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JP2013091828A - Hot dip metal plating method and hot dip metal plating apparatus - Google Patents

Hot dip metal plating method and hot dip metal plating apparatus Download PDF

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JP2013091828A JP2011234578A JP2011234578A JP2013091828A JP 2013091828 A JP2013091828 A JP 2013091828A JP 2011234578 A JP2011234578 A JP 2011234578A JP 2011234578 A JP2011234578 A JP 2011234578A JP 2013091828 A JP2013091828 A JP 2013091828A
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Abstract


【課題】 ガスワイピング法を用いた溶融金属めっきラインにおいて、ワイピング後のストリップにめっき金属飛沫が付着するのを抑制するとともに、生産設備に関する煩雑なメンテナンス作業を要しない溶融金属めっき方法および溶融金属めっき装置を提供する。
【解決手段】 めっき金属浴内から連続的にストリップを引き出し、該ストリップ面に付着した余剰のめっき金属をワイピングノズルから前記ストリップ面に向けて噴射されるガスによって絞り落としてめっき金属付着量を調整することからなるガスワイピング法を用いて溶融金属めっきを施すに際し、前記ストリップを垂直に支持する浴上サポートロールを前記ワイピングノズルの上方に配設し、前記ワイピングノズルの配設位置から上方に前記ストリップ面に沿って前記浴上サポートロールの配設位置まで遮蔽ネットを設けるとともに、前記ワイピングノズルと前記めっき金属浴の浴面との間に整流板を設けることにより、溶融金属めっき時にめっき金属飛沫が前記ストリップ面に付着することを防止する。
【選択図】 図1

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress plating metal droplets from adhering to a strip after wiping in a molten metal plating line using a gas wiping method and to eliminate a complicated maintenance work related to production equipment and molten metal plating. Providing equipment.
SOLUTION: A strip is continuously drawn out from a plating metal bath, and excess plating metal adhering to the strip surface is squeezed out by a gas sprayed from the wiping nozzle toward the strip surface to adjust the amount of plating metal adhesion. When the molten metal plating is performed using the gas wiping method, a bath support roll for vertically supporting the strip is disposed above the wiping nozzle, and the wiping nozzle is disposed above the wiping nozzle. A shield net is provided along the strip surface to the position where the above-mentioned support roll on the bath is disposed, and a rectifying plate is provided between the wiping nozzle and the bath surface of the plating metal bath. Is prevented from adhering to the strip surface.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、ガスワイピング法を用いた溶融金属めっき方法および溶融金属めっき装置に係り、ガスワイピングに起因しためっき金属飛沫が被めっき材であるストリップに付着するのを抑制する溶融金属めっき方法、およびその方法の実施に好適な溶融金属めっき装置に関する。   The present invention relates to a molten metal plating method and a molten metal plating apparatus using a gas wiping method, and a molten metal plating method for suppressing plating metal splashes caused by gas wiping from adhering to a strip as a material to be plated, and The present invention relates to a molten metal plating apparatus suitable for carrying out the method.

溶融金属めっきラインでは、被めっき材へのめっき金属付着量を調整する手段として、ガスワイピング法が広く適用されている。ガスワイピング法を用いた溶融金属めっきラインでは通常、図2に示すように、めっき金属浴1に浸漬したストリップS(被めっき材)を、浴上サポートロール7で支持してめっき金属浴1から垂直に引き上げながら、ワイピングノズル2から噴出するガス3をストリップSの表面に吹き付けることにより、ストリップSに付着した余剰のめっき金属を絞り落とす。その際、ワイピングノズル2から噴出するガス3のガス圧を調整して絞り落とすめっき金属量を調整することにより、ストリップSの表面に所望の付着量の金属めっき層を形成する。   In a molten metal plating line, a gas wiping method is widely applied as a means for adjusting the amount of plating metal attached to a material to be plated. In the molten metal plating line using the gas wiping method, as shown in FIG. 2, the strip S (material to be plated) immersed in the plating metal bath 1 is usually supported from the plating metal bath 1 with the support roll 7 on the bath. The excess plating metal adhering to the strip S is squeezed off by blowing the gas 3 ejected from the wiping nozzle 2 onto the surface of the strip S while pulling up vertically. At that time, a metal plating layer having a desired adhesion amount is formed on the surface of the strip S by adjusting the gas pressure of the gas 3 ejected from the wiping nozzle 2 to adjust the amount of plating metal to be squeezed down.

以上のように、ガスワイピング法では、比較的簡便な設備により、被めっき材のめっき金属付着量を調整することができる。しかしながら、ガスワイピング法を用いた溶融金属めっきラインでは、ワイピングノズルから噴出するガスに起因しためっき金属飛沫がストリップの表面に付着することが問題視されている。図2に示すように、ワイピングノズル2から噴出したガス3の一部は、ストリップSの表面に衝突したのち、ストリップSに沿って下方に向かう気流3aとなってめっき金属浴1の浴面1aに衝突する。ここで、ワイピングノズル2から噴出したガス3の圧力が比較的高いと、めっき金属浴1の浴面1aに衝突するガスも高圧となるため、めっき金属浴1の浴面1aに乱れが生じ、めっき金属飛沫4(4a、4b)が発生する。そして、金属浴1の浴面1aに衝突したガスは、ワイピングノズル2の両側に設けられた空間のうちストリップSが配置された側とは反対側の空間を上昇する気流3bとなるが、この上昇する気流3bとともにめっき金属飛沫4bも上昇する。このようにして上昇しためっき金属飛沫4bの一部が、ワイピングノズル2の上部に設けられた空間を通じ、ワイピングによりめっき金属付着量が調整された後のストリップSの表面に付着する。   As described above, in the gas wiping method, it is possible to adjust the plating metal adhesion amount of the material to be plated with relatively simple equipment. However, in the molten metal plating line using the gas wiping method, it has been regarded as a problem that the plating metal splash due to the gas ejected from the wiping nozzle adheres to the surface of the strip. As shown in FIG. 2, a part of the gas 3 ejected from the wiping nozzle 2 collides with the surface of the strip S, and then becomes an air flow 3 a that goes downward along the strip S. Collide with. Here, if the pressure of the gas 3 ejected from the wiping nozzle 2 is relatively high, the gas colliding with the bath surface 1a of the plating metal bath 1 also becomes a high pressure, so that the bath surface 1a of the plating metal bath 1 is disturbed, Plated metal splash 4 (4a, 4b) is generated. The gas that has collided with the bath surface 1a of the metal bath 1 becomes an air flow 3b that rises in the space opposite to the side where the strip S is arranged in the space provided on both sides of the wiping nozzle 2. Along with the rising airflow 3b, the plated metal splash 4b also rises. Part of the plated metal splash 4b that has risen in this manner adheres to the surface of the strip S after the amount of plated metal deposition is adjusted by wiping through the space provided in the upper part of the wiping nozzle 2.

