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JP2013089581A - Transparent conductive member - Google Patents

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JP2013089581A
JP2013089581A JP2011232407A JP2011232407A JP2013089581A JP 2013089581 A JP2013089581 A JP 2013089581A JP 2011232407 A JP2011232407 A JP 2011232407A JP 2011232407 A JP2011232407 A JP 2011232407A JP 2013089581 A JP2013089581 A JP 2013089581A
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JP
Japan
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layer
colored layer
graphene layer
graphene
particles
Prior art date
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Pending
Application number
JP2011232407A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naemi Minami
名栄美 南
Minoru Inoue
井上  稔
Hiroshi Tamaru
博 田丸
Hikari Tsujimoto
光 辻本
Tomoyuki Inoue
知之 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2011232407A priority Critical patent/JP2013089581A/en
Publication of JP2013089581A publication Critical patent/JP2013089581A/en
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Abstract

【課題】本発明は、優れた透明性及び導電性を兼ね備え、且つ外観の良好な透明導電性部材を提供する。
【解決手段】本発明に係る透明導電性部材1は、グラフェン層2と、前記グラフェン層2に重なっている着色層3と、透明な基材4とを備える。前記透明導電性部材1には、前記グラフェン層2と前記着色層3と前記基材4とが重なっている領域からなる第一領域5と、前記着色層3と前記基材4とが重なっていると共に前記グラフェン層2は重なっていない領域からなる第二領域6とが形成されている。前記第一領域5の透過色と前記第二領域6の透過色との間における、L*の差ΔL*、a*の差Δa*、及びb*の差Δb*が、下記式(1)に示す関係を満たす。
{(ΔL*2+(Δa*2+(Δb*21/2≦1.2 …(1)
【選択図】図1
The present invention provides a transparent conductive member having excellent transparency and conductivity and having a good appearance.
A transparent conductive member according to the present invention includes a graphene layer, a colored layer that overlaps the graphene layer, and a transparent substrate. The transparent conductive member 1 has a first region 5 composed of a region where the graphene layer 2, the colored layer 3 and the base material 4 overlap each other, and the colored layer 3 and the base material 4 overlap each other. In addition, the graphene layer 2 is formed with a second region 6 made of a non-overlapping region. L * difference ΔL * , a * difference Δa * , and b * difference Δb * between the transmission color of the first region 5 and the transmission color of the second region 6 are expressed by the following formula (1). The relationship shown in is satisfied.
{(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 } 1/2 ≦ 1.2 (1)
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、透明性と導電性とを兼ね備える透明導電性部材に関する。   The present invention relates to a transparent conductive member having both transparency and conductivity.

透明性と導電性とを兼ね備える部材(透明導電性部材)は、透明電極、タッチパネル用部品等に適用されており、用途の拡大も期待されている。このような部材としては、例えばガラス基材等の透明な基材にITOを堆積させることで構成される部材が代表例として挙げられる。   A member having both transparency and conductivity (transparent conductive member) is applied to a transparent electrode, a touch panel component, and the like, and is expected to expand its application. As such a member, a member constituted by depositing ITO on a transparent base material such as a glass base material can be cited as a representative example.

しかし、ITOの主成分であるインジウムは稀少な金属であることから、コスト面並びに資源枯渇に関する問題がある。   However, since indium, which is the main component of ITO, is a rare metal, there are problems regarding cost and resource depletion.

一方、近年、高い透明性と導電性とを兼ね備える材料としてグラフェンシートが注目されつつある。グラフェンシートはsp結合により炭素原子が平面状に六角格子構造で配置されることで構成される1原子分の厚さのシートであって、その室温での電気抵抗値が銅の2/3、その電流密度耐性が銅の100倍以上であるという、導電性、耐久性に共に優れる材料である。 On the other hand, in recent years, a graphene sheet has been attracting attention as a material having both high transparency and conductivity. The graphene sheet is a sheet having a thickness of one atom formed by arranging carbon atoms in a hexagonal lattice structure in a planar shape by sp 2 bonds, and the electrical resistance value at room temperature is 2/3 that of copper. It is a material excellent in both conductivity and durability that its current density resistance is 100 times or more that of copper.

特許文献1では、グラフェンの製造方法に関し、ベース部材と、前記ベース部材上に形成された親水性の酸化層と、前記酸化層上に形成された疎水性の金属触媒層と、前記金属触媒層上に形成されたグラフェン層とを含むグラフェン部材を準備し、前記グラフェン部材に水を提供し、前記酸化層から前記金属触媒層を分離し、エッチング法を用いて前記金属触媒層を除去することが、開示されている。   Patent Document 1 relates to a method for producing graphene, including a base member, a hydrophilic oxide layer formed on the base member, a hydrophobic metal catalyst layer formed on the oxide layer, and the metal catalyst layer. Preparing a graphene member including a graphene layer formed thereon, providing water to the graphene member, separating the metal catalyst layer from the oxide layer, and removing the metal catalyst layer using an etching method; Is disclosed.

特開2011−63506JP2011-63506

しかし、グラフェンは高い透明性を有するものの、その色は黒みがかっている。そのため特にグラフェン層がパターニングされる場合には、透明導電性部材においてグラフェンの色が斑に見えてしまい、外観の悪化を招いてしまうという問題がある。   However, although graphene has high transparency, its color is blackish. Therefore, particularly when the graphene layer is patterned, there is a problem that the color of the graphene appears to be uneven in the transparent conductive member, leading to deterioration of the appearance.

本発明は上記事由に鑑みてなされたものであり、優れた透明性及び導電性を兼ね備え、且つ外観の良好な透明導電性部材を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described reasons, and an object thereof is to provide a transparent conductive member having excellent transparency and conductivity and having a good appearance.

本発明に係る透明導電性部材は、グラフェン層と、前記グラフェン層に重なっている着色層と、前記グラフェン層及び前記着色層を支持する透明な基材とを備え、
前記グラフェン層と前記着色層と前記基材とが重なっている領域からなる第一領域と、前記着色層と前記基材とが重なっていると共に前記グラフェン層は重なっていない領域からなる第二領域とが形成されており、
前記第一領域の透過色と前記第二領域の透過色との間における、L*の差ΔL*、a*の差Δa*、及びb*の差Δb*が、下記式(1)に示す関係を満たす。
{(ΔL*2+(Δa*2+(Δb*21/2≦1.2 …(1)
本発明において、前記グラフェン層が前記基材と前記着色層との間に介在していることが好ましい。
The transparent conductive member according to the present invention includes a graphene layer, a colored layer overlapping the graphene layer, and a transparent substrate that supports the graphene layer and the colored layer,
A first region composed of a region where the graphene layer, the colored layer and the substrate overlap, and a second region composed of a region where the colored layer and the substrate overlap and the graphene layer does not overlap And are formed,
L * difference ΔL * , a * difference Δa * , and b * difference Δb * between the transmission color of the first region and the transmission color of the second region are shown in the following formula (1). Satisfy the relationship.
{(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 } 1/2 ≦ 1.2 (1)
In the present invention, the graphene layer is preferably interposed between the base material and the colored layer.

本発明において、前記グラフェン層と前記基材との間に前記着色層が介在していることも好ましい。   In the present invention, it is also preferable that the colored layer is interposed between the graphene layer and the substrate.

本発明によれば、優れた透明性及び導電性を兼ね備え、且つグラフェンの色が目立たず視認性の良好な透明導電性部材が得られる。   According to the present invention, it is possible to obtain a transparent conductive member that has both excellent transparency and conductivity, and that has a good visibility due to the inconspicuous color of graphene.

本発明の実施の形態における第一の態様を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 1st aspect in embodiment of this invention. 本発明の実施の形態における第二の態様を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 2nd aspect in embodiment of this invention.

本実施形態による透明導電性部材1は、グラフェン層2と、着色層3と、基材4とを備える。この透明導電性部材1において、グラフェン層2と着色層3とは重なっている。また、基材4はグラフェン層2と着色層3とを支持している。   The transparent conductive member 1 according to this embodiment includes a graphene layer 2, a colored layer 3, and a base material 4. In the transparent conductive member 1, the graphene layer 2 and the colored layer 3 overlap each other. In addition, the substrate 4 supports the graphene layer 2 and the colored layer 3.

透明導電性部材1には、グラフェン層2と着色層3と基材4とが重なっている領域からなる第一領域5と、着色層3と基材4とが重なっていると共にグラフェン層2は重なっていない領域からなる第二領域6とが、形成されている。この第一領域の透過色と第二領域の透過色との間における、L*の差ΔL*、a*の差Δa*、及びb*の差Δb*が、下記式(1)に示す関係を満たす。尚、L*、a*、及びb*は、CIE1976(L*,a*,b*)色空間の座標である。
{(ΔL*2+(Δa*2+(Δb*21/2≦1.2 …(1)
本実施形態により得られる透明導電性部材1は、高い透明性と高い導電性とを兼ね備え、このため透明電極、タッチパネル用部品、ディスプレイ用部品等の、種々の用途への適用が期待される。
The transparent conductive member 1 has a first region 5 composed of a region where the graphene layer 2, the colored layer 3 and the substrate 4 overlap each other, and the colored layer 3 and the substrate 4 overlap each other and the graphene layer 2 includes A second region 6 made of a non-overlapping region is formed. The relationship shown in the following formula (1) is the difference in L * ΔL * , difference in a * Δa * , and difference in b * Δb * between the transmitted color in the first region and the transmitted color in the second region. Meet. Note that L * , a * , and b * are coordinates in the CIE 1976 (L * , a * , b * ) color space.
{(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 } 1/2 ≦ 1.2 (1)
The transparent conductive member 1 obtained according to the present embodiment has both high transparency and high conductivity, and is expected to be applied to various uses such as transparent electrodes, touch panel components, display components, and the like.

更に、グラフェン層2と着色層3とが重ねられ、且つ上記の通り第一領域5と第二領域6との間の色差が小さいと、透明導電性部材1においてグラフェン層2の色が目立たなくなり、このためパターニングされているグラフェン層2が斑に見えるなどの外観の悪化が抑制される。このため、透明導電性部材1を備える機器の外観が良好となり、特に透明導電性部材1がタッチパネル用部品、ディスプレイ用部品等のような画像を表示する機器に適用される場合、画像の視認性が向上する。   Furthermore, when the graphene layer 2 and the colored layer 3 are overlapped and the color difference between the first region 5 and the second region 6 is small as described above, the color of the graphene layer 2 becomes inconspicuous in the transparent conductive member 1. For this reason, deterioration of the appearance such as the patterned graphene layer 2 appearing as spots is suppressed. For this reason, the external appearance of the apparatus provided with the transparent conductive member 1 becomes good. In particular, when the transparent conductive member 1 is applied to an apparatus that displays an image such as a touch panel component or a display component, the visibility of the image is improved. Will improve.

