JP2013200528A - 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】画像流れを抑制し、且つ残留電位の上昇を抑えた電電子写真感光体を提供すること。
【解決手段】導電性基体４と、導電性基体４上に設けられ、金属酸化物粒子を含む下引層１であって、仕事関数が４．０以上４．７以下である下引層１と、下引層１上に設けられた電荷発生層２であって、下引層１との仕事関数差（電荷発生層の仕事関数−下引層の仕事関数）が−４ｅＶ以上０ｅＶ以下である電荷発生層２と、電荷発生層２上に設けられた電荷輸送層３と、を有する負帯電型の電子写真感光体である。
【選択図】図１
【解決手段】導電性基体４と、導電性基体４上に設けられ、金属酸化物粒子を含む下引層１であって、仕事関数が４．０以上４．７以下である下引層１と、下引層１上に設けられた電荷発生層２であって、下引層１との仕事関数差（電荷発生層の仕事関数−下引層の仕事関数）が−４ｅＶ以上０ｅＶ以下である電荷発生層２と、電荷発生層２上に設けられた電荷輸送層３と、を有する負帯電型の電子写真感光体である。
【選択図】図１
Description
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
特許文献１には、「下引き層の仕事関数をＷＵＣＬ 、電荷発生層の仕事関数をＷＣＧＬ とするとき、（ＷＵＣＬ −Ｗｓｕｂ）＞０．６または（ＷＣＧＬ −ＷＵＣＬ ）＞０．６の関係を満足し、かつ、下引き層の膜厚を２μｍ以上２０μｍ以下の構成としたことを特徴とする負帯電有機積層型の電子写真用感光体」が開示されている。
特許文献２には、「下引き層の仕事関数が接触電位差測定で、試料側導電極を変化させて得られる中間層の仕事関数φＵＬと試料側導電極の仕事関数φＭとの関係を下記式（ａ）：φＵＬ＝α・φＭ＋β（式中のα、βは定数）で直線近似したとき、０．３≦α≦０．８となることを特徴とする電子写真用感光体」が開示されている。
特許文献２には、「下引き層の仕事関数が接触電位差測定で、試料側導電極を変化させて得られる中間層の仕事関数φＵＬと試料側導電極の仕事関数φＭとの関係を下記式（ａ）：φＵＬ＝α・φＭ＋β（式中のα、βは定数）で直線近似したとき、０．３≦α≦０．８となることを特徴とする電子写真用感光体」が開示されている。
本発明の課題は、露光履歴により発生する濃度ムラ（以下、「ゴースト」と称する）の発生を抑制した画像が得られる電子写真感光体を提供することである。
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられ、結着樹脂及び金属酸化物粒子を含む下引層であって、仕事関数が４．０ｅＶ以上４．７ｅＶ以下である下引層と、
前記下引層上に設けられた電荷発生層であって、前記下引層との仕事関数差（電荷発生層の仕事関数−下引層の仕事関数）が−４ｅＶ以上０ｅＶ以下である電荷発生層と、
前記電荷発生層上に設けられた電荷輸送層と、
を有する負帯電型の電子写真感光体。
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられ、結着樹脂及び金属酸化物粒子を含む下引層であって、仕事関数が４．０ｅＶ以上４．７ｅＶ以下である下引層と、
前記下引層上に設けられた電荷発生層であって、前記下引層との仕事関数差（電荷発生層の仕事関数−下引層の仕事関数）が−４ｅＶ以上０ｅＶ以下である電荷発生層と、
前記電荷発生層上に設けられた電荷輸送層と、
を有する負帯電型の電子写真感光体。
請求項２に係る発明は、
前記下引層が、前記結着樹脂及び前記金属酸化物粒子と共に、電子受容性化合物を含んで構成されている請求項１に記載の電子写真感光体。
前記下引層が、前記結着樹脂及び前記金属酸化物粒子と共に、電子受容性化合物を含んで構成されている請求項１に記載の電子写真感光体。
請求項３に係る発明は、
前記電荷発生層が、結着樹脂と、電荷発生材料と、を含んで構成されている請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
前記電荷発生層が、結着樹脂と、電荷発生材料と、を含んで構成されている請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
請求項４に係る発明は、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
請求項５に係る発明は、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を負に帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤を収納し、当該現像剤によって、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像に現像する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を負に帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤を収納し、当該現像剤によって、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像に現像する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
請求項１、２、３に係る発明によれば、下引層の仕事関数、又は電荷発生層と下引層との仕事関数差が上記範囲外である場合に比べ、ゴーストの発生を抑制した画像が得られる電子写真感光体を提供できる。
請求項４、５に係る発明によれば、下引層の仕事関数、又は電荷発生層と下引層との仕事関数差が上記範囲外である電子写真感光体を適用した場合に比べ、ゴーストの発生を抑制した画像が得られるプロセスカートリッジ、及び画像形成装置を提供できる。
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。
［電子写真感光体］
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体を備え、導電性基体上に、金属酸化物粒子を含む下引層と、電荷発生層と、電荷輸送層と、がこの順に積層された積層体を有している負帯電型の有機電子写真感光体である。なお、電荷輸送層上にさらに表面保護層が積層されていてもよい。
また、下引層の仕事関数は、４．０ｅＶ以上４．７ｅＶ以下（望ましくは４．２ｅＶ以上４．７ｅＶ以下、より望ましくは４．４５ｅＶ以上４．６５ｅＶ以下）である。
そして、電荷発生層と下引層との仕事関数差（電荷発生層の仕事関数−下引層の仕事関数）は、−４ｅＶ以上０ｅＶ以下（望ましくは−３．５ｅＶ以上−０．０５ｅＶ以下、より望ましくは−３ｅＶ以上−２ｅＶ以下）である。
なお、電荷発生層の仕事関数は、例えば、４ｅＶ以上４．７ｅＶ以下（望ましくは４．１ｅＶ以上４．５ｅＶ以下、より望ましくは４．２ｅＶ以上４．４ｅＶ以下）であることがよい。
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体を備え、導電性基体上に、金属酸化物粒子を含む下引層と、電荷発生層と、電荷輸送層と、がこの順に積層された積層体を有している負帯電型の有機電子写真感光体である。なお、電荷輸送層上にさらに表面保護層が積層されていてもよい。
また、下引層の仕事関数は、４．０ｅＶ以上４．７ｅＶ以下（望ましくは４．２ｅＶ以上４．７ｅＶ以下、より望ましくは４．４５ｅＶ以上４．６５ｅＶ以下）である。
そして、電荷発生層と下引層との仕事関数差（電荷発生層の仕事関数−下引層の仕事関数）は、−４ｅＶ以上０ｅＶ以下（望ましくは−３．５ｅＶ以上−０．０５ｅＶ以下、より望ましくは−３ｅＶ以上−２ｅＶ以下）である。
なお、電荷発生層の仕事関数は、例えば、４ｅＶ以上４．７ｅＶ以下（望ましくは４．１ｅＶ以上４．５ｅＶ以下、より望ましくは４．２ｅＶ以上４．４ｅＶ以下）であることがよい。
ここで、電子写真感光体を利用した画像形成プロセスでは、電子写真感光体に対して帯電、露光、現像、転写を一つのサイクルとして、電子写真感光体上にトナー像を形成し、それを被転写体に転写し、次サイクルへと移行する。
しかしながら、次サイクルでは、前サイクルでの電子写真感光体の露光部において感度が上昇し、その部分のみの画像濃度が高くなるといったゴースト（露光履歴により発生する濃度ムラ）が発生することがある。これは、露光履歴のあった場所には、そのサイクル中に表面に移動しきらない正孔キャリアが残るために、そのキャリアの影響で次サイクルの帯電電位が下がることや、暗減衰が大きくなるためであると考えられる。
しかしながら、次サイクルでは、前サイクルでの電子写真感光体の露光部において感度が上昇し、その部分のみの画像濃度が高くなるといったゴースト（露光履歴により発生する濃度ムラ）が発生することがある。これは、露光履歴のあった場所には、そのサイクル中に表面に移動しきらない正孔キャリアが残るために、そのキャリアの影響で次サイクルの帯電電位が下がることや、暗減衰が大きくなるためであると考えられる。
そこで、本実施形態に係る電子写真感光体は、上記構成とすることで、ゴースト（露光履歴により発生する濃度ムラ）の発生を抑制した画像が得られる。
この理由は、定かではないが以下に示す理由によるものと考えられる。
この理由は、定かではないが以下に示す理由によるものと考えられる。
通常、不帯電の電子写真感光体では、露光されると、電荷発生層で発生した電荷（電子・正孔）のうち、電子が下引層に注入されて行くことになるが、下引層の仕事関数を上記範囲とった高めにした上で、電荷発生層と下引層との仕事関数差を上記範囲とすると、下引層に電荷が注入され難くなり、電荷発生層と下引層との界面で電子が溜まると考えられる。これは、上記仕事関数差は、電荷発生層と下引層とが積層（接合）された状態で、電荷発生層よりも下引層のエネルギー準位が高いことを意味しており、このエネルギー準位が高いことにより、電荷発生層で発生した電子が下引層に移行できず、電荷発生層と下引層との界面で電子が溜まると考えられるためである。
そして、このような状態で次サイクルを行うと、前サイクルの露光部では電荷発生層と下引層との界面で電子が留まっていることから、感度が低下し、画像濃度が低下すると考えられる。これにより、前サイクルの露光部における感度上昇分が相殺されると考えられる。
そして、このような状態で次サイクルを行うと、前サイクルの露光部では電荷発生層と下引層との界面で電子が留まっていることから、感度が低下し、画像濃度が低下すると考えられる。これにより、前サイクルの露光部における感度上昇分が相殺されると考えられる。
以上から、本実施形態に係る電子写真感光体では、ゴースト（露光履歴により発生する濃度ムラ）の発生を抑制した画像が得られると考えられる。
そして、本実施形態に係る電子写真感光体を適用した画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）でも、ゴースト（露光履歴により発生する濃度ムラ）の発生を抑制した画像が得られると考えられる。
そして、本実施形態に係る電子写真感光体を適用した画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）でも、ゴースト（露光履歴により発生する濃度ムラ）の発生を抑制した画像が得られると考えられる。
ここで、下引層、電荷発生層の仕事関数は、次のようにして求める。
まず、電子写真感光体から、測定対象となる層をカッターなどにより粉末状態で採取し、測定試料を採集する。
そして、採取した測定試料を金電極上に載せ、Ａｕを対向電極としたときの接触電位差をケルビンプローブで測定して、層の仕事関数を測定する。粉末試料は必要に応じて金電極に圧着するなどしてもよい。
まず、電子写真感光体から、測定対象となる層をカッターなどにより粉末状態で採取し、測定試料を採集する。
そして、採取した測定試料を金電極上に載せ、Ａｕを対向電極としたときの接触電位差をケルビンプローブで測定して、層の仕事関数を測定する。粉末試料は必要に応じて金電極に圧着するなどしてもよい。
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体を詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体１０の一部の断面を概略的に示している。
