JP2013118207A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Abstract
【課題】内部電源回路を搭載したメモリにおいて、外部電源をもとに内部電源を生成してメモリへ供給する際に、回路面積を削減し、消費電力の増大を抑制しつつ、内部電源の安定した供給を実現する。
【解決手段】外部電源102が通常の電圧である領域では、内部降圧電源ブロック101のみを使用して内部電源103を生成し、外部電源102が低電圧である領域では、内部降圧電源ブロック101に加えて内部昇圧電源ブロック112を使用して内部電源103を生成する。
【選択図】図1In a memory equipped with an internal power supply circuit, when an internal power supply is generated based on an external power supply and supplied to the memory, the circuit area is reduced and the increase in power consumption is suppressed, and the internal power supply is stabilized. Realization of the supply.
In an area where the external power supply is at a normal voltage, the internal power supply is generated using only the internal step-down power supply block. In an area where the external power supply is at a low voltage, the internal power supply is reduced. In addition, the internal power supply 103 is generated using the internal boost power supply block 112.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、半導体集積回路に関し、特にメモリを備えた半導体集積回路に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having a memory.
近年の半導体製造技術の進展に伴い素子がますます微細化され、ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ(以下、DRAMと称す)やスタティック・ランダム・アクセス・メモリ(以下、SRAMと称す)に代表されるメモリの集積度が向上している。また、半導体製造技術の微細化に伴い、1個の半導体チップ、例えばシステム・オン・チップ(以下、SoCと称す)に供給する電源電圧の低電圧化も進み、より低い電源電圧で動作するSoCが求められている。 As semiconductor manufacturing technology has advanced in recent years, devices have become increasingly finer and are typified by dynamic random access memory (hereinafter referred to as DRAM) and static random access memory (hereinafter referred to as SRAM). Memory integration has been improved. In addition, with the miniaturization of semiconductor manufacturing technology, the power supply voltage supplied to one semiconductor chip, for example, a system-on-chip (hereinafter referred to as SoC) has been lowered, and the SoC that operates at a lower power supply voltage. Is required.
メモリを搭載するSoCとしては、外部電源をもとに、外部電源電圧よりも低電圧、あるいは高電圧である内部電源電圧を、メモリ内部に搭載した内部電源回路、より詳細には内部降圧電源ブロックや内部昇圧電源ブロックで生成してメモリに供給することが広く知られている。これは、外部電源電圧の低電圧化に伴いメモリ内部で必要とする高電圧を外部から直接供給することが困難になっていることや、SoC内外での電源電圧の変動に対する耐性の向上等を目的としている。 As an SoC equipped with a memory, an internal power supply circuit in which an internal power supply voltage that is lower or higher than the external power supply voltage based on an external power supply is installed in the memory, more specifically, an internal step-down power supply block It is widely known that the voltage is generated by an internal boost power supply block and supplied to a memory. This is because it is difficult to directly supply the high voltage required inside the memory from the outside as the external power supply voltage is lowered, and the resistance to fluctuations in the power supply voltage inside and outside the SoC is improved. It is aimed.
メモリ内部に内部電源回路を搭載した公知例として、例えば特許文献1によれば、複数の内部昇圧電源ブロックを搭載した半導体集積回路があり、外部電源電圧の高低に応じて複数の内部昇圧電源ブロックを選択的に動作させることにより、外部電源電圧が低下しても安定した内部電源電圧の供給を実現する例が開示されている。
As a publicly known example in which an internal power supply circuit is mounted in a memory, for example, according to
図5は、従来の内部電源回路を備えた半導体集積回路の概略構成を示す回路図である。以下、図5を参照しながらメモリ内部電源回路の構成と動作を説明する。 FIG. 5 is a circuit diagram showing a schematic configuration of a semiconductor integrated circuit having a conventional internal power supply circuit. The configuration and operation of the memory internal power supply circuit will be described below with reference to FIG.
図5において、従来の内部電源回路は、外部電源501と、内部電源502と、内部降圧電源503と、第1の内部昇圧電源ブロック504と、第2の内部昇圧電源ブロック505と、内部降圧電源ブロック506と、制御信号生成回路507と、第1の内部昇圧電源制御回路508と、第2の内部昇圧電源制御回路509とから構成されている。
5, the conventional internal power supply circuit includes an
第1の内部昇圧電源ブロック504は、外部電源501をもとに昇圧動作を実施して内部電源502を出力する。第2の内部昇圧電源ブロック505は、内部降圧電源503をもとに昇圧動作を実施して内部電源502を出力する。
The first internal boost
制御信号生成回路507からは、外部電源501が3.3V程度の通常電圧領域である場合にはLレベル、外部電源501が例えば2.3V程度の低電圧領域である場合にはHレベルの第1の論理信号510が出力されて第1の内部昇圧電源制御回路508と第2の内部昇圧電源制御回路509とに入力されている。第1の内部昇圧電源制御回路508は、2入力のNOR回路で構成されており、一方の入力には第1の論理信号510が、もう一方の入力にはグランドがそれぞれ入力されている。第2の内部昇圧電源制御回路509は、2入力のNAND回路とインバータ回路とから構成されており、NAND回路の2入力のうち一方の入力には第1の論理信号510が、もう一方の入力には外部電源501がそれぞれ入力されている。第1の内部昇圧電源制御回路508から第1の内部昇圧電源ブロック504へは第2の論理信号511が、第2の内部昇圧電源制御回路509から第2の内部昇圧電源ブロック505へは第3の論理信号512がそれぞれ入力されている。第1の内部昇圧電源ブロック504、第2の内部昇圧電源ブロック505はともに、入力である第2の論理信号511、第3の論理信号512がHレベルのときに昇圧動作を実施する構成としている。
From the control
外部電源501は、例えば3.3Vの電圧であり、メモリ(図示していない)に供給される内部電源502はメモリ内のロウデコーダ(図示していない)やワードドライバ(図示していない)に供給される例えば3.6Vの電圧であり、内部降圧電源503は例えば2.3Vの電圧である。
The
まず、外部電源501が通常電圧領域、例えば3.3Vの電圧を保持している場合には、制御信号生成回路507から第1の論理信号510にLレベルの信号を出力する。第1の論理信号510がLレベルとなったことを受けて、第1の内部昇圧電源制御回路508及び第2の内部昇圧電源制御回路509はそれぞれ第2の論理信号511にHレベルの信号を、第3の論理信号512にLレベルの信号を出力する。これを受けて、第1の内部昇圧電源ブロック504は外部電源501をもとに昇圧動作を開始して内部電源502を出力する。一方、第2の内部昇圧電源ブロック505は、前段からの入力信号である第3の論理信号512がLレベルであるため、内部降圧電源503をもとにした昇圧動作を実施しない。
First, when the
このように外部電源501が通常電圧領域である場合には、第1の内部昇圧電源ブロック504で昇圧動作を実施して内部電源502をメモリに供給し、第2の内部昇圧電源ブロック505では昇圧動作、及び内部電源502への電流供給は実施しない。
As described above, when the
一方、外部電源501が低電圧領域、例えば2.3V程度の電圧である場合には、制御信号生成回路507から第1の論理信号510にHレベルの信号を出力する。第1の論理信号510がHレベルとなったことを受けて、第1の内部昇圧電源制御回路508及び第2の内部昇圧電源制御回路509はそれぞれ第2の論理信号511にLレベルの信号を、第3の論理信号512にHレベルの信号を出力する。これを受けて、第2の内部昇圧電源ブロック505は内部降圧電源503をもとに昇圧動作を開始して内部電源502を出力する。一方、第1の内部昇圧電源ブロック504は、前段からの入力信号である第2の論理信号511がLレベルであるため昇圧動作を実施しない。
On the other hand, when the
このように外部電源501が低電圧領域である場合には、第2の内部昇圧電源ブロック505で昇圧動作を実施して内部電源502をメモリに供給し、第1の内部昇圧電源ブロック504では昇圧動作、及び内部電源502への電流供給は実施しない。
Thus, when the
近年のSoC全体の外部電源の低電圧化と電源変動とに伴う課題としてはまず、外部電源のメモリへの直接供給が低電圧化やピン数削減等のために困難になってきている点が挙げられ、また外部電源の低電圧化によって、外部電源とメモリに供給するべき内部電源との電圧が逆転(内部電源の方が高くなる)してしまう場合には、内部降圧電源ブロックを用いて外部電源を降圧して内部電源を生成することが不可能になるという背景がある。また、外部電源が内部電源の電圧よりも高い電圧であっても、両者の間の電圧差が小さくなってきているために内部降圧電源ブロックを用いても十分な電流供給が行えずに、電力効率が悪い、あるいは内部電源生成が不十分になってしまい、結果として安定した内部電源を供給できないことになるという状況も起こりうる。これに加えて、外部電源に何らかの要因(一例としてはSoC内部での電源配線インピーダンスに起因する電圧降下や、SoC内部回路での瞬間的な過渡電流の発生による電圧降下等)による電源変動が生じた場合には、その影響はより一層顕著になってくる。そのため、内部降圧電源ブロックの代わりに内部昇圧電源ブロックを用いて外部電源よりも高い電圧である内部電源を生成するという方式が一般的であるが、回路の特性上、内部昇圧電源ブロックは内部降圧電源ブロックに比べて電力効率が下がる、また必要とする回路素子数や回路面積が大きくなるという課題がある。 As a problem associated with the recent decrease in the voltage of the external power supply and the fluctuation of the power supply of the entire SoC, first of all, direct supply to the memory of the external power supply has become difficult due to a reduction in voltage and a reduction in the number of pins. If the voltage between the external power supply and the internal power supply to be supplied to the memory is reversed (the internal power supply becomes higher) due to the low voltage of the external power supply, use the internal step-down power supply block. There is a background that it is impossible to generate an internal power supply by stepping down the external power supply. Even if the external power supply is higher than the voltage of the internal power supply, the voltage difference between the two is getting smaller, so even if the internal step-down power supply block is used, sufficient current cannot be supplied. There may be situations where efficiency is poor or internal power generation is insufficient, resulting in failure to supply stable internal power. In addition to this, the power supply fluctuates due to some factor in the external power supply (for example, a voltage drop due to the power supply wiring impedance inside the SoC, a voltage drop due to instantaneous transient current generation in the SoC internal circuit, etc.) If this happens, the effect becomes even more pronounced. For this reason, it is common to use an internal boost power supply block instead of the internal step-down power supply block to generate an internal power supply that is higher in voltage than the external power supply. There are problems in that the power efficiency is lower than that of the power supply block, and the number of circuit elements and the circuit area required are increased.