図1に、本実施形態による透明導電性部材1の第一の態様を示す。本態様では、基材4、グラフェン層2、着色層3が、この順に重なっている構造を有する。すなわち、基材4上には、パターニングされた形状を有するグラフェン層2が積層している。更に基材4上には、グラフェン層2を覆うように着色層3が積層している。着色層3は、グラフェン層2を覆うと共に、更に基材4上におけるグラフェン層2の隙間に充填されている。このように着色層3がグラフェン層2を覆うため、着色層3によってグラフェン層2が保護される。これにより、透明導電性部材1には、基材4、グラフェン層2、着色層3がこの順に重なっている領域からなる第一領域5と、着色層3と基材4とが重なっていると共にグラフェン層2は重なっていない領域からなる第二領域6とが、形成されている。   In FIG. 1, the 1st aspect of the transparent conductive member 1 by this embodiment is shown. In this embodiment, the substrate 4, the graphene layer 2, and the colored layer 3 have a structure that overlaps in this order. That is, the graphene layer 2 having a patterned shape is laminated on the substrate 4. Further, a colored layer 3 is laminated on the substrate 4 so as to cover the graphene layer 2. The colored layer 3 covers the graphene layer 2 and is further filled in the gaps of the graphene layer 2 on the substrate 4. Since the colored layer 3 covers the graphene layer 2 in this way, the graphene layer 2 is protected by the colored layer 3. As a result, the transparent conductive member 1 has the first region 5 formed of a region in which the base material 4, the graphene layer 2, and the colored layer 3 overlap in this order, and the colored layer 3 and the base material 4 are overlapped. The graphene layer 2 is formed with a second region 6 made of a non-overlapping region.

基材4の材質としては、特に制限されないが、例えばソーダライムガラス、無アルカリガラスなどの透明ガラス;ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、フッ素系樹脂、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等から構成される透明なプラスチックなどが挙げられる。基材4の形状はフィルム状でも板状でもよい。   Although it does not restrict | limit especially as a material of the base material 4, For example, transparent glass, such as soda-lime glass and an alkali free glass; Polyester resin, polyolefin resin, polyamide resin, epoxy resin, fluorine resin, cellulose resin, polycarbonate resin, acrylic resin For example, a transparent plastic composed of the like. The shape of the substrate 4 may be a film shape or a plate shape.

基材4がポリエステルフィルムから形成される場合には、ポリエステルとして、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタリンジカルボン酸、4,4′−ジフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸成分と、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,6−ヘキサンジオール等のグリコール成分とが反応することで生成する芳香族ポリエステルが好ましく、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタリンジカルボキシレートなどが好ましい。またポリエステルは、前記例示した複数の成分等の共重合ポリエステルであってもよい。   When the substrate 4 is formed from a polyester film, as the polyester, for example, an aromatic dicarboxylic acid component such as terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, Aromatic polyesters produced by reaction with glycol components such as ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,6-hexanediol, etc. are preferred, especially polyethylene terephthalate, polyethylene-2 1,6-naphthalene dicarboxylate is preferred. Further, the polyester may be a copolyester such as the plurality of components exemplified above.

基材4は有機または無機の粒子を含有してもよい。この場合、基材4の巻き取り性、搬送性等が向上する。このような粒子として、炭酸カルシウム粒子、酸化カルシウム粒子、酸化アルミニウム粒子、カオリン、酸化珪素粒子、酸化亜鉛粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、尿素樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等が挙げられる。基材4は、着色剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、他の樹脂等も、透明性を損なわない範囲で含有してもよい。   The base material 4 may contain organic or inorganic particles. In this case, the winding property and transportability of the base material 4 are improved. Examples of such particles include calcium carbonate particles, calcium oxide particles, aluminum oxide particles, kaolin, silicon oxide particles, zinc oxide particles, crosslinked acrylic resin particles, crosslinked polystyrene resin particles, urea resin particles, melamine resin particles, and crosslinked silicone resin particles. Etc. The substrate 4 may also contain a colorant, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a lubricant, a catalyst, other resins, and the like as long as the transparency is not impaired.

基材4のヘイズは3%以下であることが好ましく、この場合、透明導電性部材1を通した映像等の視認性が向上し、光学的用途のフィルムとして特に適したものとなる。ヘイズが1.5%以下であれば更に好ましい。また、基材は無色であっても、有色であってもよい。   The haze of the substrate 4 is preferably 3% or less. In this case, the visibility of an image through the transparent conductive member 1 is improved, and the haze of the substrate 4 is particularly suitable as a film for optical use. More preferably, the haze is 1.5% or less. Further, the base material may be colorless or colored.

基材4の厚みは特に制限されないが、基材4がフィルム状である場合にはその厚みは25μm以上200μm以下の範囲であることが好ましい。特に基材4の厚みが25μm以上100μm以下であると、透明導電性部材1の薄型化、軽量化が可能となり、また透明導電性部材1の表裏における干渉の発生が抑制され、更に基材4が加熱される際の熱収縮が抑制されて基材4の熱収縮による加工性の悪化等の不具合が抑制される。   Although the thickness in particular of the base material 4 is not restrict | limited, When the base material 4 is a film form, it is preferable that the thickness is the range of 25 micrometers or more and 200 micrometers or less. In particular, when the thickness of the substrate 4 is 25 μm or more and 100 μm or less, the transparent conductive member 1 can be made thinner and lighter, and the occurrence of interference on the front and back of the transparent conductive member 1 is suppressed. Thermal contraction when the is heated is suppressed, and defects such as deterioration of workability due to thermal contraction of the base material 4 are suppressed.

基材4は多層構造を有してもよい。例えば基材4は、上記のような透明なガラス又はプラスチックからなる板状又はシート状の基部と、この基部上に積層されている一層又は複数層の樹脂層とを備えてもよい。   The substrate 4 may have a multilayer structure. For example, the substrate 4 may include a plate-like or sheet-like base portion made of transparent glass or plastic as described above, and one or more resin layers laminated on the base portion.

樹脂層は、反応性硬化型樹脂組成物から形成されることが好ましく、例えば熱硬化型樹脂組成物と活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の少なくとも一方から形成されることが好ましい。   The resin layer is preferably formed from a reactive curable resin composition. For example, the resin layer is preferably formed from at least one of a thermosetting resin composition and an active energy ray curable resin composition.

熱硬化型樹脂組成物は、例えばフェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等の熱硬化性樹脂を含有する。熱硬化性樹脂と共に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等が使用されてもよい。このような熱硬化型樹脂組成物が塗布され、続いてこの熱硬化型樹脂組成物が加熱されて熱硬化することで、樹脂層が形成され得る。   The thermosetting resin composition includes, for example, thermosetting resins such as phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, amino alkyd resin, silicon resin, polysiloxane resin, and the like. contains. A crosslinking agent, a polymerization initiator, a curing agent, a curing accelerator, a solvent and the like may be used together with the thermosetting resin as necessary. A resin layer can be formed by applying such a thermosetting resin composition and subsequently heating and thermosetting the thermosetting resin composition.

活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、アクリレート系の官能基を有する樹脂を含むことが好ましい。アクリレート系の官能基を有する樹脂としては、例えば比較的低分子量の多官能化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマー、プレポリマーなどが挙げられる。前記の多官能化合物としては、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等が挙げられる。活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は更に反応性希釈剤を含有することも好ましい。反応性希釈剤としては、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びにトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートの多官能モノマーが挙げられる。   The active energy ray-curable resin composition preferably includes a resin having an acrylate functional group. Examples of the resin having an acrylate functional group include oligomers such as (meth) acrylates of a relatively low molecular weight polyfunctional compound, prepolymers, and the like. Examples of the polyfunctional compound include polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polyhydric alcohols. The active energy ray-curable resin composition preferably further contains a reactive diluent. Examples of reactive diluents include monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and hexanediol (meth) acrylate. , Tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di The polyfunctional monomer of (meth) acrylate is mentioned.

活性エネルギー線硬化型樹脂組成物が紫外線硬化型樹脂組成物などの光硬化型樹脂組成物である場合には、光硬化型樹脂組成物が光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などが挙げられる。光硬化型樹脂組成物が光重合開始剤に加えて、或いは光重合開始剤に代えて、光増感剤を含有してもよい。光増感剤としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、チオキサントンなどが挙げられる。このような光硬化型樹脂組成物が塗布され、続いてこの光硬化型樹脂組成物に紫外線などの光が照射されて光硬化することで、樹脂層が形成され得る。   When the active energy ray curable resin composition is a photocurable resin composition such as an ultraviolet curable resin composition, the photocurable resin composition preferably contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, thioxanthones, and the like. The photocurable resin composition may contain a photosensitizer in addition to the photopolymerization initiator or in place of the photopolymerization initiator. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone. A resin layer can be formed by applying such a photocurable resin composition and subsequently irradiating the photocurable resin composition with light such as ultraviolet rays and photocuring.

樹脂層の屈折率は、樹脂層を形成するための樹脂組成物の組成によって容易に調整され得る。また、樹脂層が屈折率調整用の粒子を含有すると共にその割合が調整されることで、樹脂層の屈折率が調整されることも好ましい。   The refractive index of the resin layer can be easily adjusted by the composition of the resin composition for forming the resin layer. Moreover, it is also preferable that the refractive index of a resin layer is adjusted by the resin layer containing the particle for refractive index adjustment, and the ratio being adjusted.

屈折率調整用の粒子の粒径は十分に小さいこと、すなわち屈折率調整用の粒子がいわゆる超微粒子であるが好ましく、この場合、樹脂層の光透過性が十分に維持されるようになる。屈折率調整用の粒子の粒径は特に、0.5nm〜200nmの範囲であることが好ましい。この屈折率調整用の粒子の粒径とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から算出される投影面積と同一の面積を有する円(面積相当円)の径のことである。   The particle diameter of the particles for adjusting the refractive index is preferably sufficiently small, that is, the particles for adjusting the refractive index are preferably so-called ultrafine particles. In this case, the light transmittance of the resin layer is sufficiently maintained. The particle diameter of the particles for adjusting the refractive index is particularly preferably in the range of 0.5 nm to 200 nm. The particle diameter of the particles for adjusting the refractive index is the diameter of a circle (area equivalent circle) having the same area as the projected area calculated from the electron micrograph image of the particles.

屈折率調整用の粒子は、比較的屈折率の高い粒子であることが好ましく、特に屈折率が1.6以上の粒子であることが好ましい。この粒子は、金属や金属酸化物の粒子であることが好ましい。   The refractive index adjusting particles are preferably particles having a relatively high refractive index, and particularly preferably particles having a refractive index of 1.6 or more. These particles are preferably metal or metal oxide particles.

樹脂層中の屈折率調整用の粒子の含有量は、樹脂層の屈折率が適切な値となるように適宜調整される。特に樹脂層中の屈折率調整用の粒子の割合が5〜70体積%となるように調整されることが好ましい。   The content of the refractive index adjusting particles in the resin layer is appropriately adjusted so that the refractive index of the resin layer has an appropriate value. In particular, it is preferable to adjust so that the ratio of the refractive index adjusting particles in the resin layer is 5 to 70% by volume.

