JP2013152153A - Film thickness irregularity detection device and method, and coating device with film thickness irregularity detection device and film thickness irregularity detection method of coating film formed on substrate - Google Patents
Film thickness irregularity detection device and method, and coating device with film thickness irregularity detection device and film thickness irregularity detection method of coating film formed on substrate Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013152153A JP2013152153A JP2012013284A JP2012013284A JP2013152153A JP 2013152153 A JP2013152153 A JP 2013152153A JP 2012013284 A JP2012013284 A JP 2012013284A JP 2012013284 A JP2012013284 A JP 2012013284A JP 2013152153 A JP2013152153 A JP 2013152153A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film thickness
- coating
- area
- deviation
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 139
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 137
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 98
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims abstract description 36
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 131
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 72
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 34
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 29
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 15
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 238000002372 labelling Methods 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011143 downstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/25—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
- G01B11/2518—Projection by scanning of the object
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
基板上に形成された塗布膜の膜厚むらを検出する装置及び方法、並びに、基板上に塗布膜を形成した直後に当該塗布膜の膜厚むらを検出する塗布装置及び塗布方法に関する。 The present invention relates to an apparatus and a method for detecting film thickness unevenness of a coating film formed on a substrate, and a coating apparatus and a coating method for detecting film thickness unevenness of the coating film immediately after forming the coating film on a substrate.
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス等からなる基板上にカラー皮膜や透明膜を形成するために、塗布液が塗布されたもの(塗布基板という)が使用されている。この塗布基板は、塗布液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。すなわち、塗布装置は、基板を載置するステージと、塗布液を吐出する塗布ユニットとを有しており、塗布ユニットの口金部から塗布液を吐出させながら、基板と塗布ユニットとを相対的に移動させることにより、基板上に所定厚さの塗布液膜(塗布膜)が形成されるようになっている。 A flat panel display such as a liquid crystal display or a plasma display uses a coating liquid (referred to as a coating substrate) coated with a coating liquid in order to form a color film or a transparent film on a substrate made of glass or the like. This coating substrate is formed by a coating apparatus that uniformly coats the coating solution. In other words, the coating apparatus includes a stage on which the substrate is placed and a coating unit that discharges the coating liquid. The substrate and the coating unit are relatively moved while discharging the coating liquid from the base portion of the coating unit. By moving, a coating liquid film (coating film) having a predetermined thickness is formed on the substrate.
このような塗布装置により形成された塗布基板は、塗布膜に筋状や粒状等の膜厚むらが含まれていないかどうかを確認する膜厚むら検査が行なわれる。具体的には、基板上に塗布膜を形成する塗布工程の直後、塗布膜を乾燥工程により乾燥させて薄膜化する前の状態で、膜厚むらの検査が行われる(例えば、特許文献1)。 The coating substrate formed by such a coating apparatus is subjected to a film thickness unevenness check for confirming whether or not the coating film does not include film thickness unevenness such as stripes or grains. Specifically, immediately after the coating process for forming the coating film on the substrate, the film thickness is inspected in a state before the coating film is dried by the drying process and thinned (for example, Patent Document 1). .
この膜厚むら検査に用いられる装置では、基板上に形成された塗布膜に対して特定の照射パターンの光を出力する照射部が用いられ、塗布膜の表面で反射された反射光を受光して、受光された反射光の受光パターンと、特定の照射パターンとを比較することにより、塗布膜の形成状態の良否を判断がされている(例えば、特許文献2)。 In the apparatus used for this unevenness inspection, an irradiation unit that outputs light of a specific irradiation pattern to the coating film formed on the substrate is used to receive the reflected light reflected on the surface of the coating film. Thus, the quality of the coating film formation state is judged by comparing the light receiving pattern of the received reflected light with a specific irradiation pattern (for example, Patent Document 2).
図10は、従来の膜厚むら検査装置において撮像された画像のイメージ図であり、膜厚むらの無い基板で反射されたパターンを受光したものである。つまり、照射部から照射された、白黒のストライプ模様が、明部43aと暗部43bとして撮像されている。
FIG. 10 is an image diagram of an image picked up by a conventional film thickness nonuniformity inspection apparatus, in which a pattern reflected by a substrate having no film thickness unevenness is received. That is, the black and white stripe pattern irradiated from the irradiation part is imaged as the
図11は、従来の膜厚むら検査装置において撮像された画像のイメージ図であり、膜厚むら(縦スジ)のある基板で反射されたパターンを受光したものである。そのため、膜厚むらのない部分は、図10で示した図と同様、明部43aと暗部43bとして撮像されている。一方、膜厚むら(縦スジ)のある部分43sについては、ストライプ模様が歪んだ状態で、明部43aと暗部43bが撮像されている。
FIG. 11 is an image diagram of an image picked up by a conventional film thickness nonuniformity inspection apparatus, in which a pattern reflected by a substrate having film thickness unevenness (vertical stripes) is received. For this reason, the portion having no film thickness unevenness is imaged as the
図12は、従来の膜厚むら検査装置において、ずれ抽出処理をした後のイメージ図であり、膜厚むらのない場合の画像と膜厚むらのある場合の画像とを比較処理し、差異のある部分のみを「ずれ抽出画素43z」として抽出したものである。このずれ抽出画素からなる画像イメージは、説明の便宜上、白黒パターンの境界を破線で表し、ずれ抽出画素43zが、受光パターンのどの位置に、どの程度の大きさで存在しているのかを示している。 FIG. 12 is an image diagram after the shift extraction process in the conventional film thickness nonuniformity inspection apparatus, in which an image with no film thickness unevenness is compared with an image with film thickness unevenness, and there is a difference. Only the portion is extracted as “deviation extraction pixel 43z”. For convenience of explanation, the image image made up of this shift extraction pixel represents the boundary of the black and white pattern with a broken line, and indicates at what position and in what size the shift extraction pixel 43z exists in the light receiving pattern. Yes.
従来の膜厚むら検査装置では、ずれ抽出画素43zを抽出するための諸条件を検査パラメータとして適正値を設定し、抽出されたずれ抽出画素43zは、個々の大きさが予め設定しておいた基準値より大きいかどうかを判定して、膜厚むらがあるかどうかの検査を行っていた。そして、フラットパネルディスプレイは、低価格化が急速に進みコストダウンへの要求が強い一方で、高精細化や、色再現性に対する要望も高くなっており、膜厚むらの検査に対する要求もシビアになってきている。そのため、基準値を超える膜厚むらが含まれた塗布基板は、塗布後の乾燥工程を通過した後(いわゆる、塗布乾燥後)に検査されるだけでなく、塗布直後の乾燥工程前で膜厚むらの検査が行われる。そして、塗布直後の基板は、塗布直後の膜厚むら検査において、良品として乾燥工程に進めて良いか判断され、不良品であれば乾燥前にリジェクトしてリペア処理するといった措置がとられている。 In the conventional film thickness nonuniformity inspection device, various values for extracting the shift extraction pixel 43z are set as appropriate values as inspection parameters, and each size of the extracted shift extraction pixel 43z is set in advance. It was determined whether or not there was uneven film thickness by determining whether or not it was larger than the reference value. While flat panel displays are rapidly becoming cheaper and there are strong demands for cost reductions, demands for higher definition and color reproducibility are also increasing, and demands for inspection of film thickness unevenness are severe. It has become to. For this reason, a coated substrate including a film thickness unevenness exceeding the reference value is not only inspected after passing through the drying process after coating (so-called after coating drying), but also before the drying process immediately after coating. Uneven inspection is performed. Then, the substrate immediately after coating is judged whether it can proceed to the drying process as a non-defective product in the film thickness non-uniformity inspection just after coating, and if it is defective, measures are taken such as rejecting and repairing before drying. .
従来の塗布直後の検査において、検査対象となる基板は、前述のストライプパターンの明部43a,暗部43bの境界付近に表れるずれ抽出画素について、個々の面積について大小判定がなされ、大きな面積のずれ抽出画素があれば、不良品と判断されていた。一方で、面積の小さなずれ抽出画素が一群で存在していても、個々の面積が小さければ、ずれ抽出の過程でノイズ成分として扱われ、大きな面積のずれ抽出画素がなければ、検査対象となる基板は、不良品とされなかった。
In a conventional inspection immediately after coating, the substrate to be inspected is determined for each area with respect to the shift extraction pixels appearing in the vicinity of the border between the
しかし、このような一群で存在する小さな面積のずれは、僅かな膜厚むらしか伴わない縦スジや横ダンに起因する場合があり、塗布乾燥後の厳密な検査では、縦スジや横ダンとして検出されることがある。そのため、塗布直後の検査においても、縦スジや横ダンに起因する僅かな膜厚むらについて、乾燥後の厳密な検査と同程度の検出精度を発揮する(つまり、整合性を保つ)ことが望まれていた。 However, such a small area shift existing in a group may be caused by vertical stripes or horizontal dunes with only slight film thickness unevenness. In strict inspection after coating and drying, as vertical stripes and horizontal dunes, May be detected. For this reason, even in the inspection immediately after coating, it is hoped that slight film thickness unevenness due to vertical stripes and horizontal dans will show the same detection accuracy (that is, maintain consistency) as the strict inspection after drying. It was rare.
そこで、本発明は、僅かな膜厚むらしか伴わない縦スジや横ダンについても、塗布直後に確実に検出し、塗布乾燥後の厳密な検査との整合性を保つことができる、膜厚むら検出装置並びに、当該膜厚むら検出装置を備えた塗布装置を提供する。
Therefore, the present invention can detect even vertical stripes and horizontal dunes with only slight film thickness unevenness immediately after coating, and can maintain consistency with strict inspection after coating and drying. Provided are a detection apparatus and a coating apparatus including the film thickness unevenness detection apparatus.
