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JP2013192977A - Sodium hypochlorite injection apparatus - Google Patents

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JP2013192977A
JP2013192977A JP2012059586A JP2012059586A JP2013192977A JP 2013192977 A JP2013192977 A JP 2013192977A JP 2012059586 A JP2012059586 A JP 2012059586A JP 2012059586 A JP2012059586 A JP 2012059586A JP 2013192977 A JP2013192977 A JP 2013192977A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sodium hypochlorite injection apparatus which in spite of being simple in structure can prevent irregular variation of the amount of sodium hypochlorite injected and can therefore perform the injection of sodium hypochlorite into an injection site with good accuracy.SOLUTION: A sodium hypochlorite injection apparatus 1 includes a tank 2 for storing sodium hypochlorite, a pump 3 which sucks sodium hypochlorite from the tank 2 and delivers it, and a transport pipe 4 which is connected to the delivery port 3b of the pump 3, transports the sodium hypochlorite to an injection site, and releases it. The relationship between the inside diameter D of the delivery port 3b of the pump 3 and the inside diameter d of the transport pipe 4 satisfy the requirement of formula (1): 0.25D≤d<D.

Description

本発明は、浄水場などで浄化処理される水に次亜塩素酸ナトリウム(以下、「次亜」ともいう)を注入する次亜塩素酸ナトリウム注入装置(以下、「次亜注入装置」ともいう)に関する。   The present invention is also referred to as a sodium hypochlorite injecting device (hereinafter referred to as “hypo-injecting device”) that injects sodium hypochlorite (hereinafter also referred to as “hypoa”) into water to be purified at a water purification plant or the like. )

浄水場では、原水に含まれる余計な成分を取り除きやすくしたり、水を消毒したりするために、次亜が不可欠である。次亜は、主に着水井に注入され、沈殿池の出口や浄水池の前などでも注入される。このような注入地点への次亜の注入は、次亜注入装置によって行われる。   In water purification plants, sub-a is indispensable to make it easier to remove unnecessary components contained in raw water and to disinfect water. Hya is mainly injected into the landing well, and is also injected at the exit of the sedimentation basin and in front of the water purification pond. Sub-injection to such an injection point is performed by a hypo-injection apparatus.

図1は、従来の次亜塩素酸ナトリウム注入装置の構成を模式的に示す図である。同図に示すように、次亜注入装置101は、次亜を貯留するタンク2と、このタンク2内の次亜を注入地点Aまで送り出す動力源であるポンプ3と、このポンプ3から次亜を注入地点Aまで輸送し放出する輸送配管4とを備える。図1では、注入地点Aが着水井である例を示している。   FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a conventional sodium hypochlorite injection device. As shown in the figure, a hypochlorous injection device 101 includes a tank 2 that stores hypochlorous acid, a pump 3 that is a power source for sending the hypochlorous in the tank 2 to an injection point A, and a hypoxia from the pump 3. And a transportation pipe 4 for transporting and discharging the fuel to the injection point A. FIG. 1 shows an example in which the injection point A is a landing well.

ポンプ3の吸込み口3aには、タンク2からの導入配管5が接続され、ポンプ3の吐出口3bには、この吐出口3bの内径と同じ内径の輸送配管4が接続されている。ポンプ3としては、ダイヤフラムポンプなどの往復動ポンプや、一軸偏心ねじポンプなどの回転ポンプが用いられる。輸送配管4は、ポンプ3から注入地点Aまでにわたり敷設されている。通常、浄水場では、タンク2とポンプ3は管理棟B内に集約して設置され、注入地点Aは管理棟Bから遠く離れた場所に設置されている。このため、輸送配管4は長くなりがちであり、その全長が100mを超えるのも少なくない。   An inlet pipe 5 from the tank 2 is connected to the suction port 3 a of the pump 3, and a transport pipe 4 having the same inner diameter as that of the discharge port 3 b is connected to the discharge port 3 b of the pump 3. As the pump 3, a reciprocating pump such as a diaphragm pump or a rotary pump such as a uniaxial eccentric screw pump is used. The transport pipe 4 is laid from the pump 3 to the injection point A. Normally, in the water purification plant, the tank 2 and the pump 3 are installed together in the management building B, and the injection point A is installed in a place far from the management building B. For this reason, the transport piping 4 tends to be long, and the total length thereof often exceeds 100 m.

ポンプ3の駆動により、タンク2内の次亜は、導入配管5を通じポンプ3の吸込み口3aからポンプ3内に吸い込まれ、ポンプ3の吐出口3bから輸送配管4に吐出される。ポンプ3から吐出された次亜は、輸送配管4を通じて輸送され、輸送配管4の出口4bから放出されて注入地点Aに注入される。   By driving the pump 3, the hypochlorite in the tank 2 is sucked into the pump 3 from the suction port 3 a of the pump 3 through the introduction pipe 5 and discharged from the discharge port 3 b of the pump 3 to the transport pipe 4. The next discharge discharged from the pump 3 is transported through the transport pipe 4, discharged from the outlet 4 b of the transport pipe 4, and injected into the injection point A.

ところで、次亜は、分解してガス(酸素)を発生し易い性質がある。この性質に起因し、次亜がポンプ3を流通する過程で、さらには輸送配管4を流通する過程で、経路内にガスが発生する場合がある。この場合、次亜注入装置101は、発生したガスの影響により、輸送配管4の出口4bから放出される次亜の注入量が不規則に変動し、注入地点Aへの次亜の注入を精度良く行えない。   By the way, hypochlorous has the property of being easily decomposed to generate gas (oxygen). Due to this property, gas may be generated in the path in the process of flowing through the pump 3 and further in the process of flowing through the transport pipe 4. In this case, the sub-injection apparatus 101 irregularly changes the injection amount of sub-aqueous discharged from the outlet 4b of the transport pipe 4 due to the influence of the generated gas, so that the sub-injection to the injection point A is accurate. I can't do it well.

ここで、往復動ポンプをポンプ3として用いた次亜注入装置101では、ポンプ3を流通する次亜にガスが含まれていると、ポンプ3がガスロックし、次亜の安定注入が妨げられる。この問題に対し、往復動ポンプでは、内部経路を流通する液体にガスが混入したり発生したりする場合に、その内部経路に圧力を付与して、強制的にガスを経路の下流に排出するガス排出機構を備え、このガス排出機構によってガスロックの発生を防止するものがある(例えば、特許文献1参照)。   Here, in the hypo-injection apparatus 101 using the reciprocating pump as the pump 3, if gas is contained in the sub-circulation flowing through the pump 3, the pump 3 is gas-locked, and stable sub-injection is prevented. . In order to solve this problem, in a reciprocating pump, when gas is mixed or generated in the liquid flowing through the internal path, pressure is applied to the internal path and the gas is forcibly discharged downstream of the path. There is a gas discharge mechanism that prevents the occurrence of gas lock by this gas discharge mechanism (see, for example, Patent Document 1).

一方、一軸偏心ねじポンプは、構造上ガスロックが起こらないことから、次亜注入装置101のポンプ3として有用されている。そして、一軸偏心ねじポンプを用いた次亜注入装置101では、図1に示すように、輸送配管4の入口4aの近傍(ポンプ3の吐出口3b近く)の経路にポンプ制御用の流量計6が設けられており、その流量計6による計測値に基づき、図示しないコントローラがポンプ3の駆動を逐次調整し、次亜の注入量をフィードバック制御している(例えば、特許文献2参照)。   On the other hand, the uniaxial eccentric screw pump is useful as the pump 3 of the hypo-injection apparatus 101 because the structure does not cause gas lock. In the hypoinjection device 101 using the uniaxial eccentric screw pump, as shown in FIG. 1, a flow meter 6 for pump control is provided in the vicinity of the inlet 4 a of the transport pipe 4 (near the outlet 3 b of the pump 3). Is provided, and a controller (not shown) sequentially adjusts the driving of the pump 3 based on the measurement value of the flow meter 6 and feedback-controls the amount of injection of the sublimation (see, for example, Patent Document 2).