屈折率調整用の粒子の具体例としては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる一種あるいは二種以上の酸化物を含有する粒子が挙げられる。酸化物の具体例としては、ZnO(屈折率1.90)、TiO2(屈折率2.3〜2.7)、CeO2(屈折率1.95)、Sb25(屈折率1.71)、SnO2、ITO(屈折率1.95)、Y23(屈折率1.87)、La23(屈折率1.95)、ZrO2(屈折率2.05)、Al23(屈折率1.63)等が挙げられる。 Specific examples of the particles for adjusting the refractive index include particles containing one or more oxides selected from titanium, aluminum, cerium, yttrium, zirconium, niobium, and antimony. Specific examples of the oxide include ZnO (refractive index 1.90), TiO 2 (refractive index 2.3 to 2.7), CeO 2 (refractive index 1.95), Sb 2 O 5 (refractive index 1. 71), SnO 2, ITO (refractive index 1.95), Y 2 O 3 (refractive index 1.87), La 2 O 3 (refractive index 1.95), ZrO 2 (refractive index 2.05), Al 2 O 3 (refractive index 1.63) and the like.

樹脂層には帯電防止性能が付与されていることも好ましい。この場合、透明導電性部材1の帯電が抑制され、また透明導電性部材1へ埃の付着が抑制される。そのためには、樹脂層が導電性粒子を含有することが好ましい。導電性粒子は同時に屈折率調整用の粒子としても機能してもよい。導電性粒子はナノ粒子であることが好ましく、特に粒径が0.5〜200nmの超微粒子であることが好ましい。導電性粒子の粒径も面積相当円の径である。導電性粒子の材質としては導電性を有する適宜の金属、金属酸化物等が挙げられ、具体的にはインジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる一種又は二種以上の金属の酸化物が挙げられ、更に具体的には酸化インジウム(ITO)、酸化錫(SnO2)、アンチモン/錫酸化物(ATO)、鉛/チタン酸化物(PTO)、アンチモン酸化物(Sb25)等が挙げられる。 It is also preferable that the resin layer has antistatic performance. In this case, charging of the transparent conductive member 1 is suppressed, and adhesion of dust to the transparent conductive member 1 is suppressed. For this purpose, the resin layer preferably contains conductive particles. The conductive particles may simultaneously function as refractive index adjusting particles. The conductive particles are preferably nanoparticles, and particularly preferably ultrafine particles having a particle size of 0.5 to 200 nm. The particle diameter of the conductive particles is also the diameter of an area equivalent circle. Examples of the material of the conductive particles include appropriate metals and metal oxides having conductivity, and specifically include oxides of one or more metals selected from indium, zinc, tin, and antimony. More specifically, indium oxide (ITO), tin oxide (SnO 2 ), antimony / tin oxide (ATO), lead / titanium oxide (PTO), antimony oxide (Sb 2 O 5 ) and the like can be mentioned. .

樹脂層に十分な帯電防止性能が付与されるためには、導電性粒子を含有することで樹脂層のシート抵抗が1015Ω/□以下となることが好ましい。樹脂層のシート抵抗は小さいほど帯電防止性が向上するので、下限は特に設定されないが、シート抵抗を小さくするのには限界があるため、樹脂層のシート抵抗の実質的な下限は106Ω/□である。 In order to impart sufficient antistatic performance to the resin layer, it is preferable that the sheet resistance of the resin layer is 10 15 Ω / □ or less by containing conductive particles. The lower the sheet resistance of the resin layer, the better the antistatic property. Therefore, the lower limit is not particularly set. However, since there is a limit to reducing the sheet resistance, the practical lower limit of the sheet resistance of the resin layer is 10 6 Ω. / □.

樹脂層中の導電性粒子の含有量は、樹脂層の帯電防止性能が適切な程度となるように適宜調整されるが、特に樹脂層中の導電性粒子の割合が5〜70質量%となるように調整されることが好ましい。   The content of the conductive particles in the resin layer is adjusted as appropriate so that the antistatic performance of the resin layer is an appropriate level, but the ratio of the conductive particles in the resin layer is particularly 5 to 70% by mass. It is preferable to adjust so.

樹脂層は、次に示すようなバインダー材料及び必要に応じて使用される屈折率調整用の粒子を含有する組成物から形成されてもよい。バインダー材料と屈折率調整用の粒子とが併用される場合、両者の組み合わせ、配合比等により樹脂層の屈折率が適宜調整される。この樹脂層は、組成物にバインダー材料の性状に応じて加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等の処理が施されることで組成物が硬化することにより、形成され得る。   A resin layer may be formed from the composition containing the binder material as shown below, and the particle | grains for refractive index adjustment used as needed. When the binder material and the particles for adjusting the refractive index are used in combination, the refractive index of the resin layer is appropriately adjusted depending on the combination, the mixing ratio, and the like. This resin layer can be formed by curing the composition by subjecting the composition to treatment such as heating, humidification, ultraviolet irradiation, and electron beam irradiation according to the properties of the binder material.

バインダー材料としては、シリコンアルコキシド系樹脂、飽和炭化水素及びポリエーテルの少なくともいずれかを主鎖とするポリマー(例えばUV硬化型樹脂組成物、熱硬化型樹脂組成物等)、ポリマー鎖中にフッ素原子を含む単位を含む樹脂などが挙げられる。   As the binder material, a polymer having a main chain of at least one of silicon alkoxide resin, saturated hydrocarbon and polyether (for example, UV curable resin composition, thermosetting resin composition, etc.), fluorine atom in the polymer chain And a resin containing a unit containing.

シリコンアルコキシド系樹脂としては、RmSi(OR´)nで表されるシリコンアルコキシド(R、R´は炭素数1〜10のアルキル基、m+n=4、m及びnはそれぞれ整数。)の部分加水分解縮合物であるオリゴマー及びポリマーが、挙げられる。シリコンアルコキシドとしては、具体的にはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が例示される。 As a silicon alkoxide-based resin, a silicon alkoxide represented by R m Si (OR ′) n (R and R ′ are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, m + n = 4, m and n are integers). Examples include oligomers and polymers that are hydrolyzed condensates. Specific examples of the silicon alkoxide include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, and tetra-tert-butoxy. Silane, tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxy Silane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, di Chill propoxysilane, dimethyl-butoxy silane, methyl dimethoxy silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane, and the like.

バインダー材料として、熱又は活性エネルギー線によって反応架橋する複数の基(重合性二重結合基等)を有する反応性有機珪素化合物が用いられてもよい。この有機珪素化合物の分子量は5000以下であることが好ましい。このような反応性有機珪素化合物としては、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、並びにこれらの化合物を反応させて得られるビニル官能性ポリシラン及びビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。これら以外にも、反応性有機珪素化合物としては、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メタ)アクリロキシシラン化合物が挙げられる。   As the binder material, a reactive organosilicon compound having a plurality of groups (polymerizable double bond group or the like) that undergoes reactive crosslinking by heat or active energy rays may be used. The molecular weight of the organosilicon compound is preferably 5000 or less. Such reactive organosilicon compounds are obtained by reacting one terminal vinyl functional polysilane, both terminal vinyl functional polysilane, one terminal vinyl functional polysiloxane, both terminal vinyl functional polysiloxane, and these compounds. Examples include vinyl functional polysilanes and vinyl functional polysiloxanes. In addition to these, examples of the reactive organic silicon compound include (meth) acryloxysilane compounds such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane.

屈折率調整用の粒子としては、比較的低屈折率の粒子が使用されることが好ましい。屈折率調整用の粒子の材質としては、シリカ、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等が挙げられる。屈折率調整用の粒子が中空粒子を含むことが好ましい。中空粒子とは外殻によって包囲された空洞を有する粒子である。中空粒子の屈折率は1.20〜1.45であることが好ましい。   As the particles for adjusting the refractive index, it is preferable to use particles having a relatively low refractive index. Examples of the material for adjusting the refractive index include silica, magnesium fluoride, lithium fluoride, aluminum fluoride, calcium fluoride, sodium fluoride, and the like. It is preferable that the refractive index adjusting particles include hollow particles. A hollow particle is a particle having a cavity surrounded by an outer shell. The refractive index of the hollow particles is preferably 1.20 to 1.45.

屈折率調整用の粒子には、必要に応じて、バインダー材料との濡れ性を向上するための表面処理が施されていることが好ましい。   The particles for adjusting the refractive index are preferably subjected to a surface treatment for improving the wettability with the binder material, if necessary.

屈折率調整用の粒子の粒径は十分に小さいこと、すなわち屈折率調整用の粒子がいわゆる超微粒子であることが好ましく、この場合、樹脂層の光透過性が十分に維持されるようになる。屈折率調整用の粒子の粒径は特に、0.5nm〜200nmの範囲であることが好ましい。この屈折率調整用の粒子の粒径とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から算出される投影面積と同一の面積を有する円(面積相当円)の径のことである。   The particle diameter of the refractive index adjusting particles is preferably sufficiently small, that is, the refractive index adjusting particles are preferably so-called ultrafine particles. In this case, the light transmittance of the resin layer is sufficiently maintained. . The particle diameter of the particles for adjusting the refractive index is particularly preferably in the range of 0.5 nm to 200 nm. The particle diameter of the particles for adjusting the refractive index is the diameter of a circle (area equivalent circle) having the same area as the projected area calculated from the electron micrograph image of the particles.

樹脂層中の屈折率調整用の粒子の含有量は、樹脂層の屈折率の値が適切な値となるように適宜調整されるが、特に樹脂層中の屈折率調整用の粒子の割合が20〜99体積%となるように調整されることが好ましい。   The content of the refractive index adjusting particles in the resin layer is adjusted as appropriate so that the refractive index value of the resin layer becomes an appropriate value, but in particular the ratio of the refractive index adjusting particles in the resin layer is It is preferable to adjust so that it may become 20-99 volume%.

組成物は、更に撥水、撥油性材料を含有してもよい。撥水、撥油性材料としては、一般的なワックス系の材料等が使用され得る。   The composition may further contain a water and oil repellent material. As the water and oil repellent material, a general wax-based material or the like can be used.

グラフェン層2は、グラフェンシートから構成される。グラフェン層2は単層のグラフェンシートから構成されてもよいが、複数層のグラフェンシートから構成されてもよい。グラフェン層2は1層以上300層以下のグラフェンシートからなることが好ましく、1層以上15層以下のグラフェンシートからなることが特に好ましい。   The graphene layer 2 is composed of a graphene sheet. The graphene layer 2 may be composed of a single-layer graphene sheet, but may be composed of a plurality of layers of graphene sheets. The graphene layer 2 is preferably composed of a graphene sheet of 1 to 300 layers, particularly preferably a graphene sheet of 1 to 15 layers.