めっき金属付着量が調整された後のストリップ表面に、めっき金属飛沫が付着すると、ストリップの外観やめっき厚の均一性を損なう。よって、最終製品となるストリップの品質を確保するためには、めっき金属飛沫に起因した上記問題を解消するための対策を講じることが必須となる。
ここで、ワイピングノズルから噴出するガスの圧力を十分に低くすれば、めっき金属浴の浴面に衝突するガスも低圧となり、めっき金属浴の浴面の乱れが抑制されるため、めっき金属飛沫の発生を抑制することが可能となる。しかしながら、ワイピングノズルから噴出するガスの圧力を低くすると、ストリップの表面に吹き付けられるガス量が少なく制限されワイピング効果が不十分となり、目標付着量を達成するのが困難となる問題が生じる。係る問題は溶融金属めっきラインのストリップ搬送速度が高速化するに従い顕在化する。一方、ワイピングノズルから噴出するガスの圧力を低くするとともに、ストリップ搬送速度も十分に低くすれば上記問題は解決し得るが、ストリップ搬送速度の低減化は生産性の低下を招く。
If plating metal splashes adhere to the strip surface after the plating metal adhesion amount is adjusted, the appearance of the strip and the uniformity of the plating thickness are impaired. Therefore, in order to ensure the quality of the strip as the final product, it is essential to take measures for solving the above-mentioned problems caused by the plating metal splashes.
Here, if the pressure of the gas ejected from the wiping nozzle is sufficiently low, the gas colliding with the bath surface of the plating metal bath also becomes low pressure, and the disturbance of the bath surface of the plating metal bath is suppressed. Occurrence can be suppressed. However, if the pressure of the gas ejected from the wiping nozzle is lowered, the amount of gas blown to the surface of the strip is limited and the wiping effect becomes insufficient, and it becomes difficult to achieve the target adhesion amount. Such a problem becomes apparent as the strip conveyance speed of the molten metal plating line increases. On the other hand, if the pressure of the gas ejected from the wiping nozzle is lowered and the strip conveyance speed is sufficiently low, the above problem can be solved. However, the reduction of the strip conveyance speed causes a decrease in productivity.

昨今、生産性の観点から、ストリップ搬送速度のより一層の高速化が求められている中、ワイピングノズルから噴出するガスの圧力を低減することは好ましくない。
これらの問題に鑑み、特許文献1には、ワイピングノズルの上方にストリップ面に沿ってフィルターを設けたことを特徴とする、溶融金属めっき時における溶融金属飛沫のストリップ面への付着防止方法が提案されている。そして、特許文献1では、ワイピングノズルの上方にストリップ面に沿ってフィルターを設けることにより、めっき金属浴からのめっき金属飛沫のストリップ面への付着を確実に防止できるとされている。
In recent years, from the viewpoint of productivity, it is not preferable to reduce the pressure of the gas ejected from the wiping nozzle while further increasing the strip conveyance speed is required.
In view of these problems, Patent Document 1 proposes a method for preventing adhesion of molten metal droplets to a strip surface during molten metal plating, characterized in that a filter is provided above the wiping nozzle along the strip surface. Has been. And in patent document 1, it is supposed that the adhesion to the strip surface of the plating metal splash from a plating metal bath can be prevented reliably by providing a filter along a strip surface above a wiping nozzle.

ここで、特許文献1で提案された方法の実施形態を図3に示す。図3において、1はめっき金属浴、Sはめっき金属浴1内から垂直に引き上げられるストリップ、2はストリップSの両側に水平に設置されたスリット状のワイピングノズル、2Aはワイピングノズル2の上方で且つワイピングノズル2の外方(ストリップSと対向している方向とは反対側の方向)に水平に配管されたワイピングノズル用ガス(空気)供給本管、2Bはワイピングノズル2とガス供給本管2Aとの間に接続されたガス供給配管、10はストリップSを加熱して合金化するための合金化炉、20はワイピングノズル2とガス供給本管2Aとの間に取り付けられた金属板、30はスナウト、40はガス供給本管2Aと合金化炉10の下部間に設けられたフィルターである。   Here, an embodiment of the method proposed in Patent Document 1 is shown in FIG. In FIG. 3, 1 is a plating metal bath, S is a strip that is pulled up vertically from within the plating metal bath 1, 2 is a slit-shaped wiping nozzle installed horizontally on both sides of the strip S, and 2A is above the wiping nozzle 2. In addition, a wiping nozzle gas (air) supply main pipe horizontally arranged outside the wiping nozzle 2 (the direction opposite to the direction facing the strip S), 2B is the wiping nozzle 2 and gas supply main pipe Gas supply piping connected between 2A, 10 is an alloying furnace for heating and alloying the strip S, 20 is a metal plate attached between the wiping nozzle 2 and the gas supply main 2A, 30 is a snout, and 40 is a filter provided between the gas supply main 2A and the lower part of the alloying furnace 10.

そして、特許文献1で提案された方法では、ワイピングノズル2の両側に設けられた空間のうちストリップSが配置された側とは反対側の空間を上昇する気流3bとともに上昇し、ワイピングノズル2の上部に設けられた空間を通じてストリップSの表面に付着しようとするめっき金属飛沫を、フィルター40で遮蔽している。また、上記フィルター40を完全な遮蔽板にすると、合金化炉10の有する煙突効果に起因する上昇気流によってワイピング後のストリップSの近傍が減圧され、これに伴いストリップSの側面から内側に向かう乱気流が生じてストリップSにめっき金属飛沫が付着するおそれがある。そのため、特許文献1で提案された方法では、ワイピングノズル2とガス供給本管2Aとの間に取り付けられた金属板20のみを完全な遮蔽板とし、金属板20より上部のフィルター40をフィルター構造としている。   In the method proposed in Patent Document 1, the wiping nozzle 2 rises with the airflow 3b rising in the space opposite to the side where the strip S is arranged in the space provided on both sides of the wiping nozzle 2. Plated metal splashes that are to adhere to the surface of the strip S through the space provided in the upper portion are shielded by the filter 40. Further, when the filter 40 is a complete shielding plate, the vicinity of the strip S after wiping is depressurized by the rising air flow caused by the chimney effect of the alloying furnace 10, and accordingly, the turbulent air flow from the side surface of the strip S toward the inside May occur, and metal plating splashes may adhere to the strip S. Therefore, in the method proposed in Patent Document 1, only the metal plate 20 attached between the wiping nozzle 2 and the gas supply main pipe 2A is a complete shielding plate, and the filter 40 above the metal plate 20 is a filter structure. It is said.

特開平5−306449号公報JP-A-5-306449

以上のように、特許文献1で提案された方法によると、ワイピングノズルからのガス圧を高圧化することに伴いめっき金属浴からのめっき金属飛沫が発生した場合であっても、フィルターの存在により、めっき金属飛沫のストリップ面への付着を防止することができる。そのため、ストリップ搬送速度を極端に低減することなくめっき金属飛沫のストリップ面への付着を抑制することが可能となり、生産性の低下を招くことなくストリップの品質向上効果が期待できる。しかしながら、特許文献1で提案された方法では、めっき金属飛沫がフィルター下部に設けられた金属板に堆積するという問題が見られる。   As described above, according to the method proposed in Patent Document 1, even when plating metal splashes from the plating metal bath are generated in association with increasing the gas pressure from the wiping nozzle, Further, adhesion of the plating metal splash to the strip surface can be prevented. Therefore, it is possible to suppress the adhesion of the plated metal droplets to the strip surface without drastically reducing the strip conveying speed, and the effect of improving the quality of the strip can be expected without reducing the productivity. However, in the method proposed in Patent Document 1, there is a problem in that plating metal splashes are deposited on a metal plate provided under the filter.