また、前述の従来例や特許文献1によれば、外部電源が十分な電圧を保持している通常状態では、搭載している複数の内部昇圧電源ブロックのうちの一部を動作させて外部電源を内部で昇圧してメモリに内部電源として供給し、外部電源が所定の電圧以下まで低くなってしまった場合には、内部に搭載している内部降圧電源ブロックに外部電源を入力して一旦内部降圧電源を生成し、搭載している複数の内部昇圧電源ブロックのうち、前述の内部昇圧電源ブロックとは異なる他の内部昇圧電源ブロックにこの内部降圧電源を供給して昇圧動作を実施してメモリに内部電源を供給する構成が開示されている。この構成では、外部電源の電圧が低下した場合でもメモリに安定した内部電源を供給することは可能となるが、その一方で昇圧動作を実施する元の電源の電圧レベルに応じた内部昇圧電源ブロックを複数種類搭載する必要があり、また外部電源が所定の電圧以下まで低くなって内部降圧電源ブロックを使用する場合には、外部電源を一旦降圧してから再度昇圧するという2段階の内部電源生成動作が必要となる。
Further, according to the above-described conventional example and
内部昇圧電源ブロックは、オシレータ回路やポンプ回路を搭載することが一般的であるため、前述のように、内部降圧電源ブロックと比較すると単体でも非常に大きな回路面積を必要とし、従来例の構成等では更にこの内部昇圧電源ブロックを複数種類搭載しているため、必要となる回路面積も大幅に増加してしまい、SoC全体としてのチップ面積増加に大きな影響を与えてしまうという課題があった。また、外部電源を一旦降圧してから再度昇圧動作を実施するという2段階の内部電源生成動作を実施する場合には、内部降圧電源ブロックのみで内部電源を生成した場合と比べて消費する電力が大幅に増加してしまい、結果としてSoC全体での消費電力が増加することによって、外部電源電圧を下げてもSoCとして所望の電力削減効果が得られない等の懸念が容易に想定しうる。このことから、内部電源回路を有する半導体集積回路として、外部電源電圧が低電圧化した場合でも、面積増加や消費電力の増大を抑制しつつ安定した内部電源をメモリに供給することが非常に困難であった。 Since the internal boost power supply block is generally equipped with an oscillator circuit or a pump circuit, as described above, it requires a very large circuit area as compared with the internal step-down power supply block. However, since a plurality of types of internal boosting power supply blocks are mounted, the required circuit area is greatly increased, which greatly affects the increase in the chip area of the SoC as a whole. In addition, when performing a two-stage internal power generation operation in which the external power supply is stepped down and then boosted again, the power consumed is smaller than when the internal power supply is generated only with the internal step-down power supply block. As the power consumption of the entire SoC increases as a result, the concern that the desired power reduction effect cannot be obtained as the SoC even if the external power supply voltage is lowered can be easily assumed. Therefore, as a semiconductor integrated circuit having an internal power supply circuit, even when the external power supply voltage is lowered, it is very difficult to supply a stable internal power supply to the memory while suppressing an increase in area and power consumption. Met.
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、外部電源をもとに内部電源回路で内部電源を生成してメモリに内部電源を供給する際に、チップ面積を削減し、消費電力の増大を抑制しつつ安定した内部電源をメモリに供給することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of such problems, and reduces the chip area and consumes power when generating internal power by an internal power supply circuit based on the external power and supplying the internal power to the memory. An object of the present invention is to supply a stable internal power supply to a memory while suppressing an increase in power.
上記課題を解決するために、本発明の第1の半導体集積回路は、外部電源をもとに降圧動作を実施する内部降圧電源ブロックと、前記外部電源をもとに昇圧動作を実施する内部昇圧電源ブロックとを備え、前記外部電源が通常の電圧である領域では、前記内部降圧電源ブロックのみを使用して所望の電圧の内部電源を生成し、前記外部電源が低電圧である領域では、前記内部降圧電源ブロックに加えて又は前記内部降圧電源ブロックに代えて前記内部昇圧電源ブロックを使用して前記所望の電圧の内部電源を生成することを特徴とする。 In order to solve the above problem, a first semiconductor integrated circuit according to the present invention includes an internal step-down power supply block that performs a step-down operation based on an external power supply, and an internal step-up operation that performs a step-up operation based on the external power supply. In the region where the external power supply is a normal voltage, the internal power supply of a desired voltage is generated using only the internal step-down power supply block, and in the region where the external power supply is a low voltage, In addition to the internal step-down power supply block or in place of the internal step-down power supply block, the internal step-up power supply block is used to generate an internal power supply having the desired voltage.
また、本発明の第2の半導体集積回路は、選択された電源をもとに降圧動作を実施する内部降圧電源ブロックと、外部電源をもとに内部昇圧電源を生成する内部昇圧電源ブロックとを備え、前記外部電源が通常の電圧である領域では、前記内部降圧電源ブロックが前記外部電源から所望の電圧の内部電源を生成し、前記外部電源が低電圧である領域では、前記内部昇圧電源ブロックが生成した前記内部昇圧電源から前記内部降圧電源ブロックが前記所望の電圧の内部電源を生成することを特徴とする。 The second semiconductor integrated circuit of the present invention includes an internal step-down power supply block that performs a step-down operation based on a selected power supply, and an internal step-up power supply block that generates an internal boost power supply based on an external power supply. The internal step-down power supply block generates an internal power supply of a desired voltage from the external power supply in a region where the external power supply is a normal voltage, and the internal boosting power supply block in a region where the external power supply is a low voltage. The internal step-down power supply block generates the internal power supply of the desired voltage from the internal boosted power supply generated by
本発明は、外部電源をもとに内部に搭載する内部電源回路を使用して内部電源を生成する半導体集積回路に関して有効な技術であり、チップ面積を削減し、消費電力の増大を抑制しつつ安定した内部電源を生成することを可能にする。更には、使用する回路を複数の内部電源ブロックで共用することにより更なるチップ面積の削減を実現するものである。 The present invention is an effective technique for a semiconductor integrated circuit that generates an internal power supply using an internal power supply circuit mounted inside based on an external power supply, while reducing the chip area and suppressing an increase in power consumption. It makes it possible to generate a stable internal power supply. Furthermore, the chip area can be further reduced by sharing a circuit to be used by a plurality of internal power supply blocks.
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
《第1の実施形態》
図1は、本発明の第1の実施形態による内部電源回路を備えた半導体集積回路の概略構成を示す図である。以下、内部電源回路を備えた半導体集積回路の代表的な内部電源生成の動作における本発明の実施の形態を説明する。
<< First Embodiment >>
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a semiconductor integrated circuit including an internal power supply circuit according to the first embodiment of the present invention. Embodiments of the present invention in a typical internal power generation operation of a semiconductor integrated circuit including an internal power supply circuit will be described below.