図１に示した電子写真感光体１０は、電荷発生層２と電荷輸送層３とが別個に設けられた感光層を有するもの（機能分離型感光体）である。
具体的には、図１に示した電子写真感光体１０は、導電性基体４を有し、導電性基体４上に、下引層１、電荷発生層２、電荷輸送層３、及び保護層５がこの順で設けられて構成されている。
なお、図１に示した電子写真感光体１０は、保護層５を有する構成であるが、保護層５は任意に設けられるものである。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体１０の一部の断面を概略的に示している。
図１に示した電子写真感光体１０は、電荷発生層２と電荷輸送層３とが別個に設けられた感光層を有するもの（機能分離型感光体）である。
具体的には、図１に示した電子写真感光体１０は、導電性基体４を有し、導電性基体４上に、下引層１、電荷発生層２、電荷輸送層３、及び保護層５がこの順で設けられて構成されている。
なお、図１に示した電子写真感光体１０は、保護層５を有する構成であるが、保護層５は任意に設けられるものである。
以下、電子写真感光体１０の各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。
（導電性基体）
導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜（例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等の膜）を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させたプラスチックフィルム等が挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。
導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜（例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等の膜）を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させたプラスチックフィルム等が挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。
導電性基体として金属パイプを用いる場合、表面は素管のままであってもよいし、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。
（下引層）
下引層は、例えば、結着樹脂と金属酸化物粒子とを含んで構成されている。
特に、下引層自体の仕事関数、及び電荷発生層との仕事関数差を上記範囲内とする観点から、下引層は、結着樹脂及び金属酸化物粒子と共に、電子受容性化合物を含んで構成されていることがよい。なお、下引層には、必要に応じて、その他添加物を含んで構成されていてもよい。
下引層は、例えば、結着樹脂と金属酸化物粒子とを含んで構成されている。
特に、下引層自体の仕事関数、及び電荷発生層との仕事関数差を上記範囲内とする観点から、下引層は、結着樹脂及び金属酸化物粒子と共に、電子受容性化合物を含んで構成されていることがよい。なお、下引層には、必要に応じて、その他添加物を含んで構成されていてもよい。
結着樹脂としては、公知の樹脂が挙げられるが、例えば、公知の高分子樹脂化合物（例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等）、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等が挙げられる。
これらの中でも、結着樹脂としては、上層（電荷発生層）の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく、特に、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これらの中でも、結着樹脂としては、上層（電荷発生層）の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく、特に、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
金属酸化物粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ω・ｃｍ以上１０１１Ω・ｃｍ以下の金属酸化物粒子が挙げられ、具体的には、例えば、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等が挙げられる。
これらの中でも、下引層自体の仕事関数、及び電荷発生層との仕事関数差を上記範囲内とする観点から、金属酸化物粒子としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウムが好適である。
これらの中でも、下引層自体の仕事関数、及び電荷発生層との仕事関数差を上記範囲内とする観点から、金属酸化物粒子としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウムが好適である。
金属酸化物粒子は、表面処理を行ったものでもよく、表面処理種の異なるもの、または粒子径の異なるものなどを２種以上混合して用いてもよい。
金属酸化物粒子の体積平均粒径は５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下（望ましくは６０以上１０００以下）であることが望ましい。
金属酸化物粒子の比表面積（ＢＥＴ法による比表面積）は、１０ｍ２／ｇ以上であることが望ましい。
金属酸化物粒子の比表面積（ＢＥＴ法による比表面積）は、１０ｍ２／ｇ以上であることが望ましい。
金属酸化物粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることがよく、より望ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
金属酸化物粒子の含有量を上記範囲とすることにより、下引層自体の仕事関数、及び電荷発生層との仕事関数差を上記範囲内に調整し易くなる。
金属酸化物粒子の含有量を上記範囲とすることにより、下引層自体の仕事関数、及び電荷発生層との仕事関数差を上記範囲内に調整し易くなる。
電子受容性化合物としては、例えば、キノン系化合物（例えばクロラニル、ブロモアニル等）、テトラシアノキノジメタン系化合物、フルオレノン化合物（例えば２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等）、オキサジアゾール系化合物（例えば２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４−オキサジアゾール等）、キサントン系化合物、チオフェン化合物、ジフェノキノン化合物（例えば３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等）等の電子輸送性物質等が好適に挙げられ、特にアントラキノン構造を有する化合物がよい。
アントラキノン構造を有する化合物としては、特に、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が好適に挙げられ、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等がよい。
これらの中でも、下引層自体の仕事関数、及び電荷発生層との仕事関数差を上記範囲内とする観点から、電子受容性化合物としては、アントラキノン誘導体が好適である。
アントラキノン構造を有する化合物としては、特に、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が好適に挙げられ、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等がよい。
これらの中でも、下引層自体の仕事関数、及び電荷発生層との仕事関数差を上記範囲内とする観点から、電子受容性化合物としては、アントラキノン誘導体が好適である。
電子受容性化合物は、金属酸化物粒子とは個別に分散した状態で下引層中に含有してもよいが、金属酸化物粒子の表面に付着した状態で下引層中に含有していてもよい。
電子受容性化合物を金属酸化物粒子の表面に付着させる方法としては、乾式法、又は湿式法が挙げられる。
乾式法は、例えば、金属酸化物粒子に対して攪拌等によりせん断力を付与ししながら、直接又は有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下したり、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることにより、電子受容性化合物を金属酸化物粒子の表面に付着させる方法である。滴下又は噴霧する際には、例えば、溶剤の沸点以下の温度で行うことが望ましい。滴下又は噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。
一方、湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等により、金属酸化物粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、溶剤除去して、電子受容性化合物を金属酸化物粒子の表面に付着させる方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により行う。溶剤除去後には、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。
乾式法は、例えば、金属酸化物粒子に対して攪拌等によりせん断力を付与ししながら、直接又は有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下したり、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることにより、電子受容性化合物を金属酸化物粒子の表面に付着させる方法である。滴下又は噴霧する際には、例えば、溶剤の沸点以下の温度で行うことが望ましい。滴下又は噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。
一方、湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等により、金属酸化物粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、溶剤除去して、電子受容性化合物を金属酸化物粒子の表面に付着させる方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により行う。溶剤除去後には、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。
電子受容性化合物の含有量は、例えば、金属酸化物粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下であることがよく、望ましくは０．１質量％以上１０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上５質量％以下である。
電子受容性化合物の含有量を上記範囲とすることにより、下引層自体の仕事関数、及び電荷発生層との仕事関数差を上記範囲内に調整し易くなる。
電子受容性化合物の含有量を上記範囲とすることにより、下引層自体の仕事関数、及び電荷発生層との仕事関数差を上記範囲内に調整し易くなる。
その他添加物としては、例えば、電子輸送性顔料（例えば多環縮合系、アゾ系等）、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。特に、シランカップリング剤は、金属酸化物粒子の表面処理に用いられるが、添加物としてさらに下引層に添加してもよい。