このグラフェン層2はパターニングされている。このグラフェン層2の形状、寸法等は、適宜設定される。例えばグラフェン層2により、複数のパッド状の電極と、このパッド状の電極間を接続する細線とからなる感知用電極と、この感知用電極に接続する引き出し線とが形成される。この場合、パッド状の電極は例えば平面視0.5〜2.5mm角の寸法に形成される。また、細線及び引き出し線は例えば線幅10〜100μmの範囲に形成される。   The graphene layer 2 is patterned. The shape, dimensions, and the like of the graphene layer 2 are set as appropriate. For example, the graphene layer 2 forms a sensing electrode composed of a plurality of pad-shaped electrodes, fine wires connecting the pad-shaped electrodes, and a lead-out line connected to the sensing electrodes. In this case, the pad-like electrode is formed to have a size of 0.5 to 2.5 mm square in plan view, for example. Further, the thin line and the lead line are formed in a range of, for example, a line width of 10 to 100 μm.

グラフェン層2は適宜の手法により基材4上に形成される。例えば、金属箔を準備するステップと、金属箔上にグラフェン層2を蒸着法により形成するステップと、グラフェン層2の金属箔とは反対側の面を基材4に接合するステップと、金属箔を除去するステップと、グラフェン層2にパターニング処理を施すステップとを含む方法により、パターニングされているグラフェン層2が基材4上に形成される。   The graphene layer 2 is formed on the substrate 4 by an appropriate method. For example, a step of preparing a metal foil, a step of forming the graphene layer 2 on the metal foil by a vapor deposition method, a step of bonding the surface of the graphene layer 2 opposite to the metal foil to the substrate 4, and a metal foil The patterned graphene layer 2 is formed on the substrate 4 by a method including the step of removing and the step of patterning the graphene layer 2.

金属箔は、グラフェンを形成するための触媒として機能する金属から構成されることが好ましい。このような金属としては、ニッケル、銅、アルミニウム、鉄、コバルト、タングステン等が挙げられる。   The metal foil is preferably composed of a metal that functions as a catalyst for forming graphene. Such metals include nickel, copper, aluminum, iron, cobalt, tungsten, and the like.

この金属箔上に、グラフェン層2が形成される。グラフェン層2はグラフェンシートから構成される。グラフェンシートは、例えば熱CVD法やプラズマCVD法などの蒸着法により形成される。この場合、例えばチャンバー内に金属箔を配置し、このチャンバー内に気相状態の炭素源を供給し、この炭素源をチャンバー内で加熱したりプラズマ処理したりする。これにより、炭素源が分解すると共に炭素原子が互いに結合して六角形の平面構造を形成し、これにより金属箔上にグラフェンシートが形成される。   The graphene layer 2 is formed on this metal foil. The graphene layer 2 is composed of a graphene sheet. The graphene sheet is formed by an evaporation method such as a thermal CVD method or a plasma CVD method. In this case, for example, a metal foil is arranged in the chamber, a carbon source in a gas phase is supplied into the chamber, and the carbon source is heated or plasma-treated in the chamber. As a result, the carbon source is decomposed and the carbon atoms are bonded to each other to form a hexagonal planar structure, whereby a graphene sheet is formed on the metal foil.

グラフェンシートを形成するための炭素源としては、特に制限されないが、一酸化炭素、メタン、エタン、エチレン、エタノール、アセチレン、プロパン、プロピレン、ブタン、ブタジエン、ペンタン、ペンテン、シクロペンタジエン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンなどが挙げられる。   The carbon source for forming the graphene sheet is not particularly limited, but carbon monoxide, methane, ethane, ethylene, ethanol, acetylene, propane, propylene, butane, butadiene, pentane, pentene, cyclopentadiene, hexane, cyclohexane, Examples include benzene and toluene.

熱CVD法によりグラフェン層2が形成される場合、チャンバー内の温度、チャンバー内の炭素源の圧力等は適宜調整される。チャンバー内の温度は例えば300〜2000℃の範囲に調整される。またチャンバー内の炭素源の圧力は例えば1.3×10-4〜1.4×104Paの範囲で調整され、好ましくは1.3×10-1〜1.0×105Paの範囲で調整される。 When the graphene layer 2 is formed by the thermal CVD method, the temperature in the chamber, the pressure of the carbon source in the chamber, and the like are appropriately adjusted. The temperature in the chamber is adjusted to a range of 300 to 2000 ° C., for example. The pressure of the carbon source in the chamber is adjusted, for example, in the range of 1.3 × 10 −4 to 1.4 × 10 4 Pa, preferably in the range of 1.3 × 10 −1 to 1.0 × 10 5 Pa. It is adjusted with.

熱CVD法によりグラフェン層2が形成される場合には、チャンバー内に炭素源と共に水素が供給されることも好ましい。この場合の水素の量は、チャンバー全体の体積の5体積%以上40体積%以下であることが好ましく、10体積%以上30体積%以下であれば更に好ましく、15体積%以上25体積%以下であれば特に好ましい。   In the case where the graphene layer 2 is formed by the thermal CVD method, it is also preferable that hydrogen is supplied into the chamber together with the carbon source. The amount of hydrogen in this case is preferably 5% by volume or more and 40% by volume or less, more preferably 10% by volume or more and 30% by volume or less, and more preferably 15% by volume or more and 25% by volume or less. It is particularly preferable if it is present.

グラフェン層2の金属箔とは反対側の面を透明な基材4に接合するにあたっては、適宜の手法が採用され得る。例えば基材4の少なくとも表層が加熱されることで溶融する材質からなる場合には、グラフェン層2と基材4とを熱融着することができる。また、基材4が多層構造を有する場合には、基材4の最外層に配置される樹脂層が未硬化状態又は半硬化状態であるうちに、この樹脂層にグラフェン層2を重ね、この状態で樹脂層を硬化させ、これによりグラフェン層2の金属箔とは反対側の面を透明な基材4に接合してもよい。この場合、未硬化状態又は半硬化状態にある樹脂層は、この樹脂層を構成する組成物の組成に応じ、例えば加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等の処理が施されることで硬化される。   In joining the surface of the graphene layer 2 opposite to the metal foil to the transparent base material 4, an appropriate method can be adopted. For example, when it consists of the material which melts by heating at least the surface layer of the base material 4, the graphene layer 2 and the base material 4 can be heat-seal | fused. When the substrate 4 has a multilayer structure, the graphene layer 2 is overlaid on the resin layer while the resin layer disposed in the outermost layer of the substrate 4 is in an uncured state or a semi-cured state. The resin layer may be cured in a state, and thereby the surface of the graphene layer 2 opposite to the metal foil may be bonded to the transparent substrate 4. In this case, the resin layer in an uncured state or a semi-cured state is cured by being subjected to a treatment such as heating, humidification, ultraviolet irradiation, or electron beam irradiation according to the composition of the composition constituting the resin layer. Is done.

このようにグラフェン層2と基材4とが接合された後、グラフェン層2上から金属箔が除去される。金属箔の除去方法としては、特に制限されないが、例えば金属箔全体にウエットエッチング処理を施すことで、金属箔を除去することができる。   After the graphene layer 2 and the substrate 4 are bonded in this way, the metal foil is removed from the graphene layer 2. Although it does not restrict | limit especially as a removal method of metal foil, For example, metal foil can be removed by performing wet etching process to the whole metal foil.

グラフェン層2は転写法により基材4に接合されてもよい。この場合、例えばまず上記と同様にグラフェン層2が蒸着法等により金属箔上に形成される。このグラフェン層2に転写用のプラスチックフィルム(転写用フィルム)が重ねられ、続いて金属箔が全てエッチング処理等により除去される。これにより、転写用フィルムと、その上に重ねられているグラフェン層2とを備える転写用の部材が形成される。この転写用の部材におけるグラフェン層2が基材4上に重ねられて密着される。更に必要に応じて転写用フィルムが加熱されてから、グラフェン層2から転写用フィルムが剥離されることで、基材4上にグラフェン層2が転写される。   The graphene layer 2 may be bonded to the substrate 4 by a transfer method. In this case, for example, the graphene layer 2 is first formed on the metal foil by vapor deposition or the like as described above. The graphene layer 2 is overlaid with a transfer plastic film (transfer film), and then all the metal foil is removed by etching or the like. Thereby, the member for transfer provided with the film for transfer and the graphene layer 2 piled up on it is formed. The graphene layer 2 in this transfer member is superposed on and closely adhered to the substrate 4. Furthermore, after the transfer film is heated as necessary, the transfer film is peeled off from the graphene layer 2, whereby the graphene layer 2 is transferred onto the substrate 4.

基材4上に接合されたグラフェン層2には、パターニング処理が施される。グラフェン層2のパターニング処理にあたっては、公知の適宜の手法が採用される。例えばグラフェン層2に対して部分的に電子線の照射、レーザービームの照射、O2プラズマ処理を施すなどといった、ドライエッチング処理を施すことにより、グラフェン層2を部分的に除去することで、グラフェン層2をパターニングすることができる。 The graphene layer 2 bonded on the substrate 4 is subjected to a patterning process. For the patterning process of the graphene layer 2, a known appropriate method is adopted. For example, the graphene layer 2 is partially removed by subjecting the graphene layer 2 to dry etching treatment such as partial electron beam irradiation, laser beam irradiation, or O 2 plasma treatment. Layer 2 can be patterned.

グラフェン層2へのパターニング処理は、グラフェン層2が基材4に接合される前に施されてもよい。すなわち、金属箔上のグラフェン層2にパターニング処理が施され、或いは転写用フィルム上のグラフェン層2にパターニング処理が施されてもよい。また、金属箔上にグラフェン層2が形成される際にパターニングされた形状を有するグラフェン層2が形成されてもよい。   The patterning process on the graphene layer 2 may be performed before the graphene layer 2 is bonded to the substrate 4. That is, the patterning process may be performed on the graphene layer 2 on the metal foil, or the patterning process may be performed on the graphene layer 2 on the transfer film. Moreover, the graphene layer 2 having a shape patterned when the graphene layer 2 is formed on the metal foil may be formed.

着色層3は、有色透明の層である。着色層3の色は、第一領域5の透過色と第二領域6の透過色との間における、L*の差ΔL*、a*の差Δa*、及びb*の差Δb*が、{(ΔL*2+(Δa*2+(Δb*21/2≦1.2の関係を満たすように調整される。 The colored layer 3 is a colored transparent layer. The color of the colored layer 3 is such that the L * difference ΔL * , the a * difference Δa * , and the b * difference Δb * between the transmission color of the first region 5 and the transmission color of the second region 6 are: {(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 } 1/2 is adjusted so as to satisfy the relationship 1.2 ≦ 1.2.

特に基材2が無色である場合には、着色層3の色はグラフェン層2と同じ色調に調整されることが好ましい。また、基材2が有色である場合、基材2の色を補正するために、着色層3の色と基材2の色とが補色関係になるように着色層3の色が調整されることが好ましい。   In particular, when the substrate 2 is colorless, the color of the colored layer 3 is preferably adjusted to the same color tone as the graphene layer 2. Moreover, when the base material 2 is colored, in order to correct the color of the base material 2, the color of the colored layer 3 is adjusted so that the color of the colored layer 3 and the color of the base material 2 have a complementary color relationship. It is preferable.

着色層3は、着色材を含有することが好ましく、すなわち、着色層3を形成するための樹脂組成物は着色材を含有することが好ましい。この場合、着色材によって着色層3が所望の色に着色される。   The colored layer 3 preferably contains a colorant, that is, the resin composition for forming the colored layer 3 preferably contains a colorant. In this case, the colored layer 3 is colored in a desired color by the coloring material.