本発明の第1の実施形態での半導体集積回路は、内部降圧電源ブロック101と、内部昇圧電源ブロック112と、リファレンス生成回路104とから構成される。
The semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention includes an internal step-down
内部降圧電源ブロック101は、3.3Vの外部電源102、2.6Vが必要となる内部電源103、リファレンス回路104において定電圧源等から生成される1.3Vの定電圧であるリファレンス電圧105、リファレンス電圧105と後述の内部電源フィードバック電圧111とが入力され、内部電源フィードバック電圧111がリファレンス電圧105より低くなった場合に検知信号Lレベルを出力する第1のアンプ回路106、第1のアンプ回路106で生成される検知信号である第1の検知信号107、外部電源102から内部電源103を生成するための降圧用PMOSトランジスタ108、内部電源103の電圧をもとに内部電源103の2分の1の電圧を出力するための第1の抵抗素子109、第1の抵抗素子109と同じ抵抗値を持つ第2の抵抗素子110、内部電源103から第1の抵抗素子109を介して内部電源103の2分の1の電圧値として出力される内部電源フィードバック電圧111から構成されている。
The internal step-down
内部昇圧電源ブロック112は、3.3Vの外部電源102、2.6Vが必要となる内部電源103、外部電源102を昇圧するためのポンプ回路113、外部電源102が供給されると自動的に昇圧動作のための基準信号を生成し、入力される制御信号のレベルに応じてこの基準信号を出力するかどうかを制御するオシレータ回路114、外部電源102をもとに外部電源102の2分の1の電圧を出力するための第3の抵抗素子115、第3の抵抗素子115と同じ抵抗値を持つ第4の抵抗素子116、第3の抵抗素子115を介して外部電源102の2分の1の電圧値として出力される外部電源フィードバック電圧117、リファレンス電圧105と外部電源フィードバック電圧117とが入力され、外部電源フィードバック電圧117がリファレンス電圧105より低くなった場合に検知信号Hレベルを出力する第2のアンプ回路118、第2のアンプ回路118で生成される検知信号である第2の検知信号119、第1の検知信号107の信号極性を反転するためのインバータ回路である第1の論理回路120、第1の検知信号107の信号極性を第1の論理回路120を介して反転させた第3の検知信号121、第2の検知信号119と第3の検知信号121とを入力して否定論理積(NAND)をとるための第2の論理回路122、第2の論理回路122から出力されてオシレータ回路114に入力され、オシレータ回路114で生成される基準信号を出力するかどうかを制御するための第1の論理信号123、オシレータ回路114から出力されてポンプ回路113に入力される、内部昇圧動作を実施するためのオシレータ信号である第2の論理信号124から構成されている。
The internal boost
内部降圧電源ブロック101では、外部電源102から、降圧用PMOSトランジスタ108を介して内部電源103に電流を供給することにより、内部電源103としてメモリ(図示していない)に電流を供給する。
In the internal step-down
一方、内部昇圧電源ブロック112では、外部電源102をポンプ回路113に供給し、オシレータ回路114からポンプ回路113を動作させるための第2の論理信号124が入力された場合に、外部電源102を昇圧して内部電源103を生成してメモリ(図示していない)に供給する。オシレータ回路114は、外部電源102の供給とともに内部で自動で生成している基準信号を、入力である第1の論理信号123がLレベルのときに第2の論理信号124として出力し、第1の論理信号123がHレベルのときには何も出力しない回路構成をとっている。
On the other hand, in the internal boost
以上のように構成された本発明の第1の実施形態に関して、最初に外部電源102が通常電圧である領域、一例として外部電源102が3.3V、内部電源103が2.6Vの場合を例として説明する。
Regarding the first embodiment of the present invention configured as described above, first, an example in which the
まず、内部降圧電源ブロック101では、内部電源103が所望の電圧である2.6Vを下回った場合、第1の抵抗素子109と第2の抵抗素子110とを介して内部電源103の2分の1の電圧(<1.3V)が内部電源フィードバック電圧111として第1のアンプ回路106に入力される。一方、リファレンス生成回路104で生成された定電圧1.3Vであるリファレンス電圧105も第1のアンプ回路106に入力され、両者の間で電圧比較が行われる。この場合には、内部電源フィードバック電圧111(<1.3V)の方がリファレンス電圧105(=1.3V)よりも低いため、第1のアンプ回路106は検知信号として第1の検知信号107にLレベルの信号を出力する。これを受けて、降圧用PMOSトランジスタ108のゲート入力がLレベルとなり、降圧用PMOSトランジスタ108はオンして外部電源102から内部電源103へ電流を供給し、内部電源103を所望の電圧である2.6Vまで上昇させる。内部電源103に十分な電流が供給され、所望の電圧である2.6Vまで達すると、内部電源フィードバック電圧111は内部電源103の2分の1の電圧と設定しているために1.3Vに達し、第1のアンプ回路106では、内部電源フィードバック電圧111がリファレンス電圧105よりも高くなるため、第1の検知信号107はLレベルからHレベルへと切り替わる。これを受けて、降圧用PMOSトランジスタ108のゲート入力がLレベルからHレベルへと切り替わるために降圧用PMOSトランジスタ108はオフし、外部電源102から内部電源103への電流供給は止まる。
First, in the internal step-down
このようにして、内部降圧電源ブロック101は、内部電源103が所望の電圧である2.6Vを下回ると降圧動作を実施して外部電源102から内部電源103へ電流を供給して内部電源103が2.6Vを維持するよう動作する。
In this way, when the
一方、このとき、内部昇圧電源ブロック112は、外部電源102の電圧をモニターするために第3の抵抗素子115と第4の抵抗素子116とによって外部電源102の2分の1の電圧である外部電源フィードバック電圧117を常時生成している。外部電源フィードバック電圧117と、前述のリファレンス生成回路104で生成した定電圧1.3Vであるリファレンス電圧105とを、第2のアンプ回路118に入力する。外部電源102は通常電圧領域であり3.3Vの電圧を保持しているため、外部電源フィードバック電圧117(=1.65V)はリファレンス電圧105(=1.3V)を上回っており、両者を比較して第2のアンプ回路118はLレベルの信号を第2の検知信号119として出力する。次に、内部電源103が2.6Vを下回っている場合には前述の内部降圧電源ブロック101での動作によって第1のアンプ回路106からはLレベルの信号が、内部電源103が2.6Vを上回っている場合にはHレベルの信号がそれぞれ第1の検知信号107として出力される。この第1の検知信号107は、降圧用PMOSトランジスタ108のゲートに入力されると同時に内部昇圧電源ブロック112、より詳細にはインバータ回路である第1の論理回路120にも入力される。この第1の論理回路120を介して第1の検知信号107は反転して第3の検知信号121として、内部電源103が2.6Vを下回っている場合にはHレベル、内部電源103が2.6Vを上回っている場合にはLレベルの論理信号としてNAND回路である第2の論理回路122に入力される。第2の論理回路122では、内部電源103が2.6Vを下回っている場合にはLレベルの第2の検知信号119とHレベルの第3の検知信号121とが、内部電源103が2.6Vを上回っている場合にはLレベルの第2の検知信号119とLレベルの第3の検知信号121とがそれぞれ入力され、第3の検知信号121がHレベル、Lレベルのいずれであっても、第2の検知信号119がLレベルであるためにHレベルの論理信号である第1の論理信号123を出力する。オシレータ回路114は、入力である第1の論理信号123がHレベルであるために内部で生成している基準信号を出力せず、後段のポンプ回路113へは何も入力されないために昇圧動作は実施されない。
On the other hand, at this time, the internal boost
このため、内部昇圧電源ブロック112は、外部電源102が通常の電圧領域である3.3Vの電圧を保持している場合には、内部電源103の電圧レベルによらずに昇圧動作を実施しない。
Therefore, the internal boost
よって、外部電源102が通常の電圧領域である場合に、内部電源103の電圧レベルが低下したときには内部降圧電源ブロック101からのみ電流供給を実施して内部電源103の電圧を2.6Vに維持するように動作する。
Therefore, when the
次に、外部電源102が低電圧である領域、一例として外部電源102が2.5V、内部電源103が2.6Vの場合を例として説明する。
Next, a region where the
まず、内部降圧電源ブロック101では、内部電源103が所望の電圧である2.6Vを下回った場合、第1の抵抗素子109と第2の抵抗素子110とを介して内部電源103の2分の1の電圧(<1.3V)が内部電源フィードバック電圧111として第1のアンプ回路106に入力される。一方、リファレンス生成回路104で生成された定電圧1.3Vであるリファレンス電圧105も第1のアンプ回路106に入力され、両者の間で電圧比較が行われる。この場合には、内部電源フィードバック電圧111(<1.3V)の方がリファレンス電圧105(=1.3V)よりも低いため、第1のアンプ回路106は検知信号として第1の検知信号107にLレベルの信号を出力する。これを受けて、降圧用PMOSトランジスタ108のゲート入力がLレベルとなり、降圧用PMOSトランジスタ108はオンして外部電源102から内部電源103へ電流を供給し、内部電源103を所望の電圧である2.6Vまで上昇させるよう動作するが、外部電源102の電圧2.5Vが内部電源103の所望の電圧である2.6Vよりも低いため、最大でも2.5Vまでしか内部電源103を上昇させることができない。内部電源フィードバック電圧111は内部電源103の2分の1の電圧と設定しているために最大でも1.25Vまでしか上昇せず、第1のアンプ回路106では、内部電源フィードバック電圧111がリファレンス電圧105よりも高くなることはなく、常にリファレンス電圧105の方が高くなるために第1のアンプ回路106の出力である第1の検知信号107はLレベルのままとなり、降圧用PMOSトランジスタ108のゲート入力もLレベルのままであるために内部降圧電源ブロック101は動作し続け、外部電源102から内部電源103へ電流を供給し続けることになる。ここで、他方の内部昇圧電源ブロック112も同時に動作(後述)して内部電源103に電流を供給することによって内部電源103が2.6Vを維持できるように動作するため、内部電源103が2.6Vに達した時点で内部電源フィードバック電圧111は内部電源103の2分の1の電圧と設定しているために1.3Vに達し、第1のアンプ回路106では、内部電源フィードバック電圧111がリファレンス電圧105よりも高くなるため、第1の検知信号107はLレベルからHレベルへと切り替わる。これを受けて、降圧用PMOSトランジスタ108のゲート入力がLレベルからHレベルへと切り替わるために降圧用PMOSトランジスタ108はオフし、外部電源102から内部電源103への電流供給は止まる。
First, in the internal step-down