特開2003−65243号公報JP 2003-65243 A 特開2009−235976号公報JP 2009-235976 A

しかし、上述した次亜注入量の不規則な変動は、ポンプ3の種類にかかわらず、依然として生じる。このことから、次亜注入量の不規則な変動は、むしろ、次亜が輸送配管4を流通する過程でガスを発生することに起因するといえる。このため、次亜注入装置においては、次亜注入量の不規則な変動を防止し、注入地点Aへの次亜の注入を精度良く行えるように、次亜が輸送配管4を流通する過程でガスの発生を抑制できる技術の確立が強く望まれる。   However, the irregular fluctuation of the hypoinjection amount described above still occurs regardless of the type of the pump 3. From this, it can be said that the irregular fluctuation of the hypochlorous injection amount is caused by the generation of gas in the process in which the hypoxia flows through the transport pipe 4. For this reason, in the hypo-injection apparatus, in order to prevent irregular fluctuations in the hypo-injection amount and to carry out the sub-injection to the injection point A with high accuracy, in the process where the hypo-circulation flows through the transport pipe 4. Establishment of technology that can suppress the generation of gas is strongly desired.

この要求に対し、最も単純には、輸送配管4の全長が短ければよい。輸送配管4の全長が短いと、次亜が輸送配管4を流通する過程でガスを発生する前に輸送配管4から放出されるからである。しかし、これを実現するには、注入地点Aの傍にポンプ3を設置する必要があり、ポンプ3とともにタンク2を収容する建屋が増加し、ポンプ3およびタンク2の管理も煩雑になる。このため、輸送配管4の全長を短くすることは、現実的でない。   In response to this requirement, the simplest is that the total length of the transport pipe 4 is short. This is because, when the total length of the transport pipe 4 is short, Hya is released from the transport pipe 4 before generating gas in the process of flowing through the transport pipe 4. However, in order to realize this, it is necessary to install the pump 3 near the injection point A, the number of buildings that accommodate the tank 2 together with the pump 3 increases, and the management of the pump 3 and the tank 2 becomes complicated. For this reason, shortening the overall length of the transport pipe 4 is not practical.

また、輸送配管4を断熱材や冷却ジャケットなどの保冷材で被覆し、輸送配管4を流通する次亜の温度を低温に確保することが考えられる。次亜の温度が低温であると、次亜の分解が抑えられ、ガスの発生が抑制されるからである。しかし、これを実現するには、そもそも長くなりがちな輸送配管4を全長にわたり保冷材で被覆する必要があり、莫大なコストを要することは否めない。このため、輸送配管4を保冷材で被覆することも、現実的でない。   In addition, it is conceivable to cover the transport pipe 4 with a heat insulating material such as a heat insulating material or a cooling jacket, and to secure the temperature of the hypoxia flowing through the transport pipe 4 at a low temperature. This is because, when the temperature of hypochlorous is low, decomposition of hypochlorous is suppressed and generation of gas is suppressed. However, in order to realize this, it is necessary to cover the transport pipe 4, which tends to be long in the first place, with a cold insulating material over the entire length, and it cannot be denied that enormous costs are required. For this reason, it is not realistic to cover the transport pipe 4 with a cold insulating material.

本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、簡単な構成で、次亜注入量の不規則な変動を防止し、注入地点への次亜の注入を精度良く行える次亜塩素酸ナトリウム注入装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and has a simple configuration, prevents irregular fluctuations in the hypochlorous injection amount, and performs hypochlorous acid that can accurately inject hypochlorous acid into the injection point. An object is to provide a sodium injection device.

本発明者らは、上記目的を達成するため、後述する実施例に示すように、種々の条件で実機の次亜注入試験を実施して次亜注入量の経時的挙動を調査し、鋭意検討を重ねた。その結果、下記(a)および(b)に示す知見を得た。   In order to achieve the above-mentioned object, the inventors conducted a sub-injection test of the actual machine under various conditions to investigate the temporal behavior of the sub-injection amount, as shown in the examples described later, and conducted intensive studies. Repeated. As a result, the knowledge shown in the following (a) and (b) was obtained.

(a)ポンプ吐出口の内径よりも小さい内径の輸送配管を単に採用することにより、輸送配管内を流れる次亜の流速が、ポンプ吐出口を流れる次亜の流速よりも速くなり、その結果として、輸送配管から放出される次亜の注入量の不規則な変動を防止することができる。ただし、輸送配管の内径がポンプ吐出口の内径よりも著しく小さいと、かえって次亜注入量の不規則な変動が生じることから、輸送配管の内径の縮小には制限がある。   (A) By simply adopting a transport pipe having an inner diameter smaller than the inner diameter of the pump discharge port, the flow rate of the sub-aqueous flowing through the transport pipe becomes faster than the flow rate of the sub-flow flowing through the pump discharge port. Irregular fluctuations in the injection quantity of the hypochlorous discharged from the transportation pipe can be prevented. However, if the inner diameter of the transport pipe is remarkably smaller than the inner diameter of the pump discharge port, an irregular variation of the sub-injection amount occurs.

(b)輸送配管に背圧弁を設置したり、ガス抜き管を設置したりすることにより、次亜注入量の不規則な変動の抑制が期待できる。   (B) By installing a back pressure valve or a gas vent pipe in the transport pipe, it is possible to expect irregular fluctuations in the hypoinjection amount.

本発明は、上記(a)および(b)の知見に基づいて完成されたものであり、その要旨は、下記の次亜塩素酸ナトリウム注入装置にある。すなわち、次亜を貯留するタンクと、このタンク内の次亜を吸い込んで吐出するポンプと、このポンプの吐出口に接続され次亜を注入地点まで輸送し放出する輸送配管と、を備える次亜注入装置であって、ポンプの吐出口の内径Dと輸送配管の内径dの関係が、下記(1)式の条件を満足することを特徴とする次亜注入装置である。
0.25D≦d<D ・・・(1)
The present invention has been completed based on the above findings (a) and (b), and the gist thereof is the following sodium hypochlorite injection device. In other words, a hypochlorous comprising a tank for storing hypochlorous, a pump that sucks and discharges hypochlorous in the tank, and a transport pipe that is connected to the discharge port of the pump and transports and discharges hypoxia to the injection point. A hypo-injection device in which the relationship between the inner diameter D of the discharge port of the pump and the inner diameter d of the transport pipe satisfies the condition of the following expression (1).
0.25D ≦ d <D (1)

上記の次亜注入装置においては、前記ポンプの吐出口を流れる次亜塩素酸ナトリウムの流速Vと、前記輸送配管の内部を流れる次亜塩素酸ナトリウムの流速vの関係が、下記(2)式の条件を満足することが好ましい。
V<v≦10V ・・・(2)
In the hypochlorous injection device, the relationship between the flow velocity V of sodium hypochlorite flowing through the discharge port of the pump and the flow velocity v of sodium hypochlorite flowing through the inside of the transport pipe is expressed by the following equation (2): It is preferable to satisfy the following conditions.
V <v ≦ 10V (2)

また、上記の次亜注入装置は、前記輸送配管の出口近傍の経路に背圧弁が設けられた構成にすることができる。   In addition, the hypo-injection apparatus can be configured such that a back pressure valve is provided in a path near the outlet of the transport pipe.

さらに、上記の次亜注入装置は、前記輸送配管の経路にガス抜き管が接続された構成にすることもできる。   Further, the hypo-injection apparatus can be configured such that a gas vent pipe is connected to the route of the transport pipe.

そして、上記の次亜注入装置では、前記ポンプが一軸偏心ねじポンプであることが好ましい。   And in said hypo-injection apparatus, it is preferable that the said pump is a uniaxial eccentric screw pump.