図2に示すように、ワイピングノズル2から噴出したガス3をストリップSの表面に衝突させると、絞り取られた余剰のめっき金属が、めっき金属飛沫4a,4bとなって気流の流れに沿って運ばれる。ワイピング時に生じるめっき金属飛沫4bは、主として、ストリップSに沿ってストリップの進行方向と逆方向に進み、再度上昇する気流によって飛散する。図3に示すように金属板20が存在すると、フィルター40まで到達しない金属飛沫の侵入を防ぐ効果はあるものの、金属板20が湾曲しているため、飛沫が曲面に沿って上昇しやすく、フィルター40のメッシュが小さい場合は、メッシュが目詰まりしやすく、メッシュが大きい場合はメッシュの中に入りやすいという問題が生じる。また、飛散しためっき金属飛沫のうち上方に発散しためっき金属飛沫4aは、主に金属板20上に堆積する。   As shown in FIG. 2, when the gas 3 ejected from the wiping nozzle 2 collides with the surface of the strip S, the excessive plated metal that has been squeezed becomes plated metal splashes 4a and 4b along the flow of the air flow. Carried. The plated metal splash 4b generated at the time of wiping mainly travels in the direction opposite to the traveling direction of the strip along the strip S and is scattered by the airflow rising again. As shown in FIG. 3, the presence of the metal plate 20 has an effect of preventing the intrusion of metal splashes that do not reach the filter 40, but the metal plate 20 is curved, so that the splashes are likely to rise along the curved surface. When the 40 mesh is small, the mesh is likely to be clogged, and when the mesh is large, there is a problem that it is easy to enter the mesh. In addition, among the scattered metal splashes, the metal splashes 4 a that spread upward are mainly deposited on the metal plate 20.

このようにして金属板20に堆積しためっき金属飛沫を放置しておくと、金属めっきラインの操業条件等により変化する気流で再び飛来し、ワイピング後のストリップSの表面に付着してしまう。そのため、特許文献1で提案された方法では、金属板20上に堆積しためっき金属飛沫を頻繁に除去することが必要とされ、メンテナンス作業の煩雑さを招いていた。   If the plating metal droplets deposited on the metal plate 20 are left in this manner, they will fly again with an air flow that changes depending on the operating conditions of the metal plating line, and will adhere to the surface of the strip S after wiping. Therefore, in the method proposed in Patent Document 1, it is necessary to frequently remove the plating metal splashes deposited on the metal plate 20, resulting in complicated maintenance work.

本発明は、従来技術が抱える上記問題を有利に解決するものであり、ガスワイピング法を用いた溶融金属めっきラインにおいて、ワイピング後のストリップにめっき金属飛沫が付着するのを抑制するとともに、生産設備に関する煩雑なメンテナンス作業を解消することを目的とする。   The present invention advantageously solves the above-described problems of the prior art, and suppresses adhesion of plating metal droplets to a strip after wiping in a molten metal plating line using a gas wiping method, as well as production equipment. The purpose is to eliminate troublesome maintenance work.

上記課題を解決すべく、本発明者らは、ガスワイピング法を用いた溶融金属めっきラインにおいて、煩雑なメンテナンス作業を解消し得る方法について鋭意検討した。その結果、図1に示すように、ワイピングノズル2の配設位置から上方に前記ストリップS面に沿って浴上サポートロール7の配設位置まで遮蔽ネット5を設けるとともに、前記ワイピングノズル2と前記めっき金属浴1の浴面1aとの間に整流板6を設けることにより、溶融金属めっき時にめっき金属飛沫が前記ストリップS面に付着することを防止できることを見いだした。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors diligently studied a method capable of eliminating troublesome maintenance work in a molten metal plating line using a gas wiping method. As a result, as shown in FIG. 1, a shielding net 5 is provided from the position where the wiping nozzle 2 is disposed to the position where the above-mentioned bath support roll 7 is disposed along the surface of the strip S, and the wiping nozzle 2 and the It has been found that by providing the rectifying plate 6 between the bath surface 1a of the plating metal bath 1, it is possible to prevent plating metal splashes from adhering to the strip S surface during molten metal plating.

すなわち、図3に示す従来技術(特許文献1で提案された方法)において、フィルター40の下部に設けられ且つワイピングノズル2に取り付けられた金属板20を、完全な遮蔽板ではなく遮蔽ネットとすることにより、係る部位にめっき金属飛沫が堆積するのを効果的に抑制できることを知見した。図3に示す従来技術において、フィルター40とともに金属板20を遮蔽ネットとすれば、めっき金属飛沫は、金属板20が配置された部位に堆積することなく、遮蔽ネットを通過してめっき金属浴1内に落下する。また、遮蔽ネットの上部の取り付け位置については、図3のように、合金化炉10の外側に設置している場合、合金化炉10のトンネル効果によって、上昇気流の影響を受け、炉内に金属飛沫が飛散する問題もあったため、検討した結果、浴上サポートロールの配設位置まで遮蔽ネットを設けることで、金属飛沫の炉内への飛散を抑制できることを知見した。   That is, in the prior art shown in FIG. 3 (method proposed in Patent Document 1), the metal plate 20 provided below the filter 40 and attached to the wiping nozzle 2 is not a complete shielding plate but a shielding net. By this, it discovered that it could suppress effectively that a metal-plating metal droplet accumulates in the site | part which concerns. In the prior art shown in FIG. 3, if the metal plate 20 is used as a shielding net together with the filter 40, the plating metal splash passes through the shielding net without depositing on the portion where the metal plate 20 is disposed, and the plating metal bath 1. Fall into. In addition, as shown in FIG. 3, the installation position of the upper part of the shielding net is affected by the rising air current due to the tunneling effect of the alloying furnace 10 and installed in the furnace. Since there was also a problem that metal splashes were scattered, as a result of investigation, it was found that scattering of metal splashes into the furnace can be suppressed by providing a shielding net up to the position where the on-bath support roll is disposed.

以上のように、図3に示す従来技術において、金属板20を遮蔽ネットとすれば、金属板20を完全な遮蔽板とした場合に問題とされためっき金属飛沫の堆積を抑制することができる。しかしながら、金属板20を遮蔽ネットとした場合、めっき金属飛沫がストリップSの表面に付着することを抑制する効果は、金属板20を完全な遮蔽板した場合に比べて劣る。そこで、本発明者らは、めっき金属飛沫がストリップSの表面に付着することを抑制するための補足手段について検討を進めた。その結果、ワイピングノズル2とめっき金属浴1の浴面との間に整流板を設けることにより、気流3bとともに上昇しためっき金属飛沫がストリップSの表面に付着することを効果的に抑制できることを知見した。   As described above, in the prior art shown in FIG. 3, if the metal plate 20 is a shielding net, it is possible to suppress deposition of plating metal splashes, which is a problem when the metal plate 20 is a complete shielding plate. . However, when the metal plate 20 is used as a shielding net, the effect of suppressing the plating metal droplets from adhering to the surface of the strip S is inferior to the case where the metal plate 20 is a complete shielding plate. Therefore, the present inventors proceeded with investigations on supplementary means for suppressing plating metal droplets from adhering to the surface of the strip S. As a result, it has been found that by providing a rectifying plate between the wiping nozzle 2 and the bath surface of the plating metal bath 1, it is possible to effectively suppress the plating metal splashes rising along with the air flow 3b from adhering to the surface of the strip S. did.