一方、このとき、内部昇圧電源ブロック112は、外部電源102の電圧をモニターするために第3の抵抗素子115と第4の抵抗素子116とによって外部電源102の2分の1の電圧である外部電源フィードバック電圧117を常時生成している。外部電源フィードバック電圧117と、前述のリファレンス生成回路104で生成した定電圧1.3Vであるリファレンス電圧105とを、第2のアンプ回路118に入力する。外部電源102は低電圧領域であり2.5Vの電圧であるため、外部電源フィードバック電圧117(=1.25V)はリファレンス電圧105(=1.3V)を下回っており、両者を比較して第2のアンプ回路118はHレベルの信号を第2の検知信号119として出力する。次に、内部電源103が2.6Vを下回っている場合には前述の内部降圧電源ブロック101での動作によって第1のアンプ回路106からはLレベルの信号が、内部電源103が2.6Vを上回っている場合にはHレベルの信号がそれぞれ第1の検知信号107として出力される。この第1の検知信号107は、降圧用PMOSトランジスタ108のゲートに入力されると同時に内部昇圧電源ブロック112、より詳細にはインバータ回路である第1の論理回路120にも入力される。この第1の論理回路120を介して第1の検知信号107は反転して第3の検知信号121として、内部電源103が2.6Vを下回っている場合にはHレベル、内部電源103が2.6Vを上回っている場合にはLレベルの論理信号としてNAND回路である第2の論理回路122に入力される。第2の論理回路122では、内部電源103が2.6Vを下回っている場合にはHレベルの第2の検知信号119とHレベルの第3の検知信号121とが、内部電源103が2.6Vを上回っている場合にはHレベルの第2の検知信号119とLレベルの第3の検知信号121とがそれぞれ入力される。内部電源103が2.6Vを下回っている場合、つまり電流供給が必要な状態では、Hレベルの第2の検知信号119とHレベルの第3の検知信号121とから、第2の論理回路122はLレベルの信号を第1の論理信号123に出力し、オシレータ回路114は内部で生成している基準信号を第2の論理信号124としてポンプ回路113に出力する。ポンプ回路113は第2の論理信号124が入力されているため昇圧動作を実施し、外部電源102を昇圧して電流を内部電源103に供給し、内部電源103が2.6Vに達するまで動作する。そして、内部電源103が2.6Vに達した後、あるいは内部電源103が元々2.6Vを上回っている場合、つまり電流供給が不要である状態では、第3の検知信号121はLレベルであるため、Hレベルの第2の検知信号119とから、第2の論理回路122はHレベルの信号を第1の論理信号123に出力し、オシレータ回路114は内部で生成している基準信号を出力しない。ポンプ回路113は第2の論理信号124が入力されないため昇圧動作を実施しない。
On the other hand, at this time, the internal boost
このように内部昇圧電源ブロック112は、外部電源102が低電圧領域である場合には、内部電源103の電圧レベルに応じて昇圧動作を実施するどうかを制御され、内部電源103が所望の電圧である2.6Vを満たしているときには昇圧動作は実施せず、内部電源103が2.6Vを下回っているときには2.6Vに達するまで昇圧動作を実施し、2.6Vに達した時点で昇圧動作を停止する動作をとる。
As described above, when the
よって、外部電源102が低電圧領域である場合に、内部電源103の電圧レベルが低下したときには、内部降圧電源ブロック101から電流供給を実施して内部電源103の電圧を2.6Vに上昇させるために動作するが、内部降圧電源ブロック101の動作だけでは十分な電流供給ができない(2.6Vまで電圧を上げることができない)場合には、内部昇圧電源ブロック112も動作して外部電源102をもとに昇圧動作を実施して内部電源103を2.6Vに維持する動作をとる。
Therefore, when the
以上のような構成によれば、外部電源102の電圧がメモリに供給する内部電源103の電圧を下回った場合、つまり外部電源102の電圧が低電圧となった場合でも、内部降圧電源ブロック101での電流供給に加えて内部昇圧電源ブロック112の動作による電流供給を実施することにより、安定して内部電源103をメモリに供給することが可能となり、回路面積や電力効率の観点から見ても、従来例のように複数の内部昇圧回路を搭載する場合に対して大幅な面積削減、電力削減を同時に実現できる。
According to the configuration as described above, even when the voltage of the
また、一般的には内部昇圧電源ブロック112のような昇圧電源回路では、昇圧ポンプ動作による内部電源103の電圧変動ノイズが大きくなり、メモリに供給する電源に変動が起こることが課題となるが、以上のような構成によれば、内部昇圧電源ブロック112でのポンプ動作による内部電源103の電圧変動ノイズは、内部降圧電源ブロック101内で電圧のフィードバックを実施し、内部降圧電源ブロック101からも電流を供給する構成をとることによって抑制される。
In general, in a boost power supply circuit such as the internal boost
また、リファレンス生成回路104やリファレンス電圧105及び第1の検知信号107を内部降圧電源ブロック101と内部昇圧電源ブロック112とで共用することにより、個別にそれぞれの回路を構成する場合に対して回路面積を大幅に削減することが可能となる。
Further, by sharing the
また、内部電源103が低下しているかどうかを検知するための内部電源フィードバック電圧111、及び外部電源102が低下しているかどうかを検知するための外部電源フィードバック電圧117を、それぞれ第1の抵抗素子109、第2の抵抗素子110、第3の抵抗素子115、第4の抵抗素子116を用いて2分の1の電圧に変換して検知に用いることにより、外部電源102が内部電源103を下回った場合でも、第1のアンプ回路106及び第2のアンプ回路118に内部電源フィードバック電圧111と同じレベルの電圧(1.3V程度)を供給できるため、安定した検知動作を実現できる。これは、例えばリファレンス生成回路104で生成するリファレンス電圧105を2.6Vとし、内部電源103を電圧変換せずにそのまま両者を第1のアンプ回路106に入力して検知する回路構成をとった場合には、外部電源102が2.5Vに低下したとき、つまり内部電源103の所望の電圧である2.6Vを下回ってしまったとき等では、リファレンス生成回路104が2.5Vまでのリファレンス電圧105しか生成できなくなってしまい、これにより内部降圧電源ブロック101及び内部昇圧電源ブロック112が動作しても、内部電源103を2.5Vまでしか上げられなくなってしまうという課題を解決できる構成である。外部電源フィードバック電圧117も、リファレンス電圧105を1.3Vの定電圧で生成していることに合わせて、外部電源102の2分の1の電圧に設定している。
In addition, an internal power
なお、本実施形態では、内部電源フィードバック電圧111を内部電源103の2分の1の電圧に、外部電源フィードバック電圧117を外部電源102の2分の1の電圧に、リファレンス電圧105を1.3Vの定電圧にそれぞれ設定した一例を示したが、これに限定するものではなく、内部電源フィードバック電圧111、外部電源フィードバック電圧117、リファレンス電圧105が内部電源103より低い電圧であれば同等の効果を実現できる。
In this embodiment, the internal power
また、本実施形態では、内部電源フィードバック電圧111、外部電源フィードバック電圧117、リファレンス電圧105を内部電源103より低い電圧に設定した一例を示したが、これに限定するものではなく、一例として示した抵抗素子や昇圧回路等の電圧変換回路を用いてより高い電圧に設定しても、同様にリファレンス電圧105も抵抗素子等の電圧変換回路や昇圧回路等を用いて高い電圧として供給すれば、外部電源102が低電圧となった場合にも電源回路として十分な動作を実現することができるため、同等の効果を実現できる。
In this embodiment, an example in which the internal power
また、本実施形態では、内部電源フィードバック電圧111、外部電源フィードバック電圧117を生成するのに抵抗素子を用いる一例を示したが、これに限定するものではなく、電圧を変換する別の手段を用いても同等の効果を実現できる。
In the present embodiment, an example in which a resistance element is used to generate the internal power
また、本実施形態では、外部電源102が低電圧の領域では内部降圧電源ブロック101と内部昇圧電源ブロック112とを両方動作させる一例を示したが、これに限定するものではなく、外部電源102が低電圧の領域では内部降圧電源ブロック101の動作を停止して内部昇圧電源ブロック112のみを動作させて内部電源103を供給することも可能である。この場合には内部降圧電源ブロック101内の降圧用PMOSトランジスタ108のゲート入力に、第1の検知信号107と第2の検知信号119とを入力とする論理回路、より具体的にはOR回路等を追加して、外部電源102が低電圧領域、つまり第2の検知信号119がHレベルのときには降圧用PMOSトランジスタ108のゲート入力をHレベルにする構成とすればよい。
In the present embodiment, an example is shown in which both the internal step-down
また、本実施形態では、リファレンス電圧105を定電圧の1.3Vとして設定した一例を示したが、これに限定するものではなく、リファレンス生成回路104内で任意の電圧に設定しても同様の効果を実現できる。これと、内部電源フィードバック電圧111を任意の電圧に設定することにより、メモリに供給する内部電源103の電圧を自由に設定することができるため、メモリで複数の電圧の内部電源103が要求される場合でも対応することが可能となる。
In the present embodiment, an example in which the
また、本実施形態では、外部電源102が内部電源103の電圧である2.6Vを下回ったときに内部昇圧電源ブロック112を動作させる一例を示したが、これに限定するものではなく、外部電源102と内部電源103との電圧差が小さくなったとき、一例としては外部電源102が2.7V程度の電圧まで低下したときに内部昇圧電源ブロック112を動作させる等しても、同等の効果を実現できる。この場合には、外部電源102と内部電源103との電圧差が小さくなることによって、外部電源102から降圧用PMOSトランジスタ108を介して内部電源103に電流を供給する際の電力効率が低下する前に内部昇圧電源ブロック112を動作させることによって、内部電源103を供給する際に電力効率が低下するのを抑制することが可能となる。
In the present embodiment, an example is shown in which the internal boost
《第2の実施形態》
図2は、本発明の第2の実施形態による内部電源回路を備えた半導体集積回路の概略構成を示す図である。以下、内部電源回路を備えた半導体集積回路の代表的な内部電源生成の動作における本発明の実施の形態を説明する。
<< Second Embodiment >>
FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of a semiconductor integrated circuit including an internal power supply circuit according to the second embodiment of the present invention. Embodiments of the present invention in a typical internal power generation operation of a semiconductor integrated circuit including an internal power supply circuit will be described below.