シランカップリング剤の具体例としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
ジルコニウムキレート化合物の具体例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
シランカップリング剤の具体例としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
ジルコニウムキレート化合物の具体例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
下引層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた下引層形成用塗布液が使用される。
また、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
また、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
下引層の膜厚は、１５μｍ以上が望ましく、１５μｍ以上５０μｍ以下がより望ましく、２０μｍ以上５０μｍ以下がさらに望ましい。
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、結着樹脂と、電荷発生材料と、を含んで構成される。
電荷発生層は、例えば、結着樹脂と、電荷発生材料と、を含んで構成される。
電荷発生材料としては、有機顔料、無機顔等の既知の電荷発生材料が挙げられる。
有機顔料としては、アゾ顔料（例えばビスアゾ、トリスアゾ等）、縮環芳香族顔料（例えばジブロモアントアントロン等）、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料等が挙げられる。
無機顔料としては、例えば、三方晶セレン、酸化亜鉛等が挙げられる。
有機顔料としては、アゾ顔料（例えばビスアゾ、トリスアゾ等）、縮環芳香族顔料（例えばジブロモアントアントロン等）、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料等が挙げられる。
無機顔料としては、例えば、三方晶セレン、酸化亜鉛等が挙げられる。
電荷発生材料としては、特に、３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の露光波長を採用する場合、無機顔料がよく、７００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の露光波長を採用する場合、金属及び無金属フタロシアニン顔料がよい。
フタロシアニン顔料としては、特開平５−２６３００７及び特開平５ー２７９５９１に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２及び特開平５−１４０４７３に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３及び特開平５−４３８１３開示されたチタニルフタロシアニンが特によい。
これらの中でも、下引層との仕事関数差を上記範囲内とする観点から、電荷発生材料としては、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニンが好適である。
フタロシアニン顔料としては、特開平５−２６３００７及び特開平５ー２７９５９１に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２及び特開平５−１４０４７３に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３及び特開平５−４３８１３開示されたチタニルフタロシアニンが特によい。
これらの中でも、下引層との仕事関数差を上記範囲内とする観点から、電荷発生材料としては、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニンが好適である。
結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡタイプあるいはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
これらの中でも、下引層との仕事関数差を上記範囲内とする観点から、結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂が好適である。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比（質量比）は、例えば１０：１乃至１：１０の範囲が望ましく、７５：２５乃至２５：７５の範囲がより望ましく、６５：３５乃至３５：６５の範囲がさらに望ましい。
これらの中でも、下引層との仕事関数差を上記範囲内とする観点から、結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂が好適である。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比（質量比）は、例えば１０：１乃至１：１０の範囲が望ましく、７５：２５乃至２５：７５の範囲がより望ましく、６５：３５乃至３５：６５の範囲がさらに望ましい。
電荷発生層の形成の際には、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液が使用される。
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
電荷発生層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
電荷発生層の膜厚は、望ましくは０．０１μｍ以上５μｍ以下、より望ましくは０．０５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲に設定される。
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と、結着樹脂と、を含んで構成される。
電荷輸送層は、例えば、高分子電荷輸送材を含んで構成されててもよい。
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と、結着樹脂と、を含んで構成される。
電荷輸送層は、例えば、高分子電荷輸送材を含んで構成されててもよい。
電荷輸送材料としては、例えば、電子輸送性化合物、正孔輸送性化合物の既知の材料が挙げられる。
電子輸送性化合物としては、例えば、キノン系化合物（例えばｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等）、テトラシアノキノジメタン系化合物、フルオレノン化合物（例えば、２，４，７−トリニトロフルオレノン等）、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等が挙げられる。
正孔輸送性化合物としては、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等が挙げられる、
これらの電荷輸送材料は、単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
電子輸送性化合物としては、例えば、キノン系化合物（例えばｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等）、テトラシアノキノジメタン系化合物、フルオレノン化合物（例えば、２，４，７−トリニトロフルオレノン等）、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等が挙げられる。
正孔輸送性化合物としては、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等が挙げられる、
これらの電荷輸送材料は、単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
電荷輸送材料としては、モビリティーの観点から、以下の構造のものが特によい。
構造式（Ｂ−１)中、ＲＢ１は水素原子またはメチル基を表し、ｎ’は１または２を表す。また、ＡｒＢ１及びＡｒＢ２は置換又は未置換のアリール基を表し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数が１以上５以下のアルキル基、炭素数が１以上５以下のアルコキシ基、又は炭素数が１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を表す。
構造式（Ｂ−２）中ＲＢ２、ＲＢ２' は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基を表わす。ＲＢ３、ＲＢ３’、ＲＢ４、ＲＢ４’は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換又は未置換のアリール基、又は、−Ｃ（ＲＢ５）＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）を表わし、ＲＢ５、ＲＢ６、ＲＢ７は水素原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を表す。またｍ’及びｎ”は０以上２以下の整数である。
構造式（Ｂ−３）中、ＲＢ８は水素原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、置換もしくは未置換のアリール基、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＡｒＢ３)2を表す。ＡｒＢ３は、置換又は未置換のアリール基を表す。ＲＢ９、ＲＢ１０は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換又は未置換のアリール基を表す。
結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランが挙げられる。結着樹脂としては、例えば、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材も挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（重量比）は、例えば、１０：１乃至１：５が望ましい。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（重量比）は、例えば、１０：１乃至１：５が望ましい。
高分子電荷輸送材料としては、例えば、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものが挙げられる。
特に、高分子電荷輸送材料としては、例えば、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材が高い電荷輸送性を有しており、とくに望ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で電荷輸送層を構成してもよいが、結着樹脂と混合して電荷輸送層を構成してもよい。
特に、高分子電荷輸送材料としては、例えば、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材が高い電荷輸送性を有しており、とくに望ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で電荷輸送層を構成してもよいが、結着樹脂と混合して電荷輸送層を構成してもよい。
電荷輸送層は、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。
などが挙げられる。
などが挙げられる。
電荷輸送層層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
電荷輸送層の膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下、さらに望ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲に設定される。
（保護層）