本発明の要旨は次のとおりである。
[1] めっき金属浴内から連続的にストリップを引き出し、該ストリップ面に付着した余剰のめっき金属をワイピングノズルから前記ストリップ面に向けて噴射されるガスによって絞り落としてめっき金属付着量を調整することからなるガスワイピング法を用いた溶融金属めっき方法において、前記ストリップを垂直に支持する浴上サポートロールを前記ワイピングノズルの上方に配設し、前記ワイピングノズルの配設位置から上方に前記ストリップ面に沿って前記浴上サポートロールの配設位置まで遮蔽ネットを設けるとともに、前記ワイピングノズルと前記めっき金属浴の浴面との間に整流板を設けることにより、溶融金属めっき時にめっき金属飛沫が前記ストリップ面に付着することを防止することを特徴とする溶融金属めっき方法。
The gist of the present invention is as follows.
[1] The strip is continuously drawn out from the plating metal bath, and excess plating metal adhering to the strip surface is squeezed out by a gas sprayed from the wiping nozzle toward the strip surface to adjust the amount of plating metal adhesion. In the molten metal plating method using the gas wiping method, a support roll on the bath for vertically supporting the strip is disposed above the wiping nozzle, and the strip surface is disposed above the wiping nozzle. In addition, a shielding net is provided up to the position where the above-mentioned support roll on the bath is disposed, and a rectifying plate is provided between the wiping nozzle and the bath surface of the plating metal bath, so that the plating metal splashes are generated during the molten metal plating. A molten metal plating method characterized by preventing adhesion to a strip surface.

[2] 前記[1]において、前記整流板と前記めっき金属浴の浴面との成す角を0°以上60°以下とすることを特徴とする溶融金属めっき方法。 [2] The molten metal plating method according to [1], wherein an angle formed by the rectifying plate and the bath surface of the plating metal bath is 0 ° or more and 60 ° or less.

[3] めっき金属浴と、該めっき金属浴内から連続的に引き出されるストリップの表面に向けてガスを噴射することにより前記ストリップ表面に付着した余剰のめっき金属を絞り落としてめっき金属付着量を調整するワイピングノズルと、該ワイピングノズルの上方に配設され前記めっき金属浴内から連続的に引き出されるストリップを垂直に支持する浴上サポートロールとを有する溶融金属めっき装置であって、前記ワイピングノズルの配設位置から上方に前記ストリップ面に沿って前記浴上サポートロールの配設位置まで配設される遮蔽ネットと、前記ワイピングノズルの下方かつ前記めっき金属浴の上方に配設される整流板とを具え、溶融金属めっき時にめっき金属飛沫が前記ストリップ面に付着することを防止することを特徴とする溶融金属めっき装置。 [3] A plating metal bath and a surplus plating metal adhering to the strip surface are squeezed out by jetting gas toward the surface of the strip drawn continuously from the plating metal bath, thereby reducing the amount of plating metal adhesion. A molten metal plating apparatus comprising: a wiping nozzle to be adjusted; and a bath support roll disposed vertically above the wiping nozzle and vertically supporting a strip drawn continuously from the plating metal bath. A shielding net disposed upward from the disposition position along the strip surface to the disposition position of the on-bath support roll, and a current plate disposed below the wiping nozzle and above the plating metal bath And prevents plating metal splashes from adhering to the strip surface during molten metal plating. Molten metal plating apparatus.

[4] 前記[3]において、前記整流板と前記めっき金属浴の浴面との成す角が0°以上60°以下であることを特徴とする溶融金属めっき装置。 [4] The molten metal plating apparatus according to [3], wherein an angle formed by the rectifying plate and the bath surface of the plating metal bath is 0 ° or more and 60 ° or less.

本発明によれば、ガスワイピング法を用いた溶融金属めっきラインにおいて、ワイピング後のストリップにめっき金属飛沫が付着するのを抑制するとともに、生産設備に関する煩雑なメンテナンス作業を大幅に削減することができる。よって、高品質なストリップを、生産性を低下させることなく工業的に安定して生産することが可能となり、産業上格段の効果を奏する。   According to the present invention, in a molten metal plating line using a gas wiping method, it is possible to prevent plating metal splashes from adhering to a strip after wiping, and to greatly reduce troublesome maintenance work related to production facilities. . Therefore, it becomes possible to produce a high-quality strip stably industrially without reducing the productivity, and there is a remarkable industrial effect.

ガスワイピング法を適用した本発明の溶融金属めっき装置を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the molten metal plating apparatus of this invention to which the gas wiping method is applied. ガスワイピング法を適用した通常の溶融金属めっき装置を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the normal molten metal plating apparatus to which the gas wiping method is applied. ガスワイピング法を適用した従来の溶融金属めっき装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the conventional molten metal plating apparatus to which the gas wiping method is applied.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の溶融金属めっき装置の一例を図1に示す。図1に示すように、本発明の溶融金属めっき装置は、めっき金属浴1と、めっき金属浴1内から連続的に引き出されるストリップSの表面に向けてガス3を噴射することにより前記ストリップ表面に付着した余剰のめっき金属を絞り落としてめっき金属付着量を調整するワイピングノズル2を有する。7は、めっき金属浴1内から連続的に引き出されるストリップSを垂直に支持するための浴上サポートロールであり、この浴上サポートロール7はワイピングノズル2の上方に配設される。なお、7aは浴上サポートロール支持具である。ワイピングノズル2としては、例えばスリット状のワイピングノズルであってストリップSの幅方向に長さ方向を有する長尺状のワイピングノズル等、従前公知のものが何れも適用可能である。そして、ワイピングノズル2から噴出するガス3のガス圧を調整して絞り落とすめっき金属量を調整することにより、ストリップSの表面に所望の付着量の金属めっき層を形成する。なお、本発明の溶融金属めっき装置は、図3に示す従来技術と同様にワイピングノズル用ガス(空気)供給本管(図省略)およびガス供給配管(図省略)を有する。位置は特に限定するものではないが、後述する遮蔽ネット5の外側(ストリップSから遠い側)とすることで、これらの上部に金属飛沫が堆積することを防止でき、効率よく後述する遮蔽ネット5の下部に金属飛沫を集めることができる。また、図3に示す従来技術と同様に、ワイピングノズル2の上方に合金化炉(図省略)を設けてもよい。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
An example of the molten metal plating apparatus of the present invention is shown in FIG. As shown in FIG. 1, the molten metal plating apparatus of the present invention is configured to inject a gas 3 toward the surface of a plating metal bath 1 and a strip S continuously drawn from the plating metal bath 1. A wiping nozzle 2 is provided for adjusting the amount of plating metal adhesion by squeezing off excess plating metal adhering to the substrate. 7 is a support roll on the bath for vertically supporting the strip S drawn continuously from the plating metal bath 1, and the support roll 7 on the bath is disposed above the wiping nozzle 2. In addition, 7a is a bath support roll support. As the wiping nozzle 2, for example, a slit-like wiping nozzle and a long wiping nozzle having a length direction in the width direction of the strip S can be used. Then, a metal plating layer having a desired adhesion amount is formed on the surface of the strip S by adjusting the gas pressure of the gas 3 ejected from the wiping nozzle 2 to adjust the amount of plating metal to be squeezed down. The molten metal plating apparatus of the present invention has a wiping nozzle gas (air) supply main pipe (not shown) and a gas supply pipe (not shown) as in the prior art shown in FIG. Although the position is not particularly limited, by setting the outer side of the shielding net 5 described later (the side far from the strip S), it is possible to prevent metal splashes from being deposited on the upper part of the shielding net 5 and efficiently described later. Metal splashes can be collected at the bottom of Further, similarly to the prior art shown in FIG. 3, an alloying furnace (not shown) may be provided above the wiping nozzle 2.