なお、図2の構成要素のうちで図1に記載している構成要素と同じ構成を持つものに関しては同じ符号を付与している。 In addition, the same code | symbol is provided about the component which has the same structure as the component described in FIG. 1 among the components of FIG.
本発明の第2の実施形態での半導体集積回路は、内部降圧電源ブロック200と、内部昇圧電源ブロック201と、リファレンス生成回路104とから構成される。
The semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention includes an internal step-down
内部降圧電源ブロック200は、3.3Vの外部電源102、2.6Vが必要となる内部電源103、リファレンス回路104において定電圧源等から生成される1.3Vの定電圧であるリファレンス電圧105、リファレンス電圧105と後述の内部電源フィードバック電圧111とが入力され、内部電源フィードバック電圧111がリファレンス電圧105より低くなった場合に検知信号Lレベルを出力する第1のアンプ回路106、第1のアンプ回路106で生成される検知信号である第1の検知信号107、外部電源102又は後述の内部昇圧電源204から内部電源103を生成するための降圧用PMOSトランジスタ108、内部電源103の電圧をもとに内部電源103の2分の1の電圧を出力するための第1の抵抗素子109、第1の抵抗素子109と同じ抵抗値を持つ第2の抵抗素子110、内部電源103から第1の抵抗素子109を介して内部電源103の2分の1の電圧値として出力される内部電源フィードバック電圧111、後述する内部昇圧電源ブロック201で生成する内部昇圧電源204、後述する内部昇圧電源ブロック201内で生成される第2の検知信号119の信号論理を反転させるためのインバータ回路で構成される第1の論理回路205、第1の論理回路205によって第2の検知信号119の信号論理を反転させた信号である第3の検知信号206、外部電源102と降圧用PMOSトランジスタ108のソースノードとの間の接続を第3の検知信号206で制御し、第3の検知信号206がHレベルのときに両端のノードを接続、Lレベルのときには切断する第1のスイッチ202、後述する内部昇圧電源204と降圧用PMOSトランジスタ108のソースノードとの間の接続を第2の検知信号119で制御し、第2の検知信号119がHレベルのときに両端のノードを接続、Lレベルのときには切断する第2のスイッチ203から構成されている。
The internal step-down
内部昇圧電源ブロック201は、3.3Vの外部電源102、昇圧動作の実施により生成する内部昇圧電源204、外部電源102を昇圧して内部昇圧電源204を生成するためのポンプ回路113、外部電源102が供給されると自動的に昇圧動作のための基準信号を生成し、入力される制御信号のレベルに応じてこの基準信号を出力するかどうかを制御するオシレータ回路114、外部電源102をもとに外部電源102の2分の1の電圧を出力するための第3の抵抗素子115、第3の抵抗素子115と同じ抵抗値を持つ第4の抵抗素子116、第3の抵抗素子115を介して外部電源102の2分の1の電圧値として出力される外部電源フィードバック電圧117、リファレンス電圧105と外部電源フィードバック電圧117とが入力され、外部電源フィードバック電圧117がリファレンス電圧105より低くなった場合に検知信号Hレベルを出力する第2のアンプ回路118、第2のアンプ回路118で生成される検知信号であり内部降圧電源ブロック200にも入力される第2の検知信号119、第2の検知信号119の信号論理を反転させるためのインバータ回路で構成される第2の論理回路207、第2の論理回路207を介して第2の検知信号119の信号論理を反転した信号であり、オシレータ回路114で生成される基準信号を出力するかどうかを制御する第1の論理信号208、オシレータ回路114から出力されてポンプ回路113に入力される、内部昇圧動作を実施するためのオシレータ信号である第2の論理信号124から構成されている。
The internal boost
内部降圧電源ブロック200では、外部電源102から第1のスイッチ202を介した後、又は後述する内部昇圧電源204から第2のスイッチ203を介した後に、降圧用PMOSトランジスタ108を介して内部電源103に電流を供給することにより、内部電源103としてメモリ(図示していない)に電流を供給する。第1のスイッチ202及び第2のスイッチ203の接続切り替えは、外部電源102の電圧レベルによって後述の内部昇圧電源ブロック201で生成される第2の検知信号119によって行われる。
In the internal step-down
一方、内部昇圧電源ブロック201では、外部電源102をポンプ回路113に供給し、オシレータ回路114からポンプ回路113を動作させるための第2の論理信号124が入力された場合に、外部電源102を昇圧して内部昇圧電源204が生成され、これを内部降圧電源ブロック200に供給する。オシレータ回路114は、外部電源102の供給とともに内部で自動で生成している基準信号を、第2の検知信号119の反転信号である第1の論理信号208がLレベルのときに第2の論理信号124として出力し、第1の論理信号208がHレベルのときには何も出力しない回路構成をとっている。
On the other hand, in the internal boost
以上のように構成された本発明の第2の実施形態に関して、最初に外部電源102が通常電圧である領域、一例として外部電源102が3.3V、内部電源103が2.6Vの場合を例として説明する。
Regarding the second embodiment of the present invention configured as described above, first, an example where the
まず、内部降圧電源ブロック200では、内部電源103が所望の電圧である2.6Vを下回った場合、第1の抵抗素子109と第2の抵抗素子110とを介して内部電源103の2分の1の電圧(<1.3V)が内部電源フィードバック電圧111として第1のアンプ回路106に入力される。一方、リファレンス生成回路104で生成された定電圧1.3Vであるリファレンス電圧105も第1のアンプ回路106に入力され、両者の間で電圧比較が行われる。この場合には、内部電源フィードバック電圧111(<1.3V)の方がリファレンス電圧105(=1.3V)よりも低いため、第1のアンプ回路106は検知信号として第1の検知信号107にLレベルの信号を出力する。これを受けて、降圧用PMOSトランジスタ108のゲート入力がLレベルとなり、降圧用PMOSトランジスタ108はオンする。一方、このとき、内部昇圧電源ブロック201では、外部電源102が3.3Vであるために、外部電源102の電圧をモニターするための第3の抵抗素子115と第4の抵抗素子116とによって外部電源102の2分の1の電圧である外部電源フィードバック電圧117(=1.65V)を常時生成している。外部電源フィードバック電圧117と、前述のリファレンス生成回路104で生成した定電圧1.3Vであるリファレンス電圧105とを、第2のアンプ回路118に入力する。外部電源102は通常電圧領域であり3.3Vの電圧を保持しているため、外部電源フィードバック電圧117(=1.65V)はリファレンス電圧105(=1.3V)を上回っており、両者を比較して第2のアンプ回路118はLレベルの信号を第2の検知信号119として出力する。この第2の検知信号119がLレベルであることを受けて、内部降圧電源ブロック200では、第2の検知信号119の反転信号である第3の検知信号206がHレベルの信号となるため、第1のスイッチ202にはHレベルが印加され、第1のスイッチ202は接続される。一方、第2のスイッチ203には第2の検知信号119がLレベルとして印加されるため、第2のスイッチ203はオープン状態となり、内部昇圧電源204と降圧用PMOSトランジスタ108とは接続されずにオープン状態となる。
First, in the internal step-down
これにより、第1のスイッチ202が接続されて第2のスイッチ203はオフされ、更に降圧用PMOSトランジスタ108がオンされることから、外部電源102は、内部電源103へ第1のスイッチ202と降圧用PMOSトランジスタ108とを介して電流を供給し、内部電源103を所望の電圧である2.6Vまで上昇させる。内部電源103に十分な電流が供給され、所望の電圧である2.6Vまで達すると、内部電源フィードバック電圧111は内部電源103の2分の1の電圧と設定しているために1.3Vに達し、第1のアンプ回路106では、内部電源フィードバック電圧111がリファレンス電圧105よりも高くなるため、第1の検知信号107はLレベルからHレベルへと切り替わる。これを受けて、降圧用PMOSトランジスタ108のゲート入力がLレベルからHレベルへと切り替わるために降圧用PMOSトランジスタ108はオフし、外部電源102から内部電源103への電流供給は止まる。
As a result, the
このようにして、内部降圧電源ブロック200は、内部電源103が所望の電圧である2.6Vを下回ると降圧動作を実施して外部電源102から内部電源103へ電流を供給して内部電源103が2.6Vを維持するよう動作する。
In this way, the internal step-down
一方、このとき、内部昇圧電源ブロック201は、前述のように外部電源102の電圧をモニターするための第3の抵抗素子115と第4の抵抗素子116とによって外部電源102の2分の1の電圧である外部電源フィードバック電圧117を常時生成している。外部電源フィードバック電圧117と、前述のリファレンス生成回路104で生成した定電圧1.3Vであるリファレンス電圧105とを、第2のアンプ回路118に入力する。外部電源102は通常電圧領域であり3.3Vの電圧を保持しているため、外部電源フィードバック電圧117(=1.65V)はリファレンス電圧105(=1.3V)を上回っており、両者を比較して第2のアンプ回路118はLレベルの信号を第2の検知信号119として出力する。第2の検知信号119がLレベルを出力することを受けて、第2の論理回路207を介してオシレータ回路114の入力である第1の論理信号208にはHレベルの信号が出力される。オシレータ回路114は、入力である第1の論理信号208がHレベルで入力されるため、内部で生成している基準信号を出力せず、後段のポンプ回路113へは何も入力されないために昇圧動作は実施されない。
On the other hand, at this time, the internal boost
このため、内部昇圧電源ブロック201は、外部電源102が通常の電圧領域である3.3Vの電圧を保持している場合には、内部電源103の電圧レベルによらずに昇圧動作は実施せず、内部昇圧電源204としても電流供給を実施しない。
For this reason, the internal boosting
よって、外部電源102が通常の電圧領域である場合に、内部電源103の電圧レベルが低下したときには内部降圧電源ブロック200からのみ電流供給を実施して内部電源103の電圧を2.6Vに維持するように動作する。
Therefore, when the
次に、外部電源102が低電圧である領域、一例として外部電源102が2.5V、内部電源103が2.6Vの場合を例として説明する。
Next, a region where the