本発明の次亜注入装置によれば、上記(1)式を満足する輸送配管を単に採用することにより、次亜注入量の不規則な変動を防止することができ、注入地点への次亜の注入を精度良く行うことが可能になる。   According to the hypo-injection apparatus of the present invention, by simply adopting the transport pipe satisfying the above formula (1), irregular fluctuations in the hypo-injection amount can be prevented, and the hypo- Can be accurately injected.

従来の次亜塩素酸ナトリウム注入装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the conventional sodium hypochlorite injection apparatus. 本発明の第1実施形態である次亜塩素酸ナトリウム注入装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the sodium hypochlorite injection apparatus which is 1st Embodiment of this invention. 本発明の次亜塩素酸ナトリウム注入装置に用いられるポンプの一例である一軸偏心ねじポンプの縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the uniaxial eccentric screw pump which is an example of the pump used for the sodium hypochlorite injection apparatus of this invention. 本発明の第2実施形態である次亜塩素酸ナトリウム注入装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the sodium hypochlorite injection apparatus which is 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態である次亜塩素酸ナトリウム注入装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the sodium hypochlorite injection apparatus which is 3rd Embodiment of this invention. 実施例における試験No.1の試験結果として次亜注入量の経時的挙動を示す図である。Test No. in Examples It is a figure which shows the time-dependent behavior of the hypoinjection amount as a test result of 1. 実施例における試験No.2の試験結果として次亜注入量の経時的挙動を示す図である。Test No. in Examples It is a figure which shows the time-dependent behavior of the hypoinjection amount as a test result of 2. 実施例における試験No.3の試験結果として次亜注入量の経時的挙動を示す図である。Test No. in Examples FIG. 6 is a diagram showing the temporal behavior of the hypoinjection amount as a test result of 3. 実施例における試験No.4の試験結果として次亜注入量の経時的挙動を示す図である。Test No. in Examples FIG. 4 is a diagram showing the temporal behavior of the hypoinjection amount as a test result of FIG. 実施例における試験No.5の試験結果として次亜注入量の経時的挙動を示す図である。Test No. in Examples FIG. 5 is a diagram showing the temporal behavior of the hypoinjection amount as a test result of FIG. 実施例における試験No.6の試験結果として次亜注入量の経時的挙動を示す図である。Test No. in Examples FIG. 6 is a diagram showing the temporal behavior of the hypoinjection amount as a test result of FIG. 実施例における試験No.7の試験結果として次亜注入量の経時的挙動を示す図である。Test No. in Examples FIG. 7 is a diagram showing the temporal behavior of the hypoinjection amount as a test result of FIG.

以下に、本発明の次亜塩素酸ナトリウム注入装置について、その実施形態を詳述する。   Below, the embodiment is explained in full detail about the sodium hypochlorite injection device of the present invention.

<第1実施形態>
図2は、本発明の第1実施形態である次亜塩素酸ナトリウム注入装置の構成を模式的に示す図である。同図に示す第1実施形態の次亜注入装置1は、前記図1に示す従来の次亜注入装置101の構成を基本とし、それと同じ構成には同一の符号を付し、重複する説明は適宜省略する。
<First Embodiment>
FIG. 2 is a diagram schematically showing the configuration of the sodium hypochlorite injection device according to the first embodiment of the present invention. The first sub-injection apparatus 1 of the first embodiment shown in the figure is based on the configuration of the conventional sub-injection apparatus 101 shown in FIG. 1, and the same components are denoted by the same reference numerals, and overlapping explanations are omitted. Omitted as appropriate.

図2に示すように、本実施形態の次亜注入装置1は、タンク2とポンプ3と輸送配管4とを備え、ポンプ3の吸込み口3aにタンク2からの導入配管5が接続され、ポンプ3の吐出口3bに輸送配管4が接続されている。タンク2とポンプ3は、管理棟B内に集約して設置され、輸送配管4は、ポンプ3から注入地点Aまでにわたり敷設されている。   As shown in FIG. 2, the hypo-injection apparatus 1 of the present embodiment includes a tank 2, a pump 3, and a transport pipe 4, and an inlet pipe 5 from the tank 2 is connected to a suction port 3 a of the pump 3. A transport pipe 4 is connected to the three discharge ports 3b. The tank 2 and the pump 3 are collectively installed in the management building B, and the transport pipe 4 is laid from the pump 3 to the injection point A.

本実施形態では、ポンプ3の吐出口3bに接続する輸送配管4は、ポンプ3の吐出口3bの内径Dと輸送配管4の内径dの関係が、下記(1)式の条件を満足するものを採用する。
0.25D≦d<D ・・・(1)
In this embodiment, the transport pipe 4 connected to the discharge port 3b of the pump 3 is such that the relationship between the inner diameter D of the discharge port 3b of the pump 3 and the inner diameter d of the transport pipe 4 satisfies the condition of the following expression (1). Is adopted.
0.25D ≦ d <D (1)

上記(1)式の条件を規定する理由は、以下のとおりである。   The reason for prescribing the condition of the above formula (1) is as follows.

輸送配管4の内径dが、d<Dの条件、すなわちポンプ3の吐出口3bの内径Dよりも小さい条件であると、輸送配管4の内部を流れる次亜の流速vが、ポンプ3の吐出口3bを流れる次亜の流速Vよりも速くなる。これにより、ポンプ3から吐出された次亜は、前記図1に示す従来の次亜注入装置101の場合よりも、輸送配管4内を高速で流通し、早期に輸送配管4から放出される。このため、次亜が輸送配管4を流通する過程でガスを発生する前に輸送配管4から放出され、仮に、輸送配管4内でガスを発生したとしても、発生したガスは、微細な気泡状態のまま送り出される。このことから、輸送配管4の出口4bから放出される次亜の注入量は、不規則に変動することなく安定する。しかも、指示される注入量が必要に応じて変更されたときには、輸送配管4から放出される次亜の注入量は、変更された指示注入量にタイムリーに追従する。   When the inner diameter d of the transport pipe 4 is a condition of d <D, that is, a condition that is smaller than the inner diameter D of the discharge port 3b of the pump 3, the sub-flow velocity v flowing inside the transport pipe 4 is It becomes faster than the sub-flow velocity V flowing through the outlet 3b. Thereby, the hypo discharge discharged from the pump 3 circulates in the transport pipe 4 at a higher speed and is discharged from the transport pipe 4 at an earlier stage than in the case of the conventional hypo-injection apparatus 101 shown in FIG. For this reason, even if Hya is released from the transport pipe 4 before generating the gas in the process of flowing through the transport pipe 4, and the gas is generated in the transport pipe 4, the generated gas is in a fine bubble state. It is sent out as it is. For this reason, the injection quantity of the hypochlorous discharged from the outlet 4b of the transport pipe 4 is stabilized without fluctuating irregularly. Moreover, when the instructed injection amount is changed as necessary, the sub-injection amount discharged from the transport pipe 4 follows the changed instruction injection amount in a timely manner.

したがって、輸送配管4の内径dが、d<Dの条件を満足すれば、次亜が輸送配管4を流通する過程でガスの発生を抑制することができ、その結果として、次亜注入量の不規則な変動を防止することができ、注入地点Aへの次亜の注入を精度良く行うことが可能になる。ガスの発生をより効果的に抑制するには、d≦0.8Dであり、より好ましくは、d≦0.6Dである。   Therefore, if the inner diameter d of the transport pipe 4 satisfies the condition of d <D, it is possible to suppress the generation of gas in the process of the flow of the sub-flow through the transport pipe 4, and as a result, Irregular fluctuations can be prevented, and the next sub-injection to the injection point A can be performed with high accuracy. In order to suppress the generation of gas more effectively, d ≦ 0.8D, and more preferably d ≦ 0.6D.