以上の構造は、ガスワイピング法を用いた通常の溶融金属めっき装置と同様であるが、本発明の溶融金属めっき装置は、上記に加えて更に、ワイピングノズル2の配設位置から上方にストリップS面に沿って浴上サポートロール7の配設位置まで配設される遮蔽ネット5と、前記ワイピングノズルの下方かつ前記めっき金属浴1の上方に配設される整流板6とを具える。なお、ワイピングノズル2、遮蔽ネット5および整流板6は何れも、ストリップS表面の両側に少なくとも1つずつ配設される。   The above structure is the same as that of a normal molten metal plating apparatus using the gas wiping method. However, in addition to the above, the molten metal plating apparatus of the present invention is further stripped upward from the position where the wiping nozzle 2 is disposed. The shield net 5 is disposed along the surface to the position where the on-bath support roll 7 is disposed, and the rectifying plate 6 is disposed below the wiping nozzle and above the plated metal bath 1. Note that at least one of each of the wiping nozzle 2, the shielding net 5, and the current plate 6 is disposed on both sides of the surface of the strip S.

先述のとおり、ワイピングノズル2から噴出したガス3をストリップSの表面に衝突させると、絞り取られた余剰のめっき金属が、めっき金属飛沫となって気流の流れに沿って運ばれる。ワイピング時に生じるめっき金属飛沫は、主として、図中4bのようにストリップSに沿ってストリップSの進行方向と逆方向に進み、再度上昇する気流3bによって飛散する。   As described above, when the gas 3 ejected from the wiping nozzle 2 is caused to collide with the surface of the strip S, the surplus squeezed plating metal is transported along the flow of airflow as plating metal droplets. The plated metal splash generated during wiping mainly travels in the direction opposite to the traveling direction of the strip S along the strip S as indicated by 4b in the figure and is scattered by the airflow 3b rising again.

そこで、本発明では、ワイピングノズル2の配設位置から上方にストリップS面に沿って浴上サポートロール7の配設位置まで配設する遮蔽ネット5によって、気流3bとともに上昇するめっき金属飛沫4bが、ワイピングノズル2の上部に設けられた空間を通じてワイピングによりめっき金属付着量が調整された後のストリップSの表面に付着するのを防止する。   Therefore, in the present invention, the plating metal splash 4b rising together with the air flow 3b is formed by the shielding net 5 disposed upward from the position where the wiping nozzle 2 is disposed to the position where the bath support roll 7 is disposed along the strip S surface. Then, adhesion to the surface of the strip S after the plating metal adhesion amount is adjusted by wiping through the space provided in the upper part of the wiping nozzle 2 is prevented.

上記の如く遮蔽ネット5を設けると、気流3bとともに上昇しためっき金属飛沫4bは、ワイピングノズル2の上部に設けられた空間を通過しようとする際、遮蔽ネット5に捕捉(捕集)される。めっき金属飛沫4bが、ワイピングノズル2の上部に設けられた空間を通過するのを効果的に抑制するうえでは、ワイピングノズル2の上部に設けられた空間の全域に亘り遮蔽ネット5を設置することが好ましい。また、遮蔽ネット5の幅方向(ストリップSの幅方向と同一方向)の長さは、ストリップS幅と同等以上とすることが好ましい。   When the shielding net 5 is provided as described above, the plated metal splash 4b rising together with the air flow 3b is captured (collected) by the shielding net 5 when attempting to pass through the space provided above the wiping nozzle 2. In order to effectively prevent the plating metal splash 4b from passing through the space provided above the wiping nozzle 2, a shielding net 5 should be installed over the entire space provided above the wiping nozzle 2. Is preferred. The length of the shielding net 5 in the width direction (the same direction as the width direction of the strip S) is preferably equal to or greater than the width of the strip S.

また、ワイピング時に発生するめっき金属飛沫のうち、少量ながら上方に発散するめっき金属飛沫4aは主に遮蔽ネット5の下部5bの位置まで到達するが、これらのめっき金属飛沫4aのほとんどは遮蔽ネット5の下部5bに堆積することなく、遮蔽ネット5の網目を通じて排出される。   Further, among the plating metal splashes generated at the time of wiping, the plating metal splashes 4a that diverge upward in a small amount mainly reach the position of the lower part 5b of the shielding net 5, but most of these plating metal splashes 4a are the shielding net 5 It is discharged through the mesh of the shielding net 5 without being deposited on the lower part 5b of the screen.

遮蔽ネット5の網目の大きさは、0.5〜3.0mm程度とすることが好ましい。遮蔽ネット5の網目の大きさが0.5mm未満であると、めっき金属飛沫が遮蔽ネット5の網目に詰まってしまうおそれがある。遮蔽ネット5は、定期的に洗浄して捕捉(捕集)しためっき金属飛沫を除去するか、遮蔽ネット5を交換することを要するが、めっき金属飛沫が遮蔽ネット5の網目に詰まってしまうと、遮蔽ネット5を頻繁に洗浄または交換することが必要となり、メンテナンス作業が煩雑になり、コストも嵩む。また、遮蔽ネット5の網目の大きさが0.5mm未満であると、遮蔽ネット5の下部5bにおいてめっき金属飛沫4a(ワイピング時に上方に発散するめっき金属飛沫4a)が排出されずに堆積してしまうおそれがある。   The mesh size of the shielding net 5 is preferably about 0.5 to 3.0 mm. If the mesh size of the shielding net 5 is less than 0.5 mm, the plating metal splash may be clogged with the mesh of the shielding net 5. The shielding net 5 needs to be removed by periodically cleaning and capturing (collecting) the plated metal splash or replacing the shield net 5. However, if the plated metal splash becomes clogged with the mesh of the shielding net 5 Therefore, it is necessary to frequently clean or replace the shielding net 5, which complicates maintenance work and increases costs. Further, when the mesh size of the shielding net 5 is less than 0.5 mm, the plating metal splash 4a (plating metal splash 4a that diverges upward during wiping) is deposited in the lower portion 5b of the shielding net 5 without being discharged. There is a fear.

