなり、結果として、画素信号線におけるセトリングを改善するための消費電力の増大を抑制することができるようになる。   According to the above configuration, only the line sensor 41 to be read is electrically connected to the column ADC 44, and the other line sensors 41 are electrically disconnected from the column ADC 44. As a result, the influence of the parasitic capacitance and parasitic resistance of the pixel signal line 43 is reduced to a negligible level, and as a result, an increase in power consumption for improving settling in the pixel signal line can be suppressed.

[本技術を適用した固体撮像装置の第6の実施の形態]
図13は、本技術を適用した固体撮像装置の第6の実施の形態の構成例を示す図である。
[Sixth embodiment of a solid-state imaging device to which the present technology is applied]
FIG. 13 is a diagram illustrating a configuration example of the sixth embodiment of the solid-state imaging device to which the present technology is applied.

図13の固体撮像装置31Eは、図6の固体撮像装置31Bと同一の構成に加え、図6の固体撮像装置31Bのチップ上の空いている領域に、デジタルメモリおよび信号処理回路91−1,91−2を備えている。   A solid-state imaging device 31E in FIG. 13 has the same configuration as that of the solid-state imaging device 31B in FIG. 6, and a digital memory and signal processing circuits 91-1, 91- 2 is provided.

デジタルメモリおよび信号処理回路91−1,91−2は、ラインメモリ45−1,45−2からデジタル出力信号として供給される、各ラインセンサ41の出力データ(画素信号)の一部または全部を保存する。また、デジタルメモリおよび信号処理回路91−1,91−2は、保存している各ラインセンサ41の出力データに対して、所定のタイミングで、所定の信号処理を施す。   The digital memory and signal processing circuits 91-1 and 91-2 receive part or all of the output data (pixel signals) of each line sensor 41 supplied as digital output signals from the line memories 45-1 and 45-2. save. Further, the digital memory and signal processing circuits 91-1 and 91-2 perform predetermined signal processing on the stored output data of each line sensor 41 at a predetermined timing.

従来のCCDを用いたAFセンサにおいては、読み出し処理が全てアナログで行われていたため、セット上に実装されたマイクロコントローラ等で、読み出した信号のAD変換を行い、所定の信号処理を施していた。このため、セット上の実装部品が増えたり、制御シーケンスの設計が複雑であった。   In a conventional AF sensor using a CCD, all readout processing is performed in analog, so the microcontroller mounted on the set performs AD conversion of the readout signal and performs predetermined signal processing. . For this reason, the number of mounted parts on the set increases and the design of the control sequence is complicated.

これに対して、以上の構成によれば、デジタルメモリおよび信号処理回路91−1,91−2を、ラインセンサ41等と同一のチップ上に集積することができるので、非常にシンプルなシステムを提供することができる。   On the other hand, according to the above configuration, since the digital memory and the signal processing circuits 91-1 and 91-2 can be integrated on the same chip as the line sensor 41 and the like, a very simple system can be realized. Can be provided.

また、デジタルメモリおよび信号処理回路91−1,91−2により、各ラインセンサ41の出力データに対して、所定のタイミングで、所定の信号処理を施すことができるので、各ラインセンサ41の出力データを時間的制約なく、任意に読み出すことができる上に、AFにおけるピーク検出等の演算処理をワンチップで実現することが可能となる。   Further, since the digital memory and the signal processing circuits 91-1 and 91-2 can perform predetermined signal processing on the output data of each line sensor 41 at a predetermined timing, the output of each line sensor 41 is output. Data can be arbitrarily read without time constraints, and calculation processing such as peak detection in AF can be realized on a single chip.

[本技術を適用した固体撮像装置の第7の実施の形態]
図14は、本技術を適用した固体撮像装置の第7の実施の形態の構成例を示す図である。
[Seventh embodiment of a solid-state imaging device to which the present technology is applied]
FIG. 14 is a diagram illustrating a configuration example of the seventh embodiment of the solid-state imaging device to which the present technology is applied.