以上の課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、
基板上に形成された塗布膜に向けて、特定の照射パターンの光を照射する照射部と、
前記塗布膜の表面で反射された前記特定の照射パターンの反射光を受光する受光部とを備え、
前記受光部によって受光された前記反射光の受光パターンと、前記特定の照射パターンに対応する基準パターンとを比較することにより、塗布膜の形成状態の良否を判断する検査部とを備えた膜厚むら検出装置であって、
前記検査部は、
前記受光パターンと、前記基準パターンとを比較する画像比較部と、
前記画像比較部で前記受光パターンと前記基準パターンとが比較され、ずれのある部分として抽出された画素からなる画像をずれ抽出画像として生成する、ずれ抽出画像生成部と、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素の面積をずれ抽出画素面積積算値として積算する、ずれ抽出画素面積積算部と、
前記ずれ抽出画素面積積算値が設定基準値より大きいかどうかを判定する、積算ずれ面積判定部と
を備えたことを特徴とする膜厚むら検出装置である。
In order to solve the above problems, the invention described in claim 1
An irradiation unit that emits light of a specific irradiation pattern toward the coating film formed on the substrate,
A light receiving unit that receives the reflected light of the specific irradiation pattern reflected by the surface of the coating film,
A film thickness provided with an inspection unit that determines the quality of the coating film formation state by comparing the light receiving pattern of the reflected light received by the light receiving unit with a reference pattern corresponding to the specific irradiation pattern An unevenness detection device,
The inspection unit
An image comparison unit for comparing the light receiving pattern and the reference pattern;
A deviation extraction image generation unit that compares the light reception pattern with the reference pattern in the image comparison unit and generates an image composed of pixels extracted as a deviation part as a deviation extraction image;
A shift extraction pixel area integration unit that integrates the areas of the pixels extracted in the shift extraction image existing in a predetermined region of the shift extraction image as a shift extraction pixel area integration value;
An uneven film thickness detection apparatus comprising: an integrated shift area determination unit that determines whether the shift extraction pixel area integrated value is greater than a set reference value.
請求項5に記載の発明は、
基板上に形成された塗布膜に向けて、特定の照射パターンの光を照射するステップと、
前記照射ステップで照射されて前記塗布膜の表面で反射された光を受光するステップとを有し、
前記受光ステップで受光されたパターンと、前記特定の照射パターンに対応する基準パターンとを比較することにより、塗布膜の形成状態の良否を判断する検査ステップとを有する膜厚むら検出方法であって、
前記検査ステップは、
前記受光パターンと前記基準パターンとを比較する画像比較ステップと、
前記画像比較ステップにて前記受光パターンと前記照射パターンとを比較され、ずれのある部分として抽出された画素からなる画像をずれ抽出画像として生成する、ずれ抽出画像生成ステップと、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画像の面積をずれ抽出画素面積積算値として積算する、ずれ抽出面積積算ステップと、
前記ずれ抽出画素面積積算値が設定基準値より大きいかどうかを判定する、積算ずれ面積判定ステップと
を有することを特徴とする膜厚むら検出方法である。
The invention described in
Irradiating light of a specific irradiation pattern toward the coating film formed on the substrate;
Receiving the light irradiated in the irradiation step and reflected by the surface of the coating film,
A method for detecting unevenness in film thickness, comprising: an inspection step for determining whether a coating film is formed by comparing a pattern received in the light receiving step with a reference pattern corresponding to the specific irradiation pattern. ,
The inspection step includes
An image comparison step for comparing the light receiving pattern and the reference pattern;
A shift extraction image generation step of generating an image composed of pixels extracted as a shift portion by comparing the light receiving pattern and the irradiation pattern in the image comparison step;
A shift extraction area integration step of integrating the area of the shift extracted image existing in a predetermined region of the shift extraction image as a shift extraction pixel area integration value;
An integrated film thickness non-uniformity detecting method comprising: determining whether or not the integrated value of the extracted pixel area is larger than a set reference value.
上記膜厚むら検出装置及び方法を用いるので、
従来はノイズとして処理していた様な、所定の照射パターン上に点在する小さな膜厚むら変化部分に対しても、一群の膜厚むら或いは膜厚むら候補として取り扱い、塗布膜の形成状態の良否を判断することができる。
Since the film thickness unevenness detection apparatus and method are used,
In the past, small film thickness unevenness portions scattered on a predetermined irradiation pattern as treated as noise are also treated as a group of film thickness unevenness or film thickness unevenness candidates, and the coating film formation state Pass / fail can be judged.
請求項2に記載の発明は、
請求項1に記載の膜厚むら検出装置であって、
前記検査部は、
前記積算ずれ面積判定部の設定基準値を第一基準値として登録する第一基準値登録部と、
前記ずれ抽出画素面積積算値が前記第一基準値よりも大きい場合には、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素と連続して存在する、前記所定領域外のずれ抽出された画素の面積を、前記ずれ抽出画素面積積算値に追加積算してずれ抽出画素面積追加積算値とする、ずれ抽出画素面積追加積算部と、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値に対する設定基準値を第二基準値として登録する第二基準値登録部と、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値が前記第二基準値より大きいかどうかを判定する、
積算ずれ面積第二判定部と
を備えたことを特徴とする膜厚むら検出装置である。
The invention described in
It is a film thickness nonuniformity detection apparatus of Claim 1, Comprising:
The inspection unit
A first reference value registration unit for registering a set reference value of the integrated deviation area determination unit as a first reference value;
When the deviation extraction pixel area integrated value is larger than the first reference value,
The area of the extracted pixels outside the predetermined area, which is present continuously with the extracted pixels existing in the predetermined area of the deviation extracted image, is added to the integrated value of the extracted deviation pixel area. A shift extraction pixel area additional integration unit, which is set as a shift extraction pixel area additional integration value,
A second reference value registration unit for registering a setting reference value for the shift extraction pixel area additional integrated value as a second reference value;
It is determined whether the deviation extraction pixel area additional integrated value is greater than the second reference value.
A film thickness nonuniformity detection apparatus comprising an integrated deviation area second determination unit.
請求項6に記載の発明は、
請求項5に記載の膜厚むら検出方法であって、
前記検査ステップは、
積算ずれ面積の判定基準値となる第一基準値を読み出し、
前記積算されたずれ面積の合計値が登録された前記第一基準値よりも大きい場合には、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素と連続して存在する、前記所定領域外のずれ抽出された画素の面積を、前記ずれ抽出画素面積積算値に追加積算してずれ抽出画素面積追加積算値とする、ずれ抽出画素面積追加積算ステップと、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値に対する判定基準値となる第二基準値を読み出し、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値が前記第二基準値より大きいかどうかを判定する、
積算ずれ面積第二判定ステップと
を有することを特徴とする膜厚むら検出方法である。
The invention described in claim 6
The film thickness unevenness detection method according to
The inspection step includes
Read the first reference value, which is the criterion value for the integrated deviation area,
When the total value of the accumulated deviation areas is larger than the registered first reference value,
The area of the extracted pixels outside the predetermined area, which is present continuously with the extracted pixels existing in the predetermined area of the deviation extracted image, is added to the integrated value of the extracted deviation pixel area. A shift extraction pixel area additional integration step, which is set as a shift extraction pixel area additional integration value,
Read a second reference value that is a determination reference value for the deviation extraction pixel area additional integrated value,
It is determined whether the deviation extraction pixel area additional integrated value is greater than the second reference value.
And a film thickness non-uniformity detection method characterized by comprising an integrated deviation area second determination step.
上記膜厚むら検出装置及び方法を用いれば、
本来検出したい縦スジ・横ダンに対応するずれ抽出画素が、設定した所定領域の境界線を跨ぐように存在し、ずれ抽出画素面積積算値が半減してしまうような場合でも、第一基準値の閾値を低く設定しておき、当該所定領域の外にはみ出して存在する一群のずれ抽出画素を含めたずれ抽出画素面積追加積算値と、第二基準値とを比較することができる。そうすることで、膜厚むらの検出漏れを防ぎ、確実に塗布膜の形成状態の良否を判断することができる。
If the film thickness unevenness detection apparatus and method are used,
Even if the displacement extraction pixel corresponding to the vertical streak / horizontal dan that you want to detect exists across the boundary of the specified area, the first reference value Is set low, and the second reference value can be compared with the deviation extraction pixel area additional integrated value including a group of deviation extraction pixels that exist outside the predetermined region. By doing so, it is possible to prevent detection of unevenness in film thickness and reliably determine the quality of the coating film formation state.
請求項3に記載の発明は、
前記所定領域が、塗布方向又はそれと直交する方向に伸びた領域であること
を特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の膜厚むら検出装置である
ことを特徴とする膜厚むら検出装置付塗布装置である。
The invention according to
3. The film thickness unevenness detection apparatus according to claim 1, wherein the predetermined area is an area extending in a coating direction or a direction orthogonal thereto. It is a coating device with a device.
請求項7に記載の発明は、
前記所定領域が、塗布方向又はそれと直交する方向に伸びた領域であること
を特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の膜厚むら検出方法である。
The invention described in
The film thickness unevenness detection method according to
上記膜厚むら検出装置及び方法を用いれば、
縦スジや横ダンと呼ばれる一方向に伸びる膜厚むらに起因する塗布膜の形成状態の良否
を精度良く判断することができる。
If the film thickness unevenness detection apparatus and method are used,
It is possible to accurately determine whether or not the coating film is formed due to unevenness in the film thickness extending in one direction, which is called a vertical stripe or horizontal dan.
請求項4に記載の発明は、
基板載置部と、塗布ノズルと、移動機構と、
請求項1〜3のいずれかに記載の膜厚むら検出装置と
を備えた膜厚むら検出装置付塗布装置であって、
前記塗布膜の表面で反射された反射光が、前記塗布ノズルで塗布された塗布膜の表面で反射された反射光である
ことを特徴とする膜厚むら検出装置付塗布装置である。
The invention according to
A substrate mounting portion, a coating nozzle, a moving mechanism,
A coating apparatus with a film thickness unevenness detection apparatus comprising the film thickness unevenness detection apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The coating apparatus with a film thickness unevenness detector, wherein the reflected light reflected by the surface of the coating film is reflected light reflected by the surface of the coating film applied by the coating nozzle.