一方、遮蔽ネット5の網目の大きさが3.0mmを超えると、めっき金属飛沫4bを補足(捕集)する機能が低下し、めっき金属飛沫4bがワイピングノズル2の上方を通過してストリップSの表面に付着する現象を抑制することが困難となる。また、本発明においては、ワイピング時に上方に発散するめっき金属飛沫4aが遮蔽ネット5の下部5bに堆積するのを極力回避すべく、遮蔽ネット5の下部5bの網目を、他の部位の網目よりも大きくしてもよい。このような観点からは、例えば遮蔽ネット5の下部5bの網目の大きさを3.0〜20mmとし、その他の部位の網目の大きさを0.5〜3.0mmとすることが好ましい。遮蔽ネット5の下部5bの網目サイズを大きくする高さ(遮蔽ネット5の下部5bからの高さ)は、整流板6の設置高さにもよるが、50mm以下が好ましく、20mm以下がさらに好ましい。   On the other hand, if the mesh size of the shielding net 5 exceeds 3.0 mm, the function of capturing (collecting) the plated metal splash 4b is reduced, and the plated metal splash 4b passes above the wiping nozzle 2 and passes through the strip S. It becomes difficult to suppress the phenomenon that adheres to the surface. Further, in the present invention, the mesh of the lower part 5b of the shielding net 5 is less than the meshes of other parts in order to avoid as much as possible the plating metal splashes 4a that diverge upward during wiping from accumulating on the lower part 5b of the shielding net 5. May be larger. From such a viewpoint, for example, the mesh size of the lower portion 5b of the shielding net 5 is preferably 3.0 to 20 mm, and the mesh size of other portions is preferably 0.5 to 3.0 mm. The height at which the mesh size of the lower part 5b of the shielding net 5 is increased (the height from the lower part 5b of the shielding net 5) depends on the installation height of the rectifying plate 6, but is preferably 50 mm or less, and more preferably 20 mm or less. .

遮蔽ネット5の素材は特に問わず、金属、樹脂等、従前公知のネットが何れも適用可能であるが、強度の観点からは、ステンレス等の金属製が好ましい。   The material of the shielding net 5 is not particularly limited, and any conventionally known net such as metal or resin can be applied. However, from the viewpoint of strength, a metal such as stainless steel is preferable.

以上のように、遮蔽ネット5を用いる本発明は、図3に示す従来技術に見られた問題、すなわち完全遮蔽構造の金属板20にめっき金属飛沫が堆積する問題に対する有効な解決策といえる。また、ワイピングノズル2(および浴上サポートロール7)の上方に合金化炉を設ける場合、遮蔽ネット5内(ストリップS側)のめっき金属飛沫が炉内に侵入する問題も解消される。しかしながら、図1に示すように遮蔽ネット5を浴上サポートロール7の取り付け位置に設置している本発明では、気流3bとともに上昇するめっき金属飛沫4bが炉内に侵入することを遮蔽する効果が不足する。   As described above, the present invention using the shielding net 5 can be said to be an effective solution to the problem seen in the prior art shown in FIG. 3, that is, the problem of plating metal droplets depositing on the metal plate 20 having a complete shielding structure. Further, when the alloying furnace is provided above the wiping nozzle 2 (and the on-bath support roll 7), the problem of plating metal splashes in the shielding net 5 (strip S side) entering the furnace is also eliminated. However, in the present invention in which the shielding net 5 is installed at the mounting position of the on-bath support roll 7 as shown in FIG. 1, the effect of shielding the plating metal splash 4b rising together with the airflow 3b from entering the furnace is effective. Run short.

そこで、本発明では、上昇気流3bによって大きく上昇する金属飛沫を減少させる手段として、図1の如く整流板6を具えることとする。整流板6を、ワイピングノズル2の下方かつめっき金属浴1の上方に配設することにより、上昇する気流3bはストリップSや炉とは反対側の方向に誘導される。その結果、気流3bとともに上昇するめっき金属飛沫4bもストリップSとは反対側の方向に誘導されるため、めっき金属飛沫4bがワイピングノズル2の上方に設けられた空間を通過して炉内に侵入し、ストリップSの表面に付着する現象が効果的に抑制される。   Therefore, in the present invention, the current plate 6 is provided as shown in FIG. 1 as means for reducing metal splashes that are greatly increased by the rising air flow 3b. By arranging the current plate 6 below the wiping nozzle 2 and above the plating metal bath 1, the rising airflow 3b is guided in the direction opposite to the strip S and the furnace. As a result, the plated metal splash 4b that rises together with the air flow 3b is also guided in the direction opposite to the strip S, so that the plated metal splash 4b enters the furnace through the space provided above the wiping nozzle 2. In addition, the phenomenon of adhering to the surface of the strip S is effectively suppressed.

整流板6は、図1に示すように、めっき金属浴1の浴面1aとの成す角θが0°以上60°以下となるように設置することが好ましい。すなわち、図1において、整流板6の板面を、紙面(ストリップS面および浴面1aに垂直な面)に垂直になるように配設し、整流板6のストリップSが配置された側の端部6aを通り且つストリップSの幅方向に平行な線を仰角中心線とした場合において、仰角を0°以上60°以下にすることが好ましい。整流板6とめっき金属浴1の浴面1aとの成す角θが0°未満の場合、ストリップS側に金属飛沫が戻ってしまうおそれがある。一方、整流板6とめっき金属浴1の浴面1aとの成す角θが60°を超えると、上昇する気流3bをストリップSとは反対側の方向に誘導する効果が不十分となり、めっき金属飛沫4bがワイピングノズル2の上方に設けられた空間を通過してストリップSの表面に付着する現象を十分に抑制することができなくなるおそれがある。以上の理由により、整流板6とめっき金属浴1の浴面1aとの成す角θは0°以上60°以下とすることが好ましい。より好ましくは20°以上60°以下である。   As shown in FIG. 1, the rectifying plate 6 is preferably installed such that the angle θ formed with the bath surface 1 a of the plating metal bath 1 is not less than 0 ° and not more than 60 °. That is, in FIG. 1, the plate surface of the rectifying plate 6 is arranged so as to be perpendicular to the paper surface (the surface perpendicular to the strip S surface and the bath surface 1 a), and on the side where the strip S of the rectifying plate 6 is arranged. In the case where the line passing through the end 6a and parallel to the width direction of the strip S is the center line of the elevation angle, the elevation angle is preferably set to 0 ° or more and 60 ° or less. When the angle θ formed by the rectifying plate 6 and the bath surface 1a of the plated metal bath 1 is less than 0 °, the metal splashes may return to the strip S side. On the other hand, if the angle θ formed by the current plate 6 and the bath surface 1a of the plating metal bath 1 exceeds 60 °, the effect of inducing the rising air flow 3b in the direction opposite to the strip S becomes insufficient, and the plating metal There is a possibility that the phenomenon that the splash 4b passes through the space provided above the wiping nozzle 2 and adheres to the surface of the strip S cannot be sufficiently suppressed. For the above reasons, the angle θ formed by the current plate 6 and the bath surface 1a of the plating metal bath 1 is preferably set to 0 ° or more and 60 ° or less. More preferably, it is 20 ° or more and 60 ° or less.