まず、内部降圧電源ブロック200では、内部電源103が所望の電圧である2.6Vを下回った場合、第1の抵抗素子109と第2の抵抗素子110とを介して内部電源103の2分の1の電圧(<1.3V)が内部電源フィードバック電圧111として第1のアンプ回路106に入力される。一方、リファレンス生成回路104で生成された定電圧1.3Vであるリファレンス電圧105も第1のアンプ回路106に入力され、両者の間で電圧比較が行われる。この場合には、内部電源フィードバック電圧111(<1.3V)の方がリファレンス電圧105(=1.3V)よりも低いため、第1のアンプ回路106は検知信号として第1の検知信号107にLレベルの信号を出力する。これを受けて、降圧用PMOSトランジスタ108のゲート入力がLレベルとなり、降圧用PMOSトランジスタ108はオンする。一方、このとき、内部昇圧電源ブロック201では、外部電源102が2.5Vであるために、外部電源102の電圧をモニターするための第3の抵抗素子115と第4の抵抗素子116とによって外部電源102の2分の1の電圧である外部電源フィードバック電圧117(=1.25V)を常時生成している。外部電源フィードバック電圧117と、前述のリファレンス生成回路104で生成した定電圧1.3Vであるリファレンス電圧105とを、第2のアンプ回路118に入力する。外部電源102は低電圧領域であり2.5Vの電圧であるため、外部電源フィードバック電圧117(=1.25V)はリファレンス電圧105(=1.3V)を下回っており、両者を比較して第2のアンプ回路118はHレベルの信号を第2の検知信号119として出力する。この第2の検知信号119がHレベルであることを受けて、内部降圧電源ブロック200では、第2の検知信号119の反転信号である第3の検知信号206がLレベルの信号となるため、第1のスイッチ202にはLレベルが印加され、第1のスイッチ202はオープン状態となる。一方、第2のスイッチ203には第2の検知信号119がHレベルとして印加されるため、第2のスイッチ203が接続された状態となり、内部昇圧電源204と降圧用PMOSトランジスタ108とが接続された状態となる。つまり、後述する内部昇圧電源ブロック201で昇圧された内部昇圧電源204が内部降圧電源ブロック200に供給されるため、内部昇圧電源204から第2のスイッチ203と降圧用PMOSトランジスタ108とを介して内部電源103へ電流を供給し、内部電源103を所望の電圧である2.6Vまで上昇させる。内部電源103が2.6Vに達した時点で内部電源フィードバック電圧111は内部電源103の2分の1の電圧と設定しているために1.3Vに達し、第1のアンプ回路106では、内部電源フィードバック電圧111がリファレンス電圧105よりも高くなるため、第1の検知信号107はLレベルからHレベルへと切り替わる。これを受けて、降圧用PMOSトランジスタ108のゲート入力がLレベルからHレベルへと切り替わるために降圧用PMOSトランジスタ108はオフし、内部昇圧電源204から内部電源103への電流供給は止まる。
First, in the internal step-down
一方、このとき、内部昇圧電源ブロック201では、外部電源102の電圧をモニターするための第3の抵抗素子115と第4の抵抗素子116とによって外部電源102の2分の1の電圧である外部電源フィードバック電圧117(=1.25V)を常時生成している。外部電源フィードバック電圧117と、前述のリファレンス生成回路104で生成した定電圧1.3Vであるリファレンス電圧105とを、第2のアンプ回路118に入力する。外部電源102は低電圧領域であり2.5Vの電圧であるため、外部電源フィードバック電圧117(=1.25V)はリファレンス電圧105(=1.3V)を下回っており、両者を比較して第2のアンプ回路118はHレベルの信号を第2の検知信号119として出力する。第2の検知信号119がHレベルを出力することを受けて、第2の論理回路207を介してオシレータ回路114の入力である第1の論理信号208にはLレベルの信号が出力される。オシレータ回路114は、入力である第1の論理信号208がLレベルで入力されるため、内部で生成している基準信号を第2の論理信号124としてポンプ回路113へ出力し、ポンプ回路113はこれを受けて昇圧動作を実施する。ポンプ回路113で昇圧された内部昇圧電源204は内部降圧電源ブロック200へ供給され、前述の内部降圧電源ブロック200での動作により、内部電源103に電流を供給するための電流ソースとなり内部降圧電源ブロック200での動作により内部電源103が所望の電圧である2.6Vに達するまで電流を供給する。外部電源102が内部電源103の所望の電圧である2.6Vを再度上回った場合には、外部電源フィードバック電圧117が1.3Vを上回るため、第2のアンプ回路118の出力である第2の検知信号119はHレベルからLレベルに切り替わり、インバータ回路である第2の論理回路207を介してオシレータ回路114への入力信号である第1の論理信号208はLレベルからHレベルへと切り替わり、これを受けてオシレータ回路114は内部で生成している基準信号をポンプ回路113に出力するのを止め、ポンプ回路113は昇圧動作を止める。
On the other hand, at this time, in the internal boost
このように内部昇圧電源ブロック201は、外部電源102が低電圧領域である場合には、外部電源102の電圧レベルに応じて昇圧動作を実施するどうかを制御され、外部電源102が内部電源103の所望の電圧である2.6Vを上回っているときには昇圧動作は実施せず、外部電源102が2.6Vを下回っているときには昇圧動作を実施し、2.6Vを上回った時点で昇圧動作を停止する動作をとる。
As described above, when the
よって、外部電源102が低電圧領域である場合に、内部電源103の電圧レベルが低下したときには、内部降圧電源ブロック200において外部電源102から内部電源103へ十分な電流供給ができなくなるために、内部昇圧電源ブロック201において昇圧した内部昇圧電源204を電源として内部降圧電源ブロック200に外部電源102の代わりに電流を供給し、内部昇圧電源204から第2のスイッチ203と降圧用PMOSトランジスタ108とを介して内部電源103に電流を供給して内部電源103を所望の電圧である2.6Vに維持する動作をとる。
Therefore, when the
以上のような構成によれば、外部電源102の電圧がメモリに供給する内部電源103の電圧を下回った場合、つまり外部電源102の電圧が低電圧となった場合でも、内部降圧電源ブロック200において内部電源103に電流を供給する電源を、外部電源102から内部昇圧電源204に切り替えて内部電源103に電流を供給することにより、安定した内部電源103をメモリに供給することが可能となり、回路面積や電力効率の観点から見ても、従来例のように複数の内部昇圧回路を搭載する場合に対して大幅な面積削減、電力削減を同時に実現できる。
According to the configuration as described above, even when the voltage of the
また、リファレンス生成回路104やリファレンス電圧105及び第2の検知信号119を内部降圧電源ブロック200と内部昇圧電源ブロック201とで共用することにより、個別にそれぞれの回路を構成する場合に対して回路面積を大幅に削減することが可能となる。
Further, by sharing the
また、内部電源103が低下しているかどうかを検知するための内部電源フィードバック電圧111、及び外部電源102が低下しているかどうかを検知するための外部電源フィードバック電圧117を、それぞれ第1の抵抗素子109、第2の抵抗素子110、第3の抵抗素子115、第4の抵抗素子116を用いて2分の1の電圧に変換して検知に用いることにより、外部電源102が内部電源103を下回った場合でも、第1のアンプ回路106及び第2のアンプ回路118に内部電源フィードバック電圧111と同じレベルの電圧(1.3V程度)を供給できるため、安定した検知動作を実現できる。これは、例えばリファレンス生成回路104で生成するリファレンス電圧105を2.6Vとし、内部電源103を電圧変換せずにそのまま両者を第1のアンプ回路106に入力して検知する回路構成をとった場合には、外部電源102が2.5Vに低下したとき、つまり内部電源103の所望の電圧である2.6Vを下回ってしまったとき等では、リファレンス生成回路104が2.5Vまでのリファレンス電圧105しか生成できなくなってしまい、これにより内部降圧電源ブロック200及び内部昇圧電源ブロック201が動作しても、内部電源103を2.5Vまでしか上げられなくなってしまうという課題を解決できる構成である。外部電源フィードバック電圧117も、リファレンス電圧105を1.3Vの定電圧で生成していることに合わせて、外部電源102の2分の1の電圧に設定している。
In addition, an internal power
なお、本実施形態では、内部電源フィードバック電圧111を内部電源103の2分の1の電圧に、外部電源フィードバック電圧117を外部電源102の2分の1の電圧に、リファレンス電圧105を1.3Vの定電圧にそれぞれ設定した一例を示したが、これに限定するものではなく、内部電源フィードバック電圧111、外部電源フィードバック電圧117、リファレンス電圧105が内部電源103より低い電圧であれば同等の効果を実現できる。
In this embodiment, the internal power
また、本実施形態では、内部電源フィードバック電圧111、外部電源フィードバック電圧117、リファレンス電圧105を内部電源103より低い電圧に設定した一例を示したが、これに限定するものではなく、一例として示した抵抗素子や昇圧回路等の電圧変換回路を用いてより高い電圧に設定しても、同様にリファレンス電圧105も抵抗素子等の電圧変換回路や昇圧回路等を用いて高い電圧として供給すれば、外部電源102が低電圧となった場合にも電源回路として十分な動作を実現することができるため、同等の効果を実現できる。
In this embodiment, an example in which the internal power
また、本実施形態では、内部電源フィードバック電圧111、外部電源フィードバック電圧117を生成するのに抵抗素子を用いる一例を示したが、これに限定するものではなく、電圧を変換する別の手段を用いても同等の効果を実現できる。
In the present embodiment, an example in which a resistance element is used to generate the internal power
また、本実施形態では、リファレンス電圧105を定電圧の1.3Vとして設定した一例を示したが、これに限定するものではなく、リファレンス生成回路104内で任意の電圧に設定しても同様の効果を実現できる。これと、内部電源フィードバック電圧111を任意の電圧に設定することにより、メモリに供給する内部電源103の電圧を自由に設定することができるため、メモリで複数の電圧の内部電源103が要求される場合でも対応することが可能となる。
In the present embodiment, an example in which the
また、本実施形態では、外部電源102が内部電源103の電圧である2.6Vを下回ったときに内部昇圧電源ブロック201を動作させる一例を示したが、これに限定するものではなく、外部電源102と内部電源103との電圧差が小さくなったとき、一例としては外部電源102が2.7V程度の電圧まで低下したときに内部昇圧電源ブロック201を動作させる等しても、同等の効果を実現できる。この場合には、外部電源102と内部電源103との電圧差が小さくなることによって、外部電源102から第1のスイッチ202と降圧用PMOSトランジスタ108とを介して内部電源103に電流を供給する際の電力効率が低下する前に内部昇圧電源ブロック201を動作させることによって、内部電源103を供給する際に電力効率が低下するのを抑制することが可能となる。
In the present embodiment, an example is shown in which the internal booster
《第3の実施形態》
図3は、本発明の第3の実施形態による内部電源回路を備えた半導体集積回路の概略構成を示す図である。以下、内部電源回路を備えた半導体集積回路の代表的な内部電源生成の動作における本発明の実施の形態を説明する。
<< Third Embodiment >>
FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a semiconductor integrated circuit including an internal power supply circuit according to the third embodiment of the present invention. Embodiments of the present invention in a typical internal power generation operation of a semiconductor integrated circuit including an internal power supply circuit will be described below.