請求項8に記載の発明は、
基板を基板載置部に置くステップと、
基板載置部と塗布ノズルとを相対移動させるステップと、
前記相対移動させながら、塗布ノズルから塗布液を吐出させて、前記基板上に塗布膜を形成するステップと、
前記塗布ステップで基板上に形成された塗布膜の膜厚むらを検出するステップを有し、
前記膜厚むら検出ステップは、請求項5〜7のいずれかに記載の膜厚むら検出方法であることを特徴とする、基板上に形成された塗布膜の膜厚むら検出方法である。
The invention according to
Placing the substrate on the substrate platform;
A step of relatively moving the substrate mounting portion and the coating nozzle;
Forming a coating film on the substrate by discharging a coating liquid from a coating nozzle while performing the relative movement; and
Detecting uneven thickness of the coating film formed on the substrate in the coating step,
The film thickness unevenness detection step is the film thickness unevenness detection method according to any one of
上記膜厚むら検出装置付塗布装置及び、基板上に形成された塗布膜の膜厚むら検出方法を用いれば、
塗布直後の塗布基板に膜厚むらが発生しているかどうかの判断を行うことができる。そのため、膜厚むらが発生していると判断されれば、直ちに塗布動作を中止したり、塗布基板を下流工程に受け渡す際に異常情報を通知したりするなどして、早期に不良基板を取り出す措置を取ることができるので、製造工程におけるロスを低減し、コストダウンを図ることができる。
If the coating apparatus with a film thickness unevenness detection apparatus and a film thickness unevenness detection method for a coating film formed on a substrate are used,
It is possible to determine whether or not film thickness unevenness has occurred on the coated substrate immediately after coating. Therefore, if it is determined that film thickness unevenness has occurred, the coating operation is immediately stopped, or abnormal information is notified when the coated substrate is transferred to the downstream process. Since it is possible to take measures to take out, loss in the manufacturing process can be reduced and cost can be reduced.
僅かな膜厚むらしか伴わない縦スジや横ダンについても、塗布直後に確実に検出することができ、塗布乾燥後の厳密な検査との整合性を保つことができる。
Even vertical stripes and horizontal dunes with only slight film thickness unevenness can be reliably detected immediately after coating, and consistency with strict inspection after coating and drying can be maintained.
本発明を実施するための形態について、図を用いながら説明する。
図1は、本発明を具現化する形態の一例を示す側面図である。
以下、各図において直交座標系の3軸をX、Y、Zとし、XY平面を水平面、Z方向を鉛直方向とする。特にZ方向は矢印の方向を上とし、その逆方向を下と表現する。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a side view showing an example of a form embodying the present invention.
Hereinafter, in each figure, the three axes of the orthogonal coordinate system are X, Y, and Z, the XY plane is the horizontal plane, and the Z direction is the vertical direction. In particular, in the Z direction, the direction of the arrow is represented as the top, and the opposite direction is represented as the bottom.
膜厚むら検出装置1は、基板載置部2と、照射部3と、受光部4と、検査部5と、制御部9とを含んで、構成されている。ここでは、検査対象となる基板として、ガラスにカラー皮膜が塗布された基板10を例示して説明する。
The film thickness unevenness detection device 1 includes a
基板載置部2は、基板10を置く基板載置台21を含んで構成されており、基板載置台21の表面には、細孔や細溝が設けられており、前記細孔や細溝は、真空ポンプなどの真空源と切替バルブなどを介して接続されている。そのため、前記細孔や細溝を負圧状態にすることで、基板載置台21上に置かれた基板10を基板載置台21上で固定・保持することができる。また、基板載置台21は、膜厚むら検出装置1のフレーム部(図示せず)に直接、或いは移動機構23を介して取り付けられている。
The
照射部3は、基板10に向けて特定の照射パターンの光を照射する照射ユニット31と、照射ユニット31に接続されて照射ユニット31から照射される光の強さを調節する光量調節部38(図2参照)とを含んで構成されている。照射ユニット31は、筐体部32と、発光部33と、部分遮光部34とを含んで構成されており、筐体部32内に配置された発光部33から発せられた光が、部分遮光部34を通過し、基板10の検査対象領域10fに向けて照射されるように配置されている。部分遮光部34は、図10を用いて説明した様な白と黒のストライプパターンに対応した光透過部と遮光部とで構成されている。そのため、発光部33から発せられて光透過部を通過した部分が明部43aとして撮像され、遮光部で遮光された部分が暗部43bとして撮像される。なお、このとき、照射ユニット31から発せられた光の照射光軸37は、基板10に対して角度θをなして配置されている。
The
受光部4は、撮像カメラ41と、レンズ42とを含んで構成されており、撮像カメラ41及びレンズ42は、基板10の検査対象領域10fに向けて配置されている。このとき、撮像カメラ41及びレンズ42の観察光軸47は、基板10に対して角度θをなして配置されている。さらに、撮像カメラ41は、照明ユニットの部分遮光部34に焦点が合うように設置されており、照射ユニット31から照射されて、検査対象となる基板10に形成された塗布膜の表面で反射された光を、受光パターンとして取得することができる。
The
検査部5は、詳細を後述するが、基板上で反射した受光パターンと、特定の照射パターンに対応した基準パターンとの比較処理を行い、塗布膜の形成状態の良否を判断することができる。なお、前記基準パターンは、基板10に形成された塗布膜に膜厚むらが含まれない場合に撮像カメラ41で観察される受光パターンであり、膜厚むらが無い又は膜厚むらが無いと見なすことのできる基準ワークを用いて取得して登録したり、設計上の基準パターンを規定して、登録したりしておいても良い。
As will be described in detail later, the
[システム構成]
図2は、本発明を具現化する形態の一例を示すシステム構成図であり、図1を用いて上述した膜厚むら検出装置1において、基板載置部2、照射部3、受光部4、検査部5の各機器が、制御部9の各機器と接続されている様子を示している。
[System configuration]
FIG. 2 is a system configuration diagram illustrating an example of an embodiment embodying the present invention. In the film thickness unevenness detection apparatus 1 described above with reference to FIG. 1, the
制御部9には、制御用コンピュータ90と、情報入力手段91と、情報出力手段92と、発報手段93と、情報記録手段94と、機器制御ユニット95が含まれて構成されている。制御用コンピュータ90には、情報入力手段91と、情報出力手段92と、発報手段93と、情報記録手段94と、機器制御ユニット95が接続されている。
The
制御コンピュータ90は、本発明の膜厚むら検出装置1を統括して制御するためのものである。具体的には、制御コンピュータ90は、情報記録手段94に登録されたプラグラムや、膜厚むらの検出に用いる種々の設定パラメータなどを読み出し、実行し、制御機器制御ユニット95に対して制御指令を行うことで、本発明にかかる膜厚むらの検出を行うことができるように構成されている。
The
制御用コンピュータ90としては、マイコン、パソコン、ワークステーションなどの、数値演算ユニットが搭載されたものが例示される。
情報入力手段91としては、キーボードやマウスやスイッチなどが例示される。
情報出力手段92としては、画像表示ディスプレイやランプなどが例示される。
発報手段93としては、ブザーやスピーカ、ランプなど、作業者に注意喚起をすることができるものが例示される。
Examples of the
Examples of the
Examples of the
Examples of the reporting means 93 include a buzzer, a speaker, and a lamp that can alert the worker.
情報記録手段94は、詳細を後述する設定基準値や、所定領域の設定値、第1基準値及び第二基準値を登録しておくものである。具体的な情報記録手段94の形態としては、メモリーカードやデータディスクなどの、半導体記録媒体や磁気記録媒体や光磁気記録媒体などが例示される。
機器制御ユニット95としては、プログラマブルコントローラやモーションコントローラと呼ばれる機器などが例示される。
The information recording means 94 registers a setting reference value, details of which will be described later, a setting value of a predetermined area, a first reference value, and a second reference value. A specific form of the information recording means 94 is exemplified by a semiconductor recording medium, a magnetic recording medium, a magneto-optical recording medium, and the like, such as a memory card and a data disk.
Examples of the
機器制御ユニット95は、移動機構23と接続されており、制御コンピュータ90からの指令に基づいて、照射部3及び受光部4と基板10とを所定の速度で相対移動させることができる。
The
機器制御ユニット95は、光量調整ユニット38と接続されており、光量調整ユニット38に対して所定の設定値を伝送することができる。そのため、機器制御ユニット95は、制御コンピュータ90からの指令に基づいて、照射ユニット31から照射される光の量をコントロールすることができる。
The
制御部9には、さらに画像処理ユニット96が含まれて構成されている。画像処理ユニット96は、制御用コンピュータ90に接続されており、画像処理ユニット96を介して、第1及び第2の観察部31,32から出力された映像信号が入力される。画像処理ユニット96は、一般にGPU(グラフィックプロセッシングユニット)と呼ばれ、制御用コンピュータ90の外部に設置される形態のもの、制御用コンピュータ90の筐体内に接続される形態のもの、制御用コンピュータ90の画像処理部を利用したものなどが例示される。
The
制御用コンピュータ90には、画像処理ユニット96を介して、撮像カメラ41から出力された画像信号が入力される。画像処理ユニット96は、制御用コンピュータ90の外部に設置される形態のもの、制御用コンピュータ90の筐体内に接続される形態のもの、制御用コンピュータ90の画像処理部を利用した形態のものなどが例示でき、本発明における検査部5として機能する。
The image signal output from the
[検査部詳細]
検査部5は、画像処理ユニット96に設けられており、画像比較部と、ずれ抽出画像生成部と、ずれ抽出画素面積積算部と、積算ずれ面積判定部とを含んで構成されている。また、前記各部は、画像処理ユニット96に登録されたプログラムにおける処理ブロックに対応して構成されており、具体的には以下の処理が行われる。
[Details of inspection section]
The
前記画像比較部は、前記受光パターンと、前記特定の照射パターンに対応する基準パターンとを比較し、各パターンの対応する場所において、変化が生じているかどうかを判別するものである。具体的には、前記受光パターンと前記基準パターンとが白黒パターンである場合、撮像カメラ41で撮像された前記受光パターンと、前記基準パターンの対応する位置の各画素について差分演算処理を行い、前記受光パターンと前記基準パターンとが同じ白色又は黒色であるか、或いは、白色と黒色が異なっているかを判別するように、処理ブロックがプログラミングされている。そのため、前記受光パターンのうち、前記基準パターンと色が異なる部分の画素は、膜厚むらに起因した、ずれのある部分として取り扱われる。なお、前記画像比較部では、基準となるパターンと、受光したパターンとを比較する際に、従来とは異なる閾値に設定し、従来はノイズとして処理していたような小さなずれも検出されるように(いわゆる過検出条件)で、比較処理が行われるようにする。
The image comparison unit compares the light receiving pattern with a reference pattern corresponding to the specific irradiation pattern, and determines whether or not a change has occurred at a location corresponding to each pattern. Specifically, when the light reception pattern and the reference pattern are black and white patterns, a difference calculation process is performed on each pixel at a position corresponding to the light reception pattern captured by the
前記ずれ抽出画像生成部は、前記画像比較部でずれのある部分として抽出された画素を、前記受光パターンの観察位置に対応させて、1つの画像イメージとして生成するものである。具体的には、撮像カメラ21で撮像された前記受光パターンのうち、ずれのある部分として抽出された画素について、いわゆるラベリング処理を行い、隣接する画素同士を一まとめにする。そして、ラベリング処理後の点在するずれ抽出画素が、撮像カメラ21の観察エリア内のどの部分にどのように分布しているのかが分かるように、観察エリア内の各画素の位置に対応する全体画像を、1つの画像イメージとして生成されるように、処理ブロックがプログラミングされている。
The shift extraction image generation unit generates pixels extracted as a shift portion by the image comparison unit as one image image in correspondence with the observation position of the light reception pattern. Specifically, a so-called labeling process is performed on pixels extracted as a shifted portion in the light receiving pattern imaged by the
図3は、本発明を具現化する形態の一例において、ずれ抽出処理をした後のイメージ図であり、前記ずれ抽出画像生成部で生成された画像イメージを示している。
前記画像比較部で比較処理により、ずれのある部分とされた画素は、「ずれ抽出画素43c」として図3中に例示されるように、イメージ図内の各所に存在している。さらにずれ抽出画素43cは、独立して点在するものの他、やや集まって点在するずれ抽出画素群44や、直線状に点在するずれ抽出画素群45や、直線状に密集して点在するずれ抽出画素群46のような形態として見ることができる。なお図3では、説明の便宜上、破線43dは、前記受光パターンの明部43aと暗部43bとの境界部分を示している。また、この画像を得るために、従来の検査装置に用いていた閾値とは異なる閾値を設定し、ずれ抽出画素43cがより多く抽出されるようにしている。
FIG. 3 is an image diagram after the shift extraction processing is performed in the example embodying the present invention, and shows the image image generated by the shift extracted image generation unit.