整流板6の寸法は、その水平方向の端部6a,6bのうちストリップSが配置された側の端部6aが、ワイピングノズル2のうちガス噴出孔が形成されていない側の端部2aと当接するように設置することが好ましい。また、整流板6は、その水平方向の端部6a,6bのうちストリップSが配置された側とは反対側の端部6bが、めっき金属浴1の端部1bの上方に達するように設置することが好ましい。なお、スナウト(図省略)が設けられている場合には、整流板6の端部6bがスナウトの位置に達するように設置することが好ましい。更に、整流板6の寸法は、ストリップSの幅方向と平行な方向の長さがストリップSの幅と同等以上の長さとなるように設定することが好ましい。   The dimensions of the rectifying plate 6 are such that the end 6a on the side where the strip S is arranged in the end 6a, 6b in the horizontal direction is the same as the end 2a on the side where the gas ejection hole is not formed in the wiping nozzle 2. It is preferable to install so as to contact. Further, the rectifying plate 6 is installed so that the end 6b on the side opposite to the side on which the strip S is arranged reaches the upper side of the end 1b of the plating metal bath 1 among the horizontal ends 6a, 6b. It is preferable to do. In the case where a snout (not shown) is provided, it is preferable that the end 6b of the current plate 6 is installed so as to reach the position of the snout. Further, the dimensions of the current plate 6 are preferably set so that the length in the direction parallel to the width direction of the strip S is equal to or longer than the width of the strip S.

以上のように、本発明によると、ワイピングノズル2の下方かつめっき金属浴1の上方に整流板6を具えることにより、気流3bとともに上昇するめっき金属飛沫4bがワイピングノズル2の上方を通じでストリップS表面に付着する現象を効果的に抑制することができる。そして、この整流板6とともに前記遮蔽ネット5を用いることにより、図3の如く完全遮蔽構造の金属板20を用いた従来技術が抱える諸問題を、簡便な手段によって解消することが可能となる。   As described above, according to the present invention, by providing the rectifying plate 6 below the wiping nozzle 2 and above the plating metal bath 1, the plating metal splashes 4b rising along with the air flow 3b are stripped through the wiping nozzle 2 above. The phenomenon of adhering to the S surface can be effectively suppressed. By using the shielding net 5 together with the current plate 6, it is possible to solve various problems associated with the prior art using the metal plate 20 having a complete shielding structure as shown in FIG.

また、本発明においては、被めっき材であるストリップの種類は特に限定されず、溶融金属めっきの種類も特に限定されない。更に、本発明では、溶融金属めっき装置の下流側に合金化炉を設け、溶融金属めっき処理後のストリップに合金化処理を施してもよい。   In the present invention, the type of strip that is a material to be plated is not particularly limited, and the type of molten metal plating is not particularly limited. Furthermore, in the present invention, an alloying furnace may be provided on the downstream side of the molten metal plating apparatus, and the alloying process may be performed on the strip after the molten metal plating process.

なお、整流板6を具える本発明においては、ワイピング時に上方に発散するめっき金属飛沫4aが、遮蔽ネット5の下部5bに達したのち、遮蔽ネット5の下部5bの網目を通過して整流板6上に落下し、堆積する場合がある。ここで、図3に示す従来技術では、金属板20に堆積しためっき金属飛沫が、金属めっきラインの操業条件等により変化する気流で再び飛来し、ワイピング後のストリップSの表面に付着する問題が見られた。しかしながら、本発明においては、整流板6上に堆積しためっき金属飛沫が再び飛来してワイピング後のストリップSの表面に付着する問題は殆ど見られない。これは、図3に示す従来技術では、金属板20に堆積しためっき金属飛沫とストリップSの表面とを遮るものが全く存在しないのに対し、本発明においては、図1に示すように整流板6上に堆積しためっき金属飛沫4aとストリップSの表面との間にワイピングノズル2および遮蔽ネット5が配置されており、これらの存在が再び飛来しためっき金属飛沫4aがワイピング後のストリップSの表面に付着するのを妨げるためである。   In the present invention including the rectifying plate 6, the plating metal splash 4a that diverges upward at the time of wiping reaches the lower part 5b of the shielding net 5, and then passes through the mesh of the lower part 5b of the shielding net 5. May fall on 6 and accumulate. Here, in the prior art shown in FIG. 3, there is a problem in that the plating metal droplets deposited on the metal plate 20 re-spray in an air flow that changes depending on the operating conditions of the metal plating line and adhere to the surface of the strip S after wiping. It was seen. However, in the present invention, there is almost no problem that the plating metal droplets deposited on the rectifying plate 6 come again and adhere to the surface of the strip S after wiping. This is because, in the prior art shown in FIG. 3, there is nothing that blocks the plated metal splash deposited on the metal plate 20 and the surface of the strip S. In the present invention, as shown in FIG. The wiping nozzle 2 and the shielding net 5 are disposed between the plated metal splash 4a deposited on the surface of the strip S, and the surface of the strip S after the wiping of the plated metal splash 4a, which has come back again, is present. It is for preventing adhering to.

(本発明例)
図1に示す本発明の溶融金属めっき装置を用いて、鋼帯(鋼種:SPCC、厚さ:0.7mmの冷延鋼帯)にめっき処理を施した。図1において、遮蔽ネット5、整流板6の詳細は以下のとおりである。
遮蔽ネット5の材質:ステンレス
遮蔽ネット5の網目の大きさ:1.5mm(上部),3.0mm(下部20mmの位置)
遮蔽ネット5の幅方向寸法:鋼帯の幅+200mm
整流板6と浴面1aとの成す角θ:30°
整流板6の寸法:(鋼帯の幅+200mm)×700mm
また、遮蔽ネット5の上端5aを浴上サポートロール支持具7aに当接するとともに遮蔽ネット5の下端5bをワイピングノズル2に当接し、ワイピングノズル2と浴上サポートロール支持具7aとを遮蔽ネット5を介して連結した。更に、整流板6の端部6aをワイピングノズル2の端部2bに当接した。
めっき条件は以下のとおりである。
めっき浴組成 :溶融亜鉛(0.14%Al)
めっき浴温度 :460〜470℃
鋼帯の搬送速度 :150mpm
ワイピング条件 :ノズルギャップ0.7mm、
ヘッダー圧力0.8kg/cm2G、
ノズル−鋼板間距離4mm
(Example of the present invention)
The steel strip (steel type: SPCC, thickness: 0.7 mm cold-rolled steel strip) was plated using the molten metal plating apparatus of the present invention shown in FIG. In FIG. 1, the details of the shielding net 5 and the current plate 6 are as follows.
Material of shielding net 5: Stainless steel Mesh size of shielding net 5: 1.5mm (upper part), 3.0mm (lower 20mm position)
Dimension of shielding net 5 in width direction: width of steel strip + 200mm
Angle θ between current plate 6 and bath surface 1a: 30 °
Size of current plate 6: (steel strip width + 200mm) x 700mm
Further, the upper end 5a of the shielding net 5 is brought into contact with the bath support roll support 7a and the lower end 5b of the shielding net 5 is brought into contact with the wiping nozzle 2, so that the wiping nozzle 2 and the bath support roll support 7a are connected to the shielding net 5 Connected through. Further, the end 6 a of the rectifying plate 6 was brought into contact with the end 2 b of the wiping nozzle 2.
The plating conditions are as follows.
Plating bath composition: Hot-dip zinc (0.14% Al)
Plating bath temperature: 460-470 ° C
Steel strip transport speed: 150mpm
Wiping conditions: Nozzle gap 0.7mm,
Header pressure 0.8kg / cm 2 G,
Nozzle-steel distance 4mm