ただし、輸送配管4の内径dは、小さければ良いという訳ではない。輸送配管4の内径dがポンプ3の吐出口3bの内径Dよりも著しく小さい条件であると、輸送配管4の内部を流れる次亜の流速vが速くなり過ぎ、かえって次亜注入量の不規則な変動が生じる。そこで、輸送配管4内の次亜の流速vが過大になるのに伴って生じる次亜注入量の不規則な変動を防止するために、輸送配管4の内径dは、0.25D≦dの条件を満足することとする。より好ましくは、0.35D≦dであり、さらに好ましくは、0.4D≦dである。   However, the inner diameter d of the transport pipe 4 is not necessarily small. If the inner diameter d of the transport pipe 4 is significantly smaller than the inner diameter D of the discharge port 3b of the pump 3, the flow velocity v of the secondary flow flowing inside the transport pipe 4 becomes too fast. Fluctuations occur. Therefore, in order to prevent irregular fluctuations in the amount of hypochlorous injection occurring as the flow velocity v of the sub-arc in the transport pipe 4 becomes excessive, the inner diameter d of the transport pipe 4 is 0.25D ≦ d. Satisfy the conditions. More preferably, 0.35D ≦ d, and still more preferably 0.4D ≦ d.

輸送配管4の種類は、輸送対象が次亜であることから、輸送配管4の内面が次亜と反応して腐食する金属などを除き、特に限定はない。例えば、HIVP管(硬質塩化ビニル管)が好適である。軽量で耐圧力に富み柔軟性のある、いわゆるブレードホースも好適である。   The type of the transport pipe 4 is not particularly limited except that the inner surface of the transport pipe 4 reacts with the sub-corrosion and corrodes because the transport target is the sub-hya. For example, an HIV pipe (hard vinyl chloride pipe) is suitable. A so-called blade hose that is lightweight, has high pressure resistance and is flexible is also suitable.

なお、輸送配管4は、通常、注入地点Aに至る経路に、幾つかの折れ曲がったエルボ部を有する。一般に、エルボ部では圧力損失が発生し、その圧力損失もエルボ部の設置数に応じて増加する傾向になる。このため、エルボ部の設置数が上記(1)式の条件に影響し得るとも推察されるが、通常の設置数においては、上記(1)式の条件にほとんど影響はない。   In addition, the transport pipe 4 usually has several bent elbow parts on the route to the injection point A. Generally, pressure loss occurs in the elbow part, and the pressure loss tends to increase according to the number of elbow parts installed. For this reason, it is speculated that the number of elbows installed may affect the condition of the above equation (1), but the normal number of installations hardly affects the condition of the above equation (1).

上記したポンプ3の吐出口3bの内径Dと輸送配管4の内径dに関する規定((1)式の条件)に対応し、ポンプ3の吐出口3bを流れる次亜の流速Vと、輸送配管4の内部を流れる次亜の流速vの関係は、下記(2)式の条件を満足することが好ましい。
V<v≦10V ・・・(2)
Corresponding to the above-mentioned regulation (condition (1)) regarding the inner diameter D of the discharge port 3b of the pump 3 and the inner diameter d of the transport pipe 4, the sub-flow velocity V flowing through the discharge port 3b of the pump 3 and the transport pipe 4 It is preferable that the relationship between the flow velocity v of the sub-flow flowing through the inside satisfies the condition of the following formula (2).
V <v ≦ 10V (2)

輸送配管4内の次亜の流速vが、V<vの条件を満足すれば、次亜が輸送配管4内を高速で流通するのに伴って、その流通過程でガスの発生を抑制することができ、その結果として、次亜注入量の不規則な変動を防止することができ、注入地点Aへの次亜の注入を精度良く行うことが可能になるからである。このため、輸送配管4内の次亜の流速vは、V<vの条件を満足することが好ましい。より好ましくは、1.5V≦vであり、さらに好ましくは、2.5V≦vである。   If the sub-flow velocity v in the transport pipe 4 satisfies the condition of V <v, the generation of gas in the flow process will be suppressed as the sub-stream flows through the transport pipe 4 at high speed. As a result, it is possible to prevent irregular fluctuations in the hypochlorous injection amount, and to perform the sublimation injection into the pouring point A with high accuracy. For this reason, it is preferable that the sub-flow velocity v in the transport pipe 4 satisfies the condition of V <v. More preferably, 1.5V ≦ v, and still more preferably 2.5V ≦ v.

一方、輸送配管4内の次亜の流速vが、v≦10Vの条件を満足すれば、その流速vが過大になるのに伴って生じる次亜注入量の不規則な変動を防止することができ、注入地点Aへの次亜の注入を精度良く行うことが可能になるからである。このため、輸送配管4内の次亜の流速vは、v≦10Vの条件を満足することが好ましい。より好ましくは、v≦8Vであり、さらに好ましくは、v≦6Vである。   On the other hand, if the sub-flow velocity v in the transport pipe 4 satisfies the condition of v ≦ 10 V, it is possible to prevent irregular fluctuations in the hypo-injection amount that occurs as the flow velocity v becomes excessive. This is because it is possible to perform the next-subject injection to the injection point A with high accuracy. For this reason, it is preferable that the sub-flow velocity v in the transport pipe 4 satisfies the condition of v ≦ 10V. More preferably, v ≦ 8V, and further preferably v ≦ 6V.

また、本実施形態では、ポンプ3として一軸偏心ねじポンプを用いることを想定し、ポンプ制御用の流量計6が輸送配管4の出口4bの近傍(注入地点Aの傍)の経路に設けられている。この流量計6により、輸送配管4の出口4b近傍を流れる次亜の流量が逐次計測される。その流量計6による計測値は、輸送配管4の出口4bから放出される次亜の注入量に相当する。そして、その流量計6による計測値に基づき、図示しないコントローラがポンプ3の駆動を逐次調整し、次亜注入量をフィードバック制御している。これにより、本実施形態の次亜注入装置1は、前記図1に示す次亜注入装置101のように、ポンプ制御用の流量計6が輸送配管4の入口4aの近傍(ポンプ3の吐出口3b近く)の経路に設けられたものと比較し、次亜注入量をより正確にフィードバック制御することができる。   In the present embodiment, it is assumed that a uniaxial eccentric screw pump is used as the pump 3, and a flow meter 6 for pump control is provided in the path near the outlet 4 b of the transport pipe 4 (near the injection point A). Yes. With this flow meter 6, the sub-amount of flow flowing in the vicinity of the outlet 4 b of the transport pipe 4 is sequentially measured. The measurement value obtained by the flow meter 6 corresponds to the injection amount of hypochlorous discharged from the outlet 4 b of the transport pipe 4. And based on the measured value by the flowmeter 6, the controller which is not illustrated adjusts the drive of the pump 3 sequentially and feedback-controls the amount of hypo-subsequent injection. As a result, in the hypo-injection apparatus 1 of the present embodiment, the flow meter 6 for pump control is in the vicinity of the inlet 4a of the transport pipe 4 (the discharge port of the pump 3), like the hypo-injection apparatus 101 shown in FIG. The sub-injection amount can be feedback-controlled more accurately than that provided in the path 3b).

本実施形態では、輸送配管4の入口4aの近傍の経路にも流量計7が設けられている。この流量計7は、ポンプ3の吐出口3b近くで、ポンプ3から吐出される次亜の注入量を監視のために逐次計測するものであり、この流量計7による計測値は、ポンプ3のフィードバック制御には用いられない。もっとも、ポンプ3のフィードバック制御は、流量計6、7のいずれによる計測値を用いても構わない。   In the present embodiment, the flow meter 7 is also provided in the route in the vicinity of the inlet 4 a of the transport pipe 4. The flow meter 7 measures the sub-injection quantity discharged from the pump 3 in the vicinity of the discharge port 3b of the pump 3 for monitoring, and the measured value by the flow meter 7 It is not used for feedback control. But the feedback control of the pump 3 may use the measured value by either of the flow meters 6 and 7.