なお、図3の構成要素のうちで図1に記載している構成要素と同じ構成を持つものに関しては同じ符号を付与している。 In addition, the same code | symbol is provided about the component which has the same structure as the component described in FIG. 1 among the components of FIG.
本発明の第1の実施形態での構成に加えて、本実施形態では、内部降圧電源ブロック101の出力と内部昇圧電源ブロック300の出力とを結合して内部電源103とするにあたり、内部昇圧電源ブロック300の中で、ポンプ回路113の出力経路上に第5の抵抗素子301と容量素子302とからなるフィルタを追加した回路で構成されている。内部降圧電源ブロック101の動作は本発明の第1の実施形態と同様である。
In addition to the configuration of the first embodiment of the present invention, in this embodiment, when the output of the internal step-down
一般的に、内部で昇圧動作を実施して内部電源103を生成する場合にはポンプ動作による電圧変動から、内部電源103にも電圧変動ノイズが伝播してしまい、安定した内部電源103の供給が困難となったり、あるいは内部電源103の電圧が外部電源102の電圧に対して大きく上回ってしまった場合に、降圧用PMOSトランジスタ108を介して内部電源103から外部電源102へと電流が逆流してしまうという懸念がある。
In general, when the
これに対して、本実施形態のような構成によれば、内部昇圧電源ブロック300の中で、内部電源103の出力部に第5の抵抗素子301と容量素子302とを追加することにより、ポンプ回路113での昇圧動作に起因する内部電源103の電圧変動ノイズを、第5の抵抗素子301と容量素子302とを介することで抑制し、メモリに供給する内部電源103への電圧変動ノイズにフィルタをかけ、より一層安定した電源として供給することが可能となる。
On the other hand, according to the configuration of the present embodiment, by adding the
これにより、複雑な回路追加は不要で回路面積の増大は抑制したうえで、昇圧、降圧動作で生成する内部電源103を、より一層安定した電源としてメモリに供給することが可能となる。
As a result, it is possible to supply the
なお、本実施形態では、内部電源103に対して抵抗素子、容量素子を追加する構成を一例として示したが、これに限定するものではなく、電圧変動を抑制する別の手段やクランプ回路、保護回路等、電圧変動ノイズや電流逆流を抑制する同等の機能を持つ構成を用いても同様の効果を実現できる。
In the present embodiment, a configuration in which a resistance element and a capacitance element are added to the
また、クランプ回路を用いた場合であれば、内部電源103の電圧が外部電源102の電圧を上回ってしまった場合でも、内部電源103から外部電源102へと電流が逆流してしまうことを防止するという効果も実現できる。
Further, in the case where a clamp circuit is used, even if the voltage of the
また、本実施形態では、内部昇圧電源ブロック300側に電圧変動抑制手段を追加する例を示したが、これに限定するものではなく、内部降圧電源ブロック101側に電圧変動抑制手段やクランプ回路、保護回路等を搭載しても同様の効果を実現できる。
In the present embodiment, an example in which voltage fluctuation suppression means is added to the internal boost
《第4の実施形態》
図4は、本発明の第4の実施形態による内部電源回路を備えた半導体集積回路の概略構成を示す図である。以下、内部電源回路を備えた半導体集積回路の代表的な内部電源生成の動作における本発明の実施の形態を説明する。
<< Fourth Embodiment >>
FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of a semiconductor integrated circuit including an internal power supply circuit according to the fourth embodiment of the present invention. Embodiments of the present invention in a typical internal power generation operation of a semiconductor integrated circuit including an internal power supply circuit will be described below.
なお、図4の構成要素のうちで図1に記載している構成要素と同じ構成を持つものに関しては同じ符号を付与している。 In addition, the same code | symbol is provided about the component which has the same structure as the component described in FIG. 1 among the components of FIG.
本発明の第1の実施形態での構成に対して、本実施形態では、内部降圧電源ブロック400の中で、降圧用PMOSトランジスタ108の代わりに降圧用NMOSトランジスタ401と、第1の検知信号107の信号論理を反転するためのインバータ回路である第3の論理回路402と、第3の論理回路402から出力される第4の検知信号403とから構成されている。内部昇圧電源ブロック112の動作は本発明の第1の実施形態と同様である。
In contrast to the configuration of the first embodiment of the present invention, in the present embodiment, in the internal step-down
内部降圧電源ブロック400の動作に関しては、内部電源103の電圧が所望の電圧である2.6Vよりも下がって外部電源102からの電流供給が必要となった際に、第1のアンプ回路106からLレベルの第1の検知信号107が出力される。この第1の検知信号107は、インバータ回路である第3の論理回路402を介して反転されたHレベルの信号となって第4の検知信号403として降圧用NMOSトランジスタ401のゲートに入力される。降圧用NMOSトランジスタ401は、ゲートにHレベルが印加されることによってオンし、外部電源102から内部電源103へと電流を供給し、内部電源103を2.6Vで維持するよう動作する。
Regarding the operation of the internal step-down
以上のような構成によれば、本発明の第1の実施形態と同様に、外部電源102の電圧が低下した場合でも、内部電源103を安定して供給することが可能となり、かつ内部電源103の電圧が外部電源102の電圧を上回ってしまった場合でも、降圧用のトランジスタをNMOSトランジスタ401で構成しているために電流の逆流を防止できる。
According to the above configuration, as in the first embodiment of the present invention, even when the voltage of the
これにより、本発明の第1の実施形態の構成に対して降圧用のトランジスタの構成を変更するだけで回路面積の増大なく、昇圧、降圧動作で生成する内部電源103をより一層安定した電源として供給し、電流の逆流も防止することが可能となる。
As a result, the
なお、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で上記第1〜第4の実施形態における各構成要素を任意に組み合わせてもよい。 In addition, you may combine each component in the said 1st-4th embodiment arbitrarily in the range which does not deviate from the meaning of this invention.
本発明に係る半導体集積回路は、SoCの電源仕様の低電圧化や電源電圧変動による外部電源電圧の低電圧化に対する内部電源生成の安定化、動作電圧範囲の改善、回路面積の削減に効果を有し、特に内部電源回路を備えた半導体集積回路として有用である。 The semiconductor integrated circuit according to the present invention is effective in stabilizing the generation of internal power, improving the operating voltage range, and reducing the circuit area with respect to lowering the SoC power supply specifications and lowering the external power supply voltage due to power supply voltage fluctuations. In particular, it is useful as a semiconductor integrated circuit having an internal power supply circuit.