図14の固体撮像装置31Fは、図10の固体撮像装置31Dと同一の構成に加え、図10の固体撮像装置31Dのチップ上の空いている領域に、デジタルメモリおよび信号処理回路91−1,91−2を備えている。   The solid-state imaging device 31F in FIG. 14 has the same configuration as the solid-state imaging device 31D in FIG. 10, and in addition to a digital memory and signal processing circuits 91-1 and 91- in a vacant area on the chip of the solid-state imaging device 31D in FIG. 2 is provided.

以上の構成においても、デジタルメモリおよび信号処理回路91−1,91−2を、ラインセンサ41等と同一のチップ上に集積することができるので、非常にシンプルなシステムを提供することができる。   Also in the above configuration, since the digital memory and the signal processing circuits 91-1 and 91-2 can be integrated on the same chip as the line sensor 41 and the like, a very simple system can be provided.

なお、上述で説明した、本技術を適用した固体撮像装置の実施の形態においては、画素信号線43の近傍にシールド線を配線したり、ラインセンサ群を備える構成においてラインセンサ群をラインセンサ単体に置き換えることももちろんできる。   In the embodiment of the solid-state imaging device to which the present technology is applied as described above, the line sensor group is a single line sensor unit in a configuration in which a shield line is wired near the pixel signal line 43 or the line sensor group is provided. Of course, it can be replaced with.

また、図6の固体撮像装置31Bや図7の固体撮像装置31C等において、離散的なラインセンサ41の配置として、画素51の画素列が水平方向または垂直方向に一列に配列されるような配置がなされるものとしたが、これに限らず、画素列が例えば斜め方向に一列に配列されるような配置がなされるようにしてもよい。   Further, in the solid-state imaging device 31B of FIG. 6, the solid-state imaging device 31C of FIG. 7, and the like, the arrangement of the discrete line sensors 41 is such that the pixel columns of the pixels 51 are arranged in a row in the horizontal direction or the vertical direction. However, the present invention is not limited to this, and the pixel rows may be arranged in, for example, an oblique line.

[本技術を適用した電子機器の一実施の形態]
本技術の固体撮像装置は、デジタルスチルカメラやビデオカメラ等の撮像装置や、撮像機能を有する携帯端末装置、画像読取部に固体撮像装置を用いる複写機など、画像取込部(光電変換部)に固体撮像装置を用いる電子機器全般に対して適用可能である。固体撮像装置は、ワンチップとして形成された形態であってもよいし、撮像部と信号処理部または光学系とがまとめてパッケージングされた撮像機能を有するモジュール状の形態であってもよい。
[Embodiment of an electronic device to which the present technology is applied]
The solid-state imaging device of the present technology is an image capturing unit (photoelectric conversion unit) such as an imaging device such as a digital still camera or a video camera, a portable terminal device having an imaging function, a copying machine using the solid-state imaging device for an image reading unit The present invention is applicable to all electronic devices that use solid-state imaging devices. The solid-state imaging device may have a form formed as a single chip, or may have a modular form having an imaging function in which an imaging unit and a signal processing unit or an optical system are packaged together.

図15は、本技術を適用した電子機器としての撮像装置の一実施の形態の構成例を示すブロック図である。   FIG. 15 is a block diagram illustrating a configuration example of an embodiment of an imaging apparatus as an electronic apparatus to which the present technology is applied.

図15の撮像装置200は、撮像レンズ等のレンズ群などからなる光学部201、被写体を撮像する固体撮像素子202、カメラ信号処理回路であるDSP回路203、および、上述したラインセンサ41がペアをなして複数配置されてなる固体撮像素子204を備える。また、撮像装置200は、フレームメモリ205、表示部206、記録部207、操作部208、および電源部209も備える。DSP回路203、固体撮像素子204、フレームメモリ205、表示部206、記録部207、操作部208、および電源部209は、バスライン210を介して相互に接続されている。   The imaging apparatus 200 in FIG. 15 includes an optical unit 201 including a lens group such as an imaging lens, a solid-state imaging device 202 that images a subject, a DSP circuit 203 that is a camera signal processing circuit, and the line sensor 41 described above. A plurality of solid-state imaging devices 204 are provided. The imaging apparatus 200 also includes a frame memory 205, a display unit 206, a recording unit 207, an operation unit 208, and a power supply unit 209. The DSP circuit 203, the solid-state imaging device 204, the frame memory 205, the display unit 206, the recording unit 207, the operation unit 208, and the power supply unit 209 are connected to each other via the bus line 210.