本実施形態の次亜注入装置1は、ポンプ3として、一軸偏心ねじポンプなどの回転ポンプのほかに、ダイヤフラムポンプなどの往復動ポンプを用いることができる。往復動ポンプを用いる場合、ポンプ制御用の流量計6は設置しないのが一般的である。   The hypo-injection apparatus 1 of the present embodiment can use a reciprocating pump such as a diaphragm pump in addition to a rotary pump such as a uniaxial eccentric screw pump as the pump 3. When using a reciprocating pump, it is common not to install the flow meter 6 for pump control.

図3は、本発明の次亜塩素酸ナトリウム注入装置に用いられるポンプの一例である一軸偏心ねじポンプの縦断面図である。同図に示すように、ポンプ3は、一軸偏心ねじポンプであり、雄ねじ形ロータ31と雌ねじ形ステータ32とを備える。ロータ31は、断面が真円形で1条ねじの螺旋状に形成されたものである。ステータ32は、ロータ31を挿通させる内孔32aを有する。この内孔32aには、ロータ31の2倍のピッチの2条ねじが形成され、内孔32aの断面は長円形となっている。ロータ31は、ステータ32の内孔32aの中心軸から偏心して配置されており、後述するモータの主軸51から回転の動力が伝達されることにより、ステータ32の内孔32aの中心軸を中心として公転しながら、自転する。   FIG. 3 is a longitudinal sectional view of a uniaxial eccentric screw pump which is an example of a pump used in the sodium hypochlorite injection device of the present invention. As shown in the figure, the pump 3 is a uniaxial eccentric screw pump and includes a male screw rotor 31 and a female screw stator 32. The rotor 31 has a true circular cross section and is formed in a spiral shape with a single thread. The stator 32 has an inner hole 32a through which the rotor 31 is inserted. A double thread having a pitch twice that of the rotor 31 is formed in the inner hole 32a, and the inner hole 32a has an oval cross section. The rotor 31 is arranged eccentrically from the central axis of the inner hole 32a of the stator 32, and rotation power is transmitted from a main shaft 51 of a motor, which will be described later, thereby centering on the central axis of the inner hole 32a of the stator 32. Rotates while revolving.

ステータ32は、外周を外筒33によって保持されている。この外筒33の前端には、吐出口3bとなるエンドスタット34が取り付けられている。このエンドスタット34の前端には、上述した(1)式の条件を満足する内径dの輸送配管4が連結される。ステータ32の外筒33の後端には、円筒状のフロントハウジング35が取り付けられ、このフロントハウジング35の後端には、有底円筒状のリアハウジング36が取り付けられている。フロントハウジング35の後端寄りには、吸込み口3aとなる吸込み管35aが突き出している。この吸込み管35aには、上述したタンク2からの導入配管5(図2参照)が連結される。   The outer periphery of the stator 32 is held by an outer cylinder 33. At the front end of the outer cylinder 33, an endstat 34 serving as a discharge port 3b is attached. A transport pipe 4 having an inner diameter d that satisfies the condition of the above-described expression (1) is connected to the front end of the endstat 34. A cylindrical front housing 35 is attached to the rear end of the outer cylinder 33 of the stator 32, and a bottomed cylindrical rear housing 36 is attached to the rear end of the front housing 35. Near the rear end of the front housing 35, a suction pipe 35a serving as a suction port 3a protrudes. The suction pipe 35a is connected to the introduction pipe 5 (see FIG. 2) from the tank 2 described above.

ここで、図3に示す一軸偏心ねじポンプ3は、モータからの動力を磁気によってロータ31に伝達するマグネットカップリング型のポンプである。このため、以下の構成となっている。   Here, the uniaxial eccentric screw pump 3 shown in FIG. 3 is a magnet coupling pump that transmits power from the motor to the rotor 31 by magnetism. For this reason, it has the following configuration.

リアハウジング36の後方には、図示しないモータが配設されている。このモータは、フロントハウジング35またはリアハウジング36に固定されており、ステータ32の内孔32aの中心軸上に主軸51を有する。このモータの主軸51には、リアハウジング36を包囲する円筒状の駆動側磁石保持部材52が取り付けられている。この駆動側磁石保持部材52の内周には、リアハウジング36の外周面と対向して駆動側磁石53が接合されている。   A motor (not shown) is disposed behind the rear housing 36. This motor is fixed to the front housing 35 or the rear housing 36, and has a main shaft 51 on the central axis of the inner hole 32 a of the stator 32. A cylindrical driving side magnet holding member 52 surrounding the rear housing 36 is attached to the main shaft 51 of the motor. A driving magnet 53 is joined to the inner periphery of the driving magnet holding member 52 so as to face the outer peripheral surface of the rear housing 36.

リアハウジング36の内部には、円筒状の従動側磁石保持部材42が収容されている。この従動側磁石保持部材42の外周には、駆動側磁石53と対向して従動側磁石43が埋設されている。従動側磁石保持部材42の軸心部には、従動軸としてのドライブシャフト38が結合されている。ドライブシャフト38は、フロントハウジング35の後端付近まで延び出しており、その前端にフランジ部38aを有する。このフランジ部38aには、ユニバーサルジョイントなどの自在継手39を介してカップリングロッド40が連結され、このカップリングロッド40には、ユニバーサルジョイントなどの自在継手41を介して雄ねじ形ロータ31が連結されている。   A cylindrical driven magnet holding member 42 is accommodated in the rear housing 36. A driven magnet 43 is embedded in the outer periphery of the driven magnet holding member 42 so as to face the driving magnet 53. A drive shaft 38 as a driven shaft is coupled to the axial center portion of the driven magnet holding member 42. The drive shaft 38 extends to the vicinity of the rear end of the front housing 35, and has a flange portion 38a at the front end thereof. A coupling rod 40 is connected to the flange portion 38a via a universal joint 39 such as a universal joint. The male threaded rotor 31 is connected to the coupling rod 40 via a universal joint 41 such as a universal joint. ing.

また、ドライブシャフト38は、その前端側をすべり軸受ハウジング37によって回転可能に支持されている。すべり軸受ハウジング37は、フロントハウジング35とリアハウジング36のそれぞれの内部を仕切るように、フロントハウジング35とリアハウジング36によって挟持されている。   The drive shaft 38 is rotatably supported at its front end side by a plain bearing housing 37. The plain bearing housing 37 is sandwiched between the front housing 35 and the rear housing 36 so as to partition the insides of the front housing 35 and the rear housing 36.

このような構成の図3に示すマグネットカップリング型の一軸偏心ねじポンプ3は、モータの主軸51が回転することにより、これと一体で駆動側磁石保持部材52が回転する。これに伴い、駆動側磁石53と従動側磁石43との磁気的な引力の作用により、従動側磁石保持部材42が同期して回転し、これと一体でドライブシャフト38が回転する。これにより、ドライブシャフト38に自在継手39、カップリングロッド40および自在継手41を介して連結された雄ねじ形ロータ31が、雌ねじ形ステータ32の内孔32aの中心軸を中心として公転しながら、自転する。こうして、ロータ31とステータ32の内孔32aとの間に形成された空間が、ステータ32の後端から前端に向けて順次繰り出され、その結果、吸込み口3aからフロントハウジング35内に次亜が吸い込まれるとともに、吸い込まれた次亜が吐出口3bから吐出される。   In the magnet coupling type uniaxial eccentric screw pump 3 shown in FIG. 3 having such a configuration, the drive-side magnet holding member 52 rotates integrally with the main shaft 51 of the motor. Along with this, the driven magnet holding member 42 rotates synchronously by the action of the magnetic attractive force of the driving magnet 53 and the driven magnet 43, and the drive shaft 38 rotates integrally therewith. As a result, the male threaded rotor 31 connected to the drive shaft 38 via the universal joint 39, the coupling rod 40 and the universal joint 41 revolves around the central axis of the inner hole 32a of the female threaded stator 32 while rotating. To do. In this way, the space formed between the rotor 31 and the inner hole 32a of the stator 32 is sequentially fed out from the rear end to the front end of the stator 32. As a result, the sub-arc is introduced into the front housing 35 from the suction port 3a. While being sucked in, the sucked hypoxia is discharged from the discharge port 3b.