101 内部降圧電源ブロック
102 外部電源
103 内部電源
104 リファレンス生成回路
105 リファレンス電圧
106 第1のアンプ回路
107 第1の検知信号
108 降圧用PMOSトランジスタ
109 第1の抵抗素子
110 第2の抵抗素子
111 内部電源フィードバック電圧
112 内部昇圧電源ブロック
113 ポンプ回路
114 オシレータ回路
115 第3の抵抗素子
116 第4の抵抗素子
117 外部電源フィードバック電圧
118 第2のアンプ回路
119 第2の検知信号
120 第1の論理回路
121 第3の検知信号
122 第2の論理回路
123 第1の論理信号
124 第2の論理信号
200 内部降圧電源ブロック
201 内部昇圧電源ブロック
202 第1のスイッチ
203 第2のスイッチ
204 内部昇圧電源
205 第1の論理回路
206 第3の検知信号
207 第2の論理回路
208 第1の論理信号
300 内部昇圧電源ブロック
301 第5の抵抗素子
302 容量素子
400 内部降圧電源ブロック
401 降圧用NMOSトランジスタ
402 第3の論理回路
403 第4の検知信号
101 Internal
Claims (19)
前記外部電源をもとに昇圧動作を実施する内部昇圧電源ブロックとを備え、
前記外部電源が通常の電圧である領域では、前記内部降圧電源ブロックのみを使用して所望の電圧の内部電源を生成し、前記外部電源が低電圧である領域では、前記内部降圧電源ブロックに加えて又は前記内部降圧電源ブロックに代えて前記内部昇圧電源ブロックを使用して前記所望の電圧の内部電源を生成することを特徴とする半導体集積回路。 An internal step-down power supply block that performs step-down operation based on an external power supply;
An internal boost power supply block that performs a boost operation based on the external power supply,
In the region where the external power supply is a normal voltage, an internal power supply of a desired voltage is generated using only the internal step-down power supply block, and in the region where the external power supply is a low voltage, in addition to the internal step-down power supply block Or an internal power supply of the desired voltage using the internal boost power supply block instead of the internal step-down power supply block.
前記内部昇圧電源ブロックは、前記外部電源の電圧値によって動作するかどうかを決定することを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 1,
The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the internal boost power supply block determines whether or not to operate according to a voltage value of the external power supply.
前記内部降圧電源ブロックは、前記外部電源の電圧値によって動作するかどうかを決定することを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 1,
The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the internal step-down power supply block determines whether or not to operate according to a voltage value of the external power supply.
所定の電圧を生成するリファレンス生成回路を更に備え、
前記リファレンス生成回路で生成されるリファレンス電圧が、前記内部降圧電源ブロック及び前記内部昇圧電源ブロックに入力されることを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 1,
A reference generation circuit for generating a predetermined voltage;
A semiconductor integrated circuit, wherein a reference voltage generated by the reference generation circuit is input to the internal step-down power supply block and the internal step-up power supply block.
前記リファレンス生成回路内で、前記リファレンス電圧は所望の値に可変とすることを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 4, wherein
A semiconductor integrated circuit characterized in that the reference voltage is variable to a desired value in the reference generation circuit.
前記内部降圧電源ブロックは、
前記内部電源の電圧を第1のフィードバック電圧に変換する第1の電圧変換回路と、
前記第1のフィードバック電圧と前記リファレンス電圧とを入力して第1の検知信号を出力する第1の内部電源制御回路とを有することを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 4 or 5,
The internal step-down power supply block is:
A first voltage conversion circuit for converting the voltage of the internal power source into a first feedback voltage;
A semiconductor integrated circuit comprising: a first internal power supply control circuit that inputs the first feedback voltage and the reference voltage and outputs a first detection signal.
前記リファレンス電圧及び前記第1のフィードバック電圧は、前記内部電源の電圧よりも低いことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to any one of claims 4 to 6,
The semiconductor integrated circuit, wherein the reference voltage and the first feedback voltage are lower than a voltage of the internal power supply.
前記内部降圧電源ブロックは、前記第1の検知信号を入力して前記外部電源から前記内部電源を生成する第1の内部電源生成回路を更に有し、前記第1の内部電源生成回路はPMOSトランジスタで構成されたことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 6 or 7,
The internal step-down power supply block further includes a first internal power supply generation circuit that receives the first detection signal and generates the internal power supply from the external power supply, and the first internal power supply generation circuit includes a PMOS transistor. A semiconductor integrated circuit comprising:
前記内部昇圧電源ブロックは、
前記外部電源の電圧を第2のフィードバック電圧に変換する第2の電圧変換回路と、
前記第2のフィードバック電圧と前記リファレンス電圧とを入力して第2の検知信号を出力する第2の内部電源制御回路とを有することを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to any one of claims 4 to 8,
The internal boost power supply block is
A second voltage conversion circuit for converting the voltage of the external power source into a second feedback voltage;
A semiconductor integrated circuit, comprising: a second internal power supply control circuit that inputs the second feedback voltage and the reference voltage and outputs a second detection signal.
前記第2のフィードバック電圧は、前記外部電源及び前記内部電源の電圧よりも低いことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to any one of claims 4 to 9,
The semiconductor integrated circuit, wherein the second feedback voltage is lower than voltages of the external power supply and the internal power supply.
前記第2の内部電源制御回路は、
前記第1の検知信号を受けて第3の検知信号を出力する第1の論理回路と、
前記第2の検知信号と前記第3の検知信号とを受けて第1の論理信号を出力する第2の論理回路とを有することを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 9 or 10,
The second internal power supply control circuit includes:
A first logic circuit that receives the first detection signal and outputs a third detection signal;
A semiconductor integrated circuit comprising: a second logic circuit that receives the second detection signal and the third detection signal and outputs a first logic signal.
前記内部昇圧電源ブロックは、前記第1の論理信号を受けて前記内部電源を出力する第2の内部電源生成回路を更に有することを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 11, wherein
The internal boosted power supply block further includes a second internal power supply generation circuit that receives the first logic signal and outputs the internal power supply.
前記内部電源の電源配線にノイズ除去回路又は保護回路を更に備えたことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to any one of claims 1 to 12,
A semiconductor integrated circuit, further comprising a noise removal circuit or a protection circuit in a power supply wiring of the internal power supply.
前記ノイズ除去回路又は前記保護回路は、前記内部昇圧電源ブロック内に配置されたことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 13.
The semiconductor integrated circuit, wherein the noise removal circuit or the protection circuit is disposed in the internal boost power supply block.
前記ノイズ除去回路又は前記保護回路は、前記内部降圧電源ブロック内に配置されたことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 13.
The semiconductor integrated circuit, wherein the noise removal circuit or the protection circuit is disposed in the internal step-down power supply block.
前記内部降圧電源ブロックは、前記第1の検知信号を入力して前記外部電源から前記内部電源を生成する第1の内部電源生成回路を更に有し、前記第1の内部電源生成回路はNMOSトランジスタで構成されたことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 6 or 7,
The internal step-down power supply block further includes a first internal power supply generation circuit that receives the first detection signal and generates the internal power supply from the external power supply, and the first internal power supply generation circuit includes an NMOS transistor. A semiconductor integrated circuit comprising:
外部電源をもとに内部昇圧電源を生成する内部昇圧電源ブロックとを備え、
前記外部電源が通常の電圧である領域では、前記内部降圧電源ブロックが前記外部電源から所望の電圧の内部電源を生成し、前記外部電源が低電圧である領域では、前記内部昇圧電源ブロックが生成した前記内部昇圧電源から前記内部降圧電源ブロックが前記所望の電圧の内部電源を生成することを特徴とする半導体集積回路。 An internal step-down power supply block that performs step-down operation based on the selected power supply;
An internal boost power supply block that generates an internal boost power supply based on an external power supply,
In the region where the external power supply is a normal voltage, the internal step-down power supply block generates an internal power supply of a desired voltage from the external power supply, and in the region where the external power supply is a low voltage, the internal boost power supply block is generated. A semiconductor integrated circuit, wherein the internal step-down power supply block generates an internal power supply of the desired voltage from the internal boosted power supply.
前記内部昇圧電源ブロックは、前記外部電源の電圧値によって動作するかどうかを決定することを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 17.
The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the internal boost power supply block determines whether or not to operate according to a voltage value of the external power supply.
前記内部降圧電源ブロックが前記外部電源又は前記内部昇圧電源のいずれをもとに前記内部電源を生成するかを、前記外部電源の電圧値に応じて生成される検知信号によって、前記外部電源に接続された第1のスイッチ、又は前記内部昇圧電源に接続された第2のスイッチのいずれかを接続することで制御することを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 17.
Whether the internal step-down power supply block generates the internal power supply based on the external power supply or the internal boosted power supply is connected to the external power supply by a detection signal generated according to the voltage value of the external power supply The semiconductor integrated circuit is controlled by connecting one of the first switch and the second switch connected to the internal boost power supply.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010072332A JP2013118207A (en) | 2010-03-26 | 2010-03-26 | Semiconductor integrated circuit |
PCT/JP2011/000773 WO2011118119A1 (en) | 2010-03-26 | 2011-02-10 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010072332A JP2013118207A (en) | 2010-03-26 | 2010-03-26 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013118207A true JP2013118207A (en) | 2013-06-13 |
Family
ID=44672701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010072332A Pending JP2013118207A (en) | 2010-03-26 | 2010-03-26 | Semiconductor integrated circuit |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013118207A (en) |
WO (1) | WO2011118119A1 (en) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05234390A (en) * | 1992-02-24 | 1993-09-10 | Fujitsu Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
JP3122239B2 (en) * | 1992-07-23 | 2001-01-09 | 株式会社東芝 | Semiconductor integrated circuit |
JPH0778470A (en) * | 1993-09-10 | 1995-03-20 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory device |
JP3816736B2 (en) * | 2000-09-21 | 2006-08-30 | 株式会社東芝 | Semiconductor device |
JP2004071095A (en) * | 2002-08-08 | 2004-03-04 | Renesas Technology Corp | Semiconductor memory |
JP4726756B2 (en) * | 2006-09-22 | 2011-07-20 | 三菱電機株式会社 | Semiconductor device |
-
2010
- 2010-03-26 JP JP2010072332A patent/JP2013118207A/en active Pending
-
2011
- 2011-02-10 WO PCT/JP2011/000773 patent/WO2011118119A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2011118119A1 (en) | 2011-09-29 |
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