光学部201は、被写体からの入射光(像光)を取り込んで固体撮像素子202の撮像面上に結像するとともに、セパレータレンズを介して固体撮像素子204でペアをなすラインセンサ41上に結像する。   The optical unit 201 captures incident light (image light) from a subject and forms an image on the imaging surface of the solid-state imaging device 202, and is connected to the line sensor 41 paired with the solid-state imaging device 204 via a separator lens. Image.

固体撮像素子202は、光学部201によって撮像面上に結像された入射光の光量を画素単位で電気信号に変換して画素信号として出力する。   The solid-state imaging device 202 converts the amount of incident light imaged on the imaging surface by the optical unit 201 into an electrical signal for each pixel and outputs the electrical signal as a pixel signal.

固体撮像素子204は、光学部201によってペアをなすラインセンサ41上に結像された被写体像に基づいて、光学部201における撮像レンズのピントのずれ量を算出して、ピントが合うように撮影レンズを駆動させるための制御信号を出力する。この固体撮像素子204として、上述した実施の形態に係る固体撮像装置31等の固体撮像装置を用いることができる。   The solid-state imaging device 204 calculates the amount of defocusing of the imaging lens in the optical unit 201 based on the subject image formed on the line sensor 41 paired by the optical unit 201, and shoots so as to be in focus. A control signal for driving the lens is output. As the solid-state imaging element 204, a solid-state imaging device such as the solid-state imaging device 31 according to the above-described embodiment can be used.

表示部206は、例えば、液晶パネルや有機EL(Electro Luminescence)パネル等のパネル型表示装置からなり、固体撮像素子202で撮像された動画または静止画を表示する。記録部207は、固体撮像素子202で撮像された動画または静止画を、ビデオテープやDVD(Digital Versatile Disk)等の記録媒体に記録する。   The display unit 206 includes, for example, a panel type display device such as a liquid crystal panel or an organic EL (Electro Luminescence) panel, and displays a moving image or a still image captured by the solid-state image sensor 202. The recording unit 207 records a moving image or a still image captured by the solid-state imaging device 202 on a recording medium such as a video tape or a DVD (Digital Versatile Disk).

操作部208は、ユーザによる操作の下に、撮像装置200が持つ様々な機能について操作指令を発する。電源部209は、DSP回路203、フレームメモリ205、表示部206、記録部207、および操作部208の動作電源となる各種の電源を、これら供給対象に対して適宜供給する。   The operation unit 208 issues operation commands for various functions of the imaging apparatus 200 under the operation of the user. The power supply unit 209 appropriately supplies various power sources serving as operation power sources for the DSP circuit 203, the frame memory 205, the display unit 206, the recording unit 207, and the operation unit 208 to these supply targets.

上述したように、固体撮像素子204として、AFセンサにより好適で、かつ、チップサイズの縮小を実現した固体撮像装置31を用いることで、精度の高いAF機能を提供するとともに、撮像装置200の小型化を図ることができる。   As described above, by using the solid-state imaging device 31 that is more suitable for the AF sensor and realizes a reduction in chip size as the solid-state imaging device 204, a highly accurate AF function is provided and the imaging device 200 is small. Can be achieved.

なお、本技術の実施の形態は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本技術の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。   The embodiments of the present technology are not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the present technology.