マグネットカップリング型の一軸偏心ねじポンプ3は、脈動がなく連続的に定量の流体を吐出することができ、しかも、流体をリアハウジング36によって完全に封入することができるので、次亜注入装置1に特に好適である。   The magnetic coupling type uniaxial eccentric screw pump 3 can discharge a constant amount of fluid continuously without pulsation, and can completely enclose the fluid by the rear housing 36. Is particularly suitable.

なお、図3に示す一軸偏心ねじポンプ3では、輸送配管4がエンドスタット34に連結され、タンク2からの導入配管5がフロントハウジング35の吸込み管35aに連結された態様を示しているが、これとは逆に、輸送配管4が吸込み管35aに連結され、導入配管5がエンドスタット34に連結された態様でも構わない。モータの主軸51を逆回転させれば、エンドスタット34から次亜を吸い込み、吸い込んだ次亜を吸込み管35aから輸送配管4に吐出することが可能だからである。   In the uniaxial eccentric screw pump 3 shown in FIG. 3, the transport pipe 4 is connected to the endstat 34, and the introduction pipe 5 from the tank 2 is connected to the suction pipe 35 a of the front housing 35. On the contrary, the transport pipe 4 may be connected to the suction pipe 35 a and the introduction pipe 5 may be connected to the endstat 34. This is because if the main shaft 51 of the motor is rotated in the reverse direction, it is possible to suck in the hypochlorous from the endstat 34 and discharge the sucked hypochlorous acid into the transport pipe 4 from the suction pipe 35a.

<第2実施形態>
図4は、本発明の第2実施形態である次亜塩素酸ナトリウム注入装置の構成を模式的に示す図である。同図に示す第2実施形態の次亜注入装置1は、前記図2に示す第1実施形態の次亜注入装置1と比較し、以下の点で構成が相違する。
Second Embodiment
FIG. 4 is a diagram schematically showing a configuration of a sodium hypochlorite injection device according to the second embodiment of the present invention. The sub-injection apparatus 1 of the second embodiment shown in the figure is different from the sub-injection apparatus 1 of the first embodiment shown in FIG. 2 in the following points.

図4に示すように、本実施形態の次亜注入装置1では、輸送配管4の出口4bの近傍(注入地点Aの傍)の経路に、背圧弁8が設けられている。背圧弁8は、輸送配管4を流通する次亜の圧力を、背圧弁8の上流側全域にわたり、一定の圧力(例えば、ゲージ圧で0.1MPa)に保つ役割を担う。これにより、輸送配管4内の圧力が一定の圧力に絶えず高まるため、輸送配管4内でガスの発生が抑制される。このため、次亜注入量の不規則な変動の抑制が大いに期待できる。   As shown in FIG. 4, in the hypo-injection apparatus 1 of the present embodiment, a back pressure valve 8 is provided in the path near the outlet 4 b of the transport pipe 4 (side the injection point A). The back pressure valve 8 plays a role of keeping the secondary pressure flowing through the transport pipe 4 at a constant pressure (for example, 0.1 MPa as a gauge pressure) over the entire upstream side of the back pressure valve 8. Thereby, since the pressure in the transport pipe 4 constantly increases to a constant pressure, the generation of gas in the transport pipe 4 is suppressed. For this reason, suppression of irregular fluctuations in the hypo-injection amount can be greatly expected.

ただし、本実施形態の次亜注入装置1では、指示される注入量が変更されたとき、指示注入量に対し、輸送配管4から現実に放出される次亜の注入量の応答遅れが発生し、現実の次亜注入量の追従性が劣るという不都合がある。これは、輸送配管4内で次亜がガスを含んでいると、次亜は見かけ上で圧縮性流体となり、背圧弁8の開閉動作を鈍くすることに起因する。   However, in the hypo-injection apparatus 1 of the present embodiment, when the instructed injection amount is changed, a response delay of the sub-injection amount actually discharged from the transport pipe 4 occurs with respect to the instructed injection amount. There is an inconvenience that the followability of the actual hypo-injection amount is inferior. This is due to the fact that when the sub-a contains gas in the transport pipe 4, the sub-a appears to be a compressible fluid and blunts the opening / closing operation of the back pressure valve 8.

<第3実施形態>
図5は、本発明の第3実施形態である次亜塩素酸ナトリウム注入装置の構成を模式的に示す図である。同図に示す第3実施形態の次亜注入装置1は、前記図2に示す第1実施形態の次亜注入装置1と比較し、以下の点で構成が相違する。
<Third Embodiment>
FIG. 5 is a diagram schematically showing a configuration of a sodium hypochlorite injection device according to the third embodiment of the present invention. The sub-injection apparatus 1 of the third embodiment shown in the figure is different from the sub-injection apparatus 1 of the first embodiment shown in FIG. 2 in the following points.

図5に示すように、本実施形態の次亜注入装置1では、輸送配管4の経路に、ガス抜き管9が設けられている。ガス抜き管9は、大気に開放されており、輸送配管4内のガスを経路の外に排出する役割を担う。これにより、仮に、輸送配管4内でガスが発生し、これに伴って、輸送配管4内の次亜にガスが含まれる場合であっても、そのガスはガス抜き管9を通じて輸送配管4の経路外に排出される。このため、次亜注入量の不規則な変動の抑制が少なからず期待できる。   As shown in FIG. 5, in the hypo-injection apparatus 1 of the present embodiment, a gas vent pipe 9 is provided in the route of the transport pipe 4. The gas vent pipe 9 is open to the atmosphere and plays a role of discharging the gas in the transport pipe 4 out of the path. As a result, even if gas is generated in the transport pipe 4 and the gas is contained in the secondary pipe in the transport pipe 4 along with this, the gas passes through the gas vent pipe 9 to the transport pipe 4. It is discharged out of the route. For this reason, suppression of the irregular fluctuation | variation of a hypochlorous injection amount is expectable not a little.

ガス抜き管9の設置位置は、特に限定はないが、図5に示すように、輸送配管4の出口4bの近傍(注入地点Aの傍)が好ましい。仮に、輸送配管4内でガスが発生するとすれば、経路の下流側ほど次第にガスが増加していくからである。また、経路の下流にガス抜き管9を設置すれば、ガス抜き管9の高さを低くできるメリットもある。経路の上流側にガス抜き管9を設置すると、配管抵抗分を見越した高さの長いガス抜き管9を設置する必要があるからである。   Although the installation position of the degassing pipe 9 is not particularly limited, as shown in FIG. 5, the vicinity of the outlet 4b of the transport pipe 4 (side the injection point A) is preferable. This is because if gas is generated in the transport pipe 4, the gas gradually increases toward the downstream side of the path. Moreover, if the gas vent pipe 9 is installed downstream of the path, there is an advantage that the height of the gas vent pipe 9 can be lowered. This is because if the gas vent pipe 9 is installed on the upstream side of the path, it is necessary to install a gas vent pipe 9 having a long height in anticipation of the pipe resistance.

ただし、本実施形態の次亜注入装置1において、1本のガス抜き管9を設置するのみでは、次亜注入量の不規則な変動を効果的に抑制できないおそれがある。輸送配管4中を流れるガスが次亜の一部となっているため、ガス抜き管9にてガスが排出されている間は、ガス抜き管9以降の輸送配管4内で次亜の流量がガスの体積分だけ減少してしまうからである。このため、複数本のガス抜き管9を設置するのが好ましい。   However, in the hypo-injection apparatus 1 of the present embodiment, there is a possibility that irregular fluctuations in the hypo-injection amount cannot be effectively suppressed only by installing one gas vent pipe 9. Since the gas flowing in the transport pipe 4 is a part of the sub-a, while the gas is exhausted in the gas vent pipe 9, the flow rate of the sub-arc in the transport pipe 4 after the gas vent pipe 9 is This is because the gas volume decreases. For this reason, it is preferable to install a plurality of gas vent pipes 9.