着色材としては、カーボンブラック、合成染料、酸化鉄、黒色チタン化合物、その他金属酸化物等が挙げられる。着色層3は、一種の着色材のみを含有しても、複数種の着色材を含有してもよい。着色層3が含有する着色材の種類、及び着色層3中の着色材の割合は、着色層3に要求される色、透明性等に応じて適宜選択される。基材2が無色である場合には、カーボンブラック等の黒色の着色材のみが使用されてもよい。基材2が有色である場合には、カーボンブラック等の黒色の着色材と共に、基材2の色と補色関係にある色の色調補正用の着色材(例えば赤色の着色材、青色の着色材など)が使用されることが好ましい。色調補正用の着色材としては、無機系顔料、有機系顔料、有機系染料、色素等、一般的な着色材が適宜使用され得る。無機顔料としては、コバルト化合物、鉄化合物、クロム化合物等が挙げられる。有機顔料としては、アゾ系、インドリノン系、キナクリドン系、バット系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等の顔料が挙げられる。有機系染料及び色素としては、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ピラロゾン系、ポリメチン系等の着色材が挙げられる。これらの内で、発色性の観点から有機系色素が好適に用いられる。着色層3を形成するための樹脂組成物には、着色層3に要求される着色材の種類、割合等に応じて、着色材が含有される。   Examples of the colorant include carbon black, synthetic dye, iron oxide, black titanium compound, and other metal oxides. The colored layer 3 may contain only one type of colorant or may contain multiple types of colorants. The kind of the colorant contained in the color layer 3 and the ratio of the colorant in the color layer 3 are appropriately selected according to the color, transparency, and the like required for the color layer 3. When the substrate 2 is colorless, only a black coloring material such as carbon black may be used. When the substrate 2 is colored, a colorant for color tone correction (for example, a red colorant, a blue colorant, etc.) that is complementary to the color of the substrate 2 together with a black colorant such as carbon black Etc.) are preferably used. As a colorant for color tone correction, a general colorant such as an inorganic pigment, an organic pigment, an organic dye, or a pigment can be appropriately used. Examples of inorganic pigments include cobalt compounds, iron compounds, and chromium compounds. Examples of organic pigments include azo, indolinone, quinacridone, vat, phthalocyanine, and naphthalocyanine pigments. Organic dyes and pigments include azo, azine, anthraquinone, indigoid, oxazine, quinophthalone, squalium, stilbene, triphenylmethane, naphthoquinone, pyrarozone, and polymethine colorants. Can be mentioned. Of these, organic dyes are preferably used from the viewpoint of color developability. The resin composition for forming the colored layer 3 contains a colorant according to the type, ratio, and the like of the colorant required for the colored layer 3.

着色層3を形成するための樹脂組成物が、基材4上のグラフェン層2が形成されている面上に塗布され、続いてこの樹脂組成物が硬化されることにより、着色層3が形成される。この着色層3の厚みは適宜設定されるが、着色層3の硬度が充分に高くなると共に着色層3の耐摩耗性が充分に向上するためには、着色層3の厚みが0.05〜10μmの範囲であることが好ましい。この着色層3の厚みは、基材4の表面から着色層3の表面までの間の寸法である。   A resin composition for forming the colored layer 3 is applied on the surface of the substrate 4 on which the graphene layer 2 is formed, and then the resin composition is cured to form the colored layer 3. Is done. The thickness of the colored layer 3 is set as appropriate. In order to sufficiently increase the hardness of the colored layer 3 and to sufficiently improve the wear resistance of the colored layer 3, the thickness of the colored layer 3 is from 0.05 to 0.05. A range of 10 μm is preferable. The thickness of the colored layer 3 is a dimension between the surface of the substrate 4 and the surface of the colored layer 3.

着色層3は、着色材を含有する反応性硬化型樹脂組成物から形成されることが好ましく、例えば熱硬化型樹脂組成物と活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の少なくとも一方から形成されることが好ましい。   The colored layer 3 is preferably formed from a reactive curable resin composition containing a colorant. For example, the colored layer 3 may be formed from at least one of a thermosetting resin composition and an active energy ray curable resin composition. preferable.

熱硬化型樹脂組成物は、例えばフェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等の熱硬化性樹脂を含有する。熱硬化性樹脂と共に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等が使用されてもよい。このような熱硬化型樹脂組成物が塗布され、続いてこの熱硬化型樹脂組成物が加熱されて熱硬化することで、着色層3が形成され得る。   The thermosetting resin composition includes, for example, thermosetting resins such as phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, amino alkyd resin, silicon resin, polysiloxane resin, and the like. contains. A crosslinking agent, a polymerization initiator, a curing agent, a curing accelerator, a solvent and the like may be used together with the thermosetting resin as necessary. The colored layer 3 can be formed by applying such a thermosetting resin composition and subsequently heating and thermosetting the thermosetting resin composition.

活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、アクリレート系の官能基を有する樹脂を含むことが好ましい。アクリレート系の官能基を有する樹脂としては、例えば比較的低分子量の多官能化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマー、プレポリマーなどが挙げられる。前記の多官能化合物としては、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等が挙げられる。活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は更に反応性希釈剤を含有することも好ましい。反応性希釈剤としては、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びにトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートの多官能モノマーが挙げられる。   The active energy ray-curable resin composition preferably includes a resin having an acrylate functional group. Examples of the resin having an acrylate functional group include oligomers such as (meth) acrylates of a relatively low molecular weight polyfunctional compound, prepolymers, and the like. Examples of the polyfunctional compound include polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polyhydric alcohols. The active energy ray-curable resin composition preferably further contains a reactive diluent. Examples of reactive diluents include monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and hexanediol (meth) acrylate. , Tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di The polyfunctional monomer of (meth) acrylate is mentioned.

活性エネルギー線硬化型樹脂組成物が紫外線硬化型樹脂組成物などの光硬化型樹脂組成物である場合には、光硬化型樹脂組成物が光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などが挙げられる。光硬化型樹脂組成物が光重合開始剤に加えて、或いは光重合開始剤に代えて、光増感剤を含有してもよい。光増感剤としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、チオキサントンなどが挙げられる。このような光硬化型樹脂組成物が塗布され、続いてこの光硬化型樹脂組成物に紫外線などの光が照射されて光硬化することで、着色層3が形成され得る。   When the active energy ray curable resin composition is a photocurable resin composition such as an ultraviolet curable resin composition, the photocurable resin composition preferably contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, thioxanthones, and the like. The photocurable resin composition may contain a photosensitizer in addition to the photopolymerization initiator or in place of the photopolymerization initiator. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone. Such a photocurable resin composition is applied, and subsequently the photocurable resin composition is irradiated with light such as ultraviolet rays to be photocured, whereby the colored layer 3 can be formed.

着色層3の屈折率は、着色層3を形成するための樹脂組成物の組成によって容易に調整され得る。また、着色層3が屈折率調整用の粒子を含有すると共にその割合が調整されることで、着色層3の屈折率が調整されることも好ましい。   The refractive index of the colored layer 3 can be easily adjusted by the composition of the resin composition for forming the colored layer 3. Moreover, it is also preferable that the refractive index of the colored layer 3 is adjusted by the colored layer 3 containing particles for adjusting the refractive index and the ratio thereof being adjusted.

屈折率調整用の粒子の粒径は十分に小さいこと、すなわち屈折率調整用の粒子がいわゆる超微粒子であるが好ましく、この場合、着色層3の光透過性が十分に維持されるようになる。屈折率調整用の粒子の粒径は特に、0.5nm〜200nmの範囲であることが好ましい。この屈折率調整用の粒子の粒径とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から算出される投影面積と同一の面積を有する円(面積相当円)の径のことである。   The particle diameter of the refractive index adjusting particles is preferably sufficiently small, that is, the refractive index adjusting particles are preferably so-called ultrafine particles. In this case, the light transmittance of the colored layer 3 is sufficiently maintained. . The particle diameter of the particles for adjusting the refractive index is particularly preferably in the range of 0.5 nm to 200 nm. The particle diameter of the particles for adjusting the refractive index is the diameter of a circle (area equivalent circle) having the same area as the projected area calculated from the electron micrograph image of the particles.

屈折率調整用の粒子は、比較的屈折率の高い粒子であることが好ましく、特に屈折率が1.6以上の粒子であることが好ましい。この粒子は、金属や金属酸化物の粒子であることが好ましい。   The refractive index adjusting particles are preferably particles having a relatively high refractive index, and particularly preferably particles having a refractive index of 1.6 or more. These particles are preferably metal or metal oxide particles.

着色層3中の屈折率調整用の粒子の含有量は、着色層3の屈折率が適切な値となるように適宜調整される。特に着色層3中の屈折率調整用の粒子の割合が5〜70体積%となるように調整されることが好ましい。   The content of the refractive index adjusting particles in the colored layer 3 is appropriately adjusted so that the refractive index of the colored layer 3 has an appropriate value. In particular, it is preferable to adjust the ratio of particles for adjusting the refractive index in the colored layer 3 to 5 to 70% by volume.

屈折率調整用の粒子の具体例としては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる一種あるいは二種以上の酸化物を含有する粒子が挙げられる。酸化物の具体例としては、ZnO(屈折率1.90)、TiO2(屈折率2.3〜2.7)、CeO2(屈折率1.95)、Sb25(屈折率1.71)、SnO2、ITO(屈折率1.95)、Y23(屈折率1.87)、La23(屈折率1.95)、ZrO2(屈折率2.05)、Al23(屈折率1.63)等が挙げられる。 Specific examples of the particles for adjusting the refractive index include particles containing one or more oxides selected from titanium, aluminum, cerium, yttrium, zirconium, niobium, and antimony. Specific examples of the oxide include ZnO (refractive index 1.90), TiO 2 (refractive index 2.3 to 2.7), CeO 2 (refractive index 1.95), Sb 2 O 5 (refractive index 1. 71), SnO 2, ITO (refractive index 1.95), Y 2 O 3 (refractive index 1.87), La 2 O 3 (refractive index 1.95), ZrO 2 (refractive index 2.05), Al 2 O 3 (refractive index 1.63) and the like.