さらに、本技術は以下のような構成をとることができる。
(1)
光電変換素子に蓄積された電荷に対応する信号を増幅するアンプを含む複数の画素が一列に配列されてなる複数のラインセンサと、
前記ラインセンサの各画素の信号を読み出すための信号線と
を備え、
複数の前記ラインセンサは、離散的に配置され、
前記信号線は、前記ラインセンサを含む回路ブロックが配置されている領域に沿って集束して配線される
固体撮像装置。
(2)
集束して配線されている前記信号線同士の間隔は、前記ラインセンサに配列されている前記画素同士の間隔より狭い
(2)に記載の固体撮像装置。
(3)
複数の前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換可能な並列型のA/D変換器をさらに備え、
前記信号線は、複数の前記ラインセンサの各画素と前記A/D変換器とを接続する
(1)または(2)に記載の固体撮像装置。
(4)
前記A/D変換器は、全ての前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換する
(3)に記載の固体撮像装置。
(5)
複数の前記ラインセンサはそれぞれ選択的に動作し、
前記信号線は、複数の前記ラインセンサ間で対応する画素毎に、前記A/D変換器側の配線を共有して、複数の前記ラインセンサの各画素と前記A/D変換器とを接続し、
前記A/D変換器は、選択された前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換する
(3)に記載の固体撮像装置。
(6)
前記信号線において、他のラインセンサの前記画素と供給しない配線部分に、前記ラインセンサ毎に各画素と前記A/D変換器との接続をオン/オフするスイッチを備え、
前記A/D変換器は、前記スイッチがオンされた前記信号線に対応する前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換する
(5)に記載の固体撮像装置。
(7)
前記A/D変換器により出力されたデジタル信号を保持するラインメモリをさらに備える
(3)乃至(6)のいずれかに記載の固体撮像装置。
(8)
前記A/D変換器により出力されたデジタル信号に対して所定の信号処理を施す信号処理回路をさらに備える
(3)乃至(7)のいずれかに記載の固体撮像装置。
(9)
前記信号線が集束して配線される領域の近傍に、電源電位または接地電位に接続されたシールド線がさらに配線される
(1)乃至(8)のいずれかに記載の固体撮像装置。
(10)
複数の前記ラインセンサの少なくとも一部が、並列して隣接して配置されている場合、一方の前記ラインセンサの各画素の信号を読み出す前記信号線は、他方の前記ラインセンサを跨って配線される
(1)乃至(9)のいずれかに記載の固体撮像装置。
(11)
複数の前記ラインセンサにおいて、一方の前記ラインセンサは他方の前記ラインセンサと対をなし、
対をなす前記ラインセンサは、それぞれに配列されている画素列が、所定の方向に一列に配列されるように配置される
(1)乃至(10)のいずれかに記載の固体撮像装置。
(12)
前記ラインセンサは、CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)イメージセンサである
(1)乃至(12)のいずれかに記載の固体撮像装置。
(13)
光電変換素子に蓄積された電荷に対応する信号を増幅するアンプを含む複数の画素が一列に配列されてなる複数のラインセンサと、
前記ラインセンサの各画素の信号を読み出すための信号線と
を備え、
複数の前記ラインセンサは、離散的に配置され、
前記信号線は、前記ラインセンサを含む回路ブロックが配置されている領域に沿って集束して配線される固体撮像装置
を備える電子機器。
(14)
光電変換素子に蓄積された電荷に対応する信号を増幅するアンプを含む複数の画素が一列に配列されてなる複数のラインセンサと、
前記ラインセンサの各画素の信号を読み出すための信号線と、
複数の前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換可能な並列型のA/D変換器と
前記信号線の前記ラインセンサ側に、前記ラインセンサ毎に各画素と前記A/D変換器との接続をオン/オフするスイッチを備え、
複数の前記ラインセンサは、離散的に配置され、
前記信号線は、前記ラインセンサを含む回路ブロックが配置されている領域に沿って集束して配線され、複数の前記ラインセンサ間で対応する画素毎に、前記A/D変換器側の配線を共有して、複数の前記ラインセンサの各画素と前記A/D変換器とを接続する
固体撮像装置の画素読み出し方法において、
前記固体撮像装置が、
前記スイッチがオンされた前記信号線に対応する前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換する
ステップを含む画素読み出し方法。
Furthermore, this technique can take the following structures.
(1)
A plurality of line sensors in which a plurality of pixels including an amplifier for amplifying a signal corresponding to the charge accumulated in the photoelectric conversion element are arranged in a line;
A signal line for reading a signal of each pixel of the line sensor,
The plurality of line sensors are arranged discretely,
The signal line is converged and wired along a region where a circuit block including the line sensor is arranged. Solid-state imaging device.
(2)
The solid-state imaging device according to (2), wherein an interval between the signal lines that are converged and wired is narrower than an interval between the pixels that are arranged in the line sensor.
(3)
A parallel A / D converter capable of A / D converting the signals of the pixels of the plurality of line sensors in parallel;
The solid-state imaging device according to (1) or (2), wherein the signal line connects each pixel of the plurality of line sensors and the A / D converter.
(4)
The solid-state imaging device according to (3), wherein the A / D converter performs A / D conversion in parallel on signals of pixels of all the line sensors.
(5)
Each of the plurality of line sensors selectively operates,
The signal line connects each pixel of the plurality of line sensors and the A / D converter by sharing the wiring on the A / D converter side for each corresponding pixel between the plurality of line sensors. And