Pixels that have been shifted by the comparison process in the image comparison unit are present in various places in the image diagram as illustrated in FIG. 3 as “shift extracted
前記ずれ抽出画像生成部で生成された画像は、前記観察エリア内の各画素の位置に対応する全体画像をいくつかのエリアに分割され、分割された個々のエリアは所定領域として設定される。図3には、複数設定された所定領域の内、1つの所定領域48が例示されており、この所定領域48は、X方向にt画素分、Y方向に全画素分の領域で構成されている。
In the image generated by the shift extraction image generation unit, the entire image corresponding to the position of each pixel in the observation area is divided into several areas, and each divided area is set as a predetermined area. FIG. 3 illustrates one
前記ずれ抽出画素面積積算部は、設定された所定領域48内に存在する、ずれ抽出された画素43cの面積を積算し、ずれ抽出画素面積積算値として取得するものである。具体的には、撮像カメラ21で撮像された受光パターンのうち、ずれのある部分として抽出された画素43cが、所定領域内に何画素分あるか(例えば、共通する位置X方向の範囲内で、Y方向に何画素分あるか)をカウント(足し合わせ)して、面積積算されるように、処理ブロックがプログラミングされている。
The deviation extraction pixel area integration unit integrates the areas of the
この所定領域48の設定について、具体例を示しながら説明する。本実施形態において、撮像カメラ41の有効撮像エリアがX方向に1000画素分、Y方向に750画素分あり、それをX方向に100分割するものとする。この場合、前記ずれ抽出画像は、X:1000画素×Y:750画素の画像イメージとして、前記ずれ抽出画像生成部で生成される。その上で、生成された前記ずれ抽出画像は、X方向に100分割して10画素分、Y方向は分割せず750画素分の領域に区切られ、X:10画素×Y:750画素分の画像イメージについて、その中に含まれるずれ抽出画素の面積が積算処理される。このような処理を、それぞれの所定領域についても行い、各所定領域毎に、ずれ抽出画素の面積積算値を算出する。そうすることで、所定領域内に離れて存在している小さな面積のずれ抽出画素を、一纏まりのずれ抽出画素群として取り扱うことができる。
The setting of the predetermined
なお、上述ではイメージ画像全体をX方向に100分割する例について説明したが、分割数は適宜変更することができる。また、所定領域をY方向に分割しても良い。 In the above description, an example in which the entire image is divided into 100 in the X direction has been described. However, the number of divisions can be changed as appropriate. Further, the predetermined area may be divided in the Y direction.
前記積算ずれ面積判定部は、前記ずれ抽出画素面積積算部で積算したずれ抽出画素面積積算値に対して、予め設定しておいた設定基準値と大小比較を行い、設定基準値より大きいかどうかを判定するものである。具体的には、前記設定基準値は、情報記録手段94に登録設定されていたものを読み出され、前記ずれ抽出画素面積積算値と大小比較される。そして、前記積算ずれ面積判定部は、前記ずれ抽出画素面積積算値が、前記設定基準値よりも大きければ、塗布膜の形成状態が不良とし、前記ずれ抽出画素面積積算値が、前記設定基準値よりも小さければ、塗布膜の形成状態が良好であると判断するように、処理ブロックがプログラミングされている。
The integrated deviation area determination unit compares the deviation extraction pixel area integration value integrated by the deviation extraction pixel area integration unit with a preset reference value, and determines whether it is larger than the setting reference value. Is determined. Specifically, the setting reference value registered and set in the
図4は、本発明を具現化する形態の一例において撮像された画像に基づいてずれ抽出された画素の度数分布図であり、図3を用いて例示したずれ抽出画像に対応して、横軸を撮像位置Xとし、縦軸は各撮像位置の共通するX方向の範囲内で、Y方向にずれ抽出画素の面積積算値Nを示したものである。
X方向に分割されて、個々の所定領域毎に積算処理された、ずれ抽出画素の面積積算値Nは、前記積算ずれ面積判定部にて前記設定基準値との大小比較が行われる。
FIG. 4 is a frequency distribution diagram of pixels that are shifted and extracted based on an image captured in an example of an embodiment that embodies the present invention. The horizontal axis corresponds to the shifted and extracted image illustrated with reference to FIG. Is the imaging position X, and the vertical axis indicates the integrated area value N of the extracted pixels in the Y direction within the common X direction range of each imaging position.
The area integrated value N of the shift extracted pixels divided in the X direction and integrated for each predetermined region is compared with the set reference value by the integrated shift area determining unit.
このとき、前記設定基準値として、例えばN0が設定されていれば、N0のレベル(直線50)が前記面積積算値Nに対する閾値となる。そして、前記積算ずれ面積判定部は、前記個々の所定領域におけるずれ抽出画素の面積積算値Nが、設定基準値N0よりも大きいかどうかを判定し、前記面積積算値Nが前記設定基準値N0のレベルを超えるところがなければ検査対象の基板を良品と判定し、前記設定基準値N0のレベルを超えるところがあれば不良品と判定する。 At this time, if, for example, N0 is set as the setting reference value, the level of N0 (straight line 50) is a threshold for the area integrated value N. Then, the integrated deviation area determination unit determines whether an area integrated value N of deviation extraction pixels in each of the predetermined regions is larger than a set reference value N0, and the area integrated value N is the set reference value N0. If there is no portion exceeding the level, the substrate to be inspected is determined as a non-defective product, and if there is a portion exceeding the set reference value N0, it is determined as a defective product.
そのため、図3に対応させて説明すると、ずれ抽出画素43cのうち、独立して点在するもの、やや集まって点在するずれ抽出画素群44、並びに直線状に点在するずれ抽出画素群45の部分については、いずれも面積積算値Nが前記設定基準値N0よりも小さいため、前記積算ずれ面積判定部は、良品と判断する。一方、直線状に密集して点在するずれ抽出画素群46の部分については、面積積算値Nが前記設定基準値N0よりも大きいため、前記積算ずれ面積判定部は、この部分をもって膜厚むらの不良があると判定する。
Therefore, to explain with reference to FIG. 3, among the
このとき、前記設定基準値は、塗布膜の品種や検査条件が複数あれば、塗布膜の品種や検査条件と紐付けて登録しておき、品種切替に対応できるようにしておく。また、一纏まりのずれ抽出画素群が膜厚むらであるかどうかの判定をするために、所定領域の積算値に対して膜厚むら有無の判定をする基準値は、塗布乾燥後の検査装置で得られた結果と合致するように設定することが好ましい。そうすることで、本発明にかかる膜厚むら検出の精度を、塗布乾燥後の検査精度に近づけ、互いの整合性を保つことができる。 At this time, if there are a plurality of coating film types and inspection conditions, the setting reference value is registered in association with the type of coating film and the inspection conditions so as to cope with the type switching. In addition, in order to determine whether or not a group of deviation extraction pixel groups has uneven film thickness, the reference value for determining the presence or absence of uneven film thickness with respect to the integrated value of a predetermined area is an inspection apparatus after coating and drying. It is preferable to set so as to agree with the result obtained in (1). By doing so, the accuracy of film thickness unevenness detection according to the present invention can be brought close to the inspection accuracy after coating and drying, and the mutual consistency can be maintained.
膜厚むら検出装置1は、このような構成をしているので、基板10上の検査対象領域で反射された、照射部3の照明ユニット31から発せられた特定の照射パターン(上記例にあっては、斜め45度のストライプパターン)を、受光部4の撮像カメラ41で撮像し、当該撮像された画像に基づいて検査部5にて塗布膜の形成状態の良否判断を行い、膜厚むらを検出することができる。
Since the film thickness unevenness detection apparatus 1 has such a configuration, a specific irradiation pattern (reflected in the above example) emitted from the
従来の検査装置では、ずれ抽出画素1つ1つの大きさに基づいて良否判定を行っていたので、膜厚むらの変化が大きければ良否判定が容易に可能であったが、膜厚むらの変化が僅かながらも複数の基準パターンを跨いで存在するような、縦スジや横ダン起因の膜厚むらについては、良否判定が困難であった。 In the conventional inspection apparatus, the pass / fail judgment is performed based on the size of each shift extraction pixel. Therefore, the pass / fail judgment can be easily made if the change in the film thickness unevenness is large. However, it is difficult to determine whether or not the film thickness unevenness caused by vertical stripes and horizontal dunes exists across a plurality of reference patterns.