着色層3には帯電防止性能が付与されていることも好ましい。この場合、透明導電性部材1の帯電が抑制され、また透明導電性部材1へ埃の付着が抑制される。そのためには、着色層3が導電性粒子を含有することが好ましい。導電性粒子は同時に屈折率調整用の粒子としても機能してもよい。導電性粒子はナノ粒子であることが好ましく、特に粒径が0.5〜200nmの超微粒子であることが好ましい。導電性粒子の粒径も面積相当円の径である。導電性粒子の材質としては導電性を有する適宜の金属、金属酸化物等が挙げられ、具体的にはインジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる一種又は二種以上の金属の酸化物が挙げられ、更に具体的には酸化インジウム(ITO)、酸化錫(SnO2)、アンチモン/錫酸化物(ATO)、鉛/チタン酸化物(PTO)、アンチモン酸化物(Sb25)等が挙げられる。 It is also preferred that the colored layer 3 has antistatic performance. In this case, charging of the transparent conductive member 1 is suppressed, and adhesion of dust to the transparent conductive member 1 is suppressed. For that purpose, it is preferable that the colored layer 3 contains conductive particles. The conductive particles may simultaneously function as refractive index adjusting particles. The conductive particles are preferably nanoparticles, and particularly preferably ultrafine particles having a particle size of 0.5 to 200 nm. The particle diameter of the conductive particles is also the diameter of an area equivalent circle. Examples of the material of the conductive particles include appropriate metals and metal oxides having conductivity, and specifically include oxides of one or more metals selected from indium, zinc, tin, and antimony. More specifically, indium oxide (ITO), tin oxide (SnO 2 ), antimony / tin oxide (ATO), lead / titanium oxide (PTO), antimony oxide (Sb 2 O 5 ) and the like can be mentioned. .

着色層3に十分な帯電防止性能が付与されるためには、導電性粒子を含有することで着色層3のシート抵抗が1015Ω/□以下となることが好ましい。着色層3のシート抵抗は小さいほど帯電防止性が向上するので、下限は特に設定されないが、シート抵抗を小さくするのには限界があるため、着色層3のシート抵抗の実質的な下限は106Ω/□である。 In order to impart sufficient antistatic performance to the colored layer 3, it is preferable that the sheet resistance of the colored layer 3 is 10 15 Ω / □ or less by containing conductive particles. The lower the sheet resistance of the colored layer 3 is, the more the antistatic property is improved. Therefore, the lower limit is not particularly set. However, since there is a limit to reducing the sheet resistance, the practical lower limit of the sheet resistance of the colored layer 3 is 10 6 Ω / □.

着色層3中の導電性粒子の含有量は、着色層3の帯電防止性能が適切な程度となるように適宜調整されるが、特に着色層3中の導電性粒子の割合が5〜70質量%となるように調整されることが好ましい。   The content of the conductive particles in the colored layer 3 is adjusted as appropriate so that the antistatic performance of the colored layer 3 is at an appropriate level. In particular, the ratio of the conductive particles in the colored layer 3 is 5 to 70 mass. % Is preferably adjusted to be%.

着色層3は、次に示すような、着色材及びバインダー材料、並びに必要に応じて使用される屈折率調整用の粒子を含有する樹脂組成物から形成されてもよい。バインダー材料と屈折率調整用の粒子とが併用される場合、両者の組み合わせ、配合比等により着色層3の屈折率が適宜調整される。この着色層3は、樹脂組成物にバインダー材料の性状に応じて加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等の処理が施されることで樹脂組成物が硬化することにより、形成され得る。   The colored layer 3 may be formed from a resin composition containing a coloring material and a binder material as shown below, and particles for adjusting the refractive index used as necessary. When the binder material and the particles for adjusting the refractive index are used in combination, the refractive index of the colored layer 3 is appropriately adjusted depending on the combination of the both, the blending ratio, and the like. The colored layer 3 can be formed by curing the resin composition by subjecting the resin composition to treatment such as heating, humidification, ultraviolet irradiation, and electron beam irradiation according to the properties of the binder material.

バインダー材料としては、シリコンアルコキシド系樹脂、飽和炭化水素及びポリエーテルの少なくともいずれかを主鎖とするポリマー(例えばUV硬化型樹脂組成物、熱硬化型樹脂組成物等)、ポリマー鎖中にフッ素原子を含む単位を含む樹脂などが挙げられる。   As the binder material, a polymer having a main chain of at least one of silicon alkoxide resin, saturated hydrocarbon and polyether (for example, UV curable resin composition, thermosetting resin composition, etc.), fluorine atom in the polymer chain And a resin containing a unit containing.

シリコンアルコキシド系樹脂としては、RmSi(OR´)nで表されるシリコンアルコキシド(R、R´は炭素数1〜10のアルキル基、m+n=4、m及びnはそれぞれ整数。)の部分加水分解縮合物であるオリゴマー及びポリマーが、挙げられる。シリコンアルコキシドとしては、具体的にはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が例示される。 As a silicon alkoxide-based resin, a silicon alkoxide represented by R m Si (OR ′) n (R and R ′ are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, m + n = 4, m and n are integers). Examples include oligomers and polymers that are hydrolyzed condensates. Specific examples of the silicon alkoxide include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, and tetra-tert-butoxy. Silane, tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxy Silane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, di Chill propoxysilane, dimethyl-butoxy silane, methyl dimethoxy silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane, and the like.

バインダー材料として、熱又は活性エネルギー線によって反応架橋する複数の基(重合性二重結合基等)を有する反応性有機珪素化合物が用いられてもよい。この有機珪素化合物の分子量は5000以下であることが好ましい。このような反応性有機珪素化合物としては、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、並びにこれらの化合物を反応させて得られるビニル官能性ポリシラン及びビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。これら以外にも、反応性有機珪素化合物としては、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メタ)アクリロキシシラン化合物が挙げられる。   As the binder material, a reactive organosilicon compound having a plurality of groups (polymerizable double bond group or the like) that undergoes reactive crosslinking by heat or active energy rays may be used. The molecular weight of the organosilicon compound is preferably 5000 or less. Such reactive organosilicon compounds are obtained by reacting one terminal vinyl functional polysilane, both terminal vinyl functional polysilane, one terminal vinyl functional polysiloxane, both terminal vinyl functional polysiloxane, and these compounds. Examples include vinyl functional polysilanes and vinyl functional polysiloxanes. In addition to these, examples of the reactive organic silicon compound include (meth) acryloxysilane compounds such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane.

屈折率調整用の粒子としては、比較的低屈折率の粒子が使用されることが好ましい。屈折率調整用の粒子の材質としては、シリカ、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等が挙げられる。屈折率調整用の粒子が中空粒子を含むことが好ましい。中空粒子とは外殻によって包囲された空洞を有する粒子である。中空粒子の屈折率は1.20〜1.45であることが好ましい。   As the particles for adjusting the refractive index, it is preferable to use particles having a relatively low refractive index. Examples of the material for adjusting the refractive index include silica, magnesium fluoride, lithium fluoride, aluminum fluoride, calcium fluoride, sodium fluoride, and the like. It is preferable that the refractive index adjusting particles include hollow particles. A hollow particle is a particle having a cavity surrounded by an outer shell. The refractive index of the hollow particles is preferably 1.20 to 1.45.

屈折率調整用の粒子には、必要に応じて、バインダー材料との濡れ性を向上するための表面処理が施されていることが好ましい。   The particles for adjusting the refractive index are preferably subjected to a surface treatment for improving the wettability with the binder material, if necessary.

屈折率調整用の粒子の粒径は十分に小さいこと、すなわち屈折率調整用の粒子がいわゆる超微粒子であることが好ましく、この場合、着色層3の光透過性が十分に維持されるようになる。屈折率調整用の粒子の粒径は特に、0.5nm〜200nmの範囲であることが好ましい。この屈折率調整用の粒子の粒径とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から算出される投影面積と同一の面積を有する円(面積相当円)の径のことである。   The particle diameter of the refractive index adjusting particles is preferably sufficiently small, that is, the refractive index adjusting particles are preferably so-called ultrafine particles. In this case, the light transmittance of the colored layer 3 is sufficiently maintained. Become. The particle diameter of the particles for adjusting the refractive index is particularly preferably in the range of 0.5 nm to 200 nm. The particle diameter of the particles for adjusting the refractive index is the diameter of a circle (area equivalent circle) having the same area as the projected area calculated from the electron micrograph image of the particles.

着色層3中の屈折率調整用の粒子の含有量は、着色層3の屈折率の値が適切な値となるように適宜調整されるが、特に着色層3中の屈折率調整用の粒子の割合が20〜99体積%となるように調整されることが好ましい。   The content of the refractive index adjusting particles in the colored layer 3 is adjusted as appropriate so that the refractive index value of the colored layer 3 becomes an appropriate value, but in particular, the refractive index adjusting particles in the colored layer 3. It is preferable to adjust so that the ratio may become 20-99 volume%.

樹脂組成物は、更に撥水、撥油性材料を含有してもよい。撥水、撥油性材料としては、一般的なワックス系の材料等が使用され得る。   The resin composition may further contain a water and oil repellent material. As the water and oil repellent material, a general wax-based material or the like can be used.

図2に、本実施形態による透明導電性部材1の第二の態様を示す。本態様では、基材4、着色層3、グラフェン層2が、この順に重なっている構造を有する。すなわち、基材4上には着色層3が積層しており、更にこの着色層3の基材4とは反対側の表面上にパターニングされた形状を有するグラフェン層2が積層している。これにより、透明導電性部材1には、基材4、着色層3、グラフェン層2がこの順に重なっている領域からなる第一領域5と、着色層3と基材4とが重なっていると共にグラフェン層2は重なっていない領域からなる第二領域6とが、形成されている。   In FIG. 2, the 2nd aspect of the transparent conductive member 1 by this embodiment is shown. In this aspect, the base material 4, the colored layer 3, and the graphene layer 2 have a structure that overlaps in this order. That is, the colored layer 3 is laminated on the base material 4, and the graphene layer 2 having a patterned shape is laminated on the surface of the colored layer 3 opposite to the base material 4. As a result, the transparent conductive member 1 has the first region 5 formed of a region in which the base material 4, the colored layer 3, and the graphene layer 2 overlap in this order, and the colored layer 3 and the base material 4 are overlapped. The graphene layer 2 is formed with a second region 6 made of a non-overlapping region.

基材4としては、第一の態様と同様の構成のものが用いられ得る。   As the base material 4, the thing of the structure similar to a 1st aspect may be used.

着色層3は、有色透明の層である。着色層3の色は、第一の態様の場合と同様に、透明導電性基材1における第一領域5の透過色と第二領域6の透過色との間における、L*の差ΔL*、a*の差Δa*、及びb*の差Δb*が、{(ΔL*2+(Δa*2+(Δb*21/2≦1.2の関係を満たすように調整される。着色層3の構成は、第一の態様の場合と同様である。 The colored layer 3 is a colored transparent layer. The color of the colored layer 3 is the difference ΔL * between L * between the transmitted color of the first region 5 and the transmitted color of the second region 6 in the transparent conductive substrate 1 as in the first embodiment . , A * difference Δa * and b * difference Δb * are adjusted so as to satisfy the relationship {(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 } 1/2 ≦ 1.2 Is done. The configuration of the colored layer 3 is the same as in the first embodiment.

基材4上に着色層3を形成するための樹脂組成物が塗布され、続いてこの樹脂組成物が硬化されることにより、着色層3が形成される。着色層3を形成するための組成物としても、第一の態様と同様のものが用いられ得る。この着色層3の厚みは適宜設定されるが、着色層3の硬度が充分に高くなると共に着色層3の耐摩耗性が充分に向上するためには、着色層3の厚みが0.05〜10μmの範囲であることが好ましい。   The colored layer 3 is formed by applying a resin composition for forming the colored layer 3 on the substrate 4 and subsequently curing the resin composition. As the composition for forming the colored layer 3, the same composition as in the first embodiment can be used. The thickness of the colored layer 3 is set as appropriate. In order to sufficiently increase the hardness of the colored layer 3 and to sufficiently improve the wear resistance of the colored layer 3, the thickness of the colored layer 3 is from 0.05 to 0.05. A range of 10 μm is preferable.