The solid-state imaging device according to (3), wherein the A / D converter performs A / D conversion in parallel on a signal of each pixel of the selected line sensor.
(6)
In the signal line, a wiring portion that does not supply the pixel of another line sensor includes a switch for turning on / off the connection between each pixel and the A / D converter for each line sensor,
The solid-state imaging device according to (5), wherein the A / D converter performs A / D conversion in parallel on a signal of each pixel of the line sensor corresponding to the signal line on which the switch is turned on.
(7)
The solid-state imaging device according to any one of (3) to (6), further including a line memory that holds a digital signal output by the A / D converter.
(8)
The solid-state imaging device according to any one of (3) to (7), further including a signal processing circuit that performs predetermined signal processing on the digital signal output by the A / D converter.
(9)
The solid-state imaging device according to any one of (1) to (8), wherein a shield line connected to a power supply potential or a ground potential is further wired near a region where the signal lines are converged and wired.
(10)
When at least some of the plurality of line sensors are arranged adjacent to each other in parallel, the signal line for reading the signal of each pixel of one of the line sensors is wired across the other line sensor. The solid-state imaging device according to any one of (1) to (9).
(11)
In the plurality of line sensors, one of the line sensors is paired with the other of the line sensors,
The solid-state imaging device according to any one of (1) to (10), wherein the pair of line sensors are arranged such that pixel rows arranged in a pair are arranged in a row in a predetermined direction.
(12)
The solid-state imaging device according to any one of (1) to (12), wherein the line sensor is a complementary metal-oxide semiconductor (CMOS) image sensor.
(13)
A plurality of line sensors in which a plurality of pixels including an amplifier for amplifying a signal corresponding to the charge accumulated in the photoelectric conversion element are arranged in a line;
A signal line for reading a signal of each pixel of the line sensor,
The plurality of line sensors are arranged discretely,
An electronic apparatus comprising: a solid-state imaging device in which the signal line is converged and wired along a region where a circuit block including the line sensor is disposed.
(14)
A plurality of line sensors in which a plurality of pixels including an amplifier for amplifying a signal corresponding to the charge accumulated in the photoelectric conversion element are arranged in a line;
A signal line for reading a signal of each pixel of the line sensor;
A parallel A / D converter capable of performing A / D conversion on the signals of the pixels of the plurality of line sensors in parallel, and each pixel and the A / D for each line sensor on the line sensor side of the signal line It has a switch to turn on / off the connection with the converter,
The plurality of line sensors are arranged discretely,
The signal line is converged and wired along a region where the circuit block including the line sensor is disposed, and the wiring on the A / D converter side is provided for each corresponding pixel between the plurality of line sensors. In the pixel readout method of the solid-state imaging device that shares and connects each pixel of the plurality of line sensors and the A / D converter,
The solid-state imaging device is
A pixel readout method including a step of performing A / D conversion in parallel on a signal of each pixel of the line sensor corresponding to the signal line on which the switch is turned on.