しかし、本発明にかかる膜厚むら検出装置1は、複数の基準パターンを跨いで存在するような、縦スジや横ダン起因の膜厚むらについても、所定領域内に存在するずれ抽出画素の面積を積算し、面積積算値に基づいて良否判定を行うように構成されている。そのため、縦スジや横ダンのような所定方向に長さを有する膜厚むらの良否判定には好適である。 However, the film thickness non-uniformity detection apparatus 1 according to the present invention has an area of a shift extraction pixel that exists in a predetermined region even for film thickness non-uniformity caused by vertical stripes and horizontal dunes that exist across a plurality of reference patterns. And the pass / fail judgment is made based on the integrated area value. Therefore, it is suitable for determining whether or not the film thickness has a length in a predetermined direction such as a vertical stripe or a horizontal dan.
[フローチャート]
図5は、本発明を具現化する形態の一例におけるフロー図であり、本発明を適用させて基板上に形成された塗布膜の膜厚むらを検出する一連のフローが、ステップ毎に示されている。
[flowchart]
FIG. 5 is a flowchart in an example embodying the present invention, and a series of steps for detecting the film thickness unevenness of the coating film formed on the substrate by applying the present invention are shown for each step. ing.
先ず、塗布膜が形成された基板10を、基板載置台21上に置く(s101)。
必要に応じて基板10を固定・保持した状態で、基板10上の検査対象領域10fが撮像カメラ41で撮像できる位置に、基板載置台21を移動させる(s102)。
基板10上の検査対象領域10fに向けて照明ユニット31から光を照射し、撮像カメラ41で撮像を行う(s103)。
First, the
The substrate mounting table 21 is moved to a position where the
Light is emitted from the
予め設定登録しておいた検査条件の情報に基づいて、従来と同じ検査を行うかどうかを選択する(s104)。
従来と同じ検査を行う場合、撮像カメラ41で撮像された受光パターン光と、予め登録しておいた照射パターン光とを、従来の検査条件と同様の適正条件にて、検査部5の画像比較部で比較処理し(s111)、検査部5のずれ抽出画像生成部でずれ部分を抽出する(s112)。その後、検査部5のずれ抽出画素面積積算部で、前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素の面積をずれ抽出画素面積積算値として積算する。その後、積算ずれ面積判定部で、ずれ抽出画素面積積算値が設定基準値より大きいかどうかを判定し(s114)、大きければ不良品として処理し(s116)、そうでなければ良品として処理する(s117)。
Whether or not to perform the same inspection as the conventional one is selected based on the inspection condition information set and registered in advance (s104).
When performing the same inspection as in the past, the light receiving pattern light imaged by the
上記ステップs104にて従来と同じ検査を行わないと選択された場合、或いは上記ステップs116,s117の後、予め設定登録しておいた検査条件の情報(従来とは異なる過検出条件)に基づいて、撮像カメラ41で撮像された受光パターン光と、予め登録しておいた照射パターン光とを、検査部5で比較処理し(s121)、ずれ部分を抽出する(s122)。
その後、所定領域のずれ抽出画素を積算する(s123)。
当該積算値が設定基準値より大きいかどうかを判定し(s124)、大きければ不良品として処理し(s126)、そうでなければ良品として処理する(s127)。
If it is selected in step s104 that the same inspection as in the prior art is not performed, or after steps s116 and s117, based on information on inspection conditions that have been set and registered in advance (overdetection conditions different from those in the prior art) The light-receiving pattern light imaged by the
Thereafter, the deviation extraction pixels in the predetermined area are integrated (s123).
It is determined whether or not the integrated value is larger than the set reference value (s124). If it is larger, it is processed as a defective product (s126), and if not, it is processed as a non-defective product (s127).
上述の様にすることで、Y方向に存在する縦スジ起因の僅かな膜厚むらを精度良く検出することができる。なお、上述ではY方向に存在する縦スジ起因の僅かな膜厚むらについて説明を行ってきたが、同様にX方向に存在する横ダン起因の僅かな膜厚むらについても精度良く検出することができる。このX方向,Y方向を、塗布基板に発生する可能性のある縦スジや横ダンの方向に合わせることで、縦スジや横ダンに起因する僅かな膜厚むらを検出することができる。 By doing as described above, slight film thickness unevenness due to vertical stripes existing in the Y direction can be accurately detected. In the above description, the slight film thickness unevenness caused by the vertical stripes existing in the Y direction has been described. Similarly, the slight film thickness unevenness caused by the horizontal dan present in the X direction can be detected with high accuracy. it can. By aligning the X direction and the Y direction with the direction of vertical stripes or horizontal dunes that may occur on the coated substrate, slight film thickness unevenness due to the vertical stripes or horizontal dunes can be detected.
[変形例:追加処理] [Modification: Additional processing]
図6は、本発明を具現化する形態の一例において、ずれ抽出処理の有無による違いを表すイメージ図である。図6(a)は、上述で図3を用いて説明したずれ抽出画素についての拡大イメージを示しており、ずれ抽出された画素43cと、所定領域48とが示されている。本来検出したい縦スジ・横ダンに対応する一群のずれ抽出画素は、所定領域48に完全に収まる場合もあれば、図6(a)に示すように、設定した所定領域48の境界線を跨ぐように存在する場合もある。
図6(b)は、ずれ抽出画素43cのうち、所定領域48と重複する(つまり、所定領域内の)ずれ抽出画素43mを示したイメージ図である。そのため、上述したような本発明にかかる膜厚むら検出装置及び方法では、本来検出したい縦スジ・横ダンに対応する一群のずれ抽出画素が、所定領域48に完全に収まらず、設定した所定領域48の境界線を跨ぐように存在している場合、積算されたずれ抽出画素面積積算値は、所定領域内の設定基準値に達せず、不良品として判断されない。
FIG. 6 is an image diagram showing a difference depending on the presence / absence of a deviation extraction process in an example of a form embodying the present invention. FIG. 6A shows an enlarged image of the shift extraction pixel described above with reference to FIG. 3, and the shift-extracted
FIG. 6B is an image diagram showing a
そこで本発明にかかる膜厚むら検出装置は、上記説明の形態に加え、下記の構成を追加して具現化し、本来検出したい縦スジ・横ダンに対応する一群のずれ抽出画素上を、設定した所定領域48の境界線が跨ぐ場合であっても、確実に良否判断を行うものである。
Therefore, in addition to the embodiment described above, the film thickness unevenness detection apparatus according to the present invention is embodied by adding the following configuration, and sets a group of shift extraction pixels corresponding to vertical stripes / horizontal dunes to be originally detected. Even if the boundary line of the
図6(c)は、ずれ抽出画素43cのうち、所定領域48内のずれ抽出画素43mと、前記ずれ抽出画素43mに隣接するずれ抽出画素43pを示したイメージ図であり、所定領域48の境界線を跨ぐように、所定領域内のずれ抽出された画素43mと連続して存在する、所定領域外のずれ抽出画素43pが、再ラベリング処理された後の様子が示されている。
FIG. 6C is an image diagram showing the
この変形例の場合、検査部は、第一基準値登録部と、ずれ抽出画素面積追加積算部と、第二基準値登録部と、積算ずれ面積第二判定部とをさらに含んで構成される。また、前記各部は、画像処理ユニット96に登録されたプログラムにおける処理ブロックに対応して構成されている。
In the case of this modification, the inspection unit further includes a first reference value registration unit, a deviation extraction pixel area addition integration unit, a second reference value registration unit, and an integrated deviation area second determination unit. . Each unit is configured to correspond to a processing block in a program registered in the
前記第一基準値登録部は、前記積算ずれ面積判定部の設定基準値を第一基準値として登録するものである。具体的には、仮に第一基準値をN1と設定された場合、図4を用いて説明すると、前記面積積算値NがN1のレベル(直線51)が閾値となる。そして、前記積算ずれ面積判定部は、面積積算値Nが前記設定基準値N1のレベルを超えるところがなければ検査対象の基板を良品と判定し、N1のレベルを超えるところがあれば、当該所定領域については追加判定をすべきと判定するように、処理ブロックがプログラミングされている。 The first reference value registration unit registers a set reference value of the integrated deviation area determination unit as a first reference value. Specifically, if the first reference value is set to N1, as described with reference to FIG. 4, the level (straight line 51) at which the area integrated value N is N1 is a threshold value. Then, the integrated deviation area determining unit determines that the substrate to be inspected is a non-defective product if the area integrated value N does not exceed the level of the set reference value N1, and if there is a part exceeding the level of N1, The processing block is programmed to determine that should make an additional decision.
ずれ抽出画素面積追加積算部は、前記ずれ抽出画素面積積算値だけでは良否判断が難しい場合に、前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素と連続して存在する、前記所定領域外のずれ抽出された画素の面積を、前記ずれ抽出画素面積積算値に追加積算してずれ抽出画素面積追加積算値追加積算として取得するものである。具体的には、前記積算ずれ面積判定部で追加判定すべきと判定された領域の境界線を跨ぐように
、所定領域内のずれ抽出された画素と連続して存在する、所定領域外のずれ抽出画素は、再ラベリング処理されて、それぞれの画素面積が積算される。そして、所定領域外の再ラベリング処理されたずれ抽出された画素の面積値が、所定領域内のずれ抽出された画素の面積積算値に積算され、ずれ抽出画素面積追加積算値として取得されるように、処理ブロックがプログラミングされている。
The shift extraction pixel area addition integration unit is present continuously with the shift extracted pixels existing in a predetermined region of the shift extraction image when it is difficult to judge whether the shift extraction pixel area is only the integration value of the shift extraction pixel area. The area of the extracted pixels out of the predetermined area is additionally integrated with the above-mentioned deviation extraction pixel area integration value, and is acquired as a deviation extraction pixel area addition integration value addition integration. Specifically, the deviation outside the predetermined region exists continuously with the pixel whose deviation is extracted within the predetermined region so as to straddle the boundary line of the region determined to be additionally determined by the integrated deviation area determination unit. The extracted pixels are re-labeled, and the respective pixel areas are integrated. Then, the area value of the pixel extracted by the re-labeling process outside the predetermined area is integrated with the area integrated value of the pixel extracted by the shift within the predetermined area so as to be obtained as an additional integrated value of the extracted pixel area. The processing block is programmed.