保護層は、例えば、反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成されている。つまり、保護層は、反応性電荷輸送材料の重合体（又は架橋体）を含む電荷輸送性硬化膜で構成されている。
保護層は、例えば、反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成されている。つまり、保護層は、反応性電荷輸送材料の重合体（又は架橋体）を含む電荷輸送性硬化膜で構成されている。
また、保護層は、機械的強度を向上させ、電子写真感光体の長寿命化させる観点から、さらにグアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種を含む組成物の硬化膜で構成されていてもよい。つまり、保護層は、反応性電荷輸送材料とグアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種との重合体（架橋体）と、酸化防止剤と、を含む電荷輸送性硬化膜で構成されていてもよい。
反応性電荷輸送材料について説明する。
反応性電荷輸送材料としては、例えば、反応性官能基として−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ等）を持つ反応性電荷輸送材料が挙げられる。
反応性電荷輸送材料としては、例えば、反応性官能基として−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ等）を持つ反応性電荷輸送材料が挙げられる。
反応性電荷輸送材料は、反応性官能基を少なくとも２つ（さらには３つ）持つ電荷輸送材料であることがよい。この如く、電荷輸送材料に反応性官能基が増えることで、架橋密度が上がり、より強度の高い硬化膜（架橋膜）が得られ易くなる。
反応性電荷輸送材料としては、異物除去部材の摩耗の抑制や、電子写真感光体の磨耗を抑制する観点から、下記一般式（Ｉ）で示される化合物であることが望ましい。
Ｆ−（（−Ｒ１４−Ｘ）ｎ１（Ｒ１５）ｎ２−Ｙ）ｎ３ （Ｉ）
一般式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送能を有する化合物から誘導される有機基（電荷輸送骨格）、Ｒ１４およびＲ１５はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は０又は１を示し、ｎ３は１以上４以下の整数を示す。Ｘは酸素、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは反応性官能基を示す。
Ｆ−（（−Ｒ１４−Ｘ）ｎ１（Ｒ１５）ｎ２−Ｙ）ｎ３ （Ｉ）
一般式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送能を有する化合物から誘導される有機基（電荷輸送骨格）、Ｒ１４およびＲ１５はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は０又は１を示し、ｎ３は１以上４以下の整数を示す。Ｘは酸素、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは反応性官能基を示す。
一般式（Ｉ）中、Ｆを示す電荷輸送能を有する化合物から誘導される有機基における電荷輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。
そして、一般式（Ｉ）で示される化合物は、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物であることが望ましい。一般式（ＩＩ）で示される化合物は、特に、電荷移動度、酸化などに対する安定性等に優れる。
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１からＡｒ４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−(−Ｒ１４−Ｘ)ｎ１（Ｒ１５）ｎ２−Ｙを示し、ｃはそれぞれ独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄの総数は１以上４以下である。また、Ｒ１４及びＲ１５はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｘは酸素、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは反応性官能基を示す。
ここで、置換アリール基及び置換アリーレン基における置換基としては、Ｄ以外のものとして、炭素数１乃至４のアルキル基、炭素数１乃至４のアルコキシ基、炭素数６乃至１０の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。
ここで、置換アリール基及び置換アリーレン基における置換基としては、Ｄ以外のものとして、炭素数１乃至４のアルキル基、炭素数１乃至４のアルコキシ基、炭素数６乃至１０の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。
一般式（ＩＩ）中、Ｄを示す「−(−Ｒ１４−Ｘ)ｎ１（Ｒ１５）ｎ２−Ｙ」は、一般式（Ｉ）と同様であり、Ｒ１４及びＲ１５はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基である。また、ｎ１として望ましくは、１である。また、ｎ２として望ましくは、１である。また、Ｘとして望ましくは、酸素である。
なお、一般式（ＩＩ）におけるＤの総数は、一般式（Ｉ）におけるｎ３に相当し、望ましくは、２以上４以下であり、さらに望ましくは３以上４以下である。
また、一般式（Ｉ）や一般式（ＩＩ）において、Ｄの総数を一分子中に２以上４以下、望ましくは３以上４以下とすると、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られ、特に異物除去用のブレード部材を用いた際の電子写真感光体の回転トルクが低減され、ブレード部材の摩耗の抑制や、電子写真感光体の磨耗が抑制される。この詳細は不明であるが、前述したように、反応性官能基の数が増すことで、架橋密度の高い硬化膜が得られ、電子写真感光体の極表面の分子運動が抑制されてブレード部材の表面分子との相互作用が弱まるためと推測される。
また、一般式（Ｉ）や一般式（ＩＩ）において、Ｄの総数を一分子中に２以上４以下、望ましくは３以上４以下とすると、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られ、特に異物除去用のブレード部材を用いた際の電子写真感光体の回転トルクが低減され、ブレード部材の摩耗の抑制や、電子写真感光体の磨耗が抑制される。この詳細は不明であるが、前述したように、反応性官能基の数が増すことで、架橋密度の高い硬化膜が得られ、電子写真感光体の極表面の分子運動が抑制されてブレード部材の表面分子との相互作用が弱まるためと推測される。
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１からＡｒ４としては、下記式（１）から（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）から（７）は、各Ａｒ１からＡｒ４に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ」と共に示す。
式（１）から（７）中、Ｒ１６は水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ１７からＲ１９はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｄ及びｃは一般式（ＩＩ）における「Ｄ」、「ｃ」と同様であり、ｓはそれぞれ０又は１を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記式（８）又は（９）で表されるものが望ましい。
式（８）から（９）中、Ｒ２０及びＲ２１はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔ１は１以上３以下の整数を表す。
また、式（７）中のＺ’としては、下記式（１０）から（１７）のうちのいずれかで表されるものが望ましい。
式（１０）から（１７）中、Ｒ２２及びＲ２３はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ２及びｒ２はそれぞれ１以上１０以下の整数を表し、ｔ２はそれぞれ１以上３以下の整数を表す。
式（１６）から（１７）中のＷとしては、下記（１８）から（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
また、一般式（ＩＩ）中、Ａｒ５は、ｋが０のときはＡｒ１からＡｒ４の説明で例示された上記（１）から（７）のアリール基であり、ｋが１のときはかかる上記（１）から（７）のアリール基から水素原子を除いたアリーレン基である。
一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物が挙げられる。なお、上記一般式（Ｉ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
反応性電荷輸送材料の含有量は、例えば、（塗布液における固形分濃度）は、層全構成成分（固形分）に対して、８０質量％以上であり、望ましくは９０質量％以上、より望ましくは９５質量％以上である。この固形分濃度が９０質量％未満であると電気特性が悪化するおそれがある。なお、この反応性電荷輸送材料の含有量の上限は、他の添加剤が有効に機能する限り限定されるものではなく、多いほうが望ましい。
次に、グアナミン化合物について説明する。
グアナミン化合物は、グアナミン骨格（構造）を有する化合物であり、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。
グアナミン化合物は、グアナミン骨格（構造）を有する化合物であり、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。
グアナミン化合物としては、特に下記一般式（Ａ）で示される化合物及びその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ａ）で示される化合物は、１種単独で用いもよいが、２種以上を併用してもよい。特に、一般式（Ａ）で示される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上する。
一般式（Ａ）中、Ｒ１は、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基、または炭素数４以上１０以下の置換若しくは未置換の脂環式炭化水素基を示す。Ｒ２からＲ５は、それぞれ独立に水素、−ＣＨ２−ＯＨ、または−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６を示す。Ｒ６は、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を示す。
一般式（Ａ）において、Ｒ１を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以下８以上であり、より望ましくは炭素数が１以上５以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分岐状であってもよい。
一般式（Ａ）中、Ｒ１を示すフェニル基は、炭素数６以上１０以下であるが、より望ましくは６以上８以下である。当該フェニル基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
一般式（Ａ）中、Ｒ１を示す脂環式炭化水素基は、炭素数４以上１０以下であるが、より望ましくは５以上８以下である。当該脂環式炭化水素基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