グラフェン層2は、第一の態様の場合と同様に、グラフェンシートから構成される。グラフェン層2は単層のグラフェンシートから構成されてもよいが、複数層のグラフェンシートから構成されてもよい。グラフェン層2は1層以上300層以下のグラフェンシートからなることが好ましく、1層以上15層以下のグラフェンシートからなることが特に好ましい。   The graphene layer 2 is comprised from a graphene sheet similarly to the case of a 1st aspect. The graphene layer 2 may be composed of a single-layer graphene sheet, but may be composed of a plurality of layers of graphene sheets. The graphene layer 2 is preferably composed of a graphene sheet of 1 to 300 layers, particularly preferably a graphene sheet of 1 to 15 layers.

このグラフェン層2はパターニングされている。このグラフェン層2の形状、寸法等は、適宜設定される。例えばグラフェン層2により、複数のパッド状の電極と、このパッド状の電極間を接続する細線とからなる感知用電極と、この感知用電極に接続する引き出し線とが形成される。この場合、パッド状の電極は例えば平面視0.5〜2.5mm角の寸法に形成される。また、細線及び引き出し線は例えば線幅10〜100μmの範囲に形成される。   The graphene layer 2 is patterned. The shape, dimensions, and the like of the graphene layer 2 are set as appropriate. For example, the graphene layer 2 forms a sensing electrode composed of a plurality of pad-shaped electrodes, fine wires connecting the pad-shaped electrodes, and a lead-out line connected to the sensing electrodes. In this case, the pad-like electrode is formed to have a size of 0.5 to 2.5 mm square in plan view, for example. Further, the thin line and the lead line are formed in a range of, for example, a line width of 10 to 100 μm.

グラフェン層2は適宜の手法により着色層3上に形成される。例えば、金属箔を準備するステップと、金属箔上にグラフェン層2を蒸着法により形成するステップと、グラフェン層2の金属箔とは反対側の面を着色層3に接合するステップと、金属箔を除去するステップと、グラフェン層2にパターニング処理を施すステップとを含む方法により、パターニングされているグラフェン層2が着色層3上に形成される。   The graphene layer 2 is formed on the colored layer 3 by an appropriate method. For example, a step of preparing a metal foil, a step of forming the graphene layer 2 on the metal foil by a vapor deposition method, a step of bonding the surface of the graphene layer 2 opposite to the metal foil to the colored layer 3, and a metal foil The patterned graphene layer 2 is formed on the colored layer 3 by a method including a step of removing and a patterning process on the graphene layer 2.

金属箔は、グラフェンを形成するための触媒として機能する金属から構成されることが好ましい。このような金属としては、ニッケル、銅、アルミニウム、鉄、コバルト、タングステン等が挙げられる。この金属箔上に、第一の態様の場合と同様の方法により、グラフェン層2が形成される。   The metal foil is preferably composed of a metal that functions as a catalyst for forming graphene. Such metals include nickel, copper, aluminum, iron, cobalt, tungsten, and the like. The graphene layer 2 is formed on this metal foil by the same method as in the first embodiment.

グラフェン層2の金属箔とは反対側の面を着色層3に接合するにあたっては、適宜の手法が採用され得る。例えば着色層3が加熱されることで溶融する材質からなる場合には、グラフェン層2と着色層3とを熱融着することができる。また、着色層3が未硬化状態又は半硬化状態であるうちに、この着色層3にグラフェン層2を重ね、この状態で着色層3を硬化させ、これによりグラフェン層2の金属箔とは反対側の面を着色層3に接合してもよい。この場合、未硬化状態又は半硬化状態にある着色層3は、この着色層3を構成する組成物の組成に応じ、例えば加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等の処理が施されることで硬化される。   In joining the surface of the graphene layer 2 opposite to the metal foil to the colored layer 3, an appropriate method can be adopted. For example, when the colored layer 3 is made of a material that melts when heated, the graphene layer 2 and the colored layer 3 can be heat-sealed. In addition, while the colored layer 3 is in an uncured state or a semi-cured state, the graphene layer 2 is overlaid on the colored layer 3, and the colored layer 3 is cured in this state, thereby being opposite to the metal foil of the graphene layer 2 The side surface may be joined to the colored layer 3. In this case, the colored layer 3 in an uncured state or a semi-cured state is subjected to treatment such as heating, humidification, ultraviolet irradiation, and electron beam irradiation according to the composition of the composition constituting the colored layer 3. It is cured with.

このようにグラフェン層2と着色層3とが接合された後、グラフェン層2上から金属箔が除去される。金属箔の除去方法としては、特に制限されないが、例えば金属箔全体にウエットエッチング処理を施すことで、金属箔を除去することができる。   After the graphene layer 2 and the colored layer 3 are bonded in this way, the metal foil is removed from the graphene layer 2. Although it does not restrict | limit especially as a removal method of metal foil, For example, metal foil can be removed by performing wet etching process to the whole metal foil.

グラフェン層2は転写法により着色層3に接合されてもよい。この場合、例えばまず上記と同様にグラフェン層2が蒸着法等により金属箔上に形成される。このグラフェン層2に転写用のプラスチックフィルム(転写用フィルム)が重ねられ、続いて金属箔が全てエッチング処理等により除去される。これにより、転写用フィルムと、その上に重ねられているグラフェン層2とを備える転写用の部材が形成される。この転写用の部材におけるグラフェン層2が着色層3上に重ねられて密着される。更に必要に応じて転写用フィルムが加熱されてから、グラフェン層2から転写用フィルムが剥離されることで、着色層3上にグラフェン層2が転写される。   The graphene layer 2 may be bonded to the colored layer 3 by a transfer method. In this case, for example, the graphene layer 2 is first formed on the metal foil by vapor deposition or the like as described above. The graphene layer 2 is overlaid with a transfer plastic film (transfer film), and then all the metal foil is removed by etching or the like. Thereby, the member for transfer provided with the film for transfer and the graphene layer 2 piled up on it is formed. The graphene layer 2 in this transfer member is overlaid and adhered onto the colored layer 3. Furthermore, after the transfer film is heated as necessary, the transfer film is peeled off from the graphene layer 2, whereby the graphene layer 2 is transferred onto the colored layer 3.

続いて、グラフェン層2にパターニング処理が施される。グラフェン層2のパターニング処理にあたっては、第一の態様の場合と同様に、公知の適宜の手法が採用される。また、第一の態様の場合と同様に、グラフェン層2へのパターニング処理は、グラフェン層2が着色層3に接合される前に施されてもよい。   Subsequently, the graphene layer 2 is subjected to a patterning process. In the patterning process of the graphene layer 2, a known appropriate technique is adopted as in the case of the first aspect. Moreover, the patterning process to the graphene layer 2 may be performed before the graphene layer 2 is bonded to the colored layer 3 as in the case of the first aspect.

[実施例1]
基材としては、ほぼ無色であるが僅かに黄色がかっているPETフィルム(東レ株式会社製、商品名ルミラーU46、厚み125μm)を準備した。
[Example 1]
As a base material, a PET film (made by Toray Industries, trade name Lumirror U46, thickness 125 μm) which is almost colorless but slightly yellowish was prepared.

また、UV硬化性ハードコート樹脂(DIC株式会社製、品番7150F、固形分62.5質量%)6.0質量部、メチルエチルケトン93.1質量部、カーボンブラック(三菱化学株式会社製、平均粒径13nm)0.9質量部を配合することで、着色層を形成するための樹脂組成物を調製した。   Further, UV curable hard coat resin (DIC Corporation, product number 7150F, solid content 62.5% by mass) 6.0 parts by mass, methyl ethyl ketone 93.1 parts by mass, carbon black (Mitsubishi Chemical Corporation, average particle size) 13 nm) A resin composition for forming a colored layer was prepared by blending 0.9 part by mass.

また、厚み12μmの銅箔を準備し、この銅箔上に熱CVD法によりグラフェン層を形成した。このとき、銅箔をチャンバー内に配置し、このチャンバー内にアセチレンガスを200sccm(3.38×10-2Pa・m3/sec)の一定速度で投入しつつ、銅箔を400℃で20分間熱処理することにより、銅箔上にグラフェンを生成させた。続いて、銅箔を自然冷却することにより、グラフェンを均一に配列した状態で成長させた。冷却速度は600℃/分であった。これにより、銅箔上にグラフェン層を形成した。 Moreover, 12-micrometer-thick copper foil was prepared and the graphene layer was formed on this copper foil by the thermal CVD method. At this time, the copper foil was placed in the chamber, and acetylene gas was introduced into the chamber at a constant rate of 200 sccm (3.38 × 10 −2 Pa · m 3 / sec), while the copper foil was heated at 400 ° C. for 20 hours. The graphene was produced | generated on copper foil by heat-processing for minutes. Subsequently, the copper foil was naturally cooled to grow graphene in a uniformly arranged state. The cooling rate was 600 ° C./min. As a result, a graphene layer was formed on the copper foil.

この銅箔上のグラフェン層を転写用フィルム(日東電工株式会社製の熱剥離フィルム、品名リバアルファ No.3195)に重ねて密着させ、続いて銅箔を全てエッチングにより除去した。続いて、このグラフェン層に対して、酸素プラズマによるドライエッチング処理を施すことで、グラフェン層を平面視1.4mm×1.4mmの寸法を有する複数のパット状の形状にパターニングした。   The graphene layer on the copper foil was placed on and closely adhered to a transfer film (a heat release film manufactured by Nitto Denko Corporation, product name Riva Alpha No. 3195), and then all the copper foil was removed by etching. Subsequently, the graphene layer was subjected to a dry etching process using oxygen plasma, thereby patterning the graphene layer into a plurality of pad shapes having a size of 1.4 mm × 1.4 mm in plan view.

続いてグラフェン層を基材上に重ね、この状態で転写用フィルムを120℃で5分間加熱してから、転写用フィルムを剥離し、これにより基材上にグラフェン層を転写した。   Subsequently, the graphene layer was overlaid on the substrate, and in this state, the transfer film was heated at 120 ° C. for 5 minutes, and then the transfer film was peeled off, whereby the graphene layer was transferred onto the substrate.

続いて、基材におけるグラフェン層が形成されている表面上に着色層を形成するための樹脂組成物を塗布し、更にこの樹脂組成物を80℃で2分間加熱することで乾燥させてから、更にこの樹脂組成物に紫外線を窒素雰囲気下で500mJ/cm2の条件で照射することで硬化させ、これにより、厚み0.2μmの着色層を形成した。これにより、透明導電性部材を得た。 Subsequently, after applying a resin composition for forming a colored layer on the surface of the substrate on which the graphene layer is formed, and further drying the resin composition by heating at 80 ° C. for 2 minutes, Furthermore, this resin composition was cured by irradiating with ultraviolet rays under a condition of 500 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere, thereby forming a colored layer having a thickness of 0.2 μm. Thereby, a transparent conductive member was obtained.