(比較例)
図3に示す従来の溶融金属めっき装置と同様の構成となるよう、以下のフィルター40と金属板20を配置し、その他の条件は実施例と同様にして評価を行った。
フィルター40の材質:ステンレス
フィルター40の寸法:(鋼帯の幅+200mm)×700mm
フィルター40の網目の大きさ:1.5mm
金属板20の材質:ステンレス
金属板20の寸法:鋼帯の幅+200mm
(Comparative example)
The following filter 40 and metal plate 20 were arranged so as to have the same configuration as the conventional molten metal plating apparatus shown in FIG. 3, and the other conditions were evaluated in the same manner as in the example.
Filter 40 material: Stainless steel Filter 40 dimensions: (Strip width + 200mm) x 700mm
Filter 40 mesh size: 1.5mm
Metal plate 20 material: Stainless steel Metal plate 20 dimensions: Steel strip width + 200mm

本発明例および比較例の各々によって得られた溶融金属めっき鋼帯について、格落率(不良品の割合)を求めた。溶融金属めっき鋼帯の表面にめっき金属飛沫が付着した場合、その付着量が増加するにつれで色ムラが発生する。そこで、得られた溶融金属めっき鋼帯の表面を観察し、色ムラの発生状態を確認することにより格落率を求めた。   About the hot-dip metal-plated steel strip obtained by each of this invention example and the comparative example, the failure rate (ratio of inferior goods) was calculated | required. When plating metal splashes adhere to the surface of the molten metal-plated steel strip, color unevenness occurs as the amount of adhesion increases. Therefore, the surface of the obtained molten metal-plated steel strip was observed, and the deterioration rate was determined by confirming the state of occurrence of color unevenness.

図3に示す従来の溶融金属めっき装置を用いた比較例では格落率が0.5%であったのに対し、図1に示す溶融金属めっき装置を用いた本発明例では格落率が0.2%まで低減していることが確認された。   In the comparative example using the conventional molten metal plating apparatus shown in FIG. 3, the crash rate was 0.5%, whereas in the present invention example using the molten metal plating apparatus shown in FIG. 1, the crash rate was 0.2%. It was confirmed that it was reduced.

1 ・・・ めっき金属浴
1a ・・・ 浴面
2 ・・・ ワイピングノズル
3 ・・・ ガス
3a,3b ・・・ ガスの気流
4a,4b ・・・ めっき金属飛沫
5 ・・・ 遮蔽ネット
6 ・・・ 整流板
7 ・・・ 浴上サポートロール
7a ・・・ 浴上サポートロール支持具
S ・・・ ストリップ
10 ・・・ 合金化炉
20 ・・・ 金属板
30 ・・・ スナウト
40 ・・・ フィルター
1 ・ ・ ・ Plating metal bath
1a ・ ・ ・ Bath surface
2 ・ ・ ・ Wiping nozzle
3 ・ ・ ・ Gas
3a, 3b ・ ・ ・ Gas flow
4a, 4b ・ ・ ・ plated metal splash
5 ・ ・ ・ Shielding net
6 ・ ・ ・ Current plate
7 ・ ・ ・ Bath support roll
7a ... Bath support roll support
S ・ ・ ・ Strip
10 ・ ・ ・ Alloying furnace
20 ・ ・ ・ Metal plate
30 ・ ・ ・ Snout
40 ・ ・ ・ Filter

Claims (4)

めっき金属浴内から連続的にストリップを引き出し、該ストリップ面に付着した余剰のめっき金属をワイピングノズルから前記ストリップ面に向けて噴射されるガスによって絞り落としてめっき金属付着量を調整することからなるガスワイピング法を用いた溶融金属めっき方法において、前記ストリップを垂直に支持する浴上サポートロールを前記ワイピングノズルの上方に配設し、前記ワイピングノズルの配設位置から上方に前記ストリップ面に沿って前記浴上サポートロールの配設位置まで遮蔽ネットを設けるとともに、前記ワイピングノズルと前記めっき金属浴の浴面との間に整流板を設けることにより、溶融金属めっき時にめっき金属飛沫が前記ストリップ面に付着することを防止することを特徴とする溶融金属めっき方法。   The strip is continuously drawn out from the plating metal bath, and excess plating metal adhering to the strip surface is squeezed out by a gas sprayed from the wiping nozzle toward the strip surface to adjust the amount of plating metal adhesion. In a molten metal plating method using a gas wiping method, a bath support roll for vertically supporting the strip is disposed above the wiping nozzle, and along the strip surface upward from a position where the wiping nozzle is disposed. A shielding net is provided up to the position where the support roll on the bath is disposed, and a rectifying plate is provided between the wiping nozzle and the bath surface of the plating metal bath, whereby plating metal splashes on the strip surface during molten metal plating. A molten metal plating method characterized by preventing adhesion. 前記整流板と前記めっき金属浴の浴面との成す角を0°以上60°以下とすることを特徴とする請求項1に記載の溶融金属めっき方法。   2. The molten metal plating method according to claim 1, wherein an angle formed between the rectifying plate and the bath surface of the plated metal bath is set to 0 ° or more and 60 ° or less. めっき金属浴と、該めっき金属浴内から連続的に引き出されるストリップの表面に向けてガスを噴射することにより前記ストリップ表面に付着した余剰のめっき金属を絞り落としてめっき金属付着量を調整するワイピングノズルと、該ワイピングノズルの上方に配設され前記めっき金属浴内から連続的に引き出されるストリップを垂直に支持する浴上サポートロールとを有する溶融金属めっき装置であって、前記ワイピングノズルの配設位置から上方に前記ストリップ面に沿って前記浴上サポートロールの配設位置まで配設される遮蔽ネットと、前記ワイピングノズルの下方かつ前記めっき金属浴の上方に配設される整流板とを具え、溶融金属めっき時にめっき金属飛沫が前記ストリップ面に付着することを防止することを特徴とする溶融金属めっき装置。   A plating metal bath and wiping for adjusting the amount of plating metal adhesion by squeezing off excess plating metal adhering to the strip surface by injecting gas toward the surface of the strip drawn continuously from the plating metal bath A molten metal plating apparatus comprising: a nozzle; and a bath-supporting roll that vertically supports a strip that is disposed above the wiping nozzle and that is continuously drawn out from the plating metal bath, wherein the wiping nozzle is disposed. A shielding net disposed upward from the position along the strip surface to the position where the above-mentioned support roll on the bath is disposed, and a current plate disposed below the wiping nozzle and above the plated metal bath. A molten gold characterized by preventing plating metal droplets from adhering to the strip surface during molten metal plating Plating apparatus. 前記整流板と前記めっき金属浴の浴面との成す角が0°以上60°以下であることを特徴とする請求項3に記載の溶融金属めっき装置。   The molten metal plating apparatus according to claim 3, wherein an angle formed between the current plate and the bath surface of the plating metal bath is 0 ° or more and 60 ° or less.
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