一般式（Ａ）中、Ｒ２からＲ５を示す「−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６」において、Ｒ６を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以下８以上であり、より望ましくは炭素数が１以上６以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分岐状であってもよい。望ましくは、メチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。
一般式（Ａ）で示される化合物としては、特に望ましくは、Ｒ１が炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基を示し、Ｒ２からＲ５がそれぞれ独立に−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６を示される化合物である。また、Ｒ６は、メチル基またはｎ−ブチル基から選ばれることが望ましい。
一般式（Ａ）で示される化合物は、例えば、グアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページ参照）で合成される。
以下、一般式（Ａ）で示される化合物の具体例として例示化合物：（Ａ）−１から例示化合物：（Ａ）−４２を示すが、本実施形態はこれらに限られるわけではない。また、以下の具体例は単量体であるが、これら単量体を構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。尚、以下の例示化合物において、「Ｍｅ」はメチル基を、「Ｂｕ」はブチル基を、「Ｐｈ」はフェニル基をそれぞれ示す。
また、一般式（Ａ）で示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４８−５５、スーパーベッカミン（Ｒ）１３−５３５、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４５−６０、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１２６（以上ＤＩＣ社製）、ニカラックＢＬ−６０、ニカラックＢＸ−４０００（以上日本カーバイド社製）、などが挙げられる。
また、一般式（Ａ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。
また、一般式（Ａ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。
次に、メラミン化合物について説明する。
メラミン化合物としては、メラミン骨格（構造）であり、特に下記一般式（Ｂ）で示される化合物及びその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）と同様に、一般式（Ｂ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ｂ）で示される化合物又はその多量体は、１種単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。また、前記一般式（Ａ）で示される化合物又はその多量体と併用してもよい。特に、一般式（Ｂ）で示される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上する。
メラミン化合物としては、メラミン骨格（構造）であり、特に下記一般式（Ｂ）で示される化合物及びその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）と同様に、一般式（Ｂ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ｂ）で示される化合物又はその多量体は、１種単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。また、前記一般式（Ａ）で示される化合物又はその多量体と併用してもよい。特に、一般式（Ｂ）で示される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上する。
一般式（Ｂ）中、Ｒ７からＲ１２はそれぞれ独立に、水素原子、−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１３、−Ｏ−Ｒ１３を示し、Ｒ１３は炭素数１以上５以下の分岐してもよいアルキル基を示す。当該アルキル基としてはメチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。
一般式（Ｂ）で示される化合物は、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法で合成される（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページのメラミン樹脂と同様に合成される）。
以下、一般式（Ｂ）で示される化合物の具体例として例示化合物：（Ｂ）−１から例示化合物：（Ｂ）−８を示すが、本実施形態はこれらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。
一般式（Ｂ）で示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーメラミＮｏ．９０（日油社製）、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１３９−６０（ＤＩＣ社製）、ユーバン２０２０（三井化学社製）、スミテックスレジンＭ−３（住友化学工業社製）、ニカラックＭＷ−３０（日本カーバイド社製）、などが挙げられる。
また、一般式（Ｂ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。
ここで、グアナミン化合物（一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（一般式（Ｂ）で示される化合物）から選択される少なくとも１種の含有量（塗布液における固形分濃度）は、例えば、層全構成成分（固形分）に対して、０．１質量％以上５質量％以下であることがよく、望ましくは１質量％以上３質量％以下であることがよい。この固形分濃度が、０．１質量％未満であると、緻密な膜となりにくいため十分な強度が得られ難く、５質量％を超えると電気特性や耐ゴースト（画像履歴による濃度ムラ）性が悪化することがある。
以下、保護層についてさらに詳細に説明する。
保護層には、反応性電荷輸送材料（例えば一般式（Ｉ）で示される化合物）と共に、フェノール樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂などを併用しても。また、強度を向上させるために、スピロアセタール系グアナミン樹脂（例えば「ＣＴＵ−グアナミン」、味の素ファインテクノ（株）製）など、一分子中の官能基のより多い化合物を当該架橋物中の材料に共重合させることも効果的である。
保護層には、反応性電荷輸送材料（例えば一般式（Ｉ）で示される化合物）と共に、フェノール樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂などを併用しても。また、強度を向上させるために、スピロアセタール系グアナミン樹脂（例えば「ＣＴＵ−グアナミン」、味の素ファインテクノ（株）製）など、一分子中の官能基のより多い化合物を当該架橋物中の材料に共重合させることも効果的である。
保護層には、放電生成ガスを吸着しすぎないように添加することで放電生成ガスによる酸化を効果的に抑制する目的から、フェノール樹脂などの他の熱硬化性樹脂を混合して用いてもよい。
保護層５には、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系またはヒンダードアミン系が挙げられ、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤も挙げられる。
保護層には。界面活性剤を添加することがよい。界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも１種類以上の構造を含む界面活性剤であれば特に制限はないが、上記構造を複数有するものが電荷輸送有機化合物との親和性・相溶性が高く保護層用塗布液の成膜性が向上し、保護層のシワ・ムラが抑制されるため、好適に挙げられる。
保護層には、さらに、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、カップリング剤、フッ素化合物と混合して用いても良い。この化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。
保護層の放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度制御、トルク低減、磨耗量制御、ポットライフ（層形成用塗布液の保存性）の延長などの目的でアルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。
ここで、アルコールに可溶な樹脂とは、炭素数５以下のアルコールに１質量％以上溶解する樹脂を意味する。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が挙げられる。
ここで、アルコールに可溶な樹脂とは、炭素数５以下のアルコールに１質量％以上溶解する樹脂を意味する。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が挙げられる。
保護層には、残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、各種粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子、フッ素樹脂粒子が挙げられる。
ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。
フッ素樹脂粒子としては、特に限定されるものではないが、例えばポリテトラフルオロエチレン、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリジクロロジフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、またはテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体等の粒子が挙げられる。
フッ素樹脂粒子と共に、フッ化アルキル基含有共重合体を併用してもよい。フッ化アルキル基含有共重合体の市販品としては、例えば、ＧＦ３００、ＧＦ４００（東亞合成社製）、サーフロンシリーズ（ＡＧＣセイミケキカル社製）、フタージェントシリーズ（ネオス社製）、ＰＦシリーズ（北村化学社製）、メガファックシリーズ（ＤＩＣ製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ製）等が挙げられる。
ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。
フッ素樹脂粒子としては、特に限定されるものではないが、例えばポリテトラフルオロエチレン、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリジクロロジフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、またはテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体等の粒子が挙げられる。
フッ素樹脂粒子と共に、フッ化アルキル基含有共重合体を併用してもよい。フッ化アルキル基含有共重合体の市販品としては、例えば、ＧＦ３００、ＧＦ４００（東亞合成社製）、サーフロンシリーズ（ＡＧＣセイミケキカル社製）、フタージェントシリーズ（ネオス社製）、ＰＦシリーズ（北村化学社製）、メガファックシリーズ（ＤＩＣ製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ製）等が挙げられる。