もっとも、複数本のガス抜き管9を設置する場合、その設置に要するコストが嵩むという不都合がある。また、ガス抜き管9は、その機能上、大気に開放されているため、ガス抜き管9より下流の輸送配管4で詰まりやバルブの操作ミス(全閉)が発生すると、ガス抜き管9から次亜が溢れる。次亜は危険液なので、溢れても問題にならない場所(例えばタンク2)までガス抜き管9を戻すか、溢れた場合にそのことを検知できるセンサを設置する等の対策を講じるのが普通である。このため、ガス抜き管9を複数本設置するとなると、付帯設備が複雑となり、コストも嵩む。   However, when a plurality of gas vent pipes 9 are installed, there is a disadvantage that the cost required for the installation increases. Further, since the gas vent pipe 9 is open to the atmosphere due to its function, if the transport pipe 4 downstream of the gas vent pipe 9 is clogged or a valve operation error (fully closed) occurs, the gas vent pipe 9 Nexta is overflowing. Since the next liquid is a dangerous liquid, it is common to take measures such as returning the gas vent pipe 9 to a place where it does not become a problem even if it overflows (for example, the tank 2) or installing a sensor that can detect when it overflows. is there. For this reason, when a plurality of gas vent pipes 9 are installed, the incidental facilities become complicated and the cost increases.

また、本実施形態の次亜注入装置1では、前記第2実施形態と同様に、指示される注入量が変更されたとき、指示注入量に対し、現実の次亜注入量の追従性が劣るという不都合がある。   Further, in the hypo-injection apparatus 1 of the present embodiment, when the instructed injection amount is changed, the followability of the actual sub-injection amount is inferior to the instructed injection amount, as in the second embodiment. There is an inconvenience.

なお、本実施形態の次亜注入装置1に適用したガス抜き管9は、前記第2実施形態の次亜注入装置1に付加することもできる。   The degassing pipe 9 applied to the hypo-injection apparatus 1 of the present embodiment can be added to the hypo-sub-injection apparatus 1 of the second embodiment.

前記図1〜図5に示す次亜注入装置を用い、下記の表1に示す条件で実機の次亜注入試験を実施し、次亜注入量の経時的挙動を調査した。ここでの次亜注入試験は、次亜がガスを発生し易い夏場に実施した。また、ポンプのフィードバック制御は、輸送配管の出口近傍に設けた流量計による計測値を用いて行った。   Using the hypo-injection apparatus shown in FIGS. 1 to 5, a hypo-injection test of the actual machine was performed under the conditions shown in Table 1 below, and the temporal behavior of the hypo-injection amount was investigated. This hypoinjection test was conducted in the summer when Hypoia is likely to generate gas. Moreover, the feedback control of the pump was performed using the measured value by the flowmeter provided in the vicinity of the exit of the transportation piping.

Figure 2013192977
Figure 2013192977

[試験条件]
試験No.1〜7のいずれでも、ポンプの吐出口の内径は16mmで一定とし、輸送配管の全長は約100mで一律とした。試験No.1、2は、従来の次亜注入装置を用いた試験であり、内径がポンプ吐出口の内径と同じ16mm(d=D)の輸送配管を採用した。そのうちの試験No.1ではポンプとして一軸偏心ねじポンプを採用し、試験No.2ではポンプとしてダイヤフラムポンプを採用した。
[Test conditions]
Test No. In any of 1 to 7, the inner diameter of the discharge port of the pump was constant at 16 mm, and the total length of the transport piping was uniform at about 100 m. Test No. 1 and 2 are tests using a conventional hypo-injection apparatus, and a transport pipe having an inner diameter of 16 mm (d = D), the same as the inner diameter of the pump discharge port, was adopted. Of these, test no. 1 employs a single-shaft eccentric screw pump as the pump. In No. 2, a diaphragm pump was used as the pump.

また、試験No.3〜7のいずれでも、ポンプとして一軸偏心ねじポンプを採用した。そのうちの試験No.3、4は、本発明の第1実施形態で規定する(1)式の条件を満足する次亜注入装置を用いた試験であり、試験No.3では、輸送配管を内径が8mm(d=0.5D)のものに変更し、試験No.4では、輸送配管を内径が試験No.3よりもさらに小さい4mm(d=0.25D)のものに変更した。   In addition, Test No. In any of 3 to 7, a uniaxial eccentric screw pump was adopted as the pump. Of these, test no. Nos. 3 and 4 are tests using a hypo-injection apparatus that satisfies the condition of the expression (1) defined in the first embodiment of the present invention. In No. 3, the transport pipe is changed to one having an inner diameter of 8 mm (d = 0.5D). In No. 4, the inner diameter of the transport pipe is the test No. 4 mm (d = 0.25D), which is smaller than 3.

さらに、試験No.5は、本発明の第3実施形態の次亜注入装置におけるガス抜き管の有効性を確認するための試験であり、輸送配管にガス抜き管を1本設置した。試験No.6は、本発明の第2実施形態の次亜注入装置における背圧弁の有効性を確認するための試験であり、輸送配管に背圧弁を設置した。試験No.7は、本発明の第2実施形態の次亜注入装置を用いた試験であり、輸送配管に背圧弁を設置するとともに、輸送配管を内径が8mm(d=0.5D)のものに変更した。試験No.6、7における背圧弁は、ゲージ圧で0.1MPaに設定した。   Furthermore, test no. 5 is a test for confirming the effectiveness of the vent pipe in the hypo-injection apparatus of the third embodiment of the present invention, and one vent pipe was installed in the transport pipe. Test No. 6 is a test for confirming the effectiveness of the back pressure valve in the hypo-injection apparatus of the second embodiment of the present invention, and the back pressure valve was installed in the transport pipe. Test No. 7 is a test using the hypo-injection apparatus according to the second embodiment of the present invention, in which a back pressure valve was installed in the transport pipe and the transport pipe was changed to one having an inner diameter of 8 mm (d = 0.5D). . Test No. The back pressure valves in 6 and 7 were set to a gauge pressure of 0.1 MPa.

[試験結果]
図6〜図12は、試験No.1〜7それぞれの試験結果として次亜注入量の経時的挙動を示す図である。図6〜図12から次のことが示される。
[Test results]
6 to 12 show the test numbers. It is a figure which shows the time-dependent behavior of the hypoinjection amount as a test result of 1-7. 6 to 12 show the following.

図6に示すように、試験No.1では、一軸偏心ねじポンプを採用していることから、ポンプ吐出口近傍の測定注入量は、指示注入量に追従し、絶えず安定している。しかし、輸送配管内で発生したガスの影響により、輸送配管出口近傍、すなわち注入地点近傍の測定注入量は、指示注入量に対し、大きく乱れ、応答遅れも目立つ。   As shown in FIG. In No. 1, since a uniaxial eccentric screw pump is employed, the measured injection amount in the vicinity of the pump discharge port follows the indicated injection amount and is constantly stable. However, due to the influence of the gas generated in the transport pipe, the measured injection volume in the vicinity of the transport pipe outlet, that is, in the vicinity of the injection point, is greatly disturbed with respect to the indicated injection volume, and the response delay is conspicuous.

図7に示すように、試験No.2では、試験No.1とほぼ同様の注入状態である。とりわけ、運転開始時、運転停止時、および指示注入量変更時に指示注入量に対する現実の注入量の追従性が比較的悪く、また、ダイヤフラムポンプを採用しフィードバック制御を行っていない(比例制御である)ことから、指示注入量と測定注入量に差が発生した場合に注入量の補正がされていないことがわかる。   As shown in FIG. 2, test no. The injection state is almost the same as in FIG. In particular, when the operation is started, when the operation is stopped, and when the command injection amount is changed, the followability of the actual injection amount with respect to the command injection amount is relatively poor, and no feedback control is performed using a diaphragm pump (proportional control). Therefore, it can be understood that the injection amount is not corrected when a difference occurs between the instructed injection amount and the measured injection amount.