[実施例2]
基材としては、ほぼ無色であるが僅かに黄色がかっているPETフィルム(東レ株式会社製、商品名ルミラーU46、厚み125μm)を準備した。
[Example 2]
As a base material, a PET film (made by Toray Industries, trade name Lumirror U46, thickness 125 μm) which is almost colorless but slightly yellowish was prepared.

また、UV硬化性ハードコート樹脂(DIC株式会社製、品番7150F、固形分62.5質量%)50.8質量部、メチルエチルケトン0.6質量部、カーボンブラック(三菱化学株式会社製、平均粒径13nm)48.6質量部を配合することで、着色層を形成するための樹脂組成物を調製した。   Also, UV curable hard coat resin (DIC Corporation, product number 7150F, solid content 62.5% by mass) 50.8 parts by mass, methyl ethyl ketone 0.6 parts by mass, carbon black (Mitsubishi Chemical Corporation, average particle size) 13nm) A resin composition for forming a colored layer was prepared by blending 48.6 parts by mass.

この樹脂組成物を、基材上に塗布し、更にこの樹脂組成物を80℃で2分間加熱することで乾燥させてから、更にこの樹脂組成物に紫外線を500mJ/cm2の条件で照射することで硬化させ、これにより、厚み3μmの着色層を形成した。 The resin composition is applied onto a substrate, and further dried by heating the resin composition at 80 ° C. for 2 minutes, and then the resin composition is further irradiated with ultraviolet rays at 500 mJ / cm 2. In this way, a colored layer having a thickness of 3 μm was formed.

また、厚み12μmの銅箔を準備し、この銅箔上に熱CVD法によりグラフェン層を形成した。このとき、銅箔をチャンバー内に配置し、このチャンバー内にアセチレンガスを200sccm(3.38×10-2Pa・m3/sec)の一定速度で投入しつつ、銅箔を400℃で20分間熱処理することにより、銅箔上にグラフェンを生成させた。続いて、銅箔を自然冷却することにより、グラフェンを均一に配列した状態で成長させた。冷却速度は600℃/分であった。これにより、銅箔上にグラフェン層を形成した。 Moreover, 12-micrometer-thick copper foil was prepared and the graphene layer was formed on this copper foil by the thermal CVD method. At this time, the copper foil was placed in the chamber, and acetylene gas was introduced into the chamber at a constant rate of 200 sccm (3.38 × 10 −2 Pa · m 3 / sec), while the copper foil was heated at 400 ° C. for 20 hours. The graphene was produced | generated on copper foil by heat-processing for minutes. Subsequently, the copper foil was naturally cooled to grow graphene in a uniformly arranged state. The cooling rate was 600 ° C./min. As a result, a graphene layer was formed on the copper foil.

この銅箔上のグラフェン層を転写用フィルム(日東電工株式会社製の熱剥離フィルム、品名リバアルファ No.3195)に重ねて密着させ、続いて銅箔を全てエッチングにより除去した。続いて、このグラフェン層に対して、酸素プラズマによるドライエッチング処理を施すことで、グラフェン層を平面視1.4mm×1.4mmの寸法を有する複数のパット状の形状にパターニングした。   The graphene layer on the copper foil was placed on and closely adhered to a transfer film (a heat release film manufactured by Nitto Denko Corporation, product name Riva Alpha No. 3195), and then all the copper foil was removed by etching. Subsequently, the graphene layer was subjected to a dry etching process using oxygen plasma, thereby patterning the graphene layer into a plurality of pad shapes having a size of 1.4 mm × 1.4 mm in plan view.

続いてグラフェン層を着色層上に重ね、この状態で転写用フィルムを120℃で5分間加熱してから、転写用フィルムを剥離し、これにより着色層上にグラフェン層を転写した。これにより、透明導電性部材を得た。   Subsequently, the graphene layer was overlaid on the colored layer, and in this state, the transfer film was heated at 120 ° C. for 5 minutes, and then the transfer film was peeled off, whereby the graphene layer was transferred onto the colored layer. Thereby, a transparent conductive member was obtained.

[実施例3]
UV硬化性ハードコート樹脂(DIC株式会社製、品番7150F、固形分62.5質量%)50.8質量部、メチルエチルケトン0.6質量部、カーボンブラック(三菱化学株式会社製、平均粒径13nm)48.4質量部、青色の染料(保土ヶ谷化学工業株式会社製、商品名SPLON BLUE GNH)0.02質量部を配合することで、着色層を形成するための樹脂組成物を調製した。
[Example 3]
UV curable hard coat resin (DIC Corporation, product number 7150F, solid content 62.5% by mass) 50.8 parts by mass, methyl ethyl ketone 0.6 parts by mass, carbon black (Mitsubishi Chemical Corporation, average particle size 13 nm) The resin composition for forming a colored layer was prepared by mix | blending 48.4 mass parts and blue dye (The Hodogaya Chemical Co., Ltd. make, brand name SPLON BLUE GNH) 0.02 mass part.

着色層を形成するためにこの樹脂組成物を用いたこと以外は、実施例2と同じ方法及び条件で、透明導電性部材を得た。尚、本実施例では、基材の黄色がかった色を補正するために、補色関係にある青色の染料を用いたものである。   A transparent conductive member was obtained by the same method and conditions as in Example 2 except that this resin composition was used to form a colored layer. In this embodiment, in order to correct the yellowish color of the base material, a blue dye having a complementary color relationship is used.

[比較例1]
着色層を形成しない以外は実施例1と同じ方法及び条件で、透明導電性部材を得た。
[Comparative Example 1]
A transparent conductive member was obtained by the same method and conditions as in Example 1 except that the colored layer was not formed.

[評価試験]
(透過色)
各実施例で得られた透明導電性部材の第一領域及び第二領域の各透過色、並びに比較例1で得られた透明導電性部材の第一領域及び第二領域に相当する領域の各透過色の、CIE1976(L*,a*,b*)色空間の座標、コニカミノルタセンシング株式会社製の分光測色計(型番CM−3600d)を用いて測定し、その結果に基づいて、第一領域と第二領域との間のL*の差ΔL*、a*の差Δa*、及びb*の差Δb*を算出し、更にこれに基づいて、ΔE={(ΔL*2+(Δa*2+(Δb*21/2の値を算出した。
[Evaluation test]
(Transparent color)
Each of the transmission colors of the first region and the second region of the transparent conductive member obtained in each example, and each of the regions corresponding to the first region and the second region of the transparent conductive member obtained in Comparative Example 1 Based on the result of the measurement, the color of the transmitted color is measured using the CIE 1976 (L * , a * , b * ) color space coordinates, a spectrophotometer (model number CM-3600d) manufactured by Konica Minolta Sensing Co., Ltd. a region and the difference in L * between the second region [Delta] L *, a * difference .DELTA.a *, and b * calculates a difference [Delta] b * of further based on this, ΔE = {(ΔL *) 2 + The value of (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 } 1/2 was calculated.

(グラフェン層の視認性)
各実施例及び比較例で得られた透明導電性部材を目視で観察し、グラフェン層が視認しやすいか否かを判定した。
(Visibility of graphene layer)
The transparent conductive member obtained in each Example and Comparative Example was visually observed to determine whether or not the graphene layer was easily visible.

(鉛筆硬度)
各実施例で得られた透明導電性部材における着色層の鉛筆硬度、並びに比較例1で得られた透明導電性部材における基材の鉛筆硬度を、JIS K5600による鉛筆硬度試験により評価した。10回の試験のうち8回以上の場合に着色層に傷が生じないことを、鉛筆硬度の判定基準とした。
(Pencil hardness)
The pencil hardness of the colored layer in the transparent conductive member obtained in each Example and the pencil hardness of the substrate in the transparent conductive member obtained in Comparative Example 1 were evaluated by a pencil hardness test according to JIS K5600. The criterion for the pencil hardness was that the colored layer was not damaged when it was 8 times or more out of 10 tests.

(耐摩耗性)
各実施例で得られた透明導電性部材における着色層上、並びに比較例1で得られた透明導電性部材における基材上に、#0000のスチールウールを載せ、このスチールウールに約49kPa(500g/cm2)の荷重をかけながら、このスチールウールを着色層上又は基材上で3000mm/minの速度で10往復させた。続いて、各実施例における着色層並びに比較例1における基材を目視で観察した。その結果を下記表に示す。
(Abrasion resistance)
A steel wool of # 0000 was placed on the colored layer in the transparent conductive member obtained in each Example and on the base material in the transparent conductive member obtained in Comparative Example 1, and about 49 kPa (500 g) was put on this steel wool. The steel wool was reciprocated 10 times at a speed of 3000 mm / min on the colored layer or the substrate while applying a load of / cm 2 ). Then, the colored layer in each Example and the base material in the comparative example 1 were observed visually. The results are shown in the table below.

Figure 2013089581
Figure 2013089581

1 透明導電性部材
2 グラフェン層
3 着色層
4 基材
5 第一領域
6 第二領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent conductive member 2 Graphene layer 3 Colored layer 4 Base material 5 1st area | region 6 2nd area | region

Claims (3)

グラフェン層と、前記グラフェン層に重なっている着色層と、前記グラフェン層及び前記着色層を支持する透明な基材とを備え、
前記グラフェン層と前記着色層と前記基材とが重なっている領域からなる第一領域と、前記着色層と前記基材とが重なっていると共に前記グラフェン層は重なっていない領域からなる第二領域とが形成されており、
前記第一領域の透過色と前記第二領域の透過色との間における、L*の差ΔL*、a*の差Δa*、及びb*の差Δb*が、下記式(1)に示す関係を満たす透明導電性部材。
{(ΔL*2+(Δa*2+(Δb*21/2≦1.2 …(1)
Comprising a graphene layer, a colored layer overlapping the graphene layer, and a transparent base material supporting the graphene layer and the colored layer,
A first region composed of a region where the graphene layer, the colored layer and the substrate overlap, and a second region composed of a region where the colored layer and the substrate overlap and the graphene layer does not overlap And are formed,
L * difference ΔL * , a * difference Δa * , and b * difference Δb * between the transmission color of the first region and the transmission color of the second region are shown in the following formula (1). Transparent conductive member that satisfies the relationship.
{(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 } 1/2 ≦ 1.2 (1)
前記グラフェン層が前記基材と前記着色層との間に介在している請求項1に記載の透明導電性部材。 The transparent conductive member according to claim 1, wherein the graphene layer is interposed between the base material and the colored layer. 前記グラフェン層と前記基材との間に前記着色層が介在している請求項1に記載の透明導電性部材。 The transparent conductive member according to claim 1, wherein the colored layer is interposed between the graphene layer and the base material.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017215979A (en) * 2017-07-11 2017-12-07 大日本印刷株式会社 Touch panel sensor and display with touch panel

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