第二基準値登録部は、前記ずれ抽出画素面積追加積算値に対する設定基準値を第二基準値として登録するものである。具体的には、前記第二基準値登録部は、前記第一基準値よりも大きな値を登録し、追加積算後のずれ抽出画素面積値が、膜厚むらの良否判断の閾値となるような値が設定されるように、処理ブロックがプログラミングされている。 The second reference value registration unit registers a set reference value for the shift extraction pixel area additional integrated value as a second reference value. Specifically, the second reference value registration unit registers a value larger than the first reference value, and the deviation extraction pixel area value after the additional integration becomes a threshold value for judging whether or not the film thickness unevenness is acceptable. The processing block is programmed so that the value is set.
積算ずれ面積第二判定部は、前記ずれ抽出画素面積追加積算値が前記第二基準値より大きいかどうかを判定するものである。具体的には、前記積算ずれ面積第二判定部は、第二基準値がN2と設定された場合、ずれ抽出画素面積追加積算値Nxが第二基準値(N2)のレベルを超えるところがなければ検査対象の基板を良品と判定し、N2のレベルを超えるところがあれば、当該所定領域については不良品と判定するように、処理ブロックがプログラミングされている。 The integrated deviation area second determination unit determines whether or not the deviation extraction pixel area additional integrated value is larger than the second reference value. Specifically, when the second reference value is set as N2, the integrated deviation area second determination unit determines that the deviation extraction pixel area additional integrated value Nx does not exceed the level of the second reference value (N2). The processing block is programmed so that the substrate to be inspected is determined as a non-defective product, and if there is a portion exceeding the level of N2, the predetermined area is determined as a defective product.
一方、本発明にかかる膜厚むら検出方法においては、下記のようにして、上記変形例として説明した追加処理を適用する。
まず、上記変形例を適用しない場合は、上記ステップs124にて、ずれ抽出画素の面積積算値が設定基準値より大きいかどうかの判定を行っていたが、上記変形例を適用する場合は、当該ステップs124を予備判定のステップとし、さらに後処理を追加して検査精度を高める判定を行うようにしておく。また、上記ステップs123では、所定領域内のずれ部分の画素面積を積算し、その結果に基づいて、ステップs124でずれ部分の面積積算値が基準値より大きいかどうかを判定していた。しかし本変形例では、当該ステップs124で判定の基準とする値を第一基準値とし、第一基準値登録部に予め登録しておく。そして、上記ステップs123で得られたずれ面積の積算値と前記第一基準値とを比較する。
On the other hand, in the film thickness nonuniformity detection method according to the present invention, the additional processing described as the above modification is applied as follows.
First, when the modification example is not applied, it is determined in step s124 whether the area integrated value of the shift extraction pixels is larger than a set reference value. However, when the modification example is applied, Step s124 is set as a preliminary determination step, and further post-processing is added to make a determination to increase the inspection accuracy. In step s123, the pixel areas of the shifted portions in the predetermined region are integrated, and based on the result, it is determined in step s124 whether the integrated area value of the shifted portions is larger than the reference value. However, in this modification, the value used as the determination reference in step s124 is set as the first reference value, and is registered in advance in the first reference value registration unit. Then, the integrated value of the deviation areas obtained in step s123 is compared with the first reference value.
前記積算されたずれ面積の合計値が登録された前記第一基準値よりも大きい場合には、当該合計値に、当該面積を積算されたずれ抽出画素と隣接するずれ抽出画素の面積をさらに追加合算する処理を行う。そうすれば、所定領域内のずれ抽出画素だけなく、その抽出されたずれ部分が所定領域外にはみ出して存在している場合にも、一群のずれ抽出画素として積算することになり、ずれ抽出画素の積算値の中に微小なノイズ成分由来のものが含まれていたとしても、上記隣接するずれ抽出画素を合算することで、微小なノイズ成分ではない、本来検出すべきむらに由来するずれ抽出画素をより多く積算することができる。 When the total value of the integrated displacement areas is larger than the registered first reference value, the area of the displacement extraction pixels adjacent to the displacement extraction pixels integrated with the area is further added to the total value. Perform processing to add up. In this case, not only the shift extraction pixels in the predetermined area but also the extracted shift portion is outside the predetermined area, and is integrated as a group of shift extraction pixels. Even if the integrated value of the above includes a value derived from a minute noise component, by adding the adjacent displacement extraction pixels, a displacement extraction pixel that is not a minute noise component and originally derived from unevenness to be detected Can be accumulated more.
そして、前記追加合算された後のずれ面積積算値が、第二基準値よりも大きいかどうかを判定する。このとき、この第二基準値は、乾燥後の膜厚むら検出装置などを用いて得られた検出結果と整合性が取れるような設定値を、第二基準値登録部に予め登録しておくことが好ましい。そうすることで、本発明にかかる膜厚むら検出の精度を、より一層、塗布乾燥後の検査精度に近づけ、互いの整合性を保つことができる。 Then, it is determined whether the deviation area integrated value after the additional summation is larger than the second reference value. At this time, the second reference value is registered in advance in the second reference value registration unit so that the second reference value can be consistent with the detection result obtained using the film thickness unevenness detector after drying. It is preferable. By doing so, the accuracy of detecting the film thickness unevenness according to the present invention can be made closer to the inspection accuracy after coating and drying, and the consistency can be maintained.
なお、前記膜厚むらのない場合の画像は、実際に膜厚むらのない基板を準備し、撮像カメラ41で撮像したものを保存しておく。或いは、実際に膜厚むらのない基板を撮像した場合に観察される画像を規定して基準画像として保存しておいても良い。
In addition, the image when there is no film thickness unevenness is prepared by actually preparing a substrate without film thickness unevenness and storing the image captured by the
上述の様に、上記変形例を適用した膜厚むら検出装置及び方法を用いれば、
本来検出したい縦スジ・横ダンに対応するずれ抽出画素が、設定した所定領域の境界線を跨ぐように存在し、ずれ抽出画素面積積算値が半減してしまった場合でも、第一基準値の閾値を低く設定しておき、所定領域48の外にはみ出して存在する一群のずれ抽出画素を含めたずれ抽出画素面積追加積算値と、第二基準値と比較して、塗布膜の形成状態の良否を判断することができる。
As described above, if the film thickness unevenness detection apparatus and method to which the above modification is applied are used,
Even if the displacement extraction pixels corresponding to the vertical stripes / horizontal dunes to be detected exist so as to straddle the boundary line of the set predetermined area, even if the displacement extraction pixel area integrated value is halved, the first reference value The threshold value is set low, and compared with the second reference value and the shift extraction pixel area additional integrated value including a group of shift extraction pixels existing outside the
[変形例2:所定領域の方向設定]
上述では、本発明を適応するにあたって、受光パターンの任意の場所について所定領域48を設定していた。このような形態でも、縦スジや横ダンについて検出することができる。しかし、膜厚のむらが微小になるにつれて、前記ずれ抽出画素面積積算値や、前記ずれ抽出画素面積追加積算値前記が、設定基準値或いは、第一及び第二基準値を、僅かに下回ることがあり、不良と判断されない場合がある。つまり、検出したい縦スジに対して、所定領域48が、塗布方向に延びた領域でなく、交差したり徐々にそれたりした状態で設定されている場合、前記状況が起こり得る。同様に、検出したい横ダンに対して、所定領域48が、塗布方向と直交する方向に延びた領域でなく、交差したり徐々にそれたりした状態で設定されていると、前記状況が起こり得る。
[Modification 2: Direction setting of a predetermined area]
In the above description, in applying the present invention, the
そのため、本発明を適応するにあたって、所定領域48を塗布方向に伸びた領域とすること、或いは、塗布方向と直交する方向に延びた領域とすることがより好ましい。そうすることで、僅かな膜厚むらしか伴わない縦スジ・横ダンをより確実に検出することができる。
Therefore, in applying the present invention, it is more preferable that the
[膜厚むら検査装置付塗布装置]
図7は、本発明を具現化する形態の別の一例を示す平面図であり、図8は、本発明を具現化する形態の別の一例を示す側面図である。
塗布装置101は、照射部3と、受光部4と、検査部5と、相対移動部7と、塗布部8と、制御部9とを含んで、構成されている。
[Coating device with uneven film thickness inspection device]
FIG. 7 is a plan view showing another example of a form embodying the present invention, and FIG. 8 is a side view showing another example of a form embodying the present invention.