保護層には、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。
保護層には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。
保護層には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。
保護層は、反応性電荷輸送材料と必要に応じてグアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種とを、酸触媒を用いて重合（架橋）させた硬化膜（架橋膜）であることが望ましい。酸触媒としては、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸、安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸、メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、などの脂肪族、及び芳香族スルホン酸類などが用いられるが、含硫黄系材料を用いることが望ましい。
ここで、触媒の配合量は、層全構成成分（固形分）に対して、０．１質量％以上５０質量％以下の範囲であることが望ましく、特に１０質量％以上３０質量％以下が望ましい。この配合量が上記範囲未満であると、触媒活性が低すぎることがあり、上記範囲を超えると耐光性が悪くなることがある。なお、耐光性とは、感光層が室内光などの外界からの光にさらされたときに、照射された部分が濃度低下を起こす現象のことを言う。原因は、明らかではないが、特開平５−０９９７３７号公報にあるように、光メモリー効果と同様の現象が起こっているためであると推定される。
以上の構成の保護層は、上記成分を混合した保護層形成用塗布液を用いて形成される。保護層形成用塗布液の調製は、無溶媒で行うか、必要に応じて溶剤を用いて行ってもよい。かかる溶剤は１種を単独で又は２種以上を混合して使用されるが、望ましくは沸点が１００℃以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも１種以上の水酸基を持つ溶剤（例えば、アルコール類等）を用いることがよい。
また、上記成分を反応させて塗布液を得るときには、単純に混合、溶解させるだけでもよいが、室温（例えば２５℃）以上１００℃以下、望ましくは、３０℃以上８０℃以下で１０分以上１００時間以下、望ましくは１時間以上５０時間以下加温しても良い。また、この際に超音波を照射することも望ましい。これにより、恐らく部分的な反応が進行し、塗膜欠陥が少なく、厚さのバラツキが少ない膜が得られやすくなる。
そして、保護層形成用塗布液を、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の公知の方法により塗布し、必要に応じて例えば温度１００℃以上１７０℃以下で加熱して硬化させることで、保護層が得られる。
そして、保護層形成用塗布液を、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の公知の方法により塗布し、必要に応じて例えば温度１００℃以上１７０℃以下で加熱して硬化させることで、保護層が得られる。
保護層の膜厚は、望ましくは３μｍ以上４０μｍ以下、より望ましくは５μｍ以上３５μｍ以下、さらに望ましくは５μｍ以上１５μｍ以下の範囲に設定される。
［画像形成装置・プロセスカートリッジ］
図２は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１０１は、図２に示すように、例えば、矢印Ａで示すように、時計回り方向に回転する電子写真感光体１０と、電子写真感光体１０の上方に、電子写真感光体１０に相対して設けられ、電子写真感光体１０の表面を負に帯電させる帯電装置２０（帯電手段の一例）と、帯電装置２０により帯電した電子写真感光体１０の表面に露光して、静電潜像を形成する露光装置３０（静電潜像形成手段の一例）と、露光装置３０により形成された静電潜像に現像剤に含まれるトナーを付着させて電子写真感光体１０の表面にトナー像を形成する現像装置４０（現像手段の一例）と、記録紙Ｐ（被転写媒体）をトナーの帯電極性とは異なる極性に帯電させて記録紙Ｐに電子写真感光体１０上のトナー像を転写させる転写装置５０と、電子写真感光体１０の表面をクリーニングするクリーニング装置７０（トナー除去手段の一例）とを備える。そして、トナー像が形成された記録紙Ｐを搬送しつつ、トナー像を定着させる定着装置６０が設けられている。
図２は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１０１は、図２に示すように、例えば、矢印Ａで示すように、時計回り方向に回転する電子写真感光体１０と、電子写真感光体１０の上方に、電子写真感光体１０に相対して設けられ、電子写真感光体１０の表面を負に帯電させる帯電装置２０（帯電手段の一例）と、帯電装置２０により帯電した電子写真感光体１０の表面に露光して、静電潜像を形成する露光装置３０（静電潜像形成手段の一例）と、露光装置３０により形成された静電潜像に現像剤に含まれるトナーを付着させて電子写真感光体１０の表面にトナー像を形成する現像装置４０（現像手段の一例）と、記録紙Ｐ（被転写媒体）をトナーの帯電極性とは異なる極性に帯電させて記録紙Ｐに電子写真感光体１０上のトナー像を転写させる転写装置５０と、電子写真感光体１０の表面をクリーニングするクリーニング装置７０（トナー除去手段の一例）とを備える。そして、トナー像が形成された記録紙Ｐを搬送しつつ、トナー像を定着させる定着装置６０が設けられている。
以下、本実施形態に係る画像形成装置１０１における主な構成部材の詳細について説明する。
−帯電装置−
帯電装置２０としては、例えば、導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が挙げられる。また、帯電装置２０としては、例えば、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も挙げられる。帯電装置２０としては、接触型帯電器がよい。
帯電装置２０としては、例えば、導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が挙げられる。また、帯電装置２０としては、例えば、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も挙げられる。帯電装置２０としては、接触型帯電器がよい。
−露光装置−
露光装置３０としては、例えば、電子写真感光体１０表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体１０の分光感度領域にあるものがよい。半導体レーザーの波長としては、例えば、７８０ｎｍ前後に発振波長を有する近赤外がよい。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、露光装置３０としては、例えばカラー画像形成のためにはマルチビーム出力するタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
露光装置３０としては、例えば、電子写真感光体１０表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体１０の分光感度領域にあるものがよい。半導体レーザーの波長としては、例えば、７８０ｎｍ前後に発振波長を有する近赤外がよい。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、露光装置３０としては、例えばカラー画像形成のためにはマルチビーム出力するタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
−現像装置−
現像装置４０は、例えば、トナー及びキャリアからなる２成分現像剤を収容する容器内に、現像領域で電子写真感光体１０に対向して配置された現像ロール４１が備えられた構成が挙げられる。現像装置４０としては、２成分現像剤により現像する装置であれば、特に制限はなく、周知の構成が採用される。
現像装置４０は、例えば、トナー及びキャリアからなる２成分現像剤を収容する容器内に、現像領域で電子写真感光体１０に対向して配置された現像ロール４１が備えられた構成が挙げられる。現像装置４０としては、２成分現像剤により現像する装置であれば、特に制限はなく、周知の構成が採用される。
ここで、現像装置４０に使用される現像剤について説明する。
現像剤は、トナーからなる一成分現像剤であってもよいし、トナーとキャリアを含む二成分系現像剤であってもよい。
現像剤は、トナーからなる一成分現像剤であってもよいし、トナーとキャリアを含む二成分系現像剤であってもよい。
トナーは、例えば、結着樹脂、着色剤、及び必要に応じて離型剤等の他の添加剤を含むトナー粒子と、必要に応じて外添剤と、を含んで構成される。
トナー粒子は、平均形状係数（形状係数＝（ＭＬ２／Ａ）×（π／４）×１００で表される形状係数の個数平均、ここでＭＬは粒子の最大長を表し、Ａは粒子の投影面積を表す）が１００以上１５０以下であることが望ましく、１０５以上１４５以下であることがより望ましく、１１０以上１４０以下であることがさらに望ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が３μｍ以上１２μｍ以下であることが望ましく、３．５μｍ以上１０μｍ以下であることがより望ましく、４μｍ以上９μｍ以下であることがさらに望ましい。
トナー粒子は、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナー粒子が使用される。
また上記方法で得られたトナー粒子をコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。
そして、トナーは、上記トナー粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はＶブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。
また、トナーは、２成分現像剤として用いられる場合、キャリアとの混合割合は、周知の割合で設定する。なお、キャリアとしては、特に制限はないが、例えば、キャリアとしては、磁性粒子の表面に樹脂コーティングを施したものが好適に挙げられる。
−転写装置−
転写装置５０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
転写装置５０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
（クリーニング装置）
クリーニング装置７０は、例えば、筐体７１と、クリーニングブレード７２と、クリーニングブレード７２の電子写真感光体１０回転方向下流側に配置されるクリーニングブラシ７３と、を含んで構成されている。また、クリーニングブラシ７３には、例えば、固形状の潤滑剤７４が接触して配置されている。
クリーニング装置７０は、例えば、筐体７１と、クリーニングブレード７２と、クリーニングブレード７２の電子写真感光体１０回転方向下流側に配置されるクリーニングブラシ７３と、を含んで構成されている。また、クリーニングブラシ７３には、例えば、固形状の潤滑剤７４が接触して配置されている。
以下、本実施形態に係る画像形成装置１０１の動作について説明する。まず、電子写真感光体１０が矢印ａで示される方向に沿って回転すると同時に、帯電装置２０により負に帯電する。
帯電装置２０によって表面が負に帯電した電子写真感光体１０は、露光装置３０により露光され、表面に潜像が形成される。
電子写真感光体１０における潜像の形成された部分が現像装置４０に近づくと、現像装置４０（現像ロール４１）により、潜像にトナーが付着し、トナー像が形成される。
トナー像が形成された電子写真感光体１０が矢印ａに方向にさらに回転すると、転写装置５０によりトナー像は記録紙Ｐに転写される。これにより、記録紙Ｐにトナー像が形成される。
画像が形成された記録紙Ｐは、定着装置６０でトナー像が定着される。