31 固体撮像装置, 41 ラインセンサ, 42 画素駆動部, 43 画素信号線, 44 カラムADC, 45 ラインメモリ, 51 単位画素   31 solid-state imaging device, 41 line sensor, 42 pixel drive unit, 43 pixel signal line, 44 column ADC, 45 line memory, 51 unit pixel

Claims (14)

光電変換素子に蓄積された電荷に対応する信号を増幅するアンプを含む複数の画素が一列に配列されてなる複数のラインセンサと、
前記ラインセンサの各画素の信号を読み出すための信号線と
を備え、
複数の前記ラインセンサは、離散的に配置され、
前記信号線は、前記ラインセンサを含む回路ブロックが配置されている領域に沿って集束して配線される
固体撮像装置。
A plurality of line sensors in which a plurality of pixels including an amplifier for amplifying a signal corresponding to the charge accumulated in the photoelectric conversion element are arranged in a line;
A signal line for reading a signal of each pixel of the line sensor,
The plurality of line sensors are arranged discretely,
The signal line is converged and wired along a region where a circuit block including the line sensor is arranged. Solid-state imaging device.
集束して配線されている前記信号線同士の間隔は、前記ラインセンサに配列されている前記画素同士の間隔より狭い
請求項1に記載の固体撮像装置。
The solid-state imaging device according to claim 1, wherein an interval between the signal lines that are converged and wired is narrower than an interval between the pixels that are arranged in the line sensor.
複数の前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換可能な並列型のA/D変換器をさらに備え、
前記信号線は、複数の前記ラインセンサの各画素と前記A/D変換器とを接続する
請求項1に記載の固体撮像装置。
A parallel A / D converter capable of A / D converting the signals of the pixels of the plurality of line sensors in parallel;
The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the signal line connects each pixel of the plurality of line sensors and the A / D converter.
前記A/D変換器は、全ての前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換する
請求項3に記載の固体撮像装置。
The solid-state imaging device according to claim 3, wherein the A / D converter performs A / D conversion in parallel on signals of pixels of all the line sensors.
複数の前記ラインセンサはそれぞれ選択的に動作し、
前記信号線は、複数の前記ラインセンサ間で対応する画素毎に、前記A/D変換器側の配線を共有して、複数の前記ラインセンサの各画素と前記A/D変換器とを接続し、
前記A/D変換器は、選択された前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換する
請求項3に記載の固体撮像装置。
Each of the plurality of line sensors selectively operates,
The signal line connects each pixel of the plurality of line sensors and the A / D converter by sharing the wiring on the A / D converter side for each corresponding pixel between the plurality of line sensors. And
The solid-state imaging device according to claim 3, wherein the A / D converter performs A / D conversion in parallel on a signal of each pixel of the selected line sensor.
前記信号線において、他のラインセンサの前記画素と供給しない配線部分に、前記ラインセンサ毎に各画素と前記A/D変換器との接続をオン/オフするスイッチを備え、
前記A/D変換器は、前記スイッチがオンされた前記信号線に対応する前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換する
請求項5に記載の固体撮像装置。
In the signal line, a wiring portion that does not supply the pixel of another line sensor includes a switch for turning on / off the connection between each pixel and the A / D converter for each line sensor,
The solid-state imaging device according to claim 5, wherein the A / D converter performs A / D conversion in parallel on a signal of each pixel of the line sensor corresponding to the signal line on which the switch is turned on.
前記A/D変換器により出力されたデジタル信号を保持するラインメモリをさらに備える
請求項3に記載の固体撮像装置。
The solid-state imaging device according to claim 3, further comprising a line memory that holds a digital signal output by the A / D converter.
前記A/D変換器により出力されたデジタル信号に対して所定の信号処理を施す信号処理回路をさらに備える
請求項3に記載の固体撮像装置。