図8に示すように、試験No.3では、(1)式の条件を満足する輸送配管を採用していることから、ガスの影響による次亜注入の乱れを大幅に軽減できる。また、運転開始時、運転停止時、および指示注入量変更時の追従性も良好である。   As shown in FIG. 3, since the transportation piping that satisfies the condition of the expression (1) is adopted, the disturbance of hypoinjection due to the influence of gas can be greatly reduced. In addition, followability is good at the start of operation, when the operation is stopped, and when the command injection amount is changed.

図9に示すように、試験No.4では、ガスの影響による次亜注入の乱れを大幅に軽減できるが、試験No.3よりも内径がさらに小さい輸送配管を採用していることから、次亜注入量の乱れ軽減効果が小さい。   As shown in FIG. 4 can greatly reduce the disturbance of hypo-injection due to the effect of gas. Since the transport pipe having an inner diameter smaller than 3 is employed, the effect of reducing the disturbance of the hypoinjection amount is small.

図10に示すように、試験No.5では、輸送配管にガス抜き管を1本設置していることから、ガスの影響を若干少なくできる傾向が認められるが、次亜注入量の乱れを大きく改善するまでには至らない。このため、ガス抜き管を複数本設置すれば、次亜注入量の乱れ軽減効果の拡大が見込める。   As shown in FIG. In No. 5, since one degassing pipe is installed in the transport pipe, there is a tendency that the influence of the gas can be slightly reduced. For this reason, if a plurality of degassing pipes are installed, the effect of reducing the disturbance of the sub-injection amount can be expected to increase.

図11に示すように、試験No.6では、輸送配管に背圧弁を設置していることから、ガスの影響による次亜注入の乱れを大幅に軽減できることが窺える。ただし、運転開始時、運転停止時、および指示注入量変更時に指示注入量に対する現実の注入量の追従性が悪くなっている。   As shown in FIG. In No. 6, since the back pressure valve is installed in the transport pipe, it can be seen that the disturbance of the sub-injection due to the influence of gas can be greatly reduced. However, when the operation is started, when the operation is stopped, and when the command injection amount is changed, the followability of the actual injection amount with respect to the command injection amount is deteriorated.

図12に示すように、試験No.7では、(1)式の条件を満足する輸送配管を採用した上で、輸送配管に背圧弁を設置していることから、試験No.6と同様に、ガスの影響による次亜注入の乱れを大幅に軽減できる。ただし、運転開始時、運転停止時、および指示注入量変更時の追従性は、試験No.6ほどではないが悪くなっている。   As shown in FIG. In No. 7, since a back pressure valve was installed in the transport pipe after the transport pipe satisfying the condition of the expression (1) was adopted, test no. As in the case of No. 6, the disturbance of sub-injection due to the influence of gas can be greatly reduced. However, the followability at the start of operation, at the time of operation stop, and at the time of changing the indicated injection amount is determined by test no. Not as bad as 6, but getting worse.

以上の結果から、(1)式の条件を満足する輸送配管を採用すれば、簡単に次亜注入量の不規則な変動を防止することができ、注入地点への次亜の注入を精度良く行えることが明らかとなる。   From the above results, it is possible to easily prevent irregular fluctuations in the amount of hypochlorous injection by adopting a transportation pipe that satisfies the condition of the formula (1), and to accurately inject the sublimation into the pouring point. It becomes clear that it can be done.

本発明の次亜塩素酸ナトリウム注入装置は、浄水場などで水の浄化処理に有効に利用することができる。   The sodium hypochlorite injection device of the present invention can be effectively used for water purification treatment at a water purification plant or the like.

1:次亜塩素酸ナトリウム注入装置、 2:次亜塩素酸ナトリウム貯溜タンク、
3:ポンプ、 3a:吸込み口、 3b:吐出口、
4:輸送配管、 4a:入口、 4b:出口、
5:導入配管、 6:ポンプ制御用流量計、 7:監視用流量計、
8:背圧弁、 9:ガス抜き管、
31:雄ねじ形ロータ、 32:雌ねじ形ステータ、 32a:内孔、
33:外筒、 34:エンドスタット、
35:フロントハウジング、 35a:吸込み管、
36:リアハウジング、 37:すべり軸受ハウジング、
38:ドライブシャフト、 38a:フランジ部、
39:自在継手、 40:カップリングロッド、 41:自在継手、
42:従動側磁石保持部材、 43:従動側磁石、
51:モータの主軸、 52:駆動側磁石保持部材、 53:駆動側磁石、
A:注入地点、 B:管理棟
1: Sodium hypochlorite injection device 2: Sodium hypochlorite storage tank,
3: pump, 3a: suction port, 3b: discharge port,
4: Transport piping, 4a: Inlet, 4b: Outlet,
5: Introduction piping, 6: Flow meter for pump control, 7: Flow meter for monitoring,
8: Back pressure valve, 9: Gas vent pipe,
31: Male threaded rotor, 32: Female threaded stator, 32a: Inner hole,
33: outer cylinder, 34: endstat,
35: Front housing, 35a: Suction pipe,
36: Rear housing, 37: Slide bearing housing,
38: Drive shaft, 38a: Flange part,
39: Universal joint, 40: Coupling rod, 41: Universal joint,
42: driven side magnet holding member, 43: driven side magnet,
51: Spindle of motor, 52: Driving side magnet holding member, 53: Driving side magnet,
A: Injection point, B: Management building

Claims (5)

次亜塩素酸ナトリウムを貯留するタンクと、このタンク内の次亜塩素酸ナトリウムを吸い込んで吐出するポンプと、このポンプの吐出口に接続され次亜塩素酸ナトリウムを注入地点まで輸送し放出する輸送配管と、を備える次亜塩素酸ナトリウム注入装置であって、
ポンプの吐出口の内径Dと輸送配管の内径dの関係が、下記(1)式の条件を満足することを特徴とする次亜塩素酸ナトリウム注入装置。
0.25D≦d<D ・・・(1)
A tank that stores sodium hypochlorite, a pump that sucks and discharges sodium hypochlorite in this tank, and a transport that is connected to the discharge port of this pump to transport and discharge sodium hypochlorite to the injection point A sodium hypochlorite injection device comprising a pipe,
A sodium hypochlorite injection device characterized in that the relationship between the inner diameter D of the discharge port of the pump and the inner diameter d of the transport pipe satisfies the condition of the following expression (1).
0.25D ≦ d <D (1)
前記ポンプの吐出口を流れる次亜塩素酸ナトリウムの流速Vと、前記輸送配管の内部を流れる次亜塩素酸ナトリウムの流速vの関係が、下記(2)式の条件を満足することを特徴とする請求項1に記載の次亜塩素酸ナトリウム注入装置。
V<v≦10V ・・・(2)
The relationship between the flow velocity V of sodium hypochlorite flowing through the discharge port of the pump and the flow velocity v of sodium hypochlorite flowing through the inside of the transport pipe satisfies the condition of the following formula (2): The sodium hypochlorite injection device according to claim 1.
V <v ≦ 10V (2)
前記輸送配管の出口近傍の経路に背圧弁が設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の次亜塩素酸ナトリウム注入装置。   3. The sodium hypochlorite injection device according to claim 1, wherein a back pressure valve is provided in a route near an outlet of the transport pipe. 前記輸送配管の経路にガス抜き管が接続されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の次亜塩素酸ナトリウム注入装置。   The sodium hypochlorite injection device according to any one of claims 1 to 3, wherein a gas vent pipe is connected to a route of the transport pipe. 前記ポンプが一軸偏心ねじポンプであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の次亜塩素酸ナトリウム注入装置。   The sodium hypochlorite injection device according to any one of claims 1 to 4, wherein the pump is a uniaxial eccentric screw pump.
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