The
塗布装置101は、フレーム部112と、フレーム部112上に取り付けられてY方向に延びるガイドレール122と、ガイドレール122上を所定の速度で移動して所定の位置で静止することができるスライダ部123とを含んで構成されている。フレーム部112上には、基板載置台121を挟んで、ガイドレール122及びスライダ部123が2組を一対として取り付けられている。さらに、一対のスライダ部123の上には、基板載置台121を跨ぐように、門型フレーム130が取り付けられている。門型フレーム130には、Z方向に移動可能な昇降用アクチュエータ140が取り付けられており、昇降用アクチュエータ140には、塗布ノズル150が取り付けられている。
The
塗布装置101を構成する照射部3の照明ユニット31並びに受光部4の撮像カメラ41は、上述の観察装置1のそれらと同様の構成で、基板110wと対向した位置に配置されており、照明ユニット31から照射されて反射した光が、撮像カメラ41で観察されるように構成されている。また、基板10の表面に対して、照明ユニット31の照明光軸37や、撮像カメラ41の観察光軸47とのなす角度は同じ角度に設定されている。
The
塗布装置101を構成する検査部5、制御部9は、上述の観察装置1と同様、基板上に形成された皮膜の膜厚むらを検査する機能を含み、さらに基板110wにカラー皮膜を塗布形成することができるように構成されている。
なお、本形態における相対移動部7は、スライダ部123を含んで構成されている。
また、塗布部8は、昇降用アクチュエータ140と、塗布ノズル150とを含んで構成されている。
The
In addition, the
The
照明ユニット31は基板110wの幅方向(つまり、X方向)に所定の長さを有しており、基板110w上の検査対象領域110fに対して特定の照射パターンの光を照射することができる。撮像カメラ41は、基板110w上の検査対象領域110fを観察できるように、少なくとも1つ以上配置されている。
The
また、フレーム部112には、破線で示す門型フレーム115が、基板110w及び基板載置台121を跨ぐように門型フレーム130と並んで取り付けてあり、門型フレーム115には、取り付け金具など(図示せず)を介して照明ユニット31及び撮像カメラ41が取り付けられている。門型フレーム115及び照明ユニット31や撮像カメラ41は、スライダ部123がY方向に移動しても、門型フレーム130や塗布ノズル150とは干渉しない位置に配置されている。
Further, a gate-
図9は、本発明を具現化する形態の別の一例を示すシステム構成図であり、図7,図8を用いて説明した形態の塗布装置101において、照射部3、受光部4、検査部5、相対移動部7、塗布部8の各機器が、制御部9の各機器と接続されている様子を示している。
FIG. 9 is a system configuration diagram illustrating another example of a form embodying the present invention. In the
塗布装置101は、このような構成をしているため、スライダ部123をY方向に動かしながら基板110wに対する塗布ノズル150のZ方向の位置を設定し、塗布液を吐出させることで、所定の塗布動作を行うことができる。そして、スライダ部123がY方向に移動し続けて塗布動作が継続され、塗布が終わるまでの間に、門型フレーム130や塗布ノズル150が、照明ユニット31や撮像カメラ41から離れる。そして、観察に影響しない位置に遠ざかってから、基板110w上の塗布開始部分を検査対象領域110sとして、膜厚むら検出装置1を用いて、当該塗布開始部分の塗布膜について、形成状態の良否判断が行われる。
Since the
塗布装置101では、基板中央部と比べて、塗布開始部分に膜厚むらが生じやすいため、当該塗布開始部分に膜厚むらがあるかどうかを検出することが好ましい。そして、塗布動作中や、塗布動作完了時に、膜厚むらが検出されたかどうか結果を通知したり、下流側の装置に塗布済基板を受け渡す際に、当該基板に膜厚むらが含まれているか否かの情報を合わせて通知したりする。そうすれば、膜厚むらの無い塗布基板であれば、引き続き通常の処理(塗布膜の乾燥処理など)を行い、膜厚むらのある塗布基板であれば、通常の処理をせずに再検査や再生処理を行うことができる。
In the
上述の様に、本発明にかかる膜厚むら検査装置を備えた塗布装置は、膜厚むらが発生していれば即座に検出結果を外部の機器に通知したり、塗布動作そのものを中止したりすることができる。そのため、無駄な塗布液の消費や、基板のロスを防ぐことができ、コストダウンに貢献できる。
As described above, the coating apparatus equipped with the film thickness unevenness inspection apparatus according to the present invention immediately notifies the detection result to an external device when the film thickness unevenness occurs, or stops the coating operation itself. can do. Therefore, it is possible to prevent wasteful application liquid consumption and substrate loss, thereby contributing to cost reduction.
1 観察装置
2 基板載置部
3 照射部
4 受光部
5 検査部
7 相対移動部
8 塗布部
9 制御部
10 基板
10f 検査対象領域
21 基板載置台
23 移動機構
31 照明ユニット
32 筐体部
33 発光部
34 部分遮光部
37 照明光軸
38 光量調整部
41 撮像カメラ
42 レンズ
43a 明部(ストライプパターンの白部分)
43b 暗部(ストライプパターンの黒部分)
43c ずれ抽出画素(過検出条件)
43d 明部と暗部との境界部分を示す破線
43s 膜厚むら(縦スジ)がある部分
43m
43p
43z ずれ抽出画素(従来の条件)
44 やや集まって点在するずれ抽出画素群
45 直線状に点在するずれ抽出画素群
46 直線状に密集して点在するずれ抽出画素群
47 観察光軸
48 所定領域
50 設定基準値
51 設定基準値
52 設定基準値
90 制御用コンピュータ
91 情報入力手段
92 情報出力手段
93 発報手段
94 情報記録手段
95 機器制御ユニット
96 画像処理ユニット
101 塗布装置
110w 塗布基板(検査対象物)
110f 検査対象領域
110s 塗布開始部分
112 フレーム部
115 門型フレーム(検査部)
121 基板載置台
122 ガイドレール
123 スライダ部
130 門型フレーム(塗布部)
140 昇降用アクチュエータ
150 塗布ノズル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
10
21 Substrate mounting table 23 Moving mechanism
41 Imaging camera 42
43b Dark part (black part of stripe pattern)
43c Deviation extraction pixel (overdetection condition)
43d Broken line indicating the boundary between the bright part and the
43p
43z shift extraction pixel (conventional condition)
44 Deviation extraction pixel group slightly scattered and scattered 45 Misalignment extraction pixel group scattered in a straight line 46 Misalignment extraction pixel group scattered in a
50 Setting reference value 51 Setting reference value 52 Setting reference value
DESCRIPTION OF
101
110f Inspection target area 110s
121 Substrate mounting table 122
140
Claims (8)
前記塗布膜の表面で反射された前記特定の照射パターンの反射光を受光する受光部とを備え、
前記受光部によって受光された前記反射光の受光パターンと、前記特定の照射パターンに対応する基準パターンとを比較することにより、塗布膜の形成状態の良否を判断する検査部とを備えた膜厚むら検出装置であって、
前記検査部は、
前記受光パターンと、前記基準パターンとを比較する画像比較部と、
前記画像比較部で前記受光パターンと前記基準パターンとが比較され、ずれのある部分として抽出された画素からなる画像をずれ抽出画像として生成する、ずれ抽出画像生成部と、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素の面積をずれ抽出画素面積積算値として積算する、ずれ抽出画素面積積算部と、
前記ずれ抽出画素面積積算値が設定基準値より大きいかどうかを判定する、積算ずれ面積判定部と
を備えたことを特徴とする膜厚むら検出装置。
An irradiation unit that emits light of a specific irradiation pattern toward the coating film formed on the substrate,
A light receiving unit that receives the reflected light of the specific irradiation pattern reflected by the surface of the coating film,
A film thickness provided with an inspection unit that determines the quality of the coating film formation state by comparing the light receiving pattern of the reflected light received by the light receiving unit with a reference pattern corresponding to the specific irradiation pattern An unevenness detection device,
The inspection unit
An image comparison unit for comparing the light receiving pattern and the reference pattern;
A deviation extraction image generation unit that compares the light reception pattern with the reference pattern in the image comparison unit and generates an image composed of pixels extracted as a deviation part as a deviation extraction image;
A shift extraction pixel area integration unit that integrates the areas of the pixels extracted in the shift extraction image existing in a predetermined region of the shift extraction image as a shift extraction pixel area integration value;
A film thickness unevenness detection apparatus comprising: an integrated deviation area determination unit that determines whether the deviation extraction pixel area integrated value is greater than a set reference value.
前記検査部は、
前記積算ずれ面積判定部の設定基準値を第一基準値として登録する第一基準値登録部と、
前記ずれ抽出画素面積積算値が前記第一基準値よりも大きい場合には、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素と連続して存在する、前記所定領域外のずれ抽出された画素の面積を、前記ずれ抽出画素面積積算値に追加積算してずれ抽出画素面積追加積算値とする、ずれ抽出画素面積追加積算部と、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値に対する設定基準値を第二基準値として登録する第二基準値登録部と、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値が前記第二基準値より大きいかどうかを判定する、
積算ずれ面積第二判定部と
を備えたことを特徴とする膜厚むら検出装置。
It is a film thickness nonuniformity detection apparatus of Claim 1, Comprising:
The inspection unit
A first reference value registration unit for registering a set reference value of the integrated deviation area determination unit as a first reference value;
When the deviation extraction pixel area integrated value is larger than the first reference value,
The area of the extracted pixels outside the predetermined area, which is present continuously with the extracted pixels existing in the predetermined area of the deviation extracted image, is added to the integrated value of the extracted deviation pixel area. A shift extraction pixel area additional integration unit, which is set as a shift extraction pixel area additional integration value,
A second reference value registration unit for registering a setting reference value for the shift extraction pixel area additional integrated value as a second reference value;
It is determined whether the deviation extraction pixel area additional integrated value is greater than the second reference value.
A film thickness nonuniformity detection apparatus comprising: an integrated deviation area second determination unit.
を特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の膜厚むら検出装置。
The film thickness unevenness detection apparatus according to claim 1, wherein the predetermined area is an area extending in a coating direction or a direction perpendicular thereto.
請求項1〜3のいずれかに記載の膜厚むら検出装置と
を備えた膜厚むら検出装置付塗布装置であって、
前記塗布膜の表面で反射された反射光が、前記塗布ノズルで塗布された塗布膜の表面で反射された反射光である
ことを特徴とする膜厚むら検出装置付塗布装置。
A substrate mounting portion, a coating nozzle, a moving mechanism,
A coating apparatus with a film thickness unevenness detection apparatus comprising the film thickness unevenness detection apparatus according to any one of claims 1 to 3,
A coating apparatus with a film thickness unevenness detector, wherein the reflected light reflected by the surface of the coating film is reflected light reflected by the surface of the coating film applied by the coating nozzle.
前記照射ステップで照射されて前記塗布膜の表面で反射された光を受光するステップとを有し、
前記受光ステップで受光されたパターンと、前記特定の照射パターンに対応する基準パターンとを比較することにより、塗布膜の形成状態の良否を判断する検査ステップとを有する膜厚むら検出方法であって、
前記検査ステップは、
前記受光パターンと前記基準パターンとを比較する画像比較ステップと、
前記画像比較ステップにて前記受光パターンと前記照射パターンとを比較され、ずれのある部分として抽出された画素からなる画像をずれ抽出画像として生成する、ずれ抽出画像生成ステップと、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画像の面積をずれ抽出画素面積積算値として積算する、ずれ抽出面積積算ステップと、
前記ずれ抽出画素面積積算値が設定基準値より大きいかどうかを判定する、積算ずれ面積判定ステップと
を有することを特徴とする膜厚むら検出方法。
Irradiating light of a specific irradiation pattern toward the coating film formed on the substrate;
Receiving the light irradiated in the irradiation step and reflected by the surface of the coating film,
A method for detecting unevenness in film thickness, comprising: an inspection step for determining whether a coating film is formed by comparing a pattern received in the light receiving step with a reference pattern corresponding to the specific irradiation pattern. ,
The inspection step includes
An image comparison step for comparing the light receiving pattern and the reference pattern;
A shift extraction image generation step of generating an image composed of pixels extracted as a shift portion by comparing the light receiving pattern and the irradiation pattern in the image comparison step;
A shift extraction area integration step of integrating the area of the shift extracted image existing in a predetermined region of the shift extraction image as a shift extraction pixel area integration value;
An integrated film thickness non-uniformity detecting method comprising: determining whether the integrated value of the extracted pixel area is larger than a set reference value.