なお、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、例えば、図３に示すように、筐体１１内に、電子写真感光体１０、帯電装置２０、露光装置３０、現像装置４０、及びクリーニング装置７０を一体に収容させたプロセスカートリッジ１０１Ａを備えた形態であってもよい。このプロセスカートリッジ１０１Ａは、複数の部材を一体的に収容し、画像形成装置１０１に脱着させるものである。
プロセスカートリッジ１０１Ａの構成は、これに限られず、例えば、少なくとも、電子写真感光体１０を備えていればよく、その他、例えば、帯電装置２０、露光装置３０、現像装置４０、転写装置５０、及びクリーニング装置７０から選択される少なくとも一つを備えていてもよい。
プロセスカートリッジ１０１Ａの構成は、これに限られず、例えば、少なくとも、電子写真感光体１０を備えていればよく、その他、例えば、帯電装置２０、露光装置３０、現像装置４０、転写装置５０、及びクリーニング装置７０から選択される少なくとも一つを備えていてもよい。
また、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体１０の周囲であって、転写装置５０よりも電子写真感光体１０の回転方向下流側でクリーニング装置７０よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置７０よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置２０よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体１０の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。
また、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、上記構成に限れず、周知の構成、例えば、電子写真感光体１０に形成したトナー像を中間転写体に転写した後、記録紙Ｐに転写する中間転写方式の画像形成装置を採用してもよいし、タンデム方式の画像形成装置を採用してもよい。
以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
＜実施例１＞
［感光体１］
（下引層の形成）
酸化亜鉛（平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、ＫＢＭ６０３（信越化学社製）１．２５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛粒子１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部に添加して攪拌混合し、アリザリン１質量部をテトラヒドロフラン５０質量部に溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛粒子をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛粒子を得た。
得られたアリザリン付与酸化亜鉛粒子６０質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部とを、メチルエチルケトン８５質量部に溶解して溶液を調整し、得られた溶液３８質量部とメチルエチルケトン２５質量部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４０質量部とを添加し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い、下引層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径６０ｍｍ、長さ３５７ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に浸漬塗布し、厚さ２０μｍの下引層を得た。
［感光体１］
（下引層の形成）
酸化亜鉛（平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、ＫＢＭ６０３（信越化学社製）１．２５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛粒子１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部に添加して攪拌混合し、アリザリン１質量部をテトラヒドロフラン５０質量部に溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛粒子をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛粒子を得た。
得られたアリザリン付与酸化亜鉛粒子６０質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部とを、メチルエチルケトン８５質量部に溶解して溶液を調整し、得られた溶液３８質量部とメチルエチルケトン２５質量部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４０質量部とを添加し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い、下引層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径６０ｍｍ、長さ３５７ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に浸漬塗布し、厚さ２０μｍの下引層を得た。
（電荷発生層の形成）
次に、電荷発生材料として、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶１質量部と、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）１質量部とを酢酸ブチル１００質量部に加え、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散させた後、得られた塗布液を前記下引層表面に浸漬塗布し、１００℃にて１０分間加熱乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
次に、電荷発生材料として、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶１質量部と、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）１質量部とを酢酸ブチル１００質量部に加え、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散させた後、得られた塗布液を前記下引層表面に浸漬塗布し、１００℃にて１０分間加熱乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
（電荷輸送層の形成）
次に、下記構造式１で示される化合物２．１質量部、及び下記構造式２で示される高分子化合物（粘度平均分子量：３９，０００）２．９質量部をテトラヒドロフラン１０質量部及びトルエン５質量部に溶解して塗布液を得た。得られた塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、１３５℃にて３５分加熱乾燥して、膜厚２４μｍの電荷輸送層を形成した。
次に、下記構造式１で示される化合物２．１質量部、及び下記構造式２で示される高分子化合物（粘度平均分子量：３９，０００）２．９質量部をテトラヒドロフラン１０質量部及びトルエン５質量部に溶解して塗布液を得た。得られた塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、１３５℃にて３５分加熱乾燥して、膜厚２４μｍの電荷輸送層を形成した。
（保護層の形成）
４フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンＬ−２（ダイキン工業製、平均一次粒径：０．２ｎｍ）１０質量部と、下記構造式３で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体（重量平均分子量５０，０００、ｌ３：ｍ３＝１：１、ｓ３＝１、ｎ３＝６０）０．５部と、をシクロペンタノンとシクロペンタノールの７：３混合溶媒４０部に添加して攪拌混合した後、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興業製 ＹＳＮＭ−１５００ＡＲ）を用いて、７００ｋｇｆ／ｃｍ２まで昇圧して分散処理を５回繰返し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液（Ａ）を作製した。
４フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンＬ−２（ダイキン工業製、平均一次粒径：０．２ｎｍ）１０質量部と、下記構造式３で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体（重量平均分子量５０，０００、ｌ３：ｍ３＝１：１、ｓ３＝１、ｎ３＝６０）０．５部と、をシクロペンタノンとシクロペンタノールの７：３混合溶媒４０部に添加して攪拌混合した後、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興業製 ＹＳＮＭ−１５００ＡＲ）を用いて、７００ｋｇｆ／ｃｍ２まで昇圧して分散処理を５回繰返し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液（Ａ）を作製した。
次に、反応性電荷輸送材料として例示化合物（Ｉ−８） ：５５質量部及び例示化合物（Ｉ−２６） ：４０質量部と、ベンゾグアナミン樹脂（例示化合物（Ａ）−１７：ニカラックＢＬ−６０、三和ケミカル社製）４質量部と、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学）１質量部と、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）０．１を部と、をシクロペンタノンとシクロペンタノールの７：３混合溶媒に溶解させて、４０℃で６時間攪拌して、硬化膜液（Ｂ）を作製した。
さらに、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液（Ａ）１１０質量部と、硬化膜液（Ｂ）１００質量部と、を混合し保護層用塗布液を調製した。
得られた保護層用塗布液をインクジェットコーティング法で電荷輸送層の上に塗布して１５５℃で３５分乾燥し、膜厚６μｍの保護層を形成した。
さらに、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液（Ａ）１１０質量部と、硬化膜液（Ｂ）１００質量部と、を混合し保護層用塗布液を調製した。
得られた保護層用塗布液をインクジェットコーティング法で電荷輸送層の上に塗布して１５５℃で３５分乾燥し、膜厚６μｍの保護層を形成した。
以上の工程を経て、電子写真感光体を作製した。これを感光体１とした。
＜実施例２＞
［感光体２］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量０．７質量部とし、アリザリンの添加量を０．７質量部として以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを感光体２とした。
［感光体２］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量０．７質量部とし、アリザリンの添加量を０．７質量部として以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを感光体２とした。
＜実施例３＞
［感光体３］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量１．０質量部とし、アリザリンの添加量を１．２５質量部とし、また電荷発生層に用いる樹脂をポリビニルブチラール樹脂から塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイド社製）に変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを感光体３とした