The solid-state imaging device according to claim 3, further comprising a signal processing circuit that performs predetermined signal processing on the digital signal output by the A / D converter.
前記信号線が集束して配線される領域の近傍に、電源電位または接地電位に接続されたシールド線がさらに配線される
請求項1に記載の固体撮像装置。
The solid-state imaging device according to claim 1, further comprising a shield line connected to a power supply potential or a ground potential in a vicinity of a region where the signal lines are converged and wired.
複数の前記ラインセンサの少なくとも一部が、並列して隣接して配置されている場合、一方の前記ラインセンサの各画素の信号を読み出す前記信号線は、他方の前記ラインセンサを跨って配線される
請求項1に記載の固体撮像装置。
When at least some of the plurality of line sensors are arranged adjacent to each other in parallel, the signal line for reading the signal of each pixel of one of the line sensors is wired across the other line sensor. The solid-state imaging device according to claim 1.
複数の前記ラインセンサにおいて、一方の前記ラインセンサは他方の前記ラインセンサと対をなし、
対をなす前記ラインセンサは、それぞれに配列されている画素列が、所定の方向に一列に配列されるように配置される
請求項1に記載の固体撮像装置。
In the plurality of line sensors, one of the line sensors is paired with the other of the line sensors,
The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the paired line sensors are arranged such that pixel columns arranged in a line are arranged in a line in a predetermined direction.
前記ラインセンサは、CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)イメージセンサである
請求項1に記載の固体撮像装置。
The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the line sensor is a complementary metal-oxide semiconductor (CMOS) image sensor.
光電変換素子に蓄積された電荷に対応する信号を増幅するアンプを含む複数の画素が一列に配列されてなる複数のラインセンサと、
前記ラインセンサの各画素の信号を読み出すための信号線と
を備え、
複数の前記ラインセンサは、離散的に配置され、
前記信号線は、前記ラインセンサを含む回路ブロックが配置されている領域に沿って集束して配線される固体撮像装置
を備える電子機器。
A plurality of line sensors in which a plurality of pixels including an amplifier for amplifying a signal corresponding to the charge accumulated in the photoelectric conversion element are arranged in a line;
A signal line for reading a signal of each pixel of the line sensor,
The plurality of line sensors are arranged discretely,
An electronic apparatus comprising: a solid-state imaging device in which the signal line is converged and wired along a region where a circuit block including the line sensor is disposed.
光電変換素子に蓄積された電荷に対応する信号を増幅するアンプを含む複数の画素が一列に配列されてなる複数のラインセンサと、
前記ラインセンサの各画素の信号を読み出すための信号線と、
複数の前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換可能な並列型のA/D変換器と
前記信号線の前記ラインセンサ側に、前記ラインセンサ毎に各画素と前記A/D変換器との接続をオン/オフするスイッチを備え、
複数の前記ラインセンサは、離散的に配置され、
前記信号線は、前記ラインセンサを含む回路ブロックが配置されている領域に沿って集束して配線され、複数の前記ラインセンサ間で対応する画素毎に、前記A/D変換器側の配線を共有して、複数の前記ラインセンサの各画素と前記A/D変換器とを接続する
固体撮像装置の画素読み出し方法において、
前記固体撮像装置が、
前記スイッチがオンされた前記信号線に対応する前記ラインセンサの各画素の信号を並列にA/D変換する
ステップを含む画素読み出し方法。
A plurality of line sensors in which a plurality of pixels including an amplifier for amplifying a signal corresponding to the charge accumulated in the photoelectric conversion element are arranged in a line;
A signal line for reading a signal of each pixel of the line sensor;
A parallel A / D converter capable of performing A / D conversion on the signals of the pixels of the plurality of line sensors in parallel, and each pixel and the A / D for each line sensor on the line sensor side of the signal line It has a switch to turn on / off the connection with the converter,
The plurality of line sensors are arranged discretely,
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