前記検査ステップは、
積算ずれ面積の判定基準値となる第一基準値を読み出し、
前記積算されたずれ面積の合計値が登録された前記第一基準値よりも大きい場合には、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素と連続して存在する、前記所定領域外のずれ抽出された画素の面積を、前記ずれ抽出画素面積積算値に追加積算してずれ抽出画素面積追加積算値とする、ずれ抽出画素面積追加積算ステップと、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値に対する判定基準値となる第二基準値を読み出し、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値が前記第二基準値より大きいかどうかを判定する、
積算ずれ面積第二判定ステップと
を有することを特徴とする膜厚むら検出方法。
The film thickness unevenness detection method according to claim 5,
The inspection step includes
Read the first reference value, which is the criterion value for the integrated deviation area,
When the total value of the accumulated deviation areas is larger than the registered first reference value,
The area of the extracted pixels outside the predetermined area, which is present continuously with the extracted pixels existing in the predetermined area of the deviation extracted image, is added to the integrated value of the extracted deviation pixel area. A shift extraction pixel area additional integration step, which is set as a shift extraction pixel area additional integration value,
Read a second reference value that is a determination reference value for the deviation extraction pixel area additional integrated value,
It is determined whether the deviation extraction pixel area additional integrated value is greater than the second reference value.
A film thickness nonuniformity detection method comprising: an integrated deviation area second determination step.
を特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の膜厚むら検出方法。
The film thickness unevenness detection method according to claim 1, wherein the predetermined region is a region extending in a coating direction or a direction perpendicular thereto.
基板載置部と塗布ノズルとを相対移動させるステップと、
前記相対移動させながら、塗布ノズルから塗布液を吐出させて、前記基板上に塗布膜を形成するステップと、
前記塗布ステップで基板上に形成された塗布膜の膜厚むらを検出するステップを有し、
前記膜厚むら検出ステップは、請求項5〜7のいずれかに記載の膜厚むら検出方法であることを特徴とする、基板上に形成された塗布膜の膜厚むら検出方法。 Placing the substrate on the substrate platform;
A step of relatively moving the substrate mounting portion and the coating nozzle;
Forming a coating film on the substrate by discharging a coating liquid from a coating nozzle while performing the relative movement; and
Detecting uneven thickness of the coating film formed on the substrate in the coating step,
The film thickness unevenness detection method according to any one of claims 5 to 7, wherein the film thickness unevenness detection step is a film thickness unevenness detection method according to any one of claims 5 to 7.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012013284A JP2013152153A (en) | 2012-01-25 | 2012-01-25 | Film thickness irregularity detection device and method, and coating device with film thickness irregularity detection device and film thickness irregularity detection method of coating film formed on substrate |
TW101150305A TW201331549A (en) | 2012-01-25 | 2012-12-27 | Uneven thickness detecting device, coating apparatus with the uneven thickness detecting device and uneven thickness detecting method for detecting coating film formed on substrate |
KR1020130001461A KR20130086549A (en) | 2012-01-25 | 2013-01-07 | Device and method for inspecting unevenness of film thickness, and, coating device with device for inspecting unevenness of film thickness, and, method for inspecting unevenness of film thickness of coating film formed on substrate |
CN2013100234438A CN103226105A (en) | 2012-01-25 | 2013-01-22 | Device and method for inspecting unevenness of film thickness, and coating device with inspecting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012013284A JP2013152153A (en) | 2012-01-25 | 2012-01-25 | Film thickness irregularity detection device and method, and coating device with film thickness irregularity detection device and film thickness irregularity detection method of coating film formed on substrate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013152153A true JP2013152153A (en) | 2013-08-08 |
Family
ID=48836632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012013284A Pending JP2013152153A (en) | 2012-01-25 | 2012-01-25 | Film thickness irregularity detection device and method, and coating device with film thickness irregularity detection device and film thickness irregularity detection method of coating film formed on substrate |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013152153A (en) |
KR (1) | KR20130086549A (en) |
CN (1) | CN103226105A (en) |
TW (1) | TW201331549A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110926351A (en) * | 2019-12-30 | 2020-03-27 | 中国建材检验认证集团浙江有限公司 | Method for measuring thickness of coating or plating layer of light steel keel for building |
CN112162095A (en) * | 2020-09-24 | 2021-01-01 | 上海印标包装有限公司 | Hydrophilic film and manufacturing method thereof |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104597054A (en) * | 2014-12-22 | 2015-05-06 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | OLED (organic light emitting diode) base plate coated film detection device and method as well as film coating equipment |
TWI509215B (en) * | 2015-07-02 | 2015-11-21 | Ta Jen Kuo | A high accuracy apparatus and method of photoelectric glass substrate in real-time identification |
CN106404799A (en) * | 2016-09-28 | 2017-02-15 | 铜陵市铜创电子科技有限公司 | Metallized film defect detecting and cropping device |
CN106500609A (en) * | 2016-09-28 | 2017-03-15 | 铜陵市铜创电子科技有限公司 | A kind of capacitor film film thickness detecting device |
CN106596558A (en) * | 2016-11-29 | 2017-04-26 | 中国电子科技集团公司第十八研究所 | On-line detection device for coating result of electrode plate |
CN107560567A (en) * | 2017-07-24 | 2018-01-09 | 武汉科技大学 | A kind of material surface quality determining method based on graphical analysis |
CN112304292B (en) * | 2019-07-25 | 2023-07-28 | 富泰华工业(深圳)有限公司 | Object detection method and detection system based on monochromatic light |
SE543802C2 (en) * | 2019-12-20 | 2021-07-27 | Stora Enso Oyj | Method for determining film thickness, method for producing a film and device for producing a film |
CN111060038A (en) * | 2020-01-02 | 2020-04-24 | 云谷(固安)科技有限公司 | Device and method for detecting surface flatness of film |
CN113245149A (en) * | 2021-05-26 | 2021-08-13 | 飓蜂科技(苏州)有限公司 | Glue dispensing method and device with closed-loop control of glue amount |
CN113251925B (en) * | 2021-05-26 | 2024-04-09 | 飓蜂科技(苏州)有限公司 | Glue amount detection method and device based on area array laser |
CN113602018B (en) * | 2021-07-06 | 2022-08-09 | 华中科技大学 | Online compensation method and system for missing printing defects of flexible electronic jet printing film |
CN116182953B (en) * | 2023-03-06 | 2024-01-05 | 中稀材(广东)技术有限公司 | Intelligent online detection system for flat plate spraying process and application method of intelligent online detection system |
CN118347413B (en) * | 2024-03-14 | 2024-11-15 | 江苏梅曼新能源科技有限公司 | Winding type coating detection system |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2935803B2 (en) * | 1993-12-28 | 1999-08-16 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Defect inspection equipment |
JPH08323271A (en) * | 1995-05-30 | 1996-12-10 | Mitsubishi Motors Corp | Paint spray quality judgment device |
JP4108829B2 (en) * | 1998-07-02 | 2008-06-25 | 東芝ソリューション株式会社 | Thickness defect inspection apparatus and inspection method thereof |
JP4650096B2 (en) * | 2005-05-20 | 2011-03-16 | 凸版印刷株式会社 | Coating unevenness inspection method and program thereof |
JP2008216199A (en) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Toyota Motor Corp | Weld bead inspection device and inspection method |
-
2012
- 2012-01-25 JP JP2012013284A patent/JP2013152153A/en active Pending
- 2012-12-27 TW TW101150305A patent/TW201331549A/en unknown
-
2013
- 2013-01-07 KR KR1020130001461A patent/KR20130086549A/en not_active Ceased
- 2013-01-22 CN CN2013100234438A patent/CN103226105A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110926351A (en) * | 2019-12-30 | 2020-03-27 | 中国建材检验认证集团浙江有限公司 | Method for measuring thickness of coating or plating layer of light steel keel for building |
CN110926351B (en) * | 2019-12-30 | 2021-05-18 | 中国建材检验认证集团浙江有限公司 | Method for measuring thickness of coating or plating layer of light steel keel for building |
CN112162095A (en) * | 2020-09-24 | 2021-01-01 | 上海印标包装有限公司 | Hydrophilic film and manufacturing method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130086549A (en) | 2013-08-02 |
CN103226105A (en) | 2013-07-31 |
TW201331549A (en) | 2013-08-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2013152153A (en) | Film thickness irregularity detection device and method, and coating device with film thickness irregularity detection device and film thickness irregularity detection method of coating film formed on substrate | |
US10026162B2 (en) | Method and device for sealant coating inspection | |
CN107796825B (en) | Device detection method | |
US9804103B2 (en) | Inspection method, template substrate, and focus offset method | |
US6928185B2 (en) | Defect inspection method and defect inspection apparatus | |
KR101444474B1 (en) | Inspection apparatus | |
US20090257644A1 (en) | Method and system for evaluating an object | |
US9013688B2 (en) | Method for optical inspection, detection and analysis of double sided wafer macro defects | |
JP5245212B2 (en) | Edge inspection device | |
JP7157580B2 (en) | Board inspection method and board inspection apparatus | |
KR100589110B1 (en) | Apparatus and method for inspecting pattern defect | |
JP2016145887A (en) | Inspection device and method | |
US9733196B2 (en) | Upper surface foreign material detecting device of ultra-thin transparent substrate | |
JP6515348B2 (en) | Calibration plate for surface inspection apparatus and calibration method for surface inspection apparatus | |
JP2012189544A (en) | Apparatus and method for inspecting film thickness unevenness | |
JP7125576B2 (en) | Foreign matter inspection device and foreign matter inspection method | |
JP2005214980A (en) | Macro inspection method for wafer and automatic wafer macro inspection device | |
JP2012088139A (en) | Device and method for inspecting defect of coating film | |
JP4052733B2 (en) | Foreign matter inspection method for patterned wafer | |
KR101198406B1 (en) | Pattern inspection device | |
JP4857917B2 (en) | Color filter appearance inspection method and appearance inspection apparatus | |
JP4909215B2 (en) | Inspection method and apparatus | |
JP5531405B2 (en) | Periodic pattern unevenness inspection method and inspection apparatus | |
JP2010008125A (en) | Bubble sorting method in glass substrate | |
JP2004117150A (en) | Pattern defect inspection apparatus and pattern defect inspection method |