［感光体３］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量１．０質量部とし、アリザリンの添加量を１．２５質量部とし、また電荷発生層に用いる樹脂をポリビニルブチラール樹脂から塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイド社製）に変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを感光体３とした
＜実施例４＞
［感光体４］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量１．５質量部とし、アリザリンの添加量を２．０質量部とし、また電荷発生層に用いる樹脂をポリビニルブチラール樹脂から塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイド社製）に変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを感光体４とした
［感光体４］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量１．５質量部とし、アリザリンの添加量を２．０質量部とし、また電荷発生層に用いる樹脂をポリビニルブチラール樹脂から塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイド社製）に変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを感光体４とした
＜実施例５＞
［感光体５］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量２．０質量部とし、アリザリンの添加量を２．５質量部とし、また電荷発生層に用いる樹脂をポリビニルブチラール樹脂から塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイド社製）に変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを感光体５とした。
＜実施例６＞
［感光体６］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、アリザリンの代わりにプルプリンを用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを感光体６とした。
［感光体５］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量２．０質量部とし、アリザリンの添加量を２．５質量部とし、また電荷発生層に用いる樹脂をポリビニルブチラール樹脂から塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイド社製）に変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを感光体５とした。
＜実施例６＞
［感光体６］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、アリザリンの代わりにプルプリンを用いた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを感光体６とした。
＜比較例１＞
［比較感光体１］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量１．０質量部とし、アリザリンの添加量を０．５質量部とし、また電荷発生層に用いる樹脂をポリビニルブチラール樹脂から塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイド社製）に変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを比較感光体１とした。
［比較感光体１］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量１．０質量部とし、アリザリンの添加量を０．５質量部とし、また電荷発生層に用いる樹脂をポリビニルブチラール樹脂から塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイド社製）に変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを比較感光体１とした。
＜比較例２＞
［比較感光体２］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量０．５質量部とし、またアリザリンを添加せず作製した以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを比較感光体２とした。
［比較感光体２］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量０．５質量部とし、またアリザリンを添加せず作製した以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを比較感光体２とした。
＜比較例３＞
［比較感光体３］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３、およびアリザリンの添加量をせず、また電荷発生層に用いる樹脂をポリビニルブチラール樹脂から塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイド社製）に変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを比較感光体３とした
［比較感光体３］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３、およびアリザリンの添加量をせず、また電荷発生層に用いる樹脂をポリビニルブチラール樹脂から塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイド社製）に変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを比較感光体３とした
＜比較例４＞
［比較感光体４］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量２．５質量部とし、アリザリンの添加量を２．５質量部とし、また電荷発生層に用いる樹脂をポリビニルブチラール樹脂から塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイド社製）に変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを比較感光体４とした。
［比較感光体４］
感光体１を作製（その下引層を形成）するにおいて、ＫＢＭ６０３の添加量２．５質量部とし、アリザリンの添加量を２．５質量部とし、また電荷発生層に用いる樹脂をポリビニルブチラール樹脂から塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイド社製）に変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。これを比較感光体４とした。
＜評価＞
［感光体特性］
各例で得られた各感光体について、下引層の仕事関数ＷＵＣＬ、電荷発生層の仕事関数ＷＣＧＬを既述の方法により測定した。結果を表１に示す。
［感光体特性］
各例で得られた各感光体について、下引層の仕事関数ＷＵＣＬ、電荷発生層の仕事関数ＷＣＧＬを既述の方法により測定した。結果を表１に示す。
［ゴースト評価］
各例で得られた各感光体を用いて画像形成試験を行った。
具体的には、各例で得られた各感光体を富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ−II Ｃ７５００に装着し、１０ｍｍ四方の黒ベタパッチを印字した次サイクルに面積率５０％のハーフトーンを印字し、ハーフトーン画像上に現れるの黒ベタパッチの履歴をゴーストとし、ゴースト部と通常部の反射濃度差によって規格化を行ってゴースト評価を行った。結果を表１に示す。
なお、評価基準は以下の通りである。
Ｇ５：ゴースト発生部と通常部の反射濃度差が０．０３以上
Ｇ４：ゴースト発生部と通常部の反射濃度差が０．０２以上０．０３未満
Ｇ３：ゴースト発生部と通常部の反射濃度差が０．０１以上０．０２未満
Ｇ２：ゴースト発生部と通常部の反射濃度差が０．０１未満
Ｇ１：ゴーストが確認できない
各例で得られた各感光体を用いて画像形成試験を行った。
具体的には、各例で得られた各感光体を富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ−II Ｃ７５００に装着し、１０ｍｍ四方の黒ベタパッチを印字した次サイクルに面積率５０％のハーフトーンを印字し、ハーフトーン画像上に現れるの黒ベタパッチの履歴をゴーストとし、ゴースト部と通常部の反射濃度差によって規格化を行ってゴースト評価を行った。結果を表１に示す。
なお、評価基準は以下の通りである。
Ｇ５：ゴースト発生部と通常部の反射濃度差が０．０３以上
Ｇ４：ゴースト発生部と通常部の反射濃度差が０．０２以上０．０３未満
Ｇ３：ゴースト発生部と通常部の反射濃度差が０．０１以上０．０２未満
Ｇ２：ゴースト発生部と通常部の反射濃度差が０．０１未満
Ｇ１：ゴーストが確認できない
［その他画質欠陥評価］
上記ゴースト評価の際、その他画質欠陥について目視にて評価した。
上記ゴースト評価の際、その他画質欠陥について目視にて評価した。
上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、ゴースト評価について良好な結果が得られたことがわかる。
１ 下引層、２ 電荷発生層、３ 電荷輸送層、４導電性基体、５ 保護層、１０ 電子写真感光体、１１ 筐体、２０ 帯電装置、３０ 露光装置、４０ 現像装置、４１ 現像ロール、５０ 転写装置、６０ 定着装置、７０ クリーニング装置、７１ 筐体、７２ クリーニングブレード、７３ クリーニングブラシ、７４ 潤滑剤、１０１Ａ プロセスカートリッジ、１０１ 画像形成装置
Claims (5)
- 導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられ、結着樹脂及び金属酸化物粒子を含む下引層であって、仕事関数が４．０ｅＶ以上４．７ｅＶ以下である下引層と、
前記下引層上に設けられた電荷発生層であって、前記下引層との仕事関数差（電荷発生層の仕事関数−下引層の仕事関数）が−４ｅＶ以上０ｅＶ以下である電荷発生層と、
前記電荷発生層上に設けられた電荷輸送層と、
を有する負帯電型の電子写真感光体。 - 前記下引層が、前記結着樹脂及び前記金属酸化物粒子と共に、電子受容性化合物を含んで構成されている請求項１に記載の電子写真感光体。
- 前記電荷発生層が、結着樹脂と、電荷発生材料と、を含んで構成されている請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
- 請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。 - 請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を負に帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤を収納し、当該現像剤によって、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像に現像する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
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